JP2007095469A - Chip fuse device and method of manufacturing same - Google Patents

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Hiroiku Tsunoda
宏郁 角田
Katsuhiko Igarashi
克彦 五十嵐
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the resistance of a fuse element and to facilitate the control of the resistance value of the fuse element, in a chip type fuse device composed by forming a fuse element by using, for instance, a low-cost printing method. <P>SOLUTION: The chip fuse device is provided with the fuse element having a porous structure. When the fuse element is formed by printing fuse element paste containing meta particles and by sintering the metal particles in an oxidizing atmosphere, fuse element paste containing volatile particles vaporizing by the sintering is used. It is preferable that graphite particles are used as the volatile particles. It is preferable that at least one kind selected from Ag particles and Au particles is used for the metal particles. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は新規な可溶体を備えるチップ型ヒューズ素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a chip-type fuse element having a novel fusible body and a method for manufacturing the same.

チップ型ヒューズ素子としては、絶縁基板上に金属被膜等からなる幅狭の可溶体を形成し、可溶体の両端に端子電極を接続した構造のものが知られている。このような可溶体を形成する方法としては、蒸着やスパッタ等の薄膜法を利用した方法(例えば特許文献1、特許文献2等参照)がある。この方法では、薄膜法で薄い可溶体を形成した後、リソグラフィー技術で細線化を図ることができ、可溶体の高抵抗化が容易であるという利点がある。しかしながら、蒸着やスパッタ等の薄膜法には真空技術が必要となり、大規模な製造設備等を要するため、チップ型ヒューズ素子のコストの大幅な上昇を招くという問題がある。   As a chip-type fuse element, one having a structure in which a narrow fusible body made of a metal film or the like is formed on an insulating substrate and terminal electrodes are connected to both ends of the fusible body is known. As a method for forming such a soluble material, there is a method using a thin film method such as vapor deposition or sputtering (see, for example, Patent Document 1, Patent Document 2, etc.). In this method, after forming a thin soluble body by a thin film method, thinning can be achieved by a lithography technique, and there is an advantage that the resistance of the soluble body can be easily increased. However, a thin film method such as vapor deposition or sputtering requires a vacuum technique and requires a large-scale manufacturing facility, which causes a problem that the cost of the chip-type fuse element is significantly increased.

そこで近年、印刷法が大きな注目を集めている。例えば特許文献3等においては、Ag系のペーストのスクリーン印刷による厚膜技術を用いて可溶体を形成することが記載されている。印刷法は蒸着やスパッタで必要とされるような大規模な製造設備が不要であることから、チップ型ヒューズ素子の製造コストを大幅に低減可能な方法として期待されている。
特開平6−176680号公報 特開2003−173728号公報 特開2002−140975号公報
In recent years, therefore, printing methods have attracted much attention. For example, Patent Document 3 describes that a soluble material is formed using a thick film technique based on screen printing of an Ag-based paste. Since the printing method does not require a large-scale production facility required for vapor deposition or sputtering, it is expected as a method that can greatly reduce the manufacturing cost of the chip-type fuse element.
JP-A-6-176680 JP 2003-173728 A JP 2002-140975 A

しかしながら、印刷法で可溶体を形成したチップ型ヒューズ素子においては、可溶体の細線化及び薄膜化に限界があるため、前記薄膜法(蒸着、スパッタ)で形成される可溶体と比較して可溶体の断面積が大きくなる傾向にある。そのため、印刷法で形成される可溶体の抵抗値は低いものとなり、結果として可溶体の溶断に必要なジュール熱を確保できず、良好な溶断特性が得られないという問題がある。   However, a chip-type fuse element in which a fusible body is formed by a printing method has limitations in thinning and thinning the fusible body, so that it can be used in comparison with the fusible body formed by the thin film method (evaporation, sputtering). The cross-sectional area of the solution tends to increase. Therefore, the resistance value of the fusible body formed by the printing method is low, and as a result, there is a problem that Joule heat necessary for fusing the fusible body cannot be ensured and good fusing characteristics cannot be obtained.

また、チップ型ヒューズ素子の製造者は、ユーザーの用途に合わせて溶断される電流値(定格電流)の異なるチップ型ヒューズ素子を揃えておく必要がある。一般に定格電流は可溶体の抵抗値で決まることから、様々な抵抗値を示すチップ型ヒューズ素子を作製するに際しては可溶体の抵抗値を容易に制御する方法が重要となる。   In addition, a manufacturer of chip-type fuse elements needs to prepare chip-type fuse elements having different current values (rated currents) that are fused in accordance with the user's application. Since the rated current is generally determined by the resistance value of the fusible body, a method of easily controlling the resistance value of the fusible body is important when manufacturing a chip-type fuse element having various resistance values.

そこで本発明はこのような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、例えば低コストな印刷法を利用して可溶体を形成したチップ型ヒューズ素子において、可溶体の高抵抗化を図るとともに、可溶体の抵抗値制御を容易なものとすることが可能なチップ型ヒューズ素子及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation. For example, in a chip-type fuse element in which a fusible body is formed using a low-cost printing method, the fusible body has a high resistance. An object of the present invention is to provide a chip-type fuse element that can easily control the resistance value of a fusible body and a method for manufacturing the same.

前述の目的を達成するために、本発明に係るチップ型ヒューズ素子は、多孔質構造の可溶体を備えることを特徴とする。   In order to achieve the above-described object, a chip-type fuse element according to the present invention includes a fusible body having a porous structure.

以上のようなチップ型ヒューズ素子の可溶体においては、可溶体中に多数の空隙を存在させて、単位体積あたりの可溶体材料の占める割合を減少させている。このため、従来型の緻密な可溶体に比べて可溶体の実効的な断面積が減少することになり、可溶体の実際の断面積が太い場合であっても高抵抗値を示す可溶体が実現される。また、以上のようなチップ型ヒューズ素子においては、金属と空隙との比率を変更することで可溶体の抵抗値を任意に制御できるため、様々な規格(定格電流)のチップ型ヒューズ素子が実現される。   In the fusible body of the chip-type fuse element as described above, a large number of voids are present in the fusible body to reduce the proportion of the fusible material per unit volume. Therefore, the effective cross-sectional area of the fusible body is reduced as compared with the conventional dense fusible body, and even if the actual cross-sectional area of the fusible body is thick, the fusible body showing a high resistance value is obtained. Realized. In addition, in the chip type fuse element as described above, the resistance value of the fusible element can be arbitrarily controlled by changing the ratio of the metal to the air gap, so that chip type fuse elements of various standards (rated current) are realized. Is done.

また、本発明に係るチップ型ヒューズ素子の製造方法は、金属粒子を含む可溶体ペーストを印刷し、酸化性雰囲気中で前記金属粒子を焼結させることにより可溶体を形成するチップ型ヒューズ素子の製造方法であって、前記可溶体ペーストは前記焼結により揮発する揮発性粒子を含むことを特徴とする。さらに、本発明に係るチップ型ヒューズ素子の製造方法は、金属粒子を含む可溶体ペーストを印刷し、酸化性雰囲気中で熱処理した後、還元性雰囲気中で前記金属粒子を焼結させることにより可溶体を形成するチップ型ヒューズ素子の製造方法であって、前記可溶体ペーストは前記熱処理により揮発する揮発性粒子を含むことを特徴とする。   In addition, a method for manufacturing a chip-type fuse element according to the present invention includes a chip-type fuse element that forms a soluble body by printing a soluble paste containing metal particles and sintering the metal particles in an oxidizing atmosphere. It is a manufacturing method, Comprising: The said soluble body paste contains the volatile particle | grains volatilized by the said sintering. Furthermore, the method for manufacturing a chip-type fuse element according to the present invention is possible by printing a soluble paste containing metal particles, heat-treating in an oxidizing atmosphere, and then sintering the metal particles in a reducing atmosphere. A method of manufacturing a chip-type fuse element for forming a solution, wherein the soluble paste includes volatile particles that volatilize by the heat treatment.

多孔質構造を形成するための揮発性粒子を可溶体ペーストに含ませることで、多孔質構造を有し、高抵抗値を示す可溶体の形成が実現される。また、可溶体ペーストにおける各種粒子の配合比率を変えることで、可溶体における金属と空隙との存在比を制御し、結果として可溶体の抵抗値を制御することができる。したがって、材料の制約が大きい印刷法を用いた場合であっても、所望の抵抗値を有する可溶体が容易に形成される。さらには、印刷法を利用するため、印刷法の利点である低コスト化が実現される。   By including the volatile particles for forming the porous structure in the soluble paste, formation of a soluble body having a porous structure and showing a high resistance value is realized. Further, by changing the blending ratio of various particles in the soluble paste, the abundance ratio between the metal and the void in the soluble body can be controlled, and as a result, the resistance value of the soluble body can be controlled. Therefore, even when a printing method with large material restrictions is used, a soluble material having a desired resistance value is easily formed. Furthermore, since the printing method is used, cost reduction that is an advantage of the printing method is realized.

本発明によれば、細線化及び薄膜化が困難な印刷法を利用しながらも可溶体の高抵抗化を実現し、溶断特性に優れたチップ型ヒューズ素子を提供することが可能である。また、本発明によれば、可溶体における金属と空隙の比率を制御することで可溶体の抵抗値を制御できるため、チップ型ヒューズ素子の設計自由度が向上し、多様な定格電流を有するチップ型ヒューズ素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to provide the chip-type fuse element which implement | achieved high resistance of a soluble body and was excellent in the fusing characteristic, utilizing the printing method which is difficult to make a thin line and a thin film. In addition, according to the present invention, the resistance value of the fusible body can be controlled by controlling the ratio of the metal to the gap in the fusible body, so that the design flexibility of the chip-type fuse element is improved and the chip having various rated currents A mold fuse element can be provided.

以下、本発明を適用したチップ型ヒューズ素子及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, a chip-type fuse element to which the present invention is applied and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the drawings.

本発明を適用したチップ型ヒューズ素子は、図1(a),(b)に示すように、チップ状の基板1と、基板1上に形成された可溶体2とを基本的に備えるものである。ここで、可溶体2は、印刷法を利用して厚膜に形成されても、スパッタ法等を利用して薄膜に形成されても構わないが、スパッタ法等の薄膜法を利用する場合に比較して製造コストの大幅な削減が可能であり、低価格なチップ型ヒューズ素子を提供し得る点において、印刷法は好適な技術である。したがって、以下では主に、印刷法により形成された可溶体2を有するチップ型ヒューズ素子を想定して説明する。   A chip-type fuse element to which the present invention is applied basically includes a chip-like substrate 1 and a fusible body 2 formed on the substrate 1, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). is there. Here, the fusible body 2 may be formed into a thick film using a printing method or a thin film using a sputtering method or the like, but when a thin film method such as a sputtering method is used. The printing method is a suitable technique in that the manufacturing cost can be greatly reduced as compared with that a low-cost chip-type fuse element can be provided. Therefore, the following description will be made mainly assuming a chip-type fuse element having a fusible body 2 formed by a printing method.

基板1は、可溶体2の支持体となるものであり、例えば角形状に形成されている。基板1を構成する材料としては限定されるものではなく、この種のチップ型ヒューズ素子に用いられる材料をいずれも使用可能である。基板1を構成する材料としては、例えば、低い熱伝導性を示す絶縁材料を用いることができ、より具体的には、Al、ガラスセラミック等の絶縁材料を用いることができる。 The board | substrate 1 becomes a support body of the soluble body 2, for example, is formed in square shape. The material constituting the substrate 1 is not limited, and any material used for this type of chip-type fuse element can be used. As a material constituting the substrate 1, for example, an insulating material exhibiting low thermal conductivity can be used, and more specifically, an insulating material such as Al 2 O 3 or glass ceramic can be used.

可溶体2は、例えば定格電流の2倍を超えるような過大な電流が流れたときに溶断することにより、チップ型ヒューズ素子が組み込まれた電気回路等の保護を図るものである。本発明のチップ型ヒューズ素子においては、可溶体2が多孔質構造である点に特徴の1つがある。詳細は後述するが、可溶体2の多孔質構造は、例えば可溶体ペーストに所定の大きさを有する揮発性粒子を含ませるとともに、可溶体ペーストの焼成時に揮発性粒子を揮発させることにより形成したものである。   The fusible body 2 is intended to protect an electric circuit or the like in which a chip-type fuse element is incorporated by fusing when an excessive current that exceeds twice the rated current flows, for example. The chip-type fuse element of the present invention is characterized in that the fusible body 2 has a porous structure. Although the details will be described later, the porous structure of the soluble body 2 is formed by, for example, including the volatile particles having a predetermined size in the soluble body paste and volatilizing the volatile particles during firing of the soluble body paste. Is.

なお、本発明における「多孔質構造」とは、可溶体断面の組織写真を画像解析ソフトによって解析し、空隙部分と可溶体金属部分との面積比率を算出したとき、可溶体金属の比率が90%以下である場合を指すこととする。例えば印刷法により可溶体を形成する場合、金属粒子が焼結する過程で金属粒子間の空隙が減少することにより緻密化するが、前記空隙は完全には消滅しない。このため、従来型の可溶体においても極めて微細な空間が無数に残存することになる。しかしながら、可溶体の高抵抗化を考えた場合、このような必然的に生じる微細空間では無意味である。本発明では、例えば後述するような揮発性粒子を用いること等により、可溶体金属の比率が90%以下となるような比較的大量の空隙を積極的に形成することが重要となる。   The “porous structure” in the present invention means that the ratio of the soluble metal is 90 when the structure photograph of the cross section of the soluble body is analyzed by image analysis software and the area ratio between the void portion and the soluble metal portion is calculated. % Refers to the case of less than or equal to%. For example, when a soluble material is formed by a printing method, the metal particles are densified by decreasing the gaps between the metal particles during the sintering process, but the gaps are not completely eliminated. For this reason, countless extremely fine spaces remain in the conventional soluble body. However, when considering increasing the resistance of the fusible body, such an inevitable fine space is meaningless. In the present invention, it is important to actively form a relatively large amount of voids such that the ratio of the soluble metal is 90% or less by using, for example, volatile particles as described later.

可溶体2を構成する金属としては、例えばAg、Au、Pt、Cu等が挙げられる。中でも、特殊な制御を必要とすることなく大気中焼成が可能となるため、Ag、Au、Ptから選ばれる1種が好ましく、中でもAg、Auが好ましく、特にAgが好ましい。   Examples of the metal constituting the soluble body 2 include Ag, Au, Pt, and Cu. Especially, since baking in air | atmosphere is attained without requiring special control, 1 type chosen from Ag, Au, and Pt is preferable, and Ag and Au are especially preferable and Ag is especially preferable.

可溶体2の平面形状は、例えば図1に示すような、電極3間に幅狭の狭隘部を持つ形状とされるが、これに限らず様々な形状とすることができる。   The planar shape of the fusible body 2 is, for example, a shape having a narrow narrow portion between the electrodes 3 as shown in FIG. 1, but is not limited thereto, and can be various shapes.

可溶体2の両端には、外部電極となる端子電極3が接続される。端子電極3の構成は特に限定されるものではなく、例えばAg、Pt、Pd等の良導電材料を含む厚膜、前記良導電材料のめっき膜、前記良導電材料を含む樹脂等から構成される。   Terminal electrodes 3 serving as external electrodes are connected to both ends of the fusible body 2. The configuration of the terminal electrode 3 is not particularly limited. For example, the terminal electrode 3 is composed of a thick film containing a good conductive material such as Ag, Pt, or Pd, a plating film of the good conductive material, a resin containing the good conductive material, or the like. .

また、チップ型ヒューズ素子は、一般に、可溶体2を被覆する保護層4を備える。保護層4は、可溶体2に所定の電流値を超える過電流が流れることによって可溶体2が溶断した際、溶断した可溶体2を確実に絶縁するとともに、可溶体2を構成する材料の飛散を防止するものである。保護層4としては、例えばZnO系ガラス、CaO系ガラス、Bi系ガラス、SrO系ガラス等のガラス、シリコーン樹脂等を用いることができる。 The chip-type fuse element generally includes a protective layer 4 that covers the fusible body 2. The protective layer 4 reliably insulates the melted fusible body 2 when the fusible melt 2 is blown by an overcurrent exceeding a predetermined current value flowing through the fusible melt 2 and scatters the material constituting the fusible melt 2. It is what prevents. As the protective layer 4, for example, glass such as ZnO-based glass, CaO-based glass, Bi 2 O 3 -based glass, SrO-based glass, silicone resin, or the like can be used.

さらに、図2に示すように、必要に応じて基板1と可溶体2との間に蓄熱層5を配置してもよい。蓄熱層5を構成する材料としては特に限定されないが、低い熱伝導性を示す材料を用いることが好ましく、例えばガラス等を挙げることができる。蓄熱層は、多孔質構造とすることもできる。   Furthermore, as shown in FIG. 2, a heat storage layer 5 may be disposed between the substrate 1 and the soluble body 2 as necessary. Although it does not specifically limit as a material which comprises the thermal storage layer 5, It is preferable to use the material which shows low heat conductivity, For example, glass etc. can be mentioned. The heat storage layer may have a porous structure.

以上のようなチップ型ヒューズ素子においては、可溶体2が多孔質構造であるため、実効的な断面積が小さいものとされる。したがって、可溶体2の実際の断面積が太い場合であっても可溶体2の高抵抗化を実現することができる。結果として、溶断時間の短縮や低電流溶断が達成され、溶断特性の向上を図ることができる。   In the chip-type fuse element as described above, since the fusible body 2 has a porous structure, the effective cross-sectional area is assumed to be small. Therefore, even if the actual cross-sectional area of the fusible body 2 is large, the resistance of the fusible body 2 can be increased. As a result, shortening of the fusing time and low current fusing are achieved, and the fusing characteristics can be improved.

また、可溶体2における金属と空隙との比率を変えることで、可溶体の抵抗値を所望の値に制御することができる。このため、チップ型ヒューズ素子において所望の抵抗値を得ることができる。   Moreover, the resistance value of a soluble body can be controlled to a desired value by changing the ratio of the metal and the space | gap in the soluble body 2. FIG. For this reason, a desired resistance value can be obtained in the chip-type fuse element.

以上のようなチップ型ヒューズ素子の製造方法は、可溶体がAg、Au、Pt等の比較的酸化し難い金属で構成される場合と、Cu等の比較的酸化し易い金属で構成される場合とで大きく分けられる。以下ではまず、Ag、Au、Pt等から選ばれる少なくとも1種を可溶体金属として用いたチップ型ヒューズ素子の製造方法について説明する。   In the manufacturing method of the chip-type fuse element as described above, the fusible body is composed of a metal that is relatively difficult to oxidize such as Ag, Au, and Pt, and the case that the fusible body is composed of a metal that is relatively easily oxidized such as Cu And can be roughly divided. Below, the manufacturing method of the chip-type fuse element which uses at least 1 sort (s) chosen from Ag, Au, Pt etc. as a soluble metal is demonstrated first.

先ず、基板1上に、可溶体ペーストを例えばスクリーン印刷等により所定形状に印刷する。ここで用いる可溶体ペーストは、少なくとも金属粒子と揮発性成粒子とを含み、これが有機ビヒクルと混合されて調製される。   First, a soluble paste is printed on the substrate 1 in a predetermined shape by, for example, screen printing. The soluble paste used here contains at least metal particles and volatile adult particles, which are prepared by mixing with an organic vehicle.

可溶体ペーストに含まれる金属粒子としては、例えば、Ag、Au、Pt等から選ばれる少なくとも1種を含む金属粒子が好ましい。Ag、Au及びPtは、特殊な制御を必要とすることなく大気中で焼成可能であるため、印刷法により可溶体2を形成するにあたって好適な材料である。中でもAg、Auが好ましく、特にAgを用いることが好ましい。   As the metal particles contained in the soluble paste, for example, metal particles containing at least one selected from Ag, Au, Pt and the like are preferable. Ag, Au, and Pt are suitable materials for forming the fusible body 2 by the printing method because they can be fired in the air without requiring special control. Of these, Ag and Au are preferable, and Ag is particularly preferable.

揮発性粒子とは、揮発することによって先に定義した多孔質構造を形成可能な粒子のことをいう。揮発性粒子としては、前記金属粒子が焼結する温度付近で揮発する材料である炭素粒子を用いることができる。特に、前記金属粒子を焼結させるための焼結温度付近で揮発する炭素粒子であることが好ましい。具体的には、焼結温度をT1℃としたとき、下記式(1)の関係を満たすような揮発温度Tcを持つ炭素粒子を用いることが好ましい。揮発性粒子の揮発温度Tcが焼結温度T1−200℃未満であると多孔質構造が形成されないおそれがあり、逆に揮発性粒子の揮発温度Tcが焼結温度T1以上である場合、揮発性粒子の揮発が進まないおそれがある。式(1)の関係を満たす炭素粒子としては例えばグラファイト粒子等が挙げられる。   Volatile particles refer to particles that can form a porous structure as defined above by volatilization. As the volatile particles, carbon particles that are materials that volatilize around the temperature at which the metal particles are sintered can be used. In particular, carbon particles that volatilize around the sintering temperature for sintering the metal particles are preferable. Specifically, it is preferable to use carbon particles having a volatilization temperature Tc that satisfies the relationship of the following formula (1) when the sintering temperature is T1 ° C. If the volatilization temperature Tc of the volatile particles is lower than the sintering temperature T1-200 ° C, the porous structure may not be formed. Conversely, if the volatilization temperature Tc of the volatile particles is equal to or higher than the sintering temperature T1, the volatile particles are volatile. Particle volatilization may not proceed. Examples of the carbon particles satisfying the relationship of the formula (1) include graphite particles.

T1−200<Tc<T1 …式(1)   T1-200 <Tc <T1 Formula (1)

有機ビヒクルは、各種粉末をペースト化させる役割を有し、この種のペーストに用いられるものがいずれも使用可能である。有機ビヒクルは、バインダを有機溶剤中に溶解することによって調製されるものである。バインダとしては、特に限定されず、例えば、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等、各種バインダから適宜選択すればよい。有機溶剤も限定されず、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等、各種有機溶剤から適宜選択すればよい。さらに、可溶体ペーストの物性を調節するために、分散剤等の各種添加剤を加えてもよい。   The organic vehicle has a role of making various powders into a paste, and any of those used for this type of paste can be used. An organic vehicle is prepared by dissolving a binder in an organic solvent. It does not specifically limit as a binder, For example, what is necessary is just to select suitably from various binders, such as an ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The organic solvent is not limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, and toluene. Furthermore, in order to adjust the physical properties of the soluble paste, various additives such as a dispersant may be added.

前記有機ビヒクルは、熱処理によって揮発する材料であるが、先に定義した多孔質構造を形成できない。したがって、有機ビヒクルは本発明でいう揮発性粒子には含めないこととする。   The organic vehicle is a material that volatilizes by heat treatment, but cannot form a porous structure as defined above. Therefore, the organic vehicle is not included in the volatile particles referred to in the present invention.

可溶体ペーストを印刷した後、焼成する。これにより、可溶体ペースト中のバインダを除去し、可溶体ペースト中の金属粒子を焼結させる。また、前記焼成の際に可溶体ペースト中の揮発性粒子を揮発させることにより空隙を形成する。したがって、金属中に多数の空隙が存在した多孔質構造の可溶体2が形成される。   After the soluble paste is printed, it is fired. Thereby, the binder in the soluble paste is removed, and the metal particles in the soluble paste are sintered. In addition, voids are formed by volatilizing volatile particles in the soluble paste during the firing. Therefore, a soluble body 2 having a porous structure in which a large number of voids exist in the metal is formed.

可溶体ペースト中の有機バインダ及び揮発性粒子を揮発させる必要があるため、焼成時の雰囲気は酸化性雰囲気とし、具体的には大気雰囲気とすることができる。   Since it is necessary to volatilize the organic binder and volatile particles in the soluble paste, the firing atmosphere can be an oxidizing atmosphere, specifically an air atmosphere.

次に、基板1に端子電極3を形成する。例えば端子電極3を厚膜で形成するには、例えばAg、Pt、Pd等を含有する導電ペーストをディッピングし、焼成すればよい。なお、端子電極3は、可溶体2の形成後に形成する場合に限らず、可溶体2を形成する前に予め形成しておいてもよい。また、端子電極3の焼成と可溶体2の焼成とを同時に行ってもよい。   Next, the terminal electrode 3 is formed on the substrate 1. For example, in order to form the terminal electrode 3 with a thick film, a conductive paste containing, for example, Ag, Pt, Pd or the like may be dipped and fired. The terminal electrode 3 is not limited to being formed after the fusible body 2 is formed, but may be formed in advance before the fusible body 2 is formed. Further, the terminal electrode 3 and the fusible body 2 may be fired simultaneously.

次に、形成した可溶体2を被覆するように保護膜4を形成する。以上のようにして、図1に示す構造のチップ型ヒューズ素子が作製される。   Next, the protective film 4 is formed so as to cover the formed soluble body 2. As described above, the chip-type fuse element having the structure shown in FIG. 1 is manufactured.

例えばAg等の金属粒子を含む従来型の可溶体ペーストを用いて印刷法により可溶体を形成する場合、可溶体の線幅や膜厚等を小さくする等のいわゆる高精細化に限界があるため、可溶体の高抵抗化は難しい。これに対し、本発明では例えば金属粒子の一部を揮発性粒子に置き換え焼成することで、多孔質構造の可溶体2を形成している。可溶体2を多孔質構造とすることにより可溶体2として実際に機能する金属部分の体積を減少させ、可溶体2の実効的な断面積を減少させている。このため、高精細化が困難な印刷法を用いた場合であっても高抵抗値を有する可溶体2を形成することができる。また、印刷法の利点である低コスト化を実現することができる。   For example, when a soluble material is formed by a printing method using a conventional soluble material paste containing metal particles such as Ag, there is a limit to so-called high definition such as reducing the line width and film thickness of the soluble material. It is difficult to increase the resistance of soluble materials. On the other hand, in the present invention, the soluble body 2 having a porous structure is formed by, for example, replacing a part of metal particles with volatile particles and firing. By making the fusible body 2 have a porous structure, the volume of the metal part that actually functions as the fusible body 2 is reduced, and the effective cross-sectional area of the fusible body 2 is reduced. For this reason, even if it is a case where the printing method in which high definition is difficult is used, the soluble body 2 which has high resistance value can be formed. Further, the cost reduction that is an advantage of the printing method can be realized.

また、以上のようなチップ型ヒューズ素子の製造方法においては、可溶体ペーストに含ませる金属粒子と揮発性粒子との配合比率を変えることによって、得られる可溶体2の抵抗値を任意の値に容易に設計することができる。可溶体2の抵抗値の設計が容易となるため、印刷法を利用した場合であっても多様な抵抗値のチップ型ヒューズ素子を容易に作製することができる。   Moreover, in the manufacturing method of the chip-type fuse element as described above, the resistance value of the obtained fusible body 2 is set to an arbitrary value by changing the mixing ratio of the metal particles and the volatile particles contained in the fusible paste. Can be designed easily. Since the resistance value of the fusible body 2 can be easily designed, chip-type fuse elements having various resistance values can be easily manufactured even when the printing method is used.

従来は可溶体の寸法等を変更することにより可溶体の抵抗値を制御していたが、本発明によれば可溶体ペーストにおける揮発性粒子の添加量を変化させることによっても抵抗値制御が可能であるため、チップ型ヒューズ素子の設計自由度を高めることができる。   Conventionally, the resistance value of the soluble body was controlled by changing the dimensions of the soluble body, but according to the present invention, the resistance value can also be controlled by changing the amount of volatile particles added to the soluble body paste. Therefore, the design flexibility of the chip-type fuse element can be increased.

以下、Cuを可溶体金属として用いたチップ型ヒューズ素子の製造方法について説明する。なお、前述の製造方法と重複する部分についての詳細な説明は省略する。   Hereinafter, a method for manufacturing a chip-type fuse element using Cu as a fusible metal will be described. Detailed description of the same parts as those in the above manufacturing method will be omitted.

先ず、可溶体ペーストを調製する。ここで用いる可溶体ペーストは、少なくとも金属粒子としてのCu粒子と揮発性粒子とを含み、これが有機ビヒクルと混合されて調製される。ここで、揮発性粒子としては、金属としてAg、Au、Pt等を用いる場合と同様のものを使用可能である。また、有機ビヒクルも同様である。   First, a soluble paste is prepared. The soluble paste used here contains at least Cu particles as metal particles and volatile particles, and is prepared by mixing with an organic vehicle. Here, the volatile particles can be the same as those used when Ag, Au, Pt or the like is used as the metal. The same applies to organic vehicles.

可溶体ペーストを例えばスクリーン印刷等により所定形状に印刷した後、可溶体ペーストを焼成する。焼成に際しては、Ag等を可溶体として含む場合と同様に、可溶体ペースト中のバインダを除去し、金属を焼結させるとともに、可溶体ペースト中の揮発性粒子を揮発させる必要がある。ただし、前述のAg等の場合と同様に酸化性雰囲気中で焼成を行うと、Cuが酸化されるおそれがある。このため、可溶体金属としてCuを用いる場合、以下に説明するように、印刷した可溶体ペーストを酸化性雰囲気中で熱処理し、その後、還元性雰囲気中でCuを焼結させることとする。   After the soluble paste is printed in a predetermined shape by, for example, screen printing, the soluble paste is fired. When firing, it is necessary to remove the binder in the soluble paste, sinter the metal, and volatilize the volatile particles in the soluble paste, as in the case of containing Ag or the like as the soluble body. However, if firing is performed in an oxidizing atmosphere as in the case of Ag or the like, Cu may be oxidized. For this reason, when Cu is used as the fusible metal, as described below, the printed fusible paste is heat-treated in an oxidizing atmosphere, and then Cu is sintered in a reducing atmosphere.

すなわち、先ず、印刷後の可溶体ペーストを酸化性雰囲気中で熱処理する。ここでの熱処理は、可溶体ペースト中のバインダを除去するための脱バインダ処理と、揮発性粒子を揮発させるための処理とを兼ねるものである。したがって、熱処理温度は、揮発性粒子の揮発温度Tc以上とする。また、可溶体ペースト中のバインダと、例えば炭素粒子等の揮発性粒子を除去する必要があるため、熱処理雰囲気は酸化性雰囲気とし、具体的には大気雰囲気とすればよい。前記熱処理により、可溶体ペースト中のバインダを除去するとともに、揮発性粒子を揮発させ、可溶体形状のCu酸化物中に空隙を形成する。   That is, first, the soluble paste after printing is heat-treated in an oxidizing atmosphere. The heat treatment here serves as both a binder removal process for removing the binder in the soluble paste and a process for volatilizing the volatile particles. Therefore, the heat treatment temperature is set to be equal to or higher than the volatilization temperature Tc of the volatile particles. Further, since it is necessary to remove the binder in the soluble paste and volatile particles such as carbon particles, the heat treatment atmosphere may be an oxidizing atmosphere, specifically, an air atmosphere. The heat treatment removes the binder in the soluble paste and volatilizes the volatile particles to form voids in the soluble Cu oxide.

次に、Cuを焼結させる。先の熱処理において形成された空隙が焼結後に残存することにより、多孔質構造のCuからなる可溶体が形成される。焼結の際の雰囲気は、前記熱処理よって酸化したCuを還元させるため、例えばHを含む還元雰囲気とする。 Next, Cu is sintered. The void formed in the previous heat treatment remains after sintering, whereby a soluble body made of Cu having a porous structure is formed. The sintering atmosphere is, for example, a reducing atmosphere containing H 2 in order to reduce Cu oxidized by the heat treatment.

その後、端子電極3や保護膜4等を形成する。以上の工程を経ることより、酸化し易い金属であるCuを可溶体金属とし、多孔質構造の可溶体2を備えたチップ型ヒューズ素子が作製される。   Thereafter, the terminal electrode 3 and the protective film 4 are formed. Through the above steps, a chip-type fuse element including a soluble body 2 having a porous structure using Cu, which is a metal that is easily oxidized, as a soluble body metal is manufactured.

なお、以上の説明では、印刷法を用いるとともに揮発性粒子を揮発させることによって多孔質構造の可溶体を形成する場合を例に挙げたが、本発明のチップ型ヒューズ素子はこれらの方法に限定されるものではない。   In the above description, the case where a soluble body having a porous structure is formed by using a printing method and volatilizing volatile particles has been described as an example. However, the chip-type fuse element of the present invention is limited to these methods. Is not to be done.

例えば、印刷法や、スパッタ、蒸着、めっき等の薄膜形成法等の任意の方法で合金膜を基板上に形成した後、酸性溶液に浸漬することによって、多孔質構造の可溶体を形成することができる。酸に対する溶解度が金属によって異なるため、適当な酸性溶液を選択することにより、合金膜を構成する一部の金属を溶解させて多孔質構造を得ることができる。   For example, an alloy film is formed on a substrate by any method such as a printing method, a thin film forming method such as sputtering, vapor deposition, plating, etc., and then a solubilized body having a porous structure is formed by dipping in an acidic solution. Can do. Since the solubility with respect to an acid changes with metals, the porous structure can be obtained by dissolving a part of the metal constituting the alloy film by selecting an appropriate acidic solution.

以下、本発明を適用した具体的な実施例について、実験結果に基づいて説明する。なお、本発明が以下の実施例に限定されるものでないことは言うまでもない。   Hereinafter, specific examples to which the present invention is applied will be described based on experimental results. Needless to say, the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
先ず、可溶体ペーストを作製した。金属Ag粒子(平均粒径0.1μm)、グラファイト粒子(平均粒径1μm)及び有機ビヒクルを各組成となるように秤量し、3本ロールミルで混練し、可溶体ペーストを得た。金属Ag粒子とグラファイト粒子との配合比率(質量%)は、表1の記載に従った。有機ビヒクルは、バインダとしてエチルセルロースと、有機溶剤としてブチルカルビトールとを含むものである。なお、金属Ag粒子及びグラファイト粒子と有機ビヒクルとの配合比は、得られた抵抗体ペーストがスクリーン印刷に適した粘度となるように設定した。
Example 1
First, a soluble paste was prepared. Metal Ag particles (average particle size 0.1 μm), graphite particles (average particle size 1 μm), and organic vehicle were weighed so as to have each composition, and kneaded with a three-roll mill to obtain a soluble paste. The mixing ratio (mass%) of the metal Ag particles and the graphite particles was in accordance with the description in Table 1. The organic vehicle contains ethyl cellulose as a binder and butyl carbitol as an organic solvent. The mixing ratio of the metal Ag particles and graphite particles to the organic vehicle was set so that the obtained resistor paste had a viscosity suitable for screen printing.

次に、印刷工程において、基板上に前記可溶体ペーストを図1に示す形状にスクリーン印刷して乾燥させた。可溶体ペーストを印刷する際には、焼成後の可溶体の膜厚:20μm、幅狭部の幅:100μm、長さ:2.5mmとなるように塗布した。基板としては、アルミナを用いた。その後、この基板をベルト炉に入れ、大気中でペースト中のバインダを除去し、焼成を行った。焼成時の熱処理温度は900℃、その温度での保持時間は5分間とした。この焼成により、多孔質構造の可溶体が得られた。   Next, in the printing process, the soluble paste was screen-printed on the substrate in the shape shown in FIG. 1 and dried. When printing the fusible paste, it was applied so that the film thickness of the fusible body after firing was 20 μm, the width of the narrow portion was 100 μm, and the length was 2.5 mm. Alumina was used as the substrate. Then, this board | substrate was put into the belt furnace, the binder in a paste was removed in air | atmosphere, and it baked. The heat treatment temperature during firing was 900 ° C., and the holding time at that temperature was 5 minutes. By this firing, a soluble material having a porous structure was obtained.

次に、可溶体の両端にAg熱硬化性樹脂をディッピングした後、熱硬化させて外部電極を形成し、チップ型ヒューズ素子を得た。   Next, an Ag thermosetting resin was dipped at both ends of the fusible body, and then thermosetting was performed to form external electrodes, thereby obtaining a chip-type fuse element.

得られた各サンプルのチップ型ヒューズ素子につき、抵抗値及び溶断時間を測定した。溶断時間は、可溶体に4Aの電流を流し始めてから可溶体が切断されるまでの時間とした。結果を表1に示す。   The resistance value and the fusing time were measured for the obtained chip-type fuse element of each sample. The fusing time was defined as the time from when the current of 4 A started to flow through the soluble material until the soluble material was cut. The results are shown in Table 1.

Figure 2007095469
Figure 2007095469

表1の結果から明らかなように、可溶体ペーストにグラファイト粒子を含有させ、可溶体を多孔質構造とすることによって、可溶体の高抵抗化が実現され、溶断時間が短縮していることがわかる。また、Ag粒子とグラファイト粒子との含有比率を88:12〜96:4(質量%)の範囲内とすることによって特に良好な結果が得られている。   As is clear from the results in Table 1, it is possible to increase the resistance of the fusible body and shorten the fusing time by including graphite particles in the fusible paste and making the fusible body have a porous structure. Recognize. In addition, particularly good results have been obtained by setting the content ratio of Ag particles to graphite particles in the range of 88:12 to 96: 4 (mass%).

(実施例2)
本実施例では、可溶体金属としてCuを用いて検討を行った。
先ず、可溶体ペーストを作製した。金属Cu粒子(平均粒径1μm)、グラファイト粒子(平均粒径1μm)及び有機ビヒクルを各組成となるように秤量し、3本ロールミルで混練し、可溶体ペーストを得た。金属Cu粒子とグラファイト粒子との配合比率(質量%)は、表2の記載に従った。有機ビヒクルは、バインダとしてエチルセルロースと、有機溶剤としてブチルカルビトールとを含むものである。なお、金属Cu粒子及びグラファイト粒子と有機ビヒクルとの配合比は、得られた抵抗体ペーストがスクリーン印刷に適した粘度となるように設定した。
(Example 2)
In the present Example, it examined using Cu as a soluble metal.
First, a soluble paste was prepared. Metal Cu particles (average particle size 1 μm), graphite particles (average particle size 1 μm), and organic vehicle were weighed so as to have each composition and kneaded by a three-roll mill to obtain a soluble paste. The mixing ratio (mass%) of the metal Cu particles and the graphite particles was in accordance with the description in Table 2. The organic vehicle contains ethyl cellulose as a binder and butyl carbitol as an organic solvent. The compounding ratio of the metal Cu particles and graphite particles to the organic vehicle was set so that the obtained resistor paste had a viscosity suitable for screen printing.

次に、印刷工程において、基板上に前記可溶体ペーストを図1に示す形状にスクリーン印刷して乾燥させた。可溶体ペーストを印刷する際には、焼成後の可溶体の膜厚:20μm、幅狭部の幅:100μm、長さ:2.5mmとなるように塗布した。基板としては、アルミナを用いた。その後、この基板をベルト炉に入れ、大気雰囲気中800℃で熱処理を施した。この熱処理により、グラファイト粒子が揮発し、Cu酸化物中に空隙が形成された。   Next, in the printing process, the soluble paste was screen-printed on the substrate in the shape shown in FIG. 1 and dried. When printing the fusible paste, it was applied so that the film thickness of the fusible body after firing was 20 μm, the width of the narrow portion was 100 μm, and the length was 2.5 mm. Alumina was used as the substrate. Thereafter, this substrate was put in a belt furnace and heat-treated at 800 ° C. in an air atmosphere. By this heat treatment, the graphite particles were volatilized and voids were formed in the Cu oxide.

次に、前記熱処理により酸化されたCuを還元雰囲気中で熱処理して還元するとともに、Cuを焼結させた。具体的には、N−4%H雰囲気中、400℃で30分間保持し酸化されたCuを還元させた。引続き、N雰囲気中、900℃で5分間保持し、Cuを焼結させた。これにより、多孔質構造のCu可溶体が得られた。 Next, Cu oxidized by the heat treatment was reduced by heat treatment in a reducing atmosphere, and Cu was sintered. Specifically, oxidized Cu was reduced by holding at 400 ° C. for 30 minutes in an N 2 -4% H 2 atmosphere. Subsequently, N 2 atmosphere, and held for 5 minutes at 900 ° C., was sintered Cu. Thereby, a Cu soluble body having a porous structure was obtained.

次に、可溶体の両端にAg熱硬化性樹脂をディッピングした後、熱硬化させて外部電極を形成し、チップ型ヒューズ素子を得た。   Next, an Ag thermosetting resin was dipped at both ends of the fusible body, and then thermosetting was performed to form external electrodes, thereby obtaining a chip-type fuse element.

得られた各サンプルのチップ型ヒューズ素子につき、抵抗値及び溶断時間を測定した。溶断時間は、可溶体に4Aの電流を流し始めてから可溶体が切断されるまでの時間とした。結果を表2に示す。   The resistance value and the fusing time were measured for the obtained chip-type fuse element of each sample. The fusing time was defined as the time from when the current of 4 A started to flow through the soluble material until the soluble material was cut. The results are shown in Table 2.

Figure 2007095469
Figure 2007095469

表2の結果から明らかなように、可溶体金属としてCuを用いた場合も、実験1の結果と同様に、可溶体ペーストにグラファイト粒子を含有させ、可溶体を多孔質構造とすることによって、可溶体の高抵抗化が実現され、溶断時間が短縮していることがわかる。   As is clear from the results in Table 2, when Cu is used as the soluble metal, similarly to the result of Experiment 1, the soluble paste contains graphite particles, and the soluble body has a porous structure. It can be seen that the resistance of the fusible body is increased and the fusing time is shortened.

本発明を適用したチップ型ヒューズ素子の一例を示す図である。(a)は概略平面図であり、(b)は概略断面図である。It is a figure which shows an example of the chip-type fuse element to which this invention is applied. (A) is a schematic plan view, (b) is a schematic sectional drawing. 本発明を適用したチップ型ヒューズ素子の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the chip-type fuse element to which this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板、2 可溶体、3 電極、4 保護層、5 蓄熱層   1 substrate, 2 fusible body, 3 electrodes, 4 protective layer, 5 heat storage layer

Claims (13)

多孔質構造の可溶体を備えることを特徴とするチップ型ヒューズ素子。   A chip-type fuse element comprising a fusible body having a porous structure. 前記可溶体はAg、Auから選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1記載のチップ型ヒューズ素子。   2. The chip-type fuse element according to claim 1, wherein the fusible body includes at least one selected from Ag and Au. 前記可溶体は印刷法により形成されたものであることを特徴とする請求項1又は2記載のチップ型ヒューズ素子。   The chip-type fuse element according to claim 1 or 2, wherein the fusible body is formed by a printing method. 金属粒子を含む可溶体ペーストを印刷し、酸化性雰囲気中で前記金属粒子を焼結させることにより可溶体を形成するチップ型ヒューズ素子の製造方法であって、
前記可溶体ペーストは前記焼結により揮発する揮発性粒子を含むことを特徴とするチップ型ヒューズ素子の製造方法。
A method for manufacturing a chip-type fuse element, in which a fusible paste containing metal particles is printed and a fusible body is formed by sintering the metal particles in an oxidizing atmosphere,
The method for manufacturing a chip-type fuse element, wherein the fusible paste includes volatile particles that volatilize by the sintering.
前記揮発性粒子として炭素粒子を用いることを特徴とする請求項4記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。   5. The method of manufacturing a chip-type fuse element according to claim 4, wherein carbon particles are used as the volatile particles. 前記炭素粒子の揮発温度をTc℃とし、前記焼結の温度をT1℃としたとき、下記式(1)の関係を満たす炭素粒子を用いることを特徴とする請求項5記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。
T1−200<Tc<T1 …式(1)
6. The chip-type fuse element according to claim 5, wherein carbon particles satisfying the relationship of the following formula (1) are used when the volatilization temperature of the carbon particles is Tc.degree. C. and the sintering temperature is T1.degree. Manufacturing method.
T1-200 <Tc <T1 Formula (1)
前記炭素粒子としてグラファイト粒子を用いることを特徴とする請求項6記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。   7. The method for manufacturing a chip-type fuse element according to claim 6, wherein graphite particles are used as the carbon particles. 前記金属粒子としてAg粒子、Au粒子から選ばれる少なくとも1種を用いることを特徴とする請求項4〜7のいずれか1項記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。   The method for manufacturing a chip-type fuse element according to any one of claims 4 to 7, wherein at least one selected from Ag particles and Au particles is used as the metal particles. 金属粒子を含む可溶体ペーストを印刷し、酸化性雰囲気中で熱処理した後、還元性雰囲気中で前記金属粒子を焼結させることにより可溶体を形成するチップ型ヒューズ素子の製造方法であって、
前記可溶体ペーストは前記熱処理により揮発する揮発性粒子を含むことを特徴とするチップ型ヒューズ素子の製造方法。
A method of manufacturing a chip-type fuse element, wherein a fusible body paste containing metal particles is printed, heat-treated in an oxidizing atmosphere, and then the metal particles are sintered in a reducing atmosphere to form a fusible body.
The method for manufacturing a chip-type fuse element, wherein the fusible paste includes volatile particles that volatilize by the heat treatment.
前記揮発性粒子として炭素粒子を用いることを特徴とする請求項9記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。   The method for manufacturing a chip-type fuse element according to claim 9, wherein carbon particles are used as the volatile particles. 前記炭素粒子の揮発温度をTc℃とし、前記熱処理の温度をT1℃としたとき、下記式(1)の関係を満たす炭素粒子を用いることを特徴とする請求項10記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。
T1−200<Tc<T1 …式(1)
11. The chip-type fuse element according to claim 10, wherein carbon particles satisfying the relationship of the following formula (1) are used when the volatilization temperature of the carbon particles is Tc ° C. and the temperature of the heat treatment is T1 ° C. 11. Production method.
T1-200 <Tc <T1 Formula (1)
前記炭素粒子としてグラファイト粒子を用いることを特徴とする請求項11記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。   12. The method for manufacturing a chip-type fuse element according to claim 11, wherein graphite particles are used as the carbon particles. 前記金属粒子としてCu粒子を用いることを特徴とする請求項9〜12のいずれか1項記載のチップ型ヒューズ素子の製造方法。   The method for manufacturing a chip-type fuse element according to claim 9, wherein Cu particles are used as the metal particles.
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