JP2007125505A - Inhibitor of hydrogen sulfide generation - Google Patents

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JP2007125505A JP2005320787A JP2005320787A JP2007125505A JP 2007125505 A JP2007125505 A JP 2007125505A JP 2005320787 A JP2005320787 A JP 2005320787A JP 2005320787 A JP2005320787 A JP 2005320787A JP 2007125505 A JP2007125505 A JP 2007125505A
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晴美 水谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inhibitor of hydrogen sulfide H<SB>2</SB>S generation that can suppress the generation of H<SB>2</SB>S without using an environmentally hazardous substances such as nickel and can prevent a degradation in the activity of a three way catalyst to which the inhibitor is added. <P>SOLUTION: The inhibitor of H<SB>2</SB>S generation is comprised of a plurality of nuclei 1 comprised of an oxide of at least one element selected from alkali earth metal elements and rare earth elements, a porous oxide layer 2 whose average pore diameter is 0.5 nm to 10 nm formed on the surface of each of the nuclei 1, and noble metals 3, 4 deposited on the porous oxide layer 2. Sulfur dioxide in an exhaust gas capable of easily passing through the porous oxide layer 2 whose average pore diameter is 0.5 nm to 10 nm is oxidized by the noble metals 3, 4 while passing therethrough and reaches the nuclei 1 where it is converted to a sulfite or a sulfate which is adsorbed by the surface of the nuclei 1. The resulting sulfite or sulfate is a solid and grows in a form of bulk of particles incapable of passing through the porous oxide layer 2 whose average pore diameter is 0.5 nm to 10 nm and is fixed to the nuclei 1. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、自動車などからの排ガス中における硫化水素(以下、H2S )の生成を抑制するH2S 生成抑制材に関する。本発明のH2S 生成抑制材は、単独で、あるいは排ガス浄化用触媒などに添加して用いることができる。 The present invention relates to an H 2 S generation suppressing material that suppresses the generation of hydrogen sulfide (hereinafter, H 2 S) in exhaust gas from an automobile or the like. The H 2 S production suppressing material of the present invention can be used alone or added to an exhaust gas purifying catalyst.

自動車の排ガス中のHC、CO及びNOx を浄化する触媒として、三元触媒が広く用いられている。この三元触媒は、アルミナ、セリア、ジルコニア、セリア−ジルコニアなどの多孔質酸化物担体にPt、Rhなどの白金族金属を担持してなるものであり、HC及びCOを酸化して浄化するとともに、NOx を還元して浄化する。これらの反応は、酸化成分と還元成分がほぼ当量で存在する雰囲気下で最も効率よく進行するので、三元触媒を搭載した自動車においては、理論空燃比(ストイキ)近傍(A/F =14.6± 0.2程度)で燃焼されるように空燃比の制御が行われている。 HC in exhaust gas of an automobile, as a catalyst for purifying CO and NO x, the three-way catalyst is widely used. This three-way catalyst is formed by supporting a platinum group metal such as Pt and Rh on a porous oxide carrier such as alumina, ceria, zirconia, and ceria-zirconia, and oxidizes and purifies HC and CO. , to purify by reduction of NO x. Since these reactions proceed most efficiently in an atmosphere in which an oxidizing component and a reducing component are present in approximately equivalent amounts, in a vehicle equipped with a three-way catalyst, the vicinity of the stoichiometric air-fuel ratio (Stoichi) (A / F = 14.6 ± The air-fuel ratio is controlled so that it is burned at about 0.2).

ところが三元触媒においては、排ガス雰囲気が還元側に振れた際に、排ガス中の硫黄酸化物が還元されてH2S となって排出されるという不具合があった。例えば酸素吸放出能をもつセリアは三元触媒に必須の成分となっているが、セリアを用いた三元触媒を搭載した自動車では、加速時など排ガス雰囲気がリッチ側(還元雰囲気)の際にH2S が生成するという問題があった。セリアを用いた場合にH2S が生成する機構は、以下のように説明される。つまり排ガス中のSO2 は、触媒金属によって酸化されてSO3 又はSO4 となる。セリアは塩基性度が比較的高い酸化物であるために、SO3 又はSO4 を吸着し易い。そして吸着されたSO3 又はSO4 は担体上に徐々に濃縮され、それが還元雰囲気で還元されてH2S が生成すると考えられる。H2S は微量でも人の嗅覚に知覚されて不快感を与えるので、排出を抑制する必要がある。 However, the three-way catalyst has a problem that when the exhaust gas atmosphere moves toward the reduction side, sulfur oxides in the exhaust gas are reduced and discharged as H 2 S. For example, ceria with oxygen absorption / release capacity is an essential component of a three-way catalyst, but in a car equipped with a three-way catalyst using ceria, the exhaust gas atmosphere is on the rich side (reducing atmosphere) such as during acceleration. There was a problem that H 2 S was generated. The mechanism that H 2 S generates when ceria is used is explained as follows. That is, SO 2 in the exhaust gas is oxidized by the catalytic metal to become SO 3 or SO 4 . Since ceria is an oxide having a relatively high basicity, it is easy to adsorb SO 3 or SO 4 . Then, it is considered that the adsorbed SO 3 or SO 4 is gradually concentrated on the support and is reduced in a reducing atmosphere to generate H 2 S. Since H 2 S is perceived by human olfaction even in trace amounts, it causes discomfort, so it is necessary to suppress the discharge.

そこで三元触媒の成分として、NiあるいはCuの酸化物をさらに用いることが考えられる。NiあるいはCuの酸化物は、酸化雰囲気でSO2 をSO3 あるいはSO4 とし、還元雰囲気では例えば Ni2S3などの硫化物として硫黄成分を貯蔵するので、H2S の生成を抑制することができる。 Therefore, it is conceivable to further use an oxide of Ni or Cu as a component of the three-way catalyst. Ni or Cu oxide suppresses the generation of H 2 S because SO 2 is changed to SO 3 or SO 4 in an oxidizing atmosphere, and sulfur components are stored as sulfides such as Ni 2 S 3 in a reducing atmosphere. Can do.

例えば特公平08−015554号公報には、ニッケル−バリウム複合酸化物、アルミナ、セリアからなる担体に貴金属を担持してなる排ガス浄化用触媒が記載されている。この担体は、リーン雰囲気ではアルミナ及びセリアが硫黄酸化物を硫酸塩として捕捉し、還元雰囲気ではH2S をニッケルバリウムの複合酸化物が捕捉する。したがってH2S の生成を抑制することができる。 For example, Japanese Examined Patent Publication No. 08-015554 describes an exhaust gas purifying catalyst in which a noble metal is supported on a carrier made of nickel-barium composite oxide, alumina, and ceria. In this carrier, alumina and ceria capture sulfur oxides as sulfates in a lean atmosphere, and H 2 S is captured by nickel barium complex oxide in a reducing atmosphere. Therefore, generation of H 2 S can be suppressed.

また特表2000−515419号公報あるいは特許第02598817号には、セリアにNiO 、 Fe23などを混合した担体とすることで、H2S の生成を抑制することが記載されている。また特開平07−194978号公報には、セリアにNi及びCaを担持させた担体とすることで、H2S の生成を抑制することが記載されている。 Japanese Patent Publication No. 2000-515419 or Japanese Patent No. 02598817 describes that the production of H 2 S is suppressed by using a carrier in which ceria is mixed with NiO 2 , Fe 2 O 3, or the like. Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-194978 describes that the formation of H 2 S is suppressed by using a carrier in which Ni and Ca are supported on ceria.

しかしながら、NiあるいはCuは環境負荷物質であるため、自動車の排ガス浄化用触媒用には使用が制限されつつあるという現状がある。また三元触媒にバリウムなどを添加すると、本来の浄化性能を悪化させてしまう場合がある。   However, since Ni or Cu is an environmentally hazardous substance, there is a current situation that its use is being restricted for automobile exhaust gas purification catalysts. Further, when barium or the like is added to the three-way catalyst, the original purification performance may be deteriorated.

さらに特公平02−020561号公報などには、ビスマス成分を含みH2S を酸化して除去できる触媒が開示されている。しかしこれらの触媒は、酸化雰囲気においてH2S を酸化するものであるので、ストイキあるいは還元雰囲気ではH2S が排出される恐れがある。
特公平08−015554号 特表2000−515419号 特許第02598817号 特開平07−194978号 特公平02−020561号公報
Further, Japanese Patent Publication No. 02-020561 discloses a catalyst that contains a bismuth component and can oxidize and remove H 2 S. However, since these catalysts oxidize H 2 S in an oxidizing atmosphere, H 2 S may be discharged in a stoichiometric or reducing atmosphere.
No. 08-015554 Special table 2000-515419 Patent No. 02598817 JP 07-194978 Japanese Patent Publication No. 02-020561

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ニッケルなどの環境負荷物質を用いることなくH2S の生成を抑制でき、三元触媒などに添加した場合には触媒性能の悪化を防止できるH2S 生成抑制材とすることを解決すべき課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, can suppress the generation of H 2 S without using environmentally hazardous substances such as nickel, and can prevent deterioration of catalyst performance when added to a three-way catalyst or the like. The problem to be solved is to use H 2 S formation inhibitor.

上記課題を解決する本発明のH2S 生成抑制材の特徴は、アルカリ土類金属及び希土類元素の中から選ばれる少なくとも一種の元素の酸化物よりなる核体と、核体の表面に形成された平均細孔径が 0.5nm〜10nmの多孔質酸化物層と、多孔質酸化物層に担持された貴金属と、からなることにある。 The feature of the H 2 S formation suppressing material of the present invention that solves the above-mentioned problems is formed on the surface of a nucleus comprising an oxide of at least one element selected from alkaline earth metals and rare earth elements, and the surface of the nucleus. In other words, it consists of a porous oxide layer having an average pore diameter of 0.5 to 10 nm and a noble metal supported on the porous oxide layer.

核体は、Ba、La、Pr及びNdから選ばれる少なくとも一種の元素の酸化物であることが望ましい。   The nucleus is preferably an oxide of at least one element selected from Ba, La, Pr and Nd.

本発明のH2S 生成抑制材によれば、排ガス中のSO2 は平均細孔径が 0.5nm〜10nmの多孔質酸化物層を容易に通過する。SO2 は担持されている貴金属によって多孔質酸化物層を通過中に酸化され、SO3 イオン又はSO4 イオンとなって核体に到達する。核体は、アルカリ土類金属及び希土類元素の中から選ばれる少なくとも一種の元素の酸化物よりなるので、SO3 イオン又はSO4 イオンは亜硫酸塩又は硫酸塩となって核体表面に固定される。亜硫酸塩又は硫酸塩は固体であること、容易に凝集してバルク状に粒成長することから、平均細孔径が 0.5nm〜10nmの多孔質酸化物層を通過することは困難であり、核体に捕捉された状態で固定化される。 According to the H 2 S production inhibitor of the present invention, SO 2 in the exhaust gas easily passes through the porous oxide layer having an average pore diameter of 0.5 nm to 10 nm. SO 2 is oxidized by the supported noble metal while passing through the porous oxide layer, and reaches SO2 as SO 3 ions or SO 4 ions. Since the nucleus is made of an oxide of at least one element selected from alkaline earth metals and rare earth elements, SO 3 ions or SO 4 ions are fixed to the surface of the nucleus as sulfites or sulfates. . Since sulfite or sulfate is solid and easily aggregates and grows in bulk, it is difficult to pass through a porous oxide layer with an average pore size of 0.5 nm to 10 nm. It is fixed in a state where it is captured.

すなわち核体に固定化された亜硫酸塩又は硫酸塩からは、硫黄酸化物が排ガス中に再び戻ることがない。したがって排ガス中の硫黄酸化物量が大幅に低減されるので、還元雰囲気におけるH2S の生成を大きく抑制することができる。 That is, sulfur oxide does not return to the exhaust gas again from the sulfite or sulfate immobilized on the nucleus. Therefore, since the amount of sulfur oxides in the exhaust gas is greatly reduced, the generation of H 2 S in the reducing atmosphere can be greatly suppressed.

また核体の表面には多孔質酸化物層が形成されているので、Baなどが表出することがない。したがって三元触媒などに添加して用いた場合には、触媒性能を低下させる恐れもない。   Further, since a porous oxide layer is formed on the surface of the nucleus, Ba or the like does not appear. Therefore, when added to a three-way catalyst or the like and used, there is no possibility of reducing the catalyst performance.

本発明のH2S 生成抑制材は、核体と、核体表面に形成された多孔質酸化物層と、多孔質酸化物層に担持された貴金属とから構成される。 The H 2 S generation suppressing material of the present invention is composed of a nucleus, a porous oxide layer formed on the surface of the nucleus, and a noble metal supported on the porous oxide layer.

核体は、アルカリ土類金属及び希土類元素の中から選ばれる少なくとも一種の元素の酸化物よりなるものである。その元素種は、酸化物として安定なものであれば特に制限されない。但し、セリアを含む酸化物は酸素吸放出能を備えているため、SO2 の酸化活性が低下したり、SO3 イオン又はSO4 イオンが還元されたりする場合があるので、核体には用いないことが望ましい。SO3 イオン又はSO4 イオンと反応しやすい、Ba、La、Pr及びNdから選ばれる少なくとも一種の元素が特に望ましい。なお、核体は少なくとも内部が酸化物であればよく、核体の表面が一時的にあるいは部分的に炭酸塩又は硝酸塩となっていても構わない。 The nucleus is made of an oxide of at least one element selected from alkaline earth metals and rare earth elements. The element species is not particularly limited as long as it is stable as an oxide. However, since oxides containing ceria have oxygen absorption / release capability, SO 2 oxidation activity may be reduced and SO 3 ions or SO 4 ions may be reduced. It is desirable not to. Particularly desirable is at least one element selected from Ba, La, Pr and Nd, which easily reacts with SO 3 ions or SO 4 ions. Note that at least the inside of the nucleus may be an oxide, and the surface of the nucleus may be temporarily or partially carbonate or nitrate.

核体は、その二次粒子径が10μm以下のものが望ましい。二次粒子径が10μmを超えるとH2S 生成抑制材の比表面積が小さくなってH2S の生成抑制効果が不充分となる。 The nucleus preferably has a secondary particle size of 10 μm or less. When the secondary particle diameter exceeds 10 μm, the specific surface area of the H 2 S formation inhibitor becomes small and the effect of inhibiting the formation of H 2 S becomes insufficient.

多孔質酸化物層を構成する酸化物としては、アルミナ、ジルコニア、チタニア、セリア、シリカ、あるいはこれらから選ばれる複数種の複合酸化物などの、一種あるいは複数種を用いることができる。但し、セリアを含む酸化物は酸素吸放出能を備えているため、SO2 の酸化活性が低下したり、SO3 イオン又はSO4 イオンが還元されたりする場合があるので、多孔質酸化物層にも用いないことが望ましい。 As the oxide constituting the porous oxide layer, one kind or plural kinds such as alumina, zirconia, titania, ceria, silica, or plural kinds of complex oxides selected from these can be used. However, since the oxide containing ceria has the ability to absorb and release oxygen, the oxidation activity of SO 2 may be reduced, and SO 3 ions or SO 4 ions may be reduced. It is desirable not to use it.

この多孔質酸化物層は、平均細孔径が 0.5nm〜10nmである。平均細孔径が 0.5nmより小さいと、SO2 の通過が困難となって硫黄酸化物を固定化することができず、H2S の生成を抑制することは困難である。また平均細孔径が10nmより大きくなると、核体に固定されていた亜硫酸塩又は硫酸塩が多孔質酸化物層を通過して放出される場合があり、それが還元雰囲気でH2S となるため好ましくない。 This porous oxide layer has an average pore diameter of 0.5 nm to 10 nm. If the average pore diameter is smaller than 0.5 nm, it is difficult to pass SO 2 and sulfur oxide cannot be immobilized, and it is difficult to suppress the generation of H 2 S. In addition, when the average pore diameter is larger than 10 nm, sulfite or sulfate fixed to the nucleus may be released through the porous oxide layer, which becomes H 2 S in a reducing atmosphere. It is not preferable.

多孔質酸化物層の平均細孔径を上記のように制御するには、例えば水溶性の酸化物前駆体の水溶液から酸化物前駆体を沈殿させ、その乾燥条件及び/又は焼成条件を制御することで行うことができる。例えば焼成温度を高くしたり、焼成時間を長くすれば、緻密になって平均細孔径が小さくなる。逆に焼成温度を低くしたり、焼成時間を短くしたりすれば、平均細孔径を大きくすることができる。   In order to control the average pore diameter of the porous oxide layer as described above, for example, the oxide precursor is precipitated from an aqueous solution of a water-soluble oxide precursor, and the drying conditions and / or the firing conditions are controlled. Can be done. For example, if the calcination temperature is increased or the calcination time is lengthened, the average pore diameter is reduced by becoming dense. Conversely, if the firing temperature is lowered or the firing time is shortened, the average pore diameter can be increased.

多孔質酸化物には貴金属が担持されている。貴金属としては、SO2 をSO3 又はSO4 に酸化できるものであり、例えばPt、Pd、Rh、Irから選ばれる少なくとも一種を用いることができる。中でも酸化活性が高いPtを少なくとも用いることが望ましい。これら以外の貴金属あるいは卑金属を共存担持してもよい。 A noble metal is supported on the porous oxide. As the noble metal, SO 2 can be oxidized to SO 3 or SO 4 , and for example, at least one selected from Pt, Pd, Rh, and Ir can be used. Among these, it is desirable to use at least Pt having a high oxidation activity. Other precious metals or base metals may be co-supported.

本発明のH2S 生成抑制材は、排ガス中に配置してそのまま用いることができるが、酸化触媒、三元触媒あるいはNOx 吸蔵還元触媒などの排ガス浄化用触媒に添加して用いることも好ましい。例えば三元触媒は、ハニカム基材にアルミナ粉末、セリア−ジルコニア固溶体粉末などの担体粉末からなるコート層を形成し、そのコート層にPt及びRhを担持してなるものが多く用いられている。そこで、コート層中に本発明のH2S 生成抑制材粉末を混合することが好ましい。 The H 2 S production suppressing material of the present invention can be used as it is disposed in the exhaust gas, but it is also preferable to use it by adding it to an exhaust gas purification catalyst such as an oxidation catalyst, a three-way catalyst or a NO x storage reduction catalyst. . For example, a three-way catalyst is often used in which a coat layer made of a carrier powder such as alumina powder or ceria-zirconia solid solution powder is formed on a honeycomb substrate and Pt and Rh are supported on the coat layer. Therefore, it is preferable to mix the H 2 S formation inhibitor powder of the present invention in the coat layer.

このような三元触媒では、排ガスがストイキを中心としてリーン側に変動した際に、HC及びCOが酸化浄化されるとともに、H2S 生成抑制材に硫黄酸化物が捕捉される。またH2S 生成抑制材に担持されている貴金属によって、HC及びCOも酸化浄化される。そしてリッチ雰囲気になった際には、NOx が還元浄化されると同時に、H2S 生成抑制材からの硫黄酸化物の放出がないため排ガス中の硫黄酸化物が少なく、H2S の生成が抑制される。 In such a three-way catalyst, when the exhaust gas fluctuates toward the lean side centering on the stoichiometric, HC and CO are oxidized and purified, and sulfur oxides are captured by the H 2 S generation suppressing material. Moreover, HC and CO are also oxidized and purified by the noble metal supported on the H 2 S formation suppressing material. In a rich atmosphere, NO x is reduced and purified, and at the same time there is no release of sulfur oxides from the H 2 S production inhibitor, so there is less sulfur oxide in the exhaust gas, and H 2 S production is reduced. Is suppressed.

なお、例えばH2S 生成抑制材を添加した三元触媒を製造する場合には、予め貴金属を担持したH2S 生成抑制材粉末をコート層中に混合してもよいし、核体と多孔質酸化物層とからなる貴金属無粉末を担体粉末と混合してコート層を形成し、その後Ptなどを担持して三元触媒とする際に核体と多孔質酸化物層とからなる粉末にもPtを担持してH2S 生成抑制材とすることもできる。 For example, when producing a three-way catalyst to which an H 2 S production inhibitor is added, a H 2 S production inhibitor material powder previously supporting a noble metal may be mixed in the coating layer, A noble metal powder composed of a porous oxide layer is mixed with a carrier powder to form a coat layer, and then a powder composed of a core and a porous oxide layer when carrying a Pt or the like to form a three-way catalyst. In addition, Pt can be supported as a H 2 S formation suppressing material.

また本発明のH2S 生成抑制材によれば、捕捉されたSO3 又はSO4 はその状態を維持するため、捕捉量はいずれ飽和する。しかし実際の排ガス浄化用触媒においてH2S の排出が知覚されるのは、新品の触媒の場合のみであり、耐久劣化した触媒からはH2S の排出はほとんど生じない。したがって本発明のH2S 生成抑制材におけるH2S 捕捉量の飽和は、実用上何ら不具合はない。 According to the H 2 S production-suppressing member of the present invention, SO 3 or SO 4, which is captured to maintain that state, trapping amount is either saturated. However, in the actual exhaust gas purification catalyst, H 2 S emission is perceived only in the case of a new catalyst, and almost no H 2 S emission occurs from a deteriorated catalyst. Therefore, the saturation of the amount of H 2 S trapped in the H 2 S generation suppressing material of the present invention has no problem in practical use.

以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

(実施例1)
図1に本実施例のH2S 生成抑制材の模式的な断面図を示す。このH2S 生成抑制材は、BaO からなり二次粒子径が3μmの核体1と、核体1の表面に形成されたアルミナ層2と、から構成されている。アルミナ層2は平均細孔径が 3.9nmであり、厚さ約 1.5μmに形成されている。そしてアルミナ層2には、Pt3及びRh4が高分散に担持されている。以下、このH2S 生成抑制材の製造方法を説明し、構成の詳細な説明に代える。
Example 1
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of the H 2 S formation suppressing material of this example. This H 2 S production suppressing material is composed of a core body 1 made of BaO and having a secondary particle diameter of 3 μm, and an alumina layer 2 formed on the surface of the core body 1. The alumina layer 2 has an average pore diameter of 3.9 nm and a thickness of about 1.5 μm. The alumina layer 2 carries Pt3 and Rh4 with high dispersion. Hereinafter, the manufacturing method of this H 2 S production | generation suppression material is demonstrated and it replaces with the detailed description of a structure.

酸化バリウム粉末 100重量部を、788.9 重量部のアルミナゾルと純水を混合した溶液に混合し、60℃で1時間以上撹拌した。得られた分散液中に258.7 重量部のアンモニア水を投入し、30分間撹拌した。次いでロータリエバポレータにて脱水し、高周波加熱にて1時間乾燥し電気炉にて 700℃で5時間焼成した後、ボールミルにて粉砕して貴金属無粉末を調製した。   100 parts by weight of barium oxide powder was mixed with a solution obtained by mixing 788.9 parts by weight of alumina sol and pure water, and stirred at 60 ° C. for 1 hour or longer. 258.7 parts by weight of aqueous ammonia was added to the obtained dispersion and stirred for 30 minutes. Next, it was dehydrated with a rotary evaporator, dried by high frequency heating for 1 hour, fired at 700 ° C. for 5 hours in an electric furnace, and then pulverized by a ball mill to prepare a noble metal-free powder.

この貴金属無粉末は、核体1と、核体1の表面に形成されたアルミナ層2とからなる。アルミナ層2の細孔径を水銀ポロシメータで測定したところ、全ての細孔の細孔径が3nm〜10nmの範囲にあり、平均細孔径は 3.9nmであることを確認した。   This noble metal-free powder includes a core 1 and an alumina layer 2 formed on the surface of the core 1. When the pore diameter of the alumina layer 2 was measured with a mercury porosimeter, it was confirmed that the pore diameters of all the pores were in the range of 3 nm to 10 nm and the average pore diameter was 3.9 nm.

得られた貴金属無粉末を87重量部、セリア−ジルコニア固溶体(モル比CeO2:ZrO2=60:40)を90重量部、アルミナ水和物を3重量部、40%硝酸アルミニウム水溶液を44重量部、それぞれ秤量して所定量の純水と混合し、ミリングしてスラリーを調製した。 87 parts by weight of the noble metal powder obtained, 90 parts by weight of ceria-zirconia solid solution (molar ratio CeO 2 : ZrO 2 = 60: 40), 3 parts by weight of alumina hydrate, 44 parts by weight of 40% aluminum nitrate aqueous solution Each was weighed and mixed with a predetermined amount of pure water and milled to prepare a slurry.

一方、コージェライト製のハニカム基材( 1.1L、直径 103mm、長さ 130mm、セル密度 400cpsu 、壁厚 100μm)を用意し、上記スラリーをウォッシュコートした後、 120℃で乾燥し 650℃で3時間焼成してコート層を形成した。コート層は、ハニカム基材1Lあたり 200g形成された。次に所定濃度の硝酸ロジウム水溶液に浸漬してRhを吸着担持し、 120℃で乾燥後 500℃で1時間焼成した。さらに所定濃度のジニトロジアンミン白金溶液の所定量を含浸させてPtを吸水担持し、 120℃で乾燥後 500℃で1時間焼成した。Rh及びPtの担持量は、ハニカム基材1LあたりRhが 0.2g、Ptが 1.0gである。   On the other hand, a cordierite honeycomb substrate (1.1L, diameter 103mm, length 130mm, cell density 400cpsu, wall thickness 100μm) was prepared, washed with the slurry, dried at 120 ° C, and dried at 650 ° C for 3 hours. Firing was performed to form a coat layer. The coating layer was formed in an amount of 200 g per liter of honeycomb substrate. Next, it was immersed in an aqueous rhodium nitrate solution having a predetermined concentration to adsorb and hold Rh, dried at 120 ° C. and then fired at 500 ° C. for 1 hour. Further, a predetermined amount of a dinitrodiammine platinum solution having a predetermined concentration was impregnated to absorb Pt with water, dried at 120 ° C., and then calcined at 500 ° C. for 1 hour. The loadings of Rh and Pt are 0.2 g of Rh and 1.0 g of Pt per liter of honeycomb substrate.

Rh及びPtは、貴金属無粉末の核体1の表面に形成されたアルミナ層2にも担持され、本実施例のH2S 生成抑制材が製造された。なおH2S 生成抑制材におけるRh及びPtの担持量は、計算上、アルミナ層1中に貴金属が70重量%である。このH2S 生成抑制材粉末は、三元触媒粉末と均一に混合され、共に触媒コート層を構成している。 Rh and Pt were also carried on the alumina layer 2 formed on the surface of the noble metal-free powder core 1, and the H 2 S formation suppressing material of this example was manufactured. The amount of Rh and Pt supported in the H 2 S formation suppressing material is 70% by weight of noble metal in the alumina layer 1 in calculation. This H 2 S generation inhibitor powder is uniformly mixed with the three-way catalyst powder, and together constitutes a catalyst coat layer.

(実施例2)
貴金属無粉末調製時に、高周波加熱にて1時間乾燥し電気炉にて1000℃で5時間焼成したこと以外は実施例1と同様にして、H2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が1nm〜3nmの範囲にあり、平均細孔径は 1.2nmであった。
(Example 2)
In the same manner as in Example 1, except that the noble metal powder was dried for 1 hour by high-frequency heating and calcined at 1000 ° C. for 5 hours in an electric furnace, a three-way catalyst added with H 2 S formation inhibitor powder was prepared. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 1 nm to 3 nm, and the average pore diameter was 1.2 nm.

(実施例3)
貴金属無粉末調製時に、高周波加熱にて1時間乾燥し電気炉にて1200℃で5時間焼成したこと以外は実施例1と同様にして、H2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が 0.5nm〜1nmの範囲にあり、平均細孔径は 0.8nmであった。
(Example 3)
In the same manner as in Example 1, except that the noble metal powder was dried for 1 hour by high-frequency heating and calcined for 5 hours at 1200 ° C. in an electric furnace, a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added was prepared. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 0.5 nm to 1 nm, and the average pore diameter was 0.8 nm.

(比較例1)
貴金属無粉末調製時に、高周波加熱に代えて乾燥機にて 100℃で24時間乾燥し電気炉にて 700℃で5時間焼成したこと以外は実施例1と同様にして、H2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が50nm以上の範囲にあり、平均細孔径は72nmであった。
(Comparative Example 1)
Inhibiting H 2 S formation in the same manner as in Example 1 except that when precious metal-free powder was prepared, instead of high-frequency heating, it was dried at 100 ° C. for 24 hours in a dryer and baked at 700 ° C. for 5 hours in an electric furnace. A three-way catalyst with added powder was prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 50 nm or more, and the average pore diameter was 72 nm.

(比較例2)
貴金属無粉末調製時に、高周波加熱に代えて乾燥機にて 100℃で24時間乾燥し電気炉にて1000℃で5時間焼成したこと以外は実施例1と同様にして、H2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が10nm〜20nmの範囲にあり、平均細孔径は14nmであった。
(Comparative Example 2)
When the noble metal-free powder preparation, except that calcined 5 hours at 1000 ° C. for 24 hours dry electric furnace at 100 ° C. in a drying machine instead of the high-frequency heating in the same manner as in Example 1, H 2 S production-suppressing member A three-way catalyst with added powder was prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 10 nm to 20 nm, and the average pore diameter was 14 nm.

(実施例4)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ランタン粉末を用いたこと以外は実施例1と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が3nm〜10nmの範囲にあり、平均細孔径は 6.8nmであった。
Example 4
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 1 except that lanthanum oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 3 nm to 10 nm, and the average pore diameter was 6.8 nm.

(実施例5)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ランタン粉末を用いたこと以外は実施例2と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が1nm〜3nmの範囲にあり、平均細孔径は 2.5nmであった。
(Example 5)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 2 except that lanthanum oxide powder was used in place of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. The alumina layer 2 had a pore diameter in the range of 1 nm to 3 nm and an average pore diameter of 2.5 nm.

(実施例6)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ランタン粉末を用いたこと以外は実施例3と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が 0.5nm〜1nmの範囲にあり、平均細孔径は 0.9nmであった。
(Example 6)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 3 except that lanthanum oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 0.5 nm to 1 nm, and the average pore diameter was 0.9 nm.

(比較例3)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ランタン粉末を用いたこと以外は比較例1と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が50nm以上の範囲にあり、平均細孔径は83nmであった。
(Comparative Example 3)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that lanthanum oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 50 nm or more, and the average pore diameter was 83 nm.

(比較例4)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ランタン粉末を用いたこと以外は比較例2と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が10nm〜20nmの範囲にあり、平均細孔径は19nmであった。
(Comparative Example 4)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that lanthanum oxide powder was used in place of the barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 10 nm to 20 nm, and the average pore diameter was 19 nm.

(実施例7)
酸化バリウム粉末に代えて酸化プラセオジム粉末を用いたこと以外は実施例1と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が3nm〜10nmの範囲にあり、平均細孔径は 7.1nmであった。
(Example 7)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 1 except that praseodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 3 nm to 10 nm, and the average pore diameter was 7.1 nm.

(実施例8)
酸化バリウム粉末に代えて酸化プラセオジム粉末を用いたこと以外は実施例2と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が1nm〜3nmの範囲にあり、平均細孔径は 2.2nmであった。
(Example 8)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 2 except that praseodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 1 nm to 3 nm, and the average pore diameter was 2.2 nm.

(実施例9)
酸化バリウム粉末に代えて酸化プラセオジム粉末を用いたこと以外は実施例3と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が 0.5nm〜2nmの範囲にあり、平均細孔径は 1.2nmであった。
Example 9
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 3 except that praseodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 0.5 nm to 2 nm, and the average pore diameter was 1.2 nm.

(比較例5)
酸化バリウム粉末に代えて酸化プラセオジム粉末を用いたこと以外は比較例1と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が50nm以上の範囲にあり、平均細孔径は75nmであった。
(Comparative Example 5)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that praseodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added was prepared in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 50 nm or more, and the average pore diameter was 75 nm.

(比較例6)
酸化バリウム粉末に代えて酸化プラセオジム粉末を用いたこと以外は比較例2と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が10nm〜30nmの範囲にあり、平均細孔径は21nmであった。
(Comparative Example 6)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that praseodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst added with H 2 S formation inhibitor powder in the same manner as in Example 1 was prepared. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 10 nm to 30 nm, and the average pore diameter was 21 nm.

(実施例10)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ネオジム粉末を用いたこと以外は実施例1と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が3nm〜10nmの範囲にあり、平均細孔径は 4.5nmであった。
(Example 10)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 1 except that neodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 3 nm to 10 nm, and the average pore diameter was 4.5 nm.

(実施例11)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ネオジム粉末を用いたこと以外は実施例2と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が1nm〜3nmの範囲にあり、平均細孔径は 1.8nmであった。
(Example 11)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 2 except that neodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 1 nm to 3 nm, and the average pore diameter was 1.8 nm.

(実施例12)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ネオジム粉末を用いたこと以外は実施例3と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が 0.5nm〜2nmの範囲にあり、平均細孔径は 1.0nmであった。
(Example 12)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Example 3 except that neodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 0.5 nm to 2 nm, and the average pore diameter was 1.0 nm.

(比較例7)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ネオジム粉末を用いたこと以外は比較例1と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が50nm以上の範囲にあり、平均細孔径は78nmであった。
(Comparative Example 7)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that neodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 50 nm or more, and the average pore diameter was 78 nm.

(比較例8)
酸化バリウム粉末に代えて酸化ネオジム粉末を用いたこと以外は比較例2と同様にして貴金属無粉末を調製し、実施例1と同様にしてH2S 生成抑制材粉末を添加した三元触媒を調製した。アルミナ層2は、全ての細孔の細孔径が10nm〜20nmの範囲にあり、平均細孔径は15nmであった。
(Comparative Example 8)
A noble metal-free powder was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that neodymium oxide powder was used instead of barium oxide powder, and a three-way catalyst to which H 2 S formation inhibitor powder was added in the same manner as in Example 1. Prepared. In the alumina layer 2, the pore diameters of all the pores were in the range of 10 nm to 20 nm, and the average pore diameter was 15 nm.

(ブランク)
貴金属無粉末に代えて、同量のアルミナ粉末を用いたこと以外は実施例1と同様にして三元触媒を調製した。
(blank)
A three-way catalyst was prepared in the same manner as in Example 1 except that the same amount of alumina powder was used instead of the noble metal-free powder.

<試験・評価>
ストイキ制御された 2.4Lのガソリンエンジンをもつ車両の床下触媒として上記した各触媒をそれぞれ搭載し、先ず、その触媒床温度が 400℃となるように40km/hrで1時間走行した。この間に、H2S 生成抑制材には硫黄酸化物が捕捉される。次に、スロットル全開にて10秒間で80km/hrまで加速し、10秒間その速度を維持した後、20秒間で減速、停止し、停止10秒後のアイドル状態における排ガス中の H2S量を計測して、そのピーク値にて評価した。結果を表1及び図2に示す。
<Test and evaluation>
Each of the above-described catalysts was mounted as an underfloor catalyst for a vehicle having a 2.4 L gasoline engine with stoichiometric control. First, the vehicle was run for 1 hour at 40 km / hr so that the catalyst bed temperature would be 400 ° C. During this time, sulfur oxides are captured by the H 2 S formation suppressing material. Next, the throttle is fully opened and accelerated to 80 km / hr in 10 seconds, maintained at that speed for 10 seconds, then decelerated and stopped in 20 seconds, and the amount of H 2 S in the exhaust gas in the idle state 10 seconds after the stop It measured and evaluated by the peak value. The results are shown in Table 1 and FIG.

Figure 2007125505
Figure 2007125505

各実施例及び各比較例の触媒は、ブランクの触媒に比べてH2S ピーク濃度が少ないことがわかり、これはH2S 生成抑制材を添加した効果であることが明らかである。また図2から、アルミナ層2の平均細孔径は10nm以下が好ましいことが明らかであり、核体1としては酸化バリウムが特に好ましいこともわかる。 It can be seen that the catalyst of each Example and each Comparative Example has a lower H 2 S peak concentration than the blank catalyst, and this is clearly the effect of adding an H 2 S formation inhibitor. FIG. 2 clearly shows that the average pore diameter of the alumina layer 2 is preferably 10 nm or less, and that the core 1 is particularly preferably barium oxide.

なお実施例3におけるH2S ピーク濃度は2ppmと極めて低いが、これはアルミナ層2の平均細孔径が 0.8nmと極めて小さいためである。しかしながらアルミナ層2の平均細孔径がさらに小さくなると、核体1に到達する硫黄酸化物が極めて少なくなりH2S 生成抑制材の効果の発現が困難となるので、アルミナ層2の平均細孔径の下限値を 0.5nmとするのが妥当である。 The H 2 S peak concentration in Example 3 is very low, 2 ppm, because the average pore diameter of the alumina layer 2 is as extremely small as 0.8 nm. However, if the average pore size of the alumina layer 2 is further reduced, the amount of sulfur oxides that reach the core 1 becomes very small and it becomes difficult to express the effect of the H 2 S formation inhibitor. It is reasonable to set the lower limit to 0.5 nm.

本発明のH2S 生成抑制材は、排ガス中に配置してそのまま用いることができるが、酸化触媒、三元触媒あるいはNOx 吸蔵還元触媒などの排ガス浄化用触媒に添加して用いることもできる。 The H 2 S production suppressing material of the present invention can be used in an exhaust gas as it is, but it can also be used by being added to an exhaust gas purification catalyst such as an oxidation catalyst, a three-way catalyst or a NO x storage reduction catalyst. .

本発明の一実施例のH2S 生成抑制材を示す模式的断面図である。It is a schematic sectional view showing a H 2 S production-suppressing member according to an embodiment of the present invention. 平均細孔径とH2S ピーク濃度との関係を示すグラフである。It is a graph showing the relationship between the average pore diameter and the H 2 S peak concentration.

符号の説明Explanation of symbols

1:核体 2:アルミナ層(多孔質酸化物層) 3:Pt 4:Rh   1: Nucleus 2: Alumina layer (porous oxide layer) 3: Pt 4: Rh

Claims (2)

アルカリ土類金属及び希土類元素の中から選ばれる少なくとも一種の元素の酸化物よりなる核体と、
該核体の表面に形成された平均細孔径が 0.5nm〜10nmの多孔質酸化物層と、
該多孔質酸化物層に担持された貴金属と、
からなることを特徴とする硫化水素生成抑制材。
A nucleus composed of an oxide of at least one element selected from alkaline earth metals and rare earth elements;
A porous oxide layer having an average pore diameter of 0.5 nm to 10 nm formed on the surface of the nucleus;
A noble metal supported on the porous oxide layer;
A hydrogen sulfide production-suppressing material comprising:
前記核体は、Ba、La、Pr及びNdから選ばれる少なくとも一種の元素の酸化物である請求項1に記載の硫化水素生成抑制材。
The hydrogen sulfide production suppressing material according to claim 1, wherein the nucleus is an oxide of at least one element selected from Ba, La, Pr, and Nd.
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