JP2007157890A - Semiconductor integrated circuit and semiconductor device - Google Patents

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Yoshitaka Mano
良隆 間野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device where suppression of increase in a layout area of LSI by loading of a physical fuse and improvement of a security function are simultaneously realized. <P>SOLUTION: The semiconductor device is provided with a test pad 1, an input buffer circuit 2, a CMOS transfer circuit 3 and an input control circuit 4 controlling the CMOS transfer circuit 3. An active or a non-active state of the CMOS transfer circuit 3 is collectively controlled in accordance with a state of connection or disconnection of the physical fuse 21 loaded on the input control circuit 4. Since the test pad 1 required for inspection in an output signal VCONT10 of the input control circuit 4 can be controlled, increase of the layout area is suppressed, and security can simultaneously be secured by fuse disconnection at the time of shipping. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、第三者からの改竄等に対して、防止、抑制を目的とした、セキュリティ機能搭載した半導体装置における半導体集積回路および半導体装置に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a semiconductor device in a semiconductor device equipped with a security function for the purpose of preventing and suppressing tampering from a third party.

近年、ICカードに代表されるように、個人情報や金銭情報の等の重要情報が書き込まれたカードを個人が所有するようになってきた。このような重要情報を保護するため、ICカードに搭載されているLSI、特にLSIに内蔵されたROMのデータや不揮発性メモリのデータを第三者からの偽造、改竄等に対するセキュリティ機能を強化する為の技術が搭載されている。   In recent years, as represented by an IC card, an individual has possessed a card in which important information such as personal information and money information is written. In order to protect such important information, strengthen the security function against forgery, falsification, etc. from third parties on the LSI mounted on the IC card, especially ROM data and nonvolatile memory data embedded in the LSI. Technology for the purpose is installed.

以下に、従来の耐タンパー(セキュリティ)技術を搭載した半導体装置に関して説明する。図8は従来の半導体装置のテストパッド周辺部の回路構成図である。   A semiconductor device equipped with a conventional tamper resistant (security) technology will be described below. FIG. 8 is a circuit configuration diagram of a peripheral portion of a test pad of a conventional semiconductor device.

図8に示すように、従来の半導体装置は、不揮発性メモリ検査時の検査効率化等の目的で、実際に使用するパッドとは別に、検査専用のテストパッドを用いて検査を実行する場合がある。従来の半導体装置は、複数のテストパッドTPAD1〜TPADnにて構成されたテストパッド部1と、複数のテストパッドTPAD1〜TPADnに対応した入力バッファ回路BUFB1〜BUFBnにて構成された入力バッファ回路部102と、テストパッドと入力バッファ回路を接続するためのヒューズFUSE1〜FUSEnにて構成されたヒューズ部103にて構成されている。半導体装置の出荷前の検査終了後、出荷する直前に、ヒューズFUSE1〜FUSEnを切断してレーザートリマ等の装置で切断を行う。これにより、通常の手段を用いたアクセス以外を禁止できるため、以降のカスタマーの工程やユーザーの使用の際において、第三者からの改竄・偽造等の脅威から、不揮発性メモリに書き込まれた重要な情報を守ることができる。   As shown in FIG. 8, in the conventional semiconductor device, for the purpose of improving the inspection efficiency at the time of non-volatile memory inspection, there is a case where the inspection is performed using a test pad dedicated to the inspection separately from the pad actually used. is there. The conventional semiconductor device includes a test pad unit 1 composed of a plurality of test pads TPAD1 to TPADn and an input buffer circuit unit 102 composed of input buffer circuits BUFB1 to BUFBn corresponding to the plurality of test pads TPAD1 to TPADn. And a fuse portion 103 composed of fuses FUSE1 to FUSEn for connecting the test pad and the input buffer circuit. After completion of the inspection before shipment of the semiconductor device, immediately before shipment, the fuses FUSE1 to FUSEn are cut and cut by a device such as a laser trimmer. As a result, access other than using normal means can be prohibited, so in the subsequent customer process and user use, important information written in the non-volatile memory from tampering and counterfeiting by third parties. Safeguard information.

以上のような構成と手法をとることにより、重要情報を書き込んだ不揮発性メモリへのアクセス、データの変更や、プログラムを制御するROMへのアクセスは通常の手段以外へのアクセスはできなくなり、違法なプログラムの改竄や重要情報のモニターを防止する対策がとられている。(例えば、特許文献1参照)
特開平10−197600号公報(図1)
By adopting the configuration and method as described above, access to the non-volatile memory in which important information is written, data modification, and access to the ROM that controls the program cannot be accessed except for normal means. Measures are taken to prevent tampering with important programs and monitoring important information. (For example, see Patent Document 1)
JP-A-10-197600 (FIG. 1)

しかしながら、上記記載のような回路構成とした場合、重要とされる不揮発性メモリ等のデータ量が増加するにつれ、検査専用の端子は多数存在することとなる。また、全てのテストパッドに対して、多数のヒューズをパッド近傍に配置した場合、ヒューズ素子を分散して多数配置することと、配置するヒューズ素子に関連するレイアウト的な制約から、LSIのチップ面積が大きくなる課題が発生する。   However, in the case of the circuit configuration as described above, as the amount of data in the nonvolatile memory or the like which is important increases, there are a large number of terminals dedicated for inspection. In addition, when a large number of fuses are arranged in the vicinity of all the test pads, the LSI chip area is distributed due to the large number of fuse elements distributed and layout restrictions related to the arranged fuse elements. The problem that becomes large occurs.

したがって、本発明の目的は、チップ面積の増大を抑制しつつセキュリティ確保するという、相反する2つの課題を解決する半導体集積回路および半導体装置を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit and a semiconductor device that solve two conflicting problems of ensuring security while suppressing an increase in chip area.

上記課題を解決するために、本発明の請求項1記載の半導体集積回路は、検査用に設けられたテストパッド部と、テストパッド部から入力される信号を所定レベルに変換する入力バッファ回路部と、テストパッド部と入力バッファ回路部とを電気的に接続し、スイッチ回路を有するトランスファー回路部と、物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、スイッチ回路の活性もしくは不活性状態を制御可能とした制御回路とを備えた。   In order to solve the above problems, a semiconductor integrated circuit according to claim 1 of the present invention includes a test pad section provided for inspection, and an input buffer circuit section for converting a signal input from the test pad section to a predetermined level. In addition, the test pad unit and the input buffer circuit unit are electrically connected, and the activation or deactivation state of the switch circuit can be controlled according to the connection state or disconnection state of the transfer circuit unit having the switch circuit and the physical fuse. And a control circuit.

請求項2記載の半導体集積回路は、請求項1記載の半導体集積回路において、スイッチ回路は、CMOSスイッチ回路である。   According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the switch circuit is a CMOS switch circuit.

請求項3記載の半導体集積回路は、請求項2記載の半導体集積回路において、制御回路は、予め接続された少なくとも一つの物理ヒューズと予め切断された少なくとも一つの物理ヒューズとを有し、複数個搭載された物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、CMOSスイッチ回路の活性もしくは不活性状態を制御可能とした。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the semiconductor integrated circuit according to the second aspect, wherein the control circuit has at least one physical fuse connected in advance and at least one physical fuse cut in advance. The active or inactive state of the CMOS switch circuit can be controlled according to the connection or disconnection state of the mounted physical fuse.

請求項4記載の半導体集積回路は、請求項3記載の半導体集積回路において、予め切断されたヒューズは、検査終了後において予め接続されたヒューズと同様の切断跡が付けられている。   According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the third aspect, the pre-cut fuse is marked with the same cut mark as the pre-connected fuse after the inspection is completed.

請求項5記載の半導体集積回路は、請求項2記載の半導体集積回路において、制御回路は、物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、“H”もしくは“L”レベルを出力する入力制御回路と、データを保存する不揮発性メモリと、不揮発性メモリのデータをラッチするためのラッチ回路と、入力制御回路の出力信号とラッチ回路にて保持されるラッチデータとを比較し、その比較結果の出力信号の状態に応じて、CMOSスイッチ回路の活性もしくは非活性状態を制御可能とした比較回路とを備えた。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor integrated circuit according to the second aspect, wherein the control circuit includes an input control circuit that outputs an “H” or “L” level in accordance with a connected or disconnected state of the physical fuse. , A non-volatile memory for storing data, a latch circuit for latching data in the non-volatile memory, an output signal of the input control circuit and the latch data held by the latch circuit, and output of the comparison result And a comparison circuit capable of controlling the active or inactive state of the CMOS switch circuit in accordance with the signal state.

請求項6記載の半導体装置は、請求項1,2,3,4または5記載の半導体集積回路を搭載した。   A semiconductor device according to a sixth aspect includes the semiconductor integrated circuit according to the first, second, third, fourth or fifth aspect.

本発明の請求項1記載の半導体集積回路によれば、物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、スイッチ回路の活性もしくは不活性状態を制御可能とした制御回路を備えているので、出荷の直前に、搭載された物理ヒューズを切断し、テストパッドを非活性状態とすることにより、通常の手段を用いたアクセスのみ許可し、それ以外のテストパッド部からの入力を禁止できる。このため、従来回路のようなテストパッド増加に比例したヒューズ数の増加に比べて、必要ヒューズ数を最小限に抑え、レイアウト面積の増加を抑制でき、かつ、出荷の際の物理ヒューズ切断によりセキュリティを確保できる。   According to the semiconductor integrated circuit of the first aspect of the present invention, since the control circuit that can control the active or inactive state of the switch circuit according to the connection or disconnection state of the physical fuse is provided, In addition, by cutting the mounted physical fuse and deactivating the test pad, only access using normal means can be permitted, and input from other test pad portions can be prohibited. Therefore, compared to the increase in the number of fuses in proportion to the increase in test pads as in the conventional circuit, the number of required fuses can be minimized, the increase in layout area can be suppressed, and security can be achieved by cutting physical fuses at the time of shipment. Can be secured.

請求項2では、スイッチ回路は、CMOSスイッチ回路であることが好ましい。この場合、入力バッファ回路部は、テストパッド部から入力される信号レベルを直接入力バッファに印加でき、入力バッファ回路の入力状態が確認できる。すなわち、CMOSスイッチ回路と抵抗素子を用いることでパッドが電気的に切り離されたか否かを直接的に確認が出来るというメリットがある。   In the present invention, the switch circuit is preferably a CMOS switch circuit. In this case, the input buffer circuit unit can directly apply the signal level input from the test pad unit to the input buffer, and the input state of the input buffer circuit can be confirmed. That is, there is an advantage that it is possible to directly confirm whether or not the pad is electrically separated by using the CMOS switch circuit and the resistance element.

本発明の請求項3記載の半導体集積回路によれば、制御回路は、予め接続された少なくとも一つの物理ヒューズと予め切断された少なくとも一つの物理ヒューズとを有し、複数個搭載された物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、CMOSスイッチ回路の活性もしくは不活性状態を制御可能としたので、請求項1と同様に必要ヒューズ数を最小限に抑え、レイアウト面積の増加を抑制でき、かつ、セキュリティを確保できる。また、ヒューズ切断後は、所定の通りに復元しなければ、再び、テストパッドを使用することができない為、セキュリティ機能が更に向上する。   According to another aspect of the semiconductor integrated circuit of the present invention, the control circuit has at least one physical fuse connected in advance and at least one physical fuse cut in advance, and a plurality of mounted physical fuses. Since the active or inactive state of the CMOS switch circuit can be controlled in accordance with the connection or disconnection state, the number of necessary fuses can be minimized as in the case of claim 1, the increase in layout area can be suppressed, and Security can be secured. Also, after the fuse is cut, the security function is further improved because the test pad cannot be used again unless it is restored as prescribed.

請求項4では、予め切断されたヒューズは、検査終了後において予め接続されたヒューズと同様の切断跡が付けられているので、製品出荷時には予め切断されたヒューズと予め接続されたヒューズとの差がわからないようになり、セキュリティ機能が更に向上する。   In claim 4, since the pre-cut fuse is marked with the same cut mark as the pre-connected fuse after the inspection is completed, the difference between the pre-cut fuse and the pre-connected fuse at the time of product shipment It becomes difficult to understand, and the security function is further improved.

本発明の請求項5記載の半導体集積回路によれば、制御回路は、物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、“H”もしくは“L”レベルを出力する入力制御回路と、データを保存する不揮発性メモリと、不揮発性メモリのデータをラッチするためのラッチ回路と、入力制御回路の出力信号とラッチ回路にて保持されるラッチデータとを比較し、その比較結果の出力信号の状態に応じて、CMOSスイッチ回路の活性もしくは非活性状態を制御可能とした比較回路とを備えているので、比較結果の出力信号の状態に応じて、CMOSトランスファー回路部の活性もしくは非活性状態を制御し、搭載されたヒューズの切断はもちろんのこと、不揮発性メモリに保存する比較対象のデータを、各LSI毎に設定を変更することが可能である。このため、請求項1と同様に必要ヒューズ数を最小限に抑え、レイアウト面積の増加を抑制でき、かつ、セキュリティを確保できる。また、ヒューズ切断後は、所定の通りに復元しなければならないことに加えて、物理的に解読できないデータとの比較を行うことで、内部の回路を物理的に解読するという手法に対して対応できることと、各LSI毎に個別に設定できることで、セキュリティ機能が更に向上する。   According to the semiconductor integrated circuit of the fifth aspect of the present invention, the control circuit stores the data and the input control circuit that outputs the “H” or “L” level according to the connection or disconnection state of the physical fuse. Nonvolatile memory, latch circuit for latching data in nonvolatile memory, output signal of input control circuit and latch data held in latch circuit are compared, and according to the state of output signal of comparison result And a comparison circuit capable of controlling the active or inactive state of the CMOS switch circuit, so that the active or inactive state of the CMOS transfer circuit unit is controlled according to the state of the output signal of the comparison result, The setting of the comparison target data stored in the nonvolatile memory can be changed for each LSI as well as the mounted fuse is cut. For this reason, the number of necessary fuses can be minimized, the layout area can be prevented from increasing, and security can be ensured as in the first aspect. Also, after the fuse is blown, it must be restored as specified, and it also supports the method of physically decoding the internal circuit by comparing with data that cannot be physically decoded. The security function is further improved by being able to do this and setting each LSI individually.

本発明の請求項6記載の半導体装置によれば、請求項1,2,3,4または5記載の半導体集積回路を搭載したので、従来回路のようなテストパッド増加に比例したヒューズ数の増加に比べて、必要ヒューズ数を最小限に抑え、レイアウト面積の増加を抑制でき、かつ、セキュリティを確保できる。   According to the semiconductor device of the sixth aspect of the present invention, since the semiconductor integrated circuit according to the first, second, third, fourth or fifth aspect is mounted, the increase in the number of fuses in proportion to the increase in the number of test pads as in the conventional circuit. In comparison with the above, the number of necessary fuses can be minimized, the increase in layout area can be suppressed, and security can be ensured.

(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態を図1に基づいて説明する。
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図1に本発明の第1の実施形態に関する回路図を示す。   FIG. 1 shows a circuit diagram relating to a first embodiment of the present invention.

図1に示すように、第1の実施形態は、検査用に設けられたテストパッドTPAD1〜TPADnで構成されるテストパッド部1と、テストパッド部1から入力される信号を所定レベルに変換するBUFA1〜BUFAnで構成される入力バッファ回路部2と、テストパッド部1と入力バッファ回路部2を電気的に接続し、CMOSスイッチSW1〜SWnで構成されたCMOSトランスファー回路部3と、CMOSトランスファー回路部3を構成するSW1〜SWnの活性もしくは非活性の状態を一括して制御する入力制御回路4とで構成されている。   As shown in FIG. 1, in the first embodiment, a test pad unit 1 composed of test pads TPAD1 to TPADn provided for inspection and a signal input from the test pad unit 1 are converted to a predetermined level. Input buffer circuit unit 2 composed of BUFA1 to BUFAn, test pad unit 1 and input buffer circuit unit 2 are electrically connected, CMOS transfer circuit unit 3 composed of CMOS switches SW1 to SWn, and CMOS transfer circuit The input control circuit 4 collectively controls the active or inactive states of SW1 to SWn constituting the unit 3.

テストパッド部1はテストパッドTPAD1〜TPADnにより構成されている。   The test pad unit 1 is composed of test pads TPAD1 to TPADn.

入力バッファ回路部2は入力バッファ回路BUFA1〜BUFAnにより構成され、テストパッド1から入力される信号をCMOSレベルに変換する。入力バッファ回路BUFA1の一例を、図1の入力バッファ回路BUFA1に記載した回路構成をもとに説明する。入力バッファ回路BUFA1は、高抵抗素子41とインバータ42により構成されており、高抵抗素子41は一方が入力ノードとインバータ42にもう一方がグランド端子VSSに接続されている。   The input buffer circuit unit 2 includes input buffer circuits BUFA1 to BUFAn, and converts a signal input from the test pad 1 to a CMOS level. An example of the input buffer circuit BUFA1 will be described based on the circuit configuration described in the input buffer circuit BUFA1 in FIG. The input buffer circuit BUFA1 includes a high resistance element 41 and an inverter 42. One of the high resistance elements 41 is connected to the input node and the inverter 42, and the other is connected to the ground terminal VSS.

上記では、抵抗素子41が入力ノードとグランド端子VSSの間に挿入した例で説明したが、抵抗素子41が入力ノードと電源端子VDDとの間に挿入された構成であっても同様の機能を有する。   In the above description, the example in which the resistance element 41 is inserted between the input node and the ground terminal VSS has been described. However, the same function can be achieved even when the resistance element 41 is inserted between the input node and the power supply terminal VDD. Have.

CMOSトランスファー回路部3は、CMOSスイッチ回路SW1〜SWnにて構成されている。CMOSスイッチ回路SW1の一例を、図1のSW1に記載した回路構成をもとに説明する。CMOSスイッチSW1は、Nチャネルトランジスタ11とPチャネルトランジスタ12とインバータ13により構成されている。Nチャネルトランジスタ11はゲート端子が入力制御回路4の出力信号であるVCONT10に接続され、ソース端子がテスト端子TPAD1にドレイン端子が入力バッファ回路BUFA1の入力端子に接続されている。Pチャネルトランジスタ12はゲート端子がインバータ13の出力信号に接続され、ソース端子がテスト端子TPAD1にドレイン端子が入力バッファ回路BUFA1の入力端子に接続されている。インバータ13は入力端子が前記VCONT10に接続され、出力端子がPチャネルトランジスタ12のゲート端子に接続されている。   The CMOS transfer circuit unit 3 includes CMOS switch circuits SW1 to SWn. An example of the CMOS switch circuit SW1 will be described based on the circuit configuration described in SW1 of FIG. The CMOS switch SW1 includes an N channel transistor 11, a P channel transistor 12, and an inverter 13. The N-channel transistor 11 has a gate terminal connected to VCONT10 that is an output signal of the input control circuit 4, a source terminal connected to the test terminal TPAD1, and a drain terminal connected to the input terminal of the input buffer circuit BUFA1. The P-channel transistor 12 has a gate terminal connected to the output signal of the inverter 13, a source terminal connected to the test terminal TPAD1, and a drain terminal connected to the input terminal of the input buffer circuit BUFA1. The inverter 13 has an input terminal connected to the VCONT 10 and an output terminal connected to the gate terminal of the P-channel transistor 12.

入力制御回路4は、物理ヒューズ21の接続もしくは切断状態に応じて、CMOSスイッチ回路SW1〜SWnの活性もしくは不活性状態を制御可能とする。この場合、Pチャネルトランジスタ22はソース端子が電源端子VDDに、ゲート端子がVBIAS端子に、ドレイン端子がインバータ31の入力とヒューズ21の一方に接続されている。ヒューズ21は一方の端子がVSS端子にもう一方の端子がインバータ31の入力とPチャネルトランジスタ22のドレイン端子に接続されている。インバータ31は入力端子がPチャネルトランジスタ22のドレイン端子とヒューズ21の一方の端子に接続され、出力端子がインバータ32の入力端子に接続されている。インバータ32は入力端子がインバータ31の出力端子に接続され、出力端子がインバータ33の入力端子に接続されている。インバータ33は入力端子がインバータ32の出力端子に接続され、出力端子がCMOSトランスファー回路部3の制御信号VCONT10として使用されている。   The input control circuit 4 makes it possible to control the active or inactive state of the CMOS switch circuits SW1 to SWn according to the connection or disconnection state of the physical fuse 21. In this case, the P-channel transistor 22 has a source terminal connected to the power supply terminal VDD, a gate terminal connected to the VBIAS terminal, and a drain terminal connected to the input of the inverter 31 and one of the fuses 21. The fuse 21 has one terminal connected to the VSS terminal and the other terminal connected to the input of the inverter 31 and the drain terminal of the P-channel transistor 22. The inverter 31 has an input terminal connected to the drain terminal of the P-channel transistor 22 and one terminal of the fuse 21, and an output terminal connected to the input terminal of the inverter 32. The inverter 32 has an input terminal connected to the output terminal of the inverter 31, and an output terminal connected to the input terminal of the inverter 33. The inverter 33 has an input terminal connected to the output terminal of the inverter 32, and an output terminal used as the control signal VCONT 10 of the CMOS transfer circuit unit 3.

VBIASの電位は、Pチャネルトランジスタ22のしきい値電圧VtをVtpとした場合、VDD−Vtpより若干低い電位でコントロールされるように制御されており、トランジスタ22を介してVDDからインバータ回路31の入力端子に電流が流れ込む。Pチャネルトランジスタ22での等価抵抗は、物理ヒューズ21の抵抗値より大きく設定されている。   The potential of VBIAS is controlled to be controlled at a potential slightly lower than VDD−Vtp when the threshold voltage Vt of the P-channel transistor 22 is Vtp. The potential of VBIAS is controlled from VDD through the transistor 22 to the inverter circuit 31. Current flows into the input terminal. The equivalent resistance in the P-channel transistor 22 is set larger than the resistance value of the physical fuse 21.

物理ヒューズ21が接続されたままの初期状態においては、上記Pチャネルトランジスタ22の等価抵抗と物理ヒューズ21の抵抗値の関係より、インバータ回路31のゲート電位は“L”電位となり、CMOSスイッチコントロール信号VCONT10は“H”電位状態となりCMOSスイッチ回路は活性化状態となる。この場合テストパッド部1と入力バッファ回路部2と電気的に接続された状態であり、テストパッド部1を用いて検査を行うことが可能となる。   In the initial state where the physical fuse 21 remains connected, the gate potential of the inverter circuit 31 becomes “L” potential due to the relationship between the equivalent resistance of the P-channel transistor 22 and the resistance value of the physical fuse 21, and the CMOS switch control signal VCONT 10 is in the “H” potential state, and the CMOS switch circuit is activated. In this case, the test pad unit 1 and the input buffer circuit unit 2 are electrically connected, and the test pad unit 1 can be used for inspection.

また、出荷の際に物理ヒューズ21を切断することにより、インバータ回路31の入力端子は、VDDからの電流供給源のみ接続されることとなる。この場合、インバータ回路31のゲート電位は“H”電位となり、CMOSスイッチコントロール信号VCONT10は“L”電位状態となり、CMOSスイッチ回路は非活性化状態となる。テストパッド部1と入力バッファ回路部2と電気的に切断され、テストパッドからの制御が無効となる。   Further, by cutting the physical fuse 21 at the time of shipment, the input terminal of the inverter circuit 31 is connected only to the current supply source from VDD. In this case, the gate potential of the inverter circuit 31 becomes “H” potential, the CMOS switch control signal VCONT10 becomes “L” potential state, and the CMOS switch circuit becomes inactive. The test pad unit 1 and the input buffer circuit unit 2 are electrically disconnected, and control from the test pad becomes invalid.

また、本回路構成により、物理ヒューズ21が接続されたままの初期状態においては、テストパッドTPAD1に一定以上の電圧を印加することで、Pチャネルトランジスタ12、Nチャネルトランジスタ11と高抵抗素子41を通じて電流が流れる。出荷の際に物理ヒューズを切断した場合は、テストパッドTPAD1に一定以上の電圧を印加しても、電気的に切断されていることで、電流が発生しない為、出荷の際に電気的に切断されているかを容易に確認できる。   Further, according to this circuit configuration, in the initial state where the physical fuse 21 is connected, a voltage of a certain level or higher is applied to the test pad TPAD 1, thereby allowing the P-channel transistor 12, the N-channel transistor 11, and the high-resistance element 41 to pass Current flows. If the physical fuse is cut at the time of shipment, even if a voltage exceeding a certain level is applied to the test pad TPAD1, no current is generated because it is cut off electrically. You can easily check if it is done.

本実施形態では説明の簡略化のため、検査用端子数を絞って説明したが、検査端子数が増加すればするほど、LSIのチップ面積抑制効果が増加する。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態を図2〜図4に基づいて説明する。図1と同じ構成には同じ符号を付す。
In the present embodiment, for the sake of simplicity of explanation, the number of inspection terminals has been narrowed down. However, as the number of inspection terminals increases, the LSI chip area suppression effect increases.
(Second Embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same components as those in FIG.

図2に本発明の第2の実施形態に関する回路図を示す。   FIG. 2 shows a circuit diagram relating to the second embodiment of the present invention.

図2に示すように、第2の実施形態は、TPAD1〜TPADnで構成されるテストパッド部1と、BUFA1〜BUFAnで構成される入力バッファ回路部2と、テストパッド部1と入力バッファ回路部2を電気的に接続するSW1〜SWnで構成されたCMOSトランスファー回路部3と、CMOSトランスファー回路部3を構成するSW1〜SWnの活性もしくは非活性の状態を一括して制御する制御回路5で構成されている。制御回路5以外は実施形態1と同等の構成である為に、詳細な説明を割愛する。   As shown in FIG. 2, in the second embodiment, the test pad unit 1 composed of TPAD1 to TPADn, the input buffer circuit unit 2 composed of BUFA1 to BUFAn, the test pad unit 1 and the input buffer circuit unit 2 includes a CMOS transfer circuit unit 3 composed of SW1 to SWn that electrically connects 2 and a control circuit 5 that collectively controls the active or inactive states of SW1 to SWn that constitute the CMOS transfer circuit unit 3. Has been. Since the configuration other than the control circuit 5 is the same as that of the first embodiment, a detailed description is omitted.

制御回路5の一例を図3に示す。   An example of the control circuit 5 is shown in FIG.

制御回路5は、入力制御回路4と、入力制御回路6と、入力制御回路4の出力信号GCONT31と入力制御回路6の出力信号GCONT32を入力信号として制御信号VCONT20を出力するAND回路63とで構成される。入力制御回路4は実施形態1で説明している為、詳細な説明は割愛する。   The control circuit 5 includes an input control circuit 4, an input control circuit 6, and an AND circuit 63 that outputs a control signal VCONT20 using the output signal GCONT31 of the input control circuit 4 and the output signal GCONT32 of the input control circuit 6 as input signals. Is done. Since the input control circuit 4 has been described in the first embodiment, a detailed description thereof will be omitted.

入力制御回路6に関して図3を用いて説明する。入力制御回路6は、Pチャネルトランジスタ50と、あらかじめ切断された電気ヒューズ51と、インバータ61,62により構成される。Pチャネルトランジスタ50はソース端子が電源端子VDDに、ゲート端子がVBIAS端子に、ドレイン端子がインバータ61の入力とヒューズ51の一方に接続されている。   The input control circuit 6 will be described with reference to FIG. The input control circuit 6 includes a P-channel transistor 50, an electrical fuse 51 cut in advance, and inverters 61 and 62. The P-channel transistor 50 has a source terminal connected to the power supply terminal VDD, a gate terminal connected to the VBIAS terminal, and a drain terminal connected to the input of the inverter 61 and one of the fuses 51.

ヒューズ51は一方の端子がVSS端子にもう一方の端子がインバータ61の入力とPチャネルトランジスタ50のドレイン端子に接続されている。インバータ61は入力端子がPチャネルトランジスタ50のドレイン端子とヒューズ51の一方の端子に接続され、出力端子がインバータ62の入力端子に接続されている。インバータ62は入力端子がインバータ61の出力端子に接続され、出力端子が制御信号GCONT32となっている。   The fuse 51 has one terminal connected to the VSS terminal and the other terminal connected to the input of the inverter 61 and the drain terminal of the P-channel transistor 50. The inverter 61 has an input terminal connected to the drain terminal of the P-channel transistor 50 and one terminal of the fuse 51, and an output terminal connected to the input terminal of the inverter 62. The inverter 62 has an input terminal connected to the output terminal of the inverter 61, and an output terminal serving as a control signal GCONT32.

VBIASの電位は、実施形態1での説明と同様に、Pチャネルトランジスタ22のしきい値電圧VtをVtpとした場合、VDD−Vtpより若干低い電位でコントロールされるように制御されており、トランジスタ22を介してVDDからインバータ回路31の入力端子に電流が流れ込む。   Similarly to the description in the first embodiment, the potential of VBIAS is controlled to be controlled at a potential slightly lower than VDD−Vtp when the threshold voltage Vt of the P-channel transistor 22 is Vtp. A current flows from VDD to the input terminal of the inverter circuit 31 via 22.

入力制御回路6においては物理ヒューズ51があらかじめ切断されているので、インバータ回路61のゲート電位は“H”電位となり、制御信号GCONT32は“H”電位状態となる。   In the input control circuit 6, since the physical fuse 51 is cut in advance, the gate potential of the inverter circuit 61 becomes "H" potential, and the control signal GCONT32 becomes "H" potential state.

物理ヒューズ21が接続されたままの初期状態においては、制御信号GCONT31は“H”電位となり、制御信号GCONT32も“H”電位である。従って、VCONT20も“H”電位状態となりCMOSスイッチ回路は活性化状態となる。この場合テストパッド部1と入力バッファ回路部2と電気的に接続された状態であり、テストパッド部1を用いて検査を行うことが可能となる。   In an initial state where the physical fuse 21 remains connected, the control signal GCONT 31 is at “H” potential, and the control signal GCONT 32 is also at “H” potential. Therefore, VCONT 20 is also in the “H” potential state, and the CMOS switch circuit is activated. In this case, the test pad unit 1 and the input buffer circuit unit 2 are electrically connected, and the test pad unit 1 can be used for inspection.

また、出荷の際に物理ヒューズ21を切断することにより、制御信号GCONT31は“L”電位となり、VCONT20も“L”電位状態となりテストパッド部1と入力バッファ回路部2と電気的に切断され、テストパッドからの制御が無効となる。   Further, by cutting the physical fuse 21 at the time of shipment, the control signal GCONT 31 becomes “L” potential, the VCONT 20 also becomes “L” potential state, and the test pad unit 1 and the input buffer circuit unit 2 are electrically disconnected, Control from the test pad is disabled.

また、出荷の際においては、あらかじめ接続されたヒューズ21との差がわからないように、ヒューズ21のみならず、ヒューズ51に対しても、レーザートリマ等で切断跡を付ける。   At the time of shipment, not only the fuse 21 but also the fuse 51 is marked with a laser trimmer so that a difference from the previously connected fuse 21 is not known.

なお、上記のようにヒューズ51に対しても、ヒューズ21と同様に切断跡をつける為、レーザー装置の切断跡よりあらかじめ切断したヒューズの切断幅は狭く設定することがセキュリティ確保の為に有効である。   As described above, the fuse 51 is also marked with a cut as in the case of the fuse 21. Therefore, it is effective for ensuring security that the cut width of the fuse cut in advance is narrower than the cut mark of the laser device. is there.

第三者が改竄を行う際には、物理ヒューズを正しく復元しなければならず、例えば、ヒューズ51を再接続した場合は、制御信号GCONT32は“L”電位状態となるため、CMOSトランスファー回路部3を制御する制御信号VCONT20は“L”電位状態となる。テストパッド部1は非活性状態である為、第三者からの改竄等を防止、抑制効果がある。   When a third party performs tampering, the physical fuse must be correctly restored. For example, when the fuse 51 is reconnected, the control signal GCONT 32 is in the “L” potential state, so the CMOS transfer circuit unit 3 is in the “L” potential state. Since the test pad unit 1 is in an inactive state, there is an effect of preventing or suppressing falsification from a third party.

また、本実施形態では、説明の簡略化の為、あらかじめ接続されたヒューズを用いる入力制御回路4を1個とあらかじめ切断されたヒューズを用いる入力制御回路6を1個を組み合わせて、それぞれの入力制御回路の出力制御信号のAND論理をとり、CMOSスイッチ回路を制御する構成にて説明したが、図4に示すように、搭載する入力制御回路4と入力制御回路6の搭載個数を増加させることや、実際にヒューズ素子をレイアウトする際に、配置をランダムにすることで、セキュリティ機能が向上することは言うまでもない。
(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態を図5〜図7に基づいて説明する。図1と同じ構成には同じ符号を付す。
Further, in this embodiment, for the sake of simplification of description, one input control circuit 4 using a pre-connected fuse and one input control circuit 6 using a pre-cut fuse are combined and each input is combined. As described above, the AND logic of the output control signal of the control circuit is taken to control the CMOS switch circuit. However, as shown in FIG. 4, the number of mounted input control circuits 4 and input control circuits 6 is increased. Needless to say, when the fuse elements are actually laid out, the security function is improved by random arrangement.
(Third embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same components as those in FIG.

図5に本発明の第3の実施形態に関するCMOSトランスファー回路部3を制御する制御回路の一例を示す。   FIG. 5 shows an example of a control circuit for controlling the CMOS transfer circuit unit 3 according to the third embodiment of the present invention.

図5に示すように、制御回路は、入力制御回路4と、EEPROMやFeRAMに代表される不揮発性メモリ81と、前記不揮発性メモリ81のデータをラッチするラッチ回路82と、比較回路83とで構成される。   As shown in FIG. 5, the control circuit includes an input control circuit 4, a nonvolatile memory 81 typified by EEPROM and FeRAM, a latch circuit 82 that latches data in the nonvolatile memory 81, and a comparison circuit 83. Composed.

不揮発性メモリ81のデータをラッチ回路82にデータをラッチする。ラッチされたデータの出力信号GCONT52と入力制御回路4の出力信号GCONT51を比較回路83に入力し、2つの信号の状態を比較してCMOSトランスファー回路部3の制御信号となるVCONT20に出力する。   Data in the nonvolatile memory 81 is latched in the latch circuit 82. The latched data output signal GCONT52 and the output signal GCONT51 of the input control circuit 4 are input to the comparison circuit 83, and the states of the two signals are compared and output to the VCONT20 which is the control signal of the CMOS transfer circuit unit 3.

物理ヒューズ21が接続されたままの初期状態においては、制御信号GCONT51は“H”電位となり、ラッチ回路のデータ出力も“H”電位となるように、不揮発性メモリを制御しておく。この状態においては、比較回路83の出力信号VCONT20も“H”電位状態となりCMOSスイッチ回路は活性化状態となる。この場合テストパッド部1と入力バッファ回路部2と電気的に接続された状態であり、テストパッド部1を用いて検査を行うことが可能となる。   In the initial state with the physical fuse 21 connected, the nonvolatile memory is controlled so that the control signal GCONT 51 is at “H” potential and the data output of the latch circuit is also at “H” potential. In this state, the output signal VCONT20 of the comparison circuit 83 is also in the “H” potential state, and the CMOS switch circuit is activated. In this case, the test pad unit 1 and the input buffer circuit unit 2 are electrically connected, and the test pad unit 1 can be used for inspection.

また、出荷の際に物理ヒューズ21を切断することにより、制御信号GCONT51は“L”電位となり、VCONT20も“L”電位状態となりテストパッド部1と入力バッファ回路部2と電気的に切断され、テストパッド部1からの制御が無効となる。   Further, by cutting the physical fuse 21 at the time of shipment, the control signal GCONT 51 becomes “L” potential, the VCONT 20 also becomes “L” potential state, and the test pad unit 1 and the input buffer circuit unit 2 are electrically disconnected, The control from the test pad unit 1 becomes invalid.

また出荷の際、不揮発性メモリ81のデータを変更することでも、同様に、テストパッドの非活性化が実現できる。   Also, the test pad can be deactivated by changing the data in the nonvolatile memory 81 at the time of shipment.

また、図6に示したように、入力制御回路4の代わりに入力制御回路6を用いて、出荷の際に不揮発性メモリのデータを変化させることで、同等の効果が得られることは言うまでもない。GCONT62はラッチされたデータの出力信号、GCONT61は入力制御回路6の出力信号である。   Further, as shown in FIG. 6, it is needless to say that the same effect can be obtained by using the input control circuit 6 instead of the input control circuit 4 and changing the data in the nonvolatile memory at the time of shipment. . GCONT 62 is an output signal of the latched data, and GCONT 61 is an output signal of the input control circuit 6.

また、上記実施形態においては、説明の簡略化のために、入力制御回路4を一個用いた場合の実施形態で説明を行ったが、図7に示すように、入力制御回路4と入力制御回路6を複数個用いた回路構成により、セキュリティ機能が向上することは言うまでもない。GCONT71,72は入力制御回路4の出力信号、GCONT73,74は入力制御回路6の出力信号である。   Further, in the above embodiment, for the sake of simplification of explanation, the explanation is given in the embodiment in which one input control circuit 4 is used. However, as shown in FIG. 7, the input control circuit 4 and the input control circuit are used. Needless to say, a circuit configuration using a plurality of 6 improves the security function. GCONTs 71 and 72 are output signals of the input control circuit 4, and GCONTs 73 and 74 are output signals of the input control circuit 6.

また、不揮発性メモリのデータの状態は物理解析では解読できないことと、不揮発性メモリのデータとの比較をすることで、ユーザーが任意にセキュリティコードを変更することも可能となるし、テストパッドが使用できる状態が、各LSI毎で設定可能となる為、セキュリティ機能が更に向上する。   In addition, the data state of the nonvolatile memory cannot be deciphered by physical analysis, and the user can arbitrarily change the security code by comparing with the data of the nonvolatile memory. Since the usable state can be set for each LSI, the security function is further improved.

なお、インバータの数は、上記のような制御ができれば何個でもよい。また、スイッチ回路はNANDやNORの回路構成でも、実現が可能である。ただし、CMOSスイッチ回路と抵抗素子を用いることでパッドが電気的に切り離されたか否かを直接的に確認が出来るというメリットがある。   The number of inverters may be any number as long as the above control can be performed. The switch circuit can also be realized with a NAND or NOR circuit configuration. However, there is an advantage that it is possible to directly confirm whether or not the pad is electrically separated by using the CMOS switch circuit and the resistance element.

本発明にかかる半導体集積回路は、第三者からの改竄等の対策の為、耐タンパー用ヒューズを搭載したLSIのレイアウト面積増大抑制と、さらなる耐タンパー性を向上させる機能を有し、セキュリティ機能が必須とされるICカード用半導体装置等として有用である。   The semiconductor integrated circuit according to the present invention has a function of suppressing an increase in the layout area of an LSI equipped with a tamper resistant fuse and further improving the tamper resistance as a countermeasure against tampering by a third party, and a security function. Is useful as a semiconductor device for an IC card and the like.

本発明の第1の実施形態に関する半導体装置の一部を示す回路図である。1 is a circuit diagram showing a part of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に関する半導体装置の一部を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows a part of semiconductor device regarding the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に関する入力制御回路の第一例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the 1st example of the input control circuit regarding the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に関する入力制御回路の第二例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the 2nd example of the input control circuit regarding the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に関する入力制御回路の第一例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the 1st example of the input control circuit regarding the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に関する入力制御回路の第二例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the 2nd example of the input control circuit regarding the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に関する入力制御回路の第三例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the 3rd example of the input control circuit regarding the 3rd Embodiment of this invention. 従来の技術に関する回路図である。It is a circuit diagram regarding the prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1 テストパッド部
2,102 入力バッファ回路部
3 CMOSトランスファー回路部
4,5,6 入力制御回路
11 Nチャネルトランジスタ
12,22,50 Pチャネルトランジスタ
13,31,32,33,42 インバータ
21 物理ヒューズ
41 抵抗素子
51 あらかじめ切断された物理ヒューズ
63,71 AND回路
81 不揮発性メモリ
82 ラッチ回路
83,84 比較回路
103 ヒューズ部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Test pad part 2,102 Input buffer circuit part 3 CMOS transfer circuit part 4,5,6 Input control circuit 11 N channel transistor 12, 22, 50 P channel transistor 13, 31, 32, 33, 42 Inverter 21 Physical fuse 41 Resistance element 51 Physical fuses 63 and 71 previously cut AND circuit 81 Non-volatile memory 82 Latch circuits 83 and 84 Comparison circuit 103 Fuse part

Claims (6)

検査用に設けられたテストパッド部と、
前記テストパッド部から入力される信号を所定レベルに変換する入力バッファ回路部と、
前記テストパッド部と入力バッファ回路部とを電気的に接続し、スイッチ回路を有するトランスファー回路部と、
物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、前記スイッチ回路の活性もしくは不活性状態を制御可能とした制御回路とを備えた半導体集積回路。
A test pad provided for inspection;
An input buffer circuit unit for converting a signal input from the test pad unit to a predetermined level;
A transfer circuit unit electrically connecting the test pad unit and the input buffer circuit unit and having a switch circuit;
A semiconductor integrated circuit comprising: a control circuit capable of controlling an active state or an inactive state of the switch circuit according to a connection or disconnection state of a physical fuse.
前記スイッチ回路は、CMOSスイッチ回路である請求項1記載の半導体集積回路。   The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the switch circuit is a CMOS switch circuit. 前記制御回路は、予め接続された少なくとも一つの物理ヒューズと予め切断された少なくとも一つの物理ヒューズとを有し、複数個搭載された前記物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、前記CMOSスイッチ回路の活性もしくは不活性状態を制御可能とした請求項2記載の半導体集積回路。   The control circuit has at least one physical fuse connected in advance and at least one physical fuse cut in advance, and the CMOS switch circuit according to the connection or disconnection state of the plurality of mounted physical fuses The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the active or inactive state of said semiconductor device can be controlled. 予め切断されたヒューズは、検査終了後において予め接続されたヒューズと同様の切断跡が付けられている請求項3記載の半導体集積回路。   4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein the pre-cut fuse has a cut mark similar to that of the pre-connected fuse after completion of the inspection. 制御回路は、物理ヒューズの接続もしくは切断状態に応じて、“H”もしくは“L”レベルを出力する入力制御回路と、データを保存する不揮発性メモリと、前記不揮発性メモリのデータをラッチするためのラッチ回路と、前記入力制御回路の出力信号と前記ラッチ回路にて保持されるラッチデータとを比較し、その比較結果の出力信号の状態に応じて、前記CMOSスイッチ回路の活性もしくは非活性状態を制御可能とした比較回路とを備えた請求項2記載の半導体集積回路。   The control circuit latches the data stored in the nonvolatile memory, the input control circuit that outputs “H” or “L” level, the nonvolatile memory that stores the data, depending on the connection or disconnection state of the physical fuse And the latch signal held by the latch circuit, and the CMOS switch circuit is activated or deactivated according to the state of the output signal of the comparison result. A semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising a comparison circuit that can control the circuit. 請求項1,2,3,4または5記載の半導体集積回路を搭載した半導体装置。   6. A semiconductor device on which the semiconductor integrated circuit according to claim 1, 2, 3, 4, or 5 is mounted.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009077342A (en) * 2007-09-25 2009-04-09 Epson Toyocom Corp Compensation voltage circuit and temperature compensated piezoelectric oscillator
JP2009238811A (en) * 2008-03-26 2009-10-15 Nec Electronics Corp System and method of fabricating semiconductor device, and semiconductor device
JP2009267887A (en) * 2008-04-26 2009-11-12 Kyocera Kinseki Corp Temperature compensation type crystal oscillator
JP2013199124A (en) * 2011-02-15 2013-10-03 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Device and method for detecting abnormal condition of ink jet printer head
JP2017059797A (en) * 2015-09-18 2017-03-23 東芝情報システム株式会社 Semiconductor device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009077342A (en) * 2007-09-25 2009-04-09 Epson Toyocom Corp Compensation voltage circuit and temperature compensated piezoelectric oscillator
JP2009238811A (en) * 2008-03-26 2009-10-15 Nec Electronics Corp System and method of fabricating semiconductor device, and semiconductor device
JP2009267887A (en) * 2008-04-26 2009-11-12 Kyocera Kinseki Corp Temperature compensation type crystal oscillator
JP2013199124A (en) * 2011-02-15 2013-10-03 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Device and method for detecting abnormal condition of ink jet printer head
US8894178B2 (en) 2011-02-15 2014-11-25 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Error detection apparatus of inkjet printer head and error detection method thereof
JP2017059797A (en) * 2015-09-18 2017-03-23 東芝情報システム株式会社 Semiconductor device

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