JP2007093846A - Electro-optic device and electronic equipment - Google Patents

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Shigenori Katayama
茂憲 片山
Takashi Totani
隆史 戸谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optic device in which yield is improved and electronic equipment. <P>SOLUTION: The electro-optic device 1 has an element substrate 60 having scanning lines, data lines which cross the scanning lines, pixel circuits provided corresponding to intersection of the scanning lines and the data lines and a driving circuit which drives the pixel circuits, an opposite substrate 70 arranged opposite to the element substrate 60 and an electro-optic substance sandwiched between the element substrate 60 and the opposite substrate 70. The element substrate 60 is provided with a TEG 40 including a pixel inspection circuit with the same structure as that of the pixel circuits and an external terminal 92 for the TEG electrically connected to the TEG 40 and the TEG 40 further includes a booster circuit which is a part of the driving circuit. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、電気光学装置および電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus.

従来より、画像を表示する液晶装置などの電気光学装置が知られている。この電気光学装置として、自然光や室内光といった周囲光の反射光を利用する反射型表示が可能な全反射型の電気光学装置がある。   2. Description of the Related Art Conventionally, electro-optical devices such as liquid crystal devices that display images are known. As this electro-optical device, there is a total reflection type electro-optical device capable of reflective display using reflected light of ambient light such as natural light and room light.

このような電気光学装置は、電気光学パネルとしての液晶パネルを備えている。この液晶パネルは、複数の画素を有する表示領域と、この表示領域の周辺に設けられて画素に含まれる画素回路を駆動する液晶駆動回路と、を備えている。   Such an electro-optical device includes a liquid crystal panel as an electro-optical panel. The liquid crystal panel includes a display area having a plurality of pixels, and a liquid crystal driving circuit that is provided around the display area and drives a pixel circuit included in the pixels.

液晶パネルは、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ(以降、TFTと呼ぶ)が画素に対応して配置された素子基板と、この素子基板に対向配置された対向基板と、素子基板および対向基板の間に挟持された電気光学物質としての液晶と、から構成されている。
ここで、素子基板は、対向基板よりも大きく形成されており、上述の液晶駆動回路は、この素子基板に設けられている。また、液晶は、対向基板の外周に沿って、素子基板および対向基板の間に形成されたシール部により封止されている。
A liquid crystal panel is sandwiched between an element substrate on which a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) as a switching element is disposed corresponding to a pixel, a counter substrate disposed opposite to the element substrate, and the element substrate and the counter substrate. And a liquid crystal as an electro-optical material.
Here, the element substrate is formed larger than the counter substrate, and the above-described liquid crystal driving circuit is provided on the element substrate. Further, the liquid crystal is sealed by a seal portion formed between the element substrate and the counter substrate along the outer periphery of the counter substrate.

素子基板は、所定間隔おきに設けられた複数の走査線と、これら走査線に略直交しかつ所定間隔おきに設けられた複数のデータ線と、各走査線と各データ線との交差部に対応して設けられたTFTおよび画素電極と、を備えている。
対向基板は、画素電極に対向して設けられた共通電極を備えている。
The element substrate includes a plurality of scanning lines provided at predetermined intervals, a plurality of data lines substantially orthogonal to the scanning lines and provided at predetermined intervals, and intersections between the scanning lines and the data lines. Correspondingly provided TFT and pixel electrode.
The counter substrate includes a common electrode provided to face the pixel electrode.

各画素回路は、上述のTFT、画素電極、および、画素電極に一端が電気的に接続された蓄積容量で構成されている。
TFTのゲートには、走査線が接続され、TFTのソースには、データ線が接続され、TFTのドレインには、画素電極および蓄積容量が接続されている。
Each pixel circuit includes the above-described TFT, pixel electrode, and a storage capacitor having one end electrically connected to the pixel electrode.
A scanning line is connected to the gate of the TFT, a data line is connected to the source of the TFT, and a pixel electrode and a storage capacitor are connected to the drain of the TFT.

液晶駆動回路は、走査線駆動回路と、データ線駆動回路と、液晶駆動用電源回路と、を備えている。
走査線駆動回路は、複数の走査線を線順次で選択するデコーダ回路と、入力電圧を昇圧して選択電圧を生成し、このデコーダ回路で選択された走査線にこの選択電圧を供給するレベルシフタと、を備えている。
データ線駆動回路は、複数のデータ線を線順次で選択するデコーダ回路と、入力信号を昇圧して画像信号を生成し、このデコーダ回路で選択されたデータ線にこの画像信号を供給するレベルシフタと、を備えている。
液晶駆動用電源回路は、入力される基準電圧を昇圧して画素回路の駆動電圧を生成する昇圧回路を備えている。
The liquid crystal driving circuit includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and a liquid crystal driving power supply circuit.
The scanning line driving circuit includes a decoder circuit that selects a plurality of scanning lines line-sequentially, a level shifter that boosts an input voltage to generate a selection voltage, and supplies the selection voltage to the scanning line selected by the decoder circuit; It is equipped with.
The data line driving circuit includes a decoder circuit that selects a plurality of data lines in a line sequential manner, a level shifter that boosts an input signal to generate an image signal, and supplies the image signal to the data line selected by the decoder circuit; It is equipped with.
The liquid crystal driving power supply circuit includes a boosting circuit that boosts the input reference voltage to generate a driving voltage for the pixel circuit.

以上の電気光学装置は、以下のように動作する。すなわち、液晶駆動用電源回路から駆動電圧を液晶パネルに供給するとともに、走査線駆動回路から選択電圧を走査線に線順次で供給することで、ある走査線に係るTFTを全てオン状態にして、データ線と画素電極とを導通状態とする。そして、これらデータ線と画素電極とが導通状態となるタイミングに同期して、データ線駆動回路からデータ線に画像信号を線順次で供給する。これにより、走査線駆動回路およびデータ線駆動回路で選択した全ての画素にデータ線からTFTを介して画像信号が供給されて、画像データが画素電極に書き込まれる。
つまり、TFTや画素電極からなる画素回路は、同じ素子基板に形成された液晶駆動回路により駆動される。
The above electro-optical device operates as follows. That is, by supplying a driving voltage from the liquid crystal driving power supply circuit to the liquid crystal panel and supplying a selection voltage from the scanning line driving circuit to the scanning lines in a line-sequential manner, all TFTs related to a certain scanning line are turned on. The data line and the pixel electrode are brought into conduction. Then, in synchronization with the timing at which the data lines and the pixel electrodes become conductive, image signals are supplied line-sequentially from the data line driving circuit to the data lines. As a result, an image signal is supplied from the data line via the TFT to all the pixels selected by the scanning line driving circuit and the data line driving circuit, and the image data is written into the pixel electrode.
That is, a pixel circuit composed of TFTs and pixel electrodes is driven by a liquid crystal driving circuit formed on the same element substrate.

画素電極に画像データが書き込まれると、この画素電極と共通電極とに印加された電圧の電位差により、液晶に駆動電圧が印加される。したがって、画像信号の電圧レベルを変化させることで、液晶の配向や秩序を変化させて、各画素の光変調による階調表示を行う。   When image data is written to the pixel electrode, a driving voltage is applied to the liquid crystal due to the potential difference between the voltages applied to the pixel electrode and the common electrode. Therefore, by changing the voltage level of the image signal, the orientation and order of the liquid crystal are changed, and gradation display is performed by light modulation of each pixel.

以上の素子基板では、画素回路を液晶駆動回路で駆動することで、画素回路および液晶駆動回路の動作を確認する検査を行う。そして、この検査に合格した素子基板のみが電気光学装置の構成部品として使用される。   In the element substrate described above, the pixel circuit is driven by the liquid crystal driving circuit, thereby performing an inspection for confirming the operation of the pixel circuit and the liquid crystal driving circuit. Only element substrates that pass this inspection are used as components of the electro-optical device.

ところで、素子基板では、画素回路が形成された後に液晶駆動回路が形成されるため、画素回路の動作のみを確認し、画素回路が正常に動作する素子基板にのみ画素回路を形成することができれば、素子基板の歩留りを向上できることになる。
しかしながら、上述したように、画素回路の動作を確認するためには、素子基板に液晶駆動回路を形成する必要があるため、素子基板の歩留りを向上させることは困難であった。
By the way, in the element substrate, since the liquid crystal driving circuit is formed after the pixel circuit is formed, if only the operation of the pixel circuit is confirmed and the pixel circuit can be formed only on the element substrate in which the pixel circuit operates normally. Thus, the yield of the element substrate can be improved.
However, as described above, in order to confirm the operation of the pixel circuit, it is necessary to form a liquid crystal driving circuit on the element substrate, and thus it is difficult to improve the yield of the element substrate.

このような問題を解決するため、画素回路と同じ構造を有する検査用の回路(以降、TEG(Test Element Group)と呼ぶ)を素子基板の端部に形成しておき、このTEGを検査することで、画素回路の動作を確認する方法がある(特許文献1参照)。
この方法によれば、TEGが正常に動作しない場合には、画素回路も正常に動作しないと推定して、液晶駆動回路を形成せずにそのTEGが形成された素子基板を廃棄する。したがって、素子基板の歩留りを向上できる。
特開2004−214638号公報
In order to solve such a problem, an inspection circuit (hereinafter referred to as a TEG (Test Element Group)) having the same structure as the pixel circuit is formed at the end of the element substrate, and the TEG is inspected. Then, there is a method for confirming the operation of the pixel circuit (see Patent Document 1).
According to this method, when the TEG does not operate normally, it is presumed that the pixel circuit does not operate normally, and the element substrate on which the TEG is formed is discarded without forming the liquid crystal driving circuit. Therefore, the yield of the element substrate can be improved.
JP 2004-214638 A

ところで、近年、歩留りをさらに向上させることが要請されているが、上述したTEGには液晶駆動回路が含まれないため、TEGを検査しても、画素回路が正常に動作しない素子基板を発見することはできるが、液晶駆動回路が正常に動作しない素子基板を発見することはできない。そのため、TEGによる検査にも限界があり、歩留りを向上することは困難であった。   By the way, in recent years, it has been demanded to further improve the yield. However, since the above-described TEG does not include a liquid crystal driving circuit, an element substrate in which the pixel circuit does not operate normally even when the TEG is inspected is discovered. Although it is possible, an element substrate in which the liquid crystal driving circuit does not operate normally cannot be found. For this reason, there is a limit to the inspection by TEG, and it has been difficult to improve the yield.

本発明は、歩留りを向上できる電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to provide an electro-optical device and an electronic apparatus that can improve yield.

本発明の電気光学装置は、走査線、この走査線と交差するデータ線、前記走査線および前記データ線の交差に対応して設けられた画素回路、および、この画素回路を駆動する駆動回路を有する第1の基板と、前記第1の基板に対向配置された第2の基板と、前記第1の基板および前記第2の基板の間に挟持された電気光学物質と、を備える電気光学装置であって、前記第1の基板には、前記画素回路と同一構造の画素検査回路を含む評価回路と、この評価回路に電気的に接続された外部端子と、が設けられ、前記評価回路は、前記駆動回路の一部をさらに含むことを特徴とする。   The electro-optical device of the present invention includes a scanning line, a data line intersecting with the scanning line, a pixel circuit provided corresponding to the intersection of the scanning line and the data line, and a driving circuit for driving the pixel circuit. An electro-optical device, comprising: a first substrate having a second substrate disposed opposite to the first substrate; and an electro-optical material sandwiched between the first substrate and the second substrate. The first substrate is provided with an evaluation circuit including a pixel inspection circuit having the same structure as the pixel circuit, and an external terminal electrically connected to the evaluation circuit. And a part of the driving circuit.

この発明によれば、第1の基板に、画素回路と同一構造の画素検査回路を含む評価回路と、この評価回路に電気的に接続された外部端子と、を設けた。このため、外部端子を介して評価回路を検査することで、画素回路の動作を確認できる。   According to this invention, the first substrate is provided with the evaluation circuit including the pixel inspection circuit having the same structure as the pixel circuit, and the external terminal electrically connected to the evaluation circuit. Therefore, the operation of the pixel circuit can be confirmed by inspecting the evaluation circuit via the external terminal.

また、画素検査回路を含む評価回路に、画素回路を駆動する駆動回路の一部をさらに形成した。このため、評価回路を検査して、この評価回路が正常に動作する場合には、駆動回路の一部も正常に動作しているから、駆動回路全体が正常に動作する確率は高くなる。
したがって、評価回路を検査することによって、駆動回路が正常に動作するか否かを推定できるから、歩留りを向上できる。
In addition, a part of a driving circuit for driving the pixel circuit is further formed in the evaluation circuit including the pixel inspection circuit. For this reason, when the evaluation circuit is inspected and this evaluation circuit operates normally, a part of the drive circuit is also operating normally, so the probability that the entire drive circuit operates normally increases.
Therefore, it is possible to estimate whether or not the drive circuit operates normally by inspecting the evaluation circuit, so that the yield can be improved.

本発明の電気光学装置では、前記評価回路は、前記第1の基板のうち前記第2の基板が対向配置されていない領域に形成されることが好ましい。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the evaluation circuit is formed in a region of the first substrate where the second substrate is not opposed to the second substrate.

ところで、例えば、第1の基板および第2の基板は、それぞれ、第1のマザー基板および第2のマザー基板に複数枚が一体に形成され、これらマザー基板がシール材を介して貼り合わされた後、各電気光学パネルの大きさに合わせて切断される。ここで、第2の基板を切断する際に、第1の基板のうち第2の基板の切断面に対向する領域の近傍には、応力が作用する。
また、例えば、電気光学物質を封止するために、第2の基板の外周に沿ってシール材が設けられている場合、第1の基板や第2の基板のうちシール材が設けられた領域には、外力による応力が集中しやすい。
しかしながら、この発明によれば、評価回路を、第1の基板のうち第2の基板が対向配置されていない領域に形成したので、評価回路に応力が作用するのを回避でき、損傷や誤動作を防止できる。
By the way, for example, the first substrate and the second substrate are respectively formed integrally on the first mother substrate and the second mother substrate, and these mother substrates are bonded to each other through a sealing material. And cut according to the size of each electro-optic panel. Here, when the second substrate is cut, stress acts in the vicinity of a region of the first substrate that faces the cut surface of the second substrate.
Further, for example, when a sealing material is provided along the outer periphery of the second substrate to seal the electro-optical material, the first substrate or the region of the second substrate where the sealing material is provided However, stress due to external force tends to concentrate.
However, according to the present invention, since the evaluation circuit is formed in the region of the first substrate where the second substrate is not disposed oppositely, it is possible to avoid the stress from being applied to the evaluation circuit, and to prevent damage or malfunction. Can be prevented.

本発明の電気光学装置では、前記外部端子は、前記第1の基板のうち前記第2の基板が対向配置されていない領域に形成されることが好ましい。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the external terminal is formed in a region of the first substrate where the second substrate is not opposed to the external substrate.

この発明によれば、外部端子を、第1の基板のうち第2の基板が対向配置されていない領域に形成したので、外部端子が第2の基板に隠蔽されず、この外部端子の上に外部基板を容易に実装できる。   According to the present invention, since the external terminal is formed in a region of the first substrate where the second substrate is not opposed to the external substrate, the external terminal is not concealed by the second substrate, and is placed on the external terminal. An external board can be easily mounted.

本発明の電気光学装置では、前記第1の基板には、前記評価回路と前記外部端子とを電気的に接続する評価回路信号線が設けられ、当該評価回路信号線の少なくとも一部は、前記第1の基板のうち前記第2の基板が対向配置された領域に設けられることが好ましい。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the first substrate is provided with an evaluation circuit signal line that electrically connects the evaluation circuit and the external terminal, and at least a part of the evaluation circuit signal line includes the evaluation circuit signal line. It is preferable that the second substrate is provided in a region where the second substrate is disposed opposite to the first substrate.

この発明によれば、評価回路と外部端子とを電気的に接続する評価回路信号線を第1の基板に設け、この評価回路信号線の少なくとも一部を、第1の基板のうち第2の基板が対向配置された領域に設けた。このため、評価回路信号線のうち第2の基板に覆われていない部分が少なくなり、評価回路信号線に外部からの静電気が印加されるのを防止できる。   According to the present invention, the evaluation circuit signal line for electrically connecting the evaluation circuit and the external terminal is provided on the first substrate, and at least a part of the evaluation circuit signal line is connected to the second of the first substrate. It provided in the area | region where the board | substrate was opposingly arranged. For this reason, the portion of the evaluation circuit signal line that is not covered by the second substrate is reduced, and it is possible to prevent static electricity from being applied to the evaluation circuit signal line from the outside.

本発明の電気光学装置では、前記評価回路信号線は、複数であり、これら評価回路信号線のうち最も画素回路および駆動回路寄りに位置するものは、グラウンド電位であることが好ましい。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that there are a plurality of the evaluation circuit signal lines, and the evaluation circuit signal line located closest to the pixel circuit and the drive circuit is a ground potential.

この発明によれば、複数の評価回路信号線のうち最も画素回路および駆動回路寄りに位置するものを、グラウンド電位とした。このグラウンド電位である評価回路信号線は、残りの評価回路信号線と、駆動回路に電気的に接続される信号線と、の間に位置するので、これらの信号線の間のノイズの影響を減少させることでクロストークを低減できる。   According to the present invention, among the plurality of evaluation circuit signal lines, the one closest to the pixel circuit and the drive circuit is set as the ground potential. Since the evaluation circuit signal line, which is the ground potential, is located between the remaining evaluation circuit signal lines and the signal lines electrically connected to the drive circuit, the influence of noise between these signal lines is reduced. By reducing it, crosstalk can be reduced.

本発明の電気光学装置では、前記評価回路に形成する駆動回路は、歩留りの低い駆動回路であることが好ましい。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the drive circuit formed in the evaluation circuit is a drive circuit with a low yield.

この発明によれば、評価回路に歩留りの低い駆動回路を形成した。このため、評価回路を検査して、この評価回路が正常に動作する場合には、駆動回路のうち歩留りの低いものも正常に動作しているから、駆動回路全体が正常に動作する確率は高くなる。したがって、歩留りをさらに向上できる。   According to the present invention, a drive circuit with a low yield is formed in the evaluation circuit. Therefore, when the evaluation circuit is inspected and this evaluation circuit operates normally, the drive circuit with a low yield is also operating normally, so the probability that the entire drive circuit operates normally is high. Become. Therefore, the yield can be further improved.

本発明の電気光学装置は、走査線、この走査線と交差するデータ線、前記走査線および前記データ線の交差に対応して設けられた画素回路、および、この画素回路を駆動する駆動回路を有する第1の基板と、前記第1の基板に対向配置された第2の基板と、前記第1の基板および前記第2の基板の間に挟持された電気光学物質と、を備える電気光学装置であって、前記第1の基板には、前記駆動回路の一部と同一構造を含む評価回路を含むことを特徴とする。   The electro-optical device of the present invention includes a scanning line, a data line intersecting with the scanning line, a pixel circuit provided corresponding to the intersection of the scanning line and the data line, and a driving circuit for driving the pixel circuit. An electro-optical device, comprising: a first substrate having a second substrate disposed opposite to the first substrate; and an electro-optical material sandwiched between the first substrate and the second substrate. The first substrate includes an evaluation circuit including the same structure as a part of the drive circuit.

この発明によれば、第1の基板に、駆動回路の一部と同一構造を含む評価回路を設けた。このため、評価回路を検査することで、駆動回路の一部の動作を確認できる。   According to this invention, the evaluation circuit including the same structure as a part of the drive circuit is provided on the first substrate. For this reason, the operation of a part of the drive circuit can be confirmed by inspecting the evaluation circuit.

本発明の電子機器は、上述の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
この発明によれば、上述した効果と同様の効果がある。
An electronic apparatus according to an aspect of the invention includes the above-described electro-optical device.
According to the present invention, there are effects similar to those described above.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の実施形態および変形例の説明にあたって、同一構成要件については同一符号を付し、その説明を省略もしくは簡略化する。
<実施形態>
図1は、本発明の一実施形態に係る電気光学装置1の構成を示すブロック図である。図2は、電気光学装置1の平面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of embodiments and modifications, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.
<Embodiment>
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an electro-optical device 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the electro-optical device 1.

電気光学装置1は、複数の画素からなる表示領域Aを有する液晶パネルAAを備えている。
この液晶パネルAAは、第1の基板としての素子基板60と、この素子基板60に対向配置された第2の基板としての対向基板70と、素子基板60および対向基板70の間に挟持された電気光学物質としての液晶と、を備えている(図4参照)。
The electro-optical device 1 includes a liquid crystal panel AA having a display area A composed of a plurality of pixels.
The liquid crystal panel AA is sandwiched between the element substrate 60 as the first substrate, the counter substrate 70 as the second substrate disposed opposite to the element substrate 60, and the element substrate 60 and the counter substrate 70. Liquid crystal as an electro-optical material (see FIG. 4).

素子基板60は、対向基板70よりも大きく形成されている。素子基板60のうち表示領域Aに対応する領域には、所定間隔おきに交互に設けられた複数の走査線10および共通線(容量線)30と、これら走査線10に交差し所定間隔おきに設けられた複数のデータ線20と、各走査線10および各データ線20の交差に対応して設けられた画素回路50と、が設けられている。   The element substrate 60 is formed larger than the counter substrate 70. A plurality of scanning lines 10 and common lines (capacitance lines) 30 that are alternately provided at predetermined intervals in a region corresponding to the display region A in the element substrate 60 and intersecting these scanning lines 10 at predetermined intervals. A plurality of data lines 20 provided and pixel circuits 50 provided corresponding to the intersections of the scanning lines 10 and the data lines 20 are provided.

素子基板60のうち対向基板70が対向配置された領域には、表示領域Aに対応する領域を囲んで、走査線10を介して画素回路50を駆動する駆動回路としての走査線駆動回路11と、データ線20を介して画素回路50を駆動する駆動回路としてのデータ線駆動回路21と、走査線駆動回路11を検査する検査回路12と、データ線駆動回路21を検査する検査回路22と、が設けられている。
具体的には、走査線駆動回路11と検査回路12とは、表示領域Aを図2中水平方向から挟んで設けられ、データ線駆動回路21と検査回路22とは、表示領域Aを図2中上下方向から挟んで設けられている。
A scanning line driving circuit 11 serving as a driving circuit for driving the pixel circuit 50 via the scanning line 10 surrounds a region corresponding to the display area A in a region of the element substrate 60 where the counter substrate 70 is opposed. A data line driving circuit 21 as a driving circuit for driving the pixel circuit 50 via the data line 20, an inspection circuit 12 for inspecting the scanning line driving circuit 11, an inspection circuit 22 for inspecting the data line driving circuit 21, Is provided.
Specifically, the scanning line drive circuit 11 and the inspection circuit 12 are provided with the display area A sandwiched from the horizontal direction in FIG. 2, and the data line drive circuit 21 and the inspection circuit 22 provide the display area A in FIG. It is sandwiched from the middle and up and down directions.

素子基板60には、図2中下側の端縁に沿って、上述の走査線駆動回路11、データ線駆動回路21、検査回路12、22に、汎用信号線96を介して電気的に接続された複数の汎用外部端子97が配置されている。
これら汎用外部端子97は、素子基板60のうち対向基板70が対向配置されていない領域に設けられ、外部に露出している。
汎用信号線96は、汎用外部端子97から、当該汎用外部端子97が設けられた素子基板60の端縁に対して垂直に延びて、素子基板60のうち対向基板70に対向する領域内で引き回されて、上述の走査線駆動回路11、データ線駆動回路21、検査回路12、22に電気的に接続されている。
The element substrate 60 is electrically connected to the scanning line driving circuit 11, the data line driving circuit 21, and the inspection circuits 12 and 22 through the general-purpose signal line 96 along the lower edge in FIG. A plurality of general-purpose external terminals 97 are arranged.
These general-purpose external terminals 97 are provided in a region of the element substrate 60 where the counter substrate 70 is not disposed so as to face the element substrate 60, and are exposed to the outside.
The general-purpose signal line 96 extends from the general-purpose external terminal 97 perpendicularly to the edge of the element substrate 60 provided with the general-purpose external terminal 97, and is drawn in a region of the element substrate 60 facing the counter substrate 70. Rotated to be electrically connected to the scanning line driving circuit 11, the data line driving circuit 21, and the inspection circuits 12 and 22 described above.

画素回路50は、画素トランジスタ51、画素電極55、および、一端が画素電極55に電気的に接続され他端が共通線30に電気的に接続された蓄積容量53で構成され、画素に対応して設けられている。   The pixel circuit 50 includes a pixel transistor 51, a pixel electrode 55, and a storage capacitor 53 having one end electrically connected to the pixel electrode 55 and the other end electrically connected to the common line 30, and corresponds to the pixel. Is provided.

対向基板70は、画素電極55に対向して設けられた共通電極56を備えている。   The counter substrate 70 includes a common electrode 56 provided to face the pixel electrode 55.

画素トランジスタ51のゲート電極には、走査線10が接続され、画素トランジスタ51のソース電極には、データ線20が接続され、画素トランジスタ51のドレイン電極には、画素電極55および蓄積容量53が接続されている。画素電極55と共通電極56との間には、液晶が挟持されている。したがって、この画素トランジスタ51は、走査線10から選択電圧が印加されると、データ線20と画素電極55および蓄積容量53とを導通状態とする。   The scanning line 10 is connected to the gate electrode of the pixel transistor 51, the data line 20 is connected to the source electrode of the pixel transistor 51, and the pixel electrode 55 and the storage capacitor 53 are connected to the drain electrode of the pixel transistor 51. Has been. A liquid crystal is sandwiched between the pixel electrode 55 and the common electrode 56. Accordingly, when a selection voltage is applied from the scanning line 10, the pixel transistor 51 brings the data line 20, the pixel electrode 55, and the storage capacitor 53 into a conductive state.

共通電極56は、液晶パネルAAの隅に設けられた導通部31およびこれら導通部31同士を接続する共通配線32を介して、共通線30と接続されている。   The common electrode 56 is connected to the common line 30 via a conductive portion 31 provided at a corner of the liquid crystal panel AA and a common wiring 32 that connects the conductive portions 31 to each other.

走査線駆動回路11は、複数の走査線10を線順次で選択するデコーダ回路15と、入力電圧を昇圧して選択電圧を生成し、デコーダ回路15で選択された走査線10にこの選択電圧を供給するレベルシフタ16と、を備えている。この走査線駆動回路11は、画素トランジスタ51をオン状態にする選択電圧を各走査線10に線順次で供給する。例えば、ある走査線10に選択電圧が供給されると、この走査線10に接続された画素トランジスタ51が全て導通状態になり、この走査線10に係る画素が全て選択される。   The scanning line driving circuit 11 generates a selection voltage by boosting the input voltage and a decoder circuit 15 that selects a plurality of scanning lines 10 in line sequence, and applies the selection voltage to the scanning line 10 selected by the decoder circuit 15. And a level shifter 16 to be supplied. The scanning line driving circuit 11 supplies a selection voltage for turning on the pixel transistor 51 to each scanning line 10 line-sequentially. For example, when a selection voltage is supplied to a certain scanning line 10, all the pixel transistors 51 connected to the scanning line 10 are turned on, and all the pixels related to the scanning line 10 are selected.

データ線駆動回路21は、複数のデータ線20を線順次で選択するデコーダ回路25と、入力信号を昇圧して画像信号を生成し、デコーダ回路25で選択されたデータ線20にこの画像信号を供給するレベルシフタ26と、を備えている。このデータ線駆動回路21は、画像信号を各データ線20に線順次で供給し、オン状態の画素トランジスタ51を介して、画素の画素電極55に画像データを順次書き込む。ここで、データ線駆動回路21は、共通電極56の電圧を基準電圧として、この共通電極56の電圧よりも高い電圧でデータ線20に画像信号を供給する正極性書込と、共通電極56の電圧よりも低い電圧でデータ線20に画像信号を供給する負極性書込とを交互に行う。   The data line driving circuit 21 generates a video signal by boosting an input signal and a decoder circuit 25 that selects a plurality of data lines 20 in a line-sequential manner. The data signal is applied to the data line 20 selected by the decoder circuit 25. A level shifter 26 to be supplied. The data line driving circuit 21 supplies image signals to the data lines 20 line-sequentially, and sequentially writes the image data to the pixel electrodes 55 of the pixels via the pixel transistors 51 in the on state. Here, the data line driving circuit 21 uses the voltage of the common electrode 56 as a reference voltage, positive writing for supplying an image signal to the data line 20 at a voltage higher than the voltage of the common electrode 56, The negative polarity writing for supplying the image signal to the data line 20 at a voltage lower than the voltage is alternately performed.

また、素子基板60には、図2中下側の端縁に沿って、対向基板70が形成されていない領域に、画素回路50を検査する評価回路としてのTEG40が設けられている。素子基板60には、TEG40に評価回路信号線としてのTEG用信号線91を介して電気的に接続された複数のTEG用外部端子92が配置されている。
これらTEG用外部端子92は、汎用外部端子97に隣接して設けられており、汎用外部端子97と同様に、素子基板60のうち対向基板70が対向配置されていない領域に設けられ、外部に露出している。
Further, the element substrate 60 is provided with a TEG 40 as an evaluation circuit for inspecting the pixel circuit 50 in a region where the counter substrate 70 is not formed along the lower edge in FIG. A plurality of TEG external terminals 92 that are electrically connected to the TEG 40 via TEG signal lines 91 as evaluation circuit signal lines are arranged on the element substrate 60.
These TEG external terminals 92 are provided adjacent to the general-purpose external terminals 97, and similarly to the general-purpose external terminals 97, the TEG external terminals 92 are provided in a region of the element substrate 60 where the counter substrate 70 is not disposed so as to face the outside. Exposed.

TEG用信号線91は、TEG用外部端子92から、汎用信号線96と略平行に、素子基板60のうち対向基板70が対向配置された領域まで延びている。そして、この素子基板60のうち対向基板70が対向配置された領域内で引き回された後、再び、素子基板60のうち対向基板70が対向配置されていない領域に延びて、TEG40に接続されている。
つまり、TEG用信号線91の一部は、素子基板60のうち対向基板70が対向配置された領域に形成されている。
また、TEG用信号線91のうち最も画素回路50、走査線駆動回路11、およびデータ線駆動回路21寄りに位置するものをTEG用特定信号線91Aとすると、このTEG用特定信号線91Aは、グラウンド電位となっている。
The TEG signal line 91 extends from the TEG external terminal 92 to a region of the element substrate 60 in which the counter substrate 70 is disposed so as to be substantially parallel to the general-purpose signal line 96. Then, after being routed in a region of the element substrate 60 in which the counter substrate 70 is disposed opposite to the element substrate 60, the element substrate 60 extends again to a region in which the counter substrate 70 is not disposed to be opposed, and is connected to the TEG 40. ing.
That is, a part of the TEG signal line 91 is formed in a region of the element substrate 60 in which the counter substrate 70 is arranged to face.
If the TEG signal line 91 located closest to the pixel circuit 50, the scanning line drive circuit 11, and the data line drive circuit 21 is the TEG specific signal line 91A, the TEG specific signal line 91A is: Ground potential.

図3は、TEG40の構成を示すブロック図である。
TEG40は、画素回路50と同一構造の画素検査回路41と、走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21の一部と、を含んで構成されている。
走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21の一部とは、歩留りの低い回路であり、具体的には、入力される基準電圧を昇圧して、画素回路50を駆動するための駆動電圧を生成するチャージポンプ回路46である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the TEG 40.
The TEG 40 includes a pixel inspection circuit 41 having the same structure as the pixel circuit 50, and a part of the scanning line driving circuit 11 and the data line driving circuit 21.
The scanning line driving circuit 11 and a part of the data line driving circuit 21 are circuits having a low yield. Specifically, the driving voltage for driving the pixel circuit 50 is increased by boosting the input reference voltage. The charge pump circuit 46 is generated.

チャージポンプ回路46は、TEG用信号線91に接続された入力端子P、Qおよび出力端子R、Sを備え、入力端子Qおよび出力端子Sは、同電位である。このチャージポンプ回路46は、入力端子Pの電圧に入力端子P、Q間の電位差を加えて、出力端子Rから出力する。つまり、チャージポンプ回路46は、入力端子Pの電圧を略2倍にして、出力端子Rから出力する。   The charge pump circuit 46 includes input terminals P and Q and output terminals R and S connected to the TEG signal line 91, and the input terminal Q and the output terminal S have the same potential. The charge pump circuit 46 adds the potential difference between the input terminals P and Q to the voltage at the input terminal P and outputs the voltage from the output terminal R. That is, the charge pump circuit 46 substantially doubles the voltage at the input terminal P and outputs it from the output terminal R.

具体的には、チャージポンプ回路46は、コンデンサ461と、このコンデンサ461の一端側を入力端子Pまたは出力端子Rに電気的に接続するスイッチング素子462と、コンデンサ461の他端側を入力端子Pまたは入力端子Qに電気的に接続するスイッチング素子463と、一端側が入力端子Pに電気的に接続され他端側が出力端子Rに電気的に接続されたコンデンサ464と、を備えている。   Specifically, the charge pump circuit 46 includes a capacitor 461, a switching element 462 that electrically connects one end side of the capacitor 461 to the input terminal P or the output terminal R, and the other end side of the capacitor 461 as the input terminal P. Alternatively, a switching element 463 that is electrically connected to the input terminal Q and a capacitor 464 that has one end side electrically connected to the input terminal P and the other end side electrically connected to the output terminal R are provided.

スイッチング素子462、463は、互いに連動して切り替わるようになっている。すなわち、スイッチング素子462がコンデンサ461の一端側を入力端子Pに電気的に接続した場合には、スイッチング素子463は、コンデンサ461の他端側を入力端子Qに電気的に接続する。一方、スイッチング素子462がコンデンサ461の一端側を出力端子Rに電気的に接続した場合には、スイッチング素子463は、コンデンサ461の他端側を入力端子Pに電気的に接続する。   The switching elements 462 and 463 are switched in conjunction with each other. That is, when the switching element 462 electrically connects one end side of the capacitor 461 to the input terminal P, the switching element 463 electrically connects the other end side of the capacitor 461 to the input terminal Q. On the other hand, when the switching element 462 electrically connects one end side of the capacitor 461 to the output terminal R, the switching element 463 electrically connects the other end side of the capacitor 461 to the input terminal P.

まず、スイッチング素子462がコンデンサ461の一端側を入力端子Pに電気的に接続するとともに、スイッチング素子463がコンデンサ461の他端側を入力端子Qに電気的に接続する。この状態で、入力端子Pにデジタル入力電圧VDDを供給するとともに、入力端子QにデジタルGNDを供給する。
すると、コンデンサ461には、デジタル電圧VDDが充電される。
First, the switching element 462 electrically connects one end side of the capacitor 461 to the input terminal P, and the switching element 463 electrically connects the other end side of the capacitor 461 to the input terminal Q. In this state, the digital input voltage VDD is supplied to the input terminal P, and the digital GND is supplied to the input terminal Q.
Then, the capacitor 461 is charged with the digital voltage VDD.

次に、スイッチング素子462、463をそれぞれ切り替えて、スイッチング素子462がコンデンサ461の一端側を出力端子Rに接続するとともに、スイッチング素子463がコンデンサ461の他端側を入力端子Pに接続する。
すると、コンデンサ464には、コンデンサ461に充電されたデジタル電圧VDDおよび入力端子Pから供給されたデジタル入力電圧VDDの和であるデジタル電圧2VDDが充電される。
Next, the switching elements 462 and 463 are respectively switched so that the switching element 462 connects one end side of the capacitor 461 to the output terminal R and the switching element 463 connects the other end side of the capacitor 461 to the input terminal P.
Then, the capacitor 464 is charged with a digital voltage 2VDD that is the sum of the digital voltage VDD charged in the capacitor 461 and the digital input voltage VDD supplied from the input terminal P.

以上により、チャージポンプ回路46は、入力端子Pから入力されるデジタル入力電圧VDDを略2倍のデジタル電圧2VDDに昇圧して、出力端子Rから出力する。   As described above, the charge pump circuit 46 boosts the digital input voltage VDD input from the input terminal P to the digital voltage 2VDD that is approximately doubled, and outputs the boosted voltage from the output terminal R.

以上の素子基板60は、以下の手順で製造される。
まず、素子基板60のうち表示領域Aに対応する領域に、複数の画素回路50を形成するとともに、TEG40に、画素回路50と同一工程を経て、当該画素回路50と同一構造の画素検査回路41を形成する。また、上述の工程の際に、TEG用信号線91、TEG用外部端子92、汎用信号線96、および汎用外部端子97を上述したように形成するとともに、TEG40に、走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21の一部であるチャージポンプ回路46も形成する。
The above element substrate 60 is manufactured by the following procedure.
First, a plurality of pixel circuits 50 are formed in a region corresponding to the display region A in the element substrate 60, and the pixel inspection circuit 41 having the same structure as the pixel circuit 50 is formed in the TEG 40 through the same process as the pixel circuit 50. Form. Further, in the above-described process, the TEG signal line 91, the TEG external terminal 92, the general-purpose signal line 96, and the general-purpose external terminal 97 are formed as described above, and the scanning line driving circuit 11 and the data are provided in the TEG 40. A charge pump circuit 46 which is a part of the line driving circuit 21 is also formed.

次に、TEG用外部端子92を利用して、TEG40を検査する。
具体的には、TEG40に形成された画素検査回路41の動作を確認する。そして、画素検査回路41が正常に動作しない場合には、画素回路50も正常に動作しないと推定して、そのTEG40が形成された素子基板60を廃棄する。
一方、画素検査回路41が正常に動作する場合には、画素回路50も正常に動作すると推定して、TEG40に形成されたチャージポンプ回路46の動作を確認する。そして、チャージポンプ回路46が動作するか否かに関わらず、次の手順に移る。
Next, the TEG 40 is inspected using the TEG external terminal 92.
Specifically, the operation of the pixel inspection circuit 41 formed in the TEG 40 is confirmed. If the pixel inspection circuit 41 does not operate normally, it is assumed that the pixel circuit 50 does not operate normally, and the element substrate 60 on which the TEG 40 is formed is discarded.
On the other hand, when the pixel inspection circuit 41 operates normally, it is estimated that the pixel circuit 50 also operates normally, and the operation of the charge pump circuit 46 formed in the TEG 40 is confirmed. Then, regardless of whether or not the charge pump circuit 46 operates, the process proceeds to the next procedure.

次に、素子基板60に、上述のチャージポンプ回路46を除く残りの走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21を形成する。また、上述の工程の際に、走査線駆動回路11を検査する検査回路12と、データ線駆動回路21を検査する検査回路22とを形成する。   Next, the remaining scanning line driving circuit 11 and data line driving circuit 21 excluding the above-described charge pump circuit 46 are formed on the element substrate 60. Further, in the above process, an inspection circuit 12 for inspecting the scanning line driving circuit 11 and an inspection circuit 22 for inspecting the data line driving circuit 21 are formed.

次に、汎用外部端子97を利用して、検査回路12を用いて走査線駆動回路11を検査するとともに、検査回路22を用いてデータ線駆動回路21を検査する。そして、走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21のうち上述のチャージポンプ回路46を除く回路の少なくとも一部が正常に動作しない場合には、これらが形成された素子基板60を廃棄する。   Next, using the general-purpose external terminal 97, the scanning line driving circuit 11 is inspected using the inspection circuit 12, and the data line driving circuit 21 is inspected using the inspection circuit 22. If at least a part of the scanning line driving circuit 11 and the data line driving circuit 21 except the above-described charge pump circuit 46 does not operate normally, the element substrate 60 on which these are formed is discarded.

以上により製造された素子基板60は、電気光学装置1の構成部品として使用される。
ここで、電気光学装置1のうちチャージポンプ回路46が正常に動作するものでは、図2に示すように、TEG用外部端子92を、外部基板としてのFPC(Flexible Printed Circuit)95を介して汎用外部端子97に電気的に接続して、このチャージポンプ回路46で生成された駆動電圧を液晶パネルAAに供給する。
一方、電気光学装置1のうちチャージポンプ回路46が正常に動作しないものでは、TEG用外部端子92にFPC95を電気的に接続せず、FPC95に形成されたチャージポンプ回路で生成された駆動電圧を汎用外部端子97を介して液晶パネルAAに供給する。
The element substrate 60 manufactured as described above is used as a component of the electro-optical device 1.
Here, in the electro-optical device 1 in which the charge pump circuit 46 operates normally, as shown in FIG. 2, a TEG external terminal 92 is generally used via an FPC (Flexible Printed Circuit) 95 as an external substrate. Electrically connected to the external terminal 97, the drive voltage generated by the charge pump circuit 46 is supplied to the liquid crystal panel AA.
On the other hand, in the electro-optical device 1 in which the charge pump circuit 46 does not operate normally, the FPC 95 is not electrically connected to the TEG external terminal 92, and the drive voltage generated by the charge pump circuit formed in the FPC 95 is used. The liquid crystal panel AA is supplied via the general-purpose external terminal 97.

以上の電気光学装置1は、以下のように動作する。
すなわち、液晶パネルAAに駆動電圧を供給するとともに、走査線駆動回路11から選択電圧を走査線10に線順次で供給することで、ある走査線10に係る画素トランジスタ51を全てオン状態にして、データ線20と画素電極55とを導通状態とする。そして、これらデータ線20と画素電極55とが導通状態となるタイミングに同期して、データ線駆動回路21からデータ線20に画像信号を線順次で供給する。これにより、走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21で選択した全ての画素にデータ線20から画素トランジスタ51を介して画像信号が供給されて、画像データが画素電極55に書き込まれる。
The above electro-optical device 1 operates as follows.
That is, by supplying a driving voltage to the liquid crystal panel AA and simultaneously supplying a selection voltage from the scanning line driving circuit 11 to the scanning line 10, all the pixel transistors 51 related to the certain scanning line 10 are turned on. The data line 20 and the pixel electrode 55 are brought into conduction. Then, in synchronization with the timing at which the data lines 20 and the pixel electrodes 55 become conductive, image signals are supplied from the data line driving circuit 21 to the data lines 20 in a line sequential manner. As a result, an image signal is supplied from the data line 20 to the pixels selected by the scanning line driving circuit 11 and the data line driving circuit 21 via the pixel transistor 51, and the image data is written to the pixel electrode 55.

画素の画素電極55に画像データが書き込まれると、この画素電極55と共通電極56との電位差により、液晶に駆動電圧が印加される。したがって、画像信号の電圧レベルを変化させることで、液晶の配向や秩序を変化させて、各画素の光変調による階調表示を行う。
なお、液晶に印加される駆動電圧は、蓄積容量53により、画像データが書き込まれる期間よりも3桁も長い期間に亘って保持される。
When image data is written to the pixel electrode 55 of the pixel, a driving voltage is applied to the liquid crystal due to a potential difference between the pixel electrode 55 and the common electrode 56. Therefore, by changing the voltage level of the image signal, the orientation and order of the liquid crystal are changed, and gradation display is performed by light modulation of each pixel.
Note that the drive voltage applied to the liquid crystal is held by the storage capacitor 53 for a period that is three orders of magnitude longer than the period during which image data is written.

図4は、画素トランジスタ51および画素電極55の断面を含む液晶パネルAAの部分断面図である。
本実施形態において、画素トランジスタ51は、プレーナ型ポリシリコンTFTであり、各画素は、このTFT51を複数含んで構成されている。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of the liquid crystal panel AA including cross sections of the pixel transistor 51 and the pixel electrode 55.
In the present embodiment, the pixel transistor 51 is a planar polysilicon TFT, and each pixel includes a plurality of TFTs 51.

まず、素子基板60について説明する。
素子基板60は、図4に示すように、ガラス基板68を有し、このガラス基板68上のTFTが形成される領域には、p−Si(多結晶シリコン)およびnp−Siからなる半導体層61が形成されている。
半導体層61の上およびガラス基板68の上には、表示領域Aの全面に亘ってゲート絶縁膜62が形成されている。
First, the element substrate 60 will be described.
As shown in FIG. 4, the element substrate 60 includes a glass substrate 68, and a region where TFTs are formed on the glass substrate 68 is made of p-Si (polycrystalline silicon) and n + p-Si. A semiconductor layer 61 is formed.
A gate insulating film 62 is formed over the entire surface of the display region A on the semiconductor layer 61 and the glass substrate 68.

ゲート絶縁膜62上には、半導体層61に対向して、ゲート電極511が形成されている。また、ゲート絶縁膜62上には、走査線10および共通線30が形成されている。
ゲート電極511、走査線10、および共通線30上には、層間絶縁膜63が被覆されている。
A gate electrode 511 is formed on the gate insulating film 62 so as to face the semiconductor layer 61. Further, the scanning line 10 and the common line 30 are formed on the gate insulating film 62.
An interlayer insulating film 63 is covered on the gate electrode 511, the scanning line 10, and the common line 30.

ゲート絶縁膜62および層間絶縁膜63には、半導体層61と後述のソース電極512とを電気的に接続するためのコンタクトホール621と、半導体層61と後述のドレイン電極513とを電気的に接続するためのコンタクトホール622と、が形成されている。   A contact hole 621 for electrically connecting the semiconductor layer 61 and a source electrode 512 to be described later is electrically connected to the gate insulating film 62 and the interlayer insulating film 63, and a semiconductor layer 61 and a drain electrode 513 to be described later are electrically connected. Contact holes 622 are formed.

層間絶縁膜63の上には、ソース電極512およびドレイン電極513が形成されている。
ドレイン電極513は、後述のコンタクトホール641が形成される位置まで延長されている。また、層間絶縁膜63の上には、データ線20が形成されている。
A source electrode 512 and a drain electrode 513 are formed on the interlayer insulating film 63.
The drain electrode 513 is extended to a position where a contact hole 641 described later is formed. A data line 20 is formed on the interlayer insulating film 63.

ソース電極512、ドレイン電極513、データ線20、および層間絶縁膜63上には、絶縁膜としての平坦化膜64が形成されている。
平坦化膜64には、ドレイン電極513と後述の画素電極55とを電気的に接続するためのコンタクトホール641が形成されている。
A planarization film 64 as an insulating film is formed on the source electrode 512, the drain electrode 513, the data line 20, and the interlayer insulating film 63.
A contact hole 641 for electrically connecting the drain electrode 513 and a pixel electrode 55 described later is formed in the planarization film 64.

平坦化膜64上には、コンタクトホール641が形成された領域を除いて、画素電極55が形成される領域の全面に亘って、入射光を反射する反射膜65が形成されている。
この反射膜65上には、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明電極からなる上述の画素電極55が形成されている。この画素電極55は、コンタクトホール641の内部も被覆しており、これにより、ドレイン電極513に電気的に接続されている。
画素電極55上には、ポリイミド膜などの有機膜からなる配向膜(図示省略)が形成されている。
On the planarizing film 64, a reflective film 65 that reflects incident light is formed over the entire area where the pixel electrode 55 is formed except for the area where the contact hole 641 is formed.
On the reflective film 65, the above-described pixel electrode 55 made of a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is formed. The pixel electrode 55 also covers the inside of the contact hole 641, and is thereby electrically connected to the drain electrode 513.
An alignment film (not shown) made of an organic film such as a polyimide film is formed on the pixel electrode 55.

次に、対向基板70について説明する。
対向基板70は、ガラス基板74を有し、このガラス基板74のうち画素電極55の境界に対向する位置には、ブラックマトリクスを成す遮光膜71が形成されている。
ガラス基板74および遮光膜71上には、カラーフィルタの着色層72が形成されている。
カラーフィルタの着色層72上には、画素電極55に対向するITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明導電膜からなる共通電極56が形成されている。共通電極56上には、配向膜(図示省略)が形成されている。
Next, the counter substrate 70 will be described.
The counter substrate 70 has a glass substrate 74, and a light shielding film 71 that forms a black matrix is formed in a position of the glass substrate 74 that faces the boundary of the pixel electrode 55.
On the glass substrate 74 and the light shielding film 71, a colored layer 72 of a color filter is formed.
A common electrode 56 made of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is formed on the colored layer 72 of the color filter so as to face the pixel electrode 55. An alignment film (not shown) is formed on the common electrode 56.

素子基板60と対向基板70との間には、液晶層が形成され、この液晶層は、素子基板60および対向基板70の周囲に形成された図示しないシール材により封止されている。   A liquid crystal layer is formed between the element substrate 60 and the counter substrate 70, and this liquid crystal layer is sealed with a sealing material (not shown) formed around the element substrate 60 and the counter substrate 70.

素子基板60および対向基板70の表面には、図示しない位相差板や偏光板が設けられている。   A phase difference plate and a polarizing plate (not shown) are provided on the surfaces of the element substrate 60 and the counter substrate 70.

図5は、TEG用外部端子92および汎用外部端子97の断面を含む素子基板60の部分断面図である。
素子基板60のうち対向基板70が対向配置されていない領域では、ガラス基板68上に、ゲート絶縁膜62が形成されている。
このゲート絶縁膜62上には、層間絶縁膜63が形成され、このゲート絶縁膜62上には、TEG用信号線91および汎用信号線96が上述のソース電極512およびドレイン電極513と同一の材料で形成されている。
TEG用信号線91、汎用信号線96、および層間絶縁膜63上には、平坦化膜64が形成されており、この平坦化膜64には、コンタクトホール642が形成されている。
このコンタクトホール642の近傍および内部には、画素電極55と同一の材料である透明電極からなるTEG用外部端子92および汎用外部端子97が形成されている。これにより、TEG用外部端子92および汎用外部端子97は、TEG用信号線91および汎用信号線96に電気的に接続されている。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view of the element substrate 60 including cross sections of the TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97.
A gate insulating film 62 is formed on the glass substrate 68 in a region of the element substrate 60 where the counter substrate 70 is not disposed to face the element substrate 60.
An interlayer insulating film 63 is formed on the gate insulating film 62, and the TEG signal line 91 and the general-purpose signal line 96 are formed on the gate insulating film 62 with the same material as the source electrode 512 and the drain electrode 513 described above. It is formed with.
A planarizing film 64 is formed on the TEG signal line 91, the general-purpose signal line 96, and the interlayer insulating film 63, and a contact hole 642 is formed in the planarizing film 64.
In the vicinity and inside of the contact hole 642, a TEG external terminal 92 and a general-purpose external terminal 97 made of a transparent electrode made of the same material as the pixel electrode 55 are formed. Thereby, the TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97 are electrically connected to the TEG signal line 91 and the general-purpose signal line 96.

したがって、素子基板60は、TEG用外部端子92および汎用外部端子97が形成される領域と、画素トランジスタ51および画素電極55が形成される領域とが同一工程で製造される。そして、TEG用外部端子92および汎用外部端子97は、素子基板60のうち対向基板70が対向配置されていない領域に略同一の形状で設けられ、外部に露出している。このため、この露出したTEG用外部端子92および汎用外部端子97の上には、FPC95が容易に実装可能となっている。   Therefore, in the element substrate 60, the region where the TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97 are formed and the region where the pixel transistor 51 and the pixel electrode 55 are formed are manufactured in the same process. The TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97 are provided in substantially the same shape in a region of the element substrate 60 where the counter substrate 70 is not disposed opposite to the element substrate 60, and are exposed to the outside. Therefore, the FPC 95 can be easily mounted on the exposed TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97.

次に、電気光学装置1の表示について説明する。
電気光学装置1は、全反射型の表示を行う。すなわち、図4中矢印で示すように、外部から入射した周囲光は、対向基板70の偏光板(図示省略)で直線偏光となり、ガラス基板74、カラーフィルタの着色層72、共通電極56を透過して、液晶層に入射する。液晶層に入射した光は、画素電極55を透過して、反射膜65で反射され、再び画素電極55を透過して、液晶層を通過する。この液晶層を通過する間に、印加電圧に応じて偏光方向が回転される。液晶層を通過した光は、再び、共通電極56、カラーフィルタの着色層72、およびガラス基板74を透過して、対向基板70の偏光板に達する。偏光板に達した光は、液晶による偏光方向の回転量に応じて、偏光板を透過する。
Next, display of the electro-optical device 1 will be described.
The electro-optical device 1 performs total reflection display. That is, as indicated by arrows in FIG. 4, ambient light incident from the outside becomes linearly polarized light by the polarizing plate (not shown) of the counter substrate 70, and is transmitted through the glass substrate 74, the colored layer 72 of the color filter, and the common electrode 56. Then, it enters the liquid crystal layer. The light incident on the liquid crystal layer passes through the pixel electrode 55, is reflected by the reflective film 65, passes through the pixel electrode 55 again, and passes through the liquid crystal layer. While passing through the liquid crystal layer, the polarization direction is rotated according to the applied voltage. The light that has passed through the liquid crystal layer again passes through the common electrode 56, the colored layer 72 of the color filter, and the glass substrate 74, and reaches the polarizing plate of the counter substrate 70. The light that has reached the polarizing plate is transmitted through the polarizing plate according to the amount of rotation in the polarization direction by the liquid crystal.

このような全反射型の電気光学装置1は、画素トランジスタ51といった回路上に画素電極55を形成できるので、画素電極55の有効面積を、画素トランジスタ51やその配線などの面積に影響されることなく、十分に広く確保でき、しかもバックライトなどの光源も不要であるため、高輝度の表示を、低い消費電力で実現できる。   Since the total reflection type electro-optical device 1 can form the pixel electrode 55 on a circuit such as the pixel transistor 51, the effective area of the pixel electrode 55 is affected by the area of the pixel transistor 51 and its wiring. In addition, since a sufficiently wide space can be secured and a light source such as a backlight is not required, high-luminance display can be realized with low power consumption.

本実施形態によれば、以下のような効果がある。
(1)素子基板60に、画素回路50と同一構造の画素検査回路41を含むTEG40と、このTEG40に電気的に接続されたTEG用外部端子92と、を設けた。このため、TEG用外部端子92を介してTEG40を検査することで、画素回路50の動作を確認できる。
また、画素検査回路41を含むTEG40に、チャージポンプ回路46をさらに形成した。このチャージポンプ回路46は、画素回路50を駆動する走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21の一部であり、歩留りが低い。このため、TEG40を検査して、このTEG40が正常に動作する場合には、走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21の一部であるチャージポンプ回路46も正常に動作しているから、走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21が正常に動作する確率は高くなる。
したがって、TEG40を検査することによって、走査線駆動回路11およびデータ線駆動回路21が正常に動作するか否かを推定できるから、歩留りを向上できる。
According to this embodiment, there are the following effects.
(1) The TEG 40 including the pixel inspection circuit 41 having the same structure as the pixel circuit 50 and the TEG external terminal 92 electrically connected to the TEG 40 are provided on the element substrate 60. Therefore, the operation of the pixel circuit 50 can be confirmed by inspecting the TEG 40 through the TEG external terminal 92.
Further, a charge pump circuit 46 is further formed in the TEG 40 including the pixel inspection circuit 41. The charge pump circuit 46 is a part of the scanning line driving circuit 11 and the data line driving circuit 21 that drive the pixel circuit 50, and has a low yield. Therefore, when the TEG 40 is inspected and the TEG 40 operates normally, the charge pump circuit 46 that is a part of the scanning line driving circuit 11 and the data line driving circuit 21 is also operating normally. The probability that the line drive circuit 11 and the data line drive circuit 21 operate normally increases.
Therefore, by inspecting the TEG 40, it can be estimated whether or not the scanning line driving circuit 11 and the data line driving circuit 21 operate normally, so that the yield can be improved.

(2)素子基板60のうち対向基板70の端部に対向する領域の近傍には、液晶パネルAAの製造する際に、応力が作用する。また、素子基板60や対向基板70のうちシール材が設けられた領域には、このシール材により、外力による応力が集中しやすい。
しかしながら、TEG40を、素子基板60のうち対向基板70が対向配置されていない領域に形成したので、TEG40に応力が作用するのを回避でき、損傷や誤動作を防止できる。
(2) Stress is applied to the vicinity of the region of the element substrate 60 facing the end of the counter substrate 70 when the liquid crystal panel AA is manufactured. In addition, stress due to an external force is easily concentrated on the element substrate 60 and the counter substrate 70 in the region where the seal material is provided.
However, since the TEG 40 is formed in a region of the element substrate 60 where the counter substrate 70 is not disposed oppositely, stress can be avoided from acting on the TEG 40, and damage or malfunction can be prevented.

(3)TEG用外部端子92および汎用外部端子97を、素子基板60のうち対向基板70が対向配置されていない領域に形成した。このため、TEG用外部端子92および汎用外部端子97は、対向基板70に隠蔽されないので、これらTEG用外部端子92および汎用外部端子97の上にFPC95を容易に実装できる。   (3) The TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97 are formed in a region of the element substrate 60 where the counter substrate 70 is not disposed to face. For this reason, since the TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97 are not concealed by the counter substrate 70, the FPC 95 can be easily mounted on the TEG external terminal 92 and the general-purpose external terminal 97.

(4)TEG用信号線91により、TEG40とTEG用外部端子92とを電気的に接続し、このTEG用信号線91の一部を、素子基板60のうち対向基板70が対向配置された領域に形成した。このため、TEG用信号線91のうち対向基板70に覆われていない部分が少なくなり、TEG用信号線91に外部からの静電気が印加されるのを防止できる。   (4) The TEG signal line 91 is used to electrically connect the TEG 40 and the TEG external terminal 92, and a part of the TEG signal line 91 is disposed in a region where the counter substrate 70 of the element substrate 60 is opposed to the TEG signal line 91. Formed. Therefore, the portion of the TEG signal line 91 that is not covered by the counter substrate 70 is reduced, and external static electricity can be prevented from being applied to the TEG signal line 91.

(5)複数のTEG用信号線91のうち最も画素回路50、走査線駆動回路11、およびデータ線駆動回路21寄りに位置するものであるTEG用特定信号線91Aを、グラウンド電位とした。このグラウンド電位であるTEG用特定信号線91Aは、残りのTEG用信号線91と、汎用信号線96との間に位置するので、これらの信号線の間のノイズの影響を減少させることでクロストークを低減できる。   (5) The TEG specific signal line 91A that is closest to the pixel circuit 50, the scanning line driving circuit 11, and the data line driving circuit 21 among the plurality of TEG signal lines 91 is set to the ground potential. Since the TEG specific signal line 91A, which is the ground potential, is positioned between the remaining TEG signal line 91 and the general-purpose signal line 96, the influence of noise between these signal lines is reduced to reduce the crossing. Talk can be reduced.

<変形例>
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、本実施形態では、電気光学装置1を全反射型の表示を行う構成としたが、これに限らず、透過型の表示を行う構成としてもよいし、透過および反射兼用の半透過反射型の表示を行う構成としてもよい。
<Modification>
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, etc. within a scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the present embodiment, the electro-optical device 1 is configured to perform total reflection display, but is not limited thereto, and may be configured to perform transmissive display, or may be a transflective type for both transmission and reflection. It is good also as a structure which displays.

また、本実施形態では、評価回路としてのTEG40を、チャージポンプ回路46を含んで構成したが、これに限らず、例えば、レベルシフタやデコーダ回路を含んで構成してもよい。   In the present embodiment, the TEG 40 as the evaluation circuit includes the charge pump circuit 46. However, the present invention is not limited to this. For example, the TEG 40 may include a level shifter or a decoder circuit.

また、本実施形態では、電気光学物質として液晶を用いたが、これに限らず、液晶以外の電気光学物質を用いた電気光学装置にも適用できる。例えば、着色された液体とこの液体に分散された白色の粒子とを含むマイクロカプセルを電気光学物質として用いた電気泳動表示パネル、極性が相違する領域毎に異なる色に塗り分けられたツイストボールを電気光学物質として用いたツイストボールディスプレイパネル、黒色トナーを電気光学物質として用いたトナーディスプレイパネル、あるいは、ヘリウムやネオン等の高圧ガスを電気光学物資として用いたプラズマディスプレイパネルなど各種の電気光学装置に対しても、上記実施形態と同様に本発明が適用され得る。   In this embodiment, liquid crystal is used as the electro-optical material. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to an electro-optical device using an electro-optical material other than liquid crystal. For example, an electrophoretic display panel using a microcapsule containing a colored liquid and white particles dispersed in the liquid as an electro-optical material, and a twist ball that is separately applied to different colors for areas of different polarity Various electro-optical devices such as a twist ball display panel used as an electro-optical material, a toner display panel using black toner as an electro-optical material, or a plasma display panel using a high-pressure gas such as helium or neon as an electro-optical material. In contrast, the present invention can be applied similarly to the above embodiment.

また、本実施形態では、画素トランジスタ51として、ポリシリコンTFTを用いたが、これに限らず、アモルファスシリコンTFTを用いてもよい。   In this embodiment, a polysilicon TFT is used as the pixel transistor 51. However, the present invention is not limited to this, and an amorphous silicon TFT may be used.

<応用例>
次に、上述した実施形態に係る電気光学装置1を適用した電子機器について説明する。
図6は、電気光学装置1を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001およびスクロールボタン3002、ならびに電気光学装置1を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、電気光学装置1に表示される画面がスクロールされる。
<Application example>
Next, an electronic apparatus to which the electro-optical device 1 according to the above-described embodiment is applied will be described.
FIG. 6 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile phone to which the electro-optical device 1 is applied. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and the electro-optical device 1. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the electro-optical device 1 is scrolled.

なお、電気光学装置1が適用される電子機器としては、図6に示すものの他、パーソナルコンピュータ、情報携帯端末、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した電気光学装置が適用可能である。   The electronic apparatus to which the electro-optical device 1 is applied includes a personal computer, an information portable terminal, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation system as well as those shown in FIG. Examples of the apparatus include a device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a video phone, a POS terminal, and a touch panel. The electro-optical device described above can be applied as a display unit of these various electronic devices.

本発明の一実施形態に係る電気光学装置の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a configuration of an electro-optical device according to an embodiment of the invention. FIG. 前記電気光学装置の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the electro-optical device. TEGの構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of TEG. 画素トランジスタおよび画素電極の断面を含む液晶パネルの部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of a liquid crystal panel including the section of a pixel transistor and a pixel electrode. TEG用外部端子および汎用外部端子の断面を含む素子基板の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of an element substrate including a section of a TEG external terminal and a general-purpose external terminal. 上述した電気光学装置を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone to which the electro-optical device mentioned above is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1…電気光学装置、10…走査線、11…走査線駆動回路(駆動回路)、20…データ線、21…データ線駆動回路(駆動回路)、40…TEG(評価回路)、41…画素検査回路、46…チャージポンプ回路(駆動回路)、50…画素回路、51…画素トランジスタ、60…素子基板(第1の基板)、70…対向基板(第2の基板)、91…TEG用信号線(評価回路用信号線)、92…TEG用外部端子、96…汎用信号線、97…汎用外部端子(外部端子)3000…携帯電話機(電子機器)。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electro-optical apparatus, 10 ... Scan line, 11 ... Scan line drive circuit (drive circuit), 20 ... Data line, 21 ... Data line drive circuit (drive circuit), 40 ... TEG (evaluation circuit), 41 ... Pixel inspection Circuits 46: Charge pump circuit (drive circuit) 50 ... Pixel circuit 51 ... Pixel transistor 60 ... Element substrate (first substrate) 70 ... Counter substrate (second substrate) 91 ... Signal line for TEG (Evaluation circuit signal line), 92... TEG external terminal, 96. General purpose signal line, 97. General purpose external terminal (external terminal) 3000... Mobile phone (electronic device).

Claims (8)

走査線、この走査線と交差するデータ線、前記走査線および前記データ線の交差に対応して設けられた画素回路、および、この画素回路を駆動する駆動回路を有する第1の基板と、
前記第1の基板に対向配置された第2の基板と、
前記第1の基板および前記第2の基板の間に挟持された電気光学物質と、を備える電気光学装置であって、
前記第1の基板には、前記画素回路と同一構造の画素検査回路を含む評価回路と、この評価回路に電気的に接続された外部端子と、が設けられ、
前記評価回路は、前記駆動回路の一部をさらに含むことを特徴とする電気光学装置。
A first substrate having a scanning line, a data line intersecting with the scanning line, a pixel circuit provided corresponding to the intersection of the scanning line and the data line, and a driving circuit for driving the pixel circuit;
A second substrate disposed opposite to the first substrate;
An electro-optic device comprising: an electro-optic material sandwiched between the first substrate and the second substrate,
The first substrate is provided with an evaluation circuit including a pixel inspection circuit having the same structure as the pixel circuit, and an external terminal electrically connected to the evaluation circuit,
The electro-optical device, wherein the evaluation circuit further includes a part of the drive circuit.
請求項1に記載の電気光学装置において、
前記評価回路は、前記第1の基板のうち前記第2の基板が対向配置されていない領域に形成されることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1.
The electro-optical device, wherein the evaluation circuit is formed in a region of the first substrate where the second substrate is not opposed to the second substrate.
請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記外部端子は、前記第1の基板のうち前記第2の基板が対向配置されていない領域に形成されることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the external terminal is formed in a region of the first substrate where the second substrate is not opposed.
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電気光学装置において、
前記第1の基板には、前記評価回路と前記外部端子とを電気的に接続する評価回路信号線が設けられ、
当該評価回路信号線の少なくとも一部は、前記第1の基板のうち前記第2の基板が対向配置された領域に設けられることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3,
The first substrate is provided with an evaluation circuit signal line for electrically connecting the evaluation circuit and the external terminal,
At least a part of the evaluation circuit signal line is provided in a region of the first substrate in which the second substrate is opposed to the electro-optical device.
請求項4に記載の電気光学装置において、
前記評価回路信号線は、複数であり、
これら評価回路信号線のうち最も画素回路および駆動回路寄りに位置するものは、グラウンド電位であることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 4.
The evaluation circuit signal lines are plural,
An electro-optical device characterized in that the evaluation circuit signal line located closest to the pixel circuit and the drive circuit is a ground potential.
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電気光学装置において、
前記評価回路に形成する駆動回路は、歩留りの低い駆動回路であることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 5,
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the driver circuit formed in the evaluation circuit is a driver circuit having a low yield.
走査線、この走査線と交差するデータ線、前記走査線および前記データ線の交差に対応して設けられた画素回路、および、この画素回路を駆動する駆動回路を有する第1の基板と、
前記第1の基板に対向配置された第2の基板と、
前記第1の基板および前記第2の基板の間に挟持された電気光学物質と、を備える電気光学装置であって、
前記第1の基板には、前記駆動回路の一部と同一構造を含む評価回路を含むことを特徴とする電気光学装置。
A first substrate having a scanning line, a data line intersecting with the scanning line, a pixel circuit provided corresponding to the intersection of the scanning line and the data line, and a driving circuit for driving the pixel circuit;
A second substrate disposed opposite to the first substrate;
An electro-optic device comprising: an electro-optic material sandwiched between the first substrate and the second substrate,
The electro-optical device, wherein the first substrate includes an evaluation circuit having the same structure as a part of the drive circuit.
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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