JP2007038128A - Ion exchange equipment - Google Patents

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Takeshi Yoneda
剛 米田
Saburo Nakamura
三郎 中村
Katsufumi Isshiki
克文 一色
Atsushi Suga
敦 菅
Hajime Sato
元 佐藤
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Miura Co Ltd
Miura Protec Co Ltd
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Miura Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize ion exchange equipment which can prevent clogging of an ejector due to foreign matters by neither manual inspection nor cleaning. <P>SOLUTION: In the ion exchange equipment 1 equipped with an ejector 21 for sucking a regenerant stock solution by the water flow of dilution water and mixing the regenerant stock solution with the dilution water, washing water is circulated from the secondary side to the primary side of the ejector 21 to enable the backwashing of the ejector 21, or a filter 37 is installed on the primary side of the ejector 21 to circulate washing water from the secondary side to the primary side of the filter 37, which enables the backwashing of the filter 37. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、再生作動時に再生剤原液を吸引するエゼクタを備えたイオン交換装置に関し、とくにエゼクタの詰まりを防止するイオン交換装置に関する。   The present invention relates to an ion exchange apparatus including an ejector that sucks a regenerant stock solution during a regeneration operation, and more particularly to an ion exchange apparatus that prevents the ejector from being clogged.

水道水や地下水などの原水に含まれる硬度分(カルシウムイオンおよびマグネシウムイオン)や硝酸性窒素(硝酸イオンおよび亜硝酸イオン)などをイオン交換樹脂により吸着除去するイオン交換装置が知られている。これらのイオン交換装置のうち、陽イオン交換樹脂を使用して水中の硬度分をナトリウムイオンやカリウムイオンへ置換するものは、通常、軟水装置と呼ばれる。一方、前記イオン交換装置のうち、陰イオン交換樹脂を使用して硝酸性窒素を塩化物イオンへ置換するものは、通常、硝酸性窒素除去装置と呼ばれる。   There is known an ion exchange apparatus that adsorbs and removes hardness components (calcium ions and magnesium ions), nitrate nitrogen (nitrate ions and nitrite ions), etc. contained in raw water such as tap water and groundwater by an ion exchange resin. Among these ion exchange devices, those that use cation exchange resin to replace the hardness in water with sodium ions or potassium ions are usually called soft water devices. On the other hand, among the ion exchange devices, those that use anion exchange resin to replace nitrate nitrogen with chloride ions are usually called nitrate nitrogen removal devices.

前記軟水装置は、従来から蒸気ボイラやクーリングタワーに代表される冷熱機器の伝熱を阻害するスケール生成の防止を目的として、工業用に数多く使用されてきた。また、近年では、軟水の様々な効用が注目され、家庭用,業務用,医療用などとしても普及している。   Conventionally, the water softener has been widely used for industrial purposes for the purpose of preventing scale generation that hinders heat transfer of a refrigeration apparatus represented by a steam boiler or a cooling tower. In recent years, various effects of soft water have attracted attention and are widely used for home use, business use, medical use and the like.

一方、前記硝酸性窒素除去装置は、主に飲食業や食品加工業などの業務用に利用されている。硝酸性窒素は、化学肥料に由来する地下水の汚染物質であり、硝酸性窒素を大量に摂取すると、とくに乳幼児に対して体内の酸素を欠乏させるメトヘモグロビン血症を引き起こすおそれがある。このため、前記硝酸性窒素除去装置は、安全な飲料水や食品加工水の確保を目的として使用されている。   On the other hand, the nitrate nitrogen removal device is mainly used for business such as a restaurant business and a food processing business. Nitrate nitrogen is a groundwater pollutant derived from chemical fertilizers, and ingesting large amounts of nitrate nitrogen can cause methemoglobinemia, which causes oxygen deficiency in the body, especially for infants. For this reason, the nitrate nitrogen removing device is used for the purpose of securing safe drinking water and food processing water.

さて、前記イオン交換樹脂は、除去対象とする特定イオン(硬度分や硝酸性窒素など)の吸着量が飽和に達すると、前記特定イオンが処理水中へ漏洩するようになる。そこで、前記イオン交換装置は、前記特定イオンの吸着量が飽和に達する前に、前記イオン交換樹脂の交換能力を回復させるため、所定の再生作動を行うように運転される。この再生作動は、前記イオン交換樹脂の充填容器と接続された再生バルブ(以下、「コントロールバルブ」と云う。)を操作し、逆洗工程,再生工程,押出工程,洗浄工程および補水工程などの一連の処理を自動または手動で実施する。たとえば、特許文献1には、前記再生作動をタイマーで設定された時期に自動で行うコントロールバルブを備えた軟水装置が開示されている。   The ion exchange resin leaks into the treated water when the adsorption amount of specific ions (such as hardness and nitrate nitrogen) to be removed reaches saturation. Therefore, the ion exchange device is operated to perform a predetermined regeneration operation in order to restore the exchange capacity of the ion exchange resin before the adsorption amount of the specific ions reaches saturation. This regeneration operation is performed by operating a regeneration valve (hereinafter referred to as “control valve”) connected to the ion exchange resin filling container, and performing backwashing, regeneration, extrusion, washing, water replenishment, and the like. A series of processing is performed automatically or manually. For example, Patent Document 1 discloses a water softener equipped with a control valve that automatically performs the regeneration operation at a time set by a timer.

一般に、前記イオン交換樹脂へ供給される再生液は、特許文献1に記載されているように、コントロールバルブに内蔵されたエゼクタにより生成される。このエゼクタは、再生液の供給流路内に設けられ、流れ方向の断面積を急縮小させるノズル部を有している。前記エゼクタは、前記ノズル部を通過する希釈水(たとえば、原水)の流速を増大させることによって吐出側で負圧を発生させ、周囲から再生剤原液(たとえば、塩化ナトリウムの飽和溶液)を吸引するように作動する。そして、再生剤原液と希釈水とを混合することにより、所定濃度の再生液を生成したのち、この再生液を前記イオン交換樹脂へ供給する。   Generally, as described in Patent Document 1, the regenerating liquid supplied to the ion exchange resin is generated by an ejector built in a control valve. This ejector has a nozzle portion that is provided in the supply channel for the regenerated liquid and that rapidly reduces the cross-sectional area in the flow direction. The ejector generates negative pressure on the discharge side by increasing the flow rate of dilution water (for example, raw water) that passes through the nozzle portion, and sucks a regenerant stock solution (for example, a saturated solution of sodium chloride) from the surroundings. Operates as follows. Then, the regenerant stock solution and the diluting water are mixed to produce a regenerated solution having a predetermined concentration, and then this regenerated solution is supplied to the ion exchange resin.

特開2002−28646号公報JP 2002-28646 A

ところで、前記エゼクタは、要求される再生液の流量が少ない場合、負圧を発生させるために、前記ノズル部の孔径をより小さく設定する必要がある。たとえば、家庭用の軟水
装置のように、前記イオン交換樹脂の充填量が10リットル以下の小規模なイオン交換装置では、再生液の流量が1リットル/分以下と少なく、濃度が8〜12重量%の再生液を生成するための前記ノズル部の孔径は、1mm以下に設定されている。このため、前記エゼクタは、希釈水中に含まれる異物,具体的には、水源から持ち込まれる砂やゴミ,あるいは配管内に堆積したシリカスケールや錆などで詰まりやすい。前記エゼクタで詰まりが発生すると、前記ノズル部で十分な負圧が発生しなくなり、再生剤原液の吸引量が減少する。このような状態になると、前記イオン交換樹脂の再生が不十分となり、所定の品質の処理水を確保できなくなる。
By the way, when the required flow rate of the regenerating liquid is small, the ejector needs to set the hole diameter of the nozzle portion smaller in order to generate a negative pressure. For example, in a small-scale ion exchange device having a filling amount of the ion exchange resin of 10 liters or less such as a soft water device for home use, the flow rate of the regenerating liquid is as small as 1 liter / minute or less and the concentration is 8 to 12 weights. The hole diameter of the nozzle part for producing a% regenerating liquid is set to 1 mm or less. For this reason, the ejector is likely to be clogged with foreign substances contained in the diluted water, specifically, sand or dust brought in from the water source, or silica scale or rust accumulated in the pipe. When clogging occurs in the ejector, a sufficient negative pressure is not generated in the nozzle portion, and the suction amount of the regenerant stock solution is reduced. In such a state, regeneration of the ion exchange resin becomes insufficient, and it becomes impossible to secure treated water of a predetermined quality.

したがって、前記再生作動において、再生液を安定して生成するとともに、この再生液を前記イオン交換樹脂へ確実に供給するためには、前記エゼクタにおける詰まりを回避する必要がある。従来のイオン交換装置では、前記再生作動の異常時,あるいは定期的にメンテナンス員が客先を訪問し、前記エゼクタの点検や清掃を行っていたが、前記エゼクタが前記コントロールバルブに内蔵されているため、作業に熟練と時間を要していた。   Therefore, in the regeneration operation, it is necessary to avoid clogging in the ejector in order to stably generate the regeneration solution and to reliably supply the regeneration solution to the ion exchange resin. In the conventional ion exchange apparatus, when the regeneration operation is abnormal or a maintenance staff visits a customer to check and clean the ejector, the ejector is built in the control valve. Therefore, it took skill and time to work.

この発明は、前記の事情に鑑みてなされたもので、その解決しようとする課題は、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼクタの詰まりを防止することができるイオン交換装置を実現することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the problem to be solved is to realize an ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign substances without performing manual inspection and cleaning. That is.

この発明は、前記課題を解決するためになされたもので、請求項1に記載の発明は、希釈水の水流により再生剤原液を吸引し、この再生剤原液と希釈水とを混合して再生液を生成するエゼクタを備えたイオン交換装置であって、前記エゼクタの二次側から一次側へ洗浄水を流通させ、前記エゼクタを逆洗可能に構成したことを特徴としている。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. The invention according to claim 1 is a method of sucking a regenerant stock solution by a flow of dilution water and mixing the regenerant stock solution and the dilution water for regeneration. An ion exchange apparatus including an ejector that generates a liquid, characterized in that washing water is circulated from a secondary side of the ejector to a primary side so that the ejector can be backwashed.

請求項1に記載の発明によれば、まず前記エゼクタの二次側へは、洗浄水が供給される。そして、この洗浄水は、前記エゼクタの内部流路およびノズル部に付着した異物を押し出しながら一次側へ流れ、系外へ排出される。すなわち、前記エゼクタは、洗浄水によって逆洗され、その内部が清浄な状態に回復される。   According to the first aspect of the present invention, first, wash water is supplied to the secondary side of the ejector. Then, this washing water flows to the primary side while extruding foreign matter adhering to the internal flow path and nozzle portion of the ejector, and is discharged outside the system. That is, the ejector is backwashed with washing water, and the inside is restored to a clean state.

さらに、請求項2に記載の発明は、希釈水の水流により再生剤原液を吸引し、この再生剤原液と希釈水とを混合して再生液を生成するエゼクタを備えたイオン交換装置であって、前記エゼクタの一次側にフィルタを設け、前記フィルタの二次側から一次側へ洗浄水を流通させ、前記フィルタを逆洗可能に構成したことを特徴としている。   Furthermore, the invention according to claim 2 is an ion exchange apparatus provided with an ejector that sucks a regenerant stock solution by a flow of dilution water and mixes the regenerant stock solution and dilution water to generate a regenerative solution. A filter is provided on the primary side of the ejector, and washing water is circulated from the secondary side to the primary side of the filter so that the filter can be backwashed.

請求項2に記載の発明によれば、前記エゼクタへ流入する水に含まれる異物は、前記フィルタによって捕捉され、前記エゼクタの内部流路およびノズル部が清浄な状態に維持される。また、前記フィルタの二次側へは、洗浄水が供給される。そして、この洗浄水は、前記フィルタに捕捉された異物を押し出しながら一次側へ流れ、系外へ排出される。すなわち、前記フィルタは、洗浄水によって逆洗され、濾過能力が回復される。   According to invention of Claim 2, the foreign material contained in the water which flows in into the said ejector is capture | acquired by the said filter, and the internal flow path and nozzle part of the said ejector are maintained in a clean state. Moreover, wash water is supplied to the secondary side of the filter. Then, the washing water flows to the primary side while extruding the foreign matter captured by the filter, and is discharged out of the system. That is, the filter is backwashed with washing water to restore the filtration capacity.

この発明によれば、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼクタの詰まりを予防することができるイオン交換装置を実現することができる。この結果、再生作動において、再生液が安定して生成されるとともに、この再生液がイオン交換樹脂へ確実に供給される。したがって、所定の品質の処理水を需要箇所へ継続して供給することができるのみならず、イオン交換装置の保守管理に要する負担も軽減される。   According to the present invention, it is possible to realize an ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign matters without performing manual inspection and cleaning. As a result, in the regeneration operation, the regeneration solution is stably generated, and the regeneration solution is reliably supplied to the ion exchange resin. Therefore, not only can the treated water of a predetermined quality be continuously supplied to the demand point, but also the burden required for maintenance management of the ion exchange apparatus is reduced.

(第一実施形態)
以下、この発明の第一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は、第一実施形態に係るイオン交換装置の概略構成図を示している。第一実施形態に係るイオン交換装置は、いわゆる軟水装置であって、水道水,地下水,工業用水などの原水中に含まれる硬度分をナトリウムイオンへ置換して軟水を生成し、この軟水を各種の用水として需要箇所へ供給するために使用される。このため、前記軟水装置は、家屋やマンション等の居住建物,ホテルや大衆浴場等の集客施設,ボイラやクーリングタワー等の冷熱機器,食品加工装置や洗浄装置等の水使用機器などの給水元と接続される。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of an ion exchange apparatus according to the first embodiment. The ion exchange device according to the first embodiment is a so-called soft water device that generates soft water by replacing the hardness contained in raw water such as tap water, ground water, and industrial water with sodium ions. It is used to supply to the demand point as irrigation water. For this reason, the water softener is connected to water supply sources such as residential buildings such as houses and condominiums, customer collection facilities such as hotels and public baths, refrigeration equipment such as boilers and cooling towers, and water use equipment such as food processing equipment and cleaning equipment. Is done.

図1において、イオン交換装置1は、樹脂収容部2と、コントロールバルブユニット3と、再生剤タンク4とを主に備えている。前記樹脂収容部2は、支持材である珪石5および処理材である陽イオン交換樹脂6が下方からこの順で充填された樹脂筒7を備えており、この樹脂筒7の開口部は、蓋部材8で閉鎖されている。そして、この蓋部材8には、前記コントロールバルブユニット3が装着されており、前記イオン交換装置1の通水作動の流路と再生作動の流路とを制御器(図示省略)からの指令信号によって切り換えることができるように構成されている。   In FIG. 1, the ion exchange device 1 mainly includes a resin container 2, a control valve unit 3, and a regenerant tank 4. The resin container 2 includes a resin cylinder 7 filled with silica stone 5 as a support material and cation exchange resin 6 as a treatment material in this order from below, and the opening of the resin cylinder 7 has a lid. It is closed with a member 8. The lid member 8 is equipped with the control valve unit 3, and a command signal from a controller (not shown) is used for the flow path of the water exchange operation and the flow path of the regeneration operation of the ion exchange device 1. It is comprised so that it can switch by.

前記蓋部材8には、原水を前記樹脂筒7内へ案内する流入路(符号省略)が形成されており、この流入路の入口には、前記コントロールバルブユニット3を介して原水ライン9が接続されている。すなわち、この原水ライン9の一部は、前記コントロールバルブユニット3内に形成されている。一方、前記流入路の出口は、前記樹脂筒7内へ向かって開口している。   The lid member 8 is formed with an inflow path (not shown) for guiding the raw water into the resin cylinder 7, and the raw water line 9 is connected to the inlet of the inflow path via the control valve unit 3. Has been. That is, a part of the raw water line 9 is formed in the control valve unit 3. On the other hand, the outlet of the inflow path is opened into the resin cylinder 7.

また、前記蓋部材8には、処理水である軟水を前記樹脂筒7外へ案内する流出路(符号省略)が形成されており、この流出路の入口には、前記樹脂筒7の底部へ延びる集水パイプ10が接続されている。そして、この集水パイプ10の先端部には、前記陽イオン交換樹脂6の処理水側への流出を阻止する第一スクリーン部材11が装着されている。一方、前記流出路の出口には、前記コントロールバルブユニット3を介して処理水ライン12が接続されている。すなわち、この処理水ライン12の一部は、前記コントロールバルブユニット3内に形成されている。   Further, the lid member 8 is formed with an outflow passage (reference numeral omitted) for guiding the soft water, which is treated water, to the outside of the resin cylinder 7, and the inlet of the outflow passage is connected to the bottom of the resin cylinder 7. An extending water collecting pipe 10 is connected. A first screen member 11 that prevents the cation exchange resin 6 from flowing out to the treated water side is attached to the tip of the water collecting pipe 10. On the other hand, a treated water line 12 is connected to the outlet of the outflow passage via the control valve unit 3. That is, a part of the treated water line 12 is formed in the control valve unit 3.

前記原水ライン9には、上流側から順にストレーナ13および第一開閉弁14が設けられており、この第一開閉弁14は、前記コントロールバルブユニット3を構成している。ここにおいて、前記ストレーナ13は、原水中のゴミや配管から剥離した錆などの固形物を捕捉し、前記陽イオン交換樹脂6の充填層における閉塞や汚染を防止するために設けられている。前記ストレーナ13で使用されている濾材は、金属製ネットや合成樹脂製ネットのスクリーン材であって、通常、その目開きが250〜300μmの範囲に設定されている。また、前記処理水ライン12には、第二開閉弁15が設けられており、この第二開閉弁15は、前記コントロールバルブユニット3を構成している。   The raw water line 9 is provided with a strainer 13 and a first opening / closing valve 14 in order from the upstream side, and the first opening / closing valve 14 constitutes the control valve unit 3. Here, the strainer 13 is provided in order to capture solid matter such as rust peeled off from the raw water dust and piping, and prevent clogging and contamination in the packed layer of the cation exchange resin 6. The filter medium used in the strainer 13 is a screen material made of a metal net or a synthetic resin net, and usually has an opening of 250 to 300 μm. The treated water line 12 is provided with a second on-off valve 15, and the second on-off valve 15 constitutes the control valve unit 3.

ここで、前記コントロールバルブユニット3の構成について、さらに詳細に説明する。前記コントロールバルブユニット3内において、前記第一開閉弁14の上流側の前記原水ライン9は、前記第二開閉弁15の下流側の前記処理水ライン15とバイパスライン16で接続されている。このバイパスライン16には、第三開閉弁17が設けられている。
この第三開閉弁17の上流側の前記バイパスライン16は、前記第一開閉弁14の下流側の前記原水ライン9と再生液調製ライン18で接続されている。この再生液調製ライン18には、前記バイパスライン16側から順に第四開閉弁19,第一オリフィス20および第一エゼクタ21が設けられている。ここにおいて、前記第一オリフィス20は、前記第一エゼクタ21へ供給する原水を所定範囲の流量に調節するためのものである。また、前記第一エゼクタ21は、流れ方向の断面積を急縮小させる第一ノズル部22を有している。
Here, the configuration of the control valve unit 3 will be described in more detail. In the control valve unit 3, the raw water line 9 on the upstream side of the first on-off valve 14 is connected to the treated water line 15 on the downstream side of the second on-off valve 15 by a bypass line 16. A third on-off valve 17 is provided in the bypass line 16.
The bypass line 16 on the upstream side of the third on-off valve 17 is connected to the raw water line 9 on the downstream side of the first on-off valve 14 by a regenerated liquid preparation line 18. The regeneration solution preparation line 18 is provided with a fourth on-off valve 19, a first orifice 20, and a first ejector 21 in order from the bypass line 16 side. Here, the first orifice 20 is for adjusting the raw water supplied to the first ejector 21 to a flow rate within a predetermined range. The first ejector 21 has a first nozzle portion 22 that rapidly reduces the cross-sectional area in the flow direction.

前記第一ノズル部22の吐出側は、前記再生剤タンク4内に配置されたフロート弁ユニット23と再生剤供給ライン24で接続されており、この再生剤供給ライン24には、第五開閉弁25が設けられている。すなわち、前記第一エゼクタ21は、原水が前記第一ノズル部22から吐出されるときに発生する負圧を利用して、前記再生剤タンク4内の再生剤原液(たとえば、塩化ナトリウムの飽和水溶液)を吸引可能に構成されている。そして、前記第一エゼクタ21において、前記再生剤タンク4からの再生剤原液は、原水で所定濃度(たとえば、8〜12重量%)にまで希釈されるようになっている。   The discharge side of the first nozzle portion 22 is connected to a float valve unit 23 disposed in the regenerant tank 4 by a regenerant supply line 24. The regenerant supply line 24 includes a fifth on-off valve. 25 is provided. That is, the first ejector 21 uses a negative pressure generated when raw water is discharged from the first nozzle portion 22 to use a regenerant stock solution (for example, a saturated aqueous solution of sodium chloride) in the regenerant tank 4. ) Is configured to be suckable. In the first ejector 21, the regenerant stock solution from the regenerant tank 4 is diluted with raw water to a predetermined concentration (for example, 8 to 12% by weight).

前記再生剤タンク4は、前記陽イオン交換樹脂6の再生に使用する再生剤原液を調製するタンクであって、その内部には、再生剤である固形塩26(たとえば、粒状やペレット状の塩化ナトリウム)が貯蔵されている。そして、この固形塩26を前記再生剤供給ライン24を介して前記再生剤タンク4内に補給された原水と接触させることにより溶解させ、再生剤原液を生成するように構成されている。   The regenerant tank 4 is a tank for preparing a regenerant stock solution used for the regeneration of the cation exchange resin 6, and contains a solid salt 26 (for example, granular or pellet-like chloride) as a regenerant. Sodium) is stored. The solid salt 26 is dissolved by bringing it into contact with the raw water replenished in the regenerant tank 4 via the regenerant supply line 24 to generate a regenerant stock solution.

前記フロート弁ユニット23は、前記再生剤供給ライン24を介して前記再生剤タンク4内へ原水が補給されると、フロート27と連動する弁体28が上昇し、所定水位で原水の流入を遮断するように作動する。逆に、前記フロート弁ユニット23は、前記第一エゼクタ21内が負圧になると、前記フロート27と連動する前記弁体28が下降し、前記再生剤供給ライン24へ再生剤原液を流出させるように作動する。そして、前記再生剤タンク4内の再生剤原液が所定水位まで消費されると、前記フロート弁ユニット23に内蔵された中空ボール29が前記再生剤供給ライン24の開口部へ移動し、再生剤原液およびエアの吸引を遮断する。   When the raw water is replenished into the regenerant tank 4 via the regenerant supply line 24, the float valve unit 23 moves up the valve body 28 interlocked with the float 27 and blocks the flow of the raw water at a predetermined water level. Operates to Conversely, when the pressure in the first ejector 21 becomes negative, the float valve unit 23 moves down the valve body 28 in conjunction with the float 27 and causes the regenerant stock solution to flow out to the regenerant supply line 24. Operates on. Then, when the regenerant stock solution in the regenerant tank 4 is consumed to a predetermined water level, the hollow ball 29 built in the float valve unit 23 moves to the opening of the regenerant supply line 24, and the regenerant stock solution Shut off air suction.

前記第二開閉弁15の上流側の前記処理水ライン12には、前記コントロールバルブユニット3の外部へ延びる第一排水ライン30が接続されている。この第一排水ライン30には、第六開閉弁31が設けられている。また、前記第一開閉弁14の下流側の前記原水ライン9は、前記第六開閉弁31の下流側の前記第一排水ライン30と第二排水ライン32で接続されている。この第二排水ライン32には、前記原水ライン9側から順に第七開閉弁33および第二オリフィス34が設けられている。ここにおいて、前記第二オリフィス34は、前記樹脂筒7から排水される逆洗水を所定範囲の流量に調節するためのものである。さらに、前記第四開閉弁19と前記第一オリフィス20の間の前記再生液調製ライン18は、前記第六開閉弁31の下流側の前記第一排水ライン30と第三排水ライン35で接続されている。この第三排水ライン35には、第八開閉弁36が設けられている。   A first drain line 30 extending to the outside of the control valve unit 3 is connected to the treated water line 12 upstream of the second on-off valve 15. The first drain line 30 is provided with a sixth on-off valve 31. The raw water line 9 on the downstream side of the first on-off valve 14 is connected to the first drain line 30 and the second drain line 32 on the downstream side of the sixth on-off valve 31. The second drainage line 32 is provided with a seventh on-off valve 33 and a second orifice 34 in order from the raw water line 9 side. Here, the second orifice 34 is for adjusting the backwash water drained from the resin cylinder 7 to a flow rate within a predetermined range. Further, the regenerated liquid preparation line 18 between the fourth on-off valve 19 and the first orifice 20 is connected by the first drain line 30 and the third drain line 35 on the downstream side of the sixth on-off valve 31. ing. The third drain line 35 is provided with an eighth on-off valve 36.

前記コントロールバルブユニット3において、前記各開閉弁14,15,17,19,25,31,33,36は、種々の作動機構および弁構造を採用することができる。具体的には、カム機構により作動されるリフト式またはダイアフラム式の流路開閉弁や、ギア機構により作動されるスライドピストン式の流路開閉弁などがとくに好適である。   In the control valve unit 3, each of the on-off valves 14, 15, 17, 19, 25, 31, 33, 36 can employ various operating mechanisms and valve structures. Specifically, a lift-type or diaphragm-type channel opening / closing valve operated by a cam mechanism, a slide piston-type channel opening / closing valve operated by a gear mechanism, and the like are particularly suitable.

以下、第一実施形態に係る前記イオン交換装置1の通水作動および再生作動について、図2〜図8を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, the water flow operation and the regeneration operation of the ion exchange device 1 according to the first embodiment will be described in detail with reference to FIGS.

前記通水作動では、図2に示すように、前記制御器(図示省略)からの指令信号により、前記第一開閉弁14および前記第二開閉弁15は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる水道水,地下水,工業用水などの原水は、まず前記ストレーナ13で固形物が除去されたのち、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この原水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で流れる過程で硬度分がナトリウムイオンへ置換され、
軟水化される。前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した軟水は、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10および前記処理水ライン12を介して排出され、需要箇所へ供給される。そして、所定量の軟水を採取することにより、前記陽イオン交換樹脂6が硬度分を置換できなくなると、前記再生作動を実施する。
In the water flow operation, as shown in FIG. 2, the first on-off valve 14 and the second on-off valve 15 are each set to an open state by a command signal from the controller (not shown). On the other hand, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state, respectively. Is done. Raw water such as tap water, ground water, and industrial water flowing through the raw water line 9 is first supplied to the upper portion of the resin cylinder 7 after the solid matter is removed by the strainer 13. This raw water is replaced with sodium ion in hardness in the process of flowing down the packed bed of the cation exchange resin 6,
Softened. The soft water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged through the first screen member 11, the water collecting pipe 10, and the treated water line 12, and supplied to the demand point. Then, when the cation exchange resin 6 cannot replace the hardness by collecting a predetermined amount of soft water, the regeneration operation is performed.

前記再生作動は、前記陽イオン交換樹脂6の硬度分除去能力を回復させ、また異物による前記第一エゼクタの詰まりを防止するために、逆洗工程,再生工程,押出工程,洗浄工程,エゼクタ逆洗工程および補水工程をこの順で行う。ちなみに、前記再生作動は、通常、軟水を使用しない深夜に実施するように設定されているが、夜間も軟水を必要とする需要箇所においては、前記イオン交換装置1の複数台を並列または直列に設置し、前記通水作動を交互に行うように設定することもできる。   The regeneration operation restores the hardness removal capability of the cation exchange resin 6 and prevents the first ejector from being clogged with foreign matter, so that a backwash process, a regeneration process, an extrusion process, a cleaning process, and an ejector reverse A washing process and a water replenishment process are performed in this order. Incidentally, the regeneration operation is normally set to be performed at midnight without using soft water. However, at a demand point that requires soft water at night, a plurality of the ion exchange devices 1 are connected in parallel or in series. It is also possible to install and set the water flow operation alternately.

前記逆洗工程では、図3に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第二開閉弁15,前記第三開閉弁17および前記第七開閉弁33は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この原水は、前記樹脂筒7内を上昇流で流れ、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を展開させながら、堆積した懸濁物質や破砕などによって生じた微細樹脂を洗い流す。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した原水は、前記樹脂筒7から排出されたのち、前記原水ライン9の一部および前記第二排水ライン32を介して前記第一排水ライン30から系外へ排出される。前記逆洗工程を開始して所定時間が経過すると、前記再生工程へ移行する。   In the backwashing step, as shown in FIG. 3, the second on-off valve 15, the third on-off valve 17, and the seventh on-off valve 33 are set in an open state by a command signal from the controller. The On the other hand, the first on-off valve 14, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the lower part in the resin cylinder 7 through the bypass line 16, the treated water line 12, the water collecting pipe 10 and the first screen member 11. This raw water flows in an upward flow through the resin cylinder 7 and wash away the accumulated suspended matter and fine resin generated by crushing while developing the packed bed of the cation exchange resin 6. The raw water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7, and then the first drainage line 30 through a part of the raw water line 9 and the second drainage line 32. Is discharged from the system. When the predetermined time elapses after the backwashing process is started, the process proceeds to the regeneration process.

前記再生工程では、図4に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25および前記第六開閉弁31は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第七開閉弁33および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、希釈水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の一次側へ供給される。前記第一エゼクタ21において、前記第一ノズル部22の吐出側で負圧が発生すると、前記再生剤供給ライン24内も負圧となり、前記フロート27と連動する前記弁体28が下降する。この結果、前記再生剤タンク4内の再生剤原液が前記再生剤供給ライン24を介して吸引可能となり、前記第一エゼクタ21内では、再生剤原液が原水で所定濃度まで希釈され、再生液が調製される。前記第一エゼクタ21からの再生液は、前記再生液調製ライン18および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。すなわち、第一実施形態では、前記陽イオン交換樹脂6の充填層に対して並流再生(co-flow regeneration)が行われる。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液は、前記第一スクリーン部材11および前記集水パイプ10を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記処理水ライン12および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。ここにおいて、前記再生剤タンク4内の再生剤原液が所定水位まで消費されると、前記中空ボール29が前記再生剤供給ライン24の開口部へ移動し、再生剤原液およびエアの吸引を遮断する。そして、前記再生工程を開始して所定時間が経過すると、前記押出工程へ移行する。   In the regeneration step, as shown in FIG. 4, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, and the sixth on-off valve 31 are in response to a command signal from the controller. Each is set to the open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the seventh on-off valve 33, and the eighth on-off valve 36 are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as dilution water to the primary side of the first ejector 21 through the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. In the first ejector 21, when a negative pressure is generated on the discharge side of the first nozzle portion 22, the regenerant supply line 24 also has a negative pressure, and the valve body 28 interlocked with the float 27 is lowered. As a result, the regenerant stock solution in the regenerant tank 4 can be sucked through the regenerant supply line 24, and in the first ejector 21, the regenerant stock solution is diluted with raw water to a predetermined concentration, Prepared. The regenerated liquid from the first ejector 21 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18 and a part of the raw water line 9. The regenerated liquid passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and regenerates the cation exchange resin 6. That is, in the first embodiment, co-flow regeneration is performed on the packed bed of the cation exchange resin 6. The regenerated liquid that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7 through the first screen member 11 and the water collecting pipe 10, and then the treated water line 12 and the It is discharged out of the system through the first drain line 30. Here, when the regenerant stock solution in the regenerant tank 4 is consumed to a predetermined water level, the hollow ball 29 moves to the opening of the regenerant supply line 24 to block the suction of the regenerant stock solution and air. . And when the said reproduction | regeneration process is started and predetermined time passes, it will transfer to the said extrusion process.

前記押出工程では、図5に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19および前記第六開閉弁31は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第五開閉弁25,前記第七開
閉弁33および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、押出水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の一次側へ供給される。このとき、前記第一エゼクタ21における再生剤原液の吸引は、停止されている。前記第一エゼクタ21からの原水は、前記再生液調製ライン18および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および原水は、前記第一スクリーン部材11および前記集水パイプ10を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記処理水ライン12および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。前記押出工程を開始して所定時間が経過すると、前記洗浄工程へ移行する。
In the extruding step, as shown in FIG. 5, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, and the sixth on-off valve 31 are each set to an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the fifth on-off valve 25, the seventh on-off valve 33, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as extrusion water to the primary side of the first ejector 21 through the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. At this time, the suction of the regenerant stock solution in the first ejector 21 is stopped. The raw water from the first ejector 21 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 through the regenerated solution preparation line 18 and a part of the raw water line 9. This raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow while pushing out the regeneration solution, and continuously regenerates the cation exchange resin 6. The regenerated liquid and raw water that have passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 are discharged from the resin cylinder 7 through the first screen member 11 and the water collecting pipe 10, and then the treated water line 12. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30. When a predetermined time elapses after the extrusion process is started, the process proceeds to the cleaning process.

前記洗浄工程では、図6に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第六開閉弁31は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第七開閉弁33および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記樹脂筒7内の上部へ供給され、残留している再生液を洗い流しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した原水は、前記第一スクリーン部材11および前記集水パイプ10を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記処理水ライン12の一部および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。前記洗浄工程を開始して所定時間が経過すると、前記エゼクタ逆洗工程を実施する。   In the cleaning step, as shown in FIG. 6, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the sixth on-off valve 31 are set in an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the seventh on-off valve 33, and the eighth on-off valve 36 are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 and passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow while washing out the remaining regenerated liquid. The raw water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7 through the first screen member 11 and the water collecting pipe 10 and then a part of the treated water line 12. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30. When a predetermined time has elapsed since the start of the cleaning process, the ejector backwashing process is performed.

前記エゼクタ逆洗工程では、図7に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第八開閉弁36は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31および前記第七開閉弁33は、それぞれ閉状態に設定される。まず、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。そして、この洗浄水は、前記第一エゼクタ21の内部流路(符号省略),前記第一ノズル部22および前記第一オリフィス20に付着した異物(たとえば、原水に由来する砂やゴミ,あるいは配管内から剥離した微小なシリカスケールや錆など)を押し出しながら一次側へ流れ、前記第三排水ライン35および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。すなわち、前記第一エゼクタ21および前記第一オリフィス20は、洗浄水によって逆洗され、それぞれの内部が清浄な状態に回復される。   In the ejector backwashing step, as shown in FIG. 7, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the eighth on-off valve 36 are set in an open state by a command signal from the controller. Is done. On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, and the seventh on-off valve 33 are set in a closed state. First, raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the secondary side of the first ejector 21 through the regenerated liquid preparation line 18 as washing water. And this washing water is a foreign substance (for example, sand and dirt derived from raw water, or piping attached to the internal flow path (reference number omitted) of the first ejector 21, the first nozzle part 22 and the first orifice 20). It flows to the primary side while extruding fine silica scale and rust peeled from the inside, and is discharged out of the system through the third drain line 35 and the first drain line 30. That is, the first ejector 21 and the first orifice 20 are back-washed with washing water, and the interiors thereof are restored to a clean state.

前記エゼクタ逆洗工程において、前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される洗浄水は、前記第一ノズル部22の孔を通過するときの流速が1.5〜60m/秒の範囲になるように設定されていることが好ましい。洗浄水の流速が1.5m/秒未満のときには、孔内に付着した異物を除去するための十分な剪断力が得られない可能性がある。逆に、洗浄水の流速が60m/秒を超えるときは、前記第一ノズル部22の孔が損傷や摩耗を受けるおそれがある。また、洗浄水の使用量は、前記第一エゼクタ21の保有水量の5〜2000倍量を確保するよう設定されていることが好ましい。洗浄水の使用量が5倍量未満のときは、除去した異物が残留するおそれがある。逆に、洗浄水の使用量が2000倍量を超えるときは、過剰な洗浄水の使用により、ランニングコストが増加する可能性がある。そして、前記エゼクタ逆洗工程が終了すると、前記補水工程を実施する。この終了の検知は、前記エゼクタ逆洗工程を開始してから所定時間が経過したこと,所定量の洗浄水が供給されたこと,あるいは前記第一エゼクタ21の一次側と二次側の圧力差が所定値に達したことなど、いずれに基づいて行ってもよい。   In the ejector backwashing step, the washing water supplied to the secondary side of the first ejector 21 has a flow rate of 1.5 to 60 m / sec when passing through the hole of the first nozzle portion 22. It is preferable that they are set as follows. When the flow rate of the washing water is less than 1.5 m / sec, there is a possibility that sufficient shearing force for removing the foreign matters attached in the holes cannot be obtained. On the contrary, when the flow rate of the washing water exceeds 60 m / second, the hole of the first nozzle portion 22 may be damaged or worn. Moreover, it is preferable that the usage-amount of washing water is set so that 5 to 2000 times the amount of retained water of said 1st ejector 21 may be ensured. When the amount of cleaning water used is less than 5 times, the removed foreign matter may remain. On the contrary, when the usage amount of the cleaning water exceeds 2000 times, the running cost may increase due to the excessive usage of the cleaning water. And when the said ejector backwashing process is complete | finished, the said water replenishment process is implemented. This end is detected when a predetermined time has elapsed since the start of the ejector backwashing process, a predetermined amount of cleaning water has been supplied, or the pressure difference between the primary side and the secondary side of the first ejector 21. May be based on any of the above, such as reaching a predetermined value.

前記補水工程では、図8に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第五開閉弁25は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、補給水として、前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。前記第一エゼクタ21からの補給水は、前記再生剤供給ライン24を介して前記再生剤タンク4内へ供給される。また、前記再生剤タンク4内では、水位の上昇にともなって前記フロート27と連動する前記弁体28が上昇し、所定水位で補給水の供給を遮断する。そして、補給された原水は、前記再生剤タンク4内に貯蔵されている前記固形塩26を溶解させ、再生剤原液を生成する。前記補水工程が終了すると、再び前記通水作動を実施する。   In the water replenishment step, as shown in FIG. 8, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the fifth on-off valve 25 are set in an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33 and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as makeup water to the secondary side of the first ejector 21 via the regenerated liquid preparation line 18. The makeup water from the first ejector 21 is supplied into the regenerant tank 4 through the regenerant supply line 24. In the regenerant tank 4, the valve body 28 interlocked with the float 27 rises as the water level rises, and the supply of makeup water is shut off at a predetermined water level. The replenished raw water dissolves the solid salt 26 stored in the regenerant tank 4 to produce a regenerant stock solution. When the water replenishment step is completed, the water flow operation is performed again.

ところで、前記再生作動中は、前記樹脂筒7を迂回した原水が需要箇所の要求に応じて供給される。前記再生作動中には、前記第三開閉弁17が常に開状態に設定されているので、前記第一開閉弁14の上流側の前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16を介して前記第二開閉弁15の下流側の前記処理水ライン12へ供給される。この結果、前記再生作動中においても、需要箇所では水を使用することが可能になっている。   By the way, during the regeneration operation, raw water that bypasses the resin cylinder 7 is supplied according to the demand location. During the regeneration operation, since the third on-off valve 17 is always set to the open state, the raw water flowing through the raw water line 9 on the upstream side of the first on-off valve 14 passes through the bypass line 16. The second on-off valve 15 is supplied to the treated water line 12 on the downstream side. As a result, even during the regeneration operation, water can be used at the demand point.

さて、第一実施形態の前記イオン交換装置1では、前記エゼクタ逆洗工程を前記補水工程の直前に実施するようにしているが、他の工程,たとえば前記逆洗工程や前記再生工程の直前に実施することもできる。ここで、前記第一エゼクタ21および前記第一オリフィス20の詰まりをより効果的に予防する観点からは、前記第一エゼクタ21へ原水を通過させた前記再生工程および前記押出工程の後に前記エゼクタ逆洗工程を実施し、付着した異物を速やかに除去しておくことが望ましい。また、前記エゼクタ逆洗工程は、必ずしも前記再生作動ごとに実施しなくてもよく、たとえば所定の再生回数に達したときや、前記樹脂筒7への積算通水量が所定量に達したときにのみ実施することもできる。   Now, in the ion exchange device 1 of the first embodiment, the ejector backwashing process is performed immediately before the water replenishing process, but other processes, for example, immediately before the backwashing process or the regeneration process. It can also be implemented. Here, from the viewpoint of more effectively preventing the clogging of the first ejector 21 and the first orifice 20, the reverse of the ejector is performed after the regeneration process and the extrusion process in which raw water is passed through the first ejector 21. It is desirable to carry out a washing step and quickly remove the adhered foreign matter. The ejector backwashing step does not necessarily have to be performed for each regeneration operation. For example, when the predetermined number of regenerations has been reached, or when the accumulated water flow amount to the resin cylinder 7 has reached a predetermined amount. Can only be implemented.

以上の第一実施形態によれば、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼクタの詰まりを予防することができる並流再生式のイオン交換装置を実現することができる。この結果、再生作動において、再生液が安定して生成されるとともに、この再生液がイオン交換樹脂へ確実に供給される。したがって、所定の品質の処理水を需要箇所へ継続して供給することができるのみならず、イオン交換装置の保守管理に要する負担も軽減される。   According to the first embodiment described above, it is possible to realize a cocurrent regeneration type ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign matters without performing manual inspection and cleaning. As a result, in the regeneration operation, the regeneration solution is stably generated, and the regeneration solution is reliably supplied to the ion exchange resin. Therefore, not only can the treated water of a predetermined quality be continuously supplied to the demand point, but also the burden required for maintenance management of the ion exchange apparatus is reduced.

(第二実施形態)
つぎに、この発明の第二実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。第二実施形態に係るイオン交換装置1は、前記第一実施形態の変形例であって、図1に破線で示すように、前記第一オリフィス20の一次側,すなわち前記第一エゼクタ21の一次側にフィルタ37を設けた構成としている。
(Second embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings. The ion exchange device 1 according to the second embodiment is a modification of the first embodiment, and as shown by a broken line in FIG. 1, the primary side of the first orifice 20, that is, the primary of the first ejector 21. The filter 37 is provided on the side.

前記フイルタ37は、たとえば金属製ネットや合成樹脂製ネットのスクリーン材で形成された濾材である。前記フィルタ37は、前記ストレーナ13を通過した原水中の異物を前記第一エゼクタ21の上流側で捕捉するため、通常、その目開きが50〜200μmの範囲,好ましくは100〜150μmの範囲に設定されている。前記フィルタ37の目開きが200μmを超える場合には、前記ストレーナ13を通過した異物が十分に捕捉されず、前記第一エゼクタ21に付着しやすくなる。逆に、前記フィルタ37の目開きが50μm未満の場合には、圧力損失が増加し、前記第一エゼクタ21で所定の負圧が得られなくなるおそれがある。   The filter 37 is a filter medium formed of a screen material such as a metal net or a synthetic resin net. Since the filter 37 captures foreign matter in the raw water that has passed through the strainer 13 on the upstream side of the first ejector 21, the opening is usually set in the range of 50 to 200 μm, preferably in the range of 100 to 150 μm. Has been. When the opening of the filter 37 exceeds 200 μm, the foreign matter that has passed through the strainer 13 is not sufficiently captured and easily adheres to the first ejector 21. On the contrary, when the opening of the filter 37 is less than 50 μm, the pressure loss increases, and there is a possibility that a predetermined negative pressure cannot be obtained by the first ejector 21.

以下、第二実施形態に係る前記イオン交換装置1の通水作動および再生作動(すなわち
、逆洗工程,再生工程,押出工程,洗浄工程,フィルタ逆洗工程および補水工程)について、図2〜図8を参照して説明する。ここで、前記通水作動(図2),前記逆洗工程(図3),前記洗浄工程(図6)および前記補水工程(図8)は、前記第一実施形態と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
Hereinafter, the water flow operation and the regeneration operation (that is, the backwashing process, the regeneration process, the extrusion process, the washing process, the filter backwashing process, and the water replenishment process) of the ion exchange device 1 according to the second embodiment are illustrated in FIGS. Explanation will be made with reference to FIG. Here, the water flow operation (FIG. 2), the backwashing step (FIG. 3), the washing step (FIG. 6) and the water replenishing step (FIG. 8) are the same as those in the first embodiment. Detailed description is omitted.

前記再生工程では、図4に示すように、前記制御器(図示省略)からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25および前記第六開閉弁31は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第七開閉弁33および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、希釈水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の一次側へ供給される。この際、原水中の異物は、前記フィルタ37で捕捉され、前記第一エゼクタ21の内部流路(符号省略),前記第一ノズル部22および前記第一オリフィス20が清浄な状態に維持される。前記第一エゼクタ21で調製された再生液は、前記再生液調製ライン18および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液は、前記第一スクリーン部材11および前記集水パイプ10を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記処理水ライン12および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。   In the regeneration step, as shown in FIG. 4, in response to a command signal from the controller (not shown), the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, and the sixth on-off valve Each of the valves 31 is set to an open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the seventh on-off valve 33, and the eighth on-off valve 36 are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as dilution water to the primary side of the first ejector 21 through the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. At this time, foreign substances in the raw water are captured by the filter 37, and the internal flow path (reference numeral omitted) of the first ejector 21, the first nozzle portion 22 and the first orifice 20 are maintained in a clean state. . The regenerated liquid prepared by the first ejector 21 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18 and a part of the raw water line 9. The regenerated liquid passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and regenerates the cation exchange resin 6. The regenerated liquid that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7 through the first screen member 11 and the water collecting pipe 10, and then the treated water line 12 and the It is discharged out of the system through the first drain line 30.

前記押出工程では、図5に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19および前記第六開閉弁31は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第五開閉弁25,前記第七開閉弁33および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、押出水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の一次側へ供給される。この際、原水中の異物は、前記フィルタ37で捕捉され、前記第一エゼクタ21の内部流路,前記第一ノズル部22および前記第一オリフィス20が清浄な状態に維持される。前記第一エゼクタ21からの原水は、前記再生液調製ライン18および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および原水は、前記第一スクリーン部材11および前記集水パイプ10を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記処理水ライン12および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。   In the extruding step, as shown in FIG. 5, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, and the sixth on-off valve 31 are each set to an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the fifth on-off valve 25, the seventh on-off valve 33, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as extrusion water to the primary side of the first ejector 21 through the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. At this time, foreign matter in the raw water is captured by the filter 37, and the internal flow path of the first ejector 21, the first nozzle portion 22, and the first orifice 20 are maintained in a clean state. The raw water from the first ejector 21 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 through the regenerated solution preparation line 18 and a part of the raw water line 9. This raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow while pushing out the regeneration solution, and continuously regenerates the cation exchange resin 6. The regenerated liquid and raw water that have passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 are discharged from the resin cylinder 7 through the first screen member 11 and the water collecting pipe 10, and then the treated water line 12. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30.

前記フィルタ逆洗工程は、前記第一実施形態におけるエゼクタ逆洗工程に替えて行う処理である。前記フィルタ逆洗工程では、図7に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第八開閉弁36は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31および前記第七開閉弁33は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、まず洗浄水として、前記再生液調製ライン18を介して前記フィルタ37の二次側へ供給される。そして、この洗浄水は、前記フィルタ37に捕捉された異物(たとえば、原水に由来する砂やゴミ,あるいは配管内から剥離した微小なシリカスケールや錆など)を押し出しながら一次側へ流れ、前記第三排水ライン35および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。すなわち、前記フィルタ37は、洗浄水によって逆洗され、濾過能力が回復される。   The filter backwashing process is a process performed in place of the ejector backwashing process in the first embodiment. In the filter backwashing step, as shown in FIG. 7, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the eighth on-off valve 36 are set in an open state by a command signal from the controller. Is done. On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, and the seventh on-off valve 33 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is first supplied as wash water to the secondary side of the filter 37 via the regenerated liquid preparation line 18. Then, this washing water flows to the primary side while extruding foreign matter (for example, sand and dust derived from raw water, or fine silica scale and rust peeled off from the inside of the pipe) trapped in the filter 37, It is discharged out of the system through the three drainage lines 35 and the first drainage line 30. That is, the filter 37 is backwashed with washing water, and the filtration capacity is restored.

前記フィルタ逆洗工程において、前記フィルタ37の二次側へ供給される洗浄水は、一の網目内を通過するときの流速0.1〜4m/秒の範囲になるように設定されていることが好ましい。洗浄水の流速が0.1m/秒未満のときには、網目内に捕捉された異物を除
去するための十分な剪断力が得られない可能性がある。逆に、洗浄水の流速が4m/秒を超えるときは、前記フィルタ37を形成する前記スクリーン材の網目が変形し、濾過能力が低下するおそれがある。また、洗浄水の使用量は、前記フィルタ37の保有水量の5〜2000倍量を確保するよう設定されていることが好ましい。洗浄水の使用量が5倍量未満のときは、除去した異物が残留するおそれがある。逆に、洗浄水の使用量が2000倍量を超えるときは、過剰な洗浄水の使用により、ランニングコストが増加する可能性がある。そして、前記フィルタ逆洗工程が終了すると、前記補水工程を実施する。この終了の検知は、前記フィルタ逆洗工程を開始してから所定時間が経過したこと,所定量の洗浄水が供給されたこと,あるいは前記フィルタ37の一次側と二次側の圧力差が所定値に達したことなど、いずれに基づいて行ってもよい。
In the filter backwashing step, the wash water supplied to the secondary side of the filter 37 is set to have a flow rate of 0.1 to 4 m / sec when passing through one mesh. Is preferred. When the flow rate of the washing water is less than 0.1 m / sec, there is a possibility that a sufficient shearing force for removing foreign substances trapped in the mesh cannot be obtained. On the contrary, when the flow rate of the washing water exceeds 4 m / sec, the mesh of the screen material forming the filter 37 may be deformed and the filtration ability may be reduced. Moreover, it is preferable that the usage-amount of washing water is set so that 5 to 2000 times the amount of water retained by the filter 37 can be secured. When the amount of cleaning water used is less than 5 times, the removed foreign matter may remain. On the contrary, when the usage amount of the cleaning water exceeds 2000 times, the running cost may increase due to the excessive usage of the cleaning water. And when the said filter backwashing process is complete | finished, the said water replenishment process is implemented. This end is detected when a predetermined time has elapsed since the start of the filter backwashing process, a predetermined amount of cleaning water has been supplied, or the pressure difference between the primary side and the secondary side of the filter 37 is predetermined. It may be based on any of the values reached.

第二実施形態の前記イオン交換装置1では、前記フィルタ逆洗工程を前記補水工程の直前に実施するようにしているが、他の工程,たとえば前記逆洗工程や前記再生工程の直前に実施することもできる。ここで、前記フィルタ37の濾過能力を維持し、前記第一エゼクタ21および前記第一オリフィス20の詰まりをより効果的に予防する観点からは、前記フィルタ37へ原水を通過させた前記再生工程および前記押出工程の後に前記フィルタ逆洗工程を実施し、捕捉された異物を速やかに除去しておくことが望ましい。また、前記フィルタ逆洗工程は、必ずしも前記再生作動ごとに実施しなくてもよく、たとえば所定の再生回数に達したときや、前記樹脂筒7への積算通水量が所定量に達したときにのみ実施することもできる。   In the ion exchange device 1 of the second embodiment, the filter backwashing step is performed immediately before the water replenishment step, but is performed immediately before other steps, for example, the backwashing step and the regeneration step. You can also Here, from the viewpoint of maintaining the filtering ability of the filter 37 and more effectively preventing the clogging of the first ejector 21 and the first orifice 20, the regeneration process in which raw water is passed through the filter 37 and It is desirable to carry out the filter backwashing step after the extrusion step to quickly remove the trapped foreign matter. The filter backwashing step does not necessarily have to be performed for each regeneration operation. For example, when the predetermined number of regenerations has been reached, or when the accumulated water flow amount to the resin cylinder 7 has reached a predetermined amount. Can only be implemented.

以上の第二実施形態によれば、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼクタの詰まりを予防することができる並流再生式のイオン交換装置を実現することができる。この結果、再生作動において、再生液が安定して生成されるとともに、この再生液がイオン交換樹脂へ確実に供給される。したがって、所定の品質の処理水を需要箇所へ継続して供給することができるのみならず、イオン交換装置の保守管理に要する負担も軽減される。   According to the second embodiment described above, it is possible to realize a cocurrent regeneration type ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign substances without performing manual inspection and cleaning. As a result, in the regeneration operation, the regeneration solution is stably generated, and the regeneration solution is reliably supplied to the ion exchange resin. Therefore, not only can the treated water of a predetermined quality be continuously supplied to the demand point, but also the burden required for maintenance management of the ion exchange apparatus is reduced.

(第三実施形態)
つぎに、この発明の第三実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。図9は、第三実施形態に係るイオン交換装置の概略構成図を示している。第三実施形態に係るイオン交換装置は、前記第一実施形態の変形例であって、並向流再生方式に替えて対向流再生方式により再生を行うように構成したものである。図9において、前記第一実施形態および前記第二実施形態と同一の符号は、同一の部材を示しており、その詳細な説明は省略する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings. FIG. 9 shows a schematic configuration diagram of an ion exchange apparatus according to the third embodiment. The ion exchange apparatus according to the third embodiment is a modification of the first embodiment, and is configured to perform regeneration by a counter flow regeneration method instead of the co-current regeneration method. In FIG. 9, the same reference numerals as those in the first embodiment and the second embodiment denote the same members, and detailed description thereof will be omitted.

第三実施形態に係るイオン交換装置38において、前記第三開閉弁17の上流側の前記バイパスライン16は、前記第二開閉弁15の上流側の前記処理水ライン12と前記再生液調製ライン18で接続されている。この再生液調製ライン18には、前記バイパスライン16側から順に前記第四開閉弁19,前記第一オリフィス20および前記第一エゼクタ21が設けられている。また、前記第一オリフィス20と前記第一エゼクタ21の間の前記再生液調製ライン18は、前記第一開閉弁14の下流側の前記原水ライン9と分岐ライン39で接続されている。この分岐ライン39には、前記原水ライン9側から順に第九開閉弁40および第三オリフィス41が設けられている。ここにおいて、前記第三オリフィス41は、後述する再生工程および押出工程において、前記陽イオン交換樹脂6の流動を抑制するために供給する原水を所定範囲の流量に調節するためのものである。   In the ion exchange device 38 according to the third embodiment, the bypass line 16 on the upstream side of the third on-off valve 17 is connected to the treated water line 12 on the upstream side of the second on-off valve 15 and the regenerated liquid preparation line 18. Connected with. The regeneration solution preparation line 18 is provided with the fourth on-off valve 19, the first orifice 20, and the first ejector 21 in this order from the bypass line 16 side. The regenerated liquid preparation line 18 between the first orifice 20 and the first ejector 21 is connected to the raw water line 9 and the branch line 39 on the downstream side of the first on-off valve 14. The branch line 39 is provided with a ninth on-off valve 40 and a third orifice 41 in order from the raw water line 9 side. Here, the third orifice 41 is for adjusting the raw water supplied to suppress the flow of the cation exchange resin 6 to a flow rate within a predetermined range in a regeneration process and an extrusion process described later.

前記蓋部材8には、再生作動時に導入された再生液を前記樹脂筒7外へ案内する排水路(符号省略)が形成されており、この排水路の入口には、再生液を前記陽イオン交換樹脂6の充填層の表面付近で回収する回収パイプ42が接続されている。この回収パイプ42
の先端部には、前記陽イオン交換樹脂6の流出を防止する第二スクリーン部材43が装着されている。一方、前記排水路の出口は、前記第六開閉弁31の下流側の前記第一排水ライン30と第四排水ライン44で接続されており、この第四排水ライン44には、第十開閉弁45が設けられている。
The lid member 8 is formed with a drainage channel (reference numeral omitted) for guiding the regeneration solution introduced during the regeneration operation to the outside of the resin cylinder 7, and the regeneration solution is supplied to the cation at the inlet of the drainage channel. A recovery pipe 42 that recovers in the vicinity of the surface of the packed bed of exchange resin 6 is connected. This recovery pipe 42
A second screen member 43 for preventing the cation exchange resin 6 from flowing out is attached to the front end portion. On the other hand, the outlet of the drainage channel is connected to the first drainage line 30 and the fourth drainage line 44 on the downstream side of the sixth on-off valve 31, and the fourth drainage line 44 includes a tenth on-off valve. 45 is provided.

以下、第三実施例形態に係る前記イオン交換装置38の通水作動および再生作動について、図10〜図16を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, the water flow operation and the regeneration operation of the ion exchange device 38 according to the third embodiment will be described in detail with reference to FIGS.

前記通水作動では、図10に示すように、前記制御器(図示省略)からの指令信号により、前記第一開閉弁14および前記第二開閉弁15は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる水道水,地下水,工業用水などの原水は、まず前記ストレーナ13で固形物が除去されたのち、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この原水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で流れる過程で硬度分がナトリウムイオンへ置換され、軟水化される。前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した軟水は、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10および前記処理水ライン12を介して排出され、需要箇所へ供給される。そして、所定量の軟水を採取することにより、前記陽イオン交換樹脂6が硬度分を置換できなくなると、前記再生作動を実施する。   In the water flow operation, as shown in FIG. 10, the first on-off valve 14 and the second on-off valve 15 are each set to an open state by a command signal from the controller (not shown). On the other hand, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, the eighth on-off valve 36, and the ninth on-off valve 40. The tenth on-off valve 45 is set in a closed state. Raw water such as tap water, ground water, and industrial water flowing through the raw water line 9 is first supplied to the upper portion of the resin cylinder 7 after the solid matter is removed by the strainer 13. The raw water is softened by being replaced with sodium ions in the course of flowing down the packed bed of the cation exchange resin 6 with sodium ions. The soft water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged through the first screen member 11, the water collecting pipe 10, and the treated water line 12, and supplied to the demand point. Then, when the cation exchange resin 6 cannot replace the hardness by collecting a predetermined amount of soft water, the regeneration operation is performed.

前記再生作動は、前記第一実施形態と同様、逆洗工程,再生工程,押出工程,洗浄工程,エゼクタ逆洗工程および補水工程をこの順で行う。   In the regeneration operation, as in the first embodiment, a backwashing process, a regeneration process, an extrusion process, a cleaning process, an ejector backwashing process, and a water replenishing process are performed in this order.

前記逆洗工程では、図11に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第二開閉弁15,前記第三開閉弁17および前記第七開閉弁33は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この原水は、前記樹脂筒7内を上昇流で流れ、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を展開させながら、堆積した懸濁物質や破砕などによって生じた微細樹脂を洗い流す。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した原水は、前記樹脂筒7から排出されたのち、前記原水ライン9の一部および前記第二排水ライン32を介して前記第一排水ライン30から系外へ排出される。前記逆洗工程を開始して所定時間が経過すると、前記再生工程へ移行する。   In the backwashing step, as shown in FIG. 11, the second on-off valve 15, the third on-off valve 17, and the seventh on-off valve 33 are set in an open state by a command signal from the controller. The On the other hand, the first on-off valve 14, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the eighth on-off valve 36, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45. Are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the lower part in the resin cylinder 7 through the bypass line 16, the treated water line 12, the water collecting pipe 10 and the first screen member 11. This raw water flows in an upward flow through the resin cylinder 7 and wash away the accumulated suspended matter and fine resin generated by crushing while developing the packed bed of the cation exchange resin 6. The raw water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7, and then the first drainage line 30 through a part of the raw water line 9 and the second drainage line 32. Is discharged from the system. When the predetermined time elapses after the backwashing process is started, the process proceeds to the regeneration process.

前記再生工程では、図12に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、希釈水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の一次側へ供給される。前記第一エゼクタ21において、前記第一ノズル部22の吐出側で負圧が発生すると、前記再生剤供給ライン24内も負圧となり、前記フロート27と連動する前記弁体28が下降する。この結果、前記再生剤タンク4内の再生剤原液が前記再生剤供給ライン24を介して吸引可能となり、前記第一エゼクタ21内では、再生剤原液が原水で所定濃度まで希釈され、再生液が調製される。前記第一エゼクタ21からの再生液は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填
層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。すなわち、第三実施形態では、前記陽イオン交換樹脂6の充填層に対して向流再生(counter-flow regeneration)が行われる。また、前記再生工程中は、前記第一エゼクタ21の一次側で分岐した原水の一部が前記分岐ライン39および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この下降流の原水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧し、上昇流の再生液によって前記陽イオン交換樹脂6が展開および流動することを抑制する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および前記樹脂筒7内の上部へ供給された原水は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。ここにおいて、前記再生剤タンク4内の再生剤原液が所定水位まで消費されると、前記中空ボール29が前記再生剤供給ライン24の開口部へ移動し、再生剤原液およびエアの吸引を遮断する。そして、前記再生工程を開始して所定時間が経過すると、前記押出工程へ移行する。
In the regeneration step, as shown in FIG. 12, in response to a command signal from the controller, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the ninth on-off valve 40, and the The tenth on-off valves 45 are each set to an open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as dilution water to the primary side of the first ejector 21 through the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. In the first ejector 21, when a negative pressure is generated on the discharge side of the first nozzle portion 22, the regenerant supply line 24 also has a negative pressure, and the valve body 28 interlocked with the float 27 is lowered. As a result, the regenerant stock solution in the regenerant tank 4 can be sucked through the regenerant supply line 24, and in the first ejector 21, the regenerant stock solution is diluted with raw water to a predetermined concentration, Prepared. The regenerated liquid from the first ejector 21 is supplied to the lower part in the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. . This regenerated solution passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow to regenerate the cation exchange resin 6. That is, in the third embodiment, counter-flow regeneration is performed on the packed bed of the cation exchange resin 6. Further, during the regeneration process, a part of the raw water branched on the primary side of the first ejector 21 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9. . This downward flow of raw water presses the packed bed of the cation exchange resin 6 downward, and suppresses the development and flow of the cation exchange resin 6 due to the regeneration liquid of the upward flow. The regenerated liquid that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 and the raw water supplied to the upper part of the resin cylinder 7 are transferred from the resin cylinder 7 via the second screen member 43 and the recovery pipe 42. After being discharged, it is discharged out of the system through the fourth drain line 44 and the first drain line 30. Here, when the regenerant stock solution in the regenerant tank 4 is consumed to a predetermined water level, the hollow ball 29 moves to the opening of the regenerant supply line 24 to block the suction of the regenerant stock solution and air. . And when the said reproduction | regeneration process is started and predetermined time passes, it will transfer to the said extrusion process.

前記押出工程では、図13に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、押出水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の一次側へ供給される。このとき、前記第一エゼクタ21における再生剤原液の吸引は、停止されている。前記第一エゼクタ21からの原水は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。また、前記押出工程中は、前記第一エゼクタ21の一次側で分岐した原水の一部が前記分岐ライン39および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この下降流の原水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧し、上昇流の原水によって前記陽イオン交換樹脂6が展開および流動することを抑制する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および原水は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。前記押出工程を開始して所定時間が経過すると、前記洗浄工程へ移行する。   In the extruding step, as shown in FIG. 13, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45 are in response to a command signal from the controller. Each is set to the open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as extrusion water to the primary side of the first ejector 21 through the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. At this time, the suction of the regenerant stock solution in the first ejector 21 is stopped. The raw water from the first ejector 21 is supplied to the lower part of the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. The raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow while extruding the regenerated solution, and the cation exchange resin 6 is continuously regenerated. During the extrusion process, a part of the raw water branched on the primary side of the first ejector 21 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9. . This downward flow of raw water presses the packed bed of the cation exchange resin 6 downward, and suppresses the development and flow of the cation exchange resin 6 by the upward flow of raw water. The regenerated liquid and raw water that have passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 are discharged from the resin cylinder 7 through the second screen member 43 and the recovery pipe 42, and then the fourth drainage line 44. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30. When a predetermined time elapses after the extrusion process is started, the process proceeds to the cleaning process.

前記洗浄工程では、図14に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第六開閉弁31は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第七開閉弁33,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記樹脂筒7内の上部へ供給され、残留している再生液を洗い流しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した原水は、前記第一スクリーン部材11および前記集水パイプ10を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記処理水ライン12の一部および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。前記洗浄工程を開始して所定時間が経過すると、前記エゼクタ逆洗工程を実施する。   In the cleaning step, as shown in FIG. 14, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the sixth on-off valve 31 are set in an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the seventh on-off valve 33, the eighth on-off valve 36, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45. Are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 and passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow while washing out the remaining regenerated liquid. The raw water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7 through the first screen member 11 and the water collecting pipe 10 and then a part of the treated water line 12. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30. When a predetermined time has elapsed since the start of the cleaning process, the ejector backwashing process is performed.

前記エゼクタ逆洗工程では、図15に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17,前記第八開閉弁36および前記第九開閉弁40は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。まず、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水と
して、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この洗浄水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過したのち、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10,前記処理水ライン12の一部および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。さらに、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記分岐ライン39を介して前記第三オリフィス41の二次側へも供給される。そして、これらの洗浄水は、前記第一エゼクタ21の内部流路(符号省略),前記第一ノズル部22,前記第一オリフィス20および前記第三オリフィス41に付着した異物(たとえば、原水に由来する砂やゴミ,あるいは配管内から剥離した微小なシリカスケールや錆など)を押し出しながら一次側へ流れ、前記第三排水ライン35および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。すなわち、前記第一エゼクタ21,前記第一オリフィス20および前記第三オリフィス41は、洗浄水によって逆洗され、それぞれの内部が清浄な状態に回復される。ここにおいて、前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される洗浄水の流速および使用量は、前記第一実施形態と同様な値に設定される。そして、前記エゼクタ逆洗工程が終了すると、前記補水工程を実施する。この終了の検知は、前記エゼクタ逆洗工程を開始してから所定時間が経過したこと,所定量の洗浄水が供給されたこと,あるいは前記第一エゼクタ21の一次側と二次側の圧力差が所定値に達したことなど、いずれに基づいて行ってもよい。
In the ejector backwashing step, as shown in FIG. 15, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, the eighth on-off valve 36, and the ninth on-off valve 40 according to a command signal from the controller. Are set to the open state. On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, and the tenth on-off valve 45 are set in a closed state. Is done. First, raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 as washing water. The washing water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and then the first screen member 11, the water collection pipe 10, a part of the treated water line 12, and the regenerated liquid preparation line 18. To the secondary side of the first ejector 21. Further, the raw water flowing through the raw water line 9 is also supplied to the secondary side of the third orifice 41 through the branch line 39 as washing water. These washing waters are foreign matters (for example, derived from raw water) adhering to the internal flow path (not shown) of the first ejector 21, the first nozzle part 22, the first orifice 20, and the third orifice 41. Sand, dust, or fine silica scale or rust peeled off from the inside of the pipe) and extruding it to the primary side and being discharged out of the system via the third drain line 35 and the first drain line 30. That is, the first ejector 21, the first orifice 20, and the third orifice 41 are back-washed with washing water, and the interiors thereof are restored to a clean state. Here, the flow rate and amount of wash water supplied to the secondary side of the first ejector 21 are set to the same values as in the first embodiment. And when the said ejector backwashing process is complete | finished, the said water replenishment process is implemented. This end is detected when a predetermined time has elapsed since the start of the ejector backwashing process, a predetermined amount of cleaning water has been supplied, or the pressure difference between the primary side and the secondary side of the first ejector 21. May be based on any of the above, such as reaching a predetermined value.

前記補水工程では、図16に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第五開閉弁25は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、補給水として、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この補給水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過して軟水化され、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10,前記処理水ライン12の一部および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。前記第一エゼクタ21からの補給水は、前記再生剤供給ライン24を介して前記再生剤タンク4内へ供給される。また、前記再生剤タンク4内では、水位の上昇にともなって前記フロート27と連動する前記弁体28が上昇し、所定水位で補給水の供給を遮断する。そして、補給された軟水は、前記再生剤タンク4内に貯蔵されている前記固形塩26を溶解させ、再生剤原液を生成する。前記補水工程が終了すると、再び前記通水作動を実施する。   In the water replenishing step, as shown in FIG. 16, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the fifth on-off valve 25 are each set to an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, the eighth on-off valve 36, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45. Are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 as makeup water. This makeup water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow to be softened, and the first screen member 11, the water collecting pipe 10, a part of the treated water line 12, and the regenerated liquid. It is supplied to the secondary side of the first ejector 21 via the preparation line 18. The makeup water from the first ejector 21 is supplied into the regenerant tank 4 through the regenerant supply line 24. In the regenerant tank 4, the valve body 28 interlocked with the float 27 rises as the water level rises, and the supply of makeup water is shut off at a predetermined water level. Then, the replenished soft water dissolves the solid salt 26 stored in the regenerant tank 4 to generate a regenerant stock solution. When the water replenishment step is completed, the water flow operation is performed again.

ところで、前記再生作動中は、前記樹脂筒7を迂回した原水が需要箇所の要求に応じて供給される。前記再生作動中には、前記第三開閉弁17が常に開状態に設定されているので、前記第一開閉弁14の上流側の前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16を介して前記第二開閉弁15の下流側の前記処理水ライン12へ供給される。この結果、前記再生作動中においても、需要箇所では水を使用することが可能になっている。   By the way, during the regeneration operation, raw water that bypasses the resin cylinder 7 is supplied according to the demand location. During the regeneration operation, since the third on-off valve 17 is always set to the open state, the raw water flowing through the raw water line 9 on the upstream side of the first on-off valve 14 passes through the bypass line 16. The second on-off valve 15 is supplied to the treated water line 12 on the downstream side. As a result, even during the regeneration operation, water can be used at the demand point.

第三実施形態の前記イオン交換装置38では、前記エゼクタ逆洗工程を前記補水工程の直前に実施するようにしているが、他の工程,たとえば前記逆洗工程や前記再生工程の直前に実施することもできる。ここで、前記第一エゼクタ21,前記第一オリフィス20および前記第三オリフィス41の詰まりをより効果的に予防する観点からは、前記第一エゼクタ21へ原水を通過させた前記再生工程および前記押出工程の後に前記エゼクタ逆洗工程を実施し、付着した異物を速やかに除去しておくことが望ましい。また、前記エゼクタ逆洗工程は、必ずしも前記再生作動ごとに実施しなくてもよく、たとえば所定の再生回数に達したときや、前記樹脂筒7への積算通水量が所定量に達したときにのみ実施することもできる。   In the ion exchange device 38 of the third embodiment, the ejector backwashing process is performed immediately before the water replenishment process, but is performed immediately before another process, for example, the backwashing process or the regeneration process. You can also Here, from the viewpoint of more effectively preventing clogging of the first ejector 21, the first orifice 20 and the third orifice 41, the regeneration process and the extrusion in which raw water is passed through the first ejector 21. It is desirable to carry out the ejector backwashing step after the step to quickly remove the adhered foreign matter. The ejector backwashing step does not necessarily have to be performed for each regeneration operation. For example, when the predetermined number of regenerations has been reached, or when the accumulated water flow amount to the resin cylinder 7 has reached a predetermined amount. Can only be implemented.

以上の第三実施形態によれば、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼ
クタの詰まりを予防することができる向流再生式のイオン交換装置を実現することができる。この結果、再生作動において、再生液が安定して生成されるとともに、この再生液がイオン交換樹脂へ確実に供給される。したがって、所定の品質の処理水を需要箇所へ継続して供給することができるのみならず、イオン交換装置の保守管理に要する負担も軽減される。
According to the third embodiment described above, it is possible to realize a countercurrent regeneration type ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign substances without performing manual inspection and cleaning. As a result, in the regeneration operation, the regeneration solution is stably generated, and the regeneration solution is reliably supplied to the ion exchange resin. Therefore, not only can the treated water of a predetermined quality be continuously supplied to the demand point, but also the burden required for maintenance management of the ion exchange apparatus is reduced.

(第四実施形態)
つぎに、この発明の第四実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。第四実施形態に係るイオン交換装置38は、前記第三実施形態の変形例であって、図9に破線で示すように、前記第一オリフィス20の一次側,すなわち前記第一エゼクタ21の一次側に前記フィルタ37を設けた構成としている。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings. An ion exchange device 38 according to the fourth embodiment is a modification of the third embodiment, and as shown by a broken line in FIG. 9, the primary side of the first orifice 20, that is, the primary of the first ejector 21. The filter 37 is provided on the side.

以下、第四実施形態に係る前記イオン交換装置38の通水作動および再生作動(すなわち、逆洗工程,再生工程,押出工程,洗浄工程,フィルタ逆洗工程および補水工程)について、図10〜図16を参照して説明する。ここで、前記通水作動(図10),前記逆洗工程(図11),前記洗浄工程(図14)および前記補水工程(図16)は、前記第三実施形態と同様であるので、その詳細な説明は省略する。   Hereinafter, the water flow operation and the regeneration operation (that is, the backwashing process, the regeneration process, the extrusion process, the washing process, the filter backwashing process, and the water replenishment process) of the ion exchange device 38 according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. Reference is made to FIG. Here, the water flow operation (FIG. 10), the backwashing step (FIG. 11), the washing step (FIG. 14) and the water replenishing step (FIG. 16) are the same as in the third embodiment. Detailed description is omitted.

前記再生工程では、図12に示すように、前記制御器(図示省略)からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21および前記第三オリフィス41の一次側へそれぞれ供給される。この際、原水中の異物は、前記フィルタ37で捕捉され、前記第一エゼクタ21の内部流路(符号省略),前記第一ノズル部22,前記第一オリフィス20および前記第三オリフィス41が清浄な状態に維持される。前記第一エゼクタ21で調製された再生液は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。一方、前記第三オリフィス41からの原水は、前記分岐ライン39および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給され、その水流により前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および前記樹脂筒7内の上部へ供給された原水は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。   In the regeneration step, as shown in FIG. 12, in response to a command signal from the controller (not shown), the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the ninth on-off valve The valve 40 and the tenth on-off valve 45 are each set to an open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the primary side of the first ejector 21 and the third orifice 41 via the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18, respectively. At this time, foreign substances in the raw water are captured by the filter 37, and the internal flow path (reference numeral omitted) of the first ejector 21, the first nozzle portion 22, the first orifice 20, and the third orifice 41 are cleaned. Maintained. The regenerated liquid prepared by the first ejector 21 is supplied to the lower part of the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. Is done. This regenerated solution passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow to regenerate the cation exchange resin 6. On the other hand, the raw water from the third orifice 41 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9, and the packed bed of the cation exchange resin 6 by the water flow. Press down. The regenerated liquid that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 and the raw water supplied to the upper part of the resin cylinder 7 are transferred from the resin cylinder 7 via the second screen member 43 and the recovery pipe 42. After being discharged, it is discharged out of the system through the fourth drain line 44 and the first drain line 30.

前記押出工程では、図13に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21および前記第三オリフィス41の一次側へそれぞれ供給される。この際、原水中の異物は、前記フィルタ37で捕捉され、前記第一エゼクタ21の内部流路,前記第一ノズル部22,前記第一オリフィス20および前記第三オリフィス41が清浄な状態に維持される。前記第一エゼクタ21からの原水は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。一方、前記第三オリフィス41からの原水は、前記分岐ライン39お
よび前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給され、その水流により前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および原水は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。
In the extruding step, as shown in FIG. 13, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45 are in response to a command signal from the controller. Each is set to the open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the primary side of the first ejector 21 and the third orifice 41 via the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18, respectively. At this time, foreign substances in the raw water are captured by the filter 37, and the internal flow path of the first ejector 21, the first nozzle portion 22, the first orifice 20 and the third orifice 41 are maintained in a clean state. Is done. The raw water from the first ejector 21 is supplied to the lower part of the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. The raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow while extruding the regenerated solution, and the cation exchange resin 6 is continuously regenerated. On the other hand, the raw water from the third orifice 41 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9, and the packed bed of the cation exchange resin 6 by the water flow. Press down. The regenerated liquid and raw water that have passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 are discharged from the resin cylinder 7 through the second screen member 43 and the recovery pipe 42, and then the fourth drainage line 44. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30.

前記フィルタ逆洗工程は、前記第三実施形態におけるエゼクタ逆洗工程に替えて行う処理である。前記フィルタ逆洗工程では、図15に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17,前記第八開閉弁36および前記第九開閉弁40は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。まず、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この洗浄水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過したのち、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10,前記処理水ライン12の一部および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。さらに、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記分岐ライン39を介して前記第三オリフィス41の二次側へも供給され、前記第一エゼクタ21を通過した洗浄水と合流する。そして、この洗浄水は、前記フィルタ37に捕捉された異物(たとえば、原水に由来する砂やゴミ,あるいは配管内から剥離した微小なシリカスケールや錆など)を押し出しながら一次側へ流れ、前記第三排水ライン35および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。すなわち、前記フィルタ37は、洗浄水によって逆洗され、濾過能力が回復される。ここにおいて、前記フィルタ37の二次側へ供給される洗浄水の流速および使用量は、前記第二実施形態と同様な値に設定される。   The filter backwashing process is a process performed in place of the ejector backwashing process in the third embodiment. In the filter backwashing step, as shown in FIG. 15, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, the eighth on-off valve 36, and the ninth on-off valve 40 according to a command signal from the controller. Are set to the open state. On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, and the tenth on-off valve 45 are set in a closed state. Is done. First, raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 as washing water. The washing water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and then the first screen member 11, the water collection pipe 10, a part of the treated water line 12, and the regenerated liquid preparation line 18. To the secondary side of the first ejector 21. Furthermore, the raw water flowing through the raw water line 9 is also supplied as wash water to the secondary side of the third orifice 41 via the branch line 39 and merges with the wash water that has passed through the first ejector 21. Then, this washing water flows to the primary side while extruding foreign matter (for example, sand and dust derived from raw water, or fine silica scale and rust peeled off from the inside of the pipe) trapped in the filter 37, It is discharged out of the system through the three drainage lines 35 and the first drainage line 30. That is, the filter 37 is backwashed with washing water, and the filtration capacity is restored. Here, the flow rate and amount of cleaning water supplied to the secondary side of the filter 37 are set to the same values as in the second embodiment.

第四実施形態の前記イオン交換装置38では、前記フィルタ逆洗工程を前記補水工程の直前に実施するようにしているが、他の工程,たとえば前記逆洗工程や前記再生工程の直前に実施することもできる。ここで、前記フィルタ37の濾過能力を維持し、前記第一エゼクタ21,前記第一オリフィス20および前記第三オリフィス41の詰まりをより効果的に予防する観点からは、前記フィルタ37へ原水を通過させた前記再生工程および前記押出工程の後に前記フィルタ逆洗工程を実施し、捕捉された異物を速やかに除去しておくことが望ましい。また、前記フィルタ逆洗工程は、必ずしも前記再生作動ごとに実施しなくてもよく、たとえば所定の再生回数に達したときや、前記樹脂筒7への積算通水量が所定量に達したときにのみ実施することもできる。   In the ion exchange device 38 of the fourth embodiment, the filter backwashing step is performed immediately before the water replenishing step, but is performed immediately before another step, for example, the backwashing step or the regeneration step. You can also Here, from the viewpoint of maintaining the filtering ability of the filter 37 and more effectively preventing clogging of the first ejector 21, the first orifice 20 and the third orifice 41, the raw water passes through the filter 37. It is desirable to carry out the filter back washing step after the regeneration step and the extrusion step, and to quickly remove the trapped foreign matter. The filter backwashing step does not necessarily have to be performed for each regeneration operation. For example, when the predetermined number of regenerations has been reached, or when the accumulated water flow amount to the resin cylinder 7 has reached a predetermined amount. Can only be implemented.

以上の第四実施形態によれば、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼクタの詰まりを予防することができる向流再生式のイオン交換装置を実現することができる。この結果、再生作動において、再生液が安定して生成されるとともに、この再生液がイオン交換樹脂へ確実に供給される。したがって、所定の品質の処理水を需要箇所へ継続して供給することができるのみならず、イオン交換装置の保守管理に要する負担も軽減される。   According to the fourth embodiment described above, it is possible to realize a countercurrent regeneration type ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign substances without performing manual inspection and cleaning. As a result, in the regeneration operation, the regeneration solution is stably generated, and the regeneration solution is reliably supplied to the ion exchange resin. Therefore, not only can the treated water of a predetermined quality be continuously supplied to the demand point, but also the burden required for maintenance management of the ion exchange apparatus is reduced.

(第五実施形態)
つぎに、この発明の第五実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。図17は、第五実施形態に係るイオン交換装置の概略構成図を示している。第五実施形態に係るイオン交換装置は、前記第一実施形態および前記第三実施形態の変形例であって、並向流再生方式または対向流再生方式に替えて両側再生方式,すなわちイオン交換樹脂層の両端部から再生液を接触させる方式により再生を行うように構成したものである。図17において、前記第一実施形態,前記第二実施形態,前記第三実施形態および前記第四実施形態と同一の符号は、同一の部材を示しており、その詳細な説明は省略する。
(Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings. FIG. 17 shows a schematic configuration diagram of an ion exchange apparatus according to the fifth embodiment. The ion exchange device according to the fifth embodiment is a modification of the first embodiment and the third embodiment, and is a double-sided regeneration method, that is, an ion exchange resin, instead of the cocurrent flow regeneration method or the counterflow regeneration method. Regeneration is performed by a method in which a regeneration solution is brought into contact with both ends of the layer. In FIG. 17, the same reference numerals as those in the first embodiment, the second embodiment, the third embodiment, and the fourth embodiment denote the same members, and detailed descriptions thereof are omitted.

第五実施形態に係るイオン交換装置46において、前記第三開閉弁17の上流側の前記バイパスライン16は、前記第二開閉弁15の上流側の前記処理水ライン12と前記再生液調製ライン18で接続されている。この再生液調製ライン18には、前記バイパスライン16側から順に前記第四開閉弁19,前記第一オリフィス20および前記第一エゼクタ21が設けられている。また、前記第一オリフィス20と前記第一エゼクタ21の間の前記再生液調製ライン18は、前記第一開閉弁14の下流側の前記原水ライン9と前記分岐ライン39で接続されている。この分岐ライン39には、前記原水ライン9側から順に前記第九開閉弁40および第二エゼクタ47が設けられている。そして、前記第二エゼクタ47は、流れ方向の断面積を急縮小させる第二ノズル部48を有している。   In the ion exchange device 46 according to the fifth embodiment, the bypass line 16 on the upstream side of the third on-off valve 17 is connected to the treated water line 12 on the upstream side of the second on-off valve 15 and the regenerated liquid preparation line 18. Connected with. The regeneration solution preparation line 18 is provided with the fourth on-off valve 19, the first orifice 20, and the first ejector 21 in this order from the bypass line 16 side. The regenerated liquid preparation line 18 between the first orifice 20 and the first ejector 21 is connected to the raw water line 9 on the downstream side of the first on-off valve 14 and the branch line 39. The branch line 39 is provided with the ninth on-off valve 40 and the second ejector 47 in order from the raw water line 9 side. The second ejector 47 has a second nozzle portion 48 that rapidly reduces the cross-sectional area in the flow direction.

前記蓋部材8には、再生作動時に導入された再生液を前記樹脂筒7外へ案内する排水路(符号省略)が形成されており、この排水路の入口には、再生液を前記陽イオン交換樹脂6の充填層高さの中央部付近で回収する前記回収パイプ42が接続されている。この回収パイプ42の先端部には、前記陽イオン交換樹脂6の流出を防止する前記第二スクリーン部材43が装着されている。すなわち、前記第二スクリーン部材43は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層高さの中央部付近に配置されている。一方、前記排水路の出口は、前記第六開閉弁の下流側の前記第一排水ライン30と前記第四排水ライン44で接続されており、この第四排水ライン44には、前記第十開閉弁45が設けられている。   The lid member 8 is formed with a drainage channel (reference numeral omitted) for guiding the regeneration solution introduced during the regeneration operation to the outside of the resin cylinder 7, and the regeneration solution is supplied to the cation at the inlet of the drainage channel. The recovery pipe 42 that recovers in the vicinity of the center of the packed bed height of the exchange resin 6 is connected. The second screen member 43 that prevents the cation exchange resin 6 from flowing out is attached to the tip of the recovery pipe 42. That is, the second screen member 43 is disposed in the vicinity of the center of the packed bed height of the cation exchange resin 6. On the other hand, the outlet of the drainage channel is connected to the first drainage line 30 and the fourth drainage line 44 on the downstream side of the sixth on-off valve. A valve 45 is provided.

以下、第五実施例形態に係る前記イオン交換装置46の通水作動および再生作動について、図18〜図24を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, the water flow operation and the regeneration operation of the ion exchange device 46 according to the fifth embodiment will be described in detail with reference to FIGS.

前記通水作動では、図18に示すように、前記制御器(図示省略)からの指令信号により、前記第一開閉弁14および前記第二開閉弁15は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる水道水,地下水,工業用水などの原水は、まず前記ストレーナ13で固形物が除去されたのち、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この原水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で流れる過程で硬度分がナトリウムイオンへ置換され、軟水化される。前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した軟水は、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10および前記処理水ライン12を介して排出され、需要箇所へ供給される。そして、所定量の軟水を採取することにより、前記陽イオン交換樹脂6が硬度分を置換できなくなると、前記再生作動を実施する。   In the water flow operation, as shown in FIG. 18, the first on-off valve 14 and the second on-off valve 15 are each set to an open state by a command signal from the controller (not shown). On the other hand, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, the eighth on-off valve 36, and the ninth on-off valve 40. The tenth on-off valve 45 is set in a closed state. Raw water such as tap water, ground water, and industrial water flowing through the raw water line 9 is first supplied to the upper portion of the resin cylinder 7 after the solid matter is removed by the strainer 13. The raw water is softened by being replaced with sodium ions in the course of flowing down the packed bed of the cation exchange resin 6 with sodium ions. The soft water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged through the first screen member 11, the water collecting pipe 10, and the treated water line 12, and supplied to the demand point. Then, when the cation exchange resin 6 cannot replace the hardness by collecting a predetermined amount of soft water, the regeneration operation is performed.

前記再生作動は、前記第一実施形態および前記第三実施形態と同様、逆洗工程,再生工程,押出工程,洗浄工程,エゼクタ逆洗工程および補水工程をこの順で行う。   In the regeneration operation, as in the first embodiment and the third embodiment, a backwashing process, a regeneration process, an extrusion process, a cleaning process, an ejector backwashing process, and a water replenishment process are performed in this order.

前記逆洗工程では、図19に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第二開閉弁15,前記第三開閉弁17および前記第七開閉弁33は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この原水は、前記樹脂筒7内を上昇流で流れ、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を展開させながら、堆積した懸濁物質や破砕などによって生じた微細樹脂を洗い流す。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した原水は、前記樹脂筒7から排出されたのち、前記原水ライン9の一部および前記第二排水ライン32を介して前記第一排水ライン30から系外へ排出される。前記逆洗工程を開始して所
定時間が経過すると、前記再生工程へ移行する。
In the backwashing process, as shown in FIG. 19, the second on-off valve 15, the third on-off valve 17, and the seventh on-off valve 33 are set in an open state by a command signal from the controller. The On the other hand, the first on-off valve 14, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the eighth on-off valve 36, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45. Are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the lower part in the resin cylinder 7 through the bypass line 16, the treated water line 12, the water collecting pipe 10 and the first screen member 11. This raw water flows in an upward flow through the resin cylinder 7 and wash away the accumulated suspended matter and fine resin generated by crushing while developing the packed bed of the cation exchange resin 6. The raw water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7, and then the first drainage line 30 through a part of the raw water line 9 and the second drainage line 32. Is discharged from the system. When the predetermined time elapses after the backwashing process is started, the process proceeds to the regeneration process.

前記再生工程では、図20に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、希釈水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記各エゼクタ21,46の一次側へそれぞれ供給される。前記各エゼクタ21,47において、前記各ノズル部22,48の吐出側で負圧が発生すると、前記再生剤供給ライン24内も負圧となり、前記フロート27と連動する前記弁体28が下降する。この結果、前記再生剤タンク4内の再生剤原液が前記再生剤供給ライン24を介して吸引可能となり、前記各エゼクタ21,47内では、それぞれ再生剤原液が原水で所定濃度まで希釈され、再生液が調製される。前記第一エゼクタ21からの再生液は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。一方、前記第二エゼクタ47からの再生液は、前記分岐ライン39および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。すなわち、第五実施形態では、前記陽イオン交換樹脂6の充填層に対して分流再生(split-flow regeneration)が行われる。この際、下降流の再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧し、上昇流の再生液によって前記陽イオン交換樹脂6が展開および流動することを抑制する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。ここにおいて、前記再生剤タンク4内の再生剤原液が所定水位まで消費されると、前記中空ボール29が前記再生剤供給ライン24の開口部へ移動し、再生剤原液およびエアの吸引を遮断する。そして、前記再生工程を開始して所定時間が経過すると、前記押出工程へ移行する。   In the regeneration step, as shown in FIG. 20, in response to a command signal from the controller, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the ninth on-off valve 40, and the The tenth on-off valves 45 are each set to an open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as dilution water to the primary sides of the ejectors 21 and 46 via the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. In each ejector 21, 47, when a negative pressure is generated on the discharge side of each nozzle portion 22, 48, the regenerant supply line 24 also has a negative pressure, and the valve body 28 interlocking with the float 27 is lowered. . As a result, the regenerant stock solution in the regenerant tank 4 can be aspirated through the regenerant supply line 24, and in each of the ejectors 21 and 47, the regenerant stock solution is diluted with raw water to a predetermined concentration and regenerated. A liquid is prepared. The regenerated liquid from the first ejector 21 is supplied to the lower part in the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. . This regenerated solution passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow to regenerate the cation exchange resin 6. On the other hand, the regenerated liquid from the second ejector 47 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9. The regenerated liquid passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and regenerates the cation exchange resin 6. That is, in the fifth embodiment, split-flow regeneration is performed on the packed bed of the cation exchange resin 6. At this time, the regenerative liquid in the downward flow presses the packed bed of the cation exchange resin 6 downward to suppress the development and flow of the cation exchange resin 6 by the regenerative liquid in the upward flow. The regenerated liquid that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7 through the second screen member 43 and the recovery pipe 42, and then the fourth drain line 44 and the It is discharged out of the system through the first drain line 30. Here, when the regenerant stock solution in the regenerant tank 4 is consumed to a predetermined water level, the hollow ball 29 moves to the opening of the regenerant supply line 24 to block the suction of the regenerant stock solution and air. . And when the said reproduction | regeneration process is started and predetermined time passes, it will transfer to the said extrusion process.

前記押出工程では、図21に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、押出水として、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記各エゼクタ21,47の一次側へそれぞれ供給される。このとき、前記各エゼクタ21,47における再生剤原液の吸引は、停止されている。前記第一エゼクタ21からの原水は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。一方、前記第二エゼクタ47からの原水は、前記分岐ライン39および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。この際、下降流の原水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧し、上昇流の原水によって前記陽イオン交換樹脂6が展開および流動することを抑制する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および原水は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。前記押出工程を開始して所定時間が経過すると、前記洗浄工程へ移行する。   In the extruding step, as shown in FIG. 21, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45 are in response to a command signal from the controller. Each is set to the open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied as extrusion water to the primary sides of the ejectors 21 and 47 via the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18. At this time, the suction of the regenerant stock solution in the ejectors 21 and 47 is stopped. The raw water from the first ejector 21 is supplied to the lower part of the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. The raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow while extruding the regenerated solution, and the cation exchange resin 6 is continuously regenerated. On the other hand, the raw water from the second ejector 47 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9. This raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow while pushing out the regeneration solution, and continuously regenerates the cation exchange resin 6. At this time, the raw water in the downward flow presses the packed bed of the cation exchange resin 6 downward to suppress the development and flow of the cation exchange resin 6 by the raw water in the upward flow. The regenerated liquid and raw water that have passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 are discharged from the resin cylinder 7 through the second screen member 43 and the recovery pipe 42, and then the fourth drainage line 44. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30. When a predetermined time elapses after the extrusion process is started, the process proceeds to the cleaning process.

前記洗浄工程では、図22に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第六開閉弁31は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第七開閉弁33,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記樹脂筒7内の上部へ供給され、残留している再生液を洗い流しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した原水は、前記第一スクリーン部材11および前記集水パイプ10を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記処理水ライン12の一部および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。前記洗浄工程を開始して所定時間が経過すると、前記エゼクタ逆洗工程を実施する。   In the cleaning step, as shown in FIG. 22, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the sixth on-off valve 31 are set in an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the seventh on-off valve 33, the eighth on-off valve 36, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45. Are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 and passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow while washing out the remaining regenerated liquid. The raw water that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7 through the first screen member 11 and the water collecting pipe 10 and then a part of the treated water line 12. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30. When a predetermined time has elapsed since the start of the cleaning process, the ejector backwashing process is performed.

前記エゼクタ逆洗工程では、図23に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17,前記第八開閉弁36および前記第九開閉弁40は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。まず、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この洗浄水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過したのち、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10,前記処理水ライン12の一部および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。さらに、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記分岐ライン39を介して前記第二エゼクタ47の二次側へも供給される。そして、これらの洗浄水は、前記各エゼクタ21,47の内部流路(それぞれ符号省略),前記各ノズル部22,48および前記第一オリフィス20に付着した異物(たとえば、原水に由来する砂やゴミ,あるいは配管内から剥離した微小なシリカスケールや錆など)を押し出しながら一次側へ流れ、前記第三排水ライン35および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。すなわち、前記各エゼクタ21,47および前記第一オリフィス20は、洗浄水によって逆洗され、それぞれの内部が清浄な状態に回復される。ここにおいて、前記各エゼクタ21,47の二次側へ供給される洗浄水の流速および使用量は、それぞれ前記第一実施形態および前記第三実施形態と同様な値に設定される。そして、前記エゼクタ逆洗工程が終了すると、前記補水工程を実施する。この終了の検知は、前記エゼクタ逆洗工程を開始してから所定時間が経過したこと,所定量の洗浄水が供給されたこと,あるいは前記各エゼクタ21,47の一次側と二次側の圧力差が所定値に達したことなど、いずれに基づいて行ってもよい。   In the ejector backwashing step, as shown in FIG. 23, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, the eighth on-off valve 36, and the ninth on-off valve 40 are controlled by a command signal from the controller. Are set to the open state. On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, and the tenth on-off valve 45 are set in a closed state. Is done. First, raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 as washing water. The washing water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and then the first screen member 11, the water collection pipe 10, a part of the treated water line 12, and the regenerated liquid preparation line 18. To the secondary side of the first ejector 21. Further, the raw water flowing through the raw water line 9 is also supplied to the secondary side of the second ejector 47 through the branch line 39 as washing water. And these washing waters are the foreign materials (for example, sand derived from raw water, etc.) adhering to the internal flow paths (respectively omitted) of the ejectors 21 and 47, the nozzle portions 22 and 48, and the first orifice 20, respectively. Dust or fine silica scale or rust peeled off from the inside of the pipe is pushed out and flows to the primary side, and is discharged out of the system through the third drain line 35 and the first drain line 30. That is, the ejectors 21 and 47 and the first orifice 20 are back-washed with washing water, and the interiors of the ejectors 21 and 47 are restored to a clean state. Here, the flow rate and the amount of cleaning water supplied to the secondary side of the ejectors 21 and 47 are set to values similar to those in the first embodiment and the third embodiment, respectively. And when the said ejector backwashing process is complete | finished, the said water replenishment process is implemented. This end is detected when a predetermined time has elapsed since the start of the ejector backwashing process, a predetermined amount of cleaning water has been supplied, or the pressures on the primary and secondary sides of the ejectors 21 and 47 are detected. This may be based on any of the differences reaching a predetermined value.

前記補水工程では、図24に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17および前記第五開閉弁25は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33,前記第八開閉弁36,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、補給水として、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この補給水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過して軟水化され、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10,前記処理水ライン12の一部および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。前記第一エゼクタ21からの補給水は、前記再生剤供給ライン24を介して前記再生剤タンク4内へ供給される。また、前記再生剤タンク4内では、水位の上昇にともなって前記フロート27と連動する前記弁体28が上昇し、所定水位で補給水の供給を遮断する。そして、補給された軟水は、前記再生剤タンク4内に貯蔵されている前記固形塩26を溶解させ、再生剤原液を生成する。前記補水工程が終了すると、再び前記通水作動を実施する。   In the water replenishment step, as shown in FIG. 24, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, and the fifth on-off valve 25 are each set to an open state by a command signal from the controller. . On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, the eighth on-off valve 36, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45. Are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 as makeup water. This makeup water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow to be softened, and the first screen member 11, the water collecting pipe 10, a part of the treated water line 12, and the regenerated liquid. It is supplied to the secondary side of the first ejector 21 via the preparation line 18. The makeup water from the first ejector 21 is supplied into the regenerant tank 4 through the regenerant supply line 24. In the regenerant tank 4, the valve body 28 interlocked with the float 27 rises as the water level rises, and the supply of makeup water is shut off at a predetermined water level. Then, the replenished soft water dissolves the solid salt 26 stored in the regenerant tank 4 to generate a regenerant stock solution. When the water replenishment step is completed, the water flow operation is performed again.

ところで、前記再生作動中は、前記樹脂筒7を迂回した原水が需要箇所の要求に応じて供給される。前記再生作動中には、前記第三開閉弁17が常に開状態に設定されているので、前記第一開閉弁14の上流側の前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16を介して前記第二開閉弁15の下流側の前記処理水ライン12へ供給される。この結果、前記再生作動中においても、需要箇所では水を使用することが可能になっている。   By the way, during the regeneration operation, raw water that bypasses the resin cylinder 7 is supplied according to the demand location. During the regeneration operation, since the third on-off valve 17 is always set to the open state, the raw water flowing through the raw water line 9 on the upstream side of the first on-off valve 14 passes through the bypass line 16. The second on-off valve 15 is supplied to the treated water line 12 on the downstream side. As a result, even during the regeneration operation, water can be used at the demand point.

第五実施形態の前記イオン交換装置46では、前記エゼクタ逆洗工程を前記補水工程の直前に実施するようにしているが、他の工程,たとえば前記逆洗工程や前記再生工程の直前に実施することもできる。ここで、前記各エゼクタ21,47および前記第一オリフィス20の詰まりをより効果的に予防する観点からは、前記各エゼクタ21,47へ原水を通過させた前記再生工程および前記押出工程の後に前記エゼクタ逆洗工程を実施し、付着した異物を速やかに除去しておくことが望ましい。また、前記エゼクタ逆洗工程は、必ずしも前記再生作動ごとに実施しなくてもよく、たとえば所定の再生回数に達したときや、前記樹脂筒7への積算通水量が所定量に達したときにのみ実施することもできる。   In the ion exchange device 46 of the fifth embodiment, the ejector backwashing process is performed immediately before the water replenishment process, but is performed immediately before another process, for example, the backwashing process or the regeneration process. You can also Here, from the viewpoint of more effectively preventing clogging of the ejectors 21 and 47 and the first orifice 20, the raw water is passed through the ejectors 21 and 47 after the regeneration process and the extrusion process. It is desirable to carry out the ejector backwashing process and quickly remove the adhered foreign matter. The ejector backwashing step does not necessarily have to be performed for each regeneration operation. For example, when the predetermined number of regenerations has been reached, or when the accumulated water flow amount to the resin cylinder 7 has reached a predetermined amount. Can only be implemented.

以上の第五実施形態によれば、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼクタの詰まりを予防することができる分流再生式のイオン交換装置を実現することができる。この結果、再生作動において、再生液が安定して生成されるとともに、この再生液がイオン交換樹脂へ確実に供給される。したがって、所定の品質の処理水を需要箇所へ継続して供給することができるのみならず、イオン交換装置の保守管理に要する負担も軽減される。   According to the fifth embodiment described above, it is possible to realize a shunt regeneration type ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign substances without performing manual inspection and cleaning. As a result, in the regeneration operation, the regeneration solution is stably generated, and the regeneration solution is reliably supplied to the ion exchange resin. Therefore, not only can the treated water of a predetermined quality be continuously supplied to the demand point, but also the burden required for maintenance management of the ion exchange apparatus is reduced.

(第六実施形態)
つぎに、この発明の第六実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。第六実施形態に係るイオン交換装置46は、前記第五実施形態の変形例であって、図17に破線で示すように、前記第一オリフィス20の一次側,すなわち前記第一エゼクタ21および前記第二エゼクタ47の一次側に前記フィルタ37を設けた構成としている。図17〜図24において、前記第一実施形態,前記第二実施形態,前記第三実施形態,前記第四実施形態および前記第五実施形態と同一の符号は、同一の部材を示しており、その詳細な説明は省略する。
(Sixth embodiment)
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described in detail based on the drawings. An ion exchange device 46 according to the sixth embodiment is a modification of the fifth embodiment, and as shown by a broken line in FIG. 17, the primary side of the first orifice 20, that is, the first ejector 21 and the first ejector 21. The filter 37 is provided on the primary side of the second ejector 47. 17 to 24, the same reference numerals as those in the first embodiment, the second embodiment, the third embodiment, the fourth embodiment and the fifth embodiment denote the same members. Detailed description thereof is omitted.

以下、第六実施形態に係る前記イオン交換装置38の通水作動および再生作動(すなわち、逆洗工程,再生工程,押出工程,洗浄工程,フィルタ逆洗工程および補水工程)について、図18〜図24を参照して説明する。ここで、前記通水作動(図18),前記逆洗工程(図19),前記洗浄工程(図22)および前記補水工程(図24)は、前記第五実施形態と同様であるので、その詳細な説明は省略する。   Hereinafter, the water flow operation and regeneration operation (that is, the backwashing process, the regeneration process, the extrusion process, the washing process, the filter backwashing process, and the water replenishment process) of the ion exchange device 38 according to the sixth embodiment will be described with reference to FIGS. Explanation will be made with reference to FIG. Here, the water flow operation (FIG. 18), the backwashing step (FIG. 19), the washing step (FIG. 22) and the water replenishing step (FIG. 24) are the same as those in the fifth embodiment. Detailed description is omitted.

前記再生工程では、図20に示すように、前記制御器(図示省略)からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記各エゼクタ21,47の一次側へそれぞれ供給される。この際、原水中の異物は、前記フィルタ37で捕捉され、前記各エゼクタ21,47の内部流路(それぞれ符号省略),前記各ノズル部22,48および前記第一オリフィス20が清浄な状態に維持される。前記第一エゼクタ21で調製された再生液は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。一方、前記第二エゼクタ47で調製された再生液は、前記分岐ライン39および前記原水ライン9の
一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を再生させる。この際、下降流の再生液は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧し、上昇流の再生液によって前記陽イオン交換樹脂6が展開および流動することを抑制する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。
In the regeneration step, as shown in FIG. 20, in response to a command signal from the controller (not shown), the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the ninth on-off valve The valve 40 and the tenth on-off valve 45 are each set to an open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are each set to a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the primary sides of the ejectors 21 and 47 via the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18, respectively. At this time, foreign substances in the raw water are captured by the filter 37, and the internal flow paths (respectively omitted) of the ejectors 21 and 47, the nozzle portions 22 and 48, and the first orifice 20 are in a clean state. Maintained. The regenerated liquid prepared by the first ejector 21 is supplied to the lower part of the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. Is done. This regenerated solution passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow to regenerate the cation exchange resin 6. On the other hand, the regenerated liquid prepared by the second ejector 47 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9. The regenerated liquid passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and regenerates the cation exchange resin 6. At this time, the regenerative liquid in the downward flow presses the packed bed of the cation exchange resin 6 downward to suppress the development and flow of the cation exchange resin 6 by the regenerative liquid in the upward flow. The regenerated liquid that has passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 is discharged from the resin cylinder 7 through the second screen member 43 and the recovery pipe 42, and then the fourth drain line 44 and the It is discharged out of the system through the first drain line 30.

前記押出工程では、図21に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第三開閉弁17,前記第四開閉弁19,前記第九開閉弁40および前記第十開閉弁45は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第一開閉弁14,前記第二開閉弁15,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31および前記第八開閉弁36は、それぞれ閉状態に設定される。前記原水ライン9を流れる原水は、前記バイパスライン16および前記再生液調製ライン18を介して前記各エゼクタ21,47の一次側へそれぞれ供給される。この際、原水中の異物は、前記フィルタ37で捕捉され、前記各エゼクタ21,47の内部流路,前記各ノズル部22,48および前記第一オリフィス20が清浄な状態に維持される。前記第一エゼクタ21からの原水は、前記再生液調製ライン18,前記処理水ライン12,前記集水パイプ10および前記第一スクリーン部材11を介して前記樹脂筒7内の下部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を上昇流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。一方、前記第二エゼクタ47からの原水は、前記分岐ライン39および前記原水ライン9の一部を介して前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この原水は、再生液を押し出しながら前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過し、前記陽イオン交換樹脂6を引き続き再生させる。この際、下降流の原水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下向きに押圧し、上昇流の原水によって前記陽イオン交換樹脂6が展開および流動することを抑制する。そして、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を通過した再生液および原水は、前記第二スクリーン部材43および前記回収パイプ42を介して前記樹脂筒7から排出されたのち、前記第四排水ライン44および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。   In the extruding step, as shown in FIG. 21, the third on-off valve 17, the fourth on-off valve 19, the ninth on-off valve 40, and the tenth on-off valve 45 are in response to a command signal from the controller. Each is set to the open state. On the other hand, the first on-off valve 14, the second on-off valve 15, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, and the eighth on-off valve 36 are set in a closed state. The raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the primary sides of the ejectors 21 and 47 via the bypass line 16 and the regenerated liquid preparation line 18, respectively. At this time, foreign substances in the raw water are captured by the filter 37, and the internal flow paths of the ejectors 21 and 47, the nozzle portions 22 and 48, and the first orifice 20 are maintained in a clean state. The raw water from the first ejector 21 is supplied to the lower part of the resin cylinder 7 through the regenerated liquid preparation line 18, the treated water line 12, the water collection pipe 10 and the first screen member 11. The raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in an upward flow while extruding the regenerated solution, and the cation exchange resin 6 is continuously regenerated. On the other hand, the raw water from the second ejector 47 is supplied to the upper part in the resin cylinder 7 through the branch line 39 and a part of the raw water line 9. This raw water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow while pushing out the regeneration solution, and continuously regenerates the cation exchange resin 6. At this time, the raw water in the downward flow presses the packed bed of the cation exchange resin 6 downward to suppress the development and flow of the cation exchange resin 6 by the raw water in the upward flow. The regenerated liquid and raw water that have passed through the packed bed of the cation exchange resin 6 are discharged from the resin cylinder 7 through the second screen member 43 and the recovery pipe 42, and then the fourth drainage line 44. And it is discharged out of the system through the first drainage line 30.

前記フィルタ逆洗工程は、前記第五実施形態におけるエゼクタ逆洗工程に替えて行う処理である。前記フィルタ逆洗工程では、図23に示すように、前記制御器からの指令信号により、前記第一開閉弁14,前記第三開閉弁17,前記第八開閉弁36および前記第九開閉弁40は、それぞれ開状態に設定される。一方、前記第二開閉弁15,前記第四開閉弁19,前記第五開閉弁25,前記第六開閉弁31,前記第七開閉弁33および前記第十開閉弁45は、それぞれ閉状態に設定される。まず、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記樹脂筒7内の上部へ供給される。この洗浄水は、前記陽イオン交換樹脂6の充填層を下降流で通過したのち、前記第一スクリーン部材11,前記集水パイプ10,前記処理水ライン12の一部および前記再生液調製ライン18を介して前記第一エゼクタ21の二次側へ供給される。さらに、前記原水ライン9を流れる原水は、洗浄水として、前記再生液調製ライン18の分岐経路を介して前記第二エゼクタ47の二次側へも供給され、前記第一エゼクタ21を通過した洗浄水と合流する。そして、この洗浄水は、前記フィルタ37に捕捉された異物(たとえば、原水に由来する砂やゴミ,あるいは配管内から剥離した微小なシリカスケールや錆など)を押し出しながら一次側へ流れ、前記第三排水ライン35および前記第一排水ライン30を介して系外へ排出される。すなわち、前記フィルタ37は、洗浄水によって逆洗され、濾過能力が回復される。ここにおいて、前記フィルタ37の二次側へ供給される洗浄水の流速および使用量は、前記第二実施形態および前記第四実施形態と同様な値に設定される。   The filter backwashing process is a process performed in place of the ejector backwashing process in the fifth embodiment. In the filter backwashing step, as shown in FIG. 23, the first on-off valve 14, the third on-off valve 17, the eighth on-off valve 36, and the ninth on-off valve 40 according to a command signal from the controller. Are set to the open state. On the other hand, the second on-off valve 15, the fourth on-off valve 19, the fifth on-off valve 25, the sixth on-off valve 31, the seventh on-off valve 33, and the tenth on-off valve 45 are set in a closed state. Is done. First, raw water flowing through the raw water line 9 is supplied to the upper part of the resin cylinder 7 as washing water. The washing water passes through the packed bed of the cation exchange resin 6 in a downward flow, and then the first screen member 11, the water collection pipe 10, a part of the treated water line 12, and the regenerated liquid preparation line 18. To the secondary side of the first ejector 21. Further, the raw water flowing through the raw water line 9 is also supplied as washing water to the secondary side of the second ejector 47 via the branch path of the regenerated solution preparation line 18 and passed through the first ejector 21. Merge with water. Then, this washing water flows to the primary side while extruding foreign matter (for example, sand and dust derived from raw water, or fine silica scale and rust peeled off from the inside of the pipe) trapped in the filter 37, It is discharged out of the system through the three drainage lines 35 and the first drainage line 30. That is, the filter 37 is backwashed with washing water, and the filtration capacity is restored. Here, the flow rate and amount of cleaning water supplied to the secondary side of the filter 37 are set to the same values as in the second embodiment and the fourth embodiment.

第六実施形態の前記イオン交換装置46では、前記フィルタ逆洗工程を前記補水工程の直前に実施するようにしているが、他の工程,たとえば前記逆洗工程や前記再生工程の直
前に実施することもできる。ここで、前記フィルタ37の濾過能力を維持し、前記各エゼクタ21,47および前記第一オリフィス20の詰まりをより効果的に予防する観点からは、前記フィルタ37へ原水を通過させた前記再生工程および前記押出工程の後に前記フィルタ逆洗工程を実施し、捕捉された異物を速やかに除去しておくことが望ましい。また、前記フィルタ逆洗工程は、必ずしも前記再生作動ごとに実施しなくてもよく、たとえば所定の再生回数に達したときや、前記樹脂筒7への積算通水量が所定量に達したときにのみ実施することもできる。
In the ion exchange device 46 of the sixth embodiment, the filter backwashing step is performed immediately before the water replenishment step, but is performed immediately before another step, for example, the backwashing step or the regeneration step. You can also Here, from the viewpoint of maintaining the filtering ability of the filter 37 and more effectively preventing the clogging of the ejectors 21 and 47 and the first orifice 20, the regeneration process in which the raw water is passed through the filter 37. It is desirable that the filter backwashing step is performed after the extrusion step to quickly remove the trapped foreign matter. The filter backwashing step does not necessarily have to be performed for each regeneration operation. For example, when the predetermined number of regenerations has been reached, or when the accumulated water flow amount to the resin cylinder 7 has reached a predetermined amount. Can only be implemented.

以上の第六実施形態によれば、人手による点検や清掃を行うことなく、異物によるエゼクタの詰まりを予防することができる分流再生式のイオン交換装置を実現することができる。この結果、再生作動において、再生液が安定して生成されるとともに、この再生液がイオン交換樹脂へ確実に供給される。したがって、所定の品質の処理水を需要箇所へ継続して供給することができるのみならず、イオン交換装置の保守管理に要する負担も軽減される。   According to the sixth embodiment described above, it is possible to realize a shunt regeneration type ion exchange device that can prevent the ejector from being clogged with foreign substances without performing manual inspection and cleaning. As a result, in the regeneration operation, the regeneration solution is stably generated, and the regeneration solution is reliably supplied to the ion exchange resin. Therefore, not only can the treated water of a predetermined quality be continuously supplied to the demand point, but also the burden required for maintenance management of the ion exchange apparatus is reduced.

第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置の概略構成図。The schematic block diagram of the ion exchange apparatus which concerns on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置の通水作動を示す説明図。Explanatory drawing which shows the water flow operation | movement of the ion exchange apparatus which concerns on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置の逆洗工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the backwashing process of the ion exchange apparatus which concerns on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置の再生工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the reproduction | regeneration process of the ion exchange apparatus which concerns on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置の押出工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the extrusion process of the ion exchange apparatus which concerns on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置の洗浄工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the washing | cleaning process of the ion exchange apparatus which concerns on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置のエゼクタ洗浄工程およびフィルタ洗浄工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the ejector washing | cleaning process and filter washing | cleaning process of the ion exchange apparatus which concern on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第一実施形態および第二実施形態に係るイオン交換装置の補水工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the water replenishment process of the ion exchange apparatus which concerns on 1st embodiment and 2nd embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置の概略構成図。The schematic block diagram of the ion exchange apparatus which concerns on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置の通水作動を示す説明図。Explanatory drawing which shows the water flow operation | movement of the ion exchange apparatus which concerns on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置の逆洗工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the backwashing process of the ion exchange apparatus which concerns on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置の再生工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the reproduction | regeneration process of the ion exchange apparatus which concerns on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置の押出工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the extrusion process of the ion exchange apparatus which concerns on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置の洗浄工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the washing | cleaning process of the ion exchange apparatus which concerns on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置のエゼクタ洗浄工程およびフィルタ洗浄工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the ejector washing | cleaning process and filter washing | cleaning process of the ion exchange apparatus which concern on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第三実施形態および第四実施形態に係るイオン交換装置の補水工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the water replenishment process of the ion exchange apparatus which concerns on 3rd embodiment and 4th embodiment. 第五実施形態および第六実施形態に係るイオン交換装置の概略構成図。The schematic block diagram of the ion exchange apparatus which concerns on 5th embodiment and 6th embodiment. 第五実施形態および第六二実施形態に係るイオン交換装置の通水作動を示す説明図。Explanatory drawing which shows the water flow operation | movement of the ion exchange apparatus which concerns on 5th embodiment and 6th 2nd embodiment. 第五実施形態および第六実施形態に係るイオン交換装置の逆洗工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the backwashing process of the ion exchange apparatus which concerns on 5th embodiment and 6th embodiment. 第五実施形態および第六実施形態に係るイオン交換装置の再生工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the reproduction | regeneration process of the ion exchange apparatus which concerns on 5th embodiment and 6th embodiment. 第五実施形態および第六実施形態に係るイオン交換装置の押出工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the extrusion process of the ion exchange apparatus which concerns on 5th embodiment and 6th embodiment. 第五実施形態および第六実施形態に係るイオン交換装置の洗浄工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the washing | cleaning process of the ion exchange apparatus which concerns on 5th embodiment and 6th embodiment. 第五実施形態および第六実施形態に係るイオン交換装置のエゼクタ洗浄工程およびフィルタ洗浄工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the ejector washing | cleaning process and filter washing | cleaning process of the ion exchange apparatus which concern on 5th embodiment and 6th embodiment. 第五実施形態および第六実施形態に係るイオン交換装置の補水工程を示す説明図。Explanatory drawing which shows the water replenishment process of the ion exchange apparatus which concerns on 5th embodiment and 6th embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 イオン交換装置
21 第一エゼクタ(エゼクタ)
37 フィルタ
38 イオン交換装置
46 イオン交換装置
47 第二エゼクタ(エゼクタ)
1 Ion Exchanger 21 First Ejector (Ejector)
37 Filter 38 Ion Exchange Device 46 Ion Exchange Device 47 Second Ejector (Ejector)

Claims (2)

希釈水の水流により再生剤原液を吸引し、この再生剤原液と希釈水とを混合して再生液を生成するエゼクタを備えたイオン交換装置であって、
前記エゼクタの二次側から一次側へ洗浄水を流通させ、前記エゼクタを逆洗可能に構成したことを特徴とするイオン交換装置。
An ion exchange apparatus comprising an ejector that sucks a regenerant stock solution by a flow of dilution water and mixes the regenerant stock solution and the dilution water to generate a regenerative solution,
An ion exchange apparatus characterized in that washing water is circulated from a secondary side to a primary side of the ejector so that the ejector can be backwashed.
希釈水の水流により再生剤原液を吸引し、この再生剤原液と希釈水とを混合して再生液を生成するエゼクタを備えたイオン交換装置であって、
前記エゼクタの一次側にフィルタを設け、
前記フィルタの二次側から一次側へ洗浄水を流通させ、前記フィルタを逆洗可能に構成したことを特徴とするイオン交換装置。
An ion exchange apparatus comprising an ejector that sucks a regenerant stock solution by a flow of dilution water and mixes the regenerant stock solution and the dilution water to generate a regenerative solution,
Providing a filter on the primary side of the ejector;
An ion exchange apparatus characterized in that washing water is circulated from a secondary side to a primary side of the filter so that the filter can be backwashed.
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