JP2007073154A - Write-once type optical recording medium - Google Patents

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Masayuki Fujiwara
将行 藤原
Noboru Sasa
登 笹
Toshishige Fujii
俊茂 藤井
Yoshitaka Hayashi
嘉隆 林
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a write-once type optical recording medium compatible with a blue laser, especially the write-once type optical recording medium which is compliant with the HD-DVD specifications in which an embossed section of a system lead-in area is prepared at an inner periphery area than this data area, in addition to the recordable data area having a groove (guide groove), and the write-once type optical recording medium which has a recording layer whose principal component is an inorganic oxide and the groove depth of the groove and the depth of the embossed section are optimized. <P>SOLUTION: The write-once type optical recording medium is characterized by having the recording layer of which principal component is the inorganic oxide, and on which recording and reproducing can be performed with an optical head whose laser wavelength λ is 405±5 nm, and a numerical aperture of an objective lens NA is 0.65±0.01, and which satisfies d1<d2, wherein d1 is the groove depth of the groove of the recordable data area, and d2 is the depth of the embossed section of the system lead-in area and d1 is 18-30 nm, and d2 is 20-60 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザ光によりデータを記録し、レーザ光の反射光によって該記録データを再生することができる光記録媒体に関し、特に、予めマスタリングによりデータが記録されたシステム・リード・イン領域と追記可能なデータ領域とを有する青色レーザ対応の追記型光記録媒体（ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ）に関する。   The present invention relates to an optical recording medium capable of recording data with a laser beam and reproducing the recorded data with a reflected light of the laser beam. The present invention relates to a write-once type optical recording medium (HD DVD-R) compatible with a blue laser having a possible data area.

従来から、光記録媒体として、再生専用領域（ＲＯＭ領域、システム・リード・イン領域）と記録可能領域（ＲＡＭ領域、追記可能なデータ領域）を組み合わせたハイブリッドディスクが開発されている。
特許文献１には、一つの面上に、マスタリングによるピットを有するＲＯＭ領域とグルーブを有するＲＡＭ領域とを備えたハイブリッドＣＤ−Ｒが開示されている。このようなハイブリッドＣＤ−Ｒは、当初、ＲＯＭ領域がＣＤと同一の構成で、基板上に形成したピット上に直接反射膜を設けていた。しかし、ＲＯＭ領域とＲＡＭ領域の境界部の色素の塗り分けが困難であり、また、ＲＯＭ領域の内部への色素塗布は更に難しいため、ＲＯＭ領域とＲＡＭ領域の両方に色素を塗布し、かつＲＯＭ領域とＲＡＭ領域の信号特性が良好となるように、ＲＯＭ領域のピット形状、ＲＡＭ領域のグルーブ形状、及び色素塗布状態を限定している。
この他、特許文献２にもプリピットよりも浅いプリグルーブからなるウォブリングトラックを有するハイブリッドＣＤ−Ｒが提案されている。
以上の先行技術は、ＣＤ系、特に有機色素を記録層とするＣＤ−Ｒに適用できる技術である。 Conventionally, hybrid discs that combine a read-only area (ROM area, system lead-in area) and a recordable area (RAM area, additionally recordable data area) have been developed as optical recording media.
Patent Document 1 discloses a hybrid CD-R including a ROM area having a pit by mastering and a RAM area having a groove on one surface. In such a hybrid CD-R, the ROM area has the same configuration as that of the CD at the beginning, and a reflective film is directly provided on the pit formed on the substrate. However, it is difficult to separately apply the dye at the boundary between the ROM area and the RAM area, and since it is more difficult to apply the dye to the inside of the ROM area, the dye is applied to both the ROM area and the RAM area, and the ROM The pit shape of the ROM area, the groove shape of the RAM area, and the dye application state are limited so that the signal characteristics of the area and the RAM area are good.
In addition, Patent Document 2 proposes a hybrid CD-R having a wobbling track composed of a pregroove shallower than a prepit.
The prior art described above is a technique applicable to a CD system, particularly a CD-R having an organic dye as a recording layer.

他方、ＤＶＤ系の光記録媒体に適用できる技術としては、例えば非特許文献１に、ＤＶＤ−ＲＷ規格ｖｅｒ．１．０に準拠した光記録媒体を、既存のＤＶＤプレーヤーで再生できるようにするために、（追記可能なデータ領域の）グルーブの溝深さと（システム・リード・イン領域の）エンボス部の深さを変える技術が提案されている。
ところで、本発明者らは、青色レーザ波長以下でも高密度の記録が可能な追記型光記録媒体として、特願２００４−０６６２１０、及び特願２００４−０６４４５２において、金属又は半金属の酸化物、とりわけビスマスの酸化物を主成分とする記録層の有用性を提案している（以下、上記本出願人の先願を自社先行技術と呼ぶ）。上記自社先行技術は、非常に優れた記録再生特性と信頼性（再生安定性や保存安定性等）を有することが確認できている。しかし、追記可能なデータ領域のグルーブの溝深さと、システム・リード・イン領域のエンボス部の深さの関係については、記載も示唆もされていない。
この他、特許文献３〜４に、金属又は半金属の酸化物であるＴｅＯｘ−Ｐｄを記録層とした追記型光記録媒体が提案されている。しかし、これらの特許文献には、ＨＤ ＤＶＤ規格に準拠した追記型光記録媒体に関する記載はない。即ち、グルーブの溝深さとエンボス部の深さに関する記載はない。 On the other hand, as a technique applicable to a DVD-type optical recording medium, for example, Non-Patent Document 1 discloses a DVD-RW standard ver. In order to make it possible to play back an optical recording medium conforming to 1.0 on an existing DVD player, the groove depth of the data recording area (in the recordable data area) and the depth of the embossed section (in the system lead-in area) Technologies that change the height have been proposed.
By the way, as write-once type optical recording media capable of high-density recording even under a blue laser wavelength or less, the present inventors disclosed in Japanese Patent Application No. 2004-066122 and Japanese Patent Application No. 2004-064452, metal or metalloid oxides, The usefulness of a recording layer mainly composed of a bismuth oxide has been proposed (hereinafter, the above-mentioned prior application of the present applicant will be referred to as in-house prior art). The in-house prior art has been confirmed to have very excellent recording / reproduction characteristics and reliability (reproduction stability, storage stability, etc.). However, there is no description or suggestion regarding the relationship between the groove depth of the recordable data area and the depth of the embossed portion of the system lead-in area.
In addition, Patent Documents 3 to 4 propose write-once optical recording media using a recording layer of TeOx-Pd, which is a metal or metalloid oxide. However, these patent documents do not describe a write-once type optical recording medium compliant with the HD DVD standard. That is, there is no description regarding the groove depth of the groove and the depth of the embossed portion.

また、本発明と類似した、ビスマスの酸化物を含有する材料に関しては、特許文献５に「一般式Ａｘ（ＭｍＯｎ）ｙ（Ｆｅ２Ｏ３）ｚにおいて、Ａの各種酸化物、Ｍの各種元素、ｘ、ｙ、ｚの各種割合を規定した非晶質強磁性酸化物。」が、特許文献６に「一般式（Ｂｉ２Ｏ３）ｘ（ＭｍＯｎ）ｙ（Ｆｅ２Ｏ３）ｚにおいて、ＭｍＯｎの酸化物、ｘ、ｙ、ｚの割合を規定した非晶質相を５０％以上含む金属酸化物とその製法。」が、特許文献７に「一般式（Ｂ２Ｏ３）ｘ（Ｂｉ２Ｏ３）１−ｘの組成を有する非晶質化合物で、その組成ｘの範囲と急冷方法。」が、特許文献８に「（Ｂｉ２Ｏ３）１−ｘ（Ｆｅ２Ｏ３）ｘ（但し、０．９０≧ｘ＞０）なる組成を有するビスマス−鉄系非晶質化合物材料。」が、それぞれ開示されている。
しかしながら、これら特許文献５〜８の技術は、透光性、強磁性のアモルファス酸化物材料に関するものであって、その用途は、光磁気記録媒体、磁気によって光を制御する機能素子、光磁気センサー、透明導電膜、圧電膜などである。また、これらの他社先行技術は、材料や製造方法に関する特許が主体であり、追記型光記録媒体への応用についての言及はなく、ＨＤ ＤＶＤ規格に準拠した追記型光記録媒体に関する記載もない。即ち、グルーブの溝深さとエンボス部の深さに関する記載はない。 In addition, regarding a material containing an oxide of bismuth similar to the present invention, Patent Document 5 describes “in the general formula Ax (MmOn) y (Fe 2 O 3 ) z, various oxides of A, various elements of M”. , X, y, and z are defined as “amorphous ferromagnetic oxides” in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2004-228688 in “General Formula (Bi 2 O 3 ) x (MmOn) y (Fe 2 O 3 ) z” MmOn oxide, a metal oxide containing 50% or more of an amorphous phase in which the ratio of x, y, and z is defined and a method for producing the same are disclosed in Patent Document 7 as “general formula (B 2 O 3 ) x (Bi amorphous compound having a composition of 2 O 3) 1-x, and quench method scope of the composition x. "is, Patent Document 8" (Bi 2 O 3) 1- x (Fe 2 O 3) x (However, a bismuth-iron-based amorphous compound material having a composition of 0.90 ≧ x> 0 ”is disclosed. Has been.
However, these techniques of Patent Documents 5 to 8 relate to a light-transmitting and ferromagnetic amorphous oxide material, and their uses are a magneto-optical recording medium, a functional element that controls light by magnetism, and a magneto-optical sensor. , Transparent conductive film, piezoelectric film, and the like. In addition, these other companies' prior arts are mainly patents relating to materials and manufacturing methods, there is no mention of application to write-once optical recording media, and there is no description of write-once optical recording media compliant with the HD DVD standard. That is, there is no description regarding the groove depth of the groove and the depth of the embossed portion.

特公平７−１１４０２８号公報Japanese Patent Publication No.7-114028 特開平９―１２０５８６号公報JP-A-9-120586 特開平６−１５０３６６号公報JP-A-6-150366 特公平６−９３３００号公報Japanese Patent Publication No. 6-93300 特開昭６１−１０１４５０号公報JP 61-101450 A 特開昭６１−１０１４４８号公報JP 61-101448 A 特開昭５９−８６１８号公報JP 59-8618 A 特開昭５９−７３４３８号公報JP 59-73438 A ＰＩＯＮＥＥＲ Ｒ＆Ｄ、Ｖｏｌ．１０、Ｎｏ．３、ｐ．６０PIONEER R & D, Vol. 10, no. 3, p. 60

上記グルーブの溝深さとエンボス部の深さを変えるという従来技術は、光記録媒体の規格に拘わらず一般的に使用できる技術であるが、各規格ごとに記録再生特性の規格値が異なるため、ＣＤ系、ＤＶＤ系の光記録媒体用に開発された従来技術では、青色レーザ対応の追記型光記録媒体には適用できない。
また、記録再生波長が異なると記録層材料も大きく変更しなければならないため、ＣＤ系、ＤＶＤ系の光記録媒体用に開発された設計値（グルーブの溝深さとエンボス部の深さ）をそのまま採用することはできない。
そこで、本発明では、青色レーザ対応の追記型光記録媒体、特に、グルーブ（案内溝）を有する追記可能なデータ領域に加えて、該データ領域よりも内周部に、システム・リード・イン領域のエンボス部が設けられるＨＤ ＤＶＤ規格に準拠した追記型光記録媒体であって、無機酸化物を主成分とする記録層を有し、前記グルーブの溝深さと前記エンボス部の深さが最適化された追記型光記録媒体の提供を目的とする。 The conventional technology of changing the groove depth of the groove and the depth of the embossed portion is a technology that can be generally used regardless of the standard of the optical recording medium, but because the standard value of the recording / reproducing characteristics differs for each standard, The conventional technology developed for CD-type and DVD-type optical recording media cannot be applied to a write-once type optical recording medium compatible with a blue laser.
In addition, since the recording layer material must be changed greatly when the recording / reproducing wavelength is different, the design values (groove groove depth and embossed portion depth) developed for CD- and DVD-based optical recording media remain unchanged. It cannot be adopted.
Therefore, in the present invention, in addition to a write-once type optical recording medium compatible with a blue laser, in particular, a recordable data area having a groove (guide groove), a system lead-in area is provided in the inner periphery of the data area. A write-once optical recording medium conforming to the HD DVD standard provided with an embossed portion having a recording layer mainly composed of an inorganic oxide, and the groove depth of the groove and the depth of the embossed portion optimized. An object of the present invention is to provide a write-once type optical recording medium.

上記課題は、次の１）〜２）の発明によって解決される。
１） レーザ波長λが４０５±５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡが０．６５±０．０１の光ヘッドで記録再生を行うことができ、無機酸化物を主成分とする記録層を有し、追記可能なデータ領域のグルーブの溝深さをｄ１、システム・リード・イン領域のエンボス部の深さをｄ２としたとき、ｄ１＜ｄ２を満たし、ｄ１が１８〜３０ｎｍ、ｄ２が２０〜６０ｎｍであることを特徴とする追記型光記録媒体。
２） 記録層の主成分の無機酸化物が酸化ビスマスであることを特徴とする１）記載の追記型光記録媒体。 The above problems are solved by the following inventions 1) to 2).
1) Recording and reproduction can be performed with an optical head having a laser wavelength λ of 405 ± 5 nm and an objective lens numerical aperture NA of 0.65 ± 0.01, and has a recording layer mainly composed of an inorganic oxide, When the groove depth of the recordable data area is d1 and the depth of the embossed part of the system lead-in area is d2, d1 <d2 is satisfied, d1 is 18 to 30 nm, and d2 is 20 to 60 nm. A write-once type optical recording medium characterized by being.
2) The recordable optical recording medium according to 1), wherein the inorganic oxide as a main component of the recording layer is bismuth oxide.

以下、上記本発明について詳しく説明する。
図１に、本発明に係るＨＤ ＤＶＤ−Ｒの断面構造の模式図を示す。図中の（Ａ）はシステム・リード・イン領域、（Ｂ）は追記可能なデータ領域である。また、図２は、図１の（Ａ）部及び（Ｂ）部の層構成の一例を示す断面図である。
本発明者らは、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格を満足させるため、記録層材料について検討した結果、耐久性が良く、熱伝導率が低く、高反射率化や高透過率化が実現し易い（複素屈折率に起因する）という理由から、無機酸化物を主成分とする材料が非常に有効であることを見出した。ここで、主成分とは、記録層材料全体の５０重量％以上を占めることを意味する。
この無機酸化物を主成分とする記録層について検討したところ、追記可能なデータ領域での記録再生特性（ＰＲＳＮＲやＳｂＥＲ）が最適となるグルーブの溝深さは１８〜３０ｎｍであることが分った。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
FIG. 1 shows a schematic diagram of a cross-sectional structure of an HD DVD-R according to the present invention. In the figure, (A) is a system lead-in area, and (B) is a data area that can be additionally written. FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the layer configuration of the part (A) and the part (B) in FIG.
As a result of examining the recording layer material in order to satisfy the HD DVD-R standard, the inventors of the present invention have good durability, low thermal conductivity, and can easily achieve high reflectance and high transmittance (complexity). For the reason of (because of the refractive index), it was found that a material mainly composed of an inorganic oxide is very effective. Here, the main component means that it accounts for 50% by weight or more of the entire recording layer material.
When the recording layer mainly composed of this inorganic oxide was examined, it was found that the groove depth of the groove at which the recording / reproduction characteristics (PRSNR and SbER) in the additionally recordable data area were optimum was 18 to 30 nm. It was.

しかし、システム・リード・イン領域のエンボス部の深さを、追記可能なデータ領域での記録再生特性（ＰＲＳＮＲやＳｂＥＲ）が最適となるグルーブの溝深さと同一に設定すると、システム・リード・イン領域のエンボス部における再生信号の変調度が規格を満足しない場合や、追記可能なデータ領域とシステム・リード・イン領域での反射率差が大きくなり過ぎる場合（何れかの領域の反射率が規格値を外れる可能性が高い）が多くなることを見出した。
なお、ＰＲＳＮＲとは、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格に基づく信号品質を表す指標で、Ｐａｒｔｉａｌ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｚｅ Ｒａｔｉｏ（パーシャル・レスポンス・シグナル・ツー・ノイズ・レシオ）のことである。また、前記ＳｂＥＲとは、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格に基づくエラーレートを表す指標で、Ｓｉｍｕｌａｔｅｄ ｂｉｔ Ｅｒｒｏｒ Ｒａｔｅ（シミュレーテッド・ビット・エラー・レート）のことである。 However, if the depth of the embossed part of the system lead-in area is set to be the same as the groove depth of the groove where the recording / reproduction characteristics (PRSNR and SbER) in the recordable data area are optimum, the system lead-in area When the degree of modulation of the playback signal at the embossed part of the area does not satisfy the standard, or when the difference in reflectivity between the recordable data area and the system lead-in area becomes too large (the reflectivity of any area is the standard) We found that there is a high possibility that the value will be off.
Note that PRSNR is an index representing signal quality based on the HD DVD-R standard, and is a partial response signal to noise ratio (partial response signal to noise ratio). The SbER is an index representing an error rate based on the HD DVD-R standard, and is a simulated bit error rate (simulated bit error rate).

更に検討の結果、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格に準拠した追記型光記録媒体であって、無機酸化物を主成分とする記録層を有する追記型光記録媒体では、システム・リード・イン領域のエンボス部における再生信号が規格を満足するための該エンボス部の深さの最適値が、追記可能なデータ領域のグルーブの溝深さよりも深い領域に存在することが分かった。
そして、追記可能なデータ領域の記録再生特性と、システム・リード・イン領域のエンボス部の再生特性を両立させるためには、無機酸化物を主成分とする記録層を有する追記型光記録媒体において、追記可能なデータ領域のグルーブの溝深さをｄ１、システム・リード・イン領域のエンボス部の深さをｄ２としたとき、ｄ１＜ｄ２を満たすようにすることが有効であることを見出した。更に、ｄ１が１８〜３０ｎｍ、ｄ２が２０〜６０ｎｍの範囲が好ましいことを見出した。 As a result of further investigation, the write-once type optical recording medium compliant with the HD DVD-R standard, and the write-once type optical recording medium having a recording layer mainly composed of an inorganic oxide, the embossed portion of the system lead-in area It has been found that the optimum value of the depth of the embossed portion in order to satisfy the standard of the reproduction signal in is present in a region deeper than the groove depth of the groove of the data region that can be additionally written.
Further, in order to achieve both the recording / reproducing characteristics of the recordable data area and the reproducing characteristics of the embossed portion of the system lead-in area, the write-once type optical recording medium having a recording layer mainly composed of an inorganic oxide is used. It has been found that it is effective to satisfy d1 <d2, where d1 is the groove depth of the recordable data area and d2 is the depth of the embossed portion of the system lead-in area. . Furthermore, it has been found that d1 is preferably in the range of 18 to 30 nm and d2 is in the range of 20 to 60 nm.

ｄ１が１８ｎｍ未満では、トラッキング信号（例、プッシュプル信号）の振幅が小さくなり（規格値を満足しなくなり）、ＰＲＳＮＲ等の特性が規格値を満足しなくなったりする。また、ｄ１が３０ｎｍを超えるとＰＲＳＮＲ等の特性が規格値を満足しなくなる場合が多くなる。一方、ｄ２が２０ｎｍ未満では、システム・リード・イン領域の変調度やジッタが規格を満足しなくなったり、反射率が規格値を超える場合が多くなる。また、ｄ２が６０ｎｍを超えると、スタンパが製造しにくくなり、追記可能なデータ領域の記録再生特性が悪化することが多くなる。これは、通常、１つのディスク内で深さが異なるグルーブとエンボス部を設ける場合、露光強度を変える方法や、複数層からなるレジストを用いる方法が採用されるが、何れの方法においても、グルーブの溝深さとエンボス部の深さの差が大きくなればなるほど、両者の形状制御が困難となることに起因する。
上記のような条件を満たすことにより、追記可能なデータ領域、及びシステム・リード・イン領域の反射率が規格値内に収まり、追記可能なデータ領域とシステム・リード・イン領域との反射率差も小さくなる。そして、レーザ波長λが４０５±５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡが０．６５±０．０１の光ヘッドで記録再生を行うことができ、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格を満足し、記録再生特性に優れた追記型光記録媒体を実現できる。 When d1 is less than 18 nm, the amplitude of the tracking signal (eg, push-pull signal) becomes small (the standard value is not satisfied), and the characteristics such as PRSNR may not satisfy the standard value. Moreover, when d1 exceeds 30 nm, characteristics such as PRSNR often do not satisfy the standard value. On the other hand, when d2 is less than 20 nm, the degree of modulation and jitter in the system lead-in region do not satisfy the standard, and the reflectance often exceeds the standard value. On the other hand, if d2 exceeds 60 nm, it is difficult to manufacture the stamper, and the recording / reproducing characteristics of the data area in which data can be additionally written are often deteriorated. In general, when grooves and embossed portions having different depths are provided in one disk, a method of changing the exposure intensity and a method of using a resist composed of a plurality of layers are adopted. This is because as the difference between the groove depth and the depth of the embossed portion increases, it becomes difficult to control the shapes of the two.
By satisfying the above conditions, the reflectivity of the recordable data area and the system lead-in area falls within the standard value, and the reflectivity difference between the recordable data area and the system lead-in area Becomes smaller. Recording and reproduction can be performed with an optical head having a laser wavelength λ of 405 ± 5 nm and an objective lens numerical aperture NA of 0.65 ± 0.01, which satisfies the HD DVD-R standard and has excellent recording and reproduction characteristics. Further, a write-once type optical recording medium can be realized.

ところで、システム・リード・イン領域のエンボス部のトラックピッチ（エンボス部の半径方向の間隔）は、追記可能なデータ領域のグルーブのトラックピッチの２倍であるため、システム・リード・イン領域の反射率は追記可能なデータ領域の反射率よりも高くなる。特に無機酸化物を記録層とした追記型光記録媒体では、反射率が高くなる傾向、或いは高くできる傾向があるため（複素屈折率の虚部が比較的小さいことに起因する）、例えば追記可能なデータ領域のグルーブの溝深さとシステム・リード・イン領域のエンボス部の深さを同一にした場合、追記可能なデータ領域では高反射率というメリットが得られるが、エンボス部では反射率が高くなり過ぎるという問題が生じる。また、層構成や膜厚等の設定によりシステム・リード・イン領域のエンボス部の反射率を規格値内に収めた場合、追記可能なデータ領域の反射率が規格値の下限に近づく恐れがある。このように、追記可能なデータ領域とシステム・リード・イン領域の反射率差が大きくなり過ぎることを解消するためにも、前記エンボス部の深さを前記グルーブの溝深さより深くすることは非常に有効である。   By the way, since the track pitch of the embossed part of the system lead-in area (radial spacing of the embossed part) is twice the track pitch of the groove of the recordable data area, the reflection of the system lead-in area The rate is higher than the reflectance of the data area that can be additionally written. In particular, in a write-once type optical recording medium using an inorganic oxide as a recording layer, the reflectance tends to increase or can be increased (due to the relatively small imaginary part of the complex refractive index). If the groove depth of the groove in the correct data area is the same as the depth of the embossed part in the system lead-in area, the merit of high reflectivity can be obtained in the writeable data area, but the reflectivity is high in the embossed part. The problem of becoming too much arises. In addition, if the reflectivity of the embossed part of the system lead-in area falls within the standard value by setting the layer structure, film thickness, etc., the reflectivity of the data area that can be additionally written may approach the lower limit of the standard value . Thus, in order to eliminate the excessive difference in reflectivity between the additionally recordable data area and the system lead-in area, it is extremely difficult to make the depth of the embossed portion deeper than the groove depth of the groove. It is effective for.

本発明の記録層に使用できる無機酸化物としては、例えば、ＬｉＯｘ（例、Ｌｉ２Ｏ）、ＣｕＯｘ（例、ＣｕＯ）、ＭｇＯｘ（例、ＭｇＯ）、ＣａＯｘ（例、ＣａＯ）、ＳｒＯｘ（例、ＳｒＯ）、ＢａＯｘ（例、ＢａＯ）、ＺｎＯｘ（例、ＺｎＯ）、ＣｄＯｘ（例、ＣｄＯ）、ＢＯｘ（例、Ｂ２Ｏ３）、ＡｌＯｘ（例、Ａｌ２Ｏ３）、ＧａＯｘ（例、Ｇａ２Ｏ３）、ＩｎＯｘ（例、Ｉｎ２Ｏ３）、ＳｃＯｘ（例、Ｓｃ２Ｏ３）、ＹＯｘ（例、Ｙ２Ｏ３）、ＳｉＯｘ（例、ＳｉＯ２）、ＧｅＯｘ（例、ＧｅＯ２）、ＳｎＯｘ（例、ＳｎＯ２）、ＰｂＯｘ（例、ＰｂＯ）、ＴｉＯｘ（例、ＴｉＯ２）、ＺｒＯｘ（例、ＺｒＯ２）、ＣｅＯｘ（例、ＣｅＯ２）、ＳｂＯｘ（例、Ｓｂ２Ｏ３）、ＢｉＯｘ（例、Ｂｉ２Ｏ３）、ＶＯｘ（例、Ｖ２Ｏ５）、ＮｂＯｘ（例、Ｎｂ２Ｏ５）、ＴａＯｘ（例、Ｔａ２Ｏ５）、ＴｅＯｘ（例、ＴｅＯ２）、ＭｏＯｘ（例、ＭｏＯ３）、ＷＯｘ（例、ＷＯ３）、ＭｎＯｘ（例、ＭｎＯ）、ＦｅＯｘ（例、Ｆｅ２Ｏ３）、ＣｏＯｘ（例、ＣｏＯ）、ＮｉＯｘ（例、ＮｉＯ）等を挙げることができ、これらは互いに混合して用いてもよい。上記ｘは各酸化物の酸化度を示すが、無機酸化物には酸素欠損が生じていてもよい。即ち、化学量論組成でない酸化物でもよく、還元体（酸化される元素そのもの）が存在してもよい。上記無機酸化物の中でも、酸化ビスマス（ＢｉＯｘ）が好ましい。酸化ビスマスが非常に優れた記録再生特性を有することは、前記本出願人の先願において検証済みである。
記録層の膜厚は、一般に５〜３０ｎｍ程度とする。 Examples of the inorganic oxide that can be used in the recording layer of the present invention include LiOx (eg, Li 2 O), CuOx (eg, CuO), MgOx (eg, MgO), CaOx (eg, CaO), SrOx (eg, SrO), BaOx (eg, BaO), ZnOx (eg, ZnO), CdOx (eg, CdO), BOx (eg, B 2 O 3), AlOx ( eg, Al 2 O 3), GaOx ( eg, Ga 2 O 3 ), InOx (eg, In 2 O 3 ), ScOx (eg, Sc 2 O 3 ), YOx (eg, Y 2 O 3 ), SiOx (eg, SiO 2 ), GeOx (eg, GeO 2 ), SnOx (example, SnO 2), pbOx (eg, PbO), TiOx (eg, TiO 2), ZrOx (eg, ZrO 2), CeOx (eg, CeO 2), sbOx (eg, Sb 2 O 3), BiOx (for example, Bi 2 3), VOx (eg, V 2 O 5), NbOx ( eg, Nb 2 O 5), TaOx ( eg, Ta 2 O 5), TeOx ( eg, TeO 2), MoOx (eg, MoO 3), WOx (example, WO 3), MnOx (e.g., MnO), FeOx (e.g., Fe 2 O 3), CoOx ( eg, CoO), NiOx (e.g., NiO) and the like can be exemplified, these are mixed together It may be used. Said x shows the oxidation degree of each oxide, However, Oxygen deficiency may arise in the inorganic oxide. That is, it may be an oxide having a non-stoichiometric composition, or a reductant (the element itself to be oxidized) may be present. Among the inorganic oxides, bismuth oxide (BiOx) is preferable. It has been verified in the prior application of the present applicant that bismuth oxide has very good recording / reproducing characteristics.
The thickness of the recording layer is generally about 5 to 30 nm.

本発明の追記型光記録媒体は、下記（ａ）（ｂ）のような構成とすることが好ましいが、これに限定される訳ではない。例えば、必要に応じて、保護層、光透過層、環境保護層、オーバーコート層などを設けてもよい。
（ａ）基板／無機酸化物を主成分とする記録層／上引層／反射層
（ｂ）基板／下引層／無機酸化物を主成分とする記録層／上引層／反射層
更に、上記構成を基本として多層化しても構わない。例えば、（ａ）の構成を基本として二層化する場合、基板／無機酸化物を主成分とする記録層／上引層／反射層（半透明層）／接着層／無機酸化物を主成分とする記録層／上引層／反射層／基板という構成とすることができる。 The write-once optical recording medium of the present invention preferably has the following configurations (a) and (b), but is not limited thereto. For example, you may provide a protective layer, a light transmission layer, an environmental protection layer, an overcoat layer, etc. as needed.
(A) Substrate / Recording layer mainly composed of inorganic oxide / overcoat layer / reflective layer (b) Substrate / undercoat layer / recording layer mainly composed of inorganic oxide / overcoat layer / reflective layer Based on the above configuration, a multi-layer structure may be used. For example, in the case of forming two layers based on the structure of (a), the substrate / recording layer containing an inorganic oxide as a main component / overcoat layer / reflective layer (semi-transparent layer) / adhesive layer / inorganic oxide as a main component The recording layer / overcoat layer / reflective layer / substrate may be used.

基板の素材としては、熱的、機械的に優れた特性を有し、基板側から（基板を通して）記録再生が行われる場合には光透過特性にも優れたものであれば、特別な制限はない。
具体例としては、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、非晶質ポリオレフィン、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられるが、ポリカーボネートや非晶質ポリオレフィンが好ましい。
基板の厚さは用途により異なり、特に制限はない。 As a material of the substrate, there are special restrictions as long as it has excellent thermal and mechanical properties, and has excellent light transmission characteristics when recording / reproducing is performed from the substrate side (through the substrate). Absent.
Specific examples include polycarbonate, polymethyl methacrylate, amorphous polyolefin, cellulose acetate, polyethylene terephthalate and the like, and polycarbonate and amorphous polyolefin are preferred.
The thickness of the substrate varies depending on the application and is not particularly limited.

下引層及び上引層には、Ｎｂ２Ｏ５、Ｓｍ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢｅＯ、ＺｒＯ２、ＵＯ２、ＴｈＯ２などの単純酸化物系の酸化物；ＳｉＯ２、２ＭｇＯ・ＳｉＯ２、ＭｇＯ・ＳｉＯ２、ＣａＯ・ＳｉＯ３、ＺｒＯ２・ＳｉＯ２、３Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２、２ＭｇＯ・２Ａｌ２Ｏ３・５ＳｉＯ２、Ｌｉ２Ｏ・Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２などのケイ酸塩系の酸化物；Ａｌ２ＴｉＯ５、ＭｇＡｌ２Ｏ４、Ｃａ１０（ＰＯ４）６（ＯＨ）２、ＢａＴｉＯ３、ＬｉＮｂＯ３、ＰＺＴ〔Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３〕、ＰＬＺＴ〔（Ｐｂ，Ｌａ）（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３〕、フェライトなどの複酸化物系の酸化物；Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＢＮ、ＴｉＮなどの窒化物系の非酸化物；ＳｉＣ、Ｂ４Ｃ、ＴｉＣ、ＷＣなどの炭化物系の非酸化物；ＬａＢ６、ＴｉＢ２、ＺｒＢ２などのホウ化物系の非酸化物；ＺｎＳ、ＣｄＳ、ＭｏＳ２などの硫化物系の非酸化物；ＭｏＳｉ２などのケイ化物系の非酸化物；アモルファス炭素、黒鉛、ダイアモンド等の炭素系の非酸化物等を用いることが可能である。 For the undercoat layer and the overcoat layer, simple oxides such as Nb 2 O 5 , Sm 2 O 3 , Ce 2 O 3 , Al 2 O 3 , MgO, BeO, ZrO 2 , UO 2 , ThO 2 are used. objects; SiO 2, 2MgO · SiO 2 , MgO · SiO 2, CaO · SiO 3, ZrO 2 · SiO 2, 3Al 2 O 3 · 2SiO 2, 2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2, Li 2 O · Al 2 Silicate oxides such as O 3 .4SiO 2 ; Al 2 TiO 5 , MgAl 2 O 4 , Ca 10 (PO 4 ) 6 (OH) 2 , BaTiO 3 , LiNbO 3 , PZT [Pb (Zr, Ti ) O 3 ], PLZT [(Pb, La) (Zr, Ti) O 3 ], double oxide oxides such as ferrite; nitride non-oxidation such as Si 3 N 4 , AlN, BN, TiN Things; Si Non-oxides of carbides such as C, B 4 C, TiC and WC; Non-oxides of borides such as LaB 6 , TiB 2 and ZrB 2 ; Non-oxidation of sulfides such as ZnS, CdS and MoS 2 Materials: Silicide-based non-oxides such as MoSi 2 ; Carbon-based non-oxides such as amorphous carbon, graphite, and diamond can be used.

また、下引層及び上引層には色素や樹脂などの有機材料を使用することも可能である。
色素としては、ポリメチン系、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン（インダンスレン）系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン系、アゾ系、ホルマザン系各色素、及びこれらの金属錯体化合物などが挙げられる。
有機材料としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等の高分子化合物を用いることができ、これらを単独で又は２種以上混合して用いることができる。 Moreover, it is also possible to use organic materials, such as a pigment | dye and resin, for an undercoat layer and an overcoat layer.
The dyes include polymethine, naphthalocyanine, phthalocyanine, squarylium, croconium, pyrylium, naphthoquinone, anthraquinone (indanthrene), xanthene, triphenylmethane, azulene, tetrahydrocholine, phenanthrene , Triphenothiazine, azo, and formazan dyes, and metal complex compounds thereof.
As the organic material, polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, and polyolefin can be used. Or 2 or more types can be mixed and used.

有機材料を用いる場合は、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、溶剤塗布などの通常の手段によって形成できる。塗布法を用いる場合には、上記有機材料を有機溶剤に溶解し、スプレー、ローラーコーティング、ディッピング、スピンコーティングなどの慣用のコーティング法で行えばよい。
用いられる有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエタン、四塩化炭素、トリクロルエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭素類；ベンゼン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族類；メトキシエタノール、エトキシエタノールなどのセロソルブ類；ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素類などが挙げられる。
下引層の膜厚は、一般に５〜１００ｎｍ、上引層の膜厚は、一般に５〜１５０ｎｍとする。 In the case of using an organic material, it can be formed by ordinary means such as vapor deposition, sputtering, CVD, and solvent coating. When using a coating method, the organic material is dissolved in an organic solvent, and a conventional coating method such as spraying, roller coating, dipping, or spin coating may be used.
Organic solvents used include alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; amides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether and ethylene glycol monomethyl ether; esters such as methyl acetate and ethyl acetate; aliphatic halogenated carbons such as chloroform, methylene chloride, dichloroethane, carbon tetrachloride and trichloroethane; benzene; , Xylene, monochlorobenzene, dichlorobenzene and other aromatics; methoxyethanol, ethoxyethanol and other cellosolves; hexane, pentane, cyclo Hexane, and hydrocarbons such as methylcyclohexane.
The thickness of the undercoat layer is generally 5 to 100 nm, and the thickness of the overcoat layer is generally 5 to 150 nm.

反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が使用される。
このような光反射性物質としては、例えばＡｌ、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｉｎ、Ａｌ−Ｎｂ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等の金属、半金属及びそれらの合金を挙げることができる。これらの物質は単独で用いても二種以上を組合せて用いてもよい。
金属以外の材料で低屈折率層と高屈折率層を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
合金により反射層を形成する場合は、合金をターゲット材料としたスパッタ法で作製することができるが、これ以外に、チップオンターゲット方式（例えば、Ａｇターゲット上にＣｕチップをのせて成膜）、共スパッタ法（例えば、ＡｇターゲットとＣｕターゲットを使用）でも作製することができる。
反射層の好ましい膜厚は、５〜３００ｎｍである。 For the reflection layer, a light reflective material having a high reflectance with respect to the laser beam is used.
Examples of such a light reflective material include metals such as Al, Al—Ti, Al—In, Al—Nb, Au, Ag, and Cu, semimetals, and alloys thereof. These substances may be used alone or in combination of two or more.
It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index layer and a high refractive index layer with a material other than metal, and use it as a reflective layer.
Examples of the method for forming the reflective layer include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition.
When the reflective layer is formed of an alloy, it can be produced by a sputtering method using the alloy as a target material. In addition to this, a chip-on-target method (for example, forming a film by placing a Cu chip on an Ag target), It can also be produced by co-sputtering (for example, using an Ag target and a Cu target).
A preferable film thickness of the reflective layer is 5 to 300 nm.

１層の記録層を含む情報層を２層以上有する多層構造の光記録媒体の場合、レーザ光の入射側から見て最奥の情報層以外の情報層では、各情報層中の反射層がレーザ光を透過させる必要があるため、一般的に反射層ではなく半透明層と呼ばれるが、この場合、半透明層の膜厚は、３〜４０ｎｍが好適である。   In the case of a multi-layered optical recording medium having two or more information layers including one recording layer, in the information layers other than the innermost information layer as viewed from the laser beam incident side, the reflective layer in each information layer includes Since it is necessary to transmit laser light, it is generally called a semi-transparent layer rather than a reflective layer. In this case, the thickness of the semi-transparent layer is preferably 3 to 40 nm.

反射層や光透過層等の上に形成する保護層の材料としては、反射層や光透過層等を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ（紫外線）硬化性樹脂等が挙げられる。また、無機材料としては、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等が挙げられる。
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。
これらの材料は単独で用いても混合して用いても良いし、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法、スパッタ法、化学蒸着法等が用いられるが、中でもスピンコート法が好ましい。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合は、適当な溶剤に溶解した塗布液を塗布し乾燥する。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、樹脂をそのままで又は適当な溶剤に溶解した塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させる。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３〜３０μｍが好ましい。
また、反射層或いは光透過層面に更に基板を貼り合わせてもよく、反射層や光透過層面相互を内面として対向させ、光学記録媒体２枚を貼り合わせても良い。
基板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防止用の環境保護層として、紫外線硬化樹脂層や無機系の層等を成膜してもよい。 The material of the protective layer formed on the reflective layer, the light transmissive layer, etc. is not particularly limited as long as it protects the reflective layer, the light transmissive layer, etc. from external force. Examples of the organic material include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and a UV (ultraviolet) curable resin. Examples of the inorganic materials, SiO 2, Si 3 N 4 , MgF 2, SnO 2 and the like.
As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used.
These materials may be used alone or in combination, and may be used as a multilayer film as well as a single layer.
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method and the like are used as in the case of the recording layer. Among these, a spin coating method is preferable.
When a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used, a coating solution dissolved in an appropriate solvent is applied and dried. In the case of using an ultraviolet curable resin, a coating solution in which the resin is dissolved as it is or in an appropriate solvent is applied and cured by irradiation with ultraviolet rays.
The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 to 100 μm, but is preferably 3 to 30 μm in the present invention.
Further, a substrate may be further bonded to the reflective layer or the light transmissive layer surface, or two optical recording media may be bonded with the reflective layer or the light transmissive layer surface facing each other as the inner surface.
An ultraviolet curable resin layer, an inorganic layer or the like may be formed on the mirror surface of the substrate as an environmental protection layer for protecting the surface and preventing adhesion of dust and the like.

本発明によれば、青色レーザ対応の追記型光記録媒体、特に、グルーブ（案内溝）を有する追記可能なデータ領域に加えて、該データ領域よりも内周部に、システム・リード・イン領域のエンボス部が設けられるＨＤ ＤＶＤ規格に準拠した追記型光記録媒体であって、無機酸化物を主成分とする記録層を有し、前記グルーブの溝深さと前記エンボス部の深さが最適化された追記型光記録媒体を提供できる。
本発明の具体的なメリットは下記の通りである。
（イ）優れた記録再生品質（追記可能なデータ領域のＰＲＳＮＲ、システム・リード・イン領域のジッタ等）を実現できる。
（ロ）特にシステム・リード・イン領域で、十分な変調度を確保する事ができる。
（ハ）データ領域とシステム・リード・イン領域の反射率を規格値内に収める事ができ、追記可能なデータ領域とシステム・リード・イン領域の反射率差を小さくできる。
（ニ）十分なプッシュプル信号の振幅が得られトラッキング外れを起こりにくくする事ができる。 According to the present invention, in addition to a write-once type optical recording medium compatible with a blue laser, in particular, a recordable data area having a groove (guide groove), a system lead-in area is provided at an inner periphery of the data area. A write-once optical recording medium conforming to the HD DVD standard provided with an embossed portion having a recording layer mainly composed of an inorganic oxide, and the groove depth of the groove and the depth of the embossed portion optimized. The write-once type optical recording medium can be provided.
Specific advantages of the present invention are as follows.
(A) It is possible to realize excellent recording / reproduction quality (PRSNR in a data area that can be additionally written, jitter in a system lead-in area, etc.)
(B) A sufficient degree of modulation can be ensured particularly in the system lead-in area.
(C) The reflectivity between the data area and the system lead-in area can be kept within the standard value, and the difference in reflectivity between the recordable data area and the system lead-in area can be reduced.
(D) A sufficient amplitude of the push-pull signal can be obtained, and it is possible to make it difficult for the tracking error to occur.

以下、実施例及び比較例を示して本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated in more detail, this invention is not limited by these Examples.

実施例１〜１４、比較例１〜９
厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上に、スパッタ法で、記録層、上引層、反射層を順次製膜し、更にその上に、スピンコート法で、紫外線硬化性樹脂（大日本インキ化学工業社製、ＳＤ−３８１）を塗布してオーバーコート層を設けた。その後、ポリカーボネート製の厚さ０．６ｍｍのダミー基板を光硬化性樹脂（日本化薬製、ＤＶＤ００３）で貼り合わせて、実施例１〜１２、比較例１、２、４〜９の各追記型光記録媒体を作製した。
また、実施例１３〜１４、比較例３では、上記層構成に加えて、基板と記録層の間に下引層を設けた構造とした。
各実施例及び比較例の記録層には表１に示す材料を用いて膜厚を５〜１５ｎｍとし、上引層にはＺｎＳＳｉＯ２（モル比８０：２０）を用いて膜厚を１０〜３０ｎｍとし、下引層にはＺｎＳＳｉＯ２（モル比８５：１５）を用いて膜厚を５〜２５ｎｍとし、反射層にはＡｇ合金（Ａｇ９８重量％、Ｉｎ０．５８重量％、その他の不純物元素１．４２重量％）を用いて膜厚を８０ｎｍとした。なお、表１中の記録層材料としては、酸過度ｘが化学量論組成に近い値の酸化物、例えばＢｉＯｘであればｘ＝１．５に近い値の酸化物を用いた。また、各実施例及び比較例において同じ組成式の酸化物は同じ材料であるからｘも同じである。
各実施例及び比較例の基板は、表１に示すように、追記可能なデータ領域のグルーブの溝深さｄ１と、システム・リード・イン領域のエンボス部の深さｄ２を変えた。 Examples 1-14, Comparative Examples 1-9
A recording layer, an overcoat layer, and a reflective layer are sequentially formed on a polycarbonate substrate having a thickness of 0.6 mm by a sputtering method, and an ultraviolet curable resin (Dainippon Ink Chemical Industries, Ltd.) is further formed thereon by a spin coating method. An overcoat layer was provided by applying SD-381). Thereafter, a dummy substrate made of polycarbonate having a thickness of 0.6 mm is bonded with a photocurable resin (Nippon Kayaku, DVD003), and each write-once type of Examples 1-12 and Comparative Examples 1, 2, 4-9. An optical recording medium was produced.
In Examples 13 to 14 and Comparative Example 3, in addition to the above layer structure, an undercoat layer was provided between the substrate and the recording layer.
The recording layer of each Example and Comparative Example is made of the material shown in Table 1 to have a film thickness of 5 to 15 nm, and the overcoat layer is made of ZnSSiO 2 (molar ratio 80:20) to have a film thickness of 10 to 30 nm. ZnSSiO 2 (molar ratio 85:15) is used for the undercoat layer and the film thickness is 5 to 25 nm, and the reflective layer is Ag alloy (Ag 98 wt%, In 0.58 wt%, other impurity elements 1. 42 wt%) to a film thickness of 80 nm. As the recording layer material in Table 1, an oxide having a value where the acid excess x is close to the stoichiometric composition, for example, an oxide having a value close to x = 1.5 when BiOx is used. Moreover, since the oxide of the same compositional formula is the same material in each Example and a comparative example, x is also the same.
As shown in Table 1, the groove depth d1 of the groove in the additionally recordable data area and the depth d2 of the embossed portion in the system lead-in area were changed in the substrates of the examples and comparative examples.

上記各実施例及び比較例の追記型光記録媒体について、パルステック工業（株）製の光ディスク評価装置ＤＤＵ―１０００（波長：４０５ｎｍ、ＮＡ：０．６５）を用いて記録再生信号の評価を行った。
（１）追記可能なデータ領域のＰＲＳＮＲ（表１において、ＰＲＳＮＲ≧１５で○）
（２）システム・リード・イン領域の変調度（表１において、変調度≧３０％で○）
（３）システム・リード・イン領域の反射率（表１において、反射率≦３２％で○）
（４）追記可能なデータ領域とシステム・リード・イン領域の反射率差（表１において、反射率差≦１０％で○）
なお、システム・リード・イン領域では、３つの評価項目を設けたが、何れかの項目が満足されなかった場合は、×とした。また、上記（４）の評価項目を設けた理由は、追記可能なデータ領域とシステム・リード・イン領域の反射率差が１０％を超えると、どちらかの領域で反射率が規格値を満足しなくなる可能性が高くなるためである。 For the recordable optical recording media of each of the above examples and comparative examples, recording / reproduction signals were evaluated using an optical disk evaluation apparatus DDU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.65) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. It was.
(1) PRSNR of a data area that can be additionally written (in Table 1, PRSNR ≧ 15 is o)
(2) Modulation degree of system lead-in area (in Table 1, modulation degree ≧ 30% ○)
(3) System lead-in region reflectivity (in Table 1, reflectivity <= 32%, o)
(4) Reflectance difference between the recordable data area and the system lead-in area (in Table 1, ◯ when reflectance difference ≦ 10%)
In the system lead-in area, three evaluation items were provided. If any of the items was not satisfied, it was marked as x. The reason for providing the evaluation item (4) above is that if the difference in reflectance between the additionally recordable data area and the system lead-in area exceeds 10%, the reflectance satisfies the standard value in either area. This is because there is a high possibility that it will not.

その結果、追記可能なデータ領域においては、１８ｎｍ≦ｄ１≦３０ｎｍのグルーブの溝深さではＨＤ ＤＶＤ−Ｒで定められている規格値を満たす記録再生特性が得られた。
しかし、ｄ１＜１８ｎｍになるとトラッキング信号（例、プッシュプル信号）の振幅が小さくなり、ＰＲＳＮＲ等の特性が規格値を満足しなかった。また、ｄ１＞３０ｎｍになると、ＰＲＳＮＲ等の特性が規格値を満足しなかった。
また、システム・リード・イン領域における変調度は、ｄ１＜ｄ２の条件を満足する条件下で、２０ｎｍ≦ｄ２≦６０ｎｍのエンボス部の深さではＨＤ ＤＶＤ−Ｒで定められている規格値を満たす記録再生特性が得られた。但し、２０ｎｍ≦ｄ２≦６０ｎｍの条件を満足している場合でも、ｄ１＜ｄ２の条件を満足しない場合には、比較例２〜４のように、上記評価項目の（３）又は（４）を満足しなかった。
これは、システム・リード・イン領域のエンボス部のトラックピッチが追記可能なデータ領域のグルーブのトラックピッチよりも広いため（約２倍の広さを有する）、システム・リード・イン領域の反射率が高くなり易いこと、また、追記可能なデータ領域とシステム・リード・イン領域の反射率差が大きくなることに起因する結果である。
As a result, in the additionally recordable data area, recording / reproducing characteristics satisfying the standard value defined by HD DVD-R were obtained at the groove depth of 18 nm ≦ d1 ≦ 30 nm.
However, when d1 <18 nm, the amplitude of the tracking signal (eg, push-pull signal) decreases, and characteristics such as PRSNR do not satisfy the standard value. Further, when d1> 30 nm, characteristics such as PRSNR did not satisfy the standard value.
Further, the modulation degree in the system lead-in region satisfies the standard value defined by HD DVD-R at the depth of the embossed portion of 20 nm ≦ d2 ≦ 60 nm under the condition satisfying the condition of d1 <d2. Recording / reproduction characteristics were obtained. However, even when the condition of 20 nm ≦ d2 ≦ 60 nm is satisfied, when the condition of d1 <d2 is not satisfied, the evaluation item (3) or (4) is set as in Comparative Examples 2 to 4. I was not satisfied.
This is because the track pitch of the embossed part of the system lead-in area is wider than the track pitch of the groove of the data area that can be additionally written (having a width approximately twice as large), so the reflectivity of the system lead-in area This is due to the fact that the difference in reflectance between the data area that can be additionally written and the system lead-in area becomes large.

Figure 2007073154
Figure 2007073154

ＨＤ ＤＶＤ−Ｒの断面構造模式図。The cross-sectional structure schematic diagram of HD DVD-R. 図１の（Ａ）部及び（Ｂ）部の一例を示す層構成断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of a layer structure illustrating an example of a part (A) and a part (B) in FIG. 1.

符号の説明Explanation of symbols

（Ａ） システム・リード・イン領域
（Ｂ） 追記可能なデータ領域
１ 基板
２ 記録層
３ 上引層
４ 反射層
５ 保護層
６ 接着層
７ ダミー基板
ｄ１ グルーブの溝深さ
ｄ２ エンボス部の深さ
(A) System lead-in area (B) Additional data area 1 Substrate 2 Recording layer 3 Overcoat layer 4 Reflective layer 5 Protective layer 6 Adhesive layer 7 Dummy substrate d1 Groove depth d2 Emboss depth

Claims (2)

レーザ波長λが４０５±５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡが０．６５±０．０１の光ヘッドで記録再生を行うことができ、無機酸化物を主成分とする記録層を有し、追記可能なデータ領域のグルーブの溝深さをｄ１、システム・リード・イン領域のエンボス部の深さをｄ２としたとき、ｄ１＜ｄ２を満たし、ｄ１が１８〜３０ｎｍ、ｄ２が２０〜６０ｎｍであることを特徴とする追記型光記録媒体。   Recording and reproduction can be performed with an optical head having a laser wavelength λ of 405 ± 5 nm and an objective lens numerical aperture NA of 0.65 ± 0.01. When the groove depth of the groove in the data area is d1, and the depth of the embossed part in the system lead-in area is d2, d1 <d2 is satisfied, d1 is 18 to 30 nm, and d2 is 20 to 60 nm. Write-once type optical recording medium characterized by the above. 記録層の主成分の無機酸化物が酸化ビスマスであることを特徴とする請求項１記載の追記型光記録媒体。
The write-once type optical recording medium according to claim 1, wherein the inorganic oxide as a main component of the recording layer is bismuth oxide.
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