JP2007200952A - Image exposure apparatus - Google Patents

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JP2007200952A
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洋造 大木
Satoshi Morikawa
聡 森川
Takeshi Nishihara
猛 西原
Tatsuji Goma
達司 郷間
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Noritsu Koki Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the responsibility of a semiconductor laser element while enabling to use a spontaneous emission region of the semiconductor laser element in an image exposure apparatus which uses the semiconductor laser element as a light source. <P>SOLUTION: The image exposure apparatus comprises the semiconductor laser element, a driving circuit 45 which directly modulates the semiconductor laser element by an analog signal whose signal level changes based on image data for which prints are to be fabricated, and a scanning means 13 which scans the light emitted from the semiconductor laser element on a photosensitive material PS. The driving circuit 45 sets up the light output of the semiconductor laser element, so that the average intensity of the light emitted from the semiconductor laser element for one pixel formed on the photosensitive material PS may be in the spontaneous emission region and in the lasing region of the semiconductor laser element, and that the peak intensity of the light emitted from the semiconductor laser element within an exposure range for one pixel may reach within the lasing region. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体レーザ素子と、写真プリント作製対象の画像データに基づいて信号レベルが変化するアナログ信号で前記半導体レーザ素子を直接変調する駆動回路と、前記半導体レーザ素子の出射光を写真感光材料上で走査する走査手段とが備えられた画像露光装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor laser element, a drive circuit that directly modulates the semiconductor laser element with an analog signal whose signal level changes based on image data to be produced as a photographic print, and light emitted from the semiconductor laser element as a photographic photosensitive material The present invention relates to an image exposure apparatus provided with scanning means for scanning above.

かかる画像露光装置は、半導体レーザ素子の出射光により生成した光ビームを写真感光材料上で走査することで、画像を露光形成する装置である。
光源となる半導体レーザ素子は、図9に示すような光出力−駆動電流特性を有しており、図9中でIthとして示すしきい値電流を超えるとレーザ発振を開始し、駆動電流がIthより小さい領域ではレーザ発振に至らず、LEDと同様の動作状態となる。
駆動電流がIthよりも小さく、半導体レーザ素子の光出力がIthに対応する光出力であるPthよりも小さい動作領域は自然発光領域(あるいは、自然放出光領域)と呼ばれ、駆動電流がIthよりも大きく、半導体レーザ素子の光出力がPthよりも大きい動作領域はレーザ発振領域と呼ばれる。
このような特性を有する半導体レーザ素子を光源として使用する画像露光装置では、レーザ発振領域のみで半導体レーザ素子を駆動すると、最高光出力の最低光出力に対する比が十分には大きくはなく、適正な階調表現が困難になることから、下記特許文献1にも記載のように、自然発光領域でも半導体レーザ素子を発光駆動するようにして、適正な階調表現を可能とすることが考えられている。
特公平7−71176号公報
Such an image exposure apparatus is an apparatus for exposing and forming an image by scanning a light beam generated by light emitted from a semiconductor laser element on a photographic photosensitive material.
The semiconductor laser element serving as the light source has a light output-drive current characteristic as shown in FIG. 9, and starts laser oscillation when the threshold current shown as Ith in FIG. In a smaller region, laser oscillation does not occur, and the operation state is the same as that of the LED.
An operation region in which the drive current is smaller than Ith and the optical output of the semiconductor laser element is smaller than Pth, which is the optical output corresponding to Ith, is called a spontaneous emission region (or spontaneous emission light region). The operating region where the optical output of the semiconductor laser element is larger than Pth is called a laser oscillation region.
In an image exposure apparatus that uses a semiconductor laser element having such characteristics as a light source, when the semiconductor laser element is driven only in the laser oscillation region, the ratio of the highest light output to the lowest light output is not sufficiently large, Since gradation expression becomes difficult, it is considered that a proper gradation expression can be realized by driving a semiconductor laser element to emit light even in a spontaneous emission region as described in Patent Document 1 below. Yes.
Japanese Patent Publication No. 7-71176

しかしながら、上記従来構成のように、半導体レーザ素子を前記自然発光領域で駆動すると、半導体レーザ素子の応答速度が低下し、例えばいわゆるAPC回路において図10(a)に示すような光出力の設定信号を加えると、実際の半導体レーザ素子の出射光強度は図10(b)に示すような出力波形となってしまい、写真感光材料上に形成する画像において各画素毎の適正な露光量の設定が困難になる。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、半導体レーザ素子の自然発光領域をも利用できるようにしながら、半導体レーザ素子の応答性を改善する点にある。
However, when the semiconductor laser device is driven in the spontaneous emission region as in the conventional configuration, the response speed of the semiconductor laser device is reduced. For example, in a so-called APC circuit, an optical output setting signal as shown in FIG. Is added, the output light intensity of the actual semiconductor laser element becomes an output waveform as shown in FIG. 10B, and an appropriate exposure amount for each pixel is set in the image formed on the photographic photosensitive material. It becomes difficult.
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to improve the responsiveness of the semiconductor laser element while making it possible to use the spontaneous emission region of the semiconductor laser element.

本出願の第1の発明は、半導体レーザ素子と、写真プリント作製対象の画像データに基づいて信号レベルが変化するアナログ信号で前記半導体レーザ素子を直接変調する駆動回路と、前記半導体レーザ素子の出射光を写真感光材料上で走査する走査手段とが備えられた画像露光装置において、前記駆動回路は、写真感光材料上に形成される1画素分での前記半導体レーザ素子の出射光の平均強度が前記半導体レーザ素子の自然発光領域とレーザ発振領域との双方に亘るように前記半導体レーザ素子の光出力を設定し、且つ、前記自然発光領域と前記レーザ発振領域の全領域において、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の出射光のピーク強度が前記レーザ発振領域内に達するように設定する。   According to a first aspect of the present application, there is provided a semiconductor laser device, a drive circuit that directly modulates the semiconductor laser device with an analog signal whose signal level changes based on image data of a photographic print production target, and an output of the semiconductor laser device. In the image exposure apparatus having scanning means for scanning the photographic photosensitive material, the drive circuit has an average intensity of the emitted light of the semiconductor laser element in one pixel formed on the photographic photosensitive material. The light output of the semiconductor laser element is set so as to extend over both the spontaneous emission area and the laser oscillation area of the semiconductor laser element, and the entire pixel area of the spontaneous emission area and the laser oscillation area corresponds to the one pixel. Is set so that the peak intensity of the emitted light from the semiconductor laser element within the exposure range reaches the laser oscillation region.

すなわち、半導体レーザ素子を駆動する場合の特性として、「半導体レーザ素子の出射光強度を立ち下げるときは、自然発光領域かレーザ発振領域かに拘わらず駆動回路の駆動電流の変化(立ち下げ)に高速に応答する」、「半導体レーザ素子の出射光強度を自然発光領域から自然発光領域へ上昇させるときの応答速度は遅いが、自然発光領域から少しでもレーザ発振領域に達するように駆動回路が駆動電流を変化させると速い応答速度で応答する」という特徴を有することに着目して、写真感光材料上に形成される1画素分での前記半導体レーザ素子の出射光の平均強度が自然発光領域での光強度に相当する場合でも、1画素分の露光範囲内での平均強度としてはあくまでも自然発光領域に光強度に維持しながら、1画素分の露光範囲のうちの一部分でレーザ発振領域に到達させるように半導体レーザ素子の光出力を設定することで、その設定に対する半導体レーザ素子の出射光強度の実際の応答を高速化させる。   That is, as a characteristic when driving a semiconductor laser element, “when the emission light intensity of the semiconductor laser element is lowered, the drive current of the drive circuit changes (falls) regardless of the spontaneous emission region or the laser oscillation region. "Responds at high speed", "The response speed when raising the emitted light intensity of the semiconductor laser element from the spontaneous emission region to the spontaneous emission region is slow, but the drive circuit is driven to reach the laser oscillation region even a little from the spontaneous emission region Focusing on the fact that it responds at a fast response speed when the current is changed, the average intensity of the emitted light of the semiconductor laser element for one pixel formed on the photographic photosensitive material is in the spontaneous emission region. Even if the light intensity corresponds to the light intensity of 1 pixel, the average intensity within the exposure range for one pixel is the same as the exposure range for one pixel while maintaining the light intensity in the spontaneous emission region. By at a portion to set the optical output of the semiconductor laser device so as to reach the laser oscillation region, thereby speeding the actual response of the emission intensity of the semiconductor laser element for the setting.

又、本出願の第2の発明は、上記第1の発明の構成に加えて、前記駆動回路は、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の光出力設定信号として三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を含めるように構成されている。
すなわち、半導体レーザ素子の出射光強度を設定するための光出力設定信号に三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を含めることで、1画素分の露光範囲のうちの一部分でレーザ発振領域に到達させるように信号レベルを高く設定できる。
これによって、1画素分の露光範囲内での平均強度としてはあくまでも自然発光領域に光強度に維持しながら、1画素分の露光範囲のうちの一部分でレーザ発振領域に到達させるように半導体レーザ素子の光出力を設定することが可能となる。
According to a second invention of the present application, in addition to the configuration of the first invention, the drive circuit has a triangular wave shape as an optical output setting signal of the semiconductor laser element within the exposure range for one pixel, It is configured to include a sawtooth or sinusoidal signal.
In other words, by including a triangular, sawtooth or sinusoidal signal in the light output setting signal for setting the emitted light intensity of the semiconductor laser element, laser oscillation occurs in a part of the exposure range for one pixel. The signal level can be set high so as to reach the region.
As a result, the semiconductor laser element can reach the laser oscillation region in a part of the exposure range for one pixel while maintaining the light intensity in the spontaneous emission region as the average intensity within the exposure range for one pixel. Can be set.

又、本出願の第3の発明は、上記第1の発明の構成に加えて、前記駆動回路に、前記半導体レーザ素子の雑音低減用の高周波重畳回路が備えられ、前記駆動回路は、前記自然発光領域と前記レーザ発振領域の全領域において、前記高周波重畳回路の出力が前記半導体レーザ素子に印加された状態で、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の出射光のピーク強度が前記レーザ発振領域内に達するように前記高周波重畳回路の出力振幅を設定している。   According to a third invention of the present application, in addition to the configuration of the first invention, the drive circuit is provided with a high-frequency superposition circuit for reducing noise of the semiconductor laser element, and the drive circuit includes the natural circuit. The peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element within the exposure range for one pixel in the state where the output of the high-frequency superimposing circuit is applied to the semiconductor laser element in the entire light emitting region and the laser oscillation region The output amplitude of the high frequency superimposing circuit is set so as to reach the laser oscillation region.

半導体レーザ素子を光源として使用する場合、半導体レーザ素子のモードホップ雑音を低減するために高周波重畳回路を備えることがよく行われている。
この高周波重畳回路から出力する信号の振幅は、通常、半導体レーザ素子の定格や雑音低減効果を考慮して設定されるものであるが、更に、それらに加えて、自然発光領域とレーザ発振領域の全領域において、高周波重畳回路の出力が半導体レーザ素子に印加された状態で、前記1画素分の範囲内での半導体レーザ素子の出射光のピーク値がレーザ発振領域内に達するように高周波重畳回路の出力振幅を設定している。
すなわち、モードホップ雑音の低減のための高周波重畳回路を、自然発光領域を利用して半導体レーザ素子を直接変調する場合の応答性の改善にも寄与させるように出力振幅を設定しているのである。
When a semiconductor laser element is used as a light source, a high-frequency superposition circuit is often provided in order to reduce mode hop noise of the semiconductor laser element.
The amplitude of the signal output from this high-frequency superimposing circuit is usually set in consideration of the rating of the semiconductor laser element and the noise reduction effect. In addition, in addition to these, the spontaneous emission region and the laser oscillation region The high frequency superposition circuit is arranged so that the peak value of the emitted light of the semiconductor laser element within the range of the one pixel reaches the laser oscillation area in the entire region with the output of the high frequency superposition circuit applied to the semiconductor laser element. The output amplitude is set.
That is, the output amplitude is set so that the high-frequency superimposing circuit for reducing the mode hop noise also contributes to the improvement of the response when the semiconductor laser element is directly modulated using the spontaneous emission region. .

又、本出願の第4の発明は、上記第1の発明の構成に加えて、前記駆動回路に、前記半導体レーザ素子の雑音低減用の高周波重畳回路が備えられ、前記駆動回路は、設定光出力以下の低光出力領域で、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の光出力設定信号として三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を含めるように構成され、前記設定光出力を超える高光出力領域で、前記高周波重畳回路の出力が前記半導体レーザ素子に印加された状態で、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の出射光のピーク強度が前記レーザ発振領域内に達するように前記高周波重畳回路の出力振幅を設定するように構成されている。   According to a fourth invention of the present application, in addition to the configuration of the first invention, the drive circuit is provided with a high-frequency superimposing circuit for reducing noise of the semiconductor laser element, and the drive circuit includes a setting light. In a low light output area below the output, the light output setting signal of the semiconductor laser element within the exposure range for one pixel is configured to include a triangular wave-shaped, sawtooth wave-shaped or sine wave-shaped signal, In a high light output region exceeding the set light output, with the output of the high frequency superimposing circuit applied to the semiconductor laser element, the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element within the exposure range for the one pixel is The output amplitude of the high-frequency superposition circuit is set so as to reach the laser oscillation region.

すなわち、半導体レーザ素子のモードホップ雑音低減用の高周波重畳回路を自然発光領域を使って半導体レーザ素子を駆動する場合の応答性の改善にも利用する構成とする場合、高周波信号のピーク強度をレーザ発振領域まで到達させる関係上、前記1画素分の露光範囲内での平均光強度が十分には低くならないような場合も考えられる。
そこで、光出力の低い領域では、高周波重畳回路によって応答性の改善を図るのではなく、一部分がレーザ発振領域に至る三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を含めて半導体レーザ素子の応答性の改善を図ることで、前記1画素分の露光範囲内での平均光強度をより低く設定できるようにしている。
In other words, when the high-frequency superimposing circuit for reducing the mode hop noise of the semiconductor laser device is also used for improving the response when driving the semiconductor laser device using the spontaneous emission region, the peak intensity of the high-frequency signal is set to the laser In view of reaching the oscillation region, there may be a case where the average light intensity within the exposure range for the one pixel is not sufficiently low.
Therefore, in the low light output region, the responsiveness is not improved by the high-frequency superimposing circuit, but the triangular laser, sawtooth wave, or sine wave signal that partially reaches the laser oscillation region is included. By improving the responsiveness, the average light intensity within the exposure range for the one pixel can be set lower.

上記第1の発明によれば、1画素分の露光範囲内での平均強度としてはあくまでも自然発光領域に光強度に維持しながら、1画素分の露光範囲のうちの一部分でレーザ発振領域に到達させるように半導体レーザ素子の光出力を設定することで、その設定に対する半導体レーザ素子の出射光強度の実際の応答を高速化させるので、半導体レーザ素子の自然発光領域をも利用できるようにしながら、半導体レーザ素子の応答性を改善できるに至った。
又、上記第2の発明によれば、三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を半導体レーザ素子の光出力を設定する信号に含めることで、1画素分の露光範囲内での平均強度としてはあくまでも自然発光領域に光強度に維持しながら、1画素分の露光範囲のうちの一部分でレーザ発振領域に到達させるように半導体レーザ素子の光出力を設定することが可能となる。
According to the first aspect of the invention, the average intensity within the exposure range for one pixel reaches the laser oscillation region in a part of the exposure range for one pixel while maintaining the light intensity in the spontaneous emission region. By setting the light output of the semiconductor laser element so as to speed up the actual response of the emitted light intensity of the semiconductor laser element to the setting, so that the spontaneous emission region of the semiconductor laser element can be used, The response of the semiconductor laser element can be improved.
In addition, according to the second aspect of the present invention, an average signal within the exposure range for one pixel can be obtained by including a triangular, sawtooth or sinusoidal signal in the signal for setting the optical output of the semiconductor laser element. As the intensity, the light output of the semiconductor laser element can be set so as to reach the laser oscillation area in a part of the exposure range for one pixel while maintaining the light intensity in the spontaneous emission area.

又、上記第3の発明によれば、モードホップ雑音の低減のための高周波重畳回路を、自然発光領域を利用して半導体レーザ素子を直接変調する場合の応答性の改善にも寄与させることで、装置構成の簡素化を図ることができる。
又、上記第4の発明によれば、光出力の低い領域では、高周波重畳回路によって応答性の改善を図るのではなく、一部分がレーザ発振領域に至る三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を含めて半導体レーザ素子の応答性の改善を図ることで、前記1画素分の露光範囲内での平均光強度をより低く設定でき、写真感光材料に照射する光ビームの出力調整範囲を広く確保できる。
According to the third aspect of the invention, the high-frequency superimposing circuit for reducing the mode hop noise also contributes to the improvement of the response when the semiconductor laser device is directly modulated using the spontaneous emission region. Thus, the device configuration can be simplified.
According to the fourth aspect of the invention, in the low light output region, the responsiveness is not improved by the high frequency superimposing circuit, but a triangular wave shape, a sawtooth wave shape or a sine wave shape partially reaching the laser oscillation region. By improving the responsiveness of the semiconductor laser element including the above signal, the average light intensity within the exposure range for the one pixel can be set lower, and the output adjustment range of the light beam applied to the photographic photosensitive material can be increased. Widely secured.

以下、本発明の画像露光装置を写真プリントシステムに備えた場合の実施の形態を図面に基づいて説明する。
<第1実施形態>
本第1形態で例示する写真プリントシステムDPは、いわゆるデジタルミニラボ機として知られているものであり、図2のブロック構成図に示すように、各種の画像データ入力機器を備えて写真プリントを作製するための画像データを取込む画像入力装置IRと、画像入力装置IRにて入力された画像データに基づいて写真感光材料PSの1例である印画紙2に露光処理する露光・現像装置EPとから構成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment in which an image exposure apparatus of the present invention is provided in a photographic print system will be described based on the drawings.
<First Embodiment>
The photo print system DP exemplified in the first embodiment is known as a so-called digital minilab machine, and as shown in the block diagram of FIG. 2, a photo print is prepared with various image data input devices. An image input device IR that captures image data for image processing, and an exposure / development device EP that performs exposure processing on photographic paper 2 that is an example of a photographic photosensitive material PS based on the image data input by the image input device IR; It is composed of

〔画像入力装置IRの概略構成〕
画像入力装置IRには、図2に概略的に示すように、写真フィルムの駒画像を読み取ってデジタル画像データとして出力するフィルムスキャナ3と、メモリカードリーダ,光磁気ディスクドライブ及びCD−Rドライブ等の画像データ入力機器を備えた外部入出力装置4と、パーソナルコンピュータにて構成されてフィルムスキャナ3や外部入出力装置4の制御のほか写真プリントシステムDP全体の管理を実行する主制御装置5とが備えられ、更に、主制御装置5には、仕上がりプリント画像をシミュレートしたシミュレート画像や各種の制御用の情報を表示するモニタ5aと、露光条件の手動設定等や制御情報の入力操作をするための操作卓5bとが接続されている。
[Schematic configuration of image input device IR]
As schematically shown in FIG. 2, the image input device IR includes a film scanner 3 that reads a frame image of a photographic film and outputs it as digital image data, a memory card reader, a magneto-optical disk drive, a CD-R drive, and the like. An external input / output device 4 provided with the image data input device, and a main control device 5 which is constituted by a personal computer and controls the film scanner 3 and the external input / output device 4 and manages the entire photo print system DP. In addition, the main control device 5 includes a monitor 5a for displaying a simulated image simulating a finished print image and various control information, manual setting of exposure conditions, etc., and input operation of control information. Is connected to an operation console 5b.

〔露光・現像装置EPの全体構成〕
露光・現像装置EPは、筐体内部に、印画紙2の乳剤面に画像を露光形成する画像露光装置EXと、画像露光装置EXにて露光された印画紙2を現像処理する現像処理装置PPと、印画紙マガジン6から引き出された印画紙2を多数の搬送ローラ9等にて現像処理装置PPへ搬送する印画紙搬送系PTとが設けられている。
図示を省略するが、露光・現像装置EPの筐体外部には、現像処理装置PPにて現像処理及び乾燥処理された印画紙2をオーダ毎に分類するためのソータが備えられ、現像処理装置PPの印画紙排出口から排出された印画紙2をこのソータへ搬送するコンベア10が筐体上面に備えられている。
更に、印画紙搬送系PTの搬送経路の途中には、印画紙マガジン6から引き出された長尺の印画紙2を設定プリントサイズに切断するカッタ11と、印画紙2の搬送列を複数の搬送列に振り分けるための振り分け装置12とが備えられている。
[Overall configuration of exposure / development apparatus EP]
The exposure / development apparatus EP includes an image exposure apparatus EX that exposes and forms an image on the emulsion surface of the photographic paper 2 inside the housing, and a development processing apparatus PP that develops the photographic paper 2 exposed by the image exposure apparatus EX. And a photographic paper transport system PT for transporting the photographic paper 2 drawn out from the photographic paper magazine 6 to the development processing apparatus PP by a number of transport rollers 9 or the like.
Although not shown, a sorter is provided outside the housing of the exposure / development apparatus EP to classify the photographic paper 2 that has been developed and dried by the development processor PP into orders. A conveyor 10 for conveying the photographic paper 2 discharged from the PP photographic paper discharge port to the sorter is provided on the upper surface of the casing.
Further, in the middle of the conveyance path of the photographic paper conveyance system PT, a cutter 11 for cutting the long photographic paper 2 drawn from the photographic paper magazine 6 into a set print size, and a plurality of conveyance rows of the photographic paper 2 are conveyed. A sorting device 12 for sorting into rows is provided.

〔画像露光装置EXの構成〕
画像露光装置EXは、印画紙2に画像を露光形成する露光ユニット13と、露光ユニット13を制御する露光制御装置14とを主要部として構成されている。
〔露光ユニット13の構成〕
露光ユニット13は、強度変調された光ビームを印画紙2上で走査して、印画紙2上に画像を露光形成するいわゆるレーザビーム走査露光式を採用しており、その概略構成を図1のブロック構成図に示す。
露光ユニット13には、赤色用光源装置21と、緑色用光源装置22と、青色用光源装置23と、緑色用光源装置22及び青色用光源装置23から出射した光ビームを強度変調するための音響光学変調素子24(以下、「AOM素子24」と略記する)と、光ビームの光路を屈曲させるミラー25と、球面レンズ26と、シリンドリカルレンズ27と、図示を省略するモータにて回転駆動されるポリゴンミラー28と、f−θ特性と面倒れ補正機能とを有するレンズ群29とが備えられている。
[Configuration of image exposure apparatus EX]
The image exposure apparatus EX is composed mainly of an exposure unit 13 that exposes and forms an image on the photographic paper 2 and an exposure control apparatus 14 that controls the exposure unit 13.
[Configuration of Exposure Unit 13]
The exposure unit 13 employs a so-called laser beam scanning exposure method in which an intensity-modulated light beam is scanned on the photographic paper 2 and an image is exposed and formed on the photographic paper 2, and the schematic configuration thereof is shown in FIG. Shown in block diagram.
The exposure unit 13 includes a red light source device 21, a green light source device 22, a blue light source device 23, and an acoustic for intensity-modulating the light beams emitted from the green light source device 22 and the blue light source device 23. The optical modulation element 24 (hereinafter abbreviated as “AOM element 24”), a mirror 25 that bends the optical path of the light beam, a spherical lens 26, a cylindrical lens 27, and a motor (not shown) are rotationally driven. A polygon mirror 28 and a lens group 29 having an f-θ characteristic and a surface tilt correction function are provided.

〔赤色用光源装置21の構成〕
赤色用光源装置21は、図3に概略的に示すように、光源として赤色レーザ光を出射する半導体レーザ素子31と、半導体レーザ素子31の出射光を集光する集光レンズ32と、半導体レーザ素子31の出射光の一部を出射光量検出のために分岐させるビームスプリッタ33と、ビームスプリッタ33にて分岐された赤色レーザ光の光強度を検出するためのフォトダイオード34とが備えられている。
従って、露光ユニット13は、半導体レーザ素子31の出射光を印画紙2上で走査する走査手段として機能する。
[Configuration of Light Source Device 21 for Red]
As schematically shown in FIG. 3, the red light source device 21 includes a semiconductor laser element 31 that emits red laser light as a light source, a condensing lens 32 that condenses the emitted light from the semiconductor laser element 31, and a semiconductor laser. A beam splitter 33 for branching a part of the emitted light from the element 31 for detecting the amount of emitted light, and a photodiode 34 for detecting the light intensity of the red laser light branched by the beam splitter 33 are provided. .
Therefore, the exposure unit 13 functions as a scanning unit that scans the light emitted from the semiconductor laser element 31 on the photographic paper 2.

〔緑色用光源装置22及び青色用光源装置23の構成〕
緑色用光源装置22と青色用光源装置23とは基本的な構成は共通であり、図示を省略するが、近赤外レーザ光を出射する近赤外半導体レーザ素子と、近赤外半導体レーザ素子の出射レーザ光の第2高調波を生成する第2高調波発生装置と、その他の光学部品等を備えて構成されている。
緑色用光源装置22と青色用光源装置23とは、近赤外半導体レーザ素子の発光波長が異なるのみで、その他の構成は共通しており、いずれも、近赤外半導体レーザ素子の出射光の1/2の波長の光ビームを出射する。
[Configuration of Green Light Source Device 22 and Blue Light Source Device 23]
Although the green light source device 22 and the blue light source device 23 have the same basic configuration and are not illustrated, a near infrared semiconductor laser element that emits near infrared laser light and a near infrared semiconductor laser element The second harmonic generation device for generating the second harmonic of the emitted laser beam and other optical components are included.
The green light source device 22 and the blue light source device 23 differ only in the emission wavelength of the near-infrared semiconductor laser element, and the other configurations are common, and both of them emit light emitted from the near-infrared semiconductor laser element. A light beam having a half wavelength is emitted.

〔露光制御装置14の構成〕
露光制御装置14には、図1に概略的に示すように、上記構成の露光ユニット13を制御するために、画像入力装置IRから入力される赤色,緑色及び青色夫々の露光用画像データを露光ユニット13の露光特性を考慮した画像データに補正するルックアップテーブル41と、ルックアップテーブル41にて補正された画像データを赤色,緑色及び青色の各色毎に記憶する画像データメモリ42と、赤色,緑色及び青色の各色毎に備えられて画像データメモリ42の出力データをD/A変換するD/Aコンバータ43と、緑色及び青色についてD/Aコンバータ43からの入力信号に応じて変調されたAOM素子24の駆動信号を生成するAOM制御回路44と、赤色についてD/Aコンバータ43から入力される画像信号に応じて赤色用光源装置21の半導体レーザ素子31の駆動電流を変調する駆動回路45とが備えられている。
[Configuration of Exposure Control Device 14]
As schematically shown in FIG. 1, the exposure control device 14 exposes red, green and blue exposure image data input from the image input device IR in order to control the exposure unit 13 having the above configuration. A look-up table 41 for correcting image data in consideration of the exposure characteristics of the unit 13, an image data memory 42 for storing the image data corrected by the look-up table 41 for each of red, green and blue colors, red, A D / A converter 43 which is provided for each color of green and blue and D / A converts the output data of the image data memory 42, and AOM modulated in accordance with an input signal from the D / A converter 43 for green and blue An AOM control circuit 44 that generates a drive signal for the element 24, and red light according to an image signal input from the D / A converter 43 for red A drive circuit 45 for modulating the driving current of the semiconductor laser element 31 of the device 21 is provided.

駆動回路45には、図3に概略的に示すように、半導体レーザ素子31のモードホップ雑音を低減するための高周波重畳回路51と、フォトダイオード34の出力電流を電圧信号に変換する電流/電圧変換回路52と、D/Aコンバータ43から入力される画像信号に基づいて半導体レーザ素子31の出射光強度の設定信号を生成する光出力設定波形生成回路54と、半導体レーザ素子31の出射光強度が光出力設定波形生成回路54の出力信号に追従して変化するように半導体レーザ素子31の駆動電流を制御するオペアンプ53とが備えられる他、図示を省略するが、オペアンプ53の出力によって半導体レーザ素子31の通電電流を調整するトランジスタ等が備えられており、赤色用光源装置21のフォトダイオード34及び駆動回路45の電流/電圧変換回路52によって半導体レーザ素子31の出射光強度の検出信号をオペアンプ53の入力側に帰還させる帰還ループを形成していわゆるAPC回路を構成している。   As schematically shown in FIG. 3, the drive circuit 45 includes a high-frequency superimposing circuit 51 for reducing the mode hop noise of the semiconductor laser element 31 and a current / voltage for converting the output current of the photodiode 34 into a voltage signal. A conversion circuit 52, a light output setting waveform generation circuit 54 that generates a setting signal for the output intensity of the semiconductor laser element 31 based on the image signal input from the D / A converter 43, and an output light intensity of the semiconductor laser element 31. Is provided with an operational amplifier 53 for controlling the drive current of the semiconductor laser element 31 so that the output current of the optical output setting waveform generation circuit 54 changes following the output signal. A transistor or the like for adjusting the energization current of the element 31 is provided, and the photodiode 34 and the drive circuit of the red light source device 21 are provided. Constitute a so-called APC circuit by 5 of the current / voltage conversion circuit 52 a detection signal of the emitted light intensity of the semiconductor laser device 31 to form a feedback loop for feeding back to the input side of the operational amplifier 53.

オペアンプ53は、上述のように、電流/電圧変換回路52からの入力信号が光出力設定波形生成回路54の出力信号に一致するようにAPC動作するのであるが、単純にD/Aコンバータ43の出力に基づいてAPCをかけたのでは、自然発光領域において、D/Aコンバータ43が出力する画像信号に半導体レーザ素子31の光出力が的確には応答しないため、光出力設定波形生成回路54によって、オペアンプ53へ入力する光出力設定信号に対する半導体レーザ素子31の実際の光出力の応答性を改善するための信号波形に変換してAPCをかけている。
具体的には、光出力設定波形生成回路54は、D/Aコンバータ43から入力される画像信号に基づいて図4(a)に示すような三角波形状の信号波形TRを生成して、オペアンプ53へ出力する光出力設定信号に含めている。
As described above, the operational amplifier 53 performs the APC operation so that the input signal from the current / voltage conversion circuit 52 matches the output signal of the optical output setting waveform generation circuit 54. When APC is applied based on the output, the light output of the semiconductor laser element 31 does not accurately respond to the image signal output from the D / A converter 43 in the spontaneous emission region. APC is applied by converting into a signal waveform for improving the response of the actual optical output of the semiconductor laser element 31 to the optical output setting signal input to the operational amplifier 53.
Specifically, the optical output setting waveform generation circuit 54 generates a triangular waveform signal waveform TR as shown in FIG. 4A based on the image signal input from the D / A converter 43, and the operational amplifier 53. It is included in the optical output setting signal to be output to.

図4(a)は、露光ユニット13による印画紙2上への光ビームの走査のうち、1画素分の露光範囲を抜き出したものであり、時間「ts」から始まり時間「te」で終了する1画素分の露光範囲のうちで、時間「t0」から時間「t1」の幅で三角波形状の信号波形TRを生成している。
図4(b)は、図4(a)の波形の光出力設定信号をオペアンプ53へ入力したときの、半導体レーザ素子31の実際の出射光強度を検出した信号PTR(高周波重畳回路51による高周波成分の変動を除いている)の概略形状を示しており、図4(b)で示されているのは、D/Aコンバータ43から入力される画像信号で設定する最低光出力に相当するものである。この最低光出力は、印画紙2を感光させて発色させられるかどうかの境界付近の弱い光出力に相当する。
FIG. 4A shows an exposure range for one pixel extracted from the scanning of the light beam onto the photographic paper 2 by the exposure unit 13, and starts from time “ts” and ends at time “te”. Within the exposure range for one pixel, a triangular waveform signal waveform TR is generated with a width from time “t0” to time “t1”.
4B shows a signal P TR (by the high frequency superposition circuit 51) that detects the actual emitted light intensity of the semiconductor laser element 31 when the optical output setting signal having the waveform of FIG. FIG. 4B shows a schematic shape corresponding to the lowest light output set by the image signal input from the D / A converter 43. Is. This minimum light output corresponds to a weak light output near the boundary of whether or not the photographic paper 2 can be exposed to color.

光出力設定波形生成回路54は、この最低光出力においても、三角波形状の検出信号のピーク強度付近では、半導体レーザ素子31のしきい値電流(図9のIth)での光出力強度である「Pth」を超えるように、すなわち、1画素分の範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように図4(a)の三角波の信号波形TRの高さを設定している。
このように、半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域に達していても、1画素分の露光範囲内での平均光強度は図4(b)において破線PAVで示す光強度となっており、平均光強度は「Pth」を下回る自然発光領域の光強度となっている。
画像信号が上記の最低光出力よりも大きい領域では、光出力設定波形生成回路54は、その信号レベルに応じて図4(a)の三角波のピークの信号レベルが高くなるように設定する。これは、平均光強度が「Pth」を上回るレーザ発振領域に入っても同様である。この画像信号の信号レベルと三角波の高さとの関係を示す情報は、予め設定されて光出力設定波形生成回路54が保持している。
The optical output setting waveform generation circuit 54 is the optical output intensity at the threshold current (Ith in FIG. 9) of the semiconductor laser element 31 in the vicinity of the peak intensity of the triangular wave detection signal even at the minimum optical output. The height of the signal waveform TR of the triangular wave in FIG. 4A so that the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the range of one pixel reaches the laser oscillation region so as to exceed “Pth”. Is set.
Thus, even if reached lasing region peak intensity of the light emitted from the semiconductor laser element 31, the light intensity indicated average light intensity within the exposure range of one pixel in the broken line P AV in Fig 4 (b) Thus, the average light intensity is the light intensity in the spontaneous emission region below “Pth”.
In a region where the image signal is larger than the minimum light output, the light output setting waveform generation circuit 54 sets the signal level of the peak of the triangular wave in FIG. 4A to be high according to the signal level. This is the same even when entering the laser oscillation region where the average light intensity exceeds “Pth”. Information indicating the relationship between the signal level of the image signal and the height of the triangular wave is set in advance and held by the light output setting waveform generation circuit 54.

従って、駆動回路45は、写真プリント作製対象の画像データに基づいて信号レベルが変化するアナログ信号で半導体レーザ素子31を直接変調しており、印画紙2上に形成される1画素分での半導体レーザ素子31の出射光の平均強度が半導体レーザ素子31の自然発光領域とレーザ発振領域との双方に亘るように半導体レーザ素子の光出力を設定し、且つ、自然発光領域とレーザ発振領域の全領域において、1画素分の露光範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように設定していることになっている。   Accordingly, the drive circuit 45 directly modulates the semiconductor laser element 31 with an analog signal whose signal level changes based on the image data to be produced as a photographic print, and the semiconductor for one pixel formed on the photographic paper 2. The light output of the semiconductor laser element is set so that the average intensity of the emitted light from the laser element 31 extends over both the spontaneous emission area and the laser oscillation area of the semiconductor laser element 31, and all of the spontaneous emission area and the laser oscillation area are set. In the region, the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the exposure range for one pixel is set to reach the laser oscillation region.

尚、オペアンプ53の出力電流には、高周波重畳回路51の出力も付加されるので、その分だけ1画素分の露光範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度も上昇し、厳密には、図4(b)のピーク光強度は、「Pth」よりも若干低くても、1画素分の露光範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達する状態となる。
又、高周波重畳回路51の出力信号は、フォトダイオード34及び電流/電圧変換回路52により構成されるフィードバックループの応答周波数帯域よりも十分に高い周波数であるので、高周波重畳回路51はオペアンプ53による半導体レーザ素子31の出力制御には影響しない。
Since the output of the high-frequency superimposing circuit 51 is also added to the output current of the operational amplifier 53, the peak intensity of the emitted light from the semiconductor laser element 31 within the exposure range for one pixel is increased accordingly, and strictly. FIG. 4B shows a state in which the peak intensity of the emitted light from the semiconductor laser element 31 within the exposure range for one pixel reaches the laser oscillation region even if the peak light intensity in FIG. 4B is slightly lower than “Pth”. It becomes.
Further, since the output signal of the high frequency superimposing circuit 51 has a frequency sufficiently higher than the response frequency band of the feedback loop composed of the photodiode 34 and the current / voltage conversion circuit 52, the high frequency superimposing circuit 51 is a semiconductor using the operational amplifier 53. The output control of the laser element 31 is not affected.

〔写真プリントの作製動作の概要〕
オペレータが、フィルムスキャナ3あるいは外部入出力装置4からプリント対象の画像データを入力すると、適宜に画像処理等が施され、画像処理後の露光用画像データがルックアップテーブル41へ送信される。
画像入力装置IRから入力された赤色,緑色及び青色の露光用画像データに基づいて、AOM素子24及び駆動回路45にて強度変調された赤色,緑色及び青色の光ビームは、各光学部品を通過してポリゴンミラー28の反射面に照射され、回転駆動されているポリゴンミラー28の反射面で反射された光ビームは、レンズ群29によって印画紙2上に集光される。光ビームの走査方向(主走査方向)は印画紙2の搬送方向(副走査方向)と直交しており、光ビームの走査と印画紙2の搬送移動によって、印画紙2上にプリントする写真画像が潜像として露光形成される。これが現像処理装置PPで現像処理されて写真プリントとして仕上がる。
[Summary of photo print production operation]
When the operator inputs image data to be printed from the film scanner 3 or the external input / output device 4, image processing or the like is appropriately performed, and the image data for exposure after image processing is transmitted to the lookup table 41.
Based on the red, green and blue exposure image data input from the image input device IR, the red, green and blue light beams whose intensity is modulated by the AOM element 24 and the drive circuit 45 pass through each optical component. Then, the light beam irradiated on the reflection surface of the polygon mirror 28 and reflected by the reflection surface of the polygon mirror 28 that is driven to rotate is condensed on the photographic paper 2 by the lens group 29. The scanning direction (main scanning direction) of the light beam is orthogonal to the conveyance direction (sub-scanning direction) of the photographic paper 2, and a photographic image to be printed on the photographic paper 2 by the scanning of the light beam and the conveyance movement of the photographic paper 2 Is exposed and formed as a latent image. This is developed in the development processing apparatus PP and finished as a photographic print.

<第2実施形態>
次ぎに、本発明の第2実施形態を図面に基づいて説明する。
本第2実施形態は、上記第1実施形態と、光出力設定波形生成回路54が生成する光出力設定信号の信号波形が異なるのみで、他の構成要素は全て上記第1実施形態と共通である。
本第2実施形態では、光出力設定波形生成回路54は、図5(a)に示す正弦波形状の信号波形SNを出力する。
図5(a)及び図5(b)は、図4(a)及び図4(b)に夫々対応するものであり、図5(a)は、図4(a)と同様に、露光ユニット13による印画紙2上への光ビームの走査のうち、1画素分の露光範囲を抜き出したものであり、時間「ts」から始まり時間「te」で終了する1画素分の露光範囲のうちで、時間「t0」から時間「t1」の幅で正弦波形状(プラス側のみ)の信号波形SNを生成している。
図5(b)は、図5(a)の波形の光出力設定信号をオペアンプ53へ入力したときの、半導体レーザ素子31の実際の出射光強度を検出した信号PSN(高周波重畳回路51による高周波成分の変動を除いている)の概略形状を示しており、図5(b)で示されているのは、D/Aコンバータ43から入力される画像信号で設定する最低光出力に相当するものである。この最低光出力は、印画紙2を感光させて発色させられるかどうかの境界付近の弱い光出力に相当する。
Second Embodiment
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
The second embodiment differs from the first embodiment only in the signal waveform of the light output setting signal generated by the light output setting waveform generation circuit 54, and all other components are the same as those in the first embodiment. is there.
In the second embodiment, the light output setting waveform generation circuit 54 outputs a signal waveform SN having a sine wave shape shown in FIG.
5 (a) and 5 (b) correspond to FIGS. 4 (a) and 4 (b), respectively, and FIG. 5 (a) is an exposure unit similar to FIG. 4 (a). 13, the exposure range for one pixel is extracted from the scanning of the light beam on the photographic paper 2, and the exposure range for one pixel starting from time “ts” and ending at time “te”. The signal waveform SN having a sine wave shape (only on the plus side) is generated with a width from time “t0” to time “t1”.
FIG. 5B shows a signal P SN (by the high frequency superposition circuit 51) that detects the actual emitted light intensity of the semiconductor laser element 31 when the optical output setting signal having the waveform of FIG. FIG. 5B shows a schematic shape corresponding to the minimum light output set by the image signal input from the D / A converter 43. Is. This minimum light output corresponds to a weak light output near the boundary of whether or not the photographic paper 2 can be exposed to color.

光出力設定波形生成回路54は、この最低光出力においても、正弦波形状の検出信号のピーク強度付近では、半導体レーザ素子31のしきい値電流(図9のIth)での光出力強度である「Pth」を超えるように、すなわち、1画素分の範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように図5(a)の正弦波の信号波形SNの高さを設定している。
このように、半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域に達していても、1画素分の露光範囲内での平均光強度は図5(b)において破線PAVで示す光強度となっており、平均光強度は「Pth」を下回る自然発光領域の光強度となっている。
画像信号が上記の最低光出力よりも大きい領域では、光出力設定波形生成回路54は、その信号レベルに応じて図5(a)の正弦波のピークの信号レベルが高くなるように設定する。これは、平均光強度が「Pth」を上回るレーザ発振領域に入っても同様である。この画像信号の信号レベルと正弦波の高さとの関係を示す情報は、予め設定されて光出力設定波形生成回路54が保持している。
The optical output setting waveform generation circuit 54 is the optical output intensity at the threshold current (Ith in FIG. 9) of the semiconductor laser element 31 in the vicinity of the peak intensity of the sinusoidal detection signal even at the minimum optical output. The sine wave signal waveform SN of FIG. 5A is set so as to exceed “Pth”, that is, so that the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the range of one pixel reaches the laser oscillation region. The height is set.
Thus, even though the peak intensity of the light emitted from the semiconductor laser element 31 reaches the lasing region, the light intensity indicated average light intensity within the exposure range of one pixel in the broken line P AV in FIG 5 (b) Thus, the average light intensity is the light intensity in the spontaneous emission region below “Pth”.
In a region where the image signal is larger than the minimum light output, the light output setting waveform generation circuit 54 sets so that the signal level of the peak of the sine wave in FIG. This is the same even when entering the laser oscillation region where the average light intensity exceeds “Pth”. Information indicating the relationship between the signal level of the image signal and the height of the sine wave is set in advance and held by the light output setting waveform generation circuit 54.

従って、駆動回路45は、写真プリント作製対象の画像データに基づいて信号レベルが変化するアナログ信号で半導体レーザ素子31を直接変調しており、印画紙2上に形成される1画素分での半導体レーザ素子31の出射光の平均強度が半導体レーザ素子31の自然発光領域とレーザ発振領域との双方に亘るように半導体レーザ素子の光出力を設定し、且つ、自然発光領域とレーザ発振領域の全領域において、1画素分の露光範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように設定していることになっている。   Accordingly, the drive circuit 45 directly modulates the semiconductor laser element 31 with an analog signal whose signal level changes based on the image data to be produced as a photographic print, and the semiconductor for one pixel formed on the photographic paper 2. The light output of the semiconductor laser element is set so that the average intensity of the emitted light from the laser element 31 extends over both the spontaneous emission area and the laser oscillation area of the semiconductor laser element 31, and all of the spontaneous emission area and the laser oscillation area are set. In the region, the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the exposure range for one pixel is set to reach the laser oscillation region.

<第3実施形態>
次ぎに、本発明の第3実施形態を図面に基づいて説明する。
本第3実施形態も、上記第1実施形態と、光出力設定波形生成回路54が生成する光出力設定信号の信号波形が異なるのみで、他の構成要素は全て上記第1実施形態と共通である。
本第3実施形態では、光出力設定波形生成回路54は、図6(a)に示す鋸歯状波形状の信号波形SWを出力する。
図6(a)及び図6(b)は、図4(a)及び図4(b)に夫々対応するものであり、図6(a)は、図4(a)と同様に、露光ユニット13による印画紙2上への光ビームの走査のうち、1画素分の露光範囲を抜き出したものであり、時間「ts」から始まり時間「te」で終了する1画素分の露光範囲のうちで、時間「t0」から時間「t1」の幅で鋸歯状波形状の信号波形SWを生成している。
図6(b)は、図6(a)の波形の光出力設定信号をオペアンプ53へ入力したときの、半導体レーザ素子31の実際の出射光強度を検出した信号PSW(高周波重畳回路51による高周波成分の変動を除いている)の概略形状を示しており、図6(b)で示されているのは、D/Aコンバータ43から入力される画像信号で設定する最低光出力に相当するものである。この最低光出力は、印画紙2を感光させて発色させられるかどうかの境界付近の弱い光出力に相当する。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
The third embodiment also differs from the first embodiment only in the signal waveform of the optical output setting signal generated by the optical output setting waveform generation circuit 54, and all other components are common to the first embodiment. is there.
In the third embodiment, the light output setting waveform generation circuit 54 outputs a signal waveform SW having a sawtooth waveform shown in FIG.
6 (a) and 6 (b) correspond to FIGS. 4 (a) and 4 (b), respectively, and FIG. 6 (a) is an exposure unit similar to FIG. 4 (a). 13, the exposure range for one pixel is extracted from the scanning of the light beam on the photographic paper 2, and the exposure range for one pixel starting from time “ts” and ending at time “te”. A signal waveform SW having a sawtooth waveform with a width from time “t0” to time “t1” is generated.
6B shows a signal P SW (detected by the high-frequency superposition circuit 51) in which the actual output light intensity of the semiconductor laser element 31 is detected when the optical output setting signal having the waveform shown in FIG. FIG. 6B shows a schematic shape corresponding to the minimum light output set by the image signal input from the D / A converter 43. Is. This minimum light output corresponds to a weak light output near the boundary of whether or not the photographic paper 2 can be exposed to color.

光出力設定波形生成回路54は、この最低光出力においても、鋸歯状波形状の検出信号のピーク強度付近では、半導体レーザ素子31のしきい値電流(図9のIth)での光出力強度である「Pth」を超えるように、すなわち、1画素分の範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように図6(a)の鋸歯状波の信号波形SWの高さを設定している。
このように、半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域に達していても、1画素分の露光範囲内での平均光強度は図6(b)において破線PAVで示す光強度となっており、平均光強度は「Pth」を下回る自然発光領域の光強度となっている。
画像信号が上記の最低光出力よりも大きい領域では、光出力設定波形生成回路54は、その信号レベルに応じて図6(a)の鋸歯状波のピークの信号レベルが高くなるように設定する。これは、平均光強度が「Pth」を上回るレーザ発振領域に入っても同様である。この画像信号の信号レベルと鋸歯状波の高さとの関係を示す情報は、予め設定されて光出力設定波形生成回路54が保持している。
The optical output setting waveform generation circuit 54 uses the optical output intensity at the threshold current of the semiconductor laser element 31 (Ith in FIG. 9) near the peak intensity of the sawtooth waveform detection signal even at the minimum optical output. The signal waveform of the sawtooth wave of FIG. 6A so as to exceed a certain “Pth”, that is, so that the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the range of one pixel reaches the laser oscillation region. SW height is set.
Thus, even though the peak intensity of the light emitted from the semiconductor laser element 31 reaches the lasing region, the light intensity indicated average light intensity within the exposure range of one pixel in the broken line P AV in FIG 6 (b) Thus, the average light intensity is the light intensity in the spontaneous emission region below “Pth”.
In a region where the image signal is larger than the minimum light output, the light output setting waveform generation circuit 54 sets the signal level of the peak of the sawtooth wave in FIG. 6A to be high according to the signal level. . This is the same even when entering the laser oscillation region where the average light intensity exceeds “Pth”. Information indicating the relationship between the signal level of the image signal and the height of the sawtooth wave is preset and held by the light output setting waveform generation circuit 54.

従って、駆動回路45は、写真プリント作製対象の画像データに基づいて信号レベルが変化するアナログ信号で半導体レーザ素子31を直接変調しており、印画紙2上に形成される1画素分での半導体レーザ素子31の出射光の平均強度が半導体レーザ素子31の自然発光領域とレーザ発振領域との双方に亘るように半導体レーザ素子の光出力を設定し、且つ、自然発光領域とレーザ発振領域の全領域において、1画素分の露光範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように設定していることになっている。   Accordingly, the drive circuit 45 directly modulates the semiconductor laser element 31 with an analog signal whose signal level changes based on the image data to be produced as a photographic print, and the semiconductor for one pixel formed on the photographic paper 2. The light output of the semiconductor laser element is set so that the average intensity of the emitted light from the laser element 31 extends over both the spontaneous emission area and the laser oscillation area of the semiconductor laser element 31, and all of the spontaneous emission area and the laser oscillation area are set. In the region, the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the exposure range for one pixel is set to reach the laser oscillation region.

<第4実施形態>
次ぎに、本発明の第4実施形態を図面に基づいて説明する。
本第4実施形態では、上記第1乃至第3実施形態の光出力設定波形生成回路54は備えられず、D/Aコンバータ43が出力する画像信号がそのままオペアンプ53へ入力され、光出力設定波形生成回路54が果たしていた機能を高周波重畳回路51に負わせる構成としている。
従って、高周波重畳回路51は、本来の機能である半導体レーザ素子31のモードホップ雑音低減用の回路としての機能に加えて、半導体レーザ素子31の応答特性を改善させる機能を併せ持つことになる。
光出力設定波形生成回路54が備えられていない点と、高周波重畳回路51の構成が異なる点を除いては、本第4実施形態は上記第1乃至第3実施形態と全く共通である。
<Fourth embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the fourth embodiment, the optical output setting waveform generation circuit 54 of the first to third embodiments is not provided, and the image signal output from the D / A converter 43 is input to the operational amplifier 53 as it is, and the optical output setting waveform is output. The function performed by the generation circuit 54 is configured to be imposed on the high-frequency superposition circuit 51.
Therefore, the high frequency superimposing circuit 51 has a function of improving the response characteristics of the semiconductor laser element 31 in addition to the function as a circuit for reducing the mode hop noise of the semiconductor laser element 31 which is the original function.
Except for the point that the optical output setting waveform generation circuit 54 is not provided and the configuration of the high-frequency superposition circuit 51 is different, the fourth embodiment is completely the same as the first to third embodiments.

本第4実施形態の高周波重畳回路51には、図3に対応して本第4実施形態の駆動回路45を示す図7に示すように、外部からの制御信号で重畳する高周波信号の振幅を変化させる振幅調整回路51aが備えられている。
図8(a)は、露光ユニット13による印画紙2上への光ビームの走査のうち、1画素分の露光範囲を抜き出したものであり、時間「ts」から始まり時間「te」で終了する1画素分の露光範囲の半導体レーザ素子31へ供給する駆動電流の波形HFを示している。すなわち、オペアンプ53から供給される電流成分と高周波重畳回路51から供給される高周波変動成分とを含めた信号波形HFを示している。
尚、図8(a)に示す高周波重畳回路51からの高周波信号成分は、図面を見易くするために実際の周波数の数分の一以下の周波数で示している。
In the high frequency superimposing circuit 51 of the fourth embodiment, as shown in FIG. 7 showing the driving circuit 45 of the fourth embodiment corresponding to FIG. 3, the amplitude of the high frequency signal superimposed by the control signal from the outside is set. An amplitude adjustment circuit 51a to be changed is provided.
FIG. 8A shows an exposure range for one pixel extracted from the scanning of the light beam onto the photographic paper 2 by the exposure unit 13, and starts from time “ts” and ends at time “te”. The waveform HF of the drive current supplied to the semiconductor laser element 31 in the exposure range for one pixel is shown. That is, the signal waveform HF including the current component supplied from the operational amplifier 53 and the high frequency fluctuation component supplied from the high frequency superimposing circuit 51 is shown.
Note that the high-frequency signal component from the high-frequency superimposing circuit 51 shown in FIG. 8A is shown with a frequency that is a fraction of the actual frequency in order to make the drawing easier to see.

図8(b)は、図8(a)の波形の駆動電流で半導体レーザ素子31を駆動したときの、半導体レーザ素子31の実際の出射光強度を検出した信号PHFの概略形状を示している。尚、半導体レーザ素子31の高周波特性によっては、図8(b)の高周波成分のピークトゥーピークは図示のものよりも小さくなる場合もある。
図8(a)及び図8(b)で示されているのは、D/Aコンバータ43から入力される画像信号で設定する最低光出力に相当するものであり、この最低光出力は、印画紙2を感光させて発色させられるかどうかの境界付近の弱い光出力に相当する。
この最低光出力においても、図8(b)の高周波成分のピーク強度が、半導体レーザ素子31のしきい値電流(図9のIth)での光出力強度である「Pth」を超えるように、すなわち、1画素分の範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように、図8(a)の駆動電流においても、高周波成分のピークがしきい値電流(図9のIth)を超える高さに設定している。
FIG. 8B shows a schematic shape of the signal P HF in which the actual emitted light intensity of the semiconductor laser element 31 is detected when the semiconductor laser element 31 is driven with the drive current having the waveform of FIG. Yes. Depending on the high frequency characteristics of the semiconductor laser element 31, the peak to peak of the high frequency component in FIG. 8B may be smaller than that shown in the figure.
8A and 8B correspond to the minimum light output set by the image signal input from the D / A converter 43, and this minimum light output is the print. This corresponds to a weak light output near the boundary of whether or not the paper 2 can be exposed to color.
Even at this minimum light output, the peak intensity of the high-frequency component in FIG. 8B exceeds “Pth” that is the light output intensity at the threshold current of the semiconductor laser element 31 (Ith in FIG. 9). That is, the peak of the high-frequency component is also the threshold current in the drive current of FIG. 8A so that the peak intensity of the emitted light from the semiconductor laser element 31 within the range of one pixel reaches the laser oscillation region. The height exceeds (Ith in FIG. 9).

このように、半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域に達していても、1画素分の露光範囲内での平均光強度は図8(b)において破線PAVで示す光強度となっており、平均光強度は「Pth」を下回る自然発光領域の光強度となっている。換言すると、破線PAVで示す画像信号の信号レベルに対して、振幅調整回路51aは図8(a)で示す高周波成分の振幅を設定する、という関係にある。
高周波重畳回路51の振幅調整回路51aは、画像信号が上記の最低光出力から大きくなるにつれて、1画素分の範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達する状態を維持しながら、半導体レーザ素子31の駆動電流に印加する高周波成分の振幅を低下させる。但し、その高周波成分の振幅は、最低でも、モードホップ雑音の抑制効果を維持できるレベルを維持する。
Thus, even if peak intensity laser oscillation region of the light emitted from the semiconductor laser element 31, the light intensity indicated average light intensity within the exposure range of one pixel in the broken line P AV in FIG 8 (b) Thus, the average light intensity is the light intensity in the spontaneous emission region below “Pth”. In other words, with respect to the signal level of the image signal indicated by the broken line P AV, the amplitude adjustment circuit 51a sets the amplitude of the high frequency components shown in FIG. 8 (a), the in relationship.
The amplitude adjustment circuit 51a of the high-frequency superimposing circuit 51 is in a state where the peak intensity of the emitted light from the semiconductor laser element 31 within the range of one pixel reaches the laser oscillation region as the image signal increases from the minimum light output. While maintaining the above, the amplitude of the high frequency component applied to the drive current of the semiconductor laser element 31 is reduced. However, the amplitude of the high-frequency component is maintained at a level at which the mode-hop noise suppression effect can be maintained at the minimum.

振幅調整回路51aが上記のような高周波信号の振幅の設定を行うために、画像信号の信号レベルと設定する振幅との対応関係を示す情報が予め求められ、データテーブル等として保持されている。
もちろん、半導体レーザ素子31の光出力の定格に余裕があれば、画像信号が上記の最低光出力から大きくなっても、図8(a)で示す高周波成分の振幅を維持したままでも良い。
駆動回路45が上記動作を行うことにより、駆動回路45は、写真プリント作製対象の画像データに基づいて信号レベルが変化するアナログ信号で半導体レーザ素子31を直接変調しており、印画紙2上に形成される1画素分での半導体レーザ素子31の出射光の平均強度が半導体レーザ素子31の自然発光領域とレーザ発振領域との双方に亘るように半導体レーザ素子の光出力を設定し、且つ、自然発光領域とレーザ発振領域の全領域において、高周波重畳回路51の出力が半導体レーザ素子31に印加された状態で、1画素分の露光範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように設定していることになっている。
In order for the amplitude adjustment circuit 51a to set the amplitude of the high-frequency signal as described above, information indicating the correspondence between the signal level of the image signal and the amplitude to be set is obtained in advance and held as a data table or the like.
Of course, if the optical output rating of the semiconductor laser element 31 has a margin, the image signal may increase from the minimum optical output, or the amplitude of the high frequency component shown in FIG.
When the drive circuit 45 performs the above-described operation, the drive circuit 45 directly modulates the semiconductor laser element 31 with an analog signal whose signal level changes based on the image data to be produced as a photographic print. The light output of the semiconductor laser element is set so that the average intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 in one pixel formed extends over both the spontaneous emission region and the laser oscillation region of the semiconductor laser element 31, and In all areas of the spontaneous emission region and the laser oscillation region, the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the exposure range for one pixel is obtained with the output of the high-frequency superimposing circuit 51 applied to the semiconductor laser element 31. It is set to reach the laser oscillation region.

<その他の実施形態>
以下、本発明の別実施形態を列記する。
(1)上記第4実施形態では、自然発光領域及びレーザ発振領域の全範囲で、半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度が「Pth」を超えてレーザ発振領域に達するように、高周波重畳回路51により半導体レーザ素子31の駆動電流に付加する高周波成分の振幅を設定しているが、駆動回路45は、設定光出力以下の低光出力領域で、1画素分の露光範囲内での半導体レーザ素子31の光出力設定信号として図4(a)のような三角波形状,図6(a)のような鋸歯状波形状又は図5(a)のような正弦波形状の信号を含めるように構成され、前記設定光出力を超える高光出力領域で、高周波重畳回路51の出力が半導体レーザ素子31に印加された状態で、前記1画素分の範囲内での半導体レーザ素子31の出射光のピーク強度がレーザ発振領域内に達するように高周波重畳回路51の出力振幅を設定するように構成しても良い。
<Other embodiments>
Hereinafter, other embodiments of the present invention will be listed.
(1) In the fourth embodiment, the high frequency superposition circuit is arranged so that the peak intensity of the emitted light from the semiconductor laser element 31 exceeds “Pth” and reaches the laser oscillation region in the entire range of the spontaneous emission region and the laser oscillation region. 51, the amplitude of the high frequency component added to the drive current of the semiconductor laser element 31 is set. The drive circuit 45 is a semiconductor laser within the exposure range for one pixel in a low light output region below the set light output. The optical output setting signal of the element 31 is configured to include a triangular waveform as shown in FIG. 4A, a sawtooth waveform as shown in FIG. 6A, or a sine waveform as shown in FIG. In the high light output region exceeding the set light output, the peak intensity of the emitted light of the semiconductor laser element 31 within the range of the one pixel in the state where the output of the high frequency superimposing circuit 51 is applied to the semiconductor laser element 31. Is It may be configured to set the output amplitude of the high-frequency superimposing circuit 51 so as to reach a The oscillation region.

より具体的に説明すると、例えば、上記第4実施形態において、図8(b)の破線PAVで示す平均光強度よりも更に低出力側に最低光出力を設定したい場合、図7において、D/Aコンバータ43から入力される画像信号が高周波重畳回路51に向けて分岐される分岐点とオペアンプ53の入力との間に、上記第1乃至第3実施形態における光出力設定波形生成回路54を配置し、図8(b)の破線PAVで示す平均光強度を前記設定光出力として、D/Aコンバータ43から入力される画像信号の信号レベルが、前記設定光出力以下の光出力領域においては、上記第1乃至第3実施形態において説明したように光出力設定波形生成回路54を動作させ、前記設定光出力を超える高光出力領域においては、光出力設定波形生成回路54の作動を停止させてD/Aコンバータ43から入力される画像信号をそのまま通過させ、高周波重畳回路51に上記第4実施形態において説明した動作を行わせる。
もちろん、上記のような動作の切換えを行う前記設定光出力は、図8(b)の破線PAVで示す平均光強度よりも大きくても良い。
To be more specific, the example, in the fourth embodiment, if you want to set the minimum light output to further lower output than the average light intensity indicated by the dashed line P AV of FIG. 8 (b), in FIG. 7, D The optical output setting waveform generation circuit 54 in the first to third embodiments is placed between the branch point where the image signal input from the / A converter 43 branches toward the high frequency superimposing circuit 51 and the input of the operational amplifier 53. arrangement and, as the set light output average optical intensity shown by the dashed line P AV of FIG. 8 (b), the signal level of the image signal input from the D / a converter 43 is, in the setting light output following the light output region Operates the light output setting waveform generation circuit 54 as described in the first to third embodiments, and in the high light output region exceeding the setting light output, the light output setting waveform generation circuit 54 The dynamic is stopped as it passes the image signal input from the D / A converter 43 to perform the operations described in the high-frequency superposing circuit 51 in the fourth embodiment.
Of course, the setting light output for switching operation as described above, may be greater than the average light intensity indicated by the dashed line P AV of FIG 8 (b).

(2)上記第1乃至第3実施形態は、自然発光領域及びレーザ発振領域の全領域において、図4(a)のような三角波形状,図5(a)のような正弦波形状又は図6(a)のような鋸歯状波形状の信号を光出力設定波形生成回路54にて生成するものとして説明しているが、D/Aコンバータ43から入力される画像信号の信号レベルが、半導体レーザ素子31の出射光の平均強度がレーザ発振領域に入るレベルであるときには、光出力設定波形生成回路54は三角波等の波形を生成するのではなく、入力される画像信号をそのまま通過させるように構成しても良い。 (2) In the first to third embodiments described above, the triangular wave shape as shown in FIG. 4A, the sine wave shape as shown in FIG. Although it has been described that the signal having the sawtooth waveform as shown in (a) is generated by the optical output setting waveform generation circuit 54, the signal level of the image signal input from the D / A converter 43 is the semiconductor laser. When the average intensity of the emitted light from the element 31 is at a level entering the laser oscillation region, the light output setting waveform generation circuit 54 is configured not to generate a waveform such as a triangular wave but to pass the input image signal as it is. You may do it.

(3)上記第1乃至第3実施形態では、D/Aコンバータ43から入力される画像信号によって図4(a)の三角波形状等の信号波形の高さを設定する場合を例示しているが、画像データメモリ42から出力されるデジタル画像データをそのまま利用して、図4(a)の三角波形状等の信号波形の高さを設定するように構成しても良い。
(4)上記第1乃至第4実施形態では、本発明を赤色用光源装置21の半導体レーザ素子31を駆動するために適用する場合を例示しているが、緑色用光源装置22及び青色用光源装置23にも光源として、夫々、緑色半導体レーザ素子及び青色半導体レーザ素子を備えて、これらの半導体レーザ素子の駆動に本発明を適用しても良い。
(3) In the first to third embodiments, the case where the height of the signal waveform such as the triangular wave shape of FIG. 4A is set by the image signal input from the D / A converter 43 is illustrated. Alternatively, the digital image data output from the image data memory 42 may be used as it is to set the height of the signal waveform such as the triangular wave shape of FIG.
(4) In the first to fourth embodiments, the case where the present invention is applied to drive the semiconductor laser element 31 of the red light source device 21 is exemplified. However, the green light source device 22 and the blue light source are used. The apparatus 23 may also include a green semiconductor laser element and a blue semiconductor laser element as light sources, respectively, and the present invention may be applied to drive these semiconductor laser elements.

本発明の実施の形態にかかる画像露光装置の概略構成図1 is a schematic configuration diagram of an image exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態にかかる写真プリントシステムの概略構成図1 is a schematic configuration diagram of a photo print system according to an embodiment of the present invention. 本発明の第1乃至第3実施形態にかかる駆動回路及び光源装置の概略構成図1 is a schematic configuration diagram of a drive circuit and a light source device according to first to third embodiments of the present invention. 本発明の第1実施形態にかかる信号説明図Signal explanatory diagram according to the first embodiment of the present invention 本発明の第2実施形態にかかる信号説明図Signal explanatory diagram according to the second embodiment of the present invention 本発明の第3実施形態にかかる信号説明図Signal explanatory diagram according to the third embodiment of the present invention 本発明の第4実施形態にかかる駆動回路及び光源装置の概略構成図The schematic block diagram of the drive circuit and light source device concerning 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態にかかる信号説明図Signal explanatory diagram according to the fourth embodiment of the present invention 半導体レーザ素子の光出力−駆動電流特性を示す図The figure which shows the optical output-drive current characteristic of a semiconductor laser element 自然発光領域での動作を説明するための信号説明図Signal explanatory diagram for explaining the operation in the spontaneous emission region

符号の説明Explanation of symbols

13 走査手段
31 半導体レーザ素子
45 駆動回路
51 高周波重畳回路
PS 写真感光材料
13 Scanning means 31 Semiconductor laser element 45 Drive circuit 51 High frequency superposition circuit PS Photosensitive material

Claims (4)

半導体レーザ素子と、写真プリント作製対象の画像データに基づいて信号レベルが変化するアナログ信号で前記半導体レーザ素子を直接変調する駆動回路と、前記半導体レーザ素子の出射光を写真感光材料上で走査する走査手段とが備えられた画像露光装置であって、
前記駆動回路は、写真感光材料上に形成される1画素分での前記半導体レーザ素子の出射光の平均強度が前記半導体レーザ素子の自然発光領域とレーザ発振領域との双方に亘るように前記半導体レーザ素子の光出力を設定し、且つ、前記自然発光領域と前記レーザ発振領域の全領域において、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の出射光のピーク強度が前記レーザ発振領域内に達するように設定する画像露光装置。
A semiconductor laser element, a driving circuit that directly modulates the semiconductor laser element with an analog signal whose signal level changes based on image data to be produced as a photographic print, and scanning light emitted from the semiconductor laser element on a photographic photosensitive material An image exposure apparatus provided with a scanning means,
The driving circuit is configured so that an average intensity of emitted light of the semiconductor laser element for one pixel formed on a photographic photosensitive material extends over both a spontaneous emission region and a laser oscillation region of the semiconductor laser element. The light output of the semiconductor laser element is set within the laser oscillation region within the exposure range for the one pixel in the entire light emission region and the laser oscillation region. An image exposure device that is set to reach the inside.
前記駆動回路は、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の光出力設定信号として三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を含めるように構成されている請求項1記載の画像露光装置。   2. The drive circuit is configured to include a signal having a triangular wave shape, a sawtooth wave shape, or a sine wave shape as an optical output setting signal of the semiconductor laser element within the exposure range for one pixel. Image exposure equipment. 前記駆動回路に、前記半導体レーザ素子の雑音低減用の高周波重畳回路が備えられ、
前記駆動回路は、前記自然発光領域と前記レーザ発振領域の全領域において、前記高周波重畳回路の出力が前記半導体レーザ素子に印加された状態で、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の出射光のピーク強度が前記レーザ発振領域内に達するように前記高周波重畳回路の出力振幅を設定している請求項1記載の画像露光装置。
The drive circuit is provided with a high-frequency superposition circuit for noise reduction of the semiconductor laser element,
The drive circuit includes the semiconductor laser within an exposure range of the one pixel in a state where the output of the high-frequency superimposing circuit is applied to the semiconductor laser element in all areas of the spontaneous emission region and the laser oscillation region. 2. The image exposure apparatus according to claim 1, wherein an output amplitude of the high frequency superimposing circuit is set so that a peak intensity of light emitted from the element reaches the laser oscillation region.
前記駆動回路に、前記半導体レーザ素子の雑音低減用の高周波重畳回路が備えられ、
前記駆動回路は、設定光出力以下の低光出力領域で、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の光出力設定信号として三角波形状,鋸歯状波形状又は正弦波形状の信号を含めるように構成され、前記設定光出力を超える高光出力領域で、前記高周波重畳回路の出力が前記半導体レーザ素子に印加された状態で、前記1画素分の露光範囲内での前記半導体レーザ素子の出射光のピーク強度が前記レーザ発振領域内に達するように前記高周波重畳回路の出力振幅を設定するように構成されている請求項1記載の画像露光装置。
The drive circuit is provided with a high-frequency superposition circuit for noise reduction of the semiconductor laser element,
The driving circuit outputs a signal having a triangular wave shape, a sawtooth wave shape, or a sine wave shape as a light output setting signal of the semiconductor laser element within the exposure range for one pixel in a low light output region equal to or lower than a set light output. In the high light output region that is configured to include and exceed the set light output, the output of the high-frequency superimposing circuit is applied to the semiconductor laser element, and the semiconductor laser element within the exposure range for the one pixel is included. 2. The image exposure apparatus according to claim 1, wherein the output amplitude of the high-frequency superposition circuit is set so that the peak intensity of the emitted light reaches the laser oscillation region.
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