JP2007152012A - Gas purifying device - Google Patents

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JP2007152012A JP2005355093A JP2005355093A JP2007152012A JP 2007152012 A JP2007152012 A JP 2007152012A JP 2005355093 A JP2005355093 A JP 2005355093A JP 2005355093 A JP2005355093 A JP 2005355093A JP 2007152012 A JP2007152012 A JP 2007152012A
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博行 金井
Tadao Machida
忠男 町田
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HACHIKO SEISAKUSHO KK
Park Kk S
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas purifying device dispensing with replacement work of a photocatalytic filter and capable of miniaturizing the device. <P>SOLUTION: This gas purifying device is provided with a casing having a gas inlet and a gas outlet, and a cleaning filter provided for passing the gas, the photocatalytic filter impregnated with a photocatalyst, a cleaning means cleaning at least the surface of the cleaning filter in the gas inlet side, and a light illumination means emitting illumination light for activating the photocatalyst, which are all provided in the casing in this order from the gas inlet side toward the gas outlet side. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガスを浄化するガス浄化装置に関する。特に、装置の小型化が可能なガス洗浄装置に関する。   The present invention relates to a gas purification device that purifies gas. In particular, the present invention relates to a gas cleaning apparatus capable of downsizing the apparatus.

従来から汚染ガスの浄化装置が検討されている。例えば、特許文献１には、汚染ガスのガス入口部及び浄化ガスのガス出口部が設けられ、かつ、吸引手段を有する筐体に、筐体内のガス流路を遮るように光触媒フィルタが設けられ、さらに、光触媒フィルタに照射する紫外線光源を取り付けたものが提案されている。このガス浄化装置は、汚染ガスを光触媒フィルタに通して、汚染ガス中の汚染源を、紫外線照射により励起した光触媒で分解するというものである。
しかしながら、この種の装置では、光触媒フィルタが筐体内に固定されているため、光触媒フィルタの取替え作業が大変であり、コストが高かった。
そこで、特許文献２等に示されるように、光触媒フィルタの取替えを容易にする試みがなされている（特許文献２）。 Conventionally, pollutant gas purification devices have been studied. For example, Patent Document 1 is provided with a gas inlet portion for polluted gas and a gas outlet portion for purified gas, and a housing having suction means is provided with a photocatalytic filter so as to block a gas flow path in the housing. In addition, there has been proposed an ultraviolet light source for irradiating the photocatalytic filter. In this gas purification device, a pollutant gas is passed through a photocatalyst filter, and a pollutant source in the pollutant gas is decomposed with a photocatalyst excited by ultraviolet irradiation.
However, in this type of apparatus, since the photocatalyst filter is fixed in the casing, the replacement work of the photocatalyst filter is difficult and the cost is high.
Therefore, as shown in Patent Document 2 and the like, an attempt has been made to facilitate replacement of the photocatalytic filter (Patent Document 2).

特開平３−１０６４２０号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-106420 特開２００１−１４９４５２号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-149452

しかしながら、光触媒フィルタの取替え作業は、メンテナンス費用を考えると好ましくない。さらに、取替え作業を容易にするために、装置が拡大化する傾向にある。
また、ガス浄化装置は、通常、粉塵除去用装置、臭気・有害ガス除去用装置、光触媒装置等を組み合わせて洗浄装置として用いられている。この結果、装置が大型化し、より運転費用がかさむ傾向にある。
本発明は、上記課題を解決することを目的としたものであって、光触媒フィルタの取替え作業が不要であり、かつ、装置の小型化が可能なガス浄化装置を提供することを目的とする。 However, the replacement work of the photocatalytic filter is not preferable in view of maintenance costs. Furthermore, the apparatus tends to be enlarged in order to facilitate the replacement work.
Further, the gas purification device is usually used as a cleaning device by combining a dust removing device, an odor / toxic gas removing device, a photocatalyst device, and the like. As a result, the size of the apparatus tends to increase and the operating cost tends to increase.
An object of the present invention is to provide a gas purification device that eliminates the need for replacing the photocatalytic filter and that can reduce the size of the device.

かかる状況のもと、発明者が鋭意検討した結果、下記手段により上記課題を解決しうることを見出した。
（１）ガス入口部とガス出口部とを有する筐体と、該筐体内に前記ガス入口部側から前記ガス出口部側に向かって該順に、ガスが通過するように設けられた、洗浄フィルタおよび、光触媒を含浸する光触媒フィルタと、前記洗浄フィルタの少なくともガス入口部側の表面を洗浄する洗浄手段と、
前記光触媒を活性化する光を照射する光照射手段とを有する、ガス浄化装置。
（２）前記洗浄手段は、前記洗浄フィルタのガス入口部側の表面に洗浄液を接触させることにより行うものである、（１）に記載のガス浄化装置。
（３）前記ガス浄化装置の最大長が、５ｍ以下である、（１）または（２）に記載のガス浄化装置。
（４）ガス吸引手段を筐体内に有する（１）〜（３）のいずれか１項に記載のガス浄化装置。 Under such circumstances, as a result of intensive studies by the inventors, it has been found that the above problems can be solved by the following means.
(1) A casing having a gas inlet portion and a gas outlet portion, and a cleaning filter provided in the casing so that gas passes in that order from the gas inlet portion side toward the gas outlet portion side And a photocatalytic filter impregnated with a photocatalyst, and a cleaning means for cleaning at least the surface of the cleaning filter on the gas inlet side,
A gas purification apparatus comprising: a light irradiation means for irradiating light that activates the photocatalyst.
(2) The gas purification device according to (1), wherein the cleaning unit is performed by bringing a cleaning liquid into contact with a surface of the cleaning filter on a gas inlet side.
(3) The gas purification device according to (1) or (2), wherein the maximum length of the gas purification device is 5 m or less.
(4) The gas purification device according to any one of (1) to (3), wherein a gas suction unit is provided in the housing.

本発明により、光触媒フィルタの取替え作業が不要なガス浄化装置であって、小型化可能なものが得られた。
この結果、狭い作業場や研究室等においても、邪魔にならずに十分なガス洗浄効果を有するガス洗浄装置が得られた。これに併せて、本発明のガス洗浄装置では、洗浄フィルタや光触媒フィルタを半永久的に使用することが可能になったため、取り合え部品代や取替え作業員の費用等のランニングコストが著しく削減された。 According to the present invention, a gas purification device that does not require a photocatalytic filter replacement operation and that can be reduced in size is obtained.
As a result, a gas scrubber having a sufficient gas scrubbing effect was obtained without obstructing even in a small work place or laboratory. At the same time, in the gas cleaning apparatus of the present invention, since it is possible to use a cleaning filter and a photocatalytic filter semipermanently, running costs such as replacement parts cost and replacement worker cost are remarkably reduced.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

本発明の好ましい実施形態を図１に従って説明する。図１中、１は筐体を、２は洗浄フィルタを、３は光触媒フィルタを、４は洗浄手段を、５は光照射手段を、６はガス入口部を、７はガス出口部を、８は洗浄液回収手段を、それぞれ示している。より具体的には、筐体１内に、ガス入り口部６に近い側から順に、洗浄フィルタ２、および、光触媒を含浸する光触媒フィルタ３が設けられている。さらに、洗浄フィルタ２の少なくともガス入口部６側の表面を洗浄する洗浄手段４と、光触媒を活性化する光を照射する光照射手段５とが設けられている。
ガス浄化装置の筐体１内に、汚染ガス（図１中の内部に黒点が付された矢印）が、ガス入口部６から入り、最初に洗浄フィルタ２を通過する。洗浄フィルタ２には洗浄手段４が設けられており、洗浄フィルタ２を通過する際に、洗浄手段４により、粉塵などが除去される。その後、ガスは、光触媒フィルタ３を通過する。光触媒フィルタ３を通過したガスは、光照射手段５により活性化された光触媒により、脱臭・除菌等がなされ、最終的にクリーンなガス（図１中の内部が白い矢印）として、ガス出口部７側から排出される。
このように、従来別々の装置で行われていた粉塵等の除去と、脱臭除菌等の作業を一の筐体１内で行うことができる。本発明では、一の筐体１内でこれら一連の工程を行うことを可能にするために、洗浄フィルタ２において洗浄手段４を設けている。すなわち、洗浄手段４を用いることにより、光触媒フィルタを通過するガスが、従来のガス浄化装置におけるガスよりも著しくクリーンなガスとなり、光触媒フィルタの劣化を防止できるのである。
以下、本発明について詳細に説明する。 A preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1, 1 is a housing, 2 is a cleaning filter, 3 is a photocatalytic filter, 4 is a cleaning means, 5 is a light irradiation means, 6 is a gas inlet, 7 is a gas outlet, Indicates the cleaning liquid recovery means. More specifically, a cleaning filter 2 and a photocatalytic filter 3 impregnated with a photocatalyst are provided in the housing 1 in order from the side close to the gas inlet 6. Further, a cleaning means 4 for cleaning at least the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side and a light irradiation means 5 for irradiating light for activating the photocatalyst are provided.
A contaminated gas (an arrow with a black dot inside in FIG. 1) enters the casing 1 of the gas purifier from the gas inlet 6 and first passes through the cleaning filter 2. The cleaning filter 2 is provided with a cleaning unit 4, and dust and the like are removed by the cleaning unit 4 when passing through the cleaning filter 2. Thereafter, the gas passes through the photocatalytic filter 3. The gas that has passed through the photocatalyst filter 3 is deodorized and sterilized by the photocatalyst activated by the light irradiation means 5, and finally becomes a clean gas (the white arrow in FIG. 1) as a gas outlet. It is discharged from the 7th side.
In this way, operations such as dust removal and deodorization and sterilization, which have been conventionally performed in separate apparatuses, can be performed in one housing 1. In the present invention, the cleaning means 4 is provided in the cleaning filter 2 in order to perform a series of steps in one housing 1. That is, by using the cleaning means 4, the gas passing through the photocatalytic filter becomes a significantly cleaner gas than the gas in the conventional gas purification device, and the deterioration of the photocatalytic filter can be prevented.
The present invention will be described in detail below.

筐体１
筐体１は、ガス入口部６と、ガス出口部７とを有し、本発明のガス浄化装置の本体となる。ガスは、筐体１内において、ガス入口部６から入り、洗浄フィルタ２および光触媒フィルタ３を通過して、ガス出口部７から出る。このように、２種類のフィルタを１つの筐体１内に収めることにより、装置の小型化が図れる。特に、従来の方法では、洗浄フィルタ２や光触媒フィルタ３の頻繁な取替え作業が必要であったため、１つの筐体１内に収めることには制約が多かったが、本発明では半永久的に洗浄フィルタ２や光触媒フィルタ３の取替えが不要であるため、このような構成が可能となったものである。
筐体１の材質は、特に定めるものではないが、ステンレス等が好ましい。
筐体１の形状は特に定めるものではないが、例えば、円筒、角筒型が挙げられる。
さらに、本発明の筐体１は、長手方向に垂直な方向に開閉可能な構造としてもよい。このような構造とすることにより、光照射手段５の消耗品の取替えが容易となり好ましい。尚、光照射手段５の消耗品とは、通常、紫外線を照射する蛍光灯であり、従来のガス洗浄装置における、洗浄フィルタ２や光触媒フィルタ３の取替えに比して、頻度・手間のいずれにおいても容易なものである。 Case 1
The housing | casing 1 has the gas inlet part 6 and the gas outlet part 7, and becomes a main body of the gas purification apparatus of this invention. In the housing 1, the gas enters from the gas inlet portion 6, passes through the cleaning filter 2 and the photocatalytic filter 3, and exits from the gas outlet portion 7. In this way, the apparatus can be reduced in size by housing two types of filters in one housing 1. In particular, in the conventional method, frequent replacement work of the cleaning filter 2 and the photocatalytic filter 3 is necessary, so that there are many restrictions on being accommodated in one housing 1, but in the present invention, the cleaning filter is semi-permanently. Since the replacement of the photocatalyst filter 2 and the photocatalyst filter 3 is not necessary, such a configuration is possible.
Although the material of the housing | casing 1 is not specifically defined, Stainless steel etc. are preferable.
Although the shape of the housing | casing 1 is not specifically defined, For example, a cylinder and a square tube type are mentioned.
Furthermore, the housing 1 of the present invention may have a structure that can be opened and closed in a direction perpendicular to the longitudinal direction. Such a structure is preferable because it is easy to replace the consumables of the light irradiation means 5. Note that the consumables of the light irradiation means 5 are usually fluorescent lamps that irradiate ultraviolet rays, and the frequency and effort are less than the replacement of the cleaning filter 2 and the photocatalytic filter 3 in the conventional gas cleaning apparatus. Is also easy.

洗浄フィルタ２および洗浄手段４
洗浄フィルタ２では、汚染ガスに含まれる油性、湿性、高温のダストミスト等の汚染源の一部を除去する。通常は、後述する光触媒により除去できないものは、すべて、この段階において除去できる。このような除去は、洗浄手段４により汚染源を洗浄することにより行われる。すなわち、洗浄フィルタ２のガス入口部６側表面を洗浄することにより、洗浄フィルタ２を通過するガスがよりクリーンなものとなる。そのため、後述する光触媒フィルタ３の負担を軽くし、光触媒フィルタ３の性能の劣化を防ぎ、効率よく汚染源を除去することが可能になる。
ここで、洗浄フィルタ２は、筐体１内に、ガスが該洗浄フィルタ２を通過するように設けられており、通常、筐体１内に、ガスの流路方向に垂直に嵌められた構成である。洗浄手段４は、洗浄フィルタ２のガス入口部６側の表面を洗浄するように設けられる。 Cleaning filter 2 and cleaning means 4
The cleaning filter 2 removes a part of contamination sources such as oily, wet and high temperature dust mist contained in the contaminated gas. Normally, anything that cannot be removed by the photocatalyst described below can be removed at this stage. Such removal is performed by cleaning the contamination source by the cleaning means 4. That is, by cleaning the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side, the gas passing through the cleaning filter 2 becomes cleaner. Therefore, it is possible to lighten the burden on the photocatalytic filter 3 described later, prevent the performance of the photocatalytic filter 3 from being deteriorated, and efficiently remove the contamination source.
Here, the cleaning filter 2 is provided in the casing 1 so that gas passes through the cleaning filter 2 and is usually configured to be fitted in the casing 1 perpendicularly to the gas flow path direction. It is. The cleaning means 4 is provided so as to clean the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side.

洗浄フィルタ２
洗浄フィルタ２は、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではないが、圧力損失を少なくした構造、例えば、ハニカムデッキ多層体であることが好ましい。このような洗浄フィルタ２としては、金属製のものが挙げられ、特に、ステンレス製のものが好ましい。
洗浄フィルタ２のフィルタ面積は、浄化するガスの種類等に応じて適宜定めることができる。洗浄フィルタ２に対するガスの通過風速は、０．８〜１．３ｍ／ｓｅｃが好ましい。
洗浄フィルタ２の数は、１枚でもよく、２枚以上でもよい。２枚以上のフィルタを設ける場合、それぞれのフィルタは同一のフィルタであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。例えば、ガス入口部６からガス出口部７に向かって順にフィルタの孔径が小さくなる構成とすることができる。また、後述する洗浄液との関係を考慮してフィルタの素材をそれぞれ変えてもよい。
本発明では、汚染ガスの種類（汚染源の種類）や汚染の度合いに応じてフィルタを調節し、適宜、状況に応じたガス浄化装置とすることができる。
洗浄フィルタ２を２枚以上設ける場合、洗浄フィルタ２間の間隔は特に定めるものでないが、例えば、０．３〜１ｍとすることができる。
洗浄フィルタ２の枚数は、特に定めるものではないが、例えば、１〜１０枚である。 Washing filter 2
The cleaning filter 2 is not particularly defined as long as it does not depart from the spirit of the present invention, but is preferably a structure with reduced pressure loss, for example, a honeycomb deck multilayer body. Examples of such a cleaning filter 2 include metal filters, and stainless steel filters are particularly preferable.
The filter area of the cleaning filter 2 can be appropriately determined according to the type of gas to be purified. The gas passing wind speed with respect to the cleaning filter 2 is preferably 0.8 to 1.3 m / sec.
The number of cleaning filters 2 may be one or two or more. When two or more filters are provided, each filter may be the same filter or different from each other. For example, the pore diameter of the filter can be reduced in order from the gas inlet portion 6 toward the gas outlet portion 7. In addition, the material of the filter may be changed in consideration of the relationship with the cleaning liquid described later.
In the present invention, a filter can be adjusted according to the type of pollutant gas (type of pollutant source) and the degree of contamination, and a gas purifying apparatus according to the situation can be appropriately obtained.
When two or more cleaning filters 2 are provided, the interval between the cleaning filters 2 is not particularly defined, but can be set to, for example, 0.3 to 1 m.
The number of cleaning filters 2 is not particularly defined, but is, for example, 1 to 10 sheets.

洗浄手段４
本発明における洗浄手段４は、洗浄フィルタ２のガス入口部６側の表面を洗浄する。本洗浄手段４により、汚染ガス中の汚染源を除去することができる。
洗浄手段４は、少なくとも、洗浄フィルタ２のガス入口部６側の表面を洗浄する。従って、通常は図１に示すように、ガス入口部６側から洗浄液を付加することにより行う。複数枚の洗浄フィルタ２が設けられている場合は、各洗浄フィルタ２に、それぞれ、洗浄液を接触させることが好ましい。もちろん、ガス出口側から洗浄液を接触させてもよい。この場合、洗浄液が洗浄フィルタ２のガス入口部６側の表面を洗浄できるよう、洗浄液の圧力を高くする等の手段を採用するとよい。 Cleaning means 4
The cleaning means 4 in the present invention cleans the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side. By this cleaning means 4, the contamination source in the contaminated gas can be removed.
The cleaning means 4 cleans at least the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side. Therefore, as shown in FIG. 1, the cleaning liquid is usually added from the gas inlet 6 side. In the case where a plurality of cleaning filters 2 are provided, it is preferable to bring the cleaning liquid into contact with each cleaning filter 2. Of course, the cleaning liquid may be contacted from the gas outlet side. In this case, means for increasing the pressure of the cleaning liquid may be employed so that the cleaning liquid can clean the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side.

洗浄手段４は、通常、洗浄フィルタ２のガス入口部６側の表面に洗浄液を付加することにより行う。付加の方法は特に定めるものではないが、噴霧、シャワーリング等が挙げられる。また、洗浄液の付加される量は、汚染ガスの種類や洗浄液の洗浄フィルタ２に対する圧力等に応じて適宜定めることができる。通常、洗浄フィルタ２の面積１ｍ2に対し、０．１〜２０Ｌ／ｍとすることができる。このように、本発明は、所要水量がサイクロン遠心力に比べて１／３〜１／４程度と少なくて済むという利点がある。また、洗浄水の圧力は、０．０５〜０．７Ｍｐａが好ましい。
洗浄液は、洗浄フィルタ２面に平行な方向から、吹き付けることが好ましい。このような手段を採用することにより、湿潤な状態をより効果的に保つことができ、本発明の浄化効果がより顕著なものとなる。また、洗浄フィルタ２面に対して角度を持って流れるようにしてもよい。例えば、洗浄液が上から下に流れるように、洗浄フィルタ２の上部に吹き付けてもよい。洗浄液の流速は、５〜１００ｃｍ／ｓｅｃが好ましい。
さらに、本実施形態では、洗浄液回収手段８を設けている。洗浄液回収手段８は、本発明の必須要件ではないが、洗浄液を回収するほうが好ましい。回収した洗浄液は、そのまま、または、中和等の処理を行った後、廃液として処理してもよいし、再利用してもよい。再利用する場合、汚染源を取り除いてから用いることが好ましい。さらにまた、洗浄液のうち、汚染物を多く含む洗浄液と、汚染物をあまり含まない若しくは全く含まない洗浄液を別々に回収し、後者のみを再利用することも可能である。ここで、汚染物を多く含む洗浄液とは、例えば、洗浄フィルタ２のガス入口部６側の面から回収される洗浄液や、洗浄フィルタ２を複数枚設けた場合のガス入口部６により近い側の洗浄液が挙げられ、汚染物をあまり含まない若しくは全く含まない洗浄液とは、例えば、洗浄フィルタ２のガス出口部７側の面から回収される洗浄液や、洗浄フィルタ２を複数枚設けた場合のガス出口部７により近い側の洗浄液をいう。
また、複数の洗浄フィルタ２および洗浄手段４を設け、汚染ガス中のターゲットとなる汚染源ごとにそれに応じた洗浄液の成分および洗浄フィルタ２を選択してもよい。例えば、第１の洗浄フィルタでは有機物を除去しやすい洗浄フィルタ２および洗浄液を選択し、第２のフィルタでは無機物を除去しやすい洗浄フィルタ２および洗浄液を選択するといった手段を採用できる。 The cleaning means 4 is usually performed by adding a cleaning liquid to the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side. The addition method is not particularly defined, and examples thereof include spraying and showering. Further, the amount of the cleaning liquid added can be appropriately determined according to the type of the contaminated gas, the pressure of the cleaning liquid on the cleaning filter 2, and the like. Usually, with respect to the area 1 m 2 of cleaning filter 2 can be a 0.1~20L / m. As described above, the present invention has an advantage that the required amount of water can be reduced to about 1/3 to 1/4 as compared with the cyclone centrifugal force. The pressure of the washing water is preferably 0.05 to 0.7 Mpa.
The cleaning liquid is preferably sprayed from a direction parallel to the surface of the cleaning filter 2. By adopting such means, the wet state can be more effectively maintained, and the purification effect of the present invention becomes more remarkable. Moreover, you may make it flow with an angle with respect to the washing | cleaning filter 2 surface. For example, you may spray on the upper part of the washing | cleaning filter 2 so that a washing | cleaning liquid may flow downward from the top. The flow rate of the cleaning liquid is preferably 5 to 100 cm / sec.
Furthermore, in this embodiment, a cleaning liquid recovery means 8 is provided. The cleaning liquid recovery means 8 is not an essential requirement of the present invention, but it is preferable to recover the cleaning liquid. The recovered cleaning liquid may be processed as waste liquid or may be reused as it is or after processing such as neutralization. When reusing, it is preferable to use after removing the contamination source. Furthermore, it is possible to separately collect a cleaning liquid containing a large amount of contaminants and a cleaning liquid containing little or no contaminants and reuse only the latter. Here, the cleaning liquid containing a lot of contaminants is, for example, a cleaning liquid recovered from the surface of the cleaning filter 2 on the gas inlet 6 side or a side closer to the gas inlet 6 when a plurality of cleaning filters 2 are provided. Examples of the cleaning liquid include little or no contaminants. For example, the cleaning liquid recovered from the surface of the cleaning filter 2 on the gas outlet 7 side, or the gas when a plurality of cleaning filters 2 are provided. This is the cleaning liquid closer to the outlet 7.
Further, a plurality of cleaning filters 2 and cleaning means 4 may be provided, and the components of the cleaning liquid and the cleaning filter 2 may be selected for each contamination source as a target in the contaminated gas. For example, it is possible to adopt means such as selecting the cleaning filter 2 and the cleaning liquid that easily remove organic substances in the first cleaning filter, and selecting the cleaning filter 2 and the cleaning liquid that easily remove inorganic substances in the second filter.

洗浄液は、特に定めるものではないが、例えば、水、有機溶媒等が挙げられ、水が好ましい。また、洗浄液には、酸またはアルカリ等を含めてもよい。このような手段を採用することにより、回収後の洗浄液がアルカリまたは酸になる場合に、中和でき好ましい。   The cleaning liquid is not particularly defined, and examples thereof include water and organic solvents, and water is preferable. Further, the cleaning liquid may contain an acid or an alkali. By adopting such means, neutralization is preferable when the recovered cleaning liquid becomes an alkali or an acid.

光触媒フィルタ３
光触媒フィルタ３は、光触媒を含む。
光触媒の種類は、汚染ガスの種類等に応じて適宜定めることができ、酸化チタン等を挙げることができる。
また、光触媒フィルタ３は、光触媒を含浸させ、かつ、光照射による光触媒の活性化が阻害されないものである限り特に定めるものではない。このような光触媒フィルタ３として、多孔質板が挙げられる。多孔質板は、圧力損失、軽量、高剛性という観点からも好ましい。光触媒フィルタ３の材質としては、セラミック、焼結金属等が挙げられる。
光触媒フィルタ３は１枚でもよいし、２枚以上を併用してもよい。２枚以上併用する場合、光触媒フィルタ３間の距離は、光照射手段５が設けられるスペースがあればよい。例えば、１５０ｃｍ〜３００ｃｍである。さらに、光触媒フィルタ３毎に異なる光触媒を含浸させてもよい。
本発明では、洗浄フィルタ２により光触媒フィルタ３の負担は軽くなっているので、光触媒フィルタ３は実質的に半永久的に使用でき、光触媒フィルタ３のメンテナンスが不要となる。 Photocatalytic filter 3
The photocatalyst filter 3 contains a photocatalyst.
The type of photocatalyst can be determined as appropriate according to the type of pollutant gas, and examples thereof include titanium oxide.
The photocatalytic filter 3 is not particularly defined as long as it is impregnated with a photocatalyst and does not inhibit the activation of the photocatalyst by light irradiation. Examples of such a photocatalytic filter 3 include a porous plate. The porous plate is preferable from the viewpoint of pressure loss, light weight, and high rigidity. Examples of the material of the photocatalytic filter 3 include ceramic and sintered metal.
One photocatalyst filter 3 may be used, or two or more may be used in combination. When two or more sheets are used together, the distance between the photocatalytic filters 3 may be a space where the light irradiation means 5 is provided. For example, it is 150 cm to 300 cm. Further, a different photocatalyst may be impregnated for each photocatalyst filter 3.
In the present invention, since the load on the photocatalytic filter 3 is reduced by the cleaning filter 2, the photocatalytic filter 3 can be used substantially semipermanently, and maintenance of the photocatalytic filter 3 becomes unnecessary.

光照射手段５
本発明では、光触媒は、光照射手段５による光照射により活性化する。光照射により照射される光は、光触媒を活性化させる光であれば特に定めるものではなく、紫外線照射が例示される。本発明においては、光照射手段５に用いるランプ（蛍光灯）以外の交換を必要としない。そして、このようなランプは特別の作業員でなくても取替え可能であるため、メンテナンスは実質的に不要に等しい。
さらに、光照射手段５により、筐体１内部の温度を変えてもよい。このような手段を採用することにより、より性能を高めることができる。
光照射手段５は、２枚以上の光触媒フィルタ３を用いる場合、光触媒フィルタ３毎に設けることが好ましい。 Light irradiation means 5
In the present invention, the photocatalyst is activated by light irradiation by the light irradiation means 5. The light irradiated by light irradiation is not particularly defined as long as it is light that activates the photocatalyst, and ultraviolet irradiation is exemplified. In the present invention, it is not necessary to replace the lamp other than the lamp (fluorescent lamp) used for the light irradiation means 5. And since such a lamp can be replaced even if it is not a special worker, maintenance is substantially unnecessary.
Further, the temperature inside the housing 1 may be changed by the light irradiation means 5. By adopting such means, the performance can be further improved.
The light irradiation means 5 is preferably provided for each photocatalytic filter 3 when two or more photocatalytic filters 3 are used.

ガス浄化装置
上記実施形態では、筐体１、洗浄フィルタ２、光触媒フィルタ３、洗浄手段４、光照射手段５、洗浄液回収手段８を有するガス浄化装置として開示しているが、これ以外の構成要素を含んでいてもよい。
例えば、本発明のガス浄化装置においては、洗浄フィルタ２と光触媒フィルタ３の間に第３のフィルタを設けてもよい。洗浄液が光触媒フィルタ３に移動し、光触媒の反応性を低くするのを抑止できる。但し、洗浄フィルタ２と光触媒フィルタ３の間を十分に設ける等の手段を採用することによりこの要件は回避することもできる。第３のフィルタを設ける場合、該第３のフィルタは取替え可能に設けてもよいし、固定式にしてもよい。
また、洗浄フィルタ２と光触媒フィルタ３の間に、乾燥ゾーンを設けてもよい。乾燥ゾーンを設けることにより、洗浄液を揮発させることができる。 In the above embodiment, the gas purification device is disclosed as a gas purification device having the casing 1, the cleaning filter 2, the photocatalytic filter 3, the cleaning means 4, the light irradiation means 5, and the cleaning liquid recovery means 8. May be included.
For example, in the gas purification apparatus of the present invention, a third filter may be provided between the cleaning filter 2 and the photocatalytic filter 3. It is possible to prevent the cleaning liquid from moving to the photocatalytic filter 3 and reducing the reactivity of the photocatalyst. However, this requirement can be avoided by adopting means such as providing a sufficient space between the cleaning filter 2 and the photocatalytic filter 3. When the third filter is provided, the third filter may be provided so as to be replaceable, or may be fixed.
A drying zone may be provided between the cleaning filter 2 and the photocatalytic filter 3. By providing the drying zone, the cleaning liquid can be volatilized.

さらに、本発明のガス浄化装置は、ガス吸引手段を有していてもよい。ガス吸引手段を設けることにより、ガス風速を一定にしたり、汚染ガスをガス浄化装置に吸収させたりすることができる。ガス吸引手段は、筐体内に設けてもよいし、筐体外に設けてもよい。装置の小型化の観点からは、筐体内である。また、機械の汚染ガス吹き出し口に接続して用いる場合や他のガス吸引装置に接続して用いる場合等、ガス吸引手段を必要としない場合には、該手段は設けなくてもよいことは言うまでもない。   Furthermore, the gas purification apparatus of the present invention may have gas suction means. By providing the gas suction means, the gas wind speed can be made constant, or the contaminated gas can be absorbed by the gas purification device. The gas suction means may be provided inside the housing or outside the housing. From the viewpoint of downsizing the device, it is inside the housing. Further, it goes without saying that when a gas suction means is not required, such as when connected to a contaminated gas outlet of a machine or when connected to another gas suction device, the means need not be provided. Yes.

本発明のガス浄化装置内のガスの風速は、略一定であることが好ましく、全体を通して風速の差は、±０．５ｍ／ｓ以下であることが好ましい。
ガスの風速は、好ましくは１．３ｍ／ｓ以下、より好ましくは１．０〜１．３ｍ／ｓである。このようにガスの風速を調整するための手段として、ガス吸引手段によって調節する方法、ガス入口部６の口径を調整する方法、機械全体の大きさの調整する方法等が挙げられる。
本発明のガス浄化装置は、小規模であっても、ガス洗浄力は高く、例えば、３６００ｍ3／ｈ以上の量のガスを、１時間の時間で処理できる。
本発明のガス浄化装置の大きさは、特に定めるものではないが、例えば、２０ｍ3／ｍｍ程度の規模の作業場や研究室で採用する場合、最大長が３ｍ以下のもの、より具体的には、長手方向（通常は、ガスの進行方向）が２．２〜３ｍ、長手方向に垂直な方向が１．５〜２ｍのものが挙げられる。 The gas wind speed in the gas purification apparatus of the present invention is preferably substantially constant, and the difference in wind speed throughout the whole is preferably ± 0.5 m / s or less.
The gas wind speed is preferably 1.3 m / s or less, more preferably 1.0 to 1.3 m / s. As a means for adjusting the gas wind speed in this way, there are a method of adjusting by a gas suction means, a method of adjusting the diameter of the gas inlet section 6, a method of adjusting the size of the entire machine, and the like.
Even if the gas purification apparatus of this invention is small scale, gas cleaning power is high and can process the gas of the quantity of 3600 m < 3 > / h or more in 1 hour time, for example.
The size of the gas purification apparatus of the present invention is not particularly defined. For example, when it is employed in a workshop or laboratory having a scale of about 20 m 3 / mm, the maximum length is 3 m or less, more specifically, The longitudinal direction (usually the gas traveling direction) is 2.2 to 3 m, and the direction perpendicular to the longitudinal direction is 1.5 to 2 m.

図１は、本発明のガス浄化装置の実施形態の一例を示す。FIG. 1 shows an example of an embodiment of a gas purification apparatus of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

１ 筐体
２ 洗浄フィルタ
３ 光触媒フィルタ
４ 洗浄手段
５ 光照射手段
６ ガス入口部
７ ガス出口部
８ 洗浄液回収手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Case 2 Cleaning filter 3 Photocatalyst filter 4 Cleaning means 5 Light irradiation means 6 Gas inlet part 7 Gas outlet part 8 Cleaning liquid collection means

Claims (4)

ガス入口部とガス出口部とを有する筐体と、
該筐体内に前記ガス入口部側から前記ガス出口部側に向かって該順に、ガスが通過するように設けられた、洗浄フィルタおよび、光触媒を含浸する光触媒フィルタと、
前記洗浄フィルタの少なくともガス入口部側の表面を洗浄する洗浄手段と、
前記光触媒を活性化する光を照射する光照射手段とを有する、ガス浄化装置。 A housing having a gas inlet portion and a gas outlet portion;
A cleaning filter provided so that gas passes through the casing from the gas inlet side toward the gas outlet side, and a photocatalytic filter impregnated with a photocatalyst;
Cleaning means for cleaning at least the surface of the cleaning filter on the gas inlet side;
A gas purification apparatus comprising: a light irradiation means for irradiating light that activates the photocatalyst. 前記洗浄手段は、前記洗浄フィルタのガス入口部側の表面に洗浄液を接触させることにより行うものである、請求項１に記載のガス浄化装置。 The gas purification apparatus according to claim 1, wherein the cleaning means is performed by bringing a cleaning liquid into contact with a surface of the cleaning filter on the gas inlet side. 前記ガス浄化装置の最大長が、５ｍ以下である、請求項１または２に記載のガス浄化装置。 The gas purification apparatus according to claim 1 or 2, wherein the maximum length of the gas purification apparatus is 5 m or less. ガス吸引手段を筐体内に有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のガス浄化装置。 The gas purification apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a gas suction unit in the housing.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012050979A (en) * 2010-08-05 2012-03-15 Toyo Kosho Kk Deodorizing device and deodorizing method
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