JP2007079418A - Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method - Google Patents
Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007079418A JP2007079418A JP2005270020A JP2005270020A JP2007079418A JP 2007079418 A JP2007079418 A JP 2007079418A JP 2005270020 A JP2005270020 A JP 2005270020A JP 2005270020 A JP2005270020 A JP 2005270020A JP 2007079418 A JP2007079418 A JP 2007079418A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silver
- silver salt
- imaging material
- dry imaging
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
本発明は、新規の銀塩光熱写真ドライイメージング材料及び画像記録方法に関し、詳しくは、写真性能及び搬送性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料とそれを用いた画像記録方法に関する。 The present invention relates to a novel silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method, and more particularly to a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in photographic performance and transportability and an image recording method using the same.
従来から印刷製版や医療の分野では、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題となっており、近年では、環境保全、省スペース等の観点からも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより、効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成することができる写真技術用途の光熱写真ドライイメージング材料に関する技術が要望されていた。 Conventionally, in the field of printing plate making and medical treatment, waste liquids resulting from wet processing of image forming materials have been a problem in terms of workability, and in recent years, the amount of processing waste liquids has been reduced from the viewpoint of environmental conservation and space saving. It is strongly desired. Therefore, there has been a demand for technology relating to photothermographic dry imaging materials for photographic technology that can be efficiently exposed by a laser image setter or a laser imager and can form a clear black image with high resolution. .
上記課題に対する技術として、熱現像処理法を用いて写真画像を形成する銀塩光熱写真ドライイメージング材料が、例えば、米国特許第3,152,904号、同第3,457,075号及びD.モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による「熱によって処理される銀システム(Thermally Processed Silver Systems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette 第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワース(Walworth)、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、1969年)により開示されている。 As a technique for solving the above problems, silver salt photothermographic dry imaging materials for forming a photographic image using a heat developing method are disclosed in, for example, U.S. Pat. Nos. 3,152,904, 3,457,075 and D.I. Morgan and B.M. "Thermally Processed Silver Systems" by Shely (Imaging Processes and Materials) Nebelte 8th Edition, Sturges. (Walworth), A. Shepp, 2nd page, 1969).
このような銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、一般的には、プラスチック等の支持体に感光層及び必要に応じて中間層、保護層、バッキング層、アンチハレーション層、帯電防止層等の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の構成層が種々、組合せられて塗設されたものである。銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、塗布、乾燥、加工などの製造工程等における巻き取り、巻き返し、搬送の際に、種々の装置と銀塩光熱写真ドライイメージング材料との接触、または感光層塗設面側の表面とバッキング面間において、銀塩光熱写真ドライイメージング材料同士の接触によって好ましからざる影響を受けることが多い。例えば、銀塩光熱写真ドライイメージング材料表面の引っ掻き傷や擦り傷の発生や、現像装置内での銀塩光熱写真ドライイメージング材料の搬送性の劣化等が発生する。 Such a silver salt photothermographic dry imaging material generally has a photosensitive layer on a support such as plastic, and a silver salt such as an intermediate layer, a protective layer, a backing layer, an antihalation layer, and an antistatic layer, if necessary. Various constituent layers of the photothermographic dry imaging material are applied in combination. Silver salt photothermographic dry imaging materials can be used to contact various devices with silver salt photothermographic dry imaging materials during coating, drying, processing, etc. Between the surface side and the backing surface, it is often undesirably affected by the contact between the silver salt photothermographic dry imaging materials. For example, scratches and scratches on the surface of the silver salt photothermographic dry imaging material, and deterioration of the transportability of the silver salt photothermographic dry imaging material in the developing device may occur.
このような目的に対し、例えば、炭素数8以上のアルキルシラン化合物を用いて改良を行う方法(例えば、特許文献1参照。)、あるいは長鎖アルキル基を持つイオウ系、エステル系の滑り剤を用いる方法(例えば、特許文献2参照。)が開示されているが、いずれの方法も写真性能への影響が発現し、色調が劣化するという問題点があり、また高温雰囲気である熱現像機内で熱現像機を汚染したり、高温下で十分な滑り性を付与することができないという課題を抱えている。このような観点より、その改良方法の1つとして、無機固体潤滑剤を用いる方法が開示されている(例えば、特許文献3参照。)。 For this purpose, for example, a method of improving using an alkylsilane compound having 8 or more carbon atoms (for example, see Patent Document 1), or a sulfur-based or ester-based slipping agent having a long-chain alkyl group. Although a method to be used (for example, see Patent Document 2) is disclosed, each method has a problem in that the effect on the photographic performance is manifested and the color tone is deteriorated, and in a heat developing machine having a high temperature atmosphere. There is a problem that the heat developing machine is contaminated and sufficient slipperiness cannot be imparted at high temperatures. From such a viewpoint, a method using an inorganic solid lubricant is disclosed as one of the improvement methods (for example, see Patent Document 3).
現像装置内での搬送速度や自動現像機における処理速度は、最近になって一段と増加しており、更なる滑り性の改良が求められているのが現状である。
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、写真性能に影響を与えずに、十分な滑り性を備えた銀塩光熱写真ドライイメージング材料とそれを用いた画像記録方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a silver salt photothermographic dry imaging material having sufficient slipperiness without affecting photographic performance, and image recording using the same. Is to provide a method.
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。 The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(1)支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子及び還元剤を含有する感光層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、支持体上の少なくとも1層が、平均粒径が0.5〜30μmの有機固体潤滑剤粒子を含有し、かつ該有機固体潤滑剤粒子が金属石鹸であることを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (1) In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains and a reducing agent on a support, at least one layer on the support has an average particle size of 0. A silver salt photothermographic dry imaging material comprising 5-30 μm organic solid lubricant particles, wherein the organic solid lubricant particles are a metal soap.
(2)前記有機固体潤滑剤粒子の融点が、110℃以上、200℃以下であることを特徴とする前記(1)項記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (2) The silver salt photothermographic dry imaging material as described in (1) above, wherein the organic solid lubricant particles have a melting point of 110 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.
(3)前記有機固体潤滑剤粒子が下記一般式(1)で表される有機固体潤滑剤粒子であることを特徴とする前記(1)または(2)項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (3) The silver salt photothermographic dry imaging as described in (1) or (2) above, wherein the organic solid lubricant particles are organic solid lubricant particles represented by the following general formula (1): material.
一般式(1)
(R1)−COO−M−OOC−(R2)
〔R1、R2は各々炭素数2〜60の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、Mは2価の金属を表す。R1、R2は同じでも異なっても良い。〕
(4)前記有機固体潤滑剤粒子が、溶媒への溶解度が0.5質量%以下であり、かつ平均粒径0.5〜30μmの粒子であることを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
General formula (1)
(R 1) -COO-M- OOC- (R 2)
[R 1 and R 2 each represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or aryl group having 2 to 60 carbon atoms, and M represents a divalent metal. R 1 and R 2 may be the same or different. ]
(4) The (1) to (3), wherein the organic solid lubricant particles are particles having a solubility in a solvent of 0.5% by mass or less and an average particle size of 0.5 to 30 μm. The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of the above.
(5)少なくとも有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子及び溶媒を含有する感光性乳剤、還元剤及びバインダーを含有する組成物を塗布してなる感光層を有し、かつ該感光層または非感光層に省銀化剤を含有することを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (5) having a photosensitive layer formed by coating a photosensitive emulsion containing at least an organic silver salt, photosensitive silver halide grains and a solvent, a composition containing a reducing agent and a binder, and the photosensitive layer or non-photosensitive layer The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of (1) to (4), wherein the layer contains a silver saving agent.
(6)紫外光または可視光に露光することで、銀を酸化し得る反応活性種を発生する化合物、または前記還元剤を不活性化して前記有機銀塩の銀イオンを銀に還元できないようにすることができる反応活性種を発生する化合物を、2種以上含有することを特徴とする前記(1)〜(5)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (6) A compound that generates reactive species capable of oxidizing silver by exposure to ultraviolet light or visible light, or the reducing agent is deactivated so that silver ions of the organic silver salt cannot be reduced to silver. The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of (1) to (5) above, wherein the silver salt photothermographic dry imaging material comprises two or more kinds of compounds capable of generating reactive active species.
(7)前記(1)〜(6)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料への画像記録方法において、走査レーザー光が2重ビームであるレーザー光走査露光機により露光を行うことを特徴とする画像記録方法。 (7) In the image recording method onto the silver salt photothermographic dry imaging material described in any one of (1) to (6) above, exposure is performed by a laser beam scanning exposure machine in which the scanning laser beam is a double beam. An image recording method characterized by comprising:
(8)前記(1)〜(6)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料への画像記録方法において、走査レーザー光が縦マルチであるレーザー光走査露光機による露光を行うことを特徴とする画像記録方法。 (8) In the image recording method onto the silver salt photothermographic dry imaging material described in any one of (1) to (6) above, exposure is performed by a laser beam scanning exposure machine in which the scanning laser beam is a vertical multi. An image recording method.
(9)熱現像した後の色相角hab(JIS Z 8729規格)が、180度<hab<270度であることを特徴とする前記(1)〜(6)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (9) The silver according to any one of (1) to (6), wherein a hue angle hab (JIS Z 8729 standard) after heat development is 180 degrees <hab <270 degrees. Salt photothermographic dry imaging material.
(10)前記感光層が、30質量%以上の水を含有する感光層形成用塗布液を用いて形成されたことを特徴とする前記(1)〜(6)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (10) The photosensitive layer according to any one of (1) to (6), wherein the photosensitive layer is formed using a photosensitive layer forming coating solution containing 30% by mass or more of water. Silver salt photothermographic dry imaging material.
(11)熱現像時の搬送速度が30mm/sec以上で処理されることを特徴とする前記(1)〜(6)、(9)、(10)のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 (11) The silver salt photothermal heat described in any one of (1) to (6), (9), and (10), wherein the processing is carried out at a conveying speed of 30 mm / sec or more during heat development. Photo dry imaging material.
本発明によれば、写真性能に影響を与えずに、十分な滑り性を備えた銀塩光熱写真ドライイメージング材料とそれを用いた画像記録方法を提供することができる。
である。
According to the present invention, it is possible to provide a silver salt photothermographic dry imaging material having sufficient slip properties without affecting photographic performance and an image recording method using the same.
It is.
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。 Hereinafter, although the best mode for carrying out the present invention will be described, the present invention is not limited to these.
以下、本発明の詳細について説明する。 Details of the present invention will be described below.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料(以下、感光材料あるいはイメージング材料ともいう)においては、支持体上の少なくとも1層が、平均粒径が0.5〜30μmの有機固体潤滑剤粒子を含有することを特徴の1つとし、有機固体潤滑剤粒子の融点が、110℃以上、200℃以下であることが好ましい。該平均粒径が0.5〜20μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがより好ましい。該融点が、110℃以上、180℃以下であることがより好ましい。また、溶媒への溶解度が0.5質量%以下(0.5〜0質量%)であることが好ましい。 In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention (hereinafter also referred to as photosensitive material or imaging material), at least one layer on the support contains organic solid lubricant particles having an average particle size of 0.5 to 30 μm. One of the characteristics is that the melting point of the organic solid lubricant particles is preferably 110 ° C. or more and 200 ° C. or less. The average particle size is preferably 0.5 to 20 μm, and more preferably 0.5 to 10 μm. The melting point is more preferably 110 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. Moreover, it is preferable that the solubility to a solvent is 0.5 mass% or less (0.5-0 mass%).
本発明に係る前記一般式(1)で表される有機固体潤滑剤粒子において、総炭素数は特に限定されないが、一般的には10〜24が好ましく、12〜20がさらに好ましい。R1とR2の定義におけるアルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基が有していてもよい置換基の例としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、アリール基およびアルキル基を挙げることができる。これらの基はさらに置換基を有してもよい。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アシル基およびアルキル基である。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましい。 In the organic solid lubricant particles represented by the general formula (1) according to the present invention, the total carbon number is not particularly limited, but is generally preferably 10 to 24, more preferably 12 to 20. Examples of the substituent which the alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or aryl group in the definition of R 1 and R 2 may have include, for example, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group, an aryloxy group Alkylthio group, arylthio group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, amino group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, acyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, aryl group and alkyl group Can be mentioned. These groups may further have a substituent. Preferred substituents are a halogen atom, hydroxy group, alkoxy group, alkylthio group, alkoxycarbonyl group, acylamino group, sulfonylamino group, acyl group and alkyl group. As a halogen atom, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable.
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基におけるアルキル成分は後述するR2のアルキル基と同じである。アシルアミノ基、スルホニルアミノ基のアミノ基は、N置換アミノ基であってもよく、置換基はアルキル基が好ましい。アシルアミノ基、アシル基のカルボニル基およびスルホニルアミノ基のスルホニル基に結合する基はアルキル基、アリール基であるが、上記アルキル基が好ましい。 The alkyl component in the alkoxy group, alkylthio group and alkoxycarbonyl group is the same as the alkyl group of R 2 described later. The amino group of the acylamino group and sulfonylamino group may be an N-substituted amino group, and the substituent is preferably an alkyl group. The groups bonded to the acylamino group, the carbonyl group of the acyl group, and the sulfonyl group of the sulfonylamino group are an alkyl group and an aryl group, and the above alkyl groups are preferred.
R1およびR2は、直鎖でも分岐鎖でも環状構造を含むものでもよく、これらが混合したものでもよい。好ましいR1およびR2の例としては、オクチル、t−オクチル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、2−ヘキシルデシル、オクタデシル、CnH2n-1(nは20〜60を表す)、エイコシル、ドコサニル、メリシニル、オクテニル、ミリストレイル、オレイル、エルシル、フェニル、ナフチル、ベンジル、ノニルフェニル、ジペンチルフェニル、シクロヘキシルの各基およびこれらの上記置換基を有する基等を挙げることができる。Mは2価の金属を表す。 R 1 and R 2 may be linear, branched, or cyclic structures, or may be a mixture thereof. Examples of preferred R 1 and R 2 include octyl, t-octyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, 2 - hexyldecyl, octadecyl, C n H 2n-1 (n represents 20 to 60), eicosyl, docosanyl, Menlicinyl, octenyl, myristolyl, oleyl, erucyl, phenyl, naphthyl, benzyl, nonylphenyl, dipentylphenyl, cyclohexyl groups and groups having these substituents can be exemplified. M represents a divalent metal.
本発明における有機固体潤滑剤粒子である一般式(1)の金属石鹸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ミリストレイン酸、パルミチン酸、イソパルミチン酸、パルミトレイン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、アラキン酸、リシノレイン酸、リノレイン酸、ベヘニン酸およびエルカ酸などの単体脂肪酸、牛脂脂肪酸、大豆油脂肪酸、やし油脂肪酸に代表される炭素数4以上の飽和脂肪酸または不飽和脂肪酸と、カルシウム、バリウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属、チタン、亜鉛、銅、マンガン、カドミウム、水銀、ジルコニウム、鉛、鉄などの2価金属により構成され、特に炭素数10〜24、好ましくは12〜22の飽和脂肪酸または不飽和脂肪酸のカルシウム塩、亜鉛塩、バリウム塩などが好ましい。これらは1種類または2種類以上を混合して使用してもよい。 Examples of the metal soap of the general formula (1) that is the organic solid lubricant particles in the present invention include caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, myristic acid, palmitic acid, isopalmitic acid, palmitoleic acid, stearic acid, Representative of simple fatty acids such as behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, montanic acid, isostearic acid, oleic acid, arachic acid, ricinoleic acid, linolenic acid, behenic acid and erucic acid, beef tallow fatty acid, soybean oil fatty acid, coconut oil fatty acid Of saturated fatty acids having 4 or more carbon atoms or unsaturated fatty acids and alkaline earth metals such as calcium, barium and magnesium, and divalent metals such as titanium, zinc, copper, manganese, cadmium, mercury, zirconium, lead and iron In particular, it is saturated with 10 to 24 carbon atoms, preferably 12 to 22 carbon atoms. Calcium salts of fatty acids or unsaturated fatty acids, zinc salts, and barium salts are preferred. You may use these 1 type or in mixture of 2 or more types.
以下に有機固体潤滑剤粒子である金属石鹸の一例を示すが、本発明では、これらに限定されるものではない。
1−1 パルミチン酸カルシウム
1−2 パルミチン酸バリウム
1−3 パルミチン酸亜鉛
1−4 ステアリン酸マグネシウム
1−5 ステアリン酸バリウム
1−6 ステアリン酸カルシウム
1−7 ステアリン酸亜鉛
1−8 12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム
1−9 12−ヒドロキシステアリン酸バリウム
1−10 12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム
1−11 12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛
1−12 ベヘン酸カルシウム
1−13 ベヘン酸亜鉛
1−14 ベヘン酸マグネシウム
1−15 ベヘン酸銅
1−16 ラウリン酸マグネシウム
1−17 ラウリン酸亜鉛
1−18 ラウリン酸バリウム
1−19 ラウリン酸カルシウム
1−20 モンタン酸カルシウム
1−21 モンタン酸バリウム
1−22 モンタン酸亜鉛
1−23 モンタン酸マグネシウム
1−24 オレイン酸ニッケル
1−25 ミリスチン酸亜鉛
1−26 ミリスチン酸カルシウム
1−27 ミリスチン酸マグネシウム
1−28 牛脂脂肪酸亜鉛
1−29 牛脂脂肪酸カルシウム
1−30 牛脂脂肪酸マグネシウム
本発明にて記載される金属石鹸の粒径は、金属石鹸粒子の平均的な代表長さを持って定義される。平均的な代表長さとしては、一般的にし知られている定義を用いる事ができ、例えば、2軸平均径、3軸平均径(算術平均径)、調和平均径、表面積平均径、立体積平均径、外接長方形相当径(ブライニゲル径)、正方形相当径(グッドマン径)、円形相当径(ヘイウッド径)、直方体相当径(幾何平均径)、円筒相当径(浅野径)、立方体相当径(アンドレアゼン径)、球体相当径(ワンデル径)、定方向径(グリーン径、フェレット径)、定方等分径、ナッセンシュタイン径およびストークス径などが挙げられる。また、本発明において、これらで定義される粒径を測定する方法として、一般的な粒度分布測定法を用いる。測定方法としては、例えば、ストークスの法則に基づく沈降法(気相沈降法、液相沈降法、光透過法)、顕微鏡法、光走査法およびレーザー回折散乱法などが挙げられる。その中でも、本発明にて記載される金属石鹸粒子の測定法においては、より微細な粒子に対して精度欲測定が可能である光走査法およびレーザー回折散乱法などが好適に使用される。
Although an example of the metal soap which is an organic solid lubricant particle is shown below, in this invention, it is not limited to these.
1-1 Calcium palmitate 1-2 Barium palmitate 1-3 Zinc palmitate 1-4 Magnesium stearate 1-5 Barium stearate 1-6 Calcium stearate 1-7 Zinc stearate 1-8 12-hydroxy magnesium stearate 1-9 barium 12-hydroxystearate 1-10 calcium 12-hydroxystearate 1-11 zinc 12-hydroxystearate 1-12 calcium behenate 1-13 zinc behenate 1-14 magnesium behenate 1-15 copper behenate 1-16 Magnesium laurate 1-17 Zinc laurate 1-18 Barium laurate 1-19 Calcium laurate 1-20 Calcium montanate 1-21 Barium montanate 1-22 Zinc montanate 1-23 Nesium 1-24 Nickel Oleate 1-25 Zinc Myristate 1-26 Calcium Myristate 1-27 Magnesium Myristate 1-28 Tallow Fatty Acid Zinc 1-29 Tallow Fatty Acid Calcium 1-30 Tallow Fatty Acid Magnesium The particle size of the metal soap is defined as having an average representative length of the metal soap particles. As the average representative length, commonly known definitions can be used. For example, biaxial average diameter, triaxial average diameter (arithmetic average diameter), harmonic average diameter, surface area average diameter, and standing volume Average diameter, circumscribed rectangle equivalent diameter (Breigel diameter), square equivalent diameter (Goodman diameter), circular equivalent diameter (Heywood diameter), rectangular parallelepiped equivalent diameter (geometric mean diameter), cylindrical equivalent diameter (Asano diameter), cube equivalent diameter (Andrea) Zen diameter), spherical equivalent diameter (Wandell diameter), constant direction diameter (green diameter, ferret diameter), constant equal diameter, Nassenstein diameter, Stokes diameter, and the like. In the present invention, a general particle size distribution measuring method is used as a method for measuring the particle size defined by these. Examples of the measuring method include a precipitation method (gas phase precipitation method, liquid phase precipitation method, light transmission method) based on Stokes' law, a microscope method, a light scanning method, a laser diffraction scattering method, and the like. Among them, in the method for measuring metal soap particles described in the present invention, an optical scanning method, a laser diffraction scattering method, and the like, which are capable of measuring accuracy for finer particles, are preferably used.
本発明に用いられる金属石鹸の添加層としては、特に限定がなく、どの層にあっても良いが、最表面層に含有されることが好ましい。 There is no limitation in particular as an addition layer of the metal soap used for this invention, Although it may exist in any layer, It is preferable to contain in an outermost surface layer.
次いで、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の各構成要素について説明する。 Next, each component of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention will be described.
〔感光性ハロゲン化銀粒子〕
はじめに、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いられる感光性ハロゲン化銀粒子(以下、単にハロゲン化銀粒子ともいう)について説明する。
[Photosensitive silver halide grains]
First, photosensitive silver halide grains (hereinafter also simply referred to as silver halide grains) used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention will be described.
なお、本発明における感光性ハロゲン化銀粒子とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収することができ、または人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収することができ、かつ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収したときに、ハロゲン化銀結晶内または結晶表面において、物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子をいう。 The photosensitive silver halide grains in the present invention can inherently absorb light as an intrinsic property of silver halide crystals, or artificially generate visible light or infrared light by a physicochemical method. Physicochemical changes can occur in the silver halide crystal or on the crystal surface when absorbing light in any region within the light wavelength range from the ultraviolet light region to the infrared light region. The silver halide crystal grains processed and manufactured as described above.
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子自体は、P.Glafkides著Chimie et Physique Photographique(Paul Montel社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Photographic Emulsion Chemistry(The Focal Press刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著Making and Coating Photographic Emulsion(The Focal Press刊、1964年)等に記載された方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、又可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、いわゆるコントロールドダブルジェット法が好ましい。 The silver halide grains themselves used in the present invention are P.I. Chifie et Physique Photographic (published by Paul Montel, 1967) by Glafkides. F. Duffin's Photographic Emission Chemistry (published by The Focal Press, 1966), V.C. L. It can be prepared as a silver halide grain emulsion using the method described in Making and Coating Photographic Emulsion (published by The Focal Press, 1964) by Zelikman et al. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method, etc. may be used, and the formation of reacting a soluble silver salt and a soluble halogen salt may be any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof. Of these methods, the so-called controlled double jet method, in which silver halide grains are prepared while controlling the formation conditions, is preferred.
ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよいが、臭化銀、沃臭化銀または沃化銀であることが特に好ましい。 The halogen composition is not particularly limited and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide. Silver chloride or silver iodide is particularly preferred.
沃臭化銀の場合は、沃素含有量は0.02〜16mol%/Agmolの範囲であることが好ましい。沃素はハロゲン化銀粒子全体に分布するように含有させても、あるいはハロゲン化銀粒子の特定個所、例えば、粒子の中心部の沃素の濃度を高くし、表面近傍における濃度を低く、または実質上ゼロとなるようなコア/シェル型構造としてもよい。 In the case of silver iodobromide, the iodine content is preferably in the range of 0.02 to 16 mol% / Agmol. Even if iodine is contained so as to be distributed throughout the silver halide grains, the iodine concentration in a specific portion of the silver halide grains, for example, the central portion of the grains is increased, and the concentration in the vicinity of the surface is decreased or substantially reduced. It may be a core / shell structure that is zero.
粒子形成は、通常、ハロゲン化銀種粒子(核粒子)生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、あるいは核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件としては、pAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールドダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールができる点で好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法の場合には、先ず、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させて核生成(核生成工程)を行った後、コントロールされたpAg、pH等のもとで、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を供給しつつ、粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。 Grain formation is usually divided into two stages: silver halide seed grain (nuclear grain) generation and grain growth, and these may be performed continuously at one time, or nucleus (seed grain) formation and grain growth are separated. It is also possible to do this. As the particle forming conditions, a controlled double jet method in which particles are formed by controlling pAg, pH and the like is preferable in that the particle shape and size can be controlled. For example, in the case of a method in which nucleation and grain growth are performed separately, first, a soluble silver salt and a soluble halogen salt are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution to perform nucleation (nucleation step). Silver halide grains are prepared by a grain growth process in which grains are grown while supplying a soluble silver salt and a soluble halogen salt under controlled pAg, pH, and the like.
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、画像形成後の白濁や色調(黄色味)を低く抑えるため、及び良好な画質を得るためにハロゲン化銀粒子の粒径が小さい方が好ましく、平均粒径が0.02μm未満の粒子を計測対象外としたときの値として、0.030μm以上、0.055μm以下が好ましい。 The silver halide grains used in the present invention preferably have a smaller grain size of the silver halide grains in order to keep white turbidity and color tone (yellowishness) after image formation low and to obtain good image quality. As a value when particles having a diameter of less than 0.02 μm are excluded from measurement, 0.030 μm or more and 0.055 μm or less are preferable.
なお、ここでいう粒径とは、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算したときの直径をいう。 Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a so-called normal crystal of a cube or octahedron. Further, when the silver halide grain is a tabular grain, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface.
本発明において、ハロゲン化銀粒子は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる粒径の変動係数が30%以下をいう。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。 In the present invention, the silver halide grains are preferably monodispersed. The term “monodispersed” as used herein means that the coefficient of variation of the particle diameter obtained by the following formula is 30% or less. Preferably it is 20% or less, More preferably, it is 15% or less.
粒径の変動係数=粒径の標準偏差/粒径の平均値×100(%)
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子などを挙げることができるが、これらのなかで、特に、立方体、八面体、14面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Coefficient of variation of particle size = standard deviation of particle size / average value of particle size × 100 (%)
Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tetradecahedral grains, tabular grains, spherical grains, rod-shaped grains, and potato grains. Among these, in particular, cubic, octahedral, Tetrahedral and tabular silver halide grains are preferred.
平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは1.5以上、100以下、より好ましくは2以上、50以下がよい。これらは米国特許第5,264,337号、同第5,314,798号、同第5,320,958号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。 When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 1.5 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, 5,320,958, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can be preferably used.
ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については、特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する分光増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には70%以上、特に80%以上であることが好ましい。逆に、ミラー指数〔111〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔111〕面の占める割合を高めることが好ましい。なお、ミラー指数〔100〕面の比率は、増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985年)により求めることができる。 The crystal habit on the outer surface of the silver halide grain is not particularly limited, but when a spectral sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity is used in the adsorption reaction of the sensitizing dye on the surface of the silver halide grain. It is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habits adapted to the selectivity. For example, when using a sensitizing dye that is selectively adsorbed on the crystal face of the Miller index [100], the proportion of the [100] face on the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this ratio is 50 % Or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. Conversely, when using a sensitizing dye that selectively adsorbs on the crystal face of the Miller index [111], it is preferable to increase the proportion of the [111] face on the outer surface of the silver halide grains. The ratio of the Miller index [100] plane is a T.K. based on the adsorption dependency of the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani, J .; Imaging Sci. 29, 165 (1985).
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、粒子形成時に平均分子量が5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特に、ハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。低分子量ゼラチンは、平均分子量5万以下のものであり、好ましくは2000〜40000、更には5000〜25000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。 The silver halide grains used in the present invention are preferably prepared using low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of grain formation, and particularly preferably used at the time of nucleation of silver halide grains. The low molecular weight gelatin has an average molecular weight of 50,000 or less, preferably 2000 to 40000, more preferably 5000 to 25000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography.
核形成時の分散媒の濃度は、5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより有効である。 The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, and more effective at a low concentration of 0.05 to 3.0% by mass.
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、粒子形成時に下記の一般式〔I〕で示されるポリエチレンオキシド化合物を用いることができる。 As the silver halide grains used in the present invention, a polyethylene oxide compound represented by the following general formula [I] can be used at the time of grain formation.
一般式〔I〕
YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(CH2CH2O)nY
式中、Yは水素原子、−SO3M、または−CO−B−COOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または炭素原子数5以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を、Bは有機2塩基性酸を形成する鎖状または環状の基を表す。m及びnは各々0〜50をpは1〜100を表す。
Formula [I]
YO (CH 2 CH 2 O) m (CH (CH 3 ) CH 2 O) p (CH 2 CH 2 O) n Y
In the formula, Y represents a hydrogen atom, —SO 3 M, or —CO—B—COOM, and M represents an ammonium group substituted with a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group, or an alkyl group having 5 or less carbon atoms. And B represents a chain or cyclic group forming an organic dibasic acid. m and n each represents 0 to 50, and p represents 1 to 100.
上記一般式〔I〕で表されるポリエチレンオキシド化合物は、感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、ハロゲン化銀乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば、特開昭44−9497号に記載されており、上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物も、核形成時の消泡剤としても機能する。 The polyethylene oxide compound represented by the general formula [I] includes a step of producing an aqueous gelatin solution, a step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution, and a silver halide emulsion. Has been preferably used as an antifoaming agent for significant foaming when the emulsion raw material is stirred or moved, such as a step of coating on a support. The polyethylene oxide compound described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 44-9497 and represented by the above general formula also functions as an antifoaming agent during nucleation.
上記一般式〔I〕で表されるポリエチレンオキシド化合物は、銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula [I] is preferably used at 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass with respect to silver.
上記一般式〔I〕で表されるポリエチレンオキシド化合物は、核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハライド水溶液若しくは両方の水溶液に0.01〜2.0質量%で添加して用いることである。又、核形成工程の少なくとも50%に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは70%以上に亘る時間で存在せしめる。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula [I] may be present at the time of nucleation and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation. Alternatively, it may be added to a silver salt aqueous solution or a halide aqueous solution used at the time of nucleation. Preferably, it is used by adding 0.01 to 2.0% by mass to the aqueous halide solution or both aqueous solutions. Further, it is preferable to exist for at least 50% of the nucleation step, and more preferably for 70% or more. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula may be added as a powder or dissolved in a solvent such as methanol.
なお、核形成時の温度は5〜60℃、好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン(例えば、核形成開始時の温度が25℃で、核形成中徐々に温度を挙げ、核形成終了時の温度が40℃の様な場合)やその逆のパターンであっても前記温度範囲内で制御するのが好ましい。 The temperature at the time of nucleation is 5 to 60 ° C., preferably 15 to 50 ° C. Even if the temperature is constant, the temperature rising pattern (for example, the temperature at the start of nucleation is 25 ° C. It is preferable to control the temperature within the above temperature range even when the temperature is gradually raised and the temperature at the end of nucleation is 40 ° C.) and vice versa.
核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は、3.5モル/L以下が好ましく、更には0.01〜2.5モル/Lの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液1L当たり1.5×10-3〜3.0×10-1モル/分が好ましく、更に好ましくは3.0×10-3〜8.0×10-2モル/分である。 The concentration of the silver salt aqueous solution and halide aqueous solution used for nucleation is preferably 3.5 mol / L or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / L. The addition rate of silver ions during nucleation is preferably 1.5 × 10 −3 to 3.0 × 10 −1 mol / min, more preferably 3.0 × 10 −3 to 8.0, per liter of reaction solution. × 10 -2 mol / min.
核形成時のpHは1.7〜10の範囲に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒径分布を広げるため、好ましくはpH2〜6である。又、核形成時のpBrは0.05〜3.0程度、好ましくは1.0〜2.5、更には1.5〜2.0がより好ましい。 The pH at the time of nucleation can be set in the range of 1.7 to 10, but the pH on the alkali side is preferably 2 to 6 in order to broaden the particle size distribution of nuclei to be formed. Moreover, pBr at the time of nucleation is about 0.05 to 3.0, preferably 1.0 to 2.5, and more preferably 1.5 to 2.0.
〔熱現像後内潜型ハロゲン化銀粒子〕
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は、熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子を用いることができる。すなわち、熱現像前の露光では、現像反応(銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応)の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることを特徴とする。
[Inner latent type silver halide grains after heat development]
As the photosensitive silver halide grains according to the present invention, silver halide grains whose surface sensitivity is lowered by converting from a surface latent image type to an internal latent image type by thermal development can be used. That is, in the exposure before thermal development, a latent image that can function as a catalyst for a development reaction (reduction reaction of silver ions by a silver ion reducing agent) is formed on the surface of the silver halide grains, and the exposure after the thermal development process has passed. Then, since many latent images are formed inside the surface of the silver halide grains, the silver halide grains are characterized in that the formation of latent images on the surface is suppressed.
一般に、感光性ハロゲン化銀粒子が露光されると、ハロゲン化銀粒子自身、または、感光性ハロゲン化銀粒子表面上に吸着している分光増感色素が光励起されて、自由に移動できる電子を生じるが、この電子はハロゲン化銀粒子表面に存在する電子トラップ(感光中心)または当該粒子の内部にある電子トラップに競争的にトラップ(捕獲)される。従って、電子トラップとして有効な化学増感中心(化学増感核)やドーパント等がハロゲン化銀粒子内部より表面に多くかつ適当数ある場合には表面に優先的に潜像が形成され、現像可能となる。逆に、電子トラップとして有効な化学増感中心(化学増感核)やドーパント等がハロゲン化銀粒子表面より内部に多くかつ適当数ある場合には内部に優先的に潜像が形成され、表面現像が困難となる。換言すると、前者の場合は、内部より表面の感度が高く、後者の場合は、内部より表面の感度が低いと言える(参考文献:(1) T.H.James編“The Theory of the Photographic Process”第4版、Macmillan Publishing Co.,Ltd.1977、(2) 日本写真学会編“改訂 写真工学の基礎(銀塩写真編)”、コロナ社、1998)。 In general, when photosensitive silver halide grains are exposed, the silver halide grains themselves or spectral sensitizing dyes adsorbed on the surface of the photosensitive silver halide grains are photoexcited to freely move electrons. Although generated, the electrons are competitively trapped (captured) by an electron trap (photosensitive center) existing on the surface of the silver halide grain or an electron trap inside the grain. Therefore, if there are more chemical sensitization centers (chemical sensitization nuclei) and dopants effective as electron traps on the surface than the inside of the silver halide grains, a latent image is preferentially formed on the surface and development is possible. It becomes. On the contrary, when there are more chemical sensitization centers (chemical sensitization nuclei) and dopants effective as electron traps in the inside than the silver halide grain surface, a latent image is preferentially formed inside, and the surface Development becomes difficult. In other words, in the former case, the surface sensitivity is higher than the inside, and in the latter case, it can be said that the surface sensitivity is lower than the inside (reference: (1) TH James edited by “The Theory of the Photographic Process”. “Fourth Edition, Macmillan Publishing Co., Ltd. 1977, (2) The Japan Photographic Society,“ Revised Photographic Engineering Basics (Silver Salt Photography) ”, Corona, 1998).
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子においては、少なくとも熱現像後の露光時において、電子トラップ性ドーパントとして機能するドーパントをハロゲン化銀粒子の内部に含有させることが、感度及び画像保存性上好ましい。 In the photosensitive silver halide grain according to the present invention, it is preferable in terms of sensitivity and image storage stability to contain a dopant functioning as an electron trapping dopant at least during exposure after heat development. .
なお、熱現像前の画像形成のための露光の際には、正孔(ホール)トラップとして機能し、熱現像過程において変質し、熱現像後においては電子トラップとして機能することができるドーパントが、特に好ましい。 In addition, a dopant that functions as a hole trap during the exposure for image formation before heat development, changes in the heat development process, and functions as an electron trap after heat development, Particularly preferred.
ここで用いられる電子トラップ性ドーパントとは、ハロゲン化銀粒子を構成する銀及びハロゲン以外の元素または化合物であって、当該ドーパント自身が自由電子をトラップ(捕獲)できる性質を有するまたは当該ドーパントがハロゲン化銀粒子内に含有されることで電子トラップ性の格子欠陥等の部位が生じるものをいう。例えば、銀以外の金属イオンまたはその塩若しくは錯体、硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲン(酸素族元素)または窒素原子を含む無機化合物または有機化合物若しくはそれらの金属錯体、希土類イオンまたはその錯体等が挙げられる。 The electron trapping dopant used here is an element or compound other than silver and halogen constituting silver halide grains, and the dopant itself has a property of trapping (capturing) free electrons, or the dopant is halogen. It is the one in which a site such as an electron trapping lattice defect is generated by being contained in a silver halide grain. For example, metal ions other than silver or salts or complexes thereof, chalcogens (oxygen group elements) such as sulfur, selenium, tellurium, or inorganic compounds or organic compounds containing nitrogen atoms, or metal complexes thereof, rare earth ions or complexes thereof, etc. Can be mentioned.
金属イオンまたはその塩若しくは錯体としては、鉛イオン、ビスマスイオン、金イオン等または臭化鉛、硝酸鉛、炭酸鉛、硫酸鉛、硝酸ビスマス、塩化ビスマス、三塩化ビスマス、炭酸ビスマス、ビスマス酸ナトリウム、塩化金酸、酢酸鉛、ステアリン酸鉛、酢酸ビスマス等を挙げることができる。 Examples of metal ions or salts or complexes thereof include lead ions, bismuth ions, gold ions, etc., or lead bromide, lead nitrate, lead carbonate, lead sulfate, bismuth nitrate, bismuth chloride, bismuth trichloride, bismuth carbonate, sodium bismutate, Examples include chloroauric acid, lead acetate, lead stearate, and bismuth acetate.
硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲンを含む化合物としては、写真業界において、一般にカルコゲン増感剤として知られているカルコゲン放出性の種々の化合物を使用することができる。また、カルコゲンまたは窒素を含有する有機物としては、ヘテロ環式化合物が好ましい。例えば、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、インドレニン、テトラザインデンであり、好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラザインデンである。 As the compound containing a chalcogen such as sulfur, selenium or tellurium, various chalcogen-releasing compounds generally known as chalcogen sensitizers in the photographic industry can be used. Moreover, as an organic substance containing chalcogen or nitrogen, a heterocyclic compound is preferable. For example, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, Tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, indolenine, tetrazaindene, preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, Naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, o Sasol, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, a tetrazaindene.
なお、上記のヘテロ環式化合物は置換基を有していても良く、置換基として好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基である。 The above heterocyclic compound may have a substituent, and the alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group are preferable as the substituent. , Aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, Sulfo group, carboxyl group, nitro group and heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonyl group Amino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group An acylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or a heterocyclic group.
なお、本発明に用いられるハロゲン化銀粒子には、上記のドーパントのように電子トラップ性ドーパントとして機能するように、或いはホールトラップ性ドーパントとして機能するように元素周期律表の6族から11族に属する遷移金属のイオンを当該金属の酸化状態を配位子(リガンド)等により化学的に調整して含有させても良い。上記の遷移金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Ptが好ましい。 The silver halide grains used in the present invention include groups 6 to 11 in the periodic table so that they function as electron trapping dopants as described above or as hole trapping dopants. Transition metal ions belonging to the above may be contained by chemically adjusting the oxidation state of the metal with a ligand or the like. As the transition metal, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, and Pt are preferable.
本発明において、上記の各種ドーパントについては、1種類でも同種或いは異種の化合物若しくは錯体を2種以上併用してもよい。ただし、少なくとも1種は、熱現後の露光の際に、電子トラップ性ドーパントとして機能することが必要である。これらのドーパントはどのような化学的形態でもハロゲン化銀粒子内に導入してもよい。 In the present invention, the above various dopants may be used alone or in combination of two or more of the same or different compounds or complexes. However, at least one kind needs to function as an electron trapping dopant at the time of exposure after thermal development. These dopants may be introduced into the silver halide grains in any chemical form.
なお、本発明においては、Ir、またはCuの錯体ないし塩のいずれか1種を単独で用いてドーピングする態様はあまり好ましくはない。 In the present invention, an embodiment in which any one of Ir or Cu complex or salt is used alone is not preferable.
ドーパントの好ましい含有率は、銀1モルに対し1×10-9〜10モルの範囲が好ましく、1×10-8〜1×10-1モルの範囲がより好ましい。さらに、1×10-6〜1×10-2モルが好ましい。 The preferable content of the dopant is preferably in the range of 1 × 10 −9 to 10 mol, more preferably in the range of 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol, with respect to 1 mol of silver. Furthermore, 1 * 10 < -6 > -1 * 10 <-2> mol is preferable.
但し、最適量はドーパントの種類、ハロゲン化銀粒子の粒径、形状等、その他環境条件等に依存するのでこれらの条件に応じてドーパント添加条件の最適化の検討をすることが好ましい。 However, since the optimum amount depends on the kind of dopant, the grain size and shape of the silver halide grains, and other environmental conditions, it is preferable to examine optimization of the dopant addition conditions according to these conditions.
本発明においては、遷移金属錯体または錯体イオンとしては、下記一般式で表されるものが好ましい。 In the present invention, the transition metal complex or complex ion is preferably represented by the following general formula.
一般式〔ML6〕m
式中、Mは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子を表し、mは0、−、2−、3−または4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲンイオン(例えば、弗素イオン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン)、シアナイド、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていてもよい。
General formula [ML 6 ] m
In the formula, M represents a transition metal selected from Group 6 to 11 elements of the periodic table, L represents a ligand, and m represents 0,-, 2-, 3-, or 4-. Specific examples of the ligand represented by L include halogen ions (for example, fluorine ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide and aquo. Each ligand includes nitrosyl, thionitrosyl, and the like, preferably aco, nitrosyl, thionitrosyl, and the like. When an acoligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.
これらの金属のイオンまたは錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に、核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、数回にわたって分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、例えば、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。 The compounds providing these metal ions or complex ions are preferably added during silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening In addition, it may be added at any stage before or after chemical sensitization, but it is particularly preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, and more preferably at the stage of nucleation and growth, Most preferably, it is added at the stage of nucleation. In addition, it may be divided and added several times, and can be uniformly contained in the silver halide grains. For example, JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, 3 As described in JP-A Nos. 167545, 4-76534, 6-110146, 5-273683, etc., the particles can be contained with a distribution.
これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば、金属化合物粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後、物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。 These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method in which an aqueous solution or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble silver salt solution or water-soluble halide solution during particle formation, or the silver salt solution and the halide solution are mixed simultaneously. When adding a third aqueous solution, a method of preparing silver halide grains by a method of simultaneous mixing of three liquids, a method of introducing an aqueous solution of a required amount of a metal compound into a reaction vessel during grain formation, or a silver halide preparation There is a method of adding and dissolving another silver halide grain which has been previously doped with metal ions or complex ions. In particular, a method of adding an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble halide solution. When added to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particle, during or after physical ripening, or at the time of chemical ripening.
なお、非金属性ドーパントも上記の金属性ドーパントと同様の方法によってハロゲン化銀内部に導入することができる。 In addition, a nonmetallic dopant can also be introduce | transduced inside a silver halide by the method similar to said metallic dopant.
本発明に係る感光材料において、上記のドーパントが電子トラップ性を有するか否かについては、次のように、写真業界において従来一般的に用いられている方法で評価することができる。即ち、上記のドーパントまたはその分解物がハロゲン化銀粒子内にドープされたハロゲン化銀粒子からなるハロゲン化銀乳剤を、マイクロ波光伝導測定法等による光伝導測定によりドーパントを含有していないハロゲン化銀粒子乳剤を基準として光伝導の減少度を測定することにより評価できる。または、当該ハロゲン化銀粒子の内部感度と表面感度の比較実験によってもできる。 In the photosensitive material according to the present invention, whether or not the above dopant has an electron trapping property can be evaluated by a method generally used in the photographic industry as follows. That is, a silver halide emulsion comprising silver halide grains doped with the above-mentioned dopant or a decomposition product thereof in silver halide grains is subjected to a photoconductivity measurement by a microwave photoconductivity measurement method or the like, and the halogenation does not contain a dopant. It can be evaluated by measuring the degree of decrease in photoconduction based on a silver grain emulsion. Alternatively, it can be performed by a comparative experiment of the internal sensitivity and surface sensitivity of the silver halide grains.
本発明のハロゲン化銀粒子は、いかなる方法で感光層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀粒子は還元可能な銀源(脂肪族カルボン酸銀塩)に近接するように配置するのが、高感度かつ高カバリングパワー(CP)のイメージング材料を得るためには、好ましい。 The silver halide grains of the present invention may be added to the photosensitive layer by any method. At this time, the silver halide grains are arranged so as to be close to a reducible silver source (aliphatic carboxylic acid silver salt). In order to obtain an imaging material with high sensitivity and high covering power (CP), it is preferable.
本発明に係るハロゲン化銀粒子は予め調製しておき、これを脂肪族カルボン酸銀塩粒子を調製するための溶液に添加することが、ハロゲン化銀粒子調製工程と脂肪族カルボン酸銀塩粒子調製工程を分離して扱え、製造コントロール上も最も好ましいが、英国特許第1,447,454号に記載されている様に、脂肪族カルボン酸銀塩粒子を調製する際に、ハライドイオン等のハロゲン成分を脂肪族カルボン酸銀塩形成成分と共存させ、これに銀イオンを注入することで、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の生成とほぼ同時に生成させたハロゲン化銀粒子を併用することもできる。又、脂肪族カルボン酸銀塩にハロゲン含有化合物を作用させ、脂肪族カルボン酸銀塩のコンバージョンによりハロゲン化銀粒子を調製し、当該粒子を併用することも可能である。即ち、予め調製された脂肪族カルボン酸銀塩の溶液もしくは分散液、または脂肪族カルボン酸銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、脂肪族カルボン酸銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。 The silver halide grains according to the present invention are prepared in advance and added to a solution for preparing the aliphatic carboxylate silver salt grains. Although the preparation process can be handled separately, and is most preferable in terms of production control, as described in British Patent 1,447,454, when preparing aliphatic carboxylic acid silver salt particles, such as halide ions By making a halogen component coexist with an aliphatic carboxylate silver salt-forming component and injecting silver ions into this, silver halide grains produced almost simultaneously with the production of aliphatic carboxylate silver salt particles can also be used in combination. . It is also possible to prepare a silver halide grain by allowing a halogen-containing compound to act on an aliphatic carboxylic acid silver salt and converting the aliphatic carboxylic acid silver salt, and use the grain together. That is, a silver halide-forming component is allowed to act on a solution or dispersion of an aliphatic carboxylic acid silver salt prepared in advance, or a sheet material containing the aliphatic carboxylic acid silver salt, so that a part of the aliphatic carboxylic acid silver salt is removed. It can also be converted to photosensitive silver halide.
ハロゲン化銀粒子形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例は、米国特許第4,009,039号、同第3,457,075号、同第4,003,749号、英国特許第1,498,956号及び特開昭53−27027号、同53−25420号等に開示されている。 Examples of the silver halide grain forming component include inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds. Specific examples thereof are US Pat. No. 4,009,039. No. 3,457,075, No. 4,003,749, British Patent No. 1,498,956 and JP-A-53-27027, No. 53-25420.
上述のように別途調製したハロゲン化銀粒子に脂肪族カルボン酸銀塩の一部をコンバージョンすることで製造したハロゲン化銀粒子を併用してもよい。 You may use together the silver halide grain manufactured by converting a part of aliphatic carboxylic acid silver salt into the silver halide grain separately prepared as mentioned above.
これらのハロゲン化銀粒子は、別途調製したハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀塩のコンバージョンによるハロゲン化銀粒子とも、脂肪族カルボン酸銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル、好ましくは0.03〜0.5モルで使用するのが好ましい。 These silver halide grains are separately prepared silver halide grains, 0.001 to 0.7 mol per 1 mol of aliphatic carboxylic acid silver salt, and silver halide grains obtained by conversion of aliphatic carboxylic acid silver salt. Preferably it is used at 0.03-0.5 mol.
別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子は、脱塩工程により不要な塩類等を、例えば、ヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、脱塩しないで用いることもできる。 Separately prepared photosensitive silver halide grains are desalted by a known desalting method such as noodle method, flocculation method, ultrafiltration method, electrodialysis method, etc. However, it can be used without desalting.
〔有機銀塩:非感光性脂肪族カルボン酸銀塩〕
本発明に係る有機銀塩としては非感光性脂肪族カルボン酸銀塩が好ましく、有機銀塩は還元可能な銀源であり、炭素数10〜30、好ましくは15〜25の長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。好適な銀塩の例としては、以下のものが挙げられる。
[Organic silver salt: non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt]
The organic silver salt according to the present invention is preferably a non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt. The organic silver salt is a reducible silver source, and is a long chain aliphatic carboxylic acid having 10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 25 carbon atoms. Silver salts of acids are preferred. Examples of suitable silver salts include the following.
例えば、没食子酸、蓚酸、ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の銀塩が挙げられ、好ましい銀塩としてはベヘン酸銀、アラキジン酸銀及びステアリン酸銀が挙げられる。 Examples thereof include silver salts such as gallic acid, succinic acid, behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid and lauric acid, and preferable silver salts include silver behenate, silver arachidate and silver stearate.
又、本発明においては、脂肪族カルボン酸銀塩が2種以上混合されていることは、現像性を上げ高濃度、高コントラストの銀画像を形成する上で好ましく、例えば、2種以上の脂肪族カルボン酸混合物に銀イオン溶液を混合して調製することが好ましい。 In the present invention, it is preferable that two or more kinds of aliphatic carboxylic acid silver salts are mixed in order to improve developability and form a silver image having a high density and a high contrast. It is preferable to prepare by mixing a silver ion solution with an aromatic carboxylic acid mixture.
一方、現像後の画像の保存性等の観点からは、脂肪族カルボン酸銀の原料である脂肪族カルボン酸の融点が50℃以上、好ましくは60℃以上である脂肪族カルボン酸の銀塩の含有比率が50%以上、好ましくは、70%以上、更に好ましくは、80%以上であることが好ましい。この観点からは、具体的には、ベヘン酸銀の含有率が高いことが好ましい。 On the other hand, from the viewpoint of the storage stability of the image after development, the melting point of the aliphatic carboxylic acid which is a raw material for the aliphatic carboxylate silver is 50 ° C or higher, preferably 60 ° C or higher. The content ratio is preferably 50% or more, preferably 70% or more, and more preferably 80% or more. From this viewpoint, specifically, it is preferable that the content of silver behenate is high.
脂肪族カルボン酸銀塩は、水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−127643号に記載されている様なコントロールドダブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカリ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を作製した後に、コントロールドダブルジェット法により、前記ソープと硝酸銀などを混合して脂肪族カルボン酸銀塩の結晶を作製する。その際に、脂肪族カルボン酸銀塩の種結晶粒子、ハロゲン化銀粒子などを混在させてもよい。 The aliphatic carboxylic acid silver salt is obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound that forms a complex with silver, and is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-127643. The controlled double jet method as described above is preferably used. For example, an alkali metal salt (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) is added to an organic acid to produce an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium behenate, sodium arachidate), and then a controlled double jet. According to the method, the soap and silver nitrate are mixed to produce an aliphatic carboxylic acid silver salt crystal. At that time, seed crystal grains of silver aliphatic carboxylate, silver halide grains, and the like may be mixed.
本発明で使用するアルカリ金属塩の種類としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがあるが、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムを併用することが好ましい。併用比率としては前記の水酸化塩の両者のモル比が10:90〜75:25の範囲であることが好ましい。脂肪族カルボン酸と反応して脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩となったときに上記の範囲で使用することで、反応液の粘度を良好な状態に制御できる。 Examples of the alkali metal salt used in the present invention include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide, but it is preferable to use sodium hydroxide and potassium hydroxide in combination. The combined ratio is preferably such that the molar ratio of both of the above-mentioned hydroxide salts is in the range of 10:90 to 75:25. When used in the above range when reacted with an aliphatic carboxylic acid to form an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid, the viscosity of the reaction solution can be controlled in a good state.
また、平均粒径が0.050μm以下のハロゲン化銀粒子の存在下で脂肪族カルボン酸銀を調製する場合には、特に、アルカリ金属塩のアルカリ金属はカリウムの比率が高い方が、ハロゲン化銀粒子の溶解及びオストワルド熟成が防止されるので好ましい。また、カリウム塩の比率が高いほど、脂肪酸銀塩粒子のサイズを小さくすることができる。好ましいカリウム塩の比率は、脂肪族カルボン酸銀を製造する工程において使用する全アルカリ金属塩に対して50〜100%である。アルカリ金属塩の濃度は、0.1〜0.3モル/1000mlが好ましい。 In addition, when preparing an aliphatic carboxylate silver salt in the presence of silver halide grains having an average particle diameter of 0.050 μm or less, the alkali metal of the alkali metal salt is preferably a halide having a higher potassium ratio. It is preferable because dissolution of silver particles and Ostwald ripening are prevented. Moreover, the size of fatty acid silver salt particle | grains can be made small, so that the ratio of potassium salt is high. A preferable ratio of the potassium salt is 50 to 100% based on the total alkali metal salt used in the step of producing the aliphatic carboxylate. The concentration of the alkali metal salt is preferably 0.1 to 0.3 mol / 1000 ml.
〔脂肪族カルボン酸銀塩の構造と形状〕
本発明に係る脂肪族カルボン酸銀塩は、欧州特許1168069A1号及び特開2002−23303号に開示されているようなコア/シェル構造を有する結晶粒子であってもよい。なお、コア/シェル構造にする場合には、コア部またはシェル部のいずれかの全部または一部を脂肪族カルボン酸銀以外の有機銀塩、例えば、フタル酸、ベンゾイミダゾールなどの有機化合物の銀塩を当該結晶粒子の構成成分として使用してもよい。
[Structure and shape of aliphatic carboxylic acid silver salt]
The aliphatic carboxylic acid silver salt according to the present invention may be a crystal particle having a core / shell structure as disclosed in European Patent 1168069A1 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-23303. In the case of a core / shell structure, all or part of either the core part or the shell part is an organic silver salt other than the aliphatic carboxylate silver, for example, silver of an organic compound such as phthalic acid or benzimidazole. A salt may be used as a constituent of the crystal particles.
本発明に係る脂肪族カルボン酸銀塩において、平均円相当径が0.05μm以上、0.8μm以下であることが好ましく、平均厚さが0.005μm以上、0.07μm以下であることが好ましく、特に好ましくは、平均円相当径が0.2μm以上、0.5μm以下であり平均厚さ0.01μm以上、0.05μm以下である。 In the aliphatic carboxylic acid silver salt according to the present invention, the average equivalent circle diameter is preferably 0.05 μm or more and 0.8 μm or less, and the average thickness is preferably 0.005 μm or more and 0.07 μm or less. Particularly preferably, the average equivalent circle diameter is 0.2 μm or more and 0.5 μm or less, and the average thickness is 0.01 μm or more and 0.05 μm or less.
平均円相当径が0.05μm以下では透明性には優れるが、画像保存性が悪く、また平均粒径が0.8μm以上では失透が激しい。平均厚さが0.005μm以下では、表面積が大きく現像時の銀イオン供給が急激に行われ、特に低濃度部では銀画像に使われずに、膜中に残存する銀イオンが多量に存在する結果、画像保存性が著しく劣化する。また、平均厚さが0.07μm以上では、表面積が小さくなり、画像安定性は向上するが、現像時の銀供給が遅く、特に高濃度部での現像銀形状の不均一を招き、結果最高濃度が低くなりやすい。 When the average equivalent circle diameter is 0.05 μm or less, the transparency is excellent, but the image storage stability is poor, and when the average particle diameter is 0.8 μm or more, devitrification is severe. When the average thickness is 0.005 μm or less, the surface area is large, and silver ions are rapidly supplied during development. In particular, the low density area is not used for silver images, and there is a large amount of silver ions remaining in the film. The image storage stability is significantly deteriorated. On the other hand, when the average thickness is 0.07 μm or more, the surface area is reduced and the image stability is improved. However, the silver supply during development is slow, and the developed silver shape is uneven in the high density portion, resulting in the highest result. Concentration tends to be low.
平均円相当径を求めるには、分散後の脂肪族カルボン酸銀塩を希釈してカーボン支持膜付きグリッド上に分散し、透過型電子顕微鏡(例えば、日本電子製、2000FX型)、直接倍率5000倍にて撮影を行い、スキャナにてネガをデジタル画像として取り込み、適当な画像処理ソフトを用いて粒径(円相当径)を300個以上測定し、平均粒径を算出することができる。 In order to obtain the average equivalent circle diameter, the dispersed aliphatic carboxylic acid silver salt is diluted and dispersed on a grid with a carbon support film, a transmission electron microscope (for example, JEOL Ltd., 2000FX type), direct magnification 5000 An image is taken at a magnification, a negative is captured as a digital image by a scanner, and 300 or more particle diameters (equivalent circle diameters) are measured using appropriate image processing software, and an average particle diameter can be calculated.
平均厚さを求めるには、下記に示すようなTEM(透過型電子顕微鏡)を用いた方法により算出することができる。 The average thickness can be calculated by a method using a TEM (transmission electron microscope) as shown below.
まず、支持体上に塗布された感光層を接着剤により適当なホルダーに貼り付け、支持体面と垂直な方向にダイヤモンドナイフを用いて厚さ0.1〜0.2μmの超薄切片を作製する。作製された超薄切片を、銅メッシュに支持させ、グロー放電により親水化されたカーボン膜上に移し、液体窒素により−130℃以下に冷却しながら透過型電子顕微鏡(以下TEMと称す)を用いて、倍率5,000倍乃至40,000倍にて明視野像を観察し、画像はフィルム、イメージングプレート、CCDカメラなどに素早く記録する。この際、観察される視野としては、切片に破れや弛みがない部分を適宜選択することが好ましい。 First, the photosensitive layer coated on the support is attached to an appropriate holder with an adhesive, and an ultrathin slice having a thickness of 0.1 to 0.2 μm is produced using a diamond knife in a direction perpendicular to the support surface. . The prepared ultra-thin slice is supported on a copper mesh, transferred onto a carbon film that has been hydrophilized by glow discharge, and cooled with liquid nitrogen to −130 ° C. or lower using a transmission electron microscope (hereinafter referred to as TEM). The bright field image is observed at a magnification of 5,000 to 40,000, and the image is quickly recorded on a film, an imaging plate, a CCD camera or the like. At this time, it is preferable to appropriately select a portion where the section is not torn or slack as the field of view to be observed.
カーボン膜としては、極薄いコロジオン、ホルムバールなど有機膜に支持されたものを使用することが好ましく、更に好ましくは、岩塩基板上に形成し基板を溶解除去して得るか、または、上記有機膜を有機溶媒、イオンエッチングにより除去して得られたカーボン単独の膜である。TEMの加速電圧としては80ないし400kVが好ましく、特に好ましくは80ないし200kVである。 As the carbon film, it is preferable to use a film supported by an organic film such as a very thin collodion or form bar. More preferably, the carbon film is formed on a rock salt substrate and dissolved and removed. It is a carbon-only film obtained by removal by organic solvent and ion etching. The acceleration voltage of TEM is preferably 80 to 400 kV, particularly preferably 80 to 200 kV.
その他、電子顕微鏡観察技法、及び試料作製技法の詳細については「日本電子顕微鏡学会関東支部編/医学・生物学電子顕微鏡観察法」(丸善)、「日本電子顕微鏡学会関東支部編/電子顕微鏡生物試料作製法」(丸善)をそれぞれ参考にすることができる。 In addition, for details of electron microscope observation techniques and sample preparation techniques, see “The Japan Electron Microscopy Society Kanto Branch / Medical and Biological Electron Microscopy” (Maruzen), “The Japan Electron Microscopy Society Kanto Branch / Electron Microscope Biological Samples” "Manufacturing method" (Maruzen) can be referred to respectively.
適当な媒体に記録されたTEM画像は、画像1枚を少なくとも1024画素×1024画素、好ましくは2048画素×2048画素以上に分解し、コンピュータによる画像処理を行うことが好ましい。画像処理を行うためには、フィルムに記録されたアナログ画像はスキャナなどでデジタル画像に変換し、シェーディング補正、コントラスト・エッジ強調などを必要に応じ施すことが好ましい。その後、ヒストグラムを作製し、2値化処理によって脂肪族カルボン酸銀に相当する箇所を抽出する。 A TEM image recorded on a suitable medium is preferably decomposed into at least 1024 pixels × 1024 pixels, preferably 2048 pixels × 2048 pixels or more, and image processing by a computer is performed. In order to perform image processing, it is preferable that an analog image recorded on a film is converted into a digital image by a scanner or the like, and shading correction, contrast / edge enhancement, and the like are performed as necessary. Thereafter, a histogram is prepared, and a portion corresponding to the aliphatic carboxylate silver is extracted by binarization processing.
上記抽出した脂肪族カルボン酸銀塩粒子の厚さを、300個以上適当なソフトでマニュアル測定し、平均値を求める。 The thickness of the extracted aliphatic carboxylic acid silver salt particles is manually measured with an appropriate software of 300 or more, and an average value is obtained.
前記の形状を有する脂肪族カルボン酸銀塩粒子を得る方法としては、特に限定されないが、例えば、有機酸アルカリ金属塩ソープ形成時の混合状態または前記ソープに硝酸銀を添加する際の混合状態などを良好に保つことや、ソープに対する有機酸の割合、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適に設定することなどが有効である。 The method for obtaining the aliphatic carboxylic acid silver salt particles having the above-mentioned shape is not particularly limited. For example, the mixed state at the time of forming the organic acid alkali metal salt soap or the mixed state at the time of adding silver nitrate to the soap. It is effective to keep it good, and to set the ratio of the organic acid to the soap and the ratio of the silver nitrate that reacts with the soap optimally.
本発明において、平板状の脂肪族カルボン酸銀塩粒子(平均円相当径が0.05μm以上、0.8μm以下であり、且つ平均厚さが0.005μm以上、0.07μm以下の脂肪族カルボン酸銀塩粒子をいう)は、必要に応じバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した後、メディア分散機または高圧ホモジナイザなどで分散粉砕することが好ましい。上記予備分散方法としては、例えば、アンカー型、プロペラ型等の一般的撹拌機や高速回転遠心放射型撹拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型撹拌機(ホモミキサ)を使用することができる。 In the present invention, tabular aliphatic carboxylic acid silver salt particles (aliphatic carboxylic acid having an average equivalent circle diameter of 0.05 μm to 0.8 μm and an average thickness of 0.005 μm to 0.07 μm) The acid silver salt particles) are preferably pre-dispersed with a binder, a surfactant or the like, if necessary, and then dispersed and ground with a media disperser or a high-pressure homogenizer. As the preliminary dispersion method, for example, a general stirrer such as an anchor type or a propeller type, a high speed rotary centrifugal radiation type stirrer (dissolver), or a high speed rotary shear type stirrer (homomixer) can be used.
また、上記メディア分散機としては、例えば、ボールミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミルや、媒体撹拌ミルであるビーズミル、アトライター、その他バスケットミルなどを用いることが可能であり、高圧ホモジナイザとしては壁、プラグなどに衝突するタイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させるタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々なタイプを用いることができる。 Further, as the media disperser, for example, a rolling mill such as a ball mill, a planetary ball mill, a vibrating ball mill, a bead mill that is a medium agitation mill, an attritor, and other basket mills can be used, and as a high-pressure homogenizer Various types can be used, such as a type that collides with a wall, a plug, etc., a type in which liquids are collided with each other at high speed, and a type through which a thin orifice is passed.
メディア分散時に使用されるセラミックスビーズに用いられるセラミックスとしては、分散時におけるビーズや分散機との摩擦による不純物生成が少ない等の理由から、イットリウム安定化ジルコニア、ジルコニア強化アルミナ(これらジルコニアを含有するセラミックスを以下においてジルコニアと略す)が特に好ましく用いられる。 Ceramics used for the ceramic beads used when dispersing media include yttrium-stabilized zirconia and zirconia-reinforced alumina (ceramics containing these zirconia) because of the low generation of impurities due to friction with the beads and the dispersing machine during dispersion. Is abbreviated as zirconia in the following).
本発明に係る平板状脂肪族カルボン酸銀塩粒子を分散する際に用いられる装置類において、脂肪族カルボン酸銀塩粒子が接触する部材の材質として、例えば、ジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素などのセラミックス類またはダイヤモンドを用いることが好ましく、中でもジルコニアを用いることが好ましい。上記分散を行う際、バインダー濃度は脂肪族カルボン酸銀質量の0.1〜10%添加することが好ましく、予備分散から本分散を通して液温が45℃を上回らないことが好ましい。また、本分散の好ましい運転条件としては、例えば、高圧ホモジナイザを分散手段として用いる場合には、29〜100MPa、運転回数は2回以上が運転条件として好ましい。又、メディア分散機を分散手段として用いる場合には、周速が6〜13m/秒が好ましい条件として挙げられる。 In the apparatus used for dispersing the tabular aliphatic carboxylate silver salt particles according to the present invention, examples of the material of the member in contact with the aliphatic carboxylate silver salt particles include zirconia, alumina, silicon nitride, and boron nitride. It is preferable to use ceramics such as the above or diamond, and it is preferable to use zirconia. When the above dispersion is performed, the binder concentration is preferably added in an amount of 0.1 to 10% of the mass of the aliphatic silver carboxylate, and it is preferable that the liquid temperature does not exceed 45 ° C. from the preliminary dispersion through the main dispersion. As preferable operating conditions for this dispersion, for example, when a high-pressure homogenizer is used as the dispersing means, 29 to 100 MPa, and the number of operations is preferably 2 or more. Moreover, when using a media disperser as a dispersion | distribution means, a peripheral speed of 6-13 m / sec is mentioned as preferable conditions.
本発明では、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩粒子が、結晶成長抑制剤または分散剤として機能する化合物の存在下で形成されたものであることが好ましい。また、結晶成長抑制剤または分散剤として機能する化合物が、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する有機化合物であることが好ましい。 In the present invention, the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt particles are preferably formed in the presence of a compound that functions as a crystal growth inhibitor or a dispersant. Moreover, it is preferable that the compound which functions as a crystal growth inhibitor or a dispersing agent is an organic compound having a hydroxyl group or a carboxyl group.
本発明において、脂肪族カルボン酸銀粒子に対する結晶成長抑制剤ないし分散剤として機能する化合物とは、脂肪族カルボン酸銀粒子の製造工程において、当該化合物を共存させた条件下で脂肪族カルボン酸銀を製造したときに、共存させない条件下で製造したときより小粒径化や単分散化する機能、効果を有する化合物をいう。具体例として、炭素数が10以下の一価アルコール類、好ましくは第2級アルコール、第3級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類、ポリエチレングリコールなどポリエーテル類、グリセリンが挙げられる。好ましい添加量としては、脂肪族カルボン酸銀に対して10〜200質量%である。 In the present invention, the compound that functions as a crystal growth inhibitor or dispersant for the aliphatic carboxylate silver particles refers to a silver aliphatic carboxylate under the conditions in which the compound coexists in the production process of the aliphatic carboxylate particles. A compound having a function and an effect of reducing the particle size or monodispersing than when it is produced under conditions that do not coexist. Specific examples include monohydric alcohols having 10 or less carbon atoms, preferably secondary alcohols, tertiary alcohols, glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, polyethers such as polyethylene glycol, and glycerin. A preferable addition amount is 10 to 200% by mass with respect to the aliphatic carboxylate silver.
一方で、イソヘプタン酸、イソデカン酸、イソトリデカン酸、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、イソアラキジン酸、イソベヘン酸、イソヘキサコ酸など、それぞれ異性体を含む分岐脂肪族カルボン酸も好ましい。この場合、好ましい側鎖として、炭素数4以下のアルキル基またはアルケニル基が挙げられる。また、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、モロクチン酸、エイコセン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸、エルカ酸、ドコサペンタエン酸、ドコサヘキサエン酸、セラコレン酸などの脂肪族不飽和カルボン酸が挙げられる。好ましい添加量は、脂肪族カルボン酸銀の0.5〜10mol%である。 On the other hand, branched aliphatic carboxylic acids containing isomers such as isoheptanoic acid, isodecanoic acid, isotridecanoic acid, isomyristic acid, isopalmitic acid, isostearic acid, isoarachidic acid, isobehenic acid and isohexaconic acid are also preferred. In this case, a preferable side chain includes an alkyl group or an alkenyl group having 4 or less carbon atoms. In addition, aliphatic unsaturated carboxylic acids such as palmitoleic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, moloctic acid, eicosenoic acid, arachidonic acid, eicosapentaenoic acid, erucic acid, docosapentaenoic acid, docosahexaenoic acid, and ceracolonic acid It is done. A preferable addition amount is 0.5 to 10 mol% of the silver aliphatic carboxylate.
グルコシド、ガラクトシド、フルクトシドなどの配糖体類、トレハロース、スクロースなどトレハロース型二糖類、グリコーゲン、デキストリン、デキストラン、アルギン酸など多糖類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類、ソルビタン、ソルビット、酢酸エチル、酢酸メチル、ジメチルホルムアミドなど水溶性有機溶媒、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、アクリル酸共重合体、マレイン酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ゼラチンなどの水溶性ポリマー類も好ましい化合物として挙げられる。好ましい添加量としては脂肪族カルボン酸銀に対して0.1〜20質量%である。 Glycosides such as glucoside, galactoside and fructoside, trehalose type disaccharides such as trehalose and sucrose, polysaccharides such as glycogen, dextrin, dextran and alginic acid, cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, sorbitan, sorbit, ethyl acetate and acetic acid Water-soluble organic solvents such as methyl and dimethylformamide, water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, maleic acid copolymer, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, polyvinylpyrrolidone and gelatin Are also preferred compounds. A preferable addition amount is 0.1 to 20% by mass with respect to the aliphatic carboxylate silver.
炭素数が10以下のアルコール、好ましくは、イソプロピルアルコールなどの第二級アルコール、t−ブチルアルコールなどの第三級アルコールは、粒子製造工程での脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩の溶解度を上げることにより減粘し、撹拌効率を上げることで単分散で、かつ小粒径化する。分岐脂肪族カルボン酸及び脂肪族不飽和カルボン酸は、脂肪族カルボン酸銀が結晶化する際にメイン成分である直鎖脂肪族カルボン酸銀よりも立体障害性が高く、結晶格子の乱れが大きくなるため大きな結晶は生成せず、結果的に小粒径化する。 Alcohols having 10 or less carbon atoms, preferably secondary alcohols such as isopropyl alcohol and tertiary alcohols such as t-butyl alcohol are used to increase the solubility of the alkali metal salt of aliphatic carboxylic acid in the particle production process. By reducing the viscosity and increasing the stirring efficiency, it is monodispersed and the particle size is reduced. Branched aliphatic carboxylic acids and aliphatic unsaturated carboxylic acids have higher steric hindrance than the main component linear aliphatic carboxylic acid silver when crystallization of the aliphatic carboxylic acid silver, and the disorder of the crystal lattice is large. Therefore, large crystals are not generated, and as a result, the particle size is reduced.
〔カブリ防止剤と画像安定化剤〕
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いられるカブリ防止及び画像安定化剤について具体的に説明する。
[Anti-foggant and image stabilizer]
The antifogging and image stabilizer used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention will be specifically described.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、紫外光または可視光に露光することで、銀を酸化し得る反応活性種を発生する化合物、または前記還元剤を不活性化して前記有機銀塩の銀イオンを銀に還元できないようにすることができる反応活性種を発生する化合物を、2種以上含有することが好ましい。 In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, the organic silver salt is obtained by inactivating the compound that generates a reactive species capable of oxidizing silver or the reducing agent by exposure to ultraviolet light or visible light. It is preferable to contain two or more compounds that generate reactive species capable of preventing the silver ions from being reduced to silver.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、銀イオンの還元剤としては、後述するように、主にビスフェノール類を用いることが好ましく、当該イメージング材料の現像前の保存条件下において、及び、熱現像後の保存条件下において、この還元剤を不活性化できる化合物が含有されていることが好ましい。好適には当該還元剤からフェノキシルラジカルを生じることを防止することができる化合物または生じた当該フェノキシルラジカルを捕獲(トラップ)し銀イオンの還元剤として機能しないように安定化することができる化合物が好ましい。このような作用・機能を有する好適な化合物としては、ビスフェノール類の水酸基と水素結合を形成することができる基を有する非還元性化合物、例えば、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、含窒素芳香族基などを有する化合物が挙げられる。特に好適なのは、スルホニル基、スルホキシド基、ホスホリル基を有する化合物である。具体例は、特開平6−208192号、特開2001−215648号、特開350235号、特開2002−6444号、特開2002−18264号等に開示されている。また、ビニル基を有する特定の化合物が、特表2000−515995号、特開2002−207273号、特開2003−140298号等に開示されている。 In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, as a silver ion reducing agent, it is preferable to mainly use bisphenols, as described later, under the storage conditions before development of the imaging material, and It is preferred that a compound capable of inactivating the reducing agent is contained under the storage conditions after heat development. Preferably, a compound that can prevent the phenoxyl radical from being generated from the reducing agent or a compound that can trap the generated phenoxyl radical and stabilize it so that it does not function as a silver ion reducing agent. Is preferred. Suitable compounds having such functions and functions include non-reducing compounds having a group capable of forming a hydrogen bond with the hydroxyl group of bisphenols, such as phosphoryl group, sulfoxide group, sulfonyl group, carbonyl group, amide And compounds having a group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, a nitrogen-containing aromatic group, and the like. Particularly preferred are compounds having a sulfonyl group, a sulfoxide group, or a phosphoryl group. Specific examples are disclosed in JP-A-6-208192, JP-A-2001-215648, JP-A-350235, JP-A-2002-6444, JP-A-2002-18264, and the like. Further, specific compounds having a vinyl group are disclosed in JP-T-2000-515995, JP-A-2002-207273, JP-A-2003-140298, and the like.
また、銀(金属銀)を酸化し得る化合物、例えば、酸化力を有するハロゲンラジカルを放出する、または、銀と相互作用し電荷移動錯体を形成して、銀を酸化することができる化合物も併用することができる。このような機能を有する化合物の具体例は、特開昭50−120328号、特開昭59−57234号、特開平4−232939号、特開平6−208193号、特開平10−197989号及び米国特許5,460,938号、特開平7−2781号等に開示されている。特に、本発明に係るイメージング材料において、好ましい化合物の具体例としては、以下に挙げる一般式(OFI)で表すことができるハロゲンラジカル放出性化合物がある。 Also used in combination with compounds that can oxidize silver (metal silver), for example, compounds that can oxidize silver by releasing an oxidizing halogen radical or interacting with silver to form a charge transfer complex can do. Specific examples of compounds having such functions include JP-A-50-120328, JP-A-59-57234, JP-A-4-232939, JP-A-6-208193, JP-A-10-197989, and the United States. Japanese Patent No. 5,460,938, Japanese Patent Laid-Open No. 7-2781, and the like. In particular, in the imaging material according to the present invention, specific examples of preferable compounds include halogen radical releasing compounds that can be represented by the following general formula (OFI).
一般式(OFI)
Q2−Y−C(X1)(X3)(X2)
一般式(OFI)中、Q2はアリール基またはヘテロ環基を表す。X1、X2及びX3は、各々、水素原子、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルフォニル基、アリール基を表すが、少なくとも一つはハロゲン原子である。Yは−C(=O)−、−SO−または−SO2−を表す。
General formula (OFI)
Q 2 -Y-C (X 1 ) (X 3) (X 2)
In general formula (OFI), Q 2 represents an aryl group or a heterocyclic group. X 1 , X 2 and X 3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group or an aryl group, at least one of which is a halogen atom. Y represents —C (═O) —, —SO— or —SO 2 —.
Q2で表されるアリール基は、単環または縮環していてもよく、好ましくは炭素数6〜30の単環または二環のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル等)であり、より好ましくはフェニル基、ナフチル基であり、更に好ましくはフェニル基である。 The aryl group represented by Q 2 may be monocyclic or condensed, and is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms (for example, phenyl, naphthyl, etc.), more preferably Is a phenyl group or a naphthyl group, more preferably a phenyl group.
Q2で表されるヘテロ環基は、N、OまたはSの少なくとも一つの原子を含む3乃至10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。 The heterocyclic group represented by Q 2 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group containing at least one atom of N, O or S, which may be monocyclic, Furthermore, you may form a condensed ring with another ring.
ヘテロ環基として好ましくは、縮合環を有していてもよい5乃至6員の不飽和ヘテロ環基であり、より好ましくは縮合環を有していてもよい5乃至6員の芳香族ヘテロ環基である。更に好ましくは窒素原子を含む縮合環を有していてもよい5乃至6員の芳香族ヘテロ環基であり、特に好ましくは窒素原子を1乃至4原子含む縮合環を有していてもよい5乃至6員の芳香族ヘテロ環基である。このようなヘテロ環基におけるヘテロ環として、好ましくはイミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、インドレニン、テトラザインデンであり、より好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラザインデンであり、更に好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾールであり、特に好ましくはピリジン、チアジアゾール、キノリン、ベンズチアゾールである。 The heterocyclic group is preferably a 5- to 6-membered unsaturated heterocyclic group which may have a condensed ring, more preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic ring which may have a condensed ring. It is a group. More preferably, it is a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group which may have a condensed ring containing a nitrogen atom, and particularly preferably a condensed ring containing 1 to 4 nitrogen atoms. A 6-membered aromatic heterocyclic group. The heterocyclic ring in such a heterocyclic group is preferably imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline Cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, indolenine, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, Triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinoaline Zolin, cinnoline, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, Quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, benzimidazole, and benzthiazole are preferable, and pyridine, thiadiazole, quinoline, and benzthiazole are particularly preferable.
Q2で表されるアリール基及びヘテロ環基は−Y−C(X1)(X2)(X3)の他に置換基を有していても良く、置換基として好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子である。 The aryl group and heterocyclic group represented by Q 2 may have a substituent in addition to —Y—C (X 1 ) (X 2 ) (X 3 ), and the substituent is preferably an alkyl group, Alkenyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl Group, carbamoyl group, sulfonyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Oxy group, acyl group, acylamino group, alkoxycarbonylamino , Aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group Group, aryloxy group, acyl group, acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, particularly preferably alkyl group, aryl group, halogen atom .
X1、X2及びX3は、好ましくはハロゲン原子、ハロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ヘテロ環基であり、より好ましくはハロゲン原子、ハロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基であり、更に好ましくはハロゲン原子、トリハロメチル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子の中でも好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。 X 1 , X 2 and X 3 are preferably a halogen atom, haloalkyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfonyl group or heterocyclic group, more preferably a halogen atom , A haloalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group and a sulfonyl group, more preferably a halogen atom and a trihalomethyl group, and particularly preferably a halogen atom. Of the halogen atoms, preferred are a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, more preferred are a chlorine atom and a bromine atom, and particularly preferred is a bromine atom.
Yは−C(=O)−、−SO−または−SO2−を表し、好ましくは−SO2−である。 Y represents —C (═O) —, —SO— or —SO 2 —, preferably —SO 2 —.
これらの化合物の添加量は、銀1モルに対して1×10-4〜1モル、好ましくは、1×10-3〜5×10-2モルの含有量で用いることができる。 The amount of these compounds added can be 1 × 10 −4 to 1 mol, preferably 1 × 10 −3 to 5 × 10 −2 mol, per mol of silver.
なお、本発明に係るイメージング材料においては、特開2003−5041号に開示されているを上記の一般式(OFI)で表せる化合物と同様に使用することができる。 In addition, in the imaging material which concerns on this invention, it can use similarly to the compound which is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-5041 and can be represented by said general formula (OFI).
以下に、一般式(OFI)で表せる化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (OFI) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
〔ポリマーPO防止剤〕
さらに、本発明に係るイメージング材料においては、特開2003−91054号に開示されているようなハロゲンラジカル放出基を有するモノマーの繰り返し単位を少なくとも1つ有するポリマーを画像安定剤として使用することが、銀画像を一層安定化できる上に、高感度化及び高CP化の観点からも、好ましい。特に、本発明に係る光熱写真イメージング材料においては予想外に良好な結果が得られる。
[Polymer PO inhibitor]
Furthermore, in the imaging material according to the present invention, it is possible to use, as an image stabilizer, a polymer having at least one repeating unit of a monomer having a halogen radical releasing group as disclosed in JP-A No. 2003-91054. In addition to further stabilizing the silver image, it is also preferable from the viewpoint of high sensitivity and high CP. In particular, the photothermographic imaging material according to the present invention provides unexpectedly good results.
以下に、ハロゲンラジカル放出基を有するポリマーの具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。 Specific examples of the polymer having a halogen radical releasing group are shown below, but the present invention is not limited thereto.
なお、上記の化合物の他に、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料中には、従来カブリ防止剤として知られている化合物が含まれてもよい。例えば、米国特許第3,589,903号、同第4,546,075号、同第4,452,885号、特開昭59−57234号、米国特許第3,874,946号、同第4,756,999号、特開平9−288328号、同9−90550号に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のカブリ防止剤としては、米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同第605,981号、同第631,176号に開示されている化合物が挙げられる。 In addition to the above compound, the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention may contain a compound conventionally known as an antifoggant. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, U.S. Pat. No. 3,874,946, No. 4,756,999, JP-A-9-288328 and JP-A-9-90550. Further, other antifoggants include compounds disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and European Patents 600,587, 605,981, and 631,176. .
〔ポリカルボキシル化合物〕
本発明に係るイメージング材料においては、次の一般式(PC)で表される化合物を当該材料のカブリ防止剤及び保存安定剤として使用することも好ましい。
[Polycarboxyl compound]
In the imaging material according to the present invention, it is also preferable to use a compound represented by the following general formula (PC) as an antifoggant and a storage stabilizer for the material.
一般式(PC)
R−(CO−O−M)n
式中、Rは連結できる原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基または互いに結合して環を形成することができる原子群を表す。Mは水素原子、金属原子、四級アンモニウム基またはホスホニウム基を表す。nは2〜20の整数を表す。
General formula (PC)
R- (CO-OM) n
In the formula, R represents an atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or an atomic group that can be bonded to each other to form a ring. M represents a hydrogen atom, a metal atom, a quaternary ammonium group or a phosphonium group. n represents an integer of 2 to 20.
前記一般式(PC)において、Rで表される連結できる原子としては、窒素、酸素、硫黄、燐などの原子が挙げられる。 In the general formula (PC), examples of the connectable atom represented by R include atoms such as nitrogen, oxygen, sulfur, and phosphorus.
Rで表される脂肪族基としては炭素数1〜30、好ましくは1〜20の直鎖、または分岐したアルキル、アルケニル、アルキニルまたはシクロアルキル基が挙げられる。具体的には例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、デシル、ドデシル、イソプロピル、t−ブチル、2−エチルヘキシル、アリル、2−ブテニル、7−オクテニル、プロパルギル、2−ブチニル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロドデシル等の各基が挙げられる。 Examples of the aliphatic group represented by R include a linear or branched alkyl, alkenyl, alkynyl or cycloalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms. Specifically, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, decyl, dodecyl, isopropyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, allyl, 2-butenyl, 7-octenyl, propargyl, 2-butynyl, cyclopropyl, cyclopentyl , Cyclohexyl, cyclododecyl and the like.
Rで表される芳香族基としては炭素数6〜20のものが挙げられ、具体的には例えばフェニル、ナフチル、アントラニル等の各基が挙げられる。 Examples of the aromatic group represented by R include those having 6 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include phenyl, naphthyl, and anthranyl groups.
Rで表されるヘテロ環基としては、単環でも縮合環でもよく、O、S、及びN原子、アミンオキシド基の少なくとも1種を環内に有する5〜6員のヘテロ環基が挙げられる。具体的には例えば、ピロリジン、ピペリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、オキシラン、モルホリン、チオモルホリン、チオピラン、テトラヒドロチオフェン、ピロール、ピリジン、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール及びこれらのベンゼローグ類から導かれる基が挙げられる。 The heterocyclic group represented by R may be a monocyclic ring or a condensed ring, and includes a 5- to 6-membered heterocyclic group having at least one of O, S, and N atoms and an amine oxide group in the ring. . Specifically, for example, pyrrolidine, piperidine, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, oxirane, morpholine, thiomorpholine, thiopyran, tetrahydrothiophene, pyrrole, pyridine, furan, thiophene, imidazole, pyrazole, oxazole, thiazole, isoxazole, isothiazole, triazole, And groups derived from tetrazole, thiadiazole, oxadiazole, and these benzerogues.
RがR1とR2で形成された場合は、R1とR2はRと同義であり、かつ、R1はR2と同じでも異なってもよい。R1及びR2で環を形成するものとしては4〜7員環を挙げることができる。好ましくは5〜7員環である。R1及びR2で好ましい基としては芳香族基およびヘテロ環基である。R1及びR2で表される脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基は更に置換基により置換されていてもよく、該置換基としてはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基(例えば、ジメチルスルファモイルアミノ基、ジエチルスルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えば、エチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基、p−クロロフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えば、ピリジン−オキシド基等)、イミド基(例えば、フタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えば、ベンゼンジスルフィド基、ベンズチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が挙げられる。R1及びR2はこれらの置換基の中から単独または複数を有することができる。またそれぞれの置換基は更に上記の置換基で置換されていてもよい。またR1、R2は同じでも異なっていてもよい。また、一般式(PC−1)がオリゴマーまたはポリマー(R−(COOM)n0)mとしても効果がある。nは2〜20で、mは1〜100または分子量が50000以下が好ましい。 If R is formed by R 1 and R 2, R 1 and R 2 have the same meanings as R, and, R 1 is may be the same as or different from R 2. Examples of the ring forming with R 1 and R 2 include a 4- to 7-membered ring. Preferably it is a 5-7 membered ring. Preferred groups for R 1 and R 2 are aromatic groups and heterocyclic groups. The aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group represented by R 1 and R 2 may be further substituted with a substituent, such as a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), An alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a hydroxyethyl group, a methoxymethyl group, a trifluoromethyl group, a t-butyl group), a cycloalkyl group (eg, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.), an aralkyl group (For example, benzyl group, 2-phenethyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group, p-tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group) , Butoxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group, 4-methoxyphenoxy group etc.), cyano group, acylamido Group (for example, acetylamino group, propionylamino group, etc.), alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, butylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, p-methylphenylthio group, etc.), sulfonylamino Group (for example, methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.), ureido group (for example, 3-methylureido group, 3,3-dimethylureido group, 1,3-dimethylureido group, etc.), sulfamoylamino group (Eg, dimethylsulfamoylamino group, diethylsulfamoylamino group, etc.), carbamoyl group (eg, methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, ethylsulfamoyl group, dimethyl) Sulfamoyl group, etc.), al Xyloxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, p-chlorophenoxycarbonyl group, etc.), sulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, butanesulfonyl group, phenyl) Sulfonyl group etc.), acyl group (eg acetyl group, propanoyl group, butyroyl group etc.), amino group (eg methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group etc.), hydroxy group, nitro group, nitroso group, amine Oxide group (for example, pyridine-oxide group, etc.), imide group (for example, phthalimide group, etc.), disulfide group (for example, benzene disulfide group, benzthiazolyl-2-disulfide group, etc.), heterocyclic group (for example, pyridyl group, benzine) Imidazolyl group Benzothiazolyl group, benzoxazolyl group). R 1 and R 2 may have one or more of these substituents. Further, each substituent may be further substituted with the above-described substituent. R 1 and R 2 may be the same or different. The general formula (PC-1) is also effective as an oligomer or polymer (R- (COOM) n0 ) m . n is 2 to 20, and m is preferably 1 to 100 or a molecular weight of 50000 or less.
また、一般式(PC−1)の酸無水物とは、一般式(PC−1)で表される化合物の2個のカルボキシル基から脱水反応によって形成された化合物をいう。好ましくは、カルボキシル基を3以上10以下を有する化合物及びそれらからの誘導体としての酸無水物が好ましい。 The acid anhydride of the general formula (PC-1) refers to a compound formed by a dehydration reaction from two carboxyl groups of the compound represented by the general formula (PC-1). Preferably, a compound having 3 to 10 carboxyl groups and an acid anhydride as a derivative thereof are preferable.
また、特開昭58−95338号、特開平10−288824号、同11−174621号、同11−218877号、特開2000−10237号、同2000−10236号、同2000−10235号、同2000−10233号、同2000−10232号、同2000−10231号に記載のジカルボン酸類も好ましく併用できる。 JP-A-58-95338, JP-A-10-288824, JP-A-11-174621, JP-A-11-218877, JP-A-2000-10237, JP-A-2000-10236, JP-A-2000-10235, 2000-2000. The dicarboxylic acids described in Nos. -10233, 2000-10232, and 2000-10231 can be preferably used in combination.
〔チオスルフォン酸類抑制剤〕
本発明に係るイメージング材料においては、下記一般式(ST)で表せる化合物を含有することが好ましい。
[Thiosulfonic acid inhibitors]
The imaging material according to the present invention preferably contains a compound represented by the following general formula (ST).
一般式(ST)
Z−SO2・S−M
式中、Zは置換または未置換のアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Mは金属原子または有機カチオンを表す。
General formula (ST)
Z-SO 2 / SM
In the formula, Z represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group, and M represents a metal atom or an organic cation.
一般式(ST)で表される化合物において、Zで示されるアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、芳香族環及びヘテロ環は置換されていても良い。置換基としては、たとえばメチル基、エチル基等の低級アルキル基、フェニル基等のアリール基、炭素数1〜8のアルコキシル基、塩素等のハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基などを挙げることができる。Zで表されるヘテロ環としては、チアゾール、ベンズチアゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、オキサゾール環等を挙げることができる。Mで表される金属原子としては、ナトリウムイオン、カリウムイオンのごときアルカリ金属原子が、有機カチオンとしては、アンモニウムイオン、グアニジン基などが好ましい。 In the compound represented by the general formula (ST), the alkyl group, aryl group, heterocyclic group, aromatic ring and heterocyclic ring represented by Z may be substituted. Examples of the substituent include a lower alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group such as a phenyl group, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom such as chlorine, a nitro group, an amino group, and a carboxyl group. be able to. Examples of the heterocycle represented by Z include thiazole, benzthiazole, imidazole, benzimidazole, and oxazole ring. The metal atom represented by M is preferably an alkali metal atom such as sodium ion or potassium ion, and the organic cation is preferably an ammonium ion or a guanidine group.
一般式(ST)で表される化合物の具体例としては、下記のものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (ST) include the following, but the present invention is not limited thereto.
一般式(ST)で表される化合物は、一般によく知られた方法で合成することができる。たとえば、相当するスルホニルフロリドと硫化ソーダを反応させるか、相当するスルフィン酸ソーダと硫黄を反応させる方法により合成することができる。一方これらの化合物は、市販品として容易に入手することもできる。 The compound represented by the general formula (ST) can be synthesized by a generally well-known method. For example, it can be synthesized by reacting the corresponding sulfonyl fluoride and sodium sulfide, or reacting the corresponding sodium sulfinate and sulfur. On the other hand, these compounds can also be easily obtained as commercial products.
一般式(ST)で表される化合物は、本発明に係るイメージング材料の製造工程における塗布工程以前の工程の、どの時点で添加しても良いが、塗布直前に塗布液に添加することが好ましい。 The compound represented by the general formula (ST) may be added at any point in the process before the coating process in the manufacturing process of the imaging material according to the present invention, but is preferably added to the coating liquid immediately before coating. .
一般式(ST)で表される化合物の添加量は特に制限はないが、有機銀塩、ハロゲン化銀を含む全銀量1モル当たり1×10-6〜1gの範囲が好ましい。なお、同様の化合物が特開平8−314059開示されている。 The amount of the compound represented by the general formula (ST) is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 g per mole of total silver including the organic silver salt and the silver halide. Similar compounds are disclosed in JP-A-8-314059.
〔電子吸引基を有するビニル型抑制剤〕
本発明においては、下記一般式(CV)で表せるカブリ抑制剤を併用することが好ましい。
[Vinyl type inhibitor having electron withdrawing group]
In this invention, it is preferable to use together the fog inhibitor which can be represented by the following general formula (CV).
上記一般式(CV)において、Xの表す電子吸引基とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置換基のことである。具体的には、置換アルキル基(ハロゲン置換アルキル等)、置換アルケニル基(シアノビニル等)、置換、無置換のアルキニル基(トリフルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル、ホルミルアセチレニル等)、置換アリール基(シアノフェニル等)、置換、無置換のヘテロ環基(ピリジル、トリアジニル、ベンゾオキサゾリル等)、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基(アセチル、トリフルオロアセチル等)、チオアシル基(チオホルミル、チオアセチル等)、オキサリル基(メチルオキサリル等)、オキシオキサリル基(エトキサリル等)、−S−オキサリル基(エチルチオオキサリル等)、オキサモイル基(メチルオキサモイル等)、オキシカルボニル基(エトキシカルボニル、カルボキシル等)、−S−カルボニル基(エチルチオカルボニル等)、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基(エトキシスルホニル等)、−S−スルホニル基(エチルチオスルホニル等)、スルファモイル基、オキシスルフィニル基(メトキシスルフィニル等)、−S−スルフィニル基(メチルチオスルフィニル等)、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基(イミノ、N−メチルイミノ、N−フェニルイミノ、N−ピリジルイミノ、N−シアノイミノ、N−ニトロイミノ等)、N−カルボニルイミノ基(N−アセチルイミノ、N−エトキシカルボニルイミノ、N−エトキサリルイミノ、N−ホルミルイミノ、N−トリフルオロアセチルイミノ、N−カルバモイルイミノ等)、N−スルホニルイミノ基(N−メタンスルホニルイミノ、N−トリフルオロメタンスルホニルイミノ、N−メトキシスルホニルイミノ、N−スルファモイルイミノ等)、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基等が挙げられるが、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、インモニウム基等が環を形成したヘテロ環状のものも含まれる。但し、Xとしてホルミル基は除く。σp値として0.2以上のものが好ましく、0.3以上のものが更に好ましい。 In the above general formula (CV), the electron withdrawing group represented by X is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value. Specifically, a substituted alkyl group (such as halogen-substituted alkyl), a substituted alkenyl group (such as cyanovinyl), a substituted or unsubstituted alkynyl group (such as trifluoromethylacetylenyl, cyanoacetylenyl, formylacetylenyl), Substituted aryl groups (such as cyanophenyl), substituted and unsubstituted heterocyclic groups (such as pyridyl, triazinyl, benzoxazolyl), halogen atoms, cyano groups, acyl groups (such as acetyl and trifluoroacetyl), thioacyl groups (such as thioformyl) , Thioacetyl etc.), oxalyl group (methyl oxalyl etc.), oxyoxalyl group (ethoxalyl etc.), -S-oxalyl group (ethylthiooxalyl etc.), oxamoyl group (methyl oxamoyl etc.), oxycarbonyl group (ethoxycarbonyl, carboxyl Etc.), -S-carbonyl group (ethyl) Ocarbonyl), carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfonyl group (ethoxysulfonyl etc.), -S-sulfonyl group (ethylthiosulfonyl etc.), sulfamoyl group, oxysulfinyl group (methoxysulfinyl etc.) , -S-sulfinyl group (such as methylthiosulfinyl group), sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group (imino, N-methylimino, N-phenylimino, N-pyridylimino, N-cyanoimino, N-nitroimino, etc.), N -Carbonylimino group (N-acetylimino, N-ethoxycarbonylimino, N-ethoxalylimino, N-formylimino, N-trifluoroacetylimino, N-carbamoylimino, etc.), N-sulfonylimino group (N-methanes) Phonylimino, N-trifluoromethanesulfonylimino, N-methoxysulfonylimino, N-sulfamoylimino, etc.), ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group, immonium group, etc., ammonium group, sulfonium group In addition, a heterocyclic group in which a phosphonium group, an immonium group or the like forms a ring is also included. However, X excludes a formyl group. The σp value is preferably 0.2 or more, and more preferably 0.3 or more.
Wとしては水素原子、アルキル基(メチル、エチル、トリフルオロメチル等)アルケニル基(ビニル、ハロゲン置換ビニル、シアノビニル等)、アルキニル基(アセチレニル、シアノアセチレニル等)、アリール基(フェニル、クロルフェニル、ニトロフェニル、シアノフェニル、ペンタフルオロフェニル等)、ヘテロ環基(ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、キノキサリニル、トリアジニル、スクシンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、ベンゾオキサゾリル等)の他上記Xで説明したようなハロゲン原子、シアノ基、アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサリル基、−S−オキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニル基、−S−カルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基、−S−スルホニル基、スルファモイル基、オキシスルフィニル基、−S−スルフィニル基、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニルイミノ基、N−スルホニルイミノ基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基等が挙げられる。但し、Wとしてホルミル基は除く。 W includes hydrogen atom, alkyl group (methyl, ethyl, trifluoromethyl, etc.) alkenyl group (vinyl, halogen-substituted vinyl, cyanovinyl, etc.), alkynyl group (acetylenyl, cyanoacetylenyl, etc.), aryl group (phenyl, chlorophenyl) , Nitrophenyl, cyanophenyl, pentafluorophenyl, etc.), heterocyclic groups (pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, quinoxalinyl, triazinyl, succinimide, tetrazolyl, triazolyl, imidazolyl, benzoxazolyl, etc.) Halogen atom, cyano group, acyl group, thioacyl group, oxalyl group, oxyoxalyl group, -S-oxalyl group, oxamoyl group, oxycarbonyl group, -S-carbonyl group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl , Sulfinyl group, oxysulfonyl group, -S-sulfonyl group, sulfamoyl group, oxysulfinyl group, -S-sulfinyl group, sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group, N-sulfonylimino group , Ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group, immonium group and the like. However, the formyl group is excluded as W.
Wとしてはハメットの置換基定数σpが正の値を取りうるホルミル基以外の電子吸引基の他、上記したようなアリール基及びヘテロ環基も好ましい。 W is preferably an electron withdrawing group other than a formyl group in which Hammett's substituent constant σp can take a positive value, as well as an aryl group and a heterocyclic group as described above.
また、XとWは互いに結合して環状構造を形成してもよい。XとWで形成される環としては、縮合環を有していてもよい飽和ないし不飽和の炭素環またはヘテロ環が挙げられ、環状ケトンであってもよい。ヘテロ環としては、N、O及びSの内の少なくとも1つの原子を1個以上、更には1〜2個含むものが好ましい。 X and W may be bonded to each other to form a cyclic structure. Examples of the ring formed by X and W include a saturated or unsaturated carbocycle or heterocycle which may have a condensed ring, and may be a cyclic ketone. As the heterocyclic ring, those containing at least one atom, more preferably 1-2, of N, O and S are preferable.
R1としては、ヒドロキシル基またはヒドロキシル基の有機もしくは無機塩が挙げられる。R2が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基の具体例としては、Wとして例示したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、及びヘテロ環基の各例が挙げられる。 R 1 includes a hydroxyl group or an organic or inorganic salt of a hydroxyl group. Specific examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group and heterocyclic group represented by R 2 include the examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group and heterocyclic group exemplified as W. It is done.
また、本発明においては、X、W、及びR2は何れも耐拡散性基を含んでもよい。耐拡散性基とは写真用のカプラーなどにおけるバラスト基と呼ばれるもので、添加された化合物が感光材料の被膜中を移動しないような嵩高い分子量とするものである。 In the present invention, X, W and R 2 may all contain a diffusion-resistant group. The anti-diffusion group is called a ballast group in a photographic coupler or the like, and has a bulky molecular weight so that the added compound does not move in the film of the photosensitive material.
また、本発明においては、X、W、及びR2は銀塩への吸着促進基を含んでいてもよい。銀塩への吸着促進基としては、チオアミド基、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプト基及びベンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、トリアジン等の5〜6員の含窒素ヘテロ環で表される各基が挙げられる。 In the present invention, X, W and R 2 may contain an adsorption promoting group for silver salt. Adsorption promoting groups for silver salts include thioamide groups, aliphatic mercapto groups, aromatic mercapto groups, heterocyclic mercapto groups and benzotriazoles, triazoles, tetrazoles, indazoles, benzimidazoles, imidazoles, benzothiazoles, thiazoles, benzoxazoles, Examples include groups represented by 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocycles such as oxazole, thiadiazole, oxadiazole, and triazine.
本発明において、XとWの内、少なくとも一方がシアノ基を表すか、またはXとWが互いに結合して環状構造を形成するものは好ましい。 In the present invention, it is preferable that at least one of X and W represents a cyano group, or X and W are bonded to each other to form a cyclic structure.
また、本発明において、X、W、R2で表される置換基中にチオエーテル基(−S−)を含む化合物は好ましい。 In the present invention, a compound containing a thioether group (—S—) in the substituent represented by X, W, or R 2 is preferable.
また、X及びWの中、少なくとも一方が下記一般式(CV1)で表されるアルケン基を有するものは特に好ましい。 Further, among X and W, those having at least one alkene group represented by the following general formula (CV1) are particularly preferred.
一般式(CV1) −C(R)=C(Y)(Z)
上式中、Rは水素原子または置換基を表し、Y及びZは各々、水素原子または置換基を表すが、Y、Zの中、少なくとも一方は電子吸引性基を表す。
Formula (CV1) -C (R) = C (Y) (Z)
In the above formula, R represents a hydrogen atom or a substituent, and Y and Z each represent a hydrogen atom or a substituent, and at least one of Y and Z represents an electron-withdrawing group.
Y、Zの表す置換基の内電子吸引性基の例としては、先述したX及びWの電子吸引性基として挙げたもの及びホルミル基等が挙げられる。 Examples of the electron-withdrawing group among the substituents represented by Y and Z include those mentioned as the electron-withdrawing groups for X and W described above and the formyl group.
上記一般式(CV1)で表されるX及びWとしては、例えば、次の様な基が挙げられる。 Examples of X and W represented by the general formula (CV1) include the following groups.
また、X及びWの中、少なくとも一方が次の様なアルキン基を有するものも好ましい。 Further, it is also preferable that at least one of X and W has the following alkyne group.
R5は水素原子または置換基を表し、置換基としては先述したX及びWの中で挙げたような電子吸引性基が好ましい。上記一般式(CV1)で表されるX及びWとしては例えば次のような基が挙げられる。 R 5 represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is preferably an electron-withdrawing group as exemplified in X and W described above. Examples of X and W represented by the general formula (CV1) include the following groups.
また、X及びWの中、少なくとも一方が置換アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、及びアルキニルカルボニル基から選ばれるアシル基を有するものも好ましく、X及びWとしては例えば次のような基が挙げられる。 In addition, among X and W, those having at least one acyl group selected from a substituted alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group, and an alkynylcarbonyl group are also preferred. Examples of X and W include the following groups.
また、X及びWの中、少なくとも一方がオキサリル基を有するものも好ましく、オキサリル基を有するX及びWとしては例えば次のような基が挙げられる。 Moreover, what has at least one oxalyl group among X and W is also preferable, and the following groups are mentioned as X and W which have an oxalyl group, for example.
および、−COCOCH3、−COCOOC2H5、−COCONHCH3、−COCOSC2H5、−COCOOC2H4SCH3、−COCONHC2H4SCH3。 And, -COCOCH 3, -COCOOC 2 H 5 , -COCONHCH 3, -COCOSC 2 H 5, -COCOOC 2 H 4 SCH 3, -COCONHC 2 H 4 SCH 3.
また、X及びWの内少なくとも一方が電子吸引性基の置換したアリール基または含窒素ヘテロ環基を有するものも好ましく、そのようなX及びWとしては例えば次のような基が挙げられる。 In addition, it is preferable that at least one of X and W has an aryl group substituted with an electron-withdrawing group or a nitrogen-containing heterocyclic group. Examples of such X and W include the following groups.
本発明において、一般式(CV)で表されるアルケン化合物は、X、W、R1及びR2が置換する二重結合に関して異性体構造を取りうるときは総ての異性体を含むものとし、また、ケトーエノールのような互変異性構造を取りうるときも総ての異性体を含むものとする。 In the present invention, the alkene compound represented by the general formula (CV) includes all isomers when it can take an isomer structure with respect to the double bond substituted by X, W, R 1 and R 2 . In addition, all isomers are included when a tautomeric structure such as ketoeenol can be taken.
以下に、一般式(CV)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (CV) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
本発明の一般式(CV)で表される化合物は種々の方法により合成することができるが、例えば、特表2000−515995号に記載の合成法を参考にして合成することができる。 The compound represented by the general formula (CV) of the present invention can be synthesized by various methods. For example, the compound can be synthesized with reference to the synthesis method described in JP-T 2000-515995.
例示化合物CV−5は、例えば、以下のルートで合成することができる。 Illustrative compound CV-5 can be synthesized, for example, by the following route.
一般式(CV)で表される化合物は、熱現像感光材料の感光層または該感光層側の非感光層の少なくとも1層に含有させればよいが、好ましくは少なくとも感光層に含有させることである。一般式(1)で表される化合物の添加量は、銀1モルに対して1×10-8〜1モルが好ましく、1×10-6〜1×10-1モルがより好ましく、1×10-4〜1×10-2モルが最も好ましい。 The compound represented by the general formula (CV) may be contained in at least one of the photosensitive layer of the photothermographic material or the non-photosensitive layer on the photosensitive layer side, and preferably contained in at least the photosensitive layer. is there. The amount of the compound represented by the general formula (1) is preferably 1 × 10 −8 to 1 mol, more preferably 1 × 10 −6 to 1 × 10 −1 mol, relative to 1 mol of silver, 1 ×. 10 −4 to 1 × 10 −2 mol is most preferred.
一般式(CV)で表される化合物は公知の方法に従って感光層や非感光層に添加することができる。すなわち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホオキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して感光層や非感光層用塗布液に添加することができる。また、1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。 The compound represented by formula (CV) can be added to the photosensitive layer or the non-photosensitive layer according to a known method. That is, it can be dissolved in an alcohol such as methanol or ethanol, a ketone such as methyl ethyl ketone or acetone, or a polar solvent such as dimethyl sulfoxide or dimethylformamide, and added to the coating solution for the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. Further, fine particles of 1 μm or less can be dispersed and added in water or an organic solvent. Many techniques for fine particle dispersion are disclosed, but they can be dispersed according to these techniques.
〔銀イオン還元剤〕
本発明においては、銀イオン還元剤(単に還元剤ということもある)として米国特許第3,589,903号、同第4,021,249号若しくは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開昭51−51933号、同50−36110号、同50−116023号、同52−84727号若しくは特公昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール化合物、例えば、2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル等の米国特許第3,672,904号明細書に記載されたビスナフトール類、更に、例えば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンスルホンアミドナフトール等の米国特許第3,801,321号明細書に記載されているようなスルホンアミドフェノールまたはスルホンアミドナフトール類を用いることができる。
[Silver ion reducing agent]
In the present invention, US Pat. Nos. 3,589,903, 4,021,249 or British Patent 1,486,148 are used as silver ion reducing agents (sometimes referred to simply as reducing agents). And polyphenol compounds described in JP-A-51-51933, JP-A-50-36110, JP-A-50-116023, JP-A-52-84727 or JP-B-51-35727, such as 2,2′-dihydroxy- Bisnaphthols described in US Pat. No. 3,672,904 such as 1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, For example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol , It can be used sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols, such as described in U.S. Patent No. 3,801,321, such as 4-benzenesulfonamide naphthol.
しかしながら、本発明においては、銀イオン還元剤としては下記一般式(RED)で表される化合物が好ましい。 However, in the present invention, the silver ion reducing agent is preferably a compound represented by the following general formula (RED).
式中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表し、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。R2はアルキル基を表す。R3は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。R4はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。 In the formula, X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 , and R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 represents an alkyl group. R 3 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. R 4 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2.
一般式(RED)中、X1はカルコゲン原子またはCHR1を表す。カルコゲン原子としては、硫黄、セレン、テルルであり、好ましくは硫黄原子である。CHR1におけるR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表し、ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子等であり、アルキル基としては置換または無置換の炭素数1〜20のアルキル基が好ましい。具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル、シクロアルキル等、アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル、シクロヘキセニル等、アリール基としてはベンゼン環、ナフタレン環等、複素環基としてはチオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等の各基である。特に、環状基、例えば、シクロアルキル基、シクロアルケニル基が好ましい。 In the general formula (RED), X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 . The chalcogen atom is sulfur, selenium or tellurium, preferably a sulfur atom. CHR R 1 in 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group, a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, the alkyl group substituted or An unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferred. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, heptyl, cycloalkyl, etc. Examples of the alkenyl group include vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl- 3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, cyclohexenyl, etc., aryl groups such as benzene ring, naphthalene ring, etc., heterocyclic groups such as thiophene, furan, imidazole, pyrazole, pyrrole, etc. is there. In particular, a cyclic group such as a cycloalkyl group and a cycloalkenyl group is preferable.
これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基として具体的には、ハロゲン原子(弗素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、i−ペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、デシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロヘプチル等)、アルケニル基(エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、シクロアルケニル基(1−シクロアルケニル、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(エチニル、1−プロピニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ等)、アルキルカルボニルオキシ基(アセチルオキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、トリフルオロメチルチオ等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(アセチルアミノ等)、ウレイド基(メチルアミノカルボニルアミノ等)、アルキルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−モルホリノカルボニル等)、スルファモイル基(スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、モルホリノスルファモイル等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド等)、アルキルアミノ基(アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ等)、スルホ基、ホスホノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(メタンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノカルボニル等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドスルホニル等)、アルキニルアミノカルボニル基(アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボニル等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンスルフィニルアミノカルボニル等)等が挙げられる。又、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。 These groups may further have a substituent. Specific examples of the substituent include a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), an alkyl group (methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, i-pentyl). , 2-ethylhexyl, octyl, decyl, etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cycloheptyl, etc.), alkenyl groups (ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl) -3-butenyl, etc.), cycloalkenyl groups (1-cycloalkenyl, 2-cycloalkenyl groups, etc.), alkynyl groups (ethynyl, 1-propynyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, etc.), alkylcarbonyloxy groups (Acetyloxy, etc.), alkylthio groups (methylthio, trifluoromethylthio, etc.), potassium Boxyl group, alkylcarbonylamino group (acetylamino etc.), ureido group (methylaminocarbonylamino etc.), alkylsulfonylamino group (methanesulfonylamino etc.), alkylsulfonyl group (methanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl etc.), carbamoyl group ( Carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-morpholinocarbonyl, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, morpholinosulfamoyl etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group Alkylsulfonamide groups (methanesulfonamide, butanesulfonamide, etc.), alkylamino groups (amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino, etc.), sulfo groups, phosphono groups, sulfite Group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (methanesulfonylaminocarbonyl, ethanesulfonylaminocarbonyl etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (acetamidosulfonyl, methoxyacetamidosulfonyl etc.), alkynylaminocarbonyl group (acetamidocarbonyl, methoxyacetamidocarbonyl etc.) ), Alkylsulfinylaminocarbonyl groups (methanesulfinylaminocarbonyl, ethanesulfinylaminocarbonyl, etc.) and the like. Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different.
特に好ましい置換基はアルキル基である。 A particularly preferred substituent is an alkyl group.
R2はアルキル基を表す。アルキル基としては置換または無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル、1−メチルシクロプロピル等の基が挙げられる。 R 2 represents an alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, i-butyl, t-butyl, t-pentyl, t-octyl. , Cyclohexyl, cyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-methylcyclopropyl and the like.
アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えばアリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。又、(R4)n及び(R4)mと飽和環を形成してもよい。R2は、好ましくは何れも2級または3級のアルキル基であり、炭素数2〜20が好ましい。より好ましくは3級アルキル基であり、更に好ましくはt−ブチル、t−ペンチル、1−メチルシクロヘキシルであり、最も好ましくはt−ブチルである。 Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, An ester group, a halogen atom, etc. are mentioned. Or it may form a saturated ring with (R 4) n and (R 4) m. R 2 is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and preferably has 2 to 20 carbon atoms. A tertiary alkyl group is more preferred, t-butyl, t-pentyl and 1-methylcyclohexyl are more preferred, and t-butyl is most preferred.
R3は水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。ベンゼン環に置換可能な基としては、例えば弗素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられる。 R 3 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on the benzene ring. Examples of the group that can be substituted on the benzene ring include halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, cycloalkenyl groups, alkynyl groups, amino groups, acyl groups, acyloxy groups, Examples include acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, sulfinyl group, cyano group, and heterocyclic group.
R3として好ましくは、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、2−ヒドロキシエチル等が挙げられる。更に好ましくは、メチル、2−ヒドロキシエチルである。 R 3 is preferably methyl, ethyl, i-propyl, t-butyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, 2-hydroxyethyl and the like. More preferred are methyl and 2-hydroxyethyl.
これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、前記R1で挙げた置換基を用いることができる。 These groups may further have a substituent, and the substituents exemplified in the above R 1 can be used as the substituent.
また、R3は、炭素数1〜10のアルキル基であることがより好ましい。特に、特願2002−120842号に開示されているようなヒドロキシル基、または脱保護されることによりヒドロキシル基を形成し得る基を置換基として有するアルキル基、例えば、2−ヒドロキシエチル基等が挙げられる。このようなアルキル基を有する還元剤は、一定塗布銀量で高い最高濃度(Dmax)、すなわち、高い銀被覆率(カバリングパワー、CP)の銀画像濃度を得るためには、単独で使用することまたは他種の還元剤と併用することが好ましい。 R 3 is more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. In particular, a hydroxyl group as disclosed in Japanese Patent Application No. 2002-120842, or an alkyl group having a group capable of forming a hydroxyl group by deprotection as a substituent, such as a 2-hydroxyethyl group, etc. It is done. Such a reducing agent having an alkyl group should be used alone in order to obtain a high maximum density (Dmax) with a constant applied silver amount, that is, a silver image density with a high silver coverage (covering power, CP). Or it is preferable to use together with another reducing agent.
R2及びR3の最も好ましい組合せは、R2が第3級アルキル基(t−ブチル、1−メチルシクロヘキシル等)であり、R3がアルキル基であって、ヒドロキシル基、または脱保護されることによりヒドロキシル基を形成し得る基を置換基として有するアルキル基、例えば、2−ヒドロキシエチル基である。なお、複数のR2、R3は同じでも異なっていてもよい。 The most preferred combination of R 2 and R 3 is that R 2 is a tertiary alkyl group (t-butyl, 1-methylcyclohexyl, etc.), R 3 is an alkyl group, and is a hydroxyl group or deprotected. An alkyl group having a group capable of forming a hydroxyl group as a substituent, for example, a 2-hydroxyethyl group. The plurality of R 2 and R 3 may be the same or different.
R4はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル、パーフルオロオクチル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルキニル基(プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、弗素)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は、更にこれらの基で置換されてもよい。n及びmは0〜2の整数を表すが、最も好ましくはn、m共に0の場合である。複数のR4は同じでも異なっていてもよい。 R 4 represents a substitutable group on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, etc.), Halogenated alkyl group (trifluoromethyl, perfluorooctyl etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl, cyclopentyl etc.), alkynyl group (propargyl etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group, aryl group (phenyl etc.), heterocyclic ring Groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atoms (chlorine, bromine, iodine, fluorine), alkoxy groups (methoxy, ethoxy) , Pyroxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy groups (phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (phenyloxycarbonyl) ), Sulfonamide groups (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl groups (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl, butylamino) Sulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pyridylaminos Sulfonyl, etc.), urethane groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.), acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl, etc.), Carbamoyl group (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl), amide group (acetamide, propionamide, butanamide, hexaneamide, Benzamide etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl, Phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, An oxamoyl group can be exemplified. These groups may be further substituted with these groups. n and m represent an integer of 0 to 2, and most preferably n and m are 0. A plurality of R 4 may be the same or different.
又、R4はR2、R3と飽和環を形成してもよい。R4は好ましくは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。 R 4 may form a saturated ring with R 2 and R 3 . R 4 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
以下に、一般式(RED)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (RED) are given below, but the present invention is not limited thereto.
これら一般式(RED)で表される化合物(ビスフェノール化合物)は、従来公知の方法により容易に合成することができる(例えば、参考文献:特願2002−147562参照)。 These compounds (bisphenol compounds) represented by the general formula (RED) can be easily synthesized by a conventionally known method (for example, see Reference: Japanese Patent Application No. 2002-147562).
本発明の光熱写真ドライイメージング材料に使用される銀イオン還元剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり0.05モル乃至10モル好ましくは0.1モル乃至3モルが適当である。又この量の範囲内において、本発明の銀イオン還元剤は2種以上併用されてもよい。すなわち、相違する化学構造を有することにより反応性の相違する還元剤を併用することも保存性に優れ、高画質かつ高CPの画像を得る等の観点から好ましい。 The amount of the silver ion reducing agent used in the photothermographic dry imaging material of the present invention varies depending on the type of organic silver salt, the reducing agent, and other additives. A suitable amount is from 05 mol to 10 mol, preferably from 0.1 mol to 3 mol. Within this range, two or more silver ion reducing agents of the present invention may be used in combination. That is, it is preferable from the viewpoints of obtaining a high-quality and high-CP image that the use of reducing agents having different reactivity due to having different chemical structures is excellent in storage stability.
本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合して塗布した方が、停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。 In the present invention, it may be preferable that the reducing agent is added to and mixed with a photosensitive emulsion solution composed of photosensitive silver halide and organic silver salt grains and a solvent immediately before coating, because photographic performance fluctuation due to stagnation time is small. is there.
また、本発明の銀塩光熱写真材料には、前記した還元剤と併用する現像促進剤として特開2003−43614号公報に記載の一般式(1)〜(4)や、特開2003−66559号公報に記載の一般式(1)〜(3)で表されるヒドラジン誘導体、フェノール誘導体が好ましく用いられる。 In the silver salt photothermographic material of the present invention, the general formulas (1) to (4) described in JP-A No. 2003-43614 and JP-A No. 2003-66559 are used as development accelerators used in combination with the above reducing agent. Hydrazine derivatives and phenol derivatives represented by the general formulas (1) to (3) described in Japanese Patent Publication No. 1 are preferably used.
本発明の銀塩光熱写真材料において使用される現像促進剤のポーラログラフィー測定による酸化電位は、一般式(RED)で表される化合物より0.01Vないし0.4V低いことが好ましく、一般式(RED)で表される化合物より0.01Vないし0.3V低いことが更に好ましい。なお、当該現像促進剤は、pH=6に調整したテトラヒドロフラン:Britton・Robinson緩衝溶液=3:2混合溶媒中での、SCE対極でのポーラログラフィー測定による酸化電位が、0.2V以上0.6V以下であることが好ましく、0.3V以上0.55V以下であることが更に好ましい。また、テトラヒドロフラン:水の3:2混合溶媒中でのpKa値は、3以上12以下であることが好ましく、5以上10以下であることが更に好ましい。pH=6に調整したテトラヒドロフラン:Britton・Robinson緩衝溶液=3:2混合溶媒中での、SCE対極でのポーラログラフィー測定による酸化電位が、0.3V以上0.55V以下であり、テトラヒドロフラン:水の3:2混合溶媒中でのpKa値は、5以上10以下であることが特に好ましい。 The oxidation potential of the development accelerator used in the silver salt photothermographic material of the present invention is preferably 0.01 V to 0.4 V lower than the compound represented by the general formula (RED). More preferably, it is 0.01 V to 0.3 V lower than the compound represented by (RED). The development accelerator has an oxidation potential of 0.2 V or more by polarography measurement at the SCE counter electrode in a tetrahydrofuran: Britton / Robinson buffer solution adjusted to pH = 6 = 3: 2 mixed solvent. It is preferably 6 V or less, more preferably 0.3 V or more and 0.55 V or less. The pKa value in a 3: 2 mixed solvent of tetrahydrofuran: water is preferably 3 or more and 12 or less, more preferably 5 or more and 10 or less. Tetrahydrofuran adjusted to pH = 6: Britton-Robinson buffer solution = 3: 2 In a mixed solvent, the oxidation potential measured by polarography at the SCE counter electrode is 0.3 V or more and 0.55 V or less, tetrahydrofuran: water The pKa value in the 3: 2 mixed solvent is particularly preferably 5 or more and 10 or less.
なお、本発明に係る銀イオン還元剤として、欧州特許第1,278,101号及び特開2003−15252号明細書に開示されている各種の還元剤も使用できる。 As the silver ion reducing agent according to the present invention, various reducing agents disclosed in European Patent No. 1,278,101 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-15252 can also be used.
本発明の光熱写真ドライイメージング材料に使用される銀イオン還元剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり0.05モル乃至10モル好ましくは0.1モル乃至3モルが適当である。又この量の範囲内において、本発明の銀イオン還元剤は2種以上併用されてもよい。すなわち、相違する化学構造を有することにより反応性の相違する還元剤を併用することも保存性に優れ、高画質かつ高CPの画像を得る等の観点から好ましい。 The amount of the silver ion reducing agent used in the photothermographic dry imaging material of the present invention varies depending on the type of organic silver salt, the reducing agent, and other additives. A suitable amount is from 05 mol to 10 mol, preferably from 0.1 mol to 3 mol. Within this range, two or more silver ion reducing agents of the present invention may be used in combination. That is, it is preferable from the viewpoints of obtaining a high-quality and high-CP image that the use of reducing agents having different reactivity due to having different chemical structures is excellent in storage stability.
本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合して塗布した方が、停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。 In the present invention, it may be preferable that the reducing agent is added to and mixed with a photosensitive emulsion solution composed of photosensitive silver halide and organic silver salt grains and a solvent immediately before coating, because photographic performance fluctuation due to stagnation time is small. is there.
〔化学増感〕
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子には、化学増感を施すことができる。例えば、特開2001−249428号及び特開2001−249426号に記載されている方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、感光性ハロゲン化銀粒子または当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子または正孔(ホール)を捕獲することができる化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。
[Chemical sensitization]
The photosensitive silver halide grains according to the present invention can be chemically sensitized. For example, use of a compound that releases a chalcogen such as sulfur, selenium, tellurium, or a noble metal ion that releases a noble metal ion such as gold ion by the methods described in JP-A Nos. 2001-249428 and 2001-249426 Thus, it is possible to form and impart a chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) capable of capturing electrons or holes generated by photoexcitation of photosensitive silver halide grains or spectral sensitizing dyes on the grains. In particular, it is preferably chemically sensitized with an organic sensitizer containing a chalcogen atom.
これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。 These organic sensitizers containing chalcogen atoms are preferably compounds having groups capable of adsorbing to silver halide and unstable chalcogen atom sites.
これらの有機増感剤としては、特開昭60−150046号、特開平4−109240号、同11−218874号、同11−218875号、同11−218876号、同11−194447号等に開示されている種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらのうち、カルコゲン原子が炭素原子またはリン原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。特に、複素環基を有するチオ尿素誘導体及びトリフェニルホスフィンサルファイド誘導体等が好ましい。 These organic sensitizers are disclosed in JP-A-60-150046, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874, JP-A-11-218875, JP-A-11-218876, JP-A-11-194447, etc. The organic sensitizers having various structures can be used, and among them, the chalcogen atom is at least one kind of compound having a structure in which a carbon atom or a phosphorus atom is bonded with a double bond It is preferable. In particular, a thiourea derivative having a heterocyclic group and a triphenylphosphine sulfide derivative are preferred.
化学増感を施す方法としては、従来の湿式処理用のハロゲン化銀感光材料の製造の際に慣用されている種々の化学増感技術に準じた技術が使用できる(参考文献:(1) T.H.James編”The Theory of the Photographic Process”第4版、Macmillan Publishing Co.,Ltd.1977、(2) 日本写真学会編”写真工学の基礎(銀塩写真編),コロナ社,1979)。特に、ハロゲン化銀粒子乳剤に予め化学増感を施し、その後に非感光性有機銀塩粒子と混合する場合には、従来の慣用方法により化学増感を施すことができる。 As a method for chemical sensitization, techniques according to various chemical sensitization techniques conventionally used in the production of conventional silver halide light-sensitive materials for wet processing can be used (reference: (1) T Edited by H. James “The Theory of the Photographic Process” 4th edition, Macmillan Publishing Co., Ltd., 1977, (2) The Japan Photographic Society, “Basics of Photographic Engineering (Silver Salt Photography), Corona, 1979) In particular, when the silver halide grain emulsion is previously chemically sensitized and then mixed with non-photosensitive organic silver salt grains, it can be chemically sensitized by a conventional method.
有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり、10-8〜10-2モルが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3モルを用いる。化学増感を施す際の環境条件としては、特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀または銀核を消滅或いはそれらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、又特に銀核を酸化しうる酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましい場合がある。この場合の増感条件は、pAgとしては6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜8、又温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。 The amount of the chalcogen compound used as the organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, silver halide grains, reaction environment for chemical sensitization, etc., but is 10 −8 to 10 − per mol of silver halide. 2 mol is preferred, more preferably 10 −7 to 10 −3 mol. Environmental conditions for chemical sensitization are not particularly limited, but in the presence of a compound capable of annihilating or reducing the size of silver chalcogenide or silver nuclei on photosensitive silver halide grains, or In particular, it may be preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidizing agent capable of oxidizing silver nuclei. The sensitizing conditions in this case are preferably 6 to 11 as pAg, more preferably 7 to 10, pH 4 to 10, more preferably 5 to 8, and the temperature increases at 30 ° C. or lower. It is preferable to give a feeling.
また、これらの有機増感剤を用いた化学増感は、分光増感色素またはハロゲン化銀粒子に対して、吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平3−24537号に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物において、複素環としては、例えば、ピラゾール環、ピリミジン環、1,2,4−トリアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリダジン環、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えば、フタラジン環、ベンズイミダゾール環、インダゾール環、ベンズチアゾール環なども適用できる。 In addition, chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably performed in the presence of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to spectral sensitizing dyes or silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having an adsorptivity to silver halide, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. Although the spectral sensitizing dye will be described later, preferred examples of the heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide include nitrogen-containing heterocyclic compounds described in JP-A-3-24537. In the nitrogen-containing heterocyclic compound, examples of the heterocyclic ring include pyrazole ring, pyrimidine ring, 1,2,4-triazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2 , 3-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,2,3,4-tetrazole ring, pyridazine ring, 1,2,3-triazine ring, these rings Can be mentioned, for example, a triazolotriazole ring, a diazaindene ring, a triazaindene ring, a pentaazaindene ring, and the like. A heterocyclic ring in which a monocyclic heterocyclic ring and an aromatic ring are condensed, for example, a phthalazine ring, a benzimidazole ring, an indazole ring, a benzthiazole ring, or the like can also be applied.
これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えば、ヒドロキシトリアザインデン、テトラヒドロキシアザインデン、ヒドロキシペンタアザインデン化合物等が更に好ましい。 Of these, an azaindene ring is preferable, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, for example, a hydroxytriazaindene, tetrahydroxyazaindene, hydroxypentaazaindene compound, or the like is more preferable.
複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。 The heterocyclic ring may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a cyano group. You may have.
これ含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、おおよその量はハロゲン化銀1モル当たりの量で10-6〜1モルの範囲であり、好ましくは10-4〜10-1モルの範囲である。 The amount of the heterocyclic compound added varies over a wide range depending on the size, composition, and other conditions of the silver halide grains, but the approximate amount is 10 -6 per mole of silver halide. It is in the range of ˜1 mol, preferably in the range of 10 −4 to 10 −1 mol.
本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、金イオンなどの貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば、金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。なお、特開平11−194447号に開示されている金増感技術が参考となる。 The photosensitive silver halide according to the present invention can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example, a chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer. The gold sensitization technique disclosed in JP-A-11-194447 is useful as a reference.
又、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物として、例えば、アスコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。 In addition to the above-described sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used. Examples of reduction sensitization shell-like compounds include ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, A borane compound, a silane compound, a polyamine compound, or the like can be used. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower.
本発明において、化学増感を施されるハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩の存在下で形成されたのでも、当該有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、また、両者が混合されたものでもよい。 In the present invention, the silver halide grains subjected to chemical sensitization may be formed in the presence of an aliphatic carboxylic acid silver salt, or in the absence of the organic silver salt, A mixture of the two may be used.
本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に化学増感を施した場合においては、熱現像過程経過後に該化学増感の効果が実質的に消失することが必要である。ここで、化学増感の効果が実質的に消失するとは、前記の化学増感技術によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に化学増感を施していない場合の感度の1.1以下に減少することを言う。なお、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、化学増感中心(化学増感核)を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層または/及び非感光層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、化学増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。 In the present invention, when chemical sensitization is performed on the surface of the photosensitive silver halide grains, it is necessary that the chemical sensitization effect substantially disappears after the thermal development process. Here, the chemical sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained by the chemical sensitization technique is 1.1 when the chemical sensitization is not performed after the thermal development process. Say to decrease below. In order to eliminate the chemical sensitization effect in the heat development process, an oxidant capable of destroying the chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) by an oxidation reaction at the time of heat development, for example, the above-mentioned halogen radical releasing compound, etc. It is necessary to contain an appropriate amount of the above in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the chemical sensitization effect, and the like.
〔分光増感〕
本発明における感光性ハロゲン化銀には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば、特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許第4,639,414号、同第4,740,455号、同第4,741,966号、同第4,751,175号、同第4,835,096号に記載された増感色素が使用できる。
[Spectral sensitization]
The photosensitive silver halide in the present invention is preferably subjected to spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye. As spectral sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes and the like can be used. For example, JP-A-63-159841, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651, JP-A-63-304242, JP-A-63-15245, US Pat. No. 4,639,414, No. 4,740,455, No. 4,741,966, No. 4,751,175, No. 4,835,096 can be used.
本発明に使用される有用な増感色素は、例えば、リサーチ・ディスクロージャー(以下、RDと略す)17643IV−A項(1978年12月p.23)、RD18431X項(1978年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に、各種レーザー・イメージャーやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号に記載の化合物が好ましく用いられる。 Useful sensitizing dyes used in the present invention include, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) 17643IV-A (December 1978 p.23), RD18431X (August 1978 p.437). It is described in the literature described or cited. In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light sources of various laser imagers and scanners. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.
有用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。 Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Useful merocyanine dyes are preferably acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus in addition to the basic nuclei described above. Including.
本発明においては、特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば米国特許第4,536,473号、同第4,515,888号、同第4,959,294号等に開示されている赤外分光増感色素が挙げられる。 In the present invention, a sensitizing dye having spectral sensitivity particularly in the infrared can also be used. Examples of infrared spectral sensitizing dyes preferably used include infrared spectral sensitization disclosed in US Pat. Nos. 4,536,473, 4,515,888, 4,959,294, and the like. Examples include dyes.
本発明に係る銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、特願2003−102726号に記載されているような下記一般式(SD−1)で表される増感色素及び下記一般式(SD−2)で表される増感色素のうちから少なくとも1種を選び含有することが好ましい。 In the silver salt photothermographic dry imaging material according to the present invention, the sensitizing dye represented by the following general formula (SD-1) as described in Japanese Patent Application No. 2003-102726 and the following general formula (SD-2) It is preferable to contain at least one selected from sensitizing dyes represented by
式中、Y1及びY2は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、または−CH=CH−基を表し、L1〜L9は各々、メチン基を表す。R1、R2は各々、脂肪族基を表す。R3、R4、R23及びR24は各々、低級アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、または複素環基を表す。W1、W2、W3、W4は各々、水素原子、置換基、或いはW1とW2、W3とW4の間で結合して縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。或いはR3とW1、R3とW2、R23とW1、R23とW2、R4とW3、R4とW4、R24とW3、R24とW4の間で結合して5員、6員の縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。X1は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、k1は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。m1は0または1を表す。n1及びn2は各々、0、1または2を表す。但し、n1とn2は同時に0とはならない。 In the formula, Y 1 and Y 2 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a —CH═CH— group, and L 1 to L 9 each represent a methine group. R 1 and R 2 each represents an aliphatic group. R 3 , R 4 , R 23 and R 24 each represent a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. W 1 , W 2 , W 3 , and W 4 are each a hydrogen atom, a substituent, or a nonmetallic atom necessary for bonding between W 1 and W 2 , W 3 and W 4 to form a condensed ring. Represents a group. Or R 3 and W 1 , R 3 and W 2 , R 23 and W 1 , R 23 and W 2 , R 4 and W 3 , R 4 and W 4 , R 24 and W 3 , R 24 and W 4 Represents a group of non-metallic atoms necessary to form a 5-membered or 6-membered condensed ring by bonding. X 1 represents an ion necessary for canceling the charge in the molecule, and k 1 represents the number of ions necessary for canceling the charge in the molecule. m1 represents 0 or 1. n1 and n2 each represents 0, 1 or 2. However, n1 and n2 are not 0 at the same time.
上記の赤外増感色素は、例えば、エフ・エム・ハーマー著、The Chemistry of Heterocyclic Compounds第18巻、The Cyanine Dyes and Related Compounds(A.Weissberger ed.Interscience社刊、New York 1964年)に記載の方法によって容易に合成することができる。 The above-mentioned infrared sensitizing dyes are described in, for example, HM Hammer, The Chemistry of Heterocyclic Compounds, Vol. 18, The Cyanine Dies and Related Compounds, published by A. Weissberger ed. It can be easily synthesized by this method.
これらの赤外増感色素の添加時期は、ハロゲン化銀調製後の任意の時期でよく、例えば、溶剤に添加して、或いは微粒子状に分散した、いわゆる固体分散状態でハロゲン化銀粒子或いはハロゲン化銀粒子/脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。 These infrared sensitizing dyes may be added at any time after the silver halide is prepared. For example, silver halide grains or halogens may be added in a so-called solid dispersion state added to a solvent or dispersed in a fine particle form. It can be added to a light-sensitive emulsion containing silver halide grains / aliphatic carboxylic acid silver salt grains. Similarly to the heteroatom-containing compound having adsorptivity to the silver halide grains, chemical sensitization can be performed after adding and adsorbing to the silver halide grains prior to chemical sensitization. Thus, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved.
本発明において、上記の分光増感色素は1種類を単独に用いてもよいが、上述のように、分光増感色素の複数の種類の組合せを用いることが好ましく、そのような増感色素の組合せは、特に強色増感及び感光波長領域の拡大や調整等の目的でしばしば用いられる。 In the present invention, one kind of spectral sensitizing dye may be used alone, but as described above, it is preferable to use a combination of plural kinds of spectral sensitizing dyes. The combination is often used for the purpose of supersensitization and enlargement or adjustment of the photosensitive wavelength region.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いられる感光性ハロゲン化銀、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する乳剤は、増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されていてもよい。 The emulsion containing the photosensitive silver halide and the aliphatic carboxylic acid silver salt used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is not only a sensitizing dye but also a dye having no spectral sensitizing action itself or visible light. In the emulsion, a substance that does not substantially absorb the color and expresses a supersensitization effect may be contained in the emulsion, whereby the silver halide grains may be supersensitized.
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質は、RD17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号等に記載されているが、強色増感剤としては、下記で表される複素芳香族メルカプト化合物がまたはメルカプト誘導体化合物が好ましい。 Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in RD17643 (issued in December, 1978), page 23, Section J, or Japanese Patent Publication No. 9-25500, 43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, JP-A-5-341432, and the like. Examples of supersensitizers include heteroaromatic mercapto represented by the following. A compound or a mercapto derivative compound is preferred.
Ar−SM
式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、またはテルリウム原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましくは、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンズセレナゾール、ベンズテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリンである。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。
Ar-SM
In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium, or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzthiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzselenazole, benztelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine , Purine, quinoline, or quinazoline. However, other heteroaromatic rings are also included.
なお、脂肪族カルボン酸銀塩またはハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させたときに実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。 In addition, mercapto derivative compounds that substantially produce the above mercapto compounds when included in a dispersion of an aliphatic carboxylic acid silver salt or silver halide grain emulsion are also included. In particular, mercapto derivative compounds represented below are preferred examples.
Ar−S−S−Ar
式中のArは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
Ar-SS-Ar
Ar in the formula has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented above.
上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有しうる。 The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (for example, chlorine, bromine, iodine), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). It may have a substituent selected from the group consisting of those having a carbon atom) and alkoxy groups (for example, those having 1 or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms).
上記の強色増感剤の他に、特開2001−330918号明細書に開示されているヘテロ原子を有する大環状化合物も強色増感剤として使用できる。 In addition to the above supersensitizers, macrocycles having heteroatoms disclosed in JP-A-2001-330918 can also be used as supersensitizers.
本発明に係る強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルで用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀1モル当たり0.01〜0.5モルの量が好ましい。 The supersensitizer according to the present invention is preferably used in an amount of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in a photosensitive layer containing an organic silver salt and silver halide grains. Particularly preferred is an amount of 0.01 to 0.5 mole per mole of silver.
本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に分光増感色素を吸着せしめ分光増感が施されており、かつ熱現像過程経過後に該分光増感効果が実質的に消失することが必要である。ここで、分光増感効果が実質的に消失するとは、増感色素、強色増感剤等によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に分光増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。 In the present invention, it is necessary that the spectral sensitizing dye is adsorbed on the surface of the photosensitive silver halide grain to effect spectral sensitization, and that the spectral sensitizing effect should substantially disappear after the thermal development process. It is. Here, the spectral sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained with a sensitizing dye, supersensitizer, etc. is the sensitivity when the spectral sensitization is not performed after the thermal development process. It means to decrease to 1.1 times or less.
なお、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、熱によってハロゲン化銀粒子より脱離しやすい分光増感色素を使用するまたは/および分光増感色素を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層または/及び非感光層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、分光増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。 In order to eliminate the chemical sensitization effect in the thermal development process, use a spectral sensitizing dye that is easily detached from the silver halide grains by heat during thermal development or / and destroy the spectral sensitizing dye by an oxidation reaction. It is necessary to contain an appropriate amount of an oxidizing agent that can be used, such as the halogen radical-releasing compound, in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the spectral sensitization effect, and the like.
〔省銀化剤〕
本発明では、感光層または非感光層が、省銀化剤を含有することが好ましい。
[Silver saving agent]
In the present invention, the photosensitive layer or the non-photosensitive layer preferably contains a silver saving agent.
本発明において使用される省銀化剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物をいう。この低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。この省銀化剤は感光層または非感光層、更にはそのいずれにも存在せしめることができる。 The silver saving agent used in the present invention refers to a compound that can reduce the amount of silver necessary to obtain a certain silver image density. Various action mechanisms of the function of decreasing can be considered, but a compound having a function of improving the covering power of developed silver is preferable. Here, the covering power of developed silver refers to the optical density per unit amount of silver. This silver saving agent can be present in the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, or both.
省銀化剤としては、下記一般式(H)で表されるヒドラジン誘導体、下記一般式(G)で表せるビニル化合物、下記一般式(P)で表される4級オニウム化合物等が好ましい例として挙げられる。 Preferred examples of the silver saving agent include hydrazine derivatives represented by the following general formula (H), vinyl compounds represented by the following general formula (G), quaternary onium compounds represented by the following general formula (P), and the like. Can be mentioned.
一般式〔H〕において、式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよい脂肪族基、芳香族基、複素環基または−G0−D0基を、B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原子、または一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル基またはオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)−基、−SO−基、−SO2−基または−P(O)(G1D1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。好ましいD0としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。 In the general formula [H], A 0 represents an aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group which may have a substituent, and B 0 represents a blocking group. , A 1 and A 2 both represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group or an oxalyl group. Here, G 0 is —CO— group, —COCO— group, —CS— group, —C (═NG 1 D 1 ) — group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) ( G 1 D 1 ) — group, G 1 represents a simple bond, —O— group, —S— group or —N (D 1 ) — group, D 1 represents an aliphatic group, aromatic group, complex When a ring group or a hydrogen atom is represented and a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group. Preferred D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group and the like.
一般式〔H〕において、A0で表される脂肪族基は、好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、これらは更に適当な置換基(例えば、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されていてもよい。 In the general formula [H], the aliphatic group represented by A 0 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, an octyl group, a cyclohexyl group, and a benzyl group. These are further suitable substituents (for example, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfoxy group). Group, sulfonamido group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.).
一般式〔H〕において、A0で表される芳香族基は、単環または縮合環のアリール基が好ましく、例えばベンゼン環またはナフタレン環が挙げられ、A0で表される複素環基としては、単環または縮合環で窒素、硫黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び−G0−D0基は置換基を有していてもよい。A0として、特に好ましいものはアリール基及び−G0−D0基である。 In the general formula [H], the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed aryl group, such as a benzene ring or a naphthalene ring, and the heterocyclic group represented by A 0 is A heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, sulfur and oxygen atoms in a single ring or a condensed ring is preferred, such as a pyrrolidine ring, imidazole ring, tetrahydrofuran ring, morpholine ring, pyridine ring, pyrimidine ring, quinoline ring, Examples include a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring, and a furan ring. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent. Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a —G 0 -D 0 group.
又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散基またはハロゲン化銀吸着基を、少なくとも一つ含むことが好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。 In the general formula [H], A 0 preferably contains at least one anti-diffusion group or silver halide adsorption group. As the anti-diffusion group, a ballast group commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is preferable. As the ballast group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, phenyl, which are photographically inactive, are preferable. Group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like, and the total number of carbon atoms in the substituent portion is preferably 8 or more.
一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト複素環基或いは特開昭64−90439号に記載の吸着基等が挙げられる。 In the general formula [H], examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group, and JP-A-64. And the adsorbing group described in -90439.
一般式〔H〕において、B0はブロッキング基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)−基、−SO−基、−SO2−基または−P(O)(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては−CO−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原子、または一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基等)、またはオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。 In the general formula [H], B 0 represents a blocking group, preferably a -G 0 -D 0 group, and G 0 represents a -CO- group, a -COCO- group, a -CS- group, -C (= NG 1 D 1 ) — group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D 1 ) — group. Preferred examples of G 0 include —CO— group and —COCO— group, G 1 represents a simple bond, —O— group, —S— group or —N (D 1 ) — group, and D 1 represents fatty acid. Represents a group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, An amino group etc. are mentioned. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or oxalyl group (Etoxalyl group, etc.).
これら一般式〔H〕で表される化合物は、公知の方法により容易に合成することができる。例えば、米国特許第5,464,738号、同第5,496,695号を参考にして合成することができる。 These compounds represented by the general formula [H] can be easily synthesized by known methods. For example, it can be synthesized with reference to US Pat. Nos. 5,464,738 and 5,496,695.
その他に好ましく用いることのできるヒドラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特許第5,464,738号カラム9〜11に記載の化合物1〜12である。これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で合成することができる。 Other hydrazine derivatives that can be preferably used include compounds H-1 to H-29 described in U.S. Pat. No. 5,545,505 columns 11 to 20, and U.S. Pat. No. 5,464,738 columns 9 to 11. Compounds 1 to 12 described. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.
一般式(G)において、XとRはシスの形で表示してあるが、XとRがトランスの形も一般式(G)に含まれる。この事は具体的化合物の構造表示においても同様である。 In the general formula (G), X and R are shown in a cis form, but a form in which X and R are trans is also included in the general formula (G). The same applies to the structure display of a specific compound.
一般式(G)において、Xは電子吸引性基を表し、Wは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサリル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スルファモイル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニルイミノ基、N−スルホニルイミノ基、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基を表す。 In General Formula (G), X represents an electron-withdrawing group, and W represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, an acyl group, a thioacyl group, an oxalyl group, an oxy group. Oxalyl, thiooxalyl, oxamoyl, oxycarbonyl, thiocarbonyl, carbamoyl, thiocarbamoyl, sulfonyl, sulfinyl, oxysulfinyl, thiosulfinyl, sulfamoyl, oxysulfinyl, thiosulfinyl, Sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group, N-sulfonylimino group, dicyanoethylene group, ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group, immonium group are represented.
Rはハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、銀塩等)、アミノ基、アルキルアミノ基、環状アミノ基(例えば、ピロリジノ基)、アシルアミノ基、オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環基(5〜6員の含窒素ヘテロ環、例えばベンツトリアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基等)、ウレイド基、スルホンアミド基を表す。XとW、XとRは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成してもよい。XとWが形成する環としては、例えばピラゾロン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β−ケトラクトン、β−ケトラクタム等が挙げられる。 R is a halogen atom, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkenyloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group , An alkenylthio group, an acylthio group, an alkoxycarbonylthio group, an aminocarbonylthio group, an organic or inorganic salt of a hydroxyl group or a mercapto group (for example, sodium salt, potassium salt, silver salt, etc.), amino group, alkylamino group, Cyclic amino group (for example, pyrrolidino group), acylamino group, oxycarbonylamino group, heterocyclic group (5-6 membered nitrogen-containing heterocycle such as benztriazolyl group, imidazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, etc.), Ureido group, sulfone It represents a bromide group. X and W, X and R may be bonded to each other to form a cyclic structure. Examples of the ring formed by X and W include pyrazolone, pyrazolidinone, cyclopentanedione, β-ketolactone, β-ketolactam and the like.
一般式(G)について更に説明すると、Xの表す電子吸引性基とは、置換基定数σpが正の値をとりうる置換基のことである。具体的には、置換アルキル基(ハロゲン置換アルキル等)、置換アルケニル基(シアノビニル等)、置換・未置換のアルキニル基(トリフルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル等)、置換アリール基(シアノフェニル等)、置換・未置換のヘテロ環基(ピリジル、トリアジニル、ベンゾオキサゾリル等)、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基(アセチル、トリフルオロアセチル、ホルミル等)、チオアセチル基(チオアセチル、チオホルミル等)、オキサリル基(メチルオキサリル等)、オキシオキサリル基(エトキサリル等)、チオオキサリル基(エチルチオオキサリル等)、オキサモイル基(メチルオキサモイル等)、オキシカルボニル基(エトキシカルボニル等)、カルボキシル基、チオカルボニル基(エチルチオカルボニル等)、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基(エトキシスルホニル等)、チオスルホニル基(エチルチオスルホニル等)、スルファモイル基、オキシスルフィニル基(メトキシスルフィニル等)、チオスルフィニル基(メチルチオスルフィニル等)、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニルイミノ基(N−アセチルイミノ等)、N−スルホニルイミノ基(N−メタンスルホニルイミノ等)、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基が挙げられるが、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、インモニウム基等が環を形成したヘテロ環状のものも含まれる。σp値として0.30以上の置換基が特に好ましい。 The general formula (G) will be further described. The electron-withdrawing group represented by X is a substituent whose substituent constant σp can take a positive value. Specifically, a substituted alkyl group (such as halogen-substituted alkyl), a substituted alkenyl group (such as cyanovinyl), a substituted / unsubstituted alkynyl group (such as trifluoromethylacetylenyl, cyanoacetylenyl), a substituted aryl group (such as cyano) Phenyl, etc.), substituted / unsubstituted heterocyclic groups (pyridyl, triazinyl, benzoxazolyl, etc.), halogen atoms, cyano groups, acyl groups (acetyl, trifluoroacetyl, formyl, etc.), thioacetyl groups (thioacetyl, thioformyl, etc.) ), Oxalyl group (such as methyloxalyl), oxyoxalyl group (such as etoxalyl), thiooxalyl group (such as ethylthiooxalyl), oxamoyl group (such as methyloxamoyl), oxycarbonyl group (such as ethoxycarbonyl), carboxyl group, thiol Carbonyl group (ethylthiocarboni ), Carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfonyl group (such as ethoxysulfonyl), thiosulfonyl group (such as ethylthiosulfonyl), sulfamoyl group, oxysulfinyl group (such as methoxysulfinyl), thiosulfinyl group (Such as methylthiosulfinyl), sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group (N-acetylimino etc.), N-sulfonylimino group (N-methanesulfonylimino etc.), dicyanoethylene group, ammonium Group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group, immonium group, and the like include a heterocyclic group in which an ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, immonium group and the like form a ring. A substituent having a σp value of 0.30 or more is particularly preferable.
Wとして表されるアルキル基としては、メチル、エチル、トリフルオロメチル等が、アルケニル基としてはビニル、ハロゲン置換ビニル、シアノビニル等が、アルキニル基としてはアセチレニル、シアノアセチレニル等が、アリール基としてはニトロフェニル、シアノフェニル、ペンタフルオロフェニル等が、ヘテロ環基としてはピリジル、ピリミジル、トリアジニル、スクシンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。Wとしてはσp値が正の電子吸引性基が好ましく、更にはその値が0.30以上のものが好ましい。 Examples of the alkyl group represented by W include methyl, ethyl, trifluoromethyl, etc., examples of the alkenyl group include vinyl, halogen-substituted vinyl, cyanovinyl, etc., examples of the alkynyl group include acetylenyl, cyanoacetylenyl, and the like as the aryl group. Nitrophenyl, cyanophenyl, pentafluorophenyl and the like, and examples of the heterocyclic group include pyridyl, pyrimidyl, triazinyl, succinimide, tetrazolyl, triazolyl, imidazolyl and benzoxazolyl. W is preferably an electron-withdrawing group having a positive σp value, and more preferably 0.30 or more.
上記Rの置換基の内、好ましくはヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、更に好ましくはヒドロキシル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、特に好ましくはヒドロキシル基、ヒドロキシル基またはメルカプト基の有機または無機の塩が挙げられる。 Among the substituents of R, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group, an alkylthio group, a halogen atom, an organic or inorganic salt of a hydroxyl group or a mercapto group, and a heterocyclic group are preferable, and a hydroxyl group, more preferably An organic or inorganic salt of an alkoxy group, a hydroxyl group or a mercapto group, or a heterocyclic group is exemplified, and an organic or inorganic salt of a hydroxyl group, a hydroxyl group or a mercapto group is particularly preferred.
また上記X及びWの置換基の内、置換基中にチオエーテル結合を有するものが好ましい。 Of the substituents X and W, those having a thioether bond in the substituent are preferred.
一般式(P)において、Q3は窒素原子または燐原子を表し、R1、R2、R3及びR4は、各々水素原子または置換基を表し、X−はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結して環を形成してもよい。 In the general formula (P), Q 3 represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X − represents an anion. R 1 to R 4 may be connected to each other to form a ring.
R1〜R4で表される置換基としては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、アリル基、ブテニル基等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(例えば、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。 Examples of the substituent represented by R 1 to R 4 include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group), an alkenyl group (for example, an allyl group, a butenyl group). Group), alkynyl group (eg, propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (eg, piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group) , Thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group, sulfolanyl group, etc.), amino group and the like.
R1〜R4が互いに連結して形成しうる環としては、例えば、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられる。 Examples of the ring that R 1 to R 4 can be formed by connecting to each other include a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring.
R1〜R4で表される基は、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有してもよい。R1、R2、R3及びR4としては、水素原子及びアルキル基が好ましい。 The group represented by R 1 to R 4 may have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group, and an aryl group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom and an alkyl group.
X−が表すアニオンとしては、例えば、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙げられる。 Examples of the anion represented by X- include inorganic and organic anions such as halogen ions, sulfate ions, nitrate ions, acetate ions, and p-toluenesulfonate ions.
上記4級オニウム化合物は公知の方法に従って容易に合成でき、例えば、上記テトラゾリウム化合物は、Chemical Reviews vol.55 p.335〜483に記載の方法を参考にできる。上記省銀化剤の添加量は、脂肪族カルボン酸銀塩1モルに対し10-5〜1モル、好ましくは10-4〜5×10-1モルの範囲である。 The quaternary onium compound can be easily synthesized in accordance with a known method. For example, the tetrazolium compound can be synthesized by referring to Chemical Reviews vol. 55 p. The method described in 335-483 can be referred to. The amount of the silver saving agent added is in the range of 10 −5 to 1 mol, preferably 10 −4 to 5 × 10 −1 mol, per mol of the aliphatic carboxylic acid silver salt.
本発明では、省銀化剤の少なくとも一種が、シラン化合物であることも好ましい。本発明において、省銀化剤として用いるシラン化合物としては、特開2003−5324号明細書に開示されているような一級または二級アミノ基を2個以上有するアルコキシシラン化合物あるいはその塩であることが好ましい。 In the present invention, it is also preferred that at least one silver saving agent is a silane compound. In the present invention, the silane compound used as a silver saving agent is an alkoxysilane compound having two or more primary or secondary amino groups or a salt thereof as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-5324. Is preferred.
省銀化剤として、アルコキシシラン化合物あるいはその塩、またはシフ塩基を画像形成層中に添加する場合は、銀1モルに対して通常0.00001〜0.05モルの範囲で添加するのが好ましい。また、アルコキシシラン化合物あるいはその塩と、シフ塩基の両方を画像形成層に添加する場合も同様の範疇となる。 As a silver saving agent, when an alkoxysilane compound or a salt thereof, or a Schiff base is added to the image forming layer, it is preferably added in a range of usually 0.00001 to 0.05 mol with respect to 1 mol of silver. . The same category applies when both an alkoxysilane compound or a salt thereof and a Schiff base are added to the image forming layer.
〔バインダー〕
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に好適なバインダーは、透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水性でも非親水性でもよい。
〔binder〕
Binders suitable for the silver salt photothermographic dry imaging materials of the present invention are transparent or translucent and generally colorless and are natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other media forming films such as: gelatin, gum arabic, Poly (vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid) ), Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters) Polyesters, polyurethanes, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride), poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate), cellulose esters, and polyamides. It may be hydrophilic or non-hydrophilic.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましいバインダーはポリビニルブチラールである。詳しくは後述する。又、上塗り層や下引層、特に保護層やバックコート層等の非感光層に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。なお、必要に応じて、上記のバインダーは2種以上を組み合わせて用いうる。 Preferred binders for the photosensitive layer of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention are polyvinyl acetals, and a particularly preferred binder is polyvinyl butyral. Details will be described later. In addition, for non-photosensitive layers such as overcoat layers and undercoat layers, particularly protective layers and backcoat layers, cellulose esters which are polymers having a higher softening temperature, particularly polymers such as triacetyl cellulose and cellulose acetate butyrate. Is preferred. In addition, as needed, said binder can be used in combination of 2 or more type.
このようなバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範囲は当業者が容易に決定しうる。例えば、感光層において少なくとも脂肪族カルボン酸銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと脂肪族カルボン酸銀塩との割合は15:1〜1:2、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、感光層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。 Such a binder is used in an effective range to function as a binder. The effective range can be easily determined by one skilled in the art. For example, as an index for holding at least an aliphatic carboxylic acid silver salt in the photosensitive layer, the ratio of the binder to the aliphatic carboxylic acid silver salt is 15: 1 to 1: 2, particularly 8: 1 to 1: 1. A range is preferred. That is, it is preferable amount of the binder in the photosensitive layer is a 1.5~6g / m 2. More preferably, it is 1.7-5 g / m < 2 >. If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area is significantly increased and may not be used.
本発明では、100℃以上の温度で現像処理した後の熱転移点温度が、46℃以上、200℃以下であることが好ましい、より好ましくは、70℃以上、105℃以下である。本発明でいう熱転移点温度とは、VICAT軟化点または環球法で示した値であり、示差走査熱量計(DSC)、例えばEXSTAR 6000(セイコー電子社製)、DSC220C(セイコー電子工業社製)、DSC−7(パーキンエルマー社製)等を用いて、熱現像済みの感光層を単離して測定した際の吸熱ピークをさす。一般的に高分子化合物はガラス転移点Tgを有しているが、銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、感光層に用いているバインダー樹脂のTg値よりも低いところに、大きな吸熱ピークが出現する。この熱転移点温度に着目し鋭意検討を行った結果、この熱転移点温度を46℃以上、200℃以下にすることにより、形成された塗膜の堅牢性が増すのみならず、感度、最大濃度、画像保存性など写真性能が大幅に向上することを新たに見出し、本発明に至った。 In the present invention, the heat transition temperature after development at a temperature of 100 ° C. or higher is preferably 46 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or higher and 105 ° C. or lower. The heat transition temperature referred to in the present invention is a value indicated by the VICAT softening point or ring-and-ball method, and is a differential scanning calorimeter (DSC), for example, EXSTAR 6000 (manufactured by Seiko Electronics), DSC220C (manufactured by Seiko Electronics Industry) DSC-7 (manufactured by Perkin Elmer Co., Ltd.) or the like is used to indicate the endothermic peak when the thermally developed photosensitive layer is isolated and measured. In general, polymer compounds have a glass transition point Tg, but in silver salt photothermographic dry imaging materials, a large endothermic peak appears below the Tg value of the binder resin used in the photosensitive layer. To do. As a result of diligent investigation focusing on this thermal transition point temperature, by setting the thermal transition point temperature to 46 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, not only the fastness of the formed coating film is increased, but also the sensitivity, maximum The inventors have newly found that photographic performance such as density and image storage stability is greatly improved, and have reached the present invention.
ガラス転移温度(Tg)は、ブランドラップらによる“重合体ハンドブック”III−139頁からIII−179頁(1966年、ワイリー アンド サン社版)に記載の方法で求めたものであり、バインダーが共重合体樹脂である場合のTgは下記の式で求められる。 The glass transition temperature (Tg) was obtained by the method described in “Polymer Handbook” pages III-139 to III-179 (1966, Wiley and Sun, Inc.) by Brandrup et al. Tg in the case of a polymer resin is obtained by the following formula.
Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・+vnTgn
〔式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは、共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。〕
なお、上式に従って計算されたTgの精度は、±5℃である。
Tg (copolymer) (° C.) = V 1 Tg 1 + v 2 Tg 2 +... + V n Tg n
Wherein, v 1, v 2 ··· v n represents the mass fraction of the monomer in the copolymer, Tg 1, Tg 2 ··· Tg n are each monomer in the copolymer Tg (° C.) of a single polymer obtained from the body. ]
The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ± 5 ° C.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、支持体上に脂肪族カルボン酸銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤等を含有する感光層に含有するバインダーとしては、従来公知の高分子化合物を用いることができる。Tgが70〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜500,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等のエチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体よりなる化合物、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。 In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, as a binder contained in a photosensitive layer containing an aliphatic carboxylic acid silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent, etc. on a support, a conventionally known polymer is used. Compounds can be used. The Tg is 70 to 105 ° C., the number average molecular weight is 1,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and the degree of polymerization is about 50 to 1,000. Examples of such include vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl alcohol, maleic acid, acrylic acid, acrylic ester, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylic acid, methacrylic ester, styrene, butadiene, ethylene, vinyl butyral, vinyl acetal, There are compounds made of a polymer or copolymer containing an ethylenically unsaturated monomer such as vinyl ether as a constituent unit, polyurethane resins, and various rubber resins.
また、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂については、朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。これらの高分子化合物に、特に制限はなく、誘導される重合体のガラス転移温度(Tg)が70〜105℃の範囲にあれば、単独重合体でも共重合体でもよい。 Moreover, phenol resin, epoxy resin, polyurethane curable resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, formaldehyde resin, silicone resin, epoxy-polyamide resin, polyester resin, and the like can be given. These resins are described in detail in “Plastic Handbook” issued by Asakura Shoten. There is no restriction | limiting in particular in these high molecular compounds, A homopolymer or a copolymer may be sufficient if the glass transition temperature (Tg) of the induced | guided | derived polymer exists in the range of 70-105 degreeC.
このようなエチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体としては、アクリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アリールエステル類、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、シアノアクリル酸アルキルエステル類、シアノアクリル酸アリールエステル類などを挙げることができ、それらのアルキル基、アリール基は置換されていてもされていなくてもよく、具体的にはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ベンジル、クロロベンジル、オクチル、ステアリル、スルホプロピル、N−エチル−フェニルアミノエチル、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチル、ジメチルアミノフェノキシエチル、フルフリル、テトラヒドロフルフリル、フェニル、クレジル、ナフチル、2−ヒドロキシエチル、4−ヒドロキシブチル、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2−メトキシエチル、3−メトキシブチル、2−アセトキシエチル、2−アセトアセトキシエチル、2−エトキシエチル、2−iso−プロポキシエチル、2−ブトキシエチル、2−(2−メトキシエトキシ)エチル、2−(2−エトキシエトキシ)エチル、2−(2−ブトキシエトキシ)エチル、2−ジフェニルホスホリルエチル、ω−メトキシポリエチレングリコール(付加モル数n=6)、アリル、ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩などを挙げることができる。 Polymers or copolymers containing such ethylenically unsaturated monomers as structural units include acrylic acid alkyl esters, acrylic acid aryl esters, methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, alkyl cyanoacrylates. Ester, cyanoacrylic acid aryl ester and the like, and the alkyl group and aryl group thereof may or may not be substituted. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, amyl, hexyl, cyclohexyl, benzyl, chlorobenzyl, octyl, stearyl, sulfopropyl, N-ethyl-phenylaminoethyl, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl , Dimethyl Minophenoxyethyl, furfuryl, tetrahydrofurfuryl, phenyl, cresyl, naphthyl, 2-hydroxyethyl, 4-hydroxybutyl, triethylene glycol, dipropylene glycol, 2-methoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-acetoxyethyl, 2 -Acetoacetoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-iso-propoxyethyl, 2-butoxyethyl, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl, 2- (2-butoxyethoxy) Examples thereof include ethyl, 2-diphenylphosphorylethyl, ω-methoxypolyethylene glycol (addition mole number n = 6), allyl, dimethylaminoethylmethyl chloride salt and the like.
その他、下記のモノマー等が使用できる。ビニルエステル類:その具体例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなど;N−置換アクリルアミド類、N−置換メタクリルアミド類及びアクリルアミド、メタクリルアミド:N−置換基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、メトキシエチル、ジメチルアミノエチル、フェニル、ジメチル、ジエチル、β−シアノエチル、N−(2−アセトアセトキシエチル)、ジアセトンなど;オレフィン類:例えば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン等;スチレン類:例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、tert−ブチルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなど;ビニルエーテル類:例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなど;N−置換マレイミド類:N−置換基として、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル、ベンジル、n−ドデシル、フェニル、2−メチルフェニル、2,6−ジエチルフェニル、2−クロルフェニルなどを有するものなど;その他として、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、メチレンマロンニトリル、塩化ビニリデンなどを挙げることができる。 In addition, the following monomers can be used. Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate. N-substituted acrylamides, N-substituted methacrylamides and acrylamides, methacrylamides: N-substituents include methyl, ethyl, propyl, butyl, tert-butyl, cyclohexyl, benzyl, hydroxymethyl, methoxyethyl, dimethyl Aminoethyl, phenyl, dimethyl, diethyl, β-cyanoethyl, N- (2-acetoacetoxyethyl), diacetone and the like; olefins: for example, dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1- Ten, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, 2,3-dimethylbutadiene, etc .; styrenes: for example, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, tert-butylstyrene , Chloromethylstyrene, methoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, vinyl benzoic acid methyl ester, etc .; vinyl ethers: for example, methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether N-substituted maleimides: As N-substituent, methyl, ethyl, propyl, butyl, tert-butyl, cyclohexyl , Benzyl, n-dodecyl, phenyl, 2-methylphenyl, 2,6-diethylphenyl, 2-chlorophenyl, etc .; others include butyl crotonate, hexyl crotonate, dimethyl itaconate, dibutyl itaconate , Diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-vinyl oxazolidone, N -Vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile, methylenemalonnitrile, vinylidene chloride and the like can be mentioned.
これらのうち、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。このような高分子化合物のなかでも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基を持つ高分子化合物では、生成する脂肪族カルボン酸との相溶性に優れるため膜の柔軟化を防ぐ効果が大きく好ましい。 Among these, particularly preferred examples include methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, styrenes, and the like. Among such polymer compounds, it is preferable to use a polymer compound having an acetal group. The polymer compound having an acetal group is preferable because it is excellent in compatibility with the aliphatic carboxylic acid to be produced and has a great effect of preventing the film from being softened.
アセタール基を持つ高分子化合物としては、下記一般式(V)で表される化合物が、特に好ましい。 As the polymer compound having an acetal group, a compound represented by the following general formula (V) is particularly preferable.
〔式中、R1はアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基を表すが好ましくはアリール基以外の基である。R2は無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、−COR3または−CONHR3を表す。R3はR1と同義である。〕
R1、R2、R3で表される無置換アルキル基としては、炭素数1〜20のものが好ましく、特に好ましくは炭素数1〜6である。これらは直鎖であっても分岐していてもよく、好ましくは直鎖のアルキル基が好ましい。このような無置換アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−アミル基、t−アミル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプシル基、n−オクチル基、t−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基等が挙げられるが、特に好ましくはメチル基もしくはプロピル基である。
[Wherein, R 1 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, but is preferably a group other than an aryl group. R 2 represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, —COR 3 or —CONHR 3 . R 3 has the same meaning as R 1 . ]
The unsubstituted alkyl group represented by R 1 , R 2 , or R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. These may be linear or branched, and preferably a linear alkyl group. Examples of such unsubstituted alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-amyl, t-amyl, n -Hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, t-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, etc. Is particularly preferably a methyl group or a propyl group.
無置換アリール基としては、炭素数6〜20のものが好ましく、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記のアルキル基、アリール基に置換可能な基としては、アルキル基(例えば、メチル基、n−プロピル基、t−アミル基、t−オクチル基、n−ノニル基、ドデシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基等)、ニトロ基、水酸基、シアノ基、スルホ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(例えば、メチルスルファモイル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、カルボキシ基、カルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシルボニル基等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル基等)などが挙げられる。この置換基が2つ以上あるときは、同じでも異なっていてもよい。置換アルキル基の総炭素数は、1〜20が好ましく、置換アリール基の総炭素数は6〜20が好ましい。 As an unsubstituted aryl group, a C6-C20 thing is preferable, for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned. Examples of the group that can be substituted with the above alkyl group or aryl group include an alkyl group (for example, a methyl group, an n-propyl group, a t-amyl group, a t-octyl group, an n-nonyl group, a dodecyl group), an aryl group. (For example, phenyl group), nitro group, hydroxyl group, cyano group, sulfo group, alkoxy group (for example, methoxy group), aryloxy group (for example, phenoxy group), acyloxy group (for example, acetoxy group), Acylamino group (for example, acetylamino group), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group), sulfamoyl group (for example, methylsulfamoyl group), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom) ), Carboxy group, carbamoyl group (for example, methylcarbamoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, metho Shiruboniru group), a sulfonyl group (e.g., methyl sulfonyl group). When there are two or more substituents, they may be the same or different. The total carbon number of the substituted alkyl group is preferably 1-20, and the total carbon number of the substituted aryl group is preferably 6-20.
R2としては、−COR3(R3はアルキル基またはアリール基)、−CONHR3(R3はアリール基)が好ましい。a、b、cは各繰り返し単位の質量をモル(mol)%で示した値であり、aは40〜86モル%、bは0〜30モル%、cは0〜60モル%の範囲で、a+b+c=100モル%となる数を表し、特に好ましくは、aが50〜86モル%、bが5〜25モル%、cが0〜40モル%の範囲である。a、b、cの各組成比をもつ各繰り返し単位は、それぞれ同一のもののみで構成されていても、異なるもので構成されていてもよい。 The R 2, -COR 3 (R 3 is an alkyl group or an aryl group), - CONHR 3 (R 3 is an aryl group). a, b, and c are values representing the mass of each repeating unit in mol (mol)%, a is 40 to 86 mol%, b is 0 to 30 mol%, and c is in the range of 0 to 60 mol%. A + b + c = 100 mol%, particularly preferably a is in the range of 50 to 86 mol%, b is 5 to 25 mol%, and c is 0 to 40 mol%. Each repeating unit having each composition ratio of a, b, and c may be composed of only the same one or may be composed of different ones.
本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべてのポリウレタンについて、必要に応じ、−COOM、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2、(Mは水素原子、またはアルカリ金属塩基を表す)、−N(R4)2、−N+(R4)3(R4は炭化水素基を表し、複数のR4は同じでも異なっていてもよい)、エポキシ基、−SH、−CNなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は10-1〜10-8モル/gであり、好ましくは10-2〜10-6モル/gである。これら極性基以外に、ポリウレタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上のOH基を有することが好ましい。OH基は硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、OH基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは、分子末端にOH基を3個以上有することが好ましく、4個以上有することが特に好ましい。ポリウレタンを用いる場合は、ガラス転移温度が70〜105℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2が好ましい。 As the polyurethane resin that can be used in the present invention, those having a known structure such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, and polycaprolactone polyurethane can be used. For all of the polyurethane shown here, if necessary, -COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -P = O (OM) 2, -O-P = O (OM) 2, (M is hydrogen Represents an atom or an alkali metal base), —N (R 4 ) 2 , —N + (R 4 ) 3 (R 4 represents a hydrocarbon group, and a plurality of R 4 may be the same or different); It is preferable to use one in which at least one polar group selected from an epoxy group, —SH, —CN and the like is introduced by copolymerization or addition reaction. The amount of such a polar group is 10 −1 to 10 −8 mol / g, preferably 10 −2 to 10 −6 mol / g. In addition to these polar groups, it is preferable to have at least one OH group in total at least one at the polyurethane molecule end. Since OH groups are cross-linked with polyisocyanate which is a curing agent to form a three-dimensional network structure, it is more preferable that the OH groups are contained in the molecule. In particular, it is preferable that the OH group is at the molecular end because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has 3 or more OH groups at the molecular terminals, and particularly preferably 4 or more. When polyurethane is used, the glass transition temperature is preferably 70 to 105 ° C., the elongation at break is 100 to 2000%, and the stress at break is preferably 0.5 to 100 N / mm 2 .
本発明において、上記一般式(V)で表される高分子化合物は、「酢酸ビニル樹脂」桜田一郎編(高分子化学刊行会、1962年)等に記載の一般的な合成方法で合成することができる。 In the present invention, the polymer compound represented by the general formula (V) is synthesized by a general synthesis method described in “vinyl acetate resin” edited by Ichiro Sakurada (Polymer Chemistry Publishing Society, 1962) and the like. Can do.
これらの高分子化合物をバインダーとして単独で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いてもよい。本発明の感光性銀塩含有層(好ましくは感光層)には上記ポリマーを主バインダーとして用いる。ここで言う主バインダーとは「感光性銀塩含有層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」をいう。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明のポリマーが可溶となる溶媒であれば、特に制限はない。より好ましくはポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。 These polymer compounds may be used alone as a binder, or two or more kinds may be blended and used. In the photosensitive silver salt-containing layer (preferably photosensitive layer) of the present invention, the above polymer is used as a main binder. The main binder as used herein refers to “a state in which the polymer occupies 50% by mass or more of the total binder of the photosensitive silver salt-containing layer”. Therefore, other polymers may be blended and used within a range of less than 50% by weight of the total binder. These polymers are not particularly limited as long as the polymers of the present invention are soluble. More preferably, polyvinyl acetate, a polyacrylic resin, a urethane resin, etc. are mentioned.
本発明で用いられる架橋剤としては、従来ハロゲン化銀写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば、特開昭50−96216号に記載されているアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤を用いうるが、好ましいのは以下に示すイソシアネート系化合物、シラン化合物、エポキシ化合物または酸無水物である。 Examples of the crosslinking agent used in the present invention include various crosslinking agents conventionally used for silver halide photographic light-sensitive materials, such as aldehyde-based, epoxy-based, and ethyleneimine described in JP-A-50-96216. , Vinyl sulfone, sulfonic acid ester, acryloyl, carbodiimide, and silane compound crosslinking agents can be used, but the following isocyanate compounds, silane compounds, epoxy compounds, or acid anhydrides are preferred.
好適なものの一つである下記一般式〔IC〕で表されるイソシアネート系及びチオイソシアネート系架橋剤について説明する。 An isocyanate-based and thioisocyanate-based crosslinking agent represented by the following general formula [IC], which is one of the preferable ones, will be described.
一般式〔IC〕 X=C=N−L−(N=C=X)
式中、vは1または2であり、Lはアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアルキルアリール基で、v+1価の連結基であり、Xは酸素または硫黄原子である。
General Formula [IC] X = C = N-L- (N = C = X)
In the formula, v is 1 or 2, L is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or an alkylaryl group, a v + 1 valent linking group, and X is an oxygen or sulfur atom.
なお、上記一般式〔IC〕で表せる化合物において、アリール基のアリール環は置換基を有し得る。好ましい置換基の例は、ハロゲン原子(例えば、臭素原子または塩素原子)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基及びアルコキシ基から選択される。 In the compound represented by the above general formula [IC], the aryl ring of the aryl group may have a substituent. Examples of preferred substituents are selected from halogen atoms (for example, bromine atoms or chlorine atoms), hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, alkyl groups and alkoxy groups.
上記イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、更に、具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2価または3価のポリアルコール類との付加体が挙げられる。 The isocyanate-based crosslinking agent includes isocyanates having at least two isocyanate groups and adducts thereof (adducts), and more specifically, aliphatic diisocyanates and aliphatic diisocyanates having a cyclic group. Benzene diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates and divalent or trivalent with these isocyanates Examples include adducts with polyalcohols.
具体例としては、特開昭56−5535号の10頁〜12頁に記載されているイソシアネート化合物を利用することができる。 As specific examples, isocyanate compounds described on pages 10 to 12 of JP-A-56-5535 can be used.
なお、イソシアネートとポリアルコールのアダクト体は、特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは銀塩光熱写真ドライイメージング材料のどの部分に置かれてもよい。例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層または2層以上に添加することができる。 Note that the adduct body of isocyanate and polyalcohol has particularly high ability to improve interlayer adhesion, and prevent layer peeling, image shift, and bubble generation. Such isocyanates may be placed in any part of the silver salt photothermographic dry imaging material. For example, in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition), photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc. It can be added to any one of these layers, and can be added to one or more of these layers.
又、本発明において使用することが可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。 As the thioisocyanate-based crosslinking agent that can be used in the present invention, compounds having a thioisocyanate structure corresponding to the above-mentioned isocyanates are also useful.
本発明において使用される上記架橋剤の量は、銀1モルに対して0.001〜2モル、好ましくは0.005から0.5モルの範囲である。 The amount of the crosslinking agent used in the present invention is in the range of 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, with respect to 1 mol of silver.
本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、上記の一般式においてvが零(0)、即ち当該官能基を一つのみ有する化合物であっても良い結果が得られる。 The isocyanate compound and thioisocyanate compound that can be contained in the present invention are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent, but in the above general formula, v is zero (0), that is, the functional group is one. Even if it is a compound which has only, a good result is obtained.
本発明において架橋剤として使用できるシラン化合物の例としては、特開2002−22203号に記載されている一般式(1)または一般式(2)で表せる化合物が挙げられる。 Examples of the silane compound that can be used as a crosslinking agent in the present invention include compounds represented by general formula (1) or general formula (2) described in JP-A-2002-22203.
これらの一般式において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ置換されてもよい直鎖、分枝または環状の炭素数1〜30のアルキル基(メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、シクロアルキル基等)、アルケニル基(プロペニル基、ブテニル基、ノネニル基等)、アルキニル基(アセチレン基、ビスアセチレン基、フェニルアセチレン基等)、アリール基またはヘテロ環基(フェニル基、ナフチル基、テトラヒドロピラン基、ピリジル基、フリル基、チオフェニル基、イミダゾール基、チアゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基等)を表し、置換基としては電子吸引性の置換基または電子供与性の置換基いずれをも有することができる。 In these general formulas, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each an optionally substituted linear, branched or cyclic C 1-30 carbon atom. Alkyl group (methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, cycloalkyl group, etc.), alkenyl group (propenyl group, butenyl group, nonenyl group, etc.), alkynyl group (acetylene group, bisacetylene group, phenylacetylene) Group), aryl group or heterocyclic group (phenyl group, naphthyl group, tetrahydropyran group, pyridyl group, furyl group, thiophenyl group, imidazole group, thiazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, etc.), substituent As an electron-withdrawing substituent or an electron-donating substituent.
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8から選ばれる置換基の少なくとも1つが耐拡散性基または吸着性基であることが好ましく、特にR2が耐拡散性基または吸着性基であることが好ましい。 R 1, R 2, R 3 , R 4, preferably R 5, R 6, at least 1 Tsuga耐diffusible group or adsorptive group substituents selected from R 7 and R 8, especially R 2 A diffusion-resistant group or an adsorptive group is preferable.
なお、耐拡散性基は、バラスト基とも呼ばれ炭素数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキル基が導入されているアリール基等が好ましい。耐拡散性は、バインダーや架橋剤の使用量によって異なるが、耐拡散性の基を導入することにより、室温状態の分子内の移動距離が抑制され経時での反応を抑制できる。 The non-diffusible group is also called a ballast group, and is preferably an aliphatic group having 6 or more carbon atoms or an aryl group into which an alkyl group having 3 or more carbon atoms is introduced. Diffusion resistance varies depending on the amount of binder and cross-linking agent used, but by introducing a diffusion-resistant group, the intramolecular movement distance at room temperature is suppressed, and the reaction over time can be suppressed.
架橋剤として用いることができるエポキシ化合物としては、エポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。またエポキシ化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマー等のいずれであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーのいずれであってもよく、その数平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2000〜20000程度である。 The epoxy compound that can be used as the crosslinking agent is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups and the number of epoxy groups, molecular weight, and the like. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. Moreover, any of a monomer, an oligomer, a polymer, etc. may be sufficient as an epoxy compound, and the number of the epoxy groups which exist in a molecule | numerator is about 1-10 normally, Preferably it is 2-4. When the epoxy compound is a polymer, it may be a homopolymer or a copolymer, and the particularly preferred range of the number average molecular weight Mn is about 2000 to 20000.
エポキシ化合物としては、下記一般式(EP)で表される化合物が好ましい。 As an epoxy compound, the compound represented by the following general formula (EP) is preferable.
一般式(EP)において、Rで表されるアルキレン基の置換基は、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシアルキル基またはアミノ基から選ばれる基であることが好ましい。またRで表される連結基中にアミド連結部分、エーテル連結部分、チオエーテル連結部分を有していることが好ましい。Xで表される2価の連結基としては−SO2−、−SO2NH−、−S−、−O−、または−NR1−が好ましい。ここでR1は1価の基であり、電子吸引基であることが好ましい。 In the general formula (EP), the substituent of the alkylene group represented by R is preferably a group selected from a halogen atom, a hydroxyl group, a hydroxyalkyl group, or an amino group. The linking group represented by R preferably has an amide linking moiety, an ether linking moiety, or a thioether linking moiety. -SO 2 The divalent linking group represented by X -, - SO 2 NH - , - S -, - O-, or -NR 1 - is preferred. Here, R 1 is a monovalent group and is preferably an electron withdrawing group.
これらのエポキシ化合物は、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m2の範囲である。 These epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is.
エポキシ化合物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層または2層以上に添加することができる。又、併せて支持体の感光層と反対側の任意の層に添加することができる。尚、両面に感光層が存在するタイプの感材ではいずれの層であってもよい。 The epoxy compound can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as a photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc., and one or more of these layers can be added. Can be added. Further, it can be added to any layer on the opposite side of the support from the photosensitive layer. In addition, any layer may be sufficient in the type of photosensitive material in which a photosensitive layer exists on both surfaces.
酸無水物は下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化合物である。 An acid anhydride is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula.
−CO−O−CO−
酸無水物はこのような酸無水基を1個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はないが、下記一般式(SA)で表される化合物が好ましい。
-CO-O-CO-
The acid anhydride is not particularly limited as long as it has one or more acid anhydride groups, and the number, molecular weight, and the like of the acid anhydride groups are not limited, but a compound represented by the following general formula (SA) is preferable.
一般式(SA)において、Zは単環または多環系を形成するのに必要な原子群を表す。これらの環系は未置換であってもよく、置換されていてもよい。置換基の例には、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ヘキシル)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、オクチルオキシ)、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル、トリル)、ヒドロキシル基、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、ブチルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル、フェニルスルホニル)、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾキシ)、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、及びアミノ基が含まれる。置換基としては、ハロゲン原子を含まないものが好ましい。 In the general formula (SA), Z represents a group of atoms necessary for forming a monocyclic or polycyclic system. These ring systems may be unsubstituted or substituted. Examples of substituents include alkyl groups (eg, methyl, ethyl, hexyl), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, octyloxy), aryl groups (eg, phenyl, naphthyl, tolyl), hydroxyl groups, aryloxy groups (Eg, phenoxy), alkylthio group (eg, methylthio, butylthio), arylthio group (eg, phenylthio), acyl group (eg, acetyl, propionyl, butyryl), sulfonyl group (eg, methylsulfonyl, phenylsulfonyl), acylamino group Sulfonylamino group, acyloxy group (for example, acetoxy, benzoxy), carboxyl group, cyano group, sulfo group, and amino group. As the substituent, those not containing a halogen atom are preferable.
これらの酸無水物は、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m2の範囲である。 These acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is.
本発明において酸無水物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層または2層以上に添加することができる。又、前記エポキシ化合物と同じ層に添加すしてもよい。 In the present invention, the acid anhydride can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer, and an undercoat layer, and one of these layers or It can be added to two or more layers. Moreover, you may add to the same layer as the said epoxy compound.
〔色調調整〕
次に当該イメージング材料を熱現像処理して得られる画像の色調について説明する。
(Color adjustment)
Next, the color tone of an image obtained by heat developing the imaging material will be described.
従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が、判読者にとって、より的確な記録画像の診断観察結果が得やすいと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であり、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密な定量的な議論ができるように、以下においては、国際照明委員会(CIE)の推奨する表現法に基づき説明する。 Regarding the color tone of an output image for medical diagnosis such as a conventional X-ray photographic film, it is said that a cold tone image tone is easier for a reader to obtain a more accurate diagnostic observation result of a recorded image. Here, a cool image tone is a pure black tone or a bluish black tone with a black image, and a warm image tone is a black tone with a brown tone. However, in order to allow a more precise quantitative discussion, the following explanation is based on the expression recommended by the International Commission on Illumination (CIE).
色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度Dmin及び光学濃度D=1.0における色相角habにより表現できる。すなわち、色相角habは国際照明委員会(CIE)が1976年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL*a*b*色空間の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。 Terminology of color "more Hiyacho" and "more temperature control" can be represented by the hue angle h ab at the lowest density Dmin and optical density D = 1.0. That is, the hue angle h ab represents the color coordinates a * and b * of the color space L * a * b * color space, which is a color space having a perceptually uniform rate recommended by the International Commission on Illumination (CIE) in 1976. Using the following formula.
hab=tan-1(b*/a*)
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明に係る銀塩光熱写真イメージング材料の現像後の色調は、色相角habの範囲が180度<hab<270度であることが好ましい、更に好ましくは200度<hab<270度、最も好ましくは220度<hab<260度であることが分かった。このことは、特開2002−6463号に開示されている。
h ab = tan −1 (b * / a * )
As a result of the examination based on the expression method based on the hue angle, the color tone after development of the silver salt photothermographic imaging material according to the present invention preferably has a hue angle hab range of 180 degrees < hab <270 degrees. More preferably, it was found that 200 degrees < hab <270 degrees, and most preferably 220 degrees < hab <260 degrees. This is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-6463.
なお、従来、光学濃度1.0付近でのCIE 1976(L*u*v*)色空間または(L*a*b*)色空間におけるu*、v*またはa*、b*を特定の数値に調整することにより見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られており、例えば、特開2000−29164号明細書に記載されている。 Conventionally, the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space in the vicinity of an optical density of 1.0 is specified as u * , v * or a * , b * . It is known that a diagnostic image having a preferable visual color tone can be obtained by adjusting the numerical value, and is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-29164.
本発明に係る銀塩光熱写真イメージング材料について、更なる、鋭意検討の結果、CIE 1976(L*u*v*)色空間または(L*a*b*)色空間において横軸をu*またはa*、縦軸をv*またはb*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのu*、v*またはa*、b*をプロットし線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見いだした。以下において、本発明の条件範囲について述べる。 As a result of further intensive studies on the silver salt photothermographic imaging material according to the present invention, the horizontal axis is u * in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or (L * a * b * ) color space. When a linear regression line is created by plotting u * , v * or a * , b * at various photographic densities on a graph with a * and the vertical axis representing v * or b * , the linear regression line is plotted. It was found that by adjusting the value to a specific range, it has a diagnostic ability equal to or higher than that of the conventional wet silver salt light-sensitive material. In the following, the condition range of the present invention will be described.
当該イメージング材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L*a*b*)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998以上1.000以下である。 The optical density of the imaging material is measured at 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density. The horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space is a * , and the vertical axis is the two-dimensional coordinate in terms of the b *, a * in the above each optical density, coefficient of determination of the linear regression line that created arranged b * (multiple determination) R 2 is 1.000 or less than 0.998.
さらに、当該線形回帰直線の縦軸との交点のb*値が−5以上5以下であること、かつ傾き(b*/a*)が0.7以上2.5以下である。 Furthermore, the b * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 or more and 5 or less, and the slope (b * / a * ) is 0.7 or more and 2.5 or less.
なお、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2においても0.998以上1.000以下であること、当該線形回帰直線の縦軸との交点のv*値が−5以上5以下であること、かつ傾き(v*/u*)が0.7以上2.5以下であることが好ましい。 Note that the linear regression line determination coefficient (multiple determination) R 2 created by arranging u * and v * at each optical density is 0.998 or more and 1.000 or less, and the vertical line of the linear regression line is vertical. The v * value at the intersection with the axis is preferably −5 or more and 5 or less, and the slope (v * / u * ) is preferably 0.7 or more and 2.5 or less.
次に、上述の線形回帰直線の作成法、則ち、CIE 1976色空間におけるu*、v*およびa*、b*の測定法の一例を説明する。 Next, an example of a method for creating the above-described linear regression line, that is, a method for measuring u * , v * and a * , b * in the CIE 1976 color space will be described.
熱現像装置を用いて未露光部、および光学濃度0.5、1.0、1.5を含む4段のウエッジ試料を作製する。このようにして作製したそれぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計(例:CM−3600d;ミノルタ株式会社製)で測定しu*、v*またはa*、b*を算出する。その際の測定条件は光源としてF7光源、視野角を10°として透過測定モードで測定を行う。横軸をu*またはa*、縦軸をv*またはb*としたグラフ上に測定したu*、v*またはa*、b*をプロットし線形回帰直線を求め決定係数(重決定)R2、切片および傾きを求める。 A four-stage wedge sample including an unexposed portion and optical densities of 0.5, 1.0, and 1.5 is prepared using a heat development apparatus. Each wedge density part thus produced is measured with a spectrocolorimeter (example: CM-3600d; manufactured by Minolta Co., Ltd.) to calculate u * , v * or a * , b * . The measurement conditions at that time are F7 light source as the light source, the viewing angle is 10 °, and measurement is performed in the transmission measurement mode. Plot u * , v *, a * , b * measured on a graph with u * or a * on the horizontal axis and v * or b * on the vertical axis to obtain a linear regression line and determine coefficient (multiple determination) R 2 Find the intercept and slope.
次に、上記のような特徴をもつ線形回帰直線を得るための具体的な方法について説明する。 Next, a specific method for obtaining a linear regression line having the above characteristics will be described.
本発明においては、上記の調色剤、現像剤、ハロゲン化銀粒子及び脂肪族カルボン酸銀等の現像反応過程において直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により現像銀形状を最適化し好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。 In the present invention, the developed silver shape is adjusted by adjusting the addition amount of the above-described toning agent, developer, silver halide grains, and compounds such as aliphatic carboxylic acid silver which are directly and indirectly involved in the development reaction process. Optimized and preferred color tone. For example, when the developed silver shape is dendritic, it becomes a bluish direction, and when it is a filament shape, it becomes a yellowish direction. That is, it can be adjusted in consideration of the tendency of the developed silver shape.
従来、調色剤としてはフタラジノンまたはフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許第4,123,282号、同第3,994,732号、同第3,846,136号、同第4,021,249号明細書に開示されている。 Conventionally, phthalazinone or phthalazine and phthalic acids and phthalic anhydrides are generally used as toning agents. Examples of suitable toning agents are RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, and 4,021,249. Is disclosed.
このような調色剤の他に、特開平11−288057号、EP1134611A2号等に開示されているカプラー及び、下で詳述するロイコ染料を使用して色調を調整することが好ましい。 In addition to such a toning agent, it is preferable to adjust the color tone using a coupler disclosed in JP-A-11-288057, EP11334611A2, etc. and a leuco dye described in detail below.
また、本発明に係る熱現像後に内部潜像型に変換するハロゲン化銀粒子を併用することにより銀画像保存時における色調の変動を予想外に防止することができる。 Further, by using silver halide grains that are converted into the internal latent image type after heat development according to the present invention, it is possible to unexpectedly prevent color tone fluctuations during storage of silver images.
〔ロイコ染料〕
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料にはロイコ染料を用いる。
[Leuco dye]
A leuco dye is used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention.
ロイコ染料として好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色または僅かに着色した化合物でよく、銀イオンにより酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。 The leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80-200 ° C. for about 0.5-30 seconds and is oxidized by silver ions. Any leuco dye that forms a pigment can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.
本発明で使用するのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えばビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアリニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。又、有用なものは、米国特許3,445,234号、同3,846,136号、同3,994,732号、同4,021,249号、同4,021,250号、同4,022,617号、同4,123,282号、同4,368,247号、同4,461,681号、及び特開昭50−36110号、同59−206831号、特開平5−204087号、同11−231460号、特開2002−169249号、同2002−236334号等に開示されているロイコ染料である。 Representative leuco dyes suitable for use in the present invention are not particularly limited. And phenothiazine leuco dye. Also useful are U.S. Pat. Nos. 3,445,234, 3,846,136, 3,994,732, 4,021,249, 4,021,250, 4 No. 4,022,617, No. 4,123,282, No. 4,368,247, No. 4,461,681, and JP-A-50-36110, No. 59-206931, JP-A-5-204087. No. 11-231460, JP-A Nos. 2002-169249, 2002-236334, and the like.
所定の色調に調整するために、種々の色のロイコ染料を単独使用または複数の種類の併用をすることが好ましい。本発明においては高活性な還元剤を使用することに伴って色調が過度に黄色味をおびたり、微粒子のハロゲン化銀を用いることにより特に濃度が2.0以上の高濃度部で画像が過度に赤みをおびることを防止するために、シアン色に発色するロイコ染料を用いることが好ましいが、色調の微調整のためには更に黄色ロイコ染料、及びその他のシアン色に発色するロイコ染料を併用するのが好ましい。 In order to adjust to a predetermined color tone, it is preferable to use leuco dyes of various colors singly or in combination of a plurality of types. In the present invention, the color tone is excessively yellowish with the use of a highly active reducing agent, or the image is excessively high at a high density portion of 2.0 or more by using fine silver halide. It is preferable to use a leuco dye that develops in cyan to prevent redness, but a yellow leuco dye and other leuco dyes that develop in cyan are also used for fine-tuning the color tone. It is preferable to do this.
発色濃度は現像銀自身による色調との関係で適切に調整することが好ましい。本発明では、ロイコ染料により形成される色素像の吸収極大波長における最大濃度の総和が通常0.01以上0.30以下、好ましくは0.02以上0.20以下、特に好ましくは0.02以上0.10以下を有するように発色させ後述する好ましい色調範囲の画像になるように色調を調整することが好ましい。 The color density is preferably adjusted appropriately in relation to the color tone of the developed silver itself. In the present invention, the sum of the maximum densities at the absorption maximum wavelength of the dye image formed by the leuco dye is usually 0.01 or more and 0.30 or less, preferably 0.02 or more and 0.20 or less, particularly preferably 0.02 or more. It is preferable to adjust the color tone so that the color is developed so as to have a value of 0.10 or less and an image having a preferable color tone range described later is obtained.
(黄色発色性ロイコ染料)
本発明において、特に黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより360〜450nmの吸光度が増加する下記一般式(YL)で表される色像形成剤である。
(Yellow coloring leuco dye)
In the present invention, a color image forming agent represented by the following general formula (YL), which increases the absorbance at 360 to 450 nm when oxidized, is particularly preferably used as a yellow coloring leuco dye.
以下、一般式(YL)で表される化合物について詳細に説明する。 Hereinafter, the compound represented by formula (YL) will be described in detail.
前記一般式(YL)において、R1で表されるアルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。具体的にはメチル、エチル、ブチル、オクチル、i−プロピル、t−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル等が好ましく、i−プロピルよりも立体的に大きな基(i−プロピル、i−ノニル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等)であることが好ましく、その中でも2級または3級のアルキル基が好ましく、3級アルキル基であるt−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル等が特に好ましい。R1が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。 In the general formula (YL), the alkyl group represented by R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and may have a substituent. Specifically, methyl, ethyl, butyl, octyl, i-propyl, t-butyl, t-octyl, t-pentyl, sec-butyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl and the like are preferable, and steric rather than i-propyl. Is preferably a large group (i-propyl, i-nonyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl, adamantyl, etc.), and among them, secondary or tertiary alkyl Group is preferable, and tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-octyl, and t-pentyl are particularly preferable. Examples of the substituent that R 1 may have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, an oxycarbonyl group, and a carbamoyl group. , Sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like.
R2は水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基またはアシルアミノ基を表す。R2で表されるアルキル基は炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数1〜30のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記R1と同様である。 R 2 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, respectively. The alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the acylamino group is preferably an acylamino group having 1 to 30 carbon atoms. Among these, the description of the alkyl group is the same as that for R 1 .
R2で表されるアシルアミノ基は、無置換でも置換基を有してもよく、具体的には、アセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。R2として好ましくは、水素原子または無置換の炭素数1〜24のアルキル基であり、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチルが挙げられる。又、R1、R2は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。 The acylamino group represented by R 2 may be unsubstituted or substituted, and specific examples include an acetylamino group, an alkoxyacetylamino group, and an aryloxyacetylamino group. R 2 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, and t-butyl. R 1 and R 2 are not 2-hydroxyphenylmethyl groups.
R3は水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記R1と同様である。R3として好ましくは、水素原子または無置換の炭素数1〜24のアルキル基で、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチル等が挙げられる。又、R12、R13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。 R 3 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the description of the alkyl group is the same as that for R 1 . R 3 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, t-butyl and the like. Further, it is preferable either R 12, R 13 is a hydrogen atom.
R4はベンゼン環に置換可能な基を表し、例えば前記一般式(RED)における置換基R4で説明したのと同様な基である。R4として好ましいのは、置換または無置換の炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のオキシカルボニル基であり、炭素数1〜24のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。 R 4 represents a group capable of substituting on the benzene ring and is, for example, the same group as described for the substituent R 4 in the general formula (RED). R 4 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an oxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group include an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, an acyloxy group, an imide group, and a ureido group, and more preferable examples include an aryl group, an amino group, an oxycarbonyl group, and an alkoxy group. preferable. These alkyl group substituents may be further substituted with these substituents.
次に、一般式(YL)で表される化合物のうち、特に、本発明において好ましく用いられる化合物(ビスフェノール化合物)は次式であらわせる。 Next, among the compounds represented by the general formula (YL), a compound (bisphenol compound) preferably used in the present invention is represented by the following formula.
式中、Zは−S−または−C(R1)(R1′)−を表し、R1、R1′は各々、水素原子または置換基を表す。R1、R1′の表す置換基としては、前記一般式(RED)のR1の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。R1、R1′として好ましくは、水素原子またはアルキル基である。 In the formula, Z represents —S— or —C (R 1 ) (R 1 ′) —, and R 1 and R 1 ′ each represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 1 and R 1 ′ include the same groups as the substituents exemplified in the description of R 1 in the general formula (RED). R 1 and R 1 ′ are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
R2、R3、R2′及びR3′は、各々置換基を表すが、置換基としては一般式(RED)におけるR2、R3で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 2 , R 3 , R 2 ′ and R 3 ′ each represent a substituent, and examples of the substituent include the same groups as those described for R 2 and R 3 in the general formula (RED).
R2、R3、R2′及びR3′として好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、一般式(RED)における置換基の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 2 , R 3 , R 2 ′ and R 3 ′ are preferably an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group or heterocyclic group, with an alkyl group being more preferred. Examples of the substituent on the alkyl group include the same groups as those described in the description of the substituent in the general formula (RED).
R2、R3、R2′及びR3′として更に好ましくは、t−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、1−メチル−シクロヘキシル等の3級アルキル基である。 R 2 , R 3 , R 2 ′ and R 3 ′ are more preferably tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-pentyl, t-octyl and 1-methyl-cyclohexyl.
R4及びR4′は各々、水素原子または置換基を表すが、置換基としては、一般式(RED)におけるR4の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 4 and R 4 ′ each represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the same groups as those described in the description of R 4 in the general formula (RED).
一般式(YL)で表される化合物(ビスフェノール化合物)としては、例えば、特開2002−169249号の段落「0032」〜「0038」記載の化合物(II−1)〜(II−40)、EP1,211,093号の段落「0026」記載の化合物(ITS−1)〜(ITS−12)を挙げることができる。 Examples of the compound represented by the general formula (YL) (bisphenol compound) include compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0032” to “0038” of JP-A No. 2002-169249, EP1 , 211,093, the compounds (ITS-1) to (ITS-12) described in paragraph [0026].
以下に、一般式(YL)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (YL) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
一般式(YL)で表される化合物の添加量は、通常、銀1モル当たり0.00001〜0.01モルであり、好ましくは0.0005〜0.01モル、より好ましくは0.001〜0.008モルである。 The addition amount of the compound represented by the general formula (YL) is usually 0.00001 to 0.01 mol, preferably 0.0005 to 0.01 mol, more preferably 0.001 to 1 mol per 1 mol of silver. 0.008 mol.
(シアン発色性ロイコ染料)
次に、シアン発色性ロイコ染料について説明する。本発明において、特にシアン発色性染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより600〜700nmの吸光度が増加する色像形成剤であり、特開昭59−206831号(特にλmaxが600〜700nmの範囲内にある化合物)、特開平5−204087号の一般式(I)〜一般式(IV)の化合物(具体的には段落「0032」〜「0037」に記載の(1)〜(18)の化合物)及び特開平11−231460号の一般式4〜一般式7の化合物(具体的には段落「0105」に記載されるNo.1〜No.79の化合物)である。
(Cyan coloring leuco dye)
Next, the cyan color-forming leuco dye will be described. In the present invention, a color image forming agent that increases its absorbance at 600 to 700 nm when oxidized is particularly preferably used as a cyan color developing dye. JP-A-59-206831 (especially, λmax is 600 to 700 nm). And compounds of general formula (I) to general formula (IV) in JP-A-5-204087 (specifically, (1) to (18) described in paragraphs “0032” to “0037”) ) And compounds of general formula 4 to general formula 7 of JP-A No. 11-231460 (specifically, compounds of No. 1 to No. 79 described in paragraph “0105”).
本発明において特に好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料は、下記一般式(CL)で示される。 The cyan color-forming leuco dye particularly preferably used in the present invention is represented by the following general formula (CL).
式中、R1、R2は水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、R10がアルキル基、アリール基または複素環基であるNHCO−R10基でありか、または、R1、R2は互いに連結して脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環または複素環を形成する基である。Aは−NHCO−基、−CONH−基または−NHCONH−基でありR3は置換または無置換のアルキル基、アリール基または複素環基であるか、または−A−R3は水素原子であり、Wは水素原子またはR5が置換または無置換のアルキル基、アリール基または複素環基である−CONH−R5基、−CO−R5基または−CO−O−R5基であり、R4は水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、アルコキシ基、カルバモイル基、またはニトリル基を表す。R6はR7が置換または無置換のアルキル基、アリール基または複素環基である−CONH−R7基、−CO−R7基または−CO−O−R7基である。Xは、置換または無置換のアリール基、複素環基を表す。 In the formula, R 1 and R 2 are hydrogen atom, halogen atom, substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, NHCO-R 10 group in which R 10 is an alkyl group, aryl group or heterocyclic group. Or R 1 and R 2 are groups which are bonded to each other to form an aliphatic hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring. A is a —NHCO— group, —CONH— group or —NHCONH— group, R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group, or —A—R 3 is a hydrogen atom. , W is a hydrogen atom or —CONH—R 5 group, —CO—R 5 group or —CO—O—R 5 group, wherein R 5 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group, R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group, or a nitrile group. R 6 is a —CONH—R 7 group, a —CO—R 7 group or a —CO—O—R 7 group, wherein R 7 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. X represents a substituted or unsubstituted aryl group or heterocyclic group.
一般式(CL)において、ハロゲン原子としてはフッ素、臭素、塩素等、アルキル基としては炭素原子数が20までのアルキル基(メチル、エチル、ブチル、ドデシル等)、アルケニル基としては炭素原子数が20までのアルケニル基(ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、アルコキシ基としては炭素原子数20までのアルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)であり、アリール基としてはフェニル、ナフチル、チエニルのような炭素原子数6〜20の基、複素環基としてはチオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等の各基である。Aは−NHCO−基、−CONH−基または−NHCONH−基でありR3は置換または無置換のアルキル基(好ましく炭素原子数20まででメチル、エチル、ブチル、ドデシル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20でフェニル、ナフチル、チエニル等)または複素環基(チオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等)であるか、または−A−R3は水素原子であり、Wは水素原子またはR5が置換または無置換のアルキル基(好ましく炭素原子数20まででメチル、エチル、ブチル、ドデシル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20でフェニル、ナフチル、チエニル等)または複素環基(チオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等)である−CONH−R5基、−CO−R5基または−CO−O−R5基であり、R4は水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、沃素)、鎖状若しくは環状のアルキル基(例えば、メチル基、ブチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基など)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、ブトキシ基、テトラデシルオキシ基など)、カルバモイル基(例えば、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など)、またはニトリル基が好ましく、これらの中でも、水素原子、アルキル基がより好ましい。前記R1とR2、R3とR4は、互いに連結して環構造を形成してもよい。上記の基はさらに単一置換基または複数の置換基を有することができ、例えばアリール基に導入することのできる典型的な置換基にはハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ドデシル等)、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)、アルキルスルホンアミド基(メチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド等)、アリールスルホンアミド基(フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド等)、アルキルスルファモイル基(ブチルスルファモイル等)、アリールスルファモイル(フェニルスルファモイル等)、アルキルオキシカルボニル基(メトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、アミノスルホンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボニル基等が含まれる。これらの群の二つの異なった群をアリール基に導入することができる。R10またはR85は好ましくはフェニル基であり、より好ましくはハロゲン原子およびシアノ基を含む複数の置換基を有するフェニル基である。 In the general formula (CL), fluorine, bromine, chlorine, etc. as halogen atoms, alkyl groups having up to 20 carbon atoms (methyl, ethyl, butyl, dodecyl etc.) as alkyl groups, and alkenyl groups having carbon atoms Up to 20 alkenyl groups (vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, etc.), alkoxy groups Is an alkoxy group having up to 20 carbon atoms (methoxy, ethoxy, etc.), an aryl group is a group having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl, naphthyl, thienyl, and a heterocyclic group is thiophene, furan, imidazole. , Pyrazole, pyrrole and the like. A is a —NHCO— group, —CONH— group or —NHCONH— group, and R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl group (preferably up to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, butyl, dodecyl), an aryl group (preferably phenyl with 6 to 20 carbon atoms is, naphthyl, thienyl, etc.) or a Hajime Tamaki (thiophene, furan, imidazole, pyrazole, or pyrrole, etc.), or -A-R 3, is a hydrogen atom, W is a hydrogen atom Or R 5 is a substituted or unsubstituted alkyl group (preferably up to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, butyl, dodecyl, etc.), aryl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl, naphthyl, thienyl, etc.) or heterocyclic ring —CONH—R 5 group, —CO—R 5 group or —CO, which is a group (thiophene, furan, imidazole, pyrazole, pyrrole, etc.) —O—R 5 group, wherein R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine), a chain or cyclic alkyl group (eg, methyl group, butyl group, dodecyl group, cyclohexyl group). Etc.), alkoxy groups (for example, methoxy group, butoxy group, tetradecyloxy group, etc.), carbamoyl groups (for example, diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, etc.), or nitrile groups are preferable, and among these, hydrogen atom, alkyl Groups are more preferred. R 1 and R 2 , R 3 and R 4 may be linked to each other to form a ring structure. The above groups may further have a single substituent or a plurality of substituents. For example, typical substituents that can be introduced into an aryl group include halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, etc.), alkyl groups ( Methyl, ethyl, propyl, butyl, dodecyl, etc.), hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxy group (methoxy, ethoxy, etc.), alkylsulfonamide group (methylsulfonamide, octylsulfonamide, etc.), arylsulfonamide group (phenyl) Sulfonamides, naphthylsulfonamides, etc.), alkylsulfamoyl groups (butylsulfamoyl etc.), arylsulfamoyls (phenylsulfamoyl etc.), alkyloxycarbonyl groups (methoxycarbonyl etc.), aryloxycarbonyl groups (phenyl) Oxycarbonyl, etc.), aminosulfone Bromide group, an acylamino group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfoxy group, a sulfo group, an aryloxy group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group include an amino group. Two different groups of these groups can be introduced into the aryl group. R 10 or R 85 is preferably a phenyl group, more preferably a phenyl group having a plurality of substituents including a halogen atom and a cyano group.
R6はR7が置換または無置換のアルキル基(好ましく炭素原子数20まででメチル、エチル、ブチル、ドデシル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20でフェニル、ナフチル、チエニル等)または複素環基(チオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等)である−CONH−R7基、−CO−R7基または−CO−O−R7基である。R7が表すアルキル基の置換基としてはR1〜R4における置換基と同様のものが使用できる。X8は、置換または無置換のアリール基、複素環基を表す。アリール基としてはフェニル、ナフチル、チエニルのような炭素原子数6〜20の基、複素環基としてはチオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等の各基である。Xで表される基が有することができる置換基としてはR1〜R4における置換基と同様のものが使用できる。Xで表される基としてはパラ位にアルキルアミノ基(ジエチルアミノ基等)の置換したアリール基または複素環基が好ましい。これらは写真的に有用な基を含んでもよい。 R 6 is (methyl up to several preferably 20 carbon atoms, ethyl, butyl, dodecyl, etc.) R 7 is a substituted or unsubstituted alkyl group, (phenyl preferably 6 to 20 carbon atoms, naphthyl, thienyl, etc.) an aryl group or A —CONH—R 7 group, a —CO—R 7 group or a —CO—O—R 7 group which is a heterocyclic group (thiophene, furan, imidazole, pyrazole, pyrrole, etc.). As the substituent for the alkyl group represented by R 7, the same substituents as those for R 1 to R 4 can be used. X 8 represents a substituted or unsubstituted aryl group or heterocyclic group. Examples of the aryl group include groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl, naphthyl, and thienyl, and examples of the heterocyclic group include thiophene, furan, imidazole, pyrazole, and pyrrole. As the substituent that the group represented by X can have, the same substituents as those in R 1 to R 4 can be used. The group represented by X is preferably an aryl group or a heterocyclic group substituted with an alkylamino group (such as a diethylamino group) at the para position. These may contain photographically useful groups.
下記にシアン発色性ロイコ染料(CL)の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the cyan chromogenic leuco dye (CL) are shown below, but are not limited thereto.
シアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常0.00001〜0.05モル/Ag1モルであり、好ましくは0.0005〜0.02モル/Ag1モル、より好ましくは0.001〜0.01モル/Ag1モルである。 The addition amount of the cyan coloring leuco dye is usually 0.00001 to 0.05 mol / Ag1 mol, preferably 0.0005 to 0.02 mol / Ag1 mol, more preferably 0.001 to 0.01 mol. / Ag1 mol.
一般式(YL)で表される化合物及びシアン発色性ロイコ染料の添加方法としては、一般式(RED)で表される還元剤の添加方法と同様な方法で添加することができ、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、任意の方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてよい。 As a method for adding the compound represented by the general formula (YL) and the cyan color-forming leuco dye, it can be added in the same manner as the method for adding the reducing agent represented by the general formula (RED), You may make it contain in a coating liquid by arbitrary methods, such as an emulsified dispersion form and a solid fine particle dispersion form, and may make it contain in a photosensitive material.
一般式(YL)の化合物及びシアン発色性ロイコ染料は、有機銀塩を含有する画像形成層に含有させることが好ましいが、一方を画像形成層に、他方を該画像形成層に隣接する非画像形成層に含有させてもよく、両者を非画像形成層に含有させてもよい。又、画像形成層が複数層で構成されている場合には、それぞれ別層に含有させてもよい。 The compound of the general formula (YL) and the cyan color-forming leuco dye are preferably contained in an image forming layer containing an organic silver salt, but one is in the image forming layer and the other is adjacent to the image forming layer. You may make it contain in a forming layer, and may make both contain in a non-image forming layer. When the image forming layer is composed of a plurality of layers, they may be contained in separate layers.
〔その他〕
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(例えば、アルミニウム)等が挙げられるが、情報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシートまたはロールに加工できるものが好適である。従って本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料における支持体としては、プラスチックフィルム(例えばセルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルムまたはポリカーボネートフィルム等)が好ましく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。
[Others]
Examples of the support material used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (for example, aluminum), etc. In terms of handling, a material that can be processed into a flexible sheet or roll is suitable. Therefore, as a support in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, a plastic film (for example, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyamide film, polyimide film, cellulose triacetate film, polycarbonate film, etc.) In the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.
本発明においては帯電性を改良するために、金属酸化物及び/または導電性ポリマーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バッキング層、感光層と下引の間の層などに含まれる。本発明においては米国特許第5,244,773号カラム14〜20に記載された導電性化合物が好ましく用いられる。 In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layers in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the undercoat layer, the backing layer, the layer between the photosensitive layer and the undercoat, and the like. In the present invention, the conductive compounds described in US Pat. No. 5,244,773, columns 14 to 20 are preferably used.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、支持体上に少なくとも1層の感光層を有している。支持体の上に感光層のみを形成してもよいが、感光層の上に少なくとも一層の非感光層を形成するのが好ましい。例えば、感光層の上には保護層が、感光層を保護する目的で、又支持体の反対の面には感光材料間の、或いは感光材料ロールにおいてくっつきを防止する為に、バックコート層が設けられるのが好ましい。これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては熱現像層よりもガラス転移点が高く、擦り傷や、変形の生じにくいポリマー、例えばセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが、前記のバインダーのなかから選ばれる。なお、階調調整等のために、本発明では、感光層が2層以上からなることが好ましい、例えば、感光層を支持体の一方の側に2層以上設けても、あるいは支持体の両側に1層以上設置してもよい。 The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is provided on the photosensitive layer, and a back coat layer is provided on the opposite side of the support to prevent sticking between the photosensitive materials or in the photosensitive material roll. Preferably it is provided. Binders used in these protective layers and backcoat layers have a glass transition point higher than that of the heat-developable layer, and polymers such as scratches and deformations, such as cellulose acetate and cellulose acetate butyrate, are the above-mentioned binders. It is chosen from among them. For gradation adjustment, etc., in the present invention, it is preferable that the photosensitive layer comprises two or more layers. For example, two or more photosensitive layers may be provided on one side of the support, or both sides of the support may be provided. One or more layers may be installed.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、感光層を透過する光の量または波長分布を制御するために感光層と同じ側または反対の側にフィルター層を形成するか、感光層に染料または顔料を含有させることが好ましい。 In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, a filter layer is formed on the same side as or opposite to the photosensitive layer in order to control the amount of light transmitted through the photosensitive layer or the wavelength distribution, or a dye is formed on the photosensitive layer. Or it is preferable to contain a pigment.
用いられる染料としては、感光材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。 As the dye used, known compounds that absorb light in various wavelength regions can be used depending on the color sensitivity of the photosensitive material.
例えば、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特願平11−255557号に開示されているようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)、又スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、またはピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。 For example, when the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is used as an image recording material by infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus as disclosed in Japanese Patent Application No. 11-255557 (this specification) Used as a thiopyrylium squarylium dye) and a squarylium dye having a pyrylium nucleus (referred to herein as a pyrylium squarylium dye), or a thiopyrylium croconium dye similar to a squarylium dye, or a pyrylium croconium dye. It is preferable to do.
尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。以下本明細書ではこれらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染料とよぶ。 The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobutene-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy- in the molecular structure. It is a compound having 4,5-dione. Here, the hydroxyl group may be dissociated. Hereinafter, in the present specification, these pigments are collectively referred to as squarylium dyes for convenience.
なお、染料としては特開平8−201959号の化合物も好ましい。 As the dye, a compound described in JP-A-8-201959 is also preferable.
〔層構成及び塗布条件等〕
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解または分散させた塗布液を作り、それら塗布液を前記支持体上に塗布し加熱処理を行って形成される。感光層形成用の塗布液は30質量%以上の水を含有することが好ましく、更に好ましくは50質量%以上であり、特に上限はないが環境負荷の関係から溶媒量は少ない方が好ましく、総ての溶媒が水であることが好ましい。本発明においてはこれらの塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(例えば感光層、保護層)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下となる前に、上層を設けることである。
[Layer structure and coating conditions]
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is formed by preparing a coating solution in which the above-described constituent layers are dissolved or dispersed in a solvent, coating the coating solution on the support, and performing a heat treatment. The The coating solution for forming the photosensitive layer preferably contains 30% by mass or more of water, more preferably 50% by mass or more, and although there is no particular upper limit, it is preferable that the amount of the solvent is smaller from the viewpoint of environmental load. It is preferable that all the solvents are water. In the present invention, it is preferable that a plurality of these coating liquids are simultaneously applied in layers, followed by heat treatment. Here, "multiple simultaneous multi-layer coating" means that a coating solution for each constituent layer (for example, a photosensitive layer and a protective layer) is prepared, and when coating this onto a support, each layer is individually coated and dried repeatedly. In other words, it means that each constituent layer can be formed in such a state that the multilayer coating and drying can be performed simultaneously. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of the total solvent in the lower layer reaches 70% by mass or less.
各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、エクストリュージョン塗布法などの公知の方法を用いることができる。これらのうちより好ましくはエクストリュージョン塗布法と呼ばれる前計量タイプの塗布方式である。該エクストリュージョン塗布法はスライド塗布方式のようにスライド面での揮発がないため、精密塗布、有機溶剤塗布に適している。この塗布方法は感光層を有する側について述べたが、バックコート層を設ける際、下引とともに塗布する場合についても同様である。 There are no particular restrictions on the method of applying multiple layers of each constituent layer simultaneously, and for example, a known method such as a bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, or extrusion coating method may be used. Can do. Of these, a pre-weighing type coating method called an extrusion coating method is more preferable. Since the extrusion coating method does not volatilize on the slide surface unlike the slide coating method, it is suitable for precision coating and organic solvent coating. Although this coating method has been described on the side having the photosensitive layer, the same applies to the case of coating with undercoating when providing the backcoat layer.
本発明では、銀塗布量が、0.5g/m2以上、2.0g/m2以下であることが好ましい、更には1.0g/m2以上、1.5g/m2以下が好ましい。 In the present invention, the silver coating amount is preferably 0.5 g / m 2 or more and 2.0 g / m 2 or less, more preferably 1.0 g / m 2 or more and 1.5 g / m 2 or less.
また、本発明では、ハロゲン化銀粒子乳剤において、粒径0.030μm以上、0.055μm以下のハロゲン化銀粒子の銀換算含有量が、銀塗布量が0.5g/m2以上1.5g/m2以下の範囲で、3%以上、15%以下であることが好ましい。 In the present invention, the silver equivalent of silver halide grains having a grain size of 0.030 μm or more and 0.055 μm or less in the silver halide grain emulsion has a silver coating amount of 0.5 g / m 2 or more and 1.5 g. It is preferably 3% or more and 15% or less in the range of / m 2 or less.
当該塗布銀量の内、ハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して2〜18%を占めることが好ましい、更には3〜15%がより好ましい。 Among the applied silver amount, those derived from silver halide preferably occupy 2 to 18%, more preferably 3 to 15%, based on the total silver amount.
また本発明において、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014個/m2以上、1×1018個/m2以下が好ましい。更には、1×1015個/m2以上、1×1017個/m2以下が好ましい。 In the present invention, the coating density of silver halide grains of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to sphere) is preferably 1 × 10 14 particles / m 2 or more and 1 × 10 18 particles / m 2 or less. Furthermore, 1 × 10 15 pieces / m 2 or more and 1 × 10 17 pieces / m 2 or less are preferable.
更に本発明の脂肪族カルボン酸銀塩の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり、10-17g以上、10-15g以下、更には10-16g以上、10-14g以下が好ましい。 Furthermore, the coating density of the aliphatic carboxylic acid silver salt of the present invention is 10 −17 g or more, 10 −15 g or less, more preferably 10 μg per silver halide grain of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to sphere). -16 g or more and 10 -14 g or less is preferable.
上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち、銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。 When coated under the conditions within the above range, it is preferable from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per fixed coated silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. Results are obtained.
〔画像記録方法〕
本発明において、現像条件は使用する機器、装置、或いは手段に依存して変化するが、典型的には適した高温に於いて像様に露光した銀塩光熱写真ドライイメージング材料を加熱することを伴う。露光後に得られた潜像は、中程度の高温(例えば、約80〜200℃、好ましくは約100〜200℃)で十分な時間(一般には約1秒〜約2分間)、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を加熱することにより現像することができる。
(Image recording method)
In the present invention, the development conditions vary depending on the equipment, apparatus, or means used, but typically the heating of the imagewise exposed silver salt photothermographic dry imaging material at a suitable high temperature is required. Accompany. The latent image obtained after the exposure is obtained at a moderately high temperature (for example, about 80 to 200 ° C., preferably about 100 to 200 ° C.) for a sufficient time (generally about 1 second to about 2 minutes). The dry imaging material can be developed by heating.
加熱温度が80℃以下では短時間に十分な画像濃度が得られず、又200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラーへの転写など、画像そのものだけでなく搬送性や、現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の一切の供給なしに進行する。 When the heating temperature is 80 ° C. or lower, sufficient image density cannot be obtained in a short time. When the heating temperature is 200 ° C. or higher, the binder is melted, and not only the image itself, such as transfer to a roller, but also adversely affects the transportability and the developing machine. Effect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of treatment liquid such as water from the outside.
加熱する機器、装置、或いは手段はホットプレート、アイロン、ホットローラー、炭素または白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手段で行ってよい。より好ましくは本発明に係わる保護層の設けられた銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、保護層を有する側の面を加熱手段と接触させ加熱処理するのが、均一な加熱を行う上で、又熱効率、作業性の点などから好ましく、該面をヒートローラーに接触させながら搬送し加熱処理して現像することが好ましい。 The apparatus, device, or means for heating may be performed by a heating means typical as a heat generator using a hot plate, an iron, a hot roller, carbon, white titanium, or the like. More preferably, in the silver salt photothermographic dry imaging material provided with the protective layer according to the present invention, the surface on the side having the protective layer is brought into contact with the heating means for the heat treatment. It is preferable from the viewpoints of thermal efficiency, workability, and the like, and it is preferable that the surface is conveyed while being in contact with a heat roller, heated and developed.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、熱現像時の搬送速度が30mm/sec以上で処理されることが本発明の目的効果を十分に発揮できる観点から好ましく、30〜150mm/secで処理されることがより好ましい。 The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is preferably processed at a conveyance speed of 30 mm / sec or more during thermal development from the viewpoint of sufficiently achieving the object effects of the present invention, and processed at 30 to 150 mm / sec. More preferably.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の露光は、当該感材に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば、当該感材を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイパワーである事や、感光材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザー(780nm、820nm)がより好ましく用いられる。 In the exposure of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, it is desirable to use a light source suitable for the color sensitivity imparted to the photosensitive material. For example, in the case where the light-sensitive material can be felt by infrared light, it can be applied to any light source as long as it is in the infrared light range, but the laser power is high and the photosensitive material can be transparent. In view of the above, an infrared semiconductor laser (780 nm, 820 nm) is more preferably used.
本発明において、露光はレーザー走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば、第1の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレーザー走査露光機を用いる方法が挙げられる。 In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which the angle formed by the exposure surface of the photosensitive material and the scanning laser beam is not substantially perpendicular.
ここで、「実質的に垂直になることがない」とはレーザー走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55度以上88度以下、より好ましくは60度以上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以下、最も好ましくは70度以上82度以下であることをいう。 Here, “substantially not perpendicular” means that the angle closest to the vertical during laser scanning is preferably 55 ° to 88 °, more preferably 60 ° to 86 °, and even more preferably 65 °. It is at least 84 degrees and most preferably 70 degrees to 82 degrees.
レーザー光が、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に走査されるときの露光面でのビームスポット直径は、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これは、スポット径が小さい方がレーザー入射角度の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。なお、ビームスポット直径の下限は10μmである。このようなレーザー走査露光を行うことにより干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることができる。 The beam spot diameter on the exposed surface when laser light is scanned onto the silver salt photothermographic dry imaging material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. This is preferable in that a smaller spot diameter can reduce the angle of deviation of the laser incident angle from the vertical. The lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as generation of interference fringe-like unevenness.
また、第2の方法として、本発明における露光は縦マルチである走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザー光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。 As a second method, the exposure in the present invention is also preferably performed using a laser scanning exposure machine that emits a scanning laser beam that is a vertical multi. Compared with a single longitudinal mode scanning laser beam, image quality degradation such as generation of interference fringe-like unevenness is reduced.
縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用する、高周波重畳をかける、などの方法がよい。なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。 In order to make it vertically multi-ply, a method such as using return light by combining or applying high-frequency superposition is preferable. The vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.
更に、第3の方法としては、2本以上のレーザーを用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。 Furthermore, as a third method, it is also preferable to form an image by scanning exposure using two or more lasers.
このような複数本のレーザーを利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザープリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば特開昭60−166916号公報等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザー光をポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザーイメージャなどと原理的に同じレーザー走査光学装置である。 As such an image recording method using a plurality of lasers, it is used in an image writing means of a laser printer or a digital copying machine which writes an image line by line in one scanning because of a demand for high resolution and high speed. This technique is known, for example, from Japanese Patent Laid-Open No. 60-166916. This is a method in which laser light emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror and imaged on a photoconductor via an fθ lens or the like. This is the same laser scanning optical apparatus in principle as a laser imager or the like. It is.
レーザープリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザー光の結像は、1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザー光の結像位置から1ライン分ずらして次のレーザー光が結像されている。具体的には、二つの光ビームは互いに副走査方向に像面上で数10μmオーダーの間隔で近接しており、印字密度が400dpi(本発明においては、1インチ即ち、2.54cm当たりに1ドットの印字密度のことをdpi(ドットパーインチ)と定義する)で2ビームの副走査方向ピッチは63.5μm、600dpiで42.3μmである。このような、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に2本以上のレーザーを入射角を変え露光面に集光させ画像形成することを特徴としている。この際の、通常の1本のレーザー(波長λ[nm])で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがEである場合に、露光に使用するN本のレーザーが同一波長(波長λ[nm])、同一露光エネルギー(En)とした場合、0.9×E≦En×N≦1.1×Eの範囲にするのが好ましい。このようにすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザー光の画像形成層への反射は、レーザーの露光エネルギーが低いため低減され、ひいては干渉縞の発生が抑えられる。 The image formation of laser light on the photoconductor in the image writing means of laser printers and digital copiers is for the purpose of writing images line by line in one scan, and one line from the image formation position of one laser light. The next laser beam is imaged by shifting. Specifically, the two light beams are close to each other in the sub-scanning direction on the image plane with an interval of the order of several tens of μm, and the print density is 400 dpi (in the present invention, 1 inch per inch, that is, 1 per 2.54 cm). The dot printing density is defined as dpi (dot per inch), and the sub-scanning direction pitch of the two beams is 63.5 μm, and 600 dpi is 42.3 μm. Unlike the method of shifting the resolution in the sub-scanning direction as described above, the present invention is characterized in that two or more lasers are focused on the exposure surface at the same place to change the incident angle to form an image. In this case, when the exposure energy on the exposure surface when writing with one ordinary laser (wavelength λ [nm]) is E, N lasers used for exposure have the same wavelength (wavelength λ [nm]. ]), The same exposure energy (En) is preferably in the range of 0.9 × E ≦ En × N ≦ 1.1 × E. By doing so, energy is secured on the exposure surface, but the reflection of each laser beam to the image forming layer is reduced because the exposure energy of the laser is low, and thus the occurrence of interference fringes is suppressed.
なお、上述では複数本のレーザーの波長をλと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いても良い。この場合、λ[nm]に対して(λ−30)<λ1、λ2、・・・・・λn≦(λ+30)の範囲にするのが好ましい。 In the above description, a plurality of lasers having the same wavelength as λ are used. However, lasers having different wavelengths may be used. In this case, it is preferable that (λ−30) <λ1, λ2,... Λn ≦ (λ + 30) is satisfied with respect to λ [nm].
なお、上述した第1、第2及び第3の態様の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザーとしては、一般によく知られている、ルビーレーザー、YAGレーザー、ガラスレーザー等の固体レーザー;He−Neレーザー、Arイオンレーザー、Krイオンレーザー、CO2レーザー、COレーザー、He−Cdレーザー、N2レーザー、エキシマーレーザー等の気体レーザー;InGaPレーザー、AlGaAsレーザー、GaAsPレーザー、InGaAsレーザー、InAsPレーザー、CdSnP2レーザー、GaSbレーザー等の半導体レーザー;化学レーザー、色素レーザー等を用途に併せて適時選択して使用できるが、これらの中でもメンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が600〜1200nmの半導体レーザーを用いるのが好ましい。なお、レーザー・イメージャやレーザー・イメージセッタで使用されるレーザーにおいて、光熱写真材料に走査されるときの該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザー光走査速度は光熱写真材料固有のレーザー発振波長における感度とレーザーパワーによって、感光材料毎に最適な値に設定することができる。 In the above-described image recording methods of the first, second, and third aspects, the laser used for scanning exposure is generally well-known solid laser such as ruby laser, YAG laser, glass laser; Ne laser, Ar ion laser, Kr ion laser, CO 2 laser, CO laser, He—Cd laser, N 2 laser, excimer laser and other gas lasers; InGaP laser, AlGaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 laser, a semiconductor laser such as GaSb laser; chemical laser, but a dye laser or the like in accordance with the application can be used by properly selected from these maintenance and light source size of the problem among the semiconductor laser wavelength 600~1200nm It is preferable to use. In a laser used in a laser imager or a laser image setter, the beam spot diameter on the exposed surface of a material when scanned with a photothermographic material is generally 5 to 75 μm as a minor axis diameter and as a major axis diameter. The laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photosensitive material depending on the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength unique to the photothermographic material.
又、本発明においては銀塩光熱写真ドライイメージング材料が、現像時において、溶剤を5〜1000mg/m2の範囲で含有していることが好ましい。好ましくは、100〜500mgであるように調製することが好ましく、それにより高感度、低かぶり、最高濃度の高い感光材料となる。 In the present invention, the silver salt photothermographic dry imaging material preferably contains a solvent in the range of 5 to 1000 mg / m 2 at the time of development. Preferably, it is preferably prepared so as to be 100 to 500 mg, whereby a photosensitive material with high sensitivity, low fog and high maximum density is obtained.
本発明において溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、イソフォロン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテルアルコール類、イソプロピルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、塩化メチレン、ジクロルベンゼン等の塩化物類、炭化水素類等が挙げられる。その他水、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、トルイジン、テトラヒドロフラン、酢酸等が挙げられる。但しこれらに限定されるものではない。又、これらの溶剤は、単独、または、数種類組み合わせる事ができる。 Examples of the solvent in the present invention include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and isophorone, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, and benzyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, Glycols such as hexylene glycol, ether alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether, ethers such as isopropyl ether, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, chlorides such as methylene chloride and dichlorobenzene And hydrocarbons. Others include water, formamide, dimethylformamide, toluidine, tetrahydrofuran, acetic acid and the like. However, it is not limited to these. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.
尚、感光材料中の上記溶剤の含有量は塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。又、当該溶剤の含有量は含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。 The content of the solvent in the photosensitive material can be adjusted by changing conditions such as temperature conditions in the drying step after the coating step. Further, the content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例1
《写真用支持体の作製》
濃度0.170に青色着色したポリエチレンテレフタレートフィルムベース(厚み175μm)の片方の面に、0.5kV・A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液A−1を用いて下引き層Aを、乾燥膜厚0.2μmになるように塗設した。さらに、もう一方の表面に、同様に0.5kV・A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液B−1、A−1を用い、下引き層B、Aを、それぞれ乾燥膜厚0.1μm、0.2μmなるように塗設した。その後、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、130℃にて15分熱処理を行った。
Example 1
<< Preparation of Photographic Support >>
After applying a corona discharge treatment of 0.5 kV · A · min / m 2 to one surface of a polyethylene terephthalate film base (thickness: 175 μm) colored blue to a concentration of 0.170, the following undercoat coating solution is applied to the surface. The undercoat layer A was coated using A-1 so as to have a dry film thickness of 0.2 μm. Furthermore, after the other surface was similarly subjected to a corona discharge treatment of 0.5 kV · A · min / m 2 , the following undercoat coating liquids B-1 and A-1 were used for the undercoat. Layers B and A were coated so that the dry film thickness was 0.1 μm and 0.2 μm, respectively. Thereafter, heat treatment was performed at 130 ° C. for 15 minutes in a heat treatment type oven having a film transport device composed of a plurality of roll groups.
〔下引き塗布液A−1〕
ブチルアクリレート40質量%、t−ブチルアクリレート10質量%、スチレン25質量%、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート25質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)270gと化合物(UL−1)0.6g及びメチルセルロース1gを混合した。さらにシリカ粒子(サイロイド350、富士シリシア製)1.3gを水100g中にあらかじめ超音波分散機〔アレックス社(ALEX Corporation)製、商品名:ウルトラソニック・ジェネレーター(Ultrasonic Generator)、周波数25kHz、600W〕にて30分、分散を行っておいた液を加え、最後に水で1000mlに仕上げて、下引き塗布液A−1とした。
[Undercoat coating liquid A-1]
270 g of copolymer latex liquid (solid content 30%) of butyl acrylate 40% by mass, t-butyl acrylate 10% by mass, styrene 25% by mass, and 2-hydroxyethyl acrylate 25% by mass and compound (UL-1) 0. 6 g and 1 g of methylcellulose were mixed. Furthermore, 1.3 g of silica particles (Syloid 350, manufactured by Fuji Silysia) was previously ultrasonically dispersed in 100 g of water (manufactured by Alex Corporation, trade name: Ultrasonic Generator, frequency 25 kHz, 600 W). The liquid which had been dispersed for 30 minutes was added, and finally it was made up to 1000 ml with water to obtain an undercoat coating liquid A-1.
〔下引き塗布液B−1〕
下記コロイド状酸化スズ分散液37.5g、n−ブチルアクリレート10質量%、t−ブチルアクリレート35質量%、スチレン27質量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート28質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)3.7g、n−ブチルアクリレート40質量%、スチレン20質量%、グリシジルメタクリレート40質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)14.8gと塗布助剤として界面活性剤UL−1を0.1gを混合し、水で1000mlに仕上げて下引き塗布液B−1とした。
[Undercoat coating liquid B-1]
The following colloidal tin oxide dispersion 37.5 g, n-butyl acrylate 10 mass%, t-butyl acrylate 35 mass%, styrene 27 mass% and 2-hydroxyethyl acrylate 28 mass% copolymer latex liquid (solid content 30 %) 3.7 g, n-butyl acrylate 40 mass%, styrene 20 mass%, glycidyl methacrylate 40 mass% copolymer latex liquid (solid content 30%) 14.8 g and surfactant UL-1 as a coating aid 0.1 g was mixed and finished to 1000 ml with water to obtain an undercoat coating solution B-1.
〈コロイド状酸化スズ分散液の調製〉
塩化第2スズ水和物65gを水/エタノール混合溶液2000mlに溶解して均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて何度も水洗する。沈殿を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈殿物に蒸留水を添加し全量を2000mlとする。更に30%アンモニア水を40ml加え水溶液中で加温したあとで、さらに加温して470mlになるまで濃縮して、コロイド状酸化スズ分散液を得た。
<Preparation of colloidal tin oxide dispersion>
65 g of stannic chloride hydrate was dissolved in 2000 ml of a water / ethanol mixed solution to obtain a uniform solution. This was then boiled to obtain a coprecipitate. The produced precipitate is taken out by decantation and washed with distilled water many times. After confirming that there is no reaction of chlorine ions by dropping silver nitrate into the distilled water from which the precipitate has been washed, distilled water is added to the washed precipitate to make a total volume of 2000 ml. Further, 40 ml of 30% aqueous ammonia was added and heated in an aqueous solution, and then further heated and concentrated to 470 ml to obtain a colloidal tin oxide dispersion.
《バック層面側塗布》
〔バック層塗布液の調製〕
メチルエチルケトン(MEK)830gを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート(Eastman Chemical社製:CAP482−20)84.2g及びポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)4.5gを添加し溶解した。次に、溶解した液にメタノール43.2gに溶解した弗素系界面活性剤(旭硝子社製:サーフロンKH40)4.5gと弗素系界面活性剤(大日本インキ社製:メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの2.5gを添加した。最後に、MEKに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ(平均粒径:10μm)を75g添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
<Back layer side application>
[Preparation of back layer coating solution]
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate propionate (manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20) and 4.5 g of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B) were added and dissolved. Next, 4.5 g of a fluorine-based surfactant (Asahi Glass Co., Ltd .: Surflon KH40) dissolved in 43.2 g of methanol and 2.3 g of a fluorine-based surfactant (Dainippon Ink Co., Ltd .: MegaFag F120K) were dissolved in the dissolved liquid. Add and stir well until dissolved. Next, 2.5 g of oleyl oleate was added. Finally, 75 g of silica (average particle size: 10 μm) dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 1% was added and stirred to prepare a backcoat layer coating solution.
このように調製したバック層塗布液を、乾燥膜厚が3.5μmになるように押し出しコーターにて塗布した後、乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて乾燥し、バック層塗布済み試料を得た。 The back layer coating solution prepared in this manner was applied by an extrusion coater so that the dry film thickness was 3.5 μm, and then dried for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C. Thus, a sample coated with a back layer was obtained.
《各添加剤の調製》
〔感光性ハロゲン化銀乳剤A−1の調製〕
水900ml中に、平均分子量10万のオセインゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた溶液に、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと、(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液(銀に等モル量)及び塩化イリジウムを銀1モル当たり1×10-4モル含む溶液を、pAg7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間かけて添加した。その後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し、NaOHでpHを5.0に調整して平均粒子サイズ0.06μm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後、フェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤A−1を得た。
<< Preparation of each additive >>
[Preparation of photosensitive silver halide emulsion A-1]
370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate in a solution prepared by dissolving 7.5 g of ossein gelatin having an average molecular weight of 100,000 and 10 mg of potassium bromide in 900 ml of water and adjusting the temperature to 35 ° C. and pH to 3.0, (98 / 2) an aqueous solution containing potassium bromide and potassium iodide (equal molar amount in silver) and a solution containing 1 × 10 −4 mol of iridium chloride per mol of silver while maintaining pAg 7.7. It added over 10 minutes by the double jet method. Thereafter, 0.3 g of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added, the pH was adjusted to 5.0 with NaOH, and the average particle size was 0.06 μm. Cubic silver iodobromide grains having a coefficient of 12% and a [100] face ratio of 87% were obtained. This emulsion was coagulated and precipitated using a gelatin flocculant and desalted, and 0.1 g of phenoxyethanol was added to adjust the pH to 5.9 and pAg 7.5 to obtain photosensitive silver halide emulsion A-1.
〔粉末有機銀塩A−1の調製〕
9450mlの純水にベヘン酸324g、アラキジン酸99g、ステアリン酸56gを80℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液980mlを添加した。次に濃硝酸9.3mlを加えた後、55℃に冷却して30分攪拌させて前記感光性ハロゲン化銀乳剤A−1(銀量として0.9モル及び水1400gを含有)を5秒間で添加し5分間攪拌した後、1モル/Lの硝酸銀溶液1470mlを2分間かけて加え、更に20分攪拌し濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の伝導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、濾過を繰り返し、遠心脱水を実施した後、37℃にて質量減がなくなるまで温風乾燥を行い、粉末有機銀塩A−1を得た。この銀化率は89mol%であった。
[Preparation of powdered organic silver salt A-1]
In 9450 ml of pure water, 324 g of behenic acid, 99 g of arachidic acid and 56 g of stearic acid were dissolved at 80 ° C. Next, 980 ml of a 1.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution was added while stirring at high speed. Next, after adding 9.3 ml of concentrated nitric acid, the mixture was cooled to 55 ° C. and stirred for 30 minutes to contain the photosensitive silver halide emulsion A-1 (containing 0.9 mol of silver and 1400 g of water) for 5 seconds. After stirring for 5 minutes, 1470 ml of a 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes, stirred for another 20 minutes, and water-soluble salts were removed by filtration. Thereafter, washing with deionized water and filtration were repeated until the conductivity of the filtrate reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out, followed by drying with warm air at 37 ° C. until there was no mass loss, and powdered organic silver salt A -1 was obtained. The silver conversion rate was 89 mol%.
〔感光性乳剤分散液A−1の調製〕
ポリビニルブチラール粉末(エスレックBL−5、積水化学社製)14.57gをメチルエチルケトン1457gに溶解し、デゾルバー型ホモジナイザにて撹拌しながら粉末有機銀塩A−1の500gを徐々に添加して十分に混合した。その後、1mmZrビーズ(東レ(株)製)を80%充填したメディア型分散機(Gettzmann社製)にて周速13m、ミル内滞留時間を3分間として感光性乳剤分散液A−1を得た。
[Preparation of photosensitive emulsion dispersion A-1]
Dissolve 14.57 g of polyvinyl butyral powder (ESREC BL-5, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) in 1457 g of methyl ethyl ketone, gradually add 500 g of powdered organic silver salt A-1 while stirring with a dissolver type homogenizer, and mix thoroughly. did. Thereafter, a photosensitive emulsion dispersion A-1 was obtained with a media type dispersing machine (made by Gettzmann) filled with 80% 1 mmZr beads (made by Toray Industries, Inc.) with a peripheral speed of 13 m and a residence time in the mill of 3 minutes. .
〔赤外増感色素液の調製〕
赤外増感色素1を350mg、2−クロロ−安息香酸13.96g及び5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾール2.14gをメタノール73.4mlに暗所にて溶解し、赤外増感色素液を調製した。
(Preparation of infrared sensitizing dye solution)
350 mg of infrared sensitizing dye 1, 13.96 g of 2-chloro-benzoic acid and 2.14 g of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole are dissolved in 73.4 ml of methanol in the dark, and an infrared sensitizing dye solution is obtained. Was prepared.
〔安定剤液の調製〕
安定剤1を1.0g、酢酸カリウム0.5gをメタノール8.5gに溶解し安定剤液を調製した。
(Preparation of stabilizer solution)
Stabilizer solution was prepared by dissolving 1.0 g of Stabilizer 1 and 0.5 g of potassium acetate in 8.5 g of methanol.
〔現像剤液の調製〕
現像剤1を17.74gをメチルエチルケトンに溶解し、100mlに仕上げて現像剤液とした。
(Preparation of developer solution)
17.74 g of developer 1 was dissolved in methyl ethyl ketone and finished to 100 ml to obtain a developer solution.
〔かぶり防止剤液の調製〕
かぶり防止剤2を5.81gをメチルエチルケトンに溶解し、100mlに仕上げてかぶり防止剤液とした。
[Preparation of antifoggant solution]
Antifoggant 2 (5.81 g) was dissolved in methyl ethyl ketone and finished to 100 ml to obtain an antifoggant solution.
《画像形成層塗布液の調製》
前記感光性乳剤分散液A−1の50g及びメチルエチルケトンの15.11gを撹拌しながら21℃に保温し、かぶり防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加え、1時間撹拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)889μlを添加して30分間撹拌した。引き続き、赤外増感色素液1.416ml及び安定剤液667μlを添加して1時間撹拌した後、温度を13℃まで降温して更に30分間撹拌した。13℃に保温したままポリビニルブチラール粉末(BL−5、積水化学社製)13.31gを添加して30分間撹拌してから、更に撹拌を続けながら以下の添加物を15分間隔で添加した。
<Preparation of image forming layer coating solution>
50 g of the photosensitive emulsion dispersion A-1 and 15.11 g of methyl ethyl ketone were kept at 21 ° C. with stirring, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Further, 889 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 30 minutes. Subsequently, 1.416 ml of an infrared sensitizing dye solution and 667 μl of a stabilizer solution were added and stirred for 1 hour, and then the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While maintaining the temperature at 13 ° C., 13.31 g of polyvinyl butyral powder (BL-5, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was added and stirred for 30 minutes, and then the following additives were added at 15 minute intervals while further stirring.
フタラジン 305mg
テトラクロロフタル酸 102g
4−メチルフタル酸 137mg
更に15分間撹拌した後、
かぶり防止剤液(前出) 5.47ml
現像剤液(前出) 14.06ml
を順次添加し撹拌して、画像形成層塗布液101を得た。次いで、上記画像形成層塗布液101に現像促進剤−3を添加した以外は同様にして、画像形成層塗布液102を調製した。
Phthalazine 305mg
102g of tetrachlorophthalic acid
4-methylphthalic acid 137mg
After stirring for another 15 minutes,
Antifoggant solution (above) 5.47 ml
Developer solution (above) 14.06 ml
Were sequentially added and stirred to obtain an image forming layer coating solution 101. Next, an image forming layer coating solution 102 was prepared in the same manner except that the development accelerator-3 was added to the image forming layer coating solution 101.
《表面保護層塗布液の調製》
以下の組成の表面保護層塗布液101〜115を調製した。
<< Preparation of surface protective layer coating liquid >>
Surface protective layer coating solutions 101 to 115 having the following composition were prepared.
(粒子分散液)
メチルエチルケトン96gにセルロースアセテート・ブチレート(CAB171−15、イーストマンケミカル社製)1gを撹拌しながら添加し、充分に溶解するまでデゾルバー型撹拌機にて撹拌を行った。これにシリカ粒子(サイロイド320、富士シリシア社製)2.9gを添加し、8000rpmで45分間分散を行った。
(Particle dispersion)
1 g of cellulose acetate butyrate (CAB171-15, manufactured by Eastman Chemical Co.) was added to 96 g of methyl ethyl ketone while stirring, and the mixture was stirred with a dissolver type stirrer until it was sufficiently dissolved. To this, 2.9 g of silica particles (Syloid 320, manufactured by Fuji Silysia) was added and dispersed at 8000 rpm for 45 minutes.
(表面保護層塗布液)
メチルエチルケトン750gにポリメチルメタクリレート(パラロイドA21、ローム・アンド・ハース社製)15gを添加し、10分間撹拌を行った。その後セルロースアセテート・ブチレート(CAB171−15、イーストマンケミカル社製)100gを撹拌しながら4回に分けて添加し、更に1時間撹拌を行った。更に、フタラジン8.9g、ビニルスルホン化合物(HD−1)を1.5g、トリアジン0.1g、フッ素系界面活性剤化合物FS−1を1.7g、フッ素系界面活性剤(EF−105、トーケムプロダクツ社製)0.2gを添加し30分間撹拌を行った。この液に上記粒子分散液を85g添加し充分に撹拌し、MEKにて1000gとして、表面保護層塗布液101を得た。
(Surface protective layer coating solution)
To 750 g of methyl ethyl ketone, 15 g of polymethyl methacrylate (Paraloid A21, manufactured by Rohm & Haas) was added and stirred for 10 minutes. Thereafter, 100 g of cellulose acetate butyrate (CAB171-15, manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) was added in 4 portions while stirring, and the mixture was further stirred for 1 hour. Furthermore, 8.9 g of phthalazine, 1.5 g of vinylsulfone compound (HD-1), 0.1 g of triazine, 1.7 g of fluorosurfactant compound FS-1, and fluorosurfactant (EF-105, Toh 0.2 g of Chem Products) was added and stirred for 30 minutes. To this liquid, 85 g of the above particle dispersion was added and stirred sufficiently, and the surface protective layer coating liquid 101 was obtained with MEK at 1000 g.
次いで、上記表面保護層塗布液101の調製において、一般式(1)で表される有機固体潤滑剤粒子(金属石鹸)をその種類と添加量を表1に記載のように変更して添加した以外は同様にして、表面保護層塗布液102〜115を調製した。 Next, in the preparation of the surface protective layer coating solution 101, the organic solid lubricant particles (metal soap) represented by the general formula (1) were added by changing the type and addition amount as shown in Table 1. Except for the above, surface protective layer coating solutions 102 to 115 were prepared in the same manner.
なお、表1に記載の本発明の一般式(1)の化合物(即ち、本発明の一般式(1)で表される有機固体潤滑剤粒子)は、2.0gを界面活性剤(EF−105、トーケムプロダクツ社製)2.0g及びセルロースアセテート・ブチレート粉末(CAB171−15、イーストマンケミカル社製)2gを溶解したMEK100g中に、あらかじめ超音波分散機〔アレックス社(ALEX Corporation)製、商品名:ウルトラソニック・ジェネレーター(Ultrasonic Generator)、周波数25kHz、600W〕にて30分、分散を行った分散液を用い、表1に記載の種類、量、になるように添加した。 In addition, 2.0 g of the compound of the general formula (1) of the present invention shown in Table 1 (that is, the organic solid lubricant particles represented by the general formula (1) of the present invention) is used as a surfactant (EF- 105, manufactured by Tochem Products Co., Ltd.) 2.0 g and cellulose acetate butyrate powder (CAB171-15, manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) 2 g were dissolved in 100 g of MEK in advance by an ultrasonic disperser (manufactured by ALEX Corporation, Product name: Ultrasonic Generator (Ultrasonic Generator), frequency 25 kHz, 600 W] was used for 30 minutes, and dispersion was performed so that the types and amounts shown in Table 1 were obtained.
《画像形成層面側塗布》
実施例にて作製したバック層を塗設した面とは支持体を挟んで反対側の面に、表1に記載の組み合わせで、画像形成層塗布液、表面保護層塗布液をスライドコーターを用いて塗布を行った。その際、画像形成層塗布液は塗布銀量が1.5g/m2になる様に毎分35mの速度で均一に重層塗布した。その後、乾燥温度50℃、露点温度5℃の乾燥風を用いて5分間、引き続き乾燥温度55℃、露点温度10℃の乾燥風で15分乾燥を行って、試料 101〜115を作製した。
<Image forming layer side coating>
Using the slide coater, the image forming layer coating solution and the surface protective layer coating solution are combined in the combinations shown in Table 1 on the surface opposite to the surface coated with the back layer prepared in the examples. Was applied. At that time, the image forming layer coating solution was uniformly applied at a rate of 35 m / min so that the amount of silver applied was 1.5 g / m 2 . Thereafter, drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 50 ° C. and a dew point temperature of 5 ° C., followed by drying for 15 minutes using a drying air having a drying temperature of 55 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C., thereby preparing samples 101 to 115.
《熱現像処理及び評価》
〔露光及び熱現像処理〕
上記の様にして作製した各試料の画像形成層面側から、高周波重畳にて波長800nm〜820nmの縦マルチモード化された半導体レーザーを露光源とした露光機によりレーザー走査による露光を与えた。この際に、試料の露光面と露光レーザー光の角度を75度として画像を形成した。なお、当該角度を90度とした場合に比べムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な画像が得られた。
<< Heat development processing and evaluation >>
[Exposure and thermal development]
From the image forming layer surface side of each sample produced as described above, exposure by laser scanning was given by an exposure machine using a semiconductor laser having a longitudinal multimode wavelength of 800 nm to 820 nm by high frequency superposition as an exposure source. At this time, an image was formed by setting the angle of the exposure surface of the sample and the exposure laser beam to 75 degrees. Note that an image with less unevenness and unexpectedly good sharpness or the like was obtained compared to the case where the angle was 90 degrees.
その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて試料の表面保護層とドラム表面が接触するようにして、123℃で13.5秒熱現像処理した。その際、露光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。 Then, using an automatic developing machine having a heat drum, the surface protective layer of the sample and the drum surface were in contact with each other, and heat development was performed at 123 ° C. for 13.5 seconds. At that time, exposure and development were performed in a room adjusted to 23 ° C. and 50% RH.
《各試料の評価》
(動摩擦係数の測定)
新東科学(株)製表面性測定機HEIDON−14を用いて、バック層塗設面のステンレスとの動摩擦係数を測定した。このとき測定面をホットプレートにて110℃にして測定を行った。
<< Evaluation of each sample >>
(Measurement of dynamic friction coefficient)
The surface friction measuring device HEIDON-14 manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. was used to measure the dynamic friction coefficient with the stainless steel on the back layer coating surface. At this time, the measurement surface was set to 110 ° C. with a hot plate and measured.
〔ヘイズの測定〕
東京電色(株)製の濁度計ModelT−2600DAを用いて測定し、%で示した。
[Measurement of haze]
It was measured using a turbidimeter Model T-2600DA manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd. and indicated in%.
〔搬送性の評価〕
上記の熱現像処理を、同一サイズで連続して100枚行った。その時、搬送不良の発生枚数をカウントした。
[Evaluation of transportability]
The above heat development processing was continuously performed on 100 sheets of the same size. At that time, the number of conveyance failures was counted.
〔現像ムラ耐性の評価〕
現像ムラの評価用として、全面を白色光にて20秒ほど露光した後に熱現像した試料を作製した。この試料を目視にて表面のムラの度合いを観察し、下記の基準に従って現像ムラ耐性の評価を行った。
[Evaluation of development unevenness resistance]
For evaluation of development unevenness, a sample was prepared by exposing the entire surface with white light for about 20 seconds and then thermally developing. The degree of unevenness of the surface of this sample was visually observed, and development unevenness resistance was evaluated according to the following criteria.
5:表面がなめらかで全然問題が無い
4:わずかに凹凸が認められるが実用上問題ない
3:部分的に凹凸があり実用上少し問題
2:全面に凹凸
1:全面に強く凹凸
以上により得られた各評価結果を、表1に示す。
5: The surface is smooth and there is no problem 4: Slight irregularities are observed, but there is no problem in practical use 3: There is unevenness in part, and there is a problem in practical use 2: Unevenness on the entire surface 1: Strong unevenness on the entire surface Table 1 shows the evaluation results.
表1に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成からなる試料は、ヘイズが低く、搬送性及び擦り傷耐性に優れ、現像ムラの発生が少なく、長時間の光照射下においても銀色調の変化が少ない銀塩光熱写真ドライイメージング材料であることがわかる。 As is clear from the results shown in Table 1, the sample having the structure defined in the present invention has a low haze, excellent transportability and scratch resistance, little development unevenness, and even under long-time light irradiation. It can be seen that this is a silver salt photothermographic dry imaging material with little change in silver tone.
Claims (11)
一般式(1)
(R1)−COO−M−OOC−(R2)
〔R1、R2は各々炭素数2〜60の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、Mは2価の金属を表す。R1、R2は同じでも異なっても良い。〕 The silver salt photothermographic dry imaging material according to claim 1, wherein the organic solid lubricant particles are organic solid lubricant particles represented by the following general formula (1).
General formula (1)
(R 1) -COO-M- OOC- (R 2)
[R 1 and R 2 each represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or aryl group having 2 to 60 carbon atoms, and M represents a divalent metal. R 1 and R 2 may be the same or different. ]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005270020A JP2007079418A (en) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005270020A JP2007079418A (en) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007079418A true JP2007079418A (en) | 2007-03-29 |
Family
ID=37939759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005270020A Pending JP2007079418A (en) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007079418A (en) |
-
2005
- 2005-09-16 JP JP2005270020A patent/JP2007079418A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4103417B2 (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material, image recording method thereof and image forming method thereof | |
JP4457772B2 (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method | |
JP4321399B2 (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material and development method thereof | |
JP2006030850A (en) | Heat developable photosensitive material and method for manufacturing the same | |
JP4039067B2 (en) | Image forming method and image recording method | |
JP4062963B2 (en) | Photothermographic material, image forming method and image recording method | |
JP4400139B2 (en) | Photothermographic material and image forming method | |
JP2007079418A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method | |
JP4032766B2 (en) | Photothermographic material, image forming method and image recording method | |
JP4062966B2 (en) | Photothermographic material, image forming method and image recording method | |
JP4254241B2 (en) | Photothermographic material, image forming method and image recording method | |
JP2004102021A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material and method for recording image and method for forming image by using same | |
JP4089342B2 (en) | Photothermographic material and image forming method | |
JP4092964B2 (en) | Photothermographic material and image forming method | |
JP4000817B2 (en) | Photothermographic material and image recording method | |
JP4147849B2 (en) | Photothermographic material and image forming method | |
JP4089249B2 (en) | Silver salt photothermographic dry imaging materials | |
JP2004157440A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material, image recording method, image forming method, and method for manufacturing silver salt photothermographic dry imaging material | |
JP2004037819A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material, and image recording method and image forming method therefor | |
JP2006126247A (en) | Photothermal development photosensitive material | |
JP2005202273A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material | |
JP2006065058A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material and method for preparing silver salt of aliphatic carboxylic acid particles | |
JP2005208287A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material | |
JP2006126328A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material | |
JP2006146146A (en) | Silver salt photothermographic dry imaging material and development method of the same |