JP2007133110A - Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear type projector - Google Patents
Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear type projector Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007133110A JP2007133110A JP2005325472A JP2005325472A JP2007133110A JP 2007133110 A JP2007133110 A JP 2007133110A JP 2005325472 A JP2005325472 A JP 2005325472A JP 2005325472 A JP2005325472 A JP 2005325472A JP 2007133110 A JP2007133110 A JP 2007133110A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- substrate
- lens
- shielding
- microlens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
Abstract
Description
本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。 The present invention relates to a lens substrate manufacturing method, a lens substrate, a transmissive screen, and a rear projector.
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ(レンズ部)を備えたレンズ基板が一般的に用いられている。そして、このようなレンズ基板(レンズシート)でにおいて、画像のコントラストを向上させる目的で、レンズ部が設けられた側とは反対側に遮光性層が設けられている。
In recent years, the demand for rear projectors is increasing as a display suitable for home theater monitors, large-screen televisions, and the like.
A lens substrate having a lenticular lens (lens portion) is generally used for a transmissive screen used in a rear projector. In such a lens substrate (lens sheet), a light-shielding layer is provided on the side opposite to the side where the lens portion is provided for the purpose of improving the contrast of the image.
このようなレンズ基板(レンズシート)の製造においては、一般的に、レンズ部での集光を利用して、開口部(光透過性部分)を有する遮光性層が形成されている(例えば、特許文献1参照)。このような方法で、遮光性層を形成することにより、レンズ部の焦点に対応する部位に開口部(光透過性部分)を形成することができるため、コントラストの向上を図る上で有利である。 In the manufacture of such a lens substrate (lens sheet), generally, a light-shielding layer having an opening (light-transmitting portion) is formed by using light condensing in the lens portion (for example, Patent Document 1). By forming the light-shielding layer by such a method, an opening (light-transmitting portion) can be formed at a portion corresponding to the focal point of the lens portion, which is advantageous in improving contrast. .
ところで、このようなレンズ基板を製造する際、一般に、レンズ部に対応する凹部を有する成形型が用いられるが、成形型の不良等により、形成されるレンズ基板に、形成されるべきレンズが形成されていない領域が存在したり、他のレンズと比べて小さいレンズが形成される場合等がある。このようなレンズ部の不良が存在すると、上記のような遮光性層の形成方法を適用した場合に、遮光性層の、レンズ部が設けられていない部位(平坦部)に対応する部位に、開口部が形成されてしまう。このような開口部が形成されると、透過型スクリーン等において、レンズ部により屈折しない光が、直進光として観察者側に出射してしまう。このような直進光は、スクリーン上において、輝点(白点)として認識され、表示される画像に著しい悪影響を与える。
成形型として、レンズ部に対応する凹部を欠陥のないものを用いることにより、上記のような問題は、防止、抑制することができるが、このうような欠陥のない成形型を製造することは、困難である。
By the way, when manufacturing such a lens substrate, generally, a molding die having a concave portion corresponding to the lens portion is used. However, a lens to be formed is formed on the lens substrate to be formed due to a defective molding die or the like. There is a case where there is a region that is not formed, or a lens that is smaller than other lenses is formed. When there is such a defect in the lens part, when applying the light shielding layer forming method as described above, the part of the light shielding layer corresponding to the part where the lens part is not provided (flat part), An opening is formed. When such an opening is formed, light that is not refracted by the lens portion in a transmission screen or the like is emitted to the observer side as straight light. Such straight light is recognized as a bright spot (white spot) on the screen and has a significant adverse effect on the displayed image.
By using a mold that does not have a defect in the concave portion corresponding to the lens portion, the above problems can be prevented and suppressed. However, it is possible to produce a mold without such a defect. ,Have difficulty.
一方、近年のディスプレイ、スクリーンの大型化等に伴い、大型のレンズ基板が求められているが、このような大型のレンズ基板の製造に用いる成形型において、上記のような不良の発生を防止するのは、極めて困難であった。また、大型のレンズ基板製造用の成形型において、上記のような欠陥のないものを製造しようとした場合、その歩留りは、非常に悪く、レンズ基板の生産性、製造コストに大きな影響を与えてしまう。 On the other hand, with the recent increase in the size of displays and screens, a large lens substrate is required. In the mold used for manufacturing such a large lens substrate, the occurrence of the above-described defects is prevented. It was extremely difficult. In addition, when trying to manufacture a mold for manufacturing a large lens substrate without the above-mentioned defects, the yield is very bad, which greatly affects the productivity and manufacturing cost of the lens substrate. End up.
本発明の目的は、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a lens substrate that can display an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots, and a manufacturing method that can efficiently manufacture the lens substrate. It is another object of the present invention to provide a transmissive screen and a rear projector provided with the lens substrate.
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に存在する凸部のうち、所定以上の高さを有する凸部の頂部に、遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The method for producing a lens substrate according to the present invention is a method for producing a lens substrate having a substrate body having a large number of convex lenses and a light-shielding film made of a light-shielding material and having an opening.
Preparing a member with a recess having a recess corresponding to the convex lens;
A light-shielding material is applied to the top of a convex portion having a height higher than a predetermined value among the convex portions existing between adjacent concave portions on the surface of the member with the concave portion where the concave portion is provided. A light-shielding material application step,
A composition applying step for applying a composition having fluidity to the surface of the recessed portion of the member provided with the recess;
Solidifying the composition to obtain a substrate body;
A light-shielding film-forming material application step for applying a light-shielding film-forming material for forming the light-shielding film on the surface of the substrate body opposite to the surface on which the convex lens is provided;
An opening forming step of performing light irradiation on the light shielding film forming material through the substrate body to form the light shielding portion having the opening.
Accordingly, it is possible to provide a manufacturing method that can efficiently manufacture a lens substrate that can display an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots.
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光性材料が付与される前記凸部の頂部は、レンズ部として機能しない平坦部であることが好ましい。
これにより、表示される画像における輝点の発生をより効果的に防止することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に、所定の大きさ以上の平坦部が存在するか否かを検査し、前記平坦部が存在する場合には該平坦部に遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
In the lens substrate manufacturing method of the present invention, it is preferable that the top of the convex portion to which the light shielding material is applied is a flat portion that does not function as a lens portion.
Thereby, generation | occurrence | production of the bright spot in the displayed image can be prevented more effectively.
The method for producing a lens substrate according to the present invention is a method for producing a lens substrate having a substrate body having a large number of convex lenses and a light-shielding film made of a light-shielding material and having an opening.
Preparing a member with a recess having a recess corresponding to the convex lens;
On the surface on the side where the concave portion of the member with concave portions is provided, it is inspected whether a flat portion having a predetermined size or more exists between adjacent concave portions, and the flat portion exists. In the case, a light-shielding material application step of applying a light-shielding material to the flat portion,
A composition applying step for applying a composition having fluidity to the surface of the recessed portion of the member provided with the recess;
Solidifying the composition to obtain a substrate body;
A light-shielding film-forming material application step for applying a light-shielding film-forming material for forming the light-shielding film on the surface of the substrate body opposite to the surface on which the convex lens is provided;
An opening forming step of performing light irradiation on the light shielding film forming material through the substrate body to form the light shielding portion having the opening.
Accordingly, it is possible to provide a manufacturing method that can efficiently manufacture a lens substrate that can display an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots.
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光性材料付与工程において、ローラー塗布により前記遮光性材料を付与することが好ましい。
これにより、容易かつ確実に、所望の部位に選択的に遮光性材料を付与することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光性材料付与工程において、前記遮光性材料を0.8〜1.2μmの厚みで付与することが好ましい。
これにより、遮光性材料付与工程において遮光性材料が付与された部位における遮光性を特に優れたものとしつつ、基板本体と、遮光性材料で構成された遮光部(レンズ面側遮光部)との密着性を十分に優れたものとすることができ、例えば、凹部付き部材を基板本体から取り外す際に、不本意に遮光部が剥離すること等を、効果的に防止することができる。
In the manufacturing method of the lens substrate of this invention, it is preferable to provide the said light-shielding material by roller application | coating in the said light-shielding material provision process.
Thereby, the light-shielding material can be selectively and selectively applied to a desired site easily and reliably.
In the manufacturing method of the lens substrate of this invention, it is preferable to provide the said light-shielding material with the thickness of 0.8-1.2 micrometers in the said light-shielding material provision process.
Thereby, while making the light-shielding property in the part to which the light-shielding material was applied in the light-shielding material application process particularly excellent, the substrate body and the light-shielding part (lens surface side light-shielding part) made of the light-shielding material Adhesiveness can be made sufficiently excellent. For example, when the member with a recess is removed from the substrate body, it is possible to effectively prevent the light-shielding part from peeling off unintentionally.
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記固化工程よりも後に、前記基板本体から前記凹部付き部材を除去する凹部付き部材除去工程を有することが好ましい。
これにより、凹部付き部材をレンズ基板の製造に繰り返し利用することができ、レンズ基板の生産性が向上する。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記凹部付き部材除去工程を、前記開口部形成工程の後に有することが好ましい。
これにより、比較的大きな開口部をより確実に形成することができ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
In the lens substrate manufacturing method of the present invention, it is preferable to have a concave member removal step of removing the concave member from the substrate body after the solidification step.
Thereby, the member with a recessed part can be repeatedly used for manufacture of a lens board | substrate, and the productivity of a lens board | substrate improves.
In the method for manufacturing a lens substrate according to the present invention, it is preferable that the member with recessed portion removing step is provided after the opening forming step.
Thereby, a relatively large opening can be formed more reliably, and the viewing angle characteristics can be made particularly excellent.
本発明のレンズ基板の製造方法では、形成すべき前記凸レンズが球面を有するものであり、前記レンズ基板の隣接する前記凸レンズ同士の頂部間の距離は、形成すべき前記凸レンズの曲率半径に2を乗じた値より小さいものであることが好ましい。
これにより、遮光性材料付与工程において、凹部付き部材の遮光性材料を付与すべき部位に対して、より選択的に、遮光性材料を付与することができる。また、レンズ基板の光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
In the lens substrate manufacturing method of the present invention, the convex lens to be formed has a spherical surface, and the distance between the tops of the adjacent convex lenses of the lens substrate is set to 2 as the radius of curvature of the convex lens to be formed. It is preferable that the value is smaller than the multiplied value.
Thereby, in a light-shielding material provision process, a light-shielding material can be provided more selectively with respect to the site | part which should provide the light-shielding material of a member with a recessed part. In addition, the light utilization efficiency of the lens substrate can be made particularly excellent.
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レンズ基板は、前記凸レンズとしてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、各方向(例えば、縦方向および横方向)での視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板の製造においては、レンズ部の不良を生じ易く、これにより、表示される画像において直進光による輝点等が特に発生し易かったが、本発明によれば、マイクロレンズ基板においても、輝点の発生を十分に防止することができる。したがって、マイクロレンズ基板の製造に本発明を適用することにより、その効果はより顕著に発揮される。
In the lens substrate manufacturing method of the present invention, the lens substrate is preferably a microlens substrate including a microlens as the convex lens.
Thereby, the viewing angle characteristic in each direction (for example, the vertical direction and the horizontal direction) can be made particularly excellent. Further, in the manufacture of the microlens substrate, it is easy to cause a defect of the lens portion, and thereby, a bright spot or the like due to straight light is particularly likely to occur in the displayed image. Also, the occurrence of bright spots can be sufficiently prevented. Therefore, by applying the present invention to the manufacture of the microlens substrate, the effect is more remarkably exhibited.
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に、離型処理が施されていることが好ましい。
これにより、凹部付き部材に付与された遮光性材料(レンズ面側遮光部)を凹部付き部材から基板本体側へと、より確実に転写することができる。
本発明のレンズ基板は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供することができる。
In the method for manufacturing a lens substrate according to the present invention, it is preferable that a mold release process is performed on a surface of the member having the recesses on the side where the recesses are provided.
Thereby, the light-shielding material (lens surface side light-shielding part) provided to the member with a recessed part can be more reliably transferred from the member with a recessed part to the substrate body side.
The lens substrate of the present invention is manufactured using the method of the present invention.
Accordingly, it is possible to provide a lens substrate that can display an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots.
本発明のレンズ基板は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板であって、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面において、隣接する凸レンズと凸レンズとの間に、所定の大きさ以上の平坦部を有し、
前記平坦部上に、遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部が選択的に設けられていることを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供することができる。
The lens substrate of the present invention is a lens substrate having a substrate body having a large number of convex lenses and a light-shielding film made of a light-shielding material and having an opening,
On the surface of the substrate body on the side where the convex lens is provided, a flat portion having a predetermined size or more is provided between the adjacent convex lens and the convex lens.
A lens surface side light shielding part made of a light shielding material is selectively provided on the flat part.
Accordingly, it is possible to provide a lens substrate that can display an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots.
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された本発明のレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるリア型プロジェクタを提供することができる。
The transmission screen of the present invention is characterized by including the lens substrate of the present invention.
As a result, it is possible to provide a transmissive screen capable of displaying an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots.
The transmissive screen of the present invention, a Fresnel lens portion in which a Fresnel lens is formed on the light emission side,
And a lens substrate of the present invention disposed on the light emission side of the Fresnel lens portion.
As a result, it is possible to provide a transmissive screen capable of displaying an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots.
A rear projector according to the present invention includes the transmission screen according to the present invention.
Accordingly, it is possible to provide a rear projector that can display an excellent image with excellent contrast and suppressed generation of bright spots.
以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
Hereinafter, a lens substrate manufacturing method, a lens substrate, a transmissive screen, and a rear projector according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
In the present invention, the “substrate” refers to a concept that is substantially inflexible and includes a relatively large thickness, a sheet-like material, a film-like material, and the like. .
The use of the lens substrate of the present invention is not particularly limited, but in the following description, the lens substrate will be described as being mainly used as a member constituting a transmissive screen and a rear projector.
まず、本発明のレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、本発明のレンズ基板(凸レンズ基板)および透過型スクリーンの構成について説明する。
図1は、本発明のレンズ基板(マイクロレンズ基板)の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図2は、図1に示すレンズ基板(マイクロレンズ基板)の平面図、図3は、図1に示すレンズ基板(マイクロレンズ基板)を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図1、図3中の左側を「(光の)入射側」、右側を「(光の)出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「(光の)入射側」、「(光の)出射側」とは、それぞれ、画像光(映像光)を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
First, prior to the description of the manufacturing method of the lens substrate of the present invention, the configurations of the lens substrate (convex lens substrate) and the transmissive screen of the present invention will be described.
1 is a schematic longitudinal sectional view showing a preferred embodiment of a lens substrate (microlens substrate) of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the lens substrate (microlens substrate) shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view showing a preferred embodiment of the transmission screen of the present invention including the lens substrate (microlens substrate) shown in FIG. 1. In the following description, the left side in FIGS. 1 and 3 is referred to as “(light) incident side”, and the right side is referred to as “(light) emission side”. In the present invention, unless otherwise specified, the “(light) incident side” and the “(light) output side” are the “incident side” of light for obtaining image light (video light), respectively. ”And“ outgoing side ”, not“ incident side ”or“ outgoing side ”of external light or the like.
マイクロレンズ基板(レンズ基板)1は、後述する透過型スクリーン10を構成する部材であり、図1に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ(凸レンズ)21を備えた基板本体2と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス(遮光膜)3と、基板本体2のマイクロレンズ(凸レンズ)21が設けられた面側に設けられたレンズ面側遮光部4と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部5とを備えている。
A microlens substrate (lens substrate) 1 is a member constituting a
基板本体2は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体2の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体2の生産性、レンズ面側遮光部4との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
基板本体2を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として)用いることができる。
The
As a constituent material of the
Examples of the resin material constituting the
基板本体2の構成材料(固化した状態の材料)は、一般に、各種気体(マイクロレンズ基板1が用いられる雰囲気)より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、1.4〜1.58であるのが好ましく、1.5〜1.56であるのがより好ましい。基板本体2の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光(入射光)の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
The constituent material (solidified material) of the
マイクロレンズ基板1は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ21を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ(凸レンズ)21は、マイクロレンズ基板1を平面視した際の縦幅(鉛直方向の幅)が横幅(水平方向の幅)よりも小さい扁平形状(略楕円形、略俵形)を有している。マイクロレンズ21がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
The
In the present embodiment, the microlens (convex lens) 21 has a flat shape (substantially oval or substantially elliptical) in which the vertical width (vertical width) when the
平面視したときのマイクロレンズ21の短軸方向(縦方向)の長さをL1[μm]、長軸方向(横方向)の長さをL2[μm]としたとき、0.50≦L1/L2≦0.99の関係を満足するのが好ましく、0.60≦L1/L2≦0.90の関係を満足するのがより好ましく、0.65≦L1/L2≦0.80の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
When the length in the minor axis direction (longitudinal direction) of the
平面視したときのマイクロレンズ21の短軸方向の長さ(マイクロレンズ21の縦幅)は、10〜200μmであるのが好ましく、30〜150μmであるのがより好ましく、50〜100μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板1(透過型スクリーン10)の生産性をさらに高めることができる。
The length of the
また、平面視したときのマイクロレンズ21の長軸方向の長さ(マイクロレンズ21の横幅)は、15〜250μmであるのが好ましく、45〜200μmであるのがより好ましく、70〜150μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板1(透過型スクリーン10)の生産性をさらに高めることができる。
Further, the length of the
また、マイクロレンズ21の曲率半径は、7.5〜375μmであるのが好ましく、30〜180μmであるのがより好ましく、70〜120μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ21は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
Further, the radius of curvature of the
また、マイクロレンズ21の高さは、7.5〜375μmであるのが好ましく、30〜180μmであるのがより好ましく、70〜120μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ(凸レンズ)21は球面を有するものであり、隣接するマイクロレンズ21同士の頂部間の距離(ピッチ)は、マイクロレンズ21の曲率半径に2を乗じた値より小さいものであるのが好ましい。これにより、後述するようなマイクロレンズ基板(レンズ基板)1の製造方法において、レンズ面側遮光部4を目的とする部位により選択的に形成することができ、表示される画像をより好適なものとすることができる。また、マイクロレンズ基板1の光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
The height of the
The microlens (convex lens) 21 has a spherical surface, and the distance (pitch) between the apexes of
また、これら複数個のマイクロレンズ21は、千鳥状(千鳥格子状)に配列している。このようにマイクロレンズ21が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ21の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ21の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率(光の利用効率)を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
The plurality of
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ21は、マイクロレンズ基板1を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ21で構成される第1の行25と、それに隣接する第2の行26とが、縦方向(マイクロレンズ21の短軸方向)に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
As described above, in the present embodiment, the
なお、マイクロレンズ21の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列(マイクロレンズ基板1の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ21が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの)であってもよい。
The arrangement method of the
また、マイクロレンズ基板1を光の入射面側(図2で示した方向)から平面視したときの、マイクロレンズ21が形成されている有効領域において、マイクロレンズ21の占有率は、95〜115%であるのが好ましい。マイクロレンズ21の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。
Further, when the
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するような方法により形成されたブラックマトリックス3を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果(例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等)が得られる。
As described above, by strictly defining the shape and arrangement method of the microlenses, the viewing angle characteristics and the like can be made particularly excellent while effectively preventing the occurrence of moire due to light interference. . In particular, by strictly defining the shape and arrangement method of the microlens as described above, the microlens is formed by the effect of having the microlens having the shape and arrangement method as described above and the method described in detail later. The effects of having the
また、各マイクロレンズ21は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点fが、ブラックマトリックス(遮光膜)3に設けられた開口部(非遮光部)31の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板1に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光La(後述するフレネルレンズ部6からの平行光La)は、マイクロレンズ基板1の各マイクロレンズ21によって集光され、ブラックマトリックス3の開口部31近傍で焦点fを結ぶ。このように、ブラックマトリックス3の開口部31の近傍でマイクロレンズ21が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
Each
そして、マイクロレンズ基板1では、基板本体2のマイクロレンズ21が設けられた面(レンズ面)側において、隣接するマイクロレンズ21とマイクロレンズ21との間に、所定の大きさ以上の平坦部28が存在する場合、この平坦部28上に、遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部4が選択的に設けられている。
このようなレンズ面側遮光部4が設けられていることにより、基板本体2の平坦部28に対応する部位に入射した光が、直進光として、マイクロレンズ基板1の出射側から出射するのを防止することができる。その結果、表示される画像に輝点(白点)が現れるのを効果的に防止することができる。また、このようなレンズ面側遮光部4を有することにより、ブラックマトリックス3を後述するようなマイクロレンズ21による集光を利用して形成する場合において、マイクロレンズ21の集光部以外に開口部31が形成されてしまうのを防止することができる。
In the
By providing such a lens surface side light-shielding
なお、本発明において、「平坦部」とは、レンズ部として機能する凹凸が設けられていない部位(後述する凹部付き部材においては、これに対応する部位)のことを指し、例えば、微小な凹凸(例えば、表面粗さRaが5μm程度以下の凹凸)が存在するような部位も平坦部に含まれる。また、本発明において、「所定の大きさ以上の平坦部」とは、レンズ面側遮光部4が設けられていない場合に、輝点の発生等、表示される画像に、視認される程度の悪影響を及ぼす大きさ以上の平坦部のことを指し、例えば、幅(長さ)が5μm以上の平坦部のことを言う。また、一般に、上記のような問題の発生は、平坦部の幅(長さ)が8μm以上の場合に特に顕著となる。
In the present invention, the “flat portion” refers to a portion not provided with unevenness that functions as a lens portion (a portion corresponding to this in a member with a recessed portion to be described later). A portion where the surface roughness Ra (for example, unevenness having a surface roughness Ra of about 5 μm or less) exists is also included in the flat portion. Further, in the present invention, the “flat portion having a predetermined size or more” means that the image is visually recognized in the displayed image, such as generation of a bright spot, when the lens surface side
レンズ面側遮光部4の厚さは、特に限定されないが、0.5〜5μmであるのが好ましく、0.8〜1.5μmであるのがより好ましい。レンズ面側遮光部4の厚さが前記範囲内の値であると、レンズ面側遮光部4による遮光性を十分に優れたものとすることができる。これにより、直進光による輝点の発生等をより確実に防止することができる。また、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、レンズ面側遮光部4の厚さが前記下限値未満であると、十分な遮光性が得られない可能性がある。一方、レンズ面側遮光部4の厚さが前記上限値を超えると、基板本体2とレンズ面側遮光部4との密着性が低下し、マイクロレンズ基板1の耐久性、信頼性が低下する可能性がある。
Although the thickness of the lens surface side light-shielding
レンズ面側遮光部4は、遮光性を有するものであればよいが、その色は、黒色であるのが好ましい。これにより、レンズ面側遮光部4による遮光性は特に優れたものとなり、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
また、基板本体2の光の出射側の面には、ブラックマトリックス3が設けられている。ブラックマトリックス3は、遮光性を有する材料で構成され、膜状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス3を有することにより、当該ブラックマトリックス3に、外光(投影画像を形成する上で好ましくない外光)を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したようなレンズ面側遮光部4を有するとともに、ブラックマトリックス3を有することにより、マイクロレンズ基板1による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
Although the lens surface side light-shielding
A
このようなブラックマトリックス3は、各マイクロレンズ21を透過した光の光路上に開口部31を有している。これにより、各マイクロレンズ21で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス3の開口部31を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板1の光利用効率を高いものとすることができる。
開口部31は、ブラックマトリックス3の開口部31以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス3により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。なお、本発明において、「開口部」とは、遮光性を有する遮光膜において、光が透過することができる部位を指し、実質的に着色されていない材料(光透過性を有する材料)で充填されているような部位等も含む概念である。
Such a
The
ブラックマトリックス3は、後に詳述するように(後に詳述するような方法により)、レンズに対応しない部位に開口部が形成されるのが防止されている。これにより、マイクロレンズ基板1の視野角特性、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、投影される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
ブラックマトリックス3の開口部31は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部31が略円形である場合、開口部31の大きさは、特に限定されないが、その直径が、5〜80μmであるのが好ましく、15〜60μmであるのがより好ましく、20〜50μmであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
As will be described in detail later, the
The
また、ブラックマトリックス3の厚さ(平均厚さ)は、0.3〜8μmであるのが好ましく、0.6〜5μmであるのがより好ましく、0.8〜1.5μmであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス3の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス3の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス3としての機能(すなわち、画像のコントラストを向上させる機能)をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板1を備えた透過型スクリーン10において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
Further, the thickness (average thickness) of the
また、平面視したときの開口部31のブラックマトリックス3に対する面積比(開口率)は、60〜97%であるのが好ましく、70〜95%であるのがより好ましく、75〜90%であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光(例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等)が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板1の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。
Further, the area ratio (opening ratio) of the
また、マイクロレンズ基板1の光の出射側の面には、拡散部5が設けられている。拡散部5は、入射した光(入射光)を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部5を有することにより、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散部5を有することにより、光を乱反射させることができるため、表示される画像における輝点の発生をさらに効果的に防止することができる。また、拡散部5は、ブラックマトリックス3より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部5に入射した光を、出射側(光の入射側とは反対側の方向)に効率よく向かわせることができ、光の利用効率が低下するのを効果的に防止しつつ、透過型スクリーン10の視野角特性を特に優れたものにすることができる(スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる)。本実施形態では、拡散部5は、光透過性に優れた実質的に透明な材料(例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等)中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状(ビーズ状)のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、1〜50μmであるのが好ましく、2〜10μmであるのがより好ましい。
Further, a diffusing
また、拡散部5の厚さは、特に限定されないが、0.5〜10mmであるのが好ましく、0.7〜5mmであるのがより好ましく、1.0〜3mmであるのがさらに好ましい。拡散部5の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部5の厚さが前記下限値未満であると、拡散部5を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部5の厚さが前記上限値を超えると、光(光子)と拡散材とが衝突する確率(頻度)が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、拡散部内に入射した光(光子)が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
Moreover, although the thickness of the spreading |
次に、上述したようなマイクロレンズ基板1を備えた透過型スクリーン10について説明する。
図3に示すように、透過型スクリーン10は、フレネルレンズ部6と、前述したマイクロレンズ基板1とを備えている。フレネルレンズ部6は、光(画像光)の入射側に設置されており、フレネルレンズ部6を透過した光が、マイクロレンズ基板1に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部6は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ61を有している。このフレネルレンズ部6は、投射レンズ(図示せず)からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板1の主面の垂直方向に平行な平行光Laにするものである。
Next, the
As shown in FIG. 3, the
The Fresnel lens portion 6 has a prism-shaped
以上のように構成された透過型スクリーン10では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部6によって屈折し、平行光Laとなる。そして、この平行光Laは、マイクロレンズ基板1のマイクロレンズ21が形成された面側から入射し、各マイクロレンズ21によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。開口部31を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
In the
次に、前述したマイクロレンズ基板1の製造方法の一例について説明する。
図4は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図5は、図4に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図、図6および図7は、図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図、図8は、マイクロレンズ基板の製造において用いる検査装置を示す模式図、図9は、マイクロレンズによる光の屈折と、基板本体から出射する光の光度分布とを説明するための図、図10は、凹部付き部材の製造において用いる検査修繕装置を示す模式図である。なお、以下の説明では、図5、図6、図7および図9中の下側を「(光の)入射側」、図5、図6、図7および図9中の上側を「(光の)出射側」と言う。
Next, an example of a method for manufacturing the above-described
4 is a schematic longitudinal sectional view showing a member with a recess used for manufacturing a microlens substrate, FIG. 5 is a schematic longitudinal sectional view showing a method for manufacturing the member with a recess shown in FIG. 4, FIG. 6 and FIG. 7 is a schematic longitudinal sectional view showing an example of a manufacturing method of the microlens substrate shown in FIG. 1, FIG. 8 is a schematic view showing an inspection apparatus used in manufacturing the microlens substrate, and FIG. FIG. 10 is a schematic view showing an inspection / repair device used in the manufacture of a member with a recess. In the following description, the lower side in FIGS. 5, 6, 7, and 9 is the “(light) incident side”, and the upper side in FIGS. 5, 6, 7, and 9 is the “(light) side”. )).
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部(マイクロレンズ用凹部)を形成し、マイクロレンズ基板(基板本体)の製造においては、実際には多数の凸部(凸レンズ)を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材(マイクロレンズ形成用凹部付き部材)の構成およびその製造方法について説明する。
Further, in the manufacture of the member with concave portions, a large number of concave portions (recesses for microlenses) are actually formed on the substrate, and in the manufacture of the microlens substrate (substrate body), actually a large number of convex portions (convex lenses). However, in order to make the explanation easier to understand, a part thereof is highlighted.
First, prior to the description of the manufacturing method of the microlens substrate, the configuration of the member with recesses (the member with recesses for forming microlenses) used for manufacturing the microlens substrate will be described.
凹部付き部材(マイクロレンズ形成用凹部付き部材)7は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材7の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材7の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス(例えば、ネオセラム等)、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材7が有する凹部71の形状の安定性(信頼性)や、当該凹部71を用いて形成されるマイクロレンズ21の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、レンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板1の製造方法において、製造された基板本体2の取り扱い性が向上する。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。また、上記のようなガラス材料は、高い透明性を有するとともに、好適な屈折率を有するため、後に詳述するように、基板本体2に凹部付き部材7を取り付けた状態で、好適に開口部形成工程を行うことができる。これにより、好適な大きさの開口部31を容易かつ確実に形成することができる。
The member with recesses (member with recesses for forming microlenses) 7 may be made of any material, but is preferably made of a material that is less likely to bend and is less likely to be damaged. As a constituent material of the
凹部付き部材7は、各種気体(例えば、空気、各種不活性ガス等)よりも大きな屈折率(絶対屈折率)を有し、かつ、基材本体2の構成材料(固化した状態の構成材料)よりも小さい屈折率(絶対屈折率)を有する材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、後に詳述するような方法において、最適な光度分布の光をフォトポリマー32に照射することができ、これにより、最適な大きさの開口部31を、より効率良く形成することができる。
The recessed
凹部付き部材7の構成材料の絶対屈折率は、特に限定されないが、1.2〜1.8であるのが好ましく、1.35〜1.65であるのがより好ましい。凹部付き部材7の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、前述したような効果がさらに顕著なものとして発揮される。
また、基板本体2の構成材料(固化した状態の材料)の絶対屈折率をn1、凹部付き部材7の構成材料の絶対屈折率をn2としたとき、0.01<n1−n2<0.8の関係を満足するのが好ましく、0.02<n1−n2<0.4の関係を満足するのが好ましく、0.03<n1−n2<0.25の関係を満足するのが好ましい。このような関係を満足することにより、後に詳述するように、最適な光度分布の光をフォトポリマー32に照射することができ、これにより、最適な大きさの開口部31を、より効率良く形成することができる。
Although the absolute refractive index of the constituent material of the
Further, when the absolute refractive index of the constituent material (solidified material) of the
凹部付き部材(マイクロレンズ形成用凹部付き部材)7は、マイクロレンズ21の配列方式に対応する方式(転写された位置関係)で配列した、複数個の凹部(マイクロレンズ形成用凹部)71を備えている。そして、これらの凹部71は、マイクロレンズ21が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ21に対応する形状(転写された形状である以外は実質的に同一の形状)、寸法を有している。
The member with recesses (member with recesses for forming microlenses) 7 includes a plurality of recesses (recesses for forming microlenses) 71 arranged in a manner corresponding to the arrangement method of the microlenses 21 (transferred positional relationship). ing. These
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部(マイクロレンズ形成用凹部)71は、凹部付き部材7を平面視した際の縦幅(鉛直方向の幅)が横幅(水平方向の幅)よりも小さい扁平形状(略楕円形、略俵形)を有している。凹部71がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板1の製造に好適に用いることができる。
More specifically, in the present embodiment, the recess (microlens formation recess) 71 has a vertical width (width in the vertical direction) smaller than a horizontal width (width in the horizontal direction) when the member with
また、平面視したときの凹部71の短軸方向(縦方向)の長さをL1[μm]、長軸方向(横方向)の長さをL2[μm]としたとき、0.50≦L1/L2≦0.99の関係を満足するのが好ましく、0.60≦L1/L2≦0.90の関係を満足するのがより好ましく、0.65≦L1/L2≦0.80の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
Further, when the length in the minor axis direction (longitudinal direction) of the
また、平面視したときの凹部71の短軸方向の長さは、10〜200μmであるのが好ましく、30〜150μmであるのがより好ましく、50〜100μmであるのがさらに好ましい。凹部71の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性、およびマイクロレンズ基板1により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部71の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板1(凹部付き部材7)の生産性をさらに高めることができる。
Moreover, it is preferable that the length of the short axis direction of the recessed
また、平面視したときの凹部71の長軸方向の長さは、15〜250μmであるのが好ましく、45〜200μmであるのがより好ましく、70〜150μmであるのがさらに好ましい。凹部71の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性、およびマイクロレンズ基板1により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部71の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板1(凹部付き部材7)の生産性をさらに高めることができる。
Further, the length in the major axis direction of the
また、凹部71の曲率半径は、7.5〜375μmであるのが好ましく、30〜180μmであるのがより好ましく、70〜120μmであるのがさらに好ましい。凹部71の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部71は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
Moreover, it is preferable that the curvature radius of the recessed
また、凹部71の深さは、7.5〜375μmであるのが好ましく、30〜180μmであるのがより好ましく、70〜120μmであるのがさらに好ましい。凹部71の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部71は、千鳥状(千鳥格子状)に配列している。このように凹部71が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部(マイクロレンズ)の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部(マイクロレンズ)の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率(光の利用効率)を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
Moreover, it is preferable that the depth of the recessed
The plurality of
また、上記のように、凹部71は、凹部付き部材7を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部71で構成される第1の行と、それに隣接する第2の行とが、縦方向(凹部71の短軸方向)に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
In addition, as described above, the
また、凹部付き部材7は、凹部71が設けられた面側に、離型処理により形成された離型処理部が設けられていてもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板1の製造方法において、基板本体2を凹部付き部材7から取り外す際に、凹部付き部材7に付与されたレンズ面側遮光部4を凹部付き部材7から基板本体2側へとより確実に転写することができる。また、離型処理部が設けられていると、後に詳述するマイクロレンズ基板1の製造方法において、基板本体2が有するマイクロレンズ21にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、レンズ面側遮光部4が設けられた基板本体2から、凹部付き部材7を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板1において、マイクロレンズ21の欠陥を防止することができる。
Moreover, the
なお、上記の説明では、凹部71が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ21と、実質的に同一の形状(寸法)、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体2の構成材料が収縮し易いものである場合(基板本体2を構成する組成物が固化等により収縮する場合)、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ21と凹部71とについて、これらの間で、形状(寸法)、占有率等が異なるようにしてもよい。
次に、凹部付き部材の製造方法について、図5を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部(マイクロレンズ形成用凹部)を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
In the above description, the
Next, the manufacturing method of a member with a recessed part is demonstrated, referring FIG. In practice, a large number of recesses (microlens formation recesses) are formed on the substrate. Here, in order to make the description easy to understand, a part of them is shown highlighted.
<A1>まず、凹部付き部材7を製造するに際し、基板70を用意する(図5(a)参照)。
この基板70は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板70は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
また、基板70は、例えば、凹部71が形成される側の表面付近に、着色が施されたものであってもよい。これにより、製造される凹部付き部材7において、平坦部79(エッチングされていない部位)を容易に識別することができる。その結果、後に詳述する凹部付き部材7を用いたマイクロレンズ基板1の製造方法において、平坦部79に対して、効率良くかつ選択的に遮光性材料を付与することができ、マイクロレンズ基板1の生産性が向上する。
<A1> First, when manufacturing the
As the
Further, the
<A2>用意した基板70の表面に、多数個の初期孔(開口部)81を有するマスク8を形成するとともに、基板70の裏面(マスク8が形成される面と反対側の面)に裏面保護膜89を形成する(マスキング工程、図5(b)、図5(c)参照)。
特に、本実施形態では、まず、図5(b)に示すように、用意した基板70の裏面に裏面保護膜89を形成するとともに、基板70の表面にマスク形成用膜80を形成し(マスク形成用膜形成工程)、その後、図5(c)に示すように、マスク形成用膜80に初期孔81を形成すること(初期孔形成工程)によりマスク8を得る。マスク形成用膜80および裏面保護膜89は同時に形成することもできる。
<A2> A
In particular, in this embodiment, first, as shown in FIG. 5B, a back surface
マスク形成用膜80は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔81を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜80(マスク8)は、エッチングレートが、基板70と略等しいか、または、基板70に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
The
かかる観点からは、マスク形成用膜80(マスク8)を構成する材料としては、例えばCr、Au、Ni、Ti、Pt等の金属やこれらから選択される2種以上を含む合金、前記金属の酸化物(金属酸化物)、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜80(マスク8)は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
From this point of view, the material forming the mask forming film 80 (mask 8) is, for example, a metal such as Cr, Au, Ni, Ti, or Pt, an alloy containing two or more selected from these metals, Examples thereof include oxides (metal oxides), silicon, and resins.
Further, the mask forming film 80 (mask 8) may have, for example, a substantially uniform composition, or a laminated body having a plurality of different layers.
上記のように、マスク形成用膜80(マスク8)の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜80は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜80を用いて得られるマスク8は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している(後述するエッチング工程において基板70をより確実に保護することができる)。また、基板70がガラス材料で構成されたものであり、かつマスク形成用膜80(マスク8)が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜80(マスク8)は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板70との密着性(特に、エッチング工程における密着性)に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜80(マスク8)を用いることにより、所望の形状の凹部71を容易かつ確実に形成することができる。
As described above, the configuration of the mask forming film 80 (mask 8) is not particularly limited. However, the mask forming film 80 (mask 8) is a laminate including a layer mainly composed of chromium and a layer mainly composed of chromium oxide. Preferably there is. The
マスク形成用膜80の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜80(マスク8)をクロム(Cr)、金(Au)等の金属材料(合金を含む)や金属酸化物(例えば酸化クロム)、またはこれらの複合材料(例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等)で構成されたものとする場合、マスク形成用膜80は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜80(マスク8)をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜80は、例えば、スパッタリング法やCVD法等により、好適に形成することができる。
The method for forming the
マスク形成用膜80(マスク8)の厚さは、マスク形成用膜80(マスク8)を構成する材料によっても異なるが、0.01〜2.0μm程度が好ましく、0.01〜0.3μm程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜80の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程(開口部形成工程)において形成される初期孔81の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板70のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜80の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔81を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜80(マスク8)の内部応力によりマスク形成用膜80(マスク8)が剥がれ易くなる場合がある。
The thickness of the mask forming film 80 (mask 8) varies depending on the material constituting the mask forming film 80 (mask 8), but is preferably about 0.01 to 2.0 μm, preferably 0.01 to 0.3 μm. The degree is more preferable. If the thickness is less than the lower limit, the shape of the
裏面保護膜89は、次工程以降で基板70の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜89により、基板70の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜89は、例えば、マスク形成用膜80(マスク8)と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜89は、マスク形成用膜80の形成と同時に、マスク形成用膜80と同様に設けることができる。
The back surface
<A3>次に、図5(c)に示すように、マスク形成用膜80に、複数個の初期孔(開口部)81を形成し、マスク8を得る(初期孔形成工程)。本工程で形成される初期孔81は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔81の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔81を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部71の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔81をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜80に初期孔81を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部(初期孔81)を形成することができる。
<A3> Next, as shown in FIG. 5C, a plurality of initial holes (openings) 81 are formed in the
A method for forming the
また、レーザ光の照射により初期孔81を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、YAGレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、YVO4レーザ、Ne−Heレーザ、Arレーザ、CO2レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのSHG、THG、FHG等の波長を使っても良い。
In addition, when the
本工程で形成する初期孔81は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、0.5〜30μmであるのが好ましく、1.0〜10μmであるのがより好ましく、1.5〜5μmであるのがさらに好ましい。初期孔81の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部71を確実に形成することができる。ただし、初期孔81が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔81が扁平形状のものである場合、初期孔81の幅(短軸方向の長さ)は、特に限定されないが、0.8〜30μmであるのが好ましく、1.0〜10μmであるのがより好ましく、1.5〜5μmであるのがさらに好ましい。初期孔81の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部71を確実に形成することができる。
The shape and size of the
また、本工程で形成する初期孔81が扁平形状のものである場合、初期孔81の長さ(長軸方向の長さ)は、0.5〜30μmであるのが好ましく、1.0〜15μmであるのがより好ましく、1.5〜10μmであるのがさらに好ましい。初期孔81の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部71をより確実に形成することができる。
In addition, when the
<A4>次に、図5(d)に示すように、初期孔81が形成されたマスク8を用いて基板70にエッチングを施し、基板70上に多数の凹部71を形成する(エッチング工程)。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
<A4> Next, as shown in FIG. 5D, the
The etching method is not particularly limited, and examples thereof include wet etching and dry etching. In the following description, a case where wet etching is used will be described as an example.
初期孔81が形成されたマスク8で被覆された基板70に対して、エッチング(ウェットエッチング)を施すことにより、図5(d)に示すように、基板70は、マスク8が存在しない部分(マスク8の初期孔81に対応する部位)より食刻され、基板70上に多数の凹部71が形成される。上述したように、マスク8に形成された初期孔81が千鳥状(千鳥格子状)の配置であるため、形成される凹部71は、基板70の表面に千鳥状(千鳥格子状)に配置されたものとなる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部71を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板70をより選択的に食刻することができ、凹部71を好適に形成することができる。
By performing etching (wet etching) on the
Further, when the wet etching method is used, the
マスク8(マスク形成用膜80)が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および/または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材7を提供することができる。
In the case where the mask 8 (mask forming film 80) is mainly composed of chromium or chromium oxide, a liquid containing ammonium monohydrogen difluoride is particularly suitable as the hydrofluoric acid-based etching solution. Since the ammonium hydrogen difluoride solution is not a poisonous and deleterious substance, it can prevent the influence on the human body and the environment during work. When ammonium monohydrogen difluoride is used as the etching solution, the etching solution may contain, for example, hydrogen peroxide and / or sulfuric acid. Thereby, an etching speed can be made faster.
Further, according to wet etching, it is possible to perform processing with a simpler apparatus than dry etching, and it is possible to perform processing on many substrates at once. Thereby, productivity improves and the
<A5>次に、図5(e)に示すように、マスク8を除去する(マスク除去工程)。また、この際、マスク8の除去とともに、裏面保護膜89も除去する。
マスク8が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク8の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
<A5> Next, as shown in FIG. 5E, the
When the
以上のようにして、図4に示すように、基板70上に多数の凹部71が千鳥状に形成された凹部付き部材7が得られる。
基板70上に千鳥状に配された複数個の凹部71を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法(レーザ光の照射によりマスク形成用膜80に初期孔81を形成してマスク8を得、その後、そのマスク8を用いてエッチングを行うことにより、基板70上に凹部71を形成する方法)により形成した場合、以下のような効果が得られる。
As described above, as shown in FIG. 4, the
The method for forming the plurality of
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜80に初期孔81を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部(初期孔81)を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材7を提供することができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板(凹部付き部材、レンズ基板)を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板(凹部付き部材、レンズ基板)を簡便な方法で安価に製造することができる。
That is, by forming the
Further, according to the method as described above, it is possible to easily perform processing on a large substrate. When manufacturing a large substrate (a member with a recess, a lens substrate), it is not necessary to bond a plurality of substrates as in the prior art, and the seam of bonding can be eliminated. As a result, a high-quality large-sized substrate (a member with a recess, a lens substrate) can be manufactured at a low cost by a simple method.
また、初期孔81の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔81の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
なお、凹部付き部材7に対しては、例えば、前述したような離型処理部を形成する目的で、離型処理を施してもよい。離型処理としては、例えば、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン([(CH3)3Si]2NH)等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
Further, when the
In addition, you may perform a mold release process with respect to the
ところで、上記のようにして得られる凹部付き部材7は、多数個の凹部71を有するものであるため、凹部71を形成すべき部位に、目的とする凹部が形成されていない場合がある。すなわち、凹部71が設けられるべき部位に凹部71が設けられていなかったり、形成すべき凹部71よりも小さい凹部71’が形成されている場合がある。このような場合、上記のような部位またはその周囲に、所定の大きさ以上の平坦部79が存在する。そして、このような平坦部79が存在すると、凹部付き部材7を用いて製造される基板本体2は、対応する部位に平坦部28を有するものとなる。マイクロレンズ基板(レンズ基板)1が、上記のような平坦部28を有する基板本体2を備えたものである場合、光の入射側(基板本体2のマイクロレンズ(凸レンズ)21が設けられた面側)から、光(入射光)が平坦部28に入射した場合、平坦部28においては、レンズ部のような集光機能がないため、入射光は直進光として出射し、観察者面側(透過型スクリーン10上)において、輝点として認識され、表示される画像に著しい悪影響を及ぼす。上記のような不良は、例えば、凹部付き部材の製造時において、マスク形成用膜の初期孔を形成すべき部位に初期孔を確実に形成することができなかったり、エッチングの際等に、マスクの初期孔近傍に汚れが付着した場合等に発生する。マスクの形成条件、エッチング条件を最適化することにより、上記のような不良の発生の抑制を試みることはできるが、大型のレンズ基板(例えば、対角線長が100cm以上のレンズ基板)の製造に用いる凹部付き部材においては、上記のような不良の発生を完全に防止することは極めて困難である。
By the way, since the
そこで、本発明では、凹部付き部材に上記のような不良が存在する場合に、該当する部位に遮光性材料を付与することにより、最終的なレンズ基板において、基板本体のレンズ面側の対応する部位に遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部を設け、上記のような問題を解決することできることを見出した点に特徴を有する。
また、「所定の大きさ以上の平坦部」が形成される原因としては、上述したような製造時の不良に基づくもののほか、レンズ基板の光学特性の向上等を目的として、積極的に平坦な部位を設ける場合や、より小さなレンズを形成するような場合等が挙げられる。
以下、上記のような凹部付き部材7を用いたマイクロレンズ基板(レンズ基板)1の製造方法について説明する。
Therefore, in the present invention, when the above-described defect exists in the member with the concave portion, by providing a light-shielding material to the corresponding part, in the final lens substrate, the lens surface side corresponding to the substrate main body is dealt with. The lens surface side light-shielding part made of a light-shielding material is provided at the site, and it is characterized in that it has been found that the above problems can be solved.
Further, the reason why the “flat portion having a predetermined size or more” is formed is not only based on the above-described defects during manufacturing, but also for the purpose of improving the optical characteristics of the lens substrate, and so on. The case where a site | part is provided, the case where a smaller lens is formed, etc. are mentioned.
Hereinafter, a method for manufacturing the microlens substrate (lens substrate) 1 using the above-described
<B1>まず、凹部付き部材7の用意し(凹部付き部材準備工程。図6(a)参照)、凹部付き部材7の凹部71が形成された側の面において、所定の大きさ以上の平坦部79が存在するか否かを検査し、検出された平坦部79に対しては、遮光性材料を付与し、レンズ面側遮光部4を形成する(遮光性材料付与工程。図6(b)参照)。
平坦部79の存在を検査する方法(平坦部79を検出する方法)としては、種々の方法を用いることができ、特に限定されるものではないが、例えば、以下に示すような方法を適用することができる。
<B1> First, the
Various methods can be used as a method for inspecting the presence of the flat portion 79 (a method for detecting the flat portion 79), and is not particularly limited. For example, the following method is applied. be able to.
すなわち、凹部付き部材7の表面のパターニング(凹凸形状)をカメラ等で直接観察することにより、平坦部79の有無を検査することができる。
また、平坦部79の部分とそれ以外の部分とでは、凹部の深さが異なったり、高さが異なるため、段差測定をすることによって平坦部79を検出することができる。
また、前述したように、凹部付き部材7が、表面付近に着色が施された部位(着色部)を有するものである場合、平坦部79を、容易かつ確実に識別することができる。
That is, the presence or absence of the
Moreover, since the depth of a recessed part and height differ in the part of the
Further, as described above, when the
また、平坦部79の部分とそれ以外の部分とでは、透過する光量も異なるため、凹部付き部材7の裏面から光を投射して、その透過光を検出し、光量の違い(例えば、輝点(白点)の有無(投射光の散乱の有無に同じ)を検出することによって平坦部79の有無を検査することができる。
上記のような方法を採用する場合、例えば、図8に示すような検査装置を好適に用いることができる。
Further, since the amount of transmitted light is different between the
When the above method is employed, for example, an inspection apparatus as shown in FIG. 8 can be suitably used.
図8に示す検査装置120は、凹部付き部材7の主面に対して平行に設置された移動ステージ122と、移動ステージ122に移動自在に載置または懸架されたCCDカメラ121とを備えている。また、凹部付き部材7を透過する光量を測定することにより平坦部79を検出する場合、検査装置120は、CCDカメラ121が設置された側とは反対の面側から、凹部付き部材7に平行光を照射する光照射手段(図示せず)を有している。
The
この検査装置120においては、CCDカメラ121でもって凹部付き部材7の全面(凹部が形成されている有効領域)を走査する。そして、走査により得られた検査信号を画像処理装置123に入力し、画像処理して平坦部79を検出する。そして、検出された場合には、その位置情報を、図示しない記憶手段で記憶する。
そして平坦部79が検出されたら、該箇所に遮光性材料を付与することにより、レンズ面側遮光部4を形成する。遮光性材料の付与は、CCDカメラ121による走査で得られた位置情報に基づいて行うことができる。
In this
And if the
遮光性材料の付与(凹部付き部材7へのレンズ面側遮光部4の形成)は、特に限定されず、ローラー塗布、インクジェット法等が挙げられる。ローラー塗布で遮光性材料を付与することにより、レンズ面側遮光部4を効率良く形成することができる。また、一般に、平坦部79の部分とそれ以外の部分とでは深さ(高さ)が異なり、平坦部79の部分はそれ以外の部分と比べて突出していることが多いので、ローラー塗布によれば突出した部分の頂部の平坦部79(所定以上の高さを有する凸部の頂部としての平坦部79)に選択的に、容易かつ確実に遮光性材料を付与することができる。したがって、検査装置120により得られる平坦部79の位置情報の精度が比較的低いものであっても、平坦部79に対して選択的に遮光性材料を付与することができる。また、平坦部79を検出する処理を簡略化または省略しても、上記のように平坦部79に対して選択的に遮光性材料を付与することができる。また、インクジェット法を採用した場合、平坦部79が比較的小さいものであっても、好適に目的とする部位に選択的に遮光性材料を付与することができる。また、インクジェット法を採用した場合、用いる遮光性材料の体積に対する表面積の割合が高くなるため、付与する遮光性材料中に占める溶媒(ただし、分散媒等を含む)の含有率が比較的高い場合であっても、遮光性材料の液滴の吐出から着弾後間もなくの間に、溶媒の大部分が除去される。したがって、溶媒の含有率が比較的高い遮光性材料を用いた場合であっても、レンズ面側遮光部4を効率良く形成することができる。また、上記のように溶媒の大部分が比較的短時間で除去されるため、比較的短時間に、同じ部位に遮光性材料を繰り返し付与した場合であっても、形成されるレンズ面側遮光部4に変形が生じ難い。このため、形成すべきレンズ面側遮光部4が比較的厚いものであっても、容易かつ確実に、比較的短時間で、レンズ面側遮光部4を形成することができる。
Application of the light-shielding material (formation of the lens-surface-side light-shielding
平坦部79に付与される遮光性材料の厚みは、0.01〜5μmであるのが好ましく、0.01〜2μmであるのがより好ましい。遮光性材料の厚みを前記範囲内の値とすることにより、最終的なマイクロレンズ基板1において、レンズ面側遮光部4は、基板本体2との密着性を十分に高いものとしつつ、特に優れた遮光性を発揮することができる。
遮光性材料は、最終的なマイクロレンズ基板1においてレンズ面側遮光部4を構成する際に、遮光性を発揮し得るものであれば、いかなるものであってもよいが、通常、各種染料、各種顔料等の着色剤を含むものである。
The thickness of the light-shielding material applied to the
The light-shielding material may be any material as long as it can exhibit light-shielding properties when constituting the lens surface side light-shielding
また、遮光性材料は、溶剤(ただし、溶媒、分散媒等を含む)や、バインダー樹脂等を含むものであってもよい。これにより、遮光性材料の取扱い性(取扱い易さ)が向上し、遮光性材料付与工程を効率良く行うことができる。
溶剤としては、例えば、水あるいは種々の有機溶剤を適用することが可能である。有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、メトキシメチルプロピオネート、エトキシエチルプロピオネート、エチルラクテート、エチルピルビネート、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、キシレン、トルエン、ブチルアセテート等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
The light-shielding material may include a solvent (including a solvent, a dispersion medium, and the like), a binder resin, and the like. Thereby, the handleability (easy handling) of the light-shielding material is improved, and the light-shielding material application step can be performed efficiently.
As the solvent, for example, water or various organic solvents can be applied. Examples of the organic solvent include propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether, methoxymethyl propionate, ethoxyethyl propionate, ethyl lactate, ethyl pyruvate, methyl amyl ketone, cyclohexanone, xylene, toluene, butyl acetate. Etc., and one or more of these can be used in combination.
また、バインダー樹脂としては、例えば、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、クロロポリスチレン、スチレン−クロロスチレン共重合体、スチレン−プロピレン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−塩化ビニル共重合体、スチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−ビニルメチルエーテル共重合体等のスチレン系樹脂でスチレンまたはスチレン置換体を含む単重合体または共重合体、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、フェニール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合体、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、テルペン樹脂、フェノール樹脂、脂肪族または脂環族炭化水素樹脂等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the binder resin include polystyrene, poly-α-methylstyrene, chloropolystyrene, styrene-chlorostyrene copolymer, styrene-propylene copolymer, styrene-butadiene copolymer, and styrene-vinyl chloride copolymer. Styrene-vinyl acetate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic copolymer, styrene-methacrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic acid ester-methacrylic acid A styrene resin such as an ester copolymer, a styrene-α-chloromethyl acrylate copolymer, a styrene-acrylonitrile-acrylic acid ester copolymer, a styrene-vinyl methyl ether copolymer, or the like containing a styrene or a styrene substitution product. Polymer or copolymer, Reester resin, epoxy resin, urethane modified epoxy resin, silicone modified epoxy resin, vinyl chloride resin, rosin modified maleic acid resin, phenyl resin, polyethylene, polypropylene, ionomer resin, polyurethane resin, silicone resin, ketone resin, ethylene-ethyl acrylate A copolymer, a xylene resin, a polyvinyl butyral resin, a terpene resin, a phenol resin, an aliphatic or alicyclic hydrocarbon resin, and the like can be given, and one or more of these can be used in combination.
また、遮光性材料は、例えば、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマー、水溶性樹脂、フッ素系界面活性剤、防腐剤、防黴剤、防錆剤、溶解助剤、酸化防止剤等を含むものであってもよい。
防腐剤、防黴剤としては、例えば、安息香酸ナトリウム、ペンタクロロフェノールナトリウム、2−ピリジンチオール−1−オキサイドナトリウム、ソルビン酸ナトリウム、デヒドロ酢酸ナトリウム、1,2−ジベンジソチアゾリン−3−オン(AVECIA製 プロキセルCRL、プロキセルBDN、プロキセルGXL、プロキセルXL−2、プロキセルTN(商品名))等が挙げられる。
The light-shielding material includes, for example, a water-soluble polymer such as sodium alginate, a water-soluble resin, a fluorosurfactant, an antiseptic, an antifungal agent, a rust preventive, a dissolution aid, an antioxidant, and the like. There may be.
Examples of antiseptics and antifungal agents include sodium benzoate, sodium pentachlorophenol, sodium 2-pyridinethiol-1-oxide, sodium sorbate, sodium dehydroacetate, 1,2-dibenzisothiazolin-3-one (Proxel CRL, Proxel BDN, Proxel GXL, Proxel XL-2, Proxel TN (trade name) manufactured by AVECIA) and the like.
溶解助剤、酸化防止剤としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなどの金属水酸化物、水酸化アンモニウム、四級アンモニウム水酸化物(テトラメチルアンモニウム等)等のアンモニウム塩、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウムなどの炭酸塩類その他燐酸塩類など、あるいは尿素、チオ尿素、テトラメチル尿素などの尿素類、アロハネート、メチルアロハネート等のアロハネート類、ビウレット、ジメチルビウレット、テトラメチルビウレットなどのビウレット類等が挙げられる。 Examples of the dissolution aid and antioxidant include metal hydroxides such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and lithium hydroxide, ammonium salts such as ammonium hydroxide and quaternary ammonium hydroxide (tetramethylammonium, etc.). , Carbonates such as potassium carbonate, sodium carbonate, lithium carbonate and other phosphates, ureas such as urea, thiourea and tetramethylurea, allophanates such as allophanate and methylallohanate, biuret, dimethylbiuret and tetramethylbiuret And biurets.
レンズ面側遮光部4は、遮光性を有するものであればよいが、その色は、黒色であるのが好ましい。これにより、レンズ面側遮光部4による遮光性は特に優れたものとなり、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
遮光性材料中における着色剤(染料、顔料)の含有率は、0.5〜20重量%であるのが好ましく、1.0〜15重量%であるのがさらに好ましい。遮光性材料中における着色剤の含有率が前記範囲内の値であると、十分な遮光性を有するレンズ面側遮光部4を形成することができるとともに、遮光性材料の粘度、表面張力等を容易に好適なものとすることができ、遮光性材料の取扱い性が向上し、遮光性材料付与工程を効率良く行うことができる。
Although the lens surface side light-shielding
The content of the colorant (dye or pigment) in the light-shielding material is preferably 0.5 to 20% by weight, and more preferably 1.0 to 15% by weight. When the content of the colorant in the light shielding material is a value within the above range, the lens surface side
なお、遮光性材料の付与は、必要に応じて(例えば、遮光性材料を付与すべき面積が比較的大きい場合や、形成すべきレンズ面側遮光部4の厚さが比較的厚い場合等においては)、複数回繰り返し行ってもよい。
また、遮光性材料の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、例えば、レンズ面側遮光部4の形状の安定性が向上し、後述する工程(転写工程)において、より確実に、レンズ面側遮光部4を基板本体2に転写することができるとともに、最終的なマイクロレンズ基板1におけるレンズ面側遮光部4の形状をより好適なものとすることができる。
It should be noted that the light-shielding material is applied as necessary (for example, when the area where the light-shielding material is to be applied is relatively large, or when the thickness of the lens-surface-side light-shielding
Further, after the application of the light-shielding material, a heat treatment such as heating or cooling, a pressurization of the atmosphere, or a pressure reduction may be performed as necessary. Thereby, for example, the stability of the shape of the lens-surface-side light-shielding
<B2>次に、図6(c)に示すように、凹部付き部材7の凹部71が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物23(例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合(未硬化)の樹脂材料)を付与し(組成物付与工程)、その上に、基材フィルム24を載せ、この基材フィルム24を介して、組成物23を平板(押圧部材)11で押圧する(押圧工程)。
<B2> Next, as shown in FIG. 6C, on the surface of the
基材フィルム24は、組成物23(固化後の組成物23)と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム24の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物23の絶対屈折率との差の絶対値が、0.20以下であるのが好ましく、0.10以下であるのがより好ましく、0.02以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム24は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム24は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
The
なお、平板11による押圧は、例えば、凹部付き部材7と、基材フィルム24との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体2の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物23を固化する際に、凹部付き部材7と基材フィルム24との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材7の凹部71が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物23を用いてもよいし、凹部付き部材7上にスペーサーを配した状態で組成物23を付与してもよいし、組成物23の供給後にスペーサーを付与してもよい。
In addition, you may perform the press by the
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物23と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物23の絶対屈折率との差の絶対値が、0.20以下であるのが好ましく、0.10以下であるのがより好ましく、0.02以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物23とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、10〜300μmであるのが好ましく、30〜200μmであるのがより好ましく、30〜170μmであるのがさらに好ましい。
In the case of using a spacer, the spacer is preferably made of a material having a refractive index comparable to that of the solidified
The shape of the spacer is not particularly limited, but is preferably substantially spherical or substantially cylindrical. When the spacer has such a shape, the diameter thereof is preferably 10 to 300 μm, more preferably 30 to 200 μm, and further preferably 30 to 170 μm.
<B3>次に、組成物23を固化(ただし、硬化(重合)を含む)させ、凹部71に対応するマイクロレンズ21を備えた基板本体2を得る(固化工程。図6(d)参照)。本実施形態では、基板本体2は、組成物23の固化物と基材フィルム24との接合体として得られる。また、得られる基板本体2は、平坦部28の表面においてレンズ面側遮光部4と接触している。
<B3> Next, the
組成物23の固化を硬化(重合)により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物23および/または基材フィルム24の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物23および/または基材フィルム24全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
In the case where the
Here, if necessary, in the
<B4>次に、形成された基板本体2から、平板11を取り除く(押圧部材除去工程。図6(e)参照)。このとき、凹部付き部材7は除去せず、基板本体2と密着させておく。取り外された平板11は、基板本体2(マイクロレンズ基板1)の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体2(マイクロレンズ基板1)の品質の安定性を高める上で有利である。
<B4> Next, the
<B5>次に、上記のようにして作製された基板本体2の出射側表面に、ブラックマトリックス(遮光膜)3を形成する。
本実施形態では、遮光膜の形成を、基板本体に遮光膜形成用材料を付与する工程(遮光膜形成用材料付与工程)と、当該遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、開口部を形成する工程(開口部形成工程)とを経て行う。遮光膜形成用材料としては、開口部を形成しうるものであればいかなるものであってもよいが、感光性を有する成分を含むものであるのが好ましい。これにより、容易かつ確実に好適な形状の開口部を形成することができる。以下の説明では、主に、遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマー32を用いるものとして説明する。
<B5> Next, a black matrix (light-shielding film) 3 is formed on the exit-side surface of the
In this embodiment, the light shielding film is formed by performing a process of applying a light shielding film forming material to the substrate body (light shielding film forming material application process) and a process of irradiating the light shielding film forming material with light. Through the step of forming the opening (opening forming step). The light shielding film forming material may be any material as long as it can form an opening, but preferably contains a photosensitive component. Thereby, the opening part of a suitable shape can be formed easily and reliably. In the following description, it is assumed that a
まず、図7(f)に示すように、基板本体2の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー(遮光膜形成用材料)32を付与する(遮光膜形成用材料付与工程)。基板本体2表面へのフォトポリマー32の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー32は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、(遮光性の低い)樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー32の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
First, as shown in FIG. 7 (f), a positive photopolymer (light shielding film forming material) 32 having light shielding properties is applied to the light exiting surface of the substrate body 2 (light shielding film forming material applying step). . As a method for applying the
<B6>次に、凹部付き部材7を介して、基板本体2に光(露光用光)Lbを照射する。
照射された光(露光用光)Lbはマイクロレンズ21に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度(光束)の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー32が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー32は露光されないか、または露光量が少なくなり、光度(光束)の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー32のみが感光する。
<B6> Next, the substrate
The irradiated light (exposure light) Lb is refracted and collected by entering the
基板本体2に照射する光(露光用光)Lbは、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部31の大きさをより確実に制御することができ、その結果、より確実に、マイクロレンズ基板1の視野角特性、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、投影される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
The light (exposure light) Lb applied to the
ここで、平坦部(隣接する凹部71と凹部71との間の平坦部79、隣接するマイクロレンズ21とマイクロレンズ21との間の平坦部28)上には、レンズ面側遮光部4が設けられている。このため、平坦部(平坦部79、平坦部28)に対応する部位に入射した光は、レンズ面側遮光部4によって遮られ、平坦部(平坦部79、平坦部28)に対応する部位の遮光膜形成用材料(フォトポリマー)32が露光してしまうのを効果的に防止することができる。したがって、マイクロレンズ21の集光部を選択的に露光し、それ以外の部位が露光してしまうのを効果的に防止することができる。その結果、マイクロレンズ21の集光部を選択的に開口部31を形成し、それ以外の部位に開口部31が形成されてしまうのを効果的に防止することができる。
Here, on the flat part (the
そして、本実施形態では、基板本体2への光の照射を、凹部付き部材7を介して行う。そして、本実施形態においては、凹部付き部材7が、各種気体(例えば、空気、各種不活性ガス等)よりも大きな屈折率(絶対屈折率)を有し、かつ、基材本体2の構成材料(固化した状態の構成材料)よりも小さな屈折率(絶対屈折率)を有する材料で構成されたものである。これにより、図9に示すように、凹部付き部材7を取り除いた状態で光を照射した場合に比べて、より広い領域に十分な光度(光束)の光(露光に必要な光度Z0よりも光度の大きな光)を照射することができる。また、凹部付き部材7を基板本体2に取り付けた状態で、遮光膜形成用材料(フォトポリマー)32を露光する処理を行うことにより、凹部付き部材7を取り外した状態で露光処理を行った場合に比べて、屈折した光が照射される領域における、光度(光束)のばらつき(最高値と最低値との差)を小さくすることができる。このため、光のエネルギーを遮光膜形成用材料(フォトポリマー)32の露光に効率良く利用することができ、エネルギーの有効利用ができる。このようなことから、最適な大きさ(十分な大きさ)の開口部31を有するブラックマトリックス3、最適な開口率を有するブラックマトリックス3を、より効率良く形成することができる。また、遮光膜形成用材料(フォトポリマー)の開口部(非遮光部)となるべき部位に、光度(光束)のばらつき(最高値と最低値との差)の小さい光を照射することができるため、部分的に必要以上に光度(光束)の大きい光を照射することを効果的に防止することができる。これにより、基板本体2の構成材料の劣化等の問題の発生を効果的に防止することができる。また、本実施形態では、後の工程で凹部付き部材を取り外すため、最終的なマイクロレンズ基板1において、光の屈折率を大きくすることができ、その結果、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、上記のように、凹部付き部材7を取り付けた状態で、遮光膜形成用材料(フォトポリマー)32を露光する処理を行うことにより、例えば、基板本体2の厚さは比較的薄い場合等においても、ブラックマトリックス3形成時における基板本体2の形状の安定性を優れたものとすることができる。これにより、所望の部位に所望の大きさの開口部31を有するブラックマトリックス3をより確実に形成することができ、結果として、最終的に得られるマイクロレンズ基板1の光学特性を特に優れたものとすることができる。
In this embodiment, the
上記のような方法等により光Lbを照射した後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー32はポジ型のフォトポリマーであるので、露光された部位(集光された光が照射された部位)のフォトポリマー32が現像により溶解、除去される。その結果、図7(g)に示すように、開口部31が形成されたブラックマトリックス3が形成される(開口部形成工程)。現像の方法は、フォトポリマー32の組成等により異なるが、例えば、KOH水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
Development is performed after the light Lb is irradiated by the method as described above. Here, since the
上記のように、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた光(露光用光)を照射しブラックマトリックス(開口部を有する遮光膜)を形成することにより、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。 As described above, the photopolymer is irradiated with light (exposure light) condensed by a microlens to form a black matrix (light-shielding film having an opening), for example, compared to using photolithography technology. Thus, the black matrix can be formed by a simple process.
なお、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
また、上記の説明では、(<B5>、<B6>において、)遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマーを用いて遮光膜(ブラックマトリックス3)を形成するものとして説明したが、フォトポリマー以外の材料を用いてもよい。例えば、遮光膜形成用材料としては、銀塩感光材料等の反転現像材料を用いてもよい。銀塩感光材料(反転現像材料)を用いた場合、上記のような露光後、一旦、露光部分のみが脱塩されるような処理を施し、その後さらに、全面露光し現像する方法を用いることにより、最初の露光部分を光透過性の非遮光部とし、それ以外の部位を遮光部(遮光領域)とすることができる。また、遮光膜の形成には、感光性材料を用いなくてもよい。例えば、感光性材料以外の遮光膜形成用材料で構成された膜を基板本体上に成膜した後、光(エネルギー線)を照射することにより、レンズ部により集光され、エネルギー密度が高くなった光で、遮光膜形成用材料で構成された膜の一部を弾き飛ばしたり、蒸発させること等により、開口部を有する遮光膜としてもよい。すなわち、上記の説明では、開口部形成工程において、露光処理と現像処理とを行うものとして説明したが、開口部形成工程は、このような複数の処理を行うものでなくてもよい。
In addition, you may perform heat processing, such as a post-baking process after development, as needed.
In the above description, the light shielding film (black matrix 3) is formed using a positive photopolymer as the light shielding film forming material (in <B5> and <B6>). Materials other than polymers may be used. For example, a reversal developing material such as a silver salt photosensitive material may be used as the light shielding film forming material. When a silver salt photosensitive material (reversal developing material) is used, after exposure as described above, once the exposed portion is processed to be desalted, and then further exposed and developed. The first exposed portion can be a light transmissive non-light-shielding portion, and the other portions can be light-shielding portions (light-shielding regions). In addition, a photosensitive material may not be used for forming the light shielding film. For example, after a film made of a material for forming a light-shielding film other than a photosensitive material is formed on the substrate body, it is condensed by the lens unit by irradiating light (energy rays), and the energy density is increased. The light shielding film having the opening may be formed by blowing off a part of the film made of the material for forming the light shielding film or evaporating the light. That is, in the above description, it has been described that the exposure process and the development process are performed in the opening forming process, but the opening forming process may not perform such a plurality of processes.
また、上記のような遮光膜形成用材料の付与、光の照射(露光)等の一連の処理を、繰り返し行ってもよい。これにより、遮光膜(ブラックマトリックス)をより厚いものとして形成することができ、コントラストの更なる向上を図ることができる。
また、上記の説明では、基板本体2の表面(光の出射面側の表面)に、直接、遮光膜形成用材料(フォトポリマー)を付与するものとして説明したが、遮光膜形成用材料は、基板本体2の表面に直接付与されるものでなくてもよい。例えば、基板本体2の表面(光の出射面側の表面)に、露光後に、十分な遮光性を発揮しない感光性材料の付与、現像等の一連の処理を行った後に、上記のような遮光膜形成用材料を用いた処理を行ってもよい。これにより、遮光膜(ブラックマトリックス)をより厚いものとして形成することができる。
Further, a series of processes such as application of the light shielding film forming material and light irradiation (exposure) as described above may be repeated. Thereby, the light shielding film (black matrix) can be formed thicker, and the contrast can be further improved.
In the above description, the light shielding film forming material (photopolymer) is directly applied to the surface of the substrate body 2 (the surface on the light emission surface side). It does not have to be directly applied to the surface of the
<B7>次に、図7(h)に示すように、基板本体2のブラックマトリックス3が設けられた面側に、拡散部5を形成する(拡散部形成工程)。
拡散部5は、例えば、予め、板状に成形された拡散板を接合したり、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することができる。
拡散部形成用材料の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体2を拡散部形成用材料中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられる。
<B7> Next, as shown in FIG. 7H, the
The
Examples of the method for applying the diffusion portion forming material include various application methods such as doctor blade, spin coating, brush coating, spray coating, electrostatic coating, electrodeposition coating, and roll coater, and the
<B8>次に、図7(i)に示すように、凹部付き部材7を、ブラックマトリックス3が形成された基板本体2から取り外す(凹部付き部材除去工程(転写工程))。
凹部付き部材7を取り外すことにより、凹部付き部材7上に設けられたレンズ面側遮光部4は、基板本体2側に転写される(転写工程)。これにより、マイクロレンズ基板1が得られる。
<B8> Next, as shown in FIG. 7 (i), the
By removing the
また、凹部付き部材7を取り外すことにより、最終的なマイクロレンズ基板1において、入射光Laを効率良く屈折させることができ、マイクロレンズ基板1の視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、取り外された凹部付き部材7を、基板本体2(マイクロレンズ基板1)の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体2(マイクロレンズ基板1)の品質の安定性を高める上でも有利である。
Further, by removing the
また、転写工程の後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、雰囲気の加圧、減圧、光の照射等の処理を施してもよい。これにより、例えば、基板本体2へのレンズ面側遮光部4の定着(安定化)を促進することができる。また、基板本体2に設けられたレンズ面側遮光部4の形を整えることができる。
上記の説明では、エッチングにより凹部が形成された基板を、凹部付き部材として用いるものとして説明したが、前述したように、凹部付き部材の不良は、通常、エッチング時において発生し易い。したがって、エッチング後に、凹部が設けられた部材(凹部付き部材)に、修繕を施してもよい。このような修繕の具体的な方法としては、例えば、以下のような方法が挙げられる。
Further, after the transfer step, heat treatment such as heating and cooling, pressurization of the atmosphere, decompression, and light irradiation may be performed as necessary. Thereby, for example, fixing (stabilization) of the lens surface side light-shielding
In the above description, the substrate in which the concave portion is formed by etching is described as being used as the member with the concave portion. However, as described above, the defect of the member with the concave portion is usually likely to occur during the etching. Therefore, after etching, a member provided with a recess (member with a recess) may be repaired. Specific examples of such repair methods include the following methods.
図10(a)および(b)は、凹部付き部材7の検査および修繕を行うのに用いる装置(以下、検査修繕装置と称する)の一例を示す図である。凹部付き部材7の検査修繕装置110は、CCDカメラ114と、修繕用レーザヘッド111と、凹部付き部材7を載置する載置台115と、移動ステージ112と、画像処理部を内蔵した制御装置113とを有している。
FIGS. 10A and 10B are diagrams illustrating an example of an apparatus (hereinafter referred to as an inspection / repair apparatus) used for inspecting and repairing the recessed
移動ステージ112は、CCDカメラ114および修繕用レーザヘッド111をそれぞれ載置台に対して平面的(X−Y方向、R−θ方向等)に移動するものであり、制御装置113は、CCDカメラ114の検査信号が入力されると、これを画像処理して、平坦部79が検出された場合には、該検出位置に修繕用レーザヘッド111を移動させるものである。
The moving
すなわち、この検査修繕装置110は、凹部付き部材7の検査と修繕工程とを同一の装置で実行するものであり、まず、CCDカメラ114でもって凹部付き部材7の全範囲(凹部が形成された有効領域)に走査する。そして、検査信号を画像処理部に入力し、画像処理して平坦部79を検出する。そして、平坦部79が検出された場合には、その位置を記憶する(図10(a)参照)。
That is, this inspection /
そして凹部付き部材7に平坦部79が検出され、該位置が特定された場合、画像処理部からの位置信号に基づいて、制御装置113は修繕用レーザヘッド111を平坦部79の真上に移動させ、修繕用レーザヘッド111によって、平坦部79を修繕する。平坦部79の修繕は、レーザにより凹部(修繕凹部)71’’を形成することにより行う(図10(b)参照)。
When the
このとき、レーザの照射条件によって凹部(修繕凹部)71’’の形状(深さや断面形状等)は変動するが、凹部付き部材7を用いて得られるマイクロレンズ基板1において、投射光の散乱効果が得られる程度に平坦部79の平坦な面を消失または減少させる。すなわち、擬似的なレンズが形成される程度の形状でよい。
なお、図10では1箇所の平坦部79およびその修繕を模式的に示すものであるが、実際は、平坦部79の個数は1箇所に限定されるものではない。また、照射するレーザとしては、例えば、紫外線レーザ、フェムト秒パルスレーザ等を用いることができる。
At this time, although the shape (depth, cross-sectional shape, etc.) of the recess (repair recess) 71 ″ varies depending on the laser irradiation conditions, the
Although FIG. 10 schematically shows one
なお、図10中、CCDカメラ114と修繕用レーザヘッド111とが共通の移動ステージ112に設置されているが、複数の移動ステージを設けて、それぞれを別個の移動ステージに設置してもよい。
また、修繕は、CCDカメラが平坦部を検出する都度実行してもよいし、CCDカメラが凹部付き部材の全面または所定範囲を走査した時点で、当該走査範囲内で検出された平坦部をまとめて順次修繕してもよい。
In FIG. 10, the
The repair may be performed each time the CCD camera detects the flat portion, or when the CCD camera scans the entire surface of the member with the concave portion or the predetermined range, the flat portions detected in the scanning range are collected. May be repaired sequentially.
なお、検査方法は上記の例に限定されるものではなく、凹部付き部材の裏面から光を投射して、輝点(白点)の有無(投射光の散乱の有無に同じ)によって検査したり、凹部付き部材の表面の凹凸形状を、カメラ等を用いて直接検査したりしてもよい。
このように、平坦部を有する凹部付き部材を修繕することで、修繕された凹部付き部材を用いて形成されたマイクロレンズ基板においては、前記加工抜け箇所に相当する位置に凸部(修繕レンズ)が形成されるため、該凸部において投射光は散乱される。これにより、マイクロレンズを有するスクリーンに輝点(白点)が現れることがより効果的に防止され、画像の品質が向上する。
また、上記のような修繕を行った後に、修繕が施された面側に前述したような離型処理を施してもよい。
The inspection method is not limited to the above example, and light is projected from the back surface of the member with a recess, and inspection is performed based on the presence or absence of bright spots (white spots) (same as the presence or absence of scattering of projected light). The uneven shape on the surface of the member with the recess may be directly inspected using a camera or the like.
In this way, in the microlens substrate formed by repairing the concave member having a flat portion, the convex portion (repair lens) is located at a position corresponding to the processing missing portion. Therefore, the projection light is scattered at the convex portion. This more effectively prevents bright spots (white spots) from appearing on the screen having the microlenses, thereby improving the image quality.
Moreover, after performing the above repair, you may perform the mold release process which was mentioned above to the surface side where the repair was performed.
次に、マイクロレンズ基板1の製造方法の他の一例(第2実施形態)について説明する。
以下に示す製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
図11および図12は、図1に示すマイクロレンズ基板(レンズ基板)の製造方法の他の一例(第2実施形態)を示す模式的な縦断面図、図13は、マイクロレンズ基板の製造方法において用いる検査装置の一例を示す模式図、図14は、マイクロレンズ基板の製造方法において用いる塗布装置(液滴吐出装置)の一例を示す模式図、図15、図16、図17は、基板本体に光を照射する際の光の入射方向(フォトポリマーを露光する際の光の照射方法)を説明するための図である。なお、以下の説明では、図11および図12中の下側、図15〜図17中の上側を「(光の)入射側」、図11および図12中の上側、図15〜図17中の下側を「(光の)出射側」と言う。
Next, another example (second embodiment) of the method for manufacturing the
The manufacturing method described below will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.
11 and 12 are schematic longitudinal sectional views showing another example (second embodiment) of the method of manufacturing the microlens substrate (lens substrate) shown in FIG. 1, and FIG. 13 is a method of manufacturing the microlens substrate. FIG. 14 is a schematic diagram showing an example of a coating device (droplet discharge device) used in the method of manufacturing a microlens substrate, and FIGS. 15, 16, and 17 are substrate bodies. It is a figure for demonstrating the incident direction of the light at the time of irradiating light (the irradiation method of the light at the time of exposing a photopolymer). In the following description, the lower side in FIGS. 11 and 12 and the upper side in FIGS. 15 to 17 are the “(incident) incident side”, the upper side in FIGS. 11 and 12, and the upper side in FIGS. The lower side is called the “(light) emission side”.
上述した実施形態では、凹部付き部材7の平坦部79に遮光性材料を付与することにより、レンズ面側遮光部4を形成したが、本実施形態では、凹部付き部材7の平坦部79に遮光性材料を付与する工程(第1の遮光性材料付与工程)を有し、さらに、凹部付き部材7を取り外した基板本体2の平坦部28に対応する部位に遮光性材料4’を付与する工程(第2の遮光性材料付与工程)を有する。これにより、より確実に、基板本体2の平坦部28に、好適なレンズ面側遮光部4を形成することができる。例えば、本実施形態のような方法によれば、形成すべきレンズ面側遮光部4が比較的厚いものであっても好適に形成することができる。また、基板本体2から凹部付き部材7を除去する際(レンズ面側遮光部4を転写させる際)、レンズ面側遮光部4の転写が不十分になった場合(例えば、形成されたレンズ面側遮光部4が層内破壊した場合)であっても、本実施形態のような方法によれば、基板本体2の平坦部28にレンズ面側遮光部4を形成することができる。
以下、本実施形態の製造方法について、より詳細に説明する。
In the above-described embodiment, the light-shielding material is applied to the
Hereinafter, the manufacturing method of this embodiment will be described in more detail.
<B1’>前述した実施形態(第1実施形態)での<B1>と同様(凹部付き部材準備工程および第2の遮光性材料付与工程。図11(a)、(b)参照)。
<B2’>前述した実施形態(第1実施形態)での<B2>と同様(図11(c)参照)。
<B3’>前述した実施形態(第1実施形態)での<B3>と同様(図11(d)参照)。
<B1 ′> Similar to <B1> in the above-described embodiment (first embodiment) (recessed member preparation step and second light-shielding material application step, see FIGS. 11A and 11B).
<B2 ′> Same as <B2> in the above-described embodiment (first embodiment) (see FIG. 11C).
<B3 ′> Same as <B3> in the above-described embodiment (first embodiment) (see FIG. 11D).
<B4’>次に、形成された基板本体2から、平板11および凹部付き部材7を取り除く(押圧部材・凹部付き部材除去工程(転写工程)。図11(e)参照)。
凹部付き部材7を取り外すことにより、凹部付き部材7上に設けられたレンズ面側遮光部4は、基板本体2側に転写される(転写工程)。
また、凹部付き部材7を取り外すことにより、最終的なマイクロレンズ基板1において、入射光Laを効率良く屈折させることができ、マイクロレンズ基板1の視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、また、取り外された平板11、凹部付き部材7は、基板本体2(マイクロレンズ基板1)の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体2(マイクロレンズ基板1)の品質の安定性を高める上で有利である。
<B4 ′> Next, the
By removing the
Further, by removing the
<B5’>次に、図12(f)に示すように、基板本体2の平坦部28に対応する部位に、遮光性材料4’を付与し(第2の遮光性材料付与工程)、最適なレンズ面側遮光部4を形成する(図12(g)参照)。遮光性材料4’としては、前述した実施形態で説明した遮光性材料と同様のものを用いることができるが、本工程で用いる遮光性材料4’は、前述した<B1’>の工程で用いた遮光性材料と同一の組成を有するものでなくてもよい。
<B5 ′> Next, as shown in FIG. 12 (f), the light-shielding
例えば、前述した<B1’>の工程で得られた位置情報を用いることにより、遮光性材料4’を、基板本体2の平坦部28に対応する部位に選択的に付与することができる。また、前記<B4’>の工程で平板11、凹部付き部材7が取り外された基板本体2に対して、改めて、直進光を透過し得る平坦部28の検出を行ってもよい。これにより、前記<B4’>までの工程で、十分な遮光性を有するレンズ面側遮光部4が形成された部位には、遮光性材料を付与することなく、遮光性が不足している部位(平坦部28に対応する部位)に、選択的に遮光性材料を付与することができる。このため、省資源の観点等からも有利である。
For example, the
このような平坦部28(直進光を透過し得る平坦部28。以下単に、「平坦部28」とも言う)の存在を検査する方法(平坦部28を検出する方法)としては、種々の方法を用いることができ、特に限定されるものではないが、例えば、以下に示すような方法を適用することができる。
すなわち、基板本体2の表面のパターニング(凹凸形状)をカメラ等で直接観察することにより、平坦部28の有無を検査することができる。
As a method (a method for detecting the flat portion 28) of inspecting the presence of such a flat portion 28 (a
That is, the presence or absence of the
また、平坦部28(直進光を透過し得る平坦部28)の部分とそれ以外の部分とでは、透過する光量も異なるため、基板本体の裏面(マイクロレンズ21が設けられた側の面)から光を投射して、その透過光を検出し、光量の違い(例えば、輝点(白点)の有無(投射光の散乱の有無に同じ)を検出することによって平坦部28の有無を検査することができる。
In addition, since the amount of light transmitted through the flat portion 28 (
上記のような方法を採用する場合、例えば、図13に示すような検査装置を好適に用いることができる。
図13に示す検査装置130は、基板本体2のマイクロレンズ21が設けられた面側に、基板本体2の主面の法線方向(垂線方向)から検査用の平行光を照射する光照射手段131と、基板本体2の主面に対して平行に設置された移動ステージ132と、光照射手段131に対向するように、移動ステージ132に移動自在に設置されたCCDカメラ133とを備えている。
In the case of adopting the above method, for example, an inspection apparatus as shown in FIG. 13 can be suitably used.
The
この検査装置130においては、CCDカメラ133でもって基板本体2の全面(マイクロレンズ21が形成されている有効領域)を走査する。そして、走査により得られた検査信号を画像処理装置134に入力し、画像処理して平坦部28(直進光を透過し得る平坦部28)を検出する。そして、検出された場合には、その位置情報を、図示しない記憶手段で記憶する。
In this
そして基板本体2に平坦部28(直進光を透過し得る平坦部28)が検出されたら、該箇所に遮光性材料4’を付与する。遮光性材料4’の付与は、CCDカメラ121による走査で得られた位置情報に基づいて行うことができる。
遮光性材料4’の付与方法としては、特に限定されないが、インクジェット法を適用するのが好ましい。インクジェット法によれば、直進光を透過し得る平坦部28に、遮光性材料4’を選択的に、かつ確実に付与することができる。また、インクジェット法によれば、遮光性材料4’の付与を高速化できるとともに、有効に遮光性材料4’を利用することができ、省資源の観点からも好ましい。
And if the flat part 28 (
The method for applying the light-shielding
インクジェットによる遮光性材料4’の付与は、図14に示すような液滴吐出装置(塗布装置)を用いて好適に行うことができる。
図14に示す液滴吐出装置(塗布装置)140は、基板本体2の主面に対して平行に設置された移動ステージ142と、移動ステージ142に移動自在に載置または懸架された液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)141と、前記検査で特定された位置情報が入力されており、液滴吐出ヘッド141の駆動等を制御する制御装置143とを備えている。
The application of the light-shielding
A droplet discharge device (coating device) 140 shown in FIG. 14 has a
この液滴吐出装置140においては、前記検査での位置情報が入力された制御装置143の制御信号により液滴吐出ヘッド141を所定の部位に移動させつつ、当該部位に対応する光量のデータ等に基づき、液滴としての遮光性材料4’を、所定量、所定の条件で吐出する。これにより、各平坦部28に対して、それぞれに最適なレンズ面側遮光部4を形成することができる。
In the
<B6’>前述した実施形態(第1実施形態)での<B5>と同様(図12(h)参照)。
<B7’>次に、前述した実施形態(第1実施形態)での<B6>と同様にして、開口部31を有するブラックマトリックス3を形成する(図12(i)参照)。
ただし、本実施形態においては、光(露光用光)Lbの照射を、凹部付き部材7を介さずに行う。このため、光(露光用光)Lbの照射を、基板本体2の主面の法線方向(垂線方向)から行った場合、第1実施形態のように凹部付き部材7を介して光を照射する場合に比べて、形成される開口部31は、小さいものとなる。
<B6 ′> Same as <B5> in the above-described embodiment (first embodiment) (see FIG. 12H).
<B7 ′> Next, the
However, in the present embodiment, irradiation with light (exposure light) Lb is performed without using the
そこで、本実施形態では、図15に示すように、基板本体の主面の法線方向(垂線方向)に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、光を基板本体に入射させる。このようにして、光を入射させることにより、基板本体2の入射側表面に垂直な方向(基板本体2の主面の法線方向)に光を照射した場合には、開口部を形成することができなかった部位にも、十分に高い光度(エネルギー)の光を照射することができ、当該部位をブラックマトリックス(遮光膜)3の開口部31とすることができる。その結果、比較的大きな(必要十分な大きさの)開口部31を有するブラックマトリックス3を容易かつ確実に形成することができる。
Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 15, light is incident on the substrate body from a direction inclined by a predetermined angle θ with respect to the normal direction (perpendicular direction) of the main surface of the substrate body. In this way, when light is incident, an opening is formed when light is irradiated in a direction perpendicular to the incident-side surface of the substrate body 2 (normal direction of the main surface of the substrate body 2). Even the part that cannot be irradiated can be irradiated with light having sufficiently high luminous intensity (energy), and the part can be the opening 31 of the black matrix (light-shielding film) 3. As a result, the
光(露光用光)Lbを照射するに際し、基板本体2の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から光(露光用光)Lbを基板本体2に入射させるためには、例えば、露光用光Lbの光源を斜めに設置してもよいし、基板本体2側を傾けてもよい。また、光源と基板本体2との間に偏光フィルターやスリット等を介して照射する場合、当該偏光フィルターやスリット等を斜めに傾けてもよい。
When irradiating light (exposure light) Lb, light (exposure light) Lb is incident on the
基板本体2を斜めに傾ける方法としても、特に限定されるものではなく、例えば、支持部材等を用いて基板本体2の一端部を持ち上げて支持することにより傾けてもよいし、また、くさび形等の傾斜形状を有する傾斜部材を基板本体2の下側に配することで基板本体2を斜めに傾けてもよい。この場合、上記傾斜部材の材質としては、露光用光Lbを反射しないものが好ましい。
The method of inclining the
光の入射方向と基板本体2の主面の法線方向とでなす角度θは、特に限定されないが、2〜15°であるのが好ましく、3〜10°であるのがより好ましく、3〜8°であるのがさらに好ましい。角度θが前記範囲内の値であると、前述したようなブラックマトリックス3(所定の大きさの開口部31を有するブラックマトリックス3、所定の開口率を有するブラックマトリックス3)をより確実に形成することができ、表示される画像のコントラスト、視野角特性を、いずれも、特に優れたものとすることができる。これに対し、角度θが前記下限値未満であると、十分な大きさの開口部31を形成したり、ブラックマトリックス3の開口率を十分に高いものとすることが困難となり、マイクロレンズ基板1の視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。一方、角度θが前記上限値を超えると、形成されるブラックマトリックス3の外光反射防止の特性が低下してしまい、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、角度θが前記上限値を超えると、マイクロレンズ21形状等によっては、マイクロレンズ21の頂部に対応する部位に開口部31を確実に形成することが困難となる可能性がある。
The angle θ formed between the incident direction of light and the normal direction of the main surface of the
基板本体2に照射する光(露光用光)Lbは、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部31の大きさ、ブラックマトリックス3の開口率等をより確実に制御することができ、より確実に、表示される画像のコントラスト、視野角特性を、いずれも、特に優れたものとすることができる。
また、開口部形成用の光(露光用光)Lbは一方向からだけではなく、基板本体2に対し複数の方向から入射させるのが好ましい。これにより、より広い領域に効率良く十分な光度(光束)の光を照射することができ、必要十分な大きさの開口部31をより効率良く形成することができる。
The light (exposure light) Lb applied to the
Moreover, it is preferable that the light for forming an opening (exposure light) Lb is incident not only from one direction but also from a plurality of directions on the
複数の方向から光を入射させる方法としては、例えば、複数の光源を用意し、これらを異なる部位に設置し、これら複数の光源から同時または順番に光を照射する方法や、光源から照射された光を分岐させ、これらの分岐した光を異なる方向から基板本体2に入射させる方法も挙げられるが、例えば、基板本体2と光源とを相対的に移動(変位)させつつ、光源から光(露光用光)Lbを照射する方法が挙げられる。基板本体2と光源とを相対的に移動(変位)させる方法としては、例えば、基板本体2を固定した状態で光源を移動(変位)させる方法、光源を固定した状態で基板本体2を移動(変位)させる方法、光源および基板本体2をともに移動(変位)させる方法が挙げられる。
As a method of making light incident from a plurality of directions, for example, a plurality of light sources are prepared, these are installed in different parts, and light is emitted from the plurality of light sources simultaneously or sequentially, or is emitted from the light sources. There is also a method in which light is branched and the branched light is incident on the
以下、基板本体2を移動(変位)させる方法について、より具体的に説明する。
基板本体2側を動かす具体的な方法としては、例えば、図16に模式的に示すように、少なくとも、互いに直交する4方向に、それぞれ角度θずつ基板本体2を傾ける方法が挙げられる。
このように、基板本体2を動かすことにより、例えば、得られるマイクロレンズ基板1を各方向(左右方向および上下方向)での視野角特性が特に優れたものとすることができる。
Hereinafter, a method for moving (displacement) the
As a specific method of moving the
In this way, by moving the
また、光(露光用光)Lbの照射は、基板本体2が所定の角度に傾いた状態においてのみ行うものであってもよいが、基板本体2を動かしている間、連続的または断続的に行うものであってもよい。すなわち、角度θの値は、経時的に変化するものであってもよい。これにより、例えば、角度θの値(角度θの最大値)が比較的大きい場合であっても、マイクロレンズ21の頂部に対応する部位に開口部31を確実に形成することができる。このように、角度θの値が経時的に変化する場合、その最大値が前述した範囲に含まれるものであるのが好ましい。また、例えば、光(露光用光)Lbの照射時に、角度θがゼロとなる時点が存在してもよい。
The light (exposure light) Lb may be irradiated only when the
また、光(露光用光)Lbを複数の方向から照射する際に、各方向についての光(露光用光)Lbの入射角度θの最大値が異なるものとなるようにしてもよい。これにより、例えば、形状が非対称な(例えば、点対称ではない)開口部31等のように、複雑な形状の開口部31も容易かつ確実に形成することができる。これにより、例えば、透過型スクリーン10や後述するようなリア型プロジェクタ300の仕様、使用環境(設置場所等)に応じて、容易に、各方向における視野角特性を最適なものとすることができる。
Further, when the light (exposure light) Lb is irradiated from a plurality of directions, the maximum value of the incident angle θ of the light (exposure light) Lb in each direction may be different. Thereby, for example, the
また、光の入射方向を変化させる方法の他の一例(基板本体2側を動かす他の一例)を、図17に模式的に示す。
図17に示す例では、基板本体2の主面の法線と軸90の長手方向とのなす角が、所定の角度θを維持するように、基板本体2を、軸90上でこまのように回転させる構成になっている。言い換えると、図17に示す例では、軸90の延長線が基板本体2の表面(入射面)に接触する部位における基板本体2の主面の法線が、軸90を中心とした円錐の周面を形成するように、基板本体2が回転する。このような構成であることにより、例えば、光(露光用光)Lbの入射方向に対して、基板本体2の主面の法線が角度θだけ傾斜した状態を維持しつつ、光Lbの入射方向を経時的に変化させることができる。これにより、表示される画像のコントラスト、視野角特性のいずれもが、特に優れたマイクロレンズ基板1を生産性良く製造することができる。
FIG. 17 schematically shows another example of the method of changing the light incident direction (another example of moving the
In the example shown in FIG. 17, the
<B8’>その後、前述した実施形態(第1実施形態)での<B7>と同様にして、基板本体2のブラックマトリックス3が設けられた面側に、拡散部5を形成する(拡散部形成工程)。これにより、マイクロレンズ基板1が得られる。
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図18は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ300は、投写光学ユニット310と、導光ミラー320と、透過型スクリーン10とが筐体340に配置された構成を有している。
<B8 ′> Thereafter, similarly to <B7> in the above-described embodiment (first embodiment), the
A rear projector using the transmission screen will be described below.
FIG. 18 is a diagram schematically showing the configuration of the rear projector of the present invention.
As shown in the figure, the
そして、このリア型プロジェクタ300は、上記のような透過型スクリーン10を備えているので、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる。また、視野角特性、光利用効率等も特に優れたにも優れている。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板1では、楕円形状のマイクロレンズ21が千鳥状(千鳥格子状)に配されているので、リア型プロジェクタ300では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
Since the
In particular, in the
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板(マイクロレンズ基板)、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。例えば、レンズ基板は、その表面付近に、所定の濃度で着色された着色部を有するものであってもよい。これにより、表示される画像のコントラストをさらに優れたものとすることができる。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment of illustration, this invention is not limited to these.
For example, each part of the lens substrate (microlens substrate), the transmission screen, and the rear projector can be replaced with any component that can exhibit the same function. Moreover, you may add arbitrary structures. For example, the lens substrate may have a colored portion colored at a predetermined density near the surface thereof. Thereby, the contrast of the displayed image can be further improved.
また、レンズ基板(マイクロレンズ基板)の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、レンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面(または平板上に載置された基材フィルム)に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。
Moreover, in the manufacturing method of a lens substrate (microlens substrate), you may add arbitrary processes.
Moreover, the order of each process in the manufacturing method of a lens substrate is not limited to what was mentioned above, You may change the order as needed.
Moreover, in embodiment mentioned above, although demonstrated as what gives a composition to the surface of a member with a recessed part, for example, a composition is provided to the surface of a flat plate (or the base film mounted on the flat plate), You may manufacture a microlens board | substrate by pressing this with a member with a recessed part.
また、前述した実施形態では、板状の凹部付き部材を用いて、基板本体を製造するものとして説明したが、基板本体は、例えば、ロール状の凹部付き部材を用いて製造してもよい。
また、前記第1実施形態では、ブラックマトリックス(遮光膜)を形成する際に、遮光膜形成用材料が付与された基板本体に対して、その主面の法線方向から光(露光用光)を照射するものとして説明したが、前記第2実施形態のように、基板本体の主面の法泉に対し、所定角度θだけ傾斜した方向から、光(露光用光)を照射してもよい。
Moreover, in embodiment mentioned above, although demonstrated as what manufactures a board | substrate body using a plate-shaped member with a recessed part, you may manufacture a board | substrate body using a roll-shaped member with a recessed part, for example.
In the first embodiment, when forming the black matrix (light-shielding film), light (exposure light) is emitted from the normal direction of the main surface to the substrate body to which the light-shielding film-forming material is applied. However, as in the second embodiment, light (exposure light) may be irradiated from a direction inclined by a predetermined angle θ with respect to the normal spring on the main surface of the substrate body. .
また、ブラックマトリックス(遮光膜)を形成する際における、光(露光用光)の照射は、例えば、凹部付き部材を取り外し、かつ、基板本体の主面の法線方向から行うものであってもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材を除去するものとして説明したが、凹部付き部材は、必ずしも除去しなくてもよい。すなわち、凹部付き部材は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
Moreover, when forming the black matrix (light-shielding film), the light (exposure light) may be irradiated from the normal direction of the main surface of the substrate body, for example, by removing the recessed member. Good.
Further, in the above-described embodiment, the member with the concave portion is described as being removed, but the member with the concave portion may not necessarily be removed. That is, the concave member may constitute a part of the lens substrate.
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板は、前述したような拡散部を備えていなくてもよい。このような場合、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。 In the above-described embodiment, the microlens substrate has been described as having a layered diffusion portion, but the shape of the diffusion portion is not limited to this. For example, the diffusion portion may be provided in a convex shape at a portion corresponding to the opening of the black matrix. Even in such a case, the effects described above can be obtained. In addition, by forming such a diffusion portion, it is possible to more effectively prevent reflection of external light at a portion other than the opening portion of the black matrix, so that the contrast of the obtained image is particularly excellent. can do. Further, the microlens substrate may not include the diffusion portion as described above. In such a case, the light utilization efficiency can be made particularly excellent.
また、前述した実施形態では、レンズ基板がマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板であるものとして説明したが、本発明において、レンズ基板は、例えば、レンチキュラレンズ基板等であってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ部とを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズ部を備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
In the above-described embodiment, the lens substrate is described as a microlens substrate including a microlens. However, in the present invention, the lens substrate may be, for example, a lenticular lens substrate.
In the above-described embodiment, the transmission screen is described as including a microlens substrate and a Fresnel lens portion. However, the transmission screen of the present invention does not necessarily include a Fresnel lens portion. Good. For example, the transmission screen of the present invention may be substantially constituted only by the microlens substrate of the present invention.
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置(フロントプロジェクタ)のスクリーン(フロントプロジェクションスクリーン)、投射型表示装置(フロントプロジェクタ)の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。 In the above-described embodiment, the lens substrate is described as a member constituting a transmission screen and a rear projector. However, the use of the lens substrate of the present invention is not limited to the above, It can be anything. For example, the lens substrate of the present invention is applied to a diffusion plate, a black matrix screen, a projection display device (front projector) screen (front projection screen), a liquid crystal light valve component of a projection display device (front projector), and the like. It may be done.
(実施例1)
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横1.2m×縦0.7m角、厚さ4.8mmのソーダガラス基板(絶対屈折率n2:1.50)を用意した。
このソーダガラス基板を、4wt%の一水素二フッ化アンモニウムと、8wt%の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して6μmエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびN2ガスを用いた乾燥(純水の除去)を行った。
Example 1
The member with a recessed part provided with the recessed part for microlens formation was manufactured as follows.
First, a soda glass substrate (absolute refractive index n 2 : 1.50) having a width of 1.2 m × length of 0.7 m square and a thickness of 4.8 mm was prepared as a substrate.
This soda glass substrate was immersed in a cleaning solution containing 4 wt% ammonium monohydrogen difluoride and 8 wt% hydrogen peroxide and etched by 6 μm to clean the surface.
Thereafter, cleaning with pure water and drying using N 2 gas (removal of pure water) were performed.
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム/酸化クロムの積層体(クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体)を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム/酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは0.03μm、酸化クロム層の厚さは0.01μmであった。 Next, a chromium / chromium oxide laminate (a laminate in which chromium oxide was laminated on the outer surface side of chromium) was formed on the soda glass substrate by sputtering. That is, a mask forming film and a back surface protective film made of a chromium / chromium oxide laminate were formed on the surface of a soda glass substrate. The thickness of the chromium layer was 0.03 μm, and the thickness of the chromium oxide layer was 0.01 μm.
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部113cm×65cmの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度1.2J/cm2、加工点でのビーム直径2μm、走査速度0.1m/秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は2μmであった。
Next, laser processing was performed on the mask forming film to form a large number of initial holes in a range of 113 cm × 65 cm in the central portion of the mask forming film, thereby forming a mask.
The laser processing was performed using an excimer laser under the conditions of an energy density of 1.2 J / cm 2 , a beam diameter of 2 μm at the processing point, and a scanning speed of 0.1 m / sec.
As a result, substantially circular initial holes were formed in a staggered pattern over the entire range of the mask forming film. The diameter of the initial hole was 2 μm.
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状(略楕円形状)の凹部(マイクロレンズ形成用凹部)を形成した。形成された凹部は、球面をなすものであり、その短軸方向の長さ(ピッチ)は54μm、長軸方向の長さは72μm、曲率半径は38μm、深さは38μmであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は98%であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、4wt%の一水素二フッ化アンモニウムと、8wt%の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は2.0時間とした。
Next, wet etching was performed on the soda glass substrate to form concave portions (recesses for forming microlenses) having a flat shape (substantially elliptical shape) when viewed in plan on the soda glass substrate. The formed recess has a spherical surface, and the length (pitch) in the minor axis direction is 54 μm, the length in the major axis direction is 72 μm, the radius of curvature is 38 μm, and the depth is 38 μm. Moreover, the occupation rate of the recessed part in the effective area | region in which the recessed part was formed was 98%.
In the wet etching, an aqueous solution containing 4 wt% ammonium monohydrogen difluoride and 8 wt% hydrogen peroxide was used as an etchant, and the immersion time was 2.0 hours.
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびN2ガスを用いた乾燥(純水の除去)を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理(シリル化処理)を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。
Next, the mask and the back surface protective film were removed by etching using a mixture of ceric ammonium nitrate and perchloric acid.
Next, cleaning with pure water and drying (removing pure water) using N 2 gas were performed.
Thereafter, a gas phase surface treatment (silylation treatment) with hexamethyldisilazane was performed on the surface side of the substrate where the concave portions were formed, thereby forming a release treatment portion.
Thereby, the member with a recessed part in which many recessed parts for microlens formation were arranged on the soda glass substrate in zigzag form was obtained.
次に、図8に示した検査装置を用いて、凹部付き部材について検査を行い、所定の大きさ(幅5μm)以上の平坦部を検出し、その位置情報を記憶手段で記憶させた。平坦部の表面粗さRaは5μm以下であった。
そして、記憶された位置情報に基づき、前記平坦部に、遮光性材料をローラー塗布により付与した。平坦部に付与された遮光性材料の厚さは1.5μmであった。
これにより、凹部付き部材の平坦部上に選択的にレンズ面側遮光部を形成した。
Next, the inspection apparatus shown in FIG. 8 was used to inspect the member with concave portions, a flat portion having a predetermined size (
And based on the memorize | stored positional information, the light-shielding material was provided to the said flat part by roller application | coating. The thickness of the light shielding material applied to the flat portion was 1.5 μm.
Thereby, the lens surface side light-shielding part was selectively formed on the flat part of the member with a recessed part.
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合(未硬化)のアクリル系樹脂(PMMA樹脂(メタクリル樹脂))で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート(PET)で構成された基材フィルム(厚さ:50μm)を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率(絶対屈折率n1)は、1.57であった。 Next, a composition composed of unpolymerized (uncured) acrylic resin (PMMA resin (methacrylic resin)) is applied to the surface of the member with recesses on the side where the recesses are formed. A substrate film (thickness: 50 μm) made of terephthalate (PET) was placed. The refractive index (absolute refractive index n 1 ) of polyethylene terephthalate constituting the base film was 1.57.
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状(略楕円形状)をなすものであり、その短軸方向の長さ(ピッチ)は54μm、長軸方向の長さは72μm、曲率半径は38μm、深さは38μmであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は98%であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率(絶対屈折率n1)は、1.56であった。
Next, the said composition was pressed through the base film with the flat plate comprised with soda glass. At this time, air was prevented from entering between the base film and the composition.
Then, the composition was completely hardened by irradiating the composition with ultraviolet rays while being pressed with a flat plate to obtain a substrate body. The obtained substrate main body had a microlens having a shape corresponding to the concave portion of the concave member. The formed microlens has a flat shape (substantially elliptical shape), the length (pitch) in the minor axis direction is 54 μm, the length in the major axis direction is 72 μm, the radius of curvature is 38 μm, and the depth is It was 38 μm. Further, the occupation ratio of the microlens in the effective region where the microlens is formed was 98%. Further, the refractive index (absolute refractive index n 1 ) of the material constituting the formed cured portion was 1.56.
次に、基板本体から平板を取り除いた。
次に、基板本体の出射側(マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面)表面に、カーボンブラック(遮光性の材料)が添加されたポジ型のフォトポリマー(PC405G:JSR株式会社製)を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー(遮光膜形成用材料)中におけるカーボンブラックの含有量は、20wt%であった。
Next, the flat plate was removed from the substrate body.
Next, a positive type photopolymer (PC405G: JSR Corporation) in which carbon black (light-shielding material) is added to the surface of the substrate main body on the emission side (surface opposite to the surface on which the microlenses are formed). Made by a roll coater. The content of carbon black in the photopolymer (light shielding film forming material) was 20 wt%.
次に、90℃×30分のプレベーク処理を施した。
次に、凹部付き部材を介して、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、10mJ/cm2の平行光としての紫外線を照射した。その結果、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位のフォトポリマーを選択的に露光した。
Next, a pre-bake treatment at 90 ° C. for 30 minutes was performed.
Next, ultraviolet rays as parallel light of 10 mJ / cm 2 were irradiated from the surface side of the substrate main body on which the microlenses were formed through the member with concave portions. As a result, the irradiated ultraviolet rays were collected by each microlens, and the photopolymer of the portion irradiated with the collected ultraviolet rays was selectively exposed.
その後、0.5wt%のKOH水溶液を用いて、40秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびN2ガスを用いた乾燥(純水の除去)を行い、さらに、200℃×30分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。開口部は、略円形であり、その直径は30μmであった。また、形成されたブラックマトリックスの厚さは1.2μmであった。また、ブラックマトリックスの開口率は、18%であった。
Thereafter, development was performed for 40 seconds using a 0.5 wt% aqueous KOH solution.
Thereafter, pure water cleaning and drying using N 2 gas (removal of pure water) were performed, and a post-baking treatment at 200 ° C. for 30 minutes was further performed. Thereby, a black matrix having openings corresponding to the respective microlenses was formed. The opening was substantially circular, and its diameter was 30 μm. The formed black matrix had a thickness of 1.2 μm. Moreover, the aperture ratio of the black matrix was 18%.
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成した。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材(平均粒径8μmのシリカ粒子)が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、2.0mmであった。
その後、凹部付き部材を取り除いた。これにより、凹部付き部材から基板本体の平坦部(表面粗さRaが5μm以下)にレンズ面側遮光部が転写されたマイクロレンズ基板を得た。マイクロレンズ基板が有するレンズ面側遮光部の厚さは1.5μmであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図3に示すような透過型スクリーンを得た。
Next, a diffusion portion was formed on the side of the substrate body on which the black matrix was formed. The diffusion portion was formed by joining a diffusion plate having a configuration in which a diffusion material (silica particles having an average particle size of 8 μm) was dispersed in an acrylic resin by heat fusion. Note that the thickness of the diffusion portion was 2.0 mm.
Then, the member with a recessed part was removed. As a result, a microlens substrate in which the lens surface side light-shielding portion was transferred from the member with concave portions to the flat portion (surface roughness Ra of 5 μm or less) of the substrate body was obtained. The thickness of the light shielding part on the lens surface side of the microlens substrate was 1.5 μm.
A transmissive screen as shown in FIG. 3 was obtained by assembling the microlens substrate manufactured as described above and the Fresnel lens portion manufactured by extrusion molding.
(実施例2)
前記実施例1で用いた凹部付き部材と同様にして製造したものに対し、図10に示した検査修繕装置を用いて、凹部が形成されていない平坦部に修繕凹部を形成し、その後さらに、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理(シリル化処理)を施したものを、凹部付き部材として用いた以外は、前記実施例1と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。本実施例で用いた凹部付き部材では、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率が98%であった。
(Example 2)
For those manufactured in the same manner as the member with recesses used in Example 1, using the inspection / repair device shown in FIG. 10, a repair recess is formed in the flat portion where no recess is formed, and then, A microlens substrate and a transmissive screen were produced in the same manner as in Example 1 except that a material subjected to gas phase surface treatment (silylation treatment) with hexamethyldisilazane was used as a member with a recess. In the member with recesses used in this example, the occupation ratio of the recesses in the effective region where the recesses were formed was 98%.
(実施例3)
まず、前記実施例1と同様にして、凹部付き部材を製造した。
次に、図8に示した検査装置を用いて、凹部付き部材について検査を行い、所定の大きさ(幅5μm)以上の平坦部を検出し、その位置情報を記憶手段で記憶させた。平坦部の表面粗さRaは5μm以下であった。
(Example 3)
First, in the same manner as in Example 1, a member with a recess was manufactured.
Next, the inspection apparatus shown in FIG. 8 was used to inspect the member with concave portions, a flat portion having a predetermined size (
そして、記憶された位置情報に基づき、前記平坦部に、遮光性材料をローラー塗布により付与した。平坦部に付与された遮光性材料の厚さは、1.5μmであった。
これにより、凹部付き部材の平坦部上に選択的にレンズ面側遮光部を形成した。
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合(未硬化)のアクリル系樹脂(PMMA樹脂(メタクリル樹脂))で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート(PET)で構成された基材フィルム(厚さ:50mm)を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率(絶対屈折率n1)は、1.57であった。
And based on the memorize | stored positional information, the light-shielding material was provided to the said flat part by roller application | coating. The thickness of the light shielding material applied to the flat portion was 1.5 μm.
Thereby, the lens surface side light-shielding part was selectively formed on the flat part of the member with a recessed part.
Next, a composition composed of an unpolymerized (uncured) acrylic resin (PMMA resin (methacrylic resin)) is applied to the surface on which the concave portion of the member with concave portions is formed, and polyethylene is formed thereon. A substrate film (thickness: 50 mm) made of terephthalate (PET) was placed. The refractive index (absolute refractive index n 1 ) of polyethylene terephthalate constituting the base film was 1.57.
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状(略楕円形状)をなすものであり、長軸方向の長さが72μm、曲率半径が38μm、高さが38μmであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は98%であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率(絶対屈折率n1)は、1.56であった。
Next, the said composition was pressed through the base film with the flat plate comprised with soda glass. At this time, air was prevented from entering between the base film and the composition.
Then, the composition was completely hardened by irradiating the composition with ultraviolet rays while being pressed with a flat plate to obtain a substrate body. The obtained substrate main body had a microlens having a shape corresponding to the concave portion of the concave member. The formed microlens had a flat shape (substantially elliptical shape), and had a length in the major axis direction of 72 μm, a radius of curvature of 38 μm, and a height of 38 μm. Further, the occupation ratio of the microlens in the effective region where the microlens is formed was 98%. Further, the refractive index (absolute refractive index n 1 ) of the material constituting the formed cured portion was 1.56.
次に、基板本体から平板および凹部付き部材を取り除いた。これにより、凹部付き部材から基板本体の平坦部(表面粗さRaが5μm以下)にレンズ面側遮光部が転写された。
次に、図13に示した検査装置を用いて、基板本体について検査を行い、所定の大きさ(幅5μm)以上の平坦部を検出し、その位置情報を記憶手段で記憶させた。平坦部の表面粗さRaは5μm以下であった。
そして、記憶された位置情報に基づき、図14に示した液滴吐出装置を用いて、前記平坦部に、遮光性材料をインクジェット法により付与した。
その後、付与した遮光性材料から溶媒を除去し、厚さ1.7μmのレンズ面側遮光部を形成した。
Next, the flat plate and the concave member were removed from the substrate body. Thereby, the lens surface side light-shielding part was transferred from the member with concave portions to the flat part (surface roughness Ra of 5 μm or less) of the substrate body.
Next, using the inspection apparatus shown in FIG. 13, the substrate main body was inspected, a flat portion having a predetermined size (
And based on the memorize | stored positional information, the light-shielding material was provided to the said flat part with the inkjet method using the droplet discharge apparatus shown in FIG.
Thereafter, the solvent was removed from the applied light shielding material to form a lens surface side light shielding portion having a thickness of 1.7 μm.
次に、基板本体の出射側(マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面)表面に、カーボンブラック(遮光性の材料)が添加されたポジ型のフォトポリマー(PC405G:JSR株式会社製)を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー(遮光膜形成用材料)中におけるカーボンブラックの含有量は、20wt%であった。
次に、90℃×30分のプレベーク処理を施した。
Next, a positive type photopolymer (PC405G: JSR Corporation) in which carbon black (light-shielding material) is added to the surface of the substrate main body on the emission side (surface opposite to the surface on which the microlenses are formed). Made by a roll coater. The content of carbon black in the photopolymer (light shielding film forming material) was 20 wt%.
Next, a pre-bake treatment at 90 ° C. for 30 minutes was performed.
次に、図17に示すように、基板本体のマイクロレンズが設けられた面側を上側とし、基板本体の上側から軸の長手方向に60mJ/cm2の平行光としての紫外線を照射するとともに、基板本体の主面の法線と軸の長手方向とのなす角が、所定の角度(θ=7°)を維持するように、基板本体を、軸上でこまのように回転させた。言い換えると、本実施例では、軸の長手方向に10mJ/cm2の平行光としての紫外線を照射するとともに、軸の延長線が基板本体の表面(入射面)に接触する部位における基板本体の主面の法線が、軸を中心とした円錐の周面を形成するように基板本体を回転させた。 Next, as shown in FIG. 17, the surface side of the substrate body on which the microlenses are provided is the upper side, and irradiation with ultraviolet light as parallel light of 60 mJ / cm 2 is performed from the upper side of the substrate body in the longitudinal direction of the shaft. The substrate main body was rotated on the shaft in such a manner that the angle formed between the normal line of the main surface of the substrate main body and the longitudinal direction of the shaft maintained a predetermined angle (θ = 7 °). In other words, in this embodiment, the main body of the substrate main body at the portion where the extension line of the shaft contacts the surface (incident surface) of the substrate main body while irradiating ultraviolet rays as parallel light of 10 mJ / cm 2 in the longitudinal direction of the shaft. The substrate body was rotated so that the surface normal formed a conical circumferential surface about the axis.
その結果、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位のフォトポリマーを選択的に露光した。
その後、0.5wt%のKOH水溶液を用いて、40秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびN2ガスを用いた乾燥(純水の除去)を行い、さらに、200℃×30分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。開口部は、略円形であり、その直径は30μmであった。また、形成されたブラックマトリックスの厚さは1.2μmであった。
その後、前記実施例1と同様にして、拡散部を形成することによりマイクロレンズ基板を得た。
また、その後、得られたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例1と同様にして透過型スクリーンを製造した。
As a result, the irradiated ultraviolet rays were collected by each microlens, and the photopolymer of the portion irradiated with the collected ultraviolet rays was selectively exposed.
Thereafter, development was performed for 40 seconds using a 0.5 wt% aqueous KOH solution.
Thereafter, pure water cleaning and drying using N 2 gas (removal of pure water) were performed, and a post-baking treatment at 200 ° C. for 30 minutes was further performed. Thereby, a black matrix having openings corresponding to the respective microlenses was formed. The opening was substantially circular, and its diameter was 30 μm. The formed black matrix had a thickness of 1.2 μm.
Thereafter, in the same manner as in Example 1, a microlens substrate was obtained by forming a diffusion portion.
Thereafter, a transmissive screen was produced in the same manner as in Example 1 using the obtained microlens substrate.
(実施例4)
前記実施例1で用いた凹部付き部材と同様にして製造したものに対し、図10に示した検査修繕装置を用いて、凹部が形成されていない平坦部に修繕凹部を形成し、その後さらに、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理(シリル化処理)を施したものを、凹部付き部材として用いた以外は、前記実施例3と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。本実施例で用いた凹部付き部材では、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率が98%であった。
Example 4
For those manufactured in the same manner as the member with recesses used in Example 1, using the inspection / repair device shown in FIG. 10, a repair recess is formed in the flat portion where no recess is formed, and then, A microlens substrate and a transmissive screen were produced in the same manner as in Example 3 except that a material subjected to gas phase surface treatment (silylation treatment) with hexamethyldisilazane was used as a member with a recess. In the member with recesses used in this example, the occupation ratio of the recesses in the effective region where the recesses were formed was 98%.
(実施例5)
次に、基板本体から平板を取り除く工程において、平板とともに凹部付き部材も取り除き、後の露光の工程を、凹部付き基板を外した状態で行った以外は、前記実施例1と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
(実施例6)
凹部付き部材について平坦部を検出するための検査を行うことなく、凹部付き部材の凹部が形成された面側に、ローラー塗布により遮光性材料を付与した以外は、前記実施例5と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
(Example 5)
Next, in the step of removing the flat plate from the substrate body, the member with concave portions is also removed together with the flat plate, and the subsequent exposure step is performed in the same manner as in Example 1 except that the substrate with concave portions is removed. A substrate and a transmission screen were produced.
(Example 6)
The same as in Example 5 except that a light-shielding material was applied by roller application to the surface side where the concave portion of the member with concave portion was formed without performing an inspection for detecting the flat portion of the member with concave portion. A microlens substrate and a transmission screen were manufactured.
(比較例1)
凹部付き部材を用いて基板本体を作製する際に、凹部付き部材の平坦部に、遮光性材料を付与しなかった以外は、前記実施例1と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。すなわち、本比較例において、マイクロレンズ基板は、レンズ面側遮光部を備えていない。
(Comparative Example 1)
A microlens substrate and a transmissive screen were manufactured in the same manner as in Example 1 except that when the substrate body was produced using the member with recesses, the light shielding material was not applied to the flat part of the member with recesses. did. That is, in this comparative example, the microlens substrate does not include the lens surface side light-shielding portion.
(比較例2)
基板本体を作製した後に、ブラックマトリックスを形成しなかった以外は、前記比較例1と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。すなわち、本比較例において、マイクロレンズ基板は、ブラックマトリックスおよびレンズ面側遮光部を備えていない。
各実施例および各比較例について、製造に用いた凹部付き部材の構成や、マイクロレンズ基板の構成を表1にまとめて示す。
(Comparative Example 2)
A microlens substrate and a transmissive screen were produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the black matrix was not formed after the substrate body was produced. That is, in this comparative example, the microlens substrate does not include the black matrix and the lens surface side light-shielding portion.
For each example and each comparative example, Table 1 summarizes the configuration of the member with recesses used for manufacturing and the configuration of the microlens substrate.
[リア型プロジェクタの作製]
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図18に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
[輝点の発生]
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させ、表示された画像において、輝点の発生状態を以下の5段階の基準に従い評価した。
[Production of rear projector]
Rear projectors as shown in FIG. 18 were produced using the transmissive screens of the respective examples and comparative examples.
[Generation of bright spots]
Sample images were displayed on the transmissive screens of the rear projectors of each of the examples and comparative examples, and in the displayed images, the state of occurrence of bright spots was evaluated according to the following five criteria.
A:輝点が存在しない、または目視で確認できない。
B:スクリーンの一部に、輝点が少数存在し、わずかに確認することができる。
C:スクリーンの一部に、輝点が存在し、目視ではっきりと確認できる。
D:スクリーン全体に、輝点が少数存在し、目視ではっきりと確認できる。
E:スクリーン全体に、輝点が多数存在し、目視ではっきりと確認できる。
A: A bright spot does not exist or cannot be confirmed visually.
B: There are a small number of bright spots on a part of the screen, which can be confirmed slightly.
C: A bright spot exists in a part of the screen and can be clearly confirmed visually.
D: There are a small number of bright spots on the entire screen, which can be clearly confirmed visually.
E: Many bright spots exist on the entire screen, which can be clearly confirmed visually.
[明るさ(輝度)の評価]
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させ、表示された画像の明るさ(輝度)を以下の6段階の基準に従い評価した。明るさ(輝度)の評価は、明室および暗室で行った。明室での評価は、外光照度が約185lxの環境下で行った。暗室での評価は、外光照度が0.1lx以下の環境下で行った。
[Evaluation of brightness (luminance)]
Sample images were displayed on the transmissive screens of the rear projectors of the respective examples and comparative examples, and the brightness (luminance) of the displayed images was evaluated according to the following six criteria. Evaluation of brightness (luminance) was performed in a bright room and a dark room. The evaluation in the bright room was performed in an environment where the ambient light illuminance was about 185 lx. Evaluation in the dark room was performed in an environment where the illuminance of outside light was 0.1 lx or less.
A:非常に明るい画像を表示することができた。
B:十分に明るい画像を表示することができた。
C:比較的明るい画像を表示することができた。
D:表示された画像はやや暗いものであった。
E:表示された画像は暗いものであった。
F:表示された画像は非常に暗いものであった。
A: A very bright image could be displayed.
B: A sufficiently bright image could be displayed.
C: A relatively bright image could be displayed.
D: The displayed image was a little dark.
E: The displayed image was dark.
F: The displayed image was very dark.
[コントラストの評価]
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト(CNT)として、明室において373lxの全白光が入射した時の白表示の正面輝度(白輝度)LW[cd/m2]と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度LB[cd/m2]との比LW/LBを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約82lxの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が0.1lx以下の環境下で行った。
[Evaluation of contrast]
Contrast evaluation was performed on the rear projectors of each of the examples and comparative examples.
As contrast (CNT), the front luminance (white luminance) LW [cd / m 2 ] of white display when all white light of 373 lx is incident in the bright room and the front of black display when the light source is completely turned off in the bright room The ratio LW / LB with the luminance LB [cd / m 2 ] was determined. The black luminance increase amount is an increase amount with respect to the black display luminance in the dark room. The measurement in the bright room was performed under an environment where the ambient light illuminance was about 82 lx. The measurement in the dark room was performed in an environment where the external light illuminance was 0.1 lx or less.
[視野角の測定]
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向(上下方向)および水平方向(左右方向)での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計(ゴニオフォトメータ)で、1度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表2にまとめて示す。
[Measurement of viewing angle]
With the sample images displayed on the transmissive screens of the rear projectors of the examples and comparative examples, the viewing angles in the vertical direction (up and down direction) and the horizontal direction (left and right direction) were measured.
The viewing angle was measured under the condition of measuring with a variable angle photometer (goniophotometer) at intervals of 1 degree.
These results are summarized in Table 2.
表2から明らかなように、本発明では、いずれも、輝点の発生が十分に防止され、かつ、高コントラストの画像を表示することができた。また、視野角特性にも優れていた。これに対し、各比較例では、満足な結果が得られなかった。 As can be seen from Table 2, in the present invention, bright spots were sufficiently prevented and a high contrast image could be displayed. Also, the viewing angle characteristics were excellent. On the other hand, in each comparative example, a satisfactory result was not obtained.
1…マイクロレンズ基板(レンズ基板) 2…基板本体 21…マイクロレンズ(凸レンズ) 23…組成物 24…基材フィルム 25…第1の行 26…第2の行 28…平坦部 3…ブラックマトリックス(遮光膜) 31…開口部 32…フォトポリマー(遮光膜形成用材料) 4…レンズ面側遮光部 4’…遮光性材料 5…拡散部 6…フレネルレンズ部 61…フレネルレンズ 7…凹部付き部材(マイクロレンズ形成用凹部付き部材) 71…凹部(マイクロレンズ形成用凹部) 71’…凹部 71’’…凹部(修繕凹部) 79…平坦部 70…基板 8…マスク 81…初期孔(開口部) 89…裏面保護膜 80…マスク形成用膜 90…軸 11…平板 10…透過型スクリーン 110…検査修繕装置 111…修繕用レーザヘッド 112…移動ステージ 113…制御装置 114…CCDカメラ 115…載置台 120…検査装置 121…CCDカメラ 122…移動ステージ 123…画像処理装置 130…検査装置 131…光照射手段 132…移動ステージ 133…CCDカメラ 134…画像処理装置 140…液滴吐出装置(塗布装置) 141…液滴吐出ヘッド 142…移動ステージ 143…制御装置 300…リア型プロジェクタ 310…投写光学ユニット 320…導光ミラー 340…筐体
DESCRIPTION OF
Claims (15)
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に存在する凸部のうち、所定以上の高さを有する凸部の頂部に、遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。 A method of manufacturing a lens substrate having a substrate body having a large number of convex lenses and a light-shielding film made of a light-shielding material and having an opening,
Preparing a member with a recess having a recess corresponding to the convex lens;
A light-shielding material is applied to the top of a convex portion having a height higher than a predetermined value among the convex portions existing between adjacent concave portions on the surface of the member with the concave portion where the concave portion is provided. A light-shielding material application step,
A composition applying step for applying a composition having fluidity to the surface of the recessed portion of the member provided with the recess;
Solidifying the composition to obtain a substrate body;
A light-shielding film-forming material application step for applying a light-shielding film-forming material for forming the light-shielding film on the surface of the substrate body opposite to the surface on which the convex lens is provided;
A method of manufacturing a lens substrate, comprising: an opening forming step of applying light to the light shielding film forming material through the substrate body to form the light shielding portion having the opening.
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に、所定の大きさ以上の平坦部が存在するか否かを検査し、前記平坦部が存在する場合には該平坦部に遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。 A method of manufacturing a lens substrate having a substrate body having a large number of convex lenses and a light-shielding film made of a light-shielding material and having an opening,
Preparing a member with a recess having a recess corresponding to the convex lens;
On the surface on the side where the concave portion of the member with concave portions is provided, it is inspected whether a flat portion having a predetermined size or more exists between adjacent concave portions, and the flat portion exists. In the case, a light-shielding material application step of applying a light-shielding material to the flat portion,
A composition applying step for applying a composition having fluidity to the surface of the recessed portion of the member provided with the recess;
Solidifying the composition to obtain a substrate body;
A light-shielding film-forming material application step for applying a light-shielding film-forming material for forming the light-shielding film on the surface of the substrate body opposite to the surface on which the convex lens is provided;
A method of manufacturing a lens substrate, comprising: an opening forming step of applying light to the light shielding film forming material through the substrate body to form the light shielding portion having the opening.
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面において、隣接する凸レンズと凸レンズとの間に、所定の大きさ以上の平坦部を有し、
前記平坦部上に、遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部が選択的に設けられていることを特徴とするレンズ基板。 A lens substrate having a substrate body having a large number of convex lenses and a light-shielding film made of a light-shielding material and having an opening,
On the surface of the substrate body on the side where the convex lens is provided, a flat portion having a predetermined size or more is provided between the adjacent convex lens and the convex lens.
A lens substrate, wherein a lens surface side light shielding part made of a light shielding material is selectively provided on the flat part.
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された請求項11または12に記載のレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。 A Fresnel lens part having a Fresnel lens formed on the light exit side;
A transmissive screen comprising: the lens substrate according to claim 11 or 12 disposed on a light emission side of the Fresnel lens portion.
A rear projector comprising the transmissive screen according to claim 13.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005325472A JP2007133110A (en) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear type projector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005325472A JP2007133110A (en) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear type projector |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007133110A true JP2007133110A (en) | 2007-05-31 |
Family
ID=38154834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005325472A Pending JP2007133110A (en) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear type projector |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007133110A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111415962A (en) * | 2020-03-30 | 2020-07-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display back plate, manufacturing method thereof and display device |
-
2005
- 2005-11-09 JP JP2005325472A patent/JP2007133110A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111415962A (en) * | 2020-03-30 | 2020-07-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display back plate, manufacturing method thereof and display device |
CN111415962B (en) * | 2020-03-30 | 2022-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display back plate, manufacturing method thereof and display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20060087742A1 (en) | Method of manufacturing a microlens substrate, a substrate with concave portions, a microlens substrate, a transmission screen, and a rear projection | |
JP2006154768A (en) | Member with concave portion, method of manufacturing member with convex portion, member with convex portion, transmission screen, and rear projector | |
JP2006146180A (en) | Method of manufacturing substrate with concave portion, substrate with concave portion, microlens substrate, transmission screen, and rear projector | |
JP2006106359A (en) | Fabricating method for lens substrate, lens substrate, transmission type screen, and rear type projector | |
JP2006126751A (en) | Member with recess, method for manufacturing member with recess, member with protrusion, transmission screen, and rear projector | |
JP2006133334A (en) | Member with recessed part, method for manufacturing member with projection part, the member with projection part, transmission-type screen and rear-type projector | |
JP4655910B2 (en) | Microlens substrate manufacturing method, microlens substrate, transmissive screen, and rear projector | |
JP2007136797A (en) | Method for producing lens substrate forming mold, lens substrate forming mold, lens substrate, transmission type screen, and rear type projector | |
JP2007133110A (en) | Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear type projector | |
JP2006259644A (en) | Reflection type screen | |
JP2007133111A (en) | Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear type projector | |
JP2006142587A (en) | Manufacturing method of member with protruded part, member with protruded part, transmission type screen and rear type projector | |
JP2007160575A (en) | Lens substrate, its manufacturing method, transmission type screen and rear type projector | |
JP5003069B2 (en) | Method for manufacturing lens substrate forming mold | |
JP2007047216A (en) | Manufacturing method of lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear projection type projector | |
JP2007163797A (en) | Manufacturing method of lens substrate, lens substrate, transmission type screen and rear projection type projector | |
JP2007199212A (en) | Microlens substrate, transmissive screen, and rear projector | |
JP4687468B2 (en) | Microlens substrate manufacturing method, microlens substrate, transmissive screen, and rear projector | |
JP4650131B2 (en) | Lens substrate and rear projector | |
JP2006259643A (en) | Reflection type screen | |
JP2007203674A (en) | Method for manufacturing lens substrate, lens substrate, permeable screen and rear-type projector | |
JP2007001214A (en) | Manufacturing method of lens substrate, lens substrate, transmission type screen, and rear type projector | |
JP2007025441A (en) | Lens substrate, method of manufacturing lens substrate, transmissive screen, and rear type projector | |
JP2006323113A (en) | Lens substrate, transmission type screen and rear type projector | |
JP2007017710A (en) | Transmission type screen and rear type projector |