JP2007071650A - Chip and its manufacturing method - Google Patents

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JP2007071650A JP2005258048A JP2005258048A JP2007071650A JP 2007071650 A JP2007071650 A JP 2007071650A JP 2005258048 A JP2005258048 A JP 2005258048A JP 2005258048 A JP2005258048 A JP 2005258048A JP 2007071650 A JP2007071650 A JP 2007071650A
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Kazuhiko Ishihara
一彦 石原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip constituted so as to exert no effect on the surface smoothness of a substrate, capable of being easily formed of a material easy to obtain and capable of preventing the adhesion of a specimen other than the fixing region of a carrier, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The chip T is constituted so as to support the carrier, which has the component reacting with a component serving as a detection target, on the surface of the substrate 1. The region of a coating film 2 of a phosphorylcholine like group-containing polymer and a fixing region 3 which keeps the surface of the substrate 1 exposed are formed to the surface of the substrate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、チップおよびその製造方法に係り、特に、化学工学,生命工学,環境,医療などの分野に広く使用される細胞用チップ、抗体用チップ等において、薬物高速スクリーニング,動物実験代替,細胞研究等に使用されるチップ及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a chip and a method for producing the same, and in particular, in a cell chip and an antibody chip widely used in the fields of chemical engineering, biotechnology, environment, medicine, etc., high-speed drug screening, animal experiment substitution, cell The present invention relates to a chip used for research and the manufacturing method thereof.

血液などの生体成分,工場からの排水,食品などに含まれる特定の物質を、生物が有する高い物質認識能力を利用して特異的に検出・測定する技術が開発されている。このような技術では、生体分子であるタンパク質やDNAなどが基板上に担持されており、この生体分子と測定対象物質との特異的な反応や相互作用を電気化学的あるいは光学的手法で観測することで、測定対象物質を検出したり濃度を測定したりすることが可能となる。   Techniques have been developed that specifically detect and measure specific substances contained in biological components such as blood, wastewater from factories, foods, etc., using the high substance recognition ability of living organisms. In such a technology, protein or DNA, which is a biomolecule, is supported on a substrate, and a specific reaction or interaction between the biomolecule and a measurement target substance is observed by an electrochemical or optical method. Thus, it becomes possible to detect the substance to be measured and measure the concentration.

一般に、このように生体分子を用いて、生体分子と測定対象物質との特異的反応を利用したアッセイを行うにあたり、大規模な並列アッセイを目的として多数・多種の生体分子を固定化したチップが使用される機会が多い。
チップとは、アレイとも称され、多数の生体分子を基板上に規則的に配列固定させたものである。
この基板上に配列固定される生体分子に応じて、DNA断片が配列固定されたDNAチップ、抗体が配列固定された抗体チップ(プロテインチップ)、細胞が配列固定された細胞チップ等、多種のチップが存在する。
In general, when performing an assay using a specific reaction between a biomolecule and a substance to be measured using a biomolecule in this way, a chip having a large number of various biomolecules immobilized for the purpose of a large-scale parallel assay is used. There are many opportunities to be used.
The chip is also referred to as an array, and is obtained by regularly arranging and fixing a large number of biomolecules on a substrate.
Depending on the biomolecules arrayed and fixed on the substrate, a variety of chips such as DNA chips with DNA fragments arrayed, antibody chips (protein chips) with antibodies arrayed fixed, cell chips with cells arrayed fixed, etc. Exists.

このような、チップを作成する方法としては、半導体製造技術で使用されているフォトリソグラフィー技術を応用する方法等、多数の方法が知られている。
また、これらの方法の改良法として、疎水性であるとともに、光又は熱の作用によって親水性となる表面を有する基板を使用する技術が開発されている(例えば、特許文献1)。
特許文献1の技術では、光源と基板との間にフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して、活性光の照射、レーザ光の走査露光、熱の印加等を行う。
このように、フォトマスクを介して光,レーザ光,熱等のエネルギーが加えられた部分が親水性となることによって、この親水性の領域がDNAプルーブを受容するセル領域となる。
As a method for producing such a chip, many methods are known, such as a method of applying a photolithography technique used in a semiconductor manufacturing technique.
Moreover, as an improved method of these methods, a technique has been developed that uses a substrate that is hydrophobic and has a surface that becomes hydrophilic by the action of light or heat (for example, Patent Document 1).
In the technique of Patent Document 1, a photomask is disposed between a light source and a substrate, and irradiation of active light, scanning exposure of laser light, application of heat, and the like are performed through this photomask.
As described above, the portion to which energy such as light, laser light, or heat is applied through the photomask becomes hydrophilic, so that the hydrophilic region becomes a cell region that receives the DNA probe.

しかしながら、上記のような従来のフォトリソグラフィー技術を利用した方法は、煩雑な操作が必要であり、チップ作成に時間及びコストがかかるという問題点があった。
また、チップ上に形成されるセル領域の形状を変える毎に対応するフォトマスクを設計する必要があり、手間がかかるという問題点もあった。
また、特許文献1の技術では、チップの基板として、疎水性であるとともに、光又は熱の作用によって親水性となる表面を有する特殊な物質を使用する必要がある。このため、チップ作成のためのコストが上昇する等の問題がある。
また、基板自体を加工するため、セル領域にも加工のためのエネルギーが加えられている。このため、セル領域の表面形状に影響を及ぼし、セル領域の平滑性が損なわれる恐れがあり、セル領域に固定される生体分子が規則的に整列しない恐れがあった。
However, the method using the conventional photolithography technique as described above has a problem that a complicated operation is required and it takes time and cost to produce a chip.
Further, it is necessary to design a corresponding photomask every time the shape of the cell region formed on the chip is changed, and there is a problem that it takes time and effort.
In the technique of Patent Document 1, it is necessary to use a special substance having a surface that is hydrophobic and hydrophilic by the action of light or heat as the substrate of the chip. For this reason, there are problems such as an increase in cost for chip production.
Further, in order to process the substrate itself, energy for processing is also applied to the cell region. For this reason, the surface shape of the cell region is affected, the smoothness of the cell region may be impaired, and biomolecules immobilized on the cell region may not be regularly aligned.

従って、かねてから、基板表面(特にセル領域)には影響を及ぼさず、入手容易な材料で簡易に作成可能なチップの開発が望まれていた。
また、セル領域以外に物質が付着することが防止されると、更に好適である。
Accordingly, it has long been desired to develop a chip that does not affect the surface of the substrate (particularly the cell region) and can be easily produced with readily available materials.
Further, it is more preferable that the material is prevented from adhering to the area other than the cell region.

特開2003−028864号公報JP 2003-028864 A

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、基板表面の平滑性には影響を及ぼさず、入手容易な材料で簡易に作成可能であるとともに、担持物の固定領域以外に検体が付着することを防止することが可能なチップ及びその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is not to affect the smoothness of the surface of the substrate, and can be easily produced with easily available materials, and the fixed region of the support. It is another object of the present invention to provide a chip capable of preventing the specimen from adhering to the chip and a method for manufacturing the chip.

すなわち、上記課題は、請求項1に係るチップによれば、検出対象となる成分と反応する成分を有する担持物を、基板表面上に担持可能なチップであって、前記基板の表面には、ホスホリルコリン類似基含有重合体で被覆された被膜領域と、前記基板表面が露出した固定領域と、が形成されていることにより解決される。
また、このとき、前記固定領域には、前記担持物が担持されている。
本発明に係るチップの表面は、ホスホリルコリン類似基を分子内に備える重合体で被覆されている。このホスホリルコリン類似基は、細胞膜の構成成分であるリン脂質が有するホスホリルコリン基と類似する官能基であり、このような官能基を分子内に有する重合体は、細胞膜と同様にタンパク質や血球といった生体成分との相互作用が極めて弱く、これらの生体成分の吸着や変性を抑制する性質を有する。
また、固定領域は、抗体等を担持するための領域となるが、この部分は、ホスホリルコリン類似基を分子内に備える重合体で被覆されていない。
よって、固定領域には、抗体等を確実に担持することができるとともに、固定領域以外の表面は、ホスホリルコリン類似基を分子内に備える重合体で被覆されているため、細胞等の検体の付着を防ぐことができる。
That is, according to the chip according to claim 1, the above-described problem is a chip capable of supporting a carrier having a component that reacts with a component to be detected on the substrate surface, and the surface of the substrate includes: This is solved by forming a film region coated with a phosphorylcholine-like group-containing polymer and a fixing region where the substrate surface is exposed.
At this time, the carrier is carried on the fixed region.
The surface of the chip according to the present invention is coated with a polymer having phosphorylcholine-like groups in the molecule. This phosphorylcholine-like group is a functional group similar to the phosphorylcholine group possessed by the phospholipid that is a component of the cell membrane, and the polymer having such a functional group in the molecule is a biological component such as a protein or blood cell like the cell membrane. And has a property of suppressing the adsorption and denaturation of these biological components.
The immobilization region is a region for supporting an antibody or the like, but this portion is not covered with a polymer having a phosphorylcholine-like group in the molecule.
Therefore, the immobilization region can reliably carry antibodies and the like, and the surface other than the immobilization region is coated with a polymer having a phosphorylcholine-like group in the molecule, so that it is possible to attach a specimen such as a cell. Can be prevented.

この場合、請求項3のように、前記基板は、少なくともその表面がシラノール基含有基材で構成されており、前記ホスホリルコリン類似基含重合体は、
下記一般式(1)

Figure 2007071650
(式中、Rは炭素数2〜10の2価の炭化水素基を示し、Rは炭素数2〜4の2価の炭化水素基を示し、R,R及びRは同一あるいは異なってもよく、水素原子あるいは炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Rは水素またはメチル基であり、Rは炭素数1〜6の2価の炭化水素基を示し、R,R,R10は同一あるいは異なってもよく、炭素数1〜3のオキシアルキレン基であり、このうち1または2つはメチル基であってもよく、R11は水素またはメチル基であり、lとmは各構成単位の割合を示し、lは0.75から0.99、mは0.01から0.25の範囲であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフにより標準ポリエチレングリコールを用いて換算した重量平均分子量が10,000から1,000,000の範囲である。)で示される共重合体であると好適である。
このように構成されているため、基板をホスホリルコリン類似基含有重合体で簡易に被覆することができる。
つまり、ホスホリルコリン類似基含有重合体中の有機ケイ素基は、加水分解性のオキシアルキレン基を分子内に有しているため、水中で加水分解してシラノール基(Si−OH)を形成する。このシラノール基は不安定であるため、例えばガラスのような、表面にシラノール基を有する基材(シラノール基含有基材)のシラノール基と脱水反応を起こし、安定なシロキサン結合(Si−O−Si)を形成する。このように、基板をホスホリルコリン類似基含有重合体で簡易に被覆することができる。 In this case, as in claim 3, at least the surface of the substrate is composed of a silanol group-containing base material, and the phosphorylcholine-like group-containing polymer is:
The following general formula (1)
Figure 2007071650
(In the formula, R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 , R 4 and R 5 are the same. Alternatively, they may be different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 6 represents hydrogen or a methyl group, R 7 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 8 , R 9 , and R 10 may be the same or different, and are an oxyalkylene group having 1 to 3 carbon atoms, of which 1 or 2 may be a methyl group, and R 11 is hydrogen or a methyl group. Yes, l and m represent the proportion of each structural unit, l is in the range of 0.75 to 0.99, m is in the range of 0.01 to 0.25, and standard polyethylene glycol is used by gel permeation chromatography. The converted weight average molecular weight is 10,000 to 1,000. , It is preferable that the copolymer represented by a range of 000.).
Since it is comprised in this way, a board | substrate can be easily coat | covered with a phosphorylcholine analog group containing polymer.
That is, since the organosilicon group in the phosphorylcholine-like group-containing polymer has a hydrolyzable oxyalkylene group in the molecule, it is hydrolyzed in water to form a silanol group (Si—OH). Since this silanol group is unstable, it causes a dehydration reaction with a silanol group of a substrate having a silanol group on the surface (silanol group-containing substrate), such as glass, and a stable siloxane bond (Si-O-Si). ). Thus, the substrate can be easily coated with the phosphorylcholine-like group-containing polymer.

また、上記課題は、請求項4に係るチップの製造方法によれば、検出対象となる成分と反応する成分を有する担持物を、基板表面上に担持可能なチップの製造方法であって、前記基板の表面を、ホスホリルコリン類似基含有重合体で被覆する第1の工程と、前記基板表面に対してレーザ光を照射してレーザアブレーションを行うことにより、レーザ光照射位置の前記ホスホリルコリン類似基含有重合体を除去し、前記基板の一部を露出させて固定領域を形成する第2の工程と、前記固定領域へ前記担持物を噴射して、前記固定領域へ前記担持物を担持させる第3の工程と、を備えることにより解決される。
このように、本発明によれば、レーザアブレーションにより、ホスホリルコリン類似基含有重合体の被覆を除去し、簡易に固定領域を形成することができる。
このとき、レーザ光により除去されるのは、レーザ光が照射された部分のホスホリルコリン類似基含有重合体のみであり、露出する基板表面は処理されない。
よって、露出する基板表面の平滑性には影響を及ぼすことなく、固定領域を形成することができる。
また、レーザ光が照射された部分のホスホリルコリン類似基含有重合体のみを除去すればよいため、直接基板を削って凹部(固定領域に相当)を形成する場合に比して、小さいエネルギーで固定領域を形成することができる。
In addition, according to the chip manufacturing method according to claim 4, the above-described problem is a chip manufacturing method capable of supporting a carrier having a component that reacts with a component to be detected on a substrate surface, A first step of coating the surface of the substrate with a phosphorylcholine-like group-containing polymer, and laser ablation by irradiating the substrate surface with a laser beam, whereby the phosphorylcholine-like group-containing weight at the laser light irradiation position is A second step of removing the union and exposing a part of the substrate to form a fixed region; and a third step of injecting the carrier to the fixed region and supporting the carrier to the fixed region. And solving the problem.
As described above, according to the present invention, the fixing region can be easily formed by removing the coating of the phosphorylcholine-like group-containing polymer by laser ablation.
At this time, only the phosphorylcholine-like group-containing polymer in the portion irradiated with the laser beam is removed by the laser beam, and the exposed substrate surface is not processed.
Therefore, the fixed region can be formed without affecting the smoothness of the exposed substrate surface.
In addition, since only the phosphorylcholine-like group-containing polymer in the portion irradiated with the laser light has to be removed, the fixed region can be obtained with less energy than when the substrate is directly cut to form a concave portion (corresponding to the fixed region). Can be formed.

このとき、前記第2の工程では、前記レーザ光の照射口に、前記固定領域の形状と略同一の形状を有する開口を備えるカバーを装着し、前記開口を通過して前記基板に前記レーザ光を照射するよう構成されていると、従来のフォトリソグラフィー技術を利用した方法のような、煩雑な操作が不要となり、チップ作成のための時間及びコストが軽減される。
また、フォトマスクも不要である。
At this time, in the second step, a cover having an opening having a shape substantially the same as the shape of the fixed region is attached to the laser light irradiation port, and the laser light passes through the opening and is applied to the substrate. If it is configured to irradiate, a complicated operation such as a method using a conventional photolithography technique is not required, and time and cost for chip production are reduced.
In addition, no photomask is required.

また、このとき、前記第2の工程では、前記レーザ光の照射口を所定間隔で移動させて、レーザアブレーションを繰り返すことにより、前記固定領域を複数形成すると好適である。
更に、前記担持物は、インクジェット機能により前記固定領域へ噴射されると、インクジェット機能を利用することにより、生体分子を固定領域へ確実に噴射することができるため好適である。また、固定領域の周囲は、ホスホリルコリン類似基含有重合体で被覆されているため、担持物がこの部分まで噴射されても、洗浄等により容易に除去することができる。
At this time, in the second step, it is preferable to form a plurality of the fixed regions by moving the laser light irradiation port at a predetermined interval and repeating laser ablation.
Further, it is preferable that the carrier is ejected to the fixed region by an ink jet function because the biomolecule can be reliably ejected to the fixed region by using the ink jet function. Further, since the periphery of the fixed region is coated with a phosphorylcholine-like group-containing polymer, even if the support is sprayed to this portion, it can be easily removed by washing or the like.

本発明によれば、基板表面は、ホスホリルコリン類似基を分子内に備える重合体で被覆されているが、抗体等を担持するための領域となる固定領域は、ホスホリルコリン類似基を分子内に備える重合体が除去されている。
よって、固定領域には抗体等を確実に担持することができるとともに、固定領域以外に検体等の物質が付着することを防止することができる。
このため、未反応検体等がチップに付着しづらいので、洗浄作業等により、未反応検体を容易に回収することができる。
According to the present invention, the surface of the substrate is coated with a polymer having a phosphorylcholine-like group in the molecule, but the fixing region, which is a region for supporting an antibody or the like, is a heavy chain having a phosphorylcholine-like group in the molecule. Coalescence has been removed.
Therefore, it is possible to reliably carry an antibody or the like in the fixed region, and to prevent a substance such as a specimen from adhering to the region other than the fixed region.
For this reason, it is difficult for unreacted specimens and the like to adhere to the chip, so that unreacted specimens can be easily recovered by a cleaning operation or the like.

また、本発明によれば、固定領域は、レーザアブレーションにより作成される。この処理は、被覆されたホスホリルコリン類似基含有重合体を除去するのみの処理であり、基板自体を処理するものではない。よって、固定領域に露出する基板表面の平滑性には影響を及ぼさないので、抗体等の担持物を確実に担持することができる。
また、被覆されたホスホリルコリン類似基含有重合体を除去するのみの処理であるため、従来のように基板を直接削って凹部(固定領域に相当)を形成する技術に比して、小さいエネルギーで処理することが可能であり、チップの製造コストを抑えることができる。
更に、本発明に係るチップは、ガラス(シラノール基含有基材)のような、安価で入手容易な材料で作成することができる。よって、特殊な材料を使用することなく、低コストで作成することができる。
According to the present invention, the fixed region is created by laser ablation. This treatment is merely a treatment for removing the coated phosphorylcholine-like group-containing polymer, and it does not treat the substrate itself. Therefore, since the smoothness of the substrate surface exposed to the fixed region is not affected, it is possible to reliably carry a carrier such as an antibody.
In addition, since it is a process that only removes the coated phosphorylcholine-like group-containing polymer, it can be processed with less energy compared to the conventional technique in which the substrate is directly shaved to form a recess (corresponding to a fixed region). It is possible to reduce the manufacturing cost of the chip.
Furthermore, the chip according to the present invention can be made of an inexpensive and easily available material such as glass (a silanol group-containing substrate). Therefore, it can be produced at low cost without using a special material.

以下に、本発明に係るチップ及びその製造方法について説明する。
なお、以下に説明する材料,器具,条件などは本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨に沿って各種改変することができることは勿論である。
Below, the chip | tip concerning this invention and its manufacturing method are demonstrated.
It should be noted that the materials, instruments, conditions, and the like described below are not intended to limit the present invention, and various modifications can be made in accordance with the spirit of the present invention.

本実施形態に係るチップTは、図1に示すように、略矩形状のチップであり、基板1,被膜2,複数の固定領域3を主要構成とする。
チップTとは、複数の固定領域3に、検出対象となる検体と特異的に結合する生体分子を担持させておき、そのチップTに検体をアプライし、担持された生体分子と検体との特異的結合を検出するために使用されるものである。
このチップTは、複数の固定領域3が規則的に配列されていることから、一般的にはアレイとも称される。
As shown in FIG. 1, the chip T according to the present embodiment is a substantially rectangular chip, and mainly includes a substrate 1, a coating 2, and a plurality of fixed regions 3.
In the chip T, a plurality of fixed regions 3 are loaded with biomolecules that specifically bind to the specimen to be detected, the specimen is applied to the chip T, and the carried biomolecules and the specimen are specific. It is used to detect the mechanical binding.
The chip T is generally called an array because a plurality of fixed regions 3 are regularly arranged.

本実施形態に係る基板1は、略矩形状のシラノール基含有基材である。なお、本実施形態では、一般的なスライドグラスを使用している。
本実施形態に係る被膜2は、スライドグラスの表面に覆設される被膜である。
被膜2は、ホスホリルコリン類似基を有するポリマーである。
このポリマーは、生体膜の構成成分の1つであるリン脂質極性基(ホスホリルコリン基)と類似した構造を有するホスホリルコリン類似基を含有しているため、タンパク質やDNAなどの生体分子との相互作用が極めて弱い。このため、基板1の被膜2で覆われた部分には、これらの有機物が極めて付着しにくくなっている。
なお、このホスホリルコリン類似基を有するポリマーの構造に関しては、後述する。
The substrate 1 according to this embodiment is a substantially rectangular silanol group-containing base material. In the present embodiment, a general slide glass is used.
The film 2 according to the present embodiment is a film that is provided on the surface of the slide glass.
The coating 2 is a polymer having a phosphorylcholine-like group.
Since this polymer contains a phosphorylcholine-like group having a structure similar to that of a phospholipid polar group (phosphorylcholine group), which is one of the components of a biological membrane, it interacts with biomolecules such as proteins and DNA. Very weak. For this reason, these organic substances are very difficult to adhere to the portion covered with the coating 2 of the substrate 1.
The structure of the polymer having the phosphorylcholine-like group will be described later.

本実施形態に係る固定領域3は、略矩形の凹部である。
固定領域3は、被膜2の厚さ分の深さを有する凹部であり、被膜2を略矩形に掘り込むことにより形成される。
また、固定領域3は、チップT上に複数形成されており、本実施形態においては、一辺約50μmの略正方形状に形成されている。更に、隣接する固定領域3,3間の距離は、約50μmとなっている。
なお、理解の容易のため、図1では固定領域3を実際よりも拡大して図示している。
また、固定領域3の底面は、基板1の表面が露出している。
このため、固定領域3の底面には、生体分子を固定することができるが、固定領域3以外には、生体分子を含む各種有機物が吸着しにくい。
よって、検体をアプライした後、固定領域3に固定された生体分子と反応しなかった検体が基板1に吸着しにくくなっている。
このため、チップTを洗浄するのみで、生体分子と反応しなかった検体を容易に回収することができる。
なお、本実施形態においては、担持物として、生体分子である抗体、DNA、RNA、たんぱく質等が使用されるが、これに限られるものではなく、対象とする成分と特異的に結合可能な成分を有する物質であればどのようなものであってもよい。
The fixed region 3 according to the present embodiment is a substantially rectangular recess.
The fixed region 3 is a concave portion having a depth corresponding to the thickness of the coating 2 and is formed by digging the coating 2 into a substantially rectangular shape.
A plurality of fixed regions 3 are formed on the chip T, and in the present embodiment, the fixed regions 3 are formed in a substantially square shape having a side of about 50 μm. Furthermore, the distance between the adjacent fixed regions 3 and 3 is about 50 μm.
For ease of understanding, FIG. 1 illustrates the fixed region 3 in an enlarged manner.
Further, the surface of the substrate 1 is exposed at the bottom surface of the fixed region 3.
For this reason, biomolecules can be immobilized on the bottom surface of the fixed region 3, but other than the fixed region 3, various organic substances including biomolecules are difficult to adsorb.
Therefore, after the sample is applied, the sample that has not reacted with the biomolecule fixed in the fixing region 3 is difficult to be adsorbed on the substrate 1.
For this reason, it is possible to easily collect the specimen that has not reacted with the biomolecule only by washing the chip T.
In the present embodiment, biomolecules such as antibodies, DNA, RNA, proteins, and the like are used as the support. However, the present invention is not limited to this, and a component that can specifically bind to the target component. Any substance may be used as long as it has the following.

次いで、ホスホリルコリン類似基を有するポリマーの構造について説明する。
本実施形態において使用する被膜2は、ホスホリルコリン類似基含有重合体からなる。
ホスホリルコリン類似基含有重合体とは、生体膜の構成成分の一つであるリン脂質極性基(ホスホリルコリン基)と同一又は類似の構造を有する官能基を意味する。具体的には、下記一般式(2)で示される官能基であることが望ましい。

Figure 2007071650
(式中、R,R及びRは同一あるいは異なってもよく、水素原子あるいは炭素数1〜6の炭化水素基を示し、nは2以上の整数を示す。)
具体的には、被膜2は、下記一般式(1)で示される共重合体Aである。
Figure 2007071650
(式中、Rは炭素数2〜10の2価の炭化水素基を示し、Rは炭素数2〜4の2価の炭化水素基を示し、R,R及びRは同一あるいは異なってもよく、水素原子あるいは炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Rは水素またはメチル基であり、Rは炭素数1〜6の2価の炭化水素基を示し、R,R,R10は同一あるいは異なってもよく、炭素数1〜3のオキシアルキレン基であり、このうち1または2つはメチル基であってもよく、R11は水素またはメチル基であり、lとmは各構成単位の割合を示し、lは0.75から0.99、mは0.01から0.25の範囲であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフにより標準ポリエチレングリコールを用いて換算した重量平均分子量が10,000から1,000,000の範囲である。) Next, the structure of the polymer having a phosphorylcholine-like group will be described.
The coating 2 used in this embodiment is made of a phosphorylcholine-like group-containing polymer.
A phosphorylcholine-like group-containing polymer means a functional group having the same or similar structure as a phospholipid polar group (phosphorylcholine group) that is one of the constituent components of a biological membrane. Specifically, the functional group represented by the following general formula (2) is desirable.
Figure 2007071650
(Wherein, R 3, R 4 and R 5 may be the same or different, represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, n represents an integer of 2 or more.)
Specifically, the film 2 is a copolymer A represented by the following general formula (1).
Figure 2007071650
(In the formula, R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 , R 4 and R 5 are the same. Alternatively, they may be different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 6 represents hydrogen or a methyl group, R 7 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 8 , R 9 , and R 10 may be the same or different, and are an oxyalkylene group having 1 to 3 carbon atoms, of which 1 or 2 may be a methyl group, and R 11 is hydrogen or a methyl group. Yes, l and m represent the proportion of each structural unit, l is in the range of 0.75 to 0.99, m is in the range of 0.01 to 0.25, and standard polyethylene glycol is used by gel permeation chromatography. The converted weight average molecular weight is 10,000 to 1,000. It is in the range of 000.)

本発明で使用される共重合体Aは、分子内に有機ケイ素基を有している。この有機ケイ素基は、シラノール基との間でシロキサン結合を形成する。このシロキサン結合により、共重合体Aはシラノール基を有するシラノール基含有基材の表面に結合することができる。   The copolymer A used in the present invention has an organosilicon group in the molecule. This organosilicon group forms a siloxane bond with the silanol group. By this siloxane bond, the copolymer A can be bonded to the surface of the silanol group-containing substrate having a silanol group.

また、共重合体Aは、分子内にホスホリルコリン類似基を有している。このホスホリルコリン類似基は、生体膜の構成成分の1つであるリン脂質極性基(ホスホリルコリン基)と類似した構造をしているため、タンパク質やDNAなどの生体分子との相互作用が極めて弱く、これらの有機物がシラノール基含有基材に吸着することを抑制する。   Further, the copolymer A has a phosphorylcholine-like group in the molecule. This phosphorylcholine-like group has a structure similar to a phospholipid polar group (phosphorylcholine group), which is one of the components of biological membranes, and therefore has very weak interaction with biomolecules such as proteins and DNA. The organic matter is suppressed from adsorbing to the silanol group-containing substrate.

更に、上記共重合体Aは、分子内にホスホリルコリン類似基を有するホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)と、分子内に有機ケイ素基を有する有機ケイ素基含有単量体(a2)を構成単位とする共重合体であることが好ましい。   Further, the copolymer A is composed of a phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) having a phosphorylcholine-like group in the molecule and an organosilicon group-containing monomer (a2) having an organosilicon group in the molecule. It is preferable that it is a copolymer.

上記共重合体Aの構成単位の一つであるホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)は、細胞膜の構成成分であるリン脂質が有するホスホリルコリン基と類似した性質を有するホスホリルコリン類似基を側鎖として備え、且つ、分子内に重合性の(メタ)アクリロイル基を有する単量体である。
具体的には、下記一般式(3)で示される化合物が好適に使用される。

Figure 2007071650
(式中、Rは炭素数2〜10の2価の炭化水素基を示し、Rは炭素数2〜4の2価の炭化水素基を示し、R,R及びRは同一あるいは異なってもよく、水素原子あるいは炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Rは水素またはメチル基である。) The phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1), which is one of the constituent units of the copolymer A, has a phosphorylcholine-like group having a property similar to that of the phosphorylcholine group of the phospholipid that is a constituent of the cell membrane as a side chain. And a monomer having a polymerizable (meth) acryloyl group in the molecule.
Specifically, a compound represented by the following general formula (3) is preferably used.
Figure 2007071650
(In the formula, R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 , R 4 and R 5 are the same. Or may be different and represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 6 is hydrogen or a methyl group.)

このような化合物としては、例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−(トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル−2−(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチル−2−(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェート、5−(メタ)アクリロイルオキシペンチル−2−(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシル−2−(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−(トリエチルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−(トリプロピルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−(トリブチルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル−2−(トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシブチル−2−(トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシペンチル−2−(トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシヘキシル−2−(トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート等が挙げられる。ここで、「(メタ)アクリロイル」とは、メタクリルおよび/またはアクリルを意味する、以下同じ。
なお、上記化合物は、使用に際して単独若しくは混合物として用いることができる。
このうち、入手が特に容易などの理由から、2−(メタクリロイルオキシ)エチル−2−トリメチルアンモニオ)エチルホスフェート{=2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンともいう(以下、MPC)}が好適である。
Examples of such compounds include 2- (meth) acryloyloxyethyl-2- (trimethylammonio) ethyl phosphate, 3- (meth) acryloyloxypropyl-2- (triethylammonio) ethyl phosphate, 4- ( (Meth) acryloyloxybutyl-2- (triethylammonio) ethyl phosphate, 5- (meth) acryloyloxypentyl-2- (triethylammonio) ethyl phosphate, 6- (meth) acryloyloxyhexyl-2- (triethylammonio) ) Ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2- (triethylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2- (tripropylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyl Oxyethyl-2- (tributylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxypropyl-2- (trimethylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxybutyl-2- (trimethylammonio) ethyl phosphate, Examples include 2- (meth) acryloyloxypentyl-2- (trimethylammonio) ethyl phosphate, 2- (meth) acryloyloxyhexyl-2- (trimethylammonio) ethyl phosphate, and the like. Here, “(meth) acryloyl” means methacryl and / or acryl, and so on.
In addition, the said compound can be used individually or as a mixture in use.
Among these, 2- (methacryloyloxy) ethyl-2-trimethylammonio) ethyl phosphate {= 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine (hereinafter referred to as MPC)} is preferable because it is particularly easy to obtain.

また、上記共重合体Aは、有機ケイ素基含有単量体(a2)を構成単位として更に備えている。このような側鎖に有機ケイ素含有基反応性の官能基を有する単量体としては、シランカップリング剤が挙げられる。   The copolymer A further includes an organosilicon group-containing monomer (a2) as a structural unit. A silane coupling agent is mentioned as a monomer which has an organosilicon-containing group reactive functional group in such a side chain.

シランカップリング剤は、一般式:Y−(CH)nSiX(n=1〜6,Xはアルコキシ基やハロゲンなどの加水分解性の置換基、Yはビニル基,アクリロキシ基,メタクリロキシ基,エポキシ基,アミノ基などの反応性の置換基)で示される有機ケイ素化合物である。このようなシランカップリング剤をホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)の共重合の相手として選択すると、シランカップリング剤の反応性の置換基(すなわち、上記一般式のY)とホスホリルコリン類似基含有単量体の反応性の置換基が反応して共重合体を形成すると共に、生成する共重合体は側鎖に加水分解性の置換基(すなわち、上記一般式の(CH)nSiX)を有するものとなる。 The silane coupling agent has a general formula: Y— (CH 2 ) nSiX 3 (n = 1 to 6, X is a hydrolyzable substituent such as an alkoxy group or halogen, Y is a vinyl group, an acryloxy group, a methacryloxy group, Reactive substituents such as epoxy groups and amino groups). When such a silane coupling agent is selected as a copolymerization partner of the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1), the reactive substituent of the silane coupling agent (ie, Y in the above general formula) and the phosphorylcholine-like group The reactive substituent of the containing monomer reacts to form a copolymer, and the resulting copolymer has a hydrolyzable substituent (that is, (CH 2 ) nSiX 3 in the above general formula) in the side chain. ).

このようなシランカップリング剤としては、下記一般式(4)で示される化合物が挙げられる。

Figure 2007071650
(式中、Rは炭素数1〜6の2価の炭化水素基を示し、R,R,R10は同一あるいは異なってもよく炭素数1〜3のオキシアルキレン基であり、このうち1または2つはメチル基であってもよく、R11は水素またはメチル基である。) As such a silane coupling agent, the compound shown by following General formula (4) is mentioned.
Figure 2007071650
(In the formula, R 7 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 , R 9 and R 10 may be the same or different and are oxyalkylene groups having 1 to 3 carbon atoms, 1 or 2 of them may be a methyl group, and R 11 is hydrogen or a methyl group.)

このような化合物としては、例えば、(メタ)アクリロキシメチルトリメトキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルジメチルメトキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルトリエトキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルジエトキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルトリプロポキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルメチルジプロポキシシラン、(メタ)アクリロキシメチルジプロポキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリメトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルメチルジメトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルジメチルメトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリエトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルメチルジエトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルジエトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリプロポキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルメチルジプロポキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルジプロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、(メタ)アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルジエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリプロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジプロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルジプロポキシシラン等が挙げられる。
なお、上記化合物は、使用に際して単独若しくは混合物として用いることができる。
このうち、入手が容易である点や、ホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)との重合性に優れている点などから、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(以下、3−MPMS)}が好ましい。
Examples of such compounds include (meth) acryloxymethyltrimethoxysilane, (meth) acryloxymethylmethyldimethoxysilane, (meth) acryloxymethyldimethylmethoxysilane, (meth) acryloxymethyltriethoxysilane, ( (Meth) acryloxymethylmethyldiethoxysilane, (meth) acryloxymethyldiethoxysilane, (meth) acryloxymethyltripropoxysilane, (meth) acryloxymethylmethyldipropoxysilane, (meth) acryloxymethyldipropoxysilane 2- (meth) acryloxyethyltrimethoxysilane, 2- (meth) acryloxyethylmethyldimethoxysilane, 2- (meth) acryloxyethyldimethylmethoxysilane, 2- (meth) acryloxyethyltriethoxy Run, 2- (meth) acryloxyethylmethyldiethoxysilane, 2- (meth) acryloxyethyldiethoxysilane, 2- (meth) acryloxyethyltripropoxysilane, 2- (meth) acryloxyethylmethyldipropoxy Silane, 2- (meth) acryloxyethyldipropoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, (meth) acryloxypropyldimethylmethoxysilane, 3- (Meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltripropoxysilane, 3- ( (Meta) acryloxyp Pills methyl dipropoxy silane, 3- (meth) acryloxy propyl dipropoxy silane, and the like.
In addition, the said compound can be used individually or as a mixture in use.
Among these, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as 3-MPMS)} is obtained because it is easily available and has excellent polymerizability with the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1). preferable.

共重合体Aは、上記一般式(3)で示されるホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)由来のホスホリルコリン類似基を分子内に有している。このホスホリルコリン類似基は、上述したように、生体膜の構成成分の1つであるリン脂質極性基(ホスホリルコリン基)と類似した構造をしているため、優れた生体適合性を示し、生体成分との相互作用が極めて小さい。   The copolymer A has a phosphorylcholine-like group derived from the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) represented by the general formula (3) in the molecule. As described above, this phosphorylcholine-like group has a structure similar to a phospholipid polar group (phosphorylcholine group), which is one of the components of a biological membrane, and thus exhibits excellent biocompatibility. The interaction of is very small.

また、本発明の共重合体Aは、上記一般式(4)で示される有機ケイ素基含有単量体(a2)由来の有機ケイ素基を分子内に有している。この有機ケイ素基は、加水分解性のオキシアルキレン基を分子内に有しているため、水中で加水分解してシラノール基(Si−OH)を形成する。このシラノール基は不安定であるため、例えばガラスといった表面にシラノール基を有する基材(以下、シラノール基含有基材という)のシラノール基と脱水反応を起こし、安定なシロキサン結合(Si−O−Si)を形成する。また、共重合体Aのシラノール基は、時間の経過と共に他の重合体のシラノール基や分子内の他のシラノール基と部分的に縮合し、重合体分子間あるいは重合体分子内で安定な架橋構造を形成する。   Moreover, the copolymer A of this invention has the organosilicon group derived from the organosilicon group containing monomer (a2) shown by the said General formula (4) in a molecule | numerator. Since this organosilicon group has a hydrolyzable oxyalkylene group in the molecule, it is hydrolyzed in water to form a silanol group (Si—OH). Since this silanol group is unstable, it causes a dehydration reaction with a silanol group of a substrate having a silanol group on a surface such as glass (hereinafter referred to as a silanol group-containing substrate), and a stable siloxane bond (Si—O—Si). ). In addition, the silanol group of the copolymer A is partially condensed with the silanol group of another polymer and other silanol groups in the molecule with the passage of time, and is stably crosslinked between polymer molecules or within the polymer molecule. Form a structure.

従って、シラノール基含有基材の表面に存在するシラノール基とのシロキサン結合により共重合体はシラノール基含有基材表面に強固に結合して膜表面から剥離しにくくなる。
また、共重合体Aは、上述したように重合体分子内および分子間で安定した架橋構造を形成している。このような架橋構造により、シラノール基含有基材表面にホスホリルコリン類似基が密に集合した表面層を形成するため、溶媒中のタンパク質などの有機物がシラノール基含有基材表面に付着しにくくなる。更に、溶媒への溶解度が小さく溶媒中へ溶出しにくくなり、長期にわたって安定してシラノール基含有基材表面を被覆する。
従って、このような共重合体で表面処理されたシラノール基含有基材は、検体中に含まれる生体分子のシラノール基含有基材表面への非特異的な吸着を効率的に防止することが可能となる。
Therefore, the copolymer is firmly bonded to the surface of the silanol group-containing substrate due to the siloxane bond with the silanol group present on the surface of the silanol group-containing substrate, and is difficult to peel off from the film surface.
Further, the copolymer A forms a stable crosslinked structure within the polymer molecule and between the molecules as described above. Such a cross-linked structure forms a surface layer in which phosphorylcholine-like groups are densely assembled on the surface of the silanol group-containing substrate, and therefore organic substances such as proteins in the solvent are less likely to adhere to the surface of the silanol group-containing substrate. Furthermore, the solubility in the solvent is small and it is difficult to elute into the solvent, and the surface of the silanol group-containing substrate is coated stably over a long period of time.
Therefore, the silanol group-containing substrate surface-treated with such a copolymer can efficiently prevent nonspecific adsorption of biomolecules contained in the sample to the surface of the silanol group-containing substrate. It becomes.

上記した各単量体(a1),(a2)は、いずれも(メタ)アクリロイル基を分子内に有している。このため、他の(メタ)アクリロイル基との重合体の形成が容易であり、重合開始剤の濃度や反応時間といった条件を調整することで、所望の重量分子量を有する重合体を比較的容易に合成することができる。   Each of the monomers (a1) and (a2) described above has a (meth) acryloyl group in the molecule. Therefore, it is easy to form a polymer with other (meth) acryloyl groups, and a polymer having a desired weight molecular weight can be relatively easily adjusted by adjusting conditions such as the concentration of the polymerization initiator and the reaction time. Can be synthesized.

共重合体Aとしては、原料の入手容易性などの理由により、特に、ホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)としてMPC、有機ケイ素基含有単量体(a2)として3−MPMSの組み合わせにより合成される共重合体が好ましい。具体的には、下記一般式(5)

Figure 2007071650
(式中、lとmは各構成単位の割合を示し、lは0.75から0.99、mは0.01から0.25の範囲であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフにより標準ポリエチレングリコールを用いて換算した重量平均分子量が10,000から1,000,000の範囲である。)で示される共重合体が好ましい。 Copolymer A was synthesized by combining MPC as the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) and 3-MPMS as the organosilicon group-containing monomer (a2), for reasons such as the availability of raw materials. Preferred is a copolymer. Specifically, the following general formula (5)
Figure 2007071650
(In the formula, l and m represent the proportion of each structural unit, l is in the range of 0.75 to 0.99, m is in the range of 0.01 to 0.25, and standard polyethylene glycol is obtained by gel permeation chromatography. The weight average molecular weight converted by use is in the range of 10,000 to 1,000,000.).

ホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)の共重合体中での含有割合lは、モル分率で0.75〜0.99であればよい。なお、この場合、有機ケイ素基含有単量体(a2)の含有割合mは、0.01〜0.25となる。
特に、ホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)の共重合体中での含有割合lがモル分率で0.8〜0.97の範囲が好ましい。ホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)のモル分率が0.75以下ではシラノール基の反応密度が高くなり、シラノール基の縮合による架橋構造が密になるため、溶媒中で不溶となり好ましくない。
また、共重合体中のホスホリルコリン類似基の含有割合が低いため、シラノール基含有基材表面への生体成分の非特異的吸着を防止する効率が損なわれ好ましくない。
The content ratio l of the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) in the copolymer may be 0.75 to 0.99 in terms of molar fraction. In this case, the content ratio m of the organosilicon group-containing monomer (a2) is 0.01 to 0.25.
In particular, the content ratio l in the copolymer of the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) is preferably in the range of 0.8 to 0.97 in terms of molar fraction. If the molar fraction of the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) is 0.75 or less, the reaction density of the silanol groups increases and the cross-linked structure due to condensation of the silanol groups becomes dense, which is not preferable because it is insoluble in the solvent.
Moreover, since the content ratio of the phosphorylcholine-like group in the copolymer is low, the efficiency of preventing nonspecific adsorption of biological components on the surface of the silanol group-containing substrate is unfavorable.

一方、ホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)の含有割合lが、モル分率で0.99以上では、有機ケイ素基含有単量体(a2)の共重合体中での含有割合が低くなるため、シラノール基とシラノール基含有基材表面の水酸基とのシロキサン結合が形成されにくくなったり、シラノール基の縮合による安定な架橋構造が形成されにくくなったりするため好ましくない。   On the other hand, when the content ratio l of the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) is 0.99 or more in terms of molar fraction, the content ratio of the organosilicon group-containing monomer (a2) in the copolymer is low. Therefore, it is not preferable because a siloxane bond between a silanol group and a hydroxyl group on the surface of the silanol group-containing substrate is hardly formed, or a stable cross-linked structure due to condensation of the silanol group is hardly formed.

また、共重合体Aの重量平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは、ゲルパーミエーションクロマトグラフにより標準ポリエチレングリコールを用いて換算した重量平均分子量が10,000〜1,000,000であればよい。より好ましくは、100,000〜800,000である。重合体の重量平均分子量が10,000より少ないと、溶媒への溶解度が大きくなるため好ましくない。一方、重量平均分子量が1,000,000より多いと、溶媒への溶解性が低下しすぎることがあるため好ましくない。   Further, the weight average molecular weight of the copolymer A is not particularly limited. Preferably, the weight average molecular weight converted using standard polyethylene glycol by gel permeation chromatography is 10,000 to 1,000,000. Good. More preferably, it is 100,000-800,000. When the weight average molecular weight of the polymer is less than 10,000, the solubility in a solvent is increased, which is not preferable. On the other hand, if the weight average molecular weight is more than 1,000,000, the solubility in a solvent may be too low, which is not preferable.

ホスホリルコリン類似基含有単量体(a1)と有機ケイ素基含有単量体(a2)の共重合体の種類としては、ランダム共重合体,ブロック共重合体,グラフト共重合体など、公知の重合体のいずれであってもよい。
各単量体の重合は、溶液重合,乳化重合,懸濁重合等の公知の方法を用いて行われる。この際、必要に応じて重合系を、窒素,アルゴン等の不活性ガスで置換して、あるいはこの不活性ガスの雰囲気下において重合温度0〜100℃、重合時間10分〜48時間の重合条件でラジカル重合させる方法等により調製する事ができる。
Examples of the copolymer of the phosphorylcholine-like group-containing monomer (a1) and the organosilicon group-containing monomer (a2) include known polymers such as random copolymers, block copolymers, and graft copolymers. Any of these may be used.
The polymerization of each monomer is performed using a known method such as solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization or the like. At this time, if necessary, the polymerization system is replaced with an inert gas such as nitrogen or argon, or under the inert gas atmosphere, a polymerization temperature of 0 to 100 ° C. and a polymerization time of 10 minutes to 48 hours. It can be prepared by a radical polymerization method or the like.

重合に際しては、公知のラジカル重合開始剤を用いることができる。ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2−アゾビス(2−アミジノプロピル)二塩酸塩、4,4−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2−アゾビス(2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン)二塩酸塩、2,2−アゾビスイソブチルアミド二水和物、2,2−アゾビスイソブチロニトリル、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、アゾビスイソブチロニトリル、2,2 −アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、t−ブチルペルオキシネオデカノエート等が挙げられる。特に、4,4−アゾビス(4−シアノ吉草酸)あるいは2,2−アゾビスイソブチロニトリルが好適である。   In the polymerization, a known radical polymerization initiator can be used. Examples of the radical polymerization initiator include 2,2-azobis (2-amidinopropyl) dihydrochloride, 4,4-azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2-azobis (2- (5-methyl- 2-Imidazolin-2-yl) propane) dihydrochloride, 2,2-azobisisobutyramide dihydrate, 2,2-azobisisobutyronitrile, ammonium persulfate, potassium persulfate, benzoyl peroxide, diisopropyl Peroxydicarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxydiisobutyrate, lauroyl peroxide, azobisisobutyronitrile, 2,2-azobis (2, 4-dimethylvaleronitrile), t-butylperoxyneodecanoate and the like. In particular, 4,4-azobis (4-cyanovaleric acid) or 2,2-azobisisobutyronitrile is preferable.

これらのラジカル重合開始剤は単独で用いても混合物で用いてもよい。また、重合開始剤には各種レドックス系の促進剤を用いても良い。重合開始剤の使用量は、単量体組成物100重量部に対して0.05〜3.0重量部が好ましい。反応温度は40〜80℃が好ましく、特に50〜70℃が好適である。
ラジカル重合開始剤の種類や濃度、反応時間や反応温度などを適便選択することにより、所望の重量平均分子量を有する共重合体Aを得ることが可能となる。
また、得られた共重合体Aの精製は、再沈殿法,透析法,精密濾過法,限外濾過法など一般的な精製方法により行うことができる。
These radical polymerization initiators may be used alone or in a mixture. Various redox accelerators may be used as the polymerization initiator. The amount of the polymerization initiator used is preferably 0.05 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer composition. The reaction temperature is preferably from 40 to 80 ° C, particularly preferably from 50 to 70 ° C.
By appropriately selecting the type and concentration of the radical polymerization initiator, the reaction time, the reaction temperature, and the like, it is possible to obtain the copolymer A having a desired weight average molecular weight.
The obtained copolymer A can be purified by a general purification method such as a reprecipitation method, a dialysis method, a microfiltration method, or an ultrafiltration method.

上記共重合体Aを溶解する溶媒としては、メタノール,エタノール,イソプロパノールなどのアルコール類が挙げられる。また、2種類以上の溶媒を混合した混合溶媒を使用することも可能である。混合溶媒としては、ジメチルホルムアミド,ジメチルスルオキシド,アセトニトリル,ジオキサン,アセトン,メチルエチルケトン,酢酸エチル,テトラヒドロフラン,N,N−ジメチルアセトアミド,N−メチル−2−ピロリドン等の有機溶剤とアルコールとの混合物等が挙げられる。   Examples of the solvent for dissolving the copolymer A include alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol. It is also possible to use a mixed solvent in which two or more kinds of solvents are mixed. Examples of the mixed solvent include dimethylformamide, dimethylsulfoxide, acetonitrile, dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, tetrahydrofuran, N, N-dimethylacetamide, a mixture of N-methyl-2-pyrrolidone and alcohol. Can be mentioned.

共重合体Aは、前述したようにシラノール基含有基材の表面のシラノール基とシロキサン結合を形成して安定した表面層を形成する。シラノール基含有基材の材料としては、表面にシラノール基を有する材料であればよく、例えばホウケイ酸ガラス,石英ガラス,ソーダ石灰ガラスなど公知の材料が挙げられる。   As described above, the copolymer A forms a stable surface layer by forming silanol groups on the surface of the silanol group-containing substrate and siloxane bonds. The material of the silanol group-containing substrate may be any material having a silanol group on the surface, and examples thereof include known materials such as borosilicate glass, quartz glass, and soda lime glass.

次いで、図2により、本実施形態に係るチップTの製造方法について説明する。
まず、基板1に被膜2を構成する共重合体Aをコーティングする。
このコーティングは、共重合体Aを基板1に吸着させることにより行う。
共重合体Aをシラノール基含有基材へ吸着させる際には、事前にシラノール基含有基材の表面を研磨したり、洗浄したりするなどして有機物等を取り除いておくことが好ましい。
シラノール基含有基材の表面を研磨する方法としては、目の細かいサンドペーパーで研磨したり、アルミナ粉末やダイヤモンドペーストなどを不織布などに含ませてシラノール基含有基材の表面を擦ったりする方法により行われる。洗浄後は、脱イオン水や純水などで洗浄溶液を洗い流す。
Next, a manufacturing method of the chip T according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
First, the substrate 1 is coated with the copolymer A constituting the coating film 2.
This coating is performed by adsorbing the copolymer A to the substrate 1.
When the copolymer A is adsorbed to the silanol group-containing base material, it is preferable to remove organic substances or the like in advance by polishing or washing the surface of the silanol group-containing base material.
As a method of polishing the surface of the silanol group-containing substrate, it is possible to polish with a fine sandpaper, or by rubbing the surface of the silanol group-containing substrate by including alumina powder or diamond paste in a nonwoven fabric etc. Done. After washing, wash away the washing solution with deionized water or pure water.

共重合体Aのシラノール基含有基材への結合は、共重合体Aを溶解した溶液をシラノール基含有基材の表面に塗布したり、溶液にシラノール基含有基材を浸漬したりするなどの方法により行われる。シロキサン結合の形成反応には、プロトンが必要となるため、反応系中に酢酸,クエン酸,コハク酸,塩酸などから選択される酸を添加する。添加する酸の濃度は10〜200μMである。また、共重合体Aとシラノール基含有基材の接触時間は、約5〜30分程度で十分であるが、例えば2〜5時間程度の長時間行うことで、配向性の高い表面層を形成することが可能となる。   Coupling of the copolymer A to the silanol group-containing substrate is performed by applying a solution in which the copolymer A is dissolved to the surface of the silanol group-containing substrate or immersing the silanol group-containing substrate in the solution. By the method. Protons are required for the siloxane bond formation reaction, so an acid selected from acetic acid, citric acid, succinic acid, hydrochloric acid, and the like is added to the reaction system. The concentration of the acid to be added is 10 to 200 μM. The contact time between the copolymer A and the silanol group-containing substrate is about 5 to 30 minutes, but for example, a surface layer with high orientation is formed by performing a long time of about 2 to 5 hours. It becomes possible to do.

シラノール基含有基材の表面に接触した共重合体Aは、シラノール基含有基材表面のシラノール基と共重合体Aの有機ケイ素基との間で共有結合性のシロキサン結合を形成することで、シラノール基含有基材表面に安定な表面層を形成する。   The copolymer A in contact with the surface of the silanol group-containing substrate forms a covalent siloxane bond between the silanol group on the surface of the silanol group-containing substrate and the organosilicon group of the copolymer A. A stable surface layer is formed on the surface of the silanol group-containing substrate.

シラノール基含有基材へ共重合体Aを吸着させた後、水などの溶媒でシラノール基含有基材の表面を洗浄して遊離の共重合体Aを除去する。洗浄後は水などの溶媒中に浸漬した状態で保存することが可能である。また、必要に応じてシラノール基含有基材表面を乾燥させて保存することもできる。この場合、大気中で自然乾燥させたり、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気で乾燥させたりすることで行うとよい。   After the copolymer A is adsorbed to the silanol group-containing substrate, the surface of the silanol group-containing substrate is washed with a solvent such as water to remove the free copolymer A. After washing, it can be stored in a state immersed in a solvent such as water. Moreover, the silanol group containing base-material surface can also be dried and preserve | saved as needed. In this case, it is good to carry out by drying naturally in air | atmosphere or drying in inert gas atmosphere, such as nitrogen gas.

次いで、レーザ光を照射することにより、基板1上に複数の固定領域3を形成する。
これは、図2(A)に示すように、被膜2でコーティングされた基板1にレーザ光を照射してレーザアブレーションを行い、レーザ光を照射した部分の被膜2を取り除くことにより行う。
レーザ光の照射は、公知のレーザ装置Sを使用して行われる。
このとき、レーザ光の照射口S1には、固定領域3の開口面積とほぼ同一の面積を有する略正方形状の孔11aが穿孔されたカバー11が配設される。
よって、照射口S1から発射されたレーザ光は、孔11aを通過して、略正方形状となって、基板1に照射される。
このレーザ光のエネルギーにより、被膜2の結合が切断され、この部分の被膜2が削り取られる。
このため、レーザ光が照射された部分には、基板1の表面が露出することとなる。
なお、使用するレーザ光の波長は、約200nm〜450nmが望ましい。
本実施形態においては、約245nmの波長のレーザ光を使用している。
Next, a plurality of fixed regions 3 are formed on the substrate 1 by irradiating with laser light.
As shown in FIG. 2A, this is performed by irradiating the substrate 1 coated with the film 2 with laser light to perform laser ablation and removing the film 2 in the portion irradiated with the laser light.
Laser light irradiation is performed using a known laser device S.
At this time, a cover 11 in which a substantially square hole 11 a having substantially the same area as the opening area of the fixed region 3 is formed is disposed in the laser light irradiation port S <b> 1.
Therefore, the laser light emitted from the irradiation port S1 passes through the hole 11a, becomes a substantially square shape, and is irradiated onto the substrate 1.
The bond of the film 2 is cut by the energy of the laser beam, and this part of the film 2 is scraped off.
For this reason, the surface of the board | substrate 1 will be exposed to the part irradiated with the laser beam.
The wavelength of the laser beam used is preferably about 200 nm to 450 nm.
In this embodiment, laser light having a wavelength of about 245 nm is used.

次いで、照射口S1を基板1に対して相対的に移動させて、同様にレーザアブレーションを行う。この操作を繰り返すことにより所定個数の固定領域3を、基板1上に形成してチップTを作成する(図2(B))。
本実施形態では、隣接する固定領域3,3間の距離は約50μmに設定されているので、約50μmずつ照射口S1を移動させることとなる。
ただし、このような形態に限定されるものではなく、複数の孔11aが形成されたカバー11を使用して複数個ずつ固定領域3を形成してもよい。
Next, the irradiation port S1 is moved relative to the substrate 1, and laser ablation is similarly performed. By repeating this operation, a predetermined number of fixed regions 3 are formed on the substrate 1 to produce a chip T (FIG. 2B).
In the present embodiment, since the distance between the adjacent fixed regions 3 and 3 is set to about 50 μm, the irradiation port S1 is moved by about 50 μm.
However, it is not limited to such a form, You may form the fixing | fixed area | region 3 by a plurality using the cover 11 in which the several hole 11a was formed.

このように、本実施形態においては、カバー11に形成された孔11aを介してレーザ光を照射しレーザアブレーションを行うことにより複数の固定領域3を形成する。このため、フォトリソグラフィー技術でチップを作成するときのような、現像作業、エッチング作業、レジスト除去作業等の煩雑な工程を経ることなく、簡易に複数の固定領域3が形成されたチップTを形成することができる。
また、本実施形態においては、レーザ光で削り取るのは、被膜2部分のみであり、基板1自体を処理するものではない。
そのため、基板1を直接削り取り凹部(固定領域に相当)を形成する技術に比して、レーザ出力が小さくてよい。よって、エネルギーを省力化することができ、製造コストが減少する。
また、基板1を直接削るものではないため、基板1を直接削り取り凹部(固定領域に相当)を形成する技術に比して、固定領域3の平滑性を保つことができる。このため、固定領域3に固定される生体分子を規則正しく確実に固定することができる。
更に、本実施形態では、孔11aを有するカバー11と照射口S1とを一体として基板1に対して相対的に移動させて、複数の固定領域3を形成するので、移動量に応じて様々な固定領域3の配置パターンを容易に得ることができる。
As described above, in the present embodiment, the plurality of fixed regions 3 are formed by performing laser ablation by irradiating laser light through the holes 11 a formed in the cover 11. Therefore, a chip T in which a plurality of fixed regions 3 are formed can be easily formed without going through complicated steps such as development work, etching work, and resist removal work as in the case of creating a chip by photolithography technology. can do.
In the present embodiment, only the coating 2 portion is scraped off by the laser beam, and the substrate 1 itself is not processed.
Therefore, the laser output may be small as compared with a technique in which the substrate 1 is directly scraped to form a concave portion (corresponding to a fixed region). Therefore, energy can be saved and the manufacturing cost is reduced.
Further, since the substrate 1 is not directly cut, the smoothness of the fixed region 3 can be maintained as compared with a technique in which the substrate 1 is directly cut and a concave portion (corresponding to the fixed region) is formed. For this reason, the biomolecule fixed to the fixed area | region 3 can be fixed regularly regularly reliably.
Furthermore, in the present embodiment, the cover 11 having the hole 11a and the irradiation port S1 are integrally moved relative to the substrate 1 to form the plurality of fixed regions 3. The arrangement pattern of the fixed region 3 can be easily obtained.

次いで、図2(C)に示すように、固定領域3に生体分子を固定する。この生体分子としては、抗体、DNA、RNA、タンパク質等が挙げられる。
本実施形態においては生体分子として抗体を使用しており、固定領域3に抗体は、公知の技術で担持される。
また、本実施形態においては、インクジェット技術により生体分子を固定領域3にアプライしている。
これは、公知の印刷用インクジェット技術のヘッドUを使用して行う。例えば、インクの代わりに生体分子を懸濁させた溶液を充填し、生体分子をピエゾ素子等により固定領域3へ噴射する。この操作を繰り返すことにより、全ての固定領域3に生体分子を固定する。なお、固定する生体分子の種類を変更する際には、インクジェットのヘッドUを他の生体分子が充填されたヘッドUに取り替えればよい。
Next, as shown in FIG. 2 (C), the biomolecule is fixed to the fixing region 3. Such biomolecules include antibodies, DNA, RNA, proteins and the like.
In the present embodiment, an antibody is used as a biomolecule, and the antibody is supported on the fixed region 3 by a known technique.
In the present embodiment, biomolecules are applied to the fixed region 3 by ink jet technology.
This is done using a known printing inkjet head U. For example, instead of ink, a solution in which a biomolecule is suspended is filled, and the biomolecule is ejected to the fixed region 3 by a piezoelectric element or the like. By repeating this operation, biomolecules are fixed to all the fixing regions 3. When changing the type of biomolecule to be fixed, the inkjet head U may be replaced with a head U filled with another biomolecule.

このような噴射作業を繰り返すことにより、全ての固定領域3に目的とする生体分子を固定してチップTを完成させる。
なお、上述したとおり、チップTの表面(固定領域3を除く部分)には、被膜2が施されている。
よって、固定領域3から溢れた生体分子は、被膜2の存在により付着することがない。
このため、固定領域3から溢れた生体分子は容易に除去可能である。
By repeating such a jetting operation, the target biomolecule is fixed to all the fixing regions 3 to complete the chip T.
As described above, the coating 2 is applied to the surface of the chip T (portion excluding the fixed region 3).
Therefore, biomolecules overflowing from the fixed region 3 are not attached due to the presence of the coating 2.
For this reason, the biomolecule overflowing from the fixed region 3 can be easily removed.

図2(D)に示すように、このようにして作成されたチップTに、検体(本実施形態においては細胞懸濁液)をアプライすることにより、抗体と特異的に結合する細胞を検出する。
上述したとおり、チップTの固定領域3以外の箇所は、被膜2によりコーティングされているため、固定領域3に固定された抗体と特異的に結合した細胞以外の細胞は、チップT上に安定的に残存することができない。
よって、チップTを緩衝液等で洗浄することにより、未反応細胞は容易にチップTから離れるため、未反応細胞を容易に回収することができる。
このため、高価な細胞や、多量に入手することが困難な細胞を検体とする場合であっても、未反応細胞を容易に回収できるため好適である。
なお、チップTに検体をアプライした後、固定領域3に固定された抗体と特異的に結合した検体は、例えば、蛍光分析等、公知の方法で検出される。
As shown in FIG. 2 (D), a cell (specifically a cell suspension in the present embodiment) is applied to the chip T thus prepared to detect cells that specifically bind to the antibody. .
As described above, since the portion other than the fixed region 3 of the chip T is coated with the coating 2, cells other than the cells specifically bound to the antibody fixed to the fixed region 3 are stably present on the chip T. Can not survive.
Therefore, by washing the chip T with a buffer solution or the like, the unreacted cells are easily separated from the chip T, so that the unreacted cells can be easily recovered.
Therefore, even when expensive cells or cells that are difficult to obtain in large quantities are used as samples, it is preferable because unreacted cells can be easily collected.
Note that after the sample is applied to the chip T, the sample specifically bound to the antibody fixed to the fixing region 3 is detected by a known method such as fluorescence analysis.

以上のように、本実施形態においては、固定領域3以外の領域に検体が付着することを防止することができるチップTを簡易に作成することができる。
このように、作成されたチップTは、薬物高速スクリーニング、動物実験代替、レセプター解析や細胞内代謝解析等の細胞機能研究等、様々な場面において利用することができる。
As described above, in the present embodiment, the chip T that can prevent the specimen from adhering to an area other than the fixed area 3 can be easily produced.
Thus, the produced chip T can be used in various scenes such as high-speed drug screening, alternative to animal experiments, cell function studies such as receptor analysis and intracellular metabolism analysis.

本発明に係るチップの斜視図である。It is a perspective view of the chip concerning the present invention. 本発明に係るチップの製造工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of the chip | tip concerning this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 被膜
3 固定領域
11 カバー
11a 開口(孔)
S レーザ装置
S1 照射口
T チップ
U ヘッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Coating 3 Fixing area 11 Cover 11a Opening (hole)
S Laser device S1 Irradiation port T Chip U Head

Claims (7)

検出対象となる成分と反応する成分を有する担持物を、基板表面上に担持可能なチップであって、
前記基板の表面には、ホスホリルコリン類似基含有重合体で被覆された被膜領域と、
前記基板表面が露出した固定領域と、が形成されていることを特徴とするチップ。
A chip capable of supporting a carrier having a component that reacts with a component to be detected on a substrate surface,
On the surface of the substrate, a coating region coated with a phosphorylcholine-like group-containing polymer,
And a fixed region where the substrate surface is exposed.
前記固定領域には、前記担持物が担持されていることを特徴とする請求項1に記載のチップ。   The chip according to claim 1, wherein the carrier is carried on the fixed region. 前記基板は、少なくともその表面がシラノール基含有基材で構成されており、
前記ホスホリルコリン類似基含有重合体は、
下記一般式(1)
Figure 2007071650
(式中、Rは炭素数2〜10の2価の炭化水素基を示し、Rは炭素数2〜4の2価の炭化水素基を示し、R,R及びRは同一あるいは異なってもよく、水素原子あるいは炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Rは水素またはメチル基であり、Rは炭素数1〜6の2価の炭化水素基を示し、R,R,R10は同一あるいは異なってもよく、炭素数1〜3のオキシアルキレン基であり、このうち1または2つはメチル基であってもよく、R11は水素またはメチル基であり、lとmは各構成単位の割合を示し、lは0.75から0.99、mは0.01から0.25の範囲であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフにより標準ポリエチレングリコールを用いて換算した重量平均分子量が10,000から1,000,000の範囲である。)で示される共重合体であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のチップ。
The substrate has at least a surface composed of a silanol group-containing base material,
The phosphorylcholine-like group-containing polymer is
The following general formula (1)
Figure 2007071650
(In the formula, R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 , R 4 and R 5 are the same. Alternatively, they may be different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 6 represents hydrogen or a methyl group, R 7 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 8 , R 9 , and R 10 may be the same or different, and are an oxyalkylene group having 1 to 3 carbon atoms, of which 1 or 2 may be a methyl group, and R 11 is hydrogen or a methyl group. Yes, l and m represent the proportion of each structural unit, l is in the range of 0.75 to 0.99, m is in the range of 0.01 to 0.25, and standard polyethylene glycol is used by gel permeation chromatography. The converted weight average molecular weight is 10,000 to 1,000. In the range of 000.) Chip according to claim 1 or claim 2 characterized in that it is a copolymer represented by.
検出対象となる成分と反応する成分を有する担持物を、基板表面上に担持可能なチップの製造方法であって、
前記基板の表面を、ホスホリルコリン類似基含有重合体で被覆する第1の工程と、
前記基板表面に対してレーザ光を照射してレーザアブレーションを行うことにより、レーザ光照射位置の前記ホスホリルコリン類似基含有重合体を除去し、前記基板の一部を露出させて固定領域を形成する第2の工程と、
前記固定領域へ前記担持物を噴射して、前記固定領域へ前記担持物を担持させる第3の工程と、
を備えることを特徴とするチップの製造方法。
A method for manufacturing a chip capable of supporting a carrier having a component that reacts with a component to be detected on a substrate surface,
A first step of coating the surface of the substrate with a phosphorylcholine-like group-containing polymer;
By performing laser ablation by irradiating the substrate surface with laser light, the phosphorylcholine-like group-containing polymer at the laser light irradiation position is removed, and a part of the substrate is exposed to form a fixing region. Two steps;
A third step of injecting the support to the fixed region and supporting the support to the fixed region;
A chip manufacturing method comprising:
前記第2の工程では、前記レーザ光の照射口に、前記固定領域の形状と略同一の形状を有する開口を備えるカバーを装着し、前記開口を通過して前記基板に前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項4に記載のチップの製造方法。   In the second step, a cover having an opening having substantially the same shape as the fixed region is attached to the laser light irradiation port, and the laser light is irradiated to the substrate through the opening. The method of manufacturing a chip according to claim 4. 前記第2の工程では、前記レーザ光の照射口を所定間隔で移動させて、レーザアブレーションを繰り返すことにより、前記固定領域を複数形成することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載のチップの製造方法。   The said 2nd process WHEREIN: The said fixed area | region is formed by moving the irradiation port of the said laser beam by predetermined space | interval, and repeating laser ablation, The said fixed area | region is characterized by the above-mentioned. Chip manufacturing method. 前記担持物は、インクジェット機能により前記固定領域へ噴射されることを特徴とする請求項4に記載のチップの製造方法。   The chip manufacturing method according to claim 4, wherein the carrier is ejected to the fixed region by an inkjet function.
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