JP2007033321A - Method for measuring distance between probe of scanning probe microscope and sample surface, and scanning probe microscope - Google Patents

Method for measuring distance between probe of scanning probe microscope and sample surface, and scanning probe microscope Download PDF

Info

Publication number
JP2007033321A
JP2007033321A JP2005219116A JP2005219116A JP2007033321A JP 2007033321 A JP2007033321 A JP 2007033321A JP 2005219116 A JP2005219116 A JP 2005219116A JP 2005219116 A JP2005219116 A JP 2005219116A JP 2007033321 A JP2007033321 A JP 2007033321A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
approach
sample surface
signal
phase difference
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005219116A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4571554B2 (en
Inventor
Hideo Kojima
秀夫 小嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP2005219116A priority Critical patent/JP4571554B2/en
Publication of JP2007033321A publication Critical patent/JP2007033321A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4571554B2 publication Critical patent/JP4571554B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and device for measuring distance between a probe of a scanning probe microscope and a sample surface that prevents contact of the probe tip with the sample surface and performs approach at a high speed. <P>SOLUTION: An interatomic force microscope scans the surface of the sample 1 using the probe 6 and measures the irregularity of the surface of the sample 1 with atomic resolution. A first-step high-speed approach for shortening the distance between the probe 6 and the surface of the sample 1 and a second-step precision approach are combined. As a result, the approach time between the sample surface and the probe can be shortened as a whole. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は走査型プローブ顕微鏡の探針と試料表面との距離測定方法及び装置に関し、探針と試料表面の距離をある任意の値になるまで近づけるために、高速移動・ダメージレスで行ない、測定に至るまでの時間を短縮する方法及び装置に関する。   The present invention relates to a method and an apparatus for measuring the distance between a probe and a sample surface of a scanning probe microscope, in order to reduce the distance between the probe and the sample surface until it reaches a certain arbitrary value. The present invention relates to a method and an apparatus for shortening the time to the point.

走査型原子力間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)は、探針先端と試料表面の間に働く原子力間力を検出し、この原子力間力が一定になるようにフィードバックを行ないながら試料を走査し、試料の表面形状を得る装置である。このAFMには、多くの測定モードがあり、探針先端をコンタクトさせるコンタクトモードAFM、探針を振動させながら試料に近づけ、探針の振幅が一定になるように測定するACモードAFM、探針を試料表面に接触させずに測定するNC(Non Contact)モードAFMが代表的なものである。   The scanning atomic force microscope (AFM) detects the atomic force acting between the probe tip and the sample surface, and scans the sample while performing feedback so that the atomic force is constant. This is an apparatus for obtaining the surface shape of a sample. This AFM has many measurement modes, a contact mode AFM in which the tip of the probe is brought into contact, an AC mode AFM in which the probe is moved close to the sample while being vibrated and the amplitude of the probe is made constant, the probe A typical example is NC (Non Contact) mode AFM which measures without contacting the surface of the sample.

図16はACモードAFMの実施の形態例を示す構成図である。図において、1は試料、2はその上に試料1を載せ、3次元方向に試料1を移動させるスキャナ、3は該スキャナ2を移動させるモータである。該モータ3はパソコン(PC)14から駆動力を与えられるようになっている。   FIG. 16 is a block diagram showing an embodiment of the AC mode AFM. In the figure, 1 is a sample, 2 is a scanner on which the sample 1 is placed, and 3 moves the sample 1 in a three-dimensional direction, and 3 is a motor that moves the scanner 2. The motor 3 can be given a driving force from a personal computer (PC) 14.

4はレーザダイオード(LD)、5は圧電素子としてのPZT、6は該PZT5により微小振動を与えられるカンチレバ(以下探針という)である。7はレーザダイオード4により探針6上に照射された光の反射光を受けて電気信号に変換するフォトディテクタ(PD)、8は該フォトディテクタ7の出力を受けて信号の増幅を行なうプリアンプ、9は該プリアンプ8の出力を受けてRMS(実効値)を直流に変換するRMS−DCコンバータである。   Reference numeral 4 denotes a laser diode (LD), 5 denotes a PZT as a piezoelectric element, and 6 denotes a cantilever (hereinafter referred to as a probe) that can be given minute vibrations by the PZT 5. 7 is a photodetector (PD) that receives reflected light of the light irradiated onto the probe 6 by the laser diode 4 and converts it into an electrical signal, 8 is a preamplifier that receives the output of the photodetector 7 and amplifies the signal, and 9 This is an RMS-DC converter that receives the output of the preamplifier 8 and converts RMS (effective value) into direct current.

10はRMS−DCコンバータ9の出力を一方の入力に、他方の入力に基準値を受けてその差分を演算により求める誤差アンプ、11は基準値を発生する基準値発生部である。12は誤差アンプ10の出力を受けて、フィードバック信号を作成するフィードバック回路、13は該フィードバック回路12の出力であるトポグラフィック信号(表面形状信号)を受けて、アナログ信号をディジタル信号に変換するA/D変換器、14は該A/D変換器13の出力を受けて、所定の演算制御処理を行なうパソコン(PC)である。該パソコンPCからは、モータ3に向けてモータ駆動信号が出力される。   An error amplifier 10 receives the output of the RMS-DC converter 9 at one input, receives a reference value at the other input, and calculates the difference by calculation, and 11 is a reference value generator for generating a reference value. A feedback circuit 12 receives the output of the error amplifier 10 to generate a feedback signal, and 13 receives a topographic signal (surface shape signal) which is an output of the feedback circuit 12 and converts an analog signal into a digital signal A The / D converter 14 is a personal computer (PC) that receives the output of the A / D converter 13 and performs predetermined arithmetic control processing. A motor drive signal is output from the personal computer PC toward the motor 3.

15はプリアンプ8の出力を受けてFM復調を行なうFM復調器(D−PLL)である。16は該FM復調器15の出力を受けるアッテネータである。FM復調器15の出力は、アッテネータ16及びA/D変換器13に与えられる。17はフィードバック回路12の出力を受けてスキャナ2を駆動するHV−アンプである。FM復調器15の出力はA/D変換器13には、位相信号の直流成分として与えられる。このDC成分は、A/D変換器13の基準電圧となる。18はスキャンジェネレータ、19は該スキャンジェネレータ18の出力を受けて増幅するHV−アンプである。該HV−アンプ19は、ステージをX,Y2次元方向に駆動する。このように構成された装置の動作を説明すれば、以下の通りである。   An FM demodulator (D-PLL) 15 receives the output of the preamplifier 8 and performs FM demodulation. An attenuator 16 receives the output of the FM demodulator 15. The output of the FM demodulator 15 is given to the attenuator 16 and the A / D converter 13. Reference numeral 17 denotes an HV-amplifier that receives the output of the feedback circuit 12 and drives the scanner 2. The output of the FM demodulator 15 is given to the A / D converter 13 as a DC component of the phase signal. This DC component becomes the reference voltage of the A / D converter 13. Reference numeral 18 denotes a scan generator, and reference numeral 19 denotes an HV-amplifier that receives and amplifies the output of the scan generator 18. The HV-amplifier 19 drives the stage in the X and Y two-dimensional directions. The operation of the apparatus configured as described above will be described as follows.

先ず、光学的顕微鏡(図示せず)と高さ方向(Z軸方向)調整手段(図示せず)を用いて試料1表面と探針(カンチレバ)6間の高さ方向の距離がほぼ数μmとなるように、オペレータが機械的にマニュアルで調整を行なう。その後、自動ボタンを押すと、装置は以下のような動作により更に試料1表面と探針6間の距離が最も適正な値になるまでフィードバックによる位置制御を行なう。その制御の概要は、以下の通りである。   First, the distance in the height direction between the surface of the sample 1 and the probe (cantilever) 6 is approximately several μm using an optical microscope (not shown) and a height direction (Z-axis direction) adjusting means (not shown). The operator makes manual adjustments mechanically. Thereafter, when the automatic button is pressed, the apparatus performs position control by feedback until the distance between the surface of the sample 1 and the probe 6 becomes the most appropriate value by the following operation. The outline of the control is as follows.

探針6をPZT5により一定出力で加振して、探針6の先端部にレーザのスポットがくるように調整する。その際、反射したレーザ光をフォトディテクタ7で光信号として検出し、プリアンブ8で増幅した後RMS−DCコンバータ9を通して探針6の振幅を検出する。また、この際、探針6に印加する波形と、フォトディテクタ7で検出した波形の間には位相差が生じているため、RMS−DCコンバータ9から出力される電圧値が最大になるように、FM復調器(D−PLL)15の中で位相の調整を行なう。次に、RMS−DC値が基準値と同じ値になるまで、モータ3を使用してステージを探針6に近づける(アプローチ)。アプローチが完了した状態で、スキャナ2に走査電圧を印加し、誤差アンプ10からの出力が0になるようにフィードバック回路を動作させ、試料表面と探針間の距離の制御を行なう。   The probe 6 is vibrated at a constant output by the PZT 5 and adjusted so that the laser spot comes to the tip of the probe 6. At this time, the reflected laser beam is detected as an optical signal by the photodetector 7, amplified by the preamble 8, and then detected by the RMS-DC converter 9 to detect the amplitude of the probe 6. At this time, since a phase difference is generated between the waveform applied to the probe 6 and the waveform detected by the photodetector 7, the voltage value output from the RMS-DC converter 9 is maximized. The phase is adjusted in the FM demodulator (D-PLL) 15. Next, the stage is brought closer to the probe 6 using the motor 3 until the RMS-DC value becomes the same as the reference value (approach). In the state where the approach is completed, a scanning voltage is applied to the scanner 2 and the feedback circuit is operated so that the output from the error amplifier 10 becomes 0, thereby controlling the distance between the sample surface and the probe.

従来のこの種の装置としては、自由端に探針を有する探針を一端に支持する圧電体を用い、探針の探針と試料との間の原子間力による探針の変位量を光学的に検出し、検出された探針変位量の変化に基づいて、前記圧電体をZ軸方向に移動制御する装置が知られている(例えば特許文献1参照)。
特開平9−101317号公報(段落0033〜0045、図1)
As a conventional device of this type, a piezoelectric body having a probe at its free end is supported at one end, and the amount of displacement of the probe due to the atomic force between the probe and the sample is optically measured. An apparatus is known that detects and automatically controls the movement of the piezoelectric body in the Z-axis direction based on the detected change in the amount of probe displacement (see, for example, Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 9-101317 (paragraphs 0033 to 0045, FIG. 1)

図17はAC−AFMでアプローチを行なっている際の、RMS−DC出力信号を示す図である。縦軸は電圧(RMS−DC信号)、横軸は時間である。図より明らかなように、アプローチを開始した後、RMS−DC値は徐々に変化するが、リファレンス(基準)値に近づいた時、急激にRMS−DC値が変化している。このような急激な変化は、探針が試料表面に接触する可能性があり、探針先端や試料表面を保護するためには、避けるべき現象である。   FIG. 17 is a diagram showing an RMS-DC output signal when an AC-AFM approach is performed. The vertical axis represents voltage (RMS-DC signal), and the horizontal axis represents time. As is apparent from the figure, the RMS-DC value gradually changes after the approach is started, but when approaching the reference value, the RMS-DC value changes abruptly. Such a rapid change may cause the probe to contact the sample surface, and is a phenomenon that should be avoided in order to protect the tip of the probe and the sample surface.

原子間力顕微鏡(プローブ顕微鏡)は、探針6を使用して試料1表面を走査し、試料1表面の凹凸を原子分解能で測定を行なうことができる。測定を行なう準備段階として、探針へのレーザ調整、探針6の発振調整を行なう。最初の段階として、探針と試料表面の距離を可能な限り近づけるために、光学顕微鏡を利用して、試料ステージと探針6間の距離の調整を行なう。最後に、探針先端と試料表面の距離が、ある設定された距離になるように、DCモータや、ステッピングモータを使用して近づける。これらの準備が終了した後、測定を行なうことができる。   The atomic force microscope (probe microscope) can scan the surface of the sample 1 using the probe 6 and measure the unevenness of the surface of the sample 1 with atomic resolution. As a preparation stage for measurement, laser adjustment to the probe and oscillation adjustment of the probe 6 are performed. As a first step, the distance between the sample stage and the probe 6 is adjusted using an optical microscope in order to make the distance between the probe and the sample surface as close as possible. Finally, the distance between the tip of the probe and the sample surface is made close by using a DC motor or a stepping motor so that a predetermined distance is obtained. After these preparations are complete, measurements can be made.

原子間力顕微鏡は、探針先端と試料表面の距離を、ある設定された距離まで近づける(アプローチ)ために、モータを使用している。その速度は、探針が試料表面に衝突しないように、遅い値(例えば1μm/sec以下)に設定されている。そのため、100μmの距離をアプローチさせるためには、約2分ほど待ち時間を必要とする。若し、アプローチ速度を速くした場合には、現在の制御方法では、探針先端部が試料表面に接触する危険性が高く、速度を速くすることができない。   The atomic force microscope uses a motor to bring the distance between the probe tip and the sample surface close to a certain set distance (approach). The speed is set to a slow value (for example, 1 μm / sec or less) so that the probe does not collide with the sample surface. Therefore, a waiting time of about 2 minutes is required to approach a distance of 100 μm. If the approach speed is increased, the current control method has a high risk of the tip of the probe contacting the sample surface, and the speed cannot be increased.

本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであって、探針先端と試料表面が接触せず、高速でアプローチする、走査型プローブ顕微鏡の探針と試料表面との距離測定方法及び装置を提供することを目的としている。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and a method and an apparatus for measuring the distance between a probe and a sample surface of a scanning probe microscope, in which the tip of the probe and the sample surface are not in contact and are approached at high speed The purpose is to provide.

(1)請求項1記載の発明は、探針を使用して試料表面を走査し、試料表面の凹凸を原子分解能で測定を行なう走査型プローブ顕微鏡において、第1段階では、探針への加振信号と探針からの信号を光検出器で検出した信号との位相差を検出し、該位相差信号の所定の変化を検出するまでフィードバック制御を行ないながら、次に、第2段階では、前記光検出器の出力である試料表面観察フィードバック信号を用いてフィードバック制御を行なって、探針と試料表面間の距離を制御することを特徴とする。   (1) The invention according to claim 1 is a scanning probe microscope that scans the surface of a sample using a probe and measures the unevenness of the sample surface with atomic resolution. While detecting the phase difference between the oscillation signal and the signal from the probe detected by the photodetector and performing feedback control until a predetermined change in the phase difference signal is detected, then in the second stage, The distance between the probe and the sample surface is controlled by performing feedback control using a sample surface observation feedback signal which is an output of the photodetector.

(2)請求項2記載の発明は、前記試料表面観察フィードバック信号として、振幅信号又はFMD値を用いることを特徴とする。
(3)請求項3記載の発明は、前記第1段階における制御はモータを用いて行ない、前記第2段階における制御はピエゾ素子の伸縮とモータとを用いて行なうことを特徴とする。
(2) The invention described in claim 2 is characterized in that an amplitude signal or an FMD value is used as the sample surface observation feedback signal.
(3) The invention according to claim 3 is characterized in that the control in the first stage is performed using a motor, and the control in the second stage is performed using expansion and contraction of a piezo element and a motor.

(4)請求項4記載の発明は、探針を使用して試料表面を走査し、試料表面の凹凸を原子分解能で測定を行なう走査型プローブ顕微鏡において、第1段階では、探針への加振信号と探針からの信号を光検出器で検出した信号との位相差を演算し、該位相差信号の所定の変化を検出するまでフィードバック制御を行なう第1の制御手段と、前記光検出器の出力である試料表面観察フィードバック信号を用いてフィードバック制御を行なって、探針と試料表面間の距離を制御する第2の制御手段とを具備して構成されることを特徴とする。   (4) The invention according to claim 4 is a scanning probe microscope that scans the surface of a sample using a probe and measures the unevenness of the sample surface with atomic resolution. A first control means for calculating a phase difference between a vibration signal and a signal from a probe detected by a photodetector and performing feedback control until a predetermined change in the phase difference signal is detected; And a second control means for controlling the distance between the probe and the sample surface by performing feedback control using a sample surface observation feedback signal which is an output of the tester.

(1)請求項1記載の発明によれば、第1段階で探針への加振信号と光検出信号との位相差信号を用いてフィードバック制御により該位相信号が所定の値になるまで、試料表面と探針間の距離を調整し、次に第2段階で試料表面と探針間が最適な距離になるように試料表面観察フィードバック制御を行なうことで、少なくとも第1段階の試料表面と探針間の距離の制御を行なうシーケンスは試料表面が探針と接触をしないように前記位相信号がある所定の値になるまで、行われるので、第1段階にかかる時間を高速化することができ、探針と試料表面が接触せず、高速でアプローチすることができる。   (1) According to the invention of claim 1, until the phase signal becomes a predetermined value by feedback control using the phase difference signal between the excitation signal to the probe and the light detection signal in the first stage, By adjusting the distance between the sample surface and the probe, and then performing sample surface observation feedback control so that the distance between the sample surface and the probe becomes an optimum distance in the second step, at least the first sample surface and Since the sequence for controlling the distance between the probes is performed until the phase signal reaches a predetermined value so that the sample surface does not come into contact with the probe, the time required for the first stage can be increased. The probe and the sample surface are not in contact with each other and can be approached at high speed.

(2)請求項2記載の発明によれば、試料表面観察フィードバック信号としてRMS−DC信号又はFMD値を用いることができ、良好なフィードバック制御を行なうことができる。   (2) According to the second aspect of the present invention, the RMS-DC signal or the FMD value can be used as the sample surface observation feedback signal, and good feedback control can be performed.

(3)請求項3記載の発明によれば、第1段階の試料表面と探針間の距離を調整する手段としてモータを用い、第2段階における制御は試料表面と探針間の距離の制御にモータとピエゾ素子の伸縮を用いる制御を行なうので、全体として探針と試料正面の距離が最適な値になるのに要する時間を高速化することができる。   (3) According to the invention described in claim 3, the motor is used as means for adjusting the distance between the sample surface and the probe in the first stage, and the control in the second stage is control of the distance between the sample surface and the probe. In addition, since the control using the expansion and contraction of the motor and the piezo element is performed, the time required for the distance between the probe and the front of the sample to become an optimum value as a whole can be increased.

(4)請求項4記載の発明によれば、第1段階では探針への加振信号と探針からの信号を光検出器で検出した信号との位相差を基に試料表面と探針間の距離を高速で所定の範囲になるように制御し、第2段階では試料表面と探針間の距離が最適な値になるように試料表面観察フィードバック制御するので、試料表面と探針間の距離に関して全体として高速でアプローチすることができる。   (4) According to the invention described in claim 4, in the first stage, based on the phase difference between the excitation signal to the probe and the signal detected by the photodetector from the probe signal, the sample surface and the probe Since the distance between the sample surface and the probe is controlled so that the distance between the sample surface and the probe becomes the optimum value in the second stage, the distance between the sample surface and the probe is controlled. As a whole, it is possible to approach at a high speed with respect to the distance.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態例を詳細に説明する。
(実施の形態例1)
図1はAC−AFMの際、アプローチを開始してからアプローチが止まるまでのRMS−DC値と位相(Phase:フェーズ)差信号の関係を表わす図である。ここで、位相差信号は、探針への加振信号と探針からの信号を光検出器で検出した信号との位相差で定義される(以下同じ)。縦軸は電圧、横軸は時間である。f1は位相差信号、f2は探針からの信号を光検出器で検出した信号の振幅に比例した、試料表面観察フィードバック信号であるRMS−DC値を示している。図からも分かるように、ある時間T1で両信号を比較すると、アプローチ開始からの信号の変化量は、位相差信号の方が大きくなっている。また、信号に変化が現れる時間も位相差信号の方が早く現れる。これは、位相差信号が探針と試料間距離の変化を敏感に検出することに依存していることによる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a diagram illustrating a relationship between an RMS-DC value and a phase difference signal from the start of an approach to the stop of the approach in the AC-AFM. Here, the phase difference signal is defined by a phase difference between an excitation signal to the probe and a signal obtained by detecting the signal from the probe with a photodetector (the same applies hereinafter). The vertical axis is voltage, and the horizontal axis is time. f1 represents a phase difference signal, and f2 represents an RMS-DC value that is a sample surface observation feedback signal proportional to the amplitude of the signal detected by the photodetector with the signal from the probe. As can be seen from the figure, when both signals are compared at a certain time T1, the amount of change in the signal from the start of the approach is greater for the phase difference signal. In addition, the phase difference signal also appears earlier when the change appears in the signal. This is because the phase difference signal depends on sensitively detecting changes in the distance between the probe and the sample.

このことから、位相差信号から求めたリファレンス値でアプローチを停止する直前に、位相差信号を検出してアプローチを停止することが可能であれば、探針先端が試料表面に接触せずにアプローチを停止することが可能となる。   Therefore, if it is possible to stop the approach by detecting the phase difference signal immediately before stopping the approach with the reference value obtained from the phase difference signal, the tip of the probe does not touch the sample surface. Can be stopped.

そこで、新しいアプローチ方法は、アプローチを2段階のアプローチの組み合わせとする。第1段階は、設定された位相差値の最小変化量を用いて試料表面と探針間の距離が所定の位置で停止するようにする。ここで、第1段階における試料表面と探針間の距離は、試料表面と探針とが接触しないことが保証される値になるように設定される。従って、この場合のアプローチは、試料と探針先端との距離は離れていることから、フィードバック制御を行ないながら、モータを用いてアプローチを行なうようにする。ここで、モータアプローチは、モータスピードを任意に設定できるようにする。次に、第2段階のアプローチは、スキャナのZ軸(高さ方向)の伸縮とステージの移動を組み合わせで動作するようにする。この第2段階では、制御信号としてRMS−DC値を用いる。もちろん、光検出器で検出した信号をピークホールドにより求めた振幅値を用いてもよい。この移動方法により、探針の先端が試料表面に接触することなく、RMS−DC値がリファレンスになるまで安全にアプローチすることができる。   Therefore, the new approach method is a combination of approaches of two steps. In the first stage, the distance between the sample surface and the probe is stopped at a predetermined position using the set minimum change amount of the phase difference value. Here, the distance between the sample surface and the probe in the first stage is set to a value that ensures that the sample surface and the probe do not contact each other. Accordingly, in this approach, the distance between the sample and the tip of the probe is long, so that the approach is performed using a motor while performing feedback control. Here, the motor approach allows the motor speed to be set arbitrarily. Next, the second-stage approach operates by combining the expansion and contraction of the Z-axis (height direction) of the scanner and the movement of the stage. In this second stage, the RMS-DC value is used as the control signal. Of course, an amplitude value obtained by peak hold of the signal detected by the photodetector may be used. By this moving method, it is possible to approach safely until the RMS-DC value becomes the reference without the tip of the probe contacting the sample surface.

図2は新しいアプローチのアルゴリズム(AC−AFM)を示すフローチャートである。なお、以下の説明での各構成要素の識別番号で図16と同一のものは、同一の符号を付して示す。
S1:AC−AFMで探針の加振設定を行なう。
FIG. 2 is a flowchart showing a new approach algorithm (AC-AFM). In the following description, the same identification numbers as those in FIG.
S1: The probe is set to vibrate with AC-AFM.

この際、AC−AFM測定で必要となる探針6のチューニング(調整)を行なう。
S2:リファレンス値の算出、位相の調整を行なう。
RMS−DC値が最大になるように、探針6の加振信号とフォトディテクタ7で検出される信号間の位相差調整を行なう。次に、アプローチ条件のリファレンス値を算出する。上記S1,S2の作業は、AC−AFMモードで試料表面の観測を行なう際に通常行なう作業である。
S3:位相差の最小変化量の設定、アプローチ速度の設定を行なう。
At this time, tuning (adjustment) of the probe 6 necessary for AC-AFM measurement is performed.
S2: Reference value calculation and phase adjustment are performed.
The phase difference between the excitation signal of the probe 6 and the signal detected by the photodetector 7 is adjusted so that the RMS-DC value becomes maximum. Next, the reference value of the approach condition is calculated. The operations of S1 and S2 are operations normally performed when the sample surface is observed in the AC-AFM mode.
S3: The minimum change amount of the phase difference and the approach speed are set.

モータアプローチを、位相差信号を検出して停止するために、最小変化量を設定する。設定する最小変化量は、角度で設定し、通常2度前後を設定するが、試料や環境(大気、真空、液体等)の状態により、設定する角度は変化するので、状況に応じて設定する。また、最小変化量は角度で設定しているが、その単位は、例えば角度変換を行えば、ラジアンで設定することもできる。   In order to stop the motor approach by detecting the phase difference signal, a minimum change amount is set. The minimum amount of change to be set is set by an angle, usually around 2 degrees, but the angle to be set varies depending on the state of the sample and the environment (air, vacuum, liquid, etc.), so set it according to the situation. . Moreover, although the minimum change amount is set in angle, the unit can also be set in radians, for example, if angle conversion is performed.

位相差調整は、電気回路の中で、電圧値で計算されることから、電圧での設定でも可能である。次に、第1段階のアプローチの際に使用する、モータアプローチの速度を設定する。モータの速度は最大で50μm/secとしているが、ステージの構造、使用するモータによっても変わるので、任意的に変更できるようにする。
S4:ステップS3で設定された速度で、モータアプローチを開始する。
Since the phase difference adjustment is calculated by the voltage value in the electric circuit, it can be set by the voltage. Next, the speed of the motor approach used in the first stage approach is set. The motor speed is 50 μm / sec at the maximum, but it varies depending on the stage structure and the motor used, so that it can be arbitrarily changed.
S4: The motor approach is started at the speed set in step S3.

この時のスキャナのZ軸方向の状態は、フィードバック回路12を動作させ図3の(b)に示すように伸びている状態とする。図3はスキャナの状態を示す図である。(a)はリトラクト状態を、(b)は最大振り幅まで伸びている状態を示す。
S5:指定位相差値と現在の位相差値との比較を行なう
ステップS4のモータアプローチ中、位相差を観察する。アプローチ直前の位相差と、アプローチ中の位相差を比較して、ステップS3で設定された最小変化量だけ位相値が変化しているか観察する。アプローチ直前の位相差と、アプローチ中の位相差を比較して、ステップS3で設定された最小変化量だけ位相値が変化しているか観察する。位相差が最小変化量だけ変化していない場合は、モータアプローチを続行する。
S6:モータアプローチを停止する
ステップS4のアプローチ中、位相差がステップS3で設定された最小変化量だけ変化した際、モータアプローチを停止する。ステップS1〜ステップS6までの動作を第1段階のアプローチとする。以降は第2段階のアプローチである。
S7:スキャナをリトラクト状態にする
スキャナ2を一旦、リトラクト状態にする。その時の状態は図3の(a)に示すように一番縮んでいる状態にする。
S8:スキャナの最大振り幅分の半分の距離分を、試料1表面と探針6間の距離が縮まる方向にステージを移動する
図3の(a),(b)のようにスキャナがZ軸方向に伸びた状態と、縮んだ状態から最大振り幅の半分の距離を算出する。算出した距離分だけをスキャナ2を使用して試料1表面と探針6間の距離が縮まる方向へ移動する。
S9:スキャナ2をアプローチ状態にする
フィードバック回路12を動作させながら、スキャナ2のリトラクト状態を解除する。
S10:ステップS9の状態で、RMS−DC値がステップ2が算出されたリファレンス 値になっているかを誤差アンプ10で比較を行なう。
The state of the scanner in the Z-axis direction at this time is a state in which the feedback circuit 12 is operated and extended as shown in FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating a state of the scanner. (A) shows a retracted state, and (b) shows a state extending to the maximum swing width.
S5: The designated phase difference value is compared with the current phase difference value. During the motor approach in step S4, the phase difference is observed. The phase difference immediately before the approach is compared with the phase difference during the approach, and it is observed whether the phase value is changed by the minimum change amount set in step S3. The phase difference immediately before the approach is compared with the phase difference during the approach, and it is observed whether the phase value is changed by the minimum change amount set in step S3. If the phase difference has not changed by the minimum change amount, the motor approach is continued.
S6: Stopping the motor approach When the phase difference changes by the minimum change amount set in step S3 during the approach of step S4, the motor approach is stopped. The operation from step S1 to step S6 is taken as a first stage approach. The following is the second stage approach.
S7: Put the scanner in the retract state. The scanner 2 is once put in the retract state. The state at that time is set to the most contracted state as shown in FIG.
S8: The stage is moved in a direction in which the distance between the surface of the sample 1 and the probe 6 is reduced by a distance corresponding to half the maximum swing width of the scanner, as shown in (a) and (b) of FIG. A distance that is half the maximum swing width is calculated from the stretched state and the shrunken state. Only the calculated distance is moved in the direction in which the distance between the surface of the sample 1 and the probe 6 is reduced using the scanner 2.
S9: Bring the scanner 2 into the approach state While operating the feedback circuit 12, the retract state of the scanner 2 is released.
S10: In the state of step S9, the error amplifier 10 compares whether the RMS-DC value is the reference value calculated in step 2.

図3の(b)のように、スキャナ2が最大振り幅まで伸びた状態で、RMS−DC値がリファレンス値になっていない場合には、ステップS7〜S10の作業を繰り返す。
S11:RMS−DC値がリファレンス値になったらアプローチを終了する。
If the RMS-DC value is not the reference value with the scanner 2 extended to the maximum swing width as shown in FIG. 3B, the operations in steps S7 to S10 are repeated.
S11: When the RMS-DC value becomes the reference value, the approach is terminated.

ステップS10の状態で、RMS−DC値がリファレンス値と同じになる場合にはアプローチを終了する。また、モータアプローチを開始する時点で、位相差がステップS3で設定された最小変化量だけ変化している場合は、既に第1段階のアプローチは終了していることになるので、第1段階のアプローチは省略し、第2段階のアプローチS7から行なうようにする。   If the RMS-DC value becomes the same as the reference value in the state of step S10, the approach is terminated. If the phase difference has changed by the minimum change amount set in step S3 at the time of starting the motor approach, the first-stage approach has already been completed. The approach is omitted, and the second step approach S7 is performed.

このように、本発明の実施の形態例によれば、試料表面と探針間の距離が所定の値になるまで制御する位相差信号を用いた第1段階のアプローチと、試料表面と探針間の距離が最適な値になるようにRMS−DC信号を用いた第2段階のアプローチを行なうことで、全体としての試料表面と探針間の距離が最適なものとなる制御を行なうことで高速なアプローチが可能となる。   As described above, according to the embodiment of the present invention, the first-stage approach using the phase difference signal for controlling the distance between the sample surface and the probe to a predetermined value, the sample surface and the probe, By performing the second-stage approach using the RMS-DC signal so that the distance between the two becomes an optimum value, the distance between the sample surface and the probe as a whole is controlled to be optimum. A fast approach is possible.

(実施の形態例2)
図4はスキャナのアプローチ状態を示す図であり、前記第2段階におけるアプローチの様子を示している。図2におけるステップS7〜S11までの第2段階の作業中、スキャナ2が伸びている状態でアプローチ状態になった際のスキャナ2の図と、スキャナ2が縮んでいる状態でアプローチ状態になった際のスキャナの図を表している。通常、アプローチの状態は、同図中(c)の中間位置でのアプローチ状態のようにスキャナが伸びも縮みもする状態、つまり、印加電圧が0Vの状態が望ましい。
(Embodiment 2)
FIG. 4 is a diagram showing the approach state of the scanner, and shows the approach in the second stage. During the second stage of steps S7 to S11 in FIG. 2, a diagram of the scanner 2 when the scanner 2 is in the extended state and the approach state when the scanner 2 is contracted. A diagram of the scanner at the time is shown. Normally, the approach state is preferably a state where the scanner extends and contracts like the approach state at the intermediate position in FIG. 5C, that is, a state where the applied voltage is 0V.

しかしながら、探針6先端と試料1間の距離や、スキャナ2の最大振幅量によっては、図4の(d),(e)のようなスキャナ2の状態になる場合もある。そこで、実施の形態例1での図2におけるステップS7〜S11の作業中に、スキャナ2のアプローチ状態が中間位置に来るようなアルゴリズムを組み込む。   However, depending on the distance between the tip of the probe 6 and the sample 1 and the maximum amplitude of the scanner 2, the scanner 2 may be in a state as shown in FIGS. Therefore, an algorithm is incorporated so that the approach state of the scanner 2 comes to an intermediate position during the operations in steps S7 to S11 in FIG. 2 in the first embodiment.

次に、図4の動作について説明する。以下の説明における構成要素の識別記号は図16と同一のものは、同一の符号を付して示す。
S1:スキャナ2へ印加する電圧と、Z軸方向の振幅量から算出される電圧−振り幅特性から、単位電圧当たりの振幅量を求める。
S2:(d),(e)の状態の場合、印加されている電圧をS1の電圧−振り幅特性から距離に換算する。
S3:(d)の場合、一旦スキャナ2をリトラクト状態にし、試料1表面と探針6先端の間の距離が縮まる方向へ、S2で求まる距離分をモータで移動する。
S4:移動終了後、スキャナ2のリトラクト状態を解除し、アプローチ状態にする。
S5:(c)の場合、一旦スキャナ2をリトラクト状態にし、試料1の表面と探針先端の間の距離が伸びる方向へ、ステップS2で求まる距離分をモータで移動させる。
S6:移動終了後、スキャナのリトラクト状態を解除し、アプローチ状態にする。
Next, the operation of FIG. 4 will be described. In the following description, the same component identification symbols as those in FIG. 16 are given the same reference numerals.
S1: The amount of amplitude per unit voltage is obtained from the voltage applied to the scanner 2 and the voltage-width characteristic calculated from the amount of amplitude in the Z-axis direction.
S2: In the cases of (d) and (e), the applied voltage is converted into a distance from the voltage-width characteristic of S1.
S3: In the case of (d), the scanner 2 is once retracted, and is moved by the motor for the distance determined in S2 in a direction in which the distance between the surface of the sample 1 and the tip of the probe 6 is reduced.
S4: After the movement is completed, the retract state of the scanner 2 is canceled and the approach state is set.
S5: In the case of (c), the scanner 2 is once retracted, and is moved by the motor for the distance obtained in step S2 in the direction in which the distance between the surface of the sample 1 and the tip of the probe extends.
S6: After the movement is completed, the retract state of the scanner is canceled and the approach state is set.

(実施の形態例3)
次の実施の形態例について説明する。図5はAC−AFMのRMS−DC値と位相差信号の関係を示す図である。図のf1は位相差(Phase)を、f2がRMS−DC特性をそれぞれ示している。縦軸は電圧、横軸は時間である。探針6の材質、レーザ照射の位置、探針6の固有振動数等によっては、図1に示す位相信号とは異なり、図5に示すように位相差信号が検出される場合もある。
(Embodiment 3)
The following embodiment will be described. FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the RMS-DC value of AC-AFM and the phase difference signal. In the figure, f1 indicates a phase difference (Phase), and f2 indicates an RMS-DC characteristic. The vertical axis is voltage, and the horizontal axis is time. Unlike the phase signal shown in FIG. 1, depending on the material of the probe 6, the position of laser irradiation, the natural frequency of the probe 6, etc., a phase difference signal may be detected as shown in FIG.

そのため、図1,図5何れの場合においても、位相差信号を検出してアプローチを停止することが可能であれば、探針6の先端が試料1表面に接触せずに、アプローチを停止することが可能となる。   Therefore, in both cases of FIGS. 1 and 5, if the approach can be stopped by detecting the phase difference signal, the tip of the probe 6 does not contact the surface of the sample 1 and the approach is stopped. It becomes possible.

この場合、アルゴリズムは、図2のステップS2動作と同じであるが、ステップS5の「指定位相差値と現在の位相差値との比較を行なう」の作業の中で、アプローチを開始する時の位相差値へ、指定した最小変位量の値を加減算する。その時、求まった位相差値と、アプローチ中の値を比較するようにする。この方法により、図1,図5の位相差信号に対しても、第1段階のアプローチを停止することが可能となる。   In this case, the algorithm is the same as the operation in step S2 in FIG. 2, but in the operation of “compare the designated phase difference value with the current phase difference value” in step S5, Adds or subtracts the specified minimum displacement value to or from the phase difference value. At that time, the obtained phase difference value is compared with the value being approached. This method makes it possible to stop the first-stage approach even for the phase difference signals of FIGS.

(実施の形態例4)
前記した実施の形態例1の中で、スキャナ2のリトラクト解除については、図6の(a)のようにステップ的な電圧を印加し、フィードバック回路のゲイン・フィルタ若しくはPIDの制御を行ない、スキャナ2の制御を行なっている。このような瞬時的な反応は、探針6の先端が試料1の表面に接触する危険性を含む。そこで、アプローチの際に印加する電圧を調整することが好ましい。
(Embodiment 4)
In the first embodiment described above, the retract of the scanner 2 is released by applying a step-like voltage as shown in FIG. 6A to control the gain filter or PID of the feedback circuit, and the scanner. 2 control is performed. Such an instantaneous reaction includes a risk that the tip of the probe 6 contacts the surface of the sample 1. Therefore, it is preferable to adjust the voltage applied during the approach.

図6はスキャナのZ軸方向への印加電圧を示す図である。(a)はステップ応答、(b)はランプ応答を示す。縦軸は印加電圧、横軸は時間である。(b)のように、印加する電圧をランプ応答のように印加する。このことにより、スキャナの応答性は穏やかになり、探針の衝突は、より回避できるものとなる。また、ランプ応答の出力方法は、スキャナのZ軸方向に印加する電圧をランプ応答のように時系列的に制御することや、フィードバック回路のゲイン・フィルタ若しくはPIDの制御を調整することで可能となる。   FIG. 6 is a diagram showing the applied voltage in the Z-axis direction of the scanner. (A) shows a step response and (b) shows a ramp response. The vertical axis represents applied voltage, and the horizontal axis represents time. As shown in (b), the applied voltage is applied like a ramp response. As a result, the response of the scanner becomes gentle and the collision of the probe can be avoided more. Also, the ramp response output method can be achieved by controlling the voltage applied in the Z-axis direction of the scanner in a time-series manner like the ramp response, or by adjusting the gain filter or PID control of the feedback circuit. Become.

(実施の形態例5)
図3で示した図中では、探針6が固定され、スキャナ2にモータ3を使用して、モータアプローチする構造となっている。この実施の形態例では、スキャナ2、探針6、ステージの関係を示す。このように構成されたシステムにおいては、スキャナ2、探針6、ステージの関係は、構造的に自由にとることができ、図7に示すように固定されるものではない。図7は探針、試料、ステージの関係を示す図である。スキャナ2を移動したり、カンチレバ6を移動したりすることができる。
(Embodiment 5)
In the drawing shown in FIG. 3, the probe 6 is fixed, and a motor approach is performed using the motor 3 for the scanner 2. In this embodiment, the relationship between the scanner 2, the probe 6, and the stage is shown. In the system configured as described above, the relationship between the scanner 2, the probe 6, and the stage can be freely set structurally and is not fixed as shown in FIG. FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the probe, the sample, and the stage. The scanner 2 can be moved, and the cantilever 6 can be moved.

(実施の形態例6)
この実施の形態例では、第1段階のアプローチで、試料表面と探針先端の間の距離を、更に遠い場所で停止したい場合は、静電気力顕微鏡(EFM)の原理を利用できるようにする。静電気力顕微鏡は、試料と探針の間にバイアスを印加し、静電気力を発生させ、この静電気力による力の変化を検出する測定法である。静電気力は、引力領域よりも遠い場所で検出することができる。
(Embodiment 6)
In this embodiment, the principle of the electrostatic force microscope (EFM) can be used when the distance between the sample surface and the tip of the probe is to be stopped at a far place by the first stage approach. The electrostatic force microscope is a measurement method in which a bias is applied between a sample and a probe to generate an electrostatic force and a change in the force due to the electrostatic force is detected. The electrostatic force can be detected at a location farther than the attractive region.

そこで、第1段階のアプローチの際、試料1と探針6の間にバイアスを印加できるようにする。この時、発生する静電気力により、探針は、より遠くの場所で力を検出することができ、位相差値の変化もより遠くの位置で検出することが可能となる。   Therefore, a bias can be applied between the sample 1 and the probe 6 during the first stage approach. At this time, due to the generated electrostatic force, the probe can detect the force at a farther place, and the change of the phase difference value can also be detected at a farther position.

次に、別のタイプの発明について説明する。図8は探針の振幅−周波数特性を示す図である。縦軸は振幅、横軸は周波数である。NC(ノンコンタクト:Non Contact)−AFMでは、図8に示すように試料から受ける力の変化を、探針の共振周波数ずれ(ΔF)として検出する方式と、振幅の変化(ΔA)として検出する方式がある。周波数のずれを検出する方式は、引力領域で微弱な探針−試料間の力を検出することが可能なことから、近年、周波数のずれを検出する方式(FM−AFM)を採用している。   Next, another type of invention will be described. FIG. 8 is a diagram showing the amplitude-frequency characteristics of the probe. The vertical axis represents amplitude, and the horizontal axis represents frequency. In NC (Non Contact) -AFM, as shown in FIG. 8, a change in force received from a sample is detected as a resonance frequency shift (ΔF) of the probe and an amplitude change (ΔA). There is a method. Since a method for detecting a frequency shift can detect a weak probe-sample force in the attractive region, a method for detecting a frequency shift (FM-AFM) has recently been adopted. .

図9は、NCモードAFMの実施の形態例を示すブロック図である。図16と同一のものは、同一の符号を付して示す。この図は、Non Contact Mode AFM(NC−AFM)でFM−AFMを使用した時の信号の流れを示している。共振周波数Foで振動している探針6の先端部からのレーザ光を検出し、FM復調器15aに入力する。該FM復調器15a内のD−PLLでは、探針6の発振が一定になるように、位相と振幅の調整を行なっている。周波数が指定したリファレンス(図8のF1)になるまでモータ3でアプローチを行なう。アプローチが完了した状態で、スキャナに走査電圧を印加し、誤差アンプ10からの出力(Z方向信号)が0になるように、フィードバック回路を動作させ、測定を行なう。FM復調器15aの出力である周波数復調信号(FMD)は、誤差アンプ10の一方の入力に入っている。該誤差アンプ10の他方の入力には基準値発生部11からの基準値が入力されている。その他の構成は、図16に示すものと同様である。 FIG. 9 is a block diagram illustrating an embodiment of the NC mode AFM. The same components as those in FIG. 16 are denoted by the same reference numerals. This figure shows the signal flow when FM-AFM is used in Non Contact Mode AFM (NC-AFM). Laser light from the tip of the probe 6 oscillating at the resonance frequency Fo is detected and input to the FM demodulator 15a. In the D-PLL in the FM demodulator 15a, the phase and amplitude are adjusted so that the oscillation of the probe 6 is constant. The approach is performed with the motor 3 until the frequency reaches the specified reference (F 1 in FIG. 8). In the state where the approach is completed, a scanning voltage is applied to the scanner, and the feedback circuit is operated so that the output from the error amplifier 10 (Z direction signal) becomes zero, and measurement is performed. A frequency demodulated signal (FMD) that is an output of the FM demodulator 15 a is input to one input of the error amplifier 10. The reference value from the reference value generator 11 is input to the other input of the error amplifier 10. Other configurations are the same as those shown in FIG.

(実施の形態例7)
図10はNC−AFMのFMD値と位相差信号の関係を示す図である。縦軸は電圧、横軸は時間である。この図は、NC−AFMの際、アプローチを開始してからアプローチが止まるまでのFMD値と位相差信号の関係を示している。FMD値は、位相差信号を使用して出力されるので、信号波形は同じ形となっている。f5は位相差信号を、f6はFMD信号をそれぞれ示している。しかしながら、図からも分かるように、ある時間T1で両信号を比較すると、アプローチ開始からの信号の変化量は、位相差信号の方が大きくなっている。
(Embodiment 7)
FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the FMD value of NC-AFM and the phase difference signal. The vertical axis is voltage, and the horizontal axis is time. This figure shows the relationship between the FMD value and the phase difference signal from the start of the approach to the stop of the approach in NC-AFM. Since the FMD value is output using the phase difference signal, the signal waveform has the same shape. f5 indicates a phase difference signal, and f6 indicates an FMD signal. However, as can be seen from the figure, when both signals are compared at a certain time T1, the amount of change in the signal from the start of the approach is greater for the phase difference signal.

また、信号に変化が現れる時間も位相差信号の方が早い。これは、位相差信号が、試料1と探針6間距離の変化を敏感に検出することに依存していることによる。このことから、FMD値から求めたリファレンス値でアプローチを停止する直前に、位相差信号を検出してアプローチを停止することが可能となる。   Also, the phase difference signal is earlier in the time when the change appears in the signal. This is because the phase difference signal depends on sensitively detecting a change in the distance between the sample 1 and the probe 6. From this, it is possible to detect the phase difference signal and stop the approach immediately before stopping the approach with the reference value obtained from the FMD value.

そこで、新しいアプローチ手法は、アプローチを2段階の組み合わせとする。第1段階では、設定された最小位相差値の最小変化量で停止する。
試料1と探針先端との距離は離れていることから、ここまでのモータアプローチは、モータ速度を任意に設定できるようにする。次に、第2段階のアプローチは、スキャナのZ軸の伸縮とステージの移動を組み合わせて動作するようにする。この移動方法により、探針先端が試料表面に接触することがなく、FMD値がリファレンス値になるまで安全にアプローチすることができる。次に、本発明の動作について説明する。
Therefore, the new approach method is a combination of approaches in two stages. In the first stage, the operation is stopped at the minimum change amount of the set minimum phase difference value.
Since the distance between the sample 1 and the tip of the probe is large, the motor approach so far allows the motor speed to be set arbitrarily. Next, the second-stage approach operates by combining the Z-axis expansion and contraction of the scanner and the movement of the stage. By this moving method, the tip of the probe does not contact the sample surface, and it is possible to approach safely until the FMD value becomes the reference value. Next, the operation of the present invention will be described.

図11は本発明の新しいアプローチのアルゴリズム(NC−AFM)の他の例を示すフローチャートである。以下の説明中の構成要素の識別番号は、図9に示すものを用いる。以下、このフローチャートに沿って本発明を説明する。
S1:NC−AFMで探針の加振設定を行なう。
FIG. 11 is a flowchart showing another example of the algorithm (NC-AFM) of the new approach of the present invention. As the identification numbers of the constituent elements in the following description, those shown in FIG. 9 are used. The present invention will be described below with reference to this flowchart.
S1: The probe is set to vibrate with NC-AFM.

NC−AFM測定で必要となる探針のチューニングを行なう。
S2:リファレンス値の算出
FMD値を調整し、アプローチ条件のリファレンス値を算出する。上記ステップS1,S2の作業は、NC−AFMモードで試料表面の観測を行なう際に、通常行なう作業である。
S3:位相差の最小変化量の設定、もしくは周波数変位量の設定、アプローチ速度の設定を行なう。
Tune the probe that is necessary for NC-AFM measurement.
S2: Calculation of reference value The FMD value is adjusted, and the reference value of the approach condition is calculated. The operations in steps S1 and S2 are operations normally performed when the sample surface is observed in the NC-AFM mode.
S3: The minimum change amount of the phase difference, the frequency displacement amount, and the approach speed are set.

モータアプローチを、位相差信号を検出して停止するために、最小変化量を設定する。 設定する最小変化量は前述したAC−AFMと同様である。ただし、上述したように、周波数変位量でも設定できるようにするため、選択できるようにする。次に、第1段階のアプローチの際に使用する、モータアプローチの速度を設定する。設定方法は、AC−AFMと同じである。
S4:モータアプローチを開始する。
In order to stop the motor approach by detecting the phase difference signal, a minimum change amount is set. The minimum change amount to be set is the same as that of the AC-AFM described above. However, as described above, the frequency displacement amount can be set so that it can be selected. Next, the speed of the motor approach used in the first stage approach is set. The setting method is the same as AC-AFM.
S4: Start the motor approach.

ステップS3で設定された速度で、モータアプローチを開始する。この時の、スキャ ナ2のZ軸方向の状態は、フィードバック回路12を動作させ、図12の(b)のように伸びている状態とする。   The motor approach is started at the speed set in step S3. At this time, the state of the scanner 2 in the Z-axis direction is such that the feedback circuit 12 is operated and extended as shown in FIG.

図12は、スキャナ2の状態を示す図である。(a)はリトラクト状態を、(b)は最大振り幅まで伸びている状態をそれぞれ示す。
S5:指定位相値若しくは指定周波数変位量と、現在の位相値との比較を行なう
ステップS4のモータアプローチ中、位相差値を観察する。アプローチ直前の位相差値若しくはFMDと、アプローチ中の位相差値を比較して、ステップS3で設定された最小変化量だけの位相差、若しくは周波数変位量分だけが変化しているか監察する。位相差値若しくは周波数変位量が指定値分だけ変化していない場合は、モータアプローチを続行する。
S6:モータアプローチを停止する。
FIG. 12 is a diagram illustrating the state of the scanner 2. (A) shows a retracted state, and (b) shows a state extending to the maximum swing width.
S5: The designated phase value or designated frequency displacement amount is compared with the current phase value. During the motor approach in step S4, the phase difference value is observed. The phase difference value or FMD immediately before the approach is compared with the phase difference value during the approach, and it is monitored whether the phase difference corresponding to the minimum change amount set in step S3 or only the frequency displacement amount is changed. If the phase difference value or frequency displacement has not changed by the specified value, the motor approach is continued.
S6: The motor approach is stopped.

ステップS4のアプローチ中、位相差若しくは周波数変位量がステップS3で設定された最小変化量だけ変化した際、若しくは周波数変位量だけが変化した際、アプローチを停止する。
ここで、ステップS1〜ステップS6までの動作を、第1段階のアプローチとする。
During the approach of step S4, when the phase difference or the amount of frequency displacement changes by the minimum change amount set in step S3, or when only the amount of frequency displacement changes, the approach is stopped.
Here, the operation from step S1 to step S6 is a first-stage approach.

以下は第2段階のアプローチである。
S7:スキャナをリトラクト状態にする
スキャナ2を一旦、リトラクト状態にする。その時の状態は、図12の(a)に示す ように一番縮んでいる状態になっているようにする。
S8:スキャナ2の最大振り幅分の半分の距離分を、試料1表面と探針6間の距離が縮まる方向にステージを移動する
図12に示すように、スキャナ2がZ軸方向に伸びた状態と、縮んだ状態から、最大振り幅の半分の距離を算出する。算出した距離分だけをモータ3を使用して、探針6とスキャナ2の距離が縮まる方向へ移動させる。
S9:スキャナをアプローチ状態にする。
The following is the second stage approach.
S7: Put the scanner in the retract state. The scanner 2 is once put in the retract state. The state at that time is set to the most contracted state as shown in FIG.
S8: The stage is moved in a direction in which the distance between the surface of the sample 1 and the probe 6 is reduced by half the distance of the maximum swing width of the scanner 2, as shown in FIG. 12, the scanner 2 is extended in the Z-axis direction. A half distance of the maximum swing width is calculated from the state and the contracted state. Only the calculated distance is moved in the direction in which the distance between the probe 6 and the scanner 2 is reduced using the motor 3.
S9: The scanner is brought into the approach state.

フィードバック回路12を動作させながら、スキャナ2のリトラクト状態を解除する。
S10:FMD値がリファレンス値になっているかどうかチェックする
ステップS9の状態で、FMD値がステップS2で算出されたリファレンス値になっているかどうか比較を行なう。FMD値がリファレンス値になっていない場合には、ステップS7〜S10までの動作を繰り返す。
S11:FMD値がリファレンス値になっている場合には、アプローチを終了する。
The retract state of the scanner 2 is canceled while operating the feedback circuit 12.
S10: Check whether the FMD value is a reference value In the state of step S9, a comparison is made to determine whether the FMD value is the reference value calculated in step S2. If the FMD value is not the reference value, the operations from step S7 to S10 are repeated.
S11: When the FMD value is the reference value, the approach is terminated.

また、モータアプローチを開始する時点で、位相差値若しくはFMD値がステップS3で設定された最小変化量、若しくは周波数変位量だけ変化している場合には、第1段階のアプローチは省略し、第2段階のアプローチに移行するようにする。   Further, when the phase difference value or the FMD value is changed by the minimum change amount or the frequency displacement amount set in step S3 at the time of starting the motor approach, the first step approach is omitted, Try to move to a two-step approach.

以上、説明したように、この実施の形態例によれば、試料表面と探針間の距離が所定の値になるまで制御する位相差信号又は周波数変位信号を用いた第1段階のアプローチと、試料表面と探針間の距離が最適な値になるようにFMD信号を用いた第2段階のアプローチを行なうことで、全体としての試料表面と探針間の距離が最適なものとなる制御を行なうことで高速なアプローチが可能となる。   As described above, according to this embodiment, the first-stage approach using the phase difference signal or the frequency displacement signal that is controlled until the distance between the sample surface and the probe reaches a predetermined value; By performing the second-stage approach using the FMD signal so that the distance between the sample surface and the probe becomes an optimum value, the overall distance between the sample surface and the probe is controlled optimally. Doing so enables a fast approach.

(実施の形態例8)
図13はAC−AFMの位相差信号を利用したNC−AFMの衝突防止高速アプローチのアルゴリズムを示すフローチャートである。
(Embodiment 8)
FIG. 13 is a flowchart showing an algorithm of a high-speed collision prevention approach of NC-AFM using an AC-AFM phase difference signal.

(第1段階アプローチ)
先ず、AC−AFMで探針の加振設定を行なう(S1)。次に、リファレンス値を算出し、位相差の調整を行なう(S2)。次に、位相差の最小変化量の設定と、アプローチ速度の設定を行なう(S3)。次に、モータアプローチを開始する(S4)。そして、指定位相差値になったかどうかを判定する(S5)。指定位相差値になった場合には、モータアプローチを停止する(S6)。
(First stage approach)
First, probe excitation is set by AC-AFM (S1). Next, a reference value is calculated and the phase difference is adjusted (S2). Next, the minimum change amount of the phase difference and the approach speed are set (S3). Next, the motor approach is started (S4). Then, it is determined whether or not the specified phase difference value has been reached (S5). When the designated phase difference value is reached, the motor approach is stopped (S6).

(第2段階アプローチ)
ステップS6でモータアプローチが停止したら、スキャナをリトラクト状態にする(S7)。次に、NC−AFM用の自動調整を行ない、リファレンス値を算出する(S8)。次に、スキャナの最大振り幅分の半分の距離分を、探針と試料表面の距離が縮まる方向にステージを移動する(S9)。次に、スキャナをアプローチ状態にする(S10)。次に、FMD値がリファレンス値になっているかどうかチェックする(S11)。FMD値がリファレンス値になっていない場合には、ステップS7〜S11を繰り返す。FMD値がリファレンス値になっていたらアプローチを終了する(S12)。
(Second stage approach)
When the motor approach is stopped in step S6, the scanner is brought into a retracted state (S7). Next, automatic adjustment for NC-AFM is performed to calculate a reference value (S8). Next, the stage is moved in a direction in which the distance between the probe and the sample surface is reduced by a distance corresponding to half the maximum swing width of the scanner (S9). Next, the scanner is brought into the approach state (S10). Next, it is checked whether the FMD value is a reference value (S11). If the FMD value is not the reference value, steps S7 to S11 are repeated. If the FMD value is the reference value, the approach is terminated (S12).

(実施の形態例9)
図14はAC−AFMの位相差信号を利用したNC−AFMの衝突防止高速アプローチのアルゴリズムの他の例を示すフローチャートである。この実施の形態例は、第1段階はAC−AFMモードで行ない、第2段階はNC−AFMモードで行なうようにしたものである。
(Embodiment 9)
FIG. 14 is a flowchart illustrating another example of the NC-AFM anti-collision fast approach algorithm using the AC-AFM phase difference signal. In this embodiment, the first stage is performed in the AC-AFM mode, and the second stage is performed in the NC-AFM mode.

(第1段階アプローチ)
NC−AFMで探針加振設定を行ない、AC−AFMで必要となる調整された位相差信号を保存する(S1)。次に、AC−AFMモードに切り替える(S2)。次に、位相差の最小変化量の設定アプローチ速度の設定を行なう(S3)。そして、設定された値を基にモータアプローチを開始する(S4)。次に、指定位相差値になったかどうかチェックする(S5)。指定位相差値になった場合には、モータアプローチを停止する(S6)。
(First stage approach)
The probe excitation setting is performed by the NC-AFM, and the adjusted phase difference signal necessary for the AC-AFM is stored (S1). Next, the mode is switched to the AC-AFM mode (S2). Next, a setting approach speed for setting a minimum change amount of the phase difference is set (S3). Then, the motor approach is started based on the set value (S4). Next, it is checked whether or not the designated phase difference value has been reached (S5). When the designated phase difference value is reached, the motor approach is stopped (S6).

(第2段階アプローチ)
ステップS6でモータアプローチが停止すると、スキャナをリトラクト状態にする(S7)。そして、NC−AFMモードに切り替え、リファレンス値を設定する(S8)。次に、スキャナの最大振り幅分の半分の距離分を、探針と試料表面の距離が縮まる方向にステージを移動する(S9)。そして、スキャナをアプローチ状態にする(S10)。そして、FMD値がリファレンス値になっているかどうかをチェックする(S11)。FMD値がリファレンス値になっていない場合には、ステップS7〜S11の処理を繰り返す。FMD値がリファレンス値になっていたらアプローチ処理を終了する(S12)。
(Second stage approach)
When the motor approach is stopped in step S6, the scanner is brought into a retracted state (S7). Then, the mode is switched to the NC-AFM mode, and a reference value is set (S8). Next, the stage is moved in a direction in which the distance between the probe and the sample surface is reduced by a distance corresponding to half the maximum swing width of the scanner (S9). Then, the scanner is brought into the approach state (S10). Then, it is checked whether or not the FMD value is a reference value (S11). If the FMD value is not the reference value, the processes in steps S7 to S11 are repeated. If the FMD value is the reference value, the approach process is terminated (S12).

図15はダメージレス高速アプローチの説明図である。図において、1は試料、6は探針である。図はモータを用いた高速アプローチ領域とスキャナを用いた精密アプローチ領域からなることを示している。長距離力として働く微弱な引力を遠方から検出することができる。そこで、この力を検出するまで高速(50μm/秒)でアプローチを行ない、それ以降は精密アプローチを行なう。アプローチが短時間なので、試料表面と探針間の距離を気にせずにアプローチすることができる。   FIG. 15 is an explanatory diagram of a damageless high-speed approach. In the figure, 1 is a sample and 6 is a probe. The figure shows that it consists of a high-speed approach area using a motor and a precision approach area using a scanner. A weak attractive force acting as a long distance force can be detected from a distance. Therefore, the approach is performed at a high speed (50 μm / sec) until this force is detected, and thereafter the precise approach is performed. Since the approach is short, it is possible to approach without worrying about the distance between the sample surface and the probe.

AC−AFMのRMS−DC値と位相差信号の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the RMS-DC value of AC-AFM, and a phase difference signal. 新しいアプローチのアルゴリズム(AC−AFM)を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the algorithm (AC-AFM) of a new approach. スキャナの状態を示す図である。It is a figure which shows the state of a scanner. スキャナのアプローチ状態を示す図である。It is a figure which shows the approach state of a scanner. AC−AFMのRMS−DC値と位相差信号の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the RMS-DC value of AC-AFM, and a phase difference signal. スキャナのZ軸方向への印加電圧を示す図である。It is a figure which shows the applied voltage to the Z-axis direction of a scanner. 探針、試料、ステージの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a probe, a sample, and a stage. 探針の振幅−周波数特性を示す図である。It is a figure which shows the amplitude-frequency characteristic of a probe. NCモードAFMの実施の形態例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of embodiment of NC mode AFM. NC−AFMのFMD値と位相差信号の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the FMD value of NC-AFM, and a phase difference signal. 新しいアプローチのアルゴリズム(NC−AFM)を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the algorithm (NC-AFM) of a new approach. スキャナの状態を示す図である。It is a figure which shows the state of a scanner. AC−AFMの位相差信号を利用したNC−AFMの衝突防止高速アプローチのアルゴリズムを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the algorithm of the collision prevention high-speed approach of NC-AFM using the phase difference signal of AC-AFM. AC−AFMの位相差信号を利用したNC−AFMの衝突防止高速アプローチのアルゴリズムの他の例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the other example of the algorithm of the collision prevention high-speed approach of NC-AFM using the phase difference signal of AC-AFM. 本発明のダメージレス高速アプローチの説明図である。It is explanatory drawing of the damageless high-speed approach of this invention. ACモードのAFMの実施の形態例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the embodiment of AC mode AFM. AC−AFMの際のRMS−DC出力信号を示す図である。It is a figure which shows the RMS-DC output signal in the case of AC-AFM.

符号の説明Explanation of symbols

1 試料
2 スキャナ
3 モータ
4 レーザダイオード
5 圧電素子(PZT)
6 探針
7 フォトディテクタ(PD)
8 プリアンプ
10 誤差アンプ
11 基準値
12 フィードバック回路
13 A/D変換器
14 パソコン(PC)
15aFM復調器
16 アッテネータ
17 HV−アンプ
18 スパンジェネレータ
19 HV−アンプ
1 Sample 2 Scanner 3 Motor 4 Laser Diode 5 Piezoelectric Element (PZT)
6 Probe 7 Photo detector (PD)
8 Preamplifier 10 Error amplifier 11 Reference value 12 Feedback circuit 13 A / D converter 14 Personal computer (PC)
15aFM demodulator 16 Attenuator 17 HV-Amplifier 18 Span generator 19 HV-Amplifier

Claims (4)

探針を使用して試料表面を走査し、試料表面の凹凸を原子分解能で測定を行なう走査型プローブ顕微鏡において、
第1段階では、探針への加振信号と探針からの信号を光検出器で検出した信号との位相差を算出し、該位相差信号の所定の変化を検出するまでフィードバック制御を行ない、
次に、第2段階では、前記光検出器の出力である試料表面観察フィードバック信号を用いてフィードバック制御を行なって、探針と試料表面間の距離を制御することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡の探針と試料表面間の距離制御方法。
In a scanning probe microscope that scans the sample surface using a probe and measures the unevenness of the sample surface with atomic resolution,
In the first stage, the phase difference between the excitation signal to the probe and the signal detected by the photodetector from the probe is calculated, and feedback control is performed until a predetermined change in the phase difference signal is detected. ,
Next, in the second stage, the distance between the probe and the sample surface is controlled by performing feedback control using the sample surface observation feedback signal which is the output of the photodetector, and the scanning probe microscope For controlling the distance between the probe and the sample surface.
前記試料表面観察フィードバック信号として、振幅信号又はFMD値を用いることを特徴とする請求項1記載の走査型プローブ顕微鏡の探針と試料表面間の距離制御方法。   2. The distance control method between a probe of a scanning probe microscope and a sample surface according to claim 1, wherein an amplitude signal or an FMD value is used as the sample surface observation feedback signal. 前記第1段階における制御はモータを用いて行ない、前記第2段階における制御はピエゾ素子の伸縮とモータとを用いて行なうことを特徴とする請求項1記載の走査型プローブ顕微鏡の探針と試料表面間の距離制御方法。   2. The probe and sample of a scanning probe microscope according to claim 1, wherein the control in the first stage is performed using a motor, and the control in the second stage is performed using a piezoelectric element expansion and contraction and a motor. Distance control method between surfaces. 探針を使用して試料表面を走査し、試料表面の凹凸を原子分解能で測定を行なう走査型プローブ顕微鏡において、
第1段階では、探針への加振信号と探針からの信号を光検出器で検出した信号との位相差を算出し、該位相差信号の所定の変化を検出するまでフィードバック制御を行なう第1の制御手段と、
前記光検出器の出力である試料表面観察フィードバック信号を用いてフィードバック制御を行なって、探針と試料表面間の距離を制御する第2の制御手段と、
を具備して構成される走査型プローブ顕微鏡。
In a scanning probe microscope that scans the sample surface using a probe and measures the unevenness of the sample surface with atomic resolution,
In the first stage, the phase difference between the excitation signal to the probe and the signal detected by the photodetector from the probe is calculated, and feedback control is performed until a predetermined change in the phase difference signal is detected. First control means;
A second control means for controlling the distance between the probe and the sample surface by performing feedback control using a sample surface observation feedback signal which is an output of the photodetector;
A scanning probe microscope comprising:
JP2005219116A 2005-07-28 2005-07-28 Method of measuring distance between probe and sample surface of scanning probe microscope and scanning probe microscope Expired - Fee Related JP4571554B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005219116A JP4571554B2 (en) 2005-07-28 2005-07-28 Method of measuring distance between probe and sample surface of scanning probe microscope and scanning probe microscope

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005219116A JP4571554B2 (en) 2005-07-28 2005-07-28 Method of measuring distance between probe and sample surface of scanning probe microscope and scanning probe microscope

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007033321A true JP2007033321A (en) 2007-02-08
JP4571554B2 JP4571554B2 (en) 2010-10-27

Family

ID=37792761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005219116A Expired - Fee Related JP4571554B2 (en) 2005-07-28 2005-07-28 Method of measuring distance between probe and sample surface of scanning probe microscope and scanning probe microscope

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4571554B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008032405A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Jeol Ltd Non-contact atomic force microscope and operation program thereof
JP2009019943A (en) * 2007-07-11 2009-01-29 Sii Nanotechnology Inc Scanning probe microscope
JP2010197139A (en) * 2009-02-24 2010-09-09 Jeol Ltd Probe approach method in spm
JP2010210609A (en) * 2009-02-10 2010-09-24 Sii Nanotechnology Inc Approach method for probe and sample in scanning probe microscope
JP2011033482A (en) * 2009-07-31 2011-02-17 Kyoto Univ Control device, atomic force microscope, control method, and program
JP2013178287A (en) * 2009-02-10 2013-09-09 Hitachi High-Tech Science Corp Method for proximity between probe and sample in scanning probe microscope

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0674754A (en) * 1992-06-12 1994-03-18 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Automatic tip approaching method and device for scanning type probe microscope
JPH09101317A (en) * 1995-10-05 1997-04-15 Olympus Optical Co Ltd Approach apparatus for scan type probe microscope
JPH10239328A (en) * 1997-02-25 1998-09-11 Seiko Instr Inc Method of and apparatus for roughly moving probe in scanning probe microscope
JPH10282127A (en) * 1997-04-04 1998-10-23 Hitachi Constr Mach Co Ltd Scanning probe microscope
JP2005140782A (en) * 2003-11-04 2005-06-02 Pacific Nanotechnology Inc Vibration scanning type probe microscope
JP2005164278A (en) * 2003-11-28 2005-06-23 Olympus Corp Approach method for scanning probe microscope and scanning probe microscope

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0674754A (en) * 1992-06-12 1994-03-18 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Automatic tip approaching method and device for scanning type probe microscope
JPH09101317A (en) * 1995-10-05 1997-04-15 Olympus Optical Co Ltd Approach apparatus for scan type probe microscope
JPH10239328A (en) * 1997-02-25 1998-09-11 Seiko Instr Inc Method of and apparatus for roughly moving probe in scanning probe microscope
JPH10282127A (en) * 1997-04-04 1998-10-23 Hitachi Constr Mach Co Ltd Scanning probe microscope
JP2005140782A (en) * 2003-11-04 2005-06-02 Pacific Nanotechnology Inc Vibration scanning type probe microscope
JP2005164278A (en) * 2003-11-28 2005-06-23 Olympus Corp Approach method for scanning probe microscope and scanning probe microscope

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008032405A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Jeol Ltd Non-contact atomic force microscope and operation program thereof
JP2009019943A (en) * 2007-07-11 2009-01-29 Sii Nanotechnology Inc Scanning probe microscope
JP2010210609A (en) * 2009-02-10 2010-09-24 Sii Nanotechnology Inc Approach method for probe and sample in scanning probe microscope
US8024816B2 (en) 2009-02-10 2011-09-20 Sii Nanotechnology Inc. Approach method for probe and sample in scanning probe microscope
JP2013178287A (en) * 2009-02-10 2013-09-09 Hitachi High-Tech Science Corp Method for proximity between probe and sample in scanning probe microscope
JP2010197139A (en) * 2009-02-24 2010-09-09 Jeol Ltd Probe approach method in spm
JP2011033482A (en) * 2009-07-31 2011-02-17 Kyoto Univ Control device, atomic force microscope, control method, and program

Also Published As

Publication number Publication date
JP4571554B2 (en) 2010-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3745718B2 (en) Method for controlling the movement of the probe tip of a scanning force microscope
US5262643A (en) Automatic tip approach method and apparatus for scanning probe microscope
JP4571554B2 (en) Method of measuring distance between probe and sample surface of scanning probe microscope and scanning probe microscope
US8024816B2 (en) Approach method for probe and sample in scanning probe microscope
JP4851375B2 (en) Phase feedback AFM control method and phase feedback AFM
US20160109477A1 (en) Method and Apparatus of Tuning a Scanning Probe Microscope
JP2009222520A (en) Control method for distance between probe of scanning probe microscope and sample surface, and scanning probe microscope
JP3764917B2 (en) High frequency micro vibration measurement device
JP4021298B2 (en) Sampling scanning probe microscope and scanning method
JP4721973B2 (en) Non-contact atomic force microscope and non-contact atomic force microscope operation program
US6745617B2 (en) Scanning probe microscope
JP2005147979A (en) Scanning probe microscope
TWI663404B (en) Scanning probe microscope and method for increasing a scan speed of a scanning probe microscope in the step-in scan mode
JP3548972B2 (en) Probe moving method and moving mechanism for scanning probe microscope
JPH10206433A (en) Scanning-type probe microscope
JP5283038B2 (en) Control device, atomic force microscope, control method and program
JP2012018076A (en) Method and apparatus for measuring magnetic force of specimen using scanning probe microscope
JP5553926B2 (en) Proximity method of probe and sample in scanning probe microscope
JP5189009B2 (en) Probe approach in SPM
TW202311747A (en) Afm imaging with creep correction
JP3167287B2 (en) Micro vibration applying device, micro vibration applying method and surface state detecting device
JPH09281119A (en) Probe-sample approach mechanism of scanning type probe microscope
JP2008304211A (en) Automatic tuning method of cantilever
JP2008203058A (en) Lever excitation mechanism and scanning probe microscope
JP2003215019A (en) Method for measuring oscillation amplitude of cantilever in noncontact scanning probe microscope and scanning probe microscope

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080403

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100810

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100812

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees