JP2007062130A - Manufacturing method of micro-optical device, manufacturing method of mold for micro-optical device and micro-optical device - Google Patents

Manufacturing method of micro-optical device, manufacturing method of mold for micro-optical device and micro-optical device Download PDF

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宗洋 三井
Kimitaka Morohoshi
公貴 諸星
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a micro-optical device or the like capable of forming a complicated three-dimensional structure precisely, rapidly and simply. <P>SOLUTION: In the manufacturing method of the micro-optical device, a photosetting resin liquid is selectively irradiated with light to form a cured resin layer by repeating collective exposure using a projection region as a unit to form a cured resin layer and the cured resin layer is successively laminated to form a three-dimensional shape. This manufacturing method is especially effective in the case that the structure of the micro-optical device or the like is the complicated three-dimensional structure having an overhang part. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元構造を形成することを特徴とするマイクロ光デバイスの製造方法、マイクロ光デバイス用型の製造方法、及びマイクロ光デバイス用型により製造されたマイクロ光デバイスに関する。   The present invention provides a micro optical device, wherein a photocurable resin liquid is selectively irradiated with light to form a cured resin layer, and the cured resin layer is sequentially laminated to form a three-dimensional structure. The present invention relates to a method, a method for manufacturing a micro optical device mold, and a micro optical device manufactured by a micro optical device mold.

情報通信分野においては、アナログからデジタルへ、そして、メタルワイヤから無線、光ファイバへの転換が進んでおり、光デバイスが注目を集めている。光デバイスとしては、例えば、光導波路、光スイッチ等を挙げることができる。   In the information and communication field, conversion from analog to digital, and from metal wire to wireless and optical fiber is progressing, and optical devices are attracting attention. Examples of the optical device include an optical waveguide and an optical switch.

光導波路は、石英系材料が多く用いられてきたが、近年、低コスト化を達成できる高分子光導波路が提案されている(例えば、特許文献1)。高分子光導波路を製造する方法としては、フォトリソグラフィーや反応性イオンエッチングを行う方法がある。また、光導波路のコアパターンが表面に形成された金型を用い、この金型に溶融状態の熱可塑性樹脂を流し込んで射出成形することによる方法や、上記の金型を溶融状態の熱可塑性樹脂に押し当てることによって、コアパターンの形状に対応するコア溝が形成されたクラッド基板をホットエンボス法により作製する方法が検討されている。   Quartz-based materials have often been used for optical waveguides, but in recent years, polymer optical waveguides that can achieve cost reduction have been proposed (for example, Patent Document 1). As a method of manufacturing the polymer optical waveguide, there are a method of performing photolithography and reactive ion etching. Also, a method in which a mold having an optical waveguide core pattern formed on the surface thereof is used, and a molten thermoplastic resin is poured into the mold and injection molding is performed, or the above mold is melted into a thermoplastic resin. A method of manufacturing a clad substrate having a core groove corresponding to the shape of the core pattern by hot embossing is being studied.

図3は、上記特許文献1に記載された高分子光導波路の一例を示す断面図である。この高分子光導波路50は、上述したようにクラッド材料51を用いて作製したクラッド基板53のコア溝52にコア材料54を充填してコア55を形成すると共に、この面にクラッド基板53と同じ材料(クラッド材料51)で形成されたフィルム56を接合することにより製造される。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the polymer optical waveguide described in Patent Document 1. In the polymer optical waveguide 50, the core material 54 is filled in the core groove 52 of the clad substrate 53 manufactured using the clad material 51 as described above to form the core 55, and the same surface as the clad substrate 53 is formed on this surface. It is manufactured by bonding a film 56 formed of a material (clad material 51).

光スイッチにおいては、近年、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems:微小電気機械システム)が注目を集めている。これは、空間を伝播する光ビームに対してマイクロマシン技術を用いてマイクロサイズのミラーやシャッターを挿入して光の行路を変えるものである。一般に、シリコンプロセスラインを使用して製造される。図4は、光スイッチアレイ60の基本構成を示したものである(非特許文献1)。マイクロミラー(不図示)の付いたMEMSチップ61と平面導波路(PLC)62の2つが主要部品であり、これらを貼り合わせた構造となっている。MEMSチップ61は、シリコン上にDRIE(Deep Reactive Ion Etchang)加工を施して作製する。これらをアライメントし、スイッチが構成されている。
特開2004−29720号公報 図3 段落番号[0002]〜[0005] 片山誠 他 SEI テクニカルレビュー 2002年9月 第161号 頁32〜38
In recent years, attention has been focused on MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) in optical switches. This is to change the path of light by inserting micro-size mirrors and shutters into the light beam propagating through space using micromachine technology. Generally, it is manufactured using a silicon process line. FIG. 4 shows a basic configuration of the optical switch array 60 (Non-Patent Document 1). Two components, a MEMS chip 61 with a micromirror (not shown) and a planar waveguide (PLC) 62, are the main components, and have a structure in which these are bonded together. The MEMS chip 61 is manufactured by performing DRIE (Deep Reactive Ion Etchang) processing on silicon. These are aligned to form a switch.
JP, 2004-29720, A FIG. 3 Paragraph numbers [0002]-[0005] Makoto Katayama et al. SEI Technical Review, September 2002, No. 161, pages 32-38

上記光導波路、及びマイクロ光スイッチを製造するに当っては、より簡便かつ迅速な方法により製造することが理想的である。
一方で、より複雑なマイクロ3次元構造体を迅速かつ簡便に形成する技術の開発が望まれるところである。かかる技術により、光導波路、及びマイクロ光スイッチの高性能化、小型化、又は/及び軽量化の実現が期待できるためである。
In manufacturing the optical waveguide and the micro optical switch, it is ideal to manufacture the optical waveguide by a simpler and quicker method.
On the other hand, development of a technique for forming a more complicated micro three-dimensional structure quickly and easily is desired. This is because the optical waveguide and the micro optical switch can be expected to realize high performance, miniaturization, and / or light weight by such technology.

なお、上記においては光導波路、及びマイクロ光スイッチにおける課題について記載したが、これらに限定されるものではなく、マイクロレンズ、光フィルター、光送受信モジュール、光合成分波器、光減衰器(アッテネータ)、フォトニック結晶、フォトニックフラクタル等を含めたマイクロ光デバイス全般において同様の課題が生じ得る。なお、本明細書でマイクロ光デバイスとは、マイクロオーダの解像度を要するものであって、光情報、光通信分野で用いられる光スイッチ等に代表される各種デバイス、マイクロレンズ、光フィルター等の各種部品、各種構造物全般を含むものとする。   In addition, in the above, although the subject in an optical waveguide and a micro optical switch was described, it is not limited to these, A micro lens, an optical filter, an optical transmission / reception module, an optical synthesis demultiplexer, an optical attenuator (attenuator), Similar problems may occur in general micro optical devices including photonic crystals, photonic fractals, and the like. In this specification, the micro optical device requires a micro-order resolution, and includes various devices such as optical switches used in the field of optical information and optical communication, micro lenses, optical filters, and the like. Including parts and various structures in general.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、複雑な3次元構造の形成が可能であって、精度良く、迅速かつ簡便に形成することができるマイクロ光デバイス等の製造方法等を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described background, and an object of the present invention is to provide a micro optical device that can form a complicated three-dimensional structure and can be formed accurately, quickly and easily. It is to provide a manufacturing method and the like.

本発明に係るマイクロ光デバイス等の製造方法は、投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元構造を形成するものである。本発明は、マイクロ光デバイス等の構造が、オーバーハング部を有する複雑な三次元構造である場合に、特に有効である。   The method for manufacturing a micro optical device or the like according to the present invention includes forming a cured resin layer by selectively irradiating light to a photocurable resin liquid by repeating collective exposure in units of projection areas, and the cured resin layer. Are sequentially laminated to form a three-dimensional structure. The present invention is particularly effective when the structure of a micro optical device or the like is a complicated three-dimensional structure having an overhang portion.

ここで、前記投影領域の面積が100mm以下の場合に、本発明に係る光造形方法を用いれば、より精度良くマイクロ光デバイス等を形成することができる。
同様に、前記硬化樹脂層の1層の厚さは10μm以下の場合に、本発明に係る光造形方法を用いれば、より精度良くマイクロ光デバイス等を形成することができる。
Here, when the area of the projection region is 100 mm 2 or less, a micro optical device or the like can be formed with higher accuracy by using the optical modeling method according to the present invention.
Similarly, when the thickness of one layer of the cured resin layer is 10 μm or less, a micro optical device or the like can be formed with higher accuracy by using the optical modeling method according to the present invention.

本発明に係るマイクロ光デバイス等の製造方法は、前記光硬化性樹脂液を、ディジタルミラーデバイスによって反射された光によって硬化させる場合に好適に用いられる。   The manufacturing method of a micro optical device or the like according to the present invention is suitably used when the photocurable resin liquid is cured by light reflected by a digital mirror device.

また、本発明に係るマイクロ光デバイス等の製造方法は、前記光硬化性樹脂液にセラミックス粉体を配合することにより、より強度を持たせたセラミックスを材料とするマイクロ光デバイス等を製造することができる。また、前記光硬化性樹脂液にフィラーを配合することにより、フィラーの特性を兼ね備えたマイクロ光デバイス等を製造することができる。   Moreover, the manufacturing method of the micro optical device etc. which concerns on this invention manufactures the micro optical device etc. which used ceramics which gave strength more as a material by mix | blending ceramic powder with the said photocurable resin liquid. Can do. Moreover, the micro optical device etc. which have the characteristic of a filler can be manufactured by mix | blending a filler with the said photocurable resin liquid.

本発明によれば、複雑な3次元構造の形成が可能であって、精度良く、迅速かつ簡便に形成することができるマイクロ光デバイス等の製造方法等を提供することができるという優れた効果を有する。   According to the present invention, it is possible to form a complicated three-dimensional structure, and it is possible to provide an excellent effect that it is possible to provide a manufacturing method of a micro optical device and the like that can be formed accurately, quickly and easily. Have.

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。   Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. It goes without saying that other embodiments may also belong to the category of the present invention as long as they match the gist of the present invention.

[実施形態1(マイクロ光デバイスの製造方法)]
図1は、本実施形態1に係るマイクロ光デバイスを製造する光硬化造形装置(以下、「光造形装置」という)の装置構成の一例を説明するための図である。同図に示すように、光造形装置100は、光源1、ディジタルミラーデバイス(以下「DMD」と略記する)2、レンズ3、造形テーブル4、ディスペンサ5、リコータ6、制御部7、記憶部8等を備えている。
[Embodiment 1 (Method of Manufacturing Micro Optical Device)]
FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a device configuration of a photo-curing modeling apparatus (hereinafter referred to as “optical modeling apparatus”) that manufactures the micro optical device according to the first embodiment. As shown in the figure, the optical modeling apparatus 100 includes a light source 1, a digital mirror device (hereinafter abbreviated as “DMD”) 2, a lens 3, a modeling table 4, a dispenser 5, a recoater 6, a control unit 7, and a storage unit 8. Etc.

光源1には、レーザ光線を発振可能なものが搭載されている。光源1から発生するレーザ光線を、後述する光硬化性樹脂液に照射せしめることにより、光硬化性樹脂液を硬化させることができる。従って、光硬化性樹脂液10を硬化可能な波長のレーザ光線を搭載する必要がある。光源1の具体例としては、405nmのレーザ光を発生させるレーザダイオード(LD)や紫外線(UV)ランプ等を挙げることができる。   The light source 1 is mounted with a laser beam capable of oscillating. The photo-curable resin liquid can be cured by irradiating a photo-curable resin liquid described later with a laser beam generated from the light source 1. Therefore, it is necessary to mount a laser beam having a wavelength capable of curing the photocurable resin liquid 10. Specific examples of the light source 1 include a laser diode (LD) that generates 405 nm laser light and an ultraviolet (UV) lamp.

ディジタルミラーデバイス(DMD)2は、テキサス・インスツルメンツ社によって開発されたデバイスであり、CMOS半導体上に独立して動くマイクロミラーが数十万〜数百万個、例えば、48万〜131万個敷き詰められているものである。個々のマイクロミラーは、静電界作用によって、それぞれ独立に対角線を軸に約±10度、例えば、±12度程度傾けることが可能である。個々のマイクロミラーの角度を制御することにより、後述する造形テーブルに形成された光硬化性樹脂液の所望の位置に光照射することができる。   The digital mirror device (DMD) 2 is a device developed by Texas Instruments, and hundreds of thousands to millions of micromirrors that move independently on a CMOS semiconductor, for example, 480,000 to 1.31 million are spread. It is what has been. Individual micromirrors can be tilted by about ± 10 degrees, for example, about ± 12 degrees about the diagonal line by an electrostatic field effect. By controlling the angle of each micromirror, it is possible to irradiate a desired position of a photocurable resin liquid formed on a modeling table described later.

DMD2に備えられたマイクロミラーは、各マイクロミラーのピッチの1辺の長さが約10μm、例えば、13.68μmの四角形の形状を有している。隣接するマイクロミラーの間隔は、例えば1μmである。本実施形態1で用いたDMD2の全体は、40.8×31.8mmの四角形状を有し(うち、ミラー部は、14.0×10.5mmの四角形状を有する。)、1辺の長さが13.68μmのマイクロミラー786,432個により構成されている。光源1から出射されたレーザ光線は、DMD2の構成部材であるマイクロミラーによって反射される。そして、DMD2において、集光レンズ3に向かって反射されたレーザ光線が造形テーブル4上の光硬化性樹脂液10に照射されることになる。   The micromirror provided in the DMD 2 has a square shape in which the length of one side of the pitch of each micromirror is about 10 μm, for example, 13.68 μm. The interval between adjacent micromirrors is, for example, 1 μm. The entire DMD 2 used in the first embodiment has a square shape of 40.8 × 31.8 mm (of which the mirror portion has a square shape of 14.0 × 10.5 mm). It is composed of 786,432 micromirrors having a length of 13.68 μm. The laser beam emitted from the light source 1 is reflected by a micromirror that is a constituent member of the DMD 2. In the DMD 2, the laser beam reflected toward the condensing lens 3 is irradiated to the photocurable resin liquid 10 on the modeling table 4.

レンズ3は、DMD2によって反射されたレーザ光線を光硬化性樹脂液10上に導き、投影領域を形成する役割を担う。レンズ3は、凸レンズを用いた集光レンズであってもよいし、凹レンズを用いてもよい。凹レンズを用いると、DMD2の実サイズよりも大きな投影領域を得ることができる。本実施形態1に係るレンズ3は、凸レンズからなる集光レンズであって、入射光を約15倍縮小し、光硬化性樹脂液10により形成されたコート層9上に集光している。   The lens 3 plays a role of guiding the laser beam reflected by the DMD 2 onto the photocurable resin liquid 10 to form a projection region. The lens 3 may be a condenser lens using a convex lens or a concave lens. When a concave lens is used, a projection area larger than the actual size of DMD 2 can be obtained. The lens 3 according to the first embodiment is a condensing lens composed of a convex lens, and reduces incident light about 15 times and condenses it on a coat layer 9 formed of the photocurable resin liquid 10.

造形テーブル4は、平板状の載置台からなる。造形テーブル4上で、光硬化性樹脂液10のコート層9が形成され、レンズ3を介してレーザ光線が照射されて光硬化性樹脂液10の硬化が行われる。造形テーブル4は、図示しない駆動機構、即ち移動機構によって、水平移動及び垂直移動が移動自在に構成されている。この駆動機構により、所望の範囲に亘って光造形を行なうことができる。ディスペンサ5は、光硬化性樹脂液10を収容し、予め定められた量の光硬化性樹脂液10を所定位置に供給可能なように構成されている。また、リコータ6は、例えば、ブレード機構と移動機構を備え、光硬化性樹脂液10を均一に塗布可能なように構成されている。   The modeling table 4 is composed of a flat mounting table. The coating layer 9 of the photocurable resin liquid 10 is formed on the modeling table 4, and the photocurable resin liquid 10 is cured by being irradiated with a laser beam through the lens 3. The modeling table 4 is configured so that horizontal movement and vertical movement can be freely moved by a driving mechanism (not shown), that is, a moving mechanism. With this drive mechanism, stereolithography can be performed over a desired range. The dispenser 5 is configured to store the photocurable resin liquid 10 and supply a predetermined amount of the photocurable resin liquid 10 to a predetermined position. The recoater 6 includes, for example, a blade mechanism and a moving mechanism, and is configured so that the photocurable resin liquid 10 can be uniformly applied.

制御部7は、露光データを含む制御データに応じて光源1、DMD2、造形テーブル4、ディスペンサ5、リコータ6を制御する。制御部7は、典型的には、コンピュータに所定のプログラムをインストールすることによって構成することができる。典型的なコンピュータの構成は、中央処理装置(CPU)とメモリとを含んでいる。CPUとメモリとは、バスを介して補助記憶装置としてのハードディスク装置などの外部記憶装置に接続される。この外部記憶装置が、制御部7の記憶部8として機能する。記憶部8として機能するフレキシブルディスク装置、ハードディスク装置、CD−ROMドライブ等の記憶媒体駆動装置は、各種コントローラを介してバスに接続される。フレキシブルディスク装置等の記憶媒体駆動装置には、フレキシブルディスク等の可搬型記憶媒体が挿入される。記憶媒体にはオペレーティングシステムと協働してCPUなどに命令を与え、本実施形態を実施するための所定のコンピュータプログラムを記憶することができる。   The control unit 7 controls the light source 1, DMD 2, modeling table 4, dispenser 5, and recoater 6 according to control data including exposure data. The control unit 7 can typically be configured by installing a predetermined program in a computer. A typical computer configuration includes a central processing unit (CPU) and memory. The CPU and the memory are connected to an external storage device such as a hard disk device as an auxiliary storage device via a bus. This external storage device functions as the storage unit 8 of the control unit 7. A storage medium drive device such as a flexible disk device, a hard disk device, or a CD-ROM drive that functions as the storage unit 8 is connected to a bus via various controllers. A portable storage medium such as a flexible disk is inserted into a storage medium driving apparatus such as a flexible disk apparatus. The storage medium can store a predetermined computer program for executing the present embodiment by giving instructions to the CPU in cooperation with the operating system.

記憶部8には、造形しようとする立体モデルを複数の層にスライスして得られる断面群の露光データを含む制御データが格納されている。制御部7は、記憶部8に格納された露光データに基づいて、主としてDMD2における各マイクロミラーの角度制御、造形テーブル4の移動(即ち、立体モデルに対するレーザ光の照射範囲の位置)を制御し、立体モデルの造形を指示する。   The storage unit 8 stores control data including exposure data of cross-sectional groups obtained by slicing a three-dimensional model to be modeled into a plurality of layers. Based on the exposure data stored in the storage unit 8, the control unit 7 mainly controls the angle control of each micromirror in the DMD 2 and the movement of the modeling table 4 (that is, the position of the laser beam irradiation range with respect to the three-dimensional model). Instructing the modeling of the three-dimensional model.

コンピュータプログラムは、メモリにロードされることによって実行される。コンピュータプログラムは、圧縮したり、複数に分割して記憶媒体に記憶することができる。さらに、ユーザ・インターフェース・ハードウェアを備えることができる。ユーザ・インターフェース・ハードウェアとしては、例えば、マウスなどの入力をするためのポインティング・デバイス、キーボード、あるいは視覚データをユーザに提示するためのディスプレイなどがある。   The computer program is executed by being loaded into a memory. The computer program can be compressed or divided into a plurality of pieces and stored in a storage medium. In addition, user interface hardware can be provided. Examples of the user interface hardware include a pointing device for inputting such as a mouse, a keyboard, or a display for presenting visual data to the user.

光硬化性樹脂液10としては、レーザ光線によって硬化するものを選定する。レーザ光線としては、例えば可視光、紫外光を好適に用いることができる。例えば、15μm以上(500mJ/cm)の硬化深度を有し、粘度が1500〜2500Pa・s(25℃)の405nm対応のアクリル系樹脂を用いることができる。 As the photocurable resin liquid 10, one that is cured by a laser beam is selected. As the laser beam, for example, visible light or ultraviolet light can be suitably used. For example, an acrylic resin corresponding to 405 nm having a curing depth of 15 μm or more (500 mJ / cm 2 ) and a viscosity of 1500 to 2500 Pa · s (25 ° C.) can be used.

次に、本実施形態1に係る光造形装置100の光造形動作について説明する。まず、ディスペンサ5に未硬化状態の光硬化性樹脂液10を収容する。造形テーブル4は初期位置にある。ディスペンサ5は、収容された光硬化性樹脂液10を所定量だけ造形テーブル4上に供給する。リコータ6は、光硬化性樹脂液10を引き伸ばすようにして掃引し、硬化させる一層分のコート層9を形成する。   Next, the optical modeling operation of the optical modeling apparatus 100 according to the first embodiment will be described. First, the uncured photocurable resin liquid 10 is accommodated in the dispenser 5. The modeling table 4 is in the initial position. The dispenser 5 supplies the stored photocurable resin liquid 10 on the modeling table 4 by a predetermined amount. The recoater 6 sweeps the photocurable resin liquid 10 so as to stretch and forms a coat layer 9 for one layer to be cured.

光源1から出射したレーザ光線は、DMD2に入射する。DMD2は、記憶部8に格納された露光データに応じて制御部7により制御され、制御部7により光硬化性樹脂液10により形成されたコート層9の所望の位置にレーザ光線が照射されるようにマイクロミラーの角度が調整される。これにより、そのマイクロミラーを反射したレーザ光線が集光レンズ3を介して光硬化性樹脂液10のコート層9に照射され、その他のマイクロミラーを反射したレーザ光線は光硬化性樹脂液10のコート層9に照射されないようにすることができる。光硬化性樹脂液10へのレーザ光線の照射は例えば0.4秒間行なわれる。このとき、光硬化性樹脂液10のコート層9への投影領域は例えば、1.3×1.8mm程度であり、0.6×0.9mm程度まで縮小することもできる。投影領域の面積は、通常、100mm以下であることが望ましい。 The laser beam emitted from the light source 1 enters the DMD 2. The DMD 2 is controlled by the control unit 7 according to the exposure data stored in the storage unit 8, and the control unit 7 irradiates the laser beam to a desired position of the coat layer 9 formed by the photocurable resin liquid 10. Thus, the angle of the micromirror is adjusted. Thereby, the laser beam reflected from the micromirror is irradiated onto the coating layer 9 of the photocurable resin liquid 10 through the condenser lens 3, and the laser beam reflected from the other micromirrors is applied to the photocurable resin liquid 10. The coating layer 9 can be prevented from being irradiated. Irradiation of the laser beam to the photocurable resin liquid 10 is performed for 0.4 seconds, for example. At this time, the projection region of the photocurable resin liquid 10 onto the coat layer 9 is, for example, about 1.3 × 1.8 mm, and can be reduced to about 0.6 × 0.9 mm. The area of the projection region is usually desirably 100 mm 2 or less.

レンズ3に、凹レンズを用いることにより、投影領域を6×9cm程度まで拡大することもできる。投影領域をこのサイズを超えて拡大すると、投影領域に照射されるレーザ光線のエネルギー密度が低くなるため、光硬化性樹脂液10の硬化が不十分となることがある。レーザ光線の投影領域のサイズよりも大きい立体モデルを形成する場合には、例えば造形テーブル4を移動機構によって水平移動させることにより、レーザ光線の照射位置を移動させて全造形領域を照射する。投影領域毎に1ショットずつレーザ光線の照射を実行していく。各投影領域に対するレーザ光線の照射の制御については後に詳述する。   By using a concave lens for the lens 3, the projection area can be expanded to about 6 × 9 cm. If the projection area is enlarged beyond this size, the energy density of the laser beam applied to the projection area is lowered, so that the photocurable resin liquid 10 may be insufficiently cured. In the case of forming a three-dimensional model larger than the size of the laser beam projection area, for example, the modeling table 4 is moved horizontally by a moving mechanism to move the irradiation position of the laser beam and irradiate the entire modeling area. Laser beam irradiation is performed one shot at each projection area. Control of laser beam irradiation to each projection area will be described in detail later.

このようにして、投影領域を移動させて、各投影領域を単位としてレーザ光線の照射、即ち露光を実行することによって、光硬化性樹脂液10のコート層9が硬化し、第1層目の硬化樹脂層が形成される。1層分の積層ピッチ、即ち、硬化樹脂層1層の厚みは、例えば、1〜50μm、好ましくは、2〜10μm、さらに好ましくは、5〜10μmである。従来の光造形方法では、造形物の解像度を上げることが困難であり、典型的な解像度は、数10μmであって、より高解像度を要するマイクロ光デバイスの製造に用いることは困難であった。本実施形態1に係る光造形方法によれば、例えば、解像度を積層方向に5μm程度、造形テーブルと平行な平面方向解像度を2μm程度に上げることができる。   In this way, by moving the projection area and performing irradiation of the laser beam with each projection area as a unit, that is, exposure, the coat layer 9 of the photocurable resin liquid 10 is cured, and the first layer A cured resin layer is formed. The lamination pitch for one layer, that is, the thickness of one cured resin layer is, for example, 1 to 50 μm, preferably 2 to 10 μm, and more preferably 5 to 10 μm. In the conventional optical modeling method, it is difficult to increase the resolution of the modeled object, and the typical resolution is several tens of μm, and it is difficult to use it for manufacturing a micro optical device that requires higher resolution. According to the optical modeling method according to the first embodiment, for example, the resolution can be increased to about 5 μm in the stacking direction, and the planar resolution parallel to the modeling table can be increased to about 2 μm.

続いて、同様の工程で所望形状の立体モデルの2層目を同時形成する。具体的には、1層目として形成された硬化樹脂層の外側にディスペンサ5より供給された光硬化性樹脂液10をリコータ6によって立体モデルを越えて引き伸ばされるように均一厚さに塗布する。そして、レーザ光線を照射することにより、第2層目の硬化樹脂層を第1層目の硬化樹脂層の上に形成する。以下同様にして第3層目以降の硬化樹脂層を順次堆積させる。そして、最終層の堆積終了後、造形テーブル4上に形成された造形物を取り出す。造形物は、表面に付着した未硬化の光硬化性樹脂液を洗浄その他の方法で除去する。その後、必要に応じて造形物は、紫外線ランプ等により照射し又は加熱して、硬化を更に進行させてもよい。   Subsequently, a second layer of a three-dimensional model having a desired shape is simultaneously formed in the same process. Specifically, the photocurable resin liquid 10 supplied from the dispenser 5 is applied to the outside of the cured resin layer formed as the first layer so as to be stretched beyond the three-dimensional model by the recoater 6. Then, a second cured resin layer is formed on the first cured resin layer by irradiating with a laser beam. Thereafter, the third and subsequent cured resin layers are sequentially deposited in the same manner. And after completion | finish of deposition of the last layer, the modeling thing formed on the modeling table 4 is taken out. The molded object removes the uncured photocurable resin liquid adhering to the surface by washing or other methods. Thereafter, the molded article may be further irradiated with an ultraviolet lamp or the like as necessary to further cure.

マイクロ光デバイスの構造は、上記の光造形装置の解像度の範囲内であれば、任意の構造のものを製造することができる。例えば、マイクロ光スイッチ、光送受信モジュール、光合成分波器、光減衰器(アッテネータ)、光導波路、マイクロレンズ、フォトニック結晶、フォトニックフラクタル等を挙げることができる。電極やセンサー等の電気デバイスとする場合には、基板の表面に蒸着法等により金属薄層を設けて導電性を付与すればよい。また、より複雑な三次元構造を形成して、例えば、基板表面から一部分が浮遊した薄片を形成することにより、機械的振動に対する歪を検出するセンサーとすること等ができる。本実施形態に係るマイクロ光デバイス等の製造方法は、特に、オーバーハング部を有するような複雑な三次元構造を有するマイクロ光デバイスの製造に好適である。   As long as the structure of the micro optical device is within the range of the resolution of the optical modeling apparatus, an arbitrary structure can be manufactured. For example, a micro optical switch, an optical transmission / reception module, an optical synthesis demultiplexer, an optical attenuator (attenuator), an optical waveguide, a micro lens, a photonic crystal, a photonic fractal, and the like can be given. In the case of an electric device such as an electrode or a sensor, a conductive layer may be provided by providing a thin metal layer on the surface of the substrate by vapor deposition or the like. Further, by forming a more complicated three-dimensional structure, for example, by forming a thin piece partly floating from the surface of the substrate, a sensor for detecting strain against mechanical vibration can be obtained. The manufacturing method of the micro optical device and the like according to the present embodiment is particularly suitable for manufacturing a micro optical device having a complicated three-dimensional structure having an overhang portion.

ここで、「オーバーハング部を有する」とは、その三次元構造体をいかなる方向に回転させて設置した場合でも、垂直方向から見てオーバーハング部が少なくとも一部に存在することをいうものとする。また、オーバーハング部とは、ある部分の水平幅よりもより上部の水平幅の方が大きい構造を有する部分であって、典型的には、柱部と柱部の上に接して柱部よりも水平方向に張り出したいわば天井部からなる構造であるが、直線的な構造に限定するものではなく、垂直方向に立ち上がりつつ水平方向へ張り出す曲面を有する形状や、いわゆる逆テーパー形状等も含む概念である。例えば、円筒形状は、筒状側面を水平面に接した状態で垂直方向から見ると下半分がオーバーハング部であるが、底面を水平面に接した状態で垂直方向から見るとオーバーハング部は無いので、オーバーハング部を有する三次元構造ではない。他方、球形状は、オーバーハング部を有する三次元構造である。本発明の製造方法が、オーバーハング部を有する三次元構造の造形に特に適しているのは、ある方向から見ればオーバーハング部を有しない構造であれば、オーバーハング部を本質的に製造困難な他の製造方法を用いてもその三次元構造の造形が可能となる場合もあり得るからである。   Here, “having an overhang portion” means that the overhang portion is present at least in part when viewed from the vertical direction even when the three-dimensional structure is rotated and installed in any direction. To do. In addition, the overhang portion is a portion having a structure in which the horizontal width of the upper portion is larger than the horizontal width of a certain portion. Typically, the overhang portion is in contact with the column portion and the column portion than the column portion. However, it is not limited to a linear structure, but includes a shape having a curved surface that rises in the vertical direction and protrudes in the horizontal direction, and a so-called reverse tapered shape. It is a concept. For example, the cylindrical shape is an overhang when viewed from the vertical direction with the cylindrical side in contact with the horizontal plane, but there is no overhang when viewed from the vertical direction with the bottom in contact with the horizontal plane. It is not a three-dimensional structure having an overhang portion. On the other hand, the spherical shape is a three-dimensional structure having an overhang portion. The manufacturing method of the present invention is particularly suitable for modeling a three-dimensional structure having an overhang portion. If the structure has no overhang portion when viewed from a certain direction, the overhang portion is essentially difficult to manufacture. This is because even if other manufacturing methods are used, it may be possible to form the three-dimensional structure.

本実施形態1に用いられる光硬化性樹脂液は、特に限定されるものではないが、通常、ラジカル重合性化合物及び/又はカチオン重合性化合物を有してなる光硬化性樹脂液組成物が好適に用いられる。また、これらの光硬化性樹脂液組成物には、通常、ラジカル重合又はカチオン重合にそれぞれ対応した光重合開始剤が添加される。   The photocurable resin liquid used in Embodiment 1 is not particularly limited, but a photocurable resin liquid composition comprising a radical polymerizable compound and / or a cationic polymerizable compound is usually preferable. Used for. In addition, a photopolymerization initiator corresponding to radical polymerization or cationic polymerization is usually added to these photocurable resin liquid compositions.

上述の光造形方法により得られた硬化物からなる立体形状物は、光造形装置から取り出し、その表面や内部に残存する未反応の組成物(未硬化)を除去した後、必要に応じて洗浄する。ここで、洗浄剤としては、イソプロピルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類に代表されるアルコール系有機溶剤;アセトン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等に代表されるケトン系有機溶剤;テルペン類に代表される脂肪族系有機溶剤が挙げられる。上記工程により、光硬化性樹脂の硬化物からなるマイクロ光デバイスを得ることができる。上記製造方法によれば、軽量化を達成できるマイクロ光デバイスを製造することができる。   The three-dimensional object made of the cured product obtained by the above-described stereolithography method is taken out from the stereolithography apparatus, and after removing the unreacted composition (uncured) remaining on the surface and inside thereof, it is washed as necessary. To do. Here, as the cleaning agent, alcohol-based organic solvents typified by alcohols such as isopropyl alcohol and ethyl alcohol; ketone-based organic solvents typified by acetone, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, etc .; aliphatics typified by terpenes Based organic solvents. By the above process, a micro optical device made of a cured product of a photocurable resin can be obtained. According to the manufacturing method described above, a micro optical device that can achieve weight reduction can be manufactured.

上記マイクロ光デバイスをセラミックで製造したい場合には、光硬化性樹脂液組成物に、セラミック粉体を配合することができる。セラミック粉体の数平均粒径は、電子顕微鏡法による測定で、通常、0.01〜0.5μmである。好ましくは、0.02〜0.3μmであり、さらに好ましくは、0.05〜0.2μmである。セラミック粉体の粒径は、電子顕微鏡法により測定されるが、特に、走査型電子顕微鏡法が好ましい。セラミック粉体の形状は、粒径を定義できる程度の粒状性を有していれば、特に限定されるものではない。例えば、球状に限らず、粉砕体等であってもよい。球状以外の形状である場合の粒径は、電子顕微鏡像における最大径により定義される。光硬化性樹脂液へのセラミック粉体の混合量は、特に限定されないが、光硬化性樹脂液10より形成されたコート層9がレーザ光線により十分に硬化可能な量にする必要がある。   When it is desired to manufacture the micro optical device with ceramic, ceramic powder can be blended with the photocurable resin liquid composition. The number average particle size of the ceramic powder is usually 0.01 to 0.5 μm as measured by electron microscopy. Preferably, it is 0.02-0.3 micrometer, More preferably, it is 0.05-0.2 micrometer. The particle size of the ceramic powder is measured by electron microscopy, but scanning electron microscopy is particularly preferred. The shape of the ceramic powder is not particularly limited as long as it has a granularity that can define the particle size. For example, it is not limited to a spherical shape, and may be a pulverized body or the like. The particle diameter in the case of a shape other than a spherical shape is defined by the maximum diameter in the electron microscope image. The mixing amount of the ceramic powder in the photocurable resin liquid is not particularly limited, but it is necessary that the coating layer 9 formed from the photocurable resin liquid 10 is sufficiently hardened by the laser beam.

セラミック粉体を構成する材質は、照射波長の光を実質的に吸収しないものであれば特に制限されない。例えば、アルミナ、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、フェライト、チタン酸バリウム、アパタイト、シリカ等の酸化物、炭化ジルコニウム、炭化ケイ素等の炭化物、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、サイアロン(SiAlON)等の窒化物、又はこれらの混合物等の各種セラミックスを用いることができる。通常、(A)成分としては、アルミナ、ジルコニア、シリカ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、又はこれらの混合物等が好適に用いられる。   The material constituting the ceramic powder is not particularly limited as long as it does not substantially absorb the light having the irradiation wavelength. For example, oxides such as alumina, zirconia, titania, zinc oxide, ferrite, barium titanate, apatite, silica, carbides such as zirconium carbide and silicon carbide, nitrides such as aluminum nitride, silicon nitride, and sialon (SiAlON), or Various ceramics such as a mixture thereof can be used. Usually, as the component (A), alumina, zirconia, silica, aluminum nitride, silicon nitride, or a mixture thereof is preferably used.

セラミック粉体を配合した光硬化性樹脂液を光硬化させて得られた立体形状物を焼成すると、セラミックス焼成体からなるマイクロ光デバイスとなる。上記光硬化性樹脂液の硬化物に比して、マイクロ光デバイスの機械的強度、耐久性、耐熱性の高いマイクロ光デバイスを得ることができる。なお、ここで用いる焼成方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。また、セラミック粉体を配合した光硬化性樹脂液を光硬化させて得られた立体造形物は、必ずしも焼成する必要は無く、このまま用いてもよい。   When a three-dimensionally shaped product obtained by photocuring a photocurable resin liquid containing ceramic powder is fired, a micro optical device made of a ceramic fired body is obtained. Compared with the hardened | cured material of the said photocurable resin liquid, the micro optical device with the high mechanical strength of a micro optical device, durability, and heat resistance can be obtained. In addition, the baking method used here is not specifically limited, A well-known method can be used. In addition, a three-dimensional model obtained by photocuring a photocurable resin liquid containing a ceramic powder does not necessarily need to be fired and may be used as it is.

本実施形態に係るマイクロ光デバイスの耐熱性を高めたい場合には、光硬化性樹脂液組成物に、耐熱性を向上できるフィラー(以下、単に「耐熱性フィラー」と略記する)を配合することができる。耐熱性フィラーの数平均粒径は、電子顕微鏡法による測定で、通常、10〜1000nmである。耐熱性フィラーの粒径は、電子顕微鏡法により測定されるが、特に、走査型電子顕微鏡法が好ましい。フィラーの形状は、粒径を定義できる程度の粒状性を有していれば、特に限定されるものではない。例えば、球状に限らず、粉砕体等であってもよい。球状以外の形状である場合の粒径は、電子顕微鏡像における最大径により定義される。   When it is desired to increase the heat resistance of the micro optical device according to this embodiment, a filler capable of improving heat resistance (hereinafter simply referred to as “heat-resistant filler”) is added to the photocurable resin liquid composition. Can do. The number average particle size of the heat-resistant filler is usually 10 to 1000 nm as measured by electron microscopy. The particle size of the heat-resistant filler is measured by electron microscopy, but scanning electron microscopy is particularly preferable. The shape of the filler is not particularly limited as long as it has a granularity that can define the particle size. For example, it is not limited to a spherical shape, and may be a pulverized body or the like. The particle diameter in the case of a shape other than a spherical shape is defined by the maximum diameter in the electron microscope image.

好適に用いることができる耐熱性フィラーとしては、例えば、シリカ粒子、エラストマー粒子等を挙げることができる。フィラーを構成する材質は、照射波長の光を実質的に吸収しないものであれば特に制限されない。フィラーの添加量は、特に限定されないが、光硬化性樹脂がレーザ光線により十分に硬化可能な量にする必要がある。なお、耐熱性フィラーに代えて、導電性フィラーや磁性フィラー等を光硬化性樹脂液に混合させ、得られる硬化物の特性を代えてもよい。各種フィラーを添加することにより、所望の物性を有するマイクロ光デバイスを得ることができる。   Examples of the heat-resistant filler that can be suitably used include silica particles and elastomer particles. The material constituting the filler is not particularly limited as long as it does not substantially absorb light having an irradiation wavelength. Although the addition amount of a filler is not specifically limited, It is necessary to make the photocurable resin into an amount that can be sufficiently cured by a laser beam. In addition, it replaces with a heat resistant filler, and a conductive filler, a magnetic filler, etc. may be mixed with a photocurable resin liquid, and the characteristic of the hardened | cured material obtained may be changed. By adding various fillers, a micro optical device having desired physical properties can be obtained.

次に、本実施形態に係る製造方法により製造することができるマイクロ光デバイスの一例について説明する。図3に示すような高分子光導波路50を製造する場合には、例えば、クラッド基板53とフィルム56からなる部分を一括して上記光造形方法によりまず製造する。続いて、コア溝52に相当する内部流路にコア材料54を充填して、光や熱による外部刺激により硬化させることによりコア55を形成すればよい。この際、コア55をより確実に充填させるために真空化で行ってもよい。光導波路材料としては、使用する光の波長帯に対する透明性が高いものであって、使用環境に適応した信頼性を兼ね備えたものであれば特に制限されない。なお、上記クラッド基板53とフィルムとを一括して造形する方法に代えて、クラッド基板53のみを光造形方法により形成し、続いてコア溝52にコア55を充填し、その後にフィルム56を形成してもよい。   Next, an example of a micro optical device that can be manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment will be described. When the polymer optical waveguide 50 as shown in FIG. 3 is manufactured, for example, a portion composed of the clad substrate 53 and the film 56 is first manufactured by the above-described stereolithography method. Subsequently, the core 55 may be formed by filling the internal flow path corresponding to the core groove 52 with the core material 54 and curing it by external stimulation by light or heat. At this time, the core 55 may be evacuated in order to fill the core 55 more reliably. The optical waveguide material is not particularly limited as long as it has high transparency with respect to the wavelength band of light to be used and has reliability adapted to the use environment. Instead of forming the clad substrate 53 and the film collectively, only the clad substrate 53 is formed by an optical shaping method, then the core 55 is filled with the core 55, and then the film 56 is formed. May be.

図2に、マイクロ光デバイスの一例として、マイクロ光学スキャナーの概念図を示す。マイクロ光学スキャナー30は、小型の鏡の向きを制御することにより、光ビームの反射方向を可変制御する機能を有するマイクロ光デバイスである。図中、電磁石等の駆動力発生部31を埋設した基部32と、上端面に鏡面33を有し、駆動力発生部31と相対する位置に設けられた下部両端部に永久磁石等の駆動力受動部34を有するミラー部35とが、バネ部36により機械的に連結されている。従来は、このような構造のマイクロ光デバイス30を製造するためには、例えば、基部32と、バネ部36と、ミラー部35を別々に製造した後に各部を組み合わせてマイクロ光デバイスを組み立てる必要があった。本発明のマイクロ光デバイスの製造方法によれば、例えば、基部32とバネ部36とミラー部35の主構造部分を一体として製造した後、必要な電気回路等を組み込み、鏡面加工等を施す等の後加工を行うことにより、効率的にマイクロ光デバイスを製造することができる。   FIG. 2 shows a conceptual diagram of a micro optical scanner as an example of a micro optical device. The micro optical scanner 30 is a micro optical device having a function of variably controlling the reflection direction of a light beam by controlling the direction of a small mirror. In the drawing, a base 32 in which a driving force generating part 31 such as an electromagnet is embedded, a mirror surface 33 on the upper end surface, and a driving force such as a permanent magnet at both lower ends provided at positions facing the driving force generating part 31. A mirror part 35 having a passive part 34 is mechanically connected by a spring part 36. Conventionally, in order to manufacture the micro optical device 30 having such a structure, for example, it is necessary to assemble the micro optical device by combining the respective parts after manufacturing the base portion 32, the spring portion 36, and the mirror portion 35 separately. there were. According to the manufacturing method of the micro optical device of the present invention, for example, after the main structure portion of the base portion 32, the spring portion 36, and the mirror portion 35 is manufactured as one body, a necessary electric circuit or the like is incorporated and mirror surface processing is performed. By performing the post-processing, the micro optical device can be efficiently manufactured.

フォトニック結晶を製造する場合には、高屈折層と低屈折率層を形成可能な光硬化性樹脂液10を収容するディスペンサ5及びリコータ6をそれぞれ用意する。そして、例えば、高屈折率層を形成する光硬化性樹脂液10を造形テーブル4上に供給してコート層を形成し、投影領域を単位として光照射を行えばよい。投影領域よりも大きな層を形成する場合には、移動機構によってレーザ光線の照射位置を移動させて全造形領域に光照射を行えばよい。続いて、低屈折率層を形成する光硬化性樹脂液10を造形テーブル4に供給してコート層9を形成し、同様にして光照射を行えばよい。これを順次繰り返すことにより、光波長域と同程度の空間スケールの屈折率周期構造を有するものを得ることができる。屈折率を異ならしめる方法としては、例えば、セラミック粉体の種類や含有量等を変える等の公知の方法を用いることができる。光フィルターも同様の光造形方法により製造することができる。なお、ディスペンサやリコータの数は、任意であって、積層したい材料の種類により適宜決定することができる。   When manufacturing a photonic crystal, a dispenser 5 and a recoater 6 that contain a photocurable resin liquid 10 capable of forming a high refractive index layer and a low refractive index layer are prepared. Then, for example, a photocurable resin liquid 10 for forming a high refractive index layer may be supplied onto the modeling table 4 to form a coat layer, and light irradiation may be performed in units of projection areas. When a layer larger than the projection area is formed, the irradiation position of the laser beam may be moved by a moving mechanism to irradiate the entire modeling area with light. Subsequently, the photocurable resin liquid 10 for forming the low refractive index layer may be supplied to the modeling table 4 to form the coat layer 9, and light irradiation may be performed in the same manner. By repeating this in sequence, it is possible to obtain one having a refractive index periodic structure with a spatial scale comparable to that of the optical wavelength region. As a method for making the refractive index different, for example, a known method such as changing the kind or content of the ceramic powder can be used. An optical filter can also be manufactured by the same optical modeling method. The number of dispensers and recoaters is arbitrary, and can be determined as appropriate depending on the type of material to be laminated.

フォトニックフラクタルを製造する場合には、高誘電率のセラミック粉体を含有した光硬化性樹脂液を造形テーブルに供給してコート層を形成し、CADデータに基づいて投影領域を単位として一括露光を繰り返し、光照射と光硬化性樹脂液のコートを繰り返すことにより所望の立体構造を造形することができる。   When manufacturing photonic fractals, a photocurable resin liquid containing high-permittivity ceramic powder is supplied to the modeling table to form a coat layer, and batch exposure is performed in units of projection areas based on CAD data. The desired three-dimensional structure can be modeled by repeating the light irradiation and the coating of the photocurable resin liquid.

また、各種マイクロ光デバイスそのものを製造するのみならず、同時にハウジング構造や、他の要素部材、他の要素部材との嵌合部位、係合部位等を併せて造形することもできる。例えば、フォトニック結晶の製造に併せて、フォトニック結晶を収容するハウジング構造を同時に上記光造形方法により製造することができる。従来別々のパーツとして製造していたものを一括して製造することにより、さらに迅速かつ簡便に光デバイスを製造することができる。また、他の要素部材等との嵌合部位や係合部位等を一体的に成形することにより、各種光デバイス自体や、これを搭載する装置の小型化や軽量化の実現を期待することができる。   Moreover, not only the various micro optical devices themselves can be manufactured, but also a housing structure, another element member, a fitting part with another element member, an engaging part and the like can be formed together. For example, in conjunction with the production of the photonic crystal, a housing structure that accommodates the photonic crystal can be simultaneously produced by the optical modeling method. An optical device can be manufactured more quickly and easily by collectively manufacturing conventional parts that have been manufactured separately. In addition, it is expected that various optical devices themselves and the equipment on which they are mounted will be made smaller and lighter by integrally forming fitting parts and engaging parts with other element members, etc. it can.

本実施形態1によれば、光照射工程で扱う断面を隣接する断面に切り替えながら、光照射と光硬化性樹脂液のコートを繰り返すことによって、所望のマイクロ光デバイスを精度良くかつ簡便に造形することができる。また、複雑な3次元構造を有するマイクロ光デバイスの製造も可能である。また、記憶部8に格納された露光データを書き換えるのみで、形状の異なるマイクロ光デバイスを簡便かつ迅速に製造することができるというメリットを有する。従って、少量多品種のマイクロ光デバイスやオーダメイドのマイクロ光デバイスを提供する場合に特に適している。また、オーバーハング構造を有する構造を、簡便かつ迅速に形成することができる。さらに、光硬化性樹脂液に、セラミック粉体や各種フィラーを混合することにより、機械的強度や、耐熱性等を高めたり、導電性を付与したりすることができるので、各種用途に応じた特性を有するマイクロ光デバイスを簡便に製造することができる。   According to the first embodiment, a desired micro optical device is accurately and easily shaped by repeating the light irradiation and the coating of the photocurable resin liquid while switching the cross section handled in the light irradiation process to the adjacent cross section. be able to. Also, it is possible to manufacture a micro optical device having a complicated three-dimensional structure. Further, there is an advantage that micro-optical devices having different shapes can be easily and quickly manufactured only by rewriting exposure data stored in the storage unit 8. Therefore, the present invention is particularly suitable for providing a small amount of various types of micro optical devices and custom-made micro optical devices. In addition, a structure having an overhang structure can be formed easily and quickly. Furthermore, by mixing ceramic powder and various fillers into the photocurable resin liquid, it is possible to increase mechanical strength, heat resistance, etc. A micro optical device having characteristics can be easily manufactured.

[実施形態2(マイクロ光デバイス用型の製造方法)]
次に、マイクロ光デバイス用型の製造方法について説明する。基本的な光造形方法は、上記実施形態1と同様であるが、以下の点が異なる。即ち、上記実施形態1においては、光造形方法によりマイクロ光デバイス自体を造形して製造したが、本実施形態2においては、マイクロ光デバイスの製造に用いられる型を光造形方法により造形して製造する点が異なる。なお、ここでいう型とは、雌型とマスター型を含む。いずれも当該光造形方法により造形、製造することができる。ここで、雌型とは、その型から形状を写し取ってマイクロ光デバイスを製造する型のことを言い、マスター型とは、最終的に製造しようとするマイクロ光デバイスの原型であって、マスター型の形状を写し取って前述の雌型を製造するための型のことを言う。
[Embodiment 2 (Manufacturing Method of Micro Optical Device Mold)]
Next, a method for manufacturing a micro optical device mold will be described. The basic stereolithography method is the same as that of the first embodiment except for the following points. That is, in the first embodiment, the micro optical device itself is modeled and manufactured by the optical modeling method. However, in the second embodiment, the mold used for manufacturing the micro optical device is modeled and manufactured by the optical modeling method. The point to do is different. Here, the mold includes a female mold and a master mold. Both can be modeled and manufactured by the optical modeling method. Here, the female mold refers to a mold for copying a shape from the mold to manufacture a micro optical device, and the master mold is a prototype of the micro optical device to be finally manufactured, which is a master mold. This is a mold for producing the above-described female mold by copying the shape.

図3に示す高分子光導波路50の雌型としては、例えば、第1の雌型基板と、第2の雌型基板とを接合することによって、その内部空間が目的とするクラッド基板53とフィルム56の形状を有しているものを用いることができる。この場合、第1の雌型基板と第2の雌型基板には、接合手段のほか、位置決め手段を設ける。接合手段及び位置決め手段の具体例としては、第1の雌型基板の枠体部等に凸部を設け、第2の雌型基板に、前記凸部と勘合する凹部を設け、これらを勘合せしめる方法を挙げることができる。また、ピン等の係合部及びこのピンに係合する被係合部を第1の雌型基板、第2の雌型基板に設けてもよい。また、第1の雌型基板及び第2の雌型基板を接合したときに形成される内部空間にマイクロ光デバイス形成用の液体を注入するための注入口を、第1の雌型基板又は/及び第2の雌型基板に光造形時に同時に形成しておく。なお、コア55は、後述する方法によりクラッド部を得た後に、上記実施形態1と同様にコア溝52に相当する内部流路にコア材料54を充填してコア55を形成すればよい。   As a female mold of the polymer optical waveguide 50 shown in FIG. 3, for example, a first female substrate and a second female substrate are bonded to each other so that an inner space of the clad substrate 53 and a film are intended. Those having 56 shapes can be used. In this case, the first female substrate and the second female substrate are provided with positioning means in addition to the joining means. As specific examples of the joining means and the positioning means, a convex portion is provided on the frame body portion or the like of the first female substrate, and a concave portion to be fitted to the convex portion is provided on the second female substrate so that these can be fitted together. A method can be mentioned. Further, an engaging portion such as a pin and an engaged portion that engages with the pin may be provided on the first female substrate and the second female substrate. In addition, an injection port for injecting a liquid for forming a micro-optical device into an internal space formed when the first female substrate and the second female substrate are joined is provided as the first female substrate or / And formed on the second female substrate at the same time as the optical modeling. The core 55 may be formed by filling the internal flow path corresponding to the core groove 52 with the core material 54 in the same manner as in the first embodiment after obtaining the clad portion by the method described later.

雌型として、第1の雌型基板及び第2の雌型基板により構成する方法に代えて、所望の造形物の内部空間構造を有する一体的な雌型を直接光造形方法により製造してもよい。この場合にも、内部空間にマイクロ光デバイス形成用の液体を注入するための注入口を同時に光造形方法により形成しておく。なお、光造形時に、注入口を形成する方法に代えて、雌型を造形後にマイクロ光デバイス形成用の液体を注入するための貫通孔を開けてもよい。   Instead of the method of forming the first female substrate and the second female substrate as a female mold, an integral female mold having an internal space structure of a desired modeled object may be manufactured by a direct optical modeling method. Good. Also in this case, an injection port for injecting a liquid for forming a micro optical device into the internal space is simultaneously formed by an optical modeling method. In addition, instead of the method of forming the injection port at the time of optical modeling, a through hole for injecting a liquid for forming a micro optical device may be opened after modeling the female mold.

雌型からマイクロ光デバイスを製造する場合には、雌型の中に、例えば、加水分解性基を有するシラン化合物を注入して、加熱等により加水分解・縮合反応を生じせしめて、雌型の形状を写し取ったポリシロキサンからなる三次元構造物を得る。この三次元構造物を雌型から剥離させることにより、マイクロ光デバイスを得ることができる。第1の雌型基板と第2の雌型基板を接合した場合には、これらを分離しマイクロ光デバイスを得ればよい。内部に所望の造形物の空間構造を有する一体的に形成された雌型を用いた場合には、メス等により当該雌型を切開し、マイクロ光デバイスを取り出すことができる。   When manufacturing a micro optical device from a female mold, for example, a silane compound having a hydrolyzable group is injected into the female mold and a hydrolysis / condensation reaction is caused by heating or the like. A three-dimensional structure made of polysiloxane whose shape is copied is obtained. A micro optical device can be obtained by peeling the three-dimensional structure from the female mold. When the first female substrate and the second female substrate are joined, they may be separated to obtain a micro optical device. When an integrally formed female mold having a desired space structure of a modeled object is used, the female mold can be cut out with a scalpel or the like, and the micro optical device can be taken out.

マイクロ光デバイス形成用の液体としては、マイクロ光デバイスに要求される信頼性、誘電率、屈折率等の諸特性を満たす材料であって、型に流し込んで充填した後に適当な方法で硬化できる材料であればよく、上記例に限定されるものではない。例えば、溶融金属を用いてもよいし、アクリル系樹脂等の熱硬化性の未硬化樹脂を充填した後に、熱を加えて型の内部で硬化させたり、熱可塑性樹脂を熱溶融して充填した後に、型内部を冷却することにより硬化させたりしてもよい。また、これらの樹脂にセラミック粉体やフィラーを配合することもできる。   The liquid for forming the micro optical device is a material that satisfies various characteristics such as reliability, dielectric constant, and refractive index required for the micro optical device, and can be cured by an appropriate method after being poured into a mold and filled. There is no limitation to the above example. For example, molten metal may be used, and after filling a thermosetting uncured resin such as an acrylic resin, heat is applied to cure inside the mold, or a thermoplastic resin is melted and filled. Later, the inside of the mold may be cooled to be cured. Moreover, ceramic powder and a filler can also be mix | blended with these resin.

雌型の構造が複雑である場合には、雌型を破壊しなければ剥離させることができない場合がある。このような場合には、例えば、300℃×6時間程度の熱処理により雌型を構成する硬化樹脂を焼失させたり、エタノール等の有機溶剤に浸漬して超音波処理を1時間程度行うことにより雌型を構成する硬化樹脂を膨潤させる等の方法により、雌型を破壊することができる。光硬化性樹脂液からなる雌型は、剥離のために破壊しない場合であっても、金型等に比較すると機械強度が劣るため、マイクロ光デバイスを製造することができる回数は限定的である。しかし、金型と異なり、簡便且つ迅速に雌型が得られるため、様々な形状のマイクロ光デバイスを試作する場合等に有効である。   If the structure of the female mold is complicated, the female mold may not be peeled unless the female mold is destroyed. In such a case, for example, the cured resin constituting the female mold is burned away by heat treatment at 300 ° C. for about 6 hours, or the ultrasonic treatment is performed for about 1 hour by immersing in an organic solvent such as ethanol. The female mold can be destroyed by a method such as swelling of the cured resin constituting the mold. Even if the female mold made of the photocurable resin liquid does not break due to peeling, the number of times that the micro optical device can be manufactured is limited because the mechanical strength is inferior to the mold or the like. . However, unlike a metal mold, a female mold can be obtained easily and quickly, which is effective when trial manufacture of micro optical devices having various shapes.

マイクロ光デバイスの雌型をセラミック材料としたい場合には、上記実施形態1と同様の方法により光硬化性樹脂液組成物にセラミック粉体を配合することができる。これにより、上記光硬化性樹脂液の硬化物に比して機械的強度の高いマイクロ光デバイスの雌型を得ることができる。これにより、雌型の耐久性を向上させることができる。また、上記実施形態1と同様の方法により光硬化性樹脂液組成物にフィラーを配合することにより、フィラー含有のマイクロ光デバイスの雌型を得ることもできる。   When it is desired to use the female die of the micro optical device as a ceramic material, ceramic powder can be blended with the photocurable resin liquid composition by the same method as in the first embodiment. Thereby, the female type | mold of a micro optical device with high mechanical strength compared with the hardened | cured material of the said photocurable resin liquid can be obtained. Thereby, durability of a female type | mold can be improved. Moreover, the female type | mold of a filler containing micro optical device can also be obtained by mix | blending a filler with a photocurable resin liquid composition by the method similar to the said Embodiment 1. FIG.

マイクロ光デバイスの雌型を、真空注型法により製造してもよい。真空注型法とは、FRPやシリコンゴムを金型の代わりに複製用の型として使用し、真空中でその型に対して樹脂を流し込み、複製を製作する方法をいう。例えば、真空注型法としては、以下の製造方法を採用することができる。まず、光硬化法によりマイクロ光デバイスのマスター型を製造する。この際、雌型から成形樹脂等を注入するための注入口も同時に形成しておく。次いで、これを型枠内にセットする。型枠のサイズ、マスター型のサイズにより、シリコン樹脂量を計算し、計量する。その後、硬化剤をシリコン樹脂に注入して攪拌して予備脱法し、これを型枠内に注入して真空脱法する。これにより、シリコン樹脂を隅々まで充填することができる。シリコン樹脂の硬化を促進させるために、一定温度の熱を所定時間加える。   The female mold of the micro optical device may be manufactured by a vacuum casting method. The vacuum casting method is a method for producing a replica by using FRP or silicon rubber as a replica mold instead of a mold and pouring resin into the mold in a vacuum. For example, the following manufacturing method can be adopted as the vacuum casting method. First, a master mold of a micro optical device is manufactured by a photocuring method. At this time, an injection port for injecting molding resin or the like from the female mold is also formed at the same time. Next, this is set in a mold. The amount of silicon resin is calculated and weighed according to the size of the mold and the size of the master mold. Thereafter, a curing agent is injected into the silicon resin and stirred to perform preliminary desorption, and this is poured into a mold and vacuum delamination. Thereby, silicon resin can be filled to every corner. In order to accelerate the curing of the silicon resin, heat at a constant temperature is applied for a predetermined time.

シリコン樹脂が完全に硬化した後、型枠を取り外し、シリコン樹脂にメスを入れて雌型を切開し、マスター型を取り外す。その後、成形樹脂量を計算して計量し、2液硬化性のポリウレタン樹脂等の硬化性樹脂を、真空状態でシリコンからなる雌型の注入口より注入する。真空状態と大気圧の差により、樹脂を雌型の内部空間構造の隅々にまで行き渡らせることができる。その後、定温で加熱硬化せしめる。硬化後、常温まで冷却し、型枠を取り外すことによりマイクロ光デバイスを得ることができる。マイクロ光デバイスの雌型としてシリコン樹脂を用いているので、柔軟性に優れる。このため、マスター型の破損を少なくすることができる。雌型としてシリコン樹脂を用いた場合には、一般的には20〜50個程度のマイクロ光デバイスを得ることができる。従って、少量を製造したい場合に特に適している。   After the silicone resin is completely cured, the mold is removed, a knife is inserted into the silicone resin, the female mold is opened, and the master mold is removed. Thereafter, the amount of molding resin is calculated and measured, and a curable resin such as a two-component curable polyurethane resin is injected from a female injection port made of silicon in a vacuum state. Due to the difference between the vacuum state and the atmospheric pressure, the resin can be spread to every corner of the female internal space structure. Thereafter, it is cured by heating at a constant temperature. After curing, the micro optical device can be obtained by cooling to room temperature and removing the mold. Since silicon resin is used as the female mold of the micro optical device, it is excellent in flexibility. For this reason, damage to the master mold can be reduced. When silicon resin is used as the female mold, generally about 20 to 50 micro optical devices can be obtained. Therefore, it is particularly suitable when a small amount is desired.

また、マイクロ光デバイスの雌型の製造方法として、ロストワックス法を用いてもよい。ロストワックス法は、まず、光硬化法によりマイクロ光デバイスのマスター型を製造する。この際、雌型から内部空間にマイクロ光デバイス形成用の樹脂液や溶融金属等を注入するための注入口も同時に形成しておく。次いで、このマスター型に石膏やセラミックのスラリーを塗布しては固める工程を繰り返し、これを焼成することにより、マイクロ光デバイスの雌型を得る。ロストワックス法により製造されたマイクロ光デバイスの雌型によれば、溶融金属を流し込めるだけの耐熱性を兼ね備えているので、金属製のマイクロ光デバイスを得たい場合に特に適している。金属製のマイクロ光デバイスによれば、機械的強度の高いものを得ることができる。   Further, the lost wax method may be used as a method for manufacturing the female mold of the micro optical device. In the lost wax method, first, a master mold of a micro optical device is manufactured by a photocuring method. At this time, an injection port for injecting a resin liquid for forming a micro optical device, molten metal, or the like into the internal space from the female mold is also formed at the same time. Next, a process of applying and hardening a gypsum or ceramic slurry to the master mold is repeated, and this is fired to obtain a female mold of the micro optical device. According to the female mold of the micro optical device manufactured by the lost wax method, it has heat resistance sufficient to pour molten metal, and is particularly suitable for obtaining a metal micro optical device. According to the metal micro-optical device, it is possible to obtain a high mechanical strength.

マスター型からマイクロ光デバイスを製造する場合には、例えば、マスター型の表面にNi電気鋳造を行った後、マスター型を剥離してマスター型の形状を写し取った雌型を作製する。これにより、金型の雌型を得ることができる。金属性の雌型とすることにより、雌型の耐久性を大幅に向上させることができる。この雌型には、前述と同様に加水分解性基を有するシラン化合物を注入・反応させ、雌型から剥離させることによりポリシロキサン製のマイクロ光デバイスを得ることができる。また、溶融金属を雌型に流し込み、金属からなるマイクロ光デバイスを得ることもできる。   In the case of manufacturing a micro optical device from a master mold, for example, after electroforming Ni on the surface of the master mold, the master mold is peeled off to produce a female mold in which the shape of the master mold is copied. Thereby, a female die can be obtained. By using a metallic female mold, the durability of the female mold can be greatly improved. A polysiloxane micro optical device can be obtained by injecting and reacting a silane compound having a hydrolyzable group to this female mold and peeling it from the female mold in the same manner as described above. Alternatively, a molten metal can be poured into a female mold to obtain a micro optical device made of metal.

本実施形態2によれば、光照射工程で扱う断面を隣接する断面に切り替えながら、光照射と光硬化性樹脂液のコートを繰り返すことによって、所望のマイクロ光デバイス用型を精度良く、簡便かつ迅速に造形することができる。また、本実施形態2に係る製造方法により製造されたマイクロ光デバイス用型を用いて、樹脂材料、セラミック含有樹脂材料、金属材料、セラミック材料等の各種材料からなるマイクロ光デバイスを製造することができる。このため、各種用途に最適な材料からなるマイクロ光デバイスを得ることができる。   According to the second embodiment, the desired micro-optical device mold can be accurately and simply obtained by repeating the light irradiation and the coating of the photocurable resin liquid while switching the cross section handled in the light irradiation process to the adjacent cross section. It can be modeled quickly. In addition, by using the micro optical device mold manufactured by the manufacturing method according to the second embodiment, a micro optical device made of various materials such as a resin material, a ceramic-containing resin material, a metal material, and a ceramic material can be manufactured. it can. For this reason, the micro optical device which consists of a material optimal for various uses can be obtained.

実施形態1に係る光造形装置の概略構成の一例を示す説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating an example of a schematic configuration of the optical modeling apparatus according to the first embodiment. マイクロ光学スキャナーの概念図。The conceptual diagram of a micro optical scanner. 従来例に係る高分子光導波路の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the polymer optical waveguide which concerns on a prior art example. 従来例に係るマイクロ光スイッチの構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the micro optical switch which concerns on a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

1 光源
2 DMD
3 集光レンズ
4 造形テーブル
5 ディスペンサ
6 リコータ
7 制御部
8 記憶部
9 コート層
10 光硬化性樹脂液
30 マイクロ光デバイス
31 駆動力発生部
32 基部
33 鏡面
34 駆動力受動部
35 ミラー部
36 バネ部
100 光造形装置
1 Light source 2 DMD
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Condensing lens 4 Modeling table 5 Dispenser 6 Recoater 7 Control part 8 Memory | storage part 9 Coat layer 10 Photocurable resin liquid 30 Micro optical device 31 Driving force generation part 32 Base 33 Mirror surface 34 Driving force passive part 35 Mirror part 36 Spring part 100 Stereolithography equipment

Claims (15)

投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元構造を形成することを特徴とする、マイクロ光デバイスの製造方法。   By repeating collective exposure with the projection area as a unit, selectively irradiating light to the photocurable resin liquid to form a cured resin layer, and sequentially laminating the cured resin layer to form a three-dimensional structure. A method of manufacturing a micro-optical device, which is characterized. 前記マイクロ光デバイスの三次元構造が、オーバーハング部を有する、請求項1に記載のマイクロ光デバイスの製造方法。   The method of manufacturing a micro optical device according to claim 1, wherein the three-dimensional structure of the micro optical device has an overhang portion. 前記光硬化性樹脂液が、セラミックス粉体又はフィラーを含有するものである、請求項1又は2に記載のマイクロ光デバイスの製造方法。   The manufacturing method of the micro optical device of Claim 1 or 2 whose said photocurable resin liquid contains ceramic powder or a filler. 前記投影領域の面積は、100mm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイスの製造方法。 The method of manufacturing a micro optical device according to claim 1, wherein an area of the projection region is 100 mm 2 or less. 前記硬化樹脂層の1層の厚さは10μm以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイスの製造方法。   The method for manufacturing a micro optical device according to claim 1, wherein the thickness of one layer of the cured resin layer is 10 μm or less. 前記光硬化性樹脂液は、ディジタルミラーデバイスによって反射された光によって硬化することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイスの製造方法。   6. The method of manufacturing a micro optical device according to claim 1, wherein the photocurable resin liquid is cured by light reflected by a digital mirror device. 投影領域を単位として一括露光を繰り返すことにより、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元構造を形成することを特徴とする、マイクロ光デバイス用型の製造方法。   By repeating collective exposure with the projection area as a unit, selectively irradiating light to the photocurable resin liquid to form a cured resin layer, and sequentially laminating the cured resin layer to form a three-dimensional structure. A method for producing a mold for a micro-optical device, which is characterized. 前記マイクロ光デバイスの三次元構造が、オーバーハング部を有する、請求項7に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法。   The manufacturing method of the type | mold for micro optical devices of Claim 7 with which the three-dimensional structure of the said micro optical device has an overhang part. 前記投影領域の面積は、100mm以下であることを特徴とする請求項7又は8に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法。 9. The method for manufacturing a mold for a micro optical device according to claim 7, wherein an area of the projection region is 100 mm 2 or less. 前記硬化樹脂層の1層の厚さは10μm以下であることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法。   10. The method for manufacturing a mold for a micro optical device according to claim 7, wherein the thickness of one layer of the cured resin layer is 10 μm or less. 前記光硬化性樹脂液は、ディジタルミラーデバイスによって反射された光によって硬化することを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法。   The method for producing a mold for a micro optical device according to any one of claims 7 to 10, wherein the photocurable resin liquid is cured by light reflected by a digital mirror device. 前記マイクロ光デバイス用型が、マイクロ光デバイスを製造するための雌型である、請求項7〜11のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法   The manufacturing method of the type | mold for micro optical devices of any one of Claims 7-11 whose said type | mold for micro optical devices is a female type | mold for manufacturing a micro optical device. 前記マイクロ光デバイス用型が、マイクロ光デバイス用雌型を製造するためのマスター型である、請求項7〜11のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法。   The manufacturing method of the type | mold for micro optical devices of any one of Claims 7-11 whose said type | mold for micro optical devices is a master type | mold for manufacturing the female type | mold for micro optical devices. 前記光硬化性樹脂液が、セラミックス粉体又はフィラーを含有するものである、請求項12又は13に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法。   The manufacturing method of the type | mold for micro optical devices of Claim 12 or 13 whose said photocurable resin liquid contains ceramic powder or a filler. 請求項7〜14のいずれか1項に記載のマイクロ光デバイス用型の製造方法により製造されたマイクロ光デバイス用型を用いて製造されたマイクロ光デバイス。   The micro optical device manufactured using the type | mold for micro optical devices manufactured by the manufacturing method of the type | mold for micro optical devices of any one of Claims 7-14.
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