JP2007057708A - Heat developable sensitive material - Google Patents

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JP2007057708A JP2005241661A JP2005241661A JP2007057708A JP 2007057708 A JP2007057708 A JP 2007057708A JP 2005241661 A JP2005241661 A JP 2005241661A JP 2005241661 A JP2005241661 A JP 2005241661A JP 2007057708 A JP2007057708 A JP 2007057708A
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博幸 御舩
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable sensitive material having low fogging, high sensitivity and high image density. <P>SOLUTION: The heat developable sensitive material comprises an image forming layer at least comprising photosensitive silver halide, a nonsensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder on at least either face in a support. As the binder, polyvinyl acetal is comprised, and, as the reducing agent, a coupler containing a compound expressed by formula (1), and capable of forming pigment by being reacted with an oxidized product in the reducing agent is comprised: in the formula (1), R<SB>1</SB>, R<SB>2</SB>, R<SB>3</SB>and R<SB>4</SB>independently denotes a hydrogen atom or a substituent substitutable into a benzene ring, respectively; and R<SB>5</SB>denotes an alkyl group, an aryl group or a heterocycle group. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、医療診断用フィルム分野や写真製版フィルム分野等に好適に用いられる熱現像感光材料に関する。   The present invention relates to a photothermographic material suitably used in the field of medical diagnostic films, the field of photoengraving films, and the like.

近年、医療分野や印刷製版分野において環境保全、省スペースの観点から写真現像処理のドライ化が強く望まれている。これらの分野では、デジタル化が進展し、画像情報をコンピューターに取り込み、保存、そして必要な場合には加工し、通信によって必要な場所で、レーザー・イメージセッターまたはレーザー・イメージャーにより熱現像感光材料に出力し、現像して画像をその場で作製するシステムが急速に広がってきている。熱現像感光材料としては、高い照度のレーザー露光で記録することができ、高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することが必要とされている。このようなデジタル・イメージング記録材料としては、インクジェットプリンター、電子写真など顔料、染料を利用した各種ハードコピーシステムが流通しているが、医療用画像用途としては診断能力を決定する画質(鮮鋭度、粒状性、階調、および画像色調)の点、記録スピード(感度)の点で、不満足であり、従来の湿式現像の医療用ハロゲン化銀フィルムを代替できるレベルに到達していない。   In recent years, in the medical field and the printing plate making field, dry development of photographic development processing is strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. In these fields, digitization has progressed, and image information is taken into a computer, stored, processed if necessary, and photothermographic material is developed by laser image setter or laser imager at the required place by communication. Systems that produce images on the spot and develop images on the spot are rapidly spreading. As a photothermographic material, it is necessary to form a clear black image having high resolution and sharpness that can be recorded by laser exposure with high illuminance. As such digital imaging recording materials, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed, but for medical imaging applications, image quality (sharpness, It is unsatisfactory in terms of graininess, gradation, and image color tone) and recording speed (sensitivity), and has not reached a level that can replace conventional wet-development medical silver halide films.

有機銀塩を利用した熱現像感光材料が既に知られている。熱現像感光材料は、還元可能な銀塩(例、有機銀塩)、感光性ハロゲン化銀、必要により銀の色調を制御する色調剤を、バインダーのマトリックス中に分散して含有する画像形成層を有している。   A photothermographic material using an organic silver salt is already known. The photothermographic material contains a reducible silver salt (for example, organic silver salt), a photosensitive silver halide, and, if necessary, a toning agent for controlling the color tone of silver dispersed in a binder matrix. have.

熱現像感光材料を画像露光後、高温(例えば80℃以上)に加熱すると、ハロゲン化銀あるいは還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応が起こり、黒色の銀画像が形成される。この酸化還元反応は、画像露光で発生したハロゲン化銀の潜像の触媒作用により促進される。その結果、露光領域に黒色の銀画像が形成される。
画像形成層のバインダーとして、ポリビニルブチラールを用いることが知られている(例えば、非特許文献1参照。)。
When the photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, an oxidation-reduction reaction occurs between the silver halide or reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and the reducing agent, resulting in black A silver image is formed. This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by image exposure. As a result, a black silver image is formed in the exposed area.
It is known to use polyvinyl butyral as a binder for an image forming layer (for example, see Non-Patent Document 1).

一方、発色現像薬とカプラーを含有した熱現像感光材料も知られている(例えば、特許文献1〜4参照。)。用いられる感光性ハロゲン化銀は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、あるいはヨウ塩臭化銀であった。しかしながら、ハロゲン化銀による光散乱と吸収のために膜の濁りおよび不透明性が増加するため、実施例に記載されているようにかぶりが0.58〜1.2と極めて高くなってしまう。従って、特許文献2、3に説明されているように、得られる画像は一次原稿であって、直接観察し得る画像ではなく、これをもとにデジタル化して、さらに画像処理を施してかぶりを低減しかつ階調と色調を調整した再処理画像を得て始めて観察し得る画像となるのである。   On the other hand, photothermographic materials containing a color developer and a coupler are also known (see, for example, Patent Documents 1 to 4). The photosensitive silver halide used was silver chloride, silver bromide, silver chlorobromide, silver iodobromide, or silver iodochlorobromide. However, the turbidity and opacity of the film increase due to light scattering and absorption by silver halide, so that the fog becomes extremely high at 0.58 to 1.2 as described in the examples. Therefore, as described in Patent Documents 2 and 3, the obtained image is a primary document and is not an image that can be directly observed, but is digitized based on this image and further subjected to image processing for fogging. An image that can be observed is obtained only after obtaining a reprocessed image with reduced gradation and color tone.

有機銀塩を利用した熱現像感光材料は、画像形成に必要な全ての要素を膜中に予め含有していて、露光後に加熱するだけで画像を形成できることに大きな特徴を有している。しかしながら、その反面、かぶりが高く、特に高い画像濃度を得たり、高い感度を得ようとするとかぶりの増大が大きな問題であって、かぶりの低減は常に求められている課題であった。
特開2001−312026号明細書 特開2003−215767号明細書 特開2003−215764号明細書 米国特許6242166号明細書 D.クロスタボーア(Klosterboer)著「熱によって処理される銀システム(Thermally Processed Silver Systems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette第8版、スタージ(Sturge)、V.ウオールワース(Walworth)、A.シェップ(Shepp)編集、第9章、第273頁、1989年
A photothermographic material using an organic silver salt has a great feature in that all elements necessary for image formation are previously contained in the film, and an image can be formed only by heating after exposure. On the other hand, however, the fog is high, and in particular, an increase in fog is a big problem when trying to obtain a high image density or high sensitivity, and reduction of the fog has always been a demanded issue.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-312026 JP 2003-215767 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-215564 US Pat. No. 6,242,166 D. Klosterboer, “Thermally Processed Silver Systems” (Imaging Processes and Materials), 8th Edition, Sturge (Stuart) (Walworth), edited by A. Shepp, Chapter 9, 273, 1989.

本発明の目的は、かぶりが低く、高感度で高画像濃度の熱現像感光材料を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a photothermographic material having low fog, high sensitivity and high image density.

上記課題は、以下の手段により解決された。
<1> 支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオンのための還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料であって、前記バインダーとしてポリビニルアセタールを含有し、前記還元剤として下記一般式(1)で表される化合物を含有し、前記還元剤の酸化生成物と反応して色素を形成し得るカプラーを含有することを特徴とする熱現像感光材料:
The above problems have been solved by the following means.
<1> A photothermographic material having an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder on at least one surface of a support. And a polyvinyl acetal as the binder, a compound represented by the following general formula (1) as the reducing agent, and a coupler capable of forming a dye by reacting with an oxidation product of the reducing agent. Photothermographic material characterized by:

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(一般式(1)において、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、R5はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)。
<2> 前記ポリビニルアセタールが下記一般式(VA)で表される化合物であることを特徴とする<1>に記載の熱現像感光材料:
(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a substituent which can be substituted on a benzene ring, and R 5 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. To express.).
<2> The photothermographic material according to <1>, wherein the polyvinyl acetal is a compound represented by the following general formula (VA):

Figure 2007057708
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(式中、Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、またはアリール基を表す。Xは10モル%〜50モル%、Yは0モル%〜10モル%、Zは50モル%〜90モル%である。)。
<3> 前記一般式(VA)において、Rがブチル基であることを特徴とする<2>に記載の熱現像感光材料。
<4> 前記カプラーを少なくとも2種含有することを特徴とする<1>〜<3>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<5> 前記少なくとも2種のカプラーより形成される色像の色相が互いに補色関係にあることを特徴とする<4>に記載の熱現像感光材料。
<6> 前記カプラーが下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(M−1)、(M−2)、(M−3)、(Y−1)、(Y−2)および(Y−3)よりなる群より選ばれる化合物であることを特徴とする<1>〜<5>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料:
(In the formula, R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or an aryl group. X is 10 mol% to 50 mol%, Y is 0 mol% to 10 mol%, Z is 50 mol% to 90 mol%).
<3> The photothermographic material according to <2>, wherein in the general formula (VA), R is a butyl group.
<4> The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, which contains at least two types of the couplers.
<5> The photothermographic material according to <4>, wherein hues of color images formed from the at least two types of couplers are complementary to each other.
<6> The coupler is represented by the following general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (M-1), (M-2), (M-3), (Y-1). The photothermographic material according to any one of <1> to <5>, wherein the photothermographic material is a compound selected from the group consisting of: (Y-2) and (Y-3):

Figure 2007057708
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(式中、X1は水素原子または離脱基を表し、Y1およびY2は電子求引性の置換基を表し、R1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。); (Wherein X 1 represents a hydrogen atom or a leaving group, Y 1 and Y 2 represent an electron-withdrawing substituent, and R 1 represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group);

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(式中、X2は水素原子または離脱基を表し、R2はアシルアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表し、R3は水素原子、アルキル基またはアシルアミノ基を表し、R4は水素原子、または置換基を表す。R3とR4が互いに連結して環を形成してもよい。); (Wherein X 2 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 2 represents an acylamino group, a ureido group or a urethane group, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, R 4 represents a hydrogen atom, or Represents a substituent, R 3 and R 4 may be linked to each other to form a ring);

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(式中、X3は水素原子または離脱基を表し、R5はカルバモイル基またはスルファモイル基を表し、R6は水素原子または置換基を表す。); (Wherein X 3 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 5 represents a carbamoyl group or a sulfamoyl group, and R 6 represents a hydrogen atom or a substituent);

Figure 2007057708
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(式中、X4は水素原子または離脱基を表し、R7はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、R8は置換基を表す。); (Wherein X 4 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 7 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 8 represents a substituent);

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(式中、X5は水素原子または離脱基を表し、R9はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、R10は置換基を表す。); (Wherein X 5 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 9 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 10 represents a substituent);

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(式中、X6は水素原子または離脱基を表し、R11はアルキル基、アリール基、アシルアミノ基またはアニリノ基を表し、R10はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。); (Wherein X 6 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 11 represents an alkyl group, an aryl group, an acylamino group or an anilino group, and R 10 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group);

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(式中、X7は水素原子または離脱基を表し、R13はアルキル基、アリール基、インドレニル基を表し、R14はアリール基またはヘテロ環基を表す。); (Wherein X 7 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 13 represents an alkyl group, an aryl group or an indoleenyl group, and R 14 represents an aryl group or a heterocyclic group);

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(式中、X8は水素原子または離脱基を表し、Zは5員ないし7員の環を形成するのに必要な2価の基を表し、R15はアリール基またはヘテロ環基を表す。); (Wherein X 8 represents a hydrogen atom or a leaving group, Z represents a divalent group necessary to form a 5- to 7-membered ring, and R 15 represents an aryl group or a heterocyclic group. );

Figure 2007057708
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(式中、X9は水素原子または離脱基を表し、R16、R17およびR18はそれぞれ置換基を表し、nは0ないし4の、mは0ないし5のいずれかの整数を表す。nまたはmが2以上のとき、複数のR16およびR17はそれぞれ同一の基であってもよいし、別々の基であってもよい。)。
<7> 塗布銀量が0.3g/m2以上1.3g/m2以下であることを特徴とする<1>〜<6>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<8> メチルエチルケトンを0.1mg/m2以上150mg/m2以下含有することを特徴とする<1>〜<7>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<9> 前記感光性ハロゲン化銀の平均粒子サイズが0.01μm以上、0.2μm以下であることを特徴とする<1>〜<8>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<10> 前記感光性ハロゲン化銀の全投影面積の50%以上が平均アスペクト比が2以上の平板状粒子であって、平均粒子サイズが0.3μm以上、8.0μm以下であることを特徴とする<1>〜<8>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<11> 前記感光性ハロゲン化銀の沃化銀含量が35%以下であることを特徴とする<9>または<10>に記載の熱現像感光材料。
<12> 前記感光性ハロゲン化銀の沃化銀含量が40%以上であることを特徴とする<9>または<10>に記載の熱現像感光材料。
(In the formula, X 9 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 16 , R 17 and R 18 each represent a substituent, n represents an integer of 0 to 4, and m represents an integer of 0 to 5. When n or m is 2 or more, the plurality of R 16 and R 17 may be the same group or different groups.
<7> The photothermographic material according to any one of <1> to <6>, wherein the coated silver amount is from 0.3 g / m 2 to 1.3 g / m 2 .
<8> The photothermographic material according to any one of <1> to <7>, wherein methyl ethyl ketone is contained in an amount of from 0.1 mg / m 2 to 150 mg / m 2 .
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <8>, wherein an average grain size of the photosensitive silver halide is 0.01 μm or more and 0.2 μm or less.
<10> 50% or more of the total projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an average aspect ratio of 2 or more, and the average grain size is 0.3 μm or more and 8.0 μm or less. <1> to <8> The photothermographic material according to any one of <1> to <8>.
<11> The photothermographic material according to <9> or <10>, wherein the photosensitive silver halide has a silver iodide content of 35% or less.
<12> The photothermographic material according to <9> or <10>, wherein the photosensitive silver halide has a silver iodide content of 40% or more.

本発明により、かぶりが低く、高感度で高画像濃度の熱現像感光材料を提供することができる。   According to the present invention, a photothermographic material having low fog, high sensitivity and high image density can be provided.

本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオンのための還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料であって、前記バインダーとしてポリビニルアセタールを含有し、前記還元剤として一般式(1)で表される化合物を含有し、前記還元剤の酸化生成物と反応して色素を形成し得るカプラーを含有する。   The photothermographic material of the present invention has an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder on at least one surface of a support. A photothermographic material comprising polyvinyl acetal as the binder, a compound represented by the general formula (1) as the reducing agent, and reacting with an oxidation product of the reducing agent to form a dye. Contains the resulting coupler.

以下に詳細に本発明を説明する。
本発明の熱現像感光材料が含有する還元剤は可視領域には吸収をほとんど有しない化合物であるが、本発明の熱現像感光材料を熱現像するとそれ自身が還元剤として作用するか、あるいは還元剤を放出して銀画像を形成するのに寄与し、それ自身の酸化体、あるいは放出された還元剤の酸化体が生成する。これらの酸化体がカプラー化合物と反応すると色素を生成し、銀画像に応じたイメージワイズな色素画像が得られる。
The present invention is described in detail below.
The reducing agent contained in the photothermographic material of the present invention is a compound that hardly absorbs in the visible region. However, when the photothermographic material of the present invention is thermally developed, it itself acts as a reducing agent or is reduced. The release of the agent contributes to the formation of a silver image, producing its own oxidant or the oxidant of the released reducing agent. When these oxidants react with the coupler compound, a dye is formed, and an image-wise dye image corresponding to the silver image is obtained.

(還元剤:一般式(1)で表される化合物)
一般式(1)で表される化合物は有機銀塩を還元できる現像剤で、その酸化体がカプラ−とカップリング反応して色素を形成することができる化合物である。
一般式(1)において、R1およびR2は水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基を表し、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルホキシド基、スルファモイル基、シアノ基、ニトロ基、又はホスホリル基である。
1およびR2としてより好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、又はスルファモイル基であり、ハロゲン原子、アルキル基、カルバモイル基、又はスルファモイル基がさらに好ましい。R1およびR2がアルキル基である場合、少なくともその一方が2級または3級のアルキル基であることが好ましく、3級アルキル基であることがより好ましい。R1およびR2がハロゲン原子である場合、好ましくは塩素原子または臭素原子で、塩素原子であることがより好ましい。R1およびR2の炭素数はそれぞれ16以下であることが好ましく、12以下であることがより好ましく、8以下であることがさらに好ましい。
(Reducing agent: compound represented by general formula (1))
The compound represented by the general formula (1) is a developer capable of reducing an organic silver salt, and its oxidized form can form a dye by coupling reaction with a coupler.
In the general formula (1), R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on the benzene ring, preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy Group, acyloxy group, sulfonyloxy group, alkylthio group, arylthio group, amino group, anilino group, acylamino group, sulfonamido group, ureido group, urethane group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfoxide group, A sulfamoyl group, a cyano group, a nitro group, or a phosphoryl group.
R 1 and R 2 are more preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, or a sulfamoyl group, and a halogen atom, an alkyl group, a carbamoyl group, or a sulfamoyl group is Further preferred. When R 1 and R 2 are alkyl groups, at least one of them is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and more preferably a tertiary alkyl group. When R 1 and R 2 are halogen atoms, they are preferably chlorine atoms or bromine atoms, and more preferably chlorine atoms. R 1 and R 2 each preferably have 16 or less carbon atoms, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less.

3およびR4は水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基を表し、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルホキシド基、スルファモイル基、シアノ基、ニトロ基、又はホスホリル基である。R3およびR4としては水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基がより好ましく、水素原子またはハロゲン原子であることがさらに好ましい。 R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on the benzene ring, and preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a sulfonyloxy Group, alkylthio group, arylthio group, amino group, anilino group, acylamino group, sulfonamido group, ureido group, urethane group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfoxide group, sulfamoyl group, cyano group, nitro group Group or phosphoryl group. R 3 and R 4 are more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a halogen atom.

5はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルホキシド基、スルファモイル基、シアノ基、又はニトロ基が好ましい。R5としてより好ましいのはアリール基またはヘテロ環基で、アリール基が特に好ましい。ヘテロ環基としては窒素原子および/または硫黄原子を含む5員ないし6員の環が好ましく、窒素原子を含む5員ないし6員の芳香族性のヘテロ環がより好ましい。アリール基としては電子吸引性の置換基もしくは立体的に嵩高い置換基で置換されたアリール基が好ましい。電子吸引基としては水素原子に対して電子吸引性が高い基であればよいが、好ましくはハロゲン原子、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルホキシド基、オキシスルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、ニトロ基、又はヘテロ環基で、ハロゲン原子、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、又はシアノ基がより好ましい。電子吸引性の基は少なくともそのひとつがオルト位またはパラ位に置換されていることが好ましい。立体的に嵩高い基としてはメチル基よりも嵩高い基であればよいが、好ましくは炭素数2以上のアルキル基で、2級または3級のアルキル基がより好ましく、3級のアルキル基がさらに好ましい。立体的に嵩高い基は少なくとも一方のオルト位に置換していることが好ましく、両方のオルト位に置換していることがより好ましい。電子吸引性の基と立体的に嵩高い基の両方を合わせ持ったアリール基は特に好ましい基である。R5の炭素数は30以下であることが好ましく、より好ましくは20以下、さらに好ましくは16以下である。
一般式(1)の化合物の好ましい分子量は300ないし700の範囲で、より好ましくは300ないし600の範囲、さらに好ましくは350ないし550の範囲である。
R 5 represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. Substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, alkoxy groups, aryloxy groups, acyloxy groups, sulfonyloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, amino groups, anilino groups, acylamino groups, sulfonamido groups, A ureido group, urethane group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfoxide group, sulfamoyl group, cyano group, or nitro group are preferred. R 5 is more preferably an aryl group or a heterocyclic group, and an aryl group is particularly preferable. The heterocyclic group is preferably a 5- to 6-membered ring containing a nitrogen atom and / or a sulfur atom, and more preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom. The aryl group is preferably an electron-withdrawing substituent or an aryl group substituted with a sterically bulky substituent. The electron-withdrawing group may be a group having a high electron-withdrawing property with respect to a hydrogen atom, but preferably a halogen atom, an acyl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfoxide group, an oxysulfonyl group, a sulfamoyl group, A cyano group, a nitro group, or a heterocyclic group is more preferably a halogen atom, an acyl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, or a cyano group. It is preferable that at least one of the electron-withdrawing groups is substituted at the ortho position or the para position. The sterically bulky group may be any group that is bulkier than the methyl group, but is preferably an alkyl group having 2 or more carbon atoms, more preferably a secondary or tertiary alkyl group, and a tertiary alkyl group. Further preferred. The sterically bulky group is preferably substituted at at least one ortho position, and more preferably substituted at both ortho positions. An aryl group having both an electron-withdrawing group and a sterically bulky group is a particularly preferred group. R5 preferably has 30 or less carbon atoms, more preferably 20 or less, and still more preferably 16 or less.
The preferred molecular weight of the compound of the general formula (1) is in the range of 300 to 700, more preferably in the range of 300 to 600, still more preferably in the range of 350 to 550.

以下に本発明の一般式(1)で表される化合物の具体例をあげるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (1) of the present invention are given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007057708
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Figure 2007057708
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上記以外でも本発明の一般式(1)で表される具体例としては特開平11−265044明細書の一般式(7)で表される化合物D−1ないしD−28があげられる。   Other than the above, specific examples represented by the general formula (1) of the present invention include compounds D-1 to D-28 represented by the general formula (7) in JP-A-11-265044.

<還元剤の添加方法>
本発明においては、還元剤を微結晶性粒子分散物として熱現像感光材料中に含有するのが好ましい。
<Reducing agent addition method>
In the present invention, the reducing agent is preferably contained in the photothermographic material as a microcrystalline particle dispersion.

還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルセバケートあるいはトリ(2−エチルヘキシル)ホスフェートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやオレオイル−N−メチルタウリン酸ナトリウム、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム等の界面活性剤を添加して機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
このとき、油滴の粘度や屈折率の調整の目的でαメチルスチレンオリゴマーやポリ(t−ブチルアクリルアミド)等のポリマーを添加することも好ましい。
The reducing agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.
Well-known emulsification and dispersion methods include oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl sebacate or tri (2-ethylhexyl) phosphate, and dissolution using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and dodecylbenzene. Examples thereof include a method of mechanically preparing an emulsified dispersion by adding a surfactant such as sodium sulfonate, oleoyl-N-methyl taurate, sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate.
At this time, it is also preferable to add a polymer such as α-methylstyrene oligomer or poly (t-butylacrylamide) for the purpose of adjusting the viscosity and refractive index of the oil droplets.

また、固体微粒子分散法としては、還元剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm以上1000ppm以下の範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
特に好ましいのは、還元剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ0.01μm以上10μm以下、好ましくは0.05μm以上5μm以下、より好ましくは0.1μm以上2μm以下の微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
In addition, as a solid fine particle dispersion method, a reducing agent powder is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to produce a solid dispersion. A method is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the Zr content in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
Particularly preferred is a solid particle dispersion method of a reducing agent, which is added as fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 2 μm. Is preferred. In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.

本発明の熱現像感光材料は、支持体上、感光性ハロゲン化銀及び還元可能な銀塩と同一の面に、還元剤を有する。本発明の還元剤の添加量は広い範囲で良く、好ましくはカプラー化合物1モルに対して0.01モル〜100モルが好ましく、より好ましくは0.1モル〜10モルで、さらに好ましくは0.5モル〜3.0モルである。   The photothermographic material of the invention has a reducing agent on the same surface as the photosensitive silver halide and the reducible silver salt on the support. The reducing agent of the present invention may be added in a wide range, preferably 0.01 mol to 100 mol, more preferably 0.1 mol to 10 mol, and still more preferably 0.1 mol to 1 mol of the coupler compound. It is 5 mol-3.0 mol.

(カプラー)
以下、本発明のカプラーについて詳細に説明する。
本発明のカプラーは本発明の還元剤の酸化体とカップリングして可視部に吸収を持つ色素を形成できる化合物であればいかなる構造をしていてもよい。このような化合物はカラー写真系ではよく知られた化合物であり、その代表例としてピロロトリアゾール型カプラー、フェノール型カプラー、ナフトール型カプラー、ピラゾロトリアゾール型カプラー、ピラゾロン型カプラー、アシルアセトアニリド型カプラーなどが挙げられる。カラー写真感光材料では重層構成の感光層中にカプラーを固定することが必要で、上記カプラー骨格に大きな油溶化基をつけた分子量の比較的大きなカプラーが使用されていた。本発明においてはカプラーの固定化はさほど重要ではなく、より低分子のカプラーの方が画像濃度をかせぐという観点で有利であるという特徴がある。特に、固体分散状態で使用する場合には大きな油溶化基がついていると反応効率が著しく阻害される。母核に置換される置換基としては水溶性を低減できる範囲で小さめの基であることが特に好ましい。
本発明において好ましいカプラーは一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(M−1)、(M−2)、(M−3)、(Y−1)、(Y−2)、または(Y−3)で表される構造を有するカプラーである。
(coupler)
Hereinafter, the coupler of the present invention will be described in detail.
The coupler of the present invention may have any structure as long as it is a compound capable of forming a dye having absorption in the visible region by coupling with an oxidized form of the reducing agent of the present invention. Such compounds are well known in color photographic systems, and typical examples thereof include pyrrolotriazole couplers, phenol couplers, naphthol couplers, pyrazolotriazole couplers, pyrazolone couplers, acylacetanilide couplers, and the like. Can be mentioned. In color photographic light-sensitive materials, it is necessary to fix a coupler in a photosensitive layer having a multilayer structure, and a coupler having a relatively large molecular weight in which a large oil-solubilizing group is added to the coupler skeleton has been used. In the present invention, the immobilization of the coupler is not so important, and a low molecular weight coupler is advantageous from the viewpoint of increasing the image density. In particular, when used in a solid dispersion state, the reaction efficiency is significantly hindered if a large oil-solubilizing group is attached. The substituent substituted on the mother nucleus is particularly preferably a smaller group as long as water solubility can be reduced.
Preferred couplers in the present invention are represented by the general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (M-1), (M-2), (M-3), (Y-1), A coupler having a structure represented by (Y-2) or (Y-3).

Figure 2007057708
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式中、X1は水素原子または離脱基を表し、Y1およびY2は電子求引性の置換基を表し、R1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。 In the formula, X 1 represents a hydrogen atom or a leaving group, Y 1 and Y 2 represent an electron-withdrawing substituent, and R 1 represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、X2は水素原子または離脱基を表し、R2はアシルアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表し、R3は水素原子、アルキル基またはアシルアミノ基を表し、R4は水素原子、または置換基を表す。R3とR4が互いに連結して環を形成してもよい。 In the formula, X 2 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 2 represents an acylamino group, a ureido group or a urethane group, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, and R 4 represents a hydrogen atom or a substituent. Represents a group. R 3 and R 4 may be connected to each other to form a ring.

Figure 2007057708
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式中、X3は水素原子または離脱基を表し、R5はカルバモイル基またはスルファモイル基を表し、R6は水素原子または置換基を表す。 In the formula, X 3 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 5 represents a carbamoyl group or a sulfamoyl group, and R 6 represents a hydrogen atom or a substituent.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、X4は水素原子または離脱基を表し、R7はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、R8は置換基を表す。 In the formula, X 4 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 7 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 8 represents a substituent.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、X5は水素原子または離脱基を表し、R9はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、R10は置換基を表す。 In the formula, X 5 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 9 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 10 represents a substituent.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、X6は水素原子または離脱基を表し、R11はアルキル基、アリール基、アシルアミノ基またはアニリノ基を表し、R12はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。 In the formula, X 6 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 11 represents an alkyl group, an aryl group, an acylamino group or an anilino group, and R 12 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、X7は水素原子または離脱基を表し、R13はアルキル基、アリール基、インドレニル基を表し、R14はアリール基またはヘテロ環基を表す。 In the formula, X 7 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 13 represents an alkyl group, an aryl group, or an indoleenyl group, and R 14 represents an aryl group or a heterocyclic group.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、X8は水素原子または離脱基を表し、Zは5員ないし7員の環を形成するのに必要な2価の基を表し、R15はアリール基またはヘテロ環基を表す。 In the formula, X 8 represents a hydrogen atom or a leaving group, Z represents a divalent group necessary for forming a 5- to 7-membered ring, and R 15 represents an aryl group or a heterocyclic group.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、X9は水素原子または離脱基を表し、R16、R17およびR18はそれぞれ置換基を表し、nは0ないし4の、mは0ないし5のいずれかの整数を表す。nまたはmが2以上のとき、複数のR16およびR17はそれぞれ同一の基であってもよいし、別々の基であってもよい。 In the formula, X 9 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 16 , R 17 and R 18 each represent a substituent, n represents an integer of 0 to 4, and m represents an integer of 0 to 5. When n or m is 2 or more, the plurality of R 16 and R 17 may be the same group or different groups.

一般式(C−1)において、X1は水素原子または離脱基を表し、Y1およびY2は電子求引性の置換基を表し、R1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
1は水素原子または離脱基で、好ましくは水素原子である。
本発明で言う離脱基とは、還元剤の酸化体とカップリングし、色素を形成する際に母核から離脱可能な基を意味する。離脱基としてはハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、イミド基、メチロール基、およびヘテロ環基等が挙げられる。Y1およびY2は電子求引性基を表す。具体的には、シアノ基、ニトロ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルホキシド基、オキシスルホニル基、スルファモイル基、ヘテロ環基、トリフルオロメチル基、およびハロゲン原子が挙げられる。その中でも好ましくはシアノ基、オキシカルボニル基、スルホニル基で、より好ましくはシアノ基、オキシカルボニル基である。Y1とY2のいずれか一方がシアノ基であることがさらに好ましく、Y1がシアノ基であることが特に好ましい。Y2はオキシカルボニル基であることが好ましく、かさ高い基で置換されたオキシカルボニル基(例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルピペラジニルオキシカルボニル基)が特に好ましい。R1は好ましくはアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。アルキル基としては2級または3級のアルキル基が好ましく、より好ましくは3級のアルキル基である。アルキル基としては炭素数の和が3〜12の範囲であることが好ましく4〜8の範囲であることがより好ましい。アリール基としてはフェニル基が好ましく、置換基を有していてもよいが、炭素数の和が6〜16の範囲であることが好ましく、6〜12の範囲であることがより好ましい。一般式(C−1)のカプラーは分子量が700以下であることが好ましく、650以下であることがより好ましく、600以下であることがさらに好ましい。
In General Formula (C-1), X 1 represents a hydrogen atom or a leaving group, Y 1 and Y 2 represent an electron-withdrawing substituent, and R 1 represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. These groups may have a substituent.
X 1 is a hydrogen atom or a leaving group, preferably a hydrogen atom.
The leaving group referred to in the present invention means a group capable of leaving from the mother nucleus when it is coupled with an oxidant of a reducing agent to form a dye. Examples of the leaving group include halogen atoms, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, acyloxy groups, carbamoyloxy groups, imide groups, methylol groups, and heterocyclic groups. Y 1 and Y 2 represent an electron withdrawing group. Specific examples include a cyano group, a nitro group, an acyl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfoxide group, an oxysulfonyl group, a sulfamoyl group, a heterocyclic group, a trifluoromethyl group, and a halogen atom. Among these, a cyano group, an oxycarbonyl group, and a sulfonyl group are preferable, and a cyano group and an oxycarbonyl group are more preferable. It is more preferable that either Y 1 or Y 2 is a cyano group, and it is particularly preferable that Y 1 is a cyano group. Y 2 is preferably an oxycarbonyl group, particularly preferably an oxycarbonyl group substituted with a bulky group (for example, 2,6-di-t-butyl-4-methylpiperazinyloxycarbonyl group). R 1 is preferably an alkyl group or an aryl group, and these groups optionally have a substituent. The alkyl group is preferably a secondary or tertiary alkyl group, more preferably a tertiary alkyl group. As an alkyl group, it is preferable that the sum of carbon number is the range of 3-12, and it is more preferable that it is the range of 4-8. The aryl group is preferably a phenyl group and may have a substituent, but the sum of the carbon numbers is preferably in the range of 6 to 16, more preferably in the range of 6 to 12. The coupler of the general formula (C-1) preferably has a molecular weight of 700 or less, more preferably 650 or less, and even more preferably 600 or less.

一般式(C−2)において、X2は水素原子または離脱基であり、R2はアシルアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表し、R3は水素原子、アルキル基またはアシルアミノ基を表し、R4は水素原子、または置換基を表す。R3とR4が互いに連結して環を形成してもよい。
2は水素原子もしくはX1と同様の離脱基であり、水素原子がより好ましい。R2は好ましくはアシルアミノ基またはウレイド基である。R2としては炭素数の総和が2〜12の範囲が好ましく、より好ましくは2〜8の範囲である。R3は好ましくは炭素数1〜4のアルキル基または炭素数2〜12のアシルアミノ基であり、より好ましくは炭素数2〜4のアルキル基または炭素数2〜8のアシルアミノ基である。R4は好ましくはハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基、アルキル基であり、より好ましくはハロゲン原子またはアシルアミノ基で、特に塩素原子が好ましい。一般式(C−2)のカプラーは分子量が500以下であることが好ましく、450以下であることがより好ましく、400以下であることがさらに好ましい。
一般式(C−3)において、X3は水素原子もしくはX1と同様の離脱基であるが、X3として好ましいのは水素原子である。R5はアシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基またはスルファモイル基が好ましく、カルバモイル基またはスルファモイル基がより好ましい。R5として炭素数の和が1〜12の基が好ましく、より好ましくは炭素数が2〜10である。R6は水素原子もしくは置換基であるが、置換基としては好ましくはアミド基、スルホンアミド基、ウレタン基またはウレイド基であり、アミド基またはウレタン基がより好ましい。置換位置としてはナフトール環の5位または8位が好ましく、5位がより好ましい。R6として炭素数の和が2〜10の基が好ましく、より好ましくは炭素数が2〜6である。一般式(C−2)のカプラーは分子量が550以下であることが好ましく、500以下であることがより好ましく、450以下であることがさらに好ましい。
In the general formula (C-2), X 2 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 2 represents an acylamino group, a ureido group or a urethane group, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, R 4 Represents a hydrogen atom or a substituent. R 3 and R 4 may be connected to each other to form a ring.
X 2 is a hydrogen atom or a leaving group similar to X 1 , and a hydrogen atom is more preferable. R 2 is preferably an acylamino group or a ureido group. R 2 preferably has a total carbon number of 2 to 12, more preferably 2 to 8. R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms or an acylamino group having 2 to 8 carbon atoms. R 4 is preferably a halogen atom, an alkoxy group, an acylamino group or an alkyl group, more preferably a halogen atom or an acylamino group, and particularly preferably a chlorine atom. The coupler of the general formula (C-2) preferably has a molecular weight of 500 or less, more preferably 450 or less, and even more preferably 400 or less.
In the general formula (C-3), X 3 is a hydrogen atom or a leaving group similar to X 1 , but X 3 is preferably a hydrogen atom. R 5 is preferably an acyl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group or a sulfamoyl group, more preferably a carbamoyl group or a sulfamoyl group. R 5 is preferably a group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms. R 6 is a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is preferably an amide group, a sulfonamide group, a urethane group or a ureido group, more preferably an amide group or a urethane group. The substitution position is preferably the 5th or 8th position of the naphthol ring, and more preferably the 5th position. R 6 is preferably a group having 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms. The coupler of the general formula (C-2) preferably has a molecular weight of 550 or less, more preferably 500 or less, and even more preferably 450 or less.

一般式(M−1)においてX4は水素原子もしくはX1と同様の離脱基あるが、X4として好ましいのは水素原子である。ヘテロ環基としてはピラゾール基、イミダゾール基、トリアゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾトリアゾール基等のアゾール基が好ましく、ピラゾール基がより好ましい。R7はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基で、これらの基は置換基を有していてもよい。好ましくは2級もしくは3級のアルキル基またはアリール基である。アルキル基としては炭素数が2〜14の基が好ましく、より好ましくは炭素数3〜10の基である。アリール基としては好ましくは炭素数が6〜18の基で、より好ましくは6〜14の基である。R8は好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環であり、これらの基は置換基を有していてもよい。アルキル基としては2級または3級のアルキル基が好ましく、より好ましくは3級のアルキル基である。アルキル基としては炭素数の和が3〜12の範囲であることが好ましく4〜8の範囲であることがより好ましい。アリール基としてはフェニル基が好ましく、置換基を有していてもよいが、炭素数の和が6〜16の範囲であることが好ましく、6〜12の範囲であることがより好ましい。アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基である。アリールオキシ基としては炭素数6〜14のアリールオキシ基が好ましく炭素数6〜10の基がより好ましい。アルキルチオ基、アリールチオ基もそれぞれアルコキシ基、アリールオキシ基と同様の炭素数の基が好ましい。一般式(M−1)のカプラーは分子量が600以下であることが好ましく、550以下であることがより好ましく、500以下であることがさらに好ましい。R11はアルキル基、アリール基、アシルアミノ基またはアニリノ基を表し、R10はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。 In formula (M-1), X 4 is a hydrogen atom or a leaving group similar to X 1 , but X 4 is preferably a hydrogen atom. The heterocyclic group is preferably an azole group such as a pyrazole group, an imidazole group, a triazole group, a tetrazole group, a benzimidazole group, or a benzotriazole group, and more preferably a pyrazole group. R 7 is an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. A secondary or tertiary alkyl group or an aryl group is preferred. The alkyl group is preferably a group having 2 to 14 carbon atoms, more preferably a group having 3 to 10 carbon atoms. The aryl group is preferably a group having 6 to 18 carbon atoms, more preferably a group having 6 to 14 carbon atoms. R 8 is preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, or a heterocyclic ring, and these groups optionally have a substituent. The alkyl group is preferably a secondary or tertiary alkyl group, more preferably a tertiary alkyl group. As an alkyl group, it is preferable that the sum of carbon number is the range of 3-12, and it is more preferable that it is the range of 4-8. The aryl group is preferably a phenyl group and may have a substituent, but the sum of the carbon numbers is preferably in the range of 6 to 16, more preferably in the range of 6 to 12. As an alkoxy group, a C1-C8 alkoxy group is preferable, More preferably, it is a C1-C4 alkoxy group. As the aryloxy group, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms is preferable, and a group having 6 to 10 carbon atoms is more preferable. The alkylthio group and the arylthio group are preferably groups having the same carbon number as the alkoxy group and the aryloxy group, respectively. The coupler of general formula (M-1) preferably has a molecular weight of 600 or less, more preferably 550 or less, and even more preferably 500 or less. R 11 represents an alkyl group, an aryl group, an acylamino group or an anilino group, R 10 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

一般式(M−2)のカプラーのX5、R9およびR10で表される基はそれぞれ一般式(M−1)のカプラーのX4、R7およびR8で表される基と同様の基で、それぞれの基の好ましい範囲も一般式(M−1)のカプラーと同様である。
一般式(M−3)において、X6は水素原子もしくはX1と同様の離脱基あるが、X6として好ましいのは水素原子である。R11としてはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基またはアニリノ基が好ましく、アシルアミノ基またはアニリノ基がより好ましい。最も好ましいのはアニリノ基である。アルキル基としては炭素数1〜8のアルキル基が好ましく、アリール基としては炭素数6〜14のアリール基が好ましい。アシルアミノ基としては炭素数2〜14の基が好ましく2〜10の基がより好ましい。アニリノ基としては炭素数6〜16の基が好ましく6〜12の基がより好ましい。アニリノ基の置換基としてはハロゲン原子、アシルアミノ基が好ましい。一般式(M−3)のカプラーは分子量が700以下であることが好ましく、650以下であることがより好ましく、600以下であることがさらに好ましい。
一般式(Y−1)において、X7は水素原子もしくはX1と同様の離脱基あるが、X7として好ましいのは水素原子である。R13は好ましくは2級もしくは3級のアルキル基、アリール基またはヘテロ環基である。アルキル基はシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であってもよく3級アルキル基がより好ましい。1−アルキルシクロプロピル基、ビシクロアルキル基、アダマンチル基は特に好ましい。R14はアリール基もしくはヘテロ環基で、アリール基がより好ましい。そのなかでも2位にハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基が置換したフェニル基が特に好ましい。R14の炭素数の総和は6〜18の範囲が好ましく、より好ましくは7〜16の範囲、さらに好ましくは8〜14の範囲である。一般式(Y−1)のカプラーは分子量が700以下であることが好ましく、650以下であることがより好ましく、600以下であることがさらに好ましい。
The groups represented by X 5 , R 9 and R 10 of the coupler of the general formula (M-2) are the same as the groups represented by X 4 , R 7 and R 8 of the coupler of the general formula (M-1), respectively. The preferred range of each group is the same as that of the coupler of general formula (M-1).
In general formula (M-3), X 6 is a hydrogen atom or a leaving group similar to X 1 , but X 6 is preferably a hydrogen atom. R 11 is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group or an anilino group, more preferably an acylamino group or an anilino group. Most preferred is an anilino group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. The acylamino group is preferably a group having 2 to 14 carbon atoms, and more preferably a group having 2 to 10 carbon atoms. The anilino group is preferably a group having 6 to 16 carbon atoms, and more preferably a group having 6 to 12 carbon atoms. As the substituent of the anilino group, a halogen atom and an acylamino group are preferable. The coupler of general formula (M-3) preferably has a molecular weight of 700 or less, more preferably 650 or less, and even more preferably 600 or less.
In general formula (Y-1), X 7 is a hydrogen atom or a leaving group similar to X 1 , but X 7 is preferably a hydrogen atom. R 13 is preferably a secondary or tertiary alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. The alkyl group may be a cycloalkyl group or a bicycloalkyl group, and a tertiary alkyl group is more preferable. A 1-alkylcyclopropyl group, a bicycloalkyl group, and an adamantyl group are particularly preferable. R 14 is an aryl group or a heterocyclic group, more preferably an aryl group. Of these, a phenyl group substituted with a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group at the 2-position is particularly preferred. The total carbon number of R 14 is preferably in the range of 6 to 18, more preferably in the range of 7 to 16, and still more preferably in the range of 8 to 14. The coupler of general formula (Y-1) preferably has a molecular weight of 700 or less, more preferably 650 or less, and even more preferably 600 or less.

一般式(Y−2)のカプラーのX8およびR15で表される基はそれぞれ一般式(Y−1)のカプラーのX7、R14で表される基と同様の基で、それぞれの基の好ましい範囲も一般式(Y−1)のカプラーと同様である。Zは5員ないし7員の環を形成するために必要な2価の基を表し、この環には置換基があってもよいし、別の環が縮環していてもよい。
一般式(Y−2)のなかでも好ましいのは一般式(Y−3)で表されるカプラーである。一般式(Y−3)のカプラーにおいて、X9は一般式(Y−1)のX7と同義で、好ましい範囲も同じである。R16は好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミド基、シアノ基、スルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基またはアルキルチオ基で炭素数1〜4の置換基であることがより好ましい。nは好ましくは0〜3の整数で、より好ましくは0〜2、さらに好ましくは0〜1、最も好ましくは0である。R17は好ましくはR16と同様の基で、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、スルホニル基である。特にNH基に対してオルト位にハロゲン原子、アルコキシ基またはアルキルチオ基であるR17が置換されていることがより好ましい。最も好ましいのはアルキルチオ基である。一般式(Y−3)のカプラーは分子量が750以下であることが好ましく、700以下であることがより好ましく、650以下であることがさらに好ましい。
以下に本発明のカプラーの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The groups represented by X 8 and R 15 of the coupler of general formula (Y-2) are the same groups as the groups represented by X 7 and R 14 of the coupler of general formula (Y-1), respectively. The preferred range of the group is the same as that of the coupler of the general formula (Y-1). Z represents a divalent group necessary for forming a 5- to 7-membered ring, and this ring may have a substituent, or another ring may be condensed.
Of the general formula (Y-2), a coupler represented by the general formula (Y-3) is preferable. In the coupler of the general formula (Y-3), X 9 is synonymous with X 7 in the general formula (Y-1), and the preferred range is also the same. R 16 is preferably a halogen atom, alkyl group, alkoxy group, acyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonyl group, sulfonamido group, cyano group, sulfonyl group, sulfamoyl group, carbamoyl group or alkylthio group, 4 is more preferable. n is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 to 2, still more preferably 0 to 1, and most preferably 0. R 17 is preferably the same group as R 16 , more preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, a sulfamoyl group or a sulfonyl group. In particular, it is more preferable that R 17 which is a halogen atom, an alkoxy group or an alkylthio group is substituted in the ortho position with respect to the NH group. Most preferred is an alkylthio group. The coupler of general formula (Y-3) preferably has a molecular weight of 750 or less, more preferably 700 or less, and even more preferably 650 or less.
Specific examples of the coupler of the present invention are given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007057708
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発明のカプラーはメタノールなど適当な溶媒に溶解させた溶液として、界面活性剤、補助溶媒および保護コロイドを使ってホモジナイザー等で乳化分散した乳化分散物として、もしくは固体分散物として添加することができる。その中でも固体微粒子状に分散して感光性乳剤層(画像形成層)もしくは画像形成層に隣接する非感光性層に添加することが好ましい。   The coupler of the invention can be added as a solution dissolved in a suitable solvent such as methanol, as an emulsified dispersion emulsified and dispersed with a homogenizer or the like using a surfactant, an auxiliary solvent and a protective colloid, or as a solid dispersion. Among them, it is preferable to add to a light-sensitive emulsion layer (image forming layer) or a non-photosensitive layer adjacent to the image forming layer after being dispersed in solid fine particles.

固体微粒子の分散物は粉体粒子を分散剤や界面活性剤を含む水溶液に撹拌化下でなじませた後、ビーズミル、ボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散する方法により作製できる。分散剤としてはポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ゼラチン等の水溶性ポリマー、アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルナフタレンスルホン酸、スルホコハク酸、オレオイル−N−メチルタウリンスルホン酸等のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩などのアニオン性界面活性剤、アルキルベンゼンポリエトキシレート、アルキルポリエトキシレート、プルロニック類、アルキルグルコキシレート等のノニオン性界面活性剤が用いられる。その中でも水溶性ポリマーとしてはアルキルチオ変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アニオン性界面活性剤界面活性剤としてはドデシルベンゼンスルホン酸塩、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩が好ましい。前記の水溶性ポリマーとアニオン界面活性剤を併用して用いることは特に好ましい。分散液の長期保存のためには防腐剤を添加することが好ましく、イソチアゾリノン系の防腐剤、特にベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩が好ましい。また、分散時の発泡を防止するために消泡剤を使用することが好ましく、消泡効果の点ではアセチレンアルコール類が特に好ましい。   The dispersion of solid fine particles is obtained by mixing the powder particles into an aqueous solution containing a dispersant or a surfactant under stirring, and then using a bead mill, ball mill, colloid mill, vibrating ball mill, sand mill, jet mill, roller mill or ultrasonic. It can be produced by a dispersing method. Dispersing agents include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and gelatin, alkali metal salts such as alkylbenzene sulfonic acid, alkyl naphthalene sulfonic acid, sulfosuccinic acid, oleoyl-N-methyl taurine sulfonic acid, and ammonium salts. Nonionic surfactants such as anionic surfactants, alkylbenzene polyethoxylates, alkyl polyethoxylates, pluronics, alkyl glucoxylates, and the like are used. Among them, alkylthio-modified polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone are preferable as the water-soluble polymer, and dodecylbenzenesulfonate, triisopropylnaphthalenesulfonate, and alkyldiphenylether disulfonate are preferable as the anionic surfactant surfactant. It is particularly preferable to use the water-soluble polymer in combination with an anionic surfactant. Preservatives are preferably added for long-term storage of the dispersion, and isothiazolinone-based preservatives, particularly benzoisothiazolinone sodium salt. Moreover, it is preferable to use an antifoamer in order to prevent foaming at the time of dispersion, and acetylene alcohols are particularly preferable in terms of the antifoaming effect.

固体微粒子の平均サイズは0.05μmないし5μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1ないし2μmの範囲、さらに好ましくは0.2ないし1μmの範囲である。粒子サイズが大きすぎると濾過詰まり、塗布面状の悪化等の問題を引き起こし、粒子サイズが小さすぎると分散物の安定性が損なわれる。これらの問題から平均サイズを前記範囲に設定することが好ましく、粒子サイズ分布を低く抑えることが好ましい。
固体微粒子状の化合物を熱現像時に効率良く機能させるためには、本発明のカプラーはその融点が220℃以下であることが好ましく、より好ましくは200℃以下、さらに好ましくは180℃以下である。また、未使用の熱現像感光材料の保存性を良好に保つために本発明のカプラーは融点が70℃以上であることが好ましく、より好ましくは90℃以上、さらに好ましくは110℃以上である。また、熱現像後の感光材料の長期保存性を改良するためには本発明のカプラーはその融点が100℃以上であることが好ましく、より好ましくは120℃以上、さらに好ましくは140℃以上である。微粒子固体分散物の安定性を向上させるためには、本発明のカプラーの水に対する溶解度が1000ppm以下であることが好ましく、より好ましくは200ppm以下、さらに好ましくは50ppm以下である。分散剤や界面活性剤が含まれている場合には、これらを含む溶液に対するカプラーの溶解度が上記の値の範囲にあることが好ましい。
The average size of the solid fine particles is preferably in the range of 0.05 μm to 5 μm, more preferably in the range of 0.1 to 2 μm, still more preferably in the range of 0.2 to 1 μm. When the particle size is too large, problems such as filtration clogging and deterioration of the coated surface state are caused, and when the particle size is too small, the stability of the dispersion is impaired. From these problems, it is preferable to set the average size within the above range, and it is preferable to keep the particle size distribution low.
In order for the solid particulate compound to function efficiently during thermal development, the coupler of the present invention preferably has a melting point of 220 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower, and even more preferably 180 ° C. or lower. The coupler of the present invention preferably has a melting point of 70 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, and further preferably 110 ° C. or higher in order to keep the storage stability of the unused photothermographic material good. In order to improve the long-term storability of the photosensitive material after heat development, the coupler of the present invention preferably has a melting point of 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher. . In order to improve the stability of the fine particle solid dispersion, the solubility of the coupler of the present invention in water is preferably 1000 ppm or less, more preferably 200 ppm or less, and even more preferably 50 ppm or less. When a dispersant or a surfactant is contained, the solubility of the coupler in the solution containing these is preferably in the above range.

本発明のカプラーは0.1mmol/m2〜5.0mmol/m2の範囲で使用でき、好ましくは0.2mmol/m2〜3.0mmol/m2の範囲、さらに好ましくは0.5mmol/m2〜2.0mmol/m2の範囲で使用することである。本発明のカプラーは一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)から選ばれる1種、(M−1)、(M−2)、及び(M−3)から選ばれる1種、(Y−1)、(Y−2)、及び(Y−3)から選ばれる1種のうち2種以上を併用することが好ましく、3種併用することがより好ましい。一般式(C−1)、(C−2)、及び(C−3)から選ばれるカプラーの使用量は0.05mmol/m2〜2.0mmol/m2の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.1〜1.0の範囲、さらに好ましくは0.15mmol/m2〜0.6mmol/m2の範囲である。一般式(M−1)、(M−2)、及び(M−3)から選ばれるカプラーの使用量は0.1mmol/m2〜2.0mmol/m2の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.15〜1.5の範囲、さらに好ましくは0.2mmol/m2〜0.8mmol/m2の範囲である。一般式(Y−1)、(Y−2)、及び(Y−3)から選ばれるカプラーの使用量は0.2mmol/m2〜4.0mmol/m2の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.3〜3.0の範囲、さらに好ましくは0.4mmol/m2〜2.0mmol/m2の範囲である。 Couplers of the present invention can be used in a range of 0.1mmol / m 2 ~5.0mmol / m 2 , preferably in the range of 0.2mmol / m 2 ~3.0mmol / m 2 , more preferably 0.5 mmol / m It is to be used in the range of 2 to 2.0 mmol / m 2 . The coupler of the present invention is selected from one selected from general formulas (C-1), (C-2), and (C-3), (M-1), (M-2), and (M-3). It is preferable to use 2 or more types in combination of 1 type selected from (1), (Y-1), (Y-2), and (Y-3), and it is more preferable to use 3 types in combination. Formula (C-1), is preferably in a range amount used of 0.05mmol / m 2 ~2.0mmol / m 2 of coupler selected from (C-2), and (C-3), more preferably in the range of 0.1 to 1.0, more preferably in the range of 0.15mmol / m 2 ~0.6mmol / m 2 . The amount of the coupler selected from the general formulas (M-1), (M-2), and (M-3) is preferably in the range of 0.1 mmol / m 2 to 2.0 mmol / m 2 , more preferably in the range of 0.15 to 1.5, more preferably in the range of 0.2mmol / m 2 ~0.8mmol / m 2 . Formula (Y-1), preferably in the range of (Y-2), and the amount of the coupler selected from (Y-3) is 0.2mmol / m 2 ~4.0mmol / m 2 , more preferably in the range of 0.3 to 3.0, more preferably in the range of 0.4mmol / m 2 ~2.0mmol / m 2 .

(非感光性有機銀塩)
1)組成
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。有機銀塩は還元剤により還元されうる銀イオンを供給できる任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平10−62899号の段落番号0048〜0049、欧州特許公開第0803764A1号の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸銀、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸銀およびこれらの混合物などを含む。本発明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上100モル%以下、より好ましくは85モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは95モル%以上100モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。更に、エルカ酸銀含有率が2モル%以下、より好ましくは1モル%以下、更に好ましくは0.1モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。
(Non-photosensitive organic silver salt)
1) Composition The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but is heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and a reducing agent. In this case, the silver salt functions as a silver ion supplier to form a silver image. The organic silver salt may be any organic substance that can supply silver ions that can be reduced by a reducing agent. As for such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferred examples of the fatty acid silver salt include silver lignocerate, silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver erucate and the like. Including a mixture of In the present invention, among these fatty acid silvers, the silver behenate content is preferably 50 mol% to 100 mol%, more preferably 85 mol% to 100 mol%, and still more preferably 95 mol% to 100 mol%. The following fatty acid silver is preferably used. Furthermore, it is preferable to use fatty acid silver having a silver erucate content of 2 mol% or less, more preferably 1 mol% or less, and still more preferably 0.1 mol% or less.

また、ステアリン酸銀含有率が1モル%以下であることが好ましい。前記ステアリン酸銀含有率を1モル%以下とすることにより、Dminが低く、高感度で画像保存性に優れた有機酸の銀塩が得られる。前記ステアリン酸銀含有率としては、0.5モル%以下が好ましく、実質的に含まないことが特に好ましい。   Moreover, it is preferable that silver stearate content rate is 1 mol% or less. By setting the silver stearate content to 1 mol% or less, a silver salt of an organic acid having a low Dmin, high sensitivity and excellent image storage stability can be obtained. As said silver stearate content rate, 0.5 mol% or less is preferable and it is especially preferable not to contain substantially.

さらに、有機酸の銀塩としてアラキジン酸銀を含む場合は、アラキジン酸銀含有率が6モル%以下であることが、低いDminを得ること及び画像保存性の優れた有機酸の銀塩を得る点で好ましく、3モル%以下であることが更に好ましい。   Furthermore, when silver arachidate is included as the silver salt of the organic acid, the silver arachidate content is 6 mol% or less to obtain a low Dmin and an organic acid silver salt excellent in image storability. It is preferable at a point and it is still more preferable that it is 3 mol% or less.

2)形状
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が5以下の短針状、直方体、立方体またはジャガイモ状の不定形粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀粒子は長軸と単軸の長さの比が5を越える長針状粒子に比べて熱現像時のかぶりが少ないという特徴を有している。特に、長軸と単軸の比が3以下の粒子は塗布膜の機械的安定性が向上し好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。
x=b/a
2) Shape The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In addition, short needle-like, rectangular parallelepiped, cubic or potato-like amorphous particles having a major axis / uniaxial length ratio of 5 or less are also preferably used. These organic silver particles have a feature that the fog at the time of heat development is less than that of long needle-like particles in which the ratio of the long axis to the single axis exceeds 5. In particular, particles having a major axis / uniaxial ratio of 3 or less are preferable because the mechanical stability of the coating film is improved. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt was observed with an electron microscope, and the shape of the organic acid silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped. Then, calculation is performed with the shorter numerical values a and b, and x is obtained as follows.
x = b / a

このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは15≧x(平均)≧1.5である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。   In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.

りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μm以上0.3μm以下が好ましく0.1μm以上0.23μm以下がより好ましい。c/bの平均は1以上9以下であることが好ましく、より好ましくは1以上6以下、さらに好ましくは1以上4以下、最も好ましくは1以上3以下である。   In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average c / b is preferably 1 or more and 9 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, still more preferably 1 or more and 4 or less, and most preferably 1 or more and 3 or less.

前記球相当直径を0.05μm以上1μm以下とすることにより、熱現像感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる。前記球相当直径としては、0.1μm以上1μm以下が好ましい。
本発明において、球相当直径の測定方法は、電子顕微鏡を用いて直接サンプルを撮影し、その後、ネガを画像処理することによって求められる。
前記リン片状粒子において、粒子の球相当直径/aをアスペクト比と定義する。リン片状粒子のアスペクト比としては、熱現像感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる観点から、1.1以上30以下であることが好ましく、1.1以上15以下がより好ましい。
By setting the equivalent sphere diameter to 0.05 μm or more and 1 μm or less, aggregation is hardly caused in the photothermographic material, and image storability is improved. The sphere equivalent diameter is preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less.
In the present invention, the method for measuring the equivalent sphere diameter is obtained by directly photographing a sample using an electron microscope and then image-processing the negative.
In the flake shaped particles, the spherical equivalent diameter / a of the particles is defined as the aspect ratio. The aspect ratio of the flake shaped particles is preferably 1.1 or more and 30 or less, and preferably 1.1 or more and 15 or less, from the viewpoint of preventing aggregation in the photothermographic material and improving the image storage stability. More preferred.

有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)から求めることができる。   The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, it is obtained from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the temporal change of the fluctuation of the scattered light. Can do.

3)調製
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平10−62899号、欧州特許公開第0803763A1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号、同2001−163889号、同2001−163890号、同2001−163827号、同2001−33907号、同2001−188313号、同2001−83652号、同2002−6442、同2002−49117号、同2002−31870号、同2002−107868号等を参考にすることができる。
3) Preparation Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic acid silver used in the present invention. For example, the above-mentioned JP-A-10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, JP-A-2001-163889, 2001-163890, 2001-163825, 2001-33907, 2001-188313, 2001-83651, 2002-6442, 2002-49117, 2002-31870, 2002-107868 You can refer to the issue.

なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させると、かぶりが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩1モルに対し1モル%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1モル%以下であり、さらに好ましいのは積極的な感光性銀塩の添加を行わないものである。   In addition, when the photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, the fog rises and the sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% relative to 1 mol of the organic acid silver salt in the liquid. The following is more preferable, and positive addition of photosensitive silver salt is not performed.

本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液をそれぞれ独立に調製して後に混合して熱現像感光材料を製造することが可能である。また、2種以上の有機銀塩水分散液、あるいは2種以上の感光性銀塩水分散液を混して用いることは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。   In the present invention, it is possible to prepare an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver salt aqueous dispersion, respectively, and mix them later to produce a photothermographic material. Further, mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions or two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.

有機銀塩は、水溶媒で粒子形成され、その後、乾燥、メチルエチルケトン(MEK)等の溶媒への分散をする事により調製される。乾燥は気流式フラッシュジェットドライヤーにおいて酸素分圧15容量%以下で行うことが好ましく、15容量%以下0.01容量%以上で行うことがより好ましく、10容量%以下0.01容量%以上で行うことがさらに好ましい。   The organic silver salt is prepared by forming particles in an aqueous solvent and then dispersing in a solvent such as methyl ethyl ketone (MEK). Drying is preferably performed at an oxygen partial pressure of 15% by volume or less, more preferably 15% by volume or less and 0.01% by volume or more in an airflow type flash jet dryer, and 10% by volume or less and 0.01% by volume or more. More preferably.

4)添加量
本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀も含めた全塗布銀量として
0.05g/m2〜3.0g/m2が好ましく、より好ましくは0.1g/m2〜1.8g/m2、さらに好ましくは0.2g/m2〜1.2g/m2である。
4) Addition Amount organic silver salt in the invention can be used in a desired amount, preferably 0.05g / m 2 ~3.0g / m 2 as the total amount of coated silver halide silver was also included, and more preferably 0 .1g / m 2 ~1.8g / m 2 , more preferably from 0.2g / m 2 ~1.2g / m 2 .

(補助的還元剤)
本発明の熱現像感光材料には前述の還元剤と共に補助的還元剤を用いることが好ましい。本発明における補助的還元剤としては、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質(好ましくは有機物質)であってよい。このような還元剤の例は、特開平11−65021号の段落番号0043〜0045や、欧州特許公開第0803764A1号の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に記載されている。
(Auxiliary reducing agent)
In the photothermographic material of the invention, an auxiliary reducing agent is preferably used together with the above-mentioned reducing agent. The auxiliary reducing agent in the present invention may be any substance (preferably an organic substance) that reduces silver ions to metallic silver. Examples of such reducing agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0043 to 0045, and European Patent Publication No. 0803764A1, page 7, line 34 to page 18, line 12.

本発明において、補助的還元剤としてはフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダードフェノール系還元剤あるいはビスフェノール系還元剤が好ましく、下記一般式(R)で表される化合物がより好ましい。   In the present invention, the auxiliary reducing agent is preferably a so-called hindered phenol-based reducing agent or bisphenol-based reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, and more preferably a compound represented by the following general formula (R). .

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(R)において、R11およびR11’は各々独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R12およびR12’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Lは−S−基または−CHR13−基を表す。R13は水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を表す。X1およびX1’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。 In the general formula (R), R 11 and R 11 ′ each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring. L represents an —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring.

一般式(R)について詳細に説明する。
1)R11およびR11
11およびR11’は各々独立に置換または無置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ウレイド基、ウレタン基、およびハロゲン原子等が挙げられる。
The general formula (R) will be described in detail.
1) R 11 and R 11 '
R 11 and R 11 ′ are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the substituent of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably an aryl group, a hydroxy group, Examples include alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, acylamino groups, sulfonamido groups, sulfonyl groups, phosphoryl groups, acyl groups, carbamoyl groups, ester groups, ureido groups, urethane groups, and halogen atoms.

2)R12およびR12’、X1およびX1
12およびR12’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基であり、X1およびX1’も各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、およびアシルアミノ基が挙げられる。
2) R 12 and R 12 ', X 1 and X 1 '
R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent capable of substituting for a benzene ring, and X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. Preferred examples of the group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.

3)L
Lは−S−基または−CHR13−基を表す。R13は水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。R13の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、1−エチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、シクロヘキシル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基、および3,5−ジメチル−3−シクロヘキセニル基などが挙げられる。アルキル基の置換基の例はR11の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、およびスルファモイル基などが挙げられる。
3) L
L represents an —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent. Specific examples of the unsubstituted alkyl group for R 13 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, cyclohexyl group. Group, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group, 3,5-dimethyl-3-cyclohexenyl group and the like. Examples of the substituent of the alkyl group are the same as the substituent of R 11 , such as a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, an oxycarbonyl group, A carbamoyl group, a sulfamoyl group, etc. are mentioned.

4)好ましい置換基
11およびR11’として好ましくは炭素数1〜15の1級、2級または3級のアルキル基であり、具体的にはメチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、および1−メチルシクロプロピル基などが挙げられる。R11およびR11’としてより好ましくは炭素数1〜4のアルキル基で、その中でもメチル基、t−ブチル基、t−アミル基、または1−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、メチル基、t−ブチル基が最も好ましい。
4) Preferred substituents R 11 and R 11 ′ are preferably primary, secondary or tertiary alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms, specifically methyl, isopropyl, t-butyl, t -Amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like. R 11 and R 11 ′ are more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and among them, a methyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, or a 1-methylcyclohexyl group is more preferable, and a methyl group, t- A butyl group is most preferred.

12およびR12’として好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、およびメトキシエチル基などが挙げられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、またはt−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
1およびX1’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基で、より好ましくは水素原子である。
R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group. Group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a t-butyl group, and particularly preferred are a methyl group and an ethyl group.
X 1 and X 1 ′ are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

Lは好ましくは−CHR13−基である。
13として好ましくは水素原子または炭素数1〜15のアルキル基であり、該アルキル基としては鎖状のアルキル基の他、環状のアルキル基も好ましく用いられる。また、これらのアルキル基の中にC=C結合を有しているものも好ましく用いることができる。アルキル基としては例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、シクロヘキシル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基、または3,5−ジメチル−3−シクロヘキセニル基等が好ましい。R13として特に好ましいのは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、または2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基である。
L is preferably a —CHR 13 — group.
R 13 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. As the alkyl group, a cyclic alkyl group is also preferably used in addition to a chain alkyl group. Moreover, what has a C = C bond in these alkyl groups can also be used preferably. Examples of the alkyl group include a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, cyclohexyl group, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group, or 3,5-dimethyl-3. -A cyclohexenyl group and the like are preferable. R 13 is particularly preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group.

11、R11’が3級のアルキル基でR12、R12’がメチル基の場合、R13は炭素数1〜8の1級または2級のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、または2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基等)が好ましい。
11、R11’が3級のアルキル基でR12、R12’がメチル基以外のアルキル基の場合、R13は水素原子が好ましい。
11、R11’が3級のアルキル基でない場合、R13は水素原子または2級のアルキル基であることが好ましく、2級のアルキル基であることが特に好ましい。R13の2級アルキル基として好ましい基はイソプロピル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基である。
上記還元剤はR11、R11’、R12、R12’およびR13の組み合わせにより、熱現像性、現像銀色調などが異なる。2種以上の還元剤を組み合わせることでこれらを調製することができるため、目的によっては2種以上を組み合わせて使用することが好ましい。
When R 11 and R 11 ′ are tertiary alkyl groups and R 12 and R 12 ′ are methyl groups, R 13 is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group). Group, isopropyl group, or 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group).
When R 11 and R 11 ′ are tertiary alkyl groups and R 12 and R 12 ′ are alkyl groups other than methyl groups, R 13 is preferably a hydrogen atom.
When R 11 and R 11 ′ are not a tertiary alkyl group, R 13 is preferably a hydrogen atom or a secondary alkyl group, and particularly preferably a secondary alkyl group. Preferred groups as the secondary alkyl group for R 13 are isopropyl group and 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group.
The reducing agent has different heat developability, developed silver color tone and the like depending on the combination of R 11 , R 11 ′, R 12 , R 12 ′ and R 13 . Since these can be prepared by combining two or more reducing agents, it is preferable to use a combination of two or more depending on the purpose.

以下に本発明の一般式(R)で表される化合物をはじめとする補助的還元剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the auxiliary reducing agent including the compound represented by the general formula (R) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

本発明において補助的還元剤の添加量は0.1g/m2〜3.0g/m2であることが好ましく、より好ましくは0.2g/m2〜1.5g/m2で、さらに好ましくは0.3g/m2〜1.0g/m2である。画像形成層を有する面の銀1モルに対しては5モル%〜50モル%含まれることが好ましく、より好ましくは8モル%〜30モル%であり、10モル%〜20モル%で含まれることがさらに好ましい。補助的還元剤は画像形成層に含有させることが好ましい。 The addition amount of the auxiliary reducing agent is preferably a 0.1g / m 2 ~3.0g / m 2 , more preferably 0.2g / m 2 ~1.5g / m 2 , more preferably is the 0.3g / m 2 ~1.0g / m 2 . It is preferably contained in an amount of 5 mol% to 50 mol%, more preferably 8 mol% to 30 mol%, and more preferably 10 mol% to 20 mol%, based on 1 mol of silver on the surface having the image forming layer. More preferably. The auxiliary reducing agent is preferably contained in the image forming layer.

(感光性ハロゲン化銀)
1)ハロゲン組成
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀、またはヨウ化銀を用いることができる。その中でも臭化銀、ヨウ臭化銀及びヨウ化銀が好ましい。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子を用いることができる。また塩化銀、臭化銀又は塩臭化銀粒子の表面に臭化銀やヨウ化銀を局在させる技術も好ましく用いることができる。
(Photosensitive silver halide)
1) Halogen composition The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition, and is silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide, or iodide. Silver can be used. Of these, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide are preferred. The distribution of the halogen composition in the grain may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, and more preferably 2- to 4-fold core / shell particles can be used. A technique for localizing silver bromide or silver iodide on the surface of silver chloride, silver bromide or silver chlorobromide grains can also be preferably used.

2)粒子形成方法
感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチディスクロージャー1978年6月の第17029号、及び米国特許第3,700,458号に記載されている方法を用いることができるが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する方法を用いる。また、特開平11−119374号公報の段落番号0217〜0224に記載されている方法、特開平11−352627、特開2000−347335号記載の方法も好ましい。
2) Grain Forming Methods Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art and are described, for example, in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. In particular, a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound into gelatin or another polymer solution, and then mixed with an organic silver salt. Use the method. In addition, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A No. 11-119374, and the methods described in JP-A Nos. 11-352627 and 2000-347335 are also preferable.

3)粒子サイズ
感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが好ましく具体的には0.20μm以下、より好ましくは0.01μm以上0.15μm以下、更に好ましくは0.02μm以上0.12μm以下がよい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子の投影面積(平板粒子の場合は主平面の投影面積)と同面積の円像に換算したときの直径をいう。
3) Grain size The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of keeping the cloudiness after image formation low, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less. More preferably, it is 0.02 μm or more and 0.12 μm or less. The grain size here means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of silver halide grains (in the case of tabular grains, the projected area of the main plane).

4)粒子形状
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、およびジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特に立方体状粒子が好ましい。ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。
感光性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い{100}面の占める割合が高いことが好ましい。その割合としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。ミラー指数{100}面の比率は増感色素の吸着における{111}面と{100}面との吸着依存性を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記載の方法により求めることができる。
4) Grain shape Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, and potato-like grains. In the present invention, cubic grains are particularly preferred. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used.
The surface index (Miller index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the ratio of the {100} plane having high spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index {100} plane is a T.K. based on the adsorption dependency of {111} plane and {100} plane in the adsorption of sensitizing dye. Tani; Imaging Sci. 29, 165 (1985).

5)重金属
本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表(第1〜18族までを示す)の第6族〜第13族の金属または金属錯体を含有することができる。より好ましくは、第6族〜第10族の金属または金属錯体を含有することができる。周期律表の第6族〜第10族の金属又は金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、および鉄である。これら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モル〜1×10-3モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平7−225449号、特開平11−65021号段落番号0018〜0024、特開平11−119374号段落番号0227〜0240に記載されている。
5) Heavy Metal The photosensitive silver halide grain of the present invention may contain a metal or metal complex of Group 6 to Group 13 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). More preferably, a metal or metal complex of Group 6 to Group 10 can be contained. As the central metal of the Group 6 to Group 10 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium, iridium, and iron are preferable. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol with respect to 1 mol of silver. These heavy metals and metal complexes and methods of adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.

本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、[Fe(CN)64-、[Fe(CN)63-、[Ru(CN)64-、[Os(CN)64-、[Co(CN)63-、[Rh(CN)63-、[Ir(CN)63-、[Cr(CN)63-、[Re(CN)63-などが挙げられる。本発明においては六シアノFe錯体が好ましい。 In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. The hexacyano metal complexes include [Fe (CN) 6 ] 4− , [Fe (CN) 6 ] 3− , [Ru (CN) 6 ] 4− , [Os (CN) 6 ] 4− , [Co ( CN) 6 ] 3− , [Rh (CN) 6 ] 3− , [Ir (CN) 6 ] 3− , [Cr (CN) 6 ] 3− , [Re (CN) 6 ] 3− and the like. . In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.

六シアノ金属錯体は、水溶液中でイオンの形で存在するので対陽イオンは重要ではないが、水と混和しやすく、ハロゲン化銀乳剤の沈澱操作に適合しているナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン、セシウムイオン及びリチウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン(例えばテトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモニウムイオン、またはテトラ(n−ブチル)アンモニウムイオン)を用いることが好ましい。   The hexacyano metal complex is present in the form of ions in aqueous solution, so the counter cation is not important, but it is easy to mix with water and is suitable for precipitation of silver halide emulsions. Sodium ion, potassium ion, rubidium It is preferable to use alkali metal ions such as ions, cesium ions and lithium ions, ammonium ions, alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ions, tetraethylammonium ions, tetrapropylammonium ions, or tetra (n-butyl) ammonium ions). .

六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、またはアミド類等)との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。   In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, or amides). Can be added.

六シアノ金属錯体の添加量は、銀1モル当たり1×10-5モル以上1×10-2モル以下が好ましく、より好ましくは1×10-4モル以上1×10-3モル以下である。 The addition amount of the hexacyano metal complex is preferably 1 × 10 −5 mol or more and 1 × 10 −2 mol or less, more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −3 mol or less per mol of silver.

六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感及びテルル増感のカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、又は化学増感工程前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。   In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the silver nitrate aqueous solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.

尚、六シアノ金属錯体の添加は、粒子形成をするために添加する硝酸銀の総量の96質量%を添加した後から開始してもよく、98質量%添加した後から開始するのがより好ましく、99質量%添加した後が特に好ましい。   The addition of the hexacyano metal complex may be started after adding 96% by mass of the total amount of silver nitrate to be added to form grains, more preferably starting after adding 98% by mass, The addition of 99% by mass is particularly preferable.

これら六シアノ金属錯体を粒子形成の完了する直前の硝酸銀水溶液を添加した後に添加すると、ハロゲン化銀粒子最表面に吸着することができ、そのほとんどが粒子表面の銀イオンと難溶性の塩を形成する。この六シアノ鉄(II)の銀塩は、AgIよりも難溶性の塩であるため、微粒子による再溶解を防ぐことができ、粒子サイズが小さいハロゲン化銀微粒子を製造することが可能となった。   When these hexacyanometal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grains, and most of them form slightly soluble salts with silver ions on the grain surface. To do. Since this silver salt of hexacyanoiron (II) is a less soluble salt than AgI, it is possible to prevent re-dissolution by fine particles and to produce silver halide fine particles having a small particle size. .

さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子(例えば[Fe(CN)64-)、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平11−84574号段落番号0046〜0050、特開平11−65021号段落番号0025〜0031、特開平11−119374号段落番号0242〜0250に記載されている。 Further, regarding a metal atom (for example, [Fe (CN) 6 ] 4− ), a silver halide emulsion desalting method and a chemical sensitization method that can be contained in the silver halide grains used in the present invention, JP-A-11-11 No. 84574, paragraph numbers 0046 to 0050, JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0025 to 0031, and JP-A No. 11-119374, paragraph numbers 0242 to 0250.

6)ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持することが必要であり、分子量は、10,000〜1,000,000のゼラチンを使用することが好ましい。また、ゼラチンの置換基をフタル化処理することも好ましい。これらのゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、粒子形成時に使用することが好ましい。
6) Gelatin As the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention, various gelatins can be used. It is necessary to maintain a good dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the coating solution containing an organic silver salt, and gelatin having a molecular weight of 10,000 to 1,000,000 is preferably used. It is also preferable to phthalate the gelatin substituent. These gelatins may be used at the time of grain formation or at the time of dispersion after desalting, but are preferably used at the time of grain formation.

7)増感色素
本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。増感色素及び添加法については、特開平11−65021号の段落番号0103〜0109、特開平10−186572号一般式(II)で表される化合物、特開平11−119374号の一般式(I)で表される色素及び段落番号0106、米国特許第5,510,236号、同第3,871,887号実施例5に記載の色素、特開平2−96131号、特開昭59−48753号に開示されている色素、欧州特許公開第0803764A1号の第19ページ第38行〜第20ページ第35行、特開2001−272747号、特開2001−290238号、特開2002−23306号等に記載されている。これらの増感色素は単独で用いてもよく、2種以上組合せて用いてもよい。本発明において増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、脱塩工程後、塗布までの時期が好ましく、より好ましくは脱塩後から化学熟成が終了する前までの時期である。
本発明における増感色素の添加量は、感度やかぶりの性能に合わせて所望の量にすることができるが、画像形成層のハロゲン化銀1モル当たり10-6モル〜1モルが好ましく、さらに好ましくは10-4モル〜10-1モルである。
7) Sensitizing Dye Sensitizing dyes applicable to the present invention are those that can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and are suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. Sensitizing dyes with sensitivity can be advantageously selected. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A-11-65021, compounds represented by the general formula (II) of JP-A-10-186572, and general formulas (I) of JP-A-11-119374 ) And the dye described in Example 5 of U.S. Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753. No. 19, page 38 to line 20, page 35 of European Patent Publication No. 0803764A1, JP 2001-272747, JP 2001-290238, JP 2002-23306, etc. It is described in. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the time when the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion is preferably the time from the desalting step to the coating, and more preferably the time from desalting to the end of chemical ripening.
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and the fogging performance, but is preferably 10 −6 mol to 1 mol per mol of silver halide in the image forming layer. The amount is preferably 10 -4 mol to 10 -1 mol.

本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第587,338号、米国特許第3,877,943号、同第4,873,184号、特開平5−341432号、同11−109547号、同10−111543号等に記載の化合物が挙げられる。   In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 587,338, US Pat. Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A-5-341432, 11- 109547, 10-111543, etc. are mentioned.

8)化学増感
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、硫黄増感法、セレン増感法若しくはテルル増感法にて化学増感されていることが好ましい。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物、例えば、特開平7−128768号等に記載の化合物等を使用することができる。特に本発明においてはテルル増感が好ましく、特開平11−65021号段落番号0030に記載の文献に記載の化合物、特開平5−313284号中の一般式(II),(III),(IV)で示される化合物がより好ましい。
8) Chemical Sensitization The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably chemically sensitized by sulfur sensitizing method, selenium sensitizing method or tellurium sensitizing method. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, selenium sensitization method, and tellurium sensitization method, known compounds such as compounds described in JP-A-7-128768 can be used. In the present invention, tellurium sensitization is particularly preferred. The compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, and the general formulas (II), (III), (IV) described in JP-A-5-313284 The compound shown by is more preferable.

本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、上記カルコゲン増感と組み合わせて、あるいは単独で金増感法にて化学増感されていることが好ましい。金増感剤としては、金の価数が+1価又は+3価が好ましく、金増感剤としては通常用いられる金化合物が好ましい。代表的な例としては塩化金酸、臭化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムブロロオーレート、オーリックトリクロライド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨードオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アンモニウムオーロチオシアネート、またはピリジルトリクロロゴールドなどが好ましい。また、米国特許第5858637号、特開2002−278016号に記載の金増感剤も好ましく用いられる。   The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized by gold sensitization alone or in combination with the chalcogen sensitization described above. As the gold sensitizer, the valence of gold is preferably +1 or +3, and the gold sensitizer is preferably a commonly used gold compound. Typical examples include chloroauric acid, bromoauric acid, potassium chloroaurate, potassium bromoaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodoaurate, tetracyanoauric acid, ammonium aurothiocyanate, or pyridyltrichloro. Gold or the like is preferable. Further, gold sensitizers described in US Pat. No. 5,858,637 and JP-A No. 2002-278016 are also preferably used.

本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感後、(4)塗布直前等があり得る。
本発明で用いられる硫黄、セレン及びテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり10-8モル以上10-2モル以下、好ましくは10-7モル以上10-3モル以下程度を用いる。
金増感剤の添加量は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀1モル当たり10-7モル以上10-3モル以下、より好ましくは10-6モル以上5×10-4モル以下である。
本発明における化学増感の条件としては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとしては6〜11、温度としては40℃〜95℃程度である。
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第293,917号公報に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application.
The amount of sulfur, selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but from 10 −8 mol to 10 −2 mol per mol of silver halide, Preferably, about 10 −7 mol to 10 −3 mol is used.
The amount of the gold sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guideline, it is 10 −7 mol or more and 10 −3 mol or less, more preferably 10 −6 mol or more and 5 × 10 −4 mol or less per mol of silver halide. It is.
The conditions for chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, and the temperature is about 40 ° C to 95 ° C.
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method described in European Patent Publication No. 293,917.

本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、還元剤を用いることが好ましい。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、アミノイミノメタンスルフィン酸が好ましく、その他に塩化第一スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、またはポリアミン化合物等を用いることが好ましい。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でも良い。また、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することが好ましく、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することも好ましい。   A reducing agent is preferably used for the photosensitive silver halide grains in the present invention. As specific compounds of the reduction sensitization method, ascorbic acid and aminoiminomethanesulfinic acid are preferable. In addition, it is preferable to use stannous chloride, a hydrazine derivative, a borane compound, a silane compound, or a polyamine compound. The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, reduction sensitization is preferable by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or pAg at 8.3 or less, and reduction sensitization is achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. It is also preferable to do.

9)1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
9) Compound in which 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation can emit 1 electron or more electrons In the photothermographic material of the present invention, 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation is 1 electron or 1 electron or more. It is preferable to contain a compound capable of emitting more electrons. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含有される1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ1、タイプ2から選ばれる化合物である。
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
The one-electron oxidant formed by one-electron oxidation contained in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is a compound selected from the following types 1 and 2 as the compound capable of emitting one electron or more. It is.
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can further emit one or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation reaction.

まずタイプ1の化合物について説明する。
タイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子を放出し得る化合物としては、特開平9−211769号(具体例:28頁〜32頁の表Eおよび表Fに記載の化合物PMT−1〜S−37)、特開平9−211774号、特開平11−95355号(具体例:化合物INV1〜36)、特表2001−500996号(具体例:化合物1〜74、80〜87、92〜122)、米国特許5,747,235号、米国特許5,747,236号、欧州特許786692A1号(具体例:化合物INV1〜35)、欧州特許893732A1号、米国特許6,054,260号、米国特許5,994,051号などの特許に記載の「1光子2電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
First, the compound of type 1 will be described.
JP-A-9-211769 (specific example: page 28) is a compound of type 1 that can be further released by one-electron oxidant produced by one-electron oxidation with subsequent bond cleavage reaction. Compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on page 32), JP-A-9-211774, JP-A-11-95355 (specific examples: compounds INV1-36), JP 2001-500996 No. (specific examples: compounds 1 to 74, 80 to 87, 92 to 122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747,236, European Patent No. 786692A1 (specific examples: compounds INV 1 to 35) European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051, etc. Compound called donor sensitizer "and the like. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

またタイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(1)(特開2003−114487号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(2)(特開2003−114487号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(3)(特開2003−114488号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(4)(特開2003−114488号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(5)(特開2003−114488号に記載の一般式(3)と同義)、一般式(6)(特開2003−75950号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(7)(特開2003−75950号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(8)(特開2004−239943号に記載の一般式(1)と同義)、または化学反応式(1)(特開2004−245929号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物のうち一般式(9)(特開2004−245929号に記載の一般式(3)と同義)で表される化合物が挙げられる。またこれらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。   Further, as a compound of type 1 that can be emitted by one-electron oxidant formed by one-electron oxidation and further undergoing bond cleavage reaction, one or more electrons can be emitted from the general formula (1) ( General formula (1) described in JP-A-2003-114487), general formula (2) (synonymous with general formula (2) described in JP-A-2003-114487), general formula (3) (JP-A-2003-114487) General formula (1) described in 2003-114488), general formula (4) (synonymous with general formula (2) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488), and general formula (5) (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488). 114488 (synonymous with general formula (3)), general formula (6) (synonymous with general formula (1) described in JP-A-2003-75950), and general formula (7) (JP-A-2003-75950). In the general formula (2)), the general formula (8) (Synonymous with the general formula (1) described in JP-A-2004-239934) or the reaction represented by the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in JP-A-2004-245929) Among these compounds, compounds represented by the general formula (9) (synonymous with the general formula (3) described in JP-A No. 2004-245929) can be given. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(1)及び(2)中、RED1、RED2は還元性基を表す。R1は炭素原子(C)とRED1とともに5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、もしくはヘキサヒドロ体に相当する環状構造を形成しうる非金属原子団を表す。R2、R3、R4は水素原子または置換基を表す。Lv1、Lv2は脱離基を表す。EDは電子供与性基を表す。 In the general formulas (1) and (2), RED 1 and RED 2 represent a reducing group. R 1 is a non-metallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle) or a hexahydro form together with carbon atom (C) and RED 1. To express. R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent. Lv 1 and Lv 2 represent a leaving group. ED represents an electron donating group.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(3)、(4)及び(5)中、Z1は窒素原子とベンゼン環の2つの炭素原子とともに6員環を形成しうる原子団を表す。R5、R6、R7、R9、R10、R11、R13、R14、R15、R16、R17、R18、およびR19は水素原子または置換基を表す。R20は水素原子または置換基を表すが、R20がアリール基以外の基を表すとき、R16、R17は互いに結合して芳香族環または芳香族ヘテロ環を形成する。R8、R12はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m1は0〜3の整数を表し、m2は0〜4の整数を表す。Lv3、Lv4、Lv5は脱離基を表す。 In the general formulas (3), (4) and (5), Z 1 represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring together with the nitrogen atom and the two carbon atoms of the benzene ring. R 5 , R 6 , R 7 , R 9 , R 10 , R 11 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , and R 19 represent a hydrogen atom or a substituent. R 20 represents a hydrogen atom or a substituent. When R 20 represents a group other than an aryl group, R 16 and R 17 are bonded to each other to form an aromatic ring or an aromatic heterocycle. R 8 and R 12 represent a substituent that can be substituted on the benzene ring, m1 represents an integer of 0 to 3, and m2 represents an integer of 0 to 4. Lv 3 , Lv 4 and Lv 5 represent a leaving group.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(6)および(7)中、RED3、RED4は還元性基を表す。R21〜R30は水素原子または置換基を表す。Z2は−CR111112−、−NR113−、または−O−を表す。R111、R112はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。R113は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。 In general formulas (6) and (7), RED 3 and RED 4 represent a reducing group. R 21 to R 30 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 2 represents —CR 111 R 112 —, —NR 113 —, or —O—. R 111 and R 112 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R113 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(8)中、RED5は還元性基でありアリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基を表す。R31は水素原子または置換基を表す。Xはアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。Lv6は脱離基でありカルボキシ基もしくはその塩または水素原子を表す。 In the general formula (8), RED 5 is a reducing group and represents an arylamino group or a heterocyclic amino group. R 31 represents a hydrogen atom or a substituent. X represents an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. Lv 6 is a leaving group and represents a carboxy group or a salt thereof, or a hydrogen atom.

Figure 2007057708
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一般式(9)で表される化合物は脱炭酸を伴う2電子酸化が起こった後に、さらに酸化される事で化学反応式(1)で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式(1)中、R32、R33は水素原子または置換基を表す。Z3はC=Cとともに5員または6員のヘテロ環を形成する基を表す。Z4はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式(9)中、R32、R33、またはZ3は化学反応式(1)中のものと同義である。Z5はC−Cとともに5員または6員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。 The compound represented by the general formula (9) is a compound that undergoes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by being further oxidized after two-electron oxidation accompanied by decarboxylation has occurred. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group that forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In general formula (9), R 32 , R 33 , or Z 3 has the same meaning as in chemical reaction formula (1). Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C.

次にタイプ2の化合物について説明する。
タイプ2の化合物で1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(10)(特開2003−140287号に記載の一般式(1)と同義)、化学反応式(1)(特開2004−245929号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物であって一般式(11)(特開2004−245929号に記載の一般式(2)と同義)で表される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
Next, the type 2 compound will be described.
As a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation with a type 2 compound can further emit one or more electrons with a subsequent bond formation reaction, a compound represented by the general formula (10) A compound capable of causing a reaction represented by the general formula (1) described in 2003-140287) and the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in JP-A-2004-245929). And a compound represented by the general formula (11) (synonymous with the general formula (2) described in JP-A No. 2004-245929). The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(10)中、RED6は1電子酸化される還元性基をあらわす。YはRED6が1電子酸化されて生成する1電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環部位を含む反応性基を表す。QはRED6とYを連結する連結基を表す。 In the general formula (10), RED 6 represents a reducing group that is one-electron oxidized. Y reacts with a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of RED 6 to form a new bond, a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or Reactive group containing a non-aromatic heterocyclic moiety of a benzo-fused ring. Q represents a linking group linking RED 6 and Y.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(11)で表される化合物は酸化される事で化学反応式(1)で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式(1)中、R32、R33は水素原子または置換基を表す。Z3はC=Cとともに5員または6員のヘテロ環を形成する基を表す。Z4はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Z5はC−Cとともに5員または6員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式(11)中、R32、R33、Z3、Z4は化学反応式(1)中のものと同義である。 The compound represented by the general formula (11) is a compound that causes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by being oxidized. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group that forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In the general formula (11), R 32 , R 33 , Z 3 and Z 4 have the same meanings as those in the chemical reaction formula (1).

タイプ1、2の化合物のうち好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。ハロゲン化銀への吸着性基とは特開2003−156823号明細書の16頁右1行目〜17頁右12行目に記載の基が代表的なものである。分光増感色素の部分構造とは同明細書の17頁右34行目〜18頁左6行目に記載の構造である。   Of the compounds of types 1 and 2, “a compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “a compound having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule” is preferable. Typical examples of the adsorptive group to silver halide are those described in JP-A No. 2003-156823, page 16, right line 1 to page 17, right line 12. The partial structure of the spectral sensitizing dye is a structure described on page 17, right line 34 to page 18, left line 6 of the same specification.

タイプ1、2の化合物として、より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を少なくとも1つ有する化合物」である。さらに好ましくは「同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物」である。吸着性基が単一分子内に2個以上存在する場合には、それらの吸着性基は同一であっても異なっても良い。   More preferably, the compound of type 1 or 2 is “a compound having at least one adsorptive group to silver halide in the molecule”. More preferred is “a compound having two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule”. When two or more adsorptive groups are present in a single molecule, these adsorptive groups may be the same or different.

吸着性基として好ましくは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズオキサゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)である。特に好ましくは、5−メルカプトテトラゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、および5−メルカプトテトラゾール基である。   The adsorptive group is preferably a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4). -Oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.) or imino silver (> NAg) And a nitrogen-containing heterocyclic group having a —NH— group as a heterocyclic partial structure (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.). Particularly preferred are 5-mercaptotetrazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and benzotriazole group, most preferred are 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.

吸着性基として、分子内に2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する場合もまた特に好ましい。ここにメルカプト基(−SH)は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基(ジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基など)の好ましい例としては、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、および3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基が挙げられる。   It is also particularly preferred that the adsorptive group has two or more mercapto groups as a partial structure in the molecule. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Preferred examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, and 3 , 5-dimercapto-1,2,4-triazole group.

また窒素またはリンの4級塩構造も吸着性基として好ましく用いられる。窒素の4級塩構造としては具体的にはアンモニオ基(トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基など)または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。
リンの4級塩構造としては、ホスホニオ基(トリアルキルホスホニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、トリアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基など)が挙げられる。より好ましくは窒素の4級塩構造が用いられ、さらに好ましくは4級化された窒素原子を含む5員環あるいは6員環の含窒素芳香族ヘテロ環基が用いられる。特に好ましくはピリジニオ基、キノリニオ基、またはイソキノリニオ基が用いられる。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよい。
A quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus is also preferably used as the adsorptive group. Specific examples of the quaternary salt structure of nitrogen include an ammonio group (such as a trialkylammonio group, a dialkylaryl (or heteroaryl) ammonio group, an alkyldiaryl (or heteroaryl) ammonio group) or a quaternized nitrogen atom. A group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing
The quaternary salt structure of phosphorus includes a phosphonio group (trialkylphosphonio group, dialkylaryl (or heteroaryl) phosphonio group, alkyldiaryl (or heteroaryl) phosphonio group, triaryl (or heteroaryl) phosphonio group, etc.). Can be mentioned. More preferably, a quaternary salt structure of nitrogen is used, and more preferably, a 5-membered or 6-membered nitrogen-containing aromatic heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom is used. Particularly preferably, a pyridinio group, a quinolinio group, or an isoquinolinio group is used. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent.

4級塩の対アニオンの例としては、ハロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、BF4 -、PF6 -、およびPh4-等が挙げられる。分子内にカルボキシレート基等に負電荷を有する基が存在する場合には、それとともに分子内塩を形成していても良い。分子内にない対アニオンとしては、塩素イオン、ブロモイオンまたはメタンスルホネートイオンが特に好ましい。 Examples of quaternary salt counter anions include halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, sulfate ions, perchlorate ions, carbonate ions, nitrate ions, BF 4 , PF 6 , Ph 4 B − and the like. Can be mentioned. When a group having a negative charge in the carboxylate group or the like is present in the molecule, an inner salt may be formed together with the group. As a counter anion not present in the molecule, a chlorine ion, a bromo ion, or a methanesulfonate ion is particularly preferable.

吸着性基として窒素またはリンの4級塩構造有するタイプ1、2で表される化合物の好ましい構造は一般式(X)で表される。   A preferred structure of the compound represented by type 1 or 2 having a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus as the adsorptive group is represented by the general formula (X).

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(X)においてP、Rはそれぞれ独立して増感色素の部分構造ではない窒素またはリンの4級塩構造を表す。Q1、Q2はそれぞれ独立して連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−O−、−S−、−NRN−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−P(=O)−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにRNは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Sはタイプ(1)または(2)で表される化合物から原子を一つ取り除いた残基である。iとjは1以上の整数であり、i+jが2〜6になる範囲から選ばれるものである。好ましくはiが1〜3、jが1〜2の場合であり、より好ましくはiが1または2、jが1の場合であり、特に好ましくはiが1、jが1の場合である。一般式(X)で表される化合物はその総炭素数が10〜100の範囲のものが好ましい。より好ましくは10〜70、さらに好ましくは11〜60であり、特に好ましくは12〜50である。 In general formula (X), P and R each independently represent a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus that is not a partial structure of a sensitizing dye. Q 1 and Q 2 each independently represent a linking group, specifically, a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, —O—, —S—, —NR N —, —C (═O ) —, —SO 2 —, —SO—, —P (═O) — each independently or a combination of these groups. Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. S is a residue obtained by removing one atom from a compound represented by type (1) or (2). i and j are integers of 1 or more, and i + j is selected from the range of 2-6. Preferably, i is 1 to 3, and j is 1 to 2, more preferably i is 1 or 2, and j is 1, and particularly preferably i is 1 and j is 1. The compound represented by the general formula (X) preferably has a total carbon number of 10 to 100. More preferably, it is 10-70, More preferably, it is 11-60, Most preferably, it is 12-50.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は、感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することもできる。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。   The compounds of type 1 and type 2 in the present invention may be used at any time during the preparation of the photosensitive silver halide emulsion and during the process of producing the photothermographic material. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before application, more preferably from the time of chemical sensitization. Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は、水、メタノール、またはエタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、pHを高く又は低くした方が溶解度が上がる化合物については、pHを高く又は低くして溶解し、これを添加しても良い。   The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is raised or lowered may be dissolved at a higher or lower pH and added.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。これらの化合物の添加時期は、増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×10-9モル〜5×10-1モル、更に好ましくは1×10-8モル〜5×10-2モルの割合でハロゲン化銀乳剤層(画像形成層)に含有する。 The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably used in an image forming layer containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but the photosensitive silver halide and the non-photosensitive organic silver salt are used. It may be added to the protective layer or intermediate layer together with the image forming layer containing, and diffused during coating. The addition timing of these compounds is preferably 1 × 10 −9 mol to 5 × 10 −1 mol, more preferably 1 × 10 −8 mol, per mol of silver halide, regardless of before and after the sensitizing dye. It is contained in the silver halide emulsion layer (image forming layer) at a ratio of ˜5 × 10 −2 mol.

10)吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物
本発明においては、分子内にハロゲン化銀への吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物を含有させることが好ましい。本吸着性レドックス化合物は下記式(Rd)で表される化合物であることが好ましい。
10) Adsorbing redox compound having an adsorbing group and a reducing group In the present invention, it is preferable to contain an adsorbing redox compound having an adsorbing group and a reducing group for silver halide in the molecule. The adsorptive redox compound is preferably a compound represented by the following formula (Rd).

式(Rd) A−(W)n−B
式(Rd)中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基(以後、吸着基と呼ぶ)を表し、Wは2価の連結基を表し、nは0または1を表し、Bは還元基を表す。
Formula (Rd) A- (W) n-B
In the formula (Rd), A represents a group that can be adsorbed to silver halide (hereinafter referred to as an adsorbing group), W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reducing group. To express.

式(Rd)中、Aで表される吸着基とはハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−C(=S)−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、ジスルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基等が挙げられる。   In the formula (Rd), the adsorptive group represented by A is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, a mercapto group (or a salt thereof) , A thione group (—C (═S) —), a heterocyclic group, a sulfide group, a disulfide group, a cationic group, or an ethynyl group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom Etc.

吸着基としてメルカプト基(またはその塩)とは、メルカプト基(またはその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも1つのメルカプト基(またはその塩)の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基とは、少なくとも5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、およびトリアジン環基等が挙げられる。また4級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていても良い。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+、またはZn2+等)、アンモニウムイオン、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。 The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably, a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof) or Represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is at least a 5- to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring. Group, benzothiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, And triazine ring group. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated to form a meso ion. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (such as Li + , Na + , K + , Mg 2+ , Ag + , or Zn 2+ ), ammonium Examples thereof include an ion, a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, and a phosphonium ion.

吸着基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていても良い。
吸着基としてチオン基とは、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group.
The thione group as an adsorptive group includes a chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group.

吸着基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、”−S−”基または”−Se−”基または”−Te−”基または”=N−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンゾセレノアゾール基、テルルアゾール基、およびベンゾテルルアゾール基などが挙げられる。   A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as an adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. A nitrogen-containing heterocyclic group having a heterocyclic ring, or a "-S-" group, a "-Se-" group, a "-Te-" group or a "= N-" group capable of coordinating to a silver ion by a coordination bond A heterocyclic group having a partial structure of benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, etc. , Thiazole group, oxazole group, benzothiophene group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazo Group, a triazine group, seleno azole group, benzoselenazole group, tellurium azole group, and the like benzo tellurium azole group.

吸着基としてスルフィド基またはジスルフィド基とは、”−S−”または”−S−S−”の部分構造を有する基すべてが挙げられる。   Examples of the sulfide group or disulfide group as the adsorbing group include all groups having a partial structure of “—S—” or “—S—S—”.

吸着基としてカチオン性基とは、4級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、およびイミダゾリオ基などが挙げられる。
吸着基としてエチニル基とは、−C≡CH基を意味し、該水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着基は任意の置換基を有していてもよい。
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, and an imidazolio group.
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and the hydrogen atom may be substituted.
The adsorbing group may have an arbitrary substituent.

さらに吸着基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書p4〜p7に記載されているものが挙げられる。   Further, specific examples of the adsorbing group include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.

式(Rd)中、Aで表される吸着基として好ましいものは、メルカプト置換ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズイミダゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基、または2,5−ジメルカプト−1,3−チアゾール基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)であり、さらに好ましい吸着基は2−メルカプトベンズイミダゾール基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基である。   In the formula (Rd), preferred as the adsorptive group represented by A is a mercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 2-mercapto-5-aminothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4). -Triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzimidazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, or 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group), Alternatively, a nitrogen-containing heterocyclic group having an —NH— group that can form imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring (for example, ben Triazole group, benzimidazole group, an indazole group), more preferable as an adsorptive group is a 2-mercaptobenzimidazole group, a 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group.

式(Rd)中、Wは2価の連結基を表す。該連結基は写真性に悪影響を与えないものであればどのようなものでも構わない。例えば炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される2価の連結基が利用できる。具体的には炭素数1〜20のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、またはヘキサメチレン基等)、炭素数2〜20のアルケニレン基、炭素数2〜20のアルキニレン基、炭素数6〜20のアリーレン基(例えばフェニレン基、ナフチレン基等)、−CO−、−SO2−、−O−、−S−、−NR1−、これらの連結基の組み合わせ等があげられる。
ここでR1は水素原子、アルキル基、ヘテロ環基、またはアリール基を表わす。
Wで表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。
In formula (Rd), W represents a divalent linking group. Any linking group may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a divalent linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom can be used. Specifically, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, or a hexamethylene group), an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkynylene having 2 to 20 carbon atoms. Group, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthylene group, etc.), —CO—, —SO 2 —, —O—, —S—, —NR 1 —, a combination of these linking groups, and the like. can give.
Here, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a heterocyclic group, or an aryl group.
The linking group represented by W may have an arbitrary substituent.

式(Rd)中、Bで表される還元基とは銀イオンを還元可能な基を表し、例えばホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの3重結合基、メルカプト基、ヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシウレタン類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類(レダクトン誘導体を含む)、アニリン類、フェノール類(クロマン−6−オール類、2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−オール類、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類、およびハイドロキノン類、カテコール類、レゾルシノール類、ベンゼントリオール類、ビスフェノール類のようなポリフェノール類を含む)、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、3−ピラゾリドン類等から水素原子を1つ除去した残基が挙げられる。もちろん、これらは任意の置換基を有していても良い。   In the formula (Rd), the reducing group represented by B represents a group capable of reducing silver ions, for example, a triple bond group such as formyl group, amino group, acetylene group or propargyl group, mercapto group, hydroxylamines. Hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxyurethanes, hydroxysemicarbazides, reductones (including reductone derivatives), anilines, phenols (chroman-6-ols, 2,3-dihydrobenzofuran-5-ols, Aminophenols, sulfonamidophenols, and hydroquinones, catechols, resorcinols, benzenetriols, polyphenols such as bisphenols), acylhydrazines, carbamoylhydrazines, 3-pyrazolidones, etc. Removed one Group, and the like. Of course, these may have an arbitrary substituent.

式(Rd)中、Bで表される還元基はその酸化電位を、藤嶋昭著「電気化学測定法」(150頁−208頁、技報堂出版)や日本化学会編著「実験化学講座」第4版(9巻282頁−344頁、丸善)に記載の測定法を用いて測定することができる。例えば回転ディスクボルタンメトリーの技法で、具体的には試料をメタノール:pH6.5、ブリトン−ロビンソン緩衝液(Britton−Robinson buffer)=10%:90%(容量%)の溶液に溶解し、10分間窒素ガスを通気した後、グラッシーカーボン製の回転ディスク電極(RDE)を作用電極に用い、白金線を対極に用い、飽和カロメル電極を参照電極に用いて、25℃、1000回転/分、20mV/秒のスイープ速度で測定できる。得られたボルタモグラムから半波電位(E1/2)を求めることができる。   In the formula (Rd), the reducing group represented by B indicates its oxidation potential, Akira Fujishima “Electrochemical Measurement Method” (pages 150-208, published by Gihodo Publishing) and the Chemical Society of Japan, “Experimental Chemistry Course” 4th edition. It can be measured using the measurement method described in (Vol. 9, pages 282 to 344, Maruzen). For example, by rotating disk voltammetry, specifically, a sample is dissolved in a solution of methanol: pH 6.5, Briton-Robinson buffer (Britton-Robinson buffer) = 10%: 90% (volume%), and nitrogen is added for 10 minutes. After aeration of gas, a rotating disc electrode (RDE) made of glassy carbon is used as a working electrode, a platinum wire is used as a counter electrode, a saturated calomel electrode is used as a reference electrode, 25 ° C., 1000 rev / min, 20 mV / sec. It can be measured at the sweep speed. A half-wave potential (E1 / 2) can be obtained from the obtained voltammogram.

本発明のBで表される還元基は上記測定法で測定した場合、その酸化電位が約−0.3V〜約1.0Vの範囲にあることが好ましい。より好ましくは約−0.1V〜約0.8Vの範囲であり、特に好ましくは約0V〜約0.7Vの範囲である。   The reducing group represented by B of the present invention preferably has an oxidation potential in the range of about -0.3 V to about 1.0 V when measured by the above-described measurement method. More preferably, it is in the range of about -0.1V to about 0.8V, and particularly preferably in the range of about 0V to about 0.7V.

式(Rd)中、Bで表される還元基は好ましくはヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類、フェノール類、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、3−ピラゾリドン類から水素原子を1つ除去した残基である。   In the formula (Rd), the reducing group represented by B is preferably selected from hydroxylamines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxysemicarbazides, reductones, phenols, acylhydrazines, carbamoylhydrazines, and 3-pyrazolidones. A residue obtained by removing one hydrogen atom.

本発明の式(Rd)の化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマー鎖が組み込まれているものでもよい。またポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げられる。 The compound of the formula (Rd) of the present invention may be one in which a ballast group or polymer chain commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is incorporated. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.

本発明の式(Rd)の化合物はビス体、トリス体であっても良い。本発明の式(I)の化合物の分子量は好ましくは100〜10000の間であり、より好ましくは120〜1000の間であり、特に好ましくは150〜500の間である。   The compound of the formula (Rd) of the present invention may be a bis form or a tris form. The molecular weight of the compound of formula (I) of the present invention is preferably between 100 and 10,000, more preferably between 120 and 1000, particularly preferably between 150 and 500.

以下に本発明の式(Rd)の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of the compound of the formula (Rd) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

さらに欧州特許1308776A2号明細書p73〜p87に記載の具体的化合物1〜30、1”−1〜1”−77も本発明の吸着基と還元性基を有する化合物の好ましい例として挙げられる。   Furthermore, specific compounds 1 to 30 and 1 ″ -1 to 1 ″ -77 described in European Patent No. 1308776A2 p73 to p87 are also preferable examples of the compound having an adsorbing group and a reducing group of the present invention.

本発明の化合物は公知の方法にならって容易に合成することが出来る。本発明の式(Rd)の化合物は、一種類の化合物を単独で用いてもよいが、同時に2種以上の化合物を用いることも好ましい。2種類以上の化合物を用いる場合、それらは同一層に添加しても、別層に添加してもよく、またそれぞれ添加方法が異なっていてもよい。   The compounds of the present invention can be easily synthesized according to known methods. As the compound of the formula (Rd) of the present invention, one kind of compound may be used alone, but it is also preferred to use two or more kinds of compounds at the same time. When two or more kinds of compounds are used, they may be added in the same layer or in different layers, and the addition method may be different.

本発明の式(Rd)の化合物は、ハロゲン化銀乳剤層(画像形成層)に添加されることが好ましく、乳剤調製時に添加することがより好ましい。乳剤調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。また画像形成層に使用するのが好ましいが、画像形成層とともに隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には感光性ハロゲン化銀1モル当たり、1×10-6モル〜1モル、好ましくは1×10-5モル〜5×10-1モルさらに好ましくは1×10-4モル〜1×10-1モルである。
The compound of the formula (Rd) of the present invention is preferably added to the silver halide emulsion layer (image forming layer), and more preferably added during preparation of the emulsion. When added at the time of emulsion preparation, it can be added at any time during the process. For example, silver halide grain formation process, before desalting process start, desalting process, chemical ripening Examples include a step before starting, a chemical ripening step, and a step before preparing a finished emulsion. Moreover, it can also add in several steps in these processes. Although it is preferably used for the image forming layer, it may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the image forming layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of compound to be added, but generally 1 × 10 −6 mol to 1 mol, preferably 1 × 10 −5 mol to 1 mol of photosensitive silver halide. 5 × 10 −1 mol, more preferably 1 × 10 −4 mol to 1 × 10 −1 mol.

本発明の式(Rd)の化合物は、水、メタノール、またはエタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸または塩基によってpHを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。   The compound of the formula (Rd) of the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.

11)ハロゲン化銀の複数併用
本発明に用いられる熱現像感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭57−119341号、同53−106125号、同47−3929号、同48−55730号、同46−5187号、同50−73627号、同57−150841号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
11) Combination of a plurality of silver halides The photosensitive silver halide emulsion in the photothermographic material used in the invention may be only one kind, or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes or different halogen compositions). Those having different crystal habits, those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. As techniques relating to these, there are JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841, and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.

12)塗布量
感光性ハロゲン化銀の添加量は、感材1m2当たりの塗布銀量で示して、0.03g/m2以上0.6g/m2以下であることが好ましく、0.05g/m2以上0.4g/m2以下であることがさらに好ましく、0.07g/m2以上0.3g/m2以下であることが最も好ましく、有機銀塩1モルに対しては、感光性ハロゲン化銀は0.01モル以上0.5モル以下が好ましく、より好ましくは0.02モル以上0.3モル以下、さらに好ましくは0.03モル以上0.2モル以下である。
12) Coating amount The addition amount of the photosensitive silver halide is preferably 0.03 g / m 2 or more and 0.6 g / m 2 or less, expressed as the coating silver amount per 1 m 2 of the light-sensitive material. / M 2 or more and 0.4 g / m 2 or less is more preferable, and 0.07 g / m 2 or more and 0.3 g / m 2 or less is most preferable. The functional silver halide is preferably from 0.01 mol to 0.5 mol, more preferably from 0.02 mol to 0.3 mol, and still more preferably from 0.03 mol to 0.2 mol.

13)感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、またはホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。
また、混合する際に2種以上の有機銀塩分散液と2種以上の感光性ハロゲン化銀分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法である。
13) Mixing of photosensitive silver halide and organic silver salt Regarding the mixing method and mixing conditions of separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the silver halide grains and the organic silver salt that were prepared respectively were stirred at high speed. Organic silver salt is prepared by mixing with a machine, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. Although there is a method of preparation, there is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
In addition, mixing two or more organic silver salt dispersions and two or more photosensitive silver halide dispersions when mixing is a preferred method for adjusting photographic characteristics.

14)ハロゲン化銀の塗布液への混合
ハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
14) Mixing of silver halide into coating solution The preferred addition time of silver halide into the image forming layer coating solution is from 180 minutes before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. The method and mixing conditions are not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method of using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's Koji Takahashi's “Liquid mixing technology” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).

(現像促進剤の説明)
本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開2000−267222号明細書や特開2000−330234号明細書等に記載の一般式(A)で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開平2001−92075記載の一般式(II)で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平10−62895号明細書や特開平11−15116号明細書等に記載の一般式(I)、特開2002−156727号の一般式(D)や特開2002−278017号明細書に記載の一般式(1)で表されるヒドラジン系の化合物、特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物が好ましく用いられる。これらの現像促進剤は還元剤に対して0.1モル%〜20モル%の範囲で使用され、好ましくは0.5モル%〜10モル%の範囲で、より好ましくは1モル%〜5モル%の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物または乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、もしくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特開2002−156727号明細書に記載の一般式(D)で表されるヒドラジン系の化合物および特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物がより好ましい。
(Description of development accelerator)
In the photothermographic material of the present invention, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222, JP-A-2000-330234, or the like as a development accelerator, Hindered phenol compounds represented by general formula (II) described in JP-A-2001-92075, general formula (I) described in JP-A-10-62895, JP-A-11-15116, and the like, A hydrazine-based compound represented by general formula (D) of JP-A No. 2002-156727 or general formula (1) described in JP-A No. 2002-278017, and described in JP-A No. 2001-264929 A phenolic or naphtholic compound represented by the general formula (2) is preferably used. These development accelerators are used in the range of 0.1 mol% to 20 mol% with respect to the reducing agent, preferably in the range of 0.5 mol% to 10 mol%, more preferably 1 mol% to 5 mol. % Range. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsified dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent and a low-boiling auxiliary solvent that are solid at room temperature, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
In the present invention, among the development accelerators described above, hydrazine compounds represented by the general formula (D) described in JP-A No. 2002-156727 and those described in JP-A No. 2001-264929 A phenol-based or naphthol-based compound represented by the formula (2) is more preferable.

本発明の特に好ましい現像促進剤は下記一般式(A−1)および(A−2)で表される化合物である。
一般式(A−1)
1−NHNH−Q2
(式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、またはヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、またはスルファモイル基を表す。)
Particularly preferred development accelerators of the present invention are compounds represented by the following general formulas (A-1) and (A-2).
Formula (A-1)
Q 1 -NHNH-Q 2
(Wherein Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group.)

一般式(A−1)において、Q1で表される芳香族基またはヘテロ環基としては5〜7員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、またはチオフェン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。 In the general formula (A-1), the aromatic group or heterocyclic group represented by Q 1 is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2 , 3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,3,4 -Oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, or thiophene ring are preferred, A condensed ring in which these rings are condensed with each other is also preferable.

これらの環は置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、およびアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、およびアシルオキシ基を挙げることができる。   These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups. When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be mentioned.

2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−sec−ブチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、N−シクロヘキシルカルバモイル、N−tert−ブチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N−オクタデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−tert−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル、N−ナフチルカルバモイル、N−3−ピリジルカルバモイル、およびN−ベンジルカルバモイルが挙げられる。 The carbamoyl group represented by Q 2 is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl N-sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3 -(2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5 Dodecyloxycarbo Butylphenyl) carbamoyl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl, and N- benzylcarbamoyl.

2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、2−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、2−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル、および2−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Q2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、およびベンジルオキシカルボニルが挙げられる。 The acyl group represented by Q 2 is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2 -Hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, and 2-hydroxymethylbenzoyl. The alkoxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, Examples include dodecyloxycarbonyl and benzyloxycarbonyl.

2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数7〜50、より好ましくは炭素数7〜40のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、4−オクチルオキシフェノキシカルボニル、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、および4−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Q2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、2−ヘキサデシルスルホニル、3−ドデシルオキシプロピルスルホニル、2−オクチルオキシ−5−tert−オクチルフェニルスルホニル、および4−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。 The aryloxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxy Examples include methylphenoxycarbonyl and 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl. The sulfonyl group represented by Q 2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3- Dodecyloxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.

2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、N−エチルスルファモイル基、N−(2−エチルヘキシル)スルファモイル、N−デシルスルファモイル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−{3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピル}スルファモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)スルファモイル、およびN−(2−テトラデシルオキシフェニル)スルファモイルが挙げられる。Q2で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のQ1で表される5員〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The sulfamoyl group represented by Q 2 is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, N- (2- Ethylhexyl) sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, And N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl. The group represented by Q 2 may further have a group listed as an example of the substituent of the 5-membered to 7-membered unsaturated ring represented by Q 1 at a substitutable position, When it has two or more substituents, these substituents may be the same or different.

次に、式(A−1)で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Q1としては5員〜6員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、およびこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Q2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。 Next, preferred range for the compound represented by formula (A-1) is to be described. Q 1 is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, such as a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole. Ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, and these More preferred are rings in which the ring is fused with a benzene ring or an unsaturated heterocycle. Q 2 is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on a nitrogen atom.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(A−2)においてR1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、または炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ一般式(A−1)の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。 In the general formula (A-2), R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate group. R 3 and R 4 each represents a group that can be substituted on the benzene ring mentioned in the example of the substituent of formula (A-1). R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.

1は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−オクチル基、またはシクロヘキシル基など)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルウレイド基、または4−シアノフェニルウレイド基など)、カルバモイル基(n−ブチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、2−クロロフェニルカルバモイル基、または2,4−ジクロロフェニルカルバモイル基など)でアシルアミノ基(ウレイド基、ウレタン基を含む)がより好ましい。R2は好ましくはハロゲン原子(より好ましくは塩素原子、臭素原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、またはベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフトキシ基など)である。 R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-octyl group, or a cyclohexyl group), an acylamino group (for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, Methylureido group or 4-cyanophenylureido group), carbamoyl group (n-butylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2-chlorophenylcarbamoyl group, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl group, etc.) ) Is more preferably an acylamino group (including a ureido group and a urethane group). R 2 is preferably a halogen atom (more preferably a chlorine atom or a bromine atom), an alkoxy group (such as a methoxy group, a butoxy group, an n-hexyloxy group, an n-decyloxy group, a cyclohexyloxy group, or a benzyloxy group), An aryloxy group (such as a phenoxy group or a naphthoxy group);

3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。R4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基またはアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はR1と同様である。R4がアシルアミノ基である場合R4はR3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。 R 3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferable substituents are the same as those for R 1 . When R 4 is an acylamino group, R 4 is preferably linked to R 3 to form a carbostyryl ring.

一般式(A−2)においてR3とR4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式(A−1)で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式(A−2)がナフトール系の化合物であるとき、R1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。R2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。 In the general formula (A-2), when R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring, a naphthalene ring is particularly preferable as the condensed ring. The same substituent as the example of a substituent quoted by general formula (A-1) may couple | bond with the naphthalene ring. When general formula (A-2) is a naphthol-based compound, R 1 is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R 2 is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.

以下、本発明の現像促進剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, preferred specific examples of the development accelerator of the present invention will be given. The present invention is not limited to these.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

(水素結合性化合物の説明)
本発明における還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)またはアミノ基(−NHR、Rは水素原子またはアルキル基)を有する場合、特に前述のビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
水酸基またはアミノ基と水素結合を形成する基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、および含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)を有する化合物である。
本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物は下記一般式(D)で表される化合物である。
(Description of hydrogen bonding compound)
When the reducing agent in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH) or amino group (—NHR, R is a hydrogen atom or an alkyl group), particularly in the case of the bisphenols described above, these groups and hydrogen bonds It is preferable to use together a non-reducing compound having a group capable of forming.
Examples of groups that form hydrogen bonds with hydroxyl groups or amino groups include phosphoryl groups, sulfoxide groups, sulfonyl groups, carbonyl groups, amide groups, ester groups, urethane groups, ureido groups, tertiary amino groups, and nitrogen-containing aromatic groups. Is mentioned. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it does not have a> N—H group, N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
In the present invention, a particularly preferred hydrogen bonding compound is a compound represented by the following general formula (D).

Figure 2007057708
Figure 2007057708

一般式(D)においてR21ないしR23は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
21ないしR23が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アルコキシフェニル基、および4−アシルオキシフェニル基などが挙げられる。
In the general formula (D), R 21 to R 23 each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be substituted even if they are unsubstituted. You may have.
When R 21 to R 23 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, Examples thereof include an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, and a phosphoryl group. Preferred examples of the substituent include an alkyl group or an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a t-octyl group. Group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like.

21ないしR23のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、および2−フェノキシプロピル基などが挙げられる。
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジル基、および3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
Specific examples of the alkyl group of R 21 to R 23 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an octyl group, a dodecyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a t-octyl group, a cyclohexyl group, Examples thereof include 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, and 2-phenoxypropyl group.
Examples of the aryl group include a phenyl group, a cresyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a 4-t-butylphenyl group, a 4-t-octylphenyl group, a 4-anisidyl group, and a 3,5-dichlorophenyl group.

アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、およびベンジルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、およびビフェニルオキシ基等が挙げられる。
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、およびN−メチル−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, and A benzyloxy group etc. are mentioned.
Examples of the aryloxy group include phenoxy group, cresyloxy group, isopropylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, naphthoxy group, and biphenyloxy group.
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. It is done.

21ないしR23としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、またはアリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではR21ないしR23のうち少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではR21ないしR23が同一の基である場合が好ましい。 R 21 to R 23 are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In view of the effect of the present invention, at least one of R 21 to R 23 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. In addition, it is preferable that R 21 to R 23 are the same group in that they can be obtained at low cost.

以下に本発明における一般式(D)の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

水素結合性化合物の具体例は上述の他に欧州特許1096310号明細書、特開2002−156727号、特開2002−318431号に記載のものがあげられる。
本発明の一般式(D)の化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料中で使用することができる。本発明の化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基、アミノ基を有する化合物と水素結合性の錯体を形成しており、還元剤と本発明の一般式(D)の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in European Patent No. 1096310, JP-A No. 2002-156727, and JP-A No. 2002-318431 in addition to the above.
The compound of the general formula (D) of the present invention can be used in a photothermographic material after being incorporated into a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersed fine particle dispersion, in the same manner as the reducing agent. The compound of the present invention forms a hydrogen-bonding complex with a compound having a phenolic hydroxyl group or an amino group in a solution state, and depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (D) of the present invention, It can be isolated in the crystalline state.

本発明の一般式(D)の化合物は還元剤に対して、1モル%〜200モル%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10モル%〜150モル%の範囲で、さらに好ましくは20モル%〜100モル%の範囲である。   The compound of the general formula (D) of the present invention is preferably used in the range of 1 mol% to 200 mol%, more preferably in the range of 10 mol% to 150 mol%, still more preferably relative to the reducing agent. It is in the range of 20 mol% to 100 mol%.

(バインダーの説明)
本発明におけるポリビニルアセタールは、好ましくは、下記一般式(VA)で表される化合物である。
(Description of binder)
The polyvinyl acetal in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (VA).

Figure 2007057708
Figure 2007057708

式中、Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、またはアリール基を表す。Xは10モル%〜50モル%、Yは0モル%〜10モル%、Zは50モル%〜90モル%である。アルキル基、シクロアルキル基、およびアリール基は置換基を有しても良い。
好ましくは、Xが20モル%〜40モル%、Yは0モル%〜5モル%、Zは60モル%〜80モル%である。
具体的には、Rは、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、およびフェニル基などが挙げられる。
を含有する。
本発明におけるポリビニルアセタールの製造原料であるポリビニルアルコールの平均重合度は、好ましくは500〜3000である。
In the formula, R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or an aryl group. X is 10 mol% to 50 mol%, Y is 0 mol% to 10 mol%, and Z is 50 mol% to 90 mol%. The alkyl group, cycloalkyl group, and aryl group may have a substituent.
Preferably, X is 20 mol% to 40 mol%, Y is 0 mol% to 5 mol%, and Z is 60 mol% to 80 mol%.
Specifically, R includes, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, and a phenyl group.
Containing.
The average degree of polymerization of polyvinyl alcohol which is a raw material for producing polyvinyl acetal in the present invention is preferably 500 to 3000.

本発明に用いられるポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールと各種アルデヒドとのアセタール化反応により合成されるが、ブチルアルデヒド及び/又はアセトアルデヒドでアセタール化されたものが好ましい。特に、ポリビニルアセタールのアセタール化された部分のうちアセトアルデヒドによりアセタール化された部分の割合が、全アセタール化部分に対して30質量%〜100質量%の範囲にあることが好ましく、より好ましくは50質量%〜100質量%である。アセトアルデヒドによりアセタール化された部分が30質量%より少ない場合は、得られるポリビニルアセタール樹脂のガラス転移点が80℃以下となり、有機銀塩の核成長が進み過ぎ、且つ、銀塩の分散性も好ましくなく、画像の解像度及び鮮明度が劣ることがある。   The polyvinyl acetal used in the present invention is synthesized by an acetalization reaction between polyvinyl alcohol and various aldehydes, and is preferably acetalized with butyraldehyde and / or acetaldehyde. In particular, the proportion of the acetalized portion of the acetalized portion of polyvinyl acetal is preferably in the range of 30% by mass to 100% by mass, more preferably 50% by mass with respect to the total acetalized portion. % To 100% by mass. When the portion acetalized by acetaldehyde is less than 30% by mass, the glass transition point of the obtained polyvinyl acetal resin is 80 ° C. or less, the nucleation of the organic silver salt proceeds excessively, and the dispersibility of the silver salt is also preferable. And the resolution and definition of the image may be inferior.

本発明に用いられるポリビニルアセタールの具体例を下記に示す。   Specific examples of the polyvinyl acetal used in the present invention are shown below.

<R:ブチル基>
・Z/X/Y=68/30/2(Mw:約10万、Tg=68℃)
・ 66/30/4(Mw:約10万、Tg=66℃)
・ 69/30/1(Mw:約10万、Tg=69℃)
・ 66/26/8(Mw:約10万、Tg=65℃)
・ 74/24/2(Mw:約10万、Tg=71℃)
・ 79/19/2(Mw:約10万、Tg=73℃)
・ 64/34/2(Mw:約10万、Tg=75℃)
・ 68/30/2(Mw:約3万、Tg=66℃)
・ 68/30/2(Mw:約6万、Tg=67℃)
・ 68/30/2(Mw:約15万、Tg=70℃)
<R:メチル基>
・Z/X/Y=61/37/2(Mw:約10万、Tg=78℃)
<R: butyl group>
・ Z / X / Y = 68/30/2 (Mw: about 100,000, Tg = 68 ° C.)
・ 66/30/4 (Mw: approx. 100,000, Tg = 66 ° C.)
69/30/1 (Mw: approx. 100,000, Tg = 69 ° C.)
・ 66/26/8 (Mw: approx. 100,000, Tg = 65 ° C.)
74/24/2 (Mw: approx. 100,000, Tg = 71 ° C.)
79/19/2 (Mw: approx. 100,000, Tg = 73 ° C.)
・ 64/34/2 (Mw: approx. 100,000, Tg = 75 ° C.)
・ 68/30/2 (Mw: about 30,000, Tg = 66 ° C.)
・ 68/30/2 (Mw: approx. 60,000, Tg = 67 ° C.)
・ 68/30/2 (Mw: about 150,000, Tg = 70 ° C.)
<R: methyl group>
・ Z / X / Y = 61/37/2 (Mw: about 100,000, Tg = 78 ° C.)

本発明におけるポリビニルアセタールは、市販の種々の銘柄をより選び、それらを単独あるいは複数種類を混合して、好ましい特性に調製して用いることが出来る。
市販の登録銘柄としては、米国ソルーシア社のビュートバーB−72、B−76、B−79、およびB−98、電気化学工業(株)のデンカブチラール#3000−1、#3000−2、#3000−4、#3000−K、および#4000−2、積水化学(株)のエスレックBL−1、BL−2、BL−2H、BL−5、BL−10、BM−2、BM−5、BM−S、BM−SH、BH−3、BH−6、BH−A、BX−3(ポリビニルアセタール)、およびBX−L(ポリビニルアセタール)などがある。
For the polyvinyl acetal in the present invention, various commercially available brands can be selected, and these can be used alone or in combination with a plurality of types to prepare preferable characteristics.
Commercially available registered brands include Butor Bars B-72, B-76, B-79, and B-98 of Sorcia, Inc., Denkabutyral # 3000-1, # 3000-2, # of Electrochemical Industry Co., Ltd., # 3000-4, # 3000-K, and # 4000-2, Sleksui BL-1, BL-2, BL-2H, BL-5, BL-10, BM-2, BM-5 from Sekisui Chemical Co., Ltd. Examples include BM-S, BM-SH, BH-3, BH-6, BH-A, BX-3 (polyvinyl acetal), and BX-L (polyvinyl acetal).

本発明においては、ポリビニルブチラールとともに、他の天然または合成ポリマーを併用しても良い。例えば、ゼラチン、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセテート、セルロースアセテート、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ブチルエチルセルロース、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸エステルコポリマー、ポリスチレン及びブタジエン−スチレンコポリマーなどから任意のもの使用することができる。本発明では、ポリビニルブチラールを画像形成層のバインダー全組成分に対して50質量%以上使用するのが好ましい。当然ながら、コポリマー及びターポリマーも含まれる。ポリビニルブチラールの好ましい総量は画像形成層のバインダー全組成分に対して50質量%以上100質量%以下であり、さらに好ましくは70質量%以上100質量%以下である。バインダーのTgは40℃〜90℃の範囲が好ましく、さらに好ましくは50℃〜80℃である。ここでTgとはガラス転移温度である。   In the present invention, other natural or synthetic polymers may be used in combination with polyvinyl butyral. For example, any of gelatin, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, cellulose acetate, polyolefin, polyester, polystyrene, polyacrylonitrile, polycarbonate, butylethylcellulose, methacrylate copolymer, maleic anhydride ester copolymer, polystyrene and butadiene-styrene copolymer, etc. Things can be used. In the present invention, it is preferable to use 50% by mass or more of polyvinyl butyral with respect to the total composition of the binder in the image forming layer. Of course, copolymers and terpolymers are also included. The preferable total amount of polyvinyl butyral is 50% by mass or more and 100% by mass or less, and more preferably 70% by mass or more and 100% by mass or less, based on the total composition of the binder in the image forming layer. The Tg of the binder is preferably in the range of 40 ° C to 90 ° C, more preferably 50 ° C to 80 ° C. Here, Tg is a glass transition temperature.

バインダー総量は、例えば、画像形成層の成分をその層中に保持するのに十分な量で使用される。すなわち、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で使用される。効果的な範囲は、当業者が適切に決定することができる。少なくとも有機銀塩を保持する場合の目安として、バインダーと有機銀塩との割合は質量比で15:1〜1:3、特に8:1〜1:2の範囲が好ましい。   The total amount of the binder is used, for example, in an amount sufficient to keep the components of the image forming layer in the layer. That is, it is used in an effective range to function as a binder. The effective range can be appropriately determined by those skilled in the art. As a guide when at least the organic silver salt is retained, the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably in the range of 15: 1 to 1: 3, particularly 8: 1 to 1: 2 in terms of mass ratio.

また、全バインダー/ハロゲン化銀の質量比は400〜5、より好ましくは200〜10の範囲である。   The total binder / silver halide mass ratio is in the range of 400-5, more preferably 200-10.

本発明の画像形成層の全バインダー量は好ましくは0.2g/m2〜30g/m2、より好ましくは1g/m2〜15g/m2、さらに好ましくは2g/m2〜10g/m2の範囲である。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。 The total binder amount of the image forming layer of the present invention is preferably 0.2 g / m 2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 g / m 2 to 15 g / m 2 , and still more preferably 2 g / m 2 to 10 g / m 2. Range. The image forming layer of the present invention may contain a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like.

(かぶり防止剤)
1)有機ポリハロゲン化合物
以下、本発明で用いることができる好ましい有機ポリハロゲン化合物について具体的に説明する。本発明の好ましいポリハロゲン化合物は下記一般式(H)で表される化合物である。
(Anti-fogging agent)
1) Organic polyhalogen compound Hereinafter, preferred organic polyhalogen compounds that can be used in the present invention will be described in detail. A preferred polyhalogen compound of the present invention is a compound represented by the following general formula (H).

一般式(H)
Q−(Y)n−C(Z1)(Z2)X
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z 1 ) (Z 2 ) X

一般式(H)において、Qはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Yは2価の連結基を表し、nは0〜1を表し、Z1およびZ2はハロゲン原子を表し、Xは水素原子または電子求引性基を表す。
一般式(H)においてQは好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基または窒素原子を少なくとも一つ含むヘテロ環基(ピリジン、キノリン基等)である。
In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 to 1 , Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
In general formula (H), Q is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or a heterocyclic group containing at least one nitrogen atom (pyridine, quinoline group, etc.).

一般式(H)において、Qがアリール基である場合、Qは好ましくはハメットの置換基定数σpが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207−1216等を参考にすることができる。
このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子、電子求引性基で置換されたアルキル基、電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、およびスルファモイル基等が挙げられる。電子求引性基として特に好ましいのは、ハロゲン原子、カルバモイル基、またはアリールスルホニル基であり、特にカルバモイル基が好ましい。
In the general formula (H), when Q is an aryl group, Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-attracting group having a positive Hammett's substituent constant σp. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to.
Examples of such electron withdrawing groups include halogen atoms, alkyl groups substituted with electron withdrawing groups, aryl groups substituted with electron withdrawing groups, heterocyclic groups, alkyl or arylsulfonyl groups, acyl Group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group and the like. Particularly preferred as the electron withdrawing group is a halogen atom, a carbamoyl group, or an arylsulfonyl group, and a carbamoyl group is particularly preferred.

Xは好ましくは電子求引性基である。好ましい電子求引性基は、ハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、カルバモイル基であり、特に好ましくは臭素原子である。
1およびZ2は好ましくは臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは臭素原子である。
X is preferably an electron withdrawing group. Preferred electron withdrawing groups are halogen atoms, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl groups, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl groups, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, More preferred are a halogen atom and a carbamoyl group, and particularly preferred is a bromine atom.
Z 1 and Z 2 are preferably a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a bromine atom.

Yは好ましくは−C(=O)−、−SO−、−SO2−、−C(=O)N(R)−、−SO2N(R)−を表し、より好ましくは−C(=O)−、−SO2−、−C(=O)N(R)−であり、特に好ましくは−SO2−、−C(=O)N(R)−である。ここでいうRとは水素原子、アリール基またはアルキル基を表し、より好ましくは水素原子またはアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
nは、0または1を表し、好ましくは1である。
Y preferably represents -C (= O) -, - SO -, - SO 2 -, - C (= O) N (R) -, - SO 2 N (R) - , more preferably -C ( ═O) —, —SO 2 —, —C (═O) N (R) —, and particularly preferably —SO 2 —, —C (═O) N (R) —. R here represents a hydrogen atom, an aryl group or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
n represents 0 or 1, and is preferably 1.

一般式(H)において、Qがアルキル基の場合、好ましいYは−C(=O)N(R)−であり、Qがアリール基またはヘテロ環基の場合、好ましいYは−SO2−である。
一般式(H)において、該化合物から水素原子を取り去った残基が互いに結合した形態(一般にビス型、トリス型、テトラキス型と呼ぶ)も好ましく用いることが出来る。
一般式(H)において、解離性基(例えばCOOH基またはその塩、SO3H基またはその塩、PO3H基またはその塩等)、4級窒素カチオンを含む基(例えばアンモニウム基、ピリジニウム基等)、ポリエチレンオキシ基、水酸基等を置換基に有するものも好ましい形態である。
In general formula (H), when Q is an alkyl group, preferred Y is —C (═O) N (R) —, and when Q is an aryl group or a heterocyclic group, preferred Y is —SO 2 —. is there.
In the general formula (H), a form in which residues obtained by removing a hydrogen atom from the compound are bonded to each other (generally referred to as a bis type, a tris type, or a tetrakis type) can also be preferably used.
In the general formula (H), a dissociable group (for example, a COOH group or a salt thereof, a SO 3 H group or a salt thereof, a PO 3 H group or a salt thereof), a group containing a quaternary nitrogen cation (for example, an ammonium group or a pyridinium group) Etc.), those having a polyethyleneoxy group, a hydroxyl group or the like as a substituent are also preferred forms.

以下に本発明の一般式(H)の化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound of the general formula (H) of the present invention are shown below.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

上記以外の本発明に用いることが出来るポリハロゲン化合物としては、US3874946号、US4756999号、US5340712号、US5369000号、US5464737号、US6506548号、特開昭50−137126号、同50−89020号、同50−119624号、同59−57234号、特開平7−2781号、同7−5621号、同9−160164号、同9−244177号、同9−244178号、同9−160167号、同9−319022号、同9−258367号、同9−265150号、同9−319022号、同10−197988号、同10−197989号、同11−242304号、特開2000−2963、特開2000−112070、特開2000−284410、特開2000−284412、特開2001−33911、特開2001−31644、特開2001−312027号、特開2003−50441号明細書の中で当該発明の例示化合物として挙げられている化合物が好ましく用いられるが、特に特開平7−2781号、特開2001−33911、特開2001−312027号に具体的に例示されている化合物が好ましい。   Polyhalogen compounds that can be used in the present invention other than those described above include US Pat. No. 3,874,946, US Pat. No. 4,756,999, US Pat. No. 5,340,712, US Pat. No. 5,369,000, US Pat. No. 5,464,537, US Pat. No. 6,506,548, JP-A-50-137126, US Pat. 119624, 59-57234, JP-A-7-2781, 7-5621, 9-160164, 9-244177, 9-244178, 9-160167, 9- 319022, 9-258367, 9-265150, 9-319022, 10-197988, 10-197989, 11-242304, JP 2000-2963, JP 2000-11270 , JP2000-284410, JP2 The compounds listed as exemplary compounds of the invention in 00-284212, JP-A-2001-33911, JP-A-2001-31644, JP-A-2001-312027, and JP-A-2003-50441 are preferably used. In particular, compounds specifically exemplified in JP-A-7-2781, JP-A-2001-33911, and JP-A-2001-312027 are preferred.

本発明の一般式(H)で表される化合物は画像形成層の非感光性銀塩1モルあたり、10-4モル〜1モルの範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10-3モル〜0.5モルの範囲で、さらに好ましくは1×10-2モル〜0.2モルの範囲で使用することが好ましい。
本発明において、かぶり防止剤を熱現像感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられる。
The compound represented by the general formula (H) of the present invention is preferably used in the range of 10 −4 mol to 1 mol, more preferably 10 −3 mol, per mol of the non-photosensitive silver salt in the image forming layer. It is preferable to use in the range of ˜0.5 mol, more preferably in the range of 1 × 10 −2 mol to 0.2 mol.
In the present invention, examples of the method for incorporating the antifoggant into the photothermographic material include the methods described in the method for containing a reducing agent.

2)その他のかぶり防止剤
その他のかぶり防止剤としては特開平11−65021号段落番号0113の水銀(II)塩、同号段落番号0114の安息香酸類、特開2000−206642号のサリチル酸誘導体、特開2000−221634号の式(S)で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平11−352624号の請求項9に係るトリアジン化合物、特開平6−11791号の一般式(III)で表される化合物、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン等が挙げられる。
2) Other antifoggants Other antifoggants include mercury (II) salts described in paragraph No. 0113 of JP-A No. 11-65021, benzoic acids of paragraph No. 0114 of the same, salicylic acid derivatives disclosed in JP-A No. 2000-206642, A formalin scavenger compound represented by the formula (S) in JP-A-2000-221634, a triazine compound according to claim 9 in JP-A-11-352624, and a compound represented by the general formula (III) in JP-A-6-11791 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and the like.

本発明における熱現像感光材料はかぶり防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭59−193447号記載の一般式(XI)で表される化合物、特公昭55−12581号記載の化合物、特開昭60−153039号記載の一般式(II)で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は熱現像感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては画像形成層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。
本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。
The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of preventing fogging. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the photothermographic material, but the added layer is preferably added to the layer having the image forming layer, and more preferably added to the organic silver salt-containing layer. The azolium salt may be added at any step in the coating solution preparation. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the coating solution preparation may be performed. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent.
In the present invention, the azolium salt may be added in any amount, but it is preferably 1 × 10 −6 mol or more and 2 mol or less, more preferably 1 × 10 −3 mol or more and 0.5 mol or less per 1 mol of silver.

(その他の添加剤)
1)メルカプト、ジスルフィド、およびチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平10−62899号の段落番号0067〜0069、特開平10−186572号の一般式(I)で表される化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許公開第0803764A1号の第20ページ第36〜56行に記載されている。その中でも特開平9−297367号、特開平9−304875号、特開2001−100358号、特開2002−303954号、特開2002−303951等に記載されているメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
(Other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones In the present invention, mercapto compounds and disulfide compounds are used to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. And thione compounds, paragraphs 0067 to 0069 of JP-A-10-62899, compounds represented by formula (I) of JP-A-10-186572, and specific examples thereof include paragraph numbers 0033 to 0052. , European Patent Publication No. 0803764A1, page 20, lines 36-56. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds described in JP-A-9-297367, JP-A-9-304875, JP-A-2001-100388, JP-A-2002-303955, JP-A-2002-303951, and the like are preferable.

2)色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平10−62899号の段落番号0054〜0055、欧州特許公開第0803764A1号の第21ページ第23〜48行、特開2000−356317号や特開2000−187298号に記載されており、特に、フタラジノン類(フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメトキシフタラジノンおよび2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノン類とフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウムおよびテトラクロロ無水フタル酸)との組合せ;フタラジン類(フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジン、6−イソプロピルフタラジン、6−t−ブチルフラタジン、6−クロロフタラジン、5,7−ジメトキシフタラジンおよび2,3−ジヒドロフタラジン);フタラジン類とフタル酸類との組合せが好ましく、特にフタラジン類とフタル酸類の組合せが好ましい。そのなかでも特に好ましい組み合わせは6−イソプロピルフタラジンとフタル酸または4メチルフタル酸との組み合わせである。
2) Toning agent In the photothermographic material of the invention, it is preferable to add a toning agent. For the toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A-10-62899, page 21 to 23 of European Patent Publication No. 0803764A1. Line 48, described in JP-A No. 2000-356317 and JP-A No. 2000-187298, and in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone. 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, diammonium phthalate) , Sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride) Phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6-t-butylphthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxy Phthalazine and 2,3-dihydrophthalazine); a combination of phthalazines and phthalic acids is preferred, and a combination of phthalazines and phthalic acids is particularly preferred. Among them, a particularly preferable combination is a combination of 6-isopropylphthalazine and phthalic acid or 4-methylphthalic acid.

3)可塑剤、潤滑剤
本発明の画像形成層に用いることのできる可塑剤および潤滑剤については特開平11−65021号段落番号0117に記載されている。滑り剤については特開平11−84573号段落番号0061〜0064や特願平11−106881号段落番号0049〜0062記載されている。
3) Plasticizers and lubricants The plasticizers and lubricants that can be used in the image forming layer of the invention are described in paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021. The slip agent is described in JP-A No. 11-84573, paragraph numbers 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062.

4)染料、顔料
本発明の画像形成性層には、前記フタロシアニン化合物とともに、色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料(例えばC.I.Pigment Blue 60、C.I.Pigment Blue 64、C.I.Pigment Blue 15:6)を用いることができる。これらについてはWO98/36322号、特開平10−268465号、同11−338098号等に詳細に記載されている。
4) Dye, Pigment In the image-forming layer of the present invention, in addition to the phthalocyanine compound, various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue) are used from the viewpoints of color tone improvement, prevention of interference fringe generation during laser exposure, and prevention of irradiation. 60, C.I. Pigment Blue 64, C.I. Pigment Blue 15: 6). These are described in detail in WO 98/36322, JP-A Nos. 10-268465 and 11-338098, and the like.

5)造核剤
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に造核剤を添加することが好ましい。造核剤やその添加方法及び添加量については、特開平11−65021号号公報段落番号0118、特開平11−223898号公報段落番号0136〜0193、特開2000−284399号明細書の式(H)、式(1)〜(3)、式(A)、(B)の化合物、特願平11−91652号明細書記載の一般式(III)〜(V)の化合物(具体的化合物:化21〜化24)、造核促進剤については特開平11−65021号公報段落番号0102、特開平11−223898号公報段落番号0194〜0195に記載されている。
5) Nucleating Agent In the photothermographic material of the invention, it is preferable to add a nucleating agent to the image forming layer. Regarding the nucleating agent and its addition method and addition amount, paragraphs No. 0118 of JP-A No. 11-65021, paragraph Nos. 0136 to 0193 of JP-A No. 11-223898, and formulas (H of JP-A No. 2000-284399) ), Formulas (1) to (3), compounds of formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in Japanese Patent Application No. 11-91652 (specific compounds: 21 to 24) and the nucleation promoter are described in paragraph No. 0102 of JP-A No. 11-65021 and paragraph Nos. 0194 to 0195 of JP-A No. 11-223898.

蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側に銀1モル当たり5ミリモル以下、さらには1ミリモル以下で含有させることが好ましい。
本発明の熱現像感光材料で造核剤を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、オルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、およびヘキサメタリン酸アンモニウムなどが挙げられる。
五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩の使用量(感光材料1m2あたりの塗布量)は感度やかぶりなどの性能に合わせて所望の量でよいが、0.1mg/m2〜500mg/m2が好ましく、0.5mg/m2〜100mg/m2がより好ましい。
In order to use formic acid or formate as a strong fogging substance, it is preferable to contain 5 mmol or less, more preferably 1 mmol or less, per mol of silver on the side having the image forming layer containing photosensitive silver halide.
When a nucleating agent is used in the photothermographic material of the invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, and ammonium hexametaphosphate.
The amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (the coating amount per 1 m 2 of photosensitive material) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fogging, but is 0.1 mg / m 2 ˜500 mg / m 2 is preferable, and 0.5 mg / m 2 to 100 mg / m 2 is more preferable.

6)安息香酸類
本発明の熱現像感光材料は、高感度化やかぶり防止を目的として安息香酸類を含有してもよい。安息香酸類はいかなる安息香酸誘導体をも用いることができるが、好ましい構造の例としては、米国特許第4,784,939号明細書、同第4,152,160号明細書、特開平9−281687号公報、同9−329864号公報、同9−329865号公報などに記載の化合物が挙げられる。本発明で用いる安息香酸類は熱現像感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては画像形成層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。安息香酸類の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。安息香酸類の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。安息香酸類の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1μmol以上2mol以下が好ましく、1mmol以上0.5mol以下がさらに好ましい。
6) Benzoic acids The photothermographic material of the invention may contain benzoic acids for the purpose of increasing sensitivity and preventing fogging. Although any benzoic acid derivative can be used as the benzoic acid, examples of preferred structures include U.S. Pat. Nos. 4,784,939, 4,152,160, and JP-A-9-281687. And the compounds described in JP-A-9-329864, JP-A-9-329865, and the like. The benzoic acids used in the present invention may be added to any part of the photothermographic material, but the addition layer is preferably added to the layer having the image forming layer, and added to the organic silver salt-containing layer. Is more preferable. The benzoic acid may be added at any step in the coating solution preparation, and when added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be performed. To immediately before coating. The benzoic acid may be added by any method such as powder, solution, or fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent. The amount of benzoic acid added may be any amount, but is preferably 1 μmol or more and 2 mol or less, and more preferably 1 mmol or more and 0.5 mol or less, per 1 mol of silver.

(塗布液の調製および塗布)
本発明の画像形成層塗布液の調製温度は30℃以上65℃以下がよく、さらに好ましい温度は35℃以上60℃未満、より好ましい温度は35℃以上55℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が30℃以上65℃以下で維持されることが好ましい。
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution of the present invention is preferably from 30 ° C. to 65 ° C., more preferably from 35 ° C. to less than 60 ° C., and more preferably from 35 ° C. to 55 ° C. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.

(層構成および構成成分)
本発明の画像形成層は、支持体上に一またはそれ以上の層で構成される。一層で構成する場合は有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤およびバインダーよりなり、必要により色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの所望による追加の材料を含む。二層以上で構成する場合は、第1画像形成層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩および感光性ハロゲン化銀を含み、第2画像形成層または両層中にいくつかの他の成分を含んでも良い。
(Layer structure and components)
The image forming layer of the present invention is composed of one or more layers on a support. In the case of a single layer, it consists of an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a binder, and optionally contains additional materials such as toning agents, coating aids and other auxiliary agents. In the case of two or more layers, an organic silver salt and a light-sensitive silver halide are contained in the first image forming layer (usually a layer adjacent to the support), and some in the second image forming layer or both layers. Other components may be included.

本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から(a)画像形成層の上(支持体よりも遠い側)に設けられる表面保護層、(b)複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、(c)画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、(d)画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。   The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer includes (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther than the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. It can be classified into an intermediate layer provided therebetween, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.

また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、(a)または(b)の層として設けられる。アンチハレーション層は、(c)または(d)の層として熱現像感光材料に設けられる。   In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided on the photothermographic material as the layer (c) or (d).

1)表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。
表面保護層については、特開平11−65021号段落番号0119〜0120、特開2000−171936号に記載されている。
本発明の表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール(PVA)を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン(例えば新田ゼラチン750)、フタル化ゼラチン(例えば新田ゼラチン801)など使用することができる。PVAとしては、特開2000−171936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげられ、完全けん化物のPVA−105、部分けん化物のPVA−205,PVA−335、変性ポリビニルアルコールのMP−203(以上、クラレ(株)製の商品名)などが好ましく挙げられる。保護層(1層当たり)のポリビニルアルコール塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2〜4.0g/m2が好ましく、0.3g/m2〜2.0g/m2がより好ましい。
1) Surface protective layer The photothermographic material according to the invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers.
The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and JP-A No. 2000-171936.
As the binder for the surface protective layer of the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used. Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). Preferably 0.3g / m 2 ~4.0g / m 2 as a polyvinyl alcohol coating amount (per support 1 m 2) of the protective layer (per one layer), 0.3g / m 2 ~2.0g / m 2 Is more preferable.

表面保護層(1層当たり)の全バインダー(水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む)塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2〜5.0g/m2が好ましく、0.3g/m2〜2.0g/m2がより好ましい。 All (including water-soluble polymer and latex polymer) binder preferably 0.3g / m 2 ~5.0g / m 2 as a coating amount (per support 1 m 2) of the surface protective layer (per one layer), 0. 3g / m 2 ~2.0g / m 2 is more preferable.

2)アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を画像形成層に対して光源から遠い側に設けることができる。好ましくは、バック層もしくは画像形成層と支持体との間の層である。
2) Antihalation layer In the photothermographic material of the invention, the antihalation layer can be provided on the side farther from the light source than the image forming layer. Preferably, it is a layer between the back layer or the image forming layer and the support.

アンチハレーション層については特開平11−65021号段落番号0123〜0124、特開平11−223898号、同9−230531号、同10−36695号、同10−104779号、同11−231457号、同11−352625号、同11−352626号等に記載されている。
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。
本発明の熱現像感光材料は、前記の金属フタロシアニン染料をアンチハレーション染料として用いるのが好ましい。
As for the antihalation layer, paragraphs 0123 to 0124 of JP-A-11-65021, JP-A-11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626 and the like.
The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. When the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
In the photothermographic material of the invention, the metal phthalocyanine dye is preferably used as an antihalation dye.

染料の添加量は、一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使用する。光学濃度は、0.15〜2であることが好ましく0.2〜1であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に0.001g/m2〜1g/m2程度である。 The amount of the dye added is generally such that the optical density (absorbance) exceeds 0.1 when measured at the target wavelength. The optical density is preferably 0.15 to 2, and more preferably 0.2 to 1. The amount of the dye for obtaining such an optical density is generally 0.001g / m 2 ~1g / m 2 approximately.

3)バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平11−65021号段落番号0128〜0130に記載されている。
本発明の熱現像感光材料は、ハレーション防止層として、前記の金属フタロシアニン化合物を含有する層であることが好ましい。
3) Back Layer Back layers that can be applied to the present invention are described in paragraph Nos. 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.
The photothermographic material of the invention is preferably a layer containing the metal phthalocyanine compound as an antihalation layer.

本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で300nm〜450nmに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭62−210458号、同63−104046号、同63−103235号、同63−208846号、同63−306436号、同63−314535号、特開平01−61745号、特開平2001−100363などに記載されている。
このような着色剤は、通常、0.1mg/m2〜1g/m2の範囲で添加され、添加する層としては画像形成層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 nm to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-63-306436, JP-A-63-141435, and JP-A-01-61745. No. 1, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-100363, and the like.
Such a colorant is usually added in the range of 0.1 mg / m 2 to 1 g / m 2 , and the back layer provided on the opposite side of the image forming layer is preferable as the layer to be added.

4)マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を添加することが好ましく、マット剤については、特開平11−65021号段落番号0126〜0127に記載されている。マット剤は熱現像感光材料1m2当たりの塗布量で示した場合、好ましくは1mg/m2〜400mg/m2、より好ましくは5mg/m2〜300mg/m2である。
4) Matting Agent In the present invention, it is preferable to add a matting agent for improving transportability, and the matting agent is described in paragraph Nos. 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021. Matting agent case shown in the coating amount per photothermographic material 1 m 2, preferably from 1mg / m 2 ~400mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~300mg / m 2 .

本発明においてマット剤の形状は定型、不定形のいずれでもよいが好ましくは定型で、球形が好ましく用いられる。平均粒径は0.5μm〜10μmであることが好ましく、より好ましくは1.0μm〜8.0μm、さらに好ましくは2.0μm〜6.0μmの範囲である。また、サイズ分布の変動係数としては50%以下であることが好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは、30%以下である。ここで変動係数とは(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100で表される値である。また、変動係数が小さいマット剤で平均粒径の比が3より大きいものを2種併用することも好ましい。   In the present invention, the shape of the matting agent may be either a regular shape or an irregular shape, but is preferably a regular shape, and a spherical shape is preferably used. The average particle size is preferably 0.5 μm to 10 μm, more preferably 1.0 μm to 8.0 μm, and still more preferably 2.0 μm to 6.0 μm. The variation coefficient of the size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and still more preferably 30% or less. Here, the coefficient of variation is a value represented by (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100. It is also preferable to use two types of matting agents having a small variation coefficient and having an average particle size ratio larger than 3.

また、画像形成層面のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が30秒以上2000秒以下が好ましく、特に40秒以上1500秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格(JIS)P8119「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方法」およびTAPPI標準法T479により容易に求めることができる。   The matting degree of the image forming layer surface may be any as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less, particularly preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily obtained by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.

本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、800秒以下20秒以上が好ましく、さらに好ましくは500秒以下40秒以上である。   In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.

本発明において、マット剤は熱現像感光材料の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。   In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer, the layer functioning as the outermost surface layer of the photothermographic material, or a layer close to the outer surface, and also contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferred that

5)ポリマーラテックス
特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明の熱現像感光材料を用いる場合には、表面保護層やバック層にポリマーラテックスを用いることが好ましい。このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート(33.5質量%)/エチルアクリレート(50質量%)/メタクリル酸(16.5質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(47.5質量%)/ブタジエン(47.5質量%)/イタコン酸(5質量%)コポリマーのラテックス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(58.9質量%)/2−エチルヘキシルアクリレート(25.4質量%)/スチレン(8.6質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.1質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(64.0質量%)/スチレン(9.0質量%)/ブチルアクリレート(20.0質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.0質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックスなどが挙げられる。
5) Polymer Latex When the photothermographic material of the present invention is used for printing applications in which dimensional change is a problem, it is preferable to use a polymer latex for the surface protective layer or the back layer. For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically, methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / Methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, Methyl methacrylate (47.5 wt%) / Butadiene (47.5 wt%) / Itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl Latex of xyl acrylate (25.4 mass%) / styrene (8.6 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned.

さらに、表面保護層用のバインダーとして、特願平11−6872号明細書のポリマーラテックスの組み合わせ、特開2000−267226号明細書の段落番号0021〜0025に記載の技術、特願平11−6872号明細書の段落番号0027〜0028に記載の技術、特開2000−19678号明細書の段落番号0023〜0041に記載の技術を適用してもよい。表面保護層のポリマーラテックスの比率は全バインダーの10質量%以上90質量%以下が好ましく、特に20質量%以上80質量%以下が好ましい。   Furthermore, as a binder for the surface protective layer, a combination of polymer latex described in Japanese Patent Application No. 11-6872 and a technique described in Paragraph Nos. 0021 to 0025 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-267226, Japanese Patent Application No. 11-6872 The technology described in paragraph numbers 0027 to 0028 of the specification and the technology described in paragraph numbers 0023 to 0041 of JP 2000-19678 may be applied. The ratio of the polymer latex in the surface protective layer is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less of the total binder.

6)膜面pH
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面pHが7.0以下であることが好ましく、さらに好ましくは6.6以下である。その下限には特に制限はないが、3程度である。最も好ましいpH範囲は4〜6.2の範囲である。膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面pHを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面pHの測定方法は、特開2000−284399号明細書の段落番号0123に記載されている。
6) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2. The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. A method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of JP-A No. 2000-284399.

7)硬膜剤
本発明の画像形成層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としてはT.H.James著「THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION」(Macmillan Publishing Co.,Inc.刊、1977年刊)、77頁から87頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩、N,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)、N,N−プロピレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)の他、同書78頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、特開平6−208193号などのポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62−89048号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
7) Hardener A hardener may be used for each layer such as the image forming layer, protective layer, and back layer of the present invention. Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in "THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION" by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87, Chrome Alum, 2,4-dichloro-6 In addition to hydroxy-s-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfoneacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 of the same document, US Pat. No. 4,281 , 060, and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinylsulfone compounds such as JP-A-62-289048 are preferably used.

硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。   The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's “Liquid Mixing Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), translated by Koji Takahashi.

8)界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平11−65021号段落番号0132、溶剤については同号段落番号0133、支持体については同号段落番号0134、帯電防止又は導電層については同号段落番号0135、カラー画像を得る方法については同号段落番号0136に、滑り剤については特開平11−84573号段落番号0061〜0064や特願平11−106881号段落番号0049〜0062記載されている。
8) Surfactant As for the surfactant applicable to the present invention, paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0133 of the solvent, paragraph No. 0134 of the support, antistatic or conductive layer Paragraph No. 0135 for the method of obtaining a color image, paragraph No. 0136 for JP-A No. 11-84573 and paragraph Nos. 0049 to 0062 of Japanese Patent Application No. 11-106881 for the slip agent. Has been.

本発明においてはフッ素系の界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例は特開平10−197985号、特開2000−19680号、特開2000−214554号等に記載された化合物があげられる。また、特開平9−281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料においては特開2002−82411号、特開2003−57780号および特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤の使用が好ましい。特に特開2003−57780号および特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は水系の塗布液で塗布製造を行う場合、帯電調整能力、塗布面状の安定性、スベリ性の点で好ましく、特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は帯電調整能力が高く使用量が少なくてすむという点で最も好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant. Specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. In addition, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use fluorine-based surfactants described in JP-A Nos. 2002-82411, 2003-57780, and 2001-264110. In particular, the fluorosurfactants described in JP-A-2003-57780 and JP-A-2001-264110 are preferable in terms of charge adjustment ability, stability of the coated surface, and smoothness when coating and production is performed with an aqueous coating solution. The fluorine-based surfactant described in JP-A No. 2001-264110 is most preferable because it has a high charge adjusting ability and requires a small amount of use.

本発明においてフッ素系界面活性剤は画像形成層面、バック面のいずれにも使用することができ、両方の面に使用することが好ましい。また、前述の金属酸化物を含む導電層と組み合わせて使用することが特に好ましい。この場合には導電層を有する面のフッ素系界面活性剤の使用量を低減もしくは除去しても十分な性能が得られる。
フッ素系界面活性剤の好ましい使用量は画像形成層面、バック面それぞれに0.1mg/m2〜100mg/m2の範囲で、より好ましくは0.3mg/m2〜30mg/m2の範囲、さらに好ましくは1mg/m2〜10mg/m2の範囲である。特に特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は効果が大きく、0.01mg/m2〜10mg/m2の範囲が好ましく、0.1mg/m2〜5mg/m2の範囲がより好ましい。
In the present invention, the fluorosurfactant can be used on either the image forming layer surface or the back surface, and is preferably used on both surfaces. Further, it is particularly preferable to use in combination with a conductive layer containing the above-described metal oxide. In this case, sufficient performance can be obtained even if the amount of the fluorosurfactant used on the surface having the conductive layer is reduced or removed.
The preferred amount of the fluorocarbon surfactant is an image forming layer side, the range to the back surface each 0.1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 0.3mg / m 2 ~30mg / m 2 range, even more preferably from 1mg / m 2 ~10mg / m 2 . In particular JP fluorocarbon surfactant described in JP-A No. 2001-264110 is effective, and preferably in the range of 0.01mg / m 2 ~10mg / m 2 , more in the range of 0.1mg / m 2 ~5mg / m 2 preferable.

9)帯電防止剤
本発明においては金属酸化物あるいは導電性ポリマーを含む導電層を有することが好ましい。帯電防止層は下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねてもよく、また別途設けてもよい。帯電防止層の導電性材料は金属酸化物中に酸素欠陥、異種金属原子を導入して導電性を高めた金属酸化物が好ましく用いられる。金属酸化物の例としてはZnO、TiO2、SnO2が好ましく、ZnOに対してはAl、Inの添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が好ましい。
特にSbを添加したSnO2が好ましい。異種原子の添加量は0.01モル%〜30モル%の範囲が好ましく、0.1モル%〜10モル%の範囲がより好ましい。金属酸化物の形状は球状、針状、板状いずれでもよいが、導電性付与の効果の点で長軸/単軸比が2.0以上、好ましくは3.0〜50の針状粒子がよい。金属酸化物の使用量は好ましくは1mg/m2〜1000mg/m2の範囲で、より好ましくは10mg/m2〜500mg/m2の範囲、さらに好ましくは20mg/m2〜200mg/m2の範囲である。
9) Antistatic agent In this invention, it is preferable to have a conductive layer containing a metal oxide or a conductive polymer. The antistatic layer may serve as an undercoat layer, a back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. As the conductive material for the antistatic layer, a metal oxide in which conductivity is improved by introducing oxygen defects and different metal atoms into the metal oxide is preferably used. Examples of metal oxides include ZnO, TiO 2 and SnO 2. Addition of Al and In to ZnO, addition of Sb, Nb, P and halogen elements to SnO 2 , and addition to TiO 2 For example, addition of Nb, Ta or the like is preferable.
In particular, SnO 2 added with Sb is preferable. The amount of different atoms added is preferably in the range of 0.01 mol% to 30 mol%, more preferably in the range of 0.1 mol% to 10 mol%. The shape of the metal oxide may be spherical, acicular, or plate-like, but in terms of the effect of imparting conductivity, acicular particles having a major axis / uniaxial ratio of 2.0 or more, preferably 3.0 to 50 are used. Good. Range amount preferably of 1mg / m 2 ~1000mg / m 2 of metal oxide, more preferably 10mg / m 2 ~500mg / m 2 range, more preferably at 20mg / m 2 ~200mg / m 2 It is a range.

本発明の帯電防止層は画像形成層面側、バック面側のいずれに設置してもよいが、支持体とバック層との間に設置することが好ましい。
本発明の帯電防止層の具体例は特開平11−65021号段落番号0135、特開昭56−143430号、同56−143431号、同58−62646号、同56−120519号、特開平11−84573号の段落番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11−223898号の段落番号0078〜0084に記載されている。
The antistatic layer of the present invention may be disposed on either the image forming layer surface side or the back surface side, but is preferably disposed between the support and the back layer.
Specific examples of the antistatic layer of the present invention include paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519, JP-A No. 11-120. No. 84573, paragraph numbers 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957, and JP-A No. 11-223898, paragraph numbers 0078 to 0084.

10)塗布溶剤
本発明の熱現像感光材料の塗布に用いられる溶剤の例としては新版溶剤ポケットブック(オーム社、1994年刊)などに挙げられるが、本発明はこれに限定されるものではない。また、本発明で使用する溶剤の沸点としては40℃以上180℃以下のものが好ましい。溶剤の例として具体的には、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、1,1,1−トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、トリエチルアミン、チオフェン、トリフルオロエタノール、パーフルオロペンタン、キシレン、n−ブタノール、フェノール、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、炭酸ジエチル、クロロベンゼン、ジブチルエーテル、アニソール、エチレングリコールジエチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、モルホリン、パーフルオロトリブチルアミン、および水などが挙げられる。中でも、メチルエチルケトンが適度な沸点を有し、塗布膜の均一な面状を得てかつ乾燥の負荷が軽く溶剤の残留量が少なくできるため好ましく用いられる。
10) Coating solvent Examples of the solvent used for coating the photothermographic material of the present invention include New Edition Solvent Pocket Book (Ohm, published in 1994), but the present invention is not limited thereto. The boiling point of the solvent used in the present invention is preferably 40 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. Specific examples of the solvent include hexane, cyclohexane, toluene, methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, 1,1,1-trichloroethane, tetrahydrofuran, triethylamine, thiophene, trifluoroethanol, perfluoropentane, Xylene, n-butanol, phenol, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, butyl acetate, diethyl carbonate, chlorobenzene, dibutyl ether, anisole, ethylene glycol diethyl ether, N, N-dimethylformamide, morpholine, perfluorotributylamine, and water Can be mentioned. Among these, methyl ethyl ketone is preferably used because it has an appropriate boiling point, a uniform surface shape of the coating film is obtained, the drying load is light, and the residual amount of the solvent can be reduced.

塗布に用いた溶剤は塗布乾燥後、膜中に残存する量は少なくすることが好ましい。残留溶剤は、一般には現像感光材料を露光あるいは熱現像時に環境に揮発して不快にさせ、また健康上にも好ましくない。   It is preferable to reduce the amount of the solvent used for coating remaining in the film after coating and drying. Residual solvents generally cause development photosensitive materials to volatilize in the environment during exposure or heat development, making them uncomfortable, and are undesirable for health.

また、残留溶剤が写真性能、および保存安定性に影響を与える場合があり、残留溶剤量を少ない領域で一定の範囲内にすることが好ましい。残留溶剤量が多いと熱現像感光材料の塗布製造直後は、高感度が得られるが保存中にかぶりが上昇し、感度が低下する。本発明の熱現像感光材料では、残留溶剤量は、MEKの量で好ましくは0.1mg/m2〜150mg/m2、より好ましくは0.1mg/m2〜80mg/m2、さらに好ましくは0.1mg/m2〜40mg/m2である。 In addition, the residual solvent may affect photographic performance and storage stability, and it is preferable to keep the residual solvent amount within a certain range in a small region. If the amount of residual solvent is large, high sensitivity can be obtained immediately after the production of the photothermographic material, but fog increases during storage and sensitivity decreases. In the photothermographic material of the present invention, the residual solvent amount is preferably in an amount of MEK 0.1mg / m 2 ~150mg / m 2, more preferably 0.1mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably it is 0.1mg / m 2 ~40mg / m 2 .

11)支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、130℃〜185℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料(例えば、特開平8−240877号実施例記載の染料−1)で着色されていてもよいし、無着色でもよい。支持体には、特開平11−84574号の水溶性ポリエステル、同10−186565号のスチレンブタジエン共重合体、特開2000−39684号や特願平11−106881号段落番号0063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。支持体に画像形成層もしくはバック層を塗布するときの、支持体の含水率は0.5質量%以下であることが好ましい。
11) Support The transparent support is subjected to heat treatment in a temperature range of 130 ° C to 185 ° C in order to alleviate internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate heat shrinkage strain generated during heat development processing. Polyester, especially polyethylene terephthalate, is preferably used. In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored. Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer. When the image forming layer or the back layer is applied to the support, the water content of the support is preferably 0.5% by mass or less.

12)その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。各種の添加剤は、画像形成層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO98/36322号、EP803764A1号、特開平10−186567号、同10−18568号等を参考にすることができる。
12) Other additives The photothermographic material may further contain an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber or a coating aid. Various additives are added to either the image forming layer or the non-photosensitive layer. Regarding these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.

13)塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、または米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを 含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F.Kistler、Petert M.Schweizer著「LIQUID FILM COATING」(CHAPMAN&HALL社刊、1997年)、399頁から536頁記載のエクストルージョンコーティング、またはスライドコーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFigure 11b.1にある。また、所望により同書399頁から536頁記載の方法、米国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆することができる。本発明において特に好ましい塗布方法は特開2001−194748号、同2002−153808号、同2002−153803号、同2002−182333号に記載された方法である。
13) Coating method The photothermographic material in the invention may be coated by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. The extrusion coating described in “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) by Schweizer (1997), pages 399 to 536 is preferably used, and slide coating is particularly preferably used. An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. . In the present invention, particularly preferred coating methods are those described in JP-A Nos. 2001-194748, 2002-153808, 2002-153803, and 2002-182333.

本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平11−52509号を参考にすることができる。本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度0.1S-1における粘度は400mPa・s以上100,000mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは500mPa・s以上20,000mPa・s以下である。また、剪断速度1000S-1においては1mPa・s以上200mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは5mPa・s以上80mPa・s以下である。 The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to. The viscosity of the organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less, at a shear rate of 0.1 S −1 . In addition, at a shear rate of 1000 S- 1, it is preferably 1 mPa · s or more and 200 mPa · s or less, and more preferably 5 mPa · s or more and 80 mPa · s or less.

本発明の塗布液を調合する場合において2種の液を混合する際は公知のインライン混合機、インプラント混合機が好ましく用いられる。本発明の好ましいインライン混合機は特開2002−85948号に、インプラント混合機は特開2002−90940号に記載されている。
本発明における塗布液は塗布面状を良好に保つため脱泡処理をすることが好ましい。本発明の好ましい脱泡処理方法については特開2002−66431号に記載された方法である。
In the case of preparing the coating liquid of the present invention, a known in-line mixer or implant mixer is preferably used when mixing two kinds of liquids. A preferred in-line mixer of the present invention is described in JP-A No. 2002-85948, and an implant mixer is described in JP-A No. 2002-90940.
The coating solution in the present invention is preferably subjected to defoaming treatment in order to keep the coated surface state good. A preferable defoaming treatment method of the present invention is the method described in JP-A No. 2002-66431.

本発明の塗布液を塗布する際には支持体の耐電による塵、ほこり等の付着を防止するために除電を行うことが好ましい。本発明において好ましい除電方法の例は特開2002−143747に記載されている。
本発明においては非セット性の画像形成層塗布液を乾燥するため乾燥風、乾燥温度を精密にコントロールすることが重要である。本発明の好ましい乾燥方法は特開2001−194749号、同2002−139814号に詳しく記載されている。
When applying the coating solution of the present invention, it is preferable to perform static elimination in order to prevent adhesion of dust, dust, and the like due to electric resistance of the support. An example of a preferable static elimination method in the present invention is described in JP-A No. 2002-143747.
In the present invention, it is important to precisely control the drying air and the drying temperature in order to dry the non-setting image forming layer coating solution. The preferred drying method of the present invention is described in detail in JP-A Nos. 2001-194749 and 2002-139814.

本発明の熱現像感光材料は成膜性を向上させるために塗布、乾燥直後に加熱処理をすることが好ましい。加熱処理の温度は膜面温度で60℃〜100℃の範囲が好ましく、加熱時間は1秒〜60秒の範囲が好ましい。より好ましい範囲は膜面温度が70℃〜90℃、加熱時間が2秒〜10秒の範囲である。本発明の好ましい加熱処理の方法は特開2002−107872号に記載されている。   The photothermographic material of the present invention is preferably subjected to a heat treatment immediately after coating and drying in order to improve film formability. The temperature of the heat treatment is preferably in the range of 60 ° C. to 100 ° C. as the film surface temperature, and the heating time is preferably in the range of 1 second to 60 seconds. A more preferable range is a film surface temperature of 70 ° C. to 90 ° C. and a heating time of 2 seconds to 10 seconds. A preferable heat treatment method of the present invention is described in JP-A No. 2002-107872.

また、本発明の熱現像感光材料を安定して連続製造するためには特開2002−156728号、同2002−182333号に記載の製造方法が好ましく用いられる。
熱現像感光材料は、モノシート型(受像材料のような他のシートを使用せずに、熱現像感光材料上に画像を形成できる型)であることが好ましい。
In order to stably and continuously produce the photothermographic material of the present invention, the production methods described in JP-A Nos. 2002-156728 and 2002-182333 are preferably used.
The photothermographic material is preferably a mono-sheet type (a type capable of forming an image on the photothermographic material without using another sheet such as an image receiving material).

14)包装材料
本発明の熱現像感光材料は生保存時の写真性能の変動を押えるため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50mL/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは10mL/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0mL/atm・m2・day以下である。水分透過率は10g/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1g/atm・m2・day以下である。
該酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号。特開2000−206653号明細書に記載されている包装材料である。
14) Packaging material The photothermographic material of the present invention is a packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability in order to suppress fluctuations in photographic performance during raw storage or to improve curling, curling, etc. It is preferable to package. The oxygen permeability is preferably 50 mL / atm · m 2 · day or less at 25 ° C., more preferably 10 mL / atm · m 2 · day or less, more preferably 1.0 mL / atm · m 2 · day or less. is there. The moisture permeability is preferably 10 g / atm · m 2 · day or less, more preferably 5 g / atm · m 2 · day or less, and still more preferably 1 g / atm · m 2 · day or less.
Specific examples of the packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability are disclosed in, for example, JP-A-8-254793. This is a packaging material described in JP-A-2000-206653.

15)その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、WO98/36322号、特開昭56−62648号、同58−62644号、特開平9−43766、同9−281637、同9−297367号、同9−304869号、同9−311405号、同9−329865号、同10−10669号、同10−62899号、同10−69023号、同10−186568号、同10−90823号、同10−171063号、同10−186565号、同10−186567号、同10−186569号〜同10−186572号、同10−197974号、同10−197982号、同10−197983号、同10−197985号〜同10−197987号、同10−207001号、同10−207004号、同10−221807号、同10−282601号、同10−288823号、同10−288824号、同10−307365号、同10−312038号、同10−339934号、同11−7100号、同11−15105号、同11−24200号、同11−24201号、同11−30832号、同11−84574号、同11−65021号、同11−109547号、同11−125880号、同11−129629号、同11−133536号〜同11−133539号、同11−133542号、同11−133543号、同11−223898号、同11−352627号、同11−305377号、同11−305378号、同11−305384号、同11−305380号、同11−316435号、同11−327076号、同11−338096号、同11−338098号、同11−338099号、同11−343420号、特開2000−187298号、同2000−10229号、同2000−47345号、同2000−206642号、同2000−98530号、同2000−98531号、同2000−112059号、同2000−112060号、同2000−112104号、同2000−112064号、同2000−171936号も挙げられる。
15) Other technologies that can be used Techniques that can be used in the photothermographic material of the present invention include EP80364A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP-A-56-62648, JP-A-58-62644, and JP-A-5-62644. 9-43766, 9-281737, 9-297367, 9-304869, 9-31405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023 10-186568, 10-90823, 10-171603, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, Nos. 10-197982, 10-197983, 10-197985 to 1 No. 0-197987, No. 10-207001, No. 10-207004, No. 10-221807, No. 10-282601, No. 10-288823, No. 10-288824, No. 10-307365, No. 10- No. 312038, No. 10-339934, No. 11-7100, No. 11-15105, No. 11-24200, No. 11-24201, No. 11-30832, No. 11-84574, No. 11-65021 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11-352627, 11-305377, 11-305378, 11-305 84, 11-305380, 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, JP 2000-187298 , 2000-10229, 2000-47345, 2000-206642, 2000-98530, 2000-98531, 2000-112059, 2000-112060, 2000-112104, Examples thereof include 2000-112064 and 2000-171936.

(画像形成方法)
1)露光
本発明の熱現像感光材料は、いかなる手段によって画像露光しても良い。本発明の熱現像感光材料は、好ましくは、レーザー光で走査露光するのが好ましい。
本発明で用いることの出来る好ましいレーザーは、赤〜赤外発光のHe−Neレーザー、赤色半導体レーザー、あるいは青〜緑発光のAr+,He−Ne,He−Cdレーザー、青色半導体レーザーである。好ましくは、赤色〜赤外半導体レーザーであり、レーザー光のピーク波長は、600nm〜900nm、好ましくは620nm〜850nmである。
一方、近年、特に、SHG(Second Harmonic Generator)素子と半導体レーザーを一体化したモジュールや青色半導体レーザーが開発されてきて、短波長領域のレーザー出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザーは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。青色レーザー光のピーク波長は、300nm〜500nm、特に400nm〜500nmが好ましい。
レーザー光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。
(Image forming method)
1) Exposure The photothermographic material of the invention may be subjected to image exposure by any means. The photothermographic material of the present invention is preferably subjected to scanning exposure with a laser beam.
Preferred lasers that can be used in the present invention are red to infrared light emitting He—Ne lasers, red semiconductor lasers, blue to green light emitting Ar + , He—Ne, He—Cd lasers, and blue semiconductor lasers. Preferred is a red to infrared semiconductor laser, and the peak wavelength of the laser light is 600 nm to 900 nm, preferably 620 nm to 850 nm.
On the other hand, in recent years, in particular, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime. The peak wavelength of the blue laser light is preferably 300 nm to 500 nm, particularly preferably 400 nm to 500 nm.
It is also preferable that the laser light is oscillated in a vertical multi by a method such as high frequency superposition.

2)熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては80℃〜250℃であり、好ましくは100℃〜140℃、さらに好ましくは110℃〜130℃である。現像時間としては1秒〜60秒が好ましく、より好ましくは3秒〜30秒、さらに好ましくは5秒〜25秒である。
2) Photothermographic development The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. A preferred development temperature is 80 ° C to 250 ° C, preferably 100 ° C to 140 ° C, and more preferably 110 ° C to 130 ° C. The development time is preferably 1 second to 60 seconds, more preferably 3 seconds to 30 seconds, and even more preferably 5 seconds to 25 seconds.

熱現像の方式としてはドラム型ヒーター、プレート型ヒーターのいずれを使用してもよいが、プレート型ヒーター方式がより好ましい。プレート型ヒーター方式による熱現像方式とは特開平11−133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒーターからなり、かつ前記プレートヒーターの一方の面に沿って複数個の押えローラーが対向配設され、前記押えローラーと前記プレートヒーターとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒーターを2〜6段に分けて先端部については1℃〜10℃程度温度を下げることが好ましい。例えば、独立に温度制御できる4組のプレートヒーターを使用し、それぞれ112℃、119℃、121℃、120℃になるように制御する例が挙げられる。このような方法は特開昭54−30032号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を抑えることもできる。   Either a drum type heater or a plate type heater may be used as the thermal development method, but the plate type heater method is more preferable. The heat development method using the plate type heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572, and a visible image is obtained by bringing a photothermographic material having a latent image formed thereon into contact with a heating means in a heat developing unit. In the heat development apparatus, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the press roller is disposed between the press roller and the plate heater. A heat development apparatus characterized in that heat development is performed by passing a photothermographic material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature about 1 ° C. to 10 ° C. at the tip. For example, there are examples in which four sets of plate heaters that can be independently controlled are used and controlled so as to be 112 ° C., 119 ° C., 121 ° C., and 120 ° C., respectively. Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress a change in the shape of the support of the photothermographic material due to the heating.

熱現像機の小型化および熱現像時間の短縮のためには、より安定なヒーター制御ができることが好ましく、また、1枚のシート感材を先頭部から露光開始し、後端部まで露光が終わらないうちに熱現像を開始することが望ましい。
本発明に好ましい迅速処理ができるイメージャーは例えば特開2002−289804号および同−287668号に記載されている。
In order to reduce the size of the heat developing machine and shorten the heat development time, it is preferable to be able to control the heater more stably. In addition, the exposure of one sheet of photosensitive material is started from the top and the exposure is finished to the rear end. It is desirable to start the heat development before the time.
Imagers capable of rapid processing preferred in the present invention are described in, for example, JP-A Nos. 2002-289804 and -287668.

3)システム
露光部及び熱現像部を備えた医療用のレーザーイメージャーとしては富士メディカル・ドライレーザーイメージャーFM−DPL、およびDRYPIX7000を挙げることができる。FM−DPLに関しては、Fuji Medical Review No.8,page39〜55に記載されており、それらの技術は本発明の熱現像感光材料のレーザーイメージャーとして適用することは言うまでもない。また、DICOM規格に適応したネットワークシステムとして富士フィルムメディカル(株)が提案した「AD network」の中でのレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
3) System As a medical laser imager provided with an exposure part and a heat development part, Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL and DRYPIX7000 can be exemplified. Regarding FM-DPL, Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and it goes without saying that these techniques are applied as a laser imager of the photothermographic material of the present invention. Further, it can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD network” proposed by Fuji Film Medical Co., Ltd. as a network system adapted to the DICOM standard.

(本発明の用途)
本発明の熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、COM用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
(Use of the present invention)
The photothermographic material of the present invention forms a black and white image by a silver image, and is used as a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, a photothermographic material for printing, and a photothermographic material for COM. It is preferably used.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
1.PET支持体の作製
(1)製膜
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、未延伸フィルムを作製した。
Example 1
1. Production of PET support (1) Film formation Using terephthalic acid and ethylene glycol, according to a conventional method, intrinsic viscosity IV = 0.66 (phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio)) at 25 ° C. PET) was obtained. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and rapidly cooled to prepare an unstretched film.

これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。 This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit and then knurled at both ends, and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.

(2)表面コロナ放電処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
(2) Surface corona discharge treatment Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was processed at 0.375 kV · A · min / m 2 . The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.

(3)下塗り
1)下塗層塗布液の作製
処方(1)(感光層側下塗り層用)
高松油脂(株)製ペスレジンA−520(30質量%溶液) 59g
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
(平均エチレンオキシド数=8.5)10質量%溶液 5.4g
綜研化学(株)製MP−1000(ポリマー微粒子、平均粒径0.4μm)
0.91g
蒸留水 935mL
(3) Undercoat 1) Preparation formulation of undercoat layer coating solution (1) (for photosensitive layer side undercoat layer)
59 g of pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether (average ethylene oxide number = 8.5) 10% by mass solution 5.4 g
MP-1000 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. (polymer fine particles, average particle size 0.4 μm)
0.91g
935 mL of distilled water

処方(2)(バック面第1層用)
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス 158g
(固形分40質量%、スチレン/ブタジエン質量比=68/32)
2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩(8質量%水溶液)
20g
ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10mL
蒸留水 854mL
Formula (2) (for back layer 1st layer)
Styrene-butadiene copolymer latex 158g
(Solid content 40% by mass, styrene / butadiene mass ratio = 68/32)
2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt (8% by mass aqueous solution)
20g
10 mL of 1% by weight aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate
854 mL of distilled water

処方(3)(バック面側第2層用)
SnO2/SbO(9/1質量比、平均粒径0.038μm、17質量%分散物)
84g
ゼラチン(10質量%水溶液) 89.2g
信越化学(株)製メトローズTC−5(2質量%水溶液) 8.6g
綜研化学(株)製MP−1000 0.01g
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10mL
NaOH(1質量%) 6mL
プロキセル(ICI社製) 1mL
蒸留水 805mL
Formula (3) (for back side second layer)
SnO 2 / SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.038 μm, 17 mass% dispersion)
84g
Gelatin (10 mass% aqueous solution) 89.2g
8.6 g of Metroise TC-5 (2% by mass aqueous solution) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
MP-1000 0.01g manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
10 mL of 1% by weight aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate
NaOH (1% by mass) 6 mL
Proxel (ICI) 1mL
805 mL of distilled water

2)下塗り
上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面(画像形成層面)に上記下塗り塗布液処方(1)をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6mL/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、ついでこの裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方(2)をワイヤーバーでウエット塗布量が5.7mL/m2になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、更に裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方(3)をワイヤーバーでウエット塗布量が7.7mL/m2になるように塗布して180℃で6分間乾燥して下塗り支持体を作製した。
2) Undercoat After the corona discharge treatment is performed on both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm, the undercoat coating solution formulation (1) is wet-coated with a wire bar on one side (image forming layer side). Apply to an amount of 6.6 mL / m 2 (per side) and dry at 180 ° C. for 5 minutes, then wet coat the above-mentioned undercoat coating formulation (2) on the back side (back side) with a wire bar. Was applied at a temperature of 5.7 mL / m 2 , dried at 180 ° C. for 5 minutes, and the undercoat coating solution formulation (3) was further applied to the back surface (back surface) with a wire bar at a wet coating amount of 7.7 mL / m 2. 2 was applied and dried at 180 ° C. for 6 minutes to prepare an undercoat support.

2.バック層塗布液の調製と塗布
830gのMEKを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製、CAB381−20)84.2g及びポリエステル樹脂(Bostic社製、Vitel PE2200B)4.5gを添加し溶解した。この溶解した液に、染料Bを0.30g添加し、さらにメタノール43.2gに溶解したフッ素系活性剤(旭硝子(株)製、サーフロンKH40)4.5gとフッ素系活性剤(大日本インク(株)製、メガファックF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。最後に、メチルエチルケトンに1質量%の濃度でディゾルバー型ホモジナイザーにて分散したシリカ(W.R.Grace社、シロイド64X6000)75gを添加、攪拌し、バック層塗布液を調製した。
2. Preparation and Application of Back Layer Coating Solution While stirring 830 g of MEK, 84.2 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical, CAB381-20) and 4.5 g of polyester resin (manufactured by Boston, Vitel PE2200B) were added. Dissolved. To this dissolved liquid, 0.30 g of dye B was added, and 4.5 g of a fluorine-based activator (Surflon KH40, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) dissolved in 43.2 g of methanol and a fluorine-based activator (Dainippon Ink, Inc.) Co., Ltd., MegaFuck F120K) 2.3 g was added and sufficiently stirred until dissolved. Finally, 75 g of silica (WR Grace, Syloid 64X6000) dispersed in methyl ethyl ketone at a concentration of 1% by mass with a dissolver type homogenizer was added and stirred to prepare a back layer coating solution.

このように調製したバック層塗布液を、支持体上に、乾燥膜厚が3.5μmになるように押し出しコーターにて塗布乾燥を行った。乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて乾燥した。   The back layer coating solution prepared in this manner was applied and dried by an extrusion coater on a support so that the dry film thickness was 3.5 μm. It dried for 5 minutes using the drying air with a drying temperature of 100 degreeC, and dew point temperature of 10 degreeC.

3.画像形成層、中間層、および表面保護層
3−1.塗布用材料の準備
1)ハロゲン化銀乳剤の調製
《ハロゲン化銀乳剤1の調製》
蒸留水1421mLに1質量%臭化カリウム溶液3.1mLを加え、さらに0.5mol/L濃度の硫酸を3.5mL、フタル化ゼラチン31.7gを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、30℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え95.4mLに希釈した溶液Aと臭化カリウム15.3gとヨウ化カリウム0.8gを蒸留水にて容量97.4mLに希釈した溶液Bを一定流量で45秒間かけて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10mL添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8mL添加した。さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mLに希釈した溶液Cと臭化カリウム44.2gとヨウ化カリウム2.2gを蒸留水にて容量400mLに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で20分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
3. 3. Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer 3-1. Preparation of coating materials 1) Preparation of silver halide emulsion << Preparation of silver halide emulsion 1 >>
To a solution of 1421 mL of distilled water, 3.1 mL of a 1% by mass potassium bromide solution was added, and a solution containing 3.5 mL of 0.5 mol / L sulfuric acid and 31.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 30 ° C., the solution A diluted with 92.2 mL of distilled water added to 22.22 g of silver nitrate, 15.3 g of potassium bromide and 0.8 g of potassium iodide in a distilled water volume of 97.4 mL The whole amount of the solution B diluted to 1 was added at a constant flow rate over 45 seconds. Thereafter, 10 mL of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and further 10.8 mL of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate and diluted to 317.5 mL, a solution D in which 44.2 g of potassium bromide and 2.2 g of potassium iodide were diluted with distilled water to a volume of 400 mL were added to solution C. Was added at a constant flow rate over 20 minutes, and solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so that it would be 1 × 10 −4 mole per mole of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.

上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5mL加え、40分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。1分後にN,N’−ジヒドロキシ−N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mLを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モルおよび1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤1を作製した。 The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 mL of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −4 mol was added and aged for 91 minutes. After 1 minute, 1.3 mL of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to 1 mol of silver with a methanol solution. 4.8 × 10 −3 mol per mol, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution with 5.4 × 10 −3 mol and 1− Silver halide emulsion 1 was prepared by adding (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole in an aqueous solution to 8.5 × 10 −3 mol per mol of silver.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.042μm、球相当径の変動係数20%のヨウドを均一に3.5モル%含むヨウ臭化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。この粒子の{100}面比率は、クベルカムンク法を用いて80%と求められた。   The grains in the prepared silver halide emulsion were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having an average sphere equivalent diameter of 0.042 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope. The {100} face ratio of the particles was determined to be 80% using the Kubelka-Munk method.

《塗布液用混合乳剤−1の調製》
ハロゲン化銀乳剤1を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。さらに1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物1と2と3をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。また吸着基と還元基を有する化合物1と2をそれぞれハロゲン化銀1モルあたり8×10-3モルになる量を添加した。さらに塗布液用混合乳剤1Lあたりハロゲン化銀の含有量が銀として15.6gとなるように加水した。
<< Preparation of Mixed Emulsion-1 for Coating Solution >>
The silver halide emulsion 1 was dissolved, and 7 × 10 −3 mol of benzothiazolium iodide was added as a 1% by mass aqueous solution per mol of silver. Further, the amount of the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is 2 × 10 −3 mol per mol of silver halide, each of compounds 1, 2 and 3 capable of emitting one electron or more. Added. Further, compounds 1 and 2 having an adsorbing group and a reducing group were added in an amount of 8 × 10 −3 mol per mol of silver halide. Further, water was added so that the silver halide content per 1 L of the mixed emulsion for coating solution was 15.6 g as silver.

2)ハロゲン化銀/有機銀塩分散液の調製
べへン酸42モル%、アラキジン酸34モル%、ステアリン酸24モル%の組成の脂肪酸688gを80℃において水13Lに溶解し、15分間混合した後、80℃の水1.5L中に89.18gのNaOHを溶解した液添加して、5分間混合して分散液を形成した。80℃において、この分散液に濃硝酸19mLを水50mLで希釈した液を添加し、分散液を55℃まで冷却して25分間撹拌した後、55℃に保ち、塗布液用混合乳剤−1をハロゲン化銀1mol相当量を分散液に添加し5分混合した。さらに、硝酸銀336.5gを水2.5Lに溶解し、55℃にて10分間で添加した。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、45℃にて質量減がなくなるまで酸素分圧容量10%の温風で循環乾燥機にて乾燥を行った。
2) Preparation of silver halide / organic silver salt dispersion 688 g of fatty acid having a composition of 42 mol% behenic acid, 34 mol% arachidic acid and 24 mol% stearic acid was dissolved in 13 L of water at 80 ° C and mixed for 15 minutes. Then, 89.18 g NaOH dissolved in 1.5 L of 80 ° C. water was added and mixed for 5 minutes to form a dispersion. At 80 ° C., a solution obtained by diluting 19 mL of concentrated nitric acid with 50 mL of water was added to this dispersion. The dispersion was cooled to 55 ° C. and stirred for 25 minutes, and then kept at 55 ° C. to obtain mixed emulsion-1 for coating solution. An amount equivalent to 1 mol of silver halide was added to the dispersion and mixed for 5 minutes. Further, 336.5 g of silver nitrate was dissolved in 2.5 L of water and added at 55 ° C. over 10 minutes. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water-washing container, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the organic silver salt dispersion, thereby removing the lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and drainage are repeated until the electrical conductivity of the drainage reaches 2 μS / cm, and after centrifugal dehydration, circulation with warm air with an oxygen partial pressure capacity of 10% is performed at 45 ° C. until there is no mass loss. Drying was performed with a dryer.

3)感光性ハロゲン化銀を含む有機銀塩の有機溶剤への再分散
上記の粉末有機銀塩209gとポリビニルブチラール粉末(Monsant社 Butvar B−79)11gをメチルエチルケトン(MEK)780gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバーDISPERMAT CA−40M型にて攪拌し、7℃で一晩放置し、スラリー状を得た。
3) Redispersion of organic silver salt containing photosensitive silver halide in organic solvent 209 g of the above powdered organic silver salt and 11 g of polyvinyl butyral powder (Monsant Butvar B-79) were dissolved in 780 g of methyl ethyl ketone (MEK), and VMA was dissolved. -It stirred with the dissolver DISPERMAT CA-40M type | mold made from GETZMANN, and it was left to stand at 7 degreeC overnight, and obtained the slurry form.

上記スラリーをエスエムテー社製GM−2型圧力式ホモジナイザーで、2パス分散することにより感光性ハロゲン化銀乳剤を含む有機銀塩の分散液を調製した。この際、1パス時の処理圧は6000psiであった。   The slurry was dispersed in two passes with a GM-2 pressure homogenizer manufactured by SMT Co., thereby preparing a dispersion of an organic silver salt containing a photosensitive silver halide emulsion. At this time, the processing pressure during one pass was 6000 psi.

4)画像形成層塗布液の調製
上記の感光性ハロゲン化銀を含む有機銀塩の有機溶剤への再分散物507gを13℃で15分間撹拌し、10質量%のピリジニウムハイドロブロマイド過臭化物(PHP)メタノール溶液3.9mLを添加した。2時間撹拌後、11質量%の臭化カルシウムのメタノール溶液5.2mLを添加した。撹拌を30分続けた後、ButvarB−79を117g添加した。さらに30分攪拌した後、1,1−ビス(2−ヒドロキシー3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパンを27.3g添加し、さらに15分間撹拌を続けた。その後、2−(トリブロモメチルスルホニル)キノリンを2.73g添加し、15分間撹拌した。続いて、1.39gのDesmodur N3300(モーベイ社製、脂肪族イソシアネート)を12.3gのMEKに溶解した液を添加し、さらに15分間撹拌し、その後、21℃で15分間加熱した。
4) Preparation of image forming layer coating solution 507 g of the above-described organic silver salt containing photosensitive silver halide in an organic solvent was stirred at 13 ° C. for 15 minutes, and 10% by mass of pyridinium hydrobromide perbromide (PHP). ) 3.9 mL of methanol solution was added. After stirring for 2 hours, 5.2 mL of a 11 mass% calcium bromide methanol solution was added. Stirring was continued for 30 minutes, after which 117 g Butvar B-79 was added. After stirring for another 30 minutes, 27.3 g of 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane was added and stirring was continued for another 15 minutes. Thereafter, 2.73 g of 2- (tribromomethylsulfonyl) quinoline was added and stirred for 15 minutes. Subsequently, a solution prepared by dissolving 1.39 g of Desmodur N3300 (manufactured by Mobay, aliphatic isocyanate) in 12.3 g of MEK was added, and the mixture was further stirred for 15 minutes, and then heated at 21 ° C. for 15 minutes.

この分散液100gに1mgの増感色素−1、0.47gの4−クロロベンゾフェノンー2−カルボン酸、および0.043gの5−メチルー2−メルカプトベンズイミダゾールを添加し、21℃で1時間撹拌した。次いで、0.368gのフタラジン、0.123gのテトラクロロフタル酸および2gの染料−1を添加し、画像形成層塗布液を完成させた。   To 100 g of this dispersion, 1 mg of sensitizing dye-1, 0.47 g of 4-chlorobenzophenone-2-carboxylic acid, and 0.043 g of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole are added and stirred at 21 ° C. for 1 hour. did. Next, 0.368 g of phthalazine, 0.123 g of tetrachlorophthalic acid and 2 g of dye-1 were added to complete the image forming layer coating solution.

5)表面保護層塗布液の調製
MEK865gを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製、CAB171−15)96g、ポリメチルメタクリル酸(ローム&ハース社製、パラロイドA−21)4.5g、1,3−ジ(ビニルスルフォニル)−2−プロパノール1.5g、ベンゾトリアゾール1.0g、フッ素系界面活性剤(旭硝子社、サーフロンKH40)1.0gを添加し溶解した後、13、6質量%のセルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製、CAB171−15)と9質量%の炭酸カルシウム(Speciality Minerals社製、Super−Pflex200)をMEKにディゾルバー型ホモジナイザーにて8000rpmで30分間分散したもの30gを添加して撹拌し、表面保護層塗布液を調製した。
5) Preparation of surface protective layer coating solution While stirring MEK865g, cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical Co., CAB171-15) 96g, polymethylmethacrylic acid (Rohm & Haas Co., Paraloid A-21) 4.5g 1,3-di (vinylsulfonyl) -2-propanol 1.5 g, benzotriazole 1.0 g, and fluorosurfactant (Asahi Glass Co., Surflon KH40) 1.0 g were added and dissolved. % Cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical, CAB171-15) and 9% by weight calcium carbonate (Speciality Minerals, Super-Pflex200) in MEK for 30 minutes at 8000 rpm with a dissolver type homogenizer 30 g of the dispersed powder was added and stirred to prepare a surface protective layer coating solution.

3−2.熱現像感光材料−1の作製
画像形成層塗布液1と表面保護層塗布疲を押し出しコーターで、支持体のバック層とは反対の面に同時重層塗布することにより、熱現像感光材料1を作製した。塗布は、画像形成層は塗布銀量1.0g/m2、表面保護層は乾燥膜厚で2.5μmになるようにして行った。その後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて、10分間乾燥した。
3-2. Preparation of photothermographic material-1 The photothermographic material 1 is produced by simultaneously applying the image forming layer coating solution 1 and the surface protective layer application fatigue on the surface opposite to the back layer of the support with an extrusion coater. did. The coating was performed so that the image forming layer had an applied silver amount of 1.0 g / m 2 and the surface protective layer had a dry film thickness of 2.5 μm. Then, it dried for 10 minutes using the drying air with a drying temperature of 75 degreeC and a dew point temperature of 10 degreeC.

3−3.熱現像感光材料−2〜11の作製
熱現像感光材料−1に対して、表1に示すように一般式(1)の還元剤、およびカプラーを添加して、熱現像感光材料−2〜11を作製した。
3-3. Preparation of photothermographic material-2 to 11 Photothermographic material-2 to 11 were prepared by adding a reducing agent of general formula (1) and a coupler to photothermographic material-1 as shown in Table 1. Was made.

以下、実施例で用いた化合物を示す。   The compounds used in the examples are shown below.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

4.性能評価
高周波質量にて波長800nm〜820nmの縦マルチモード化された半導体レーザーを露光源とした露光機を試作し、この露光機によりレーザー走査による画像露光を与えた。この際に、熱現像感光材料の露光面への走査レーザー光の入射角度を75度として画像を記録した。その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて熱現像感光材料のバック層とドラム表面が接触するようにして、124℃で24秒熱現像し、得られた画像の評価を濃度計で行った。
4). Performance Evaluation An exposure machine using a semiconductor laser having a high frequency mass and a wavelength of 800 nm to 820 nm as a multi-mode semiconductor laser as an exposure source was prototyped, and image exposure by laser scanning was given by this exposure machine. At this time, an image was recorded by setting the incident angle of the scanning laser beam to the exposed surface of the photothermographic material at 75 degrees. Thereafter, using an automatic developing machine having a heat drum, the back layer of the photothermographic material and the drum surface were in contact with each other, and heat development was performed at 124 ° C. for 24 seconds, and the obtained image was evaluated with a densitometer. .

感度:濃度1.0を与える露光量の逆数を感度として、試料No.1との相対値で示した。
かぶり:未露光部の濃度をかぶり(Dmin)とした。
Dmax:露光量を増やしていったときの飽和する最高濃度である。
Sensitivity: Using the reciprocal of the exposure amount giving a density of 1.0 as the sensitivity, sample no. The value relative to 1 is shown.
Fog: The density of the unexposed area was defined as fog (Dmin).
Dmax: the maximum density that is saturated when the exposure amount is increased.

結果を表1に示した。本発明の試料は、高感度で高Dmaxであった。特に2つのカプラーを用いることにより、良好な色調の黒白画像が得られた。特に、互いに補色関係にある場合に好ましい黒白画像が得られた。さらに3つのカプラーを併用すると好ましい結果が得られた。   The results are shown in Table 1. The sample of the present invention had high sensitivity and high Dmax. In particular, by using two couplers, a black and white image having a good color tone was obtained. In particular, a preferable black-and-white image was obtained when they were complementary to each other. Further favorable results were obtained when three couplers were used in combination.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

実施例2
実施例1の乳剤1の調製において、テルル増感剤Cを加えて熟成する変わりに、47℃に昇温した後、トリエチルチオ尿素をメタノール溶液で銀1モル当り0.15ミリモル加えて80分間熟成したこと、および以後全て47℃で行った以外は乳剤1と同様にして乳剤2を調製した。粒子の形状は乳剤1と同じであった。
実施例1のハロゲン化銀乳剤1の代わりにハロゲン化銀乳剤2を用いてその他は実施例1と同様の試料を作製し、その性能評価を行った。その結果、本発明の化合物はいずれも実施例1と同様に優れた性能を示した。
Example 2
In the preparation of Emulsion 1 of Example 1, instead of ripening by adding tellurium sensitizer C, the temperature was raised to 47 ° C., and then 0.15 mmol of triethylthiourea per mol of silver was added with a methanol solution for 80 minutes. Emulsion 2 was prepared in the same manner as Emulsion 1 except that it was aged and all subsequent steps were carried out at 47 ° C. The grain shape was the same as emulsion 1.
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silver halide emulsion 2 was used instead of the silver halide emulsion 1 in Example 1, and the performance was evaluated. As a result, all of the compounds of the present invention showed excellent performance as in Example 1.

実施例3
<ハロゲン化銀乳剤3の調製>
《粒子形成》
蒸留水1420mLに1質量%ヨウ化カリウム溶液4.3mLを加え、さらに0.5mol/L濃度の硫酸を3.5mL、フタル化ゼラチン36.7gを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、42℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え195.6mLに希釈した溶液Aとヨウ化カリウム21.8gを蒸留水にて容量218mLに希釈した溶液Bを一定流量で9分間かけて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10mL添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8mL添加した。
Example 3
<Preparation of silver halide emulsion 3>
<Particle formation>
To a solution of 1420 mL of distilled water, 4.3 mL of a 1% by mass potassium iodide solution was added, and a solution containing 3.5 mL of 0.5 mol / L sulfuric acid and 36.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 42 ° C., solution A in which distilled water was added to 22.22 g of silver nitrate and diluted to 195.6 mL and solution B in which 21.8 g of potassium iodide was diluted to 218 mL with distilled water were added at a constant flow rate. The whole amount was added over 9 minutes. Thereafter, 10 mL of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and further 10.8 mL of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was added.

さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mLに希釈した溶液Cとヨウ化カリウム60gを蒸留水にて容量600mLに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で120分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作製した。 Further, Solution C obtained by adding distilled water to 51.86 g of silver nitrate and diluting to 317.5 mL and Solution D obtained by diluting 60 g of potassium iodide to a volume of 600 mL with distilled water were added in a total amount over 120 minutes at a constant flow rate. Solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so that it would be 1 × 10 −4 mole per mole of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.

《化学増感》
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1、2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5mL加え、47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルフォン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。
N、N’−ジヒドロキシ−N”、N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mLを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり8×10-4モル及び1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1、3、4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-4モル添加した。
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.040μm、球相当径の変動係数18%の純ヨウ化銀粒子であった。また(001)、{100}、{101}面を有する14面体粒子であり、X線粉末回折分析を用いて測定するとそのγ相の比率は30%であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。
また、吸着基と還元基を有する化合物1と2をそれぞれハロゲン化銀1モルあたり8×10-4モルになる量を添加した。
<塗布液用ハロゲン化銀乳剤3の調製>
ハロゲン化銀乳剤3を加温して溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。また、吸着基と還元基を有する化合物1と2をそれぞれハロゲン化銀1モルあたり8×10-4モルになる量を添加した。さらに塗布液用混合乳剤1kgあたりハロゲン化銀の含有量が銀として15.6gとなるように加水し、塗布液用混合乳剤1kgあたり0.17gとなるように1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを添加した。
《Chemical sensitization》
While maintaining the silver halide dispersion at 38 ° C. with stirring, 5 mL of a 0.34 mass% methanol solution of 1,2-benzisothiazolin-3-one was added, and the temperature was raised to 47 ° C. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and further 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution at a rate of 2. per mol of silver. 9 × 10 −4 mol was added and aged for 91 minutes.
Add 1.3 mL of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″, N ″ -diethylmelamine, and after another 4 minutes, add 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole to 1 mol of silver with methanol solution. 8 × 10 −4 mol and 5.4 × 10 −4 mol of 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole per 1 mol of silver were added in a methanol solution.
The grains in the silver halide emulsion thus prepared were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.040 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 18%. Moreover, it is a tetrahedral particle | grain which has (001), {100}, {101} face, The ratio of the (gamma) phase was 30% when measured using the X-ray powder diffraction analysis. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
Further, the compounds 1 and 2 having an adsorbing group and a reducing group were added in an amount of 8 × 10 −4 mol per mol of silver halide.
<Preparation of silver halide emulsion 3 for coating solution>
Silver halide emulsion 3 was heated and dissolved, and benzothiazolium iodide was added in a 1% by mass aqueous solution at 7 × 10 −3 mol per mol of silver. Further, the compounds 1 and 2 having an adsorbing group and a reducing group were added in an amount of 8 × 10 −4 mol per mol of silver halide. Further, water is added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating liquid is 15.6 g as silver, and 1- (3-methylureidophenyl) is adjusted to 0.17 g per 1 kg of the mixed emulsion for coating liquid. -5-mercaptotetrazole was added.

<塗布試料の調製>
塗布液用乳剤1の代りに、塗布液用ハロゲン化銀乳剤3を用いて、ただし増感色素−1は添加せずに、実施例1の試料と同様にして表2に示す塗布試料を調製した。
<Preparation of coated sample>
A coating sample shown in Table 2 was prepared in the same manner as the sample of Example 1, using silver halide emulsion 3 for coating solution instead of emulsion 1 for coating solution, but without adding sensitizing dye-1. did.

<評価>
1)露光および熱現像
実施例1における800nm〜820nmの半導体レーザを、日亜化学製青色半導体レーザーに変更して、その他は実施例1と同様に露光し、熱現像した。
2)評価項目と結果
実施例1と同様の評価を行った。結果を表3に示した。
その結果、本発明の試料は実施例1と同様に優れた性能を示した。
<Evaluation>
1) Exposure and thermal development The semiconductor laser of 800 nm to 820 nm in Example 1 was changed to a blue semiconductor laser manufactured by Nichia, and the others were exposed and thermally developed in the same manner as in Example 1.
2) Evaluation item and result Evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Table 3.
As a result, the sample of the present invention showed excellent performance as in Example 1.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

Figure 2007057708
Figure 2007057708

実施例4
1.ハロゲン化銀乳剤の調製
《ハロゲン化銀乳剤Aの調製》
蒸留水1421mLに1質量%ヨウ化カリウム溶液4.3mLを加え、さらに0.5モル/L硫酸を3.5mL、フタル化ゼラチン36.5g、2,2’−(エチレンジチオ)ジエタノールの5質量%メタノ−ル溶液160mLを添加した溶液を、ステンレス製反応壷中で撹拌しながら75℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え218mLに希釈した溶液Aとヨウ化カリウム36.6gを蒸留水にて366mLに希釈した溶液Bを、溶液Aは一定流量で16分かけて全量添加し、溶液BはpAgを10.2に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10mL添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8mL添加した。さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて508.2mLに希釈した溶液Cとヨウ化カリウム63.9gを蒸留水にて639mLに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で80分かけて全量添加し、溶液DはpAgを10.2に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
Example 4
1. Preparation of silver halide emulsion << Preparation of silver halide emulsion A >>
4.3 mL of 1% by mass potassium iodide solution was added to 1421 mL of distilled water, and 3.5 mL of 0.5 mol / L sulfuric acid, 36.5 g of phthalated gelatin, and 5 mass of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol. The solution to which 160 mL of methanol solution was added was kept in a stainless steel reaction vessel while maintaining the liquid temperature at 75 ° C., and the solution A diluted with 218 mL by adding distilled water to 22.22 g of silver nitrate and potassium iodide 36. Solution B, in which 6 g was diluted to 366 mL with distilled water, was added in a total amount over 16 minutes at a constant flow rate, and Solution B was added by the control double jet method while maintaining pAg at 10.2. Thereafter, 10 mL of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and further 10.8 mL of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate and diluted to 508.2 mL and a solution D in which 63.9 g of potassium iodide was diluted to 639 mL with distilled water were used. Solution C was added at a constant flow rate over 80 minutes. The entire amount was added, and Solution D was added by the control double jet method while maintaining pAg at 10.2. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so that it would be 1 × 10 −4 mole per mole of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.

ハロゲン化銀乳剤Aは、純ヨウ化銀乳剤であり、平均投影面積直径0.93μm、平均投影面積直径の変動係数17.7%、平均厚み0.057μm、平均アスペクト比16.3の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.42μmであった。
X線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の30%がγ相で存在していた。
The silver halide emulsion A is a pure silver iodide emulsion, and has a plate shape having an average projected area diameter of 0.93 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 17.7%, an average thickness of 0.057 μm, and an average aspect ratio of 16.3. The grains accounted for over 80% of the total projected area. The equivalent sphere diameter was 0.42 μm.
As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 30% of silver iodide was present in the γ phase.

《ハロゲン化銀乳剤Bの調製》
ハロゲン化銀乳剤Aで調製した平板状粒子AgI乳剤1モルを反応容器に入れた。pAgは38℃で測定して10.2であった。次いで、ダブルジェット添加により、0.5モル/LのKBr溶液及び0.5モル/LのAgNO3溶液を10mL/分で20分間にわたって添加し、実質的に10モル%臭化銀をAgIホスト乳剤上にエピタキシャル状に沈殿させた。操作中、pAgは10.2に維持した。さらに、0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調製し、撹拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg11.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
<< Preparation of silver halide emulsion B >>
One mole of tabular grain AgI emulsion prepared with silver halide emulsion A was placed in a reaction vessel. The pAg was 10.2 measured at 38 ° C. Then, by double jet addition, 0.5 mol / L KBr solution and 0.5 mol / L AgNO 3 solution were added at 10 mL / min over 20 minutes, and substantially 10 mol% silver bromide was added to the AgI host. Epitaxially precipitated on the emulsion. During operation, pAg was maintained at 10.2. Furthermore, the pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 11.0.

上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5mL加え、40分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-5モル加えて91分間熟成した。その後、N,N’−ジヒドロキシ−N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mLを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-4モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.0×10-3モルおよび1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して5.0×10-4モル添加して、ハロゲン化銀乳剤Bを作製した。 The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 mL of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 moles per 1 mole of silver. 9 × 10 −5 mol was added and aged for 91 minutes. Thereafter, 1.3 mL of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine was added, and after 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to the methanol solution per mol of silver. 4.8 × 10 −4 mol, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in a methanol solution with 5.0 × 10 −3 mol and 1- ( 3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added in an aqueous solution to 5.0 × 10 −4 mol per mol of silver to prepare silver halide emulsion B.

《ハロゲン化銀乳剤Cの調製》
ハロゲン化銀乳剤Aと同様にして2,2’−(エチレンジチオ)ジエタノールの5質量%メタノ−ル溶液の添加量、粒子形成時の温度、溶液Aの添加時間を適宜変更してハロゲン化銀乳剤Cを調製した。ハロゲン化銀乳剤Cは純ヨウ化銀乳剤であり、平均投影面積直径1.369μm、平均投影面積直径の変動係数19.7%、平均厚み0.130μm、平均アスペクト比11.1の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.71μmであった。
X線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の15%がγ相で存在していた。
<< Preparation of silver halide emulsion C >>
In the same manner as silver halide emulsion A, the addition amount of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol in a 5% by weight methanol solution, the temperature at the time of grain formation, and the addition time of solution A were appropriately changed to change the silver halide. Emulsion C was prepared. Silver halide Emulsion C is a pure silver iodide emulsion, tabular grains having an average projected area diameter of 1.369 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 19.7%, an average thickness of 0.130 μm, and an average aspect ratio of 11.1. Accounted for more than 80% of the total projected area. The equivalent sphere diameter was 0.71 μm.
As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 15% of silver iodide was present in the γ phase.

《ハロゲン化銀乳剤Dの調製》
ハロゲン化銀乳剤Cを用いたこと以外は、ハロゲン化銀乳剤Bとまったく同様にして、臭化銀エピタキシャル10モル%を含有するハロゲン化銀乳剤Dを調製した。
<< Preparation of silver halide emulsion D >>
Except for using the silver halide emulsion C, a silver halide emulsion D containing 10 mol% of silver bromide epitaxial was prepared in the same manner as the silver halide emulsion B.

《塗布液用混合乳剤4の調製》
ハロゲン化銀乳剤Bとハロゲン化銀乳剤Dを銀モル比として5:1になる量を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。さらに1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物1と2と3をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。また吸着基と還元基を有する化合物1と2をそれぞれハロゲン化銀1モルあたり8×10-3モルになる量を添加し塗布液用混合乳剤4を調製した。
<< Preparation of Mixed Emulsion 4 for Coating Solution >>
Dissolve silver halide emulsion B and silver halide emulsion D in a silver molar ratio of 5: 1, and add 7 × 10 −3 mol of benzothiazolium iodide per mol of silver in a 1% by mass aqueous solution. did. Further, the amount of the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is 2 × 10 −3 mol per mol of silver halide, each of compounds 1, 2 and 3 capable of emitting one electron or more. Added. Further, Compound 1 and 2 having an adsorbing group and a reducing group were added in an amount of 8 × 10 −3 mol per mol of silver halide to prepare mixed emulsion 4 for coating solution.

2.塗布試料の作製
実施例3の塗布液用混合乳剤3の代りに塗布液用混合乳剤4を用いて、還元剤とカプラーを表4に示す種類と添加量に変更して、その他は実施例3と同様にして、試料の31〜37を作製した。
2. Preparation of Coating Sample Using the mixed emulsion 4 for coating liquid instead of the mixed emulsion 3 for coating liquid in Example 3, the reducing agent and coupler were changed to the types and addition amounts shown in Table 4, and the others were in Example 3. In the same manner, samples 31 to 37 were prepared.

3.評価
富士フィルム(株)製のXレイレギュラースクリーンHI−SCREEN−B3(蛍光体としてCaWO4を使用。発光ピーク波長425nm)を2枚使用して、その間に試料を挟み、画像形成用組立体を作製した。
この組立体に、0.05秒のX線露光を与え、X線センシトメトリーを行った。使用したX線装置は、東芝(株)製の商品名DRX−3724HDであり、タングステンターゲットを用いた。三相全波整流方式のパルス発生器で80kVpの電圧をかけ、人体とほぼ等価な吸収を持つ水7cmのフィルタを通したX線を光源とした。距離法にてX線露光量を変化させ、logE=0.15の幅でステップ露光を行なった。露光後に、下記の熱現像処理条件で熱現像処理した。得られた画像の評価を濃度計により行った。
3. Evaluation Using an X-ray regular screen HI-SCREEN-B3 (using CaWO 4 as a phosphor, emission peak wavelength 425 nm) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. Produced.
This assembly was subjected to X-ray exposure for 0.05 seconds, and X-ray sensitometry was performed. The X-ray apparatus used was a trade name DRX-3724HD manufactured by Toshiba Corporation, and a tungsten target was used. A voltage of 80 kVp was applied with a three-phase full-wave rectification type pulse generator, and X-rays passed through a 7 cm water filter having absorption almost equivalent to that of the human body were used as a light source. The X-ray exposure was changed by the distance method, and step exposure was performed with a width of logE = 0.15. After the exposure, heat development was performed under the following heat development conditions. The obtained image was evaluated with a densitometer.

富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPLの熱現像部を改造し、両面から加熱できるようにした熱現像機を製作した。また、熱現像部の搬送ローラーをヒートドラムに変更することによりフィルムシートの搬送が可能になるように改造した。4枚のパネルヒーターを127℃−134℃−136℃−136℃に設定し、ヒートドラムの温度は136℃に設定した。熱現像時間は、搬送速度を調整して熱現像時間が合計52秒になるように設定した。
得られた画像をMacbeth濃度計で濃度測定し露光量の対数に対する濃度の特性曲線を作製した。
かぶり:非画像部の濃度をマクベス濃度計により測定した。
感度:かぶり+1.0の黒化濃度を与える露光量の逆数で感度を表し、試料No.1の感度を100としてそれに対する相対値で示した。値が大きいほど感度が高いことを示す。
得られた結果を表5に示した。
その結果、本発明の試料は、高感度で高Dmaxであった。特に2つのカプラーを用いることにより、良好な色調の黒白画像が得られた。
The heat development section of the Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL was modified to produce a heat development machine that can be heated from both sides. In addition, the film was remodeled so that the film sheet could be conveyed by changing the conveyance roller of the heat developing unit to a heat drum. Four panel heaters were set to 127 ° C-134 ° C-136 ° C-136 ° C, and the temperature of the heat drum was set to 136 ° C. The heat development time was set so that the heat development time was 52 seconds in total by adjusting the conveyance speed.
The obtained image was subjected to density measurement with a Macbeth densitometer to produce a density characteristic curve with respect to the logarithm of the exposure amount.
Fog: The density of the non-image area was measured with a Macbeth densitometer.
Sensitivity: Sensitivity is represented by the reciprocal of the exposure amount giving a blackening density of fog + 1.0. The sensitivity of 1 is taken as 100, and the relative value is shown. A larger value indicates higher sensitivity.
The obtained results are shown in Table 5.
As a result, the sample of the present invention had high sensitivity and high Dmax. In particular, by using two couplers, a black and white image having a good color tone was obtained.

Figure 2007057708
Figure 2007057708

Figure 2007057708
Figure 2007057708

Claims (12)

支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオンのための還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料であって、前記バインダーとしてポリビニルアセタールを含有し、前記還元剤として下記一般式(1)で表される化合物を含有し、前記還元剤の酸化生成物と反応して色素を形成し得るカプラーを含有することを特徴とする熱現像感光材料:
Figure 2007057708
(一般式(1)において、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、R5はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)。
A photothermographic material having an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder on at least one surface of a support, It contains polyvinyl acetal as a binder, a compound represented by the following general formula (1) as the reducing agent, and a coupler capable of forming a dye by reacting with an oxidation product of the reducing agent. Photothermographic material:
Figure 2007057708
(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a substituent which can be substituted on a benzene ring, and R 5 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. To express.).
前記ポリビニルアセタールが下記一般式(VA)で表される化合物であることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料:
Figure 2007057708
(式中、Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、またはアリール基を表す。Xは10モル%〜50モル%、Yは0モル%〜10モル%、Zは50モル%〜90モル%である。)。
The photothermographic material according to claim 1, wherein the polyvinyl acetal is a compound represented by the following general formula (VA):
Figure 2007057708
(In the formula, R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or an aryl group. X is 10 mol% to 50 mol%, Y is 0 mol% to 10 mol%, Z is 50 mol% to 90 mol%).
前記一般式(VA)において、Rがブチル基であることを特徴とする請求項2に記載の熱現像感光材料。   3. The photothermographic material according to claim 2, wherein R in the general formula (VA) is a butyl group. 前記カプラーを少なくとも2種含有することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   4. The photothermographic material according to claim 1, further comprising at least two types of the couplers. 前記少なくとも2種のカプラーより形成される色像の色相が互いに補色関係にあることを特徴とする請求項4に記載の熱現像感光材料。   5. The photothermographic material according to claim 4, wherein hues of color images formed from the at least two types of couplers have a complementary color relationship with each other. 前記カプラーが下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(M−1)、(M−2)、(M−3)、(Y−1)、(Y−2)および(Y−3)よりなる群より選ばれる化合物であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の熱現像感光材料:
Figure 2007057708
(式中、X1は水素原子または離脱基を表し、Y1およびY2は電子求引性の置換基を表し、R1はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。);
Figure 2007057708
(式中、X2は水素原子または離脱基を表し、R2はアシルアミノ基、ウレイド基またはウレタン基を表し、R3は水素原子、アルキル基またはアシルアミノ基を表し、R4は水素原子、または置換基を表す。R3とR4が互いに連結して環を形成してもよい。);
Figure 2007057708
(式中、X3は水素原子または離脱基を表し、R5はカルバモイル基またはスルファモイル基を表し、R6は水素原子または置換基を表す。);
Figure 2007057708
(式中、X4は水素原子または離脱基を表し、R7はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、R8は置換基を表す。);
Figure 2007057708
(式中、X5は水素原子または離脱基を表し、R9はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、R10は置換基を表す。);
Figure 2007057708
(式中、X6は水素原子または離脱基を表し、R11はアルキル基、アリール基、アシルアミノ基またはアニリノ基を表し、R10はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。);
Figure 2007057708
(式中、X7は水素原子または離脱基を表し、R13はアルキル基、アリール基、インドレニル基を表し、R14はアリール基またはヘテロ環基を表す。);
Figure 2007057708
(式中、X8は水素原子または離脱基を表し、Zは5員ないし7員の環を形成するのに必要な2価の基を表し、R15はアリール基またはヘテロ環基を表す。);
Figure 2007057708
(式中、X9は水素原子または離脱基を表し、R16、R17およびR18はそれぞれ置換基を表し、nは0ないし4の、mは0ないし5のいずれかの整数を表す。nまたはmが2以上のとき、複数のR16およびR17はそれぞれ同一の基であってもよいし、別々の基であってもよい。)。
The coupler is represented by the following general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (M-1), (M-2), (M-3), (Y-1), (Y The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is a compound selected from the group consisting of -2) and (Y-3).
Figure 2007057708
(Wherein X 1 represents a hydrogen atom or a leaving group, Y 1 and Y 2 represent an electron-withdrawing substituent, and R 1 represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group);
Figure 2007057708
(Wherein X 2 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 2 represents an acylamino group, a ureido group or a urethane group, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, R 4 represents a hydrogen atom, or Represents a substituent, R 3 and R 4 may be linked to each other to form a ring);
Figure 2007057708
(Wherein X 3 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 5 represents a carbamoyl group or a sulfamoyl group, and R 6 represents a hydrogen atom or a substituent);
Figure 2007057708
(Wherein X 4 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 7 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 8 represents a substituent);
Figure 2007057708
(Wherein X 5 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 9 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 10 represents a substituent);
Figure 2007057708
(Wherein X 6 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 11 represents an alkyl group, an aryl group, an acylamino group or an anilino group, and R 10 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group);
Figure 2007057708
(Wherein X 7 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 13 represents an alkyl group, an aryl group or an indoleenyl group, and R 14 represents an aryl group or a heterocyclic group);
Figure 2007057708
(Wherein X 8 represents a hydrogen atom or a leaving group, Z represents a divalent group necessary to form a 5- to 7-membered ring, and R 15 represents an aryl group or a heterocyclic group. );
Figure 2007057708
(In the formula, X 9 represents a hydrogen atom or a leaving group, R 16 , R 17 and R 18 each represent a substituent, n represents an integer of 0 to 4, and m represents an integer of 0 to 5. When n or m is 2 or more, the plurality of R 16 and R 17 may be the same group or different groups.
塗布銀量が0.3g/m2以上1.3g/m2以下であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver coating amount is 0.3 g / m 2 or more and 1.3 g / m 2 or less. メチルエチルケトンを0.1mg/m2以上150mg/m2以下含有することを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to any one of claims 1 to 7, characterized in that it contains methyl ethyl ketone 0.1 mg / m 2 or more 150 mg / m 2 or less. 前記感光性ハロゲン化銀の平均粒子サイズが0.01μm以上、0.2μm以下であることを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   9. The photothermographic material according to claim 1, wherein an average grain size of the photosensitive silver halide is 0.01 [mu] m or more and 0.2 [mu] m or less. 前記感光性ハロゲン化銀の全投影面積の50%以上が平均アスペクト比が2以上の平板状粒子であって、平均粒子サイズが0.3μm以上、8.0μm以下であることを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   50% or more of the total projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an average aspect ratio of 2 or more, and the average grain size is 0.3 μm or more and 8.0 μm or less. The photothermographic material according to any one of claims 1 to 8. 前記感光性ハロゲン化銀の沃化銀含量が35%以下であることを特徴とする請求項9または請求項10に記載の熱現像感光材料。   11. The photothermographic material according to claim 9, wherein the silver iodide content of the photosensitive silver halide is 35% or less. 前記感光性ハロゲン化銀の沃化銀含量が40%以上であることを特徴とする請求項9または請求項10に記載の熱現像感光材料。   11. The photothermographic material according to claim 9, wherein the silver iodide content of the photosensitive silver halide is 40% or more.
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