JP2007227230A - Spacer plantation structure and display device having the same - Google Patents

Spacer plantation structure and display device having the same Download PDF

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Osamu Shiono
修 塩野
Motoyuki Miyata
素之 宮田
Yuichi Sawai
裕一 沢井
Takashi Naito
内藤  孝
Hiroyuki Akata
広幸 赤田
Nobuhiko Hosoya
信彦 細谷
Hiroyuki Ito
博之 伊藤
Hirotaka Yamamoto
浩貴 山本
Mitsuo Hayashibara
光男 林原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To surely electrically connect a spacer to a back substrate and a front substrate. <P>SOLUTION: A back panel PNL1 is stuck to a front panel PNL2, and an internal space where both the panels face to each other therein is sealed in a pressure-reduced or vacuum state. The back substrate SUB1 constituting the back panel PNL1 is provided with multiple electron sources ELS arranged in a matrix-like form; and the front substrate SUB2 constituting the front panel PNL2 is provided with a phosphor layer PH, and a positive electrode AD for forming an acceleration voltage for forming an electric field for hitting electrons e<SP>-</SP>emitted from the electron sources ELS against the phosphor layer PH. In this spacer plantation structure, spacers SPCs each composed of core glass CRG and coat glass SRG of a high-resistance layer covering a surface of the core glass CRG are directly jointed and planted to/on the back panel PNL1 and the front panel PNL2 by using adhesive layers FGS. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、減圧空間を構成する絶縁基板間の間隙を所定値に保持するスペーサ植立構造体と、このスペーサ植立構造体を備えた表示装置に関する。   The present invention relates to a spacer planting structure that holds a gap between insulating substrates constituting a decompression space at a predetermined value, and a display device including the spacer planting structure.

平板状の二枚の絶縁基板(背面基板および前面基板)を貼り合わせた表示パネルを用いた表示装置、所謂平板型表示装置(平板型ディスプレイ:FPD)として、例えば、マトリクス状に配置した薄膜電子源を有する表示装置が注目されており、その一つとして、微少で集積可能な冷陰極を利用する電子放出型表示装置が知られている。   As a display device using a display panel obtained by bonding two flat insulating substrates (back substrate and front substrate), so-called flat display device (flat display: FPD), for example, thin film electrons arranged in a matrix A display device having a source attracts attention, and as one of them, an electron emission type display device using a small and accumulating cold cathode is known.

図6は、電子源に金属膜―絶縁膜―金属膜型電子源を用いた電子放出型表示装置の基本構成を説明する模式断面図である。この表示装置は、第1の基板(絶縁基板、以下単に背面基板とも称する)SUB1の主面に設けられて、第1方向に延在し該第1方向と交差する第2方向に並設された複数の走査線GLと、走査線GLの下層に設けられ、第2方向に延在し第1方向に並設された複数の信号線CLと、走査線GLと信号線CLの交差部近傍に設けられた電子源を有する背面パネルPNL1と、
第2の基板(透明絶縁基板、以下単に前面基板とも称する)SUB2と、該前面基板SUB2の主面に設けられて、電子源ELSのそれぞれと対を成す蛍光体層PHと、陽極ADとを有する前面パネルPNL2と、
主面、すなわち電子源ELSや蛍光体層PH等を形成した内面同士を対向させた背面パネルPNL1と前面パネルPNL2の端部内周に介挿して、両パネルと共に減圧容器を形成する封止枠(図示せず)と、
背面パネルPNL1と前面パネルPNL2の間に接合されて、両パネルの間隔を所定値に維持するスペーサSPCと接着層FGSとからなるスペーサ植立構造体を備えている。この導電接続を確実にするために、スペーサSPCと接着層FGSの間に導電膜EEFを介在させている。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating the basic configuration of an electron emission display device using a metal film-insulating film-metal film type electron source as an electron source. This display device is provided on the main surface of a first substrate (insulating substrate, hereinafter also simply referred to as a back substrate) SUB1, and extends in the first direction and is arranged in parallel in a second direction intersecting the first direction. A plurality of scanning lines GL, a plurality of signal lines CL provided below the scanning lines GL, extending in the second direction and arranged in parallel in the first direction, and in the vicinity of the intersection of the scanning lines GL and the signal lines CL A back panel PNL1 having an electron source provided in
A second substrate (transparent insulating substrate, also simply referred to as a front substrate hereinafter) SUB2, a phosphor layer PH provided on the main surface of the front substrate SUB2 and paired with each of the electron sources ELS, and an anode AD A front panel PNL2 having
A sealing frame that forms a decompression container together with both panels by inserting the main surfaces, that is, the inner surfaces of the rear panel PNL1 and the front panel PNL2 facing each other, where the inner surfaces on which the electron source ELS and the phosphor layer PH are formed are opposed to each other. (Not shown)
A spacer planting structure is provided which is joined between the rear panel PNL1 and the front panel PNL2 and includes a spacer SPC and an adhesive layer FGS for maintaining the distance between the panels at a predetermined value. In order to ensure this conductive connection, a conductive film EEF is interposed between the spacer SPC and the adhesive layer FGS.

スペーサSPCは、コアガラスCRGと、このコアガラスCRGの表面を覆う高抵抗層の導電膜SRGで形成されており、背面パネルPNL1と前面パネルPNL2との間に植立させ、接着層FRGで接合している。なお、コアガラスCRGの材料はアルミノシリケートガラスやソーダガラス等で、導電膜SRGの材料はCr23やNb25等である。 The spacer SPC is formed by the core glass CRG and the conductive film SRG having a high resistance layer that covers the surface of the core glass CRG. The spacer SPC is planted between the rear panel PNL1 and the front panel PNL2 and bonded by the adhesive layer FRG. is doing. The material of the core glass CRG is aluminosilicate glass or soda glass, and the material of the conductive film SRG is Cr 2 O 3 or Nb 2 O 5 .

すなわち、電子放出型のFPDは、上記のような電子源ELSを備えた背面基板SUB1で構成した背面パネルPNL1と、蛍光体層PHとこの蛍光体層PHに電子源ELSから放出される電子e-を射突させるための加速電圧を形成した陽極ADを備えた前面基板SUB2で構成された前面パネルPNL2とを貼り合わせ、両パネルの対向する内部空間を所定の減圧又は真空状態に封止する。背面パネルPNL1を構成する背面基板SUB1にはマトリクス配列した多数の電子源ELSを有し、前面パネルPNL2を構成する前面基板SUB2には蛍光体層PHと電子源ELSから放出された電子e-を蛍光体層PHに射突させる電界を形成するための加速電圧を形成する陽極ADを有する。 That is, the electron emission type FPD includes a back panel PNL1 formed of the back substrate SUB1 provided with the electron source ELS as described above, a phosphor layer PH, and electrons e emitted from the electron source ELS to the phosphor layer PH. The front panel PNL2 composed of the front substrate SUB2 having the anode AD formed with an acceleration voltage for projecting the-is bonded together, and the internal spaces facing both panels are sealed to a predetermined reduced pressure or vacuum state. . The back substrate SUB1 constituting the back panel PNL1 has a large number of electron sources ELS arranged in a matrix, and the front substrate SUB2 constituting the front panel PNL2 contains the phosphor layer PH and the electrons e emitted from the electron source ELS. It has an anode AD that forms an acceleration voltage for forming an electric field that strikes the phosphor layer PH.

個々の電子源は、対応する蛍光体層と対になって単位画素を構成する。通常は、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の単位画素で一つの画素(カラー画素、ピクセル)が構成される。なお、カラー画素の場合、単位画素は副画素(サブピクセル)とも呼ばれる。   Each electron source is paired with a corresponding phosphor layer to constitute a unit pixel. Usually, one pixel (color pixel, pixel) is composed of unit pixels of three colors of red (R), green (G), and blue (B). In the case of a color pixel, the unit pixel is also called a sub-pixel (sub-pixel).

背面基板SUB1と前面基板SUB2の間隔は、表示領域内に両基板を支えるように配置される間隔保持部材であるスペーサSPCに関しては、例えば、特許文献1を参照されたい。   Regarding the distance between the back substrate SUB1 and the front substrate SUB2, see, for example, Patent Document 1 regarding the spacer SPC that is a space holding member arranged to support both substrates in the display area.

例えば、薄膜電子源に金属膜―絶縁膜―金属膜(MIM)電子源を用いた表示装置では、電子源ELS(カソード)と陽極AD(アノード)の間隔が1mm〜5mm程度で、両者間に3kV〜10kVの電位差となる高電圧が印加される。そのため、両基板間に橋絡して所定の間隔を保持する絶縁体のスペーサに電荷が帯電して放電が起こり、カソードや他の構造部の破壊を招く。これを回避するため、スペーサSPCおよび接合のための接着層FGSからなるスペーサ植立構造体には、上記の電荷を逃すためにある程度の導電性が必要である。   For example, in a display device using a metal film-insulating film-metal film (MIM) electron source as a thin film electron source, the distance between the electron source ELS (cathode) and the anode AD (anode) is about 1 mm to 5 mm, A high voltage having a potential difference of 3 kV to 10 kV is applied. For this reason, electric charges are charged in the insulator spacer that bridges between the two substrates and maintains a predetermined distance, and discharge occurs, leading to destruction of the cathode and other structural parts. In order to avoid this, the spacer planting structure composed of the spacer SPC and the bonding adhesive layer FGS needs to have a certain degree of conductivity in order to release the charge.

このようなスペーサ植立構造体の一例として、青板ガラス表面に導電性部材を形成させた導電性スペーサを用い、背面基板と前面基板の間に無機接着剤に導電性のガラスフィラーを添加分散させた接着剤で接着するものが特許文献2に開示されている。また、コアガラスに高抵抗膜をコートしたスペーサと接着材の間に導電膜EEF(図6参照)を介在させて背面基板と前面基板との間の確実な導電接続を得ようとするものが特許文献3に開示されている。特許文献3には、コートする高抵抗膜として、遷移金属とセラミックス複合体が好ましい、との開示がある。
特開2003−317648号公報 特開2000−57937号公報 特開2000−82424号公報
As an example of such a spacer planting structure, a conductive spacer in which a conductive member is formed on a blue glass surface is used, and a conductive glass filler is added and dispersed in an inorganic adhesive between the back substrate and the front substrate. An adhesive that adheres with an adhesive is disclosed in Patent Document 2. Also, there is an attempt to obtain a reliable conductive connection between the back substrate and the front substrate by interposing a conductive film EEF (see FIG. 6) between the spacer having the high resistance film coated on the core glass and the adhesive. This is disclosed in Patent Document 3. Patent Document 3 discloses that a high-resistance film to be coated is preferably a transition metal and a ceramic composite.
JP 2003-317648 A JP 2000-57937 A JP 2000-82424 A

従来のスペーサ植立構造体において、表面に導電性部材を形成させた導電性スペーサを無機接着剤で接着したものでは、無機接着剤とスペーサの間で剥離し易い。また、背面基板と前面基板との導電接続を確実にする導電膜を介在させるものでは、この導電膜とガラスフリットの接着層との界面で剥離が発生し易い。その結果、表示装置の信頼性が低下する。   In the conventional spacer planting structure, when a conductive spacer having a conductive member formed on the surface thereof is bonded with an inorganic adhesive, it is easy to peel between the inorganic adhesive and the spacer. In addition, in the case of interposing a conductive film that ensures conductive connection between the back substrate and the front substrate, peeling is likely to occur at the interface between the conductive film and the adhesive layer of the glass frit. As a result, the reliability of the display device decreases.

本発明の目的は、導電膜を介在させることなく、スペーサと背面基板および前面基板の間を確実に導電接続すると共に、スペーサと接着層との界面での剥離を抑制して、高信頼性のスペーサ植立構造体とこのスペーサ植立構造体を用いた表示装置を得ることにある。   An object of the present invention is to provide a conductive connection between the spacer and the rear substrate and the front substrate without interposing a conductive film, and to prevent peeling at the interface between the spacer and the adhesive layer, thereby achieving high reliability. A spacer planting structure and a display device using the spacer planting structure are obtained.

本発明のスペーサ植立構造体について、
第1の基板と第2の基板の対向面の間に接着層で接合して植立し、両者の間隙を所定値に維持するための本発明のスペーサは、コアガラスと、このコアガラスの表面を覆うコートガラスで形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との間に前記スペーサを直接接合する前記接着層を前記コートガラスと同系のガラスとした。
About the spacer planting structure of the present invention,
The spacer of the present invention for bonding and planting with an adhesive layer between the opposing surfaces of the first substrate and the second substrate and maintaining the gap between the two at a predetermined value is the core glass, and the core glass The adhesive layer that is formed of a coated glass that covers the surface and directly joins the spacer between the first substrate and the second substrate is the same glass as the coated glass.

また、本発明のスペーサ植立構造体では、
前記コートガラスと前記接着層がバナジウムを主成分とし、添加物としてテルルと燐を互いに異なる重量比で含むバナジウム系ガラスとした。
Moreover, in the spacer planting structure of the present invention,
The coated glass and the adhesive layer were vanadium-based glasses containing vanadium as a main component and tellurium and phosphorus as additives in different weight ratios.

また、本発明のスペーサ植立構造体では、
前記接着層と前記コートガラスの間に前記テルルと燐が互いに拡散して元の重量比と異なる重量比を示す拡散層を有するものとした。
Moreover, in the spacer planting structure of the present invention,
The tellurium and phosphorus diffused each other between the adhesive layer and the coated glass to have a diffusion layer showing a weight ratio different from the original weight ratio.

また、本発明のスペーサ植立構造体では、
前記接着層での前記テルルの濃度を前記コートガラスのそれより高く、前記接着層での前記燐の濃度を前記コートガラスのそれより低くした。
Moreover, in the spacer planting structure of the present invention,
The tellurium concentration in the adhesive layer was higher than that of the coated glass, and the phosphorus concentration in the adhesive layer was lower than that of the coated glass.

なお、本発明のスペーサ植立構造体では、前記接着層に導電性フィラーを混入することができる。   In the spacer planting structure of the present invention, a conductive filler can be mixed into the adhesive layer.

本発明の表示装置は、絶縁基板と、該絶縁基板の主面に設けられて、第1方向に延在し該第1方向と交差する第2方向に並設された複数の走査線と、前記第2方向に延在し前記第1方向に並設された複数の信号線と、前記走査線と前記信号線の交差部近傍に設けられた電子源を有する背面パネルと、透明絶縁基板と、該透明絶縁基板の主面に設けられて、前記電子源のそれぞれと対を成す蛍光体層と、陽極とを有する前面パネルと、所定の間隔で主面同士を対向させた前記背面パネルと前記前面パネルの端部内周に介挿して、両パネルと共に減圧容器を形成する封止枠と、前記背面パネルと前記前面パネルの前記所定の間隔を保持するスペーサとを備える。   The display device of the present invention includes an insulating substrate, and a plurality of scanning lines provided on the main surface of the insulating substrate, extending in the first direction and juxtaposed in the second direction intersecting the first direction, A plurality of signal lines extending in the second direction and arranged in parallel in the first direction; a back panel having an electron source provided in the vicinity of an intersection of the scanning lines and the signal lines; and a transparent insulating substrate; A front panel having a phosphor layer provided on the main surface of the transparent insulating substrate and paired with each of the electron sources, an anode, and the back panel facing the main surfaces at a predetermined interval; A sealing frame that forms a decompression container together with the two panels, and a spacer that holds the predetermined distance between the rear panel and the front panel;

本発明では、前記スペーサを、コアガラスと、このコアガラスの表面を被覆したコートガラスとで構成する。そして、前記背面パネルと前記前面パネルとの間に前記スペーサを直接接着する接着層を前記コートガラスと同系のガラスとしたスペーサ植立構造体としたことを特徴とする。   In this invention, the said spacer is comprised with the core glass and the coat glass which coat | covered the surface of this core glass. And it is characterized by making it the spacer planting structure which made the glass similar to the said coating glass the contact bonding layer which adhere | attaches the said spacer directly between the said back panel and the said front panel.

また、本発明の表示装置では、前記コートガラスと前記接着層がバナジウムを主成分とし、添加物としてテルルと燐を互いに異なる重量比で含むバナジウム系ガラスとし、前記接着層と前記コートガラスの間に前記テルルと燐が互いに拡散して元の重量比と異なる重量比を示す拡散層を有するものとすることができる。   Further, in the display device of the present invention, the coated glass and the adhesive layer are vanadium-based glasses containing vanadium as a main component and tellurium and phosphorus at different weight ratios as additives, and between the adhesive layer and the coated glass. In addition, the tellurium and phosphorus may diffuse each other to have a diffusion layer exhibiting a weight ratio different from the original weight ratio.

また、本発明の表示装置では、前記接着層と前記コートガラスの間に前記テルルと燐が互いに拡散して元の重量比と異なる重量比を示す拡散層を有するものとすることができる。   In the display device of the present invention, the tellurium and phosphorus diffuse between each other between the adhesive layer and the coat glass to have a diffusion layer having a weight ratio different from the original weight ratio.

また、本発明の表示装置では、前記接着層での前記テルルの濃度が前記コートガラスのそれより高く、前記接着層での前記燐の濃度が前記コートガラスのそれより低いものとして、接合時のコートガラスの溶融を防止することができる。   In the display device of the present invention, the tellurium concentration in the adhesive layer is higher than that of the coated glass, and the phosphorus concentration in the adhesive layer is lower than that of the coated glass. The melting of the coated glass can be prevented.

なお、本発明の表示装置では、前記接着層に導電性フィラーを混入することができる。   In the display device of the present invention, a conductive filler can be mixed in the adhesive layer.

背面パネルおよび前面パネルとスペーサとの接着力が向上する。特に、コートガラスと接着層の間に拡散層が形成されることで接着力が大幅に向上する。導電性フィラーは拡散しないので、接着層の抵抗値は維持され、電荷排出機能の低下はない。   The adhesion between the back panel and the front panel and the spacer is improved. In particular, the adhesive force is greatly improved by forming a diffusion layer between the coated glass and the adhesive layer. Since the conductive filler does not diffuse, the resistance value of the adhesive layer is maintained and the charge discharging function is not deteriorated.

以下、本発明の最良の実施形態について、実施例の図面を参照して詳細に説明する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the drawings of the examples.

図1は、本発明のスペーサ植立構造体とこのスペーサ植立構造体を用いた表示装置の基本構造を説明する模式断面図である。この表示装置は、電子源に金属膜―絶縁膜―金属膜型電子源を用いた電子放出型表示装置である。図6と同様に、この表示装置は、第1の基板である背面基板SUB1の主面に設けられて、第1方向に延在し該第1方向と交差する第2方向に並設された複数の走査線GLと、走査線GLの下層に設けられ、第2方向に延在し第1方向に並設された複数の信号線CLと、走査線GLと信号線CLの交差部近傍に設けられた電子源を有する背面パネルPNL1と、
第2の基板である前面基板SUB2と、該前面基板SUB2の主面に設けられて、電子源ELSのそれぞれと対を成す蛍光体層PHと、陽極ADとを有する前面パネルPNL2と、
主面、すなわち電子源ELSや蛍光体層PH等を形成した内面同士を対向させた背面パネルPNL1と前面パネルPNL2の端部内周に介挿して、両パネルと共に減圧容器を形成する封止枠(図示せず)と、
背面パネルPNL1と前面パネルPNL2の間に接合されて、両パネルの間隔を所定値に維持するスペーサSPCと接着層FGSとからなるスペーサ植立構造体を備えている。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining the basic structure of a spacer planting structure of the present invention and a display device using the spacer planting structure. This display device is an electron emission display device using a metal film-insulating film-metal film type electron source as an electron source. Similar to FIG. 6, this display device is provided on the main surface of the back substrate SUB1, which is the first substrate, and is arranged in parallel in the second direction that extends in the first direction and intersects the first direction. A plurality of scanning lines GL, a plurality of signal lines CL provided below the scanning lines GL, extending in the second direction and arranged in parallel in the first direction, and in the vicinity of the intersection of the scanning lines GL and the signal lines CL A back panel PNL1 having an electron source provided;
A front substrate SUB2 that is a second substrate, a front panel PNL2 that is provided on the main surface of the front substrate SUB2 and has a phosphor layer PH that forms a pair with each of the electron sources ELS, and an anode AD;
A sealing frame that forms a decompression container together with both panels by inserting the main surfaces, that is, the inner surfaces of the rear panel PNL1 and the front panel PNL2 facing each other, where the inner surfaces on which the electron source ELS and the phosphor layer PH are formed are opposed to each other. (Not shown)
A spacer planting structure is provided which is joined between the rear panel PNL1 and the front panel PNL2 and includes a spacer SPC and an adhesive layer FGS for maintaining the distance between the panels at a predetermined value.

スペーサ植立構造体を構成するスペーサSPCは、コアガラスCRGと、このコアガラスCRGの表面を覆う高抵抗層のコートガラスSRGで形成されており、背面パネルPNL1と前面パネルPNL2との間に植立させ、接着層FRGで接合している。なお、コアガラスCRGの材料はアルミノシリケートガラスやソーダガラス等、高抵抗のコートガラスSRGの材料はバナジウムリン系ガラスである。他の構成は図6に示したものと同様である。   The spacer SPC constituting the spacer planting structure is formed of a core glass CRG and a coated glass SRG having a high resistance layer covering the surface of the core glass CRG, and is planted between the rear panel PNL1 and the front panel PNL2. It is made to stand and bonded with the adhesive layer FRG. The material of the core glass CRG is aluminosilicate glass or soda glass, and the material of the high resistance coated glass SRG is vanadium phosphorus glass. Other configurations are the same as those shown in FIG.

すなわち、電子放出型のFPDは、上記のような電子源ELSを備えた背面基板SUB1で構成した背面パネルPNL1と、蛍光体層PHとこの蛍光体層PHに電子源ELSから放出される電子e-を射突させるための加速電圧を形成した陽極ADを備えた前面基板SUB2で構成された前面パネルPNL2とを貼り合わせ、両パネルの対向する内部空間を所定の減圧又は真空状態に封止する。背面パネルPNL1を構成する背面基板SUB1にはマトリクス配列した多数の電子源ELSを有し、前面パネルPNL2を構成する前面基板SUB2には蛍光体PH層と電子源ELSから放出された電子e-を蛍光体層PHに射突させる電界を形成するための加速電圧を形成する陽極ADを有する。 That is, the electron emission type FPD includes a back panel PNL1 formed of the back substrate SUB1 provided with the electron source ELS as described above, a phosphor layer PH, and electrons e emitted from the electron source ELS to the phosphor layer PH. The front panel PNL2 composed of the front substrate SUB2 having the anode AD formed with an acceleration voltage for projecting the-is bonded together, and the internal spaces facing both panels are sealed to a predetermined reduced pressure or vacuum state. . The back substrate SUB1 constituting the back panel PNL1 has a large number of electron sources ELS arranged in a matrix, and the front substrate SUB2 constituting the front panel PNL2 contains the phosphor PH layer and the electrons e emitted from the electron source ELS. It has an anode AD that forms an acceleration voltage for forming an electric field that strikes the phosphor layer PH.

実施例1のスペーサ植立構造体は、コアガラスCRGと、このコアガラスCRGの表面を覆う高抵抗層のコートガラスSRGで構成されたスペーサSPCを接着層FGSで直接背面パネルPNL1と前面パネルPNL2とに接合して植立される。   In the spacer planting structure of Example 1, a spacer SPC composed of a core glass CRG and a high-resistance layer coated glass SRG covering the surface of the core glass CRG is directly bonded to the rear panel PNL1 and the front panel PNL2 with an adhesive layer FGS. It is planted by joining with.

実施例1のスペーサ植立構造体では、コートガラスSRGと接着層FGSをバナジウム(例えば、V25)を主成分とし、添加物としてテルル(Te)と燐(P)を互いに異なる重量比で含むバナジウム系ガラスとし、接合時の加熱で接着層FGSとコートガラスSRGの間にテルルと燐が互いに拡散して元の重量比と異なる重量比を示す拡散層が形成される。 In the spacer planting structure of Example 1, the coated glass SRG and the adhesive layer FGS are mainly composed of vanadium (for example, V 2 O 5 ), and tellurium (Te) and phosphorus (P) are added in different weight ratios as additives. In this case, tellurium and phosphorus are diffused between the adhesive layer FGS and the coated glass SRG by heating during bonding, and a diffusion layer having a weight ratio different from the original weight ratio is formed.

また、実施例1のスペーサ植立構造体では、接着層FGSでのテルルの濃度がコートガラスSRGのそれより高く、接着層FGSでの燐の濃度がコートガラスSRGのそれより低いものとすることで、接合時のコートガラスSRGの溶融を防止することができる。   Further, in the spacer planting structure of Example 1, the tellurium concentration in the adhesive layer FGS is higher than that of the coated glass SRG, and the phosphorus concentration in the adhesive layer FGS is lower than that of the coated glass SRG. Thus, melting of the coated glass SRG at the time of bonding can be prevented.

なお、実施例1のスペーサ植立構造体では、接着層FGSに導電性フィラーを混入して、所定の抵抗値とすることができる。   In addition, in the spacer planting structure of Example 1, a conductive filler can be mixed into the adhesive layer FGS to obtain a predetermined resistance value.

本実施例のスペーサ植立構造体を用いることにより、背面パネルおよび前面パネルとスペーサとの接着力が向上する。特に、コートガラスと接着層の間に拡散層が形成されることで接着力が大幅に向上する。フィラーは拡散しないので、接着層の抵抗値は維持され、電荷排出機能の低下はなく、高信頼性の表示装置を提供することができる。
以下、上記効果を得るため使用した材料について説明する。
By using the spacer planting structure of the present embodiment, the adhesion between the back panel and the front panel and the spacer is improved. In particular, the adhesive force is greatly improved by forming a diffusion layer between the coated glass and the adhesive layer. Since the filler does not diffuse, the resistance value of the adhesive layer is maintained, the charge discharging function is not deteriorated, and a highly reliable display device can be provided.
Hereinafter, the material used in order to acquire the said effect is demonstrated.

コート用ガラスは、酸化物換算でV25;40〜50wt%、P25;25〜30wt%を主成分とするものとした。具体例は下記である。なお、Te化合物は添加しなかった。また、スペーサに電極のための金属層等は形成しなかった。 The glass for coating was composed mainly of V 2 O 5 ; 40 to 50 wt% and P 2 O 5 ; 25 to 30 wt% in terms of oxide. Specific examples are as follows. The Te compound was not added. Further, no metal layer or the like for the electrode was formed on the spacer.

上記のコート用ガラスを使用すると、従来品より密着性向上という効果が得られる。

Figure 2007227230
When the above glass for coating is used, the effect of improving the adhesion can be obtained compared to the conventional product.
Figure 2007227230

カソード側接着層は、酸化物換算で、V25;50〜65wt%、P25;25wt%を主成分とするものとした。カソード側接着層にはTeO2;5wt%を添加した。カソード側接着層として使用した例は下記表2である。上記の接着層をカソード側に使用することにより、従来品より密着性向上という効果が得られる。

Figure 2007227230
The cathode-side adhesive layer was composed mainly of V 2 O 5 ; 50 to 65 wt% and P 2 O 5 ; 25 wt% in terms of oxide. TeO 2 ; 5 wt% was added to the cathode side adhesive layer. Examples used as the cathode side adhesive layer are shown in Table 2 below. By using the adhesive layer on the cathode side, the effect of improving the adhesion can be obtained compared to the conventional product.
Figure 2007227230

アノード側接着層は、酸化物換算で、V25;60〜65wt%、P25;20〜25wt%を主成分とするものを使用した。アノード側接着層にはTeを添加しなかった。また、アノード側接着層に導電性フィラーを添加し、転移点・流動点をカソード側よりも高くして使用した。その理由は、スペーサをアノード側基板に接着し、その後カソード側に接着することにより、同時に両側を接着する場合に比して垂直としやすくするためである。導電性フィラーの添加量はガラス90〜70wt%に対しフィラー10〜30wt%とした。
上記の接着層をアノード側に使用することにより、従来品より密着性向上という効果が得られる。

Figure 2007227230
The anode side adhesive layer used was composed mainly of V 2 O 5 ; 60 to 65 wt% and P 2 O 5 ; 20 to 25 wt% in terms of oxide. Te was not added to the anode side adhesive layer. Further, a conductive filler was added to the anode side adhesive layer, and the transition point / pour point was set higher than that of the cathode side. The reason is that the spacer is bonded to the anode side substrate and then bonded to the cathode side, so that it is easier to make it vertical compared to the case where both sides are bonded simultaneously. The addition amount of the conductive filler was 10 to 30 wt% with respect to 90 to 70 wt% of the glass.
By using the adhesive layer on the anode side, the effect of improving the adhesion can be obtained compared to the conventional product.
Figure 2007227230

上記のコート層、接着層を組み合わせ、表示装置を作成した。   A display device was prepared by combining the above coat layer and adhesive layer.

コートガラスはスラリー状にして印刷法を用いて付した。接着ガラスはペースト状にしてディップ法により使用した。コート層、接着層間には、金属薄膜等の構成は付していない。その結果、接着層、コート層の間には拡散層が形成された。拡散層を多くするためには、特に、焼成時間を長くするとよい。拡散層を観察すると、P、Te、Vに傾斜状の濃度分布が形成された。各組成のガラスの濃度分布を有することにより、熱膨張係数やガラス転移点等の特性の差異を緩和することとなり、従来品より密着性向上という効果が得られる。さらに、拡散層により、特定の一部への応力集中等が生じず、耐久性の優れた接合が達成され得るので耐久性の高い平面表示装置が提供できる。   The coated glass was made into a slurry and attached using a printing method. The adhesive glass was made into a paste and used by the dip method. A metal thin film or the like is not provided between the coat layer and the adhesive layer. As a result, a diffusion layer was formed between the adhesive layer and the coat layer. In order to increase the diffusion layer, it is particularly preferable to increase the firing time. When the diffusion layer was observed, an inclined concentration distribution was formed in P, Te, and V. By having the concentration distribution of the glass of each composition, the difference in characteristics such as the thermal expansion coefficient and the glass transition point is alleviated, and the effect of improving the adhesion is obtained as compared with the conventional product. Furthermore, since the diffusion layer does not cause stress concentration on a specific part and bonding with excellent durability can be achieved, a flat display device with high durability can be provided.

上記の各組成を確認したところ、もっとも望ましい組み合わせは、コート層が1−L、アノード側が2−A、カソード側接着層が3−Bであった。これらの組み合わせにより、他の表示装置よりも密着性向上という効果が得られる。   When the above compositions were confirmed, the most desirable combination was 1-L for the coating layer, 2-A for the anode side, and 3-B for the cathode side adhesive layer. By combining these, the effect of improving the adhesion can be obtained as compared with other display devices.

図2は、本発明による表示装置の全体構成例を説明する図である。図2(a)は斜視図、図2(b)は図2(a)のA−A’線に沿って切断した概略断面図である。図2において、背面パネルPNL1を構成する背面基板SUB1の内面には信号線(データ線、カソード電極線)CLと走査線(ゲート電極線)GLを有し、信号線CLと走査線GLの交差部分に電子源ELSが形成されている。走査線GLの端部には図示しない走査線引出線が形成され、信号線CLの端部には図示しない信号線引出線が形成されている。   FIG. 2 is a diagram illustrating an example of the overall configuration of a display device according to the present invention. 2A is a perspective view, and FIG. 2B is a schematic cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. In FIG. 2, a signal line (data line, cathode electrode line) CL and a scanning line (gate electrode line) GL are provided on the inner surface of the rear substrate SUB1 constituting the rear panel PNL1, and the signal line CL and the scanning line GL intersect each other. An electron source ELS is formed in the portion. A scanning line lead line (not shown) is formed at the end of the scanning line GL, and a signal line lead line (not shown) is formed at the end of the signal line CL.

また、前面パネルPNL2を構成する前面基板SUB2の内面には、遮光膜(ブラックマトリクス)BM、陽極(メタルバック、アノード)AD及び蛍光体層PH等が形成されている。背面パネルPNL1を構成する背面基板SUB1と、前面パネルPNL2を構成する前面基板SUB2とは、その周縁部に封止枠(枠ガラス)MFLを介在させて封着部材FGMにより貼り合わされる。この貼り合わせた間隙を所定値に保持するため、背面基板SUB1と前面基板PNL2の間に上記したスペーサ植立構造体が設置されている。   A light shielding film (black matrix) BM, an anode (metal back, anode) AD, a phosphor layer PH, and the like are formed on the inner surface of the front substrate SUB2 constituting the front panel PNL2. The rear substrate SUB1 constituting the rear panel PNL1 and the front substrate SUB2 constituting the front panel PNL2 are bonded to each other by a sealing member FGM with a sealing frame (frame glass) MFL interposed therebetween. In order to maintain the bonded gap at a predetermined value, the above-described spacer planting structure is installed between the back substrate SUB1 and the front substrate PNL2.

なお、背面パネルPNL1と前面パネルPNL2および封止枠MFLで密封された内部空間は、背面パネルPNL1の一部に設けた図示しない排気管から排気して所定の真空状態に保持される。   The internal space sealed by the back panel PNL1, the front panel PNL2, and the sealing frame MFL is exhausted from an exhaust pipe (not shown) provided in a part of the back panel PNL1, and is maintained in a predetermined vacuum state.

図3は、図1のA−A’線に沿った断面の詳細構造を説明する模式図である。また、図4は、図3の要部拡大断面図である。図3、図4において、背面パネルPNL1を構成する背面基板SUB1と前面パネルPNL2を構成する前面基板SUB2は、周縁に設置した枠ガラスMFLを介して一体化される。図2と同一符号は同一機能部分に対応する。枠ガラスMFLと背面基板SUB1および前面基板SUB2は封着部材FGMで、例えば約3mm程度に間隔を保持して固定される。また、表示領域において、背面基板SUB1と前面基板SUB2の間の感覚を保持するスペーサSPCは導電性接合材である接着層FGSで固定される。   FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a detailed structure of a cross section taken along the line A-A ′ of FIG. 1. 4 is an enlarged cross-sectional view of the main part of FIG. 3 and 4, the rear substrate SUB1 constituting the rear panel PNL1 and the front substrate SUB2 constituting the front panel PNL2 are integrated via a frame glass MFL installed on the periphery. The same reference numerals as those in FIG. 2 correspond to the same functional parts. The frame glass MFL, the rear substrate SUB1, and the front substrate SUB2 are fixed by a sealing member FGM, for example, with a gap of about 3 mm. In the display area, the spacer SPC that holds a feeling between the back substrate SUB1 and the front substrate SUB2 is fixed by an adhesive layer FGS that is a conductive bonding material.

スペーサ植立構造体を構成するスペーサSPCは、前記したような構造基本とし、前記実施例で説明した材料からなる。なお、このスペーサSPCを接合する接着層FGSには熱膨張係数調整用フィラーを含有させても良い。このフィラーは導電性であることが望ましい。   The spacer SPC that constitutes the spacer planting structure is based on the structure as described above and is made of the material described in the above embodiment. The adhesive layer FGS to which the spacer SPC is bonded may contain a thermal expansion coefficient adjusting filler. This filler is preferably conductive.

図5は、本発明の表示装置の等価回路例を説明する図である。図5中に破線で示した領域は表示領域ARであり、この表示領域ARにn本の信号線CLとm本の走査線GLが互いに交差して配置されてn×mのマトリクスが形成されている。マトリクスの各交差部は副画素(単位画素、サブピクセル)を構成し、図中の3つのサブピクセル"R","G","B"の1グループでカラー1画素(カラーピクセル)を構成する。信号線CLは、信号線引出端子CLTで画像信号駆動回路DDRに接続され、走査線GLは走査線引出端子GLTで走査信号駆動回路SDRに接続されている。画像信号駆動回路DDRには外部信号源から画像信号NSが入力され、走査信号駆動回路SDRには同様に走査信号SSが入力される。   FIG. 5 is a diagram illustrating an example of an equivalent circuit of the display device of the present invention. A region indicated by a broken line in FIG. 5 is a display region AR. In this display region AR, n signal lines CL and m scanning lines GL are arranged so as to intersect with each other to form an n × m matrix. ing. Each intersection of the matrix constitutes a sub-pixel (unit pixel, sub-pixel), and one group of three sub-pixels “R”, “G”, “B” in the figure constitutes one color pixel (color pixel). To do. The signal line CL is connected to the image signal drive circuit DDR at the signal line lead terminal CLT, and the scan line GL is connected to the scan signal drive circuit SDR at the scan line lead terminal GLT. The image signal NS is input from the external signal source to the image signal driving circuit DDR, and the scanning signal SS is similarly input to the scanning signal driving circuit SDR.

これにより、順次選択される走査線GLに交差する信号線CLに画像信号を供給することで、二次元のフルカラー画像を表示することができる。本構成例の画像表示パネルを用いることにより、比較的低電圧で高効率の自発光平面型の表示装置が実現される。   Accordingly, a two-dimensional full-color image can be displayed by supplying an image signal to the signal line CL that intersects the scanning lines GL that are sequentially selected. By using the image display panel of this configuration example, a self-luminous flat display device with relatively low voltage and high efficiency is realized.

本発明による表示装置は、背面基板基板と前面基板の間に上記した実施例で説明したスペーサを植立させることで、スペーサにチャージアップしようとする電荷が基板側に排出(吸収)され、高品質の画像表示が可能な表示装置を提供できる。   In the display device according to the present invention, by setting the spacer described in the above-described embodiment between the back substrate and the front substrate, the charge to be charged up to the spacer is discharged (absorbed) to the substrate side, A display device capable of displaying a quality image can be provided.

なお、前記実施例では、電子源にMIM型を用いた構造を例として説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、前述した各種の電子源を用いた自発光型の表示装置に適用できることは言うまでもない。   In the above embodiment, the structure using the MIM type as the electron source has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the self-luminous display device using the various electron sources described above. Needless to say, it can be applied.

本発明のスペーサ植立構造体とこのスペーサ植立構造体を用いた表示装置の基本構造を説明する模式断面図である。It is a schematic cross section explaining the basic structure of the spacer planting structure of the present invention and a display device using the spacer planting structure. 本発明による表示装置の全体構成例を説明する図である。It is a figure explaining the example of whole structure of the display apparatus by this invention. 図1のA−A’線に沿った断面の詳細構造を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the detailed structure of the cross section along the A-A 'line of FIG. 図3の要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of FIG. 本発明の表示装置の等価回路例を説明する図である。It is a figure explaining the example of an equivalent circuit of the display apparatus of this invention. 電子源に金属膜―絶縁膜―金属膜型電子源を用いた電子放出型表示装置の基本構成を説明する模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view illustrating a basic configuration of an electron emission display device using a metal film-insulating film-metal film type electron source as an electron source.

符号の説明Explanation of symbols

PNL1・・・背面パネル、SUB1・・・背面基板、PNL2・・・前面パネル、SUB2・・・前面基板、SPC・・・スペーサ、GL・・・走査線、CL・・・信号線、ELS・・・電子源、AD・・・陽極、BM・・・ブラックマトリクス、PH・・・蛍光体層、SDR・・・走査信号線駆動回路、DDR・・・画像信号線駆動回路。

PNL1 ... Back panel, SUB1 ... Back substrate, PNL2 ... Front panel, SUB2 ... Front substrate, SPC ... Spacer, GL ... Scan line, CL ... Signal line, ELS -Electron source, AD ... anode, BM ... black matrix, PH ... phosphor layer, SDR ... scanning signal line drive circuit, DDR ... image signal line drive circuit.

Claims (11)

第1の基板と第2の基板の対向面の間に接着層で接合して植立し、両者の間隙を所定値に維持するためのスペーサとこのスペーサを接合して植立する接着層とからなるスペーサ植立構造体であって、
前記スペーサが、コアガラスと、このコアガラスの表面を覆うコートガラスで形成され、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に前記スペーサを直接接合する前記接着層が前記コートガラスと同系のガラスからなることを特徴とするスペーサ植立構造体。
A spacer for bonding and planting between the opposing surfaces of the first substrate and the second substrate with an adhesive layer, and maintaining a gap between the two at a predetermined value, and an adhesive layer for planting by bonding the spacer A spacer planting structure comprising:
The spacer is formed of a core glass and a coated glass covering the surface of the core glass,
A spacer planting structure characterized in that the adhesive layer for directly joining the spacer between the first substrate and the second substrate is made of a glass similar to the coat glass.
第1の基板と第2の基板の対向面の間に接着層で接合して植立し、両者の間隙を所定値 に維持するためのスペーサとこのスペーサを接合して植立する接着層とからなるスペー サ植立構造体であって、
前記スペーサが、コアガラスと、このコアガラスの表面を覆うコートガラスで形成され 、
前記コートガラスと前記接着層がバナジウムを主成分とし、添加物としてテルルと燐を含むガラスであることを特徴とするスペーサ植立構造体。
A spacer for bonding and planting between the opposing surfaces of the first substrate and the second substrate with an adhesive layer, and maintaining a gap between the two at a predetermined value, and an adhesive layer for planting by bonding the spacer A spacer planting structure comprising:
The spacer is formed of a core glass and a coated glass covering the surface of the core glass,
A spacer planting structure characterized in that the coated glass and the adhesive layer are glass containing vanadium as a main component and tellurium and phosphorus as additives.
請求項2において、
前記接着層と前記コートガラスの間に前記テルルと燐が互いに拡散し、前記接着層または前記コートガラスと異なる前記テルルと燐の重量比を示す拡散層を有することを特徴とするスペーサ植立構造体。
In claim 2,
A spacer planting structure characterized in that the tellurium and phosphorus diffuse between each other between the adhesive layer and the coated glass, and have a diffusion layer showing a weight ratio of the tellurium and phosphorus different from the adhesive layer or the coated glass. body.
請求項3において、
前記接着層の前記テルルの濃度は、前記コートガラスのテルルの濃度より高く、前記接着層での前記燐の濃度は、前記コートガラスの燐の濃度より低いことを特徴とするスペーサ植立構造体。
In claim 3,
The spacer planting structure characterized in that the tellurium concentration in the adhesive layer is higher than the tellurium concentration in the coated glass, and the phosphorous concentration in the adhesive layer is lower than the phosphorous concentration in the coated glass. .
請求項2において、
背面基板側の接着層と前面基板側の接着層のTe、Pの濃度が異なっていることを特徴とするスペーサ植立構造体。
In claim 2,
A spacer planting structure characterized in that the Te and P concentrations of the adhesive layer on the back substrate side and the adhesive layer on the front substrate side are different.
請求項1乃至5のいずれかにおいて、
前記接着層に導電性フィラーが混入されていることを特徴とするスペーサ植立構造体。
In any one of Claims 1 thru | or 5,
A spacer planting structure characterized in that a conductive filler is mixed in the adhesive layer.
絶縁基板と、該絶縁基板の主面に設けられて、第1方向に延在し該第1方向と交差する第2方向に並設された複数の走査線と、前記第2方向に延在し前記第1方向に並設された複数の信号線と、前記走査線と前記信号線の交差部近傍に設けられた電子源を有する背面パネルと、
透明絶縁基板と、該透明絶縁基板の主面に設けられて、前記電子源のそれぞれと対を成す蛍光体層と、陽極とを有する前面パネルと、
主面同士を対向させた前記背面パネルと前記前面パネルの端部内周に介挿して、両パネルと共に減圧容器を形成する封止枠と、
前記背面パネルと前記前面パネルの間に接合されて、両パネルの間隔を所定値に維持するスペーサと接着層とからなるスペーサ植立構造体を備え、
前記スペーサが、コアガラスと、このコアガラスの表面を覆うコートガラスで形成されており、
前記背面パネルと前記前面パネルとの間に前記スペーサを直接接合する前記接着層が前記コートガラスと同系のガラスからなることを特徴とする表示装置。
An insulating substrate, a plurality of scanning lines provided on a main surface of the insulating substrate, extending in the first direction and juxtaposed in a second direction intersecting the first direction, and extending in the second direction A back panel having a plurality of signal lines arranged in parallel in the first direction, and an electron source provided in the vicinity of an intersection of the scanning lines and the signal lines;
A front panel having a transparent insulating substrate, a phosphor layer provided on the main surface of the transparent insulating substrate and paired with each of the electron sources, and an anode;
A sealing frame that forms a decompression container together with both panels, inserted between the back panel and the inner periphery of the end of the front panel with the main surfaces facing each other;
A spacer planting structure comprising a spacer and an adhesive layer bonded between the back panel and the front panel and maintaining a distance between the panels at a predetermined value,
The spacer is formed of a core glass and a coated glass covering the surface of the core glass,
The display device, wherein the adhesive layer that directly joins the spacer between the back panel and the front panel is made of glass similar to the coated glass.
請求項7において、
前記コートガラス及び接着層は、それぞれバナジウムと、テルル及びリンを含有することを特徴とする表示装置。
In claim 7,
The coat glass and the adhesive layer contain vanadium, tellurium and phosphorus, respectively.
請求項8において、
前記接着層と前記コートガラスの間に拡散層を有し、前記拡散層は前記テルル及び燐の含有量が前記接着層またはコートガラスと異なることを特徴とする表示装置。
In claim 8,
A display device comprising a diffusion layer between the adhesive layer and the coated glass, wherein the diffusion layer has a tellurium and phosphorus content different from that of the adhesive layer or the coated glass.
請求項8において、
前記接着層のテルル濃度が前記コートガラスのテルル濃度より高く、前記接着層のリン濃度が前記コートガラスのリン濃度より低いことを特徴とする表示装置。
In claim 8,
The display device, wherein the tellurium concentration of the adhesive layer is higher than the tellurium concentration of the coated glass, and the phosphorus concentration of the adhesive layer is lower than the phosphorous concentration of the coated glass.
請求項7乃至10の何れかにおいて、
前記接着層に導電性フィラーが混入されていることを特徴とする表示装置。

In any of claims 7 to 10,
A display device, wherein a conductive filler is mixed in the adhesive layer.

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