JP2007183485A - Method and apparatus for manufacturing photoreceptor, and the photoreceptor - Google Patents

Method and apparatus for manufacturing photoreceptor, and the photoreceptor Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To remove a thickness part H formed on the edge on the opening side of an object to be coated by using a solvent tank, specially, to reduce such failures that a solvent film formed on the edge on the opening side bursts and the splashes of the solvent scatter in many directions. <P>SOLUTION: The photoreceptor manufacturing method includes a process of immersing the edge of the conductive base with a photoreceptor layer formed on the outer peripheral surface thereof in the solvent, a process of pulling up the conductive base from the solvent, and a process of reducing the internal pressure of the conductive base, after the conductive base is separated from the solvent level at the pull-up process. On the pull-up process, the solvent film formed on the edge of the conductive base is sucked into the inside of the conductive base. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、複写機、プリンタまたはファクシミリのような画像形成装置に用いられる電子写真感光体の製造方法および感光体の製造装置と、感光体に関し、特に感光体層の膜厚を均一にするものである。   BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member manufacturing method and a photosensitive member manufacturing apparatus used in an image forming apparatus such as a copying machine, a printer, or a facsimile, and a photosensitive member. It is.

画像形成装置に用いられる感光体は、生産性に優れ、低コストで、作業が簡単であるなどの観点から、多数本の導電性基体を有機感光体塗布液を満たした塗布槽に浸漬して、その後一定速度または任意に変化させた速度で引上げる浸漬塗布法によって製造される。この浸漬塗布法によると、図7に示すように、導電性基体Aの端部に肉厚部Hが形成される問題が起こる。この問題を解決するため、肉厚部を除去する方法が提案されている。その一つの方法として、被塗布物を溶剤槽中に一度浸漬させて塗布層を溶解させる方法がある。しかしながら、この方法では、次のような問題を惹起する。
即ち、図6(a)に示すように、外周表面に感光体層が形成され、下端側が開口した筒状の導電性基体の上端側をチャッキング装置により保持し、これを吊下げて、導電性基体Aの下端部を溶剤槽Bの上方より、図6(b)に示すように溶剤槽Bに浸漬し、肉厚部を溶解させた後、導電性基体Aを引上げると、図6(c)に示すように、導電性基体Aの端面に、溶剤膜Cが形成されることがある。この溶剤膜Cは、肉厚部の厚さ、溶剤液の粘性および表面張力、端面の仕上げ精度、端面の溶剤に対する濡れ性、導電性基体の引き上げ速度、時間の経過、溶剤の蒸発、その他の原因によると考えられる。そして、この溶剤膜Cが時間の経過、溶剤の蒸発により弾けると、溶剤膜の飛沫Dが図6(d)に示すように、あらゆる方向に飛散する。このように、溶剤膜Cが弾けて、その飛沫Dが感光体層の表面に付着すると、感光体の電気特性および機械特性並びに画像特性を低下させ、画像形成に大きな影響を及ぼすことになる。
The photoreceptor used in the image forming apparatus has a large number of conductive substrates immersed in a coating tank filled with an organic photoreceptor coating solution from the viewpoints of excellent productivity, low cost, and easy operation. Then, it is manufactured by a dip coating method in which it is pulled at a constant speed or an arbitrarily changed speed. According to this dip coating method, there arises a problem that a thick portion H is formed at the end portion of the conductive substrate A as shown in FIG. In order to solve this problem, a method of removing the thick portion has been proposed. As one of the methods, there is a method of immersing an object to be coated once in a solvent tank and dissolving the coating layer. However, this method raises the following problems.
That is, as shown in FIG. 6 (a), a photosensitive layer is formed on the outer peripheral surface, and the upper end side of a cylindrical conductive substrate having an open lower end side is held by a chucking device, and this is suspended to conduct electricity. When the lower end portion of the conductive substrate A is immersed in the solvent bath B as shown in FIG. 6 (b) from above the solvent bath B to dissolve the thick portion, the conductive substrate A is pulled up. As shown in (c), a solvent film C may be formed on the end face of the conductive substrate A. The solvent film C has a thick part thickness, a solvent liquid viscosity and surface tension, end face finishing accuracy, end face wettability to a solvent, a conductive substrate pulling speed, time passage, solvent evaporation, Probably due to the cause. Then, when the solvent film C repels due to the elapse of time and the evaporation of the solvent, the droplet D of the solvent film is scattered in all directions as shown in FIG. 6 (d). As described above, when the solvent film C bounces and the droplets D adhere to the surface of the photoreceptor layer, the electrical characteristics, mechanical characteristics, and image characteristics of the photoreceptor are deteriorated, which greatly affects image formation.

また、導電性基体Aの端部に肉厚部Hが形成されないようにする方法として、例えば、浸漬塗布の最終段階で引上げ速度を遅くして、導電性基体の上部と下部の膜厚を均一にする方法がある。しかし、この方法は大量生産の場合に定常的な状態を確保し難く、塗布膜の上下方向で不均一が現れる。また浸漬塗布の最終段階で一旦停止する方法があるが、この方法では、下端部の塗布膜の厚さが薄くなる傾向がある。
また、特許文献1は、感光体層が外周表面に形成された導電性基体に付着した余分な塗膜を除去する方法を開示している。また特許文献2は、有機感光体層が外周表面に形成された導電性基体の端部を、有機感光体層に含有される樹脂を可溶な溶剤槽に浸漬して、溶剤に含まれる樹脂による膜で基体端面を覆い、それによって残渣の剥離を防止する技術を開示している。そして、肉厚部をブレードによりふき取る工程を備える。
特公平4−73778号公報 特開2000−305287号公報
Further, as a method for preventing the thick portion H from being formed at the end portion of the conductive substrate A, for example, the pulling rate is slowed at the final stage of the dip coating, so that the film thickness of the upper and lower portions of the conductive substrate is uniform. There is a way to make it. However, this method makes it difficult to ensure a steady state in mass production, and unevenness appears in the vertical direction of the coating film. Further, there is a method of once stopping at the final stage of the dip coating, but in this method, the thickness of the coating film at the lower end tends to be thin.
Patent Document 1 discloses a method of removing an excess coating film attached to a conductive substrate having a photoreceptor layer formed on the outer peripheral surface. Patent Document 2 discloses a resin contained in a solvent by immersing an end portion of a conductive substrate having an organic photoreceptor layer formed on the outer peripheral surface in a soluble solvent tank. Discloses a technique for covering the end face of the substrate with a film by the above, thereby preventing the separation of residues. And the process which wipes off a thick part with a braid | blade is provided.
Japanese Examined Patent Publication No. 4-73778 JP 2000-305287 A

本発明は、以上のような問題に鑑みて、被塗布物の開口側端部に形成される肉厚部Hを溶剤槽をもちいて除去するものであり、特に、本発明は、被塗布物を開口側の端部から溶剤液中に浸漬させた後、溶剤液中から引上げる際に、溶剤液の表面張力により開口側の端部に溶剤膜が形成され、時間の経過、溶剤の蒸発により溶剤膜が弾け溶剤液の飛沫が多方向に飛散するのを低減し、飛散した溶剤液が隣合う被塗布物へ付着するのを防止できる電子写真感光体の製造方法および製造装置を提供するものである。またその製造方法および製造装置によって製造された電子写真感光体を提供するものである。   In view of the above problems, the present invention is to remove the thick portion H formed at the opening side end of the object to be coated using a solvent tank. Is immersed in the solvent solution from the end on the opening side, and then pulled up from the solvent solution, a solvent film is formed on the end on the opening side due to the surface tension of the solvent solution. Provides a method and an apparatus for producing an electrophotographic photosensitive member capable of reducing the solvent film and preventing splashes of solvent liquid from being scattered in multiple directions and preventing the scattered solvent liquid from adhering to an adjacent coated object. Is. The present invention also provides an electrophotographic photosensitive member manufactured by the manufacturing method and manufacturing apparatus.

本発明の感光体の製造方法は、外周表面に感光体層が形成され、下端側が開口した筒状の導電性基体の上端側をチャッキング装置に保持する工程と、前記導電性基体の下端側を溶剤液に浸漬する工程と、前記導電性基体を前記溶剤液から引上げる工程と、前記引上げ工程において、前記導電性基体が溶剤液面から離れた後、前記導電性基体の内部を減圧する工程とを備える。
また前記減圧を開始する時期は、前記導電性基体が溶剤液から離れた後、0.5〜30秒であることが望ましい。
また前記引上げ工程によって、前記導電性基体の端面に形成される溶剤膜を前記導電性基体の内側に吸い込むとよい。
また本発明は、上記感光体の製造方法によって製造された感光体である。
The method for producing a photoconductor of the present invention includes a step of holding an upper end side of a cylindrical conductive substrate having a photoconductor layer formed on an outer peripheral surface and having an open lower end side in a chucking device, and a lower end side of the conductive substrate. In the solvent solution, in the step of pulling up the conductive substrate from the solvent solution, and in the pulling step, the interior of the conductive substrate is depressurized after the conductive substrate is separated from the solvent liquid surface. A process.
Moreover, it is desirable that the time for starting the decompression is 0.5 to 30 seconds after the conductive substrate is separated from the solvent liquid.
The solvent film formed on the end surface of the conductive substrate may be sucked into the conductive substrate by the pulling process.
The present invention also provides a photoconductor produced by the above method for producing a photoconductor.

本発明は、別の観点によれば、感光体の製造装置であり、外周表面に感光体層が形成され、下端側が開口した筒状の1または複数の導電性基体の上端側を保持するチャッキング装置と、前記チャッキング装置に保持された1または複数の導電性基体の下端側を溶剤液に浸漬する溶剤槽と、前記溶剤槽に前記1または複数の導電性基体を浸漬または引上げる駆動機構と、前記1または複数の導電性基体の内部を減圧する減圧装置と、前記駆動機構が前記1または複数の導電性基体を前記溶剤槽から引上げるとき、前記1または複数の導電性基体が前記溶剤液面から離れた後、前記1または複数の導電性基体の内部を減圧するよう前記減圧装置を制御する制御部とを備えるものである。
また本発明は、前記溶剤槽の溶剤液中の樹脂濃度を所定値以下に調整する調整部を備えることが望ましい。
前記溶剤槽に収納する溶剤は、前記導電性基体の外周表面に形成する感光体層に含まれる溶剤と同種であるとよい。
更に本発明の感光体の製造装置は、請求項5に記載の感光体の製造装置は、更に1または複数の導電性基体の外周表面に感光体層を塗布する塗布槽と、前記1または複数の導電性基体を前記塗布槽に浸漬中に、前記1または複数の導電性基体の内部の空気を抜く空気抜き部とを備え、前記減圧装置と、前記空気抜き部をバルブに接続することが望ましい。
また本発明は、上記感光体の製造装置によって製造された感光体である。
According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a photoconductor, in which a photoconductor layer is formed on an outer peripheral surface, and a chuck for holding an upper end side of one or more cylindrical conductive substrates having an open lower end side. A king device, a solvent tank that immerses the lower end of one or more conductive substrates held by the chucking device in a solvent solution, and a drive that immerses or pulls up the one or more conductive substrates in the solvent tank A mechanism, a decompression device that depressurizes the inside of the one or more conductive substrates, and when the drive mechanism pulls the one or more conductive substrates out of the solvent tank, the one or more conductive substrates are And a controller that controls the decompression device so as to decompress the interior of the one or more conductive substrates after leaving the liquid surface of the solvent.
Moreover, it is preferable that the present invention includes an adjustment unit that adjusts the resin concentration in the solvent liquid of the solvent tank to a predetermined value or less.
The solvent stored in the solvent tank may be the same type as the solvent contained in the photoreceptor layer formed on the outer peripheral surface of the conductive substrate.
Furthermore, the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention is the photoconductor manufacturing apparatus according to claim 5, further comprising a coating tank for applying a photoconductor layer to an outer peripheral surface of one or more conductive substrates, and the one or more electrophotographic substrates. It is desirable to provide an air vent for removing the air inside the one or more conductive substrates while the conductive substrate is immersed in the coating tank, and to connect the pressure reducing device and the air vent to a valve.
The present invention also provides a photoconductor manufactured by the above-described photoconductor manufacturing apparatus.

本発明は、溶剤槽に浸漬した導電性基体の引上げ工程において、導電性基体が溶剤液面から離れた後、前記導電性基体の内部を減圧するので、導電性基体の端面に形成された溶剤膜を導電性基体の内側で弾けさせ、溶剤膜の飛沫Dが感光体層に付着するのを防止することができる。
上記減圧を開始する時期は、導電性基体が溶剤液から離れた後、0.5秒以上であるので、溶剤槽の溶剤を吸い込むことがなく、かつ導電性基体の端面に形成された溶剤膜を確実に割り、飛沫を吸い込むことができる。また30秒以内であるので、溶剤膜が乾燥する前であり、溶剤膜を確実に割り、飛沫を吸い込むことができる。また溶剤膜の糸引き現象を防止することができる。
According to the present invention, in the step of pulling up the conductive substrate immersed in the solvent tank, the inside of the conductive substrate is decompressed after the conductive substrate is separated from the solvent liquid surface, so that the solvent formed on the end surface of the conductive substrate The film can be bounced inside the conductive substrate to prevent the solvent film splash D from adhering to the photoreceptor layer.
Since the time for starting the decompression is 0.5 seconds or more after the conductive substrate is separated from the solvent liquid, the solvent film formed on the end surface of the conductive substrate without sucking the solvent in the solvent tank is used. Can be surely broken and inhaled. Further, since it is within 30 seconds, it is before the solvent film is dried, and the solvent film can be reliably broken and the splash can be sucked. Further, the stringing phenomenon of the solvent film can be prevented.

また本発明は、導電性基体を前記溶剤槽から引上げるとき、導電性基体が溶剤液面から離れた後、導電性基体の内部を減圧するよう減圧装置を制御するので、1または複数の導電性基体を製造する場合も均一な膜厚の感光体層を形成した感光体を製造することができる。
また溶剤槽の溶剤液中の樹脂濃度を所定値以下に調整するので、ロットの前後による品質の変化を無くすことができる。
更に本発明は、導電性基体を塗布槽に浸漬中に導電性基体の内部の空気を抜く空気抜き部とを備え、空気抜き部と減圧装置をバルブに接続するので、装置構成を簡単にすることができる。
In the present invention, when the conductive substrate is lifted from the solvent tank, the pressure reducing device is controlled so that the inside of the conductive substrate is depressurized after the conductive substrate is separated from the solvent liquid surface. In the case of producing a photosensitive substrate, a photoreceptor having a uniform photoreceptor layer can be produced.
Further, since the resin concentration in the solvent liquid in the solvent tank is adjusted to a predetermined value or less, the quality change between before and after the lot can be eliminated.
Furthermore, the present invention includes an air vent for removing the air inside the conductive substrate while the conductive substrate is immersed in the coating tank, and the air vent and the pressure reducing device are connected to the valve. it can.

本発明の感光体は、図1に示すように導電性基体の外周表面に感光体層を形成する第1の工程と、導電性基体の端部に形成された肉厚部を溶解し、導電性基体の端面に形成される溶剤膜を処理する第2の工程と、導電性基体の端部に形成された肉厚部を除去する第3の工程により、製造される。ここで、本発明は第2の工程に特徴を有する。
上記第1の工程で使用される製造装置は、図2に示すように、塗布液1を満たした塗布槽2と、チャッキング装置3により保持した導電性基体4をモータ5によって駆動する昇降装置6により構成される。昇降装置6により導電性基体4を降下させて塗布液1に浸漬し、浸漬後、導電性基体4を昇降装置6によって上昇させ、塗布槽2から引上げる。以上の操作により導電性基体4の外周表面に塗布膜を形成する。
導電性基体4を塗布槽2に浸漬すると、導電性基体4の下端開口より侵入した塗布液中の溶剤が気化して、その気体体積が大きくなり、それが一定以上になると、導電性基体4の下端開口より気泡として塗布液中に飛び出す。特に導電性基体4を塗布槽2に深く浸漬したとき、気泡が飛び出しやすい。飛び出した気泡が導電性基体の外周表面に沿って上昇すると、塗布液表面が乱れ、塗布層に塗布むらが発生する。このようにして発生する気泡を防止するため、導電性基体の内側の空気圧の上昇を防止するため、導電性基体の内部の空気を抜く空気抜き部13を備える。空気抜き部13は導電性基体の内部に連通したパイプに開閉バルブを接続して構成され、この開閉バルブを開くことにより、導電性基体の内部の空気を抜くことができる。
As shown in FIG. 1, the photoconductor of the present invention dissolves the first step of forming a photoconductor layer on the outer peripheral surface of the electroconductive substrate and the thick portion formed at the end of the electroconductive substrate. It is manufactured by the second step of treating the solvent film formed on the end surface of the conductive substrate and the third step of removing the thick portion formed on the end portion of the conductive substrate. Here, the present invention is characterized by the second step.
As shown in FIG. 2, the manufacturing apparatus used in the first step includes a coating tank 2 filled with a coating solution 1 and a lifting device that drives a conductive substrate 4 held by a chucking device 3 by a motor 5. 6. The conductive substrate 4 is lowered by the lifting device 6 and immersed in the coating liquid 1. After the immersion, the conductive substrate 4 is lifted by the lifting device 6 and pulled up from the coating tank 2. The coating film is formed on the outer peripheral surface of the conductive substrate 4 by the above operation.
When the conductive substrate 4 is immersed in the coating tank 2, the solvent in the coating solution that has entered from the lower end opening of the conductive substrate 4 is vaporized to increase the gas volume. It pops out into the coating liquid as bubbles from the lower end opening. In particular, when the conductive substrate 4 is deeply immersed in the coating tank 2, bubbles are likely to jump out. When the bubbles that have popped out rise along the outer peripheral surface of the conductive substrate, the surface of the coating solution is disturbed and uneven coating occurs in the coating layer. In order to prevent bubbles generated in this way, an air vent 13 is provided for extracting air inside the conductive substrate in order to prevent an increase in air pressure inside the conductive substrate. The air vent 13 is configured by connecting an open / close valve to a pipe communicating with the inside of the conductive substrate. By opening the open / close valve, the air inside the conductive substrate can be extracted.

感光体製造装置は、導電性基体4を全部浸漬した時、塗布槽2から塗布液1がオーバフローするので、オーバフロー槽7および補助槽8を備える。オーバフロー槽7および補助槽8により回収された塗布液1は、撹拌装置9によって撹拌され、塗布液を貯蔵する追加塗布液槽10より塗布液を適宜追加して、その成分を一定に調整し、さらにフィルター11で異物を濾過した後、ポンプ12によって塗布槽2に戻される。
上記第2の工程で使用される導電性基体端部の処理装置も、図2と同様の構成であり、塗布槽2に収納される塗布液1に代えて、溶剤液が収納される。また塗布槽2は導電性基体の端部だけを浸漬するので、端部を浸漬できる深さを有する溶剤槽が使用される。その他の構成、動作は同様である。詳細は図3を用いて後述する。
The photoreceptor manufacturing apparatus includes an overflow tank 7 and an auxiliary tank 8 because the coating liquid 1 overflows from the coating tank 2 when the conductive substrate 4 is completely immersed. The coating liquid 1 recovered by the overflow tank 7 and the auxiliary tank 8 is stirred by the stirring device 9, and the coating liquid is appropriately added from the additional coating liquid tank 10 for storing the coating liquid, and its components are adjusted to be constant, Further, after the foreign matter is filtered by the filter 11, it is returned to the coating tank 2 by the pump 12.
The conductive substrate end processing apparatus used in the second step has the same configuration as that shown in FIG. 2, and stores a solvent liquid instead of the coating liquid 1 stored in the coating tank 2. Moreover, since the coating tank 2 immerses only the edge part of an electroconductive base | substrate, the solvent tank which has the depth which can immerse an edge part is used. Other configurations and operations are the same. Details will be described later with reference to FIG.

本発明の感光体は、有機系材料を用いた感光体であり、その有機感光体は積層型(機能分離型)によって形成される。積層型感光体は、光照射時に電荷担体を発生する電荷発生物質(CGM)を含む電荷発生層(CGL)と、電荷発生層で発生した電荷担体を受入れて輸送する電荷輸送物質(CTM)を主体とする電荷輸送層(CTL)とから成る。また、導電性基体と感光層との間に下引き層(UCL)を設けてもよい。
また別の実施形態では、本発明の感光体は単層型である。単層型感光体は、結着剤中に電荷発生物質を分散させた感光層、または電荷輸送物質を含む結着剤中に電荷発生物質を顔料粒子の形で分散させた感光層によって形成される。単層型感光体はオゾンの少ない正帯電型感光体であり、また単一の感光層で構成されるので、積層型に比べて製造コストが安く、歩留まり高いなどの特長がある。
The photoconductor of the present invention is a photoconductor using an organic material, and the organic photoconductor is formed by a stacked type (function separation type). The multilayer photoconductor includes a charge generation layer (CGL) including a charge generation material (CGM) that generates charge carriers upon light irradiation, and a charge transport material (CTM) that receives and transports the charge carriers generated in the charge generation layer. It consists of a charge transport layer (CTL) as a main component. An undercoat layer (UCL) may be provided between the conductive substrate and the photosensitive layer.
In another embodiment, the photoreceptor of the present invention is a single layer type. A single layer type photoreceptor is formed by a photosensitive layer in which a charge generation material is dispersed in a binder, or a photosensitive layer in which a charge generation material is dispersed in the form of pigment particles in a binder containing a charge transport material. The The single-layer type photoconductor is a positively charged photoconductor with less ozone, and is composed of a single photoconductive layer. Therefore, the single-layer type photoconductor has features such as a lower manufacturing cost and a higher yield than the stacked type.

以下に感光体に使用される材質について説明する。
まず、導電性基体としては、たとえばアルミニウム、銅、真鍮、亜鉛、ニッケル、ステンレス、クロム、モリブデン、バナジウム、インジウム、チタン、金あるいは白金などの金属、またはこれらの合金、アルミニウム合金、あるいは酸化錫を用いることができる。また、金や酸化インジウムなどを蒸着または塗布したフィルム状のポリエステル、紙あるいは金属、導電性粒子を含有したプラスチックあるいは紙、または導電性ポリマーを含有したプラスチックなどを用いることができる。これらの材料は、円筒状、円柱状またはシート状に加工して用いる。本発明の導電性基体は、アルミニウムを円筒状に形成して使用する。
The materials used for the photoreceptor will be described below.
First, as the conductive substrate, for example, aluminum, copper, brass, zinc, nickel, stainless steel, chromium, molybdenum, vanadium, indium, titanium, gold or platinum, or an alloy thereof, an aluminum alloy, or tin oxide is used. Can be used. Alternatively, film-like polyester deposited or coated with gold, indium oxide, or the like, paper or metal, plastic or paper containing conductive particles, or plastic containing a conductive polymer can be used. These materials are used after being processed into a cylindrical shape, a columnar shape or a sheet shape. The conductive substrate of the present invention is used by forming aluminum in a cylindrical shape.

次に、積層型感光体の材質について説明する。
感光層はその形成に当たって、基体と電荷発生層との間に、下引き層を設ける。下引き層は、導電性基体の傷および凹凸の被覆、ピンホールの発生の防止、繰返し使用時の帯電性の劣化防止、低温および低湿環境下での帯電特性の改善、帯電性の改善、基体からの不要な電荷注入の阻止あるいは感光層の接着性改善などを図る。
Next, the material of the multilayer photoconductor will be described.
In forming the photosensitive layer, an undercoat layer is provided between the substrate and the charge generation layer. Undercoat layer covers conductive substrate scratches and irregularities, prevents pinholes, prevents deterioration of chargeability during repeated use, improves charging characteristics under low temperature and low humidity environment, improves charging properties, substrate To prevent unnecessary charge injection from the photosensitive layer or to improve the adhesion of the photosensitive layer.

下引き層としては、ポリアミド、共重合ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ、フェノール樹脂、カゼイン、セルロースあるいはゼラチンなどの樹脂を用いることができる。特にアルコール可溶性の共重合ナイロンが多用され、本発明の導電性基体も下引き層として用いている。また必要に応じて、下引き層の体積抵抗率の設定、低温および低湿環境下での繰返しエージング特性の改善等のために、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化インジウム、シリカあるいは酸化アンチモンなどの無機顔料が、ボールミル、ダイノーミルおよび超音波発振機などの分散機を用いて、分散含有される。   As the undercoat layer, resins such as polyamide, copolymer nylon, polyvinyl alcohol, polyurethane, polyester, epoxy, phenol resin, casein, cellulose, or gelatin can be used. Particularly, alcohol-soluble copolymer nylon is frequently used, and the conductive substrate of the present invention is also used as an undercoat layer. If necessary, zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide, silica, antimony oxide, etc. for setting the volume resistivity of the undercoat layer and improving the repeated aging characteristics under low temperature and low humidity environment These inorganic pigments are dispersed and contained using a dispersing machine such as a ball mill, a dyno mill and an ultrasonic oscillator.

下引き層の形成は、まず、上述の樹脂と顔料を、水や各種有機溶剤に分散して下引き層用塗布液を調整する。特に、水、メタノール、エタノールあるいはブタノールの単独溶剤、水とアルコール類や2種類以上のアルコール類などの混合溶剤、またはジクロロエタン、クロロホルム、トリクロロエタン、トリクロロエチレンあるいはパークロロエチレンなどの塩素系溶剤とアルコール類との混合溶剤が好ましい。調整した塗布液を上記図2に示した製造装置を用いて、浸漬塗布法によって基体外周面上に塗布し、乾燥する。塗膜の乾燥条件は、40℃〜130℃で、10分〜2時間の範囲で、溶剤が残らない条件を設定する。
下引き層中の無機顔料の割合は、30〜95重量%の範囲が適当である。下引き層を形成する場合の引上げ速度は、下引き層用塗布液の粘度、濃度、塗布層の厚さに応じて設定されるが、0.1〜5.0cm/sが好ましい。浸漬速度は引上げ速度の1.2〜10倍が好ましい。下引き層の膜厚は0.1〜5μm程度の範囲に設定する。
To form the undercoat layer, first, the resin and pigment described above are dispersed in water or various organic solvents to prepare an undercoat layer coating solution. In particular, water, methanol, ethanol or butanol alone, mixed solvents such as water and alcohols or two or more alcohols, or chlorinated solvents such as dichloroethane, chloroform, trichloroethane, trichloroethylene or perchloroethylene and alcohols These mixed solvents are preferred. The adjusted coating solution is applied onto the outer peripheral surface of the substrate by the dip coating method using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2 and dried. The drying conditions of the coating film are set at 40 ° C. to 130 ° C. and in the range of 10 minutes to 2 hours so that no solvent remains.
The ratio of the inorganic pigment in the undercoat layer is suitably in the range of 30 to 95% by weight. The pulling speed when forming the undercoat layer is set according to the viscosity and concentration of the undercoat layer coating solution and the thickness of the coating layer, but is preferably 0.1 to 5.0 cm / s. The immersion speed is preferably 1.2 to 10 times the pulling speed. The thickness of the undercoat layer is set in the range of about 0.1 to 5 μm.

電荷発生層は、光照射によって電荷を発生する電荷発生物質を主成分とし、必要に応じて結着剤、可塑剤および増感剤などを含有させる。
電荷発生物質としては、たとえばペリレンイミドやペリレン酸無水物などのペリレン系顔料、キナクリドンやアントラキノンなどの多環キノン系顔料、金属あるいは無金属フタロシアニンやハロゲン化無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色素、チアピリリウム色素、またはカルバゾール骨格、スチリルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベンゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾール骨格またはジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料が使用できる。特に高い電荷発生能を有する顔料としては、無金属フタロシアニン顔料、オキソチタニルフタロシアニン顔料、フローレン環およびフルオレノン環を含有するビスアゾ顔料、芳香族アミンから成るビスアゾ顔料およびトリスアゾ顔料がある。
The charge generation layer contains as a main component a charge generation material that generates charges when irradiated with light, and contains a binder, a plasticizer, a sensitizer, and the like as necessary.
Examples of the charge generating material include perylene pigments such as peryleneimide and perylene anhydride, polycyclic quinone pigments such as quinacridone and anthraquinone, phthalocyanine pigments such as metal or metal-free phthalocyanine and halogenated metal-free phthalocyanine, and squalium dyes. , An azurenium dye, a thiapyrylium dye, or an azo having a carbazole skeleton, a styryl stilbene skeleton, a triphenylamine skeleton, a dibenzothiophene skeleton, an oxadiazole skeleton, a fluorenone skeleton, a bis-stilbene skeleton, a distyryl oxadiazole skeleton, or a distyryl carbazole skeleton Pigments can be used. Examples of the pigment having particularly high charge generation ability include a metal-free phthalocyanine pigment, an oxotitanyl phthalocyanine pigment, a bisazo pigment containing a fluorene ring and a fluorenone ring, a bisazo pigment made of an aromatic amine, and a trisazo pigment.

また電荷発生層の結着剤としては、たとえばメラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリカーボネイト樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミド樹脂あるいはポリエステル樹脂がある。
電荷発生層用塗布液は、上述の結着剤を溶剤に溶解し、電荷発生物質を分散して調整される。溶剤としては、たとえばアセトン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチルや酢酸ブチルなどのエステル類、テトラヒドロフランやジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒を用いることができる。
Examples of the binder for the charge generation layer include melamine resin, epoxy resin, silicon resin, polyurethane resin, acrylic resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, polycarbonate resin, phenoxy resin, polyvinyl butyral resin, polyarylate resin, There is a polyamide resin or a polyester resin.
The charge generation layer coating solution is prepared by dissolving the above binder in a solvent and dispersing the charge generation material. Examples of the solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, N, N- Aprotic polar solvents such as dimethylformamide and dimethyl sulfoxide can be used.

電荷発生層は下引き層と同様に、電荷発生層用塗布液を調整し、該塗布液を図2に示す製造装置を用いて、浸漬塗布法によって下引き層が形成された基体上に塗布し、乾燥して形成する。塗膜の乾燥条件は、40℃〜130℃で、10分〜2時間の範囲で、溶剤が残らない条件を設定する。
電荷発生層中の電荷発生物質の割合は、30〜90重量%の範囲に設定する。電荷発生層を形成する場合の引上げ速度は、電荷発生層用塗布液の粘度、濃度、塗布層の厚さに応じて設定されるが、0.1〜5.0cm/sが好ましい。浸漬速度は引上げ速度の1.2〜10倍が好ましい。また、電荷発生層の膜厚は0.05〜5μmの範囲、好ましくは0.1〜2.5μmの範囲に設定する。
As with the undercoat layer, the charge generation layer is prepared by preparing a charge generation layer coating solution and applying the coating solution onto the substrate on which the undercoat layer is formed by the dip coating method using the manufacturing apparatus shown in FIG. And dried to form. The drying conditions of the coating film are set at 40 ° C. to 130 ° C. and in the range of 10 minutes to 2 hours so that no solvent remains.
The ratio of the charge generation material in the charge generation layer is set in the range of 30 to 90% by weight. The pulling rate in forming the charge generation layer is set according to the viscosity and concentration of the charge generation layer coating solution and the thickness of the coating layer, but is preferably 0.1 to 5.0 cm / s. The immersion speed is preferably 1.2 to 10 times the pulling speed. The thickness of the charge generation layer is set in the range of 0.05 to 5 μm, preferably in the range of 0.1 to 2.5 μm.

電荷輸送層は、電荷発生層上に設けられる。電荷発生物質が発生した電荷を受入れこれを輸送する能力を有する電荷輸送物質、結着剤およびゆず肌防止レベリング剤を必須成分とし、必要に応じて可塑剤や増感剤などを含有させる。
電荷輸送物質としては、たとえばポリ−N−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリル)アントラセン、1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、ピラゾリン誘導体、フェニルヒドラゾン類、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルアミン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、スチルベン系化合物、あるいは3−メチル−2−ベンゾチアゾリン環を有するアジン化合物などの電子供与性物質、あるいはフルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、インデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ[c]シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ブロマニル、クロラニル、およびベンゾキノンなどの電子受容性物質がある。
The charge transport layer is provided on the charge generation layer. A charge transport material having the ability to accept and transport the charge generated by the charge generation material, a binder, and a yuzu skin prevention leveling agent are essential components, and a plasticizer, a sensitizer, and the like are included as necessary.
Examples of the charge transport material include poly-N-vinylcarbazole and derivatives thereof, poly-γ-carbazolylethyl glutamate and derivatives thereof, pyrene-formaldehyde condensates and derivatives thereof, polyvinylpyrene, polyvinylphenanthrene, oxazole derivatives, oxadi Azole derivatives, imidazole derivatives, 9- (p-diethylaminostyryl) anthracene, 1,1-bis (4-dibenzylaminophenyl) propane, styrylanthracene, styrylpyrazoline, pyrazoline derivatives, phenylhydrazones, hydrazone derivatives, triphenyl Electron-donating substances such as amine compounds, triphenylmethane compounds, stilbene compounds, azine compounds having a 3-methyl-2-benzothiazoline ring, Non derivatives, dibenzothiophene derivatives, indenothiophene derivatives, phenanthrenequinone derivatives, indenopyridine derivatives, thioxanthone derivatives, benzo [c] cinnoline derivatives, phenazine oxide derivatives, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, bromanyl, chloranil And electron-accepting substances such as benzoquinone.

電荷輸送層の結着剤としては、電荷輸送物質と相溶性を有するものであればよく、たとえばポリカーボネイトおよび共重合ポリカーボネイト、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリスルホン樹脂およびこれらの共重合樹脂が挙げられる。これらを単独または2種以上混合して用いる。特に、ポリスチレン、ポリカーボネイトおよび共重合ポリカーボネイト、ポリアリレートおよびポリエステルは、体積抵抗率が1013Ω以上あり、また成膜性および電位特性に優れているので、好ましい。 The binder for the charge transport layer may be any one that is compatible with the charge transport material, such as polycarbonate and copolymer polycarbonate, polyarylate, polyvinyl butyral, polyamide, polyester, polyketone, epoxy resin, polyurethane, polyvinyl ketone. , Polystyrene, polyacrylamide, phenol resin, phenoxy resin, polysulfone resin and copolymer resins thereof. These are used individually or in mixture of 2 or more types. In particular, polystyrene, polycarbonate, and copolymerized polycarbonate, polyarylate, and polyester are preferable because they have a volume resistivity of 10 13 Ω or more and are excellent in film formability and potential characteristics.

電荷輸送層用塗布液は、上述の結着剤を溶剤に溶解し、電荷輸送物質を溶解して調整する。結着剤および電荷輸送物質を溶解する溶剤としては、たとえばメタノールやエタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、エチルエーテルやテトラヒドロフランなどのエーテル類、クロロホルム、ジクロロエタンおよびジクロロメタンなどの脂肪族ハロゲン炭化水素、ベンゼン、クロロベンゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素がある。特に、テトラヒドロフランが望ましい。
電荷輸送層は、下引き層や電荷発生層と同様に、電荷輸送層用塗布液を調整し、その塗布液を図2に示す製造装置を用いて、浸漬塗布法によって下引き層および電荷発生層が形成された基体上に塗布し、乾燥して形成される。塗膜の乾燥条件は、40℃〜130℃で、10分〜2時間の範囲で、溶剤が残らない条件を設定する。
電荷輸送層中の電荷輸送物質の割合は、30〜80重量%の範囲が好ましい。電荷輸送層を形成する場合の引上げ速度は、電荷輸送層用塗布液の粘度、濃度、塗布層の厚さに応じて設定されるが、0.1〜5.0cm/sが好ましい。浸漬速度は引上げ速度の1.2〜10倍が好ましい。また、電荷輸送層の膜厚は10〜50μmの範囲、特に15〜40μmの範囲が好ましい。
The charge transport layer coating solution is prepared by dissolving the above binder in a solvent and dissolving the charge transport material. Solvents that dissolve the binder and charge transport material include, for example, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, fats such as chloroform, dichloroethane and dichloromethane. Group aromatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, chlorobenzene and toluene. Tetrahydrofuran is particularly desirable.
Similarly to the undercoat layer and the charge generation layer, the charge transport layer is prepared by adjusting the charge transport layer coating solution and using the manufacturing apparatus shown in FIG. It is formed on a substrate on which a layer has been formed and dried. The drying conditions of the coating film are set at 40 ° C. to 130 ° C. and in the range of 10 minutes to 2 hours so that no solvent remains.
The ratio of the charge transport material in the charge transport layer is preferably in the range of 30 to 80% by weight. The pulling speed when forming the charge transport layer is set according to the viscosity and concentration of the charge transport layer coating solution and the thickness of the coating layer, but is preferably 0.1 to 5.0 cm / s. The immersion speed is preferably 1.2 to 10 times the pulling speed. The thickness of the charge transport layer is preferably in the range of 10 to 50 μm, particularly preferably in the range of 15 to 40 μm.

以上のような各工程は、下引き層用塗布液を収容した塗布槽、電荷発生層用塗布液を収容した塗布槽および電荷輸送層用塗布液を収容した塗布槽を順次並べ、導電性基体をチャッキングしたチャッキング装置3を順次移動させて、各昇降装置6に接続を切換えて、各塗布槽に浸漬、引上げ、乾燥を繰り返して実施される。以上の第1の工程により、導電性基体の外周面上に感光体層を形成する。
感光体層は浸漬塗布法によって塗布され、導電性基体を吊下げた状態で乾燥させるので、図7に示すように、導電性基体Aの端部に肉厚部Hが形成される。肉厚部Hの厚さは、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成するための各塗布液の粘性や乾燥特性、乾燥の条件などにより決まる。本発明は感光体層の膜厚を均一にするために、肉厚部を除去する第3の工程の前の処理、即ち第2の工程に特徴を有するものである。
そのため、本発明は第2の工程において、導電性基体の端部を溶剤槽に浸漬し、肉厚部を溶解し、また導電性基体Aの端面に形成される溶剤膜Cを処理することによって、感光体層の膜厚が不均一になるのを防止するものである。
Each process as described above is performed by sequentially arranging a coating tank containing the coating liquid for the undercoat layer, a coating tank containing the coating liquid for the charge generation layer, and a coating tank containing the coating liquid for the charge transport layer. The chucking device 3 that has been chucked is sequentially moved, the connection to each lifting device 6 is switched, and dipping, lifting, and drying are repeated in each coating tank. By the above first step, a photoreceptor layer is formed on the outer peripheral surface of the conductive substrate.
Since the photosensitive layer is applied by a dip coating method and dried in a state where the conductive substrate is suspended, a thick portion H is formed at the end of the conductive substrate A as shown in FIG. The thickness of the thick portion H is determined by the viscosity and drying characteristics of each coating solution for forming the undercoat layer, the charge generation layer, and the charge transport layer, the drying conditions, and the like. The present invention is characterized by a process prior to the third step of removing the thick portion, that is, the second step, in order to make the thickness of the photoreceptor layer uniform.
Therefore, in the second step of the present invention, the end portion of the conductive substrate is immersed in a solvent tank, the thick portion is dissolved, and the solvent film C formed on the end surface of the conductive substrate A is processed. The film thickness of the photoreceptor layer is prevented from becoming non-uniform.

上記第2の工程で使用される製造装置は、図2に示した装置と基本的には類似するが、改めて説明する。ここでは複数の導電性基体を同時に製造することができる装置を説明する。
図3に示すように、本発明の製造装置は、溶剤液21を満たした溶剤槽22と、チャッキング装置23により保持した導電性基体24をモータ25によって駆動する昇降装置26により構成される。昇降装置26は、おねじ部27と、おねじ部27の軸受28と、モータ25とおねじ部27を連結する歯車列29と、おねじ部27にねじ込まれためねじ部30と、めねじ部30に固定した保持部材31とから構成される。そして、保持部材31に支持体32を取り付け、その支持体32にチャッキング装置23を複数個取り付ける。図3では4個示しているが、実施形態では直径が1cm〜5cm、より好ましくは2cm〜4cmの導電性基体を10〜50個,より好ましくは30〜40個取り付けている。このとき各導電性基体の間隔は、第3の工程で導電性基体の端部の肉厚部を除去するためのブレードが挿入できる間隔を開ける。具体的には7cm程度である。望ましくは6〜8cm間隔である。
本発明において、溶剤槽22は、導電性基体24の端部に形成される肉厚部を浸漬できる深さであればよい。肉厚部の厚さと長さは、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成するための各塗布液の粘性や乾燥特性、乾燥の条件などにより決まるので、肉厚部の長さ以上の深さを有するようにする。または溶剤槽22としては十分に深いものを用意し、昇降装置6aの昇降を制御して、導電性基体の端部に形成された肉厚部が溶剤槽22に浸漬するようにする。実施形態では1cm〜10cmであり、好ましくは2cm〜5cmである。
The manufacturing apparatus used in the second step is basically similar to the apparatus shown in FIG. 2, but will be described again. Here, an apparatus capable of simultaneously manufacturing a plurality of conductive substrates will be described.
As shown in FIG. 3, the manufacturing apparatus of the present invention includes a solvent tank 22 filled with a solvent liquid 21 and a lifting device 26 that drives a conductive base 24 held by a chucking device 23 by a motor 25. The elevating device 26 includes a male screw portion 27, a bearing 28 of the male screw portion 27, a gear train 29 that connects the motor 25 and the male screw portion 27, a screw portion 30 that is screwed into the male screw portion 27, and a female screw portion. And a holding member 31 fixed to 30. Then, a support body 32 is attached to the holding member 31, and a plurality of chucking devices 23 are attached to the support body 32. Although four are shown in FIG. 3, in the embodiment, 10 to 50, more preferably 30 to 40, conductive substrates having a diameter of 1 cm to 5 cm, more preferably 2 cm to 4 cm are attached. At this time, the interval between the conductive substrates is set such that a blade for removing the thick portion at the end of the conductive substrate can be inserted in the third step. Specifically, it is about 7 cm. Desirably, the interval is 6 to 8 cm.
In this invention, the solvent tank 22 should just be the depth which can immerse the thick part formed in the edge part of the electroconductive base | substrate 24. FIG. The thickness and length of the thick part is determined by the viscosity, drying characteristics, and drying conditions of each coating solution used to form the undercoat layer, charge generation layer, and charge transport layer. To have a depth of. Alternatively, a sufficiently deep solvent tank 22 is prepared, and the raising and lowering of the elevating device 6a is controlled so that the thick part formed at the end of the conductive substrate is immersed in the solvent tank 22. In the embodiment, it is 1 cm to 10 cm, preferably 2 cm to 5 cm.

本発明の製造装置は、導電性基体の浸漬時に溶剤槽22から溶剤液21がオーバフローするので、オーバフロー槽33および還流配管34により接続した補助槽35を備える。オーバフロー槽33により回収された溶剤液21は、補助槽35で撹拌装置36によって撹拌される。補助槽35には、溶剤液21を貯蔵する追加用溶剤槽37を備え、バルブ38により、流量を調整して補助槽35内の溶剤液21の樹脂濃度を一定に保つ。樹脂濃度を一定に保つことにより導電性基体の端面に形成される溶剤膜の強度を一定以下にし、減圧装置により導電性基体の内側に確実に吸い込ませる。また補助槽35は溶剤槽22に連結する送給配管39を備える。送給管39はその途中に、ポンプ40、バルブ41、フィルター42、バルブ43を備える。フィルター42は溶剤液21に溶け出した感光体層の樹脂成分を除去する。   The manufacturing apparatus of the present invention includes an auxiliary tank 35 connected by an overflow tank 33 and a reflux pipe 34 because the solvent liquid 21 overflows from the solvent tank 22 when the conductive substrate is immersed. The solvent liquid 21 recovered by the overflow tank 33 is stirred by the stirring device 36 in the auxiliary tank 35. The auxiliary tank 35 is provided with an additional solvent tank 37 for storing the solvent liquid 21, and the flow rate is adjusted by a valve 38 to keep the resin concentration of the solvent liquid 21 in the auxiliary tank 35 constant. By keeping the resin concentration constant, the strength of the solvent film formed on the end face of the conductive substrate is kept below a certain level, and the pressure is reduced and reliably sucked into the conductive substrate. The auxiliary tank 35 is provided with a supply pipe 39 connected to the solvent tank 22. The supply pipe 39 includes a pump 40, a valve 41, a filter 42, and a valve 43 in the middle thereof. The filter 42 removes the resin component of the photoreceptor layer dissolved in the solvent solution 21.

更に本発明では、チャッキング装置23を貫通し、導電性基体24の内部に達する吸気管44が取り付けられる。チャッキング装置23には、風船チャック、Oリングチャック、メカチャックがあるが、吸気管44を貫通させるためには、風船チャックが適している。吸気管44は昇降装置26により導電性基体24が昇降するので、フレキシブルな管が適している。吸気管44は吸引ポンプのような吸引手段45に接続される。この吸引手段が減圧装置を構成する。吸引手段45による吸引力は、導電性基体24の端面に形成された溶剤膜を導電性基体の内側に吸い込む程度である。したがって、導電性基体の端面に形成される溶剤膜の重量および溶剤膜が弾けて形成された飛沫の重量に応じて決める。より具体的には、導電性基体の端面に形成される溶剤膜の重量は、溶剤膜の膜厚と膜面積と溶剤の比重の積によって決められる。また飛沫の重量は、溶剤膜の粘性によって決められる。吸引力が弱すぎると、溶剤膜が弾けたときに生じる飛沫を導電性基体24の内側に吸い込むことができない。また吸引力が強すぎると、溶剤槽22の溶剤液21を吸い込む恐れがある。実施例では直径が3cmの導電性基体の場合、吸引力は単数本では溶剤膜重量の3〜5倍程度である。(但し、複数本の吸引を行う場合、基体下端に発生する溶剤膜の有り無しがあるので、吸引力は溶剤膜重量の20〜40倍必要である。)
上記吸引手段45は、第1の工程の空気抜き部13と兼用することが可能である。即ち、空気抜き部13と導電性基体の間に分岐用バルブ14を設け、この分岐用バルブ14を介して吸引手段45に接続する。そして、吸引手段45を作動させるときは、分岐用バルブ14により吸引手段45に切り替える。
または、空気抜き部13は吸引手段45によって構成してもよい。この場合は、第1の工程では導電性基体の内部の空気を抜く程度の減圧にする。そして、第2の工程では導電性基体の端面に溶剤液の膜が形成された場合、その塗布液の膜を導電性基体の内側に弾く程度に減圧にする。第1の工程では、吸引手段45の吸引力を強くすると、塗布液を吸い上げるので、塗布液を吸い上げないような吸引力に制御する必要がある。また第1の工程において、第2の工程と同程度の吸引力にして引上げ後も吸引すると、導電性基体の端面に塗布液の膜が形成された場合、その塗布液の膜を導電性基体の内側に吸い込むことができる。
Further, in the present invention, an intake pipe 44 that penetrates the chucking device 23 and reaches the inside of the conductive base 24 is attached. The chucking device 23 includes a balloon chuck, an O-ring chuck, and a mechanical chuck. In order to pass through the intake pipe 44, a balloon chuck is suitable. A flexible pipe is suitable for the intake pipe 44 because the conductive substrate 24 is raised and lowered by the lifting device 26. The intake pipe 44 is connected to a suction means 45 such as a suction pump. This suction means constitutes a decompression device. The suction force by the suction means 45 is such that the solvent film formed on the end face of the conductive substrate 24 is sucked into the inside of the conductive substrate. Therefore, it is determined according to the weight of the solvent film formed on the end face of the conductive substrate and the weight of the splash formed by the solvent film. More specifically, the weight of the solvent film formed on the end face of the conductive substrate is determined by the product of the film thickness of the solvent film, the film area, and the specific gravity of the solvent. The weight of the splash is determined by the viscosity of the solvent film. If the suction force is too weak, splashes generated when the solvent film bounces cannot be sucked into the conductive substrate 24. If the suction force is too strong, the solvent liquid 21 in the solvent tank 22 may be sucked. In the embodiment, in the case of a conductive substrate having a diameter of 3 cm, a single suction force is about 3 to 5 times the weight of the solvent film. (However, when a plurality of suctions are performed, the presence or absence of a solvent film generated at the lower end of the substrate is present, so the suction force needs to be 20 to 40 times the weight of the solvent film.)
The suction means 45 can also be used as the air vent 13 in the first step. That is, a branching valve 14 is provided between the air vent 13 and the conductive substrate, and is connected to the suction means 45 through the branching valve 14. And when operating the suction means 45, it switches to the suction means 45 by the branch valve 14.
Alternatively, the air vent 13 may be constituted by the suction means 45. In this case, in the first step, the pressure is reduced to such an extent that the air inside the conductive substrate is removed. In the second step, when a film of the solvent solution is formed on the end face of the conductive substrate, the pressure is reduced to such an extent that the coating solution film is repelled inside the conductive substrate. In the first step, when the suction force of the suction means 45 is increased, the coating liquid is sucked up, so it is necessary to control the suction force so as not to suck up the coating liquid. Further, in the first step, when a film of the coating liquid is formed on the end face of the conductive substrate when the suction is performed with the same suction force as that in the second step and then pulled up, the coating liquid film is formed on the conductive substrate. Can be inhaled inside.

また本発明では、導電性基体の内部の空気圧を減圧するタイミングは、導電性基体24を溶剤槽22から引上げ後であるが、要するに導電性基体24の端面に形成された溶剤膜Cが弾ける前である。実施形態では、引上げ後の0.5〜30秒の範囲であり、より好ましくは0.5秒〜5秒である。減圧の開始時間が早すぎると、溶剤槽の溶剤液を導電性基体内部に吸引する。減圧の開始時間が遅すぎると、溶剤膜が弾けた後になり、本発明の初期の効果を得ることができない。また溶剤膜が乾燥して硬くなるので、溶剤膜を弾けさせることができなくなる。特に複数の導電性基体を同時に浸漬または引上げる場合は、最後の導電性基体が溶剤液面から離れた後になるよう減圧の開始タイミングを設定する必要がある。
図4は、吸引装置のブロック図を示す。吸引装置は、真空ポンプ51を備え、真空ポンプ51は真空タンク52を排気する。真空タンク52は耐溶剤フィルター53を介して、真空レギュレータ54に接続され、更に電磁弁55、吸引量調整バルブ56を経て、チャッキング装置23を通り、複数の導電性基体24に接続される。電磁弁55は制御部61に接続され、シーケンサ62により制御される。この実施形態では制御部61はパソコンにより構成される。制御部61は昇降装置26の上昇のタイミング、降下のタイミング、昇降速度を制御するとともに、昇降装置26の動作に合わせて、電磁弁55の開閉タイミング、開閉の大きさを制御する。これにより、導電性基体24の内部の減圧タイミングと減圧の大きさを制御する。
Further, in the present invention, the timing of reducing the air pressure inside the conductive substrate is after the conductive substrate 24 is pulled up from the solvent tank 22, but in short, before the solvent film C formed on the end surface of the conductive substrate 24 is repelled. It is. In the embodiment, the range is 0.5 to 30 seconds after pulling, and more preferably 0.5 to 5 seconds. If the depressurization start time is too early, the solvent liquid in the solvent tank is sucked into the conductive substrate. If the start time of decompression is too late, it will be after the solvent film has bounced and the initial effect of the present invention cannot be obtained. Further, since the solvent film is dried and hardened, the solvent film cannot be bounced. In particular, when a plurality of conductive substrates are dipped or pulled up at the same time, it is necessary to set the depressurization start timing so that the last conductive substrate is separated from the solvent surface.
FIG. 4 shows a block diagram of the suction device. The suction device includes a vacuum pump 51, and the vacuum pump 51 exhausts the vacuum tank 52. The vacuum tank 52 is connected to a vacuum regulator 54 via a solvent-resistant filter 53, and further connected to a plurality of conductive substrates 24 through a chucking device 23 via an electromagnetic valve 55 and a suction amount adjusting valve 56. The electromagnetic valve 55 is connected to the control unit 61 and controlled by the sequencer 62. In this embodiment, the control unit 61 is configured by a personal computer. The control unit 61 controls the raising / lowering timing and the raising / lowering speed of the lifting device 26 and also controls the opening / closing timing and the opening / closing size of the electromagnetic valve 55 according to the operation of the lifting device 26. Thereby, the pressure reduction timing and the magnitude of pressure reduction inside the conductive base 24 are controlled.

溶剤槽22に収納する溶剤は、導電性基体の端部に形成される肉厚部の材質に応じて選択する。肉厚部は下引き層、電荷発生層、電荷輸送層が積層されているが、下引き層の膜厚は0.1〜5μm程度の範囲であり、電荷発生層の膜厚は0.05〜5μmの範囲であり、電荷輸送層の膜厚は10〜50μmの範囲であるので、実質的には、肉厚部の材質は大部分が電荷輸送層である。従って、電荷輸送層用塗布液の溶剤と同種の溶剤を使用するのが適当である。即ち、メタノールやエタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、エチルエーテルやテトラヒドロフランなどのエーテル類、クロロホルム、ジクロロエタンおよびジクロロメタンなどの脂肪族ハロゲン炭化水素、ベンゼン、クロロベンゼンあるいはトルエンなどの芳香族炭化水素である。特にテトラヒドロフランが望ましい。そして、溶剤に含有する樹脂の量は、溶剤に対して1〜3wt%に調整する。   The solvent stored in the solvent tank 22 is selected according to the material of the thick part formed at the end of the conductive substrate. The thickened portion includes an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer, but the thickness of the undercoat layer is in the range of about 0.1 to 5 μm, and the thickness of the charge generation layer is 0.05. Since the thickness of the charge transport layer is in the range of 10 to 50 μm, the material of the thick portion is substantially the charge transport layer. Therefore, it is appropriate to use the same type of solvent as the solvent for the charge transport layer coating solution. That is, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, aliphatic halogen hydrocarbons such as chloroform, dichloroethane and dichloromethane, and aromatics such as benzene, chlorobenzene and toluene It is a group hydrocarbon. Tetrahydrofuran is particularly desirable. And the quantity of resin contained in a solvent is adjusted to 1-3 wt% with respect to a solvent.

本発明の第2の工程は、図3に示す装置を使用し、次のようにして実施される。
図3に示す製造装置は、昇降装置26を上昇させ、複数のチャックング装置23にそれぞれ導電性基体24を取り付ける。また溶剤槽22に溶剤液21を満たす。そして昇降装置26によって導電性基体24を降下させ、溶剤槽22の溶剤液21に浸漬する。浸漬する時間は、導電性基体の端部に形成された肉厚部の大きさ、肉厚部の溶融性により決める。肉厚部が溶剤に溶融して、感光体層の膜厚が均一になる時間まで浸漬する。
その後、昇降装置26により導電性基体24を上昇させる。導電性基体24が溶剤槽22の溶剤液面から離れた後、減圧装置を作動させて、導電性基体の内部の空気圧を減圧する。減圧を開始するタイミング、吸引力の程度は上記の通りである。このように導電性基体24が溶剤槽22の溶剤液面から離れた後、減圧することにより、図5に示すように導電性基体Aの内側に溶剤膜Cを弾けさせ、導電性基体の内側面に付着させることができる。その結果、溶剤膜が感光体層に付着したり、溶剤槽の溶剤が感光体層に付着したりすることがない。
The second step of the present invention is performed as follows using the apparatus shown in FIG.
The manufacturing apparatus shown in FIG. 3 raises the elevating device 26 and attaches the conductive substrate 24 to each of the plurality of chucking devices 23. The solvent tank 22 is filled with the solvent liquid 21. Then, the conductive substrate 24 is lowered by the lifting device 26 and immersed in the solvent liquid 21 in the solvent tank 22. The dipping time is determined by the size of the thick part formed at the end of the conductive substrate and the meltability of the thick part. It is immersed until the thick part melts in the solvent and the film thickness of the photoreceptor layer becomes uniform.
Thereafter, the conductive substrate 24 is raised by the lifting device 26. After the conductive substrate 24 is separated from the solvent liquid level in the solvent tank 22, the pressure reducing device is operated to reduce the air pressure inside the conductive substrate. The timing for starting the decompression and the degree of the suction force are as described above. Thus, after the conductive substrate 24 is separated from the solvent liquid surface of the solvent tank 22, the pressure is reduced, so that the solvent film C is repelled inside the conductive substrate A as shown in FIG. Can be attached to the side. As a result, the solvent film does not adhere to the photoreceptor layer, and the solvent in the solvent tank does not adhere to the photoreceptor layer.

以上のようにして、第2の工程により、浸漬溶剤槽にて肉厚部の溶解を行い、溶剤槽からの引き上げ時に導電性基体の端面に形成された溶剤膜を吸引手段にて内側へ弾けさせる。そのため、次工程に移行する際に溶剤膜が導電性基体の外部に弾けるという問題が軽減される。また、肉厚部が減少されることにより、(すべての塗布層が形成された後に行われる)下端面処理工程の時間を短縮することができるので、作業効率を高めることができる。
第2の工程での手法では感光体層を完全に均一な膜厚にできないので、第3の工程により、溶解後の肉厚部および、第2の工程の吸引法により導電性基体内面の端部に発生する糸引きや端部内面に付着している塗膜を更に除去して感光体層を均一な膜厚にする。そのため第3の工程は、導電性基体内面の端部に発生する糸引きや端部内面に付着している塗膜や第2の工程で除去しきれない肉厚部にブレードを当て、余分な塗布膜を削りとることにより均一な膜厚に揃える。これにより、感光体を仕上げることができる。
As described above, in the second step, the thick part is dissolved in the immersion solvent tank, and the solvent film formed on the end surface of the conductive substrate is lifted inward by the suction means when pulled up from the solvent tank. Let Therefore, the problem that the solvent film can be spilled to the outside of the conductive substrate during the next process is reduced. Moreover, since the time of a lower end surface processing process (performed after all the coating layers are formed) can be shortened by reducing the thickness part, work efficiency can be improved.
Since the photoconductor layer cannot be made to have a completely uniform film thickness by the method in the second step, the thick portion after dissolution and the edge of the inner surface of the conductive substrate by the suction method in the second step are obtained in the third step. The photosensitive film is formed to have a uniform thickness by further removing the stringing generated at the portion and the coating film adhering to the inner surface of the end portion. Therefore, in the third step, the blade is applied to the stringing generated at the end of the inner surface of the conductive substrate, the coating film adhering to the inner surface of the end, or the thick part that cannot be removed in the second step. A uniform film thickness is obtained by scraping the coating film. As a result, the photoreceptor can be finished.

本発明の製造方法の工程図を示す。Process drawing of the manufacturing method of this invention is shown. 感光体層溶塗布装置の構成図を示す。The block diagram of a photoreceptor layer solution coating apparatus is shown. 前処理装置の構成図を示す。The block diagram of a pre-processing apparatus is shown. 減圧装置の構成図を示す。The block diagram of a decompression device is shown. 前処理工程の説明図を示す。An explanatory view of a pretreatment process is shown. 溶剤膜の形成を説明する図を示す。The figure explaining formation of a solvent film is shown. 導電性基体の端部に形成される肉厚部を説明する図を示す。The figure explaining the thick part formed in the edge part of an electroconductive base | substrate is shown.

符号の説明Explanation of symbols

21 溶剤槽
22 溶剤
23 チャックング装置
24 導電性基体
26 昇降装置
45 吸引手段
21 Solvent tank 22 Solvent 23 Chucking device 24 Conductive substrate 26 Lifting device 45 Suction means

Claims (9)

外周表面に感光体層が形成され、下端側が開口した筒状の導電性基体の上端側をチャッキング装置に保持する工程と、
前記導電性基体の下端側を溶剤液に浸漬する工程と、
前記導電性基体を前記溶剤液から引上げる工程と、
前記引上げ工程において、前記導電性基体が溶剤液面から離れた後、前記導電性基体の内部を減圧する工程と、
を備えることを特徴とする感光体の製造方法。
A step of holding the upper end side of a cylindrical conductive substrate having a photoreceptor layer formed on the outer peripheral surface and having an open lower end side in a chucking device;
Immersing the lower end side of the conductive substrate in a solvent solution;
Pulling up the conductive substrate from the solvent solution;
In the pulling step, after the conductive substrate is separated from the solvent liquid surface, the step of decompressing the inside of the conductive substrate;
A process for producing a photoreceptor, comprising:
前記減圧を開始する時期は、前記導電性基体が溶剤液から離れた後、0.5〜30秒であることを特徴とする請求項1に記載の感光体の製造方法。   2. The method of manufacturing a photoreceptor according to claim 1, wherein the timing of starting the pressure reduction is 0.5 to 30 seconds after the conductive substrate is separated from the solvent solution. 前記減圧工程によって、前記導電性基体の端面に形成される溶剤膜を前記導電性基体の内側に吸い込むことを特徴とする請求項1または2に記載の感光体の製造方法。   3. The method of manufacturing a photosensitive member according to claim 1, wherein a solvent film formed on an end face of the conductive substrate is sucked into the conductive substrate by the decompression step. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の感光体の製造方法によって製造された感光体。   A photoconductor produced by the method for producing a photoconductor according to claim 1. 外周表面に感光体層が形成され、下端側が開口した筒状の1または複数の導電性基体の上端側を保持するチャッキング装置と、
前記チャッキング装置に保持された1または複数の導電性基体の下端側を溶剤液に浸漬する溶剤槽と、
前記溶剤槽に前記1または複数の導電性基体を浸漬または引上げる駆動機構と、
前記1または複数の導電性基体の内部を減圧する減圧装置と、
前記駆動機構が前記1または複数の導電性基体を前記溶剤槽から引上げるとき、前記1または複数の導電性基体が前記溶剤液面から離れた後、前記1または複数の導電性基体の内部を減圧するよう前記減圧装置を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする感光体の製造装置。
A chucking device that holds the upper end side of one or a plurality of cylindrical conductive substrates having a photoreceptor layer formed on the outer peripheral surface and having an open lower end side;
A solvent bath for immersing the lower end of one or more conductive substrates held in the chucking device in a solvent solution;
A drive mechanism for immersing or pulling up the one or more conductive substrates in the solvent tank;
A decompression device for decompressing the interior of the one or more conductive substrates;
When the driving mechanism pulls up the one or more conductive substrates from the solvent tank, after the one or more conductive substrates are separated from the solvent liquid surface, the inside of the one or more conductive substrates is moved. A control unit for controlling the decompression device to decompress,
An apparatus for producing a photoreceptor, comprising:
前記溶剤槽の溶剤液中の樹脂濃度を所定値以下に調整する調整部を備えることを特徴とする請求項5に記載の感光体の製造装置。   6. The photoconductor manufacturing apparatus according to claim 5, further comprising an adjusting unit that adjusts the resin concentration in the solvent solution of the solvent tank to a predetermined value or less. 前記溶剤槽に収納する溶剤は、前記導電性基体の外周表面に形成する感光体層に含まれる溶剤と同種であることを特徴とする請求項5または6に記載の感光体の製造装置。   7. The photoconductor manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the solvent stored in the solvent tank is the same type as the solvent contained in the photoconductor layer formed on the outer peripheral surface of the conductive substrate. 請求項5に記載の感光体の製造装置は、更に1または複数の導電性基体の外周表面に感光体層を塗布する塗布槽と、前記1または複数の導電性基体を前記塗布槽に浸漬中に、前記1または複数の導電性基体の内部の空気を抜く空気抜き部とを備え、前記減圧装置と、前記空気抜き部をバルブに接続することを特徴とする感光体の製造装置。   The apparatus for manufacturing a photoreceptor according to claim 5 further includes a coating tank for applying a photosensitive layer to an outer peripheral surface of one or a plurality of conductive substrates, and dipping the one or more conductive substrates in the coating tank. And an air vent part for venting air inside the one or more conductive substrates, wherein the pressure reducing device and the air vent part are connected to a valve. 請求項5乃至8のいずれか1項に記載の感光体の製造装置を用いて製造された感光体。   A photoconductor manufactured using the photoconductor manufacturing apparatus according to claim 5.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH07155663A (en) * 1993-12-03 1995-06-20 Dainippon Ink & Chem Inc Immersion coating apparatus
JP2006337759A (en) * 2005-06-02 2006-12-14 Sharp Corp Method for manufacturing electrophotographic photoreceptor and electrophotographic photoreceptor employing the same

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