JP2007122470A - Pattern layout method, its device and its program - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern layout method facilitating confirmation work. <P>SOLUTION: A predetermined area in a pattern layout of a new product is displayed on a monitor. Display area coordinates corresponding to the predetermined area in the pattern layout of the new product are inputted. An area in a pattern layout of an original product corresponding to the display area coordinates is expanded by a magnification equal to that of the predetermined area in the pattern layout of the new product and displayed linked with the monitor. The predetermined area in the pattern layout of the original product displayed on the monitor and the predetermined area of the pattern layout of the new product are alternately and visually observed to be confirmed. It is possible to instantly compare the pattern layout of the original product with the pattern layout of the new product. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、第１のパターンレイアウトに基づいて作成した第２のレイアウトパターンのパターンレイアウト方法、その装置およびそのプログラムに関する。   The present invention relates to a pattern layout method for a second layout pattern created based on a first pattern layout, an apparatus therefor, and a program therefor.

従来、液晶に代表されるフラットパネルディスプレイを用いた表示装置としては、携帯電話器、テレビジョン表示あるいはグラフィックスディスプレイ用などの大型で高密度なフラットパネルディスプレイが開発されている。そして、この種の表示装置は、アレイ基板上に所定の配線や各パターンを形成することによって製造されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, as a display device using a flat panel display typified by a liquid crystal, a large and high-density flat panel display for a mobile phone, a television display or a graphics display has been developed. This type of display device is manufactured by forming predetermined wirings and patterns on the array substrate.

また、このアレイ基板上の配線や各パターンを設計するためには、コンピュータ上のＣＡＤ（Computer-Aided Design）ソフト上にパターンレイアウトとして描画することによって設計される。そして、このパターンレイアウト作業は、過去に設計した元製品のパターンレイアウトデータを、ＣＡＤソフト上で複製し、この複製したパターンレイアウトデータを修正する作業である。（例えば、特許文献１参照。）
さらに、このパターンレイアウト作業としては、手作業でパターンレイアウトの座標位置を読み取って指定し、この指定した座標を手作業で拡大し、モニタ上に表示させる。そして、新製品のレイアウトデータの表示領域と、元製品のレイアウトデータとの表示領域を、手作業で揃えてから、この新製品のレイアウトデータと元製品のレイアウトデータとを相互に確認して見比べて、この新製品のレイアウトデータの修正を確認している。 In order to design the wiring and each pattern on the array substrate, it is designed by drawing it as a pattern layout on CAD (Computer-Aided Design) software on a computer. This pattern layout operation is an operation for copying pattern layout data of an original product designed in the past on CAD software and correcting the copied pattern layout data. (For example, refer to Patent Document 1.)
Further, as this pattern layout work, the coordinate position of the pattern layout is read and designated manually, and the designated coordinates are enlarged manually and displayed on the monitor. Then, after manually arranging the display area for the layout data of the new product and the layout data for the original product, the layout data of the new product and the layout data of the original product are mutually confirmed and compared. The revision of the layout data of this new product is confirmed.

特に、この新製品のレイアウトデータをミクロン単位で修正している場合には、元製品のレイアウトデータをミクロン単位で確認しなければならない。したがって、これらレイアウトデータをモニタ上に拡大して表示させる作業に手間が掛かるのみならず、確認作業がずれることにより修正ミスが発生することになる。
特開２０００−１１４３８７号公報 In particular, when the layout data of this new product is corrected in units of microns, the layout data of the original product must be confirmed in units of microns. Therefore, not only does the work of enlarging and displaying these layout data on the monitor take time, but also a correction error occurs due to a shift in the confirmation work.
JP 2000-114387 A

上述したように、上記パターンレイアウト方法では、新製品のレイアウトデータと元製品のレイアウトデータとを相互に確認して見比べるために、手作業でパターンレイアウトの座標位置を読み取って指定し、この指定した座標を手作業で拡大して、モニタ上に表示させる必要があるから、確認作業に時間が掛かるとともに、座標間違いによるパターンの修正ミスが発生するおそれがあるという問題を有している。   As described above, in the pattern layout method, in order to confirm and compare the layout data of the new product and the layout data of the original product, the coordinate position of the pattern layout is manually read and specified. Since it is necessary to enlarge the coordinates manually and display them on the monitor, the confirmation work takes time and there is a problem that a pattern correction error due to a coordinate error may occur.

本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、確認作業が容易なパターンレイアウト方法、その装置およびそのプログラムを提供することを目的とする。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is that it provides a pattern layout method, an apparatus thereof, and a program thereof that can be easily confirmed.

本発明は、第１のパターンレイアウトの電子データである第１のパターンレイアウトデータと、この第１のパターンレイアウトに基づいて作成した第２のパターンレイアウトの電子データである第２のパターンレイアウトデータとを記憶させるステップと、前記ステップで記憶されている前記第２のパターンレイアウトデータに基づく第２のパターンレイアウト中の所定領域と、この第２のパターンレイアウト中の所定領域に対応した前記第１のパターンレイアウトデータに基づく第１のパターンレイアウト中の所定領域とを連動させて表示手段に表示させるステップとを具備したものである。   The present invention relates to first pattern layout data that is electronic data of a first pattern layout, second pattern layout data that is electronic data of a second pattern layout created based on the first pattern layout, and , A predetermined region in the second pattern layout based on the second pattern layout data stored in the step, and the first region corresponding to the predetermined region in the second pattern layout And a step of causing the display unit to display the predetermined area in the first pattern layout based on the pattern layout data in conjunction with each other.

そして、第１のパターンレイアウトの電子データである第１のパターンレイアウトデータと、第１のパターンレイアウトに基づいて作成した第２のレイアウトパターンの電子データである第２のレイアウトパターンとを記憶装置に記憶させる。この後、この記憶装置に記憶させた第２のパターンレイアウトパターンに基づく第２のパターンレイアウト中の所定領域と、この第２のパターンレイアウト中の所定領域に対応した第１のパターンレイアウトデータに基づく第１のパターンレイアウト中の所定領域とを連動して表示手段に表示させる。   Then, the first pattern layout data which is the electronic data of the first pattern layout and the second layout pattern which is the electronic data of the second layout pattern created based on the first pattern layout are stored in the storage device. Remember. Thereafter, based on a predetermined area in the second pattern layout based on the second pattern layout pattern stored in the storage device, and on the first pattern layout data corresponding to the predetermined area in the second pattern layout. The display unit displays the predetermined area in the first pattern layout in conjunction with each other.

本発明によれば、第２のパターンレイアウト中の所定領域と、この第２のパターンレイアウト中の所定領域に対応した第１のパターンレイアウト中の所定領域とが連動して表示手段に表示される。したがって、第２のパターンレイアウト中の所定領域と、この第２のパターンレイアウト中の所定領域に対応した第１のパターンレイアウト中の所定領域とを見比べる作業が容易になるから、この第２のパターンレイアウト中の所定領域のパターンレイアウトを確認する作業を容易にできる。   According to the present invention, the predetermined area in the second pattern layout and the predetermined area in the first pattern layout corresponding to the predetermined area in the second pattern layout are displayed on the display unit in conjunction with each other. . Therefore, it becomes easy to compare the predetermined area in the second pattern layout with the predetermined area in the first pattern layout corresponding to the predetermined area in the second pattern layout. It is possible to easily confirm the pattern layout of a predetermined area in the layout.

以下、本発明の一実施の形態の液晶表示装置用のパターンレイアウト方法を図１ないし図３を参照して説明する。   Hereinafter, a pattern layout method for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

このパターンレイアウト方法は、フラットパネルディスプレイ表示装置としての図示しない液晶表示装置のアレイ基板のガラス基板上に形成するマスク設計用やレチクル設計用などのマスクパターンやレチクルパターンなどのパターンレイアウトの設計方法である。   This pattern layout method is a pattern layout design method such as mask pattern or reticle pattern for mask design or reticle design formed on a glass substrate of an array substrate of a liquid crystal display device (not shown) as a flat panel display device. is there.

具体的に、このパターンレイアウト方法は、図示しないステッパ式の露光装置を用いて生産されるアレイ基板のガラス基板上のマスクパターンやレチクルパターンなどのレイアウト方法である。ここで、このステッパ式の露光装置とは、アレイ基板のガラス基板上の全面を一度に露光せず複数回に分けて繰り返して露光する装置である。   Specifically, this pattern layout method is a layout method such as a mask pattern or a reticle pattern on a glass substrate of an array substrate produced using a stepper type exposure apparatus (not shown). Here, the stepper type exposure apparatus is an apparatus that repeatedly exposes the entire surface of the array substrate on the glass substrate in a plurality of times without exposing it at once.

そして、このパターンレイアウト方法は、パターンレイアウト装置としてのコンピュータ１を用いて、液晶表示装置のパターンレイアウトを設計するためのＣＡＤ（Computer-Aided Design：コンピュータ支援設計システム）システムである。ここで、このコンピュータ１には、画像表示が可能な表示手段としての画面を有するモニタ２が接続されている。さらに、このコンピュータ１内には、記憶手段としての図示しないメモリや、制御手段としての中央処理装置である図示しないＣＰＵなどが搭載されている。また、このコンピュータ１には、入力手段としてのキーボード３やマウス４なども接続されている。   This pattern layout method is a CAD (Computer-Aided Design) system for designing a pattern layout of a liquid crystal display device using a computer 1 as a pattern layout device. Here, the computer 1 is connected to a monitor 2 having a screen as display means capable of displaying an image. Further, in the computer 1, a memory (not shown) as a storage means, a CPU (not shown) which is a central processing unit as a control means, and the like are mounted. The computer 1 is also connected with a keyboard 3 and a mouse 4 as input means.

さらに、このコンピュータ１は、このコンピュータ１上に保存されたパターンレイアウトの位置座標ファイルと、ＣＡＤ上に描画されたパターンレイアウトから、所定座標のパターンレイアウトを表示する機能を有している。さらに、このコンピュータ１は、このコンピュータ１内のメモリから、このメモリに記憶させたデータを読み出す機能と、このメモリに種々のデータを読み出し可能に記憶させて保存させる機能とを有している。   Further, the computer 1 has a function of displaying a pattern layout of a predetermined coordinate from the position coordinate file of the pattern layout stored on the computer 1 and the pattern layout drawn on the CAD. Further, the computer 1 has a function of reading data stored in the memory from the memory in the computer 1 and a function of storing various data in a readable manner in the memory.

具体的に、このパターンレイアウト方法としては、旧製品のパターンレイアウトに基づいて予め作成した作成途中の新製品のパターンレイアウトの電子データである新製品のパターンレイアウトデータ５を、コンピュータ１のメモリに保存されているＣＡＤソフト上に読み込む(ステップ１)。   Specifically, as this pattern layout method, new product pattern layout data 5 which is electronic data of a new product pattern layout in the process of being created based on the old product pattern layout is stored in the memory of the computer 1. The data is read on the CAD software being used (Step 1).

ここで、この新製品のパターンレイアウトデータ５は、この新製品の元となる元製品のパターンレイアウトデータ６をコピーしたデータを修正することによって作成されたパターンデータである。   Here, the pattern layout data 5 of the new product is pattern data created by correcting data obtained by copying the pattern layout data 6 of the original product that is the source of the new product.

さらに、元製品のパターンレイアウトデータ６とは、第１のパターンレイアウトとしての元製品のパターンレイアウト12の電子データである。また、新製品のパターンレイアウトデータ５とは、第２のパターンレイアウトとしての新製品のパターンレイアウト11の電子データである。   The original product pattern layout data 6 is electronic data of the original product pattern layout 12 as the first pattern layout. The new product pattern layout data 5 is electronic data of the new product pattern layout 11 as the second pattern layout.

次いで、元製品のパターンレイアウトデータ６を、コンピュータ１のＣＡＤソフト上に読み込む(ステップ２)。   Next, the pattern layout data 6 of the original product is read on the CAD software of the computer 1 (step 2).

この後、図２に示すように、新製品のパターンレイアウトデータ５に基づく新製品のパターンレイアウト11中の修正したい領域である所定領域Ａを、キーボード３やマウス４などにて入力して決定して、所定の大きさ、例えばメートル(ｍ)単位からマイクロメートル(μｍ)単位にズームアップして拡大しモニタ２の画面の右側略半分の領域に表示させて、この新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａに対して所定の修正を加える(ステップ３)。   Thereafter, as shown in FIG. 2, a predetermined area A, which is an area to be corrected, in the pattern layout 11 of the new product based on the pattern layout data 5 of the new product is entered by the keyboard 3 or the mouse 4 and determined. In the pattern layout 11 of this new product, zoom in to a predetermined size, for example from a meter (m) unit to a micrometer (μm) unit, and display it in the almost half area on the right side of the monitor 2 screen. A predetermined correction is applied to the predetermined area A (step 3).

このとき、このステップ３での新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａでの修正作業中に、元製品のパターンレイアウト12を参照する場合(ステップ４)には、ステップ３での新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａに対応した座標である表示領域座標Ｂを、キーボード３やマウス４などにて入力してコンピュータ１のメモリのＣＡＤファイル上の表示領域座標保存ファイル７に保存する(ステップ５)。   At this time, when the pattern layout 12 of the original product is referred to during the correction work in the predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product in step 3 (step 4), the new product in step 3 is referred to. A display area coordinate B which is a coordinate corresponding to the predetermined area A in the pattern layout 11 is input with the keyboard 3 or the mouse 4 and stored in the display area coordinate storage file 7 on the CAD file in the memory of the computer 1 ( Step 5).

さらに、このステップ５にて表示領域座標保存ファイル７に保存させた表示領域座標Ｂを、元製品のパターンレイアウトデータ６上から読み込んで(ステップ６)、この表示領域座標Ｂに相当する領域となるとともに、ステップ５で読み込んだ所定領域に合うように元製品のパターンレイアウトデータ６の所定領域を調整する(ステップ７)。   Further, the display area coordinate B stored in the display area coordinate storage file 7 in step 5 is read from the pattern layout data 6 of the original product (step 6), and becomes an area corresponding to the display area coordinate B. At the same time, the predetermined area of the pattern layout data 6 of the original product is adjusted to match the predetermined area read in step 5 (step 7).

この結果、図３に示すように、ステップ５にて入力した新製品のパターンレイアウトデータ５の表示領域座標Ｂに基づいて、この表示領域座標Ｂに対応した元製品のパターンレイアウトデータ６に基づく元製品のパターンレイアウト12中の所定領域Ｃを、モニタ２の右側略半分の領域に表示されている新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａと等しい倍率でズームアップして拡大した状態で、モニタ２の画面の左側略半分の領域に連動して表示される。   As a result, as shown in FIG. 3, based on the display area coordinate B of the pattern layout data 5 of the new product input in step 5, the original based on the pattern layout data 6 of the original product corresponding to this display area coordinate B In a state where the predetermined area C in the product pattern layout 12 is zoomed up and enlarged at a magnification equal to that of the predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product displayed in the substantially half area on the right side of the monitor 2, the monitor It is displayed in conjunction with the area on the left half of the second screen.

この後、このステップ７で表示された元製品のパターンレイアウト12中の所定領域Ｃと、ステップ３で表示された新製品のパターンレイアウト11の所定領域Ａとを作業者による目視にて交互に比較して確認する(ステップ８)。このとき、この確認項目としては、各画素の画素パターンを変更した場合や、これら画素の周辺部分のドライバ回路21などのデバイスを変更した場合、ガラス基板との距離を変更した場合などに、新製品のパターンレイアウト11中のシール材22間の幅や、アレイ基板と対向基板とを位置合わせするための組立てマークとしてのアライメントマーク23の位置、配線24のパターンの引き出し形状などがある。   Thereafter, the predetermined area C in the pattern layout 12 of the original product displayed in step 7 and the predetermined area A of the pattern layout 11 of the new product displayed in step 3 are alternately compared by visual inspection by the operator. (Step 8). At this time, this confirmation item is new when the pixel pattern of each pixel is changed, when the device such as the driver circuit 21 around the pixel is changed, or when the distance from the glass substrate is changed. There are the width between the sealing materials 22 in the pattern layout 11 of the product, the position of the alignment mark 23 as an assembly mark for aligning the array substrate and the counter substrate, the drawing shape of the pattern of the wiring 24, and the like.

そして、このステップ８での確認の後、ステップ３に戻って新製品のパターンレイアウトデータ５の修正を続ける。   After the confirmation in step 8, the process returns to step 3 to continue the modification of the pattern layout data 5 of the new product.

さらに、元製品のパターンレイアウトデータ６と新製品のパターンレイアウトデータ５との確認が必要なく(ステップ４)、この新製品のパターンレイアウトデータ５の修正が全て完了した場合(ステップ９)には、この新製品のパターンレイアウトデータ５を保存して、パターンレイアウト作業を終了させる。   Further, it is not necessary to confirm the pattern layout data 6 of the original product and the pattern layout data 5 of the new product (step 4), and when all corrections of the pattern layout data 5 of the new product are completed (step 9), The pattern layout data 5 of this new product is saved and the pattern layout work is terminated.

ここで、従来の液晶表示装置のアレイ設計工程では、新製品のパターンレイアウト11と元製品のパターンレイアウト12とをモニタ２上で相互に確認するために、このモニタ２上に新製品のパターンレイアウト11と、元製品のパターンレイアウト12とを揃えて表示させる作業を、キーボード３あるいはマウス４からパターンレイアウトの座標位置を手作業で入力し、この入力した座標位置を手作業で拡大して表示させて確認する必要があった。   Here, in the array design process of the conventional liquid crystal display device, the pattern layout 11 of the new product and the pattern layout 12 of the original product are mutually confirmed on the monitor 2 in order to mutually confirm the pattern layout 11 of the new product. 11 and the pattern layout 12 of the original product are displayed together. The coordinate position of the pattern layout is manually input from the keyboard 3 or the mouse 4, and the input coordinate position is enlarged and displayed manually. It was necessary to confirm.

特に、この新製品のパターンレイアウト11を数マクロメートル単位で修正している状態で、この修正部分の元製品のパターンレイアウト12を確認しなければならない場合には、この元製品のパターンレイアウト12の所定領域Ｃをズームアップさせて拡大して表示させる作業に非常に手間が掛かるから、確認作業に時間が掛かるとともに、座標間違いによる確認位置のずれなどによってパターンの修正ミスが発生してしまうおそれがあった。   In particular, when the pattern layout 11 of this new product has been corrected in units of several macrometers and the pattern layout 12 of the original product of this corrected part must be confirmed, Since the work of zooming up and displaying the predetermined area C is very time-consuming, the confirmation work takes time, and there is a possibility that a pattern correction error may occur due to a shift in the confirmation position due to a coordinate error. there were.

そこで、上述した一実施の形態のように、モニタ２の右側略半分の領域に表示されている新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａの修正作業中に、この新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａに対応した表示領域座標Ｂを、キーボード３やマウス４などにて入力することにより、この表示領域座標Ｂに相当する元製品のパターンレイアウト12中の所定領域Ｃが調整されて、新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａと等しい倍率でズームアップして拡大した状態で、モニタ２の画面の左側略半分の領域に連動して自動的に表示される構成とした。   Therefore, as in the above-described embodiment, during the correction work of the predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product displayed in the substantially right half area of the monitor 2, the pattern layout 11 of the new product By inputting the display area coordinates B corresponding to the predetermined area A with the keyboard 3 or the mouse 4, the predetermined area C in the pattern layout 12 of the original product corresponding to the display area coordinates B is adjusted. In the state of zooming up and enlarging at a magnification equal to the predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product, the display is automatically displayed in conjunction with the area on the left half of the screen of the monitor 2.

この結果、このモニタ２の右側略半分に表示されている元製品のパターンレイアウト12中の所定領域Ｃと、このモニタ２の左側略半分に表示されている新製品のパターンレイアウト11の所定領域Ａとを設計者が交互に目視にて確認することにより、元製品のパターンレイアウト12と新製品のパターンレイアウト11とを瞬時にパターン比較できる。したがって、このモニタ２に表示されている新製品のパターンレイアウト11の所定領域Ａのパターンレイアウトの確認作業が容易にできる。   As a result, the predetermined area C in the pattern layout 12 of the original product displayed on the right half of the monitor 2 and the predetermined area A of the pattern layout 11 of the new product displayed on the left half of the monitor 2. By alternately confirming visually by the designer, the pattern layout 12 of the original product and the pattern layout 11 of the new product can be instantaneously compared with each other. Therefore, it is possible to easily confirm the pattern layout of the predetermined area A of the pattern layout 11 of the new product displayed on the monitor 2.

さらに、モニタ２の右側略半分に表示されている新製品のパターンレイアウト11の所定領域Ａ中のパターンレイアウトを修正する必要がある場合には、キーボード３あるいはマウス４などにて新製品のパターンレイアウトデータ５を修正することにより、このモニタ２の右側略半分に表示されている新製品のパターンレイアウト11の所定領域Ａに関する新製品のパターンレイアウトデータ５を修正できるので、この新製品のパターンレイアウトデータ５を修正する作業が容易にできる。   Further, when it is necessary to correct the pattern layout in the predetermined area A of the pattern layout 11 of the new product displayed on the right half of the monitor 2, the pattern layout of the new product with the keyboard 3 or the mouse 4 is used. By correcting the data 5, the new product pattern layout data 5 relating to the predetermined area A of the new product pattern layout 11 displayed on the right half of the monitor 2 can be corrected. 5 can be easily corrected.

したがって、新製品のパターンレイアウトデータ５の確認作業効率を向上できるとともに、この新製品のパターンレイアウトデータ５の設計時間を短縮でき、この新製品のパターンレイアウトデータ５を設計する上での設計ミスを低減できる。よって、短時間に高精度な液晶表示装置を得ることができる。   Accordingly, the efficiency of checking the pattern layout data 5 of the new product can be improved, the design time of the pattern layout data 5 of the new product can be shortened, and design errors in designing the pattern layout data 5 of the new product can be avoided. Can be reduced. Therefore, a highly accurate liquid crystal display device can be obtained in a short time.

具体的に、新製品のパターンレイアウト11と元製品のパターンレイアウト12とをモニタ２上で相互に確認するために、このモニタ２上に新製品のパターンレイアウト11と、元製品のパターンレイアウト12とを揃えて表示させる作業を手作業による入力で拡大して表示させる場合には、設計作業と確認作業とに約１時間程度掛かっていたが、上述のように新製品のパターンレイアウト11と元製品のパターンレイアウト12とを連動させてモニタ２上に自動的に表示させることによって、設計作業と確認作業との全体で約１／２程度短縮できるとともに、設計ミスの低減も達成できた。   Specifically, in order to mutually confirm the pattern layout 11 of the new product and the pattern layout 12 of the original product on the monitor 2, the pattern layout 11 of the new product, the pattern layout 12 of the original product, and In the case where the work to be displayed in a uniform manner is enlarged and displayed by manual input, it takes about an hour for the design work and the confirmation work. As described above, the pattern layout 11 of the new product and the original product are taken. By automatically displaying the pattern layout 12 on the monitor 2 in conjunction with each other, the design work and the confirmation work can be shortened by about a half, and a design error can be reduced.

なお、上記一実施の形態では、新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａに対応した表示領域座標Ｂの入力に基づいて、この表示領域座標Ｂに相当する元製品のパターンレイアウト12中の所定領域Ｃを調整して等しい倍率に拡大して自動的にモニタ２に表示させる構成としたが、コンピュータ１のパフォーマンスに余裕がある場合などには、新製品のパターンレイアウト11と元製品のパターンレイアウト12とを連動して自動的に表示させるタイミングを、新製品のパターンレウアウト11中の所定領域Ａを決定して入力すると同時に連動させて、元製品のパターンレイアウト12中の所定領域Ｃである対象領域を新製品のパターンレウアウト11中の任意の領域である所定領域Ａと同じ倍率に拡大してモニタ２上に表示させる構成とすることもできる。   In the above embodiment, based on the input of the display area coordinate B corresponding to the predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product, the predetermined in the pattern layout 12 of the original product corresponding to the display area coordinate B is obtained. The area C is adjusted and enlarged to the same magnification and automatically displayed on the monitor 2. However, when there is a margin in the performance of the computer 1, the pattern layout 11 of the new product and the pattern layout of the original product The timing for automatically displaying 12 is linked to the predetermined area C in the original product pattern layout 12 at the same time as the predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product is determined and input. The target area may be enlarged and displayed on the monitor 2 at the same magnification as the predetermined area A which is an arbitrary area in the pattern layout 11 of the new product. .

また、複数のモニタ２を用いて、一方のモニタ２に新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａを表示させ、他方のモニタ２に元製品のパターンレイアウト12中の所定領域Ｃである対応領域を表示させる構成とすることもできる。さらに、新製品のパターンレイアウト11中の確認済みの領域の座標データを記憶した確認済みデータを自動的に作成させ、この確認済みデータに基づいて、まだ確認していない領域を順次確認する構成とすることもできる。また、新製品のパターンレイアウト11中の確認する必要のある領域のリストを確認リストとして作成し、この確認リスト中の項目に連動させて新製品のパターンレイアウト11中の所定領域Ａを順次表示させて、この新製品のパターンレイアウト11を効率良く確認させることもできる。   In addition, a predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product is displayed on one monitor 2 using a plurality of monitors 2, and a corresponding area that is a predetermined area C in the pattern layout 12 of the original product is displayed on the other monitor 2. Can be configured to be displayed. In addition, it is possible to automatically create confirmed data that stores the coordinate data of the confirmed area in the pattern layout 11 of the new product, and to sequentially confirm areas that have not been confirmed based on this confirmed data. You can also Also, a list of areas that need to be confirmed in the pattern layout 11 of the new product is created as a confirmation list, and the predetermined area A in the pattern layout 11 of the new product is sequentially displayed in conjunction with the items in the confirmation list. Thus, the pattern layout 11 of the new product can be efficiently confirmed.

さらに、上記一実施の形態の動作をコンピュータ読み取り可能な液晶表示装置用のパターンレイアウトプログラムとしたり、計算機にて自動的に計算できる液晶表示装置用のＣＡＤソフトウエアとしたりすることもできる。さらに、これらパターンレイアウトプログラムあるいはＣＡＤソフトウエアを記録した光ディスクあるいは磁気ディスクその他の記録媒体に格納し、この記録媒体を計算機に自動的に動作させるために用いることもできる。また、これらパターンレイアウトプログラムあるいはＣＡＤソフトウエアに基づいて、パターンレイアウトを設計するコンピュータなどの計算機として用いることもできる。   Furthermore, the operation of the above-described embodiment may be a pattern layout program for a liquid crystal display device that can be read by a computer, or CAD software for a liquid crystal display device that can be automatically calculated by a computer. Further, the pattern layout program or CAD software can be stored in an optical disk, a magnetic disk, or other recording medium, and this recording medium can be used to automatically operate the computer. Moreover, it can also be used as a computer such as a computer for designing a pattern layout based on these pattern layout programs or CAD software.

そして、上記一実施の形態では、液晶表示装置のアレイ基板のガラス基板上に形成するマスクパターンやレチクルパターンなどのパターンレイアウト方法について説明したが、この液晶表示装置のアレイ基板や対向基板上にパターニングする種々の配線24のパターン、レジストパターンあるいはマスクパターンや、液晶表示装置以外のＳＥＤ(Surface-conduction Electron-emitter Display:表面電界ディスプレイ)や、ＰＤＰ(Plasma Display Panel:プラズマディスプレイ)などのフラットパネルディスプレイ表示装置などにパターニングする種々のパターンであっても対応させて用いることができる。   In the above embodiment, the pattern layout method such as the mask pattern and the reticle pattern formed on the glass substrate of the array substrate of the liquid crystal display device has been described, but patterning is performed on the array substrate and the counter substrate of the liquid crystal display device. Flat panel displays such as various wiring 24 patterns, resist patterns or mask patterns, surface-conduction electron-emitter displays (SEDs) other than liquid crystal display devices, and plasma display panels (PDPs) Various patterns to be patterned on a display device or the like can be used correspondingly.

本発明の一実施の形態のパターレイアウト方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the putter layout method of one embodiment of this invention. 同上パターンレイアウト方法を用いたパターンレイアウト装置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the pattern layout apparatus using the pattern layout method same as the above. 同上パターンレイアウト装置で新製品のパターンレイアウトおよび元製品のパターンレイアウトを連動させて拡大して表示させた状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which expanded and displayed the pattern layout of the new product, and the pattern layout of the original product in conjunction with the same pattern layout apparatus.

Claims (3)

第１のパターンレイアウトの電子データである第１のパターンレイアウトデータと、この第１のパターンレイアウトに基づいて作成した第２のパターンレイアウトの電子データである第２のパターンレイアウトデータとを記憶させるステップと、
前記ステップで記憶されている前記第２のパターンレイアウトデータに基づく第２のパターンレイアウト中の所定領域と、この第２のパターンレイアウト中の所定領域に対応した前記第１のパターンレイアウトデータに基づく第１のパターンレイアウト中の所定領域とを連動させて表示手段に表示させるステップと
を具備したことを特徴とするパターンレイアウト方法。 Storing first pattern layout data, which is electronic data of the first pattern layout, and second pattern layout data, which is electronic data of the second pattern layout, created based on the first pattern layout When,
A predetermined area in the second pattern layout based on the second pattern layout data stored in the step, and a first area based on the first pattern layout data corresponding to the predetermined area in the second pattern layout. A pattern layout method comprising: displaying a predetermined area in one pattern layout in association with a display means. 第１のパターンレイアウトの電子データである第１のパターンレイアウトデータと、この第１のパターンレイアウトに基づいて作成した第２のパターンレイアウトの電子データが読み出し可能に記憶される記憶装置と、
この記憶装置に記憶させた前記第２のパターンレイアウトデータに基づく第２のパターンレイアウトと、前記第１のパターンレイアウトデータに基づく第１のパターンレイアウトとが表示可能な表示手段と、
前記記憶装置に記憶させた前記第２のパターンレイアウトデータに基づく第２のパターンレイアウト中の所定領域と、この第２のパターンレイアウト中の所定領域に対応した前記第１のパターンレイアウト中の所定領域とを連動させて前記表示手段に表示させる制御手段と
を具備したことを特徴とするパターンレイアウト装置。 A first pattern layout data which is electronic data of the first pattern layout, and a storage device in which electronic data of the second pattern layout created based on the first pattern layout is readable and stored;
Display means capable of displaying a second pattern layout based on the second pattern layout data stored in the storage device and a first pattern layout based on the first pattern layout data;
A predetermined area in the second pattern layout based on the second pattern layout data stored in the storage device, and a predetermined area in the first pattern layout corresponding to the predetermined area in the second pattern layout And a control means for causing the display means to display the pattern layout apparatus in conjunction with each other. 第１のパターンレイアウトの電子データである第１のパターンレイアウトデータと、この第１のパターンレイアウトに基づいて作成した第２のパターンレイアウトの電子データである第２のパターンレイアウトデータとを記憶装置に記憶させるステップと、
この記憶装置に記憶させた前記第２のパターンレイアウトデータに基づく第２のパターンレイアウト中の所定領域と、この第２のパターンレイアウト中の所定領域に対応した前記第１のパターンレイアウトデータに基づく第１のパターンレイアウト中の所定領域とを連動させて表示手段に表示させるステップと
を具備したことを特徴とするパターンレイアウトプログラム。 First pattern layout data, which is electronic data of the first pattern layout, and second pattern layout data, which is electronic data of the second pattern layout created based on the first pattern layout, are stored in a storage device. Memorizing step;
A predetermined area in the second pattern layout based on the second pattern layout data stored in the storage device, and a first area based on the first pattern layout data corresponding to the predetermined area in the second pattern layout. A pattern layout program comprising: a step of displaying a predetermined area in one pattern layout in association with a display means.
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