JP2007158035A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

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Masaya Uehara
正也 上原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit that has a macro-cell for receiving power supply from annular wirings, and is capable of reducing power consumption. <P>SOLUTION: The semiconductor integrated circuit is provided with the macro-cell MC1 for achieving prescribed functions, the annular wiring L1 connected to the macro-cell MC1 while being arranged so as to surround the macro-cell MC1, the annular wiring L2 connected to power supply potential V<SB>DD</SB>while being arranged so as to surround the annular wiring L1, the annular wiring L3 connected to power supply potential V<SB>SS</SB>and the macro-cell MC1 while being arranged so as to surround the annular wiring L2, and CMOS inverters INV1, INV2 as a switch circuit for connecting between the two sets of annular wiring L1, L2 or between the two sets of annular wiring L1, L3 corresponding to a control signal. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体集積回路に関し、特に、機能ブロックに電源電位を供給するための環状配線を有する半導体集積回路に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having an annular wiring for supplying a power supply potential to a functional block.

従来より、半導体集積回路において、所定の機能を実現するための機能ブロックであるマクロセルに電源電位を供給するために、マクロセルを囲むように環状電源配線を配置することが行われている。図5は、このような従来のマクロセル及び環状電源配線の一例を示す図である。この半導体集積回路においては、マクロセルMC3を囲むように、環状電源配線L7が配置され、環状電源配線L7を囲むように、環状電源配線L8が配置されている。環状電源配線L7は、高電位側の電源電位(ここでは、VDD)に接続され、マクロセルMC3に電源電位VDDを供給し、環状電源配線L8は、低電位側の電源電位(ここでは、VSS)に接続され、マクロセルMC3に電源電位VSSを供給する。図5に示す半導体集積回路においては、マクロセルMC3の待機時(非動作時)であっても、電源電位VDD,VSSがマクロセルMC3に供給されて待機電流が消費され、その結果、電力が消費されてしまっていた。 Conventionally, in a semiconductor integrated circuit, in order to supply a power supply potential to a macro cell, which is a functional block for realizing a predetermined function, an annular power supply wiring is disposed so as to surround the macro cell. FIG. 5 is a diagram showing an example of such a conventional macro cell and annular power supply wiring. In this semiconductor integrated circuit, an annular power supply line L7 is disposed so as to surround the macro cell MC3, and an annular power supply line L8 is disposed so as to surround the annular power supply line L7. The annular power supply line L7 is connected to a power supply potential on the high potential side (here, V DD ) and supplies the power supply potential V DD to the macro cell MC3. The annular power supply line L8 is connected to the power supply potential on the low potential side (here, V SS ) to supply the power supply potential V SS to the macro cell MC3. In the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 5, even when the macro cell MC3 is in a standby state (during non-operation), the power supply potentials V DD and V SS are supplied to the macro cell MC3 and the standby current is consumed. It was consumed.

ところで、選択されていない回路ブロックの消費電力を低減することが可能な半導体集積回路が知られている(例えば、下記の特許文献1,2参照)。
特許文献1には、選択されていない回路ブロックについて電源スイッチを遮断する技術が掲載されている。
特許文献2においては、特許文献1掲載の技術の課題として、(1)むやみに電源スイッチをオンオフすると却って消費電流が増大する、(2)電源スイッチのオンオフにより集積回路の速度が低下する、ということが指摘されている。
By the way, a semiconductor integrated circuit capable of reducing the power consumption of an unselected circuit block is known (for example, see Patent Documents 1 and 2 below).
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-228561 discloses a technique for shutting off a power switch for a circuit block that is not selected.
In Patent Document 2, as the problems of the technique disclosed in Patent Document 1, (1) if the power switch is turned on / off unnecessarily, the current consumption increases, and (2) the speed of the integrated circuit decreases due to the power switch being turned on / off. It has been pointed out.

特許文献1掲載の技術の課題を解決するため、特許文献2には、電源線と、すくなくとも一つの第1回路ブロックを含む複数の回路ブロックと、上記少なくとも一つの第1回路ブロックのそれぞれに対応して設けられ、上記電源線から上記第1回路ブロックへの電源の供給を制御する少なくとも一つのスイッチと、上記複数の回路ブロックの少なくとも一つを使用状態としてタスクを実行するプロセッサとを有し、上記プロセッサのタスクの実行において、上記第1回路ブロックはその不使用状態への移行を指示するステート信号を受けて対応する上記スイッチをオフ状態とし、上記第1回路ブロックがその使用状態への移行を指示するステート信号を受けるのに先立って上記スイッチをオン状態とする半導体集積回路が掲載されている。
特許文献2掲載の技術は、プロセッサのタスク実行状況に応じて回路ブロックのスイッチを制御するものであり、マクロセルを囲むように環状配線を配置した半導体集積回路に関するものではない。
In order to solve the problems of the technique disclosed in Patent Document 1, Patent Document 2 corresponds to each of a power line, a plurality of circuit blocks including at least one first circuit block, and the at least one first circuit block. And at least one switch for controlling the supply of power from the power supply line to the first circuit block, and a processor for executing a task with at least one of the plurality of circuit blocks being used. In the execution of the task of the processor, the first circuit block receives a state signal instructing the transition to the non-use state, turns off the corresponding switch, and the first circuit block enters the use state. A semiconductor integrated circuit is described in which the switch is turned on prior to receiving a state signal instructing transition.
The technique disclosed in Patent Document 2 controls a switch of a circuit block according to the task execution status of a processor, and does not relate to a semiconductor integrated circuit in which a ring wiring is arranged so as to surround a macro cell.

特開平10−208473号公報JP-A-10-208473 特開2004−21574号公報JP 2004-21574 A

そこで、上記の点に鑑み、本発明は、機能ブロックに電源電位を供給するための環状配線を有し、機能ブロックの非動作時の消費電力を低減することが可能な半導体集積回路を提供することを目的とする。   Accordingly, in view of the above points, the present invention provides a semiconductor integrated circuit that has an annular wiring for supplying a power supply potential to a functional block and can reduce power consumption when the functional block is not operating. For the purpose.

以上の課題を解決するため、本発明に係る半導体集積回路は、所定の機能を実現するための機能ブロックと、機能ブロックを囲むように配置され、機能ブロックに接続された第1の環状配線と、機能ブロックを囲むように配置され、第1の電源電位に接続された第2の環状配線と、機能ブロックを囲むように配置され、第2の電源電位に接続されるとともに機能ブロックに接続された第3の環状配線と、外部から供給される制御信号が活性化されている場合に、第1の環状電源と第2の環状電源との間を接続するためのスイッチ回路とを具備する。   In order to solve the above problems, a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes a functional block for realizing a predetermined function, a first annular wiring arranged so as to surround the functional block, and connected to the functional block. The second annular wiring arranged so as to surround the functional block and connected to the first power supply potential, and arranged so as to surround the functional block, connected to the second power supply potential and connected to the functional block And a third annular wiring and a switch circuit for connecting between the first annular power supply and the second annular power supply when a control signal supplied from the outside is activated.

この半導体集積回路において、第2の環状配線が、第1の環状配線を囲むように配置されており、第3の環状配線が、第2の環状配線を囲むように配置されているようにしても良い。さらに、スイッチ回路が、第1の環状配線と第2の環状配線との間又は第2の環状配線と第3の環状配線との間に配置されているようにしても良い。   In this semiconductor integrated circuit, the second annular wiring is arranged so as to surround the first annular wiring, and the third annular wiring is arranged so as to surround the second annular wiring. Also good. Furthermore, the switch circuit may be arranged between the first annular wiring and the second annular wiring or between the second annular wiring and the third annular wiring.

また、第1の電源電位が、高電位側の電源電位であり、第2の電源電位が、低電位側の電源電位であり、スイッチ回路が、少なくとも1つのPチャネルMOSトランジスタを含むようにしても良い。   The first power supply potential may be a high-potential side power supply potential, the second power supply potential may be a low-potential side power supply potential, and the switch circuit may include at least one P-channel MOS transistor. .

また、スイッチ回路が、制御信号が非活性化されている場合に、第1の環状電源と第3の環状電源との間を接続するようにしても良い。さらに、スイッチ回路が、少なくとも1つのCMOSインバータを含むようにしても良い。   The switch circuit may connect the first annular power source and the third annular power source when the control signal is inactivated. Further, the switch circuit may include at least one CMOS inverter.

また、この半導体集積回路が、ゲートアレイ型又はエンベデッドアレイ型のASICであっても良い。さらに、スイッチ回路が、少なくとも1つの基本セルを用いて構成されていても良い。   The semiconductor integrated circuit may be a gate array type or an embedded array type ASIC. Furthermore, the switch circuit may be configured using at least one basic cell.

本発明によれば、機能ブロックの非動作時の消費電流を遮断することができる。これにより、消費電力を低減することが可能である。   According to the present invention, current consumption when the functional block is not operating can be cut off. Thereby, power consumption can be reduced.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。なお、同一の構成要素については、同一の参照番号で示している。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体集積回路の一部の概要を示す図である。本実施形態は、本発明をゲートアレイ(gate array)型のASIC(application specific integrated circuit)に適用したものである。図1に示すように、この半導体集積回路は、所定の機能を実現するためのマクロセルMC1と、マクロセルMC1を囲むように配置され、マクロセルMC1に接続された環状配線L1と、環状配線L1を囲むように配置され、高電位側の電源電位(ここでは、VDD)に接続された環状配線L2と、環状配線L2を囲むように配置され、低電位側の電源電位(ここでは、VSS)に接続されるとともにマクロセルMC1に接続された環状配線L3と、外部から供給される制御信号に従って環状配線L1と環状配線L2との間又は環状配線L1と環状配線L3との間を接続するためのスイッチ回路としての2個のCMOSインバータINV1,INV2とを有する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, about the same component, it has shown with the same reference number.
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a part of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention. In the present embodiment, the present invention is applied to a gate array type ASIC (application specific integrated circuit). As shown in FIG. 1, this semiconductor integrated circuit is arranged so as to surround a macro cell MC1, a macro cell MC1 for realizing a predetermined function, an annular wire L1 connected to the macro cell MC1, and an annular wire L1. An annular wiring L2 connected to a high-potential-side power supply potential (here, V DD ) and a low-potential-side power supply potential (here, V SS ) are arranged so as to surround the annular wiring L2. And the annular wiring L3 connected to the macro cell MC1 and the annular wiring L1 and the annular wiring L2 or the annular wiring L1 and the annular wiring L3 according to a control signal supplied from the outside. It has two CMOS inverters INV1 and INV2 as switch circuits.

環状配線L1〜L3は、一般には、ポリシリコン層の上に層間絶縁膜を介して形成された複数のメタル配線層において、縦のパターンと横のパターンとに分割されて配置される。   In general, annular wirings L1 to L3 are divided into a vertical pattern and a horizontal pattern in a plurality of metal wiring layers formed on a polysilicon layer via an interlayer insulating film.

図2は、インバータINV1,INV2の回路構成を示す図である。図2に示すように、インバータINV1は、ソース〜ドレイン経路が環状配線L2と環状配線L3との間に直列に配置されたPチャネルMOSトランジスタQP1及びNチャネルMOSトランジスタQN1によって構成される。また、インバータINV2は、ソース〜ドレイン経路が環状配線L2と環状配線L3との間に直列に配置されたPチャネルMOSトランジスタQP2及びNチャネルMOSトランジスタQN2によって構成される。   FIG. 2 is a diagram illustrating a circuit configuration of the inverters INV1 and INV2. As shown in FIG. 2, the inverter INV1 includes a P-channel MOS transistor QP1 and an N-channel MOS transistor QN1 whose source-drain paths are arranged in series between the annular wiring L2 and the annular wiring L3. The inverter INV2 includes a P-channel MOS transistor QP2 and an N-channel MOS transistor QN2 whose source-drain paths are arranged in series between the annular wiring L2 and the annular wiring L3.

インバータINV1の入力端子(トランジスタQP1,QN1のゲート)、及びインバータINV2の入力端子(トランジスタQP2,QN2のゲート)には、アクティブローの制御信号が供給される。
また、インバータINV1の出力端子(トランジスタQP1,QN1のドレイン)、及び、インバータINV2の出力端子(トランジスタQP2,QN2のドレイン)は、環状配線L1に接続されている。
An active-low control signal is supplied to the input terminal of the inverter INV1 (the gates of the transistors QP1 and QN1) and the input terminal of the inverter INV2 (the gates of the transistors QP2 and QN2).
The output terminal of the inverter INV1 (the drains of the transistors QP1 and QN1) and the output terminal of the inverter INV2 (the drains of the transistors QP2 and QN2) are connected to the annular wiring L1.

図3は、インバータINV1,INV2のレイアウトを示す図である。一般に、ゲートアレイ型のASICにおいては、複数の基本セル(basic cell)がアレイ状に配置され、各々の基本セルは2個のPチャネルMOSトランジスタと2個のNチャネルMOSトランジスタを有する。図3においては、アレイ状に配置された複数の基本セルの内の1個の基本セルBC1のレイアウトを示している。   FIG. 3 is a diagram showing a layout of the inverters INV1 and INV2. In general, in a gate array type ASIC, a plurality of basic cells are arranged in an array, and each basic cell has two P-channel MOS transistors and two N-channel MOS transistors. FIG. 3 shows a layout of one basic cell BC1 among a plurality of basic cells arranged in an array.

図3に示すように、基本セルBC1は、不純物拡散領域11,12、及び、不純物拡散領域11,12の上層にゲート絶縁膜を介して形成されたポリシリコンのゲート電極P1,P2を含んでいる。不純物拡散領域11,12、及びゲート電極P1,P2が、トランジスタQP1,QP2,PN1,QN2を構成する。   As shown in FIG. 3, the basic cell BC1 includes impurity diffusion regions 11 and 12, and polysilicon gate electrodes P1 and P2 formed above the impurity diffusion regions 11 and 12 via a gate insulating film. Yes. Impurity diffusion regions 11 and 12 and gate electrodes P1 and P2 constitute transistors QP1, QP2, PN1, and QN2.

トランジスタQP1のソースは、第2メタル層の配線21を介して、第1メタル層の環状配線L2に接続されており、トランジスタQN1のソースは、第2メタル層の配線22を介して、第1メタル層の環状配線L3に接続されている。
同様に、トランジスタQP2のソースは、第2メタル層の配線23を介して、環状配線L2に接続されており、トランジスタQN1のソースは、第2メタル層の配線24を介して、環状配線L3に接続されている。
The source of the transistor QP1 is connected to the annular wiring L2 of the first metal layer via the wiring 21 of the second metal layer, and the source of the transistor QN1 is connected to the first metal layer 22 via the wiring 22 of the second metal layer. It is connected to the annular wiring L3 of the metal layer.
Similarly, the source of the transistor QP2 is connected to the annular wiring L2 via the wiring 23 of the second metal layer, and the source of the transistor QN1 is connected to the annular wiring L3 via the wiring 24 of the second metal layer. It is connected.

ゲート電極P1,P2は、第2メタル層の配線31及び第1メタル層の配線32に接続されている。配線31には、制御信号が供給される。
トランジスタQP1,QP2,QN1,QN2のドレインは、第2メタル層の配線33、第1メタル層の配線34、及び、第2メタル層の配線35を介して、環状配線L1に接続されている。
The gate electrodes P1 and P2 are connected to the wiring 31 of the second metal layer and the wiring 32 of the first metal layer. A control signal is supplied to the wiring 31.
The drains of the transistors QP1, QP2, QN1, and QN2 are connected to the annular wiring L1 via the second metal layer wiring 33, the first metal layer wiring 34, and the second metal layer wiring 35.

制御信号が活性化されている(ここでは、ローレベルである)場合、トランジスタQP1,QP2はオン状態となり、トランジスタQN1,QN2はオフ状態となり、環状配線L1は電源電位VDDに接続される。これにより、マクロセルMC1への電力の供給が行われ、マクロセルMC1は、所定の機能を実現することができる。 When the control signal is activated (here, at a low level), the transistors QP1 and QP2 are turned on, the transistors QN1 and QN2 are turned off, and the annular wiring L1 is connected to the power supply potential V DD . As a result, power is supplied to the macro cell MC1, and the macro cell MC1 can realize a predetermined function.

一方、制御信号が非活性化されている(ここでは、ハイレベルである)場合、トランジスタQP1,QP2はオフ状態となり、トランジスタQN1,QN2はオン状態となり、環状配線L1は電源電位VSSに接続される。これにより、マクロセルMC1への電力の供給が停止され、マクロセルMC1は動作を停止する。このとき、マクロセルMC1の消費電流(待機電流)は遮断される。 On the other hand, when the control signal is inactivated (here, at a high level), the transistors QP1 and QP2 are turned off, the transistors QN1 and QN2 are turned on, and the annular wiring L1 is connected to the power supply potential VSS . Is done. As a result, the supply of power to the macro cell MC1 is stopped, and the macro cell MC1 stops operating. At this time, the consumption current (standby current) of the macro cell MC1 is cut off.

このように、本実施形態によれば、マクロセルMC1の非動作時の消費電流を遮断することにより、消費電力を低減することが可能である。
なお、従来の半導体集積回路(図5参照)において、環状配線L7と環状配線L8との間に配置されている基本セルは、使用されていない場合が多い。本実施形態においては、環状配線L2と環状配線L3との間に配置されている基本セルをスイッチ回路として有効利用している。そのため、マクロセルMC1への電力のスイッチングを行うために基本セルの増加を招くことがない。
As described above, according to the present embodiment, it is possible to reduce power consumption by cutting off current consumption when the macro cell MC1 is not operating.
In a conventional semiconductor integrated circuit (see FIG. 5), the basic cell arranged between the annular wiring L7 and the annular wiring L8 is often not used. In the present embodiment, the basic cell arranged between the annular wiring L2 and the annular wiring L3 is effectively used as a switch circuit. Therefore, the number of basic cells is not increased in order to perform power switching to the macro cell MC1.

また、本実施形態においては、マクロセルMC1への電力のスイッチングを行うために2個のインバータINV1,INV2を用いることとしているが、1個のインバータを用いることとしても良いし、3個以上のインバータを用いることとしても良い。インバータの数は、マクロセルMC1の消費電力のピーク値に応じて決定すれば良い。   In the present embodiment, two inverters INV1 and INV2 are used to switch power to the macro cell MC1, but one inverter may be used, and three or more inverters may be used. It is good also as using. The number of inverters may be determined according to the peak power consumption of the macro cell MC1.

また、本実施形態においては、インバータINV1,INV2が、環状配線L2と環状配線L3との間に配置されているが、環状配線L1と環状配線L2との間に配置されていても良い。   Further, in the present embodiment, the inverters INV1 and INV2 are arranged between the annular wiring L2 and the annular wiring L3, but may be arranged between the annular wiring L1 and the annular wiring L2.

また、本実施形態においては、電源電位VDDが内側から2番目の環状配線(ここでは、環状配線L2)に接続されているが、他の環状配線に接続されるようにしても良い。また、電源電位VSSが最外側の環状配線(ここでは、環状配線L3)に接続されているが、他の環状配線に接続されるようにしても良い。また、マクロセルMC1が、最内側の環状配線(ここでは、環状配線L1)と最外側の環状配線(ここでは、環状配線L3)から電力の供給を受けているが、他の環状配線から電力の供給を受けるようにしても良い。 In the present embodiment, the power supply potential V DD is connected to the second annular wiring (here, the annular wiring L2) from the inside, but may be connected to another annular wiring. Further, although the power supply potential VSS is connected to the outermost annular wiring (here, the annular wiring L3), it may be connected to another annular wiring. Further, the macro cell MC1 is supplied with power from the innermost annular wiring (here, the annular wiring L1) and the outermost annular wiring (here, the annular wiring L3). You may make it receive supply.

また、本実施形態は本発明をゲートアレイ型のASICに適用したものであるが、本発明をエンベデッドアレイ(embedded array)型のASICに適用しても良い。この場合、マクロセルMC1がハードマクロセルであることとしても良い。   In the present embodiment, the present invention is applied to a gate array type ASIC. However, the present invention may be applied to an embedded array type ASIC. In this case, the macro cell MC1 may be a hard macro cell.

次に本発明の第2の実施形態について説明する。
図4は、本発明の第2の実施形態に係る半導体集積回路の一部の概要を示す図である。図4に示すように、この半導体集積回路は、所定の機能を実現するためのマクロセルMC2と、マクロセルMC2を囲むように配置され、マクロセルMC2に接続された環状配線L4と、環状配線L4を囲むように配置され、高電位側の電源電位(ここでは、VDD)に接続された環状配線L5と、環状配線L5を囲むように配置され、低電位側の電源電位(ここでは、VSS)に接続されるとともにマクロセルMC2に接続された環状配線L6と、外部から供給される制御信号に従って環状配線L4と環状配線L5との間を接続するためのスイッチ回路としてのPチャネルMOSトランジスタQP3,QP4とを有する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 4 is a diagram showing an outline of a part of the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, this semiconductor integrated circuit surrounds a macro cell MC2 for realizing a predetermined function, an annular wiring L4 that is disposed so as to surround the macro cell MC2, and is connected to the macro cell MC2, and an annular wiring L4. An annular wiring L5 connected to a power supply potential on the high potential side (here, V DD ) and a power supply potential on the low potential side (here, V SS ) arranged so as to surround the annular wiring L5. And P-channel MOS transistors QP3 and QP4 as switch circuits for connecting the annular wiring L6 connected to the macro cell MC2 and the annular wiring L4 and the annular wiring L5 in accordance with a control signal supplied from the outside. And have.

トランジスタQP3,QP4のソース〜ドレイン経路は、環状配線L5と環状配線L4との間にそれぞれ接続されている。また、トランジスタQP3,QP4のゲートには、アクティブローの制御信号が供給される。   The source-drain paths of the transistors QP3 and QP4 are connected between the annular wiring L5 and the annular wiring L4, respectively. An active low control signal is supplied to the gates of the transistors QP3 and QP4.

制御信号が活性化されている(ここでは、ローレベルである)場合、トランジスタQP3,QP4はオン状態となり、環状配線L4は電源電位VDDに接続される。これにより、マクロセルMC2への電力の供給が行われ、マクロセルMC2は、所定の機能を実現することができる。 When the control signal is activated (here, at a low level), the transistors QP3 and QP4 are turned on, and the annular wiring L4 is connected to the power supply potential V DD . As a result, power is supplied to the macro cell MC2, and the macro cell MC2 can realize a predetermined function.

一方、制御信号が非活性化されている(ここでは、ハイレベルである)場合、トランジスタQP3,QP4はオフ状態となり、環状配線L4はハイインピーダンス状態となる。これにより、マクロセルMC2への電力の供給が停止され、マクロセルMC2は動作を停止する。このとき、マクロセルMC2の消費電流を遮断することができる。   On the other hand, when the control signal is inactivated (here, at a high level), the transistors QP3 and QP4 are turned off, and the annular wiring L4 is in a high impedance state. As a result, the supply of power to the macro cell MC2 is stopped, and the macro cell MC2 stops operating. At this time, the current consumption of the macro cell MC2 can be cut off.

このように、本実施形態によれば、第1の実施形態よりも少ない素子数で、第1の実施形態と同様に、マクロセルMC2の消費電流を遮断することができる。これにより、消費電力を低減することが可能である。   Thus, according to the present embodiment, the current consumption of the macro cell MC2 can be cut off with a smaller number of elements than in the first embodiment, as in the first embodiment. Thereby, power consumption can be reduced.

なお、本実施形態においては、マクロセルMC2への電力の供給を行うために2個のトランジスタQP3,QP4を用いることとしているが、1個のトランジスタを用いることとしても良いし、3個以上のトランジスタを用いることとしても良い。トランジスタの数は、マクロセルMC2の消費電力のピーク値に応じて決定すれば良い。   In the present embodiment, two transistors QP3 and QP4 are used to supply power to the macro cell MC2. However, one transistor may be used, and three or more transistors may be used. It is good also as using. The number of transistors may be determined according to the peak value of power consumption of the macro cell MC2.

また、本実施形態においては、トランジスタQP3,QP4が、環状配線L4と環状配線L5との間にそれぞれ配置されているが、環状配線L5と環状配線L6との間にそれぞれ配置されていても良い。   Further, in the present embodiment, the transistors QP3 and QP4 are disposed between the annular wiring L4 and the annular wiring L5, respectively, but may be disposed between the annular wiring L5 and the annular wiring L6, respectively. .

また、本実施形態においては、電源電位VDDが内側から2番目の環状配線(ここでは、環状配線L5)に接続されているが、他の環状配線に接続されるようにしても良い。また、電源電位VSSが最外側の環状配線(ここでは、環状配線L6)に接続されているが、他の環状配線に接続されるようにしても良い。また、マクロセルMC2が、最内側の環状配線(ここでは、環状配線L4)と最外側の環状配線(ここでは、環状配線L6)から電力の供給を受けているが、他の環状配線から電力の供給を受けるようにしても良い。 In the present embodiment, the power supply potential V DD is connected to the second annular wiring (here, the annular wiring L5) from the inside, but may be connected to another annular wiring. Further, the power supply voltage V SS (here, the annular wiring L6) outermost annular wires are connected to, may be connected to another annular wire. The macro cell MC2 is supplied with power from the innermost annular wiring (here, the annular wiring L4) and the outermost annular wiring (here, the annular wiring L6). You may make it receive supply.

なお、本実施形態をゲートアレイ型又はエンベデッドアレイ型のASICに適用しても良い。この場合、トランジスタQP3,QP4が基本セルで実現されても良い。   The present embodiment may be applied to a gate array type or embedded array type ASIC. In this case, the transistors QP3 and QP4 may be realized by a basic cell.

本発明は、機能ブロックに電源電位を供給するための環状配線を有する半導体集積回路に利用可能である。また、ゲートアレイ型又はエンベデッドアレイ型のASICにおいて利用可能である。   The present invention can be used for a semiconductor integrated circuit having an annular wiring for supplying a power supply potential to a functional block. Further, it can be used in a gate array type or embedded array type ASIC.

本発明の第1の実施形態に係る半導体集積回路の一部の概要を示す図。1 is a diagram showing an outline of a part of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention. 図1のインバータINV1,INV2の回路構成を示す図。The figure which shows the circuit structure of inverter INV1, INV2 of FIG. 図1のインバータINV1,INV2のレイアウトを示す図。The figure which shows the layout of inverter INV1, INV2 of FIG. 本発明の第2の実施形態に係る半導体集積回路の一部の概要を示す図。FIG. 5 is a diagram showing an outline of a part of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention. 従来の半導体集積回路の一部の概要を示す図。The figure which shows the one part outline | summary of the conventional semiconductor integrated circuit.

符号の説明Explanation of symbols

MC1,MC2,MC3 マクロセル、 L1〜L8 環状配線、 INV1,INV2 インバータ、 QP1〜QP4,QN1,QN2 トランジスタ、 BC1 基本セル、 P1,P2 ゲート電極、 11,12 不純物拡散領域、 21〜24,31〜35 配線   MC1, MC2, MC3 macro cell, L1-L8 ring wiring, INV1, INV2 inverter, QP1-QP4, QN1, QN2 transistor, BC1 basic cell, P1, P2 gate electrode, 11,12 impurity diffusion region, 21-24, 311- 35 Wiring

Claims (8)

所定の機能を実現するための機能ブロックと、
前記機能ブロックを囲むように配置され、前記機能ブロックに接続された第1の環状配線と、
前記機能ブロックを囲むように配置され、第1の電源電位に接続された第2の環状配線と、
前記機能ブロックを囲むように配置され、第2の電源電位に接続されるとともに前記機能ブロックに接続された第3の環状配線と、
外部から供給される制御信号が活性化されている場合に、前記第1の環状電源と前記第2の環状電源との間を接続するためのスイッチ回路と、
を具備する、半導体集積回路。
Functional blocks for realizing a predetermined function;
A first annular wiring arranged to surround the functional block and connected to the functional block;
A second annular wiring arranged to surround the functional block and connected to a first power supply potential;
A third annular wiring disposed so as to surround the functional block, connected to a second power supply potential and connected to the functional block;
A switch circuit for connecting between the first annular power supply and the second annular power supply when an externally supplied control signal is activated;
A semiconductor integrated circuit comprising:
前記第2の環状配線が、前記第1の環状配線を囲むように配置されており、
前記第3の環状配線が、前記第2の環状配線を囲むように配置されている、請求項1記載の半導体集積回路。
The second annular wiring is disposed so as to surround the first annular wiring;
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the third annular wiring is disposed so as to surround the second annular wiring.
前記スイッチ回路が、前記第1の環状配線と前記第2の環状配線との間又は前記第2の環状配線と前記第3の環状配線との間に配置されている、請求項2記載の半導体集積回路。   3. The semiconductor according to claim 2, wherein the switch circuit is disposed between the first annular wiring and the second annular wiring or between the second annular wiring and the third annular wiring. Integrated circuit. 前記第1の電源電位が、高電位側の電源電位であり、前記第2の電源電位が、低電位側の電源電位であり、前記スイッチ回路が、少なくとも1つのPチャネルMOSトランジスタを含む、請求項3記載の半導体集積回路。   The first power supply potential is a power supply potential on a high potential side, the second power supply potential is a power supply potential on a low potential side, and the switch circuit includes at least one P-channel MOS transistor. Item 4. The semiconductor integrated circuit according to Item 3. 前記スイッチ回路が、前記制御信号が非活性化されている場合に、前記第1の環状電源と前記第3の環状電源との間を接続する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体集積回路。   4. The switch circuit according to claim 1, wherein the switch circuit connects between the first annular power source and the third annular power source when the control signal is inactivated. 5. Semiconductor integrated circuit. 前記スイッチ回路が、少なくとも1つのCMOSインバータを含む、請求項5記載の半導体集積回路。   The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein the switch circuit includes at least one CMOS inverter. ゲートアレイ型又はエンベデッドアレイ型のASICである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体集積回路。   The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is a gate array type or an embedded array type ASIC. 前記スイッチ回路が、少なくとも1つの基本セルを用いて構成されている、請求項7記載の半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 7, wherein the switch circuit is configured using at least one basic cell.
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