JP2007139854A - Liquid crystal device and electronic equipment - Google Patents

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JP2007139854A JP2005329838A JP2005329838A JP2007139854A JP 2007139854 A JP2007139854 A JP 2007139854A JP 2005329838 A JP2005329838 A JP 2005329838A JP 2005329838 A JP2005329838 A JP 2005329838A JP 2007139854 A JP2007139854 A JP 2007139854A
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Masahiro Kosuge
将洋 小菅
Ikutaka Nachi
郁高 名知
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Epson Imaging Devices Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device capable of improving the yield upon the manufacture by preventing breakage and displacement of a sealing material, and to provide electronic equipment provided with the liquid crystal device. <P>SOLUTION: In the liquid crystal device 100, a pair of substrates 40, 42 oppositely arranged are stuck to each other via the sealing materials 10 and a liquid crystal 48 of negative dielectric anisotropy is enclosed in a space surrounded by the sealing material 10 between the pair of substrates 40, 42. First vertically alignment films 52, 62 are disposed inside the respective sealing materials 10 between the pair of substrates 40, 42, and second vertically alignment films 54, 64 are disposed outside the sealing materials 10 on at least one side substrate between the pair of substrates 40, 42. Groove parts 10a with no vertically alignment films are disposed between the second vertically alignment films 54, 64 and the first vertically alignment films 52, 62, and the sealing materials 10 are disposed on the positions corresponding to at least the groove parts 10a. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus.

近年、携帯電話機、携帯情報端末機器といった各種の電子機器の表示装置として液晶装置が広く利用されている。液晶装置の中でも、液晶層として垂直配向タイプの液晶を用いた液晶装置(VAモード)が、広い視角特性を有するものとして広く知られている。
このような垂直配向型の液晶装置では、それぞれが電極を備えた一対の基板を電極面が互いに対向するように一定の間隙、いわゆるセルギャップを保ってシール材を介して貼り合わされ、そのセルギャップ内に液晶が封入されている。そして、表示領域の液晶層側に突起やスリット等の配向規制手段が設けられると共に、配向膜にはポリイミド等からなる垂直配向型の配向膜が用いられている。これにより、初期状態で垂直配向された液晶が電圧印加に伴って所定方向に傾倒されることで、液晶の配向制御が可能となっている。
In recent years, liquid crystal devices have been widely used as display devices for various electronic devices such as mobile phones and portable information terminal devices. Among liquid crystal devices, a liquid crystal device (VA mode) using a vertical alignment type liquid crystal as a liquid crystal layer is widely known as having a wide viewing angle characteristic.
In such a vertical alignment type liquid crystal device, a pair of substrates each having an electrode are bonded to each other via a sealing material while maintaining a certain gap, so-called cell gap, so that the electrode surfaces face each other. Liquid crystal is sealed inside. An alignment regulating means such as protrusions and slits is provided on the liquid crystal layer side of the display area, and a vertical alignment type film made of polyimide or the like is used as the alignment film. Thereby, the alignment of the liquid crystal can be controlled by tilting the liquid crystal vertically aligned in the initial state in a predetermined direction in accordance with the voltage application.

ここで、一対の基板間に設けられるシール材は、一対の基板の液晶側に形成された配向膜上に重なるようにして配置されている。このシール材は、印刷法やディスペンサ法により基板の周縁部に額縁状に形成される。
例えば、特許文献1に開示の液晶装置では、一方の基板の配向膜が、他方の基板のガラス端部のスクライブラインまで延長して設けられている。そして、この配向膜上にシール材が形成され、加圧、加熱することによりシール材を硬化させて他方の基板と貼り合わされている。これにより、ブレイク時、あるいはその後の工程で一方の基板のシール外周部と他方の基板のガラス端部であるスクライブラインとの隙間に、電極パターンのピッチ寸法以上の導電性異物が混入しても、基板内の横リーク不良を生じることなく、安定して液晶表示パネルを得ることができるようになっている。
さらに、特許文献2に開示の液晶装置では、一方の基板側には、表示領域にカラーフィルタ層が形成され、非表示領域にダミーカラーフィルタ層が形成されている。そして、これらの層を覆うようにして平坦化膜、パターン電極、及び配向膜が積層されて形成されている。シール材は、ダミーカラーフィルタ層が形成される配向膜上、及びダミーカラーフィルタ層の非形成領域に形成されている。これにより、カラーフィルタ層の厚さに関係なく、パネル中央部と周辺部とが同一のギャップを持ち、均一で品質の高いカラー液晶表示パネルを安定して得ることができるようになっている。
実開平6−60834号公報 実開平6−60835号公報
Here, the sealing material provided between the pair of substrates is disposed so as to overlap the alignment film formed on the liquid crystal side of the pair of substrates. This sealing material is formed in a frame shape on the peripheral edge of the substrate by a printing method or a dispenser method.
For example, in the liquid crystal device disclosed in Patent Document 1, the alignment film on one substrate is provided to extend to the scribe line at the glass edge of the other substrate. A sealing material is formed on the alignment film, and the sealing material is cured by pressurization and heating, and is bonded to the other substrate. As a result, even during the break or in subsequent steps, even if conductive foreign substances exceeding the pitch dimension of the electrode pattern enter the gap between the seal outer periphery of one substrate and the scribe line that is the glass end of the other substrate. A liquid crystal display panel can be obtained stably without causing a lateral leakage defect in the substrate.
Further, in the liquid crystal device disclosed in Patent Document 2, on one substrate side, a color filter layer is formed in the display area, and a dummy color filter layer is formed in the non-display area. A planarization film, a pattern electrode, and an alignment film are laminated so as to cover these layers. The sealing material is formed on the alignment film on which the dummy color filter layer is formed and in the region where the dummy color filter layer is not formed. Thereby, regardless of the thickness of the color filter layer, the central portion and the peripheral portion of the panel have the same gap, and a uniform and high quality color liquid crystal display panel can be stably obtained.
Japanese Utility Model Publication No. 6-60834 Japanese Utility Model Publication No. 6-60835

しかしながら、異方性誘電率が負の液晶を用いた液晶装置において、上記特許文献に示すように垂直配向膜上にシール材を印刷すると、配向膜の材料の特性、例えば接触角等の関係から以下に示す問題があった。
(1)垂直配向膜とシール材との間の接触角が大きいため、垂直配向膜上にシール材を印刷により形成した後、基板を加圧しながら加熱を行いシール材を硬化させると、シール材が断線してしまう、いわゆるシール切れが発生してしまった。これにより、一対の基板の貼り合わせ時に液晶がシール材の断線部から漏れ出してしまい、液晶装置を作製することができないという問題があった。
(2)垂直配向膜はポリイミド等の撥水性を有する材料が用いられているため、シール材を垂直配向膜上に配置すると、シール材が設計位置からずれてしまう、いわゆるシールズレが発生してしまった。これにより、ブレイクラインとシール材の形成位置が重なってしまうため、ガラスブレイク時にシール材によりガラスが切断できないという問題がった。
However, in a liquid crystal device using a liquid crystal having a negative anisotropic dielectric constant, when a sealing material is printed on the vertical alignment film as shown in the above-mentioned patent document, the characteristics of the alignment film, for example, contact angle, etc. There were the following problems.
(1) Since the contact angle between the vertical alignment film and the sealing material is large, after the sealing material is formed on the vertical alignment film by printing, the sealing material is cured by heating while pressing the substrate. So-called seal breakage has occurred. As a result, there is a problem in that the liquid crystal leaks from the disconnection portion of the sealing material when the pair of substrates is bonded, and the liquid crystal device cannot be manufactured.
(2) Since a material having water repellency such as polyimide is used for the vertical alignment film, when the sealing material is arranged on the vertical alignment film, a so-called seal shift occurs that causes the sealing material to deviate from the design position. It was. Thereby, since the formation position of a break line and a sealing material overlaps, there existed a problem that glass could not be cut | disconnected by a sealing material at the time of a glass break.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、シール材のシール切れ、シールズレを防止することで製造時の歩留まりの向上を図った液晶装置及び電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device and an electronic apparatus that are intended to improve the yield during manufacturing by preventing the sealing material from being cut off or being displaced. is there.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、対向配置された一対の基板がシール材を介して貼り合わされ、前記一対の基板間の前記シール材によって囲まれた空間に誘電率異方性が負の液晶が封入された液晶装置であって、前記一対の基板のそれぞれの前記シール材の内側には、第1垂直配向膜が設けられ、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の前記シール材の外側には、第2垂直配向膜が設けられ、前記第2垂直配向膜と前記第1垂直配向膜との間には垂直配向膜が設けられていない溝部が備えられており、少なくとも前記溝部に対応した位置に前記シール材が配置されていることを特徴とする。
また本発明の液晶装置は、前記第1垂直配向膜及び前記第2垂直配向膜が、ポリイミド又はポリアミック酸により形成されたことも好ましい。
The present invention has been made in view of the above problems, and a pair of substrates arranged opposite to each other are bonded together via a sealing material, and a dielectric constant is anisotropic in a space surrounded by the sealing material between the pair of substrates. A liquid crystal device in which a liquid crystal having negative properties is sealed, wherein a first vertical alignment film is provided inside each of the sealing materials of the pair of substrates, and the at least one substrate of the pair of substrates A second vertical alignment film is provided outside the sealing material, and a groove portion where no vertical alignment film is provided is provided between the second vertical alignment film and the first vertical alignment film. The sealing material is arranged at a position corresponding to the groove.
In the liquid crystal device of the present invention, it is also preferable that the first vertical alignment film and the second vertical alignment film are formed of polyimide or polyamic acid.

この構成では、第1垂直配向膜と第2垂直配向膜との間の溝部には配向膜が形成されていない基板面が露出された領域が設けられる。シール材は、この溝部に対応した位置に設けられるため、シール材と基板面との接触角が配向膜の場合と比較して小さくなり、いわゆるシール切れが防止される。これにより、シール切れによる液晶漏れが防止され、液晶装置の製造時の歩留まりの向上を図ることができる。
さらに、この構成によれば、シール材の内側及び外側に形成される第1及び第2垂直配向膜はポリイミド又はポリアミック酸からなるため、垂直配向型配向膜とシール材(垂直配向膜上に形成されるシール材)との間の接触角は高くなる。そのため、仮に外側の第2垂直配向膜上にシール材が配置されたとしても、このシール材が配向膜により弾かれ、シール材が溝部に収容される。これにより、第2垂直配向膜が設けられた位置から外側にシール材がズレて配置されるいわゆるシールズレが防止される。従って、シール材形成位置がブレイクラインと重ならないことで、シール材ではなく第2垂直配向膜をスクライブ、ブレイクすることができる。その結果、シール材の研削による接着力の低下等を防止することができ、液晶装置の製造時の歩留まりの向上を図ることができる。
In this configuration, a region where the substrate surface on which the alignment film is not formed is exposed is provided in the groove between the first vertical alignment film and the second vertical alignment film. Since the sealing material is provided at a position corresponding to the groove portion, the contact angle between the sealing material and the substrate surface is smaller than that of the alignment film, and so-called seal breakage is prevented. As a result, liquid crystal leakage due to seal breakage is prevented, and the yield in manufacturing the liquid crystal device can be improved.
Further, according to this configuration, since the first and second vertical alignment films formed on the inner side and the outer side of the sealing material are made of polyimide or polyamic acid, the vertical alignment type film and the sealing material (formed on the vertical alignment film) are formed. The contact angle with the sealing material is increased. Therefore, even if the sealing material is disposed on the outer second vertical alignment film, the sealing material is repelled by the alignment film, and the sealing material is accommodated in the groove. This prevents so-called seal displacement in which the seal material is displaced from the position where the second vertical alignment film is provided. Therefore, since the sealing material formation position does not overlap with the break line, it is possible to scribe and break the second vertical alignment film instead of the sealing material. As a result, it is possible to prevent a decrease in adhesive force due to grinding of the sealing material, and to improve the yield when manufacturing the liquid crystal device.

また本発明の液晶装置は、前記溝部が、前記基板の端部に沿って枠状に設けられており、該枠状の溝部に対応して前記シール材が配置されていることも好ましい。   In the liquid crystal device of the present invention, it is also preferable that the groove is provided in a frame shape along the edge of the substrate, and the sealing material is disposed corresponding to the frame-shaped groove.

この構成によれば、溝部が端部に沿って枠状に設けられるため、垂直配向膜と接することなく一対の基板間に枠状のシール材を形成することができる。   According to this configuration, since the groove portion is provided in a frame shape along the end portion, a frame-shaped sealing material can be formed between the pair of substrates without being in contact with the vertical alignment film.

また本発明の液晶装置は、前記シール材が前記第1垂直配向膜が形成された領域の端部に接して設けられたことも好ましい。   In the liquid crystal device of the present invention, it is also preferable that the sealing material is provided in contact with an end portion of the region where the first vertical alignment film is formed.

本発明では、シール材は第1垂直配向膜と第2垂直配向膜との間の溝部に規制されて形成される。従って、シール材が第1垂直配向膜の端部に接して設けられるため、シール材の内側方向の幅が規制される。これによりシール材の内側方向に設けられる表示領域をシール材の内周側面まで確保することができ、表示領域を大きくすることが可能となる。   In the present invention, the sealing material is formed to be regulated by the groove between the first vertical alignment film and the second vertical alignment film. Therefore, since the sealing material is provided in contact with the end portion of the first vertical alignment film, the width in the inner direction of the sealing material is regulated. Thereby, the display area provided in the inner direction of the sealing material can be secured up to the inner peripheral side surface of the sealing material, and the display area can be enlarged.

また本発明の液晶装置は、前記シール材が前記第1垂直配向膜が形成された領域の端部と間隙部を有して離間して設けられていることも好ましい。   In the liquid crystal device according to the aspect of the invention, it is also preferable that the sealing material is provided so as to be spaced apart from an end portion of the region where the first vertical alignment film is formed and a gap portion.

例えば、シール材を第1垂直配向膜及び第2垂直配向膜間の溝部に配置した後、基板間のセルギャップ、シール材の透湿性、又は基板間の導通性を確保するために、シール材のシールの厚み、シール材の幅を調整する必要がある場合がある。これに対し、本発明では、第1垂直配向膜とシール材との間に間隙部が設けられるため、シール材を上記溝部に配置した後、基板間のセルギャップ等を調整するためにシール材を加圧等して、シール材がシール材の幅方向に広がったとしても、間隙部がマージンとなる。従って、現状の設計ルールを侵すことなく、セルギャップ等の調整が可能となる。   For example, after the sealing material is disposed in the groove between the first vertical alignment film and the second vertical alignment film, the sealing material is used to ensure the cell gap between the substrates, the moisture permeability of the sealing material, or the conductivity between the substrates. It may be necessary to adjust the thickness of the seal and the width of the seal material. On the other hand, in the present invention, since the gap is provided between the first vertical alignment film and the sealing material, the sealing material is arranged to adjust the cell gap between the substrates after the sealing material is arranged in the groove. Even if the sealing material spreads in the width direction of the sealing material by pressurizing or the like, the gap portion becomes a margin. Therefore, the cell gap and the like can be adjusted without violating the current design rules.

また本発明の液晶装置は、前記第2垂直配向膜が前記シール材の外側から前記一対の基板の周縁部まで延在して設けられたことも好ましい。   In the liquid crystal device of the present invention, it is also preferable that the second vertical alignment film is provided so as to extend from the outside of the sealing material to the peripheral edge portions of the pair of substrates.

一般的に、スクライブ、ブレイクラインは、一対の基板のシール材とは重ならないシール材の外側の周縁部に設けられている。従って、この構成によれば、第2垂直配向膜が一対の基板の周縁部に設けられるため、スクライブラインと第2垂直配向膜とが平面的に重なる位置となる。これにより、シール材ではなく第2垂直配向膜を確実にスクライブ、ブレイクすることができ、シール材の研削による接着力の低下等を防止することができる。   In general, the scribe and break lines are provided on the outer peripheral edge of the sealing material that does not overlap the sealing material of the pair of substrates. Therefore, according to this configuration, since the second vertical alignment film is provided on the peripheral edge portions of the pair of substrates, the scribe line and the second vertical alignment film overlap each other in a plane. Thereby, not the sealing material but the second vertical alignment film can be surely scribed and broken, and a decrease in adhesive force due to grinding of the sealing material can be prevented.

本発明の電子機器は、上記液晶装置を備えることを特徴とする。
この構成によれば、歩留まりの向上が図られた液晶装置を備えるため、製造の効率化が図られた電子機器を提供することができる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device.
According to this configuration, since the liquid crystal device with improved yield is provided, an electronic device with improved manufacturing efficiency can be provided.

(第1の実施の形態)
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
(First embodiment)
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
In each drawing used for the following description, the scale of each member is appropriately changed to make each member a recognizable size.

まず、本実施形態のアクティブマトリクス型液晶装置について説明する。
図1は、液晶が挟持された素子基板40(第1基板)と対向基板42(第2基板)とが貼り合わされたアクティブマトリクス型の液晶装置100を示す平面図であり、図2は、図1に示す液晶装置100のA−A’線に沿った断面図であり、図3は、図1に示す液晶装置100の等価回路図を示す図である。
First, the active matrix liquid crystal device of this embodiment will be described.
FIG. 1 is a plan view showing an active matrix type liquid crystal device 100 in which an element substrate 40 (first substrate) and a counter substrate 42 (second substrate) sandwiching liquid crystal are bonded, and FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the liquid crystal device 100 shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram showing an equivalent circuit diagram of the liquid crystal device 100 shown in FIG.

液晶装置100は、図1,図2に示すように、素子基板40とこれに対向して配置された対向基板42とがシール材10を介して貼り合わされている。素子基板40及び対向基板42はガラスやプラスチック等の透明材料から形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, in the liquid crystal device 100, an element substrate 40 and a counter substrate 42 disposed so as to face the element substrate 40 are bonded to each other with a sealing material 10 interposed therebetween. The element substrate 40 and the counter substrate 42 are made of a transparent material such as glass or plastic.

素子基板40は、対向基板42から張り出した領域領域Bを有している。この張出領域Bには、スイッチング素子を駆動するための駆動ドライバ66,68が異方性導電膜(以下、「ACF」という。)を介して実装されている。そして、駆動ドライバ66,68のそれぞれには、表示領域Aの走査線3a及びデータ線6aから引き廻された引き廻し配線26が延設され接続されている。駆動ドライバ66,68の入力側には、フレキシブル基板用の接続端子50が形成されている。   The element substrate 40 has a region B that protrudes from the counter substrate 42. In the overhang region B, drive drivers 66 and 68 for driving the switching elements are mounted via an anisotropic conductive film (hereinafter referred to as “ACF”). The driving drivers 66 and 68 are connected to the wiring lines 26 extending from the scanning lines 3a and the data lines 6a in the display area A. A connection terminal 50 for a flexible substrate is formed on the input side of the drive drivers 66 and 68.

図1に示すように、液晶装置100のシール材10に囲まれた内側の表示領域Aにはマトリクス状に配列された複数の画素60が形成されている。各画素60には、図1及び図3に示すように、画素電極9がそれぞれ形成されている。また、その画素電極9の側方には、画素電極9への導通制御を行う画素スイッチング素子であるTFT30が形成されている。TFT30のソースには、データ線6aが電気的に接続されている。各データ線6aには画像信号S1、S2、…、Snが供給される。なお画像信号S1、S2、…、Snは、各データ線6aに対してこの順に線順次で供給してもよく、相隣接する複数のデータ線6aに対してグループ毎に供給してもよい。   As shown in FIG. 1, a plurality of pixels 60 arranged in a matrix are formed in the inner display region A surrounded by the sealing material 10 of the liquid crystal device 100. As shown in FIGS. 1 and 3, the pixel electrode 9 is formed in each pixel 60. Further, on the side of the pixel electrode 9, a TFT 30 that is a pixel switching element that controls conduction to the pixel electrode 9 is formed. A data line 6 a is electrically connected to the source of the TFT 30. Image signals S1, S2,..., Sn are supplied to each data line 6a. The image signals S1, S2,..., Sn may be supplied to each data line 6a in this order, or may be supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a.

TFT30のゲートには、走査線3aが電気的に接続されている。走査線3aには、所定のタイミングでパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmが供給される。なお、走査信号G1、G2、…、Gmは、各走査線3aに対してこの順に線順次で印加される。また、TFT30のドレインには、画素電極9が電気的に接続されている。そして、走査線3aから供給された走査信号G1、G2、…、Gmにより、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけオン状態にすると、データ線6aから供給された画像信号S1、S2、…、Snが、各画素の液晶に所定のタイミングで書き込まれる。   The scanning line 3 a is electrically connected to the gate of the TFT 30. Scan signals G1, G2,..., Gm are supplied to the scanning line 3a in pulses at a predetermined timing. Note that the scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to each scanning line 3a in this order in the order of lines. Further, the pixel electrode 9 is electrically connected to the drain of the TFT 30. Then, when the TFT 30 as a switching element is turned on for a certain period by the scanning signals G1, G2,..., Gm supplied from the scanning line 3a, the image signals S1, S2,. Is written to the liquid crystal of each pixel at a predetermined timing.

液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、画素電極9と後述する対向電極との間に形成される液晶容量で一定期間保持される。なお、保持された画像信号S1、S2、…、Snがリークするのを防止するため、画素電極9と容量線3bとの間に蓄積容量70が形成され、液晶容量と並列に接続されている。このように、液晶に電圧が印加されると、その電圧レベルにより液晶分子の配向状態が変化する。これにより、液晶に入射した光が変調されて階調表示が可能となる。   The predetermined level image signals S1, S2,..., Sn written in the liquid crystal are held for a certain period by a liquid crystal capacitance formed between the pixel electrode 9 and a counter electrode described later. In order to prevent the retained image signals S1, S2,..., Sn from leaking, a storage capacitor 70 is formed between the pixel electrode 9 and the capacitor line 3b, and is connected in parallel with the liquid crystal capacitor. . Thus, when a voltage is applied to the liquid crystal, the alignment state of the liquid crystal molecules changes depending on the voltage level. As a result, the light incident on the liquid crystal is modulated to enable gradation display.

次に、液晶装置100の断面構造について図2を参照して説明する。
素子基板40の対向する対向基板42側には、図示略の絶縁層が形成されている。そして、素子基板40上に形成された絶縁層上には、走査線3aとデータ線6aとに囲まれた領域毎に画素電極34が形成されている。各画素電極34にはTFT30が電気的に接続されている。
Next, a cross-sectional structure of the liquid crystal device 100 will be described with reference to FIG.
An insulating layer (not shown) is formed on the opposite substrate 42 side of the element substrate 40. On the insulating layer formed on the element substrate 40, the pixel electrode 34 is formed for each region surrounded by the scanning lines 3a and the data lines 6a. A TFT 30 is electrically connected to each pixel electrode 34.

対向基板42の対向する素子基板40側には、カラーフィルタ46と、オーバーコート層16と、対向電極24と、配向膜20とが基板42側からこの順に積層されて形成されている。さらに、カラーフィルタ46は、遮光層32と、着色層12R,12G,12Bとを備えている。   On the element substrate 40 side facing the counter substrate 42, the color filter 46, the overcoat layer 16, the counter electrode 24, and the alignment film 20 are stacked in this order from the substrate 42 side. Further, the color filter 46 includes a light shielding layer 32 and colored layers 12R, 12G, and 12B.

遮光層32は、図2に示すように、各着色層12R,12G,12Bの各々を区画するようにしてマトリクス状に形成されている。また、遮光層32は、例えば黒色感光性樹脂膜が用いられる。このような材料を用いることにより、着色層12R,12G,12B同士の間の光の透過を遮断し、コントラストの向上を図ることができると共に、TFT30の漏れ電流を防止することができる。   As shown in FIG. 2, the light shielding layer 32 is formed in a matrix so as to partition each of the colored layers 12R, 12G, and 12B. The light shielding layer 32 is made of, for example, a black photosensitive resin film. By using such a material, the transmission of light between the colored layers 12R, 12G, and 12B can be blocked, the contrast can be improved, and the leakage current of the TFT 30 can be prevented.

着色層12は、互いに異なる色からなり、赤色の着色層12R,緑色の着色層12G,青色の着色層12Bから構成されている。着色層12R,12G,12Bは、各画素60に対応して、対向基板42上にストライプ状に配列されている。これらの着色層12R,12G,12Bの材料としては、例えば、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等の有機樹脂、ジエチレングリコールブチルエーテル誘導体中に顔料や染料を分散させたものが用いられる。   The colored layer 12 has different colors, and is composed of a red colored layer 12R, a green colored layer 12G, and a blue colored layer 12B. The colored layers 12R, 12G, and 12B are arranged in stripes on the counter substrate 42 corresponding to the respective pixels 60. As a material for these colored layers 12R, 12G, and 12B, for example, an organic resin such as an acrylic resin or an epoxy resin, or a material in which a pigment or a dye is dispersed in a diethylene glycol butyl ether derivative is used.

着色層12R,12G,12B上には、これらの着色層12R,12G,12Bを覆うようにしてオーバーコート層16が形成されている。オーバーコート層16は、着色層12R,12G,12Bによる凹凸を平坦化するものである。オーバーコート層16の材料としては、例えば、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等の透明樹脂が好適に用いられる。オーバーコート層16上には、ITO(Indium Thin Oxide)などの透明導電材料からなる対向電極24がベタ状に形成されている。   An overcoat layer 16 is formed on the colored layers 12R, 12G, and 12B so as to cover the colored layers 12R, 12G, and 12B. The overcoat layer 16 flattens the unevenness caused by the colored layers 12R, 12G, and 12B. As a material for the overcoat layer 16, for example, a transparent resin such as an acrylic resin or an epoxy resin is preferably used. On the overcoat layer 16, a counter electrode 24 made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Thin Oxide) is formed in a solid shape.

次に、本実施形態の垂直配向膜について図2及び図4を参照して詳細に説明する。
まず、素子基板40側の配向膜の構成について説明する。
図4は、素子基板40側に形成されるシール材10と垂直配向膜52,54とを模式的に示す平面図である。なお、本実施形態に係る液晶装置において、シール材10に囲まれた内側の領域を表示領域Aと称し、シール材10の外側のうち張出領域Bを除いた領域を非表示領域Cと称する。
Next, the vertical alignment film of this embodiment will be described in detail with reference to FIGS.
First, the configuration of the alignment film on the element substrate 40 side will be described.
FIG. 4 is a plan view schematically showing the sealing material 10 and the vertical alignment films 52 and 54 formed on the element substrate 40 side. In the liquid crystal device according to the present embodiment, an inner area surrounded by the sealing material 10 is referred to as a display area A, and an area outside the sealing material 10 excluding the protruding area B is referred to as a non-display area C. .

図2及び図4に示すように、後述するシール材10の内側(表示領域A)の画素電極34上の全面には第1垂直配向膜52(図4斜線部)が形成されている。第1垂直配向膜52は、液晶分子を膜面に対して垂直に配向させる配向膜として機能するものであり、配向膜52表面にラビング等の配向処理は施されていない。第1垂直配向膜52の材料としては、ポリイミド、又はポリイミドの前駆体であるポリアミック酸等の樹脂材料や無機材料が用いられる。ここで、第1垂直配向膜52の側面52a(端部)は、図2に示すように、シール材10の内周側面10bに接触するようにして形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 4, a first vertical alignment film 52 (shaded portion in FIG. 4) is formed on the entire surface of the pixel electrode 34 on the inner side (display area A) of the sealing material 10 to be described later. The first vertical alignment film 52 functions as an alignment film for aligning liquid crystal molecules perpendicularly to the film surface, and the alignment film 52 surface is not subjected to alignment treatment such as rubbing. As a material of the first vertical alignment film 52, a resin material such as polyimide or polyamic acid which is a precursor of polyimide, or an inorganic material is used. Here, the side surface 52a (end portion) of the first vertical alignment film 52 is formed in contact with the inner peripheral side surface 10b of the sealing material 10, as shown in FIG.

一方、シール材10の外側(非表示領域C)の素子基板40上には、図2及び図4に示すように、シール材10の外周に沿って額縁状に第2垂直配向膜54(図4斜線部)が形成されている。第2垂直配向膜54は、上記第1垂直配向膜52と同一工程、及び同一材料により形成されるものであり、第1垂直配向膜52と同様に垂直配向膜として機能する。第2垂直配向膜54の材料としては、ポリイミド等が好適に用いられる。ここで、第2垂直配向膜54の内周側面54aは、図2に示すように、シール材10の外周側面10cに接触するようにして形成されている。また、第2垂直配向膜54の外側方向の端部54bは、複数の液晶装置を個々にブレイクする際のスクライブ,ブレイクラインLと平面的に重なるように素子基板40の周縁部にまで形成されている。   On the other hand, on the element substrate 40 outside the sealing material 10 (non-display area C), as shown in FIGS. 2 and 4, the second vertical alignment film 54 (see FIG. 2) is formed in a frame shape along the outer periphery of the sealing material 10. 4 hatched portions) are formed. The second vertical alignment film 54 is formed by the same process and the same material as the first vertical alignment film 52, and functions as a vertical alignment film like the first vertical alignment film 52. As a material of the second vertical alignment film 54, polyimide or the like is preferably used. Here, the inner peripheral side surface 54a of the second vertical alignment film 54 is formed in contact with the outer peripheral side surface 10c of the sealing material 10, as shown in FIG. Further, the outer end 54b of the second vertical alignment film 54 is formed up to the periphery of the element substrate 40 so as to overlap the scribe and break lines L when the plurality of liquid crystal devices are individually broken. ing.

対向基板42側にも同様に、シール材10の内側(表示領域A)のカラーフィルタ上には第1垂直配向膜62が形成されている。一方、シール材10の外側(非表示領域C)の対向基板42上には、シール材10の外周に沿って額縁状に第2垂直配向膜64が形成されている。その他の構成等については、素子基板40側の垂直配向膜52,54と同様であるため詳細な説明を省略する。   Similarly, on the counter substrate 42 side, a first vertical alignment film 62 is formed on the color filter inside (display area A) of the sealing material 10. On the other hand, a second vertical alignment film 64 is formed in a frame shape along the outer periphery of the sealing material 10 on the counter substrate 42 outside the sealing material 10 (non-display area C). Other configurations and the like are the same as those of the vertical alignment films 52 and 54 on the element substrate 40 side, and thus detailed description thereof is omitted.

このように、本実施形態において第1垂直配向膜52と第2垂直配向膜54との間隙には、図2及び図4に示すように、額縁状(枠状)に形成された所定の幅を有する溝部10aが形成される。溝部10aの幅W1は、形成するシール材10の幅に合わせて形成されており、本実施形態ではシール材10を加圧、加熱して硬化させた後のシール材10の幅に合わせて設定されている。本実施形態において溝部10aの幅W1は、400μm〜1000μmの幅を有している。また、この溝部10aは、配向膜が形成されていない基板面が露出した領域であり、基板面と形成されるシール材10との間の接触角が垂直配向膜52,54とシール材10との間の接触角よりも低くなるようになっている。そして、素子基板40側の溝部10aと対向基板42側の溝部10aとは、一対の基板40,42の貼り合せ時に平面的に重なる位置に設けられ、シール材10が互いの基板40,42面に対して垂直に設けられるようになっている。   As described above, in the present embodiment, the gap between the first vertical alignment film 52 and the second vertical alignment film 54 has a predetermined width formed in a frame shape (frame shape) as shown in FIGS. A groove portion 10a having the following is formed. The width W1 of the groove portion 10a is formed in accordance with the width of the sealing material 10 to be formed. In this embodiment, the width W1 is set in accordance with the width of the sealing material 10 after the sealing material 10 is pressurized and heated to be cured. Has been. In the present embodiment, the width W1 of the groove portion 10a has a width of 400 μm to 1000 μm. The groove 10a is a region where the substrate surface on which the alignment film is not formed is exposed, and the contact angle between the substrate surface and the formed sealing material 10 is vertical alignment films 52 and 54 and the sealing material 10. The contact angle between the two is lower. The groove portion 10a on the element substrate 40 side and the groove portion 10a on the counter substrate 42 side are provided at positions where they overlap in a plane when the pair of substrates 40 and 42 are bonded together, and the sealing material 10 faces the surfaces of the substrates 40 and 42. It is provided perpendicular to.

素子基板40及び対向基板42のそれぞれに形成された溝部10aには、第1垂直配向膜52(62)及び第2垂直配向膜54(64)と平面的に重ならないようにしてシール材10が形成されている。これにより、シール材10は図4に示す額縁状に形成され、本実施形態では液晶を注入する液晶注入口が形成されていないいわゆる封口レス(ODF、One Drop Fill)方式のシール構造となっている。   In the groove 10a formed in each of the element substrate 40 and the counter substrate 42, the sealing material 10 is provided so as not to planarly overlap the first vertical alignment film 52 (62) and the second vertical alignment film 54 (64). Is formed. As a result, the sealing material 10 is formed in a frame shape as shown in FIG. 4. In this embodiment, a sealing structure of a so-called sealing-less (ODF, One Drop Fill) system in which a liquid crystal injection port for injecting liquid crystal is not formed. Yes.

次に、液晶装置100の画素構成について説明する。
図5(a)は、画素の概略構成を示す平面図であり、(b)は(a)に示す画素のB−B’線に沿った断面図である。なお、図5(a),(b)において符号51にて示す略棒状の楕円体は、垂直配向された液晶分子を概念的に示すものである。
Next, the pixel configuration of the liquid crystal device 100 will be described.
FIG. 5A is a plan view illustrating a schematic configuration of a pixel, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line BB ′ of the pixel illustrated in FIG. 5A and 5B, the substantially rod-shaped ellipsoid denoted by reference numeral 51 conceptually indicates vertically aligned liquid crystal molecules.

液晶装置100の表示領域Aには複数の画素60が設けられ、各画素60は、図5(a)に示すように、走査線3aとデータ線6aとに囲まれるドット領域D1〜D3から構成されている。各ドット領域のそれぞれには、3原色のうち1色のカラーフィルタ(22R,22G,22B)が設けられている。   A plurality of pixels 60 are provided in the display area A of the liquid crystal device 100, and each pixel 60 is composed of dot areas D1 to D3 surrounded by scanning lines 3a and data lines 6a as shown in FIG. Has been. Each dot area is provided with a color filter (22R, 22G, 22B) of one of the three primary colors.

ドット領域D1〜D3のそれぞれには画素電極34が形成されている。各ドット領域内に形成された画素電極34は、スリット19により複数(本実施形態では3つ)のサブピクセル(島状部)29a,29bに分割され、各サブピクセルは中央部で連結されている(連結部)。サブピクセル29aはAl(アルミニウム)やAg(銀)等の光反射性の金属膜若しくはこれらの金属膜とITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電膜との積層膜からなる。このサブピクセル29aは反射電極として機能し、このサブピクセル29aの形成された領域が反射表示領域Rとなる。反射電極の表面には凹凸形状が付与されており、この凹凸によって反射光が散乱されることで、視認性の良い表示が得られるようになっている。
一方、サブピクセル29bはITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電膜からなり、このサブピクセル29bの形成された領域が透過表示領域Tとなる。
A pixel electrode 34 is formed in each of the dot regions D1 to D3. The pixel electrode 34 formed in each dot region is divided into a plurality (three in this embodiment) of sub-pixels (island portions) 29a and 29b by the slit 19, and each sub-pixel is connected at the center. (Connecting part). The subpixel 29a is made of a light-reflective metal film such as Al (aluminum) or Ag (silver) or a laminated film of these metal films and a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide). The subpixel 29a functions as a reflective electrode, and a region where the subpixel 29a is formed becomes a reflective display region R. The surface of the reflective electrode is provided with a concavo-convex shape, and reflected light is scattered by the concavo-convex so that a display with good visibility can be obtained.
On the other hand, the subpixel 29b is made of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), and a region where the subpixel 29b is formed becomes a transmissive display region T.

すなわち、本実施形態の液晶装置100は、1つのドット領域内に反射表示を行う反射表示領域Rと透過表示を行う透過表示領域Tとを備えた半透過反射型の液晶装置となっている。図5では、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界を一点鎖線で示している。なお、サブピクセルとサブピクセルを連結する連結部はITO等の透明導電膜からなり、この連結部も透過表示に寄与するようになっている。   That is, the liquid crystal device 100 according to the present embodiment is a transflective liquid crystal device including a reflective display region R that performs reflective display and a transmissive display region T that performs transmissive display in one dot region. In FIG. 5, the boundary between the reflective display region R and the transmissive display region T is indicated by a one-dot chain line. In addition, the connection part which connects a subpixel and a subpixel consists of transparent conductive films, such as ITO, and this connection part also contributes to a transmissive display.

また、サブピクセル29a,29bのそれぞれの中央部には、液晶の配向を規制するための配向規制手段である誘電体の突起21が配設されている。各サブピクセル29a,29bの角部には面取り等が施され、サブピクセル29a,29bは平面視略八角形状乃至略円形状とされている。   In addition, a dielectric protrusion 21 serving as an alignment regulating means for regulating the alignment of the liquid crystal is disposed at the center of each of the subpixels 29a and 29b. The corners of the subpixels 29a and 29b are chamfered, and the subpixels 29a and 29b have a substantially octagonal shape or a substantially circular shape in plan view.

走査線3aとデータ線6aと交差領域には、図5(a)に示すように、TFT30が形成されている。TFT30は、半導体層33と、半導体層33の下層側(素子基板40側)に設けられたゲート電極31と、半導体層33の上層側に設けられたソース電極37と、ドレイン電極部39とを備えて構成されている。   As shown in FIG. 5A, a TFT 30 is formed in a region where the scanning line 3a and the data line 6a intersect. The TFT 30 includes a semiconductor layer 33, a gate electrode 31 provided on the lower layer side (element substrate 40 side) of the semiconductor layer 33, a source electrode 37 provided on the upper layer side of the semiconductor layer 33, and a drain electrode portion 39. It is prepared for.

続けて、5(b)に示す断面構造を見ると、液晶装置100は、素子基板40と、これに対向配置された対向基板42とを備え、前記基板40,42間に初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶(屈折率異方性Δnは例えば0.1)からなる液晶層48が挟持されている。素子基板40の外面側にあたる液晶セルの外側には、照明手段として光源、リフレクタ、導光板などを有するバックライト(図示略)が設置されている。   Next, looking at the cross-sectional structure shown in FIG. 5B, the liquid crystal device 100 includes an element substrate 40 and a counter substrate 42 disposed to face the element substrate 40, and the initial alignment state is vertical between the substrates 40 and 42. A liquid crystal layer 48 made of a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy exhibiting orientation (refractive index anisotropy Δn is 0.1, for example) is sandwiched. A backlight (not shown) having a light source, a reflector, a light guide plate, and the like is installed as illumination means outside the liquid crystal cell corresponding to the outer surface side of the element substrate 40.

素子基板40は石英、ガラス等の透光性材料からなり、素子基板40の内面側(液晶層側)にはボトムゲート構造のアモルファスシリコンTFT30が形成されている。具体的には、素子基板40上には、ゲート電極31が形成され、ゲート電極31を覆ってゲート絶縁膜41が形成されている。ゲート絶縁膜41上のゲート電極31に対向する位置にはアモルファスシリコンからなる半導体層33が形成され、半導体層33には図中左側からソース領域、チャネル領域、及びドレイン領域が設けられている。そして、半導体層33のソース領域上には絶縁膜を介してデータ線6a(ソース電極37)が形成され、半導体層33のドレイン領域上には絶縁膜を介して中継電極76(ドレイン電極39)が形成されている。TFT30を含むゲート絶縁膜41上には層間絶縁膜43が形成され、層間絶縁膜43上には画素電極34が形成されている。中継電極76は、層間絶縁膜43に形成されたコンタクトホール78を介して、画素電極34または反射膜14に電気的に接続されている。   The element substrate 40 is made of a translucent material such as quartz or glass, and an amorphous silicon TFT 30 having a bottom gate structure is formed on the inner surface side (liquid crystal layer side) of the element substrate 40. Specifically, the gate electrode 31 is formed on the element substrate 40, and the gate insulating film 41 is formed to cover the gate electrode 31. A semiconductor layer 33 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating film 41 at a position facing the gate electrode 31, and a source region, a channel region, and a drain region are provided on the semiconductor layer 33 from the left side in the drawing. A data line 6a (source electrode 37) is formed on the source region of the semiconductor layer 33 via an insulating film, and a relay electrode 76 (drain electrode 39) is formed on the drain region of the semiconductor layer 33 via an insulating film. Is formed. An interlayer insulating film 43 is formed on the gate insulating film 41 including the TFT 30, and a pixel electrode 34 is formed on the interlayer insulating film 43. The relay electrode 76 is electrically connected to the pixel electrode 34 or the reflective film 14 through a contact hole 78 formed in the interlayer insulating film 43.

透過表示領域Tに位置する画素電極34(サブピクセル49c)は、ITO等の透明導電膜から形成されている。一方、反射表示領域Rに位置する画素電極(サブピクセル49b)は、ITO等の透明導電膜34と、透明導電膜34上に積層されたAl等からなる反射膜14とから構成されている。そして、透明導電膜34の表面が凹凸状に形成され、この凹凸形状が反射膜14に反映されるように構成されている。そして、画素電極34及び層間絶縁膜43を覆うようにしてポリイミド等の第1垂直配向膜52が形成されている。   The pixel electrode 34 (subpixel 49c) located in the transmissive display region T is formed of a transparent conductive film such as ITO. On the other hand, the pixel electrode (subpixel 49b) located in the reflective display region R is composed of a transparent conductive film 34 made of ITO or the like and a reflective film 14 made of Al or the like laminated on the transparent conductive film 34. The surface of the transparent conductive film 34 is formed in an uneven shape, and the uneven shape is reflected in the reflective film 14. A first vertical alignment film 52 such as polyimide is formed so as to cover the pixel electrode 34 and the interlayer insulating film 43.

対向基板42は石英、ガラス等の透光性材料からなり、対向基板42の内面側には、反射表示領域R及び透過表示領域Tに跨ってカラーフィルタ22が設けられている。   The counter substrate 42 is made of a translucent material such as quartz or glass, and the color filter 22 is provided on the inner surface side of the counter substrate 42 across the reflective display region R and the transmissive display region T.

カラーフィルタ22の内面側には反射表示領域Rに対応してアクリル樹脂等の有機材料膜からなる液晶層厚調整層72が選択的に形成されている。これにより、液晶層48の層厚は、反射表示領域Rと透過表示領域Tとで異なり、反射表示領域Rにおける液晶層48の厚みは透過表示領域Tにおける液晶層48の厚みの約半分となっている。本実施形態の液晶装置100は、液晶層厚調整層72を用いることによってマルチギャップ構造を実現するものとなっている。   A liquid crystal layer thickness adjusting layer 72 made of an organic material film such as acrylic resin is selectively formed on the inner surface side of the color filter 22 corresponding to the reflective display region R. Thereby, the layer thickness of the liquid crystal layer 48 is different between the reflective display region R and the transmissive display region T, and the thickness of the liquid crystal layer 48 in the reflective display region R is about half of the thickness of the liquid crystal layer 48 in the transmissive display region T. ing. The liquid crystal device 100 according to the present embodiment realizes a multi-gap structure by using the liquid crystal layer thickness adjustment layer 72.

さらに対向基板42の内面側には、カラーフィルタ22と液晶層厚調整層72の表面を覆って対向電極24が形成されている。対向電極24は平面ベタ状のITO等からなる透明導電膜であり、係る対向電極24上の画素電極34と対向する位置に、液晶層48に突出する誘電体突起21が設けられている。誘電体突起21の断面形状は略三角形で図示しているが、実際にはなだらかな曲面形状で形成される。透過表示領域Tには、2つのサブピクセル29b,29bの各々に対応して、その中央部に対向する位置にそれぞれ1つずつ誘電体突起21が形成されており、反射表示領域Rには、サブピクセル29aに対応して、その中央部に対向する位置に誘電体突起21が1つ形成されている。反射表示領域Rの誘電体突起21は、液晶層厚調整層72に形成された凹部内の領域に配置されている。これらの誘電体突起21は、樹脂等の誘電体材料からなり、マスクを用いたフォトリソグラフィ等によって形成することができる。
また、対向電極24及び誘電体突起21を覆ってポリイミド等の第2垂直配向膜54が形成されており、液晶分子51の初期配向を基板面に対し垂直に配向させるようになっている。
Further, a counter electrode 24 is formed on the inner surface side of the counter substrate 42 so as to cover the surfaces of the color filter 22 and the liquid crystal layer thickness adjusting layer 72. The counter electrode 24 is a transparent conductive film made of flat solid ITO or the like, and a dielectric protrusion 21 protruding from the liquid crystal layer 48 is provided at a position facing the pixel electrode 34 on the counter electrode 24. Although the cross-sectional shape of the dielectric protrusion 21 is shown as a substantially triangular shape, it is actually formed in a gentle curved surface shape. In the transmissive display area T, one dielectric protrusion 21 is formed at a position facing the center of each of the two subpixels 29b and 29b, and the reflective display area R includes One dielectric protrusion 21 is formed at a position facing the center of the subpixel 29a. The dielectric protrusions 21 in the reflective display region R are disposed in a region in the recess formed in the liquid crystal layer thickness adjusting layer 72. These dielectric protrusions 21 are made of a dielectric material such as resin and can be formed by photolithography using a mask.
Further, a second vertical alignment film 54 such as polyimide is formed so as to cover the counter electrode 24 and the dielectric protrusion 21 so that the initial alignment of the liquid crystal molecules 51 is aligned perpendicular to the substrate surface.

本実施形態では、第1垂直配向膜52(62)と第2垂直配向膜54(64)との間隙に、シール材10を形成するための溝部10aが設けられる。この溝部10aは配向膜が形成されていない基板面が露出された領域となっている。本実施形態においてシール材10は、垂直配向型配向膜とは重ならない溝部10aに設けられるため、シール材10と基板面との接触角が配向膜上に形成する場合と比較して小さくなり、いわゆるシール切れが防止される。これにより、シール切れによる液晶漏れが防止され、液晶装置100の製造時の歩留まりの向上を図ることができる。
また、本実施形態によれば、シール材10の内側及び外側に形成される第1及び第2垂直配向膜54(64)はポリイミド又はポリアミック酸からなるため、垂直配向膜とシール材(垂直配向膜上に形成されるシール材)との間の接触角は高くなる。そのため、外側の第2垂直配向膜54(64)上にシール材10が配置されたとしても、このシール材10が第2垂直配向膜54(64)により弾かれ、シール材10が溝部10aに収容される。これにより、第2垂直配向膜54(64)が設けられた位置から外側にシール材10がズレて配置されるいわゆるシールズレが防止される。従って、シール材10形成位置がブレイクラインと重ならないことで、シール材10ではなく第2垂直配向膜54(64)をスクライブ、ブレイクすることができる。その結果、シール材10の研削による接着力の低下等を防止することができ、液晶装置100の製造時の歩留まりの向上を図ることができる。
In the present embodiment, a groove 10a for forming the sealing material 10 is provided in the gap between the first vertical alignment film 52 (62) and the second vertical alignment film 54 (64). The groove 10a is a region where the substrate surface on which the alignment film is not formed is exposed. In this embodiment, since the sealing material 10 is provided in the groove portion 10a that does not overlap with the vertical alignment type alignment film, the contact angle between the sealing material 10 and the substrate surface is smaller than that formed on the alignment film, So-called seal breakage is prevented. As a result, liquid crystal leakage due to seal breakage is prevented, and the yield at the time of manufacturing the liquid crystal device 100 can be improved.
In addition, according to the present embodiment, the first and second vertical alignment films 54 (64) formed on the inner side and the outer side of the sealing material 10 are made of polyimide or polyamic acid. The contact angle with the sealing material formed on the film increases. Therefore, even if the sealing material 10 is disposed on the outer second vertical alignment film 54 (64), the sealing material 10 is repelled by the second vertical alignment film 54 (64), and the sealing material 10 is formed in the groove 10a. Be contained. Thereby, a so-called seal shift in which the sealing material 10 is shifted from the position where the second vertical alignment film 54 (64) is provided to the outside is prevented. Therefore, the second vertical alignment film 54 (64), not the sealing material 10, can be scribed and broken because the position where the sealing material 10 is formed does not overlap with the break line. As a result, it is possible to prevent a decrease in adhesive force due to grinding of the sealing material 10 and to improve the yield when manufacturing the liquid crystal device 100.

また本実施形態によれば、シール材10は第1垂直配向膜52(62)と第2垂直配向膜54(64)との間の溝部10aに規制されて形成される。従って、第1垂直配向膜52(62)の側面52a(62a)がシール材10の内周側面10bと接触することにより、シール材10の内側方向の幅が規制される。これによりシール材10の内側方向に設けられる表示領域Aをシール材10の内周側面10bまで確保することができ、表示領域Aを大きくすることが可能となる。   Further, according to the present embodiment, the sealing material 10 is formed by being regulated by the groove 10a between the first vertical alignment film 52 (62) and the second vertical alignment film 54 (64). Therefore, when the side surface 52a (62a) of the first vertical alignment film 52 (62) is in contact with the inner peripheral side surface 10b of the sealing material 10, the width in the inner direction of the sealing material 10 is restricted. Thereby, the display area A provided in the inner side direction of the sealing material 10 can be secured up to the inner peripheral side surface 10b of the sealing material 10, and the display area A can be enlarged.

また、一般的に、スクライブ、ブレイクラインは、素子基板40及び対向基板42のシール材10とは重ならないシール材10の外側の周縁部に設けられている。従って、本実施形態によれば、第2垂直配向膜54(64)が一対の基板の周縁部に設けられるため、スクライブラインと第2垂直配向膜54(64)とが平面的に重なる位置となる。これにより、シール材10ではなく第2垂直配向膜54(64)を確実にスクライブ、ブレイクすることができ、シール材10の研削による接着力の低下等を防止することができる。   In general, the scribe and break lines are provided on the outer peripheral edge of the sealing material 10 that does not overlap the sealing material 10 of the element substrate 40 and the counter substrate 42. Therefore, according to the present embodiment, since the second vertical alignment film 54 (64) is provided on the peripheral edge portion of the pair of substrates, the scribe line and the second vertical alignment film 54 (64) overlap in a plane. Become. Accordingly, not the sealing material 10 but the second vertical alignment film 54 (64) can be surely scribed and broken, and a decrease in adhesive force due to grinding of the sealing material 10 can be prevented.

(第2の実施の形態)
次に、本実施形態について図面を参照して説明する。
上記実施形態においてはシール材の内側に形成する第1垂直配向膜の側面を、シール材の内周側面に接触させて形成していた。これに対し、本実施形態では、第1垂直配向膜の側面と、シール材の内周側面との間に間隙部を設けている点において上記実施形態と異なる。なお、液晶装置の基本構成は、上記第1実施形態と同様であるため、共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
(Second Embodiment)
Next, the present embodiment will be described with reference to the drawings.
In the above embodiment, the side surface of the first vertical alignment film formed on the inner side of the sealing material is formed in contact with the inner peripheral side surface of the sealing material. On the other hand, this embodiment differs from the above embodiment in that a gap is provided between the side surface of the first vertical alignment film and the inner peripheral side surface of the sealing material. Since the basic configuration of the liquid crystal device is the same as that of the first embodiment, common constituent elements are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図6は、本実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図である。
図6に示すように、シール材10の内側の画素電極34上の全面には第1垂直配向膜52が形成されている。ここで、第1垂直配向膜52の端部側面52a(端部)とシール材10の内周側面10bとの間には間隙部90が設けられている。
一方、シール材10の外側の素子基板40上には、シール材10の外周に沿って額縁状に第2垂直配向膜54が形成されている。第2垂直配向膜54の内周側面54aは、シール材10の外周側面10cに接触するようにして形成されている。
対向基板42側の垂直配向膜62(64)の構成については、素子基板40側の垂直配向膜52(54)の構成と同様であるため説明を省略する。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the liquid crystal device according to the present embodiment.
As shown in FIG. 6, a first vertical alignment film 52 is formed on the entire surface of the pixel electrode 34 inside the sealing material 10. Here, a gap 90 is provided between the end side surface 52 a (end) of the first vertical alignment film 52 and the inner peripheral side surface 10 b of the sealing material 10.
On the other hand, on the element substrate 40 outside the sealing material 10, a second vertical alignment film 54 is formed in a frame shape along the outer periphery of the sealing material 10. The inner peripheral side surface 54 a of the second vertical alignment film 54 is formed so as to contact the outer peripheral side surface 10 c of the sealing material 10.
Since the configuration of the vertical alignment film 62 (64) on the counter substrate 42 side is the same as that of the vertical alignment film 52 (54) on the element substrate 40 side, the description thereof is omitted.

例えば、シール材10を第1垂直配向膜52(62)及び第2垂直配向膜54(64)間の溝部10aに配置した後、基板40,42間のセルギャップ、シール材10の透湿性、又は基板40,42間の導通性を確保するために、シール材10のシールの厚み、シール材10の幅を調整する必要がある場合がある。これに対し、本実施形態では、第1垂直配向膜52(62)とシール材10との間に間隙部90が設けられるため、シール材10を上記溝部10aに配置した後、基板40,42間のセルギャップ等を調整するためにシール材10を加圧等して、シール材10がシール材10の幅方向に広がったとしても、間隙部90がマージンとなる。従って、現状の設計ルールを侵すことなく、セルギャップ等の調整が可能となる。   For example, after the sealing material 10 is disposed in the groove 10a between the first vertical alignment film 52 (62) and the second vertical alignment film 54 (64), the cell gap between the substrates 40 and 42, the moisture permeability of the sealing material 10, Alternatively, it may be necessary to adjust the seal thickness of the sealing material 10 and the width of the sealing material 10 in order to ensure the conductivity between the substrates 40 and 42. In contrast, in the present embodiment, since the gap 90 is provided between the first vertical alignment film 52 (62) and the sealing material 10, the substrates 40 and 42 are disposed after the sealing material 10 is disposed in the groove 10a. Even if the sealing material 10 is pressurized to adjust the cell gap between them and the sealing material 10 expands in the width direction of the sealing material 10, the gap 90 becomes a margin. Therefore, the cell gap and the like can be adjusted without violating the current design rules.

(第3の実施の形態)
次に、本実施形態について図面を参照して説明する。
上記実施形態においては液晶装置のシール材には液晶注入口が設けられていない封口レス方式のものが用いられていた。これに対し、本実施形態の液晶装置では、シール材に液晶を注入する液晶注入口が設けられたものを用いている点において上記第1実施形態と異なる。なお、液晶装置の基本構成は、上記第1実施形態と同様であるため、共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
(Third embodiment)
Next, the present embodiment will be described with reference to the drawings.
In the above embodiment, a sealing-less type without a liquid crystal injection port is used as the sealing material of the liquid crystal device. On the other hand, the liquid crystal device of this embodiment is different from the first embodiment in that a liquid crystal injection port for injecting liquid crystal is provided in the sealing material. Since the basic configuration of the liquid crystal device is the same as that of the first embodiment, common constituent elements are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図7は、素子基板40側のシール材10と垂直配向膜52,54を模式的に示す平面図である。
シール材10の内側の表示領域Aの全面には、図7に示すように、第1垂直配向膜52が形成されている。一方、シール材10の外側の非表示領域Bには、シール材10の外周に沿って額縁状に第2垂直配向膜54が形成されている。
FIG. 7 is a plan view schematically showing the sealing material 10 and the vertical alignment films 52 and 54 on the element substrate 40 side.
As shown in FIG. 7, a first vertical alignment film 52 is formed on the entire surface of the display area A inside the sealing material 10. On the other hand, in the non-display area B outside the sealing material 10, a second vertical alignment film 54 is formed in a frame shape along the outer periphery of the sealing material 10.

また、図7に示すように、素子基板40の周縁部の第1垂直配向膜52と第2垂直配向膜54との間にはシール材10が額縁状に形成されている。シール材10の一部(素子基板40の上辺の略中央部)には、液晶を一対の基板40,42間に注入するための液晶注入口28が設けられている。そして、液晶注入口28のシール材10の両端部には、シール材10の枠の外側に向かって突出する突出部28a,28bが設けられている。突出部28a,28bはシール材10の外側に形成される第2垂直配向膜54上に乗り上げて形成されており、第2垂直配向膜54は開口部のない閉じた構造となっている。   Further, as shown in FIG. 7, the sealing material 10 is formed in a frame shape between the first vertical alignment film 52 and the second vertical alignment film 54 at the periphery of the element substrate 40. A liquid crystal injection port 28 for injecting liquid crystal between the pair of substrates 40 and 42 is provided in a part of the sealing material 10 (substantially central portion of the upper side of the element substrate 40). Protruding portions 28 a and 28 b that protrude toward the outside of the frame of the sealing material 10 are provided at both ends of the sealing material 10 of the liquid crystal inlet 28. The protrusions 28a and 28b are formed on the second vertical alignment film 54 formed outside the sealing material 10, and the second vertical alignment film 54 has a closed structure without an opening.

本実施形態によれば、シール材10に液晶注入口28を形成した場合でも、上記第1実施形態と同様に、シール材10のシール切れ又はシールズレを防止することができる。   According to the present embodiment, even when the liquid crystal injection port 28 is formed in the sealing material 10, it is possible to prevent the sealing material 10 from being broken or misaligned as in the first embodiment.

<電子機器>
次に、本発明の電子機器の一例について説明する。
図8は、上述した液晶装置100を備えた携帯電話(電子機器)を示した斜視図である。図8に示すように、携帯電話機600は、ヒンジ122を中心として折り畳み可能な第1ボディ106aと第2ボディ106bとを備えている。そして、第1ボディ106aには、液晶装置601(100)と、複数の操作ボタン127と、受話口124と、アンテナ126とが設けられている。また、第2ボディ106bには、送話口128が設けられている。本実施形態によれば、歩留まりの向上を図った液晶装置を備えるため、効率的に電子機器を提供することができる。
<Electronic equipment>
Next, an example of the electronic device of the present invention will be described.
FIG. 8 is a perspective view showing a mobile phone (electronic device) including the liquid crystal device 100 described above. As shown in FIG. 8, the mobile phone 600 includes a first body 106 a and a second body 106 b that can be folded around a hinge 122. The first body 106a is provided with a liquid crystal device 601 (100), a plurality of operation buttons 127, an earpiece 124, and an antenna 126. The second body 106b is provided with a mouthpiece 128. According to this embodiment, since the liquid crystal device that improves the yield is provided, an electronic apparatus can be provided efficiently.

また、本実施形態の液晶装置100は、上記携帯電話以外にも種々の電子機器に適用することができる。例えば、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ(PC)及びエンジニアリング・ワークステーション(EWS)、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、POS端末、タッチパネルを備えた装置などの電子機器に適用することが可能である。   In addition, the liquid crystal device 100 of the present embodiment can be applied to various electronic devices other than the mobile phone. For example, LCD projectors, multimedia-compatible personal computers (PCs) and engineering workstations (EWS), pagers, word processors, televisions, viewfinder type or monitor direct view type video tape recorders, electronic notebooks, electronic desk calculators, car navigation systems The present invention can be applied to electronic devices such as a device, a POS terminal, and a device provided with a touch panel.

なお、本発明は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることはもちろんである。また、本願発明の要旨を逸脱しない範囲において上述した各例を組み合わせても良い。
例えば、上記実施形態では、素子基板と対向基板とに第2垂直配向膜を形成していた。これに対し、素子基板及び対向基板のいずれか一方に第2垂直配向膜を形成することも可能である。この場合には、第2垂直配向膜を形成した基板側にシール材を描画することで、シールズレを防止することができる。
In addition, this invention is not limited to the example mentioned above, Of course, a various change can be added in the range which does not deviate from the summary of this invention. Moreover, you may combine each example mentioned above in the range which does not deviate from the summary of this invention.
For example, in the above embodiment, the second vertical alignment film is formed on the element substrate and the counter substrate. On the other hand, it is also possible to form the second vertical alignment film on either the element substrate or the counter substrate. In this case, a seal shift can be prevented by drawing a sealing material on the substrate side on which the second vertical alignment film is formed.

第1実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the liquid crystal device which concerns on 1st Embodiment. 図1に示す液晶装置のA−A’線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of the liquid crystal device illustrated in FIG. 1. 同、液晶装置の等価回路を示す断面図である。2 is a cross-sectional view showing an equivalent circuit of the liquid crystal device. FIG. 同、素子基板側の垂直配向膜の形成位置を示す平面図である。It is a top view which shows the formation position of the vertical alignment film by the side of an element substrate similarly. (a)は画素の構成を示す平面図であり、(b)は(a)に示す画素のB−B’線に沿った断面図である。(A) is a top view which shows the structure of a pixel, (b) is sectional drawing along the B-B 'line of the pixel shown to (a). 第2実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る素子基板側の垂直配向膜の形成位置を示す平面図である。It is a top view which shows the formation position of the vertical alignment film by the side of the element substrate which concerns on 3rd Embodiment. 携帯電話の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of a mobile telephone.

符号の説明Explanation of symbols

10…シール材、 24…対向電極、 40…素子基板、 42…対向基板、 48…液晶層(液晶)、 52,62…第1垂直配向膜、 54,64…第2垂直配向膜、 90…間隙部、 100…液晶装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Sealing material 24 ... Counter electrode 40 ... Element substrate 42 ... Counter substrate 48 ... Liquid crystal layer (liquid crystal) 52, 62 ... First vertical alignment film 54, 64 ... Second vertical alignment film 90 ... Gap, 100 ... Liquid crystal device

Claims (7)

対向配置された一対の基板がシール材を介して貼り合わされ、前記一対の基板間の前記シール材によって囲まれた空間に誘電率異方性が負の液晶が封入された液晶装置であって、
前記一対の基板のそれぞれの前記シール材の内側には、第1垂直配向膜が設けられ、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の前記シール材の外側には、第2垂直配向膜が設けられ、前記第2垂直配向膜と前記第1垂直配向膜との間には垂直配向膜が設けられていない溝部が備えられており、少なくとも前記溝部に対応した位置に前記シール材が配置されていることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device in which a pair of substrates arranged opposite to each other is bonded through a sealing material, and a liquid crystal having negative dielectric anisotropy is sealed in a space surrounded by the sealing material between the pair of substrates,
A first vertical alignment film is provided inside the sealing material of each of the pair of substrates, and a second vertical alignment film is provided outside the sealing material of at least one of the pair of substrates. A groove portion not provided with a vertical alignment film is provided between the second vertical alignment film and the first vertical alignment film, and the sealing material is disposed at least at a position corresponding to the groove portion. A liquid crystal device characterized by that.
前記溝部は、前記基板の端部に沿って枠状に設けられており、該枠状の溝部に対応して前記シール材が配置されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the groove portion is provided in a frame shape along an end portion of the substrate, and the sealing material is disposed corresponding to the frame-shaped groove portion. . 前記第1垂直配向膜及び前記第2垂直配向膜が、ポリイミド又はポリアミック酸により形成されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first vertical alignment film and the second vertical alignment film are formed of polyimide or polyamic acid. 前記シール材は、前記第1垂直配向膜が形成された領域の端部に接して設けられたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の液晶装置。   4. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the sealing material is provided in contact with an end portion of a region where the first vertical alignment film is formed. 5. 前記シール材は、前記第1垂直配向膜が形成された領域の端部と間隙部を有して離間して設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の液晶装置。   4. The seal material according to claim 1, wherein the seal material is provided to be spaced apart from an end portion of the region where the first vertical alignment film is formed. The liquid crystal device according to 1. 前記第2垂直配向膜が、前記シール材の外側から前記一対の基板の周縁部まで延在して設けられたことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の液晶装置。   6. The liquid crystal according to claim 1, wherein the second vertical alignment film is provided so as to extend from an outer side of the sealing material to a peripheral edge portion of the pair of substrates. apparatus. 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105093692A (en) * 2015-08-07 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate and manufacturing method thereof and display device

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