JP2007042683A - Method of forming conductive pattern - Google Patents

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浩一 川村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming conductive pattern in which a high-resolution conductive pattern having a conductivity and durability can be obtained without requiring complicated process and an expensive apparatus, even when it is applied to the formation of an interconnection, etc. which is used for a plurality of different materials. <P>SOLUTION: The method includes: a step of manufacturing a surface hydrophilic member in which hydrophilic graft polymer chains exist over the entire surface of at least one face of a support; a step of providing an electroless plating catalyst or its precursor locally to the surface hydrophilic member and making the member adsorb the catalyst; and a step of applying electroless plating on the surface hydrophilic member which has locally adsorbed the electroless plating catalyst or its precursor. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は導電性パターン形成方法に関し、特に、配線基板等の形成に有用な導電性パターンを容易に形成できる導電性パターン形成方法に関する。   The present invention relates to a conductive pattern forming method, and more particularly to a conductive pattern forming method capable of easily forming a conductive pattern useful for forming a wiring board or the like.

従来、種々の導電性パターンが配線基板として使用されている。これらの導電性パターンの形成方法として代表的なものとしては、絶縁体上に真空蒸着などの公知の方法により形成された薄膜の導電性材料を設け、それをレジスト処理し、パターン露光により予め作成したレジストの一部を除去し、その後、エッチング処理を行なって所望のパターンを形成するものが挙げられる(例えば、特許文献1参照。)。この方法では、少なくとも4つの工程を必要とし、ウエットエッチング処理を行う場合には、その廃液の処理工程も必要となるため、複雑な工程をとらざるを得なかった。
また、他のパターン形成方法としては、フォトレジストを用いた導電性パターン形成方法なども知られている。この方法は、フォトレジストポリマーを塗布したり、ドライフィルム上のフォトレジストを貼付した基材を、任意のフォトマスクを介してUV露光し、格子状などのパターンを形成する方法であり、高い導電性を必要とする電磁波シールドの形成に有用である。
Conventionally, various conductive patterns are used as a wiring board. As a typical method for forming these conductive patterns, a thin film conductive material formed by a known method such as vacuum vapor deposition is provided on an insulator, which is subjected to resist treatment, and prepared in advance by pattern exposure. A part of the resist that has been removed is removed, and then an etching process is performed to form a desired pattern (for example, see Patent Document 1). In this method, at least four steps are required, and when the wet etching process is performed, a treatment process for the waste liquid is also required, so that complicated processes have to be taken.
As another pattern forming method, a conductive pattern forming method using a photoresist is also known. This method is a method in which a substrate coated with a photoresist polymer or a photoresist on a dry film is exposed to UV through an arbitrary photomask to form a pattern such as a lattice. It is useful for forming an electromagnetic wave shield that requires high performance.

一方、近年、ディジタル化されたデーターからマスクなどを介さずに直接、パターン形成する方法が注目され、種々提案されてきている。
このようなデジタル化されたパターン形成方法を利用すれば、任意のパターンが容易に形成されることが期待される。このような方法のひとつとして、自己組織化単分子膜を用いる方法が挙げられる。これは、界面活性分子を含む有機溶剤に基板を浸漬したときに自発的に形成される分子集合体を利用するもので、例えば、有機シラン化合物とSiO2、Al23の基板との組合せや、アルコールやアミンと白金基板との組合せが挙げられ、光リソグラフィー法などによるパターン形成が可能である。このような単分子膜は微細パターンの形成を可能とするが、限られた基板と材料との組み合わせを用いる必要があるために、実際の応用への展開が困難であり、実用に適する配線等の導電性パターン形成技術は未だ確立されていないのが現状である。
特開2004−31588号公報
On the other hand, in recent years, a method for forming a pattern directly from digitized data without using a mask or the like has attracted attention and various proposals have been made.
If such a digitized pattern forming method is used, it is expected that an arbitrary pattern can be easily formed. One of such methods is a method using a self-assembled monolayer. This utilizes a molecular assembly that is spontaneously formed when the substrate is immersed in an organic solvent containing surface active molecules. For example, a combination of an organic silane compound and a substrate of SiO 2 or Al 2 O 3 In addition, a combination of alcohol or amine and a platinum substrate can be used, and pattern formation by an optical lithography method or the like is possible. Such a monomolecular film enables the formation of a fine pattern, but it is necessary to use a limited combination of substrates and materials, so that it is difficult to deploy to actual applications, wiring suitable for practical use, etc. Currently, the conductive pattern forming technology has not been established yet.
JP 2004-31588 A

本発明は従来の技術の欠点を考慮してなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、導電性及び耐久性を有する高解像度な導電性パターンが得られる導電性パターン形成方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the drawbacks of the prior art, and it is an object of the present invention to achieve the following objects.
That is, the object of the present invention is not to require a complicated process or an expensive apparatus, and even when applied to the formation of wiring using a plurality of different materials, the high-resolution conductivity having conductivity and durability. An object of the present invention is to provide a conductive pattern forming method capable of obtaining a pattern.

本発明者等は、親水性グラフトポリマー鎖の強いイオン吸着性に着眼し鋭意検討した結果、該親水性グラフトポリマー鎖を有する表面親水性部材を用い、該表面親水性部材に無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与して吸着させた後、無電解メッキを行うことで上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of diligent investigations focusing on the strong ion adsorptivity of the hydrophilic graft polymer chain, the present inventors have used a surface hydrophilic member having the hydrophilic graft polymer chain, and the surface hydrophilic member has an electroless plating catalyst or After the precursor was locally applied and adsorbed, the above object was achieved by performing electroless plating, and the present invention was completed.

即ち、本発明の導電性パターン形成方法は、支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材を作製する工程と、前記表面親水性部材に、無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与して吸着させる工程と、前記無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に吸着させた表面親水性部材に、無電解メッキを行う工程と、を有することを特徴とする。   That is, the conductive pattern forming method of the present invention includes a step of producing a surface hydrophilic member in which a hydrophilic graft polymer chain is present over the entire surface of at least one surface of a support, and A step of locally applying and adsorbing an electroplating catalyst or a precursor thereof, and a step of performing electroless plating on the surface hydrophilic member on which the electroless plating catalyst or the precursor thereof is locally adsorbed. It is characterized by having.

本発明において、表面親水性部材に無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与する態様としては、インクジェット記録装置を用いて流動体状の無電解メッキ触媒又はその前駆体をパターン状に吐出する態様、スクリーン印刷等の公知のパターン印刷法を用いる態様、が好ましい。
インクジェット記録装置を用いる場合には、デジタルデータに基づき支持体上に直接パターン形成が可能となり、その応用範囲も広い。
In the present invention, as an aspect in which the electroless plating catalyst or its precursor is locally applied to the surface hydrophilic member, a fluid electroless plating catalyst or its precursor is discharged in a pattern using an ink jet recording apparatus. And a mode using a known pattern printing method such as screen printing is preferable.
When an ink jet recording apparatus is used, it is possible to form a pattern directly on a support based on digital data, and its application range is wide.

また、本発明においては、前記無電解メッキを行った後に、導電性向上の観点から、更に、電気メッキを行うことも好ましい。   Moreover, in this invention, after performing the said electroless plating, it is also preferable to perform electroplating further from a viewpoint of electroconductivity improvement.

本発明の作用は明確ではないが、以下の如く推測される。
即ち、本発明に用いられる表面親水性部材に存在する親水性グラフトポリマーは、当該部材を構成する支持体上に直接化学結合している。この表面親水性部材に無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与すると、親水性グラフトポリマー鎖が有する親水性基の機能により、無電解メッキ触媒又はその前駆体と親水性グラフトポリマー鎖とがイオン的に吸着し、吸着した無電解メッキ触媒又はその前駆体は(単分子膜に近い状態で)強固に固定され高密度で均一な層を形成する。かかる表面親水性部材に無電解メッキを行うと、無電解メッキ触媒又はその前駆体が吸着した部分にのみ、金属(導電性素材)を析出させることができることから、薄層であっても高強度で高い耐久性(耐磨耗性)を示し、且つ、断線のない導電性パターンを形成しうるものと考えられる。
Although the operation of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
That is, the hydrophilic graft polymer present in the surface hydrophilic member used in the present invention is directly chemically bonded onto the support constituting the member. When the electroless plating catalyst or a precursor thereof is locally applied to the surface hydrophilic member, the electroless plating catalyst or the precursor thereof and the hydrophilic graft polymer chain are caused by the function of the hydrophilic group of the hydrophilic graft polymer chain. Are ionically adsorbed, and the adsorbed electroless plating catalyst or precursor thereof is firmly fixed (in a state close to a monomolecular film) to form a high-density uniform layer. When electroless plating is performed on such a surface hydrophilic member, the metal (conductive material) can be deposited only on the portion where the electroless plating catalyst or its precursor is adsorbed. It is considered that a conductive pattern having high durability (abrasion resistance) and having no disconnection can be formed.

さらに、本発明においては、表面親水性部材に局所的に無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与する手段として、例えば、インクジェット装置等を用いることが好ましく、この場合、浸漬法などを適用する場合と比較して、簡便かつ少量の素材で目的を達成することができる。また、複数の異なる導電性パターンを形成する必要がある場合においても、局所的に無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与することが可能であるため、所望の導電性素材からなる導電性パターンをそれぞれ独立に形成でき、得られた導電性パターンは、互いに物理的、化学的な影響を及ぼすことがない。このため、本発明の方法は、同一の基材に異なる導電性パターンを順次形成する目的にも好適に使用することができる。   Furthermore, in the present invention, it is preferable to use, for example, an ink jet apparatus as a means for locally applying an electroless plating catalyst or a precursor thereof to the surface hydrophilic member. In this case, a dipping method or the like is applied. Compared to, the object can be achieved with a simple and small amount of material. In addition, even when it is necessary to form a plurality of different conductive patterns, it is possible to locally apply an electroless plating catalyst or a precursor thereof, so that a conductive pattern made of a desired conductive material can be formed. Each can be formed independently, and the obtained conductive patterns do not have physical and chemical influences on each other. For this reason, the method of the present invention can be suitably used for the purpose of sequentially forming different conductive patterns on the same substrate.

本発明によれば、複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、導電性及び耐久性を有する高解像度な導電性パターンが得られる導電性パターン形成方法を提供することができる。   According to the present invention, a high-resolution conductive pattern having conductivity and durability can be obtained even when applied to the formation of wiring using a plurality of different materials without requiring a complicated process or an expensive apparatus. The conductive pattern formation method obtained can be provided.

以下に本発明について詳細に説明する。
本発明の導電性パターン形成方法は、支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材を作製する工程(以下、適宜「表面親水性部材作製工程」と称する。)と、前記表面親水性部材に、無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与して吸着させる工程(以下、適宜「無電解メッキ触媒等付与工程」と称する。)と、前記無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に吸着させた表面親水性部材に、無電解メッキを行う工程(以下、適宜「無電解メッキ工程」と称する。)と、を有することを特徴とする。
The present invention is described in detail below.
The conductive pattern forming method of the present invention is a step of producing a surface hydrophilic member in which a hydrophilic graft polymer chain exists over the entire surface of at least one surface of a support (hereinafter referred to as “surface hydrophilic member producing step” as appropriate). And a step of locally applying and adsorbing an electroless plating catalyst or a precursor thereof to the surface hydrophilic member (hereinafter referred to as “electroless plating catalyst applying step” as appropriate). A step of performing electroless plating on the surface hydrophilic member on which the electroless plating catalyst or its precursor is locally adsorbed (hereinafter referred to as “electroless plating step” as appropriate). To do.

[表面親水性部材作製工程]
本工程では、支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材を作製する。
[Surface hydrophilic member manufacturing process]
In this step, a surface hydrophilic member in which a hydrophilic graft polymer chain exists over the entire surface of at least one surface of the support is produced.

〔表面親水性部材〕
本工程おいて作製される表面親水性部材とは、支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する部材である。
即ち、本発明における表面親水性部材は、支持体の親水性が要求される側の表面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在することにより、該表面が一様に親水性を示すことを要する。かかる要件を充足するものであれば、該親水性グラフトポリマー鎖が直接支持体表面に結合しているものでもよく、また、支持体表面にグラフトポリマーが結合しやすい中間層を設けてその層の上に親水性ポリマーがグラフトされているものでもよい。
[Surface hydrophilic member]
The surface hydrophilic member produced in this step is a member in which a hydrophilic graft polymer chain exists over the entire surface of at least one surface of the support.
That is, the surface hydrophilic member in the present invention is uniformly hydrophilic because of the presence of the hydrophilic graft polymer chain over the entire surface of the support on which the hydrophilicity is required. Cost. As long as these requirements are satisfied, the hydrophilic graft polymer chain may be directly bonded to the support surface, or an intermediate layer on which the graft polymer is easily bonded is provided on the support surface. It may be one having a hydrophilic polymer grafted thereon.

さらに、表面親水性部材としては、親水性グラフトポリマー鎖が幹高分子化合物に結合したポリマー、若しくは、親水性グラフトポリマー鎖が幹高分子化合物に結合し、かつ、架橋しうる官能基が導入されたポリマーを用いて、塗布或いは塗布架橋により支持体表面上に配置された部材や、ポリマー末端に架橋性基を有する親水性ポリマーと架橋剤とを含む組成物を用いて、塗布或いは塗布架橋により支持体表面上に配置された部材も包含される。
なお、以下においては、親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面を、適宜「親水性表面」と称する場合がある。
Further, as the surface hydrophilic member, a polymer in which a hydrophilic graft polymer chain is bonded to a trunk polymer compound, or a functional group that has a hydrophilic graft polymer chain bonded to a trunk polymer compound and can be crosslinked is introduced. By coating or coating and crosslinking using a composition comprising a member disposed on the support surface by coating or coating crosslinking, or a composition containing a hydrophilic polymer having a crosslinking group at the polymer terminal and a crosslinking agent. Also included is a member disposed on the support surface.
In the following, the surface on which the hydrophilic graft polymer chain exists may be referred to as “hydrophilic surface” as appropriate.

本発明における親水性グラフトポリマーの特徴は、ポリマーの末端が支持体表面若しくは支持体表面層に結合し、親水性を示すグラフト部分が実質的に架橋されていない構造を有することにある。この構造により、親水性を発現するポリマー部分の運動性が制限されたり、強固な架橋構造内に埋没されることがなく、高い運動性を保持できるという特徴を有する。このため、通常の架橋構造を有する親水性ポリマーに比較して、優れた親水性が発現されるものと考えられる。
このような親水性グラフトポリマー鎖の分子量としては、Mw500〜500万の範囲であり、好ましくはMw1000〜100万の範囲であり、さらに好ましくはMw2000〜50万の範囲である。
The hydrophilic graft polymer in the present invention is characterized in that the polymer terminal is bonded to the support surface or the support surface layer, and the hydrophilic graft portion is not substantially crosslinked. This structure is characterized in that high mobility can be maintained without restricting the mobility of the polymer portion exhibiting hydrophilicity or being buried in a strong crosslinked structure. For this reason, it is considered that superior hydrophilicity is expressed as compared with a hydrophilic polymer having a normal crosslinked structure.
The molecular weight of such a hydrophilic graft polymer chain is in the range of Mw 500 to 5,000,000, preferably in the range of Mw 1000 to 1,000,000, and more preferably in the range of Mw 2000 to 500,000.

本発明においては、(a)親水性グラフトポリマー鎖が直接支持体表面若しくは支持体表面上に設けた中間層の上に結合しているものを「表面グラフト」と称し、(b)親水性グラフトポリマー鎖がポリマー架橋膜構造の中に導入されているものを用いる場合は「親水性グラフト鎖導入架橋親水層」と称する場合がある。また、本明細書においては、支持体若しくは支持体上に中間層を設けた材料を「基材」と称する場合がある。   In the present invention, (a) a hydrophilic graft polymer chain directly bonded to the support surface or an intermediate layer provided on the support surface is referred to as “surface graft”, and (b) hydrophilic graft When using a polymer chain introduced into a polymer crosslinked membrane structure, it may be referred to as a “hydrophilic graft chain-introduced crosslinked hydrophilic layer”. Moreover, in this specification, the material which provided the intermediate body on the support body or a support body may be called a "base material."

(a)表面グラフトの作製方法
基材上に親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面を作製する方法としては、基材表面の官能基とグラフトポリマーとを化学結合にて付着させる方法と、基材を基点として重合可能な2重結合を有する化合物を重合させグラフトポリマーとする2つの方法がある。
(A) Method for producing surface graft As a method for producing a surface on which a hydrophilic graft polymer chain is present on a substrate, a method in which a functional group on the substrate surface and a graft polymer are attached by chemical bonding, and a substrate There are two methods of polymerizing a compound having a double bond that can be polymerized from the base point into a graft polymer.

まず、基材表面の官能基とグラフトポリマーとを化学結合にて付着させる方法について説明する。
この方法においては、ポリマーの末端若しくは側鎖に基材と反応する官能基を有するポリマーを使用し、この官能基と、基材表面の官能基とを化学反応させることでグラフトさせることができる。基材と反応する官能基としては、基材表面の官能基と反応し得るものであれば特に限定はないが、例えば、アルコキシシランのようなシランカップリング基、イソシアネート基、アミノ基、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、エポキシ基、アリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基等を挙げることができる。ポリマーの末端若しくは側鎖に反応性官能基を有するポリマーとして特に有用な化合物は、トリアルコキシシリル基をポリマー末端に有する親水性ポリマー、アミノ基をポリマー末端に有する親水性ポリマー、カルボキシル基をポリマー末端に有する親水性ポリマー、エポキシ基をポリマー末端に有する親水性ポリマー、イソシアネート基をポリマー末端に有する親水性ポリマーである。
また、この時に使用される親水性ポリマーとしては、親水性であれば特に限定はないが、具体的には、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及びそれらの塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルアセトアミドなどを挙げることができる。その他、以下の表面グラフト重合で使用される親水性モノマーの重合体、若しくは親水性モノマーを含む共重合体を有利に使用することができる。
First, a method for attaching the functional group on the substrate surface and the graft polymer by chemical bonding will be described.
In this method, a polymer having a functional group that reacts with the substrate at the terminal or side chain of the polymer is used, and the functional group can be grafted by chemically reacting with the functional group on the substrate surface. The functional group that reacts with the substrate is not particularly limited as long as it can react with the functional group on the substrate surface. For example, a silane coupling group such as alkoxysilane, an isocyanate group, an amino group, a hydroxyl group, Examples thereof include a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, an epoxy group, an allyl group, a methacryloyl group, and an acryloyl group. Particularly useful compounds as a polymer having a reactive functional group at the terminal or side chain of the polymer are a hydrophilic polymer having a trialkoxysilyl group at the polymer terminal, a hydrophilic polymer having an amino group at the polymer terminal, and a carboxyl group at the polymer terminal. A hydrophilic polymer having an epoxy group at the polymer terminal, and a hydrophilic polymer having an isocyanate group at the polymer terminal.
In addition, the hydrophilic polymer used at this time is not particularly limited as long as it is hydrophilic. Specifically, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polystyrene sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methyl Examples thereof include propanesulfonic acid and salts thereof, polyacrylamide, and polyvinyl acetamide. In addition, a hydrophilic monomer polymer used in the following surface graft polymerization or a copolymer containing a hydrophilic monomer can be advantageously used.

次に、基材を基点として重合可能な2重結合を有する化合物を重合させグラフトポリマーとする方法について説明する。
基材を基点として重合可能な2重結合を有する化合物を重合させ、グラフトポリマーを形成させる方法は、一般的には表面グラフト重合と呼ばれる。表面グラフト重合法とは、プラズマ照射、光照射、加熱などの方法で基材表面上に活性種を与え、基材と接するように配置された重合可能な2重結合を有する化合物を重合によって基材と結合させる方法を指す。
Next, a method of polymerizing a compound having a double bond that can be polymerized from a base material to obtain a graft polymer will be described.
A method of polymerizing a compound having a double bond that can be polymerized from a base material to form a graft polymer is generally called surface graft polymerization. The surface graft polymerization method is a method in which an active species is provided on the surface of a substrate by a method such as plasma irradiation, light irradiation, or heating, and a compound having a polymerizable double bond disposed so as to be in contact with the substrate is polymerized. Refers to the method of bonding with the material.

本発明を実施するための表面グラフト重合法としては、文献記載の公知の方法をいずれも使用することができる。例えば、新高分子実験学10、高分子学会編、1994年、共立出版(株)発行、p135には、表面グラフト重合法として光グラフト重合法、プラズマ照射グラフト重合法が記載されている。また、吸着技術便覧、NTS(株)、竹内監修、1999.2発行、p203、p695には、γ線、電子線等の放射線照射グラフト重合法が記載されている。光グラフト重合法の具体的方法としては、特開昭63−92658号公報、特開平10−296895号公報及び特開平11−119413号公報に記載の方法を使用することができる。プラズマ照射グラフト重合法、放射線照射グラフト重合法においては、上記記載の文献、及びY.Ikada et al., Macromolecules vol.19、 page 1804(1986)などに記載の方法を適用することができる。
具体的には、PETなどの高分子表面を、プラズマ、若しくは、電子線にて処理して表面にラジカルを発生させ、その後、その活性表面と親水性官能基を有するモノマーとを反応させることによりグラフトポリマー表面層、即ち、親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面を得ることができる。
光グラフト重合は、上記記載の文献のほかに、特開昭53−17407号公報(関西ペイント)や、特開2000−212313号公報(大日本インキ)に記載されるように、基材の表面に光重合性組成物を塗布し、その後、水性ラジカル重合化合物を接触させて光を照射することによっても実施することができる。
Any known method described in the literature can be used as the surface graft polymerization method for carrying out the present invention. For example, New Polymer Experimental Science 10, edited by Polymer Society, 1994, published by Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., p135 describes a photograft polymerization method and a plasma irradiation graft polymerization method as surface graft polymerization methods. In addition, the adsorption technique handbook, NTS Co., Ltd., supervised by Takeuchi, 1999.2, p203, p695 describes radiation-induced graft polymerization methods such as γ rays and electron beams. As a specific method of the photograft polymerization method, the methods described in JP-A-63-92658, JP-A-10-296895, and JP-A-11-119413 can be used. In the plasma irradiation graft polymerization method and the radiation irradiation graft polymerization method, the literatures described above and Y.C. Ikada et al. , Macromolecules vol. 19, page 1804 (1986) and the like can be applied.
Specifically, a polymer surface such as PET is treated with plasma or electron beam to generate radicals on the surface, and then the active surface is reacted with a monomer having a hydrophilic functional group. A graft polymer surface layer, i.e. a surface on which hydrophilic graft polymer chains are present, can be obtained.
In addition to the above-mentioned documents, photograft polymerization can be performed on the surface of the substrate as described in JP-A-53-17407 (Kansai Paint) and JP-A-2000-212313 (Dainippon Ink). It can also be carried out by applying a photopolymerizable composition to the film, and then irradiating it with an aqueous radical polymerization compound in contact.

−表面グラフト重合するのに有用な重合可能な2重結合を有する化合物−
親水性グラフトポリマー鎖を形成するのに有用な化合物は、重合可能な2重結合を有しており、かつ、親水性の性質を兼ね備えていることが必要である。これらの化合物としては、分子内に2重結合を有していれば、親水性ポリマーでも、親水性オリゴマーでも、親水性モノマーでも、これらいずれの化合物をも用いることができる。特に有用な化合物は親水性モノマーである。
本発明において有用な親水性モノマーとは、アンモニウム、ホスホニウムなどの正の荷電を有するモノマー、若しくは、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基などの負の荷電を有するか負の荷電に解離し得る酸性基を有するモノマーが挙げられる。その他にも、例えば、水酸基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシ基、シアノ基、などの非イオン性の基を有する親水性モノマーを用いることもできる。
-Compounds having polymerizable double bonds useful for surface graft polymerization-
A compound useful for forming a hydrophilic graft polymer chain is required to have a polymerizable double bond and to have a hydrophilic property. As these compounds, any of these compounds can be used as long as it has a double bond in the molecule, whether it is a hydrophilic polymer, a hydrophilic oligomer, or a hydrophilic monomer. Particularly useful compounds are hydrophilic monomers.
The hydrophilic monomer useful in the present invention is a monomer having a positive charge such as ammonium or phosphonium, or a negative charge or negative charge such as a sulfonic acid group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, or a phosphonic acid group. And monomers having an acidic group that can be dissociated. In addition, for example, a hydrophilic monomer having a nonionic group such as a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group, an alkoxy group, or a cyano group can be used.

本発明において、特に有用な親水性モノマーの具体例としては、次のモノマーを挙げることができる。例えば、(メタ)アクリル酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、イタコン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン酸塩、アリルアミン若しくはそのハロゲン化水素酸塩、3−ビニルプロピオン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、ビニルスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、スチレンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、2−スルホエチレン(メタ)アクリレート、3−スルホプロピレン(メタ)アクリレート若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート若しくはそれらの塩、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート若しくはそのハロゲン化水素酸塩、3−トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリレート、3−トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N,N−トリメチル−N−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル)アンモニウムクロライド、などを使用することができる。また、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−モノメチロール(メタ)アクリルアミド、N−ジメチロール(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、ポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートなども有用である。   In the present invention, specific examples of particularly useful hydrophilic monomers include the following monomers. For example, (meth) acrylic acid or its alkali metal salt and amine salt, itaconic acid or its alkali metal salt and amine salt, allylamine or its hydrohalide salt, 3-vinylpropionic acid or its alkali metal salt and amine salt Vinyl sulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, styrene sulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-sulfoethylene (meth) acrylate, 3-sulfopropylene (meth) acrylate or its alkali metal salt and amine salt 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or its alkali metal salts and amine salts, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate or their salts, 2-dimethylaminoethyl (medium) ) Acrylate or its hydrohalide, 3-trimethylammoniumpropyl (meth) acrylate, 3-trimethylammoniumpropyl (meth) acrylamide, N, N, N-trimethyl-N- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl) ) Ammonium chloride, etc. can be used. In addition, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide, polyoxyethylene glycol mono (meth) ) Acrylate is also useful.

(b)親水性グラフトポリマー鎖導入架橋親水層の作製方法
本発明における親水性グラフトポリマー鎖が導入された架橋親水層は、一般的にグラフト重合体の合成法として公知の方法を用いてグラフトポリマーを作製し、それを架橋することで作製することができる。具体的には、グラフト重合体の合成は“グラフト重合とその応用”井手文雄著、昭和52年発行、高分子刊行会、及び“新高分子実験学2、高分子の合成・反応”高分子学会編、共立出版(株)(1995)に記載されている。
(B) Method for Producing Hydrophilic Graft Polymer Chain-Introduced Crosslinked Hydrophilic Layer In the present invention, the crosslinked hydrophilic layer into which the hydrophilic graft polymer chain is introduced is generally a graft polymer using a method known as a graft polymer synthesis method. Can be produced by cross-linking it. Specifically, the synthesis of the graft polymer is “graft polymerization and its application” written by Fumio Ide, published in 1977, “Polymer Publishing”, and “New Polymer Experimental Studies 2, Synthesis and Reaction of Polymers”. Edition, Kyoritsu Publishing Co., Ltd. (1995).

グラフト重合体の合成は、基本的に、1.幹高分子から枝モノマーを重合させる、2.幹高分子に枝高分子を結合させる、3.幹高分子に枝高分子を共重合させる(マクロマー法)、の3つの方法に分けられる。これらの3つの方法のうち、いずれを使用しても本発明における親水性表面を作製することができるが、特に、製造適性、膜構造の制御という観点からは「3.マクロマー法」が優れている。マクロマーを使用したグラフトポリマーの合成は前記の“新高分子実験学2、高分子の合成・反応”高分子学会編、共立出版(株)1995に記載されている。また、山下雄他著“マクロモノマーの化学と工業”アイピーシー、1989にも詳しく記載されている。
具体的には、アクリル酸、アクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、N−ビニルアセトアミドなど、上記の有機架橋親水層として具体的に記載した親水性モノマー使用して文献記載の方法に従い親水性マクロマーを合成することができる。
The synthesis of the graft polymer is basically as follows: 1. Polymerize the branch monomer from the trunk polymer. 2. Link the branch polymer to the trunk polymer. It can be divided into three methods of copolymerizing a branch polymer with a trunk polymer (macromer method). Any of these three methods can be used to produce the hydrophilic surface in the present invention, but “3. Macromer method” is particularly excellent from the viewpoints of production suitability and film structure control. Yes. The synthesis of graft polymers using macromers is described in the aforementioned “New Polymer Experiments 2, Polymer Synthesis / Reaction” edited by Polymer Society of Japan, Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. 1995. It is also described in detail in Yamashita Yu et al., “Chemical Monomer Chemistry and Industry”, IPC, 1989.
Specifically, according to the method described in the literature, using hydrophilic monomers specifically described as the organic cross-linked hydrophilic layer, such as acrylic acid, acrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, N-vinylacetamide and the like. Hydrophilic macromers can be synthesized.

本発明で使用される親水性マクロマーのうち特に有用なものは、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含有のモノマーから誘導されるマクロマー、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、及びその塩のモノマーから誘導されるスルホン酸系マクロマー、アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド系マクロマー、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド等のN−ビニルカルボン酸アミドモノマーから誘導されるアミド系マクロマー、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、グリセロールモノメタクリレート等の水酸基含有モノマーから誘導されるマクロマー、メトキシエチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート等のアルコキシ基若しくはエチレンオキシド基含有モノマーから誘導されるマクロマーである。また、ポリエチレングリコール鎖若しくはポリプロピレングリコール鎖を有するモノマーも、本発明におけるマクロマーとして有用に使用することができる。
これらのマクロマーのうち有用な分子量は、400〜10万の範囲、好ましい範囲は1000〜5万、特に好ましい範囲は1500〜2万の範囲である。分子量が400以下では効果を発揮できず、また10万以上では主鎖を形成する共重合モノマーとの重合性が悪くなる傾向がある。
Among the hydrophilic macromers used in the present invention, particularly useful are macromers derived from carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid and methacrylic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, styrenesulfonic acid, And sulfonic acid macromers derived from monomers of the salts thereof, amide macromers such as acrylamide and methacrylamide, amide macromers derived from N-vinylcarboxylic acid amide monomers such as N-vinylacetamide and N-vinylformamide, Macromers derived from hydroxyl-containing monomers such as hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, glycerol monomethacrylate, methoxyethyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, polyethylene Macromers derived from alkoxy group or ethylene oxide group-containing monomers such as recall acrylate. A monomer having a polyethylene glycol chain or a polypropylene glycol chain can also be usefully used as a macromer in the present invention.
Among these macromers, the useful molecular weight is in the range of 400 to 100,000, the preferred range is 1000 to 50,000, and the particularly preferred range is 1500 to 20,000. When the molecular weight is 400 or less, the effect cannot be exhibited, and when it is 100,000 or more, the polymerizability with the copolymerization monomer forming the main chain tends to be deteriorated.

これらの親水性マクロマーを合成後、親水性グラフトポリマー鎖が導入された架橋親水層を作製する一つの方法としては、上記の親水性マクロマーと反応性官能基を有する他のモノマーと共重合させ、グラフト共重合ポリマーを合成しその後、合成したグラフト共重合ポリマーとポリマーの反応性官能基と反応する架橋剤とを支持体上に塗布し、熱により反応させて架橋させ作製する方法が挙げられる。また、他の方法としては、親水性マクロマーと光架橋性基、若しくは重合性基を有するグラフトポリマーを合成し、それを支持体上に塗布して光照射により反応させて架橋させ作製する方法が挙げられる。   After synthesizing these hydrophilic macromers, as one method for producing a crosslinked hydrophilic layer in which a hydrophilic graft polymer chain is introduced, the hydrophilic macromer is copolymerized with another monomer having a reactive functional group, Examples thereof include a method in which a graft copolymer is synthesized, and then the synthesized graft copolymer and a crosslinking agent that reacts with a reactive functional group of the polymer are coated on a support and reacted by heat to be crosslinked. In addition, as another method, there is a method of synthesizing a graft polymer having a hydrophilic macromer and a photocrosslinkable group or a polymerizable group, applying it on a support and reacting it with light irradiation to form a crosslink. Can be mentioned.

このようにして、基材上に親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材を作製することができる。親水性表面を形成する層の膜厚は目的により選択できるが、一般的には0.001μm〜10μmの範囲が好ましく、0.01μm〜5μmの範囲がさらに好ましく、0.1μm〜2μmの範囲が最も好ましい。膜厚が薄すぎると耐キズ性が低下する傾向があり、厚すぎる場合には密着性向上効果が低くなる傾向にある。   In this manner, a surface hydrophilic member having a hydrophilic graft polymer chain on the substrate can be produced. The thickness of the layer forming the hydrophilic surface can be selected depending on the purpose, but generally it is preferably in the range of 0.001 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.01 μm to 5 μm, and in the range of 0.1 μm to 2 μm. Most preferred. If the film thickness is too thin, the scratch resistance tends to decrease, and if it is too thick, the effect of improving the adhesion tends to be low.

本発明における支持体(基板)は、寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等が含まれる。本発明に使用される支持体としては、ポリエステルフィルム、酢酸セルロース、又はアルミニウム板が好ましく、その中でも、ポリエステルフィルムが特に好ましい。   The support (substrate) in the present invention is preferably a dimensionally stable plate, for example, paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (for example, , Aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. ), Paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited. As a support body used for this invention, a polyester film, a cellulose acetate, or an aluminum plate is preferable, and a polyester film is especially preferable among these.

以上説明した「表面親水性部材作製工程」に次いで、以下の「無電解メッキ触媒等付与工程」が行われる。   Following the “surface hydrophilic member preparation step” described above, the following “electroless plating catalyst application step” is performed.

[無電解メッキ触媒等付与工程]
本工程では、前記表面親水性部材作製工程において得られた表面親水性部材に対して、無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与して吸着させる。
表面親水性部材に、無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与して吸着させる態様としては、無電解メッキ触媒又はその前駆体を、表面親水性部材が有する親水性表面に局所的に適用して吸着させ得る方法であれば特に制限はないが、例えば、以下の1〜2に挙げられる態様が好適である。
1.インクジェット記録装置を用いて、無電解メッキ触媒又はその前駆体を含む流動体をインクジェット記録用ヘッドからパターン状に吐出する態様。
2.公知の印刷法により、パターン状に無電解メッキ触媒又はその前駆体を印刷する態様。
これらの中でも、「1.インクジェット記録装置を用いる態様」が、所定の領域に対する無電解メッキ触媒又はその前駆体の供給精度、供給量の制御性の観点から特に好ましい。
以下、上記1及び2の態様について説明する。
[Electroless plating catalyst application process]
In this step, an electroless plating catalyst or a precursor thereof is locally applied and adsorbed on the surface hydrophilic member obtained in the surface hydrophilic member preparation step.
As an aspect in which the electroless plating catalyst or its precursor is locally applied to the surface hydrophilic member and adsorbed, the electroless plating catalyst or its precursor is locally applied to the hydrophilic surface of the surface hydrophilic member. The method is not particularly limited as long as it is a method that can be applied and adsorbed.
1. A mode in which a fluid containing an electroless plating catalyst or a precursor thereof is ejected in a pattern from an ink jet recording head using an ink jet recording apparatus.
2. A mode in which an electroless plating catalyst or a precursor thereof is printed in a pattern by a known printing method.
Among these, “1. A mode using an ink jet recording apparatus” is particularly preferable from the viewpoints of supply accuracy and controllability of the supply amount of the electroless plating catalyst or its precursor to a predetermined region.
Hereinafter, the first and second aspects will be described.

<1.インクジェット記録装置を用いて、無電解メッキ触媒又はその前駆体を含む流動体をインクジェット記録用ヘッドからパターン状に吐出する態様>
以下、本発明において、表面親水性部材に無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与する手段として最も好適な、前記1.の態様について説明する。
<1. A mode in which a fluid containing an electroless plating catalyst or a precursor thereof is ejected in a pattern from an ink jet recording head using an ink jet recording apparatus>
Hereinafter, in the present invention, the above-mentioned 1. most preferable means for imparting an electroless plating catalyst or a precursor thereof to a surface hydrophilic member. Will be described.

本態様における無電解メッキ触媒又はその前駆体の付与は、無電解メッキ触媒又はその前駆体を含む流動体を用いて行われる。
この流動体としては、所望される導電性パターンに応じて種々の態様で用いることができる。ここで、本発明における流動体とは、常温(25℃)において、後述するインクジェット装置のインク吐出ノズルより吐出可能な流動性を有するものであれば特に制限はなく、油性であっても、水性であってもよく、溶液のほか、微粒子などの固体物質、ラテックスなどの分散液の態様であってもよい。
The application of the electroless plating catalyst or the precursor thereof in this embodiment is performed using a fluid containing the electroless plating catalyst or the precursor thereof.
This fluid can be used in various modes depending on the desired conductive pattern. Here, the fluid in the present invention is not particularly limited as long as it has fluidity that can be ejected from an ink ejection nozzle of an ink jet apparatus described later at room temperature (25 ° C.). In addition to the solution, it may be a solid substance such as fine particles, or a dispersion liquid such as latex.

−インクジェット記録装置−
以下、本発明に好適に用いられるインクジェット記録装置について説明する。
このようなインクジェット記録装置では、まず、基板(表面親水性部材)上に形成すべき画像のパターン情報を、コンピュータのような情報供給源から、バスのような伝達手段を通し、インクジェット記録装置上に供給する。
このようなインクジェット記録装置としては、流動体の液滴を吐出可能に設けられたインクジェット記録用へッド及びそれを任意のパターンに従って駆動させる制御系を備えたものを用いればよい。この装置により、パターン情報に従って移動するインクジェット記録用へッドのノズル穴(吐出口)から流動体の液滴を表面親水性部材上の所定位置に吐出することで、パターン情報に従って流動体が付着する。
インクジェット記録装置に備えられているインクジェット記録用へッドには、流動体を充填可能に構成されたキャビティが備えられ、該キャビティに体積変化を生じさせることが可能に構成された圧電素子に任意のパターンに応じた電圧を印加させ、キャビティ内の体積を変化させることで、中に貯えられた流動体を吐出口から微小な液滴状にして表面親水性部材上に所定の画像様に供給して吸着させ、その後、流動体中の溶媒や分散媒が除去されて、無電解メッキ触媒又はその前駆体がパターン状に付着することとなる。
-Inkjet recording device-
Hereinafter, an ink jet recording apparatus suitably used in the present invention will be described.
In such an ink jet recording apparatus, first, pattern information of an image to be formed on a substrate (surface hydrophilic member) is transmitted from an information supply source such as a computer through a transmission means such as a bus. To supply.
As such an ink jet recording apparatus, an apparatus provided with an ink jet recording head provided so as to be able to eject liquid droplets and a control system for driving the head according to an arbitrary pattern may be used. By this apparatus, the fluid adheres according to the pattern information by ejecting the droplet of the fluid from the nozzle hole (ejection port) of the inkjet recording head moving according to the pattern information to a predetermined position on the surface hydrophilic member. To do.
The inkjet recording head provided in the inkjet recording apparatus is provided with a cavity configured to be filled with a fluid, and any piezoelectric element configured to be capable of causing a volume change in the cavity. By applying a voltage according to the pattern and changing the volume in the cavity, the fluid stored in the inside is made into fine droplets from the discharge port and supplied on the surface hydrophilic member in a predetermined image form Then, the solvent and the dispersion medium in the fluid are removed, and the electroless plating catalyst or its precursor adheres in a pattern.

<2.公知の印刷法により、パターン状に無電解メッキ触媒又はその前駆体を印刷する態様>
本発明において、表面親水性部材に無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与する手段としては、前記2.の態様も好適に用いられる。
本態様において、無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与を形成する方法としては、公知の印刷法を適用すればよく、例えば、スクリーン印刷法等が好適に用いられる。
本態様における無電解メッキ触媒又はその前駆体としては、印刷法に適用可能なものであれば特に制限はなく、例えば、前記1.の態様における流動体と同様のものを印刷液として使用することができる。
なお、無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与に印刷法を用いる本態様は、安価に、かつ、容易に導電性パターンを得ることが可能であり、導電性パターンに著しく高い解像度が要求されないような場合、特に好適である。
<2. Aspect of Printing Electroless Plating Catalyst or its Precursor in Pattern by Known Printing Method>
In the present invention, as means for imparting an electroless plating catalyst or a precursor thereof to a surface hydrophilic member, the above-mentioned 2. The embodiment is also preferably used.
In this embodiment, as a method for forming the electroless plating catalyst or its precursor, a known printing method may be applied. For example, a screen printing method or the like is preferably used.
The electroless plating catalyst or precursor thereof in this embodiment is not particularly limited as long as it can be applied to a printing method. The same fluid as in the embodiment can be used as the printing liquid.
In addition, this aspect using a printing method for applying an electroless plating catalyst or a precursor thereof can easily obtain a conductive pattern at a low cost, so that a remarkably high resolution is not required for the conductive pattern. In this case, it is particularly suitable.

(無電解メッキ触媒又はその前駆体)
本発明において、表面親水性部材に吸着させ得る、無電解メッキ触媒又はその前駆体とについて説明する。
(Electroless plating catalyst or its precursor)
In the present invention, an electroless plating catalyst or a precursor thereof that can be adsorbed on a surface hydrophilic member will be described.

<無電解メッキ触媒>
本工程において用いられる無電解メッキ触媒としては、主に0価金属であり、Pd、Ag、Cu、Ni、Al、Fe、Coなどが挙げられる。本発明においては、特に、Pd、Agがその取り扱い性の良さ、触媒能の高さから好ましい。0価金属を表面親水性部材に付与する手法としては、一般に、荷電を調節した金属コロイドが用いられるが、この金属コロイドは、荷電を持った界面活性剤又は荷電を持った保護剤が存在する溶液中において、上記金属の金属イオンを還元することにより作製することができる。ここで使用する界面活性剤により荷電が変わり、当該表面親水性部材に存在する親水性グラフトポリマー鎖が有する親水性基と相互作用させることで、親水性グラフトポリマー鎖に選択的に吸着させることができる。
<Electroless plating catalyst>
The electroless plating catalyst used in this step is mainly a zero-valent metal, and examples thereof include Pd, Ag, Cu, Ni, Al, Fe, and Co. In the present invention, Pd and Ag are particularly preferable because of their good handleability and high catalytic ability. As a method for imparting a zero-valent metal to a surface hydrophilic member, generally, a metal colloid whose charge is controlled is used, and this metal colloid includes a charged surfactant or a charged protective agent. It can be prepared by reducing the metal ion of the metal in a solution. The charge varies depending on the surfactant used here, and it can be selectively adsorbed on the hydrophilic graft polymer chain by interacting with the hydrophilic group of the hydrophilic graft polymer chain present in the surface hydrophilic member. it can.

<無電解メッキ触媒前駆体>
本工程において用いられる無電解メッキ触媒前駆体としては、化学反応により無電解メッキ触媒となりうるものであれば、特に制限なく使用することができる。主には、上記無電解メッキ触媒で用いた0価金属の金属イオンが用いられる。無電解メッキ触媒前駆体である金属イオンは、還元反応により無電解メッキ触媒である0価金属になる。金属イオンは、別途還元反応により0価金属に変化させても良いし、前駆体のまま無電解メッキ浴に浸漬し、無電解メッキ浴中の還元剤により金属に変化させてもよい。
<Electroless plating catalyst precursor>
The electroless plating catalyst precursor used in this step can be used without particular limitation as long as it can become an electroless plating catalyst by a chemical reaction. Mainly, metal ions of zero-valent metal used in the electroless plating catalyst are used. The metal ion that is an electroless plating catalyst precursor becomes a zero-valent metal that is an electroless plating catalyst by a reduction reaction. The metal ion may be separately changed to a zero-valent metal by a reduction reaction, or may be immersed in an electroless plating bath as a precursor and changed to a metal by a reducing agent in the electroless plating bath.

実際、無電解メッキ前駆体である金属イオンは、金属塩として相互作用させる。使用される金属塩は適切な溶媒に溶解して、金属イオンと塩基(陰イオン)に解離されるものであれば特に制限はなく、M(NO3n、MCln、M2/n(SO4)、M3/n(PO4)(Mは、n価の金属原子を表す)などが挙げられる。金属イオンとしては、上記の金属塩が解離したものを好適に用いることができる。具体例としては、例えば、Ag、Cu、Al、Ni、Co、Fe、Pdが挙げられ、Ag、Pdが触媒能の点で好ましい。 In fact, metal ions that are electroless plating precursors interact as metal salts. The metal salt used is not particularly limited as long as it is dissolved in a suitable solvent and dissociated into a metal ion and a base (anion), and M (NO 3 ) n , MCl n , M 2 / n ( SO 4 ), M 3 / n (PO 4 ) (M represents an n-valent metal atom), and the like. As a metal ion, the thing which said metal salt dissociated can be used suitably. Specific examples include Ag, Cu, Al, Ni, Co, Fe, and Pd, and Ag and Pd are preferable in terms of catalytic ability.

無電解メッキ触媒である金属コロイド、或いは、無電解メッキ前駆体である金属塩を表面親水性部材上に付与する方法としては、金属コロイドを適当な分散媒に分散、或いは、金属塩を適切な溶媒で溶解し、解離した金属イオンを含むその溶液を、親水グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材の表面に塗布するか、或いは、その溶液中に親水グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材を浸漬すればよい。金属イオンを含有する溶液を接触させることで、親水性グラフトポリマー鎖が有する親水性基は、金属イオンがイオン−イオン、又は、双極性−イオン相互作用を利用して吸着することができる。これら吸着を充分に行なわせるという観点からは、接触させる溶液の金属イオン濃度、或いは金属塩濃度は1〜50質量%の範囲であることが好ましく、10〜30質量%の範囲であることが更に好ましい。また、接触時間としては、1分〜24時間程度であることが好ましく、5分〜1時間程度であることがより好ましい。   As a method for applying a metal colloid that is an electroless plating catalyst or a metal salt that is an electroless plating precursor on a surface hydrophilic member, the metal colloid is dispersed in an appropriate dispersion medium, or the metal salt is appropriately applied. The solution containing the dissociated metal ions dissolved in the solvent is applied to the surface of the surface hydrophilic member where the hydrophilic graft polymer chain exists, or the surface hydrophilic member where the hydrophilic graft polymer chain exists in the solution May be immersed. By contacting a solution containing a metal ion, the hydrophilic group of the hydrophilic graft polymer chain can adsorb the metal ion using ion-ion or bipolar-ion interaction. From the viewpoint of sufficient adsorption, the metal ion concentration or the metal salt concentration of the solution to be contacted is preferably in the range of 1 to 50% by mass, and more preferably in the range of 10 to 30% by mass. preferable. The contact time is preferably about 1 minute to 24 hours, more preferably about 5 minutes to 1 hour.

[無電解メッキ工程]
次に、前記無電解メッキ触媒等付与工程により、無電解メッキ触媒又はその前駆体が局所的に吸着した表面親水性部材に、無電解メッキを行うことで、パターン状に金属が析出して、高密度の導電性膜が形成され、導電性パターン得られる。形成された導電性パターンは、優れた導電性及び耐久性、並びに密着性を発揮する。
[Electroless plating process]
Next, by applying the electroless plating catalyst or the surface hydrophilic member to which the electroless plating catalyst or its precursor is locally adsorbed by the electroless plating catalyst etc. application step, a metal is deposited in a pattern, A high-density conductive film is formed, and a conductive pattern is obtained. The formed conductive pattern exhibits excellent conductivity, durability, and adhesion.

<無電解メッキ>
無電解メッキとは、メッキさせたい金属イオンを溶かした溶液を用いて、化学反応によって金属を析出させる操作のことをいう。本工程における無電解メッキは、例えば、前記無電解メッキ触媒等付与工程で得られた、無電解メッキ触媒又はその前駆体がパターン状に付与された表面親水性部材を、水洗して余分な金属、金属塩を除去した後、無電解メッキ浴に浸漬して行なう。使用される無電解メッキ浴としては一般的に知られている無電解メッキ浴を使用することができる。また、表面親水性部材上に吸着又は含浸して存在する無電解メッキ触媒前駆体を用いて導電性膜を成膜するために用いられる無電解メッキ浴としても、同様に一般的に知られている無電解メッキ浴が使用することができる。
<Electroless plating>
Electroless plating refers to an operation in which a metal is deposited by a chemical reaction using a solution in which metal ions to be plated are dissolved. In the electroless plating in this step, for example, the surface hydrophilic member obtained by applying the electroless plating catalyst or the precursor obtained in the electroless plating catalyst or the like in a pattern is washed with water to remove excess metal. After removing the metal salt, it is immersed in an electroless plating bath. As the electroless plating bath to be used, a generally known electroless plating bath can be used. Similarly, an electroless plating bath used to form a conductive film using an electroless plating catalyst precursor that is adsorbed or impregnated on a surface hydrophilic member is also generally known. Any electroless plating bath can be used.

一般的な無電解メッキ浴の組成としては、1.メッキされる金属イオン、2.還元剤、3.金属イオンの安定性を向上させる添加剤(安定剤)が主に含まれている。このメッキ浴には、これらに加えて、メッキ浴の安定剤など公知の添加物が含まれていてもよい。無電解メッキ浴に用いられる金属の種類としては、銅、すず、鉛、ニッケル、金、パラジウム、ロジウムが知られており、中でも、導電性の観点からは、銅、金が特に好ましい。
また、上記金属に合わせて最適な還元剤、添加物がある。例えば、銅の無電解メッキの浴は、銅塩としてCu(SO42、還元剤としてHCOH、添加剤として銅イオンの安定剤であるEDTAやロッシェル塩などのキレート剤が含まれている。また、CoNiPの無電解メッキに使用されるメッキ浴には、その金属塩として硫酸コバルト、硫酸ニッケル、還元剤として次亜リン酸ナトリウム、錯化剤としてマロン酸ナトリウム、りんご酸ナトリウム、こはく酸ナトリウムが含まれている。また、パラジウムの無電解メッキ浴は、金属イオンとして(Pd(NH34)Cl2、還元剤としてNH3、H2NNH2、安定化剤としてEDTAが含まれている。これらのメッキ浴には、上記成分以外の成分が入っていてもよい。
The composition of a general electroless plating bath is as follows: 1. metal ions to be plated, 2. reducing agent; Additives (stabilizers) that improve the stability of metal ions are mainly included. In addition to these, the plating bath may contain known additives such as a plating bath stabilizer. As the types of metals used in the electroless plating bath, copper, tin, lead, nickel, gold, palladium, and rhodium are known, and among these, copper and gold are particularly preferable from the viewpoint of conductivity.
In addition, there are optimum reducing agents and additives according to the above metals. For example, a copper electroless plating bath contains Cu (SO 4 ) 2 as a copper salt, HCOH as a reducing agent, and a chelating agent such as EDTA or Rochelle salt as a copper ion stabilizer as an additive. The plating bath used for electroless plating of CoNiP includes cobalt sulfate and nickel sulfate as metal salts, sodium hypophosphite as a reducing agent, sodium malonate, sodium malate and sodium succinate as complexing agents. It is included. Further, the electroless plating bath of palladium contains (Pd (NH 3 ) 4 ) Cl 2 as metal ions, NH 3 and H 2 NNH 2 as reducing agents, and EDTA as a stabilizer. These plating baths may contain components other than the above components.

このようにして形成される導電性膜の膜厚は、メッキ浴の金属塩又は金属イオン濃度、メッキ浴への浸漬時間、或いは、メッキ浴の温度などにより制御することができるが、導電性の観点からは、0.5μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましい。
また、メッキ浴への浸漬時間としては、1分〜3時間程度であることが好ましく、1分〜1時間程度であることがより好ましい。
The film thickness of the conductive film thus formed can be controlled by the metal salt or metal ion concentration of the plating bath, the immersion time in the plating bath, or the temperature of the plating bath. From the viewpoint, it is preferably 0.5 μm or more, and more preferably 3 μm or more.
Further, the immersion time in the plating bath is preferably about 1 minute to 3 hours, and more preferably about 1 minute to 1 hour.

以上のようにして得られた導電性パターンの金属膜部は、SEMによる断面観察により、表面グラフト膜中に無電解メッキ触媒やメッキ金属の微粒子がぎっしりと分散しており、更にその上に比較的大きな粒子が析出していることが確認された。界面はグラフトポリマーと微粒子とのハイブリッド状態であるため、基材(有機成分)と無機物(無電解メッキ触媒又はメッキ金属)との界面における凹凸が500nm以下、さらに、好ましい態様である100nm以下であっても密着性が良好であった。   In the metal film part of the conductive pattern obtained as described above, the electroless plating catalyst and the fine particles of the plating metal are closely dispersed in the surface graft film by cross-sectional observation by SEM. It was confirmed that large particles were deposited. Since the interface is in a hybrid state of the graft polymer and fine particles, the unevenness at the interface between the base material (organic component) and the inorganic substance (electroless plating catalyst or plating metal) is 500 nm or less, and more preferably 100 nm or less. Even the adhesion was good.

[電気メッキ工程]
本発明の導電性パターン形成方法においては、前記無電解メッキの後、前工程により形成された導電性膜を電極とし、さらに電気メッキを行うことができる。これにより基材との密着性に優れた導電性パターンをベースとして、そこに新たに任意の厚みをもつ導電性膜を容易に形成することができる。この工程を付加することにより、パターン状の導電性膜を目的に応じた厚みに形成しうるため、本発明の導電性パターンを配線パターンなど種々の応用に適用するのに好適である。
[Electroplating process]
In the conductive pattern forming method of the present invention, after the electroless plating, electroplating can be performed using the conductive film formed in the previous step as an electrode. As a result, a conductive film having an arbitrary thickness can be easily formed on the basis of the conductive pattern having excellent adhesion to the substrate. By adding this step, a patterned conductive film can be formed to a thickness according to the purpose, and therefore, the conductive pattern of the present invention is suitable for application to various applications such as a wiring pattern.

本発明における電気メッキの方法としては、従来公知の方法を用いることができる。なお、本工程の電気メッキに用いられる金属としては、銅、クロム、鉛、ニッケル、金、銀、すず、亜鉛などが挙げられ、導電性の観点から、銅、金、銀が好ましく、銅がより好ましい。   As the electroplating method in the present invention, a conventionally known method can be used. In addition, as a metal used for the electroplating of this process, copper, chromium, lead, nickel, gold, silver, tin, zinc, etc. are mentioned. From the viewpoint of conductivity, copper, gold, and silver are preferable. More preferred.

電気メッキにより得られる導電性膜の膜厚については、用途に応じて異なるものであり、メッキ浴中に含まれる金属濃度、浸漬時間、或いは、電流密度などを調整することでコントロールすることができる。なお、一般的な電気配線などに用いる場合の膜厚は、導電性の観点から、0.3μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましい。   The film thickness of the electroconductive film obtained by electroplating varies depending on the application, and can be controlled by adjusting the concentration of metal contained in the plating bath, the immersion time, or the current density. . In addition, from the viewpoint of conductivity, the film thickness when used for general electric wiring or the like is preferably 0.3 μm or more, and more preferably 3 μm or more.

本発明により得られる導電性パターンは、種々の回路形成に使用でき、パターン形成手段を選択することで任意の導電性領域を形成することができるため、LSIなどの回路形成を含む広い用途が期待される。
さらに、支持体にPETなどの透明フィルムを使用した場合には、パターン形成された透明導電性フィルムとして使用することができる。このような透明導電性フィルムの用途としては、ディスプレイ用透明電極、調光デバイス、太陽電池、タッチパネル、その他の透明導電膜が挙げられるが、CRTやプラズマディスプレイにつける電磁波シールドフィルターとして特に有用である。このような電磁波シールドフィルターは高い導電性と透明性とを必要とするため、導電性パターンを格子状に設けることが好ましい。このような格子線幅は、20〜100μm、開口部は50〜600μm程度が好ましい。この格子は必ずしも規則正しく、直線で構成されていなくてもよく、曲線状で構成されていてもよい。本発明においては、このような任意の導電性パターンを容易に形成しうるため、目的に応じた種々の設定が可能である。
The conductive pattern obtained by the present invention can be used for various circuit formations, and an arbitrary conductive region can be formed by selecting a pattern forming means. Therefore, it is expected to be widely used including circuit formation for LSI and the like. Is done.
Furthermore, when a transparent film such as PET is used for the support, it can be used as a patterned transparent conductive film. Applications of such transparent conductive films include transparent electrodes for displays, light control devices, solar cells, touch panels, and other transparent conductive films, but are particularly useful as electromagnetic wave shielding filters for CRTs and plasma displays. . Since such an electromagnetic wave shielding filter requires high conductivity and transparency, it is preferable to provide a conductive pattern in a lattice shape. Such a lattice line width is preferably about 20 to 100 μm, and the opening is preferably about 50 to 600 μm. This lattice does not necessarily have to be regular and configured with straight lines, but may be configured with curved lines. In the present invention, since such an arbitrary conductive pattern can be easily formed, various settings according to the purpose are possible.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

[実施例1]
〔表面親水性部材の作製〕
膜厚188μの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(A4100、東洋紡(株)製)を用い、グロー処理として平版マグネトロンスパッタリング装置(CFS−10−EP70、芝浦エレテック製)を使用し、下記の条件で酸素グロー処理を行った。
[Example 1]
[Production of surface hydrophilic member]
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) with a film thickness of 188 μm was used, and a lithographic magnetron sputtering apparatus (CFS-10-EP70, manufactured by Shibaura Eletech) was used as the glow treatment. Processed.

−酸素グロー処理条件−
初期真空 :1.2×10-3Pa
酸素圧力 :0.9Pa
RFグロー:1.5kW,処理時間:60sec
-Oxygen glow treatment conditions-
Initial vacuum: 1.2 × 10 −3 Pa
Oxygen pressure: 0.9 Pa
RF glow: 1.5 kW, processing time: 60 sec

次に、グロー処理したフィルムを窒素バブルしたスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液(10wt%)に70℃にて7時間浸漬した。浸漬した膜を水にて8時間洗浄することにより、スチレンスルホン酸ナトリウムが表面にグラフトポリマー化された表面親水性部材Aを得た。   Next, the glow-treated film was immersed in an aqueous solution of sodium styrenesulfonate (10 wt%) bubbled with nitrogen at 70 ° C. for 7 hours. The soaked membrane was washed with water for 8 hours to obtain a hydrophilic surface member A having a surface grafted with sodium styrenesulfonate.

〔無電解メッキ触媒前駆体の付与〕
上記のようにして得られた表面親水性部材Aに対し、無電解メッキ触媒前駆体水溶液である硝酸パラジウム(和光純薬製)0.1質量%の水溶液を、30μmの粒径で、インクジェット装置により、30μmおきに吐出して、パターン状に付与した。その後、無電解メッキ触媒前駆体が付与された表面親水性部材Aを、下記組成の無電解メッキ浴に20分間浸漬し、導電性パターンAを得た。
[Application of electroless plating catalyst precursor]
An aqueous electroless plating catalyst precursor aqueous solution containing 0.1% by mass of palladium nitrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) with a surface particle size of 30 μm is applied to the surface hydrophilic member A obtained as described above with an ink jet apparatus. Thus, the ink was discharged every 30 μm to give a pattern. Thereafter, the surface hydrophilic member A provided with the electroless plating catalyst precursor was immersed in an electroless plating bath having the following composition for 20 minutes to obtain a conductive pattern A.

<無電解メッキ浴成分>
・OPCカッパ−H T1(奥野製薬(株)製) 6mL
・OPCカッパ−H T2(奥野製薬(株)製) 1.2mL
・OPCカッパ−H T3(奥野製薬(株)製) 10mL
・水 83mL
<Electroless plating bath components>
・ OPC Kappa-H T1 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 6mL
・ OPC Kappa-H T2 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 1.2mL
・ OPC Kappa-H T3 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 10mL
・ Water 83mL

[実施例2]
実施例1において、表面親水性部材Aの作製に用いたスチレンスルホン酸ナトリウムに代えてアクリル酸を用いて、アクリル酸が表面にグラフトポリマー化された表面親水性部材Bを作製した以外は、実施例1と同様にして、導電性パターンBを得た。
[Example 2]
In Example 1, except that acrylic acid was used in place of sodium styrenesulfonate used for preparation of surface hydrophilic member A, and surface hydrophilic member B having acrylic acid graft polymerized on the surface was prepared. In the same manner as in Example 1, a conductive pattern B was obtained.

[実施例3]
実施例2で得られた導電性パターンBに対して、更に、下記の電気メッキ浴を用いて、15分間電気メッキし、導電性パターンCを作製した。
<電気メッキ浴の組成>
・硫酸銅 38g
・硫酸 95g
・塩酸 1mL
・カパーグリームPCM(メルテックス(株)製) 3mL
・水 500g
[Example 3]
The conductive pattern B obtained in Example 2 was further electroplated for 15 minutes using the following electroplating bath to produce a conductive pattern C.
<Composition of electroplating bath>
・ Copper sulfate 38g
・ 95 g of sulfuric acid
・ Hydrochloric acid 1mL
・ Capper Gream PCM (Meltex Co., Ltd.) 3mL
・ Water 500g

[実施例4]
実施例2において、硝酸パラジウム(和光純薬製)0.1質量%の水溶液に代えて、硝酸銀1質量%の水溶液を無電解メッキ触媒前駆体水溶液として用いた以外は、実施例2と同様にして、導電性パターンDを得た。
[Example 4]
In Example 2, instead of the 0.1% by mass aqueous solution of palladium nitrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), an aqueous solution of 1% by mass silver nitrate was used as the electroless plating catalyst precursor aqueous solution in the same manner as in Example 2. Thus, a conductive pattern D was obtained.

[実施例5]
実施例2において、無電解メッキ触媒前駆体水溶液をインクジェット装置で付与することに代えて、実施例4で使用した無電解メッキ触媒前駆体水溶液である硝酸銀1質量%の水溶液を、シルクスクリーン用インクとして用いてシルクスクリーン印刷した以外は、実施例2と同様にして、導電性パターンEを得た。
なお、印刷に用いたスクリーンとしては、ナイロンモノフィラメントX−XO,420Sを用いた。
[Example 5]
In Example 2, instead of applying the electroless plating catalyst precursor aqueous solution with an ink jet apparatus, the 1% by mass silver nitrate aqueous solution, which is the electroless plating catalyst precursor aqueous solution used in Example 4, was used as a silk screen ink. The conductive pattern E was obtained in the same manner as in Example 2 except that silk screen printing was used.
As a screen used for printing, nylon monofilament X-XO, 420S was used.

<評価>
上記で得られた導電性パターンA〜Eに対して、導電性、解像度、及び耐久性について評価を以下の如く行った。なお、耐久性の評価は耐摩耗性を評価することにより行った。
<Evaluation>
The conductive patterns A to E obtained above were evaluated for conductivity, resolution, and durability as follows. The durability was evaluated by evaluating the wear resistance.

1.導電性の評価
導電性パターンA〜Eの表面抵抗値を、LORESTA−FP(三菱化学(株)製)を用いて四探針法により測定した。結果を表1に示す。
1. Evaluation of conductivity The surface resistance values of the conductive patterns A to E were measured by a four-probe method using LORESTA-FP (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The results are shown in Table 1.

2.解像度の評価
導電性パターンA〜Eの解像度(ライン/スペース、μm)を、電子顕微鏡(S700、日本電子(株)製)を使用して測定した。結果を表1に示す。
2. Evaluation of Resolution The resolution (line / space, μm) of the conductive patterns A to E was measured using an electron microscope (S700, manufactured by JEOL Ltd.). The results are shown in Table 1.

Figure 2007042683
Figure 2007042683

3.耐磨耗性の評価
導電性パターンA〜Eの表面を、水で湿らせた布(BEMCOT、旭化成工業社製)を用いて手で往復30回擦った。擦った後に、透過型電子顕微鏡(JEOL JEM−200CX)にて、その表面を10万倍で観察したところ、いずれの導電性パターンについても、擦り処理を行なう前と同様、導電性パターンが観察され、擦りにより導電性パターンが損なわれなかったことが確認された。
3. Evaluation of Abrasion Resistance The surfaces of the conductive patterns A to E were rubbed 30 times by hand using a cloth (BEMCOT, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) moistened with water. After rubbing, the surface was observed with a transmission electron microscope (JEOL JEM-200CX) at a magnification of 100,000 times. As for any conductive pattern, the conductive pattern was observed as before the rubbing treatment. It was confirmed that the conductive pattern was not damaged by rubbing.

以上の各評価に示されるように、本発明によれば、解像度、導電性及び耐久性に優れた導電性パターンが得られることが分かる。   As shown in the above evaluations, it can be seen that according to the present invention, a conductive pattern excellent in resolution, conductivity, and durability can be obtained.

Claims (1)

支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材を作製する工程と、
前記表面親水性部材に、無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に付与して吸着させる工程と、
前記無電解メッキ触媒又はその前駆体を局所的に吸着させた表面親水性部材に、無電解メッキを行う工程と、
を有することを特徴とする導電性パターン形成方法。
Producing a surface hydrophilic member in which a hydrophilic graft polymer chain exists over the entire surface of at least one side of the support;
A step of locally applying and adsorbing an electroless plating catalyst or a precursor thereof to the surface hydrophilic member;
A step of performing electroless plating on the surface hydrophilic member on which the electroless plating catalyst or its precursor is locally adsorbed;
A method for forming a conductive pattern, comprising:
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