JP2007157623A - Manufacturing device of display device, manufacturing method of display device and substrate of display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing device of a display device capable of positioning with high precision between a substrate with a pattern formed to form a display part and the positioning member, and also, provide a manufacturing method capable of highly precisely positioning between the substrate and the positioning member used for the display device without having complicated processes. <P>SOLUTION: The manufacturing device 100 of a display device is to be faced a substrate 2 formed a pattern 24 to form a display part to a positioning member (mask 3), and carries out positioning between the pattern 24 and the mask 3. The substrate 2 has a light acceptance element part 21 having an output function at a predetermined position of a position relation with the pattern 24. A mask 3 includes a translucent part 32 for positioning. The manufacturing device 100 includes a light source 4 with position relation fixed with a light acceptance element part 21 or a translucent part 32, and capable of emitting light to the light acceptance element part 21 through the translucent part 32. The manufacturing device 100 includes a positioning control means (a relative position driving part 5 or a control part 8) carrying out position control between the substrate 2 and the mask 3 based on an output of the light acceptance element part 21. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、および表示装置の基板に関するものである。   The present invention relates to a display device manufacturing apparatus, a display device manufacturing method, and a display device substrate.

従来の表示装置、例えば有機ELパネルの製造工程での基板と蒸着用マスクとの位置制御方法を説明する。
一般的な有機ELパネルの製造工程では、支持基板(基板)上に下部電極を形成する工程、支持基板(基板)を洗浄する工程、絶縁膜や隔壁などを形成する工程、蒸着前処理、有機層形成工程(パターン形成工程)、上部電極を形成する工程、封止工程(貼り合わせ工程)等が順次行われる。
上述した有機層形成工程(パターン形成工程)では、蒸着前処理された支持基板(基板)を、蒸着装置(位置制御装置)内へ搬送し、蒸着用マスクを蒸着源と支持基板との間に配置し、蒸着用マスクと基板との位置決めを行った後、蒸着により有機層(パターン)を成膜する。この蒸着用マスクに形成されている開口部が、基板に成膜される有機EL素子形成領域に対応するので、基板とマスクとの間で高精度な位置調整を行う必要がある。
A position control method for a substrate and a deposition mask in a manufacturing process of a conventional display device, for example, an organic EL panel will be described.
In a general organic EL panel manufacturing process, a process of forming a lower electrode on a support substrate (substrate), a process of cleaning the support substrate (substrate), a process of forming an insulating film or a partition, pre-deposition treatment, organic A layer forming step (pattern forming step), a step of forming an upper electrode, a sealing step (bonding step), and the like are sequentially performed.
In the organic layer formation step (pattern formation step) described above, the support substrate (substrate) that has been pre-deposited is transported into a deposition apparatus (position control apparatus), and a deposition mask is placed between the deposition source and the support substrate. After arranging and positioning the evaporation mask and the substrate, an organic layer (pattern) is formed by evaporation. Since the opening formed in the vapor deposition mask corresponds to the organic EL element formation region formed on the substrate, it is necessary to adjust the position with high accuracy between the substrate and the mask.

例えば特許文献1には、位置決め機能を有する蒸着装置が開示されている。この装置は、例えば図1に示すように、透明基板(基板)101に形成されたアライメントマーク102と、蒸着用マスク(マスク)103に形成されたアライメント用開口部104とをカメラ105により撮影し、その撮影結果に基づいて基板101とマスク103との位置調整を行う。位置調整後、真空チャンバー106内にて蒸着源107から蒸発した蒸着材料109が、マスク103のパターン形成用開口部108を介して基板101上に蒸着される。   For example, Patent Document 1 discloses a vapor deposition apparatus having a positioning function. For example, as shown in FIG. 1, this apparatus captures an alignment mark 102 formed on a transparent substrate (substrate) 101 and an alignment opening 104 formed on a deposition mask (mask) 103 with a camera 105. Then, the position adjustment between the substrate 101 and the mask 103 is performed based on the photographing result. After the position adjustment, the vapor deposition material 109 evaporated from the vapor deposition source 107 in the vacuum chamber 106 is vapor deposited on the substrate 101 through the pattern forming opening 108 of the mask 103.

特開2004−183044号公報JP 2004-183044 A

しかし上述した装置では、カメラ撮影により得られた画像に基づいて位置調整を行うが、例えば支持基板側のアライメントマーク102がレジスト等により汚れている場合では、誤検出や誤認識が生じて位置調整の精度が低下する場合がある。この位置調整の精度が低いと成膜時に成膜不良が生じて、最終的な表示パネルに表示不良等が生じる虞がある。またカメラ撮影による位置調整では透明基板に限られるという問題がある。またアライメントマーク102の検出精度を高めるために、反射性の高い金属材料によりアライメントマーク102を形成する方法が知られているが、例えば基板上に絶縁膜や隔壁等をフォトリソ工程により形成した場合には、アライメントマーク102がレジスト等の汚れるために、その汚れを除去する余計な工程を要するという問題がある。また基板101が半透明性や反射性を有する材料からなる場合にも、アライメントマーク102の画像認識の精度が低下して、位置調整の精度が低下する場合がある。また高精度に位置調整を行うためにアライメントマーク102を比較的小さく形成すると、汚れによる影響を受けやすくなる。   However, in the above-described apparatus, position adjustment is performed based on an image obtained by camera shooting. For example, when the alignment mark 102 on the support substrate side is soiled with a resist or the like, misalignment occurs and misalignment occurs. Accuracy may be reduced. If the accuracy of this position adjustment is low, a film formation failure may occur during film formation, and a display failure or the like may occur on the final display panel. Further, there is a problem that the position adjustment by the camera photographing is limited to the transparent substrate. In order to increase the detection accuracy of the alignment mark 102, a method of forming the alignment mark 102 with a highly reflective metal material is known. For example, when an insulating film or a partition wall is formed on a substrate by a photolithography process. However, since the alignment mark 102 is contaminated with a resist or the like, there is a problem that an extra step for removing the dirt is required. Even when the substrate 101 is made of a material having translucency or reflectivity, the accuracy of image recognition of the alignment mark 102 may be lowered, and the accuracy of position adjustment may be lowered. In addition, if the alignment mark 102 is formed to be relatively small in order to adjust the position with high accuracy, the alignment mark 102 is easily affected by dirt.

本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、表示装置に用いられる基板と被位置合わせ部材とを高精度に位置合わせすることができる表示装置の製造装置を提供すること、煩雑な工程を行うことなく表示装置に用いられる基板と被位置合わせ部材とを高精度に位置合わせすることができる表示装置の製造方法を提供すること、不透明基板であっても被位置合わせ部材と高精度に位置合わせを行うことができること、等が本発明の目的である。   This invention makes it an example of a subject to cope with such a problem. That is, it is possible to provide a display device manufacturing apparatus capable of highly accurately aligning a substrate used in a display device and a member to be aligned, and a substrate used in the display device and a position without performing a complicated process. The present invention provides a method for manufacturing a display device capable of aligning with an alignment member with high accuracy, alignment with an alignment target member with high accuracy even for an opaque substrate, and the like. Is the purpose.

このような目的を達成するために、本発明は、以下の各独立請求項に係る構成を少なくとも具備するものである。
請求項1に記載の発明は、表示部を形成するためのパターンが形成された基板に被位置合わせ部材を対面させて、前記パターンと前記被位置合わせ部材との位置合わせを行う表示装置の製造装置であって、前記基板は、前記パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成され、前記被位置合わせ部材は、位置合わせ用の透光部を有し、前記受光素子部又は前記透光部との位置関係が固定され、前記透光部を介して前記受光素子部に光を照射可能な光源を設け、前記受光素子部の出力に基づいて、前記基板と前記被位置合わせ部材との位置制御を行う位置制御手段を有することを特徴とする。
In order to achieve such an object, the present invention comprises at least the configurations according to the following independent claims.
According to the first aspect of the present invention, there is provided a display device for aligning the pattern and the member to be aligned by causing the member to be aligned to face a substrate on which a pattern for forming a display unit is formed. The substrate is provided with a light receiving element portion having an output function at a position where a positional relationship with the pattern is defined in advance, and the member to be aligned has a light transmitting portion for alignment. Then, a positional relationship with the light receiving element part or the light transmitting part is fixed, a light source capable of irradiating light to the light receiving element part through the light transmitting part is provided, and based on the output of the light receiving element part, It has a position control means for controlling the position of the substrate and the member to be aligned.

請求項10に記載の発明は、表示部を形成するためのパターンが形成された基板に被位置合わせ部材を対面させて、前記パターンと前記被位置合わせ部材との位置合わせを行う表示装置の製造方法であって、前記基板は、前記パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成され、前記受光素子部、又は前記被位置合わせ部材に形成された位置合わせ用の透光部との位置関係が固定された光源から、前記透光部を介して前記受光素子部に光を照射する工程と、前記受光素子部の出力に基づいて、前記基板と前記被位置合わせ部材との位置制御を行う工程とを有することを特徴とする。   According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a display device for aligning the pattern and the member to be aligned by causing the member to be aligned to face a substrate on which a pattern for forming a display unit is formed. In the method, the substrate has a light receiving element portion having an output function formed at a position where a positional relationship with the pattern is defined in advance, and is formed on the light receiving element portion or the aligned member. A step of irradiating light to the light receiving element portion through the light transmitting portion from a light source whose positional relationship with the light transmitting portion for alignment is fixed, and based on the output of the light receiving element portion, the substrate and the And a step of performing position control with the member to be aligned.

請求項15に記載の発明は、表示部を形成するためのパターンが形成され、当該パターンと被位置合わせ部材とが位置合わせされる表示装置の基板であって、前記基板は、前記パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成されていることを特徴とする。   According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided a display device substrate in which a pattern for forming a display portion is formed, and the pattern and the alignment target member are aligned. A light receiving element portion having an output function is formed at a position where the positional relationship is defined in advance.

本発明の一実施形態に係る表示装置の製造装置は、表示部を形成するためのパターンが形成された基板に被位置合わせ部材を対面させて、パターンと被位置合わせ部材との位置合わせを行う。この基板には、パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成されている。また被位置合わせ部材は、位置合わせ用の透光部を有する。また光素子部又は透光部との位置関係が固定され、透光部を介して受光素子部に光を照射可能な光源が設けられている。製造装置は、受光素子部の出力に基づいて、基板と被位置合わせ部材との位置制御を行う位置制御手段を有する。
上記構成の表示装置の製造装置では、位置制御手段が受光素子部の出力に基づいて、基板と被位置合わせ部材との位置制御を行うので、表示装置の基板と被位置合わせ部材とを高精度に位置合わせすることができる。
An apparatus for manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention performs alignment between a pattern and a member to be aligned by causing the member to be aligned to face a substrate on which a pattern for forming a display unit is formed. . On this substrate, a light receiving element portion having an output function is formed at a position where the positional relationship with the pattern is defined in advance. Further, the member to be aligned has a translucent part for alignment. Further, a positional relationship with the optical element portion or the light transmitting portion is fixed, and a light source capable of irradiating light to the light receiving element portion through the light transmitting portion is provided. The manufacturing apparatus has position control means for performing position control of the substrate and the member to be aligned based on the output of the light receiving element unit.
In the display device manufacturing apparatus having the above-described configuration, the position control unit controls the position of the substrate and the member to be aligned based on the output of the light receiving element unit. Can be aligned.

本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法は、表示部を形成するためのパターンが形成された基板に被位置合わせ部材を対面させて、パターンと被位置合わせ部材との位置合わせを行う表示装置の製造方法である。基板は、パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成されている。製造方法は、受光素子部又は被位置合わせ部材に形成された位置合わせ用の透光部との位置関係が固定された光源から、透光部を介して受光素子部に光を照射する工程と、受光素子部の出力に基づいて、基板と被位置合わせ部材との位置制御を行う工程とを有する。
上記したように受光素子部の出力に基づいて、基板と被位置合わせ部材との位置制御を行うので、高精度に位置制御を行うことができる。
In the manufacturing method of the display device according to the embodiment of the present invention, the alignment member is faced to the substrate on which the pattern for forming the display portion is formed, and the pattern and the alignment member are aligned. It is a manufacturing method of a display device. In the substrate, a light receiving element portion having an output function is formed at a position where a positional relationship with the pattern is defined in advance. The manufacturing method includes irradiating light to the light receiving element portion through the light transmitting portion from a light source having a fixed positional relationship with the light transmitting element portion or the light transmitting portion for alignment formed on the member to be aligned. And a step of controlling the position of the substrate and the alignment member based on the output of the light receiving element portion.
As described above, since the position control between the substrate and the member to be aligned is performed based on the output of the light receiving element portion, the position control can be performed with high accuracy.

本発明の一実施形態に係る表示装置の基板は、表示部を形成するためのパターンが形成され、当該パターンと被位置合わせ部材とが位置合わせされる表示装置の基板である。この基板は、パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成されている。
上記構成の基板は、上記製造装置や製造方法により、前記被位置合わせ部材と高精度に位置合わせを行うことができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態を説明する。
A substrate of a display device according to an embodiment of the present invention is a substrate of a display device in which a pattern for forming a display portion is formed and the pattern and a member to be aligned are aligned. In this substrate, a light receiving element portion having an output function is formed at a position where the positional relationship with the pattern is defined in advance.
The substrate having the above configuration can be aligned with the member to be aligned with high accuracy by the manufacturing apparatus and the manufacturing method.
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

[第1実施形態]
図2は、本発明の第1実施形態に係る表示装置を製造する製造装置100を説明するための図である。本実施形態に係る製造装置を採用した蒸着装置は、基板に各種蒸着材料を蒸着するための装置であり、例えば有機ELパネルの表示装置の製造等に用いることができる。また、本発明に係る製造装置は上述した形態に限られるものではない。本発明に係る製造装置を、複数の部材間の位置合わせを行う組立装置に採用することができる。
本実施形態に係る表示装置の製造装置100は、例えば図2に示すように、基板2、マスク3、光源4、相対位置駆動部5、装置側端子部(端子部)6、蒸着源7、および制御部8を有する。
[First Embodiment]
FIG. 2 is a view for explaining the manufacturing apparatus 100 for manufacturing the display device according to the first embodiment of the present invention. The vapor deposition apparatus that employs the production apparatus according to the present embodiment is an apparatus for vapor-depositing various vapor deposition materials on a substrate, and can be used, for example, for production of a display device for an organic EL panel. The manufacturing apparatus according to the present invention is not limited to the above-described embodiment. The manufacturing apparatus according to the present invention can be employed in an assembly apparatus that performs alignment between a plurality of members.
A display device manufacturing apparatus 100 according to the present embodiment includes, as shown in FIG. 2, for example, a substrate 2, a mask 3, a light source 4, a relative position driving unit 5, a device-side terminal unit (terminal unit) 6, a vapor deposition source 7, And a control unit 8.

基板2は本発明に係る基板の一実施形態に相当する。マスク3は本発明に係る被位置合わせ部材や成膜用のマスクの一実施形態に相当する。光源4は本発明に係る光源の一実施形態に相当する。相対位置駆動部5は本発明に係る相対位置駆動手段の一実施形態に相当する。端子部6は本発明に係る装置側端子部の一実施形態に相当する。蒸着源7は本発明に係る蒸着源の一実施形態に相当する。相対位置駆動部5および制御部8は本発明に係る位置制御手段の一実施形態に相当する。制御部8は本発明に係る制御回路の一実施形態に相当する。相対位置駆動部5は本発明に係る相対位置駆動手段の一実施形態に相当する。   The substrate 2 corresponds to an embodiment of the substrate according to the present invention. The mask 3 corresponds to an embodiment of an alignment member and a film formation mask according to the present invention. The light source 4 corresponds to an embodiment of the light source according to the present invention. The relative position driving unit 5 corresponds to an embodiment of relative position driving means according to the present invention. The terminal portion 6 corresponds to an embodiment of the device side terminal portion according to the present invention. The vapor deposition source 7 corresponds to an embodiment of the vapor deposition source according to the present invention. The relative position drive unit 5 and the control unit 8 correspond to an embodiment of the position control means according to the present invention. The control unit 8 corresponds to an embodiment of a control circuit according to the present invention. The relative position driving unit 5 corresponds to an embodiment of relative position driving means according to the present invention.

本実施形態に係る基板2は、例えば被位置合わせ部材と位置合わせする表示装置に用いられる部材である。本実施形態に係る基板2は、例えば有機EL素子を形成する基板、液晶を形成する基板、PDPを形成する基板などの表示用素子を形成する基板(成膜時にマスクとの位置調整が行われる)などの表示装置(表示パネル)を構成する基板に採用することができる。
また、基板2は、カラーフィルターを形成するために顔料を転写またはパターニングされる基板や、金属配線をフォトリソグラフィなどでパターン形成する際に使用される基板(転写時や露光時にフォトマスクとの位置調整)などに採用してもよい。また基板2は、例えばCOG(Chip on Glass)などのフレキシブル基板を貼りあわせる際に使用される基板などのような位置合わせを必要とする基板や樹脂フィルムなどに採用してもよい。また基板2は、表示用素子が形成された基板と、表示用素子を保護する部材とを貼りあわせる際の基板などの各種基板に採用することができる。
The board | substrate 2 which concerns on this embodiment is a member used for the display apparatus aligned with a to-be-aligned member, for example. The substrate 2 according to this embodiment is a substrate on which display elements such as a substrate on which an organic EL element is formed, a substrate on which a liquid crystal is formed, a substrate on which a PDP is formed (position adjustment with a mask is performed during film formation). And the like can be used for a substrate constituting a display device (display panel).
In addition, the substrate 2 is a substrate on which a pigment is transferred or patterned to form a color filter, or a substrate used when patterning a metal wiring by photolithography (position with a photomask at the time of transfer or exposure). Adjustment). The substrate 2 may be employed as a substrate or a resin film that requires alignment, such as a substrate used when a flexible substrate such as COG (Chip on Glass) is bonded. In addition, the substrate 2 can be used for various substrates such as a substrate when a substrate on which a display element is formed and a member that protects the display element are bonded together.

基板2は、例えば図2に示すように、受光素子部21、基板側端子部(端子部)22、パターン形成領域23、およびパターン24を有する。
受光素子部21は本発明に係る受光素子部の一実施形態に相当する。基板側端子部(端子部)22は本発明の基板側端子部の一実施形態に相当する。パターン形成領域23は本発明に係る表示部の一実施形態に相当する。パターン24は本発明に係るパターンの一実施形態に相当する。パターン形成領域23には、本発明に係るパターン24が予め形成されている。このパターン24は、表示装置の表示部を形成するためのパターンであり、位置合わせ前に予め基板2上に形成されている。このパターン24と被位置合わせ部材とを位置合わせする。
For example, as shown in FIG. 2, the substrate 2 includes a light receiving element portion 21, a substrate-side terminal portion (terminal portion) 22, a pattern formation region 23, and a pattern 24.
The light receiving element portion 21 corresponds to an embodiment of the light receiving element portion according to the present invention. The board | substrate side terminal part (terminal part) 22 is corresponded to one Embodiment of the board | substrate side terminal part of this invention. The pattern formation region 23 corresponds to an embodiment of the display unit according to the present invention. The pattern 24 corresponds to an embodiment of the pattern according to the present invention. In the pattern formation region 23, a pattern 24 according to the present invention is formed in advance. This pattern 24 is a pattern for forming a display portion of the display device, and is formed on the substrate 2 in advance before alignment. The pattern 24 and the member to be aligned are aligned.

受光素子部21は、基板2上の予め規定された位置に形成されている。詳細には受光素子部21は、パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成されている。具体的には受光素子部21は、パターン形成領域23以外の領域、例えばパターン形成領域23の近傍に形成されている。本実施形態では図2に示すように、複数の受光素子部21が基板2の端部近傍、好ましくは基板2の角部に規定距離だけ離れて形成されている。この際、受光素子部21間が離れているほど基板2の面内方向の位置合わせ精度が高い。
受光素子部21は、後述するように光源4からマスク3を介して受光し、その受光結果に応じた信号を出力する。また受光素子部21は、後述するようにマスク3に形成されたアライメントマーク(透光部)32に対応した位置に、基板2上に形成されている。つまり受光素子部21は、マスク3の規定位置に形成されたアライメントマーク(透光部)32を検出する機能を有する。
受光素子部21としては、半導体受光素子、例えばフォトダイオード、フォトトランジスタや、電荷結合素子(CCD:Charge Coupled Devices)、CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)センサ等のイメージセンサ等の各種受光素子(光電変換素子)を採用することができる。
この受光素子部21は、基板2上の予め規定された領域内に1個の受光素子部21が形成されていてもよいし、基板2上の予め規定された領域内に複数個の受光素子部21がアレイ形状、マトリクス形状など各種形状に形成されていてもよい。上記構成の複数個の受光素子部21を設けることにより、光源4からマスク3を介して受光した結果に基づいて高精度に位置検出を行うことができ、その結果、高精度に位置合わせを行うことができる。
受光素子部21は、例えばフォトリソ工程やエッチング工程、スパッタ法、真空蒸着法、CVD法などの成膜工程等、各種製造工程により基板2上に形成される。この際、受光素子部21は、パターンの形成工程に対応して、フォトリソ工程やエッチング工程等により、基板2上に形成される。受光素子部21はこの形態に限られるものではない。例えば予め基板2とは別体にて形成されたフォトダイオードやフォトトランジスタ等の受光素子部21を、基板2上の予め規定された位置に接着剤等により接着して形成してもよい。
The light receiving element portion 21 is formed at a predetermined position on the substrate 2. Specifically, in the light receiving element portion 21, a light receiving element portion having an output function is formed at a position where the positional relationship with the pattern is defined in advance. Specifically, the light receiving element portion 21 is formed in a region other than the pattern formation region 23, for example, in the vicinity of the pattern formation region 23. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the plurality of light receiving element portions 21 are formed in the vicinity of the end portion of the substrate 2, preferably in the corner portions of the substrate 2, separated by a specified distance. At this time, the positioning accuracy in the in-plane direction of the substrate 2 is higher as the light receiving element portions 21 are separated from each other.
As will be described later, the light receiving element unit 21 receives light from the light source 4 through the mask 3 and outputs a signal corresponding to the light reception result. The light receiving element portion 21 is formed on the substrate 2 at a position corresponding to an alignment mark (translucent portion) 32 formed on the mask 3 as will be described later. That is, the light receiving element portion 21 has a function of detecting the alignment mark (translucent portion) 32 formed at the specified position of the mask 3.
As the light receiving element portion 21, various light receiving elements (photoelectric elements) such as a semiconductor light receiving element, for example, an image sensor such as a photodiode, a phototransistor, a charge coupled device (CCD), and a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) sensor. Conversion element) can be employed.
The light receiving element portion 21 may have one light receiving element portion 21 formed in a predetermined region on the substrate 2 or a plurality of light receiving elements in a predetermined region on the substrate 2. The portion 21 may be formed in various shapes such as an array shape and a matrix shape. By providing the plurality of light receiving element portions 21 having the above-described configuration, position detection can be performed with high accuracy based on the result of light received from the light source 4 through the mask 3, and as a result, alignment is performed with high accuracy. be able to.
The light receiving element portion 21 is formed on the substrate 2 by various manufacturing processes such as a film forming process such as a photolithography process, an etching process, a sputtering method, a vacuum deposition method, and a CVD method. At this time, the light receiving element portion 21 is formed on the substrate 2 by a photolithography process, an etching process, or the like corresponding to the pattern formation process. The light receiving element portion 21 is not limited to this form. For example, the light receiving element portion 21 such as a photodiode or a phototransistor previously formed separately from the substrate 2 may be formed by adhering to a predetermined position on the substrate 2 with an adhesive or the like.

端子部22は、受光素子部21の出力機能として、受光素子部21に電気的に接続された導電部であり、基板2上に形成されている。この端子部22は、一端が受光素子部21に電気的に接続され、他端が外部装置に接続可能に形成された端子である。またこの導電材料からなる端子部22は、例えばフォトリソ工程やエッチング工程、スパッタ法、真空蒸着法、CVD法などの成膜工程等、各種製造工程により形成される。端子部22は、例えば図2に示すように、受光素子部21の近傍に形成され、基板2の端部近傍の辺に沿って形成されている。
パターン形成領域23は、上述したように表示装置の表示部を形成するためのパターン24が形成された領域である。例えばパターン形成領域23には、表示部の下部電極などの各種パターンが予め形成されている。また例えばパターン形成領域23には、パターン領域内にスパッタ法、真空蒸着法、CVD法、イオンプレーティング法などの成膜法により有機EL層や導電層、絶縁層、半導体層など各種材料からなる層が成膜される。
The terminal portion 22 is a conductive portion electrically connected to the light receiving element portion 21 as an output function of the light receiving element portion 21, and is formed on the substrate 2. The terminal portion 22 is a terminal formed so that one end is electrically connected to the light receiving element portion 21 and the other end is connectable to an external device. The terminal portion 22 made of the conductive material is formed by various manufacturing processes such as a photolithography process, an etching process, a film forming process such as a sputtering method, a vacuum deposition method, and a CVD method. For example, as shown in FIG. 2, the terminal portion 22 is formed in the vicinity of the light receiving element portion 21, and is formed along the side in the vicinity of the end portion of the substrate 2.
The pattern formation region 23 is a region where the pattern 24 for forming the display unit of the display device is formed as described above. For example, in the pattern formation region 23, various patterns such as a lower electrode of the display unit are formed in advance. Further, for example, the pattern forming region 23 is made of various materials such as an organic EL layer, a conductive layer, an insulating layer, and a semiconductor layer by a film forming method such as sputtering, vacuum deposition, CVD, or ion plating in the pattern region. A layer is deposited.

上記構成の基板2の製造方法を簡単に説明する。まず図2に示すように、基板2上の予め規定された位置、詳細にはパターン形成領域23内に、パターン24を形成する。パターン24は、例えばフォトリソ工程エッチング工程、スパッタ法、真空蒸着法、CVD法などの成膜工程等、各種製造工程により形成される。
次に、このパターン24の形成工程に対応して受光素子部21および端子部22を形成する。この受光素子部21および端子部22は、例えばフォトリソ工程またはエッチング工程、スパッタ法、真空蒸着法、CVD法などの成膜工程等、各種製造工程により形成される。例えば受光素子部21としてフォトダイオードを採用した場合には、基板2上に、下部電極、n型半導体、p型半導体、上部電極、保護膜等を各種製造方法により積層して受光素子部21を形成する。この受光素子部21と端子部22は同時に形成してもよいし、別々の工程にて形成してもよい。また受光素子部21や端子部22は、パターン形成と同時に形成してもよいし、別々の工程にて形成してもよい。上記製造方法により基板2を簡単に得ることができる。
A method of manufacturing the substrate 2 having the above configuration will be briefly described. First, as shown in FIG. 2, a pattern 24 is formed in a predetermined position on the substrate 2, specifically, in a pattern formation region 23. The pattern 24 is formed by various manufacturing processes such as a photolithography process etching process, a film forming process such as a sputtering method, a vacuum deposition method, and a CVD method.
Next, the light receiving element portion 21 and the terminal portion 22 are formed corresponding to the pattern 24 forming step. The light receiving element portion 21 and the terminal portion 22 are formed by various manufacturing processes such as a photolithography process or an etching process, a film forming process such as a sputtering method, a vacuum deposition method, and a CVD method. For example, when a photodiode is employed as the light receiving element portion 21, a lower electrode, an n-type semiconductor, a p-type semiconductor, an upper electrode, a protective film, and the like are stacked on the substrate 2 by various manufacturing methods to form the light receiving element portion 21. Form. The light receiving element portion 21 and the terminal portion 22 may be formed at the same time, or may be formed in separate steps. The light receiving element portion 21 and the terminal portion 22 may be formed simultaneously with the pattern formation or may be formed in separate steps. The substrate 2 can be easily obtained by the above manufacturing method.

本実施形態に係るマスク3は、基板2に対する被位置合わせ部材である。本実施形態に係るマスク3は、成膜用のマスクであり、例えばいわゆる蒸着用の遮蔽マスク(シャドーマスク)である。このマスク3は、光源4と基板2との間に配置されている。またマスク3は、遮蔽部31、透光部(アライメントマーク)32、およびパターン形成用開口部33を有する。
マスク3は、例えば金属材料や樹脂材料など各種材料からなる。本実施形態に係るマスク3を、例えば蒸着用マスクに採用した場合には、遮蔽部31は蒸着源からの蒸着材料をマスク3に対して遮蔽する。また遮蔽部31は、光源4から放射された光を基板2に対して遮蔽する機能を有する。透光部32は、製造工程における他の部材との位置合わせを行うための指標となる。詳細には透光部32は、マスク3の予め規定された位置、例えば基板2の受光素子部21と対応する位置に形成され、少なくとも光源4から放射された光を透過する。具体的には透光部32は、光源4から放射された光を透過する材料により形成されていてもよいし、貫通孔部(透光孔部)であってもよい。パターン形成用開口部33は、例えばマスク3を蒸着用マスクとして採用した場合に、基板2上に形成される蒸着パターンの形状に対応して形成された貫通孔部である。
The mask 3 according to this embodiment is a member to be aligned with the substrate 2. The mask 3 according to the present embodiment is a film formation mask, for example, a so-called deposition mask (shadow mask). The mask 3 is disposed between the light source 4 and the substrate 2. The mask 3 includes a shielding part 31, a translucent part (alignment mark) 32, and a pattern forming opening 33.
The mask 3 is made of various materials such as a metal material and a resin material. When the mask 3 according to the present embodiment is employed as, for example, a vapor deposition mask, the shielding unit 31 shields the vapor deposition material from the vapor deposition source from the mask 3. The shielding unit 31 has a function of shielding the light emitted from the light source 4 from the substrate 2. The translucent part 32 serves as an index for positioning with other members in the manufacturing process. Specifically, the light transmitting part 32 is formed at a predetermined position of the mask 3, for example, a position corresponding to the light receiving element part 21 of the substrate 2, and transmits at least light emitted from the light source 4. Specifically, the light transmitting portion 32 may be formed of a material that transmits light emitted from the light source 4 or may be a through hole portion (light transmitting hole portion). The pattern forming opening 33 is a through hole formed corresponding to the shape of the vapor deposition pattern formed on the substrate 2 when the mask 3 is employed as a vapor deposition mask, for example.

光源4は、第1の部材(基板2)と第2の部材(マスク3)と間の位置合わせを行うための光(アライメント光)を放射する光源である。詳細には光源4は受光素子部21又は透光部32との位置関係が固定され、透光部32を介して受光素子部21に光を照射可能である。光源4は、例えば特定の波長(特定の周波数)のレーザ光や、白熱光、太陽光を集光した光等の各種光を出力する光出力装置を採用することができる。光源4は、例えば受光素子部21としてn型半導体およびp型半導体などにより構成されるフォトダイオードを採用した場合には、その受光素子部21の半導体バンドギャップよりも、光源4から出力されるアライメント光のエネルギーが大きくなくように設定されている。また光源4は、例えば予め規定された波長(または周波数)の光や、規定パルス長のパルス光など、外光と区別できるような光を放射することが好ましい。こうすることで受光素子部21では、光源4からの光と外光とを区別することができ、位置合わせ精度を向上させることができる。   The light source 4 is a light source that emits light (alignment light) for alignment between the first member (substrate 2) and the second member (mask 3). Specifically, the light source 4 has a fixed positional relationship with the light receiving element portion 21 or the light transmitting portion 32, and can irradiate light to the light receiving element portion 21 through the light transmitting portion 32. As the light source 4, for example, a light output device that outputs various kinds of light such as laser light having a specific wavelength (specific frequency), incandescent light, or light obtained by collecting sunlight can be adopted. For example, when the light source 4 employs a photodiode composed of an n-type semiconductor and a p-type semiconductor as the light receiving element portion 21, the alignment output from the light source 4 is larger than the semiconductor band gap of the light receiving element portion 21. It is set so that the energy of light is not large. The light source 4 preferably emits light that can be distinguished from external light such as light having a predetermined wavelength (or frequency) or pulse light having a predetermined pulse length. By doing so, the light receiving element portion 21 can distinguish between the light from the light source 4 and the outside light, and the alignment accuracy can be improved.

相対位置駆動部5は、例えば制御部8からの制御により、基板2とマスク3との相対位置の位置調整を行う。詳細には相対位置駆動部5は、基板2やマスク3を支持し、制御部8からの制御信号に基づいて、基板2およびマスク3との相対位置の位置調整を行う。相対位置駆動部5は、例えば基板2とマスク3とを面内方向に沿って、詳細にはx軸方向、y軸方向に沿って相対的移動することができる。また相対位置駆動部5は更に、例えば基板2とマスク3とを相対回転させることができる。また相対位置駆動部5は、例えば基板2とマスク3とをz軸方向に沿って相対的移動できるように構成されていてもよい。   The relative position driving unit 5 adjusts the relative position between the substrate 2 and the mask 3 under the control of the control unit 8, for example. Specifically, the relative position driving unit 5 supports the substrate 2 and the mask 3 and adjusts the position of the relative position between the substrate 2 and the mask 3 based on a control signal from the control unit 8. For example, the relative position driving unit 5 can relatively move the substrate 2 and the mask 3 along the in-plane direction, specifically along the x-axis direction and the y-axis direction. Further, the relative position driving unit 5 can further rotate, for example, the substrate 2 and the mask 3 relative to each other. Moreover, the relative position drive part 5 may be comprised, for example so that the board | substrate 2 and the mask 3 can be relatively moved along a z-axis direction.

端子部6は、一端が基板2上に形成された端子部22に対して電気的に接続可能に形成され、他端部が制御部8に接続されている。
蒸着源7は、蒸着材料を収容する収容容器や蒸着材料を加熱する加熱部を有する。この加熱部は例えば制御部8により加熱制御される。
The terminal portion 6 is formed such that one end thereof can be electrically connected to the terminal portion 22 formed on the substrate 2, and the other end portion is connected to the control unit 8.
The vapor deposition source 7 includes a storage container that stores the vapor deposition material and a heating unit that heats the vapor deposition material. For example, the heating unit is controlled by the control unit 8.

制御部8は、装置全体を統括的に制御して本発明に係る機能を実現する。制御部8は、例えば受光素子部21による受光結果に基づいて、基板2とマスク3とが予め規定された相対位置となるように、相対位置駆動部5を駆動して基板2とマスク3との相対位置を調整する。
制御部8は、基板2とマスク3との相対位置を決定した場合には、基板2とマスク3とをその相対位置関係を保持した状態で固定する。
The control unit 8 controls the entire apparatus as a whole to realize the functions according to the present invention. The control unit 8 drives the relative position driving unit 5 so that the substrate 2 and the mask 3 are in a predetermined relative position based on the light reception result by the light receiving element unit 21, for example. Adjust the relative position of.
When determining the relative position between the substrate 2 and the mask 3, the control unit 8 fixes the substrate 2 and the mask 3 while maintaining the relative positional relationship.

制御部8による相対位置の制御としては、各種条件などに応じて適宜、最適な制御を行うことが好ましい。
図3は図2に示した製造装置100の制御部8の動作を説明するための図である。横軸は基板2とマスク3との相対位置rを示し、縦軸は受光素子部21による受光結果の受光強度を示す。図3(a),(b)は基板2とマスク3との相対位置に対する受光強度分布Ip1を示す図である。
例えば制御部8は、図3(a)に示すように、受光素子部21により受光した結果、相対位置raにて受光強度Ip2を得た場合に、予め規定された受光強度Ip3になるように相対位置駆動部5を制御する。この受光強度分布Ip3は、図3(b)に示すように相対位置rbにて受光強度が最大ピークとなる。
As the relative position control by the control unit 8, it is preferable to perform optimal control as appropriate according to various conditions.
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the control unit 8 of the manufacturing apparatus 100 shown in FIG. The horizontal axis indicates the relative position r between the substrate 2 and the mask 3, and the vertical axis indicates the light reception intensity of the light reception result by the light receiving element unit 21. 3A and 3B are diagrams showing the received light intensity distribution Ip1 with respect to the relative position between the substrate 2 and the mask 3. FIG.
For example, as shown in FIG. 3A, when the control unit 8 obtains the light reception intensity Ip2 at the relative position ra as a result of light reception by the light receiving element unit 21, the light reception intensity Ip3 specified in advance is obtained. The relative position drive unit 5 is controlled. In the received light intensity distribution Ip3, the received light intensity has a maximum peak at the relative position rb as shown in FIG.

また制御部8は、図3(b)に示すように、受光素子部21により受光した結果に基づいて、例えば受光強度Iが最大ピーク値Idとなるように相対位置駆動部5を駆動する。例えば制御部8は、相対位置rcにて受光強度Icが得られた場合に、相対位置駆動部5を制御して受光強度Iが大きくなるように基板2とマスク3との相対位置rを調整し、相対位置rdにて最大受光強度Idが得られた場合に、その相対位置rdにて基板2とマスク3との相対的位置関係を固定する。   Further, as shown in FIG. 3B, the control unit 8 drives the relative position driving unit 5 based on the result of light reception by the light receiving element unit 21 so that the light reception intensity I becomes the maximum peak value Id, for example. For example, when the received light intensity Ic is obtained at the relative position rc, the control unit 8 controls the relative position driving unit 5 to adjust the relative position r between the substrate 2 and the mask 3 so that the received light intensity I is increased. When the maximum light receiving intensity Id is obtained at the relative position rd, the relative positional relationship between the substrate 2 and the mask 3 is fixed at the relative position rd.

また制御部8は、受光素子部21により受光した結果に基づいて、最大受信強度の半値幅の中間に対応する相対位置となるように、基板2とマスク3との位置制御を行ってもよい。詳細には制御部8は、例えば図3(b)に示すように、最大受光強度Idの半値Idhに対応する相対位置re,rfを特定し、その特定した位置re,rfの中間位置rgにて基板2とマスク3とを相対的に固定してもよい。   Further, the control unit 8 may perform position control between the substrate 2 and the mask 3 so that the relative position corresponding to the middle of the half-value width of the maximum reception intensity is based on the result of light reception by the light receiving element unit 21. . Specifically, for example, as shown in FIG. 3B, the control unit 8 specifies the relative positions re and rf corresponding to the half value Idh of the maximum light receiving intensity Id, and sets the intermediate position rg between the specified positions re and rf. The substrate 2 and the mask 3 may be relatively fixed.

また、制御部8は、受光素子部21がマスク3の透光部32を介して検出した光の受光強度分布に基づいて最大強度ピークが得られるように、基板2を微小移動させて位置合わせを行ってもよい。   In addition, the control unit 8 slightly moves the substrate 2 for alignment so that the maximum intensity peak can be obtained based on the light reception intensity distribution of the light detected by the light receiving element unit 21 through the light transmitting unit 32 of the mask 3. May be performed.

上記構成の製造装置100の動作を、図面を参照しながら説明する。
先ず、基板2およびマスク3を製造装置100内に搬送する。基板2と光源4の間にマスク3を配置する。次に基板2の受光素子部21に電気的に接続された端子部22に、端子部6が接続される。次に制御部8は、光源4を制御して光源4からレーザ光が出力される。基板2の受光素子部21では、受光した結果に応じた信号が出力される。制御部8は、受光素子部21から端子部22および端子部6を介して出力された信号に基づいて相対位置駆動部5を制御する。この際、制御部8は受光結果に基づいて受光強度が大きくなるように相対位置駆動部5に制御信号を出力する。相対位置駆動部5は制御部8からの制御信号に基づいて、基板2とマスク3との相対位置を調整する。
The operation of the manufacturing apparatus 100 having the above configuration will be described with reference to the drawings.
First, the substrate 2 and the mask 3 are transferred into the manufacturing apparatus 100. A mask 3 is disposed between the substrate 2 and the light source 4. Next, the terminal portion 6 is connected to the terminal portion 22 electrically connected to the light receiving element portion 21 of the substrate 2. Next, the control unit 8 controls the light source 4 to output laser light from the light source 4. The light receiving element portion 21 of the substrate 2 outputs a signal corresponding to the result of light reception. The control unit 8 controls the relative position driving unit 5 based on signals output from the light receiving element unit 21 via the terminal unit 22 and the terminal unit 6. At this time, the control unit 8 outputs a control signal to the relative position driving unit 5 so that the light reception intensity is increased based on the light reception result. The relative position driving unit 5 adjusts the relative position between the substrate 2 and the mask 3 based on a control signal from the control unit 8.

この際、上述したように制御部8は、受光素子部21からの信号に基づいて所定の受光強度分布となるように相対位置駆動部5を制御してもよい。また例えば制御部8は、受光素子部21で受信される受光強度が最大レベルとなるように相対位置駆動部5を制御してもよい。また制御部8は受光強度レベルの半値幅を特定し、その特定した半値幅の中間位置となるように相対位置駆動部5を制御してもよい。   At this time, as described above, the control unit 8 may control the relative position driving unit 5 based on the signal from the light receiving element unit 21 so as to obtain a predetermined light reception intensity distribution. Further, for example, the control unit 8 may control the relative position driving unit 5 so that the received light intensity received by the light receiving element unit 21 becomes the maximum level. Further, the control unit 8 may specify the half value width of the received light intensity level, and may control the relative position driving unit 5 so as to be an intermediate position of the specified half value width.

制御部8は、上記制御の結果、基板2とマスク3とが所定の位置に位置決めされた場合には、基板2とマスク3の位置関係を固定するように、相対位置駆動部5を制御する。そして制御部8は、蒸着源7を制御して、蒸着源7から蒸着材料を蒸発させる。蒸着源7からの蒸着材料が、マスク3を介して基板2上のパターン形成領域23に蒸着される。   When the substrate 2 and the mask 3 are positioned at predetermined positions as a result of the above control, the control unit 8 controls the relative position driving unit 5 so as to fix the positional relationship between the substrate 2 and the mask 3. . Then, the control unit 8 controls the vapor deposition source 7 to evaporate the vapor deposition material from the vapor deposition source 7. A deposition material from the deposition source 7 is deposited on the pattern formation region 23 on the substrate 2 through the mask 3.

以上説明したように、本実施形態に係る製造装置100は、表示装置の表示部を形成するためのパターン24が形成された基板2に、被位置合わせ部材(マスク3)を対面させて、パターン24と被位置合わせ部材とを位置合わせを行った後、蒸着源7からの蒸着材料をマスク3を介して被蒸着対象の基板2に蒸着する。この際、基板2には、光源4からの光を受光し出力機能(端子部22)を有する受光素子部21が、基板2上の規定位置、詳細にはパターン24との位置関係が予め規定された位置に形成されている。マスク3は光源4と基板2の間に配置され、マスク3には受光素子部21に対応する位置に形成された、光源4からの光を透過するアライメントマークとしての透光部32を備える。製造装置100は受光素子部21又は透光部32との位置関係が固定され、透光部32を介して受光素子部21に光を照射可能な光源4を有する。そして製造装置100は受光素子部21の出力に基づいて基板2とマスク3との位置制御を行う位置制御手段(相対位置駆動部5や制御部8)を有するので、煩雑な工程を行うことなく、高精度に基板2と被位置合わせ部材(マスク3)とを位置制御可能である。   As described above, the manufacturing apparatus 100 according to the present embodiment allows the alignment target member (mask 3) to face the substrate 2 on which the pattern 24 for forming the display unit of the display device is formed. After aligning 24 and the alignment member, the vapor deposition material from the vapor deposition source 7 is vapor-deposited on the substrate 2 to be vapor-deposited through the mask 3. At this time, the light receiving element portion 21 that receives light from the light source 4 and has an output function (terminal portion 22) is provided on the substrate 2 in a predetermined position on the substrate 2, specifically, a positional relationship with the pattern 24. It is formed at the position. The mask 3 is disposed between the light source 4 and the substrate 2, and the mask 3 includes a light transmitting part 32 as an alignment mark that is formed at a position corresponding to the light receiving element part 21 and transmits light from the light source 4. The manufacturing apparatus 100 includes a light source 4 that is fixed in positional relationship with the light receiving element unit 21 or the light transmitting unit 32 and can irradiate light to the light receiving element unit 21 through the light transmitting unit 32. Since the manufacturing apparatus 100 includes position control means (relative position driving unit 5 and control unit 8) that controls the position of the substrate 2 and the mask 3 based on the output of the light receiving element unit 21, without performing complicated processes. The position of the substrate 2 and the member to be aligned (mask 3) can be controlled with high accuracy.

また、高精度に基板2とマスク3とが位置合わせされた状態で成膜を行うことで、基板2のパターン形成領域23に高精度に成膜パターンを形成することができる。また例えば基板2に予め形成された下部電極等のパターン24に、有機EL層などの成膜材料を高精度に成膜することができるので、高性能な表示装置を得ることができる。   Further, by performing film formation in a state where the substrate 2 and the mask 3 are aligned with high accuracy, a film formation pattern can be formed with high accuracy in the pattern formation region 23 of the substrate 2. Further, for example, a film-forming material such as an organic EL layer can be formed with high precision on the pattern 24 such as the lower electrode formed in advance on the substrate 2, so that a high-performance display device can be obtained.

また基板2上に成膜パターンを形成する場合に、例えば有機EL素子を構成する成膜層を形成する場合に、受光素子部21を基板2上に形成し、受光素子部21が検出する光強度分布に基づいて、基板2とマスク3との位置合わせを行うので、基板2上に汚れが付着している場合でも高精度に位置合わせを行うことができる。また基板2が非透明性基板であっても、光源4(マスク3)に対向する面側に、受光素子部21を形成することで、マスク3の透光部32を介した光を受光することができ、その受光強度に基づいて簡単に位置合わせを行うことができる。   Further, when forming a film formation pattern on the substrate 2, for example, when forming a film formation layer constituting an organic EL element, the light receiving element portion 21 is formed on the substrate 2 and the light detected by the light receiving element portion 21. Since the alignment between the substrate 2 and the mask 3 is performed based on the intensity distribution, the alignment can be performed with high accuracy even when dirt is attached on the substrate 2. Even if the substrate 2 is a non-transparent substrate, the light receiving element portion 21 is formed on the surface facing the light source 4 (mask 3) to receive light through the light transmitting portion 32 of the mask 3. It is possible to easily perform alignment based on the received light intensity.

また本発明に係る位置制御手段は、例えば強度分布を検出してその強度ピーク位置を特定し、その強度ピークの位置となるように基板2とマスク3との相対位置を制御するので、例えば単純にカメラでアライメントマークを撮影した結果に基づいて位置合わせを行う従来の装置と比べて、高精度に位置合わせを行うことができる。
また基板2に出力機能を有する受光素子部21を設けたので、不透明な基板であっても被位置合わせ部材(マスク3)と高精度に位置合わせを行うことができる。
Further, the position control means according to the present invention detects the intensity distribution, specifies the intensity peak position, and controls the relative position between the substrate 2 and the mask 3 so as to be the position of the intensity peak. In addition, alignment can be performed with higher accuracy than in a conventional apparatus that performs alignment based on the result of taking an alignment mark with a camera.
In addition, since the light receiving element portion 21 having the output function is provided on the substrate 2, alignment with the member to be aligned (mask 3) can be performed with high accuracy even if the substrate is opaque.

[第2実施形態]
図4は本発明の第2実施形態に係る製造装置100aを説明するための図である。図5は図4に示した基板2aを説明するための図である。図6は図4に示した基板2aおよび基板支持部を説明するための図である。図7は図4に示したマスク3aを説明するための図である。図8は図4に示した基板2aおよび基板支持部とを説明するための図である。図8(a)は基板支持部を説明するための斜視図であり、図8(b)は基板および基板支持部を説明するための斜視図である。第1実施形態と同じ機能の構成要素については説明を省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is a view for explaining a manufacturing apparatus 100a according to the second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a view for explaining the substrate 2a shown in FIG. FIG. 6 is a view for explaining the substrate 2a and the substrate support portion shown in FIG. FIG. 7 is a view for explaining the mask 3a shown in FIG. FIG. 8 is a view for explaining the substrate 2a and the substrate support portion shown in FIG. FIG. 8A is a perspective view for explaining the substrate support portion, and FIG. 8B is a perspective view for explaining the substrate and the substrate support portion. Description of components having the same functions as those of the first embodiment is omitted.

図4に示すように、本実施形態に係る製造装置100aは、基板2a、マスク3a、光源4、相対位置駆動部5a、端子部6a、蒸着源7、制御部8a、真空槽10、および回転駆動部11を有する。本実施形態では真空槽10内に、基板2a、マスク3a、光源4、相対位置駆動部5a、端子部6a、蒸着源7、および回転駆動部11が配置され、真空槽10の外に制御部8aが配置されている。
真空槽10は、例えば図示しない真空ポンプ等を含む真空排気系を有し、内部を所定圧力に維持できるようにしている。真空槽10内の上部に基板2aやマスク3aが配設され、その下方にマスク3aと対向するように蒸着源7が設置されている。
As shown in FIG. 4, the manufacturing apparatus 100a according to this embodiment includes a substrate 2a, a mask 3a, a light source 4, a relative position driving unit 5a, a terminal unit 6a, a vapor deposition source 7, a control unit 8a, a vacuum chamber 10, and a rotation. A drive unit 11 is included. In the present embodiment, the substrate 2 a, the mask 3 a, the light source 4, the relative position driving unit 5 a, the terminal unit 6 a, the vapor deposition source 7, and the rotation driving unit 11 are arranged in the vacuum chamber 10, and the control unit is outside the vacuum chamber 10. 8a is arranged.
The vacuum chamber 10 has an evacuation system including a vacuum pump (not shown), for example, so that the inside can be maintained at a predetermined pressure. A substrate 2a and a mask 3a are disposed in the upper part of the vacuum chamber 10, and a vapor deposition source 7 is disposed below the substrate 2a so as to face the mask 3a.

本実施形態に係る基板2aは、例えば図5に示すように、受光素子部21a、端子部22a、パターン形成領域23a、およびパターン24aを有する。
本実施形態に係る受光素子部21aは、図5に示すように、基板2aの端部近傍、好ましくは角部近傍に形成されている。例えば4個の受光素子部21が角部近傍に形成されている。また本実施形態では受光素子部21aとしてフォトダイオードを採用する。端子部22aは、図4に示すように、基板2a上に導電材料からなり略L字状に形成されており、一端部が例えばフォトダイオードのアノードに電気的に接続し、他端部が基板2の端部に配置するように形成された第1の端子部221と、基板2上に導電材料からなり略L字状に形成され、一端部がフォトダイオードのカソードに電気的に接続し、他端部が基板2の端部に配置するように形成された第2の端子部222とを有する。パターン形成領域23aは、基板2aの略中央部に左右に並んで2つパターン形成領域231,232が形成されている。また受光素子部21は、例えば図5に示すように、各構成要素、詳細には受光素子部21a、端子部22aが、xy平面内で180度回転させたときに一致するように形成されている。パターン24aは、パターン形成領域23a内に形成されている。このパターン24aは表示装置の表示部を形成するためのパターンである。本実施形態ではパターン形成領域231,232にパターン241,242が形成されている。受光素子部21aは、このパターン24aとの位置関係が予め規定された位置に形成される。この構成によりパターン24aと被位置合わせ部材(マスク3a)とを高精度に位置合わせすることができる。
For example, as shown in FIG. 5, the substrate 2a according to the present embodiment includes a light receiving element portion 21a, a terminal portion 22a, a pattern formation region 23a, and a pattern 24a.
As shown in FIG. 5, the light receiving element portion 21a according to the present embodiment is formed in the vicinity of the end of the substrate 2a, preferably in the vicinity of the corner. For example, four light receiving element portions 21 are formed in the vicinity of the corner portions. In the present embodiment, a photodiode is employed as the light receiving element portion 21a. As shown in FIG. 4, the terminal portion 22a is made of a conductive material and is formed in a substantially L shape on the substrate 2a. One end portion of the terminal portion 22a is electrically connected to, for example, an anode of a photodiode, and the other end portion is formed on the substrate. A first terminal portion 221 formed so as to be disposed at the end portion of 2 and formed in a substantially L shape made of a conductive material on the substrate 2, and one end portion is electrically connected to the cathode of the photodiode; The second terminal portion 222 is formed so that the other end portion is disposed at the end portion of the substrate 2. The pattern formation region 23a is formed with two pattern formation regions 231 and 232 arranged side by side at substantially the center of the substrate 2a. For example, as shown in FIG. 5, the light receiving element portion 21 is formed so that each component, specifically, the light receiving element portion 21a and the terminal portion 22a coincide with each other when rotated 180 degrees in the xy plane. Yes. The pattern 24a is formed in the pattern formation region 23a. The pattern 24a is a pattern for forming a display unit of the display device. In this embodiment, patterns 241 and 242 are formed in the pattern formation regions 231 and 232. The light receiving element portion 21a is formed at a position where the positional relationship with the pattern 24a is defined in advance. With this configuration, the pattern 24a and the member to be aligned (mask 3a) can be aligned with high accuracy.

マスク3aは、図7に示すように、遮蔽部31a、透光部(アライメントマーク)32a、およびパターン形成用開口部33aを有する。本実施形態に係る遮蔽部31a、パターン形成用開口部33aは、基板2aのパターン形成領域23に対応した形状に形成されている。透光部(アライメントマーク)32aは、基板2aの受光素子部21aに対応して形成されている。本実施形態に係る透光部32aは、図7に示すように、2つの透光孔部がマスク3aの角部に形成されている。   As shown in FIG. 7, the mask 3a has a shielding part 31a, a light transmitting part (alignment mark) 32a, and a pattern forming opening 33a. The shielding part 31a and the pattern forming opening 33a according to the present embodiment are formed in a shape corresponding to the pattern forming region 23 of the substrate 2a. The translucent part (alignment mark) 32a is formed corresponding to the light receiving element part 21a of the substrate 2a. As shown in FIG. 7, the light transmitting portion 32a according to the present embodiment has two light transmitting hole portions formed at corners of the mask 3a.

本実施形態に係る相対位置駆動部5aは、図4,8に示すように、基板支持部51、マスク支持部52、マスク位置駆動部53、基板位置駆動部54を有する。
基板支持部51は、基板2aを保持する。基板支持部51は、例えば図4,図8(a)に示すように、略L字形状に屈曲した腕部が形成され、その端部にて基板2aを支持する。また基板支持部51は、基板2a上に形成された端子部22aと接触する面側に、端子部22aと電気的に接続可能な装置側端子部(端子部)6aが形成されている。詳細には端子部6aは、基板支持部51が基板2aを支持した状態で、基板2aに形成された端子部22aと対応する位置に、基板支持部51の端部に形成されている。この端子部6aは制御部8aに電気的に接続されている。そして図6,図8(b)に示すように、基板2aを基板支持部51にて支持することで、端子部22aと端子部6aとが電気的に接続する。つまり受光素子部21aと制御部8とが電気的に接続される。
上記構成の基板支持部51に端子部6aを設けたことにより、簡単に受光素子部21aと制御部8とを電気的に接続することができる。また基板2aのパターン形成領域23aの成膜有効エリアを広げることができる。
As shown in FIGS. 4 and 8, the relative position drive unit 5 a according to the present embodiment includes a substrate support unit 51, a mask support unit 52, a mask position drive unit 53, and a substrate position drive unit 54.
The board | substrate support part 51 hold | maintains the board | substrate 2a. For example, as shown in FIG. 4 and FIG. 8A, the substrate support portion 51 is formed with an arm portion bent in a substantially L shape, and supports the substrate 2a at its end portion. Further, the substrate support portion 51 has a device side terminal portion (terminal portion) 6a that can be electrically connected to the terminal portion 22a on the surface side that contacts the terminal portion 22a formed on the substrate 2a. Specifically, the terminal portion 6a is formed at the end of the substrate support portion 51 at a position corresponding to the terminal portion 22a formed on the substrate 2a in a state where the substrate support portion 51 supports the substrate 2a. This terminal part 6a is electrically connected to the control part 8a. As shown in FIGS. 6 and 8B, the substrate 2a is supported by the substrate support portion 51, whereby the terminal portion 22a and the terminal portion 6a are electrically connected. That is, the light receiving element unit 21a and the control unit 8 are electrically connected.
By providing the terminal portion 6a on the substrate support portion 51 having the above configuration, the light receiving element portion 21a and the control portion 8 can be easily electrically connected. Further, the effective film formation area of the pattern formation region 23a of the substrate 2a can be expanded.

マスク支持部52は、マスク3aを保持する。マスク支持部52は、例えば枠形状に形成され、図4に示すようにマスク3aの端部付近を支持する。
マスク位置駆動部53は、例えば制御部8aによる制御に応じて、基板2aに対してマスク3aの相対位置を調整する。詳細にはマスク位置駆動部53は、基板2aに対してx軸方向、y軸方向に沿って相対移動することができる。マスク位置駆動部53は、例えば基板2aとマスク3aとを相対回転させることができる。またマスク位置駆動部53は、例えば基板2aとマスク3aとをz軸方向に沿って相対的移動できるように構成されていてもよい。
基板位置駆動部54は、例えば制御部8aの制御により、基板2aの位置をx軸方向、y軸方向に沿って相対移動することができる。
回転駆動部11は、相対位置駆動部5aを保持し、つまり基板2aおよびマスク3aを保持し、制御部8aの制御により、成膜中に相対位置駆動部5aを回転させる。
The mask support 52 holds the mask 3a. The mask support 52 is formed in a frame shape, for example, and supports the vicinity of the end of the mask 3a as shown in FIG.
The mask position driving unit 53 adjusts the relative position of the mask 3a with respect to the substrate 2a, for example, according to control by the control unit 8a. Specifically, the mask position driving unit 53 can move relative to the substrate 2a along the x-axis direction and the y-axis direction. For example, the mask position driving unit 53 can relatively rotate the substrate 2a and the mask 3a. The mask position driving unit 53 may be configured to relatively move the substrate 2a and the mask 3a along the z-axis direction, for example.
The substrate position driving unit 54 can relatively move the position of the substrate 2a along the x-axis direction and the y-axis direction, for example, under the control of the control unit 8a.
The rotation driving unit 11 holds the relative position driving unit 5a, that is, holds the substrate 2a and the mask 3a, and rotates the relative position driving unit 5a during film formation under the control of the control unit 8a.

本実施形態に係る制御部8aは、例えば図4に示すように、インタフェース81、操作入力部82、表示部83、メモリ84、記憶装置85、およびCPU(制御回路)86を有する。各構成要素はバス(導電線)87により電気的に接続されている。インタフェース81は、製造装置の規定された構成要素、例えば光源4、相対位置駆動部5a、蒸着源7、端子部6aを介して受光素子部21a等に電気的に接続されており、制御回路86の制御により、その構成要素に制御信号を出力したり、その構成要素からの信号を制御回路86に出力する。操作入力部82は、例えばオペレータにより操作される操作入力装置、例えばキーボードや、操作ボタン、マウスなどにより構成され、その操作に応じた信号を制御回路86に出力する。制御回路86は、その信号に応じた処理を行う。表示部83は、例えば制御回路86の制御により、本発明に係る画面表示を行う。メモリ84は、例えばRAMやROMなどの半導体メモリなどにより構成され、例えば本発明に係る機能を有するプログラムなど記憶する。制御回路86は例えばこのプログラムを実行することにより本発明に係る機能を実現する。記憶装置85は、例えばハードディスクドライブ(HDD)や光磁気ディスクドライブなどの記憶装置により構成される。CPU(制御回路)86は、装置全体を統括的に制御する。制御回路86の詳細な動作については後述する。   The control unit 8a according to the present embodiment includes an interface 81, an operation input unit 82, a display unit 83, a memory 84, a storage device 85, and a CPU (control circuit) 86, for example, as shown in FIG. Each component is electrically connected by a bus (conductive wire) 87. The interface 81 is electrically connected to the light receiving element portion 21a and the like via specified components of the manufacturing apparatus, for example, the light source 4, the relative position driving portion 5a, the vapor deposition source 7, and the terminal portion 6a. Under the control, a control signal is output to the component or a signal from the component is output to the control circuit 86. The operation input unit 82 includes, for example, an operation input device operated by an operator, such as a keyboard, operation buttons, and a mouse, and outputs a signal corresponding to the operation to the control circuit 86. The control circuit 86 performs processing according to the signal. The display unit 83 performs screen display according to the present invention under the control of the control circuit 86, for example. The memory 84 is configured by, for example, a semiconductor memory such as a RAM or a ROM, and stores, for example, a program having a function according to the present invention. The control circuit 86 realizes the function according to the present invention by executing this program, for example. The storage device 85 is constituted by a storage device such as a hard disk drive (HDD) or a magneto-optical disk drive. A CPU (control circuit) 86 comprehensively controls the entire apparatus. The detailed operation of the control circuit 86 will be described later.

図9は、図4に示した製造装置100aの動作を説明するためのフローチャートである。図9を参照しながら、製造装置100aの動作を制御部8a、詳細には制御回路86の動作を中心に説明する。
ステップS1において、基板2a、マスク3a、光源4、蒸着源7などを予め規定された初期位置に設定する。詳細には先ず、真空槽10内に基板2aを基板支持部51にて支持して初期位置に配置し、光源4と基板2aの間にマスク3aを規定位置に配置する。この際上述したように、基板2aの受光素子部21aに電気的に接続された端子部22aが、端子部6aに接続される。
ステップS2において、制御部8aは、光源4を制御して光源4からレーザ光が出力される。
ステップS3において、基板2aの受光素子部21aでは、受光した結果に応じた信号が出力される。
ステップS4において、制御部8aは、受光素子部21から端子部22a、端子部6aを介して入力された信号に基づいて相対位置駆動部5aを制御する。この際、制御部8aは受光結果に基づいて受光強度が大きくなるように相対位置駆動部5aに制御信号を出力する。相対位置駆動部5aは制御部8aからの制御信号に基づいて、基板2aとマスク3aとの相対位置を調整する。制御部8aは、詳細には例えばマスク位置駆動部53に制御信号を出力して、基板2aとマスク3aとの相対位置、詳細にはx軸方向、y軸方向、z軸方向に沿った相対位置を調整する。また、上述したように制御部8aは、受光素子部21からの信号に基づいて所定の受光強度分布となるように相対位置駆動部5aを制御してもよい。
ステップS5において、制御部8aは、上記制御の結果、基板2aとマスク3aとが所定の位置に位置決めされた場合には、基板2aとマスク3aの位置関係を固定するように、相対位置駆動部5aを制御する。
ステップS6において、制御部8aは、蒸着源7を制御して、蒸着源7から蒸着材料を蒸発させる。蒸着源7からの蒸着材料が、マスク3aを介して基板2a上のパターン形成領域23に蒸着される。この成膜時に、制御部8aは、回転駆動部11を回転駆動させて、基板2aおよびマスク3aを回転させている。
FIG. 9 is a flowchart for explaining the operation of the manufacturing apparatus 100a shown in FIG. Referring to FIG. 9, the operation of the manufacturing apparatus 100a will be described focusing on the operation of the control unit 8a, specifically the control circuit 86.
In step S1, the substrate 2a, the mask 3a, the light source 4, the vapor deposition source 7 and the like are set to predetermined initial positions. More specifically, first, the substrate 2a is supported by the substrate support 51 in the vacuum chamber 10 and disposed at the initial position, and the mask 3a is disposed between the light source 4 and the substrate 2a at the specified position. At this time, as described above, the terminal portion 22a electrically connected to the light receiving element portion 21a of the substrate 2a is connected to the terminal portion 6a.
In step S <b> 2, the control unit 8 a controls the light source 4 to output laser light from the light source 4.
In step S3, the light receiving element portion 21a of the substrate 2a outputs a signal corresponding to the result of light reception.
In step S4, the control unit 8a controls the relative position driving unit 5a based on a signal input from the light receiving element unit 21 via the terminal unit 22a and the terminal unit 6a. At this time, the control unit 8a outputs a control signal to the relative position driving unit 5a so that the light reception intensity is increased based on the light reception result. The relative position driving unit 5a adjusts the relative position between the substrate 2a and the mask 3a based on a control signal from the control unit 8a. Specifically, the control unit 8a outputs a control signal to the mask position driving unit 53 in detail, for example, and the relative position between the substrate 2a and the mask 3a, in detail, relative to the x-axis direction, the y-axis direction, and the z-axis direction. Adjust the position. In addition, as described above, the control unit 8a may control the relative position driving unit 5a based on a signal from the light receiving element unit 21 so that a predetermined received light intensity distribution is obtained.
In step S5, when the substrate 2a and the mask 3a are positioned at a predetermined position as a result of the control, the control unit 8a controls the relative position driving unit so as to fix the positional relationship between the substrate 2a and the mask 3a. 5a is controlled.
In step S <b> 6, the controller 8 a controls the vapor deposition source 7 to evaporate the vapor deposition material from the vapor deposition source 7. The deposition material from the deposition source 7 is deposited on the pattern formation region 23 on the substrate 2a through the mask 3a. At the time of film formation, the control unit 8a rotates the substrate 2a and the mask 3a by rotating the rotation driving unit 11.

以上説明したように、本実施形態に係る製造装置100aは、基板2a上に形成された端子部22aと接触する面側に、端子部22aと電気的に接続可能な装置側端子部(端子部)6aが形成された基板支持部51を有するので、基板2aを基板支持部51にて支持することで、端子部22aと端子部6aとが簡単に電気的に接続する。つまり受光素子部21aと制御部8aとを簡単に電気的に接続することができる。   As described above, the manufacturing apparatus 100a according to the present embodiment has a device-side terminal portion (terminal portion) that can be electrically connected to the terminal portion 22a on the surface side in contact with the terminal portion 22a formed on the substrate 2a. ) Since the substrate support portion 51 on which 6a is formed is provided, the terminal portion 22a and the terminal portion 6a are easily electrically connected by supporting the substrate 2a with the substrate support portion 51. That is, the light receiving element portion 21a and the control portion 8a can be easily electrically connected.

また、製造装置100aは、蒸着源7上に基板2aおよび蒸着用マスク3aを保持し、成膜中に基板2aと蒸着用マスク3aを回転させる回転駆動部11に、相対位置駆動部5aの各構成要素を設けたので、制御部8aは、簡単に基板2aとマスク3aとを位置調整した後、その状態で基板2aとマスク3aとを回転させて蒸着することができる。こうすることにより高精度に成膜されたパターンを有する基板2aを得ることができる。上記実施形態に係る製造装置100aを有機EL素子を形成する装置に適用した場合には、高精度に成膜されたパターンを有する基板2aを用いて、高品質の表示性能を有する表示装置を得ることができる。
また基板2aに出力機能を有する受光素子部21aを設けたので、不透明な基板であっても被位置合わせ部材(マスク3a)と高精度に位置合わせを行うことができる。
Further, the manufacturing apparatus 100a holds the substrate 2a and the vapor deposition mask 3a on the vapor deposition source 7, and rotates the substrate 2a and the vapor deposition mask 3a during film formation to each of the relative position drive units 5a. Since the constituent elements are provided, the controller 8a can easily deposit the substrate 2a and the mask 3a while rotating the position of the substrate 2a and the mask 3a after rotating the position of the substrate 2a and the mask 3a. By doing so, it is possible to obtain the substrate 2a having a pattern formed with high accuracy. When the manufacturing apparatus 100a according to the above embodiment is applied to an apparatus for forming an organic EL element, a display device having a high quality display performance is obtained using the substrate 2a having a pattern formed with high accuracy. be able to.
In addition, since the light receiving element portion 21a having the output function is provided on the substrate 2a, even the opaque substrate can be aligned with the alignment member (mask 3a) with high accuracy.

[第3実施形態]
図10は、本発明の第3実施形態に係る製造装置100bを説明するための図である。本実施形態に係る製造装置100bは、基板2bと蒸着用マスク3aとのギャップ調整を高精度に行う。詳細には本実施形態に係る製造装置100bでは、図10に示すように、基板2b,マスク3aの面に対して略直交する方向(垂直な方向)に沿って光(レーザ光)を放射する光源4aと、基板2b,マスク3aの面に対して斜め方向に光(レーザ光)を照射する光源4bを有する。この光源4bから放射された光は、マスク3aの透光部32aを斜め方向に入射し、基板2aに対しても斜め方向に入射する。また、本実施形態に係る光源4a,光源4bは真空槽10の外部に配置され、透光窓部10aを介して、光(レーザ光)を真空槽10内部に入射している。
基板2bは、受光素子部21aと、それに隣接して受光素子部21bが形成されている。この受光素子部21aは、光源4aからの光(レーザ光)を受光する。受光素子部21bは、例えば基板2bとマスク3aとが予め規定された相対距離(ギャップ)となった場合に、光源4bからの光(レーザ光)を受光するように配置されている。
[Third Embodiment]
FIG. 10 is a view for explaining a manufacturing apparatus 100b according to the third embodiment of the present invention. The manufacturing apparatus 100b according to the present embodiment adjusts the gap between the substrate 2b and the evaporation mask 3a with high accuracy. Specifically, in the manufacturing apparatus 100b according to the present embodiment, as shown in FIG. 10, light (laser light) is emitted along a direction (perpendicular direction) substantially orthogonal to the surfaces of the substrate 2b and the mask 3a. The light source 4a and the light source 4b which irradiates light (laser light) in the diagonal direction with respect to the surface of the board | substrate 2b and the mask 3a are provided. The light emitted from the light source 4b is incident on the transparent portion 32a of the mask 3a in an oblique direction, and is also incident on the substrate 2a in an oblique direction. Further, the light source 4a and the light source 4b according to the present embodiment are disposed outside the vacuum chamber 10, and light (laser light) is incident on the inside of the vacuum chamber 10 through the light transmission window portion 10a.
The substrate 2b has a light receiving element portion 21a and a light receiving element portion 21b adjacent thereto. The light receiving element portion 21a receives light (laser light) from the light source 4a. The light receiving element portion 21b is disposed so as to receive light (laser light) from the light source 4b when, for example, the substrate 2b and the mask 3a have a predetermined relative distance (gap).

上記構成の製造装置100bでは、制御部8aは、先ず受光素子部21aにより受光結果に基づいて相対位置駆動部5aを駆動制御して、基板2bとマスク3とのx軸方向,y軸方向に沿った相対位置調整を行う。次に制御部8aは、受光素子部21bによる受光結果に基づいて相対位置駆動部5aを駆動制御して、基板2bとマスク3aとの相対距離(ギャップ)を調整する。詳細には、基板2bとマスク3aとが予め規定された相対距離(ギャップ)となった場合に、光源4bからの光(レーザ光)の受光強度が最大となるように受光素子部21bを形成しておき、制御部8aは、受光素子部21bにて光源4bから受光した結果、受光強度が最大強度となった場合に、その位置を規定されたギャップとして特定し、その位置関係にて基板2bとマスク3aとを固定する。   In the manufacturing apparatus 100b configured as described above, the control unit 8a first drives and controls the relative position driving unit 5a based on the light reception result by the light receiving element unit 21a, and in the x-axis direction and the y-axis direction between the substrate 2b and the mask 3. Adjust the relative position along. Next, the control unit 8a controls the relative position driving unit 5a based on the light reception result by the light receiving element unit 21b to adjust the relative distance (gap) between the substrate 2b and the mask 3a. Specifically, the light receiving element portion 21b is formed so that the light receiving intensity of the light (laser light) from the light source 4b is maximized when the substrate 2b and the mask 3a have a predetermined relative distance (gap). In addition, when the light receiving intensity reaches the maximum intensity as a result of receiving light from the light source 4b by the light receiving element portion 21b, the control unit 8a specifies the position as a specified gap, and the substrate is determined based on the positional relationship. 2b and the mask 3a are fixed.

上述したように製造装置100bでは、上記光源4aと光源4bを設け、受光素子部21aと受光素子部21bとを基板2b上に形成したので、制御部8aは受光素子部21aと受光素子部21bによる受光結果に基づいて、容易に、基板2bとマスク3aとのギャップ調整を行うことができる。
ギャップ調整は、上述した形態に限られるものではない。例えば光源4とマスク3aとの間に、レンズやミラー(鏡)、屈折部材等の光学系を配置して、上記構成と同等な制御を行ってもよい。また光源4bや受光素子部21bを設けずに、光源4とマスク3aとの間に、レンズや鏡、屈折部材等の光学系を設け、高性能な受光素子部21により、例えばピンホール現象などを利用して、ギャップ調整を行ってもよい。
As described above, in the manufacturing apparatus 100b, the light source 4a and the light source 4b are provided, and the light receiving element portion 21a and the light receiving element portion 21b are formed on the substrate 2b. Therefore, the control unit 8a has the light receiving element portion 21a and the light receiving element portion 21b. The gap between the substrate 2b and the mask 3a can be easily adjusted based on the light reception result by.
The gap adjustment is not limited to the above-described form. For example, an optical system such as a lens, a mirror (mirror), or a refractive member may be disposed between the light source 4 and the mask 3a, and control equivalent to the above configuration may be performed. Further, without providing the light source 4b and the light receiving element portion 21b, an optical system such as a lens, a mirror, and a refractive member is provided between the light source 4 and the mask 3a. The gap adjustment may be performed using.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではない。
例えば上述した製造方法によって製造される有機EL素子は、蒸着源7からの蒸着流によって有機機能層を少なくとも一層備える。例えば有機EL素子の有機機能層の構造は、下部電極を陽極、上部電極を陰極とした場合には、正孔輸送層/発光層/電子輸送層の構成が一般的であるが、発光層,正孔輸送層,電子輸送層はそれぞれ1層だけでなく複数層積層して設けてもよく、正孔輸送層,電子輸送層についてはどちらかの層を省略しても、両方の層を省略して発光層のみにしても構わない。また、有機機能層としては、正孔注入層,電子注入層,正孔障壁層,電子障壁層等の有機層を用途に応じて挿入することができる。また、有機発光機能層を電子輸送層/発光層/正孔輸送層として、下部電極を陰極、上部電極を陽極にすることもできる。
The present invention is not limited to the embodiment described above.
For example, the organic EL element manufactured by the above-described manufacturing method includes at least one organic functional layer by the vapor deposition flow from the vapor deposition source 7. For example, the structure of the organic functional layer of the organic EL element generally has a structure of a hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer when the lower electrode is an anode and the upper electrode is a cathode. The hole transport layer and the electron transport layer may be provided not only as a single layer but also as a plurality of layers, and either layer may be omitted or both layers may be omitted for the hole transport layer and the electron transport layer. Thus, only the light emitting layer may be used. Moreover, as an organic functional layer, organic layers, such as a positive hole injection layer, an electron injection layer, a positive hole barrier layer, and an electronic barrier layer, can be inserted according to a use. Alternatively, the organic light emitting functional layer may be an electron transport layer / light emitting layer / hole transport layer, the lower electrode may be a cathode, and the upper electrode may be an anode.

また、本発明の実施形態として採用できる有機機能層材料の例を以下に示すが、特にこれらに限定されるものではない。
例えば、正孔輸送層としては、正孔移動度が高い機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。具体例としては、銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−ビフェニル(NPB)等の芳香族第三アミン、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4’−[4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]スチルベンゼン等のスチルベン化合物や、トリアゾール誘導体、スチリルアミン化合物等の有機材料が用いられる。また、ポリカーボネート等の高分子中に低分子の正孔輸送用の有機材料を分散させた、高分子分散系の材料も使用できる。
Moreover, although the example of the organic functional layer material which can be employ | adopted as embodiment of this invention is shown below, it is not specifically limited to these.
For example, the hole transport layer only needs to have a function of high hole mobility, and any material can be selected and used from conventionally known compounds. Specific examples include porphyrin compounds such as copper phthalocyanine, aromatic tertiary amines such as 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] -biphenyl (NPB), 4- (di- Organic materials such as stilbene compounds such as p-tolylamino) -4 ′-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbenzene, triazole derivatives, and styrylamine compounds are used. In addition, a polymer-dispersed material in which a low-molecular organic material for hole transport is dispersed in a polymer such as polycarbonate can also be used.

例えば発光層は、公知の発光材料が使用可能であり、具体例としては、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)−ビフェニル(DPVBi)等の芳香族ジメチリディン化合物、1,4−ビス(2−メチルスチリル)ベンゼン等のスチリルベンゼン化合物、3−(4−ビフェニル)−4−フェニル−5−t−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾール(TAZ)等のトリアゾール誘導体、アントラキノン誘導体、フルオレノン誘導体等の蛍光性有機材料、(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体(Alq3)等の蛍光性有機金属化合物、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)系、ポリフルオレン系、ポリビニルカルバゾール(PVK)系等の高分子材料、白金錯体やイリジウム錯体等の三重項励起子からのりん光を発光に利用できる有機材料(特表2001−520450)を使用できる。上述したような発光材料のみから構成したものでもよいし、正孔輸送材料、電子輸送材料、添加剤(ドナー、アクセプター等)または発光性ドーパント等が含有されてもよい。また、これらが高分子材料又は無機材料中に分散されてもよい。   For example, a known light emitting material can be used for the light emitting layer. Specific examples thereof include aromatic dimethylidin compounds such as 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) -biphenyl (DPVBi), 1,4 -Styrylbenzene compounds such as bis (2-methylstyryl) benzene, triazole derivatives such as 3- (4-biphenyl) -4-phenyl-5-t-butylphenyl-1,2,4-triazole (TAZ), anthraquinones Derivatives, fluorescent organic materials such as fluorenone derivatives, fluorescent organometallic compounds such as (8-hydroxyquinolinato) aluminum complex (Alq3), polyparaphenylene vinylene (PPV), polyfluorene, polyvinylcarbazole (PVK) To emit phosphorescence from triplet excitons such as platinum and iridium complexes Use can be organic material (Kohyo 2001-520450) can be used. It may be composed only of the light emitting material as described above, or may contain a hole transport material, an electron transport material, an additive (donor, acceptor, etc.) or a light emitting dopant. These may be dispersed in a polymer material or an inorganic material.

例えば、電子輸送層は、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。具体例としては、ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体等の有機材料、8−キノリノール誘導体の金属錯体、メタルフタロシアニン等が使用できる。   For example, the electron transport layer only needs to have a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light-emitting layer, and as the material thereof, any one of conventionally known compounds can be selected and used. . Specific examples include organic materials such as nitro-substituted fluorenone derivatives and anthraquinodimethane derivatives, metal complexes of 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines, and the like.

また、上述した実施形態では、光源4の上方にマスク3が配置され、マスク3の上方に基板2が配置されたが、この形態に限られるものではない。例えば基板2とマスク3の位置関係は、上下逆でもよいし、横に配置してもよい。ただし、光源4と基板2の間にマスク3が配置されるように設定される。
また、光源4から出力されるアライメント光は、レンズやミラーなどの光学系を介して、マスク3,基板2に照射されてもよい。アライメント光に、レンズを用いることで位置合わせ精度を向上させることができる。またミラーを用いてマスク3側から基板2へ向けて照射してもよい。また光源4は真空槽10内に設置してもよいし、光源4を真空槽10の外に設置してもよい。
In the above-described embodiment, the mask 3 is disposed above the light source 4 and the substrate 2 is disposed above the mask 3. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, the positional relationship between the substrate 2 and the mask 3 may be upside down, or may be disposed horizontally. However, the mask 3 is set between the light source 4 and the substrate 2.
The alignment light output from the light source 4 may be applied to the mask 3 and the substrate 2 through an optical system such as a lens or a mirror. The alignment accuracy can be improved by using a lens for the alignment light. Moreover, you may irradiate toward the board | substrate 2 from the mask 3 side using a mirror. The light source 4 may be installed in the vacuum chamber 10, or the light source 4 may be installed outside the vacuum chamber 10.

また、上述した実施形態では、基板2を備える表示装置を製造する工程のうち、マスクを用いた成膜工程の際に、基板2とマスク3との位置合わせ工程を行う製造装置を説明したが、この形態に限られるものではない。例えば表示装置を製造する工程のうち、ドライエッチング工程において、本発明に係る製造方法を適用して、基板2とマスク3との位置合わせ工程を行ってもよい。   In the above-described embodiment, the manufacturing apparatus that performs the alignment process between the substrate 2 and the mask 3 during the film forming process using the mask among the processes for manufacturing the display device including the substrate 2 has been described. However, the present invention is not limited to this form. For example, in the process of manufacturing the display device, in the dry etching process, the manufacturing method according to the present invention may be applied to perform the alignment process of the substrate 2 and the mask 3.

また、上述した実施形態では、蒸着工程(成膜工程)時の基板2とマスク3との位置合わせ工程に、本発明に係る製造装置、製造方法を適用したが、この形態に限られるものではない。本発明に係る製造装置を、例えば第1の部材と第2の部材との位置合わせを行う装置に適用してもよい。
また受光素子部21,21a、21bは、上記位置合わせ終了後、基板2から基板切断等により除去してもよい。
In the above-described embodiment, the manufacturing apparatus and the manufacturing method according to the present invention are applied to the alignment process between the substrate 2 and the mask 3 in the vapor deposition process (film formation process). However, the present invention is not limited to this embodiment. Absent. The manufacturing apparatus according to the present invention may be applied to, for example, an apparatus that performs alignment between a first member and a second member.
The light receiving element portions 21, 21a, and 21b may be removed from the substrate 2 by cutting the substrate after completion of the alignment.

以上説明したように、本発明の一実施形態に係る表示装置の製造装置100は、表示部を形成するためのパターン24が形成された基板2に被位置合わせ部材(蒸着用のマスク3)を対面させて、パターン24と被位置合わせ部材(マスク3)との位置合わせを行う表示装置の製造装置である。基板2は、パターン24との位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部21が形成されている。また被位置合わせ部材(マスク3)は、位置合わせ用の透光部32を有する。そして受光素子部21又は透光部32との位置関係が固定され、透光部32を介して受光素子部21に光を照射可能な光源4を有する。また、製造装置100は、受光素子部21の出力に基づいて、基板2と被位置合わせ部材(マスク3)との位置制御を行う相対位置駆動部5および制御部8を有するので、基板2と被位置合わせ部材(マスク3)とを高精度に位置合わせ可能である。   As described above, the display device manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention provides the alignment member (evaporation mask 3) on the substrate 2 on which the pattern 24 for forming the display unit is formed. This is a display device manufacturing apparatus that performs alignment between the pattern 24 and the alignment target member (mask 3) while facing each other. In the substrate 2, a light receiving element portion 21 having an output function is formed at a position where a positional relationship with the pattern 24 is defined in advance. Further, the member to be aligned (mask 3) has a translucent part 32 for alignment. And the positional relationship with the light receiving element part 21 or the translucent part 32 is fixed, and it has the light source 4 which can irradiate light to the light receiving element part 21 via the translucent part 32. In addition, since the manufacturing apparatus 100 includes the relative position driving unit 5 and the control unit 8 that perform position control between the substrate 2 and the member to be aligned (mask 3) based on the output of the light receiving element unit 21, The alignment member (mask 3) can be aligned with high accuracy.

また、本発明の一実施形態に係る表示装置の製造装置100は、蒸着源7上に基板2および蒸着用マスク3を保持して、成膜中に基板2と蒸着用マスク3を回転させる手段(回転駆動部)11と、基板2上の受光素子部21が検知した光の強度分布を出力して光強度分布としてモニターできる検知用装置(制御部)8と、基板2上の受光素子部21へ照射するレーザ光を出力する光源4と、検知用装置(制御部)8にて確認した光強度分布が最大ピークとなるように、基板を微小移動させる機構(相対位置駆動部)5とを有する。上記構成の製造装置100では、検知用装置(制御部)8にて確認した光強度分布が最大ピークとなるように、基板2を微小移動させる機構を備えているので、高精度に蒸着用マスク3と基板2とを位置合わせすることができ、高精度に蒸着用マスク3を介して基板2上に所定のパターンを蒸着することができる。   In addition, the display device manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention holds the substrate 2 and the evaporation mask 3 on the evaporation source 7 and rotates the substrate 2 and the evaporation mask 3 during film formation. (Rotation drive unit) 11, detection device (control unit) 8 that can output and monitor the light intensity distribution detected by the light receiving element unit 21 on the substrate 2 as the light intensity distribution, and the light receiving element unit on the substrate 2 A light source 4 for outputting a laser beam to be irradiated 21, a mechanism (relative position driving unit) 5 for moving the substrate minutely so that the light intensity distribution confirmed by the detection device (control unit) 8 has a maximum peak, Have The manufacturing apparatus 100 having the above configuration includes a mechanism for finely moving the substrate 2 so that the light intensity distribution confirmed by the detection apparatus (control unit) 8 has a maximum peak. 3 and the substrate 2 can be aligned, and a predetermined pattern can be deposited on the substrate 2 through the deposition mask 3 with high accuracy.

また、本発明の一実施形態に係る表示装置の製造装置100は、表示部を形成するためのパターン24が形成された基板2に被位置合わせ部材(マスク3)を対面させて、パターン24と被位置合わせ部材(マスク3)との位置合わせを行う表示装置の製造方法である。上述したように基板2は、パターン24との位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部21が形成されている。また受光素子部21又は被位置合わせ部材(マスク3)に形成された位置合わせ用の透光部32との位置関係が固定された光源4から、透光部32を介して受光素子部21に光を照射する工程と、受光素子部21の出力に基づいて、基板2と被位置合わせ部材(マスク3)との位置制御を行う工程とを有するので、煩雑な工程を行うことなく高精度に基板2と被位置合わせ部材(マスク3)とを位置合わせすることができる。   In addition, the display device manufacturing apparatus 100 according to the embodiment of the present invention causes the alignment member (mask 3) to face the substrate 2 on which the pattern 24 for forming the display unit is formed, and the pattern 24 and It is a manufacturing method of a display device that performs alignment with a member to be aligned (mask 3). As described above, the light receiving element portion 21 having the output function is formed on the substrate 2 at a position where the positional relationship with the pattern 24 is defined in advance. Further, from the light source 4 having a fixed positional relationship with the light transmitting element 32 for alignment formed on the light receiving element part 21 or the alignment target member (mask 3) to the light receiving element part 21 via the light transmitting part 32. Since it has the process of irradiating light, and the process of controlling the position of the substrate 2 and the member to be aligned (mask 3) based on the output of the light receiving element section 21, it is highly accurate without performing complicated processes. The substrate 2 and the alignment member (mask 3) can be aligned.

また高精度に位置合わせした後、マスク3を介して基板2上に有機EL素子を形成することで、高品質な表示を行うことができる有機EL表示装置を製造することができる。   Moreover, after aligning with high precision, an organic EL display device capable of high-quality display can be manufactured by forming an organic EL element on the substrate 2 through the mask 3.

本発明に係る基板2は、表示部を形成するためのパターン24が形成され、当該パターン24と被位置合わせ部材(マスク3)とが位置合わせされる表示装置の基板2である。この基板2には、パターン24との位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部21が形成されているので、受光素子部21が被位置合わせ部材(マスク3)上に形成されたアライメントマーク(透光部)32を検出するように位置合わせを行うことで、煩雑な工程を行うことなく簡単に、高精度に位置調整可能である。   The substrate 2 according to the present invention is a substrate 2 of a display device in which a pattern 24 for forming a display portion is formed, and the pattern 24 and a to-be-aligned member (mask 3) are aligned. Since the light receiving element portion 21 having an output function is formed on the substrate 2 at a position where the positional relationship with the pattern 24 is defined in advance, the light receiving element portion 21 is placed on the alignment member (mask 3). By performing alignment so as to detect the formed alignment mark (translucent portion) 32, the position can be easily adjusted with high accuracy without performing a complicated process.

また従来、カメラによるマーク認識を行うアライメント方法では、例えば蒸着源と、マスクと、基板とを順次、規定位置となるように配置して蒸着する場合に、マスクと基板との間の位置合わせを行うために、マスクにアライメントマークを形成し、そのアライメントマークを透明性基板を介してカメラにより撮像し、その撮像結果に基づいて、マスクと基板との位置合わせを行っているが、基板マークとマスクマークが重なってしまった場合や、基板またはマスクのどちらかに異物が存在した場合、マスクのマークが小さい場合などには、誤認識や認識不良を生じる場合がある。
一方、本発明に係る製造装置100では、マスク3の透光部32から透過した光の強度分布に基づいて位置調整を行うので、マーク形状に頼った認識不良が生じにくく、高精度に位置調整を行うことができる。
Conventionally, in an alignment method for performing mark recognition by a camera, for example, when vapor deposition is performed by sequentially arranging a vapor deposition source, a mask, and a substrate at a specified position, alignment between the mask and the substrate is performed. In order to do this, an alignment mark is formed on the mask, the alignment mark is imaged by a camera via a transparent substrate, and the mask and the substrate are aligned based on the imaging result. When the mask mark overlaps, when foreign matter exists on either the substrate or the mask, or when the mask mark is small, erroneous recognition or recognition failure may occur.
On the other hand, in the manufacturing apparatus 100 according to the present invention, the position adjustment is performed based on the intensity distribution of the light transmitted from the light transmitting portion 32 of the mask 3, so that recognition failure depending on the mark shape is unlikely to occur and the position adjustment is performed with high accuracy. It can be performed.

また従来のように、マスクから離れたところに設置されたカメラによりアライメントマークを認識するのと比べ、本発明に係る製造装置100では、基板2に接近したアライメントマークを基板2に形成された受光素子部21にて検知するので、アライメントマーク(透光部)32の大きさを極力小さくすることができ、位置合わせ精度が向上する。   In addition, as compared with the conventional case where the alignment mark is recognized by a camera placed away from the mask, in the manufacturing apparatus 100 according to the present invention, the light received on the substrate 2 by the alignment mark approaching the substrate 2. Since the detection is performed by the element portion 21, the size of the alignment mark (translucent portion) 32 can be made as small as possible, and the alignment accuracy is improved.

また従来は、光源とカメラの間にマスクおよび基板を配置し、光源から放射された光が、マスクのアライメントマークおよび基板を介してカメラに到達する必要があるので、透明性基板を用いたり又は基板に透光孔部を設ける必要がある。
一方、本発明に係る製造装置100では、例えばシリコン(Si)基板など不透明な基板に適用することで、透明性を有しない基板においても高精度に位置合わせを行うことができる。
Conventionally, a mask and a substrate are arranged between the light source and the camera, and the light emitted from the light source needs to reach the camera through the mask alignment mark and the substrate. It is necessary to provide a light transmitting hole in the substrate.
On the other hand, in the manufacturing apparatus 100 according to the present invention, by applying to an opaque substrate such as a silicon (Si) substrate, alignment can be performed with high accuracy even on a substrate having no transparency.

また、本発明に係る製造装置100では、製造段階で位置合わせ用のアライメントマークを検出するための受光素子部21が形成され、受光素子部21に接続する端子部22が形成され、基板支持部51に上記端子部6aが形成されているので、簡単に受光素子部21と制御部8とを電気的に接続することができ、製造工程を簡単化することができる。また、製造時間を短縮化することができる。   In the manufacturing apparatus 100 according to the present invention, the light receiving element portion 21 for detecting the alignment mark for alignment is formed in the manufacturing stage, the terminal portion 22 connected to the light receiving element portion 21 is formed, and the substrate support portion Since the terminal portion 6a is formed at 51, the light receiving element portion 21 and the control portion 8 can be easily electrically connected, and the manufacturing process can be simplified. In addition, the manufacturing time can be shortened.

また、従来のように基板にアライメントマークを形成しないので、アライメントマークに付着した汚れを除去するという煩雑な工程を行う必要がないので、製造時間が短縮される。   Further, since the alignment mark is not formed on the substrate as in the prior art, it is not necessary to perform a complicated process of removing the dirt adhering to the alignment mark, so that the manufacturing time is shortened.

従来の製造装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the conventional manufacturing apparatus. 本発明の第1実施形態に係る製造装置100を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing apparatus 100 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図2に示した製造装置100の制御部8の動作を説明するための図であり、(a),(b)は基板2とマスク3との相対位置に対する受光強度分布を示す図である。3 is a diagram for explaining the operation of the control unit 8 of the manufacturing apparatus 100 shown in FIG. 2, and (a) and (b) are diagrams showing the received light intensity distribution with respect to the relative positions of the substrate 2 and the mask 3. 本発明の第2実施形態に係る製造装置100aを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing apparatus 100a which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図4に示した基板2aを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the board | substrate 2a shown in FIG. 図4に示した基板2aおよび基板支持部を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the board | substrate 2a shown in FIG. 4, and a board | substrate support part. 図4に示したマスク3aを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the mask 3a shown in FIG. 図4に示した基板2aおよび基板支持部とを説明するための図であり、(a)は基板支持部を説明するための斜視図であり、(b)は基板および基板支持部を説明するための斜視図である。5A and 5B are diagrams for explaining the substrate 2a and the substrate support portion shown in FIG. 4, FIG. 5A is a perspective view for explaining the substrate support portion, and FIG. 5B is a diagram explaining the substrate and the substrate support portion. FIG. 図4に示した製造装置100aの動作を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating operation | movement of the manufacturing apparatus 100a shown in FIG. 本発明の第3実施形態に係る製造装置100bを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing apparatus 100b which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

2 基板
3 蒸着用マスク(マスク)
4 光源
5 相対位置駆動部
6 装置側端子部(端子部)
7 蒸着源
8 制御部
21 受光素子部
22 基板側端子部(端子部)
23 パターン形成領域
24 パターン
31 遮蔽部
32 透光部
33 パターン形成用開口部
51 基板支持部
52 マスク支持部
53 マスク位置駆動部
54 基板位置駆動部
100,100a,100b 製造装置
2 Substrate 3 Evaporation mask (mask)
4 Light source 5 Relative position drive unit 6 Device side terminal unit (terminal unit)
7 Deposition source 8 Control unit 21 Light receiving element unit 22 Substrate side terminal unit (terminal unit)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 23 Pattern formation area 24 Pattern 31 Shielding part 32 Light transmission part 33 Pattern formation opening part 51 Substrate support part 52 Mask support part 53 Mask position drive part 54 Substrate position drive part 100,100a, 100b Manufacturing apparatus

Claims (19)

表示部を形成するためのパターンが形成された基板に被位置合わせ部材を対面させて、前記パターンと前記被位置合わせ部材との位置合わせを行う表示装置の製造装置であって、
前記基板は、前記パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成され、
前記被位置合わせ部材は、位置合わせ用の透光部を有し、
前記受光素子部又は前記透光部との位置関係が固定され、前記透光部を介して前記受光素子部に光を照射可能な光源を設け、
前記受光素子部の出力に基づいて、前記基板と前記被位置合わせ部材との位置制御を行う位置制御手段を有することを特徴とする表示装置の製造装置。
An apparatus for manufacturing a display device, wherein an alignment member is made to face a substrate on which a pattern for forming a display unit is formed, and alignment between the pattern and the alignment member is performed.
The substrate is provided with a light receiving element portion having an output function at a position where a positional relationship with the pattern is defined in advance.
The member to be aligned has a translucent part for alignment,
A light source capable of irradiating light to the light receiving element part through the light transmitting part is provided, the positional relationship with the light receiving element part or the light transmitting part is fixed,
An apparatus for manufacturing a display device, comprising: position control means for performing position control between the substrate and the member to be aligned based on an output of the light receiving element portion.
前記被位置合わせ部材は、成膜源と、前記成膜源からの成膜材料が成膜される前記基板との間に配置される成膜用のマスクであり、
前記位置制御手段は、前記受光素子部の出力に基づいて、前記基板と前記マスクとの位置制御を行うことを特徴とする請求項1に記載の表示装置の製造装置。
The alignment member is a film formation mask disposed between a film formation source and the substrate on which the film formation material from the film formation source is formed,
The display device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the position control unit performs position control of the substrate and the mask based on an output of the light receiving element unit.
前記基板は、前記受光素子部の前記出力機能として、当該受光素子部に電気的に接続された基板側端子部を備え、
当該製造装置は、前記基板側端子部に電気的に接続可能な装置側端子部を有し、
前記位置制御手段は、前記基板側端子部および前記装置側端子部を介した前記受光素子部の出力に基づいて前記位置制御を行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表示装置の製造装置。
The substrate includes a substrate-side terminal portion electrically connected to the light receiving element portion as the output function of the light receiving element portion,
The manufacturing apparatus has a device-side terminal portion that can be electrically connected to the substrate-side terminal portion,
The display according to claim 1, wherein the position control unit performs the position control based on an output of the light receiving element unit via the substrate side terminal unit and the device side terminal unit. Equipment manufacturing equipment.
前記基板を支持する基板支持部を有し、
前記基板支持部は、前記基板上に形成された前記基板側端子部と接触する面側に、当該基板側端子部と電気的に接続可能な前記装置側端子部が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の表示装置の製造装置。
A substrate support part for supporting the substrate;
In the substrate support portion, the device-side terminal portion that can be electrically connected to the substrate-side terminal portion is formed on a surface side in contact with the substrate-side terminal portion formed on the substrate. The display device manufacturing apparatus according to claim 3.
前記位置制御手段は、前記被位置合わせ部材と前記基板との相対位置調整を行う相対位置駆動手段と、
前記受光素子部の出力に基づいて、予め規定された受光強度になるように前記相対位置駆動手段を制御する制御回路とを備えることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一に記載の表示装置の製造装置。
The position control means includes a relative position driving means for adjusting a relative position between the aligned member and the substrate;
The control circuit according to claim 1, further comprising a control circuit that controls the relative position driving unit based on an output of the light receiving element unit so as to obtain a predetermined light receiving intensity. The manufacturing apparatus of the display apparatus of description.
前記制御回路は、前記受光素子部の出力に基づいて、規定された受光強度分布となるように、前記相対位置駆動手段を制御することを特徴とする請求項5に記載の表示装置の製造装置。   6. The display device manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the control circuit controls the relative position driving unit based on an output of the light receiving element unit so as to obtain a prescribed light reception intensity distribution. . 前記制御回路は、前記受光素子部の出力に基づいて、前記相対位置駆動手段により、前記被位置合わせ部材と前記基板との相対位置を微小に相対移動制御することを特徴とする請求項5に記載の表示装置の製造装置。   6. The control circuit according to claim 5, wherein the relative position of the member to be aligned and the substrate is minutely controlled by the relative position driving unit based on the output of the light receiving element unit. The manufacturing apparatus of the display apparatus of description. 前記受光素子部は、半導体受光素子からなることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一に記載の表示装置の製造装置。   The display device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light receiving element portion includes a semiconductor light receiving element. 前記光源は、アライメント光としてパルス光、または可視外領域の波長の光を出力することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか一に記載の表示装置の製造装置。   The display device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light source outputs pulsed light or light having a wavelength in a non-visible region as alignment light. 表示部を形成するためのパターンが形成された基板に被位置合わせ部材を対面させて、前記パターンと前記被位置合わせ部材との位置合わせを行う表示装置の製造方法であって、
前記基板は、前記パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成され、
前記受光素子部、又は前記被位置合わせ部材に形成された位置合わせ用の透光部との位置関係が固定された光源から、前記透光部を介して前記受光素子部に光を照射する工程と、
前記受光素子部の出力に基づいて、前記基板と前記被位置合わせ部材との位置制御を行う工程と
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
A method for manufacturing a display device, wherein a positioning member is made to face a substrate on which a pattern for forming a display unit is formed, and the positioning of the pattern and the positioning member is performed.
The substrate is provided with a light receiving element portion having an output function at a position where a positional relationship with the pattern is defined in advance.
A step of irradiating light to the light receiving element portion through the light transmitting portion from a light source having a fixed positional relationship with the light transmitting element portion or a light transmitting portion for alignment formed on the alignment target member. When,
And a step of controlling the position of the substrate and the member to be aligned based on the output of the light receiving element section.
前記被位置合わせ部材は、成膜材料を前記基板上に所定のパターンに形成させるための開口部を備えた成膜用のマスクであり、
前記受光素子部の出力に基づいて、前記基板と前記成膜用のマスクとの位置制御を行った後、成膜を行うことを特徴とする請求項10に記載の表示装置の製造方法。
The alignment member is a film formation mask having an opening for forming a film formation material on the substrate in a predetermined pattern;
The method for manufacturing a display device according to claim 10, wherein film formation is performed after position control of the substrate and the film formation mask is performed based on an output of the light receiving element portion.
前記基板に、前記受光素子部の前記出力機能として、当該受光素子部に電気的に接続された基板側端子部を形成し、
前記基板側端子部を介した前記受光素子部の出力に基づいて前記位置制御を行うことを特徴とする請求項10または請求項11に記載の表示装置の製造方法。
On the substrate, as the output function of the light receiving element portion, a substrate side terminal portion electrically connected to the light receiving element portion is formed,
The method for manufacturing a display device according to claim 10, wherein the position control is performed based on an output of the light receiving element portion via the substrate side terminal portion.
前記受光素子部の出力に基づいて、規定された受光強度分布となるように、前前記位置合わせを行うことを特徴とする請求項10から請求項12のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。   13. The display device manufacturing method according to claim 10, wherein the positioning is performed in advance so that a prescribed light-receiving intensity distribution is obtained based on an output of the light-receiving element unit. Method. 前記受光素子部が前記透光部を介して検出した光の受光強度分布に基づいて、前記被位置合わせ部材と前記基板との相対位置を微小に相対移動制御させて前記位置合わせを行うことを特徴とする請求項10から請求項13のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。   Based on the received light intensity distribution of the light detected by the light receiving element portion through the light transmitting portion, the relative position between the member to be aligned and the substrate is controlled to be relatively moved to perform the alignment. The method for manufacturing a display device according to claim 10, wherein the display device is a display device. 表示部を形成するためのパターンが形成され、当該パターンと被位置合わせ部材とが位置合わせされる表示装置の基板であって、
前記基板は、前記パターンとの位置関係が予め規定された位置に、出力機能を有する受光素子部が形成されていることを特徴とする表示装置の基板。
A substrate for a display device in which a pattern for forming a display portion is formed, and the pattern and a member to be aligned are aligned,
The substrate of a display device, wherein a light receiving element portion having an output function is formed at a position where a positional relationship with the pattern is defined in advance.
一端部が前記受光素子部に電気的に接続され、他端部が外部装置に接続可能な端子部が形成されていることを特徴とする請求項15に記載の表示装置の基板。   16. The display device substrate according to claim 15, wherein one end portion is electrically connected to the light receiving element portion, and the other end portion is formed with a terminal portion connectable to an external device. 前記端子部は、前記他端部が当該基板の端部近傍に形成されていることを特徴とする請求項15または請求項16に記載の表示装置の基板。   The substrate of the display device according to claim 15 or 16, wherein the other end portion of the terminal portion is formed in the vicinity of the end portion of the substrate. 前記受光素子部は、半導体受光素子からなることを特徴とする請求項15から請求項17のいずれか一に記載の表示装置の基板。   The substrate of a display device according to claim 15, wherein the light receiving element portion is a semiconductor light receiving element. 前記基板上の予め規定された領域内に、複数の前記受光素子部が形成されていることを特徴とする請求項15から請求項18のいずれか一に記載の表示装置の基板。   The substrate of the display device according to claim 15, wherein a plurality of the light receiving element portions are formed in a predetermined region on the substrate.
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