JP2007036039A - Exposure pattern formation method - Google Patents

Exposure pattern formation method Download PDF

Info

Publication number
JP2007036039A
JP2007036039A JP2005219278A JP2005219278A JP2007036039A JP 2007036039 A JP2007036039 A JP 2007036039A JP 2005219278 A JP2005219278 A JP 2005219278A JP 2005219278 A JP2005219278 A JP 2005219278A JP 2007036039 A JP2007036039 A JP 2007036039A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light sources
light source
diffractive optical
light
exposure pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005219278A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4625734B2 (en
Inventor
Hiroshi Yokoyama
浩 横山
Kazumi Haga
一実 芳賀
Motoyuki Sakai
基志 坂井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NANO SYSTEM SOLUTIONS KK
Original Assignee
NANO SYSTEM SOLUTIONS KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NANO SYSTEM SOLUTIONS KK filed Critical NANO SYSTEM SOLUTIONS KK
Priority to JP2005219278A priority Critical patent/JP4625734B2/en
Publication of JP2007036039A publication Critical patent/JP2007036039A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4625734B2 publication Critical patent/JP4625734B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce manufacturing costs by enhancing versatility in a light source array, a fiber, and a fiber bundle and simplifying the formation process of an exposure pattern. <P>SOLUTION: An exposure pattern formation method uses the light source array 4 where light sources 8 are placed side by side vertically and horizontally, and the fiber bundle 6, where output side edges of a plurality of fibers 11 in which each of input side edges is optically connected to each of the light sources 8 in a one-to-one relationship are bundled into one and output ends are placed side by side on an end face. In the exposure pattern formation method, each of the input ends of the fibers 11 is optically connected to each of the light sources 8 in a one-to-one relationship randomly, positions of the output ends of the fibers 11 for outputting light when each of the light sources 8 is lit successively are detected successively, the correlation between each of the light sources 8 and each position of the output ends of the fibers 11 is stored, and each of the light sources 8 is lit based on the correspondence, thus forming a desired exposure pattern on the end face of the fiber handle 6. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は露光パターン形成方法に関する。   The present invention relates to an exposure pattern forming method.

従来から、発光効率の高いLEDなどをアレイ状に並設した光源アレイを使用して、半導体集積回路や液晶デバイスなどの露光パターンを形成する方法が提案されている。   Conventionally, a method of forming an exposure pattern of a semiconductor integrated circuit, a liquid crystal device, or the like using a light source array in which LEDs having high luminous efficiency are arranged in an array has been proposed.

このような光源アレイを使用した露光パターン形成方法として、光源の出力光の光路に配置された複数の光ファイバを束ねるファイババンドルを使用することにより、単位光源を小さくして照明むらの発光量を小さくする露光パターン形成方法が知られている(特許文献1)。
特開2004−228548号公報
As an exposure pattern forming method using such a light source array, by using a fiber bundle that bundles a plurality of optical fibers arranged in the optical path of the output light of the light source, the unit light source is reduced, and the amount of uneven illumination is reduced. An exposure pattern forming method for reducing the size is known (Patent Document 1).
JP 2004-228548 A

しかしながら、特許文献1に記載の発明では、光源アレイにおいて形成した露光パターンをそのままファイババンドルの端面から出射させるために、光源アレイにおける光源の配列及びファイババンドルの端面におけるファイバの配列がすべて1対1で対応づけられた光源アレイ及びファイババンドルを使用する必要があった。これにより、特に光源アレイの光源の数が多いほど、光源アレイ及びファイババンドルの製造工程が複雑化し、製造コストがかかると共に、部品の汎用性が制限されるという問題があった。   However, in the invention described in Patent Document 1, in order to emit the exposure pattern formed in the light source array as it is from the end face of the fiber bundle, the arrangement of the light sources in the light source array and the arrangement of the fibers in the end face of the fiber bundle are all 1: 1. It was necessary to use light source arrays and fiber bundles associated with each other. As a result, there are problems in that, as the number of light sources in the light source array increases, the manufacturing process of the light source array and the fiber bundle becomes complicated, the manufacturing cost increases, and the versatility of the parts is limited.

本発明の課題は、光源アレイ及びファイババンドルを使用する露光パターン形成方法において、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることを可能とする露光パターン形成方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an exposure pattern forming method using a light source array and a fiber bundle. The exposure pattern forming method can simplify the part manufacturing process to reduce the manufacturing cost and increase the versatility of the part. Is to provide.

上記課題を解決するために請求項1記載の発明は、光源が縦横に並設された光源アレイと、入力側端部の各々が前記光源の各々に1対1で光学的に接続された複数のファイバの出力側端部が1つに束ねられ出力端が端面に並設されたファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力端の各々を前記光源の各々に1対1で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光を出力する前記ファイバの出力端の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記ファイババンドルの端面における前記ファイバの出力端の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記ファイババンドルの端面において所望の露光パターンを形成することを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 is a plurality of light source arrays in which light sources are arranged side by side vertically and a plurality of input side end portions optically connected to each of the light sources in a one-to-one relationship. An exposure pattern forming method using a fiber bundle in which the output end portions of the fibers are bundled into one and the output ends are arranged in parallel on the end face, wherein each of the input ends of the fibers is assigned to each of the light sources. Randomly optically connect in a one-to-one correspondence, sequentially detect the position of the output end of the fiber that outputs light when each of the light sources is turned on sequentially, and each of the light sources and the A correspondence with each position of the output end of the fiber on the end face of the fiber bundle is stored, and lighting control of each of the light sources is performed based on the correspondence, so that a desired exposure pattern is obtained on the end face of the fiber bundle. And forming a.

請求項2記載の発明は、光源が縦横に並設された光源アレイと、複数の回折光学素子が縦横に並設された回折光学素子ユニットと、入力側端部の各々が前記光源の各々に1対1で光学的に接続され出力側端部の各々が前記回折光学素子の各々に1対1で光学的に接続された複数のファイバを前記光源と前記回折光学素子との中間において1つに束ねるファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力側端部の各々を前記光源の各々に1対1で対応するようにランダムに光学的に接続すると共に前記ファイバの出力側端部の各々を前記回折光学素子の各々に1対1で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光が出力される前記回折光学素子の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記回折光学素子ユニットにおける前記回折光学素子の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記回折光学素子ユニットにおいて所望の露光パターンを形成することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, a light source array in which light sources are arranged side by side in a vertical direction, a diffractive optical element unit in which a plurality of diffractive optical elements are arranged side by side in a vertical direction, and an input side end are provided in each of the light sources A plurality of fibers that are optically connected in a one-to-one relationship and whose output side end portions are optically connected to each of the diffractive optical elements in a one-to-one relationship are arranged in the middle of the light source and the diffractive optical element. A fiber bundle that is bundled together, wherein each of the input side ends of the fiber is randomly optically connected to each of the light sources in a one-to-one correspondence, and The diffractive optical element in which each of the output side end portions is optically connected randomly so as to correspond to each of the diffractive optical elements on a one-to-one basis, and light is output when the light sources are sequentially turned on. The position of In the diffractive optical element unit, the correspondence between each of the light sources and the position of each of the diffractive optical elements in the diffractive optical element unit is stored, and lighting control of each of the light sources is performed based on the correspondence. A desired exposure pattern is formed.

請求項1記載の発明によれば、光源を点灯したときに光を出射するファイバの位置を1つずつ検出することにより、その光源に対応するファイバの位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、ファイババンドルの端面において所望の露光パターンを形成するためにどの光源を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源及びファイバはそれぞれ任意の順番で1対1に対応するように光学的に接続すればよく、光源の配列の順番とファイバの配列の順番とが対応づけられた光源アレイ及びファイババンドルを使用する必要はない。したがって、光源アレイの光源の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。   According to the first aspect of the present invention, it is possible to confirm the position of the fiber corresponding to the light source by detecting the position of the fiber that emits light one by one when the light source is turned on. Then, by storing the correspondence, it is possible to determine which light source should be controlled to be lit in order to form a desired exposure pattern on the end face of the fiber bundle. Accordingly, the light source and the fiber may be optically connected so as to correspond one-to-one in an arbitrary order, and the light source array and the fiber bundle in which the arrangement order of the light sources and the arrangement order of the fibers are associated with each other. There is no need to use. Therefore, even when the number of light sources in the light source array is large, it is possible to simplify the manufacturing process of the parts to reduce the manufacturing cost and to increase the versatility of the parts.

請求項2記載の発明によれば、光源を点灯したときに光が出射される回折光学素子の位置を1つずつ検出することにより、その光源に対応する回折光学素子の位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、回折光学素子ユニットにおいて所望の露光パターンを形成するためにどの光源を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源及び回折光学素子はそれぞれ任意の順番で1対1に対応するように光学的に接続すればよく、光源の配列の順番と回折光学素子の配列の順番とが対応づけられた光源アレイ及び回折光学素子ユニットを使用する必要はない。したがって、光源アレイの光源の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。   According to the second aspect of the present invention, the position of the diffractive optical element corresponding to the light source can be confirmed by detecting the position of the diffractive optical element from which light is emitted when the light source is turned on one by one. It becomes possible. By storing the correspondence, it is possible to determine which light source should be controlled to light in order to form a desired exposure pattern in the diffractive optical element unit. Accordingly, the light source and the diffractive optical element may be optically connected so as to correspond one-to-one in an arbitrary order, and the light source array order and the diffractive optical element array order are associated with each other. There is no need to use arrays and diffractive optical element units. Therefore, even when the number of light sources in the light source array is large, it is possible to simplify the manufacturing process of the parts to reduce the manufacturing cost and to increase the versatility of the parts.

(第1の実施形態)
まず、本発明の第1の実施形態について図1〜図3を参照して説明する。
(First embodiment)
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1に示すように、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置1は、所望の露光パターンをステージ2に支持された基板3に投影露光するための露光光学系として、露光パターンを形成する光源アレイ4、回折光学素子ユニット5、ファイババンドル6及び投影レンズ7を備えている。   As shown in FIG. 1, an exposure apparatus 1 used in an exposure pattern forming method according to the present embodiment uses an exposure pattern as an exposure optical system for projecting and exposing a desired exposure pattern onto a substrate 3 supported by a stage 2. A light source array 4, a diffractive optical element unit 5, a fiber bundle 6, and a projection lens 7.

図2に示すように、光源アレイ4には複数の光源8が縦横に並設されている。また、各光源8には、半導体レーザ(LD)の電極から電流を注入してレーザ光を発生させるためのスイッチング回路22(図3参照)が接続されており、各光源8の発光をそれぞれ独立して制御することが可能となっている。なお、光源アレイ4の光源8は千鳥状に並設にすることなども可能である。また、光源8としては発光ダイオード(LED)を使用してもよい。   As shown in FIG. 2, a plurality of light sources 8 are arranged in the light source array 4 vertically and horizontally. Each light source 8 is connected to a switching circuit 22 (see FIG. 3) for injecting current from an electrode of a semiconductor laser (LD) to generate laser light, and each light source 8 emits light independently. And can be controlled. Note that the light sources 8 of the light source array 4 may be arranged in a staggered manner. Further, as the light source 8, a light emitting diode (LED) may be used.

また、それぞれの光源8には、半導体レーザ(LD)が発光したレーザ光を外部に出射するためのガラス製の窓9が設けられている。   Each light source 8 is provided with a glass window 9 for emitting laser light emitted from a semiconductor laser (LD) to the outside.

また、光源アレイ4に近接する位置には、複数の回折光学素子(Diffractive Optical Element)10が縦横に並設されることにより構成された回折光学素子ユニット5が設けられている。複数の回折光学素子10はそれぞれの光源8に対応するように設けられており、1つの光源8の窓9から出射したレーザ光は、それぞれ1つの回折光学素子10に入射するようになっている。   In addition, a diffractive optical element unit 5 configured by a plurality of diffractive optical elements (Diffractive Optical Elements) 10 arranged side by side in the vertical and horizontal directions is provided at a position close to the light source array 4. The plurality of diffractive optical elements 10 are provided so as to correspond to the respective light sources 8, and laser light emitted from the window 9 of one light source 8 is incident on one diffractive optical element 10. .

ここで、回折光学素子ユニット5が備える回折光学素子10は、楕円形に発光したレーザ光をほぼ方形又は矩形に整形し、また、それぞれの光源8が出射したレーザ光を隙間なく結像させるようにレーザ光の方向を制御するように構成されている。更に、回折光学素子10はレーザ光のパワー分布をトップハット型に変換する構成とされており、これによりレーザ光の強度を均一として短時間で均一な露光を行うようになっている。また、それぞれの回折光学素子10は、入射したレーザ光を各ファイバ11の入力端からそれぞれ入射させるようになっている。なお、本実施形態では1つの回折光学素子10が複数の機能を果たすが、1つの光源8に対して複数の回折光学素子10を設けて、それぞれの回折光学素子10に1つずつ機能を持たせることなども可能である。   Here, the diffractive optical element 10 included in the diffractive optical element unit 5 shapes the laser light emitted in an elliptical shape into a substantially square or rectangular shape, and forms the laser light emitted from each light source 8 without gaps. The direction of the laser beam is controlled. Further, the diffractive optical element 10 is configured to convert the power distribution of the laser light into a top hat type, thereby making the intensity of the laser light uniform and performing uniform exposure in a short time. In addition, each diffractive optical element 10 is configured to allow incident laser light to enter from the input end of each fiber 11. In this embodiment, one diffractive optical element 10 performs a plurality of functions. However, a plurality of diffractive optical elements 10 are provided for one light source 8, and each diffractive optical element 10 has a function. It is also possible to make it.

また、複数のファイバ11の入力側端部の各々は、図1に示すように、各回折光学素子10の各々に近接するように配置されることにより、光源アレイ4が備える各光源8の各々と1対1で対応するようにランダムな順番で光学的に接続されるようになっている。   Further, as shown in FIG. 1, each of the input side end portions of the plurality of fibers 11 is disposed so as to be close to each of the diffractive optical elements 10, whereby each of the light sources 8 included in the light source array 4 is provided. And are optically connected in a random order so as to correspond one-to-one.

また、複数のファイバ11の出力側端部は、ファイバ11の出力端がファイババンドル6の端面に並設されるように、ファイババンドル6によって1つに束ねられている。   Further, the output side end portions of the plurality of fibers 11 are bundled together by the fiber bundle 6 so that the output ends of the fibers 11 are juxtaposed with the end face of the fiber bundle 6.

このように本実施形態では、複数のファイバ11と各光源8の各々とをランダムな順番で接続することが可能であり、光源アレイ4における各光源8の配列の順番とファイババンドル6の端面における複数のファイバ11の出力端の配列の順番とが対応している必要はない。   As described above, in the present embodiment, the plurality of fibers 11 and each of the light sources 8 can be connected in a random order, and the order of arrangement of the light sources 8 in the light source array 4 and the end face of the fiber bundle 6 can be determined. The order of arrangement of the output ends of the plurality of fibers 11 does not need to correspond.

また、ファイババンドル6は、ファイババンドル駆動部20(図3参照)により水平移動又は回転することができる構成となっている。これにより、ファイバ11が断線した場合や、ファイババンドル6の端面におけるファイバ11の本数が光源アレイ4における光源8の個数より多い場合に、ファイババンドル6を水平移動又は回転することにより、レーザ光を出射する光源8にファイバ11を対応させて、露光パターンにおいて常に黒くつぶれた部分ができるのを防止できるようになっている。   The fiber bundle 6 is configured to be horizontally moved or rotated by a fiber bundle driving unit 20 (see FIG. 3). Thereby, when the fiber 11 is disconnected or when the number of the fibers 11 on the end face of the fiber bundle 6 is larger than the number of the light sources 8 in the light source array 4, the fiber bundle 6 is horizontally moved or rotated to The fiber 11 is made to correspond to the light source 8 to be emitted, so that it is possible to prevent a blackened portion from being always formed in the exposure pattern.

なお、本実施形態ではファイババンドル6を水平移動又は回転させる構成となっているが、ファイババンドル6及び光源アレイ4は相対的に水平移動又は回転することができればよく、光源アレイ4を水平移動又は回転させる構成とすることや、光源アレイ4及びファイババンドル6の双方を水平移動又は回転させる構成とすることも可能である。   In the present embodiment, the fiber bundle 6 is configured to horizontally move or rotate. However, the fiber bundle 6 and the light source array 4 may be relatively horizontally moved or rotated. It is also possible to adopt a configuration in which both the light source array 4 and the fiber bundle 6 are horizontally moved or rotated.

また、本実施形態のファイババンドル6は直方体状とされており、ファイババンドル6の断面形状に応じた形状の光を出射させることによって、レーザ光をほぼ方形又は矩形として、隣り合う光源の各々からの出力光を隙間なく結像させることができるようになっている。なお、ファイババンドル6は円柱状などに形成することも可能である。   Further, the fiber bundle 6 of the present embodiment has a rectangular parallelepiped shape. By emitting light having a shape corresponding to the cross-sectional shape of the fiber bundle 6, the laser light is made substantially square or rectangular from each of adjacent light sources. The output light can be imaged without any gap. The fiber bundle 6 can also be formed in a cylindrical shape.

次に、ファイババンドル6から出射されたレーザ光は、投影レンズ7に入射するようになっている。投影レンズ7は、縮小投影レンズによって構成されており、ファイババンドル6から送信されたレーザ光による光像を縮小してステージ2に支持された基板3に結像させるようになっている。   Next, the laser light emitted from the fiber bundle 6 enters the projection lens 7. The projection lens 7 is configured by a reduction projection lens, and reduces the optical image by the laser beam transmitted from the fiber bundle 6 to form an image on the substrate 3 supported by the stage 2.

また、図1に示すように、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置1は、レーザ光を出射するファイバ11の出力端の位置を検出する検出光学系として、ハーフミラー12、集光レンズ13及び光スポット位置検出器14を備えている。   As shown in FIG. 1, the exposure apparatus 1 used for the exposure pattern forming method according to the present embodiment includes a half mirror 12 as a detection optical system that detects the position of the output end of the fiber 11 that emits laser light. A condenser lens 13 and a light spot position detector 14 are provided.

ハーフミラー12は、ファイバ11の出力端からの出射光を集光レンズ13の方向に反射するようになっている。   The half mirror 12 reflects light emitted from the output end of the fiber 11 in the direction of the condenser lens 13.

集光レンズ13は、ハーフミラー12からの投射光を光スポットとして光スポット位置検出器14に集光するようになっている。   The condensing lens 13 condenses the projection light from the half mirror 12 on the light spot position detector 14 as a light spot.

光スポット位置検出器14は、集光レンズ13の焦点面に設けられており、集光レンズ13からの出射光により形成される光スポット位置を検出するようになっている。本実施形態の光スポット位置検出器14は、位置センシティブ・フォトダイオードやCCDアレイなどによって構成されており、図2に示すように、x−y平面上の光スポット位置を検出することにより、ファイババンドル6の端面においてレーザ光を出射するファイバ11の出力端の位置を検出するようになっている。   The light spot position detector 14 is provided on the focal plane of the condenser lens 13 and detects the position of the light spot formed by the light emitted from the condenser lens 13. The light spot position detector 14 of the present embodiment is constituted by a position sensitive photodiode, a CCD array, or the like, and detects the light spot position on the xy plane as shown in FIG. The position of the output end of the fiber 11 that emits laser light is detected on the end face of the bundle 6.

次に、図3に本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置1の機能的構成を示す。   Next, FIG. 3 shows a functional configuration of the exposure apparatus 1 used in the exposure pattern forming method according to the present embodiment.

図3に示すように、本実施形態に係る露光装置1は制御装置15を備えている。制御装置15が備える制御部16は、CPU(Central Processing Unit)、書き換え可能な半導体素子で構成されるRAM(Random Access Memory)及び不揮発性の半導体メモリで構成されるROM(Read Only Memory)から構成されている。   As shown in FIG. 3, the exposure apparatus 1 according to this embodiment includes a control device 15. The control unit 16 included in the control device 15 includes a CPU (Central Processing Unit), a RAM (Random Access Memory) composed of a rewritable semiconductor element, and a ROM (Read Only Memory) composed of a nonvolatile semiconductor memory. Has been.

制御部16には露光装置1の各構成部分が接続されており、制御部16はROMに記録された処理プログラムをRAMに展開して、CPUによってこの処理プログラムを実行することにより、これらの各構成部分を駆動制御するようになっている。   Each component of the exposure apparatus 1 is connected to the control unit 16, and the control unit 16 expands the processing program recorded in the ROM to the RAM and executes the processing program by the CPU, thereby each of these components. The components are driven and controlled.

また、制御装置15が備える入力部17は、キーボード、マウス、タッチパネルなどから構成され、ユーザによって露光パターンに関する指示入力ができるようになっている。また、入力部17は、ディスクなどの記録媒体などを装填できるように構成して、その記録媒体から露光パターンに関する情報を読み出すようにすることも可能である。   The input unit 17 included in the control device 15 includes a keyboard, a mouse, a touch panel, and the like, and an instruction regarding an exposure pattern can be input by a user. Further, the input unit 17 can be configured so that a recording medium such as a disk can be loaded, and information related to the exposure pattern can be read from the recording medium.

また、制御装置15が備える記憶部18は、半導体メモリなどからなる記録用のメモリであり、露光装置1の各構成部分から送信される情報などを記録する記録領域を有している。この記憶部18は、例えばフラッシュメモリなどの内蔵型メモリや、着脱可能なメモリカードやメモリスティックであってもよく、また、ハードディスク又はフロッピー(登録商標)ディスクなどの磁気記録媒体などであってもよい。   The storage unit 18 provided in the control device 15 is a recording memory including a semiconductor memory and has a recording area for recording information transmitted from each component of the exposure apparatus 1. The storage unit 18 may be, for example, a built-in memory such as a flash memory, a removable memory card or a memory stick, or a magnetic recording medium such as a hard disk or a floppy (registered trademark) disk. Good.

また、本実施形態の記憶部18は、光源アレイ4が備える光源8の各々と、ファイババンドル6の端面におけるファイバ11の出力端の各々の位置との対応づけを記憶するようになっている。   Further, the storage unit 18 of the present embodiment stores the correspondence between each of the light sources 8 included in the light source array 4 and each position of the output end of the fiber 11 on the end face of the fiber bundle 6.

図4に示すように、制御部16には、光スポット位置検出器14、露光パターン制御部19、ファイババンドル駆動部20及びステージ駆動部21が電気的に接続されている。   As shown in FIG. 4, the light spot position detector 14, the exposure pattern control unit 19, the fiber bundle driving unit 20, and the stage driving unit 21 are electrically connected to the control unit 16.

光スポット位置検出器14は、レーザ光を出射するファイバ11の出力端の位置を検出するようになっている。例えば、図2に示すように、光源8aを点灯した際に検出された光スポット位置が(X,Y)=(4,3)であれば、その位置を光源8aに対応するファイバ11の出力端の位置として判断する。このように、光源8b、8c…についても1つずつ同様の検出を行い、レーザ光が出力されるファイバ11の出力端の位置を判断して、ファイババンドル6の端面におけるファイバ11の出力端の位置と、そのファイバ11に接続された光源8との対応づけを記憶部18に記憶するようになっている。 The light spot position detector 14 detects the position of the output end of the fiber 11 that emits laser light. For example, as shown in FIG. 2, if the light spot position detected when the light source 8a is turned on is (X, Y) = (4, 3), the position is the output of the fiber 11 corresponding to the light source 8a. Judged as the end position. As described above, the light sources 8b, 8c,... Are similarly detected one by one, the position of the output end of the fiber 11 from which the laser light is output is determined, and the output end of the fiber 11 on the end face of the fiber bundle 6 is determined. The correspondence between the position and the light source 8 connected to the fiber 11 is stored in the storage unit 18.

これにより、光源アレイ4における各光源8の配列の順番とファイババンドル6の端面における複数のファイバ11の出力端の配列の順番とが対応していなくても、ファイババンドル6の端面において所望の露光パターンを形成するために、どの光源8を点灯すればよいか判断することが可能となる。   Thereby, even if the order of arrangement of the light sources 8 in the light source array 4 does not correspond to the order of arrangement of the output ends of the plurality of fibers 11 on the end face of the fiber bundle 6, the desired exposure is performed on the end face of the fiber bundle 6. It is possible to determine which light source 8 should be turned on in order to form a pattern.

露光パターン制御部19は、ファイババンドル6の端面におけるファイバ11の出力端の位置を検出する工程において、図2に示すように、各光源8を光源アレイ4に並設された順番に従って、光源8a、8b、8c…というように1つずつ点灯するようになっている。   In the step of detecting the position of the output end of the fiber 11 on the end face of the fiber bundle 6, the exposure pattern control unit 19, as shown in FIG. 2, according to the order in which the light sources 8 are arranged in parallel in the light source array 4. , 8b, 8c, and so on.

また、露光パターン制御部19は、制御部16の指示信号に基づき、記憶部18から目的に応じた所望の露光パターンを読み出すと共に、ファイババンドル6の端面において所望の露光パターンを形成するファイバ11の出力端の位置を判断するようになっている。そして、記憶部18からファイバ11の出力端の位置と光源8との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源8を点灯すればよいかを判断して、これら所定の光源8が点灯するようにスイッチング回路22を制御するようになっている。   Further, the exposure pattern control unit 19 reads out a desired exposure pattern according to the purpose from the storage unit 18 based on an instruction signal from the control unit 16 and also forms the desired exposure pattern on the end face of the fiber bundle 6. The position of the output end is determined. Then, by reading out and referring to the correspondence between the position of the output end of the fiber 11 and the light source 8 from the storage unit 18, it is determined which light source 8 should be turned on to form an exposure pattern. The switching circuit 22 is controlled so that the predetermined light source 8 is turned on.

ファイババンドル駆動部20は、制御部16の指示信号に基づき、ファイババンドル6を水平移動又は回転させるようになっている。   The fiber bundle drive unit 20 is configured to horizontally move or rotate the fiber bundle 6 based on an instruction signal from the control unit 16.

ステージ駆動部21は、基板3を支持するステージ2の上下移動や傾斜を制御することにより、投影レンズ7から基板3の表面に入射するレーザ光の位置を調整するようになっている。   The stage drive unit 21 adjusts the position of the laser light incident on the surface of the substrate 3 from the projection lens 7 by controlling the vertical movement and inclination of the stage 2 that supports the substrate 3.

次に、上記の露光装置1を使用した本発明の露光パターン形成方法について説明する。   Next, an exposure pattern forming method of the present invention using the above exposure apparatus 1 will be described.

まず、複数のファイバ11の入力側端部の各々を各回折光学素子10の各々に近接するように配置することにより、光源アレイ4が備える各光源8の各々と1対1で対応するようにランダムな順番で光学的に接続する。   First, each of the input side end portions of the plurality of fibers 11 is disposed so as to be close to each of the diffractive optical elements 10 so as to correspond to each of the light sources 8 included in the light source array 4 on a one-to-one basis. Connect optically in random order.

次に、露光パターン制御部19はスイッチング回路22の制御により、図2に示すように、各光源8を光源アレイ4に並設された順番に従って光源8a、8b、8c…というように1つずつ点灯していく。   Next, under the control of the switching circuit 22, the exposure pattern controller 19 controls the light sources 8 one by one in accordance with the order in which the light sources 8 are arranged in the light source array 4 as shown in FIG. It will light up.

こうして1つの光源8を点灯すると、光源8から出射したレーザ光は、回折光学素子ユニット5のうち1つの回折光学素子10に入射する。そして、1つの回折光学素子10に入射したレーザ光は、1つのファイバ11に入射する。これにより、1つの光源8が点灯されると、その光源8に接続された1つのファイバ11の出力端がファイババンドル6の端面における所定の位置からレーザ光を出射する。   When one light source 8 is turned on in this way, the laser light emitted from the light source 8 enters one diffractive optical element 10 in the diffractive optical element unit 5. The laser light incident on one diffractive optical element 10 enters one fiber 11. Thereby, when one light source 8 is turned on, the output end of one fiber 11 connected to the light source 8 emits laser light from a predetermined position on the end face of the fiber bundle 6.

次に、ファイバ11の出力端の各々がファイババンドル6の端面における所定の位置からレーザ光を出射すると、ハーフミラー12はファイバ11の出力端の各々からの出射光を集光レンズ13の方向に反射し、集光レンズ13はハーフミラー12からの投射光を光スポットとして光スポット位置検出器14に集光する。   Next, when each of the output ends of the fiber 11 emits laser light from a predetermined position on the end face of the fiber bundle 6, the half mirror 12 emits the emitted light from each of the output ends of the fiber 11 in the direction of the condenser lens 13. The light is reflected, and the condensing lens 13 condenses the projection light from the half mirror 12 on the light spot position detector 14 as a light spot.

続いて、光スポット位置検出器14は、レーザ光を出射するファイバ11の出力端の位置を検出する。例えば、図2に示すように、光源8aを点灯した際に検出された光スポット位置が(X,Y)=(4,3)であれば、その位置を光源8aに対応するファイバ11の出力端の位置として判断する。このように、光源8b、8c…についても1つずつ同様の検出を行い、ファイバ11の出力端の位置を判断していく。そして、ファイババンドル6の端面におけるファイバ11の出力端の位置と、そのファイバ11に接続された光源8との対応づけを記憶部18に記憶する。   Subsequently, the light spot position detector 14 detects the position of the output end of the fiber 11 that emits the laser light. For example, as shown in FIG. 2, if the light spot position detected when the light source 8a is turned on is (X, Y) = (4, 3), the position is the output of the fiber 11 corresponding to the light source 8a. Judged as the end position. In this manner, the same detection is performed for each of the light sources 8b, 8c... And the position of the output end of the fiber 11 is determined. Then, the correspondence between the position of the output end of the fiber 11 on the end face of the fiber bundle 6 and the light source 8 connected to the fiber 11 is stored in the storage unit 18.

次に、露光パターン制御部19は、制御部16の指示信号に基づき、記憶部18から目的に応じた所望の露光パターンを読み出す。続いて、露光パターン制御部19は、ファイババンドル6の端面において所望の露光パターンを形成するファイバ11の出力端の位置を判断する。そして、記憶部18からファイバ11の出力端の位置と光源8との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源8を点灯すればよいかを判断する。そして、これら所定の光源8が点灯するようにスイッチング回路22を制御する。   Next, the exposure pattern control unit 19 reads out a desired exposure pattern according to the purpose from the storage unit 18 based on an instruction signal from the control unit 16. Subsequently, the exposure pattern control unit 19 determines the position of the output end of the fiber 11 that forms a desired exposure pattern on the end face of the fiber bundle 6. Then, the correspondence between the position of the output end of the fiber 11 and the light source 8 is read from the storage unit 18 and referenced to determine which light source 8 should be turned on to form the exposure pattern. Then, the switching circuit 22 is controlled so that these predetermined light sources 8 are turned on.

続いて、光源アレイ4における所定の光源8が点灯すると、それぞれの光源8から出射したレーザ光は、それぞれ回折光学素子ユニット5のうち1つの回折光学素子10に入射する。そして、回折光学素子10は楕円形に発光したレーザ光をほぼ方形又は矩形に整形し、それぞれの光源8からのレーザ光を隙間なく結像させるようにレーザ光の方向を制御すると同時に、レーザ光のパワー分布をトップハット型に変換する。また、それぞれの回折光学素子10は、入射したレーザ光を、露光パターンを形成するファイバ11にそれぞれ入射させる。   Subsequently, when a predetermined light source 8 in the light source array 4 is turned on, the laser light emitted from each light source 8 enters one diffractive optical element 10 in the diffractive optical element unit 5. The diffractive optical element 10 shapes the laser light emitted in an elliptical shape into a substantially square or rectangular shape, controls the direction of the laser light so that the laser light from each light source 8 forms an image without any gap, and at the same time, the laser light. The power distribution of is converted into a top hat type. Each diffractive optical element 10 causes the incident laser beam to enter the fiber 11 forming the exposure pattern.

こうして、ファイバ11にレーザ光が入射すると、ファイババンドル6は端面からレーザ光を所望の露光パターンとして出射する。   Thus, when the laser light is incident on the fiber 11, the fiber bundle 6 emits the laser light from the end face as a desired exposure pattern.

この際、ファイババンドル駆動部20は、ファイババンドル6を水平移動又は回転させることによって、ファイバ11が断線した場合や、ファイババンドル6の端面におけるファイバ11の本数が光源アレイ4における光源8の個数より多い場合に、レーザ光を出射する光源8にファイバ11を対応させて、露光パターンにおいて常に黒くつぶれた部分ができるのを防止する。   At this time, the fiber bundle driving unit 20 horizontally moves or rotates the fiber bundle 6 to disconnect the fiber 11, or the number of the fibers 11 on the end face of the fiber bundle 6 depends on the number of the light sources 8 in the light source array 4. In many cases, the fiber 11 is made to correspond to the light source 8 that emits laser light to prevent the exposure pattern from always being blackish.

続いて、ファイババンドル6が出射したレーザ光が投影レンズ7を透過すると、ステージ2に支持された基板3に縮小して結像される。こうして、基板3は、縮小された所望の露光パターンに従って露光される。   Subsequently, when the laser beam emitted from the fiber bundle 6 passes through the projection lens 7, the image is reduced and formed on the substrate 3 supported by the stage 2. Thus, the substrate 3 is exposed according to the reduced desired exposure pattern.

この際、ステージ駆動部21は、基板3を支持するステージ2の上下移動や傾斜を制御することにより、投影レンズ7から基板3の表面に入射するレーザ光の位置を調整する。   At this time, the stage drive unit 21 adjusts the position of the laser light incident on the surface of the substrate 3 from the projection lens 7 by controlling the vertical movement and inclination of the stage 2 that supports the substrate 3.

以上のように本実施形態に係る露光パターン形成方法によれば、光源8を点灯したときに光を出射するファイバ11の位置を1つずつ検出することにより、その光源8に対応するファイバ11の位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、ファイババンドル6の端面において所望の露光パターンを形成するためにどの光源8を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源8及びファイバ11はそれぞれ任意の順番で1対1に対応するように光学的に接続すればよく、光源8の配列の順番とファイバ11の配列の順番とが対応づけられた光源アレイ4及びファイババンドル6を使用する必要はない。したがって、光源アレイ4の光源8の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。   As described above, according to the exposure pattern forming method according to the present embodiment, by detecting the position of the fiber 11 that emits light when the light source 8 is turned on one by one, the fiber 11 corresponding to the light source 8 is detected. The position can be confirmed. Then, by storing the correspondence, it is possible to determine which light source 8 should be controlled to light up in order to form a desired exposure pattern on the end face of the fiber bundle 6. As a result, the light source 8 and the fiber 11 may be optically connected so as to correspond one-to-one in any order, and the light source 8 and the order of the fibers 11 are associated with each other. There is no need to use the array 4 and the fiber bundle 6. Therefore, even when the number of the light sources 8 in the light source array 4 is large, it is possible to simplify the manufacturing process of the parts to reduce the manufacturing cost and increase the versatility of the parts.

なお、本実施形態では露光パターン形成方法を露光装置1に適用する場合について説明したが、本発明の露光パターン形成方法はマスク製造装置などの光学装置に適用することも可能である。   In this embodiment, the exposure pattern forming method is applied to the exposure apparatus 1. However, the exposure pattern forming method of the present invention can also be applied to an optical apparatus such as a mask manufacturing apparatus.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について図4を参照して説明する。なお、第1の実施形態と同一部分には同一符号を付してその説明を省略し、第1の実施形態と異なる部分について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same part as 1st Embodiment, the description is abbreviate | omitted, and a different part from 1st Embodiment is demonstrated.

図4に示すように、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置1は、露光光学系として、光源アレイ4と、複数の回折光学素子23が縦横に並設された回折光学素子ユニット24と、複数のファイバ25を1つに束ねるファイババンドル26と、投影レンズ7とを備えている。なお、光源アレイ4及び投影レンズ7の構成は第1の実施形態と同様である。   As shown in FIG. 4, the exposure apparatus 1 used for the exposure pattern forming method according to the present embodiment has a light source array 4 and a diffractive optical element in which a plurality of diffractive optical elements 23 are arranged side by side as an exposure optical system. A unit 24, a fiber bundle 26 that bundles a plurality of fibers 25 into one, and a projection lens 7 are provided. The configurations of the light source array 4 and the projection lens 7 are the same as those in the first embodiment.

本実施形態において、複数のファイバ25の入力側端部の各々は光源8の各々に1対1で対応するようにランダムな順番で光学的に接続されている。また、複数のファイバ25の出力側端部の各々は、図4に示すように、回折光学素子23の各々に1対1で対応するようにランダムな順番で光学的に接続されている。   In the present embodiment, each of the input side end portions of the plurality of fibers 25 is optically connected in a random order so as to correspond to each of the light sources 8 on a one-to-one basis. Further, as shown in FIG. 4, each of the output side end portions of the plurality of fibers 25 is optically connected in a random order so as to correspond to each of the diffractive optical elements 23 on a one-to-one basis.

このように本実施形態では、光源8の各々と回折光学素子23の各々とを複数のファイバ25によってランダムな順番で接続することが可能であり、光源アレイ4における各光源8の配列の順番と回折光学素子ユニット24における回折光学素子23の配列の順番とが対応している必要はない。なお、回折光学素子23の各々に光学的に接続させた複数のファイバ25をランダムな順番で各光源8に接続することも可能である。   Thus, in the present embodiment, each of the light sources 8 and each of the diffractive optical elements 23 can be connected in a random order by the plurality of fibers 25, and the order of arrangement of the light sources 8 in the light source array 4 The order of arrangement of the diffractive optical elements 23 in the diffractive optical element unit 24 need not correspond. A plurality of fibers 25 optically connected to each of the diffractive optical elements 23 can be connected to each light source 8 in a random order.

また、複数のファイバ25は、光源8と回折光学素子23との中間においてファイババンドル26により一つに束ねられている。   The plurality of fibers 25 are bundled together by a fiber bundle 26 between the light source 8 and the diffractive optical element 23.

また、検出光学系の構成は第1の実施形態と同様である。   The configuration of the detection optical system is the same as that of the first embodiment.

次に、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置1の機能的構成のうち、第1の実施形態と相違する点について説明する。   Next, differences from the first embodiment in the functional configuration of the exposure apparatus 1 used in the exposure pattern forming method according to the present embodiment will be described.

本実施形態の記憶部18は、光源アレイ4が備える光源8の各々と、回折光学素子ユニット24における回折光学素子23の各々の位置との対応づけを記憶するようになっている。   The storage unit 18 of the present embodiment stores correspondence between each light source 8 included in the light source array 4 and each position of the diffractive optical element 23 in the diffractive optical element unit 24.

光スポット位置検出器14は、ファイバ25の出力端からレーザ光を出射された回折光学素子23の位置を検出するようになっている。そして、光源8a、8b、8c…について1つずつ同様の検出を行うことにより、回折光学素子ユニット24における回折光学素子23の位置と、その回折光学素子23に対応する光源8との対応づけを判断し、その対応づけを記憶部18に記憶するようになっている。   The light spot position detector 14 detects the position of the diffractive optical element 23 from which the laser light is emitted from the output end of the fiber 25. Then, the same detection is performed for each of the light sources 8a, 8b, 8c... To associate the position of the diffractive optical element 23 in the diffractive optical element unit 24 with the light source 8 corresponding to the diffractive optical element 23. Judgment is made, and the correspondence is stored in the storage unit 18.

露光パターン制御部19は、回折光学素子ユニット24における回折光学素子23の位置を検出する工程において、各光源8を光源アレイ4に並設された順番に従って光源8a、8b、8c…というように1つずつ点灯するようになっている。   In the step of detecting the position of the diffractive optical element 23 in the diffractive optical element unit 24, the exposure pattern control unit 19 sets the light sources 8a, 8b, 8c,... 1 according to the order in which the light sources 8 are arranged in the light source array 4. It lights up one by one.

また、露光パターン制御部19は、制御部16の指示信号に基づき、記憶部18から目的に応じた所望の露光パターンを読み出すと共に、回折光学素子ユニット24において所望の露光パターンを形成する回折光学素子23の位置を判断するようになっている。そして、記憶部18から回折光学素子23の位置と光源8との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源8を点灯すればよいかを判断して、これらの所定の光源8が点灯するようにスイッチング回路22を制御するようになっている。   The exposure pattern control unit 19 reads out a desired exposure pattern according to the purpose from the storage unit 18 based on an instruction signal from the control unit 16 and forms a desired exposure pattern in the diffractive optical element unit 24. The position of 23 is judged. Then, by reading out and referring to the correspondence between the position of the diffractive optical element 23 and the light source 8 from the storage unit 18, it is determined which light source 8 should be turned on to form an exposure pattern. The switching circuit 22 is controlled so that the predetermined light source 8 is turned on.

なお、制御部16、入力部17、ファイババンドル駆動部20及びステージ駆動部21の構成は第1の実施形態と同様である。   The configurations of the control unit 16, the input unit 17, the fiber bundle driving unit 20, and the stage driving unit 21 are the same as those in the first embodiment.

次に、上記の露光装置1を使用した本発明の露光パターン形成方法について説明する。   Next, an exposure pattern forming method of the present invention using the above exposure apparatus 1 will be described.

まず、複数のファイバ25の入力側端部の各々を光源8の各々に1対1で対応するようにランダムな順番で光学的に接続する。そして、図4に示すように、複数のファイバ25の出力側端部の各々を、回折光学素子23の各々に1対1で対応するようにランダムな順番で光学的に接続する。なお、回折光学素子23の各々に光学的に接続させた複数のファイバ25をランダムな順番で各光源8に接続してもよい。また、複数のファイバ25は光源8と回折光学素子23との中間においてファイババンドル26により一つに束ねる。   First, each of the input side end portions of the plurality of fibers 25 is optically connected in a random order so as to correspond to each of the light sources 8 on a one-to-one basis. As shown in FIG. 4, the output side end portions of the plurality of fibers 25 are optically connected in a random order so as to correspond to the diffractive optical elements 23 on a one-to-one basis. A plurality of fibers 25 optically connected to each of the diffractive optical elements 23 may be connected to each light source 8 in a random order. The plurality of fibers 25 are bundled together by a fiber bundle 26 between the light source 8 and the diffractive optical element 23.

次に、露光パターン制御部19はスイッチング回路22の制御により、各光源8を光源アレイ4に並設された順番に従って光源8a、8b、8c…というように1つずつ点灯していく。   Next, under the control of the switching circuit 22, the exposure pattern control unit 19 turns on the light sources 8 one by one in the order of the light sources 8a, 8b, 8c,.

こうして1つの光源8を点灯すると、光源8から出射したレーザ光はそれぞれの窓9に接続された1つのファイバ25に入射し、そのファイバ25の出力端は1つの回折光学素子23にレーザ光を出射する。   When one light source 8 is turned on in this way, the laser light emitted from the light source 8 enters one fiber 25 connected to each window 9, and the output end of the fiber 25 transmits the laser light to one diffractive optical element 23. Exit.

次に、ファイバ25の出力端が1つの回折光学素子23にレーザ光を出射すると、ハーフミラー12は回折光学素子23から出射されたレーザ光を集光レンズ13の方向に反射し、集光レンズ13はハーフミラー12からの投射光を光スポットとして光スポット位置検出器14に集光する。   Next, when the output end of the fiber 25 emits laser light to one diffractive optical element 23, the half mirror 12 reflects the laser light emitted from the diffractive optical element 23 in the direction of the condenser lens 13, and the condenser lens. 13 condenses the light projected from the half mirror 12 on the light spot position detector 14 as a light spot.

続いて、光スポット位置検出器14は、ファイバ25の出力端からレーザ光を出射された回折光学素子23の回折光学素子ユニット24における位置を検出する。そして、光源8a、8b、8c…についても1つずつ同様の検出を行い、回折光学素子ユニット24における回折光学素子23の位置と、その回折光学素子23に対応する光源8との対応づけを記憶部18に記憶する。   Subsequently, the light spot position detector 14 detects the position in the diffractive optical element unit 24 of the diffractive optical element 23 from which the laser light is emitted from the output end of the fiber 25. The light sources 8a, 8b, 8c, ... are similarly detected one by one, and the correspondence between the position of the diffractive optical element 23 in the diffractive optical element unit 24 and the light source 8 corresponding to the diffractive optical element 23 is stored. Store in unit 18.

次に、露光パターン制御部19は、制御部16の指示信号に基づき、記憶部18から目的に応じた所望の露光パターンを読み出す。続いて、露光パターン制御部19は、回折光学素子ユニット24において所望の露光パターンを形成する回折光学素子23の位置を判断する。そして、記憶部18から回折光学素子23の位置と光源8との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源8を点灯すればよいかを判断する。そして、これらの所定の光源8が点灯するようにスイッチング回路22を制御する。   Next, the exposure pattern control unit 19 reads out a desired exposure pattern according to the purpose from the storage unit 18 based on an instruction signal from the control unit 16. Subsequently, the exposure pattern control unit 19 determines the position of the diffractive optical element 23 that forms a desired exposure pattern in the diffractive optical element unit 24. Then, the correspondence between the position of the diffractive optical element 23 and the light source 8 is read from the storage unit 18 and referenced to determine which light source 8 should be turned on to form the exposure pattern. Then, the switching circuit 22 is controlled so that these predetermined light sources 8 are turned on.

以上のように本実施形態に係る露光パターン形成方法によれば、光源8を点灯したときに光が出射される回折光学素子10の位置を1つずつ検出することにより、その光源8に対応する回折光学素子10の位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、回折光学素子ユニット5において所望の露光パターンを形成するためにどの光源8を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源8及び回折光学素子10はそれぞれ任意の順番で1対1に対応するように光学的に接続すればよく、光源8の配列の順番と回折光学素子10の配列の順番とが対応づけられた光源アレイ4及び回折光学素子ユニット5を使用する必要はない。したがって、光源アレイ4の光源8の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。   As described above, according to the exposure pattern forming method according to the present embodiment, the position of the diffractive optical element 10 from which light is emitted when the light source 8 is turned on is detected one by one, thereby corresponding to the light source 8. The position of the diffractive optical element 10 can be confirmed. By storing the correspondence, it is possible to determine which light source 8 should be controlled to be lit in order to form a desired exposure pattern in the diffractive optical element unit 5. Accordingly, the light source 8 and the diffractive optical element 10 may be optically connected so as to correspond one-to-one in an arbitrary order, and the order of arrangement of the light sources 8 corresponds to the order of arrangement of the diffractive optical elements 10. There is no need to use the attached light source array 4 and diffractive optical element unit 5. Therefore, even when the number of the light sources 8 in the light source array 4 is large, it is possible to simplify the manufacturing process of the parts to reduce the manufacturing cost and increase the versatility of the parts.

以上詳細に説明したように、本発明の露光パターン形成方法によれば、光源アレイ及びファイババンドルを使用する露光パターン形成方法において、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。 As described above in detail, according to the exposure pattern forming method of the present invention, in the exposure pattern forming method using the light source array and the fiber bundle, the manufacturing process of the component is simplified to reduce the manufacturing cost, and It becomes possible to improve versatility.

本発明の第1の実施形態に係る露光装置の概略構成図である。1 is a schematic block diagram of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る光源アレイ及びファイババンドルの構成を示す正面図である。It is a front view which shows the structure of the light source array and fiber bundle which concern on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る露光装置の機能的構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a functional configuration of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係る露光装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the exposure apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 露光装置
2 ステージ
3 基板
4 光源アレイ
5 回折光学素子ユニット
6 ファイババンドル
8 光源
10 回折光学素子
11 ファイバ
12 ハーフミラー
13 集光レンズ
14 光スポット位置検出器
16 制御部
17 入力部
18 記憶部
19 露光パターン制御部
20 ファイババンドル駆動部
21 ステージ駆動部
22 スイッチング回路
23 回折光学素子
24 回折光学素子ユニット
25 ファイバ
26 ファイババンドル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Exposure apparatus 2 Stage 3 Substrate 4 Light source array 5 Diffractive optical element unit 6 Fiber bundle 8 Light source 10 Diffractive optical element 11 Fiber 12 Half mirror 13 Condensing lens 14 Light spot position detector 16 Control part 17 Input part 18 Storage part 19 Exposure Pattern control unit 20 Fiber bundle drive unit 21 Stage drive unit 22 Switching circuit 23 Diffractive optical element 24 Diffractive optical element unit 25 Fiber 26 Fiber bundle

Claims (2)

光源が縦横に並設された光源アレイと、入力側端部の各々が前記光源の各々に1対1で光学的に接続された複数のファイバの出力側端部が1つに束ねられ出力端が端面に並設されたファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力端の各々を前記光源の各々に1対1で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光を出力する前記ファイバの出力端の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記ファイババンドルの端面における前記ファイバの出力端の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記ファイババンドルの端面において所望の露光パターンを形成することを特徴とする露光パターン形成方法。   A light source array in which light sources are arranged vertically and horizontally, and output side ends of a plurality of fibers each having an input side end optically connected to each of the light sources in a one-to-one manner are bundled into one output end. Is an exposure pattern forming method using a fiber bundle arranged side by side on an end face, wherein each of the input ends of the fiber is randomly optically connected to each of the light sources in a one-to-one correspondence, The positions of the output ends of the fibers that output light when each of the light sources is sequentially turned on are sequentially detected, and the positions of the light sources and the output ends of the fibers on the end face of the fiber bundle, And forming a desired exposure pattern on the end face of the fiber bundle by controlling lighting of each of the light sources based on the correspondence. . 光源が縦横に並設された光源アレイと、複数の回折光学素子が縦横に並設された回折光学素子ユニットと、入力側端部の各々が前記光源の各々に1対1で光学的に接続され出力側端部の各々が前記回折光学素子の各々に1対1で光学的に接続された複数のファイバを前記光源と前記回折光学素子との中間において1つに束ねるファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力側端部の各々を前記光源の各々に1対1で対応するようにランダムに光学的に接続すると共に前記ファイバの出力側端部の各々を前記回折光学素子の各々に1対1で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光が出力される前記回折光学素子の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記回折光学素子ユニットにおける前記回折光学素子の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記回折光学素子ユニットにおいて所望の露光パターンを形成することを特徴とする露光パターン形成方法。   A light source array in which light sources are arranged side by side in length, a diffractive optical element unit in which a plurality of diffractive optical elements are arranged in length and width, and an input side end are optically connected to each of the light sources in a one-to-one relationship. And a fiber bundle that bundles a plurality of fibers, each of which is optically connected to each of the diffractive optical elements on a one-to-one basis, between the light source and the diffractive optical element. In the exposure pattern forming method, each of the input side ends of the fiber is randomly optically connected to each of the light sources in a one-to-one correspondence, and each of the output side ends of the fiber is connected to the light source. Randomly optically connect to each diffractive optical element in a one-to-one correspondence, and sequentially detect the position of the diffractive optical element from which light is output when each of the light sources is turned on sequentially. Each of the light sources and the A correspondence with each position of the diffractive optical element in the folding optical element unit is stored, and lighting control of each of the light sources based on this correspondence forms a desired exposure pattern in the diffractive optical element unit. An exposure pattern forming method characterized by:
JP2005219278A 2005-07-28 2005-07-28 Exposure pattern forming method Active JP4625734B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005219278A JP4625734B2 (en) 2005-07-28 2005-07-28 Exposure pattern forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005219278A JP4625734B2 (en) 2005-07-28 2005-07-28 Exposure pattern forming method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007036039A true JP2007036039A (en) 2007-02-08
JP4625734B2 JP4625734B2 (en) 2011-02-02

Family

ID=37794905

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005219278A Active JP4625734B2 (en) 2005-07-28 2005-07-28 Exposure pattern forming method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4625734B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013501348A (en) * 2009-07-31 2013-01-10 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Optical beam deflection element and adjustment method
US20130065185A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 Donis G. Flagello Scanning Lithography using point source imaging arrays
JP2019518233A (en) * 2016-04-26 2019-06-27 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. Measurement system, calibration method, lithographic apparatus and positioner

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000002515A (en) * 1998-06-18 2000-01-07 Canon Inc Length measurement device and light exposing device provided with the length measurement device
JP2000150374A (en) * 1991-12-27 2000-05-30 Nikon Corp Projective aligner and method, and manufacture of element
JP2001313251A (en) * 2000-02-21 2001-11-09 Tokyo Denki Univ Optical fiber matrix projection aligner
JP2004228548A (en) * 2002-11-29 2004-08-12 Nikon Corp Lighting device, exposure device, and exposure method
JP2004228343A (en) * 2003-01-23 2004-08-12 Fuji Photo Film Co Ltd Aligner
JP2005181796A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Fuji Photo Film Co Ltd Image recording apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000150374A (en) * 1991-12-27 2000-05-30 Nikon Corp Projective aligner and method, and manufacture of element
JP2000002515A (en) * 1998-06-18 2000-01-07 Canon Inc Length measurement device and light exposing device provided with the length measurement device
JP2001313251A (en) * 2000-02-21 2001-11-09 Tokyo Denki Univ Optical fiber matrix projection aligner
JP2004228548A (en) * 2002-11-29 2004-08-12 Nikon Corp Lighting device, exposure device, and exposure method
JP2004228343A (en) * 2003-01-23 2004-08-12 Fuji Photo Film Co Ltd Aligner
JP2005181796A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Fuji Photo Film Co Ltd Image recording apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013501348A (en) * 2009-07-31 2013-01-10 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Optical beam deflection element and adjustment method
US20130065185A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-14 Donis G. Flagello Scanning Lithography using point source imaging arrays
JP2019518233A (en) * 2016-04-26 2019-06-27 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. Measurement system, calibration method, lithographic apparatus and positioner

Also Published As

Publication number Publication date
JP4625734B2 (en) 2011-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5783406B2 (en) Light source device and projector
JP2007027122A (en) Device for unifying light from plurality of light sources
JP2011530722A (en) Liquid lens with temperature compensated focusing time
TWI448026B (en) Method and apparatus for driving semiconductor lasers, and method and apparatus for deriving drive current patterns for semiconductor lasers
TWI650613B (en) Light source device and exposure device
JP2011530722A5 (en)
JP5333472B2 (en) Light source unit, light source device and projector
JP2008541144A (en) Apparatus and method for adjusting pinhole opening and pinhole position of laser scanning microscope with high reproduction accuracy
JP2017134918A (en) Vehicular headlight device
JP2005202930A (en) Optical information reading device
KR101112009B1 (en) Exposure method and exposure device
JP4625734B2 (en) Exposure pattern forming method
WO2006137486A1 (en) Image exposure device
JP2006337834A (en) Exposing device and exposing method
JP2007253167A (en) Laser beam machining apparatus
JP2003337425A (en) Exposure device
JP2007019073A (en) Exposure pattern forming apparatus and exposure apparatus
JP2019120642A (en) Image inspection device and lighting unit
JP2008085038A (en) Light-emitting element driving method and apparatus
JP4570151B2 (en) Mask manufacturing method
JP2004198864A (en) Illuminator and camera
US20220109821A1 (en) Multi-image projector and electronic device having multi-image projector
JP2009095876A (en) Laser machining apparatus, laser machining method, and laser machining program
ATE375254T1 (en) IMAGING DEVICE
JP6746934B2 (en) Light source

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080612

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101008

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101019

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101108

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4625734

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250