JP2007021044A - Method of deforming deformable mirror, optical device, and observation device for ocular fundus - Google Patents

Method of deforming deformable mirror, optical device, and observation device for ocular fundus Download PDF

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Michiko Nakanishi
美智子 中西
Hiroyuki Kawashima
浩幸 川島
Noriko Saito
紀子 齋藤
Isao Minegishi
功 峯岸
Akio Kobayashi
亮夫 小林
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Topcon Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To compensate aberrations of an optical device including an observation device for ocular fundus by using a deformable mirror offsetting wavefront distortion of a luminous flux of a reflection face. <P>SOLUTION: The deformable mirror is equipped with a plurality of electrode parts and the thin film-shaped reflection face which is disposed counter to the electrodes and generates distortion by an electrostatic voltage applied to the electrode parts, measures the voltage applied to each electrode part when a desired shape of the reflection face is formed by detecting reflection of the reflection face, takes the applied voltage to each electrode part corresponding to the reference shape of the reflection face as one set to store the prescribed number of sets corresponding to the prescribed number of different shapes of the reflection face, deforms the reflection face into the desired shape by superposing the stored sets of the electrode part and the applied voltage, and compensates the aberration. Preferably, the reference shape of the reflection face is stored in relation to a prescribed dimensionality of Zernike polynomials. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、被写体に照射した光の収差を補正するための可変形状ミラーの変形方法および可変形状ミラーを用いた光学装置及び眼底観察装置に関する。   The present invention relates to a deformation method of a deformable mirror for correcting aberration of light irradiated to a subject, an optical apparatus using the deformable mirror, and a fundus oculi observation device.

従来の光学装置において、被写体に照射した光の光学的歪みを補正するためにDeformable Mirror(以下、可変形状ミラーと略称する)が用いられている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。   In a conventional optical apparatus, a deformable mirror (hereinafter abbreviated as a deformable mirror) is used to correct optical distortion of light irradiated on a subject (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

また、眼底観察装置等において、眼底からの反射光は、眼光学系が不完全であるため収差を含み、鮮明な眼底像は得られない。この光学的ひずみを可変形状ミラーで補正することができる(例えば、特許文献3参照)。この眼底観察装置は、撮影光源から出射された光束を被検者の眼(被検眼という)に照射して、その眼底で反射された反射光束を撮影光として記録手段に導いて被検眼の眼底像の記録を行う装置である。   In a fundus oculi observation device or the like, the reflected light from the fundus includes aberrations because the eye optical system is incomplete, and a clear fundus image cannot be obtained. This optical distortion can be corrected by a deformable mirror (see, for example, Patent Document 3). This fundus oculi observation device irradiates a subject's eye (referred to as the subject's eye) with a light beam emitted from a photographing light source, and guides the reflected light beam reflected on the fundus as a photographing light to a recording means to cause the fundus of the subject's eye. An apparatus for recording an image.

一般に、図17及び図18に示すように、可変形状ミラー300は、は室内雰囲気(空気)中に配置され、枠302に張設された薄膜ミラー(メンブレン)301と、この薄膜ミラー301に所定の間隔を開けて形成した電極305を備えて構成されている、薄膜ミラー301は、表面を光反射面とした可撓性の膜体であり、電極305は平板状の基板で形成された基板304上面に複数(この例では5つ、305−1〜305−5)配置されている。本例では、各電極305−1〜305−5にはそれぞれ所定の電圧V1〜V5を印加できる電源306が接続され、各電極305に所定電圧を印加することにより、印加電圧Vと薄膜ミラー電極間距離に応じた静電力によって電極305に対向した部位の薄膜ミラー301を引き寄せ所望の歪みが発生するように変形させる。なお、図中符号307は、薄膜ミラー301と基板304との間隔を保持する間隔保持部材を示している。このような可変形状ミラー300は、図18に示すように、各電極305−1〜305−5に所定の電圧V1〜V5を印加すると、所望の形状に変形する。   In general, as shown in FIGS. 17 and 18, the deformable mirror 300 is arranged in an indoor atmosphere (air), a thin film mirror (membrane) 301 stretched around a frame 302, and a predetermined thickness on the thin film mirror 301. The thin film mirror 301 is a flexible film body having a light reflecting surface as a surface, and the electrode 305 is a substrate formed of a flat substrate. A plurality (5 in this example, 305-1 to 305-5) are arranged on the upper surface of 304. In this example, a power source 306 capable of applying predetermined voltages V1 to V5 is connected to each of the electrodes 305-1 to 305-5. By applying a predetermined voltage to each electrode 305, the applied voltage V and the thin film mirror electrode are applied. The thin film mirror 301 at a portion facing the electrode 305 is pulled by an electrostatic force corresponding to the distance, and is deformed so as to generate a desired distortion. In the figure, reference numeral 307 denotes an interval holding member that holds an interval between the thin film mirror 301 and the substrate 304. As shown in FIG. 18, such a deformable mirror 300 is deformed into a desired shape when predetermined voltages V1 to V5 are applied to the electrodes 305-1 to 305-5.

特開2004−247947号公報JP 2004-247947 A 特開平9−152505号公報JP-A-9-152505 特開平11−137522号公報JP-A-11-137522

ところで、上述した従来の可変形状ミラー300には、多数の電極部を備えており、薄膜ミラー301を所定の形状に変形させるとき個々の電極部に所定の電圧を印加しなければならない。しかし、各電極部に所定の電圧を正確に印加することは容易ではなく、すべての電極部に印可する電圧を正確に設定することは煩雑で時間を要し、作業効率が低下してしまうこととなる。   By the way, the conventional deformable mirror 300 described above includes a large number of electrode portions, and when the thin film mirror 301 is deformed into a predetermined shape, a predetermined voltage must be applied to each electrode portion. However, it is not easy to accurately apply a predetermined voltage to each electrode part, and setting the voltage to be applied to all the electrode parts is complicated and time-consuming, resulting in a decrease in work efficiency. It becomes.

そこで、本発明では、上記問題点を解消すべく、装置からの出力信号を基に適正な出力信号が得られるように複数の電極部に印加する電圧を、組としてあらかじめ記憶することができる記憶部を設け、短時間で簡易に個々の電圧補正を行い、作業効率を上げることができる光学装置及び眼底観察装置を提供することを目的とする。   Therefore, in the present invention, in order to solve the above-described problem, the voltage applied to the plurality of electrode units can be stored in advance so as to obtain an appropriate output signal based on the output signal from the apparatus. It is an object of the present invention to provide an optical device and a fundus oculi observation device that can provide a working part, perform individual voltage correction in a short time, and increase work efficiency.

請求項1の発明は、複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーの変形方法において、前記反射面の反射光を検出して、所望の反射面形状をなすときの各電極部への印加電圧を測定し、一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を1つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶し、前記記憶された電極部と印加電圧との組を重ね合わせることにより所望の形状に反射面を変形させることを特徴とする可変形状ミラーの変形方法である。   The invention of claim 1 comprises a plurality of electrode portions and a thin film-like reflecting surface that is arranged to face these electrodes and that is distorted by an electrostatic voltage applied to the electrode portions. In the deformation method of the deformable mirror for correcting the reflection surface, the reflected light of the reflection surface is detected, the applied voltage to each electrode part when the desired reflection surface shape is formed is measured, and the reflection surface shape as a reference A predetermined number of sets corresponding to a predetermined different number of reflecting surface shapes is stored as a set of voltages applied to the respective electrode units corresponding to, and the stored sets of electrode units and applied voltages are superimposed. In this way, the deformable mirror is deformed by deforming the reflecting surface into a desired shape.

請求項2の発明は、請求項1の可変形状ミラーの変形方法において、前記反射面の基準反射面形状をゼルニケ多項式の所定の次元の要素に対応して備えていることを特徴とする。即ち、本発明では、前記反射面形状を指定する組は、ゼルニケ次数の形状Z(n,m)について、1番の電極に所定のV1ボルトの電圧、2番の電極にV2ボルトの電圧・・・i番の電極にViボルトの電圧を印加するとし、電極の番号とその電極に印加する電圧値の組をセットにしたものをいう。従って、各ゼルニケ次数の形状に対応して反射面は規則的に変形するものとなり、これらを重ね合わせることにより、任意の反射面形状を得ることができる。   According to a second aspect of the present invention, in the deformable mirror deformation method according to the first aspect, the reference reflecting surface shape of the reflecting surface is provided corresponding to an element of a predetermined dimension of the Zernike polynomial. In other words, according to the present invention, the set for designating the reflecting surface shape is such that the Zernike degree shape Z (n, m) has a predetermined V1 volt voltage on the first electrode, a V2 volt voltage on the second electrode, ... It is assumed that a voltage of Vi volts is applied to the i-th electrode and a set of the electrode number and the voltage value applied to the electrode is set. Accordingly, the reflecting surface is regularly deformed corresponding to the shape of each Zernike order, and an arbitrary reflecting surface shape can be obtained by superimposing these.

請求項3の発明は、複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、所定の形状に変形され反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーと、一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を1つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶した記憶部と、可変形状ミラーにより反射された対象物からの光の収差を検出する収差検出部と、収差検出部により検出された収差検出信号に基づいて、記憶部に記憶された電極部と印加電圧との組を選択し、これらを重ね合わせて、電極部に電圧を印加して反射面を変形させて前記収差を補償する演算制御部とを設けたことを特徴とする光学装置である。   The invention of claim 3 includes a plurality of electrode portions, and a thin film-like reflecting surface that is disposed to face these electrodes and that is distorted by an electrostatic voltage applied to the electrode portions, and is deformed into a predetermined shape. A variable shape mirror that corrects wavefront distortion of the light beam on the reflection surface and a predetermined voltage corresponding to a predetermined different number of reflection surface shapes, with one set of voltages applied to the electrode portions corresponding to the reference reflection surface shape. Is stored in the storage unit based on the aberration detection signal detected by the aberration detection unit and the aberration detection unit that detects the aberration of the light from the object reflected by the deformable mirror. And a calculation controller that compensates the aberration by selecting a set of the applied electrode part and the applied voltage, superimposing them, and applying a voltage to the electrode part to deform the reflecting surface. It is an optical device.

請求項4の発明は、請求項3の光学装置において、前記記憶部には、前記反射面の基準反射面形状をゼルニケ多項式の所定の次元の要素に対応して備えていることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the optical device according to the third aspect, the storage unit includes a reference reflecting surface shape of the reflecting surface corresponding to elements of a predetermined dimension of the Zernike polynomial. .

請求項5の発明は、請求項3及び4の光学装置を含むことを特徴とする眼底観察装置である。 The invention of claim 5 is a fundus oculi observation device comprising the optical device of claims 3 and 4.

請求項1の発明によれば、収差補償のため、可変形状ミラーの反射面を変形して所望の形状とするときには、記憶しておいた各電極への印加電圧の組を重ね合わせ、得られた値に基づいて各電極に電圧を印加すればよいから、短時間で容易に可変形状ミラーの反射面を変形でき、収差補正に際して、試行錯誤的に操作を行うことなく作業効率を上げることができる。   According to the first aspect of the present invention, when the reflecting surface of the deformable mirror is deformed to have a desired shape for aberration compensation, the stored sets of applied voltages to the respective electrodes are superimposed and obtained. Since the voltage can be applied to each electrode based on the measured value, the reflecting surface of the deformable mirror can be easily deformed in a short time, and the work efficiency can be improved without performing trial and error operations when correcting the aberration. it can.

請求項2の発明によれば、反射面の基準反射面形状をゼルニケの多項式の次数に対応して備えているから、基準反射面形状を階層的に整理して格納しておくことができる。   According to the second aspect of the present invention, since the reference reflection surface shape of the reflection surface is provided corresponding to the order of the Zernike polynomial, the reference reflection surface shape can be hierarchically arranged and stored.

請求項3の発明によれば、光学装置において、収差補償のため可変形状ミラーの反射面を変形して所望の形状とするときには、収差検出部からの収差信号に対応して、記憶しておいた各電極への印加電圧の組を重ね合わせ、得られた値に基づいて各電極に電圧を印加すればよいから、短時間で容易に可変形状ミラーの反射面を変形でき、収差補正に際して、作業効率を上げることができる。   According to the invention of claim 3, in the optical apparatus, when the reflecting surface of the deformable mirror is deformed to have a desired shape for aberration compensation, it is stored in correspondence with the aberration signal from the aberration detector. Since it is only necessary to superimpose a set of applied voltages to each electrode and apply a voltage to each electrode based on the obtained value, the reflecting surface of the deformable mirror can be easily deformed in a short time. Work efficiency can be increased.

請求項4の発明によれば、記憶部には、反射面の基準反射面形状をゼルニケの多項式の次数に対応して備えているから、基準反射面形状を階層的に整理して格納しておくことができ、記憶部の容量を少なくすることができるほか、必要な反射面形状を得るのに試行錯誤的な操作をおこなうことがなく、作業効率をあげることができる。   According to the invention of claim 4, since the reference reflecting surface shape of the reflecting surface is provided corresponding to the order of the Zernike polynomial, the reference reflecting surface shape is hierarchically arranged and stored in the storage unit. In addition to reducing the capacity of the storage unit, it is possible to increase work efficiency without performing trial and error operations to obtain a necessary reflecting surface shape.

請求項5の発明によれば、眼球に起因する収差を可変形状ミラーで補償して、高い解像度での眼底像を容易に得ることができる。   According to the invention of claim 5, it is possible to easily obtain a fundus image with a high resolution by compensating the aberration caused by the eyeball with the deformable mirror.

以下本発明に係る可変形状ミラーの変形方法の実施の形態について説明する。本例の対象となる可変形状ミラーは、MEMS(Micro
Electro Mechanical Systems)プロセスで製作したメンブレンタイプの可変形状ミラー(デフォーマブルミラー(DMと略記))であり、眼底観察装置において人眼の収差補正を行うものである。可変形状ミラー10は、SOIウェハを加工して形成したシリコンメンブレンミラー部11と85個の電極12とからなる。シリコンメンブレンの直径は12mm、最大変位量は駆動電圧180Vにて16μmであった。
Embodiments of a deformable mirror deformation method according to the present invention will be described below. The deformable mirror targeted by this example is MEMS (Micro
This is a membrane-type deformable mirror (deformable mirror (abbreviated as DM)) manufactured by the Electro Mechanical Systems process, and corrects aberrations of the human eye in the fundus oculi observation device. The deformable mirror 10 includes a silicon membrane mirror portion 11 formed by processing an SOI wafer and 85 electrodes 12. The diameter of the silicon membrane was 12 mm, and the maximum displacement was 16 μm at a driving voltage of 180V.

本例ではシャックハルトマン波面センサーで測定された模型眼の収差を、Zernike多項式に展開し、Zernike多項式の各項に対する適合する電圧配列を用いて、メンブレンの形状が眼の収差を打ち消すように可変形状ミラーの駆動電圧を決定する。これらの電圧配列はあらかじめ実験的に決めたものである。本例では、模型眼の収差をRMS0.1μm以下に補正することができた。この例において、可変形状ミラーの有効径は7.5mmであり、模型眼の瞳径は8.5mmである。   In this example, the model eye aberration measured by the Shack-Hartmann wavefront sensor is expanded into a Zernike polynomial, and the shape of the membrane is made variable so that the shape of the membrane cancels the eye aberration by using a voltage arrangement suitable for each term of the Zernike polynomial. Determine the drive voltage of the mirror. These voltage arrangements are experimentally determined in advance. In this example, the aberration of the model eye could be corrected to RMS 0.1 μm or less. In this example, the effective diameter of the deformable mirror is 7.5 mm, and the pupil diameter of the model eye is 8.5 mm.

高解像眼底カメラは人間の視細胞が見えるような綺麗な像を得るよう期待されている。このようなカメラを用いることにより、蛍光眼底撮影を行わずに新生血管などの微細な障害を撮影できるようになり、患者の肉体的負担は軽減される。眼底写真を撮る場合、人眼収差の影響により、眼底カメラが本来持っている解像度が得られない。この問題を解決するため、眼の収差を補正できるアダプティブオプティクスが研究されている。ビジョンサイエンス分野だけでなく天文学やレーザーコミュニケーション分野におけるアダプティブオプティクスに関する研究は、MEMSテクノロジーを用いた可変形状ミラーを用いて様々な研究機関で行われてきた。現在までに研究開発されてきた可変形状ミラーは、一般的にセグメントアレイタイプの可変形状ミラーとメンブレンタイプの可変形状ミラーに分類される。サーフェスマイクロマシニングにより作られるセグメントアレイタイプの可変形状ミラーは、比較的小さな変位量(数μm)であるが、細密な形状制御が容易である。一方、バルクマイクロマシニングで作るメンブレンタイプの可変形状ミラーは、大きな変形量(〜10μmまたはそれ以上)という利点はあるが、要求されるミラー形状を正確に作るのが難しい。   High-resolution fundus cameras are expected to produce beautiful images that allow human photoreceptors to be seen. By using such a camera, it becomes possible to photograph a fine obstacle such as a new blood vessel without performing fluorescence fundus photographing, and the physical burden on the patient is reduced. When taking a fundus picture, the resolution originally possessed by the fundus camera cannot be obtained due to the effect of human eye aberration. In order to solve this problem, adaptive optics that can correct eye aberrations has been studied. Research on adaptive optics not only in the field of vision science but also in the field of astronomy and laser communication has been conducted at various research institutes using deformable mirrors using MEMS technology. The deformable mirrors that have been researched and developed so far are generally classified into a segment array type deformable mirror and a membrane type deformable mirror. A segment array type deformable mirror made by surface micromachining has a relatively small displacement (several μm), but fine shape control is easy. On the other hand, a membrane-type deformable mirror made by bulk micromachining has an advantage of a large deformation amount (-10 μm or more), but it is difficult to accurately make a required mirror shape.

人眼の収差は比較的大きい(〜10μm)ので、高解像眼底カメラでは、大きな収差補正能力を持つ可変形状ミラーが必要となる。よって、我々はメンブレンタイプの可変形状ミラーを開発し、それをアダプティブオプティクスに適用した。メンブレンタイプの可変形状ミラーを含む収差補正システムにおける高速アルゴリズムも、正確なミラー形状を得るために必要となる。   Since the aberration of the human eye is relatively large (-10 μm), a high-resolution fundus camera requires a deformable mirror having a large aberration correction capability. Therefore, we developed a membrane-type deformable mirror and applied it to adaptive optics. A fast algorithm in an aberration correction system including a membrane-type deformable mirror is also required to obtain an accurate mirror shape.

以下、可変形状ミラーの製作プロセスフロー、可変形状ミラーの性能、可変形状ミラーの収差補正手法、アダプティブオプティクスシステムを用いた収差補正結果について記載する。   In the following, the process flow of the deformable mirror, the performance of the deformable mirror, the aberration correction method of the deformable mirror, and the aberration correction result using the adaptive optics system will be described.

本例に係る可変形状ミラーの概略構造を図1に、その外観を図2に示す。本例に係る可変形状ミラー10は、シリコンメンブレンミラー部11と、85個の電極12を形成した多層PCB基板14と、両者の間隔を保つスペーサ13とを備えている。また、多層PCB基板の反りを低減するため、PCBの裏面に金属プレート17を接着し、この金属プレート17を可変形状ミラーの取り付け部として機能させている。また可変形状ミラー10は金属フレーム15とガラス窓16とを設けデバイスを保護するものとしている。   The schematic structure of the deformable mirror according to this example is shown in FIG. 1, and the appearance is shown in FIG. The deformable mirror 10 according to this example includes a silicon membrane mirror unit 11, a multilayer PCB substrate 14 on which 85 electrodes 12 are formed, and a spacer 13 that keeps a distance therebetween. Further, in order to reduce the warpage of the multilayer PCB substrate, a metal plate 17 is bonded to the back surface of the PCB, and this metal plate 17 functions as a mounting portion for the deformable mirror. The deformable mirror 10 is provided with a metal frame 15 and a glass window 16 to protect the device.

本例に係る可変形状ミラーは以下の手順で作成した。図3に示すように、SOIウェハ(図2(a))の厚さ400μmのハンドル層をDRIE(Deep−Reactive
Ion Etching)により直径12mmで円形にエッチングした(図3(b))。1μm厚の酸化層はフッ酸により除去した(図3(c))。そして、アルミニウム(200nm)をシリコンメンブレン(厚さ6μm)に高反射ミラー(633nmで90%)として蒸着した(図3(d))。シリコンメンブレンミラーはエポキシ接着剤と直径50μmのガラスボールを用いた3箇所のスペーサを介し、PCB基板上に固定した。このガラスボールが、ミラーと電極間の間隔を精密にコントロールする。さらに、導電性接着剤を用いてシリコンメンブレンと多層PCBのGNDを電気的に接続した。
The deformable mirror according to this example was created by the following procedure. As shown in FIG. 3, a 400 μm thick handle layer of an SOI wafer (FIG. 2A) is formed by DRIE (Deep-Reactive).
Etching was performed in a circular shape with a diameter of 12 mm by Ion Etching (FIG. 3B). The 1 μm thick oxide layer was removed with hydrofluoric acid (FIG. 3C). Then, aluminum (200 nm) was deposited on a silicon membrane (thickness 6 μm) as a highly reflective mirror (90% at 633 nm) (FIG. 3D). The silicon membrane mirror was fixed on the PCB substrate through three spacers using an epoxy adhesive and a glass ball having a diameter of 50 μm. This glass ball precisely controls the distance between the mirror and the electrode. Furthermore, the silicon membrane and the GND of the multilayer PCB were electrically connected using a conductive adhesive.

図4は85個すべての電極に同一電圧を印加したときの、メンブレン中央の可変形状ミラーの変位量を示す。およそ180Vで最大16μmの変位量が得られている。応答時間(立ち上がり、立下り)は10ms以下である(図5中の表1参照)。   FIG. 4 shows the amount of displacement of the deformable mirror at the center of the membrane when the same voltage is applied to all 85 electrodes. A displacement of up to 16 μm is obtained at about 180V. The response time (rise, fall) is 10 ms or less (see Table 1 in FIG. 5).

以下上記可変形状ミラーの収差補正性能の判定について説明する。ミラー形状の測定方法の概略を図6に示す。本例では駆動回路により可変形状ミラーの電極に所定の電圧が印加され、ミラー形状をフィゾー干渉計で測定する。この駆動回路は各電極に300Vまで印加できるものである。あるミラー形状(例えばZernike多項式の(2,±2)次の形)を作るのに、周辺部分の電極には300V近くの電圧を印加する必要がある。第1のコンピュータPC1は、フィゾー干渉計のCCDで検出される干渉縞よりミラー面形状と各次数のZernike係数を算出する。第2のコンピュータPC2は、可変形状ミラーの85個の電極に印加する電圧を設定する。   Hereinafter, determination of the aberration correction performance of the deformable mirror will be described. An outline of the mirror shape measurement method is shown in FIG. In this example, a predetermined voltage is applied to the electrode of the deformable mirror by the drive circuit, and the mirror shape is measured with a Fizeau interferometer. This drive circuit can apply up to 300V to each electrode. In order to create a certain mirror shape (for example, a (2, ± 2) th order shape of a Zernike polynomial), it is necessary to apply a voltage of about 300 V to the peripheral electrode. The first computer PC1 calculates the mirror surface shape and the Zernike coefficient of each order from the interference fringes detected by the CCD of the Fizeau interferometer. The second computer PC2 sets the voltage applied to the 85 electrodes of the deformable mirror.

はじめに、可変形状ミラーに各Zernike次数の4次までの形状を形成した。結果を図7に示す。傾き成分(すなわちZernike多項式の1次成分)と球面成分(Zernike多項式の(2,0)成分)は、図7におけるミラー形状から、さらに、この説明における以下のすべての収差図から削除されている。なぜなら、眼底カメラではこれらの成分を他の光学系で補正できるからである。なお、可変形状ミラーの有効径は7.5mmとしている。   First, shapes up to the fourth order of each Zernike order were formed on the deformable mirror. The results are shown in FIG. The tilt component (that is, the first-order component of the Zernike polynomial) and the spherical component (the (2,0) component of the Zernike polynomial) are deleted from the mirror shape in FIG. 7 and from all the following aberration diagrams in this description. . This is because the fundus camera can correct these components with other optical systems. The effective diameter of the deformable mirror is 7.5 mm.

これにより、ゼルニケ次数の形状Z(n,m)について、1番の電極に所定のV1ボルトの電圧、2番の電極にV2ボルトの電圧・・・85番の電極にV85ボルトの電圧を印加するとし、電極の番号とその電極に印加する電圧値の組をセットにしたものを得る。従って、各ゼルニケ次数の形状に対応して反射面は図7に示すように規則的な形状をなし、これらを重ね合わせることにより、任意の反射面形状を得ることができる。   As a result, for the Zernike degree shape Z (n, m), a predetermined voltage of V1 volts is applied to the first electrode, a voltage of V2 volts is applied to the second electrode, and a voltage of V85 volts is applied to the 85th electrode. Then, a set of electrode numbers and voltage values applied to the electrodes is obtained. Accordingly, the reflecting surface has a regular shape as shown in FIG. 7 corresponding to the shape of each Zernike order, and an arbitrary reflecting surface shape can be obtained by superimposing these.

次に、ウェーブフロントアナライザー(KR−9000PW、(株)トプコン製)で人眼収差を実際に測定し、そのデータを目標収差に設定した。人眼収差の例を図8に示す。これらの収差(図8における目標A,B,C)を補正できるような形状を可変形状ミラーで作ってみた。アダプティブオプティクスにて収差を補正する場合、可変形状ミラーの形状は目標収差の逆位相でその大きさが半分の形でなければならない。つまり残存収差量は式(1)で表される。
残存収差量=目標収差量+2(ミラー形状) ・・・(1)
Next, human eye aberration was actually measured with a wavefront analyzer (KR-9000PW, manufactured by Topcon Corporation), and the data was set as the target aberration. An example of human eye aberration is shown in FIG. A shape that can correct these aberrations (targets A, B, and C in FIG. 8) was made with a deformable mirror. When the aberration is corrected by adaptive optics, the shape of the deformable mirror must be opposite in phase to the target aberration and half the size. That is, the residual aberration amount is expressed by the equation (1).
Residual aberration amount = Target aberration amount + 2 (mirror shape) (1)

図8に示すように、人眼の目標収差はこの可変形状ミラーにより補正できている。残存収差量のRMSは0.1μm、またはそれ以下である。   As shown in FIG. 8, the target aberration of the human eye can be corrected by this deformable mirror. The residual aberration amount RMS is 0.1 μm or less.

次に本例に係る可変形状ミラーを用いて収差を補正する方法について説明する。図9に、メンブレン中央の可変形状ミラーの変位量と全電極に印加した電圧の2乗のグラフを示す。変位は電圧の2乗にほぼ比例している。このことにより、Zernike係数の大きさが可変形状ミラーの全電極に印加する電圧の2乗に比例することがわかる。そこで、いくつかの2乗電圧分布を電極に印加した。その電圧は、図7に示したZernike次数の形を作ったときの電圧値の2乗値に比例したものとしている。可変形状ミラーの各電極に印加する電圧Vxは、式(2)のように計算される。   Next, a method for correcting aberration using the deformable mirror according to this example will be described. FIG. 9 shows a graph of the displacement amount of the deformable mirror at the center of the membrane and the square of the voltage applied to all the electrodes. The displacement is approximately proportional to the square of the voltage. This shows that the magnitude of the Zernike coefficient is proportional to the square of the voltage applied to all the electrodes of the deformable mirror. Therefore, several square voltage distributions were applied to the electrodes. The voltage is proportional to the square value of the voltage value when the Zernike order form shown in FIG. 7 is formed. The voltage Vx applied to each electrode of the deformable mirror is calculated as shown in Equation (2).

Vx 2 = (dx / do) Vo 2 ....(2)
ここでVは、図7において印加した電圧値、dは図7において計算されたZernike係数の大きさ、dxは新たに目標としたZernike係数の大きさである。
Vx 2 = (dx / do) Vo 2 .... (2)
Here, V 0 is the voltage value applied in FIG. 7, d 0 is the magnitude of the Zernike coefficient calculated in FIG. 7, and dx is the magnitude of the newly targeted Zernike coefficient.

図10は、Z(3,-1)のZernike係数に関する目標とした係数と実際に作られたZernike係数を比べたものである。他のZernike係数でも、実験的に同じような関係が得られた。両者には比例関係が見られるが、実際に作られたZernike係数は目標とした係数より、常にわずかに大きくなっている。このことは図9に示したように、可変形状ミラーの変位量と電圧値の2乗が厳密には比例していないためである。しかし、目標と結果はリニアな関係にあるので、適当な電圧配列から、任意の大きさのZernike係数値を簡単に作り出すことができる。   FIG. 10 shows a comparison between the target coefficient for the Zernike coefficient of Z (3, -1) and the actually created Zernike coefficient. Similar relationships were experimentally obtained with other Zernike coefficients. Although there is a proportional relationship between the two, the actual Zernike coefficient is always slightly larger than the target coefficient. This is because the displacement amount of the deformable mirror and the square of the voltage value are not strictly proportional, as shown in FIG. However, since the target and the result have a linear relationship, a Zernike coefficient value having an arbitrary size can be easily generated from an appropriate voltage array.

さらに、複数のZernike係数に対して2乗電圧値の配列を加算して印加することにより、この可変形状ミラーにおいて任意の形状を作り出すことができることを実験結果は示している。目標形状がZernike成分;A,B,Cからから成るとき、上述のようにZernike係数A,B,Cを作る電圧配列の2乗;{VA(n)2},{VB(n)2},{VC(n)2}を計算する。ここで電極番号nに印加する電圧は、式(3)のように計算される。
V(n) = sqrt (Vadd (n) 2 - Vmin2 ) ....(3)
ここで、
Vadd (n) 2 = VA (n) 2+ VB (n) 2+ VC
(n) 2 ....(4)
さらに、
Vmin = min{ Vadd (1), Vadd (2), ... ,Vadd (85) }....(5)
である。電圧Vminは重ね合わせの電圧値を減らし、他のより高次のZernike係数に重大な影響を与えることなく、球面成分Z(2,0)の大きさを抑える。
式(3)−(5)で決めた電圧配列により実験的に作ったミラー形状とそのZernike係数を、計算により求めたミラー形状とそのZernike係数を比較した。Z(2,−2),Z(3,−3),Z(4,−4)の電圧配列を実験に用いた。これらのミラー形状とZernike係数は、図11(a),(b),(c)のとおりである。実験的に得られたミラー形状とZernike係数は、図9(d)のとおり、理論的に計算された(要求された)ミラー形状とZernike係数は、図11(e)のとおりであり、両者はほぼ一致している。このように、Zernike係数が式(3)を用いて重ね合せできることがわかる。
Furthermore, experimental results show that an arbitrary shape can be created in this deformable mirror by adding and applying an array of square voltage values to a plurality of Zernike coefficients. When the target shape is composed of Zernike components; A, B, and C, the square of the voltage array that creates Zernike coefficients A, B, and C as described above; {VA (n) 2 }, {VB (n) 2 } , {VC (n) 2 } is calculated. Here, the voltage applied to the electrode number n is calculated as shown in Equation (3).
V (n) = sqrt (Vadd (n) 2 -Vmin 2 ) .... (3)
here,
Vadd (n) 2 = VA (n) 2 + VB (n) 2 + VC
(n) 2 .... (4)
further,
Vmin = min {Vadd (1), Vadd (2), ..., Vadd (85)} .... (5)
It is. The voltage Vmin reduces the superposition voltage value and suppresses the magnitude of the spherical component Z (2, 0) without significantly affecting other higher-order Zernike coefficients.
The mirror shape experimentally created by the voltage arrangement determined by the equations (3) to (5) and its Zernike coefficient were compared with the mirror shape obtained by calculation and its Zernike coefficient. The voltage arrangement of Z (2, -2), Z (3, -3), Z (4, -4) was used for the experiment. These mirror shapes and Zernike coefficients are as shown in FIGS. 11 (a), (b), and (c). The experimentally obtained mirror shape and Zernike coefficient are as shown in FIG. 9 (d), and the theoretically calculated (required) mirror shape and Zernike coefficient are as shown in FIG. 11 (e). Are almost consistent. Thus, it can be seen that the Zernike coefficient can be overlaid using equation (3).

次に、本例に係る可変形状ミラーを使用した眼底観察装置について説明する。本例では模型眼の収差補正を行った。本例に係る眼底観察装置を図12に示す。この眼底観察装置100は、可変形状ミラー10と収差測定装置とを備えたアダプティブオプティクスシステムである。本例に係る眼底観察装置の光学系は、可変形状ミラー10、水晶体や角膜などの眼光学系で発生する収差を測定する収差測定装置であるシャックハルトマン波面センサー20、ビーム伝搬光学系30とからなる。このような装置において、収差は眼底像を劣化させるため、可変形状ミラー10で収差を補正することにより、綺麗な眼底像を得るようにしている。本例では模型眼40にシンドリカルレンズ41を取り付けて収差を発生させて、この収差を可変形状ミラー10で補償するものである。模型眼の眼底には5μmL/Sのパターンが配置してある。ビーム伝搬光学系30はビームスプリッタ31,34、可動プリズム32,ダイクロイックミラー33、レーザダイオード35、高感度CCD36、スーパールミネッセントダイオード(SLD)37を備えている。   Next, a fundus oculi observation device using the deformable mirror according to this example will be described. In this example, the aberration correction of the model eye was performed. FIG. 12 shows a fundus oculi observation device according to this example. The fundus oculi observation device 100 is an adaptive optics system including a deformable mirror 10 and an aberration measurement device. The optical system of the fundus oculi observation device according to this example includes a deformable mirror 10, a Shack-Hartmann wavefront sensor 20, which is an aberration measuring device that measures aberration generated in an eye optical system such as a crystalline lens or cornea, and a beam propagation optical system 30. Become. In such an apparatus, since the aberration deteriorates the fundus image, a beautiful fundus image is obtained by correcting the aberration with the deformable mirror 10. In this example, a cylindrical lens 41 is attached to the model eye 40 to generate an aberration, and this aberration is compensated by the deformable mirror 10. A pattern of 5 μmL / S is arranged on the fundus of the model eye. The beam propagation optical system 30 includes beam splitters 31 and 34, a movable prism 32, a dichroic mirror 33, a laser diode 35, a high sensitivity CCD 36, and a super luminescent diode (SLD) 37.

このアダプティブオプティクスシステムにおいて、球面収差は可動プリズム32を用いて光路長を調整することにより、自動的に補正することができる。なお、本例において、可変形状ミラー10の有効径は7.5mm、模型眼の瞳径は8.5mmである。可変形状ミラー10の入射角は15度である。   In this adaptive optics system, spherical aberration can be automatically corrected by adjusting the optical path length using the movable prism 32. In this example, the effective diameter of the deformable mirror 10 is 7.5 mm, and the pupil diameter of the model eye is 8.5 mm. The incident angle of the deformable mirror 10 is 15 degrees.

シャックハルトマン波面センサー20は、公知であり、ハルトマンプレート21(即ち、マイクロレンズアレイ)とCCD22から成る。CCD22はマイクロレンズの焦点位置に配置される。可変形状ミラー10とハルトマンプレート21は光学的に共役位置にある。波長840nmのSLD37が、不要な干渉ノイズを避けるため、シャックハルトマン波面センサー20の光源に使用される。SLD37、模型眼40の眼底、CCD22は共役位置にある。眼底像は波長633nmのLD光源を用いて得られる。   The Shack-Hartmann wavefront sensor 20 is known and includes a Hartmann plate 21 (that is, a microlens array) and a CCD 22. The CCD 22 is disposed at the focal position of the microlens. The deformable mirror 10 and the Hartmann plate 21 are optically conjugate positions. An SLD 37 having a wavelength of 840 nm is used as a light source of the Shack-Hartmann wavefront sensor 20 in order to avoid unnecessary interference noise. The SLD 37, the fundus of the model eye 40, and the CCD 22 are in a conjugate position. A fundus image is obtained using an LD light source having a wavelength of 633 nm.

試験結果を図13に示す。可変形状ミラーに印加する電圧は、前述した方法で決定した。上は補正のない場合、下は補正した場合である。図13のように、発生させた収差を、本システムによりRMS(二乗平均値)で0.1μmより小さい残収差に抑えることができた。可変形状ミラー10による収差補正後は、前記パターンがはっきりと解像されている。このことは、約3μmの眼底の視細胞を撮るのに十分な解像度が得られることを示している。   The test results are shown in FIG. The voltage applied to the deformable mirror was determined by the method described above. The upper case shows no correction, and the lower case shows correction. As shown in FIG. 13, the generated aberration can be suppressed to a residual aberration smaller than 0.1 μm in RMS (root mean square value) by this system. After the aberration correction by the deformable mirror 10, the pattern is clearly resolved. This indicates that sufficient resolution can be obtained to capture photoreceptor cells of the fundus of about 3 μm.

より複雑な収差での実験結果を、収差補正の経過とともに、図14に示す。経過として、補正回数における残存収差のRMSとその収差マップを示す。さらに、収差補正前後の全Zernike係数を図15に示す。残存収差は、補正後は4次までの次数で良く抑えられているが、より高次の収差が残っている。最終的なRMSは0.13μmであった。なお、この実験では5次と6次の収差は考慮されていない。この次数の補正も行うことにより、RMSを0.1μmより小さくできると考えられる。このように、簡単な手法により収差を自動的に補正できる。   The experimental results with more complicated aberrations are shown in FIG. 14 along with the progress of aberration correction. As the progress, the RMS of the residual aberration and the aberration map at the number of corrections are shown. Further, all Zernike coefficients before and after aberration correction are shown in FIG. The residual aberration is well suppressed at the orders up to the fourth order after correction, but higher order aberrations remain. The final RMS was 0.13 μm. In this experiment, fifth-order and sixth-order aberrations are not considered. It is considered that the RMS can be made smaller than 0.1 μm by correcting the order. As described above, the aberration can be automatically corrected by a simple method.

最後に、この可変形状ミラーでどれ位の収差量が補正できるか実験した。収差量を増やすため、様々なパワーのシリンドリカルレンズを模型眼の前にセットした。図16は、2ディオプターのシリンドリカルレンズでトータルのRMSが3.9μmの収差量を発生させた場合の実験結果を示す。この可変形状ミラーを用いたアダプティブオプティクスシステムは、このような大きな収差を、残存収差RMS0.093μmに抑えることができた。この収差補正量は、現在市販されている可変形状ミラーに比べ、非常に大きいものである。   Finally, we experimented how much aberration can be corrected with this deformable mirror. In order to increase the amount of aberration, cylindrical lenses of various powers were set in front of the model eye. FIG. 16 shows an experimental result in a case where a total RMS generates an aberration amount of 3.9 μm with a 2-diopter cylindrical lens. The adaptive optics system using this deformable mirror can suppress such a large aberration to a residual aberration RMS of 0.093 μm. This aberration correction amount is much larger than that of a deformable mirror currently on the market.

以上のように、本例では85電極のメンブレンタイプの可変形状ミラーを製作した。メンブレンの直径は12mm、最大変位量は駆動電圧180Vにて16μmである。特許出願人は、この可変形状ミラーと眼底カメラを模したアダプティブオプティクスシステムにより、模型眼の収差を補正することができる。この実施例において、可変形状ミラーの有効径は7.5mm、模型眼の瞳径は8.5mmである。シャックハルトマン波面センサーで測定された眼の収差はZernike多項式に展開され、可変形状ミラーの駆動電圧は、メンブレンが眼の収差を打ち消すような形状になるように、あらかじめ実験的に決められた個々のZernike多項式の各項の形を作るための電圧配列を用いて決定される。模型眼の収差を0.1μm以下に補正した。可変形状ミラーを使ったアダプティブオプティクスシステムは、大きな収差(RMS3.9μm)を残存収差0.1μm以下に補正することができた   As described above, in this example, an 85-electrode membrane-type deformable mirror was manufactured. The membrane has a diameter of 12 mm and a maximum displacement of 16 μm at a driving voltage of 180V. The patent applicant can correct the aberration of the model eye by using an adaptive optics system simulating the deformable mirror and the fundus camera. In this embodiment, the effective diameter of the deformable mirror is 7.5 mm, and the pupil diameter of the model eye is 8.5 mm. The eye aberration measured by the Shack-Hartmann wavefront sensor is developed into a Zernike polynomial, and the driving voltage of the deformable mirror is determined in advance by an experimentally determined individual shape so that the membrane cancels the eye aberration. It is determined using a voltage array to create the form of each term of the Zernike polynomial. The aberration of the model eye was corrected to 0.1 μm or less. The adaptive optics system using a deformable mirror was able to correct a large aberration (RMS 3.9 μm) to a residual aberration of 0.1 μm or less.

なお、上記の実施の形態においては、可変形状ミラーを用いる装置として眼底観察装置を示しているが、可変形状ミラーを装着する装置としてはヘッドアップディスプレイ、天体望遠鏡、レーザ照射装置等、各種の光学機器に使用することができる。   In the above embodiment, the fundus oculi observation device is shown as a device that uses a deformable mirror, but various devices such as a head-up display, an astronomical telescope, and a laser irradiation device can be used as a device that mounts the deformable mirror. Can be used for equipment.

実施の形態例に係る可変形状ミラーの構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the variable shape mirror which concerns on the example of an embodiment. 実施の形態例に係る可変形状ミラーの外観図である。It is an external view of the deformable mirror according to the embodiment. 実施の形態例に係る可変形状ミラーの製造法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the variable shape mirror which concerns on the example of embodiment. 実施の形態例に係る可変形状ミラーへの印加電圧とミラーの変位との関係を示すグラフであるIt is a graph which shows the relationship between the applied voltage to the deformable mirror which concerns on the embodiment, and the displacement of a mirror. 実施の形態例に係る可変形状ミラーの応答速度を示す表である。It is a table | surface which shows the response speed of the variable shape mirror which concerns on the example of embodiment. 実施の形態例に係る可変形状ミラーの反射面形状を測定する装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the apparatus which measures the reflective surface shape of the variable shape mirror which concerns on the embodiment. 実施の形態例に係る可変形状ミラーの形状とZernike多項式成分とを示す図である。It is a figure which shows the shape and Zernike polynomial component of the variable shape mirror which concerns on the example of an embodiment. 実施の形態例に係る可変形状ミラーによる人眼の収差補償の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the aberration compensation of the human eye by the deformable mirror which concerns on the embodiment. 実施の形態例に係る可変形状ミラーに印可した電圧の二乗値とミラーの変位量との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the square value of the voltage applied to the deformable mirror which concerns on the example of an embodiment, and the displacement amount of a mirror. 実施の形態例に係る可変形状ミラーにおけるZernike次数の形状に関する目標とした係数と実際に作られたZernike係数を比較した図である。It is the figure which compared the coefficient made into the target regarding the shape of the Zernike order in the variable shape mirror which concerns on the example of an embodiment, and the actually made Zernike coefficient. 実施の形態例に係る可変形状ミラーにおいてZernike係数を重ね合わせてミラー形状を制御できることを示す図である。It is a figure which shows that a mirror shape can be controlled by superimposing a Zernike coefficient in the deformable mirror according to the embodiment. 実施の形態に係る眼底観察装置の光学系を示す図である。It is a figure which shows the optical system of the fundus observation apparatus which concerns on embodiment. 図12に示した眼底観察装置による観察結果を示す図である。It is a figure which shows the observation result by the fundus observation apparatus shown in FIG. 他の例に係る模型眼による眼底観察結果を示す図である。It is a figure which shows the fundus observation result with the model eye concerning another example. 図14の補償を行ったときのZernike係数を示す図である。It is a figure which shows a Zernike coefficient when compensation of FIG. 14 is performed. 他の例に係る模型眼による眼底観察結果を示す図である。It is a figure which shows the fundus observation result with the model eye concerning another example. 従来の可変形状ミラーの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the conventional variable shape mirror. 図17に示した可変形状ミラーの作動の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state of an action | operation of the deformable mirror shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・可変形状ミラー
11・・・シリコンメンブレンミラー部
12・・・電極
13・・・スペーサ
14・・・多層PCB基板
15・・・金属フレーム
16・・・ガラス窓
17・・・金属プレート
20・・・シャックハルトマン波面センサー
21・・・ハルトマンプレート
30・・・ビーム伝搬光学系
31・・・ビームスプリッタ
32・・・可動プリズム
33・・・ダイクロイックミラー
34・・・ビームスプリッタ
35・・・レーザダイオード
37・・・スーパールミネッセントダイオード(SLD)
40・・・模型眼
41・・・シンドリカルレンズ


DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Deformable mirror 11 ... Silicon membrane mirror part 12 ... Electrode 13 ... Spacer 14 ... Multilayer PCB board 15 ... Metal frame 16 ... Glass window 17 ... Metal plate 20 ... Shack-Hartmann wavefront sensor 21 ... Hartmann plate 30 ... Beam propagation optical system 31 ... Beam splitter 32 ... Movable prism 33 ... Dichroic mirror 34 ... Beam splitter 35 ... Laser diode 37 ... Super luminescent diode (SLD)
40 ... Model eye 41 ... Cylindrical lens


Claims (5)

複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーの変形方法において、
前記反射面の反射光を検出して、所望の反射面形状をなすときの各電極部への印加電圧を測定し、
一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を1つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶し、
前記記憶された電極部と印加電圧との組を重ね合わせることにより所望の形状に反射面を変形させることを特徴とする可変形状ミラーの変形方法。
A variable-shape mirror that includes a plurality of electrode portions and a thin-film-like reflecting surface that is disposed to face these electrodes and that is distorted by an electrostatic voltage applied to the electrode portions, and corrects wavefront distortion of a light flux on the reflecting surface. In the deformation method,
Detecting the reflected light of the reflecting surface, and measuring the applied voltage to each electrode portion when forming a desired reflecting surface shape,
The voltage applied to each electrode portion corresponding to the reflective surface shape as one reference is set as one set, and a predetermined number of sets corresponding to a predetermined different number of reflective surface shapes is stored.
A method of deforming a deformable mirror, wherein the reflecting surface is deformed into a desired shape by superimposing a set of the stored electrode portion and applied voltage.
前記反射面の基準反射面形状をゼルニケ多項式の所定の次元の要素に対応して備えていることを特徴とする請求項1の可変形状ミラーの変形方法。 2. The deformable mirror deforming method according to claim 1, wherein a reference reflecting surface shape of the reflecting surface is provided corresponding to an element of a predetermined dimension of the Zernike polynomial. 複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、所定の形状に変形され反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーと、
一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を1つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶した記憶部と、
可変形状ミラーにより反射された対象物からの光の収差を検出する収差検出部と、
収差検出部により検出された収差検出信号に基づいて、記憶部に記憶された電極部と印加電圧との組を選択し、これらを重ね合わせて、電極部に電圧を印加して反射面を変形させて前記収差を補償する演算制御部とを設けたことを特徴とする光学装置。
A plurality of electrode portions and a thin film-like reflecting surface that is disposed opposite to these electrodes and that is distorted by an electrostatic voltage applied to the electrode portions, and is deformed into a predetermined shape to reduce the wavefront distortion of the reflected surface light flux. A deformable mirror to be corrected,
A storage unit storing a predetermined number of sets corresponding to a predetermined different number of reflecting surface shapes, with a voltage applied to each electrode unit corresponding to a reference reflecting surface shape as one set,
An aberration detector for detecting the aberration of light from the object reflected by the deformable mirror;
Based on the aberration detection signal detected by the aberration detector, the electrode unit and the applied voltage stored in the storage unit are selected and superimposed, and the reflective surface is deformed by applying a voltage to the electrode unit. And an arithmetic control unit for compensating for the aberration.
前記記憶部には、前記反射面の基準反射面形状をゼルニケ多項式の所定の次元の要素に対応して備えていることを特徴とする請求項4の光学装置。 The optical device according to claim 4, wherein the storage unit includes a reference reflection surface shape of the reflection surface corresponding to an element of a predetermined dimension of the Zernike polynomial. 請求項3及び4の光学装置を含むことを特徴とする眼底観察装置。

A fundus oculi observation device comprising the optical device according to claim 3.

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