JP2007119686A - Photopolymerizable composition - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photopolymerizable composition having high sensitivity, generating active radicals in high efficiency by the application of energy rays, especially light, improving the compatibility with solvents, monomers, etc., and quickly polymerizing a radically curable substance. <P>SOLUTION: The photopolymerization initiator is expressed by general formula (1) (R1 to R5 are each H or a univalent organic residue; and at least one of R1 to R5 is a (substituted)alkoxyl group or a (substituted)aryloxy group). <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光重合開始剤及び増感剤を用いた光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生し、ラジカル硬化性化合物を短時間に重合させ、例えば成型樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、プリント基板用レジスト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、ホログラム材料、オーバーコート材、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、各種デバイス等の分野において良好な物性を持った硬化物を得るための光重合開始剤及びそれを用いた光重合性組成物に関する。   The present invention relates to a photopolymerizable composition using a photopolymerization initiator and a sensitizer. In more detail, active radicals are efficiently generated by irradiation of energy rays, particularly light, and radical curable compounds are polymerized in a short time. For example, molding resins, casting resins, stereolithography resins, sealants, dental Polymerization resin, printing ink, paint, photosensitive resin for printing plate, color proof for printing, resist for color filter, resist for printed circuit board, photoresist for semiconductor, resist for microelectronics, hologram material, overcoat material, adhesive The present invention relates to a photopolymerization initiator for obtaining a cured product having good physical properties in the fields of adhesives, release agents, optical recording media, various devices and the like, and a photopolymerizable composition using the same.

従来、ある種のO,O’−ジアシルグリオキシムが光ラジカル重合開始剤として機能することは、公知である(非特許文献1〜3参照)。さらに、O,O’−ジアシルグリオキシムと類似した構造を有する、ある種のオキシムエステルが光ラジカル重合開始剤として機能することも公知である(特許文献1,2参照)。また、ポジ又はネガ型の感光性ポリイミド前駆体用組成物の光ラジカル重合開始剤として、α−ケトオキシムエステルが開示されている(特許文献3参照)。また、いくつかのベンゾフェノンオキシムエステル化合物が開示されている(特許文献4,5参照)。また、ある種のα,α-ジケトオキシムエステル化合物が開示されている(特許文献6〜10参照)。
また、ある種のO-アシルオキシムエステル化合物が開示されている(特許文献11,12参照)。また、ある種のO-スルホニルオキシムエステル化合物、O-ホスホリルオキシムエステル化合物が開示されている(特許文献13参照)。さらに、O-アシルオキシムエステル化合物とカルバゾール誘導体からなる光重合性組成物が開示されている(特許文献14)。また、これらの重合開始剤は、2,4−ジエチルチオキサントンや4,4’―ジエチルアミノベンゾフェノン等に代表される汎用の増感剤を併用することで感度を向上させることが出来る。これらはいずれも重合開始剤として機能しうるが、近年、生産性の向上や新しく提案される様々なプロセスに対応すべく、さらなる重合開始剤の高感度化が普遍的に求められている。
一方、光重合開始剤としてトリアジン誘導体やオキサジアゾール誘導体のどちらかを用い、光吸収剤としてカルバゾール誘導体を用いた光重合組成物が開示されている(特許文献15参照)。トリハロメチル−S−トリアジン誘導体とカルバゾール誘導体とを光重合開始剤として用いる例が開示されている(特許文献16参照)。カルバゾール誘導体を光重合開始剤として用いられることも開示されている(特許文献17,18参照)。

Journal of Polymer Science, Polymer Chemistry Edition, 1972, 10(11), 3405-19 Journal of Polymer Science, Polymer Chemistry Edition, 1974, 12(11), 2553-66 Sumyu Konghakhoe Chi, 1972, 9(2), 97-110 米国特許第3,558,309号明細書 米国特許第4,255,513号明細書 特開平7−140,658号公報 米国特許第4,590,145号明細書 特開昭61−24,558号公報 米国特許第5,019,482号明細書 特開昭62−184,056号公報 特開昭62−273,259号公報 特開昭62−286,961号公報 特開昭62−201,859号公報 特開2001−233,842号公報 特開2000−80,068号公報 特表2002−538,241号公報 特開2005−187,678号公報 特開昭62−212,643号公報 特開平11−109,615号公報 特開平10−148,937号公報 特開平11−109,623号公報
Conventionally, it is known that certain O, O′-diacylglyoximes function as photoradical polymerization initiators (see Non-Patent Documents 1 to 3). Furthermore, it is also known that certain oxime esters having a structure similar to O, O′-diacylglyoxime function as photoradical polymerization initiators (see Patent Documents 1 and 2). Further, α-ketoxime esters have been disclosed as photo radical polymerization initiators for positive or negative photosensitive polyimide precursor compositions (see Patent Document 3). Some benzophenone oxime ester compounds have been disclosed (see Patent Documents 4 and 5). In addition, certain α, α-diketooxime ester compounds are disclosed (see Patent Documents 6 to 10).
In addition, certain O-acyloxime ester compounds have been disclosed (see Patent Documents 11 and 12). Also, certain O-sulfonyl oxime ester compounds and O-phosphoryl oxime ester compounds are disclosed (see Patent Document 13). Furthermore, a photopolymerizable composition comprising an O-acyloxime ester compound and a carbazole derivative is disclosed (Patent Document 14). Moreover, these polymerization initiators can improve the sensitivity by using a general-purpose sensitizer typified by 2,4-diethylthioxanthone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, or the like. Any of these can function as a polymerization initiator, but in recent years, there has been a universal demand for higher sensitivity of the polymerization initiator in order to improve productivity and various newly proposed processes.
On the other hand, a photopolymerization composition using either a triazine derivative or an oxadiazole derivative as a photopolymerization initiator and a carbazole derivative as a light absorber is disclosed (see Patent Document 15). An example in which a trihalomethyl-S-triazine derivative and a carbazole derivative are used as a photopolymerization initiator is disclosed (see Patent Document 16). It is also disclosed that a carbazole derivative can be used as a photopolymerization initiator (see Patent Documents 17 and 18).

Journal of Polymer Science, Polymer Chemistry Edition, 1972, 10 (11), 3405-19 Journal of Polymer Science, Polymer Chemistry Edition, 1974, 12 (11), 2553-66 Sumyu Konghakhoe Chi, 1972, 9 (2), 97-110 US Pat. No. 3,558,309 U.S. Pat. No. 4,255,513 JP-A-7-140,658 U.S. Pat. No. 4,590,145 JP 61-24,558 A US Pat. No. 5,019,482 JP-A-62-184,056 JP-A-62-273,259 JP 62-286,961 A JP-A-62-201,859 JP 2001-233,842 A JP 2000-80,068 Special table 2002-538,241 gazette JP-A-2005-187,678 JP-A-62-212,643 JP-A-11-109,615 Japanese Patent Laid-Open No. 10-148,937 JP-A-11-109,623

本発明の目的は、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生し、溶剤またはモノマー等への相溶性を改善し、ラジカル硬化性物質を短時間に重合させうる高感度な光重合性組成物を提案することにある。例えば、インキ、塗料、感光性印刷板、プルーフ材料、フォトレジスト、ホログラム材料、封止剤、オーバーコート材、光造形用樹脂、接着剤等の分野において実用的なオリゴマーやポリマーを工業的に提供し、良好な特性を持った硬化物を得るための、光重合開始剤及びそれを用いた光重合性組成物を提供することにある。   The object of the present invention is to generate an active radical efficiently by irradiation of energy rays, particularly light, improve compatibility with a solvent or a monomer, etc., and highly sensitive light capable of polymerizing a radical curable substance in a short time. It is to propose a polymerizable composition. For example, industrially provide practical oligomers and polymers in the fields of inks, paints, photosensitive printing plates, proof materials, photoresists, hologram materials, sealants, overcoat materials, stereolithography resins, adhesives, etc. The object of the present invention is to provide a photopolymerization initiator and a photopolymerizable composition using the photopolymerization initiator for obtaining a cured product having good characteristics.

本発明者らは、以上の諸問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。即ち本発明は、下記一般式(1)で表わされる化合物と光重合性化合物と含んでなる光重合性組成物に関する。
一般式(1)

Figure 2007119686
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have arrived at the present invention. That is, the present invention relates to a photopolymerizable composition comprising a compound represented by the following general formula (1) and a photopolymerizable compound.
General formula (1)
Figure 2007119686

(但し、式中R1〜R5はそれぞれ独立に、水素原子もしくは1価の有機残基を表し、R1〜R5のうち少なくとも一つは、置換基を有してもよいアルコキシ基、または、置換基を有してもよいアリールオキシ基である。さらに、R1〜R5は一体となって相互に結合した環状構造であってもよい。式中R6は1価の有機残基を表す。式中R7は、炭素数3以上の置換基を有してもよいアルキル基を表す。) (In the formula, R1 to R5 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic residue, and at least one of R1 to R5 is an alkoxy group which may have a substituent, or a substituent. In addition, R1 to R5 may be a cyclic structure bonded together, and R6 represents a monovalent organic residue, wherein R7. Represents an alkyl group which may have a substituent having 3 or more carbon atoms.

本発明の前記一般式(1)で表される化合物含んでなる光重合開始剤は、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生する。したがって、重合性物質の光重合開始剤として著しく良好な効果を有する化合物の組み合わせを提供することができた。   The photopolymerization initiator comprising the compound represented by the general formula (1) of the present invention efficiently generates active radicals upon irradiation with energy rays, particularly light. Therefore, it was possible to provide a combination of compounds having a remarkably good effect as a photopolymerization initiator for the polymerizable substance.

まず初めに、本発明の光重合開始剤について説明する。本発明の光重合開始剤は、前記一般式(1)で表されるオキシム誘導含んでなることを特徴としている。一般式(1)中、置換基R1〜R5はそれぞれ独立に、水素原子もしくは1価の有機残基を表し、置換基R1〜R5のうち少なくとも一つは、置換基を有してもよいアルコキシ基、または、置換基を有してもよいアリールオキシ基である。さらに、置換基R1〜R5は一体となって相互に結合した環状構造であってもよい。また、式中、置換基R6は1価の有機残基を表す。本発明において、1価の有機残基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基、ハロゲン基等が挙げられる。また、式中、置換基R7は、炭素数3以上の置換基を有してもよいアルキル基を表す。   First, the photopolymerization initiator of the present invention will be described. The photopolymerization initiator of the present invention comprises an oxime derivative represented by the general formula (1). In the general formula (1), the substituents R1 to R5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic residue, and at least one of the substituents R1 to R5 may be an alkoxy having a substituent. Or an aryloxy group which may have a substituent. Further, the substituents R1 to R5 may have a cyclic structure in which they are bonded together. In the formula, the substituent R6 represents a monovalent organic residue. In the present invention, the monovalent organic residue includes an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, and a substituent. An alkynyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an acyloxy group which may have a substituent, an alkyl which may have a substituent Sulfanyl group, arylsulfanyl group which may have a substituent, alkylsulfinyl group which may have a substituent, arylsulfinyl group which may have a substituent, alkylsulfonyl group which may have a substituent An arylsulfonyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, a carbamoyl group which may have a substituent, a substituent Have There sulfamoyl group, an amino group which may have a substituent, a substituent having optionally phosphinoyl group, substituent a heterocyclic group which may have, a halogen group. In the formula, the substituent R7 represents an alkyl group which may have a substituent having 3 or more carbon atoms.

置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、1−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−エチルヘキシル基、フェナシル基、1−ナフトイルメチル基、2−ナフトイルメチル基、4−メチルスルファニルフェナシル基、4−フェニルスルファニルフェナシル基、4−ジメチルアミノフェナシル基、4−シアノフェナシル基4−メチルフェナシル基、2−メチルフェナシル基、3−フルオロフェナシル基、3−トリフルオロメチルフェナシル基、3−ニトロフェナシル基等が挙げられる。   As the alkyl group which may have a substituent, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Okudadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl group 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group, 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, 3-nitrophena Examples include a syl group.

置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o−、m−、およびp−トリル基、キシリル基、o−、m−、およびp−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等がある。   As the aryl group which may have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable, and a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, a 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o- , M-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, turnaphthalenyl group, quarternaphthalenyl group, heptaenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, acenaphthylenyl group, aceanthrylenyl group, Phenalenyl group, fluorenyl group, anthryl group, bianthracenyl group, teranthra Nyl group, quarter anthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, Examples include a hexaphenyl group, a hexacenyl group, a ruvicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyranthrenyl group, and an oberenyl group.

置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数2〜10のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。   As an alkenyl group which may have a substituent, a C2-C10 alkenyl group is preferable, for example, a vinyl group, an allyl group, a styryl group etc. are mentioned.

置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数2〜10のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。   The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.

置換基を有してもよいアルコキシ基としては、炭素数1〜30のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシキ、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、エトキシカルボニルメチル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルオキシ基、アミノカルボニルメチルオキシ基、N,N−ジブチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−メチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−エチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−オクチルアミノカルボニルメチルオキシ基、N−メチル−N−ベンジルアミノカルボニルメチルオキシ基、ベンジルオキシ基、シアノメチルオキシ基等が挙げられる。   The alkoxy group which may have a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group. Tert-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, ethoxycarbonylmethyl group, 2 -Ethylhexyloxycarbonylmethyloxy group, aminocarbonylmethyloxy group, N, N-dibutylaminocarbonylmethyloxy group, N-methylaminocarbonylmethyloxy group, N-ethylaminocarbonylmethyloxy group, N-octylaminocarbonylmethyl A ruoxy group, an N-methyl-N-benzylaminocarbonylmethyloxy group, a benzyloxy group, a cyanomethyloxy group, and the like.

置換基を有してもよいアリールオキシ基としては、炭素数6〜30のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、2−クロロフェニルオキシ基、2−メチルフェニルオキシ基、2−メトキシフェニルオキシ基、2−ブトキシフェニルオキシ基、3−クロロフェニルオキシ基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、3−シアノフェニルオキシ基、3−ニトロフェニルオキシ基、4−フルオロフェニルオキシ基、4−シアノフェニルオキシ基、4−メトキシフェニルオキシ基、4−ジメチルアミノフェニルオキシ基、4−メチルスルファニルフェニルオキシ基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシ基等がある。   The aryloxy group which may have a substituent is preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenyloxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 2-chlorophenyloxy group, 2-methylphenyloxy group, 2-methoxyphenyloxy group, 2-butoxyphenyloxy group, 3-chlorophenyloxy group, 3-trifluoromethylphenyloxy group, 3-cyanophenyloxy group, 3-nitrophenyloxy group, Examples include 4-fluorophenyloxy group, 4-cyanophenyloxy group, 4-methoxyphenyloxy group, 4-dimethylaminophenyloxy group, 4-methylsulfanylphenyloxy group, 4-phenylsulfanylphenyloxy group and the like.

置換基を有してもよいアシルオキシ基としては、炭素数2〜20のアシルオキシ基が好ましく、例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフチルカルボニルオキシ基、2−ナフチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。   The acyloxy group which may have a substituent is preferably an acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, such as an acetyloxy group, a propanoyloxy group, a butanoyloxy group, a pentanoyloxy group, or trifluoromethylcarbonyloxy. Group, benzoyloxy group, 1-naphthylcarbonyloxy group, 2-naphthylcarbonyloxy group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルファニル基としては、炭素数1〜20のアルキルスルファニル基が好ましく、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基、シクロヘキシルスルファニル基、オクチルスルファニル基、2−エチルヘキシルスルファニル基、デカノイルスルファニル基、ドデカノイルスルファニル基、オクタデカノイルスルファニル基、シアノメチルスルファニル基、メトキシメチルスルファニル基等が挙げられる。   The alkylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfanyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, a propylsulfanyl group, an isopropylsulfanyl group, a butylsulfanyl group, or a hexylsulfanyl group. Group, cyclohexylsulfanyl group, octylsulfanyl group, 2-ethylhexylsulfanyl group, decanoylsulfanyl group, dodecanoylsulfanyl group, octadecanoylsulfanyl group, cyanomethylsulfanyl group, methoxymethylsulfanyl group and the like.

置換基を有してもよいアリールスルファニル基としては、炭素数6〜30のアリールスルファニル基が好ましく、例えば、フェニルスルファニル基、1−ナフチルスルファニル基、2−ナフチルスルファニル基、2−クロロフェニルスルファニル基、2−メチルフェニルスルファニル基、2−メトキシフェニルスルファニル基、2−ブトキシフェニルスルファニル基、3−クロロフェニルスルファニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルファニル基、3−シアノフェニルスルファニル基、3−ニトロフェニルスルファニル基、4−フルオロフェニルスルファニル基、4−シアノフェニルスルファニル基、4−メトキシフェニルスルファニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルファニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルファニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルファニル基等が挙げられる。   The arylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfanyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfanyl group, 1-naphthylsulfanyl group, 2-naphthylsulfanyl group, 2-chlorophenylsulfanyl group, 2-methylphenylsulfanyl group, 2-methoxyphenylsulfanyl group, 2-butoxyphenylsulfanyl group, 3-chlorophenylsulfanyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfanyl group, 3-cyanophenylsulfanyl group, 3-nitrophenylsulfanyl group, 4-fluorophenylsulfanyl group, 4-cyanophenylsulfanyl group, 4-methoxyphenylsulfanyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfanyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfuric group Aniru group, 4-dimethylamino-phenylsulfanyl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数1〜20のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。   The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a propylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, a butylsulfinyl group, and a hexylsulfinyl group. Group, cyclohexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, decanoylsulfinyl group, dodecanoylsulfinyl group, octadecanoylsulfinyl group, cyanomethylsulfinyl group, methoxymethylsulfinyl group and the like.

置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数6〜30のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、1−ナフチルスルフィニル基、2−ナフチルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、2−メチルフェニルスルフィニル基、2−メトキシフェニルスルフィニル基、2−ブトキシフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、3−シアノフェニルスルフィニル基、3−ニトロフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、4−シアノフェニルスルフィニル基、4−メトキシフェニルスルフィニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。   The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfinyl group, 1-naphthylsulfinyl group, 2-naphthylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group, 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyanophenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfinyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfuric group Iniru group, 4-dimethylaminophenyl sulfinyl group and the like.

置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数1〜20のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基等が挙げられる。   The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group. Group, cyclohexylsulfonyl group, octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, decanoylsulfonyl group, dodecanoylsulfonyl group, octadecanoylsulfonyl group, cyanomethylsulfonyl group, methoxymethylsulfonyl group and the like.

置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数6〜30のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、4−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。   The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 4-fluorophenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-dimethylaminopheny Sulfonyl group, and the like.

置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数2〜20のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、4−メチルスルファニルベンゾイル基、4−フェニルスルファニルベンゾイル基、4−ジメチルアミノベンゾイル基、4−ジエチルアミノベンゾイル基、2−クロロベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、2−メトキシベンゾイル基、2−ブトキシベンゾイル基、3−クロロベンゾイル基、3−トリフルオロメチルベンゾイル基、3−シアノベンゾイル基、3−ニトロベンゾイル基、4−フルオロベンゾイル基、4−シアノベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。   The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example, acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoromethylcarbonyl group, pentanoyl group, benzoyl group, 1-naphthoyl. Group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 2-methoxybenzoyl Group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 4-cyanobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl Groups and the like.

置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基、4−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。   The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, octyl. Oxycarbonyl group, decyloxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, trifluoromethyloxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4- Phenylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group Group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group , 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group and the like.

置換基を有してもよいカルバモイル基としては、総炭素数1〜30のカルバモイル基が好ましく、例えば、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−プロピルカルバモイル基、N−ブチルカルバモイル基、N−ヘキシルカルバモイル基、N−シクロヘキシルカルバモイル基、N−オクチルカルバモイル基、N−デシルカルバモイル基、N−オクタデシルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N−2−メチルフェニルカルバモイル基、N−2−クロロフェニルカルバモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルカルバモイル基、N−2−(2−エチルヘキシル)フェニルカルバモイル基、N−3−クロロフェニルカルバモイル基、N−3−ニトロフェニルカルバモイル基、N−3−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メトキシフェニルカルバモイル基、N−4−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−メチル−N−フェニルカルバモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカルバモイル基、N、N−ジフェニルカルバモイル基等が挙げられる。   The carbamoyl group which may have a substituent is preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, an N-methylcarbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, an N-propylcarbamoyl group, or an N-butylcarbamoyl group. N-hexylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, N-decylcarbamoyl group, N-octadecylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N-2-methylphenylcarbamoyl group, N-2- Chlorophenylcarbamoyl group, N-2-isopropoxyphenylcarbamoyl group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylcarbamoyl group, N-3-chlorophenylcarbamoyl group, N-3-nitrophenylcarbamoyl group, N-3-cyanophenyl A carbamoyl group, -4-methoxyphenylcarbamoyl group, N-4-cyanophenylcarbamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-methyl-N-phenylcarbamoyl group, N, N -Dimethylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group, N, N-diphenylcarbamoyl group and the like.

置換基を有してもよいスルファモイル基としては、総炭素数0〜30のスルファモイル基が好ましく、例えば、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N、N−ジアルキルスルファモイル基、N、N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキルーN−アリールスルファモオイル基等が挙げられる。より具体的には、N−メチルスルファモイル基、N−エチルスルファモイル基、N−プロピルスルファモイル基、N−ブチルスルファモイル基、N−ヘキシルスルファモイル基、N−シクロヘキシルスルファモイル基、N−オクチルスルファモイル基、N−2−エチルヘキシルスルファモイル基、N−デシルスルファモイル基、N−オクタデシルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基、N−2−メチルフェニルスルファモイル基、N−2−クロロフェニルスルファモイル基、N−2−メトキシフェニルスルファモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、N−3−クロロフェニルスルファモイル基、N−3−ニトロフェニルスルファモイル基、N−3−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−メトキシフェニルスルファモイル基、N−4−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基、N−メチル−N−フェニルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N,N−ジブチルスルファモイル基、N,N−ジフェニルスルファモイル基等が挙げられる。   The sulfamoyl group which may have a substituent is preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, for example, a sulfamoyl group, an N-alkylsulfamoyl group, an N-arylsulfamoyl group, N, N- Examples thereof include a dialkylsulfamoyl group, an N, N-diarylsulfamoyl group, and an N-alkyl-N-arylsulfamoyl group. More specifically, N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-butylsulfamoyl group, N-hexylsulfamoyl group, N-cyclohexylsulfur group. Famoyl group, N-octylsulfamoyl group, N-2-ethylhexylsulfamoyl group, N-decylsulfamoyl group, N-octadecylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, N-2- Methylphenylsulfamoyl group, N-2-chlorophenylsulfamoyl group, N-2-methoxyphenylsulfamoyl group, N-2-isopropoxyphenylsulfamoyl group, N-3-chlorophenylsulfamoyl group, N-3-nitrophenylsulfamoyl group, N-3-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-methoxyphenyl Nylsulfamoyl group, N-4-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-dimethylaminophenylsulfamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylsulfamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylsulfamoyl Group, N-methyl-N-phenylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-dibutylsulfamoyl group, N, N-diphenylsulfamoyl group and the like.

置換基を有してもよいアミノ基としては、総炭素数0〜50のアミノ基が好ましく、例えば、−NH2,N−アルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N−アシルアミノ基、N−スルホニルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキルーN−アリールアミノ基、N、N−ジスルホニルアミノ基等が挙げられる。より具体的には、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−イソプロピルアミノ基、N−ブチルアミノ基、N−tert―ブチルアミノ基、N−ヘキシルアミノ基、N−シクロヘキシルアミノ基、N−オクチルアミノ基、N−2−エチルヘキシルアミノ基、N−デシルアミノ基、N−オクタデシルアミノ基、N−ベンジルアミノ基、N−フェニルアミノ基、N−2−メチルフェニルアミノ基、N−2−クロロフェニルアミノ基、N−2−メトキシフェニルアミノ基、N−2−イソプロポキシフェニルアミノ基、N−2−(2−エチルヘキシル)フェニルアミノ基、N−3−クロロフェニルアミノ基、N−3−ニトロフェニルアミノ基、N−3−シアノフェニルアミノ基、N−3−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、N−4−メトキシフェニルアミノ基、N−4−シアノフェニルアミノ基、N−4−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、N−4−メチルスルファニルフェニルアミノ基、N−4−フェニルスルファニルフェニルアミノ基、N−4−ジメチルアミノフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N、N−ジメチルアミノ基、N、N−ジエチルアミノ基、N、N−ジブチルアミノ基、N、N−ジフェニルアミノ基、N、N−ジアセチルアミノ基、N、N−ジベンゾイルアミノ基、N、N−(ジブチルカルボニル)アミノ基、N、N−(ジメチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジエチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジブチルスルホニル)アミノ基、N、N−(ジフェニルスルホニル)アミノ基等が挙げられる。 The amino group which may have a substituent is preferably an amino group having 0 to 50 carbon atoms in total, for example, —NH 2 , N-alkylamino group, N-arylamino group, N-acylamino group, N— Examples include sulfonylamino group, N, N-dialkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, N, N-disulfonylamino group, and the like. More specifically, N-methylamino group, N-ethylamino group, N-propylamino group, N-isopropylamino group, N-butylamino group, N-tert-butylamino group, N-hexylamino group, N-cyclohexylamino group, N-octylamino group, N-2-ethylhexylamino group, N-decylamino group, N-octadecylamino group, N-benzylamino group, N-phenylamino group, N-2-methylphenylamino Group, N-2-chlorophenylamino group, N-2-methoxyphenylamino group, N-2-isopropoxyphenylamino group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylamino group, N-3-chlorophenylamino group, N-3-nitrophenylamino group, N-3-cyanophenylamino group, N-3-trifluoromethylphenylamino group, -4-methoxyphenylamino group, N-4-cyanophenylamino group, N-4-trifluoromethylphenylamino group, N-4-methylsulfanylphenylamino group, N-4-phenylsulfanylphenylamino group, N- 4-dimethylaminophenylamino group, N-methyl-N-phenylamino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, N, N-dibutylamino group, N, N-diphenylamino group, N N-diacetylamino group, N, N-dibenzoylamino group, N, N- (dibutylcarbonyl) amino group, N, N- (dimethylsulfonyl) amino group, N, N- (diethylsulfonyl) amino group, N N- (dibutylsulfonyl) amino group, N, N- (diphenylsulfonyl) amino group and the like.

置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数2〜50のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィノイル基等が挙げられる。   The phosphinoyl group which may have a substituent is preferably a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms, for example, dimethylphosphinoyl group, diethylphosphinoyl group, dipropylphosphinoyl group, diphenylphosphinoyl group. Group, dimethoxyphosphinoyl group, diethoxyphosphinoyl group, dibenzoylphosphinoyl group, bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group and the like.

置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族あるいは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基等がある。   The heterocyclic group that may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. For example, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, thiantenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, 4H- Quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group Group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group Group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, thioxanthryl group and the like.

置換基を有してもよいハロゲン基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等がある。 Examples of the halogen group that may have a substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

さらに、前述した置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよい複素環基の水素原子はさらに他の置換基で置換されていても良い。   Furthermore, the alkyl group which may have a substituent mentioned above, the aryl group which may have a substituent, the alkenyl group which may have a substituent, the alkynyl group which may have a substituent, a substituent An alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an acyloxy group which may have a substituent, an alkylsulfanyl group which may have a substituent, and a substituent An arylsulfanyl group which may have a substituent, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, and a substituent. An arylsulfonyl group, an optionally substituted acyl group, an optionally substituted alkoxycarbonyl group, an optionally substituted carbamoyl group, an optionally substituted sulfamoyl group, Amino group which may have a group, hydrogen atom of the heterocyclic group which may have a substituent may be further substituted with other substituents.

そのような置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、p−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。   Examples of such substituents include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, aryl groups such as phenoxy group and p-tolyloxy group. Oxy group, methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group such as phenoxycarbonyl group, acetoxy group, propionyloxy group, acyloxy group such as benzoyloxy group, acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group, methacryloyl group, An acyl group such as a methoxalyl group, an alkylsulfanyl group such as a methylsulfanyl group or a tert-butylsulfanyl group, an arylsulfanyl group such as a phenylsulfanyl group or a p-tolylsulfanyl group, an alkylsulfuryl group such as a methylamino group or a cyclohexylamino group; Killamino, dimethylamino, diethylamino, morpholino, piperidino and other dialkylamino groups, phenylamino, p-tolylamino and other arylamino groups, methyl, ethyl, tert-butyl, dodecyl, etc. In addition to aryl groups such as alkyl groups, phenyl groups, p-tolyl groups, xylyl groups, cumenyl groups, naphthyl groups, anthryl groups, phenanthryl groups, etc., hydroxy groups, carboxy groups, formyl groups, mercapto groups, sulfo groups, mesyl groups , P-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammoniumumyl group, dimethylsulfoniumumyl group, triphenylphenacylphospho And niumyl group.

さらに、R1〜R5の置換基の一部が、共有結合で結ばれていてもよい。   Furthermore, some of the substituents R1 to R5 may be linked by a covalent bond.

これら置換基R1〜R6において、好ましくは置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよい複素環基等が挙げられるが、本発明はこれらの例に限定されるわけではない。   In these substituents R1 to R6, preferably an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, and a substituent. Examples include a good aryloxy group, an acyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, and the like, but the present invention is not limited to these examples.

置換基R1〜R5のうち少なくとも一つは、置換基を有してもよいアルコキシ基、または、置換基を有してもよいアリールオキシ基であるが、好ましくはR2、R3、R4が置換基を有してもよいアルコキシ基、または、置換基を有してもよいアリールオキシ基であり、より好ましくは、R2、R3が置換基を有してもよいアルコキシ基、または、置換基を有してもよいアリールオキシ基である。   At least one of the substituents R1 to R5 is an alkoxy group which may have a substituent or an aryloxy group which may have a substituent. Preferably, R2, R3 and R4 are substituents. Or an aryloxy group that may have a substituent, and more preferably, R2 and R3 have an alkoxy group that may have a substituent or a substituent. It may be an aryloxy group.

置換基R7において、好ましくは炭素数3以上の置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数3〜30のアルキル基が好ましく、例えば、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、1−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−エチルヘキシル基、フェナシル基、1−ナフトイルメチル基、2−ナフトイルメチル基、4−メチルスルファニルフェナシル基、4−フェニルスルファニルフェナシル基、4−ジメチルアミノフェナシル基、4−シアノフェナシル基4−メチルフェナシル基、2−メチルフェナシル基、3−フルオロフェナシル基、3−トリフルオロメチルフェナシル基、3−ニトロフェナシル基等が挙げられる。   In the substituent R7, the alkyl group which may preferably have a substituent having 3 or more carbon atoms is preferably an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, Decyl group, dodecyl group, okdadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl group, 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group 4-methylphenacyl group, 2 -Methylphenacyl group, 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphena Examples thereof include a syl group and a 3-nitrophenacyl group.

好ましくは炭素数4〜26の置換基を有してもよいアルキル基であるが、さらに好ましくは、炭素数6〜20の置換基を有してもよいアルキル基が挙げられるが、本発明はこれらの例に限定されるわけではない。   An alkyl group which may have a substituent having 4 to 26 carbon atoms is preferable, and an alkyl group which may have a substituent having 6 to 20 carbon atoms is more preferable. It is not limited to these examples.

以上述べた本発明の光重合開始剤として、特に好ましい具体例としては、下記の化合物を挙げることができる(ただし、Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基、Hexはヘキシル基、Tolはパラトリル基、Acはアセチル基、Bzはベンゾイル基を表す)。   Specific examples of the photopolymerization initiator of the present invention described above include the following compounds (where Me is a methyl group, Et is an ethyl group, Bu is a butyl group, Hex is a hexyl group, Tol represents a paratolyl group, Ac represents an acetyl group, and Bz represents a benzoyl group).

前記一般式(1)で表すことが出来る化合物の具体例を表1に示す。

Figure 2007119686
Specific examples of compounds that can be represented by the general formula (1) are shown in Table 1.
Figure 2007119686

Figure 2007119686
Figure 2007119686

全てのオキシム基は、二つの立体配置、(Z)又は(E)で存在する。慣用の方法でこの異性体を分離することができるが、光開始種として異性体の混合物も用いることができる。従って、本発明の一般式(1)の化合物は、立体配置異性体の混合物の成分も含む。   All oxime groups exist in two configurations, (Z) or (E). The isomers can be separated by conventional methods, but mixtures of isomers can also be used as photoinitiating species. Therefore, the compound of the general formula (1) of the present invention includes a component of a mixture of configurational isomers.

また、本発明の光重合性組成物における光重合性化合物とは、光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物とは、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも一つ以上を有する化合物であればどのようなものでも良く、モノマー、オリゴマ−、ポリマー等の化学形態を持つものである。これらはただ一種のみ用いても、目的とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合した系でもかまわない。 In addition, the photopolymerizable compound in the photopolymerizable composition of the present invention is a compound having a photopolymerizable ethylenically unsaturated bond, and the compound having a photopolymerizable ethylenically unsaturated bond is in the molecule. Any compound having at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization can be used, and has a chemical form such as a monomer, an oligomer or a polymer. These may be used alone or may be a system in which two or more kinds are mixed at an arbitrary ratio in order to improve the intended characteristics.

このような光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロ二トリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン等の重合性化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of such compounds having a photopolymerizable ethylenically unsaturated bond include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and their salts, esters, Examples of the polymerizable compound include urethane, amide and anhydride, acrylonitrile, styrene, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, and unsaturated polyurethanes, but the present invention is limited thereto. It is not a thing.

具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)ブタン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチラングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、N−ブチルメタクリレート、2−へキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体等が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三ら編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、大成社)や加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」、(1985年、高分子刊行会)、ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79項、(1989年、シーエムシー)、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技術」、(1987年、シーエムシー)、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性モノマー、オリゴマ−、ポリマーが挙げられる。   Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) butane, neo Pentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate , Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Acrylic acid derivatives such as tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylolacrylamide, diacetoneacrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, N-butyl methacrylate, 2-hexyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate , Trimethylol group Methacrylic acid derivatives such as pantrimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, and other derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate, etc. More specifically, edited by Shinzo Yamashita et al., “Cross-linking agent handbook” (1981, Taiseisha), Kiyoto Kato, “UV / EB curing handbook (raw material)”, (1985, Polymer publication society) ), Radtech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, 79, (1989, CMC), Akamatsu Kiyoshi, “New Technology for Photosensitive Resins”, (1987, C MC), Shinichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook” (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) or commercial products known in the industry Examples include radically polymerizable or crosslinkable monomers, oligomers, and polymers.

本発明の一般式(1)で表される光重合開始剤は、前記光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.01から30重量部が好ましく、さらに好ましくは0.1から10重量部である。   The photopolymerization initiator represented by the general formula (1) of the present invention is preferably 0.01 to 30 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the compound having a photopolymerizable ethylenically unsaturated bond. 0.1 to 10 parts by weight.

本発明の光重合性組成物は有機高分子重合体等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフタレート等のポリマーフィルムに塗布して使用することが可能である。   The photopolymerizable composition of the present invention can be used by mixing with a binder such as an organic polymer and applying it to a polymer film such as a glass plate, an aluminum plate, other metal plates, or polyethylene terephthalate.

本発明の光重合性組成物と混合して使用可能なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、(1987年、シーエムシー)や「10188の化学商品」、657〜767頁(1988年、化学工業日報社)記載の業界公知の有機高分子重合体があげられる。   Examples of binders that can be used by mixing with the photopolymerizable composition of the present invention include polyacrylates, poly-α-alkyl acrylates, polyamides, polyvinyl acetals, polyformaldehydes, polyurethanes, polycarbonates, and polystyrenes. And polymers such as polyvinyl esters and copolymers, and more specifically, polymethacrylate, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polyvinyl carbazole, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, novolac resin, phenol resin. , Epoxy resin, Alkyd resin, etc., supervised by Kiyoshi Akamatsu, “New photosensitive resin actual technology” (1987, CMC) and “10188 chemical products”, 657-767 (1988, Chemical Industries) Hosha) industry known organic polymer according the like.

さらに本発明の光重合性組成物は、フォトレジスト材料として画像形成用に用いる等の目的のために、下記に示すカルボキシル基含有ポリマーを添加して用いても良い。カルボキシル基含有ポリマーはアルカリ水溶液に対する溶解性を有するため、本発明の光重合性組成物を用いて作成した膜を部分的に硬化すれば、アルカリ水溶液に対する溶解度の違いから、いわゆるネガ型レジストのパターンを形成することが可能である。ここでカルボキシル基含有ポリマーとは、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとアクリル酸との共重合体、メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとの共重合体が挙げられる。これらの共重合体は単独であるいは2種以上混合しても差し支えない。   Furthermore, the photopolymerizable composition of the present invention may be used by adding the following carboxyl group-containing polymer for the purpose of using it as a photoresist material for image formation. Since the carboxyl group-containing polymer has solubility in an alkaline aqueous solution, if the film prepared using the photopolymerizable composition of the present invention is partially cured, a so-called negative resist pattern is formed due to the difference in solubility in the alkaline aqueous solution. Can be formed. Here, the carboxyl group-containing polymer includes a copolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester and acrylic acid, or a copolymer of methacrylic acid ester, methacrylic acid and a vinyl monomer copolymerizable therewith. . These copolymers may be used alone or in combination of two or more.

ここで、メタアクリル酸エステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルへキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート等が挙げられる。   Here, as the methacrylic acid ester, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isobornyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, etc. Is mentioned.

メタアクリル酸エステルとメタアクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとしては、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、テトラヒドリフルフリルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、アクリルアミド、スチレン等が挙げられる。   Methacrylic acid ester, methacrylic acid and vinyl monomers copolymerizable therewith include tetrahydrofurfuryl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3, Examples include 3-tetrafluoropropyl acrylate, tetrahydrfurfuryl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, acrylamide, and styrene.

また、本発明の光重合性組成物はさらに感度向上の目的で他の重合開始剤と併用することが可能である。   The photopolymerizable composition of the present invention can be used in combination with other polymerization initiators for the purpose of further improving sensitivity.

本発明の光重合性組成物と混合して併用可能な他の重合開始剤としては、特公昭59−1281号公報、特公昭61−9621号公報ならびに特開昭60−60104号公報記載のトリアジン誘導体、特開昭59−1504号公報ならびに特開昭61−243807号公報記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号公報、特公昭44−6413号公報、特公昭47−1604号公報ならびにUSP第3567453号明細書記載のジアゾニウム化合物公報、USP第2848328号明細書、USP第2852379号明細書ならびにUSP第2940853号明細書記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号公報、特公昭37−13109号公報、特公昭38−18015号公報ならびに特公昭45−9610号公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162号公報、特開昭59−140203号公報ならびに「マクロモレキュルス(MACROMOLECULES)」、第10巻、第1307頁(1977年)記載のヨードニウム化合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭59−142205号公報記載のアゾ化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッパ特許第109851号明細書、ヨーロッパ特許第126712号明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.IMAG.SCI.)」、第30巻、第174頁(1986年)記載の金属アレン錯体、特開昭61−151197号公報記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(COORDINATION CHEMISTRY REVIEW)」、第84巻、第85〜第277頁(1988年)ならびに特開平2−182701号公報記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号公報記載のアルミナート錯体、特開平2−157760号公報記載のホウ酸塩化合物、特開昭55−127550号公報ならびに特開昭60−202437号公報記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物、特開平5−255347号公報記載のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、特開2001−264530号公報、特開2001−261761号公報、特開2000−80068号公報、特開2001−233842号公報、USP3558309号明細書(1971年)、USP4202697号明細書(1980年)ならびに特開昭61−24558号公報記載のオキシムエステル化合物等があげられ、これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.01から10重量部の範囲で含有されるのが好ましい。 Other polymerization initiators that can be used in combination with the photopolymerizable composition of the present invention include triazines described in JP-B-59-1281, JP-B-61-9621, and JP-A-60-60104. Derivatives, organic peroxides described in JP-A-59-1504 and JP-A-61-243807, JP-B-43-23684, JP-B-44-6413, JP-B-47-1604 and US Pat. No. 3,567,453, diazonium compound publications, USP 2,848,328, USP 2,852,379 and USP 2,940,853, organic azide compounds, Japanese Patent Publication No. 36-22062, Japanese Patent Publication No. 37- No. 13109, Japanese Patent Publication No. 38-18015 and Japanese Patent Publication No. 45-9610 Ortho-quinonediazides, including iodonium compounds described in JP-B-55-39162, JP-A-59-140203 and “MACROMOLECULES”, Vol. 10, page 1307 (1977) Various onium compounds, azo compounds described in JP-A-59-142205, JP-A-1-54440, European Patent No. 1099851, European Patent No. 126712, “Journal of Imaging Science” (J.IMAG.SCI.), Vol. 30, page 174 (1986), titanocenes described in JP-A No. 61-151197, “COORDINATION CHEMISTRY REVIEW 84], 85-277 (1988) and JP-A-2 Transition metal complexes containing a transition metal such as ruthenium described in Japanese Patent No. 182701, an aluminate complex described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-209477, a borate compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-157760, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-127550 And 2,4,5-triarylimidazole dimer described in JP-A-60-202437, carbon tetrabromide and organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, JP-A-5-255347. Sulfonium complex or oxosulfonium complex described in JP-A No. 2001-264530, JP-A No. 2001-261661, JP-A No. 2000-80068, JP-A No. 2001-233842, US Pat. No. 3,558,309 (1971). ), USP4202697 (1980) and Examples thereof include oxime ester compounds described in JP-A No. 61-24558, and these polymerization initiators are 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization. It is preferable to contain in the range.

また紫外から近赤外の光に対して吸収を持つ増感剤と組み合わせて組成物とすることによっても紫外から近赤外領域にかけての光に対する活性を高め、極めて高感度な光重合性組成物とすることが可能である。   In addition, by combining with a sensitizer that absorbs ultraviolet to near-infrared light to increase the activity for light from the ultraviolet to the near-infrared region, it is an extremely sensitive photopolymerizable composition. Is possible.

このような増感剤の具体例としては、カルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体等が挙げられ、その他さらに具体例には大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げられ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。上記、増感剤の中で本発明の光重合開始剤を特に好適に増感しうる増感剤としては、チオキサントン誘導体が挙げられる。さらに具体的には、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of such sensitizers include unsaturated ketones typified by chalcone derivatives and dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives typified by benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, and fluorene derivatives. , Naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, merocyanine derivatives, oxonol derivatives and other polymethine dyes, acridine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, Oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, azurenium derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives, tetraphenylporphyrin derivatives, triarylmethane derivatives, tetrabenzopo Filin derivatives, tetrapyrazinoporphyrazine derivatives, phthalocyanine derivatives, tetraazaporphyrazine derivatives, tetraquinoxalyloporphyrazine derivatives, naphthalocyanine derivatives, subphthalocyanine derivatives, pyrylium derivatives, thiopyrylium derivatives, tetraphyrin derivatives, annulene derivatives, spiropyran derivatives , Spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, metal arene complexes, organoruthenium complexes, etc. Other specific examples include Okawara Nobu et al., “Dye Handbook” (1986, Kodansha), Okawara Nobu et al. The dyes and sensitizers described in “Chemistry of Sexual Dyes” (1981, CMC), edited by Tadasaburo Ikemori, “Special Functional Materials” (1986, CMC), are not limited thereto. Without Other dyes and a sensitizer exhibiting absorbs light of over the near infrared region can be mentioned the ultraviolet, may be used two or more in an arbitrary ratio, if these are required. Among the sensitizers described above, a thioxanthone derivative may be mentioned as a sensitizer that can particularly preferably sensitize the photopolymerization initiator of the present invention. More specific examples include 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like. However, it is not limited to these.

また、本発明の光重合性組成物は保存時の重合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが可能である。   The photopolymerizable composition of the present invention can be added with a thermal polymerization inhibitor for the purpose of preventing polymerization during storage.

本発明の光重合性組成物に添加可能な熱重合防止剤の具体例としては、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等をあげることができ、これらの熱重合防止剤は、重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.001から5重量部の範囲で添加されるのが好ましい。   Specific examples of the thermal polymerization inhibitor that can be added to the photopolymerizable composition of the present invention include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl-substituted hydroquinone, catechol, tert-butylcatechol, phenothiazine, and the like. The thermal polymerization inhibitor is preferably added in the range of 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having a polymerizable ethylenically unsaturated bond.

また、本発明の光重合性組成物はさらに重合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を添加することが可能である。 In addition, the photopolymerizable composition of the present invention can be further added with a polymerization accelerator represented by amine, thiol, disulfide, or the like for the purpose of further promoting polymerization.

本発明の光重合性組成物に添加可能な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン類、USP第4414312号明細書や特開昭64−13144号公報記載のチオール類、特開平2−291561号公報記載のジスルフィド類、USP第3558322号明細書や特開昭64−17048号公報記載のチオン類、特開平2−291560号公報記載のO-アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリジンチオン類があげられる。 Specific examples of the polymerization accelerator and chain transfer catalyst that can be added to the photopolymerizable composition of the present invention include, for example, amines such as N-phenylglycine, triethanolamine, N, N-diethylaniline, USP No. 4414312. And thiols described in JP-A-64-13144, disulfides described in JP-A-2-291561, thiones described in USP 3558322 and JP-A-64-17048, Examples thereof include O-acylthiohydroxamate and N-alkoxypyridinethiones described in Kaihei 2-291560.

本発明の光重合性組成物はさらに目的に応じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、帯電防止剤、磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と混合して使用しても良い。   The photopolymerizable composition of the present invention further comprises dyes, organic and inorganic pigments, phosphine, phosphonate, phosphite and other oxygen scavengers and reducing agents, antifoggants, antifading agents, antihalation agents, fluorescent materials. Brighteners, surfactants, colorants, extenders, plasticizers, flame retardants, antioxidants, UV absorbers, foaming agents, antifungal agents, antistatic agents, magnetic substances and other additives that add various properties You may mix and use an agent, a dilution solvent, etc.

本発明の光重合性組成物は重合反応に際して、紫外線や可視光線、近赤外線等、電子線等によるエネルギーの付与により重合し、目的とする重合物を得ることが可能である。なお本明細書でいう、紫外線や近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線等の定義は久保亮五ら編「岩波理化学辞典第4版」(1987年、岩波)によった。   In the polymerization reaction, the photopolymerizable composition of the present invention can be polymerized by application of energy such as ultraviolet rays, visible rays, near infrared rays, electron beams, etc. to obtain a desired polymer. The definitions of ultraviolet rays, near-ultraviolet rays, visible light, near-infrared rays, infrared rays, and the like referred to in this specification are based on “Iwanami Rikagaku Dictionary 4th Edition” (1987, Iwanami) edited by Ryogo Kubo et al.

したがって、本発明の光重合性組成物は、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、YAGレーザ、発光ダイオード、CRT光源、プラズマ光源、電子線、γ線、ArFエキシマーレーザー、KrFエキシマーレーザー、F2レーザー等の各種光源によるエネルギーの付与により目的とする重合物や硬化物を得ることができる。 Therefore, the photopolymerizable composition of the present invention includes a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, an argon ion laser, a helium cadmium laser, By applying energy from various light sources such as helium neon laser, krypton ion laser, various semiconductor lasers, YAG laser, light emitting diode, CRT light source, plasma light source, electron beam, gamma ray, ArF excimer laser, KrF excimer laser, F2 laser A polymer or cured product can be obtained.

故に、バインダーその他とともに基板上に塗布して各種インキ、各種刷版材料、フォトレジスト、電子写真、ダイレクト刷版材料、ホログラム材料等の感光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒体、さらには接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤および各種塗料に応用することが可能である。
(作用)
本発明の一般式(1)で表される化合物と光重合性化合物と含んでなる光重合性組成物は、エネルギー線、特に光の照射により励起し分解することにより、効率よくフリーラジカルを発生するものと考えられる。また、これと同時に結晶性、有機溶剤に対する溶解性の向上が得られ、これによって良好な安定性が得られる。
Therefore, various inks, various printing plate materials, photoresists, electrophotography, direct printing plate materials, photosensitive materials such as hologram materials and various recording media such as microcapsules, and adhesives, which are coated on a substrate together with a binder and the like, It can be applied to pressure-sensitive adhesives, adhesives, sealants and various paints.
(Function)
The photopolymerizable composition comprising the compound represented by the general formula (1) and the photopolymerizable compound of the present invention generates free radicals efficiently by being excited and decomposed by irradiation with energy rays, particularly light. It is thought to do. At the same time, crystallinity and solubility in organic solvents can be improved, thereby obtaining good stability.

以下、合成例、実施例及び比較例を示して本発明を詳細に説明するが、本発明は下記のみに限定されるものではない。
合成例1
化合物(1)の合成
1−(4−メトキシフェニル)−1,2−ヘキサンジオン 2−オキシム(13.2mmol)と酢酸ナトリウム(44.1mmol)とをテトラヒドロフラン80ml中で攪拌したところに、無水酢酸(80.5mmol)を加えて、10時間加熱還流した。その後、反応液を氷水500g中に注ぎ、粗生成物を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、無色オイルとして化合物(1)を得た(収率88%)。
EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited only to the following.
Synthesis example 1
Synthesis of Compound (1) 1- (4-Methoxyphenyl) -1,2-hexanedione 2-oxime (13.2 mmol) and sodium acetate (44.1 mmol) were stirred in 80 ml of tetrahydrofuran, and acetic anhydride (80.5 mmol) was added and heated to reflux for 10 hours. Thereafter, the reaction solution was poured into 500 g of ice water, and the crude product was extracted with ethyl acetate, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated to obtain Compound (1) as a colorless oil (yield 88%).

合成例2〜24
前記表1記載の化合物(2)〜(24)は、相当するオキシムから合成例1記載の方法に従い、相当する酸無水物または酸塩化物を用いて製造した。
Synthesis Examples 2-24
Compounds (2) to (24) shown in Table 1 were produced from the corresponding oxime according to the method described in Synthesis Example 1 using the corresponding acid anhydride or acid chloride.

実施例1〜2
化合物(1)を6重量部と、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であるペンタエリスリトールトリアクリレート100重量部と、バインダーであるポリメチルメタクリレート100重量部と、溶剤であるシクロヘキサノン1600重量部、表2で示す化合物(25)、化合物(26)を3重量部とからなる光重合性組成物を配合し、塗工液を調整した。この塗工液をスピンコーターを用いてステンレス板上に塗工し、オーブン中40℃で10分間乾燥した。乾燥により溶媒を除去した後の膜厚は約1.5μmであった。この光重合性組成物層の上にポリビニルアルコール水溶液を塗工し、オーブン中40℃で10分間乾燥した。乾燥後のポリビニルアルコール層の膜厚は約5μmであった。この塗工物に対して、350〜380nmの光を選択的に透過するバンドパスフィルターを通し高圧水銀ランプの光(5.0mW/cm2)を照射しながら、光重合性組成物層のIRスペクトル(反射)を測定し、アクリル基の特性吸収である810cm-1の強度をモニターした。
このIRの測定結果をもとに、光照射開始から60秒後の時点において、重合により消費されたアクリル基の割合について、光照射前を基準に算出した結果を表4に示した。
Examples 1-2
6 parts by weight of the compound (1), 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate which is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, 100 parts by weight of polymethyl methacrylate as a binder, and 1600 parts by weight of cyclohexanone as a solvent Parts, a photopolymerizable composition comprising 3 parts by weight of the compound (25) and the compound (26) shown in Table 2 were blended to prepare a coating solution. This coating solution was applied onto a stainless steel plate using a spin coater and dried in an oven at 40 ° C. for 10 minutes. The film thickness after removing the solvent by drying was about 1.5 μm. A polyvinyl alcohol aqueous solution was applied on the photopolymerizable composition layer and dried in an oven at 40 ° C. for 10 minutes. The film thickness of the polyvinyl alcohol layer after drying was about 5 μm. Irradiation of light (5.0 mW / cm 2 ) of a high pressure mercury lamp through a band pass filter that selectively transmits light of 350 to 380 nm to this coated material, IR of the photopolymerizable composition layer The spectrum (reflection) was measured, and the intensity at 810 cm −1 , which is the characteristic absorption of the acrylic group, was monitored.
Table 4 shows the results of calculation based on the IR measurement results with respect to the ratio of acrylic groups consumed by polymerization at the time 60 seconds after the start of light irradiation, based on the pre-light irradiation.

Figure 2007119686
Figure 2007119686

比較例1〜2
一般式(2)で表される化合物のかわりに、表3に示す化合物(27)を用いたこと以外は実施例1〜2と同様にして、アクリル基の消費率を算出した結果を表4に示した。
Comparative Examples 1-2
Table 4 shows the results of calculating the acrylic group consumption rate in the same manner as in Examples 1 and 2, except that the compound (27) shown in Table 3 was used instead of the compound represented by the general formula (2). It was shown to.

Figure 2007119686
Figure 2007119686

Figure 2007119686
Figure 2007119686

実施例3
化合物(1)のかわりに、化合物(12)を用い、さらに、化合物(25)用いなかったこと以外は実施例1と同様にして、アクリル基の消費率を算出した結果を表6に示した。
Example 3
Table 6 shows the results of calculating the consumption rate of the acrylic group in the same manner as in Example 1 except that the compound (12) was used instead of the compound (1) and the compound (25) was not used. .

比較例3
化合物(12)のかわりに、表5に示す化合物(28)を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、アクリル基の消費率を算出した結果を表6に示した。
Comparative Example 3
Table 6 shows the results of calculating the acrylic group consumption rate in the same manner as in Example 3 except that the compound (28) shown in Table 5 was used instead of the compound (12).

Figure 2007119686
Figure 2007119686

Figure 2007119686
Figure 2007119686

実施例4、比較例4
化合物(1)と表7に示す化合物(29)のシクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルアセテート(PGMEA)、イソアミルアセテート(IAAc)、ペンタエリスリトールトリアクリレートへの溶解度(wt%)を表8に示す。
Example 4 and Comparative Example 4
Table 8 shows the solubility (wt%) of compound (1) and compound (29) shown in Table 7 in cyclohexanone, propylene glycol monomethyl acetate (PGMEA), isoamyl acetate (IAAc), and pentaerythritol triacrylate.

Figure 2007119686
Figure 2007119686

Figure 2007119686
Figure 2007119686

溶解度試験の結果から、化合物(1)は、化合物(29)に比べて高い溶解度を示す。一般式(1)において、R7の部分が、炭素数3以上の置換基を有してもよいアルキル基であるためではないかと考察している。
化合物(1)は常温において油状物質であるため、溶剤やモノマー等との混合する際に、簡単かつ短時間で均一な光重合性組成物を得ることが出来る。また、化合物(29)も油状ではあるが、溶媒あるいはモノマーに対しての溶解度が非常に低い。
From the result of the solubility test, the compound (1) shows higher solubility than the compound (29). In general formula (1), it is considered that R7 is an alkyl group which may have a substituent having 3 or more carbon atoms.
Since compound (1) is an oily substance at room temperature, a uniform photopolymerizable composition can be obtained easily and in a short time when mixed with a solvent, a monomer or the like. Compound (29) is also oily, but has very low solubility in a solvent or monomer.

以上の実施例および比較例から、一般式(1)で表わされるオキシム化合物は高感度の光重合開始剤として作用することが分かった。また、経時における保存安定性も非常に良好であることが分かる。   From the above Examples and Comparative Examples, it was found that the oxime compound represented by the general formula (1) acts as a highly sensitive photopolymerization initiator. It can also be seen that the storage stability over time is very good.

Claims (3)

下記一般式(1)で表わされる光重合開始剤。
一般式(1)
Figure 2007119686
(但し、式中R1〜R5は、それぞれ独立に、水素原子もしくは1価の有機残基を表し、R1〜R5のうち少なくとも一つは、置換基を有してもよいアルコキシ基、または、置換基を有してもよいアリールオキシ基である。さらに、R1〜R5は一体となって相互に結合した環状構造であってもよい。式中R6は、1価の有機残基を表す。式中R7は、炭素数3以上の置換基を有してもよいアルキル基を表す。)
A photopolymerization initiator represented by the following general formula (1).
General formula (1)
Figure 2007119686
(However, in the formula, R1 to R5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic residue, and at least one of R1 to R5 is an alkoxy group which may have a substituent or a substituted group. In addition, R1 to R5 may be a cyclic structure bonded together, and R6 represents a monovalent organic residue. R7 represents an alkyl group which may have a substituent having 3 or more carbon atoms.)
請求項1記載の光重合開始剤と光重合性化合物と含んでなる光重合性組成物。 2. A photopolymerizable composition comprising the photopolymerization initiator according to claim 1 and a photopolymerizable compound. 請求項1記載の光重合開始剤と光重合性化合物と増感剤と含んでなる光重合性組成物。
2. A photopolymerizable composition comprising the photopolymerization initiator according to claim 1, a photopolymerizable compound, and a sensitizer.
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