JP2006235396A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

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Hiroyuki Suzuki
博幸 鈴木
Hiroyuki Mifune
博幸 御舩
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material having high sensitivity, high image density and excellent image storage stability. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material contains a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on a surface of a support, wherein the heat developable photosensitive material contains a compound represented by the formula (1): E<SP>1</SP>-Ch-E<SP>2</SP>wherein Ch represents S, Se or Te and E<SP>1</SP>and E<SP>2</SP>are each independently selected from the groups represented by formulae (2)-(5). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は熱現像感光材料に関するものである。特に、高感度で、画像濃度が高く、かつ画像保存安定性が改良された熱現像感光材料に関するものである。   The present invention relates to a photothermographic material. In particular, the present invention relates to a photothermographic material having high sensitivity, high image density, and improved image storage stability.

近年、医療分野において環境保全、省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー・イメージセッター又はレーザー・イメージャーにより効率的に露光させることができ、高解像度及び鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することができる医療診断用及び写真技術用途の光感光性熱現像写真材料に関する技術が必要とされている。これら光感光性熱現像写真材料では、溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給することができる。   In recent years, in the medical field, reduction of waste processing liquid has been strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. Therefore, the photosensitive heat for medical diagnosis and photographic technology that can be efficiently exposed by a laser image setter or a laser imager and can form a clear black image having high resolution and sharpness. There is a need for techniques relating to developed photographic materials. These photosensitive photothermographic materials can eliminate the use of solution processing chemicals and supply customers with a simpler heat development processing system that does not damage the environment.

一般画像形成材料の分野でも同様の要求はあるが、医療用画像は微細な描写が要求されるため鮮鋭性、粒状性に優れる高画質が必要であるうえ、診断のし易さの観点から冷黒調の画像が好まれる特徴がある。現在、インクジェットプリンター、電子写真など顔料、染料を利用した各種ハードコピーシステムが一般画像形成システムとして流通しているが、医療用画像の出力システムとしては満足できるものがない。   Although there is a similar requirement in the field of general image forming materials, medical images are required to have high image quality with excellent sharpness and graininess because they are required to be finely drawn, and are cooled from the viewpoint of ease of diagnosis. There is a feature that a black tone image is preferred. At present, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems. However, there is no satisfactory output system for medical images.

一方、有機銀塩を利用した熱画像形成システムが、多くの文献に記載されている(例えば、非特許文献1、特許文献1,2参照。)。特に熱現像感光材料は、一般に触媒活性量の光触媒(例、ハロゲン化銀)、還元剤、還元可能な銀塩(例、有機銀塩)、必要により銀の色調を制御する色調剤を、バインダーのマトリックス中に分散した画像形成層を有している。熱現像感光材料は、画像露光後、高温(例えば80℃以上)に加熱し、ハロゲン化銀あるいは還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により、黒色の銀画像を形成する。酸化還元反応は、露光で発生したハロゲン化銀の潜像の触媒作用により促進される。そのため、黒色の銀画像は、露光領域に形成される。そして熱現像感光材料による医療用画像形成システムとして富士メディカルドライイメージャーFM−DP Lが発売された。   On the other hand, thermal image forming systems using organic silver salts are described in many documents (for example, see Non-Patent Document 1, Patent Documents 1 and 2). In particular, a photothermographic material generally contains a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt), and a color toning agent that controls the color tone of silver if necessary. And an image forming layer dispersed in the matrix. The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and is blackened by an oxidation-reduction reaction between silver halide or a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form a silver image. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposure area. Fuji Medical Dry Imager FM-DPL was released as a medical image forming system using a photothermographic material.

一方、画像情報がデジタル化され、保存され、必要によっては画像処理され、ネットワークで送信され必要な場所で熱現像感光材料にレーザー出力される画像形成システムが広がってきている。画像形成材料としては、熱現像感光材料が最も好ましく用いられている。レーザー光源として、アルゴン、ヘリウム−ネオン、ヘリウム−カドミウム等のコヒーレント光が用いられている。最近では半導体レーザーの普及が著しい。画像情報は、1本あるいは複数の本数のレーザー光によってスキャニング露光される。このようなシステムが広がるにつれて画像作製速度の高速化が求められてきた。高速化のためにはレーザー出力を高める必要があるが、装置の大型化、高価になってくる問題があり、また高電圧にするとレーザー寿命が短くなるなどの問題がある。熱現像感光材料の高感度化も求められたが、従来はかぶりの増大の問題があり限界があった。さらに、感光性ハロゲン化銀が熱現像後も熱現像感光材料中の残存するため、高感度化すると、熱現像後に画像が室内光などに当たって徐々に黒化してくる問題(本願では「プリントアウトかぶり」と称する)が悪化してくる問題があった。このため、該感光性ハロゲン化銀を減量する検討がなされてきた。しかし、感度と最高濃度を保ちながら、減量することは困難であった。感光性ハロゲン化銀粒子の化学増感法として、一般に硫黄増感法、セレン増感法若しくはテルル増感法が知られている。熱現像感光材料の化学増感剤として、特許文献3の段落番号0030に記載の化合物、および特特許文献4に記載の一般式(II),(III),(IV)で示されるテルル化合物が知られていた。
しかしながら、これらをもってしても未だ感度は十分とはいえず、さらなる高感化が望まれた。
D.H.クロスターベール著「熱によって処理される銀システム(Thermally Processed Silver Systems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette第8版、スタージ(Sturge)、V.ウオールワース(Walworth)、A.シェップ(Shepp)編集、第8章、第279頁、1989年) 米国特許第3152904号明細書 米国特許第3457075号明細書 特開平11−65021号明細書 特開平5−313284号明細書
On the other hand, an image forming system in which image information is digitized, stored, image processed as necessary, transmitted via a network, and laser output to a photothermographic material at a necessary place has become widespread. As the image forming material, a photothermographic material is most preferably used. As a laser light source, coherent light such as argon, helium-neon, helium-cadmium is used. Recently, the spread of semiconductor lasers is remarkable. The image information is subjected to scanning exposure with one or a plurality of laser beams. As such a system spreads, an increase in image production speed has been demanded. In order to increase the speed, it is necessary to increase the laser output, but there are problems that the apparatus becomes large and expensive, and that the laser life is shortened when the voltage is increased. Although high sensitivity of the photothermographic material has been demanded, there has been a limit in the past due to the problem of increased fog. Furthermore, since the photosensitive silver halide remains in the photothermographic material even after heat development, if the sensitivity is increased, the image is gradually blackened by exposure to room light after heat development (in the present application, “print-out fogging”). ”) Is aggravated. For this reason, studies have been made to reduce the amount of the photosensitive silver halide. However, it was difficult to reduce the weight while maintaining sensitivity and maximum density. As a chemical sensitization method for photosensitive silver halide grains, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method or a tellurium sensitization method is generally known. As chemical sensitizers for photothermographic materials, compounds described in paragraph No. 0030 of Patent Document 3 and tellurium compounds represented by the general formulas (II), (III), and (IV) described in Patent Document 4 are provided. It was known.
However, even with these, the sensitivity is still not sufficient, and further enhancement of sensitivity has been desired.
D. H. “Thermal Processed Silver Systems” (Imaging Processes and Materials), 8th edition, Sturge, V. Walth, by Klostervale, “Thermally Processed Silver Systems”. ), A. Shepp, Chapter 8, 279, 1989) US Pat. No. 3,152,904 US Pat. No. 3,457,075 JP-A-11-65021 JP-A-5-313284

本発明の目的は、従来技術の上記問題点を解決することを課題としている。より具体的には、本発明が解決しようとする課題は、高感度で、かぶりが低く、最高濃度が高く、熱現像処理後もかぶり悪化の小さい熱現像感光材料を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art. More specifically, the problem to be solved by the present invention is to provide a photothermographic material having high sensitivity, low fog, high maximum density, and small fog deterioration after heat development.

本発明の目的は、以下の熱現像感光材料によって達成された。
<1> 支持体の少なくとも一方の面上に、感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤、及びバインダーを含有する熱現像感光材料であって、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする熱現像感光材料:
一般式(1) E1−Ch−E2
(式(1)において、Chは硫黄原子、セレン原子、もしくはテルル原子を表す。E1およびE2は、それぞれ独立に、下記一般式(2)〜一般式(5)で表される基より選ばれ、それぞれ同じでも異なっていてもよい。但し、E1およびE2が同時に式(2)で表される基から選ばれることはない。);
The object of the present invention has been achieved by the following photothermographic materials.
<1> A photothermographic material containing photosensitive silver halide, non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support, represented by the following general formula (1): A photothermographic material comprising the compound:
Formula (1) E 1 -Ch-E 2
(In the formula (1), Ch represents a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. E 1 and E 2 are independently from the groups represented by the following general formulas (2) to (5)). And each may be the same or different, provided that E 1 and E 2 are not simultaneously selected from the group represented by the formula (2).);

Figure 2006235396
Figure 2006235396

(一般式(2)において、Zはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、−OR1もしくは−NR23を表し、R1〜R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表す。一般式(3)において、Lは2価の連結基を表し、EWGは電子求引性基を表す。一般式(4)において、A1は酸素原子、硫黄原子もしくは−N(R7)−を表し、R4〜R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表す。一般式(5)において、A2は酸素原子、硫黄原子もしくは−N(R11)−を表し、R8は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基もしくはアシル基を表し、R9〜R11は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表す。Xはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、nは0から4の整数を表す。nが2以上である場合はXが同じでも異なっていても良い。)。
<2> 前記感光性ハロゲン化銀が、前記一般式(1)で表される化合物により化学増感されてなることを特徴とする、<1>に記載の熱現像感光材料。
<3> 前記E1およびE2のうち少なくとも一方が、前記一般式(4)または(5)より選ばれる基である<1>又は<2>に記載の熱現像感光材料。
<4> 前記E1およびE2のうち少なくとも一方が前記一般式(5)より選ばれる基である<3>に記載の熱現像感光材料。
<5> 前記Chがセレン原子である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<6> 前記Chがテルル原子である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<7> 前記感光性ハロゲン化銀が金増感されている<1>〜<6>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<8> 水溶性チオシアン酸塩をハロゲン化銀1モル当たり1×10-3モル以上で8×10-1モル以下含有することを特徴とする<1>〜<7>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<9> 前記感光性ハロゲン化銀の臭化銀含有率が70モル%以上である<1>〜<8>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<10> 前記感光性ハロゲン化銀の平均粒子サイズ0.01μm以上0.2μm以下である<9>に記載の熱現像感光材料。
<11> 前記感光性ハロゲン化銀の全投影面積の50%以上がアスペクト比が2以上の平板状粒子であって、平均粒子サイズ0.3μm以上8.0μm以下であるある<1>〜<9>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
(In General Formula (2), Z represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, —OR 1 or —NR 2 R 3 , and R 1 to R 3 represent an alkyl group, an alkenyl group, An alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, in formula (3), L represents a divalent linking group, EWG represents an electron withdrawing group, and in formula (4), A 1 represents oxygen Represents an atom, a sulfur atom or —N (R 7 ) —, and R 4 to R 7 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group. 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 11 ) —, R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an acyl group, and R 9 to R 11. Is a hydrogen atom, an alkyl Represents a group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, X represents a substituent which can be substituted on the benzene ring, n represents an integer of 0 to 4. When n is 2 or more, X is Same or different.)
<2> The photothermographic material according to <1>, wherein the photosensitive silver halide is chemically sensitized with the compound represented by the general formula (1).
<3> The photothermographic material according to <1> or <2>, wherein at least one of E 1 and E 2 is a group selected from the general formula (4) or (5).
<4> The photothermographic material according to <3>, wherein at least one of E 1 and E 2 is a group selected from the general formula (5).
<5> The photothermographic material according to any one of <1> to <4>, wherein Ch is a selenium atom.
<6> The photothermographic material according to any one of <1> to <4>, wherein Ch is a tellurium atom.
<7> The photothermographic material according to any one of <1> to <6>, wherein the photosensitive silver halide is gold sensitized.
<8> The water-soluble thiocyanate is contained in an amount of 1 × 10 −3 mol or more and 8 × 10 −1 mol or less per mol of silver halide, according to any one of <1> to <7> The photothermographic material according to the description.
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <8>, wherein the silver bromide content of the photosensitive silver halide is 70 mol% or more.
<10> The photothermographic material according to <9>, wherein the photosensitive silver halide has an average grain size of 0.01 μm to 0.2 μm.
<11> 50% or more of the total projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an aspect ratio of 2 or more, and the average grain size is 0.3 μm or more and 8.0 μm or less <1> to <1. 9. The photothermographic material according to any one of 9>.

本発明によれば高感度でかぶりが低く、最高濃度が高く、画像保存中もかぶり増加の少ない熱現像感光材料を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material having high sensitivity, low fog, high maximum density, and little fog increase during image storage.

以下に本発明を詳細に説明する。
(一般式(1)で表される化合物)
本発明において化学増感剤として使用される一般式(1)で表されるカルコゲン化合物について詳細に説明する。
The present invention is described in detail below.
(Compound represented by the general formula (1))
The chalcogen compound represented by the general formula (1) used as a chemical sensitizer in the present invention will be described in detail.

一般式(1) E1−Ch−E2
式(1)においてChは硫黄原子、セレン原子もしくはテルル原子を表すが、本発明においてはセレン原子もしくはテルル原子が好ましく、セレン原子がより好ましい。
Formula (1) E 1 -Ch-E 2
In the formula (1), Ch represents a sulfur atom, a selenium atom or a tellurium atom. In the present invention, a selenium atom or a tellurium atom is preferable, and a selenium atom is more preferable.

一般式(1)において、E1およびE2は一般式(2)〜一般式(5)で表される基より選ばれる。ただし、E1およびE2が共に一般式(2)で表される基であることはない。 In the general formula (1), E 1 and E 2 are selected from groups represented by the general formula (2) to the general formula (5). However, E 1 and E 2 are not both groups represented by the general formula (2).

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(2)において、Zはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、OR1もしくはNR23を表し、R1〜R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表す。ここで言うアルキル基とは直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無置換の直鎖または分岐のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、2−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、t−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,5ジメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒドロキシプロピル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、ソディウムスルホエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、ブトキシプロピル基、エトキシエトキシエチル基、n−ヘキシルオキシプロピル基等)、炭素数3〜18の置換もしくは無置換の環状アルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、アダマンチル基、シクロドデシル基等)を表す。また、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、(つまり炭素数5から30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル)、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。R1〜R3で表されるアルケニル基とは、炭素数2〜16のアルケニル基(例えば、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基等)を表し、R1〜R3で表されるアルキニル基とは炭素数2〜10のアルキニル基(例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基等)を表す。 In the general formula (2), Z represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, OR 1 or NR 2 R 3 , and R 1 to R 3 represent an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, Represents an aryl group or a heterocyclic group. The alkyl group referred to here represents a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted alkyl group. Preferably, it is a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, t-butyl group, 2-pentyl group). N-hexyl group, n-octyl group, t-octyl group, 2-ethylhexyl group, 1,5 dimethylhexyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-tetradecyl group, n-hexadecyl group, hydroxyethyl Group, hydroxypropyl group, 2,3-dihydroxypropyl group, carboxymethyl group, carboxyethyl group, sodium sulfoethyl group, diethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, butoxypropyl group, ethoxyethoxyethyl group, n-hexyloxypropyl group Etc.), a substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms (eg If cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, adamantyl group, a cyclododecyl group). Further, it is a substituted or unsubstituted bicycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms (that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms, for example, bicyclo [1,2,2 Heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] octane-3-yl), and a tricyclo structure having more ring structures. The alkenyl group represented by R 1 to R 3 represents an alkenyl group having 2 to 16 carbon atoms (for example, an allyl group, a 2-butenyl group, a 3-pentenyl group, etc.), and represented by R 1 to R 3. The alkynyl group represents an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms (for example, propargyl group, 3-pentynyl group, etc.).

1〜R3で表されるアリール基とは、好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、o−ヘキサデカノイルアミノフェニルである。R1〜R3で表されるヘテロ環基とは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも一つを含む5員〜7員環の、置換もしくは無置換の、飽和もしくは不飽和のヘテロ環である。これらは単環であっても良いし、更に他のアリール環もしくはヘテロ環と共に縮合環を形成しても良い。ヘテロ環基として好ましくは5〜6員のものであり、例えばピロリル基、ピロリジニル基、ピリジル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、インドリル基、インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、フリル基、ピラニル基、クロメニル基、チエニル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、モルホリニル基などが挙げられる。 The aryl group represented by R 1 to R 3 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, such as phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl. It is. The heterocyclic group represented by R 1 to R 3 is a 5- to 7-membered, substituted or unsubstituted, saturated or unsaturated hetero ring containing at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. It is a ring. These may be monocyclic or may form a condensed ring together with another aryl ring or hetero ring. The heterocyclic group is preferably a 5- to 6-membered one, for example, pyrrolyl group, pyrrolidinyl group, pyridyl group, piperidyl group, piperazinyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, triazinyl group, triazolyl group, tetrazolyl group Group, quinolyl group, isoquinolyl group, indolyl group, indazolyl group, benzimidazolyl group, furyl group, pyranyl group, chromenyl group, thienyl group, oxazolyl group, oxadiazolyl group, thiazolyl group, thiadiazolyl group, benzoxazolyl group, benzothiazolyl group, Examples thereof include a morpholino group and a morpholinyl group.

1〜R3は置換基を有していてもよく、置換基の例としては例えばハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、N−ヒドロキシカルバモイル基、N−アシルカルバモイル基、N−スルホニルカルバモイル基、N−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、N−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基(及びその塩を含む)、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、シリルオキシ基、ニトロ基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、N−ヒドロキシウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、N−(アルキルまたはアリール)スルホニルウレイド基、N−アシルウレイド基、N−アシルスルファモイルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、イソシアノ基、イミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)ジチオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基(及びその塩を含む)、スルファモイル基、N−アシルスルファモイル基、N−スルホニルスルファモイル基(及びその塩を含む)、シリル基などが挙げられる。なおここで塩とはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンやアンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンとの塩を意味する。 R 1 to R 3 may have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and an aryl group. , Heterocyclic group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl group, N-hydroxycarbamoyl group, N-acylcarbamoyl group, N-sulfonylcarbamoyl group, N-carbamoylcarbamoyl group, Thiocarbamoyl group, N-sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, carboxy group (including its salts), oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, formyl group, hydroxy group, alkoxy group (ethyleneoxy group or propyleneoxy group) Including groups containing repeating units), Reeloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, silyloxy group, nitro group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino Group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, N-hydroxyureido group, imide group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group , Ammonio group, oxamoylamino group, N- (alkyl or aryl) sulfonylureido group, N-acylureido group, N-acylsulfamoylamino group, hydroxyamino group, quaternized nitrogen atom Heterocyclic group (for example, pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), isocyano group, imino group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) dithio group, (alkyl Or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group (including salts thereof), sulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group, N-sulfonylsulfamoyl group (including salts thereof), A silyl group etc. are mentioned. Here, the salt means a salt with a cation such as alkali metal, alkaline earth metal or heavy metal, or an organic cation such as ammonium ion or phosphonium ion.

一般式(2)において、本発明ではZはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基である場合が好ましく、アルキル基もしくはアリール基である場合がより好ましい。   In the general formula (2), in the present invention, Z is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and more preferably an alkyl group or an aryl group.

一般式(3)において、Lで表される2価の連結基は、炭素数2〜20のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基を表し、特に炭素数2〜10の直鎖、分岐または環状のアルキレン基(例えばエチレン、プロピレン、シクロペンチレン、シクロへキシレン)、アルケニレン基(例えばビニレン)、アルキニレン基(例えばプロピニレン)を表す。好ましいLとしては一般式(L1)、一般式(L2)に示すものが挙げられる。   In the general formula (3), the divalent linking group represented by L represents an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, an alkenylene group or an alkynylene group, and particularly a linear, branched or cyclic group having 2 to 10 carbon atoms. An alkylene group (for example, ethylene, propylene, cyclopentylene, cyclohexylene), an alkenylene group (for example, vinylene), and an alkynylene group (for example, propynylene) are represented. Preferred examples of L include those represented by general formula (L1) and general formula (L2).

Figure 2006235396
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一般式(L1)、一般式(L2)において、G1、G2、G3、G4は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基もしくは炭素数1〜10のヘテロ環基を表し、G1、G2、G3は連結して環を形成しても良い。G1、G2、G3、G4として好ましくは水素原子、アルキル基もしくはアリール基であり、水素原子もしくはアルキル基がより好ましい。 In General Formula (L1) and General Formula (L2), G 1 , G 2 , G 3 , and G 4 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. Represents 10 heterocyclic groups, and G 1 , G 2 , and G 3 may be linked to form a ring. G 1 , G 2 , G 3 and G 4 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

一般式(3)において、EWGは電子求引性基を表す。ここでいう電子求引性基とは、ハメットの置換基定数σp値が正の値である置換基であり、好ましくはσp値が0.2以上であり、上限としては1.0以下の置換基を表す。σp値が0.2以上の電子求引性基の具体例としてはアシル基、ホルミル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ホスホリル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、カルボキシ基(またはその塩)、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、アシルアミノ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σp値が0.2以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基などが挙げられる。本発明において、EWGは好ましくはアシル基、ホルミル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、チオカルボニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、カルボキシ基(またはその塩)、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基、σp値が0.2以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、またはハロゲン原子であり、より好ましくはアシル基、ホルミル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルボキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基であり、更に好ましくはアシル基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基である。   In the general formula (3), EWG represents an electron withdrawing group. The electron withdrawing group here is a substituent having a positive Hammett's substituent constant σp value, preferably a σp value of 0.2 or more, and an upper limit of 1.0 or less. Represents a group. Specific examples of the electron withdrawing group having a σp value of 0.2 or more include acyl group, formyl group, acyloxy group, acylthio group, carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, nitro group, dialkylphospho Group, diarylphosphono group, dialkylphosphinyl group, diarylphosphinyl group, phosphoryl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, acylthio group, sulfamoyl group, thiocyanate Group, thiocarbonyl group, imino group, imino group substituted with N atom, carboxy group (or salt thereof), alkyl group substituted with at least 2 halogen atoms, substituted with at least 2 halogen atoms An alkoxy group, at least An aryloxy group substituted with two or more halogen atoms, an acylamino group, an alkylamino group substituted with at least two halogen atoms, an alkylthio group substituted with at least two halogen atoms, or a σp value of 0 And aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, azo groups, and selenocyanate groups substituted with two or more other electron-withdrawing groups. In the present invention, EWG is preferably an acyl group, formyl group, carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, nitro group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, dialkylphosphinyl group, diarylphosphine group. Finyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, thiocarbonyl group, imino group, imino group substituted with N atom, phosphoryl group, carboxy group (or salt thereof), at least An alkyl group substituted with two or more halogen atoms, an aryl group substituted with another electron withdrawing group having a σp value of 0.2 or more, a heterocyclic group, or a halogen atom, more preferably an acyl group , Formyl group, carbamoyl group, alkoxy group Bonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, nitro group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carboxy group, alkyl group substituted with at least two halogen atoms, more preferably acyl group, formyl group, A cyano group, a nitro group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an alkyl group substituted with at least two halogen atoms.

一般式(4)においてR4〜R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表すが、ここで言うアルキル基とは一般式(2)におけるR1〜R3が表すアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同様である。同様に、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基についてもそれぞれR1〜R3が表すアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基と同義であり、好ましい範囲も同様である。 In the general formula (4) R 4 to R 7 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, R 1 ~ in the general formula (2) is an alkyl group referred to herein R 3 has the same meaning as the alkyl group represented by, and preferred ranges are also the same. Similarly, the alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group are the same as the alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group represented by R 1 to R 3, respectively, and the preferred ranges are also the same.

本発明において、R4はアルキル基が好ましい。R5およびR6は水素原子、アルキル基もしくはアリール基が好ましく、水素原子もしくはアルキル基がより好ましく、一方が水素原子で他方が水素原子もしくはアルキル基である場合が最も好ましい。R7は水素原子、アルキル基もしくはアリール基が好ましく、水素原子もしくはアルキル基がより好ましく、アルキル基が最も好ましい。 In the present invention, R 4 is preferably an alkyl group. R 5 and R 6 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and most preferably one is a hydrogen atom and the other is a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and most preferably an alkyl group.

一般式(4)においてA1は酸素原子、硫黄原子もしくはNR7を表すが、本発明においては酸素原子もしくは硫黄原子である場合が好ましく、酸素原子である場合が最も好ましい。 In the general formula (4), A 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom or NR 7. In the present invention, A 1 is preferably an oxygen atom or a sulfur atom, and most preferably an oxygen atom.

次に一般式(5)について説明する。
一般式(5)においてR8〜R11で表されるアルキル基とは一般式(2)におけるR1〜R3が表すアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同様である。同様に、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基についてもそれぞれR1〜R3が表すアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基と同義であり、好ましい範囲も同様である。R8で表されるアシル基はアセチル基、ホルミル基、ベンゾイル基、ピバロイル基、カプロイル基、n−ノナノイル基などが挙げられる。
Next, general formula (5) will be described.
In general formula (5), the alkyl group represented by R 8 to R 11 has the same meaning as the alkyl group represented by R 1 to R 3 in general formula (2), and the preferred range is also the same. Similarly, the alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group are the same as the alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group represented by R 1 to R 3, respectively, and the preferred ranges are also the same. Examples of the acyl group represented by R 8 include an acetyl group, a formyl group, a benzoyl group, a pivaloyl group, a caproyl group, and an n-nonanoyl group.

一般式(5)においてXは置換基を表すがその例としては先に一般式(2)においてR1〜R3が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。 In the general formula (5), X represents a substituent, and examples thereof include the same substituents that R 1 to R 3 may have in the general formula (2).

本発明において、Xとして好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アシルカルバモイル基、N−スルホニルカルバモイル基、N−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、N−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基(及びその塩を含む)、シアノ基、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、ニトロ基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基(及びその塩を含む)、スルファモイル基などであり、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、カルボキシ基(及びその塩を含む)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホ基(及びその塩を含む)などであり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、カルボキシ基(及びその塩を含む)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、ウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ基(及びその塩を含む)などである。   In the present invention, X is preferably a halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-acylcarbamoyl group, N-sulfonylcarbamoyl group, N- Carbamoylcarbamoyl group, thiocarbamoyl group, N-sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, carboxy group (including its salt), cyano group, formyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, Acyloxy group, nitro group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, (alkyl or aryl) Sulfo Group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group (including salts thereof), sulfamoyl group, etc., more preferably halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, carboxy group (and salts thereof). Including), hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, ureido group, thioureido group, alkylthio group, arylthio group , A heterocyclic thio group, a sulfo group (including a salt thereof) and the like, more preferably an alkyl group, an aryl group, a carboxy group (including a salt thereof), a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, (alkyl , Aryl, or heterocyclic) amino group, ureido group, alkylthio , An arylthio group, (including and salts thereof) a sulfo group and the like.

一般式(5)において、nは0から4の整数を表す。本発明においてnは0から2を表す場合が好ましく、0または1である場合がより好ましい。   In general formula (5), n represents an integer of 0 to 4. In the present invention, n preferably represents 0 to 2, more preferably 0 or 1.

一般式(5)においてA2は酸素原子、硫黄原子もしくはNR11を表すが、本発明においては酸素原子もしくは硫黄原子を表す場合が好ましい。 In the general formula (5), A 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or NR 11 , but in the present invention, it preferably represents an oxygen atom or a sulfur atom.

本発明において、一般式(1)で表される化合物のうち、好ましいものはE1およびE2のうち少なくとも一方が一般式(4)または一般式(5)で表される基より選ばれる場合である。より好ましくはChがセレン原子もしくはテルル原子であり、E1およびE2のうち一方が一般式(4)で表される基より選ばれ、他方が一般式(2)、一般式(4)、一般式(5)で表される基より選ばれる場合、もしくは一方が式(5)で表される基より選ばれ、他方が一般式(2)あるいは一般式(5)で表される基より選ばれる場合である。更に好ましくはChがセレン原子であり、E1およびE2のうち一方が一般式(4)で表される基より選ばれ、他方が一般式(2)、一般式(4)、一般式(5)で表される基より選ばれる場合、もしくは一方が一般式(5)で表される基より選ばれ、他方が一般式(2)あるいは一般式(5)で表される基より選ばれる場合である。 In the present invention, among the compounds represented by the general formula (1), preferred are those in which at least one of E 1 and E 2 is selected from the group represented by the general formula (4) or the general formula (5). It is. More preferably, Ch is a selenium atom or a tellurium atom, one of E 1 and E 2 is selected from the group represented by the general formula (4), and the other is the general formula (2), the general formula (4), When selected from the group represented by the general formula (5), or one selected from the group represented by the formula (5) and the other from the group represented by the general formula (2) or the general formula (5) This is the case. More preferably, Ch is a selenium atom, and one of E 1 and E 2 is selected from the group represented by the general formula (4), and the other is the general formula (2), the general formula (4), the general formula ( When selected from the group represented by 5), or one is selected from the group represented by the general formula (5), and the other is selected from the group represented by the general formula (2) or the general formula (5). Is the case.

次に一般式(1)で表される化合物の具体例を以下に示す。但し本発明はこれらに限定されるものではない。また、立体異性体が複数存在しうる化合物については、その立体構造を限定するものではない。なお、以下の例示化合物中、Acはアセチル基を示すものである。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (1) are shown below. However, the present invention is not limited to these. In addition, the three-dimensional structure of a compound in which a plurality of stereoisomers can exist is not limited. In the following exemplary compounds, Ac represents an acetyl group.

Figure 2006235396
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Figure 2006235396
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Figure 2006235396
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本発明の一般式(1)で表される化合物は、公知の種々の方法により合成することができる。個々の化合物によってその合成法は最適なものが選ばれるため、一般的となりうる合成法を挙げることができないが、その中でも有用な合成ルートを説明する。   The compound represented by the general formula (1) of the present invention can be synthesized by various known methods. Since an optimum synthesis method is selected depending on individual compounds, a general synthesis method cannot be mentioned. Among them, a useful synthesis route will be described.

≪例示化合物1の合成≫
例示化合物1はスキーム1に従い合成した。
<< Synthesis of Exemplified Compound 1 >>
Exemplary Compound 1 was synthesized according to Scheme 1.

Figure 2006235396
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ベンジルクロロメチルエーテル3.2gをアセトン20mLに溶解し、セレノ尿素2gのアセトン80mL溶液を加え、室温で1時間かくはんした。析出した固体をろ取することで合成中間体1を4.6g得た。合成中間体1 2gに水40mL、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド0.2gを加えた後、5M NaOH水溶液を4mL加えた。p−メトキシベンゾイルクロリド1.2gの酢酸エチル10mL溶液を加え、室温で1時間かくはんした。酢酸エチル80mL、希塩酸100mLを加えて有機層を分離し、水洗後減圧濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製することで例示化合物1を1.8g得た。   3.2 g of benzyl chloromethyl ether was dissolved in 20 mL of acetone, a solution of 2 g of selenourea in 80 mL of acetone was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The precipitated solid was collected by filtration to obtain 4.6 g of synthetic intermediate 1. After adding 40 mL of water and 0.2 g of benzyltriethylammonium chloride to 2 g of the synthetic intermediate 12, 4 mL of 5M NaOH aqueous solution was added. A solution of 1.2 g of p-methoxybenzoyl chloride in 10 mL of ethyl acetate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Ethyl acetate (80 mL) and dilute hydrochloric acid (100 mL) were added to separate the organic layer, which was washed with water and concentrated under reduced pressure. 1.8g of exemplary compound 1 was obtained by refine | purifying the obtained residue with column chromatography.

≪例示化合物2の合成≫
例示化合物2は例示化合物1の合成において、ベンジルクロロメチルエーテルの代わりにベンジルクロロメチルスルフィドを用いる以外はほぼ同様の操作を行うことで得ることができた。
<< Synthesis of Exemplified Compound 2 >>
Exemplified Compound 2 could be obtained by carrying out substantially the same procedure in the synthesis of Exemplified Compound 1 except that benzyl chloromethyl sulfide was used instead of benzyl chloromethyl ether.

≪例示化合物3の合成≫
1,2,3,4,6−ペンタアセチル−β−D−グルコピラノース13gの塩化メチレン60mL溶液に臭化水素30%酢酸溶液25gを加えた。室温で一晩かくはんした後、氷水100mLと塩化メチレン100mLを加えて分液した。有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mL、飽和塩化ナトリウム水溶液30mLで洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた油状物にエタノール60mLを加え、析出した結晶をろ取することで1−ブロモ−2,3,4,6−ペンタアセチル−β−D−グルコピラノースを11g得た。アセトン100mLに1−ブロモ−2,3,4,6−ペンタアセチル−β−D−グルコピラノース 10.5gとセレノ尿素3.1gを加え、加熱還流を1時間行った。反応溶液を氷冷し、ろ過することで得られた結晶3.1gに水30mLを加え、炭酸カリウム1.6gの水5mL溶液、次いでTHF18mLを加えた。p−メトキシベンゾイルクロリド1gの酢酸エチル5mL溶液を滴下して室温で1時間かくはんした後、酢酸エチル100mL、希塩酸100mLを加えて有機層を分離し、水洗後減圧濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製することで例示化合物3を2g得た。
<< Synthesis of Exemplified Compound 3 >>
To a solution of 1,2,3,4,6-pentaacetyl-β-D-glucopyranose (13 g) in methylene chloride (60 mL) was added a hydrogen bromide 30% acetic acid solution (25 g). After stirring overnight at room temperature, 100 mL of ice water and 100 mL of methylene chloride were added for liquid separation. The organic layer was washed with 30 mL of a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and 30 mL of a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. Ethanol 60mL was added to the obtained oily substance, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 11 g of 1-bromo-2,3,4,6-pentaacetyl-β-D-glucopyranose. 10.5 g of 1-bromo-2,3,4,6-pentaacetyl-β-D-glucopyranose and 3.1 g of selenourea were added to 100 mL of acetone, followed by heating under reflux for 1 hour. 30 mL of water was added to 3.1 g of crystals obtained by cooling the reaction solution with ice and filtering, and then 5 mL of 1.6 g of potassium carbonate and then 18 mL of THF were added. A solution of 1 g of p-methoxybenzoyl chloride in 5 mL of ethyl acetate was added dropwise and stirred at room temperature for 1 hour, and then 100 mL of ethyl acetate and 100 mL of dilute hydrochloric acid were added to separate the organic layer, which was washed with water and concentrated under reduced pressure. 2g of exemplary compound 3 was obtained by refine | purifying the obtained residue with column chromatography.

本発明の一般式(1)で表される化合物の添加量は場合に応じて広範囲に変わり得るがハロゲン化銀1モルあたり1×10-7〜5×10-3モル、好ましくは5×10-7〜5×10-4モルである。 The amount of the compound represented by the general formula (1) of the present invention may vary widely depending on the case, but it is 1 × 10 −7 to 5 × 10 −3 mol, preferably 5 × 10, per 1 mol of silver halide. −7 to 5 × 10 −4 mol.

本発明の一般式(1)で表される化合物は、水、或いはアルコール類(メタノール、エタノールなど)、ケトン類(アセトンなど)、アミド類(ジメチルホルムアミドなど)、グリコール類(メチルプロピレングリコールなど)、及びエステル類(酢酸エチルなど)などを溶媒として添加しても良い。   The compound represented by the general formula (1) of the present invention is water or alcohols (such as methanol and ethanol), ketones (such as acetone), amides (such as dimethylformamide), glycols (such as methylpropylene glycol). , And esters (such as ethyl acetate) may be added as a solvent.

本発明の一般式(1)で表される化合物の添加は、乳剤製造時のどの段階でも可能であるが、ハロゲン化銀粒子形成後から化学増感工程終了までの間に添加することが好ましい。   Although the compound represented by the general formula (1) of the present invention can be added at any stage during the production of the emulsion, it is preferably added after the formation of the silver halide grains until the end of the chemical sensitization step. .

(有機銀塩の説明)
1)組成
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。有機銀塩は還元剤により還元されうる銀イオンを供給できる任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平10−62899号の段落番号0048〜0049、欧州特許公開第0803764A1号の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸銀、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸銀及びこれらの混合物などを含む。本発明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上100モル%以下、より好ましくは85モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは95モル%以上100モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。更に、エルカ酸銀含有率が2モル%以下、より好ましくは1モル%以下、更に好ましくは0.1モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。
(Description of organic silver salt)
1) Composition The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but is heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and a reducing agent. In this case, the silver salt functions as a silver ion supplier to form a silver image. The organic silver salt may be any organic substance that can supply silver ions that can be reduced by a reducing agent. As for such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferred examples of the fatty acid silver salt include silver lignocerate, silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver erucate and the like. Including a mixture of In the present invention, among these fatty acid silvers, the silver behenate content is preferably 50 mol% to 100 mol%, more preferably 85 mol% to 100 mol%, still more preferably 95 mol% to 100 mol%. The following fatty acid silver is preferably used. Furthermore, it is preferable to use fatty acid silver having a silver erucate content of 2 mol% or less, more preferably 1 mol% or less, and still more preferably 0.1 mol% or less.

また、ステアリン酸銀含有率が1モル%以下であることが好ましい。前記ステアリン酸含有率を1モル%以下とすることにより、Dminが低く、高感度で画像保存性に優れた有機酸の銀塩が得られる。前記ステアリン酸含有率としては、0.5モル%以下が好ましく、実質的に含まないことが特に好ましい。   Moreover, it is preferable that silver stearate content rate is 1 mol% or less. By making the stearic acid content 1 mol% or less, a silver salt of an organic acid having a low Dmin, high sensitivity and excellent image storage stability can be obtained. As said stearic acid content rate, 0.5 mol% or less is preferable and it is especially preferable not to contain substantially.

さらに、有機酸の銀塩としてアラキジン酸銀を含む場合は、アラキジン酸銀含有率が6モル%以下であることが、低いDminを得ること及び画像保存性の優れた有機酸の銀塩を得る点で好ましく、3モル%以下であることが更に好ましい。   Furthermore, when silver arachidate is included as the silver salt of the organic acid, the silver arachidate content is 6 mol% or less to obtain a low Dmin and an organic acid silver salt excellent in image storability. It is preferable at a point and it is still more preferable that it is 3 mol% or less.

2)形状
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が5未満の短針状、直方体、立方体又はジャガイモ状の不定形粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀粒子は長軸と単軸の長さの比が5以上の長針状粒子に比べて熱現像時のかぶりが少ないという特徴を有している。特に、長軸と単軸の比が3以下の粒子は塗布膜の機械的安定性が向上し好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短い方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。
x=b/a
2) Shape The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In addition, short needle-shaped, rectangular parallelepiped, cubic or potato-shaped irregular particles having a major axis / uniaxial length ratio of less than 5 are also preferably used. These organic silver particles have a feature that the fog at the time of heat development is less than that of long needle-like particles in which the ratio of the length of the major axis to the uniaxial axis is 5 or more. In particular, particles having a major axis / uniaxial ratio of 3 or less are preferable because the mechanical stability of the coating film is improved. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt was observed with an electron microscope, and the shape of the organic acid silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped. Then, calculation is performed using the shorter numerical values a and b, and x is obtained as follows.
x = b / a

このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは15≧x(平均)≧1.5である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。   In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.

りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μm以上0.3μm以下が好ましく0.1μm以上0.23μm以下がより好ましい。c/bの平均は1以上9以下であることが好ましく、より好ましくは1以上6以下、さらに好ましくは1以上4以下、最も好ましくは1以上3以下である。   In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average c / b is preferably 1 or more and 9 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, still more preferably 1 or more and 4 or less, and most preferably 1 or more and 3 or less.

前記球相当直径を0.05μm以上1μm以下とすることにより、熱現像感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる。前記球相当直径としては、0.1μm以上1μm以下が好ましい。本発明において、球相当直径の測定方法は、電子顕微鏡を用いて直接サンプルを撮影し、その後、ネガを画像処理することによって求められる。
前記リン片状粒子において、粒子の球相当直径/aをアスペクト比と定義する。リン片状粒子のアスペクト比としては、熱現像感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる観点から、1.1以上30以下であることが好ましく、1.1以上15以下がより好ましい。
By setting the sphere equivalent diameter to 0.05 μm or more and 1 μm or less, aggregation is hardly caused in the photothermographic material, and image storability is improved. The sphere equivalent diameter is preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less. In the present invention, the method for measuring the equivalent sphere diameter is obtained by directly photographing a sample using an electron microscope and then image-processing the negative.
In the flake shaped particles, the spherical equivalent diameter / a of the particles is defined as the aspect ratio. The aspect ratio of the flake shaped particles is preferably 1.1 or more and 30 or less, and preferably 1.1 or more and 15 or less, from the viewpoint of preventing aggregation in the photothermographic material and improving the image storage stability. More preferred.

有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)から求めることができる。   The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, it is obtained from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the temporal change of the fluctuation of the scattered light. Can do.

3)調製
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平10−62899号、欧州特許公開第0803763A1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号、同2001−163889号、同2001−163890号、同2001−163827号、同2001−33907号、同2001−188313号、同2001−83652号、同2002−6442、同2002−49117号、同2002−31870号、同2002−107868号等を参考にすることができる。
3) Preparation Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of organic acid silver used in the present invention. For example, the above-mentioned JP-A-10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, JP-A-2001-163889, 2001-163890, 2001-163825, 2001-33907, 2001-188313, 2001-83651, 2002-6442, 2002-49117, 2002-31870, 2002-107868 You can refer to the issue.

なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させると、かぶりが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩1molに対し1mol%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1mol%以下であり、さらに好ましいのは積極的な感光性銀塩の添加を行わないものである。   In addition, when the photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, the fog rises and the sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic acid silver salt in the liquid. Further, it is more preferable that no positive photosensitive silver salt is added.

本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合して熱現像感光材料を製造することが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性銀塩の割合は1モル%以上30モル%以下の範囲が好ましく、更に2モル%以上20モル%以下、特に3モル%以上15モル%以下の範囲が好ましい。混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。   In the present invention, a photothermographic material can be produced by mixing an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver salt aqueous dispersion, but the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose. However, the ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is preferably in the range of 1 mol% to 30 mol%, more preferably 2 mol% to 20 mol%, and particularly preferably 3 mol% to 15 mol%. Mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.

4)添加量
本発明における有機銀塩は所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀も含めた全塗布銀量として0.1g/m2以上5.0g/m2以下が好ましく、より好ましくは0.3g/m2以上3.0g/m2以下、さらに好ましくは0.5g/m2以上2.0g/m2以下である。特に、画像保存性を向上させるためには、全塗布銀量が1.8g/m2以下、より好ましくは1.6g/m2以下であることが好ましい。本発明における好ましい還元剤を使用すれば、このような低銀量においても十分な画像濃度を得ることが可能である。
4) Addition amount Although the organic silver salt in the present invention can be used in a desired amount, the total coating silver amount including silver halide is preferably 0.1 g / m 2 or more and 5.0 g / m 2 or less, more preferably. It is 0.3 g / m 2 or more and 3.0 g / m 2 or less, more preferably 0.5 g / m 2 or more and 2.0 g / m 2 or less. In particular, in order to improve image storability, the total coated silver amount is preferably 1.8 g / m 2 or less, more preferably 1.6 g / m 2 or less. If the preferred reducing agent in the present invention is used, a sufficient image density can be obtained even with such a low silver amount.

(還元剤の説明)
本発明の熱現像感光材料には有機銀塩のための還元剤である熱現像剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質(好ましくは有機物質)であってよい。このような還元剤の例は、特開平11−65021号の段落番号0043〜0045や、欧州特許公開第0803764A1号の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に記載されている。
本発明において、還元剤としてはフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダードフェノール系還元剤あるいはビスフェノール系還元剤が好ましく、下記一般式(R)で表される化合物がより好ましい。
(Description of reducing agent)
The photothermographic material of the present invention preferably contains a heat developer which is a reducing agent for the organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance (preferably an organic substance) that reduces silver ions to metallic silver. Examples of such reducing agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0043 to 0045, and European Patent Publication No. 0803764A1, page 7, line 34 to page 18, line 12.
In the present invention, the reducing agent is preferably a so-called hindered phenol-based reducing agent or bisphenol-based reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, and more preferably a compound represented by the following general formula (R).

Figure 2006235396
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(一般式(R)において、R11及びR11’は、各々独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R12及びR12’は、各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Lは、−S−基又は−CHR13−基を表す。R13は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。X1及びX1’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。) (In the general formula (R), R 11 and R 11 ′ each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 12 and R 12 ′ can each independently be substituted with a hydrogen atom or a benzene ring. represents a substituent .L is, -S- group or a -CHR 13 - .X 1 and X 1 .R 13 represents a group represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms' each independently represent a hydrogen atom Or represents a substitutable group on the benzene ring.)

一般式(R)について詳細に説明する。
以下でアルキル基と称するとき、特に明記していない場合はシクロアルキル基もこれに含まれる。
1)R11及びR11
11及びR11’は各々独立に置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基であり。アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ウレイド基、ウレタン基、ハロゲン原子等があげられる。
The general formula (R) will be described in detail.
When referred to as an alkyl group in the following, a cycloalkyl group is also included in this unless otherwise specified.
1) R 11 and R 11 '
R 11 and R 11 ′ are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The substituent of the alkyl group is not particularly limited, but preferably an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamido group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, Examples thereof include an acyl group, a carbamoyl group, an ester group, a ureido group, a urethane group, and a halogen atom.

2)R12及びR12’、X1及びX1
12及びR12’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な置換基であり、X1及びX1’も各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
2) R 12 and R 12 ', X 1 and X 1 '
R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Preferred examples of the group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.

3)L
Lは−S−基又は−CHR13−基を表す。R13は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。R13の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、1−エチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、シクロヘキシル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基、3,5−ジメチル−3−シクロヘキセニル基などがあげられる。アルキル基の置換基の例はR11の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基などがあげられる。
3) L
L represents an —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent. Specific examples of the unsubstituted alkyl group for R 13 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, cyclohexyl group. Group, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group, 3,5-dimethyl-3-cyclohexenyl group and the like. Examples of the substituent of the alkyl group are the same as the substituent of R 11 , and are a halogen atom, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, oxycarbonyl group, Examples thereof include a carbamoyl group and a sulfamoyl group.

4)好ましい置換基
11及びR11’として好ましくは炭素数1〜15の1級、2級又は3級のアルキル基であり、具体的にはメチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−メチルシクロプロピル基などがあげられる。R11及びR11’としてより好ましくは炭素数1〜4のアルキル基で、その中でもメチル基、t−ブチル基、t−アミル基、1−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、メチル基、t−ブチル基が最も好ましい。
4) Preferred substituents R 11 and R 11 ′ are preferably primary, secondary or tertiary alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms, specifically methyl, isopropyl, t-butyl, t -Amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like can be mentioned. R 11 and R 11 ′ are more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and among them, a methyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a methyl group and a t-butyl group are preferable. Groups are most preferred.

12及びR12’として好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
1及びX1’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。
R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group. Group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group and t-butyl group, and particularly preferred are methyl group and ethyl group.
X 1 and X 1 ′ are preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

Lは好ましくは−CHR13−基である。
13として好ましくは水素原子又は炭素数1〜15のアルキル基であり、該アルキル基としては鎖状のアルキル基の他、環状のアルキル基も好ましく用いられる。また、これらのアルキル基の中にC=C結合を有しているものも好ましく用いることができる。アルキル基としては例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、シクロヘキシル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基、3,5−ジメチル−3−シクロヘキセニル基等が好ましい。R13として特に好ましいのは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基である。
L is preferably a —CHR 13 — group.
R 13 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. As the alkyl group, a cyclic alkyl group is also preferably used in addition to a chain alkyl group. Moreover, what has a C = C bond in these alkyl groups can also be used preferably. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, cyclohexyl group, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group, 3,5-dimethyl-3- A cyclohexenyl group and the like are preferable. R 13 is particularly preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group.

11、R11’が3級のアルキル基でR12、R12’がメチル基の場合、R13は炭素数1〜8の1級又は2級のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基等)が好ましい。
11、R11’が3級のアルキル基でR12、R12’がメチル基以外のアルキル基の場合、R13は水素原子が好ましい。
11、R11’が3級のアルキル基でない場合、R13は水素原子又は2級のアルキル基であることが好ましく、2級のアルキル基であることが特に好ましい。R13の2級アルキル基として好ましい基はイソプロピル基、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル基、シクロヘキシル基である。
上記還元剤はR11、R11’、R12、R12’及びR13の組み合わせにより、熱現像性、現像銀色調などが異なる。2種以上の還元剤を組み合わせることでこれらを調整することができるため、目的によっては2種以上を組み合わせて使用することが好ましい。
When R 11 and R 11 ′ are tertiary alkyl groups and R 12 and R 12 ′ are methyl groups, R 13 is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group). Group, isopropyl group, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl group and the like).
When R 11 and R 11 ′ are tertiary alkyl groups and R 12 and R 12 ′ are alkyl groups other than methyl groups, R 13 is preferably a hydrogen atom.
When R 11 and R 11 ′ are not a tertiary alkyl group, R 13 is preferably a hydrogen atom or a secondary alkyl group, and particularly preferably a secondary alkyl group. Preferred groups as the secondary alkyl group for R 13 are isopropyl, 2,4-dimethyl-3-cyclohexenyl, and cyclohexyl.
The reducing agent has different heat developability, developed silver color tone and the like depending on the combination of R 11 , R 11 ′, R 12 , R 12 ′ and R 13 . Since these can be adjusted by combining two or more kinds of reducing agents, it is preferable to use two or more kinds in combination depending on the purpose.

以下に、一般式(R)で表される化合物をはじめとする本発明における還元剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of the reducing agent in this invention including the compound represented by general formula (R) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

Figure 2006235396
Figure 2006235396

上記以外の本発明における好ましい還元剤の例は特開2001−188314号、同2001−209145号、同2001−350235号、同2002−156727号、EP1278101A2号に記載された化合物である。
本発明において還元剤の添加量は0.1g/m2以上3.0g/m2以下であることが好ましく、より好ましくは0.2g/m2以上2.0g/m2以下で、さらに好ましくは0.3g/m2以上1.0g/m2以下である。画像形成層を有する面の銀1モルに対しては5モル%以上50モル%以下含まれることが好ましく、より好ましくは8モル%以上30モル%以下であり、10モル%以上20モル%以下で含まれることがさらに好ましい。還元剤は画像形成層に含有させることが好ましい。
Examples of preferable reducing agents in the present invention other than the above are the compounds described in JP-A Nos. 2001-188314, 2001-209145, 2001-350235, 2002-156727, and EP1278101A2.
In the present invention, the addition amount of the reducing agent is preferably 0.1 g / m 2 or more and 3.0 g / m 2 or less, more preferably 0.2 g / m 2 or more and 2.0 g / m 2 or less, and still more preferably. Is 0.3 g / m 2 or more and 1.0 g / m 2 or less. 5 mol% or more and 50 mol% or less is preferably contained with respect to 1 mol of silver on the surface having the image forming layer, more preferably 8 mol% or more and 30 mol% or less, and 10 mol% or more and 20 mol% or less. More preferably, it is contained. The reducing agent is preferably contained in the image forming layer.

還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルセバケートあるいはトリ(2−エチルヘキシル)ホスフェートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやオレオイル−N−メチルタウリン酸ナトリウム、ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム等の界面活性剤を添加して機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。このとき、油滴の粘度や屈折率の調整の目的でαメチルスチレンオリゴマーやポリ(t−ブチルアクリルアミド)等のポリマーを添加することも好ましい。
The reducing agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.
Well-known emulsification and dispersion methods include oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl sebacate or tri (2-ethylhexyl) phosphate, and dissolution using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and dodecylbenzene. Examples thereof include a method of mechanically preparing an emulsified dispersion by adding a surfactant such as sodium sulfonate, oleoyl-N-methyl taurate, sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate. At this time, it is also preferable to add a polymer such as α-methylstyrene oligomer or poly (t-butylacrylamide) for the purpose of adjusting the viscosity and refractive index of the oil droplets.

また、固体微粒子分散法としては、還元剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm以上1000ppm以下の範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
特に好ましいのは、還元剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ0.01μm以上10μm以下、好ましくは0.05μm以上5μm以下、より好ましくは0.1μm以上2μm以下の微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
Further, as a solid fine particle dispersion method, a reducing agent powder is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to produce a solid dispersion. A method is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the content of Zr in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
Particularly preferred is a solid particle dispersion method of a reducing agent, in which fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 2 μm are added. Is preferred. In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.

(現像促進剤の説明)
本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開2000−267222号明細書や特開2000−330234号明細書等に記載の一般式(A)で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開平2001−92075記載の一般式(II)で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平10−62895号明細書や特開平11−15116号明細書等に記載の一般式(I)、特開2002−156727号の一般式(D)や特開2002−278017号明細書に記載の一般式(1)で表されるヒドラジン系の化合物、特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系又はナフトール系の化合物が好ましく用いられる。また、特開2002−311533号、特開2002−341484号明細書に記載されたフェノール系の化合物も好ましい。特に特開2003−66558号明細書に記載のナフトール系の化合物が好ましい。これらの現像促進剤は還元剤に対して0.1モル%以上20モル%以下の範囲で使用され、好ましくは0.5モル%以上10モル%以下の範囲で、より好ましくは1モル%以上5モル%以下の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物又は乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、若しくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特開2002−156727号、特開2002−278017号明細書に記載ヒドラジン系の化合物及び特開2003−66558号明細書に記載されているナフトール系の化合物がより好ましい。
(Description of development accelerator)
In the photothermographic material of the present invention, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222, JP-A-2000-330234, or the like as a development accelerator, Hindered phenol compounds represented by general formula (II) described in JP-A No. 2001-92075, general formula (I) described in JP-A Nos. 10-62895 and 11-15116, A hydrazine-based compound represented by the general formula (D) of JP-A No. 2002-156727 or the general formula (1) described in JP-A No. 2002-278017, and described in the specification of JP-A No. 2001-264929 Phenol-based or naphthol-based compounds represented by the general formula (2) are preferably used. Moreover, the phenol type compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-311533 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-341484 is also preferable. In particular, naphthol compounds described in JP-A No. 2003-66558 are preferable. These development accelerators are used in the range of 0.1 mol% or more and 20 mol% or less, preferably 0.5 mol% or more and 10 mol% or less, more preferably 1 mol% or more with respect to the reducing agent. The range is 5 mol% or less. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsified dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent and a low-boiling auxiliary solvent that are solid at room temperature, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
In the present invention, among the above development accelerators, hydrazine compounds described in JP-A Nos. 2002-156727 and 2002-278017 and naphthol compounds described in JP-A No. 2003-66558 are used. Is more preferable.

本発明における特に好ましい現像促進剤は、下記一般式(A−1)及び(A−2)で表される化合物である。
一般式(A−1)
1−NHNH−Q2
(式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、又はヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。)
Particularly preferred development accelerators in the invention are compounds represented by the following general formulas (A-1) and (A-2).
Formula (A-1)
Q 1 -NHNH-Q 2
(Wherein Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group.)

一般式(A−1)において、Q1で表される芳香族基又はヘテロ環基としては5員〜7員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。 In the general formula (A-1), the aromatic group or heterocyclic group represented by Q 1 is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2 , 3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,3,4 -Oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, thiophene ring, etc. are preferable, and these Also preferred are fused rings in which the rings are fused together.

これらの環は置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、及びアシルオキシ基を挙げることができる。   These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups. When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be mentioned.

2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−sec−ブチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、N−シクロヘキシルカルバモイル、N−tert−ブチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N−オクタデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−tert−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル、N−ナフチルカルバモイル、N−3−ピリジルカルバモイル、N−ベンジルカルバモイルが挙げられる。 The carbamoyl group represented by Q 2 is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl N-sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3 -(2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5 Dodecyloxycarbo Butylphenyl) carbamoyl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl include N- benzylcarbamoyl.

2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、2−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、2−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル、2−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Q2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。 The acyl group represented by Q 2 is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2 -Hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, 2-hydroxymethylbenzoyl. The alkoxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, Examples include dodecyloxycarbonyl and benzyloxycarbonyl.

2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数7〜50、より好ましくは炭素数7〜40のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、4−オクチルオキシフェノキシカルボニル、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、4−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Q2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、2−ヘキサデシルスルホニル、3−ドデシルオキシプロピルスルホニル、2−オクチルオキシ−5−tert−オクチルフェニルスルホニル、4−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。 The aryloxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxy Examples thereof include methylphenoxycarbonyl and 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl. The sulfonyl group represented by Q 2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3- Examples include dodecyloxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.

2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、N−エチルスルファモイル基、N−(2−エチルヘキシル)スルファモイル、N−デシルスルファモイル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−{3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピル}スルファモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)スルファモイル、N−(2−テトラデシルオキシフェニル)スルファモイルが挙げられる。Q2で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のQ1で表される5員〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The sulfamoyl group represented by Q 2 is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, N- (2- Ethylhexyl) sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl is mentioned. The group represented by Q 2 may further have a group listed as an example of the substituent of the 5-membered to 7-membered unsaturated ring represented by Q 1 at a substitutable position, When it has two or more substituents, these substituents may be the same or different.

次に、式(A−1)で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Q1としては5〜6員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、及びこれらの環がベンゼン環若しくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Q2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。 Next, preferred range for the compound represented by formula (A-1) is to be described. Q 1 is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, such as a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring. 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, and these rings Is more preferably a ring fused with a benzene ring or an unsaturated heterocycle. Q 2 is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on a nitrogen atom.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(A−2)においてR1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ一般式(A−1)の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。
1は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基など)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルウレイド基、4−シアノフェニルウレイド基など)、カルバモイル基(n−ブチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、2−クロロフェニルカルバモイル基、2,4−ジクロロフェニルカルバモイル基など)でアシルアミノ基(ウレイド基、ウレタン基を含む)がより好ましい。R2は好ましくはハロゲン原子(より好ましくは塩素原子、臭素原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフトキシ基など)である。
3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。R4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基又はアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はR1と同様である。R4がアシルアミノ基である場合R4はR3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。
In the general formula (A-2), R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate ester group. R 3 and R 4 each represents a group that can be substituted on the benzene ring mentioned in the example of the substituent of formula (A-1). R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.
R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-octyl group, a cyclohexyl group, etc.), an acylamino group (for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, a methyl group). Ureido group, 4-cyanophenylureido group, etc.), carbamoyl group (n-butylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2-chlorophenylcarbamoyl group, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl group, etc.) acylamino Groups (including ureido groups and urethane groups) are more preferred. R 2 is preferably a halogen atom (more preferably a chlorine atom or a bromine atom), an alkoxy group (for example, methoxy group, butoxy group, n-hexyloxy group, n-decyloxy group, cyclohexyloxy group, benzyloxy group, etc.), aryl An oxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.).
R 3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferable substituents are the same as those for R 1 . When R 4 is an acylamino group, R 4 is preferably linked to R 3 to form a carbostyryl ring.

一般式(A−2)においてR3とR4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式(A−1)で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式(A−2)がナフトール系の化合物であるとき、R1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。R2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。 In the general formula (A-2), when R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring, a naphthalene ring is particularly preferable as the condensed ring. The same substituent as the example of a substituent quoted by general formula (A-1) may couple | bond with the naphthalene ring. When general formula (A-2) is a naphthol-based compound, R 1 is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R 2 is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.

以下、本発明における現像促進剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, preferred specific examples of the development accelerator in the present invention will be given. The present invention is not limited to these.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

(水素結合性化合物の説明)
本発明における還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)又はアミノ基(−NHR、Rは水素原子又はアルキル基)を有する場合、特に前述のビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
水酸基又はアミノ基と水素結合を形成する基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)を有する化合物である。
本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物は下記一般式(D)で表される化合物である。
(Description of hydrogen bonding compounds)
When the reducing agent in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH) or amino group (—NHR, R is a hydrogen atom or an alkyl group), particularly in the case of the aforementioned bisphenols, these groups and hydrogen bonds It is preferable to use together a non-reducing compound having a group capable of forming.
Examples of the group that forms a hydrogen bond with a hydroxyl group or an amino group include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Can be mentioned. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it does not have a> N—H group, N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
In the present invention, a particularly preferred hydrogen bonding compound is a compound represented by the following general formula (D).

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(D)においてR21ないしR23は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基又はヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
21ないしR23が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基又はアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アルコキシフェニル基、4−アシルオキシフェニル基などがあげられる。
21ないしR23のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、2−フェノキシプロピル基などがあげられる。
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジル基、3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。
In the general formula (D), R 21 to R 23 each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be substituted even if they are unsubstituted. You may have.
When R 21 to R 23 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, Examples thereof include an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, and a phosphoryl group. Preferred as a substituent is an alkyl group or an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a t-octyl group. Group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like.
Specific examples of the alkyl group represented by R 21 to R 23 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an octyl group, a dodecyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a t-octyl group, a cyclohexyl group, Examples thereof include 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group and the like.
Examples of the aryl group include a phenyl group, a cresyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a 4-t-butylphenyl group, a 4-t-octylphenyl group, a 4-anisidyl group, and a 3,5-dichlorophenyl group.
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned.
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .

21ないしR23としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではR21ないしR23のうち少なくとも一つ以上がアルキル基又はアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基又はアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではR21ないしR23が同一の基である場合が好ましい。
以下に本発明における一般式(D)の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
R 21 to R 23 are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In view of the effects of the present invention, at least one of R 21 to R 23 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. Further, it is preferable that R 21 to R 23 are the same group in that they can be obtained at low cost.
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

水素結合性化合物の具体例は上述の他に欧州特許1096310号明細書、特開2002−156727号、特開2002−318431号に記載のものがあげられる。
本発明における一般式(D)の化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料中で使用することができるが、固体分散物として使用することが好ましい。これらの化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基、アミノ基を有する化合物と水素結合性の錯体を形成しており、還元剤と本発明における一般式(D)の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明における一般式(D)の化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
本発明における一般式(D)の化合物は、還元剤に対して、1モル%以上200モル%以下の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10モル%以上150モル%以下の範囲で、さらに好ましくは20モル%以上100モル%の範囲である。
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in European Patent No. 1096310, JP-A No. 2002-156727, and JP-A No. 2002-318431 in addition to the above.
The compound of the general formula (D) in the present invention can be used in a photothermographic material by being incorporated in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersion fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. It is preferably used as a solid dispersion. These compounds form a hydrogen-bonding complex with a compound having a phenolic hydroxyl group or an amino group in a solution state. It can be isolated in the state.
The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the compound of the general formula (D) in the present invention are mixed in a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
The compound of the general formula (D) in the present invention is preferably used in the range of 1 mol% to 200 mol%, more preferably in the range of 10 mol% to 150 mol%, based on the reducing agent. More preferably, it is the range of 20 mol% or more and 100 mol%.

(ハロゲン化銀の説明)
1)ハロゲン組成
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀、ヨウ化銀を用いることができる。その中でも臭化銀、ヨウ臭化銀及びヨウ化銀が好ましい。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子を用いることができる。また塩化銀、臭化銀又は塩臭化銀粒子の表面に臭化銀やヨウ化銀を局在させる技術も好ましく用いることができる。
(Description of silver halide)
1) Halogen composition The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition, and is silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide, silver iodide. Can be used. Of these, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide are preferred. The distribution of the halogen composition in the grain may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, and more preferably 2- to 4-fold core / shell particles can be used. A technique for localizing silver bromide or silver iodide on the surface of silver chloride, silver bromide or silver chlorobromide grains can also be preferably used.

2)粒子サイズ
本発明における感光性ハロゲン化銀の粒子サイズには、2つの好ましい領域が存在する。
一つの領域は、微粒子領域であり、好ましくは0.20μm以下、より好ましくは0.01μm以上0.15μm以下、更に好ましくは0.02μm以上0.12μm以下である。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子の投影面積(平板粒子の場合は主平面の投影面積)と同面積の円像に換算したときの直径をいう。
もう一つの領域は、平均アスペクト比2以上の平板状粒子であって、より好ましくは平均アスペクト比5以上の平板状粒子であって、平均球相当直径が、好ましくは、0.3μm〜8μmであり、より好ましくは0.5μm〜5μmである。本発明における平均球相当直径は、平板状ハロゲン化銀粒子の体積と同体積の球に換算したときの直径をいう。
本発明における平板状ハロゲン化銀の平均厚みは、0.3μm以下が好ましく、より好ましくは0.2μm以下、さらに好ましくは0.1μm以下である。
2) Grain size There are two preferred regions for the grain size of the photosensitive silver halide in the present invention.
One region is a fine particle region, preferably 0.20 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and further preferably 0.02 μm or more and 0.12 μm or less. The grain size here means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of silver halide grains (in the case of tabular grains, the projected area of the main plane).
Another region is tabular grains having an average aspect ratio of 2 or more, more preferably tabular grains having an average aspect ratio of 5 or more, and an average sphere equivalent diameter is preferably 0.3 μm to 8 μm. More preferably, it is 0.5 μm to 5 μm. The average equivalent sphere diameter in the present invention refers to the diameter when converted to a sphere having the same volume as the volume of the tabular silver halide grains.
The average thickness of the tabular silver halide in the present invention is preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.2 μm or less, and still more preferably 0.1 μm or less.

3)粒子形成方法
感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチディスクロージャー1978年6月の第17029号、および米国特許第3,700,458号に記載されている方法を用いることができるが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する方法を用いる。また、特開平11−119374号公報の段落番号0217〜0224に記載されている方法、特開平11−352627号、特開2000−347335号記載の方法も好ましい。
平板粒子の形成方法に関しては、前述の特開昭59−119350号、同59−119344号に記載の方法が好ましく用いられる。
3) Grain Forming Methods Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art and are described, for example, in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. In particular, a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound into gelatin or another polymer solution, and then mixed with an organic silver salt. Use the method. Further, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A No. 11-119374, and the methods described in JP-A Nos. 11-352627 and 2000-347335 are also preferable.
Regarding the method for forming tabular grains, the methods described in JP-A-59-119350 and 59-119344 are preferably used.

4)粒子形状
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特に立方体状粒子が好ましい。ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い{100}面の占める割合が高いことが好ましい。その割合としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。ミラー指数{100}面の比率は増感色素の吸着における{111}面と{100}面との吸着依存性を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記載の方法により求めることができる。
4) Grain shape Examples of the shape of silver halide grains include cubes, octahedrons, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, and potato grains. In the present invention, cubic grains are particularly preferred. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (Miller index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the ratio of the {100} plane having high spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index {100} plane is determined by T.T. Tani; Imaging Sci. 29, 165 (1985).

本発明におけるハロゲン化銀粒子は、平板状粒子であっても良い。
平板状粒子は、エピタキシャル部を有することが好ましい。
「エピタキシー」及び「エピタキシャル」という用語は、銀塩がホスト平板状粒子により制御される配向(オリエンテーション)をもった結晶形であることを指摘するために、当業界で認められた意味において使用される。
平板状ホスト粒子上に増感部位を作るため、エピタキシャル成長により付着させた銀塩を使用することができる。エピタキシャル成長による付着部位を制御することにより、平板状ホスト粒子の選択的局部増感を行うことができる。したがって、1つ又はそれ以上の規則的な部位に、増感部位を設けることができる。「規則的な」とは、増感部位が、予測可能な秩序ある関係を平板状粒子の主結晶面に対して、好ましくは相互に、保有していることを意味している。平板状粒子の主結晶面に対して、エピタキシャル付着を制御することにより、増感部位の数及び横方向の間隔を制御することが可能である。
The silver halide grains in the present invention may be tabular grains.
The tabular grains preferably have an epitaxial portion.
The terms “epitaxy” and “epitaxial” are used in the art-recognized meaning to point out that the silver salt is a crystalline form with an orientation controlled by the host tabular grains. The
In order to create a sensitized site on the tabular host grain, a silver salt deposited by epitaxial growth can be used. By controlling the adhesion site by epitaxial growth, selective local sensitization of tabular host grains can be performed. Thus, sensitization sites can be provided at one or more regular sites. “Regular” means that the sensitized sites have a predictable and ordered relationship, preferably with each other, with respect to the main crystal planes of the tabular grains. By controlling the epitaxial adhesion with respect to the main crystal plane of the tabular grains, it is possible to control the number of sensitized sites and the spacing in the lateral direction.

本発明において、エピタキシャル接合部は平板粒子の頂点部、主表面上もしくはエッジ部に形成されることができるが、好ましくは、頂点部である。エピタキシャル接合部は平板状粒子に少なくとも1つ、好ましくは2個以上、より好ましくは4個以上である。   In the present invention, the epitaxial junction can be formed on the apex, main surface or edge of the tabular grain, but is preferably the apex. The number of epitaxial junctions is at least 1, preferably 2 or more, more preferably 4 or more in tabular grains.

特に、平板状ホスト粒子の主結晶面の少なくとも1部分では、銀塩エピタキシーを制御し、実質的にエピタキシャル付着を排除することが好ましい。平板状ホスト粒子においては、銀塩のエピタキシャル付着が、粒子のエッジ及びコーナーの少なくとも一方で起こる傾向にある。
エピタキシャル付着を平板状粒子の選定された部位に限定すると、銀塩を平板状粒子の主面上にランダムにエピタキシャル成長により付着させた場合よりも、感度が良化する。
主結晶面の少なくとも1部には、実質的に銀塩のエピタキシャル付着が起こらないようにして、選定された部位に、限定した範囲で銀塩を付着させる。当該付着範囲は、本発明から逸脱することなく広範囲に変えることができる。一般に、主結晶面のエピタキシャル被覆量が減少するにつれて、感度の増大が大きくなる。エピタキシャル成長により付着される銀塩を、平板状粒子の主結晶面の面積の2分の1未満、好ましくは25%未満にすることが好ましい。平板状ハロゲン化銀粒子のコーナーに、エピタキシャル成長による銀塩の付着がなされている場合には、平板状粒子の主結晶面の面積の10%未満、さらに5%未満に制限することが好ましい。ある態様では、エピタキシャル付着は平板状粒子のエッジ表面上で始まることが観察された。したがって、条件によっては、選定されたエッジ部位にエピタキシーが限定され、主結晶面におけるエピタキシーが有効に排除される。
In particular, it is preferable to control silver salt epitaxy and substantially eliminate epitaxial adhesion in at least a part of the main crystal plane of the tabular host grain. In tabular host grains, the epitaxial deposition of silver salt tends to occur at least one of the grain edges and corners.
When the epitaxial deposition is limited to selected portions of the tabular grains, the sensitivity is improved as compared with the case where the silver salt is randomly deposited on the main surface of the tabular grains by epitaxial growth.
The silver salt is adhered to the selected portion within a limited range so that the silver salt is not substantially epitaxially deposited on at least a part of the main crystal plane. The deposition range can be varied over a wide range without departing from the invention. In general, as the amount of epitaxial coating on the main crystal plane decreases, the increase in sensitivity increases. The silver salt deposited by epitaxial growth is preferably less than half of the area of the main crystal plane of the tabular grains, preferably less than 25%. When silver salt is deposited by epitaxial growth at the corners of the tabular silver halide grains, it is preferable to limit the area to less than 10%, more preferably less than 5%, of the area of the main crystal plane of the tabular grains. In certain embodiments, it has been observed that epitaxial deposition begins on the edge surfaces of tabular grains. Therefore, depending on conditions, epitaxy is limited to the selected edge portion, and epitaxy on the main crystal plane is effectively eliminated.

潜像中心を有する粒子を完全に現像すると、潜像中心の場所及び数を決定することができない。しかしながら、潜像中心のすぐ近くより現像範囲が広がる前に現像を阻止し、部分現像された粒子を拡大して観察すると、部分現像部位を明確に見ることができる。これらの部位は、一般に潜像中心に対応し、かかる潜像中心は、一般に増感部位に対応する。   When particles with latent image centers are fully developed, the location and number of latent image centers cannot be determined. However, if the development is stopped before the development range is expanded from the immediate vicinity of the latent image center and the partially developed particles are enlarged and observed, the partial development site can be clearly seen. These portions generally correspond to the latent image center, and such latent image center generally corresponds to the sensitized portion.

エピタキシーにより付着される銀塩は、一般にハロゲン化銀粒子上でエピタキシャル成長が可能で、かつ写真において有効であることが従来知られている任意の銀塩の中から選ぶことができる。特に、銀塩は、コアーシェルハロゲン化銀乳剤のシェル形成に有効であると従来から知られているものの中から、選択することが好適である。公知の写真学的に有用なハロゲン化銀すべての他に、銀塩としてハロゲン化銀粒子上に析出し得ることが知られている他の銀塩、例えばシアン化銀、炭酸銀、フェリシアン化銀、砒酸銀又は亜砒酸銀、及びクロム酸銀が挙げられる。またこれらの混合物であってもよい。中でも、塩化銀、臭化銀、チオシアン酸銀とそれらの混合物が好ましく、特に少なくとも臭化銀を含有するのが好ましい。   The silver salt deposited by epitaxy can be selected from any silver salt that is conventionally known to be epitaxially grown on silver halide grains and to be effective in photography. In particular, the silver salt is preferably selected from those conventionally known to be effective for forming a shell of a core-shell silver halide emulsion. In addition to all known photographically useful silver halides, other silver salts known to be able to precipitate as silver salts on silver halide grains, such as silver cyanide, silver carbonate, ferricyanide Silver, silver arsenate or silver arsenite, and silver chromate. A mixture thereof may also be used. Among these, silver chloride, silver bromide, silver thiocyanate and a mixture thereof are preferable, and at least silver bromide is particularly preferable.

5)重金属
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表(第1〜18族までを示す)の第6族〜第13族の金属又は金属錯体を含有することができる。より好ましくは、周期律表の第6族〜第10族の金属又は金属錯体を含有することができる。周期律表の第6族〜第10族の金属又は金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウム及び鉄である。これら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モルから1×10-3モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平7−225449号、特開平11−65021号段落番号0018〜0024、特開平11−119374号段落番号0227〜0240に記載されている。
5) Heavy Metal The photosensitive silver halide grain in the invention may contain a metal or metal complex of Group 6 to Group 13 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). More preferably, it can contain a metal or metal complex of Group 6 to Group 10 of the Periodic Table. As the central metal of the group 6 to group 10 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium, iridium and iron are preferable. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol with respect to 1 mol of silver. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.

本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、[Fe(CN)64-、[Fe(CN)63-、[Ru(CN)64-、[Os(CN)64-、[Co(CN)63-、[Rh(CN)63-、[Ir(CN)63-、[Cr(CN)63-、[Re(CN)63-などが挙げられる。本発明においては六シアノFe錯体が好ましい。 In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. The hexacyano metal complexes include [Fe (CN) 6 ] 4− , [Fe (CN) 6 ] 3− , [Ru (CN) 6 ] 4− , [Os (CN) 6 ] 4− , [Co ( CN) 6 ] 3− , [Rh (CN) 6 ] 3− , [Ir (CN) 6 ] 3− , [Cr (CN) 6 ] 3− , [Re (CN) 6 ] 3− and the like. . In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.

六シアノ金属錯体は、水溶液中でイオンの形で存在するので対陽イオンは重要ではないが、水と混和しやすく、ハロゲン化銀乳剤の沈澱操作に適合しているナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン、セシウムイオン及びリチウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン(例えばテトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモニウムイオン、テトラ(n−ブチル)アンモニウムイオン)を用いることが好ましい。   The hexacyano metal complex is present in the form of ions in aqueous solution, so the counter cation is not important, but it is easy to mix with water and is suitable for precipitation of silver halide emulsions. Sodium ion, potassium ion, rubidium It is preferable to use alkali metal ions such as ions, cesium ions, and lithium ions, ammonium ions, and alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ions, tetraethylammonium ions, tetrapropylammonium ions, tetra (n-butyl) ammonium ions).

六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等)との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。   In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.

六シアノ金属錯体の添加量は、銀1モル当たり1×10-5モル以上1×10-2モル以下が好ましく、より好ましくは1×10-4モル以上1×10-3モル以下である。 The addition amount of the hexacyano metal complex is preferably 1 × 10 −5 mol or more and 1 × 10 −2 mol or less, more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −3 mol or less per mol of silver.

六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感及びテルル増感のカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、又は化学増感工程前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。   In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the silver nitrate aqueous solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.

尚、六シアノ金属錯体の添加は、粒子形成をするために添加する硝酸銀の総量の96質量%を添加した後から開始してもよく、98質量%添加した後から開始するのがより好ましく、99質量%添加した後が特に好ましい。   The addition of the hexacyano metal complex may be started after adding 96% by mass of the total amount of silver nitrate to be added to form grains, more preferably starting after adding 98% by mass, The addition of 99% by mass is particularly preferable.

これら六シアノ金属錯体を粒子形成の完了する直前の硝酸銀水溶液を添加した後に添加すると、ハロゲン化銀粒子最表面に吸着することができ、そのほとんどが粒子表面の銀イオンと難溶性の塩を形成する。この六シアノ鉄(II)の銀塩は、AgIよりも難溶性の塩であるため、微粒子による再溶解を防ぐことができ、粒子サイズが小さいハロゲン化銀微粒子を製造することが可能となった。   When these hexacyanometal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grains, and most of them form slightly soluble salts with silver ions on the grain surface. To do. Since this silver salt of hexacyanoiron (II) is a less soluble salt than AgI, it is possible to prevent re-dissolution by fine particles and to produce silver halide fine particles having a small particle size. .

さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子(例えば[Fe(CN)64-)、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平11−84574号段落番号0046〜0050、特開平11−65021号段落番号0025〜0031、特開平11−119374号段落番号0242〜0250に記載されている。 Further, regarding a metal atom (for example, [Fe (CN) 6 ] 4− ), a silver halide emulsion desalting method and a chemical sensitization method that can be contained in the silver halide grains used in the present invention, JP-A-11-11 No. 84574, paragraph numbers 0046 to 0050, JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0025 to 0031, and JP-A No. 11-119374, paragraph numbers 0242 to 0250.

6)ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持することが必要であり、分子量は、10,000〜1,000,000のゼラチンを使用することが好ましい。また、ゼラチンの置換基をフタル化処理することも好ましい。これらのゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、粒子形成時に使用することが好ましい。
6) Gelatin As the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention, various gelatins can be used. It is necessary to maintain a good dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the coating solution containing an organic silver salt, and gelatin having a molecular weight of 10,000 to 1,000,000 is preferably used. It is also preferable to phthalate the gelatin substituent. These gelatins may be used at the time of grain formation or at the time of dispersion after desalting, but are preferably used at the time of grain formation.

7)増感色素
本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。増感色素及び添加法については、特開平11−65021号の段落番号0103〜0109、特開平10−186572号一般式(II)で表される化合物、特開平11−119374号の一般式(I)で表される色素及び段落番号0106、米国特許第5,510,236号、同第3,871,887号実施例5に記載の色素、特開平2−96131号、特開昭59−48753号に開示されている色素、欧州特許公開第0803764A1号の第19ページ第38行〜第20ページ第35行、特開2001−272747号、特開2001−290238号、特開2002−23306号等に記載されている。これらの増感色素は単独で用いてもよく、2種以上組合せて用いてもよい。本発明において増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、脱塩工程後、塗布までの時期が好ましく、より好ましくは脱塩後から化学熟成が終了する前までの時期である。
本発明における増感色素の添加量は、感度やかぶりの性能に合わせて所望の量にすることができるが、画像形成層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好ましく、さらに好ましくは10-4〜10-1モルである。
7) Sensitizing Dye Sensitizing dyes applicable to the present invention are those that can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and are suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. Sensitizing dyes with sensitivity can be advantageously selected. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A No. 11-65021, compounds represented by formula (II) of JP-A No. 10-186572, and formulas (I of JP-A No. 11-119374) ) And the dye described in Example 5 of U.S. Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753. No. 19, page 38 to line 20, page 35 of European Patent Publication No. 0803764A1, JP 2001-272747, JP 2001-290238, JP 2002-23306, etc. It is described in. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the time when the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion is preferably the time from the desalting step to the coating, and more preferably the time from desalting to the end of chemical ripening.
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and fogging performance, but is preferably 10 −6 to 1 mol, more preferably 1 mol per mol of silver halide in the image forming layer. Is 10 −4 to 10 −1 mol.

本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第587,338号、米国特許第3,877,943号、同第4,873,184号、特開平5−341432号、同11−109547号、同10−111543号等に記載の化合物が挙げられる。   In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 587,338, US Pat. Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A-5-341432, 11- 109547, 10-111543, etc. are mentioned.

8)化学増感
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、上記カルコゲン増感と組み合わせて金増感法にて化学増感されていてもよい。金増感剤としては、金の価数が+1価又は+3価が好ましく、金増感剤としては通常用いられる金化合物が好ましい。代表的な例としては塩化金酸、臭化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムブロロオーレート、オーリックトリクロライド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨードオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アンモニウムオーロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴールドなどが好ましい。また、米国特許第5858637号、特開2002−278016号に記載の金増感剤も好ましく用いられる。
8) Chemical sensitization The photosensitive silver halide grain in the invention may be chemically sensitized by a gold sensitization method in combination with the chalcogen sensitization. As the gold sensitizer, the gold valence is preferably +1 or +3, and the gold sensitizer is preferably a commonly used gold compound. Typical examples are chloroauric acid, bromoauric acid, potassium chloroaurate, potassium bromoaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodoaurate, tetracyanoauric acid, ammonium aurothiocyanate, pyridyltrichlorogold. Etc. are preferable. Further, gold sensitizers described in US Pat. No. 5,858,637 and JP-A No. 2002-278016 are also preferably used.

本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感後、(4)塗布直前等があり得る。
本発明で用いられる硫黄、セレン及びテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり10-8モル以上10-2モル以下、好ましくは10-7モル以上10-3モル以下程度を用いる。
金増感剤の添加量は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀1モル当たり10-7モル以上10-3モル以下、より好ましくは10-6モル以上5×10-4モル以下である。
本発明における化学増感の条件としては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとしては6〜11、温度としては40℃〜95℃程度である。
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application.
The amount of sulfur, selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but from 10 −8 mol to 10 −2 mol per mol of silver halide, Preferably, about 10 −7 mol to 10 −3 mol is used.
The amount of the gold sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guideline, it is 10 −7 mol or more and 10 −3 mol or less, more preferably 10 −6 mol or more and 5 × 10 −4 mol or less per mol of silver halide. It is.
The conditions for chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, and the temperature is about 40 ° C to 95 ° C.

本発明の化学増感剤に加えて公知の不安定硫黄化合物、不安定セレン化合物および不安定テルル化合物から任意に選択した硫黄、セレン、およびテルル増感剤を併用することができる。
本発明の化学増感時に、水溶性チオシアン酸塩(例えばチオシアン酸カリウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムなど)を用いることが好ましい。その使用量は任意に選択することができるが、ハロゲン化銀の銀1モル当たり1×10-4モル以上で、さらに1×10-3モル以上で、好ましくは2×10-3モル以上で8×10-1モル以下が、さらに3×10-3モル以上で2×10-1モル以下が、とくに5×10-3モル以上で1×10-1モル以下が好ましい。
また、本発明の熱現像感光材料は、水溶性チオシアン酸塩をハロゲン化銀1モル当たり1×10-3モル以上で、8×10-1モル以下含有することが特に好ましい。
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第293,917号公報に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
In addition to the chemical sensitizer of the present invention, sulfur, selenium and tellurium sensitizers arbitrarily selected from known labile sulfur compounds, labile selenium compounds and labile tellurium compounds can be used in combination.
In the chemical sensitization of the present invention, it is preferable to use a water-soluble thiocyanate (for example, potassium thiocyanate, sodium thiocyanate, ammonium thiocyanate, etc.). The amount used can be arbitrarily selected, but it is 1 × 10 −4 mol or more, further 1 × 10 −3 mol or more, preferably 2 × 10 −3 mol or more, per mol of silver halide. It is preferably 8 × 10 −1 mol or less, more preferably 3 × 10 −3 mol or more and 2 × 10 −1 mol or less, particularly preferably 5 × 10 −3 mol or more and 1 × 10 −1 mol or less.
The photothermographic material of the invention particularly preferably contains a water-soluble thiocyanate in an amount of 1 × 10 −3 mol or more and 8 × 10 −1 mol or less per mol of silver halide.
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method described in European Patent Publication No. 293,917.

本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、還元剤を用いることが好ましい。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、アミノイミノメタンスルフィン酸が好ましく、その他に塩化第一スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが好ましい。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でも良い。また、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することが好ましく、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することも好ましい。   A reducing agent is preferably used for the photosensitive silver halide grains in the present invention. As specific compounds for the reduction sensitization, ascorbic acid and aminoiminomethanesulfinic acid are preferable, and in addition, it is preferable to use stannous chloride, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, and the like. The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, reduction sensitization is preferable by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or pAg at 8.3 or less, and reduction sensitization is achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. It is also preferable to do.

9)1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
9) Compound in which 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation can emit 1 electron or more electrons In the photothermographic material of the present invention, 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation is 1 electron or 1 electron or more. It is preferable to contain a compound capable of emitting more electrons. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含有される1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ1、タイプ2から選ばれる化合物である。
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
The one-electron oxidant formed by one-electron oxidation contained in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is a compound selected from the following types 1 and 2 as the compound capable of emitting one electron or more. It is.
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation reaction.

まずタイプ1の化合物について説明する。
タイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子を放出し得る化合物としては、特開平9−211769号(具体例:28〜32頁の表Eおよび表Fに記載の化合物PMT−1〜S−37)、特開平9−211774号、特開平11−95355号(具体例:化合物INV1〜36)、特表2001−500996号(具体例:化合物1〜74、80〜87、92〜122)、米国特許5,747,235号、米国特許5,747,236号、欧州特許786692A1号(具体例:化合物INV1〜35)、欧州特許893732A1号、米国特許6,054,260号、米国特許5,994,051号などの特許に記載の「1光子2電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
First, the compound of type 1 will be described.
JP-A-9-211769 (specific example: 28-) is a compound that is a type 1 compound, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one electron with a subsequent bond cleavage reaction. Compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on page 32), JP-A-9-211774, JP-A-11-95355 (specific examples: compounds INV1 to 36), JP2001-500996 (Specific examples: Compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747,236, European Patent 786692A1 (Specific examples: Compounds INV 1-35), "One-photon two-electron sensitizer" or "deprotonated electron" described in patents such as European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051 Compound called Azukazo sensitizers "it can be mentioned. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

またタイプ1の化合物で、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(1)(特開2003−114487号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(2)(特開2003−114487号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(3)(特開2003−114488号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(4)(特開2003−114488号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(5)(特開2003−114488号に記載の一般式(3)と同義)、一般式(6)(特開2003−75950号に記載の一般式(1)と同義)、一般式(7)(特開2003−75950号に記載の一般式(2)と同義)、一般式(8)(特開2004−239943号に記載の一般式(1)と同義)、または化学反応式(1)(特開2004−245929号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物のうち一般式(9)(特開2004−245929号に記載の一般式(3)と同義)で表される化合物が挙げられる。またこれらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。   Further, as a compound of type 1 that can be emitted by one-electron oxidant formed by one-electron oxidation and further undergoing bond cleavage reaction, one or more electrons can be emitted from the general formula (1) ( General formula (1) described in JP-A-2003-114487), general formula (2) (synonymous with general formula (2) described in JP-A-2003-114487), general formula (3) (JP-A-2003-114487) General formula (1) described in 2003-114488), general formula (4) (synonymous with general formula (2) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488), and general formula (5) (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488). 114488 (synonymous with general formula (3)), general formula (6) (synonymous with general formula (1) described in JP-A-2003-75950), and general formula (7) (JP-A-2003-75950). In the general formula (2)), the general formula (8) (Synonymous with general formula (1) described in JP-A-2004-239943) or chemical reaction formula (1) (synonymous with chemical reaction formula (1) described in JP-A-2004-245929) Among these compounds, compounds represented by the general formula (9) (synonymous with the general formula (3) described in JP-A No. 2004-245929) can be given. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2006235396
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一般式(1)及び(2)中、RED1、RED2は還元性基を表す。R1は炭素原子(C)とRED1とともに5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、もしくはヘキサヒドロ体に相当する環状構造を形成しうる非金属原子団を表す。R2、R3、R4は水素原子または置換基を表す。Lv1、Lv2は脱離基を表す。EDは電子供与性基を表す。 In the general formulas (1) and (2), RED 1 and RED 2 represent a reducing group. R 1 is a non-metallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle) or a hexahydro form together with carbon atom (C) and RED 1. To express. R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent. Lv 1 and Lv 2 represent a leaving group. ED represents an electron donating group.

Figure 2006235396
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一般式(3)、(4)及び(5)中、Z1は窒素原子とベンゼン環の2つの炭素原子とともに6員環を形成しうる原子団を表す。R5、R6、R7、R9、R10、R11、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19は水素原子または置換基を表す。R20は水素原子または置換基を表すが、R20がアリール基以外の基を表すとき、R16、R17は互いに結合して芳香族環または芳香族ヘテロ環を形成する。R8、R12はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m1は0〜3の整数を表し、m2は0〜4の整数を表す。Lv3、Lv4、Lv5は脱離基を表す。 In the general formulas (3), (4) and (5), Z 1 represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring together with the nitrogen atom and the two carbon atoms of the benzene ring. R 5, R 6, R 7 , R 9, R 10, R 11, R 13, R 14, R 15, R 16, R 17, R 18, R 19 represents a hydrogen atom or a substituent. R 20 represents a hydrogen atom or a substituent. When R 20 represents a group other than an aryl group, R 16 and R 17 are bonded to each other to form an aromatic ring or an aromatic heterocycle. R 8 and R 12 represent a substituent that can be substituted on the benzene ring, m1 represents an integer of 0 to 3, and m2 represents an integer of 0 to 4. Lv 3 , Lv 4 and Lv 5 represent a leaving group.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(6)および(7)中、RED3、RED4は還元性基を表す。R21〜R30は水素原子または置換基を表す。Z2は−CR111112−、−NR113−、または−O−を表す。R111、R112はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。R113は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。 In general formulas (6) and (7), RED 3 and RED 4 represent a reducing group. R 21 to R 30 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 2 represents —CR 111 R 112 —, —NR 113 —, or —O—. R 111 and R 112 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R113 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(8)中、RED5は還元性基でありアリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基を表す。R31は水素原子または置換基を表す。Xはアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。Lv6は脱離基でありカルボキシ基もしくはその塩または水素原子を表す。 In the general formula (8), RED 5 is a reducing group and represents an arylamino group or a heterocyclic amino group. R 31 represents a hydrogen atom or a substituent. X represents an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. Lv 6 is a leaving group and represents a carboxy group or a salt thereof or a hydrogen atom.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(9)で表される化合物は脱炭酸を伴う2電子酸化が起こった後に、さらに酸化される事で化学反応式(1)で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式(1)中、R32、R33は水素原子または置換基を表す。Z3はC=Cとともに5員または6員のヘテロ環を形成する基を表す。Z4はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式(9)中、R32、R33、Z3は化学反応式(1)中のものと同義である。Z5はC−Cとともに5員または6員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。 The compound represented by the general formula (9) is a compound that undergoes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by further oxidation after two-electron oxidation accompanied by decarboxylation. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group which forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In the general formula (9), R 32 , R 33 and Z 3 have the same meaning as in the chemical reaction formula (1). Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C.

次にタイプ2の化合物について説明する。
タイプ2の化合物で1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成反応を伴って、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式(10)(特開2003−140287号に記載の一般式(1)と同義)、化学反応式(1)(特開2004−245929号に記載の化学反応式(1)と同義)で表される反応を起こしうる化合物であって一般式(11)(特開2004−245929号に記載の一般式(2)と同義)で表される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。
Next, the type 2 compound will be described.
As a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation with a type 2 compound can further emit one or more electrons with a subsequent bond formation reaction, a compound represented by the general formula (10) A compound capable of causing a reaction represented by the general formula (1) described in 2003-140287) and the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in JP-A-2004-245929). And a compound represented by the general formula (11) (synonymous with the general formula (2) described in JP-A No. 2004-245929). The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(10)中、RED6は1電子酸化される還元性基をあらわす。YはRED6が1電子酸化されて生成する1電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環部位を含む反応性基を表す。QはRED6とYを連結する連結基を表す。 In the general formula (10), RED 6 represents a reducing group that is one-electron oxidized. Y reacts with a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of RED 6 to form a new bond, a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or Reactive group containing a non-aromatic heterocyclic moiety of a benzo-fused ring. Q represents a linking group linking RED 6 and Y.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(11)で表される化合物は酸化される事で化学反応式(1)で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式(1)中、R32、R33は水素原子または置換基を表す。Z3はC=Cとともに5員または6員のヘテロ環を形成する基を表す。Z4はC=Cとともに5員または6員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Z5はC−Cとともに5員または6員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Mはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式(11)中、R32、R33、Z3、Z4は化学反応式(1)中のものと同義である。 The compound represented by the general formula (11) is a compound that causes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by being oxidized. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group which forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In the general formula (11), R 32 , R 33 , Z 3 and Z 4 have the same meanings as those in the chemical reaction formula (1).

タイプ1、2の化合物のうち好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。ハロゲン化銀への吸着性基とは特開2003−156823号明細書の16頁右1行目〜17頁右12行目に記載の基が代表的なものである。分光増感色素の部分構造とは同明細書の17頁右34行目〜18頁左6行目に記載の構造である。   Of the compounds of types 1 and 2, “a compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “a compound having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule” is preferable. Typical examples of the adsorptive group to silver halide are those described in JP-A No. 2003-156823, page 16, right line 1 to page 17, right line 12. The partial structure of the spectral sensitizing dye is a structure described on page 17, right line 34 to page 18, left line 6 of the same specification.

タイプ1、2の化合物として、より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を少なくとも1つ有する化合物」である。さらに好ましくは「同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物」である。吸着性基が単一分子内に2個以上存在する場合には、それらの吸着性基は同一であっても異なっても良い。   More preferably, the compound of type 1 or 2 is “a compound having at least one adsorptive group to silver halide in the molecule”. More preferred is “a compound having two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule”. When two or more adsorptive groups are present in a single molecule, these adsorptive groups may be the same or different.

吸着性基として好ましくは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズオキサゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)である。特に好ましくは、5−メルカプトテトラゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、および5−メルカプトテトラゾール基である。   The adsorptive group is preferably a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4). -Oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.) or imino silver (> NAg) And a nitrogen-containing heterocyclic group having a —NH— group as a heterocyclic partial structure (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.). Particularly preferred are 5-mercaptotetrazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and benzotriazole group, most preferred are 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.

吸着性基として、分子内に2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する場合もまた特に好ましい。ここにメルカプト基(−SH)は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基(ジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基など)の好ましい例としては、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基が挙げられる。   It is also particularly preferred that the adsorptive group has two or more mercapto groups as a partial structure in the molecule. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Preferred examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, A 5-dimercapto-1,2,4-triazole group may be mentioned.

また窒素またはリンの4級塩構造も吸着性基として好ましく用いられる。窒素の4級塩構造としては具体的にはアンモニオ基(トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)アンモニオ基など)または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。リンの4級塩構造としては、ホスホニオ基(トリアルキルホスホニオ基、ジアルキルアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、アルキルジアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基、トリアリール(またはヘテロアリール)ホスホニオ基など)が挙げられる。より好ましくは窒素の4級塩構造が用いられ、さらに好ましくは4級化された窒素原子を含む5員環あるいは6員環の含窒素芳香族ヘテロ環基が用いられる。特に好ましくはピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基が用いられる。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよい。   A quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus is also preferably used as the adsorptive group. Specific examples of the quaternary salt structure of nitrogen include an ammonio group (such as a trialkylammonio group, a dialkylaryl (or heteroaryl) ammonio group, an alkyldiaryl (or heteroaryl) ammonio group) or a quaternized nitrogen atom. A group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing The quaternary salt structure of phosphorus includes a phosphonio group (trialkylphosphonio group, dialkylaryl (or heteroaryl) phosphonio group, alkyldiaryl (or heteroaryl) phosphonio group, triaryl (or heteroaryl) phosphonio group, etc.). Can be mentioned. More preferably, a quaternary salt structure of nitrogen is used, and more preferably a 5-membered or 6-membered nitrogen-containing aromatic heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom is used. Particularly preferably, a pyridinio group, a quinolinio group, or an isoquinolinio group is used. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent.

4級塩の対アニオンの例としては、ハロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、BF4 -、PF6 -、Ph4-等が挙げられる。分子内にカルボキシレート基等に負電荷を有する基が存在する場合には、それとともに分子内塩を形成していても良い。分子内にない対アニオンとしては、塩素イオン、ブロモイオンまたはメタンスルホネートイオンが特に好ましい。 Examples of counter anions of quaternary salts include halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, sulfate ions, perchlorate ions, carbonate ions, nitrate ions, BF 4 , PF 6 , Ph 4 B − and the like. It is done. When a group having a negative charge in the carboxylate group or the like is present in the molecule, an inner salt may be formed together with the group. As the counter anion not present in the molecule, a chlorine ion, a bromo ion or a methanesulfonate ion is particularly preferable.

吸着性基として窒素またはリンの4級塩構造有するタイプ1、2で表される化合物の好ましい構造は一般式(X)で表される。   A preferred structure of the compound represented by type 1 or 2 having a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus as the adsorptive group is represented by the general formula (X).

Figure 2006235396
Figure 2006235396

一般式(X)においてP、Rはそれぞれ独立して増感色素の部分構造ではない窒素またはリンの4級塩構造を表す。Q1、Q2はそれぞれ独立して連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−O−、−S−、−NRN−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−P(=O)−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにRNは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Sはタイプ(1)または(2)で表される化合物から原子を一つ取り除いた残基である。iとjは1以上の整数であり、i+jが2〜6になる範囲から選ばれるものである。好ましくはiが1〜3、jが1〜2の場合であり、より好ましくはiが1または2、jが1の場合であり、特に好ましくはiが1、jが1の場合である。一般式(X)で表される化合物はその総炭素数が10〜100の範囲のものが好ましい。より好ましくは10〜70、さらに好ましくは11〜60であり、特に好ましくは12〜50である。 In general formula (X), P and R each independently represent a quaternary salt structure of nitrogen or phosphorus that is not a partial structure of a sensitizing dye. Q 1 and Q 2 each independently represent a linking group, specifically a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, —O—, —S—, —NR N —, —C (═O ) —, —SO 2 —, —SO—, —P (═O) — each independently or a combination of these groups. Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. S is a residue obtained by removing one atom from a compound represented by type (1) or (2). i and j are integers of 1 or more, and i + j is selected from the range of 2-6. Preferably, i is 1 to 3, and j is 1 to 2, more preferably i is 1 or 2, and j is 1, and particularly preferably i is 1 and j is 1. The compound represented by the general formula (X) preferably has a total carbon number of 10 to 100. More preferably, it is 10-70, More preferably, it is 11-60, Most preferably, it is 12-50.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は、感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することもできる。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。   The compounds of type 1 and type 2 in the present invention may be used at any time during the preparation of the photosensitive silver halide emulsion and during the process of producing the photothermographic material. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、pHを高く又は低くした方が溶解度が上がる化合物については、pHを高く又は低くして溶解し、これを添加しても良い。   The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is raised or lowered may be dissolved at a higher or lower pH and added.

本発明におけるタイプ1、タイプ2の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。これらの化合物の添加時期は、増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×10-9モル〜5×10-1モル、更に好ましくは1×10-8モル〜5×10-2モルの割合でハロゲン化銀乳剤層(画像形成層)に含有する。 The compounds of type 1 and type 2 in the present invention are preferably used in an image forming layer containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but the photosensitive silver halide and the non-photosensitive organic silver salt are used. It may be added to the protective layer and the intermediate layer together with the image forming layer containing, and diffused during coating. The addition timing of these compounds is preferably 1 × 10 −9 mol to 5 × 10 −1 mol, more preferably 1 × 10 −8 mol, per mol of silver halide, regardless of before and after the sensitizing dye. It is contained in a silver halide emulsion layer (image forming layer) at a ratio of ˜5 × 10 −2 mol.

10)吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物
本発明においては、分子内にハロゲン化銀への吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物を含有させることが好ましい。本吸着性レドックス化合物は下記式(I)で表される化合物であることが好ましい。
10) Adsorbing redox compound having an adsorbing group and a reducing group In the present invention, it is preferable to contain an adsorbing redox compound having an adsorbing group and a reducing group for silver halide in the molecule. The adsorptive redox compound is preferably a compound represented by the following formula (I).

式(I) A−(W)n−B
式(I)中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基(以後、吸着基と呼ぶ)を表し、Wは2価の連結基を表し、nは0又は1を表し、Bは還元基を表す。
Formula (I) A- (W) n-B
In formula (I), A represents a group that can be adsorbed to silver halide (hereinafter referred to as an adsorbing group), W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reducing group. To express.

式(I)中、Aで表される吸着基とはハロゲン化銀に直接吸着する基、又はハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(又はその塩)、チオン基(−C(=S)−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、ジスルフィド基、カチオン性基、又はエチニル基等が挙げられる。   In the formula (I), the adsorption group represented by A is a group that directly adsorbs to silver halide, or a group that promotes adsorption to silver halide, and specifically, a mercapto group (or a salt thereof). , A thione group (—C (═S) —), a heterocyclic group, a sulfide group, a disulfide group, a cationic group, or an ethynyl group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom Etc.

吸着基としてメルカプト基(又はその塩)とは、メルカプト基(又はその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも1つのメルカプト基(又はその塩)の置換したヘテロ環基又はアリール基又はアルキル基を表す。ここにヘテロ環基とは、少なくとも5員〜7員の、単環若しくは縮合環の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また4級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていても良い。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+、Zn2+等)、アンモニウムイオン、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
吸着基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていても良い。
吸着基としてチオン基とは、鎖状若しくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、又はジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
吸着基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、又は配位結合で銀イオンに配位し得る、”−S−”基又は”−Se−”基又は”−Te−”基又は”=N−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンゾセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンゾテルルアゾール基などが挙げられる。
吸着基としてスルフィド基又はジスルフィド基とは、−S−、又は−S−S−の部分構造を有する基すべてが挙げられる。
吸着基としてカチオン性基とは、4級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基又は4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。
吸着基としてエチニル基とは、−C≡CH基を意味し、該水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着基は任意の置換基を有していてもよい。
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof) or Represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is at least a 5- to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring. Group, benzothiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, And triazine ring group. Moreover, the heterocyclic group containing the quaternized nitrogen atom may be sufficient, and in this case, the substituted mercapto group may dissociate and it may become a meso ion. When the mercapto group forms a salt, the counter ion includes a cation such as alkali metal, alkaline earth metal, heavy metal (Li + , Na + , K + , Mg 2+ , Ag + , Zn 2+, etc.), ammonium ion Examples thereof include a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, a phosphonium ion, and the like.
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group.
The thione group as an adsorptive group includes a chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group.
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group, or a “═N—” group that can be coordinated to a silver ion by a coordination bond. A heterocyclic group having a partial structure of benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, etc. , Thiazole group, oxazole group, benzothiophene group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, tri Jin group, seleno azole group, benzoselenazole group, tellurium azole group, such as benzo tellurium azole group.
Examples of the sulfide group or disulfide group as the adsorptive group include all groups having a partial structure of -S- or -SS-.
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like.
An ethynyl group as an adsorbing group means a —C≡CH group, and the hydrogen atom may be substituted.
The adsorbing group may have an arbitrary substituent.

さらに吸着基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書p4〜p7に記載されているものが挙げられる。   Further, specific examples of the adsorbing group include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.

式(I)中、Aで表される吸着基として好ましいものは、メルカプト置換ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズイミダゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−チアゾール基など)、又はイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)であり、さらに好ましい吸着基は2−メルカプトベンズイミダゾール基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基である。   In the formula (I), preferred as the adsorptive group represented by A is a mercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 2-mercapto-5-aminothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4). -Triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzimidazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group), or Nitrogen-containing heterocyclic group having —NH— group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of heterocyclic ring (for example, benzotriazo Group, benzimidazole group, an indazole group), more preferable as an adsorptive group is a 2-mercaptobenzimidazole group, a 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group.

式(I)中、Wは2価の連結基を表す。該連結基は写真性に悪影響を与えないものであればどのようなものでも構わない。例えば炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される2価の連結基が利用できる。具体的には炭素数1〜20のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等)、炭素数2〜20のアルケニレン基、炭素数2〜20のアルキニレン基、炭素数6〜20のアリーレン基(例えばフェニレン基、ナフチレン基等)、−CO−、−SO2−、−O−、−S−、−NR1−、これらの連結基の組み合わせ等があげられる。ここでR1は水素原子、アルキル基、ヘテロ環基、アリール基を表わす。
Wで表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。
In formula (I), W represents a divalent linking group. Any linking group may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a divalent linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom can be used. Specifically, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, etc.), an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms. , An arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthylene group, etc.), —CO—, —SO 2 —, —O—, —S—, —NR 1 —, combinations of these linking groups, and the like. It is done. Here, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a heterocyclic group, or an aryl group.
The linking group represented by W may have an arbitrary substituent.

式(I)中、Bで表される還元基とは銀イオンを還元可能な基を表し、例えばホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの3重結合基、メルカプト基、ヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシウレタン類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類(レダクトン誘導体を含む)、アニリン類、フェノール類(クロマン−6−オール類、2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−オール類、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類、及びハイドロキノン類、カテコール類、レゾルシノール類、ベンゼントリオール類、ビスフェノール類のようなポリフェノール類を含む)、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、3−ピラゾリドン類等から水素原子を1つ除去した残基が挙げられる。もちろん、これらは任意の置換基を有していても良い。   In the formula (I), the reducing group represented by B represents a group capable of reducing silver ions, for example, a triple bond group such as formyl group, amino group, acetylene group or propargyl group, mercapto group, hydroxylamines. Hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxyurethanes, hydroxysemicarbazides, reductones (including reductone derivatives), anilines, phenols (chroman-6-ols, 2,3-dihydrobenzofuran-5-ols, (Including aminophenols, sulfonamidophenols, and hydroquinones, catechols, resorcinols, polyphenols such as benzenetriols, bisphenols), acylhydrazines, carbamoylhydrazines, 3-pyrazolidones, etc. Residue with one removed And the like. Of course, these may have an arbitrary substituent.

式(I)中、Bで表される還元基はその酸化電位を、藤嶋昭著「電気化学測定法」(150−208頁、技報堂出版)や日本化学会編著「実験化学講座」第4版(9巻282−344頁、丸善)に記載の測定法を用いて測定することができる。例えば回転ディスクボルタンメトリーの技法で、具体的には試料をメタノール:pH6.5 ブリトン−ロビンソン緩衝液(Britton−Robinson buffer)=10%:90%(容量%)の溶液に溶解し、10分間窒素ガスを通気した後、グラッシーカーボン製の回転ディスク電極(RDE)を作用電極に用い、白金線を対極に用い、飽和カロメル電極を参照電極に用いて、25℃、1000回転/分、20mV/秒のスイープ速度で測定できる。得られたボルタモグラムから半波電位(E1/2)を求めることができる。
本発明におけるBで表される還元基は上記測定法で測定した場合、その酸化電位が約−0.3V〜約1.0Vの範囲にあることが好ましい。より好ましくは約−0.1V〜約0.8Vの範囲であり、特に好ましくは約0V〜約0.7Vの範囲である。
In the formula (I), the reducing group represented by B shows its oxidation potential by Akira Fujishima “Electrochemical measurement method” (pages 150-208, published by Gihodo) or “The Experimental Chemistry Course” edited by the Chemical Society of Japan, 4th edition ( 9 pages 282-344, Maruzen). For example, by rotating disk voltammetry, specifically, a sample is dissolved in a solution of methanol: pH 6.5 Briton-Robinson buffer = 10%: 90% (volume%), and nitrogen gas is used for 10 minutes. , A glassy carbon rotating disk electrode (RDE) is used as a working electrode, a platinum wire is used as a counter electrode, a saturated calomel electrode is used as a reference electrode, 25 ° C., 1000 rev / min, 20 mV / sec. Can be measured at sweep speed. A half-wave potential (E1 / 2) can be obtained from the obtained voltammogram.
In the present invention, the reducing group represented by B preferably has an oxidation potential in the range of about -0.3 V to about 1.0 V when measured by the above measurement method. More preferably, it is in the range of about -0.1V to about 0.8V, and particularly preferably in the range of about 0V to about 0.7V.

式(I)中、Bで表される還元基は好ましくはヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類、フェノール類、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、3−ピラゾリドン類から水素原子を1つ除去した残基である。   In the formula (I), the reducing group represented by B is preferably selected from hydroxylamines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxysemicarbazides, reductones, phenols, acylhydrazines, carbamoylhydrazines, and 3-pyrazolidones. A residue obtained by removing one hydrogen atom.

本発明における式(I)の化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基又はポリマー鎖が組み込まれているものでもよい。またポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げられる。   The compound of the formula (I) in the present invention may be one in which a ballast group or polymer chain commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is incorporated. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.

本発明における式(I)の化合物はビス体、トリス体であっても良い。本発明における式(I)の化合物の分子量は好ましくは100〜10000の間であり、より好ましくは120〜1000の間であり、特に好ましくは150〜500の間である。   The compound of the formula (I) in the present invention may be a bis form or a tris form. The molecular weight of the compound of formula (I) in the present invention is preferably between 100 and 10000, more preferably between 120 and 1000, particularly preferably between 150 and 500.

以下に本発明における式(I)の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of the compound of formula (I) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

さらに欧州特許1308776A2号明細書p73〜p87に記載の具体的化合物1〜30、1”−1〜1”−77も本発明における吸着基と還元性基を有する化合物の好ましい例として挙げられる。   Furthermore, specific compounds 1 to 30 and 1 ″ -1 to 1 ″ -77 described in European Patent No. 1308776A2 p73 to p87 are also preferable examples of the compound having an adsorbing group and a reducing group in the present invention.

これらの化合物は公知の方法にならって容易に合成することができる。本発明における式(I)の化合物は、一種類の化合物を単独で用いてもよいが、同時に2種以上の化合物を用いることも好ましい。2種類以上の化合物を用いる場合、それらは同一層に添加しても、別層に添加してもよく、またそれぞれ添加方法が異なっていてもよい。   These compounds can be easily synthesized according to known methods. As the compound of the formula (I) in the present invention, one kind of compound may be used alone, but it is also preferred to use two or more kinds of compounds at the same time. When two or more kinds of compounds are used, they may be added in the same layer or in different layers, and the addition method may be different.

本発明における式(I)の化合物は、ハロゲン化銀乳剤層(画像形成層)に添加されることが好ましく、乳剤調製時に添加することがより好ましい。乳剤調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。また画像形成層に使用するのが好ましいが、画像形成層とともに隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には感光性ハロゲン化銀1モル当たり、1×10-6モル以上1モル以下、好ましくは1×10-5モル以上5×10-1モル以下、さらに好ましくは1×10-4モル以上1×10-1モル以下である。
The compound of the formula (I) in the present invention is preferably added to the silver halide emulsion layer (image forming layer), and more preferably added during preparation of the emulsion. When added at the time of emulsion preparation, it can be added at any time during the process. For example, silver halide grain formation process, before desalting process start, desalting process, chemical ripening Examples include a step before starting, a chemical ripening step, and a step before preparing a finished emulsion. Moreover, it can also add in several steps in these processes. Although it is preferably used for the image forming layer, it may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the image forming layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of the compound to be added, but generally 1 × 10 −6 mol to 1 mol, preferably 1 × 10 −5 mol per mol of photosensitive silver halide. The amount is 5 × 10 −1 mol or less, more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −1 mol or less.

本発明における式(I)の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸又は塩基によってpHを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。   The compound of the formula (I) in the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.

11)ハロゲン化銀の複数併用
本発明に用いられる熱現像感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭57−119341号、同53−106125号、同47−3929号、同48−55730号、同46−5187号、同50−73627号、同57−150841号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
11) Combination of a plurality of silver halides The photosensitive silver halide emulsion in the photothermographic material used in the invention may be only one kind, or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes or different halogen compositions). Those having different crystal habits, those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. As techniques relating to these, there are JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841, and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.

12)塗布量
感光性ハロゲン化銀の添加量は、感材1m2当たりの塗布銀量で示して、0.03g/m2以上0.6g/m2以下であることが好ましく、0.05g/m2以上0.4g/m2以下であることがさらに好ましく、0.07g/m2以上0.3g/m2以下であることが最も好ましく、有機銀塩1モルに対しては、感光性ハロゲン化銀は0.01モル以上0.5モル以下が好ましく、より好ましくは0.02モル以上0.3モル以下、さらに好ましくは0.03モル以上0.2モル以下である。
12) Coating amount The addition amount of the photosensitive silver halide is preferably 0.03 g / m 2 or more and 0.6 g / m 2 or less, expressed as the coating silver amount per 1 m 2 of the light-sensitive material. / M 2 or more and 0.4 g / m 2 or less is more preferable, and 0.07 g / m 2 or more and 0.3 g / m 2 or less is most preferable. The functional silver halide is preferably from 0.01 mol to 0.5 mol, more preferably from 0.02 mol to 0.3 mol, and still more preferably from 0.03 mol to 0.2 mol.

13)感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。また、混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法である。
13) Mixing of photosensitive silver halide and organic silver salt Regarding the mixing method and mixing conditions of separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the silver halide grains and the organic silver salt that were prepared are respectively stirred at high speed. Prepare an organic silver salt by mixing with a machine, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc., or by mixing photosensitive silver halide that has been prepared at any time during the preparation of the organic silver salt However, there is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. In addition, mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a preferred method for adjusting photographic characteristics.

14)ハロゲン化銀の塗布液への混合
ハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
14) Mixing of silver halide into coating solution The preferred addition time of silver halide into the image forming layer coating solution is from 180 minutes before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. The method and mixing conditions are not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is the desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's "Liquid Mixing Technology" (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), translated by Koji Takahashi.

(バインダーの説明)
本発明における画像形成層のバインダーは、いかなるポリマーを使用してもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ(ビニルアルコール)類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ(ビニルピロリドン)類、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)類、ポリ(メチルメタクリル酸)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(メタクリル酸)類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(オレフィン)類、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒又はエマルションから被覆形成してもよい。
(Description of binder)
Any polymer may be used as the binder of the image-forming layer in the present invention. Suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, and are natural resins, polymers and copolymers, synthetic resins, polymers and copolymers, and other films. Forming media such as gelatins, gums, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) , Poly (methyl methacrylic acid) s, poly (vinyl chloride) s, poly (methacrylic acid) s, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers, Poly (vinyl acetal) s (for example, poly (vinyl acetal) (Formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be formed from water, an organic solvent or an emulsion.

本発明では、有機銀塩を含有する層に併用できるバインダーのガラス転移温度は0℃以上80℃以下である(以下、高Tgバインダーということあり)ことが好ましく、10℃〜70℃であることがより好ましく、15℃以上60℃以下であることが更に好ましい。   In the present invention, the glass transition temperature of the binder that can be used in combination with the layer containing the organic silver salt is preferably 0 ° C. or higher and 80 ° C. or lower (hereinafter sometimes referred to as a high Tg binder), and preferably 10 ° C. to 70 ° C. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 15 degreeC or more and 60 degrees C or less.

なお、本明細書においてTgは下記の式で計算した。
1/Tg=Σ(Xi/Tgi)
ここでは、ポリマーはi=1からnまでのn個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの質量分率(ΣXi=1)、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度(絶対温度)である。ただしΣはi=1からnまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値(Tgi)はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup,E.H.Immergut著(Wiley−Interscience、1989))の値を採用した。
In this specification, Tg was calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the mass fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n. The homopolymer glass transition temperature value (Tgi) of each monomer was the value of Polymer Handbook (3rd Edition) (by J. Brandrup, EH Immergut (Wiley-Interscience, 1989)).

バインダーは必要に応じて2種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が20℃以上のものとガラス転移温度が20℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Tgの異なるポリマーを2種以上ブレンドして使用する場合には、その質量平均Tgが上記の範囲にはいることが好ましい。   Two or more binders may be used in combination as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more types of polymers having different Tg are blended, the mass average Tg is preferably within the above range.

本発明においては、画像形成層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布、乾燥して被膜を形成させることが好ましい。
本発明においては、画像形成層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに画像形成層のバインダーが水系溶媒(水溶媒)に可溶又は分散可能である場合に、特に25℃60%RHでの平衡含水率が2質量%以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。最も好ましい形態は、イオン伝導度が2.5mS/cm以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
In the present invention, it is preferable that the image forming layer is coated and dried using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water to form a film.
In the present invention, when the image forming layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the image forming layer is further added to an aqueous solvent (aqueous solvent). When it is soluble or dispersible, the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium water content of 2 mass% or less at 25 ° C. and 60% RH. The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of purifying using a separation functional membrane after polymer synthesis.

ここでいう前記ポリマーが可溶又は分散可能である水系溶媒とは、水又は水に70質量%以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドなどを挙げることができる。   The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water and 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and propyl alcohol, cellosolvs such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, ethyl acetate, and dimethylformamide.

なお、ポリマーが熱力学的に溶解しておらず、いわゆる分散状態で存在している系の場合にも、ここでは水系溶媒という言葉を使用する。   In the case of a system in which the polymer is not dissolved thermodynamically and exists in a so-called dispersed state, the term aqueous solvent is used here.

また「25℃60%RHにおける平衡含水率」とは、25℃60%RHの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの質量W1と25℃で絶乾状態にあるポリマーの質量W0を用いて以下のように表すことができる。
25℃60%RHにおける平衡含水率={(W1−W0)/W0}×100(質量%)
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” is the following using the mass W1 of the polymer in a humidity-controlled equilibrium under an atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the mass W0 of the polymer in an absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH = {(W1−W0) / W0} × 100 (mass%)

含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座14、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)を参考にすることができる。   For the definition and measurement method of moisture content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Society of Polymer Sciences, Jinshokan) can be referred to.

本発明におけるバインダーポリマーの25℃60%RHにおける平衡含水率は、2質量%以下であることが好ましいが、より好ましくは0.01質量%以上1.5質量%以下、さらに好ましくは0.02質量%以上1質量%以下が望ましい。   The equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH of the binder polymer in the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or less, and still more preferably 0.02%. Desirably, the content is from 1% by mass to 1% by mass.

本発明においては水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態又はミセルを形成して分散しているものなどいずれでもよいが、ラテックス分散した粒子がより好ましい。分散粒子の平均粒径は1nm以上50000nm以下、好ましくは5nm以上1000nm以下の範囲で、より好ましくは10nm以上500nm以下の範囲、さらに好ましくは50nm以上200nm以下の範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。単分散の粒径分布を持つものを2種以上混合して使用することも塗布液の物性を制御する上で好ましい使用法である。   In the present invention, a polymer dispersible in an aqueous solvent is particularly preferred. Examples of the dispersed state may be either latex in which fine particles of water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed or polymer molecules dispersed in a molecular state or forming micelles. preferable. The average particle size of the dispersed particles is 1 nm or more and 50000 nm or less, preferably 5 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 10 nm or more and 500 nm or less, and further preferably 50 nm or more and 200 nm or less. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution. Mixing two or more types having a monodispersed particle size distribution is also a preferable method for controlling the physical properties of the coating solution.

本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ(エステル)類、ゴム類(例えばSBR樹脂)、ポリ(ウレタン)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(オレフィン)類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分子量は数平均分子量で5000以上1000000以下、好ましくは10000以上200000以下がよい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。また、架橋性のポリマーラッテクスは特に好ましく使用される。   In the present invention, preferred embodiments of the polymer that can be dispersed in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (eg, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of these polymers is 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000 in terms of number average molecular weight. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable. A crosslinkable polymer latex is particularly preferably used.

(ラテックスの具体例)
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量%、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Tgはガラス転移温度を表す。
(Specific examples of latex)
Specific examples of the preferred polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkable and the molecular weight description was omitted. Tg represents the glass transition temperature.

・P−1;−MMA(70)−EA(27)−MAA(3)−のラテックス(分子量37000、Tg61℃)
・P−2;−MMA(70)−2EHA(20)−St(5)−AA(5)−のラテックス(分子量40000、Tg59℃)
・P−3;−St(50)−Bu(47)−MAA(3)−のラテックス(架橋性、Tg−17℃)
・P−4;−St(68)−Bu(29)−AA(3)−のラテックス(架橋性、Tg17℃)
・P−5;−St(71)−Bu(26)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg24℃)
・P−6;−St(70)−Bu(27)−IA(3)−のラテックス(架橋性)
・P−7;−St(75)−Bu(24)−AA(1)−のラテックス(架橋性、Tg29℃)
・P−8;−St(60)−Bu(35)−DVB(3)−MAA(2)−のラテックス(架橋性)
・P−9;−St(70)−Bu(25)−DVB(2)−AA(3)−のラテックス(架橋性)
・P−10;−VC(50)−MMA(20)−EA(20)−AN(5)−AA(5)−のラテックス(分子量80000)
・P−11;−VDC(85)−MMA(5)−EA(5)−MAA(5)−のラテックス(分子量67000)
・P−12;−Et(90)−MAA(10)−のラテックス(分子量12000)
・P−13;−St(70)−2EHA(27)−AA(3)のラテックス(分子量130000、Tg43℃)
・P−14;−MMA(63)−EA(35)−AA(2)のラテックス(分子量33000、Tg47℃)
・P−15;−St(70.5)−Bu(26.5)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg23℃)
・P−16;−St(69.5)−Bu(27.5)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg20.5℃)
・P−17;−St(61.3)−イソプレン(35.5)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg17℃)
・P−18;−St(67)−イソプレン(28)−Bu(2)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg27℃)
-P-1; latex of -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-(molecular weight 37000, Tg 61 ° C.)
-Latex of P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000, Tg 59 ° C.)
-P-3; Latex of -St (50) -Bu (47) -MAA (3)-(crosslinkability, Tg-17 ° C)
-P-4; Latex of -St (68) -Bu (29) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 17 ° C)
-P-5; Latex of -St (71) -Bu (26) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 24 ° C)
-P-6; -St (70) -Bu (27) -IA (3)-latex (crosslinkable)
-P-7; Latex of -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(crosslinkability, Tg 29 ° C.)
-P-8; Latex (crosslinkability) of -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-
-Latex (crosslinkable) of P-9; -St (70) -Bu (25) -DVB (2) -AA (3)-
-Latex (molecular weight 80000) of P-10; -VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-
-Latex of P-11; -VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-(molecular weight 67000)
-P-12; -Et (90) -MAA (10)-latex (molecular weight 12000)
-P-13; -St (70) -2EHA (27) -AA (3) latex (molecular weight 130000, Tg 43 ° C)
-P-14; -MMA (63) -EA (35) -AA (2) latex (molecular weight 33000, Tg 47 ° C.)
-P-15; Latex of -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 23 ° C.)
-P-16; Latex of -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 20.5 ° C)
・ P-17; Latex of -St (61.3) -isoprene (35.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg17 ° C)
-P-18; Latex of -St (67) -isoprene (28) -Bu (2) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 27 ° C.)

上記構造の略号は以下のモノマーを表す。MMA;メチルメタクリレート,EA;エチルアクリレート、MAA;メタクリル酸,2EHA;2−エチルヘキシルアクリレート,St;スチレン,Bu;ブタジエン,AA;アクリル酸,DVB;ジビニルベンゼン,VC;塩化ビニル,AN;アクリロニトリル,VDC;塩化ビニリデン,Et;エチレン,IA;イタコン酸。   The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; Methyl methacrylate, EA; Ethyl acrylate, MAA; Methacrylic acid, 2EHA; 2-Ethylhexyl acrylate, St; Styrene, Bu; Butadiene, AA; Acrylic acid, DVB; Divinylbenzene, VC; Vinyl chloride, AN; Acrylonitrile, VDC Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.

以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンA−4635,4718,4601(以上、ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、857(以上、日本ゼオン(株)製)など、ポリ(エステル)類の例としては、FINETEX ES650、611、675、850(以上、大日本インキ化学(株)製)、WD−size、WMS(以上、イーストマンケミカル製)など、ポリ(ウレタン)類の例としては、HYDRAN AP10、20、30、40(以上、大日本インキ化学(株)製)など、ゴム類の例としては、LACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C(以上、大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、410、438C、2507(以上、日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニル)類の例としては、G351、G576(以上、日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニリデン)類の例としては、L502、L513(以上、旭化成工業(株)製)など、ポリ(オレフィン)類の例としては、ケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙げることができる。   The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of the acrylic polymer include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), etc. Examples of poly (esters) include poly (urethane) such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (above, manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (above, manufactured by Eastman Chemical). Examples of rubbers include HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), and examples of rubbers include LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (above, Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.). (Made by Co., Ltd.), Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (above, Nippon Zeo) As examples of poly (vinyl chloride) such as G351 and G576 (above, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), examples of poly (vinylidene chloride) such as L502, L513 (above Examples of poly (olefin) s such as Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. include Chemipearl S120 and SA100 (above Mitsui Petrochemical Co., Ltd.).

これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドしてもよい。   These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.

(好ましいラテックス)
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン−ブタジエン共重合体のもしくはスチレン−イソプレン共重合体ラテックスが好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との質量比は40:60〜95:5であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は60〜99質量%であることが好ましい。また、本発明におけるポリマーラッテクスは、アクリル酸又はメタクリル酸をスチレンとブタジエンの和に対して1〜6質量%含有することが好ましく、より好ましくは2〜5質量%含有する。本発明におけるポリマーラテックスは、アクリル酸を含有することが好ましい。好ましいモノマー含量の範囲は前記と同様である。また、スチレン−イソプレン共重合体における共重合体比などはスチレン−ブタジエン共重合体の場合と同じである。
(Preferred latex)
The polymer latex used in the present invention is particularly preferably a styrene-butadiene copolymer or a styrene-isoprene copolymer latex. The mass ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by mass. Moreover, it is preferable that the polymer latex in this invention contains 1-6 mass% of acrylic acid or methacrylic acid with respect to the sum of styrene and butadiene, More preferably, it contains 2-5 mass%. The polymer latex in the present invention preferably contains acrylic acid. The preferable range of the monomer content is the same as described above. The copolymer ratio in the styrene-isoprene copolymer is the same as that in the styrene-butadiene copolymer.

本発明に用いることが好ましいスチレン−ブタジエン酸共重合体のラテックスとしては、前記のP−3〜P−9,15、市販品であるLACSTAR−3307B、7132C、Nipol Lx416等が挙げられる。また、スチレン−イソプレン共重合体の例としては前記のP−16、17が挙げられる。   Examples of latexes of styrene-butadiene acid copolymer that are preferably used in the present invention include the aforementioned P-3 to P-9,15, commercially available LACSTAR-3307B, 7132C, Nipol Lx416, and the like. Examples of the styrene-isoprene copolymer include the aforementioned P-16 and 17.

本発明の熱現像感光材料の画像形成層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は画像形成層の全バインダーの30質量%以下、より好ましくは20質量%以下が好ましい。   If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose may be added to the image forming layer of the photothermographic material of the invention. The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the image forming layer.

本発明における有機銀塩含有層(即ち、画像形成層)は、ポリマーラテックスを用いて形成されたものが好ましい。画像形成層のバインダーの量は、全バインダー/有機銀塩の質量比が1/10〜10/1、より好ましくは1/3〜5/1の範囲、さらに好ましくは1/1〜3/1の範囲である。   The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) in the present invention is preferably formed using a polymer latex. The amount of binder in the image forming layer is such that the total binder / organic silver salt mass ratio is 1/10 to 10/1, more preferably 1/3 to 5/1, and still more preferably 1/1 to 3/1. Range.

また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層(画像形成層)でもあり、このような場合の、全バインダー/ハロゲン化銀の質量比は400〜5、より好ましくは200〜10の範囲である。   Further, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (image forming layer) containing a photosensitive silver halide that is a photosensitive silver salt. The mass ratio of silver halide is 400-5, more preferably 200-10.

本発明における画像形成層の全バインダー量は、好ましくは0.2g/m2以上30g/m2以下、より好ましくは1g/m2以上15g/m2以下、さらに好ましくは2g/m2以上10g/m2以下の範囲である。本発明における画像形成層には、架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。 The total binder amount of the image forming layer in the present invention is preferably 0.2 g / m 2 or more and 30 g / m 2 or less, more preferably 1 g / m 2 or more and 15 g / m 2 or less, and further preferably 2 g / m 2 or more and 10 g. / M 2 or less. In the image forming layer of the present invention, a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added.

(好ましい塗布液の溶媒)
本発明において熱現像感光材料の画像形成層塗布液の溶媒(ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。)は、水を30質量%以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。塗布液の溶媒の水含有率は50質量%以上、より好ましくは70質量%以上が好ましい。好ましい溶媒組成の例を挙げると、水の他、水/メチルアルコール=90/10、水/メチルアルコール=70/30、水/メチルアルコール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メチルアルコール/エチルセロソルブ=85/10/5、水/メチルアルコール/イソプロピルアルコール=85/10/5などがある(数値は質量%)。
(Preferable solvent for coating solution)
In the present invention, the solvent of the image forming layer coating solution of the photothermographic material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent of the coating solution is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. Examples of preferred solvent compositions include water, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl alcohol / There are ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical value is mass%).

(かぶり防止剤の説明)
本発明に用いることのできるかぶり防止剤、安定剤及び安定剤前駆体は特開平10−62899号の段落番号0070、欧州特許公開第0803764A1号の第20頁第57行〜第21頁第7行に記載の特許のもの、特開平9−281637号、同9−329864号記載の化合物、米国特許6,083,681号、欧州特許1048975号に記載の化合物が挙げられる。
(Description of antifogging agent)
Antifogging agents, stabilizers and stabilizer precursors that can be used in the present invention are paragraph No. 0070 of JP-A No. 10-62899, European Patent Publication No. 0803764A, page 20, line 57 to page 21, line 7. And the compounds described in JP-A-9-281737 and JP-A-9-329864, and the compounds described in US Pat. No. 6,083,681 and European Patent 1048875.

(ポリハロゲン化合物の説明)
以下、本発明で用いることができる好ましい有機ポリハロゲン化合物について具体的に説明する。本発明における好ましいポリハロゲン化合物は下記一般式(H)で表される化合物である。
一般式(H)
Q−(Y)n−C(Z1)(Z2)X
一般式(H)において、Qはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Yは2価の連結基を表し、nは0〜1を表し、Z1及びZ2はハロゲン原子を表し、Xは水素原子又は電子求引性基を表す。
一般式(H)においてQは好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は窒素原子を少なくとも一つ含むヘテロ環基(ピリジン、キノリン基等)である。
一般式(H)において、Qがアリール基である場合、Qは好ましくはハメットの置換基定数σpが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207−1216等を参考にすることができる。このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子、電子求引性基で置換されたアルキル基、電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基等があげられる。電子求引性基として特に好ましいのは、ハロゲン原子、カルバモイル基、アリールスルホニル基であり、特にカルバモイル基が好ましい。
Xは好ましくは電子求引性基である。好ましい電子求引性基は、ハロゲン原子、脂肪族・アリール若しくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリール若しくは複素環アシル基、脂肪族・アリール若しくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、カルバモイル基であり、特に好ましくは臭素原子である。
1及びZ2は好ましくは臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは臭素原子である。
Yは好ましくは−C(=O)−、−SO−、−SO2−、−C(=O)N(R)−、−SO2N(R)−を表し、より好ましくは−C(=O)−、−SO2−、−C(=O)N(R)−であり、特に好ましくは−SO2−、−C(=O)N(R)−である。ここでいうRとは水素原子、アリール基又はアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又はアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
nは、0又は1を表し、好ましくは1である。
一般式(H)において、Qがアルキル基の場合、好ましいYは−C(=O)N(R)−であり、Qがアリール基又はヘテロ環基の場合、好ましいYは−SO2−である。
一般式(H)において、該化合物から水素原子を取り去った残基が互いに結合した形態(一般にビス型、トリス型、テトラキス型と呼ぶ)も好ましく用いることができる。
一般式(H)において、解離性基(例えばCOOH基又はその塩、SO3H基又はその塩、PO3H基又はその塩等)、4級窒素カチオンを含む基(例えばアンモニウム基、ピリジニウム基等)、ポリエチレンオキシ基、水酸基等を置換基に有するものも好ましい形態である。
(Description of polyhalogen compounds)
Hereinafter, preferred organic polyhalogen compounds that can be used in the present invention will be specifically described. A preferred polyhalogen compound in the present invention is a compound represented by the following general formula (H).
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z 1 ) (Z 2 ) X
In General Formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 to 1 , Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
In the general formula (H), Q is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or a heterocyclic group containing at least one nitrogen atom (pyridine, quinoline group, etc.).
In the general formula (H), when Q is an aryl group, Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-withdrawing group having a positive Hammett's substituent constant σp. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to. Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom, an alkyl group substituted with an electron withdrawing group, an aryl group substituted with an electron withdrawing group, a heterocyclic group, an alkyl or arylsulfonyl group, acyl Group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group and the like. Particularly preferred as the electron withdrawing group are a halogen atom, a carbamoyl group and an arylsulfonyl group, and a carbamoyl group is particularly preferred.
X is preferably an electron withdrawing group. Preferred electron withdrawing groups are halogen atoms, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl groups, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl groups, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, More preferred are a halogen atom and a carbamoyl group, and particularly preferred is a bromine atom.
Z 1 and Z 2 are preferably a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a bromine atom.
Y preferably represents -C (= O) -, - SO -, - SO 2 -, - C (= O) N (R) -, - SO 2 N (R) - , more preferably -C ( ═O) —, —SO 2 —, —C (═O) N (R) —, and particularly preferably —SO 2 —, —C (═O) N (R) —. R here represents a hydrogen atom, an aryl group or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
n represents 0 or 1, and is preferably 1.
In General Formula (H), when Q is an alkyl group, preferred Y is —C (═O) N (R) —, and when Q is an aryl group or a heterocyclic group, preferred Y is —SO 2 —. is there.
In the general formula (H), a form in which residues obtained by removing a hydrogen atom from the compound are bonded to each other (generally referred to as bis type, tris type, tetrakis type) can also be preferably used.
In the general formula (H), a dissociable group (for example, a COOH group or a salt thereof, a SO 3 H group or a salt thereof, a PO 3 H group or a salt thereof), a group containing a quaternary nitrogen cation (for example, an ammonium group or a pyridinium group) Etc.), those having a polyethyleneoxy group, a hydroxyl group or the like as a substituent are also preferred.

以下に本発明における一般式(H)の化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound represented by formula (H) in the present invention are shown below.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

Figure 2006235396
Figure 2006235396

上記以外の本発明に用いることができるポリハロゲン化合物としては、US3874946号、US4756999号、US5340712号、US5369000号、US5464737号、US6506548号、特開昭50−137126号、同50−89020号、同50−119624号、同59−57234号、特開平7−2781号、同7−5621号、同9−160164号、同9−244177号、同9−244178号、同9−160167号、同9−319022号、同9−258367号、同9−265150号、同9−319022号、同10−197988号、同10−197989号、同11−242304号、特開2000−2963、特開2000−112070、特開2000−284410、特開2000−284412、特開2001−33911、特開2001−31644、特開2001−312027号、特開2003−50441号明細書の中で当該発明の例示化合物として挙げられている化合物が好ましく用いられるが、特に特開平7−2781号、特開2001−33911、特開2001−312027号に具体的に例示されている化合物が好ましい。
本発明における一般式(H)で表される化合物は画像形成層の非感光性銀塩1モルあたり、10-4モル以上1モル以下の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10-3モル以上0.5モル以下の範囲で、さらに好ましくは1×10-2モル以上0.2モル以下の範囲で使用することが好ましい。
本発明において、かぶり防止剤を熱現像感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられ、有機ポリハロゲン化合物についても固体微粒子分散物で添加することが好ましい。
As polyhalogen compounds that can be used in the present invention other than those described above, US Pat. No. 3,874,946, US Pat. No. 4,756,999, US Pat. No. 5,340,712, US Pat. 119624, 59-57234, JP-A-7-2781, 7-5621, 9-160164, 9-244177, 9-244178, 9-160167, 9- 319022, 9-258367, 9-265150, 9-319022, 10-197988, 10-197989, 11-242304, JP 2000-2963, JP 2000-11270 , JP2000-284410, JP2 Although compounds described as exemplary compounds of the present invention in 00-284212, JP-A-2001-33911, JP-A-2001-31644, JP-A-2001-312027, and JP-A-2003-50441 are preferably used. In particular, compounds specifically exemplified in JP-A-7-2781, JP-A-2001-33911, and JP-A-2001-312027 are preferred.
The compound represented by formula (H) in the present invention is preferably used in the range of 10 −4 mol to 1 mol, more preferably 10 −3 , per mol of the non-photosensitive silver salt in the image forming layer. It is preferable to use in the range of not less than 0.5 mol and not more than 0.5 mol, more preferably not less than 1 × 10 −2 mol and not more than 0.2 mol.
In the present invention, examples of the method for incorporating the antifoggant into the photothermographic material include the methods described in the method for containing a reducing agent, and the organic polyhalogen compound is also preferably added as a solid fine particle dispersion.

(その他のかぶり防止剤)
その他のかぶり防止剤としては特開平11−65021号段落番号0113の水銀(II)塩、同号段落番号0114の安息香酸類、特開2000−206642号のサリチル酸誘導体、特開2000−221634号の式(S)で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平11−352624号の請求項9に係るトリアジン化合物、特開平6−11791号の一般式(III)で表される化合物、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン等が挙げられる。
(Other antifoggants)
As other antifogging agents, mercury (II) salt of paragraph No. 0113 of JP-A No. 11-65021, benzoic acid of paragraph No. 0114 of the same, salicylic acid derivative of JP-A No. 2000-206642, formula of JP-A No. 2000-221634 A formalin scavenger compound represented by (S), a triazine compound according to claim 9 of JP-A-11-352624, a compound represented by formula (III) of JP-A-6-11791, 4-hydroxy-6-6 And methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and the like.

本発明における熱現像感光材料はかぶり防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭59−193447号記載の一般式(XI)で表される化合物、特公昭55−12581号記載の化合物、特開昭60−153039号記載の一般式(II)で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては画像形成層を有する面の層に添加することが好ましく、画像形成層に添加することがさらに好ましい。アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、画像形成層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。 The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of preventing fogging. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the light-sensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the image forming layer, and more preferably added to the image forming layer. The azolium salt may be added at any step during the preparation of the coating solution, and when added to the image forming layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. Immediately before is preferable. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, or fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent. In the present invention, the azolium salt may be added in any amount, but it is preferably 1 × 10 −6 mol or more and 2 mol or less, and more preferably 1 × 10 −3 mol or more and 0.5 mol or less per 1 mol of silver.

(その他の添加剤)
1)メルカプト、ジスルフィド、及びチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平10−62899号の段落番号0067〜0069、特開平10−186572号の一般式(I)で表される化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許公開第0803764A1号の第20ページ第36〜56行に記載されている。その中でも特開平9−297367号、特開平9−304875号、特開2001−100358号、特開2002−303954号、特開2002−303951号等に記載されているメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
(Other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones In the present invention, mercapto compounds and disulfide compounds are used for the purpose of controlling development by suppressing or promoting development, improving spectral sensitization efficiency, and improving storage stability before and after development. And thione compounds, paragraphs 0067 to 0069 of JP-A-10-62899, compounds represented by formula (I) of JP-A-10-186572, and specific examples thereof include paragraph numbers 0033 to 0052. , European Patent Publication No. 0803764A1, page 20, lines 36-56. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds described in JP-A-9-297367, JP-A-9-304875, JP-A-2001-100388, JP-A-2002-303954, JP-A-2002-303951, and the like are preferable. .

2)色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平10−62899号の段落番号0054〜0055、欧州特許公開第0803764A1号の第21ページ第23〜48行、特開2000−356317号や特開2000−187298号に記載されており、特に、フタラジノン類(フタラジノン、フタラジノン誘導体若しくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメトキシフタラジノン及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノン類とフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウム及びテトラクロロ無水フタル酸)との組合せ;フタラジン類(フタラジン、フタラジン誘導体若しくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジン、6−イソプロピルフタラジン、6−t−ブチルフラタジン、6−クロロフタラジン、5,7−ジメトキシフタラジン及び2,3−ジヒドロフタラジン);フタラジン類とフタル酸類との組合せが好ましく、特にフタラジン類とフタル酸類の組合せが好ましい。そのなかでも特に好ましい組み合わせは6−イソプロピルフタラジンとフタル酸又は4メチルフタル酸との組み合わせである。
2) Toning agent In the photothermographic material of the invention, it is preferable to add a toning agent. For the toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A-10-62899, page 21 to 23 of European Patent Publication No. 0803764A1. Line 48, described in JP-A No. 2000-356317 and JP-A No. 2000-187298, and in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone. 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, diammonium phthalate) , Sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride) Combinations; phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6-t-butylphthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine And 2,3-dihydrophthalazine); a combination of phthalazines and phthalic acids is preferable, and a combination of phthalazines and phthalic acids is particularly preferable. Among them, a particularly preferable combination is a combination of 6-isopropylphthalazine and phthalic acid or 4-methylphthalic acid.

3)可塑剤、潤滑剤
本発明においては膜物理性を改良するために公知の可塑剤、潤滑剤を使用することができる。特に、製造時のハンドリング性や熱現像時の耐傷性を改良するために流動パラフィン、長鎖脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル類等の潤滑剤を使用することが好ましい。特に低沸点成分を除去した流動パラフィンや分岐構造を有する分子量1000以上の脂肪酸エステル類が好ましい。
画像形成層及び非感光層に用いることのできる可塑剤及び潤滑剤については特開平11−65021号段落番号0117、特開2000−5137号、特開2004−219794号、特開2004−219802号、特開2004−334077号に記載されている化合物が好ましい。
3) Plasticizers and lubricants In the present invention, known plasticizers and lubricants can be used to improve film physical properties. In particular, it is preferable to use a lubricant such as liquid paraffin, long chain fatty acid, fatty acid amide, fatty acid ester, etc., in order to improve handling at the time of manufacture and scratch resistance at the time of heat development. In particular, liquid paraffin from which low-boiling components have been removed and fatty acid esters having a branched structure and having a molecular weight of 1000 or more are preferred.
Regarding the plasticizer and lubricant that can be used in the image forming layer and the non-photosensitive layer, JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0117, JP-A No. 2000-5137, JP-A No. 2004-219794, JP-A No. 2004-21802, The compounds described in JP-A-2004-334077 are preferred.

4)染料、顔料
本発明における画像形成層には、色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料(例えばC.I.Pigment Blue 60、C.I.Pigment Blue 64、C.I.Pigment Blue 15:6)を用いることができる。これらについてはWO98/36322号、特開平10−268465号、同11−338098号等に詳細に記載されている。
4) Dye and Pigment In the image forming layer of the present invention, various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue 60, C.I. Pigment Blue 64, CI Pigment Blue 15: 6) can be used. These are described in detail in WO98 / 36322, JP-A-10-268465, JP-A-11-338098 and the like.

5)超硬調化剤
印刷製版用途に適した超硬調画像形成のためには、画像形成層に超硬調化剤を添加することが好ましい。超硬調化剤やその添加方法及び添加量については、特開平11−65021号公報段落番号0118、特開平11−223898号公報段落番号0136〜0193、特開2000−284399号明細書の式(H)、式(1)〜(3)、式(A)、(B)の化合物、特開2000−347345号明細書記載の一般式(III)〜(V)の化合物(具体的化合物:化21〜化24)、硬調化促進剤については特開平11−65021号公報段落番号0102、特開平11−223898号公報段落番号0194〜0195に記載されている。
5) Super-high contrast agent For the formation of a super-high contrast image suitable for printing plate making, it is preferable to add a super-high contrast agent to the image forming layer. As for the ultra-high contrast agent and its addition method and addition amount, the formulas (H ), Compounds of formulas (1) to (3), formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in JP-A-2000-347345 (specific compounds: To 24), the contrast accelerator is described in paragraph No. 0102 of JP-A No. 11-65021 and paragraph Nos. 0194 to 0195 of JP-A No. 11-223898.

蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側に銀1モル当たり5ミリモル以下、さらには1ミリモル以下で含有することが好ましい。   In order to use formic acid or formate as a strong fogging substance, it is preferably contained in an amount of 5 mmol or less, more preferably 1 mmol or less per mol of silver on the side having an image forming layer containing photosensitive silver halide.

本発明の熱現像感光材料で超硬調化剤を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、オルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。
五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩の使用量(感光材料1m2あたりの塗布量)は感度やかぶりなどの性能に合わせて所望の量でよいが、0.1mg/m2以上500mg/m2以下が好ましく、0.5mg/m2以上100mg/m2以下がより好ましい。
本発明における還元剤、水素結合性化合物、現像促進剤及びポリハロゲン化合物は固体分散物として使用することが好ましく、これらの固体分散物の好ましい製造方法は特開2002−55405号に記載されている。
When the ultrahigh contrast agent is used in the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, and ammonium hexametaphosphate.
The amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (the coating amount per 1 m 2 of the photosensitive material) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fogging, but is 0.1 mg / m 2. It is preferably 500 mg / m 2 or less, more preferably 0.5 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less.
The reducing agent, hydrogen bonding compound, development accelerator and polyhalogen compound in the present invention are preferably used as a solid dispersion, and a preferred method for producing these solid dispersions is described in JP-A-2002-55405. .

(塗布液の調製及び塗布)
本発明における画像形成層塗布液の調製温度は、30℃以上65℃以下が好ましく、さらに好ましい温度は35℃以上60℃未満、より好ましい温度は35℃以上55℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が30℃以上65℃以下で維持されることが好ましい。
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution in the invention is preferably from 30 ° C. to 65 ° C., more preferably from 35 ° C. to less than 60 ° C., and more preferably from 35 ° C. to 55 ° C. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.

(層構成及び構成成分)
本発明における画像形成層は、支持体上に一又はそれ以上の層で構成される。一層で構成する場合は有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤及びバインダーよりなり、必要により色調剤、被覆助剤及び他の補助剤などの所望による追加の材料を含む。二層以上で構成する場合は、第1画像形成層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩及び感光性ハロゲン化銀を含み、第2画像形成層又は両層中にいくつかの他の成分を含まなければならない。多色感光性熱現像写真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各画像形成層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各画像形成層の間に官能性若しくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から(a)画像形成層の上(支持体よりも遠い側)に設けられる表面保護層、(b)複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、(c)画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、(d)画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
(Layer structure and components)
The image forming layer in the invention is composed of one or more layers on a support. In the case of a single layer, it consists of an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a binder, and optionally contains additional materials such as toning agents, coating aids and other auxiliary agents. In the case of two or more layers, the first image forming layer (usually a layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and a light-sensitive silver halide, and some of the second image forming layer or both layers include Must contain other ingredients. The construction of a multicolor photosensitive photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and all components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May be included. In the case of multi-dye multicolor photosensitive photothermographic materials, each image forming layer is generally functional or non-functional between each image forming layer as described in US Pat. No. 4,460,681. By using a sex barrier layer, they are kept distinct from each other.
The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer includes (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther than the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. It can be classified into an intermediate layer provided therebetween, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.

また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、(a)又は(b)の層として設けられる。アンチハレーション層は、(c)又は(d)の層として熱現像感光材料に設けられる。   In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided in the photothermographic material as the layer (c) or (d).

1)表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。
表面保護層については、特開平11−65021号段落番号0119〜0120、特開2000−171936号に記載されている。
本発明における表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいが、ポリビニルアルコール(PVA)を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン(例えば新田ゼラチン750)、フタル化ゼラチン(例えば新田ゼラチン801)など使用することができる。PVAとしては、特開2000−171936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげられ、完全けん化物のPVA−105、部分けん化物のPVA−205,PVA−335、変性ポリビニルアルコールのMP−203(以上、クラレ(株)製の商品名)などが好ましく挙げられる。保護層(1層当たり)のポリビニルアルコール塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2〜4.0g/m2が好ましく、0.3g/m2〜2.0g/m2がより好ましい。
1) Surface protective layer The photothermographic material according to the invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers.
The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and JP-A No. 2000-171936.
As the binder for the surface protective layer in the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), or the like can be used. Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). Preferably 0.3g / m 2 ~4.0g / m 2 as a polyvinyl alcohol coating amount (per support 1 m 2) of the protective layer (per one layer), 0.3g / m 2 ~2.0g / m 2 Is more preferable.

表面保護層(1層当たり)の全バインダー(水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む)塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3g/m2以上5.0g/m2以下が好ましく、0.3g/m2以上2.0g/m2以下がより好ましい。
また、表面保護層には流動パラフィン、脂肪族エステル等の潤滑剤を使用することが好ましい。潤滑剤の使用量は1mg/m2以上200mg/m2以下の範囲で、好ましくは10mg/m2以上150mg/m2以下、より好ましくは20mg/m2以上100mg/m2以下の範囲である。
The total coating amount (including water-soluble polymer and latex polymer) of the surface protective layer (per layer) is preferably 0.3 g / m 2 or more and 5.0 g / m 2 or less as the coating amount (per 1 m 2 of the support). .3g / m 2 or more 2.0 g / m 2 or less is more preferable.
In addition, it is preferable to use a lubricant such as liquid paraffin and aliphatic ester for the surface protective layer. The amount of the lubricant used is in the range of 1 mg / m 2 to 200 mg / m 2 , preferably 10 mg / m 2 to 150 mg / m 2 , more preferably 20 mg / m 2 to 100 mg / m 2. .

2)アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を画像形成層に対して光源から遠い側に設けることができる。
2) Antihalation layer In the photothermographic material of the invention, the antihalation layer can be provided on the side farther from the light source than the image forming layer.

アンチハレーション層については特開平11−65021号段落番号0123〜0124、特開平11−223898号、同9−230531号、同10−36695号、同10−104779号、同11−231457号、同11−352625号、同11−352626号等に記載されている。
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。
可視域に吸収を有する染料を用いてハレーション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加してアンチハレーション層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平11−231457号等に記載されている。
As for the antihalation layer, paragraphs 0123 to 0124 of JP-A-11-65021, JP-A-11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626 and the like.
The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. When the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
When antihalation is performed using a dye having absorption in the visible range, it is preferable that substantially no dye color remains after image formation, and a means for decoloring by the heat of heat development is used. In particular, it is preferable to add a thermally decolorable dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.

消色染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使用する。光学濃度は、0.15〜2であることが好ましく0.2〜1であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に0.001g/m2〜1g/m2程度である。 The amount of decoloring dye added is determined by the use of the dye. In general, an optical density (absorbance) when measured at a target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably 0.15 to 2, and more preferably 0.2 to 1. The amount of the dye for obtaining such an optical density is generally 0.001g / m 2 ~1g / m 2 approximately.

なお、このように染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を0.1以下に低下させることができる。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。
このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平11−352626号に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を3℃(deg)以上降下させる物質(例えば、ジフェニルスルホン、4−クロロフェニル(フェニル)スルホン)、2−ナフチルベンゾエート等を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
When the dye is decolored in this way, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more kinds of decoloring dyes may be used in combination in a heat decoloring type recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.
In the thermal decoloration using such decoloring dye and base precursor, a substance (for example, diphenylsulfone, which lowers the melting point by 3 ° C. (deg) or more when mixed with a base precursor as described in JP-A No. 11-352626). 4-Chlorophenyl (phenyl) sulfone), 2-naphthyl benzoate and the like are preferably used in view of thermal decoloring properties and the like.

3)バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平11−65021号段落番号0128〜0130に記載されている。
3) Back Layer Back layers that can be applied to the present invention are described in paragraph numbers 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.

本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で300〜450nmに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭62−210458号、同63−104046号、同63−103235号、同63−208846号、同63−306436号、同63−314535号、特開平01−61745号、特開平2001−100363などに記載されている。
このような着色剤は、通常、0.1mg/m2以上1g/m2以下の範囲で添加され、添加する層としては画像形成層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
また、ベース色調を調整するために580nm〜680nmに吸収ピークを有する染料を使用することが好ましい。この目的の染料としては短波長側の吸収強度が小さい特開平4−359967、同4−359968記載のアゾメチン系の油溶性染料、特開2003−295388号記載のフタロシアニン系の水溶性染料が好ましい。この目的の染料はいずれの層に添加してもよいが、画像形成層面側の非感光層又はバック面側に添加することがより好ましい。
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver color tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-63-306436, JP-A-63-314535, and JP-A-01-61745. No. 1, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-100363, and the like.
Such a colorant is usually added in a range of 0.1 mg / m 2 or more and 1 g / m 2 or less, and the layer to be added is preferably a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.
In order to adjust the base color tone, it is preferable to use a dye having an absorption peak at 580 nm to 680 nm. As the dyes for this purpose, azomethine oil-soluble dyes described in JP-A-4-359967 and JP-A-4-359968, which have low absorption intensity on the short wavelength side, and phthalocyanine-based water-soluble dyes described in JP-A-2003-295388 are preferable. The target dye may be added to any layer, but is more preferably added to the non-photosensitive layer on the image forming layer side or the back surface side.

本発明における熱現像感光材料は、支持体の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む画像形成層を有し、他方の側にバック層を有する、いわゆる片面感光材料であることが好ましい。   The photothermographic material of the present invention is a so-called single-sided photosensitive material having an image forming layer containing at least one silver halide emulsion on one side of a support and a back layer on the other side. preferable.

4)マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を添加することが好ましく、マット剤については、特開平11−65021号段落番号0126〜0127に記載されている。マット剤は熱現像感光材料1m2当たりの塗布量で示した場合、好ましくは1mg/m2以上400mg/m2以下、より好ましくは5mg/m2以上300mg/m2以下である。
本発明においてマット剤の形状は定型、不定形のいずれでもよいが好ましくは定型で、球形が好ましく用いられる。
画像形成層面に用いるマット剤の球相当直径の体積加重平均は、0.3μm以上10μm以下であることが好ましく、0.5μm以上7μm以下である事が更に好ましい。また、マット剤のサイズ分布の変動係数としては5%以上80%以下であることが好ましく、20%以上80%以下である事が更に好ましい。ここで変動係数とは(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100で表される値である。更に、画像形成層面のマット剤は平均粒子サイズの異なる2種以上のマット剤を用いることができる。その場合、平均粒子サイズのもっとも大きいマット剤と、もっとも小さいマット剤の粒子サイズの差は、2μm以上8μm以下であることが好ましく、2μm以上6μm以下であることが更に好ましい。
バック面に用いるマット剤の球相当直径の体積加重平均は、1μm以上15μm以下であることが好ましく、3μm以上10μm以下である事が更に好ましい。また、マット剤のサイズ分布の変動係数としては3%以上50%以下であることが好ましく、5%以上30%以下である事が更に好ましい。更に、バック面のマット剤は平均粒子サイズの異なる2種以上のマット剤を用いることができる。その場合、平均粒子サイズのもっとも大きいマット剤と、もっとも小さいマット剤の粒子サイズの差は、2μm以上14μm以下であることが好ましく、2μm以上9μm以下であることが更に好ましい。
4) Matting Agent In the present invention, it is preferable to add a matting agent for improving transportability, and the matting agent is described in paragraph Nos. 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021. The matting agent is preferably 1 mg / m 2 or more and 400 mg / m 2 or less, more preferably 5 mg / m 2 or more and 300 mg / m 2 or less when expressed in terms of the coating amount per 1 m 2 of the photothermographic material.
In the present invention, the shape of the matting agent may be either a regular shape or an irregular shape, but is preferably a regular shape, and a spherical shape is preferably used.
The volume weighted average of the equivalent sphere diameters of the matting agent used for the image forming layer surface is preferably from 0.3 μm to 10 μm, and more preferably from 0.5 μm to 7 μm. Further, the variation coefficient of the size distribution of the matting agent is preferably 5% or more and 80% or less, and more preferably 20% or more and 80% or less. Here, the coefficient of variation is a value represented by (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100. Further, two or more kinds of matting agents having different average particle sizes can be used as the matting agent on the image forming layer surface. In this case, the difference in particle size between the matting agent having the largest average particle size and the smallest matting agent is preferably 2 μm or more and 8 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 6 μm or less.
The volume weighted average of the equivalent sphere diameters of the matting agent used for the back surface is preferably 1 μm or more and 15 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 10 μm or less. The variation coefficient of the size distribution of the matting agent is preferably 3% or more and 50% or less, and more preferably 5% or more and 30% or less. Further, two or more kinds of matting agents having different average particle sizes can be used as the matting agent for the back surface. In that case, the difference in particle size between the matting agent having the largest average particle size and the smallest matting agent is preferably 2 μm or more and 14 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 9 μm or less.

また、画像形成層面のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が30秒以上2000秒以下が好ましく、特に40秒以上1500秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格(JIS)P8119「紙及び板紙のベック試験器による平滑度試験方法」及びTAPPI標準法T479により容易に求めることができる。   The matting degree of the image forming layer surface may be any as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less, particularly preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily determined by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.

本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、800秒以下20秒以上が好ましく、さらに好ましくは500秒以下40秒以上である。   In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.

本発明において、マット剤は熱現像感光材料の最外表面層若しくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。   In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photothermographic material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and also contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferred that

5)ポリマーラテックス
特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明の熱現像感光材料を用いる場合には、表面保護層やバック層にポリマーラテックスを用いることが好ましい。このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート(33.5質量%)/エチルアクリレート(50質量%)/メタクリル酸(16.5質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(47.5質量%)/ブタジエン(47.5質量%)/イタコン酸(5質量%)コポリマーのラテックス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(58.9質量%)/2−エチルヘキシルアクリレート(25.4質量%)/スチレン(8.6質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.1質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(64.0質量%)/スチレン(9.0質量%)/ブチルアクリレート(20.0質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.0質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックスなどが挙げられる。さらに、表面保護層用のバインダーとして、特願平11−6872号明細書のポリマーラテックスの組み合わせ、特開2000−267226号明細書の段落番号0021〜0025に記載の技術、特願平11−6872号明細書の段落番号0027〜0028に記載の技術、特開2000−19678号明細書の段落番号0023〜0041に記載の技術を適用してもよい。
表面保護層のポリマーラテックスの比率は全バインダーの10質量%以上90質量%以下が好ましく、特に20質量%以上80質量%以下が好ましい。
5) Polymer Latex When the photothermographic material of the present invention is used for printing applications in which dimensional change is a problem, it is preferable to use a polymer latex for the surface protective layer or the back layer. For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / Methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, Methyl methacrylate (47.5 wt%) / Butadiene (47.5 wt%) / Itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl A latex of xyl acrylate (25.4% by weight) / styrene (8.6% by weight) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by weight) / acrylic acid (2.0% by weight) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned. Furthermore, as a binder for the surface protective layer, a combination of polymer latex described in Japanese Patent Application No. 11-6872, the technique described in Paragraph Nos. 0021 to 0025 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-267226, and Japanese Patent Application No. 11-6872. The technology described in paragraph numbers 0027 to 0028 of the specification and the technology described in paragraph numbers 0023 to 0041 of JP 2000-19678 may be applied.
The ratio of the polymer latex in the surface protective layer is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less of the total binder.

6)膜面pH
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面pHが7.0以下であることが好ましく、さらに好ましくは6.6以下である。その下限には特に制限はないが、3程度である。最も好ましいpH範囲は4〜6.2の範囲である。膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面pHを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面pHの測定方法は、特開2000−284399号明細書の段落番号0123に記載されている。
6) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2. The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. A method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of JP-A No. 2000-284399.

7)硬膜剤
本発明における画像形成層、保護層、バック層など各層には、硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としてはT.H.James著「THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION」(Macmillan Publishing Co.,Inc.刊、1977年刊)、77頁から87頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩、N,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)、N,N−プロピレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)の他、同書78頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、特開平6−208193号などのポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62−89048号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
7) Hardener A hardener may be used for each layer such as the image forming layer, protective layer, and back layer in the present invention. Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in "THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION" by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87, Chrome Alum, 2,4-dichloro-6 In addition to hydroxy-s-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfoneacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 of the same document, US Pat. No. 4,281 , 060, and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinylsulfone compounds such as JP-A-62-289048 are preferably used.

硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。   The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's “Liquid Mixing Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), translated by Koji Takahashi.

8)界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平11−65021号段落番号0132、溶剤については同号段落番号0133、支持体については同号段落番号0134、帯電防止又は導電層については同号段落番号0135、カラー画像を得る方法については同号段落番号0136に、滑り剤については特開平11−84573号段落番号0061〜0064や特開2001−83679号段落番号0049〜0062記載されている。
本発明においてはフッ素系の界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例は特開平10−197985号、特開2000−19680号、特開2000−214554号等に記載された化合物があげられる。また、特開平9−281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料においては特開2002−82411号、特開2003−057780号及び特開2003−149766号記載のフッ素系界面活性剤の使用が好ましい。特に特開2003−057780号及び特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は水系の塗布液で塗布製造を行う場合、帯電調整能力、塗布面状の安定性、スベリ性の点で好ましく、特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は帯電調整能力が高く使用量が少なくてすむという点で最も好ましい。
本発明においてフッ素系界面活性剤は画像形成層面、バック面のいずれにも使用することができ、両方の面に使用することが好ましい。また、前述の金属酸化物を含む導電層と組み合わせて使用することが特に好ましい。この場合には導電層を有する面のフッ素系界面活性剤の使用量を低減若しくは除去しても十分な性能が得られる。
フッ素系界面活性剤の好ましい使用量は画像形成層面、バック面それぞれに0.1mg/m2〜100mg/m2の範囲で、より好ましくは0.3mg/m2〜30mg/m2の範囲、さらに好ましくは1mg/m2〜10mg/m2の範囲である。特に特開2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は効果が大きく、0.01mg/m2〜10mg/m2の範囲が好ましく、0.1mg/m2〜5mg/m2の範囲がより好ましい。
8) Surfactant As for the surfactant applicable to the present invention, paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0133 of the solvent, paragraph No. 0134 of the support, and antistatic or conductive layer Are described in paragraph No. 0135 of the same number, paragraph No. 0136 of the same number about the method of obtaining a color image, paragraph numbers 0061 to 0064 of JP-A No. 11-84573 and paragraph numbers 0049 to 0062 of JP-A No. 2001-83679 about the slip agent. ing.
In the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant. Specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use fluorine-based surfactants described in JP-A Nos. 2002-82411, 2003-057780, and 2003-149766. In particular, the fluorosurfactants described in JP-A-2003-057780 and JP-A-2001-264110 are preferable in terms of charge adjustment ability, stability of the coated surface, and smoothness when coating and production is performed with an aqueous coating solution. The fluorine-based surfactant described in JP-A No. 2001-264110 is most preferable because it has a high charge adjusting ability and requires a small amount of use.
In the present invention, the fluorosurfactant can be used on either the image forming layer surface or the back surface, and is preferably used on both surfaces. Further, it is particularly preferable to use in combination with a conductive layer containing the above-described metal oxide. In this case, sufficient performance can be obtained even if the amount of the fluorosurfactant used on the surface having the conductive layer is reduced or removed.
The preferred amount of the fluorocarbon surfactant is an image forming layer side, the range to the back surface each 0.1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 0.3mg / m 2 ~30mg / m 2 range, even more preferably from 1mg / m 2 ~10mg / m 2 . In particular JP fluorocarbon surfactant described in JP-A No. 2001-264110 is effective, and preferably in the range of 0.01mg / m 2 ~10mg / m 2 , more in the range of 0.1mg / m 2 ~5mg / m 2 preferable.

9)帯電防止剤
本発明においては金属酸化物あるいは導電性ポリマーを含む導電層を有することが好ましい。帯電防止層は下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねてもよく、また別途設けてもよい。帯電防止層の導電性材料は金属酸化物中に酸素欠陥、異種金属原子を導入して導電性を高めた金属酸化物が好ましく用いられる。金属酸化物の例としてはZnO、TiO2、SnO2が好ましく、ZnOに対してはAl、Inの添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が好ましい。
特にSbを添加したSnO2が好ましい。異種原子の添加量は0.01mol%〜30mol%の範囲が好ましく、0.1mol%〜10mol%の範囲がより好ましい。金属酸化物の形状は球状、針状、板状いずれでもよいが、導電性付与の効果の点で長軸/単軸比が2.0以上、好ましくは3.0〜50の針状粒子がよい。金属酸化物の使用量は好ましくは1mg/m2〜1000mg/m2の範囲で、より好ましくは10mg/m2〜500mg/m2の範囲、さらに好ましくは20mg/m2〜200mg/m2の範囲である。
本発明における帯電防止層は、画像形成層面側、バック面側のいずれに設置してもよいが、支持体とバック層との間に設置することが好ましい。帯電防止層の具体例は特開平11−65021号段落番号0135、特開昭56−143430号、同56−143431号、同58−62646号、同56−120519号、特開平11−84573号の段落番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11−223898号の段落番号0078〜0084に記載されている。
9) Antistatic agent In this invention, it is preferable to have a conductive layer containing a metal oxide or a conductive polymer. The antistatic layer may serve as an undercoat layer, a back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. As the conductive material for the antistatic layer, a metal oxide in which conductivity is improved by introducing oxygen defects or different metal atoms into the metal oxide is preferably used. Examples of metal oxides are preferably ZnO, TiO 2 and SnO 2. Addition of Al and In to ZnO, addition of Sb, Nb, P and halogen elements to SnO 2 , and addition to TiO 2. For example, addition of Nb, Ta or the like is preferable.
In particular, SnO 2 added with Sb is preferable. The amount of different atoms added is preferably in the range of 0.01 mol% to 30 mol%, and more preferably in the range of 0.1 mol% to 10 mol%. The shape of the metal oxide may be spherical, needle-like, or plate-like, but the long axis / uniaxial ratio is 2.0 or more, preferably 3.0 to 50 in terms of the effect of imparting conductivity. Good. Range amount preferably of 1mg / m 2 ~1000mg / m 2 of metal oxide, more preferably 10mg / m 2 ~500mg / m 2 range, more preferably at 20mg / m 2 ~200mg / m 2 It is a range.
The antistatic layer in the present invention may be disposed on either the image forming layer surface side or the back surface side, but is preferably disposed between the support and the back layer. Specific examples of the antistatic layer are disclosed in paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519 and JP-A No. 11-84573. Paragraph Nos. 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957, and JP-A-11-223898, paragraph Nos. 0078 to 0084.

10)支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、130℃〜185℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料(例えば、特開平8−240877号実施例記載の染料−1)で着色されていてもよいし、無着色でもよい。支持体には、特開平11−84574号の水溶性ポリエステル、同10−186565号のスチレンブタジエン共重合体、特開2000−39684号や特願平11−106881号段落番号0063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。支持体に画像形成層若しくはバック層を塗布するときの、支持体の含水率は0.5wt%以下であることが好ましい。
10) Support The transparent support is subjected to heat treatment in a temperature range of 130 ° C to 185 ° C in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate heat shrinkage strain generated during heat development processing. Polyester, especially polyethylene terephthalate, is preferably used. In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored. Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer. When the image forming layer or the back layer is applied to the support, the water content of the support is preferably 0.5 wt% or less.

11)その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。各種の添加剤は、画像形成層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO98/36322号、EP803764A1号、特開平10−186567号、同10−18568号等を参考にすることができる。
11) Other additives An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber or a coating aid may be further added to the photothermographic material. Various additives are added to either the image forming layer or the non-photosensitive layer. With respect to these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.

12)塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、又は米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F.Kistler、Petert M.Schweizer著「LIQUID FILM COATING」(CHAPMAN&HALL社刊、1997年)、399頁から536頁記載のエクストルージョンコーティング、又はスライドコーティングが好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。
スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFigure 11b.1にある。また、所望により同書399頁から536頁記載の方法、米国特許第2,761,791号及び英国特許第837,095号に記載の方法により2層又はそれ以上の層を同時に被覆することができる。本発明において特に好ましい塗布方法は特開2001−194748号、同2002−153808号、同2002−153803号、同2002−182333号に記載された方法である。
12) Coating method The photothermographic material in the invention may be coated by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. The extrusion coating described in “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) by Schweizer (1997), pages 399 to 536 is preferably used, and slide coating is particularly preferably used.
An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. . In the present invention, particularly preferred coating methods are those described in JP-A Nos. 2001-194748, 2002-153808, 2002-153803, and 2002-182333.

本発明における画像形成層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平11−52509号を参考にすることができる。本発明における画像形成層塗布液は剪断速度0.1S-1における粘度は400mPa・s以上100,000mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは500mPa・s以上20,000mPa・s以下である。また、剪断速度1000S-1においては1mPa・s以上200mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは5mPa・s以上80mPa・s以下である。 The image forming layer coating solution in the invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to. In the image forming layer coating solution of the present invention, the viscosity at a shear rate of 0.1 S −1 is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less. Further, at a shear rate of 1000 S −1 , 1 mPa · s to 200 mPa · s is preferable, and 5 mPa · s to 80 mPa · s is more preferable.

塗布液を調合する場合において2種の液を混合する際は公知のインライン混合機、インプラント混合機が好ましく用いられる。本発明における好ましいインライン混合機は、特開2002−85948号に、インプラント混合機は特開2002−90940号に記載されている。
本発明における塗布液は塗布面状を良好に保つため脱泡処理をすることが好ましい。本発明における好ましい脱泡処理方法については特開2002−66431号に記載された方法である。
塗布液を塗布する際には支持体の耐電による塵、ほこり等の付着を防止するために除電を行うことが好ましい。本発明において好ましい除電方法の例は特開2002−143747に記載されている。
本発明においては非セット性の画像形成層塗布液を乾燥するため乾燥風、乾燥温度を精密にコントロールすることが重要である。本発明における好ましい乾燥方法は特開2001−194749号、同2002−139814号に詳しく記載されている。
本発明の熱現像感光材料は成膜性を向上させるために塗布、乾燥直後に加熱処理をすることが好ましい。加熱処理の温度は膜面温度で60℃〜100℃の範囲が好ましく、加熱時間は1秒〜60秒の範囲が好ましい。より好ましい範囲は膜面温度が70℃〜90℃、加熱時間が2秒〜10秒の範囲である。本発明における好ましい加熱処理の方法は特開2002−107872号に記載されている。
また、本発明の熱現像感光材料を安定して連続製造するためには特開2002−156728号、同2002−182333号に記載の製造方法が好ましく用いられる。
In the case of preparing the coating liquid, a known in-line mixer or implant mixer is preferably used when mixing two kinds of liquids. A preferable in-line mixer in the present invention is described in JP-A No. 2002-85948, and an implant mixer is described in JP-A No. 2002-90940.
The coating solution in the present invention is preferably subjected to defoaming treatment in order to keep the coated surface state good. A preferable defoaming treatment method in the present invention is the method described in JP-A No. 2002-66431.
When applying the coating solution, it is preferable to perform static elimination in order to prevent adhesion of dust, dust, and the like due to electric resistance of the support. An example of a preferable static elimination method in the present invention is described in JP-A No. 2002-143747.
In the present invention, it is important to precisely control the drying air and the drying temperature in order to dry the non-setting image forming layer coating solution. Preferred drying methods in the present invention are described in detail in JP-A Nos. 2001-194749 and 2002-139814.
The photothermographic material of the present invention is preferably subjected to a heat treatment immediately after coating and drying in order to improve film formability. The temperature of the heat treatment is preferably in the range of 60 ° C. to 100 ° C. as the film surface temperature, and the heating time is preferably in the range of 1 second to 60 seconds. A more preferable range is a film surface temperature of 70 ° C. to 90 ° C. and a heating time of 2 seconds to 10 seconds. A preferable heat treatment method in the present invention is described in JP-A No. 2002-107872.
In order to stably and continuously produce the photothermographic material of the present invention, the production methods described in JP-A Nos. 2002-156728 and 2002-182333 are preferably used.

熱現像感光材料は、モノシート型(受像材料のような他のシートを使用せずに、熱現像感光材料上に画像を形成できる型)であることが好ましい。   The photothermographic material is preferably a mono-sheet type (a type capable of forming an image on the photothermographic material without using another sheet such as an image receiving material).

13)包装材料
本発明の熱現像感光材料は生保存時の写真性能の変動を押えるため、若しくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率及び/又は水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50mL/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは10mL/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0mL/atm・m2・day以下である。水分透過率は10g/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1g/atm・m2・day以下である。
該酸素透過率及び/又は水分透過率の低い包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号。特開2000−206653号明細書に記載されている包装材料である。
14)その他の利用できる技術
13) Packaging material The photothermographic material of the present invention is a packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability in order to suppress fluctuations in photographic performance during raw storage or to improve curling and curling. It is preferable to package. The oxygen permeability is preferably 50 mL / atm · m 2 · day or less at 25 ° C., more preferably 10 mL / atm · m 2 · day or less, more preferably 1.0 mL / atm · m 2 · day or less. is there. The moisture permeability is preferably 10 g / atm · m 2 · day or less, more preferably 5 g / atm · m 2 · day or less, and still more preferably 1 g / atm · m 2 · day or less.
Specific examples of the packaging material having low oxygen permeability and / or moisture permeability are disclosed in, for example, JP-A-8-254793. This is a packaging material described in JP-A-2000-206653.
14) Other available technologies

本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、WO98/36322号、特開昭56−62648号、同58−62644号、特開平9−43766、同9−281637、同9−297367号、同9−304869号、同9−311405号、同9−329865号、同10−10669号、同10−62899号、同10−69023号、同10−186568号、同10−90823号、同10−171063号、同10−186565号、同10−186567号、同10−186569号〜同10−186572号、同10−197974号、同10−197982号、同10−197983号、同10−197985号〜同10−197987号、同10−207001号、同10−207004号、同10−221807号、同10−282601号、同10−288823号、同10−288824号、同10−307365号、同10−312038号、同10−339934号、同11−7100号、同11−15105号、同11−24200号、同11−24201号、同11−30832号、同11−84574号、同11−65021号、同11−109547号、同11−125880号、同11−129629号、同11−133536号〜同11−133539号、同11−133542号、同11−133543号、同11−223898号、同11−352627号、同11−305377号、同11−305378号、同11−305384号、同11−305380号、同11−316435号、同11−327076号、同11−338096号、同11−338098号、同11−338099号、同11−343420号、同2001−200414号、同2001−234635号、同2002−020699号、同2001−275471号、同2001−275461号、同2000−313204号、同2001−292844号、同2000−324888号、同2001−293864号、同2001−348546号、特開2000−187298号も挙げられる。   Techniques that can be used for the photothermographic material of the present invention include EP80364A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP56-62648, 58-62644, JP9-43766, and 9-. 281637, 9-297367, 9-304869, 9-311405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823, 10-171106, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, 10-197982, 10 -197983, 10-197985 to 10-197987, 10- 07001, 10-207004, 10-221807, 10-282601, 10-288823, 10-288824, 10-307365, 10-312038, 10-339934 11-7100, 11-15105, 11-24200, 11-24201, 11-30201, 11-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11-352627, 11- 305377, 11-305378, 11-305384, 11-30538 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, 2001-200414, 2001-234635, 2002-020699, 2001-275471, 2001-275461, 2000-313204, 2001-292844, 2000-324888, 2001-293864, 2001-348546, JP No. 2000-187298 is also mentioned.

多色カラー熱現像感光材料の場合、各画像形成層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各感光性層(画像形成層)の間に官能性若しくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
多色カラー熱現像感光材料の場合の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
In the case of a multicolor color photothermographic material, each image-forming layer is generally functional or photosensitive between each photosensitive layer (image-forming layer) as described in US Pat. No. 4,460,681. By using non-functional barrier layers, they are kept separate from each other.
The construction in the case of a multicolor color photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and all within a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. Ingredients may be included.

(画像形成方法)
1)露光
赤〜赤外発光のHe−Neレーザー、赤色半導体レーザー、あるいは青〜緑発光のAr+,He−Ne,He−Cdレーザー、青色半導体レーザーである。好ましくは、赤色〜赤外半導体レーザーであり、レーザー光のピーク波長は、600nm〜900nm、好ましくは620nm〜850nmである。
一方、近年、特に、SHG(Second Harmonic Generator)素子と半導体レーザーを一体化したモジュールや青色半導体レーザーが開発されてきて、短波長領域のレーザー出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザーは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。青色レーザー光のピーク波長は、300nm〜500nm、特に400nm〜500nmが好ましい。
レーザー光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。
(Image forming method)
1) Exposure Red to infrared emission He—Ne laser, red semiconductor laser, blue to green emission Ar + , He—Ne, He—Cd laser, blue semiconductor laser. Preferred is a red to infrared semiconductor laser, and the peak wavelength of the laser light is 600 nm to 900 nm, preferably 620 nm to 850 nm.
On the other hand, in recent years, in particular, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime. The peak wavelength of the blue laser light is preferably 300 nm to 500 nm, particularly preferably 400 nm to 500 nm.
It is also preferable that the laser light is oscillated in a vertical multi by a method such as high frequency superposition.

2)熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては80℃〜250℃であり、好ましくは100℃〜140℃、さらに好ましくは110℃〜130℃である。現像時間としては1秒〜60秒が好ましく、より好ましくは3秒〜30秒、さらに好ましくは5秒〜25秒、7秒〜15秒が特に好ましい。
2) Photothermographic development The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. A preferred development temperature is 80 ° C to 250 ° C, preferably 100 ° C to 140 ° C, and more preferably 110 ° C to 130 ° C. The development time is preferably 1 second to 60 seconds, more preferably 3 seconds to 30 seconds, still more preferably 5 seconds to 25 seconds, and 7 seconds to 15 seconds.

熱現像の方式としてはドラム型ヒーター、プレート型ヒーターのいずれを使用してもよいが、プレート型ヒーター方式がより好ましい。プレート型ヒーター方式による熱現像方式とは特開平11−133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒーターからなり、かつ前記プレートヒーターの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒーターとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒーターを2段〜6段に分けて先端部については1℃〜10℃程度温度を下げることが好ましい。例えば、独立に温度制御できる4組のプレートヒーターを使用し、それぞれ112℃、119℃、121℃、120℃になるように制御する例が挙げられる。このような方法は特開昭54−30032号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を抑えることもできる。   Either a drum type heater or a plate type heater may be used as the thermal development method, but the plate type heater method is more preferable. The thermal development method using the plate heater method is preferably the method described in JP-A-11-133572, and a visible image is obtained by bringing the photothermographic material having a latent image formed thereon into contact with the heating means in the thermal development unit. In the heat development apparatus, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the press roller is disposed between the press roller and the plate heater. A photothermographic apparatus for carrying out heat development by passing a photothermographic material. It is preferable to divide the plate heater into two to six stages and lower the temperature at the tip by about 1 ° C. to 10 ° C. For example, there are examples in which four sets of plate heaters that can be independently controlled are used and controlled to 112 ° C., 119 ° C., 121 ° C., and 120 ° C., respectively. Such a method is also described in JP-A No. 54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress the change in the shape of the support of the photothermographic material due to the heating.

熱現像機の小型化及び熱現像時間の短縮のためには、より安定なヒーター制御ができることが好ましく、また、1枚のシート感材を先頭部から露光開始し、後端部まで露光が終わらないうちに熱現像を開始することが望ましい。本発明に好ましい迅速処理ができるイメージャーは例えば特開2002−289804号及び特開2003−285455号に記載されている。このイメージャーを使用すれば例えば、107℃−121℃−121℃に制御された3段のプレート型ヒーターで14秒で熱現像処理ができ、1枚目の出力時間は約60秒に短縮することができる。このような迅速現像処理のためには高感度で、環境温度の影響を受けにくい本発明の熱現像感光材料−2を組み合わせて使用することが好ましい。   In order to reduce the size of the heat developing machine and shorten the heat development time, it is preferable to be able to control the heater more stably. In addition, the exposure of one sheet of photosensitive material is started from the top and the exposure is finished to the back end. It is desirable to start the heat development before the time. Imagers capable of rapid processing preferable for the present invention are described in, for example, JP-A Nos. 2002-289804 and 2003-285455. If this imager is used, for example, heat development can be performed in 14 seconds with a three-stage plate heater controlled at 107 ° C.-121 ° C.-121 ° C. The output time of the first sheet is shortened to about 60 seconds. be able to. For such rapid development processing, it is preferable to use the photothermographic material-2 of the present invention in combination with high sensitivity and less susceptible to environmental temperature.

3)システム
露光部及び熱現像部を備えた医療用のレーザーイメージャーとしては富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPL及びDRYPIX7000を挙げることができる。FM−DPLに関しては、Fuji Medical Review No.8,page39〜55に記載されており、それらの技術は本発明の熱現像感光材料のレーザーイメージャーとして適用することは言うまでもない。また、DICOM規格に適応したネットワークシステムとして富士フィルムメディカル(株)が提案した「AD network」の中でのレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
3) System As a medical laser imager provided with an exposure part and a heat development part, Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL and DRYPIX7000 can be exemplified. Regarding FM-DPL, Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and it goes without saying that these techniques are applied as a laser imager of the photothermographic material of the present invention. Further, it can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD network” proposed by Fuji Film Medical Co., Ltd. as a network system adapted to the DICOM standard.

(本発明の用途)
本発明の熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、COM用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
(Use of the present invention)
The photothermographic material of the present invention forms a black and white image by a silver image, and is used as a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, a photothermographic material for printing, and a photothermographic material for COM. It is preferably used.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
(PET支持体の作製)
1)製膜
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、未延伸フィルムを作製した。
Example 1
(Preparation of PET support)
1) Film formation Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio)) is obtained according to a conventional method. It was. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and rapidly cooled to prepare an unstretched film.

これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。 This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit and then knurled at both ends, and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.

2)表面コロナ放電処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
2) Surface corona discharge treatment Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was processed at 0.375 kV · A · min / m 2 . The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.

3)下塗り
処方a(画像形成層側下塗り層用)
・高松油脂(株)製ペスレジンA−520(30質量%溶液) 46.8g
・東洋紡績(株)製バイロナールMD−1200 10.4g
・ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
(平均エチレンオキシド数=8.5)1質量%溶液 11.0g
・綜研化学(株)製MP−1000(PMMAポリマー微粒子、平均粒径0.4μm)
0.91g
・蒸留水 931mL
3) Undercoat formulation a (for image forming layer side undercoat layer)
・ Pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. 46.8 g
・ Toyobo Co., Ltd. Bironal MD-1200 10.4 g
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether (average ethylene oxide number = 8.5) 1% by mass solution 11.0 g
・ MP-1000 (PMMA polymer fine particles, average particle size 0.4 μm) manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
0.91g
・ Distilled water 931mL

処方b(バック面第1層用)
・スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス 130.8g
(固形分40質量%、スチレン/ブタジエン質量比=68/32)
・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩(8質量%水溶液)
5.2g
・ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10mL
・ポリスチレン粒子分散物(平均粒子径2μm、20質量%) 0.5g
・蒸留水 854mL
Formulation b (for back layer 1st layer)
・ Styrene-butadiene copolymer latex 130.8 g
(Solid content 40% by mass, styrene / butadiene mass ratio = 68/32)
2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt (8% by mass aqueous solution)
5.2g
・ 10 mL of 1% by weight aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate
・ Polystyrene particle dispersion (average particle size 2 μm, 20 mass%) 0.5 g
-854 mL of distilled water

処方c(バック面側第2層用)
・SnO2/SbO(9/1質量比、平均粒径0.5μm、17質量%分散物)
84g
・ゼラチン 7.9g
・信越化学工業(株)製メトローズTC−5(2質量%水溶液) 10g
・ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10mL
・NaOH(1質量%) 7g
・プロキセル(アビシア社製) 0.5g
・蒸留水 881mL
Formulation c (for back side second layer)
SnO 2 / SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.5 μm, 17 mass% dispersion)
84g
・ Gelatin 7.9g
・ Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Metroz TC-5 (2% by weight aqueous solution) 10 g
・ 10% 1% aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate
・ NaOH (1% by mass) 7 g
・ Proxel (Abyssia) 0.5g
・ 881mL distilled water

上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面に上記下塗り塗布液処方aをワイヤーバーでウエット塗布量が6.6mL/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、ついでこの裏面)に上記下塗り塗布液処方bをワイヤーバーでウエット塗布量が5.7mL/m2になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、更に裏面に上記下塗り塗布液処方cをワイヤーバーでウエット塗布量が8.4mL/m2になるように塗布して180℃で6分間乾燥して下塗り支持体を作製した。 After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating liquid formulation a is applied to one side with a wire bar at a wet coating amount of 6.6 mL / m 2 And then dried at 180 ° C. for 5 minutes, and then the undercoat coating solution formulation b was applied to the back surface) with a wire bar so that the wet coating amount was 5.7 mL / m 2 . Dry at 5 ° C. for 5 minutes, and apply the above-mentioned undercoat coating liquid formulation c on the back surface with a wire bar so that the wet coating amount is 8.4 mL / m 2 and dry at 180 ° C. for 6 minutes to produce an undercoat support. did.

(バック層)
1)バック層塗布液の調製
《塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)の調製》
塩基プレカーサー化合物1を、2.5kg、及び界面活性剤(商品名:デモールN、花王(株)製)300g、ジフェニルスルホン800g、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩1.0g及び蒸留水を加えて総量を8.0kgに合わせて混合し、混合液を横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)を用いてビーズ分散した。分散方法は、混合液をを平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填したUVM−2にダイアフラムポンプで送液し、内圧50hPa以上の状態で、所望の平均粒径が得られるまで分散した。
分散物は、分光吸収測定を行って該分散物の分光吸収における450nmにおける吸光度と650nmにおける吸光度の比(D450/D650)が3.0まで分散した。得られた分散物は、塩基プレカーサーの濃度で25質量%となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにろ過(平均細孔径:3μmのポリプロピレン製フィルター)を行って実用に供した。
(Back layer)
1) Preparation of Back Layer Coating Liquid << Preparation of Solid Precursor Solid Fine Particle Dispersion (a) >>
Add 2.5 kg of Base Precursor Compound 1 and 300 g of a surfactant (trade name: Demol N, manufactured by Kao Corporation), 800 g of diphenylsulfone, 1.0 g of benzoisothiazolinone sodium salt and distilled water to make a total amount. The mixture was mixed to 8.0 kg, and the mixed solution was dispersed with beads using a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Corporation). In the dispersion method, the mixed solution was fed to UVM-2 filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm by a diaphragm pump, and dispersed at an internal pressure of 50 hPa or more until a desired average particle size was obtained.
The dispersion was subjected to spectral absorption measurement, and the ratio of the absorbance at 450 nm to the absorbance at 650 nm (D 450 / D 650 ) in the spectral absorption of the dispersion was dispersed to 3.0. The obtained dispersion was diluted with distilled water so that the concentration of the base precursor was 25% by mass, and was filtered for removal of dust (polypropylene filter having an average pore size of 3 μm) for practical use.

《染料固体微粒子分散液の調製》
シアニン染料化合物−1を6.0kg及びp−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム3.0kg、花王(株)製界面活性剤デモールSNB0.6kg、及び消泡剤(商品名:サーフィノール104E、日信化学(株)製)0.15kgを蒸留水と混合して、総液量を60kgとした。混合液を横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)を用いて、0.5mmのジルコニアビーズで分散した。
分散物は、分光吸収測定を行って該分散物の分光吸収における650nmにおける吸光度と750nmにおける吸光度の比(D650/D750)が5.0以上であるところまで分散した。得られた分散物は、シアニン染料の濃度で、6質量%となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにフィルターろ過(平均細孔径:1μm)を行って実用に供した。
<Preparation of dye solid fine particle dispersion>
6.0 kg of cyanine dye compound-1 and 3.0 kg of sodium p-dodecylbenzenesulfonate, 0.6 kg of surfactant Demol SNB manufactured by Kao Co., Ltd. Co., Ltd.) 0.15 kg was mixed with distilled water to make a total liquid volume of 60 kg. The mixed solution was dispersed with 0.5 mm zirconia beads using a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Corporation).
The dispersion was dispersed until the ratio of the absorbance at 650 nm to the absorbance at 750 nm (D 650 / D 750 ) in the spectral absorption of the dispersion was 5.0 or more. The obtained dispersion was diluted with distilled water so that the concentration of the cyanine dye was 6% by mass, and was subjected to filter filtration (average pore diameter: 1 μm) for removal of dust and put to practical use.

2)アンチハレーション層塗布液の調製
容器を40℃に保温し、等電点6.6のゼラチン(ニッピ(株)製ABAゼラチン)37g、ベンゾイソチアゾリノン0.1g、水を加えてゼラチンを溶解させた。さらに上記染料固体微粒子分散液36g、上記塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)を73g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム3質量%水溶液43mL、SBRラテックス(スチレン/ブタジエン/アクリル酸共重合体;質量比68.3/28.7/3.0)10質量%液82gを混合し、完成液量773mLのハレーション防止層塗布液とした。完成液のpH値は、6.3であった。
2) Preparation of antihalation layer coating solution Keep the container at 40 ° C., add 37 g of gelatin with an isoelectric point of 6.6 (ABA gelatin manufactured by Nippi Co., Ltd.), 0.1 g of benzoisothiazolinone and water to add gelatin. Dissolved. Further, 36 g of the dye solid fine particle dispersion, 73 g of the solid fine particle dispersion (a) of the base precursor, 43 mL of a 3% by weight aqueous solution of sodium polystyrenesulfonate, SBR latex (styrene / butadiene / acrylic acid copolymer; mass ratio 68. 3 / 28.7 / 3.0) 82 g of a 10% by mass solution was mixed to prepare an antihalation layer coating solution having a finished solution amount of 773 mL. The pH value of the finished liquid was 6.3.

3)バック面保護層塗布液の調製
容器を40℃に保温し、等電点4.8のゼラチン(宮城化学工業(株)製PZゼラチン)43g、ベンゾイソチアゾリノン0.21g、水を加えてゼラチンを溶解させた。さらに1mol/lの酢酸ナトリウム水溶液8.1mL、単分散ポリ(エチレングリコールジメタクリレート−コ−メチルメタクリレート)微粒子(平均粒子サイズ7.7μm、粒径標準偏差0.3μm)0.93g、流動パラフィンの10質量%乳化物を5g、ヘキサイソステアリン酸ジペンタエリスリットの10質量%乳化物を10g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩5質量%水溶液10mL、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム3質量%水溶液17mL、フッ素系界面活性剤(F−1)2質量%溶液を2.4mL、フッ素系界面活性剤(F−2)2質量%溶液を2.4mL、エチルアクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比96.4/3.6)ラテックス20質量%液30mLを混合した。塗布直前にN,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)4質量%水溶液50mLを混合し、完成液量855mLのバック面保護層塗布液とした。完成液のpH値は6.2であった。
3) Preparation of back surface protective layer coating solution Keep the container at 40 ° C., add 43 g of gelatin (PZ gelatin made by Miyagi Chemical Co., Ltd.) with isoelectric point 4.8, 0.21 g of benzoisothiazolinone and water. The gelatin was dissolved. Furthermore, 8.1 mL of 1 mol / l sodium acetate aqueous solution, 0.93 g of monodisperse poly (ethylene glycol dimethacrylate-co-methyl methacrylate) fine particles (average particle size 7.7 μm, particle size standard deviation 0.3 μm), liquid paraffin 5 g of 10 mass% emulsion, 10 g of 10 mass% emulsion of dipentaerythritol hexaisostearate, 10 mL of 5% aqueous solution of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate, 17 mL of 3% aqueous sodium polystyrenesulfonate solution, 2.4 mL of a 2% by mass solution of a fluorosurfactant (F-1), 2.4 mL of a 2% by mass solution of a fluorosurfactant (F-2), an ethyl acrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass) Ratio 96.4 / 3.6) A latex 20% by mass solution 30 mL was mixed. Immediately before coating, 50 mL of a 4% by weight aqueous solution of N, N-ethylenebis (vinylsulfone acetamide) was mixed to prepare a back surface protective layer coating solution having a finished liquid amount of 855 mL. The pH value of the finished liquid was 6.2.

4)バック層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、アンチハレーション層塗布液をゼラチン塗布量が0.54g/m2となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が1.85g/m2となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作製した。
4) Application of back layer On the back surface side of the undercoat support, the coating amount of the antihalation layer coating solution is 0.54 g / m 2, and the coating amount of the back surface protective layer coating solution is 1 A simultaneous multi-layer coating was applied so as to be .85 g / m 2 , followed by drying to prepare a back layer.

(画像形成層、中間層、及び表面保護層)
1.塗布用材料の準備
1)ハロゲン化銀乳剤
《ハロゲン化銀乳剤1の調製》
蒸留水1421mLに1質量%臭化カリウム溶液3.1mLを加え、さらに0.5mol/L濃度の硫酸を3.5mL、フタル化ゼラチン31.7gを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、30℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え95.4mLに希釈した溶液Aと臭化カリウム15.3gとヨウ化カリウム0.8gを蒸留水にて容量97.4mLに希釈した溶液Bを一定流量で45秒間かけて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10mL添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8mL添加した。さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mLに希釈した溶液Cと臭化カリウム44.2gとヨウ化カリウム2.2gを蒸留水にて容量400mLに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で20分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液C及び溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
(Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer)
1. Preparation of coating materials 1) Silver halide emulsion << Preparation of silver halide emulsion 1 >>
To a solution of 1421 mL of distilled water, 3.1 mL of a 1% by mass potassium bromide solution was added, and a solution containing 3.5 mL of 0.5 mol / L sulfuric acid and 31.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 30 ° C., the solution A diluted with 92.2 mL of distilled water added to 22.22 g of silver nitrate, 15.3 g of potassium bromide and 0.8 g of potassium iodide in a distilled water volume of 97.4 mL The whole amount of the solution B diluted to 1 was added at a constant flow rate over 45 seconds. Thereafter, 10 mL of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 mL of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate and diluted to 317.5 mL, a solution D in which 44.2 g of potassium bromide and 2.2 g of potassium iodide were diluted with distilled water to a volume of 400 mL were added to solution C. Was added at a constant flow rate over 20 minutes, and solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of the solution C and the solution D so as to be 1 × 10 −4 mol per mol of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.

上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5mL加え、40分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。その後、分光増感色素Aと増感色素Bのモル比で3:1のメタノール溶液を銀1モル当たり増感色素AとBの合計として1.2×10-3モル加え、1分後にN,N’−ジヒドロキシ−N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mLを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-4モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-4モル及び1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-4モル添加して、ハロゲン化銀乳剤1を作製した。 The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 mL of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −4 mol was added and aged for 91 minutes. Thereafter, a methanol solution having a molar ratio of the spectral sensitizing dye A and the sensitizing dye B of 3: 1 was added in a total amount of 1.2 × 10 −3 moles of the sensitizing dyes A and B per mole of silver. , N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine in 1.3 mL of a 0.8 wt% methanol solution was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to the solution in methanol with a methanol solution of 4.8 per mol of silver. × 10 -4 mol, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution with 5.4 × 10 -4 mol and 1- (3-methyl with respect to 1 mol of silver Silver halide emulsion 1 was prepared by adding 8.5 × 10 −4 mol of ureidophenyl) -5-mercaptotetrazole in an aqueous solution to 1 mol of silver.

調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.042μm、球相当径の変動係数20%のヨウドを均一に3.5モル%含むヨウ臭化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。この粒子の{100}面比率は、クベルカムンク法を用いて80%と求められた。   The grains in the prepared silver halide emulsion were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having an average sphere equivalent diameter of 0.042 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope. The {100} face ratio of the particles was determined to be 80% using the Kubelka-Munk method.

《ハロゲン化銀乳剤2の調製》
ハロゲン化銀乳剤1と同様にして、ただしテルル増感剤Cの代わりに、セレン増感剤Bを表2に示した量を添加して化学増感を施して、ハロゲン化銀乳剤2を調製した。
<< Preparation of silver halide emulsion 2 >>
Prepare silver halide emulsion 2 in the same manner as silver halide emulsion 1 except that chemical sensitization was performed by adding selenium sensitizer B in the amount shown in Table 2 instead of tellurium sensitizer C. did.

《ハロゲン化銀乳剤3〜7の調製》
ハロゲン化銀乳剤1と同様にして、ただしテルル増感剤Cの代わりに、本発明の化学増感剤(表1に示す)を銀1モル当たり9.5×10-5モル添加して化学増感を施したハロゲン化銀乳剤3〜7を調製した。
<< Preparation of silver halide emulsions 3-7 >>
Similar to silver halide emulsion 1, except that instead of tellurium sensitizer C, the chemical sensitizer of the present invention (shown in Table 1) was added at 9.5 × 10 −5 mole per mole of chemistry. Sensitized silver halide emulsions 3 to 7 were prepared.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

《塗布液用混合乳剤1〜7の調製》
各々のハロゲン化銀乳剤を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-4モル添加した。
さらに1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物1,2,3をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。
吸着基と還元基を有する吸着性レドックス化合物1,2をそれぞれハロゲン化銀1モルあたり5×10-3モルになる量を添加した。
さらに塗布液用混合乳剤1kgあたりハロゲン化銀の含有量が銀として38.2gとなるように加水した。塗布液用混合乳剤1kgあたり0.34gとなるように1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを添加した。
<< Preparation of Mixed Emulsions 1-7 for Coating Solution >>
Each silver halide emulsion was dissolved, and benzothiazolium iodide was added in a 1% by mass aqueous solution at 7 × 10 −4 mol per mol of silver.
Furthermore, the amount of the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is 2 × 10 −3 moles per mole of silver halide of each compound 1, 2, and 3 capable of emitting one electron or more. Added.
Adsorbing redox compounds 1 and 2 having an adsorbing group and a reducing group were added in an amount of 5 × 10 −3 mol per mol of silver halide.
Further, water was added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution was 38.2 g as silver. 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added so as to give 0.34 g per kg of the mixed emulsion for coating solution.

2)脂肪酸銀分散物の調製
《脂肪酸銀分散物Aの調製》
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)87.6kg、蒸留水423L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Aを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液Aの全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液Aを添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液Aのみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液Aの添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液Aの添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
2) Preparation of fatty acid silver dispersion << Preparation of fatty acid silver dispersion A >>
Henkel behenic acid (product name Edenor C22-85R) 87.6 kg, distilled water 423 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L, t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react. To obtain a sodium behenate solution A. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient stirring, the total amount of the previous sodium behenate solution A and the total amount of the aqueous silver nitrate solution were each maintained at a constant flow rate for 93 minutes 15 Added over seconds and 90 minutes. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution A is started. Was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The pipe of the addition system of the sodium behenate solution A was prepared by keeping warm water by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution A and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.

ベヘン酸ナトリウム溶液Aを添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。   After completion of the addition of the sodium behenate solution A, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.

得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.14μm、b=0.4μm、c=0.6μm、平均アスペクト比5.2、平均球相当径0.52μm、球相当径の変動係数15%のりん片状の結晶であった。(a,b,cは本文の規定)   When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.14 μm, b = 0.4 μm, c = 0.6 μm, average aspect ratio 5.2, average sphere equivalent diameter. It was a scaly crystal having a coefficient of variation of 0.52 μm and a sphere equivalent diameter of 15%. (A, b, and c are the text provisions)

乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kg及び水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。   19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).

次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1260kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to 1260 kg / cm 2 by adjusting the pressure of the disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.

《脂肪酸銀分散物Bの調製》
<再結晶ベヘン酸の調製>
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)100kgを、1200kgのイソプロピルアルコールにまぜ、50℃で溶解し、10μmのフィルターで濾過した後、30℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、3℃/時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、100kgのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してGC−FID測定をしたところ、ベヘン酸含有率は96モル%、それ以外にリグノセリン酸が2モル%、アラキジン酸が2モル%、エルカ酸0.001モル%含まれていた。
<< Preparation of fatty acid silver dispersion B >>
<Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C./hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96 mol%, and in addition, lignoceric acid was 2 mol%, arachidic acid was 2 mol%, and erucic acid was 0.001 mol%. It was.

<脂肪酸銀分散物Bの調製>
再結晶ベヘン酸88kg、蒸留水422L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Bを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液Bの全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液Bを添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液Bのみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液Bの添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液Bの添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
<Preparation of fatty acid silver dispersion B>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient stirring, the total amount of the previous sodium behenate solution B and the total amount of silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate for 93 minutes 15 Added over seconds and 90 minutes. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution B is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution is completed, only the sodium behenate solution B is added for 14 minutes and 15 seconds. Was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The piping of the addition system of the sodium behenate solution B was prepared by keeping warm water by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution B and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically with respect to the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.

ベヘン酸ナトリウム溶液Bを添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.21μm、b=0.4μm、c=0.4μm、平均アスペクト比2.1、球相当径の変動係数11%の結晶であった。(a,b,cは本文の規定)
After completion of the addition of the sodium behenate solution B, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, average aspect ratio 2.1, sphere equivalent diameter. The crystal had a coefficient of variation of 11%. (A, b, and c are the provisions of the text)

乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kg及び水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。   19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).

次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1150kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to a pressure of 1150 kg / cm 2 in a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.

3)還元剤分散物の調製
《還元剤−1分散物の調製》
還元剤−1(2,2’−メチレンビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール))10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を60℃で5時間加熱処理し、還元剤−1分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
3) Preparation of reducing agent dispersion << Preparation of reducing agent-1 dispersion >>
10 kg of water was added to 16 kg of a 10% by weight aqueous solution of reducing agent-1 (2,2′-methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol)) and denatured polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203). Add and mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 60 ° C. for 5 hours to obtain a reducing agent-1 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

《還元剤−2分散物の調製》
還元剤−2(6,6’−ジ−t−ブチル−4,4’−ジメチル−2,2’−ブチリデンジフェノール)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加熱処理し、還元剤−2分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.50μm、最大粒子径1.6μm以下であった。
得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of Reducing Agent-2 Dispersion >>
10 masses of reducing agent-2 (6,6′-di-t-butyl-4,4′-dimethyl-2,2′-butylidenediphenol) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour, and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a reducing agent-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.50 μm and a maximum particle diameter of 1.6 μm or less.
The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

4)水素結合性化合物−1分散物の調製
水素結合性化合物−1(トリ(4−t−ブチルフェニル)ホスフィンオキシド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて4時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて水素結合性化合物の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加温し、水素結合性化合物−1分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径0.45μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
4) Preparation of hydrogen bonding compound-1 dispersion 10 kg of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of the aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, and dispersed for 4 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass. The dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

5)現像促進剤−1分散物の調製
現像促進剤−1を10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて現像促進剤の濃度が20質量%になるように調製し、現像促進剤−1分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径0.48μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
6)現像促進剤−2及び色調調整剤−1の分散物調製
現像促進剤−2及び色調調整剤−1の固体分散物についても現像促進剤−1と同様の方法により分散し、それぞれ20質量%、15質量%の分散液を得た。
5) Preparation of Development Accelerator-1 Dispersion 10 kg of Development Accelerator-1 and 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) were added with 10 kg of water and mixed well. To make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the development accelerator to 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
6) Preparation of Dispersion of Development Accelerator-2 and Color Adjuster-1 The solid dispersion of Development Accelerator-2 and Color Adjuster-1 was also dispersed by the same method as Development Accelerator-1, each having 20 mass. %, 15% by mass of a dispersion liquid was obtained.

7)ポリハロゲン化合物の調製
《有機ポリハロゲン化合物−1分散物の調製》
有機ポリハロゲン化合物−1(トリブロモメタンスルホニルベンゼン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の20質量%水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと、水14kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が26質量%になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物−1分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
7) Preparation of polyhalogen compound << Preparation of organic polyhalogen compound-1 dispersion >>
10 kg of organic polyhalogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of 20 wt% aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 0.4 kg of 20 wt% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate, Then, 14 kg of water was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 26% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

《有機ポリハロゲン化合物−2分散物の調製》
有機ポリハロゲン化合物−2(N−ブチル−3−トリブロモメタンスルホニルベンゾアミド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が30質量%になるように調製した。この分散液を40℃で5時間加温し、有機ポリハロゲン化合物−2分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of organic polyhalogen compound-2 dispersion >>
10 kg of an organic polyhalogen compound-2 (N-butyl-3-tribromomethanesulfonylbenzoamide), 20 kg of a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and 20 of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate 0.4 kg of a mass% aqueous solution was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

8)フタラジン化合物−1溶液の調製
8kgのクラレ(株)製変性ポリビニルアルコールMP203を水174.57kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液3.15kgとフタラジン化合物−1(6−イソプロピルフタラジン)の70質量%水溶液14.28kgを添加し、フタラジン化合物−1の5質量%溶液を調製した。
8) Preparation of phthalazine compound-1 solution 8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd. was dissolved in 174.57 kg of water, and then 3.15 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and phthalazine compound-1 ( 14.28 kg of a 70% by weight aqueous solution of 6-isopropylphthalazine) was added to prepare a 5% by weight solution of phthalazine compound-1.

9)メルカプト化合物の調製
《メルカプト化合物−1水溶液の調製》
メルカプト化合物−1(1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩)7gを水993gに溶解し、0.7質量%の水溶液とした。
9) Preparation of mercapto compound << Preparation of aqueous solution of mercapto compound-1 >>
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.

《メルカプト化合物−2水溶液の調製》
メルカプト化合物−2(1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾール)20gを水980gに溶解し、2.0質量%の水溶液とした。
<< Preparation of Mercapto Compound-2 Aqueous Solution >>
20 g of mercapto compound-2 (1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.

10)顔料−1分散物の調製
C.I.Pigment Blue 60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250gを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ800gを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)にて25時間分散し、水を加えて顔料の濃度が5質量%になるように調製して顔料−1分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径0.21μmであった。
10) Preparation of Pigment-1 Dispersion C.I. I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Corp. Demol N (6.4 g) were added to 250 g of water and mixed well to obtain a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours. A pigment-1 dispersion was obtained by adjusting the concentration to 5% by mass. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.

11)SBRラテックス液の調製
SBRラテックス(TP−1)は以下により調製した。
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に、蒸留水287g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製):固形分48.5質量%)7.73g、1mol/L、NaOH14.06mL、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.15g、スチレン255g、アクリル酸11.25g、tert−ドデシルメルカプタン3.0gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度200rpmで撹拌した。真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、1,3−ブタジエン108.75gを圧入して内温60℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム1.875gを水50mLに溶解した液を添加し、そのまま5時間撹拌した。さらに90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、1mol/LのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.4に調整した。その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、SBRラテックスTP−1を774.7g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、145ppmであった。
11) Preparation of SBR latex liquid SBR latex (TP-1) was prepared as follows.
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 (Mass%) 7.73 g, 1 mol / L, NaOH 14.06 mL, ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.15 g, styrene 255 g, acrylic acid 11.25 g, tert-dodecyl mercaptan 3.0 g were put, and the reaction vessel was sealed and stirred. Stir at a speed of 200 rpm. After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected and the internal temperature was raised to 60 ° C. A solution prepared by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 mL of water was added thereto and stirred as it was for 5 hours. The temperature was further raised to 90 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours. After completion of the reaction, the internal temperature was lowered to room temperature, and then Na + ion: NH 4 + ion = 1: 1 using 1 mol / L NaOH and NH 4 OH. Addition treatment was performed so that the molar ratio was 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 774.7 g of SBR latex TP-1 was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.

上記ラテックスは平均粒径90nm、Tg=17℃、固形分濃度44質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.6質量%、イオン伝導度4.80mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し25℃にて測定)であった。   The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44 mass%, equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH, 0.6 mass%, ion conductivity of 4.80 mS / cm (measurement of ion conductivity is The conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd. was used and measured at 25 ° C.).

12)イソプレンラテックス液の調製
イソプレンラテックス(TP−2)は以下により調製した。
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に蒸留水1500g添加し、90℃で3時間加熱し、重合釜のステンレス表面やステンレス製撹拌装置の部材に不動態皮膜を形成させる。この処理を行った重合釜に、窒素ガスを1時間バブリングした蒸留水582.28g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製))9.49g、1mol/LのNaOHを19.56g、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.20g、スチレン314.99g、イソプレン190.87g、アクリル酸10.43g、tert−ドデシルメルカプタン2.09gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度225rpmで撹拌し、内温65℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム2.61gを水40mLに溶解した液を添加し、そのまま6時間撹拌した。この時点での重合転化率は固形分測定から90%であった。ここで、アクリル酸5.22gを水46.98gに溶解した液を添加し、続いて水10gを添加し、過硫酸アンモニウム1.30gを水50.7mLに溶解した液をさらに添加した。添加後、90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後、内温が室温になるまで下げた後、1mol/LのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.4に調整した。その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、イソプレンラテックスTP−2を1248g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、142ppmであった。
12) Preparation of isoprene latex liquid Isoprene latex (TP-2) was prepared as follows.
Add 1500g of distilled water to the polymerization kettle of the gas monomer reactor (Pressure Glass Industry Co., Ltd. TAS-2J type), heat at 90 ° C for 3 hours, and passivate to the stainless steel surface of the polymerization kettle and members of the stainless steel stirrer A film is formed. In this polymerized kettle, 582.28 g of distilled water bubbled with nitrogen gas for 1 hour, 9.49 g of surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)), 1 mol / L NaOH Of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.20 g, styrene 314.99 g, isoprene 190.87 g, acrylic acid 10.43 g, tert-dodecyl mercaptan 2.09 g, and the reaction vessel was sealed and stirred at 225 rpm. The mixture was stirred and heated to an internal temperature of 65 ° C. A solution prepared by dissolving 2.61 g of ammonium persulfate in 40 mL of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 6 hours. The polymerization conversion rate at this time was 90% from the solid content measurement. Here, a solution in which 5.22 g of acrylic acid was dissolved in 46.98 g of water was added, 10 g of water was subsequently added, and a solution in which 1.30 g of ammonium persulfate was dissolved in 50.7 mL of water was further added. After the addition, the temperature was raised to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then Na + ions: NH 4 + ions were used with 1 mol / L NaOH and NH 4 OH. = 1: 5.3 (molar ratio) was added and adjusted to pH 8.4. Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 1248 g of isoprene latex TP-2 was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 142 ppm.

上記ラテックスは平均粒径113nm、Tg=15℃、固形分濃度41.3質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.4質量%、イオン伝導度5.23mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し25℃にて測定)であった。   The latex has an average particle size of 113 nm, Tg = 15 ° C., solid content concentration of 41.3 mass%, equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH of 0.4 mass%, ionic conductivity of 5.23 mS / cm (of ionic conductivity). Measurement was conducted at 25 ° C. using a conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.).

2.塗布液の調製
1)画像形成層塗布液1−1〜1−7の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物A1000g、水135mL、顔料−1分散物35g、有機ポリハロゲン化合物−1分散物19g、有機ポリハロゲン化合物−2分散物58g、フタラジン化合物−1溶液162g、SBRラテックス(TP−1)液424g、イソプレンラテックス(TP−2)液636g、還元剤−1分散物75g、還元剤−2分散物75g、水素結合性化合物−1分散物53g、現像促進剤−2分散物4.8g、メルカプト化合物−1水溶液9mL、メルカプト化合物−2水溶液27mLを順次添加し、塗布直前に塗布液用混合乳剤1〜7のいずれか118gを添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
2. Preparation of coating liquid 1) Preparation of image forming layer coating liquid 1-1 to 1-7 1000 g of fatty acid silver dispersion A obtained above, 135 mL of water, 35 g of pigment-1 dispersion, 19 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, 58 g of organic polyhalogen compound-2 dispersion, 162 g of phthalazine compound-1 solution, 424 g of SBR latex (TP-1) solution, 636 g of isoprene latex (TP-2) solution, 75 g of reducing agent-1 dispersion, and dispersing agent-2 dispersion 75 g of the product, 53 g of the hydrogen bonding compound-1 dispersion, 4.8 g of the development accelerator-2 dispersion, 9 mL of the mercapto compound-1 aqueous solution, and 27 mL of the mercapto compound-2 aqueous solution are sequentially added. The image forming layer coating solution, to which 118 g of any one of 1 to 7 was added and mixed well, was fed to the coating die as it was and coated.

上記画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で28[mPa・s]であった。
Haake社製RheoStress RS150を使用した38℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそれぞれ37、40、38、30、19[mPa・s]であった。
The viscosity of the image forming layer coating solution was 28 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki.
The viscosity of the coating solution at 38 ° C. using a Haake RheoStress RS150 is 37, 40, 38, 30, 19 [mPa · s] at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, and 1000 [1 / second], respectively. s].

塗布液中のジルコニウム量は銀1gあたり0.32mgであった。   The amount of zirconium in the coating solution was 0.32 mg per 1 g of silver.

2)画像形成層塗布液2−1〜2−7の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物B1000g、水135mL、顔料−1分散物36g、有機ポリハロゲン化合物−1分散物25g、有機ポリハロゲン化合物−2分散物39g、フタラジン化合物−1溶液171g、SBRラテックス(TP−1)液318g、イソプレンラテックス(TP−2)液742g、還元剤−2分散物153g、水素結合性化合物−1分散物22g、現像促進剤−1分散物4.8g、現像促進剤−2分散物5.2g、色調調整剤−1分散物2.1g、メルカプト化合物−2水溶液8mLを順次添加し、塗布直前に塗布液用混合乳剤1〜7のいずれか140gを添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
上記画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で35[mPa・s]であった。
Haake社製RheoStress RS150を使用した38℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそれぞれ38、49、48、34、25[mPa・s]であった。
2) Preparation of image forming layer coating liquids 2-1 to 2-7 1000 g of fatty acid silver dispersion B obtained above, 135 mL of water, 36 g of pigment-1 dispersion, 25 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound -2 dispersion 39 g, phthalazine compound-1 solution 171 g, SBR latex (TP-1) solution 318 g, isoprene latex (TP-2) solution 742 g, reducing agent-2 dispersion 153 g, hydrogen bonding compound-1 dispersion 22 g Then, 4.8 g of development accelerator-1 dispersion, 5.2 g of development accelerator-2 dispersion, 2.1 g of color tone modifier-1 dispersion, and 8 mL of mercapto compound-2 aqueous solution were sequentially added. The image forming layer coating solution, in which 140 g of any of the mixed emulsions 1 to 7 was added and mixed well, was fed to the coating die as it was and coated.
The viscosity of the image forming layer coating solution was 35 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki.
The viscosity of the coating solution at 38 ° C. using a Haake RheoStress RS150 is 38, 49, 48, 34, 25 [mPa · s] at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, 1000 [1 / second], respectively. s].

塗布液中のジルコニウム量は銀1gあたり0.30mgであった。   The amount of zirconium in the coating solution was 0.30 mg per 1 g of silver.

3)中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)1000g、顔料−1分散物163g、青色染料化合物−1(日本化薬(株)製:カヤフェクトターコイズRNリキッド150)18.5質量%水溶液33g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩5質量%水溶液27mL、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液4200mLにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量%水溶液を135mL、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、8.9mL/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
3) Preparation of intermediate layer coating solution 1000 g of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 163 g of pigment-1 dispersion, blue dye compound-1 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayafect Turquoise RN Liquid 150) 18.5% by weight aqueous solution 33 g, sulfosuccinic acid di (2-ethylhexyl) sodium salt 5% by weight aqueous solution 27 mL, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 57/8 / 28/5/2) 27% 5% aqueous solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co., Ltd.) in 4200 mL of latex 19% by weight solution, 135 mL of 20% aqueous solution of diammonium phthalate, total amount 10000g Water is added to the NaO so that the pH is 7.5. An intermediate layer coating solution was prepared by adjusting with H, and the solution was fed to the coating die so as to be 8.9 mL / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

4)表面保護層第1層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水840mLに溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸の15質量%メタノール溶液を46mL、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を5.4mLを加えて混合し、塗布直前に4質量%のクロムみょうばん40mLをスタチックミキサーで混合したものを塗布液量が26.1mL/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であった。
4) Preparation of surface protective layer first layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone were dissolved in 840 mL of water, and a methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio) 57/8/28/5/2) 180 g of latex 19 wt% solution, 46 mL of 15 wt% methanol solution of phthalic acid, and 5.4 mL of 5 wt% aqueous solution of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate The mixture was mixed, and immediately before coating, 40 mL of 4% by weight chromium alum was mixed with a static mixer and fed to the coating die so that the amount of the coating solution was 26.1 mL / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

5)表面保護層第2層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水800mLに溶解し、流動パラフィンの10質量%乳化物を10g、ヘキサイソステアリン酸ジペンタエリスリットの10質量%乳化物を30g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸15質量%メタノール溶液40mL、フッ素系界面活性剤(F−1)の1質量%溶液を5.5mL、フッ素系界面活性剤(F−2)の1質量%水溶液を5.5mL、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を28mL、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm、体積加重平均の分布30%)4g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.6μm、体積加重平均の分布60%)21gを混合したものを表面保護層塗布液とし、8.3mL/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で19[mPa・s]であった。
5) Preparation of surface protective layer second layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone are dissolved in 800 mL of water, 10 g of 10% by weight emulsion of liquid paraffin, and 10% by weight of dipentaerythritol hexaisostearate. 30 g of emulsion, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 57/8/28/5/2) latex 19% by weight liquid 180 g, phthalic acid 15% by weight methanol 40 mL of solution, 5.5 mL of 1% by mass solution of fluorosurfactant (F-1), 5.5 mL of 1% by mass aqueous solution of fluorosurfactant (F-2), di (2-ethylhexyl sulfosuccinate) ) 28mL of 5% by weight aqueous solution of sodium salt, polymethyl methacrylate fine particles (average A mixture of 4 g of particle size 0.7 μm, volume weighted average distribution 30%) and 21 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 3.6 μm, volume weighted average distribution 60%) is used as a surface protective layer coating solution. The solution was fed to the coating die so as to be 3 mL / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

3.熱現像感光材料の作製
1)熱現像感光材料1−1〜1−7の作製
バック面と反対の面に下塗り面から画像形成層塗布液1−1〜1−7を用いた画像形成層、中間層、表面保護層第1層、表面保護層第2層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作製した。このとき、画像形成層と中間層の塗布液は31℃に、表面保護層第1層の塗布液は36℃に、表面保護層第2層の塗布液は37℃に温度調整した。
画像形成層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
3. Production of photothermographic material 1) Production of photothermographic material 1-1 to 1-7 Image forming layer using image forming layer coating liquid 1-1 to 1-7 from the undercoat surface on the opposite side to the back surface, The intermediate layer, the surface protective layer first layer, and the surface protective layer second layer were simultaneously coated in the order of the slide bead coating method to prepare a photothermographic material sample. At this time, the coating solution for the image forming layer and the intermediate layer was adjusted to 31 ° C., the coating solution for the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the coating solution for the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the image forming layer is as follows.

脂肪酸銀 5.42
顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036
ポリハロゲン化合物−1 0.12
ポリハロゲン化合物−2 0.25
フタラジン化合物−1 0.18
SBRラテックス(TP−1) 3.88
イソプレンラテックス(TP−2) 5.82
還元剤−1 0.40
還元剤−2 0.40
水素結合性化合物−1 0.116
現像促進剤−2 0.02
メルカプト化合物−1 0.002
メルカプト化合物−2 0.012
ハロゲン化銀(Agとして) 0.10
Fatty acid silver 5.42
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.12
Polyhalogen compound-2 0.25
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex (TP-1) 3.88
Isoprene latex (TP-2) 5.82
Reducing agent-1 0.40
Reducing agent-2 0.40
Hydrogen bonding compound-1 0.116
Development accelerator-2 0.02
Mercapto Compound-1 0.002
Mercapto compound-2 0.012
Silver halide (as Ag) 0.10

塗布乾燥条件は以下のとおりである。
塗布はスピード160m/minで行い、コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10mm〜0.30mmとし、減圧室の圧力を大気圧に対して196Pa〜882Pa低く設定した。支持体は塗布前にイオン風にて除電した。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10℃〜20℃の風にて塗布液を冷却した後、無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23℃〜45℃、湿球温度15℃〜21℃の乾燥風で乾燥させた。
乾燥後、25℃で湿度40%RH〜60%RHで調湿した後、膜面を70℃〜90℃になるように加熱した。加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で画像形成層面側が550秒、バック面が130秒であった。また、画像形成層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。
The coating and drying conditions are as follows.
The coating was performed at a speed of 160 m / min, the gap between the coating die tip and the support was set to 0.10 mm to 0.30 mm, and the pressure in the decompression chamber was set to be 196 Pa to 882 Pa lower than the atmospheric pressure. The support was neutralized with an ion wind before coating.
In the subsequent chilling zone, the coating liquid is cooled with a wind at a dry bulb temperature of 10 ° C. to 20 ° C., then transported in a non-contact manner, and dried at a dry bulb temperature of 23 ° C. to 45 ° C. It dried with the drying wind of 15 degreeC and the wet-bulb temperature of 15 to 21 degreeC.
After drying, the humidity was adjusted at 25 ° C. and humidity of 40% RH to 60% RH, and then the film surface was heated to 70 ° C. to 90 ° C. After heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the image forming layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the image forming layer surface side was measured and found to be 6.0.

以上のようにして作製した試料を熱現像感光材料1−1とした。熱現像感光材料1−1とは化学増感剤をそれぞれ表1のように変えて調製したハロゲン化銀乳剤2〜6を用いた試料も同様に作製し、熱現像感光材料1−2〜1−6とした。   The sample produced as described above was designated as a photothermographic material 1-1. Samples using the silver halide emulsions 2 to 6 prepared by changing the chemical sensitizers as shown in Table 1 to the photothermographic material 1-1 were also prepared in the same manner, and the photothermographic materials 1-2 to 1 were used. It was set to -6.

2)熱現像感光材料2−1〜2−7の作製
熱現像感光材料1−1〜1−7に対して、画像形成層塗布液を画像形成層塗布液2−1〜2−7に変更した以外は同様にして熱現像感光材料2−1〜2−7を作製した。このときの画像形成層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
2) Preparation of photothermographic materials 2-1 to 2-7 For the photothermographic materials 1-1 to 1-7, the image forming layer coating solution was changed to image forming layer coating solutions 2-1 to 2-7. Photothermographic materials 2-1 to 2-7 were prepared in the same manner except that. The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the image forming layer at this time is as follows.

脂肪酸銀 5.27
顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036
ポリハロゲン化合物−1 0.14
ポリハロゲン化合物−2 0.28
フタラジン化合物−1 0.18
SBRラテックス(TP−1) 2.83
イソプレンラテックス(TP−2) 6.60
還元剤−2 0.77
水素結合性化合物−1 0.112
現像促進剤−1 0.019
現像促進剤−2 0.016
色調調整剤−1 0.006
メルカプト化合物−2 0.003
ハロゲン化銀(Agとして) 0.10
Fatty acid silver 5.27
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.14
Polyhalogen compound-2 0.28
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex (TP-1) 2.83
Isoprene latex (TP-2) 6.60
Reducing agent-2 0.77
Hydrogen bonding compound-1 0.112
Development accelerator-1 0.019
Development accelerator-2 0.016
Color tone adjusting agent-1 0.006
Mercapto compound-2 0.003
Silver halide (as Ag) 0.10

以下に本発明の実施例で用いた化合物の化学構造を示す。   The chemical structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.

Figure 2006235396
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Figure 2006235396
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Figure 2006235396
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Figure 2006235396
Figure 2006235396

Figure 2006235396
Figure 2006235396

Figure 2006235396
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4.写真性能の評価
1)準備
得られた試料は半切サイズ(43cm長×35cm幅)に切断し、25℃50%の環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
《包装材料》
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3質量%を含むポリエチレン50μmを積層したラミネートフィルム:
酸素透過率:0.02mL/atm・m2・25℃・day;
水分透過率:0.10g/atm・m2・25℃・day。
4). Evaluation of photographic performance 1) Preparation The obtained sample was cut into half-cut size (43 cm length x 35 cm width), packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C and 50%, and stored at room temperature for 2 weeks. The following evaluation was performed.
<Packaging materials>
Laminate film in which PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon is laminated:
Oxygen permeability: 0.02 mL / atm · m 2 · 25 ° C · day;
Moisture permeability: 0.10 g / atm · m 2 · 25 ° C · day.

2)熱現像感光材料の露光・現像
熱現像感光材料1−1〜1−7は、富士メディカル(株)ドライレーザーイメージャーFM−DPL(最大60mW(IIIB)出力の660nm半導体レーザー搭載)にて露光・熱現像(112℃−119℃−121℃−121℃に設定した4枚のパネルヒータで合計24秒)した。
熱現像感光材料2−1〜2−7は、富士メディカル(株)ドライレーザーイメージャーDRYPIX7000(最大50mW(IIIB)出力の660nm半導体レーザー搭載)にて露光・熱現像(107℃−121℃−121℃に設定した3枚のパネルヒータで合計14秒)した。
2) Exposure and development of photothermographic material The photothermographic materials 1-1 to 1-7 are mounted on Fuji Medical Co., Ltd. dry laser imager FM-DPL (with a 660 nm semiconductor laser with a maximum output of 60 mW (IIIB)). Exposure and thermal development (total of 24 seconds with four panel heaters set to 112 ° C-119 ° C-121 ° C-121 ° C) were performed.
Photothermographic materials 2-1 to 2-7 were exposed and thermally developed (107 ° C. to 121 ° C. to 121 ° C.) with a dry laser imager DRYPIX7000 (mounted with a 660 nm semiconductor laser having a maximum output of 50 mW (IIIB)). (Total 14 seconds with 3 panel heaters set at 0 ° C.).

3)写真性能の評価
Macbeth濃度計により得られた画像の濃度測定を行い、露光量に対する濃度の特性曲線を作製した。レーザーが露光されていない部分の濃度をかぶり(Fog)とし、また最高露光量で露光した部分の濃度をDmaxとした。またFog+1.0の濃度を得る露光量の逆数を感度とし、試料1−1の感度を基準とした相対値で表記した。
3) Evaluation of photographic performance The density of an image obtained by a Macbeth densitometer was measured, and a density characteristic curve with respect to the exposure amount was prepared. The density of the part not exposed to the laser was defined as fog, and the density of the part exposed at the maximum exposure amount was defined as Dmax. Further, the reciprocal of the exposure amount for obtaining the density of Fog + 1.0 was defined as sensitivity, and expressed as a relative value based on the sensitivity of sample 1-1.

また、プリントアウト性能を次のように評価した。熱現像処理後のサンプルを25℃60%RHの環境下で、1000ルクスの照度の蛍光灯下で10日間放置し、かぶりの増加(初期と保存後との差ΔFog)を測定した。
得られた結果を表1に示した。
The printout performance was evaluated as follows. The sample after the heat development treatment was allowed to stand for 10 days under a fluorescent lamp with an illuminance of 1000 lux in an environment of 25 ° C. and 60% RH, and the increase in fog (difference ΔFog between the initial and storage) was measured.
The obtained results are shown in Table 1.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

表1の結果より、本発明の化学増感剤は比較化合物に比べて少量で効果があり、本発明の化学増感剤を用いることによって、高感度でかつ、Dmaxが高い好ましい熱現像感光材料が得られた。さらに、本発明の熱現像感光材料は、プリントアウトかぶりが改善される予想外の結果が得られた。   From the results of Table 1, the chemical sensitizer of the present invention is effective in a small amount as compared with the comparative compound. By using the chemical sensitizer of the present invention, a preferable photothermographic material having high sensitivity and high Dmax. was gotten. Further, the photothermographic material of the present invention has an unexpected result that printout fog is improved.

実施例2
1.塗布試料の作製
実施例1で用いた熱現像感光材料2−1〜2−7において、還元剤−2を一般式(R)の化合物(R−17)に等モル変更し、ポリハロゲン化合物−2を一般式(H)の化合物(H−17)に等モル変更した以外は同様にして、熱現像感光材料3−1〜3−7を作製した。化合物(R−17)と化合物(H−17)は、それぞれ還元剤−2、ポリハロゲン化合物−2と同様に分散物を調製して添加した。
2.性能評価
実施例1と同様に評価した結果、実施例1と同様に本発明の化学増感剤を試料は優れた性能を示した。
Example 2
1. Preparation of coated sample In the photothermographic materials 2-1 to 2-7 used in Example 1, the reducing agent-2 was changed in an equimolar amount to the compound of the general formula (R) (R-17), and a polyhalogen compound- Photothermographic materials 3-1 to 3-7 were prepared in the same manner except that 2 was changed in an equimolar amount to the compound (H-17) of the general formula (H). Compound (R-17) and compound (H-17) were added by preparing dispersions in the same manner as reducing agent-2 and polyhalogen compound-2, respectively.
2. Performance Evaluation As a result of evaluation in the same manner as in Example 1, the sample of the chemical sensitizer of the present invention showed excellent performance as in Example 1.

実施例3
1.ハロゲン化銀乳剤の調製
1)ハロゲン化銀乳剤11の調製
下記に従って、平板状ヨウ臭化銀乳剤を調製した。
KBr4.1g、フタル化ゼラチン14.1gを含む水溶液1500mLを40℃に保ち撹拌した。AgNO3(2.9g)水溶液とKBr(2.0g)とKI(0.39g)を含む水溶液を40秒間に渡り添加した。フタル化ゼラチン35.5gを含む水溶液を添加した後58℃に昇温した。その後、第1成長としてAgNO3(63.7g)水溶液とKIを含むKBr水溶液をダブルジェット法で流量加速して添加した。KIの濃度は沃化銀含量が0.5モル%になるように調整した。操作中のpAgを8.9に維持した。途中で六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩とベンゼンチオスルホン酸ナトリウムを添加した。その後、最外層成長としてAgNO3水溶液(7.4g)とKIを含むKBr水溶液を5分間に渡って添加した。KIの濃度は沃化銀含量が10モル%になるように調整した。
この時、pAgを8.9に維持した。通常の水洗を行い、乳剤1kg中に含まれる銀量とゼラチン量がハロゲン化銀乳剤2Aと等しくなるようにフタル化ゼラチンを添加し、40℃でpH5.9、pAg8.4に調整した。
Example 3
1. Preparation of silver halide emulsion 1) Preparation of silver halide emulsion 11 A tabular silver iodobromide emulsion was prepared as follows.
1500 mL of an aqueous solution containing 4.1 g of KBr and 14.1 g of phthalated gelatin was kept at 40 ° C. and stirred. An aqueous solution containing AgNO 3 (2.9 g) and KBr (2.0 g) and KI (0.39 g) was added over 40 seconds. After adding an aqueous solution containing 35.5 g of phthalated gelatin, the temperature was raised to 58 ° C. After that, an AgNO 3 (63.7 g) aqueous solution and a KBr aqueous solution containing KI were added as the first growth while the flow rate was accelerated by the double jet method. The concentration of KI was adjusted so that the silver iodide content was 0.5 mol%. The pAg during operation was maintained at 8.9. On the way, potassium hexachloroiridate (III) and sodium benzenethiosulfonate were added. Thereafter, an aqueous AgNO 3 solution (7.4 g) and an aqueous KBr solution containing KI were added over 5 minutes as the outermost layer growth. The concentration of KI was adjusted so that the silver iodide content was 10 mol%.
At this time, pAg was maintained at 8.9. Normal washing was performed, and phthalated gelatin was added so that the amount of silver and gelatin contained in 1 kg of emulsion was equal to that of silver halide emulsion 2A, and adjusted to pH 5.9 and pAg 8.4 at 40 ° C.

上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5mL加え、40分後に57℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液でハロゲン化銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液でハロゲン化銀1モル当たり4.5×10-5モル加えて91分間熟成した。その後、分光増感色素−3をハロゲン化銀1モルに対して2.2×10-3モル、増感色素−1と−2をそれぞれハロゲン化銀1モルに対して1.0×10-4モル加え、さらに塩化カルシウムを添加した。1分後にN,N’−ジヒドロキシ−N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mLを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-4モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-4モル及び1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-4モル添加した。 While maintaining the silver halide dispersion at 38 ° C. with stirring, 5 mL of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 57 ° C. after 40 minutes. After 20 minutes of temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mole per mole of silver halide, and further 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added to the silver halide 1 in methanol solution. The mixture was aged for 91 minutes by adding 4.5 × 10 −5 mol per mol. Then, spectral sensitizing dyes -3 2.2 × 10 -3 mol per mol of silver halide, the sensitizing dye -1 and -2 respectively 1 mol of silver halide with respect to 1.0 × 10 - 4 mol was added, and calcium chloride was further added. After 1 minute, 1.3 mL of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to 1 mol of silver with a methanol solution. Per mole of 4.8 × 10 −4 mole, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution to 5.4 × 10 −4 mole and 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added in an aqueous solution to 8.5 × 10 −4 mol per mol of silver.

得られたハロゲン化銀粒子は、平均円相当直径0.95μm、平均円相当直径の変動係数12.6%、平均厚み0.055μm、平均アスペクト比17.2の平板状粒子が全投影面積の80%以上を占めていた。球相当直径は0.42μmであった   The obtained silver halide grains had an average equivalent circle diameter of 0.95 μm, an average equivalent circle diameter variation coefficient of 12.6%, an average thickness of 0.055 μm, an average aspect ratio of 17.2 and tabular grains having a total projected area. It accounted for over 80%. The equivalent sphere diameter was 0.42 μm.

2)ハロゲン化銀乳剤12〜17の調製
ハロゲン化銀乳剤10の調製において、テルル増感剤Cを表2に示す化学増感剤に変更して、ハロゲン化銀乳剤12〜17を調製した。得られたハロゲン化銀粒子は、ハロゲン化銀乳剤10と同様の高いアスペクト比の平板状粒子であった。
2) Preparation of silver halide emulsions 12 to 17 Silver halide emulsions 12 to 17 were prepared by changing the tellurium sensitizer C to the chemical sensitizer shown in Table 2 in the preparation of the silver halide emulsion 10. The obtained silver halide grains were tabular grains having the same high aspect ratio as that of the silver halide emulsion 10.

3)塗布液用混合乳剤11〜17の調製
ハロゲン化銀乳剤11〜17を用いて実施例1の塗布液用混合乳剤の調製と同様にして、塗布液用混合乳剤11〜17を調製した。
3) Preparation of coating emulsions 11 to 17 Coating emulsions 11 to 17 were prepared using the silver halide emulsions 11 to 17 in the same manner as the preparation of the coating emulsion of Example 1.

2.塗布試料の作製
塗布液用混合乳剤として塗布液用混合乳剤11〜17を用いた以外は実施例1の試料2−1〜2−7と同様にして、試料31〜37を作製した。
2. Preparation of Coating Samples Samples 31 to 37 were prepared in the same manner as Samples 2-1 to 2-7 of Example 1 except that the mixed emulsions 11 to 17 for coating solutions were used as the mixed emulsions for coating solution.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

3.性能評価
富士フイルム(株)製の製XレイオルソスクリーンHG−M(蛍光体としてテルビウム付活ガドリニウムオキシスルフィドを使用。発光ピーク波長545nm)と試料を重ねて、0.05秒のX線露光を与え、X線センシトメトリーを行った。使用したX線装置は、東芝(株)製の商品名DRX−3724HDであり、タングステンターゲットを用いた。三相にパルス発生器で80kVpの電圧をかけ、人体とほぼ等価な吸収を持つ水7cmのフィルタを通したX線を光源とした。距離法にてX線露光量を変化させ、logE=0.15の幅でステップ露光を行なった。露光後に、実施例1と同様に熱現像して、性能評価を行った。
得られた結果を表2に示した。
実施例1と同様に、本発明の化合物を用いて調製した試料は優れた性能を示した。
3. Performance evaluation X ray ortho screen HG-M manufactured by FUJIFILM Corporation (using terbium-activated gadolinium oxysulfide as a phosphor. Emission peak wavelength 545 nm) and a sample are stacked, and X-ray exposure for 0.05 seconds is performed. X-ray sensitometry was performed. The X-ray apparatus used was a trade name DRX-3724HD manufactured by Toshiba Corporation, and a tungsten target was used. A voltage of 80 kVp was applied to the three phases by a pulse generator, and X-rays passed through a 7 cm water filter having absorption almost equivalent to that of the human body were used as a light source. The X-ray exposure was changed by the distance method, and step exposure was performed with a width of logE = 0.15. After the exposure, heat development was performed in the same manner as in Example 1 to evaluate the performance.
The obtained results are shown in Table 2.
Similar to Example 1, samples prepared using the compounds of the present invention showed excellent performance.

Figure 2006235396
Figure 2006235396

実施例4
1.ハロゲン化銀乳剤の調製
実施例3の乳剤12,13と同様に、但し化学増感時にセレン増感剤Bまたは本発明のCh−1に更にそれぞれ、チオシアン酸カリウムをハロゲン化銀1モル当たり3×10-3モル、金増感剤の塩化金酸をハロゲン化銀1モル当たり6×10-6モル、および硫黄増感剤のチオ硫酸ナトリウムをハロゲン化銀1モル当たり5×10-5モルを加えて、金硫黄セレン増感を施したハロゲン化銀乳剤21と22を調製した。
2.塗布試料の作製
実施例3の乳剤12及び13の代わりに、乳剤21及び22を用いて、その他は同様にして、試料41、42を作製した。
3.性能評価
実施例3と同様の評価を行ったところ、本発明の試料42は優れた性能を示した。
Example 4
1. Preparation of silver halide emulsion As in emulsions 12 and 13 of Example 3, except that during chemical sensitization, potassium thiocyanate was further added to selenium sensitizer B or Ch-1 of the present invention for 3 moles per mole of silver halide. × 10 -3 mol, 6 × 10 -6 mol of gold sensitizer chloroauric acid per mol of silver halide, and 5 × 10 -5 mol of sodium thiosulfate as sulfur sensitizer per mol of silver halide Were added to prepare silver halide emulsions 21 and 22 subjected to gold-sulfur selenium sensitization.
2. Preparation of coated samples Samples 41 and 42 were prepared in the same manner except that emulsions 21 and 22 were used instead of emulsions 12 and 13 of Example 3.
3. Performance Evaluation When the same evaluation as in Example 3 was performed, the sample 42 of the present invention showed excellent performance.

Claims (11)

支持体の少なくとも一方の面上に、感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤、及びバインダーを含有する熱現像感光材料であって、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする熱現像感光材料:
一般式(1) E1−Ch−E2
(一般式(1)において、Chは硫黄原子、セレン原子、もしくはテルル原子を表す。E1およびE2は、それぞれ独立に、下記一般式(2)〜一般式(5)で表される基より選ばれ、それぞれ同じでも異なっていてもよい。但し、E1およびE2が同時に式(2)で表される基から選ばれることはない。);
Figure 2006235396
(一般式(2)において、Zはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、−OR1もしくは−NR23を表し、R1〜R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表す。一般式(3)において、Lは2価の連結基を表し、EWGは電子求引性基を表す。一般式(4)において、A1は酸素原子、硫黄原子もしくは−N(R7)−を表し、R4〜R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表す。一般式(5)において、A2は酸素原子、硫黄原子もしくは−N(R11)−を表し、R8は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基もしくはアシル基を表し、R9〜R11は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表す。Xはベンゼン環に置換し得る置換基を表し、nは0から4の整数を表す。nが2以上である場合はXが同じでも異なっていても良い。)。
A photothermographic material containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support, the compound represented by the following general formula (1) A photothermographic material comprising:
Formula (1) E 1 -Ch-E 2
(In General Formula (1), Ch represents a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. E 1 and E 2 are each independently a group represented by General Formula (2) to General Formula (5) below. Each of which may be the same or different, provided that E 1 and E 2 are not simultaneously selected from the group represented by the formula (2).);
Figure 2006235396
(In General Formula (2), Z represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, —OR 1 or —NR 2 R 3 , and R 1 to R 3 represent an alkyl group, an alkenyl group, An alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, in formula (3), L represents a divalent linking group, EWG represents an electron withdrawing group, and in formula (4), A 1 represents oxygen Represents an atom, a sulfur atom or —N (R 7 ) —, and R 4 to R 7 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group. 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 11 ) —, R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an acyl group, and R 9 to R 11. Is a hydrogen atom, an alkyl Represents a group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, X represents a substituent which can be substituted on the benzene ring, n represents an integer of 0 to 4. When n is 2 or more, X is Same or different.)
前記感光性ハロゲン化銀が、前記一般式(1)で表される化合物により化学増感されてなることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。   2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive silver halide is chemically sensitized with the compound represented by the general formula (1). 前記E1およびE2のうち少なくとも一方が、前記一般式(4)または(5)より選ばれる基である請求項1又は請求項2に記載の熱現像感光材料。 3. The photothermographic material according to claim 1, wherein at least one of E 1 and E 2 is a group selected from the general formula (4) or (5). 前記E1およびE2のうち少なくとも一方が前記一般式(5)より選ばれる基である請求項3に記載の熱現像感光材料。 4. The photothermographic material according to claim 3, wherein at least one of E 1 and E 2 is a group selected from the general formula (5). 前記Chがセレン原子である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 1, wherein the Ch is a selenium atom. 前記Chがテルル原子である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 1, wherein the Ch is a tellurium atom. 前記感光性ハロゲン化銀が金増感されている請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive silver halide is gold sensitized. 水溶性チオシアン酸塩をハロゲン化銀1モル当たり1×10-3モル以上で8×10-1モル以下含有することを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 8. The heat according to claim 1, wherein the water-soluble thiocyanate is contained in an amount of 1 × 10 −3 mol to 8 × 10 −1 mol per mol of silver halide. Development photosensitive material. 前記感光性ハロゲン化銀の臭化銀含有率が70モル%以上である請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to any one of claims 1 to 8, wherein the photosensitive silver halide has a silver bromide content of 70 mol% or more. 前記感光性ハロゲン化銀の平均粒子サイズ0.01μm以上0.2μm以下である請求項9に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 9, wherein the photosensitive silver halide has an average grain size of 0.01 μm to 0.2 μm. 前記感光性ハロゲン化銀の全投影面積の50%以上がアスペクト比が2以上の平板状粒子であって、平均粒子サイズ0.3μm以上8.0μm以下であるある請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   10 to 50% of the total projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an aspect ratio of 2 or more, and has an average grain size of 0.3 μm or more and 8.0 μm or less. The photothermographic material according to claim 1.
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