JP2007173199A - Manufacturing method of pixel for display or organic electronic member - Google Patents

Manufacturing method of pixel for display or organic electronic member Download PDF

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立基 林
Yu-San Lee
玉山 李
Yasuo Mori
育雄 森
Chi-Kuei Liao
麒貴 廖
Junkan Chin
純鑑 陳
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of pixel for display or organic electronic member. <P>SOLUTION: Insulation material 23 in a form of ink is applied on two sides of pixels simply in vertical direction or lateral direction. The arraying direction of the insulation material is vertical to that of anodes made of ITO (Indium Tin-doped Oxide) painted on a transparent glass substrate, namely, the pixels are not surrounded at four sides. Since the pixels can be formed into continuous rows or columns when the pixels are formed by an ink-jet process, the thickness of each pixel can be uniformized comparing with conventional method ink-jetting at every single pixel, and brightness of light emission of the display can be uniformized. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機高分子発光ダイオードを用いたフラットディスプレイ又はそれらの有機電子部材の画素制作方法に関し、製造過程において絶縁材料を液体インクの形態で縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行な隔離層として設置してなるもので、絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO(Indium Tin-doped Oxide)が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の四辺を囲まない構造とする。インクジェットプロセスによって画素を形成するとき、行或いは列を一続きの構造として形成することが可能であり、公知の方法において、単一画素を個々にインクジェットプリントして形成するのに比較して、各画素が十分に均等に形成されてなり、ディスプレイの発光度を均等にすることができる。絶縁材料の配列方向は、陰極と平行方向に形成されてなり、直接に陽極の表面に画素を形成し、ディスプレイの画素製造における良品率を確保し、各画素の発光面積及び均等性を向上させることを可能とするディスプレイ又は有機電子部材の画素製造方法に関する。   The present invention relates to a pixel display method for a flat display using organic polymer light emitting diodes or organic electronic components thereof, and in the manufacturing process, an insulating material is formed in the form of liquid ink in the vertical or horizontal direction and parallel to two sides of the pixel. The insulating material is arranged as an isolation layer. The insulating material is arranged in the direction perpendicular to the anode arrangement direction formed by ITO (Indium Tin-doped Oxide) coated on the transparent glass substrate, and surrounds the four sides of the pixel. No structure. When forming pixels by an inkjet process, it is possible to form rows or columns as a series of structures, each in a known manner, compared to forming individual pixels by inkjet printing individually. The pixels are formed sufficiently uniformly, and the luminous intensity of the display can be made uniform. The arrangement direction of the insulating material is formed in a direction parallel to the cathode, and the pixels are directly formed on the surface of the anode, ensuring a non-defective product rate in the manufacture of display pixels, and improving the light emitting area and uniformity of each pixel. The present invention relates to a pixel manufacturing method for a display or an organic electronic member.

ディスプレイの面板の製造工程において、画素表示構造は、図1及び図2に示すように、その画素表示領域の透明ガラス基板10上にITO12(Indium Tin-doped Oxide)を塗布してある。 ITOは透明、かつ導電特性を有する為、導電性のないガラス基板10に導電性を付与することができ、それによって発光可能な画素を形成することができる。各画素の間は製造工程の問題によりショートが発生することがないように、各画素の間は絶縁材料11を使用して隔離領域を形成してなり、この製造工程では絶縁体11を画素周辺領域に重なる形状で形成する必要があり、後続の画素領域におけるインクジェットによる製造工程にて正確に整合させるが、但し、以下の問題点が存在する。 In the manufacturing process of the face plate of the display, as shown in FIGS. 1 and 2, the pixel display structure is coated with ITO 12 (Indium Tin-doped Oxide) on the transparent glass substrate 10 in the pixel display area. Since ITO is transparent and has conductive properties, it is possible to impart conductivity to the non-conductive glass substrate 10, thereby forming a pixel capable of emitting light. An isolation region is formed between the pixels using an insulating material 11 so that a short circuit does not occur between the pixels due to a problem in the manufacturing process. In this manufacturing process, the insulator 11 is disposed around the pixel. It is necessary to form in a shape that overlaps the region, and it is precisely matched in the manufacturing process by ink jet in the subsequent pixel region, however, there are the following problems.

第一に、画素表示領域13の面積を縮小させるとディスプレイの発光光度が不足する問題がある。   First, if the area of the pixel display region 13 is reduced, there is a problem that the luminous intensity of the display is insufficient.

第二に、有効画素の四辺から突出して絶縁材料が形成されており、画素をインクジェットにより形成すると液体インク14の表面張力により、中心領域が比較的厚く周囲が比較的薄くなる現象を発生し、ディスプレイの発光が不均等になる現象が発生する。   Second, an insulating material is formed so as to protrude from the four sides of the effective pixel, and when the pixel is formed by inkjet, a phenomenon occurs in which the central region is relatively thick and the periphery is relatively thin due to the surface tension of the liquid ink 14. A phenomenon occurs in which the light emission of the display becomes uneven.

上述の欠点を改善する為、本発明が提案するディスプレイ又は有機電子部材の画素制作方法及び構造は、公知の画素発光効果の不良及び不均等を効果的に改善することを可能とする。
特開2004−95562号公報 特開2004−152746号公報
In order to improve the above-mentioned drawbacks, the pixel production method and structure of the display or organic electronic member proposed by the present invention can effectively improve the known defect and non-uniformity of the pixel light emission effect.
JP 2004-95562 A JP 2004-152746 A

上述の公知の技術における問題を解決する為、本発明は、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製造方法の製造工程において、絶縁材料を液体インクの形態として縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行な連続層として形成する。絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO(Indium Tin-doped Oxide)が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の四辺を囲まない形態で、インクジェットプロセスにより形成する時、連続した行或いは列として形成可能であり、公知の技術における単一画素をインクジェットの単位としてなる場合と異なり、各画素が十分に均等に形成されてなるため、ディスプレイの発光度を均等にすることができる。
絶縁材料の配列方向は陰極と平行方向に形成されてなり、画素はインクジェット装置を利用して陽極表面に連続射出形成してなり、絶縁材料は二つの相互に隣接する陰極を隔離してなり、ディスプレイの画素製造における良品率を確保し、各画素の発光面積及び均等性を向上させることを目的とする。
In order to solve the above-described problems in the known technology, the present invention provides an insulating material in the form of liquid ink in the vertical or horizontal direction parallel to two sides of a pixel in a manufacturing process of a pixel manufacturing method for a display or an organic electronic member. Formed as a continuous layer. When the insulating material is formed by the inkjet process in a form that does not surround the four sides of the pixel, perpendicular to the direction of the anode formed by ITO (Indium Tin-doped Oxide) coated on the transparent glass substrate Unlike the case where a single pixel in the known technology is used as an inkjet unit, each pixel is formed sufficiently uniformly, so that the luminous intensity of the display is equalized. be able to.
The arrangement direction of the insulating material is formed in a direction parallel to the cathode, the pixel is formed by continuous injection on the anode surface using an inkjet device, the insulating material is formed by isolating two mutually adjacent cathodes, An object is to secure a non-defective product rate in pixel manufacture of a display and to improve a light emitting area and uniformity of each pixel.

本発明は、更に、前述の絶縁材料の配列方向は、透明ガラス基板上に塗布されたITO(Indium Tin-doped Oxide)が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の上方に形成される陰極材料が電気的接続を形成してなり、各画素を明るくすることにより複数の画素間は電位差により画素の劣化現象が生じるが、画素の陽極から陰極に至る回路において接地回路を加えて防止する。該接地回路はITOにより構成することにより製造工程を簡易化するが、該接地回路の設置位置は二つの陽極の間として、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の損壊劣化の発生を防止する。 In the present invention, furthermore, the arrangement direction of the insulating material described above is perpendicular to the arrangement direction of the anode formed by ITO (Indium Tin-doped Oxide) coated on the transparent glass substrate, and is formed above the pixel. The cathode material forms an electrical connection, and by making each pixel brighter, pixel deterioration occurs due to the potential difference between multiple pixels, but this is prevented by adding a ground circuit in the circuit from the anode to the cathode of the pixel. To do. The ground circuit is made up of ITO to simplify the manufacturing process. However, the ground circuit is located between the two anodes, and the current of the high-potential pixel flows toward the ground circuit, causing damage to the low-potential pixel. Prevent the occurrence of deterioration.

請求項1の発明は、製造工程において絶縁材料を使用し液体インクを単一縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行に設置してなり、絶縁材料の配列方向は陽極の配列方向と垂直であって、絶縁材料の配列方向は陰極が形成する方向と平行を成し、画素はインクジェットの連続噴射方式により陽極表面に薄膜を形成することにより、ディスプレイ画素の製造工程の良品率を確保し、その発光面積及び均等性を増加させることを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 According to the first aspect of the present invention, an insulating material is used in the manufacturing process, and liquid ink is installed in a single vertical direction or a horizontal direction in parallel to two sides of the pixel. The arrangement direction of the insulating material is perpendicular to the arrangement direction of the anode. The arrangement direction of the insulating material is parallel to the direction in which the cathode is formed, and the pixel forms a thin film on the anode surface by an ink jet continuous injection method, thereby ensuring a non-defective rate in the display pixel manufacturing process. A method of manufacturing a pixel of a display or an organic electronic member, characterized in that its light emitting area and uniformity are increased.

請求項2の発明は、前記陰極が画素の表面層に形成されてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a pixel manufacturing method for a display or an organic electronic member according to the first aspect, wherein the cathode is formed on a surface layer of the pixel.

請求項3の発明は、前記陰極が蒸着法により形成されることを特徴とした、請求項1或いは2に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 A third aspect of the invention is the display or organic electronic member pixel manufacturing method according to the first or second aspect, wherein the cathode is formed by vapor deposition.

請求項4の発明は、前記陽極が透明ガラス基板上に塗布するITO(Indium Tin-doped Oxide)により形成してなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the display or the organic electronic member pixel fabrication according to the first aspect, wherein the anode is formed by ITO (Indium Tin-doped Oxide) coated on a transparent glass substrate. Is the method.

請求項5の発明は、前記絶縁材料はフォトレジストより構成することができ、露光・現像のパターニングプロセスにより形成されたフォトレジストが絶縁材料を形成することを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 The invention of claim 5 is characterized in that the insulating material can be composed of a photoresist, and the photoresist formed by a patterning process of exposure / development forms an insulating material. It is a pixel manufacturing method of a display or an organic electronic member.

請求項6の発明は、前記絶縁材料が陰極を電気的に分離することを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 A sixth aspect of the present invention is the display or organic electronic member pixel manufacturing method according to the first aspect, wherein the insulating material electrically separates the cathode.

請求項7の発明は、前記ディスプレイの画素が、高分子発光ダイオード(PLED;Polymer OLED)より構成されてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 According to a seventh aspect of the present invention, in the pixel manufacturing method for a display or an organic electronic member according to the first aspect, the pixels of the display are composed of polymer light emitting diodes (PLEDs). is there.

請求項8の発明は、前記画素の配列方法は一列にてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 The invention according to claim 8 is the method of manufacturing a pixel of a display or an organic electronic member according to claim 1, wherein the method of arranging the pixels is in one line.

請求項9の発明は、前記画素の配列方法は矩形状にてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。 A ninth aspect of the invention is the display or organic electronic member pixel manufacturing method according to the first aspect, wherein the pixel arrangement method is rectangular.

請求項10の発明は、画素の陽極から陰極に至る回路の間に接地回路を加え、接地回路の接地位置は二つの陽極の間にてなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の消耗劣化を防止することを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法である。 In the tenth aspect of the present invention, a ground circuit is added between the circuit from the anode to the cathode of the pixel, the ground position of the ground circuit is between the two anodes, and the current of the high-potential pixel flows toward the ground circuit. A method for preventing pixel deterioration of a display or an organic electronic member, characterized by preventing deterioration of consumption of low-potential pixels.

請求項11の発明は、前記陽極はITO(Indium Tin-doped Oxide)をガラス基板上に塗布して形成することを特徴とした、請求項10に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法である。 The invention of claim 11 is characterized in that the anode is formed by applying ITO (Indium Tin-doped Oxide) on a glass substrate, and the pixel deterioration preventing method of the display or organic electronic member according to claim 10 It is.

請求項12の発明は、前記接地回路はITO(Indium Tin-doped Oxide)により構成されることを特徴とした、請求項10に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法である。 A twelfth aspect of the present invention is the display or organic electronic member pixel deterioration preventing method according to the tenth aspect, wherein the ground circuit is made of ITO (Indium Tin-doped Oxide).

本発明は、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製造方法であり、その製造工程において絶縁材料を液体インクの形態で縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行に連続して設置してなり、絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO(Indium Tin-doped Oxide)が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の四辺を囲まないで、インクジェットプロセスを実行する時、行或いは列を作業単位とすることが可能であり、公知の技術のように単一画素をインクジェットの単位としないため、各画素が十分に均等に形成されてなり、ディスプレイの発光度を均等にすることができる。絶縁材料の配列方向は陰極と平行方向に形成されてなり、画素はインクジェット装置を利用して陽極表面に連続形成してなり、絶縁材料は二つの相互に隣接する陰極を隔離してなり、ディスプレイの画素製造における良品率を確保し、各画素の発光面積及び均等性を向上させる。 The present invention is a pixel manufacturing method for a display or an organic electronic member, and in the manufacturing process, an insulating material is continuously arranged in the form of liquid ink in the vertical direction or the horizontal direction in parallel to the two sides of the pixel. The alignment direction of the material is perpendicular to the alignment direction of the anode formed by ITO (Indium Tin-doped Oxide) coated on the transparent glass substrate, and does not surround the four sides of the pixel. Alternatively, a column can be a unit of work, and since a single pixel is not an inkjet unit as in the known technique, each pixel is formed sufficiently uniformly, and the luminous intensity of the display is made uniform. be able to. The arrangement direction of the insulating material is formed in a direction parallel to the cathode, the pixel is continuously formed on the anode surface using an ink jet device, the insulating material is formed by isolating two mutually adjacent cathodes, and the display The non-defective product rate in the pixel manufacturing is ensured, and the light emitting area and uniformity of each pixel are improved.

本発明は更に、前述の絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO(Indium Tin-doped Oxide)が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の上方に形成される陰極材料が電気的接続を形成してなり、各画素の輝度を上げようとすると複数の画素間は電位差により画素の劣化現象が生じるが、画素の陽極から陰極に至る回路において接地回路を加える。該接地回路はITOにより構成することにより製造工程を簡易化することができ、該接地回路の設置位置は二つの陽極の間にてなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の損壊劣化の発生を防止する。 The present invention further provides a cathode formed above the pixel, wherein the arrangement direction of the insulating material is perpendicular to the arrangement direction of the anode formed by ITO (Indium Tin-doped Oxide) coated on the transparent glass substrate. When the material forms an electrical connection and the brightness of each pixel is increased, a pixel deterioration phenomenon occurs due to a potential difference between a plurality of pixels, but a ground circuit is added in a circuit from the anode to the cathode of the pixel. The ground circuit can be made of ITO to simplify the manufacturing process. The ground circuit is installed between two anodes, and the current of the high-potential pixel flows toward the ground circuit. Occurrence of damage deterioration of the potential pixel is prevented.

上述の目的及び効果を達成する為に本発明が採用した技術手段及びその構造を図及び実施例を用いてその特徴と機能を以下に説明する。 The technical means employed by the present invention and the structure thereof to achieve the above-described objects and effects will be described below with reference to the drawings and embodiments.

図2,3に示すように、フラットディスプレイ(パネル)の発光体は、PLED(高分子発光ダイオード)により構成され、該ディスプレイは自発光特性を有することから、ディスプレイの発光パネルとして極めて好適であって、省電力及び良好な輝度を有する。本発明の製造工程は、このようなディスプレイの製造工程に限らず、有機電子部材の製造法等においても本発明の技術的手段を適用することが可能である。
その技術的手段は、製造工程において、液体インクの形態で絶縁体23からなる隔離領域を縦方向或いは横方向に画素22の列に平行な二列に形成するもので、絶縁材料23は陰極を電気的に隔離することができる。絶縁材料23の配列方向は、透明ガラス基板20上に塗布したITO21が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素22の四辺を囲わない。
インクジェット装置を利用して画素形成のためインクジェットプロセスを実行する時には連続した行或いは列として形成する。例えば、一回目のインクジェットは、赤色画素22を行の方向により形成し、二回目のインクジェットは緑色画素22を行の方向により形成し、三回目のインクジェットは青色画素22を行の方向により形成し、3原色全ての画素22の製作を完成する。公知の技術とは異なり単一画素をそれぞれインクジェットプリントの単位としないため、各画素22は十分に均等に形成され、表面張力の影響によって画素中心が突出して厚さが周囲と異なるようにならないため、ディスプレイの発光光度を均等にすることができる。更に、絶縁体23の配列方向は陰極24と平行方向を形成してなるため、直接陽極(ITO21)表面に画素22を形成しても、絶縁材料23は二つの相互に隣接する陰極24の隔離層となり、ディスプレイの画素製造工程の良品率を確保すると共に、各画素22の発光面積及び均等性を向上することができる。
上述の絶縁材料23は、フォトレジストを使用することができ、露光、現像の過程を経てパターニングプロセスにより形成されたフォトレジストパターンとして絶縁材料23を形成することができる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the light emitter of the flat display (panel) is composed of PLED (polymer light-emitting diode), and the display has a self-luminous property, so that it is extremely suitable as a light-emitting panel of the display. Power saving and good luminance. The manufacturing process of the present invention is not limited to such a display manufacturing process, and the technical means of the present invention can be applied to a manufacturing method of an organic electronic member.
The technical means is that in the manufacturing process, the isolation region made of the insulator 23 in the form of liquid ink is formed in two rows parallel to the row of the pixels 22 in the vertical direction or the horizontal direction. Can be electrically isolated. The arrangement direction of the insulating material 23 is perpendicular to the arrangement direction of the anode formed by the ITO 21 coated on the transparent glass substrate 20 and does not surround the four sides of the pixel 22.
When an inkjet process is performed for pixel formation using an inkjet apparatus, the pixels are formed as continuous rows or columns. For example, the first ink jet forms red pixels 22 in the row direction, the second ink jet forms green pixels 22 in the row direction, and the third ink jet forms blue pixels 22 in the row direction. The production of the pixels 22 for all three primary colors is completed. Unlike the known technique, each pixel 22 is formed sufficiently evenly because the single pixel is not used as a unit for inkjet printing, and the center of the pixel does not protrude and the thickness does not differ from the surrounding due to the influence of surface tension. The luminous intensity of the display can be made uniform. Further, since the arrangement direction of the insulators 23 is formed in parallel with the cathode 24, the insulating material 23 can isolate the two adjacent cathodes 24 even if the pixels 22 are directly formed on the surface of the anode (ITO 21). It becomes a layer, and while ensuring the non-defective rate of the pixel manufacturing process of a display, the light emission area and uniformity of each pixel 22 can be improved.
As the insulating material 23 described above, a photoresist can be used, and the insulating material 23 can be formed as a photoresist pattern formed by a patterning process through a process of exposure and development.

上述の絶縁材料23は、連続した行或いは列として構成され、異なる色の画素22を隔離することができるだけでなく、陰極を分離することができ(Cathode Separator、CS)、鍍金方式を通して、画素の表面に陰極24を形成することができ、画素22の下方のITO21が形成する陽極と電気的接続を形成して各画素22を導通させる構成として、画素製造工程を簡易化する。 The insulating material 23 described above is configured as a continuous row or column that not only can isolate the pixels 22 of different colors, but can also separate the cathode (Cathode Separator, CS), and through the plating scheme, The cathode 24 can be formed on the surface, and the pixel manufacturing process is simplified by adopting a configuration in which each pixel 22 is made conductive by forming an electrical connection with the anode formed by the ITO 21 below the pixel 22.

図5に示すように、複数個の画素22の配列方法は一列に配列した構造としてスキャナーの光源に応用することができ、公知の冷陰極管(CCFL;Cold Cathode Fluorescent Lamp)による光源に替えることが出来る。
このような光源は、省電力及び高輝度であり、一列の画素22の上下両側にはフォトレジストにより構成される絶縁材料23が設置されてなり、画素がインクジェットにより形成される工程を実施することにより、スキャナーの光源の製造においても低コストという長所を発揮することができる。
As shown in FIG. 5, the arrangement method of the plurality of pixels 22 can be applied to the light source of the scanner as a structure arranged in a line, and can be replaced with a light source by a known cold cathode fluorescent lamp (CCFL). I can do it.
Such a light source has power saving and high brightness, and an insulating material 23 made of a photoresist is provided on both upper and lower sides of a row of pixels 22 to perform a process of forming the pixels by ink jetting. Therefore, the advantage of low cost can be exhibited in the manufacture of the light source of the scanner.

図6に示すように、複数個の画素22の配列方式が矩形状に配列されるもので、矩形の上下両側にはフォトレジストにより構成される絶縁材料23が設置されてなり、予め定められた間隔を取って、複数個のインクジェットにより画素22を形成する工程を実行するとき、液体インク25は必ずしも各画素22の中心位置に対応できるものではないが、その場合でも液体インク25は、流動拡散する現象により、全ての画素領域区画内を充満することができる。これらを前述の図3と比較すると、本実施例は、製造工程を高速化することができ、また設置する絶縁材料23の量を低減することができる長所を具有する。 As shown in FIG. 6, the arrangement method of the plurality of pixels 22 is arranged in a rectangular shape, and an insulating material 23 made of a photoresist is provided on both upper and lower sides of the rectangle, and is determined in advance. When performing the process of forming the pixels 22 with a plurality of ink jets at intervals, the liquid ink 25 does not necessarily correspond to the center position of each pixel 22, but the liquid ink 25 still flows and diffuses. By this phenomenon, all the pixel area sections can be filled. Comparing these with FIG. 3 described above, this embodiment has advantages that the manufacturing process can be speeded up and the amount of the insulating material 23 to be installed can be reduced.

図7に示す例では、複数個の画素で「A」字を構成して表示しているが、破線で囲まれる領域では一つの画素が点灯しており、点灯された画素は高電位状態になるが、その相互に隣接する画素は点灯していない為、低電位状態になるため、高電位画素31は「漏電現象」を発生し、図8に示すように、電流が高電位画素31の高電位陽極311から陰極33に向かって流れ、さらに陰極33からは低電位画素32の低電位陽極321に向かって流れ、このため図9に示すように、複数個の正常画素41及び損傷画素42が形成されることとなり、長時間経過するうちには高電位及び低電位画素の電位差異の影響が大きくなり、低電位の画素には劣化現象を生じるが、防止制御する対策がない。 In the example shown in FIG. 7, a plurality of pixels are displayed in an “A” shape, but one pixel is lit in a region surrounded by a broken line, and the lit pixel is in a high potential state. However, since the pixels adjacent to each other are not lit, they are in a low potential state. Therefore, the high potential pixel 31 generates a “leakage phenomenon”, and the current is high as shown in FIG. The current flows from the high potential anode 311 toward the cathode 33, and further flows from the cathode 33 toward the low potential anode 321 of the low potential pixel 32. Therefore, as shown in FIG. As a result, the influence of the potential difference between the high potential and the low potential pixel becomes large over a long period of time, and a deterioration phenomenon occurs in the low potential pixel, but there is no countermeasure for prevention control.

図10に示すように、図3,4に記載した絶縁材料の配列方向は透明基板上塗布ITOが形成する陽極の配列方向に垂直を成し、画素51上方に形成する陰極材料と電気的接続を形成し、各画素51が点灯することにより、複数の画素51の間に電位差更により画素の劣化現象が形成されるが、本発明の画素の劣化防止方法は、画素51の陽極から陰極に至る回路の間に接地回路52を追加する。
接地回路52はITOより構成されることにより、製造工程を簡易化し、コストを低下させることができる。接地回路52の設置位置は二つの陽極の間に設置してなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、直接低電位画素に流れないようにするため、各画素51は接地回路に保護され、画素51の消耗劣化が生じることがない。
As shown in FIG. 10, the arrangement direction of the insulating material described in FIGS. 3 and 4 is perpendicular to the arrangement direction of the anode formed by the coating ITO on the transparent substrate, and is electrically connected to the cathode material formed above the pixel 51. The pixel degradation phenomenon is caused by the potential difference between the plurality of pixels 51. However, the pixel degradation prevention method of the present invention is performed from the anode of the pixel 51 to the cathode. The ground circuit 52 is added between the circuits to reach.
Since the ground circuit 52 is made of ITO, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced. The ground circuit 52 is installed between two anodes, and each pixel 51 is connected to the ground circuit so that the current of the high potential pixel flows toward the ground circuit and does not flow directly to the low potential pixel. The pixel 51 is protected from being worn out and deteriorated.

本発明では好ましい実施例を前述の通り開示したが、これらは決して本発明に限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えることができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。 In the present invention, preferred embodiments have been disclosed as described above. However, the present invention is not limited to the present invention, and any person who is familiar with the technology can use various methods within the spirit and scope of the present invention. Variations and moist colors can be added, so the protection scope of the present invention is based on what is specified in the claims.

公知のディスプレイの画素形成構造の平面図である。It is a top view of the pixel formation structure of a well-known display. 公知のディスプレイの画素形成構造の断面図である。It is sectional drawing of the pixel formation structure of a well-known display. 本発明のディスプレイの画素形成構造の説明図である。It is explanatory drawing of the pixel formation structure of the display of this invention. 本発明のディスプレイの金属層を設置した陰極構造の説明図である。It is explanatory drawing of the cathode structure which installed the metal layer of the display of this invention. 本発明の画素が一列に形成する構造の説明図である。It is explanatory drawing of the structure which the pixel of this invention forms in 1 row. 本発明のディスプレイの画素が形成するマトリクス構造の説明図である。It is explanatory drawing of the matrix structure which the pixel of the display of this invention forms. 本発明のディスプレイの画素が対応図を形成した後、画素が形成する電位差の説明図である。It is explanatory drawing of the electrical potential difference which a pixel forms after the pixel of the display of this invention forms a corresponding figure. 本発明のディスプレイの画素が電位差により画素の劣化損傷を形成する構造の説明図である。It is explanatory drawing of the structure where the pixel of the display of this invention forms degradation damage of a pixel by an electrical potential difference. 本発明のディスプレイの画素が電位差により画素の劣化損傷を形成する構造の説明図である。It is explanatory drawing of the structure where the pixel of the display of this invention forms degradation damage of a pixel by an electrical potential difference. 本発明のディスプレイの画素が陽極から陰極に至る回路において設置回路を追加した構造の説明図である。It is explanatory drawing of the structure which added the installation circuit in the circuit from the anode of the display of this invention to the cathode.

符号の説明Explanation of symbols

10 ガラス基板
11 絶縁材料
12 ITO(インジウムすず化合物)
13 画素表示領域
14 液体インク
15 インクジェット装置
20 ガラス基板
21 ITO(インジウムすず化合物)
22 画素
23 絶縁材料
24 陰極
25 液体インク
31 高電位画素
311 高電位陽極
32 低電位画素
321 低電位陽極
33 陰極
41 正常画素
42 損傷画素
51 画素
52 設置回路
10 Glass substrate 11 Insulating material 12 ITO (Indium tin compound)
13 Pixel display area 14 Liquid ink 15 Inkjet device 20 Glass substrate 21 ITO (indium tin compound)
22 pixel 23 insulating material 24 cathode 25 liquid ink 31 high potential pixel 311 high potential anode 32 low potential pixel 321 low potential anode 33 cathode 41 normal pixel 42 damaged pixel 51 pixel 52 installation circuit

Claims (12)

絶縁材料を単一縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行に形成し、その絶縁材料の配列方向は陽極の配列方向と垂直であって、かつ、陰極が形成する方向と平行を成し、画素は液体インクの形態としてインクジェットの連続噴射方式により陽極表面に薄膜として形成することを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 An insulating material is formed in a single vertical direction or a horizontal direction parallel to two sides of the pixel, and the arrangement direction of the insulating material is perpendicular to the arrangement direction of the anode and parallel to the direction in which the cathode is formed. A method of manufacturing a pixel for a display or an organic electronic member, wherein the pixel is formed as a thin film on the anode surface by a continuous ink jet method in the form of liquid ink. 前記陰極は、画素の表面層に形成されてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 2. The display or organic electronic member pixel manufacturing method according to claim 1, wherein the cathode is formed on a surface layer of the pixel. 前記陰極は、蒸着により形成されることを特徴とした、請求項1或いは2に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 3. The display or organic electronic member pixel manufacturing method according to claim 1, wherein the cathode is formed by vapor deposition. 前記陽極は、透明ガラス基板上に塗布したITO(Indium Tin-doped Oxide)により形成されることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 The display or organic electronic member pixel manufacturing method according to claim 1, wherein the anode is formed of ITO (Indium Tin-doped Oxide) coated on a transparent glass substrate. 前記絶縁材料は、フォトレジストであって、露光、現像によりパターニングして形成することを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 The display or organic electronic member pixel manufacturing method according to claim 1, wherein the insulating material is a photoresist, and is formed by patterning by exposure and development. 前記絶縁材料は、陰極同士を隔離することを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 The display or organic electronic member pixel manufacturing method according to claim 1, wherein the insulating material isolates the cathodes from each other. 前記画素は、高分子発光ダイオード(PLED;Polymer OLED)より構成されてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 The method for manufacturing a pixel of a display or an organic electronic member according to claim 1, wherein the pixel is composed of a polymer light emitting diode (PLED). 前記画素の配列方法は、一列にてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 The method of manufacturing a pixel of a display or an organic electronic member according to claim 1, wherein the method of arranging the pixels is in a line. 前記画素の配列方法は、矩形状にてなることを特徴とした、請求項1に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。 The method for manufacturing a pixel of a display or an organic electronic member according to claim 1, wherein the pixel arrangement method is rectangular. 画素の陽極から陰極に至る回路の間に接地回路を加え、接地回路の接地位置は二つの陽極の間にてなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の消耗劣化を防止することを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法。 A grounding circuit is added between the circuit from the anode to the cathode of the pixel, and the grounding position of the grounding circuit is between the two anodes. The current of the high potential pixel flows toward the grounding circuit, and the consumption of the low potential pixel is deteriorated. A method for preventing pixel deterioration of a display or an organic electronic member, characterized in that 前記陽極は、ITO(Indium Tin-doped Oxide)をガラス基板上に塗布して構成することを特徴とした、請求項10に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法。 The method of claim 10, wherein the anode is configured by applying ITO (Indium Tin-doped Oxide) on a glass substrate. 前記接地回路はITO(Indium Tin-doped Oxide)により構成されることを特徴とした、請求項10に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法。 The method for preventing pixel deterioration of a display or an organic electronic member according to claim 10, wherein the ground circuit is made of ITO (Indium Tin-doped Oxide).
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