JP2007148072A - Near ir absorption filter, front filter for plasma display, and their manufacturing method - Google Patents

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Hitoshi Adachi
仁 安達
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a near IR absorption filter which reduces the deterioration in heat and light and is excellent in productivity and environmental aptitude, a near IR absorption filter manufactured by the method, and a front filter for plasma display. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the near IR absorption filter formed by coating the surface of a transparent support with a near IR absorption layer is characterized in that the near IR absorption layer is formed by coating the surface of the support with a coating liquid containing near IR absorption dye dispersed in a high boiling point solvent and drying the coating by heating. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、生産性が高く、保存性及び耐候性の優れた近赤外線吸収フィルタの製造方法、その方法によって製造された近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタに関する。   The present invention relates to a method for producing a near-infrared absorption filter having high productivity, excellent storage stability and weather resistance, and a near-infrared absorption filter produced by the method and a front filter for a plasma display.

プラズマディスプレイパネル(PDP)は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射させ、この光線で蛍光体を発光させるが、このとき800〜1000nmの近赤外線も放射される。この近赤外線は周辺機器に害を及ぼすものであり、周辺機器ごとに違いがあるが、家電用のテレビやクーラー等のリモコン、その他業務用等の特殊なリモコン等とプラズマディスプレイがそれぞれ発する近赤外線の波長が同域の波長である。したがって、このプラズマディスプレイの発する上記波長領域の近赤外線が、プラズマディスプレイが設置されている周辺の機器が誤動作を生じる原因となるため、リモコン等の操作素子の誤作動を防ぐ必要から、当該近赤外線放出の遮蔽に関する要求が高まっている。   In a plasma display panel (PDP), a rare gas is put into a plasma state to emit ultraviolet rays, and this light beam causes phosphors to emit light. At this time, near infrared rays of 800 to 1000 nm are also emitted. This near-infrared radiation is harmful to peripheral devices, and there are differences between peripheral devices, but near-infrared rays emitted from plasma displays and remote controls for televisions and coolers for home appliances, other special remote controls for business use, etc. Are wavelengths in the same region. Therefore, near infrared rays in the above wavelength region emitted by the plasma display cause malfunction of peripheral devices where the plasma display is installed. Therefore, it is necessary to prevent malfunctions of operation elements such as a remote controller. There is an increasing demand for emission shielding.

この要求に対して、PDPの前面硝子に近赤外線吸収フィルタを貼る方式の対策が簡便でコスト面でも有利であることから、この方式が主流となっている。   In response to this requirement, the method of attaching a near-infrared absorption filter to the front glass of the PDP is simple and advantageous in terms of cost, and this method has become mainstream.

しかし、PDPの発熱や紫外線のために、近赤外線吸収フィルタの劣化が課題で、耐熱性のある赤外線吸収染料の開発や吸収効率のよい紫外線吸収剤の併用等工夫がされているが満足な性能になっていないため、改良が要望されている。   However, due to the heat generation and ultraviolet rays of PDP, degradation of near-infrared absorbing filters is an issue, and the development of heat-resistant infrared absorbing dyes and the combined use of ultraviolet absorbers with good absorption efficiency are satisfactory, but satisfactory performance Therefore, improvement is desired.

また、近赤外線吸収染料の劣化は、水分の影響が大きいので水の影響を受けないように非水系で塗布する方法(例えば、特許文献1参照。)もあるが残留有機溶媒の影響を受ける欠点があり、無溶媒の疎水性樹脂の重合時に染料を存在させて、モノマーと重合開始剤から形成されたものを成型して使用する方法(例えば、特許文献2参照。)があるが、塗布方式でないので生産性が劣る。   In addition, the deterioration of the near-infrared absorbing dye is greatly affected by moisture, so that there is a method of applying it in a non-aqueous system so that it is not affected by water (for example, see Patent Document 1), but it is affected by the residual organic solvent. There is a method (for example, refer to Patent Document 2) in which a dye is present during polymerization of a solventless hydrophobic resin and a monomer and a polymerization initiator are molded and used. Therefore, productivity is inferior.

また、水系溶媒に染料を微粒子固体分散する方法(例えば、特許文献3参照。)が提案されている。しかし、この方法は水分の影響を少なからず受けて保存性が劣る。   In addition, a method (for example, see Patent Document 3) in which a dye is solid-dispersed in an aqueous solvent has been proposed. However, this method is not only slightly affected by moisture but has poor storage stability.

また、高速薄膜塗布で高生産性に有利なゼラチン分散水系塗布(例えば、特許文献4参照。)は、ゼラチンという素材がもつ保水性のために、近赤外線吸収染料の高温高湿保存の劣化が避けられないのが現状である。   In addition, gelatin-dispersed water-based coating (for example, see Patent Document 4), which is advantageous for high productivity by high-speed thin film coating, has a deterioration in high-temperature and high-humidity storage of near-infrared absorbing dyes because of the water retention property of gelatin. The current situation is inevitable.

このような状況から、光や熱による劣化が少なく、かつ環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタが要望されていた。
特開平10−186127号公報 (段落番号0059) 特開平11−109126号公報 (段落番号0042〜0043) 特開平11−109560号公報 (段落番号0105) 特開平10−333295号公報 (段落番号0071〜0131)
Under such circumstances, there has been a demand for a near-infrared absorbing filter that is less deteriorated by light and heat and that is excellent in environmental suitability.
JP 10-186127 A (paragraph number 0059) JP 11-109126 A (paragraph numbers 0042-0043) JP-A-11-109560 (paragraph number 0105) JP-A-10-333295 (paragraph numbers 0071 to 0131)

従って、本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタの製造方法、その方法によって製造される近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタを提供することである。   Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to produce a near-infrared absorption filter that has little deterioration against heat and light, and that is excellent in productivity and environmental suitability, and the method thereof. It is to provide a near-infrared absorption filter and a front filter for a plasma display to be manufactured.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。   The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.

1.透明支持体上に近赤外線吸収層を塗設してなる近赤外線吸収フィルタの製造方法において、該近赤外線吸収層が高沸点溶媒中に分散された近赤外線吸収染料を含む塗布液を支持体上に塗布し、加熱乾燥することにより形成されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタの製造方法。   1. In a method for producing a near-infrared absorbing filter comprising a near-infrared absorbing layer coated on a transparent support, a coating solution containing a near-infrared absorbing dye in which the near-infrared absorbing layer is dispersed in a high-boiling solvent is applied on the support. A method for producing a near-infrared absorbing filter, which is formed by applying to a substrate and drying by heating.

2.前記近赤外線吸収層の塗布液の溶媒の30質量%以上99質量%以下が水であることを特徴とする前記1に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。   2. 30. The method for producing a near-infrared absorbing filter according to 1, wherein 30% by mass or more and 99% by mass or less of the solvent of the coating solution for the near-infrared absorbing layer is water.

3.前記高沸点溶媒の含有量が、前記近赤外線吸収層中のバインダ総量の1〜30質量%であることを特徴とする前記1または2に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。   3. 3. The method for producing a near-infrared absorbing filter according to 1 or 2, wherein the content of the high boiling point solvent is 1 to 30% by mass of the total amount of the binder in the near-infrared absorbing layer.

4.前記近赤外線吸収層が、前記近赤外線吸収染料として、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム化合物、及びクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことを特徴とする前記1〜3のいずれか一項に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。   4). The above-mentioned 1-3, wherein the near-infrared absorbing layer contains at least one compound selected from a diimonium compound, a nickel dithiol compound, a phthalocyanine compound, a squarylium compound, and a croconium compound as the near-infrared absorbing dye. The manufacturing method of the near-infrared absorption filter as described in any one of Claims.

5.前記1〜4のいずれか一項に記載の製造方法により製造されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタ。   5. The near-infrared absorption filter manufactured by the manufacturing method as described in any one of said 1-4.

6.前記5に記載の近赤外線吸収フィルタを設けたことを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルタ。   6). 6. A front filter for plasma display, comprising the near-infrared absorption filter as described in 5 above.

本発明の構成により、熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタの製造方法、その方法によって製造される近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタを提供することができる。   According to the configuration of the present invention, there is provided a near-infrared absorption filter manufacturing method that is less susceptible to heat and light, has excellent productivity and environmental suitability, a near-infrared absorption filter manufactured by the method, and a front filter for plasma display can do.

以下、本発明と構成要素について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention and components will be described in detail.

(高沸点溶媒への分散)
本発明においては、支持体上の少なくとも1層に、分散物(近赤外線吸収染料)粒子の平均分散粒径が0.12μm以下の高沸点溶媒分散液を含有する。ここで、高沸点溶媒分散液とは、非水溶性(25℃において、蒸留水100gに対し溶解度が3g以下、好ましくは1g以下)有機化合物を含有する高沸点溶媒分散液である。非水溶性有機化合物の例としては、紫外線吸収剤、色濁り防止剤、褪色防止剤などが挙げられる。
(Dispersion in high boiling point solvent)
In the present invention, at least one layer on the support contains a high-boiling-point solvent dispersion having an average dispersed particle size of dispersion (near infrared absorbing dye) particles of 0.12 μm or less. Here, the high boiling point solvent dispersion is a high boiling point solvent dispersion containing an organic compound that is water-insoluble (at 25 ° C., the solubility is 3 g or less, preferably 1 g or less with respect to 100 g of distilled water). Examples of the water-insoluble organic compound include an ultraviolet absorber, a color turbidity inhibitor, and an antifading agent.

本発明に係る分散物の高沸点溶媒分散液は、近赤外線吸収層に含有される。高沸点溶媒分散液中分散物(近赤外線吸収染料)粒子の平均粒径0.12μm以下であり、好ましくは0.02〜0.11μm、より好ましくは0.04〜0.10μmである。平均分散粒径は、界面活性剤の種類や量の最適化や、高沸点溶媒分散液の粘度調整、分散乳化装置の乳化時間を長くしたり、圧力、剪断力の調整などを組み合わせることにより調整される。なお、平均分散粒径は、英国コールター社製ナノサイザーによって測定できる。   The high boiling point solvent dispersion of the dispersion according to the present invention is contained in the near infrared absorption layer. The average particle size of the dispersion (near infrared absorbing dye) particles in the high-boiling solvent dispersion is 0.12 μm or less, preferably 0.02 to 0.11 μm, more preferably 0.04 to 0.10 μm. The average dispersed particle size is adjusted by optimizing the type and amount of surfactant, adjusting the viscosity of the high boiling point solvent dispersion, increasing the emulsification time of the dispersion emulsifier, and adjusting the pressure and shear force. Is done. The average dispersed particle size can be measured with a nanosizer manufactured by Coulter, England.

本発明に係る近赤外線吸収染料の高沸点溶媒分散液は、水不溶性の高沸点有機溶媒(例えば、トリクレジルフォスフェート、ジブチルフタレート、ジノニルフェノール等)に染料を溶解した後、超音波分散等の方法により微細な高沸点有機溶媒(オイル)分散物として得ることができるものが好ましい。水不溶性の高沸点有機溶媒の沸点は100℃以上が好ましく特に好ましくは140℃以上300℃以下の溶媒が好ましい、分散時の分散媒としては特に制限はないが、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン共重合体、などの合成アニオンポリマー、カルボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合成ポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのアニオン性ポリマー、特開昭52−92716号、WO88/04794号などに記載のアニオン性界面活性剤、特願平7−350753号に記載の化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界面活性剤や、その他ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の公知のポリマー、あるいはゼラチン等の自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができる。   The high-boiling solvent dispersion of the near-infrared absorbing dye according to the present invention is prepared by dissolving the dye in a water-insoluble high-boiling organic solvent (for example, tricresyl phosphate, dibutyl phthalate, dinonylphenol, etc.) What can be obtained as a fine high-boiling organic solvent (oil) dispersion by the above method is preferred. The boiling point of the water-insoluble high-boiling organic solvent is preferably 100 ° C. or higher, particularly preferably a solvent having a temperature of 140 ° C. or higher and 300 ° C. or lower. The dispersion medium during dispersion is not particularly limited, and examples thereof include polyacrylic acid and acrylic acid. Copolymers, maleic acid copolymers, maleic acid monoester copolymers, acryloylmethylpropanesulfone copolymers, and other synthetic anionic polymers, carboxymethyl starch, semi-synthetic polymers such as carboxymethylcellulose, alginic acid, pectic acid, etc. Anionic polymers, anionic surfactants described in JP-A-52-92716, WO88 / 04794, etc., compounds described in Japanese Patent Application No. 7-350753, or known anionic, nonionic, cationic Surfactants, other polyvinyl alcohol, polyvinylpipes Pyrrolidone, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, known polymers such as hydroxypropyl methylcellulose, or a polymer compound existing in nature, such as gelatin can be suitably selected and used.

上記高沸点溶媒の含有量は、近赤外線吸収層のバインダ総量の1〜30質量%が好ましく、更に好ましくは3〜25質量%、最も好ましくは5〜20質量%である。含有量が上記範囲よりも少ない場合には、近赤外線吸収染料が高沸点溶媒中に十分に分散されないことから、所望の吸光度を得ることができず、また含有量が上記範囲よりも多い場合には、分散された高沸点溶媒が経時変化により、塗膜中で凝集してしまい、吸光度が低下してしまったり、高沸点溶媒が塗膜表面に油滴として現れる発汗現象が起こるなどすることから好ましくない。   The content of the high boiling point solvent is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 25% by mass, and most preferably 5 to 20% by mass, based on the total amount of the binder in the near infrared absorption layer. When the content is less than the above range, the near-infrared absorbing dye is not sufficiently dispersed in the high boiling point solvent, so that the desired absorbance cannot be obtained, and when the content is more than the above range. Because the dispersed high-boiling solvent aggregates in the coating film over time, and the absorbance decreases, or the sweating phenomenon that the high-boiling solvent appears as oil droplets on the coating surface occurs. It is not preferable.

(近赤外線吸収染料)
本発明において使用できる近赤外線吸収染料の具体例としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが挙げられる。PDP用光学フィルターで近赤外線吸収能が要求されるのは、主として熱線吸収や電子機器のノイズ防止である。このためには、最大吸収波長が750〜1100nmである近赤外線吸収能を有する染料が好ましく、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系、スクワリウム化合物系が好ましい。
(Near-infrared absorbing dye)
Specific examples of near infrared absorbing dyes that can be used in the present invention include polymethine, phthalocyanine, naphthalocyanine, metal complex, aminium, imonium, diimonium, anthraquinone, dithiol metal complex, naphthoquinone, Examples include indolephenol-based, azo-based, and triallylmethane-based compounds. The PDP optical filter is required to have near-infrared absorptivity mainly for absorption of heat rays and noise prevention of electronic devices. For this purpose, a dye having a near-infrared absorbing ability having a maximum absorption wavelength of 750 to 1100 nm is preferable, and a metal complex, aminium, phthalocyanine, naphthalocyanine, diimonium, and squalium compound are preferable.

特に、本発明においては、近赤外線吸収染料として、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム化合物、及びクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことが好ましい。   In particular, in the present invention, the near infrared absorbing dye preferably contains at least one compound selected from diimonium compounds, nickel dithiol compounds, phthalocyanine compounds, squarylium compounds, and croconium compounds.

従来知られているニッケルジチオール錯体系化合物またはフッ素化フタロシアニン系化合物の吸収極大は、700〜900nmであり、実用化するに当たっては、通常、上記化合物よりも長波長域に吸収極大を有するアミニウム系化合物、特にはジインモニウム系化合物と組み合わせて用いることにより、有効な近赤外線吸収効果を得ることができる。   The absorption maximum of conventionally known nickel dithiol complex-based compounds or fluorinated phthalocyanine-based compounds is 700 to 900 nm, and in practical use, usually an aminium-based compound having an absorption maximum in a longer wavelength region than the above compounds. In particular, when used in combination with a diimmonium compound, an effective near infrared absorption effect can be obtained.

ジイモニウム系化合物下記は一般式(1)で示すことができる。   Diimonium compounds The following can be represented by the general formula (1).

Figure 2007148072
Figure 2007148072

一般式(1)において、R1〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、アラルキル基または置換アラルキル基を示しており、それらは直鎖状でもあるいは分岐鎖状のいずれでもよい。また、それぞれ同じであっても異なっていても良い。また、Xは陰イオンを示す。 In the general formula (1), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, a cyclic alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, or a substituted aralkyl group, Either a chain or a branched chain may be used. Also, they may be the same or different. X represents an anion.

1〜R8において、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、アラルキル基または置換アラルキル基としては、次ぎのものがある。 In R 1 to R 8 , examples of the alkyl group, substituted alkyl group, cyclic alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or substituted aralkyl group include the following.

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基(炭素数1〜10のものが好ましい。)を、置換アルキル基としては、例えば、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−アセトキシエチル基、カルボキメチル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、2−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、4−スルホブチル基、3−スルフェイトプロピル基、4−スルフェイトブチル基、N−(メチルスルホニル)−カルバミルメチル基、3−(アセチルスルファミル)プロピル基、4−(アセチルスルファミル)ブチル基、シアノメチル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−シアノプロピル基、4−シアノブチル基、3−シアノブチル基、2−シアノブチル基、5−シアノペンチル基、4−シアノペンチル基、3−シアノペンチル基、2−シアノペンチル基、6−シアノヘキシル基、5−シアノヘキシル基、4−シアノヘキシル基、3−シアノヘキシル基、2−シアノヘキシル基等を、環式アルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基等を、アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基等が、アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、置換アラルキル基賭しては、例えば、カルボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベンジル基等がそれぞれあげられる。これらのRにおいて、炭素数が3〜6のアルキル基やシアノ基が置換されたアルキル基がより好適に用いられる。   Examples of the alkyl group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso- As a substituted alkyl group, a pentyl group, a t-pentyl group, an n-hexyl group, an n-octyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms), for example, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group 4-hydroxybutyl group, 2-acetoxyethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 2-sulfoethyl group, 3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 3-sulfatepropyl Group, 4-sulfate butyl group, N- (methylsulfonyl) -carbamylmethyl group, 3- (acetylsulfamyl) propyl 4- (acetylsulfamyl) butyl group, cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2-cyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 3-cyanobutyl group, 2-cyanobutyl group, 5-cyano Pentyl group, 4-cyanopentyl group, 3-cyanopentyl group, 2-cyanopentyl group, 6-cyanohexyl group, 5-cyanohexyl group, 4-cyanohexyl group, 3-cyanohexyl group, 2-cyanohexyl group Etc., as a cyclic alkyl group, for example, cyclohexyl group, etc., as alkenyl group, for example, vinyl group, allyl group, propenyl group, etc., as aralkyl group, for example, benzyl group, phenethyl group, α-naphthyl, etc. Examples of the methyl group, β-naphthylmethyl group, and substituted aralkyl group include carboxybenzyl group, sulfobe Jill group, hydroxybenzyl group, and the like, respectively. In R, an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms or an alkyl group substituted with a cyano group is more preferably used.

Xは1価の陰イオンまたは2価の陰イオンである。   X is a monovalent anion or a divalent anion.

1価の陰イオンとしては、有機酸1価アニオン、無機1価アニオン等があげられる。有機酸1価アニオンとしては、酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、ステアリン酸イオン等の有機カルボン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等の有機スルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ブチルトリフェニルホウ酸イオン等の有機ホウ酸イオン等があげられ、好ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等のハロゲノアルキルスルホン酸イオンもしくはアルキルアリールスルホン酸イオンが挙げられる。   Examples of monovalent anions include organic acid monovalent anions and inorganic monovalent anions. Examples of organic acid monovalent anions include acetate ions, lactate ions, trifluoroacetate ions, propionate ions, benzoate ions, oxalate ions, succinate ions, stearic acid ions, and other organic carboxylate ions, methanesulfonate ions, Organic sulfonate ions such as toluene sulfonate ion, naphthalene monosulfonate ion, chlorobenzene sulfonate ion, nitrobenzene sulfonate ion, dodecylbenzene sulfonate ion, benzene sulfonate ion, ethane sulfonate ion, trifluoromethane sulfonate ion, tetra And organic borate ions such as phenylborate ion and butyltriphenylborate ion, and preferably halogenoalkyl sulfate such as trifluoromethanesulfonate ion and toluenesulfonate ion. Phosphate ion or alkyl arylsulfonate ion.

無機1価アニオンとしては、例えばフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イオン、ホウ酸イオン等があげられ、好ましいものとしては、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン等が挙げられる。   Examples of the inorganic monovalent anion include halogen ions such as fluorine ion, chlorine ion, bromine ion and iodine ion, thiocyanate ion, hexafluoroantimonate ion, perchlorate ion, periodate ion, nitrate ion and tetrafluoroboron. Acid ions, hexafluorophosphate ions, molybdate ions, tungstate ions, titanate ions, vanadate ions, phosphate ions, borate ions, and the like. Preferred are perchlorate ions, iodine ions, Tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion and the like can be mentioned.

Xのうち2価の陰イオンとしては、ナフタレン−1,5−ジスルホン酸、R酸、G酸、H酸、ベンゾイルH酸、p−クロルベンゾイルH酸、p−トルエンスルホニルH酸、クロルH酸、クロルアセチルH酸、メタニルγ酸、6−スルホナフチル−γ酸、C酸、ε酸、p−トルエンスルホニルR酸、ナフタリン−1,6−ジスルホン酸、1−ナフトール−4,8−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルJ酸、4,4’−ジアミノスチルベン−2,2’−ジスルホン酸、ジJ酸、ナフタル酸、ナフタリン−2,3−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−4,4’−ジカルボン酸、6−スルホ−2−オキシ−3−ナフトエ酸、アントラキノン−1,8−ジスルホン酸、1,6−ジアミノアントラキノン−2,7−ジスルホン酸、2−(4−スルホフェニル)−6−アミノベンゾトリアゾール−5−スルホン酸、6−(3−メチル−5−ピラゾロニル)−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸、1−ナフトール−6−(4−アミノ−3−スルホ)アニリノ−3−スルホン酸等の2価の有機酸のイオンが挙げられる。これらの陰イオンのうち、好ましいものとしては、例えば過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等が挙げられる。   Among divalent anions of X, naphthalene-1,5-disulfonic acid, R acid, G acid, H acid, benzoyl H acid, p-chlorobenzoyl H acid, p-toluenesulfonyl H acid, chloro H acid , Chloroacetyl H acid, methanyl γ acid, 6-sulfonaphthyl-γ acid, C acid, ε acid, p-toluenesulfonyl R acid, naphthalene-1,6-disulfonic acid, 1-naphthol-4,8-disulfonic acid Naphthalenedisulfonic acid derivatives, carbonyl J acid, 4,4′-diaminostilbene-2,2′-disulfonic acid, diJ acid, naphthalic acid, naphthalene-2,3-dicarboxylic acid, diphenic acid, stilbene-4 , 4'-dicarboxylic acid, 6-sulfo-2-oxy-3-naphthoic acid, anthraquinone-1,8-disulfonic acid, 1,6-diaminoanthraquinone-2,7-disulfuric acid Acid, 2- (4-sulfophenyl) -6-aminobenzotriazole-5-sulfonic acid, 6- (3-methyl-5-pyrazolonyl) -naphthalene-1,3-disulfonic acid, 1-naphthol-6 And divalent organic acid ions such as (4-amino-3-sulfo) anilino-3-sulfonic acid. Among these anions, preferred are, for example, perchlorate ion, iodine ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, trifluoromethanesulfonate ion, toluenesulfonate ion, etc. Is mentioned.

イモニウム化合物の具体例を下記に示す。
(I−1)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−2)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・過塩素酸)
(I−3)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−アミルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−4)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−プロピルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−5)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ヘキシルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−6)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−iso−プロピルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−7)7N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−n−ペンチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
(I−8)N,N,N’,N’−テトラキス(4−ジ−メチルアミノフェニル)−1,4−ベンゾキノン−ビス(イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸)
ニッケルジチオール錯体化合物は下記一般式(2)で示すことができる。
Specific examples of the imonium compound are shown below.
(I-1) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-butylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-2) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-butylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium / perchloric acid)
(I-3) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-amylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-4) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-propylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-5) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-n-hexylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-6) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-iso-propylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-7) 7N, N, N ′, N′-Tetrakis (4-di-n-pentylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
(I-8) N, N, N ′, N′-tetrakis (4-di-methylaminophenyl) -1,4-benzoquinone-bis (imonium hexafluoroantimonic acid)
The nickel dithiol complex compound can be represented by the following general formula (2).

Figure 2007148072
Figure 2007148072

式中、R9、R10、R11及びR12は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基を表す。一つの芳香環に複数の置換基を有していてもよく、それらが互いに異なる置換基でも構わない。 In the formula, R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, hydroxy group, trifluoromethyl group, alkylthio group, arylthio group, A nitro group, a cyano group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an alkylamino group is represented. One aromatic ring may have a plurality of substituents, and they may be different from each other.

9、R10、R11及びR12において、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基としてはつぎのものがある。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等、アルキルとして、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等、シクロアルキル基として、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等、アリール基としては、例えば、フェニル基、p−ニトロフェニル基等、アルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等、アリールチオ基として、例えば、フェニルチオ基、トリルチオ基等、アルコキシ基として例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基等、アリールオキシ基として、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、ナフトキシ基等、アルキルアミノ基として、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、iso−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジ−iso−プロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−iso−ブチルアミノ基、ジ−n−ペンチルアミノ基、ジ−iso−ペンチルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−ヘプチルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−(2−エチルヘキシル)アミノ基、ジベンジルアミノ基、アリールアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等を表す。式中、rは1〜5の整数を表す。 In R 9 , R 10 , R 11 and R 12 , the halogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group, aryloxy group, and alkylamino group include the following. As the halogen atom, for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc., alkyl, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc., as cycloalkyl group, for example As an aryl group, for example, a phenyl group, a p-nitrophenyl group, an alkylthio group, for example, a methylthio group, an ethylthio group, a butylthio group, etc., an arylthio group, for example, a phenylthio group, Examples of alkoxy groups such as tolylthio group include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, n-pentyloxy group, iso-pentyloxy As an aryloxy group, for example, Examples of alkylamino groups such as a nonoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, naphthoxy group, and the like include, for example, methylamino group, ethylamino group, n-propylamino group, iso-propylamino Group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, nonylamino group, benzylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, di-iso-propylamino Group, di-n-butylamino group, di-iso-butylamino group, di-n-pentylamino group, di-iso-pentylamino group, di-n-hexylamino group, di-n-heptylamino group, Di-n-octylamino group, di- (2-ethylhexyl) amino group, dibenzylamino group Arylamino group, diphenylamino group, a ditolylamino group. In the formula, r represents an integer of 1 to 5.

好ましい具体例を下記に示す。   Preferred specific examples are shown below.

Figure 2007148072
Figure 2007148072

Figure 2007148072
Figure 2007148072

本発明に好ましいフタロシアニン化合物は、下記一般式(3)で示すことができる。   A preferred phthalocyanine compound for the present invention can be represented by the following general formula (3).

Figure 2007148072
Figure 2007148072

式中、R13からR16は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基、あるいは置換又は未置換のアリールチオ基を表している。一つの芳香環に複数の置換基を有していてもよく、それらが互いに異なる置換基でも構わない。また、Mは2価の金属原子、3価又は4価の置換金属原子、またはオキシ金属を表す。 In the formula, each of R 13 to R 16 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryloxy Represents a group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, or a substituted or unsubstituted arylthio group. One aromatic ring may have a plurality of substituents, and they may be different from each other. M represents a divalent metal atom, a trivalent or tetravalent substituted metal atom, or an oxy metal.

13からR16の例としては、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基、あるいは置換又は未置換のアリールチオ基としては、次のものがある。ハロゲン原子として、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等、置換又は未置換のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、1,2−ジメチル−プロピル基、n−ヘキシル基、cyclo−ヘキシル基、1,3−ジメチル−ブチル基、1−iso−プロピルプロピル基、1,2−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、1,4−ジメチルペンチル基、2−メチル1−iso−プロピルプロピル基、1−エチル−3−メチルブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、3−メチル−1−iso−プロピルブチル基、2−メチル−1−iso−プロピル基、1−t−ブチル−2−メチルプロピル基、n−ノニル基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、γ−メトキシプロピル基、γ−エトキシプロピル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、クロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、1,1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2−プロピル基等のハロゲン化アルキル基、アルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等、置換または未置換のアルコキシ基の例として、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基、neo−ペンチルオキシ基、1,2−ジメチル−プロピルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、cyclo−ヘキシルオキシ基、1,3−ジメチル−ブチルオキシ基、1−iso−プロピルプロピルオキシ基、1,2−ジメチルブチルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、1,4−ジメチルペンチルオキシ基、2−メチル−1−iso−プロピルプロピルオキシ基、1−エチル−3−メチルブチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルオキシ基、2−メチル−1−iso−プロピルオキシ基、1−t−ブチル−2−メチルプロピルオキシ基、n−ノニルオキシ基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、γ−メトキシプロピルオキシ基、γ−エトキシプロピルオキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ジメトキシメトキシ基、ジエトキシメトキシ基、ジメトキシエトキシ基、ジエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ブチルオキシエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルコキシ基、クロロメトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、1,1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2−プロピルオキシ基等のハロゲン化アルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、ジエチルアミノエトキシ基などのアルキルアミノアルコキシ基、ジアルキルアミノアルコキシ基等、置換又は未置換のアリール基として、例えば、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フッ素化フェニル基、ヨウ素化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ピリジル基などが挙げられる。置換又は未置換のアリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アルキルフェノキシ基等、置換又は未置換のアルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、1,2−ジメチル−プロピルチオ基、n−ヘキシルチオ基、cyclo−ヘキシルチオ基、1,3−ジメチル− ブチルチオ基、1−iso−プロピルプロピルチオ基、1,2−ジメチルブチルチオ基、n−ヘプチルチオ基、1,4−ジメチルペンチルチオ基、2−メチル1−iso−プロピルプロピルチオ基、1−エチル−3−メチルブチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルチオ基、2−メチル−1−iso−プロピルチオ基、1−t−ブチル−2−メチルプロピルチオ基、n−ノニルチオ基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、メトキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、プロポキシエチルチオ基、ブトキシエチルチオ基、γ−メトキシプロピルチオ基、γ−エトキシプロピルチオ基、メトキシエトキシエチルチオ基、エトキシエトキシエチルチオ基、ジメトキシメチルチオ基、ジエトキシメチルチオ基、ジメトキシエチルチオ基、ジエトキシエチルチオ基等のアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキルチオ基、クロロメチルチオ基、2,2,2−トリクロロエチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリクロロエチルチオ基、1,1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2−プロピルチオ基等のハロゲン化アルキルチオ基、ジメチルアミノエチルシチオ基、ジエチルアミノエチルチオ基等のアルキルアミノアルキルチオ基、ジアルキルアミノアルキルチオ基等、置換又は未置換のアルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、1,2−ジメチル−プロピルチオ基、n−ヘキシルチオ基、cyclo−ヘキシルチオ基、1,3−ジメチル−ブチルチオ基、1−iso−プロピルプロピルチオ基、1,2−ジメチルブチルチオ基、n−ヘプチルチオ基、1,4−ジメチルペンチルチオ基、2−メチル1−iso−プロピルプロピルチオ基、1−エチル−3−メチルブチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルチオ基、2−メチル−1−iso−プロピルチオ基、1−t−ブチル−2−メチルプロピルチオ基、n−ノニルチオ基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、メトキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、プロポキシエチルチオ基、ブトキシエチルチオ基、γ−メトキシプロピルチオ基、γ−エトキシプロピルチオ基、メトキシエトキシエチルチオ基、エトキシエトキシエチルチオ基、ジメトキシメチルチオ基、ジエトキシメチルチオ基、ジメトキシエチルチオ基、ジエトキシエチルチオ基等のアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキルチオ基、クロロメチルチオ基、2,2,2−トリクロロエチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリクロロエチルチオ基、1,1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2−プロピルチオ基等のハロゲン化アルキルチオ基、ジメチルアミノエチルシチオ基、ジエチルアミノエチルチオ基等のアルキルアミノアルキルチオ基、ジアルキルアミノアルキルチオ基等、置換又は未置換のアリールチオ基の例として、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アルキルフェニルチオ基等を挙げることができる。 Examples of R 13 to R 16 include halogen atoms, substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted alkoxy groups, substituted or unsubstituted aryl groups, substituted or unsubstituted aryloxy groups, substituted or unsubstituted Examples of the alkylthio group or the substituted or unsubstituted arylthio group include the following. As a halogen atom, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. As a substituted or unsubstituted alkyl group, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group , Iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethyl-propyl group, n-hexyl group, cyclo-hexyl group, 1,3-dimethyl-butyl group, 1-iso-propylpropyl group, 1,2-dimethylbutyl group, n-heptyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 2-methyl 1-iso-propylpropyl group, 1 -Ethyl-3-methylbutyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 3-methyl-1-iso-propylbutyl group, 2-methyl-1-iso C1-C20 linear or branched alkyl group such as propyl group, 1-t-butyl-2-methylpropyl group, n-nonyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, propoxyethyl group , Alkoxyalkyl groups such as butoxyethyl group, γ-methoxypropyl group, γ-ethoxypropyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, dimethoxymethyl group, diethoxymethyl group, dimethoxyethyl group, diethoxyethyl group, Alkoxyalkoxyalkyl group, alkoxyalkoxyalkoxyalkyl group, chloromethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 1,1,1,3,3, Halogenated alkyl groups such as 3, -hexafluoro-2-propyl group, Examples of substituted or unsubstituted alkoxy groups such as a ruaminoalkyl group, a dialkylaminoalkyl group, an alkoxycarbonylalkyl group, an alkylaminocarbonylalkyl group, an alkoxysulfonylalkyl group, and the like include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, and n-propyloxy Group, iso-propyloxy group, n-butyloxy group, iso-butyloxy group, sec-butyloxy group, t-butyloxy group, n-pentyloxy group, iso-pentyloxy group, neo-pentyloxy group, 1,2- Dimethyl-propyloxy group, n-hexyloxy group, cyclo-hexyloxy group, 1,3-dimethyl-butyloxy group, 1-iso-propylpropyloxy group, 1,2-dimethylbutyloxy group, n-heptyloxy group 1,4-dimethyl Nyloxy group, 2-methyl-1-iso-propylpropyloxy group, 1-ethyl-3-methylbutyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3-methyl-1-iso-propylbutyloxy Group, 2-methyl-1-iso-propyloxy group, 1-t-butyl-2-methylpropyloxy group, n-nonyloxy group, etc., linear or branched alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, methoxymethoxy group , Methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, propoxyethoxy group, butoxyethoxy group, γ-methoxypropyloxy group, γ-ethoxypropyloxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, dimethoxymethoxy group, diethoxymethoxy group, Dimethoxyethoxy group, diethoxyethoxy group, etc. Alkoxyalkoxyalkoxy groups such as xyalkoxy groups, methoxyethoxyethoxy groups, ethoxyethoxyethoxy groups, butyloxyethoxyethoxy groups, alkoxyalkoxyalkoxyalkoxy groups, chloromethoxy groups, 2,2,2-trichloroethoxy groups, trifluoromethoxy groups , 2,2,2-trichloroethoxy groups, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyloxy groups and other halogenated alkoxy groups, dimethylaminoethoxy groups, diethylaminoethoxy groups and other alkyl groups Examples of substituted or unsubstituted aryl groups such as aminoalkoxy groups and dialkylaminoalkoxy groups include halogenated fluorine groups such as phenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl, fluorinated phenyl, and iodinated phenyl groups. Examples include an phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, an ethylphenyl group, a methoxyphenyl group, an ethoxyphenyl group, and a pyridyl group. Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group include a phenoxy group, a naphthoxy group, an alkylphenoxy group, etc., and a substituted or unsubstituted alkylthio group such as a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, and an iso-propylthio group. N-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neo-pentylthio group, 1,2-dimethyl-propylthio group, n-hexylthio group, Cyclo-hexylthio group, 1,3-dimethyl-butylthio group, 1-iso-propylpropylthio group, 1,2-dimethylbutylthio group, n-heptylthio group, 1,4-dimethylpentylthio group, 2-methyl 1 -Iso-propylpropylthio group, 1-ethyl-3-methylbut Tylthio group, n-octylthio group, 2-ethylhexylthio group, 3-methyl-1-iso-propylbutylthio group, 2-methyl-1-iso-propylthio group, 1-t-butyl-2-methylpropylthio group A linear or branched alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms such as n-nonylthio group, methoxymethylthio group, methoxyethylthio group, ethoxyethylthio group, propoxyethylthio group, butoxyethylthio group, γ-methoxypropylthio group Group, γ-ethoxypropylthio group, methoxyethoxyethylthio group, ethoxyethoxyethylthio group, dimethoxymethylthio group, diethoxymethylthio group, dimethoxyethylthio group, diethoxyethylthio group, alkoxyalkylthio group, alkoxyalkoxyalkylthio group , Alkoxyalkoxyalkoxy Sialkylthio group, chloromethylthio group, 2,2,2-trichloroethylthio group, trifluoromethylthio group, 2,2,2-trichloroethylthio group, 1,1,1,3,3,3, -hexafluoro As a substituted or unsubstituted alkylthio group such as a halogenated alkylthio group such as a 2-propylthio group, an alkylaminoalkylthio group such as a dimethylaminoethylsithio group, a diethylaminoethylthio group, a dialkylaminoalkylthio group, and the like, for example, Ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neo-pentylthio group, 1, 2-dimethyl-propylthio group, n-hexylthio , Cyclo-hexylthio group, 1,3-dimethyl-butylthio group, 1-iso-propylpropylthio group, 1,2-dimethylbutylthio group, n-heptylthio group, 1,4-dimethylpentylthio group, 2-methyl 1-iso-propylpropylthio group, 1-ethyl-3-methylbutylthio group, n-octylthio group, 2-ethylhexylthio group, 3-methyl-1-iso-propylbutylthio group, 2-methyl-1- C1-C20 linear or branched alkylthio group such as iso-propylthio group, 1-t-butyl-2-methylpropylthio group, n-nonylthio group, methoxymethylthio group, methoxyethylthio group, ethoxyethylthio Group, propoxyethylthio group, butoxyethylthio group, γ-methoxypropylthio group, γ-ethoxypropylthio group , Alkoxymethoxythio groups such as methoxyethoxyethylthio group, ethoxyethoxyethylthio group, dimethoxymethylthio group, diethoxymethylthio group, dimethoxyethylthio group, diethoxyethylthio group, alkoxyalkoxyalkylthio group, alkoxyalkoxyalkoxyalkylthio group, chloro Methylthio group, 2,2,2-trichloroethylthio group, trifluoromethylthio group, 2,2,2-trichloroethylthio group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propylthio group Examples of substituted or unsubstituted arylthio groups such as alkylaminoalkylthio groups such as halogenated alkylthio groups, dimethylaminoethylthiothio groups, and diethylaminoethylthio groups, and dialkylaminoalkylthio groups include phenylthio groups and naphthyl groups. Thio, and the like alkylphenylthio group.

Mとしては、次のものがある。2価の金属として、例えば Cu(II)、Zn(II)、Co(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)等、1置換の3価金属の例として、Al−Cl、Al−Br、Al−F、Al−I、Ga−Cl、Ga−F、Ga−I、Ga−Br、In−Cl、In−Br、In−I、In−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Tl−F、Al−C65、Al−C64(CH3)、In−C65、In−C64(CH3)、In−C65、Mn(OH)、Mn(OC65)、Mn〔OSi(CH33〕、Fe−Cl、Ru−Cl等、2置換の4価金属として、CrCl2、SiCl2、SiBr2、SiF2、SiI2、ZrCl2、GeCl2、GeBr2、GeI2、GeF2、SnCl2、SnBr2、SnF2、TiCl2、TiBr2、TiF2、Si(OH)2、Ge(OH)2、Zr(OH)2、Mn(OH)2、Sn(OH)2、TiR2、CrR2、SiR2、SnR2、GeR2〔Rはアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Si(OR’)2、Sn(OR’)2、Ge(OR’)2、Ti(OR’)2、Cr(OR’)2〔R’はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Sn(SR”)2、Ge(SR”)2(R”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す)など、オキシ金属の例としては、VO、MnO、TiO等を挙げることができる。pは1〜4の整数を表す。また、置換基が隣接する場合、5員又は6員の環を形成してもよい。該化合物の合成方法は特開2005−145896号公報を参考にすることができる。 Examples of M include the following. Examples of the divalent metal include Cu (II), Zn (II), Co (II), Ni (II), Ru (II), Rh (II), Pd (II), Pt (II), Mn (II ), Mg (II), Ti (II), Be (II), Ca (II), Ba (II), Hg (II), Pb (II), Sn (II), etc. Examples include Al-Cl, Al-Br, Al-F, Al-I, Ga-Cl, Ga-F, Ga-I, Ga-Br, In-Cl, In-Br, In-I, In-F. , Tl-Cl, Tl-Br , Tl-I, Tl-F, Al-C 6 H 5, Al-C 6 H 4 (CH 3), In-C 6 H 5, In-C 6 H 4 (CH 3 ), In—C 6 H 5 , Mn (OH), Mn (OC 6 H 5 ), Mn [OSi (CH 3 ) 3 ], Fe—Cl, Ru—Cl, etc. CrCl 2, SiCl 2, SiB 2, SiF 2, SiI 2, ZrCl 2, GeCl 2, GeBr 2, GeI 2, GeF 2, SnCl 2, SnBr 2, SnF 2, TiCl 2, TiBr 2, TiF 2, Si (OH) 2, Ge (OH ) 2 , Zr (OH) 2 , Mn (OH) 2 , Sn (OH) 2 , TiR 2 , CrR 2 , SiR 2 , SnR 2 , GeR 2 [R is an alkyl group, phenyl group, naphthyl group or derived therefrom Si (OR ′) 2 , Sn (OR ′) 2 , Ge (OR ′) 2 , Ti (OR ′) 2 , Cr (OR ′) 2 [R ′ represents an alkyl group, a phenyl group , A naphthyl group, a trialkylsilyl group, a dialkylalkoxysilyl group or a group derived therefrom], Sn (SR ″) 2 , Ge (SR ″) 2 (R ″ represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or Derived from them Examples of the oxymetal include VO, MnO, TiO, etc. p represents an integer of 1 to 4. When the substituent is adjacent, 5 or 6 members JP, 2005-145896, A can be referred to for the synthesis method of the compound.

フタロシアニン化合物の合成方法は特開2005−145896号公報を参考にすることができる。好ましいフタロシアニン化合物を下記に示す。   JP, 2005-145896, A can be referred to for the synthesis method of a phthalocyanine compound. Preferred phthalocyanine compounds are shown below.

Figure 2007148072
Figure 2007148072

Figure 2007148072
Figure 2007148072

Figure 2007148072
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スクワリウム系化合物は下記一般式(4)で示すことができる。   The squalium compound can be represented by the following general formula (4).

Figure 2007148072
Figure 2007148072

式中、R17〜R27は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロ環基を表し、これらは置換基を有してもよく、m、nは0または1〜6の整数を表す。 In the formula, each of R 17 to R 27 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heterocyclic group, and these may have a substituent, and m and n are 0 or The integer of 1-6 is represented.

17からR27で表されるアルキル基は、炭素数1から20、より好ましくは1から12のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、へキシル、ウンデシル)である。又、ハロゲン原子(F、Cl、Br)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、イソブトキシ)又はアシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ、ブチリルオキシ、ヘキシリルオキシ、ベンゾイルオキシ)、スルホ基(塩でもよい)、カルボキシル基(塩でもよい)等で置換されていてもよい。 The alkyl group represented by R 17 to R 27 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbons (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, undecyl). In addition, a halogen atom (F, Cl, Br), an alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), a hydroxy group, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, phenoxy, isobutoxy) or an acyloxy group (for example, acetyloxy, (Butyryloxy, hexyloxy, benzoyloxy), a sulfo group (may be a salt), a carboxyl group (may be a salt) and the like.

17からR27で表されるシクロアルキル基は、シクロペンチル、シクロヘキシルを挙げることが出来る。 Examples of the cycloalkyl group represented by R 17 to R 27 include cyclopentyl and cyclohexyl.

17からR27で表されるアリール基は、6から12の炭素数のものが好ましく、フェニル基又はナフチル基が挙げられる。アリール基は、置換していてもよい。置換基としては、炭素数1から8のアルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル)、炭素原子数1から6のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子(F、Cl、Br)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、アミノ基(例えば、メチルアミノ、アセチルアミノ、メタンスルホンアミド)、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基(塩でもよい)およびスルホ基(塩でもよい)が含まれる。 The aryl group represented by R 17 to R 27 preferably has 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. The aryl group may be substituted. Examples of the substituent include alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, butyl), alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy, ethoxy), aryloxy groups (for example, phenoxy, p- Chlorophenoxy), halogen atom (F, Cl, Br), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), amino group (eg, methylamino, acetylamino, methanesulfonamide), cyano group, nitro group, carboxyl Groups (which may be salts) and sulfo groups (which may be salts) are included.

17からR27で表されるアラルキル基は、7から12の炭素数を有するアラルキル基が好ましく(例えば、ベンジル、フェニルエチル)、置換基(例えば、メチル、メトキシ、クロル原子)を有していてもよい。 The aralkyl group represented by R 17 to R 27 is preferably an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl, phenylethyl) and has a substituent (eg, methyl, methoxy, chloro atom). May be.

17からR27で表されるヘテロ環基としては、チエニル、フリル、ピロリル、ピラゾリル、ピリジル、インドリル等を挙げることが出来る。隣接する置換基がお互いに結合しシクロペンタン又はシクロヘキサン環を形成してもよい。 Examples of the heterocyclic group represented by R 17 to R 27 include thienyl, furyl, pyrrolyl, pyrazolyl, pyridyl, indolyl and the like. Adjacent substituents may be bonded to each other to form a cyclopentane or cyclohexane ring.

一般式(4)で表される化合物は、混合物であってもよい。また、該化合物についてはD.J.Gravesteijnetal:Optical Storage Media SPIE−420,p327,1983を参考にすることができる。好ましいスクワリウム系化合物の具体例を下記に示す。一般式(4)に含まれないものであるが好ましいスクワリウム化合物例も示す。   The compound represented by the general formula (4) may be a mixture. In addition, for this compound, D.C. J. et al. Gravesteijnetal: Optical Storage Media SPIE-420, p327, 1983 can be referred to. Specific examples of preferable squarylium compounds are shown below. Examples of preferred squarylium compounds that are not included in the general formula (4) are also shown.

Figure 2007148072
Figure 2007148072

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本発明に係る近赤外線吸収染料としての市販品は、ジイモニウム化合物は、IRG−022、IRG−040(これらは日本化薬株式会社製商品名である)、ニッケルジチオール錯体化合物は、SIR−128、SIR−130、SIR−132、SIR−159、SIR−152、SIR−162(これらは三井化学株式会社製商品名である)、フタロシアニン系化合物は、IR−10,IR−12(以上、日本触媒株式会社商品名)などを挙げることができる。   Commercially available products as near-infrared absorbing dyes according to the present invention are diimonium compounds such as IRG-022, IRG-040 (these are trade names manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), nickel dithiol complex compounds are SIR-128, SIR-130, SIR-132, SIR-159, SIR-152, SIR-162 (these are trade names manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), phthalocyanine compounds are IR-10, IR-12 (above, Nippon Shokubai). (Trade name).

(バインダ)
赤外吸収染料を含有する層はバインダを用いることによって形成することができる。ここで用いるバインダとしては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ニトロセルロース、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ノルボルネン系樹脂、エポキシ系樹脂及び紫外線硬化樹脂等が好ましいが、更に好ましくは、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂である。本発明のバインダに用いられるアクリル系樹脂としては、下記一般式(3)で表される(メタ)アクリル酸エステル単位を10質量%以上含む重合体もしくは共重合体が好ましい。
(Binder)
The layer containing the infrared absorbing dye can be formed by using a binder. Examples of the binder used here include polyester resins, polycarbonate resins, nitrocellulose, acrylic resins, polyurethane resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, phenoxy resins, norbornene resins, and epoxy resins. Resins and ultraviolet curable resins are preferable, and polyester resins and acrylic resins are more preferable. The acrylic resin used in the binder of the present invention is preferably a polymer or copolymer containing 10% by mass or more of a (meth) acrylic acid ester unit represented by the following general formula (3).

Figure 2007148072
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[式中、R31は水素原子またはメチル基を表し、R32は−Cn2n+1(nは1〜10の整数)を表す。]
これらのバインダの例としては、例えば、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチルメタアクリレート、ポリブチルメタアクリレート、ポリメタアクリル酸、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリブチルメタアクリレート及びこれらポリマーを構成するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。アクリル系樹脂としては、例えば、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118(三菱レーヨン(株)製)等のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましい樹脂を適宜選択することもできる。上記のバインダは、他のバインダと混合して用いてもよい。このようなバインダとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアルギン酸(塩)のような水溶性ポリマー、セルロースエステル(例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース)、ポリスチレン及びポリエーテルケトン及びこれらの共重合体、ポリビニルアルコール、カゼイン、寒天、アラビアゴム、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセテートなどのポリマー等が挙げられる。
[Wherein R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 32 represents —C n H 2n + 1 (n is an integer of 1 to 10). ]
Examples of these binders include, for example, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polymethacrylic acid, polymethyl acrylate, polyethyl acrylate, polybutyl methacrylate, and monomers constituting these polymers. Examples include copolymers with other monomers. Examples of the acrylic resin include Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001. , M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR-80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR- 105, BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Various homopolymers and copolymers were prepared methacrylic monomer as a raw material are commercially available and can also be suitably selecting a preferred resin from the. The above binder may be mixed with other binders. Examples of such binders include water-soluble polymers such as gelatin, polyvinyl alcohol, polyalginic acid (salt), cellulose esters (for example, triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, nitro Cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose), polystyrene and polyether ketone and copolymers thereof, polyvinyl alcohol, casein, agar, gum arabic, hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyvinyl chloride, polymethacrylic acid And polymers such as polyvinylidene chloride and polyvinyl acetate.

また、本発明のバインダに用いられるポリエステル系樹脂としては、溶剤溶解性のポリエステルが好ましく、例えば、東洋紡(株)のバイロン103、バイロン200、バイロン300、バイロン630、ユニチカ(株)のエリーテルUE−3210、UE−3300、東レ(株)のエステルレジン100、住友化学(株)のスミカスーパーS200、S300等が挙げられる。赤外吸収染料を含有する層の成分は、その上に塗設される層の塗布溶剤に対して溶解または膨潤するものであることが好ましい。また、赤外吸収染料を含有する層の厚みは0.1μm以上、15μm以下が好ましく、0.2μm以上、10μm以下が特に好ましい。赤外吸収染料を含有する層は赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液を塗設によって設けることができる。赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液を調製する際に使用する溶媒は、各成分を溶解あるいは分散することができる溶媒であればいかなる溶媒であってもよく、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類が挙げられる。これらの溶媒は、2種以上を併用してもよい。赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液の塗布には、例えば、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。   The polyester resin used in the binder of the present invention is preferably a solvent-soluble polyester. For example, Toyobo Co., Ltd. Byron 103, Byron 200, Byron 300, Byron 630, Unitika Ltd. Elitel UE- 3210, UE-3300, ester resin 100 of Toray Industries, Inc., Sumika Super S200, S300 of Sumitomo Chemical Co., Ltd., and the like. The component of the layer containing the infrared absorbing dye is preferably one that dissolves or swells in the coating solvent of the layer coated thereon. The thickness of the layer containing the infrared absorbing dye is preferably 0.1 μm or more and 15 μm or less, and particularly preferably 0.2 μm or more and 10 μm or less. The layer containing the infrared absorbing dye can be provided by coating with a coating solution containing components constituting the layer containing the infrared absorbing dye. The solvent used when preparing the coating liquid containing the component constituting the layer containing the infrared absorbing dye may be any solvent as long as it can dissolve or disperse each component. Examples include hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, and glycol ethers. Two or more of these solvents may be used in combination. For application of the coating solution containing the component constituting the layer containing the infrared absorbing dye, for example, a gravure coater, spinner coater, wire bar coater, roll coater, roll coater, reverse coater, extrusion coater, air doctor coater and the like are known methods. Can be used.

(近赤外線吸収層)
本発明に係る近赤外線吸収層は水系の塗布液を塗布後乾燥して形成する。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の30質量%以上が水であることをいう。
(Near-infrared absorbing layer)
The near-infrared absorbing layer according to the present invention is formed by applying an aqueous coating solution and then drying it. However, the term “aqueous” as used herein means that 30% by mass or more of the solvent (dispersion medium) of the coating solution is water.

本発明では、近赤外線吸収層の塗布液の溶媒の30質量%以上99質量%以下が水であることが好ましい。   In this invention, it is preferable that 30 to 99 mass% of the solvent of the coating liquid of a near-infrared absorption layer is water.

当該塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。   As components other than water in the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used.

具体的な溶媒組成の例としては以下のようなものがある。水/メタノール=90/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=90/10、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホルムアミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=90/5/5(ただし数字は質量を表す)。   Specific examples of the solvent composition include the following. Water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/10, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide = 80 / 15/5, water / methanol / dimethylformamide = 90/5/5 (however, the number represents mass).

本発明に係る近赤外線吸収層の1層当たりの全バインダ量は1m2当たりの塗布量で示して0.2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が好ましい。近赤外線吸収層の1層当たりの膜厚は0.3〜50μmであることが好ましく、より好ましくは1.5〜30μmである。 Total binder content of each layer of the near infrared absorbing layer according to the present invention is 0.2 to 30 g / m 2 indicates the coating amount per 1 m 2, more preferably in the range of 1 to 15 g / m 2. The film thickness per layer of the near-infrared absorbing layer is preferably 0.3 to 50 μm, more preferably 1.5 to 30 μm.

なお、本発明においては、近赤外吸収染料を含有する層のバインダには親水性ポリマーを用いることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a hydrophilic polymer for the binder of the layer containing the near infrared absorbing dye.

(親水性ポリマー)
本発明においては、親水性ポリマーとしては中でもゼラチンが最も好ましい。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンなど、どのようなものでも良い。さらにゼラチン誘導体を用いてもよい。また、バインダーとしては親水性ポリマーに加えて、スチレン、メタクリル酸メチル、アクリル酸、ブチルアクリレート、エチルアクリレート、などのホモまたはコポリマーのラテックスを加えてもよい。これらのラテックスは、水分性を向上させるためのノニオン基(ポリエチレングリコールとアクリル酸のエステル)、アニオン基(例えば、イタコン酸、アクリル酸等のカルボン酸基を持つモノマー)、スルホン酸基(例えば、スチレンスルホン酸、N−ジメチルスルホプロパンアクリルアミド)のあるモノマーを1モル%〜20モル%の範囲で共重合させると水分散性を向上させることができる。
(Hydrophilic polymer)
In the present invention, gelatin is most preferable as the hydrophilic polymer. Any gelatin such as lime-processed gelatin or acid-processed gelatin may be used. Further, a gelatin derivative may be used. Further, as a binder, in addition to a hydrophilic polymer, a homo or copolymer latex such as styrene, methyl methacrylate, acrylic acid, butyl acrylate, ethyl acrylate, or the like may be added. These latexes include nonionic groups (polyethylene glycol and acrylic acid esters), anionic groups (for example, monomers having carboxylic acid groups such as itaconic acid and acrylic acid), and sulfonic acid groups (for example, for improving moisture properties). When a monomer having styrenesulfonic acid or N-dimethylsulfopropaneacrylamide is copolymerized in the range of 1 mol% to 20 mol%, water dispersibility can be improved.

(塗布方式)
本発明に係る塗布には、例えば、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押し出しコーター、エアードクター、スライドコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で1〜100μmが適当で、好ましくは10〜80μmである。塗布速度は好ましくは10〜100m/minで行われる。
(Application method)
For the coating according to the present invention, for example, a known method such as a gravure coater, spinner coater, wire bar coater, roll coater, reverse coater, extrusion coater, air doctor, slide coater can be used. The coating amount is suitably 1 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm in terms of wet film thickness. The coating speed is preferably 10 to 100 m / min.

(特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層)
特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、PDPが青色を発光する蛍光体が青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有しているため、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題があり、この対策として発色光の補正を行う層であり、595nm付近の光を吸収する染料を含有する。このような特定波長を吸収する染料としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機染料、無機顔料が挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノン系染料が特に好ましい。
(Layer with a color tone adjustment function that absorbs visible light in a specific wavelength range)
A layer having a color tone adjustment function that absorbs visible light in a specific wavelength range is displayed in blue because the PDP has a characteristic that the phosphor that emits blue light emits red light in addition to blue. There is a problem that a portion to be displayed is displayed in a purplish color, and as a countermeasure against this, it is a layer that corrects colored light and contains a dye that absorbs light at around 595 nm. Specific examples of the dye that absorbs such a specific wavelength include, for example, azo, condensed azo, phthalocyanine, anthraquinone, indigo, perinone, perylene, dioxazine, quinacridone, methine, Well-known organic pigments and organic dyes such as isoindolinone-based, quinophthalone-based, pyrrole-based, thioindigo-based, and metal complex-based materials, and inorganic pigments can be used. Among these, phthalocyanine dyes and anthraquinone dyes are particularly preferable because of good weather resistance.

(支持体)
本発明では、支持体として、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラスなどを用いることができる。プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル類、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)などを用いることができる。
(Support)
In the present invention, a plastic film, a plastic plate, glass or the like can be used as the support. Examples of raw materials for plastic films and plastic plates include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), vinyl resins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), and polystyrene, and polycarbonate (PC). Triacetyl cellulose (TAC) or the like can be used.

透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、上記プラスチックフィルムはPET、PEN,TACであることが好ましい。   From the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, and price, the plastic film is preferably PET, PEN, or TAC.

ディスプレイ用の近赤外線吸収材料では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルム又はプラスチック板の全可視光透過率は好ましくは70〜100%であり、より好ましくは80〜100%であり、さらに好ましくは90〜100%である。また、本発明では、色気調節剤として前記プラスチックフィルム及びプラスチック板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。   Since the near-infrared absorbing material for display requires transparency, it is desirable that the support has high transparency. In this case, the total visible light transmittance of the plastic film or plastic plate is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%, and still more preferably 90 to 100%. Moreover, in this invention, what colored the said plastic film and the plastic board to the extent which does not interfere with the objective of this invention can also be used as a color tone regulator.

(粘着剤)
本発明に係る近赤外線吸収材料をPDPに貼るに際しての粘着剤としては透明性の高いものがよい。例えば、酢酸ビニル系、エポキシ系、ウレタン系、エチレン−酢酸ビニル系、ウレタン−アクリレート系、エポキシ−アクリレート系等が好ましい。中でも透明性、及び無色系のエポキシ−アクリレート、エチレン−酢酸ビニル系がより好ましい。本発明における透明性フィルムに反射防止効果を持たせるには、シリカ微粉末、酸化スズ、酸化チタンの微粉末をアクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂等をトルエン等芳香族炭化水素、グリコールエーテル系、プロピレングリコール系のエステル系有機溶剤に溶解した透明性印刷インキに添加した溶液を透明性フィルムに塗布しても良い。これら微粉末の平均粒径としては、0.01〜10μmが好ましく、更に好ましくはこれら粒径が違うものを複数種混ぜることである。これは、透明性フィルム表面に凹凸形状を持たせることで反射光を乱反射させることにより視感の反射率を低減させることである。次に、薄層を透明性フィルムに設け、薄層の界面における光の反射と屈折の効果を利用する方法がある。すなわち、該薄層の厚みがλ/4(λ:光の波長)の場合には、薄層の上面反射光と下面反射光との光の位相が干渉によって打ち消し合う様にずれ、その反射光を合成すると光の強度が低下すること、及び薄層材の屈折率をnfとし、該薄層を形成するための透明性フィルムの屈折率をnbとしたときにnfとnbの1/2乗値が等しいとき、光の反射が最も低くなる原理を応用する。従って、薄層の厚みは反射を防ぎたい光の波長の1/4が目標となる。すなわち好ましくは薄層の厚みは0.05〜0.25μmである。また、透明性フィルムと薄層1の間にさらに薄層2を設けた場合、薄層2の屈折率が関係し、薄層2の屈折率をnbに用いて上記の計算方法で反射を防止することが出来る。また、一般的にはそれを完全に満足する組み合わせは、得られないが、薄層材の屈折率は透明性フィルムの屈折率よりも極力低いことが必要で、屈折率が1.28〜1.45のフッ素系樹脂を用いるのが好ましい。透明性フィルムがポリエチレンテレフタレートの場合は屈折率が1.64なので適当な例として上げることが出来る。また、三酢酸セルロースの透明性フィルムの場合は屈折率が1.50なので薄層としてフッ素系樹脂を用いる場合には、透明性フィルムと薄層の間に屈折率が1.59のジアリルフタレート樹脂層を設けたり、屈折率が2.00の酸化錫の層を設けたり、酸化錫と屈折率が1.49のアクリル樹脂を混合して屈折率を1.59に調整した層を設けるのも好ましい。
(Adhesive)
As the pressure-sensitive adhesive for sticking the near-infrared absorbing material according to the present invention to the PDP, a highly transparent material is preferable. For example, vinyl acetate, epoxy, urethane, ethylene-vinyl acetate, urethane-acrylate, epoxy-acrylate, and the like are preferable. Among these, transparency and colorless epoxy-acrylate and ethylene-vinyl acetate are more preferable. In order to give an antireflection effect to the transparent film in the present invention, silica fine powder, tin oxide, fine powder of titanium oxide are acrylic resin, styrene resin, polyester resin are aromatic hydrocarbons such as toluene, glycol ether, A solution added to a transparent printing ink dissolved in a propylene glycol-based ester organic solvent may be applied to the transparent film. The average particle size of these fine powders is preferably 0.01 to 10 μm, and more preferably, a plurality of types having different particle sizes are mixed. This is to reduce the reflectance of the visual sensation by irregularly reflecting the reflected light by giving the transparent film surface an uneven shape. Next, there is a method of providing a thin layer on a transparent film and utilizing the effects of light reflection and refraction at the interface of the thin layer. That is, when the thickness of the thin layer is λ / 4 (λ: the wavelength of light), the phase of the light of the upper surface reflected light and the lower surface reflected light of the thin layer shifts so as to cancel each other due to interference, and the reflected light. When the refractive index of the thin film is reduced to nf and the refractive index of the transparent film for forming the thin layer is set to nb, nf and nb are raised to the power of 1/2. Apply the principle that the reflection of light is lowest when the values are equal. Therefore, the target of the thickness of the thin layer is ¼ of the wavelength of light that is desired to prevent reflection. That is, the thickness of the thin layer is preferably 0.05 to 0.25 μm. Moreover, when the thin layer 2 is further provided between the transparent film and the thin layer 1, the refractive index of the thin layer 2 is related, and the refractive index of the thin layer 2 is used as nb to prevent reflection by the above calculation method. I can do it. In general, a combination that completely satisfies this condition cannot be obtained, but the refractive index of the thin layer material is required to be as low as possible as that of the transparent film, and the refractive index is 1.28 to 1. It is preferable to use a .45 fluororesin. When the transparent film is polyethylene terephthalate, the refractive index is 1.64, which can be raised as a suitable example. In the case of a cellulose triacetate transparent film, since the refractive index is 1.50, when a fluorine resin is used as a thin layer, a diallyl phthalate resin having a refractive index of 1.59 between the transparent film and the thin layer. It is also possible to provide a layer, a layer of tin oxide having a refractive index of 2.00, or a layer having a refractive index adjusted to 1.59 by mixing tin oxide and an acrylic resin having a refractive index of 1.49. preferable.

(帯電防止性能)
透明性フィルムに帯電防止性能を持たせるには、界面活性剤を塗布もしくはコーティングして設けるのがよい。透明性フィルムに酸化スズ、酸化チタン、ITO等の透明性導電性物質を印刷インキに添加して塗布しても良いし、スパッタリング等で薄層にして設けるのも良い。必要に応じ、先に述べた透明性フィルムに透明性導電剤の層を設けたり、酸化スズの印刷インキを塗布したりした後、フッ素系樹脂を設けることで、帯電防止性能と反射防止性能の両方の性能を設けることもでき、更に好ましい。帯電防止性能付与のために表面の導電性が重要で、表面抵抗が106Ω〜1012Ω/□が好ましい。
(Antistatic performance)
In order to give the transparent film antistatic performance, it is preferable to apply or coat a surfactant. A transparent conductive material such as tin oxide, titanium oxide, or ITO may be added to the printing ink and applied to the transparent film, or may be provided as a thin layer by sputtering or the like. If necessary, after providing a layer of transparent conductive agent on the transparent film mentioned above or applying a printing ink of tin oxide, providing a fluororesin, antistatic performance and antireflection performance Both performances can be provided and are more preferred. The surface conductivity is important for imparting antistatic performance, and the surface resistance is preferably 10 6 Ω to 10 12 Ω / □.

(紫外線吸収剤)
なお、近赤外線吸収能を有する染料を、色調補正層に含有させる場合、上記の染料のうちいずれか1種類を含有させてもよいし、2種以上を含有させてもよい。近赤外線吸収染料の紫外線による劣化を避けるために紫外線吸収剤を使用することが好ましい。
(UV absorber)
In addition, when making the color tone correction | amendment layer contain the dye which has a near-infrared absorptivity, any 1 type may be contained among said dye, and 2 or more types may be contained. In order to avoid deterioration of the near-infrared absorbing dye due to ultraviolet rays, it is preferable to use an ultraviolet absorber.

紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、S−トリアジン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく使用することができる。これらの中、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が好ましい。ポリエステルに配合するものとしては、特に環状イミノエステル系化合物が好ましい。   As the ultraviolet absorber, known ultraviolet absorbers such as salicylic acid compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, S-triazine compounds, and cyclic imino ester compounds can be preferably used. Of these, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, and cyclic imino ester compounds are preferred. As what is blended with the polyester, a cyclic imino ester compound is particularly preferable.

好ましい具体例としては、
(U−1)2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−α−クミル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−2)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3−第三−ブチル−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−3)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−4)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−α−クミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−5)5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−6)2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−7)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−8)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−9)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−10)5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−11)2,4−ビス(4−ビフェニルイル)−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル)−s−トリアジン、
(U−12)2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−ノニルオキシ※−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−5−α−クミルフェニル]−s−トリアジン(※はオクチルオキシ基、ノニルオキシ基およびデシルオキシ基の混合物を示す。)、
(U−13)2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル)−s−トリアジン、
(U−14)ヒドロキシフェニル−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−15)2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、
(U−16)2−(3,5−ジ−第三ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール等である。
As a preferable specific example,
(U-1) 2- (2-hydroxy-3,5-di-α-cumyl) -2H-benzotriazole,
(U-2) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-3) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-4) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3,5-di-α-cumylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-5) 5-chloro-2- (2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-6) 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5- (2-isooctyloxycarbonylethyl) phenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole,
(U-7) 5-trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-8) 5-trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-5-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-9) 5-trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-10) 5-trifluoromethyl-2- (2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-11) 2,4-bis (4-biphenylyl) -6- (2-hydroxy-4-octyloxycarbonylethylideneoxyphenyl) -s-triazine,
(U-12) 2,4-Bis (2,4-dimethylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- (3-nonyloxy * -2-hydroxypropyloxy) -5-α-cumylphenyl] -s- Triazine (* indicates a mixture of octyloxy group, nonyloxy group and decyloxy group),
(U-13) 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-isooctyloxycarbonylisopropylideneoxyphenyl) -s-triazine,
(U-14) hydroxyphenyl-2H-benzotriazole,
(U-15) 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) -2H-benzotriazole,
(U-16) 2- (3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazole.

(滑り剤)
本発明において用いることができる滑り剤としてはシリコン化合物(例えば、ジメチルシロキサンポリマー)、高級脂肪酸アミド(例えば、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、アラキジン酸アミド等)、高級脂肪酸のフタル酸エステル(例えば、フタル酸ジラウリルエステル)、高級脂肪酸と高級アルコールのエステル、パラフィンなど当業界で公知な化合物を用いてよい。公知の滑り剤として好ましいものは、例えば、米国特許第4,275,146号に記載の高級脂肪族アミド類、米国特許第3,933,516号に記載の高級脂肪酸もしくはその金属塩類、その他高級アルコールおよびその誘導体類、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル化合物等を挙げることができる。また、天然物の油脂、ワックス、オイル、例えば、蜜蝋なども併用することができる。さらに、併用できる好ましい公知の滑り剤として、市販または合成によって入手可能なシリコーン系化合物を挙げることができる。シリコーン系化合物にあってもポリオルガノシロキサン類が好ましい。これらの水溶液での利用に当たっては分散体の形で添加させることがこのましい。
(Slip agent)
Examples of slip agents that can be used in the present invention include silicon compounds (for example, dimethylsiloxane polymers), higher fatty acid amides (for example, stearic acid amide, behenic acid amide, arachidic acid amide, etc.), higher fatty acid phthalates (for example, Compounds known in the art such as dilauryl phthalate), esters of higher fatty acids and higher alcohols, and paraffin may be used. Preferred examples of known slip agents include higher aliphatic amides described in US Pat. No. 4,275,146, higher fatty acids or metal salts thereof described in US Pat. No. 3,933,516, and other higher slip agents. Examples thereof include alcohol and derivatives thereof, polyethylene wax, paraffin wax, microcrystalline wax, polyoxyethylene alkylphenyl ether compound and the like. Further, natural oils and fats, waxes, oils such as beeswax can be used in combination. Furthermore, examples of preferable known slip agents that can be used in combination include silicone compounds that are commercially available or can be obtained by synthesis. Even in the case of silicone compounds, polyorganosiloxanes are preferred. For use in these aqueous solutions, it is preferable to add them in the form of a dispersion.

本発明で用いる滑り剤は、水溶液中で分散物の形で最上層に添加される。この場合、水分散系で他の有機溶媒を適宜選択して含有することが出来る。その中で利用できる有機溶剤としては、例えばケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど)、アルコール類(炭素数1〜8の低級アルコール、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコールなど)、グリコール誘導体類(セロソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど)、炭素数1〜5の低級脂肪酸エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチルなど)、ハロアルカン類(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、トリクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素など)、炭化水素類(オクタン、ソルベントナフサ、テレピン油、石油エーテル、シンナー、石油ベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、フェノール類(フェノール、レゾルシノールなど)、エーテル類(テトラヒドロフラン、ジオキサンなど)、リン酸エステル類(トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェートなど)、アミド系のDMFその他DMSOなどを挙げることができる。好ましくはアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類、炭化水素類である。特に、水を混合使用する溶媒系においては、水と均一溶媒となるアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類の中から選ばれる溶媒であり、水不使用の場合の溶媒としては炭化水素類、ケトン類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類の使用が好ましい。   The slip agent used in the present invention is added to the uppermost layer in the form of a dispersion in an aqueous solution. In this case, other organic solvents can be appropriately selected and contained in the aqueous dispersion. Examples of organic solvents that can be used include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), alcohols (lower alcohols having 1 to 8 carbon atoms, such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl). Alcohol, hexyl alcohol, octyl alcohol, etc.), glycol derivatives (cellosolve, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc.), lower fatty acid esters having 1 to 5 carbon atoms (ethyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, etc.) , Haloalkanes (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, trichloromethane, trichloroethane, carbon tetrachloride, etc.), hydrocarbons (octane, solventona) Turpentine oil, petroleum ether, thinner, petroleum benzine, benzene, toluene, xylene, etc., phenols (phenol, resorcinol, etc.), ethers (tetrahydrofuran, dioxane, etc.), phosphate esters (trimethyl phosphate, triethyl phosphate, Tributyl phosphate, etc.), amide-based DMF and DMSO. Preferred are alcohols, ketones, glycol derivatives, lower fatty acid esters, haloalkanes, and hydrocarbons. In particular, in a solvent system in which water is mixed and used, it is a solvent selected from alcohols, ketones and glycol derivatives that are water and a uniform solvent. When water is not used, hydrocarbons, ketones , Lower fatty acid esters and haloalkanes are preferred.

この場合、水と有機溶剤の比率は100〜50:0〜50(容量%)であり、より好ましくは100〜75:0〜25(容量%)である。これらにより水系塗布液中での滑り剤の分散物の安定性、塗布性、得られる塗膜の平滑性、ゴミ等の付着防止、耐傷性に優れるものである。なお、上記の有機溶媒は、同一もしくは異なる種類の溶媒と2種以上を混合して用いてもよい。微細分散物は公知の分散技術、例えば、機械的な剪断力による分散、超音波分散、2液混合による析出法などにより得られる。滑り剤の添加量としては1m2当たりの塗布量で示して、0.2〜500mg/m2、より好ましくは1〜300mg/m2が好ましい。滑り剤は1種のみ用いても2種以上を併用してもよい。滑り剤により、フィルムがステンレスローラーの上を搬送されるときの傷の発生を押させることができるので、動摩擦係数は0.3以下0.1以上であることが好ましい。0.1以下であると滑り性が大きくなり.精度のよい搬送が困難になるので好ましくない。塗布液は塗布される前に塗布液中に存在する粗大粒子をろ過で除去することは必要である。ここで述べる「ろ過」とは、ろ過フィルターによるろ過であり、ろ過フィルターの種類や構造の詳細は特に限定されず、本発明の2〜10μmの孔径を通過しない異物を除去できるろ過フィルターであればどのようなものでもよい。それらのろ過フィルターを用いて粗大粒子を除去するためのシステムも特に限定されず、ろ過に大きな問題を発生しなければ、特に限定されない。 In this case, the ratio of water to the organic solvent is 100 to 50: 0 to 50 (volume%), more preferably 100 to 75: 0 to 25 (volume%). As a result, the stability of the dispersion of the slip agent in the aqueous coating solution, the coating property, the smoothness of the resulting coating film, the prevention of adhesion of dust and the like, and the scratch resistance are excellent. In addition, you may use said organic solvent in mixture of 2 or more types with the same or different kind of solvent. The fine dispersion can be obtained by a known dispersion technique, for example, dispersion by mechanical shearing force, ultrasonic dispersion, or precipitation by two-liquid mixing. The amount of slip agent represents the coating amount per 1m 2, 0.2~500mg / m 2, more preferably 1 to 300 mg / m 2. Only 1 type of slipping agent may be used, or 2 or more types may be used together. Since the slipping agent can suppress the generation of scratches when the film is conveyed on the stainless steel roller, the dynamic friction coefficient is preferably 0.3 or less and 0.1 or more. If it is less than 0.1, slipperiness increases. This is not preferable because accurate conveyance becomes difficult. Before the coating solution is applied, it is necessary to remove coarse particles present in the coating solution by filtration. “Filtration” described here is filtration by a filtration filter, and the details of the type and structure of the filtration filter are not particularly limited as long as it is a filtration filter that can remove foreign substances that do not pass through the 2 to 10 μm pore diameter of the present invention. It can be anything. The system for removing coarse particles using these filtration filters is not particularly limited, and is not particularly limited as long as no major problem occurs in filtration.

(その他の機能性層)
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波遮蔽材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレアー層(共にぎらつき防止機能を有する)特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。
(Other functional layers)
In the present invention, a functional layer having functionality may be separately provided as necessary. This functional layer can have various specifications for each application. For example, as an electromagnetic shielding material for display, an antireflection layer provided with an antireflection function with an adjusted refractive index or film thickness, a non-glare layer or an antiglare layer (both having a glare prevention function) in a specific wavelength range Layers that have a color tone adjustment function that absorbs visible light, antifouling layers that have the ability to easily remove dirt such as fingerprints, hard-coat layers that are difficult to scratch, layers that have an impact absorption function, and glass scattering when glass is broken A layer having a prevention function or the like can be provided.

これらの機能性膜はPDPに直接貼合してもよく、プラズマディスプレイパネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの機能性膜を光学フィルタ(または単にフィルタ)と呼ぶことができる。   These functional films may be directly bonded to the PDP, or may be bonded to a transparent substrate such as a glass plate or an acrylic resin plate separately from the plasma display panel main body. These functional films can be called optical filters (or simply filters).

反射防止機能を付与した反射防止層は、外光の反射を抑えてコントラストの低下を抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。また、ノングレア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルタ上に張り付けることもできる。更に必要で有ればハードコート層を設けることもできる。   In order to suppress reflection of external light and suppress a decrease in contrast, an antireflection layer provided with an antireflection function contains inorganic substances such as metal oxides, fluorides, silicides, borides, carbides, nitrides and sulfides. , Vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, ion beam assist method, etc., a method of laminating a single layer or a multilayer, such as a method of laminating a resin having different refractive index such as acrylic resin, fluorine resin, etc. There is. Moreover, the film which gave the antireflection process can also be affixed on this filter. In addition, a film that has been subjected to non-glare treatment or anti-glare treatment can be pasted on the filter. Further, if necessary, a hard coat layer can be provided.

〔実施例1〕
以下に本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
[Example 1]
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples of the present invention.

《比較例》
(試料−100の作製)
[支持体1の作製]
透明のポリエチレンテレフタレートフィルムベース(厚み100μm)の片方の面に、0.5kV・A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液Aを用いて下引き層Aが、乾燥膜厚0.2μmになるように塗設した。さらに、もう一方の表面に同様に0.5kV・A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液B、Aを用い、下引き層B、Aが、それぞれ乾燥膜厚0.1μm、0.2μmなるように塗設した。その後で、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、130℃にて15分熱処理を行い、支持体−1を作製した。
《Comparative example》
(Preparation of Sample-100)
[Preparation of Support 1]
One side of a transparent polyethylene terephthalate film base (thickness: 100 μm) is subjected to a corona discharge treatment of 0.5 kV · A · min / m 2 , and then subtracted using the following undercoat coating solution A Layer A was applied to a dry film thickness of 0.2 μm. Furthermore, after the other surface was similarly subjected to a corona discharge treatment of 0.5 kV · A · min / m 2 , the following undercoating liquids B and A were used to form the undercoating layers B and A. These were coated so that the dry film thicknesses were 0.1 μm and 0.2 μm, respectively. After that, heat treatment was performed at 130 ° C. for 15 minutes in a heat treatment oven having a film transport device composed of a plurality of roll groups, and Support-1 was produced.

<下引き塗布液A>
ブ チルアクリレート40質量%、t−ブチルアクリレート10質量%、スチレン25質量%、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート25質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)270gと化合物(UL−1)0.6g及び鹸化度80%のポリビニルアルコール1gを混合した。さらにシリカ粒子(サイロイド350、富士シリシア製)1.3gを水100g中にあらかじめ超音波分散機〔アレックス社(ALEX Corporation)製、商品名:ウルトラソニック・ジェネレーター(Ultrasonic Generator)、周波数25kHz、600W〕にて30分、分散を行っておいた液を加え、最後に水で1000mlに仕上げて、下引き塗布液A−1とした。
<Undercoat coating liquid A>
270 g of copolymer latex liquid (solid content 30%) of 40% by mass of butyacrylate, 10% by mass of t-butyl acrylate, 25% by mass of styrene, and 25% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate and compound (UL-1) 0 .6 g and 1 g of polyvinyl alcohol having a saponification degree of 80% were mixed. Furthermore, 1.3 g of silica particles (Syloid 350, manufactured by Fuji Silysia) was previously ultrasonically dispersed in 100 g of water (manufactured by Alex Corporation, trade name: Ultrasonic Generator, frequency 25 kHz, 600 W). The liquid which had been dispersed for 30 minutes was added, and finally it was made up to 1000 ml with water to obtain an undercoat coating liquid A-1.

<コロイド状酸化スズ分散液の合成>
塩化第2スズ水和物65gを水/エタノール混合溶液2000mlに溶解して均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて何度も水洗する。沈殿を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈殿物に蒸留水を添加し全量を2000mlとする。更に30%アンモニア水を40ml加え水溶液中で加温したあとで、さらに加温して470mlになるまで濃縮して、コロイド状酸化スズ分散液を得た。
<Synthesis of colloidal tin oxide dispersion>
65 g of stannic chloride hydrate was dissolved in 2000 ml of a water / ethanol mixed solution to obtain a uniform solution. This was then boiled to obtain a coprecipitate. The produced precipitate is taken out by decantation and washed with distilled water many times. After confirming that there is no reaction of chlorine ions by dropping silver nitrate into the distilled water from which the precipitate has been washed, distilled water is added to the washed precipitate to make a total volume of 2000 ml. Further, 40 ml of 30% aqueous ammonia was added and heated in an aqueous solution, and then further heated and concentrated to 470 ml to obtain a colloidal tin oxide dispersion.

<下引き塗布液B>
前記コロイド状酸化スズ分散液の合成で合成したSnO2ゾル液37.5g、n−ブチルアクリレート10質量%、t−ブチルアクリレート35質量%、スチレン27質量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート28質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)3.7g、n−ブチルアクリレート40質量%、スチレン20質量%、グリシジルメタクリレート40質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)14.8gと塗布助剤として界面活性剤UL−1 0.1gを混合し水で1000mlに仕上げて下引き塗布液B−1とした。
<Undercoat coating solution B>
37.5 g of SnO 2 sol synthesized by the synthesis of the colloidal tin oxide dispersion, 10% by mass of n-butyl acrylate, 35% by mass of t-butyl acrylate, 27% by mass of styrene and 28% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate Copolymer latex liquid (solid content 30%) 3.7 g, n-butyl acrylate 40 mass%, styrene 20 mass%, glycidyl methacrylate 40 mass% copolymer latex liquid (solid content 30%) 14.8 g and coating Surfactant UL-1 0.1g was mixed as an auxiliary agent, and it was finished to 1000 ml with water, and was used as undercoat coating liquid B-1.

(近赤外線吸収染料層の塗布液(C−0)の調製)   (Preparation of coating solution (C-0) for near-infrared absorbing dye layer)

Figure 2007148072
Figure 2007148072

ポリビニルブチラール粉末(BL−5Z、積水化学社製)20gを室温でメチルエチルケトン80gに溶解した後、赤外吸収染料F−10.04gを撹拌しながら添加し、近赤外線吸収染料層塗布液C−0を調製した。   After dissolving 20 g of polyvinyl butyral powder (BL-5Z, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) in 80 g of methyl ethyl ketone at room temperature, infrared absorbing dye F-10.04 g was added with stirring, and a near infrared absorbing dye layer coating solution C-0. Was prepared.

(近赤外線吸収フィルタ(試料−100)の作製)
上記近赤外線吸収染料層塗布液C−0を、支持体−1の下引き層B,Aを塗布した側に、ウェット膜厚が100μmのブレードコーターで塗布し、55℃で30分間乾燥し、試料−100を作製した。
(Preparation of near-infrared absorption filter (sample-100))
The near-infrared absorbing dye layer coating solution C-0 is applied to the side on which the undercoat layers B and A of the support-1 are applied with a blade coater having a wet film thickness of 100 μm, and dried at 55 ° C. for 30 minutes. Sample-100 was prepared.

《本発明に係る実施例》
(支持体−2の作製)
支持体とする厚さ100μmの透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面を100W/m2・分コロナ処理した後、片面に屈折率1.55、25℃における弾性率100MPa、ガラス転移温度37℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス(日本ゼオン(株)製、X407C5)を300nmの厚さに塗布し、下塗り層を形成した。この下塗り層の上には屈折率1.50、25℃における弾性率120MPa、ガラス転移温度50℃のアクリル系ラテックス(HA16、日本アクリル(株)製)を乾燥後の厚さ80nmとなるように塗布し、第2下塗り層を形成した。さらに、もう一方の表面に同様に0.5kV・A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、その上に上記の下引き塗布液B、Aを用い、下引き層B、Aが、それぞれ乾燥膜厚0.1μm、0.2μmなるように塗設した。その後で、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、130℃にて15分熱処理を行い、支持体−2を作製した。
<< Examples according to the present invention >>
(Preparation of support-2)
After both sides of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm as a support are subjected to 100 W / m 2 · min corona treatment, the refractive index is 1.55, the elastic modulus is 100 MPa at 25 ° C., and the glass transition temperature is 37 ° C. on one side. A latex (made by Nippon Zeon Co., Ltd., X407C5) made of styrene-butadiene copolymer was applied to a thickness of 300 nm to form an undercoat layer. On this undercoat layer, an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) having a refractive index of 1.50, an elastic modulus of 120 MPa at 25 ° C., and a glass transition temperature of 50 ° C. is dried to a thickness of 80 nm. This was applied to form a second undercoat layer. Further, after the other surface is similarly subjected to a corona discharge treatment of 0.5 kV · A · min / m 2 , the above-described undercoat coating solutions B and A are used to form the undercoat layers B and A. These were coated so that the dry film thicknesses were 0.1 μm and 0.2 μm, respectively. Thereafter, heat treatment was performed at 130 ° C. for 15 minutes in a heat treatment oven having a film transport device composed of a plurality of roll groups, and Support-2 was produced.

(赤外吸収染料の分散物(B−1)の調製)
酢酸エチル1.4gにトリクレジルホスフェート0.6gを溶解した後、更に赤外吸収染料F−1 0.3を添加し、撹拌溶解した。別の容器に純水13g、ゼラチン1.5g、イソプロピルナフタレンスルホン酸10%溶液2.6gを添加し、溶解した。
(Preparation of Infrared Absorbing Dye Dispersion (B-1))
After 0.6 g of tricresyl phosphate was dissolved in 1.4 g of ethyl acetate, infrared absorbing dye F-1 0.3 was further added and dissolved by stirring. In a separate container, 13 g of pure water, 1.5 g of gelatin, and 2.6 g of a 10% isopropyl naphthalenesulfonic acid solution were added and dissolved.

上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を1分間かけて添加したのち、水冷しながら10分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物B−1を調製した。   The solution of the infrared dye was added to the gelatin solution with stirring over 1 minute, and then ultrasonic dispersion was performed for 10 minutes while cooling with water to prepare a polymer dispersion B-1.

(近赤外線吸収染料層の塗布液(C−1)の調製)
ゼラチン7.85gを純水91.2gに40℃にて溶解した後、上記オイル分散物B−2を1.8g添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン1%溶液(1.3g)を添加して、塗布液C−1を調製した。
(Preparation of coating solution (C-1) for near-infrared absorbing dye layer)
After 7.85 g of gelatin was dissolved in 91.2 g of pure water at 40 ° C., 1.8 g of the oil dispersion B-2 was added, 1% dichloro-hydroxytriazine solution (1.3 g) was added, A coating liquid C-1 was prepared.

(近赤外線吸収フィルタ(試料−101)の作製)
上記近赤外線吸収染料層塗布液C−1を、支持体−2のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が100μmのブレードコーターで塗布し、50℃で30分間乾燥し、試料−101を作製した。この試料のO/G(高沸点溶媒とバインダの比)は0.007である
(赤外吸収染料の分散物(B−2)の調製)
酢酸エチル0.5gにトリクレジルホスフェート0.2gを溶解した後、更に赤外吸収染料F−1 0.03を添加し、撹拌溶解した。
(Preparation of near-infrared absorption filter (sample-101))
The near-infrared absorbing dye layer coating solution C-1 was applied to the side of the support-2 coated with the styrene-butadiene copolymer with a blade coater having a wet film thickness of 100 μm, and dried at 50 ° C. for 30 minutes. 101 was produced. O / G (ratio of high boiling point solvent and binder) of this sample is 0.007 (Preparation of dispersion of infrared absorbing dye (B-2))
After 0.2 g of tricresyl phosphate was dissolved in 0.5 g of ethyl acetate, infrared absorbing dye F-1 0.03 was further added and dissolved by stirring.

別の容器に純水4.5g、ゼラチン0.5g、イソプロピルナフタレンスルホン酸10%溶液0.95gを添加し、溶解した。   In a separate container, 4.5 g of pure water, 0.5 g of gelatin, and 0.95 g of a 10% isopropyl naphthalene sulfonic acid solution were added and dissolved.

上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を1分間かけて添加したのち、水冷しながら10分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物B−2を調製した。   The infrared dye solution was added to the gelatin solution with stirring over 1 minute, and then ultrasonic dispersion was performed for 10 minutes while cooling with water to prepare a polymer dispersion B-2.

(近赤外線吸収染料層の塗布液(C−2)の調製)
ゼラチン7.5gを純水87gに40℃にて溶解した後、上記オイル分散物B−2を6.3g添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン1%溶液(1.3g)を添加して、塗布液C−2を調製した。
(Preparation of coating solution (C-2) for near-infrared absorbing dye layer)
After 7.5 g of gelatin was dissolved in 87 g of pure water at 40 ° C., 6.3 g of the above oil dispersion B-2 was added, 1% dichloro-hydroxytriazine solution (1.3 g) was added, and the coating solution C-2 was prepared.

(近赤外線吸収フィルタ(試料−102)の作製)
上記近赤外線吸収染料層塗布液C−2を、支持体−2のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が100μmのブレードコーターで塗布し、50℃で30分間乾燥し、試料−102を作製した。この試料のO/G(高沸点溶媒とバインダの比)は0.025である。
(Preparation of near-infrared absorption filter (sample-102))
The near-infrared absorbing dye layer coating solution C-2 was applied to the side of the support-2 coated with the styrene-butadiene copolymer with a blade coater having a wet film thickness of 100 μm, and dried at 50 ° C. for 30 minutes. 102 was produced. The O / G (the ratio of the high boiling point solvent to the binder) of this sample is 0.025.

(赤外吸収染料の分散物(B−3)の調製)
酢酸エチル1.4gにトリクレジルホスフェート0.56gを溶解した後、更に赤外吸収染料F−10.03を添加し、撹拌溶解した。別の容器に純水12.7g、ゼラチン1.5g、イソプロピルナフタレンスルホン酸10%溶液2.65gを添加し、溶解した。
(Preparation of Infrared Absorbing Dye Dispersion (B-3))
After dissolving 0.56 g of tricresyl phosphate in 1.4 g of ethyl acetate, infrared absorbing dye F-10.03 was further added and dissolved by stirring. In another container, 12.7 g of pure water, 1.5 g of gelatin, and 2.65 g of a 10% solution of isopropylnaphthalenesulfonic acid were added and dissolved.

上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を1分間かけて添加したのち、水冷しながら10分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物B−3を調製した。   The solution of the infrared dye was added to the gelatin solution with stirring over 1 minute, and then ultrasonic dispersion was performed for 10 minutes while cooling with water to prepare a polymer dispersion B-3.

(近赤外線吸収染料層の塗布液(C−3)の調製)
ゼラチン6.5gを純水76.5gに40℃にて溶解した後、上記オイル分散物B−3を17.5g添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン1%溶液(1.3g)を添加して、塗布液C−3を調製した。
(Preparation of coating solution (C-3) for near-infrared absorbing dye layer)
After 6.5 g of gelatin was dissolved in 76.5 g of pure water at 40 ° C., 17.5 g of the above oil dispersion B-3 was added, 1% dichloro-hydroxytriazine solution (1.3 g) was added, Coating liquid C-3 was prepared.

(近赤外線吸収フィルタ(試料−103)の作製)
上記近赤外線吸収染料層塗布液C−2を、支持体−2のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が100μmのブレードコーターで塗布し、50℃で30分間乾燥し、試料−102を作製した。この試料のO/G(高沸点溶媒とバインダの比)は0.07である。
(Preparation of near-infrared absorption filter (sample-103))
The near-infrared absorbing dye layer coating solution C-2 was applied to the side of the support-2 coated with the styrene-butadiene copolymer with a blade coater having a wet film thickness of 100 μm, and dried at 50 ° C. for 30 minutes. 102 was produced. The O / G (the ratio of the high boiling point solvent and the binder) of this sample is 0.07.

(赤外吸収染料の分散物(B−4)の調製)
酢酸エチル2.6gにトリクレジルホスフェート1.05gを溶解した後、更に赤外吸収染料F−10.03を添加し、撹拌溶解した。
(Preparation of Infrared Absorbing Dye Dispersion (B-4))
After dissolving 1.05 g of tricresyl phosphate in 2.6 g of ethyl acetate, infrared absorbing dye F-10.03 was further added and dissolved by stirring.

別の容器に純水24g、ゼラチン2.8g、イソプロピルナフタレンスルホン酸10%溶液4.9gを添加し、溶解した。   In a separate container, 24 g of pure water, 2.8 g of gelatin, and 4.9 g of a 10% isopropyl naphthalene sulfonic acid solution were added and dissolved.

上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を1分間かけて添加したのち、水冷しながら10分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物B−4を調製した。   The solution of the infrared dye was added to the gelatin solution with stirring for 1 minute, and then ultrasonic dispersion was performed for 10 minutes with water cooling to prepare a polymer dispersion B-4.

(近赤外線吸収染料層の塗布液(C−4)の調製)
ゼラチン5.2gを純水63gに40℃にて溶解した後、上記オイル分散物B−2を33g添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン 1%溶液(1.3g)を添加して、塗布液C−4を調製した。
(Preparation of coating solution (C-4) for near-infrared absorbing dye layer)
After dissolving gelatin (5.2 g) in pure water (63 g) at 40 ° C., 33 g of the oil dispersion B-2 was added, dichloro-hydroxytriazine 1% solution (1.3 g) was added, and coating solution C- 4 was prepared.

(近赤外線吸収フィルタ(試料−104)の作製)
上記近赤外線吸収染料層塗布液C−4を、支持体−2のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が100μmのブレードコーターで塗布し、50℃で30分間乾燥し、試料−104を作製した。この試料のO/G(高沸点溶媒とバインダの比)は0.13である。
(Preparation of near-infrared absorption filter (sample-104))
The near-infrared absorbing dye layer coating solution C-4 was applied to the side of the support-2 coated with the styrene-butadiene copolymer with a blade coater having a wet film thickness of 100 μm, dried at 50 ° C. for 30 minutes, and sample − 104 was produced. The O / G (ratio of high boiling point solvent and binder) of this sample is 0.13.

(赤外吸収染料の分散物(B−5)の調製)
酢酸エチル7.4gにトリクレジルホスフェート2.95gを溶解した後、更に赤外吸収染料F−1 0.03を添加し、撹拌溶解した。
(Preparation of dispersion of infrared absorbing dye (B-5))
After dissolving 2.95 g of tricresyl phosphate in 7.4 g of ethyl acetate, 0.03 infrared absorbing dye F-1 was further added and dissolved by stirring.

別の容器に純水67g、ゼラチン8g、イソプロピルナフタレンスルホン酸10%溶液14gを添加し、溶解した。   In a separate container, 67 g of pure water, 8 g of gelatin, and 14 g of a 10% solution of isopropylnaphthalenesulfonic acid were added and dissolved.

上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を1分間かけて添加したのち、水冷しながら10分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物B−5を調製した。   The solution of the infrared dye was added to the gelatin solution with stirring over 1 minute, and then ultrasonic dispersion was performed for 10 minutes while cooling with water to prepare a polymer dispersion B-5.

(近赤外線吸収染料層の塗布液(C−5)の調製)
上記オイル分散物B−5 92gに対し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン 1%溶液(1.3g)を添加して、塗布液C−5を調製した。
(Preparation of coating solution (C-5) for near-infrared absorbing dye layer)
A dichloro-hydroxytriazine 1% solution (1.3 g) was added to 92 g of the oil dispersion B-5 to prepare a coating solution C-5.

(近赤外線吸収フィルタ(試料−105)の作製)
上記近赤外線吸収染料層塗布液C−5を、支持体−2のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が100μmのブレードコーターで塗布し、50℃で30分間乾燥し、試料−105を作製した。この試料のO/G(高沸点溶媒とバインダの比)は0.37である。
(Preparation of near-infrared absorption filter (sample-105))
The near-infrared absorbing dye layer coating solution C-5 was applied to the side of the support-2 coated with the styrene-butadiene copolymer with a blade coater having a wet film thickness of 100 μm and dried at 50 ° C. for 30 minutes. 105 was produced. The O / G (the ratio of the high boiling point solvent and the binder) of this sample is 0.37.

(赤外吸収染料の分散物(B−6)の調製)
酢酸エチル2.6gにトリクレジルホスフェート1.05gを溶解した後、更に赤外吸収染料F−10.03及びインモニウム染料IRG−022(日本化薬製)0.5gを添加し、撹拌溶解した。
(Preparation of dispersion of infrared absorbing dye (B-6))
After dissolving 1.05 g of tricresyl phosphate in 2.6 g of ethyl acetate, 0.5 g of infrared absorbing dye F-10.03 and immonium dye IRG-022 (manufactured by Nippon Kayaku) are added and dissolved by stirring. did.

別の容器に純水24g、ゼラチン2.8g、イソプロピルナフタレンスルホン酸10%溶液4.9gを添加し、溶解した。   In a separate container, 24 g of pure water, 2.8 g of gelatin, and 4.9 g of a 10% isopropyl naphthalene sulfonic acid solution were added and dissolved.

上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を1分間かけて添加したのち、水冷しながら10分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物B−6を調製した。   The infrared dye solution was added to the gelatin solution with stirring over 1 minute, and then ultrasonic dispersion was performed for 10 minutes while cooling with water to prepare a polymer dispersion B-6.

(近赤外線吸収染料層の塗布液(C−6)の調製)
ゼラチン5.2gを純水63gに40℃にて溶解した後、上記オイル分散物B−6を33g添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン1%溶液(1.3g)を添加して、塗布液C−6を調製した。
(Preparation of coating solution (C-6) for near-infrared absorbing dye layer)
After dissolving 5.2 g of gelatin in 63 g of pure water at 40 ° C., 33 g of the above oil dispersion B-6 was added, 1% dichloro-hydroxytriazine solution (1.3 g) was added, and coating solution C- 6 was prepared.

(近赤外線吸収フィルタ(試料−106)の作製)
上記近赤外線吸収染料層塗布液C−6を、支持体−2のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が100μmのブレードコーターで塗布し、50℃で30分間乾燥し、試料−106を作製した。この試料のO/G(高沸点溶媒とバインダの比)は0.13である。
(Preparation of near-infrared absorption filter (sample-106))
The near-infrared absorbing dye layer coating solution C-6 was applied to the side of the support-2 coated with the styrene-butadiene copolymer with a blade coater having a wet film thickness of 100 μm, and dried at 50 ° C. for 30 minutes. 106 was produced. The O / G (ratio of high boiling point solvent and binder) of this sample is 0.13.

(耐光性の評価)
得られた試料−100〜105について、3.5cm×5cmのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計U−4100にて測定し、800〜1100nmの近赤外部の平均吸光度を算出した。耐光性劣化試験はスガ試験機株式会社製スーパーキセノンウエザーメーターSX75を使用し、相対湿度50%、照射強度50W/平米、100時間試験後の吸収劣化の割合を評価した。評価した結果を表1に示す。
(Evaluation of light resistance)
The obtained samples -100 to 105 were cut into a size of 3.5 cm × 5 cm, the spectral absorption was measured with a Hitachi spectrophotometer U-4100, and the average absorbance in the near infrared region of 800 to 1100 nm was calculated. . In the light resistance deterioration test, a super xenon weather meter SX75 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was used, and the relative humidity was 50%, the irradiation intensity was 50 W / square meter, and the rate of absorption deterioration after 100 hours test was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

(耐湿熱性の評価)
得られた試料−100〜105について、3.5cm×5cmのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計U−4100にて測定し、800〜1100nmの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、60℃90%の環境にて500時間暗所保存し、吸収劣化の割合を評価した。保存後の評価した結果を表1に示す。
(Evaluation of heat and humidity resistance)
The obtained samples -100 to 105 were cut into a size of 3.5 cm × 5 cm, the spectral absorption was measured with a Hitachi spectrophotometer U-4100, and the average absorbance in the near infrared region of 800 to 1100 nm was calculated. . Thereafter, the sample was stored in a dark place at 60 ° C. and 90% for 500 hours, and the rate of absorption deterioration was evaluated. The evaluation results after storage are shown in Table 1.

(耐熱性の評価)
得られた試料−100〜105について、3.5cm×5cmのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計U−4100にて測定し、800〜1100nmの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、80℃(湿度は成り行き)の環境にて500時間暗所保存し、吸収劣化の割合を評価した。保存後の評価した結果を表1に示す。
(Evaluation of heat resistance)
The obtained samples -100 to 105 were cut into a size of 3.5 cm × 5 cm, the spectral absorption was measured with a Hitachi spectrophotometer U-4100, and the average absorbance in the near infrared region of 800 to 1100 nm was calculated. . Thereafter, the sample was stored in a dark place in an environment of 80 ° C. (humidity was expected) for 500 hours, and the rate of absorption deterioration was evaluated. The evaluation results after storage are shown in Table 1.

(発汗の評価)
得られた試料−100〜105について、3.5cm×5cmのサイズに断裁し、80℃(湿度は成り行き)の環境にて100時間暗所保存した後に、下記評価基準により目視にて5段階評価した。
(Evaluation of sweating)
The obtained samples -100 to 105 were cut into a size of 3.5 cm × 5 cm, stored in a dark place in an environment of 80 ° C. (humidity is expected) for 100 hours, and then visually evaluated based on the following evaluation criteria. did.

5ランク 保存前後で、塗膜表面に全く変化なく、発汗は認められない。   Rank 5 Before and after storage, there was no change on the surface of the coating film, and no sweating was observed.

4ランク かすかに塗膜表面に発汗が認められる。   Rank 4 Sweating is slightly observed on the coating surface.

3ランク 発汗が認められるが、ほとんど気にならないレベル。   3rd level Sweating is observed, but it is almost unnoticeable.

2ランク 発汗が認められ、指で擦ると指に付着するレベル。   Rank 2 A level where sweating is observed and sticks to the finger when rubbed with the finger.

1ランク 強い発汗が認められる。   Rank 1 Strong sweating is observed.

上記の各種評価の結果を表1にまとめて示す。   The results of the various evaluations are summarized in Table 1.

Figure 2007148072
Figure 2007148072

表1から、本発明に係る試料は、比較例より、上記評価において優れていることが分かる。即ち、
〔実施例2〕
(赤外線遮蔽フィルタとしてのプラズマディスプレイ用前面フィルタへの適用)
パイオニア製プラズマディスプレイ(PDP−435HDL)の前面に貼られた光学フィルタを剥がし、白表示をさせて、OceanOptics社製超小型スペクトロメータUSB2000にて赤外の発光スペクトルを測定したところ、820nm、880nm、980nmに強いピークが認められた。その後、試料−104(30cm×30cm)をパネル表面に貼付し、USB2000で同様の測定をした所、赤外の発光スペクトルは全て消失していることを確認した。
From Table 1, it can be seen that the sample according to the present invention is superior to the comparative example in the above evaluation. That is,
[Example 2]
(Application to front filter for plasma display as infrared shielding filter)
The optical filter affixed to the front surface of the Pioneer plasma display (PDP-435HDL) was peeled off, white display was performed, and the infrared emission spectrum was measured with an Ocean Optics ultra-small spectrometer USB2000, 820 nm, 880 nm, A strong peak was observed at 980 nm. Thereafter, Sample-104 (30 cm × 30 cm) was affixed to the panel surface, and the same measurement was performed with USB2000. As a result, it was confirmed that all infrared emission spectra had disappeared.

Claims (6)

透明支持体上に近赤外線吸収層を塗設してなる近赤外線吸収フィルタの製造方法において、該近赤外線吸収層が高沸点溶媒中に分散された近赤外線吸収染料を含む塗布液を支持体上に塗布し、加熱乾燥することにより形成されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタの製造方法。 In a method for producing a near-infrared absorbing filter comprising a near-infrared absorbing layer coated on a transparent support, a coating solution containing a near-infrared absorbing dye in which the near-infrared absorbing layer is dispersed in a high-boiling solvent is applied on the support. A method for producing a near-infrared absorbing filter, which is formed by applying to a substrate and drying by heating. 前記近赤外線吸収層の塗布液の溶媒の30質量%以上99質量%以下が水であることを特徴とする請求項1に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。 The method for producing a near-infrared absorbing filter according to claim 1, wherein 30% by mass or more and 99% by mass or less of the solvent of the coating solution for the near-infrared absorbing layer is water. 前記高沸点溶媒の含有量が、前記近赤外線吸収層中のバインダ総量の1〜30質量%であることを特徴とする請求項1または2に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。 The method for producing a near-infrared absorbing filter according to claim 1 or 2, wherein the content of the high boiling point solvent is 1 to 30% by mass of the total amount of the binder in the near-infrared absorbing layer. 前記近赤外線吸収層が、前記近赤外線吸収染料として、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム化合物、及びクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。 The said near-infrared absorption layer contains at least 1 type of compound chosen from a diimonium compound, a nickel dithiol compound, a phthalocyanine-type compound, a squarylium compound, and a croconium compound as said near-infrared absorptive dye. The manufacturing method of the near-infrared absorption filter as described in any one of these. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法により製造されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタ。 The near-infrared absorption filter manufactured by the manufacturing method as described in any one of Claims 1-4. 請求項5に記載の近赤外線吸収フィルタを設けたことを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルタ。 6. A front filter for plasma display, comprising the near-infrared absorption filter according to claim 5.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017135300A1 (en) * 2016-02-03 2017-08-10 富士フイルム株式会社 Film, method for manufacturing film, optical filter, layered body, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor
JPWO2017135300A1 (en) * 2016-02-03 2018-11-22 富士フイルム株式会社 Film, film manufacturing method, optical filter, laminate, solid-state imaging device, image display device, and infrared sensor
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