JP2007051353A - Method for producing decorated product by using partial multi-coating technique - Google Patents

Method for producing decorated product by using partial multi-coating technique Download PDF

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JP2007051353A JP2005238410A JP2005238410A JP2007051353A JP 2007051353 A JP2007051353 A JP 2007051353A JP 2005238410 A JP2005238410 A JP 2005238410A JP 2005238410 A JP2005238410 A JP 2005238410A JP 2007051353 A JP2007051353 A JP 2007051353A
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Hiromasa Matsunami
広聖 松波
Yuji Ishikawa
裕二 石川
Hiromitsu Mikami
博光 三上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for easily producing a decorated product showing an excellently decorated appearance, by using a partial multi-coating technique. <P>SOLUTION: The method for producing the decorated product by using the partial multi-coating technique comprises the steps of: forming a resist layer 12 by printing a resist ink of an organic solvent peeled type or an alkali peeled type, on a substrate 11; forming a multi-coating layer 13 on the substrate 11 with a vapor deposition technique; subsequently making an organic solvent or an aqueous alkaline solution act on a position of the resist layer 12, permeate the multi-coating layer 13, and dissolve the resist layer 12; then peeling the multi-coating layer 13 at the position in which the resist layer 12 has existed, by brushing, and exposing the substrate 11 in the part; subsequently forming a masking layer 15 on the multi-coating layer 13; forming a plated layer on the part in which the resist layer 12 has been peeled off, to make it as a decorated section 14; and then peeling the masking layer 15. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えばネームプレート、ペンダント等の装飾品として用いられ、マルチコート層とメッキ層等によって優れた装飾感が得られる部分マルチコートによる加飾製品の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a decorative product by partial multi-coating, which is used as a decorative product such as a name plate and a pendant, and provides an excellent decorative feeling by a multi-coating layer and a plating layer.

従来、この種の加飾(装飾)製品として、例えば部分メッキ方法により得られるものが知られている(例えば、特許文献1を参照)。この加飾製品を得る方法は、メッキ膜を形成しない物品の表面部分にレジスト膜を形成する工程と、粗面化液を用いてレジスト膜で覆われていない物品の表面部分を粗面化する工程と、レジスト膜を除去した後に、メッキ処理を行って前記粗面化された面だけにメッキ膜を形成する工程とからなっている。   Conventionally, as this type of decoration (decoration) product, for example, a product obtained by a partial plating method is known (see, for example, Patent Document 1). This method of obtaining a decorative product includes a step of forming a resist film on a surface portion of an article on which a plating film is not formed, and a surface portion of the article not covered with the resist film using a roughening solution. And a step of forming a plating film only on the roughened surface by performing a plating process after removing the resist film.

また、別の加飾製品の製造方法も知られている(例えば、特許文献1を参照)。すなわち、ステンレス素材からなる装飾部材表面に電気メッキ法により金ストライクメッキ層を形成し、メッキ用レジストで文字等の印刷パターンを形成した後、印刷パターン以外の表面に銀メッキ層を積層する。その後、印刷パターンを剥離除去し、さらに金メッキ層を剥離してそこに黒色クロムメッキ層等を形成した後、銀メッキ層を剥離し、さらに金メッキ層を剥離する。このようにして、ステンレス素地と黒色文字の二色を有する加飾製品が得られる。
特開2000−204480号公報(第2頁及び第5頁) 特開平5−40182号公報(第2頁及び第3頁)
Moreover, the manufacturing method of another decoration product is also known (for example, refer patent document 1). That is, a gold strike plating layer is formed on the surface of a decorative member made of stainless steel by electroplating, and a printing pattern such as letters is formed with a plating resist, and then a silver plating layer is laminated on the surface other than the printing pattern. Thereafter, the printed pattern is peeled and removed, and the gold plating layer is further peeled to form a black chrome plating layer and the like, and then the silver plating layer is peeled off and the gold plating layer is further peeled off. In this way, a decorative product having two colors of stainless steel and black letters is obtained.
JP 2000-204480 A (2nd and 5th pages) JP-A-5-40182 (Pages 2 and 3)

ところが、前記従来の特許文献1及び2に記載されている加飾製品は、素材面とメッキ面とにより構成されているだけであることから、単調で装飾感に欠けるものであった。ところで、光学製品、光学機器等の分野においては、主に反射防止を目的としてマルチコート(多層コート、マルチコーティング)が施されている。この場合、光の屈折や反射により、光が干渉して七色の虹のように見え、斬新な外観が得られる。このようなマルチコートを利用することで、装飾感を高めることができるが、マルチコートは複数層で構成され、蒸着等を複数回繰り返して行い、積層形成する必要があるため、マルチコートを部分的に施すことは製造上煩雑で、困難を伴うものであった。   However, the decorated products described in the above-mentioned conventional patent documents 1 and 2 are merely constituted by a material surface and a plated surface, and thus are monotonous and lack a decorative feeling. By the way, in the field of optical products, optical equipment, etc., multi-coating (multi-layer coating, multi-coating) is applied mainly for the purpose of preventing reflection. In this case, due to light refraction and reflection, the light interferes and looks like a rainbow of seven colors, and a novel appearance is obtained. By using such a multi-coat, the decoration can be enhanced, but the multi-coat is composed of a plurality of layers, and it is necessary to repeat the vapor deposition etc. a plurality of times to form a laminate. Application was complicated and difficult in production.

本発明は、このような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、装飾感に優れた加飾製品を容易に製造することができる部分マルチコートによる加飾製品の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made paying attention to such problems existing in the prior art. The purpose of the invention is to provide a method for producing a decorated product by partial multi-coating that can easily produce a decorated product having a good decorative feeling.

上記の目的を達成するために、請求項1に記載の発明の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法は、基板上に有機溶剤剥離型又はアルカリ剥離型のレジストインクを印刷することによりレジスト層を形成した後、該レジスト層を含む基板上に蒸着法によってマルチコート層を被覆形成し、次いで前記レジスト層の位置に有機溶剤又はアルカリを作用させマルチコート層を浸透させてレジスト層及びその上のマルチコート層を剥離し、その部分の基板を露出させて装飾部を形成することを特徴とするものである。   In order to achieve the above object, a method for producing a decorated product by partial multi-coating according to the invention described in claim 1 is characterized in that a resist layer is formed by printing a resist ink of an organic solvent peeling type or an alkali peeling type on a substrate. Then, a multi-coating layer is formed on the substrate including the resist layer by vapor deposition, and then the organic solvent or alkali is allowed to act on the position of the resist layer so that the multi-coating layer is permeated. The multi-coat layer is peeled off, and the decorative portion is formed by exposing the substrate of that portion.

請求項2に記載の発明の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法は、請求項1に係る発明において、前記有機溶剤又はアルカリを作用させてレジスト層を剥離した後、ブラッシングを行ってレジスト層が存在していた位置のマルチコート層を剥離することを特徴とするものである。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for producing a decorated product by partial multi-coating. In the first aspect of the invention, the resist layer is peeled off by applying the organic solvent or alkali to the resist layer and then brushing the resist layer. The multi-coat layer at the position where the scum was present is peeled off.

請求項3に記載の発明の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法は、請求項1又は請求項2に記載の発明において、前記有機溶剤又はアルカリによるレジスト層及びその上のマルチコート層の剥離後に、マルチコート層上にマスキング層を被覆形成し、剥離されたレジスト層の部分にメッキを施して装飾部としてのメッキ層を形成し、その後マスキング層を剥離することを特徴とするものである。   The method for producing a decorated product by partial multi-coating according to claim 3 is the method according to claim 1 or 2, wherein the resist layer and the multi-coating layer thereon are peeled off by the organic solvent or alkali. After that, a masking layer is formed on the multi-coating layer, and the peeled resist layer is plated to form a plating layer as a decorative portion, and then the masking layer is peeled off. .

本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
請求項1に記載の発明の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法では、基板上に有機溶剤剥離型又はアルカリ剥離型のレジストインクを印刷することによりレジスト層を形成する。その後、該レジスト層を含む基板上に蒸着法によってマルチコート層を被覆形成する。次いで、前記レジスト層の位置に有機溶剤又はアルカリを作用させマルチコート層を浸透させてレジスト層及びその上のマルチコート層を剥離し、その部分の基板を露出させて装飾部を形成する。
According to the present invention, the following effects can be exhibited.
In the method for producing a decorated product by partial multi-coating according to the first aspect of the present invention, the resist layer is formed by printing an organic solvent peeling type or alkali peeling type resist ink on a substrate. Thereafter, a multi-coat layer is formed on the substrate including the resist layer by vapor deposition. Next, an organic solvent or an alkali is allowed to act on the position of the resist layer so that the multi-coat layer penetrates to peel off the resist layer and the multi-coat layer thereon, and the substrate is exposed to form a decorative portion.

すなわち、蒸着法によって形成されたマルチコート層には、有機溶剤又はアルカリが浸透するに足る微細な孔が形成される。これを利用し、レジスト層の位置に有機溶剤又はアルカリを作用させると、有機溶剤又はアルカリはマルチコート層の微細な孔を通ってレジスト層に達してレジスト層が溶解され、レジスト層とその上のマルチコート層が剥離される。このため、得られる加飾製品は虹色に輝くマルチコート層と、レジスト層及びその上のマルチコート層が除去され基板が露出されて形成された装飾部とにより構成される。従って、装飾感に優れた加飾製品を容易に製造することができる。   That is, fine holes sufficient for the organic solvent or alkali to permeate are formed in the multicoat layer formed by the vapor deposition method. Using this, when an organic solvent or alkali is allowed to act on the position of the resist layer, the organic solvent or alkali reaches the resist layer through the fine holes of the multi-coat layer and dissolves the resist layer. The multi-coat layer is peeled off. For this reason, the decorative product obtained is composed of a multi-coating layer shining in rainbow colors, and a decorative part formed by removing the resist layer and the multi-coating layer thereon to expose the substrate. Therefore, it is possible to easily produce a decorative product having a good decorative feeling.

請求項2に記載の発明の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法では、前記有機溶剤又はアルカリを作用させてレジスト層を剥離した後、ブラッシングを行ってレジスト層が存在していた位置のマルチコート層を剥離するものである。このため、請求項1に係る発明の効果に加え、レジスト層が存在していた位置のマルチコート層の剥離を容易かつ十分に行うことができる。   In the method for producing a decorative product by partial multi-coating according to claim 2, the resist layer is peeled off by the action of the organic solvent or alkali, and then the multi-layer at the position where the resist layer was present by brushing is performed. The coat layer is peeled off. For this reason, in addition to the effect of the invention according to claim 1, the multi-coat layer at the position where the resist layer was present can be easily and sufficiently peeled off.

請求項3に記載の発明の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法では、前記有機溶剤又はアルカリによるレジスト層及びその上のマルチコート層の剥離後に、マルチコート層上にマスキング層を被覆形成し、剥離されたレジスト層の部分にメッキを施して装飾部としてのメッキ層を形成し、その後マスキング層を剥離するものである。このため、請求項1又は請求項2に係る発明の効果に加え、メッキ層に基づく金属光沢による装飾感を得ることができる。   In the method for producing a decorated product by partial multi-coating according to claim 3, a masking layer is formed on the multi-coating layer after peeling off the resist layer and the multi-coating layer thereon by the organic solvent or alkali. The resist layer thus peeled is plated to form a plating layer as a decorative portion, and then the masking layer is peeled off. For this reason, in addition to the effect of the invention according to claim 1 or claim 2, it is possible to obtain a decorative feeling due to metallic luster based on the plated layer.

以下、本発明の最良と思われる実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1(a)〜(f)は本第1実施形態の加飾製品10の製造工程を順に示す説明図である。なお、図1(b)、(d)及び(f)の各断面図において、基板、レジスト層及びマルチコート層の厚さは理解を容易にするために誇張して厚く描かれている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments that are considered to be the best of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
Drawing 1 (a)-(f) is an explanatory view which shows a manufacturing process of decoration product 10 of this 1st embodiment in order. In each of the cross-sectional views of FIGS. 1B, 1D, and 1F, the thicknesses of the substrate, the resist layer, and the multi-coat layer are exaggerated and drawn for easy understanding.

図1(a)及び(b)に示すように、正方形状をなす基板11上には、レジストインクを用いたスクリーン印刷法によりレジスト層12がAの文字を描くように形成されている。基板11を構成する材質としては、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、銅、鉄等の金属のほか、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ABS樹脂、ナイロン樹脂等の樹脂も用いられる。基板11の厚さは、通常0.1〜3mm程度であり、表面に多数のヘアライン等の模様が形成されていてもよい。   As shown in FIGS. 1A and 1B, a resist layer 12 is formed on a square substrate 11 so as to draw a letter A by screen printing using a resist ink. As a material constituting the substrate 11, in addition to metals such as stainless steel, aluminum, aluminum alloy, titanium, copper and iron, resins such as acrylic resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, polyester resin, ABS resin, nylon resin, etc. Is also used. The thickness of the board | substrate 11 is about 0.1-3 mm normally, and many patterns, such as a hairline, may be formed in the surface.

レジストインクは、有機溶剤剥離型又はアルカリ剥離型のものである。有機溶剤剥離型のレジストインクとしては、例えばタール系の熱可塑性樹脂〔太陽インキ製造(株)製、M−85K〕のほか、シリコーン変性アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられ、シンナー、ベンゼン、トルエン等の有機溶剤で剥離可能なものである。なお、シンナーは、トルエンを主成分とし、キシレン及び酢酸エチルを含有する有機溶剤混合液である。アルカリ剥離型のレジストインクとしては、例えば共重合系の熱可塑性樹脂〔太陽インキ製造(株)製、MA−830〕のほか、スチレン−マレイン酸共重合体等の共重合系熱可塑性樹脂等が挙げられ、炭酸ナトリウムの水溶液(例えば、5%水溶液)、炭酸カリウムの水溶液等によって剥離可能である。基板11として樹脂を用いる場合には、有機溶剤によって溶ける場合があるため、レジストインクとしてはアルカリ剥離型のものを採用することが好ましい。   The resist ink is of an organic solvent peeling type or an alkali peeling type. Examples of the organic solvent-peelable resist ink include tar-based thermoplastic resins (manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd., M-85K), and thermoplastic resins such as silicone-modified acrylic resins, such as thinner, benzene, It can be peeled off with an organic solvent such as toluene. The thinner is an organic solvent mixed solution containing toluene as a main component and containing xylene and ethyl acetate. Examples of the alkali-peelable resist ink include copolymer thermoplastic resins (manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd., MA-830), copolymer thermoplastic resins such as styrene-maleic acid copolymer, and the like. It can be peeled off with an aqueous solution of sodium carbonate (for example, 5% aqueous solution), an aqueous solution of potassium carbonate, or the like. When a resin is used as the substrate 11, it may be dissolved by an organic solvent. Therefore, it is preferable to use an alkali peeling type resist ink.

レジスト層12の厚さは、通常5〜100μmである。この厚さが5μm未満の場合にはAの文字を形成することが難しくなり、また剥がれやすくなってその形状を維持することが難しくなり、100μmを越える場合には後述するマルチコート層がレジスト層12を設けた部分と設けない部分とで段差が生じやすくなって好ましくない。   The thickness of the resist layer 12 is usually 5 to 100 μm. When the thickness is less than 5 μm, it becomes difficult to form the letter A, and it is easy to peel off and it is difficult to maintain the shape. When the thickness exceeds 100 μm, the multi-coat layer described later becomes a resist layer. It is not preferable because a step is easily generated between the portion provided with 12 and the portion not provided.

次いで、図1(c)及び(d)に示すように、基板11及びレジスト12層上に、真空蒸着装置にて蒸発物質を加熱蒸発させ、蒸着層を形成する。その後、同様にして複数の蒸着層を形成し、それらの蒸着層が積層されることによってマルチコート層13が形成される。このマルチコート層は、図1(c)では灰色で示されている。マルチコート層13は、好ましくは3〜7層の蒸着層によって構成される。そのようなマルチコート層13に基づいて、色調の変化による装飾感を向上させることができる。各蒸着層を形成する蒸発物質としては、フッ化マグネシウム(MgF)、二酸化珪素(SiO)、アルミナ(Al)、二酸化チタン(TiO)、二酸化ジルコニウム(ZrO)、硫化亜鉛(ZnS)等が用いられる。蒸着層を形成する場合の圧力は、通常10−2〜10−4Paである。また、各蒸着層の厚さは、好ましくは100〜160nmに設定される。 Next, as shown in FIGS. 1C and 1D, the evaporation substance is heated and evaporated by a vacuum evaporation apparatus on the substrate 11 and the resist 12 layer to form an evaporation layer. Thereafter, a plurality of vapor deposition layers are formed in the same manner, and the multicoat layer 13 is formed by laminating these vapor deposition layers. This multi-coat layer is shown in gray in FIG. The multi-coat layer 13 is preferably composed of 3 to 7 vapor deposition layers. Based on such a multi-coat layer 13, it is possible to improve a decorative feeling due to a change in color tone. The evaporating substance forming each deposited layer includes magnesium fluoride (MgF 2 ), silicon dioxide (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titanium dioxide (TiO 2 ), zirconium dioxide (ZrO 2 ), zinc sulfide. (ZnS) or the like is used. The pressure for forming the vapor deposition layer is usually 10 −2 to 10 −4 Pa. Moreover, the thickness of each vapor deposition layer is preferably set to 100 to 160 nm.

続いて、図1(e)及び(f)に示すように、マルチコート層13上に有機溶剤又はアルカリ(アルカリ水溶液)を作用させることにより、有機溶剤又はアルカリがマルチコート層13を浸透(透過)してレジスト層12に達し、レジスト層12が溶解され、除去される。この場合、基板11を有機溶剤又はアルカリ水溶液中に浸漬させる方法又はマルチコート層13上に有機溶剤又はアルカリ水溶液をコーティングする方法のいずれでもよい。これによってレジスト層12がなくなるため、その上のマルチコート層13は基板11上方位置で浮いており、簡単に剥がれる状態となっている。マルチコート層13が極く薄い場合には、レジスト層12の剥離とともに剥離される。   Subsequently, as shown in FIGS. 1E and 1F, an organic solvent or alkali (alkaline aqueous solution) is allowed to act on the multicoat layer 13 so that the organic solvent or alkali penetrates (permeates) the multicoat layer 13. ) To reach the resist layer 12, and the resist layer 12 is dissolved and removed. In this case, either a method of immersing the substrate 11 in an organic solvent or an aqueous alkaline solution or a method of coating the multi-coat layer 13 with an organic solvent or an aqueous alkaline solution may be used. As a result, the resist layer 12 disappears, and the multicoat layer 13 on the resist layer 12 floats above the substrate 11 and is easily peeled off. When the multi-coat layer 13 is extremely thin, it is peeled off together with the resist layer 12.

その後、マルチコート層13の表面をブラッシングすることにより、除去されたレジスト層12上に位置していたマルチコート層13がブラッシングの物理的な力により容易に剥離される。このブラッシングの物理的な力は、残存するマルチコート層13の厚さに応じて変化し、マルチコート層13が厚いほど大きくなるように調整される。一方、基板11上のその他の部分におけるマルチコート層13は基板11に密着されているため剥がれることはない。そして、レジスト層12及びその上のマルチコート層13が除去された部分は、基板11が露出されて装飾部14となる。   Thereafter, by brushing the surface of the multi-coat layer 13, the multi-coat layer 13 located on the removed resist layer 12 is easily peeled off by the physical force of brushing. The physical force of this brushing changes according to the thickness of the remaining multi-coat layer 13 and is adjusted so as to increase as the multi-coat layer 13 becomes thicker. On the other hand, since the multi-coat layer 13 in other portions on the substrate 11 is in close contact with the substrate 11, it is not peeled off. And the part from which the resist layer 12 and the multi-coat layer 13 on it were removed becomes the decoration part 14 by exposing the substrate 11.

このようにして、マルチコート層13が設けられていないAの文字を表す装飾部14と、それ以外の部分に設けられているマルチコート層13とで構成される部分マルチコートによる加飾製品10が製造される。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態を図2(a)〜(l)に基づいて説明する。本第2実施形態においては、前記第1実施形態と同じ部分の説明を省略し、異なる部分について主に説明する。
Thus, the decoration product 10 by the partial multi-coat comprised by the decoration part 14 showing the character of A in which the multi-coat layer 13 is not provided, and the multi-coat layer 13 provided in the other part. Is manufactured.
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the second embodiment, description of the same parts as those of the first embodiment is omitted, and different parts will be mainly described.

本第2実施形態では、装飾部14の文字をBとし、レジスト層12を剥離、除去するまでは第1実施形態と同様に操作する。すなわち、図1(a)及び(b)は図2(a)及び(b)に対応し、図1(c)及び(d)は図2(c)及び(d)に対応し、図1(e)及び(f)は図2(e)及び(f)に対応する。図2(e)及び(f)に示すように、Bの文字の部分は基板11が露出されて露出部16となり、それ以外の部分にはマルチコート層13が形成されている。マルチコート層13の部分は、図2(e)では薄い灰色で示されている。   In the second embodiment, the letter of the decorative portion 14 is B, and the same operation as in the first embodiment is performed until the resist layer 12 is peeled off and removed. That is, FIGS. 1A and 1B correspond to FIGS. 2A and 2B, FIGS. 1C and 1D correspond to FIGS. 2C and 2D, and FIG. (E) and (f) correspond to FIGS. 2 (e) and (f). As shown in FIGS. 2 (e) and 2 (f), the portion of the letter B exposes the substrate 11 to become the exposed portion 16, and the multi-coat layer 13 is formed in the other portions. The portion of the multi-coat layer 13 is shown in light gray in FIG.

図2(g)及び(h)に示すように、マルチコート層13上には第1実施形態と同様のレジストインクでマスキング層15を形成する。そのマスキング層15は、図2(g)では中間の灰色で示されている。その後、図2(i)及び(j)に示すように、基板11の露出部16上に電気メッキを施し、装飾部14としてのメッキ層を形成する。電気メッキのメッキ浴としては、硫酸銅メッキ浴、ワット浴(ニッケルメッキ浴)等が用いられる。   As shown in FIGS. 2G and 2H, a masking layer 15 is formed on the multi-coat layer 13 with the same resist ink as in the first embodiment. The masking layer 15 is shown in intermediate gray in FIG. Thereafter, as shown in FIGS. 2 (i) and 2 (j), electroplating is performed on the exposed portion 16 of the substrate 11 to form a plated layer as the decorative portion 14. As a plating bath for electroplating, a copper sulfate plating bath, a watt bath (nickel plating bath), or the like is used.

硫酸銅メッキ浴は、硫酸銅(150〜200g/l)、硫酸(40〜60g/l)及び光沢剤(微量)等で構成される。そして、常温にて、電流密度1〜4A/dm及び通電時間30〜90分の条件で電気メッキを行うことにより、厚さが20〜70μmの銅メッキ層が形成される。また、ワット浴は、硫酸ニッケル(200〜250g/l)、塩化ニッケル(40〜50g/l)、ホウ酸(35〜45g/l)及び光沢剤(微量)等で構成される。そして、45〜55℃にて、電流密度1〜10A/dm及び通電時間1〜10分の条件で電気メッキを行うことにより、厚さが1〜10μmのニッケルメッキ層が形成される。これらのメッキ層は、図2(i)では濃い灰色(Bの文字)で示されている。また、メッキとしては、目的とする装飾感に合せて光沢のあるメッキ、艶消しのメッキ等適宜選択することができる。 The copper sulfate plating bath is composed of copper sulfate (150 to 200 g / l), sulfuric acid (40 to 60 g / l), a brightener (a trace amount), and the like. Then, a copper plating layer having a thickness of 20 to 70 μm is formed by performing electroplating at room temperature at a current density of 1 to 4 A / dm 2 and an energization time of 30 to 90 minutes. The watt bath is composed of nickel sulfate (200 to 250 g / l), nickel chloride (40 to 50 g / l), boric acid (35 to 45 g / l), brightener (trace amount), and the like. Then, a nickel plating layer having a thickness of 1 to 10 μm is formed by performing electroplating at a current density of 1 to 10 A / dm 2 and an energization time of 1 to 10 minutes at 45 to 55 ° C. These plated layers are shown in dark gray (letter B) in FIG. Further, as the plating, it is possible to appropriately select a glossy plating, a matte plating, or the like according to a desired decorative feeling.

電解メッキについては、例えば次に示す(a)〜(d)の4工程により行うこともできる。
(a)下地メッキ工程
塩酸(HCl)と塩化ニッケル(NiCl)とより構成される電解液中に基板11を浸漬し、通電することによりニッケルメッキを施す。この下地メッキ処理により、基板11上に厚さ0.1〜0.2μm程度の下地メッキ層が形成される。
(b)銅メッキ工程
硫酸銅(CuSO)及び硫酸よりなる電解液中に、下地メッキを施した基板11を浸漬し、銅メッキ処理を行うことにより、下地メッキ層上に厚さ40〜80μmの銅メッキ層が肉厚に形成される。
(c)ニッケルメッキ工程
塩化ニッケル、硫酸ニッケル(NiSO)及びホウ酸(HBO)よりなる電解液中に、銅メッキを施した基板11が浸漬され、ニッケルメッキが行われる。このニッケルメッキにより、銅メッキ層上に厚さ2〜3μm程度のニッケルメッキ層が形成される。
(d)金メッキ工程
電解液として、シアン化金酸カリウム「K〔Au(CN)〕」、コバルトを含有する建浴液、同じくコバルトを含有する補給液の水溶液が用いられる。この金メッキ処理により、ニッケルメッキ層上に厚さ0.1μm程度の金メッキ層が形成される。
The electrolytic plating can be performed by, for example, the following four steps (a) to (d).
(A) Substrate plating step The substrate 11 is immersed in an electrolytic solution composed of hydrochloric acid (HCl) and nickel chloride (NiCl 2 ), and nickel plating is performed by energization. By this base plating process, a base plating layer having a thickness of about 0.1 to 0.2 μm is formed on the substrate 11.
(B) Copper plating step The substrate 11 on which the base plating is performed is immersed in an electrolytic solution made of copper sulfate (CuSO 4 ) and sulfuric acid, and a copper plating treatment is performed, whereby a thickness of 40 to 80 μm is formed on the base plating layer. The copper plating layer is formed thick.
(C) Nickel plating step The substrate 11 subjected to copper plating is immersed in an electrolytic solution made of nickel chloride, nickel sulfate (NiSO 4 ) and boric acid (H 3 BO 3 ), and nickel plating is performed. By this nickel plating, a nickel plating layer having a thickness of about 2 to 3 μm is formed on the copper plating layer.
(D) Gold Plating Step As an electrolytic solution, an aqueous solution of potassium cyanide gallate “K [Au (CN) 4 ]”, a bath solution containing cobalt, and a replenisher solution containing cobalt is also used. By this gold plating treatment, a gold plating layer having a thickness of about 0.1 μm is formed on the nickel plating layer.

最後に、図2(k)及び(l)に示すように、マスキング層を有機溶剤又はアルカリ水溶液で除去する。このようにして、装飾部14としてBの文字を表すメッキ層と、それ以外のマルチコート層13とで構成される部分マルチコートによる加飾製品10が得られる。   Finally, as shown in FIGS. 2 (k) and (l), the masking layer is removed with an organic solvent or an alkaline aqueous solution. In this way, a decorated product 10 with a partial multi-coat composed of the plated layer representing the letter B as the decorative portion 14 and the other multi-coat layer 13 is obtained.

さて、本実施形態の作用について説明すると、基板11上に例えばシンナー剥離型のレジストインクを印刷してレジスト層12を形成した後、蒸着法によってマルチコート層13を被覆形成し、次いで基板11をシンナー中に浸漬する。蒸着法によって形成されたマルチコート層13は、微細な孔が多数形成された多孔質体となっている。このため、シンナーはマルチコート層13の微細な孔を浸透してレジスト層12に到り、レジスト層12を溶解する。その後、ブラッシングを行うことにより、レジスト層12の上に位置していたマルチコート層13を物理的な力で剥離し、その部分の基板11を露出させて装飾部14を形成する。このようにして部分マルチコートによる加飾製品10が製造される。   Now, the operation of the present embodiment will be described. After, for example, a thinner peeling type resist ink is printed on the substrate 11 to form the resist layer 12, the multi-coat layer 13 is formed by vapor deposition, and then the substrate 11 is formed. Immerse in thinner. The multi-coat layer 13 formed by the vapor deposition method is a porous body in which many fine holes are formed. For this reason, the thinner penetrates the fine holes of the multi-coat layer 13 to reach the resist layer 12 and dissolves the resist layer 12. Thereafter, by brushing, the multi-coat layer 13 located on the resist layer 12 is peeled off by a physical force, and the substrate 11 is exposed to form the decorative portion 14. In this way, the decorated product 10 by partial multi-coating is manufactured.

得られた加飾製品10は、マルチコート層13が光の反射と干渉によって虹色に輝くと同時に、露出された基板11がステンレス鋼による金属色を呈し、それらのコントラストにより斬新な装飾感が醸し出される。   In the obtained decorative product 10, the multi-coat layer 13 shines in rainbow colors due to light reflection and interference, and at the same time, the exposed substrate 11 exhibits a metallic color made of stainless steel, and the contrast between them makes a novel decorative feeling. Brewed.

以上詳述した本実施形態によれば、次のような効果が発揮される。
・ 本実施形態における部分マルチコートによる加飾製品10の製造方法では、基板11上に有機溶剤剥離型又はアルカリ剥離型のレジストインクを印刷することによりレジスト層12を形成する。その後、該レジスト層12を含む基板11上に蒸着法によってマルチコート層13を被覆形成する。次いで、前記レジスト層12の位置に有機溶剤又はアルカリを作用させマルチコート層13を浸透させてレジスト層12及びその上のマルチコート層13を剥離し、その部分の基板11を露出させて装飾部14を形成する。
According to the embodiment described in detail above, the following effects are exhibited.
-In the manufacturing method of the decorative product 10 by the partial multicoat in this embodiment, the resist layer 12 is formed by printing the organic solvent peeling type or alkali peeling type resist ink on the board | substrate 11. FIG. Thereafter, a multicoat layer 13 is formed on the substrate 11 including the resist layer 12 by vapor deposition. Next, an organic solvent or alkali is allowed to act on the position of the resist layer 12 to penetrate the multi-coat layer 13 to peel off the resist layer 12 and the multi-coat layer 13 on the resist layer 12, thereby exposing the substrate 11 of the portion and decorating the portion. 14 is formed.

すなわち、蒸着法によって形成されたマルチコート層13には、有機溶剤又はアルカリが浸透するに足る微細な孔が形成されている。これを利用し、レジスト層12の位置に有機溶剤又はアルカリを作用させると、有機溶剤又はアルカリはマルチコート層13の微細な孔を通ってレジスト層12に達してレジスト層12を溶解する。このため、加飾製品は虹色に輝くマルチコート層13と、そのマルチコート層13及びレジスト層12が除去され、基板11が露出されて形成された装飾部14とにより構成される。従って、装飾感に優れた加飾製品10を容易に製造することができる。   That is, in the multi-coat layer 13 formed by the vapor deposition method, fine holes sufficient to allow the organic solvent or alkali to permeate are formed. When this is utilized and an organic solvent or alkali is allowed to act on the position of the resist layer 12, the organic solvent or alkali reaches the resist layer 12 through the fine holes of the multi-coat layer 13 and dissolves the resist layer 12. For this reason, the decorative product includes a multi-coat layer 13 shining in rainbow, and a decorative portion 14 formed by removing the multi-coat layer 13 and the resist layer 12 and exposing the substrate 11. Therefore, it is possible to easily manufacture the decorative product 10 having an excellent decorative feeling.

・ 前記有機溶剤又はアルカリを作用させてレジスト層を剥離した後、ブラッシングを行ってレジスト層12が存在していた位置のマルチコート層13を剥離するものである。従って、レジスト層12が存在していた位置のマルチコート層13の剥離を容易かつ十分に行うことができる。   -The resist layer is peeled off by the action of the organic solvent or alkali, followed by brushing to peel off the multi-coat layer 13 at the position where the resist layer 12 was present. Therefore, the multi-coat layer 13 at the position where the resist layer 12 was present can be easily and sufficiently peeled off.

・ 前記有機溶剤又はアルカリによるレジスト層12及びその上のマルチコート層13の剥離後に、マルチコート層13上にマスキング層15を被覆形成し、剥離されたレジスト層12の部分にメッキを施して装飾部14としてのメッキ層を形成し、その後マスキング層15を剥離するものである。従って、メッキ層に基づく金属光沢による装飾感を得ることができる。   -After the resist layer 12 and the multi-coat layer 13 formed thereon are peeled off by the organic solvent or alkali, a masking layer 15 is formed on the multi-coat layer 13 and the exposed resist layer 12 is plated and decorated. A plating layer as the portion 14 is formed, and then the masking layer 15 is peeled off. Therefore, the decoration feeling by the metallic luster based on the plating layer can be obtained.

・ 本実施形態の加飾製品10は、ネームプレート、ペンダント、銘板、ステッカー、パネル、貼着用シール等として用いることができる。   -The decorative product 10 of this embodiment can be used as a nameplate, a pendant, a nameplate, a sticker, a panel, a sticker for sticking, and the like.

以下、実施例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。
(実施例1)
図1(a)〜(f)に示す第1実施形態に従って、基板11上にAの文字を表す部分マルチコートによる加飾製品10を製造した。すなわち、図1(a)及び(b)に示すように、正方形板状をなすステンレス鋼製の基板11上には、有機溶剤剥離型のレジストインク〔太陽インキ製造(株)製、M−85K〕にてスクリーン印刷法によりAの文字を表すようにレジスト層12を形成した。基板11は厚さ0.4mmで、表面に多数のヘアラインが形成されているものを使用した。レジスト層12の厚さは、20μmとした。
Hereinafter, the embodiment will be described more specifically with reference to examples.
Example 1
According to 1st Embodiment shown to Fig.1 (a)-(f), the decoration product 10 by the partial multicoat which represents the character of A on the board | substrate 11 was manufactured. That is, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), an organic solvent peeling type resist ink [manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd., M-85K] is formed on a stainless steel substrate 11 having a square plate shape. The resist layer 12 was formed so as to represent the letter A by screen printing. The substrate 11 is 0.4 mm thick and has a number of hairlines formed on the surface. The thickness of the resist layer 12 was 20 μm.

次に、図1(c)及び(d)に示すように、基板11及びレジスト層12上に、真空蒸着装置にて10−3Paの圧力で蒸発物質にフッ化マグネシウム(MgF)を用いて加熱蒸発させ、第1蒸着層を形成した。その上に同様にして、蒸発物質を二酸化珪素(SiO)、アルミナ(Al)及び二酸化チタン(TiO)に代え、第2蒸着層、第3蒸着層及び第4蒸着層を形成した。これら蒸着層の厚さは、それぞれ130nmとした。 Next, as shown in FIGS. 1C and 1D, magnesium fluoride (MgF 2 ) is used as the evaporation substance on the substrate 11 and the resist layer 12 at a pressure of 10 −3 Pa with a vacuum deposition apparatus. The first vapor deposition layer was formed by heating and evaporation. Similarly, the second evaporation layer, the third evaporation layer, and the fourth evaporation layer are formed by replacing the evaporation substance with silicon dioxide (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), and titanium dioxide (TiO 2 ). did. The thickness of these vapor deposition layers was 130 nm, respectively.

次いで、図1(e)及び(f)に示すように、基板11を有機溶剤としてのシンナー中に浸漬することにより、そのシンナーがマルチコート層13を浸透してレジスト層12に達し、レジスト層12が溶解され、除去された。その後、マルチコート層13の表面を軽くブラッシングすることにより、除去されたレジスト層12上に位置していたマルチコート層13がブラッシングの物理的な力により簡単に剥離された。一方、基板11上のその他の部分におけるマルチコート層13は基板11に密着されていた。そして、レジスト層12及びその上のマルチコート層13が除去された部分は、基板11であるステンレス鋼が露出されて装飾部14が形成された。   Next, as shown in FIGS. 1E and 1F, by immersing the substrate 11 in a thinner as an organic solvent, the thinner penetrates the multi-coat layer 13 and reaches the resist layer 12, and the resist layer 12 was dissolved and removed. Thereafter, the surface of the multicoat layer 13 was lightly brushed, whereby the multicoat layer 13 located on the removed resist layer 12 was easily peeled off by the physical force of brushing. On the other hand, the multi-coat layer 13 in other portions on the substrate 11 was in close contact with the substrate 11. And the stainless steel which is the board | substrate 11 was exposed in the part from which the resist layer 12 and the multicoat layer 13 on it were removed, and the decoration part 14 was formed.

このようにして、マルチコート層13が設けられていないAの文字を表す装飾部14と、それ以外の部分に設けられているマルチコート層13とで構成された部分マルチコートによる加飾製品10を製造した。得られた加飾製品10は、装飾部14ではステンレス鋼による金属光沢とヘアラインによる斬新さが発現され、マルチコート層13では多層構造であるため光の反射や干渉によって七色の虹のような見る方向で異なる外観を呈し、斬新な見栄えを得ることができ、優れた装飾感を発揮することができた。   Thus, the decoration product 10 by the partial multi-coat comprised by the decoration part 14 showing the character of A in which the multi-coat layer 13 is not provided, and the multi-coat layer 13 provided in the other part. Manufactured. The decorative product 10 thus obtained has a metallic luster made of stainless steel and a novel hairline in the decorative portion 14, and the multi-coat layer 13 has a multi-layer structure, so it looks like a rainbow of seven colors due to light reflection and interference. It had a different appearance depending on the direction, was able to obtain a novel appearance, and exhibited an excellent decorative feeling.

また、マルチコート層13の形成に当たり、蒸着法を部分的に繰り返し行うのではなく、基板11の全面に適用した後、必要な部分を除去する方法を採用したことから、加飾製品10を容易に製造することができた。
(実施例2)
図2(a)〜(l)に示す第2実施形態に従って、基板11上にBの文字を表す部分マルチコートによる加飾製品10を製造した。この実施例2では、Bの文字の部分では基板11が露出され、それ以外の部分でマルチコート層13が形成されるまでは実施例1と同じである。すなわち、図2(a)及び(b)に示すように、基板11上にレジスト層12を形成した。続いて、図2(c)及び(d)に示すように、基板11上の全面にマルチコート層13を被覆形成した。次いで、図2(e)及び(f)に示すように、有機溶剤によってレジスト層12及びその上のマルチコート層13を剥離、除去した。
Further, in forming the multi-coat layer 13, the vapor deposition method is not partially repeated, but a method of removing a necessary portion after applying it to the entire surface of the substrate 11 is adopted. Could be manufactured.
(Example 2)
According to 2nd Embodiment shown to Fig.2 (a)-(l), the decoration product 10 by the partial multi-coat showing the letter B on the board | substrate 11 was manufactured. In this Example 2, the substrate 11 is exposed at the portion of the letter B, and it is the same as the Example 1 until the multi-coat layer 13 is formed at the other portions. That is, as shown in FIGS. 2A and 2B, a resist layer 12 was formed on the substrate 11. Subsequently, as shown in FIGS. 2C and 2D, a multicoat layer 13 was formed on the entire surface of the substrate 11. Next, as shown in FIGS. 2E and 2F, the resist layer 12 and the multi-coat layer 13 thereon were peeled off and removed with an organic solvent.

その後、図2(g)及び(h)に示すように、マルチコート層13上には実施例1と同じレジストインクでマスキング層15を形成した。次に、図2(i)及び(j)に示すように、基板11の露出部16上に電気メッキを施し、銅メッキ層を形成した。メッキ浴としては硫酸銅メッキ浴を使用した。すなわち、硫酸銅メッキ浴の組成は、硫酸銅(170g/l)、硫酸(50g/l)及び艶消し剤(常法による量)とした。そして、常温にて、電流密度3A/dm及び通電時間60分の条件で電気メッキを行うことにより、厚さが50μmの銅メッキ層を形成した。 Thereafter, as shown in FIGS. 2G and 2H, a masking layer 15 was formed on the multi-coat layer 13 with the same resist ink as in Example 1. Next, as shown in FIGS. 2I and 2J, electroplating was performed on the exposed portion 16 of the substrate 11 to form a copper plating layer. A copper sulfate plating bath was used as the plating bath. That is, the composition of the copper sulfate plating bath was copper sulfate (170 g / l), sulfuric acid (50 g / l), and a matting agent (amount by a conventional method). Then, a copper plating layer having a thickness of 50 μm was formed by performing electroplating at room temperature at a current density of 3 A / dm 2 and an energization time of 60 minutes.

最後に、図2(k)及び(l)に示すように、マスキング層15をシンナーで除去した。このようにして、装飾部14としてBの文字を表すメッキ層と、それ以外のマルチコート層13とで構成される部分マルチコートによる加飾製品10を得た。得られた加飾製品10は、装飾部14では銅メッキ層による金色で金属表面の艶消しによる外観が発現され、マルチコート層13では実施例1と同様の外観を呈し、斬新な見栄えを得ることができ、優れた装飾感を発揮することができた。また、マルチコート層13の形成に当たっては、実施例1と同様に基板11の全面に適用した後、必要な部分を除去する方法を採用したことから、加飾製品10を容易に製造することができた。   Finally, as shown in FIGS. 2 (k) and 2 (l), the masking layer 15 was removed with a thinner. Thus, the decorative product 10 by the partial multicoat comprised by the plating layer showing the character B as the decoration part 14 and the other multicoat layer 13 was obtained. The obtained decorative product 10 has a golden appearance by the copper plating layer in the decorative portion 14 and an appearance by matting of the metal surface, and the multi-coat layer 13 has the same appearance as in Example 1 and has a novel appearance. It was possible to show an excellent decoration feeling. Further, in forming the multi-coat layer 13, the decorative product 10 can be easily manufactured because a method of removing a necessary portion after applying to the entire surface of the substrate 11 as in Example 1 was adopted. did it.

なお、前記実施形態を次のように変更して具体化することも可能である。
・ 装飾部14をA、B以外の文字、さらには記号、図形、模様等で構成することもできる。
It should be noted that the embodiment described above can be modified and embodied as follows.
-The decoration part 14 can also be comprised with characters other than A and B, and also a symbol, a figure, a pattern, etc.

・ 剥離されたレジスト層12の部分に、印刷、塗装等によって着色、模様等を形成することもできる。
・ マルチコート層13には、ハードコート層を設けて強度を向上させたり、光の干渉層を設けて光を干渉させるように構成することも可能である。
-Coloring, a pattern, etc. can also be formed in the part of the peeled resist layer 12 by printing, painting, or the like.
The multi-coat layer 13 can be configured to provide a hard coat layer to improve strength, or to provide a light interference layer to interfere light.

次に、前記実施形態から把握できる技術的思想について以下に記載する。
・ 前記メッキ層は、マルチコート層の厚さより厚くなるように構成されていることを特徴とする請求項3に記載の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法。この製造方法によれば、請求項3に係る発明の効果に加えて、メッキ層が浮き出て見え、装飾感を一層向上させることができる。
Next, the technical idea that can be grasped from the embodiment will be described below.
The method for producing a decorated product by partial multi-coating according to claim 3, wherein the plating layer is configured to be thicker than the multi-coating layer. According to this manufacturing method, in addition to the effect of the invention according to claim 3, the plating layer appears to be raised, and the decoration feeling can be further improved.

・ 前記マルチコート層は3〜7層に形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法。この製造方法によれば、請求項1から請求項3のいずれかに係る発明の効果に加えて、マルチコート層に基づく色調の変化による装飾感を向上させることができる。   The said multi-coat layer is formed in 3-7 layers, The manufacturing method of the decorating product by the partial multi-coat as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. According to this manufacturing method, in addition to the effects of the invention according to any one of claims 1 to 3, it is possible to improve a decorative feeling due to a change in color tone based on the multi-coat layer.

(a)〜(f)は第1実施形態の加飾製品の製造工程を順に示す図であって、(a)は基板上にレジスト層を形成した状態を示す平面図、(b)は(a)の1b−1b線断面図、(c)はマルチコート層を被覆形成した状態を示す平面図、(d)は(c)の1d−1d線断面図、(e)はレジスト層の部分を剥離して装飾部を形成した状態を示す平面図、(f)は(e)の1f−1f線断面図。(A)-(f) is a figure which shows the manufacturing process of the decoration product of 1st Embodiment in order, Comprising: (a) is a top view which shows the state which formed the resist layer on the board | substrate, (b) is ( FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line 1b-1b, FIG. 3C is a plan view showing a state in which a multi-coat layer is formed, FIG. 4D is a cross-sectional view taken along line 1d-1d in FIG. The top view which shows the state which peeled and formed the decoration part, (f) is the 1f-1f sectional view taken on the line of (e). (a)〜(l)は第2実施形態の加飾製品の製造工程を順に示す図であって、(a)は基板上にレジスト層を形成した状態を示す平面図、(b)は(a)の2b−2b線断面図、(c)はマルチコート層を被覆形成した状態を示す平面図、(d)は(c)の2d−2d線断面図、(e)はレジスト層の部分を剥離して露出部を形成した状態を示す平面図、(f)は(e)の2f−2f線断面図、(g)はマルチコート層上にマスキング層を形成した状態を示す平面図、(h)は(g)の2h−2h線断面図、(i)はレジスト層が剥離された部分にメッキ層を形成して装飾部とした状態を示す平面図、(j)は(i)の2j−2j線断面図、(k)はマスキング層を剥離した状態を示す平面図、(l)は(k)の2l−2l線断面図。(A)-(l) is a figure which shows the manufacturing process of the decorative product of 2nd Embodiment in order, Comprising: (a) is a top view which shows the state which formed the resist layer on the board | substrate, (b) is ( 2A is a cross-sectional view taken along the line 2b-2b in FIG. 2A, FIG. 2C is a plan view showing a state where the multi-coat layer is formed, FIG. 2D is a cross-sectional view taken along the line 2d-2d in FIG. (F) is a cross-sectional view taken along line 2f-2f in (e), (g) is a plan view showing a state in which a masking layer is formed on the multicoat layer, (H) is a cross-sectional view taken along line 2h-2h of (g), (i) is a plan view showing a state where a plating layer is formed on a portion where the resist layer is peeled off, and a decorative portion is formed, and (j) is (i) 2j-2j line sectional view, (k) is a plan view showing a state where the masking layer is peeled off, (l) is a sectional view taken along the line 2l-2l of (k).

符号の説明Explanation of symbols

10…加飾製品、11…基板、12…レジスト層、13…マルチコート層、14…装飾部、15…マスキング層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Decorated product, 11 ... Board | substrate, 12 ... Resist layer, 13 ... Multi-coat layer, 14 ... Decoration part, 15 ... Masking layer.

Claims (3)

基板上に有機溶剤剥離型又はアルカリ剥離型のレジストインクを印刷することによりレジスト層を形成した後、該レジスト層を含む基板上に蒸着法によってマルチコート層を被覆形成し、次いで前記レジスト層の位置に有機溶剤又はアルカリを作用させマルチコート層を浸透させてレジスト層及びその上のマルチコート層を剥離し、その部分の基板を露出させて装飾部を形成することを特徴とする部分マルチコートによる加飾製品の製造方法。 After forming a resist layer by printing an organic solvent peeling type or alkali peeling type resist ink on the substrate, a multi-coat layer is formed on the substrate including the resist layer by vapor deposition, and then the resist layer Partial multi-coating characterized in that an organic solvent or alkali is allowed to act on the position to infiltrate the multi-coating layer to peel off the resist layer and the multi-coating layer on top of the multi-coating layer to expose the portion of the substrate and form a decorative part. A method for manufacturing decorated products. 前記有機溶剤又はアルカリを作用させてレジスト層を剥離した後、ブラッシングを行ってレジスト層が存在していた位置のマルチコート層を剥離することを特徴とする請求項1に記載の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法。 The partial multi-coat according to claim 1, wherein the resist layer is peeled off by the action of the organic solvent or alkali, and then the multi-coat layer at the position where the resist layer was present is peeled off by brushing. A method for producing decorative products. 前記有機溶剤又はアルカリによるレジスト層及びその上のマルチコート層の剥離後に、マルチコート層上にマスキング層を被覆形成し、剥離されたレジスト層の部分にメッキを施して装飾部としてのメッキ層を形成し、その後マスキング層を剥離することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の部分マルチコートによる加飾製品の製造方法。 After peeling off the resist layer and the multi-coat layer on the organic solvent or alkali, a masking layer is formed on the multi-coat layer, and the peeled resist layer is plated to form a plating layer as a decorative portion. The method for producing a decorated product by partial multi-coating according to claim 1, wherein the masking layer is peeled off after the formation.
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