JP2007070605A - Near infrared absorbing composition - Google Patents

Near infrared absorbing composition Download PDF

Info

Publication number
JP2007070605A
JP2007070605A JP2006202803A JP2006202803A JP2007070605A JP 2007070605 A JP2007070605 A JP 2007070605A JP 2006202803 A JP2006202803 A JP 2006202803A JP 2006202803 A JP2006202803 A JP 2006202803A JP 2007070605 A JP2007070605 A JP 2007070605A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
infrared absorbing
infrared
film
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2006202803A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Ito
彰男 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2006202803A priority Critical patent/JP2007070605A/en
Publication of JP2007070605A publication Critical patent/JP2007070605A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a near infrared absorbing composition maintaining the transparency and near infrared absorbency in a visible region over a long period and hardly forming cracks. <P>SOLUTION: The near infrared absorbing composition comprises a near infrared absorbing dye composed of an anion having ≥250 molecular weight and a diimmonium cation and a resin having a low Tg. The composition maintains the transparency in the visible region and near infrared absorbency over the long period and hardly causes the cracks. Thereby, the composition is useful as an optical filter for a thin-type display. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、近赤外線吸収組成物、該近赤外線吸収組成物を含有する近赤外線吸収材、該近赤外線吸収組成物または近赤外線吸収材を用いてなる薄型ディスプレー用光学フィルターなどに関する。特に、本発明は、可視領域の透明性と赤外線吸収能の持続性に優れ割れにくい近赤外線吸収組成物、該近赤外線吸収組成物を含有する近赤外線吸収材、該近赤外線吸収組成物または近赤外線吸収材を用いてなる光半導体素子用光学フィルター、該近赤外線吸収組成物または近赤外線吸収材を用いてなる薄型ディスプレー用光学フィルターなどに関する。   The present invention relates to a near-infrared absorbing composition, a near-infrared absorbing material containing the near-infrared absorbing composition, an optical filter for a thin display using the near-infrared absorbing composition or the near-infrared absorbing material, and the like. In particular, the present invention is a near-infrared absorbing composition that is excellent in transparency in the visible region and durability of infrared absorbing ability and hardly breaks, a near-infrared absorbing material containing the near-infrared absorbing composition, the near-infrared absorbing composition, or the near-infrared absorbing composition. The present invention relates to an optical filter for an optical semiconductor element using an infrared absorbing material, an optical filter for a thin display using the near infrared absorbing composition or the near infrared absorbing material, and the like.

近年、薄型で大画面に適用できる液晶ディスプレーやPDP(Plasma Display Panel)等の薄型ディスプレーが注目されている。薄型ディスプレーは波長が800nm〜1100nmの近赤外線を発生させる。この近赤外線が家電用リモコンの誤作動を誘発することが問題となっている。また、CCDカメラ等に使用される光半導体素子も近赤外線領域の感度が高いため、近赤外線の除去が必要である。そこで、近赤外線の吸収能が高く、可視領域の透明性が高い近赤外線吸収材料が求められている。   In recent years, thin displays such as liquid crystal displays and PDPs (Plasma Display Panels) that are thin and applicable to large screens have attracted attention. The thin display generates near infrared rays having a wavelength of 800 nm to 1100 nm. There is a problem that this near infrared ray causes malfunction of the remote control for home appliances. Moreover, since the optical semiconductor element used for a CCD camera etc. has high sensitivity in the near infrared region, it is necessary to remove the near infrared ray. Therefore, there is a demand for a near-infrared absorbing material that has a high near-infrared absorbing ability and high transparency in the visible region.

近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素としては、従来、シアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、無機酸化物粒子が使用されている。中でもジイモニウム系色素は近赤外線の吸収能が高く、可視光領域での透明性が高いことから多用されている(例えば、特許文献1、2参照)。   Conventionally, cyanine dyes, polymethine dyes, squarylium dyes, porphyrin dyes, metal dithiol complex dyes, phthalocyanine dyes, diimonium dyes, and inorganic oxide particles are used as near infrared absorbing dyes that absorb near infrared rays. Has been. Among these, diimonium dyes are frequently used because they have a high near-infrared absorption ability and high transparency in the visible light region (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

また、PDPは、パネル内部に封入された希ガス、特にネオンを主体としたガス中で放電を発生させ、その際に発生する真空紫外線により、パネル内部のセルに設けられたR、G、Bの蛍光体を発光させる。よって、この発光過程でPDPの作動に不必要な電磁波も同時に放出される。この電磁波も遮蔽されることが必要である。また、反射光を抑えるために反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム(アンチグレアフィルム)も必要である。このため、プラズマディスプレー用光学フィルターは、近赤外線吸収フィルム、電磁波遮蔽フィルム及び反射防止フィルムを、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に積層して作製されることが一般的である。このようなプラズマディスプレー用光学フィルターは、PDPの前面側に載置される。このようなプラズマディスプレー用光学フィルターは、接着剤や粘着剤を用いて、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に直接貼合わされて使用される場合もある。
特開2003−96040号公報 特開2000−80071号公報
The PDP generates a discharge in a rare gas, particularly a gas mainly composed of neon, enclosed in the panel, and R, G, B provided in the cells inside the panel by vacuum ultraviolet rays generated at that time. The phosphor is made to emit light. Therefore, electromagnetic waves unnecessary for the operation of the PDP are simultaneously emitted during this light emission process. It is necessary to shield this electromagnetic wave. Further, in order to suppress reflected light, an antireflection film and an antiglare film (antiglare film) are also required. For this reason, an optical filter for plasma display is generally produced by laminating a near-infrared absorbing film, an electromagnetic wave shielding film and an antireflection film on glass or a shock absorbing material as a support. Such an optical filter for plasma display is placed on the front side of the PDP. Such an optical filter for plasma display may be used by being directly bonded onto glass or a shock absorbing material as a support using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive.
JP 2003-96040 A JP 2000-80071 A

しかしながら、ジイモニウム系色素は耐久性が劣る場合があり、近赤外線の吸収能の低下や着色は、光半導体素子やディスプレー用途で使用する際の重大な問題となりうる。ジイモニウム系色素の耐久性を向上させるには、色素を固定する樹脂のガラス転移点(Tg)を高くすればよいことが知られている(例えば、特開2003−167119号公報参照)。   However, the diimonium dye may have poor durability, and a decrease in the near-infrared absorption ability and coloring may be a serious problem when used in an optical semiconductor element or display application. In order to improve the durability of the diimonium dye, it is known that the glass transition point (Tg) of the resin fixing the dye should be increased (see, for example, JP-A No. 2003-167119).

ところが、樹脂のTgが高くされると、衝撃、温冷繰り返し、薬品の付着等の影響で割れが発生しやすくなる。そのため、フィルム状基材に近赤外線吸収色素を含有する樹脂を塗布した近赤外線吸収フィルムは、取り扱いが容易ではなかった。   However, when the Tg of the resin is increased, cracking is likely to occur due to impacts, repeated heating and cooling, adhesion of chemicals, and the like. Therefore, the near-infrared absorbing film in which a resin containing a near-infrared absorbing pigment is applied to a film-like substrate has not been easy to handle.

そこで、本発明は、可視領域の透明性と近赤外線吸収能の持続性が高く、可とう性に優れる近赤外線吸収材を作製するのに有用な、近赤外線吸収組成物を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has an object to provide a near-infrared absorbing composition useful for producing a near-infrared absorbing material having high transparency in the visible region and high durability of near-infrared absorbing ability and excellent flexibility. And

さらに、本発明は、該組成物を使用した近赤外線吸収材、光半導体素子用光学フィルター、薄型ディスプレー用光学フィルター、および薄型ディスプレーを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a near-infrared absorbing material, an optical filter for an optical semiconductor element, an optical filter for a thin display, and a thin display using the composition.

本発明者らは、色素の耐久性と樹脂の可とう性について鋭意検討を行なった結果、分子量の大きいアニオンを含むジイモニウム系色素と、Tgの低い樹脂とを用いることで、色素の耐久性及び可とう性に優れた近赤外線吸収フィルムに加工できることを見出した。また、このような近赤外線吸収組成物を近赤外線吸収フィルムとして使用することで取り扱いが容易になり、光半導体素子や薄型ディスプレー用の光学フィルター及び薄型ディスプレーに有用であることを見出した。   As a result of intensive studies on the durability of the dye and the flexibility of the resin, the inventors have found that the durability of the dye can be improved by using a diimonium dye containing an anion having a large molecular weight and a resin having a low Tg. It has been found that it can be processed into a near-infrared absorbing film excellent in flexibility. Further, it has been found that the use of such a near-infrared absorbing composition as a near-infrared absorbing film facilitates handling and is useful for optical semiconductor elements, optical filters for thin displays, and thin displays.

すなわち、上記目的は、分子量250以上のアニオンからなるジイモニウム色素と、Tgが20℃以上85℃以下の樹脂とを含有する近赤外線吸収組成物によって達成される。   That is, the above object is achieved by a near-infrared absorbing composition containing a diimonium dye composed of an anion having a molecular weight of 250 or more and a resin having a Tg of 20 ° C. or more and 85 ° C. or less.

本発明の近赤外線吸収組成物を使用した近赤外線吸収材料は、色素の近赤外線吸収能が長期間に渡って維持され、可とう性に優れる。よって、この近赤外線吸収材料を、光半導体素子や薄型ディスプレー用の光学フィルターに使用すると、光学特性が向上し、取り扱いが容易となる。   The near-infrared absorbing material using the near-infrared absorbing composition of the present invention maintains the near-infrared absorbing ability of the dye for a long period of time and is excellent in flexibility. Therefore, when this near-infrared absorbing material is used for an optical semiconductor element or an optical filter for a thin display, the optical characteristics are improved and the handling becomes easy.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の第一は、分子量250以上のアニオンを有するジイモニウム色素と、Tgが20℃以上85℃以下の樹脂とを含有する近赤外線吸収組成物である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The first of the present invention is a near-infrared absorbing composition containing a diimonium dye having an anion having a molecular weight of 250 or more and a resin having a Tg of 20 ° C. or more and 85 ° C. or less.

1.ジイモニウム色素
ジイモニウム系色素は可視領域での透明性と近赤外線吸収能に優れる色素である。本発明で使用するジイモニウム色素は式(1)で表されるジイモニウムカチオンと分子量が250以上のアニオンとからなる塩である。

Figure 2007070605
1. Diimonium dyes Diimonium dyes are excellent in transparency in the visible region and near infrared absorption ability. The diimonium dye used in the present invention is a salt comprising a diimonium cation represented by the formula (1) and an anion having a molecular weight of 250 or more.

Figure 2007070605

上記式(1)中のR〜Rは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基または置換基を有する炭素数1〜10のアルキル基を表わす。R〜Rはそれぞれ異なっていても同一でもよい。 R 1 to R 8 in the above formula (1) each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent. R 1 to R 8 may be different or the same.

炭素数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐状、脂環式アルキル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, Linear, branched, alicyclic alkyl such as 1-methylbutyl group, 1-ethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, neopentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, etc. Groups and the like.

また、置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキル基に結合しうる置換基としては、シアノ基;ヒドロキシル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数2〜8のアルコキシアルコキシ基;メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数3〜15のアルコキシアルコキシアルコキシ基;アリルオキシ基;フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数6〜12のアリールオキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルキルカルボニルオキシ基;メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキシ基等がある。   Examples of the substituent that can be bonded to the optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include cyano group; hydroxyl group; halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom; methoxy group; C1-C6 alkoxy groups such as ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group; methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxypropoxy group, methoxybutoxy group, ethoxybutoxy group An alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, such as a methoxymethoxymethoxy group, a methoxymethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, or the like; an allyloxy group; a phenoxy group; Tolyloxy group, xylyloxy group, naphthylo group An aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms such as a cis group; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, and an n-butoxycarbonyl group; C2-C7 alkylcarbonyloxy groups such as methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group; methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, n-propoxycarbonyl Examples thereof include an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as an oxy group and an n-butoxycarbonyloxy group.

アニオンの分子量は250以上であれば特に限定されないが、250〜2000が好ましく、特に好ましくは250〜1000である。アニオンの分子量が250未満であるとジイモニウム色素が劣化しやすくなる。アニオンの分子量が2000を超えるとグラム吸光係数が小さくなり、色素の添加量が増えるため非経済的である。   Although it will not specifically limit if the molecular weight of an anion is 250 or more, 250-2000 are preferable, Most preferably, it is 250-1000. If the molecular weight of the anion is less than 250, the diimonium dye tends to deteriorate. If the molecular weight of the anion exceeds 2000, the gram extinction coefficient decreases and the amount of dye added increases, which is uneconomical.

またアニオンの種類は特に限定されず、例えば、イミドアニオン、金属ジチオール錯体アニオン等が挙げられる。   Moreover, the kind of anion is not specifically limited, For example, an imide anion, a metal dithiol complex anion, etc. are mentioned.

イミドアニオンは式(2)または式(3)で表されるアニオンである。

Figure 2007070605
Figure 2007070605
The imide anion is an anion represented by the formula (2) or the formula (3).

Figure 2007070605
Figure 2007070605

上記式(2)中、R、Rは、それぞれ同一または異なっていてもよいフルオロアルキル基を示す。上記式(3)中、Rはフルオロアルキレン基を示す。RまたはRで示されるフルオロアルキル基として、CF、C、C、C等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。RとRとは同一であってもよいし、異なっていてもよい。Rで示されるフルオロアルキレン基として、(CF(ただし、nは2から12の整数)等が挙げられる。 In the above formula (2), R a and R b each represent a fluoroalkyl group which may be the same or different. In the above formula (3), R c represents a fluoroalkylene group. Examples of the fluoroalkyl group represented by R a or R b include perfluoroalkyl groups such as CF 3 , C 2 F 5 , C 3 F 7 , and C 4 F 9 . R a and R b may be the same or different. Examples of the fluoroalkylene group represented by R c include (CF 2 ) n (where n is an integer of 2 to 12).

イミドアニオンのうちで好ましくは、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドイオン(Ra=Rb=CF 分子量:280)、ビス(ペンタフルオロエタンスルホン)イミドイオン(R=R=C 分子量:380)、1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド(R=(CF 分子量:292)が挙げられる。 Of the imide anions, bis (trifluoromethanesulfone) imide ion (Ra = Rb = CF 3 molecular weight: 280), bis (pentafluoroethanesulfone) imide ion (R a = R b = C 2 F 5 molecular weight: 380) 1,3-disulfonylhexafluoropropyleneimide (R c = (CF 2 ) 3 molecular weight: 292).

金属ジチオール錯体アニオンは公知のものが使用でき、特に限定されないが、具体的には下記式(4)のアニオンが挙げられる。

Figure 2007070605
A known metal dithiol complex anion can be used and is not particularly limited, and specific examples include an anion of the following formula (4).

Figure 2007070605

上記式(4)中のMは遷移金属原子を表わし、R、Rは、炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有していてもよいモルホリノ基、置換基を有していてもよいピペリジノ基、置換基を有していてもよいピロリジノ基、置換基を有していてもよいチオモルホリノ基、置換基を有していてもよいピペラジノ基、または置換基を有していてもよいフェニル基を示す。RとRとは同一でもよいし異なっていてもよい。金属ジチオール錯体アニオンは特に限定されないが、Mが銅イオンとされ、RとRとがモルホリノ基とされたアニオンが好ましく、この金属ジチオール錯体アニオンの分子量は642である。 M in the above formula (4) represents a transition metal atom, and R d and R e have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholino group which may have a substituent, and a substituent. A piperidino group which may have a substituent, a pyrrolidino group which may have a substituent, a thiomorpholino group which may have a substituent, a piperazino group which may have a substituent, or a substituent Or a good phenyl group. R d and R e may be the same or different. A metal dithiol complex anion is not particularly limited, M is a copper ion, the anion is preferably is a morpholino group and R d and R e, the molecular weight of the metal dithiol complex anion is 642.

分子量が250以上のアニオンからなる本発明のジイモニウム色素は高い耐久性を示す。分子量の大きなアニオンと組み合わせると耐久性が向上する理由は明確ではないが、ソフト性の強いジイモニウムカチオンがソフト性の強い分子量の大きなアニオンによって安定化されていると考えられる。   The diimonium dye of the present invention comprising an anion having a molecular weight of 250 or more exhibits high durability. The reason why the durability is improved when combined with an anion having a large molecular weight is not clear, but it is considered that a diimonium cation having a strong soft property is stabilized by an anion having a strong soft molecular weight.

高分子量アニオンからなるジイモニウム色素であって、かつ融点が200℃以上であるジイモニウム色素の場合、さらに耐久性が向上する。このようなジイモニウム色素として、具体的にはCIR−RL(日本カーリット製 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド塩、融点:235℃)、CIR−1085F(日本カーリット製 ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド塩、融点:210℃)が挙げられる。   In the case of a diimonium dye comprising a high molecular weight anion and having a melting point of 200 ° C. or higher, the durability is further improved. As such a diimonium dye, specifically, CIR-RL (Nippon Carlit bis (trifluoromethanesulfone) imide salt, melting point: 235 ° C.), CIR-1085F (Nippon Carlit bis (trifluoromethanesulfone) imide salt, melting point : 210 ° C).

2.樹脂
本発明で使用する樹脂としては、Tgが25℃以上で85℃以下のものであれば特に制限されない。本発明で使用する樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等、乾燥後に透明性の高い塗膜が得られるものが好ましい。Tgが25℃未満の樹脂は汚れたり傷が付いたりしやすい。Tgが85℃以上の樹脂は割れやすくなる。割れにくさと、高い耐久性を両立させるためには、樹脂のTgは65〜85℃であることが好ましく、70〜80℃であることがより好ましい。
2. Resin The resin used in the present invention is not particularly limited as long as Tg is 25 ° C. or higher and 85 ° C. or lower. The resin used in the present invention is preferably an acrylic resin, a polyester resin, or the like that can provide a highly transparent coating film after drying. Resins having a Tg of less than 25 ° C. are easily soiled or scratched. Resins having a Tg of 85 ° C. or higher are easily broken. In order to achieve both high cracking resistance and high durability, the Tg of the resin is preferably 65 to 85 ° C, and more preferably 70 to 80 ° C.

特に好ましい樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルを重合してなるポリマーであって、この(メタ)アクリル酸エステルが、炭素数が1〜10の直鎖型、分岐型、脂環式、多環性脂環式アルキル基を有するポリマーである。具体例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸イソボルニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル等からなるポリマーが挙げられる。モノマーは1種のみを使用しても、複数種を共重合してもよい。それぞれのモノマーの使用量は特に限定されず、得られた樹脂のTgが25℃以上、85℃以下となればよい。   A particularly preferable resin is a polymer obtained by polymerizing (meth) acrylic acid ester, and this (meth) acrylic acid ester is a linear, branched, alicyclic, polycyclic having 1 to 10 carbon atoms. It is a polymer having an alicyclic alkyl group. Specific examples include methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acrylic Examples thereof include polymers composed of octyl acid and the like. A monomer may use only 1 type or may copolymerize multiple types. The usage-amount of each monomer is not specifically limited, Tg of obtained resin should just be 25 to 85 degreeC.

樹脂の分子量は特に制限されない。樹脂の分子量は、ポリスチレン換算の重量平均分子量で、好ましくは1万〜300万、さらに好ましくは5万〜200万、特に好ましくは10万〜100万である。重量分子量が1万以下では十分な可とう性が発揮されにくくなり、重量平均分子量が300万を超えると粘度が高すぎて取り扱いが困難になる。   The molecular weight of the resin is not particularly limited. The molecular weight of the resin is a polystyrene-equivalent weight average molecular weight, preferably 10,000 to 3,000,000, more preferably 50,000 to 2,000,000, and particularly preferably 100,000 to 1,000,000. When the weight molecular weight is 10,000 or less, sufficient flexibility is hardly exhibited, and when the weight average molecular weight exceeds 3 million, the viscosity is too high and handling becomes difficult.

また、炭素数が1〜10の直鎖型、分岐型、脂環式、多環性脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルとともにカルボキシル基やヒドロキシル基、オキサゾリニル基、ピロリドニル基、フルオロアルキル基、芳香族基等の官能基を有するモノマーも、本発明の目的を損なわない範囲で、共重合してもよい。   In addition, a carboxyl group, hydroxyl group, oxazolinyl group, pyrrolidonyl group, fluoro, as well as a (meth) acrylic acid ester having a linear, branched, alicyclic or polycyclic alicyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. A monomer having a functional group such as an alkyl group or an aromatic group may be copolymerized as long as the object of the present invention is not impaired.

重合に使用する開始剤は過酸化物系、アゾ系等、市販のものが使用できる。過酸化物系の開始剤としては、パーブチルO、パーヘキシルO(いずれも日本油脂製)などのパーオキシエステル系;パーロイルL、パーロイルO(いずれも日本油脂製)などのパーオキシジカーボネート系;ナイパーBW、ナイパーBMT(いずれも日本油脂製)などのジアシルパーオキサイド系;パーヘキサ3M、パーヘキサMC(いずれも日本油脂製)などのパーオキシケタール系;パーブチルP、パークミルD(いずれも日本油脂製)などのジアルキルパーオキサイド系;パークミルP、パーメンタH(いずれも日本油脂製)などのハイドロパーオキサイド系等が挙げられる。アゾ系の開始剤としてはABN−E、ABN−R、ABN−V(いずれも日本ヒドラジン工業製)等が挙げられる。   Commercially available initiators such as peroxides and azos can be used for the polymerization. Peroxide-based initiators include peroxyesters such as perbutyl O and perhexyl O (both manufactured by NOF); peroxydicarbonates such as PERROYL L and PEROIL O (both manufactured by NOF); Diacyl peroxides such as BW and Nyper BMT (both manufactured by NOF); Peroxyketals such as perhexa 3M and perhexa MC (both manufactured by NOF); perbutyl P, park mill D (all manufactured by NOF) And hydroperoxides such as Park Mill P and Permenter H (both manufactured by NOF Corporation). Examples of the azo initiator include ABN-E, ABN-R, and ABN-V (all manufactured by Nippon Hydrazine Kogyo Co., Ltd.).

樹脂の重合の際には必要に応じて連鎖移動剤を使用してもよい。連鎖移動剤は所定の分子量に調整できれば特に制約されず、ノルマルドデシルメルカプタン、ジチオグリコール、チオグリコール酸オクチル、メルカプトエタノール等のチオール化合物等が使用できる。   In the polymerization of the resin, a chain transfer agent may be used as necessary. The chain transfer agent is not particularly limited as long as it can be adjusted to a predetermined molecular weight, and thiol compounds such as normal dodecyl mercaptan, dithioglycol, octyl thioglycolate, and mercaptoethanol can be used.

また、樹脂の重合は無溶媒で行ってもよいし、有機溶媒中で行ってもよい。有機溶媒中で重合する際には、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;その他の公知の有機溶剤が使用できる。使用する有機溶媒の種類は得られる樹脂の溶解性、重合温度を考慮して決められるが、乾燥時の残存溶媒の残りにくさの点からトルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の沸点が120℃以下の有機溶媒が好ましい。   Further, the polymerization of the resin may be performed without a solvent or may be performed in an organic solvent. When polymerizing in an organic solvent, aromatic solvents such as toluene and xylene; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; other known organic solvents are used. it can. The type of organic solvent to be used is determined in consideration of the solubility of the obtained resin and the polymerization temperature, but the boiling point of toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, etc. is 120 ° C. or less in terms of the difficulty of remaining the residual solvent during drying. Organic solvents are preferred.

また、樹脂は単一の組成からなるものでもよいし、異なる組成のポリマーを複合化したポリマーアロイやポリマーブレンドであってもよい。   Further, the resin may have a single composition, or may be a polymer alloy or a polymer blend in which polymers having different compositions are combined.

本発明の近赤外線吸収組成物はTgを25℃以上、85℃以下とすることで高い可とう性を示す。さらに割れにくくするためにはポリマー構造は直鎖型のよりも分岐型の方が好ましい。分岐構造にすると高分子量化した場合でも樹脂の粘度が低く、取り扱いが容易になる。   The near-infrared absorbing composition of the present invention exhibits high flexibility when the Tg is 25 ° C. or higher and 85 ° C. or lower. In order to further prevent cracking, the polymer structure is preferably branched rather than linear. When the branched structure is used, even when the molecular weight is increased, the viscosity of the resin is low and the handling becomes easy.

分岐型の樹脂を得るためにはマクロモノマー、多官能モノマー、多官能開始剤、多官能連鎖移動剤が使用できる。マクロモノマーとしては、AA−6、AA−2、AS−6、AB−6、AK−5(いずれも東亜合成製)等が使用できる。多官能モノマーとしては、ライトエスエルEG、ライトエスエル1,4BG、ライトエステルNP、ライトエステルTMP(いずれも共栄社化学製)等が挙げられる。多官能開始剤としては、パーテトラA、BTTB−50(いずれも日本油脂製)、トリゴノックス17−40MB、パーカドックス12−XL25(いずれも火薬アクゾ製)等が挙げられる。多官能連鎖移動剤としてはペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)等が使用できる。   In order to obtain a branched resin, a macromonomer, a polyfunctional monomer, a polyfunctional initiator, and a polyfunctional chain transfer agent can be used. As the macromonomer, AA-6, AA-2, AS-6, AB-6, AK-5 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like can be used. Examples of the polyfunctional monomer include LIGHT EG EG, LIGHT SEL 1,4BG, LIGHT ESTER NP, LIGHT ESTER TMP (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples of the polyfunctional initiator include Pertetra A, BTTB-50 (all manufactured by NOF Corporation), Trigonox 17-40MB, Parkadox 12-XL25 (all manufactured by Explosive Akzo), and the like. As the polyfunctional chain transfer agent, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate) or the like can be used.

3.近赤外線吸収組成物
本発明の近赤外線吸収組成物は、アニオンの分子量が250以上のジイモニウム系色素とTgが25℃以上85℃以下の樹脂とを含んでいるので、可視領域の透明性と近赤外線吸収能が持続しやすく、割れにくい。本発明の近赤外線吸収組成物により、フィルムに加工した場合の取り扱いが容易になる。
3. Near-infrared absorbing composition The near-infrared absorbing composition of the present invention contains a diimonium dye having an anionic molecular weight of 250 or more and a resin having a Tg of 25 ° C. or more and 85 ° C. or less. Infrared absorption is easy to sustain and hard to break. The near-infrared absorbing composition of the present invention facilitates handling when processed into a film.

本発明の近赤外線吸収組成物には、他の近赤外線吸収色素を添加してもよい。併用しうる他の近赤外線吸収色素としては、公知のシアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、無機酸化物粒子等が挙げられる。   You may add another near-infrared absorption pigment | dye to the near-infrared absorption composition of this invention. Other near-infrared absorbing dyes that can be used in combination include known cyanine dyes, polymethine dyes, squarylium dyes, porphyrin dyes, metal dithiol complex dyes, phthalocyanine dyes, diimonium dyes, inorganic oxide particles, etc. Can be mentioned.

本発明の近赤外線吸収組成物を薄型ディスプレイ用光学フィルターとして使用する場合には、上記のジイモニウム色素とともに最大吸収波長が800〜950nmのフタロシアニン系色素、最大吸収波長が800〜950nmのシアニン系色素または最大吸収波長が800〜950nmの金属ジチオール錯体系色素が併用されるのが好ましい。この併用により、800〜1100nmの近赤外線が効果的に吸収されうる。耐久性の良好な近赤外線吸収組成物を得る観点から、フタロシアニン色素が併用されるのが特に好ましい。   When the near-infrared absorbing composition of the present invention is used as an optical filter for a thin display, a phthalocyanine dye having a maximum absorption wavelength of 800 to 950 nm, a cyanine dye having a maximum absorption wavelength of 800 to 950 nm, or the diimonium dye A metal dithiol complex dye having a maximum absorption wavelength of 800 to 950 nm is preferably used in combination. By this combined use, near infrared rays of 800 to 1100 nm can be effectively absorbed. From the viewpoint of obtaining a near-infrared absorbing composition having good durability, it is particularly preferable to use a phthalocyanine dye in combination.

本発明で使用できるフタロシアニン系化合物はとしては、近赤外線吸収能に優れるものであれば特に制限されず、公知のフタロシアニン系化合物が使用できる。好ましいフタロシアニン系化合物として、下記式(ア)で表される化合物、または下記式(イ)で表される化合物が挙げられる。   The phthalocyanine-based compound that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has excellent near-infrared absorption ability, and known phthalocyanine-based compounds can be used. Preferable phthalocyanine compounds include compounds represented by the following formula (A) or compounds represented by the following formula (I).

[式(ア)で示されるフタロシアニン系化合物]

Figure 2007070605
[Phthalocyanine compound represented by the formula (a)]

Figure 2007070605

上記式(ア)において、A〜A16は官能基を表す。上記式(ア)において、A〜A16は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボキシル基、チオール基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアラルキルオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基または置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。A〜A16の官能基は同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていても良い。Mは2個の水素原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子またはオキシ金属を表す。なお、本明細書において、「アシル基」とは、日刊工業新聞社発行の第三版科学技術用語大辞典の17頁に記載される定義と同様であり、具体的には、有機酸からヒドロキシル基が除去された基であり、式:RCO−(Rは、脂肪基、脂環基または芳香族基である)で表される基である。 In the above formula (A), A 1 ~A 16 represents a functional group. In the formula (a), A 1 to A 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a hydroxysulfonyl group, a carboxyl group, a thiol group, or an optionally substituted carbon atom having 1 to 20 carbon atoms. Alkyl groups, optionally substituted alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, optionally substituted aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, optionally substituted carbon atoms 6 to 20 Aryloxy groups, optionally substituted aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, optionally substituted aralkyloxy groups having 7 to 20 carbon atoms, and optionally substituted carbon atoms 1-20 alkylthio groups, optionally substituted arylthio groups having 6-20 carbon atoms, optionally substituted aralkylthio groups having 7-20 carbon atoms, substituted An optionally substituted alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted aralkylsulfonyl group having 7 to 20 carbon atoms Group, an optionally substituted acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted carbon atom having 6 to 20 carbon atoms An aryloxycarbonyl group, an optionally substituted aralkyloxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, and optionally substituted. Arylcarbonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms, optionally substituted aralkylcarbonyloxy group having 8 to 20 carbon atoms, substituted Carbon atoms optionally 2-20 heterocyclic group, a substituted amino group which may be, optionally substituted aminosulfonyl group or an optionally substituted aminocarbonyl group. The functional groups of A 1 to A 16 may be the same type or different types, and may be the same or different in the same type, and the functional groups may be connected via a linking group. M 1 represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or an oxy metal. In the present specification, the “acyl group” has the same definition as that described on page 17 of the third edition of the Dictionary of Science and Technology Terms published by the Nikkan Kogyo Shimbun. It is a group from which a group has been removed, and is a group represented by the formula: RCO— (where R is an aliphatic group, an alicyclic group or an aromatic group).

(末端がアミノ基以外の官能基の場合)
上記式(ア)において、官能基A〜A16のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、iso−プロピルスルホニル基、n−ブチルスルホニル基、iso−ブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、t−ブチルスルホニル基、n−ペンチルスルホニル基、n−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、n−ヘプチルスルホニル基、n−オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていても良い炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、iso−ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、n−ヘプチルカルボニルオキシ基、3−ヘプチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(When the terminal is a functional group other than an amino group)
In the above formula (a), examples of the halogen atom of the functional groups A 1 to A 16 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, Examples thereof include linear, branched or cyclic alkyl groups such as t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and 2-ethylhexyl group. It is not limited to. Examples of the optionally substituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, iso-propyloxy group, n-butyloxy group, iso-butyloxy group, sec-butyloxy Group, t-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, etc., linear, branched or cyclic Although an alkoxy group is mentioned, it is not limited to these. Examples of the optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the optionally substituted aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms include phenoxy group and naphthoxy group, but are not limited thereto. Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, benzyl group, phenethyl group, diphenylmethyl group and the like. Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include a benzyloxy group, a phenethyloxy group, a diphenylmethyloxy group and the like, but are not limited thereto. Examples of the optionally substituted alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms include methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, Examples thereof include linear, branched or cyclic alkylthio groups such as t-butylthio group, n-pentylthio group, n-hexylthio group, cyclohexylthio group, n-heptylthio group, n-octylthio group, 2-ethylhexylthio group, It is not limited to these. Examples of the optionally substituted arylthio group having 6 to 20 carbon atoms include a phenylthio group and a naphthylthio group, but are not limited thereto. Examples of the aralkylthio group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a benzylthio group, a phenethylthio group, a diphenylmethylthio group and the like. Examples of the optionally substituted alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms include methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group, iso-propylsulfonyl group, n-butylsulfonyl group, iso-butylsulfonyl. Group, sec-butylsulfonyl group, t-butylsulfonyl group, n-pentylsulfonyl group, n-hexylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, n-heptylsulfonyl group, n-octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, etc. Examples include, but are not limited to, linear, branched, or cyclic alkylsulfonyl groups. Examples of the arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a phenylsulfonyl group and a naphthylsulfonyl group. Examples of the aralkylsulfonyl group which may be substituted include a benzylsulfonyl group, a phenethylsulfonyl group, a diphenylmethylsulfonyl group, and the like, but are not limited thereto. Examples of the optionally substituted acyl group having 1 to 20 carbon atoms include methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, straight chain such as sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, n-hexylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, n-heptylcarbonyl group, n-octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, Examples include, but are not limited to, branched or cyclic alkylcarbonyl groups, arylcarbonyl groups such as benzylcarbonyl groups and phenylcarbonyl groups, and aralkylcarbonyl groups such as benzoyl groups. Examples of the optionally substituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, iso-propyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, iso -Butyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, t-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxy Examples thereof include, but are not limited to, a carbonyl group and a 2-ethylhexyloxycarbonyl group. Examples of the aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, phenoxycarbonyl and naphthylcarbonyl groups. Examples of the aralkyloxycarbonyl group having 8 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, benzyloxycarbonyl group, phenethyloxycarbonyl group, diphenylmethyloxycarbonyl group and the like. . Examples of the optionally substituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms include acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, iso-propylcarbonyloxy group, and n-butylcarbonyloxy group. , Iso-butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group, n-pentylcarbonyloxy group, n-hexylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, n-heptylcarbonyloxy group, 3- A heptyl carbonyloxy group, n-octyl carbonyloxy group, etc. are mentioned, However, It is not limited to these. Examples of the arylcarbonyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a benzoyloxy group. Examples of the aralkylcarbonyloxy group having 8 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a benzylcarbonyloxy group. Examples of the optionally substituted heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a pyrrole group, an imidazole group, a piperidine group, and a morpholine group.

また、上記式(ア)において、官能基A〜A16のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基または複素環基が置換されている場合、これらの官能基A〜A16に存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。 In the above formula (a), the alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group, aralkyloxy group, alkylthio group, arylthio group, aralkylthio group, alkylsulfonyl group of the functional groups A 1 to A 16 An arylsulfonyl group, an aralkylsulfonyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an alkylcarbonyloxy group, an arylcarbonyloxy group, an aralkylcarbonyloxy group or a heterocyclic group As the substituents present in these functional groups A 1 to A 16 , for example, halogen atoms, acyl groups, alkyl groups, phenyl groups, alkoxy groups, halogenated alkyl groups, halogenated alkoxy groups, nitro groups, amino groups, Alkyl Mino group, alkylcarbonylamino group, arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, alkoxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxysulfonyl group, alkylthio group, carbamoyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, heterocyclic group However, it is not limited to these. A plurality of these substituents may be present. When a plurality of substituents are present, they may be the same or different, and even in the same case, they may be the same or different. Moreover, substituents may be connected through a linking group.

(末端がアミノ基である官能基の場合)
上記式(ア)において、官能基A〜A16の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子;メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;アセチル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、3−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基;ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基;ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらの置換基は0個、1個または2個存在していてもよく、2個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が2個の場合、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
(When the terminal is an amino group)
In the above formula (a), the substituents on the optionally substituted amino group, the optionally substituted aminosulfonyl group, and the optionally substituted aminocarbonyl group of the functional groups A 1 to A 16 are as follows: Hydrogen atom: linear, branched or cyclic such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group and cyclohexyl group Alkyl group; aryl group such as phenyl group and naphthyl group; aralkyl group such as benzyl group and phenethyl group; acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso- Butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, n-hexyl A linear, branched or cyclic alkylcarbonyl group such as a sulfonyl group, a cyclohexylcarbonyl group, an n-heptylcarbonyl group, a 3-heptylcarbonyl group or an n-octylcarbonyl group; an arylcarbonyl group such as a benzoyl group or a naphthylcarbonyl group; Examples thereof include, but are not limited to, an aralkylcarbonyl group such as a carbonyl group, and these substituents may be further substituted with a substituent. These substituents may be present in the number of 0, 1 or 2, and when 2 are present, they may be the same or different from each other, and even in the same type, they may be the same or different. Also good. Moreover, when there are two substituents, the substituents may be connected via a linking group.

上記置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基または置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。   Alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkylcarbonyl group, arylcarbonyl which is a substituent to the above-mentioned optionally substituted amino group, optionally substituted aminosulfonyl group or optionally substituted aminocarbonyl group Group, aralkylcarbonyl group and the like, which may be further present as a substituent, for example, halogen atom, acyl group, alkyl group, phenyl group, alkoxy group, halogenated alkyl group, halogenated alkoxy group, nitro group, amino group, Alkylamino group, alkylcarbonylamino group, arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, alkoxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxysulfonyl group, alkylthio group, carbamoyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, complex Groups including but not limited to. A plurality of these substituents may be present. When a plurality of substituents are present, they may be the same or different, and even in the same case, they may be the same or different. Moreover, substituents may be connected through a linking group.

また、金属Mとしての2価の金属の例としては、Cu(II)、Co(II)、Zn(II)、Fe(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、Cd(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。3価の置換金属原子の例としては、Al−F、Al−Cl、Al−Br、Al−I、Fe−Cl、Ga−F、Ga−Cl、Ga−I、Ga−Br、In−F、In−Cl、In−Br、In−I、Tl−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Al−C、Al−C(CH)、In−C、In−C(CH)、In−C、Mn(OH)、Mn(OC)、Mn〔OSi(CH〕、Ru−Cl等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。4価の置換金属原子の例としては、CrCl、SiF、SiCl、SiBr、SiI、ZrCl、GeF、GeCl、GeBr、GeI、SnF、SnCl、SnBr、TiF、TiCl、TiBr、Ge(OH)、Mn(OH)、Si(OH)、Sn(OH)、Zr(OH)、Cr(R、Ge(R、Si(R、Sn(R、Ti(R{Rは、アルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらの誘導体を表す}Cr(OR、Ge(OR、Si(OR、Sn(OR、Ti(OR、{Rは、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基またはそれらの誘導体を表す}、Sn(SR、Ge(SR{Rは、アルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらの誘導体を表す}などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。オキシ金属の例としては、VO、MnO、TiOなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Examples of the divalent metal as the metal M 1 include Cu (II), Co (II), Zn (II), Fe (II), Ni (II), Ru (II), and Rh (II). , Pd (II), Pt (II), Mn (II), Mg (II), Ti (II), Be (II), Ca (II), Ba (II), Cd (II), Hg (II) , Pb (II), Sn (II) and the like, but are not limited thereto. Examples of trivalent substituted metal atoms include Al-F, Al-Cl, Al-Br, Al-I, Fe-Cl, Ga-F, Ga-Cl, Ga-I, Ga-Br, In-F. , In-Cl, In-Br , In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Al-C 6 H 5, Al-C 6 H 4 (CH 3), In-C 6 H 5, In-C 6 H 4 (CH 3), In-C 6 H 5, Mn (OH), Mn (OC 6 H 5), Mn [OSi (CH 3) 3], Ru-Cl, etc. is Although it is mentioned, it is not limited to these. Examples of tetravalent substituted metal atoms include CrCl 2 , SiF 2 , SiCl 2 , SiBr 2 , SiI 2 , ZrCl 2 , GeF 2 , GeCl 2 , GeBr 2 , GeI 2 , SnF 2 , SnCl 2 , SnBr 2 , TiF 2 , TiCl 2 , TiBr 2 , Ge (OH) 2 , Mn (OH) 2 , Si (OH) 2 , Sn (OH) 2 , Zr (OH) 2 , Cr (R 1 ) 2 , Ge (R 1 ) 2 , Si (R 1 ) 2 , Sn (R 1 ) 2 , Ti (R 1 ) 2 {R 1 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, or a derivative thereof} Cr (OR 2 ) 2 , Ge (OR 2) 2, Si (OR 2) 2, Sn (OR 2) 2, Ti (OR 2) 2, {R 2 is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a trialkylsilyl group, a dialkyl Alkoxysilyl represents a group or a derivative thereof}, Sn (SR 3) 2 , Ge (SR 3) 2 {R 3 is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or a derivative thereof} to but like these It is not limited. Examples of oxymetals include, but are not limited to, VO, MnO, TiO and the like.

[式(イ)で示されるフタロシアニン系化合物]

Figure 2007070605
[Phthalocyanine compound represented by the formula (I)]

Figure 2007070605

上記式(イ)において、B〜B24は官能基を表す。B〜B24は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボキシル基、チオール基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアラルキルオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基または置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。B〜B24の官能基は同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていても良い。Mは2個の水素原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子またはオキシ金属を表す。 In the above formula (A), B 1 to B 24 represent functional groups. B 1 to B 24 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a hydroxysulfonyl group, a carboxyl group, a thiol group, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted group. An optionally substituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an optionally substituted aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, and substitution An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted, an aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted, and an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted , An optionally substituted arylthio group having 6 to 20 carbon atoms, an optionally substituted aralkylthio group having 7 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted carbon atom 1-20 alkylsulfonyl groups, optionally substituted arylsulfonyl groups having 6-20 carbon atoms, optionally substituted aralkylsulfonyl groups having 7-20 carbon atoms, optionally substituted Good acyl group having 1 to 20 carbon atoms, optionally substituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, optionally substituted aryloxycarbonyl group having 6 to 20 carbon atoms, substitution An aralkyloxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted, and 6 to 20 carbon atoms which may be substituted Arylcarbonyloxy group, optionally substituted aralkylcarbonyloxy group having 8 to 20 carbon atoms, optionally substituted carbon atom 2-20 heterocyclic group, a substituted amino group which may be, optionally substituted aminosulfonyl group or an optionally substituted aminocarbonyl group. The functional groups of B 1 to B 24 may be the same or different, and may be the same or different in the same type, and the functional groups may be linked via a linking group. M 2 represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or an oxy metal.

(末端がアミノ基以外の官能基の場合)
上記式(イ)において、官能基B〜B24のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、iso−プロピルスルホニル基、n−ブチルスルホニル基、iso−ブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、t−ブチルスルホニル基、n−ペンチルスルホニル基、n−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、n−ヘプチルスルホニル基、n−オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていても良い炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、iso−ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、n−ヘプチルカルボニルオキシ基、3−ヘプチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(When the terminal is a functional group other than an amino group)
In the above formula (A), examples of the halogen atom of the functional groups B 1 to B 24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, Examples thereof include linear, branched or cyclic alkyl groups such as t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and 2-ethylhexyl group. It is not limited to. Examples of the optionally substituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, iso-propyloxy group, n-butyloxy group, iso-butyloxy group, sec-butyloxy Group, t-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, etc., linear, branched or cyclic Although an alkoxy group is mentioned, it is not limited to these. Examples of the optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the optionally substituted aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms include phenoxy group and naphthoxy group, but are not limited thereto. Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, benzyl group, phenethyl group, diphenylmethyl group and the like. Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include a benzyloxy group, a phenethyloxy group, a diphenylmethyloxy group and the like, but are not limited thereto. Examples of the optionally substituted alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms include methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, Examples thereof include linear, branched or cyclic alkylthio groups such as t-butylthio group, n-pentylthio group, n-hexylthio group, cyclohexylthio group, n-heptylthio group, n-octylthio group, 2-ethylhexylthio group, It is not limited to these. Examples of the optionally substituted arylthio group having 6 to 20 carbon atoms include a phenylthio group and a naphthylthio group, but are not limited thereto. Examples of the aralkylthio group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a benzylthio group, a phenethylthio group, a diphenylmethylthio group and the like. Examples of the optionally substituted alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms include methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group, iso-propylsulfonyl group, n-butylsulfonyl group, iso-butylsulfonyl. Group, sec-butylsulfonyl group, t-butylsulfonyl group, n-pentylsulfonyl group, n-hexylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, n-heptylsulfonyl group, n-octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, etc. Examples include, but are not limited to, linear, branched, or cyclic alkylsulfonyl groups. Examples of the arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a phenylsulfonyl group and a naphthylsulfonyl group. Examples of the aralkylsulfonyl group which may be substituted include a benzylsulfonyl group, a phenethylsulfonyl group, a diphenylmethylsulfonyl group, and the like, but are not limited thereto. Examples of the optionally substituted acyl group having 1 to 20 carbon atoms include methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, straight chain such as sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, n-hexylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, n-heptylcarbonyl group, n-octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, Examples include, but are not limited to, branched or cyclic alkylcarbonyl groups, arylcarbonyl groups such as benzylcarbonyl groups and phenylcarbonyl groups, and aralkylcarbonyl groups such as benzoyl groups. Examples of the optionally substituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, iso-propyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, iso -Butyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, t-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxy Examples thereof include, but are not limited to, a carbonyl group and a 2-ethylhexyloxycarbonyl group. Examples of the aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, phenoxycarbonyl and naphthylcarbonyl groups. Examples of the aralkyloxycarbonyl group having 8 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, benzyloxycarbonyl group, phenethyloxycarbonyl group, diphenylmethyloxycarbonyl group and the like. . Examples of the optionally substituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms include acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, iso-propylcarbonyloxy group, and n-butylcarbonyloxy group. , Iso-butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group, n-pentylcarbonyloxy group, n-hexylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, n-heptylcarbonyloxy group, 3- A heptyl carbonyloxy group, n-octyl carbonyloxy group, etc. are mentioned, However, It is not limited to these. Examples of the arylcarbonyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a benzoyloxy group. Examples of the aralkylcarbonyloxy group having 8 to 20 carbon atoms which may be substituted include, but are not limited to, a benzylcarbonyloxy group. Examples of the optionally substituted heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms include, but are not limited to, a pyrrole group, an imidazole group, a piperidine group, and a morpholine group.

上記式(イ)において、官能基B〜B24のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基または複素環基が置換されている場合、これら官能基B〜B24に存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。 In the above formula (I), the alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group, aralkyloxy group, alkylthio group, arylthio group, aralkylthio group, alkylsulfonyl group, aryl of the functional groups B 1 to B 24 When a sulfonyl group, aralkylsulfonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group, aralkylcarbonyloxy group or heterocyclic group is substituted, these as substituents present on the functional groups B 1 .about.B 24, for example, a halogen atom, an acyl group, an alkyl group, a phenyl group, an alkoxy group, a halogenated alkyl group, halogenated alkoxy group, a nitro group, an amino group, an alkylamino group Alkylcarbonylamino group, arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, alkoxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxysulfonyl group, alkylthio group, carbamoyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, heterocyclic group, etc. However, it is not limited to these. A plurality of these substituents may be present. When a plurality of substituents are present, they may be the same or different, and even in the same case, they may be the same or different. Moreover, substituents may be connected through a linking group.

(末端がアミノ基である官能基の場合)
上記式(イ)において、官能基B〜B24の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子;メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;アセチル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、3−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基;ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基;ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらの置換基は0個、1個または2個存在していてもよく、2個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が2個の場合、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
(When the terminal is an amino group)
In the above formula (I), the substituents on the optionally substituted amino group, the optionally substituted aminosulfonyl group, and the optionally substituted aminocarbonyl group of the functional groups B 1 to B 24 are as follows: Hydrogen atom: linear, branched or cyclic such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group and cyclohexyl group Alkyl group; aryl group such as phenyl group and naphthyl group; aralkyl group such as benzyl group and phenethyl group; acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso- Butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, n-hexyl A linear, branched or cyclic alkylcarbonyl group such as a sulfonyl group, a cyclohexylcarbonyl group, an n-heptylcarbonyl group, a 3-heptylcarbonyl group or an n-octylcarbonyl group; an arylcarbonyl group such as a benzoyl group or a naphthylcarbonyl group; Examples thereof include, but are not limited to, an aralkylcarbonyl group such as a carbonyl group, and these substituents may be further substituted with a substituent. These substituents may be present in the number of 0, 1 or 2, and when 2 are present, they may be the same or different from each other, and even in the same type, they may be the same or different. Also good. Moreover, when there are two substituents, the substituents may be connected via a linking group.

上記置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。   The above-mentioned amino group which may be substituted, aminosulfonyl group which may be substituted, alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkylcarbonyl group, arylcarbonyl which is a substituent to the optionally substituted aminocarbonyl group Group, aralkylcarbonyl group and the like, which may be further present as a substituent, for example, halogen atom, acyl group, alkyl group, phenyl group, alkoxy group, halogenated alkyl group, halogenated alkoxy group, nitro group, amino group, Alkylamino group, alkylcarbonylamino group, arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, alkoxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, alkoxysulfonyl group, alkylthio group, carbamoyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, heterocyclic ring Base Including but not limited to. A plurality of these substituents may be present. When a plurality of substituents are present, they may be the same or different, and even in the same case, they may be the same or different. Moreover, substituents may be connected through a linking group.

また、金属Mとしての2価の金属の例としては、Cu(II)、Co(II)、Zn(II)、Fe(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、Cd(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。3価の置換金属原子の例としては、Al−F、Al−Cl、Al−Br、Al−I、Fe−Cl、Ga−F、Ga−Cl、Ga−I、Ga−Br、In−F、In−Cl、In−Br、In−I、Tl−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Al−C、Al−C(CH)、In−C、In−C(CH)、In−C、Mn(OH)、Mn(OC)、Mn〔OSi(CH〕、Ru−Cl等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。4価の置換金属原子の例としては、CrCl、SiF、SiCl、SiBr、SiI、ZrCl、GeF、GeCl、GeBr、GeI、SnF、SnCl、SnBr、TiF、TiCl、TiBr、Ge(OH)、Mn(OH)、Si(OH)、Sn(OH)、Zr(OH)、Cr(R1)、Ge(R、Si(R、Sn(R、Ti(R{Rは、アルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらの誘導体を表す}、Cr(OR、Ge(OR、Si(OR、Sn(OR、Ti(OR{Rは、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基またはそれらの誘導体を表す}、Sn(SR、Ge(SR{Rは、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、またはその誘導体を表す}などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。オキシ金属の例としては、VO、MnO、TiOなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Examples of the divalent metal as the metal M 2 include Cu (II), Co (II), Zn (II), Fe (II), Ni (II), Ru (II), and Rh (II). , Pd (II), Pt (II), Mn (II), Mg (II), Ti (II), Be (II), Ca (II), Ba (II), Cd (II), Hg (II) , Pb (II), Sn (II) and the like, but are not limited thereto. Examples of trivalent substituted metal atoms include Al-F, Al-Cl, Al-Br, Al-I, Fe-Cl, Ga-F, Ga-Cl, Ga-I, Ga-Br, In-F. , In-Cl, In-Br , In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Al-C 6 H 5, Al-C 6 H 4 (CH 3), In-C 6 H 5, In-C 6 H 4 (CH 3), In-C 6 H 5, Mn (OH), Mn (OC 6 H 5), Mn [OSi (CH 3) 3], Ru-Cl, etc. is Although it is mentioned, it is not limited to these. Examples of tetravalent substituted metal atoms include CrCl 2 , SiF 2 , SiCl 2 , SiBr 2 , SiI 2 , ZrCl 2 , GeF 2 , GeCl 2 , GeBr 2 , GeI 2 , SnF 2 , SnCl 2 , SnBr 2 , TiF 2, TiCl 2, TiBr 2 , Ge (OH) 2, Mn (OH) 2, Si (OH) 2, Sn (OH) 2, Zr (OH) 2, Cr (R1) 2, Ge (R 1) 2 , Si (R 1 ) 2 , Sn (R 1 ) 2 , Ti (R 1 ) 2 {R 1 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, or a derivative thereof}, Cr (OR 2 ) 2 , Ge (OR 2 ) 2 , Si (OR 2 ) 2 , Sn (OR 2 ) 2 , Ti (OR 2 ) 2 {R 2 is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a trialkylsilyl group, a dialkyl group. A alkoxysilyl group or a derivative thereof}, Sn (SR 3 ) 2 , Ge (SR 3 ) 2 {R 3 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, or a derivative thereof}, etc. It is not limited to. Examples of oxymetals include, but are not limited to, VO, MnO, TiO and the like.

具体的には、商品名イーエクスカラーIR−10A、イーエクスカラーIR−12、イーエクスカラーIR−14やTX−EX−906B、TX−EX−910B、TX−EX−902K(いずれも日本触媒製)が挙げられる。   Specifically, the trade names EEX COLOR IR-10A, EEX COLOR IR-12, EEX COLOR IR-14, TX-EX-906B, TX-EX-910B, TX-EX-902K (all of which are Nippon Shokubai Co., Ltd.) Manufactured).

また、本発明の近赤外線吸収組成物には近赤外線吸収色素としてシアニン系色素を併用してもよい。シアニン系色素は近赤外線吸収能に優れるものであれば特に制限されないが、インドリウム系カチオンまたはベンゾチアゾリウム系カチオンと、対アニオンからなる塩が好ましく使用できる。インドリウム系カチオン、ベンゾチアゾリウム系カチオンとしては、上記式(a)〜(i)で示されるカチオンが好ましく使用できるが、これらに限定されるものではない。   Further, the near-infrared absorbing composition of the present invention may be used in combination with a cyanine dye as a near-infrared absorbing dye. The cyanine dye is not particularly limited as long as it has an excellent near-infrared absorbing ability, but a salt composed of an indolium cation or a benzothiazolium cation and a counter anion can be preferably used. As the indolium cation and the benzothiazolium cation, cations represented by the above formulas (a) to (i) can be preferably used, but are not limited thereto.

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

Figure 2007070605
Figure 2007070605

インドリウム系カチオンまたはベンゾチアゾリウム系カチオンの対アニオンは、特に制限されず、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルフィン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、一水素二リン酸イオン、二水素一リン酸イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、硫酸イオン、バナジン酸イオン、ホウ酸イオンなどが使用できる。本発明のジイモニウム色素と同様に、分子量が250以上のアニオンであってもよい。   The counter anion of the indolium cation or benzothiazolium cation is not particularly limited, and chloride ion, bromide ion, iodide ion, perchlorate ion, nitrate ion, benzenesulfonate ion, p-toluenesulfonic acid Ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, propyl sulfate ion, tetrafluoroborate ion, tetraphenylborate ion, hexafluorophosphate ion, benzenesulfinate ion, acetate ion, trifluoroacetate ion, propionate ion, benzoic acid Acid ion, oxalate ion, succinate ion, malonate ion, oleate ion, stearate ion, citrate ion, monohydrogen diphosphate ion, dihydrogen monophosphate ion, pentachlorostannate ion, chlorosulfonic acid Ion, fluorosulfo Acid ion, trifluoromethanesulfonate ion, hexafluoroarsenate ion, hexafluoroantimonate ion, molybdate ion, tungstate ion, titanate ion, zirconate ion, sulfate ion, vanadate ion, borate ion, etc. it can. Similar to the diimonium dye of the present invention, an anion having a molecular weight of 250 or more may be used.

より具体的には、上記一般式(a)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、アメリカンダイソース社製のADS812MI(対アニオンはヨウ化物イオン);上記一般式(b)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、FEWケミカル社製のS0712(対アニオンはヘキサフルオロリン酸イオン);上記一般式(c)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、FEWケミカル社製のS0726(対アニオンは塩化物イオン);上記一般式(d)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、アメリカンダイソース社製のADS780MT(対アニオンはp−トルエンスルホン酸イオン);上記一般式(e)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、FEWケミカル社製のS0006(対アニオンは過塩素酸イオン);上記一般式(f)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、FEWケミカル社製のS0081(対アニオンは過塩素酸イオン);上記一般式(g)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、FEWケミカル社製のS0773(対アニオンはテトラフルオロホウ酸イオン);上記一般式(h)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、FEWケミカル社製の商品名S0772(対アニオンはテトラフルオロホウ酸イオン);上記一般式(i)で表されるカチオンを含むシアニン系色素として、FEWケミカル社製の商品名S0734(対アニオンはテトラフルオロホウ酸イオン)等の市販されているものを用いることができる。シアニン系色素を使用することにより可視領域の透明性が高い近赤外線吸収組成物が得られる。   More specifically, as a cyanine dye containing a cation represented by the above general formula (a), ADS812MI (counter anion is an iodide ion) manufactured by American Dye Source Co .; represented by the above general formula (b) S0712 manufactured by FEW Chemical Co. (counter anion is hexafluorophosphate ion) as a cyanine dye containing a cation; S0726 manufactured by FEW Chemical Co. as a cyanine dye containing a cation represented by the general formula (c) Counter anion is chloride ion); As cyanine-based dye containing a cation represented by the above general formula (d), ADS780MT manufactured by American Dice Source (counter anion is p-toluenesulfonic acid ion); As a cyanine dye containing a cation represented by the following formula: S0006 (counter anion is FEW Chemical) Chlorate ion); as a cyanine dye containing a cation represented by the above general formula (f), S0081 (counter anion is perchlorate ion) manufactured by FEW Chemical Co .; cation represented by the above general formula (g) As a cyanine dye containing F0 Chemical Co., S0773 (counter anion is tetrafluoroborate ion); As a cyanine dye containing a cation represented by the general formula (h), trade name S0772 manufactured by FEW Chemical Co., Ltd. (Counter anion is tetrafluoroborate ion); as a cyanine dye containing a cation represented by the above general formula (i), commercially available product name S0734 (counter anion is tetrafluoroborate ion) manufactured by FEW Chemical Co., Ltd. Can be used. By using a cyanine dye, a near-infrared absorbing composition having high transparency in the visible region can be obtained.

本発明のジイモニウム色素の配合量、または本発明のジイモニウム色素とその他の近赤外線吸収色素とを合計した配合量は、色素の種類と用途によって適宜選択することが出来る。本発明の近赤外線吸収組成物を厚さ10μm程度の薄膜として使用する場合、配合量は、樹脂の固形分に対して、好ましくは0.01〜10重量%であり、より好ましくは0.1〜5重量%である。配合量が0.01重量%未満であると、十分な近赤外線吸収能が達成できなくなる可能性がある。逆に10重量%を超えると、添加に見合う効果が得られず経済的でない上、逆に可視領域での透明性が損なわれる可能性がある。   The blending amount of the diimonium dye of the present invention or the total blending amount of the diimonium dye of the present invention and other near-infrared absorbing dyes can be appropriately selected depending on the type and use of the dye. When the near-infrared absorbing composition of the present invention is used as a thin film having a thickness of about 10 μm, the amount is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1%, based on the solid content of the resin. ~ 5% by weight. If the blending amount is less than 0.01% by weight, there is a possibility that sufficient near infrared absorption ability cannot be achieved. Conversely, if it exceeds 10% by weight, an effect commensurate with the addition cannot be obtained, and it is not economical, and conversely, transparency in the visible region may be impaired.

本発明の近赤外線吸収組成物は可視領域の透明性、近赤外線吸収能の持続性、良好な加工性を特徴とするが、必要に応じて可視光を吸収する色素を添加してもよい。可視光を吸収する色素としては、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ポルフィリン系、テトラアザポルフィリン系、金属ジチオール錯体系、スクアリリウム系、アズレニウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯体系、ビスアゾ系、アントラキノン系、ペリレン系、インダンスロン系、ニトロソ系、インジコ系、アゾメチン系、キサンテン系、オキサノール系、インドアニリン系、キノリン系、ジケトピロロピロール系等、従来公知の色素を広く使用することができる。   The near-infrared absorbing composition of the present invention is characterized by transparency in the visible region, sustainability of near-infrared absorbing ability, and good processability, and a dye that absorbs visible light may be added as necessary. Examples of dyes that absorb visible light include cyanine, phthalocyanine, naphthalocyanine, porphyrin, tetraazaporphyrin, metal dithiol complex, squarylium, azurenium, diphenylmethane, triphenylmethane, oxazine, and azine. , Thiopyrylium, viologen, azo, azo metal complex, bisazo, anthraquinone, perylene, indanthrone, nitroso, indico, azomethine, xanthene, oxanol, indoaniline, quinoline A conventionally well-known pigment | dye, such as a system and a diketopyrrolopyrrole system, can be used widely.

本発明の近赤外線吸収組成物をPDP用の光学フィルターとして使用する場合は、不要なネオン発光を吸収するために最大吸収波長が550〜650nmの可視吸収色素を併用するのが好ましい。ネオン発光を吸収する色素の種類は特に限定されないが、シアニン色素、テトラアザポルフィリン色素が使用できる。具体的にはアデカアークルズTY−102(旭電化工業社製)、アデカアークルズTY−14(旭電化工業社製)、アデカアークルズTY−15(旭電化工業社製)、TAP−2(山田化学工業製)、TAP−18(山田化学工業製)、TAP−45(山田化学工業製)、商品名NK−5451(林原生物化学研究所製)、NK−5532(林原生物化学研究所製)、NK−5450(林原生物化学研究所製)等が挙げられる。ネオン発光を吸収するための色素の添加量は、色素の種類によって異なるが、最大吸収波長での透過率が20〜80%程度になるように添加するのが好ましい。   When the near-infrared absorbing composition of the present invention is used as an optical filter for PDP, it is preferable to use a visible absorption dye having a maximum absorption wavelength of 550 to 650 nm in order to absorb unnecessary neon light emission. The type of the dye that absorbs neon light emission is not particularly limited, and a cyanine dye and a tetraazaporphyrin dye can be used. Specifically, Adeka Arcles TY-102 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Adeka Arcles TY-14 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Adeka Arcles TY-15 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), TAP-2 ( Yamada Chemical Industries), TAP-18 (Yamada Chemical Industries), TAP-45 (Yamada Chemical Industries), trade names NK-5451 (Hayashibara Biochemistry Laboratories), NK-5532 (Hayashibara Biochemistry Laboratories) ), NK-5450 (manufactured by Hayashibara Biochemical Research Institute) and the like. The addition amount of the dye for absorbing neon emission varies depending on the kind of the dye, but it is preferable to add so that the transmittance at the maximum absorption wavelength is about 20 to 80%.

また、近赤外線吸収組成物からなる薄膜の色調を調整するために、調色用の可視光吸収色素を添加してもよい。調色用の色素の種類は特に限定されないが、1:2クロム錯体、1:2コバルト錯体、銅フタロシアニン、アントラキノン、ジケトピロロピロール等が使用できる。具体的には、オラゾールブルーGN(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、オラゾールブルーBL(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、オラゾールレッド2B(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、オラゾールレッドG(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、オラゾールブラックCN(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、オラゾールイエロー2GLN(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、オラゾールイエロー2RLN(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、マイクロリスDPPレッドB−K(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、等が挙げられる。   Moreover, in order to adjust the color tone of the thin film which consists of a near-infrared absorption composition, you may add the visible light absorption pigment | dye for toning. There are no particular limitations on the type of coloring pigment, but 1: 2 chromium complex, 1: 2 cobalt complex, copper phthalocyanine, anthraquinone, diketopyrrolopyrrole, and the like can be used. Specifically, Orazol Blue GN (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Orazol Blue BL (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Orazol Red 2B (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Orazol Red G (Ciba)・ Specialty Chemicals), Orazole Black CN (Ciba Specialty Chemicals), Orasol Yellow 2GLN (Ciba Specialty Chemicals), Orazole Yellow 2RLN (Ciba Specialty Chemicals), Microlith DPP Red BK (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and the like.

更に、本発明の近赤外線吸収組成物は、必要に応じて、その性能を失わない範囲で溶剤や添加剤、硬化剤を1種または2種以上含んでいてもよい。   Furthermore, the near-infrared absorption composition of this invention may contain the 1 type (s) or 2 or more types of the solvent, the additive, and the hardening | curing agent in the range which does not lose the performance as needed.

本発明の近赤外線吸収組成物は、近赤外線吸収色素が樹脂中に固体(例えば、粉末)の形態で混合されたものであってもよいが、フィルム上にコーティングして使用する場合は溶剤中に、溶解、分散または懸濁した形態であることが好ましい。   The near-infrared absorbing composition of the present invention may be a composition in which a near-infrared absorbing dye is mixed in the form of a solid (for example, a powder) in a resin, but in a solvent when used by coating on a film. Further, it is preferably in a dissolved, dispersed or suspended form.

この際使用できる溶剤としては、例えばシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族系;トルエン、キシレンなどの芳香族系;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系;アセトニトリル等のニトリル系;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系;テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル等のエーテル系;ブチルセロソルブ、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系等が使用できる。これらを単独で使用しても混合して使用してもよい。色素の耐久性を向上させるためにはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の沸点が100℃以下の溶媒が好適である。また、コーティング時の塗膜外観を向上させるためにはトルエン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル等の沸点が100〜150℃の溶媒が好適である。塗膜の耐クラック性を向上させるにはブチルセロソルブ、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の沸点が150〜200℃の溶媒が好適である。   Examples of solvents that can be used in this case include aliphatic systems such as cyclohexane and methylcyclohexane; aromatic systems such as toluene and xylene; ketone systems such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; ester systems such as ethyl acetate and butyl acetate; Nitriles such as acetonitrile; alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol; ethers such as tetrahydrofuran and dibutyl ether; glycol ethers such as butyl cellosolve, propylene glycol n-propyl ether, propylene glycol n-butyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate Systems; Amides such as formamide and N, N-dimethylformamide; Halogens such as methylene chloride and chloroform can be used. These may be used alone or in combination. In order to improve the durability of the dye, a solvent having a boiling point of 100 ° C. or less, such as methyl ethyl ketone and ethyl acetate, is suitable. Moreover, in order to improve the coating film appearance at the time of coating, a solvent having a boiling point of 100 to 150 ° C. such as toluene, methyl isobutyl ketone, and butyl acetate is suitable. In order to improve the crack resistance of the coating film, a solvent having a boiling point of 150 to 200 ° C. such as butyl cellosolve, propylene glycol n-propyl ether, propylene glycol n-butyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate is preferable.

コーティング剤の粘度は塗工機の種類によって適宜選択されるが、マイクログラビアコーター等のような小径グラビアキスリバース方式で塗工する場合は1〜1000mPa・s、ダイコーター等押し出し方式で塗工する場合は100〜10000mPa・sが一般的である。コーティング剤の固形分は塗料粘度に合わせて調整される。   The viscosity of the coating agent is appropriately selected depending on the type of coating machine, but when coating is performed by a small-diameter gravure kiss reverse method such as a micro gravure coater, the coating is performed by an extrusion method such as a die coater. In this case, 100 to 10,000 mPa · s is common. The solid content of the coating agent is adjusted according to the viscosity of the paint.

また、添加剤としては、フィルムやコーティング膜等を形成する樹脂組成物に使用される従来公知の添加剤を用いることができ、分散剤、レベリング剤、消泡剤、粘性調整剤、つや消し剤、粘着付与剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収材、光安定化剤、消光剤、硬化剤、アンチブロッキング剤等が挙げられる。なお、硬化剤としてはイソシアネート化合物、チオール化合物、エポキシ化合物、アミン系化合物、イミン系化合物、オキサゾリン化合物、シランカップリング剤、UV硬化剤等を使用することができる。   Moreover, as an additive, the conventionally well-known additive used for the resin composition which forms a film, a coating film, etc. can be used, a dispersing agent, a leveling agent, an antifoamer, a viscosity modifier, a matting agent, Examples include tackifiers, antistatic agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, quenchers, curing agents, and antiblocking agents. In addition, an isocyanate compound, a thiol compound, an epoxy compound, an amine compound, an imine compound, an oxazoline compound, a silane coupling agent, a UV curing agent, and the like can be used as the curing agent.

本発明の近赤外線吸収組成物は、光学用、農業用、建築用または車両用の近赤外線吸収材料、感光紙などの画像記録材料、光ディスク用などの情報記録用材料、色素増感型太陽電池などの太陽電池、半導体レーザー光などを光源とする感光材料眼精疲労防止材に使用されうる。本発明の近赤外線吸収組成物は、特にフィルムやシート状での使用が好ましい。   The near-infrared absorbing composition of the present invention includes optical, agricultural, architectural or vehicle near-infrared absorbing materials, image recording materials such as photosensitive paper, information recording materials such as optical disks, and dye-sensitized solar cells. It can be used as a light-sensitive material for preventing eye strain using a solar cell, a semiconductor laser beam or the like as a light source. The near infrared ray absorbing composition of the present invention is particularly preferably used in the form of a film or a sheet.

4.近赤外線吸収材
本発明の第二は、本発明の近赤外線吸収材料を含む近赤外線吸収材である。本発明の近赤外線吸収材は、前記近赤外線吸収材料をフィルム状に成形したものであってもよいし、透明基材上に前記近赤外線吸収材料を含む塗膜を積層したものであってもよい。
4). Near-infrared absorbing material The second of the present invention is a near-infrared absorbing material containing the near-infrared absorbing material of the present invention. The near-infrared absorbing material of the present invention may be formed by forming the near-infrared absorbing material into a film shape, or may be a laminate of a coating film containing the near-infrared absorbing material on a transparent substrate. Good.

透明基材としては、一般に光学材に使用し得るものであって、実質的に透明であれば特に制限はない。具体的な例としてはガラス;シクロポリオレフィン、非晶質ポリオレフィン等のオレフィン系ポリマー;ポリメチルメタクリレート等のメタクリル系ポリマー;酢酸ビニルやハロゲン化ビニル等のビニル系ポリマー;PET等のポリエステル;ポリカーボネート、ブチラール樹脂等のポリビニルアセタール;ポリアリールエーテル系樹脂等が挙げられる。更に、該透明基材には、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングが施されてもよい。また、上記透明基材を構成する基材樹脂には、公知の添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等の配合が可能である。上記透明基材は、公知の射出成形、Tダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィルムまたはシート状に成形される。かかる透明基材を構成する基材は、未延伸でも延伸されていてもよく、また他の基材と積層されていてもよい。   The transparent substrate is generally usable for optical materials and is not particularly limited as long as it is substantially transparent. Specific examples include glass; olefin polymers such as cyclopolyolefin and amorphous polyolefin; methacrylic polymers such as polymethyl methacrylate; vinyl polymers such as vinyl acetate and vinyl halides; polyesters such as PET; polycarbonate and butyral. Examples thereof include polyvinyl acetals such as resins; polyaryl ether resins. Further, the transparent substrate is subjected to surface treatment by a conventionally known method such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, roughening treatment, chemical treatment, and coating such as an anchor coating agent and a primer. May be applied. The base resin constituting the transparent base material can be blended with known additives, heat aging inhibitors, lubricants, antistatic agents, and the like. The transparent substrate is formed into a film or a sheet using a known method such as injection molding, T-die molding, calendar molding, compression molding, or a method of casting by melting in an organic solvent. The base material constituting the transparent base material may be unstretched or stretched, and may be laminated with another base material.

コーティング法で近赤外線吸収フィルムを得る場合の透明基材としてはPETフィルムが好ましく、特に易接着処理をしたPETフィルムが好適である。具体的にはコスモシャインA4300(東洋紡績製)、ルミラーU34(東レ製)、メリネックス705(帝人デュポン製)等が挙げられる。また、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム、反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム、衝撃吸収フィルム、電磁波シールドフィルム、紫外線吸収フィルムなどの機能性フィルムも透明基材として使用できる。これにより、簡便に薄型ディスプレー用や光半導体素子用の光学フィルターを作製することができる。透明基材は、フィルムであることが好ましい。   As a transparent substrate for obtaining a near infrared ray absorbing film by a coating method, a PET film is preferable, and a PET film subjected to an easy adhesion treatment is particularly preferable. Specifically, Cosmo Shine A4300 (manufactured by Toyobo), Lumirror U34 (manufactured by Toray), Melinex 705 (manufactured by Teijin DuPont) and the like can be mentioned. Functional films such as a TAC (triacetylcellulose) film, an antireflection film, an antiglare film, an impact absorbing film, an electromagnetic wave shielding film, and an ultraviolet absorbing film can also be used as the transparent substrate. Thereby, the optical filter for thin displays and optical semiconductor elements can be produced simply. The transparent substrate is preferably a film.

これらのうち、ガラス、PETフィルム、易接着性PETフィルム、TACフィルム、反射防止フィルム及び電磁波シールドフィルムが透明基材として好ましく使用される。透明基材として、ガラス等の無機基材を使用する場合には、アルカリ成分が少ないものが近赤外線吸収色素の耐久性の観点から好ましい。   Of these, glass, PET film, easy-adhesive PET film, TAC film, antireflection film and electromagnetic wave shielding film are preferably used as the transparent substrate. When an inorganic base material such as glass is used as the transparent base material, a material having a small alkali component is preferable from the viewpoint of durability of the near-infrared absorbing dye.

本発明の近赤外線吸収材の厚みは一般に0.1μmから10mm程度であるが、目的に応じて適宜決定される。また近赤外線吸収材に含まれる近赤外線吸収色素の含有量も目的に応じて、適宜決定される。   The thickness of the near-infrared absorbing material of the present invention is generally about 0.1 μm to 10 mm, but is appropriately determined according to the purpose. Further, the content of the near-infrared absorbing dye contained in the near-infrared absorbing material is also appropriately determined according to the purpose.

本発明の近赤外線吸収材を作製する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば次の方法が利用できる。例えば、(I)樹脂に本発明の近赤外線吸収材料を混練し、加熱成形して樹脂板又はフィルムを作製する方法;(II)本発明の近赤外線吸収材料とモノマー又はオリゴマーを重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板又はフィルムを作製する方法;(III)本発明の近赤外線吸収材料を上記の透明基材上にコーティングする方法等である。   Although it does not specifically limit as a method of producing the near-infrared absorber of this invention, For example, the following method can be utilized. For example, (I) a method of preparing a resin plate or film by kneading the near-infrared absorbing material of the present invention into a resin and thermoforming; (II) presence of a polymerization catalyst for the near-infrared absorbing material of the present invention and a monomer or oligomer A method of producing a resin plate or film by cast polymerization below; (III) a method of coating the near-infrared absorbing material of the present invention on the transparent substrate, and the like.

(I)の作製方法としては、用いる樹脂によって加工温度、フィルム化(樹脂板化)条件等が多少異なるが、通常、本発明の近赤外線吸収材料を樹脂の粉体又はペレットに添加し、150〜350℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、押し出し機によりフィルム化(樹脂板化)する方法等が挙げられる。   As a production method of (I), the processing temperature, filming (resin plate) conditions and the like are slightly different depending on the resin used. Usually, the near-infrared absorbing material of the present invention is added to resin powder or pellets. Examples include a method of heating and dissolving at ˜350 ° C. and then forming to form a resin plate, and a method of forming a film (resin plate) with an extruder.

(II)の作製方法としては、本発明の近赤外線吸収材料とモノマー又はオリゴマーを重合触媒の存在下にキャスト重合し、それらの混合物を型内に注入し、反応させて硬化させるか、又は金型に流し込んで型内で硬い製品となるまで固化させて成形する。多くの樹脂がこの過程で成形可能であり、その様な樹脂の具体例としてアクリル樹脂、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂、等が挙げられる。その中でも、硬度、耐熱性、耐薬品性に優れたアクリルシートが得られるメタクリル酸メチルの塊状重合によるキャスティング法が好ましい。   As a preparation method of (II), the near-infrared absorbing material of the present invention and a monomer or oligomer are cast-polymerized in the presence of a polymerization catalyst, and a mixture thereof is injected into a mold and reacted and cured, or gold It is poured into a mold and solidified until it becomes a hard product in the mold. Many resins can be molded in this process, and specific examples of such resins include acrylic resins, diethylene glycol bis (allyl carbonate) resins, epoxy resins, phenol-formaldehyde resins, polystyrene resins, silicon resins, and the like. Among them, the casting method by bulk polymerization of methyl methacrylate, which can obtain an acrylic sheet excellent in hardness, heat resistance, and chemical resistance, is preferable.

重合触媒としては公知のラジカル熱重合開始剤が利用でき、例えばベンゾイルパーオキシド、p−クロロベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。その使用量は混合物の総量に対して、一般的に0.01〜5重量%である。熱重合における加熱温度は、一般的に40〜200℃であり、重合時間は一般的に30分〜8時間程度である。また熱重合以外に、光重合開始剤や増感剤を添加して光重合する方法も利用できる。   As the polymerization catalyst, a known radical thermal polymerization initiator can be used, and examples thereof include peroxides such as benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide and diisopropyl peroxycarbonate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile. . The amount used is generally from 0.01 to 5% by weight, based on the total amount of the mixture. The heating temperature in thermal polymerization is generally 40 to 200 ° C., and the polymerization time is generally about 30 minutes to 8 hours. In addition to thermal polymerization, a method of photopolymerization by adding a photopolymerization initiator or a sensitizer can also be used.

(III)の方法としては、本発明の近赤外吸収材料を透明基材上にコーティングする方法、本発明の近赤外線吸収材料を微粒子に固定化し、該微粒子を分散させた塗料を透明基材上にコーティングする方法等がある。   The method (III) includes a method of coating the near-infrared absorbing material of the present invention on a transparent substrate, and a paint in which the near-infrared absorbing material of the present invention is fixed to fine particles and the fine particles are dispersed is a transparent substrate. There is a method of coating on top.

基材に近赤外線吸収材料を塗布する際には公知の塗工機が使用できる。例えばコンマコーター等のナイフコーター、スロットダイコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、マイクログラビアコーター等のキスコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター等のロールコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターが挙げられる。塗布前にコロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の方法で基材の表面処理を行ってもよい。乾燥・硬化方法としては、熱風、遠赤外線、UV硬化等公知の方法が使用できる。乾燥・硬化後は公知の保護フィルムとともに巻き取ってもよい。   A known coating machine can be used when applying the near-infrared absorbing material to the substrate. Examples thereof include knife coaters such as comma coaters, fountain coaters such as slot die coaters and lip coaters, kiss coaters such as micro gravure coaters, roll coaters such as gravure coaters and reverse roll coaters, flow coaters, spray coaters and bar coaters. Prior to coating, the substrate may be surface treated by a known method such as corona discharge treatment or plasma treatment. As a drying / curing method, a known method such as hot air, far-infrared ray or UV curing can be used. You may wind up with a well-known protective film after drying and hardening.

乾燥方法は特に限定されないが、熱風乾燥や遠赤外線乾燥を用いることができる。乾燥温度は乾燥ラインの長さ、ライン速度、塗布量、残存溶剤量、基材の種類等を考慮して決めればよい。基材がPETフィルムであれば、一般的な乾燥温度は50〜150℃である。1ラインに複数の乾燥機がある場合は、それぞれの乾燥機を異なる温度、風速に設定してもよい。塗工外観の良好な塗膜を得るためには、入り口側の乾燥条件をマイルドにするのが好ましい。   The drying method is not particularly limited, and hot air drying or far infrared drying can be used. The drying temperature may be determined in consideration of the length of the drying line, the line speed, the coating amount, the residual solvent amount, the type of substrate, and the like. If the substrate is a PET film, the general drying temperature is 50 to 150 ° C. When there are a plurality of dryers in one line, each dryer may be set to a different temperature and wind speed. In order to obtain a coating film having a good coating appearance, it is preferable that the drying condition on the inlet side is mild.

本発明の近赤外線吸収材料は、可視領域の透明性及び近赤外線の吸収能が高い優れた光学フィルターの構成材料となりうる。本発明の近赤外線吸収材料は、従来の近赤外線吸収材料と比べて耐久性、特に耐熱性と耐湿熱性が高いため、長期間の保管や使用でも外観と近赤外線吸収能が維持される。さらに、本発明の近赤外線吸収材料は、シートやフィルム状にするのが容易なため、薄型ディスプレー用や光半導体素子用に有効である。そのほかに、本発明の近赤外線吸収材料は、赤外線をカットする必要があるフィルターやフィルム、例えば農業用フィルム、断熱フィルム、サングラス、光記録材料等にも使用することができる。   The near-infrared absorbing material of the present invention can be a constituent material of an excellent optical filter having high transparency in the visible region and high near-infrared absorbing ability. Since the near-infrared absorbing material of the present invention has higher durability, particularly heat resistance and heat-and-moisture resistance than conventional near-infrared absorbing materials, the appearance and near-infrared absorbing ability are maintained even during long-term storage and use. Furthermore, since the near-infrared absorbing material of the present invention can be easily formed into a sheet or film, it is effective for thin displays and optical semiconductor elements. In addition, the near-infrared absorbing material of the present invention can also be used for filters and films that need to cut infrared rays, such as agricultural films, heat insulating films, sunglasses, and optical recording materials.

5.光学フィルター
本発明の近赤外線吸収材料は光学フィルターに好適である。したがって、本発明の第三は、本発明の近赤外線吸収材を用いてなる、光半導体素子用または薄型ディスプレー用光学フィルターである。このような光学フィルターは、可視領域の全光線透過率が40%以上、好ましくは50%以上、さらに好ましくは60%以上であり、波長800〜1100nmの近赤外線の透過率が30%以下、好ましくは15%以下、さらに好ましくは5%以下である。
5. Optical filter The near-infrared absorbing material of the present invention is suitable for an optical filter. Accordingly, a third aspect of the present invention is an optical filter for an optical semiconductor element or a thin display using the near-infrared absorbing material of the present invention. Such an optical filter has a total light transmittance in the visible region of 40% or more, preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and a near-infrared transmittance of a wavelength of 800 to 1100 nm is preferably 30% or less. Is 15% or less, more preferably 5% or less.

本発明の光学フィルターには、上記の近赤外線吸収材料からなる近赤外線吸収層のほかに、電磁波遮蔽層、反射防止層、ぎらつき防止(アンチグレア)層、傷付き防止層、色調整層、ガラス等の支持体などが設けられていてもよい。   The optical filter of the present invention includes an electromagnetic wave shielding layer, an antireflection layer, a glare prevention (antiglare) layer, a scratch prevention layer, a color adjustment layer, glass, in addition to the near infrared absorption layer comprising the above near infrared absorption material. A support such as the above may be provided.

光学フィルターの各層の構成は任意に選択すればよく、好ましくは反射防止層とぎらつき防止層のうち少なくともどちらか一層と、近赤外線吸収層の少なくとも2層を組み合わせた光学フィルターであり、より好ましくは更に電磁波遮蔽層を組み合わせた少なくとも3層を有する光学フィルターである。   The configuration of each layer of the optical filter may be arbitrarily selected, and is preferably an optical filter in which at least one of an antireflection layer and an antiglare layer and at least two layers of a near infrared absorption layer are combined, and more preferably Is an optical filter having at least three layers combined with an electromagnetic wave shielding layer.

反射防止層、またはぎらつき防止層が人側の最表層とされるのが好ましい。近赤外線吸収層と電磁波遮蔽層相互間の積層順序は任意である。また、3層の間には傷付き防止層、色調整層、衝撃吸収層、支持体、透明基材等の他の層が挿入されていてもよい。   The antireflection layer or the glare prevention layer is preferably the outermost layer on the human side. The stacking order between the near infrared absorbing layer and the electromagnetic wave shielding layer is arbitrary. Moreover, other layers, such as a damage prevention layer, a color adjustment layer, a shock absorption layer, a support body, and a transparent base material, may be inserted between the three layers.

各層を張り合わせる際にはコロナ処理、プラズマ処理等の物理的な処理をしてもよいし、ポリエチレンイミン、オキサゾリン系ポリマー、ポリエステル、セルロース等の公知の高極性ポリマーをアンカーコート剤として使用してもよい。   When laminating each layer, physical treatment such as corona treatment and plasma treatment may be performed, and a known high-polarity polymer such as polyethyleneimine, oxazoline-based polymer, polyester or cellulose is used as an anchor coating agent. Also good.

薄型ディスプレー用光学フィルターには、画面を見やすくするために、反射防止層またはぎらつき防止層を人側の最表層に設けることが好ましい。   In order to make the optical filter for thin display easy to see, it is preferable to provide an antireflection layer or an antiglare layer on the outermost layer on the human side.

反射防止層は、表面の反射を抑えて、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止するためのものである。反射防止層は、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物の薄膜からなる場合と、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させたものからなる場合とがあり、前者の場合の製造方法として、蒸着やスパッタリング法を用いて単層あるいは多層の形態で、透明基材上に反射防止コーティングを形成させる方法がある。また、後者の場合の製造方法として、透明フィルム上に、コンマコーター等のナイフコーター、スロットコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、グラビアコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターを用いて透明基材の表面に反射防止コーティングを塗布する方法がある。   The antireflection layer is for suppressing reflection of the surface and preventing reflection of external light such as a fluorescent lamp on the surface. The antireflection layer consists of a single layer of a resin with a different refractive index, such as an acrylic resin or a fluororesin, when it is made of an inorganic thin film such as a metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide, nitride, or sulfide. Alternatively, it may be composed of multi-layers, and as a manufacturing method in the former case, there is a method of forming an antireflection coating on a transparent substrate in the form of a single layer or a multilayer using vapor deposition or sputtering. is there. Further, as a manufacturing method in the latter case, on a transparent film, a knife coater such as a comma coater, a fountain coater such as a slot coater and a lip coater, a gravure coater, a flow coater, a spray coater, and a bar coater are used. There is a method of applying an antireflection coating to the surface.

ぎらつき防止層は、シリカ、メラミン樹脂、アクリル樹脂等の微粉体をインキ化し、従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に塗布し、熱或いは光硬化させることにより形成される。また、アンチグレア処理したフィルムを該フィルター上に貼りつけてもよい。   The glare-preventing layer is formed by converting fine powders of silica, melamine resin, acrylic resin, etc. into ink, applying it on any layer of the filter of the present invention by a conventionally known coating method, and curing it by heat or photocuring. Is done. An antiglare-treated film may be attached on the filter.

また、傷付き防止層は、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリレートと光重合開始剤を有機溶剤に溶解或いは分散させた塗布液を従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に、塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形成される。   In addition, the scratch-preventing layer is a coating solution prepared by dissolving or dispersing an acrylate such as urethane acrylate, epoxy acrylate or polyfunctional acrylate and a photopolymerization initiator in an organic solvent by a conventionally known coating method, and any of the filters of the present invention. On this layer, it is formed by coating, drying and photocuring.

反射防止層またはぎらつき防止層と近赤外線吸収層とを有する光学フィルターは、反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムの裏面に本発明の近赤外線吸収材からなる層を積層させることで得られる。積層させる方法としては、フィルム状にした本発明の近赤外線吸収材料と反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムとを粘着剤で張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線吸収材料を反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムの裏面に直接塗布してもよい。反射防止フィルムまたはぎらつき防止フィルムの裏面に近赤外線吸収層を設ける場合には、紫外線による色素の劣化を抑えるために、透明基材として紫外線吸収フィルムを使用するのが好ましい。   An optical filter having an antireflection layer or antiglare layer and a near infrared absorption layer can be obtained by laminating a layer made of the near infrared absorber of the present invention on the back surface of the antireflection film or antiglare film. As a method of laminating, the near-infrared absorbing material of the present invention formed into a film and the antireflection film or the anti-glare film may be bonded together with an adhesive, or the near-infrared absorbing material of the present invention that has been made into a solution is antireflective. You may apply | coat directly on the back surface of a film or an anti-glare film. In the case where a near-infrared absorbing layer is provided on the back surface of the antireflection film or the antiglare film, it is preferable to use an ultraviolet absorbing film as a transparent substrate in order to suppress deterioration of the pigment due to ultraviolet rays.

プラズマディスプレー用光学フィルターには、パネルから発生する電磁波を除去するために、電磁波遮蔽層を設けることが好ましい。   The optical filter for plasma display is preferably provided with an electromagnetic wave shielding layer in order to remove electromagnetic waves generated from the panel.

電磁波遮蔽層はエッチング、印刷等の手法で金属のメッシュをフィルム上にパターニングしたものを樹脂で平滑化したフィルムや、繊維メッシュの上に金属を蒸着させたものを樹脂中に抱埋したフィルムが使用される。   The electromagnetic wave shielding layer is a film in which a metal mesh is patterned on a film by etching, printing, etc., or a film in which a metal is deposited on a fiber mesh and embedded in a resin. used.

近赤外線吸収層と電磁波遮蔽層の2層を有する光学フィルターは電磁波防止材料と近赤外線吸収材料とを複合化することで得られる。複合化させる方法としては、フィルム状にした本発明の近赤外線吸収材料と電磁波遮蔽フィルムを粘着剤で張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線吸収材料を電磁波遮蔽フィルムに直接塗布してもよい。また、フィルム上の金属のメッシュを平滑化する際に本発明の近赤外線吸収組成物を使用することもできる。また、金属を蒸着した繊維を抱埋する際に、本発明の近赤外収材料を使用することもできる。   An optical filter having two layers of a near infrared absorption layer and an electromagnetic wave shielding layer can be obtained by combining an electromagnetic wave prevention material and a near infrared absorption material. As a method of combining, the near-infrared absorbing material of the present invention formed into a film and the electromagnetic shielding film may be bonded with an adhesive, or the solution of the near-infrared absorbing material of the present invention is directly applied to the electromagnetic shielding film. May be. Moreover, when smoothing the metal mesh on a film, the near-infrared absorption composition of this invention can also be used. Moreover, when embedding the fiber which vapor-deposited the metal, the near-infrared collection material of this invention can also be used.

近赤外線吸収層、反射またはぎらつき防止層および電磁波遮蔽層の3層を有する光学フィルターとしては、本発明の近赤外線吸収材料からなる近赤外線吸収フィルム、反射またはぎらつき防止フィルム、電磁波遮蔽フィルムの3枚を粘着剤で張り合わせたものが使用できる。必要に応じてガラス等の支持体や色調整フィルム等の機能性フィルムを張り合わせてもよい。   As an optical filter having three layers of a near-infrared absorbing layer, a reflection or glare-preventing layer and an electromagnetic wave shielding layer, a near-infrared absorbing film comprising the near-infrared absorbing material of the present invention, a reflection or glare-preventing film, and an electromagnetic shielding film A laminate of 3 sheets with an adhesive can be used. If necessary, a support such as glass or a functional film such as a color adjusting film may be laminated.

光学フィルターの製造工程やフィルム構成を簡略化するためには、複数の機能を有する複合化フィルムを使用するのがよい。例えば近赤外線吸収層と反射またはぎらつき防止層とを含む複合化フィルムを粘着剤で電磁波遮蔽フィルムに張り合わせた光学フィルターや、近赤外線吸収層および電磁波遮蔽層を含む複合化フィルムを粘着剤で反射またはぎらつき防止フィルムに張り合わせた光学フィルター、電磁波遮蔽層と反射またはぎらつき防止層を含む複合化フィルムを粘着剤で近赤外線吸収フィルムに張り合わせた光学フィルターが挙げられる。   In order to simplify the manufacturing process and film configuration of the optical filter, it is preferable to use a composite film having a plurality of functions. For example, an optical filter in which a composite film including a near-infrared absorbing layer and a reflection or anti-glare layer is bonded to an electromagnetic wave shielding film with an adhesive, or a composite film including a near-infrared absorbing layer and an electromagnetic wave shielding layer is reflected with an adhesive. Alternatively, an optical filter bonded to an anti-glare film, and an optical filter formed by bonding a composite film including an electromagnetic wave shielding layer and a reflection or anti-glare layer to a near-infrared absorbing film with an adhesive can be used.

本発明の薄型ディスプレー用光学フィルターは表示装置から離して設置してもよいし、表示装置に直接貼り付けてもよい。表示装置から離して設置する場合は支持体としてガラスを使用するのが好ましい。表示装置に直接張り合わせる場合にはガラスを使用しない光学フィルターが好ましい。   The thin display optical filter of the present invention may be installed away from the display device or may be directly attached to the display device. When installing away from the display device, it is preferable to use glass as the support. In the case of directly bonding to a display device, an optical filter that does not use glass is preferable.

6.薄型ディスプレー
本発明の近赤外線吸収材料を積層した光学フィルターを薄型ディスプレーに搭載すると、長期間にわたり良好な画質が維持される。したがって、本発明の第四は、本発明の近赤外線吸収材料、本発明の近赤外線吸収材、または本発明の光学フィルターを用いてなる、薄型ディスプレーである。表示体に直接、光学フィルターを張り合わせた薄型ディスプレーはより鮮明な画質が得られる。光学フィルターを直接張り合わせる場合は表示体のガラスが強化ガラスを使用するか、衝撃吸収層を設けた光学フィルターを使用するのが好ましい。
6). Thin display When an optical filter in which the near-infrared absorbing material of the present invention is laminated is mounted on a thin display, good image quality is maintained over a long period of time. Accordingly, a fourth aspect of the present invention is a thin display using the near-infrared absorbing material of the present invention, the near-infrared absorbing material of the present invention, or the optical filter of the present invention. A thin display in which an optical filter is directly bonded to the display body can provide clearer image quality. When the optical filter is directly attached, it is preferable to use tempered glass as the display glass or an optical filter provided with a shock absorbing layer.

本発明の光学フィルターを表示装置に貼り付ける際の粘着剤としては、スチレンブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メチル、ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のポリアクリル酸アルキルエステル等が挙げられ、これらは単独で用いられてもよいし、さらに粘着付与剤としてピッコライト、ポリベール、ロジンエステル等を添加したものを用いてもよい。また、特開2004−263084号公報で示されているように衝撃吸収能を有する粘着剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。   As an adhesive when the optical filter of the present invention is attached to a display device, rubber such as styrene butadiene rubber, polyisoprene rubber, polyisobutylene rubber, natural rubber, neoprene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, polymethyl acrylate, Examples include polyacrylic acid alkyl esters such as ethyl polyacrylate and butyl polyacrylate, and these may be used alone, or further added with piccolite, polyvale, rosin ester, etc. as a tackifier. It may be used. Moreover, although the adhesive which has an impact absorption capability can be used as shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-263084, it is not limited to this.

この粘着層の厚みは、通常5〜2000μm、好ましくは10〜1000μmである。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、この剥離フィルムにより、光学フィルターを薄型ディスプレーの表面に張り付けるまでの間、粘着剤層を保護し、粘着剤層にゴミ等が付着しないようにするのもよい。この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、この非粘着部分を剥離開始部とすれば、貼着時の作業がやりやすい。   The thickness of this adhesive layer is usually 5 to 2000 μm, preferably 10 to 1000 μm. A release film is provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and this release film protects the pressure-sensitive adhesive layer and prevents dust from adhering to the pressure-sensitive adhesive layer until the optical filter is attached to the surface of the thin display. Also good. In this case, a non-adhesive part is formed by forming a part where the adhesive layer is not provided or by sandwiching a non-adhesive film between the adhesive layer at the edge of the filter and the release film. If the part is a peeling start part, the work at the time of sticking is easy to do.

衝撃吸収層は表示装置を外部からの衝撃から保護するためのものである。支持体を使用しない光学フィルターで使用するのが好ましい。衝撃吸収材としては特開2004−246365号公報、特開2004−264416号公報に示されているような、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ウレタン系、シリコン系樹脂等が使用できるが、これらに限定されるものではない。   The shock absorbing layer is for protecting the display device from external impact. It is preferably used in an optical filter that does not use a support. As the shock absorber, ethylene-vinyl acetate copolymer, acrylic polymer, polyvinyl chloride, urethane-based, silicon-based resin as disclosed in JP-A-2004-246365 and JP-A-2004-264416 However, it is not limited to these.

次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、これらの実施例は何ら本発明を制限するものではない。なお、部は質量部を示す。また、近赤外線吸収能、可視領域の透明性、耐湿熱性、耐屈曲性の評価は以下に従った。   EXAMPLES Next, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, these Examples do not restrict | limit this invention at all. In addition, a part shows a mass part. Moreover, evaluation of near-infrared absorptivity, transparency of visible region, wet heat resistance, and bending resistance was as follows.

(1)近赤外線吸収能の評価(近赤外線透過率)
可視−近赤外スペクトルの測定にはUV−3700(島津製作所製)を使用し、350〜1250nmの透過スペクトルを測定し、波長1090nmでの透過率で評価した。
(1) Evaluation of near infrared absorptivity (near infrared transmittance)
For the measurement of the visible-near infrared spectrum, UV-3700 (manufactured by Shimadzu Corporation) was used, a transmission spectrum of 350 to 1250 nm was measured, and the transmittance at a wavelength of 1090 nm was evaluated.

(2)可視領域の透明性の評価(全光線透過率)
全光線透過率の測定にはΣ90システム(日本電色製)を使用した。
(2) Evaluation of transparency in the visible region (total light transmittance)
A Σ90 system (manufactured by Nippon Denshoku) was used for measuring the total light transmittance.

(3)耐湿熱性の評価
試験体を80℃95%RHの恒温恒湿器中に120時間静置し、試験前後での350〜1250nmの透過スペクトルを測定した。透過スペクトルの測定にはUV−3700(島津製作所製)を使用し、波長1090nmでの透過率の変化を評価した。また、得られた試験前後の透過スペクトルから色差を計算し、b*の変化を評価した。
(3) Evaluation of moisture and heat resistance The test specimen was left in a constant temperature and humidity chamber at 80 ° C. and 95% RH for 120 hours, and transmission spectra of 350 to 1250 nm before and after the test were measured. For the measurement of the transmission spectrum, UV-3700 (manufactured by Shimadzu Corporation) was used, and the change in transmittance at a wavelength of 1090 nm was evaluated. In addition, a color difference was calculated from the obtained transmission spectra before and after the test, and the change in b * was evaluated.

(4)耐屈曲性
試験体を23℃の恒温室で調温し、円筒形マンドレル法により耐屈曲性試験を行った。直径2mmの円筒で試験を行い、屈曲部におけるクラックの有無を拡大鏡(倍率10倍)で観察した。
(4) Flexibility The test specimen was conditioned in a thermostatic chamber at 23 ° C., and a flex resistance test was conducted by a cylindrical mandrel method. The test was performed with a cylinder having a diameter of 2 mm, and the presence or absence of cracks in the bent portion was observed with a magnifying glass (magnification 10 times).

(5)耐溶剤性
試験体を80℃の熱風乾燥器中で30分間、加熱した。加熱後、室温で1h静置させた後に、エタノールを塗装面上に滴下し、風乾した。乾燥後、目視でクラックの有無を観察した。
(5) Solvent resistance The specimen was heated in a hot air dryer at 80 ° C. for 30 minutes. After heating, the mixture was allowed to stand at room temperature for 1 h, and then ethanol was dropped on the painted surface and air-dried. After drying, the presence or absence of cracks was visually observed.

(実施例1−1)
モノマーとしてメチルメタクリレート371.5g、ノルマルブチルアクリレート59gおよびブチルアクリレート69.5gを混合し、モノマー混合物1を得た。パーカドックス12XL25(火薬アクゾ製)6gとトルエン100gとを混合し、開始剤溶液1を得た。このモノマー混合物1のうち350gと、トルエン225gとをフラスコに入れ、このフラスコに、温度計、攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却機および滴下漏斗をセットした。150gのモノマー混合物1と31.8gの開始剤溶液1とを混合し、上記滴下漏斗に入れた。窒素ガスを20ml/分で流通させながら、フラスコ内を加熱して内温を100℃とした。開始剤溶液1のうち74.2gをフラスコに添加し、重合反応を開始した。重合開始剤の投入から10分後に、上記滴下漏斗内の混合物(モノマー混合物1と開始剤溶液1との混合物)を60分かけてフラスコ内に添加した。添加後75gのトルエンで滴下漏斗を洗浄し、フラスコ内に洗浄液を添加した。その後、60分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン150gをフラスコ内に添加した。さらに60分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン150gをフラスコ内に添加した。さらに60分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン150gをフラスコ内に添加した。さらに60分間熟成した。その後、108℃まで昇温し、300分熟成した。さらに、希釈溶剤185.7gを添加後、室温まで冷却し樹脂溶液1を得た。固形分は32.4%、Tgは75℃、ポリスチレン換算の重量平均分子量は22万であった。
(Example 1-1)
As a monomer, 371.5 g of methyl methacrylate, 59 g of normal butyl acrylate, and 69.5 g of butyl acrylate were mixed to obtain a monomer mixture 1. 6 g of Parkadox 12XL25 (manufactured by gunpowder Akzo) and 100 g of toluene were mixed to obtain an initiator solution 1. 350 g of this monomer mixture 1 and 225 g of toluene were placed in a flask, and a thermometer, a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a dropping funnel were set in the flask. 150 g of monomer mixture 1 and 31.8 g of initiator solution 1 were mixed and placed in the dropping funnel. While flowing nitrogen gas at a rate of 20 ml / min, the flask was heated to an internal temperature of 100 ° C. 74.2 g of initiator solution 1 was added to the flask to initiate the polymerization reaction. Ten minutes after the introduction of the polymerization initiator, the mixture in the dropping funnel (mixture of the monomer mixture 1 and the initiator solution 1) was added to the flask over 60 minutes. After the addition, the dropping funnel was washed with 75 g of toluene, and the washing solution was added to the flask. Thereafter, aging was performed for 60 minutes, and 150 g of toluene as a diluent solvent was added into the flask. The mixture was further aged for 60 minutes, and 150 g of toluene as a diluent solvent was added to the flask. The mixture was further aged for 60 minutes, and 150 g of toluene as a diluent solvent was added to the flask. It was aged for another 60 minutes. Thereafter, the temperature was raised to 108 ° C. and aged for 300 minutes. Furthermore, after adding 185.7 g of diluting solvent, it cooled to room temperature and obtained the resin solution 1. The solid content was 32.4%, Tg was 75 ° C., and the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 220,000.

(実施例1−2)
N,N,N',N',−テトラキス−(p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス−イモニウムのビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド塩(アニオンの分子量292、融点190℃)をメチルエチルケトンに溶解し、固形分3%のジイモニウム色素溶液1を調整した。また、イーエクスカラーIR−10A(日本触媒製)をメチルエチルケトンに溶解し、固形分3%のフタロシアニン溶液を調整した。9.1部の樹脂溶液1と、2.5部のジイモニウム色素溶液1と、2.5部のフタロシアニン溶液と、0.9部のメチルエチルケトンとを混合し、近赤外線吸収組成物A1を得た。
(Example 1-2)
N, N, N ′, N ′,-Tetrakis- (p-di (n-butyl) aminophenyl) -p-benzoquinone-bis-imonium bis (trifluoromethanesulfone) imide salt (anionic molecular weight 292, melting point 190) C.) was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a diimonium dye solution 1 having a solid content of 3%. Also, e-color IR-10A (manufactured by Nippon Shokubai) was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a phthalocyanine solution having a solid content of 3%. 9.1 parts of resin solution 1, 2.5 parts of diimonium dye solution 1, 2.5 parts of phthalocyanine solution, and 0.9 parts of methyl ethyl ketone were mixed to obtain near-infrared absorbing composition A1. .

(実施例1−3)
近赤外線吸収組成物A1をバーコーター(No.34)で厚さ100μmの易接着処理PETフィルム(東洋紡績製コスモシャインA4300)上に塗工し120℃の熱風乾燥器中で3分間乾燥させ、近赤外線吸収材A1を得た。この可視−近赤外吸収スペクトルを図1に示す。近赤外線吸収材A1の近赤外線透過率、全光線透過率、耐湿熱性、耐屈曲性、耐溶剤性の評価を行い、その結果を表1に示した。
(Example 1-3)
The near-infrared absorbing composition A1 was coated on a 100 μm thick easy-adhesion-treated PET film (Toyobo Cosmo Shine A4300) with a bar coater (No. 34) and dried in a hot air dryer at 120 ° C. for 3 minutes. Near-infrared absorbing material A1 was obtained. The visible-near infrared absorption spectrum is shown in FIG. The near-infrared transmittance, total light transmittance, wet heat resistance, flex resistance, and solvent resistance of the near-infrared absorbing material A1 were evaluated, and the results are shown in Table 1.

(実施例2−1)
樹脂は実施例1−1で得られた樹脂溶液1を使用した。
(Example 2-1)
As the resin, the resin solution 1 obtained in Example 1-1 was used.

(実施例2−2)
ジイモニウム色素としてCIR−RL(日本カーリット製)を使用した。このジイモニウム色素はジイモニウムカチオンとビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドアニオンからなり、融点は235℃であった。CIR−RLをメチルエチルケトンに溶解し、固形分3%のジイモニウム色素溶液2を調整した。9.1部の樹脂溶液1と、2.5部のジイモニウム色素溶液2と、実施例1−2で調整したフタロシアニン溶液2.5部と、メチルエチルケトン0.9部とを混合し、近赤外線吸収組成物A2を得た。
(Example 2-2)
CIR-RL (manufactured by Nippon Carlit) was used as the diimonium dye. This dimonium dye was composed of a dimonium cation and a bis (trifluoromethanesulfone) imide anion and had a melting point of 235 ° C. CIR-RL was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a diimonium dye solution 2 having a solid content of 3%. 9.1 parts of resin solution 1, 2.5 parts of diimonium dye solution 2, 2.5 parts of the phthalocyanine solution prepared in Example 1-2, and 0.9 parts of methyl ethyl ketone are mixed to absorb near infrared rays. Composition A2 was obtained.

(実施例2−3)
近赤外線吸収組成物A1の代わりに近赤外線吸収組成物A2を使用して、実施例1−3と同様の方法で、近赤外線吸収材A2を得た。この可視−近赤外吸収スペクトルを図2に示す。近赤外線吸収材A2の近赤外線透過率、全光線透過率、耐湿熱性、耐屈曲性、耐溶剤性の評価を行い、その結果を表1に示した。
(Example 2-3)
A near-infrared absorbing material A2 was obtained in the same manner as in Example 1-3 using the near-infrared absorbing composition A2 instead of the near-infrared absorbing composition A1. This visible-near infrared absorption spectrum is shown in FIG. The near-infrared transmittance, total light transmittance, wet heat resistance, flex resistance, and solvent resistance of the near-infrared absorbing material A2 were evaluated, and the results are shown in Table 1.

(比較例1−1)
樹脂は実施例1−1で得られた樹脂溶液1を使用した。
(Comparative Example 1-1)
As the resin, the resin solution 1 obtained in Example 1-1 was used.

(比較例1−2)
N,N,N',N',−テトラキス−(p−ジ(n−ブチル)アミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス−イモニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩(アニオンの分子量236)をメチルエチルケトンに溶解し、固形分3%のジイモニウム色素溶液3を調整した。9.1部の樹脂溶液1と、2.5部のジイモニウム色素溶液3と、実施例1−2で調整したフタロシアニン溶液2.5部と、メチルエチルケトン0.9部とを混合し、近赤外線吸収組成物B1を得た。
(Comparative Example 1-2)
N, N, N ′, N ′,-tetrakis- (p-di (n-butyl) aminophenyl) -p-benzoquinone-bis-imonium hexafluoroantimonate (anionic molecular weight 236) is dissolved in methyl ethyl ketone. Then, a diimonium dye solution 3 having a solid content of 3% was prepared. 9.1 parts of the resin solution 1, 2.5 parts of the diimonium dye solution 3, 2.5 parts of the phthalocyanine solution prepared in Example 1-2, and 0.9 parts of methyl ethyl ketone are mixed to absorb near infrared rays. Composition B1 was obtained.

(比較例1−3)
近赤外線吸収組成物A1の代わりに近赤外線吸収組成物B1を使用して、実施例1−3と同様の方法で、近赤外線吸収材B1を得た。この可視−近赤外吸収スペクトルを図3に示す。近赤外線吸収材B1の近赤外線透過率、全光線透過率、耐湿熱性、耐屈曲性、耐溶剤性の評価を行い、その結果を表1に示した。
(Comparative Example 1-3)
A near-infrared absorbing material B1 was obtained in the same manner as in Example 1-3 using the near-infrared absorbing composition B1 instead of the near-infrared absorbing composition A1. This visible-near infrared absorption spectrum is shown in FIG. The near-infrared transmittance, total light transmittance, wet heat resistance, flex resistance, and solvent resistance of the near-infrared absorbing material B1 were evaluated, and the results are shown in Table 1.

(比較例2−1)
モノマーとしてメチルメタクリレート453gとノルマルブチルメタクリレート47gとを混合し、モノマー混合物2を得た。パーカドックス12XL25(火薬アクゾ製)6gとトルエン100gを混合し、開始剤溶液2を得た。このモノマー混合物1のうち350gと、トルエン225gと、ノルマルドデシルメルカプタン0.5gとをフラスコに入れ、このフラスコに、温度計、攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却機及び滴下漏斗をセットした。150gのモノマー混合物1と31.8gの開始剤溶液1とを混合し、上記滴下漏斗に入れた。窒素ガスを20ml/分で流通させながら、フラスコ内を加熱して内温を100℃とした。開始剤溶液1のうち74.2gをフラスコに添加し、重合反応を開始した。重合開始剤の投入から10分後に、上記滴下漏斗内の混合物(モノマー混合物1と開始剤溶液1との混合物)を60分かけてフラスコ内に添加した。添加後75gのトルエンで滴下漏斗を洗浄し、フラスコ内に洗浄液を添加した。その後、60分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン150gをフラスコ内に添加した。さらに60分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン150gをフラスコ内に添加した。さらに60分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン150gをフラスコ内に添加した。さらに60分間熟成した。その後、108℃まで昇温し、300分熟成した。さらに、希釈溶剤125gを添加後、室温まで冷却し樹脂溶液2を得た。固形分は32.2%、Tgは106℃、ポリスチレン換算の重量平均分子量は12万であった。
(Comparative Example 2-1)
As a monomer, 453 g of methyl methacrylate and 47 g of normal butyl methacrylate were mixed to obtain a monomer mixture 2. 6 g of Parkadox 12XL25 (manufactured by gunpowder Akzo) and 100 g of toluene were mixed to obtain an initiator solution 2. 350 g of this monomer mixture 1, 225 g of toluene, and 0.5 g of normal dodecyl mercaptan were placed in a flask, and a thermometer, a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a dropping funnel were set in the flask. 150 g of monomer mixture 1 and 31.8 g of initiator solution 1 were mixed and placed in the dropping funnel. While flowing nitrogen gas at a rate of 20 ml / min, the flask was heated to an internal temperature of 100 ° C. 74.2 g of initiator solution 1 was added to the flask to initiate the polymerization reaction. Ten minutes after the introduction of the polymerization initiator, the mixture in the dropping funnel (mixture of the monomer mixture 1 and the initiator solution 1) was added to the flask over 60 minutes. After the addition, the dropping funnel was washed with 75 g of toluene, and the washing solution was added to the flask. Thereafter, aging was performed for 60 minutes, and 150 g of toluene as a diluent solvent was added into the flask. The mixture was further aged for 60 minutes, and 150 g of toluene as a diluent solvent was added to the flask. The mixture was further aged for 60 minutes, and 150 g of toluene as a diluent solvent was added to the flask. It was aged for another 60 minutes. Thereafter, the temperature was raised to 108 ° C. and aged for 300 minutes. Further, after adding 125 g of a diluting solvent, it was cooled to room temperature to obtain a resin solution 2. The solid content was 32.2%, the Tg was 106 ° C., and the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 120,000.

(比較例2−2)
9.4部の樹脂溶液2と、実施例1−2で調整した2.5部のジイモニウム色素溶液1と、実施例1−2で調整したフタロシアニン溶液2.5部と、メチルエチルケトン0.6部とを混合し、近赤外線吸収組成物B2を得た。
(Comparative Example 2-2)
9.4 parts of resin solution 2, 2.5 parts of diimonium dye solution 1 prepared in Example 1-2, 2.5 parts of phthalocyanine solution prepared in Example 1-2, and 0.6 parts of methyl ethyl ketone Were mixed to obtain a near-infrared absorbing composition B2.

(比較例2−3)
近赤外線吸収組成物A1の代わりに近赤外線吸収組成物B2を使用して、実施例1−3と同様の方法で、近赤外線吸収材B2を得た。この可視−近赤外吸収スペクトルを図4に示す。近赤外線吸収材B2の近赤外線透過率、全光線透過率、耐湿熱性、耐屈曲性、耐溶剤性の評価を行い、その結果を表1に示した。
(Comparative Example 2-3)
A near-infrared absorbing material B2 was obtained in the same manner as in Example 1-3 using the near-infrared absorbing composition B2 instead of the near-infrared absorbing composition A1. This visible-near infrared absorption spectrum is shown in FIG. The near-infrared transmittance, total light transmittance, wet heat resistance, flex resistance, and solvent resistance of the near-infrared absorbing material B2 were evaluated, and the results are shown in Table 1.

(比較例3−1)
モノマーとしてメチルメタクリレート312.8g、シクロヘキシルメタクリレート72g、2−エチルヘキシルアクリレート9.2gおよびメタクリル酸6gを混合し、モノマー混合物3を得た。パーブチルO(日本油脂製)0.72gと酢酸エチル72gとを混合し、開始剤溶液3を得た。ABN−V(日本ヒドラジン工業製)2.4gとトルエン24gを混合し、開始剤溶液4を得た。モノマー混合物3のうち280gと、酢酸エチル140gとを、フラスコに入れ、このフラスコに、温度計、攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却機、滴下漏斗をセットした。モノマー混合物3のうち120gと、開始剤溶液3のうち21.82gとを混合し、上記滴下漏斗に入れた。窒素ガスを20ml/分で流通させながら、フラスコ内を加熱して内温を80℃とした。開始剤溶液3のうち50.9gをフラスコ内に添加し、重合反応を開始した。重合開始剤の投入から10分後に、上記滴下漏斗内の混合物(モノマー混合物3と開始剤溶液3との混合物)を60分かけてフラスコ内に添加した。添加後24gの酢酸エチルで滴下漏斗を洗浄し、フラスコ内に洗浄液を添加した。その後、90分間熟成し、希釈溶剤として酢酸エチル80gをフラスコ内に添加した。さらに60分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン120gをフラスコ内に添加した。さらに30分間熟成し、フラスコ内を30分かけて91℃まで昇温させた。さらに、30分間熟成後、開始剤溶液4のうち4.4gをフラスコ内に添加した。さらに30分間熟成し、希釈溶剤としてのトルエン80gと、開始剤溶液4のうちの4.4gとをフラスコ内に添加した。さらに30分間熟成し、開始剤溶液4のうち4.4gをフラスコ内に添加した。さらに30分間熟成し、希釈溶剤としてトルエン80gと開始剤溶液4のうちの4.4gとをフラスコ内に添加した。さらに30分間熟成し、開始剤溶液4のうち4.4gをフラスコ内に添加した。さらに30分間熟成し、開始剤溶液4のうち4.4gをフラスコ内に添加した。さらに120分間熟成後、希釈溶剤としてトルエン284gをフラスコ内に添加した。その後、室温まで冷却し、樹脂溶液3を得た。固形分は30.5%、Tgは94℃、ポリスチレン換算の重量平均分子量は25万であった。
(Comparative Example 3-1)
As a monomer, 312.8 g of methyl methacrylate, 72 g of cyclohexyl methacrylate, 9.2 g of 2-ethylhexyl acrylate, and 6 g of methacrylic acid were mixed to obtain a monomer mixture 3. Perbutyl O (made by NOF Corporation) 0.72g and ethyl acetate 72g were mixed, and the initiator solution 3 was obtained. 2.4 g of ABN-V (manufactured by Nippon Hydrazine Industry) and 24 g of toluene were mixed to obtain an initiator solution 4. 280 g of the monomer mixture 3 and 140 g of ethyl acetate were placed in a flask, and a thermometer, a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a dropping funnel were set in the flask. 120 g of the monomer mixture 3 and 21.82 g of the initiator solution 3 were mixed and placed in the dropping funnel. While flowing nitrogen gas at a rate of 20 ml / min, the flask was heated to an internal temperature of 80 ° C. 50.9 g of the initiator solution 3 was added into the flask to initiate the polymerization reaction. Ten minutes after the introduction of the polymerization initiator, the mixture in the dropping funnel (mixture of the monomer mixture 3 and the initiator solution 3) was added to the flask over 60 minutes. After the addition, the dropping funnel was washed with 24 g of ethyl acetate, and the washing solution was added to the flask. Thereafter, the mixture was aged for 90 minutes, and 80 g of ethyl acetate as a diluent solvent was added to the flask. The mixture was further aged for 60 minutes, and 120 g of toluene was added to the flask as a diluent solvent. The mixture was aged for 30 minutes, and the temperature in the flask was raised to 91 ° C. over 30 minutes. Further, after aging for 30 minutes, 4.4 g of initiator solution 4 was added to the flask. The mixture was further aged for 30 minutes, and 80 g of toluene as a diluent solvent and 4.4 g of the initiator solution 4 were added to the flask. After aging for 30 minutes, 4.4 g of the initiator solution 4 was added to the flask. Further, the mixture was aged for 30 minutes, and 80 g of toluene and 4.4 g of the initiator solution 4 were added to the flask as a diluent solvent. After aging for 30 minutes, 4.4 g of the initiator solution 4 was added to the flask. After aging for 30 minutes, 4.4 g of the initiator solution 4 was added to the flask. After further aging for 120 minutes, 284 g of toluene as a diluent solvent was added to the flask. Then, it cooled to room temperature and obtained the resin solution 3. The solid content was 30.5%, the Tg was 94 ° C., and the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 250,000.

(比較例3−2)
シアニン色素S0712(FEW CHMICALS製)をメチルエチルケトンに溶解し、固形分3%のシアニン色素溶液を調整した。9.8部の樹脂溶液3と、実施例1−2で調整した2.8部のジイモニウム色素溶液1と、シアニン色素溶液0.43部と、メチルエチルケトン1.7部とを混合し、近赤外線吸収組成物B3を得た。
(Comparative Example 3-2)
Cyanine dye S0712 (manufactured by FEW CHMICALS) was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a cyanine dye solution having a solid content of 3%. 9.8 parts of resin solution 3, 2.8 parts of diimonium dye solution 1 prepared in Example 1-2, 0.43 part of cyanine dye solution, and 1.7 parts of methyl ethyl ketone were mixed, and near infrared rays were mixed. Absorbent composition B3 was obtained.

(比較例3−3)
近赤外線吸収組成物A1の代わりに近赤外線吸収組成物B3を使用して、実施例1−3と同様の方法で、近赤外線吸収材B3を得た。この可視−近赤外吸収スペクトルを図5に示す。近赤外線吸収材B3の近赤外線透過率、全光線透過率、耐湿熱性、耐屈曲性、耐溶剤性の評価を行い、その結果を表1に示した。
(Comparative Example 3-3)
A near-infrared absorbing material B3 was obtained in the same manner as in Example 1-3 using the near-infrared absorbing composition B3 instead of the near-infrared absorbing composition A1. This visible-near infrared absorption spectrum is shown in FIG. The near-infrared transmittance, total light transmittance, wet heat resistance, flex resistance, and solvent resistance of the near-infrared absorbing material B3 were evaluated, and the results are shown in Table 1.

(比較例4−1)
モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート(264.4g)、ブチルアクリレート(150g)、シクロヘキシルメタクリレート(180g)およびヒドロキシエチルアクリレート(5.4g)を秤量し、十分に混合し、モノマー混合物4を得た。このモノマー混合物4の40質量%と、酢酸エチル(160g)とを、温度計、攪拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器、および滴下ロートを備えたフラスコに入れた。モノマー混合物4の60質量%、酢酸エチル(16g)、および重合開始剤であるナイパーBMT−K40(0.15g)からなる滴下用モノマー混合物を滴下ロートに入れ、良く混合した。窒素ガスを20ml/分で流通させながら、フラスコの内温を84℃まで上昇させ、重合開始剤であるナイパーBMT−K40(0.15g)をフラスコに投入し、重合反応を開始させた。重合開始剤の投入から30分後に、滴下ロートに入れた滴下用モノマー混合物の滴下を開始した。滴下用モノマー混合物は、60分かけて、均等に滴下した。滴下終了後、酢酸エチル(100g)をフラスコに投入した。その後、反応液を、還流状態にて6時間熟成させた。反応終了後、不揮発分が約45%になるように酢酸エチルで反応液を希釈し、樹脂溶液4を得た。樹脂溶液4の計算Tgは−35℃、ポリスチレン換算の重量平均分子量は44万であった。
(Comparative Example 4-1)
As a monomer, 2-ethylhexyl acrylate (264.4 g), butyl acrylate (150 g), cyclohexyl methacrylate (180 g) and hydroxyethyl acrylate (5.4 g) were weighed and mixed well to obtain monomer mixture 4. 40% by mass of the monomer mixture 4 and ethyl acetate (160 g) were placed in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, an inert gas introduction tube, a reflux condenser, and a dropping funnel. A monomer mixture for dropping composed of 60% by mass of the monomer mixture 4, ethyl acetate (16 g), and NIPER BMT-K40 (0.15 g) as a polymerization initiator was put in a dropping funnel and mixed well. While flowing nitrogen gas at a rate of 20 ml / min, the internal temperature of the flask was raised to 84 ° C., and Niper BMT-K40 (0.15 g) as a polymerization initiator was charged into the flask to initiate the polymerization reaction. Thirty minutes after the introduction of the polymerization initiator, the dropping of the dropping monomer mixture in the dropping funnel was started. The monomer mixture for dripping was dripped uniformly over 60 minutes. After completion of dropping, ethyl acetate (100 g) was charged into the flask. Thereafter, the reaction solution was aged at reflux for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with ethyl acetate so that the nonvolatile content was about 45%, and a resin solution 4 was obtained. The resin solution 4 had a calculated Tg of −35 ° C. and a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 440,000.

(比較例4−2)
6.8部の樹脂溶液4と、実施例1−2で調整した2.5部のジイモニウム色素溶液1と、実施例1−2で調整したフタロシアニン溶液2.5部と、メチルエチルケトン3.2部とを混合し、近赤外線吸収組成物B4を得た。
(Comparative Example 4-2)
6.8 parts of resin solution 4, 2.5 parts of diimonium dye solution 1 prepared in Example 1-2, 2.5 parts of phthalocyanine solution prepared in Example 1-2, and 3.2 parts of methyl ethyl ketone Were mixed to obtain a near-infrared absorbing composition B4.

(比較例4−3)
近赤外線吸収組成物1をバーコーター(No.34)で厚さ100μmの易接着処理PETフィルム(東洋紡績製コスモシャインA4300)上に塗工し120℃の熱風乾燥器中で3分間乾燥させた。塗工面に厚さ100μmの易接着処理PETフィルム(東洋紡績製コスモシャインA4300)をローラーを使用して張り合わせ、近赤外線吸収材B4を得た。この可視−近赤外吸収スペクトルを図6に示す。近赤外線吸収材B4の近赤外線透過率、全光線透過率、耐湿熱性の評価を行い、その結果を表1に示した。
(Comparative Example 4-3)
The near-infrared absorbing composition 1 was coated on an easy-adhesion-treated PET film (Cosmo Shine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm with a bar coater (No. 34) and dried in a hot air dryer at 120 ° C. for 3 minutes. . An easy-adhesion-treated PET film (Cosmo Shine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was laminated on the coated surface using a roller to obtain a near-infrared absorbing material B4. This visible-near infrared absorption spectrum is shown in FIG. The near-infrared transmittance, total light transmittance, and wet heat resistance of the near-infrared absorbing material B4 were evaluated, and the results are shown in Table 1.

Figure 2007070605
Figure 2007070605

上記表1に示される結果から、本発明の近赤外線吸収材A1は、分子量250未満のアニオンからなるジイモニウム色素を使用した近赤外線吸収材B1と比較して、耐屈曲性と耐溶剤性は同等であるが、耐湿熱試験時の透過率変化とb*変化が有意に小さく、本発明の近赤外線吸収材料は劣化しにくいことが示唆された。また、分子量が250以上のアニオンからなり、かつ融点が235℃のジイモニウム色素を使用している近赤外線吸収材A2は近赤外線吸収材A1よりも、耐湿熱試験時の近赤外線領域の透過率変化とb*変化がさらに小さく、より劣化しにくいことが確認された。   From the results shown in Table 1, the near-infrared absorbing material A1 of the present invention has the same bending resistance and solvent resistance as compared to the near-infrared absorbing material B1 using a diimonium dye composed of an anion having a molecular weight of less than 250. However, the transmittance change and b * change during the heat and humidity resistance test were significantly small, suggesting that the near-infrared absorbing material of the present invention hardly deteriorates. Further, near-infrared absorbing material A2 composed of an anion having a molecular weight of 250 or more and having a melting point of 235 ° C. uses near-infrared absorbing material A1, which is a change in transmittance in the near-infrared region during the wet heat resistance test, compared to near-infrared absorbing material A1. And b * change was further reduced, and it was confirmed that deterioration was less likely.

また、本発明の近赤外線吸収材A1は、Tgが85℃を超える樹脂を使用した近赤外線吸収材B2、B3と比較して、耐屈曲試験、耐溶剤試験でもクラックが発生せず、本発明の近赤外線吸収材料は高い可とう性を示すことが示唆された。   Further, the near-infrared absorbing material A1 of the present invention does not generate cracks even in the bending resistance test and the solvent resistance test, compared to the near-infrared absorbing materials B2 and B3 using a resin having a Tg exceeding 85 ° C. It was suggested that the near-infrared absorbing material of the present invention exhibits high flexibility.

また、本発明の近赤外線吸収材A1は、Tgが25℃未満の樹脂を使用した近赤外線吸収材B4と比較して、初期の近赤外線吸収能が高く、本発明の近赤外線吸収材料は高い近赤外線吸収能を示すことが示唆された。   Moreover, the near-infrared absorbing material A1 of the present invention has a higher initial near-infrared absorbing ability than the near-infrared absorbing material B4 using a resin having a Tg of less than 25 ° C., and the near-infrared absorbing material of the present invention is high. It was suggested to show near infrared absorption ability.

(実施例3)
1.重合性ポリシロキサン(M−1)の合成
攪拌機、温度計および冷却管を備えた300mlの四つ口フラスコにテトラメトキシシラン144.5部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン23.6部、水19.0部、メタノール30.0部およびアンバーリスト15(商品名:オルガノ社製の陽イオン交換樹脂)5.0部を入れ、65℃で2時間攪拌し、反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、冷却管に代えて蒸留塔、これに接続させた冷却管および流出口を設け、常圧下でフラスコ内温約80℃まで2時間かけて昇温し、メタノールが流出しなくなるまで同温度で保持した。さらに、2.67×10kPaの圧力下90℃の温度で、メタノールが流出しなくなるまで保持し、反応を更に進行させた。再び、室温まで冷却した後、アンバーリスト15を濾過し、数平均分子量が1,800の重合性ポリシロキサン(M−1)を得た。
(Example 3)
1. Synthesis of polymerizable polysiloxane (M-1) In a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser tube, 144.5 parts of tetramethoxysilane, 23.6 parts of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, water 19.0 parts, 30.0 parts of methanol, and 5.0 parts of Amberlyst 15 (trade name: cation exchange resin manufactured by Organo) were added and stirred at 65 ° C. for 2 hours for reaction. After cooling the reaction mixture to room temperature, a distillation column, a cooling tube connected to the distillation column, and an outlet are provided instead of the cooling tube, and the temperature inside the flask is raised to about 80 ° C. over 2 hours under normal pressure. It was kept at the same temperature until it did not flow out. Further, the reaction was further proceeded by maintaining methanol at a temperature of 90 ° C. under a pressure of 2.67 × 10 kPa until methanol no longer flowed out. After cooling to room temperature again, Amberlyst 15 was filtered to obtain polymerizable polysiloxane (M-1) having a number average molecular weight of 1,800.

2.有機ポリマー(P−1)の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管およびN2ガス導入口を備えた1リットルのフラスコに、有機溶剤として酢酸n−ブチル260部を入れ、Nガスを導入し、攪拌しながら、フラスコ内温を110℃まで加熱した。ついで重合性ポリシロキサン(M−1)12部、tert−ブチルメタクリレート19部、ブチルアクリレート94部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート67部、パーフルオトオクチルエチルメタクリレート(ライトエステルFM−108、共栄社化学社製)48部および2,2'−アゾビス−(2−メチルブチロニトリル)2.5部を混合した溶液を滴下口より3時間かけて滴下した。滴下後も同温度で1時間攪拌を続けた後、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート0.1部を30分おきに2回添加し、さらに2時間加熱して共重合を行ない、数平均分子量が12,000であり重量平均分子量が27,000である有機ポリマー(P−1)が酢酸n−ブチルに溶解した溶液を得た。得られた溶液の固形分は48.2%であった。
2. Synthesis stirrer organic polymers (P-1), dropping inlet, a thermometer, a 1-liter flask equipped with a condenser and N2 gas inlet was placed 260 parts of acetic acid n- butyl as an organic solvent, introducing the N 2 gas The temperature inside the flask was heated to 110 ° C. while stirring. Then, 12 parts of polymerizable polysiloxane (M-1), 19 parts of tert-butyl methacrylate, 94 parts of butyl acrylate, 67 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (light ester FM-108, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ) A solution prepared by mixing 48 parts and 2.5 parts of 2,2′-azobis- (2-methylbutyronitrile) was added dropwise from the dropping port over 3 hours. After the dropwise addition, stirring was continued at the same temperature for 1 hour, and then 0.1 part of tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate was added twice every 30 minutes and further heated for 2 hours to carry out copolymerization. A solution in which an organic polymer (P-1) having a number average molecular weight of 12,000 and a weight average molecular weight of 27,000 was dissolved in n-butyl acetate was obtained. The solid content of the obtained solution was 48.2%.

3.有機ポリマー複合無機微粒子分散体(S−1)の合成
攪拌機、2つの滴下口(滴下口αと滴下口β)、温度計を備えた500mlの四つ口フラスコに、酢酸n−ブチル200部およびメタノール500部を入れておき、内温を40℃に調整した。ついでフラスコ内を攪拌しながら、有機ポリマー(P−1)の酢酸n−ブチル溶液10g、テトラメトキシシラン30部および酢酸n−ブチル5部の混合液(原料液A)を滴下口αから2時間かけて滴下すると同時に、25%アンモニア水5部、脱イオン水10部およびメタノール15部の混合液(原料液B)を滴下口βから2時間かけて滴下した。滴下後、冷却管に代えて蒸留塔、これに接続させた冷却管および流出口を設け、40kPaの圧力下、フラスコ内温を100℃まで昇温し、アンモニア、メタノールおよび酢酸n−ブチルを固形分が30%となるまで留去して、有機ポリマー複合無機微粒子が酢酸n−ブチルに分散した分散体(S−1)を得た。この分散体(S−1)において、上記有機ポリマー複合無機微粒子中の無機微粒子と有機ポリマーとの比率は、70/30であった。この比率は、質量比である。得られた有機ポリマー複合無機微粒子の平均粒子径は23.9nmであった。なお、有機ポリマー複合無機微粒子中の無機微粒子と有機ポリマーの比率は、有機ポリマー複合微粒子分散体を1.33×10kPaの圧力下、130℃で24時間乾燥したものについて元素分析を行ない、灰分を有機ポリマー複合無機微粒子含有量として求めた。また、平均粒子径は、有機ポリマー複合無機微粒子分散体(S−1)1部を酢酸n−ブチル99部で希釈した溶液を用いて、透過型電子顕微鏡により粒子を撮影し、任意の100個の粒子の直径を読み取り、その平均を平均粒子径として求めた。
3. Synthesis of organic polymer composite inorganic fine particle dispersion (S-1) In a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, two dropping ports (dropping port α and dropping port β), a thermometer, 200 parts of n-butyl acetate and 500 parts of methanol was added and the internal temperature was adjusted to 40 ° C. Next, while stirring the inside of the flask, a mixed solution (raw material solution A) of 10 g of an organic polymer (P-1) n-butyl acetate solution, 30 parts of tetramethoxysilane and 5 parts of n-butyl acetate was added from the dropping port α for 2 hours. At the same time, 5 parts of 25% ammonia water, 10 parts of deionized water and 15 parts of methanol (raw material liquid B) were dropped from the dropping port β over 2 hours. After dropping, a distillation column, a cooling pipe connected to the distillation column and an outlet are provided instead of the cooling pipe, and the temperature inside the flask is raised to 100 ° C. under a pressure of 40 kPa, and ammonia, methanol and n-butyl acetate are solidified. The mixture was distilled off until the content became 30%, to obtain a dispersion (S-1) in which the organic polymer composite inorganic fine particles were dispersed in n-butyl acetate. In this dispersion (S-1), the ratio of the inorganic fine particles to the organic polymer in the organic polymer composite inorganic fine particles was 70/30. This ratio is a mass ratio. The average particle diameter of the obtained organic polymer composite inorganic fine particles was 23.9 nm. The ratio of the inorganic fine particles to the organic polymer in the organic polymer composite inorganic fine particles was determined by conducting an elemental analysis on the organic polymer composite fine particle dispersion dried at 130 ° C. for 24 hours under a pressure of 1.33 × 10 kPa, and calculating the ash content. It calculated | required as organic polymer composite inorganic fine particle content. Further, the average particle size was determined by photographing particles with a transmission electron microscope using a solution obtained by diluting 1 part of the organic polymer composite inorganic fine particle dispersion (S-1) with 99 parts of n-butyl acetate. The diameter of the particles was read and the average was determined as the average particle diameter.

4.反射フィルム
ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPE−6A、共栄社化学社製)8部およびペンタエリスリトールトリアクリレート(PE−3A、共栄社化学社製)2部を混合し、メチルエチルケトン40部に溶解した溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.5部をメチルエチルケトン2部に溶解した溶液を加え、ハードコート層塗布液を調製した。
4). Reflective film Dipentaerythritol hexaacrylate (DPE-6A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 8 parts and pentaerythritol triacrylate (PE-3A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 2 parts were mixed and dissolved in 40 parts of methyl ethyl ketone. A solution obtained by dissolving 0.5 part of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) in 2 parts of methyl ethyl ketone was added to prepare a hard coat layer coating solution.

有機ポリマー複合無機微粒子分散体(S−1)9部、デスモジュールN3200(商品名、住化バイエルウレタン社製のイソシアネート硬化剤)0.3部、ジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ0.003部およびメチルイソブチルケトン110部を混合し、低屈折率層塗布液を調製した。   Organic polymer composite inorganic fine particle dispersion (S-1) 9 parts, Desmodur N3200 (trade name, isocyanate curing agent manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) 0.3 parts, dilauric acid di-n-butyltin 0.003 parts and 110 parts of methyl isobutyl ketone was mixed to prepare a low refractive index layer coating solution.

厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(コスモシャインA4300、東洋紡績社製)に上記ハードコート層塗布液を、バーコーターを用いて塗布し、塗布層hを得た。この塗布層hを、100℃で15分乾燥した後、高圧水銀灯で200mJ/cmの紫外線を照射することにより硬化させ、膜厚5μmのハードコート層を形成した。このハードコート層の上に低屈折率塗布液をバーコーターを用いて塗布し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に反射防止膜を作成した。 The hard coat layer coating solution was applied to a 188 μm thick polyethylene terephthalate film (Cosmo Shine A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) using a bar coater to obtain a coating layer h. The coating layer h was dried at 100 ° C. for 15 minutes and then cured by irradiating with 200 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer having a thickness of 5 μm. A low refractive index coating solution was coated on the hard coat layer using a bar coater to form an antireflection film on the polyethylene terephthalate film.

フィルムの反射防止膜側とは反対側の面をスチールウールで粗面化し、さらに黒インキを塗り、反射防止膜側の面の入射角5°における鏡面反射スペクトルを紫外可視分光光度計(UV−3100、島津製作所製)を用いて測定し、反射率が最小値を示す波長としてその反射率の最小値を求めた。得られた反射防止フィルムの反射率は波長550nmで0.45%であった。   The surface opposite to the antireflection film side of the film is roughened with steel wool, further coated with black ink, and the specular reflection spectrum at an incident angle of 5 ° on the surface of the antireflection film side is measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV- 3100, manufactured by Shimadzu Corporation), and the minimum value of the reflectance was determined as the wavelength at which the reflectance shows the minimum value. The reflectance of the obtained antireflection film was 0.45% at a wavelength of 550 nm.

5.光学フィルター
得られた反射防止フィルムの裏面側に、実施例1−2で得られた近赤外線吸収組成物A1を、実施例1−3と同様に塗工、乾燥し、光学フィルター1を得た。光学フィルター1の近赤外線透過率、全光線透過率、耐熱性、耐クラック性、耐溶剤性は良好だった。
5. Optical filter On the back side of the obtained antireflection film, the near-infrared absorbing composition A1 obtained in Example 1-2 was applied and dried in the same manner as in Example 1-3 to obtain an optical filter 1. . The near-infrared transmittance, total light transmittance, heat resistance, crack resistance and solvent resistance of the optical filter 1 were good.

本発明の近赤外線吸収組成物は、近赤外線吸収能と可視領域の透明性が高く、耐熱性、耐湿熱性に優れることから、薄型ディスプレー用の光学フィルターとして有用である。また、光情報記録材料としても使用することがきる。   The near-infrared absorbing composition of the present invention is useful as an optical filter for thin displays because it has high near-infrared absorbing ability and transparency in the visible region, and is excellent in heat resistance and moist heat resistance. It can also be used as an optical information recording material.

実施例1−3で得られた近赤外線吸収材A1の可視−近赤外吸収スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the visible-near-infrared absorption spectrum of near-infrared absorber A1 obtained in Example 1-3. 実施例2−3で得られた近赤外線吸収材A2の可視−近赤外吸収スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the visible-near-infrared absorption spectrum of near-infrared absorber A2 obtained in Example 2-3. 比較例1−3で得られた近赤外線吸収材B1の可視−近赤外吸収スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the visible-near-infrared absorption spectrum of near-infrared absorber B1 obtained by Comparative Example 1-3. 比較例2−3で得られた近赤外線吸収材B2の可視−近赤外吸収スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the visible-near-infrared absorption spectrum of near-infrared absorber B2 obtained by Comparative Example 2-3. 比較例3−3で得られた近赤外線吸収材B3の可視−近赤外吸収スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the visible-near-infrared absorption spectrum of near-infrared absorber B3 obtained by Comparative Example 3-3. 比較例4−3で得られた近赤外線吸収材B4の可視−近赤外吸収スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the visible-near-infrared absorption spectrum of near-infrared absorber B4 obtained by Comparative Example 4-3.

Claims (11)

分子量250以上のアニオンを有するジイモニウム色素と、Tgが20℃以上85℃以下の樹脂とを含有する近赤外線吸収組成物。   A near-infrared absorbing composition containing a diimonium dye having an anion having a molecular weight of 250 or more and a resin having a Tg of 20 ° C or higher and 85 ° C or lower. 前記ジイモニウム色素が下記式(1)で示されるジイモニウムカチオンと、下記式(2)または下記式(3)で示されるアニオンとからなる請求項1に記載の近赤外線吸収組成物。

Figure 2007070605
Figure 2007070605
Figure 2007070605
ただし、式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基または置換基を有する炭素数1〜10のアルキル基を表わす。また、式(2)中、RおよびRは、それぞれ同一または異なっていてもよいフルオロアルキル基を示す。また、式(3)中、Rはフルオロアルキレン基を示す。
2. The near-infrared absorbing composition according to claim 1, wherein the diimonium dye comprises a diimonium cation represented by the following formula (1) and an anion represented by the following formula (2) or the following formula (3).

Figure 2007070605
Figure 2007070605
Figure 2007070605
However, in Formula (1), R < 1 > -R < 8 > represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C10 alkyl group, or a C1-C10 alkyl group which has a substituent each independently. In formula (2), R a and R b each represent a fluoroalkyl group that may be the same or different. In formula (3), R c represents a fluoroalkylene group.
前記ジイモニウム色素の融点が200℃以上である請求項1または2に記載の近赤外線吸収組成物。   The near-infrared absorbing composition according to claim 1 or 2, wherein the melting point of the dimonium dye is 200 ° C or higher. 前記近赤外線吸収組成物が、(メタ)アクリル酸エステルを重合してなるポリマーと近赤外線吸収色素とを含有しており、
前記(メタ)アクリル酸エステルは炭素数1〜10のアルキル基を有し、このアルキル基は、直鎖型、分岐型、脂環式または多環性脂環式のアルキル基である請求項1から3のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物。
The near-infrared absorbing composition contains a polymer obtained by polymerizing a (meth) acrylic acid ester and a near-infrared absorbing dye,
The (meth) acrylic acid ester has an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group is a linear, branched, alicyclic or polycyclic alicyclic alkyl group. To 3. The near-infrared absorbing composition according to any one of items 1 to 3.
さらに、フタロシアニン系色素を含む請求項1から4のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物。   Furthermore, the near-infrared absorption composition in any one of Claim 1 to 4 containing a phthalocyanine type pigment | dye. 請求項1から5のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物を含む近赤外線吸収材。   The near-infrared absorber containing the near-infrared absorption composition in any one of Claim 1 to 5. 請求項1から5のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物が透明基材に積層されてなる請求項6に記載の近赤外線吸収材。   The near-infrared absorbing material according to claim 6, wherein the near-infrared absorbing composition according to any one of claims 1 to 5 is laminated on a transparent substrate. 前記透明基材は、ガラス、PETフィルム、易接着性PETフィルム、TACフィルム、反射防止フィルムまたは電磁波シールドフィルムである、請求項7に記載の近赤外線吸収材。   The near-infrared absorbing material according to claim 7, wherein the transparent substrate is glass, a PET film, an easily adhesive PET film, a TAC film, an antireflection film, or an electromagnetic wave shielding film. 請求項6から8のいずれかに記載の近赤外線吸収材を用いてなる、薄型ディスプレー用光学フィルター。   An optical filter for a thin display, comprising the near-infrared absorbing material according to claim 6. 請求項6から8のいずれかに記載の近赤外線吸収材を用いてなる、光半導体素子用光学フィルター。   The optical filter for optical semiconductor elements which uses the near-infrared absorber in any one of Claim 6 to 8. 請求項1から5のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物、請求項6から8のいずれかに記載の近赤外線吸収材、または請求項9に記載の光学フィルターを用いてなる、薄型ディスプレー。   A thin display comprising the near-infrared absorbing composition according to any one of claims 1 to 5, the near-infrared absorbing material according to any one of claims 6 to 8, or the optical filter according to claim 9.
JP2006202803A 2005-08-12 2006-07-26 Near infrared absorbing composition Withdrawn JP2007070605A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006202803A JP2007070605A (en) 2005-08-12 2006-07-26 Near infrared absorbing composition

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005234227 2005-08-12
JP2006202803A JP2007070605A (en) 2005-08-12 2006-07-26 Near infrared absorbing composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007070605A true JP2007070605A (en) 2007-03-22

Family

ID=37932341

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006202803A Withdrawn JP2007070605A (en) 2005-08-12 2006-07-26 Near infrared absorbing composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007070605A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008084653A1 (en) * 2006-12-26 2008-07-17 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Binder resin for near-infrared absorbing film, and near-infrared absorbing filter using the same
WO2011049124A1 (en) * 2009-10-22 2011-04-28 日東電工株式会社 Transparent substrate
CN114286750A (en) * 2019-08-30 2022-04-05 匹兹堡玻璃工厂有限责任公司 Automobile glass window of ADAS camera system

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008084653A1 (en) * 2006-12-26 2008-07-17 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Binder resin for near-infrared absorbing film, and near-infrared absorbing filter using the same
WO2011049124A1 (en) * 2009-10-22 2011-04-28 日東電工株式会社 Transparent substrate
JP2011104998A (en) * 2009-10-22 2011-06-02 Nitto Denko Corp Transparent substrate
CN102574370A (en) * 2009-10-22 2012-07-11 日东电工株式会社 Transparent substrate
US8911869B2 (en) 2009-10-22 2014-12-16 Nitto Denko Corporation Transparent substrate
CN114286750A (en) * 2019-08-30 2022-04-05 匹兹堡玻璃工厂有限责任公司 Automobile glass window of ADAS camera system
CN114286750B (en) * 2019-08-30 2023-12-08 匹兹堡玻璃工厂有限责任公司 Automobile glass window of ADAS camera system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5033632B2 (en) Borate and near infrared absorbing materials
JP2010502563A (en) Salt for near-infrared absorbing composition and near-infrared absorbing adhesive composition
JP2011213969A (en) Near infrared rays-absorbing adhesive composition
JP2010018773A (en) Near-infrared ray absorbing pressure-sensitive adhesive composition
JP4926074B2 (en) Adhesive composition containing near infrared absorber
JPWO2007029508A1 (en) Near-infrared absorbing material and manufacturing method thereof
JP2008163197A (en) Near-infrared-absorbing self-adhesive composition
WO2010119683A1 (en) Near infrared ray-absorbable adhesive composition
JPWO2011074619A1 (en) Near infrared absorbing dye and near infrared absorbing composition
JP2010060617A (en) Near-infrared absorption filter
JP4436888B1 (en) Near-infrared absorbing adhesive composition
JP2008268267A (en) Resin composition for hard coat
JP2008230969A (en) Borate and visible light-absorbing material, luminous material
JP2009203301A (en) Near-infrared ray absorbing adhesive composition
JP2007070605A (en) Near infrared absorbing composition
JP2014106309A (en) Near-infrared absorbing resin composition and near-infrared absorbing film
CN110383118B (en) Resin molded body and blue light cut-off laminate
JP2007131748A (en) Pressure-sensitive adhesive composition comprising near infrared light absorber and use thereof
WO2010095349A1 (en) Near-infrared absorbing pressure-sensitive adhesive composition
JP2007279676A (en) Near-infrared absorbing composition and near-infrared absorbent material
JP2011068780A (en) Near-infrared ray absorbing adhesive composition
JP2008224926A (en) Near-infrared ray absorption coating agent
WO2007097368A1 (en) Diimmonium salt compound, near-infrared absorbing composition containing same, near-infrared absorbing filter and front plate for display
JP2014105251A (en) Near-infrared-absorbing resin composition and near-infrared-absorbing film
JP2011116878A (en) Near-infrared shielding adhesive composition

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20091006