JP2007082900A - Disinfection or sterilization method - Google Patents

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Masayuki Kawakami
雅之 川上
Kazuya Takeuchi
和也 竹内
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a disinfection and sterilization method suited to disinfect or sterilize an endoscope and the like and capable of exerting a sufficient sterilizing effect on spores with strong resistance in a short period of time. <P>SOLUTION: This disinfection or sterilization method for medical equipment such as the endoscope is characterized by combining a process using bactericide, for example, carboperoxoic acid with ultraviolet irradiation using, for example, ultraviolet light with wavelength of 300 nm or less. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は消毒又は滅菌方法に関する。より具体的には、本発明は内視鏡等の医療用機器の消毒又は滅菌に適した処理方法に関する。   The present invention relates to a disinfection or sterilization method. More specifically, the present invention relates to a treatment method suitable for disinfection or sterilization of medical equipment such as an endoscope.

内視鏡等の医療用機器は、使い捨てにできず、患者に直接接触することから、より安全な消毒又は滅菌を施して次の診療等に用いる必要がある。しかし、特に規模の小さい病院では1つの機器を短時間で使い回すことが多い。そのため、医療用機器の消毒又は滅菌に用いる組成物としては、幅広い微生物を死滅させる作用を有し、かつ短時間で医療用機器を消毒又は滅菌できる組成物が望まれている。また、安全性の観点から、該組成物中の化合物等の量は可能な限り少ないことが望まれる。   Since medical devices such as endoscopes cannot be disposable and come into direct contact with the patient, it is necessary to perform safer disinfection or sterilization and use them for the next medical treatment and the like. However, a small scale hospital often uses a single device in a short time. Therefore, as a composition used for disinfection or sterilization of a medical device, a composition having an action of killing a wide range of microorganisms and capable of disinfecting or sterilizing a medical device in a short time is desired. From the viewpoint of safety, it is desirable that the amount of the compound and the like in the composition is as small as possible.

従来、内視鏡等の医療用機器の洗浄用組成物及び消毒又は滅菌用組成物としては、グルタルアルデヒドやo−フタルアルデヒド等のアルデヒドを有効成分とする組成物が知られており、実際に消毒薬として市販されている。しかし、これらアルデヒド化合物を主成分とする消毒薬については、変異原性や毒性が強いことに加え、芽胞の様な抵抗性の強い菌に対する抗菌活性が弱いことが知られている。   Conventionally, as cleaning compositions and disinfecting or sterilizing compositions for medical devices such as endoscopes, compositions containing aldehydes such as glutaraldehyde and o-phthalaldehyde as active ingredients are known. It is marketed as a disinfectant. However, it is known that disinfectants containing these aldehyde compounds as main components have weak mutagenicity and toxicity, and weak antibacterial activity against highly resistant bacteria such as spores.

細菌細胞は周囲の環境がその細菌の生育に不利な状況になると死滅していくのが一般的である。しかし、ある種の細菌は乾燥や高温などの環境条件が悪くなると芽胞とよばれる耐久器官を作り生き延びることが知られている。この芽胞を形成する菌としては、好気性の細菌であるBacillus属に属する細菌や嫌気性の細菌であるClostridium属に属する細菌など、グラム陽性の比較的大きい桿菌が知られている。芽胞形成菌であっても栄養バランスが取れていて分裂増殖している時(栄養型)には芽胞を形成しない時が多く、バランスが崩れた時に菌体内に芽胞を生じる。   Bacterial cells generally die when the surrounding environment is unfavorable for the growth of the bacteria. However, certain bacteria are known to survive by creating durable organs called spores when environmental conditions such as dryness and high temperature deteriorate. As bacteria that form these spores, relatively large Gram-positive bacilli such as bacteria belonging to the genus Bacillus which is an aerobic bacterium and bacteria belonging to the genus Clostridium which is an anaerobic bacterium are known. Even if the spore-forming bacteria are balanced in nutrients and divide and proliferate (nutritive type), they often do not form spores. When the balance is lost, spores are formed in the cells.

芽胞は物理的又は化学的刺激に対して強い抵抗性を示すことが知られている。これは、芽胞では水分の少ない濃厚な原形質及び核が厚い殻で覆れていることがその理由であると推定されている。芽胞中の水分の60-70%は結合水の形になっており、自由水をもたない脱水状態になっている。また、芽胞はその重量の5-12%をジピコリン酸が占め、ジピコリン酸が大量のCaをキレートした状態で保持していることが特徴である。   Spores are known to be strongly resistant to physical or chemical stimuli. This is presumed to be due to the thick protoplasm and nuclei being covered with a thick shell in the spores. 60-70% of the water in the spore is in the form of bound water, dehydrated without free water. In addition, spore is characterized in that 5-12% of its weight is occupied by dipicolinic acid, and dipicolinic acid retains a large amount of Ca chelated.

芽胞は代謝が行われていない休止状態にあり、細菌の増殖などの生物活性が殆ど認められないことから、細菌胞子や内生胞子と呼ばれることがある。芽胞は、数年ないし数十年に亘って休眠した後にも再生能力を有することが知られていることから、医学や食品工業等の分野では、芽胞を完全に死滅させることが滅菌の基準の一つとなっている。特に、病院や養護施設等で用いられる医療器具や備品は、内部感染防止等の観点から十分な殺菌洗浄処理を行う必要がある。   Since spores are in a dormant state where metabolism is not performed and biological activities such as bacterial growth are hardly observed, they are sometimes called bacterial spores or endospores. Since spores are known to have regenerative ability even after dormancy for several years to several decades, the sterilization standard is to completely kill spores in fields such as medicine and the food industry. It has become one. In particular, medical instruments and equipment used in hospitals and nursing homes need to be sufficiently sterilized and washed from the viewpoint of preventing internal infection.

このような殺菌洗浄処理を行うための殺菌剤又は消毒剤等が種々知られており、グルタルアルデヒドや過酢酸が広く用いられている。グルタルアルデヒドや過酢酸を用いた殺菌洗浄処理として、例えば、内視鏡の殺菌洗浄では、第4級アンモニウム塩系殺菌剤、アルコール、酸性水、又は両性界面活性剤等を用いた一次消毒工程、酵素製剤や中性洗剤等を用いた洗浄工程を経た後、グルタルアルデヒドや過酢酸による滅菌処理が行われ、必要に応じてオートクレーブ滅菌又は乾熱滅菌が行われる。   Various disinfectants or disinfectants for performing such disinfection and washing treatment are known, and glutaraldehyde and peracetic acid are widely used. As a sterilization cleaning process using glutaraldehyde or peracetic acid, for example, in the sterilization cleaning of an endoscope, a primary disinfection step using a quaternary ammonium salt-based disinfectant, alcohol, acidic water, or an amphoteric surfactant, After a washing process using an enzyme preparation, a neutral detergent or the like, sterilization with glutaraldehyde or peracetic acid is performed, and autoclave sterilization or dry heat sterilization is performed as necessary.

一方、紫外線による殺菌については、米国特許第4,289,728号明細書には、0.25% H2O2中の多数の芽胞を4+logサイクル減少させるためには、0.25% H2O2中の芽胞懸濁液を紫外線に30秒照射した後、60秒間85℃に加熱することが必要であると記載されている。しかしながら、微生物の存在確率が100万分の1以下であることを保証する滅菌レベルとなる6+logサイクル減少を達成するためにはさらに時間が必要であり、さらに紫外線照射及び加熱処理を含む複数の処理工程が必要となることから、実際の臨床現場で実施するには煩雑な点が問題である。 On the other hand, for UV disinfection, US Pat. No. 4,289,728 states that a spore suspension in 0.25% H 2 O 2 is used to reduce the number of spores in 0.25% H 2 O 2 by 4 + log cycles. It is described that it is necessary to heat at 85 ° C. for 60 seconds after irradiating with UV rays for 30 seconds. However, more time is required to achieve a 6 + log cycle reduction that results in a sterilization level that guarantees that the microbe's presence probability is less than 1 / 1,000,000, and multiple processing steps including ultraviolet irradiation and heat treatment. Therefore, it is a problem that it is complicated to implement in an actual clinical site.

特公平7-112489号公報には、微生物が存在している物品の殺菌方法であって、物品に対して5秒間から50秒間の紫外線照射を行い、合わせて15重量%から25重量%の過酸化水素と0.01重量%から1重量%の過酢酸とを含む溶液を用いて処理する方法が開示されている。しかしながら、この刊行物に記載された方法に用いる消毒薬は過酢酸に限定されており、過酢酸以外の消毒薬、特に過酢酸以外のペルオキシカルボン酸は上記刊行物に具体的に開示されていない。また、上記刊行物には殺菌対象となる物品として食品容器が開示されているが、物品として医療機器、特に内視鏡は開示されていない。   Japanese Examined Patent Publication No.7-112489 discloses a method for sterilizing an article in which microorganisms are present. The article is irradiated with ultraviolet rays for 5 to 50 seconds, and a total of 15 to 25% by weight is exceeded. A method of treating with a solution containing hydrogen oxide and 0.01 to 1 wt% peracetic acid is disclosed. However, the disinfectant used in the method described in this publication is limited to peracetic acid, and disinfectants other than peracetic acid, particularly peroxycarboxylic acids other than peracetic acid, are not specifically disclosed in the above publications. . Moreover, although the food container is disclosed as an article to be sterilized in the above publication, a medical device, in particular, an endoscope is not disclosed as the article.

さらに、上記の2つの刊行物に記載された方法では消毒薬が存在する状態において紫外線照射と行っているが、消毒薬による殺菌処理の前工程又は後工程として、消毒薬を含まない状態での紫外線照射を行う工程は上記のいずれの刊行物にも開示されていない。このように、過酢酸以外のペルオキシカルボン酸を用い、殺菌対象が医療機器、特に内視鏡であり、かつ消毒薬が存在する状態における紫外線照射に加えて、消毒薬による殺菌処理の前工程又は後工程として消毒薬を含まない状態での紫外線照射を行う方法は上記刊行物には記載がない。
米国特許第4,289,728号明細書 特公平7-112489号公報
Furthermore, in the methods described in the above two publications, UV irradiation is performed in the presence of a disinfectant, but as a pre- or post-process of disinfection treatment with a disinfectant, the disinfectant is not included. The process of performing UV irradiation is not disclosed in any of the above publications. As described above, in addition to ultraviolet irradiation in a state where a peroxycarboxylic acid other than peracetic acid is used, and the sterilization target is a medical device, particularly an endoscope, and a disinfectant is present, The above publication does not describe a method of performing ultraviolet irradiation in a state in which no disinfectant is contained as a post-process.
U.S. Pat.No. 4,289,728 Japanese Patent Publication No.7-112489

本発明の課題は、抵抗性の強い芽胞を対象として短時間に十分な殺菌効果を発揮することが可能な消毒及び滅菌方法を提供することにある。また、本発明の課題は、上記の特徴を有する消毒又は滅菌方法であって、内視鏡等の医療用機器の消毒又は滅菌に適した方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a disinfection and sterilization method capable of exerting a sufficient bactericidal effect in a short time for a highly resistant spore. Another object of the present invention is to provide a disinfection or sterilization method having the above-described characteristics, which is suitable for disinfection or sterilization of medical equipment such as an endoscope.

本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行い、殺菌剤を用いた殺菌処理に紫外線照射による殺菌処理を組み合わせることによって、抵抗性の強い芽胞に対しても短時間に十分な殺菌効果を達成できることを見出した。本発明はこれらの知見を基に完成されたものである。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems, and by combining a sterilization treatment using a bactericide with a sterilization treatment by ultraviolet irradiation, sufficient sterilization can be carried out in a short time even for highly resistant spores. It was found that the effect can be achieved. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明により、消毒又は滅菌方法であって、殺菌剤による処理と紫外線照射とを組み合わせて含む方法が提供される。紫外線照射は殺菌剤を含む溶液中で行ってもよく、あるいは殺菌剤の非存在下において行なってもよいが、好ましくは殺菌剤による処理の前工程及び/又は後工程において殺菌剤の非存在下に行うことが好ましい。
本発明の好ましい態様によれば、波長が300 nm以下の紫外線を用いた紫外線照射を行なう上記の消毒又は滅菌方法、及び紫外線照射を5秒以上10分以内の時間行なう上記の方法が提供される。また、殺菌対象が医療機器である上記の方法、及び殺菌対象が内視鏡である上記の方法も好ましい態様として提供される。
That is, the present invention provides a disinfection or sterilization method that includes a combination of a disinfectant treatment and ultraviolet irradiation. The ultraviolet irradiation may be carried out in a solution containing a bactericidal agent or in the absence of a bactericidal agent, but preferably in the absence of a bactericidal agent before and / or after the treatment with a bactericidal agent. It is preferable to carry out.
According to a preferred embodiment of the present invention, there are provided the above-described disinfection or sterilization method for performing ultraviolet irradiation using ultraviolet light having a wavelength of 300 nm or less, and the above-mentioned method for performing ultraviolet irradiation for a period of 5 seconds to 10 minutes. . In addition, the above method in which the sterilization target is a medical device and the above method in which the sterilization target is an endoscope are also provided as preferable aspects.

また、別の好ましい態様によれば、殺菌剤がペルオキシカルボン酸である上記の方法が提供される。ペルオキシカルボン酸としては、過酢酸又は一般式(I):

Figure 2007082900
(式中、R1は置換若しくは無置換のC1−C10のアルキル基(ただし、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基は除く)、又は置換若しくは無置換のC6−C10のアリール基を示し、Lは置換若しくは無置換のC2−C12の2価の連結基を示し、R1とLは結合して環を形成してもよい)で表されるペルオキシカルボン酸が好ましい。Lとしては、−CH(R11)−L12(R11は水素原子又はC1〜C4の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、L12は置換若しくは無置換のC1−C11の2価の連結基を示す)が好ましい例として挙げられる。L12としては置換又は無置換のC1−C4の2価の連結基が好ましく、置換又は無置換のメチレン基がより好ましく、メチレン基又はメチル基置換メチレン基(−CH(CH3)−)がさらに好ましく、メチレン基が最も好ましい。R1が置換又は無置換のC1−C3のアルキル基であることが好ましく、R1がメチル基又はエチル基であり、かつR11が水素原子であることがさらに好ましい。 Moreover, according to another preferable aspect, said method whose disinfectant is peroxycarboxylic acid is provided. As peroxycarboxylic acid, peracetic acid or general formula (I):
Figure 2007082900
(Wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted C1-C10 alkyl group (excluding a substituent having a hydroxy group as a substituent) or a substituted or unsubstituted C6-C10 aryl group; Represents a substituted or unsubstituted C2-C12 divalent linking group, and R 1 and L may combine to form a ring), and a peroxycarboxylic acid represented by L represents —CH (R 11 ) —L 12 (R 11 represents a hydrogen atom or a C1-C4 substituted or unsubstituted alkyl group, and L 12 represents a substituted or unsubstituted C1-C11 divalent linkage. A group) is a preferred example. L 12 is preferably a substituted or unsubstituted C1-C4 divalent linking group, more preferably a substituted or unsubstituted methylene group, and a methylene group or a methyl group-substituted methylene group (—CH (CH 3 ) —). More preferred is a methylene group. R 1 is preferably a substituted or unsubstituted C1-C3 alkyl group, more preferably R 1 is a methyl group or an ethyl group, and R 11 is more preferably a hydrogen atom.

本発明により提供される消毒又は滅菌方法は、抵抗性の強い芽胞などに対しても極めて短時間で完全な消毒又は滅菌を達成することができる。   The disinfection or sterilization method provided by the present invention can achieve complete disinfection or sterilization in a very short time even for highly resistant spores and the like.

本明細書において、消毒とは感染予防上問題となる微生物の殆ど全てを除去、死滅、又は不活性化することを意味し、滅菌とは全ての微生物を死滅、不活性化又は除去することを意味する。通常は微生物の存在確率が100万分の1以下であることを保証して「滅菌」という。消毒と滅菌の概念は場合によっては同義に用いられることもあるが、本明細書において「消毒又は滅菌」と言う場合には、そのような重なり合う概念も含まれる。本明細書において用いられる「殺菌剤」という用語は微生物に対して殺菌又は抗菌作用を有する薬剤を意味しているが、消毒又は滅菌の目的で用いられる薬剤のほか、洗浄などの目的で用いられる薬剤を包含している。殺菌剤の用語は最も広義に解釈しなければならず、いかなる意味においても殺菌剤の用語を限定的に解釈してはならない。   In this specification, disinfection means removing, killing, or inactivating almost all microorganisms that are problematic in preventing infection, and sterilization means killing, inactivating, or removing all microorganisms. means. It is usually called “sterilization” by guaranteeing that the existence probability of microorganisms is 1 / 1,000,000 or less. Although the concept of disinfection and sterilization may be used interchangeably in some cases, the term “disinfection or sterilization” in this specification includes such overlapping concepts. The term “bactericidal agent” used in the present specification means a drug having a bactericidal or antibacterial action against microorganisms, but is used for the purpose of cleaning or the like in addition to a drug used for the purpose of disinfection or sterilization. Includes drugs. The term bactericides should be interpreted in the broadest sense and the term bactericides should not be interpreted in any way restrictive.

本発明の消毒又は滅菌方法において用いられる殺菌剤は、主として化学的作用により種々の微生物に対して殺菌作用を発揮するものであり、Spauldingによって分類された高水準、中水準、低水準の殺菌剤のいずれのものであってもよい。Spauldingによれば、主として増殖型の一般細菌を殺すことができるものは低水準(低度)殺菌剤、抵抗力の強い結核菌まで殺すことができるものは中水準(中度)殺菌剤、最も抵抗力の強い細菌芽胞までを殺すことができるものは高水準(高度)殺菌剤に分類される。一般的に、低水準殺菌剤としては第四級アンモニウム塩、クロルヘキシジン、又は両性界面活性剤などを挙げることができ、中水準殺菌剤としてはアルコール系殺菌剤、ヨード系殺菌剤、フェノール系殺菌剤、又は次亜塩素酸系殺菌剤などを挙げることができ、高水準殺菌剤としてはアルデヒド系殺菌剤、二酸化塩素、又は過酢酸などを挙げることができる。   The disinfectant used in the disinfecting or sterilizing method of the present invention exerts a disinfecting action against various microorganisms mainly by a chemical action, and high, medium and low level disinfectants classified by Spalding. Any of these may be used. According to Spaulding, low-level (low) fungicides that can kill mainly breeding general bacteria, medium-level (moderate) fungicides that can kill even resistant tuberculosis bacteria, most Those that can kill even highly resistant bacterial spores are classified as high-level (high) fungicides. In general, examples of the low-level bactericides include quaternary ammonium salts, chlorhexidine, and amphoteric surfactants, and examples of the medium-level bactericides include alcohol-type bactericides, iodine-type bactericides, and phenol-type bactericides. Or a hypochlorous acid-based germicide, and the high-level germicide can include an aldehyde-based germicide, chlorine dioxide, or peracetic acid.

本発明の消毒又は滅菌方法は、多様な対象物の消毒又は滅菌に使用することができる。対象物の多くは液体又は固体である。液体の形態の対象物の典型例としては、微生物汚染された水性物質、例えば、再循環プロセス水又は廃棄前の水性流出液などを挙げることができる。そのようなプロセス水及び流出液は多くの産業において発生しており、バクテリア、藻類、又はイーストで汚染されていることがあり、まれにはウイルスによって汚染されていることがある。汚染プロセス水は植物及び動物物質の処理により不可避的に発生し、例えば、紙及びパルプ産業、食品処理(例えば、砂糖精製産業、醸造、ワイン製造、及びアルコール蒸留産業など)、わら処理からの流出液、下水処理場からの排水(例えば、部分処理又は単にろ過された下水からの排水、及び海に延びる管路による排水)、食肉処理工場、動物性脂肪精製事業、及び家畜の飼育からの排水などがある。その他の液体対象物としては、園芸産業における灌漑水や、水耕栽培における水性肥料や循環水、水産業における養殖用水などが挙げられる。さらに別の重要な汚染水性物質の発生源として、産業において生じる冷却水を挙げることができ、例えば、大きな建物(例えば、ホテル、事務所、及び病院など)に設置された空調装置から生じる冷却水を挙げることができる。本発明の消毒又は滅菌方法は、非水性液体物質たとえば切削油の消毒又は滅菌にも使用することができる。   The disinfection or sterilization method of the present invention can be used for disinfection or sterilization of various objects. Many objects are liquid or solid. Typical examples of objects in liquid form include microbially contaminated aqueous materials such as recycled process water or aqueous effluent prior to disposal. Such process water and effluents occur in many industries and can be contaminated with bacteria, algae, or yeast, and rarely contaminated with viruses. Contaminated process water is inevitably generated by the treatment of plant and animal material, such as paper and pulp industry, food processing (eg sugar refining industry, brewing, wine making, and alcohol distillation industry), spill from straw processing Wastewater from wastewater, wastewater from sewage treatment plants (eg, wastewater from partially treated or simply filtered sewage, and drainage from pipelines extending to the sea), slaughterhouses, animal fat refining operations, and livestock breeding and so on. Examples of other liquid objects include irrigation water in the horticultural industry, aqueous fertilizer and circulating water in hydroponics, and aquaculture water in the fishery industry. Still another important source of polluted water can include industrial cooling water, such as cooling water from air conditioners installed in large buildings (eg, hotels, offices, and hospitals). Can be mentioned. The disinfection or sterilization method of the present invention can also be used to disinfect or sterilize non-aqueous liquid materials such as cutting oil.

本発明の消毒又は滅菌方法は、固体に対して使用することもできる。例えば、硬質表面の消毒又は滅菌、あるいは食品処理、動物飼育、園芸、仕出し、家庭、若しくは病院環境において再使用を意図する汚染物品の消毒又は滅菌などにも使用することができる。硬質表面としては、例えば、金属、木材、セラミックス、ガラス、繊維、又はプラスチックなどの部材からなる表面を挙げることができる。硬質表面を有する物品としては、例えば、食品パッケージ、コンタクトレンズ、作業台、壁、床、衛生陶器、プール、プラント、衣料、又はシーツ若しくはカバー類、あるいは装置、容器、工具、機械、プラント、若しくは配管などを挙げることができる。病院環境において再使用を意図する汚染物品としては、種々の医療用機器、例えば透析装置、内視鏡、又は移植用材料などを挙げることができる。本発明の消毒又は滅菌方法は、吸湿性の材料、例えば汚染されたリネン又は特に汚れた赤ん坊用のオムツ(例えばテリータオル地で製造されたものなど)の消毒又は滅菌に用いることもできる。   The disinfection or sterilization method of the present invention can also be used on solids. For example, it can be used for disinfection or sterilization of hard surfaces, or for disinfection or sterilization of contaminated articles intended for reuse in food processing, animal breeding, horticulture, catering, home or hospital environments. As a hard surface, the surface which consists of members, such as a metal, wood, ceramics, glass, a fiber, or a plastic, can be mentioned, for example. Articles having a hard surface include, for example, food packages, contact lenses, worktables, walls, floors, sanitary ware, pools, plants, clothing, or sheets or covers, or devices, containers, tools, machines, plants, or Piping etc. can be mentioned. Contaminated articles intended for reuse in a hospital environment can include various medical devices such as dialysis machines, endoscopes, or implantable materials. The disinfection or sterilization method of the present invention can also be used to disinfect or sterilize hygroscopic materials such as contaminated linen or especially dirty baby diapers (such as those manufactured on terry toweling).

本発明の消毒又は滅菌方法は、収穫された植物又は植物生成物、例えば種子、球茎、塊茎、果物、若しくは野菜などの消毒又は滅菌に使用することができる。本発明の消毒又は滅菌方法は、成長中の植物、特に収穫前の成長段階にある植物、例えば、穀草、葉野菜、又はサラダ用野菜作物、あるいは根菜、豆類、液果、カンキツ類、又は堅果の消毒又は滅菌に使用することもできる。本発明の消毒又は滅菌方法を適用することが可能な対象物について具体的に説明したが、本発明の消毒又は滅菌方法の適用対象は上記の具体例に限定されることはなく、消毒又は滅菌を意図するあらゆる対象物に対して適用可能である。   The disinfection or sterilization method of the present invention can be used for disinfection or sterilization of harvested plants or plant products such as seeds, corms, tubers, fruits, or vegetables. The disinfecting or sterilizing method of the present invention can be used for growing plants, especially plants in the growth stage prior to harvest, such as vegetable crops for cereals, leafy vegetables, or salads, or root vegetables, legumes, berries, citrus fruits, or nuts. It can also be used for disinfection or sterilization. Although the object to which the disinfection or sterilization method of the present invention can be applied has been specifically described, the application target of the disinfection or sterilization method of the present invention is not limited to the above-described specific examples, and the disinfection or sterilization is performed. It can be applied to any object intended.

本発明の消毒又は滅菌方法を用いることにより、一般的に用いられる殺菌剤に対して特に高い抵抗性を有する芽胞、例えばBacillus subtilisも短時間に死滅させることが可能である。本発明の消毒又は滅菌方法の用途は特に限定されず、上記に例示した多様な対象物に対して適用可能であるが、繰り返し使用することを前提とした医療用機器の消毒又は滅菌に好適に使用することができ、短時間に完全な消毒又は滅菌を達成することが求められる歯科用機器や医療用機器、例えば、内視鏡などの消毒又は滅菌に特に好適に使用することができる。
以下、本発明の消毒又は滅菌方法を内視鏡などの医療用機器に適用する場合についてのみ具体的に言及する場合があるが、そのようは記述は本発明の好ましい態様の説明として理解すべきであり、いかなる意味においても限定的に解釈してはならない。
By using the disinfection or sterilization method of the present invention, spores having particularly high resistance to commonly used fungicides, such as Bacillus subtilis, can be killed in a short time. The use of the disinfection or sterilization method of the present invention is not particularly limited, and can be applied to the various objects exemplified above, but is suitable for disinfection or sterilization of medical devices on the premise of repeated use. It can be used, and can be particularly suitably used for sterilization or sterilization of dental equipment and medical equipment that are required to achieve complete disinfection or sterilization in a short time.
Hereinafter, the disinfection or sterilization method of the present invention may be specifically referred to only when applied to a medical device such as an endoscope, but such description should be understood as an explanation of a preferred embodiment of the present invention. And should not be construed as limiting in any way.

本発明の方法で使用する紫外線の種類は特に限定されないが、例えば波長が300 nm以下であることが好ましく、200〜280 nmであることがより好ましく、約254 nmであることが特に好ましい。一般に、照射エネルギーが大きい程、胞子に対する滅菌効果は大きくなる。また、大エネルギーでの紫外線照射により、消毒又は滅菌に要する時間を短縮できる。内視鏡などの医療用機器を消毒又は滅菌する場合、機器の表面に対して十分な紫外線照射が行なわれるように、一般的には医療機器などの形状に応じて照射エネルギー量を適宜調節する必要がある。また、照射の条件(ランプと対象物との距離)や微生物の種類などに応じて照射エネルギーを適宜調節することができる。   The type of ultraviolet rays used in the method of the present invention is not particularly limited. For example, the wavelength is preferably 300 nm or less, more preferably 200 to 280 nm, and particularly preferably about 254 nm. In general, the greater the irradiation energy, the greater the sterilization effect on the spores. Moreover, the time required for disinfection or sterilization can be shortened by ultraviolet irradiation with large energy. When disinfecting or sterilizing medical devices such as endoscopes, generally adjust the amount of irradiation energy appropriately according to the shape of the medical device, etc., so that sufficient ultraviolet irradiation is performed on the surface of the device. There is a need. Further, the irradiation energy can be appropriately adjusted according to the irradiation condition (distance between the lamp and the object), the type of microorganism, and the like.

本発明の消毒又は滅菌方法を行なうにあたり、例えば、医療用機器などを殺菌剤を含む水性溶液に浸漬させることにより両者を接触させて殺菌する方法が好ましい。水性溶液を形成する水性溶媒の種類は特に限定されないが、水のほか、水と混じり合う水性有機溶媒(エタノール、メタノール、アセトンなど)と水との混合物などが挙げられる。該浸漬においては水性溶液を攪拌してもよく、医療用機器を振とうしてもよく、あるいは自動洗浄機を用いてもよい。また、該浸漬前及び/又は該浸漬後に医療用機器などを水洗する工程を含めてもよく、浸漬の後に医療用機器などを滅菌ガーゼ等で拭うか、又はドライヤー等により乾燥させる工程等を含めてもよい。殺菌剤を含む水性溶液への対象物の浸漬時間は特に限定されないが、例えば15秒〜30分の範囲であることが好ましく、30秒〜10分の範囲であることがより好ましい。   In performing the disinfection or sterilization method of the present invention, for example, a method of sterilizing a medical device or the like by bringing them into contact with an aqueous solution containing a bactericide is preferable. Although the kind of aqueous solvent which forms an aqueous solution is not specifically limited, The mixture of water and the aqueous organic solvent (ethanol, methanol, acetone, etc.) which mix with water, etc. other than water are mentioned. In the immersion, the aqueous solution may be stirred, the medical device may be shaken, or an automatic washing machine may be used. Further, it may include a step of washing medical devices and the like before and / or after the immersion, and include a step of wiping the medical devices and the like with sterilized gauze after the immersion or drying with a drier etc. May be. Although the immersion time of the target object in the aqueous solution containing a disinfectant is not particularly limited, for example, it is preferably in the range of 15 seconds to 30 minutes, and more preferably in the range of 30 seconds to 10 minutes.

紫外線照射の方法は特に限定されないが、例えば、紫外線ランプを自動洗浄機の中に組み込んで照射を行なってもよく、上記の水性溶液中に浸漬された対象物に対して水溶液中で紫外線照射を行なってもよい。また、洗浄機から対象物を取り出して大気中で紫外線を照射することもできる。この場合、紫外線照射は対象物の表面がウェットな状態、又はドライな状態のいずれで行なってもよい。   Although the method of ultraviolet irradiation is not particularly limited, for example, irradiation may be performed by incorporating an ultraviolet lamp in an automatic washing machine, and the object immersed in the aqueous solution is irradiated with ultraviolet light in an aqueous solution. You may do it. It is also possible to take out the object from the washing machine and irradiate it with ultraviolet rays in the atmosphere. In this case, the ultraviolet irradiation may be performed in a state where the surface of the object is wet or in a dry state.

本発明の方法は、殺菌剤による処理と紫外線照射とを組み合わせることを特徴としているが、殺菌剤による処理工程と紫外線照射工程との組み合わせの順序や組み合わせ回数などは特に限定されず、それぞれの工程を任意の回数採用でき、それぞれの工程を同時に又は時間を変えて適用できる。例えば、紫外線照射及び殺菌剤による処理を同時に行ってもよく、殺菌剤による処理の前工程及び/又は後工程として紫外線照射を別工程として行ってもよい。殺菌剤による処理の前工程及び/又は後工程として紫外線照射を別工程で行う場合には、殺菌剤の非存在下又は存在下のいずれの状態で紫外線照射を行なってもよいが、殺菌剤の非存在下で紫外線照射を行なうことも好ましい。例えば、前工程では界面活性剤などを含む洗浄剤水溶液、後工程ではすすぎ水中で紫外線照射を行ってもよい。さらに、殺菌剤による処理に続いてて紫外線照射を行った後、さらに殺菌剤による処理を繰り替えてして行ってもよく、殺菌剤による処理を一定時間行った後に、時間をあけて紫外線照射を行ってもよい。   The method of the present invention is characterized by combining the treatment with the bactericidal agent and the ultraviolet irradiation, but the order of the combination of the treatment step with the bactericide and the ultraviolet irradiation step, the number of times of combination, and the like are not particularly limited. Can be adopted any number of times, and each process can be applied simultaneously or at different times. For example, the ultraviolet irradiation and the treatment with the bactericide may be performed simultaneously, and the ultraviolet irradiation may be performed as a separate process as a pre-process and / or a post-process of the bactericide. When UV irradiation is performed in a separate process as a pre-process and / or a post-process of treatment with a bactericidal agent, UV irradiation may be performed in the absence or presence of a bactericidal agent. It is also preferable to perform ultraviolet irradiation in the absence. For example, ultraviolet irradiation may be performed in a cleaning solution containing a surfactant or the like in the previous step, and in rinse water in the subsequent step. Further, after the treatment with the bactericidal agent, the ultraviolet irradiation may be performed, and then the treatment with the bactericidal agent may be repeated. You may go.

本発明の消毒又は滅菌方法に用いる殺菌剤の種類は特に限定されないが、殺菌剤としてペルオキシカルボン酸を用いることが好ましい。以下、殺菌剤がペルオキシカルボン酸である場合について本発明の好ましい態様として言及するが、本発明の方法に用いられる殺菌剤はペルオキシカルボン酸に限定されることはない。   Although the kind of disinfectant used for the disinfection or sterilization method of this invention is not specifically limited, It is preferable to use peroxycarboxylic acid as a disinfectant. Hereinafter, the case where the bactericidal agent is peroxycarboxylic acid will be referred to as a preferred embodiment of the present invention, but the bactericidal agent used in the method of the present invention is not limited to peroxycarboxylic acid.

ペルオキシカルボン酸として好ましくは、過酢酸又は下記一般式(I):

Figure 2007082900
(式中、R1は置換若しくは無置換のC1−C10のアルキル基(ただし、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基は除く)、又は置換若しくは無置換のC6−C10のアリール基を示し、Lは置換若しくは無置換のC2−C12の2価の連結基を示し、R1とLは結合して環を形成してもよい)で表されるペルオキシカルボン酸が好ましい。 The peroxycarboxylic acid is preferably peracetic acid or the following general formula (I):
Figure 2007082900
(Wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted C1-C10 alkyl group (excluding a substituent having a hydroxy group as a substituent) or a substituted or unsubstituted C6-C10 aryl group; Represents a substituted or unsubstituted C2-C12 divalent linking group, and R 1 and L may combine to form a ring), and a peroxycarboxylic acid represented by

一般式(I)において、R1で示される無置換のC1−C10のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、又は2−エチルヘキシル基などを挙げることができる。R1で示されるC1−C10のアルキル基は置換基を有していてもよいが、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基(水酸基、カルボキシ基、ヒドロペルオキシ基、及びヒドロペルオキシカルボニル基など)は除く。R1で示されるC1−C10のアルキル基における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアルキルスルホニル基などを挙げることができる。R1で示されるC6−C10の無置換のアリール基としては、例えばフェニル基を挙げることができる。R1で示されるC6−C10の無置換のアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、スルホニル基、水酸基、又はカルボキシル基などを挙げることができる。 In the general formula (I), examples of the unsubstituted C1-C10 alkyl group represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Examples thereof include a butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, and 2-ethylhexyl group. The C1-C10 alkyl group represented by R 1 may have a substituent, but a substituent having a hydroxy group as a substituent (such as a hydroxyl group, a carboxy group, a hydroperoxy group, and a hydroperoxycarbonyl group) except. Examples of the substituent in the C1-C10 alkyl group represented by R 1 include a halogen atom, an alkoxy group, and an alkylsulfonyl group. Examples of the C6-C10 unsubstituted aryl group represented by R 1 include a phenyl group. The C6-C10 unsubstituted aryl group represented by R 1 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a sulfonyl group, a hydroxyl group, and a carboxyl group.

1としては、C1〜C4の置換若しくは無置換のアルキル基が好ましく、C1〜C4の無置換のアルキル基がより好ましい。R1が示すC1−C4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、又はtert−ブチル基などを挙げることができる。R1として、最も好ましくはメチル基又はエチル基であるが、これらに限定されない。 R 1 is preferably a C1-C4 substituted or unsubstituted alkyl group, more preferably a C1-C4 unsubstituted alkyl group. Examples of the C1-C4 alkyl group represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. R 1 is most preferably a methyl group or an ethyl group, but is not limited thereto.

一般式(I)において、Lは置換若しくは無置換の炭素数2−12の2価の連結基を表す。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、アルコキシ置換アルキル基、カルボキシル基などを挙げることができる。また、連結基中に例えば酸素原子、窒素原子などの炭素以外の分子を含んでもよい。Lとしては、−CH(R11)−L12(R11は水素原子又はC1〜C4の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、L12は置換若しくは無置換のC1−C11の2価の連結基を示す)が好ましい例として挙げられる。L12としては置換又は無置換のC1−C4の2価の連結基が好ましく、置換又は無置換のメチレン基がより好ましく、メチレン基又はメチル基置換メチレン基(−CH(CH3)−)がさらに好ましく、メチレン基が最も好ましい。R1が置換又は無置換のC1−C3のアルキル基であることが好ましく、R1がメチル基又はエチル基であり、かつR11が水素原子であることがさらに好ましい。 In general formula (I), L represents a substituted or unsubstituted divalent linking group having 2 to 12 carbon atoms. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, and a carboxyl group. Further, the linking group may contain a molecule other than carbon such as an oxygen atom and a nitrogen atom. L represents —CH (R 11 ) —L 12 (R 11 represents a hydrogen atom or a C1-C4 substituted or unsubstituted alkyl group, and L 12 represents a substituted or unsubstituted C1-C11 divalent linkage. A group) is a preferred example. L 12 is preferably a substituted or unsubstituted C1-C4 divalent linking group, more preferably a substituted or unsubstituted methylene group, and a methylene group or a methyl group-substituted methylene group (—CH (CH 3 ) —). More preferred is a methylene group. R 1 is preferably a substituted or unsubstituted C1-C3 alkyl group, more preferably R 1 is a methyl group or an ethyl group, and R 11 is more preferably a hydrogen atom.

より具体的には、一般式(I)で表されるペルオキシカルボン酸のなかで、下記一般式(I―1):

Figure 2007082900
(式中、R11は水素原子又はC1〜C4の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、L12は置換又は無置換のC1−C11の2価の連結基を示す)で表されるペルオキシカルボン酸が好ましい。 More specifically, among the peroxycarboxylic acids represented by the general formula (I), the following general formula (I-1):
Figure 2007082900
(Wherein R 11 represents a hydrogen atom or a C1-C4 substituted or unsubstituted alkyl group, and L 12 represents a substituted or unsubstituted C1-C11 divalent linking group). Acid is preferred.

このとき、L12としては置換又は無置換のC1−C4の2価の連結基が好ましく、置換又は無置換のメチレン基がより好ましく、メチレン基又はメチル基置換メチレン基(CH(CH3))がさらに好ましく、メチレン基が最も好ましい。L12で表される連結基が置換基を有する場合、置換基としては、例えばアルキル基、アルコキシ基、水酸基、アルコキシ置換アルキル基、カルボキシル基などを挙げることができる。また、連結基中に炭素以外の分子を含んでもよく、例えば酸素原子、窒素原子を挙げることができる。 In this case, L 12 is preferably a substituted or unsubstituted C1-C4 divalent linking group, more preferably a substituted or unsubstituted methylene group, a methylene group or a methyl group-substituted methylene group (CH (CH 3 )). Are more preferable, and a methylene group is most preferable. When the linking group represented by L 12 has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, and a carboxyl group. Moreover, molecules other than carbon may be included in the linking group, and examples thereof include an oxygen atom and a nitrogen atom.

また、一般式(I)で表されるペルオキシカルボン酸のなかで、一般式(II)又は(III):

Figure 2007082900
(式中、R2、R3、R4、及びR5は各々独立に水素、C1−C4アルキル基、C1−C4のアルコキシ基、又はC1−C4アルコキシ置換C1−C4アルキル基を示し、L2は置換若しくは無置換のC1−C9アルキレン基、又は置換若しくは無置換のC6−C9アリーレン基を示し、L1は置換若しくは無置換のC1−C10の2価の連結基を示す)で表されるペルオキシカルボン酸もまた好ましい。 Among the peroxycarboxylic acids represented by the general formula (I), the general formula (II) or (III):
Figure 2007082900
(Wherein R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent hydrogen, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy group, or a C1-C4 alkoxy-substituted C1-C4 alkyl group; 2 represents a substituted or unsubstituted C1-C9 alkylene group, or a substituted or unsubstituted C6-C9 arylene group, and L 1 represents a substituted or unsubstituted C1-C10 divalent linking group). Also preferred are peroxycarboxylic acids.

一般式(II)又は(III)で表されるペルオキシカルボン酸としてさらに好ましくは、L1が−CH(R11)−L12(R11は水素原子又はC1〜C4の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、L12は置換若しくは無置換のC1−C9の2価の連結基を示す)であるペルオキシカルボン酸;R2、R3、R4、及びR5が各々独立に水素、C1−C4のアルキル基、又はC1−C4アルコキシ置換C1−C4アルキル基であり、L2がC1−C2の無置換のアルキレン基であるペルオキシカルボン酸;R2、R3、R4、及びR5が水素であるペルオキシカルボン酸が挙げられる。 More preferably, as the peroxycarboxylic acid represented by the general formula (II) or (III), L 1 is —CH (R 11 ) —L 12 (R 11 is a hydrogen atom or a C1-C4 substituted or unsubstituted alkyl). represents a group, L 12 peroxycarboxylic acid is a divalent linking group of C1-C9 substituted or unsubstituted) is; R 2, R 3, R 4, and R 5 are each independently hydrogen, C1- A peroxycarboxylic acid that is a C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy-substituted C1-C4 alkyl group, and L 2 is a C1-C2 unsubstituted alkylene group; R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are Peroxycarboxylic acid which is hydrogen is mentioned.

さらに、一般式(I)で表されるペルオキシカルボン酸のなかで、一般式(IV)又は(V):

Figure 2007082900
(式中、R2、R3、R4、及びR5は各々独立に水素、C1−C4のアルキル基、C1−C4のアルコキシ基、又はC1−C4アルコキシ置換C1−C4アルキル基を示し、L2は置換若しくは無置換のC1〜C9のアルキレン基、又は置換若しくは無置換のC6〜C9のアリーレン基を示す)で表されるペルオキシカルボン酸もまた好ましい。 Further, among the peroxycarboxylic acids represented by the general formula (I), the general formula (IV) or (V):
Figure 2007082900
(Wherein R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent hydrogen, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy group, or a C1-C4 alkoxy-substituted C1-C4 alkyl group, L 2 is a substituted or unsubstituted alkylene group C1 to C9, or peroxycarboxylic acids represented by substituted or indicating the unsubstituted arylene group C6 to C9) are also preferred.

一般式(IV)又は(V)で表されるペルオキシカルボン酸として、さらに好ましくは、R2、R3、R4、及びR5が各々独立に水素、C1−C4のアルキル基、又はC1−C4アルコキシ置換C1−C4アルキル基であり、L2が無置換のC1−C3のアルキレン基であるペルオキシカルボン酸;R2が水素であるペルオキシカルボン酸;R2、R3、及びR4が水素であるペルオキシカルボン酸;R5がメチル基であるペルオキシカルボン酸;L2がメチレン基であるペルオキシカルボン酸;R2、R3、R4、及びR5が水素であペルオキシカルボン酸;L2がメチレン基である該ペルオキシカルボン酸;R4がC1−C4アルコキシ置換メチル基であるペルオキシカルボン酸;及び、R5がメチル基であるペルオキシカルボン酸が挙げられる。 More preferably, as the peroxycarboxylic acid represented by the general formula (IV) or (V), R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are each independently hydrogen, a C1-C4 alkyl group, or C1- A peroxycarboxylic acid which is a C4 alkoxy-substituted C1-C4 alkyl group and L 2 is an unsubstituted C1-C3 alkylene group; a peroxycarboxylic acid in which R 2 is hydrogen; R 2 , R 3 , and R 4 are hydrogen A peroxycarboxylic acid in which R 5 is a methyl group; a peroxycarboxylic acid in which L 2 is a methylene group; a peroxycarboxylic acid in which R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are hydrogen; L 2 A peroxycarboxylic acid in which R 4 is a C1-C4 alkoxy-substituted methyl group; and a peroxycarboxylic acid in which R 5 is a methyl group. .

ペルオキシカルボン酸は、置換基の種類により、1個又は2個の不斉炭素を有する場合がある。1個又は2個の不斉炭素に基づく光学的に純粋な任意の光学異性体、上記の光学異性体の任意の混合物、ラセミ体、2個の不斉炭素に基づくジアステレオ異性体、上記ジアステレオ異性体の任意の混合物などのいずれを含む殺菌剤も好ましく用いることができる。また、ペルオキシカルボン酸は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もあるが、これらの物質を含む殺菌剤も好ましく用いることができる。   Peroxycarboxylic acid may have one or two asymmetric carbons depending on the type of substituent. Any optically pure optical isomer based on one or two asymmetric carbons, any mixture of the above optical isomers, racemic, two diastereoisomers based on two asymmetric carbons, Bactericides including any mixture of stereoisomers and the like can be preferably used. Moreover, although peroxycarboxylic acid may exist as a hydrate or a solvate, the bactericidal agent containing these substances can also be used preferably.

ペルオキシカルボン酸の具体例を以下に示すが、下記に限定されることはない。

Figure 2007082900
Specific examples of peroxycarboxylic acid are shown below, but are not limited to the following.
Figure 2007082900

Figure 2007082900
Figure 2007082900

Figure 2007082900
Figure 2007082900

Figure 2007082900
Figure 2007082900

Figure 2007082900
Figure 2007082900

Figure 2007082900
Figure 2007082900

Figure 2007082900
Figure 2007082900

上記のペルオキシカルボン酸は、Organic peroxides, vol.I, pp 313-474(Daniel Swern, John Wiley & Sons, Inc., New York, 1970)などに記載されている公知のペルオキシカルボン酸の合成方法に準じて合成することができる。具体的には、例えば対応するカルボン酸と過酸化水素との反応により合成することができる。対応するカルボン酸と過酸化水素との反応においては、反応の触媒として強酸を用いることが効果的である。強酸としては、硫酸又はリン酸などを用いることができるが、スルホン酸基を有する強酸性イオン交換樹脂や、ナフィオンなどの固体酸触媒を用いることもできる。   The above peroxycarboxylic acid can be synthesized by known peroxycarboxylic acid synthesis methods described in Organic peroxides, vol. I, pp 313-474 (Daniel Swern, John Wiley & Sons, Inc., New York, 1970). It can be synthesized accordingly. Specifically, for example, it can be synthesized by a reaction between a corresponding carboxylic acid and hydrogen peroxide. In the reaction between the corresponding carboxylic acid and hydrogen peroxide, it is effective to use a strong acid as a catalyst for the reaction. As the strong acid, sulfuric acid or phosphoric acid can be used, but a strongly acidic ion exchange resin having a sulfonic acid group or a solid acid catalyst such as Nafion can also be used.

上記ペルオキシカルボン酸の合成で用いられる対応のカルボン酸としては、市販のカルボン酸を用いることができるが、公知の方法により合成したカルボン酸を用いることもできる。例えば3−アルコキシプロピオン酸は、J. Am. Chem. Soc., 70,1004(1948)に記載されている様にβ−プロピオラクトンとアルコールとの反応や、J. Am. Chem. Soc., 69, 2967(1947), J. Am. Chem. Soc., 77, 754(1955)に記載されている様に、アクリル酸エステルとアルコキサイドとの反応で得られる3−アルコキシプロピオン酸エステルの加水分解によって合成することが可能である。また、3位よりカルボニル基から遠い位置がアルコキシ置換されたカルボン酸はJ. Org. Chem., 59, 2253(1994)に記載されている様にβないしδ−ラクトンとアルコールとの反応により合成することが可能である。   As the corresponding carboxylic acid used in the synthesis of the peroxycarboxylic acid, a commercially available carboxylic acid can be used, but a carboxylic acid synthesized by a known method can also be used. For example, 3-alkoxypropionic acid can be obtained by reacting β-propiolactone with an alcohol as described in J. Am. Chem. Soc., 70, 1004 (1948), or by using J. Am. Chem. Soc. 69, 2967 (1947), J. Am. Chem. Soc., 77, 754 (1955), the hydrolysis of 3-alkoxypropionic acid ester obtained by the reaction of acrylic acid ester with alkoxide. It can be synthesized by decomposition. Carboxylic acids substituted with alkoxy at a position far from the carbonyl group from the 3-position are synthesized by reaction of β or δ-lactone with alcohol as described in J. Org. Chem., 59, 2253 (1994). Is possible.

ペルオキシカルボン酸は1種を用いてもよく又は2種以上を混合して用いてもよい。ペルオキシカルボン酸を含む水性溶液中のペルオキシカルボン酸の濃度は0.1 mmol/l以上2000 mmol/l以下であり、好ましくは1mmol/l以上200 mmol/l以下であり、さらに好ましくは40 mmol/l以上120 mmol/l以下であればよい。   Peroxycarboxylic acid may be used alone or in combination of two or more. The concentration of peroxycarboxylic acid in the aqueous solution containing peroxycarboxylic acid is 0.1 mmol / l or more and 2000 mmol / l or less, preferably 1 mmol / l or more and 200 mmol / l or less, more preferably 40 mmol / l or more. What is necessary is just 120 mmol / l or less.

ペルオキシカルボン酸を含む水性溶液は、上述のペルオキシカルボン酸のほかに、該ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸及び/又は過酸化水素を含んでいてもよい。本明細書において、ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸とは、該ペルオキシカルボン酸のペルオキシカルボキシル基がカルボキシル基である化合物を意味する。この場合、水性組成物中のペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸の濃度は0.1 mmol/l以上 2000 mmol/l以下であり、好ましくは1 mmol/l以上 200 mmol/l以下であり、さらに好ましくは 40 mmol/l以上200 mmol/l以下であればよい。また、過酸化水素の濃度は3 mmol/l以上 6000 mmol/l以下であり、好ましくは10 mmol/l以上 1000 mmol/l以下であり、さらに好ましくは 30 mmol/l以上600 mmol/l以下であればよい。ペルオキシカルボン酸を含む水性組成物は、ペルオキシカルボン酸の濃度が1 mmol/l以上200 mmol/l以下であり、過酸化水素の濃度が10 mmol/l以上1000 mmol/l以下であることが好ましい。   The aqueous solution containing a peroxycarboxylic acid may contain a carboxylic acid corresponding to the peroxycarboxylic acid and / or hydrogen peroxide in addition to the above-mentioned peroxycarboxylic acid. In the present specification, the carboxylic acid corresponding to the peroxycarboxylic acid means a compound in which the peroxycarboxyl group of the peroxycarboxylic acid is a carboxyl group. In this case, the concentration of the carboxylic acid corresponding to the peroxycarboxylic acid in the aqueous composition is 0.1 mmol / l or more and 2000 mmol / l or less, preferably 1 mmol / l or more and 200 mmol / l or less, more preferably What is necessary is just 40 mmol / l or more and 200 mmol / l or less. The concentration of hydrogen peroxide is 3 mmol / l or more and 6000 mmol / l or less, preferably 10 mmol / l or more and 1000 mmol / l or less, more preferably 30 mmol / l or more and 600 mmol / l or less. I just need it. The aqueous composition containing peroxycarboxylic acid preferably has a peroxycarboxylic acid concentration of 1 mmol / l or more and 200 mmol / l or less, and a hydrogen peroxide concentration of 10 mmol / l or more and 1000 mmol / l or less. .

ペルオキシカルボン酸とともに該ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸及び/又は過酸化水素を含む水性組成物は、例えば使用の際に、ペルオキシカルボン酸等の各成分が上述の濃度になるように水性組成物を調製すればよい。過酸化水素及びカルボン酸よりペルオキシカルボン酸が生成することは、古くから知られている。この反応は、カルボン酸、過酸化水素、ペルオキシカルボン酸、及び水との平衡反応として進行し、過酸化水素若しくはカルボン酸の濃度を高くするほど高濃度のペルオキシカルボン酸が生成する。例えば、90質量%の過酸化水素を、過酸化水素の1.5倍モルの酢酸と混合すると、過酢酸45質量%、酢酸35質量%、過酸化水素6質量%、水14質量%の平衡混合液が得られる(kirk-Othmer Encyclopedia of Chem. Tech. Inst, Suppl. P662(1957))。従って、ペルオキシカルボン酸を含む水性組成物は、それぞれ別々に調製され提供されるペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸を含む水溶液と過酸化水素を含む水溶液を使用に際し混合して調製することもでき、必要に応じてこれらの混合物を含む水性組成物を水で希釈した後に使用することもできる。また、ペルオキシカルボン酸及び下記添加物を乾燥形態で提供し、使用に際して水性溶媒に溶解することもできる。   An aqueous composition containing a carboxylic acid corresponding to the peroxycarboxylic acid and / or hydrogen peroxide together with the peroxycarboxylic acid is used so that, for example, each component such as the peroxycarboxylic acid has the above-mentioned concentration during use. May be prepared. The production of peroxycarboxylic acids from hydrogen peroxide and carboxylic acids has long been known. This reaction proceeds as an equilibrium reaction with carboxylic acid, hydrogen peroxide, peroxycarboxylic acid, and water, and a higher concentration of peroxycarboxylic acid is generated as the concentration of hydrogen peroxide or carboxylic acid is increased. For example, when 90% hydrogen peroxide is mixed with 1.5 times the molar amount of acetic acid, acetic acid is 45% by mass peracetic acid, 35% by mass acetic acid, 6% by mass hydrogen peroxide, and 14% by mass water. (Kirk-Othmer Encyclopedia of Chem. Tech. Inst, Suppl. P662 (1957)). Therefore, the aqueous composition containing peroxycarboxylic acid can be prepared by mixing an aqueous solution containing carboxylic acid corresponding to peroxycarboxylic acid and an aqueous solution containing hydrogen peroxide, which are prepared and provided separately. If necessary, an aqueous composition containing these mixtures can be used after diluting with water. In addition, peroxycarboxylic acid and the following additives may be provided in a dry form and dissolved in an aqueous solvent when used.

殺菌剤を含む水性溶液は、殺菌剤のほかさらに1又は2以上の添加剤を含んでいてもよい。上記に説明したようにペルオキシカルボン酸を含む水性溶液は該ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸及び/又は過酸化水素を含んでいてもよいが、その場合にも1又は2以上の添加剤を含んでいてもよい。添加剤の例としては、腐食防止剤、可溶化剤、pH調整剤、金属封鎖剤、安定化剤、界面活性剤、及び再付着防止剤等が挙げられるが、これらに限定されることはない。   The aqueous solution containing a bactericidal agent may further contain one or more additives in addition to the bactericidal agent. As described above, the aqueous solution containing a peroxycarboxylic acid may contain a carboxylic acid corresponding to the peroxycarboxylic acid and / or hydrogen peroxide, and in that case also contains one or more additives. You may go out. Examples of additives include, but are not limited to, corrosion inhibitors, solubilizers, pH adjusters, sequestering agents, stabilizers, surfactants, and anti-redeposition agents. .

腐食防止剤としては、消毒又は滅菌の対象物、例えば医療用機器の材質に適したものを選択すればよく、より具体的には、1,2,3-ベンゾトリアゾールと、低級アルキルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、低級アルキルヒドロキシベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、低級アルキルカルボキシベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、低級アルキルベンズイミダゾール、ヒドロキシベンズイミダゾール、低級アルキルヒドロキシベンズイミダゾール、カルボキシベンズイミダゾール、低級アルキルカルボキシベンズイミダゾール、メルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルメルカプトベンゾチアゾール、ヒドロキシメルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルヒドロキシメルカプトベンゾチアゾール、カルボキシメルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルカルボキシメルカプトベンゾチアゾール、グルコン酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸ブチル、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ソルビトール、エリスリトール、リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸テトラナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、クロム酸塩、及びホウ酸塩から選択される1種又は2種以上の化合物とを組み合わせた腐食防止剤等が挙げられるが、これらに限定されることはない。本明細書において、「低級アルキル」という用語は、1個から6個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖の飽和の炭化水素基を意味するが、該低級アルキル基は1個又は2個以上の不飽和結合を有していてもよい。   What is necessary is just to select the thing suitable for the material of disinfection or sterilization, for example, a medical device, as a corrosion inhibitor, and more specifically, 1,2,3-benzotriazole, lower alkyl benzotriazole, Hydroxybenzotriazole, lower alkylhydroxybenzotriazole, carboxybenzotriazole, lower alkylcarboxybenzotriazole, benzimidazole, lower alkylbenzimidazole, hydroxybenzimidazole, lower alkylhydroxybenzimidazole, carboxybenzimidazole, lower alkylcarboxybenzimidazole, mercaptobenzo Thiazole, lower alkyl mercaptobenzothiazole, hydroxymercaptobenzothiazole, lower alkylhydroxymercaptobenzothiazole, cap Boxymercaptobenzothiazole, lower alkyl carboxymercaptobenzothiazole, sodium gluconate, sodium benzoate, butyl benzoate, monoethanolamine, triethanolamine, morpholine, sorbitol, erythritol, sodium phosphate, sodium tripolyphosphate, tetrapyrophosphate tetra Examples include corrosion inhibitors in combination with one or more compounds selected from sodium, sodium molybdate, sodium nitrite, sodium bisulfite, sodium metabisulfite, chromate, and borate. However, it is not limited to these. In the present specification, the term “lower alkyl” means a straight or branched saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and the lower alkyl group includes one or two lower alkyl groups. You may have the above unsaturated bond.

銅、黄銅、青銅、又は多金属系を含む機器等を処理するために本発明の消毒又は滅菌方法を用いる場合には、1,2,3-ベンゾトリアゾールと1種又はそれ以上の低級アルキルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、低級アルキルヒドロキシベンゾトリアゾール、モリブデン酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、クロム酸塩、ホウ酸塩、及びこれらの混合物とを含む腐食防止剤が好ましく用いられる。1,2,3-ベンゾトリアゾール、モリブデン酸ナトリウム、及び亜硝酸ナトリウムを含む腐食防止剤が特に好ましく用いられる。炭素鋼及びステンレス鋼を含む機器等を処理するために本発明の消毒又は滅菌方法を使用する場合には、例えば、安息香酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、及びモリブデン酸ナトリウムなどを含む腐食防止剤が好ましく用いられる。炭素鋼及び/又はステンレス鋼を含む機器等を処理するために本発明の消毒又は滅菌方法を使用する場合には、例えば、硝酸ナトリウム及び/又はモリブデン酸ナトリウムを含む腐食防止剤が好ましく用いられる。殺菌剤を含む水性溶液中に腐食防止剤を添加する場合、腐食防止剤の総量は特に限定されないが、水性溶液の総質量に対して、典型的には、0.1質量%から約30質量%である。1,2,3-ベンゾトリアゾールの量は、好ましくは0.1質量%から約3.0質量%であり、より好ましくは0.5質量%から約2.0質量%である。   When using the disinfection or sterilization method of the present invention to treat equipment containing copper, brass, bronze, or multimetal systems, 1,2,3-benzotriazole and one or more lower alkyl benzoates Preferably used are corrosion inhibitors including triazole, hydroxybenzotriazole, lower alkylhydroxybenzotriazole, sodium molybdate, sodium nitrite, sodium bisulfite, sodium metabisulfite, chromate, borate, and mixtures thereof. It is done. A corrosion inhibitor containing 1,2,3-benzotriazole, sodium molybdate, and sodium nitrite is particularly preferably used. When the disinfection or sterilization method of the present invention is used to treat equipment containing carbon steel and stainless steel, for example, a corrosion inhibitor containing sodium benzoate, sodium nitrite, sodium molybdate and the like is preferable. Used. When the disinfection or sterilization method of the present invention is used for treating equipment containing carbon steel and / or stainless steel, for example, a corrosion inhibitor containing sodium nitrate and / or sodium molybdate is preferably used. When the corrosion inhibitor is added to an aqueous solution containing a disinfectant, the total amount of the corrosion inhibitor is not particularly limited, but is typically 0.1% to about 30% by mass with respect to the total mass of the aqueous solution. is there. The amount of 1,2,3-benzotriazole is preferably 0.1% to about 3.0% by weight, more preferably 0.5% to about 2.0% by weight.

腐食防止剤が殺菌剤を含む水性溶液に難溶である場合には、水性溶液はさらにアルキレングリコールのなどの可溶化剤を含んでもよい。本明細書において、「アルキレングリコール」という用語は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジアルキレングリコール(例えば、ジエチレングリコール)、トリアルキレングリコール(例えば、トリエチレングリコール)、又は対応するそれらのモノ-及びジアルキルエーテルなどのグリコールを意味する。上記アルキルエーテルは、1個から6個の炭素原子を有する低級アルキルエーテル(例えば、メチルエーテル、エチルエーテル、又はプロピルエーテル)である。特に好ましくは、水性溶液が可溶化剤としてプロピレングリコールを含む場合には、プロピレングリコールが腐食防止剤の約3倍から10倍の濃度で含まれていることが好ましい。例えば、水性溶液中に約1質量%で含まれる1,2,3-ベンゾトリアゾールに対してプロピレングリコールが水性溶液中に約3.5質量%から6.5質量%の割合で含まれていることが好ましい。   If the corrosion inhibitor is sparingly soluble in an aqueous solution containing a bactericide, the aqueous solution may further contain a solubilizing agent such as an alkylene glycol. As used herein, the term “alkylene glycol” refers to, for example, ethylene glycol, propylene glycol, dialkylene glycol (eg, diethylene glycol), trialkylene glycol (eg, triethylene glycol), or the corresponding mono- and dialkyl thereof. Means glycol such as ether. The alkyl ether is a lower alkyl ether having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl ether, ethyl ether, or propyl ether). Particularly preferably, when the aqueous solution contains propylene glycol as a solubilizer, it is preferable that propylene glycol is contained at a concentration of about 3 to 10 times that of the corrosion inhibitor. For example, it is preferable that propylene glycol is contained in the aqueous solution at a ratio of about 3.5% to 6.5% by mass with respect to 1,2,3-benzotriazole contained in the aqueous solution at about 1% by mass.

pH調整剤としては、例えば、殺菌剤を含む水性溶液に適合し、かつ環境に適合するような酸又は塩基を用いることができる。例えば、クエン酸、酢酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グリコール酸、コハク酸、グルタル酸、又はアジピン酸等の有機酸及びその塩、リン酸、硫酸等の無機酸及びその塩、水酸化アンモニウム又は水酸化アルカリ金属等の塩基を用いることができる。もっとも、殺菌剤を含む水性溶液に添加可能なpH調整剤はこれらに限定されることはない。水性溶液中のpH調整剤の濃度は特に限定されないが、水性溶液の総質量に対して20質量%以下であることが好ましく、特に0.1質量%〜10質量%であることが好ましい。   As the pH adjuster, for example, an acid or base that is compatible with an aqueous solution containing a bactericide and compatible with the environment can be used. For example, citric acid, acetic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, glycolic acid, succinic acid, glutaric acid, organic acids such as adipic acid and salts thereof, inorganic acids such as phosphoric acid and sulfuric acid and salts thereof, ammonium hydroxide or A base such as an alkali metal hydroxide can be used. But the pH adjuster which can be added to the aqueous solution containing a disinfectant is not limited to these. The concentration of the pH adjusting agent in the aqueous solution is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or less, particularly preferably 0.1% by mass to 10% by mass with respect to the total mass of the aqueous solution.

殺菌剤を含む水性溶液は、任意の成分として重金属イオン封鎖剤を含有することが好ましい。本明細書において、重金属イオン封鎖剤とは重金属イオンを封鎖(キレート)する性質を有する物質を意味しており、これらの成分がカルシウム及びマグネシウムのキレート化能力を有する場合には、鉄、マンガン、及び銅のような重金属イオンに対してより選択的に結合する性質を有する物質を意味している。重金属イオン封鎖剤は、一般的には、殺菌剤を含む水性溶液中に組成物の総質量に対して0.005質量%〜20質量%、好ましくは0.1質量%〜10質量%、さらに好ましくは0.25質量%〜7.5質量%、最も好ましくは0.5質量%〜5質量%程度の割合で添加することができる。重金属イオン封鎖剤としては、例えば、有機ホスホン酸塩、例えば、アミノアルキレンポリ(アルキレンホスホン酸塩)、アルカリ金属エタン1−ヒドロキシジホスホン酸塩、及びニトリロトリメチレンホスホン酸塩などを挙げることができ、これらのうち、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸塩)ヘキサメチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、及びヒドロキシ−エチレン1,1二ホスホン酸塩が好ましい。   It is preferable that the aqueous solution containing a disinfectant contains a heavy metal ion sequestering agent as an optional component. In the present specification, the heavy metal ion sequestering agent means a substance having the property of sequestering (chelating) heavy metal ions, and when these components have the ability to chelate calcium and magnesium, iron, manganese, And a substance having the property of binding more selectively to heavy metal ions such as copper. The heavy metal ion sequestering agent is generally 0.005% by mass to 20% by mass, preferably 0.1% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.25% by mass with respect to the total mass of the composition in the aqueous solution containing the bactericide. % To 7.5% by mass, and most preferably 0.5% to 5% by mass. Examples of heavy metal sequestering agents include organic phosphonates such as aminoalkylene poly (alkylene phosphonates), alkali metal ethane 1-hydroxydiphosphonates, nitrilotrimethylene phosphonates, and the like. Of these, diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetri (methylenephosphonate) hexamethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), and hydroxy-ethylene 1,1 diphosphonate are preferred.

殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる他の好ましい重金属イオン封鎖剤としては、ニトリロ三酢酸及びポリアミノカルボン酸、例えば、エチレンジアミノ四酢酸、エチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン二コハク酸、エチレンジアミン二グルタル酸、2−ヒドロキシプロピレンジアミン二コハク酸、又はこれらいずれかの塩が挙げられる。特に好ましいのはエチレンジアミン−N,N'−二コハク酸(EDDS)又はそのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、若しくは置換アンモニウム塩、あるいはこれらの混合物である。   Other preferred heavy metal sequestering agents that can be added to an aqueous solution containing a disinfectant include nitrilotriacetic acid and polyaminocarboxylic acids such as ethylenediaminotetraacetic acid, ethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediamine disuccinic acid, ethylenediamine diglutar Acid, 2-hydroxypropylenediamine disuccinic acid, or any salt thereof. Particularly preferred is ethylenediamine-N, N′-disuccinic acid (EDDS) or an alkali metal salt, alkaline earth metal salt, ammonium salt or substituted ammonium salt thereof, or a mixture thereof.

殺菌剤を含む水性溶液に添加することができるさらに他の好ましい重金属イオン封鎖剤としては、例えば、欧州特許公開第317,542号公報及び欧州特許公開第399,133号公報に記載されている2−ヒドロキシエチル二酢酸又はグリセリルイミノ二酢酸のようなイミノ二酢酸誘導体、欧州特許公開第516,102号公報に記載されているイミノ二酢酸−N−2−ヒドロキシプロピルスルホン酸及びアスパラギン酸N−カルボキシメチルN−2−ヒドロキシプロピル−3−スルホン酸封鎖剤、並びに欧州特許公開第509,382号公報に記載されているβ−アラニン−N,N'−二酢酸、アスパラギン酸−N,N'−二酢酸、アスパラギン酸−N−モノ酢酸、及びイミノ二コハク酸封鎖剤などが挙げられる。欧州特許公開第476,257号公報にはアミノ基を有する好ましい封鎖剤が記載されている。欧州特許公開第510,331号公報にはコラーゲン、ケラチン、又はカゼインから誘導した好ましい封鎖剤が記載されている。欧州特許公開第528,859号公報には好ましいアルキルイミノ二酢酸封鎖剤が記載されている。二ピコリン酸及び2−ホスホノブタン−1,2,4−三カルボン酸も好適である。グリシンアミド−N,N'−二コハク酸(GADS)、エチレンジアミン−N,N'−二グルタル酸(EDDG)及び2−ヒドロキシプロピレンジアミン−N,N'−二コハク酸(HPDDS)もまた好適である。もっとも、殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる好ましい重金属イオン封鎖剤は上記に例示したものに限定されることはない。   Other preferable heavy metal ion sequestering agents that can be added to an aqueous solution containing a bactericide are described in, for example, European Patent Publication No. 317,542 and European Patent Publication No. 399,133. -Iminodiacetic acid derivatives such as hydroxyethyldiacetic acid or glyceryliminodiacetic acid, iminodiacetic acid-N-2-hydroxypropylsulfonic acid and aspartic acid N-carboxyl described in EP 516,102 Methyl N-2-hydroxypropyl-3-sulfonic acid sequestering agent, and β-alanine-N, N′-diacetic acid, aspartic acid-N, N′- described in European Patent Publication No. 509,382 Examples include diacetic acid, aspartic acid-N-monoacetic acid, and iminodisuccinic acid sequestering agent. EP-A 476,257 describes preferred blocking agents having amino groups. EP-A 510,331 describes preferred blocking agents derived from collagen, keratin or casein. EP 528,859 describes preferred alkyliminodiacetic acid sequestering agents. Also suitable are dipicolinic acid and 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid. Also suitable are glycinamide-N, N'-disuccinic acid (GADS), ethylenediamine-N, N'-diglutaric acid (EDDG) and 2-hydroxypropylenediamine-N, N'-disuccinic acid (HPDDS). is there. But the preferable heavy metal ion sequestering agent which can be added to the aqueous solution containing a disinfectant is not limited to what was illustrated above.

安定化剤としては公知の安定化剤を用いることができ、例えば、リン酸塩、8-ヒドロキシキノリン、スズ酸、スルホレン、スルホラン、スルホキシド、スルホン、又はスルホン酸などが挙げられる。殺菌剤を含む水性溶液においてリン酸塩を好ましい安定化剤として用いることができる。好ましくは、水性溶液の総質量に対して約0.001質量%から約0.5質量%のリン酸塩を含む。上記リン酸塩は、オルトリン酸ナトリウム塩、オルトリン酸カリウム塩、ピロリン酸ナトリウム塩、ピロリン酸カリウム塩、ポリリン酸ナトリウム塩、ポリリン酸カリウム塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される。   As the stabilizer, a known stabilizer can be used, and examples thereof include phosphate, 8-hydroxyquinoline, stannic acid, sulfolene, sulfolane, sulfoxide, sulfone, and sulfonic acid. Phosphate can be used as a preferred stabilizer in an aqueous solution containing a bactericide. Preferably, from about 0.001% to about 0.5% by weight phosphate based on the total weight of the aqueous solution. The phosphate is selected from the group consisting of sodium orthophosphate, potassium orthophosphate, sodium pyrophosphate, potassium pyrophosphate, sodium polyphosphate, potassium polyphosphate, and combinations thereof.

殺菌剤を含む水性溶液は、必要に応じて、水性溶液の総質量に対して約30質量%程度までの界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、例えば、酸性水性媒体中でペルオキシカルボン酸及び過酸化水素の存在下で酸化及び/又は分解に対して安定な界面活性剤を使用することができ、酸化され易い界面活性剤は避けるべきである。好ましい界面活性剤は、非イオン性、アニオン性、両性、又はカチオン性の界面活性剤から選択することができる。殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる好ましい界面活性剤として、例えば、非イオン性界面活性剤を挙げることができる。より具体的には、ポリエチレン/ポリプロピレンブロックポリマー型界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型界面活性剤、ポリオキシエチレンエーテル型界面活性剤、及びポリオキシエチレンソルビタン型界面活性剤等が挙げられるが、水性溶液に添加することができる界面活性剤はこれらに限定されることはない。   The aqueous solution containing a disinfectant may contain a surfactant up to about 30% by mass based on the total mass of the aqueous solution, if necessary. As the surfactant, for example, a surfactant that is stable against oxidation and / or decomposition in the presence of peroxycarboxylic acid and hydrogen peroxide in an acidic aqueous medium can be used, and the surfactant is easily oxidized. Should be avoided. Preferred surfactants can be selected from nonionic, anionic, amphoteric or cationic surfactants. As a preferable surfactant that can be added to an aqueous solution containing a bactericide, for example, a nonionic surfactant can be exemplified. More specifically, examples include polyethylene / polypropylene block polymer type surfactants, polyoxyethylene alkylphenyl ether type surfactants, polyoxyethylene ether type surfactants, and polyoxyethylene sorbitan type surfactants. The surfactant that can be added to the aqueous solution is not limited to these.

再付着防止剤としては、医療器具などの消毒又は滅菌の対象物から脱離した汚れ等を液中に懸濁した状態に保つ機能を有するものを使用することができる。例えば、有機性の水溶性コロイド(例えば、デンプン、ゼラチン、若しくはデンプンのエーテルカルボン酸又はエーテルスルホン酸の塩、セルロース、セルロースエーテル、若しくはセルロースのエーテルカルボン酸又はエーテルスルホン酸の塩、あるいはセルロース若しくはデンプンの酸性硫酸エステルの塩など)などを用いることができる。酸性基を含む水溶性ポリアミドも好適に使用することができる。さらに上記以外のデンプン誘導体、例えばアルデヒドデンプンを再付着防止剤として使用することができる。もっとも、殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる再付着防止剤は上記に例示したものに限定されることはない。再付着防止剤としては、例えば、再付着防止剤として例示された上記の物質からなる群から選択される1種又は2種以上を用いることができる。殺菌剤を含む水性溶液が再付着防止剤を含む場合、再不着防止剤の濃度は特に限定されないが、水性溶液の総質量に対して5質量%以下が好ましく、特に2質量%以下が好ましい。   As the anti-reattachment agent, those having a function of keeping dirt or the like detached from an object to be sterilized or sterilized such as a medical device suspended in a liquid can be used. For example, organic water-soluble colloids (eg starch, gelatin, or starch ether carboxylic acid or ether sulfonic acid salt, cellulose, cellulose ether, or cellulose ether carboxylic acid or ether sulfonic acid salt, or cellulose or starch And the like, and the like. Water-soluble polyamides containing acidic groups can also be suitably used. Furthermore, starch derivatives other than those described above, such as aldehyde starch, can be used as an anti-redeposition agent. However, the anti-redeposition agent that can be added to the aqueous solution containing the bactericide is not limited to those exemplified above. As the anti-redeposition agent, for example, one or more selected from the group consisting of the above-described substances exemplified as the anti-redeposition agent can be used. When the aqueous solution containing the bactericidal agent contains the anti-redeposition agent, the concentration of the anti-redeposition agent is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or less, particularly preferably 2% by mass or less, based on the total mass of the aqueous solution.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
例1:抗微生物活性評価
芽胞に対する抗微生物活性を評価した。枯草菌芽胞液(栄研器材(株))を1.0×107 cfu/mLになる様に調整し、以下の抗微生物活性評価に供した。活性評価は坂上らの方法(J. Antibact. Antifung. Agents.、26巻、605〜601ページ、1998年)に従って実施した。具体的には、化合物2(40 mmol/m)と過酸化水素(120 mmol/l)を含む水性組成物18 mlに前記枯草菌芽胞液2 mLを加え(混合後の芽胞濃度;1.0×106 cfu/ml)、直ぐに紫外線ランプ(30W、浸水式紫外線殺菌装置(フナテック(株)))を入れ、室温で一定時間紫外線照射を行った。一定時間ごとに2μLをサンプリングし、2 mLのSCDLP培地(日水製薬)に加えて160 rpm、37℃で48時間培養し菌の生育の有無を調べた。また、対照として、紫外線照射のない場合についても同様に実験を行った。結果を表1に示した。表中、+は液体培養での菌体増殖が認められたことを示し、−は液体培養での菌体増殖が認められないことを示す。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to these examples.
Example 1: Evaluation of antimicrobial activity Antimicrobial activity against spores was evaluated. The Bacillus subtilis spore solution (Eiken Equipment Co., Ltd.) was adjusted to 1.0 × 10 7 cfu / mL and subjected to the following antimicrobial activity evaluation. The activity was evaluated according to the method of Sakagami et al. (J. Antibact. Antifung. Agents., 26, 605-601, 1998). Specifically, 2 mL of the Bacillus subtilis spore solution is added to 18 ml of an aqueous composition containing Compound 2 (40 mmol / m) and hydrogen peroxide (120 mmol / l) (spore concentration after mixing; 1.0 × 10 6 6 cfu / ml), an ultraviolet lamp (30 W, submerged ultraviolet sterilizer (Funatech Co., Ltd.)) was immediately inserted, and ultraviolet irradiation was performed at room temperature for a certain period of time. 2 μL was sampled at regular intervals, added to 2 mL of SCDLP medium (Nissui Pharmaceutical), and cultured at 160 rpm and 37 ° C. for 48 hours to examine the presence or absence of bacterial growth. As a control, the same experiment was conducted for the case without ultraviolet irradiation. The results are shown in Table 1. In the table, + indicates that cell growth in liquid culture was observed, and-indicates that cell growth in liquid culture was not observed.

Figure 2007082900
Figure 2007082900

例2:抗微生物活性評価
例1と同様の方法で抗微生物活性評価を実施した。具体的には、滅菌水18 mlに前記枯草菌芽胞液2 mLを加え(混合後の芽胞濃度;1.0×106 cfu/ml)、直ぐに紫外線ランプ(30W、浸水式紫外線殺菌装置(フナテック(株)))を入れ、室温で一定時間紫外線照射を行った。その後、化合物3(1830mM)を含む水溶液23μLを加え(混合後濃度 40mM)、一定時間ごとに2μLをサンプリングし、例1と同様の方法で抗微生物活性を評価した。また、対照として、紫外線照射のない場合、及び化合物3を無添加の場合についても同様に実験を行った。結果を表2に示した。
Example 2: Evaluation of antimicrobial activity The antimicrobial activity was evaluated in the same manner as in Example 1. Specifically, 2 mL of the Bacillus subtilis spore solution was added to 18 ml of sterilized water (spore concentration after mixing; 1.0 × 10 6 cfu / ml), and immediately an ultraviolet lamp (30 W, submerged ultraviolet sterilizer (Funatech Corporation) ))) Was placed, and ultraviolet irradiation was performed at room temperature for a certain time. Thereafter, 23 μL of an aqueous solution containing Compound 3 (1830 mM) was added (concentration after mixing: 40 mM), 2 μL was sampled at regular intervals, and antimicrobial activity was evaluated in the same manner as in Example 1. Further, as a control, the same experiment was carried out in the case of no ultraviolet irradiation and in the case of no addition of compound 3. The results are shown in Table 2.

Figure 2007082900
Figure 2007082900

これらの結果より、紫外線照射とペルオキシカルボン酸を含む水性溶液とを組み合わせた処理により、ペルオキシカルボン酸含む水性溶液を単独で用いた場合、及び紫外線照射単独での処理の場合に比べて相乗的に強い抗微生物活性が達成されており、芽胞に対しても極めて短時間に消毒又は滅菌を行なえることが示された。   From these results, the treatment combining the ultraviolet irradiation and the aqueous solution containing the peroxycarboxylic acid, synergistically compared to the case of using the aqueous solution containing the peroxycarboxylic acid alone and the case of the treatment with the ultraviolet irradiation alone. It has been shown that strong antimicrobial activity has been achieved and spores can be disinfected or sterilized in a very short time.

Claims (10)

消毒又は滅菌方法であって、殺菌剤による処理と紫外線照射とを組み合わせて含む方法。 A disinfection or sterilization method comprising a combination of disinfectant treatment and ultraviolet irradiation. 波長が300 nm以下の紫外線を用いた紫外線照射を行なう請求項1に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein ultraviolet irradiation using ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm or less is performed. 紫外線照射を5秒以上10分以内の時間行なう請求項1又は2に記載の方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein the ultraviolet irradiation is performed for a time of 5 seconds or more and 10 minutes or less. 消毒又は滅菌の対象物が医療機器である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the object to be disinfected or sterilized is a medical device. 消毒又は滅菌の対象物が内視鏡である請求項4に記載の方法。 The method according to claim 4, wherein the object to be disinfected or sterilized is an endoscope. 殺菌剤がペルオキシカルボン酸である請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the disinfectant is a peroxycarboxylic acid. ペルオキシカルボン酸が、過酢酸又は一般式(I):
Figure 2007082900
(式中、R1は置換若しくは無置換のC1−C10のアルキル基(ただし、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基は除く)、又は置換若しくは無置換のC6−C10のアリール基を示し、Lは置換若しくは無置換のC2−C12の2価の連結基を示し、R1とLは結合して環を形成してもよい)で表されるペルオキシカルボン酸である請求項6に記載の方法。
Peroxycarboxylic acid is peracetic acid or general formula (I):
Figure 2007082900
(Wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted C1-C10 alkyl group (excluding a substituent having a hydroxy group as a substituent) or a substituted or unsubstituted C6-C10 aryl group; 7 represents a substituted or unsubstituted C2-C12 divalent linking group, and R 1 and L may be combined to form a ring). .
Lが−CH(R11)−L12(式中、R11は水素原子又はC1〜C4の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、L12は置換若しくは無置換のC1−C11の2価の連結基を示す)で表される基である請求項7に記載の方法。 L represents —CH (R 11 ) —L 12 (wherein R 11 represents a hydrogen atom or a C1-C4 substituted or unsubstituted alkyl group, and L 12 represents a substituted or unsubstituted C1-C11 divalent group. The method according to claim 7, wherein the group is a group represented by: 12が置換又は無置換のC1−C4の2価の連結基である請求項8に記載の方法。 The method according to claim 8, wherein L 12 is a substituted or unsubstituted C1-C4 divalent linking group. 1が置換又は無置換のC1−C3のアルキル基である請求項7ないし9のいずれか1項に記載の方法。 The method according to any one of claims 7 to 9, wherein R 1 is a substituted or unsubstituted C1-C3 alkyl group.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11925514B2 (en) * 2019-04-29 2024-03-12 KMW Enterprises LLC Apparatus and methods for intraoperative surgical instrument sterilization

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