JP2007081198A - Method for conductive connection between terminals - Google Patents

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敦史 山口
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秀規 宮川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a forming method for conductive connection that achieve high density and high integration in a field of circuit design. <P>SOLUTION: The method for conductive connection between terminals uses a conductive adhesive which contains a metal component and a thermosetting resin component, and the fusion point of the metal component is lower than the setting temperature of the resin component. The method for conductive connection includes a state of supplying the conductive adhesive to between the terminals, a stage of applying heat to the conductive adhesive to form a conductive tie part of the fused metal component between the terminals, and a stage of further applying heat to cure the resin component to seal the tie part. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子回路基板における部品実装または配線形成のために端子間を導電的に接続する方法に関するものである。   The present invention relates to a method for conductively connecting terminals for component mounting or wiring formation on an electronic circuit board.

近年、電子部品実装において、端子どうしの接合部について機械的強度向上及び熱衝撃強度等の信頼性特性向上への要求が高まってきている。一方、地球環境保護の関心が高まる中、電子回路基板などの産業廃棄物の処理についての法規制も進みつつある。鉛もそのような法規制の対象となっているため、部品実装及び配線形成のための材料も鉛を含まない材料(いわゆる鉛フリー材料)へ移行しつつある。   In recent years, in electronic component mounting, there has been a growing demand for improved mechanical properties and improved reliability characteristics such as thermal shock strength at the joints between terminals. On the other hand, with increasing interest in protecting the global environment, laws and regulations regarding the disposal of industrial waste such as electronic circuit boards are also being advanced. Since lead is also subject to such laws and regulations, materials for component mounting and wiring formation are also shifting to materials that do not contain lead (so-called lead-free materials).

電気回路及び/又は電子回路に部品を実装する分野において、既に電子部品を搭載している基板どうしの端子間を導電的に接続するための1つの手段として、異方性導電膜(ACF(Anisotropic Conductive Film))が採用されている。異方性導電膜とは、一般に、熱硬化性樹脂の膜状又はシート状の材料の中に導電性粒子を相互に接触しない程度の密度で分散させた材料である。2つの基材の間に異方性導電膜を配して、2つの基材を互いの向きに、従って該異方性導電膜の厚み方向に加圧及び加熱すると、その加圧した厚み方向についてのみ導電性粒子を凝集させて相互に接触させ、導電性の連絡部又は架橋を形成することができ、一方、該異方性導電膜の平面方向については導電性粒子を相互に接触させないため、異方性導電膜の加圧及び加熱が及ばなかった部分については絶縁状態を維持できるという異方性機能を有する材料である。   In the field of mounting components on electric circuits and / or electronic circuits, an anisotropic conductive film (ACF (Anisotropic conductive film) (ACF) is used as one means for conductively connecting terminals of substrates on which electronic components are already mounted. Conductive Film)) is adopted. An anisotropic conductive film is generally a material in which conductive particles are dispersed in a thermosetting resin film-like or sheet-like material so as not to contact each other. When an anisotropic conductive film is arranged between two substrates and the two substrates are pressed and heated in the direction of each other, and thus in the thickness direction of the anisotropic conductive film, the pressurized thickness direction The conductive particles can only be agglomerated and brought into contact with each other to form conductive connecting portions or crosslinks, while the conductive particles are not brought into contact with each other in the plane direction of the anisotropic conductive film. The material having an anisotropic function that can maintain an insulating state in a portion where the pressure and heating of the anisotropic conductive film have not been achieved.

そのような異方性導電膜は、シート形態又はテープ形態で供給されており、IC又はその他の電子部品が既に実装されているフレキシブルプリント基板(FPC基板)とプリント回路基板(PCB)とを電気的に接続して、より集積度の高い実装基板を形成する技術や、LCD等のフラットディスプレイパネルのパネル電極接続部とフレキシブルプリント基板とを接続する技術に用いられている(特許文献1及び2)。
特開2004−087940号公報 特開2004−184805号公報
Such an anisotropic conductive film is supplied in a sheet form or a tape form, and electrically connects a flexible printed circuit board (FPC board) and a printed circuit board (PCB) on which an IC or other electronic component is already mounted. Are connected to each other to form a highly integrated mounting substrate, and to a technology for connecting a panel electrode connecting portion of a flat display panel such as an LCD and a flexible printed circuit (Patent Documents 1 and 2). ).
JP 2004-087940 A JP 2004-184805 A

異方性導電膜を用いて2つの基板どうしを電気的に接続する1つの例を図3に模式的に示す。尚、この明細書において、図面を参照しながら図面に示す部材の上下左右の各方向について述べる場合には、図面に向かって観察した場合の上下左右方向であると理解されたい。   One example of electrically connecting two substrates using an anisotropic conductive film is schematically shown in FIG. In addition, in this specification, when describing each of the upper, lower, left, and right directions of the members shown in the drawings with reference to the drawings, it should be understood that the directions are the upper, lower, left, and right directions when viewed toward the drawings.

図3(a)は、下面側及び上面側にそれぞれ電子部品2、2’が取り付けられているプリント回路基板1の右側端部の上面側に設けられた端子3と、上面側に電子部品5が取り付けられているプリント回路基板4の左側端部の下面側に設けられた端子6とを、異方性導電膜10によって接続する例を示している。図3(b)は、図3(a)における端子3及び端子6と異方性導電膜10とが接触している丸で囲んだ部分の拡大断面図を示している。異方性導電膜10は、膜形態に形成した熱硬化性樹脂材料11の中に導電性粒子12を分散させて構成されている。   FIG. 3A shows a terminal 3 provided on the upper surface side of the right end portion of the printed circuit board 1 on which the electronic components 2 and 2 ′ are respectively attached to the lower surface side and the upper surface side, and an electronic component 5 on the upper surface side. The example which connects the terminal 6 provided in the lower surface side of the left end part of the printed circuit board 4 to which is attached by the anisotropic conductive film 10 is shown. FIG. 3B shows an enlarged cross-sectional view of a circled portion where the terminals 3 and 6 and the anisotropic conductive film 10 are in contact with each other in FIG. The anisotropic conductive film 10 is configured by dispersing conductive particles 12 in a thermosetting resin material 11 formed in a film form.

端子3と端子6との間で異方性導電膜10を加熱及び加圧するために、プリント回路基板1を下面側から基板ステージ7によって支持し、プリント回路基板4を上面側から加熱加圧ツール8によって加熱及び押圧する。即ち、基板ステージ7と加熱加圧ツール8との間で所定の熱及び圧力を加えることによって、基板1と基板4との間で異方性導電膜10を加熱及び加圧(又は加熱圧着)する。その結果、端子3と端子6との間において、熱硬化性樹脂材料11の中の導電性粒子12が端子3と端子6とを連絡する向きに凝集して相互に接触し、端子3と端子6との間に導電性の架橋部又は連絡部を形成する。このようにして、端子3と端子6との間に導電的接続を形成することができる。   In order to heat and press the anisotropic conductive film 10 between the terminals 3 and 6, the printed circuit board 1 is supported by the substrate stage 7 from the lower surface side, and the printed circuit board 4 is heated and pressed from the upper surface side. Heat and press with 8. That is, by applying predetermined heat and pressure between the substrate stage 7 and the heating and pressing tool 8, the anisotropic conductive film 10 is heated and pressed (or thermocompression bonding) between the substrate 1 and the substrate 4. To do. As a result, between the terminals 3 and 6, the conductive particles 12 in the thermosetting resin material 11 aggregate in the direction in which the terminals 3 and 6 are in communication with each other and come into contact with each other. A conductive cross-linked portion or a connecting portion is formed between the two. In this way, a conductive connection can be formed between the terminal 3 and the terminal 6.

しかしながら、このように異方性導電膜を用いて2つの基板の端子間に導電的接続を形成するためには、図3(a)に示すような基板ステージ7及び加熱加圧ツール8等の加圧治具を用いて、一般に、少なくとも約2Pa程度の圧力を異方性導電膜に対して、従って2つの基板に対して加える必要がある。電子部品、例えば半導体部品等は機械的な外力に対してデリケートなものが多く、外力が加わると破損や損傷を生じやすいので、図3(a)に示すような加圧治具を用いて加熱圧着する場合には、加圧治具が当接する基板の外側表面(例えば、図3(a)において破線で囲んでいる基板1の下側表面3’)に電子部品を配置することができない。   However, in order to form a conductive connection between the terminals of two substrates using an anisotropic conductive film in this way, a substrate stage 7 and a heating and pressing tool 8 as shown in FIG. In general, it is necessary to apply a pressure of at least about 2 Pa to the anisotropic conductive film, and thus to the two substrates, using a pressure jig. Electronic parts, such as semiconductor parts, are often sensitive to mechanical external force, and are easily damaged or damaged when external force is applied. Heating using a pressure jig as shown in FIG. In the case of pressure bonding, electronic components cannot be arranged on the outer surface of the substrate with which the pressing jig abuts (for example, the lower surface 3 ′ of the substrate 1 surrounded by a broken line in FIG. 3A).

従って、基板上において、端子を設ける領域及びその裏面側の領域の表裏両側の一定の範囲の領域が、電子部品を搭載するために利用することができない領域となっていた。このことは、高密度化及び高集積度化が望まれる回路設計の分野において、高密度化及び高集積度化を妨げる1つの要因となっていた。   Therefore, on the substrate, the area in which the terminals are provided and the area in a certain range on both the front and back sides of the area on the back surface side thereof cannot be used for mounting the electronic component. This has been one factor that hinders higher density and higher integration in the field of circuit design where higher density and higher integration are desired.

また、複数の端子が一定の領域に所定のパターンにて配列されている一対の基板どうしを対向させて、両基板の対応する端子間に導電的接続を形成しようとする場合には、これらの端子が設けられている領域全体を覆う寸法及び形状の異方性導電膜材料が用いられていた。図3(b)におけるIII−III矢視断面図を図3(c)に示す。図3(c)から理解できるように、加熱押圧の操作によって、端子3及び6が対向して存在する部分では、異方性導電膜10は上下方向に圧縮されるため、その中の導電性粒子12が端子3及び6の間で凝集して、端子3及び6の間に導電性の連絡部を形成することができる。一方、端子が存在しない領域の異方性導電膜10は、導電性粒子12が凝集して導電性の連絡部を形成する程は圧縮されない。従って、端子が存在しない領域は絶縁性を保つことができる。この場合に、上下方向に端子が存在しない領域においては、異方性導電膜10の中の導電性粒子12は導電性連絡部を形成することに寄与することがなく、材料としての無駄が生じていた。
本発明は、上述のような回路設計の分野における高密度化及び高集積度化に関する課題を解決することを目的とする。
In addition, when a pair of substrates in which a plurality of terminals are arranged in a predetermined pattern in a predetermined pattern are opposed to each other and a conductive connection is to be formed between corresponding terminals of both substrates, An anisotropic conductive film material having a size and shape covering the entire region where the terminals are provided has been used. A cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. 3B is shown in FIG. As can be understood from FIG. 3 (c), the anisotropic conductive film 10 is compressed in the vertical direction in the portion where the terminals 3 and 6 are opposed to each other by the operation of heating and pressing. Particles 12 can agglomerate between terminals 3 and 6 to form a conductive connection between terminals 3 and 6. On the other hand, the anisotropic conductive film 10 in the region where no terminal exists is not compressed to such an extent that the conductive particles 12 aggregate to form a conductive connecting portion. Accordingly, it is possible to maintain insulation in a region where no terminal exists. In this case, in the region where no terminal exists in the vertical direction, the conductive particles 12 in the anisotropic conductive film 10 do not contribute to the formation of the conductive connecting portion, resulting in waste as a material. It was.
An object of the present invention is to solve the problems related to higher density and higher integration in the field of circuit design as described above.

この出願の発明は、金属成分及び熱硬化性の樹脂成分を含んでなり、前記金属成分の融点が前記樹脂成分の硬化温度よりも低い導電性接着剤によって、少なくとも2つの端子間に導電的接続を形成する方法であって、端子間に導電性接着剤を供給する工程、導電性接着剤に熱を加え、溶融した金属成分によって端子間に導電性の連絡部を形成する工程、及び更に熱を加えて樹脂成分を硬化させて前記連絡部を封止する工程を含んでなることを特徴とする端子間の導電的接続方法の発明である。尚、樹脂成分の硬化温度は金属成分の融点よりも0〜50℃高いこと、特に10〜20℃高いことが好ましい。   The invention of this application comprises a metal component and a thermosetting resin component, and the conductive connection between at least two terminals by a conductive adhesive whose melting point of the metal component is lower than the curing temperature of the resin component. A step of supplying a conductive adhesive between the terminals, a step of applying heat to the conductive adhesive to form a conductive connecting portion between the terminals by a molten metal component, and a further step of heating. The invention further includes a step of curing the resin component to seal the connecting portion. The curing temperature of the resin component is preferably 0 to 50 ° C., particularly 10 to 20 ° C. higher than the melting point of the metal component.

この方法に用いる導電性接着剤の金属成分は樹脂成分の硬化温度よりも低い融点を有するので、室温付近の温度から加熱して昇温させる一般的な加熱プロセスに付すると、金属成分の融点に達すると金属成分が溶融し、金属成分が相互に連絡し合い、2つの端子間を架橋する導電性の連絡部を形成する。このプロセスの間、樹脂成分は流動性を有している。   Since the metal component of the conductive adhesive used in this method has a melting point lower than the curing temperature of the resin component, when subjected to a general heating process of heating from a temperature near room temperature, the melting point of the metal component is reduced. When reached, the metal component melts and the metal component communicates with each other to form a conductive connection that bridges between the two terminals. During this process, the resin component is fluid.

その後更に加熱して樹脂の硬化温度に達すると、導電性の連絡部を包囲して樹脂が硬化する。従って、2つの端子間には、導電性を有する連絡部を設けることができると共に、その導電性の連絡部を包囲する樹脂による封止部を設けることができる。従って、かかる発明によれば、2つの基板の端子どうしを接続する際に、各基板の端子の裏面側を加圧治具によって押圧することを本質的には必要とせず、温度条件を操作することによって2つの端子間に導電性の接続を形成することができる。基板における端子の裏面側は加圧治具等が当接しないので、電子部品を実装するための領域として利用することができ、基板上における電子部品を実装密度又は集積度をより向上させることができる。   Thereafter, when the resin is further heated to reach the curing temperature of the resin, the resin is cured by surrounding the conductive connecting portion. Accordingly, a connecting portion having conductivity can be provided between the two terminals, and a sealing portion made of resin surrounding the conductive connecting portion can be provided. Therefore, according to this invention, when connecting the terminals of two substrates, it is essentially unnecessary to press the back side of the terminals of each substrate with a pressure jig, and the temperature conditions are manipulated. Thus, a conductive connection can be formed between the two terminals. Since the pressing jig or the like does not come into contact with the back side of the terminal on the board, it can be used as an area for mounting electronic components, and the mounting density or integration degree of electronic components on the board can be further improved. it can.

この発明は、1つの態様において、樹脂成分中に粒子形態の金属成分を分散させてなる流動性の導電性接着剤を用いることを特徴とする。導電性接着剤の全重量に対する金属成分の重量の割合を5〜50重量%、特に10〜30重量%の範囲とすることが好ましい。金属成分の粒子は、5〜30μmの範囲の平均粒子寸法を有することが好ましい。中でも、その金属成分の粒子は、20〜40μmの範囲の粒子寸法を有し、好ましくは30μmの平均粒子寸法を有することが好ましい。しかしながら、場合によっては、5〜150μmの粒子寸法を有することもできる。この態様によれば、互いに接続しようとする接点どうしの間の必要な部分にだけ粒子形態の金属成分を分散した樹脂成分を供給し、その後の加熱等の操作によって端子間を導電的に接続することができる。従って、導電性接着剤を必要な部位に必要な量だけ適用することができ、金属材料及び樹脂材料の無駄を防止することができる。   In one aspect, the present invention is characterized by using a fluid conductive adhesive in which a metal component in the form of particles is dispersed in a resin component. The ratio of the weight of the metal component to the total weight of the conductive adhesive is preferably 5 to 50% by weight, particularly 10 to 30% by weight. The metal component particles preferably have an average particle size in the range of 5 to 30 μm. Among them, the particles of the metal component have a particle size in the range of 20 to 40 μm, preferably an average particle size of 30 μm. However, in some cases it may have a particle size of 5 to 150 μm. According to this aspect, the resin component in which the metal component in the form of particles is dispersed is supplied only to a necessary portion between the contacts to be connected to each other, and the terminals are conductively connected by an operation such as subsequent heating. be able to. Therefore, the conductive adhesive can be applied in a necessary amount to a necessary part, and waste of the metal material and the resin material can be prevented.

この発明は、もう1つの態様において、導電性接着剤を供給する工程が、端子表面に金属成分を供給する工程と、その後に該端子表面に樹脂成分を供給する工程とを含んでなることを特徴とする。この態様によれば、導電性接着剤を金属成分と樹脂成分とに分けて供給することになるが、接続しようとする端子を有する基材を作製する段階で予め、端子表面の必要な部位に必要な量だけ金属成分を供給したものを設けておき、端子同士を接続する際には、その端子どうしの間に樹脂成分を供給し、その後の加熱等の操作によって端子間を導電的に接続することができる。従って、この態様によっても、導電性接着剤を必要な部位に必要な量だけ適用することができ、金属材料及び樹脂材料の無駄を防止することができる。   In another aspect, the present invention provides that the step of supplying the conductive adhesive includes the step of supplying a metal component to the terminal surface and the step of subsequently supplying the resin component to the terminal surface. Features. According to this aspect, the conductive adhesive is supplied separately for the metal component and the resin component, but at the stage of preparing the base material having the terminal to be connected, the necessary portion of the terminal surface is previously provided. When supplying the necessary amount of metal component, when connecting the terminals, supply the resin component between the terminals, and then electrically connect the terminals by an operation such as heating. can do. Therefore, according to this aspect, the conductive adhesive can be applied in a necessary amount to a necessary portion, and waste of the metal material and the resin material can be prevented.

この発明は、もう1つの態様において、金属成分が、Snと、Ag、Bi、及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属とを含んでなることを特徴とする。この態様の金属成分は、Snと、Ag、Bi、及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属とからなる合金組成であって、70〜250℃の範囲、特に80〜150℃の範囲に融点を設定することができる。従って、この態様によれば、比較的低い温度で実装を行うことができる。   In another aspect, the present invention is characterized in that the metal component comprises Sn and at least one metal selected from the group consisting of Ag, Bi, and In. The metal component of this embodiment is an alloy composition comprising Sn and at least one metal selected from the group consisting of Ag, Bi, and In, and is in the range of 70 to 250 ° C., particularly in the range of 80 to 150 ° C. The melting point can be set. Therefore, according to this aspect, mounting can be performed at a relatively low temperature.

金属成分がBiを含む場合、金属成分中のBiの含有量は、10〜70重量%の範囲が好ましく、50〜70重量%の範囲がより好適である。金属成分中のBi含有量を10〜70重量%とするのは、Biの含有量が10重量%より少ないと低融点化の効果が十分に得られず、70重量%を超える場合にも同様に低融点化の効果が得られないためである。   When the metal component contains Bi, the Bi content in the metal component is preferably in the range of 10 to 70% by weight, and more preferably in the range of 50 to 70% by weight. The Bi content in the metal component is set to 10 to 70% by weight. If the Bi content is less than 10% by weight, the effect of lowering the melting point is not sufficiently obtained. This is because the effect of lowering the melting point cannot be obtained.

金属成分がInを含む場合、金属成分中のInの含有量は、10〜90重量%の範囲が好ましく、10〜30重量%の範囲がより好適である。金属成分中のInの含有量を10〜90重量%にしたのは、Inの含有量が10重量%より少ないと低融点化の効果が十分に得られず、90重量%を超える場合にも同様に低融点化の効果が得られないためである。   When the metal component contains In, the content of In in the metal component is preferably in the range of 10 to 90% by weight, and more preferably in the range of 10 to 30% by weight. The reason why the content of In in the metal component is set to 10 to 90% by weight is that if the content of In is less than 10% by weight, the effect of lowering the melting point cannot be sufficiently obtained. Similarly, the effect of lowering the melting point cannot be obtained.

また、金属成分中のAgの含有量は、0.1〜5.0重量%の範囲が好ましく、3〜5重量%のAg含有量がより好適である。金属成分中のAg含有量を0.1〜5.0重量%としたのは、0.1重量%よりも少量であれば、機械的特性に対する効果は得られず、5重量%を超えると合金の融点が急激に上昇するためである。
上記の金属成分中の残部は、Snであってもよいし、所望によりSnに加えてその他の金属元素を含むこともできる。
Moreover, the content of Ag in the metal component is preferably in the range of 0.1 to 5.0% by weight, and more preferably 3 to 5% by weight. If the Ag content in the metal component is 0.1 to 5.0% by weight, if it is less than 0.1% by weight, no effect on the mechanical properties can be obtained, and if it exceeds 5% by weight This is because the melting point of the alloy rises rapidly.
The balance in the metal component may be Sn, or may contain other metal elements in addition to Sn if desired.

この発明は、もう1つの態様において、金属成分が更にCu又はNiを含むことを特徴とする。この態様の金属成分も、上記の合金組成と同様に、70〜250℃の範囲、特に80〜150℃の範囲に融点を設定することができる。従って、この態様によれば、比較的低い温度で実装を行うことができる。   In another aspect, the present invention is characterized in that the metal component further contains Cu or Ni. The metal component of this aspect can also set melting | fusing point in the range of 70-250 degreeC, especially the range of 80-150 degreeC similarly to said alloy composition. Therefore, according to this aspect, mounting can be performed at a relatively low temperature.

本発明の金属成分は、上記の基本組成に加えて、Cu及びNiの群から選ばれる少なくとも1種の金属を更に含むことができる。Cuは、合金の機械的特性向上を目的に添加している。   The metal component of the present invention can further contain at least one metal selected from the group consisting of Cu and Ni in addition to the above basic composition. Cu is added for the purpose of improving the mechanical properties of the alloy.

金属成分中のCuの含有量は、0.1〜1.0重量%の範囲が好ましく、0.5〜0.7重量%のCu含有量がより好適である。Cu含有量が0.1重量%よりも少量であれば、その機械的特性に対する効果は得られず、また、1.0重量%を超えると合金がより脆くなる傾向を示して機械的特性に関して逆効果となるためである。   The Cu content in the metal component is preferably in the range of 0.1 to 1.0% by weight, and more preferably in the range of 0.5 to 0.7% by weight. If the Cu content is less than 0.1% by weight, the effect on the mechanical properties cannot be obtained, and if the Cu content exceeds 1.0% by weight, the alloy tends to become more brittle and the mechanical properties are reduced. This is because it is counterproductive.

金属成分へのNiの添加は、Snの酸化抑制を目的としている。金属成分中のNiの含有量は、0.01〜0.1重量%が好適である。金属成分中のNi含有量を0.01〜0.1重量%としたのは、0.01重量%よりも少量であれば、Sn酸化抑制の効果は得られず、1.0重量%を超えると強固なNi酸化膜が形成されて融点が上昇し、Sn酸化抑制の効果は得られないためである。   The addition of Ni to the metal component is aimed at suppressing the oxidation of Sn. The content of Ni in the metal component is preferably 0.01 to 0.1% by weight. The Ni content in the metal component is set to 0.01 to 0.1% by weight. If the amount is less than 0.01% by weight, the effect of suppressing Sn oxidation cannot be obtained. This is because if it exceeds, a strong Ni oxide film is formed, the melting point rises, and the effect of suppressing Sn oxidation cannot be obtained.

これらの低融点金属成分は粒子状の形態で導電性接着剤組成物中に分散されていることが好ましい。その金属成分の平均粒子径は、5〜30μmであることが好ましい。   These low melting point metal components are preferably dispersed in the conductive adhesive composition in a particulate form. The average particle size of the metal component is preferably 5 to 30 μm.

この発明に用いる導電性接着剤組成物全体に対する金属成分の重量の割合は、導電性接着剤の用途、金属成分の種類、樹脂成分の種類などに適合させて適切な範囲から選択することができる。但し、加熱操作によって、端子間を連絡する導電性の連絡部を形成する必要があるため、導電性接着剤組成物全体に対して、金属成分が70〜90重量%、特に80〜85重量%であることが好ましい。金属成分の割合が70重量%未満では、硬化後に十分な導電性が得られず、90重量%を超えると、導通経路のまわりを樹脂によって十分に包囲し得ない可能性が生じるためである。尚、この金属成分が溶融して得られる合金は、鉛フリーはんだ材料やSn−Pb系はんだ材料よりも低い融点を示すので、より低い実装温度を達成することができる。   The ratio of the weight of the metal component to the entire conductive adhesive composition used in the present invention can be selected from an appropriate range according to the use of the conductive adhesive, the type of metal component, the type of resin component, and the like. . However, since it is necessary to form a conductive connecting portion for connecting the terminals by heating operation, the metal component is 70 to 90% by weight, particularly 80 to 85% by weight, based on the entire conductive adhesive composition. It is preferable that If the proportion of the metal component is less than 70% by weight, sufficient conductivity cannot be obtained after curing, and if it exceeds 90% by weight, there is a possibility that the conductive path cannot be sufficiently surrounded by the resin. In addition, since the alloy obtained by melting the metal component has a lower melting point than that of the lead-free solder material or Sn—Pb solder material, a lower mounting temperature can be achieved.

この発明は、更なる態様において、樹脂成分が第2の成分として還元性を有する樹脂を含むことを特徴とすること、樹脂成分が第2の成分としてカルボキシル基を有する化合物を含むこと、第2の樹脂成分が金属を含む有機化合物を含むこと、又は前記金属がNa、Ag、Cu及びKの群から選ばれることをそれぞれ特徴とすることもできる。これらの態様によれば、比較的低融点の金属成分をより容易に溶融させることができる。   In a further aspect, the present invention is characterized in that the resin component includes a resin having a reducing property as the second component, the resin component includes a compound having a carboxyl group as the second component, The resin component may contain an organic compound containing a metal, or the metal may be selected from the group of Na, Ag, Cu, and K. According to these aspects, a metal component having a relatively low melting point can be more easily melted.

樹脂成分としては、当業者に既知の種々の熱硬化性樹脂を用いることができる。熱硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等を用いることができるが、好ましい熱硬化性樹脂はエポキシ系樹脂である。エポキシ系樹脂は一液硬化型、二液硬化型など種々のものを用いることができるが、一液硬化型のものが好ましい。また、熱硬化性樹脂は、基本的に当業者に既知の熱硬化性樹脂の系(特定の硬化性樹脂及びその硬化に必要とされる特定の種類の硬化剤、粘度調節剤等を必要な量で含む系)を樹脂成分に含めて用いることができる。   As the resin component, various thermosetting resins known to those skilled in the art can be used. As the thermosetting resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a phenol resin, a polyimide resin, a thermosetting polyurethane resin, an unsaturated polyester resin, or the like can be used. A preferable thermosetting resin is an epoxy resin. It is. Various types of epoxy resins such as a one-component curable type and a two-component curable type can be used, but a one-component curable type is preferable. Further, the thermosetting resin basically requires a thermosetting resin system known to those skilled in the art (a specific curable resin and a specific type of curing agent required for the curing, a viscosity modifier, and the like. (A system containing in an amount) can be used as a resin component.

例えば、導電性接着剤を用いて電子部品を実装する場合に、加熱硬化過程において金属成分の粒子が加熱されると、場合によって、金属成分粒子が溶融するよりも先に、金属成分粒子表面が酸化されてしまい、その結果、金属成分粒子の表面に酸化膜が形成されることがある。金属成分粒子の表面に生じた酸化膜は、金属成分粒子の溶融を妨害する1種の保護膜となって、導電性接着剤の加熱硬化過程における所定の温度で金属成分が溶融することを妨害し得る。その結果、加熱硬化過程を経た後に、十分に溶融し得なかった金属成分粒子が残り得る。   For example, when an electronic component is mounted using a conductive adhesive, if the metal component particles are heated during the heat curing process, the surface of the metal component particles may possibly be melted before the metal component particles melt. As a result, the oxide film may be formed on the surface of the metal component particles. The oxide film formed on the surface of the metal component particles becomes a kind of protective film that prevents the melting of the metal component particles, and prevents the metal component from melting at a predetermined temperature in the heat curing process of the conductive adhesive. Can do. As a result, metal component particles that could not be sufficiently melted after the heat curing process may remain.

このような場合に、樹脂成分の中に、還元性のある樹脂成分、カルボキシル基を有する化合物を含む樹脂成分、金属を含む有機化合物を含む樹脂成分、及び/又はNa、Ag、Cu及びKの群から選ばれる金属を含む有機化合物を含む樹脂成分を含むので、加熱硬化過程中でも導電性接着剤組成物内をある程度還元性雰囲気に保つことができる。そのため、加熱硬化過程において金属成分粒子の表面に酸化膜が生じることを実質的に防止することができる。加熱硬化過程中における金属成分粒子表面の酸化を防止することによって、加熱硬化過程における金属成分の溶融不良を防止して、金属成分の溶融を促進させることができる。   In such a case, the resin component includes a reducing resin component, a resin component containing a compound having a carboxyl group, a resin component containing an organic compound containing a metal, and / or Na, Ag, Cu and K. Since the resin component containing the organic compound containing the metal selected from the group is included, the inside of the conductive adhesive composition can be kept in a reducing atmosphere to some extent even during the heat curing process. Therefore, it is possible to substantially prevent the formation of an oxide film on the surface of the metal component particles during the heat curing process. By preventing the oxidation of the surface of the metal component particles during the heat curing process, it is possible to prevent the melting failure of the metal component during the heat curing process and promote the melting of the metal component.

1つの形態において、還元性のある樹脂はカルボキシル基を有する化合物、例えばカルボン酸を含むことが好ましい。樹脂中にそのような化合物を加えることによって、低融点金属の酸化膜を除去し(又は低融点金属の表面に酸化膜が生成することを防止し)、溶融し易くするため還元剤としての作用を発現させることができる。尚、そのような化合物には、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、脂環式カルボン酸等の種々のカルボン酸を用いることができる。そのような化合物の例として、アジピン酸、アビエチン酸、アスコルビン酸、アクリル酸、クエン酸、ポリアクリル酸、リンゴ酸、ピメリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ラウリン酸、セバシン酸、スベリン酸、マレイン酸、コハク酸、アゼライン酸、フマル酸、グルタル酸、マロン酸等を挙げることができる。また、そのカルボン酸は、Na、Ag、Cu、K等の金属塩の形態であることが好ましい。   In one embodiment, the reducing resin preferably contains a compound having a carboxyl group, such as a carboxylic acid. By adding such a compound to the resin, the oxide film of the low melting point metal is removed (or the formation of an oxide film on the surface of the low melting point metal is prevented) and acts as a reducing agent to facilitate melting. Can be expressed. In addition, various carboxylic acids, such as aliphatic carboxylic acid, aromatic carboxylic acid, alicyclic carboxylic acid, can be used for such a compound. Examples of such compounds are adipic acid, abietic acid, ascorbic acid, acrylic acid, citric acid, polyacrylic acid, malic acid, pimelic acid, palmitic acid, myristic acid, lauric acid, sebacic acid, suberic acid, maleic acid Succinic acid, azelaic acid, fumaric acid, glutaric acid, malonic acid and the like. The carboxylic acid is preferably in the form of a metal salt such as Na, Ag, Cu, or K.

もう1つの形態において、樹脂成分が金属を含む有機化合物を含有する場合には、常温では金属は遊離することなく安定に有機化合物と化合又は結合しているが、加熱されると金属が有機化合物から遊離又は遊離過程となり、遊離した金属が樹脂の硬化反応を促進するようになる結果、短時間硬化及び保存安定性を両立させる硬化剤としての作用を果たすことができる。尚、そのような金属は、Na、Ag、Cu及びKの群の少なくとも1種であることが好ましい。   In another embodiment, when the resin component contains an organic compound containing a metal, the metal is stably combined with or bonded to the organic compound at room temperature without being liberated, but when heated, the metal becomes an organic compound. As a result, the released metal accelerates the curing reaction of the resin. As a result, it can act as a curing agent that achieves both short-time curing and storage stability. In addition, it is preferable that such a metal is at least 1 sort (s) of the group of Na, Ag, Cu, and K.

もう1つの形態において、金属を含む有機化合物がカルボキシル基やアミノ基を含む場合には、カルボキシル基やアミノ基に由来する還元剤としての作用と、金属を含む有機化合物に由来する硬化剤としての作用とが、加熱硬化過程において相乗的に発揮され、良好な還元剤として作用させることができる。   In another embodiment, when the organic compound containing a metal contains a carboxyl group or an amino group, the reducing agent derived from the carboxyl group or amino group acts as a curing agent derived from the organic compound containing the metal. The action is synergistically exhibited in the heat curing process, and can act as a good reducing agent.

本願の発明に関して、樹脂成分中において、熱硬化性の樹脂成分と第2の樹脂成分との重量の割合は、90:10〜10:90の範囲、特に50:50〜80:20の範囲が好ましい。また、金属成分に対する樹脂成分の割合は、20重量%以下が好適である。20重量%を超えると、還元剤及び/又は硬化剤としての作用にそれ以上の変化は認められないためである。尚、上記の効果が認められるためには、樹脂成分の割合は10重量%以上であることが好ましい。尚、第2の樹脂成分が硬化剤として作用する場合には、第1の樹脂成分に用いる硬化剤の使用量を減らすこともできる。   Regarding the invention of the present application, in the resin component, the ratio of the weight of the thermosetting resin component and the second resin component is in the range of 90:10 to 10:90, particularly in the range of 50:50 to 80:20. preferable. The ratio of the resin component to the metal component is preferably 20% by weight or less. This is because when it exceeds 20% by weight, no further change is observed in the action as a reducing agent and / or a curing agent. In addition, in order to recognize said effect, it is preferable that the ratio of a resin component is 10 weight% or more. In addition, when the 2nd resin component acts as a hardening | curing agent, the usage-amount of the hardening | curing agent used for a 1st resin component can also be reduced.

上述した導電性接着剤は、熱硬化性樹脂の組成を調節したり、又はその他に配合する成分、例えば粘度調節剤、分散剤及びその他の材料等を適宜選択することによって、液状ないしペースト状の特性を有する塗布型の接着剤としても、或いはシート状若しくはテープ状の形態を有し、切り取って使用する型の接着剤としても供給することができる。   The conductive adhesive described above is a liquid or paste-like material by adjusting the composition of the thermosetting resin or by appropriately selecting other ingredients such as a viscosity modifier, a dispersant and other materials. It can be supplied as a coating type adhesive having properties, or as a type of adhesive that has a sheet-like or tape-like form and is cut and used.

この出願は、更に、上述したいずれかの発明に係る接続方法によって接続されてなる回路を有する機器の発明をも提供する。このような機器は、上述したそれぞれの接続方法の利点を具備することができる。   This application also provides an invention of a device having a circuit connected by the connection method according to any one of the above-described inventions. Such a device can have the advantages of the respective connection methods described above.

本願の発明によれば、2つの基板の端子どうしを導電性接着剤によって接続する際に、温度条件を操作することによって、端子どうしを連絡する導電性の連絡部とそれを包囲する樹脂による封止部を設けることができるので、各基板を加圧治具によって押圧する必要がなく、低荷重接合を実現することができる。従って、基板表面に電子部品を取り付けるための領域をより広く確保することによって、回路設計上の高密度化及び高集積度化を達成することができる。   According to the invention of the present application, when the terminals of the two substrates are connected to each other by the conductive adhesive, by controlling the temperature condition, the conductive connecting portion for connecting the terminals to each other and the sealing by the resin surrounding the conductive connecting portion. Since a stop part can be provided, it is not necessary to press each board | substrate with a pressurization jig | tool, and low load joining can be implement | achieved. Therefore, it is possible to achieve high density and high degree of integration in circuit design by securing a wider area for mounting electronic components on the substrate surface.

(発明を実施するための最良の形態)
(第1の実施形態)
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。
図1(a)は、下面側及び上面側にそれぞれ電子部品2、2’が取り付けられているプリント回路基板1の右側端部の上面側に設けられた端子3と、上面側に電子部品5が取り付けられているプリント回路基板4の下面側の左側端部に設けられた端子6とを、導電性接着剤20を用いて接続する例を示している。プリント回路基板1の右側端部において、端子3が設けられている領域の裏面側(従ってプリント回路基板1の下面側)にも電子部品2”が取り付けられている。
(Best Mode for Carrying Out the Invention)
(First embodiment)
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1A shows a terminal 3 provided on the upper surface side of the right end portion of the printed circuit board 1 on which electronic components 2 and 2 ′ are respectively attached to the lower surface side and the upper surface side, and an electronic component 5 on the upper surface side. The example which connects the terminal 6 provided in the left side edge part of the lower surface side of the printed circuit board 4 to which is attached using the conductive adhesive 20 is shown. At the right end of the printed circuit board 1, an electronic component 2 ″ is also attached to the back side of the area where the terminals 3 are provided (and hence the bottom side of the printed circuit board 1).

図1(b)は、図1(a)において左右方向に延びる基板1及び4の長手方向の縦断面について、端子3及び端子6が導電性接着剤20を介して接触している、図1(a)の丸で囲んだ部分を拡大した断面図を示している。図1(b)は加熱前の状態を示しているが、そこに示すように、加熱前の導電性接着剤20は、未硬化の状態の熱硬化性樹脂21の中に金属成分22の粒子を分散させた状態となっている。   FIG. 1B shows the longitudinal sections of the substrates 1 and 4 extending in the left-right direction in FIG. 1A in which the terminals 3 and 6 are in contact via the conductive adhesive 20. Sectional drawing which expanded the part enclosed with the circle of (a) is shown. FIG. 1B shows a state before heating. As shown in FIG. 1B, the conductive adhesive 20 before heating is composed of particles of the metal component 22 in the thermosetting resin 21 in an uncured state. Is in a dispersed state.

導電性接着剤20を加熱する操作は、図1(a)に示すように、基板4と基板1とが接触するような程度で、基板4の上面側に加熱ツール9を当接させながら加熱することによって行うことができる。この操作に関して、加熱ツール9は基板4の上面側に対して実質的な押圧力を加える機能を果たす必要はない。重要なことは、加熱ツール9が基板4の上面側を押さえることによって導電性接着剤20を介して基板4と基板1とが接触し得る程度の間隔を保つことであり、加熱ツール9は基板4と基板1との間隔を調節して基板4の上面側を押さえればよい。これに対応して、基板1は、加熱ツール9が基板4の上面側を押さえる際に、下方へ位置ずれしないように、例えば緩衝機構等によって支持すればよい。従って、基板1は、加圧治具によって押圧されないので、プリント回路基板1の下面側にも電子部品2”が取り付けることができ、プリント回路基板1の表面領域を電子部品の搭載のために有用に活用することができる。尚、加熱する手段は、加熱ツールに限られない。例えば、基板1及び4を加熱し得るチャンバー内に入れて、雰囲気を加熱することによっても加熱処理することができるし、或いは、チャンバーによる雰囲気加熱と加熱ツールによる加熱を組合せて行うこともできる。   The operation of heating the conductive adhesive 20 is performed so that the substrate 4 and the substrate 1 are in contact with each other as shown in FIG. Can be done. With respect to this operation, the heating tool 9 does not need to fulfill the function of applying a substantial pressing force to the upper surface side of the substrate 4. What is important is that the heating tool 9 presses the upper surface side of the substrate 4 so as to maintain an interval that allows the substrate 4 and the substrate 1 to contact each other via the conductive adhesive 20. The upper surface side of the substrate 4 may be pressed by adjusting the distance between the substrate 4 and the substrate 1. Correspondingly, the substrate 1 may be supported by, for example, a buffer mechanism so that the heating tool 9 does not shift downward when the upper surface side of the substrate 4 is pressed. Accordingly, since the substrate 1 is not pressed by the pressing jig, the electronic component 2 ″ can be attached to the lower surface side of the printed circuit board 1, and the surface area of the printed circuit board 1 is useful for mounting the electronic component. Note that the heating means is not limited to a heating tool, for example, the substrate 1 and 4 can be heated in an atmosphere by heating them in a chamber that can be heated. Alternatively, the atmosphere heating by the chamber and the heating by the heating tool can be performed in combination.

加熱された導電性接着剤20の中では、金属成分22が溶融して液状となり、液状化した金属成分どうしが互いに合一化及び連絡し合って、図1(c)に模式的に示すように、端子3及び6の表面にぬれ拡がると共に、適用された導電性接着剤20の容積の中で流体が流通し得る流路の形状を形成及び保持して、導電性の連絡部24を形成することができ、図1(c)の例では導電性接着剤20の中央部にて金属成分22が合一化して、端子3と端子6との間に塊状の金属による連絡部24を形成することができる。一方、金属成分22の融点ではまだ流動性を保持している熱硬化性樹脂成分21は、導電性の連絡部24のまわりを包囲している。   In the heated conductive adhesive 20, the metal component 22 melts and becomes liquid, and the liquefied metal components are united and communicated with each other, as schematically shown in FIG. In addition, the conductive connection portion 24 is formed by forming and maintaining the shape of the flow path through which the fluid can flow in the volume of the applied conductive adhesive 20 while spreading on the surfaces of the terminals 3 and 6. In the example of FIG. 1 (c), the metal component 22 is united at the central portion of the conductive adhesive 20, and a connecting portion 24 made of a massive metal is formed between the terminal 3 and the terminal 6. can do. On the other hand, the thermosetting resin component 21 that is still fluid at the melting point of the metal component 22 surrounds the conductive connecting portion 24.

更に温度が上昇して、熱硬化性樹脂21の硬化温度に達すると、熱硬化性樹脂成分21は導電性の連絡部24を包囲した状態で硬化することができる。従って、図1(c)に模式的に示すような、導電性の連絡部24とそれを包囲及び封止する硬化した樹脂硬化した樹脂25とが端子3と端子6との間を連絡し、従って端子3と端子6とを導電的に接続することができると考えることができる。   When the temperature further rises and reaches the curing temperature of the thermosetting resin 21, the thermosetting resin component 21 can be cured while surrounding the conductive connecting portion 24. Therefore, as schematically shown in FIG. 1C, a conductive connecting portion 24 and a cured resin cured resin 25 surrounding and sealing the conductive connecting portion 24 communicate between the terminal 3 and the terminal 6, Therefore, it can be considered that the terminal 3 and the terminal 6 can be conductively connected.

図1(d)は、図1(c)におけるI−I矢視断面図を示している。図1(d)に示す例では、ACFを使用する場合と同様に、複数の端子が配列された領域の全体を覆うように導電性接着剤を供給している。導電性接着剤の全重量に対する金属成分の重量の割合を5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲として、端子間のピッチが200μmである場合に、金属成分の粒子が20〜40μmの範囲の寸法を有し、30μmの平均粒子寸法を有するようにすれば、このように複数の端子が配列された領域の全体を覆うように導電性接着剤を供給して、上述のように加熱処理した後では、導電性接着剤中に存在していた殆ど全ての金属成分が端子3と6との連絡部24に集合していることを確認した。即ち、上下方向に端子が存在しない領域には金属成分は殆ど残存せず、従って、導電性接着剤に配合した金属成分のほぼ全量を導電的接続の形成に用いることができたので、本発明によれば、比較的高価な金属材料を有効に利用することができる。   FIG.1 (d) has shown the II sectional view taken on the line in FIG.1 (c). In the example shown in FIG. 1D, the conductive adhesive is supplied so as to cover the entire region where a plurality of terminals are arranged, as in the case of using the ACF. When the ratio of the weight of the metal component to the total weight of the conductive adhesive is in the range of 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight, and the pitch between the terminals is 200 μm, the metal component particles are 20 to 20%. When having a size in the range of 40 μm and an average particle size of 30 μm, the conductive adhesive is supplied so as to cover the entire region in which the plurality of terminals are arranged as described above. After the heat treatment, it was confirmed that almost all the metal components present in the conductive adhesive were gathered at the connecting portion 24 between the terminals 3 and 6. That is, almost no metal component remains in the region where the terminal does not exist in the vertical direction, and therefore almost the entire amount of the metal component blended in the conductive adhesive can be used for forming the conductive connection. Accordingly, a relatively expensive metal material can be effectively used.

Figure 2007081198
Figure 2007081198

本発明の第1の形態に関連して、表1に示すように、実施例1〜22に対応する組成の金属成分を配合して、得られる配合物(従って、対応する組成の合金)の融点を示差熱分析装置を用いて測定した。   In relation to the first aspect of the present invention, as shown in Table 1, the metal components having the compositions corresponding to Examples 1 to 22 are blended, and the resulting blend (and hence the alloy having the corresponding composition) The melting point was measured using a differential thermal analyzer.

また、上記の各実施例に対応する組成の金属成分を用いて、導電性接着剤を作製した。いずれの実施例についても、樹脂として、熱硬化性エポキシ樹脂を使用した。本発明に用いるのに好ましいエポキシ樹脂として、例えば、エピコート828、エピコート807(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を、硬化剤として2PHZ(四国化成製)を挙げることができる。硬化温度は、150℃、10分である。また、金属成分には、工業的に一般的に入手できる粉末ないしフレーク形態の金属微粒子を用いることもできる。樹脂成分80重量%に金属成分20重量%を配合し、樹脂成分中での熱硬化性の樹脂成分と第2の樹脂成分との重量比は90:10として、導電性接着剤組成物を調製した。   Moreover, the conductive adhesive was produced using the metal component of the composition corresponding to said each Example. In all examples, a thermosetting epoxy resin was used as the resin. Examples of preferable epoxy resins for use in the present invention include Epicoat 828 and Epicoat 807 (manufactured by Japan Epoxy Resin (JER)), and 2PHZ (manufactured by Shikoku Chemicals) as a curing agent. The curing temperature is 150 ° C. for 10 minutes. The metal component may also be powder or flake metal fine particles that are generally available industrially. A conductive adhesive composition is prepared by blending 20% by weight of a metal component with 80% by weight of the resin component and setting the weight ratio of the thermosetting resin component and the second resin component in the resin component to 90:10. did.

各実施例の導電性接着剤を用いて、図1(b)に示すように2枚の基板の対応する端子どうしを対向させて貼り合わせた。その後、加熱して、金属成分の融点を超え、更に熱硬化性樹脂の硬化温度を越える温度(約220℃)まで温度を上昇させた。この温度を10分間保持して、硬化を完了した。   Using the conductive adhesive of each example, the corresponding terminals of the two substrates were bonded to each other as shown in FIG. 1B. Then, it heated and raised temperature to the temperature (about 220 degreeC) exceeding melting | fusing point of a metal component, and also exceeding the curing temperature of a thermosetting resin. This temperature was held for 10 minutes to complete the cure.

硬化後の導電性連絡部の状態は、一対の基板を接着した後、その接着剤の部分を破壊して再度剥がして分離し、端子の表面に残る導電性の連絡部24及び硬化した樹脂による封止部25の状態や、端子の周囲の状態を目視的に観察して評価した。導電性連絡部は、金属成分が十分に溶融して金属的な結合、例えばバルク金属による結合が形成されていることが確認できた。   The state of the conductive connecting portion after curing is based on the conductive connecting portion 24 and the cured resin remaining on the surface of the terminal after the pair of substrates are bonded and then the adhesive portion is broken and peeled off again. The state of the sealing part 25 and the state around the terminal were visually observed and evaluated. It was confirmed that the conductive connecting portion was sufficiently melted with the metal component to form a metallic bond, for example, a bond with a bulk metal.

端子周囲の状態については、図1(d)及び図1(e)に示す態様の両者について、対向する端子3及び端子6の間の連絡部24以外の領域に存在するいわゆるハンダボールの数を、ルーペを用いて目視的に調べて計測した。計測したハンダボールの数を、表1の配線間に発生したボール数の欄に示している。このハンダボールは、端子間の導電性連絡部と同様に、金属成分の周囲を硬化した樹脂成分によって包囲及び封止されており、基板の表面に固定されているので、接合信頼性の低下には結び付かないと理解することができる。   Regarding the state around the terminal, the number of so-called solder balls existing in the region other than the connecting portion 24 between the terminal 3 and the terminal 6 facing each other in both of the modes shown in FIGS. 1 (d) and 1 (e). Measured by visual inspection using a loupe. The measured number of solder balls is shown in the column of the number of balls generated between the wirings in Table 1. This solder ball is surrounded and sealed by a hardened resin component around the metal component, like the conductive connection between the terminals, and is fixed to the surface of the substrate, which reduces the bonding reliability. Can be understood as not connecting.

(第2の実施形態)
実施例1の組成を有する金属成分(Sn43−Bi57)を用い、配合する樹脂成分として以下に記載する表2に示す各有機化合物を配合したものを用いて、導電性接着剤を調製した。樹脂成分と金属成分との重量比を80:20とし、樹脂成分中での熱硬化性の樹脂成分と第2の樹脂成分との重量比は90:10とした。
(Second Embodiment)
Using the metal component (Sn43-Bi57) having the composition of Example 1 and blending each organic compound shown in Table 2 below as a resin component to be blended, a conductive adhesive was prepared. The weight ratio of the resin component to the metal component was 80:20, and the weight ratio of the thermosetting resin component to the second resin component in the resin component was 90:10.

Figure 2007081198
Figure 2007081198

第2の成分の還元性を有する樹脂として、アジピン酸、アビエチン酸、アスコルビン酸、アクリル酸、クエン酸、ポリアクリル酸等を用いると、Snを含む金属成分の溶融性が向上し、配線抵抗が低下することが確認できた。また、硬化後の接合部を観察すると、金属成分が十分に溶融し、金属的な結合、例えばバルク金属による結合が形成されていることが確認できた。   When adipic acid, abietic acid, ascorbic acid, acrylic acid, citric acid, polyacrylic acid, etc. are used as the resin having the reducing property of the second component, the meltability of the metal component containing Sn is improved and the wiring resistance is improved. It was confirmed that it decreased. Moreover, when the joint part after hardening was observed, it has confirmed that the metal component was fully fuse | melted and the metal coupling | bonding, for example, the coupling | bonding by a bulk metal, was formed.

(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態について、図2を参照しながら説明する。図2(a)の各部材の配置及び名称は、図1(a)と実質的に同じである。図2(b)は、図2(a)における端子3及び端子6と導電性接着剤20とが接触している丸で囲んだ部分の加熱前の状態の拡大断面図を示している。また、図2(c)は、図2(b)に対応する部分の加熱後の状態を示している。
(Third embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The arrangement and names of the members in FIG. 2A are substantially the same as those in FIG. FIG. 2B shows an enlarged cross-sectional view of the state surrounded by a circle where the terminals 3 and 6 and the conductive adhesive 20 are in contact with each other in FIG. Moreover, FIG.2 (c) has shown the state after the heating of the part corresponding to FIG.2 (b).

第3の実施形態では、以下に記載する表3に示すように、実施例28〜38に対応する組成の金属成分を配合して、本発明の第3の実施形態に使用した。各実施例の金属成分の融点は示差熱分析装置を用いて測定した。また、導電性接着剤として用いる樹脂成分は、第1の実施形態と同じ組成のものを使用した。   In 3rd Embodiment, as shown in Table 3 described below, the metal component of the composition corresponding to Examples 28-38 was mix | blended, and it used for the 3rd Embodiment of this invention. Melting | fusing point of the metal component of each Example was measured using the differential thermal analyzer. The resin component used as the conductive adhesive was the same as that in the first embodiment.

Figure 2007081198
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図2(b)から理解できるように、この実施形態では、導電性接着剤を供給する工程を、端子表面に金属成分を供給する工程と、その後に該端子表面に樹脂成分を供給する工程との2段階に分けて実施している。具体的には、端子表面に金属成分を供給する工程は、本発明で用いる金属成分によって基板1側の端子3の表面を被覆して金属成分層26を形成し、同様に基板4側の端子6の表面にも金属成分層26’を形成することによって実施した。被覆は、例えばメッキにより行うことができる。   As can be understood from FIG. 2B, in this embodiment, the step of supplying the conductive adhesive includes the step of supplying a metal component to the terminal surface, and the step of subsequently supplying the resin component to the terminal surface. This is divided into two stages. Specifically, in the step of supplying the metal component to the terminal surface, the metal component layer 26 is formed by covering the surface of the terminal 3 on the substrate 1 side with the metal component used in the present invention, and similarly the terminal on the substrate 4 side. This was carried out by forming a metal component layer 26 ′ on the surface of 6. The coating can be performed by plating, for example.

その後、金属成分層26が設けられている端子3の表面に流動性を有する状態の熱硬化性樹脂27を所要量で塗布する。貼り合わせる相手側の端子6の表面は、熱硬化性樹脂を塗布しても又は熱硬化性樹脂を塗布しなくてもよく、熱硬化性樹脂27の量の総和が端子3と端子6との間に適用するのに必要な量であればよい。   Thereafter, a thermosetting resin 27 having fluidity is applied to the surface of the terminal 3 provided with the metal component layer 26 in a required amount. The surface of the terminal 6 on the mating side may be applied with a thermosetting resin or without applying a thermosetting resin. The total amount of the thermosetting resin 27 is equal to the amount of the terminals 3 and 6. It is sufficient if it is an amount necessary to be applied in between.

端子3と端子6とを対向させて、基板4と基板1とを互いに貼り合わせ、第1の実施形態と同様にして加熱の操作を行った。従って、この実施形態でも、プリント回路基板1において端子3の裏面側にも電子部品2”が取り付けることができ、プリント回路基板1の表面領域を電子部品の搭載のために有用に活用することができる。   The terminal 3 and the terminal 6 were opposed to each other, the substrate 4 and the substrate 1 were bonded to each other, and the heating operation was performed in the same manner as in the first embodiment. Therefore, also in this embodiment, the electronic component 2 ″ can be attached to the back side of the terminal 3 in the printed circuit board 1, and the surface area of the printed circuit board 1 can be effectively utilized for mounting the electronic component. it can.

加熱処理によって金属成分26及び26’は溶融して液状となり、液状化した金属成分どうしが互いに合一化及び連絡し合って、図2(c)に模式的に示すように、端子3及び6の表面にぬれ拡がると共に、まだ流動性を保持している熱硬化性樹脂成分21の中で流体が流通し得る流路の形状を形成及び保持して、導電性の連絡部24を形成し、その周囲を熱硬化性樹脂成分27が包囲している。   As a result of the heat treatment, the metal components 26 and 26 'are melted into a liquid state, and the liquefied metal components are united and communicated with each other. As shown schematically in FIG. Forming and holding the shape of the flow path through which the fluid can flow in the thermosetting resin component 21 that is still wettable and spreads on the surface of the film to form a conductive connecting portion 24; The thermosetting resin component 27 surrounds the periphery.

更に温度が上昇して、熱硬化性樹脂の硬化温度に達すると、熱硬化性樹脂成分は導電性の連絡部24を包囲した状態で硬化することができる。従って、図2(c)に模式的に示すような、導電性の連絡部24とそれを包囲し及び封止する硬化した樹脂による封止部25とが端子3と端子6との間を連絡し、従って端子3と端子6との間に導電的接続を形成することができる。   When the temperature further rises and reaches the curing temperature of the thermosetting resin, the thermosetting resin component can be cured while surrounding the conductive connecting portion 24. Therefore, as shown schematically in FIG. 2 (c), the conductive connecting portion 24 and the sealing portion 25 made of a cured resin surrounding and sealing the conductive connecting portion 24 communicate between the terminals 3 and 6. Therefore, a conductive connection can be formed between the terminal 3 and the terminal 6.

このようにして形成した導電性連絡部24及び封止部25からなる導電性接着部の断面形状を、図2(c)におけるI−I矢視方向の断面として観察すると、図1(e)と実質的に同じ状態となっていた。従ってこの実施形態によれば、硬化後において端子3と端子6との間にのみ導電性の連絡部24と硬化した樹脂による封止部25とを形成することができる。従って、基板1と基板4との間で端子が存在しない領域に導電性接着剤又はそれに由来する硬化した金属成分若しくは樹脂成分が配されないようにすることができ、この態様によれば接着剤材料の無駄を回避することができる。   When the cross-sectional shape of the conductive adhesive portion formed of the conductive connecting portion 24 and the sealing portion 25 formed as described above is observed as a cross-section in the direction of arrows II in FIG. 2C, FIG. It was in substantially the same state. Therefore, according to this embodiment, it is possible to form the conductive connecting portion 24 and the sealing portion 25 of the cured resin only between the terminals 3 and 6 after curing. Therefore, it is possible to prevent the conductive adhesive or the hardened metal component or resin component derived therefrom from being disposed in a region where no terminal exists between the substrate 1 and the substrate 4, and according to this aspect, the adhesive material Can be avoided.

硬化後の導電性連絡部の評価も第1の実施形態と同様に行った。導電性連絡部24は、金属成分が十分に溶融して金属的な結合、例えばバルク金属による結合が形成されていること、及び導電性の連絡部24を包囲する硬化した樹脂による封止部25が形成されていたことが認められ、また各実施例においてハンダボールの生成は認められなかった。更に、この方法によれば、供給する導電性接着剤の量を微少量で制御することが可能である。従って、0.2mm程度のピッチの配線が設けられている基板どうしの接続にも有効に使用することができる。   The evaluation of the conductive connecting part after curing was performed in the same manner as in the first embodiment. The conductive connecting portion 24 is formed by sufficiently melting a metal component to form a metallic bond, for example, a bulk metal bond, and a sealing portion 25 made of a cured resin surrounding the conductive connecting portion 24. The formation of solder balls was not observed in each example. Furthermore, according to this method, the amount of the conductive adhesive to be supplied can be controlled with a very small amount. Therefore, it can be used effectively for connection between substrates provided with wiring having a pitch of about 0.2 mm.

(粒子寸法の確認試験)
本発明について、好ましい粒子寸法を確認する試験を行った。実施例1で用いた組成(43Sn−57Bi)を有する合金の粒子を用いて、表4に示すように、平均粒子寸法が5〜150μmの種々の粒子群サンプルを調製し、実施例23に示す組成の樹脂と配合して、導電性接着剤を作製した。この導電性接着剤を用いて、図1に示すように基板(端子間のピッチ200μm)の配線を接続した。硬化の条件は、第1の実施形態と同様とした。不良率(%)は、接続した基板における配線間に発生するショートの発生率を測定した。その結果、金属成分の粒子について、5〜30μmの範囲の平均粒子寸法を有することが好ましく、更に20〜40μmの範囲の粒子寸法を有し、30μmの平均粒子寸法を有することが好ましいことが確認できた。
(Particle size confirmation test)
The present invention was tested to confirm the preferred particle size. Using the alloy particles having the composition (43Sn-57Bi) used in Example 1, various particle group samples having an average particle size of 5 to 150 μm were prepared as shown in Table 4, and shown in Example 23. A conductive adhesive was prepared by blending with a resin having a composition. Using this conductive adhesive, wiring of a substrate (a pitch between terminals of 200 μm) was connected as shown in FIG. The curing conditions were the same as in the first embodiment. The defect rate (%) was measured by the occurrence rate of a short circuit occurring between wirings on a connected substrate. As a result, it is confirmed that the metal component particles preferably have an average particle size in the range of 5 to 30 μm, further have a particle size in the range of 20 to 40 μm, and preferably have an average particle size of 30 μm. did it.

Figure 2007081198
Figure 2007081198

(金属粒子割合の確認試験)
本発明について、導電性接着剤中の好ましい金属粒子割合を確認する試験を行った。実施例1で用いた組成(43Sn−57Bi)を有する合金の粒子及び実施例23に示す組成の樹脂を用いて、表5に示すように、種々の金属粒子割合の導電性接着剤サンプルを調製した。この導電性接着剤を用いて、図1に示すように基板(端子間のピッチ200μm)の配線を接続した。硬化の条件は、第1の実施形態と同様とした。接続した基板について、はんだボールの数及び接続強度を測定した。その結果、金属粒子割合が50重量%を超えると配線間のはんだボールの数が増加し、金属粒子割合が50重量%を下回ればはんだボールは認められない結果が得られた。また、金属粒子割合がより小さい程、より高い接続強度が得られることが認められた。接続強度は、導電性接着剤の中の熱可塑性樹脂によってもたらされるためであると考えられる。これらの結果を併せると、導電性接着剤に配合する金属粒子割合は、配線間を金属接合させ得る最少限度であればよいと考えられる。
(Confirmation test of metal particle ratio)
About this invention, the test which confirms the preferable metal particle ratio in a conductive adhesive was done. Using the alloy particles having the composition (43Sn-57Bi) used in Example 1 and the resin having the composition shown in Example 23, conductive adhesive samples having various metal particle ratios were prepared as shown in Table 5. did. Using this conductive adhesive, wiring of a substrate (a pitch between terminals of 200 μm) was connected as shown in FIG. The curing conditions were the same as in the first embodiment. For the connected substrates, the number of solder balls and the connection strength were measured. As a result, when the metal particle ratio exceeded 50% by weight, the number of solder balls between the wirings increased, and when the metal particle ratio fell below 50% by weight, no solder balls were observed. Moreover, it was recognized that higher connection strength was obtained as the metal particle ratio was smaller. The connection strength is considered to be due to the thermoplastic resin in the conductive adhesive. When these results are combined, it is considered that the metal particle ratio to be blended in the conductive adhesive may be the minimum limit that allows metal bonding between the wirings.

Figure 2007081198
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本発明の端子間の接続方法は、低融点の金属成分と熱硬化性樹脂とを組み合わせた導電性接着剤を用いて端子間を導電的に接続することによって、加圧治具を用いる必要性を排除して、低荷重接合を達成している。従って、基板への電子部品の両面実装の領域をより広く確保して、より高密度化及び高集積度化の回路設計に利用することができる。従って、この方法は、半導体等の電子部品を両面に実装したフレキ基板−フレキ基板間及びフレキ基板−リジッド基板間の接続に有用であり、回路の高密度化及び高集積度化が図られる製品、例えば、DVD、携帯電話、ポータブルAV機器、ノートPC、デジタルカメラ等に使用することができる。   The connection method between the terminals of the present invention requires the use of a pressure jig by conductively connecting the terminals using a conductive adhesive in which a low melting point metal component and a thermosetting resin are combined. To achieve low load bonding. Therefore, it is possible to secure a wider area for both-side mounting of electronic components on the substrate, and to use the circuit design for higher density and higher integration. Therefore, this method is useful for the connection between the flexible substrate and the flexible substrate on which both electronic parts such as semiconductors are mounted, and between the flexible substrate and the rigid substrate, and a product capable of increasing the density and the degree of integration of the circuit. For example, it can be used for DVDs, mobile phones, portable AV devices, notebook PCs, digital cameras, and the like.

本発明の第1の実施形態による端子間接続の状態を示す模式図であって、(a)図は2つの基板を貼り合わせる操作の概略図を、(b)図及び(c)図は(a)図における2つの端子と導電性接着剤とが接触している部分の拡大断面図を、(d)図及び(e)図は(c)図におけるI−I矢視断面図をそれぞれ示している。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows the state of the connection between the terminals by the 1st Embodiment of this invention, Comprising: (a) A figure is the schematic of operation which bonds two board | substrates, (b) A figure and (c) figure are ( a) An enlarged cross-sectional view of a portion where the two terminals and the conductive adhesive are in contact with each other in the drawing, and FIGS. (d) and (e) are cross-sectional views taken along arrows II in FIG. ing. 本発明の第3の実施形態による端子間接続の状態を示す模式図であって、(a)図は2つの基板を貼り合わせる操作の概略図を、(b)図は(a)図における2つの端子と導電性接着剤とが接触している部分の拡大断面図を、(c)図は加熱後の状態をそれぞれ示している。It is a schematic diagram which shows the state of the connection between terminals by the 3rd Embodiment of this invention, Comprising: (a) A figure is a schematic diagram of operation which bonds two board | substrates, (b) A figure is 2 in FIG. The expanded sectional view of the part which one terminal and conductive adhesive are contacting, (c) figure has each shown the state after a heating. 従来の端子間接続の状態を示す模式図であって、(a)図は2つの基板を貼り合わせる操作の概略図を、(b)図は(a)図における2つの端子と異方性導電膜とが接触している部分の拡大断面図を、(c)図は(b)図におけるIII−III矢視断面図をそれぞれ示している。It is a schematic diagram which shows the state of the connection between the conventional terminals, (a) A figure is a schematic diagram of operation which bonds two board | substrates, (b) A figure is two terminals in (a) figure, and anisotropic conduction. The enlarged sectional view of the part which is in contact with the membrane is shown, and FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1、4:基板、 2、2’、2”、5:電子部品、 3、6:端子、 7:基板ステージ、 8:加熱加圧ツール、 9:加熱ツール、 10:異方性導電膜、 11:熱硬化性樹脂材料、 12:導電性粒子、 20:導電性接着剤、 21:未硬化の状態の熱硬化性樹脂、 22:金属成分の粒子、 24:導電性の連絡部、 25:硬化した樹脂、 26、26’:金属成分層、 27:熱硬化性樹脂成分。 1, 4: substrate, 2, 2 ′, 2 ″, 5: electronic component, 3, 6: terminal, 7: substrate stage, 8: heating and pressing tool, 9: heating tool, 10: anisotropic conductive film, 11: Thermosetting resin material, 12: Conductive particles, 20: Conductive adhesive, 21: Uncured thermosetting resin, 22: Metal component particles, 24: Conductive connecting part, 25: Cured resin, 26, 26 ': metal component layer, 27: thermosetting resin component.

Claims (11)

金属成分及び熱硬化性の樹脂成分を含んでなり、前記金属成分の融点が前記樹脂成分の硬化温度よりも低い導電性接着剤によって、対向する端子間に導電的接続を形成する方法であって、
前記端子間に導電性接着剤を供給する工程、
導電性接着剤に熱を加え、溶融した金属成分によって端子間に導電性の連絡部を形成する工程、及び
更に熱を加えて樹脂成分を硬化させて前記連絡部を封止する工程
を含んでなることを特徴とする端子間の導電的接続方法。
A method of forming a conductive connection between opposing terminals by a conductive adhesive comprising a metal component and a thermosetting resin component, wherein the melting point of the metal component is lower than the curing temperature of the resin component. ,
Supplying a conductive adhesive between the terminals,
Applying heat to the conductive adhesive to form a conductive connecting portion between the terminals by the molten metal component, and further applying heat to cure the resin component to seal the connecting portion. A method for conductive connection between terminals.
樹脂成分中に粒子形態の金属成分を分散させてなる流動性の導電性接着剤を用いることを特徴とする請求項1記載の導電的接続方法。   2. The conductive connection method according to claim 1, wherein a fluid conductive adhesive in which a metal component in a particle form is dispersed in a resin component is used. 導電性接着剤を供給する工程が、端子表面に金属成分を供給する工程と、その後に該端子表面に樹脂成分を供給する工程とを含んでなることを特徴とする請求項1記載の導電的接続方法。   2. The conductive material according to claim 1, wherein the step of supplying the conductive adhesive includes a step of supplying a metal component to the terminal surface and a step of subsequently supplying a resin component to the terminal surface. Connection method. 金属成分が、Snと、Ag、Bi及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属とを含んでなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の導電的接続方法。   4. The conductive connection method according to claim 1, wherein the metal component comprises Sn and at least one metal selected from the group consisting of Ag, Bi, and In. 5. 金属成分が更にCu及び/又はNiを含むことを特徴とする請求項4記載の導電的接続方法。   5. The conductive connection method according to claim 4, wherein the metal component further contains Cu and / or Ni. 導電性接着剤中の金属成分の含有量が5〜50重量%の範囲であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の導電的接続方法。   6. The conductive connection method according to claim 1, wherein the content of the metal component in the conductive adhesive is in the range of 5 to 50% by weight. 樹脂成分が、第2の成分として還元性を有する樹脂を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の導電的接続方法。   The conductive connection method according to claim 1, wherein the resin component includes a resin having reducibility as the second component. 樹脂成分が、第2の成分としてカルボキシル基を有する化合物を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の導電的接続方法。   The conductive connection method according to claim 1, wherein the resin component includes a compound having a carboxyl group as the second component. 樹脂成分が、第2の成分として金属を含む有機化合物を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の導電的接続方法。   The conductive connection method according to claim 1, wherein the resin component includes an organic compound containing a metal as the second component. 前記金属が、Na、Ag、Cu及びKの群から選ばれることを特徴とする請求項9記載の導電的接続方法。   The conductive connection method according to claim 9, wherein the metal is selected from the group of Na, Ag, Cu, and K. 請求項1〜10のいずれかに記載の導電的接続方法によって接続されてなる回路を有する機器。   The apparatus which has the circuit formed by the conductive connection method in any one of Claims 1-10.
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