JP2007076704A - Electron beam sterilizer - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam sterilizer for sterilizing a bottle cap at a low cost. <P>SOLUTION: This electron beam sterilizer is provided with a first transfer part for guiding a PET bottle along the first pathway, a second transfer part for guiding a bottle cap along the second pathway and an electron beam irradiating device for irradiating the first pathway with an electron beam generated by an electron beam generator at the first timing and for irradiating slantingly the second pathway at the second timing. Provision cost is reduced because the bottle and the cap are sterilized in parallel by one electron beam generator. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ボトルキャップを殺菌する技術に関する。   The present invention relates to a technique for sterilizing a bottle cap.

ペットボトル等の食品容器を製造し、内容物を充填してボトルキャップを装着する工程において、殺菌をする技術が重要である。通常、殺菌は過酸化水素に例示される薬剤を用いて行われる。   In the process of manufacturing food containers such as PET bottles, filling the contents, and attaching the bottle caps, sterilization technology is important. Usually, sterilization is performed using a chemical exemplified by hydrogen peroxide.

薬剤の使用に代えて電子線を用いて殺菌する技術が検討されている。電子線を用いた殺菌は、薬剤を使用しないことから、薬剤のコストが不要となること、薬剤をすすぐ工程が不要となること等の点で優れている。   A technique for sterilizing using an electron beam instead of using a drug has been studied. Since sterilization using an electron beam does not use a drug, it is excellent in that the cost of the drug is unnecessary and a process of rinsing the drug is not required.

特許文献1には、殺菌を短時間で行うことができ、ラインの高速運転が可能であり、しかも、装置全体を大型化する必要のないキャップ殺菌装置を提供することを目的とするキャップ殺菌装置が記載されている。
特開2002‐128030号公報
Patent Document 1 discloses a cap sterilization apparatus that can perform sterilization in a short time, enables high-speed operation of the line, and does not require an increase in the size of the entire apparatus. Is described.
JP 2002-128030 A

本発明の目的は、ボトルキャップを確実に殺菌することを可能にする電子線殺菌装置を提供することである。
本発明の他の目的は、構成が簡易な電子線殺菌装置を提供することである。
本発明の更に他の目的は、安価な電子線殺菌装置を提供することである。
An object of the present invention is to provide an electron beam sterilization apparatus that enables a bottle cap to be sterilized reliably.
Another object of the present invention is to provide an electron beam sterilizer having a simple configuration.
Still another object of the present invention is to provide an inexpensive electron beam sterilizer.

以下に、[発明を実施するための最良の形態]で使用される番号を括弧付きで用いて、課題を解決するための手段を説明する。これらの番号は、[特許請求の範囲]の記載と[発明を実施するための最良の形態]との対応関係を明らかにするために付加されたものである。ただし、それらの番号を、[特許請求の範囲]に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。   In the following, means for solving the problem will be described using the numbers used in [Best Mode for Carrying Out the Invention] in parentheses. These numbers are added to clarify the correspondence between the description of [Claims] and [Best Mode for Carrying Out the Invention]. However, these numbers should not be used to interpret the technical scope of the invention described in [Claims].

本発明による電子線殺菌装置は、第1搬送物(52)を第1経路(18)に沿ってガイドする第1搬送部と、第2搬送物(54)を第2経路(20)に沿ってガイドする第2搬送部と、電子線発生装置(36)を備え、電子線発生装置(36)が発生する電子線を第1のタイミングで第1経路(18)に照射し、電子線発生装置(36)が発生する電子線を第2のタイミングで偏向して第2経路(20)に照射する電子線照射装置(21)とを具える。   The electron beam sterilizer according to the present invention includes a first transport unit that guides the first transported object (52) along the first path (18), and a second transported object (54) along the second path (20). A second transport section for guiding the electron beam and an electron beam generator (36), and the electron beam generated by the electron beam generator (36) is irradiated to the first path (18) at a first timing to generate an electron beam. An electron beam irradiation device (21) that deflects an electron beam generated by the device (36) at a second timing and irradiates the second path (20);

こうした構成によれば、複数の経路の各々に沿って搬送される殺菌対象物、例えばボトルとボトルキャップに対して、ひとつの電子線発生装置をタイムシェアリングすることによって能率的殺菌を行うことが可能である。搬送経路は、3つ以上であってもよい。その場合、電子線発生装置は、3つ以上の経路に対してタイムシェアリングして電子線の照射を行う。   According to such a configuration, efficient sterilization can be performed by time-sharing a single electron beam generator for a sterilization object conveyed along each of a plurality of paths, for example, a bottle and a bottle cap. Is possible. There may be three or more transport paths. In that case, the electron beam generator irradiates the electron beam by time sharing with respect to three or more paths.

本発明による電子線殺菌装置において、第2搬送部は第1搬送物である容器(52)に装着されるキャップ(54)を第2搬送物として支持する。   In the electron beam sterilization apparatus according to the present invention, the second transport unit supports the cap (54) attached to the container (52) as the first transported object as the second transported object.

本発明による電子線殺菌装置において、電子線照射装置(21)は第1走査方向(y)に沿って第1経路(18)に電子線を照射する。第1走査方向(y)の水平面への射影は、第1経路(18)の水平面への射影に対して傾いている。   In the electron beam sterilizer according to the present invention, the electron beam irradiation device (21) irradiates the first path (18) with an electron beam along the first scanning direction (y). The projection of the first scanning direction (y) onto the horizontal plane is inclined with respect to the projection of the first path (18) onto the horizontal plane.

本発明による電子線殺菌装置において、電子線照射装置(21)は第1走査方向(y)と略平行な第2走査方向に沿って第2経路(20)に電子線を照射する。   In the electron beam sterilizer according to the present invention, the electron beam irradiation device (21) irradiates the second path (20) with an electron beam along a second scanning direction substantially parallel to the first scanning direction (y).

本発明による電子線殺菌装置において、第1経路(18)と第2経路(20)とは略平行である。電子線照射装置(21)は第2経路(20)に平行な第2走査方向に沿って第2経路(20)に電子線を照射する。   In the electron beam sterilization apparatus according to the present invention, the first path (18) and the second path (20) are substantially parallel. The electron beam irradiation device (21) irradiates the second path (20) with an electron beam along a second scanning direction parallel to the second path (20).

本発明による電子線殺菌装置において、第1経路(18)と第2経路(20)とは鉛直方向に高さが異なる。   In the electron beam sterilization apparatus according to the present invention, the first path (18) and the second path (20) have different heights in the vertical direction.

本発明による電子線殺菌装置において、電子線照射装置(21)は、電子線発生装置(36)から第1経路(18)の方向に第1走査角度(θ)で広がる第1スキャンホーンと、電子線発生装置(36)から第2経路(20)の方向に第1走査角度よりも小さい第2走査角度(θ)で広がる第2スキャンホーンとを備える。 In the electron beam sterilizer according to the present invention, the electron beam irradiation device (21) includes a first scan horn that spreads from the electron beam generator (36) in the direction of the first path (18) at a first scan angle (θ M ). And a second scan horn extending from the electron beam generator (36) in the direction of the second path (20) at a second scan angle (θ S ) smaller than the first scan angle.

本発明による電子線殺菌装置において、第2搬送部は、自転を伴って第2経路(20)を通過するように第2搬送物(54)を第2経路(20)に沿ってガイドする。   In the electron beam sterilizer according to the present invention, the second transport unit guides the second transported object (54) along the second path (20) so as to pass through the second path (20) with rotation.

本発明による充填システムは、本発明による電子線殺菌装置と、電子線殺菌装置が設置される殺菌室(4)と、殺菌室において電子線を照射された第1搬送物が自動的に運び込まれる充填室(8)と、充填室に設置され、第1搬送物の開口を通して内部に内容物を充填する充填装置(30)と、充填室において内容物を充填された第1搬送物と殺菌室において電子線を照射された第2搬送物とが自動的に運び込まれるキャッパ室(10)と、キャッパ室に設置され、第1搬送物の開口を第2搬送物を装着することによって塞ぐキャッパ装置(32)とを備える。   In the filling system according to the present invention, the electron beam sterilizer according to the present invention, the sterilization chamber (4) in which the electron beam sterilizer is installed, and the first transported object irradiated with the electron beam in the sterilization chamber are automatically carried. A filling chamber (8), a filling device (30) which is installed in the filling chamber and fills the content through the opening of the first conveyed product, and the first conveyed product and the sterilization chamber filled with the content in the filling chamber The capper chamber (10) in which the second transported object irradiated with the electron beam is automatically carried, and the capper device installed in the capper chamber and closing the opening of the first transported object by mounting the second transported object (32).

本発明による電子線殺菌装置は、第1経路と第2経路とを格納し、外部よりも清浄度が高い殺菌室を備える。電子線照射装置の表面のうち電子線の照射口を含む一部は殺菌室の内部に位置する。表面のうちの他の一部は外部に位置する。   An electron beam sterilization apparatus according to the present invention stores a first path and a second path, and includes a sterilization chamber having a higher cleanliness than the outside. A part of the surface of the electron beam irradiation apparatus including the electron beam irradiation port is located inside the sterilization chamber. The other part of the surface is located outside.

本発明によれば、ボトルキャップを確実に殺菌することを可能にする電子線殺菌装置が提供される。
更に本発明によれば、構成が簡易な電子線殺菌装置が提供される。
更に本発明によれば、安価な電子線殺菌装置が提供される。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electron beam sterilizer which makes it possible to sterilize a bottle cap reliably is provided.
Furthermore, according to the present invention, an electron beam sterilization apparatus with a simple configuration is provided.
Furthermore, according to the present invention, an inexpensive electron beam sterilizer is provided.

以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.

(実施の第1形態)
本実施の形態におけるキャップ殺菌装置は、ペットボトル52とボトルキャップ54を殺菌するために使用される。図23には、ボトルキャップ54の構成が示されている。ボトルキャップ54は、中心軸66を中心として略回転対称な円筒形状をしている。ボトルキャップ54は、ペットボトル52に装着されたときに外側に露出する筒状の曲面である側面80を有する。側面80には、周方向に直交する凹凸が設けられている。ボトルキャップ54は、ペットボトル52に装着されたときに外側に露出する円形の面である上面82を有する。上面の反対側には、ペットボトル52にねじ込むための開口86が設けられている。開口86の内側の内側面84には、ペットボトル52に設けられたおねじと螺合するめねじが設けられている。
(First embodiment)
The cap sterilization apparatus in the present embodiment is used to sterilize the plastic bottle 52 and the bottle cap 54. FIG. 23 shows the configuration of the bottle cap 54. The bottle cap 54 has a cylindrical shape that is substantially rotationally symmetric about the central axis 66. The bottle cap 54 has a side surface 80 that is a cylindrical curved surface exposed to the outside when attached to the plastic bottle 52. The side surface 80 is provided with irregularities orthogonal to the circumferential direction. The bottle cap 54 has an upper surface 82 that is a circular surface exposed to the outside when the bottle cap 52 is attached to the plastic bottle 52. An opening 86 for screwing into the plastic bottle 52 is provided on the opposite side of the upper surface. On the inner side surface 84 on the inner side of the opening 86, a female screw that is screwed with a male screw provided on the PET bottle 52 is provided.

図1は、本実施の形態におけるボトルキャップ殺菌装置が適用される食品容器充填システムの構成を示す。食品容器充填システム2は、ペットボトル52の流れに沿って上流側から順に、殺菌室4、すすぎリンサ室6、充填室8及びキャッパ室10を備える。これらの室はすべてクリーンルームである。   FIG. 1 shows a configuration of a food container filling system to which the bottle cap sterilizer according to the present embodiment is applied. The food container filling system 2 includes a sterilization chamber 4, a rinse rinser chamber 6, a filling chamber 8, and a capper chamber 10 in order from the upstream side along the flow of the PET bottle 52. These rooms are all clean rooms.

殺菌室4は、飲料が充填されるペットボトル52を殺菌室4に導入するためのボトル入口12と、ボトル入口12から導入されるペットボトル52をすすぎリンサ室6の入口まで所定のボトル経路18に沿って搬送する搬送装置とを備える。ボトル経路18の途中には、ペットボトル52に電子線を照射して殺菌するための電子線照射装置21が設置される。殺菌室4は更に、ボトルキャップ54を殺菌室4に導入するためのキャップ入口14と、キャップ入口14から導入されるボトルキャップ54をキャップ経路20に沿って殺菌室4の外部まで導く搬送装置を備える。キャップ経路20の一部は、電子線照射装置21による電子線の照射範囲の中に位置する。その照射範囲の上流側には、ボトルキャップ54を電子線照射装置21に送るためのキャップ送り装置16が設置される。その照射範囲の下流側には、電子線照射装置21から送られてくるボトルキャップ54を受け取って下流側に送るためのキャップ受取装置24が設置される。キャップ受取装置24から送られるボトルキャップ54は、キャップ経路26に沿って無菌環境下で殺菌室4からキャッパ室10に搬送される。   The sterilization chamber 4 has a bottle inlet 12 for introducing a plastic bottle 52 filled with a beverage into the sterilization chamber 4 and a predetermined bottle path 18 from the bottle inlet 12 to the inlet of the rinse chamber 6. And a transport device that transports along In the middle of the bottle path 18, an electron beam irradiation device 21 for sterilizing the plastic bottle 52 by irradiating it with an electron beam is installed. The sterilization chamber 4 further includes a cap inlet 14 for introducing the bottle cap 54 into the sterilization chamber 4 and a transport device for guiding the bottle cap 54 introduced from the cap inlet 14 to the outside of the sterilization chamber 4 along the cap path 20. Prepare. A part of the cap path 20 is located in the irradiation range of the electron beam by the electron beam irradiation device 21. A cap feeding device 16 for sending the bottle cap 54 to the electron beam irradiation device 21 is installed on the upstream side of the irradiation range. On the downstream side of the irradiation range, a cap receiving device 24 for receiving the bottle cap 54 sent from the electron beam irradiation device 21 and sending it to the downstream side is installed. The bottle cap 54 sent from the cap receiving device 24 is transported from the sterilization chamber 4 to the capper chamber 10 in a sterile environment along the cap path 26.

すすぎリンサ室6は、殺菌室4から搬送されたペットボトル52を水、空気等によってすすぐ装置であるすすぎリンサ28と、すすがれたペットボトル52を充填室8に搬送する搬送装置とを備える。充填室8は、すすぎリンサ室6から搬送されたペットボトル52に飲料を充填する装置である充填機30と、飲料が充填されたペットボトル52をキャッパ室10に搬送する搬送装置とを備える。キャッパ室10は、充填室8から搬送されたペットボトル52に、キャップ経路26を通って搬送されたボトルキャップ54を装着する装置であるキャッパ32と、ボトルキャップ54が装着されたペットボトル52をボトル出口34に搬送する搬送装置とを備える。   The rinse rinser chamber 6 includes a rinse rinser 28 which is a device for rinsing the plastic bottle 52 conveyed from the sterilization chamber 4 with water, air, and the like, and a conveyance device for conveying the rinsed plastic bottle 52 to the filling chamber 8. The filling chamber 8 includes a filling machine 30 that is a device that fills the plastic bottle 52 that has been transported from the rinse rinser chamber 6 and a transport device that transports the plastic bottle 52 filled with the beverage to the capper chamber 10. The capper chamber 10 includes a capper 32 which is a device for mounting the bottle cap 54 transported through the cap path 26 to the PET bottle 52 transported from the filling chamber 8, and the PET bottle 52 mounted with the bottle cap 54. And a transport device for transporting to the bottle outlet 34.

図2は、電子線照射装置21の構成を示す正面図である。電子線照射装置21は、図2の上側、すなわち図に描かれた直交座標系におけるz軸の正の向きが鉛直方向の上側となるように設置される。電子線照射装置21は電子線供給部36を備える。電子線供給部36は、図2のy軸方向に電子線を走査しながら供給することができる。電子線のエネルギーは900KeV程度である。   FIG. 2 is a front view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. The electron beam irradiation device 21 is installed so that the positive direction of the z axis in the orthogonal coordinate system depicted in the drawing, that is, the upper side of FIG. The electron beam irradiation device 21 includes an electron beam supply unit 36. The electron beam supply unit 36 can supply the electron beam while scanning in the y-axis direction of FIG. The energy of the electron beam is about 900 KeV.

電子線照射装置21は更に、スキャンホーン22aを備える。スキャンホーン22aは、電子線供給部36によって供給される電子線が通過する空洞を内部に有する。その空洞は、電子線供給部36から鉛直方向下側に向かって電子線の走査方向に広がるテーパ形状をしている。スキャンホーン22aの内部の空洞は後述するようにx軸方向に二股に分岐している。第1の分岐した空洞の下端は、メイン電子線照射口38に取り付けられる薄膜によって密閉される。第2の分岐した空洞の下端は、メイン電子線照射口38に重なるため描かれていないサブ電子線照射口に取り付けられる薄膜によって密閉される。   The electron beam irradiation device 21 further includes a scan horn 22a. The scan horn 22a has a cavity through which an electron beam supplied by the electron beam supply unit 36 passes. The cavity has a tapered shape extending from the electron beam supply unit 36 downward in the vertical direction in the scanning direction of the electron beam. The cavity inside the scan horn 22a is bifurcated in the x-axis direction as will be described later. The lower end of the first branched cavity is sealed with a thin film attached to the main electron beam irradiation port 38. The lower end of the second branched cavity is sealed with a thin film attached to the sub electron beam irradiation port not drawn because it overlaps the main electron beam irradiation port 38.

メイン電子線照射口38とサブ電子線照射口とは殺菌室4の内部に面する。電子線照射装置21のうち、メイン電子線照射口38とサブ電子線照射口を除く部分は、殺菌室4の外部に位置することが好ましい。その外部は、要求される清浄度が殺菌室4よりも低い。こうした構成によれば、電子線発生装置のうちの殺菌室の外部に位置する部分をメンテナンスすることが容易である。   The main electron beam irradiation port 38 and the sub electron beam irradiation port face the inside of the sterilization chamber 4. Of the electron beam irradiation device 21, the portion excluding the main electron beam irradiation port 38 and the sub electron beam irradiation port is preferably located outside the sterilization chamber 4. Outside, the required cleanliness is lower than in the sterilization chamber 4. According to such a structure, it is easy to maintain the part located outside the sterilization chamber in the electron beam generator.

電子線照射装置21によって電子線が照射される照射範囲に、ペットボトル52の通過する経路が設置される。ペットボトル52は、下方から支持部材によって支持される。パイプスクリュー40‐1は、軸受け42‐1によって支持される回転軸を中心にして回転することによってその回転軸と平行な方向にペットボトル52を搬送する。ペットボトル52の搬送経路の鉛直方向下側には、電子線を反射する反射板46が設置される。パイプスクリューの上側には、ペットボトル52の上部と高さが重なる位置に、電子線を反射する反射板48が設置される。軸受け42‐1に対してパイプスクリュー40‐1の反対側には、ペットボトル52の搬送経路に沿って、パイプスクリュー40‐1と高さが重なる位置に、反射板44‐1が設置される。   A path through which the plastic bottle 52 passes is installed in an irradiation range where the electron beam is irradiated by the electron beam irradiation device 21. The PET bottle 52 is supported by the support member from below. The pipe screw 40-1 conveys the PET bottle 52 in a direction parallel to the rotation axis by rotating around the rotation axis supported by the bearing 42-1. A reflection plate 46 that reflects an electron beam is installed on the lower side in the vertical direction of the conveyance path of the PET bottle 52. On the upper side of the pipe screw, a reflection plate 48 that reflects an electron beam is installed at a position where the height of the upper portion of the PET bottle 52 overlaps. On the opposite side of the pipe screw 40-1 with respect to the bearing 42-1, a reflecting plate 44-1 is installed at a position where the height of the pipe screw 40-1 overlaps with the conveying path of the plastic bottle 52. .

図3は、電子線照射装置21の構成を示す上面図である。前述したように、スキャンホーン22aの下端はメイン電子線照射口38とサブ電子線照射口50aとに分岐する。図3においては電子線供給部36とスキャンホーン22aとが省略され、メイン電子線照射口38とサブ電子線照射口50a及びそれよりも鉛直方向下側の構成が描かれている。   FIG. 3 is a top view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. As described above, the lower end of the scan horn 22a branches into the main electron beam irradiation port 38 and the sub electron beam irradiation port 50a. In FIG. 3, the electron beam supply unit 36 and the scan horn 22a are omitted, and the main electron beam irradiation port 38, the sub electron beam irradiation port 50a, and the configuration vertically below the main electron beam irradiation port 38 are depicted.

メイン電子線照射口38の長手方向とサブ電子線照射口50aの長手方向とは略平行である。メイン電子線照射口38の下方には、ペットボトル52の搬送経路が設置される。ペットボトル52の搬送方向の水平面に対する射影と、メイン電子線照射口38の長手方向の水平面に対する射影とは、平行ではなく傾いている。図3においては、ペットボトル52はy軸の正方向に搬送され、かつy方向よりも小さい速度でx軸の負方向に搬送される。   The longitudinal direction of the main electron beam irradiation port 38 and the longitudinal direction of the sub electron beam irradiation port 50a are substantially parallel. Below the main electron beam irradiation port 38, a conveyance path for the PET bottle 52 is installed. The projection on the horizontal plane in the conveyance direction of the PET bottle 52 and the projection on the horizontal plane in the longitudinal direction of the main electron beam irradiation port 38 are not parallel but inclined. In FIG. 3, the plastic bottle 52 is transported in the positive direction of the y-axis and is transported in the negative direction of the x-axis at a lower speed than the y-direction.

ペットボトル52は、電子線照射範囲の上流域において、一側面が反射板44‐1に接し、反対側の一側面がパイプスクリュー40‐2に接した状態で、軸受け42‐2を中心としたパイプスクリュー40‐2の回転により下流側に搬送される。   The PET bottle 52 is centered on the bearing 42-2 with one side in contact with the reflector 44-1 and the other side in contact with the pipe screw 40-2 in the upstream region of the electron beam irradiation range. It is conveyed downstream by the rotation of the pipe screw 40-2.

ペットボトル52は、電子線照射範囲の中流域(即ち、軸受け42‐1よりも下流側且つ軸受け42‐2よりも上流側)において、一側面がパイプスクリュー40‐1に接し、反対側の一側面がパイプスクリュー40‐2に接した状態で、同じ速度で回転するパイプスクリュー40‐1、40‐2の回転により下流側に搬送される。   The PET bottle 52 has one side in contact with the pipe screw 40-1 in the middle region of the electron beam irradiation range (that is, the downstream side of the bearing 42-1 and the upstream side of the bearing 42-2). With the side surface in contact with the pipe screw 40-2, the pipe screws 40-1 and 40-2 rotating at the same speed are conveyed downstream.

ペットボトル52は、電子線照射範囲の下流域(即ち、軸受け42‐2よりも下流側)において、一側面が反射板44‐2に接し、反対側の一側面がパイプスクリュー40‐1に接した状態で、パイプスクリュー40‐1の回転により下流側に搬送される。   In the PET bottle 52, one side surface is in contact with the reflector 44-2 and the other side surface is in contact with the pipe screw 40-1 in the downstream region of the electron beam irradiation range (that is, downstream side of the bearing 42-2). In this state, it is conveyed downstream by the rotation of the pipe screw 40-1.

サブ電子線照射口50aの下方には、ボトルキャップ54が通過するキャップ経路20aが設置される。電子線照射範囲において、サブ電子線照射口50aの長手方向とキャップ経路20aの流れ方向とは略平行である。   A cap path 20a through which the bottle cap 54 passes is installed below the sub electron beam irradiation port 50a. In the electron beam irradiation range, the longitudinal direction of the sub electron beam irradiation port 50a and the flow direction of the cap path 20a are substantially parallel.

図4は、電子線照射装置21の構成を示す側面図である。図3のc−c断面が描かれている。スキャンホーン22aは、電子線供給部36から下方に向かって二股に分岐する。スキャンホーン22aにより、メイン電子線56が通るメイン電子線通路と、サブ電子線58が通るサブ電子線通路58とが確保される。メイン電子線56の経路とサブ電子線58の経路とは角αをなす。図2に記載されているメイン電子線走査角θはメイン電子線56の走査角である。サブ電子線照射角θは、サブ電子線58の走査角である。本実施の形態において、メイン電子線走査角θ=サブ電子線走査角θである。 FIG. 4 is a side view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. The cc cross section of FIG. 3 is depicted. The scan horn 22a is bifurcated downward from the electron beam supply unit 36. The scan horn 22a ensures a main electron beam path through which the main electron beam 56 passes and a sub electron beam path 58 through which the sub electron beam 58 passes. The path of the main electron beam 56 and the path of the sub electron beam 58 form an angle α. The main electron beam scanning angle θ M shown in FIG. 2 is the scanning angle of the main electron beam 56. The sub electron beam irradiation angle θ S is a scanning angle of the sub electron beam 58. In the present embodiment, the main electron beam scanning angle θ M = the sub electron beam scanning angle θ S.

キャップ経路20aにおいて、ボトルキャップ54は、開口86がサブ電子線照射口50aの方を向くように配置される。この向きで配置されることにより、飲料が充填される空間に接する内側面84がより高度に殺菌される。   In the cap path 20a, the bottle cap 54 is disposed so that the opening 86 faces the sub electron beam irradiation port 50a. By arrange | positioning in this direction, the inner surface 84 which contact | connects the space filled with a drink is disinfected more highly.

図5は、電子線照射装置21が備える図示しない制御装置が電子線供給部36を制御する方法を示すタイミングチャートである。電子線供給部36が備える電子銃は、所定の周期で電流を供給されて電子線のパルスを発生する。電子線が発生するタイミングに同期して、電子線の方向を走査方向(y軸方向)に偏向するための走査磁石に電流が流される。走査磁石によって発生される磁界により、電子線は1パルスの間に角θ=θを走査する。 FIG. 5 is a timing chart showing a method for controlling the electron beam supply unit 36 by a control device (not shown) included in the electron beam irradiation device 21. The electron gun provided in the electron beam supply unit 36 is supplied with a current at a predetermined cycle to generate an electron beam pulse. In synchronization with the generation timing of the electron beam, a current is passed through the scanning magnet for deflecting the direction of the electron beam in the scanning direction (y-axis direction). Due to the magnetic field generated by the scanning magnet, the electron beam scans the angle θ M = θ S during one pulse.

図5においては、電子線のパルスの6回に1回、電子線を副走査方向に偏向するための副走査磁石に電流が供給される。このとき電子線は、副走査方向(x軸方向)に偏向される。副走査磁石に電流が供給されないとき、電子線はメイン電子線56の方向に供給される。副走査磁石に電流が供給されるとき、電子線はサブ電子線58の方向に供給される。   In FIG. 5, a current is supplied to the sub-scanning magnet for deflecting the electron beam in the sub-scanning direction once every six pulses of the electron beam. At this time, the electron beam is deflected in the sub-scanning direction (x-axis direction). When no current is supplied to the sub-scanning magnet, the electron beam is supplied in the direction of the main electron beam 56. When current is supplied to the sub-scanning magnet, the electron beam is supplied in the direction of the sub-electron beam 58.

図18は、キャップ経路20の付近の構成を示している。キャップ経路20において、電子線照射範囲の上流側には、キャップ送り装置16aが設置される。電子線照射範囲の下流側には、キャップ受取装置24aが設置される。   FIG. 18 shows a configuration in the vicinity of the cap path 20. In the cap path 20, a cap feeding device 16a is installed on the upstream side of the electron beam irradiation range. A cap receiving device 24a is installed on the downstream side of the electron beam irradiation range.

図19は、キャップ経路20の延長方向に垂直な方向から見たボトルキャップ54とキャップ経路20の拡大図である。キャップ経路20は、第1側面ガイド60、第2側面ガイド62及び上面ガイド64を備える。これらはキャップ経路20の延長方向を長手方向として互いに平行に配置される中空のステンレス管である。これらは、下流側の方が上流側よりも低く位置するように傾斜して設置される。   FIG. 19 is an enlarged view of the bottle cap 54 and the cap path 20 as viewed from a direction perpendicular to the extending direction of the cap path 20. The cap path 20 includes a first side guide 60, a second side guide 62, and an upper surface guide 64. These are hollow stainless steel tubes arranged parallel to each other with the extending direction of the cap path 20 as the longitudinal direction. These are installed to be inclined so that the downstream side is positioned lower than the upstream side.

キャップ送り装置16aがボトルキャップ54に十分な初速を与えられる場合は、キャップ経路20は延長方向が水平になるように設置されてもよい。   When the cap feeding device 16a is given a sufficient initial speed to the bottle cap 54, the cap path 20 may be installed such that the extending direction is horizontal.

第1側面ガイド60と第2側面ガイド62とは鉛直方向の下側から側面80に接触する。第2側面ガイド62は第1側面ガイド60よりも電子線の照射範囲の中心に近い。第2側面ガイド62は、第1側面ガイド60に対して高い位置に配置されている。第1側面ガイド60がボトルキャップ54に接触する点と第2側面ガイド62がボトルキャップ54に接触する点とを結ぶ線と水平面とは角βをなす。   The first side guide 60 and the second side guide 62 contact the side surface 80 from the lower side in the vertical direction. The second side guide 62 is closer to the center of the electron beam irradiation range than the first side guide 60. The second side guide 62 is disposed at a higher position than the first side guide 60. A line connecting the point where the first side guide 60 contacts the bottle cap 54 and the point where the second side guide 62 contacts the bottle cap 54 and the horizontal plane form an angle β.

上面ガイド64は、鉛直方向の下側から上面82に接触する。ボトルキャップ54は、開口86を斜め上に向けた状態で、第1側面ガイド60、第2側面ガイド62及び上面ガイド64によって支持される。   The upper surface guide 64 contacts the upper surface 82 from the lower side in the vertical direction. The bottle cap 54 is supported by the first side surface guide 60, the second side surface guide 62, and the upper surface guide 64 with the opening 86 facing obliquely upward.

図19においては中心軸66が水平面に対して正の角βをなし、開口86が斜め上を向いている。電子線は上方から照射されるため、開口86が上を向いていると、ボトルキャップ54の内側面84が確実に殺菌され好ましい。電子線照射装置21が照射する電子線のエネルギーが十分に高い場合は、ボトルキャップ54の開口86が上を向いていなくても内側面84が確実に殺菌される。その場合、例えば角βがゼロであり、上面ガイド64は水平方向からボトルキャップ54の上面82に接する構成でもよい。   In FIG. 19, the central axis 66 forms a positive angle β with respect to the horizontal plane, and the opening 86 faces obliquely upward. Since the electron beam is irradiated from above, it is preferable that the inner surface 84 of the bottle cap 54 is reliably sterilized when the opening 86 faces upward. When the energy of the electron beam irradiated by the electron beam irradiation device 21 is sufficiently high, the inner side surface 84 is surely sterilized even if the opening 86 of the bottle cap 54 does not face upward. In this case, for example, the angle β may be zero, and the upper surface guide 64 may be in contact with the upper surface 82 of the bottle cap 54 from the horizontal direction.

第1側面ガイド60、第2側面ガイド62及び上面ガイド64の中には、冷却用の流体、例えば冷却水が流される。   A cooling fluid, such as cooling water, flows through the first side guide 60, the second side guide 62, and the upper surface guide 64.

以上の構成を備えた食品容器充填システム2は、次のように動作する。   The food container filling system 2 having the above configuration operates as follows.

ボトルキャップ54を装着される前のペットボトル52がボトル入口12から殺菌室4に導入される。ボトルキャップ54がキャップ入口14から殺菌室4に導入される。ペットボトル52は搬送装置によって搬送され、電子線照射装置21に到達する。   The plastic bottle 52 before the bottle cap 54 is attached is introduced into the sterilization chamber 4 from the bottle inlet 12. A bottle cap 54 is introduced into the sterilization chamber 4 from the cap inlet 14. The PET bottle 52 is transported by the transport device and reaches the electron beam irradiation device 21.

ボトルキャップ54はキャップ送り装置16aによって加速度を与えられて転がる。ボトルキャップ54は、側面80が第1側面ガイド60と第2側面ガイド62に転がり接触し、上面82が上面ガイド64によって下から支持された状態で、電子線照射装置21に到達する。   The bottle cap 54 rolls while being accelerated by the cap feeding device 16a. The bottle cap 54 reaches the electron beam irradiation device 21 in a state where the side surface 80 is in rolling contact with the first side surface guide 60 and the second side surface guide 62 and the upper surface 82 is supported from below by the upper surface guide 64.

電子線供給部36は電子線を供給する。電子線は走査磁石によってy軸方向に偏向する。このメイン電子線56はメイン電子線照射口38から出て、ペットボトル52を走査する。ペットボトル52は電子線により殺菌される。パイプスクリュー40‐1、40‐2は電子線が照射されることによって加熱される。パイプスクリュー40‐1、40‐2の内部に冷却水が流されることにより、温度の上昇が抑制される。殺菌されたペットボトル52は搬送装置によってすすぎリンサ室6に搬送される。   The electron beam supply unit 36 supplies an electron beam. The electron beam is deflected in the y-axis direction by a scanning magnet. The main electron beam 56 exits from the main electron beam irradiation port 38 and scans the plastic bottle 52. The PET bottle 52 is sterilized by an electron beam. The pipe screws 40-1 and 40-2 are heated by being irradiated with an electron beam. The cooling water is caused to flow inside the pipe screws 40-1 and 40-2, thereby suppressing an increase in temperature. The sterilized plastic bottle 52 is transported to the rinse rinser chamber 6 by the transport device.

電子線は6パルス毎に1パルス、副走査磁石によってx軸方向に偏向する。このサブ電子線58はサブ電子線照射口50aから出て、ボトルキャップ54に照射される。ボトルキャップ54は電子線により殺菌される。第1側面ガイド60、第2側面ガイド62及び上面ガイド64は電子線が照射されることにより加熱される。第1側面ガイド60、第2側面ガイド62及び上面ガイド64の内部に冷却水が流れることにより、温度の上昇が抑制される。殺菌されたボトルキャップ54は、キャップ受取装置24へ搬送され、キャップ経路26を通ってキャッパ室10に送られる。   The electron beam is deflected in the x-axis direction by one sub-scanning magnet every six pulses. The sub electron beam 58 exits from the sub electron beam irradiation port 50a and is irradiated to the bottle cap 54. The bottle cap 54 is sterilized by an electron beam. The first side guide 60, the second side guide 62, and the upper surface guide 64 are heated by being irradiated with an electron beam. As the cooling water flows inside the first side guide 60, the second side guide 62, and the upper surface guide 64, an increase in temperature is suppressed. The sterilized bottle cap 54 is conveyed to the cap receiving device 24 and sent to the capper chamber 10 through the cap path 26.

ペットボトル52はすすぎリンサ室6においてすすがれ、充填室8において飲料を充填されてキャッパ室10に搬送される。キャッパ32は、ペットボトル52にボトルキャップ54を装着する。ボトルキャップ54が装着されたペットボトル52はボトル出口34から搬出される。   The PET bottle 52 is rinsed in the rinse rinser chamber 6, filled with a beverage in the filling chamber 8, and conveyed to the capper chamber 10. The capper 32 attaches a bottle cap 54 to the plastic bottle 52. The plastic bottle 52 to which the bottle cap 54 is attached is carried out from the bottle outlet 34.

こうした食品容器充填システム2は、ペットボトル52とボトルキャップ54が同じ電子銃から供給される電子線によって殺菌されるために、コストが低く、設備がコンパクトである。ペットボトル52とボトルキャップ54が電子線によって殺菌されるため、殺菌・洗浄用の薬品が不要である。そのため、ボトルの内部に薬品が残留することを防止するための手段が省かれる。さらに、薬品と薬品をすすぐための水とが不要であるため、ランニングコストが抑制される。   Such a food container filling system 2 is low in cost and compact in equipment because the PET bottle 52 and the bottle cap 54 are sterilized by the electron beam supplied from the same electron gun. Since the PET bottle 52 and the bottle cap 54 are sterilized by the electron beam, no sterilizing / cleaning chemicals are required. Therefore, a means for preventing chemicals from remaining inside the bottle is omitted. Furthermore, since the chemical and water for rinsing the chemical are unnecessary, the running cost is suppressed.

(実施の第2形態)
図1に示された食品容器充填システム2の電子線照射装置21として、他の構成が適用されうる。図6は、電子線照射装置21の構成を示す正面図である。本実施の形態における電子線照射装置21において、サブ電子線照射口50bはメイン電子線照射口38よりも高い位置にある。他の構成は、実施の第1形態と同じである。メイン電子線の走査角度θとサブ電子線の走査角度θとは同じ角度である。そのため、サブ電子線照射口50bはメイン電子線照射口38よりも走査方向の長さが短い。
(Second embodiment)
Other configurations may be applied as the electron beam irradiation device 21 of the food container filling system 2 shown in FIG. FIG. 6 is a front view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. In the electron beam irradiation apparatus 21 according to the present embodiment, the sub electron beam irradiation port 50b is located higher than the main electron beam irradiation port 38. Other configurations are the same as those of the first embodiment. The scanning angle θ M of the main electron beam and the scanning angle θ S of the sub electron beam are the same angle. Therefore, the sub electron beam irradiation port 50 b is shorter in the scanning direction than the main electron beam irradiation port 38.

図7は、電子線照射装置21の構成を示す上面図である。図8は、電子線照射装置21の構成を示す側面図である。キャップ経路20bの上端は、メイン電子線照射口38の下端よりも高い位置にある。図9は、電子線照射装置21が備える図示しない制御装置が電子線供給部36を制御する方法を示すタイミングチャートである。   FIG. 7 is a top view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. FIG. 8 is a side view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. The upper end of the cap path 20 b is at a position higher than the lower end of the main electron beam irradiation port 38. FIG. 9 is a timing chart showing a method in which a control device (not shown) provided in the electron beam irradiation device 21 controls the electron beam supply unit 36.

こうした構成によれば、スキャンホーン22bのサブ電子線側の分岐、及びキャップ経路20bの位置が実施の第1形態よりも高く、ペットボトル52の搬送経路からより離れている。そのため、ペットボトル52の搬送装置、反射板等とボトルキャップ54の搬送装置、反射板等の位置が干渉し難くなる。その結果、設計が容易になり、メンテナンスが容易になる。   According to such a configuration, the branch of the scan horn 22b on the sub-electron beam side and the position of the cap path 20b are higher than those in the first embodiment, and are further away from the conveyance path of the plastic bottle 52. Therefore, the positions of the transport device, the reflecting plate, etc. of the PET bottle 52 and the position of the transport device, the reflecting plate, etc. of the bottle cap 54 are difficult to interfere. As a result, design becomes easy and maintenance becomes easy.

(実施の第3形態)
図1に示された食品容器充填システム2の電子線照射装置21として、更に他の構成が適用されうる。図10は、電子線照射装置21の構成を示す正面図である。本実施の形態において、サブ電子線の照射角度θはメイン電子線の照射角度θよりも小さく、例えばθ=(1/2)θである。なお、図10においてはメイン電子線の走査角度の一端がサブ電子線の走査角度の一端に重なっているが、サブ電子線照射口はボトル経路18及びキャップ経路20が干渉しない位置に設置することが望ましい。
(Third embodiment)
Still another configuration can be applied as the electron beam irradiation device 21 of the food container filling system 2 shown in FIG. FIG. 10 is a front view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. In the present embodiment, the irradiation angle θ S of the sub electron beam is smaller than the irradiation angle θ M of the main electron beam, for example, θ S = (1/2) θ M. In FIG. 10, one end of the scanning angle of the main electron beam overlaps one end of the scanning angle of the sub electron beam, but the sub electron beam irradiation port should be installed at a position where the bottle path 18 and the cap path 20 do not interfere with each other. Is desirable.

図11は、電子線照射装置21の構成を示す上面図である。キャップ経路20cは、サブ電子線照射口50cによる電子線の照射範囲よりも下流側且つメイン電子線照射口38の下流側の端部よりも上流側の位置で、屈折する。特に、上方に屈折することが好ましい。図12は、電子線照射装置21の構成を示す側面図である。   FIG. 11 is a top view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. The cap path 20c is refracted at a position downstream of the electron beam irradiation range by the sub electron beam irradiation port 50c and upstream of the downstream end of the main electron beam irradiation port 38. In particular, it is preferable to refract upward. FIG. 12 is a side view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21.

図13は、電子線照射装置21が備える図示しない制御装置が電子線供給部36を制御する方法を示すタイミングチャートである。副走査磁石電流が流されるとき、すなわちサブ電子線照射口50cの方に電子線が偏向されるとき、走査磁石電流は、サブ電子線が角度θを走査するように、メイン電子線を照射するときよりも小さい範囲で変化する。 FIG. 13 is a timing chart showing a method of controlling the electron beam supply unit 36 by a control device (not shown) included in the electron beam irradiation device 21. When the sub-scanning magnet current flows, that is, when the electron beam is deflected toward the sub-electron beam irradiation port 50c, the scanning magnet current irradiates the main electron beam so that the sub-electron beam scans the angle θ S. It changes in a smaller range than when you do.

こうした構成によれば、スキャンホーン22cのサブ電子線側の分岐が実施の第1形態よりも小さい。更に、キャップ経路20cが屈折することで、スキャンホーン22cのサブ電子線側の分岐がコンパクト化されて空いたスペースが何もないスペースとして残される、あるいは他の部材を配置することができる。そのため、システムの設計に余裕ができ、メンテナンスが容易になる。こうした観点から、サブ電子線照射口50cがメイン電子線照射口38よりも高く配置されることも好ましい。その場合、キャップ経路20cの上端がメイン電子線照射口38の下端よりも上に配置されることが更に好ましい。   According to such a configuration, the branch on the sub-electron beam side of the scan horn 22c is smaller than that in the first embodiment. Further, since the cap path 20c is refracted, the branch on the sub-electron beam side of the scan horn 22c is made compact so that there is no empty space, or another member can be arranged. As a result, there is room in system design and maintenance is facilitated. From such a viewpoint, it is also preferable that the sub electron beam irradiation port 50c is arranged higher than the main electron beam irradiation port 38. In that case, it is more preferable that the upper end of the cap path 20 c is disposed above the lower end of the main electron beam irradiation port 38.

(実施の第4形態)
図1に示された食品容器充填システム2の電子線照射装置21として、更に他の構成が適用されうる。図14は、電子線照射装置21の構成を示す正面図である。本実施の形態において、サブ電子線の照射角度θはメイン電子線の照射角度θよりも小さく、例えばθ=(1/2)θである。メイン電子線の走査角度の一端は、サブ電子線の走査角度の一端と重なっていることが好ましい。
(Fourth embodiment)
Still another configuration can be applied as the electron beam irradiation device 21 of the food container filling system 2 shown in FIG. FIG. 14 is a front view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21. In the present embodiment, the sub-electron beam irradiation angle θ S is smaller than the main electron beam irradiation angle θ M , for example, θ S = (1/2) θ M. It is preferable that one end of the scanning angle of the main electron beam overlaps one end of the scanning angle of the sub electron beam.

図15は、電子線殺菌装置の構成を示す上面図である。キャップ経路20dは、ボトル経路18と平行に設置される。ボトル経路18はメイン電子線照射口38に対して平行ではなく傾いている。サブ電子線照射口50dは、キャップ経路20dに平行に設けられる。サブ電子線照射口50dの水平面への射影は、メイン電子線照射口38の水平面への射影に対して平行ではなく、傾いている。   FIG. 15 is a top view showing the configuration of the electron beam sterilizer. The cap path 20 d is installed in parallel with the bottle path 18. The bottle path 18 is not parallel to the main electron beam irradiation port 38 but is inclined. The sub electron beam irradiation port 50d is provided in parallel to the cap path 20d. The projection of the sub electron beam irradiation port 50d onto the horizontal plane is not parallel to the projection of the main electron beam irradiation port 38 onto the horizontal plane, but is inclined.

キャップ経路20dは、サブ電子線照射口50dによる電子線の照射範囲よりも下流側且つメイン電子線照射口38の下流側の端部よりも上流側の位置で、屈折する。特に、上方に屈折することが好ましい。図16は、電子線照射装置21の構成を示す側面図である。   The cap path 20d is refracted at a position downstream of the electron beam irradiation range by the sub electron beam irradiation port 50d and upstream of the downstream end of the main electron beam irradiation port 38. In particular, it is preferable to refract upward. FIG. 16 is a side view showing the configuration of the electron beam irradiation device 21.

図17は、電子線照射装置21が備える図示しない制御装置が電子線供給部36を制御する方法を示すタイミングチャートである。副走査磁石電流が流されるとき、すなわちサブ電子線照射口50cの方に電子線が偏向されるとき、走査磁石電流は、サブ電子線が角度θを走査するように、メイン電子線を照射するときよりも小さい範囲で変化する。副走査磁石電流が流されないとき、電子線はメイン電子線照射口38の方向に向かう。より大きい副走査磁石電流が流されると、電子線はメイン電子線照射口38からx軸方向により離れた方向に偏向する。本実施の形態においては、サブ電子線照射口50dがメイン電子線照射口38に対して傾いているため、サブ電子線58がサブ電子線照射口50dに沿って照射されるように、副走査磁石電流は走査磁石電流の変化に随伴して変化する。 FIG. 17 is a timing chart showing a method in which a control device (not shown) included in the electron beam irradiation device 21 controls the electron beam supply unit 36. When the sub-scanning magnet current flows, that is, when the electron beam is deflected toward the sub-electron beam irradiation port 50c, the scanning magnet current irradiates the main electron beam so that the sub-electron beam scans the angle θ S. It changes in a smaller range than when you do. When the sub-scanning magnet current is not applied, the electron beam is directed toward the main electron beam irradiation port 38. When a larger sub-scanning magnet current flows, the electron beam is deflected in a direction away from the main electron beam irradiation port 38 in the x-axis direction. In the present embodiment, since the sub electron beam irradiation port 50d is inclined with respect to the main electron beam irradiation port 38, the sub scanning is performed so that the sub electron beam 58 is irradiated along the sub electron beam irradiation port 50d. The magnet current changes as the scanning magnet current changes.

こうした構成によれば、ボトル経路18とキャップ経路20とが平行であるため、搬送ラインのスペースがコンパクトである。   According to such a configuration, since the bottle path 18 and the cap path 20 are parallel, the space of the transport line is compact.

(実施の第5形態)
図18及び19に示されたキャップ経路20の付近の構成に代えて、他の構成を採用することが可能である。そのような構成として、図20には、図18のキャップ経路20の延長方向に垂直な方向から見た断面図が描かれている。キャップ経路20は、L字部材68を備える。L字部材68に接して冷却用の流体が流される冷却配管70が設置される。
(Fifth embodiment)
Instead of the configuration in the vicinity of the cap path 20 shown in FIGS. 18 and 19, other configurations can be adopted. As such a configuration, FIG. 20 shows a cross-sectional view seen from a direction perpendicular to the extending direction of the cap path 20 of FIG. The cap path 20 includes an L-shaped member 68. A cooling pipe 70 through which a cooling fluid flows is provided in contact with the L-shaped member 68.

L字部材68の表面は金属である。L字部材68は、長手方向に垂直な線が水平面に対して傾斜する第1の金属面と、第1の金属面に対して長手方向に垂直な方向に隣接して配置された第2の金属面とを有する。ボトルキャップ54は、L字部材68に沿って転がる。ボトルキャップ54の側面80は第1の金属面に下から支持され、転がり接触する。ボトルキャップ54の上面82は第2の金属面に下から支持される。L字部材68は、長手方向に沿って下流側に向かって低くなるように傾斜する。   The surface of the L-shaped member 68 is a metal. The L-shaped member 68 includes a first metal surface in which a line perpendicular to the longitudinal direction is inclined with respect to the horizontal plane, and a second metal layer disposed adjacent to the first metal surface in a direction perpendicular to the longitudinal direction. And a metal surface. The bottle cap 54 rolls along the L-shaped member 68. The side surface 80 of the bottle cap 54 is supported from below by the first metal surface and makes rolling contact. The upper surface 82 of the bottle cap 54 is supported on the second metal surface from below. The L-shaped member 68 is inclined so as to become lower toward the downstream side along the longitudinal direction.

こうした構成によれば、サブ電子線照射口50から照射される電子線がL字部材によって反射してボトルキャップ54に照射される。そのため、ボトルキャップ54がより効率的にかつ均一に殺菌される。   According to such a configuration, the electron beam irradiated from the sub electron beam irradiation port 50 is reflected by the L-shaped member and irradiated to the bottle cap 54. Therefore, the bottle cap 54 is sterilized more efficiently and uniformly.

(実施の第6形態)
図18及び図19に示されたキャップ経路20の付近の構成に代えて、更に他の構成を採用することが可能である。図21はそのような構成の正面図、図22は上面図である。
(Sixth embodiment)
In place of the configuration in the vicinity of the cap path 20 shown in FIGS. 18 and 19, another configuration can be adopted. FIG. 21 is a front view of such a configuration, and FIG. 22 is a top view.

キャップ経路20は、上流側コンベア72と下流側コンベア74とを備える。上流側コンベア72の上面は金属製である。この上面は水平に配置され、y軸正方向に移動する。下流側コンベア74の上面は金属製である。この上面は水平に配置され、y軸正方向に移動する。上流側コンベア72と下流側コンベア74とは、移行部76においてx軸方向に隙間なく隣接する。   The cap path 20 includes an upstream conveyor 72 and a downstream conveyor 74. The upper surface of the upstream conveyor 72 is made of metal. This upper surface is arranged horizontally and moves in the positive y-axis direction. The upper surface of the downstream conveyor 74 is made of metal. This upper surface is arranged horizontally and moves in the positive y-axis direction. The upstream conveyor 72 and the downstream conveyor 74 are adjacent to each other in the x-axis direction at the transition portion 76 without a gap.

上流側コンベア72と下流側コンベア74との上方には、ガイドレール78が固定される。ガイドレール78は、法線が水平な接触面を有する。移行部よりも上流側においてこの接触面は上流側コンベア72の上方に位置する。移行部76よりも下流側において接触面は下流側コンベア74の上方に位置する。ガイドレール78の水平面に対する射影は、サブ電子線照射口50の水平面に対する射影に対して傾いている。   A guide rail 78 is fixed above the upstream conveyor 72 and the downstream conveyor 74. The guide rail 78 has a contact surface whose normal is horizontal. This contact surface is located above the upstream conveyor 72 on the upstream side of the transition portion. The contact surface is located above the downstream conveyor 74 on the downstream side of the transition portion 76. The projection of the guide rail 78 on the horizontal plane is inclined with respect to the projection of the sub electron beam irradiation port 50 on the horizontal plane.

キャップ送り装置16bは、ボトルキャップ54を上流側コンベア72に供給する。ボトルキャップ54の姿勢は、上面82が上流側コンベア72に接し開口86が上を向く姿勢であることが好ましい。電子線のエネルギーが十分に高い場合は、ボトルキャップ54が姿勢に依存せずに十分に殺菌されるため、姿勢は任意でよい。ボトルキャップ54が供給される位置は、ガイドレール78の接触面に対して上流側である。   The cap feeding device 16 b supplies the bottle cap 54 to the upstream conveyor 72. The posture of the bottle cap 54 is preferably a posture in which the upper surface 82 is in contact with the upstream conveyor 72 and the opening 86 faces upward. When the energy of the electron beam is sufficiently high, since the bottle cap 54 is sufficiently sterilized without depending on the posture, the posture may be arbitrary. The position where the bottle cap 54 is supplied is upstream of the contact surface of the guide rail 78.

キャップ送り装置16bによって供給されたボトルキャップ54は、上流側コンベア72と下流側コンベア74とによって、y軸の正方向の速度成分を与えられる。その速度成分があるために、ボトルキャップ54はガイドレール78に接触する。ボトルキャップ54は、ガイドレール78によってx軸の正方向の速度成分を与えられる。ボトルキャップ54は、ガイドレール78に接触を保って下流側へ搬送される。ボトルキャップ54は側面80においてガイドレール78に転がり接触して中心軸66を中心に自転する。   The bottle cap 54 supplied by the cap feeding device 16 b is given a speed component in the positive direction of the y axis by the upstream conveyor 72 and the downstream conveyor 74. Due to the velocity component, the bottle cap 54 contacts the guide rail 78. The bottle cap 54 is given a velocity component in the positive direction of the x axis by the guide rail 78. The bottle cap 54 is conveyed downstream while maintaining contact with the guide rail 78. The bottle cap 54 rolls into contact with the guide rail 78 on the side surface 80 and rotates around the central axis 66.

以上の構成により、ボトルキャップ54はサブ電子線照射口50に対して斜めに移動し、かつ自転しながら移動する。これらの運動により、ボトルキャップ54には電子線が効率よく均一に照射される。ボトルキャップ54の開口86が上を向いていることにより、飲料が充填される空間に接するボトルキャップ54の内側がより高度に殺菌される。コンベアの表面が金属であることにより、電子線が反射される。その反射された電子線によってボトルキャップ54が更に殺菌される。コンベアが上流側コンベア72と下流側コンベア74とに分かれていることにより、下流側コンベア74には上流側コンベア72においてすでに殺菌されたボトルキャップ54が供給されることになり、下流側の無菌状態が確保される。   With the above configuration, the bottle cap 54 moves obliquely with respect to the sub electron beam irradiation port 50 and moves while rotating. By these movements, the bottle cap 54 is efficiently and uniformly irradiated with the electron beam. Since the opening 86 of the bottle cap 54 faces upward, the inside of the bottle cap 54 in contact with the space filled with the beverage is more highly sterilized. Since the surface of the conveyor is metal, the electron beam is reflected. The bottle cap 54 is further sterilized by the reflected electron beam. Since the conveyor is divided into the upstream conveyor 72 and the downstream conveyor 74, the bottle cap 54 already sterilized in the upstream conveyor 72 is supplied to the downstream conveyor 74. Is secured.

以上の実施例の変形例として、キャップ経路20は、ボトルキャップ54を搬送する複数列の搬送ラインを備えていてもよい。更に、ボトルキャップ54をパイプスクリューで搬送してもよい。その場合、ボトルキャップ54は開口86が上を向いた状態で搬送される。ボトルキャップ54の側面80はラインの片側の固定部材に接触しながら、反対側のパイプスクリューによって搬送される。電子線照射領域において、ボトルキャップ54は、固定部材と転がり接触して自転しながらパイプスクリューによって並進運動をする。   As a modification of the above embodiment, the cap path 20 may include a plurality of rows of conveyance lines that convey the bottle caps 54. Furthermore, you may convey the bottle cap 54 with a pipe screw. In that case, the bottle cap 54 is conveyed with the opening 86 facing upward. The side surface 80 of the bottle cap 54 is conveyed by the pipe screw on the opposite side while contacting the fixing member on one side of the line. In the electron beam irradiation region, the bottle cap 54 translates with the pipe screw while rolling and contacting the fixing member.

図1は、食品容器充填システムの構成を示す。FIG. 1 shows the configuration of a food container filling system. 図2は、電子線殺菌部の正面図を示す。FIG. 2 shows a front view of the electron beam sterilization unit. 図3は、電子線殺菌部の上面図を示す。FIG. 3 shows a top view of the electron beam sterilization unit. 図4は、電子線殺菌部の側面図を示す。FIG. 4 shows a side view of the electron beam sterilization unit. 図5は、電子線の照射タイミングを説明するためのタイミングチャートである。FIG. 5 is a timing chart for explaining the electron beam irradiation timing. 図6は、電子線殺菌部の正面図を示す。FIG. 6 shows a front view of the electron beam sterilization unit. 図7は、電子線殺菌部の上面図を示す。FIG. 7 shows a top view of the electron beam sterilization unit. 図8は、電子線殺菌部の側面図を示す。FIG. 8 shows a side view of the electron beam sterilization unit. 図9は、電子線の照射タイミングを説明するためのタイミングチャートである。FIG. 9 is a timing chart for explaining the electron beam irradiation timing. 図10は、電子線殺菌部の正面図を示す。FIG. 10 shows a front view of the electron beam sterilization unit. 図11は、電子線殺菌部の上面図を示す。FIG. 11 shows a top view of the electron beam sterilization unit. 図12は、電子線殺菌部の側面図を示す。FIG. 12 shows a side view of the electron beam sterilization unit. 図13は、電子線の照射タイミングを説明するためのタイミングチャートである。FIG. 13 is a timing chart for explaining the electron beam irradiation timing. 図14は、電子線殺菌部の正面図を示す。FIG. 14 shows a front view of the electron beam sterilization unit. 図15は、電子線殺菌部の上面図を示す。FIG. 15 shows a top view of the electron beam sterilization unit. 図16は、電子線の照射タイミングを説明するためのタイミングチャートである。FIG. 16 is a timing chart for explaining electron beam irradiation timing. 図17は、電子線殺菌部の正面図を示す。FIG. 17 shows a front view of the electron beam sterilization unit. 図18は、ボトルキャップの搬送装置の構成を示す正面図である。FIG. 18 is a front view showing the configuration of the bottle cap transport device. 図19は、ボトルキャップの側面図である。FIG. 19 is a side view of the bottle cap. 図20は、ボトルキャップの側面図である。FIG. 20 is a side view of the bottle cap. 図21は、ボトルキャップの搬送装置の構成を示す正面図である。FIG. 21 is a front view showing the configuration of the bottle cap transport device. 図22は、ボトルキャップの搬送装置の構成を示す上面図である。FIG. 22 is a top view showing the configuration of the bottle cap conveying device. 図23は、ボトルキャップの斜視図である。FIG. 23 is a perspective view of the bottle cap.

符号の説明Explanation of symbols

2…食品容器充填システム
4…殺菌室
6…すすぎリンサ室
8…充填室
10…キャッパ室
12…ボトル入口
14…キャップ入口
16…キャップ送り装置
18…ボトル経路
20…キャップ経路
21…電子線照射装置
22…スキャンホーン
24…キャップ受取装置
26…キャップ経路
28…すすぎリンサ
30…充填機
32…キャッパ
34…ボトル出口
36…電子線供給部
38…メイン電子線照射口
40…パイプスクリュー
42…軸受け
44…反射板
46…反射板
48…反射板
50…サブ電子線照射口
52…ボトル
54…ボトルキャップ
56…メイン電子線
58…サブ電子線
60…第1側面ガイド
62…第2側面ガイド
64…上面ガイド
66…中心軸
68…L字部材
70…冷却配管
72…上流側コンベア
74…下流側コンベア
76…移行部
78…ガイドレール
80…側面
82…上面
84…内側面
86…開口
2 ... Food container filling system 4 ... Sterilization chamber 6 ... Rinsing chamber 8 ... Filling chamber 10 ... Capper chamber 12 ... Bottle inlet 14 ... Cap inlet 16 ... Cap feeding device 18 ... Bottle route 20 ... Cap route 21 ... Electron beam irradiation device 22. Scan horn 24 ... Cap receiving device 26 ... Cap path 28 ... Rinsing rinser 30 ... Filler 32 ... Capper 34 ... Bottle outlet 36 ... Electron beam supply unit 38 ... Main electron beam irradiation port 40 ... Pipe screw 42 ... Bearing 44 ... Reflector 46 ... Reflector 48 ... Reflector 50 ... Sub electron beam irradiation port 52 ... Bottle 54 ... Bottle cap 56 ... Main electron beam 58 ... Sub electron beam 60 ... First side guide 62 ... Second side guide 64 ... Upper surface guide 66 ... Center shaft 68 ... L-shaped member 70 ... Cooling pipe 72 ... Upstream conveyor 74 ... Downstream conveyor 76 ... Transition section 78 ... Guy Rail 80 ... side 82 ... upper surface 84 ... inner surface 86 ... opening

Claims (10)

第1搬送物を第1経路に沿ってガイドする第1搬送部と、
第2搬送物を第2経路に沿ってガイドする第2搬送部と、
電子線発生装置を備え、前記電子線発生装置が発生する電子線を第1のタイミングで前記第1経路に照射し、前記電子線発生装置が発生する電子線を第2のタイミングで偏向して前記第2経路に照射する電子線照射装置
とを具備する
電子線殺菌装置。
A first transport unit that guides the first transported object along the first path;
A second transport unit for guiding the second transport object along the second path;
An electron beam generator, irradiating the first path with an electron beam generated by the electron beam generator at a first timing, and deflecting the electron beam generated by the electron beam generator at a second timing An electron beam sterilizer comprising: an electron beam irradiation device that irradiates the second path.
請求項1に記載された電子線殺菌装置であって、
前記第2搬送部は前記第1搬送物である容器に装着されるキャップを前記第2搬送物として支持する
電子線殺菌装置。
An electron beam sterilizer according to claim 1,
The said 2nd conveyance part is an electron beam sterilizer which supports the cap with which the container which is said 1st conveyance thing is mounted | worn as said 2nd conveyance object.
請求項1又は2に記載された電子線殺菌装置であって、
前記電子線照射装置は第1走査方向に沿って前記第1経路に電子線を照射し、
前記第1走査方向の水平面への射影は、前記第1経路の水平面への射影に対して傾いている
電子線殺菌装置。
The electron beam sterilizer according to claim 1 or 2,
The electron beam irradiation device irradiates the first path with an electron beam along a first scanning direction,
The projection onto the horizontal plane in the first scanning direction is inclined with respect to the projection onto the horizontal plane of the first path.
請求項3に記載された電子線殺菌装置であって、
前記電子線照射装置は前記第1走査方向と平行な第2走査方向に沿って前記第2経路に電子線を照射する
電子線殺菌装置。
An electron beam sterilizer according to claim 3,
The electron beam irradiating apparatus irradiates an electron beam to the second path along a second scanning direction parallel to the first scanning direction.
請求項3に記載された電子線殺菌装置であって、
前記第1経路と前記第2経路とは略平行であり、
前記電子線照射装置は前記第2経路に略平行な第2走査方向に沿って前記第2経路に電子線を照射する
電子線殺菌装置。
An electron beam sterilizer according to claim 3,
The first path and the second path are substantially parallel;
The electron beam irradiating apparatus irradiates an electron beam to the second path along a second scanning direction substantially parallel to the second path.
請求項1乃至5に記載された電子線殺菌装置であって、
前記第1経路と前記第2経路とは鉛直方向に高さが異なる
電子線殺菌装置。
The electron beam sterilizer according to claim 1,
The electron beam sterilizer is different in height between the first path and the second path in the vertical direction.
請求項1乃至6に記載された電子線殺菌装置であって、
前記電子線照射装置は、
前記電子線発生装置から前記第1経路の方向に第1走査角度で広がる第1スキャンホーンと、
前記電子線発生装置から前記第2経路の方向に前記第1走査角度よりも小さい第2走査角度で広がる第2スキャンホーン
とを備える
電子線殺菌装置。
The electron beam sterilizer according to any one of claims 1 to 6,
The electron beam irradiation device is:
A first scan horn extending from the electron beam generator at a first scan angle in the direction of the first path;
An electron beam sterilizer comprising: a second scan horn extending from the electron beam generator in a direction of the second path at a second scan angle smaller than the first scan angle.
請求項1乃至7に記載された電子線殺菌装置であって、
前記第2搬送部は、自転を伴って前記第2経路を通過するように前記第2搬送物を前記第2経路に沿ってガイドする
電子線殺菌装置。
The electron beam sterilizer according to any one of claims 1 to 7,
The second transport unit guides the second transported object along the second path so as to pass through the second path with rotation.
請求項1乃至8に記載された電子線殺菌装置と、
前記電子線殺菌装置が設置される殺菌室と、
前記殺菌室において電子線を照射された前記第1搬送物が自動的に運び込まれる充填室と、
前記充填室に設置され、前記第1搬送物の開口を通して内部に内容物を充填する充填装置と、
前記充填室において前記内容物を充填された前記第1搬送物と前記殺菌室において電子線を照射された前記第2搬送物とが自動的に運び込まれるキャッパ室と、
前記キャッパ室に設置され、前記第1搬送物の開口を前記第2搬送物を装着することによって塞ぐキャッパ装置
とを具備する
充填システム。
Electron beam sterilizer according to claim 1 or 8,
A sterilization chamber in which the electron beam sterilizer is installed;
A filling chamber in which the first transported object irradiated with the electron beam is automatically carried in the sterilization chamber;
A filling device that is installed in the filling chamber and fills the content through the opening of the first transported object;
A capper chamber in which the first conveyed product filled with the contents in the filling chamber and the second conveyed product irradiated with an electron beam in the sterilization chamber are automatically carried;
A capping device that is installed in the capper chamber and closes the opening of the first transported object by mounting the second transported object.
請求項1乃至8に記載された電子線殺菌装置であって、
更に、前記第1経路と前記第2経路とを格納し、外部よりも清浄度が高い殺菌室
を具備し、
前記電子線照射装置の表面のうち前記電子線の照射口を含む一部は前記殺菌室の内部に位置し、
前記表面のうちの他の一部は前記外部に位置する
電子線殺菌装置。
The electron beam sterilizer according to claim 1,
Furthermore, the first path and the second path are stored, and a sterilization chamber having higher cleanliness than the outside is provided,
A part of the surface of the electron beam irradiation device including the electron beam irradiation port is located inside the sterilization chamber,
Another part of the surface is located outside the electron beam sterilizer.
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