JP2007202126A - Semiconductor device, display device, and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which operates stably with few malfunctions due to noise, low power consumption, and little variation in characteristics, a display device including the semiconductor device, and electronic equipment including the display device. <P>SOLUTION: An output terminal is connected to a power supply line, thereby reducing a variation in electric potential of the output terminal. In addition, a gate electrode potential which turns ON a transistor is maintained due to the capacitance of the transistor. Further, a change in characteristics of the transistor is reduced by a signal line for reverse biasing. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置、表示装置、及び電子機器に関する。 The present invention relates to a semiconductor device, a display device, and an electronic device.

シフトレジスタ回路は、パルスが与えられるたびに内容が1桁ずつ移動する動作をする回路である。この性質を利用して、シリアル信号およびパラレル信号を相互に変換する回路に用いられる。信号をシリアルーパラレル変換する回路は、回路同士を相互に接続するネットワークで主に使用される。ネットワークで回路同士を相互に接続して信号を伝送する伝送路の数は、伝送したいデータ量に比べて少ないことが多い。そのようなときに、送る側の回路においてパラレル信号をシリアル信号に変換して信号を順番に伝送路に送り出し、受ける側の回路において、順番に送られてくるシリアル信号をパラレル信号に変換することで、伝送路の数が少なくても信号をやり取りすることができる。 The shift register circuit is a circuit that operates to move the content by one digit each time a pulse is given. Utilizing this property, it is used in a circuit for converting a serial signal and a parallel signal into each other. Circuits for serial-parallel conversion of signals are mainly used in networks that connect circuits to each other. In many cases, the number of transmission lines for transmitting signals by connecting circuits to each other via a network is smaller than the amount of data to be transmitted. In such a case, the sending circuit converts the parallel signal to a serial signal and sends the signal in order to the transmission line, and the receiving circuit converts the serial signal sent in turn to a parallel signal. Thus, signals can be exchanged even if the number of transmission paths is small.

表示装置は、外部から入力される映像信号に従い、各画素の輝度を制御することで映像の表示を行なう。ここで、外部からの映像信号の伝送路を画素の数だけ用いることは困難であることから、映像信号をシリアルーパラレル変換する必要が生じるため、映像信号を表示装置に送る側の回路にも、また、映像信号を受ける側の表示装置を駆動する回路にも、シフトレジスタ回路が用いられる。 The display device displays an image by controlling the luminance of each pixel in accordance with an image signal input from the outside. Here, since it is difficult to use the transmission path of the video signal from the outside for the number of pixels, it is necessary to serial-parallel convert the video signal. Therefore, the circuit on the side that sends the video signal to the display device also has to be used. A shift register circuit is also used for a circuit for driving a display device on the side receiving a video signal.

上述したシフトレジスタ回路には、Nチャネル型トランジスタとPチャネル型トランジスタを組み合わせたCMOS回路が多く用いられている。しかし、Nチャネル型トランジスタとPチャネル型トランジスタを組み合わせたCMOS回路を同一の基板上に形成するためには、互いに逆の導電型を有するトランジスタを同一の基板上に形成する必要があり、どうしても製造工程が複雑になってしまう。その結果、半導体装置のコストの上昇や歩留まりの低下を招いてしまう。 As the shift register circuit described above, a CMOS circuit in which an N-channel transistor and a P-channel transistor are combined is often used. However, in order to form a CMOS circuit combining an N-channel transistor and a P-channel transistor on the same substrate, it is necessary to form transistors having opposite conductivity types on the same substrate. The process becomes complicated. As a result, the cost of the semiconductor device increases and the yield decreases.

そこで、全てのトランジスタの極性を同一の型とした回路(単極性回路とも記す)が考案されている。単極性回路は、その製造工程において、不純物元素を添加する工程などの作製工程の一部を省略して、コストの上昇や歩留まりの低下の影響を抑制することができる。 Therefore, a circuit in which all transistors have the same polarity (also referred to as a unipolar circuit) has been devised. A unipolar circuit can suppress an influence of an increase in cost and a decrease in yield by omitting a part of a manufacturing process such as a process of adding an impurity element in the manufacturing process.

例えば、全てのトランジスタの極性をNチャネル型とした論理回路を構成する場合を考える。この回路は、高電位電源の電位を出力するとき、Nチャネル型トランジスタの閾値に従って、出力信号の電圧が入力信号の電圧に比べて減衰してしまうという問題がある。そこで、出力信号の電圧を減衰させないために、ブートストラップ回路と呼ばれる回路が広く用いられている。ブートストラップ回路は、高電位側の電源に接続されたトランジスタがオン状態となってチャネルに電流が流れ始めた後に、出力端子と容量結合した該トランジスタのゲート電極を浮遊状態とすることによって実現される。このようにすることで、出力端子の電位が上昇することに伴って該トランジスタのゲート電極の電位も上昇し、遂には高電位電源の電位よりも該トランジスタの閾値電圧分以上高くすることによって、出力端子の電位を高電位電源の電位と概ね等しくすることができる。 For example, consider the case of configuring a logic circuit in which all transistors have N-channel polarities. This circuit has a problem that when the potential of the high potential power supply is output, the voltage of the output signal is attenuated as compared with the voltage of the input signal in accordance with the threshold value of the N-channel transistor. Therefore, in order not to attenuate the voltage of the output signal, a circuit called a bootstrap circuit is widely used. The bootstrap circuit is realized by placing the gate electrode of the transistor capacitively coupled to the output terminal in a floating state after the transistor connected to the power supply on the high potential side is turned on and current begins to flow through the channel. The By doing so, the potential of the gate electrode of the transistor rises as the potential of the output terminal rises, and finally, by making it higher than the potential of the high potential power supply by the threshold voltage or more, The potential of the output terminal can be made approximately equal to the potential of the high potential power source.

前記ブートストラップ回路によって、単極性であっても出力電位が減衰しない半導体装置が実現できる。また、前記ブートストラップ回路によってシフトレジスタ回路を構成することができる(例えば、非特許文献1、特許文献1参照。)。
トシオミヤザワ、他7名、「ダイジェスト オブ テクニカルペーパー(DiGEST of TECHNICAL PAPERS)」,(米国),2005年,Volume XXXVI,Book I,p.1050−1053 特開2002−215118号公報
With the bootstrap circuit, a semiconductor device in which the output potential is not attenuated even if it is unipolar can be realized. Further, a shift register circuit can be formed by the bootstrap circuit (see, for example, Non-Patent Document 1 and Patent Document 1).
Toshimiyazawa, et al., “Digest of Technical Papers” (USA), 2005, Volume XXXVI, Book I, p. 1050-1053 JP 2002-215118 A

非特許文献1における従来例を図37に示す(ただし、符号等は変更されている。)。図37に示すシフトレジスタ回路は、入力信号がVinに入力されると端子P1の電位が上昇し、信号線V1に接続されたトランジスタがオンする。その後、信号線V1の電位が上昇することでこのトランジスタがブートストラップ動作し、信号線V1の電位が減衰することなく次の段へと伝達される。なお、図37の(A)は、4段目までのシフトレジスタ回路の回路図、図37の(B)は、回路構成の理解を助けるため、図37の(A)中の破線で囲んだ範囲の回路を抽出したものである。図37の(B)は、図37の(A)に示した回路を構成する最小単位であり、図37の(B)の回路一つに対し、図37の(A)に示した回路の出力端子(OUT1〜OUT4)が一つ対応している。本明細書中では、図37の(A)に対する図37の(B)のような、回路の構成単位を、単一段回路と呼ぶことにする。ここで、端子P1と電源線Vssの接続をオン、オフするトランジスタは、次段の出力によってオン状態となるが、オン状態となっている時間は次段の出力が高い電位(Hレベル)になっているときのみであるため、端子OUT1に低い電位(Lレベル)を出力するべき期間(非選択期間とも記す)の大部分において、端子P1および端子OUT1は浮遊状態となる。これは、これ以降の段の端子Pxおよび端子OUTxについても同様である。そのため、クロック信号1およびクロック信号2により発生するノイズ、または、回路外部からの電磁波によるノイズにより動作不良を引き起こしてしまうという問題があった。 A conventional example in Non-Patent Document 1 is shown in FIG. 37 (however, the reference numerals and the like are changed). In the shift register circuit illustrated in FIG. 37, when an input signal is input to Vin, the potential of the terminal P1 rises, and the transistor connected to the signal line V1 is turned on. Thereafter, when the potential of the signal line V1 rises, this transistor performs a bootstrap operation, and the potential of the signal line V1 is transmitted to the next stage without being attenuated. 37A is a circuit diagram of the shift register circuit up to the fourth stage, and FIG. 37B is surrounded by a broken line in FIG. 37A to help understanding the circuit configuration. This is a range circuit extracted. FIG. 37B is a minimum unit constituting the circuit shown in FIG. 37A. One circuit shown in FIG. 37B is different from the circuit shown in FIG. One output terminal (OUT1-OUT4) corresponds. In this specification, a circuit unit as shown in FIG. 37B with respect to FIG. 37A is referred to as a single-stage circuit. Here, the transistor that turns on and off the connection between the terminal P1 and the power supply line Vss is turned on by the output of the next stage, but the output of the next stage is at a high potential (H level) during the on state. Therefore, the terminal P1 and the terminal OUT1 are in a floating state in most of a period during which a low potential (L level) is to be output to the terminal OUT1 (also referred to as a non-selection period). The same applies to the terminal Px and the terminal OUTx in the subsequent stages. For this reason, there has been a problem that operation failure is caused by noise generated by the clock signal 1 and the clock signal 2 or noise caused by electromagnetic waves from the outside of the circuit.

そこで、この問題に関する対策として、非特許文献1においては、図38に示す構成を用いて解決を図っている。なお、図38の(A)は、6段目までのシフトレジスタ回路の回路図、図38の(B)は、回路構成の理解を助けるため、図38の(A)中の破線で囲んだ単一段回路を抽出したものである。図38に示す構成では、端子P1とそれ以降の段の端子PxをLレベルにリセットするトランジスタがオンする時間が、非選択期間の大部分となるような構成となっている。これによって、非選択期間において、端子P1とそれ以降の段の端子Pxの電位の変動はある程度抑えられる。 Therefore, as a countermeasure for this problem, Non-Patent Document 1 uses the configuration shown in FIG. 38 to solve the problem. 38A is a circuit diagram of the shift register circuit up to the sixth stage, and FIG. 38B is surrounded by a broken line in FIG. 38A to help understanding of the circuit configuration. A single stage circuit is extracted. The configuration shown in FIG. 38 is configured such that the time during which the transistor that resets the terminal P1 and the terminal Px in the subsequent stage to the L level is turned on becomes most of the non-selection period. As a result, during the non-selection period, fluctuations in the potential of the terminal P1 and the terminal Px in the subsequent stages are suppressed to some extent.

しかし、図38に示す構成では、非選択期間において、端子OUT1およびそれ以降の段の端子OUTxは、浮遊状態である。そのため、端子OUTは、クロック信号1およびクロック信号2により発生するノイズ、または、回路外部からの電磁波によるノイズにより動作不良を引き起こしてしまうという問題がある。また、図38に示す構成は、各段の端子Pxをリセットするためのトランジスタのゲート電極につながる電極と、入力端子Vinの間に容量素子が設けられているため、入力端子Vinを駆動する負荷が大きい。そのため、信号波形がなまり、また、消費電力が大きい、という問題もある。また、各段の端子Pxをリセットするためのトランジスタは、非選択期間の大部分でオン状態であるため、ゲート電極にかける電圧ストレスの偏りが大きく、特性変動しやすいという問題もある。 However, in the configuration illustrated in FIG. 38, in the non-selection period, the terminal OUT1 and the terminal OUTx in the subsequent stage are in a floating state. Therefore, there is a problem that the terminal OUT causes malfunction due to noise generated by the clock signal 1 and the clock signal 2 or noise due to electromagnetic waves from the outside of the circuit. In the configuration shown in FIG. 38, since a capacitive element is provided between the electrode connected to the gate electrode of the transistor for resetting the terminal Px of each stage and the input terminal Vin, the load for driving the input terminal Vin Is big. Therefore, there are problems that the signal waveform is distorted and the power consumption is large. In addition, since the transistor for resetting the terminal Px at each stage is in an on state during most of the non-selection period, there is a problem that the voltage stress applied to the gate electrode is large and the characteristics are easily changed.

本発明は、このような問題点に鑑みて、ノイズによって誤動作することが少なく安定に動作し、消費電力が少なく、特性変動の少ない半導体装置、および前記半導体装置を有する表示装置、ならびに前記表示装置を有する電子機器を提供することを課題とする。 In view of such a problem, the present invention provides a semiconductor device that operates stably with less malfunction due to noise, consumes less power, has less characteristic fluctuation, a display device including the semiconductor device, and the display device It is an object to provide an electronic device having the following.

本発明において、表示パネルとは、液晶素子を用いてなる液晶表示パネル、及びエレクトロルミネッセンス(EL)素子を始めとした発光素子を用いてなる表示パネルを含む。また、表示装置は、前記表示パネルを有し、前記表示パネルを駆動する周辺回路を備える表示装置を含む。 In the present invention, the display panel includes a liquid crystal display panel using a liquid crystal element and a display panel using a light emitting element such as an electroluminescence (EL) element. In addition, the display device includes a display device that includes the display panel and includes a peripheral circuit that drives the display panel.

本発明にかかる半導体装置の一形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子を備え、第1の端子の電位を出力端子に伝達する第1のトランジスタと、入力端子の電位にしたがって、第1のトランジスタをオン状態とする整流性素子と、第4の端子の電位にしたがって、出力端子と第2の端子を導通させ、出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、第4の端子の電位にしたがって、第3の端子と第2の端子を導通させ、第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタとを有する。 One embodiment of a semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, and a fourth terminal, and the potential of the first terminal Is connected to the output terminal, the rectifying element that turns on the first transistor according to the potential of the input terminal, and the output terminal and the second terminal according to the potential of the fourth terminal. A third transistor that conducts and fixes the potential of the output terminal; and a third transistor that conducts the third terminal and the second terminal according to the potential of the fourth terminal and fixes the potential of the third terminal. A transistor.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子を備え、第1の端子の電位を出力端子に伝達する第1のトランジスタと、入力端子の電位にしたがって、第1のトランジスタをオン状態とする整流性素子と、第5の端子の電位にしたがって、出力端子と第2の端子を導通させ、出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、第4の端子の電位にしたがって、第3の端子と第2の端子を導通させ、第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタと、第3の端子の電位を反転し、第5の端子に出力する回路とを有する。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, and a fifth terminal. A first transistor that transmits the potential of the first terminal to the output terminal, a rectifying element that turns on the first transistor according to the potential of the input terminal, and a potential of the fifth terminal, The third terminal and the second terminal are made conductive according to the potential of the second transistor which makes the output terminal and the second terminal conductive and fixes the potential of the output terminal, and the potential of the fourth terminal. And a circuit that inverts the potential of the third terminal and outputs the inverted potential to the fifth terminal.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子を備え、第1の端子の電位を出力端子に伝達する第1のトランジスタと、入力端子の電位にしたがって、第1のトランジスタをオン状態とする第1の整流性素子と、第4の端子の電位にしたがって、出力端子と第2の端子を導通させ、出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、第4の端子の電位にしたがって、第3の端子と第2の端子を導通させ、第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタと、出力端子の電位にしたがって、第5の端子の電位を上昇させる第2の整流性素子と、第3の端子の電位にしたがって、第6の端子と第2の端子を導通させ、第6の電位を下降させる第4のトランジスタとを有する。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, and a fifth terminal. A first transistor that includes a sixth terminal and transmits the potential of the first terminal to the output terminal; a first rectifying element that turns on the first transistor according to the potential of the input terminal; In accordance with the potential of the fourth terminal, the second terminal that conducts the output terminal and the second terminal and fixes the potential of the output terminal, and the third terminal and the second terminal according to the potential of the fourth terminal A third transistor that conducts the terminal and fixes the potential of the third terminal; a second rectifying element that increases the potential of the fifth terminal according to the potential of the output terminal; and the potential of the third terminal To make the sixth terminal and the second terminal conductive, and And a fourth transistor that makes later.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子と、第7の端子を備え、第1の端子の電位を出力端子に伝達する第1のトランジスタと、入力端子の電位にしたがって、第1のトランジスタをオン状態とする第1の整流性素子と、第7の端子の電位にしたがって、出力端子と第2の端子を導通させ、出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、第4の端子の電位にしたがって、第3の端子と第2の端子を導通させ、第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタと、出力端子の電位にしたがって、第5の端子の電位を上昇させる第2の整流性素子と、第3の端子の電位にしたがって、第6の端子と第2の端子を導通させ、第6の電位を下降させる第4のトランジスタと、第3の端子の電位を反転し、第7の端子に出力する回路とを有する。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, and a fifth terminal. A first transistor having a sixth terminal and a seventh terminal and transmitting the potential of the first terminal to the output terminal; and a first transistor for turning on the first transistor in accordance with the potential of the input terminal And the second transistor that conducts the output terminal and the second terminal and fixes the potential of the output terminal according to the potential of the seventh terminal, and the third transistor according to the potential of the fourth terminal. A third transistor that conducts the first terminal and the second terminal and fixes the potential of the third terminal; a second rectifying element that increases the potential of the fifth terminal according to the potential of the output terminal; In accordance with the potential of the third terminal, the sixth terminal and the second terminal are made conductive. Having a fourth transistor lowering the sixth potential, inverts the potential of the third terminal, and a circuit for outputting a seventh terminal.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタを備え、整流性素子の一方の電極は、入力端子と電気的に接続され、整流性素子の他方の電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのゲート電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第1の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのゲート電極は、第4の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのゲート電極は、第4の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第3の端子と電気的に接続される。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a rectifying element, A first transistor; a second transistor; and a third transistor, wherein one electrode of the rectifying element is electrically connected to an input terminal, and the other electrode of the rectifying element is a third terminal. And the gate electrode of the first transistor is electrically connected to the third terminal, and one of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal. The other of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the output terminal, and the gate electrode of the second transistor is electrically connected to the fourth terminal. Source or drain electrode One is electrically connected to the second terminal, the other of the source electrode or the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the output terminal, and the gate electrode of the third transistor is the fourth terminal One of the source and drain electrodes of the third transistor is electrically connected to the second terminal, and the other of the source and drain electrodes of the third transistor is the third terminal. And electrically connected.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、電位反転回路を備え、整流性素子の一方の電極は、入力端子と電気的に接続され、整流性素子の他方の電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのゲート電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第1の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのゲート電極は、第5の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのゲート電極は、第4の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第3の端子と電気的に接続され、電位反転回路の一方の電極は、第3の端子と電気的に接続され、電位反転回路の他方の電極は、第5の端子と電気的に接続される。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, and a fifth terminal. , A rectifying element, a first transistor, a second transistor, a third transistor, and a potential inversion circuit, and one electrode of the rectifying element is electrically connected to the input terminal and is rectifying The other electrode of the element is electrically connected to the third terminal, the gate electrode of the first transistor is electrically connected to the third terminal, and one of the source electrode and the drain electrode of the first transistor Is electrically connected to the first terminal, the other of the source electrode or the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the output terminal, and the gate electrode of the second transistor is connected to the fifth terminal. Electrically connected second transistor One of the source electrode and the drain electrode is electrically connected to the second terminal, the other of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the output terminal, and the gate electrode of the third transistor Is electrically connected to the fourth terminal, and one of the source and drain electrodes of the third transistor is electrically connected to the second terminal and the other of the source and drain electrodes of the third transistor. Is electrically connected to the third terminal, one electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the third terminal, and the other electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the fifth terminal. Connected.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子と、第1の整流性素子と、第2の整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタを備え、第1の整流性素子の一方の電極は、入力端子と電気的に接続され、第1の整流性素子の他方の電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのゲート電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第1の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのゲート電極は、第4の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのゲート電極は、第4の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第3の端子と電気的に接続され、第2の整流性素子の一方の電極は、出力端子と電気的に接続され、第2の整流性素子の他方の電極は、第5の端子と電気的に接続され、第4のトランジスタのゲート電極は、第3の端子と電気的に接続され、第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第6の端子と電気的に接続される。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, and a fifth terminal. , A sixth terminal, a first rectifying element, a second rectifying element, a first transistor, a second transistor, a third transistor, and a fourth transistor, One electrode of the rectifying element is electrically connected to the input terminal, the other electrode of the first rectifying element is electrically connected to the third terminal, and the gate electrode of the first transistor is , Electrically connected to the third terminal, one of the source electrode or drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal, and the other of the source electrode or drain electrode of the first transistor is The second transistor gate electrically connected to the output terminal. The electrode is electrically connected to the fourth terminal, and one of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the second terminal, and the source electrode or the drain electrode of the second transistor The other is electrically connected to the output terminal, the gate electrode of the third transistor is electrically connected to the fourth terminal, and one of the source electrode or the drain electrode of the third transistor is the second terminal. The other of the source and drain electrodes of the third transistor is electrically connected to the third terminal, and one electrode of the second rectifying element is electrically connected to the output terminal. The other electrode of the second rectifying element is electrically connected to the fifth terminal, the gate electrode of the fourth transistor is electrically connected to the third terminal, and the fourth transistor Source of One of the pole or the drain electrode is connected to the second terminal and electrically, the other of the source electrode and the drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the sixth terminal.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子と、第7の端子と、第1の整流性素子と、第2の整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、電位反転回路を備え、第1の整流性素子の一方の電極は、入力端子と電気的に接続され、第1の整流性素子の他方の電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのゲート電極は、第3の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第1の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのゲート電極は、第7の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、出力端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのゲート電極は、第4の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第3の端子と電気的に接続され、第2の整流性素子の一方の電極は、出力端子と電気的に接続され、第2の整流性素子の他方の電極は、第5の端子と電気的に接続され、第4のトランジスタのゲート電極は、第3の端子と電気的に接続され、第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第6の端子と電気的に接続され、電位反転回路の一方の電極は、第3の端子と電気的に接続され、電位反転回路の他方の電極は、第7の端子と電気的に接続される。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes an input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, and a fifth terminal. , The sixth terminal, the seventh terminal, the first rectifying element, the second rectifying element, the first transistor, the second transistor, the third transistor, and the fourth transistor A transistor and a potential inversion circuit are provided, and one electrode of the first rectifying element is electrically connected to the input terminal, and the other electrode of the first rectifying element is electrically connected to the third terminal. And the gate electrode of the first transistor is electrically connected to the third terminal, and one of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal, and The other of the source and drain electrodes of the transistor is electrically connected to the output terminal The gate electrode of the second transistor is electrically connected to the seventh terminal, and one of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the second terminal, The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor is electrically connected to the output terminal, the gate electrode of the third transistor is electrically connected to the fourth terminal, and the source electrode or the drain electrode of the third transistor Is electrically connected to the second terminal, and the other of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is electrically connected to the third terminal, and one electrode of the second rectifying element is connected Is electrically connected to the output terminal, the other electrode of the second rectifying element is electrically connected to the fifth terminal, and the gate electrode of the fourth transistor is electrically connected to the third terminal. Connected to One of the source electrode and the drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the second terminal, and the other of the source electrode and the drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the sixth terminal. One electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the third terminal, and the other electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the seventh terminal.

以上のような本発明の構成とすることで、ノイズによる誤動作の少ない、安定して動作するシフトレジスタ回路を提供することができる。 With the configuration of the present invention as described above, it is possible to provide a shift register circuit that operates stably and has few malfunctions due to noise.

また、本発明にかかる半導体装置において、整流性素子は、ダイオード接続されたトランジスタであってもよい。こうすることで、基板上に作製する素子の種類を削減できるので、製造プロセスの簡略化が可能になる。 In the semiconductor device according to the present invention, the rectifying element may be a diode-connected transistor. By doing so, the types of elements to be manufactured on the substrate can be reduced, so that the manufacturing process can be simplified.

また、本発明にかかる半導体装置において、第3のトランジスタおよび第2のトランジスタをオン状態とすることができる信号線を有していてもよい。こうすることで、任意のタイミングで動作を停止し、初期化することが可能であるシフトレジスタ回路を提供することができる。 The semiconductor device according to the present invention may include a signal line that can turn on the third transistor and the second transistor. Thus, a shift register circuit that can be stopped and initialized at an arbitrary timing can be provided.

また、本発明にかかる半導体装置において、第3のトランジスタおよび第2のトランジスタに逆バイアスを印加することができる信号線を有していてもよい。こうすることで、特性変動の少ない、安定して動作するシフトレジスタ回路を提供することができる。 The semiconductor device according to the present invention may have a signal line that can apply a reverse bias to the third transistor and the second transistor. By doing so, it is possible to provide a shift register circuit that operates stably with little characteristic variation.

また、本発明にかかる半導体装置において、第1のクロック信号線と、第2のクロック信号線に入力する信号は、いずれもデューティー比が50%より小さいことが好ましい。さらに、一方に入力する信号がLowレベルとなる期間の中心の時刻と、他方に入力する信号がHighレベルとなる期間の中心の時刻との差が、クロック信号の周期の1割以内であることが好ましい。こうすることで、出力信号が出力される間隔が各出力端子間で一定となり、精度の高いシフトレジスタ回路を提供することができる。 In the semiconductor device according to the present invention, it is preferable that the duty ratio of each of the signals input to the first clock signal line and the second clock signal line is smaller than 50%. Furthermore, the difference between the center time of the period when the signal input to one is at the low level and the center time of the period when the signal input to the other is at the high level is within 10% of the period of the clock signal. Is preferred. Thus, the interval at which the output signal is output is constant between the output terminals, and a highly accurate shift register circuit can be provided.

また、本発明にかかる半導体装置において、第3のトランジスタのゲート電極の面積と第2のトランジスタのゲート電極の面積の平均が、第1のトランジスタのゲート電極の面積よりも大きくすることが好ましい。こうすることで、出力端子の電位が安定して固定され、ノイズによる誤動作の少ないシフトレジスタ回路を提供することができる。 In the semiconductor device according to the present invention, it is preferable that the average of the area of the gate electrode of the third transistor and the area of the gate electrode of the second transistor is larger than the area of the gate electrode of the first transistor. Thus, a shift register circuit in which the potential of the output terminal is stably fixed and malfunction due to noise can be reduced can be provided.

また、本発明にかかる半導体装置において、電源線と、第1のクロック信号線と、第2のクロック信号線が、第1のトランジスタ、第3のトランジスタ、第2のトランジスタに対し、出力端子と反対側に配置されていてもよい。こうすることで、出力端子の電位が安定して固定され、ノイズによる誤動作の少ないシフトレジスタ回路を提供することができる。 In the semiconductor device according to the present invention, the power supply line, the first clock signal line, and the second clock signal line are connected to the output terminal of the first transistor, the third transistor, and the second transistor. It may be arranged on the opposite side. Thus, a shift register circuit in which the potential of the output terminal is stably fixed and malfunction due to noise can be reduced can be provided.

また、本発明にかかる半導体装置は、第1の配線層と、第2の配線層と、第3の配線層と、絶縁膜と、層間膜と、を有し、絶縁膜は、第1の配線層と第2の配線層の間に形成され、層間膜は、第2の配線層と第3の配線層の間に形成され、層間膜は、絶縁膜よりも厚く形成され、第1の端子(電極)と電気的に接続された電極は、少なくとも第2の配線層で形成され、出力端子と電気的に接続された電極は、少なくとも第1の配線層および第3の配線層で形成され、出力端子と電気的に接続された電極と、第1の端子(電極)と電気的に接続された電極が交差する領域において、出力端子と電気的に接続された電極は、第3の配線層で形成されていても良い。こうすることで、出力端子の電位が安定して固定され、ノイズによる誤動作の少ないシフトレジスタ回路を提供することができる。 The semiconductor device according to the present invention includes a first wiring layer, a second wiring layer, a third wiring layer, an insulating film, and an interlayer film. The interlayer film is formed between the wiring layer and the second wiring layer, the interlayer film is formed between the second wiring layer and the third wiring layer, the interlayer film is formed thicker than the insulating film, and the first film The electrode electrically connected to the terminal (electrode) is formed by at least the second wiring layer, and the electrode electrically connected to the output terminal is formed by at least the first wiring layer and the third wiring layer. In the region where the electrode electrically connected to the output terminal and the electrode electrically connected to the first terminal (electrode) intersect, the electrode electrically connected to the output terminal is the third It may be formed of a wiring layer. Thus, a shift register circuit in which the potential of the output terminal is stably fixed and malfunction due to noise can be reduced can be provided.

また、本発明にかかる半導体装置の一形態は、上記のシフトレジスタ回路が、画素領域を形成する基板と同一基板上に形成されている。こうすることで、表示パネルの製造コストを低減することができる。 In one embodiment of the semiconductor device according to the present invention, the shift register circuit is formed over the same substrate as the substrate in which the pixel region is formed. By doing so, the manufacturing cost of the display panel can be reduced.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、上記のシフトレジスタ回路が、画素領域を形成する基板と同一基板上にICとして配置され、基板上の配線とCOG(Chip On Glass)方式で接続されている。こうすることで、特性ばらつきが少なく、消費電力の小さい表示パネルを提供することができる。 In another embodiment of the semiconductor device according to the present invention, the shift register circuit is arranged as an IC on the same substrate as the substrate on which the pixel region is formed, and is connected to wiring on the substrate by a COG (Chip On Glass) method. Has been. Thus, a display panel with little characteristic variation and low power consumption can be provided.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、上記のシフトレジスタ回路が、画素領域を形成する基板と接続されている接続配線基板上にICとして配置され、基板上の配線とTAB(Tape Automated Bonding)方式で接続されている。こうすることで、特性ばらつきが少なく、消費電力が小さく、信頼性の高い表示パネルを提供することができる。 In another embodiment of the semiconductor device according to the present invention, the shift register circuit is arranged as an IC on a connection wiring substrate connected to a substrate forming a pixel region, and the wiring on the substrate and TAB (Tape Automated) are provided. Bonding). Thus, a display panel with less characteristic variation, low power consumption, and high reliability can be provided.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、トランジスタと、整流性素子を備え、トランジスタのゲート電極は、第2の端子と電気的に接続され、トランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第1の端子と電気的に接続され、トランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第3の端子と接続され、整流性素子の電極の一方は、第3の端子と電気的に接続され、整流性素子の電極の他方は、第2の端子と電気的に接続される。こうすることで、特性変動の少ない、安定して動作する表示パネルを提供することができる。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes a first terminal, a second terminal, a third terminal, a transistor, and a rectifying element, and the gate electrode of the transistor is a second terminal. One of the source and drain electrodes of the transistor is electrically connected to the first terminal, and the other of the source and drain electrodes of the transistor is connected to the third terminal and One of the electrodes of the element is electrically connected to the third terminal, and the other of the electrodes of the rectifying element is electrically connected to the second terminal. By doing so, it is possible to provide a display panel that operates stably with little characteristic fluctuation.

また、本発明にかかる半導体装置の別形態は、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタを備え、第1のトランジスタのゲート電極は、第2の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第1の端子と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第3の端子と接続され、第2のトランジスタのゲート電極は、第4の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、第2の端子と電気的に接続され、第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、第3の端子と電気的に接続される。こうすることで、特性変動の少ない、安定して動作する表示パネルを提供することができる。 Another embodiment of the semiconductor device according to the present invention includes a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a first transistor, and a second transistor, The gate electrode of the first transistor is electrically connected to the second terminal, and one of the source electrode or the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal, and The other of the source electrode and the drain electrode is connected to the third terminal, the gate electrode of the second transistor is electrically connected to the fourth terminal, and one of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is , Electrically connected to the second terminal, and the other of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third terminal. By doing so, it is possible to provide a display panel that operates stably with little characteristic fluctuation.

また、本発明にかかる表示装置の一形態は、上記の半導体装置と、外部駆動回路と、接続配線基板とを有し、表示パネルと、外部駆動回路は、一つの接続配線基板で接続されている。こうすることで、接続点数が少なく、信頼性の高い表示装置を提供することができる。 One embodiment of a display device according to the present invention includes the above-described semiconductor device, an external drive circuit, and a connection wiring board. The display panel and the external drive circuit are connected by a single connection wiring board. Yes. Thus, a display device with a small number of connection points and high reliability can be provided.

また、本発明にかかる表示装置の別形態は、上記の半導体装置と、外部駆動回路と、複数の接続配線基板とを有し、表示パネルと、外部駆動回路は、二つ以上かつドライバ(データ線ドライバ、及びソース線ドライバ)の分割数以下の接続配線基板で接続されている。こうすることで、大きな表示パネルであっても、ドライバの性能はそれほど高くなくてもよいので、信頼性の高い表示装置を提供することができる。 Another embodiment of the display device according to the present invention includes the above-described semiconductor device, an external drive circuit, and a plurality of connection wiring boards. The display panel and the external drive circuit include two or more drivers (data). Are connected by connection wiring boards equal to or less than the number of divisions of line drivers and source line drivers. By doing so, even if the display panel is large, the performance of the driver does not have to be so high, so that a highly reliable display device can be provided.

また、本発明にかかる電子機器は、上記の表示装置を機器の表示部として用いている電子機器である。 An electronic device according to the present invention is an electronic device using the display device as a display unit of the device.

なお、明細書に示すスイッチは、電気的スイッチでも機械的なスイッチでもよい。電流の流れを制御できるものなら、何でも用いることができる。トランジスタでもよいし、ダイオード(PNダイオード、PINダイオード、ショットキーダイオード、ダイオード接続のトランジスタなど)でもよいし、それらを組み合わせた論理回路でもよい。よって、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、そのトランジスタは、単なるスイッチとして動作するため、トランジスタの極性(導電型)は特に限定されない。ただし、オフ電流が少ない方が望ましい場合、オフ電流が少ない方の極性のトランジスタを用いることが望ましい。オフ電流が少ないトランジスタとしては、LDD領域を設けているものやマルチゲート構造にしているもの等がある。また、スイッチとして動作させるトランジスタのソース端子の電位が、低電位側電源(Vss、GND、0Vなど)の電位に近い状態で動作する場合はNチャネル型を、反対に、ソース端子の電位が、高電位側電源(Vddなど)の電位に近い状態で動作する場合はPチャネル型を用いることが望ましい。なぜなら、ゲートソース間電圧の絶対値を大きくできるため、スイッチとして、動作させやすいからである。なお、Nチャネル型とPチャネル型の両方を用いて、CMOS型のスイッチにしてもよい。 Note that the switches shown in the specification may be electrical switches or mechanical switches. Anything that can control the current flow can be used. It may be a transistor, a diode (PN diode, PIN diode, Schottky diode, diode-connected transistor, or the like), or a logic circuit that is a combination thereof. Therefore, when a transistor is used as a switch, the transistor operates as a mere switch, and thus the polarity (conductivity type) of the transistor is not particularly limited. However, when it is desirable that the off-state current is small, it is desirable to use a transistor having a polarity with a small off-state current. As a transistor with low off-state current, there are a transistor provided with an LDD region and a transistor having a multi-gate structure. In addition, when the source terminal potential of the transistor that operates as a switch is close to the potential of the low-potential side power supply (Vss, GND, 0 V, etc.), the N-channel type is used. In the case of operating in a state close to the potential of the high potential side power supply (Vdd or the like), it is desirable to use the P channel type. This is because the absolute value of the gate-source voltage can be increased, so that it can be easily operated as a switch. Note that both N-channel and P-channel switches may be used as CMOS switches.

なお、表示素子は限定されず、例えば、EL素子(有機EL素子、無機EL素子又は有機物及び無機物を含むEL素子)、電子放出素子、液晶素子、電子インク、グレーティングライトバルブ(GLV)、プラズマディスプレイ(PDP)、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、圧電セラミックディスプレイ、カーボンナノチューブ、など、電気磁気的作用によりコントラストが変化する表示媒体を適用することができる。なお、EL素子を用いた表示装置としてはELディスプレイ、電子放出素子を用いた表示装置としてはフィールドエミッションディスプレイ(FED)やSED方式平面型ディスプレイ(SED:Surface−conduction Electron−emitter Disply)など、液晶素子を用いた表示装置としては液晶ディスプレイ、電子インクを用いた表示装置としては電子ペーパーがある。 In addition, a display element is not limited, For example, EL element (an organic EL element, an inorganic EL element, or an EL element containing an organic substance and an inorganic substance), an electron emission element, a liquid crystal element, electronic ink, a grating light valve (GLV), a plasma display (PDP), a digital micromirror device (DMD), a piezoelectric ceramic display, a carbon nanotube, or the like can be used as a display medium whose contrast is changed by an electromagnetic action. Note that a display device using an EL element is an EL display, and a display device using an electron-emitting device is a liquid crystal display such as a field emission display (FED) or a SED type flat display (SED: Surface-conduction Electron-Emitter Display). There is a liquid crystal display as a display device using an element, and an electronic paper as a display device using electronic ink.

本発明において、適用可能なトランジスタの種類に限定はなく、非晶質シリコンや多結晶シリコンに代表される非単結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタ(TFT)、半導体基板やSOI基板を用いて形成されるトランジスタ、MOS型トランジスタ、接合型トランジスタ、バイポーラトランジスタ、有機半導体やカーボンナノチューブを用いたトランジスタ、その他のトランジスタを適用することができる。また、トランジスタが配置されている基板の種類に限定はなく、単結晶基板、SOI基板、ガラス基板などに配置することが出来る。 In the present invention, there are no limitations on the types of transistors that can be used, and the transistor is formed using a thin film transistor (TFT) using a non-single-crystal semiconductor film typified by amorphous silicon or polycrystalline silicon, a semiconductor substrate, or an SOI substrate. Transistors, MOS transistors, junction transistors, bipolar transistors, transistors using organic semiconductors or carbon nanotubes, and other transistors can be used. There is no limitation on the kind of the substrate over which the transistor is provided, and the transistor can be provided over a single crystal substrate, an SOI substrate, a glass substrate, or the like.

なお、本発明において、接続されているとは、電気的に接続されていることと同義である。したがって、本発明が開示する構成において、所定の接続関係に加え、その間に電気的な接続を可能とする他の素子(例えば、別の素子(トランジスタやダイオードや抵抗や容量など)やスイッチなど)が配置されていてもよい。 In the present invention, being connected is synonymous with being electrically connected. Therefore, in the structure disclosed by the present invention, in addition to a predetermined connection relationship, another element that enables electrical connection therebetween (for example, another element (a transistor, a diode, a resistor, a capacitor, or the like), a switch, or the like) May be arranged.

なお、トランジスタの構成は、特に限定されない。例えば、ゲート本数が2本以上になっているマルチゲート構造になっていてもよいし、チャネルの上下にゲート電極が配置されている構造でもよいし、チャネルの上にゲート電極が配置されている構造でもよいし、チャネルの下にゲート電極が配置されている構造でもよいし、正スタガ構造であってもよいし、逆スタガ構造でもよい。また、チャネル領域が複数の領域に分かれていてもよいし、並列に接続されていてもよいし、直列に接続されていてもよいし、チャネル(もしくはその一部)にソース電極やドレイン電極が重なっていてもよいし、LDD領域があってもよい。 Note that there is no particular limitation on the structure of the transistor. For example, a multi-gate structure in which the number of gates is two or more may be employed, a gate electrode may be disposed above and below the channel, or a gate electrode may be disposed on the channel. It may be a structure, a structure in which a gate electrode is disposed under a channel, a normal staggered structure, or an inverted staggered structure. Further, the channel region may be divided into a plurality of regions, may be connected in parallel, may be connected in series, or a source electrode or a drain electrode may be connected to the channel (or a part thereof). They may overlap or have an LDD region.

なお、本明細書において、半導体装置とは半導体素子(トランジスタやダイオードなど)を含む回路を有する装置をいう。また、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般でもよい。また、表示装置とは、基板上に液晶素子やEL素子などの表示素子を含む複数の画素やそれらの画素を駆動させる周辺駆動回路が形成された表示パネル本体だけでなく、それにフレキシブルプリントサーキット(FPC)やプリント配線基盤(PWB)が取り付けられたものも含む。また、発光装置とは、特にEL素子やFEDで用いる素子などの自発光型の表示素子を用いている表示装置をいう。 Note that in this specification, a semiconductor device refers to a device having a circuit including a semiconductor element (such as a transistor or a diode). In addition, any device that can function by utilizing semiconductor characteristics may be used. The display device is not only a display panel body in which a plurality of pixels including a display element such as a liquid crystal element or an EL element on a substrate and a peripheral drive circuit for driving these pixels are formed, but also a flexible printed circuit ( FPC) and printed wiring board (PWB) attached are also included. A light-emitting device refers to a display device using a self-luminous display element such as an EL element or an element used in an FED.

また、本発明におけるトランジスタのうち、ゲート電極と、ソース電極またはドレイン電極の一方を接続したトランジスタを、ダイオード接続したトランジスタと表記することがある。本発明における全てのダイオード接続したトランジスタは、PN接合ダイオード、PINダイオード、発光ダイオードなどの、他の整流性素子と置き換えることができる。 Further, among transistors in the present invention, a transistor in which a gate electrode and one of a source electrode and a drain electrode are connected may be referred to as a diode-connected transistor. All diode-connected transistors in the present invention can be replaced with other rectifying elements such as PN junction diodes, PIN diodes, and light emitting diodes.

以上のように、本発明を用いると、第2のトランジスタによって少なくとも1周期の半分の期間において端子OUTを電源線に接続し、ノイズによる誤動作の少ない、安定して動作する半導体装置、および前記半導体装置を有する表示装置、ならびに前記表示装置を有する電子機器を提供することができる。 As described above, according to the present invention, the semiconductor device in which the terminal OUT is connected to the power supply line by the second transistor for at least half of one cycle, the malfunction due to noise is small, and the semiconductor A display device including the device and an electronic device including the display device can be provided.

また、第3のトランジスタおよび第2のトランジスタのゲート面積の平均を、第1のトランジスタのゲート面積よりも大きくすることによって、入力端子に容量素子を接続する必要がないため、入力端子の負荷を小さくすることができ、波形のなまりが少なく、消費電力の小さい半導体装置、および前記半導体装置を有する表示装置、ならびに前記表示装置を有する電子機器を提供することができる。 In addition, since the average gate area of the third transistor and the second transistor is larger than the gate area of the first transistor, there is no need to connect a capacitor to the input terminal. A semiconductor device that can be reduced in size, has less waveform rounding, and consumes less power, a display device including the semiconductor device, and an electronic device including the display device can be provided.

また、オン状態となる期間の長いトランジスタのゲート電極に、ダイオード素子またはダイオード接続したトランジスタを接続することによって、オン状態となる期間の長いトランジスタのゲート電極に十分な逆バイアスを印加することができるので、特性変動の少ない、安定して動作する半導体装置、および前記半導体装置を有する表示装置、ならびに前記表示装置を有する電子機器を提供することができる。 Further, by connecting a diode element or a diode-connected transistor to the gate electrode of the transistor having a long ON state, a sufficient reverse bias can be applied to the gate electrode of the transistor having a long ON state. Therefore, it is possible to provide a semiconductor device that operates stably with little characteristic variation, a display device including the semiconductor device, and an electronic apparatus including the display device.

以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。ただし、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する本発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of this embodiment mode. Note that in structures of the present invention described below, the same portions or portions having similar functions are denoted by the same reference numerals in different drawings, and description thereof is not repeated.

(実施の形態1)
本実施の形態においては、非選択期間に出力端子の電位を固定し、クロック信号やノイズによる誤動作を低減したシフトレジスタの回路構成について述べる。本発明にかかるシフトレジスタの回路構成例を、図1に示す。図1の(A)は、本発明にかかるシフトレジスタの全体の回路構成である。図1の(B)は、本発明にかかるシフトレジスタの単一段回路を表す回路10の構成例である。なお、本明細書において、単一段回路とは、図1の(A)に対する図1の(B)のように、回路の出力端子(L(1)〜L(n))と一対一に対応し、回路を構成する最小単位のことであるとする。図1の(C)は、図1の(A)および(B)で示した回路の入力信号波形と内部電極波形および出力信号波形である。
(Embodiment 1)
In this embodiment, a circuit configuration of a shift register in which the potential of an output terminal is fixed in a non-selection period and malfunction due to a clock signal or noise is reduced will be described. An example of the circuit configuration of the shift register according to the present invention is shown in FIG. FIG. 1A shows the overall circuit configuration of the shift register according to the present invention. FIG. 1B is a configuration example of a circuit 10 representing a single stage circuit of a shift register according to the present invention. Note that in this specification, a single-stage circuit has a one-to-one correspondence with the output terminals (L (1) to L (n)) of the circuit as shown in FIG. 1B with respect to FIG. It is assumed that this is the minimum unit constituting the circuit. 1C shows the input signal waveform, internal electrode waveform, and output signal waveform of the circuit shown in FIGS. 1A and 1B.

図1の(A)に示す回路は、スタートパルス端子SPと、第1のクロック信号線CLK1(第1配線とも記す)と、第2のクロック信号線CLK2(第2配線とも記す)と、電源線Vssと、トランジスタ18と、n個配置された回路10(nは2以上の整数)と、回路10に対応して配置された出力端子L(k)(kは1以上n以下の整数)とを備える。図1(本明細書における該当する全ての図面)では、kは1以上n以下の整数k段目を図示していないが、出力端子L(k)は、出力端子L(1)から出力端子L(n)の間に、端子P(k)は端子P(1)から端子P(n)の間にそれぞれ有するものとする。図1の(B)に示す回路10は、端子IN、端子OUT、端子G、端子R、端子F、端子B、端子Cと、トランジスタ11、12、13、15、16、17と、容量素子14と、端子Pと、を備える。なお、本明細書で、端子とは回路において外部と電気的に接続する電極である。ここで、トランジスタ11は整流性を持つ他の素子でもよく、入力用整流性素子(第1の整流性素子とも記す)として用いる。また、トランジスタ15は整流性を持つ他の素子でもよく、リセット用整流性素子(第2の整流性素子とも記す)として用いる。また、トランジスタ12は伝達トランジスタ(第1のトランジスタとも記す)として用いる。また、トランジスタ13は内部電位固定トランジスタ(第3のトランジスタとも記す)として用いる。また、トランジスタ17は出力電位固定トランジスタ(第2のトランジスタとも記す)として用いる。また、トランジスタ16はセット用トランジスタ(第4のトランジスタとも記す)として用いる。 The circuit shown in FIG. 1A includes a start pulse terminal SP, a first clock signal line CLK1 (also referred to as a first wiring), a second clock signal line CLK2 (also referred to as a second wiring), a power source Line Vss, transistor 18, n circuits 10 (n is an integer of 2 or more), and output terminals L (k) arranged corresponding to the circuit 10 (k is an integer of 1 to n) With. In FIG. 1 (all relevant drawings in this specification), k is not shown in the integer k-th stage from 1 to n, but the output terminal L (k) is connected to the output terminal L (1). It is assumed that the terminal P (k) is provided between the terminal P (1) and the terminal P (n) during L (n). A circuit 10 illustrated in FIG. 1B includes a terminal IN, a terminal OUT, a terminal G, a terminal R, a terminal F, a terminal B, and a terminal C, transistors 11, 12, 13, 15, 16, and 17, and a capacitor. 14 and a terminal P. Note that in this specification, a terminal is an electrode electrically connected to the outside in a circuit. Here, the transistor 11 may be another element having a rectifying property, and is used as an input rectifying element (also referred to as a first rectifying element). The transistor 15 may be another element having a rectifying property, and is used as a reset rectifying element (also referred to as a second rectifying element). The transistor 12 is used as a transmission transistor (also referred to as a first transistor). The transistor 13 is used as an internal potential fixing transistor (also referred to as a third transistor). The transistor 17 is used as an output potential fixing transistor (also referred to as a second transistor). The transistor 16 is used as a setting transistor (also referred to as a fourth transistor).

なお、k段目の回路10における端子Pを、端子P(k)とも記す。また、本実施の形態においては容量素子14を明記するが、容量素子14の機能は、トランジスタ12のゲート電極とドレイン電極(またはソース電極)間にできる寄生容量によっても実現できるため、容量素子14が独立した電気素子として形成されている場合だけでなく、トランジスタ12に付随する寄生容量素子である場合も、本発明は含む。 Note that the terminal P in the k-th stage circuit 10 is also referred to as a terminal P (k). In this embodiment, the capacitor 14 is specified. However, the function of the capacitor 14 can be realized by a parasitic capacitance formed between the gate electrode and the drain electrode (or the source electrode) of the transistor 12. The present invention includes not only a case where is formed as an independent electric element but also a case where it is a parasitic capacitance element associated with the transistor 12.

図1の(B)に示す回路10におけるトランジスタ11のゲート電極は、端子INに接続され、トランジスタ11のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子INに接続され、トランジスタ11のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。また、トランジスタ12のゲート電極は、端子Pに接続され、トランジスタ12のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Cに接続され、トランジスタ12のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。 The gate electrode of the transistor 11 in the circuit 10 illustrated in FIG. 1B is connected to the terminal IN, and one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 11 is connected to the terminal IN, and the source electrode or the drain electrode of the transistor 11 is connected. Is connected to the terminal P. Further, the gate electrode of the transistor 12 is connected to the terminal P, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 12 is connected to the terminal C, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 12 is connected to the terminal OUT. ing.

また、トランジスタ13のゲート電極は、端子Rに接続され、トランジスタ13のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ13のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。また、容量素子14の一方の電極は、端子Pに接続され、容量素子14の他方の電極は、端子OUTに接続されている。 The gate electrode of the transistor 13 is connected to the terminal R, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 13 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 13 is connected to the terminal P. ing. One electrode of the capacitive element 14 is connected to the terminal P, and the other electrode of the capacitive element 14 is connected to the terminal OUT.

また、トランジスタ15のゲート電極は、端子OUTに接続され、トランジスタ15のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子OUTに接続され、トランジスタ15のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Bに接続されている。また、トランジスタ16のゲート電極は、端子Pに接続され、トランジスタ16のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ16のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Fに接続されている。また、トランジスタ17のゲート電極は、端子Rに接続され、トランジスタ17のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ17のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。 Further, the gate electrode of the transistor 15 is connected to the terminal OUT, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 15 is connected to the terminal OUT, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 15 is connected to the terminal B. ing. The gate electrode of the transistor 16 is connected to the terminal P, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 16 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 16 is connected to the terminal F. ing. The gate electrode of the transistor 17 is connected to the terminal R, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 17 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 17 is connected to the terminal OUT. ing.

図1(A)に示すように、1段目の回路10の端子INは、スタートパルス端子SPと、トランジスタ18のゲート電極に接続されている。また、1段目の電極SR(1)は、2段目の回路10の端子Bと、トランジスタ18のソース電極またはドレイン電極の一方に接続されている。また、トランジスタ18のソース電極またはドレイン電極の他方は、電源線Vssに接続されている。また、電源線Vssは、全段の回路10の端子Gと接続されている。また、第1のクロック信号線CLK1は、奇数段目の回路10の端子Cと接続され、第2のクロック信号線CLK2は、偶数段目の回路10の端子Cと接続されている。 As shown in FIG. 1A, the terminal IN of the first-stage circuit 10 is connected to the start pulse terminal SP and the gate electrode of the transistor 18. The first-stage electrode SR (1) is connected to the terminal B of the second-stage circuit 10 and one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 18. The other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 18 is connected to the power supply line Vss. The power supply line Vss is connected to the terminal G of the circuit 10 in all stages. Further, the first clock signal line CLK1 is connected to the terminal C of the odd-numbered stage circuit 10, and the second clock signal line CLK2 is connected to the terminal C of the even-numbered stage circuit 10.

次に、図1の(A)に示す回路におけるk段目の回路10の接続について説明する。k段目の回路10の端子Rに接続される電極SR(k)は、k+1段目の回路10の端子Bおよびk−1段目の回路10の端子Fに接続されている。また、k段目の回路10の端子OUTに接続される出力端子L(k)は、k+1段目の回路10の端子INに接続されている。ここで、図1の(A)のように、1段目およびn段目における回路10の接続が、それ以外の段の回路10の接続とは異なっていてもよい。たとえば、n段目における電極SR(n)は、電極SR(n−1)と接続されていてもよい。 Next, connection of the k-th stage circuit 10 in the circuit shown in FIG. The electrode SR (k) connected to the terminal R of the kth stage circuit 10 is connected to the terminal B of the k + 1 stage circuit 10 and the terminal F of the k−1 stage circuit 10. The output terminal L (k) connected to the terminal OUT of the kth stage circuit 10 is connected to the terminal IN of the k + 1 stage circuit 10. Here, as shown in FIG. 1A, the connection of the circuit 10 at the first stage and the n-th stage may be different from the connection of the circuit 10 at other stages. For example, the electrode SR (n) at the n-th stage may be connected to the electrode SR (n−1).

ここで、本実施の形態においては、回路10の数nは奇数である場合を示すが、本発明において、nは偶数でもよい。また、本実施の形態においては、第1のクロック信号線CLK1は奇数段目の回路10の端子Cと接続され、第2のクロック信号線CLK2は偶数段目の回路10の端子Cと接続されている場合を示すが、本発明において、CLK1とCLK2の接続が逆の場合、すなわち、第1のクロック信号線CLK1は偶数段目の回路10の端子Cと接続され、第2のクロック信号線CLK2は奇数段目の回路10の端子Cと接続されていてもよい。また、本発明のクロック信号線の数は2本に限定されず、2本より多くても良い。そのとき、クロック信号線に入力する信号の種類(相数)は、クロック信号線の本数と同じであることが好ましい。例えば、3本のクロック信号線を用いる場合は、回路10に入力するクロック信号は3相(3種類)の信号とすることが好ましい。 Here, in this embodiment, the number n of the circuits 10 is an odd number, but in the present invention, n may be an even number. In the present embodiment, the first clock signal line CLK1 is connected to the terminal C of the odd-numbered stage circuit 10, and the second clock signal line CLK2 is connected to the terminal C of the even-numbered stage circuit 10. In the present invention, when the connection between CLK1 and CLK2 is reversed, that is, the first clock signal line CLK1 is connected to the terminal C of the even-numbered stage circuit 10, and the second clock signal line CLK2 may be connected to the terminal C of the odd-numbered stage circuit 10. Further, the number of clock signal lines of the present invention is not limited to two and may be more than two. At that time, the type (number of phases) of signals input to the clock signal line is preferably the same as the number of clock signal lines. For example, when three clock signal lines are used, the clock signal input to the circuit 10 is preferably a three-phase (three types) signal.

次に、図1の(A)および(B)に示す回路における動作について、図1の(C)を参照して説明する。図1の(C)は、図1の(A)および(B)に示す回路に入力する信号とその出力信号、および内部電極の波形を表すタイムチャートとなっている。縦軸は信号の電位であり、入力信号および出力信号はハイレベル(Hレベル、Vddレベルとも記す)とローレベル(Lレベル、Vssレベルとも記す)のどちらかの電位をとるデジタル信号を扱うこととしてもよい。横軸は時間であり、本実施の形態においては、時刻T0を基準として、入力信号が繰り返し入力されているとして説明する。ただし、本発明はこれに限定されることはなく、入力信号を様々に変化させて所望の出力信号を得る場合を含む。 Next, the operation of the circuit shown in FIGS. 1A and 1B will be described with reference to FIG. FIG. 1C is a time chart showing signals input to the circuit shown in FIGS. 1A and 1B, output signals thereof, and waveforms of internal electrodes. The vertical axis represents the signal potential, and the input signal and output signal handle a digital signal having either a high level (also referred to as H level or Vdd level) or low level (also referred to as L level or Vss level). It is good. The horizontal axis represents time, and in the present embodiment, description will be made assuming that the input signal is repeatedly input with respect to time T0. However, the present invention is not limited to this, and includes a case where a desired output signal is obtained by variously changing the input signal.

また、本実施の形態においては、出力信号として出力端子L(1)からOUT(n)まで順次選択(走査)するという動作について説明する。この動作は、たとえば、アクティブマトリクス型表示装置において、画素を選択するスイッチのオン、オフ状態を制御する周辺駆動回路として広く用いられている。なお、本実施の形態においては、図1の(C)におけるスタートパルス端子SP、第1のクロック信号線CLK1、第2のクロック信号線CLK2に入力する信号を、まとめて入力信号と呼ぶこととする。また、電源線Vssの電位は、入力信号のLレベルの電位と同程度として説明する。ただし、本発明において電源線Vssの電位はこれに限定されない。 In this embodiment, an operation of sequentially selecting (scanning) the output signals from the output terminals L (1) to OUT (n) will be described. For example, this operation is widely used as a peripheral drive circuit for controlling the on / off state of a switch for selecting a pixel in an active matrix display device. Note that in this embodiment, signals input to the start pulse terminal SP, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 in FIG. 1C are collectively referred to as input signals. To do. In the following description, the potential of the power supply line Vss is approximately the same as the L level potential of the input signal. However, the potential of the power supply line Vss is not limited to this in the present invention.

次に、図35を用いて、図1に示した回路がどのように動作するか、概略として説明する。図35の(A)〜(F)は、時系列に沿って図1の(B)の回路動作を説明するものである。図35において、破線で示したトランジスタは、オフ状態にあるトランジスタを表し、実線で示したトランジスタは、オン状態にあるトランジスタを表している。また、図中の矢印は、その時点の動作における電流の向きを表している。また、図中の電極や端子のその時点における電位を、<>で囲んで示している。なお、クロック信号の電位は、低い側の電位を電源線Vssの電位として<Vss>と表し、高い側の電位を<Vdd>と表す。 Next, with reference to FIG. 35, how the circuit shown in FIG. 1 operates will be schematically described. FIGS. 35A to 35F illustrate the circuit operation of FIG. 1B along the time series. In FIG. 35, a transistor indicated by a broken line represents a transistor in an off state, and a transistor indicated by a solid line represents a transistor in an on state. Moreover, the arrow in a figure represents the direction of the electric current in the operation | movement at the time. In addition, the potentials of the electrodes and terminals in the drawing at that time are shown enclosed in <>. Note that the potential of the clock signal is expressed as <Vss>, where the lower potential is the potential of the power supply line Vss, and the higher potential is expressed as <Vdd>.

まず、図35の(A)を参照し、前段により当該段のリセット動作を解除する動作について説明する。ここで、本明細書中においては、端子Rの電位を上昇させ、内部電位固定トランジスタ13および出力電位固定トランジスタ17をオン状態とする動作を、リセット動作と呼ぶことにする。また、逆に、端子Rの電位を下降させ、内部電位固定トランジスタ13および出力電位固定トランジスタ17をオフ状態とする動作を、セット動作と呼ぶことにする。リセット動作中は、端子Pおよび端子OUTの電位が強制的に<Vss>となるため、回路10を動作させるには、まず、セット動作を行なわなければならない。これを、前段の端子Pの電位が上昇するタイミングで、前段のセット用トランジスタ16により、当該段の端子Rの電位を<Vss>とすることで行なってもよい。図35の(A)の状態において、トランジスタ11、12、13、15、16、17は、全てオフ状態であり、初期化された状態であると考えてもよい。 First, with reference to FIG. 35A, an operation of canceling the reset operation of the stage in the previous stage will be described. Here, in this specification, the operation of raising the potential of the terminal R and turning on the internal potential fixing transistor 13 and the output potential fixing transistor 17 is referred to as a reset operation. Conversely, the operation of lowering the potential of the terminal R and turning off the internal potential fixing transistor 13 and the output potential fixing transistor 17 is referred to as a set operation. During the reset operation, the potentials at the terminal P and the terminal OUT are forcibly set to <Vss>. Therefore, in order to operate the circuit 10, first, a set operation must be performed. This may be performed by setting the potential of the terminal R of the stage to <Vss> by the setting transistor 16 of the previous stage at the timing when the potential of the terminal P of the previous stage rises. In the state of FIG. 35A, all of the transistors 11, 12, 13, 15, 16, and 17 may be considered to be in an off state and an initialized state.

次に、図35の(B)を参照し、パルス入力の動作について説明する。端子INにパルスが入力され、端子INの電位が上昇し、端子INの電位が端子Pの電位よりもトランジスタ11の閾値電圧(Vth11とも記す)以上に上昇すると、トランジスタ11がオン状態となる。すると、端子Pの電位も上昇し、端子Pの電位は、端子INの電位<Vdd>より、Vth11だけ低い電位<Vdd−|Vth11|>となる。このとき、トランジスタ11および16はオン状態となり、端子OUTの電位は端子Cの電位<Vss>に等しくなる。また、端子Fの電位は<Vss>となり、これによって、後段の端子Rの電位を<Vss>とする。すなわち、当該段のセット用トランジスタ16によって後段をセット動作させる。 Next, the pulse input operation will be described with reference to FIG. When a pulse is input to the terminal IN and the potential of the terminal IN is increased, and the potential of the terminal IN is higher than the potential of the terminal P by a threshold voltage (also referred to as Vth11) of the transistor 11, the transistor 11 is turned on. Then, the potential of the terminal P also rises, and the potential of the terminal P becomes a potential <Vdd− | Vth11 |> lower than the potential <Vdd> of the terminal IN by Vth11. At this time, the transistors 11 and 16 are turned on, and the potential of the terminal OUT becomes equal to the potential <Vss> of the terminal C. Further, the potential of the terminal F becomes <Vss>, whereby the potential of the terminal R in the subsequent stage is set to <Vss>. That is, the subsequent stage is set by the setting transistor 16 of the stage.

次に、図35の(C)を参照し、ブートストラップ動作について説明する。端子Pの電位を上昇させた端子INは、任意のタイミングで電位<Vss>に戻ってもよい。トランジスタ11はダイオード接続されており、端子INの電位が<Vss>に戻っても、トランジスタ11がオフ状態となるため、端子Pの電位に影響しない。すなわち、トランジスタ11は、端子INの電位上昇に従って端子Pの電位を上昇はさせるが下降はさせなくてもよく、入力用整流性素子として用いられる。 Next, the bootstrap operation will be described with reference to FIG. The terminal IN that has increased the potential of the terminal P may return to the potential <Vss> at an arbitrary timing. The transistor 11 is diode-connected, and even when the potential of the terminal IN returns to <Vss>, the transistor 11 is turned off, so that the potential of the terminal P is not affected. That is, the transistor 11 increases the potential of the terminal P as the potential of the terminal IN increases but does not need to decrease it, and is used as an input rectifying element.

端子Pの電位が上昇した状態で、クロック信号が入力されて端子Cの電位が<Vdd>になると、伝達トランジスタ12に端子Cから端子OUTの向きに電流が流れ、端子OUTの電位も上昇する。そのとき、端子Pと端子OUTは容量素子14によって接続されているので、端子OUTの電位が上昇するに従って、端子Pの電位も上昇する。端子Pの電位が上昇する値は、端子Pに接続されている容量素子14以外の寄生容量素子の容量値に依存するが、<Vdd+|Vth11|>以上の電位であれば動作に問題はなく、端子OUTの電位はクロック信号と同じ<Vdd>まで上昇する。そのため、図中には、このときの端子Pの電位を、<Vdd+|Vth11|>以上の電位という意味で、<Vdd+|Vth11|(上向き矢印)>と記している。 When the clock signal is input and the potential at the terminal C becomes <Vdd> with the potential at the terminal P increased, a current flows through the transfer transistor 12 from the terminal C to the terminal OUT, and the potential at the terminal OUT also increases. . At that time, since the terminal P and the terminal OUT are connected by the capacitive element 14, the potential of the terminal P increases as the potential of the terminal OUT increases. The value at which the potential at the terminal P rises depends on the capacitance value of the parasitic capacitive element other than the capacitive element 14 connected to the terminal P, but there is no problem in operation as long as the potential is <Vdd + | Vth11 |> or higher. The potential of the terminal OUT rises to <Vdd>, which is the same as that of the clock signal. Therefore, in the drawing, the potential of the terminal P at this time is described as <Vdd + | Vth11 | (upward arrow)> in the sense of a potential equal to or higher than <Vdd + | Vth11 |>.

次に、図35の(D)を参照し、当該段により前段をリセット動作させる動作について説明する。図35の(C)のように端子OUTの電位を<Vdd>まで上昇させると、トランジスタ15がオン状態となり、端子Bの電位も上昇する。そして、端子Bの電位は、端子OUTの電位からトランジスタ15の閾値電圧(Vth15とも記す)だけ低い電位となったところで、トランジスタ15がオフ状態となるため、端子Bの電位の上昇は止まり、端子Bの電位は<Vdd−|Vth15|>となる。このとき、前段の端子Rの電位は<Vdd−|Vth15|>まで上昇するので、前段はリセット動作し、前段の端子Pおよび端子OUTの電位は<Vss>で固定され、当該段の端子INにパルスが入力されることはなくなる。 Next, with reference to FIG. 35D, an operation for resetting the preceding stage by the stage will be described. When the potential of the terminal OUT is increased to <Vdd> as shown in FIG. 35C, the transistor 15 is turned on and the potential of the terminal B is also increased. Then, when the potential of the terminal B becomes lower than the potential of the terminal OUT by the threshold voltage (also referred to as Vth15) of the transistor 15, the transistor 15 is turned off, so that the increase in the potential of the terminal B stops and the terminal B The potential of B is <Vdd− | Vth15 |>. At this time, since the potential at the terminal R at the previous stage rises to <Vdd− | Vth15 |>, the previous stage performs a reset operation, and the potential at the terminal P and the terminal OUT at the previous stage is fixed at <Vss>. No pulse is input to the.

次に、図35の(E)を参照し、クロック信号がVssへ戻る動作について説明する。クロック信号の電位が<Vss>に戻り、端子Cの電位が<Vss>に戻ると、伝達トランジスタ12はオン状態であるため、伝達トランジスタ12に端子OUTから端子Cの向きに電流が流れ、端子OUTの電位も<Vss>に戻る。このとき、端子Pの電位も<Vdd−|Vth11|>に戻る。また、トランジスタ15はオフ状態であるので、端子OUTの電位が<Vss>に戻っても、端子Bの電位は<Vdd−|Vth15|>のままである。すなわち、トランジスタ15は、端子OUTの電位上昇に従って端子Bの電位を上昇はさせるが下降はさせなくてもよく、リセット用整流性素子として用いられる。 Next, the operation of returning the clock signal to Vss will be described with reference to FIG. When the potential of the clock signal returns to <Vss> and the potential of the terminal C returns to <Vss>, since the transmission transistor 12 is in an on state, a current flows through the transmission transistor 12 from the terminal OUT to the terminal C. The potential of OUT also returns to <Vss>. At this time, the potential of the terminal P also returns to <Vdd− | Vth11 |>. Further, since the transistor 15 is off, the potential of the terminal B remains <Vdd− | Vth15 |> even if the potential of the terminal OUT returns to <Vss>. That is, the transistor 15 increases the potential of the terminal B as the potential of the terminal OUT increases but does not need to decrease it, and is used as a reset rectifying element.

次に、図35の(F)を参照し、後段により当該段がリセット動作する動作について説明する。当該段の端子OUTの電位上昇が後段の端子INに伝達され、後段の端子OUTの電位が上昇し、後段のトランジスタ15がオン状態となることによって後段の端子Bの電位が上昇すると、当該段の端子Rの電位が<Vdd−|Vth15|>まで上昇するため、当該段がリセット動作する。このとき、当該段の内部電位固定トランジスタ13と出力電位固定トランジスタ17がオン状態となり、端子Pと端子OUTがそれぞれ電位<Vss>に固定される。このように、後段の動作により当該段がリセット動作することにより、伝達トランジスタ12がオフ状態となるので、端子OUTと端子Cの導通が遮断される。 Next, with reference to FIG. 35F, an operation in which the corresponding stage is reset by a subsequent stage will be described. When the potential of the terminal OUT of the stage is transmitted to the terminal IN of the subsequent stage, the potential of the terminal OUT of the subsequent stage rises, and the potential of the terminal B of the subsequent stage rises by turning on the transistor 15 of the subsequent stage. Since the potential at the terminal R of the current line rises to <Vdd− | Vth15 |>, the corresponding stage is reset. At this time, the internal potential fixing transistor 13 and the output potential fixing transistor 17 in the stage are turned on, and the terminal P and the terminal OUT are each fixed to the potential <Vss>. As described above, the reset operation of the corresponding stage is performed by the subsequent stage operation, so that the transmission transistor 12 is turned off, and the conduction between the terminal OUT and the terminal C is interrupted.

この状態は、端子Rに接続されている素子のリーク電流により端子Rの電位が下降し、自然に内部電位固定トランジスタ13および出力電位固定トランジスタ17がオフ状態となるか、前段のセット用トランジスタ16がオン状態となることによって端子Rの電位が<Vss>となり、強制的に内部電位固定トランジスタ13および出力電位固定トランジスタ17がオフ状態となるか(図35の(A)の状態)の、どちらかによって終了する。図35の(F)の状態から図35の(A)の状態になるまでの期間を、本明細書中では非選択期間と呼び、この期間において、いかに端子Pおよび端子OUTの電位を安定させて<Vss>にするかが重要である。すなわち、端子Rにゲート電極が接続されているトランジスタがオン状態となっているのを、いかに保持し続けるかが重要である。 In this state, the potential of the terminal R drops due to the leakage current of the element connected to the terminal R, and the internal potential fixing transistor 13 and the output potential fixing transistor 17 are naturally turned off, or the previous setting transistor 16 Is turned on, the potential of the terminal R becomes <Vss>, and the internal potential fixing transistor 13 and the output potential fixing transistor 17 are forcibly turned off (state (A) in FIG. 35). It ends depending on what. A period from the state of FIG. 35F to the state of FIG. 35A is referred to as a non-selection period in this specification. During this period, the potentials of the terminal P and the terminal OUT are stabilized. It is important to set <Vss>. In other words, it is important how to keep holding the transistor whose gate electrode is connected to the terminal R is in the ON state.

なお、本発明にかかるシフトレジスタ回路の単一段回路は、出力電位固定トランジスタを有し、伝達トランジスタがオフ状態にあるとき、出力端子を浮遊状態にすることを避け、電源線と導通させることを特徴とする。したがって、端子Rをどのようにリセット動作、またはセット動作するかは、上述した例に限定されない。すなわち、単一段回路として、図36の(A)および(C)に示す構成を用いてもよい。 Note that the single stage circuit of the shift register circuit according to the present invention has an output potential fixing transistor, and when the transfer transistor is in an off state, the output terminal is prevented from being in a floating state and is made conductive with a power supply line. Features. Therefore, how the terminal R is reset or set is not limited to the above-described example. That is, the configuration shown in FIGS. 36A and 36C may be used as a single stage circuit.

図36の(A)に示す回路310は、端子IN、OUT、R、G、Cと、端子Pと、トランジスタ311、312、313、317と、を備える。トランジスタ311のゲート電極は、端子INと接続され、トランジスタ311のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子INと接続され、トランジスタ311のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。トランジスタ312のゲート電極は、端子Pと接続され、トランジスタ312のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Cと接続され、トランジスタ312のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。 A circuit 310 illustrated in FIG. 36A includes terminals IN, OUT, R, G, and C, a terminal P, and transistors 311, 312, 313, and 317. The gate electrode of the transistor 311 is connected to the terminal IN, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 311 is connected to the terminal IN, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 311 is connected to the terminal P. . The gate electrode of the transistor 312 is connected to the terminal P, one of the source electrode or the drain electrode of the transistor 312 is connected to the terminal C, and the other of the source electrode or the drain electrode of the transistor 312 is connected to the terminal OUT. .

トランジスタ313のゲート電極は、端子Rと接続され、トランジスタ313のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gと接続され、トランジスタ313のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。トランジスタ317のゲート電極は、端子Rと接続され、トランジスタ317のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gと接続され、トランジスタ317のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。なお、トランジスタ311は、入力用整流性素子(第1の整流性素子)として用いてもよい。 The gate electrode of the transistor 313 is connected to the terminal R, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 313 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 313 is connected to the terminal P. . The gate electrode of the transistor 317 is connected to the terminal R, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 317 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 317 is connected to the terminal OUT. . Note that the transistor 311 may be used as an input rectifying element (first rectifying element).

また、トランジスタ312は、伝達トランジスタ(第1のトランジスタ)として用いてもよい。また、トランジスタ317は、出力電位固定トランジスタ(第2のトランジスタ)として用いてもよい。また、トランジスタ313は、内部電位固定トランジスタ(第3のトランジスタ)として用いてもよい。 The transistor 312 may be used as a transmission transistor (first transistor). The transistor 317 may be used as an output potential fixing transistor (second transistor). The transistor 313 may be used as an internal potential fixing transistor (third transistor).

ここで、図36の(B)を用いて、図36の(A)に示した回路の動作について説明する。図36の(B)は、図36の(A)に示した端子の電位変化を表すタイムチャートである。端子Cにクロック信号を入力し、端子INに端子Pの電位を高くするパルスを入力し、端子GはLレベルに固定し、端子Rに端子Pの電位を低くするパルスを含む逆相のパルスを入力する場合について説明する。 Here, the operation of the circuit shown in FIG. 36A will be described with reference to FIG. FIG. 36B is a time chart illustrating potential changes at the terminals illustrated in FIG. A clock signal is input to the terminal C, a pulse for increasing the potential of the terminal P is input to the terminal IN, the terminal G is fixed at the L level, and a pulse having a reverse phase including a pulse for decreasing the potential of the terminal P to the terminal R The case where is input will be described.

端子Rの電位が低く、内部電位固定トランジスタおよび出力電位固定トランジスタがオフ状態で端子INにパルスが入力されると、入力用整流性素子を通じて端子Pの電位が上昇し、伝達トランジスタがオン状態となる。その後、端子Cの電位が上昇すると、伝達トランジスタがブートストラップ動作し、端子Cの電位がそのまま端子OUTに伝達される。その後、端子Rの電位が上昇すると、内部電位固定トランジスタおよび出力電位固定トランジスタがオン状態となるので、端子Pおよび端子OUTはLレベルに固定される。 When the potential of the terminal R is low and the internal potential fixing transistor and the output potential fixing transistor are off, and a pulse is input to the terminal IN, the potential of the terminal P rises through the input rectifying element, and the transmission transistor is turned on. Become. Thereafter, when the potential of the terminal C rises, the transmission transistor performs a bootstrap operation, and the potential of the terminal C is transmitted to the terminal OUT as it is. Thereafter, when the potential at the terminal R rises, the internal potential fixing transistor and the output potential fixing transistor are turned on, so that the terminal P and the terminal OUT are fixed at the L level.

このようにして、本発明にかかる回路310は、端子Cに入力される信号を、端子Rの電位が低い期間だけ、端子OUTに伝達することができる。また、端子Rの電位が高い期間においては、端子Pおよび端子OUTをLレベルに固定することができる。ただし、本発明にかかる回路310に入力する信号波形は、これに限定されるものではない。 In this way, the circuit 310 according to the present invention can transmit a signal input to the terminal C to the terminal OUT only during a period when the potential of the terminal R is low. Further, the terminal P and the terminal OUT can be fixed to the L level during a period in which the potential of the terminal R is high. However, the signal waveform input to the circuit 310 according to the present invention is not limited to this.

図36の(C)に示す回路320は、端子IN、OUT、R、G、Cと、端子P、Qと、トランジスタ321、322、323、327aと、インバータ327bと、容量素子324と、を備える。なお、容量素子324は、図36の(A)のように、接続されていなくてもよい。トランジスタ321のゲート電極は、端子INと接続され、トランジスタ321のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子INと接続され、トランジスタ321のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。 A circuit 320 illustrated in FIG. 36C includes terminals IN, OUT, R, G, and C, terminals P and Q, transistors 321, 322, 323, and 327a, an inverter 327b, and a capacitor 324. Prepare. Note that the capacitor 324 is not necessarily connected as illustrated in FIG. The gate electrode of the transistor 321 is connected to the terminal IN, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 321 is connected to the terminal IN, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 321 is connected to the terminal P. .

トランジスタ322のゲート電極は、端子Pと接続され、トランジスタ322のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Cと接続され、トランジスタ322のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。トランジスタ323のゲート電極は、端子Rと接続され、トランジスタ323のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gと接続され、トランジスタ327のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。容量素子324の一方の電極は、端子Pと接続され、容量素子324の他方の電極は、端子OUTと接続されている。トランジスタ327aのゲート電極は、端子Qと接続され、トランジスタ327aのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gと接続され、トランジスタ327aのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。 The gate electrode of the transistor 322 is connected to the terminal P, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 322 is connected to the terminal C, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 322 is connected to the terminal OUT. . The gate electrode of the transistor 323 is connected to the terminal R, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 323 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 327 is connected to the terminal P. . One electrode of the capacitor 324 is connected to the terminal P, and the other electrode of the capacitor 324 is connected to the terminal OUT. The gate electrode of the transistor 327a is connected to the terminal Q, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 327a is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 327a is connected to the terminal OUT. .

インバータ327bの入力電極は、端子Pと接続され、インバータ327bの出力電極は、端子Qと接続されている。なお、トランジスタ321は、入力用整流性素子(第1の整流性素子)として用いてもよい。また、トランジスタ322は、伝達トランジスタ(第1のトランジスタ)として用いてもよい。また、トランジスタ327aは、出力電位固定トランジスタ(第2のトランジスタ)として用いてもよい。また、トランジスタ323は、内部電位固定トランジスタ(第3のトランジスタ)として用いてもよい。 An input electrode of the inverter 327b is connected to the terminal P, and an output electrode of the inverter 327b is connected to the terminal Q. Note that the transistor 321 may be used as an input rectifying element (first rectifying element). The transistor 322 may be used as a transmission transistor (first transistor). The transistor 327a may be used as an output potential fixing transistor (second transistor). The transistor 323 may be used as an internal potential fixing transistor (third transistor).

ここで、図36の(D)を用いて、図36の(C)に示した回路の動作について説明する。図36の(D)は、図36の(C)に示した端子の電位変化を表すタイムチャートである。端子Cにクロック信号を入力し、端子INに端子Pの電位を高くするパルスを入力し、端子GはLレベルに固定し、端子Rに端子Pの電位を低くする逆相のパルスを入力する場合について説明する。 Here, the operation of the circuit shown in FIG. 36C will be described with reference to FIG. FIG. 36D is a time chart illustrating potential changes at the terminals illustrated in FIG. A clock signal is input to the terminal C, a pulse for increasing the potential of the terminal P is input to the terminal IN, a terminal G is fixed at the L level, and a reverse-phase pulse for decreasing the potential of the terminal P is input to the terminal R. The case will be described.

端子Rの電位が低く、内部電位固定トランジスタがオフ状態のとき、端子INにパルスが入力されると、入力用整流性素子を通じて端子Pの電位が上昇し、伝達トランジスタがオン状態となる。このとき、端子Qは、端子Pの電位が反転されるので、Lレベルとなる。したがって、出力電位固定トランジスタは、オフ状態である。その後、端子Cの電位が上昇すると、伝達トランジスタがブートストラップ動作し、端子Cの電位がそのまま端子OUTに伝達される。その後、端子Rの電位が上昇すると、内部電位固定トランジスタがオン状態となるので、端子PはLレベルに固定され、その結果、端子Qの電位はHレベルとなるので、出力電位固定トランジスタがオン状態となり、端子OUTはLレベルに固定される。このようにして、本発明にかかる回路320は、端子Cに入力される信号を、端子Rの電位が低い期間だけ、端子OUTに伝達することができる。また、端子Rの電位が高い期間においては、端子Pおよび端子OUTをLレベルに固定することができる。ただし、本発明にかかる回路320に入力する信号波形は、これに限定されるものではない。 When the potential of the terminal R is low and the internal potential fixing transistor is in the off state, when a pulse is input to the terminal IN, the potential of the terminal P rises through the input rectifying element, and the transmission transistor is turned on. At this time, the terminal Q becomes L level because the potential of the terminal P is inverted. Therefore, the output potential fixing transistor is in the off state. Thereafter, when the potential of the terminal C rises, the transmission transistor performs a bootstrap operation, and the potential of the terminal C is transmitted to the terminal OUT as it is. Thereafter, when the potential at the terminal R rises, the internal potential fixing transistor is turned on, so that the terminal P is fixed at the L level. As a result, the potential at the terminal Q becomes the H level, so that the output potential fixing transistor is turned on. The terminal OUT is fixed at the L level. In this manner, the circuit 320 according to the present invention can transmit a signal input to the terminal C to the terminal OUT only during a period when the potential of the terminal R is low. Further, the terminal P and the terminal OUT can be fixed to the L level during a period in which the potential of the terminal R is high. However, the signal waveform input to the circuit 320 according to the present invention is not limited to this.

図1を参照して、次に時刻T0において、スタートパルス端子SPに入力する、スタートパルスについて説明する。スタートパルスのパルス幅は任意であるが、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2に入力される信号の周期をTcとすると、Tc/2以上、かつTc以下とするのが好ましい。こうすることにより、スタートパルス端子SPとダイオード接続されたトランジスタ11を介して接続されている端子P(1)の電位を十分に上昇させることができ、かつ、回路10のトランジスタ13がオン状態となることによって端子Pの電位を下降させるときに、端子IN、トランジスタ11、端子P、トランジスタ13、端子Gという経路で、定常的な電流のパスができることがなく、消費電力が抑えられるため、好ましい。 With reference to FIG. 1, the start pulse input to the start pulse terminal SP at time T0 will be described next. The pulse width of the start pulse is arbitrary, but if the period of the signal input to the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 is Tc, it should be Tc / 2 or more and Tc or less. preferable. Thus, the potential of the terminal P (1) connected to the start pulse terminal SP through the diode-connected transistor 11 can be sufficiently increased, and the transistor 13 of the circuit 10 is turned on. Therefore, when the potential of the terminal P is lowered, a steady current path cannot be formed in the path of the terminal IN, the transistor 11, the terminal P, the transistor 13, and the terminal G, and power consumption is suppressed, which is preferable. .

次に、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2に入力される信号について説明する。第1のクロック信号および第2のクロック信号は、信号が1周期期間中にHレベルとなる時間の割合(デューティー比)が50%より小さくするのが好ましい。また、Lレベルとなる期間の中心の時刻と、他方の信号がHレベルとなる期間の中心の時刻との差が、クロック信号の周期の1割以内であるのが好ましい。こうすることにより、出力信号が単一の周波数で構成されるパルス信号に近づけることができる。また、Hレベルが隣同士の出力端子で時間的に重なることを防ぐことができる。これは、アクティブマトリクス型表示装置において、画素を選択するスイッチのオン、オフ状態を制御する周辺駆動回路として、本実施の形態にかかるシフトレジスタ回路を使用するとき、複数の行にわたって同時に選択してしまうことによる誤動作をなくすことができるため、有利である。 Next, signals input to the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 will be described. The first clock signal and the second clock signal preferably have a ratio (duty ratio) of time during which the signal is at the H level during one cycle period smaller than 50%. Further, it is preferable that the difference between the time at the center of the period when it is at the L level and the time at the center of the period when the other signal is at the H level is within 10% of the cycle of the clock signal. By doing so, the output signal can be brought close to a pulse signal composed of a single frequency. Further, it is possible to prevent the H level from overlapping in time at the adjacent output terminals. This is because, in the active matrix display device, when the shift register circuit according to this embodiment is used as a peripheral drive circuit for controlling the on / off state of a switch for selecting a pixel, it is selected simultaneously over a plurality of rows. This is advantageous because it can eliminate malfunctions caused by the occurrence of the error.

1段目の回路10の端子P(1)の初期電位をLレベルとして、時刻T0においてスタートパルスが入力されて、端子INの電位がLレベルからHレベルに変化したときの端子P(1)の電位の変化について説明する。このとき、端子RはLレベルとなっており、トランジスタ13はオフ状態である。したがって、トランジスタ11はオン状態となり、端子P(1)の電位は上昇する。そして、端子P(1)の電位がスタートパルスのHレベルの電位に対しトランジスタ11の閾値電圧分低い電位まで上昇したところでトランジスタ11がオフ状態となるため、ここで端子P(1)の電位の上昇は止まる。端子P(1)の電位は、一旦上昇すると、その後、端子INの電位が下降してLレベルに戻ったとしても、トランジスタ11はオフ状態のままなので、端子P(1)の電位は下がらず、浮遊状態となる。 Terminal P (1) when the initial potential of terminal P (1) of circuit 10 at the first stage is set to L level and a start pulse is input at time T0, and the potential of terminal IN changes from L level to H level. A change in the potential of is described. At this time, the terminal R is at the L level, and the transistor 13 is off. Accordingly, the transistor 11 is turned on, and the potential of the terminal P (1) increases. Since the transistor 11 is turned off when the potential of the terminal P (1) rises to a potential lower than the H level potential of the start pulse by the threshold voltage of the transistor 11, the potential of the terminal P (1) The rise stops. Once the potential of the terminal P (1) rises, the potential of the terminal P (1) does not drop because the transistor 11 remains off even if the potential of the terminal IN falls and then returns to the L level. It becomes floating state.

このとき、端子P(1)の電位が上昇した状態において、端子Cの電位はLレベルなので、トランジスタ12はオン状態となる。すなわち、端子OUTにはLレベルが出力される。その後、端子Cの電位が上昇すると、端子OUTの電位も上昇する。また、端子P(1)は浮遊状態であるので、容量素子14を介して、端子OUTの電位の上昇に伴って、端子P(1)の電位も上昇する。すなわち、トランジスタ12によりブートストラップ動作することで、端子OUTには、端子Cの電位の変化が、減衰することなく伝達される。 At this time, in a state where the potential of the terminal P (1) is increased, the potential of the terminal C is L level, so that the transistor 12 is turned on. That is, the L level is output to the terminal OUT. Thereafter, when the potential of the terminal C rises, the potential of the terminal OUT also rises. Further, since the terminal P (1) is in a floating state, the potential of the terminal P (1) also rises as the potential of the terminal OUT rises through the capacitive element 14. That is, by performing the bootstrap operation by the transistor 12, the change in the potential of the terminal C is transmitted to the terminal OUT without being attenuated.

このように、トランジスタ13がオフ状態であり、端子P(1)の電位が高いまま浮遊状態にある期間において、端子Cの電位の変化がそのまま端子OUTに伝達される。したがって、出力端子にクロック信号をそのまま出力しない場合は、あるタイミングにおいて端子Rの電位を上昇させてトランジスタ13をオン状態とし、端子P(1)の電位をLレベルとする。すると、トランジスタ12がオフ状態となるため、端子Cの電位が端子OUTにそのまま伝達されなくなる。 In this manner, in the period in which the transistor 13 is off and the terminal P (1) is in a floating state while the potential of the terminal P (1) is high, a change in the potential of the terminal C is directly transmitted to the terminal OUT. Therefore, when the clock signal is not output as it is to the output terminal, the potential of the terminal R is increased at a certain timing to turn on the transistor 13, and the potential of the terminal P (1) is set to the L level. Then, since the transistor 12 is turned off, the potential of the terminal C is not transmitted to the terminal OUT as it is.

端子OUTは、出力端子L(1)を介して、2段目の回路10の端子INに接続される。すなわち、1段目の回路10の出力がスタートパルスの代わりになり、2段目の回路10も、上述した1段目の回路10の動作と同様に、動作する。 The terminal OUT is connected to the terminal IN of the second stage circuit 10 via the output terminal L (1). That is, the output of the first-stage circuit 10 replaces the start pulse, and the second-stage circuit 10 operates in the same manner as the operation of the first-stage circuit 10 described above.

次に、リセット動作を行うタイミングについて説明する。リセット動作を行うタイミングは任意であるが、端子Cから端子OUTに、クロック信号のパルスを1つ分伝達した時点でリセット動作するようにしてもよい。具体的には、k+1段目の端子OUTの電位が上昇するタイミングで、k段目のリセット動作を行ってもよい。また、この場合の回路構成として、図1の(A)および(B)のように、k+1段目の端子OUTと端子Bをダイオード接続したトランジスタ15を介して接続し、電極SR(k)を用いて、k+1段目の端子Bと、k段目の端子Rとを接続する構成とするのが好ましい。 Next, the timing for performing the reset operation will be described. The timing of performing the reset operation is arbitrary, but the reset operation may be performed when one pulse of the clock signal is transmitted from the terminal C to the terminal OUT. Specifically, the k-th stage reset operation may be performed at the timing when the potential of the (k + 1) -th stage terminal OUT rises. Further, as a circuit configuration in this case, as shown in FIGS. 1A and 1B, the k + 1 stage terminal OUT and the terminal B are connected via a diode-connected transistor 15, and the electrode SR (k) is connected. It is preferable to use a configuration in which the terminal B at the (k + 1) th stage is connected to the terminal R at the kth stage.

この構成であるとき、k段目の回路10の端子OUTにクロック信号が伝達され、k+1段目の回路10の端子INに、このクロック信号が入力されると、k+1段目の回路10の端子OUTには、k段目の回路10の出力信号とは、相の異なるクロック信号が出力される。そのとき、k+1段目の回路10の端子Bは、k+1段目の回路10の端子OUTの電位が上昇するのと同じタイミングで、電位が上昇する。すなわち、k段目の回路10の端子Rの電位が、k+1段目の回路10の端子OUTの電位が上昇するのと同じタイミングで上昇し、k段目の回路10はリセットされる。k+1段目の回路10の端子OUTの電位が上昇するタイミングでは、k段目の回路10の出力は、クロック信号のパルスを1つ分伝達した後でLレベルを出力している状態となっているため、出力端子のパルスは1つとなる。このようにして、本実施の形態にかかるシフトレジスタ回路の出力端子は、OUT(1)から順番にHレベルとなるので、アクティブマトリクス型表示装置において、画素を選択するスイッチのオン、オフ状態を制御する周辺駆動回路として用いることができる。 In this configuration, when the clock signal is transmitted to the terminal OUT of the kth stage circuit 10 and this clock signal is input to the terminal IN of the k + 1 stage circuit 10, the terminal of the k + 1 stage circuit 10 is provided. A clock signal having a phase different from that of the output signal of the kth stage circuit 10 is output to OUT. At that time, the potential of the terminal B of the k + 1 stage circuit 10 rises at the same timing as the potential of the terminal OUT of the k + 1 stage circuit 10 rises. That is, the potential of the terminal R of the k-th stage circuit 10 rises at the same timing as the potential of the terminal OUT of the k + 1-th stage circuit 10 rises, and the k-th stage circuit 10 is reset. At the timing when the potential at the terminal OUT of the (k + 1) th stage circuit 10 rises, the output of the kth stage circuit 10 is in the state of outputting the L level after transmitting one pulse of the clock signal. Therefore, there is one pulse at the output terminal. In this manner, since the output terminal of the shift register circuit according to this embodiment becomes H level sequentially from OUT (1), in the active matrix display device, the on / off state of the switch for selecting a pixel is changed. It can be used as a peripheral drive circuit to be controlled.

ただし、本発明におけるリセット動作のタイミングはこれに限定されず、どのようなタイミングでリセット動作をしてもよい。たとえば、当該段の2つ後の段の出力端子の電位が上昇するタイミングでリセット動作を行ってもよいし、3つより後の段の出力端子の電位が上昇するタイミングでリセット動作を行ってもよい。このとき、リセット動作のタイミングを規定する信号線が当該段から離れているほど、電極SRを引き回す距離が長くなることにより、電極SRに付随する寄生容量の値が大きくなるので、電極SRの電位を保持する点で有利である。 However, the timing of the reset operation in the present invention is not limited to this, and the reset operation may be performed at any timing. For example, the reset operation may be performed at the timing when the potential of the output terminal of the stage after the second stage rises, or the reset operation may be performed at the timing when the potential of the output terminal after the third stage rises. Also good. At this time, the farther the signal line that defines the timing of the reset operation is from the stage, the longer the distance around which the electrode SR is routed, so that the value of the parasitic capacitance associated with the electrode SR increases. This is advantageous in that

また、最終段のリセット動作は、図1の(A)に示すように、電極SR(n)と、電極SR(n−1)を接続することによって、最終段自身の出力によってリセット動作を行うようにしてもよい。こうすることで、図1の(C)に示すように、最終段であるn段目においても、端子P(n)および出力端子L(n)のリセット(電源線Vssの電位に戻す動作)ができるようになる。また、全段で共通のタイミングパルスを別に入力してリセット動作を行ってもよいし、共通のタイミングパルスとしてスタートパルスを用いてもよい。 Further, as shown in FIG. 1A, the reset operation in the final stage is performed by connecting the electrode SR (n) and the electrode SR (n−1), and performing the reset operation by the output of the final stage itself. You may do it. As a result, as shown in FIG. 1C, the terminal P (n) and the output terminal L (n) are reset (operation for returning to the potential of the power supply line Vss) even at the nth stage which is the final stage. Will be able to. In addition, a reset operation may be performed by separately inputting a common timing pulse in all stages, or a start pulse may be used as a common timing pulse.

次に、k段目の出力端子L(k)が、オン状態であるトランジスタ12を介してクロック信号線と導通している期間以外の期間(図1の(C)において、端子P(k)の電位がLレベルの期間)の動作について説明する。k+1段目の回路10において、端子OUTの電位が上昇すると、ダイオード接続されたトランジスタ15はオン状態となっているため、端子Bの電位は、Hレベルよりもトランジスタ15の閾値電圧分低い電位まで上昇するが、その後、端子OUTの電位が下降したときは、トランジスタ15はオフ状態となるので、端子Bの電位は下降しない。すなわち、電極SR(k)の電位は、k+1段目の端子OUTによって上昇はするが、下降はしない。つまり、k段目のリセット動作後の端子Rの電位は、Hレベルに保持されるため、トランジスタ13および17は、オン状態のままである。したがって、端子P(k)の電位および端子OUTの電位は、Lレベルに固定される。 Next, in a period other than the period in which the k-th output terminal L (k) is electrically connected to the clock signal line through the transistor 12 in the on state (in FIG. 1C, the terminal P (k) The operation during the period in which the potential of L is at the L level will be described. In the k + 1 stage circuit 10, when the potential of the terminal OUT rises, the diode-connected transistor 15 is turned on, so that the potential of the terminal B is lower than the H level by the threshold voltage of the transistor 15. After that, when the potential of the terminal OUT decreases, the transistor 15 is turned off, so that the potential of the terminal B does not decrease. That is, the potential of the electrode SR (k) rises but does not fall due to the (k + 1) th stage terminal OUT. That is, the potential of the terminal R after the k-th reset operation is held at the H level, so that the transistors 13 and 17 remain on. Therefore, the potential of the terminal P (k) and the potential of the terminal OUT are fixed at the L level.

ここで、リセット動作後の端子Rの電位が、Hレベルに保持されなかった場合は、トランジスタ13および17は、オフ状態となってしまうため、端子P(k)および端子OUTは、浮遊状態となってしまう。端子P(k)は、トランジスタ12のゲート容量を介して第1のクロック信号線または第2のクロック信号線のいずれかに接続されているため、浮遊状態となっていると、端子P(k)の電位は容易に変動してしまう。また、端子OUTは、容量素子14を介して端子P(k)と容量結合しているため、浮遊状態であるときに端子P(k)の電位が変動すると、端子OUTの電位も、同様に変動してしまう。さらに、出力端子L(k)の電位は、クロック信号線との寄生容量によっても、変動してしまう。出力端子L(k)の電位の変動は、シフトレジスタ回路の動作を不安定にさせ、誤動作を引き起こすので、端子Pおよび端子OUTの電位を固定するために端子Rの電位をHレベルに保持することは、極めて重要である。 Here, when the potential of the terminal R after the reset operation is not held at the H level, the transistors 13 and 17 are turned off, so that the terminal P (k) and the terminal OUT are in a floating state. turn into. Since the terminal P (k) is connected to either the first clock signal line or the second clock signal line through the gate capacitance of the transistor 12, the terminal P (k) is in a floating state. ) Easily fluctuates. In addition, since the terminal OUT is capacitively coupled to the terminal P (k) through the capacitor 14, if the potential of the terminal P (k) fluctuates in the floating state, the potential of the terminal OUT is similarly changed. It will fluctuate. Furthermore, the potential of the output terminal L (k) also varies depending on the parasitic capacitance with the clock signal line. The fluctuation of the potential of the output terminal L (k) makes the operation of the shift register circuit unstable and causes a malfunction. Therefore, the potential of the terminal R is held at the H level in order to fix the potential of the terminal P and the terminal OUT. That is extremely important.

なお、端子Pおよび端子OUTの電位を固定するために端子Rの電位をHレベルに保持する期間は、少なくともスタートパルスの1周期の半分の期間であるのが好ましい。 Note that the period during which the potential of the terminal R is held at the H level in order to fix the potentials of the terminal P and the terminal OUT is preferably at least a half of one cycle of the start pulse.

ただし、電極SRおよび端子Rの電位をリセット動作後にもHレベルで保持するために、容量素子は接続しなくてもよい。内部電位固定トランジスタ13および出力電位固定トランジスタ17のゲート電極の面積の平均を、伝達トランジスタ12のゲート電極の面積よりも大きくすることで、電極SRおよび端子Rの電位をリセット動作後にもHレベルで保持することができる。また、電極SRをk段目の端子Rから引き回す長さを、k段目の回路10とk+1段目の回路10とのピッチより長くすることによって、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることで、電極SRおよび端子Rの電位保持を行なってもよい。もちろん、電極SRと、電源線Vssおよびスタートパルス端子SPとの間に容量素子を接続することで、電極SRおよび端子Rの電位保持を行なってもよい。 However, in order to hold the potential of the electrode SR and the terminal R at the H level even after the reset operation, the capacitor does not need to be connected. By making the average area of the gate electrodes of the internal potential fixing transistor 13 and the output potential fixing transistor 17 larger than the area of the gate electrode of the transfer transistor 12, the potential of the electrode SR and the terminal R remains at the H level even after the reset operation. Can be held. Further, the length of the electrode SR routed from the k-th stage terminal R is made longer than the pitch between the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10, thereby increasing the parasitic capacitance associated with the electrode SR. By doing so, the potential of the electrode SR and the terminal R may be held. Of course, the potential of the electrode SR and the terminal R may be held by connecting a capacitor between the electrode SR and the power supply line Vss and the start pulse terminal SP.

上述したように、リセット動作後も端子Rおよび電極SRの電位をHレベルに保持することは、シフトレジスタ回路の安定動作のためには極めて重要だが、一度シフトレジスタ回路を動作させたあと、再びスタートパルスを入力し、再度k段目の回路10が動作するときには、トランジスタ13および17は、オフ状態となっていなければ動作しない。そのため、k段目の回路10が動作する前に、端子Rおよび電極SR(k)の電位を、Lレベルに戻す必要がある。この動作を、本明細書中においては、セット動作と呼ぶことにする。セット動作を行うタイミングは任意であるが、k段目のセット動作を、k−1段目の端子P(k−1)の電位が上昇するタイミングで行なってもよい。この場合の回路構成として、図1の(A)および(B)のように、端子P(k−1)をゲート電極と接続し、ソース電極またはドレイン電極の一方を端子Gと接続し、ソース電極またはドレイン電極の他方を端子Fと接続したトランジスタ16を用いて、端子Fと電極SR(k)を接続する構成とするのが好ましい。 As described above, holding the potentials of the terminal R and the electrode SR at the H level even after the reset operation is extremely important for the stable operation of the shift register circuit. When the start pulse is input and the k-th stage circuit 10 operates again, the transistors 13 and 17 do not operate unless they are in the off state. Therefore, before the k-th stage circuit 10 operates, it is necessary to return the potentials of the terminal R and the electrode SR (k) to the L level. This operation is referred to as a set operation in this specification. The timing for performing the set operation is arbitrary, but the k-th set operation may be performed at the timing when the potential of the terminal P (k-1) at the (k-1) th stage rises. As a circuit configuration in this case, as shown in FIGS. 1A and 1B, the terminal P (k−1) is connected to the gate electrode, one of the source electrode or the drain electrode is connected to the terminal G, and the source It is preferable to connect the terminal F and the electrode SR (k) by using the transistor 16 in which the other of the electrode and the drain electrode is connected to the terminal F.

この構成であるとき、k段目の端子INにパルスが入力される前に、k−1段目の端子P(k−1)の電位が上昇するので、このタイミングでk−1段目のトランジスタ16がオン状態となり、端子Fの電位がLレベルとなる。したがって、このとき、k段目の端子Rが、Hレベルを保持している状態からLレベルに変化し、トランジスタ13および17はオフ状態となる。その後、k段目の端子INにk−1段目の出力が入力され、k段目の回路10の動作が始まる。 In this configuration, the potential of the terminal P (k−1) at the (k−1) th stage rises before the pulse is input to the terminal IN at the kth stage. The transistor 16 is turned on and the potential of the terminal F becomes L level. Therefore, at this time, the terminal R at the k-th stage changes from the state holding the H level to the L level, and the transistors 13 and 17 are turned off. Thereafter, the (k−1) th stage output is input to the kth stage terminal IN, and the operation of the kth stage circuit 10 starts.

ここで、k−1段目のトランジスタ16のゲート電極は、k−1段目の端子Fではなく、k−1段目の端子OUTに接続されていてもよい。この場合は、k段目の端子INにk−1段目の出力が入力されるときに、k段目のセット動作が行われる。 Here, the gate electrode of the k-1 stage transistor 16 may be connected to the k-1 stage terminal OUT instead of the k-1 stage terminal F. In this case, when the (k−1) th stage output is input to the kth stage terminal IN, the kth stage setting operation is performed.

また、k段目のセット動作を行うタイミングは、k−2段目の端子P(k−2)および端子OUTの電位が上昇するタイミングで行なってもよい。また、k−2段目より前の段の端子Pおよび端子OUTの電位が上昇するタイミングで行なってもよい。より遠い段と電極SRを介して接続すると、電極SRをk段目の端子Rから引き回す長さを、k段目の回路10とk+1段目の回路10とのピッチより長くするため、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることができ、電極SRおよび端子Rの電位保持を、より確実に行なうことができるという利点がある。 Further, the timing of performing the k-th set operation may be performed at the timing when the potentials of the terminal P (k-2) and the terminal OUT of the k-2th stage rise. Alternatively, it may be performed at a timing when the potentials of the terminal P and the terminal OUT at the stage before the (k-2) th stage rise. When the farther stage is connected via the electrode SR, the length of the electrode SR routed from the k-th stage terminal R is longer than the pitch between the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10. There is an advantage that the value of the parasitic capacitance associated with can be increased, and the potential of the electrode SR and the terminal R can be held more reliably.

また、全段で共通のタイミングパルスを別に入力してセット動作を行ってもよいし、共通のタイミングパルスとしてスタートパルスを用いてもよい。なお、1段目の電極SR(1)に関しては、前段の端子Fに接続するかわりに、トランジスタ18のソース電極またはドレイン電極の一方に接続してもよい。こうすることで、スタートパルスが入力されるときに1段目のセット動作が行われる。 In addition, a common timing pulse may be separately input at all stages to perform the set operation, or a start pulse may be used as the common timing pulse. Note that the first-stage electrode SR (1) may be connected to one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 18 instead of being connected to the terminal F in the previous stage. By doing so, the first stage set operation is performed when the start pulse is input.

本実施の形態における、非選択期間に出力端子の電位を固定し、クロック信号やノイズによる誤動作を低減したシフトレジスタの別の回路構成について、以下に述べる。本発明にかかるシフトレジスタの別の回路構成例を、図2に示す。図2の(A)は、本発明にかかるシフトレジスタの全体の回路構成である。図2の(B)は、本発明にかかるシフトレジスタの単一段回路を表す回路20の構成例である。図2の(C)は、図2の(B)に示した回路20を用いたシフトレジスタの全体の別の回路構成である。 Another circuit configuration of the shift register in this embodiment in which the potential of the output terminal is fixed in the non-selection period and the malfunction due to the clock signal or noise is reduced will be described below. Another circuit configuration example of the shift register according to the present invention is shown in FIG. FIG. 2A shows the overall circuit configuration of the shift register according to the present invention. FIG. 2B is a configuration example of the circuit 20 representing a single stage circuit of the shift register according to the present invention. FIG. 2C illustrates another circuit configuration of the entire shift register using the circuit 20 illustrated in FIG.

図2の(A)に示す回路は、スタートパルス端子SPと、第1のクロック信号線CLK1と、第2のクロック信号線CLK2と、電源線Vssと、トランジスタ28と、n個配置された回路10(nは2以上の整数)と、回路20に対応して配置された出力端子L(k)(kは1以上n以下の整数)とを備える。 The circuit shown in FIG. 2A includes a start pulse terminal SP, a first clock signal line CLK1, a second clock signal line CLK2, a power supply line Vss, a transistor 28, and n circuits. 10 (n is an integer of 2 or more) and an output terminal L (k) arranged corresponding to the circuit 20 (k is an integer of 1 to n).

図2の(B)に示す回路20は、端子IN、OUT、G、R、F、B、C、Vと、トランジスタ21、22、23、25、26、27a、27b、27cと、容量素子24と、端子Pと、を備える。ここで、トランジスタ21は整流性を持つ他の素子でもよく、入力用整流性素子(第1の整流性素子とも記す)として用いる。また、トランジスタ25は整流性を持つ他の素子でもよく、リセット用整流性素子(第2の整流性素子とも記す)として用いる。また、トランジスタ22は伝達トランジスタ(第1のトランジスタとも記す)として用いる。また、トランジスタ23は内部電位固定トランジスタ(第3のトランジスタとも記す)として用いる。また、トランジスタ27aは出力電位固定トランジスタ(第2のトランジスタとも記す)として用いる。また、トランジスタ26はセット用トランジスタ(第4のトランジスタとも記す)として用いる。 A circuit 20 illustrated in FIG. 2B includes terminals IN, OUT, G, R, F, B, C, and V, transistors 21, 22, 23, 25, 26, 27a, 27b, and 27c, and a capacitor element. 24 and a terminal P. Here, the transistor 21 may be another element having a rectifying property, and is used as an input rectifying element (also referred to as a first rectifying element). The transistor 25 may be another element having a rectifying property, and is used as a resetting rectifying element (also referred to as a second rectifying element). The transistor 22 is used as a transmission transistor (also referred to as a first transistor). The transistor 23 is used as an internal potential fixing transistor (also referred to as a third transistor). The transistor 27a is used as an output potential fixing transistor (also referred to as a second transistor). The transistor 26 is used as a setting transistor (also referred to as a fourth transistor).

なお、k段目の回路20における端子Pを、端子P(k)とも記す。また、本実施の形態においては容量素子24を明記するが、容量素子24の機能は、トランジスタ22のゲート電極とドレイン電極(またはソース電極)間にできる寄生容量によっても実現できるため、容量素子24が独立した電気素子として形成されている場合だけでなく、トランジスタ22に付随する寄生容量素子である場合も、本発明は含む。図2の(C)に示す回路は、図2の(A)に示す回路に、電源線Vddを追加した構成の回路を表す。 Note that the terminal P in the k-th stage circuit 20 is also referred to as a terminal P (k). In this embodiment, the capacitor 24 is specified, but the function of the capacitor 24 can also be realized by a parasitic capacitance formed between the gate electrode and the drain electrode (or source electrode) of the transistor 22. The present invention includes not only the case where is formed as an independent electric element but also the case where it is a parasitic capacitance element associated with the transistor 22. A circuit illustrated in FIG. 2C represents a circuit in which a power supply line Vdd is added to the circuit illustrated in FIG.

図2の(B)に示す回路20におけるトランジスタ21のゲート電極は、端子INに接続され、トランジスタ21のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子INに接続され、トランジスタ21のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。また、トランジスタ22のゲート電極は、端子Pに接続され、トランジスタ22のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Cに接続され、トランジスタ22のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。 The gate electrode of the transistor 21 in the circuit 20 illustrated in FIG. 2B is connected to the terminal IN, and one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 21 is connected to the terminal IN, and the source electrode or the drain electrode of the transistor 21 is connected. Is connected to the terminal P. Further, the gate electrode of the transistor 22 is connected to the terminal P, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 22 is connected to the terminal C, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 22 is connected to the terminal OUT. ing.

また、トランジスタ23のゲート電極は、端子Rに接続され、トランジスタ23のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ23のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。また、容量素子24の一方の電極は、端子Pに接続され、容量素子24の他方の電極は、端子OUTに接続されている。 The gate electrode of the transistor 23 is connected to the terminal R, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 23 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 23 is connected to the terminal P. ing. One electrode of the capacitive element 24 is connected to the terminal P, and the other electrode of the capacitive element 24 is connected to the terminal OUT.

また、トランジスタ25のゲート電極は、端子OUTに接続され、トランジスタ25のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子OUTに接続され、トランジスタ25のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Bに接続されている。また、トランジスタ26のゲート電極は、端子Pに接続され、トランジスタ26のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ26のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Fに接続されている。 The gate electrode of the transistor 25 is connected to the terminal OUT, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 25 is connected to the terminal OUT, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 25 is connected to the terminal B. ing. The gate electrode of the transistor 26 is connected to the terminal P, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 26 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 26 is connected to the terminal F. ing.

また、トランジスタ27aのゲート電極は、端子Qに接続され、トランジスタ27aのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ27aのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。また、トランジスタ27bのゲート電極は、端子Pに接続され、トランジスタ27bのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ27bのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Qに接続されている。また、トランジスタ27cのゲート電極は、端子Vに接続され、トランジスタ27cのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Vに接続され、トランジスタ27cのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Qに接続されている。 The gate electrode of the transistor 27a is connected to the terminal Q, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 27a is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 27a is connected to the terminal OUT. ing. Further, the gate electrode of the transistor 27b is connected to the terminal P, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 27b is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 27b is connected to the terminal Q. ing. The gate electrode of the transistor 27c is connected to the terminal V, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 27c is connected to the terminal V, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 27c is connected to the terminal Q. ing.

次に、図2の(A)に示す回路におけるk段目の回路20の接続について説明するが、図2の(A)に示す回路は、端子Vの接続を除いて、図1の(A)に示す回路と同様であるので、重複する説明は避ける。端子Vの接続については、図2の(A)に示すように、端子Cが接続されているクロック信号線とは別のクロック信号線に接続してもよい。また、図示はしないが、端子Cが接続されているクロック信号線と同じクロック信号線に接続してもよい。 Next, the connection of the k-th stage circuit 20 in the circuit shown in FIG. 2A will be described. The circuit shown in FIG. Since the circuit is the same as that shown in FIG. The connection of the terminal V may be connected to a clock signal line different from the clock signal line to which the terminal C is connected as shown in FIG. Although not shown, the clock signal line may be connected to the same clock signal line to which the terminal C is connected.

図2の(C)に示す回路は、図2の(A)に示す回路に、端子Vを接続するための専用の電源線Vddを追加したものである。図2の(C)に示すように、全ての段の端子Vと、電源線Vddを接続してもよい。電源線Vddに印加する電位は、Lレベルよりも、トランジスタ27aと27cの閾値電圧の和以上に大きい電位であればよい。 The circuit shown in FIG. 2C is obtained by adding a dedicated power supply line Vdd for connecting the terminal V to the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 2C, all the stage terminals V and the power supply line Vdd may be connected. The potential applied to the power supply line Vdd only needs to be larger than the L level and higher than the sum of the threshold voltages of the transistors 27a and 27c.

次に、図2の(A)、(B)および(C)に示す回路における入力信号および出力信号については、図1の(C)と同様である。図2の回路が図1の回路と異なる点は、図1の(B)におけるトランジスタ17による、端子OUTの電位をLレベルに固定する機能を、トランジスタ27a、27b、27cによって実現した点である。つまり、伝達トランジスタ22のゲート電極と、出力電位固定用トランジスタ27aのゲート電極を、反転信号を出力する回路を介して接続している。 Next, input signals and output signals in the circuits shown in FIGS. 2A, 2B, and 2C are the same as those in FIG. The circuit of FIG. 2 is different from the circuit of FIG. 1 in that the function of fixing the potential of the terminal OUT to the L level by the transistor 17 in FIG. 1B is realized by the transistors 27a, 27b, and 27c. . That is, the gate electrode of the transfer transistor 22 and the gate electrode of the output potential fixing transistor 27a are connected via a circuit that outputs an inversion signal.

図2の(B)において、回路が動作せず、トランジスタ23によって端子Pの電位がLレベルに固定されているときは、トランジスタ27bはオフ状態である。このとき、端子Qの電位はHレベルとなっているため、トランジスタ27aはオン状態である。すなわち、端子PがLレベルに固定されていれば、端子OUTもLレベルに固定され、クロック信号線との容量結合などによって出力端子が誤動作することが少なくなる。 In FIG. 2B, when the circuit does not operate and the potential of the terminal P is fixed to the L level by the transistor 23, the transistor 27b is in an off state. At this time, since the potential of the terminal Q is at the H level, the transistor 27a is in an on state. That is, if the terminal P is fixed at the L level, the terminal OUT is also fixed at the L level, and the malfunction of the output terminal due to capacitive coupling with the clock signal line is reduced.

回路20が動作する場合、端子INにパルスが入力され、点Pの電位が上昇するので、トランジスタ27bがオン状態となる。すると、端子Qの電位はLレベルに近づくため、トランジスタ27aはオフ状態となる。すなわち、端子Pの電位が上昇し、端子OUTが端子Cと導通するときは、トランジスタ27aはオフ状態となるので、回路20は、図1における回路10と同様な動作を実現することができる。 When the circuit 20 operates, a pulse is input to the terminal IN and the potential at the point P rises, so that the transistor 27b is turned on. Then, since the potential of the terminal Q approaches the L level, the transistor 27a is turned off. That is, when the potential of the terminal P rises and the terminal OUT becomes conductive with the terminal C, the transistor 27a is turned off, so that the circuit 20 can realize an operation similar to that of the circuit 10 in FIG.

なお、本実施形態によれば、本発明にかかるシフトレジスタにおいて、端子OUTがLowレベルに固定される期間が長い点が優れた点であるといえる。すなわち、端子OUTがLowレベルに固定される期間が長いほど、他の信号線の動作や外部からのノイズによって端子OUTが誤動作することが少なくなるため、動作の安定性が高い。また、本発明にかかるシフトレジスタは、端子OUTに接続されたトランジスタに入力される信号が切り替わる頻度が少ないため、信号のフィードスルーによって端子OUTの電位が変動してしまうことが少なく、動作の安定性が高い。 In addition, according to the present embodiment, it can be said that the shift register according to the present invention is excellent in that the period during which the terminal OUT is fixed at the low level is long. In other words, the longer the period during which the terminal OUT is fixed at the low level, the lower the malfunction of the terminal OUT due to the operation of other signal lines or external noise, and thus the operation stability is higher. In the shift register according to the present invention, since the signal input to the transistor connected to the terminal OUT is less frequently switched, the potential of the terminal OUT is less likely to fluctuate due to signal feedthrough, and the operation is stable. High nature.

(実施の形態2)
本実施の形態においては、本発明にかかるシフトレジスタ回路の最終段のリセット動作および全段のリセット動作について説明する。
(Embodiment 2)
In the present embodiment, the reset operation of the final stage and the reset operation of all stages of the shift register circuit according to the present invention will be described.

実施の形態1で説明した回路構成においては、当該段のリセット動作は、次段が動作するタイミングで行われることを説明した。このとき、シフトレジスタ回路の最終段には次段が存在しないので、最終段に関しては、リセット動作のタイミングを規定するパルスが入力されないことになる。このとき、電極SR(n)の電位は、リセット動作のためにHレベルになることがない。すなわち、最終段の端子OUTには、常にクロック信号が出力されていることになる。 In the circuit configuration described in the first embodiment, it has been described that the reset operation of the stage is performed at the timing when the next stage operates. At this time, since the next stage does not exist in the final stage of the shift register circuit, a pulse defining the timing of the reset operation is not input to the final stage. At this time, the potential of the electrode SR (n) does not become H level due to the reset operation. That is, the clock signal is always output to the terminal OUT at the final stage.

実施の形態1ではこの点を鑑みて、図1の(A)、図2の(A)、図2の(C)で示したように、電極SR(n)と電極SR(n−1)を接続している。こうすることで、電極SR(n)を最終段の端子OUTの出力自身でHレベルにし、リセット動作を行うことができるため、最終段の出力端子L(n)に、常にクロック信号線の電位が出力されてしまうことを防ぐことができる。この場合は、最終段の出力のパルス幅がクロック信号のパルス幅よりも小さくなる。ここで、もし、最終段に常にクロック信号が出力され、最終段の出力を、最終段の前段のリセット動作以外に積極的に使用していない回路構成の場合、最終段の出力端子に接続された寄生容量素子を充放電するために、余分な電力を消費してしまうことになる。 In the first embodiment, in view of this point, as shown in FIG. 1A, FIG. 2A, and FIG. 2C, the electrode SR (n) and the electrode SR (n−1) Is connected. By doing this, the electrode SR (n) can be set to the H level by the output of the terminal OUT of the final stage itself, and the reset operation can be performed. Therefore, the potential of the clock signal line is always applied to the output terminal L (n) of the final stage. Can be prevented from being output. In this case, the pulse width of the output of the final stage becomes smaller than the pulse width of the clock signal. Here, if the circuit configuration is such that the clock signal is always output to the final stage and the output of the final stage is not actively used except for the reset operation of the previous stage of the final stage, it is connected to the output terminal of the final stage. In order to charge and discharge the parasitic capacitance elements, extra power is consumed.

本実施の形態において説明する構成は、実施の形態1で示した構成とは別の構成で、最終段もシフトレジスタ動作させることができる。図3の(A)、(B)、(C)は、それぞれ図1の(A)、図2の(A)、図2の(C)で示した構成に、最終段のリセット動作に用いる、トランジスタ29を追加した構成を表している。トランジスタ29のゲート電極は、スタートパルス端子SPに接続され、トランジスタ29のソース電極およびドレイン電極の一方は、スタートパルス端子SPに接続され、トランジスタ29のソース電極およびドレイン電極の他方は、電極SR(n)に接続されている。 The structure described in this embodiment mode is different from the structure shown in Embodiment Mode 1, and the final stage can also operate as a shift register. 3A, 3B, and 3C are used for the reset operation in the final stage in the configuration shown in FIGS. 1A, 2A, and 2C, respectively. This shows a configuration in which a transistor 29 is added. The gate electrode of the transistor 29 is connected to the start pulse terminal SP, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 29 is connected to the start pulse terminal SP, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 29 is the electrode SR ( n).

また、図3に示すように、最終段のリセット動作にトランジスタ29を用いた場合は、最終段のリセット動作を最終段自身で行わなくてもよく、スタートパルスが入力されるタイミングで行うことができるため、電極SR(n)と電極SR(n−1)を接続しなくてもよい。 Further, as shown in FIG. 3, when the transistor 29 is used for the reset operation of the final stage, the reset operation of the final stage may not be performed by the final stage itself, but may be performed at the timing when the start pulse is input. Therefore, the electrode SR (n) and the electrode SR (n−1) need not be connected.

図4は、図3で示した回路の動作を説明するためのタイムチャートである。図1の(C)と異なる点は、スタートパルスが入力されるタイミング(時刻T0)において、最終段の端子P(n)のリセット動作を行うことで、最終段の出力端子L(n)においても、シフトレジスタ回路としての動作を行うことができる点である。ここで、図4のタイムチャートにおいて、スタートパルスを入力する周期をTとすると、周期Tのうちに入力する全てのクロック信号線のパルスの総数が、シフトレジスタ回路の段数nよりも大きいのが好ましい。こうすることで、最終段のリセット動作を周期Tのうちに確実に行うことができる。 FIG. 4 is a time chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG. A difference from FIG. 1C is that the reset operation of the terminal P (n) at the final stage is performed at the timing of input of the start pulse (time T0), so that the output terminal L (n) at the final stage is reset. Also, the operation as a shift register circuit can be performed. Here, in the time chart of FIG. 4, when the period for inputting the start pulse is T, the total number of pulses of all clock signal lines input in the period T is larger than the number n of stages of the shift register circuit. preferable. By doing so, the reset operation at the final stage can be reliably performed within the period T.

次に、図5および図6を参照して、リセット動作をさせるために専用の信号線を追加した、本発明にかかるシフトレジスタ回路について説明する。 Next, a shift register circuit according to the present invention, in which a dedicated signal line is added to perform a reset operation, will be described with reference to FIGS.

図5の(A)、(B)、(C)は、それぞれ図1の(A)、図2の(A)、図2の(C)で示した構成に、リセット動作をさせるために専用の信号線RESと、信号線RESに接続されたトランジスタRE(k)(kは1以上n以下の整数)を追加した構成を表している。トランジスタRE(k)のゲート電極は、信号線RESに接続され、トランジスタRE(k)のソース電極またはドレイン電極の一方は、信号線RESに接続され、トランジスタRE(k)のソース電極またはドレイン電極の他方は、電極SR(k)に接続されている。 5A, 5B, and 5C are dedicated to resetting the configuration shown in FIGS. 1A, 2A, and 2C, respectively. The signal line RES and a transistor RE (k) connected to the signal line RES (k is an integer of 1 to n) are added. The gate electrode of the transistor RE (k) is connected to the signal line RES, and one of the source electrode or drain electrode of the transistor RE (k) is connected to the signal line RES, and the source electrode or drain electrode of the transistor RE (k). Is connected to the electrode SR (k).

図5および図6においては、全ての段にトランジスタRE(k)を追加して接続することで、任意のタイミングで全ての段をリセット動作させて、最終段まで動作させずに即座に初期状態に戻すことができるシフトレジスタ回路を示すが、本発明はこれに限定されず、トランジスタRE(k)の数はいくつでもよい。たとえば、最終段のみにトランジスタREを設けてもよいし、奇数または偶数段のみにトランジスタREを設けてもよいし、前半または後半の段のみにトランジスタREを設けてもよい。トランジスタREの数を少なくすれば、それだけ回路規模が小さくなり、基板上に回路が占める割合が小さくなるという利点がある。また、トランジスタREの数を少なくすれば、信号線RESを駆動する負荷が小さくなり、消費電力が低減できるという利点がある。 5 and 6, transistors RE (k) are additionally connected to all the stages so that all the stages are reset at an arbitrary timing, and the initial state is immediately performed without operating to the final stage. However, the present invention is not limited to this, and the number of transistors RE (k) may be any number. For example, the transistor RE may be provided only in the final stage, the transistor RE may be provided only in the odd or even stages, or the transistor RE may be provided only in the first half or the second half. If the number of transistors RE is reduced, there is an advantage that the circuit scale is reduced accordingly and the proportion of the circuit on the substrate is reduced. Further, if the number of transistors RE is reduced, there is an advantage that the load for driving the signal line RES is reduced and the power consumption can be reduced.

ここで、図6を用いて、リセット動作をさせるために専用の信号線を追加した、本発明にかかるシフトレジスタ回路の動作について説明する。図6は、時刻Trにおいて、信号線RESにパルスを入力し、全ての段をリセット動作させるときの、入力信号と端子P、出力端子Lの電位の変化を表したタイムチャートである。時刻T0においてスタートパルスが入力されると、信号線RESにパルスが入力されるまでは、図1の(C)と同じ動作をする。しかし、時刻Trにおいて、信号線RESにパルスが入力されると、全ての段において電極SRの電位がHレベルとなるため、端子Pおよび出力端子Lは、Lレベルに固定される。ここで、電極SRの電位をLレベルにするトランジスタ16または26は、端子Pの電位がLレベルとなることから、オフ状態となる。よって、信号線RESにパルスを入力したときに、信号線RESから電源線Vssに電流が流れるパスができることはない。 Here, the operation of the shift register circuit according to the present invention, in which a dedicated signal line is added to perform the reset operation, will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a time chart showing changes in the input signal and the potentials of the terminal P and the output terminal L when a pulse is input to the signal line RES at the time Tr and all the stages are reset. When a start pulse is input at time T0, the same operation as in FIG. 1C is performed until a pulse is input to the signal line RES. However, when a pulse is input to the signal line RES at time Tr, the potential of the electrode SR becomes H level in all stages, so that the terminal P and the output terminal L are fixed to L level. Here, the transistor 16 or 26 that sets the potential of the electrode SR to the L level is turned off because the potential of the terminal P is set to the L level. Therefore, when a pulse is input to the signal line RES, there is no path through which a current flows from the signal line RES to the power supply line Vss.

このように、図5に示したリセット動作をさせるために専用の信号線を追加した、本発明にかかるシフトレジスタ回路は、任意のタイミングで全ての段をリセット動作させて、最終段まで動作させずに即座に初期状態に戻すことができる。このシフトレジスタ回路を表示装置の駆動回路として用いた場合、たとえば、表示領域に配置されている画素のうち、一部の領域しか使用しないときに、シフトレジスタ回路の動作を途中で止めることで、使用しない領域の画素を駆動することがなくなり、消費電力が低減できるという利点がある。 As described above, the shift register circuit according to the present invention, in which a dedicated signal line is added to perform the reset operation shown in FIG. 5, resets all the stages at an arbitrary timing and operates to the final stage. It is possible to return to the initial state immediately. When this shift register circuit is used as a drive circuit for a display device, for example, when only a part of the pixels arranged in the display area is used, the operation of the shift register circuit is stopped halfway, There is an advantage that power consumption can be reduced because pixels in unused areas are not driven.

また、信号線RESにパルスを入力したとき、浮遊状態となっている電極SRに電荷が注入されることで、リーク電流による電極SRの電位の低下を防ぐことができる。すなわち、電極SRにゲート電極が接続されているトランジスタがオン状態を保持し続けることが容易となる効果がある。 In addition, when a pulse is input to the signal line RES, charges are injected into the electrode SR that is in a floating state, so that a decrease in the potential of the electrode SR due to a leakage current can be prevented. That is, there is an effect that it becomes easy for the transistor in which the gate electrode is connected to the electrode SR to keep the on state.

なお、本実施の形態は他の実施の形態と自由に組み合わせて使用することができる。 Note that this embodiment can be freely combined with any of the other embodiments.

(実施の形態3)
トランジスタは、オン状態とするために、そのゲートソース電極間に電圧を印加する。ここで、トランジスタのゲート電極に電圧を印加し続けると、ソース電極またはドレイン電極とゲート電極の間の領域に存在する、不純物等によるエネルギー準位に電荷がトラップされて、トラップされた電荷が内部電界を形成していくため、特性の経時変化を引き起こす。特に、閾値電圧がシフトする(閾値シフトとも記す)という変化が起こる。この経時変化は、トランジスタをオン状態とする極性の電圧だけではなく、逆の極性の電圧を印加する(逆バイアスとも記す)ことによって、トラップされた電荷が開放され、変化の度合いが小さくなることが知られている。閾値シフトは、ソース電極またはドレイン電極とゲート電極の間の領域に欠陥準位の多い、チャネル層に非晶質(アモルファス)シリコンを用いた薄膜トランジスタにおいて、特に顕著に見られる。よって、本実施形態にかかるシフトレジスタ回路は、チャネル層にアモルファスシリコンを用いた薄膜トランジスタにおいて、特に有効である。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
(Embodiment 3)
In order to turn on the transistor, a voltage is applied between its gate and source electrodes. Here, when a voltage is continuously applied to the gate electrode of the transistor, charges are trapped in the energy level due to impurities or the like existing in a region between the source electrode or the drain electrode and the gate electrode, and the trapped charges are Since an electric field is formed, the characteristics change with time. In particular, a change occurs in which the threshold voltage shifts (also referred to as threshold shift). This change over time is not only due to the polarity of the voltage that turns on the transistor, but also by applying a reverse polarity voltage (also referred to as reverse bias), the trapped charge is released and the degree of change is reduced. It has been known. The threshold shift is particularly noticeable in a thin film transistor in which amorphous silicon is used for a channel layer having many defect levels in a region between a source electrode or a drain electrode and a gate electrode. Therefore, the shift register circuit according to the present embodiment is particularly effective in a thin film transistor using amorphous silicon for the channel layer. However, the present invention is not limited to this.

本実施の形態においては、本発明にかかるシフトレジスタ回路を構成するトランジスタに、逆バイアスを印加する動作について説明する。 In this embodiment mode, an operation for applying a reverse bias to the transistors included in the shift register circuit according to the present invention will be described.

まず、図7を用いて、図1に示したシフトレジスタ回路に、トランジスタの特性の経時変化を抑えるために、逆バイアスを印加する機能を加えた回路を示す。図7の(A)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の全体図、図7の(B)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の一段分の回路30、図7の(C)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の入力信号と出力信号のタイムチャートである。 First, FIG. 7 is used to describe a circuit in which a function of applying a reverse bias is added to the shift register circuit shown in FIG. 7A is an overall view of the shift register circuit according to the present invention, FIG. 7B is a circuit 30 for one stage of the shift register circuit according to the present invention, and FIG. It is a time chart of the input signal and output signal of the shift register circuit concerning invention.

図7の(B)は、図1の(B)で示した回路に、トランジスタ39a、39b、および端子N、端子Sを追加したものである。また、トランジスタ31、32、35、36、37および容量素子34は、それぞれ図1の(B)のトランジスタ11、12、15、16、17および容量素子14に対応し、接続も図1の(B)と同様である。また、図7の(B)のトランジスタ33のゲート電極は、端子Sに接続され、トランジスタ33のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ33のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。 FIG. 7B is obtained by adding transistors 39a and 39b, a terminal N, and a terminal S to the circuit shown in FIG. The transistors 31, 32, 35, 36, and 37 and the capacitor 34 correspond to the transistors 11, 12, 15, 16, and 17 and the capacitor 14 in FIG. Same as B). 7B is connected to the terminal S, and one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 33 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 33 is connected. Is connected to the terminal P.

また、トランジスタ37のゲート電極は、端子Sに接続され、トランジスタ37のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ37のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。また、トランジスタ39aのゲート電極は、端子Sに接続され、トランジスタ39aのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Sに接続され、トランジスタ39aのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Nに接続されている。また、トランジスタ39bのゲート電極は、端子Nに接続され、トランジスタ39bのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Sに接続され、トランジスタ39bのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Rに接続されている。 Further, the gate electrode of the transistor 37 is connected to the terminal S, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 37 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 37 is connected to the terminal OUT. ing. The gate electrode of the transistor 39a is connected to the terminal S, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 39a is connected to the terminal S, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 39a is connected to the terminal N. ing. The gate electrode of the transistor 39b is connected to the terminal N, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 39b is connected to the terminal S, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 39b is connected to the terminal R. ing.

図7の(A)は、図1の(A)で示した回路に、全ての段の回路30の端子Nに接続された信号線RBを追加したものである。また、トランジスタ38は、図1の(A)のトランジスタ18に対応し、接続も同様である。 7A is obtained by adding signal lines RB connected to the terminals N of the circuits 30 in all stages to the circuit shown in FIG. The transistor 38 corresponds to the transistor 18 in FIG. 1A and has the same connection.

ここで、図7の(C)を用いて、図7の(A)、(B)で示す回路の動作について説明する。時刻T0においてスタートパルス端子SPにパルスが入力されると、シフトレジスタ回路が動作し、出力端子L(1)から順番に出力信号が出力される。そして、出力端子L(n)まで出力信号が出力されるまでの間を、通常動作期間と呼ぶこととする。通常動作期間中には、信号線RBには、Hレベルの電位を入力してもよい。このとき、トランジスタ39bはオン状態であり、トランジスタ39aはオフ状態である。すなわち、端子Rと端子Sは導通状態であり、端子Nと端子Sは非導通状態であるので、図7の(B)は、図1の(B)と同じ接続状態となるため、図7に示すシフトレジスタ回路は、図1に示すシフトレジスタ回路と同様な動作をする。 Here, the operation of the circuits shown in FIGS. 7A and 7B will be described with reference to FIG. When a pulse is input to the start pulse terminal SP at time T0, the shift register circuit operates and output signals are output in order from the output terminal L (1). A period until the output signal is output to the output terminal L (n) is referred to as a normal operation period. During the normal operation period, an H-level potential may be input to the signal line RB. At this time, the transistor 39b is on, and the transistor 39a is off. That is, since the terminal R and the terminal S are in a conducting state and the terminal N and the terminal S are in a non-conducting state, (B) in FIG. 7 is in the same connection state as (B) in FIG. The shift register circuit shown in FIG. 6 operates in the same manner as the shift register circuit shown in FIG.

次に、図7の(C)に示すように、図7に示すシフトレジスタ回路の出力端子L(n)に出力信号が出力された後、時刻T1から時刻T2の間に、信号線RBの電位を下げてもよい。この期間を、逆バイアス印加期間と呼ぶこととする。こうすることで、図7の(B)のトランジスタ39bはオフ状態となり、トランジスタ39aはオン状態となる。すなわち、端子Rと端子Sは非導通状態となり、端子Nと端子Sは導通状態となって、端子Sの電位が降下する。その後、端子Sの電位が電極Nの電位よりもトランジスタ39aの閾値電圧分大きい電位となったところでトランジスタ39aはオフ状態となり、端子Sの電位の降下は止まる。このとき、信号線RBの電位は、電源線Vssよりも低い電位であってもよい。信号線RBの低い側の電位が電源線Vssよりも低ければ、逆バイアス印加期間中、端子Sをより低い電位とすることができる。こうすることで、トランジスタ33および37に、オン状態とは逆極性の電位をゲート電極に印加できるので、トランジスタの閾値シフトを小さくできるという利点がある。 Next, as shown in FIG. 7C, after the output signal is output to the output terminal L (n) of the shift register circuit shown in FIG. 7, the signal line RB is output between time T1 and time T2. The potential may be lowered. This period is referred to as a reverse bias application period. Thus, the transistor 39b in FIG. 7B is turned off and the transistor 39a is turned on. That is, the terminal R and the terminal S are turned off, the terminal N and the terminal S are turned on, and the potential of the terminal S drops. After that, when the potential of the terminal S becomes higher than the potential of the electrode N by the threshold voltage of the transistor 39a, the transistor 39a is turned off and the drop in the potential of the terminal S stops. At this time, the potential of the signal line RB may be lower than that of the power supply line Vss. If the potential on the lower side of the signal line RB is lower than the power supply line Vss, the terminal S can be set to a lower potential during the reverse bias application period. In this way, the transistors 33 and 37 can be applied with a potential having a polarity opposite to that of the ON state to the gate electrode, so that there is an advantage that the threshold shift of the transistor can be reduced.

ここで、トランジスタ39bは、通常動作期間は端子Rと端子Sを導通し、逆バイアス印加期間は端子Rと端子Sを非導通状態とする役割を持ったトランジスタである。トランジスタ39bを配置せず、端子Rと端子Sを常に導通状態とする場合は、回路規模が小さくなり、また、信号線RBにつながっている寄生容量値が減少するため、消費電力が小さくなるという利点がある。 Here, the transistor 39b is a transistor having a role of making the terminal R and the terminal S conductive during a normal operation period and making the terminal R and the terminal S non-conductive during a reverse bias application period. When the transistor 39b is not provided and the terminal R and the terminal S are always in a conductive state, the circuit scale is reduced, and the parasitic capacitance value connected to the signal line RB is reduced, so that power consumption is reduced. There are advantages.

また、図7の(B)のようにトランジスタ39bを配置すれば、信号線RBにより端子Nの電位を下げることで端子Sの電位を下げたときに、端子Rの電位も同時に下がってしまうことを防ぐことができる。ここで、逆バイアス印加期間において、端子Rと端子Sが導通していて、端子Sの電位の低下に伴って端子Rの電位も低下する場合を考える。端子Rは、電極SRを通じて、1段前の回路30の端子Fと接続しているため、電源線Vssから1段前のトランジスタ36の閾値電圧分低い電圧以下に端子Rの電位が下がったとき、1段前のトランジスタ36がオン状態となってしまい、信号線RBと電源線Vss間に定常電流が流れてしまう。また、端子Rは、電極SRを通じて、1段後の回路30のトランジスタ35とも接続されているため、端子Rの電位が低下すると、1段後のトランジスタ35および32がオン状態となってしまい、1段後のクロック信号線、トランジスタ32、トランジスタ35、当該段のトランジスタ39a、信号線RBを通じて定常電流が流れてしまうことも考えられる。そのため、逆バイアス印加期間において、端子Rと端子Sを非導通とすることで、端子Rの電位が下がることで端子Rを含んだ電流のパスができてしまうのを防ぐことができるので、消費電力を低減しつつ、十分な逆バイアスをトランジスタ33および37に印加することができる。 If the transistor 39b is arranged as shown in FIG. 7B, when the potential of the terminal S is lowered by lowering the potential of the terminal N by the signal line RB, the potential of the terminal R is also lowered at the same time. Can be prevented. Here, a case is considered in which the terminal R and the terminal S are in conduction during the reverse bias application period, and the potential of the terminal R decreases as the potential of the terminal S decreases. Since the terminal R is connected to the terminal F of the circuit 30 in the previous stage through the electrode SR, when the potential of the terminal R drops below the voltage lower than the threshold voltage of the transistor 36 in the previous stage from the power line Vss. The one-stage previous transistor 36 is turned on, and a steady current flows between the signal line RB and the power supply line Vss. Further, since the terminal R is also connected to the transistor 35 of the circuit 30 after the first stage through the electrode SR, when the potential of the terminal R decreases, the transistors 35 and 32 after the first stage are turned on. It is conceivable that a steady current flows through the clock signal line after one stage, the transistor 32, the transistor 35, the transistor 39a at the stage, and the signal line RB. Therefore, the terminal R and the terminal S are made non-conductive during the reverse bias application period, so that it is possible to prevent a current path including the terminal R from being generated due to a decrease in the potential of the terminal R. Sufficient reverse bias can be applied to transistors 33 and 37 while reducing power.

なお、本実施形態において、逆バイアス印加期間中にトランジスタ33および37のゲート電極に逆バイアスを印加する例を示したが、本発明はこれに限定されず、どのトランジスタに逆バイアスを印加してもよい。ただし、トランジスタ33および37は、出力端子LがLレベルを出力するべき期間の大部分の期間においてオン状態となっており、このようにオン状態となっている期間の割合が大きいトランジスタは、閾値シフトの程度が大きい。そのため、図7の(B)のように、トランジスタ33および37のゲート電極にトランジスタ39aおよび39bを接続し、逆バイアス印加期間を設けることで、閾値シフトの低減を行なうのが効果的であり、好ましい。 In the present embodiment, an example in which a reverse bias is applied to the gate electrodes of the transistors 33 and 37 during the reverse bias application period has been described. However, the present invention is not limited to this, and to which transistor the reverse bias is applied. Also good. However, the transistors 33 and 37 are in the on state during most of the period during which the output terminal L should output the L level. Thus, a transistor having a large ratio of the on state is a threshold value. The degree of shift is large. Therefore, as shown in FIG. 7B, it is effective to reduce the threshold shift by connecting the transistors 39a and 39b to the gate electrodes of the transistors 33 and 37 and providing a reverse bias application period. preferable.

次に、図8を用いて、図2に示したシフトレジスタ回路に、トランジスタの特性の経時変化を抑えるために、逆バイアスを印加する機能を加えた回路を示す。図8の(A)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の全体図、図8の(B)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の一段分の回路40、図8の(C)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の別の全体図である。 Next, FIG. 8 shows a circuit obtained by adding a function of applying a reverse bias to the shift register circuit shown in FIG. 8A is an overall view of the shift register circuit according to the present invention, FIG. 8B is a circuit 40 for one stage of the shift register circuit according to the present invention, and FIG. It is another whole figure of the shift register circuit concerning invention.

図8の(B)は、図2の(B)で示した回路に、トランジスタ49a、49b、49c、49dおよび端子N、端子S、端子Uを追加したものである。また、トランジスタ41、42、45、46、47b、47cおよび容量素子44は、それぞれ図2の(B)のトランジスタ21、22、25、26、27b、27cおよび容量素子24に対応し、接続も図2の(B)と同様である。また、図8の(B)のトランジスタ43のゲート電極は、端子Sに接続され、トランジスタ43のソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ43のソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Pに接続されている。 FIG. 8B is obtained by adding transistors 49a, 49b, 49c, and 49d, a terminal N, a terminal S, and a terminal U to the circuit shown in FIG. The transistors 41, 42, 45, 46, 47b, 47c and the capacitor 44 correspond to the transistors 21, 22, 25, 26, 27b, 27c and the capacitor 24 in FIG. This is the same as (B) of FIG. 8B is connected to the terminal S, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 43 is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 43 is connected. Is connected to the terminal P.

また、トランジスタ47aのゲート電極は、端子Uに接続され、トランジスタ47aのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Gに接続され、トランジスタ47aのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子OUTに接続されている。また、トランジスタ49aのゲート電極は、端子Sに接続され、トランジスタ49aのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Sに接続され、トランジスタ49aのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Nに接続されている。また、トランジスタ49bのゲート電極は、端子Nに接続され、トランジスタ49bのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Rに接続され、トランジスタ49bのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Sに接続されている。また、トランジスタ49cのゲート電極は、端子Uに接続され、トランジスタ49cのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Uに接続され、トランジスタ49cのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Nに接続されている。また、トランジスタ49dのゲート電極は、端子Nに接続され、トランジスタ49dのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Qに接続され、トランジスタ49dのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Uに接続されている。 Further, the gate electrode of the transistor 47a is connected to the terminal U, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 47a is connected to the terminal G, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 47a is connected to the terminal OUT. ing. The gate electrode of the transistor 49a is connected to the terminal S, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49a is connected to the terminal S, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49a is connected to the terminal N. ing. Further, the gate electrode of the transistor 49b is connected to the terminal N, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49b is connected to the terminal R, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49b is connected to the terminal S. ing. Further, the gate electrode of the transistor 49c is connected to the terminal U, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49c is connected to the terminal U, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49c is connected to the terminal N. ing. The gate electrode of the transistor 49d is connected to the terminal N, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49d is connected to the terminal Q, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 49d is connected to the terminal U. ing.

ここで、図8の(A)は、図2の(A)で示した回路に、全ての段の回路40の端子Nに接続された信号線RBを追加したものである。また、トランジスタ48は、図2の(A)のトランジスタ28に対応し、接続も同様である。また、図8の(C)は、図8の(A)に示す回路に、電源線Vddを追加した構成の回路を表し、全ての段の回路40の端子Vに、電源線Vddが接続されている。 Here, FIG. 8A is obtained by adding the signal line RB connected to the terminals N of the circuits 40 in all stages to the circuit shown in FIG. The transistor 48 corresponds to the transistor 28 in FIG. 2A and has the same connection. 8C shows a circuit in which the power supply line Vdd is added to the circuit shown in FIG. 8A. The power supply line Vdd is connected to the terminals V of the circuits 40 in all stages. ing.

ここで、図8の(A)、(B)、(C)で示す回路は、図7の(C)に示すタイムチャートに従って動作させてもよい。図7の(C)に示すタイムチャートに従って図8の(A)、(B)、(C)で示す回路を動作させた場合、通常動作期間において、信号線RBには、Hレベルの電位を入力してもよい。このとき、トランジスタ49bおよび49dはオン状態であり、トランジスタ49aおよび49cはオフ状態である。すなわち、端子Rと端子S、および端子Qと端子Uは導通状態であり、端子Nと端子S、および端子Nと端子Uは非導通状態であるので、図8の(B)は、図2の(B)と同じ接続状態となるため、図8に示すシフトレジスタ回路は、図2に示すシフトレジスタ回路と同様な動作をする。 Here, the circuits shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C may be operated in accordance with the time chart shown in FIG. When the circuits shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C are operated according to the time chart shown in FIG. 7C, an H level potential is applied to the signal line RB in the normal operation period. You may enter. At this time, the transistors 49b and 49d are on, and the transistors 49a and 49c are off. That is, since the terminal R and the terminal S, and the terminal Q and the terminal U are in a conductive state, and the terminal N and the terminal S, and the terminal N and the terminal U are in a nonconductive state, FIG. Thus, the shift register circuit shown in FIG. 8 operates in the same manner as the shift register circuit shown in FIG.

次に、逆バイアス印加期間においては、図8の(B)のトランジスタ49bおよび49dはオフ状態となり、トランジスタ49aおよび49cはオン状態となる。すなわち、端子Rと端子S、および端子Qと端子Uは非導通状態となり、端子Nと端子S、および端子Nと端子Uは導通状態となって、端子Sおよび端子Uの電位が降下する。その後、端子Sおよび端子Uの電位が電極Nの電位よりもトランジスタ49aおよび49cの閾値電圧分大きい電位となったところでトランジスタ49aおよび49cはオフ状態となり、端子Sおよび端子Uの電位の降下は止まる。このとき、信号線RBの電位は、電源線Vssよりも低い電位であってもよい。信号線RBの低い側の電位が電源線Vssよりも低ければ、逆バイアス印加期間中、端子Sおよび端子Uを、より低い電位とすることができる。こうすることで、トランジスタ43および47aに、オン状態とは逆極性の電位をゲート電極に印加できるので、トランジスタの閾値シフトを小さくできるという利点がある。 Next, in the reverse bias application period, the transistors 49b and 49d in FIG. 8B are turned off, and the transistors 49a and 49c are turned on. That is, the terminal R and the terminal S, the terminal Q and the terminal U are in a non-conductive state, the terminal N and the terminal S, and the terminal N and the terminal U are in a conductive state, and the potentials of the terminals S and U drop. After that, when the potential of the terminal S and the terminal U becomes higher than the potential of the electrode N by the threshold voltage of the transistors 49a and 49c, the transistors 49a and 49c are turned off, and the drop in the potentials of the terminals S and U stops. . At this time, the potential of the signal line RB may be lower than that of the power supply line Vss. If the potential on the lower side of the signal line RB is lower than the power supply line Vss, the terminal S and the terminal U can be set to a lower potential during the reverse bias application period. By doing so, the transistor 43 and 47a can be applied with a potential having a polarity opposite to that of the ON state to the gate electrode, so that there is an advantage that threshold shift of the transistor can be reduced.

ここで、トランジスタ49bおよび49dは、通常動作期間は端子Rと端子S、および端子Qと端子Uを導通し、逆バイアス印加期間は端子Rと端子S、および端子Qと端子Uを非導通状態とする役割を持ったトランジスタである。トランジスタ49bおよび49dを配置せず、端子Rと端子S、および端子Qと端子Uを常に導通状態とする場合は、回路規模が小さくなり、また、信号線RBにつながっている寄生容量値が減少するため、消費電力が小さくなるという利点がある。 Here, the transistors 49b and 49d are electrically connected between the terminal R and the terminal S and the terminal Q and the terminal U during the normal operation period, and are disconnected between the terminal R and the terminal S and between the terminal Q and the terminal U during the reverse bias application period. The transistor has the role of When the transistors 49b and 49d are not disposed and the terminals R and S and the terminals Q and U are always in a conductive state, the circuit scale is reduced and the parasitic capacitance value connected to the signal line RB is reduced. Therefore, there is an advantage that power consumption is reduced.

また、図8の(B)のようにトランジスタ49bおよび49dを配置すれば、信号線RBにより端子Nの電位を下げることで端子Sおよび端子Uの電位を下げたときに、端子Rおよび端子Qの電位も同時に下がってしまうことを防ぐことができる。 If the transistors 49b and 49d are arranged as shown in FIG. 8B, when the potential of the terminal S and the terminal U is lowered by lowering the potential of the terminal N by the signal line RB, the terminals R and Q Can be prevented from decreasing at the same time.

ここで、逆バイアス印加期間において、端子Rと端子Sが導通していて、端子Sの電位の低下に伴って端子Rの電位も低下する場合を考える。端子Rは、電極SRを通じて、1段前の回路40の端子Fと接続しているため、電源線Vssから1段前のトランジスタ46の閾値電圧分低い電圧以下に端子Rの電位が下がったとき、1段前のトランジスタ46がオン状態となってしまい、信号線RBと電源線Vss間に定常電流が流れてしまう。また、端子Rは、電極SRを通じて、1段後の回路40のトランジスタ45とも接続されているため、端子Rの電位が低下すると、1段後のトランジスタ45および42がオン状態となってしまい、1段後のクロック信号線、トランジスタ42、トランジスタ45、当該段のトランジスタ49a、信号線RBを通じて定常電流が流れてしまうことも考えられる。 Here, a case is considered in which the terminal R and the terminal S are in conduction during the reverse bias application period, and the potential of the terminal R decreases as the potential of the terminal S decreases. Since the terminal R is connected to the terminal F of the circuit 40 in the previous stage through the electrode SR, when the potential of the terminal R drops below the voltage lower than the threshold voltage of the transistor 46 in the previous stage from the power line Vss. The transistor 46 in the previous stage is turned on, and a steady current flows between the signal line RB and the power supply line Vss. Further, since the terminal R is also connected to the transistor 45 of the circuit 40 after the first stage through the electrode SR, when the potential of the terminal R decreases, the transistors 45 and 42 after the first stage are turned on. It is conceivable that a steady current flows through the clock signal line after one stage, the transistor 42, the transistor 45, the transistor 49a at the stage concerned, and the signal line RB.

また、逆バイアス印加期間において、端子Qと端子Uが導通していて、端子Uの電位の低下に伴って端子Qの電位も低下する場合を考える。端子Qは、トランジスタ47bおよび47cのソース電極またはドレイン電極に接続されているため、端子Qの電位が低下すると、トランジスタ47bおよび47cがオン状態となり、端子Gおよび端子Vから端子Q、トランジスタ49d、端子U、トランジスタ49c、端子Nを通じて定常電流が流れてしまう。 Further, consider a case where the terminal Q and the terminal U are in conduction during the reverse bias application period, and the potential of the terminal Q decreases as the potential of the terminal U decreases. Since the terminal Q is connected to the source electrode or the drain electrode of the transistors 47b and 47c, when the potential of the terminal Q decreases, the transistors 47b and 47c are turned on, and the terminal Q and the transistor 49d, A steady current flows through the terminal U, the transistor 49c, and the terminal N.

そのため、逆バイアス印加期間において、端子Rと端子S、および端子Qと端子Uを、トランジスタ49bおよび49dによって非導通とすることで、端子Rおよび端子Qの電位が下がることで、端子Rおよび端子Qを含んだ電流のパスができてしまうのを防ぐことができるので、消費電力を低減しつつ、十分な逆バイアスをトランジスタ43および47aに印加することができる。なお、トランジスタ49bおよび49dは、両方配置してもよいし、どちらか片方だけ配置してもよいし、両方配置しなくてもよい。 Therefore, in the reverse bias application period, the terminal R and the terminal S, and the terminal Q and the terminal U are made non-conductive by the transistors 49b and 49d, so that the potential of the terminal R and the terminal Q is lowered, so that the terminal R and the terminal Q Since a current path including Q can be prevented from being formed, a sufficient reverse bias can be applied to the transistors 43 and 47a while reducing power consumption. Note that both the transistors 49b and 49d may be arranged, or only one of them may be arranged, or both may not be arranged.

なお、本実施形態において、逆バイアス印加期間中にトランジスタ43および47aのゲート電極に逆バイアスを印加する例を示したが、本発明はこれに限定されず、どのトランジスタに逆バイアスを印加してもよい。ただし、トランジスタ43および47aは、出力端子LがLレベルを出力するべき期間の大部分の期間においてオン状態となっており、このようにオン状態となっている期間の割合が大きいトランジスタは、閾値シフトの程度が大きい。そのため、図8の(B)のように、トランジスタ43および47aのゲート電極にトランジスタ49aと49b、および49cと49dを接続し、逆バイアス印加期間を設けることで、閾値シフトの低減を行なうのが効果的であり、好ましい。 In this embodiment, an example is shown in which a reverse bias is applied to the gate electrodes of the transistors 43 and 47a during the reverse bias application period. However, the present invention is not limited to this, and the reverse bias is applied to any transistor. Also good. However, the transistors 43 and 47a are in the on state in most of the period during which the output terminal L should output the L level. Thus, a transistor having a large ratio of the on state is a threshold value. The degree of shift is large. Therefore, as shown in FIG. 8B, the threshold shift is reduced by connecting the transistors 49a and 49b and 49c and 49d to the gate electrodes of the transistors 43 and 47a and providing a reverse bias application period. It is effective and preferable.

以上に述べたとおり、本実施の形態においては、逆バイアス印加用のトランジスタ39a、39bおよび49a、49b、49c、49dを、トランジスタ33、37および43、47aのゲート電極に接続することで、トランジスタ33、37および43、47aの閾値シフトを低減することができる。また、本実施の形態において示した回路だけではなく、任意の回路における任意のトランジスタのゲート電極に、図9に示す回路を接続することにより、当該トランジスタに逆バイアスを印加してもよい。図9に示す回路により、当該トランジスタのゲート電極以外の、当該回路内の電極の電位を変化させることがないので、定常電流が流れる、誤動作を起こすなどがなく、当該トランジスタの閾値シフトを低減できる。 As described above, in the present embodiment, transistors 39a, 39b and 49a, 49b, 49c, 49d for applying a reverse bias are connected to the gate electrodes of the transistors 33, 37, 43, and 47a, thereby The threshold shift of 33, 37 and 43, 47a can be reduced. In addition to the circuit described in this embodiment, a reverse bias may be applied to a transistor by connecting the circuit illustrated in FIG. 9 to the gate electrode of any transistor in any circuit. The circuit shown in FIG. 9 does not change the potential of the electrodes in the circuit other than the gate electrode of the transistor, so that a steady-state current does not flow and malfunction does not occur, and the threshold shift of the transistor can be reduced. .

図9に示す回路は、信号端子SIGと、バイアス端子BIASと、対象端子GATEと、遮断トランジスタSIG−Trと、バイアストランジスタBIAS−Trを備える。ここで、図9および図10に示す回路において、バイアストランジスタBIAS−Trは、整流性素子として用いる。 The circuit shown in FIG. 9 includes a signal terminal SIG, a bias terminal BIAS, a target terminal GATE, a cutoff transistor SIG-Tr, and a bias transistor BIAS-Tr. Here, in the circuits shown in FIGS. 9 and 10, the bias transistor BIAS-Tr is used as a rectifying element.

図9の(A)、(B)、(C)、(D)に示す回路において、遮断トランジスタSIG−Trのゲート電極は、バイアス端子BIASに接続され、遮断トランジスタSIG−Trのソース電極またはドレイン電極の一方は、信号端子SIGに接続され、遮断トランジスタSIG−Trのソース電極またはドレイン電極の他方は、対象端子GATEに接続されている。 In the circuits shown in FIGS. 9A, 9B, 9C, and 9D, the gate electrode of the cutoff transistor SIG-Tr is connected to the bias terminal BIAS, and the source electrode or drain of the cutoff transistor SIG-Tr. One of the electrodes is connected to the signal terminal SIG, and the other of the source electrode or the drain electrode of the cutoff transistor SIG-Tr is connected to the target terminal GATE.

図9の(A)、(D)に示す回路において、バイアストランジスタBIAS−Trのゲート電極は、対象端子GATEに接続され、バイアストランジスタBIAS−Trのソース電極またはドレイン電極の一方は、対象端子GATEに接続され、バイアストランジスタBIAS−Trのソース電極またはドレイン電極の他方は、バイアス端子BIASに接続されている。 In the circuits shown in FIGS. 9A and 9D, the gate electrode of the bias transistor BIAS-Tr is connected to the target terminal GATE, and one of the source electrode or the drain electrode of the bias transistor BIAS-Tr is the target terminal GATE. The other of the source electrode and the drain electrode of the bias transistor BIAS-Tr is connected to the bias terminal BIAS.

図9の(B)、(C)に示す回路において、バイアストランジスタBIAS−Trのゲート電極は、バイアス端子BIASに接続され、バイアストランジスタBIAS−Trのソース電極またはドレイン電極の一方は、対象端子GATEに接続され、バイアストランジスタBIAS−Trのソース電極またはドレイン電極の他方は、バイアス端子BIASに接続されている。 In the circuits shown in FIGS. 9B and 9C, the gate electrode of the bias transistor BIAS-Tr is connected to the bias terminal BIAS, and one of the source electrode or the drain electrode of the bias transistor BIAS-Tr is the target terminal GATE. The other of the source electrode and the drain electrode of the bias transistor BIAS-Tr is connected to the bias terminal BIAS.

対象端子GATEは、逆バイアスの印加を行なうトランジスタに接続される。逆バイアスの印加は、当該トランジスタのゲート電極とソース電極間、およびゲート電極とドレイン電極間の双方に対して行なうのが適当であるため、対象端子GATEは、逆バイアスの印加を行なうトランジスタのゲート電極に接続されるのが好ましい。ただし、本発明はこれに限定されず、対象端子GATEは、逆バイアスの印加を行なうトランジスタのソース電極またはドレイン電極に接続されていてもよい。そのときは、逆バイアスを印加するときの極性は、ゲート電極に接続されるときの逆としてもよい。なお、対象端子GATEに接続されるトランジスタの数はいくつでもよい。 The target terminal GATE is connected to a transistor that applies a reverse bias. Since it is appropriate to apply the reverse bias between the gate electrode and the source electrode of the transistor and between the gate electrode and the drain electrode, the target terminal GATE is the gate of the transistor to which the reverse bias is applied. It is preferable to be connected to an electrode. However, the present invention is not limited to this, and the target terminal GATE may be connected to a source electrode or a drain electrode of a transistor to which reverse bias is applied. In that case, the polarity when the reverse bias is applied may be opposite to that when it is connected to the gate electrode. Any number of transistors may be connected to the target terminal GATE.

信号端子SIGは、当該トランジスタを通常動作させるときに当該トランジスタに入力する信号線または電源線に接続する。バイアス端子BIASは、当該トランジスタに逆バイアスを印加するか、信号端子SIGに接続された電極の電位を対象端子GATEに伝達するかを選択する信号線である。 The signal terminal SIG is connected to a signal line or a power supply line that is input to the transistor when the transistor is normally operated. The bias terminal BIAS is a signal line for selecting whether to apply a reverse bias to the transistor or to transmit the potential of the electrode connected to the signal terminal SIG to the target terminal GATE.

ここで、図9の(A)、(B)、(C)、(D)に示す回路は、それぞれ、遮断トランジスタSIG−Trの極性と、バイアストランジスタBIAS−Trの極性に関して場合分けをしたものである。 Here, the circuits shown in (A), (B), (C), and (D) of FIG. 9 are classified according to the polarity of the cutoff transistor SIG-Tr and the polarity of the bias transistor BIAS-Tr, respectively. It is.

図9の(A)、(B)は、通常動作時はバイアス端子BIASにHレベルの電位を与え、逆バイアス印加時はバイアス端子BIASにLレベルの電位を与える場合の回路である。たとえば、逆バイアスを印加する電極が、Nチャネル型トランジスタのゲート電極であるときに用いることができる。 9A and 9B are circuits in the case where an H level potential is applied to the bias terminal BIAS during normal operation and an L level potential is applied to the bias terminal BIAS during reverse bias application. For example, it can be used when the electrode to which the reverse bias is applied is the gate electrode of an N-channel transistor.

図9の(C)、(D)は、通常動作時はバイアス端子BIASにLレベルの電位を与え、逆バイアス印加時はバイアス端子BIASにHレベルの電位を与える場合の回路である。たとえば、逆バイアスを印加する電極が、Pチャネル型トランジスタのゲート電極であるときに用いることができる。
このように、本実施の形態における図9に示す回路により、任意の回路における任意のトランジスタのゲート電極に、当該回路内の他の電極の電位を変化させることなく、当該トランジスタに逆バイアスを印加することができる。
9C and 9D are circuits in the case where an L level potential is applied to the bias terminal BIAS during normal operation and an H level potential is applied to the bias terminal BIAS during reverse bias application. For example, it can be used when the electrode to which the reverse bias is applied is the gate electrode of a P-channel transistor.
In this manner, with the circuit shown in FIG. 9 in this embodiment, a reverse bias is applied to the gate electrode of an arbitrary transistor in an arbitrary circuit without changing the potential of the other electrode in the circuit. can do.

次に、図9に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタも含めた場合の回路について、図10を参照して説明する。 Next, a circuit in the case where a transistor to which a reverse bias is applied is included in the circuit illustrated in FIG. 9 will be described with reference to FIG.

図10の(A)は、図9の(A)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図10の(A)に示すように、図9の(A)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。また、図10の(B)は、図9の(A)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図10の(B)に示すように、図9の(A)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。 FIG. 10A shows a circuit including the transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 10A, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG. 10B is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. 9A. As shown in FIG. 10B, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図7のトランジスタ33、37、または図8のトランジスタ43、47aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Nチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにHレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにLレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にLレベルの電位に依存する電位がかかり、逆バイアスを印加することができる。 Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 33 and 37 in FIG. 7 or the transistors 43 and 47a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2. The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be N-channel transistors. Thus, during the period when the H level is input to the bias terminal BIAS, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and the bias terminal BIAS is set to the L level. In the input period, a potential depending on the L-level potential is applied to the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and a reverse bias can be applied.

また、図10の(C)は、図9の(B)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図10の(C)に示すように、図9の(B)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。また、図10の(D)は、図9の(B)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図10の(D)に示すように、図9の(B)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図7のトランジスタ33、37、または図8のトランジスタ43、47aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。 10C is a circuit including the transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied in addition to the circuit shown in FIG. 9B. As shown in FIG. 10C, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG. 10D is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. 9B. As shown in FIG. 10D, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG. Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 33 and 37 in FIG. 7 or the transistors 43 and 47a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2.

また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Nチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにHレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにLレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にLレベルの電位に依存する電位がかかり、逆バイアスを印加することができる。 The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be N-channel transistors. Thus, during the period when the H level is input to the bias terminal BIAS, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and the bias terminal BIAS is set to the L level. In the input period, a potential depending on the L-level potential is applied to the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and a reverse bias can be applied.

また、図10の(E)は、図9の(C)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図10の(E)に示すように、図9の(C)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。また、図10の(F)は、図9の(C)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図10の(F)に示すように、図9の(C)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。 10E is a circuit including the transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied in addition to the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 10E, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG. FIG. 10F is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. 9C. As shown in FIG. 10F, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図7のトランジスタ33、37、または図8のトランジスタ43、47aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。 Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 33 and 37 in FIG. 7 or the transistors 43 and 47a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2.

また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Pチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにLレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにHレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にHレベルの電位に依存する電位がかかり、逆バイアスを印加することができる。 The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be P-channel transistors. Thus, during the period when the L level is input to the bias terminal BIAS, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and the bias terminal BIAS is set to the H level. In the input period, a potential depending on the H level potential is applied to the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and a reverse bias can be applied.

また、図10の(G)は、図9の(D)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図10の(G)に示すように、図9の(D)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。 FIG. 10G illustrates a circuit in which the transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied is included in the circuit illustrated in FIG. As shown in FIG. 10G, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

また、図10の(H)は、図9の(D)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図10の(H)に示すように、図9の(D)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。
ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図7のトランジスタ33、37、または図8のトランジスタ43、47aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。
FIG. 10H is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. 9D. As shown in FIG. 10H, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.
Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 33 and 37 in FIG. 7 or the transistors 43 and 47a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2.

また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Pチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにLレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにHレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にHレベルの電位に依存する電位がかかり、逆バイアスを印加することができる。 The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be P-channel transistors. Thus, during the period when the L level is input to the bias terminal BIAS, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and the bias terminal BIAS is set to the H level. In the input period, a potential depending on the H level potential is applied to the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2, and a reverse bias can be applied.

次に、図11および図12を参照して、図7の(A)、図8の(A)、図8の(C)に示した、逆バイアスを印加することのできる回路に、リセット動作をさせるために専用の信号線を追加した、本発明にかかるシフトレジスタ回路について説明する。 Next, referring to FIG. 11 and FIG. 12, the reset operation is performed on the circuits to which the reverse bias shown in FIG. 7A, FIG. 8A, and FIG. 8C can be applied. A shift register circuit according to the present invention, in which a dedicated signal line is added to achieve the above, will be described.

図11の(A)、(B)、(C)は、それぞれ図7の(A)、図8の(A)、図8の(C)で示した構成に、リセット動作をさせるために専用の信号線RESと、信号線RESに接続されたトランジスタRE(k)(kは1以上n以下の整数)を追加した構成を表している。トランジスタRE(k)のゲート電極は、信号線RESに接続され、トランジスタRE(k)のソース電極またはドレイン電極の一方は、信号線RESに接続され、トランジスタRE(k)のソース電極またはドレイン電極の他方は、電極SR(k)に接続されている。 (A), (B), and (C) in FIG. 11 are dedicated to resetting the configuration shown in (A), FIG. 8 (A), and FIG. 8 (C), respectively. The signal line RES and a transistor RE (k) connected to the signal line RES (k is an integer of 1 to n) are added. The gate electrode of the transistor RE (k) is connected to the signal line RES, and one of the source electrode or drain electrode of the transistor RE (k) is connected to the signal line RES, and the source electrode or drain electrode of the transistor RE (k). Is connected to the electrode SR (k).

図11においては、全ての段にトランジスタRE(k)を追加して接続することで、任意のタイミングで全ての段をリセット動作させて、最終段まで動作させずに即座に初期状態に戻すことができるシフトレジスタ回路を示すが、本発明はこれに限定されず、トランジスタRE(k)の数はいくつでもよい。たとえば、最終段のみにトランジスタREを設けてもよいし、奇数または偶数段のみにトランジスタREを設けてもよいし、前半または後半の段のみにトランジスタREを設けてもよい。トランジスタREの数を少なくすれば、それだけ回路規模が小さくなり、基板上に回路が占める割合が小さくなるという利点がある。また、トランジスタREの数を少なくすれば、信号線RESを駆動する負荷が小さくなり、消費電力が低減できるという利点がある。 In FIG. 11, by adding and connecting the transistors RE (k) to all the stages, all the stages are reset at an arbitrary timing and immediately returned to the initial state without operating to the final stage. However, the present invention is not limited to this, and the number of transistors RE (k) may be any number. For example, the transistor RE may be provided only in the final stage, the transistor RE may be provided only in the odd or even stages, or the transistor RE may be provided only in the first half or the second half. If the number of transistors RE is reduced, there is an advantage that the circuit scale is reduced accordingly and the proportion of the circuit on the substrate is reduced. Further, if the number of transistors RE is reduced, there is an advantage that the load for driving the signal line RES is reduced and the power consumption can be reduced.

ここで、図12を用いて、リセット動作をさせるために専用の信号線を追加した、本発明にかかるシフトレジスタ回路の動作について説明する。図12は、時刻T1において、信号線RESにパルスを入力し、全ての段をリセット動作させ、また、時刻T2において、信号線RBの電位を下げ、逆バイアス印加動作をするときの、入力信号SP、端子P(図示しない)、および出力端子Lの電位の変化を表したタイムチャートである。時刻T0においてスタートパルスが入力されると、信号線RESにパルスが入力されるまでは、図1の(C)と同じ動作をする。しかし、時刻T1において、信号線RESにパルスが入力されると、全ての段において電極SRの電位がHレベルとなるため、端子Pおよび出力端子Lは、Lレベルに固定される。ここで、電極SRの電位をLレベルにするトランジスタ36または46は、端子Pの電位がLレベルとなることから、オフ状態となる。よって、信号線RESにパルスを入力したときに、信号線RESから電源線Vssに電流が流れるパスができることはない。 Here, the operation of the shift register circuit according to the present invention, in which a dedicated signal line is added to perform the reset operation, will be described with reference to FIG. FIG. 12 shows an input signal when a pulse is input to the signal line RES at time T1 to reset all the stages, and the potential of the signal line RB is lowered at time T2 to perform reverse bias application operation. 4 is a time chart showing changes in potentials of SP, terminal P (not shown), and output terminal L. When a start pulse is input at time T0, the same operation as in FIG. 1C is performed until a pulse is input to the signal line RES. However, when a pulse is input to the signal line RES at time T1, the potential of the electrode SR becomes H level in all stages, so that the terminal P and the output terminal L are fixed to L level. Here, the transistor 36 or 46 that sets the potential of the electrode SR to the L level is turned off because the potential of the terminal P becomes the L level. Therefore, when a pulse is input to the signal line RES, there is no path through which a current flows from the signal line RES to the power supply line Vss.

その後、時刻T2からT3の期間中に、信号線RBの電位を下げることで、逆バイアスを印加することができる。このとき、信号線RBの電位は、電源線Vssの電位よりも低いことが好ましい。また、その後、時刻T3からT4の期間中に、もう一度リセット動作を行うために、信号線RBおよび信号線RESの電位をHレベルとしてもよい。逆バイアスを印加した後にもう一度リセット動作を行うことによって、端子S、端子R、電極SRの電位をHレベルとすることで、出力端子Lの電位をLレベルに固定して、出力の電位変動を抑える期間を延長することができる。 Thereafter, during the period from time T2 to T3, the reverse bias can be applied by lowering the potential of the signal line RB. At this time, the potential of the signal line RB is preferably lower than the potential of the power supply line Vss. Thereafter, the potentials of the signal line RB and the signal line RES may be set to the H level in order to perform the reset operation again during the period from the time T3 to the time T4. By performing the reset operation again after applying the reverse bias, the potential of the terminal S, the terminal R, and the electrode SR is set to the H level, so that the potential of the output terminal L is fixed to the L level, and the output potential fluctuation is changed. The period to suppress can be extended.

このように、図11に示したリセット動作をさせるために専用の信号線を追加した、本発明にかかるシフトレジスタ回路は、任意のタイミングで全ての段をリセット動作させて、最終段まで動作させずに即座に初期状態に戻し、かつ、任意のタイミングで、逆バイアスを印加する動作をすることができる。このシフトレジスタ回路を表示装置の駆動回路として用いた場合、たとえば、表示領域に配置されている画素のうち、一部の領域しか使用しないときに、シフトレジスタ回路の動作を途中で止めることで、使用しない領域の画素を駆動することがなくなり、消費電力が低減でき、かつ、トランジスタの閾値シフトを低減できるという利点がある。また、信号線RESにパルスを入力したとき、浮遊状態となっている電極SRに電荷が注入されることで、リーク電流による電極SRの電位の低下を防ぐことができる。すなわち、電極SRにゲート電極が接続されているトランジスタがオン状態を保持し続けることが容易となる効果がある。 As described above, the shift register circuit according to the present invention, in which a dedicated signal line is added to perform the reset operation illustrated in FIG. 11, resets all the stages at an arbitrary timing and operates to the final stage. Thus, it is possible to immediately return to the initial state and apply a reverse bias at an arbitrary timing. When this shift register circuit is used as a drive circuit for a display device, for example, when only a part of the pixels arranged in the display area is used, the operation of the shift register circuit is stopped halfway, There is an advantage that a pixel in an unused region is not driven, power consumption can be reduced, and a threshold shift of the transistor can be reduced. In addition, when a pulse is input to the signal line RES, charges are injected into the electrode SR that is in a floating state, so that a decrease in the potential of the electrode SR due to a leakage current can be prevented. That is, there is an effect that it becomes easy for the transistor in which the gate electrode is connected to the electrode SR to keep the on state.

次に、図13を用いて、図7で示した、逆バイアスを印加できるシフトレジスタ回路に、信号線を一つ追加するだけで、逆バイアス印加動作だけでなく、リセット動作も行うことができる回路について説明する。 Next, by using FIG. 13, not only the reverse bias application operation but also the reset operation can be performed by adding one signal line to the shift register circuit shown in FIG. 7 that can apply the reverse bias. The circuit will be described.

図13の(A)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の全体図、図13の(B)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の一段分の回路50、図13の(C)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の入力信号と出力信号のタイムチャートである。 13A is an overall view of the shift register circuit according to the present invention, FIG. 13B is a circuit 50 for one stage of the shift register circuit according to the present invention, and FIG. It is a time chart of the input signal and output signal of the shift register circuit concerning invention.

図13の(B)は、図7の(B)で示した回路から、トランジスタ59aの接続を変更し、端子Mを追加したものである。ここで、トランジスタ51、52、53、55、56、57、59bおよび容量素子54は、それぞれ図7の(B)のトランジスタ31、32、33、35、36、37、39bおよび容量素子34に対応し、接続も図7の(B)と同様である。また、接続を変更した図13の(B)のトランジスタ59aのゲート電極は、端子Mに接続され、トランジスタ59aのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Sに接続され、トランジスタ59aのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Nに接続されている。 13B is obtained by changing the connection of the transistor 59a and adding a terminal M to the circuit shown in FIG. 7B. Here, the transistors 51, 52, 53, 55, 56, 57, 59b and the capacitor 54 are respectively connected to the transistors 31, 32, 33, 35, 36, 37, 39b and the capacitor 34 in FIG. Correspondingly, the connection is the same as in FIG. 13B, the gate electrode of the transistor 59a in FIG. 13B is connected to the terminal M, and one of the source electrode or the drain electrode of the transistor 59a is connected to the terminal S, and the source electrode or the transistor 59a The other of the drain electrodes is connected to the terminal N.

図13の(A)は、図7の(A)で示した回路における信号線RBを信号線BLとし、また、全ての段の回路50の端子Mに接続された信号線BEを追加したものである。また、トランジスタ58は、図7の(A)のトランジスタ38に対応し、接続も同様である。 In FIG. 13A, the signal line RB in the circuit shown in FIG. 7A is used as a signal line BL, and the signal line BE connected to the terminals M of the circuits 50 in all stages is added. It is. The transistor 58 corresponds to the transistor 38 in FIG. 7A and has the same connection.

ここで、図13の(C)を用いて、図13の(A)、(B)で示す回路の動作について説明する。通常動作期間中には、信号線BLには、Hレベルの電位、信号線BEには、Lレベルの電位を入力してもよい。このとき、トランジスタ59bはオン状態であり、トランジスタ59aはオフ状態である。すなわち、端子Rと端子Sは導通状態であり、端子Nと端子Sは非導通状態であるので、図13の(B)は、図1の(B)と同じ接続状態となるため、図13に示すシフトレジスタ回路は、図1に示すシフトレジスタ回路と同様な動作をする。 Here, the operation of the circuits shown in FIGS. 13A and 13B will be described with reference to FIG. During a normal operation period, an H level potential may be input to the signal line BL, and an L level potential may be input to the signal line BE. At this time, the transistor 59b is on, and the transistor 59a is off. That is, since the terminal R and the terminal S are in a conducting state and the terminal N and the terminal S are in a non-conducting state, FIG. 13B is in the same connection state as FIG. The shift register circuit shown in FIG. 6 operates in the same manner as the shift register circuit shown in FIG.

次に、図13の(C)に示すように、図13に示すシフトレジスタ回路の通常動作期間が終了した後、時刻T1から時刻T4の間に、信号線BEの電位を上げてもよい。この期間を、バイアスイネーブル期間と呼ぶこととする。バイアスイネーブル期間においては、トランジスタ59aがオン状態となっている。バイアスイネーブル期間中、信号線BLの電位がHレベルとなっている期間(時刻T1からT2、T3からT4)を、リセット期間と呼ぶこととする。リセット期間において、トランジスタ59aおよび59bはオン状態となっており、かつ、端子Nの電位がHレベルとなっているので、端子Sおよび端子R、また、端子Rに接続されている電極SRの電位がHレベルとなる。つまり、リセット動作を行うことができる。また、バイアスイネーブル期間中、信号線BLの電位がLレベルとなっている期間(時刻T2からT3)は、逆バイアス印加期間である。逆バイアス印加期間においては、図13の(B)のトランジスタ59bはオフ状態となり、トランジスタ59aはオン状態となる。すなわち、端子Rと端子Sは非導通状態となり、端子Nと端子Sは導通状態となって、電極Nの電位に従って端子Sの電位はLレベルとなる。このとき、トランジスタ59bは非導通状態であるので、端子Nの電位が、端子Rに伝達することはない。ここで、信号線BLの電位は、電源線Vssよりも低い電位であってもよい。信号線BLの低い側の電位が電源線Vssよりも低ければ、逆バイアス印加期間中、端子Sをより低い電位とすることができる。こうすることで、トランジスタ53および57に、オン状態とは逆極性の電位をゲート電極に印加できるので、トランジスタの閾値シフトを小さくできる。 Next, as illustrated in FIG. 13C, the potential of the signal line BE may be increased between time T1 and time T4 after the normal operation period of the shift register circuit illustrated in FIG. 13 ends. This period is called a bias enable period. In the bias enable period, the transistor 59a is on. A period (time T1 to T2, T3 to T4) in which the potential of the signal line BL is at the H level during the bias enable period is referred to as a reset period. In the reset period, the transistors 59a and 59b are in the on state and the potential of the terminal N is at the H level. Therefore, the potentials of the terminals S and R and the electrode SR connected to the terminal R are Becomes H level. That is, a reset operation can be performed. Further, during the bias enable period, a period (time T2 to T3) in which the potential of the signal line BL is at the L level is a reverse bias application period. In the reverse bias application period, the transistor 59b in FIG. 13B is turned off and the transistor 59a is turned on. That is, the terminal R and the terminal S are in a non-conductive state, the terminal N and the terminal S are in a conductive state, and the potential of the terminal S becomes L level according to the potential of the electrode N. At this time, since the transistor 59b is in a non-conductive state, the potential of the terminal N is not transmitted to the terminal R. Here, the potential of the signal line BL may be lower than that of the power supply line Vss. If the lower potential of the signal line BL is lower than the power supply line Vss, the terminal S can be set to a lower potential during the reverse bias application period. By doing so, a potential having an opposite polarity to the on state can be applied to the transistors 53 and 57 to the gate electrode, so that the threshold shift of the transistor can be reduced.

以上に述べたとおり、図13に示した、本発明にかかるシフトレジスタ回路は、信号線BEにより、通常動作期間と、バイアスイネーブル期間を任意に設定することができる。そして、バイアスイネーブル期間において、信号線BLの電位がHレベルならば、回路50をリセット動作させることができ、信号線BLの電位がLレベルならば、トランジスタ53および57に逆バイアスを印加することができ、かつ、信号線BLの電位を低くしても端子S以外の電極の電位を変化させることがないため、定常電流が流れる、誤動作するといった不具合が起こることが少ない。なお、バイアスイネーブル期間においては、端子Sにかける電位を自由に設定することができる。 As described above, the shift register circuit according to the present invention shown in FIG. 13 can arbitrarily set the normal operation period and the bias enable period by the signal line BE. In the bias enable period, if the potential of the signal line BL is at the H level, the circuit 50 can be reset, and if the potential of the signal line BL is at the L level, a reverse bias is applied to the transistors 53 and 57. In addition, even if the potential of the signal line BL is lowered, the potentials of the electrodes other than the terminal S are not changed, so that there are few problems such as a steady current flowing or malfunction. Note that the potential applied to the terminal S can be freely set in the bias enable period.

次に、図14を用いて、図8で示した、逆バイアスを印加できるシフトレジスタ回路に、信号線を一つ追加するだけで、逆バイアス印加動作だけでなく、リセット動作も行うことができる回路について説明する。 Next, referring to FIG. 14, not only the reverse bias application operation but also the reset operation can be performed by adding one signal line to the shift register circuit shown in FIG. 8 to which the reverse bias can be applied. The circuit will be described.

図14の(A)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の全体図、図14の(B)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の一段分の回路60、図14の(C)は、本発明にかかるシフトレジスタ回路の別の全体図である。図14の(B)は、図8の(B)で示した回路に、トランジスタ69a、69cの接続を変更し、また、端子Mを追加したものである。また、トランジスタ61、62、63、65、66、67a、67b、67c、69b、69d、および容量素子64は、それぞれ図8の(B)のトランジスタ41、42、43、45、46、47a、47b、47c、49b、49d、および容量素子44に対応し、接続も図8の(B)と同様である。 14A is an overall view of the shift register circuit according to the present invention, FIG. 14B is a circuit 60 for one stage of the shift register circuit according to the present invention, and FIG. It is another whole figure of the shift register circuit concerning invention. 14B is obtained by changing the connections of the transistors 69a and 69c and adding a terminal M to the circuit shown in FIG. 8B. In addition, the transistors 61, 62, 63, 65, 66, 67a, 67b, 67c, 69b, 69d, and the capacitor 64 are the transistors 41, 42, 43, 45, 46, 47a, FIG. Corresponding to 47b, 47c, 49b, 49d and the capacitor 44, the connection is the same as in FIG.

また、図14の(B)のトランジスタ69aのゲート電極は、端子Mに接続され、トランジスタ69aのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Sに接続され、トランジスタ69aのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Nに接続されている。また、トランジスタ69cのゲート電極は、端子Mに接続され、トランジスタ69cのソース電極またはドレイン電極の一方は、端子Uに接続され、トランジスタ69cのソース電極またはドレイン電極の他方は、端子Nに接続されている。 14B is connected to the terminal M, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 69a is connected to the terminal S, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 69a. Is connected to a terminal N. The gate electrode of the transistor 69c is connected to the terminal M, one of the source electrode and the drain electrode of the transistor 69c is connected to the terminal U, and the other of the source electrode and the drain electrode of the transistor 69c is connected to the terminal N. ing.

ここで、図14の(A)は、図8の(A)で示した回路に、全ての段の回路40の端子Nに接続された信号線RBを追加したものである。また、トランジスタ68は、図8の(A)のトランジスタ48に対応し、接続も同様である。また、図14の(C)は、図14の(A)に示す回路に、電源線Vddを追加した構成の回路を表し、全ての段の回路60の端子Vに、電源線Vddが接続されている。 Here, FIG. 14A is obtained by adding signal lines RB connected to the terminals N of the circuits 40 in all stages to the circuit shown in FIG. The transistor 68 corresponds to the transistor 48 in FIG. 8A and has the same connection. 14C shows a circuit in which the power supply line Vdd is added to the circuit shown in FIG. 14A, and the power supply line Vdd is connected to the terminals V of the circuits 60 in all stages. ing.

ここで、図14の(A)、(B)、(C)で示す回路は、図13の(C)に示すタイムチャートに従って動作させてもよい。図13の(C)に示すタイムチャートに従って図14の(A)、(B)、(C)で示す回路を動作させた場合、通常動作期間において、信号線BLにはHレベルの電位、信号線BEにはLレベルの電位を入力してもよい。このとき、トランジスタ69bおよび69dはオン状態であり、トランジスタ69aおよび69cはオフ状態である。すなわち、端子Rと端子S、および端子Qと端子Uは導通状態であり、端子Nと端子S、および端子Nと端子Uは非導通状態であるので、図14の(B)は、図2の(B)と同じ接続状態となるため、図14に示すシフトレジスタ回路は、図2に示すシフトレジスタ回路と同様な動作をする。 Here, the circuits shown in FIGS. 14A, 14B, and 14C may be operated in accordance with the time chart shown in FIG. In the case where the circuit shown in FIGS. 14A, 14B, and 14C is operated in accordance with the time chart shown in FIG. 13C, in the normal operation period, the H level potential and the signal are applied to the signal line BL. An L level potential may be input to the line BE. At this time, the transistors 69b and 69d are on, and the transistors 69a and 69c are off. That is, since the terminal R and the terminal S, and the terminal Q and the terminal U are in a conductive state, and the terminal N and the terminal S, and the terminal N and the terminal U are in a nonconductive state, FIG. 14B, the shift register circuit shown in FIG. 14 operates in the same manner as the shift register circuit shown in FIG.

次に、バイアスイネーブル期間においては、信号線BLの電位を高くしてHレベルとすることでリセット期間とすることができ、信号線BLの電位を低くしてLレベルとすることで逆バイアス印加期間とすることができる。リセット期間においては、トランジスタ69a、69b、69c、69dは全てオン状態となり、端子NがHレベルであることから、回路60はリセット動作をおこなう。一方、逆バイアス印加期間においては、図14の(B)のトランジスタ69bおよび69dはオフ状態となり、トランジスタ69aおよび69cはオン状態となる。すなわち、端子Rと端子S、および端子Qと端子Uは非導通状態となり、端子Nと端子S、および端子Nと端子Uは導通状態となって、端子Nの電位が低いことから、端子Sおよび端子Uの電位は低くなる。このとき、信号線BLの電位は、電源線Vssよりも低い電位であってもよい。信号線BLの低い側の電位が電源線Vssよりも低ければ、逆バイアス印加期間中、端子Sおよび端子Uを、より低い電位とすることができる。こうすることで、トランジスタ63および67aに、オン状態とは逆極性の電位をゲート電極に印加できるので、トランジスタの閾値シフトを小さくできる。 Next, in the bias enable period, the potential of the signal line BL is raised to H level to be a reset period, and the potential of the signal line BL is lowered to L level to apply reverse bias. It can be a period. In the reset period, the transistors 69a, 69b, 69c, and 69d are all turned on, and the terminal N is at the H level. Therefore, the circuit 60 performs a reset operation. On the other hand, in the reverse bias application period, the transistors 69b and 69d in FIG. 14B are turned off, and the transistors 69a and 69c are turned on. That is, the terminal R and the terminal S, and the terminal Q and the terminal U are in a non-conductive state, the terminal N and the terminal S, and the terminal N and the terminal U are in a conductive state, and the potential of the terminal N is low. And the electric potential of the terminal U becomes low. At this time, the potential of the signal line BL may be lower than that of the power supply line Vss. If the potential on the lower side of the signal line BL is lower than the power supply line Vss, the terminal S and the terminal U can be set to a lower potential during the reverse bias application period. Thus, a potential having a polarity opposite to that of the on state can be applied to the transistors 63 and 67a to the gate electrode, so that the threshold shift of the transistor can be reduced.

以上に述べたとおり、図14に示した、本発明にかかるシフトレジスタ回路は、信号線BEにより、通常動作期間と、バイアスイネーブル期間を任意に設定することができる。そして、バイアスイネーブル期間において、信号線BLの電位がHレベルならば、回路60をリセット動作させることができ、信号線BLの電位がLレベルならば、トランジスタ63および67aに逆バイアスを印加することができ、かつ、信号線BLの電位を低くしても端子Sおよび端子U以外の電極の電位を変化させることがないため、定常電流が流れる、誤動作するといった不具合が起こることが少ない。なお、バイアスイネーブル期間においては、端子Sおよび端子Uにかける電位を自由に設定することができる。 As described above, the shift register circuit according to the present invention shown in FIG. 14 can arbitrarily set the normal operation period and the bias enable period by the signal line BE. In the bias enable period, if the potential of the signal line BL is H level, the circuit 60 can be reset, and if the potential of the signal line BL is L level, a reverse bias is applied to the transistors 63 and 67a. In addition, even if the potential of the signal line BL is lowered, the potentials of the electrodes other than the terminal S and the terminal U are not changed, so that there are few problems such as a steady current flowing or malfunction. Note that the potential applied to the terminal S and the terminal U can be freely set in the bias enable period.

ここで、図13および図14において示した回路だけではなく、任意の回路における任意のトランジスタのゲート電極に、図15に示す回路を接続することにより、当該トランジスタに逆バイアスの印加だけでなく、順バイアスの印加を行なえるようにしてもよい。図15に示す回路により、逆バイアス印加時においては、当該トランジスタのゲート電極以外の当該回路内の電極の電位を変化させることがないので、定常電流が流れる、誤動作を起こすなどがなく、当該トランジスタの閾値シフトを低減できる。順バイアス印加時には、遮断トランジスタSIG−Trがオンすることにより、信号端子SIGと、信号端子SIGに接続されている電極の電位を、初期化またはリセットすることができる。 Here, not only the circuit shown in FIG. 13 and FIG. 14 but also the circuit shown in FIG. 15 is connected to the gate electrode of an arbitrary transistor in an arbitrary circuit. A forward bias may be applied. With the circuit shown in FIG. 15, when a reverse bias is applied, the potentials of the electrodes in the circuit other than the gate electrode of the transistor are not changed, so that a steady current flows and no malfunction occurs. Can be reduced. When the forward bias is applied, the cutoff transistor SIG-Tr is turned on, whereby the potential of the signal terminal SIG and the electrode connected to the signal terminal SIG can be initialized or reset.

図15に示す回路は、信号端子SIGと、バイアス端子BIASと、対象端子GATEと、遮断トランジスタSIG−Trと、バイアストランジスタBIAS−Trを備える。図15の(A)、(B)、(C)、(D)に示す回路において、遮断トランジスタSIG−Trのゲート電極は、バイアス端子BIASに接続され、遮断トランジスタSIG−Trのソース電極またはドレイン電極の一方は、信号端子SIGに接続され、遮断トランジスタSIG−Trのソース電極またはドレイン電極の他方は、対象端子GATEに接続されている。 The circuit shown in FIG. 15 includes a signal terminal SIG, a bias terminal BIAS, a target terminal GATE, a cutoff transistor SIG-Tr, and a bias transistor BIAS-Tr. In the circuits shown in FIGS. 15A, 15B, 15C, and 15D, the gate electrode of the cutoff transistor SIG-Tr is connected to the bias terminal BIAS, and the source electrode or drain of the cutoff transistor SIG-Tr. One of the electrodes is connected to the signal terminal SIG, and the other of the source electrode or the drain electrode of the cutoff transistor SIG-Tr is connected to the target terminal GATE.

図15の(A)、(B)、(C)、(D)に示す回路において、バイアストランジスタBIAS−Trのゲート電極は、選択端子BE−SWに接続され、バイアストランジスタBIAS−Trのソース電極またはドレイン電極の一方は、対象端子GATEに接続され、バイアストランジスタBIAS−Trのソース電極またはドレイン電極の他方は、バイアス端子BIASに接続されている。 In the circuits shown in FIGS. 15A, 15B, 15C, and 15D, the gate electrode of the bias transistor BIAS-Tr is connected to the selection terminal BE-SW, and the source electrode of the bias transistor BIAS-Tr. Alternatively, one of the drain electrodes is connected to the target terminal GATE, and the other of the source electrode and the drain electrode of the bias transistor BIAS-Tr is connected to the bias terminal BIAS.

対象端子GATEは、逆バイアスの印加を行なうトランジスタに接続される。逆バイアスの印加は、当該トランジスタのゲート電極とソース電極間、およびゲート電極とドレイン電極間の双方に対して行なうのが適当であるため、対象端子GATEは、逆バイアスの印加を行なうトランジスタのゲート電極に接続されるのが好ましい。ただし、本発明はこれに限定されず、対象端子GATEは、逆バイアスの印加を行なうトランジスタのソース電極またはドレイン電極に接続されていてもよい。そのときは、逆バイアスを印加するときの極性は、ゲート電極に接続されるときの逆としてもよい。なお、対象端子GATEに接続されるトランジスタの数はいくつでもよい。 The target terminal GATE is connected to a transistor that applies a reverse bias. Since it is appropriate to apply the reverse bias between the gate electrode and the source electrode of the transistor and between the gate electrode and the drain electrode, the target terminal GATE is the gate of the transistor to which the reverse bias is applied. It is preferable to be connected to an electrode. However, the present invention is not limited to this, and the target terminal GATE may be connected to a source electrode or a drain electrode of a transistor to which reverse bias is applied. In that case, the polarity when the reverse bias is applied may be opposite to that when it is connected to the gate electrode. Any number of transistors may be connected to the target terminal GATE.

信号端子SIGは、当該トランジスタを通常動作させるときに当該トランジスタに入力する信号線または電源線に接続する。選択端子BE−SWは、バイアス端子BIASの電位を対象端子GATEに伝達するかどうかを選択する信号線である。バイアス端子BIASは、バイアストランジスタBIAS−Trがオン状態であるときは、対象端子GATEに接続される電極に印加する電位を制御する信号線である。バイアストランジスタBIAS−Trがオフ状態であるときは、信号端子SIGと対象端子GATEを導通させるか、導通させないかを制御する信号線である。 The signal terminal SIG is connected to a signal line or a power supply line that is input to the transistor when the transistor is normally operated. The selection terminal BE-SW is a signal line for selecting whether to transmit the potential of the bias terminal BIAS to the target terminal GATE. The bias terminal BIAS is a signal line that controls a potential applied to an electrode connected to the target terminal GATE when the bias transistor BIAS-Tr is in an on state. When the bias transistor BIAS-Tr is in the OFF state, the signal line controls whether or not the signal terminal SIG and the target terminal GATE are made conductive.

ここで、図15の(A)、(B)、(C)、(D)に示す回路は、それぞれ、遮断トランジスタSIG−Trの極性と、バイアストランジスタBIAS−Trの極性に関して場合分けをしたものである。 Here, the circuits shown in FIGS. 15A, 15B, 15C, and 15D are divided into cases with respect to the polarity of the cutoff transistor SIG-Tr and the polarity of the bias transistor BIAS-Tr, respectively. It is.

図15の(A)は、通常動作時はバイアス端子BIASにHレベルの電位、選択端子BE−SWにLレベルの電位を与え、リセット動作時はバイアス端子BIASにHレベルの電位、選択端子BE−SWにHレベルの電位を与え、逆バイアス印加時はバイアス端子BIASにLレベルの電位、選択端子BE−SWにHレベルの電位を与える場合の回路である。たとえば、逆バイアスを印加する電極が、Nチャネル型トランジスタのゲート電極であるときに用いることができる。 FIG. 15A shows an H level potential applied to the bias terminal BIAS and an L level potential applied to the selection terminal BE-SW during a normal operation, and an H level potential applied to the bias terminal BIAS and a selection terminal BE during a reset operation. In this circuit, an H level potential is applied to -SW, and an L level potential is applied to the bias terminal BIAS and an H level potential is applied to the selection terminal BE-SW when a reverse bias is applied. For example, it can be used when the electrode to which the reverse bias is applied is the gate electrode of an N-channel transistor.

図15の(B)は、通常動作時はバイアス端子BIASにHレベルの電位、選択端子BE−SWにHレベルの電位を与え、リセット動作時はバイアス端子BIASにHレベルの電位、選択端子BE−SWにLレベルの電位を与え、逆バイアス印加時はバイアス端子BIASにLレベルの電位、選択端子BE−SWにLレベルの電位を与える場合の回路である。たとえば、逆バイアスを印加する電極が、Nチャネル型トランジスタのゲート電極であるときに用いることができる。 FIG. 15B shows that during normal operation, an H level potential is applied to the bias terminal BIAS and an H level potential is applied to the selection terminal BE-SW, and during the reset operation, an H level potential is applied to the bias terminal BIAS and the selection terminal BE. In this circuit, an L level potential is applied to -SW, and an L level potential is applied to the bias terminal BIAS and an L level potential is applied to the selection terminal BE-SW when a reverse bias is applied. For example, it can be used when the electrode to which the reverse bias is applied is the gate electrode of an N-channel transistor.

図15の(C)は、通常動作時はバイアス端子BIASにLレベルの電位、選択端子BE−SWにLレベルの電位を与え、リセット動作時はバイアス端子BIASにLレベルの電位、選択端子BE−SWにHレベルの電位を与え、逆バイアス印加時はバイアス端子BIASにHレベルの電位を与え、選択端子BE−SWにHレベルの電位を与える場合の回路である。たとえば、逆バイアスを印加する電極が、Pチャネル型トランジスタのゲート電極であるときに用いることができる。 FIG. 15C shows an L level potential applied to the bias terminal BIAS and an L level potential applied to the selection terminal BE-SW during normal operation, and an L level potential applied to the bias terminal BIAS and a selection terminal BE during reset operation. This is a circuit in which an H level potential is applied to -SW, an H level potential is applied to the bias terminal BIAS when a reverse bias is applied, and an H level potential is applied to the selection terminal BE-SW. For example, it can be used when the electrode to which the reverse bias is applied is the gate electrode of a P-channel transistor.

図15の(D)は、通常動作時はバイアス端子BIASにLレベルの電位、選択端子BE−SWにHレベルの電位を与え、リセット動作時はバイアス端子BIASにLレベルの電位、選択端子BE−SWにLレベルの電位を与え、逆バイアス印加時はバイアス端子BIASにHレベルの電位を与え、選択端子BE−SWにLレベルの電位を与える場合の回路である。たとえば、逆バイアスを印加する電極が、Pチャネル型トランジスタのゲート電極であるときに用いることができる。 FIG. 15D shows an L level potential applied to the bias terminal BIAS and an H level potential to the selection terminal BE-SW during a normal operation, and an L level potential applied to the bias terminal BIAS and a selection terminal BE during a reset operation. In this circuit, an L level potential is applied to -SW, an H level potential is applied to the bias terminal BIAS when a reverse bias is applied, and an L level potential is applied to the selection terminal BE-SW. For example, it can be used when the electrode to which the reverse bias is applied is the gate electrode of a P-channel transistor.

このように、本実施の形態における図15に示す回路により、任意の回路における任意のトランジスタのゲート電極に、当該回路内の他の電極の電位を変化させることなく、当該トランジスタに逆バイアスを印加することができ、また、順バイアスを信号端子SIG、対象端子GATE双方に印加することができる。 In this manner, with the circuit shown in FIG. 15 in this embodiment, a reverse bias is applied to the gate electrode of an arbitrary transistor in an arbitrary circuit without changing the potential of the other electrode in the circuit. In addition, a forward bias can be applied to both the signal terminal SIG and the target terminal GATE.

次に、図15に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタも含めた場合の回路について、図16を参照して説明する。 Next, a circuit in the case where a transistor to which a reverse bias is applied is included in the circuit illustrated in FIG. 15 will be described with reference to FIG.

図16の(A)は、図15の(A)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図16の(A)に示すように、図15の(A)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。また、図16の(B)は、図15の(A)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図16の(B)に示すように、図15の(A)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。 FIG. 16A shows a circuit in which the circuit shown in FIG. 15A includes a transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied. As shown in FIG. 16A, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG. FIG. 16B is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 16B, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図13のトランジスタ53、57、または図14のトランジスタ63、67aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。 Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 53 and 57 in FIG. 13 or the transistors 63 and 67a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2.

また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Nチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにHレベル、選択端子BE−SWにLレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにLレベル、選択端子BE−SWにHレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのLレベルの電位に依存する電位がかかることで逆バイアスを印加することができ、バイアス端子BIASにHレベル、選択端子BE−SWにHレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのHレベルの電位に依存する電位をかけることができる。 The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be N-channel transistors. In this way, during the period when the H level is input to the bias terminal BIAS and the L level is input to the selection terminal BE-SW, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2. In the period when the L level is input to the bias terminal BIAS and the H level is input to the selection terminal BE-SW, the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 depend on the L level potential of the bias terminal BIAS. The reverse bias can be applied by applying the potential to be applied, and during the period when the H level is input to the bias terminal BIAS and the H level is input to the selection terminal BE-SW, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 Applying a potential depending on the H level potential of the bias terminal BIAS to the gate electrode It can be.

また、図16の(C)は、図15の(B)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図16の(C)に示すように、図15の(B)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。 FIG. 16C is a circuit including the transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied in addition to the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 16C, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

また、図16の(D)は、図15の(B)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図16の(D)に示すように、図15の(B)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。
ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図13のトランジスタ53、57、または図14のトランジスタ63、67aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。
FIG. 16D is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 16D, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.
Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 53 and 57 in FIG. 13 or the transistors 63 and 67a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2.

また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Nチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにHレベル、選択端子BE−SWにHレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにLレベル、選択端子BE−SWにLレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのLレベルの電位に依存する電位がかかることで逆バイアスを印加することができ、バイアス端子BIASにHレベル、選択端子BE−SWにLレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのHレベルの電位に依存する電位をかけることができる。 The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be N-channel transistors. Thus, during the period when the H level is input to the bias terminal BIAS and the H level is input to the selection terminal BE-SW, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2. During the period when the L level is input to the bias terminal BIAS and the L level is input to the selection terminal BE-SW, the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 depend on the L level potential of the bias terminal BIAS. The reverse bias can be applied by applying the potential to be applied, and during the period when the H level is input to the bias terminal BIAS and the L level is input to the selection terminal BE-SW, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 Applying a potential depending on the H level potential of the bias terminal BIAS to the gate electrode It can be.

また、図16の(E)は、図15の(C)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図16の(E)に示すように、図15の(C)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。 FIG. 16E illustrates a circuit including the transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied in addition to the circuit illustrated in FIG. As shown in FIG. 16E, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

また、図16の(F)は、図15の(C)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図16の(F)に示すように、図15の(C)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。 FIG. 16F is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 16F, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図13のトランジスタ53、57、または図14のトランジスタ63、67aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。 Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 53 and 57 in FIG. 13 or the transistors 63 and 67a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2.

また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Pチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにLレベル、選択端子BE−SWにLレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにHレベル、選択端子BE−SWにHレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのHレベルの電位に依存する電位がかかることで逆バイアスを印加することができ、バイアス端子BIASにLレベル、選択端子BE−SWにHレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのLレベルの電位に依存する電位をかけることができる。 The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be P-channel transistors. In this way, during the period when the L level is input to the bias terminal BIAS and the L level is input to the selection terminal BE-SW, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2. In the period in which the H level is input to the bias terminal BIAS and the H level is input to the selection terminal BE-SW, the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 depend on the H level potential of the bias terminal BIAS. The reverse bias can be applied by applying the potential to be applied, and during the period when the L level is input to the bias terminal BIAS and the H level is input to the selection terminal BE-SW, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 Applying a potential depending on the L level potential of the bias terminal BIAS to the gate electrode It can be.

また、図16の(G)は、図15の(D)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Trを含めた回路である。図16の(G)に示すように、図15の(D)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Trのゲート電極を接続してもよい。 FIG. 16G illustrates a circuit in which the transistor AC-Tr to which a reverse bias is applied is included in the circuit illustrated in FIG. As shown in FIG. 16G, the gate electrode of the transistor AC-Tr may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG.

また、図16の(H)は、図15の(D)に示した回路に、逆バイアスを印加する対象となるトランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2を含めた回路である。図16の(H)に示すように、図15の(D)に示した回路における対象端子GATEに、トランジスタAC−Tr1およびAC−Tr2のゲート電極を接続してもよい。ここで、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、たとえば図13のトランジスタ53、57、または図14のトランジスタ63、67aのように、全体としてある機能を有する回路の一部であってもよく、本発明にかかる逆バイアスを印加する回路は、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のソース電極またはドレイン電極の接続先に依存しない。 FIG. 16H is a circuit including the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 to which a reverse bias is applied in the circuit shown in FIG. As shown in FIG. 16H, the gate electrodes of the transistors AC-Tr1 and AC-Tr2 may be connected to the target terminal GATE in the circuit shown in FIG. Here, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 are part of a circuit having a function as a whole, such as the transistors 53 and 57 in FIG. 13 or the transistors 63 and 67a in FIG. The circuit for applying the reverse bias according to the present invention does not depend on the connection destination of the source electrode or the drain electrode of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2.

また、トランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2は、Pチャネル型のトランジスタでもよい。こうすることで、バイアス端子BIASにLレベル、選択端子BE−SWにHレベルを入力する期間においては信号端子SIGに入力される信号がトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2に入力され、バイアス端子BIASにHレベル、選択端子BE−SWにLレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのHレベルの電位に依存する電位がかかることで逆バイアスを印加することができ、バイアス端子BIASにLレベル、選択端子BE−SWにLレベルを入力する期間においてはトランジスタAC−Tr、AC−Tr1、およびAC−Tr2のゲート電極にバイアス端子BIASのLレベルの電位に依存する電位をかけることができる。 The transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 may be P-channel transistors. In this way, during the period when the L level is input to the bias terminal BIAS and the H level is input to the selection terminal BE-SW, the signal input to the signal terminal SIG is input to the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2. In the period in which the H level is input to the bias terminal BIAS and the L level is input to the selection terminal BE-SW, the gate electrodes of the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 depend on the H level potential of the bias terminal BIAS. The reverse bias can be applied by applying the potential to be applied. During the period when the L level is input to the bias terminal BIAS and the L level is input to the selection terminal BE-SW, the transistors AC-Tr, AC-Tr1, and AC-Tr2 Applying a potential depending on the L level potential of the bias terminal BIAS to the gate electrode It can be.

なお、本実施の形態は他の実施の形態と自由に組み合わせて使用することができる。 Note that this embodiment can be freely combined with any of the other embodiments.

(実施の形態4)
本実施の形態においては、基板上に素子を作製し、本発明にかかるシフトレジスタ回路を構成する際の上面図および断面図について、図面を参照しながら説明する。図17は、トランジスタとしてトップゲート型トランジスタを用いた場合に、本発明にかかるシフトレジスタ回路として回路10を構成したときの上面図の例である。図17においては、説明のために、k段目の回路10とk+1段目の回路10のみを表しているが、本発明はこれに限定されず、回路10は何段で構成されていても良い。また、図17中のトランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、および端子Pは、図1の(B)におけるトランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、および端子Pに、それぞれ対応するとしてもよい。また、図1においては、回路10の外側に配置していた電極SRおよび出力端子Lを、図17においては、レイアウト面積の縮小のため、回路10の内部に配置している。なお、本実施の形態で参照する上面図において、破線で表現されている領域は、当該領域よりも上層に他の層が存在する領域を表す。
(Embodiment 4)
In this embodiment mode, a top view and a cross-sectional view when an element is formed over a substrate and a shift register circuit according to the present invention is formed will be described with reference to the drawings. FIG. 17 is an example of a top view when a circuit 10 is configured as a shift register circuit according to the present invention when a top gate transistor is used as a transistor. In FIG. 17, only the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10 are shown for the sake of explanation, but the present invention is not limited to this, and the circuit 10 may be composed of any number of stages. good. In addition, the transistors 11, 12, 13, 15, 16, and 17, the capacitor element 14, and the terminal P in FIG. 17 are the transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, and the capacitor element in FIG. 14 and terminal P, respectively. Further, in FIG. 1, the electrode SR and the output terminal L arranged outside the circuit 10 are arranged inside the circuit 10 in FIG. 17 in order to reduce the layout area. Note that in the top view referred to in this embodiment, a region represented by a broken line represents a region in which another layer is present above the region.

図17において、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1、第2のクロック信号線CLK2は、配線層で構成され、回路10の延設方向に対し、概ね平行に設けられていてもよい。こうすることで、回路10を複数延設した場合に、配線の引き回し距離が伸びることで配線抵抗が大きくなり、電源線における電圧降下による誤動作や消費電力が増大することを抑えることができる。また、信号線における信号波形のなまり等による誤動作の発生、及び正常に動作する電圧範囲の縮小などを抑えることができる。 In FIG. 17, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK <b> 1, and the second clock signal line CLK <b> 2 are configured by a wiring layer, and may be provided substantially in parallel with the extending direction of the circuit 10. In this way, when a plurality of the circuits 10 are extended, the wiring resistance increases due to an increase in the wiring routing distance, and it is possible to suppress an increase in malfunction and power consumption due to a voltage drop in the power supply line. In addition, it is possible to suppress the occurrence of malfunction due to the rounding of the signal waveform in the signal line and the reduction of the voltage range in which the signal operates normally.

また、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、回路10を構成する素子の外側に設けられてもよい。また、電源線Vssは、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2と反対側に設けられていてもよい。こうすることで、電源線Vssと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けることができるため、電源線にクロック信号線のノイズが乗ることを防ぐことができ、誤動作しにくくなる。 Further, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be provided outside the elements constituting the circuit 10. The power supply line Vss may be provided on the side opposite to the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. By doing so, it is possible to avoid the occurrence of a region where the power supply line Vss intersects the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2, and thus noise from the clock signal line is applied to the power supply line. Can be prevented, and malfunction becomes difficult.

ここで、本実施の形態において、トランジスタの活性層領域とゲート電極領域が重なる領域をチャネル領域とも記す。また、トランジスタの活性層のうち、チャネル領域で分断された領域のうちの一方を、ソース電極またはドレイン電極の一方と記し、チャネル領域で分断された領域のうちの他方を、ソース電極またはドレイン電極の他方と記す。また、当該トランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方または他方と、当該トランジスタのチャネル領域との境界線の接線方向をチャネル幅方向と記す。また、チャネル幅方向に対し垂直な方向をチャネル長方向と記す。たとえば、本実施の形態における一つのトランジスタにおいて、当該トランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方または他方と、当該トランジスタのチャネル領域との境界線が曲線である場合は、前記境界線上の各々の点において、そのチャネル幅方向およびチャネル長方向が異なることがある。 Here, in this embodiment, a region where the active layer region of the transistor overlaps with the gate electrode region is also referred to as a channel region. Of the active layers of the transistor, one of the regions divided by the channel region is referred to as one of the source electrode or the drain electrode, and the other of the regions divided by the channel region is the source electrode or the drain electrode. Of the other. A tangential direction of a boundary line between one or the other of the source electrode or the drain electrode of the transistor and the channel region of the transistor is referred to as a channel width direction. A direction perpendicular to the channel width direction is referred to as a channel length direction. For example, in one transistor in this embodiment, when the boundary line between one or the other of the source electrode or the drain electrode of the transistor and the channel region of the transistor is a curve, at each point on the boundary line The channel width direction and the channel length direction may be different.

図17において、トランジスタ11のチャネル長方向と、トランジスタ12のチャネル長方向は、概ね垂直であってもよい。こうすることで、トランジスタ11および12が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。 In FIG. 17, the channel length direction of the transistor 11 and the channel length direction of the transistor 12 may be substantially perpendicular. Thus, the area occupied by the transistors 11 and 12 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced.

また、トランジスタ13および16のチャネル長方向は概ね平行であってもよく、また、それぞれのソース電極またはドレイン電極の一方を共通としてもよい。こうすることで、トランジスタ13および16が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。また、トランジスタ15および17のチャネル長方向は概ね平行であってもよく、また、それぞれのソース電極またはドレイン電極の一方を共通としてもよい。こうすることで、トランジスタ15および17が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。 Further, the channel length directions of the transistors 13 and 16 may be substantially parallel, and one of the source electrode and the drain electrode may be common. Thus, the area occupied by the transistors 13 and 16 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced. The channel length directions of the transistors 15 and 17 may be substantially parallel, and one of the source electrode and the drain electrode may be common. Thus, the area occupied by the transistors 15 and 17 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced.

また、容量素子14は、一方の電極である端子Pをゲート電極で形成し、他方の電極である出力端子Lに接続された電極を配線層で形成してもよい。また、トランジスタの極性がNチャネル型である場合は、出力端子Lと接続されている配線層と活性層を接続し、この活性層と配線層で端子Pが形成されているゲート電極をはさむことで容量素子14を形成してもよい。端子Pをゲート電極で形成すれば、端子Pが高電位となるときに出力端子Lと接続された活性層中にキャリアが発生するため、活性層とゲート電極で形成される容量素子14の容量値を増大させることができる。 Further, in the capacitor element 14, the terminal P that is one electrode may be formed by a gate electrode, and the electrode connected to the output terminal L that is the other electrode may be formed by a wiring layer. Further, when the polarity of the transistor is an N-channel type, the wiring layer connected to the output terminal L and the active layer are connected, and the gate electrode in which the terminal P is formed by the active layer and the wiring layer is sandwiched. The capacitor element 14 may be formed by the following. If the terminal P is formed of a gate electrode, carriers are generated in the active layer connected to the output terminal L when the terminal P is at a high potential. Therefore, the capacitance of the capacitor 14 formed of the active layer and the gate electrode The value can be increased.

次に、図17中の点Aと点A’を結んだ線における断面を、トランジスタとして薄膜トランジスタを用いた場合について、図18を参照して説明する。図18に示す構造は、基板100と、下地膜101と、活性層102と、絶縁膜103と、ゲート電極104および105と、層間膜106と、配線層108と、を備える。また、図18に示す構造は、配線層108と活性層102を接続するコンタクト107a、107b、および配線層108とゲート電極104を接続するコンタクト107cを備える。図18に示す構造について、順に説明する。 Next, the case where a thin film transistor is used as a transistor in a cross section taken along a line connecting points A and A ′ in FIG. 17 will be described with reference to FIGS. The structure shown in FIG. 18 includes a substrate 100, a base film 101, an active layer 102, an insulating film 103, gate electrodes 104 and 105, an interlayer film 106, and a wiring layer 108. 18 includes contacts 107 a and 107 b that connect the wiring layer 108 and the active layer 102 and contacts 107 c that connect the wiring layer 108 and the gate electrode 104. The structure shown in FIG. 18 will be described in order.

まず、基板100は、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス等からなるガラス基板、石英基板、シリコン基板、金属基板、ステンレス基板またはプラスチック基板であってもよい。また、基板100の表面が平坦化されるように、CMP法などによって、研磨されていてもよい。 First, the substrate 100 may be a glass substrate made of barium borosilicate glass, alumino borosilicate glass, or the like, a quartz substrate, a silicon substrate, a metal substrate, a stainless steel substrate, or a plastic substrate. Further, the substrate 100 may be polished by a CMP method or the like so that the surface of the substrate 100 is planarized.

次に、基板100上に、下地膜101が形成されていてもよい。下地膜101は、CVD法、プラズマCVD法、スパッタリング法、スピンコート法等の公知の方法により、窒化アルミニウム(AlN)や酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層で形成されていてもよい。なお、下地膜101が形成されていることで、基板100からの汚染物質などを遮断する効果がある。下地膜101が形成されていない場合は、製造プロセスが簡略化されるため、コストを低減することができる。 Next, the base film 101 may be formed over the substrate 100. The base film 101 is formed of a single layer such as aluminum nitride (AlN), silicon oxide (SiO 2 ), or silicon oxynitride (SiOxNy) by a known method such as a CVD method, a plasma CVD method, a sputtering method, or a spin coating method. It may be formed by stacking. Note that the formation of the base film 101 has an effect of blocking contaminants and the like from the substrate 100. When the base film 101 is not formed, the manufacturing process is simplified, so that the cost can be reduced.

次に、基板100あるいは下地膜101の上に、活性層102が形成されていてもよい。ここで、活性層102は、ポリシリコン(p−Si)であってもよい。活性層102は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって選択的に所望の形状に形成されていてもよい。 Next, the active layer 102 may be formed on the substrate 100 or the base film 101. Here, the active layer 102 may be polysilicon (p-Si). The active layer 102 may be selectively formed in a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

次に、基板100、下地膜101あるいは活性層102の上に、絶縁膜103が形成されていてもよい。ここで、絶縁膜103は、酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiOxNy)で形成されていてもよい。 Next, the insulating film 103 may be formed over the substrate 100, the base film 101, or the active layer 102. Here, the insulating film 103 may be formed of silicon oxide (SiO 2 ) or silicon oxynitride (SiOxNy).

次に、基板100、下地膜101、活性層102あるいは絶縁膜103の上に、ゲート電極104および105が形成されていてもよい。ここで、ゲート電極104および105は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状に形成され、また、異なる種類の金属で形成されていてもよい。こうすることで、フォトリソグラフィなどでゲート電極104および105をエッチングして加工を行なう場合に、ゲート電極104と105においてエッチング選択比が取れるようにエッチングを行なうことで、フォトマスクを追加することなく、ゲート電極104とゲート電極105の面積が異なるように形成することができる。こうすることで、活性層102に帯電粒子をドーピングして活性層102の導電率を制御する場合に、フォトマスクを追加することなく、活性層102にLDD領域を作製することができるので、高電界がかかりにくく、ホットキャリア劣化の少ないトランジスタを作製することができる。 Next, gate electrodes 104 and 105 may be formed on the substrate 100, the base film 101, the active layer 102, or the insulating film 103. Here, the gate electrodes 104 and 105 are formed in a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like, and may be formed of different types of metals. Thus, when processing is performed by etching the gate electrodes 104 and 105 by photolithography or the like, etching is performed so that the gate electrodes 104 and 105 can have an etching selectivity without adding a photomask. The gate electrode 104 and the gate electrode 105 can be formed to have different areas. In this way, when the active layer 102 is doped with charged particles to control the conductivity of the active layer 102, an LDD region can be formed in the active layer 102 without adding a photomask. A transistor in which an electric field is hardly applied and hot carrier deterioration is small can be manufactured.

次に、基板100、下地膜101、活性層102、絶縁膜103あるいはゲート電極104および105の上に、層間膜106が形成されていてもよい。ここで、層間膜106は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウムその他の無機絶縁性材料、又はアクリル酸、メタクリル酸及びこれらの誘導体、又はポリイミド(polyimide)、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール(polybenzimidazole)などの耐熱性高分子、又はシロキサン樹脂等の絶縁材料で形成することができる。なお、シロキサン樹脂とは、Si−O−Si結合を含む樹脂に相当する。シロキサンは、シリコン(Si)と酸素(O)との結合で骨格構造が構成される。置換基として、少なくとも水素を含む有機基(例えばアルキル基、芳香族炭化水素)が用いられる。置換基として、フルオロ基を用いてもよい。または置換基として、少なくとも水素を含む有機基と、フルオロ基とを用いてもよい。アクリル、ポリイミド等の感光性、非感光性の材料を用いて形成すると、その側面は曲率半径が連続的に変化する形状となり、上層の薄膜が段切れせずに形成されるため好ましい。また、層間膜106は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状に形成されていてもよい。ここで、層間膜106をエッチング加工するときに、一方で、コンタクト107cのように、ゲート電極104および105でエッチングが止まるようにし、他方で、コンタクト107aおよび107bのように、絶縁膜103も加工してもよい。こうすることで、配線層108を形成して、活性層102と、ゲート電極104および105を接続することができる。 Next, an interlayer film 106 may be formed on the substrate 100, the base film 101, the active layer 102, the insulating film 103, or the gate electrodes 104 and 105. Here, the interlayer film 106 is formed of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum oxynitride, or other inorganic insulating materials, or acrylic acid, methacrylic acid and derivatives thereof, or polyimide. , An aromatic polyamide, a heat-resistant polymer such as polybenzimidazole, or an insulating material such as a siloxane resin. Note that a siloxane resin corresponds to a resin including a Si—O—Si bond. Siloxane has a skeleton structure formed of a bond of silicon (Si) and oxygen (O). As a substituent, an organic group containing at least hydrogen (for example, an alkyl group or an aromatic hydrocarbon) is used. A fluoro group may be used as a substituent. Alternatively, an organic group containing at least hydrogen and a fluoro group may be used as a substituent. When a photosensitive or non-photosensitive material such as acrylic or polyimide is used, the side surface has a shape in which the curvature radius changes continuously, and the upper thin film is formed without being cut off. The interlayer film 106 may be formed in a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like. Here, when etching the interlayer film 106, on the one hand, the etching stops at the gate electrodes 104 and 105 as in the contact 107c, and on the other hand, the insulating film 103 is also processed as in the contacts 107a and 107b. May be. Thus, the wiring layer 108 can be formed and the active layer 102 and the gate electrodes 104 and 105 can be connected.

基板100、下地膜101、活性層102、絶縁膜103、ゲート電極104および105、あるいは層間膜106の上に、配線層108が形成されていてもよい。ここで、配線層108を形成する導電性材料としては、Ag(銀)、Au(金)、Cu(銅)、W(タングステン)、Al(アルミニウム)等の金属の粒子を主成分とした組成物を用いることができる。また、透光性を有するインジウム錫酸化物(ITO)、インジウム錫酸化物と酸化珪素からなるITSO、有機インジウム、有機スズ、酸化亜鉛、窒化チタンなどを組み合わせてもよい。また、配線層108は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状に形成されていてもよい。 A wiring layer 108 may be formed on the substrate 100, the base film 101, the active layer 102, the insulating film 103, the gate electrodes 104 and 105, or the interlayer film 106. Here, as a conductive material for forming the wiring layer 108, a composition mainly composed of metal particles such as Ag (silver), Au (gold), Cu (copper), W (tungsten), and Al (aluminum). Can be used. Further, light-transmitting indium tin oxide (ITO), ITSO made of indium tin oxide and silicon oxide, organic indium, organic tin, zinc oxide, titanium nitride, or the like may be combined. The wiring layer 108 may be formed in a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

次に、端子Pおよび出力端子Lの電位を固定するために電極SRの電位をHレベルに保持するために、トランジスタ13および17の形状を工夫した場合の回路10の上面図について、図19を参照して説明する。図19に示す回路10の上面図は、図17と同様に、トランジスタ11、12、13、15、16、17および容量素子14を備え、接続も同様であるが、トランジスタ13および17のチャネル領域の面積が異なっている。このように、トランジスタ13および17のゲート電極の面積の平均を、回路10のトランジスタ12のゲート電極の面積よりも大きくすることで、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることができるので、電極SRの電位をリセット動作後にもHレベルで保持することができるため、好ましい。
また、図19のように、電極SRの形状を直線状にすることを避けて、回路10内に屈曲させて形成してもよい。こうすることで、電極SRを引き回す長さを、k段目の回路10とk+1段目の回路10とのピッチより長くすることができ、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることができるので、電極SRの電位をリセット動作後にもHレベルで保持することができるため、好ましい。
Next, FIG. 19 is a top view of the circuit 10 when the shapes of the transistors 13 and 17 are devised to hold the potential of the electrode SR at the H level in order to fix the potential of the terminal P and the output terminal L. The description will be given with reference. The top view of the circuit 10 shown in FIG. 19 includes transistors 11, 12, 13, 15, 16, and 17 and a capacitor element 14 as well as FIG. The areas of are different. Thus, by making the average area of the gate electrodes of the transistors 13 and 17 larger than the area of the gate electrode of the transistor 12 of the circuit 10, the value of the parasitic capacitance associated with the electrode SR can be increased. This is preferable because the potential of the electrode SR can be held at the H level even after the reset operation.
In addition, as shown in FIG. 19, the electrode SR may be bent in the circuit 10 while avoiding the shape of the electrode SR to be a straight line. In this way, the length of routing the electrode SR can be made longer than the pitch between the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10, and the parasitic capacitance associated with the electrode SR can be increased. This is preferable because the potential of the electrode SR can be held at the H level even after the reset operation.

次に、出力端子Lがクロック信号線の電位変化の影響をできるだけ受けないようにするために、クロック信号線と出力端子Lのクロス容量をなくした場合の上面図について、図20を参照して説明する。図20に示す回路10の上面図は、図17および図19と同様に、トランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、端子P、電極SRおよび出力端子Lを備え、接続も同様であるが、第1のクロック信号線CLK1と、第2のクロック信号線CLK2と、トランジスタ11、12の配置が図17および図19とは異なっている。 Next, with reference to FIG. 20, a top view when the cross capacitance between the clock signal line and the output terminal L is eliminated so that the output terminal L is not affected by the potential change of the clock signal line as much as possible. explain. The top view of the circuit 10 shown in FIG. 20 includes transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, a capacitor element 14, a terminal P, an electrode SR, and an output terminal L, as in FIGS. 17 and 19. However, the arrangement of the first clock signal line CLK1, the second clock signal line CLK2, and the transistors 11 and 12 is different from that in FIGS.

図20において、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1、第2のクロック信号線CLK2は、配線層で構成され、回路10の延設方向に対し、概ね平行に設けられていてもよい。こうすることで、回路10を複数延設した場合でも、配線の引き回し距離が伸びることで配線抵抗が大きくなり、電源線における電圧降下による誤動作や消費電力の増大を抑えることができる。また、信号線における信号波形のなまり等による誤動作の発生、及び正常に動作する電圧範囲の縮小などを抑えることができる。 In FIG. 20, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK <b> 1, and the second clock signal line CLK <b> 2 are configured by a wiring layer, and may be provided substantially parallel to the extending direction of the circuit 10. In this way, even when a plurality of circuits 10 are extended, the wiring resistance increases as the wiring routing distance increases, and malfunctions due to voltage drop in the power supply line and an increase in power consumption can be suppressed. In addition, it is possible to suppress the occurrence of malfunction due to the rounding of the signal waveform in the signal line and the reduction of the voltage range in which the signal operates normally.

また、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、回路10を構成する素子の外側に設けられてもよい。また、電源線Vssと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、同じ側に設けられ、かつ、第1のトランジスタ、第3のトランジスタ、第2のトランジスタ、第4のトランジスタに対し、出力端子Lのある側の反対側に設けられていてもよい。こうすることで、出力端子Lと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けることができるため、電源線にクロック信号線のノイズが乗ることを防ぐことができ、誤動作しにくくなる。 Further, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be provided outside the elements constituting the circuit 10. The power supply line Vss, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 are provided on the same side, and the first transistor, the third transistor, the second transistor, and the fourth transistor The transistor may be provided on the opposite side of the output terminal L side. By doing so, it is possible to avoid the occurrence of a region where the output terminal L intersects with the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2, so that the noise of the clock signal line gets on the power supply line. Can be prevented, and malfunction becomes difficult.

また、トランジスタ11のチャネル長方向と、トランジスタ12のチャネル長方向は、概ね平行であってもよい。こうすることで、出力端子Lと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けつつ、トランジスタ11および12が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。 Further, the channel length direction of the transistor 11 and the channel length direction of the transistor 12 may be substantially parallel. By doing so, the area occupied by the transistors 11 and 12 on the substrate can be reduced while avoiding a region where the output terminal L intersects with the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. And the circuit scale can be reduced.

次に、トランジスタとしてボトムゲート型トランジスタを用い、かつ、活性層の所望の形状へ加工を、配線層をマスクとして行なう場合の本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図について、図21を参照して説明する。図21においては、説明のために、k段目の回路10とk+1段目の回路10のみを表しているが、本発明はこれに限定されず、回路10は何段で構成されていても良い。また、図21中のトランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、および端子Pは、図1の(B)におけるトランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、および端子Pに、それぞれ対応するとしてもよい。また、図1においては、回路10の外側に配置していた電極SRおよび出力端子Lを、図21においては、レイアウト面積の縮小のため、回路10の内部に配置している。なお、本実施の形態で参照する上面図において、破線で表現されている領域は、当該領域よりも上層に他の層が存在する領域を表す。 Next, a top view of the shift register circuit according to the present invention in the case where a bottom gate type transistor is used as a transistor and the active layer is processed into a desired shape using the wiring layer as a mask will be described with reference to FIG. explain. In FIG. 21, only the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10 are shown for explanation, but the present invention is not limited to this, and the circuit 10 may have any number of stages. good. Further, the transistors 11, 12, 13, 15, 16, and 17, the capacitor element 14, and the terminal P in FIG. 21 are the transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, and the capacitor element in FIG. 14 and terminal P, respectively. Further, in FIG. 1, the electrode SR and the output terminal L arranged outside the circuit 10 are arranged inside the circuit 10 in FIG. 21 in order to reduce the layout area. Note that in the top view referred to in this embodiment, a region represented by a broken line represents a region in which another layer is present above the region.

次に、図21中の点aと点a’および点bと点b’を結んだ線における断面を、トランジスタとして薄膜トランジスタを用いた場合について、図22の(A)および(B)を参照して説明する。図22の(A)および(B)に示す構造は、基板110と、下地膜111と、第1配線層112と、絶縁膜113と、活性層114および115と、第2配線層116と、層間膜117と、第3配線層119とを備える。また、図22の(A)および(B)に示す構造は、第3配線層119と第2配線層116を接続するコンタクト118aおよび第3配線層119と第1配線層112を接続するコンタクト118bを備える。
図22の(A)および(B)に示す構造について、順に説明する。
Next, with reference to FIGS. 22A and 22B, a thin film transistor is used for the cross section taken along the line connecting points a and a ′ and b and b ′ in FIG. I will explain. The structure shown in FIGS. 22A and 22B includes a substrate 110, a base film 111, a first wiring layer 112, an insulating film 113, active layers 114 and 115, a second wiring layer 116, An interlayer film 117 and a third wiring layer 119 are provided. 22A and 22B, the contact 118a connecting the third wiring layer 119 and the second wiring layer 116 and the contact 118b connecting the third wiring layer 119 and the first wiring layer 112 are used. Is provided.
The structures shown in FIGS. 22A and 22B will be described in order.

まず、基板110は、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス等からなるガラス基板、石英基板、シリコン基板、金属基板、ステンレス基板またはプラスチック基板であってもよい。また、基板110の表面が平坦化されるように、CMP法などによって、研磨されていてもよい。 First, the substrate 110 may be a glass substrate made of barium borosilicate glass, alumino borosilicate glass, or the like, a quartz substrate, a silicon substrate, a metal substrate, a stainless steel substrate, or a plastic substrate. Further, the substrate 110 may be polished by a CMP method or the like so that the surface of the substrate 110 is planarized.

次に、基板110上に、下地膜111が形成されていてもよい。下地膜111は、CVD法、プラズマCVD法、スパッタリング法、スピンコート法等の公知の方法により、窒化アルミニウム(AlN)や酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層で形成されていてもよい。なお、下地膜111が形成されていることで、基板110からの汚染物質などを遮断する効果がある。下地膜111が形成されていない場合は、製造プロセスが簡略化されるため、コストを低減することができる。 Next, a base film 111 may be formed on the substrate 110. The base film 111 is formed of a single layer of aluminum nitride (AlN), silicon oxide (SiO 2 ), silicon oxynitride (SiOxNy), or the like by a known method such as a CVD method, a plasma CVD method, a sputtering method, or a spin coating method. It may be formed by stacking. Note that the formation of the base film 111 has an effect of blocking contaminants and the like from the substrate 110. When the base film 111 is not formed, the manufacturing process is simplified, so that the cost can be reduced.

次に、基板110あるいは下地膜111の上に、第1配線層112が形成されていてもよい。ここで、第1配線層112は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。 Next, the first wiring layer 112 may be formed on the substrate 110 or the base film 111. Here, the first wiring layer 112 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

次に、基板110、下地膜111あるいは第1配線層112の上に、絶縁膜113が形成されていてもよい。ここで、絶縁膜113は、酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiOxNy)で形成されていてもよい。 Next, an insulating film 113 may be formed on the substrate 110, the base film 111, or the first wiring layer 112. Here, the insulating film 113 may be formed of silicon oxide (SiO 2 ) or silicon oxynitride (SiOxNy).

次に、基板110、下地膜111、第1配線層112あるいは絶縁膜113の上に、活性層114および115が形成されていてもよい。ここで、活性層114および115は、アモルファスシリコン(a−Si)であってもよく、また、活性層114および115は同一成膜装置内で連続成膜されていてもよく、また、活性層115は114に比べて、導電率が大きくなっていてもよい。なお、チャネル領域、すなわち、活性層114が絶縁膜113と接している面の近傍の領域が、他の活性層114の領域よりも密に構成されていてもよい。こうすることで、トランジスタの劣化を抑えつつ、活性層114の成膜速度を速めることができ、スループットが向上する。 Next, active layers 114 and 115 may be formed on the substrate 110, the base film 111, the first wiring layer 112, or the insulating film 113. Here, the active layers 114 and 115 may be amorphous silicon (a-Si), and the active layers 114 and 115 may be continuously formed in the same film forming apparatus. 115 may have a higher conductivity than 114. Note that the channel region, that is, the region in the vicinity of the surface where the active layer 114 is in contact with the insulating film 113 may be formed more densely than the regions of the other active layers 114. Thus, the film formation rate of the active layer 114 can be increased while suppressing deterioration of the transistor, and the throughput is improved.

次に、基板110、下地膜111、第1配線層112、絶縁膜113、あるいは活性層114および115の上に、第2配線層116が形成されていてもよい。ここで、第2配線層116を形成する導電性材料としては、Ag(銀)、Au(金)、Cu(銅)、W(タングステン)、Al(アルミニウム)等の金属の粒子を主成分とした組成物を用いることができる。また、透光性を有するインジウム錫酸化物(ITO)、インジウム錫酸化物と酸化珪素からなるITSO、有機インジウム、有機スズ、酸化亜鉛、窒化チタンなどを組み合わせてもよい。また、第2配線層116は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。 Next, the second wiring layer 116 may be formed on the substrate 110, the base film 111, the first wiring layer 112, the insulating film 113, or the active layers 114 and 115. Here, as a conductive material for forming the second wiring layer 116, particles of metal such as Ag (silver), Au (gold), Cu (copper), W (tungsten), Al (aluminum) are mainly used. The composition can be used. Further, light-transmitting indium tin oxide (ITO), ITSO made of indium tin oxide and silicon oxide, organic indium, organic tin, zinc oxide, titanium nitride, or the like may be combined. The second wiring layer 116 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

次に、基板110、下地膜111、第1配線層112、絶縁膜113、活性層114および115、あるいは第2配線層116の上に、層間膜117が形成されていてもよい。ここで、層間膜117は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウムその他の無機絶縁性材料、又はアクリル酸、メタクリル酸及びこれらの誘導体、又はポリイミド(polyimide)、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール(polybenzimidazole)などの耐熱性高分子、又はシロキサン樹脂等の絶縁材料で形成することができる。アクリル、ポリイミド等の感光性、非感光性の材料を用いて形成すると、その側面は曲率半径が連続的に変化する形状となり、上層の薄膜が段切れせずに形成されるため好ましい。また、層間膜117は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。ここで、層間膜117を加工するときに、一方で、コンタクト118aのように、第2配線層116でエッチングが止まるようにし、他方で、コンタクト118bのように、絶縁膜113も加工してもよい。こうすることで、第3配線層119を形成して、第2配線層116と、第1配線層112を接続することができる。 Next, an interlayer film 117 may be formed on the substrate 110, the base film 111, the first wiring layer 112, the insulating film 113, the active layers 114 and 115, or the second wiring layer 116. Here, the interlayer film 117 is formed of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum oxynitride, or other inorganic insulating materials, or acrylic acid, methacrylic acid and derivatives thereof, or polyimide. , An aromatic polyamide, a heat-resistant polymer such as polybenzimidazole, or an insulating material such as a siloxane resin. When a photosensitive or non-photosensitive material such as acrylic or polyimide is used, the side surface has a shape in which the curvature radius changes continuously, and the upper thin film is formed without being cut off. The interlayer film 117 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like. Here, when the interlayer film 117 is processed, on the one hand, the etching stops at the second wiring layer 116 as in the contact 118a, and on the other hand, the insulating film 113 is also processed as in the contact 118b. Good. By doing so, the third wiring layer 119 can be formed, and the second wiring layer 116 and the first wiring layer 112 can be connected.

次に、基板110、下地膜111、第1配線層112、絶縁膜113、活性層114および115、第2配線層116、あるいは層間膜117の上に、第3配線層119が形成されていてもよい。ここで、第3配線層119を形成する導電性材料としては、Ag(銀)、Au(金)、Cu(銅)、W(タングステン)、Al(アルミニウム)等の金属の粒子を主成分とした組成物を用いることができる。また、透光性を有するインジウム錫酸化物(ITO)、インジウム錫酸化物と酸化珪素からなるITSO、有機インジウム、有機スズ、酸化亜鉛、窒化チタンなどを組み合わせてもよい。また、第3配線層119は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。 Next, a third wiring layer 119 is formed on the substrate 110, the base film 111, the first wiring layer 112, the insulating film 113, the active layers 114 and 115, the second wiring layer 116, or the interlayer film 117. Also good. Here, the conductive material forming the third wiring layer 119 is mainly composed of particles of metal such as Ag (silver), Au (gold), Cu (copper), W (tungsten), Al (aluminum). The composition can be used. Further, light-transmitting indium tin oxide (ITO), ITSO made of indium tin oxide and silicon oxide, organic indium, organic tin, zinc oxide, titanium nitride, or the like may be combined. The third wiring layer 119 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

なお、図22において、Ctft17は、トランジスタ17の寄生容量素子、Cclk1は出力端子Lと第1のクロック信号線CLK1との寄生容量素子、Cclk2は出力端子Lと第2のクロック信号線CLK2との寄生容量素子を、それぞれ表している。図22中のxは、寄生容量素子Ctft17において、上方に活性層が存在する第1配線層の幅を表している。また、yは、寄生容量素子Cclk1およびCclk2において、第1配線層の上端と第2配線層の下端との距離を表している。 In FIG. 22, Ctft17 is a parasitic capacitance element of the transistor 17, Cclk1 is a parasitic capacitance element between the output terminal L and the first clock signal line CLK1, and Cclk2 is an output terminal L and the second clock signal line CLK2. Each parasitic capacitance element is shown. In FIG. 22, x represents the width of the first wiring layer in which the active layer is present above in the parasitic capacitance element Ctft17. Further, y represents the distance between the upper end of the first wiring layer and the lower end of the second wiring layer in the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2.

ここで、図21において、活性層は第2配線層をマスクとして形成されているため、第2配線層に準じた形状に形成される。このとき、活性層は、第2配線層の周囲を囲む形状に形成されていてもよい。こうすることで、第2配線層を乗り越える第3配線層のカバレッジを向上させ、第3配線層の断線を防止することができる。なぜならば、たとえば、活性層の周囲の形状と第2配線層の周囲の形状が同じか概ね同じであった場合、あるいは、活性層の周囲を第2配線層が囲む形状であった場合、第2配線層の上の層間膜のテーパー角が、活性層が第2配線層の周囲を囲む形状に形成されている場合に比べて、急峻になるからである。 Here, in FIG. 21, since the active layer is formed using the second wiring layer as a mask, it is formed in a shape according to the second wiring layer. At this time, the active layer may be formed in a shape surrounding the periphery of the second wiring layer. By doing so, the coverage of the third wiring layer overcoming the second wiring layer can be improved, and disconnection of the third wiring layer can be prevented. This is because, for example, when the shape around the active layer and the shape around the second wiring layer are the same or substantially the same, or when the shape surrounding the active layer is surrounded by the second wiring layer, This is because the taper angle of the interlayer film on the two wiring layers becomes steep compared to the case where the active layer is formed in a shape surrounding the periphery of the second wiring layer.

また、図21において、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1、第2のクロック信号線CLK2は、配線層および活性層で構成され、回路10の延設方向に対し、概ね平行に設けられていてもよい。こうすることで、回路10を複数延設した場合に、配線の引き回し距離が伸びることで配線抵抗が大きくなり、電源線における電圧降下による誤動作や消費電力が増大することを抑えることができる。また、信号線における信号波形のなまり等による誤動作の発生、及び正常に動作する電圧範囲の縮小などを抑えることができる。 In FIG. 21, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 are configured by a wiring layer and an active layer, and are provided substantially in parallel with the extending direction of the circuit 10. It may be. In this way, when a plurality of the circuits 10 are extended, the wiring resistance increases due to an increase in the wiring routing distance, and it is possible to suppress an increase in malfunction and power consumption due to a voltage drop in the power supply line. In addition, it is possible to suppress the occurrence of malfunction due to the rounding of the signal waveform in the signal line and the reduction of the voltage range in which the signal operates normally.

また、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、回路10を構成する素子の外側に設けられてもよい。また、電源線Vssは、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2と反対側に設けられていてもよい。こうすることで、電源線Vssと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けることができるため、電源線にクロック信号線のノイズが乗ることを防ぐことができ、誤動作しにくくなる。 Further, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be provided outside the elements constituting the circuit 10. The power supply line Vss may be provided on the side opposite to the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. By doing so, it is possible to avoid the occurrence of a region where the power supply line Vss intersects the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2, and thus noise from the clock signal line is applied to the power supply line. Can be prevented, and malfunction becomes difficult.

図21において、トランジスタ11のチャネル長方向と、トランジスタ12のチャネル長方向は、概ね垂直であってもよい。こうすることで、トランジスタ11および12が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。また、トランジスタ13および16のチャネル長方向は概ね平行であってもよく、また、それぞれのソース電極またはドレイン電極の一方を共通としてもよい。こうすることで、トランジスタ13および16が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。 In FIG. 21, the channel length direction of the transistor 11 and the channel length direction of the transistor 12 may be substantially perpendicular. Thus, the area occupied by the transistors 11 and 12 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced. Further, the channel length directions of the transistors 13 and 16 may be substantially parallel, and one of the source electrode and the drain electrode may be common. Thus, the area occupied by the transistors 13 and 16 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced.

また、トランジスタ15および17のチャネル長方向は概ね平行であってもよく、また、それぞれのソース電極またはドレイン電極の一方を共通としてもよい。こうすることで、トランジスタ15および17が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。また、容量素子14は、一方の電極である端子Pをゲート電極で形成し、他方の電極である出力端子Lに接続された電極を配線層で形成してもよい。 The channel length directions of the transistors 15 and 17 may be substantially parallel, and one of the source electrode and the drain electrode may be common. Thus, the area occupied by the transistors 15 and 17 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced. Further, in the capacitor element 14, the terminal P that is one electrode may be formed by a gate electrode, and the electrode connected to the output terminal L that is the other electrode may be formed by a wiring layer.

次に、端子Pおよび出力端子Lの電位を固定するために電極SRの電位をHレベルに保持するために、トランジスタ13および17の形状を工夫した場合の回路10の上面図について、図23を参照して説明する。図23に示す回路10の上面図は、図21と同様に、トランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、端子P、電極SRおよび出力端子Lを備え、接続も同様であるが、トランジスタ13および17の第1配線層の形状が異なっている。このように、トランジスタ13および17の第1配線層の面積の平均を、回路10のトランジスタ12の第1配線層の面積よりも大きくすることで、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることができるので、電極SRの電位をリセット動作後にもHレベルで保持することができるため、好ましい。 Next, FIG. 23 is a top view of the circuit 10 when the shapes of the transistors 13 and 17 are devised to hold the potential of the electrode SR at an H level in order to fix the potential of the terminal P and the output terminal L. The description will be given with reference. The top view of the circuit 10 shown in FIG. 23 includes transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, a capacitor element 14, a terminal P, an electrode SR, and an output terminal L, as in FIG. However, the shapes of the first wiring layers of the transistors 13 and 17 are different. As described above, the average of the areas of the first wiring layers of the transistors 13 and 17 is made larger than the area of the first wiring layer of the transistor 12 of the circuit 10, thereby increasing the value of the parasitic capacitance associated with the electrode SR. This is preferable because the potential of the electrode SR can be held at the H level even after the reset operation.

また、図23のように、電極SRの形状を直線状にすることを避けて、回路10内に屈曲させて形成してもよい。こうすることで、電極SRを引き回す長さを、k段目の回路10とk+1段目の回路10とのピッチより長くすることができ、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることができるので、電極SRの電位をリセット動作後にもHレベルで保持することができるため、好ましい。また、図23に示す回路10の上面図は、図21と比較して、出力端子Lとクロック信号線が交差する領域の構造が異なっている。図23に示す回路10では、出力端子Lとクロック信号線が交差する領域において、出力端子Lは第3配線層で形成され、クロック信号線は第2配線層および活性層で形成されている。 Further, as shown in FIG. 23, the electrode SR may be formed by being bent in the circuit 10 while avoiding the shape of the electrode SR to be linear. In this way, the length of routing the electrode SR can be made longer than the pitch between the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10, and the parasitic capacitance associated with the electrode SR can be increased. This is preferable because the potential of the electrode SR can be held at the H level even after the reset operation. Further, the top view of the circuit 10 shown in FIG. 23 is different from FIG. 21 in the structure of the region where the output terminal L and the clock signal line intersect. In the circuit 10 shown in FIG. 23, in the region where the output terminal L and the clock signal line intersect, the output terminal L is formed by the third wiring layer, and the clock signal line is formed by the second wiring layer and the active layer.

次に、図23中の点aと点a’および点bと点b’を結んだ線における断面を、トランジスタとして薄膜トランジスタを用いた場合について、図24の(A)および(B)を参照して説明する。図24の(A)および(B)に示す構造は、図22の(A)および(B)に示す構造と同様に、基板110と、下地膜111と、第1配線層112と、絶縁膜113と、活性層114および115と、第2配線層116と、層間膜117と、第3配線層119とを備える。また、図24の(A)および(B)に示す構造は、第3配線層119と第2配線層116を接続するコンタクト118aおよび第3配線層119と第1配線層112を接続するコンタクト118bを備える。 Next, with reference to FIGS. 24A and 24B, the thin film transistor is used as the cross section taken along the line connecting points a and a ′ and b and b ′ in FIG. I will explain. The structures shown in FIGS. 24A and 24B are similar to the structures shown in FIGS. 22A and 22B in that the substrate 110, the base film 111, the first wiring layer 112, and the insulating film are formed. 113, active layers 114 and 115, a second wiring layer 116, an interlayer film 117, and a third wiring layer 119. 24A and 24B, the contact 118a connecting the third wiring layer 119 and the second wiring layer 116 and the contact 118b connecting the third wiring layer 119 and the first wiring layer 112 are used. Is provided.

なお、図24において、Ctft17は、トランジスタ17の寄生容量素子、Cclk1は出力端子Lと第1のクロック信号線CLK1との寄生容量素子、Cclk2は出力端子Lと第2のクロック信号線CLK2との寄生容量素子を、それぞれ表している。図24中のxは、寄生容量素子Ctft17において、上方に活性層が存在する第1配線層の幅を表している。また、yは、寄生容量素子Cclk1およびCclk2において、第1配線層の上端と第2配線層の下端との距離を表している。 In FIG. 24, Ctft17 is a parasitic capacitance element of the transistor 17, Cclk1 is a parasitic capacitance element between the output terminal L and the first clock signal line CLK1, and Cclk2 is an output terminal L and the second clock signal line CLK2. Each parasitic capacitance element is shown. In FIG. 24, x represents the width of the first wiring layer in which the active layer is present above in the parasitic capacitance element Ctft17. Further, y represents the distance between the upper end of the first wiring layer and the lower end of the second wiring layer in the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2.

ここで、寄生容量素子Ctft17の容量値は、xが大きいほど大きくなる。また、寄生容量素子Cclk1およびCclk2の容量値は、yが大きいほど小さくなる。図24の(A)ように、xを大きくすることで寄生容量素子Ctft17の容量値を大きくすれば、電極SRに付随する寄生容量値を大きくすることができるので、電極SRの電位をHレベルに十分に保持することができる。また、図24の(B)ように、yを大きくすることで寄生容量素子Cclk1およびCclk2の容量値を小さくすれば、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2の電位変動が、寄生容量素子Cclk1およびCclk2を介して、出力端子Lの電位を変動させてしまうことを低減することができる。なお、このとき、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2を、第1の配線層で形成してもよい。 Here, the capacitance value of the parasitic capacitance element Ctft17 increases as x increases. Further, the capacitance values of the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2 become smaller as y becomes larger. As shown in FIG. 24A, if the capacitance value of the parasitic capacitance element Ctft17 is increased by increasing x, the parasitic capacitance value associated with the electrode SR can be increased. Can be retained sufficiently. Further, as shown in FIG. 24B, if the capacitance values of the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2 are reduced by increasing y, the potential fluctuations of the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 are changed. It is possible to reduce the fluctuation of the potential of the output terminal L via the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2. At this time, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be formed of the first wiring layer.

次に、出力端子Lがクロック信号線の電位変化の影響をできるだけ受けないようにするために、クロック信号線と出力端子Lのクロス容量をなくした場合の上面図について、図25を参照して説明する。図25に示す回路10の上面図は、図21および図23と同様に、トランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、端子P、電極SRおよび出力端子Lを備え、接続も同様であるが、第1のクロック信号線CLK1と、第2のクロック信号線CLK2と、トランジスタ11、12の配置が図21および図23とは異なっている。 Next, with reference to FIG. 25, a top view when the cross capacitance between the clock signal line and the output terminal L is eliminated so that the output terminal L is not affected by the potential change of the clock signal line as much as possible. explain. The top view of the circuit 10 shown in FIG. 25 includes transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, a capacitor element 14, a terminal P, an electrode SR, and an output terminal L, as in FIGS. Similarly, the arrangement of the first clock signal line CLK1, the second clock signal line CLK2, and the transistors 11 and 12 is different from that in FIGS.

図25において、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1、第2のクロック信号線CLK2は、第2配線層および活性層で構成され、回路10の延設方向に対し、概ね平行に設けられていてもよい。こうすることで、回路10を複数延設した場合でも、配線の引き回し距離が伸びることで配線抵抗が大きくなり、電源線における電圧降下による誤動作や消費電力の増大を抑えることができる。また、信号線における信号波形のなまり等による誤動作の発生、及び正常に動作する電圧範囲の縮小などを抑えることができる。 In FIG. 25, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 are configured by the second wiring layer and the active layer, and are provided substantially parallel to the extending direction of the circuit 10. It may be. In this way, even when a plurality of circuits 10 are extended, the wiring resistance increases as the wiring routing distance increases, and malfunctions due to voltage drop in the power supply line and an increase in power consumption can be suppressed. In addition, it is possible to suppress the occurrence of malfunction due to the rounding of the signal waveform in the signal line and the reduction of the voltage range in which the signal operates normally.

また、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、回路10を構成する素子の外側に設けられてもよい。また、電源線Vssと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、同じ側に設けられ、かつ、第1のトランジスタ、第3のトランジスタ、第2のトランジスタ、第4のトランジスタに対し、出力端子Lのある側の反対側に設けられていてもよい。こうすることで、出力端子Lと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けることができるため、電源線にクロック信号線のノイズが乗ることを防ぐことができ、誤動作しにくくなる。 Further, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be provided outside the elements constituting the circuit 10. The power supply line Vss, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 are provided on the same side, and the first transistor, the third transistor, the second transistor, and the fourth transistor The transistor may be provided on the opposite side of the output terminal L side. By doing so, it is possible to avoid the occurrence of a region where the output terminal L intersects with the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2, so that the noise of the clock signal line gets on the power supply line. Can be prevented, and malfunction becomes difficult.

また、トランジスタ11のチャネル長方向と、トランジスタ12のチャネル長方向は、概ね平行であってもよい。こうすることで、出力端子Lと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けつつ、トランジスタ11および12が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。 Further, the channel length direction of the transistor 11 and the channel length direction of the transistor 12 may be substantially parallel. By doing so, the area occupied by the transistors 11 and 12 on the substrate can be reduced while avoiding a region where the output terminal L intersects with the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. And the circuit scale can be reduced.

次に、トランジスタとしてボトムゲート型トランジスタを用い、かつ、活性層と配線層の所望の形状へ加工をそれぞれ個別に行なう場合の本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図について、図26を参照して説明する。図26においては、説明のために、k段目の回路10とk+1段目の回路10のみを表しているが、本発明はこれに限定されず、回路10は何段で構成されていても良い。また、図26中のトランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、および端子Pは、図1の(B)におけるトランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、および端子Pに、それぞれ対応するとしてもよい。また、図1においては、回路10の外側に配置していた電極SRおよび出力端子Lを、図26においては、レイアウト面積の縮小のため、回路10の内部に配置している。なお、本実施の形態で参照する上面図において、破線で表現されている領域は、当該領域よりも上層に他の層が存在する領域を表す。 Next, a top view of the shift register circuit according to the present invention when a bottom gate type transistor is used as a transistor and the active layer and the wiring layer are individually processed into desired shapes will be described with reference to FIG. explain. In FIG. 26, only the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10 are shown for explanation. However, the present invention is not limited to this, and the circuit 10 may be configured in any number of stages. good. In addition, the transistors 11, 12, 13, 15, 16, and 17, the capacitor element 14, and the terminal P in FIG. 26 are the transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, and the capacitor element in FIG. 14 and terminal P, respectively. In FIG. 1, the electrode SR and the output terminal L that are arranged outside the circuit 10 are arranged inside the circuit 10 in FIG. 26 in order to reduce the layout area. Note that in the top view referred to in this embodiment, a region represented by a broken line represents a region in which another layer is present above the region.

次に、図26中の点aと点a’および点bと点b’を結んだ線における断面を、トランジスタとして薄膜トランジスタを用いた場合について、図27の(A)および(B)を参照して説明する。図27の(A)および(B)に示す構造は、基板120と、下地膜121と、第1配線層122と、絶縁膜123と、活性層124および125と、第2配線層126と、層間膜127と、第3配線層129とを備える。また、図27の(A)および(B)に示す構造は、第3配線層129と第2配線層126を接続するコンタクト128aおよび第3配線層129と第1配線層122を接続するコンタクト128bを備える。図27の(A)および(B)に示す構造について、順に説明する。 Next, with reference to FIGS. 27A and 27B, a thin film transistor is used for the cross section taken along the line connecting points a and a ′ and b and b ′ in FIG. I will explain. 27A and 27B includes a substrate 120, a base film 121, a first wiring layer 122, an insulating film 123, active layers 124 and 125, a second wiring layer 126, An interlayer film 127 and a third wiring layer 129 are provided. 27A and 27B, the contact 128a connecting the third wiring layer 129 and the second wiring layer 126 and the contact 128b connecting the third wiring layer 129 and the first wiring layer 122 are used. Is provided. The structures shown in FIGS. 27A and 27B will be described in order.

まず、基板120は、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス等からなるガラス基板、石英基板、シリコン基板、金属基板、ステンレス基板またはプラスチック基板であってもよい。また、基板120の表面が平坦化されるように、CMP法などによって、研磨されていてもよい。 First, the substrate 120 may be a glass substrate made of barium borosilicate glass, alumino borosilicate glass, or the like, a quartz substrate, a silicon substrate, a metal substrate, a stainless steel substrate, or a plastic substrate. Further, the surface of the substrate 120 may be polished by a CMP method or the like so as to be planarized.

次に、基板120上に、下地膜121が形成されていてもよい。下地膜121は、CVD法、プラズマCVD法、スパッタリング法、スピンコート法等の公知の方法により、窒化アルミニウム(AlN)や酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層で形成されていてもよい。なお、下地膜121が形成されていることで、基板120からの汚染物質などを遮断する効果がある。下地膜121が形成されていない場合は、製造プロセスが簡略化されるため、コストを低減することができる。 Next, a base film 121 may be formed on the substrate 120. The base film 121 is formed of a single layer such as aluminum nitride (AlN), silicon oxide (SiO 2 ), or silicon oxynitride (SiOxNy) by a known method such as a CVD method, a plasma CVD method, a sputtering method, or a spin coating method. It may be formed by stacking. Note that the formation of the base film 121 has an effect of blocking contaminants from the substrate 120. When the base film 121 is not formed, the manufacturing process is simplified, so that the cost can be reduced.

次に、基板120あるいは下地膜121の上に、第1配線層122が形成されていてもよい。ここで、第1配線層122は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。 Next, the first wiring layer 122 may be formed on the substrate 120 or the base film 121. Here, the first wiring layer 122 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

次に、基板120、下地膜121あるいは第1配線層122の上に、絶縁膜123が形成されていてもよい。ここで、絶縁膜123は、酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiOxNy)で形成されていてもよい。 Next, an insulating film 123 may be formed on the substrate 120, the base film 121, or the first wiring layer 122. Here, the insulating film 123 may be formed of silicon oxide (SiO 2 ) or silicon oxynitride (SiOxNy).

次に、基板120、下地膜121、第1配線層122あるいは絶縁膜123の上に、活性層124および125が形成されていてもよい。ここで、活性層124および125は、アモルファスシリコン(a−Si)であってもよく、また、活性層124および125は同一成膜装置内で連続成膜されていてもよく、また、活性層125は124に比べて、導電率が大きくなっていてもよい。なお、チャネル領域、すなわち、活性層124が絶縁膜123と接している面の近傍の領域が、他の活性層124の領域よりも密に構成されていてもよい。こうすることで、トランジスタの劣化を抑えつつ、活性層124の成膜速度を速めることができ、スループットが向上する。 Next, active layers 124 and 125 may be formed on the substrate 120, the base film 121, the first wiring layer 122, or the insulating film 123. Here, the active layers 124 and 125 may be amorphous silicon (a-Si), and the active layers 124 and 125 may be continuously formed in the same film forming apparatus. 125 may have a higher conductivity than 124. Note that the channel region, that is, the region in the vicinity of the surface where the active layer 124 is in contact with the insulating film 123 may be formed denser than the regions of the other active layers 124. Thus, the film formation rate of the active layer 124 can be increased while suppressing deterioration of the transistor, and the throughput is improved.

次に、基板120、下地膜121、第1配線層122、絶縁膜123、あるいは活性層124および125の上に、第2配線層126が形成されていてもよい。ここで、第2配線層126を形成する導電性材料としては、Ag(銀)、Au(金)、Cu(銅)、W(タングステン)、Al(アルミニウム)等の金属の粒子を主成分とした組成物を用いることができる。また、透光性を有するインジウム錫酸化物(ITO)、インジウム錫酸化物と酸化珪素からなるITSO、有機インジウム、有機スズ、酸化亜鉛、窒化チタンなどを組み合わせてもよい。また、第2配線層126は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。 Next, the second wiring layer 126 may be formed on the substrate 120, the base film 121, the first wiring layer 122, the insulating film 123, or the active layers 124 and 125. Here, as a conductive material for forming the second wiring layer 126, metal particles such as Ag (silver), Au (gold), Cu (copper), W (tungsten), and Al (aluminum) are mainly used. The composition can be used. Further, light-transmitting indium tin oxide (ITO), ITSO made of indium tin oxide and silicon oxide, organic indium, organic tin, zinc oxide, titanium nitride, or the like may be combined. The second wiring layer 126 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

次に、基板120、下地膜121、第1配線層122、絶縁膜123、活性層124および125、あるいは第2配線層126の上に、層間膜127が形成されていてもよい。ここで、層間膜127は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウムその他の無機絶縁性材料、又はアクリル酸、メタクリル酸及びこれらの誘導体、又はポリイミド(polyimide)、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール(polybenzimidazole)などの耐熱性高分子、又はシロキサン樹脂などの絶縁材料で形成することができる。アクリル、ポリイミド等の感光性、非感光性の材料を用いて形成すると、その側面は曲率半径が連続的に変化する形状となり、上層の薄膜が段切れせずに形成されるため好ましい。また、層間膜127は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。ここで、層間膜127を加工するときに、一方で、コンタクト128aのように、第2配線層126でエッチングが止まるようにし、他方で、コンタクト128bのように、絶縁膜123も加工してもよい。こうすることで、第3配線層129を形成して、第2配線層126と、第1配線層122を接続することができる。 Next, an interlayer film 127 may be formed on the substrate 120, the base film 121, the first wiring layer 122, the insulating film 123, the active layers 124 and 125, or the second wiring layer 126. Here, the interlayer film 127 is formed of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum oxynitride, or other inorganic insulating materials, or acrylic acid, methacrylic acid, and derivatives thereof, or polyimide. , An aromatic polyamide, a heat-resistant polymer such as polybenzimidazole, or an insulating material such as a siloxane resin. When a photosensitive or non-photosensitive material such as acrylic or polyimide is used, the side surface has a shape in which the curvature radius changes continuously, and the upper thin film is formed without being cut off. The interlayer film 127 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like. Here, when the interlayer film 127 is processed, the etching is stopped at the second wiring layer 126 on the one hand like the contact 128a, and the insulating film 123 is also processed on the other hand like the contact 128b. Good. In this way, the third wiring layer 129 can be formed and the second wiring layer 126 and the first wiring layer 122 can be connected.

次に、基板120、下地膜121、第1配線層122、絶縁膜123、活性層124および125、第2配線層126、あるいは層間膜127の上に、第3配線層129が形成されていてもよい。ここで、第3配線層129を形成する導電性材料としては、Ag(銀)、Au(金)、Cu(銅)、W(タングステン)、Al(アルミニウム)等の金属の粒子を主成分とした組成物を用いることができる。また、透光性を有するインジウム錫酸化物(ITO)、インジウム錫酸化物と酸化珪素からなるITSO、有機インジウム、有機スズ、酸化亜鉛、窒化チタンなどを組み合わせてもよい。また、第3配線層129は、フォトリソグラフィや液滴吐出法、印刷法などによって所望の形状へ加工されていてもよい。 Next, a third wiring layer 129 is formed on the substrate 120, the base film 121, the first wiring layer 122, the insulating film 123, the active layers 124 and 125, the second wiring layer 126, or the interlayer film 127. Also good. Here, as a conductive material for forming the third wiring layer 129, particles of metal such as Ag (silver), Au (gold), Cu (copper), W (tungsten), Al (aluminum) are mainly used. The composition can be used. Further, light-transmitting indium tin oxide (ITO), ITSO made of indium tin oxide and silicon oxide, organic indium, organic tin, zinc oxide, titanium nitride, or the like may be combined. The third wiring layer 129 may be processed into a desired shape by photolithography, a droplet discharge method, a printing method, or the like.

なお、図27において、Ctft17は、トランジスタ17の寄生容量素子、Cclk1は出力端子Lと第1のクロック信号線CLK1との寄生容量素子、Cclk2は出力端子Lと第2のクロック信号線CLK2との寄生容量素子を、それぞれ表している。図27中のxは、寄生容量素子Ctft17において、上方に活性層が存在する第1配線層の幅を表している。また、yは、寄生容量素子Cclk1およびCclk2において、第1配線層の上端と第2配線層の下端との距離を表している。ここで、yを大きくするために、点bと点b’を結んだ線上における出力端子Lと第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差している領域に、活性層124および125を形成してもよい。 In FIG. 27, Ctft17 is a parasitic capacitance element of the transistor 17, Cclk1 is a parasitic capacitance element between the output terminal L and the first clock signal line CLK1, and Cclk2 is an output terminal L and the second clock signal line CLK2. Each parasitic capacitance element is shown. In FIG. 27, x represents the width of the first wiring layer in which the active layer is present above in the parasitic capacitance element Ctft17. Further, y represents the distance between the upper end of the first wiring layer and the lower end of the second wiring layer in the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2. Here, in order to increase y, an active layer is formed in a region where the output terminal L intersects the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 on the line connecting the point b and the point b ′. 124 and 125 may be formed.

図26において、活性層と第2配線層はそれぞれ個別のマスクによって形成されているため、トランジスタ部分以外の第2配線層に活性層が形成される領域はなくてもよい。また、図26の出力端子Lと第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差している領域のように、トランジスタ部分以外の第2配線層に活性層が形成されていてもよい。 In FIG. 26, since the active layer and the second wiring layer are formed by separate masks, there may be no region where the active layer is formed in the second wiring layer other than the transistor portion. Further, an active layer is formed in the second wiring layer other than the transistor portion, such as a region where the output terminal L of FIG. 26 intersects the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. Also good.

また、図26において、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1、第2のクロック信号線CLK2は、配線層および活性層で構成され、回路10の延設方向に対し、概ね平行に設けられていてもよい。こうすることで、回路10を複数延設した場合に、配線の引き回し距離が伸びることで配線抵抗が大きくなり、電源線における電圧降下による誤動作や消費電力が増大することを抑えることができる。また、信号線における信号波形のなまり等による誤動作の発生、及び正常に動作する電圧範囲の縮小などを抑えることができる。 In FIG. 26, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 are each composed of a wiring layer and an active layer, and are provided substantially parallel to the extending direction of the circuit 10. It may be. In this way, when a plurality of the circuits 10 are extended, the wiring resistance increases due to an increase in the wiring routing distance, and it is possible to suppress an increase in malfunction and power consumption due to a voltage drop in the power supply line. In addition, it is possible to suppress the occurrence of malfunction due to the rounding of the signal waveform in the signal line and the reduction of the voltage range in which the signal operates normally.

また、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、回路10を構成する素子の外側に設けられてもよい。また、電源線Vssは、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2と反対側に設けられていてもよい。こうすることで、電源線Vssと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けることができるため、電源線にクロック信号線のノイズが乗ることを防ぐことができ、誤動作しにくくなる。 Further, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be provided outside the elements constituting the circuit 10. The power supply line Vss may be provided on the side opposite to the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. By doing so, it is possible to avoid the occurrence of a region where the power supply line Vss intersects the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2, and thus noise from the clock signal line is applied to the power supply line. Can be prevented, and malfunction becomes difficult.

図26において、トランジスタ11のチャネル長方向と、トランジスタ12のチャネル長方向は、概ね垂直であってもよい。こうすることで、トランジスタ11および12が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。 In FIG. 26, the channel length direction of the transistor 11 and the channel length direction of the transistor 12 may be substantially perpendicular. Thus, the area occupied by the transistors 11 and 12 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced.

また、トランジスタ13および16のチャネル長方向は概ね平行であってもよく、また、それぞれのソース電極またはドレイン電極の一方を共通としてもよい。こうすることで、トランジスタ13および16が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。また、トランジスタ15および17のチャネル長方向は概ね平行であってもよく、また、それぞれのソース電極またはドレイン電極の一方を共通としてもよい。こうすることで、トランジスタ15および17が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。また、容量素子14は、一方の電極である端子Pをゲート電極で形成し、他方の電極である出力端子Lに接続された電極を配線層で形成してもよい。 Further, the channel length directions of the transistors 13 and 16 may be substantially parallel, and one of the source electrode and the drain electrode may be common. Thus, the area occupied by the transistors 13 and 16 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced. The channel length directions of the transistors 15 and 17 may be substantially parallel, and one of the source electrode and the drain electrode may be common. Thus, the area occupied by the transistors 15 and 17 on the substrate can be reduced, and the circuit scale can be reduced. Further, in the capacitor element 14, the terminal P that is one electrode may be formed by a gate electrode, and the electrode connected to the output terminal L that is the other electrode may be formed by a wiring layer.

次に、端子Pおよび出力端子Lの電位を固定するために電極SRの電位をHレベルに保持するために、トランジスタ13および17の形状を工夫した場合の回路10の上面図について、図28を参照して説明する。図28に示す回路10の上面図は、図26と同様に、トランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、端子P、電極SRおよび出力端子Lを備え、接続も同様であるが、トランジスタ13および17の第1配線層の形状が異なっている。このように、トランジスタ13および17の第1配線層の面積の平均を、回路10のトランジスタ12の第1配線層の面積よりも大きくすることで、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることができるので、電極SRの電位をリセット動作後にもHレベルで保持することができるため、好ましい。 Next, FIG. 28 is a top view of the circuit 10 when the shapes of the transistors 13 and 17 are devised to hold the potential of the electrode SR at the H level in order to fix the potential of the terminal P and the output terminal L. The description will be given with reference. The top view of the circuit 10 shown in FIG. 28 includes transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, a capacitor element 14, a terminal P, an electrode SR, and an output terminal L, as in FIG. However, the shapes of the first wiring layers of the transistors 13 and 17 are different. As described above, the average of the areas of the first wiring layers of the transistors 13 and 17 is made larger than the area of the first wiring layer of the transistor 12 of the circuit 10, thereby increasing the value of the parasitic capacitance associated with the electrode SR. This is preferable because the potential of the electrode SR can be held at the H level even after the reset operation.

また、図28のように、電極SRの形状を直線状にすることを避けて、回路10内に屈曲させて形成してもよい。こうすることで、電極SRを引き回す長さを、k段目の回路10とk+1段目の回路10とのピッチより長くすることができ、電極SRに付随する寄生容量の値を大きくすることができるので、電極SRの電位をリセット動作後にもHレベルで保持することができるため、好ましい。 Further, as shown in FIG. 28, the electrode SR may be bent in the circuit 10 while avoiding a straight shape. In this way, the length of routing the electrode SR can be made longer than the pitch between the k-th stage circuit 10 and the (k + 1) -th stage circuit 10, and the parasitic capacitance associated with the electrode SR can be increased. This is preferable because the potential of the electrode SR can be held at the H level even after the reset operation.

また、図28に示す回路10の上面図は、図26と比較して、出力端子Lとクロック信号線が交差する領域の構造が異なっている。図28に示す回路10では、出力端子Lとクロック信号線が交差する領域において、出力端子Lは第3配線層で形成され、クロック信号線は第2配線層で形成されている。 In addition, the top view of the circuit 10 shown in FIG. 28 differs from the structure in FIG. 26 in the structure of the region where the output terminal L and the clock signal line intersect. In the circuit 10 shown in FIG. 28, in the region where the output terminal L and the clock signal line intersect, the output terminal L is formed by the third wiring layer, and the clock signal line is formed by the second wiring layer.

次に、図28中の点aと点a’および点bと点b’を結んだ線における断面を、トランジスタとして薄膜トランジスタを用いた場合について、図29の(A)および(B)を参照して説明する。図29の(A)および(B)に示す構造は、図27の(A)および(B)に示す構造と同様に、基板120と、下地膜121と、第1配線層122と、絶縁膜123と、活性層124および125と、第2配線層126と、層間膜127と、第3配線層129とを備える。また、図29の(A)および(B)に示す構造は、第3配線層129と第2配線層126を接続するコンタクト128aおよび第3配線層129と第1配線層122を接続するコンタクト128bを備える。 Next, with reference to FIGS. 29A and 29B, a thin film transistor is used as a cross section taken along the line connecting points a and a ′ and b and b ′ in FIG. I will explain. 29A and 29B is similar to the structure shown in FIGS. 27A and 27B in the substrate 120, the base film 121, the first wiring layer 122, and the insulating film. 123, active layers 124 and 125, a second wiring layer 126, an interlayer film 127, and a third wiring layer 129. 29A and 29B, the contact 128a that connects the third wiring layer 129 and the second wiring layer 126 and the contact 128b that connects the third wiring layer 129 and the first wiring layer 122 are the structures shown in FIGS. Is provided.

なお、図29において、Ctft17は、トランジスタ17の寄生容量素子、Cclk1は出力端子Lと第1のクロック信号線CLK1との寄生容量素子、Cclk2は出力端子Lと第2のクロック信号線CLK2との寄生容量素子を、それぞれ表している。図29中のxは、寄生容量素子Ctft17において、上方に活性層または第2配線層が存在する第1配線層の幅を表している。また、yは、寄生容量素子Cclk1およびCclk2において、第1配線層の上端と第2配線層の下端との距離を表している。 In FIG. 29, Ctft17 is a parasitic capacitance element of the transistor 17, Cclk1 is a parasitic capacitance element of the output terminal L and the first clock signal line CLK1, and Cclk2 is an output terminal L of the second clock signal line CLK2. Each parasitic capacitance element is shown. In FIG. 29, x represents the width of the first wiring layer in which the active layer or the second wiring layer is present above in the parasitic capacitance element Ctft17. Further, y represents the distance between the upper end of the first wiring layer and the lower end of the second wiring layer in the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2.

ここで、寄生容量素子Ctft17の容量値は、xが大きいほど大きくなる。また、寄生容量素子Cclk1およびCclk2の容量値は、yが大きいほど小さくなる。図29の(A)ように、xを大きくすることで寄生容量素子Ctft17の容量値を大きくすれば、電極SRに付随する寄生容量値を大きくすることができるので、電極SRの電位をHレベルに十分に保持することができる。また、図29の(B)ように、yを大きくすることで寄生容量素子Cclk1およびCclk2の容量値を小さくすれば、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2の電位変動が、寄生容量素子Cclk1およびCclk2を介して、出力端子Lの電位を変動させてしまうことを低減することができる。なお、このとき、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2の下方に、活性層および第1の配線層は形成されていなくてもよい。また、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2を、第1の配線層で形成してもよい。 Here, the capacitance value of the parasitic capacitance element Ctft17 increases as x increases. Further, the capacitance values of the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2 become smaller as y becomes larger. As shown in FIG. 29A, if the capacitance value of the parasitic capacitance element Ctft17 is increased by increasing x, the parasitic capacitance value associated with the electrode SR can be increased. Can be retained sufficiently. Further, as shown in FIG. 29B, if the capacitance values of the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2 are reduced by increasing y, the potential fluctuations of the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 are changed. It is possible to reduce the fluctuation of the potential of the output terminal L via the parasitic capacitance elements Cclk1 and Cclk2. At this time, the active layer and the first wiring layer may not be formed below the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. Further, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be formed of the first wiring layer.

次に、出力端子Lがクロック信号線の電位変化の影響をできるだけ受けないようにするために、クロック信号線と出力端子Lのクロス容量をなくした場合の上面図について、図30を参照して説明する。図30に示す回路10の上面図は、図26および図28と同様に、トランジスタ11、12、13、15、16、17、容量素子14、端子P、電極SRおよび出力端子Lを備え、接続も同様であるが、第1のクロック信号線CLK1と、第2のクロック信号線CLK2と、トランジスタ11、12の配置が図26および図28とは異なっている。 Next, with reference to FIG. 30, a top view when the cross capacitance between the clock signal line and the output terminal L is eliminated so that the output terminal L is not affected by the potential change of the clock signal line as much as possible. explain. The top view of the circuit 10 shown in FIG. 30 includes transistors 11, 12, 13, 15, 16, 17, a capacitor element 14, a terminal P, an electrode SR, and an output terminal L, as in FIGS. Similarly, the arrangement of the first clock signal line CLK1, the second clock signal line CLK2, and the transistors 11 and 12 is different from that in FIGS.

図30において、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1、第2のクロック信号線CLK2は、第2配線層で構成され、回路10の延設方向に対し、概ね平行に設けられていてもよい。こうすることで、回路10を複数延設した場合でも、配線の引き回し距離が伸びることで配線抵抗が大きくなり、電源線における電圧降下による誤動作や消費電力の増大を抑えることができる。また、信号線における信号波形のなまり等による誤動作の発生、及び正常に動作する電圧範囲の縮小などを抑えることができる。 In FIG. 30, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 are configured by the second wiring layer, and may be provided substantially in parallel with the extending direction of the circuit 10. Good. In this way, even when a plurality of circuits 10 are extended, the wiring resistance increases as the wiring routing distance increases, and malfunctions due to voltage drop in the power supply line and an increase in power consumption can be suppressed. In addition, it is possible to suppress the occurrence of malfunction due to the rounding of the signal waveform in the signal line and the reduction of the voltage range in which the signal operates normally.

また、電源線Vss、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、回路10を構成する素子の外側に設けられてもよい。また、電源線Vssと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2は、同じ側に設けられ、かつ、第1のトランジスタ、第3のトランジスタ、第2のトランジスタ、第4のトランジスタに対し、出力端子Lのある側の反対側に設けられていてもよい。こうすることで、出力端子Lと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けることができるため、電源線にクロック信号線のノイズが乗ることを防ぐことができ、誤動作しにくくなる。 Further, the power supply line Vss, the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2 may be provided outside the elements constituting the circuit 10. The power supply line Vss, the first clock signal line CLK1, and the second clock signal line CLK2 are provided on the same side, and the first transistor, the third transistor, the second transistor, and the fourth transistor The transistor may be provided on the opposite side of the output terminal L side. By doing so, it is possible to avoid the occurrence of a region where the output terminal L intersects with the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2, so that the noise of the clock signal line gets on the power supply line. Can be prevented, and malfunction becomes difficult.

また、トランジスタ11のチャネル長方向と、トランジスタ12のチャネル長方向は、概ね平行であってもよい。こうすることで、出力端子Lと、第1のクロック信号線CLK1および第2のクロック信号線CLK2が交差する領域が生じることを避けつつ、トランジスタ11および12が基板上に占める面積を小さくすることができ、回路規模を縮小することができる。 Further, the channel length direction of the transistor 11 and the channel length direction of the transistor 12 may be substantially parallel. By doing so, the area occupied by the transistors 11 and 12 on the substrate can be reduced while avoiding a region where the output terminal L intersects with the first clock signal line CLK1 and the second clock signal line CLK2. And the circuit scale can be reduced.

(実施の形態5)
本実施の形態においては、実施の形態1乃至4で述べた、本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示パネル、および本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示パネルを用いた表示装置の全体の構成例について説明する。なお、本明細書中においては、表示パネルとは、静止画像または動画像を表示するために、ガラス基板、プラスチック基板、石英基板、シリコン基板などの基板上に、画素をアレイ状に作り込んだ領域(画素領域とも記す)を有する装置のことを表す。また、表示装置とは、外部から入力された電気信号を、前記画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号に変換する回路や、前記データ信号を時分割して前記画素に書き込むための駆動回路等を含み、前記表示パネルに映像を表示するためにシステム化された装置のことを表す。また、前記表示装置には、前記データ信号を加工して表示パネルに表示する映像を最適化するための回路等を含んでいてもよい。
(Embodiment 5)
In the present embodiment, the entire display panel using the shift register circuit according to the present invention and the display device using the display panel using the shift register circuit according to the present invention described in the first to fourth embodiments. An example of the configuration will be described. Note that in this specification, a display panel includes pixels formed in an array on a substrate such as a glass substrate, a plastic substrate, a quartz substrate, or a silicon substrate in order to display a still image or a moving image. This means a device having a region (also referred to as a pixel region). The display device is a circuit that converts an electrical signal input from the outside into a data signal that individually controls the optical state of the pixel, and a drive for time-division writing of the data signal to the pixel. It represents a systemized device for displaying an image on the display panel, including a circuit and the like. The display device may include a circuit for processing the data signal and optimizing an image displayed on the display panel.

本発明にかかるシフトレジスタ回路は、表示装置を構成する駆動回路の一部として用いてもよい。また、本発明にかかるシフトレジスタ回路を表示装置に実装する方法は、生産性や製造コスト、信頼性などを考慮し、様々な方法を用いることができる。ここでは、図31を参照して、本発明にかかるシフトレジスタ回路を表示装置に実装する方法の例について説明する。 The shift register circuit according to the present invention may be used as part of a drive circuit that constitutes a display device. In addition, as a method for mounting the shift register circuit according to the present invention on a display device, various methods can be used in consideration of productivity, manufacturing cost, reliability, and the like. Here, an example of a method of mounting the shift register circuit according to the present invention on a display device will be described with reference to FIG.

図31の(A)は、画素領域と同一基板上に、周辺駆動回路であるデータ線ドライバと走査線ドライバを一体形成した場合の表示パネルを表している。図31の(A)に示す表示パネル200aは、画素領域201aと、データ線ドライバ202aと、走査線ドライバ203aと、接続配線基板204aと、を有する。
画素領域201aは、画素がアレイ状に配列された領域であり、画素アレイの状態としては、ストライプ型、またはデルタ型でもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を画素に書き込むための配線であるデータ信号線を有していてもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線を有していてもよい。
FIG. 31A shows a display panel in the case where a data line driver which is a peripheral driver circuit and a scanning line driver are integrally formed on the same substrate as the pixel region. A display panel 200a illustrated in FIG. 31A includes a pixel region 201a, a data line driver 202a, a scanning line driver 203a, and a connection wiring substrate 204a.
The pixel area 201a is an area where pixels are arranged in an array, and the state of the pixel array may be a stripe type or a delta type. Further, a data signal line which is a wiring for writing a data signal for individually controlling the optical state of the pixel to the pixel may be provided. In addition, a scanning line which is a wiring for selecting a pixel column into which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written may be provided.

データ線ドライバ202aは、画素領域201aに表示する画像に従って、データ信号線の電気的状態を制御する回路である。データ線ドライバ202aは、複数のデータ信号線を時間的に分割して制御するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The data line driver 202a is a circuit that controls the electrical state of the data signal line in accordance with an image displayed in the pixel region 201a. The data line driver 202a may include a shift register circuit according to the present invention in order to control a plurality of data signal lines by dividing them in time.

走査線ドライバ203aは、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線の電気的状態を制御する回路である。走査線ドライバ203aは、複数の走査線を順に走査して、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を順番に選択し、データ信号を画素に書き込むことで画素領域201aに映像を表示するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The scanning line driver 203a is a circuit that controls the electrical state of the scanning line, which is a wiring for selecting a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written. The scanning line driver 203a sequentially scans a plurality of scanning lines, sequentially selects a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written, and writes the data signal to the pixel to write the data signal to the pixel region 201a. In order to display an image, the shift register circuit according to the present invention may be included.

接続配線基板204aは、表示パネル200aと、表示パネル200aを駆動する外部回路とを接続する配線が形成された基板であり、接続配線基板204aをポリイミド等の可堯性を有する基板で形成することで、表示パネル200aを、可動部を有する筐体内に実装することが容易になる。また、表示パネル200aを有する筐体が強い衝撃を受けたとき、接続配線基板204aが可堯性を有していれば、接続配線基板204aにかかる衝撃が吸収されるため、接続部205aが剥離し断線してしまう危険性を少なくすることができる。 The connection wiring substrate 204a is a substrate on which wiring for connecting the display panel 200a and an external circuit that drives the display panel 200a is formed, and the connection wiring substrate 204a is formed of a flexible substrate such as polyimide. Thus, it becomes easy to mount the display panel 200a in a housing having a movable part. Further, when the housing having the display panel 200a receives a strong impact, if the connection wiring board 204a has flexibility, the impact applied to the connection wiring board 204a is absorbed, so that the connection portion 205a is peeled off. The risk of disconnection can be reduced.

図31の(A)に示す表示パネル200aは、データ線ドライバ202aと走査線ドライバ203aを、画素領域201aと同一基板上に一体形成することによって製造コストが小さくでき、また、接続点数が少ないことによって、耐衝撃性を大きくすることができる。 In the display panel 200a shown in FIG. 31A, the manufacturing cost can be reduced and the number of connection points can be reduced by integrally forming the data line driver 202a and the scanning line driver 203a on the same substrate as the pixel region 201a. The impact resistance can be increased.

図31の(B)は、画素領域と同一基板上に、周辺駆動回路である走査線ドライバを一体形成し、データ線ドライバは単結晶基板上に作製したICを基板上に配置して接続(COGとも記す)した場合の表示パネルを表している。図31の(B)に示す表示パネル200bは、画素領域201bと、データ線ドライバ202bと、走査線ドライバ203bと、接続配線基板204bとを有する。 In FIG. 31B, a scanning line driver, which is a peripheral driver circuit, is integrally formed on the same substrate as the pixel region, and the data line driver is connected by placing an IC manufactured on a single crystal substrate on the substrate ( A display panel in the case of COG) is also shown. A display panel 200b illustrated in FIG. 31B includes a pixel region 201b, a data line driver 202b, a scanning line driver 203b, and a connection wiring substrate 204b.

画素領域201bは、画素がアレイ状に配列された領域であり、画素アレイの状態としては、ストライプ型、またはデルタ型でもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を画素に書き込むための配線であるデータ信号線を有していてもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線を有していてもよい。
データ線ドライバ202bは、画素領域201bに表示する画像に従って、データ信号線の電気的状態を制御する回路である。データ線ドライバ202bは、複数のデータ信号線を時間的に分割して制御するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。
The pixel region 201b is a region in which pixels are arranged in an array, and the state of the pixel array may be a stripe type or a delta type. Further, a data signal line which is a wiring for writing a data signal for individually controlling the optical state of the pixel to the pixel may be provided. In addition, a scanning line which is a wiring for selecting a pixel column into which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written may be provided.
The data line driver 202b is a circuit that controls the electrical state of the data signal line in accordance with an image displayed in the pixel region 201b. The data line driver 202b may include a shift register circuit according to the present invention in order to control a plurality of data signal lines by dividing them in time.

走査線ドライバ203bは、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線の電気的状態を制御する回路である。走査線ドライバ203bは、複数の走査線を順に走査して、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を順番に選択し、データ信号を画素に書き込むことで画素領域201bに映像を表示するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The scanning line driver 203b is a circuit that controls the electrical state of the scanning line, which is a wiring for selecting a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written. The scanning line driver 203b sequentially scans a plurality of scanning lines, sequentially selects a pixel row to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written, and writes the data signal to the pixel to write the pixel signal to the pixel region 201b. In order to display an image, the shift register circuit according to the present invention may be included.

接続配線基板204bは、表示パネル200bと、表示パネル200bを駆動する外部回路とを接続する配線が形成された基板であり、接続配線基板204bをポリイミド等の可堯性を有する基板で形成することで、表示パネル200bを、可動部を有する筐体内に実装することが容易になる。また、表示パネル200bを有する筐体が強い衝撃を受けたとき、接続配線基板204bが可堯性を有していれば、接続配線基板204bにかかる衝撃が吸収されるため、接続部205bが剥離し断線してしまう危険性を少なくすることができる。 The connection wiring substrate 204b is a substrate on which wiring for connecting the display panel 200b and an external circuit that drives the display panel 200b is formed, and the connection wiring substrate 204b is formed of a flexible substrate such as polyimide. Thus, it becomes easy to mount the display panel 200b in a housing having a movable part. Further, when the housing having the display panel 200b receives a strong impact, if the connection wiring board 204b has flexibility, the impact applied to the connection wiring board 204b is absorbed, so that the connection portion 205b is peeled off. The risk of disconnection can be reduced.

図31の(B)に示す表示パネル200bは、走査線ドライバ203bを、画素領域201bと同一基板上に一体形成することによって製造コストが小さくでき、また、接続点数が少ないことによって、耐衝撃性を大きくすることができる。また、データ線ドライバ202bを単結晶基板で作製したICで実装しているため、トランジスタの電気的特性のばらつきを非常に小さく製造でき、表示装置の歩留まりを向上させることができる。また、動作電圧が小さくできるため、消費電力を小さくすることができる。 In the display panel 200b shown in FIG. 31B, the manufacturing cost can be reduced by integrally forming the scanning line driver 203b on the same substrate as the pixel region 201b, and the impact resistance can be reduced by reducing the number of connection points. Can be increased. In addition, since the data line driver 202b is mounted using an IC manufactured using a single crystal substrate, variation in electrical characteristics of the transistor can be manufactured extremely small, and the yield of the display device can be improved. In addition, since the operating voltage can be reduced, power consumption can be reduced.

図31の(C)は、画素領域と同一基板上に、周辺駆動回路であるデータ線ドライバおよび走査線ドライバを単結晶基板上にICとして作製し、COGとした場合の表示パネルを表している。図31の(C)に示す表示パネル200cは、画素領域201cと、データ線ドライバ202cと、走査線ドライバ203cと、接続配線基板204cとを有する。 FIG. 31C shows a display panel in the case where a data line driver and a scanning line driver, which are peripheral drive circuits, are manufactured as ICs on a single crystal substrate on the same substrate as the pixel region and used as a COG. . A display panel 200c shown in FIG. 31C includes a pixel region 201c, a data line driver 202c, a scanning line driver 203c, and a connection wiring substrate 204c.

画素領域201cは、画素がアレイ状に配列された領域であり、画素アレイの状態としては、ストライプ型、またはデルタ型でもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を画素に書き込むための配線であるデータ信号線を有していてもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線を有していてもよい。 The pixel region 201c is a region in which pixels are arranged in an array, and the state of the pixel array may be a stripe type or a delta type. Further, a data signal line which is a wiring for writing a data signal for individually controlling the optical state of the pixel to the pixel may be provided. In addition, a scanning line which is a wiring for selecting a pixel column into which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written may be provided.

データ線ドライバ202cは、画素領域201cに表示する画像に従って、データ信号線の電気的状態を制御する回路である。データ線ドライバ202cは、複数のデータ信号線を時間的に分割して制御するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The data line driver 202c is a circuit that controls the electrical state of the data signal line in accordance with an image displayed in the pixel region 201c. The data line driver 202c may include a shift register circuit according to the present invention in order to control a plurality of data signal lines by dividing them in time.

走査線ドライバ203cは、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線の電気的状態を制御する回路である。走査線ドライバ203cは、複数の走査線を順に走査して、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を順番に選択し、データ信号を画素に書き込むことで画素領域201cに映像を表示するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The scanning line driver 203c is a circuit that controls the electrical state of the scanning line, which is a wiring for selecting a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written. The scanning line driver 203c sequentially scans a plurality of scanning lines, sequentially selects a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written, and writes the data signal to the pixel to write the pixel signal into the pixel region 201c. In order to display an image, the shift register circuit according to the present invention may be included.

接続配線基板204cは、表示パネル200cと、表示パネル200cを駆動する外部回路とを接続する配線が形成された基板であり、接続配線基板204cをポリイミド等の可堯性を有する基板で形成することで、表示パネル200cを、可動部を有する筐体内に実装することが容易になる。また、表示パネル200cを有する筐体が強い衝撃を受けたとき、接続配線基板204cが可堯性を有していれば、接続配線基板204cにかかる衝撃が吸収されるため、接続部205cが剥離し断線してしまう危険性を少なくすることができる。 The connection wiring substrate 204c is a substrate on which wiring for connecting the display panel 200c and an external circuit that drives the display panel 200c is formed, and the connection wiring substrate 204c is formed of a flexible substrate such as polyimide. Thus, it becomes easy to mount the display panel 200c in a housing having a movable part. Further, when the housing having the display panel 200c receives a strong impact, if the connection wiring board 204c has flexibility, the impact applied to the connection wiring board 204c is absorbed, so that the connection portion 205c is peeled off. The risk of disconnection can be reduced.

図31の(C)に示す表示パネル200cは、データ線ドライバ202cと走査線ドライバ203cを、単結晶基板で作製したICで実装しているため、トランジスタの電気的特性のばらつきを非常に小さく製造でき、表示装置の歩留まりを向上させることができる。また、動作電圧が小さくできるため、消費電力を小さくすることができる。 In the display panel 200c shown in FIG. 31C, the data line driver 202c and the scan line driver 203c are mounted using an IC manufactured using a single crystal substrate, so that variation in electrical characteristics of transistors is extremely small. And the yield of the display device can be improved. In addition, since the operating voltage can be reduced, power consumption can be reduced.

図31の(D)は、画素領域と同一フレキシブル基板上に、周辺駆動回路である走査線ドライバを一体形成し、データ線ドライバは単結晶基板上に作製したICをフレキシブル基板上に配置して接続(TABとも記す)した場合の表示パネルを表している。図31の(D)に示す表示パネル200dは、画素領域201dと、データ線ドライバ202dと、走査線ドライバ203dと、接続配線基板204dとを有する。 In FIG. 31D, a scanning line driver, which is a peripheral driver circuit, is integrally formed on the same flexible substrate as the pixel region, and an IC manufactured on a single crystal substrate is arranged on the flexible substrate as the data line driver. A display panel when connected (also referred to as TAB) is shown. A display panel 200d illustrated in FIG. 31D includes a pixel region 201d, a data line driver 202d, a scanning line driver 203d, and a connection wiring substrate 204d.

画素領域201dは、画素がアレイ状に配列された領域であり、画素アレイの状態としては、ストライプ型、またはデルタ型でもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を画素に書き込むための配線であるデータ信号線を有していてもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線を有していてもよい。 The pixel area 201d is an area in which pixels are arranged in an array, and the state of the pixel array may be a stripe type or a delta type. Further, a data signal line which is a wiring for writing a data signal for individually controlling the optical state of the pixel to the pixel may be provided. In addition, a scanning line which is a wiring for selecting a pixel column into which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written may be provided.

データ線ドライバ202dは、画素領域201dに表示する画像に従って、データ信号線の電気的状態を制御する回路である。データ線ドライバ202dは、複数のデータ信号線を時間的に分割して制御するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The data line driver 202d is a circuit that controls the electrical state of the data signal line in accordance with the image displayed in the pixel area 201d. The data line driver 202d may include a shift register circuit according to the present invention in order to control a plurality of data signal lines by dividing them in time.

走査線ドライバ203dは、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線の電気的状態を制御する回路である。走査線ドライバ203dは、複数の走査線を順に走査して、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を順番に選択し、データ信号を画素に書き込むことで画素領域201dに映像を表示するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The scanning line driver 203d is a circuit that controls the electrical state of the scanning line, which is a wiring for selecting a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written. The scanning line driver 203d sequentially scans a plurality of scanning lines, sequentially selects a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written, and writes the data signal to the pixel to write the pixel signal into the pixel region 201d. In order to display an image, the shift register circuit according to the present invention may be included.

接続配線基板204dは、表示パネル200dと、表示パネル200dを駆動する外部回路とを接続する配線が形成された基板であり、接続配線基板204dをポリイミド等の可堯性を有する基板で形成することで、表示パネル200dを、可動部を有する筐体内に実装することが容易になる。また、表示パネル200dを有する筐体が強い衝撃を受けたとき、接続配線基板204dが可堯性を有していれば、接続配線基板204dにかかる衝撃が吸収されるため、接続部205dが剥離し断線してしまう危険性を少なくすることができる。 The connection wiring substrate 204d is a substrate on which wiring for connecting the display panel 200d and an external circuit that drives the display panel 200d is formed, and the connection wiring substrate 204d is formed of a flexible substrate such as polyimide. Thus, it becomes easy to mount the display panel 200d in a housing having a movable part. Further, when the housing having the display panel 200d receives a strong impact, if the connection wiring board 204d has flexibility, the impact applied to the connection wiring board 204d is absorbed, and thus the connection portion 205d is peeled off. The risk of disconnection can be reduced.

図31の(D)に示す表示パネル200dは、走査線ドライバ203dを、画素領域201dと同一基板上に一体形成することによって製造コストが小さくでき、また、接続点数が少ないことによって、耐衝撃性を大きくすることができる。また、データ線ドライバ202dを単結晶基板で作製したICで実装しているため、トランジスタの電気的特性のばらつきを非常に小さく製造でき、表示装置の歩留まりを向上させることができる。また、動作電圧が小さくできるため、消費電力を小さくすることができる。また、データ線ドライバ202dを接続配線基板204d上に接続しているため、表示パネル200dの画素領域201d以外の領域(額縁とも記す)を小さくすることができ、表示装置の付加価値を高くすることができる。また、接続配線基板204dが可堯性を有していれば、表示パネル200dを有する筐体が強い衝撃を受けたとき、接続配線基板204dにかかる衝撃が吸収されるため、データ線ドライバ202dが接続配線基板204dから剥離し、断線してしまう危険性を少なくすることができる。 In the display panel 200d shown in FIG. 31D, the manufacturing cost can be reduced by integrally forming the scanning line driver 203d on the same substrate as the pixel region 201d, and the impact resistance can be reduced by reducing the number of connection points. Can be increased. In addition, since the data line driver 202d is mounted using an IC manufactured using a single crystal substrate, variation in electric characteristics of the transistor can be manufactured extremely small, and the yield of the display device can be improved. In addition, since the operating voltage can be reduced, power consumption can be reduced. In addition, since the data line driver 202d is connected to the connection wiring board 204d, an area other than the pixel area 201d of the display panel 200d (also referred to as a frame) can be reduced, and the added value of the display device can be increased. Can do. Further, if the connection wiring board 204d has flexibility, when the casing having the display panel 200d receives a strong shock, the shock applied to the connection wiring board 204d is absorbed. The risk of peeling from the connection wiring substrate 204d and disconnection can be reduced.

図31の(E)は、画素領域と同一基板上に、周辺駆動回路であるデータ線ドライバおよび走査線ドライバを単結晶基板上にICとして作製し、TABとした場合の表示パネルを表している。図31の(E)に示す表示パネル200eは、画素領域201eと、データ線ドライバ202eと、走査線ドライバ203eと、接続配線基板204eとを有する。 FIG. 31E shows a display panel in which a data line driver and a scanning line driver, which are peripheral driver circuits, are manufactured as ICs on a single crystal substrate over the same substrate as the pixel region to form a TAB. . A display panel 200e illustrated in FIG. 31E includes a pixel region 201e, a data line driver 202e, a scanning line driver 203e, and a connection wiring substrate 204e.

画素領域201eは、画素がアレイ状に配列された領域であり、画素アレイの状態としては、ストライプ型、またはデルタ型でもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を画素に書き込むための配線であるデータ信号線を有していてもよい。また、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線を有していてもよい。 The pixel area 201e is an area in which pixels are arranged in an array, and the state of the pixel array may be a stripe type or a delta type. Further, a data signal line which is a wiring for writing a data signal for individually controlling the optical state of the pixel to the pixel may be provided. In addition, a scanning line which is a wiring for selecting a pixel column into which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written may be provided.

データ線ドライバ202eは、画素領域201eに表示する画像に従って、データ信号線の電気的状態を制御する回路である。データ線ドライバ202eは、複数のデータ信号線を時間的に分割して制御するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The data line driver 202e is a circuit that controls the electrical state of the data signal line in accordance with an image displayed in the pixel region 201e. The data line driver 202e may have a shift register circuit according to the present invention in order to control a plurality of data signal lines by dividing them in time.

走査線ドライバ203eは、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を選択するための配線である走査線の電気的状態を制御する回路である。走査線ドライバ203eは、複数の走査線を順に走査して、画素の光学的状態を個別に制御するデータ信号を書き込む画素列を順番に選択し、データ信号を画素に書き込むことで画素領域201eに映像を表示するために、本発明にかかるシフトレジスタ回路を有していてもよい。 The scanning line driver 203e is a circuit that controls the electrical state of the scanning line, which is a wiring for selecting a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written. The scanning line driver 203e sequentially scans a plurality of scanning lines, sequentially selects a pixel column to which a data signal for individually controlling the optical state of the pixel is written, and writes the data signal to the pixel to write the pixel signal to the pixel region 201e. In order to display an image, the shift register circuit according to the present invention may be included.

接続配線基板204eは、表示パネル200eと、表示パネル200eを駆動する外部回路とを接続する配線が形成された基板であり、接続配線基板204eをポリイミド等の可堯性を有する基板で形成することで、表示パネル200eを、可動部を有する筐体内に実装することが容易になる。また、表示パネル200eを有する筐体が強い衝撃を受けたとき、接続配線基板204eが可堯性を有していれば、接続配線基板204eにかかる衝撃が吸収されるため、接続部205eが剥離し断線してしまう危険性を少なくすることができる。 The connection wiring substrate 204e is a substrate on which wiring for connecting the display panel 200e and an external circuit that drives the display panel 200e is formed, and the connection wiring substrate 204e is formed of a flexible substrate such as polyimide. Thus, it becomes easy to mount the display panel 200e in a housing having a movable part. Further, when the housing having the display panel 200e receives a strong impact, if the connection wiring board 204e has flexibility, the impact applied to the connection wiring board 204e is absorbed, and thus the connection portion 205e is peeled off. The risk of disconnection can be reduced.

図31の(E)に示す表示パネル200eは、データ線ドライバ202eと走査線ドライバ203eを、単結晶基板で作製したICで実装しているため、トランジスタの電気的特性のばらつきを非常に小さく製造でき、表示装置の歩留まりを向上させることができる。また、動作電圧が小さくできるため、消費電力を小さくすることができる。また、データ線ドライバ202eを接続配線基板204e上に接続しているため、表示パネル200eの額縁を小さくすることができ、表示装置の付加価値を高くすることができる。また、接続配線基板204eが可堯性を有していれば、表示パネル200eを有する筐体が強い衝撃を受けたとき、接続配線基板204eにかかる衝撃が吸収されるため、データ線ドライバ202eおよび走査線ドライバ203eが接続配線基板204eから剥離し、断線してしまう危険性を少なくすることができる。 A display panel 200e shown in FIG. 31E is manufactured with a very small variation in electrical characteristics of transistors because the data line driver 202e and the scanning line driver 203e are mounted using an IC manufactured using a single crystal substrate. And the yield of the display device can be improved. In addition, since the operating voltage can be reduced, power consumption can be reduced. In addition, since the data line driver 202e is connected to the connection wiring board 204e, the frame of the display panel 200e can be reduced, and the added value of the display device can be increased. Further, if the connection wiring board 204e has flexibility, when the casing having the display panel 200e receives a strong shock, the shock applied to the connection wiring board 204e is absorbed, so that the data line driver 202e and The risk that the scanning line driver 203e is peeled off from the connection wiring board 204e and disconnected is reduced.

このように、本発明におけるトランジスタは、どのようなタイプのトランジスタでもよいし、どのような基板上に形成されていてもよい。したがって、本発明にかかるシフトレジスタ回路が、全てガラス基板上に形成されていてもよいし、プラスチック基板に形成されていてもよいし、単結晶基板に形成されていてもよいし、SOI基板上に形成されていてもよいし、どのような基板上に形成されていてもよい。あるいは、本発明にかかるシフトレジスタ回路の一部が、ある基板に形成されており、本発明にかかるシフトレジスタ回路の別の一部が、別の基板に形成されていてもよい。つまり、本発明にかかるシフトレジスタ回路の全てが同じ基板上に形成されていなくてもよい。 Thus, the transistor in the present invention may be any type of transistor and may be formed on any substrate. Accordingly, the shift register circuit according to the present invention may be formed entirely on a glass substrate, may be formed on a plastic substrate, may be formed on a single crystal substrate, or may be formed on an SOI substrate. Or may be formed on any substrate. Alternatively, a part of the shift register circuit according to the present invention may be formed on a certain substrate, and another part of the shift register circuit according to the present invention may be formed on another substrate. That is, all the shift register circuits according to the present invention may not be formed on the same substrate.

次に、図32を参照して、本発明にかかるシフトレジスタ回路を含む表示装置の構成例を示す。図32に示す表示装置220は、図31で示した表示パネル200と、外部駆動回路221と、接続配線基板204とを備える。 Next, with reference to FIG. 32, a configuration example of a display device including a shift register circuit according to the present invention is shown. A display device 220 illustrated in FIG. 32 includes the display panel 200 illustrated in FIG. 31, an external drive circuit 221, and a connection wiring substrate 204.

表示パネル200は、画素領域201と、データ線ドライバ202と、走査線ドライバ203とを含む。表示パネル200については前述したので、ここでは詳しくは説明しないが、もちろん、図32に示す表示装置220においても、データ線ドライバ202および走査線ドライバ203の実装方法は様々なものが適用可能である。 The display panel 200 includes a pixel area 201, a data line driver 202, and a scanning line driver 203. Since the display panel 200 has been described above, it will not be described in detail here. Of course, various methods for mounting the data line driver 202 and the scanning line driver 203 can be applied to the display device 220 shown in FIG. .

外部駆動回路221は、制御回路210と、映像データ変換回路211と、電源回路212と、を含む。また、電源回路212は、制御・映像データ変換回路用電源CV、ドライバ用電源DV、画素回路用電源PVを備えていてもよい。なお、画素回路用電源PVは、画素領域201の構成によっては、電源回路212内に備えていなくてもよい。 The external drive circuit 221 includes a control circuit 210, a video data conversion circuit 211, and a power supply circuit 212. The power supply circuit 212 may include a control / video data conversion circuit power supply CV, a driver power supply DV, and a pixel circuit power supply PV. Note that the pixel circuit power source PV may not be provided in the power source circuit 212 depending on the configuration of the pixel region 201.

接続配線基板204は、表示パネル200とは接続部205によって電気的に接続され、外部駆動回路221とはコネクタ213によって電気的に接続されていてもよい。 The connection wiring board 204 may be electrically connected to the display panel 200 through the connection unit 205 and may be electrically connected to the external drive circuit 221 through the connector 213.

また、画素領域201の大きな表示パネルに対応するため、図33に示すように、一つの表示パネル200および画素領域201に対し、複数のデータ線ドライバ202(202−1、202−2、202−3、202−4)、複数の走査線ドライバ203(203−1、203−2、203−3、203−4)、複数の接続配線基板204(204−1、204−2、204−3、204−4、204−5、204−6、204−7、204−8)を用いてもよい。ここで、図33では、例としてデータ線ドライバ202および走査線ドライバ203の数が4つであるときを示したが、データ線ドライバ202および走査線ドライバ203の数はこれに限定されず、いくつでもよい。データ線ドライバ202および走査線ドライバ203の数が少なければ、ICの数および接続点数が減少するので、信頼性が向上し、製造コストも低減できる。また、データ線ドライバ202および走査線ドライバ203の数が大きければ、それぞれのドライバに要求される性能が低くなるので、歩留まりの向上が実現できる。 Further, in order to cope with a display panel having a large pixel area 201, a plurality of data line drivers 202 (202-1, 202-2, 202-) are provided for one display panel 200 and one pixel area 201 as shown in FIG. 3, 202-4), a plurality of scanning line drivers 203 (203-1, 203-2, 203-3, 203-4), a plurality of connection wiring boards 204 (204-1, 204-2, 204-3, 204-4, 204-5, 204-6, 204-7, 204-8) may be used. Here, FIG. 33 shows the case where the number of the data line drivers 202 and the scanning line drivers 203 is four as an example, but the number of the data line drivers 202 and the scanning line drivers 203 is not limited to this. But you can. If the number of data line drivers 202 and scanning line drivers 203 is small, the number of ICs and the number of connection points are reduced, so that reliability is improved and manufacturing costs can be reduced. Also, if the number of data line drivers 202 and scanning line drivers 203 is large, the performance required for each driver is lowered, so that the yield can be improved.

なお、接続配線基板204の数は、二つ以上、かつ、データ線ドライバ202および走査線ドライバ203の分割数以下であるのが好ましい。ドライバの分割数より接続配線基板204の数を大きくすると、接点数の増加により、接点の剥離による不良を引き起こす原因となる。 Note that the number of the connection wiring boards 204 is preferably two or more and not more than the number of divisions of the data line driver 202 and the scanning line driver 203. If the number of connection wiring boards 204 is made larger than the number of divided drivers, an increase in the number of contacts causes a failure due to contact peeling.

図32において、制御回路210は、映像データ変換回路211、電源回路212と接続される。また、制御回路210は、コネクタ213、接続配線基板204、接続部205を介してデータ線ドライバ202および走査線ドライバ203と接続される。また、映像データ変換回路211は、映像データを入力する入力端子と接続される。また、映像データ変換回路211は、コネクタ213、接続配線基板204、接続部205を介してデータ線ドライバ202と接続される。 In FIG. 32, the control circuit 210 is connected to a video data conversion circuit 211 and a power supply circuit 212. The control circuit 210 is connected to the data line driver 202 and the scanning line driver 203 via the connector 213, the connection wiring board 204, and the connection unit 205. The video data conversion circuit 211 is connected to an input terminal for inputting video data. The video data conversion circuit 211 is connected to the data line driver 202 via the connector 213, the connection wiring board 204, and the connection unit 205.

また、電源回路212は、各回路の電源を供給し、電源回路212内の制御・映像データ変換回路用電源CVは、制御回路210および映像データ変換回路211と接続され、ドライバ用電源DVは、コネクタ213、接続配線基板204、接続部205を介してデータ線ドライバ202および走査線ドライバ203と接続され、画素回路用電源PVは、コネクタ213、接続配線基板204、接続部205を介して画素領域201と接続される。 The power supply circuit 212 supplies power to each circuit. The control / video data conversion circuit power supply CV in the power supply circuit 212 is connected to the control circuit 210 and the video data conversion circuit 211. The driver power supply DV is The pixel circuit power source PV is connected to the data line driver 202 and the scanning line driver 203 through the connector 213, the connection wiring board 204, and the connection unit 205. 201 is connected.

制御回路210および映像データ変換回路211は、主にロジック動作を行うため、制御・映像データ変換回路用電源CVが供給する電圧はできるだけ低くするのが好適であり、3V程度が望ましい。また、消費電力の低減のため、ドライバ用電源DVが供給する電圧はできるだけ低くするのが好適であり、データ線ドライバ202および走査線ドライバ203に単結晶基板のICを用いる場合は、3V程度が望ましい。また、データ線ドライバ202および走査線ドライバ203を表示パネル200と一体形成する場合は、トランジスタの閾値電圧の2〜3倍程度の振幅の電圧を供給するのが望ましい。こうすることで、消費電力の増加を抑えつつ、確実に回路を動作させることができる。 Since the control circuit 210 and the video data conversion circuit 211 mainly perform a logic operation, the voltage supplied from the control / video data conversion circuit power source CV is preferably as low as possible, and is preferably about 3V. In order to reduce power consumption, it is preferable that the voltage supplied by the driver power supply DV be as low as possible. When a single crystal substrate IC is used for the data line driver 202 and the scanning line driver 203, about 3V is required. desirable. In the case where the data line driver 202 and the scanning line driver 203 are formed integrally with the display panel 200, it is desirable to supply a voltage having an amplitude of about 2 to 3 times the threshold voltage of the transistor. In this way, the circuit can be reliably operated while suppressing an increase in power consumption.

制御回路210は、データ線ドライバ202、走査線ドライバ203に対して、クロックを生成して供給する動作、タイミングパルスを生成して供給する動作、などを行なう構成としてもよい。また、映像データ変換回路211に対しては、クロックを生成して供給する動作、変換された映像データをデータ線ドライバ202に出力するタイミングパルスを生成して供給する動作、などを行う構成としてもよい。電源回路212に対しては、例えば、映像データ変換回路211、データ線ドライバ202および走査線ドライバ203が動作する必要のないときに、それぞれの回路に電圧を供給することを停止することで、消費電力の低減を行なう動作をする構成としてもよい。 The control circuit 210 may be configured to perform an operation of generating and supplying a clock, an operation of generating and supplying a timing pulse, and the like to the data line driver 202 and the scanning line driver 203. The video data conversion circuit 211 may be configured to perform operations such as generating and supplying a clock, generating and supplying timing pulses for outputting the converted video data to the data line driver 202, and the like. Good. For example, when the video data conversion circuit 211, the data line driver 202, and the scanning line driver 203 do not need to operate, the power supply circuit 212 is stopped by supplying voltage to each circuit. It is good also as a structure which performs the operation | movement which reduces electric power.

映像データが映像データ変換回路211に入力されると、映像データ変換回路211は制御回路210から供給されるタイミングに従って映像データをデータ線ドライバ202に入力できるデータに変換し、データ線ドライバ202に出力する。具体的には、アナログ信号で入力された映像データを映像データ変換回路211でA/D変換し、デジタル信号の映像データをデータ線ドライバ202に出力する構成でもよい。 When the video data is input to the video data conversion circuit 211, the video data conversion circuit 211 converts the video data into data that can be input to the data line driver 202 according to the timing supplied from the control circuit 210 and outputs the data to the data line driver 202. To do. Specifically, the video data input as an analog signal may be A / D converted by the video data conversion circuit 211, and the digital signal video data may be output to the data line driver 202.

データ線ドライバ202は、制御回路210から供給されるクロック信号およびタイミングパルスに従い、本発明にかかるシフトレジスタ回路を動作させ、データ線ドライバ202に入力される映像データを時分割して取り込み、取り込まれたデータにしたがって、アナログ値のデータ電圧またはデータ電流を複数のデータ線に出力する構成でも良い。データ線に出力されるデータ電圧またはデータ電流の更新は、制御回路210から供給されるラッチパルスによって行なわれてもよい。また、本発明にかかるシフトレジスタ回路をリセット動作させるため、リセット動作のための信号を入力してもよい。また、本発明にかかるシフトレジスタ回路に含まれるトランジスタに逆バイアスを印加するために、逆バイアスを印加するための信号を入力してもよい。 The data line driver 202 operates the shift register circuit according to the present invention in accordance with the clock signal and timing pulse supplied from the control circuit 210, and captures and captures video data input to the data line driver 202 in a time-sharing manner. According to the data, an analog value data voltage or data current may be output to a plurality of data lines. The data voltage or data current output to the data line may be updated by a latch pulse supplied from the control circuit 210. In addition, in order to cause the shift register circuit according to the present invention to perform a reset operation, a signal for a reset operation may be input. In addition, in order to apply a reverse bias to the transistor included in the shift register circuit according to the present invention, a signal for applying the reverse bias may be input.

データ線に出力されるデータ電圧またはデータ電流の更新に合わせて、走査線ドライバ203は、制御回路210から供給されたクロック信号およびタイミングパルスに従って本発明にかかるシフトレジスタ回路を動作させ、走査線を順に走査する。このとき、本発明にかかるシフトレジスタ回路をリセット動作させるため、リセット動作のための信号を入力してもよい。また、本発明にかかるシフトレジスタ回路に含まれるトランジスタに逆バイアスを印加するために、逆バイアスを印加するための信号を入力してもよい。 In synchronization with the update of the data voltage or data current output to the data line, the scanning line driver 203 operates the shift register circuit according to the present invention in accordance with the clock signal and the timing pulse supplied from the control circuit 210, and sets the scanning line. Scan sequentially. At this time, in order to cause the shift register circuit according to the present invention to perform a reset operation, a signal for a reset operation may be input. In addition, in order to apply a reverse bias to the transistor included in the shift register circuit according to the present invention, a signal for applying the reverse bias may be input.

なお、図32および図33においては、走査線ドライバ203を片側に配置した例を示しているが、走査線ドライバは片側ではなく両側に配置してもよい。両側に配置すれば、表示装置を電子機器に実装するとき、左右のバランスがよくなり、配置の自由度が高まる利点がある。 32 and 33 show an example in which the scanning line driver 203 is arranged on one side, the scanning line driver may be arranged on both sides instead of one side. If they are arranged on both sides, there is an advantage that when the display device is mounted on an electronic device, the right and left balance is improved and the degree of freedom of arrangement is increased.

(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いて実現することのできる電子機器について、図34を参照して説明する。
(Embodiment 6)
In this embodiment, electronic devices that can be realized using the shift register circuit according to the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明は様々な電子機器に適用することができる。具体的には電子機器の表示装置に適用することができる。そのような電子機器として、ビデオカメラ、及びデジタルカメラなどのカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機又は電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうる表示装置を備えた装置)などが挙げられる。 The present invention can be applied to various electronic devices. Specifically, it can be applied to a display device of an electronic device. As such electronic devices, cameras such as video cameras and digital cameras, goggle-type displays, navigation systems, sound playback devices (car audio, audio components, etc.), computers, game devices, personal digital assistants (mobile computers, mobile phones) , Portable game machine, electronic book, etc.), image playback device provided with a recording medium (specifically, a device equipped with a display device capable of playing back a recording medium such as Digital Versatile Disc (DVD) and displaying the image) ) And the like.

図34(A)はテレビ受像機であり、筐体3001、支持台3002、表示部3003、スピーカー部3004、ビデオ入力端子3005等を含む。本発明の表示装置を表示部3003に用いることができる。例えば、テレビ受像機用の表示部には大型のものが求められるため、図33で示したような表示装置が好ましい。なお、表示装置は、パーソナルコンピュータ用、テレビジョン放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用発光装置が含まれる。本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部3003に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高い電子機器を得ることができる。 FIG. 34A illustrates a television receiver, which includes a housing 3001, a support base 3002, a display portion 3003, speaker portions 3004, a video input terminal 3005, and the like. The display device of the present invention can be used for the display portion 3003. For example, since a large display unit for a television receiver is required, a display device as shown in FIG. 33 is preferable. The display device includes all information display light emitting devices for personal computers, television broadcast reception, advertisement display, and the like. By using the display device using the shift register circuit according to the present invention for the display portion 3003, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is possible. Thus, a highly reliable electronic device can be obtained.

図34(B)はデジタルカメラであり、本体3101、表示部3102、受像部3103、操作キー3104、外部接続ポート3105、シャッター3106等を含む。
本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部3102に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高いデジタルカメラを得ることができる。
FIG. 34B shows a digital camera, which includes a main body 3101, a display portion 3102, an image receiving portion 3103, operation keys 3104, an external connection port 3105, a shutter 3106, and the like.
By using the display device using the shift register circuit according to the present invention for the display portion 3102, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is possible. With this, a highly reliable digital camera can be obtained.

図34(C)はコンピュータであり、本体3201、筐体3202、表示部3203、キーボード3204、外部接続ポート3205、ポインティングマウス3206等を含む。本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部3203に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高いコンピュータを得ることができる。 FIG. 34C illustrates a computer, which includes a main body 3201, a housing 3202, a display portion 3203, a keyboard 3204, an external connection port 3205, a pointing mouse 3206, and the like. By using the display device using the shift register circuit according to the present invention for the display portion 3203, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is possible. By this, a highly reliable computer can be obtained.

図34(D)はモバイルコンピュータであり、本体3301、表示部3302、スイッチ3303、操作キー3304、赤外線ポート3305等を含む。本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部3302に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高いモバイルコンピュータを得ることができる。 FIG. 34D illustrates a mobile computer, which includes a main body 3301, a display portion 3302, a switch 3303, operation keys 3304, an infrared port 3305, and the like. By using the display device using the shift register circuit according to the present invention for the display portion 3302, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is possible. A highly reliable mobile computer can be obtained.

図34(E)は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)であり、本体3401、筐体3402、表示部A3403、表示部B3404、記録媒体(DVD等)読み込み部3405、操作キー3406、スピーカー部3407等を含む。表示部A3403は主として画像情報を表示し、表示部B3404は主として文字情報を表示することができる。本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部A3403や表示部B3404に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高い画像再生装置を得ることができる。 FIG. 34E shows a portable image reproducing device (specifically, a DVD reproducing device) provided with a recording medium, which includes a main body 3401, a housing 3402, a display portion A3403, a display portion B3404, and a recording medium (DVD or the like). A reading unit 3405, an operation key 3406, a speaker unit 3407, and the like are included. The display portion A 3403 can mainly display image information, and the display portion B 3404 can mainly display character information. By using the display device using the shift register circuit according to the present invention for the display portion A3403 and the display portion B3404, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is performed. Therefore, it is possible to obtain a highly reliable image reproducing apparatus.

図34(F)はゴーグル型ディスプレイであり、本体3501、表示部3502、アーム部3503を含む。本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部3502に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高いゴーグル型ディスプレイを得ることができる。 FIG. 34F illustrates a goggle type display including a main body 3501, a display portion 3502, and an arm portion 3503. By using the display device using the shift register circuit according to the present invention for the display portion 3502, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is possible. Thus, a highly reliable goggle type display can be obtained.

図34(G)はビデオカメラであり、本体3601、表示部3602、筐体3603、外部接続ポート3604、リモコン受信部3605、受像部3606、バッテリー3607、音声入力部3608、操作キー3609等を含む。本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部3602に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高いビデオカメラを得ることができる。 FIG. 34G shows a video camera, which includes a main body 3601, a display portion 3602, a housing 3603, an external connection port 3604, a remote control receiving portion 3605, an image receiving portion 3606, a battery 3607, an audio input portion 3608, operation keys 3609, and the like. . By using the display device including the shift register circuit according to the present invention for the display portion 3602, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is possible. By this, a highly reliable video camera can be obtained.

図34(H)は携帯電話機であり、本体3701、筐体3702、表示部3703、音声入力部3704、音声出力部3705、操作キー3706、外部接続ポート3707、アンテナ3708等を含む。本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を表示部3703に用いることで、外部からの電磁波等のノイズにさらされても誤動作しにくく、また、逆バイアスを印加する動作が可能であることによって信頼性の高い携帯電話機を得ることができる。 FIG. 34H shows a cellular phone, which includes a main body 3701, a housing 3702, a display portion 3703, an audio input portion 3704, an audio output portion 3705, operation keys 3706, an external connection port 3707, an antenna 3708, and the like. By using the display device using the shift register circuit according to the present invention for the display portion 3703, it is difficult to malfunction even when exposed to noise such as electromagnetic waves from the outside, and an operation of applying a reverse bias is possible. Thus, a highly reliable mobile phone can be obtained.

このように本発明は、あらゆる電子機器に適用することが可能である。 Thus, the present invention can be applied to all electronic devices.

本発明にかかるシフトレジスタ回路およびタイムチャートを説明する図。4A and 4B illustrate a shift register circuit and a time chart according to the invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 6 illustrates a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 6 illustrates a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路のタイムチャートを説明する図。FIG. 9 is a diagram illustrating a time chart of a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 6 illustrates a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路のタイムチャートを説明する図。FIG. 9 is a diagram illustrating a time chart of a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路およびタイムチャートを説明する図。4A and 4B illustrate a shift register circuit and a time chart according to the invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 6 illustrates a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかる逆バイアス回路を説明する図。The figure explaining the reverse bias circuit concerning this invention. 本発明にかかる逆バイアス回路を説明する図。The figure explaining the reverse bias circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 6 illustrates a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路のタイムチャートを説明する図。FIG. 9 is a diagram illustrating a time chart of a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路およびタイムチャートを説明する図。4A and 4B illustrate a shift register circuit and a time chart according to the invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 6 illustrates a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかる逆バイアス・リセット回路を説明する図。The figure explaining the reverse bias reset circuit concerning this invention. 本発明にかかる逆バイアス・リセット回路を説明する図。The figure explaining the reverse bias reset circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の断面図。Sectional drawing of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の断面図。Sectional drawing of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の断面図。Sectional drawing of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の断面図。Sectional drawing of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の断面図。Sectional drawing of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の上面図。The top view of the shift register circuit concerning this invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示パネルを説明する図。4A and 4B illustrate a display panel using a shift register circuit according to the invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を説明する図。8A and 8B illustrate a display device using a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた表示装置を説明する図。8A and 8B illustrate a display device using a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路を用いた電子機器を説明する図。8A and 8B each illustrate an electronic device using a shift register circuit according to the invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路の動作を説明する図。FIG. 6 illustrates an operation of a shift register circuit according to the present invention. 本発明にかかるシフトレジスタ回路及びタイムチャートを説明する図。4A and 4B illustrate a shift register circuit and a time chart according to the present invention. 従来のシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 10 illustrates a conventional shift register circuit. 従来のシフトレジスタ回路を説明する図。FIG. 10 illustrates a conventional shift register circuit.

Claims (22)

入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、を備え、
前記第1の端子の電位を前記出力端子に伝達する第1のトランジスタと、
前記入力端子の電位にしたがって、前記第1のトランジスタをオン状態とする整流性素子と、
前記第4の端子の電位にしたがって、前記出力端子と前記第2の端子を導通させ、前記出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、
前記第4の端子の電位にしたがって、前記第3の端子と前記第2の端子を導通させ、前記第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタと、
を有することを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, and a fourth terminal;
A first transistor for transmitting the potential of the first terminal to the output terminal;
A rectifying element that turns on the first transistor in accordance with the potential of the input terminal;
A second transistor for conducting the output terminal and the second terminal according to the potential of the fourth terminal and fixing the potential of the output terminal;
A third transistor for conducting the third terminal and the second terminal in accordance with the potential of the fourth terminal and fixing the potential of the third terminal;
A semiconductor device comprising:
入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、を備え、
前記第1の端子の電位を前記出力端子に伝達する第1のトランジスタと、
前記入力端子の電位にしたがって、前記第1のトランジスタをオン状態とする整流性素子と、
前記第5の端子の電位にしたがって、前記出力端子と前記第2の端子を導通させ、前記出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、
前記第4の端子の電位にしたがって、前記第3の端子と前記第2の端子を導通させ、前記第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタと、
前記第3の端子の電位を反転し、前記第5の端子に出力する回路と、
を有することを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, and a fifth terminal;
A first transistor for transmitting the potential of the first terminal to the output terminal;
A rectifying element that turns on the first transistor in accordance with the potential of the input terminal;
A second transistor for conducting the output terminal and the second terminal in accordance with the potential of the fifth terminal and fixing the potential of the output terminal;
A third transistor for conducting the third terminal and the second terminal in accordance with the potential of the fourth terminal and fixing the potential of the third terminal;
A circuit that inverts the potential of the third terminal and outputs the inverted potential to the fifth terminal;
A semiconductor device comprising:
入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子と、を備え、
前記第1の端子の電位を前記出力端子に伝達する第1のトランジスタと、
前記入力端子の電位にしたがって、前記第1のトランジスタをオン状態とする第1の整流性素子と、
前記第4の端子の電位にしたがって、前記出力端子と前記第2の端子を導通させ、前記出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、
前記第4の端子の電位にしたがって、前記第3の端子と前記第2の端子を導通させ、前記第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタと、
前記出力端子の電位にしたがって、前記第5の端子の電位を上昇させる第2の整流性素子と、
前記第3の端子の電位にしたがって、前記第6の端子と前記第2の端子を導通させ、前記第6の電位を下降させる第4のトランジスタと、
を有することを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a fifth terminal, and a sixth terminal;
A first transistor for transmitting the potential of the first terminal to the output terminal;
A first rectifying element that turns on the first transistor in accordance with the potential of the input terminal;
A second transistor for conducting the output terminal and the second terminal according to the potential of the fourth terminal and fixing the potential of the output terminal;
A third transistor for conducting the third terminal and the second terminal in accordance with the potential of the fourth terminal and fixing the potential of the third terminal;
A second rectifying element that raises the potential of the fifth terminal according to the potential of the output terminal;
A fourth transistor for conducting the sixth terminal and the second terminal according to the potential of the third terminal and lowering the sixth potential;
A semiconductor device comprising:
入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子と、第7の端子と、を備え、
前記第1の端子の電位を前記出力端子に伝達する第1のトランジスタと、
前記入力端子の電位にしたがって、前記第1のトランジスタをオン状態とする第1の整流性素子と、
前記第7の端子の電位にしたがって、前記出力端子と前記第2の端子を導通させ、前記出力端子の電位を固定する第2のトランジスタと、
前記第4の端子の電位にしたがって、前記第3の端子と前記第2の端子を導通させ、前記第3の端子の電位を固定する第3のトランジスタと、
前記出力端子の電位にしたがって、前記第5の端子の電位を上昇させる第2の整流性素子と、
前記第3の端子の電位にしたがって、前記第6の端子と前記第2の端子を導通させ、前記第6の電位を下降させる第4のトランジスタと、
前記第3の端子の電位を反転し、前記第7の端子に出力する回路と、
を有することを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a fifth terminal, a sixth terminal, and a seventh terminal; With
A first transistor for transmitting the potential of the first terminal to the output terminal;
A first rectifying element that turns on the first transistor in accordance with the potential of the input terminal;
A second transistor for electrically connecting the output terminal and the second terminal and fixing the potential of the output terminal according to the potential of the seventh terminal;
A third transistor for conducting the third terminal and the second terminal in accordance with the potential of the fourth terminal and fixing the potential of the third terminal;
A second rectifying element that raises the potential of the fifth terminal according to the potential of the output terminal;
A fourth transistor for conducting the sixth terminal and the second terminal according to the potential of the third terminal and lowering the sixth potential;
A circuit that inverts the potential of the third terminal and outputs the inverted potential to the seventh terminal;
A semiconductor device comprising:
入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、を備え、
前記整流性素子の一方の電極は、前記入力端子と電気的に接続され、前記整流性素子の他方の電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第1の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのゲート電極は、前記第4の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲート電極は、前記第4の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第3の端子と電気的に接続される
ことを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a rectifying element, a first transistor, a second transistor, 3 transistors,
One electrode of the rectifying element is electrically connected to the input terminal, and the other electrode of the rectifying element is electrically connected to the third terminal,
A gate electrode of the first transistor is electrically connected to the third terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the second transistor is electrically connected to the fourth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the third transistor is electrically connected to the fourth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the third transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is electrically connected to the third terminal.
入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、電位反転回路と、を備え、
前記整流性素子の一方の電極は、前記入力端子と電気的に接続され、前記整流性素子の他方の電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第1の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのゲート電極は、前記第5の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲート電極は、前記第4の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記電位反転回路の一方の電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記電位反転回路の他方の電極は、前記第5の端子と電気的に接続される
ことを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a fifth terminal, a rectifying element, a first transistor, 2 transistors, a third transistor, and a potential inversion circuit,
One electrode of the rectifying element is electrically connected to the input terminal, and the other electrode of the rectifying element is electrically connected to the third terminal,
A gate electrode of the first transistor is electrically connected to the third terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the second transistor is electrically connected to the fifth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the third transistor is electrically connected to the fourth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the third transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is electrically connected to the third terminal;
One electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the third terminal, and the other electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the fifth terminal. apparatus.
入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子と、第1の整流性素子と、第2の整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、を備え、
前記第1の整流性素子の一方の電極は、前記入力端子と電気的に接続され、前記第1の整流性素子の他方の電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第1の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのゲート電極は、前記第4の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲート電極は、前記第4の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記第2の整流性素子の一方の電極は、前記出力端子と電気的に接続され、前記第2の整流性素子の他方の電極は、前記第5の端子と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのゲート電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第6の端子と電気的に接続される
ことを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a fifth terminal, a sixth terminal, and a first rectifying element A second rectifying element, a first transistor, a second transistor, a third transistor, and a fourth transistor,
One electrode of the first rectifying element is electrically connected to the input terminal, and the other electrode of the first rectifying element is electrically connected to the third terminal;
A gate electrode of the first transistor is electrically connected to the third terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the second transistor is electrically connected to the fourth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the third transistor is electrically connected to the fourth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the third transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is electrically connected to the third terminal;
One electrode of the second rectifying element is electrically connected to the output terminal, and the other electrode of the second rectifying element is electrically connected to the fifth terminal;
A gate electrode of the fourth transistor is electrically connected to the third terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the sixth terminal.
入力端子と、出力端子と、第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第5の端子と、第6の端子と、第7の端子と、第1の整流性素子と、第2の整流性素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、電位反転回路と、を備え、
前記第1の整流性素子の一方の電極は、前記入力端子と電気的に接続され、前記第1の整流性素子の他方の電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第1の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのゲート電極は、前記第7の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記出力端子と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲート電極は、前記第4の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記第2の整流性素子の一方の電極は、前記出力端子と電気的に接続され、前記第2の整流性素子の他方の電極は、前記第5の端子と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのゲート電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第6の端子と電気的に接続され、
前記電位反転回路の一方の電極は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記電位反転回路の他方の電極は、前記第7の端子と電気的に接続される
ことを特徴とする半導体装置。
An input terminal, an output terminal, a first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a fifth terminal, a sixth terminal, and a seventh terminal; A first rectifying element, a second rectifying element, a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, and a potential inversion circuit;
One electrode of the first rectifying element is electrically connected to the input terminal, and the other electrode of the first rectifying element is electrically connected to the third terminal;
A gate electrode of the first transistor is electrically connected to the third terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the second transistor is electrically connected to the seventh terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the output terminal;
A gate electrode of the third transistor is electrically connected to the fourth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the third transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is electrically connected to the third terminal;
One electrode of the second rectifying element is electrically connected to the output terminal, and the other electrode of the second rectifying element is electrically connected to the fifth terminal;
A gate electrode of the fourth transistor is electrically connected to the third terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the sixth terminal,
One electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the third terminal, and the other electrode of the potential inverting circuit is electrically connected to the seventh terminal. apparatus.
請求項1乃至請求項8のいずれか1項において、前記整流性素子は、ダイオード接続されたトランジスタである
ことを特徴とする半導体装置。
9. The semiconductor device according to claim 1, wherein the rectifying element is a diode-connected transistor.
請求項1乃至請求項9のいずれか1項において、前記第2のトランジスタおよび前記第3のトランジスタをオン状態とすることができる信号線を有する
ことを特徴とする半導体装置。
10. The semiconductor device according to claim 1, further comprising: a signal line that can turn on the second transistor and the third transistor. 11.
請求項1乃至請求項10のいずれか1項において、前記第2のトランジスタおよび前記第3のトランジスタに逆バイアスを印加することができる信号線を有する
ことを特徴とする半導体装置。
11. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a signal line that can apply a reverse bias to the second transistor and the third transistor.
請求項1乃至請求項11のいずれか1項において、前記第1の端子に入力する信号は、いずれもデューティー比が50%より小さい
ことを特徴とする半導体装置。
12. The semiconductor device according to claim 1, wherein a signal input to the first terminal has a duty ratio smaller than 50%.
請求項1乃至請求項12のいずれか1項において、前記第2のトランジスタのゲート電極の面積と前記第3のトランジスタのゲート電極の面積の平均が、前記第1のトランジスタのゲート電極の面積よりも大きい
ことを特徴とする半導体装置。
13. The area of the gate electrode of the second transistor and the area of the gate electrode of the third transistor according to any one of claims 1 to 12 is greater than the area of the gate electrode of the first transistor. A large semiconductor device.
請求項1乃至請求項13のいずれか1項において、前記第2の端子と電気的に接続された配線と、前記第1の端子と電気的に接続された配線が、前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタに対し、前記出力端子と反対側に配置されている
ことを特徴とする半導体装置。
The wiring according to any one of claims 1 to 13, wherein the wiring electrically connected to the second terminal and the wiring electrically connected to the first terminal are the first transistor, A semiconductor device, wherein the second transistor and the third transistor are arranged on a side opposite to the output terminal.
請求項1乃至請求項14のいずれか1項において、
第1の配線層と、第2の配線層と、第3の配線層と、
絶縁膜と、層間膜と、を有し、
前記絶縁膜は、前記第1の配線層と前記第2の配線層の間に形成され、
前記層間膜は、前記第2の配線層と前記第3の配線層の間に形成され、
前記層間膜は、前記絶縁膜よりも厚く形成され、
前記第1の端子と電気的に接続された電極は、少なくとも前記第2の配線層で形成され、
前記出力端子と電気的に接続された電極は、少なくとも前記第1の配線層および前記第3の配線層で形成され、
前記出力端子と電気的に接続された電極と、前記第1の端子と電気的に接続された電極が交差する領域において、前記出力端子と電気的に接続された電極は、前記第3の配線層で形成されている
ことを特徴とする半導体装置。
In any one of Claims 1 thru | or 14,
A first wiring layer, a second wiring layer, a third wiring layer,
Having an insulating film and an interlayer film;
The insulating film is formed between the first wiring layer and the second wiring layer;
The interlayer film is formed between the second wiring layer and the third wiring layer,
The interlayer film is formed thicker than the insulating film,
The electrode electrically connected to the first terminal is formed of at least the second wiring layer,
The electrode electrically connected to the output terminal is formed of at least the first wiring layer and the third wiring layer,
In the region where the electrode electrically connected to the output terminal and the electrode electrically connected to the first terminal intersect, the electrode electrically connected to the output terminal is connected to the third wiring. A semiconductor device comprising a layer.
請求項1乃至請求項15のいずれか1項における半導体装置が、
画素領域を形成する基板と同一基板上に形成されている
ことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 15,
A semiconductor device formed on the same substrate as a substrate on which a pixel region is formed.
請求項1乃至請求項16のいずれか1項における半導体装置が、
画素領域を形成する基板と同一基板上にICとして配置され、前記基板上の配線とCOG方式で接続されている
ことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 16,
A semiconductor device, wherein the semiconductor device is disposed as an IC on the same substrate as a substrate in which a pixel region is formed, and is connected to wiring on the substrate by a COG method.
請求項1乃至請求項17のいずれか1項における半導体装置が、
画素領域を形成する基板と接続されている接続配線基板上にICとして配置され、前記基板上の配線とTAB方式で接続されている
ことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 17,
A semiconductor device, wherein the semiconductor device is disposed as an IC on a connection wiring substrate connected to a substrate forming a pixel region, and is connected to the wiring on the substrate by a TAB method.
第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、トランジスタと、整流性素子とを備え、
前記トランジスタのゲート電極は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第1の端子と電気的に接続され、前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第3の端子と電気的に接続され、
前記整流性素子の電極の一方は、前記第3の端子と電気的に接続され、前記整流性素子の電極の他方は、前記第2の端子と電気的に接続される
ことを特徴とする半導体装置。
A first terminal, a second terminal, a third terminal, a transistor, and a rectifying element;
A gate electrode of the transistor is electrically connected to the second terminal, and one of a source electrode or a drain electrode of the transistor is electrically connected to the first terminal, and a source electrode or a drain of the transistor The other electrode is electrically connected to the third terminal;
One of the electrodes of the rectifying element is electrically connected to the third terminal, and the other of the electrodes of the rectifying element is electrically connected to the second terminal. apparatus.
第1の端子と、第2の端子と、第3の端子と、第4の端子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタとを備え、
前記第1のトランジスタのゲート電極は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第1の端子と電気的に接続され、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第3の端子と接続され、
前記第2のトランジスタのゲート電極は、前記第4の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第2の端子と電気的に接続され、前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第3の端子と電気的に接続される
ことを特徴とする半導体装置。
A first terminal, a second terminal, a third terminal, a fourth terminal, a first transistor, and a second transistor;
A gate electrode of the first transistor is electrically connected to the second terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the first transistor is electrically connected to the first terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is connected to the third terminal;
A gate electrode of the second transistor is electrically connected to the fourth terminal; one of a source electrode or a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the second terminal; The other of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third terminal.
請求項1乃至請求項20のいずれか1項における半導体装置と、外部駆動回路と、接続配線基板とを有し、
前記半導体装置と、前記外部駆動回路は、一つの接続配線基板で接続されている
ことを特徴とする表示装置。
A semiconductor device according to any one of claims 1 to 20, an external drive circuit, and a connection wiring board,
The display device, wherein the semiconductor device and the external drive circuit are connected by a single connection wiring board.
請求項21における表示装置を用いている
ことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus using the display device according to claim 21.
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