JP2007210991A - Oxime ester compound, radical polymerization initiator, and polymerizable composition - Google Patents

Oxime ester compound, radical polymerization initiator, and polymerizable composition Download PDF

Info

Publication number
JP2007210991A
JP2007210991A JP2006194241A JP2006194241A JP2007210991A JP 2007210991 A JP2007210991 A JP 2007210991A JP 2006194241 A JP2006194241 A JP 2006194241A JP 2006194241 A JP2006194241 A JP 2006194241A JP 2007210991 A JP2007210991 A JP 2007210991A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
general formula
substituted
compound
substituent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006194241A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4007399B2 (en
Inventor
Mare Tsushima
希 對馬
Maki Sugano
真樹 菅野
Yoriyuki Moroishi
順幸 諸石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority to JP2006194241A priority Critical patent/JP4007399B2/en
Priority to KR1020087019542A priority patent/KR101075686B1/en
Priority to CN2007800030236A priority patent/CN101370772B/en
Priority to TW096101212A priority patent/TWI392966B/en
Priority to PCT/JP2007/050287 priority patent/WO2007080947A1/en
Publication of JP2007210991A publication Critical patent/JP2007210991A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4007399B2 publication Critical patent/JP4007399B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new oxime ester compound, a high-sensitivity radical polymerization initiator that efficiently generates an active radical by irradiation with energy rays, especially a light and polymerizes a radically polymerizable compound in a short time and a curable composition using the same. <P>SOLUTION: The compound is represented by general formula (1) (A and B are each independently a substituted or nonsubstituted heterocyclic group or a substituted or nonsubstituted condensed polycyclic hydrocarbon group; X is a monofunctional organic residue with the proviso that A and B are not the same). <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は新規なオキシムエステル化合物、ラジカル重合開始剤およびそれを用いた重合性組成物に関する。さらに詳しくは、エネルギー線、特に光の照射によりフリーラジカルを効率よく発生し、ラジカル重合性化合物を短時間に確実に重合させ、例えば成形樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、ブラックマトリクス用レジスト、液晶用フォトスペーサー、リアプロジェクション用スクリーン材料、光ファイバー、プラズマディスプレー用リブ材、ドライフィルムレジスト、プリント基板用レジスト、ソルダーレジスト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、マイクロマシン用部品製造用レジスト、エッチング用レジスト、マイクロレンズアレー、絶縁材、ホログラム材料、光学スイッチ、導波路用材料、オーバーコート剤、粉末コーティング、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、粘接着剤、剥離コート剤、マイクロカプセルを用いた画像記録材料のための組成物、各種デバイスなどの分野において良好な物性を持った重合物を得るための新規なオキシムエステル化合物、ラジカル重合開始剤およびそれを用いた重合性組成物関する。   The present invention relates to a novel oxime ester compound, a radical polymerization initiator, and a polymerizable composition using the same. More specifically, free radicals are efficiently generated by irradiation with energy rays, particularly light, and radically polymerizable compounds are reliably polymerized in a short time. For example, molding resins, casting resins, optical modeling resins, sealants, Dental polymerization resin, printing ink, paint, photosensitive resin for printing plate, color proof for printing, resist for color filter, resist for black matrix, photo spacer for liquid crystal, screen material for rear projection, optical fiber, rib material for plasma display , Dry film resist, printed circuit board resist, solder resist, semiconductor photoresist, microelectronic resist, micromachine component resist, etching resist, microlens array, insulating material, hologram material, optical switch, waveguide Materials, overcoat agents, powder coatings, adhesives, adhesives, release agents, optical recording media, adhesives, release coating agents, compositions for image recording materials using microcapsules, various devices, etc. The present invention relates to a novel oxime ester compound, a radical polymerization initiator and a polymerizable composition using the same to obtain a polymer having good physical properties in the field.

従来、ある種のオキシムエステル化合物が光開始剤として機能することは公知である(非特許文献1、特許文献1,2参照)。また、ポジ又はネガ型の感光性ポリイミド前駆体用組成物の光ラジカル重合開始剤として、α―ケトオキシムエステル化合物が開示されている(特許文献3参照)。また、ある種のα,α'−ジケトオキシムエステル化合物が開示されている(特許文献4〜8参照)。また、ある種のO−アシルオキシムエステル化合物が開示されている(特許文献9〜11参照)。これらはいずれも重合開始剤として機能しうるが、近年、生産性の向上や新しく提案される様々なプロセスに対応すべく、重合開始剤の高感度化が普遍的に求められている。
European polymer Journal, 1970, 6, 933-943 米国特許第3,558,309号明細書 米国特許第4,255,513号明細書 特開平7−140,658号公報 米国特許第5,019,482号明細書 特開昭62−184,056号公報 特開昭62−273,259号公報 特開昭62−286,961号公報 特開昭62−201,859号公報 特開2001−233,842号公報 特開2000−80,068号公報 特表2004−534,797号公報
Conventionally, it is known that certain oxime ester compounds function as photoinitiators (see Non-Patent Document 1, Patent Documents 1 and 2). Moreover, an α-ketoxime ester compound is disclosed as a radical photopolymerization initiator for a positive or negative photosensitive polyimide precursor composition (see Patent Document 3). In addition, certain α, α′-diketooxime ester compounds are disclosed (see Patent Documents 4 to 8). In addition, certain O-acyloxime ester compounds have been disclosed (see Patent Documents 9 to 11). Any of these can function as a polymerization initiator, but in recent years, there has been a universal demand for higher sensitivity of the polymerization initiator in order to improve productivity and various newly proposed processes.
European polymer Journal, 1970, 6, 933-943 US Pat. No. 3,558,309 US Pat. No. 4,255,513 JP-A-7-140,658 US Pat. No. 5,019,482 Japanese Patent Laid-Open No. 62-184,056 JP-A-62-273,259 JP 62-286,961 A JP-A-62-201,859 JP 2001-233842 A JP 2000-80,068 JP-T-2004-534,797

本発明の目的は、新規なオキシムエステル化合物を提供し、この化合物を用いることで、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生し、ラジカル重合性化合物を短時間に重合させうる高感度なラジカル重合開始剤およびそれを用いた硬化性組成物を提案することにある。例えば、インキ、塗料、感光性印刷板、プルーフ材料、フォトレジスト、ホログラム材料、封止剤、オーバーコート材、光造形用樹脂、接着剤等の分野において実用的なオリゴマーやポリマーを工業的に提供し、良好な特性を持った硬化物を得るための、新規なオキシムエステル化合物からなる、ラジカル重合開始剤およびそれを用いた重合性組成物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel oxime ester compound, and by using this compound, an active radical can be efficiently generated by irradiation with energy rays, particularly light, and a radical polymerizable compound can be polymerized in a short time. The object is to propose a highly sensitive radical polymerization initiator and a curable composition using the same. For example, industrially provide practical oligomers and polymers in the fields of inks, paints, photosensitive printing plates, proof materials, photoresists, hologram materials, sealants, overcoat materials, stereolithography resins, adhesives, etc. The object of the present invention is to provide a radical polymerization initiator comprising a novel oxime ester compound and a polymerizable composition using the same, in order to obtain a cured product having good characteristics.

本発明者らは、以上の諸問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。すなわち本発明は、下記一般式(1)で表される化合物に関する。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have arrived at the present invention. That is, the present invention relates to a compound represented by the following general formula (1).

一般式(1)

Figure 2007210991
General formula (1)
Figure 2007210991

(式中、AおよびBは、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の複素環基、または、置換もしくは未置換の縮合多環炭化水素基を表し、
Xは一価の有機残基を表す。
ただし、AとBとが同じになることは無い。)
(In the formula, A and B each independently represent a substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted condensed polycyclic hydrocarbon group,
X represents a monovalent organic residue.
However, A and B are never the same. )

また、本発明は、Aが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または、置換もしくは未置換のナフチル基である上記化合物に関する。
(ただし、カルバゾリル基およびナフチル基上の置換基の一部が、カルバゾリル基もしくはナフチル基の炭素原子または他の置換基の一部と結合し、一体となって環構造を形成していてもよい。)
The present invention also relates to the above compound, wherein A is a substituted or unsubstituted carbazolyl group or a substituted or unsubstituted naphthyl group.
(However, a part of substituents on the carbazolyl group and naphthyl group may be bonded to a carbon atom of the carbazolyl group or naphthyl group or a part of other substituents to form a ring structure together. .)

また、本発明は、Aが置換もしくは未置換の下記一般式(2)または置換もしくは未置換の下記一般式(3)で表される基である上記化合物に関する。   The present invention also relates to the above compound, wherein A is a group represented by the following general formula (2) which is substituted or unsubstituted, or a general formula (3) which is substituted or unsubstituted.

一般式(2)

Figure 2007210991
General formula (2)
Figure 2007210991

一般式(3)

Figure 2007210991
General formula (3)
Figure 2007210991

(一般式(2)中、Yは一価の有機残基を表わす。) (In general formula (2), Y represents a monovalent organic residue.)

また、本発明は、Aが、置換もしくは未置換の下記一般式(2)で表される基であり、Bが、置換もしくは未置換の下記一般式(3)で表される基である上記化合物に関する。   In the present invention, A is a group represented by the following general formula (2) which is substituted or unsubstituted, and B is a group represented by the following general formula (3) which is substituted or unsubstituted. Relates to compounds.

一般式(2)

Figure 2007210991
General formula (2)
Figure 2007210991

一般式(3)

Figure 2007210991
General formula (3)
Figure 2007210991

(一般式(2)中、Yは一価の有機残基を表わす。) (In general formula (2), Y represents a monovalent organic residue.)

また、本発明は、上記化合物を含んでなるラジカル重合開始剤(a)に関する。   The present invention also relates to a radical polymerization initiator (a) comprising the above compound.

また、本発明は、上記ラジカル重合開始剤(a)とラジカル重合性化合物(b)とを含んでなる重合性組成物に関する。   The present invention also relates to a polymerizable composition comprising the radical polymerization initiator (a) and the radical polymerizable compound (b).

また、本発明は、さらに、増感剤(c)を含んでなる上記重合性組成物に関する。   The present invention further relates to the polymerizable composition comprising a sensitizer (c).

本発明の化合物は、1−位および3−位に複素環基または縮合多環炭化水素基を有することを特徴とするα,α'−ジケトオキシムエステル化合物であり、本発明の化合物はエネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生するラジカル重合開始剤として機能する。したがって、重合性物質のラジカル重合開始剤として著しく良好な効果を有する化合物を提供することができた。また、この化合物をラジカル重合開始剤として用いることで、良好な特性を持った硬化性組成物を提供することができた。   The compound of the present invention is an α, α′-diketooxime ester compound characterized by having a heterocyclic group or a condensed polycyclic hydrocarbon group at the 1-position and 3-position, and the compound of the present invention has energy It functions as a radical polymerization initiator that efficiently generates active radicals upon irradiation with light, particularly light. Therefore, the compound which has a remarkably good effect as a radical polymerization initiator of a polymeric substance was able to be provided. Moreover, by using this compound as a radical polymerization initiator, a curable composition having good characteristics could be provided.

まず初めに、本発明の化合物について説明する。本発明の化合物は、前記一般式(1)で表される構造を有することが特徴である。一般式(1)中、AおよびBは、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の複素環基、または、置換もしくは未置換の縮合多環炭化水素基を表わす。ただし、AとBとが同じになることは無い。   First, the compound of the present invention will be described. The compound of the present invention is characterized by having a structure represented by the general formula (1). In general formula (1), A and B each independently represent a substituted or unsubstituted heterocyclic group or a substituted or unsubstituted condensed polycyclic hydrocarbon group. However, A and B are never the same.

一般式(1)中の、置換もしくは未置換の複素環基における複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む芳香族あるいは脂肪族の複素環基が挙げられ、具体例としては、2−チエニル基、2−ベンゾチエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、3−チアントレニル基、2−チアンスレニル基、2−フリル基、2−ベンゾフリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、2−アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、3−フェニキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基、4−キノリニル基、4−イソキノリル基、3−フェノチアジニル基、2−フェノキサチイニル基、3−クマリニル基、ジベンゾフラニル基、クマラニル基、2−チオクマリニル基、キサントニル基、ジベンゾチエニル基、チオキサンテニル基、オキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、1,4−ジチアナフチル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、一般式(1)の炭素原子と上記以外の置換位置で結合していても良く、炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、特に限定されることはない。   Examples of the heterocyclic group in the substituted or unsubstituted heterocyclic group in the general formula (1) include aromatic or aliphatic heterocyclic groups containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Examples include 2-thienyl group, 2-benzothienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, 3-thianthenyl group, 2-thianthrenyl group, 2-furyl group, 2-benzofuryl group, pyranyl group, iso Benzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathiinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H -Indolyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, 4H-quinolidine Group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridine Group, 2-acridinyl group, perimidinyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, 3-phenixazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, Pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, thiol Xanthryl group, 4-quinolinyl group, 4-isoquinolyl group, 3-phenothiazinyl group, 2-phenoxathinyl group, 3-coumarinyl group, dibenzofuranyl group, coumaranyl group, 2-thiocoumarinyl group, xanthonyl group, dibenzothienyl Groups, thioxanthenyl groups, oxazolyl groups, benzoxazolyl groups, benzothiazolyl groups, 1,4-dithianaphthyl groups, and the like, but are not limited thereto. Moreover, it may couple | bond with the carbon atom of General formula (1) in substitution positions other than the above, and if it is a substitution position which can form a covalent bond with a carbon atom, it will not specifically limit.

一般式(1)中の、置換もしくは未置換の縮合多環炭化水素基における縮合多環炭化水素基としては、7個以上の炭素原子により環構造が形成されている縮合多環炭化水素基が挙げられ、具体例としては、インデニル基、1,3−インダンジオニル基、ナフチル基、β−テトラロニル基、α−ナフトキノリル基、ペンタレニル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、フルオレニル基、フルオレノニル基、アントリル基、9(10H)−アントラセノニル基、アントラセンキノニル基、アントラキノニル基、フェナントリル基、9,10−フェナントレンキノニル基、ビフェニレニル基、s−インダセニル基、as−インダセニル基、アセナフチレニル基、アセナフテニル基、アセナフトキノニル基、フェナレニル基、ナフタセニル基、クリセニル基、ピレニル基、トリフェニレニル基、ベンゾ〔a〕アントラセニル基、ベンゾ〔a〕アントラキノニル基、アセアントリレニル基、アセアントレニル基、アセアントレンキノリル基、アセフェナントリレニル基、フルオランテニル基、プレイアデニル基、ペンタセニル基、ペリレニル基、ピセニル基、ベンゾ〔a〕ピレニル基等を挙げることができる。これらの中で、入手のし易さ、合成の難易度の低下の理由などにより、環数2または3の縮合多環炭化水素基が好ましいが、これらに限定されるものではなく、また、一般式(1)の炭素原子と、どの置換位置で結合していても良く、炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、特に限定されることはない。   As the condensed polycyclic hydrocarbon group in the substituted or unsubstituted condensed polycyclic hydrocarbon group in the general formula (1), a condensed polycyclic hydrocarbon group in which a ring structure is formed of 7 or more carbon atoms is used. Specific examples include indenyl group, 1,3-indandionyl group, naphthyl group, β-tetralonyl group, α-naphthoquinolyl group, pentarenyl group, azulenyl group, heptalenyl group, fluorenyl group, fluorenonyl group, anthryl group, 9 (10H) -anthracenonyl group, anthracenequinonyl group, anthraquinonyl group, phenanthryl group, 9,10-phenanthrenequinonyl group, biphenylenyl group, s-indacenyl group, as-indacenyl group, acenaphthylenyl group, acenaphthenyl group, acenaphthoquinonyl group , Phenalenyl group, naphthacenyl group, chrycenyl Group, pyrenyl group, triphenylenyl group, benzo [a] anthracenyl group, benzo [a] anthraquinonyl group, aceanthrenyl group, aceanthrenyl group, aceanthrenequinolyl group, acephenanthrenylenyl group, fluoranthenyl group, Examples include a preadenyl group, a pentacenyl group, a perylenyl group, a picenyl group, and a benzo [a] pyrenyl group. Among these, a condensed polycyclic hydrocarbon group having 2 or 3 rings is preferable because of easy availability, a decrease in synthesis difficulty, and the like, but is not limited thereto. It may be bonded to the carbon atom of formula (1) at any substitution position, and is not particularly limited as long as it is a substitution position capable of forming a covalent bond with the carbon atom.

上述した、複素環基および縮合多環炭化水素基が有してもよい置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基等が挙げられる。   The above-mentioned substituents that the heterocyclic group and the condensed polycyclic hydrocarbon group may have include a hydroxyl group, a mercapto group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and an acyl group. Group, alkoxyl group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, dialkylamino group, arylamino group, diarylamino group, alkylarylamino Group, benzylamino group, dibenzylamino group and the like.

ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。   Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アルキル基としては炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、tert−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group. Hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, isopentyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group Tert-octyl group, neopentyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group, boronyl group, 4-decylcyclohexyl group and the like.

アリール基としては、炭素数6〜18の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、9−フルオレニル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include monocyclic or condensed polycyclic aryl groups having 6 to 18 carbon atoms. Specific examples include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, and a 9-phenanthryl group. 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 1-acenaphthyl group, 9-fluorenyl group and the like.

複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環または縮合多環複素環基が挙げられ、具体例としては、2−フラニル基、2−チエニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチエニル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−アクリジニル基等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic group include a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic group containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Specific examples include a 2-furanyl group, a 2-thienyl group, 2- Indolyl group, 3-indolyl group, 2-benzofuryl group, 2-benzothienyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, 4-carbazolyl group, 9-acridinyl group and the like can be mentioned.

アシル基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、炭素数6から18の単環状あるいは縮合多環状アリール基が結合したカルボニル基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数4〜18の単環状あるいは縮合多環状複素環基が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、シンナモイル基、3−フロイル基、2−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、9−アンスロイル基、5−ナフタセノイル基等が挙げられる。   The acyl group includes a hydrogen atom, a carbonyl group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a monocyclic or condensed polyvalent group having 6 to 18 carbon atoms. Examples include a carbonyl group to which a cyclic aryl group is bonded, a carbonyl group to which a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic group having 4 to 18 carbon atoms is bonded, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. It may have an unsaturated bond, and specific examples thereof include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, palmitoyl group , Stearoyl group, cyclopentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, acryloyl group, methacryloyl group, croto Yl group, isocrotonoyl group, oleoyl group, benzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 4-methoxybenzoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, cinnamoyl group, 3-furoyl group, 2-thenoyl group, nicotinoyl group , Isonicotinoyl group, 9-anthroyl group, 5-naphthacenoyl group and the like.

アルコキシル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状あるいは縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、sec−ペンチルオキシ基、t−ペンチルオキシ基、t−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、4−デシルシクロヘキシルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkoxyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkoxyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy. Group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, isopropoxy group, isobutoxy group, isopentyloxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, sec-pentyloxy group, t-pentyloxy group, t-octyloxy group, neopentyloxy group, cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, adamantyloxy group, norbornyloxy group , Boronyloxy group, 4-de Le cyclohexyloxy group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, and the like.

アリールオキシ基としては、炭素数6〜18の単環状または縮合多環状アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the aryloxy group include monocyclic or condensed polycyclic aryloxy groups having 6 to 18 carbon atoms. Specific examples include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, and 9-anthryloxy. Group, 9-phenanthryloxy group, 1-pyrenyloxy group, 5-naphthacenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azurenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluorenyloxy group, etc. Is mentioned.

複素環オキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環状または縮合多環状複素環オキシ基が挙げられ、具体例としては、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic oxy group include a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic oxy group containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Specific examples include a 2-furanyloxy group and a 2-thienyloxy group. 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 2-carbazolyloxy group, 3-carbazolyloxy group, 4-carbazolyl group An oxy group, 9-acridinyloxy group, etc. are mentioned.

アシルオキシ基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、炭素数6から18の単環状または縮合多環状アリール基が結合したカルボニルオキシ基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数4〜18の単環状または縮合多環状複素環基が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフトイルオキシ基、2−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、3−フロイルオキシ基、2−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、9−アンスロイルオキシ基、5−ナフタセノイルオキシ基等が挙げられる。   The acyloxy group includes a carbonyloxy group to which a hydrogen atom or a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a monocyclic or condensed group having 6 to 18 carbon atoms. A carbonyloxy group to which a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic group having 4 to 18 carbon atoms is bonded, including a carbonyloxy group to which a polycyclic aryl group is bonded, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom; Specific examples include acetoxy group, propionyloxy group, butyryloxy group, isobutyryloxy group, valeryloxy group, isovaleryloxy group, pivaloyloxy group, lauroyloxy group, myristoyloxy group, palmitoyloxy group, stearoyloxy group, cyclopentyl Carbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, Royloxy group, methacryloyloxy group, crotonoyloxy group, isocrotonoyloxy group, oleoyloxy group, benzoyloxy group, 1-naphthoyloxy group, 2-naphthoyloxy group, cinnamoyloxy group, 3-furoyloxy group 2-thenoyloxy group, nicotinoyloxy group, isonicotinoyloxy group, 9-anthroyloxy group, 5-naphthathenoyloxy group and the like.

アルキルチオ基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。   Examples of the alkylthio group include a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, and a pentylthio group. Hexylthio group, octylthio group, decylthio group, dodecylthio group, octadecylthio group and the like.

アリールチオ基としては、炭素数6〜18の単環状または縮合多環状アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、9−アンスリルチオ基、9−フェナントリルチオ基等が挙げられる。   Examples of the arylthio group include monocyclic or condensed polycyclic arylthio groups having 6 to 18 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenylthio group, a 1-naphthylthio group, a 2-naphthylthio group, a 9-anthrylthio group, and a 9-phenanthri group. And a ruthio group.

複素環チオ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環状または縮合多環状複素環チオ基が挙げられ、具体例としては、2−フリルチオ基、2−チエニルチオ基、2−ピロリルチオ基、6−インドリルチオ基、2−ベンゾフリルチオ基、2−ベンゾチエニルチオ基、2−カルバゾリルチオ基、3−カルバゾリルチオ基、4−カルバゾリルチオ基等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic thio group include a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic thio group containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Specific examples include a 2-furylthio group, a 2-thienylthio group, Examples include 2-pyrrolylthio group, 6-indolylthio group, 2-benzofurylthio group, 2-benzothienylthio group, 2-carbazolylthio group, 3-carbazolylthio group, 4-carbazolylthio group and the like.

アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ドデシルアミノ基、オクタデシルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソブチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、sec−ペンチルアミノ基、tert−ペンチルアミノ基、tert−オクチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、シクロヘプチルアミノ基、シクロオクチルアミノ基、シクロドデシルアミノ基、1−アダマンタミノ基、2−アダマンタミノ基等が挙げられる。   Examples of the alkylamino group include methylamino group, ethylamino group, propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, nonylamino group, decylamino group, dodecylamino group, octadecylamino group Group, isopropylamino group, isobutylamino group, isopentylamino group, sec-butylamino group, tert-butylamino group, sec-pentylamino group, tert-pentylamino group, tert-octylamino group, neopentylamino group, Cyclopropylamino group, cyclobutylamino group, cyclopentylamino group, cyclohexylamino group, cycloheptylamino group, cyclooctylamino group, cyclododecylamino group, 1-adamantamino group, 2-adamantamino group, etc. It is below.

ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジドデシルアミノ基、ジオクタデシルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジイソペンチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。   Dialkylamino group includes dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group, dipentylamino group, dihexylamino group, diheptylamino group, dioctylamino group, dinonylamino group, didecylamino group, didodecylamino group, Dioctadecylamino group, diisopropylamino group, diisobutylamino group, diisopentylamino group, methylethylamino group, methylpropylamino group, methylbutylamino group, methylisobutylamino group, cyclopropylamino group, pyrrolidino group, piperidino group, And piperazino group.

アリールアミノ基としては、アニリノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、o−トルイジノ基、m−トルイジノ基、p−トルイジノ基、2−ビフェニルアミノ基、3−ビフェニルアミノ基、4−ビフェニルアミノ基、1−フルオレンアミノ基、2−フルオレンアミノ基、2−チアゾールアミノ基、p−ターフェニルアミノ基等が挙げられる。   As an arylamino group, an anilino group, 1-naphthylamino group, 2-naphthylamino group, o-toluidino group, m-toluidino group, p-toluidino group, 2-biphenylamino group, 3-biphenylamino group, 4- Biphenylamino group, 1-fluoreneamino group, 2-fluoreneamino group, 2-thiazoleamino group, p-terphenylamino group and the like can be mentioned.

ジアリールアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、N−フェニル−1−ナフチルアミノ基、N−フェニル−2−ナフチルアミノ基等が挙げられる。   Examples of the diarylamino group include a diphenylamino group, a ditolylamino group, an N-phenyl-1-naphthylamino group, and an N-phenyl-2-naphthylamino group.

アルキルアリールアミノ基としては、N−メチルアニリノ基、N−メチル−2−ピリジノ基、N−エチルアニリノ基、N−プロピルアニリノ基、N−ブチルアニリノ基、N−イソプロピル、N−ペンチルアニリノ基、N−エチルアニリノ基、N−メチル−1−ナフチルアミノ基等が挙げられる。   Examples of the alkylarylamino group include N-methylanilino group, N-methyl-2-pyridino group, N-ethylanilino group, N-propylanilino group, N-butylanilino group, N-isopropyl, N-pentylanilino group, N -Ethylanilino group, N-methyl-1-naphthylamino group and the like.

さらに、上述した、複素環基および縮合多環炭化水素基が有してもよい置換基の水素原子は、さらにほかの置換基で置換されていてもよく、そのような置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、p−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。   Furthermore, the hydrogen atom of the substituent that the above-described heterocyclic group and condensed polycyclic hydrocarbon group may have may be further substituted with another substituent. Examples of such a substituent include Halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group and p-tolyloxy group, methoxycarbonyl group and butoxycarbonyl Group, alkoxycarbonyl group such as phenoxycarbonyl group, acetoxy group, propionyloxy group, acyloxy group such as benzoyloxy group, acyl group such as acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group, methacryloyl group, methoxalyl group, methylsulfanyl Group, tert-butylsulfanyl group and the like Arylsulfanyl groups such as sulfanyl group, phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, alkylamino groups such as methylamino group, cyclohexylamino group, dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, morpholino group, piperidino group, phenyl Aryl group such as amino group, p-tolylamino group, alkyl group such as methyl group, ethyl group, tert-butyl group, dodecyl group, phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl group In addition to aryl groups such as phenanthryl group, hydroxy group, carboxy group, formyl group, mercapto group, sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloro Methyl group, trimethylsilyl , Phosphinico group, a phosphono group, trimethyl ammonium Niu mill group, dimethylsulfoxide Niu mill group, triphenyl phenacyl phosphonium Niu mill group, and the like.

さらに、AおよびBにおける置換基が、他の置換基または環上の水素原子と一体となって環状構造を形成しても良い。   Furthermore, the substituents in A and B may be combined with other substituents or hydrogen atoms on the ring to form a cyclic structure.

また、AとBとが一体となって環状構造を形成しても良い。   A and B may be integrated to form an annular structure.

一般式(1)中の置換基Xは一価の有機残基を表わす。一価の有機残基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基が挙げられる。   The substituent X in the general formula (1) represents a monovalent organic residue. The monovalent organic residue may have an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, an alkenyl group that may have a substituent, or a substituent. An alkynyl group, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, a heterocyclic oxy group that may have a substituent, an acyloxy group that may have a substituent, Alkylsulfanyl group which may have a substituent, arylsulfanyl group which may have a substituent, alkylsulfinyl group which may have a substituent, arylsulfinyl group which may have a substituent, substituent An alkylsulfonyl group that may have a substituent, an arylsulfonyl group that may have a substituent, an acyl group that may have a substituent, an alkoxycarbonyl group that may have a substituent, and a substituent May be carbamoyl , An optionally substituted sulfamoyl group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted phosphinoyl group, and heterocyclic group which may have a substituent.

置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec ? ブチル基、t ? ブチル基、1−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−エチルヘキシル基、フェナシル基、1−ナフトイルメチル基、2−ナフトイルメチル基、4−メチルスルファニルフェナシル基、4−フェニルスルファニルフェナシル基、4−ジメチルアミノフェナシル基、4−シアノフェナシル基4−メチルフェナシル基、2−メチルフェナシル基、3−フルオロフェナシル基、3−トリフルオロメチルフェナシル基、3−ニトロフェナシル基等が挙げられる。   As the alkyl group which may have a substituent, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Okudadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec? Butyl group, t? Butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl group, 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group, 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, Examples include 3-nitrophenacyl group.

置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o−、m−、およびp−トリル基、キシリル基、o−、m−、およびp−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等が挙げられる。   As the aryl group which may have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable, and a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, a 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o- , M-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, turnaphthalenyl group, quarternaphthalenyl group, heptaenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, acenaphthylenyl group, aceanthrylenyl group, Phenalenyl group, fluorenyl group, anthryl group, bianthracenyl group, teranthra Nyl group, quarter anthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, Examples include a hexaphenyl group, a hexacenyl group, a rubicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyranthrenyl group, and an ovalenyl group.

置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数2〜10のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。   As an alkenyl group which may have a substituent, a C2-C10 alkenyl group is preferable, for example, a vinyl group, an allyl group, a styryl group etc. are mentioned.

置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数2〜10のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。   The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.

置換基を有してもよいアルコキシ基としては、炭素数1〜30のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシキ、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、エトキシカルボニルメチル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルオキシ基、アミノカルボニルメチルオキシ基、N, N−ジブチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−メチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−エチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−オクチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−メチル−N−ベンジルアミノカルボニルメチルオキシ基、ベンジルオキシ基、シアノメチルオキシ基等が挙げられる。   The alkoxy group which may have a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, or a sec-butoxy group. T-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, ethoxycarbonylmethyl group, 2 -Ethylhexyloxycarbonylmethyloxy group, aminocarbonylmethyloxy group, N, N-dibutylaminocarbonylmethyloxy group, N-methylaminocarbonylmethyloxy group, N-ethylaminocarbonylmethyloxy group, N-octylaminocarbonyl Yloxy group, N- methyl -N- benzylaminocarbonyl methyloxy group, a benzyloxy group, and a cyanomethyloxy group.

置換基を有してもよいアリールオキシ基としては、炭素数6〜30のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、2−クロロフェニルオキシ基、2−メチルフェニルオキシ基、2−メトキシフェニルオキシ基、2−ブトキシフェニルオキシ基、3−クロロフェニルオキシ基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、3−シアノフェニルオキシ基、3−ニトロフェニルオキシ基、4−フルオロフェニルオキシ基、4−シアノフェニルオキシ基、4−メトキシフェニルオキシ基、4−ジメチルアミノフェニルオキシ基、4−メチルスルファニルフェニルオキシ基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシ基等が挙げられる。   The aryloxy group which may have a substituent is preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenyloxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 2-chlorophenyloxy group, 2-methylphenyloxy group, 2-methoxyphenyloxy group, 2-butoxyphenyloxy group, 3-chlorophenyloxy group, 3-trifluoromethylphenyloxy group, 3-cyanophenyloxy group, 3-nitrophenyloxy group, Examples include 4-fluorophenyloxy group, 4-cyanophenyloxy group, 4-methoxyphenyloxy group, 4-dimethylaminophenyloxy group, 4-methylsulfanylphenyloxy group, 4-phenylsulfanylphenyloxy group, and the like.

置換基を有してもよい複素環オキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環状または縮合多環状複素環オキシ基が挙げられ、具体例としては、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic oxy group that may have a substituent include a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic oxy group containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Furanyloxy group, 2-thienyloxy group, 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-carbazolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 3-carbazolyl An oxy group, 4-carbazolyloxy group, 9-acridinyloxy group, etc. are mentioned.

置換基を有してもよいアシルオキシ基としては、炭素数2〜20のアシルオキシ基が好ましく、例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフチルカルボニルオキシ基、2−ナフチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。   The acyloxy group which may have a substituent is preferably an acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, such as an acetyloxy group, a propanoyloxy group, a butanoyloxy group, a pentanoyloxy group, or trifluoromethylcarbonyloxy. Group, benzoyloxy group, 1-naphthylcarbonyloxy group, 2-naphthylcarbonyloxy group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルファニル基としては、炭素数1〜20のアルキルスルファニル基が好ましく、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基、シクロヘキシルスルファニル基、オクチルスルファニル基、2−エチルヘキシルスルファニル基、デカノイルスルファニル基、ドデカノイルスルファニル基、オクタデカノイルスルファニル基、シアノメチルスルファニル基、メトキシメチルスルファニル基等が挙げられる。   The alkylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfanyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, a propylsulfanyl group, an isopropylsulfanyl group, a butylsulfanyl group, or a hexylsulfanyl group. Group, cyclohexylsulfanyl group, octylsulfanyl group, 2-ethylhexylsulfanyl group, decanoylsulfanyl group, dodecanoylsulfanyl group, octadecanoylsulfanyl group, cyanomethylsulfanyl group, methoxymethylsulfanyl group and the like.

置換基を有してもよいアリールスルファニル基としては、炭素数6〜30のアリールスルファニル基が好ましく、例えば、フェニルスルファニル基、1−ナフチルスルファニル基、2−ナフチルスルファニル基、2−クロロフェニルスルファニル基、2−メチルフェニルスルファニル基、2−メトキシフェニルスルファニル基、2−ブトキシフェニルスルファニル基、3−クロロフェニルスルファニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルファニル基、3−シアノフェニルスルファニル基、3−ニトロフェニルスルファニル基、4−フルオロフェニルスルファニル基、4−シアノフェニルスルファニル基、4−メトキシフェニルスルファニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルファニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルファニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルファニル基等が挙げられる。   The arylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfanyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfanyl group, 1-naphthylsulfanyl group, 2-naphthylsulfanyl group, 2-chlorophenylsulfanyl group, 2-methylphenylsulfanyl group, 2-methoxyphenylsulfanyl group, 2-butoxyphenylsulfanyl group, 3-chlorophenylsulfanyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfanyl group, 3-cyanophenylsulfanyl group, 3-nitrophenylsulfanyl group, 4-fluorophenylsulfanyl group, 4-cyanophenylsulfanyl group, 4-methoxyphenylsulfanyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfanyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfuric group Aniru group, 4-dimethylamino-phenylsulfanyl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数1〜20のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。   The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a propylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, a butylsulfinyl group, and a hexylsulfinyl group. Group, cyclohexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, decanoylsulfinyl group, dodecanoylsulfinyl group, octadecanoylsulfinyl group, cyanomethylsulfinyl group, methoxymethylsulfinyl group and the like.

置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数6〜30のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、1−ナフチルスルフィニル基、2−ナフチルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、2−メチルフェニルスルフィニル基、2−メトキシフェニルスルフィニル基、2−ブトキシフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、3−シアノフェニルスルフィニル基、3−ニトロフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、4−シアノフェニルスルフィニル基、4−メトキシフェニルスルフィニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。   The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfinyl group, 1-naphthylsulfinyl group, 2-naphthylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group, 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyanophenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfinyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfuric group Iniru group, 4-dimethylaminophenyl sulfinyl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数1〜20のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基等が挙げられる。   The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group. Group, cyclohexylsulfonyl group, octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, decanoylsulfonyl group, dodecanoylsulfonyl group, octadecanoylsulfonyl group, cyanomethylsulfonyl group, methoxymethylsulfonyl group and the like.

置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数6〜30のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。   The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 4-fluorophenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-dimethylaminopheny Sulfonyl group, and the like.

置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数2〜20のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、4−メチルスルファニルベンゾイル基、4−フェニルスルファニルベンゾイル基、4−ジメチルアミノベンゾイル基、4−ジエチルアミノベンゾイル基、2−クロロベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、2−メトキシベンゾイル基、2−ブトキシベンゾイル基、3−クロロベンゾイル基、3−トリフルオロメチルベンゾイル基、3−シアノベンゾイル基、3−ニトロベンゾイル基、4−フルオロベンゾイル基、4−シアノベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。   The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example, acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoromethylcarbonyl group, pentanoyl group, benzoyl group, 1-naphthoyl. Group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 2-methoxybenzoyl Group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 4-cyanobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl Groups and the like.

置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基、4−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。   The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, octyl. Oxycarbonyl group, decyloxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, trifluoromethyloxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4- Phenylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group Group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group , 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group and the like.

置換基を有してもよいカルバモイル基としては、総炭素数1〜30のカルバモイル基が好ましく、例えば、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−プロピルカルバモイル基、N−ブチルカルバモイル基、N−ヘキシルカルバモイル基、N−シクロヘキシルカルバモイル基、N−オクチルカルバモイル基、N−デシルカルバモイル基、N−オクタデシルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N−2−メチルフェニルカルバモイル基、N−2−クロロフェニルカルバモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルカルバモイル基、N−2−(2−エチルヘキシル)フェニルカルバモイル基、N−3−クロロフェニルカルバモイル基、N−3−ニトロフェニルカルバモイル基、N−3−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メトキシフェニルカルバモイル基、N−4−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−メチル−N−フェニルカルバモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカルバモイル基、N、N−ジフェニルカルバモイル基等が挙げられる。   The carbamoyl group which may have a substituent is preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, an N-methylcarbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, an N-propylcarbamoyl group, or an N-butylcarbamoyl group. N-hexylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, N-decylcarbamoyl group, N-octadecylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N-2-methylphenylcarbamoyl group, N-2- Chlorophenylcarbamoyl group, N-2-isopropoxyphenylcarbamoyl group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylcarbamoyl group, N-3-chlorophenylcarbamoyl group, N-3-nitrophenylcarbamoyl group, N-3-cyanophenyl A carbamoyl group, -4-methoxyphenylcarbamoyl group, N-4-cyanophenylcarbamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-methyl-N-phenylcarbamoyl group, N, N -Dimethylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group, N, N-diphenylcarbamoyl group and the like.

置換基を有してもよいスルファモイル基としては、総炭素数0〜30のスルファモイル基が好ましく、例えば、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N、N−ジアルキルスルファモイル基、N、N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモオイル基等が挙げられる。より具体的には、N−メチルスルファモイル基、N−エチルスルファモイル基、N−プロピルスルファモイル基、N−ブチルスルファモイル基、N−ヘキシルスルファモイル基、N−シクロヘキシルスルファモイル基、N−オクチルスルファモイル基、N−2−エチルヘキシルスルファモイル基、N−デシルスルファモイル基、N−オクタデシルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基、N−2−メチルフェニルスルファモイル基、N−2−クロロフェニルスルファモイル基、N−2−メトキシフェニルスルファモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、N−3−クロロフェニルスルファモイル基、N−3−ニトロフェニルスルファモイル基、N−3−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−メトキシフェニルスルファモイル基、N−4−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基、N−メチル−N−フェニルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N,N−ジブチルスルファモイル基、N,N−ジフェニルスルファモイル基等が挙げられる。   The sulfamoyl group which may have a substituent is preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, for example, a sulfamoyl group, an N-alkylsulfamoyl group, an N-arylsulfamoyl group, N, N- Examples thereof include a dialkylsulfamoyl group, an N, N-diarylsulfamoyl group, and an N-alkyl-N-arylsulfamoyl group. More specifically, N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-butylsulfamoyl group, N-hexylsulfamoyl group, N-cyclohexylsulfur group. Famoyl group, N-octylsulfamoyl group, N-2-ethylhexylsulfamoyl group, N-decylsulfamoyl group, N-octadecylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, N-2- Methylphenylsulfamoyl group, N-2-chlorophenylsulfamoyl group, N-2-methoxyphenylsulfamoyl group, N-2-isopropoxyphenylsulfamoyl group, N-3-chlorophenylsulfamoyl group, N-3-nitrophenylsulfamoyl group, N-3-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-methoxyphenyl Nylsulfamoyl group, N-4-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-dimethylaminophenylsulfamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylsulfamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylsulfamoyl Group, N-methyl-N-phenylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-dibutylsulfamoyl group, N, N-diphenylsulfamoyl group and the like.

置換基を有してもよいアミノ基としては、総炭素数0〜50のアミノ基が好ましく、例えば、−NH2,N−アルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N−アシルアミノ基、N−スルホニルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、N、N−ジスルホニルアミノ基等が挙げられる。より具体的には、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−イソプロピルアミノ基、N−ブチルアミノ基、N−t―ブチルアミノ基、N−ヘキシルアミノ基、N−シクロヘキシルアミノ基、N−オクチルアミノ基、N−2−エチルヘキシルアミノ基、N−デシルアミノ基、N−オクタデシルアミノ基、N−ベンジルアミノ基、N−フェニルアミノ基、N−2−メチルフェニルアミノ基、N−2−クロロフェニルアミノ基、N−2−メトキシフェニルアミノ基、N−2−イソプロポキシフェニルアミノ基、N−2−(2−エチルヘキシル)フェニルアミノ基、N−3−クロロフェニルアミノ基、N−3−ニトロフェニルアミノ基、N−3−シアノフェニルアミノ基、N−3−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、N−4−メトキシフェニルアミノ基、N−4−シアノフェニルアミノ基、N−4−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、N−4−メチルスルファニルフェニルアミノ基、N−4−フェニルスルファニルフェニルアミノ基、N−4−ジメチルアミノフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N、N−ジメチルアミノ基、N、N−ジエチルアミノ基、N、N−ジブチルアミノ基、N、N−ジフェニルアミノ基、N、N−ジアセチルアミノ基、N、N−ジベンゾイルアミノ基、N、N−(ジブチルカルボニル)アミノ基、N、N−(ジメチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジエチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジブチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジフェニルスルホニル)アミノ基等が挙げられる。 The amino group which may have a substituent is preferably an amino group having 0 to 50 carbon atoms in total, for example, —NH 2 , N-alkylamino group, N-arylamino group, N-acylamino group, N— Examples include sulfonylamino group, N, N-dialkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, N, N-disulfonylamino group and the like. More specifically, N-methylamino group, N-ethylamino group, N-propylamino group, N-isopropylamino group, N-butylamino group, Nt-butylamino group, N-hexylamino group, N-cyclohexylamino group, N-octylamino group, N-2-ethylhexylamino group, N-decylamino group, N-octadecylamino group, N-benzylamino group, N-phenylamino group, N-2-methylphenylamino Group, N-2-chlorophenylamino group, N-2-methoxyphenylamino group, N-2-isopropoxyphenylamino group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylamino group, N-3-chlorophenylamino group, N-3-nitrophenylamino group, N-3-cyanophenylamino group, N-3-trifluoromethylphenylamino group, -4-methoxyphenylamino group, N-4-cyanophenylamino group, N-4-trifluoromethylphenylamino group, N-4-methylsulfanylphenylamino group, N-4-phenylsulfanylphenylamino group, N- 4-dimethylaminophenylamino group, N-methyl-N-phenylamino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, N, N-dibutylamino group, N, N-diphenylamino group, N N-diacetylamino group, N, N-dibenzoylamino group, N, N- (dibutylcarbonyl) amino group, N, N- (dimethylsulfonyl) amino group, N, N- (diethylsulfonyl) amino group, N N- (dibutylsulfonyl) amino group, N, N- (diphenylsulfonyl) amino group and the like.

置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数2〜50のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィノイル基等が挙げられる。   The phosphinoyl group which may have a substituent is preferably a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms, for example, dimethylphosphinoyl group, diethylphosphinoyl group, dipropylphosphinoyl group, diphenylphosphinoyl group. Group, dimethoxyphosphinoyl group, diethoxyphosphinoyl group, dibenzoylphosphinoyl group, bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group and the like.

置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族あるいは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基等が挙げられる。   The heterocyclic group that may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. For example, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, thiantenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, 4H- Quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group Nyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group Group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, thioxanthryl group and the like.

さらに、前述した置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよい複素環基の水素原子はさらに他の置換基で置換されていても良い。   Furthermore, the alkyl group which may have a substituent mentioned above, the aryl group which may have a substituent, the alkenyl group which may have a substituent, the alkynyl group which may have a substituent, a substituent An alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an acyloxy group which may have a substituent, an alkylsulfanyl group which may have a substituent, and a substituent An arylsulfanyl group which may have a substituent, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, and a substituent. An arylsulfonyl group, an optionally substituted acyl group, an optionally substituted alkoxycarbonyl group, an optionally substituted carbamoyl group, an optionally substituted sulfamoyl group, Amino group which may have a group, hydrogen atom of the heterocyclic group which may have a substituent may be further substituted with other substituents.

そのような置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、p−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。   Examples of such substituents include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, aryl groups such as phenoxy group and p-tolyloxy group. Oxy group, methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group such as phenoxycarbonyl group, acetoxy group, propionyloxy group, acyloxy group such as benzoyloxy group, acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group, methacryloyl group, Acyl group such as methoxalyl group, alkylsulfanyl group such as methylsulfanyl group, tert-butylsulfanyl group, arylsulfanyl group such as phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, methylamino group, cyclohexyla Alkyl groups such as alkyl groups, dimethylamino groups, diethylamino groups, morpholino groups, piperidino groups and other dialkylamino groups, phenylamino groups, p-tolylamino groups and other arylamino groups, methyl groups, ethyl groups, tert-butyl groups In addition to alkyl groups such as dodecyl group, phenyl groups, p-tolyl groups, xylyl groups, cumenyl groups, naphthyl groups, anthryl groups, phenanthryl groups, etc., hydroxy groups, carboxy groups, formyl groups, mercapto groups, Sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammonium group, dimethylsulfonyl group, Triphenylphenacylphosphoniumyl group, etc. And the like.

これら置換基Xにおいて、好ましくは置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいホスフィニル基、置換基を有してもよい複素環基等が挙げられ、より好ましくは置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が挙げられ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられるが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。   In these substituents X, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, and a phosphinyl which may have a substituent Group, a heterocyclic group that may have a substituent, and the like, more preferably, an alkyl group that may have a substituent, and an aryl group that may have a substituent. Examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a t-butyl group, a trifluoromethyl group, a phenyl group, and a benzyl group, but the present invention is not limited to these examples.

本発明の一般式(1)で表される化合物において、好ましいものは、一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または、置換もしくは未置換のナフチル基である化合物である。この場合、カルバゾリル基およびナフチル基上の置換基の一部が、カルバゾリル基もしくはナフチル基の炭素原子または他の置換基の一部と結合し、一体となって環構造を形成していてもよく、また、カルバゾリル基およびナフチル基は、一般式(1)の隣接する炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、どの置換位置で結合していてもよい。   In the compound represented by the general formula (1) of the present invention, preferred is a compound wherein A in the general formula (1) is a substituted or unsubstituted carbazolyl group or a substituted or unsubstituted naphthyl group. . In this case, a part of the substituents on the carbazolyl group and naphthyl group may be bonded to a carbon atom of the carbazolyl group or naphthyl group or a part of another substituent to form a ring structure together. In addition, the carbazolyl group and the naphthyl group may be bonded at any substitution position as long as they can form a covalent bond with the adjacent carbon atom of the general formula (1).

上記カルバゾリル基およびナフチル基は他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、AおよびBが有してもよい置換基で挙げたものと同様の置換基が挙げられる。   The carbazolyl group and naphthyl group may be substituted with other substituents. Examples of such other substituents include the same substituents as those mentioned as the substituents that A and B may have. Can be mentioned.

一般式(1)で表される化合物において、より好ましいのは、一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換の一般式(2)または置換もしくは未置換の一般式(3)で表される基である化合物である。一般式(2)および一般式(3)で表される基は、一般式(1)の隣接する炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、どの置換位置で結合していてもよい。   In the compound represented by the general formula (1), it is more preferable that A in the general formula (1) is represented by the substituted or unsubstituted general formula (2) or the substituted or unsubstituted general formula (3). It is a compound that is a group. The groups represented by the general formula (2) and the general formula (3) are bonded at any substitution position as long as they can form a covalent bond with the adjacent carbon atom of the general formula (1). May be.

一般式(2)中、Yは一価の有機残基を表し、上記置換基Xにおける一価の有機残基と同様のものが挙げられ、原料の入手のしやすさ、合成のしやすさから、置換もしくは未置換のアルキル基が好ましい。   In the general formula (2), Y represents a monovalent organic residue, and examples thereof include the same monovalent organic residues as in the above substituent X. Ease of availability of raw materials and easiness of synthesis Therefore, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable.

一般式(1)で表される化合物において、さらに好ましいのは、一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換の一般式(2)で表される基であり、Bが置換もしくは未置換の一般式(3)で表される基である化合物である。   In the compound represented by the general formula (1), it is more preferable that A in the general formula (1) is a group represented by the substituted or unsubstituted general formula (2), and B is a substituted or unsubstituted group. It is a compound which is group represented by General formula (3).

一般式(2)および一般式(3)で表される基は、他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、AおよびBが有してもよい置換基で挙げたものと同様の置換基が挙げられる。一般式(2)における他の置換基として好ましくは、アシル基であり、より好ましくは、置換もしくは未置換のベンゾイル基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニル基が挙げられる。   The groups represented by the general formula (2) and the general formula (3) may be substituted with other substituents, and as such other substituents, the substituents that A and B may have Examples of the substituent are the same as those described for the group. The other substituent in the general formula (2) is preferably an acyl group, more preferably a substituted or unsubstituted benzoyl group or a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group.

本発明における化合物の具体例を表1に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
Specific examples of the compound in the present invention are shown in Table 1, but the present invention is not limited to these examples.

表1

Figure 2007210991
Table 1
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991



Figure 2007210991
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991


Figure 2007210991
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991

Figure 2007210991
Figure 2007210991

次に、本発明のラジカル重合開始剤(a)について説明する。本発明のラジカル重合開始剤は、前記一般式(1)で表される構造を有する化合物を含んでなることが特徴であり、前述した本発明の化合物で挙げたものと同様の化合物が挙げられる。   Next, the radical polymerization initiator (a) of the present invention will be described. The radical polymerization initiator of the present invention is characterized by comprising a compound having the structure represented by the general formula (1), and examples thereof include the same compounds as those mentioned above for the compound of the present invention. .

本発明のラジカル重合開始剤(a)において、好ましいものは、一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または、置換もしくは未置換のナフチル基である化合物である。この場合、カルバゾリル基およびナフチル基上の置換基の一部が、カルバゾリル基もしくはナフチル基の炭素原子または他の置換基の一部と結合し、一体となって環構造を形成していてもよく、また、カルバゾリル基およびナフチル基は、一般式(1)の隣接する炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、どの置換位置で結合していてもよい。   In the radical polymerization initiator (a) of the present invention, preferred is a compound in which A in the general formula (1) is a substituted or unsubstituted carbazolyl group or a substituted or unsubstituted naphthyl group. In this case, a part of the substituents on the carbazolyl group and naphthyl group may be bonded to a carbon atom of the carbazolyl group or naphthyl group or a part of another substituent to form a ring structure together. In addition, the carbazolyl group and the naphthyl group may be bonded at any substitution position as long as they can form a covalent bond with the adjacent carbon atom of the general formula (1).

上記カルバゾリル基およびナフチル基は他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、AおよびBが有してもよい置換基で挙げたものと同様の置換基が挙げられる。一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または、置換もしくは未置換のナフチル基である場合、原料の入手のしやすさ、合成のしやすさ、また、現在のところ詳細な理由は明らかではないが、光照射により化合物が分解し、ラジカルを発生する効率が高くなるなどの理由により、好ましい。   The carbazolyl group and naphthyl group may be substituted with other substituents. Examples of such other substituents include the same substituents as those mentioned as the substituents that A and B may have. Can be mentioned. When A in the general formula (1) is a substituted or unsubstituted carbazolyl group or a substituted or unsubstituted naphthyl group, the availability of raw materials, the ease of synthesis, and details at present The reason for this is not clear, but it is preferable because the compound is decomposed by light irradiation and the efficiency of generating radicals is increased.

一般式(1)で表される化合物において、より好ましいのは、一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換の一般式(2)または置換もしくは未置換の一般式(3)で表される基である化合物である。一般式(2)および一般式(3)で表される基は、一般式(1)の隣接する炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、どの置換位置で結合していてもよい。   In the compound represented by the general formula (1), it is more preferable that A in the general formula (1) is represented by the substituted or unsubstituted general formula (2) or the substituted or unsubstituted general formula (3). It is a compound that is a group. The groups represented by the general formula (2) and the general formula (3) are bonded at any substitution position as long as they can form a covalent bond with the adjacent carbon atom of the general formula (1). May be.

一般式(2)中、Yは一価の有機残基を表し、上記置換基Xにおける一価の有機残基と同様のものが挙げられ、原料の入手のしやすさ、合成のしやすさ、併用する溶剤や樹脂への溶解性の向上などの観点から、置換もしくは未置換のアルキル基が好ましい。   In the general formula (2), Y represents a monovalent organic residue, and examples thereof include the same monovalent organic residues as in the above substituent X. Ease of availability of raw materials and easiness of synthesis From the viewpoint of improving the solubility in the solvent or resin used in combination, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferred.

上記一般式(2)で表される基および一般式(3)で表される基は、他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、AおよびBが有してもよい置換基で挙げたものと同様の置換基が挙げられる。一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換の一般式(2)、または、置換もしくは未置換の一般式(3)で表される基である場合、原料の入手のしやすさ、合成のしやすさ、また、現在のところ詳細な理由は明らかではないが、光照射により化合物が分解し、ラジカルを発生する効率が高くなるなどの理由により、好ましい。   The group represented by the general formula (2) and the group represented by the general formula (3) may be substituted with other substituents, and examples of such other substituents include A and B. Examples of the substituent are the same as those described above for the substituent that may be included. When A in the general formula (1) is a group represented by the general formula (2) which is substituted or unsubstituted, or the general formula (3) which is substituted or unsubstituted, the availability of raw materials and the synthesis The ease of treatment and the detailed reason are not clear at present, but it is preferable because the compound is decomposed by light irradiation and the efficiency of generating radicals is increased.

一般式(1)で表される化合物において、さらに好ましいのは、一般式(1)におけるAが、置換もしくは未置換の一般式(2)で表される基であり、Bが置換もしくは未置換の一般式(3)で表される基である化合物である。この場合、現在のところ詳細な理由は明らかではないが、光照射により化合物が分解し、ラジカルを発生する効率が高くなり、より高感度な開始剤として機能する。   In the compound represented by the general formula (1), it is more preferable that A in the general formula (1) is a group represented by the substituted or unsubstituted general formula (2), and B is a substituted or unsubstituted group. It is a compound which is group represented by General formula (3). In this case, although the detailed reason is not clear at present, the compound is decomposed by light irradiation, the efficiency of generating radicals is increased, and it functions as a more sensitive initiator.

また、一般式(2)で表される基における他の置換基として好ましくは、アシル基であり、より好ましくは、置換もしくは未置換のベンゾイル基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニル基が挙げられる。これらの置換基により、一般式(2)で表される基が置換されている場合、より少ない光の照射量で化合物が分解し、効率よくラジカルを発生するようになるため好ましいが、現在のところその詳細な理由は明らかではない。   The other substituent in the group represented by the general formula (2) is preferably an acyl group, and more preferably a substituted or unsubstituted benzoyl group or a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group. When the group represented by the general formula (2) is substituted by these substituents, the compound is decomposed with a smaller amount of light irradiation, and it is preferable to generate radicals efficiently. However, the detailed reason is not clear.

一般式(1)で表される化合物およびラジカル重合開始剤(a)を合成する際の出発物質は、下記一般式(4)で表されるようなオキシムである。   The starting material for the synthesis of the compound represented by the general formula (1) and the radical polymerization initiator (a) is an oxime represented by the following general formula (4).

一般式(4)

Figure 2007210991
General formula (4)
Figure 2007210991

(式中、AおよびBは一般式(1)と同義である。) (In the formula, A and B are synonymous with the general formula (1).)

一般式(4)で表されるオキシムは、例えばOrg. React., 7, <1953>, 327や、日本化学会編、第4版 実験化学講座、第14巻、1316頁(丸善)に記載されている種々の方法で得ることができる。さらに、市販の化学のテキスト(例えば、J. March, Advanced Organic Organic Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 1992)に記載されているオキシムの合成方法から得ることもできる。なお、オキシム合成の際の出発原料であるβ−ジケトンは、例えばTetrahedron:Asymmetry, 14, <2003>, 2739、Chem. Ber., 113, <1980>, 1507、Helvetica Chimica Acta, 84, <2001>, 2316、Organic Syntheses, Coll. Vol. III, pp 251、Bull. Chem. Soc. Jpn., 71, <1998>, 2253に記載されている種々の方法で得ることができる。   The oxime represented by the general formula (4) is described in, for example, Org. React., 7, <1953>, 327, edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition, Experimental Chemistry Course, Vol. 14, page 1316 (Maruzen). It can be obtained by various methods. Furthermore, it can also be obtained from a method for synthesizing oximes described in commercially available chemistry texts (for example, J. March, Advanced Organic Organic Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 1992). The β-diketone that is a starting material for oxime synthesis is, for example, Tetrahedron: Asymmetry, 14, <2003>, 2739, Chem. Ber., 113, <1980>, 1507, Helvetica Chimica Acta, 84, <2001 >, 2316, Organic Syntheses, Coll. Vol. III, pp 251; Bull. Chem. Soc. Jpn., 71, <1998>, 2253.

最も好都合なオキシムの合成方法の一つは、亜硝酸又は亜硝酸アルキルエステルによる活性メチレン基のニトロソ化である。反応条件は、例えばOrganic Syntheses Coll. Vol. VI、pp 840、Organic Syntheses Coll. Vol. III、pp 191 and 513、Organic Syntheses Coll. Vol. II、pp 202、204 and 363、J. Am. Chem. Soc., 47, <1925>, 2033、J. Chem. Soc., 117, <1920>, 590、J. Am. Chem. Soc., 51, <1929>, 2264に記載されており、オキシムの製造に適切である。亜硝酸は、通常亜硝酸ナトリウムから生成される。亜硝酸アルキルエステルは、例えば亜硝酸メチルエステル、亜硝酸イソプロピルエステル、亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸イソアミルエステルである。   One of the most convenient methods of synthesizing oximes is nitrosation of active methylene groups with nitrous acid or alkyl nitrites. The reaction conditions are, for example, Organic Syntheses Coll. Vol. VI, pp 840, Organic Syntheses Coll. Vol. III, pp 191 and 513, Organic Syntheses Coll. Vol. II, pp 202, 204 and 363, J. Am. Chem. Soc., 47, <1925>, 2033, J. Chem. Soc., 117, <1920>, 590, J. Am. Chem. Soc., 51, <1929>, 2264. Suitable for manufacturing. Nitrous acid is usually produced from sodium nitrite. The nitrite alkyl ester is, for example, methyl nitrite, isopropyl nitrite, butyl nitrite, isoamyl nitrite.

一般式(1)で表される化合物およびラジカル重合開始剤(a)は、一般式(4)で表されるオキシムを出発物質として、文献記載の方法、例えば、前記記載の方法で得たオキシムとアシルクロリド又は酸無水物と、例えばテトラヒドロフラン、ベンゼン又はジメチルホルムアミドのような不活性溶媒中、塩基、例えばトリエチルアミンのような第三級アミンの存在下に、又はピリジンのような塩基性溶媒中で反応させることにより製造される。   The compound represented by the general formula (1) and the radical polymerization initiator (a) are prepared by a method described in the literature, for example, an oxime obtained by the method described above, using the oxime represented by the general formula (4) as a starting material. And an acyl chloride or anhydride and in an inert solvent such as tetrahydrofuran, benzene or dimethylformamide, in the presence of a base, for example a tertiary amine such as triethylamine, or in a basic solvent such as pyridine. Produced by reacting.

そのような反応は、当業者には公知であり、一般に−15℃〜+50℃、好ましくは0〜30℃で行われる。   Such reactions are known to those skilled in the art and are generally carried out at -15 ° C to + 50 ° C, preferably 0-30 ° C.

全てのオキシムエステル基は、二つの立体配置、(Z)又は(E)で存在する。慣用の方法でこの異性体を分離することができるが、光開始種として異性体の混合物も用いることができる。従って、本発明は一般式(1)の化合物の立体配置異性体の混合物にも関する。   All oxime ester groups exist in two configurations, (Z) or (E). The isomers can be separated by conventional methods, but mixtures of isomers can also be used as photoinitiating species. The invention therefore also relates to a mixture of configurational isomers of the compound of general formula (1).

本発明の一般式(1)で表される化合物およびラジカル重合開始剤(a)は、元素分析、および1H−NMRによって同定することができる。 The compound represented by the general formula (1) and the radical polymerization initiator (a) of the present invention can be identified by elemental analysis and 1 H-NMR.

従来公知のα,α'−ジケトオキシムエステル化合物からなるラジカル重合開始剤の多くは、通常紫外域より長波長に吸収を示さないため、近紫外から近赤外の光に対しては活性が乏しいが、本発明の一般式(1)で表されるオキシムエステル化合物からなるラジカル重合開始剤(a)は、AおよびBに複素環基や縮合多環炭化水素基を導入することにより近紫外から可視領域にまで吸収帯を持たせ、これら近紫外から可視より長波長の領域にまで活性を持たせることが可能となっている。   Many of radical polymerization initiators composed of conventionally known α, α′-diketooxime ester compounds usually do not absorb at wavelengths longer than the ultraviolet region, and are therefore active against light from near ultraviolet to near infrared. Although it is scarce, the radical polymerization initiator (a) comprising the oxime ester compound represented by the general formula (1) of the present invention is obtained by introducing a heterocyclic group or a condensed polycyclic hydrocarbon group into A and B in the near ultraviolet region. It is possible to have an absorption band from the visible region to the visible region, and to have activity from the near ultraviolet region to a region having a longer wavelength than the visible region.

さらに、本発明の一般式(1)で表されるラジカル重合開始剤(a)は、AとBとが同一でないことにより、吸収波長領域や吸収強度の異なる置換基を組み合わせることができるために、吸収帯の波長領域や吸収強度のコントロールが容易となっている。また、併用する溶剤やモノマーへの溶解性を向上させることが可能となっている。   Furthermore, in the radical polymerization initiator (a) represented by the general formula (1) of the present invention, since A and B are not the same, substituents having different absorption wavelength regions and absorption intensities can be combined. The wavelength region of the absorption band and the absorption intensity can be easily controlled. Moreover, it is possible to improve the solubility to the solvent and monomer used together.

次に、本発明のラジカル重合性化合物(b)について説明する。本発明のラジカル重合性化合物(b)は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物とは、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも一つ以上を有する化合物であればどのようなものでも良く、モノマー、オリゴマ−、ポリマー等の化学形態を持つものである。これらはただ一種のみ用いても、目的とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合した系でもかまわない。   Next, the radically polymerizable compound (b) of the present invention will be described. The radical polymerizable compound (b) of the present invention is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, and the compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization is an ethylene capable of radical polymerization in the molecule. Any compound having at least one ionic unsaturated bond may be used, and it may have a chemical form such as a monomer, an oligomer or a polymer. These may be used alone or may be a system in which two or more kinds are mixed at an arbitrary ratio in order to improve the intended characteristics.

このようなラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロ二トリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of such a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, esters, Examples include urethane, amides and anhydrides, acrylonitrile, styrene, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, unsaturated polyurethanes, and other radical polymerizable compounds, but the present invention is not limited thereto. It is not something.

具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチラングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−へキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体等が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三ら編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、大成社)や加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」、(1985年、高分子刊行会)、ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79項、(1989年、シーエムシー)、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技術」、(1987年、シーエムシー)、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性モノマー、オリゴマ−、ポリマーが挙げられる。   Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neo Pentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate , Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, etc. Acrylic acid derivatives, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-hexyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol di Methacrylate, polypropylene Methacrylic acid derivatives such as recall dimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimelli Derivatives of allyl compounds such as tate, etc., and more specifically, edited by Shinzo Yamashita et al., “Crosslinking Agent Handbook” (1981, Taiseisha), edited by Sato Kato, “UV / EB Curing Handbook (raw material) Ed.) "(1985, Polymer Press Society), edited by Radtech Research Group," Application and Market of UV / EB Curing Technology ", 79, (1989, CMC), Akamatsu Kiyoshi edited, Practical Technology of Resin Resin ”(1987, CMC), Shinichiro Takiyama,“ Polyester Resin Handbook ", (1988, Nikkan Kogyo Shimbun Co., Ltd.) or radically polymerizable or crosslinkable monomers, oligomers and polymers known in the industry.

本発明のラジカル重合開始剤(a)の使用量は、ラジカル重合性化合物(b)100重量部に対して通常、0.01から60重量部であり、好ましくは0.01から30重量部であり、より好ましくは0.1から10重量部である。   The amount of the radical polymerization initiator (a) used in the present invention is usually 0.01 to 60 parts by weight, preferably 0.01 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the radical polymerizable compound (b). More preferably 0.1 to 10 parts by weight.

本発明の重合性組成物は、さらに重合を促進する目的で、増感剤(c)を添加することが可能である。増感剤は、紫外から近赤外領域にかけての光に対する活性を高めるため、重合性の促進が必要な場合には増感剤の添加が好ましい。   In the polymerizable composition of the present invention, a sensitizer (c) can be added for the purpose of further promoting polymerization. A sensitizer increases the activity with respect to light from the ultraviolet to the near infrared region, and therefore it is preferable to add a sensitizer when it is necessary to promote polymerization.

このような増感剤の具体例としては、カルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、カルバゾール誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、ミヒラーケトン誘導体等が挙げられ、その他さらに具体例には大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)に記載の増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す増感剤が挙げられ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。上記、増感剤の中で本発明の光重合開始剤を特に好適に増感しうる増感剤としては、チオキサントン誘導体、ミヒラーケトン誘導体が挙げられる。さらに具体的には、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of such sensitizers include unsaturated ketones typified by chalcone derivatives and dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives typified by benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, and fluorene derivatives. , Naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, merocyanine derivatives, oxonol derivatives and other polymethine dyes, acridine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, Oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, azurenium derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives, tetraphenylporphyrin derivatives, triarylmethane derivatives, tetrabenzopo Filin derivatives, tetrapyrazinoporphyrazine derivatives, phthalocyanine derivatives, tetraazaporphyrazine derivatives, tetraquinoxalyloporphyrazine derivatives, naphthalocyanine derivatives, subphthalocyanine derivatives, pyrylium derivatives, thiopyrylium derivatives, tetraphyrin derivatives, annulene derivatives, spiropyran derivatives , Spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, carbazole derivatives, metal arene complexes, organoruthenium complexes, Michler's ketone derivatives, etc. Other specific examples include Ogahara Shin et al., “Dye Handbook” (1986, Kodansha), Okawara Sensitizers described in Shin et al., "Chemicals of Functional Dyes" (1981, CMC), edited by Tadasaburo Ikemori et al., "Special Functional Materials" (1986, CMC) However, the present invention is not limited to these, and other sensitizers that absorb light from the ultraviolet to the near-infrared region can be used, and these may be used in an arbitrary ratio as needed. . Among the sensitizers, examples of the sensitizer capable of particularly suitably sensitizing the photopolymerization initiator of the present invention include thioxanthone derivatives and Michler ketone derivatives. More specifically, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 4,4′-bis Examples thereof include (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, but are not limited thereto.

一般式(1)で表されるラジカル重合開始剤(a)と増感剤(c)の比率は任意であるが、100/1〜1/100(重量比)の範囲が好ましく、より好ましくは50/1〜1/50の範囲であり、さらに好ましくは20/1〜1/30の範囲である。   The ratio of the radical polymerization initiator (a) and the sensitizer (c) represented by the general formula (1) is arbitrary, but is preferably in the range of 100/1 to 1/100 (weight ratio), more preferably It is in the range of 50/1 to 1/50, more preferably in the range of 20/1 to 1/30.

本発明の重合性組成物は有機高分子重合体等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフタレート等のポリマーフィルムに塗布して使用することが可能である。   The polymerizable composition of the present invention can be used by mixing with a binder such as an organic polymer and applying it to a polymer film such as a glass plate, an aluminum plate, another metal plate, or polyethylene terephthalate.

本発明の重合性組成物と混合して使用可能なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、(1987年、シーエムシー)や「10188の化学商品」、657〜767頁(1988年、化学工業日報社)記載の業界公知の有機高分子重合体が挙げられる。   Examples of binders that can be used by mixing with the polymerizable composition of the present invention include polyacrylates, poly-α-alkyl acrylates, polyamides, polyvinyl acetals, polyformaldehydes, polyurethanes, polycarbonates, polystyrenes, Examples thereof include polymers and copolymers such as polyvinyl esters, and more specifically, polymethacrylate, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polyvinyl carbazole, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, novolac resin, phenol resin, Epoxy resin, alkyd resin, etc., supervised by Kiyoshi Akamatsu, “New Photosensitive Resin Technology” (1987, CMC) and “10188 Chemical Products”, pages 657-767 (1988, Chemical Industries Day) Inc.) industry known organic polymer according the like.

さらに本発明の重合性組成物は、フォトレジスト材料として画像形成用に用いる等の目的のために、下記に示すカルボキシル基含有ポリマーを添加して用いても良い。カルボキシル基含有ポリマーはアルカリ水溶液に対する溶解性を有するため、本発明の光重合性組成物を用いて作成した膜を部分的に硬化すれば、アルカリ水溶液に対する溶解度の違いから、いわゆるネガ型レジストのパターンを形成することが可能である。ここでカルボキシル基含有ポリマーとは、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとアクリル酸との共重合体、メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとの共重合体が挙げられる。これらの共重合体は単独であるいは2種以上混合しても差し支えない。   Furthermore, the polymerizable composition of the present invention may be used by adding the following carboxyl group-containing polymer for the purpose of use as a photoresist material for image formation. Since the carboxyl group-containing polymer has solubility in an alkaline aqueous solution, if the film prepared using the photopolymerizable composition of the present invention is partially cured, a so-called negative resist pattern is formed due to the difference in solubility in the alkaline aqueous solution. Can be formed. Here, the carboxyl group-containing polymer includes a copolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and acrylic acid, or a copolymer of methacrylic acid ester, methacrylic acid and a vinyl monomer copolymerizable therewith. . These copolymers may be used alone or in combination of two or more.

ここで、メタアクリル酸エステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルへキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート等が挙げられる。   Here, as the methacrylic acid ester, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isobornyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, etc. Is mentioned.

メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとしては、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、テトラヒドリフルフリルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、アクリルアミド、スチレン等が挙げられる。   Methacrylic acid ester, methacrylic acid and vinyl monomers copolymerizable therewith include tetrahydrofurfuryl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3, Examples include 3-tetrafluoropropyl acrylate, tetrahydrfurfuryl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, acrylamide, and styrene.

また、本発明の重合性組成物はさらに感度向上の目的で他の重合開始剤と併用することが可能である。   The polymerizable composition of the present invention can be used in combination with other polymerization initiators for the purpose of further improving sensitivity.

本発明の重合性組成物と混合して併用可能な他の重合開始剤としては、特公昭59−1281号公報、特公昭61−9621号公報ならびに特開昭60−60104号公報記載のトリアジン誘導体、特開昭59−1504号公報ならびに特開昭61−243807号公報記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号公報、特公昭44−6413号公報、特公昭47−1604号公報ならびにUSP第3567453号明細書記載のジアゾニウム化合物公報、USP第2848328号明細書、USP第2852379号明細書ならびにUSP第2940853号明細書記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号公報、特公昭37−13109号公報、特公昭38−18015号公報ならびに特公昭45−9610号公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162号公報、特開昭59−140203号公報ならびに「マクロモレキュルス(MACROMOLECULES)」、第10巻、第1307頁(1977年)記載のヨードニウム化合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭59−142205号公報記載のアゾ化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッパ特許第109851号明細書、ヨーロッパ特許第126712号明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.IMAG.SCI.)」、第30巻、第174頁(1986年)記載の金属アレン錯体、特開昭61−151197号公報記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(COORDINATION CHEMISTRY REVIEW)」、第84巻、第85〜第277頁(1988年)ならびに特開平2−182701号公報記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号公報記載のアルミナート錯体、特開平2−157760号公報記載のホウ酸塩化合物、特開昭55−127550号公報ならびに特開昭60−202437号公報記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物、特開平5−255347号公報記載のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、特開昭54−99185号公報ならびに特開昭63−264560号公報記載のアミノケトン化合物、特開2001−264530号公報、特開2001−261761号公報、特開2000−80068号公報、特開2001−233842号公報、特表2004−534797号公報、USP3558309号明細書(1971年)、USP4202697号明細書(1980年)ならびに特開昭61−24558号公報記載のオキシムエステル化合物等があげられ、これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.01から10重量部の範囲で含有されるのが好ましい。   Examples of other polymerization initiators that can be used in combination with the polymerizable composition of the present invention include triazine derivatives described in JP-B-59-1281, JP-B-61-9621, and JP-A-60-60104. Organic peroxides described in JP-A-59-1504 and JP-A-61-243807, JP-B-43-23684, JP-B-44-6413, JP-B-47-1604 and USP No. 3567453, diazonium compound publication, USP 2,848,328, USP 2,852,379 and USP 2,940,853, organic azide compounds, Japanese Patent Publication No. 36-22062, Japanese Patent Publication No. 37-13109 Disclosed in Japanese Patent Publication No. SHO 38-18015 and SHO 45-9610. Luto-quinonediazides, including iodonium compounds described in JP-B-55-39162, JP-A-59-140203 and “MACROMOLECULES”, Vol. 10, page 1307 (1977) Various onium compounds, azo compounds described in JP-A-59-142205, JP-A-1-54440, European Patent No. 109851, European Patent No. 126712, “Journal of Imaging Science” (J.IMAG.SCI.), Vol. 30, page 174 (1986), titanocenes described in JP-A No. 61-151197, “COORDINATION CHEMISTRY REVIEW 84), 85-277 (1988) and JP-A-2- Transition metal complexes containing transition metals such as ruthenium described in 82701, Aluminate complexes described in JP-A-3-209477, Borate compounds described in JP-A-2-157760, JP-A-55-127550 And 2,4,5-triarylimidazole dimer described in JP-A-60-202437, carbon tetrabromide and organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, JP-A-5-255347. Sulfonium complexes or oxosulfonium complexes described in JP-A No. 54-99185, aminoketone compounds described in JP-A No. 54-99185 and JP-A No. 63-264560, JP-A No. 2001-264530, JP-A No. 2001-261661, JP 2000-80068, JP 2001-233842, special table The oxime ester compounds described in 2004-534797, USP3558309 (1971), USP4202697 (1980) and JP61-24558 are listed, and these polymerization initiators are radical polymerizations. It is preferably contained in the range of 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having a possible ethylenically unsaturated bond.

また、本発明の重合性組成物は保存時の重合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが可能である。   In addition, a thermal polymerization inhibitor can be added to the polymerizable composition of the present invention for the purpose of preventing polymerization during storage.

本発明の重合性組成物に添加可能な熱重合防止剤の具体例としては、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等をあげることができ、これらの熱重合防止剤は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.001から5重量部の範囲で添加されるのが好ましい。   Specific examples of the thermal polymerization inhibitor that can be added to the polymerizable composition of the present invention include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl-substituted hydroquinone, catechol, tert-butylcatechol, phenothiazine, and the like. The polymerization inhibitor is preferably added in the range of 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization.

また、本発明の重合性組成物はさらに重合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を添加することが可能である。   The polymerizable composition of the present invention can further contain a polymerization accelerator represented by amine, thiol, disulfide and the like, a chain transfer catalyst, etc. for the purpose of further promoting the polymerization.

本発明の重合性組成物に添加可能な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン類、USP第4414312号明細書や特開昭64−13144号公報記載のチオール類、特開平2−291561号公報記載のジスルフィド類、USP第3558322号明細書や特開昭64−17048号公報記載のチオン類、特開平2−291560号公報記載のO−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリジンチオン類があげられる。   Specific examples of the polymerization accelerator and chain transfer catalyst that can be added to the polymerizable composition of the present invention include, for example, amines such as N-phenylglycine, triethanolamine, N, N-diethylaniline, USP No. 4414312 Thiols described in the specification, JP-A No. 64-13144, disulfides described in JP-A No. 2-291561, thiones described in USP No. 3558322 and JP-A No. 64-17048, Examples include O-acylthiohydroxamate and N-alkoxypyridinethiones described in JP-A-2-291560.

本発明の重合性組成物は、塗工や、膜形成を行う際の作業性向上の目的で、溶剤を添加して用いることが可能である。添加した溶剤は塗工後に加熱乾燥あるいは真空乾燥することにより実質的に除去することが可能である。本発明の重合性組成物に添加可能な溶剤の具体例としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、等のエステル類、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等を挙げることが出来る。
The polymerizable composition of the present invention can be used by adding a solvent for the purpose of improving workability during coating and film formation. The added solvent can be substantially removed by heat drying or vacuum drying after coating. Specific examples of the solvent that can be added to the polymerizable composition of the present invention include, for example, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate;
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n -Butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, Dipropylene glycol monoe Ether, dipropylene glycol mono -n- propyl ether, dipropylene glycol mono -n- butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl (poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ether;
Ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, butyl propionate, ethyl butyrate, isopropyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methoxy Esters such as methyl acetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, 3-methoxypropionic acid Ethyl, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, 2-methoxypropionic acid Til, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, 2-methoxy-2 -Methyl methyl propionate, ethyl 2-methoxy-2-methylpropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc. Esters;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and amides such as N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylacetamide can be exemplified.

上記した溶剤は単独あるいは2種以上を適宜混合して用いることが可能である。   These solvents can be used alone or in admixture of two or more.

本発明の重合性組成物はさらに目的に応じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、帯電防止剤、磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と混合して使用しても良い。   Further, the polymerizable composition of the present invention can be used depending on the purpose, such as dyes, organic and inorganic pigments, phosphine, phosphonate, phosphite and other oxygen scavengers and reducing agents, antifoggants, antifading agents, antihalation agents, fluorescent enhancers. Whitening agents, surfactants, colorants, extenders, plasticizers, flame retardants, antioxidants, UV absorbers, foaming agents, fungicides, antistatic agents, magnetic substances and other additives that impart various properties Further, it may be used by mixing with a diluting solvent or the like.

本発明の重合性組成物は重合反応に際して、紫外線や可視光線、近赤外線等、電子線等によるエネルギーの付与により重合し、目的とする重合物を得ることが可能である。なお本明細書でいう、紫外線や近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線等の定義は久保亮五ら編「岩波理化学辞典第4版」(1987年、岩波)によった。   In the polymerization reaction, the polymerizable composition of the present invention can be polymerized by application of energy such as ultraviolet rays, visible rays, near infrared rays, electron beams, etc. to obtain a desired polymer. The definitions of ultraviolet rays, near-ultraviolet rays, visible light, near-infrared rays, infrared rays, and the like referred to in this specification are based on “Iwanami Rikagaku Dictionary 4th Edition” (1987, Iwanami) edited by Ryogo Kubo et al.

したがって、本発明の重合性組成物は、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、YAGレーザ、発光ダイオード、CRT光源、プラズマ光源、電子線、γ線、ArFエキシマーレーザー、KrFエキシマーレーザー、F2レーザー等の各種光源によるエネルギーの付与により目的とする重合物や硬化物を得ることができる。   Therefore, the polymerizable composition of the present invention includes a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, an argon ion laser, a helium cadmium laser, and helium. Neon laser, krypton ion laser, various semiconductor lasers, YAG laser, light emitting diode, CRT light source, plasma light source, electron beam, gamma ray, ArF excimer laser, KrF excimer laser, F2 laser, etc. Polymer or cured product can be obtained.

故に、バインダーその他とともに基板上に塗布して各種インキ、各種刷版材料、フォトレジスト、電子写真、ダイレクト刷版材料、ホログラム材料等の感光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒体、さらには接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤および各種塗料に応用することが可能である。   Therefore, various inks, various printing plate materials, photoresists, electrophotography, direct printing plate materials, photosensitive materials such as hologram materials and various recording media such as microcapsules, and adhesives, which are coated on a substrate together with a binder and the like, It can be applied to pressure-sensitive adhesives, adhesives, sealants and various paints.

以下、実施例および比較例を示して本発明を詳細に説明するが、本発明は下記のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited only to the following.

実施例および比較例に用いた化合物を表2に示す。   Table 2 shows the compounds used in Examples and Comparative Examples.

表2

Figure 2007210991
Table 2
Figure 2007210991

実施例1
化合物(111)の合成
1−フラン−2−イル−3−チオフェン−2−イル−プロパン−1,3−ジオン20.0g(90.8mmol)をテトラヒドロフラン200mlと濃塩酸100mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル11.24g(109mmol)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、室温で5時間攪拌した。反応液を氷水500mlに注ぎ入れ、クロロホルム500mlで抽出した。有機層を水洗(300ml×3回)し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をn−ヘキサンで洗浄することにより、1−フラン−2−イル−3−チオフェン−2−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム22.3gを得た(収率93.6%)。
Example 1
Synthesis of Compound (111) 1-Furan-2-yl-3-thiophen-2-yl-propane-1,3-dione (20.0 g, 90.8 mmol) was dissolved in a mixed solution of 200 ml of tetrahydrofuran and 100 ml of concentrated hydrochloric acid. Thereto, 11.24 g (109 mmol) of tert-butyl nitrite was added dropwise over 1 hour with stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The reaction solution was poured into 500 ml of ice water and extracted with 500 ml of chloroform. The organic layer was washed with water (300 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered off, the solvent was distilled off, and the residue was washed with n-hexane to give 1-furan-2-yl. 22.3 g of -3-thiophen-2-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime was obtained (yield 93.6%).

次に、1−フラン−2−イル−3−チオフェン−2−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム15.0g(60.2mmol)と酢酸ナトリウム4.94g(60.2mmol)とをベンゼン250ml中で攪拌したところに、無水酢酸7.37g(72.2mmol)を加えて、3時間加熱還流した。その後、反応液を氷水300ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(200ml×3回)し、硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶して、化合物(111)を16.1gを得た(収率92.1%)。   Next, 15.0 g (60.2 mmol) of 1-furan-2-yl-3-thiophen-2-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime and 4.94 g (60.2 mmol) of sodium acetate ) Was stirred in 250 ml of benzene, 7.37 g (72.2 mmol) of acetic anhydride was added, and the mixture was heated to reflux for 3 hours. Thereafter, the reaction solution is poured into 300 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (200 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant is filtered, and the solvent is distilled off. The residue was recrystallized from ethyl acetate-hexane to obtain 16.1 g of compound (111) (yield 92.1%).

実施例2
化合物(112)の合成
1−(4−メトキシ−ナフタレン−1−イル)−3−チオフェン−2−イル−プロパン−1,3−ジオン18.0g(58.0mmol)をテトラヒドロフラン180mlと濃塩酸90mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル7.18g(69.7mmol)を30分かけて滴下した。滴下終了後、室温で6時間攪拌した。反応液を氷水500mlに注ぎ入れ、クロロホルム500mlで抽出した。有機層を水洗(300ml×3回)し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をジクロロメタン−ヘキサンより再結晶することにより、1−(4−メトキシ−ナフタレン−1−イル)−3−チオフェン−2−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム18.6gを得た(収率94.6%)。
Example 2
Synthesis of Compound (112) 1- (4-Methoxy-naphthalen-1-yl) -3-thiophen-2-yl-propane-1,3-dione (18.0 g, 58.0 mmol) in tetrahydrofuran (180 ml) and concentrated hydrochloric acid (90 ml) Then, 7.18 g (69.7 mmol) of tert-butyl nitrite was added dropwise over 30 minutes with stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. The reaction solution was poured into 500 ml of ice water and extracted with 500 ml of chloroform. The organic layer was washed with water (300 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered off to remove the solvent, and the residue was recrystallized from dichloromethane-hexane to give 1- (4-methoxy -Naphthalen-1-yl) -3-thiophen-2-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime 18.6 g was obtained (yield 94.6%).

次に、1−(4−メトキシ−ナフタレン−1−イル)−3−チオフェン−2−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム15.0g(44.2mmol)と酢酸ナトリウム3.63g(44.2mmol)とをベンゼン300ml中で攪拌したところに、無水酢酸5.41g(53.0mmol)を加えて、3時間加熱還流した。その後、反応液を氷水300ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(200ml×3回)し、硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶して、化合物(112)を淡黄色結晶として16.4g得た(収率97.3%)。   Next, 15.0 g (44.2 mmol) of 1- (4-methoxy-naphthalen-1-yl) -3-thiophen-2-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime and sodium acetate 3 To a stirred solution of .63 g (44.2 mmol) in 300 ml of benzene, 5.41 g (53.0 mmol) of acetic anhydride was added and heated to reflux for 3 hours. Thereafter, the reaction solution is poured into 300 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (200 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant is filtered, and the solvent is distilled off. The residue was recrystallized from ethyl acetate-hexane to obtain 16.4 g of compound (112) as pale yellow crystals (yield 97.3%).

実施例3
化合物(113)の合成
1−(9,9−ジヘキシル−9H−フルオレン−2−イル)−3−(9,10−ジメトキシフェナントレン−2−イル)−プロパン−1,3−ジオン22.0g(34.3mmol)をテトラヒドロフラン260mlと濃塩酸180mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル4.25g(41.2mmol)を30分かけて滴下した。滴下終了後、室温で8時間攪拌した。反応液を氷水1L中に注ぎ入れ、クロロホルム800mlで抽出した。有機層を水洗(500ml×3回)し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をクロロホルム−ヘキサンより再結晶することにより、1−(9,9−ジヘキシル−9H−フルオレン−2−イル)−3−(9,10−ジメトキシフェナントレン−2−イル)−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム18.4gを得た(収率80.2%)。
Example 3
Synthesis of Compound (113) 1- (9,9-Dihexyl-9H-fluoren-2-yl) -3- (9,10-dimethoxyphenanthren-2-yl) -propane-1,3-dione 22.0 g ( 34.3 mmol) was dissolved in a mixed solution of 260 ml of tetrahydrofuran and 180 ml of concentrated hydrochloric acid, and 4.25 g (41.2 mmol) of tert-butyl nitrite was added dropwise over 30 minutes with stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. The reaction solution was poured into 1 L of ice water and extracted with 800 ml of chloroform. The organic layer was washed with water (500 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered to remove the solvent, and the residue was recrystallized from chloroform-hexane to give 1- (9,9 -Dihexyl-9H-fluoren-2-yl) -3- (9,10-dimethoxyphenanthren-2-yl) -propane-1,2,3-trione-2-oxime 18.4 g (yield 80) .2%).

次に、1−(9,9−ジヘキシル−9H−フルオレン−2−イル)−3−(9,10−ジメトキシフェナントレン−2−イル)−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム16.0g(23.9mmol)と酢酸ナトリウム1.96g(23.9mmol)とをベンゼン300ml中で攪拌したところに、無水酢酸2.93g(28.7mmol)を加えて、5時間加熱還流した。その後、反応液を氷水300ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(200ml×3回)し、硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶して、化合物(113)を黄色結晶として13.4g得た(収率78.9%)。   Next, 1- (9,9-dihexyl-9H-fluoren-2-yl) -3- (9,10-dimethoxyphenanthren-2-yl) -propane-1,2,3-trione-2-oxime 16 To a stirred solution of 0.0g (23.9 mmol) and 1.96 g (23.9 mmol) of sodium acetate in 300 ml of benzene, 2.93 g (28.7 mmol) of acetic anhydride was added and heated to reflux for 5 hours. Thereafter, the reaction solution is poured into 300 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (200 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant is filtered, and the solvent is distilled off. The residue was recrystallized from ethyl acetate-hexane to obtain 13.4 g of compound (113) as yellow crystals (yield 78.9%).

実施例4
化合物(114)の合成
1−(4,6−ビス−ジメチルアミノ−[1,3,5]トリアジン−2−イル)−3−(9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル)−プロパン−1,3−ジオン20.0g(46.5mmol)をテトラヒドロフラン200mlと濃塩酸100mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル5.75g(55.7mmol)を40分かけて滴下した。滴下終了後、室温で5時間攪拌した。反応液を氷水500mlに注ぎ入れ、クロロホルム500mlで抽出した。有機層を水洗(200ml×3回)し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をジクロロメタン−ヘキサンより再結晶することにより、1−(4,6−ビス−ジメチルアミノ−[1,3,5]トリアジン−2−イル)−3−(9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル)−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム18.8gを得た(収率88.1%)。
Example 4
Synthesis of Compound (114) 1- (4,6-Bis-dimethylamino- [1,3,5] triazin-2-yl) -3- (9-ethyl-9H-carbazol-3-yl) -propane- When 20.0 g (46.5 mmol) of 1,3-dione was dissolved in a mixed solution of 200 ml of tetrahydrofuran and 100 ml of concentrated hydrochloric acid, 5.75 g (55.7 mmol) of tert-butyl nitrite was added for 40 minutes while stirring at room temperature. It was dripped over. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The reaction solution was poured into 500 ml of ice water and extracted with 500 ml of chloroform. The organic layer was washed with water (200 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered to remove the solvent, and the residue was recrystallized from dichloromethane-hexane to give 1- (4,6 -Bis-dimethylamino- [1,3,5] triazin-2-yl) -3- (9-ethyl-9H-carbazol-3-yl) -propane-1,2,3-trione-2-oxime 18 0.8 g was obtained (yield 88.1%).

次に、1−(4,6−ビス−ジメチルアミノ−[1,3,5]トリアジン−2−イル)−3−(9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル)−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム13.5g(29.4mmol)と酢酸ナトリウム2.41g(29.4mmol)とをベンゼン240ml中で攪拌したところに、無水酢酸3.60g(35.3mmol)を加えて、4時間加熱還流した。その後、反応液を氷水300ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(200ml×3回)し、硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンで再沈殿して、化合物(114)を黄色粉末として13.7g得た(収率93.2%)。   Next, 1- (4,6-bis-dimethylamino- [1,3,5] triazin-2-yl) -3- (9-ethyl-9H-carbazol-3-yl) -propane-1,2 , 3-trione-2-oxime 13.5 g (29.4 mmol) and sodium acetate 2.41 g (29.4 mmol) were stirred in 240 ml of benzene, and 3.60 g (35.3 mmol) of acetic anhydride was added. And heated to reflux for 4 hours. Thereafter, the reaction solution is poured into 300 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (200 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant is filtered, and the solvent is distilled off. The residue was reprecipitated with ethyl acetate-hexane to obtain 13.7 g of compound (114) as a yellow powder (yield 93.2%).

実施例5
化合物(115)の合成
1−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−3−キノリン−4−イル−プロパン−1,3−ジオン17.2g(51.9mmol)をテトラヒドロフラン320mlと濃塩酸160mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル6.42g(62.3mmol)を30分かけて滴下した。滴下終了後、室温で5時間攪拌した。反応液を氷水1L中に注ぎ入れ、クロロホルム650mlで抽出した。有機層を水洗(400ml×3回)し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をクロロホルム−ヘキサンより再結晶することにより、1−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−3−キノリン−4−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム16.0gを得た(収率85.6%)。
Example 5
Synthesis of Compound (115) 1-Benzo [b] thiophen-2-yl-3-quinolin-4-yl-propane-1,3-dione (17.2 g, 51.9 mmol) was mixed with 320 ml of tetrahydrofuran and 160 ml of concentrated hydrochloric acid. To the solution, 6.42 g (62.3 mmol) of tert-butyl nitrite was added dropwise over 30 minutes with stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The reaction solution was poured into 1 L of ice water and extracted with 650 ml of chloroform. The organic layer was washed with water (400 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered to remove the solvent, and the residue was recrystallized from chloroform-hexane to give 1-benzo [b]. 16.0 g of thiophen-2-yl-3-quinolin-4-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime was obtained (yield 85.6%).

次に、1−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−3−キノリン−4−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム12.0g(33.3mmol)と酢酸ナトリウム2.73g(33.3mmol)とをベンゼン240ml中で攪拌したところに、無水酢酸4.08g(40.0)を加えて、5間加熱還流した。その後、反応液を氷水300ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(200ml×3回)し、硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶して、化合物(115)を淡黄色結晶として12.2g得た(収率91.1%)   Next, 12.0 g (33.3 mmol) of 1-benzo [b] thiophen-2-yl-3-quinolin-4-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime and 2.73 g of sodium acetate (33.3 mmol) was stirred in 240 ml of benzene, 4.08 g (40.0) of acetic anhydride was added, and the mixture was heated to reflux for 5 minutes. Thereafter, the reaction solution is poured into 300 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (200 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant is filtered, and the solvent is distilled off. The residue was recrystallized from ethyl acetate-hexane to obtain 12.2 g of compound (115) as pale yellow crystals (yield 91.1%).

実施例6
化合物(116)の合成
1−ナフタレン−2−イル−3−(2−オキソ−2H−クロメン−3−イル)−プロパン−1,3−ジオン25.0g(73.0mmol)をテトラヒドロフラン250mlと濃塩酸125mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル9.04g(87.6mmol)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、室温で3時間攪拌した。反応液を氷水1L中に注ぎ入れ、クロロホルム1Lで抽出した。有機層を水洗(600ml×3回)し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をジクロロメタン−ヘキサンより再結晶することにより、1−ナフタレン−2−イル−3−(2−オキソ−2H−クロメン−3−イル)−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム25.8gを得た(収率95.2%)。
Example 6
Synthesis of Compound (116) 1-Naphthalen-2-yl-3- (2-oxo-2H-chromen-3-yl) -propane-1,3-dione (25.0 g, 73.0 mmol) was concentrated with 250 ml of tetrahydrofuran. To a solution dissolved in 125 ml of hydrochloric acid, 9.04 g (87.6 mmol) of tert-butyl nitrite was added dropwise over 1 hour with stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction solution was poured into 1 L of ice water and extracted with 1 L of chloroform. The organic layer was washed with water (600 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered to remove the solvent, and the residue was recrystallized from dichloromethane-hexane to give 1-naphthalene-2- 25.8 g of yl-3- (2-oxo-2H-chromen-3-yl) -propane-1,2,3-trione-2-oxime was obtained (yield 95.2%).

次に、1−ナフタレン−2−イル−3−(2−オキソ−2H−クロメン−3−イル)−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム20.0g(53.9mmol)と酢酸ナトリウム4.42g(53.9mmol)とをベンゼン400ml中で攪拌したところに、無水酢酸6.60g(64.6mmol)を加えて、6時間加熱還流した。その後、反応液を氷水500ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(300ml×3回)し、硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶して、化合物(116)を淡黄色結晶として21.0gを得た(収率94.4%)。   Next, 20.0 g (53.9 mmol) of 1-naphthalen-2-yl-3- (2-oxo-2H-chromen-3-yl) -propane-1,2,3-trione-2-oxime and acetic acid To a stirred solution of 4.42 g (53.9 mmol) of sodium in 400 ml of benzene, 6.60 g (64.6 mmol) of acetic anhydride was added and heated to reflux for 6 hours. Thereafter, the reaction solution is poured into 500 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (300 ml × 3 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant is filtered, and the solvent is distilled off. The residue was recrystallized from ethyl acetate-hexane to obtain 21.0 g of compound (116) as pale yellow crystals (yield 94.4%).

実施例7
化合物(117)の合成
1−(9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル)−3−ナフタレン−1−イル−プロパン−1,3−ジオン15.0g(38.3mmol)をテトラヒドロフラン150mlと濃塩酸75mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル4.74g(46.0mmol)を15分かけて滴下した。滴下終了後、室温で24時間攪拌した。反応液を氷水500ml中に注ぎ入れ、クロロホルム500mlで抽出した。有機層を水洗(200ml×2回)し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をクロロホルム−ヘキサンより再結晶することにより、1−(9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル)−3−ナフタレン−1−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム14.2gを得た(収率88.3%)。
Example 7
Synthesis of Compound (117) 1- (9-Ethyl-9H-carbazol-3-yl) -3-naphthalen-1-yl-propane-1,3-dione 15.0 g (38.3 mmol) was concentrated with tetrahydrofuran 150 ml. To a solution dissolved in 75 ml of hydrochloric acid, 4.74 g (46.0 mmol) of tert-butyl nitrite was added dropwise over 15 minutes with stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. The reaction solution was poured into 500 ml of ice water and extracted with 500 ml of chloroform. The organic layer was washed with water (200 ml × 2 times), dried over magnesium sulfate, the desiccant was filtered to remove the solvent, and the residue was recrystallized from chloroform-hexane to give 1- (9-ethyl). -9H-carbazol-3-yl) -3-naphthalen-1-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime (14.2 g, yield 88.3%) was obtained.

次に、1−(9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル)−3−ナフタレン−1−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム10.0g(23.8mmol)と酢酸ナトリウム1.95g(23.8mmol)とをベンゼン200ml中で攪拌したところに、無水酢酸2.9g(28.4mmol)を加えて、5時間加熱還流した。その後、反応液を氷水300ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(150ml×2回)し、硫酸マグネシウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をジクロロメタン−ヘキサンで再結晶して、化合物(117)を淡黄色粉末として8.7gを得た(収率79.0%)。   Next, 10.0 g (23.8 mmol) of 1- (9-ethyl-9H-carbazol-3-yl) -3-naphthalen-1-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime and acetic acid 1.95 g (23.8 mmol) of sodium was stirred in 200 ml of benzene, 2.9 g (28.4 mmol) of acetic anhydride was added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours. Thereafter, the reaction solution is poured into 300 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (150 ml × twice), dried over magnesium sulfate, the desiccant is filtered off and the solvent is distilled off. The residue was recrystallized from dichloromethane-hexane to obtain 8.7 g of compound (117) as a pale yellow powder (yield 79.0%).

実施例8
化合物(118)の合成
1−[9−エチル−6−(2−メチル−ベンゾイル)−9H −カルバゾール−3−イル]−3−ナフタレン−1−イル−プロパン−1,3−ジオン20.0g(39.2mmol)をテトラヒドロフラン200mlと濃塩酸100mlの混合溶液に溶解したところに、室温で攪拌下、亜硝酸tert−ブチル4.86g(47.1mmol)を20分かけて滴下した。滴下終了後、室温で10時間攪拌した。反応液を氷水700ml中に注ぎ入れ、クロロホルム600mlで抽出した。有機層を水洗(300ml×2回)し、溶媒を溜去し、残留物をクロロホルム−ヘキサンより再結晶することにより、1−[9−エチル−6−(2−メチル−ベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−ナフタレン−1−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム19.3gを得た(収率91.3%)。
Example 8
Synthesis of Compound (118) 1- [9-Ethyl-6- (2-methyl-benzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -3-naphthalen-1-yl-propane-1,3-dione 20.0 g (39.2 mmol) was dissolved in a mixed solution of 200 ml of tetrahydrofuran and 100 ml of concentrated hydrochloric acid, and 4.86 g (47.1 mmol) of tert-butyl nitrite was added dropwise over 20 minutes with stirring at room temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 10 hours. The reaction solution was poured into 700 ml of ice water and extracted with 600 ml of chloroform. The organic layer was washed with water (2 x 300 ml), the solvent was distilled off, and the residue was recrystallized from chloroform-hexane to give 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-benzoyl) -9H- 19.3 g of carbazol-3-yl] -3-naphthalen-1-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime was obtained (yield 91.3%).

次に、1−[9−エチル−6−(2−メチル−ベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−ナフタレン−1−イル−プロパン−1,2,3−トリオン−2−オキシム17.0g(31.6mmol)と酢酸ナトリウム2.59g(31.6mmol)とをベンゼン340ml中で攪拌したところに、無水酢酸3.86g(37.8mmol)を加えて、4時間加熱還流した。その後、反応液を氷水700ml中に注ぎ、組成生物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗(300ml×2回)し、硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過して溶媒を溜去し、残留物をクロロホルム−ヘキサンで再結晶して、化合物(118)を淡黄色結晶として17.4gを得た(収率95.1%)。   Next, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-benzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -3-naphthalen-1-yl-propane-1,2,3-trione-2-oxime When 17.0 g (31.6 mmol) and 2.59 g (31.6 mmol) of sodium acetate were stirred in 340 ml of benzene, 3.86 g (37.8 mmol) of acetic anhydride was added and heated to reflux for 4 hours. Thereafter, the reaction solution is poured into 700 ml of ice water, the composition organism is extracted with ethyl acetate, the organic layer is washed with water (300 ml × 2 times), dried over sodium sulfate, the desiccant is filtered off and the solvent is distilled off. The residue was recrystallized from chloroform-hexane to obtain 17.4 g of compound (118) as pale yellow crystals (yield 95.1%).

上記実施例1〜8で合成した本発明のラジカル重合開始剤の元素分析の結果を表3に示す。

Table 3 shows the results of elemental analysis of the radical polymerization initiators of the present invention synthesized in Examples 1 to 8 above.

Figure 2007210991
Figure 2007210991

実施例9〜16
本発明のラジカル重合開始剤(a)として表4に示す化合物6重量部、ラジカル重合性化合物(b)としてペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部、バインダーとしてポリメチルアクリレート(重量平均分子量約30000、数平均分子量約10000)100重量部、溶剤としてシクロヘキサノン1600重量部を配合し、塗工液を調製した。この塗工液をスピンコーターを用いてステンレス板上に塗工し、オーブン中40℃で10分間乾燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜厚は1.5μmであった。この塗工膜に対して、350〜380nmの光を選択的に透過するバンドパスフィルターを介して高圧水銀ランプの光(9.0mW/cm2)を照射しながら、重合性組成物のIRスペクトル(反射)を測定し、アクリル基の特性吸収である810cm-1の強度をモニターした。このIRの測定結果をもとに、光照射開始から15秒後の時点において、重合により消費されたアクリル基の割合について、光照射前を基準に算出した結果を表4に示した。
Examples 9-16
6 parts by weight of the compound shown in Table 4 as the radical polymerization initiator (a) of the present invention, 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate as the radical polymerizable compound (b), and polymethyl acrylate (weight average molecular weight of about 30000, number average as the binder) A molecular weight of about 10,000) 100 parts by weight and 1600 parts by weight of cyclohexanone as a solvent were blended to prepare a coating solution. This coating solution was applied onto a stainless steel plate using a spin coater and dried in an oven at 40 ° C. for 10 minutes. The film thickness after removing the solvent by drying was 1.5 μm. While irradiating light (9.0 mW / cm 2 ) of a high-pressure mercury lamp through a band-pass filter that selectively transmits light of 350 to 380 nm to this coating film, the IR spectrum of the polymerizable composition The (reflection) was measured, and the intensity at 810 cm −1 , which is the characteristic absorption of the acrylic group, was monitored. Table 4 shows the result of calculation based on the IR measurement result, with respect to the ratio of acrylic groups consumed by polymerization at the time point 15 seconds after the start of light irradiation, based on the pre-light irradiation.

比較例1〜3
ラジカル重合開始剤として表4に示す化合物6重量部、ラジカル重合性化合物としてペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部、バインダーとしてポリメチルメタクリレート(重量平均分子量約30000、数平均分子量約10000)100重量部、溶剤としてシクロヘキサノン1600重量部を配合し、塗工液を調製した。この塗工液を上記実施例9〜16と同様の手順および条件で成膜、光照射して、光照射開始から15秒後の時点におけるアクリルモノマーの消費率を算出した結果を表4に示した。
Comparative Examples 1-3
6 parts by weight of a compound shown in Table 4 as a radical polymerization initiator, 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate as a radical polymerizable compound, 100 parts by weight of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight of about 30,000, number average molecular weight of about 10,000) as a binder, solvent 1600 parts by weight of cyclohexanone was blended to prepare a coating solution. Table 4 shows the results of calculating the consumption rate of the acrylic monomer at the time point 15 seconds after the start of light irradiation by forming this coating liquid under the same procedures and conditions as in Examples 9 to 16 and irradiating with light. It was.

表4

Figure 2007210991
Table 4
Figure 2007210991

本発明のラジカル重合開始剤を用いた重合性組成物(実施例9〜16)は、公知のα,α‘−ジケトオキシムエステルをラジカル重合開始剤として用いた場合(比較例1〜3)よりも、光照射により効率的にラジカルを発生し、アクリル基を重合させている。すなわち、本発明の一般式(1)で表される、1−位および3−位に複素環基または縮合多環炭化水素基を有することを特徴とするα,α'−ジケトオキシムエステル化合物をラジカル重合開始剤として用いることにより、高感度化が可能となっている。   The polymerizable composition (Examples 9 to 16) using the radical polymerization initiator of the present invention is a case where a known α, α'-diketooxime ester is used as a radical polymerization initiator (Comparative Examples 1 to 3). Rather than that, radicals are efficiently generated by light irradiation to polymerize acrylic groups. That is, the α, α′-diketooxime ester compound represented by the general formula (1) of the present invention, which has a heterocyclic group or a condensed polycyclic hydrocarbon group at the 1-position and the 3-position By using as a radical polymerization initiator, high sensitivity can be achieved.

実施例17〜31
本発明のラジカル重合開始剤(a)として表5に示す化合物5重量部、ラジカル重合性化合物(b)としてペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部、増感剤(c)として化合物(122)または化合物(123)を0または1重量部、バインダーとしてポリメチルアクリレート(重量平均分子量約30000、数平均分子量約10000)100重量部、溶剤としてシクロヘキサノン1600重量部を配合し、塗工液を調製した。この塗工液をスピンコーターを用いてステンレス板上に塗工し、オーブン中40℃で10分間乾燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜厚は1.5μmであった。この塗工膜に対して、350〜380nmの光を選択的に透過するバンドパスフィルターを介して高圧水銀ランプの光(10.0mW/cm2)を照射しながら、重合性組成物のIRスペクトル(反射)を測定し、アクリル基の特性吸収である810cm-1の強度をモニターした。このIRの測定結果をもとに、光照射開始から10秒後(光照射量100mJ/cm2)の時点において、重合により消費されたアクリル基の割合について、光照射前を基準に算出した結果を表5に示した。
Examples 17-31
5 parts by weight of the compound shown in Table 5 as the radical polymerization initiator (a) of the present invention, 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate as the radical polymerizable compound (b), and the compound (122) or compound (c) as the sensitizer (c) 123) was mixed with 0 or 1 part by weight, 100 parts by weight of polymethyl acrylate (weight average molecular weight of about 30,000, number average molecular weight of about 10,000) as a binder, and 1600 parts by weight of cyclohexanone as a solvent to prepare a coating solution. This coating solution was applied onto a stainless steel plate using a spin coater and dried in an oven at 40 ° C. for 10 minutes. The film thickness after removing the solvent by drying was 1.5 μm. The IR spectrum of the polymerizable composition was irradiated to the coated film while irradiating light (10.0 mW / cm 2 ) of a high-pressure mercury lamp through a bandpass filter that selectively transmits light of 350 to 380 nm. The (reflection) was measured, and the intensity at 810 cm −1 , which is the characteristic absorption of the acrylic group, was monitored. Based on the IR measurement results, the ratio of acrylic groups consumed by polymerization at the time 10 seconds after the start of light irradiation (light irradiation amount: 100 mJ / cm 2 ) was calculated based on the pre-light irradiation. Are shown in Table 5.

比較例4〜6
ラジカル重合開始剤として表5に示す化合物5重量部、ラジカル重合性化合物としてペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部、増感剤として化合物(122)または化合物(123)を0または1重量部、バインダーとしてポリメチルアクリレート(重量平均分子量約30000、数平均分子量約10000)100重量部、溶剤としてシクロヘキサノン1600重量部を配合し、塗工液を調製した。この塗工液を上記実施例17〜31と同様の手順および条件で成膜、光照射して、光照射開始から10秒後(光照射量100mJ/cm2)の時点におけるアクリルモノマーの消費率を算出した結果を表5に示した。
Comparative Examples 4-6
5 parts by weight of a compound shown in Table 5 as a radical polymerization initiator, 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate as a radical polymerizable compound, 0 or 1 part by weight of a compound (122) or compound (123) as a sensitizer, and poly as a binder 100 parts by weight of methyl acrylate (weight average molecular weight of about 30,000, number average molecular weight of about 10,000) and 1600 parts by weight of cyclohexanone as a solvent were blended to prepare a coating solution. Depositing the coating solution in the same procedure and conditions as in Example 17-31, and light irradiation, consumption rate of the acrylic monomer at the time of 10 seconds after the light irradiation start (amount of light irradiation 100 mJ / cm 2) The results of calculating are shown in Table 5.

表5

Figure 2007210991
Table 5
Figure 2007210991

本発明のラジカル重合開始剤を用いた重合性組成物(実施例17、20、23、26および29)は、100mJ/cm2という少ない露光量でラジカルを発生し、アクリル基を重合させており、非常に高感度な重合性組成物となっている。さらに、重合性組成物中に増感剤を含む実施例18、19、21、22、24、25、27、28、30および31では、重合性組成物中に増感剤を含まない実施例17、20、23、26および29に比べて、重合感度が向上している。また、本発明の実施例17〜31は、公知のα,α'−ジケトオキシムエステルをラジカル重合開始剤として用いた比較例4〜6に比べて、明らかに高感度となっている。すなわち、本発明の重合性組成物は、増感剤を含まなくても高感度であるが、増感剤を併用することによりさらに高感度な重合性組成物となることが可能である。 The polymerizable compositions (Examples 17, 20, 23, 26 and 29) using the radical polymerization initiator of the present invention generate radicals with a small exposure amount of 100 mJ / cm 2 and polymerize acrylic groups. It is a highly sensitive polymerizable composition. Furthermore, in Examples 18, 19, 21, 22, 24, 25, 27, 28, 30 and 31, which contain a sensitizer in the polymerizable composition, Examples in which no sensitizer is contained in the polymerizable composition Compared with 17, 20, 23, 26 and 29, the polymerization sensitivity is improved. In addition, Examples 17 to 31 of the present invention clearly have higher sensitivity than Comparative Examples 4 to 6 using a known α, α′-diketooxime ester as a radical polymerization initiator. That is, the polymerizable composition of the present invention is highly sensitive even if it does not contain a sensitizer, but it can be a more sensitive polymerizable composition by using a sensitizer together.

本発明は、新規なオキシムエステル化合物および高感度なラジカル重合開始剤および重合性組成物に関するものであり、例えば、インキ、塗料、感光性印刷板、プルーフ材料、フォトレジスト、ホログラム材料、封止剤、オーバーコート材、光造形用樹脂、接着剤、各種デバイス等の分野において良好な物性を持った硬化物を迅速かつ確実に得るための材料となりうる。
The present invention relates to a novel oxime ester compound, a highly sensitive radical polymerization initiator, and a polymerizable composition, such as ink, paint, photosensitive printing plate, proof material, photoresist, hologram material, and sealant. In addition, it can be a material for quickly and reliably obtaining a cured product having good physical properties in the fields of overcoat material, resin for optical modeling, adhesive, various devices and the like.

Claims (7)

下記一般式(1)で表される化合物。
一般式(1)
Figure 2007210991


(式中、AおよびBは、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の複素環基、または、置換もしくは未置換の縮合多環炭化水素基を表し、
Xは一価の有機残基を表す。
ただし、AとBとが同じになることは無い。)
A compound represented by the following general formula (1).
General formula (1)
Figure 2007210991


(In the formula, A and B each independently represent a substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted condensed polycyclic hydrocarbon group,
X represents a monovalent organic residue.
However, A and B are never the same. )
Aが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または、置換もしくは未置換のナフチル基である請求項1記載の化合物。
(ただし、カルバゾリル基およびナフチル基上の置換基の一部が、カルバゾリル基もしくはナフチル基の炭素原子または他の置換基の一部と結合し、一体となって環構造を形成していてもよい。)
The compound according to claim 1, wherein A is a substituted or unsubstituted carbazolyl group or a substituted or unsubstituted naphthyl group.
(However, a part of substituents on the carbazolyl group and naphthyl group may be bonded to a carbon atom of the carbazolyl group or naphthyl group or a part of other substituents to form a ring structure together. .)
Aが置換もしくは未置換の下記一般式(2)または置換もしくは未置換の下記一般式(3)で表される基である請求項1記載の化合物。
一般式(2)
Figure 2007210991


一般式(3)
Figure 2007210991


(一般式(2)中、Yは一価の有機残基を表わす。)
The compound according to claim 1, wherein A is a group represented by the following general formula (2) which is substituted or unsubstituted, or a general formula (3) which is substituted or unsubstituted.
General formula (2)
Figure 2007210991


General formula (3)
Figure 2007210991


(In general formula (2), Y represents a monovalent organic residue.)
Aが、置換もしくは未置換の下記一般式(2)で表される基であり、Bが、置換もしくは未置換の下記一般式(3)で表される基である請求項1記載の化合物。
一般式(2)
Figure 2007210991


一般式(3)
Figure 2007210991


(一般式(2)中、Yは一価の有機残基を表わす。)
The compound according to claim 1, wherein A is a group represented by the following general formula (2) which is substituted or unsubstituted, and B is a group represented by the following general formula (3) which is substituted or unsubstituted.
General formula (2)
Figure 2007210991


General formula (3)
Figure 2007210991


(In general formula (2), Y represents a monovalent organic residue.)
請求項1〜4いずれか記載の化合物を含んでなるラジカル重合開始剤(a)。 A radical polymerization initiator (a) comprising the compound according to claim 1. 請求項5記載のラジカル重合開始剤(a)とラジカル重合性化合物(b)とを含んでなる重合性組成物。 A polymerizable composition comprising the radical polymerization initiator (a) according to claim 5 and a radical polymerizable compound (b). さらに、増感剤(c)を含んでなる請求項6記載の重合性組成物。

The polymerizable composition according to claim 6, further comprising a sensitizer (c).

JP2006194241A 2006-01-13 2006-07-14 Oxime ester compound, radical polymerization initiator and polymerizable composition Expired - Fee Related JP4007399B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006194241A JP4007399B2 (en) 2006-01-13 2006-07-14 Oxime ester compound, radical polymerization initiator and polymerizable composition
KR1020087019542A KR101075686B1 (en) 2006-01-13 2007-01-12 Diketooxime ester compound and use thereof
CN2007800030236A CN101370772B (en) 2006-01-13 2007-01-12 Diketooxime ester compound and use thereof
TW096101212A TWI392966B (en) 2006-01-13 2007-01-12 Diketoxime ester compound and use thererof
PCT/JP2007/050287 WO2007080947A1 (en) 2006-01-13 2007-01-12 Diketooxime ester compound and use thereof

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006005881 2006-01-13
JP2006194241A JP4007399B2 (en) 2006-01-13 2006-07-14 Oxime ester compound, radical polymerization initiator and polymerizable composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007210991A true JP2007210991A (en) 2007-08-23
JP4007399B2 JP4007399B2 (en) 2007-11-14

Family

ID=38489744

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006194241A Expired - Fee Related JP4007399B2 (en) 2006-01-13 2006-07-14 Oxime ester compound, radical polymerization initiator and polymerizable composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4007399B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008035671A1 (en) * 2006-09-22 2008-03-27 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Photosensitive coloring composition and color filter
JP2009134289A (en) * 2007-10-31 2009-06-18 Fujifilm Corp Colored curable composition, color filter, method of producing same, and solid state image pickup element
JP2010091753A (en) * 2008-10-08 2010-04-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd Polymerizable composition, negative resist using the same, and image pattern forming method using the resist
JP2010164964A (en) * 2008-12-19 2010-07-29 Fujifilm Corp Photosensitive composition, color filter, and liquid crystal display
JP2010215575A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Toyo Ink Mfg Co Ltd New oxime ester compound, radical polymerization initiator containing the same, polymerizable composition, negative type resist by using the same and method for forming image pattern by using the same
WO2014174601A1 (en) * 2013-04-24 2014-10-30 株式会社千葉合成研究所 Novel pyrimidine derivative

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008035671A1 (en) * 2006-09-22 2008-03-27 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Photosensitive coloring composition and color filter
JP2009134289A (en) * 2007-10-31 2009-06-18 Fujifilm Corp Colored curable composition, color filter, method of producing same, and solid state image pickup element
JP2010091753A (en) * 2008-10-08 2010-04-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd Polymerizable composition, negative resist using the same, and image pattern forming method using the resist
JP2010164964A (en) * 2008-12-19 2010-07-29 Fujifilm Corp Photosensitive composition, color filter, and liquid crystal display
JP2010215575A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Toyo Ink Mfg Co Ltd New oxime ester compound, radical polymerization initiator containing the same, polymerizable composition, negative type resist by using the same and method for forming image pattern by using the same
WO2014174601A1 (en) * 2013-04-24 2014-10-30 株式会社千葉合成研究所 Novel pyrimidine derivative

Also Published As

Publication number Publication date
JP4007399B2 (en) 2007-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4650212B2 (en) Photopolymerizable composition
KR101075686B1 (en) Diketooxime ester compound and use thereof
JP2011020998A (en) New oxime ester compound, radical polymerization initiator comprising the same, and polymerizable composition containing the same, and negative-type resist using the composition, and method for forming image pattern using the resist
JP2007219362A (en) Polymerizable composition, negative resist obtained by using the same and image pattern forming method using the same
JP2009179619A (en) New oxime ester compound, radical polymerization initiator containing the same and polymerizable composition
JP2010215575A (en) New oxime ester compound, radical polymerization initiator containing the same, polymerizable composition, negative type resist by using the same and method for forming image pattern by using the same
JP4007399B2 (en) Oxime ester compound, radical polymerization initiator and polymerizable composition
JP2005187678A (en) Photopolymerizable composition
JP5359100B2 (en) Novel oxime ester compound and radical polymerization initiator and polymerizable composition comprising the same
JP4020153B2 (en) Polymerizable composition, negative resist using the same, and image pattern forming method using the same
JP4586783B2 (en) Photosensitive coloring composition and color filter
JP2007112930A (en) Photoradically polymerizable composition
JP2007187875A (en) Polymerizable composition, negative resist using the same and image pattern forming method using the same
JP5023495B2 (en) Radical polymerization initiator and polymerizable composition
JP2004300367A (en) Photopolymerization initiator composition
JP2007191606A (en) Photocurable varnish
JP2005121940A (en) Polymerizable composition, negative resist using same, and method for forming image pattern by using the resist
JP2007034153A (en) Energy line-sensitive polymerizable composition, negative resist using the same and pictorial pattern forming method using the same
JP3755522B2 (en) Photoradical polymerization initiator and photoradical polymerizable composition using the same
JP5315909B2 (en) Polymerizable composition, negative resist using the same, and image pattern forming method using the same
JP2005154494A (en) Radical photopolymerization initiator and radical photopolymerizing composition using the same
JP4887806B2 (en) Radical polymerization initiator and polymerizable composition
JP4887807B2 (en) Radical polymerization initiator and polymerizable composition
JP2008031280A (en) Radical polymerization initiator, polymeriszable composition and method for producing polymer
JP5919886B2 (en) Polymerizable composition for UV-LED and method for producing polymer using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070525

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20070525

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20070702

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070710

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070718

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070807

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070820

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100907

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4007399

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110907

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110907

Year of fee payment: 4

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110907

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120907

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120907

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130907

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees