JP2007101709A - Nd filter, method for manufacturing nd filter, and light quantity attenuation device - Google Patents

Nd filter, method for manufacturing nd filter, and light quantity attenuation device Download PDF

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Kazuo Suzuki
一雄 鈴木
Munetoshi Yoshikawa
宗利 吉川
Takayuki Wakabayashi
孝幸 若林
Shinji Uchiyama
真志 内山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ND (Neutral Density) filter with which the occurrence of warpages, cracks etc. of a substrate is suppressed, and to provide a method for manufacturing the ND filter and a light quantity attenuation device. <P>SOLUTION: The ND filter 11 adjusts transmitted light quantity and is constructed by comprising a lamination film, equipped on the substrate made of a resin and ribs 13 continuously or discontinuously formed on the substrate. The rib 13 is constructed with a protrusion formed on one surface of the substrate, and a recession formed on the other surface of the substrate corresponding to the protrusion, also is constructed with a protrusion formed with application or printing on the substrate, or is constructed with a protrusion formed by bending an edge portion of the ND filter. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、NDフィルタ、NDフィルタの製造方法、および光量絞り装置に関し、特にカメラ等の撮影装置や光学機器等に使用されるNDフィルタとそのNDフィルタを用いた絞り装置に関するものである。   The present invention relates to an ND filter, a method for manufacturing an ND filter, and a light amount diaphragm device, and more particularly to an ND filter used in a photographing apparatus such as a camera or an optical apparatus and a diaphragm device using the ND filter.

従来より、デジタルカメラやビデオカメラ等の光学機器には、その光量調節のために絞り装置が組み込まれている。
そして、この絞り装置においては、通常、絞り羽根を用いて光量調節することが行われている。
しかし、特に、高輝度被写体に対しては、その絞り径が小さくなり過ぎると回折による解像力の劣化が生じる。
そのため、絞り径に制限を加え、それと同時に光量調節部材としてNeutral Density フィルタ(以下NDフィルタと略す)等を用いて通過光量を制限し、これにより画質の低下を防止している。
Conventionally, an optical device such as a digital camera or a video camera has a diaphragm device for adjusting the amount of light.
And in this diaphragm | throttle device, usually light quantity adjustment is performed using a diaphragm blade.
However, particularly for a high-luminance subject, if the aperture diameter becomes too small, the resolution is degraded due to diffraction.
Therefore, the aperture diameter is limited, and at the same time, the amount of passing light is limited by using a neutral density filter (hereinafter abbreviated as ND filter) as a light amount adjusting member, thereby preventing the image quality from deteriorating.

具体的には、絞り羽根の一部に絞り羽根とは別部材であるNDフィルタを接着剤で装着するように構成することで、被写体が高輝度の時には絞り径を余り小さくなるまで絞り込まずに絞り開口を一定の大きさに維持する。そして、その代わりにNDフィルタを光軸上に位置させるようにして、通過光量を制限している。更には、このNDフィルタとして、その光量調節機能に勾配(以下、濃度勾配と呼ぶ)を有しているものを用い、このフィルタを光軸上で移動させることにより、更なる光量調節を行うこともある。
また、NDフィルタを絞り羽根に装着しないで、独立して光学的作用を持たせて構成した絞り装置も種々提案されている。
Specifically, an ND filter, which is a separate member from the diaphragm blades, is attached to a part of the diaphragm blades with an adhesive so that when the subject has high brightness, the diaphragm diameter is not narrowed down until it becomes too small. The aperture opening is kept constant. Instead, the ND filter is positioned on the optical axis to limit the amount of light passing through. Furthermore, as this ND filter, a filter having a gradient (hereinafter referred to as a density gradient) in its light amount adjustment function is used, and further light amount adjustment is performed by moving this filter on the optical axis. There is also.
There have also been proposed various diaphragm devices that do not have ND filters attached to the diaphragm blades and have an optical function independently.

上記したような光量調節装置における光量調節部材としてのNDフィルタには、現在、真空蒸着等により多層膜を形成したものが、一般的に用いられている。例えば、特許文献1に示されているように、PET(ポリエチレンテレフタレート)等の透明樹脂フィルム上に、金属膜又は誘電体膜を真空蒸着等により多層成膜したものが用いられている。
また、基材としてガラスの代わりに樹脂を用いることで軽量化され、割れにくく、低コスト化されている。
また、成膜方法としては、例えば、特許文献2、3のように、写真印刷や樹脂フィルム中に光を吸収する染料や顔料を混ぜ、練り込んで作ることも可能であるが、蒸着法にて光吸収多層膜を形成して基板表面の反射を防止するようにしたものも提案されている。
また、特許文献4では、蒸着法にてNDフィルタを作製する際に熱収縮の影響を少なくするために、NDフィルタの方向と樹脂フィルムの延伸方向を規定したNDフィルタが提案されている。
特開平10−133254号公報 特開平5−173004号公報 特開平10−96971号公報 特開2005−017986号公報
As an ND filter as a light amount adjusting member in the light amount adjusting device as described above, a filter having a multilayer film formed by vacuum deposition or the like is generally used. For example, as disclosed in Patent Document 1, a metal film or a dielectric film formed on a transparent resin film such as PET (polyethylene terephthalate) by multilayer deposition by vacuum deposition or the like is used.
Moreover, it is reduced in weight by using resin instead of glass as a base material, is hard to break, and is reduced in cost.
In addition, as a film forming method, for example, as disclosed in Patent Documents 2 and 3, it is possible to mix and knead a dye or pigment that absorbs light into a photographic printing or resin film, In this case, a light absorbing multilayer film is formed to prevent reflection on the substrate surface.
Patent Document 4 proposes an ND filter that defines the direction of the ND filter and the stretching direction of the resin film in order to reduce the influence of thermal shrinkage when producing the ND filter by a vapor deposition method.
JP-A-10-133254 JP-A-5-173004 Japanese Patent Laid-Open No. 10-96971 JP 2005-017986 A

ところで、上記したように蒸着法を用いてNDフィルタを成膜する際には、高い基板温度で成膜された後に冷却されることから基板に反りが発生し、このような反りのあるものを光量調整部材として使用した場合、画像劣化の原因となる。すなわち、蒸着法により樹脂基板(基体)上に多層膜を成膜する場合においては、基板と多層膜との密着性を上げるために、蒸着装置内に設置したハロゲンヒーターなどで基板が加熱される。
さらに、基板に堆積される蒸着物質の持つ熱や、蒸着材料を加熱する蒸着源からの輻射熱により基板温度が上昇する。
このように基板温度が高い状態で成膜された後に、蒸着装置から取り出されて、冷却される。
この冷却により基板は収縮するが、樹脂基板に対して金属や誘電体からなる多層膜では熱膨張率に差があるため、その収縮量が異なり基板に反りが発生してしまうこととなる。
この基板の反りは、光量調整部材として使用するためのサイズにカットした後においても、残留してしまう。
こうして得られたNDフィルタを絞り羽根に接着して光量調整部材として使用すると、特に絞り口径が大きい場合に反り量が大きく画像劣化の原因となる。
By the way, when the ND filter is formed using the vapor deposition method as described above, the substrate is warped after being deposited at a high substrate temperature, and the substrate having such a warp is used. When used as a light amount adjusting member, it causes image deterioration. That is, when a multilayer film is formed on a resin substrate (substrate) by vapor deposition, the substrate is heated by a halogen heater or the like installed in the vapor deposition apparatus in order to improve the adhesion between the substrate and the multilayer film. .
Furthermore, the substrate temperature rises due to the heat of the vapor deposition material deposited on the substrate and the radiant heat from the vapor deposition source that heats the vapor deposition material.
Thus, after forming into a film in the state with high substrate temperature, it takes out from a vapor deposition apparatus and cools.
Although the substrate shrinks due to this cooling, the multilayer film made of metal or dielectric has a difference in thermal expansion coefficient with respect to the resin substrate, so that the shrinkage amount differs and the substrate warps.
This warpage of the substrate remains even after being cut into a size for use as a light amount adjusting member.
When the ND filter obtained in this way is bonded to the diaphragm blades and used as a light quantity adjusting member, the amount of warpage is large, particularly when the diaphragm aperture is large, causing image deterioration.

また、樹脂基板は透過光の分散を少なくするために、100μm程度のごく薄い物が使用されている。
このため、撓みやすく切断や接着などの後工程での取り扱い時の作業性が悪く、屈曲が繰り返されることで蒸着膜にクラックを発生する。
さらに、近年では、撮像素子の感度の上昇に伴いNDフィルタの濃度を濃くして、光の透過率をさらに低下させる傾向にある。
この高濃度化するためには蒸着膜を厚くする必要があることから、基板温度のさらなる高温化を引き起こす。
以上のように、基板の熱による伸縮量はさらに大きくなるため、基板の反り量はより一層大きくなり、さらには、蒸着直後において蒸着膜にクラックやしわが発生することとなる。
なお、上記した特許文献4のものでは、NDフィルタの方向と樹脂フィルムの延伸方向を規定し、NDフィルタを作製する際に熱収縮の影響を少なくする配慮がなされている。
しかしながら、これは熱収縮による寸法ずれを抑制するものであり、上記した基板温度の変化に伴う基板の反りやクラック等に対して配慮したものではない。
In addition, a resin substrate having a very thin thickness of about 100 μm is used in order to reduce dispersion of transmitted light.
For this reason, it is easy to bend and the workability | operativity at the time of subsequent processes, such as cutting and adhesion | attachment, is bad, and a crack is generated in a vapor deposition film by repeating bending.
Furthermore, in recent years, as the sensitivity of the image sensor increases, the density of the ND filter tends to increase to further reduce the light transmittance.
In order to increase the concentration, it is necessary to increase the thickness of the deposited film, which causes a further increase in the substrate temperature.
As described above, since the amount of expansion and contraction due to heat of the substrate is further increased, the amount of warpage of the substrate is further increased, and further, cracks and wrinkles are generated in the deposited film immediately after deposition.
In addition, in the thing of above-mentioned patent document 4, the direction of an ND filter and the extending | stretching direction of a resin film are prescribed | regulated, and the consideration which makes less influence of a heat shrink when producing an ND filter is made.
However, this suppresses dimensional deviation due to thermal contraction, and does not take into consideration the warpage or cracks of the substrate accompanying the change in the substrate temperature described above.

本発明は、上記課題に鑑み、基体の反りやクラック等の発生を抑制することが可能となるNDフィルタ、NDフィルタの製造方法、および光量絞り装置を提供することを目的とするものである。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an ND filter, a method for manufacturing an ND filter, and a light quantity reduction device that can suppress the occurrence of warpage, cracks, and the like of a substrate.

本発明は上記課題を解決するため、つぎのように構成したNDフィルタ、NDフィルタの製造方法、および光量絞り装置を提供するものである。
すなわち、本発明のNDフィルタは、透過光量を調節するNDフィルタであって、該NDフィルタは樹脂による基体上に積層膜を備え、該基体に連続または不連状のリブが形成されていることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタは、前記リブが塑性加工により形成されていることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタは、前記塑性加工によるリブが、前記基体上に積層膜を形成する前に、前記基体に形成されることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタは、前記塑性加工によるリブが、前記基体の一方の面に形成された凸部と、該凸部に対応させて前記基体の他方の面に形成された凹部によって構成されていることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタは、前記リブが、前記基体に塗布あるいは印刷により形成された凸部によって構成されていることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタは、前記リブが、前記NDフィルタの縁部を折り曲げて形成された凸部によって構成されていることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタは、均一な透過率に設定された領域、あるいは透過率が連続的に変化する透過率勾配の領域を有し、前記透過率のうち最も低い透過率の領域における可視光透過率が、10%以下であることを特徴としている。
また、本発明のNDフィルタの製造方法は、透過光量を調節するNDフィルタの製造方法であって、つぎの(1)および(2)の工程を有することを特徴としている。
(1)樹脂による基体に、連続または不連状のリブを塑性加工によって形成する工程。
(2)前記リブの形成された基体上に、蒸着によって光吸収層と誘電体層からなる積層膜を形成する工程。
また、本発明のNDフィルタの製造方法は、透過光量を調節するNDフィルタの製造方法であって、つぎの(1)および(2)の工程を有することを特徴としている。
(1)前記基体上に、蒸着によって光吸収層と誘電体層からなる積層膜を形成する工程。
(2)前記工程によって積層膜を形成した後、前記基体に塗布あるいは印刷によって凸部からなる連続または不連状のリブを形成する工程。
また、本発明のNDフィルタの製造方法は、透過光量を調節するNDフィルタの製造方法であって、つぎの(1)〜(3)の工程を有することを特徴としている。
(1)前記基体上に、蒸着によって光吸収層と誘電体層からなる積層膜を形成する工程。
(2)前記工程によって積層膜を形成した後、NDフィルタを外形プレス抜きする工程。
(3)前記外形プレス抜きされたNDフィルタの縁部を折り曲げて、該NDフィルタに連続または不連状のリブを形成する工程。
また、本発明の光量絞り装置は、上記いずれかのNDフィルタまたは上記いずれかのNDフィルタの製造方法によって製造されたNDフィルタを備えた光量調節部材を備えた光量絞り装置をつぎのように構成したことを特徴としている。
この光量絞り装置は、前記光量調節部材の駆動量に応じて所定の開口部を透過する光束の透過量が調節される光量絞り装置であって、前記光量絞り装置の光束の透過しない領域に前記NDフィルタのリブが位置するように構成されていることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an ND filter, an ND filter manufacturing method, and a light quantity diaphragm device configured as follows.
That is, the ND filter of the present invention is an ND filter that adjusts the amount of transmitted light, and the ND filter includes a laminated film on a resin base, and continuous or discontinuous ribs are formed on the base. It is characterized by.
The ND filter according to the present invention is characterized in that the rib is formed by plastic working.
Further, the ND filter of the present invention is characterized in that the ribs formed by plastic working are formed on the substrate before forming a laminated film on the substrate.
Further, in the ND filter of the present invention, the rib formed by the plastic working is constituted by a convex portion formed on one surface of the base body and a concave portion formed on the other surface of the base body corresponding to the convex portion. It is characterized by being.
Moreover, the ND filter of the present invention is characterized in that the rib is constituted by a convex portion formed by coating or printing on the substrate.
Moreover, the ND filter of the present invention is characterized in that the rib is constituted by a convex portion formed by bending an edge portion of the ND filter.
In addition, the ND filter of the present invention has a region where the transmittance is set to be uniform or a region where the transmittance continuously changes, and a visible region in the region where the transmittance is the lowest among the transmittances. The light transmittance is 10% or less.
The ND filter manufacturing method of the present invention is a ND filter manufacturing method for adjusting the amount of transmitted light, and has the following steps (1) and (2).
(1) A step of forming continuous or discontinuous ribs on a resin substrate by plastic working.
(2) A step of forming a laminated film composed of a light absorption layer and a dielectric layer on the substrate on which the rib is formed by vapor deposition.
The ND filter manufacturing method of the present invention is a ND filter manufacturing method for adjusting the amount of transmitted light, and has the following steps (1) and (2).
(1) A step of forming a laminated film composed of a light absorption layer and a dielectric layer on the substrate by vapor deposition.
(2) A step of forming continuous or discontinuous ribs made of convex portions by coating or printing on the substrate after forming a laminated film by the above step.
The ND filter manufacturing method of the present invention is an ND filter manufacturing method for adjusting the amount of transmitted light, and has the following steps (1) to (3).
(1) A step of forming a laminated film composed of a light absorption layer and a dielectric layer on the substrate by vapor deposition.
(2) A step of externally pressing the ND filter after forming the laminated film by the above step.
(3) A step of bending the edge of the ND filter from which the outer shape has been punched to form continuous or discontinuous ribs on the ND filter.
In addition, the light quantity diaphragm device according to the present invention includes the light quantity diaphragm device including the light quantity adjusting member including the ND filter manufactured by any one of the above ND filters or any one of the above ND filters. It is characterized by that.
The light amount diaphragm device is a light amount diaphragm device in which a transmission amount of a light beam transmitted through a predetermined opening is adjusted in accordance with a driving amount of the light amount adjustment member, and the light amount diaphragm device includes a light beam diaphragm device in a region where the light beam of the light amount diaphragm device is not transmitted. It is characterized in that the rib of the ND filter is positioned.

本発明によれば、基体の反りやクラック等の発生を抑制することが可能となるNDフィルタ、NDフィルタの製造方法を実現することができる。
また、上記NDフィルタを備えた、画像劣化を抑制することが可能となる光量絞り装置を実現することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the ND filter and ND filter which can suppress generation | occurrence | production of the curvature of a base | substrate, a crack, etc. are realizable.
In addition, it is possible to realize a light quantity stop device including the ND filter and capable of suppressing image deterioration.

つぎに、本発明の実施の形態におけるNDフィルタについて、図を用いて従来のNDフィルタと対比しつつ説明する。
図1に、本実施形態におけるNDフィルタの模式図を示す。
また、図2に従来のNDフィルタの模式図を示す。
まず、従来のNDフィルタが光量絞り装置にどのような形態で用いられるかについて説明する。
図2において、21NDフィルタ、22は絞り羽根である。
図2に示すように、NDフィルタ21は光学系を通過する光量を制限するために絞り羽根22の一部に装着されている。
ここで、NDフィルタ基板としてガラスを用いないで樹脂フィルムを使用する主たる理由としては、前述したように樹脂フィルムはガラスに比べ薄くても割れにくく、光量絞り装置を薄くすることができ、軽くすることが可能となるからである。また、樹脂フィルムによるとコストダウンが可能となる。
Next, the ND filter according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings while comparing with a conventional ND filter.
In FIG. 1, the schematic diagram of the ND filter in this embodiment is shown.
FIG. 2 shows a schematic diagram of a conventional ND filter.
First, it will be described how the conventional ND filter is used in the light quantity diaphragm device.
In FIG. 2, 21ND filter 22 is a diaphragm blade.
As shown in FIG. 2, the ND filter 21 is attached to a part of the diaphragm blade 22 in order to limit the amount of light passing through the optical system.
Here, the main reason for using a resin film without using glass as the ND filter substrate is that, as described above, the resin film is not easily broken even if it is thinner than glass, and the light quantity diaphragm can be made thinner and lighter. Because it becomes possible. In addition, the resin film can reduce the cost.

しかしながら、このような樹脂フィルムによるフィルタ基板上に、蒸着法によりNDフィルタを成膜する場合には、前述したように、高い基板温度で成膜された後に冷却されることから、基板に反りが発生することとなる。
そのため、本実施の形態では、基材である樹脂フィルムに連続状または不連状のリブを設けることによって、基板の反りやクラック等の発生の抑制を図るようにしたものである。
図1に示される本実施形態のNDフィルタでは、樹脂フィルムに連続状のリブが設けられたNDフィルタが絞り羽根に接着されたものが示されている。
図1において、11NDフィルタ、12は絞り羽根、13はリブ、14は接着剤である。
本実施の形態においては、上記したように、NDフィルタの作製に際し、樹脂フィルムにリブを設けるようにしているが、このリブの形成方法や形状は特に限定されるものではない。
例えば、図5(a)に示されるように、樹脂フィルムを加熱プレスし、樹脂フィルムに凹凸部によるリブを形成するようにしてもよい。
これにより、リブの形状が片面は凹形状、反対面は凸形状となり、蒸着時の熱による伸縮を吸収できる構造となり、伸縮による蒸着膜のクラックを防止することが可能となる。
また、図5(b)に示されるように、UV硬化樹脂を塗布あるいは印刷して円弧状の凸部によるリブを形成するようにしてもよい。
このように凸部を塗布や印刷により形成することで、リブの材質を選択することができ、また厚くしてより強固な凸部を形成することが可能となる。
また、凸部の形成時において、基体や蒸着膜に塑性変形などによる歪を与えないため、フィルタの平面度を改善することが可能となる。
また、図5(c)に示されるように、NDフィルタの最終形状にカットした後に、折り曲げ加工を行って凸部を形成するようにしてもよい。
However, when forming an ND filter on a filter substrate made of such a resin film by vapor deposition, the substrate is warped after being deposited at a high substrate temperature as described above. Will occur.
Therefore, in the present embodiment, by providing continuous or discontinuous ribs on the resin film that is the base material, the occurrence of warpage, cracks, etc. of the substrate is suppressed.
In the ND filter of this embodiment shown in FIG. 1, an ND filter in which a continuous rib is provided on a resin film is bonded to a diaphragm blade.
In FIG. 1, an 11ND filter, 12 is a diaphragm blade, 13 is a rib, and 14 is an adhesive.
In the present embodiment, as described above, ribs are provided on the resin film when the ND filter is manufactured. However, the formation method and shape of the ribs are not particularly limited.
For example, as shown in FIG. 5 (a), the resin film may be hot-pressed to form ribs with uneven portions on the resin film.
As a result, the rib has a concave shape on one side and a convex shape on the opposite side, and can absorb the expansion and contraction caused by heat during the deposition, and cracks of the deposited film due to the expansion and contraction can be prevented.
Further, as shown in FIG. 5 (b), a UV curable resin may be applied or printed to form a rib with arcuate convex portions.
By forming the protrusions by coating or printing in this way, the material of the rib can be selected, and it becomes possible to form a stronger protrusion by increasing the thickness.
In addition, when the convex portions are formed, the flatness of the filter can be improved because the substrate and the vapor deposition film are not strained by plastic deformation or the like.
Further, as shown in FIG. 5 (c), after cutting into the final shape of the ND filter, a bending process may be performed to form a convex portion.

これによれば、凸部によるリブをNDフィルタの縁部を折り曲げて形成することができ、凸部の占めるスペース(体積)を最小にしつつ、基板の反りやクラック等の発生の抑制を図ることが可能となる。   According to this, the rib by the convex portion can be formed by bending the edge portion of the ND filter, and the occurrence of warpage, cracks, etc. of the substrate is suppressed while minimizing the space (volume) occupied by the convex portion. Is possible.

つぎに、このような本実施の形態のNDフィルタの使用形態について説明する。
図3に、上記本実施の形態におけるNDフィルタを用いた光量調節装置を組込んだ撮影装置の構成を示す。
図3において、36A,36B,36C,36Dは撮影光学系36を構成するレンズ、37は固体撮像素子、38はローパスフィルタである。
また、31から34は光量絞り装置、31はNDフィルタである。
また、32と33は対向的に移動する絞り羽根であり、2枚の絞り羽根により略菱形の開口が形成される。
NDフィルタは、通常、絞り羽根に接着されている。34は絞り羽根支持板である。
Next, a usage form of the ND filter of this embodiment will be described.
FIG. 3 shows a configuration of a photographing apparatus incorporating a light amount adjusting device using the ND filter in the present embodiment.
In FIG. 3, reference numerals 36A, 36B, 36C, and 36D denote lenses constituting the photographing optical system 36, 37 denotes a solid-state image sensor, and 38 denotes a low-pass filter.
Reference numerals 31 to 34 denote light quantity diaphragms, and reference numeral 31 denotes an ND filter.
Reference numerals 32 and 33 denote opposingly moving diaphragm blades, and a substantially diamond-shaped opening is formed by the two diaphragm blades.
The ND filter is usually bonded to the diaphragm blade. Reference numeral 34 denotes a diaphragm blade support plate.

つぎに、本実施の形態のNDフィルタにおいて、採り得る透過率パターンについて説明する。
図4(a)に、上記光量調節装置において羽根が互い違いに動作することにより開口部Cの大きさを制御している状態を示す。
図4(a)において、32、33は絞り駆動する羽根であり、この場合には、32の羽根にNDフィルタ31が接着剤により固定されており、33はNDフィルタが貼られていないもう片方の羽根である。
本実施の形態のNDフィルタでは、図4(b)〜(d)に示す様に、いくつかの透過率分布パターンを採ることができ、要求される仕様により使い分けられる。例えば、図4(b)では位置0〜X3まで同じ透過率とされている。
また、図4(c)では0〜X3に向かって段階的に透過率が変化している。
また、図4(d)では0〜X3に向かって連続的に透過率が変化している。このようなパターンは一般に用いられるものであり、フィルタ面内で透過率分布を形成するには蒸着マスクを用いて積層膜の積層数を変えたり、位置によって膜厚を変える方法がとられる。
Next, the transmittance pattern that can be taken in the ND filter of the present embodiment will be described.
FIG. 4A shows a state in which the size of the opening C is controlled by the blades operating alternately in the light amount adjusting device.
In FIG. 4A, reference numerals 32 and 33 denote diaphragm driving blades. In this case, the ND filter 31 is fixed to the 32 blades with an adhesive, and 33 is the other side to which the ND filter is not attached. It is a feather.
In the ND filter according to the present embodiment, as shown in FIGS. 4B to 4D, several transmittance distribution patterns can be adopted, and they are selectively used according to required specifications. For example, in FIG. 4B, the same transmittance is set from position 0 to X3.
In FIG. 4C, the transmittance changes stepwise from 0 to X3.
In FIG. 4D, the transmittance continuously changes from 0 to X3. Such a pattern is generally used, and in order to form a transmittance distribution within the filter surface, a method of changing the number of laminated films using a vapor deposition mask or changing the film thickness depending on the position is used.

所定の透過率は、透明樹脂フィルムの片面または両面に多層の誘電体や金属膜を真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法、スパッタ法などで成膜することにより得られ、例えば図7に示すような積層膜の膜構造を採ることができる。
透明樹脂フィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリエチレンフィルム、等が用いられる。あるいは、ポリエチレンナフタレートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリイミド系樹脂フィルム、等が用いられる。
The predetermined transmittance is obtained by forming a multilayer dielectric or metal film on one or both sides of the transparent resin film by vacuum deposition, ion plating, ion-assisted deposition, sputtering, or the like. The film structure of the laminated film as shown in FIG.
As the transparent resin film, a polyester film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polystyrene film, a polyvinylidene chloride film, a polyethylene film, or the like is used. Alternatively, a polyethylene naphthalate film, a norbornene resin film, a polyimide resin film, or the like is used.

つぎに、本実施の形態におけるNDフィルタを作製する方法の一例について説明する。
ここでは、図4(d)のような連続的に透過率が変化するNDフィルタを作製する方法、あるいは蒸着前に基材にリブを形成したケースにについて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
(1)まず、リブを形成した基材に蒸着治具に設けられた基準ピンをはめ込むための基準穴部を設ける。
(2)基準穴部を図8に示す蒸着治具50の基準ピンに嵌め込んで、基材90を蒸着治具50に固定し、さらに蒸着パターン形成用マスク51をセットする。
(3)蒸着治具50を蒸着装置40にセットし図7の積層膜を蒸着する。
このとき必要な透過率は積層膜の膜厚で調整する。最表層の蒸着時には蒸着パターン形成用マスクを外して、1/4λ λ:540nmの条件で全面一定膜厚に成膜する。
(4)最表層の成膜が完了したら蒸着装置から取り出す。
取り出された状態は図9(a)の状態になる。
(5)NDフィルタを絞り羽根に固定する基準位置と濃度境界部の距離を確認して図9(b)のように外形プレス抜きを行う。
(6)プレス抜きされたNDフィルタを張り付け位置を確認しながら図1のように絞り羽根に接着する。
以上が、本実施の形態におけるNDフィルタの製造工程の概略である。
Next, an example of a method for manufacturing the ND filter in this embodiment will be described.
Here, a method for producing an ND filter with continuously changing transmittance as shown in FIG. 4D, or a case in which a rib is formed on a base material before vapor deposition will be described. It is not limited.
(1) First, a reference hole for fitting a reference pin provided in a vapor deposition jig is provided in a base material on which a rib is formed.
(2) The reference hole is fitted into the reference pin of the vapor deposition jig 50 shown in FIG. 8, the base material 90 is fixed to the vapor deposition jig 50, and the vapor deposition pattern forming mask 51 is set.
(3) The vapor deposition jig 50 is set in the vapor deposition apparatus 40, and the laminated film of FIG.
At this time, the necessary transmittance is adjusted by the film thickness of the laminated film. At the time of vapor deposition of the outermost layer, the vapor deposition pattern forming mask is removed, and the entire surface is formed with a constant film thickness under the condition of λλλ: 540 nm.
(4) When film formation of the outermost layer is completed, the film is taken out from the vapor deposition apparatus.
The extracted state becomes the state shown in FIG.
(5) After confirming the distance between the reference position for fixing the ND filter to the diaphragm blade and the density boundary portion, the outer shape is punched as shown in FIG.
(6) Adhere the pressed ND filter to the aperture blade as shown in FIG.
The above is the outline of the manufacturing process of the ND filter in the present embodiment.

本実施の形態のNDフィルタによれば、リブを設けない基材を用いて作製した従来例のNDフィルタと比べ、反り量を小さくすることができる。
また、本実施の形態のNDフィルタによれば、蒸着膜を厚く形成することができ、より高濃度のNDフィルタを作製する際にも、NDフィルタの反り量を少なくすることが可能となる。
例えば、可視光透過率が10%以下のフィルタを作成することができ、撮像機器の高画質化が可能となる。
特に、上記したように蒸着前にリブを図5(a)のように形成したものでは、蒸着膜を厚くして透過率を低くしても、しわやクラックの発生を抑えることが可能となる。
また、本実施の形態のNDフィルタを用いて光量絞り装置を作製し、その光量絞り装置を撮影装置に組み込むことで、高画質な撮影装置を提供することができる。例えば、本実施の形態のNDフィルタを撮影装置に組み込むに際しては、フィルタに形成されたリブ(凸部)は光束の透過しない領域に位置するように構成することで、リブ(凸部)による画像の乱れを防止することができる。
According to the ND filter of the present embodiment, the amount of warpage can be reduced as compared with a conventional ND filter manufactured using a base material without a rib.
In addition, according to the ND filter of the present embodiment, the vapor deposition film can be formed thick, and the amount of warpage of the ND filter can be reduced even when a higher concentration ND filter is manufactured.
For example, a filter having a visible light transmittance of 10% or less can be created, and the image quality of the imaging device can be improved.
In particular, in the case where the rib is formed as shown in FIG. 5A before vapor deposition as described above, even if the vapor deposition film is thickened and the transmittance is lowered, the generation of wrinkles and cracks can be suppressed. .
In addition, a light quantity diaphragm device is manufactured using the ND filter of this embodiment, and the light quantity diaphragm device is incorporated in the photographing apparatus, whereby a high-quality photographing apparatus can be provided. For example, when the ND filter according to the present embodiment is incorporated into an imaging apparatus, the rib (convex portion) formed on the filter is configured to be positioned in a region where light flux does not transmit, so that an image by the rib (convex portion) is formed. Can be prevented.

以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はこのような実施例によって何ら限定されるものではない。
[実施例1]
実施例1においては、樹脂フィルムを加熱プレスして図5(a)に示す凹凸形状のリブを形成した。
樹脂フィルムとしてはNDフィルタとして一般的に利用される厚み75μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)を使用した。
リブの形成は図6に示すプレス型を用いた。プレス型には凹凸形状のリブを形成するため、凸部を設けた上型61と凹部を設けた下型62からなり、凹凸の高さは0.3mmに加工してあるものを用いた。
リブの形成に際し、まずプレス型は100℃に加熱し、樹脂フィルム80をプレス型61、62の間にセット後、プレス型で挟み込み圧力をかける。
そして、プレス型を開き凸部が形成された樹脂フィルム80を取り出す。
こうして得られた樹脂フィルム80を基材90として、NDフィルタを作製した。
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to such examples.
[Example 1]
In Example 1, the resin film was hot-pressed to form uneven ribs shown in FIG.
As the resin film, 75 μm thick PET (polyethylene terephthalate) generally used as an ND filter was used.
The press mold shown in FIG. 6 was used for forming the rib. In order to form a concavo-convex rib on the press die, an upper die 61 provided with a convex portion and a lower die 62 provided with a concave portion were used, and the height of the concavo-convex portion was processed to 0.3 mm.
In forming the ribs, first, the press die is heated to 100 ° C., the resin film 80 is set between the press dies 61 and 62, and then sandwiched by the press dies to apply pressure.
Then, the press mold is opened and the resin film 80 on which the convex portions are formed is taken out.
Using the resin film 80 thus obtained as a base material 90, an ND filter was produced.

本実施例においては最高濃度部の透過率が6.3%で連続的に透過率が変化するNDフィルタを以下の手順で作製した。
(1)まず、樹脂フィルムに凸部を設けた基材90に蒸着治具に設けられた基準ピンをはめ込むための基準穴部を設けた。
(2)基準穴部を蒸着治具50の基準ピンに嵌め込んで、基材90を蒸着治具に固定し、さらに蒸着パターン形成用マスク51をセットした。
(3)蒸着治具を蒸着装置40にセットし図7に示す9層構成の積層膜を蒸着した。このとき基板加熱温度は110℃に設定し、積層膜はAl23とTi23の交互層に最表層としてMgF2を成膜した。
このとき、最高濃度部の透過率が6.3%になるように各層の膜厚を設定した。また、最表層となるMgF2の蒸着時には蒸着パターン形成用マスクを外して、1λ/4 λ:540nmの条件で全面一定膜厚に成膜した。
(4)最表層の成膜が完了したら蒸着装置から取り出した。取り出された状態は図9(a)の状態になる。
(5)NDフィルタを絞り羽根に固定する基準位置を確認して、最終寸法に外形プレス抜きを行った。
また同様にして透過率が25.1%、12.6%、10%、3.2%と濃度を変えたNDフィルタを作製した。
In this example, an ND filter in which the transmittance at the highest density portion was 6.3% and the transmittance was continuously changed was manufactured by the following procedure.
(1) First, a reference hole portion for fitting a reference pin provided in a vapor deposition jig was provided in a base material 90 provided with a convex portion on a resin film.
(2) The reference hole portion was fitted into the reference pin of the vapor deposition jig 50, the base material 90 was fixed to the vapor deposition jig, and the vapor deposition pattern forming mask 51 was set.
(3) The vapor deposition jig was set in the vapor deposition apparatus 40, and the 9-layer laminated film shown in FIG. At this time, the substrate heating temperature was set to 110 ° C., and the laminated film was formed with MgF 2 as an outermost layer in an alternating layer of Al 2 O 3 and Ti 2 O 3 .
At this time, the film thickness of each layer was set so that the transmittance of the highest density portion was 6.3%. Further, when vapor-depositing MgF 2 as the outermost layer, the deposition pattern forming mask was removed, and the entire surface was formed with a constant film thickness under the condition of 1λ / 4λ: 540 nm.
(4) When film formation of the outermost layer was completed, the film was taken out from the vapor deposition apparatus. The extracted state becomes the state shown in FIG.
(5) The reference position for fixing the ND filter to the aperture blade was confirmed, and the outer shape was punched to the final dimension.
Similarly, ND filters having different transmittances of 25.1%, 12.6%, 10%, and 3.2% were prepared.

(比較例)
比較例として、基材90にリブを設けていない樹脂フィルムを使用し、実施例と同様の手順でNDフィルタを作製した。
こうして得られたNDフィルタを絞り羽根に接着し、その反り量を実施例1で得られたNDフィルタと比較した。
このとき作製したNDフィルタの寸法と測定方法を図10に示し、表1にNDフィルタの反り量の比較結果を示す。
(Comparative example)
As a comparative example, an ND filter was produced in the same procedure as in the example using a resin film having no ribs on the substrate 90.
The ND filter thus obtained was bonded to the aperture blade, and the amount of warpage thereof was compared with that of the ND filter obtained in Example 1.
The dimensions of the ND filter produced at this time and the measuring method are shown in FIG. 10, and Table 1 shows a comparison result of the warpage amount of the ND filter.

Figure 2007101709
Figure 2007101709

表1から明らかなように、基材に凹凸部によるリブを設けることによりNDフィルタの反り量が改善されている。
また、特に透過率10%以下で本実施例による効果が顕著に現れる。
さらに、比較例として作製したリブ無しのNDフィルタは透過率3.2%でクラックが発生したが、実施例1により作製したNDフィルタでは透過率3.2%でもクラックの発生は見られなかった。
As is clear from Table 1, the warpage amount of the ND filter is improved by providing ribs with the uneven portions on the base material.
In particular, the effect of the present embodiment is remarkable when the transmittance is 10% or less.
Further, the ribless ND filter produced as a comparative example generated cracks at a transmittance of 3.2%, but the ND filter produced according to Example 1 showed no cracks even at a transmittance of 3.2%. .

[実施例2]
実施例2においては、蒸着膜の形成後に紫外線硬化型アクリル系樹脂をディスペンサーを用いて塗布することにより、図5(b)の形状のリブを形成した。
なお本実施例においてはアクリル系樹脂を使用したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂の他、セラミックや金属の厚膜ペーストなども使用可能である。
リブの形成方法も、塗布の他にスプレー、スクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などが利用できる。
[Example 2]
In Example 2, a rib having the shape of FIG. 5B was formed by applying an ultraviolet curable acrylic resin using a dispenser after the formation of the deposited film.
In this embodiment, an acrylic resin is used, but the present invention is not limited to this.
For example, in addition to resins such as epoxy resin, melamine resin, phenol resin, polyethylene, polystyrene, polycarbonate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, ceramic or metal thick film pastes can be used.
As the rib forming method, spraying, screen printing, letterpress printing, intaglio printing, offset printing, ink jet printing and the like can be used in addition to coating.

本実施例においては、NDフィルタを以下の手順で作製した。
(1)まず、樹脂フィルムに蒸着治具に設けられた基準ピンをはめ込むための基準穴部を設け基材90を作製した。
(2)基準穴部を蒸着治具50の基準ピンに嵌め込んで、基材90を蒸着治具に固定し、さらに蒸着パターン形成用マスク51をセットした。
(3)蒸着治具を蒸着装置40にセットし図7に示す9層構成の積層膜を蒸着した。その際、基板加熱温度は110℃に設定し、積層膜はAl23とTi23の交互層に最表層としてMgF2を成膜した。
このとき、最高濃度部の透過率が6.3%になるように各層の膜厚を設定した。また、最表層となるMgF2の蒸着時には蒸着パターン形成用マスクを外して、1λ/4 λ:540nmの条件で全面一定膜厚に成膜した。
(4)最表層の成膜が完了したら蒸着装置から取り出した。
(5)取り出した基材90の凸部を形成する位置に、紫外線硬化型アクリル樹脂をディスペンサーを用いて塗布した。
その後、所定の硬化条件にてUV照射を行いアクリル樹脂を硬化させた。このとき形成された凸部は幅0.7mm、高さ0.5mmであった。
(6)NDフィルタを絞り羽根に固定する基準位置を確認して、最終寸法に外形プレス抜きを行った。
In the present example, an ND filter was produced by the following procedure.
(1) First, a base material 90 was prepared by providing a reference hole for fitting a reference pin provided on a vapor deposition jig on a resin film.
(2) The reference hole portion was fitted into the reference pin of the vapor deposition jig 50, the base material 90 was fixed to the vapor deposition jig, and the vapor deposition pattern forming mask 51 was set.
(3) The vapor deposition jig was set in the vapor deposition apparatus 40, and the 9-layer laminated film shown in FIG. At that time, the substrate heating temperature was set to 110 ° C., and the laminated film was formed with MgF 2 as an outermost layer in alternating layers of Al 2 O 3 and Ti 2 O 3 .
At this time, the film thickness of each layer was set so that the transmittance of the highest density portion was 6.3%. Further, when vapor-depositing MgF 2 as the outermost layer, the deposition pattern forming mask was removed, and the entire surface was formed with a constant film thickness under the condition of 1λ / 4λ: 540 nm.
(4) When film formation of the outermost layer was completed, the film was taken out from the vapor deposition apparatus.
(5) An ultraviolet curable acrylic resin was applied to the position where the convex portions of the substrate 90 were formed using a dispenser.
Thereafter, UV irradiation was performed under predetermined curing conditions to cure the acrylic resin. The convex part formed at this time was 0.7 mm in width and 0.5 mm in height.
(6) The reference position for fixing the ND filter to the aperture blade was confirmed, and the outer shape was punched to the final dimension.

本実施例においては、基材と別部材によってリブを形成するので、凸部の厚みを厚くすることができ、より強固なリブを形成することが可能となる。
このようにして得られたNDフィルタを絞り羽根に接着し、その反り量を実施例1と比較したところ、表2に示すようにさらに小さくすることができた。
In this embodiment, since the rib is formed by a member different from the base material, the thickness of the convex portion can be increased, and a stronger rib can be formed.
When the ND filter thus obtained was bonded to the diaphragm blade and the amount of warpage thereof was compared with Example 1, it was possible to further reduce the warpage as shown in Table 2.

Figure 2007101709
Figure 2007101709

以上の実施例1及び実施例2で作製したNDフィルタを、デジタルカメラの光量絞り装置の光量調整部材として使用したところ、リブ(凸部)の形成されていないNDフィルタを使用したものに比べ良好な画像が得られた。
また、基材となる樹脂フィルムは機械的強度を増すために一方向に延伸をかける1軸延伸加工や二方向に延伸をかける2軸延伸加工が施されることが多いが、このようなフィルムは加熱時、延伸方向の収縮が大きいので延伸方向に反り易い。
2軸延伸であれば一般的にはロール方向の延伸力が強く主延伸となり、主延伸の方向の方がその直交する方向より熱収縮が大きくなる。
よって本発明によるリブ形成の方向も延伸方向、2軸延伸であれば主延伸方向に近い方がより大きな効果が得られる。
When the ND filter produced in Example 1 and Example 2 described above is used as a light quantity adjusting member of a light quantity diaphragm device of a digital camera, it is better than that using an ND filter in which no rib (convex part) is formed. A good image was obtained.
In addition, the resin film used as the base material is often subjected to uniaxial stretching processing that stretches in one direction or biaxial stretching processing that stretches in two directions in order to increase mechanical strength. When heated, the film tends to warp in the stretching direction because of a large shrinkage in the stretching direction.
In the case of biaxial stretching, generally, the stretching force in the roll direction is strong and becomes main stretching, and the heat shrinkage is larger in the direction of main stretching than in the direction perpendicular thereto.
Therefore, if the direction of rib formation according to the present invention is also a stretching direction and a biaxial stretching, a greater effect is obtained when it is closer to the main stretching direction.

本発明の実施の形態におけるNDフィルタの模式図。The schematic diagram of the ND filter in embodiment of this invention. 従来例におけるNDフィルタの模式図。The schematic diagram of the ND filter in a prior art example. 本発明の実施の形態におけるNDフィルタを用いた光量調節装置を組込んだ撮影装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the imaging device incorporating the light quantity adjustment apparatus using ND filter in embodiment of this invention. 本発明の実施の形態におけるNDフィルタの透過率パターンを説明する図。The figure explaining the transmittance | permeability pattern of the ND filter in embodiment of this invention. 本発明の実施の形態におけるNDフィルタに設けられるリブの構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the rib provided in the ND filter in embodiment of this invention. 本発明の実施例1におけるNDフィルタにリブを形成する際に用いるプレス型を説明する図。The figure explaining the press die used when forming a rib in the ND filter in Example 1 of this invention. 本発明の実施の形態におけるNDフィルタにおける積層膜の膜構造を示す図。The figure which shows the film | membrane structure of the laminated film in the ND filter in embodiment of this invention. 本発明の実施の形態及び実施例におけるNDフィルタを形成する際に用いられる蒸着装置および蒸着治具の概略図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Schematic of the vapor deposition apparatus and vapor deposition jig used when forming the ND filter in embodiment and Example of this invention. 本発明の実施の形態及び実施例におけるNDフィルタの作製方法を説明する概略図。Schematic explaining the manufacturing method of the ND filter in Embodiment and the Example of this invention. 本発明の実施例1と比較例におけるNDフィルタの反り量比較を説明する図。The figure explaining the curvature amount comparison of the ND filter in Example 1 and a comparative example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11:NDフィルタ
12:絞り羽根
13:リブ
14:接着剤
36:撮影光学系
36A,36B、36C、36D:レンズ
32、33:絞り羽根
34:絞り羽根支持板
37:固体撮像素子
38:ローパスフィルタ
40:蒸着装置
41:回転ドーム
42:蒸着源
50:蒸着治具
51:蒸着パターン形成用マスク
61、62:プレス型
80:樹脂フィルム
90:基材
11: ND filter 12: Diaphragm blade 13: Rib 14: Adhesive 36: Imaging optical systems 36A, 36B, 36C, 36D: Lens 32, 33: Diaphragm blade 34: Diaphragm blade support plate 37: Solid-state imaging device 38: Low-pass filter 40: Vapor deposition apparatus 41: Rotating dome 42: Vapor deposition source 50: Vapor deposition jig 51: Mask for vapor deposition pattern formation 61, 62: Press die 80: Resin film 90: Substrate

Claims (11)

透過光量を調節するNDフィルタであって、該NDフィルタは樹脂による基体上に積層膜を備え、該基体に連続または不連状のリブが形成されていることを特徴とするNDフィルタ。   An ND filter for adjusting the amount of transmitted light, wherein the ND filter includes a laminated film on a resin base, and continuous or discontinuous ribs are formed on the base. 前記リブは、塑性加工により形成されていることを特徴とする請求項1に記載のNDフィルタ。   The ND filter according to claim 1, wherein the rib is formed by plastic working. 前記塑性加工によるリブは、前記基体上に積層膜を形成する前に、前記基体に形成されることを特徴とする請求項2に記載のNDフィルタ。   3. The ND filter according to claim 2, wherein the rib formed by the plastic working is formed on the base body before the laminated film is formed on the base body. 前記塑性加工によるリブは、前記基体の一方の面に形成された凸部と、該凸部に対応させて前記基体の他方の面に形成された凹部によって構成されていることを特徴とする請求項3に記載のNDフィルタ。   The rib formed by the plastic working is constituted by a convex portion formed on one surface of the base body and a concave portion formed on the other surface of the base body corresponding to the convex portion. Item 5. The ND filter according to Item 3. 前記リブは、前記基体に塗布あるいは印刷により形成された凸部によって構成されていることを特徴とする請求項1に記載のNDフィルタ。   The ND filter according to claim 1, wherein the rib is formed by a convex portion formed on the substrate by coating or printing. 前記リブは、前記NDフィルタの縁部を折り曲げて形成された凸部によって構成されていることを特徴とする請求項1に記載のNDフィルタ。   The ND filter according to claim 1, wherein the rib is configured by a convex portion formed by bending an edge portion of the ND filter. 前記NDフィルタは、均一な透過率に設定された領域、あるいは透過率が連続的に変化する透過率勾配の領域を有し、
前記透過率のうち最も低い透過率の領域における可視光透過率が、10%以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のNDフィルタ。
The ND filter has a region set to a uniform transmittance or a region of a transmittance gradient in which the transmittance continuously changes,
The ND filter according to any one of claims 1 to 6, wherein a visible light transmittance in a region of the lowest transmittance among the transmittances is 10% or less.
透過光量を調節するNDフィルタの製造方法であって、
樹脂による基体に、連続または不連状のリブを塑性加工によって形成する工程と、
前記リブの形成された基体上に、蒸着によって光吸収層と誘電体層からなる積層膜を形成する工程と、
を有することを特徴とするNDフィルタの製造方法。
A method of manufacturing an ND filter that adjusts the amount of transmitted light,
Forming a continuous or discontinuous rib on a resin base by plastic working;
Forming a laminated film composed of a light absorption layer and a dielectric layer by vapor deposition on the rib-formed substrate;
A method for producing an ND filter, comprising:
透過光量を調節するNDフィルタの製造方法であって、
前記基体上に、蒸着によって光吸収層と誘電体層からなる積層膜を形成する工程と、
前記工程によって積層膜を形成した後、前記基体に塗布あるいは印刷によって凸部からなる連続または不連状のリブを形成する工程と、
を有することを特徴とするNDフィルタの製造方法。
A method of manufacturing an ND filter that adjusts the amount of transmitted light,
Forming a laminated film composed of a light absorption layer and a dielectric layer on the substrate by vapor deposition;
Forming a continuous or discontinuous rib consisting of convex portions by coating or printing on the substrate after forming the laminated film by the step; and
A method for producing an ND filter, comprising:
透過光量を調節するNDフィルタの製造方法であって、
前記基体上に、蒸着によって光吸収層と誘電体層からなる積層膜を形成する工程と、
前記工程によって積層膜を形成した後、NDフィルタを外形プレス抜きする工程と、
前記外形プレス抜きされたNDフィルタの縁部を折り曲げて、該NDフィルタに連続または不連状のリブを形成する工程と、
を有することを特徴とするNDフィルタの製造方法。
A method of manufacturing an ND filter that adjusts the amount of transmitted light,
Forming a laminated film composed of a light absorption layer and a dielectric layer on the substrate by vapor deposition;
After forming the laminated film by the above process, the process of punching out the ND filter by external press,
Bending the edge of the externally stamped ND filter to form continuous or discontinuous ribs on the ND filter;
A method for producing an ND filter, comprising:
請求項1〜7のいずれか1項に記載のNDフィルタまたは請求項8〜10のいずれか1項に記載のNDフィルタの製造方法によって製造されたNDフィルタを備えた光量調節部材と、該光量調節部材を駆動する駆動手段とを有し、
前記光量調節部材の駆動量に応じて所定の開口部を透過する光束の透過量が調節される光量絞り装置であって、
前記光量絞り装置の光束の透過しない領域に前記NDフィルタのリブが位置するように構成されていることを特徴とする光量絞り装置。
The light quantity adjusting member provided with the ND filter of any one of Claims 1-7, or the ND filter manufactured by the manufacturing method of the ND filter of any one of Claims 8-10, and this light quantity Drive means for driving the adjustment member,
A light amount diaphragm device in which a transmission amount of a light beam passing through a predetermined opening is adjusted according to a driving amount of the light amount adjustment member,
The light quantity diaphragm device is configured such that a rib of the ND filter is located in a region where the light flux of the light quantity diaphragm device is not transmitted.
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