JP2007017496A - Silver salt photothermographic dry imaging material and image forming method using same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は支持体上に有機銀塩、ハロゲン化銀粒子、バインダー及び還元剤を含有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料(光熱写真ドライイメージング材料、光熱写真感光材料、熱現像感光材料、単に熱現像材料又は感光材料ともいう。)及び画像形成方法に関する。 The present invention is a silver salt photothermographic dry imaging material (photothermographic dry imaging material, photothermographic material, photothermographic material, simply thermal development) containing an organic silver salt, silver halide grains, a binder and a reducing agent on a support. And an image forming method.
従来、医療や印刷製版の分野では、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題となっており、近年では環境保全、省スペースの観点からも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、熱を加えるだけで画像形成ができる銀塩光熱写真ドライイメージング材料が実用化され、上記分野で急速に普及してきている。 Conventionally, in the fields of medical treatment and printing plate making, waste liquid from wet processing of image forming materials has been a problem in terms of workability. In recent years, reduction of waste processing liquid has been strongly desired from the viewpoint of environmental conservation and space saving. ing. Therefore, silver salt photothermographic dry imaging materials capable of forming an image only by applying heat have been put into practical use and are rapidly spreading in the above fields.
光熱写真ドライイメージング材料自体は既に古くから提案されており、例えば、米国特許第3,152,904号明細書、同3,457,075号明細書に記載されている。 Photothermographic dry imaging materials themselves have already been proposed for a long time, and are described, for example, in US Pat. Nos. 3,152,904 and 3,457,075.
この銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、通常、レーザイメージャーと呼ばれる当該材料に安定した熱を加えて画像を形成する熱現像処理装置により処理される。上述したように、近年の急速な普及に伴い、このレーザイメージャーも多量に市場に供給されてきた。また、近年レーザイメージャーのコンパクト化や処理の迅速化が要望されている。 This silver salt photothermographic dry imaging material is usually processed by a heat development processing apparatus called a laser imager which forms an image by applying stable heat to the material. As described above, with the rapid spread in recent years, a large amount of this laser imager has been supplied to the market. In recent years, there has been a demand for a compact laser imager and rapid processing.
そのためには光熱写真ドライイメージング材料の特性向上が必須となる。迅速処理を行っても十分な写真画像の濃度を得るためには、特開平11−295844号、同11−352627号の各公報に示されるようにハロゲン化銀粒子として平均粒子粒径の小さいものを用いて発色点数を増やすことによりカバリングパワーを上げたり、特開2001−209145号公報に示されるような2級、3級アルキル基を有する高活性の還元剤を用いたり、ヒドラジン化合物やビニル化合物、フェノール誘導体やナフトール誘導体等の現像促進剤を用いることが有効である(特許文献1、2参照)。一方、微粒子のハロゲン化銀粒子を均一に分散してカバリングパワーを上げるために、平均粒径の小さい有機銀塩粒子を用いる技術が公開されている(特許文献3参照)。さらに感光性ハロゲン化銀粒子を使用した光熱写真ドライイメージング材料においては、熱現像後もハロゲン化銀粒子が感光性層中に残存するため、光照射画像保存性(熱現像によって得た画像を明室で診断等のために使用したり、明室に保管した場合の保存性)が劣化してしまう問題点があり従来から改良が試みられてきた(特許文献4、5参照)。
For this purpose, it is essential to improve the characteristics of the photothermographic dry imaging material. In order to obtain a sufficient photographic image density even if rapid processing is performed, silver halide grains having a small average grain size as disclosed in JP-A Nos. 11-295844 and 11-352627 are disclosed. The covering power is increased by increasing the number of color development points using, a highly active reducing agent having a secondary or tertiary alkyl group as disclosed in JP 2001-209145 A, a hydrazine compound or a vinyl compound. It is effective to use development accelerators such as phenol derivatives and naphthol derivatives (see
レーザイメージャを小型化し、迅速処理するための装置側からの対応としては、レーザイメージャを小型化するために冷却部の距離を短くする技術(例えば、特許文献5参照)、23mm/秒以上で搬送しながら熱現像したり、露光と同時に熱現像を行う技術が開示されている(特許文献6、7参照)。
上記の公知技術を銀塩光熱写真ドライイメージング材料に採用して小型のレーザイメージャーにより、迅速処理をおこなった場合には、濃度が十分得られず、銀色調も悪化するという問題が発生することが分かった。 When the above-mentioned known technology is adopted for silver salt photothermographic dry imaging materials and rapid processing is performed with a small laser imager, there is a problem that the density cannot be obtained sufficiently and the silver tone is deteriorated. I understood.
従って、上記の問題に鑑みて、本発明は、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を小型のレーザイメージャーにより、迅速に熱現像した場合でも、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、銀色調に優れる銀塩光熱写真ドライイメージング材料および画像形成方法を提供することを目的とするものである。 Therefore, in view of the above-mentioned problems, the present invention has a high sensitivity, low fog, high maximum density, and high silver density even when a silver salt photothermographic dry imaging material is rapidly thermally developed by a small laser imager. It is an object of the present invention to provide a silver salt photothermographic dry imaging material and an image forming method excellent in the above.
本発明の上記目的は、下記の構成によって達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(請求項1)
支持体上に有機銀塩、ハロゲン化銀粒子、バインダー、及び還元剤を含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層の乾燥膜厚が4μm以上、16μm以下であり、かつ該感光性層が該有機銀塩として平均球相当直径が0.05〜0.50μmである非感光性脂肪族カルボン酸銀塩を含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 1)
In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing an organic silver salt, silver halide grains, a binder, and a reducing agent on a support, the dry thickness of the photosensitive layer is 4 μm or more and 16 μm or less. Silver salt photothermographic dry imaging characterized in that the photosensitive layer contains a non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt having an average sphere equivalent diameter of 0.05 to 0.50 μm as the organic silver salt material.
(請求項2)
前記感光性層の乾燥膜厚が6μm以上、14μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 2)
2. The silver salt photothermographic dry imaging material according to
(請求項3)
前記感光性層が、前記還元剤として、下記一般式(RD1)で表される化合物を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 3)
The silver salt photothermographic dry imaging material according to claim 1 or 2, wherein the photosensitive layer contains a compound represented by the following general formula (RD1) as the reducing agent.
〔式中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表し、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。R2は少なくとも一方が2級又は3級のアルキル基を表し、同一でも異なってもよい。R3は炭素数2〜20の置換されてもよいアルキル基を表す。R4はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。〕
(請求項4)
前記一般式(RD1)で表される化合物において、R3の少なくとも1つの基はヒドロキシル基、または脱保護されることによりヒドロキシル基を形成しうる基を置換基として有するアルキル基を表すことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
[Wherein, X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 , and R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. At least one of R 2 represents a secondary or tertiary alkyl group and may be the same or different. R 3 represents an optionally substituted alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. R 4 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2. ]
(Claim 4)
In the compound represented by the general formula (RD1), at least one group of R 3 represents a hydroxyl group or an alkyl group having as a substituent a group capable of forming a hydroxyl group by being deprotected. The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of
(請求項5)
熱現像後の画像濃度の最大値が3.8以上5.0以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 5)
The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of
(請求項6)
銀塩光熱写真ドライイメージング材料が複数の構成層を有し、該構成層のうちの少なくとも1層が熱現像時に発色して色素画像を形成する化合物を含有し、かつ該色素画像の極大吸収波長が360nm以上450nm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 6)
The silver salt photothermographic dry imaging material has a plurality of constituent layers, and at least one of the constituent layers contains a compound that forms a color image by color development during thermal development, and the maximum absorption wavelength of the dye image The silver salt photothermographic dry imaging material according to
(請求項7)
前記構成層の少なくとも1層が熱現像時に発色して色素画像を形成する化合物を含有し、該色素画像の極大吸収波長が600nm以上700nm以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 7)
7. The composition according to
(請求項8)
銀塩光熱写真ドライイメージング材料であって、当該銀塩光熱写真ドライイメージング材料を、一定時間、白色光又は特定の分光増感領域の光を光学楔を通して、又は、レーザー光の感光材料面照度を段階的に変化させて、露光をした後に、通常の実用的熱現像条件で熱現像をしたときに得られる特性曲線に基づき得られる感度(S1)に対して、露光前に前記通常の実用的熱現像条件と同じ条件で加熱して、その後に前記露光と同じ露光条件で露光し、前記熱現像と同じ現像条件で熱現像して得られる特性曲線に基づき得られる感度(S2)が、相対比(S2/S1)として、0以上、1/10以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 8)
A silver salt photothermographic dry imaging material, wherein the silver salt photothermographic dry imaging material is irradiated with white light or light in a specific spectral sensitization region through an optical wedge for a certain period of time, or the surface illuminance of the photosensitive material of laser light is increased. With respect to the sensitivity (S 1 ) obtained based on the characteristic curve obtained when exposure is performed in stages and then heat development is performed under normal practical heat development conditions, the normal practical use is performed before exposure. The sensitivity (S 2 ) obtained based on the characteristic curve obtained by heating under the same conditions as the thermal development, followed by exposure under the same exposure conditions as the exposure and thermal development under the same development conditions as the thermal development is The silver salt photothermographic dry imaging material according to
(請求項9)
前記感光性層に含有されるハロゲン化銀粒子が、沃化銀を5モル%以上100モル%以下の割合で含有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 9)
9. The silver according to
(請求項10)
一般式(SF)で表される化合物を含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
一般式(SF)
(Rf−(L1)m1−)p−(Y)n1−(A)q
〔式中、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表し、L1はフッ素原子を有しない2価の連結基を表し、Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基又はその塩を表し、m1、n1は各々0又は1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。但し、qが1の時は、m1とn1は同時に0とはならない。〕
(請求項11)
前記感光性層に含有されるハロゲン化銀粒子の平均粒径が10〜50nmであることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 10)
The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of
General formula (SF)
(R f − (L 1 ) m1 −) p- (Y) n1 − (A) q
[Wherein R f represents a substituent containing a fluorine atom, L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom, and Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom. , A represents an anionic group or a salt thereof, m1 and n1 each represents an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, m1 and n1 are not 0 at the same time. ]
(Claim 11)
The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of
(請求項12)
平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子のほかに、更に平均粒径55〜100nmのハロゲン化銀粒子を含有させた感光性層を有することを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 12)
12. A photosensitive layer containing silver halide grains having an average grain size of 55 to 100 nm in addition to silver halide grains having an average grain diameter of 10 to 50 nm. The silver salt photothermographic dry imaging material according to
(請求項13)
前記感光性層に含有されるハロゲン化銀粒子の少なくとも一部がカルコゲン化合物により化学増感を施されたハロゲン化銀粒子であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 13)
13. The silver halide grain according to
(請求項14)
請求項1〜13のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料をシート状にしたシート感光材料を搬送速度30〜200mm/secで加熱しながら搬送することを特徴とする画像形成方法。
(Claim 14)
An image forming method comprising conveying a sheet photosensitive material obtained by sheeting the silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of
(請求項15)
請求項1〜13のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料をシート状にしたシート感光材料を用いる画像形成方法において、該シート感光材料の一枚のシートの一部が露光されながら、同時に既に該露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを特徴とする画像形成方法。
(Claim 15)
In the image forming method using the sheet photosensitive material which made the silver salt photothermographic dry imaging material of any one of Claims 1-13 into a sheet form, a part of sheet | seat of this sheet photosensitive material is exposed. However, at the same time, development is started on a part of the sheet that has already been exposed.
(請求項16)
請求項1〜13のいずれか1項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料をシート状にしたシート感光材料を露光部と現像部の距離が0cm以上50cm以下であるレーザイメージャーにより現像することを特徴とする画像形成方法。
(Claim 16)
The sheet photosensitive material obtained by forming the silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of
(請求項17)
前記シート感光材料をレーザイメージャーにより10秒以下の加熱時間で熱現像することを特徴とする請求項14〜16のいずれか1項に記載の画像形成方法。
(Claim 17)
The image forming method according to any one of claims 14 to 16, wherein the sheet photosensitive material is thermally developed with a laser imager for a heating time of 10 seconds or less.
(請求項18)
前記シート感光材料を設置面積が0.40m2以下であるレーザイメージャーにより熱現像することを特徴とする請求項14〜17のいずれか1項に記載の画像形成方法。
(Claim 18)
The image forming method according to claim 14, wherein the sheet photosensitive material is thermally developed by a laser imager having an installation area of 0.40 m 2 or less.
本発明の上記構成により、レーザイメージャーを小型化し、迅速に熱現像した場合でも、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、銀色調に優れる銀塩光熱写真ドライイメージング材料および画像形成方法を提供することができる。 With the above structure of the present invention, there is provided a silver salt photothermographic dry imaging material and an image forming method that have high sensitivity, low fog, high maximum density, and excellent silver tone even when the laser imager is miniaturized and rapidly heat-developed. Can be provided.
以下、本発明及び構成要素について順次説明する。 Hereinafter, the present invention and components will be sequentially described.
(有機銀塩)
本発明に係る有機銀塩とは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層において、銀画像を形成するための銀イオンを供給する供給源として機能し得る非感光性の有機銀塩である。
(Organic silver salt)
The organic silver salt according to the present invention is a non-photosensitive organic silver salt that can function as a supply source for supplying silver ions for forming a silver image in a photosensitive layer of a silver salt photothermographic dry imaging material. .
すなわち、本発明に係る有機銀塩は、露光によって形成された潜像を粒子表面上に有する感光性ハロゲン化銀粒子(光触媒)及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された熱現像過程において、銀イオン供給源として機能して銀イオンを供給し銀画像形成に寄与することができる銀塩である。 That is, the organic silver salt according to the present invention was heated to 80 ° C. or higher in the presence of photosensitive silver halide grains (photocatalyst) having a latent image formed by exposure on the grain surface and a reducing agent. In the thermal development process, the silver salt functions as a silver ion supply source and can supply silver ions and contribute to silver image formation.
このような非感光性有機銀塩については、従来、種々の化学構造を有する有機化合物の銀塩が知られており、例えば、特開平10−62899号公報の段落「0048」〜「0049」、欧州特許出願公開第803,764A1号明細書の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許出願公開第962,812A1号明細書、特開平11−349591号公報、特開2000−7683号公報、同2000−72711号公報、同2002−23301号公報、同2002−23303号公報、同2002−49119号公報、196446号公報、欧州特許出願公開第1246001A1号明細書、欧州特許出願公開第1258775A1号明細書、特開2003−140290号公報、特開2003−195445号公報、同2003−295378号公報、同2003−295379号公報、同2003−295380号公報、同2003−295381号公報、特開2003−270755号公報等に記載されている。 As such a non-photosensitive organic silver salt, conventionally, silver salts of organic compounds having various chemical structures are known. For example, paragraphs “0048” to “0049” of JP-A-10-62899, European Patent Application Publication No. 803,764A1, page 18, line 24 to page 19, line 37, European Patent Application Publication No. 962,812A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-349591, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000- 7683, 2000-72711, 2002-23301, 2002-23303, 2002-49119, 196446, European Patent Application No. 1246001A1, European Patent Application Publication No. 1258775A1, JP 2003-140290 A, JP 2003-195445 A, 2003-295378, JP same 2003-295379, JP same 2003-295380, JP same 2003-295381 JP, described in JP-A No. 2003-270755 Publication.
本発明においては、上記の特許公報等に開示されている各種有機銀塩と併用して、又は、併用せずに、脂肪族カルボン酸の銀塩、特に、炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩を用いることができる。銀塩を生成するための脂肪族カルボン酸の分子量は好ましくは200〜500であり、より好ましくは250〜400である。脂肪族カルボン酸銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、およびこれらの混合物などを含む。 In the present invention, a silver salt of an aliphatic carboxylic acid, particularly, having 10 to 30 carbon atoms, preferably in combination with or without using various organic silver salts disclosed in the above-mentioned patent publications, etc. A silver salt of 15 to 28 long chain aliphatic carboxylic acid can be used. The molecular weight of the aliphatic carboxylic acid for producing the silver salt is preferably 200 to 500, more preferably 250 to 400. Preferred examples of the aliphatic carboxylic acid silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. Including.
本発明においては、これら脂肪族カルボン酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上、より好ましくは80モル%以上100モル%以下、更に好ましくは90モル%以上99.9モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。 In the present invention, among these aliphatic carboxylates, the silver behenate content is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more and 100 mol% or less, and still more preferably 90 mol% or more and 99.9 mol. % Fatty acid silver is preferably used.
なお、脂肪族カルボン酸銀塩を調製するに先だって、脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩を調製することが必要であるが、その際に、使用できるアルカリ金属塩の種類の例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。これらのうちの1種類のアルカリ金属塩、例えば、水酸化カリウムを用いることが好ましいが、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムを併用することも好ましい。併用比率としては前記の水酸化塩の両者のモル比が10:90〜75:25の範囲であることが好ましい。脂肪族カルボン酸と反応して脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩となったときに上記の範囲で使用することで、反応液の粘度を良好な状態に制御できる。 Prior to the preparation of the aliphatic carboxylic acid silver salt, it is necessary to prepare an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid. In this case, examples of the types of alkali metal salts that can be used include sodium hydroxide. Potassium hydroxide and lithium hydroxide. Among these, it is preferable to use one kind of alkali metal salt, for example, potassium hydroxide, but it is also preferable to use sodium hydroxide and potassium hydroxide in combination. The combined ratio is preferably such that the molar ratio of both of the above-mentioned hydroxide salts is in the range of 10:90 to 75:25. When used in the above range when reacted with an aliphatic carboxylic acid to form an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid, the viscosity of the reaction solution can be controlled in a good state.
また、平均粒径が0.050μm以下のハロゲン化銀粒子の存在下で脂肪族カルボン酸銀を調製する場合には、特に、アルカリ金属塩のアルカリ金属はカリウムの比率が高い方が、ハロゲン化銀粒子の溶解及びオストワルド熟成が防止されるので好ましい。また、カリウム塩の比率が高いほど、脂肪酸銀塩粒子のサイズを小さくすることができる。好ましいカリウム塩の比率は、脂肪族カルボン酸銀を製造する工程において使用する全アルカリ金属塩に対して50〜100%である。アルカリ金属塩の濃度は、0.1〜0.3モル/1000mlが好ましい。 In addition, when preparing an aliphatic carboxylate silver salt in the presence of silver halide grains having an average particle diameter of 0.050 μm or less, the alkali metal of the alkali metal salt is preferably a halide having a higher potassium ratio. It is preferable because dissolution of silver particles and Ostwald ripening are prevented. Moreover, the size of fatty acid silver salt particle | grains can be made small, so that the ratio of potassium salt is high. A preferable ratio of the potassium salt is 50 to 100% based on the total alkali metal salt used in the step of producing the aliphatic carboxylate. The concentration of the alkali metal salt is preferably 0.1 to 0.3 mol / 1000 ml.
本発明における非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当直径は、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の1粒子の体積と同じ体積の球の直径を意味し、塗布後の試料を透過型電子顕微鏡により観察した粒子の投影面積と厚みから粒子体積を求め、その体積と同体積の球に換算した時の直径を平均することにより求めることができる。非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当直径を本発明の範囲とするためには上記したように脂肪族カルボン酸銀塩の調製時にカリウム塩の比率を高くして調製することや、感光性乳剤分散液の分散時に用いるジルコニアビーズの粒径、ミル周速、分散時間を適宜調整することで容易に行うことができる。本発明における非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当直径は、熱現像後に十分な濃度を得るためには、0.05〜0.50μmであることが必要であり、好ましくは0.10〜0.45μm、さらに好ましくは0.15〜0.40μmである。 The average equivalent sphere diameter of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt in the present invention means the diameter of a sphere having the same volume as that of one particle of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt, and passes through the sample after coating. The particle volume can be obtained from the projected area and thickness of the particle observed with a scanning electron microscope, and the diameter when converted to a sphere having the same volume as the volume can be obtained by averaging. In order to make the average sphere equivalent diameter of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt within the scope of the present invention, as described above, the preparation of the aliphatic carboxylic acid silver salt with a high potassium salt ratio, This can be easily carried out by appropriately adjusting the particle diameter, mill peripheral speed, and dispersion time of the zirconia beads used during dispersion of the photosensitive emulsion dispersion. In order to obtain a sufficient density after heat development, the average equivalent sphere diameter of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt in the present invention is required to be 0.05 to 0.50 μm, preferably 0.8. It is 10-0.45 micrometer, More preferably, it is 0.15-0.40 micrometer.
本発明で使用される非感光性脂肪族カルボン酸銀塩に加えて必要により使用してもよい有機銀としては、コア・シェル構造の有機銀塩(特開2002−23303号公報)、多価カルボン酸の銀塩(EP1246001号公報、特開2004−061948号公報)、ポリマー銀塩(特開2000−292881号公報、特開2003−295378〜2003−295381号公報)を用いることもできる。 Examples of organic silver that may be used in addition to the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt used in the present invention include organic silver salts having a core-shell structure (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-23303), polyvalent A silver salt of carboxylic acid (EP1246001 and JP2004-061948) and a polymer silver salt (JP2000-292881, JP2003-295378 to 2003-295281) can also be used.
本発明に用いることができる脂肪族カルボン酸銀塩の形状としては、特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。本発明においては、りん片状の脂肪族カルボン酸銀塩及び長軸と短軸の長さの比が5以下の短針状又は直方体状の脂肪族カルボン酸銀塩が好ましく用いられる。 The shape of the aliphatic carboxylic acid silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape. In the present invention, flake-shaped aliphatic carboxylic acid silver salts and short needle-shaped or rectangular parallelepiped-shaped aliphatic carboxylic acid silver salts having a major axis / minor axis length ratio of 5 or less are preferably used.
本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。 In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic silver salt is observed with an electron microscope, the shape of the organic silver salt particle is approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped are defined as a, b, and c from the shortest side (even though c is the same as b) Good)), and calculate with the shorter numbers a and b, and find x as follows.
x=b/a
このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは20≧x(平均)≧2.0である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。
x = b / a
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 20 ≧ x (average) ≧ 2.0. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.
りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μm以上、0.23μmが好ましく、0.1μm以上、0.20μm以下がより好ましい。c/bの平均は好ましくは1以上、6以下、より好ましくは1.05以上、4以下、更に好ましくは1.1以上、3以下、特に好ましくは1.1以上、2以下である。 In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.23 μm, more preferably 0.1 μm or more and 0.20 μm or less. The average c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1.05 or more and 4 or less, still more preferably 1.1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1.1 or more and 2 or less.
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては、例えば、液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒径(体積加重平均直径)から求めることができる。 The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, from the particle diameter (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to temporal change of fluctuation of the scattered light. Can be sought.
本発明に用いられる有機銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば、上記の特開平10−62899号公報、欧州特許出願公開第803,763A1号明細書、欧州特許出願公開第962,812A1号明細書、特開2001−167022号公報、同2000−7683号公報、同2000−72711号公報、同2001−163889号公報、同2001−163890号公報、同2001−163827号公報、同2001−33907号公報、同2001−188313号公報、同2001−83652号公報、同2002−6442号公報、同2002−31870号公報、同2003−280135号公報等を参考にすることができる。 Known methods and the like can be applied to the production of organic silver used in the present invention and the dispersion method thereof. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Application Publication No. 803,763A1, European Patent Application Publication No. 962,812A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-167022, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-7683. No. 2000-72711, No. 2001-163889, No. 2001-163890, No. 2001-163828, No. 2001-33907, No. 2001-188313, No. 2001-83651, Reference can be made to JP-A Nos. 2002-6442, 2002-31870, and 2003-280135.
なお、有機銀塩の分散時に、感光性ハロゲン化銀粒子のような感光性銀塩を共存させることができる。しかし、有機銀塩の分散時に、ハロゲン化銀粒子を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時にはハロゲン化銀粒子を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中でのハロゲン化銀粒子量は、その液中の有機銀塩1モルに対し1モル%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1モル%以下であり、更に好ましいのは積極的なハロゲン化銀粒子の添加を行わないものである。 A photosensitive silver salt such as photosensitive silver halide grains can coexist when the organic silver salt is dispersed. However, when silver halide grains are allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, fog is increased and sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that silver halide grains are not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of silver halide grains in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic silver salt in the liquid. More preferably, the active addition of silver halide grains is not performed.
本発明において有機銀塩水分散液と感光性ハロゲン化銀粒子分散液を混合して感光材料を製造することが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性ハロゲン化銀粒子の割合は1〜30モル%の範囲が好ましく、更に2〜20モル%、特に3〜15モル%の範囲が好ましい。混合する際に2種以上の有機銀塩分散液と2種以上のハロゲン化銀粒子分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。 In the present invention, a photosensitive material can be produced by mixing an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver halide particle dispersion, but the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose. However, the ratio of the photosensitive silver halide grains to the organic silver salt is preferably in the range of 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, particularly preferably 3 to 15 mol%. Mixing two or more kinds of organic silver salt dispersions and two or more kinds of silver halide grain dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.
本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として0.1〜5g/m2が好ましく、より好ましくは0.3〜3g/m2、更に好ましくは0.5〜2g/m2である。 The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, but the silver amount is preferably 0.1 to 5 g / m 2 , more preferably 0.3 to 3 g / m 2 , still more preferably 0.5 to 2 g / m 2 . m 2 .
(感光性ハロゲン化銀粒子)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子(以下、感光性ハロゲン化銀またはハロゲン化銀ともいう。)とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収し得て、または人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収し得て、且つ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収した時に当該ハロゲン化銀結晶内及び/または結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子をいう。
(Photosensitive silver halide grains)
The photosensitive silver halide grains according to the present invention (hereinafter also referred to as photosensitive silver halide or silver halide) can inherently absorb light as an intrinsic property of silver halide crystals, or are artificial. In the silver halide crystal when visible light or infrared light can be absorbed by a physicochemical method, and light in any region within the light wavelength range from the ultraviolet light region to the infrared light region is absorbed. And / or silver halide crystal grains that have been processed so that physicochemical changes can occur on the crystal surface.
本発明に係るハロゲン化銀粒子自体は、公知の方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤(ハロゲン化銀乳剤ともいう)として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、いわゆるコントロールドダブルジェット法が好ましい。 The silver halide grains themselves according to the present invention can be prepared as a silver halide grain emulsion (also referred to as a silver halide emulsion) using a known method. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method, etc. may be used, and a method of reacting a soluble silver salt and a soluble halogen salt may be any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, a combination thereof, and the like. Of these methods, the so-called controlled double jet method, in which silver halide grains are prepared while controlling the formation conditions, is preferred.
通常ハロゲン化銀種粒子は、粒子の核の生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、また核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールドダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールができるので好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ核(種粒子)生成(核生成工程)した後、コントロールされたpAg、pH等のもとで銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることができる。 Usually, silver halide seed grains are divided into two stages: grain nucleation and grain growth, and these may be performed continuously at a time, or nucleation (seed grain) formation and grain growth are performed separately. The method may be used. The controlled double jet method in which the particle formation is controlled by controlling the pAg, pH, etc., which are particle formation conditions, is preferable because the particle shape and size can be controlled. For example, when performing a method in which nucleation and particle growth are performed separately, first, an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution to produce nuclei (seed particles) (nucleation process). Then, silver halide grains are prepared by a grain growth process in which grains are grown while supplying an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution under controlled pAg, pH, and the like. After the formation of grains, a desired silver halide emulsion can be obtained by removing unnecessary salts and the like by a desalting step by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method, or an electrodialysis method. .
本発明において、ハロゲン化銀粒子の粒径分布は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる粒径の変動係数が30%以下をいう。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。 In the present invention, the grain size distribution of silver halide grains is preferably monodispersed. The term “monodispersed” as used herein means that the coefficient of variation of the particle diameter obtained by the following formula is 30% or less. Preferably it is 20% or less, More preferably, it is 15% or less.
粒径の変動係数%=(粒径の標準偏差/粒径の平均値)×100
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、これらの中、特に、立方体、八面体、14面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Coefficient of variation of particle size% = (standard deviation of particle size / average value of particle size) × 100
Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tetrahedron grains, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, potato-like grains, etc. Among these, cubic, octahedral, 14 Planar and tabular silver halide grains are preferred.
平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは1.5以上、100以下、より好ましくは2以上、50以下である。これらについては米国特許第5,264,337号、同5,314,798号、同5,320,958号の各明細書に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。 The average aspect ratio when using tabular silver halide grains is preferably 1.5 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798 and 5,320,958, and the desired tabular grains can be easily obtained. . Further, grains having rounded corners of silver halide grains can be preferably used.
ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが特に好ましい。尚、ミラー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985年)により求めることができる。 There is no particular limitation on the crystal habit on the outer surface of the silver halide grain, but when using a sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity in the adsorption reaction of the sensitizing dye on the surface of the silver halide grain. It is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habits adapted to the selectivity. For example, when using a sensitizing dye that is selectively adsorbed on the crystal face of the Miller index [100], the proportion of the [100] face on the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this ratio is 50 % Or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is a T.K. based on the adsorption dependency of the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani, J .; Imaging Sci. 29, 165 (1985).
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。 The silver halide grains used in the present invention are preferably prepared using low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of forming the grains, and particularly preferably used at the time of nucleation of silver halide grains.
本発明において低分子量ゼラチンは、平均分子量5万以下のものが好ましく、より好ましくは2,000〜40,000であり、特に好ましくは5,000〜25,000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量10万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸またはアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下または加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。 In the present invention, the low molecular weight gelatin preferably has an average molecular weight of 50,000 or less, more preferably 2,000 to 40,000, and particularly preferably 5,000 to 25,000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography. Low molecular weight gelatin can be hydrolyzed by adding gelatin-degrading enzyme to a commonly used gelatin aqueous solution with an average molecular weight of about 100,000, heating by adding acid or alkali, and heating under atmospheric pressure or pressure. Can be obtained by thermal decomposition, decomposition by ultrasonic irradiation, or a combination of these methods.
核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより好ましい。 The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, and more preferably 0.05 to 3.0% by mass.
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いることが好ましい。 As the silver halide grains used in the present invention, it is preferable to use a compound represented by the following general formula when forming the grains.
YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(CH2CH2O)nY
式中、Yは水素原子、−SO3M、または−CO−B−COOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または炭素原子数5以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、Bは有機2塩基性酸を形成する鎖状または環状の基を表す。m及びnは各々0〜50を表し、pは1〜100を表す。
YO (CH 2 CH 2 O) m (CH (CH 3 ) CH 2 O) p (CH 2 CH 2 O) n Y
In the formula, Y represents a hydrogen atom, —SO 3 M, or —CO—B—COOM, and M represents an ammonium group substituted with a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group, or an alkyl group having 5 or less carbon atoms. And B represents a chain or cyclic group forming an organic dibasic acid. m and n each represents 0 to 50, and p represents 1 to 100.
上記の一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば、特開昭44−9497号公報に記載されている。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時の消泡剤としても機能する。上記一般式で表される化合物は銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula comprises a step of producing a gelatin aqueous solution, a step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution, and an emulsion. It has been preferably used as an antifoaming agent for significant foaming when the emulsion raw material is stirred or moved, such as a step of coating on a support. This is described in Japanese Patent Publication No. 44-9497. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula also functions as an antifoaming agent during nucleation. The compound represented by the above general formula is preferably used at 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass with respect to silver.
上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハライド水溶液もしくは両方の水溶液に0.01〜2.0質量%で添加して用いることである。また、上記一般式で表される化合物は核形成工程の少なくとも50%に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは70%以上に亘る時間で存在せしめる。上記一般式で表される化合物は粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula may be present at the time of nucleation and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation, but may be added during nucleation or You may add and use for the silver salt aqueous solution and halide aqueous solution which are used at the time of formation. Preferably, it is used by adding 0.01 to 2.0% by mass to the halide aqueous solution or both aqueous solutions. Further, the compound represented by the above general formula is preferably present for a time of at least 50% of the nucleation step, and more preferably for a time of 70% or more. The compound represented by the above general formula may be added as a powder or dissolved in a solvent such as methanol.
尚、核形成時の温度は通常5〜60℃、好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン(例えば、核形成開始時の温度が25℃で、核形成中徐々に温度を上げ、核形成終了時の温度が40℃の様な場合)やその逆のパターンであっても前記温度範囲内で制御するのが好ましい。 The temperature at the time of nucleation is usually 5 to 60 ° C., preferably 15 to 50 ° C. Even if the temperature is constant, the temperature rising pattern (for example, the temperature at the start of nucleation is 25 ° C. It is preferable to control the temperature within the above temperature range even when the temperature is gradually increased and the temperature at the end of nucleation is 40 ° C.) and vice versa.
核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は3.5モル/L以下が好ましく、更には0.01〜2.5モル/Lの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液1L当たり1.5×10-3〜3.0×10-1モル/分が好ましく、更に好ましくは3.0×10-3〜8.0×10-2モル/分である。 The concentration of the aqueous silver salt solution and aqueous halide solution used for nucleation is preferably 3.5 mol / L or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / L. The addition rate of silver ions during nucleation is preferably 1.5 × 10 −3 to 3.0 × 10 −1 mol / min, more preferably 3.0 × 10 −3 to 8.0, per liter of reaction solution. × 10 -2 mol / min.
核形成時のpHは通常1.7〜10の範囲に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒径分布を広げてしまうので、好ましくはpH2〜6である。また、核形成時のpBrは通常0.05〜3.0であり、好ましくは1.0〜2.5、より好ましくは1.5〜2.0である。
The pH at the time of nucleation can usually be set in the range of 1.7 to 10, but the pH on the alkali side broadens the particle size distribution of the nuclei to be formed, and is preferably
本発明において、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は通常10〜50nm、好ましくは10〜40nmであり、より好ましくは10〜35nmである。ハロゲン化銀粒子の平均粒径が10nmより小さいと画像濃度が低下したり、光照射画像保存性(熱現像によって得た画像を明室で診断等のために使用したり、明室に保管した場合の保存性)が劣化したりすることがある。又、50nmを超えると画像濃度が低下してしまうことがある。 In the present invention, the average grain size of the silver halide grains is usually 10 to 50 nm, preferably 10 to 40 nm, and more preferably 10 to 35 nm. If the average grain size of the silver halide grains is smaller than 10 nm, the image density decreases, or the light irradiation image storage stability (the image obtained by heat development is used for diagnosis in a bright room or stored in a bright room) Storage stability) may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 50 nm, the image density may decrease.
ここで言う平均粒径とは、ハロゲン化銀粒子乳剤中に含まれているハロゲン化銀粒子が立方体、あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。又、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算した時の直径を言う。その他、正常晶でない場合、例えば、球状粒子、棒状粒子等の場合には、当該ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を粒径として算出する。測定は電子顕微鏡写真を用いて行い、300個の粒子の粒径の測定値を平均することで平均粒径を求めた。 The average grain diameter referred to here is the length of the edge of the silver halide grains when the silver halide grains contained in the silver halide grain emulsion are cubic or octahedral so-called normal crystals. To tell. Further, when the silver halide grain is a tabular grain, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In addition, when it is not a normal crystal, for example, in the case of spherical particles, rod-shaped particles, etc., the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of the silver halide grains is calculated as the particle size. The measurement was performed using an electron micrograph, and the average particle size was determined by averaging the measured values of the particle size of 300 particles.
また本発明においては、平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子とを併用することで、画像濃度の階調を調整することができるほか、画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を改善(小さく)することができる。平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子との割合(質量比)は、95:5〜50:50が好ましく、より好ましくは90:10〜60:40である。 In the present invention, the gradation of the image density can be adjusted by using silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm in combination. In addition, the image density can be improved, and the decrease in image density over time can be improved (smaller). The ratio (mass ratio) of silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm is preferably 95: 5 to 50:50, more preferably 90. : 10-60: 40.
なお、上記のように、2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を用いる場合には、当該2種のハロゲ化銀乳剤を混合して、感光性層に含有させても良い。また、階調調整等のために、感光性層を2層以上の層で構成し、それぞれの層に、当該2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を別個に含有させることも好ましい。 As described above, when two types of silver halide grain emulsions having an average particle diameter are used, the two types of silver halide emulsions may be mixed and contained in the photosensitive layer. In order to adjust the gradation, it is also preferable that the photosensitive layer is composed of two or more layers, and the silver halide grain emulsions having the two average grain sizes are separately contained in each layer.
(ヨウ化銀含有量が5モル%以上100モル%以下のハロゲン化銀粒子)
本発明に係るハロゲン化銀粒子としては、ヨウ化銀を含有するハロゲン化銀粒子を好ましく使用することができる。ハロゲン組成としては、ヨウ化銀含有量が5モル%以上100モル%以下であることが好ましい。より好ましくは40モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは70モル%以上100モル%以下であり、特に好ましくは90モル%以上100モル%以下である。ヨウ化銀含有率がこの範囲であれば、粒子内ハロゲン組成分布が、均一であっても、段階的に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、内部および/または表面にヨウ化銀含有率が高いコア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子である。
(Silver halide grains having a silver iodide content of 5 mol% to 100 mol%)
As the silver halide grains according to the present invention, silver halide grains containing silver iodide can be preferably used. As the halogen composition, the silver iodide content is preferably 5 mol% or more and 100 mol% or less. More preferably, they are 40 mol% or more and 100 mol% or less, More preferably, they are 70 mol% or more and 100 mol% or less, Especially preferably, they are 90 mol% or more and 100 mol% or less. If the silver iodide content is in this range, the intra-grain halogen composition distribution may be uniform, may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure with a high silver iodide content inside and / or on the surface can also be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably 2- to 4-fold core / shell particles.
本発明に係るハロゲン化銀粒子にヨウ化銀を導入する方法としては、粒子形成中にヨウ化アルカリ水溶液を添加する方法、微粒子ヨウ化銀、微粒子ヨウ臭化銀、微粒子ヨウ塩化銀、微粒子ヨウ塩臭化銀のうち少なくとも一つの微粒子を添加する方法、特開平5−323487号公報および特開平6−11780号公報記載のヨウ化物イオン放出剤を用いる方法などが好ましい。 Examples of the method for introducing silver iodide into the silver halide grains according to the present invention include a method of adding an alkali iodide aqueous solution during grain formation, fine grain silver iodide, fine grain silver iodobromide, fine grain silver iodochloride, fine grain iodine. A method of adding at least one fine particle of silver chlorobromide and a method using an iodide ion releasing agent described in JP-A-5-323487 and JP-A-6-11780 are preferred.
本発明に係るハロゲン化銀粒子は、350nm〜440nmの間の波長にヨウ化銀結晶構造に由来する直接遷移吸収を示すことが好ましい。これらハロゲン化銀が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、400nm〜430nm付近に直接遷移に起因する励起子吸収が見られることで容易に区別することができる。 The silver halide grains according to the present invention preferably exhibit direct transition absorption derived from the silver iodide crystal structure at a wavelength between 350 nm and 440 nm. Whether these silver halides have light absorption of direct transition can be easily distinguished by the fact that exciton absorption due to direct transition is observed in the vicinity of 400 nm to 430 nm.
(熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子としては、熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子であることが好ましい。すなわち、熱現像前の露光では、現像反応(銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応)の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることを特徴とする。なお、このように熱現像処理前後で潜像形成機能が大幅に変化するハロゲン化銀粒子をドライイメージング材料に用いることは従来知られていなかった。
(Heat conversion internal latent image type silver halide grains)
The photosensitive silver halide grain according to the present invention is preferably a silver halide grain whose surface sensitivity is lowered by converting from a surface latent image type to an internal latent image type by heat development. That is, in the exposure before thermal development, a latent image that can function as a catalyst for a development reaction (reduction reaction of silver ions by a silver ion reducing agent) is formed on the surface of the silver halide grains, and the exposure after the thermal development process has passed. Then, since many latent images are formed inside the surface of the silver halide grains, the silver halide grains are characterized in that the formation of latent images on the surface is suppressed. It has not been known in the past to use silver halide grains whose latent image forming function greatly changes before and after the heat development processing as a dry imaging material.
一般に、感光性ハロゲン化銀粒子が露光されると、ハロゲン化銀粒子自身、又は、感光性ハロゲン化銀粒子表面上に吸着している分光増感色素が光励起されて、自由に移動できる電子を生じるが、この電子はハロゲン化銀粒子表面に存在する電子トラップ(感光中心)又は当該粒子の内部にある電子トラップに競争的にトラップ(捕獲)される。従って、電子トラップとして有効な化学増感中心(化学増感核)やドーパント等がハロゲン化銀粒子内部より表面に多くかつ適当数ある場合には表面に優先的に潜像が形成され、現像可能となる。逆に、電子トラップとして有効な化学増感中心(化学増感核)やドーパント等がハロゲン化銀粒子表面より内部に多くかつ適当数ある場合には内部に優先的に潜像が形成され、表面現像が困難となる。換言すると、前者の場合は、内部より表面の感度が高く、後者の場合は、内部より表面の感度が低いと言える(参考文献:(1) T.H.James編”The Theory of the Photographic Process”第4版、Macmillan Publishing Co.,Ltd.1977、(2) 日本写真学会編”改訂 写真工学の基礎(銀塩写真編)”、コロナ社、1998)。 In general, when photosensitive silver halide grains are exposed, the silver halide grains themselves or spectral sensitizing dyes adsorbed on the surface of the photosensitive silver halide grains are photoexcited to freely move electrons. Although generated, these electrons are competitively trapped (captured) by an electron trap (photosensitive center) existing on the surface of the silver halide grain or an electron trap inside the grain. Therefore, if there are more chemical sensitization centers (chemical sensitization nuclei) and dopants effective as electron traps on the surface than the inside of the silver halide grains, a latent image is preferentially formed on the surface and development is possible. It becomes. On the contrary, when there are more chemical sensitization centers (chemical sensitization nuclei) and dopants effective as electron traps in the inside than the silver halide grain surface, a latent image is preferentially formed inside, and the surface Development becomes difficult. In other words, in the former case, the surface sensitivity is higher than in the interior, and in the latter case, it can be said that the surface sensitivity is lower than in the interior (reference: (1) edited by TH James, “The Theory of the Photographic Process”. “Fourth Edition, Macmillan Publishing Co., Ltd. 1977, (2) The Japan Photographic Society,“ Revised Photographic Engineering Basics (Silver Salt Photography) ”, Corona, 1998).
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子においては、少なくとも熱現像後の露光時において、電子トラップ性ドーパントとして機能するドーパントをハロゲン化銀粒子の内部に含有させることが、感度及び画像保存性上好ましい。 In the photosensitive silver halide grain according to the present invention, it is preferable in terms of sensitivity and image storage stability to contain a dopant functioning as an electron trapping dopant at least during exposure after heat development. .
なお、熱現像前の画像形成のための露光の際には、正孔(ホール)トラップとして機能し、熱現像過程において変質し、熱現像後においては電子トラップとして機能することができるドーパントが、特に好ましい。 In addition, a dopant that functions as a hole trap during the exposure for image formation before heat development, changes in the heat development process, and functions as an electron trap after heat development, Particularly preferred.
ここで用いられる電子トラップ性ドーパントとは、ハロゲン化銀粒子を構成する銀及びハロゲン以外の元素又は化合物であって、当該ドーパント自身が自由電子をトラップ(捕獲)できる性質を有する又は当該ドーパントがハロゲン化銀粒子内に含有されることで電子トラップ性の格子欠陥等の部位が生じるものをいう。例えば、銀以外の金属イオン又はその塩若しくは錯体、硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲン(酸素族元素)又は窒素原子を含む無機化合物又は有機化合物若しくはそれらの金属錯体、希土類イオン又はその錯体等が挙げられる。 The electron trapping dopant used here is an element or compound other than silver and halogen constituting silver halide grains, and the dopant itself has a property of trapping (capturing) free electrons, or the dopant is halogen. It is the one in which a site such as an electron trapping lattice defect is generated by being contained in a silver halide grain. For example, a metal ion other than silver or a salt or complex thereof, a chalcogen (oxygen group element) such as sulfur, selenium or tellurium, or an inorganic compound or organic compound containing a nitrogen atom or a metal complex thereof, a rare earth ion or a complex thereof, etc. Can be mentioned.
金属イオン又はその塩若しくは錯体としては、鉛イオン、ビスマスイオン、金イオン等又は臭化鉛、硝酸鉛、炭酸鉛、硫酸鉛、硝酸ビスマス、塩化ビスマス、三塩化ビスマス、炭酸ビスマス、ビスマス酸ナトリウム、塩化金酸、酢酸鉛、ステアリン酸鉛、酢酸ビスマス等を挙げることが出来る。 Examples of metal ions or salts or complexes thereof include lead ions, bismuth ions, gold ions, etc., or lead bromide, lead nitrate, lead carbonate, lead sulfate, bismuth nitrate, bismuth chloride, bismuth trichloride, bismuth carbonate, sodium bismuthate, Examples thereof include chloroauric acid, lead acetate, lead stearate, bismuth acetate and the like.
硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲンを含む化合物としては、写真業界において、一般にカルコゲン増感剤として知られているカルコゲン放出性の種々の化合物を使用することが出来る。また、カルコゲン又は窒素を含有する有機物としては、ヘテロ環式化合物が好ましい。例えば、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、インドレニン、テトラザインデンであり、好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラザインデンである。 As the compound containing chalcogen such as sulfur, selenium, and tellurium, various chalcogen-releasing compounds generally known as chalcogen sensitizers in the photographic industry can be used. Moreover, as an organic substance containing chalcogen or nitrogen, a heterocyclic compound is preferable. For example, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, Tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, indolenine, tetrazaindene, preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, Naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, o Sasol, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, a tetrazaindene.
なお、上記のヘテロ環式化合物は置換基を有していても良く、置換基として好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基である。 The above heterocyclic compound may have a substituent, and the alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group are preferable as the substituent. , Aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, Sulfo group, carboxyl group, nitro group and heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonyl group Amino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group An acylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or a heterocyclic group.
なお、本発明に用いられるハロゲン化銀粒子には、上記のドーパントのように電子トラップ性ドーパントとして機能するように、或いはホールトラップ性ドーパントとして機能するように元素周期律表の6族から11族に属する遷移金属のイオンを当該金属の酸化状態を配位子(リガンド)等により化学的に調整して含有させても良い。上記の遷移金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Ptが好ましい。
The silver halide grains used in the present invention include
本発明において、上記の各種ドーパントについては、1種類でも同種或いは異種の化合物若しくは錯体を2種以上併用してもよい。ただし、少なくとも1種は、熱現後の露光の際に、電子トラップ性ドーパントとして機能することが必要である。これらのドーパントはどのような化学的形態でもハロゲン化銀粒子内に導入してもよい。 In the present invention, the above various dopants may be used alone or in combination of two or more of the same or different compounds or complexes. However, at least one kind needs to function as an electron trapping dopant at the time of exposure after thermal development. These dopants may be introduced into the silver halide grains in any chemical form.
なお、本発明においては、Ir、又はCuの錯体ないし塩のいずれか1種を単独で用いてドーピングする態様はあまり好ましくない。 In the present invention, an aspect of doping by using any one of Ir or Cu complex or salt alone is not very preferable.
ドーパントの好ましい含有率は、銀1モルに対し1×10-91×10モルの範囲が好ましく、1×10-8〜1×10-1モルの範囲がより好ましい。さらに、1×10-6〜1×10-2モルが好ましい。 The preferable content of the dopant is preferably in the range of 1 × 10 −9 1 × 10 mol and more preferably in the range of 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol with respect to 1 mol of silver. Furthermore, 1 * 10 < -6 > -1 * 10 <-2> mol is preferable.
但し、最適量はドーパントの種類、ハロゲン化銀粒子の粒径、形状等、その他環境条件等に依存するのでこれらの条件に応じてドーパント添加条件の最適化の検討をすることが好ましい。 However, since the optimum amount depends on the kind of dopant, the grain size and shape of the silver halide grains, and other environmental conditions, it is preferable to examine optimization of the dopant addition conditions according to these conditions.
本発明においては、遷移金属錯体又は錯体イオンとしては、下記一般式で表されるものが好ましい。 In the present invention, the transition metal complex or complex ion is preferably represented by the following general formula.
一般式〔ML6〕m
式中、Mは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子を表し、mは0、−、2−、3−又は4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲンイオン(例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン)、シアナイド、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていてもよい。
General formula [ML 6 ] m
In the formula, M represents a transition metal selected from
これらの金属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に、核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の後半段階又は直後に添加する。添加に際しては、数回にわたって分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、例えば、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号公報等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。 The compounds providing these metal ions or complex ions are preferably added at the time of silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening In addition, it may be added at any stage before or after chemical sensitization, but it is particularly preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, and more preferably at the stage of nucleation and growth, Most preferably, it is added in the latter half of nucleation or immediately after. In addition, it may be divided and added several times, and can be uniformly contained in the silver halide grains. For example, JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, 3 As described in JP-A-167545, JP-A-4-76534, JP-A-6-110146, JP-A-5-273683, etc., the particles can be included with a distribution.
これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば、金属化合物粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後、物理熟成時途中もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。 These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method in which an aqueous solution or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during particle formation, or the silver salt solution and the halide solution are mixed simultaneously. When adding a third aqueous solution, a method of preparing silver halide grains by a method of simultaneous mixing of three liquids, a method of introducing an aqueous solution of a required amount of a metal compound into a reaction vessel during grain formation, or a silver halide preparation There is a method of adding and dissolving another silver halide grain that has been previously doped with metal ions or complex ions. In particular, a method of adding an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble halide solution. When added to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particle, during or after physical ripening, or at the time of chemical ripening.
なお、非金属性ドーパントも上記の金属性ドーパントと同様の方法によってハロゲン化銀内部に導入することが出来る。 In addition, a nonmetallic dopant can also be introduce | transduced inside a silver halide by the method similar to said metallic dopant.
本発明に係るイメージング材料において、上記のドーパントが電子トラップ性を有するか否かについては、次のように、写真業界において従来一般的に用いられている方法で評価することが出来る。即ち、上記のドーパント又はその分解物がハロゲン化銀粒子内にドープされたハロゲン化銀粒子からなるハロゲン化銀乳剤を、マイクロ波光伝導測定法等による光伝導測定によりドーパントを含有していないハロゲン化銀粒子乳剤を基準として光伝導の減少度を測定することにより評価出来る。又は、当該ハロゲン化銀粒子の内部感度と表面感度の比較実験によっても出来る。 In the imaging material according to the present invention, whether or not the above dopant has an electron trapping property can be evaluated by a method generally used in the photographic industry as follows. That is, a silver halide emulsion comprising silver halide grains doped with the above-mentioned dopant or a decomposition product thereof in silver halide grains is subjected to a photoconductivity measurement by a microwave photoconductivity measurement method or the like, and the halogenation does not contain a dopant. It can be evaluated by measuring the degree of decrease in photoconduction with a silver grain emulsion as a reference. Alternatively, it can be performed by a comparative experiment of the internal sensitivity and surface sensitivity of the silver halide grains.
又は、光熱写真ドライイメージング材料とした後に本発明に係る電子トラップ性ドーパントの効果を評価する場合の方法は、例えば、当該イメージング材料を露光前に通常の実用的熱現像条件と同じ条件で加熱して、その後に一定時間(例えば30秒間)、白色光又は特定の分光増感領域の光(特定の波長域のレーザー光に対して分光増感を施した場合は、当該波長領域の光、例えば、赤外光に対して分光増感を施した場合には、赤外光、ハロゲン化銀粒子固有の感光領域の光、例えば青色光に対して増感を施した場合は青色光)を光学楔を通して露光し、又は、レーザー光の感光材料面照度を段階的に変化させて露光し、さらに前記と同一の熱現像条件で熱現像して得られる特性曲線(センシトメトリーカーブ)に基づき得られる感度を当該電子トラップ性ドーパントを含有していないハロゲン化銀粒子乳剤を使用したイメージング材料の感度と比較することにより評価できる。即ち、本発明に係るドーパントを含有するハロゲン化銀粒子乳剤を含む前者の試料の感度は、当該ドーパントを含まない後者の試料の感度に比較して低くなっていることの確認によってできる。 Alternatively, a method for evaluating the effect of the electron trapping dopant according to the present invention after preparing a photothermographic dry imaging material is, for example, by heating the imaging material under the same conditions as normal practical thermal development conditions before exposure. Then, for a certain period of time (for example, 30 seconds), white light or light in a specific spectral sensitization region (when spectral sensitization is performed on laser light in a specific wavelength region, In the case of spectral sensitization to infrared light, infrared light, light in the photosensitive region unique to silver halide grains, for example, blue light in the case of sensitization to blue light) It can be obtained on the basis of a characteristic curve (sensitometry curve) obtained by exposing through a wedge, or by exposing the light-sensitive material surface illuminance of the laser light in stages, and performing thermal development under the same thermal development conditions as described above. Sensitivity It can be evaluated by comparing the sensitivity of the imaging material using the silver halide grain emulsion containing no electron trapping dopant. That is, it can be confirmed by confirming that the sensitivity of the former sample containing the silver halide grain emulsion containing the dopant according to the present invention is lower than the sensitivity of the latter sample not containing the dopant.
なお、当該材料を、一定時間、白色光又は特定の分光増感領域の光を光学楔を通して、又は、レーザー光の感光材料面照度を段階的に変化させて、露光をした後に、通常の実用的熱現像条件で熱現像をしたときに得られる特性曲線に基づき得られる感度(S1)に対して、露光前に前記の熱現像条件と同じ条件で加熱して、その後に前記露光と同じ露光条件で露光し、前記熱現像と同じ現像条件で熱現像して得られる特性曲線に基づき得られる感度(S2)が、相対比(S2/S1)として、1/10以下、好ましくは、1/20以下、更にハロゲン化銀粒子乳剤に化学増感を施したイメージング材料の場合は、好ましくは1/50以下の低感度であることが好ましい。また相対比(S2/S1)として1/1000以上であることが好ましい。更に、化学増感を施さない場合及び施す場合のいずれにおいても、熱現像後の表面感度が実質的にゼロであることが最も好ましい。 In addition, after exposing the material for a certain period of time with white light or light in a specific spectral sensitization region through an optical wedge, or by changing the illuminance of the photosensitive material surface of the laser light stepwise, normal practical use For the sensitivity (S 1 ) obtained based on the characteristic curve obtained when thermal development is performed under the thermal thermal development conditions, heating is performed under the same conditions as the thermal development conditions before exposure, and then the same as the exposure described above. The sensitivity (S 2 ) obtained on the basis of a characteristic curve obtained by exposure under exposure conditions and heat development under the same development conditions as the above heat development is 1/10 or less as a relative ratio (S 2 / S 1 ), preferably Is less than 1/20, and in the case of an imaging material obtained by chemically sensitizing a silver halide grain emulsion, the sensitivity is preferably 1/50 or less. The relative ratio (S 2 / S 1 ) is preferably 1/1000 or more. Furthermore, it is most preferable that the surface sensitivity after heat development is substantially zero in both cases where chemical sensitization is not performed and when chemical sensitization is performed.
ここで、通常の熱現像条件とは、病院等の医療機関等において、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を市販のレーザイメージャーを使用して熱現像し、診断用等の用途に適した画像を得る場合において、温度、現像時間及び環境湿度等の条件について適切な範囲とされている条件をいう。 Here, the normal heat development condition means that a silver salt photothermographic dry imaging material is heat-developed using a commercially available laser imager in a medical institution such as a hospital, and an image suitable for diagnostic use is obtained. In the case of obtaining, it refers to conditions that are in an appropriate range for conditions such as temperature, development time, and environmental humidity.
本発明に係るハロゲン化銀粒子は、いかなる方法で感光性層に添加されてもよい。例えば、本発明のハロゲン化銀粒子、特に、熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子は、予め調製しておき、これを脂肪族カルボン酸銀塩粒子を調製するための溶液に添加することが、ハロゲン化銀粒子調製工程と脂肪族カルボン酸銀塩粒子調製工程を分離して扱え、製造コントロール上も好ましい。また、本発明のハロゲン化銀粒子と脂肪族カルボン酸銀粒子をそれぞれ別途に調製しておき、塗布行程の直前に、それぞれを感光性層調製液に添加する方法がより好ましい。 The silver halide grains according to the present invention may be added to the photosensitive layer by any method. For example, the silver halide grains of the present invention, in particular, the heat conversion internal latent image type silver halide grains may be prepared in advance and added to a solution for preparing aliphatic carboxylic acid silver salt grains. The silver halide grain preparation step and the aliphatic carboxylic acid silver salt salt preparation step can be handled separately, which is preferable in terms of production control. In addition, it is more preferable to prepare silver halide grains and aliphatic carboxylate grains of the present invention separately and add them to the photosensitive layer preparation liquid immediately before the coating process.
なお、別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子は、脱塩工程により不要な塩類等を、例えば、ヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、脱塩しないで用いることもできる。 Separately prepared photosensitive silver halide grains are freed of unnecessary salts by a desalting step by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method, an electrodialysis method, or the like. Although it can be salted, it can also be used without desalting.
上記の本発明に係るハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル、好ましくは0.03〜0.5モルで使用するのが好ましい。 The silver halide grains according to the present invention are used in an amount of 0.001 to 0.7 mol, preferably 0.03 to 0.5 mol, per mol of the aliphatic carboxylic acid silver salt.
(化学増感)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子には、化学増感を施すことができる。例えば、特開2001−249428号及び特開2001−249426号に記載されている方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、感光性ハロゲン化銀粒子又は当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子又は正孔(ホール)を捕獲することができる化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。
(Chemical sensitization)
The photosensitive silver halide grains according to the present invention can be chemically sensitized. For example, use of a compound that releases a chalcogen such as sulfur, selenium, tellurium, or a noble metal ion that releases a noble metal ion such as gold ion by the methods described in JP-A Nos. 2001-249428 and 2001-249426 Thus, it is possible to form and impart a chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) capable of capturing electrons or holes generated by photoexcitation of photosensitive silver halide grains or spectral sensitizing dyes on the grains. In particular, it is preferably chemically sensitized with an organic sensitizer containing a chalcogen atom.
これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。 These organic sensitizers containing chalcogen atoms are preferably compounds having groups capable of adsorbing to silver halide and unstable chalcogen atom sites.
これらの有機増感剤としては、特開昭60−150046号、特開平4−109240号、同11−218874号、同11−218875号、同11−218876号、同11−194447号等に開示されている種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらのうち、カルコゲン原子が炭素原子又はリン原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。特に、複素環基を有するチオ尿素誘導体及びトリフェニルホスフィンサルファイド誘導体等が好ましい。 These organic sensitizers are disclosed in JP-A-60-150046, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874, JP-A-11-218875, JP-A-11-218876, JP-A-11-194447, etc. Organic sensitizers having various structures can be used, and among them, at least one compound having a structure in which a chalcogen atom is bonded to a carbon atom or a phosphorus atom by a double bond It is preferable. In particular, a thiourea derivative having a heterocyclic group and a triphenylphosphine sulfide derivative are preferred.
化学増感を施す方法としては、従来の湿式処理用のハロゲン化銀感光材料の製造の際に慣用されている種々の化学増感技術に準じた技術が使用できる(参考文献:(1) T.H.James編”The Theory of the Photographic Process”第4版、Macmillan Publishing Co.,Ltd.1977、(2) 日本写真学会編”写真工学の基礎(銀塩写真編),コロナ社,1979)。特に、ハロゲン化銀粒子乳剤に予め化学増感を施し、その後に非感光性有機銀塩粒子と混合する場合には、従来の慣用方法により化学増感を施すことができる。 As a method for chemical sensitization, techniques according to various chemical sensitization techniques conventionally used in the production of conventional silver halide light-sensitive materials for wet processing can be used (reference: (1) T Edited by H. James “The Theory of the Photographic Process” 4th edition, Macmillan Publishing Co., Ltd., 1977, (2) The Japan Photographic Society, “Basics of Photographic Engineering (Silver Salt Photography), Corona, 1979) In particular, when the silver halide grain emulsion is previously chemically sensitized and then mixed with non-photosensitive organic silver salt grains, it can be chemically sensitized by a conventional method.
有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり、10-8〜10-2モルが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3モルを用いる。 The amount of the chalcogen compound used as the organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, silver halide grains, reaction environment for chemical sensitization, etc., but is 10 −8 to 10 − per mol of silver halide. 2 mol is preferred, more preferably 10 −7 to 10 −3 mol.
化学増感を施す際の環境条件としては、特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀又は銀核を消滅或いはそれらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、又特に銀核を酸化しうる酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましい場合がある。この場合の増感条件は、pAgとしては6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜8、又温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。 The environmental conditions for chemical sensitization are not particularly limited, but in the presence of a compound capable of annihilating or reducing the size of silver chalcogenide or silver nuclei on photosensitive silver halide grains. In particular, it may be preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidizing agent capable of oxidizing silver nuclei. The sensitizing conditions in this case are preferably 6 to 11 as pAg, more preferably 7 to 10, pH 4 to 10, more preferably 5 to 8, and the temperature increases at 30 ° C. or lower. It is preferable to give a feeling.
また、これらの有機増感剤を用いた化学増感は、分光増感色素またはハロゲン化銀粒子に対して、吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平3−24537号に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物において、複素環としては、例えば、ピラゾール環、ピリミジン環、1,2,4−トリアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリダジン環、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えば、フタラジン環、ベンズイミダゾール環、インダゾール環、ベンズチアゾール環なども適用できる。 In addition, chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably performed in the presence of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to spectral sensitizing dyes or silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having an adsorptivity to silver halide, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. Although the spectral sensitizing dye will be described later, preferred examples of the heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide include nitrogen-containing heterocyclic compounds described in JP-A-3-24537. In the nitrogen-containing heterocyclic compound, examples of the heterocyclic ring include pyrazole ring, pyrimidine ring, 1,2,4-triazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2 , 3-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,2,3,4-tetrazole ring, pyridazine ring, 1,2,3-triazine ring, these rings Can be mentioned, for example, a triazolotriazole ring, a diazaindene ring, a triazaindene ring, a pentaazaindene ring, and the like. A heterocyclic ring in which a monocyclic heterocyclic ring and an aromatic ring are condensed, for example, a phthalazine ring, a benzimidazole ring, an indazole ring, a benzthiazole ring, or the like can also be applied.
これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えば、ヒドロキシトリアザインデン、テトラヒドロキシアザインデン、ヒドロキシペンタアザインデン化合物等が更に好ましい。 Of these, an azaindene ring is preferable, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, for example, a hydroxytriazaindene, tetrahydroxyazaindene, hydroxypentaazaindene compound, or the like is more preferable.
複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。 The heterocyclic ring may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a cyano group. You may have.
これ含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、おおよその量はハロゲン化銀1モル当たりの量で10-6〜1モルの範囲であり、好ましくは10-4〜10-1モルの範囲である。 The amount of the heterocyclic compound added varies over a wide range depending on the size, composition, and other conditions of the silver halide grains, but the approximate amount is 10 -6 per mole of silver halide. It is in the range of ˜1 mol, preferably in the range of 10 −4 to 10 −1 mol.
本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、金イオンなどの貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば、金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。なお、特開平11−194447号に開示されている金増感技術が参考となる。 The photosensitive silver halide according to the present invention can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example, a chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer. The gold sensitization technique disclosed in JP-A-11-194447 is useful as a reference.
又、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物として、例えば、アスコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。 In addition to the above-described sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used. Examples of reduction sensitization shell-like compounds include ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, A borane compound, a silane compound, a polyamine compound, or the like can be used. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower.
本発明において、化学増感を施されるハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩の存在下で形成されたのでも、当該有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、また、両者が混合されたものでもよい。 In the present invention, the silver halide grains subjected to chemical sensitization may be formed in the presence of an aliphatic carboxylic acid silver salt, or in the absence of the organic silver salt, A mixture of the two may be used.
本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に化学増感を施した場合においては、熱現像過程経過後に該化学増感の効果が実質的に消失することが必要である。ここで、化学増感の効果が実質的に消失するとは、前記の化学増感技術によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に化学増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。なお、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、化学増感中心(化学増感核)を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層又は/及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、化学増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。 In the present invention, when chemical sensitization is performed on the surface of the photosensitive silver halide grains, it is necessary that the chemical sensitization effect substantially disappears after the thermal development process. Here, the chemical sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained by the chemical sensitization technique is 1.1 when the chemical sensitization is not performed after the thermal development process. Say to decrease to less than double. In order to eliminate the chemical sensitization effect in the heat development process, an oxidant capable of destroying the chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) by an oxidation reaction at the time of heat development, for example, the above-mentioned halogen radical releasing compound, etc. It is necessary to contain an appropriate amount of the above in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the chemical sensitization effect, and the like.
(分光増感)
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば、特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許第4,639,414号、同第4,740,455号、同第4,741,966号、同第4,751,175号、同第4,835,096号に記載された増感色素が使用できる。
(Spectral sensitization)
The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably subjected to spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye. As spectral sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes and the like can be used. For example, JP-A-63-159841, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651, JP-A-63-304242, JP-A-63-15245, US Pat. No. 4,639,414, No. 4,740,455, No. 4,741,966, No. 4,751,175, No. 4,835,096 can be used.
本発明に使用される有用な増感色素は、例えば、リサーチ・ディスクロージャー(以下、RDと略す)17643IV−A項(1978年12月p.23)、RD18431X項(1978年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に、各種レーザイメージャーやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号に記載の化合物が好ましく用いられる。 Useful sensitizing dyes used in the present invention include, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) 17643IV-A (December 1978 p.23), RD18431X (August 1978 p.437). It is described in the literature described or cited. In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light sources of various laser imagers and scanners. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.
有用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。 Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Useful merocyanine dyes are preferably acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus in addition to the basic nuclei described above. Including.
本発明においては、特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば米国特許第4,536,473号、同第4,515,888号、同第4,959,294号等に開示されている赤外分光増感色素が挙げられる。 In the present invention, a sensitizing dye having spectral sensitivity particularly in the infrared can also be used. Examples of infrared spectral sensitizing dyes preferably used include infrared spectral sensitization disclosed in US Pat. Nos. 4,536,473, 4,515,888, 4,959,294, and the like. Examples include dyes.
本発明の熱現像方法において用いられる銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、米国公開特許公報20040224266号明細書に記載されている一般式(1)で表される増感色素及び一般式(2)で表される増感色素のうちから少なくとも1種を選び含有することが好ましく、一般式(5)で表される増感色素及び一般式(6)で表される増感色素のうちから少なくとも1種を選び含有することがより好ましい。一般式(5)で表される増感色素及び一般式(6)で表される増感色素を併用することが露光時の露光波長依存性を改良するうえで特に好ましい。 In the silver salt photothermographic dry imaging material used in the heat development method of the present invention, the sensitizing dye represented by the general formula (1) and the general formula (2) described in US Patent Publication No. 20040224266 are described. It is preferable to select and contain at least one of sensitizing dyes represented by general formula (5), and at least one of the sensitizing dye represented by general formula (5) and the sensitizing dye represented by general formula (6). It is more preferable to select and contain one kind. It is particularly preferable to use the sensitizing dye represented by the general formula (5) and the sensitizing dye represented by the general formula (6) in combination for improving the exposure wavelength dependency at the time of exposure.
上記の赤外増感色素は、例えば、エフ・エム・ハーマー著、The Chemistry of Heterocyclic Compounds第18巻、The Cyanine Dyes and Related Compounds(A.Weissberger ed.Interscience社刊、New York 1964年)に記載の方法によって容易に合成することができる。 The above-mentioned infrared sensitizing dyes are described in, for example, HM Hammer, The Chemistry of Heterocyclic Compounds, Vol. 18, The Cyanine Dies and Related Compounds, published by A. Weissberger ed. It can be easily synthesized by this method.
これらの赤外増感色素の添加時期は、ハロゲン化銀調製後の任意の時期でよく、例えば、溶剤に添加して、或いは微粒子状に分散した、いわゆる固体分散状態でハロゲン化銀粒子或いはハロゲン化銀粒子/脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。 These infrared sensitizing dyes may be added at any time after the silver halide is prepared. For example, silver halide grains or halogens may be added in a so-called solid dispersion state added to a solvent or dispersed in a fine particle form. It can be added to a light-sensitive emulsion containing silver halide grains / aliphatic carboxylic acid silver salt grains. Similarly to the heteroatom-containing compound having adsorptivity to the silver halide grains, chemical sensitization can be performed after adding and adsorbing to the silver halide grains prior to chemical sensitization. Thus, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved.
本発明において、上記の分光増感色素は1種類を単独に用いてもよいが、上述のように、分光増感色素の複数の種類の組合せを用いることが好ましく、そのような増感色素の組合せは、特に強色増感及び感光波長領域の拡大や調整等の目的でしばしば用いられる。 In the present invention, one kind of spectral sensitizing dye may be used alone, but as described above, it is preferable to use a combination of plural kinds of spectral sensitizing dyes. The combination is often used for the purpose of supersensitization and enlargement or adjustment of the photosensitive wavelength region.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いられる感光性ハロゲン化銀、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する乳剤は、増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されていてもよい。 The emulsion containing the photosensitive silver halide and the aliphatic carboxylic acid silver salt used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is not only a sensitizing dye but also a dye having no spectral sensitizing action itself or visible light. In the emulsion, a substance that does not substantially absorb the color and expresses a supersensitization effect may be contained in the emulsion, whereby the silver halide grains may be supersensitized.
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質は、リサーチ・ディスクロージャー(RD)17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号等に記載されているが、強色増感剤としては、下記で表される複素芳香族メルカプト化合物が又はメルカプト誘導体化合物が好ましい。 Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in Research Disclosure (RD) 17643 (issued in December, 1978), page 23, Section J, or No. 9-25500, No. 43-4933, JP-A Nos. 59-19032, 59-192242, JP-A No. 5-341432, and the like. Preferred are heteroaromatic mercapto compounds or mercapto derivative compounds.
Ar−SM
〔式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、またはテルリウム原子を有する芳香環または縮合芳香環である。〕
好ましくは、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンズセレナゾール、ベンズテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリンである。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。
Ar-SM
[Wherein, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium, or tellurium atoms. ]
Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzthiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzselenazole, benztelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine , Purine, quinoline, or quinazoline. However, other heteroaromatic rings are also included.
なお、脂肪族カルボン酸銀塩又はハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させたときに実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。 In addition, mercapto derivative compounds that substantially produce the above mercapto compounds when contained in a dispersion of an aliphatic carboxylic acid silver salt or silver halide grain emulsion are also included. In particular, mercapto derivative compounds represented below are preferred examples.
Ar−S−S−Ar
〔式中のArは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。〕
上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有しうる。
Ar-SS-Ar
[Ar in the formula has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented above. ]
The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (for example, chlorine, bromine, iodine), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). It may have a substituent selected from the group consisting of those having a carbon atom) and alkoxy groups (for example, those having 1 or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms).
上記の強色増感剤の他に、特開2001−330918号公報に開示されているヘテロ原子を有する大環状化合物も強色増感剤として使用できる。 In addition to the supersensitizer described above, macrocycles having heteroatoms disclosed in JP-A No. 2001-330918 can also be used as the supersensitizer.
本発明に係る強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光性層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルで用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀1モル当たり0.01〜0.5モルの量が好ましい。 The supersensitizer according to the present invention is preferably used in an amount of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in a photosensitive layer containing an organic silver salt and silver halide grains. Particularly preferred is an amount of 0.01 to 0.5 mole per mole of silver.
本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に分光増感色素を吸着せしめ分光増感が施されており、かつ熱現像過程経過後に該分光増感効果が実質的に消失することが必要である。ここで、分光増感効果が実質的に消失するとは、増感色素、強色増感剤等によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に分光増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。 In the present invention, it is necessary that the spectral sensitizing dye is adsorbed on the surface of the photosensitive silver halide grain to effect spectral sensitization, and that the spectral sensitizing effect should substantially disappear after the thermal development process. It is. Here, the spectral sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained by a sensitizing dye, supersensitizer, etc. is the sensitivity when spectral sensitization is not performed after the thermal development process. It means to decrease to 1.1 times or less.
なお、分光増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、熱によってハロゲン化銀粒子より脱離しやすい分光増感色素を使用する又は/および分光増感色素を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層又は/及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、分光増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。 In order to eliminate the spectral sensitization effect in the thermal development process, use a spectral sensitizing dye that is easily detached from the silver halide grains by heat during thermal development or / and destroy the spectral sensitizing dye by an oxidation reaction. It is necessary to contain an appropriate amount of an oxidizing agent that can be formed, for example, the above-mentioned halogen radical releasing compound in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the spectral sensitization effect, and the like.
(還元剤)
本発明に係る還元剤は感光性層中で、銀イオンを還元し得るものであり、現像剤ともいう。還元剤としては、下記一般式(RD1)で表される化合物が挙げられる。
(Reducing agent)
The reducing agent according to the present invention can reduce silver ions in the photosensitive layer and is also referred to as a developer. Examples of the reducing agent include compounds represented by the following general formula (RD1).
本発明においては、銀イオンの還元剤として、特に、還元剤の少なくとも1種が下記一般式(RD1)で表される化合物を単独又は他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いることが好ましい。 In the present invention, as the silver ion reducing agent, in particular, a compound in which at least one of the reducing agents is represented by the following general formula (RD1) is used alone or in combination with a reducing agent having another different chemical structure. preferable.
〔式中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表し、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。R2は少なくとも一方が2級または3級のアルキル基を表し、同一でも異なってもよい。R3は炭素数2〜20の置換されてもよいアルキル基を表す。R4はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。〕
一般式(RD1)で表される化合物のうちでも特にR3の少なくとも1つの基はヒドロキシル基、または脱保護されることによりヒドロキシル基を形成しうる基を置換基として有するアルキル基を表す化合物(以降は(RD1a)の化合物と呼ぶ)を用いることが、高濃度で、光照射画像保存性に優れた熱現像感光材料を得ることができる点でより好ましい。本発明においては、熱現像特性を制御するために(RD1a)の化合物と下記一般式(RD2)の化合物とを併用することもできる。
[Wherein, X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 , and R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. At least one of R 2 represents a secondary or tertiary alkyl group and may be the same or different. R 3 represents an optionally substituted alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. R 4 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2. ]
Among the compounds represented by the general formula (RD1), in particular, at least one group of R 3 is a hydroxyl group or a compound representing an alkyl group having as a substituent a group capable of forming a hydroxyl group by deprotection ( In the following, it is more preferable to use (RD1a)) in that a photothermographic material having a high concentration and excellent light-irradiated image storage stability can be obtained. In the present invention, the compound of (RD1a) and the compound of the following general formula (RD2) can be used in combination in order to control the heat development characteristics.
〔式中、X2はカルコゲン原子又はCHR5を表し、R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。R7は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。R8はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。〕
その併用比率としては、[(RD1a)の化合物の質量]:[一般式(RD2)の化合物の質量]が5:95〜45:55であることが好ましく、より好ましくは10:90〜40:60である。
[Wherein, X 2 represents a chalcogen atom or CHR 5 , and R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group. R 7 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. R 8 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2. ]
As the combined ratio, [the mass of the compound of (RD1a)]: [the mass of the compound of general formula (RD2)] is preferably 5:95 to 45:55, more preferably 10:90 to 40: 60.
一般式(RD1)中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表す。カルコゲン原子としては、硫黄、セレン、テルルであり、好ましくは硫黄原子である。CHR1におけるR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等であり、アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル等、アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等、アリール基としてはベンゼン環、ナフタレン環等、複素環基としてはチオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等の各基である。 In the general formula (RD1), X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 . The chalcogen atom is sulfur, selenium or tellurium, preferably a sulfur atom. R 1 in CHR 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. The halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or the like, and the alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, and hexyl. Alkenyl groups such as vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, Examples of the aryl group include a benzene ring and a naphthalene ring, and examples of the heterocyclic group include thiophene, furan, imidazole, pyrazole, and pyrrole.
これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基として具体的には、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、i−ペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、デシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロヘプチル等)、アルケニル基(エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、シクロアルケニル基(1−シクロアルケニル、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(エチニル、1−プロピニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ等)、アルキルカルボニルオキシ基(アセチルオキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、トリフルオロメチルチオ等)、アシル基(アセチル基、ベンゾイル基)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(アセチルアミノ等)、ウレイド基(メチルアミノカルボニルアミノ等)、アルキルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−モルホリノカルボニル等)、スルファモイル基(スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、モルホリノスルファモイル等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド等)、アルキルアミノ基(アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ等)、スルホ基、ホスホノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(メタンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノカルボニル等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドスルホニル等)、アルキニルアミノカルボニル基(アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボニル等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンスルフィニルアミノカルボニル等)等が挙げられる。又、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。特に好ましい置換基はアルキル基である。 These groups may further have a substituent. Specific examples of the substituent include a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), an alkyl group (methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, i-pentyl). , 2-ethylhexyl, octyl, decyl, etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cycloheptyl, etc.), alkenyl groups (ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl) -3-butenyl, etc.), cycloalkenyl groups (1-cycloalkenyl, 2-cycloalkenyl groups, etc.), alkynyl groups (ethynyl, 1-propynyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, etc.), alkylcarbonyloxy groups (Acetyloxy, etc.), alkylthio groups (methylthio, trifluoromethylthio, etc.), Sil group (acetyl group, benzoyl group), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (acetylamino etc.), ureido group (methylaminocarbonylamino etc.), alkylsulfonylamino group (methanesulfonylamino etc.), alkylsulfonyl group (methanesulfonyl) , Trifluoromethanesulfonyl, etc.), carbamoyl group (carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-morpholinocarbonyl, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, morpholinosulfamoyl etc.), trifluoromethyl Group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkylsulfonamide group (methanesulfonamide, butanesulfonamide, etc.), alkylamino group (amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino) Etc.), sulfo group, phosphono group, sulfite group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (methanesulfonylaminocarbonyl, ethanesulfonylaminocarbonyl etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (acetamidesulfonyl, methoxyacetamidosulfonyl etc.), alkynyl Examples thereof include aminocarbonyl groups (acetamidocarbonyl, methoxyacetamidocarbonyl, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl groups (methanesulfinylaminocarbonyl, ethanesulfinylaminocarbonyl, etc.) and the like. Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. A particularly preferred substituent is an alkyl group.
R2はアルキル基を表し、少なくとも一方は2級又は3級のアルキル基である。アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル、1−メチルシクロプロピル等の基が挙げられる。 R 2 represents an alkyl group, at least one of which is a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, i-butyl, t-butyl, t-pentyl, t-amyl. , T-octyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-methylcyclopropyl and the like.
アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えば、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。又、(R4)m及び(R4)nと飽和環を形成してもよい。 Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group , Ester groups, halogen atoms and the like. Or it may form a saturated ring with (R 4) m and (R 4) n.
R2は好ましくは何れも2級又は3級のアルキル基であり、炭素数2〜20が好ましい。より好ましくは3級アルキル基であり、更に好ましくはt−ブチル、t−アミル、t−ペンチル、1−メチルシクロヘキシルであり、最も好ましくはt−ブチルである。 R 2 is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and preferably has 2 to 20 carbon atoms. A tertiary alkyl group is more preferred, t-butyl, t-amyl, t-pentyl and 1-methylcyclohexyl are most preferred, and t-butyl is most preferred.
R3は炭素数2〜20のアルキル基を表す。R3として好ましくは、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては前記R1で挙げた置換基を用いることができる。 R 3 represents an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. R 3 is preferably ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl and the like. These groups may further have a substituent, and the substituents mentioned in the above R 1 can be used as the substituent.
R3は好ましくはヒドロキシル基又は脱保護されることによりヒドロキシル基を形成しうる基(以下プレカーサー基ともいう)を有する炭素数2〜20のアルキル基であるが、好ましくはヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する炭素数2〜20のアルキル基である。アルキル基の炭素数は2〜10であることが好ましく、2〜5であることがより好ましい。脱保護されて水酸基を形成しうる基として好ましくは酸および/または熱の作用により脱保護して水酸基を形成する基が挙げられる。 R 3 is preferably a hydroxyl group or an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms having a group capable of forming a hydroxyl group by deprotection (hereinafter also referred to as a precursor group), preferably a hydroxyl group or a precursor group thereof. It is a C2-C20 alkyl group which has these. The alkyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms. The group that can be deprotected to form a hydroxyl group is preferably a group that forms a hydroxyl group by deprotection by the action of an acid and / or heat.
具体的には、エーテル基(メトキシ基、tert−ブトキシ基、アリルオキシ基、ベンジルオキシ基、トリフェニルメトキシ基、トリメチルシリルオキシ基等)、ヘミアセタール基(テトラヒドロピラニルオキシ基等)、エステル基(アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−ニトロベンゾイルオキシ基、ホルミルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基等)、カルボナート基(エトキシカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニルオキシ基、tert−ブチルオキシカルボニルオキシ基等)、スルホナート基(p−トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基等)、カルバモイルオキシ基(フェニルカルバモイルオキシ基等)、チオカルボニルオキシ基(ベンジルチオカルボニルオキシ基等)、硝酸エステル基、スルフェナート基(2,4−ジニトロベンゼンスルフェニルオキシ基等)が挙げられる。 Specifically, ether groups (methoxy groups, tert-butoxy groups, allyloxy groups, benzyloxy groups, triphenylmethoxy groups, trimethylsilyloxy groups, etc.), hemiacetal groups (tetrahydropyranyloxy groups, etc.), ester groups (acetyl) Oxy group, benzoyloxy group, p-nitrobenzoyloxy group, formyloxy group, trifluoroacetyloxy group, pivaloyloxy group, etc.), carbonate group (ethoxycarbonyloxy group, phenoxycarbonyloxy group, tert-butyloxycarbonyloxy group, etc.) ), Sulfonate groups (p-toluenesulfonyloxy group, benzenesulfonyloxy group etc.), carbamoyloxy groups (phenylcarbamoyloxy group etc.), thiocarbonyloxy groups (benzylthiocarbonyloxy group etc.), Ester group, sulfenates group (2,4-dinitrobenzene sulfenyl group and the like).
R3は最も好ましくはヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する炭素数2〜5の第1級アルキル基であり、例えば2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピルである。R2及びR3の最も好ましい組合せは、R2が第3級アルキル基(t−ブチル、t−アミル、1−メチルシクロヘキシル等)であり、R3がヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する第1級アルキル基(2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル等)である。複数のR2、R3は同じでも異なっていてもよい。一般式(RD1a)で表される化合物の具体例としては、米国特許6800431号明細書のカラム6〜16に記載の化合物R−1〜R−12,R−15〜R−20、R−58〜R−59があげられる。
R 3 is most preferably a primary alkyl group having 2 to 5 carbon atoms having a hydroxyl group or a precursor group thereof, such as 2-hydroxyethyl or 3-hydroxypropyl. A most preferred combination of R 2 and R 3 is a first group in which R 2 is a tertiary alkyl group (t-butyl, t-amyl, 1-methylcyclohexyl, etc.), and R 3 has a hydroxyl group or a precursor group thereof. A secondary alkyl group (2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, etc.). A plurality of R 2 and R 3 may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the general formula (RD1a) include compounds R-1 to R-12, R-15 to R-20, and R-58 described in
R4は水素原子又はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル、パーフルオロオクチル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルキニル基(プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、フッ素)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は更にこれらの基で置換されてもよい。m及びnは0〜2の整数を表すが、最も好ましくはm、n共に0の場合である。 R 4 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on the benzene ring, and specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl). Etc.), halogenated alkyl groups (trifluoromethyl, perfluorooctyl etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cyclopentyl etc.), alkynyl groups (propargyl etc.), glycidyl groups, acrylate groups, methacrylate groups, aryl groups (phenyl etc.) , Heterocyclic groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atoms (chlorine, bromine, iodine, fluorine), alkoxy groups ( Methoxy Ethoxy, propyloxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy groups (phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups ( Phenyloxycarbonyl, etc.), sulfonamide groups (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl groups (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl) , Butylaminosulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pi Lysylaminosulfonyl, etc.), urethane groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.), acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl, etc.) ), Carbamoyl group (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl), amide group (acetamide, propionamide, butanamide, hexane Amide, benzamide, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexyl) Sulfonyl, phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group Group, oxamoyl group and the like. These groups may be further substituted with these groups. m and n represent an integer of 0 to 2, and most preferably m and n are both 0.
又、R4はR2、R3と飽和環を形成してもよい。R4は好ましくは水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。複数のR4は同じでも異なっていても良い。 R 4 may form a saturated ring with R 2 and R 3 . R 4 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom. A plurality of R 4 may be the same or different.
一般式(RD2)中、R5はR1と同様の基であり、R7はR3と同様の基であり、R8はR4と同様の基である。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル等の基が挙げられる。 In general formula (RD2), R 5 is the same group as R 1 , R 7 is the same group as R 3, and R 8 is the same group as R 4 . R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include methyl, ethyl, propyl, butyl and the like.
アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えば、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。 Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group , Ester groups, halogen atoms and the like.
又、R6は(R8)m及び(R8)nと飽和環を形成してもよい。R6は、好ましくはメチルである。一般式(RD2)で表される化合物のうちでも好ましく用いられる化合物は欧州特許第1,278,101号明細書に記載の一般式(S)、一般式(T)を満足する化合物であり、具体的にはp21〜p28に記載の(1−24)、(1−28)〜(1−54)、(1−56)〜(1−75)の化合物があげられる。 R 6 may form a saturated ring with (R 8 ) m and (R 8 ) n . R 6 is preferably methyl. Among the compounds represented by the general formula (RD2), compounds preferably used are compounds satisfying the general formula (S) and the general formula (T) described in EP 1,278,101, Specific examples include compounds (1-24), (1-28) to (1-54), and (1-56) to (1-75) described in p21 to p28.
以下に、一般式(RD1)、一般式(RD2)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compounds represented by general formula (RD1) and general formula (RD2) are shown below, but the present invention is not limited to these.
これら一般式(RD1)、一般式(RD2)で表されるビスフェノール化合物は、従来公知の方法により容易に合成することができる。 These bisphenol compounds represented by the general formula (RD1) and general formula (RD2) can be easily synthesized by a conventionally known method.
本発明において、併用することができる還元剤としては、例えば、米国特許3,770,448号、同3,773,512号、同3,593,863号の各明細書、RD17029号及び29963号、特開平11−119372号、特開2002−62616号の各公報等に記載されている還元剤が挙げられる。 In the present invention, examples of the reducing agent that can be used in combination include US Pat. Nos. 3,770,448, 3,773,512, and 3,593,863, RD17029 and 29963. And reducing agents described in JP-A-11-119372 and JP-A-2002-62616.
前記一般式(RD1)で表される化合物を初めとする還元剤の使用量は、好ましくは銀1モル当たり1×10-2〜10モル、特に好ましくは1×10-2〜1.5モルである。 The amount of the reducing agent including the compound represented by the general formula (RD1) is preferably 1 × 10 −2 to 10 mol, particularly preferably 1 × 10 −2 to 1.5 mol, per mol of silver. It is.
(画像の色調)
次に、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
(Image tone)
Next, the color tone of an image obtained by thermally developing a silver salt photothermographic dry imaging material will be described.
従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が、判読者にとってより的確な診断観察結果が得易いと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であることを言う。一方、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密な定量的な議論ができるように、以下、国際照明委員会(CIE)の推奨する表現法に基づき説明する。 Regarding the color tone of an output image for medical diagnosis such as a conventional X-ray photographic film, it is said that a cold tone image tone is easier for a reader to obtain a more accurate diagnostic observation result. Here, the cool image tone means a pure black tone or a bluish black tone of a black image. On the other hand, the warm image tone is said to be a warm black tone with a black image, but in order to allow a more precise quantitative discussion, the International Lighting Commission (CIE) ), Based on the recommended expression.
色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度Dmin及び光学濃度D=1.0における色相角habにより表現できる。即ち、色相角habは、国際照明委員会(CIE)が1976年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL*a*b*色空間の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。 The terms “more cold” and “more warm” regarding the color tone can be expressed by the hue angle hab at the minimum density Dmin and the optical density D = 1.0. That is, the hue angle hab is expressed by the color coordinates a * and b * of the color space L * a * b * color space, which is a color space having a perceptually uniform rate recommended by the International Commission on Illumination (CIE) in 1976. Using the following formula.
hab=tan-1(b*/a*)
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明の光熱写真ドライイメージング材料の現像後の色調は、色相角habの範囲が180度<hab<270度であることが好ましく、更に好ましくは200度<hab<270度、最も好ましくは220度<hab<260度であることが判った。このことは、特開2002−6463号公報に開示されている。
hab = tan −1 (b * / a * )
As a result of examination by the expression method based on the hue angle, the hue of the photothermographic dry imaging material of the present invention after development is preferably such that the range of the hue angle hab is 180 degrees <hab <270 degrees, more preferably 200 degrees. It has been found that degrees <hab <270 degrees, most preferably 220 degrees <hab <260 degrees. This is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-6463.
尚、従来、光学濃度1.0付近でのCIE 1976(L*u*v*)色空間又は(L*a*b*)色空間におけるu*、v*又はa*、b*を特定の数値に調整することにより、見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られており、例えば、特開2000−29164号公報に記載されている。 Conventionally, the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space near the optical density of 1.0 is specified as u * , v * or a * , b * . It is known that a diagnostic image with a favorable color tone can be obtained by adjusting to a numerical value, and is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-29164.
しかしながら、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料について更に鋭意検討の結果、CIE 1976(L*u*v*)色空間又は(L*a*b*)色空間において横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのu*、v*又はa*、b*をプロットし、線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより、従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見い出した。以下に好ましい条件範囲について述べる。 However, as a result of further intensive studies on the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, the horizontal axis is u * or a in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or (L * a * b * ) color space. * When plotting u * , v * or a * , b * at various photographic densities on a graph with the vertical axis representing v * or b * , a linear regression line is created. It was found that by adjusting the value to a specific range, it has a diagnostic ability equal to or higher than that of a conventional wet type silver salt photosensitive material. A preferable range of conditions is described below.
(1)銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像処理後に得られた銀画像の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L*u*v*)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のv*値が−5〜5であること、且つ傾き(v*/u*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 (1) The silver salt photothermographic dry imaging material was measured for each of the optical densities of 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density of the silver image obtained after the heat development processing, and CIE 1976 (L * u * v * ) The coefficient of determination of the linear regression line created by arranging u * and v * at the above optical densities in two-dimensional coordinates where the horizontal axis of the color space is u * and the vertical axis is v *. Determination) R 2 is preferably 0.998 to 1.000. Furthermore, it is preferable that the v * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (v * / u * ) is 0.7 to 2.5.
(2)又、当該光熱写真ドライイメージング材料の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L*a*b*)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のb*値が−5〜5であること、且つ傾き(b*/a*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 (2) In addition, the optical density of the photothermographic dry imaging material is measured at 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density, next to the CIE 1976 (L * a * b * ) color space. The coefficient of determination (multiple determination) R 2 of the linear regression line created by arranging a * and b * at each optical density in the two-dimensional coordinates where the axis is a * and the vertical axis is b * is from 0.998 to It is preferable that it is 1.000. Furthermore, it is preferable that b * value of the intersection with the vertical axis | shaft of the said linear regression line is -5-5, and inclination (b * / a * ) is 0.7-2.5.
尚、次に、上述の線形回帰直線の作成法、則ちCIE 1976色空間におけるu*、v*及びa*、b*の測定法の一例を説明する。 An example of a method for creating the above-described linear regression line, that is, a method for measuring u * , v *, a * , and b * in the CIE 1976 color space will be described next.
熱現像装置を用いて未露光部、及び光学濃度0.5、1.0、1.5を含む4段のウエッジ試料を作製する。このようにして作製した、それぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計(ミノルタ社製:CM−3600d等)で測定し、u*、v*又はa*、b*を算出する。その際の測定条件は光源としてF7光源、視野角を10度として透過測定モードで測定を行う。横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に測定したu*、v*又はa*、b*をプロットし線形回帰直線を求め、決定係数(重決定)R2、切片及び傾きを求める。 A four-stage wedge sample including an unexposed portion and optical densities of 0.5, 1.0, and 1.5 is prepared using a heat development apparatus. Each wedge density part thus produced is measured with a spectrocolorimeter (Minolta Co., Ltd .: CM-3600d or the like), and u * , v * or a * , b * are calculated. The measurement conditions at that time are F7 light source as the light source, the viewing angle is 10 degrees, and the measurement is performed in the transmission measurement mode. Plot u * , v * or a * , b * measured on a graph with u * or a * on the horizontal axis and v * or b * on the vertical axis to obtain a linear regression line, and the coefficient of determination (multiple determination) Find R 2 , intercept and slope.
次に、上記のような特徴を持つ線形回帰直線を得るための具体的な方法について説明する。 Next, a specific method for obtaining a linear regression line having the above characteristics will be described.
本発明においては、還元剤(現像剤)、ハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀及び下記の調色剤等の現像反応過程において、直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により、現像銀形状を最適化して好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。 In the present invention, adjustment of the addition amount of a compound or the like directly or indirectly involved in the development reaction process of a reducing agent (developer), silver halide grains, aliphatic silver carboxylate and the following toning agent, etc. Thus, the developed silver shape can be optimized to obtain a preferable color tone. For example, when the developed silver shape is dendritic, it becomes a bluish direction, and when it is a filament shape, it becomes a yellowish direction. That is, it can be adjusted in consideration of the tendency of the developed silver shape.
従来、調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許第4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号、同4,021,249号の各明細書等に開示されている。 Conventionally, phthalazinone or phthalazine and phthalic acids and phthalic anhydrides are generally used as toning agents. Examples of suitable toning agents include RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, and 4,021,249. Is disclosed.
このような調色剤の他に、特開平11−288057号公報、欧州特許第1,134,611A2号明細書等に開示されているカプラー及び、以下で詳述するロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。特に、色調の微調整のためにカプラーまたはロイコ染料を用いることが好ましい。 In addition to such toning agents, color tone using couplers disclosed in JP-A-11-288057, European Patent No. 1,134,611A2, etc. and leuco dyes described in detail below. Can also be adjusted. In particular, a coupler or leuco dye is preferably used for fine adjustment of the color tone.
(ロイコ染料)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。ロイコ染料として好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、上記の還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、且つ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
(Leuco dye)
As described above, the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention can also be adjusted in color tone using a leuco dye. The leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80-200 ° C. for about 0.5-30 seconds. Any leuco dye that can be oxidized by the body to form a pigment can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.
本発明において使用するのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えば、ビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。又、有用なものは、米国特許第3,445,234号、同3,846,136号、同3,994,732号、同4,021,249号、同4,021,250号、同4,022,617号、同4,123,282号、同4,368,247号、同4,461,681号の各明細書、及び特開昭50−36110号、同59−206831号、特開平5−204087号、同11−231460号、特開2002−169249号、同2002−236334号の各公報等に開示されているロイコ染料である。 Representative leuco dyes suitable for use in the present invention are not particularly limited. For example, biphenol leuco dyes, phenol leuco dyes, indoaniline leuco dyes, acrylated azine leuco dyes, phenoxazine leuco dyes, phenodiazine leuco dyes. And phenothiazine leuco dye. Also useful are US Pat. Nos. 3,445,234, 3,846,136, 3,994,732, 4,021,249, 4,021,250, 4,022,617, 4,123,282, 4,368,247, 4,461,681, and JP-A-50-36110, 59-26831, These are leuco dyes disclosed in JP-A-5-204087, JP-A-11-231460, JP-A-2002-169249, and JP-A-2002-236334.
所定の色調に調整するために、種々の色のロイコ染料を単独使用又は複数の種類の併用をすることが好ましい。さらに迅速処理のために高活性な還元剤を使用することに伴ってその使用量や使用比率によって色調(特に黄色味)が変化したり、微粒子のハロゲン化銀粒子を用いたりして、現像銀の粒径が小さくなることにより、特に濃度が2.0以上の高濃度部で画像が過度に赤みをおびることを防止するために、黄色及びシアン色に発色するロイコ染料を併用してその使用量を調整するのが好ましい。 In order to adjust to a predetermined color tone, it is preferable to use leuco dyes of various colors singly or in combination of a plurality of types. In addition, the use of highly active reducing agents for rapid processing changes the color tone (especially yellowishness) depending on the amount and ratio of use, or uses fine silver halide grains to develop developed silver. In order to prevent the image from becoming excessively reddish, especially in the high density part where the density is 2.0 or more, the use of a leuco dye that develops yellow and cyan colors is used in combination. It is preferable to adjust the amount.
発色濃度は現像銀自身による色調との関係で適切に調整することが好ましい。本発明では、0.01〜0.05の反射光学濃度又は0.005〜0.50の透過光学濃度を有するように発色させ上記の好ましい色調範囲の画像になるように色調を調整することが好ましい。本発明ではロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01以上0.50以下とするのが好ましく、より好ましくは0.02以上0.30以下、特に好ましくは0.03以上0.10以下を有するように発色させることが好ましい。 The color density is preferably adjusted appropriately in relation to the color tone of the developed silver itself. In the present invention, the color tone is adjusted so as to have an image in the above preferable color tone range by developing the color so as to have a reflection optical density of 0.01 to 0.05 or a transmission optical density of 0.005 to 0.50. preferable. In the present invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of the dye image formed by the leuco dye is preferably 0.01 or more and 0.50 or less, more preferably 0.02 or more and 0.30 or less, and particularly preferably It is preferable that the color is developed so as to have 0.03 or more and 0.10 or less.
(黄色発色性ロイコ染料)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することが好ましい。本発明において、特に黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより360〜450nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの色像形成剤としては、下記一般式(YA)で表される色像形成剤であることが特に好ましい。
(Yellow coloring leuco dye)
As described above, the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention preferably adjusts the color tone using a leuco dye. In the present invention, a color image forming agent whose absorbance at 360 to 450 nm is increased by oxidation is particularly preferably used as a yellow color-forming leuco dye. These color image forming agents are particularly preferably color image forming agents represented by the following general formula (YA).
〔式中、R11は置換又は無置換のアルキル基を表し、R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表すが、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。R13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、R14はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。〕
以下、一般式(YA)の化合物について詳細に説明する。
[Wherein R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, and R 11 and R 12 represent a 2-hydroxyphenylmethyl group. There is never. R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 14 represents a substituent that can be substituted on the benzene ring. ]
Hereinafter, the compound of the general formula (YA) will be described in detail.
一般式(YA)において、R11は置換又は無置換のアルキル基を表すが、R12が水素原子以外の置換基である場合、R11はアルキル基を表す。当該アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。 In General Formula (YA), R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. When R 12 is a substituent other than a hydrogen atom, R 11 represents an alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and may have a substituent.
具体的にはメチル、エチル、ブチル、オクチル、i−プロピル、t−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル等が好ましく、i−プロピルよりも立体的に大きな基(i−プロピル、i−ノニル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等)であることが好ましく、その中でも2級又は3級のアルキル基が好ましく、3級アルキル基であるt−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル等が特に好ましい。R11が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。 Specifically, methyl, ethyl, butyl, octyl, i-propyl, t-butyl, t-octyl, t-pentyl, sec-butyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl and the like are preferable, and steric rather than i-propyl. Are preferably large groups (i-propyl, i-nonyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl, adamantyl, etc.), among which secondary or tertiary alkyl Group is preferable, and tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-octyl, and t-pentyl are particularly preferable. Examples of the substituent that R 11 may have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamido group, an acyloxy group, an oxycarbonyl group, and a carbamoyl group. , Sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like.
R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表す。R12で表されるアルキル基は炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数1〜30のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記R11と同様である。 R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group. The alkyl group represented by R 12 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the acylamino group is preferably an acylamino group having 1 to 30 carbon atoms. Among these, the description of the alkyl group is the same as R 11 described above.
R12で表されるアシルアミノ基は、無置換でも置換基を有してもよく、具体的には、アセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。R12として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基であり、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチルが挙げられる。又、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。 The acylamino group represented by R 12 may be unsubstituted or substituted, and specific examples include an acetylamino group, an alkoxyacetylamino group, and an aryloxyacetylamino group. R 12 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, and t-butyl. R 11 and R 12 are not 2-hydroxyphenylmethyl groups.
R13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記R11と同様である。R13として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基で、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチル等が挙げられる。又、R12、R13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。 R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the description of the alkyl group is the same as that for R 11 . R 13 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, t-butyl and the like. Further, it is preferable either R 12, R 13 is a hydrogen atom.
R14はベンゼン環に置換可能な基を表し、例えば、前記一般式(RD1)における置換基R4で説明したのと同様な基である。R14として好ましいのは、置換又は無置換の炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のオキシカルボニル基であり、炭素数1〜24のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。 R 14 represents a group substitutable on the benzene ring, and is, for example, the same group as described for the substituent R 4 in the general formula (RD1). R 14 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an oxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group include an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, an acyloxy group, an imide group, and a ureido group, and more preferable examples include an aryl group, an amino group, an oxycarbonyl group, and an alkoxy group. preferable. These alkyl group substituents may be further substituted with these substituents.
次に、一般式(YA)で表される化合物のうちでも、特に本発明で好ましく用いられる、下記一般式(YB)で表されるビスフェノール化合物について説明する。 Next, among the compounds represented by the general formula (YA), the bisphenol compound represented by the following general formula (YB), which is particularly preferably used in the present invention, will be described.
〔式中、Zは−S−又は−C(R21)(R21′)−を表し、R21、R21′は各々、水素原子又は置換基を表す。〕
R21、R21′の表す置換基としては、前記一般式(RD1)のR1の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。R21、R21′として好ましくは、水素原子又はアルキル基である。
[Wherein, Z represents —S— or —C (R 21 ) (R 21 ′) —, and R 21 and R 21 ′ each represents a hydrogen atom or a substituent. ]
Examples of the substituent represented by R 21 and R 21 ′ include the same groups as the substituents exemplified in the description of R 1 in the general formula (RD1). R 21 and R 21 ′ are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
R22、R23、R22′及びR23′は各々置換基を表すが、置換基としては一般式(RD1)におけるR2、R3で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ each represent a substituent, and examples of the substituent include the same groups as those described for R 2 and R 3 in the general formula (RD1).
R22、R23、R22′及びR23′として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、一般式(RD1)における置換基の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, but an alkyl group is more preferable. Examples of the substituent on the alkyl group include the same groups as those described in the description of the substituent in the general formula (RD1).
R22、R23、R22′及びR23′として、更に好ましくはt−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、1−メチル−シクロヘキシル等の3級アルキル基である。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are more preferably tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-pentyl, t-octyl and 1-methyl-cyclohexyl.
R24及びR24′は各々、水素原子又は置換基を表すが、置換基としては、一般式(RD1)におけるR4の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 24 and R 24 ′ each represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the same groups as the substituents described in the description of R 4 in formula (RD1).
一般式(YA)及び(YB)で表される化合物としては、例えば、特開2002−169249号公報の段落「0032」〜「0038」記載の化合物(II−1)〜(II−40)、欧州特許第1,211,093号明細書の段落「0026」記載の化合物(ITS−1)〜(ITS−12)を挙げることができる。 Examples of the compounds represented by the general formulas (YA) and (YB) include compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0032” to “0038” of JP-A No. 2002-169249, Examples thereof include compounds (ITS-1) to (ITS-12) described in paragraph “0026” of EP 1,211,093.
以下に、一般式(YA)で表されるビスフェノール化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Although the specific example of the bisphenol compound represented by general formula (YA) below is shown, this invention is not limited to these.
一般式(YA)の化合物(ヒンダードフェノール化合物、一般式(YB)の化合物も含まれる。)の添加量は、通常、銀1モル当たり0.00001〜0.01モルであり、好ましくは0.0005〜0.01モル、より好ましくは0.001〜0.008モルである。 The amount of the compound of the general formula (YA) (including a hindered phenol compound and a compound of the general formula (YB)) is usually 0.00001 to 0.01 mol per mol of silver, preferably 0. .0005 to 0.01 mol, more preferably 0.001 to 0.008 mol.
また、黄色発色性ロイコ染料の一般式(RD1)、(RD2)で表される還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。 Moreover, it is preferable that the addition amount ratio with respect to the sum total of the reducing agent represented by general formula (RD1) and (RD2) of yellow coloring leuco dye is 0.001-0.2 in molar ratio, 0.005 More preferably, it is -0.1.
(シアン発色性ロイコ染料)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記の黄色発色性ロイコ染料のほかに、シアン発色性ロイコ染料も使用して色調を調整することが好ましい。
(Cyan coloring leuco dye)
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention preferably adjusts the color tone by using a cyan coloring leuco dye in addition to the yellow coloring leuco dye.
シアン発色性ロイコ染料としては、好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。 The cyan chromophoric leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80-200 ° C. for about 0.5-30 seconds. Any leuco dye that forms a pigment by oxidation with an oxidant of the agent can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.
本発明において、特にシアン発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより600〜700nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの化合物としては例えば、特開昭59−206831号(特にλmaxが600〜700nmの範囲内にある化合物)、特開平5−204087号の一般式(I)〜一般式(IV)の化合物(具体的には段落「0032」〜「0037」に記載の(1)〜(18)の化合物)及び特開平11−231460号の一般式4〜一般式7の化合物(具体的には段落「0105」に記載されるNo.1〜No.79の化合物)が挙げられる。 In the present invention, a color image forming agent whose absorbance at 600 to 700 nm is increased by oxidation is particularly preferably used as a cyan color-forming leuco dye. Examples of these compounds include compounds of general formula (I) to general formula (IV) described in JP-A-59-206831 (particularly compounds having λmax in the range of 600 to 700 nm) and JP-A-5-204087. Specifically, the compounds of (1) to (18) described in paragraphs “0032” to “0037”) and compounds of general formulas 4 to 7 in JP-A No. 11-231460 (specifically, paragraph “0105”). No. 1 to No. 79 compounds).
本発明において好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料は、下記一般式(CLA)、一般式(CLB)で表される化合物である。一般式(CLB)で表される色像形成剤は発色効率が高く、少量の添加でも色調調整が可能であり、また画像保存性にも優れている点で特に好ましい。 The cyan color-forming leuco dye preferably used in the present invention is a compound represented by the following general formula (CLA) or general formula (CLB). The color image forming agent represented by the general formula (CLB) is particularly preferable in that it has high color development efficiency, can be adjusted in color even when added in a small amount, and is excellent in image storage stability.
以下に好ましく用いられる一般式(CLA)、一般式(CLB)の化合物について詳細に説明する。 The compounds of general formula (CLA) and general formula (CLB) that are preferably used below will be described in detail.
(一般式(CLA)で表される化合物) (Compound represented by general formula (CLA))
〔式中、R31、R32は水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、−NHCO−R30基(R30はアルキル基、アリール基、複素環基を表す。)であるか、またはR31、R32は互いに連結して脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環または複素環を形成する基である。 [Wherein R 31 and R 32 are a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, —NHCO—R 30 group (R 30 is an alkyl group, aryl group, heterocyclic group) Or R 31 and R 32 are groups that are linked to each other to form an aliphatic hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring, or a heterocyclic ring.
−A3−R33部分は、水素原子を表すか、または、A3は−NHCO−基、−CONH−基もしくは−NHCONH−基を表し、R33は置換または無置換の、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。 The —A 3 —R 33 moiety represents a hydrogen atom, or A 3 represents a —NHCO— group, —CONH— group or —NHCONH— group, and R 33 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl Represents a group or a heterocyclic group.
W3は水素原子または−CONH−R35基、−CO−R35基または−CO−O−R35基(R35は置換または無置換のアルキル基、アリール基または複素環基を表す。)を表し、R34は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、カルバモイル基、またはニトリル基を表す。R36は−CONH−R37基、−CO−R37基または−CO−O−R37基(R37は置換または無置換の、アルキル基、アリール基または複素環基を表す 。X3は、置換または無置換の、アリール基、複素環基を表す。〕
一般式(CLA)において、R31、R32で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、臭素原子、塩素原子等が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数が20までのアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等)が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数20までのアルケニル基(例えばビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては炭素原子数20までのアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ等)が挙げられる。また、−NHCO−R30基におけるR30で表されるアルキル基としては、炭素原子数が20までのアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等)が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基のような炭素原子数6〜20の基が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。R33で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数20までのアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。
W 3 represents a hydrogen atom or —CONH—R 35 group, —CO—R 35 group or —CO—O—R 35 group (R 35 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group). R 34 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, carbamoyl group, or nitrile group. R 36 represents —CONH—R 37 group, —CO—R 37 group or —CO—O—R 37 group (R 37 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. X 3 represents Represents a substituted or unsubstituted aryl group or heterocyclic group.]
In the general formula (CLA), examples of the halogen atom represented by R 31 and R 32 include a fluorine atom, a bromine atom, and a chlorine atom, and the alkyl group includes an alkyl group having up to 20 carbon atoms (for example, Methyl group, ethyl group, butyl group, dodecyl group, etc.). Examples of the alkenyl group include alkenyl groups having up to 20 carbon atoms (for example, vinyl group, allyl group, butenyl group, hexenyl group, hexadienyl group, ethenyl-2-ethyl group). A propenyl group, a 3-butenyl group, a 1-methyl-3-propenyl group, a 3-pentenyl group, a 1-methyl-3-butenyl group, and the like. As the alkoxy group, an alkoxy group having up to 20 carbon atoms (for example, methoxy) Group, ethoxy and the like). Examples of the alkyl group represented by R 30 in the —NHCO—R 30 group include alkyl groups having up to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a dodecyl group, etc.), and an aryl group. Examples thereof include a group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, and examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group. The alkyl group represented by R 33 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, and a dodecyl group, and the aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group.
W3で表される−CONH−R35基、−CO−R35基または−CO−O−R35基において、R35で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数20までのアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20までのアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。 In the —CONH—R 35 group, —CO—R 35 group or —CO—O—R 35 group represented by W 3 , the alkyl group represented by R 35 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms. Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, and a dodecyl group. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group.
R34で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられ、アルキル基としては鎖状若しくは環状のアルキル基、例えば、メチル基、ブチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数20までのアルケニル基(例えばビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、ブトキシ基、テトラデシルオキシ基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。またニトリル基も好ましい。これらの中でも、水素原子、アルキル基がより好ましい。前記R33とR34は、互いに連結して環構造を形成してもよい。 Examples of the halogen atom represented by R 34 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group include a chain or cyclic alkyl group such as a methyl group, a butyl group, and dodecyl. Group, cyclohexyl group and the like. Examples of the alkenyl group include alkenyl groups having up to 20 carbon atoms (for example, vinyl group, allyl group, butenyl group, hexenyl group, hexadienyl group, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl, etc.), and alkoxy groups include, for example, methoxy group, butoxy group, tetradecyloxy group, etc., and carbamoyl Examples of the group include a diethylcarbamoyl group and a phenylcarbamoyl group. Nitrile groups are also preferred. Among these, a hydrogen atom and an alkyl group are more preferable. R 33 and R 34 may be connected to each other to form a ring structure.
上記の基はさらに単一の置換基または複数の置換基を有することができる。典型的な置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル基等)、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)、アルキルスルホンアミド基(例えば、メチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスルファモイル(例えば、フェニルスルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボニル基等が挙げられる。 The above groups can further have a single substituent or multiple substituents. Typical substituents include halogen atoms (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, dodecyl group), hydroxyl group, cyano group , Nitro group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, etc.), alkylsulfonamide group (for example, methylsulfonamide group, octylsulfonamide group, etc.), arylsulfonamide group (for example, phenylsulfonamide group, naphthylsulfone) Amide group etc.), alkylsulfamoyl group (eg butylsulfamoyl group etc.), arylsulfamoyl (eg phenylsulfamoyl group etc.), alkyloxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group etc.), aryl Oxycarbonyl group (for example, phenyloxycarbonyl group, etc.) , Amino sulfonamido group, an acylamino group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfoxy group, a sulfo group, an aryloxy group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, and an amino carbonyl group.
R30またはR35は好ましくはフェニル基であり、より好ましくは、ハロゲン原子およびシアノ基を置換基として複数有するフェニル基である。 R 30 or R 35 is preferably a phenyl group, and more preferably a phenyl group having a plurality of halogen atoms and cyano groups as substituents.
R36で表される−CONH−R37基、−CO−R37基または−CO−O−R37基において、R37で表されるアルキル基は、好ましく炭素原子数20までのアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基、チエニル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。 -CONH-R 37 group represented by R 36, in -CO-R 37 group, or -CO-O-R 37 group, the alkyl group represented by R 37 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms Yes, for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a dodecyl group, and the like. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, and a thienyl group. Examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group.
R37で表される基が有することができる置換基としては一般式(CLA)のR31〜R34の説明において挙げた置換基と同様のものが使用できる。 As the substituent that the group represented by R 37 can have, the same substituents as those described in the description of R 31 to R 34 in formula (CLA) can be used.
X3で表されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、チエニル基のような炭素原子数6〜20のアリール基が挙げられ、複素環基としては、例えば、チオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。 Examples of the aryl group represented by X 3 include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and a thienyl group. Examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, and an imidazole group. Group, pyrazole group, pyrrole group and the like.
X3で表される基が有することができる置換基としては一般式(CLA)のR31〜R34の説明において挙げた置換基と同様のものを挙げることができる。
X3で表される基としてはパラ位にアルキルアミノ基(ジエチルアミノ基等)を有するアリール基または複素環基が好ましい。
Examples of the substituent that the group represented by X 3 can have include the same substituents as those described in the description of R 31 to R 34 in formula (CLA).
The group represented by X 3 is preferably an aryl group or heterocyclic group having an alkylamino group (such as a diethylamino group) at the para position.
これらの基は写真的に有用な基を含んでもよい。 These groups may include photographically useful groups.
以下にシアン発色性ロイコ染料(CLA)の具体例を示すが、本発明で用いられるシアン発色性ロイコ染料はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the cyan color forming leuco dye (CLA) are shown below, but the cyan color forming leuco dye used in the present invention is not limited thereto.
(一般式(CLB)で表される化合物)
次に、一般式(CLB)で表される化合物(ロイコ染料)について詳述する。
(Compound represented by general formula (CLB))
Next, the compound (leuco dye) represented by the general formula (CLB) will be described in detail.
一般式(CLB−I)において、R11、R12、Ra及びRbは各々、水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基又はハロゲン原子を表す。R13は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボキニル基、カルバモイル基、スルファモイル基又はスルホニル基を表す。X1及びX2は各々ベンゼン環上に置換可能な基を表し、m1及びm2は各々0〜5の整数を表す。X1又はX2が複数個ある場合、各X1及びX2は同じでも異なってもよい。
In the general formula (CLB-I), R 11 , R 12 , Ra and Rb are each a hydrogen atom, aliphatic group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, acylamino group, sulfonamide group, carbamoyl group or halogen. Represents an atom. R 13 represents a hydrogen atom, aliphatic group, aromatic group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarboquinyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group or sulfonyl group. X 1 and X 2 each represent a substitutable group on the benzene ring, and
R11、R12、Ra及びRbで表される脂肪族基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の炭化水素基が挙げられる。これらの炭化水素基は炭素数1〜25であることが好ましく、炭素数1〜20であることがより好ましい。炭素数1〜25のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等、シクロアルキル基としては(シクロヘキシル、シクロペンチル基等)、アルケニル基としてはエテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、アルキニル基(エチニル、1プロピニル、プロパルギル等)が挙げられる。 Specific examples of the aliphatic group represented by R 11 , R 12 , Ra and Rb include hydrocarbon groups such as an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group. These hydrocarbon groups preferably have 1 to 25 carbon atoms, and more preferably 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, etc., cycloalkyl groups (cyclohexyl, cyclopentyl groups, etc.), and alkenyl groups, ethenyl. -2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl and the like) and alkynyl groups (ethynyl, 1propynyl, propargyl and the like).
R11、R12、Ra及びRbで表される芳香族基の具体例としては、アリール基(フェニル、ナフチル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)が挙げられる。 Specific examples of the aromatic group represented by R 11 , R 12 , Ra and Rb include aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl , Pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl and the like.
R11、R12、Ra及びRbで表されるアルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、t−ブトキシ等が挙げられる。アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。アシルアミノ基としては、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等が挙げられる。スルホンアミド基の具体例としては、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等が挙げられる。カルバモイル基としては、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等が挙げられる。又、R11、R12、Ra及びRbで表されるハロゲン原子としては、塩素、臭素、沃素である。 Specific examples of the alkoxy group represented by R 11 , R 12 , Ra and Rb include methoxy, ethoxy, i-propoxy, t-butoxy and the like. Specific examples of the aryloxy group include phenoxy and naphthyloxy. Examples of the acylamino group include acetylamino and benzoylamino. Specific examples of the sulfonamide group include methanesulfonamide, butanesulfonamide, octanesulfonamide, and benzenesulfonamide. Examples of the carbamoyl group include aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl and the like. The halogen atoms represented by R 11 , R 12 , Ra and Rb are chlorine, bromine and iodine.
R11及びR12として好ましくは、脂肪族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、より好ましくはアルキル基又はアルコキシ基、更に好ましくは2級又は3級アルキル基、アルコキシ基である。Ra及びRbとして好ましくは、水素原子、脂肪族基、より好ましくは水素原子である。 R 11 and R 12 are preferably an aliphatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, more preferably an alkyl group or an alkoxy group, still more preferably a secondary or tertiary alkyl group or an alkoxy group. Ra and Rb are preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably a hydrogen atom.
R13で表される脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基の例は前記一般式(CLB−I)のR11、R12、Ra及びRbで表される脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基の具体例としてあげた基が挙げられる。 Examples of the aliphatic group, aromatic group, alkoxy group and aryloxy group represented by R 13 are the aliphatic group represented by R 11 , R 12 , Ra and Rb in the general formula (CLB-I), aromatic Specific examples of the group, the alkoxy group, and the aryloxy group are listed.
R13で表されるアシル基の具体例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等の各基が挙げられる。アルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル等が挙げられる。アリールオキシカルボキニル基の具体例としてはフェノキシカルボニル等が挙げられる。カルバモイル基としては、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等が挙げられる。スルファモイル基としてはメチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が挙げられる。スルホニル基としてはメチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル等が挙げられる。 Specific examples of the acyl group represented by R 13 include groups such as acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl and pyridinoyl. Specific examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl and the like. Specific examples of the aryloxycarboquinyl group include phenoxycarbonyl and the like. Examples of the carbamoyl group include aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl and the like. Examples of the sulfamoyl group include methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like. Examples of the sulfonyl group include methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl and the like.
R13として好ましくは、水素原子、アルキル基、アシル基、より好ましくは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アシル基である。 R 13 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an acyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an acyl group.
X1及びX2で表されるベンゼン環上に置換可能な基としては、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル基、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルキニル基(プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、弗素等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、スルホンアミド基(メチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド、フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は、更にこれらの基で置換されてもよい。 Specific examples of the group that can be substituted on the benzene ring represented by X 1 and X 2 include alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl group, t-butyl, pentyl, Hexyl, cyclohexyl etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl, cyclopentyl etc.), alkynyl group (propargyl etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group, aryl group (phenyl etc.), heterocyclic group (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl) , Furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc., halogen atom (chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyl) Oxy group, cyclopenty Ruoxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl etc.), aryloxycarbonyl group (phenoxycarbonyl etc.), sulfonamide group (Methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl, butylaminosulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexyl) Aminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pyridylaminosulfonyl, etc.), urethane groups (methylureido, ethylurea, etc.) Id, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.), acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl, etc.), carbamoyl groups (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethyl) Aminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl, etc.), amide groups (acetamido, propionamide, butanamide, hexaneamide, benzamide, etc.), sulfonyl groups (methylsulfonyl, ethyl) Sulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl, phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), Honamide group (methylsulfonamide, octylsulfonamide, phenylsulfonamide, naphthylsulfonamide, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro Groups, sulfo groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, oxamoyl groups and the like. These groups may be further substituted with these groups.
X1及びX2として好ましくは、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基、アミド基、スルホンアミド基、アミノ基であり、更に好ましくはアルコキシ基、アミノ基である。m1及びm2は各々0〜4の整数を表すが、共に好ましくは1〜3、更に好ましくは1である。 X 1 and X 2 are preferably an alkoxy group, an aryloxy group, a carbamoyl group, an amide group, a sulfonamide group, and an amino group, and more preferably an alkoxy group and an amino group. m1 and m2 each represents an integer of 0 to 4, but are preferably 1 to 3 and more preferably 1.
一般式(CLB−I)で表される化合物のうち、本発明では下記の一般式(CLB−II)の化合物が好ましく用いられる。 Of the compounds represented by the general formula (CLB-I), compounds of the following general formula (CLB-II) are preferably used in the present invention.
〔式中、X3及びX4は各々、脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表す。R11、R12及びR13は、それぞれ一般式(CLB−I)におけるR11、R12及びR13と同義である。〕
X3及びX4で表される脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基の例は、前記一般式(CLB−I)のX1及びX2で表される脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基の具体例と同じ基が挙げられる。X3及びX4として好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基であり、更に好ましくはアルコキシ基、アミノ基である。
一般式(CLB−I)で表される化合物のうち、本発明では下記の一般式(CLB−III)の化合物が特に好ましく用いられる。
[Wherein, X 3 and X 4 each represents an aliphatic group, an aromatic group, an amino group, an alkoxy group or an aryloxy group. R 11, R 12 and R 13 are each the same meaning as R 11, R 12 and R 13 in the general formula (CLB-I). ]
Examples of the aliphatic group, aromatic group, amino group, alkoxy group and aryloxy group represented by X 3 and X 4 are aliphatic represented by X 1 and X 2 in the general formula (CLB-I). Examples thereof include the same groups as the specific examples of the group, aromatic group, amino group, alkoxy group and aryloxy group. X 3 and X 4 are preferably an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group, more preferably an alkoxy group or an amino group.
Of the compounds represented by the general formula (CLB-I), compounds of the following general formula (CLB-III) are particularly preferably used in the present invention.
〔式中、R14、R15、R16及びR17は各々、水素原子又はアルキル基を表す。R11、R12及びR13は、それぞれ一般式(CLB−I)におけるR11、R12及びR13と同義である。〕
R14、R15、R16及びR17で表されるアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。これらの基は任意の位置に置換基を有していてもよく、該置換基の例としては前記一般式(RD1)におけるR4で表される置換基の例として挙げた基が挙げられる。R14、R15、R16及びR17として好ましくは、炭素数1〜10のアルキル基、より好ましくはメチル、エチルである。
[Wherein, R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. R 11, R 12 and R 13 are each the same meaning as R 11, R 12 and R 13 in the general formula (CLB-I). ]
Specific examples of the alkyl group represented by R 14 , R 15 , R 16 and R 17 include methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl and the like. These groups may have a substituent at any position, and examples of the substituent include the groups exemplified as the substituent represented by R 4 in the general formula (RD1). R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably methyl or ethyl.
これら一般式(CLB−I)〜(CLB−III)で表される化合物は、従来公知の方法、例えば特公平7−45477号公報に記載の方法等で容易に合成することができる。以下に、一般式(CLB−I)〜(CLB−III)で表されるロイコ染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 The compounds represented by these general formulas (CLB-I) to (CLB-III) can be easily synthesized by a conventionally known method, for example, the method described in JP-B-7-45477. Specific examples of the leuco dyes represented by the general formulas (CLB-I) to (CLB-III) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
シアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常0.00001〜0.05モル/Ag1モルであり、好ましくは0.0005〜0.02モル/Ag1モル、より好ましくは0.001〜0.01モル/Ag1モルである。シアン発色性ロイコ染料の一般式(RD1)、一般式(RD2)で表される還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。 The addition amount of the cyan coloring leuco dye is usually 0.00001 to 0.05 mol / Ag1 mol, preferably 0.0005 to 0.02 mol / Ag1 mol, more preferably 0.001 to 0.01 mol. / Ag1 mol. The addition ratio of the cyan coloring leuco dye to the sum of the reducing agents represented by the general formulas (RD1) and (RD2) is preferably 0.001 to 0.2 in terms of molar ratio, and 0.005. More preferably, it is -0.1.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、シアンロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01以上0.50以下とするのが好ましく、より好ましくは0.02以上0.30以下、特に好ましくは0.03以上0.10以下を有するように発色させることが好ましい。 In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of a dye image formed with a cyan leuco dye is preferably 0.01 or more and 0.50 or less, more preferably 0.02. It is preferable to develop the color so that it has a value of 0.30 or less, particularly preferably 0.03 or more and 0.10 or less.
本発明においては、上記のシアン発色性ロイコ染料に加えてマゼンタ発色性ロイコ染料または黄色発色性ロイコ染料を併用することでさらに微妙な色調の調整を可能とすることができる。 In the present invention, a subtle color tone can be adjusted by using a magenta color developing leuco dye or a yellow color developing leuco dye in addition to the cyan color developing leuco dye.
一般式(YA)および(YB)で表される化合物及びシアン発色性ロイコ染料の添加方法としては、一般式(RD1)で表される還元剤の添加方法と同様な方法で添加することができ、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、任意の方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてよい。 As a method for adding the compounds represented by the general formulas (YA) and (YB) and the cyan color-forming leuco dye, they can be added in the same manner as the method for adding the reducing agent represented by the general formula (RD1). , Solution form, emulsified dispersion form, solid fine particle dispersion form, etc. may be contained in the coating solution by any method, and may be contained in the photosensitive material.
一般式(RD1)、(RD2)、一般式(YA)、(YB)の化合物及びシアン発色性ロイコ染料は、有機銀塩を含有する感光性層(画像形成層)に含有させることが好ましいが、一方を感光性層に、他方を該感光性層に隣接する非感光性層に含有させてもよく、両者を非感光性層に含有させてもよい。又、感光性層が複数層で構成されている場合には、それぞれ別層に含有させてもよい。 The compounds of the general formulas (RD1), (RD2), general formulas (YA) and (YB) and the cyan color-forming leuco dye are preferably contained in a photosensitive layer (image forming layer) containing an organic silver salt. One may be contained in the photosensitive layer and the other may be contained in the non-photosensitive layer adjacent to the photosensitive layer, or both may be contained in the non-photosensitive layer. When the photosensitive layer is composed of a plurality of layers, they may be contained in separate layers.
(バインダー)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、本発明に係る感光性層及び非感光性層に種々の目的でバインダーを含有させることができる。
(binder)
In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, the photosensitive layer and the non-photosensitive layer according to the present invention can contain a binder for various purposes.
本発明に係る感光性層に含まれるバインダーは、有機銀塩、ハロゲン化銀粒子、還元剤、その他の成分を担持しうるものであり、好適なバインダーは、透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマーや合成ポリマー、及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、特開2001−330918号の段落「0069」に記載のものが挙げられる。 The binder contained in the photosensitive layer according to the present invention can carry an organic silver salt, silver halide grains, a reducing agent, and other components. Suitable binders are transparent or translucent and generally colorless. A natural polymer, a synthetic polymer, a copolymer, and other media for forming a film, for example, those described in paragraph “0069” of JP-A No. 2001-330918.
これらの内、当該感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールである。これらについては詳しく後述する。 Among these, preferred binders for the photosensitive layer are polyvinyl acetals, and particularly preferred is polyvinyl butyral. These will be described in detail later.
又、上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非感光層に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。尚、必要に応じて、上記のバインダーは2種以上を組み合わせて用い得る。 For non-photosensitive layers such as overcoat layers and undercoat layers, especially protective layers and backcoat layers, cellulose esters which are polymers with higher softening temperatures, especially polymers such as triacetyl cellulose and cellulose acetate butyrate preferable. In addition, as needed, said binder can be used in combination of 2 or more type.
バインダーには−COOM、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2、−N(R)2、−N+(R)3(Mは水素原子、又はアルカリ金属塩基、Rは炭化水素基を表す)、エポキシ基、−SH、−CN等から選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したものを用いることが好ましく、特に−SO3M、−OSO3M、が好ましい。この様な極性基の量は、1×10-1〜1×10-8モル/gであり、好ましくは1×10-2〜1×10-6モル/gである。 The binder -COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -P = O (OM) 2, -O-P = O (OM) 2, -N (R) 2, -N + (R) 3 ( M represents a hydrogen atom or an alkali metal base, R represents a hydrocarbon group), and at least one polar group selected from an epoxy group, —SH, —CN, etc. is introduced by copolymerization or addition reaction. In particular, —SO 3 M and —OSO 3 M are preferable. The amount of such a polar group is 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 mol / g, preferably 1 × 10 −2 to 1 × 10 −6 mol / g.
この様なバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。 Such a binder is used in an effective range to function as a binder.
効果的な範囲は当業者が容易に決定し得る。例えば、感光性層(画像形成層)において少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと有機銀塩との割合は15:1〜1:2(質量比)が好ましく、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、感光性層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましく、更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。 The effective range can be easily determined by one skilled in the art. For example, as an index for holding at least the organic silver salt in the photosensitive layer (image forming layer), the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably 15: 1 to 1: 2 (mass ratio), and particularly 8: A range of 1-1: 1 is preferred. That is, it is preferable that the binder amount of the photosensitive layer is a 1.5~6g / m 2, more preferably from 1.7~5g / m 2. If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area is significantly increased and may not be used.
本発明で用いるバインダーのガラス転移温度(Tg)は、70〜105℃であることが好ましい。Tgは示差走査熱量計で測定して求めることができ、ベースラインと吸熱ピークの傾きとの交点をTgとする。本発明におけるTgは、ブランドラップ等による「重合体ハンドブック」III−139〜179頁(1966年,ワイリーアンドサン社版)に記載の方法で求めたものである。 The glass transition temperature (Tg) of the binder used in the present invention is preferably 70 to 105 ° C. Tg can be obtained by measuring with a differential scanning calorimeter, and the intersection of the baseline and the endothermic peak slope is defined as Tg. Tg in the present invention is determined by the method described in “Polymer Handbook” III-139-179 (1966, Wiley and Sun, Inc.) by Brand Wrap et al.
バインダーが共重合体樹脂である場合のTgは下記の式で求められる。 Tg when the binder is a copolymer resin is obtained by the following formula.
Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・+vnTgn
式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。上式に従って計算されたTgの精度は±5℃である。
Tg (copolymer) (° C.) = V 1 Tg 1 + v 2 Tg 2 +... + V n Tg n
Wherein, v 1, v 2 ··· v n represents the mass fraction of the monomer in the copolymer, Tg 1, Tg 2 ··· Tg n from each monomer in the copolymer Tg (° C.) of the obtained single polymer is represented. The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ± 5 ° C.
Tgが70〜105℃のバインダーを用いると、画像形成において十分な最高濃度が得ることができ好ましい。 Use of a binder having a Tg of 70 to 105 ° C. is preferable because a sufficient maximum density can be obtained in image formation.
本発明に係るバインダーとしては、Tgが70〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜500,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。又、エチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体又は共重合体については、特開2001−330918号の段落番号「0069」に記載のものが挙げられる。 The binder according to the present invention has a Tg of 70 to 105 ° C., a number average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and a degree of polymerization of about 50 to 1,000. Is. Examples of the polymer or copolymer containing an ethylenically unsaturated monomer as a constituent unit include those described in paragraph No. “0069” of JP-A No. 2001-330918.
これらの内、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。この様な高分子化合物の中でも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基を持つ高分子化合物でも、アセトアセタール構造を持つポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば米国特許2,358,836号、同3,003,879号、同2,828,204号、英国特許771,155号等に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。 Of these, particularly preferred examples include methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, and styrenes. Among such polymer compounds, a polymer compound having an acetal group is preferably used. Even a high molecular compound having an acetal group is more preferably a polyvinyl acetal having an acetoacetal structure, for example, U.S. Pat. Nos. 2,358,836, 3,003,879, 2,828,204, UK The polyvinyl acetal shown by patent 771,155 etc. can be mentioned.
アセタール基を持つ高分子化合物としては、特開2002−287299号公報の[150]に記載の一般式(V)で表される化合物が、特に好ましい。 As the polymer compound having an acetal group, a compound represented by the general formula (V) described in [150] of JP-A No. 2002-287299 is particularly preferable.
本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン等公知のものが使用できる。又、ポリウレタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上のヒドロキシル基を有することが好ましい。ヒドロキシル基は、硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、ヒドロキシル基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは、分子末端にヒドロキシル基を3個以上有することが好ましく、4個以上有することが特に好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は、Tgが70〜105℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2が好ましい。 As the polyurethane resin that can be used in the present invention, known resins such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, and polycaprolactone polyurethane can be used. Moreover, it is preferable to have a total of 2 or more hydroxyl groups, at least one at each polyurethane molecule end. Since hydroxyl groups are cross-linked with polyisocyanate which is a curing agent to form a three-dimensional network structure, it is more preferable that the hydroxyl groups are contained in the molecule. In particular, it is preferable that the hydroxyl group is at the molecular end because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has 3 or more hydroxyl groups at the molecular terminals, and particularly preferably 4 or more. In the present invention, when polyurethane is used, Tg is preferably 70 to 105 ° C., elongation at break is 100 to 2000%, and stress at break is preferably 0.5 to 100 N / mm 2 .
これらの高分子化合物(ポリマー)は単独で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いてもよい。 These polymer compounds (polymers) may be used alone or in a blend of two or more.
本発明に係る感光性層には上記ポリマーを主バインダーとして用いることが好ましい。ここで言う主バインダーとは、「感光性層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」をいう。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明のポリマーが可溶となる溶媒であれば特に制限はない。より好ましくは、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。 In the photosensitive layer according to the present invention, the above polymer is preferably used as a main binder. The main binder mentioned here means “a state in which the polymer occupies 50% by mass or more of the total binder of the photosensitive layer”. Therefore, other polymers may be blended and used within a range of less than 50% by weight of the total binder. These polymers are not particularly limited as long as the polymer of the present invention is soluble. More preferably, a polyvinyl acetate, a polyacryl resin, a urethane resin, etc. are mentioned.
感光性層に有機性ゲル化剤を含有せしめてもよい。尚、ここで言う有機性ゲル化剤とは、例えば多価アルコール類のように、有機液体に添加することにより、その系に降伏値を付与し、系の流動性を消失あるいは低下させる機能を有する化合物を言う。 An organic gelling agent may be contained in the photosensitive layer. Incidentally, the organic gelling agent referred to here has a function of giving a yield value to the system by adding it to an organic liquid, such as polyhydric alcohols, and eliminating or reducing the fluidity of the system. The compound which has.
感光性層用塗布液が水性分散されたポリマーラテックスを含有するのも好ましい態様である。この場合、感光性層用塗布液中の全バインダーの50質量%以上が水性分散されたポリマーラテックスであることが好ましい。又、感光性層の調製においてポリマーラテックスを使用した場合、感光性層中の全バインダーの50質量%以上がポリマーラテックス由来のポリマーであることが好ましく、更に好ましくは70質量%以上である。 It is also a preferred embodiment that the photosensitive layer coating solution contains an aqueous dispersed polymer latex. In this case, a polymer latex in which 50% by mass or more of the total binder in the coating solution for the photosensitive layer is dispersed in water is preferable. Further, when a polymer latex is used in the preparation of the photosensitive layer, 50% by mass or more of the total binder in the photosensitive layer is preferably a polymer latex-derived polymer, and more preferably 70% by mass or more.
ここで、ポリマーラテックスとは、水不溶性の疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち、分子鎖自身が分子状分散したもの等、何れでもよい。分散粒子の平均粒径は1〜50,000nmが好ましく、より好ましくは5〜1,000nm程度の範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも、単分散の粒径分布を持つものでもよい。 Here, the polymer latex is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As the dispersion state, the polymer is emulsified in a dispersion medium, the emulsion is polymerized, the micelle is dispersed, or the polymer molecule has a partially hydrophilic structure, and the molecular chain itself is molecularly dispersed. Any of these may be used. The average particle diameter of the dispersed particles is preferably 1 to 50,000 nm, more preferably in the range of about 5 to 1,000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いることができるポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、所謂コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合、コアとシェルはTgを変えると好ましい場合がある。本発明に係るポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は、−30〜90℃であることが好ましく、更に好ましくは0〜70℃程度である。又、最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。 The polymer latex that can be used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention may be a so-called core / shell type latex in addition to a normal uniform polymer latex. In this case, it may be preferable to change the Tg of the core and the shell. The minimum film-forming temperature (MFT) of the polymer latex according to the present invention is preferably -30 to 90 ° C, more preferably about 0 to 70 ° C. In addition, a film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature.
上記造膜助剤は可塑剤とも呼ばれ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常、有機溶媒)であり、例えば「合成ラテックスの化学(室井宗一著,高分子刊行会発行,1970)」に記載されている。 The film-forming aid, also called a plasticizer, is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of polymer latex. For example, “Synthetic Latex Chemistry (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Co., Ltd.) , 1970).
ポリマーラテックスに用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、又はこれらの共重合体等がある。ポリマーとしては、直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、又、架橋されたポリマーでもよい。又、ポリマーとしては、単一のモノマーが重合した所謂ホモポリマーでもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合は、ランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は、数平均分子量で、通常、5,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜100,000程度である。分子量が小さすぎるものは感光層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪く、共に好ましくない。 Examples of the polymer species used for the polymer latex include acrylic resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyurethane resins, rubber resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, and copolymers thereof. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is a number average molecular weight and is usually about 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the photosensitive layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film forming property is poor and both are not preferable.
ポリマーラテックスは、25℃・60%RH(相対湿度)での平衡含水率が0.01〜2質量%以下のものが好ましく、更に好ましくは、0.01〜1質量%のものである。平衡含水率の定義と測定法については、例えば「高分子工学講座14,高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)」等を参考にすることができる。 The polymer latex preferably has an equilibrium water content of 0.01 to 2% by mass or less, more preferably 0.01 to 1% by mass at 25 ° C. and 60% RH (relative humidity). For the definition and measurement method of the equilibrium moisture content, for example, “Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan)” can be referred to.
ポリマーラテックスの具体例としては、特開2002−287299号公報の「0173」に記載の各ラテックスが挙げられる。これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。ポリマーラテックスのポリマー種としては、アクリレート又はメタクリレート成分の如きカルボン酸成分を0.1〜10質量%程度含有するものが好ましい。 Specific examples of the polymer latex include each latex described in “0173” of JP-A No. 2002-287299. These polymers may be used alone or in combination of two or more as required. As a polymer seed | species of a polymer latex, what contains about 0.1-10 mass% of carboxylic acid components, such as an acrylate or a methacrylate component, is preferable.
更に、必要に応じて全バインダーの50質量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は前記感光性層の全バインダーの30質量%以下が好ましい。 Furthermore, if necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose or the like may be added within a range of 50% by mass or less of the total binder. The addition amount of these hydrophilic polymers is preferably 30% by mass or less based on the total binder of the photosensitive layer.
感光性層用塗布液の調製における有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスの添加の順序については、何れを先に添加してもよいし、同時に添加してもよいが、好ましくはポリマーラテックスが後である。 Regarding the order of addition of the organic silver salt and the aqueous dispersed polymer latex in the preparation of the coating solution for the photosensitive layer, any of them may be added first or simultaneously, but preferably the polymer latex is used. Later.
更に、ポリマーラテックス添加前に有機銀塩、更には還元剤が混合されていることが好ましい。又、有機銀塩とポリマーラテックスを混合した後、経時させる温度が低すぎると塗布面状が損なわれ、高すぎるとカブリが上昇する問題があるので、混合後の塗布液は30〜65℃で上記時間経時されることが好ましい。更には、35〜60℃で経時されることが好ましく、特に35〜55℃での経時が好ましい。この様に温度を維持するには、塗布液の調液槽等を保温すればよい。 Furthermore, it is preferable that an organic silver salt and further a reducing agent are mixed before adding the polymer latex. In addition, after mixing the organic silver salt and the polymer latex, if the temperature to be aged is too low, the coated surface shape is impaired, and if it is too high, there is a problem that fog increases, so the coating solution after mixing is 30 to 65 ° C. It is preferable that the above time is elapsed. Furthermore, it is preferable to be aged at 35 to 60 ° C, and a time at 35 to 55 ° C is particularly preferable. In order to maintain the temperature in this way, it is sufficient to keep the temperature of the coating solution preparation tank or the like.
感光性層用塗布液の塗布は、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを混合した後、30分〜24時間経過した塗布液を用いるのが好ましく、更に好ましくは、混合した後、60分〜12時間経過させることであり、特に好ましくは、120分〜10時間経過した塗布液を用いることである。 For coating of the coating solution for the photosensitive layer, it is preferable to use a coating solution that has passed 30 minutes to 24 hours after mixing the organic silver salt and the aqueous polymer latex, and more preferably, 60 minutes after mixing. It is to make -12 hours pass, and it is especially preferable to use the coating liquid which passed 120 minutes-10 hours.
ここで、「混合した後」とは、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを添加し、添加素材が均一に分散された後を言う。 Here, “after mixing” means after the organic silver salt and the aqueous polymer latex are added and the additive material is uniformly dispersed.
(架橋剤)
本発明に係る感光性層には、本発明に係るバインダー同士を橋かけ結合によってつなぐことができる架橋剤を含有させることができる。架橋剤を上記バインダーに対し用いることにより、膜付きが良くなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のカブリ抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。
(Crosslinking agent)
The photosensitive layer according to the present invention may contain a cross-linking agent capable of connecting the binders according to the present invention by cross-linking. By using a crosslinking agent for the binder, it is known that filming is improved and development unevenness is reduced, but there is also an effect of suppressing fogging during storage and suppressing generation of printout silver after development. is there.
用いられる架橋剤としては、従来、写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば特開昭50−96216号に記載されるアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤が用いられるが、好ましくは、以下に示すイソシアネート系、シラン化合物系、エポキシ系化合物又は酸無水物である。 Examples of the crosslinking agent to be used include various crosslinking agents conventionally used for photographic light-sensitive materials, for example, aldehyde-based, epoxy-based, ethyleneimine-based, vinylsulfone-based, sulfone described in JP-A-50-96216. Acid ester-based, acryloyl-based, carbodiimide-based, and silane compound-based crosslinking agents are used, and the following isocyanate-based, silane compound-based, epoxy-based compounds, and acid anhydrides are preferable.
イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、更に具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2価又は3価のポリアルコール類との付加体等が挙げられる。具体例として、特開昭56−5535号の10〜12頁に記載されるイソシアネート化合物を利用することができる。
Isocyanate-based crosslinking agents are isocyanates having at least two isocyanate groups and adducts thereof (adducts). More specifically, aliphatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates having a cyclic group, benzene Diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates and divalent or trivalent polyalcohols with these isocyanates Adducts and the like. As specific examples, isocyanate compounds described on
尚、イソシアネートとポリアルコールの付加体は、特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは、熱現像感光材料のどの部分に置かれてもよい。例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。 In addition, the adduct of isocyanate and polyalcohol has particularly high ability to improve interlayer adhesion and prevent layer peeling, image shift and bubble generation. Such isocyanate may be placed in any part of the photothermographic material. For example, in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition) photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc. It can be added to any layer and can be added to one or more of these layers.
又、本発明に使用可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。 As the thioisocyanate-based crosslinking agent that can be used in the present invention, compounds having a thioisocyanate structure corresponding to the above-mentioned isocyanates are also useful.
上記架橋剤の使用量は、銀1モルに対して、通常、0.001〜2モル、好ましくは0.005〜0.5モルの範囲である。 The amount of the crosslinking agent used is usually in the range of 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, with respect to 1 mol of silver.
本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、当該官能基を1個のみ有する化合物であっても良い結果が得られる。 The isocyanate compound and thioisocyanate compound that can be contained in the present invention are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent, but a good result can be obtained even if the compound has only one functional group.
シラン化合物の例としては、特開2001−264930号に開示されている一般式(1)〜一般式(3)で表される化合物が挙げられる。 Examples of the silane compound include compounds represented by general formulas (1) to (3) disclosed in JP-A No. 2001-264930.
又、架橋剤として使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。又、エポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等の何れであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーの何れであってもよく、その数平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2,000〜20,000程度である。 Moreover, as an epoxy compound which can be used as a crosslinking agent, what is necessary is just to have one or more epoxy groups, and there is no restriction | limiting in the number of epoxy groups, molecular weight, and others. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. The epoxy compound may be any of a monomer, an oligomer, a polymer, etc., and the number of epoxy groups present in the molecule is usually about 1 to 10, preferably 2 to 4. When the epoxy compound is a polymer, it may be either a homopolymer or a copolymer, and the number average molecular weight Mn is particularly preferably in the range of about 2,000 to 20,000.
本発明に用いられる酸無水物は、下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化合物である。この様な酸無水基を1個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はない。 The acid anhydride used in the present invention is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula. The number of acid anhydride groups, molecular weight, and the like are not particularly limited as long as they have one or more acid anhydride groups.
−CO−O−CO−
上記のエポキシ化合物や酸無水物は、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m2の範囲である。このエポキシ化合物や酸無水物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。
-CO-O-CO-
Said epoxy compound and acid anhydride may use only 1 type, or may use 2 or more types together. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is. This epoxy compound or acid anhydride can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as the photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc., and one of these layers Or it can add to two or more layers.
(省銀化剤)
本発明に係る感光性層又は非感光性層には、省銀化剤を含有させることができる。ここでいう、省銀化剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物をいう。
(Silver saving agent)
The photosensitive layer or the non-photosensitive layer according to the present invention may contain a silver saving agent. As used herein, the silver saving agent refers to a compound that can reduce the amount of silver necessary to obtain a certain silver image density.
この必要な銀量を低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。この省銀化剤は感光性層又は非感光性層、更にはそのいずれにも存在せしめることができる。省銀化剤としては、ヒドラジン誘導体化合物、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、4級オニウム化合物及びシラン化合物が好ましい例として挙げられる。 Although various mechanisms for the function of reducing the required silver amount are conceivable, a compound having a function of improving the covering power of developed silver is preferred. Here, the covering power of developed silver refers to the optical density per unit amount of silver. This silver saving agent can be present in the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, or both. Preferred examples of the silver saving agent include hydrazine derivative compounds, vinyl compounds, phenol derivatives, naphthol derivatives, quaternary onium compounds, and silane compounds.
ヒドラジン誘導体の具体例としては、米国特許第5,545,505号明細書カラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特許第5,464,738号明細書カラム9〜11に記載の化合物1〜12、特開2001−27790号公報の段落「0042」〜「0052」に記載の化合物H−1−1〜H−1−28、H−2−1〜H−2−9、H−3−1〜H−3−12、H−4−1〜H−4−21、H−5−1〜H−5−5が挙げられる。 Specific examples of the hydrazine derivative include compounds H-1 to H-29 described in US Pat. No. 5,545,505, columns 11 to 20, US Pat. No. 5,464,738, columns 9 to 11. 1 to 12 described in JP-A-2001-27790, compounds H-1-1 to H-1-28 described in paragraphs “0042” to “0052”, and H-2-1 to H-2- 9, H-3-1 to H-3-12, H-4-1 to H-4-21, H-5-1 to H-5-5.
ビニル化合物の具体例としては、米国特許第5,545,515号明細書のカラム13〜14に記載の化合物CN−01〜CN−13、米国特許第5,635,339号明細書のカラム10に記載の化合物HET−01〜HET−02、米国特許第5,654,130号明細書のカラム9〜10に記載の化合物MA−01〜MA−07の化合物、米国特許第5,705,324号明細書のカラム9〜10に記載の化合物IS−01〜IS−04、特開2001−125224号公報の段落「0043」〜「0088」記載の化合物1−1〜218−2が挙げられる。
Specific examples of the vinyl compound include compounds CN-01 to CN-13 described in columns 13 to 14 of US Pat. No. 5,545,515 and
フェノール誘導体、ナフトール誘導体の具体例としては、特開2000−267222号公報の段落「0075」〜「0078」の記載の化合物A−1〜A−89、特開2003−66558号公報の段落「0025」〜「0045」に記載の化合物A−1〜A−258が挙げられる。 Specific examples of the phenol derivative and the naphthol derivative include compounds A-1 to A-89 described in paragraphs “0075” to “0078” of JP 2000-267222 A, and paragraph “0025” of JP 2003-66558 A. ”To“ 0045 ”. Examples thereof include compounds A-1 to A-258.
4級オニウム化合物の具体例としては、トリフェニルテトラゾリウムが挙げられる。 Specific examples of the quaternary onium compound include triphenyltetrazolium.
シラン化合物の具体例としては、特開2003−5324号公報の段落「0027」〜「0029」記載の化合物A1〜A33に示されるような一級または二級アミノ基を2個以上有するアルコキシシラン化合物或いはその塩が挙げられる。 Specific examples of the silane compound include alkoxysilane compounds having two or more primary or secondary amino groups as shown in compounds A1 to A33 described in paragraphs “0027” to “0029” of JP-A No. 2003-5324 or The salt is mentioned.
上記省銀化剤の添加量は有機銀塩1モルに対し1×10-5〜1モル、好ましくは1×10-4〜5×10-1モルの範囲である。
本発明の特に好ましい省銀化剤は下記一般式(SE1)および(SE2)で表される化合物である。
The amount of the silver saving agent added is in the range of 1 × 10 −5 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 5 × 10 −1 mol, per mol of the organic silver salt.
Particularly preferred silver saving agents of the present invention are compounds represented by the following general formulas (SE1) and (SE2).
一般式(SE1)
Q1−NHNH−Q2
〔式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、またはヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、またはスルファモイル基を表す。〕
一般式(SE1)において、Q1で表される芳香族基またはヘテロ環基としては5〜7員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。
General formula (SE1)
Q 1 -NHNH-Q 2
[In the formula, Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group. ]
In the general formula (SE1), the aromatic group or heterocyclic group represented by Q 1 is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2 , 3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,3,4 -Oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, thiophene ring, etc. are preferable, and these Also preferred are fused rings in which the rings are fused together.
これらの環は置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、およびアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、およびアシルオキシ基を挙げることができる。 These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups. When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be mentioned.
Q2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−sec−ブチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、N−シクロヘキシルカルバモイル、N−tert−ブチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N−オクタデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−tert−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル、N−ナフチルカルバモイル、N−3−ピリジルカルバモイル、N−ベンジルカルバモイルが挙げられる。 The carbamoyl group represented by Q 2 is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl N-sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3 -(2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5 Dodecyloxycarbo Butylphenyl) carbamoyl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl include N- benzylcarbamoyl.
Q2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、2−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、2−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル、2−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Q2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。 The acyl group represented by Q 2 is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2 -Hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, 2-hydroxymethylbenzoyl. The alkoxycarbonyl group represented by Q2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, dodecyl. Examples include oxycarbonyl and benzyloxycarbonyl.
Q2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数7〜50、より好ましくは炭素数7〜40のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、4−オクチルオキシフェノキシカルボニル、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、4−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Q2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、2−ヘキサデシルスルホニル、3−ドデシルオキシプロピルスルホニル、2−オクチルオキシ−5−tert−オクチルフェニルスルホニル、4−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。 The aryloxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxy Examples thereof include methylphenoxycarbonyl and 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl. The sulfonyl group represented by Q2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3-dodecyl. Examples include oxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.
Q2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、N−エチルスルファモイル基、N−(2−エチルヘキシル)スルファモイル、N−デシルスルファモイル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−{3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピル}スルファモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)スルファモイル、N−(2−テトラデシルオキシフェニル)スルファモイルが挙げられる。Q2で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のQ1で表される5〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The sulfamoyl group represented by Q 2 is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, N- (2- Ethylhexyl) sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl is mentioned. The group represented by Q 2 may further have the group exemplified as the substituent of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by Q 1 at a substitutable position. When it has two or more substituents, these substituents may be the same or different.
次に、式(SE1)で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Q1としては5〜6員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、およびこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Q2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。 Next, a preferable range of the compound represented by formula (SE1) is described. Q 1 is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, such as a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring. 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, and these rings Is more preferably a ring fused with a benzene ring or an unsaturated heterocycle. Q 2 is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on a nitrogen atom.
一般式(SE2)においてR1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ一般式(SE1)の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。 In the general formula (SE2), R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate group. R 3 and R 4 each represents a group that can be substituted on the benzene ring mentioned in the example of the substituent of formula (SE1). R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.
R1は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基など)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ベンソイルアミノ基、メチルウレイド基、4−シアノフェニルウレイド基など)、カルバモイル基(n−ブチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、2−クロロフェニルカルバモイル基、2,4−ジクロロフェニルカルバモイル基など)でアシルアミノ基(ウレイド基、ウレタン基を含む)がより好ましい。R2は好ましくはハロゲン原子(より好ましくは塩素原子、臭素原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフトキシ基など)である。 R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-octyl group, a cyclohexyl group, etc.), an acylamino group (for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, Methylureido group, 4-cyanophenylureido group, etc.), carbamoyl group (n-butylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2-chlorophenylcarbamoyl group, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl group, etc.) An acylamino group (including a ureido group and a urethane group) is more preferable. R 2 is preferably a halogen atom (more preferably a chlorine atom or a bromine atom), an alkoxy group (for example, a methoxy group, a butoxy group, an n-hexyloxy group, an n-decyloxy group, a cyclohexyloxy group, a benzyloxy group, etc.), aryl An oxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.);
R3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。R4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基またはアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はR1と同様である。R4がアシルアミノ基である場合R4はR3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。 R 3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferable substituents are the same as those for R 1 . When R 4 is an acylamino group, R 4 is preferably linked to R 3 to form a carbostyryl ring.
一般式(SE2)においてR3とR4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式(SE1)で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式(SE2)がナフトール系の化合物であるとき、R1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。R2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。 In the general formula (SE2), when R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring, a naphthalene ring is particularly preferable as the condensed ring. The same substituent as the example of the substituent mentioned in the general formula (SE1) may be bonded to the naphthalene ring. When general formula (SE2) is a naphthol compound, R 1 is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R 2 is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.
以下、本発明の省銀化剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereafter, the preferable specific example of the silver saving agent of this invention is given. The present invention is not limited to these.
(熱溶剤)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料には熱溶剤が含まれていることが好ましい。ここで、熱溶剤とは、熱溶剤含有光熱写真ドライイメージング材料に対して、熱溶剤を含まない銀塩光熱写真ドライイメージング材料に比べて熱現像温度を1℃以上低くすることができる素材と定義する。さらに好ましくは、2℃以上熱現像温度を低くできる素材であり、特に好ましくは3℃以上低くできる素材である。例えば、熱溶剤を含む光熱写真ドライイメージング材料Aに対して、光熱写真ドライイメージング材料Aから熱溶剤を含まない光熱写真ドライイメージング材料をBとした時に、光熱写真ドライイメージング材料Bを露光し熱現像温度120℃、熱現像時間20秒で処理して得られる濃度を、光熱写真ドライイメージング材料Aで同一露光量、熱現像時間で得るための熱現像温度が119℃以下になる場合を熱溶剤とする。
(Thermal solvent)
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention preferably contains a thermal solvent. Here, the thermal solvent is defined as a material capable of lowering the heat development temperature by 1 ° C. or more as compared with the silver salt photothermographic dry imaging material containing no thermal solvent with respect to the photothermographic dry imaging material containing the thermal solvent. To do. More preferably, the material can lower the heat development temperature by 2 ° C. or more, and particularly preferably the material that can lower the temperature by 3 ° C. or more. For example, with respect to the photothermographic dry imaging material A containing a thermosolvent, when the photothermographic dry imaging material A from the photothermographic dry imaging material A is B, the photothermographic dry imaging material B is exposed and thermally developed. When the thermal development temperature for obtaining the density obtained by processing at a temperature of 120 ° C. and a thermal development time of 20 seconds with the photothermographic dry imaging material A at the same exposure amount and thermal development time is 119 ° C. or less, To do.
熱溶剤は極性基を置換基として有しており、一般式(TS)で表されるのが好ましいが、これらに限定されるものではない。 The thermal solvent has a polar group as a substituent and is preferably represented by the general formula (TS), but is not limited thereto.
一般式(TS)
(Y)nZ
一般式(TS)において、Yはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Zはヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、リン酸アミド基、シアノ基、イミド、ウレイド、スルホキシド、スルホン、ホスフィン、ホスフィンオキシドまたは含窒素複素環基から選ばれる基を表す。nは1ないし3の整数を表し、Zが1価の基である場合には1、Zが2価以上の基である場合にはZの価数と同一である。nが2以上の場合、複数のYは同一であっても異なっていても良い。
General formula (TS)
(Y) n Z
In General Formula (TS), Y represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. Z represents a group selected from a hydroxy group, carboxy group, amino group, amide group, sulfonamide group, phosphoric acid amide group, cyano group, imide, ureido, sulfoxide, sulfone, phosphine, phosphine oxide or nitrogen-containing heterocyclic group. . n represents an integer of 1 to 3, which is 1 when Z is a monovalent group, and is the same as the valence of Z when Z is a divalent or higher group. When n is 2 or more, the plurality of Y may be the same or different.
Yは更に置換基を有していても良く、置換基としてZで表される基を有していても良い。Yについてさらに詳しく説明する。一般式(TS)において、Yは直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは1〜30、特に好ましくは1〜25であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、sec−ブチル、t−ブチル、t−オクチル、n−アミル、tーアミル、n−ドデシル、n−トリデシル、オクタデシル、イコシル、ドコシル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは2〜30、特に好ましくは2〜25であり、例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜40、より好ましくは6〜30、特に好ましくは6〜25であり、例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、複素環基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜12であり、例えば、ピリジル、ピラジル、イミダゾイル、ピロリジルなどが挙げられる。)を表す。これらの置換基はさらに他の置換基で置換されていても良い。また、これらの置換基は互いに結合して、環を形成していても良い。 Y may further have a substituent, and may have a group represented by Z as a substituent. Y will be described in more detail. In general formula (TS), Y is a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 25 carbon atoms such as methyl, ethyl, n -Propyl, iso-propyl, sec-butyl, t-butyl, t-octyl, n-amyl, t-amyl, n-dodecyl, n-tridecyl, octadecyl, icosyl, docosyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.). An alkenyl group (preferably having 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, particularly preferably 2 to 25 carbon atoms such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an aryl group ( Preferably it has 6 to 40 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, particularly preferably 6 to 25 carbon atoms such as phenyl and p-methyl. Phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms such as pyridyl, pyrazyl, imidazolyl, pyrrolidyl, etc. Represents.). These substituents may be further substituted with other substituents. These substituents may be bonded to each other to form a ring.
Yは更に置換基を有していても良く、置換基の例としては、特開2004−21068号公報の「0015」に記載の置換基が挙げられる。熱溶剤を使用することにより現像活性となる理由としては、熱溶剤が現像温度付近で溶融することにより現像に関与する物質と相溶し、熱溶剤を添加しないときよりも低い温度での反応を可能としているためと考えられる。熱現像は、比較的極性の高いカルボン酸や銀イオン輸送体が関与している還元反応であるため、極性基を有している熱溶剤により適度の極性を有する反応場を形成することが好ましい。 Y may further have a substituent, and examples of the substituent include those described in “0015” of JP-A No. 2004-21068. The reason why development activity is achieved by using a thermal solvent is that the thermal solvent melts near the development temperature, so that it is compatible with substances involved in development, and a reaction at a lower temperature than when no thermal solvent is added. This is thought to be possible. Since heat development is a reduction reaction involving a carboxylic acid having a relatively high polarity or a silver ion transporter, it is preferable to form a reaction field having an appropriate polarity with a thermal solvent having a polar group. .
本発明に好ましく用いられる熱溶剤の融点は50℃以上200℃以下であるが、より好ましくは60℃以上150℃以下である。特に、本発明の目的であるような、画像保存性などの外的環境に対しての安定性を重視した熱現像感光材料では、融点が100℃以上150℃以下の熱溶剤が好ましい。 The melting point of the thermal solvent preferably used in the present invention is 50 ° C. or more and 200 ° C. or less, more preferably 60 ° C. or more and 150 ° C. or less. In particular, in a photothermographic material that emphasizes stability to an external environment such as image storage stability, which is the object of the present invention, a heat solvent having a melting point of 100 ° C. or higher and 150 ° C. or lower is preferable.
熱溶剤の具体例としては特開2004−21068号公報の「0017」に記載される化合物、米国公開特許US2002/0025498号公報の「0027」に記載の化合物、MF−1〜MF−3、MF6、MF−7、MF−9〜MF−12、MF−15〜MF−22をあげることができる。 Specific examples of the thermal solvent include compounds described in “0017” of JP-A No. 2004-21068, compounds described in “0027” of US 2002/0025498, MF-1 to MF-3, and MF6. MF-7, MF-9 to MF-12, and MF-15 to MF-22.
本発明において熱溶剤の添加量は0.01〜5.0g/m2であることが好ましく、より好ましくは0.05〜2.5g/m2で、さらに好ましくは0.1〜1.5g/m2である。熱溶剤は感光性層に含有させることが好ましい。また、上記熱溶剤は単独で用いてもよいが、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明において熱溶剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。 Preferably the added amount of thermal solvent is 0.01~5.0g / m 2 in the present invention, more preferably 0.05~2.5g / m 2, more preferably 0.1~1.5g / M 2 . The thermal solvent is preferably contained in the photosensitive layer. Moreover, although the said thermal solvent may be used independently, you may use it in combination of 2 or more type. In the present invention, the thermal solvent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。 Well-known emulsifying dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically dispersing the emulsified dispersion. The method of producing is mentioned.
また、固体微粒子分散法としては、熱溶剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm〜1000ppmの範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。 As the solid fine particle dispersion method, the powder of the hot solvent is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill or ultrasonic waves to produce a solid dispersion. A method is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the Zr content in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem. The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
(カブリ防止及び画像安定化剤)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料のいずれかの構成層には、熱現像前の保存時におけるカブリ発生を防止するためのカブリ防止剤、及び熱現像後における画像の劣化を防止するための画像安定化剤を含有させておくことが好ましい。
(Anti-fogging and image stabilizer)
In any constituent layer of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, an antifoggant for preventing fogging during storage before heat development, and an image deterioration after heat development are prevented. It is preferable to contain an image stabilizer.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いることができるカブリ防止及び画像安定化剤について説明する。 The antifogging and image stabilizer that can be used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention will be described.
本発明に係る還元剤として、主にビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンを持った還元剤が用いられているので、これらの水素を安定化し還元剤を不活性化し、銀イオンを還元する反応を防止防止できる化合物が含有されていることが好ましい。また、生フィルムや画像の保存時に生成する銀原子ないし金属銀銀(銀クラスター)を酸化漂白できる化合物が含有されていることが好ましい。これらの機能を有する化合物の具体例としてビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物を挙げることができる。上記のビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物の添加量は0.001〜0.1モル/m2、好ましくは0.005〜0.05モル/m2の範囲である。 As reducing agents according to the present invention, reducing agents having protons such as bisphenols and sulfonamidophenols are mainly used, so that these hydrogens are stabilized, the reducing agents are deactivated, and silver ions are reduced. It is preferable that a compound capable of preventing and preventing the reaction is contained. Moreover, it is preferable that the compound which can carry out the oxidative bleaching of the silver atom thru | or metal silver (silver cluster) produced | generated at the time of preservation | save of a raw film or an image is contained. Specific examples of compounds having these functions include biimidazolyl compounds and iodonium compounds. The amount of the biimidazolyl compound and iodonium compound added is in the range of 0.001 to 0.1 mol / m 2 , preferably 0.005 to 0.05 mol / m 2 .
本発明に用いる還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば、特開2002−90937号公報の段落[0061]〜[0064]に記載の化合物(II−1)〜(II−40)が挙げられる。 When the reducing agent used in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH), particularly in the case of bisphenols, a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups is used. It is preferable to use together. Specific examples of particularly preferred hydrogen bonding compounds in the present invention include, for example, compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs [0061] to [0064] of JP-A-2002-90937. Is mentioned.
また、一方、カブリ防止及び画像安定化剤として、ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られている。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開2002−287299号公報の[0264]〜[0271]に記載の一般式(9)の化合物が挙げられる。 On the other hand, many compounds that can release halogen atoms as active species are known as antifogging and image stabilizers. Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include compounds represented by general formula (9) described in JP-A-2002-287299, [0264] to [0271].
これらの化合物の添加量は、当該化合物から放出されるハロゲンと銀イオンが反応してハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が実質的に問題にならない範囲が好ましい。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、上記の公報の他に、特開2002−169249号公報の段落「0086」〜「0087」に記載されている化合物(III−1)〜(III−23)、特開2003−50441号公報の段落「0031」〜「0034」記載の化合物1−1a〜1−1o、1−2a〜1−2o、段落「0050」〜「0056」記載の化合物2a〜2z、2aa〜2ll、2−1a〜2−1f、特開2003−91054号公報の段落「0055」〜「0058」記載の化合物4−1〜4−32、段落「0069」〜「0072」記載の化合物5−1〜5−10を挙げることができる。 The addition amount of these compounds is preferably within a range in which the increase in printout silver due to the formation of silver halide due to the reaction between the halogen released from the compound and silver ions does not become a problem. Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include, in addition to the above-mentioned publications, compounds (III-1) to 3 described in paragraphs “0086” to “0087” of JP-A No. 2002-169249. (III-23), compounds 1-1a to 1-1o and 1-2a to 1-2o described in paragraphs “0031” to “0034” of JP-A-2003-50441, and paragraphs “0050” to “0056” Compounds 2a to 2z, 2aa to 2ll, 2-1a to 2-1f, Compounds 4-1 to 4-32 described in paragraphs “0055” to “0058” of JP-A No. 2003-91054, paragraphs “0069” to Examples thereof include compounds 5-1 to 5-10 described in “0072”.
本発明で好ましく使用されるカブリ防止剤としては、例えば、特開平8−314059号公報の段落「0012」に記載の化合物例a〜j、特開平7−209797号公報の段落「0028」に記載のチオスルホネートエステルA〜K、特開昭55−140833号公報のp14から記載の化合物例(1)〜(44)、特開2001−13627号公報の段落「0063」記載の化合物(I−1)〜(I−6)、段落「0066」記載の(C−1)〜(C−3)、特開2002−90937号公報の段落「0027」記載の化合物(III−1)〜(III−108)、ビニルスルホン類及び/又はβ−ハロスルホン類の化合物として特開平6−208192号公報の段落「0013」に記載の化合物VS−1〜VS−7、化合物HS−1〜HS−5、スルホニルベンゾトリアゾール化合物として特開2000−330235号公報に記載のKS−1〜KS−8の化合物、置換されたプロペンニトリル化合物として特表2000−515995号公報に記載のPR−01〜PR−08、特開2002−207273号公報の段落「0042」〜「0051」に記載の化合物(1)−1〜(1)−132、を挙げることができる。 Antifoggants preferably used in the present invention include, for example, compound examples a to j described in paragraph “0012” of JP-A-8-314059 and paragraph “0028” of JP-A-7-209797. Thiosulfonate esters A to K, compound examples (1) to (44) described from p14 of JP-A No. 55-140833, compounds described in paragraph “0063” of JP-A No. 2001-13627 (I-1 ) To (I-6), (C-1) to (C-3) described in paragraph “0066”, and compounds (III-1) to (III-) described in paragraph “0027” of JP-A-2002-90937. 108), compounds VS-1 to VS-7 and compounds HS-1 to HS-5 described in paragraph “0013” of JP-A-6-208192 as compounds of vinyl sulfones and / or β-halo sulfones. KS-1 to KS-8 compounds described in JP 2000-330235 A as sulfonylbenzotriazole compounds, PR-01 to PR-08 described in JP-T 2000-515995 as substituted propene nitrile compounds, Examples thereof include compounds (1) -1 to (1) -132 described in paragraphs “0042” to “0051” of JP-A-2002-207273.
上記カブリ防止剤は一般に銀のモルに対して少なくとも0.001モル用いる。通常、その範囲は銀のモルに対して化合物は0.01〜5モル、好ましくは銀のモルに対して化合物は0.02〜0.6モルである。 The antifoggant is generally used in an amount of at least 0.001 mole per mole of silver. Usually, the range is 0.01 to 5 moles of the compound relative to the moles of silver, preferably 0.02 to 0.6 moles of the compound relative to the moles of silver.
尚、上記の化合物の他に、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料中には、従来カブリ防止剤として知られている各種化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、カブリ防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば、米国特許第3,589,903号、同4,546,075号、同4,452,885号の各明細書、特開昭59−57234号公報、米国特許第3,874,946号明細書、同4,756,999号明細書、特開平9−288328号公報、同9−90550号公報に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のカブリ防止剤としては、米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同605,981号、同631,176号の各明細書に開示されている化合物が挙げられる。 In addition to the above compounds, the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention may contain various compounds conventionally known as antifoggants, but the same reaction activity as the above compounds. Even if it is a compound which can produce | generate a seed | species, the compound from which an antifogging mechanism differs may be sufficient. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, U.S. Pat. No. 3,874,946. Examples thereof include compounds described in the specification, JP 4,756,999, JP-A-9-288328, and JP-A-9-90550. Further, as other antifoggants, compounds disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981 and 631,176 are exemplified. Can be mentioned.
(調色剤)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する調色剤(トナー)を通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。
(Toning agent)
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention forms a photographic image by heat development processing, and a toning agent (toner) for adjusting the color tone of silver as required is usually contained in an (organic) binder matrix. It is preferably contained in a dispersed state.
本発明に用いられる好適な調色剤の例は、リサーチ・ディスクロージャー(RD)17029号、米国特許第4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号及び同4,021,249号の各明細書に開示されており、例えば、次のものがある。 Examples of suitable toning agents used in the present invention include Research Disclosure (RD) 17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, and the like. For example, the following are disclosed.
イミド類(例えば、スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド);メルカプタン類(例えば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);フタラジノン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩(例えば、フタラジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジンとフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸)の組合せ;フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸またはo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1つの化合物との組合せ等が挙げられる。特に好ましい調色剤としてはフタラジノンまたはフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。 Imides (eg, succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4-triazole); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives ( For example, phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazine and phthalic acids ( For example, combinations of phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid; phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof Products (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4 The combination and the like with at least one compound selected from nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride). Particularly preferred toning agents are combinations of phthalazinone or phthalazine with phthalic acids and phthalic anhydrides.
(フッ素系界面活性剤)
本発明ではレーザイメージャー(熱現像処理装置)でのフィルム搬送性や環境適性(生体内への蓄積性)を改良するために下記一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤が好ましく用いられる。
(Fluorosurfactant)
In the present invention, a fluorine-based surfactant represented by the following general formula (SF) is preferable in order to improve film transportability and environmental suitability (accumulation in a living body) in a laser imager (heat development processing apparatus). Used.
一般式(SF)
(Rf−(L1)m1−)p−(Y)n1−(A)q
〔式中、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表し、L1はフッ素原子を有しない2価の連結基を表し、Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基又はその塩を表し、m1、n1は各々0又は1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。但し、qが1の時は、m1とn1は同時に0とはならない。〕
前記一般式(SF)において、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表すが、該フッ素原子を含有する置換基としては例えば、炭素数1〜25のフッ化アルキル基(例えば、トリフロロメチル基、トリフロロエチル基、パーフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基、パーフロロドデシル基及びパーフロロオクタデシル基等)またはフッ化アルケニル基(例えば、パーフロロプロペニル基、パーフロロブテニル基、パーフロロノネニル基及びパーフロロドデセニル基等)等が挙げられる。Rfは炭素数2〜8であることが好ましく、より好ましくは炭素数が2〜6である。またRfはフッ素原子数2〜12であることが好ましく、より好ましくはフッ素原子数が3〜12である。
General formula (SF)
(R f − (L 1 ) m1 −) p- (Y) n1 − (A) q
[Wherein R f represents a substituent containing a fluorine atom, L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom, and Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom. , A represents an anionic group or a salt thereof, m1 and n1 each represents an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, m1 and n1 are not 0 at the same time. ]
In the general formula (SF), R f represents a substituent containing a fluorine atom. Examples of the substituent containing the fluorine atom include a fluorinated alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (for example, trifluoromethyl). Group, trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorooctyl group, perfluorododecyl group and perfluorooctadecyl group) or fluorinated alkenyl group (for example, perfluoropropenyl group, perfluorobutenyl group) Perfluorononenyl group, perfluorododecenyl group, etc.). R f preferably has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms. R f preferably has 2 to 12 fluorine atoms, more preferably 3 to 12 fluorine atoms.
L1はフッ素原子を有さない2価の連結基を表すが、当該フッ素原子を有さない2価の連結基としては例えば、アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等)、アルキレンオキシ基(メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、ブチレンオキシ基等)、オキシアルキレン基(例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシブチレン基等)、オキシアルキレンオキシ基(例えば、オキシメチレンオキシ基、オキシエチレンオキシ基、オキシエチレンオキシエチレンオキシ基等)、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニルオキシ基、オキシフェニルオキシ基またはこれらの基を組合せた基等が挙げられる。 L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom. Examples of the divalent linking group having no fluorine atom include an alkylene group (for example, a methylene group, an ethylene group, a butylene group, etc.), Alkyleneoxy group (methyleneoxy group, ethyleneoxy group, butyleneoxy group, etc.), oxyalkylene group (for example, oxymethylene group, oxyethylene group, oxybutylene group, etc.), oxyalkyleneoxy group (for example, oxymethyleneoxy group, Oxyethyleneoxy group, oxyethyleneoxyethyleneoxy group, etc.), phenylene group, oxyphenylene group, phenyloxy group, oxyphenyloxy group, or a combination of these groups.
Aはアニオン基またはその塩を表すが、例えば、カルボン酸基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、スルホン酸基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、硫酸ハーフエステル基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、及び燐酸基またはその塩(ナトリウム塩及びカリウム塩等)等が挙げられる。 A represents an anionic group or a salt thereof. For example, carboxylic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), sulfonic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), sulfuric acid half ester Group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), a phosphoric acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and the like) and the like.
Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表すが、例えば、フッ素原子を有さない3価または4価の連結基としては、窒素原子または炭素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。n1は0または1の整数を表すが、1であるのが好ましい。 Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom. For example, the trivalent or tetravalent linking group having no fluorine atom is composed mainly of a nitrogen atom or a carbon atom. An atomic group is mentioned. n1 represents 0 or an integer of 1, and is preferably 1.
一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は、フッ素原子を導入した炭素数1〜25のアルキル化合物(例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基及びパーフロロオクタデシル基等を有する化合物)及びアルケニル化合物(例えば、パーフロロヘキセニル基及びパーフロロノネニル基等)と、それぞれフッ素原子を導入していない3価〜6価のアルカノール化合物、水酸基を3〜4個有する芳香族化合物またはヘテロ化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物(一部Rf化されたアルカノール化合物)に、更に例えば硫酸エステル化等によりアニオン基(A)を導入することにより得ることができる。 The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is an alkyl compound having 1 to 25 carbon atoms into which a fluorine atom is introduced (for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorooctyl). Group and a compound having a perfluorooctadecyl group) and an alkenyl compound (for example, a perfluorohexenyl group and a perfluorononenyl group), a trivalent to hexavalent alkanol compound in which no fluorine atom is introduced, and a hydroxyl group, respectively. aromatic compound or a compound obtained by addition reaction and condensation reaction between the hetero compound having 3 or 4 (part R f of alkanols compounds), further for example, introducing an anionic group (a) with sulfuric acid esterification, etc. Can be obtained.
上記3〜6価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、2−メチル−2−ヒドロキシメチル1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンテン、1,2,6−ヘキサントリオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)プロパン、2,2−ビス(ブタノール)−3、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、D−ソルビトール、キシリトール、D−マンニトール等が挙げられる。
Examples of the trivalent to hexavalent alkanol compound include glycerin, pentaerythritol, 2-methyl-2-
また、上記水酸基を3〜4個有する芳香族化合物及びへテロ化合物としては、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン及び2,4,6−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。 Examples of the aromatic compound and hetero compound having 3 to 4 hydroxyl groups include 1,3,5-trihydroxybenzene and 2,4,6-trihydroxypyridine.
上記したフッ素系界面活性剤の具体例としては、特開2003−149766号公報の段落「0029」〜「0040」に記載の化合物(FS−1)〜(FS−66)、特開2004−021084号公報の段落「0014」に記載の化合物1−1〜1−4、段落「0019」に記載の化合物2−1〜2−10、特開2004−077792号公報の段落「0025」に記載の化合物、段落「0030」に記載の化合物が挙げられる。 Specific examples of the above-described fluorosurfactants include compounds (FS-1) to (FS-66) described in paragraphs “0029” to “0040” of JP-A No. 2003-149766, JP-A No. 2004-021084. Compound 1-1 to 1-4 described in paragraph “0014” of compound No., compounds 2-1 to 2-10 described in paragraph “0019”, and paragraph “0025” of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-077772. Examples thereof include compounds described in paragraph “0030”.
以下に、一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の好ましい具体的化合物を示す。 Below, the preferable specific compound of the fluorine-type surfactant represented by general formula (SF) is shown.
また上記した以外のフッ素系界面活性剤として、特開2004−117505号公報の段落「0035」に記載の化合物、特開2000−214554号公報、特開2003−156819号公報、特開2003−177494号公報、特開2003−114504号公報、特開2003−270754号公報、特開2003−270760号公報に記載された化合物を使用しても良い。本発明においては一般式(SF)で表されるアニオン性含フッ素界面活性剤と公知の非イオン性含フッ素界面活性剤を組み合わせて使用することが帯電特性、塗布性向上の観点から特に好ましい。 Further, as fluorine surfactants other than those described above, compounds described in paragraph “0035” of JP-A No. 2004-117505, JP-A No. 2000-214554, JP-A No. 2003-156819, JP-A No. 2003-177494 are disclosed. The compounds described in JP-A No. 2003-114504, JP-A 2003-270754, and JP-A 2003-270760 may be used. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of an anionic fluorine-containing surfactant represented by the general formula (SF) and a known nonionic fluorine-containing surfactant from the viewpoint of improving charging characteristics and coating properties.
本発明の一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。また、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザ分散により1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は、最外層の保護層に添加することが好ましい。 As a method for adding the fluorosurfactant represented by the general formula (SF) of the present invention to the coating solution, it can be added according to a known addition method. That is, it can be dissolved and added in alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. Further, fine particles having a size of 1 μm or less can be added after being dispersed in water or an organic solvent by sand mill dispersion, jet mill dispersion, ultrasonic dispersion or homogenizer dispersion. Many techniques for fine particle dispersion are disclosed, but they can be dispersed according to these techniques. The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is preferably added to the outermost protective layer.
本発明の一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の添加量は1m2当たり1×10-8〜1×10-1モルが好ましく、1×10-5〜1×10-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では、帯電特性が得られないことがあり、前者の範囲を越えると、湿度依存性が大きく高湿下の保存性が劣化することがある。 The amount of the fluorosurfactant represented by the general formula (SF) of the present invention is preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol per 1 m 2 , and 1 × 10 −5 to 1 × 10 −2. Mole is particularly preferred. If the range is less than the former range, the charging characteristics may not be obtained. If the range exceeds the former range, the humidity dependency is large and the storage stability under high humidity may be deteriorated.
(潤滑剤)
潤滑剤としては例えば特開平11−84573号の段落「0061」〜「0064」に記載されている公知の潤滑剤を使用することができるが、固体潤滑剤粒子や常温で液体の潤滑剤を用いることが好ましい。常温で液体の潤滑剤としては例えば特開2003−15259号の段落「0019」に記載されている化合物があげられる。固体潤滑剤粒子としては、平均粒径が1〜30μmの有機固体潤滑剤粒子を使用することが好ましく、また有機固体潤滑剤粒子の融点が、110℃以上、200℃以下であることが好ましい。
(lubricant)
As the lubricant, for example, known lubricants described in paragraphs “0061” to “0064” of JP-A No. 11-84573 can be used. However, solid lubricant particles or a lubricant that is liquid at room temperature is used. It is preferable. Examples of the lubricant that is liquid at normal temperature include compounds described in paragraph “0019” of JP-A No. 2003-15259. As the solid lubricant particles, organic solid lubricant particles having an average particle diameter of 1 to 30 μm are preferably used, and the melting point of the organic solid lubricant particles is preferably 110 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.
(表面層)
本発明における十点平均粗さ(Rz)、最大粗さ(Rt)、中心線平均粗さ(Ra)は、下記のJIS表面粗さ(B0601)により定義される。十点平均粗さ(Rz)とは断面曲線から基準長さだけぬきとった部分において、平均線に平行、且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から5番目までの山頂の標高の平均値と最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。最大粗さ(Rt)とは粗さ曲線を基準長さLだけ抜き取り、中心線に平行な2直線で抜き取り部分を挟んだとき、この2直線の間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定して、この値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。中心線平均粗さ(Ra)とは粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸、粗さ曲線をy=f(x)で表したとき、次の式によって求められる値をマイクロメートル(μm)であらわしたものをいう。
(Surface layer)
The ten-point average roughness (Rz), maximum roughness (Rt), and centerline average roughness (Ra) in the present invention are defined by the following JIS surface roughness (B0601). Ten-point average roughness (Rz) is the peak from the highest to the fifth measured in the direction of the vertical magnification from the straight line that is parallel to the average line and does not cross the cross-sectional curve, in the portion that has been cut by the reference length from the cross-sectional curve. The difference between the average value of the altitude and the average value of the altitude at the bottom of the valley from the deepest to the fifth is expressed in micrometers (μm). The maximum roughness (Rt) is the roughness curve extracted by the reference length L, and when the extracted part is sandwiched between two straight lines parallel to the center line, the distance between the two straight lines is measured in the direction of the vertical magnification of the roughness curve. Then, this value is expressed in micrometers (μm). The centerline average roughness (Ra) is a portion of the measured length L extracted from the roughness curve in the direction of the centerline, the centerline of this extracted portion is the X axis, the direction of the vertical magnification is the Y axis, and the roughness curve Is represented by y = f (x), the value obtained by the following equation is expressed in micrometers (μm).
Rz、Rt、Raの測定方法としては、25℃、65%RH環境下で測定試料同士が重ね合わされない条件で24時間調湿した後、該環境下で測定した。ここで示す重ね合わされない条件とは、例えば、フィルムエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法やフィルムとフィルムの間に紙をはさんで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることのできる測定装置としては、例えば、WYKO社製RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることができる。 As a method for measuring Rz, Rt, and Ra, the humidity was adjusted for 24 hours under the condition that the measurement samples were not overlapped in an environment of 25 ° C. and 65% RH, and then measured in the environment. The non-overlapping conditions shown here are, for example, a method of winding with the film edge portion raised, a method of stacking paper between the films, a method of making a frame with cardboard and fixing the four corners, etc. One of them. Examples of the measuring apparatus that can be used include a RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system manufactured by WYKO.
感光材料の表面と裏面のRz、Rt、Raを本発明の範囲とするためには、下記に示す技術手段を適宜組み合わせて用いることで容易に調整することができる。 In order to set Rz, Rt, and Ra on the front and back surfaces of the photosensitive material within the scope of the present invention, it can be easily adjusted by appropriately combining the following technical means.
1) 感光性層を有する側の層、感光性層を有する側と反対面の層に含まれるマット剤(無機または有機粉末)の種類、平均粒径、添加量、表面処理方法
2) マット剤の分散条件(使用する分散機の種類、分散時間、分散に使用するビーズの種類、平均粒径、分散時に使用する分散剤の種類と量、バインダーの極性基の種類、極性基含有量)
3) 塗布時の乾燥条件(塗布速度、温風の吹き出しノズルの塗布面からの距離、乾燥風量)、残留溶媒量
4) 塗布液の濾過に用いるフイルターの種類、濾過時間
5) 塗布後にカレンダ処理を行う場合は、その条件(例えばカレンダ温度40〜80℃、圧力4.9×106〜2.9×107Pa、ラインスピード20〜100m、ニップ数2〜6)
本発明においては、Rz(E)/Rz(B)の値が0.1以上、0.7以下であるのが好ましく、特にRz(E)/Rz(B)の値が0.2以上、0.6以下であるのが好ましく、0.3以上、0.55以下であるのがより好ましい。ここで(E)は感光性層側の最表面を、(B)は感光性層とは反対側のバックコート層側の最表面を表す。この範囲とすることで、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生を格段に向上することができる。
1) Type of matting agent (inorganic or organic powder) contained in the layer on the side having the photosensitive layer and the layer opposite to the side having the photosensitive layer, average particle size, amount added, surface treatment method 2) Matting agent Dispersion conditions (type of disperser used, dispersion time, type of beads used for dispersion, average particle size, type and amount of dispersant used during dispersion, type of polar group of binder, polar group content)
3) Drying conditions during application (application speed, distance from the application surface of the hot air blowing nozzle, amount of dry air), amount of residual solvent 4) Type of filter used for filtration of coating liquid, filtration time 5) Calendar treatment after application Are performed under the same conditions (for example, calendar temperature 40 to 80 ° C., pressure 4.9 × 10 6 to 2.9 × 10 7 Pa, line speed 20 to 100 m, nip
In the present invention, the value of Rz (E) / Rz (B) is preferably 0.1 or more and 0.7 or less, and particularly the value of Rz (E) / Rz (B) is 0.2 or more, It is preferably 0.6 or less, more preferably 0.3 or more and 0.55 or less. Here, (E) represents the outermost surface on the photosensitive layer side, and (B) represents the outermost surface on the back coat layer side opposite to the photosensitive layer. By setting it as this range, the transportability of the film is good, and the occurrence of uneven density during thermal development can be remarkably improved.
また本発明においては、Ra(E)/Ra(B)の値が0.6以上、1.5以下であるのが好ましく、特にRa(E)/Ra(B)の値が0.6以上、1.3以下であるのが好ましく、0.7以上、1.1以下であるのがより好ましい。この範囲とすることで、経時でのかぶり上昇が小さく、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生についてより向上させることができる。 In the present invention, the value of Ra (E) / Ra (B) is preferably 0.6 or more and 1.5 or less, and particularly the value of Ra (E) / Ra (B) is 0.6 or more. 1.3 or less, more preferably 0.7 or more and 1.1 or less. By setting it within this range, the increase in fog over time is small, the transportability of the film is good, and the occurrence of uneven density during thermal development can be further improved.
本発明の光熱写真ドライイメージング材料は、支持体上の両側に複数の種類のマット剤を含有する構成層を有することが、画像の画質の向上の観点から、好ましい。感光性層を有する側のマット剤を含有する層に含有させるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をLe(μm)、支持体をはさんで感光性層を有する側と反対側、すなわち、バックコート層を有する側のマット剤を含有する層に含有させるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をLb(μm)とする時Lb/Leが2.0〜10であることが好ましく、より好ましくは3.0〜4.5である。 The photothermographic dry imaging material of the present invention preferably has constituent layers containing a plurality of types of matting agents on both sides on the support, from the viewpoint of improving the image quality of the image. The average particle diameter of the matting agent having the maximum average particle diameter of the matting agent contained in the layer containing the matting agent on the side having the photosensitive layer is Le (μm), opposite to the side having the photosensitive layer across the support. When the average particle diameter of the matting agent having the maximum average particle diameter of the matting agent contained in the layer containing the matting agent on the side, that is, the side having the back coat layer is Lb (μm), Lb / Le is 2.0 to It is preferable that it is 10, More preferably, it is 3.0-4.5.
Lb/Leをこの範囲とすることで、熱現像時の濃度ムラを改良することができる。また本発明の画像形成方法においてはRz(E)/Ra(E)の値は好ましくは12以上、60以下であり、より好ましくは14以上、50以下である。Rz(E)/Ra(E)の値をこの範囲とすることで、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。 By setting Lb / Le within this range, density unevenness during heat development can be improved. In the image forming method of the present invention, the value of Rz (E) / Ra (E) is preferably 12 or more and 60 or less, more preferably 14 or more and 50 or less. By setting the value of Rz (E) / Ra (E) within this range, density unevenness during thermal development and storage characteristics over time can be improved.
また本発明の画像形成方法においてはRz(B)/Ra(B)の値は好ましくは25以上、65以下であり、より好ましくは30以上、60以下である。Rz(B)/Ra(B)の値をこの範囲とすることで、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。前記した表面粗さについては以下の方法で行った。 In the image forming method of the present invention, the value of Rz (B) / Ra (B) is preferably 25 or more and 65 or less, more preferably 30 or more and 60 or less. By setting the value of Rz (B) / Ra (B) within this range, density unevenness during heat development and storage characteristics over time can be improved. About the above-mentioned surface roughness, it carried out with the following method.
《表面粗さの評価》
熱現像の処理前の試料について、非接触3次元表面解析装置(WYKO社RST/PLUS)を用いて、下記に示す方法により測定した。
<< Evaluation of surface roughness >>
About the sample before the process of heat development, it measured by the method shown below using the non-contact three-dimensional surface analyzer (WYKO company RST / PLUS).
1)対物レンズ:×10.0 中間レンズ:×1.0
2)測定範囲:463.4μm×623.9μm
3)ピクセルサイズ:368×238
4)フィルター:円筒補正と傾き補正
5)スムージング:ミディアムスムージング
6)スキャンスピード:Low
なおRa、Rz、Rtの定義はJIS表面粗さ(B0601)に従った。測定は10cm×10cmの各試料について、1cm間隔で碁盤目状に100分割し、各正方形領域の中心について測定を行ない、100回の測定からその平均値を求めた。
1) Objective lens: × 10.0 Intermediate lens: × 1.0
2) Measurement range: 463.4 μm × 623.9 μm
3) Pixel size: 368 × 238
4) Filter: Cylindrical correction and tilt correction 5) Smoothing: Medium smoothing 6) Scanning speed: Low
Ra, Rz, and Rt were defined according to JIS surface roughness (B0601). For each sample of 10 cm × 10 cm, the sample was divided into 100 in a grid pattern at 1 cm intervals, the center of each square region was measured, and the average value was obtained from 100 measurements.
本発明では、マット剤を含有する層が最外層である場合が好ましい態様の一つである。すなわち、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層側、また支持体をはさみ感光性層の反対側に非感光性層を設けた場合にも、最外層に、表面粗さをコントロールする等のためにマット剤として有機または無機の粉末を用いることが好ましい。 In the present invention, the case where the layer containing the matting agent is the outermost layer is one of the preferred embodiments. That is, even when a non-photosensitive layer is provided on the opposite side of the photosensitive layer of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, the surface roughness is controlled as the outermost layer. For this purpose, it is preferable to use organic or inorganic powder as a matting agent.
本発明において用いられる粉末としては、モース硬度が5以上の粉末を用いることが好ましい。粉末としては公知の無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することができる。無機質粉末としては、例えば、酸化チタン、窒化ホウ素、SnO2、SiO2、Cr2O3、α−Al2O3、α−Fe2O3、α−FeOOH、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、ガーネット、マイカ、ケイ石、窒化ケイ素、炭化ケイ素等を挙げることができる。有機質粉末としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン(登録商標)等の粉末を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、SiO2、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Al2O3、α−Fe2O3、α−FeOOH、Cr2O3、マイカ等の無機粉末等であり、その中でもSiO2、α−Al2O3が好ましく、特に好ましいのはSiO2である。 As the powder used in the present invention, a powder having a Mohs hardness of 5 or more is preferably used. As the powder, a known inorganic powder or organic powder can be appropriately selected and used. Examples of the inorganic powder include titanium oxide, boron nitride, SnO 2 , SiO 2 , Cr 2 O 3 , α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, SiC, cerium oxide, corundum, artificial Examples thereof include diamond, garnet, garnet, mica, silica, silicon nitride, silicon carbide and the like. Examples of the organic powder include powders such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and Teflon (registered trademark). Among these, inorganic powders such as SiO 2 , titanium oxide, barium sulfate, α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, Cr 2 O 3 , mica, etc. are preferable. SiO 2 and α-Al 2 O 3 are preferable, and SiO 2 is particularly preferable.
本発明において、前記粉末が例えば、表面処理されていることが好ましい。表面処理層形成は、無機質粉末素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のAl、Si、Ti、Zr、Sb、Sn、Znなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で無機質粉末粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーpHを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなくAlCl3、SiCl4の蒸気を非磁性無機質粉末に通じ、その後水蒸気を流入してAl、Si表面処理を施すことも可能である。その他の表面処理法については、「Characterization of Powder Surfaces」,Academic Pressを参考にすることができる。 In the present invention, the powder is preferably surface-treated, for example. The surface treatment layer is formed by dry pulverizing the inorganic powder material, adding water and a dispersing agent, and performing coarse particle classification by wet pulverization and centrifugal separation. Thereafter, the fine slurry is transferred to a surface treatment tank, where the surface of the metal hydroxide is coated. First, a predetermined amount of an aqueous salt solution such as Al, Si, Ti, Zr, Sb, Sn, and Zn is added, and an acid or alkali that neutralizes the solution is added, and the surface of the inorganic powder particles is coated with the resulting hydrous oxide. To do. Water-soluble salts produced as a by-product are removed by decantation, filtration, and washing. Finally, the slurry pH is adjusted, filtered, and washed with pure water. The washed cake is dried with a spray dryer or a band dryer. Finally, the dried product is pulverized by a jet mill to become a product. In addition to the aqueous system, AlCl 3 and SiCl 4 vapors can be passed through the non-magnetic inorganic powder, and then steam can be introduced to perform Al and Si surface treatment. For other surface treatment methods, “Characterization of Powder Surfaces”, Academic Press can be referred to.
本発明では、Si化合物またはAl化合物により表面処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いるとマット剤分散時の分散状態を良好にすることができる。前記SiまたはAlの含有量としては、前記粉末に対して、Siが0.1〜10質量%、Alが0.1〜10質量%であるのが好ましく、より好ましくはSiが0.1〜5質量%、Alが0.1〜5質量%であり、Siが0.1〜2質量%、Alが0.1〜2質量%であるのが特に好ましい。また、Si、Alの質量比がSi<Alであるのがよい。表面処理に関しては特開平2−83219号公報に記載された方法により行うことができる。尚、本発明における粉末の平均粒径とは、球状粉末においてはその平均直径を、針状粉末においてはその平均長軸長を、板状粉末においてはその板状面の最大の対角線の長さの平均値をそれぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に求めることができる。 In the present invention, it is preferable that the surface treatment is performed with an Si compound or an Al compound. When such a surface-treated powder is used, the dispersion state when the matting agent is dispersed can be improved. The content of Si or Al is preferably 0.1 to 10% by mass of Si and 0.1 to 10% by mass of Al, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the powder. It is particularly preferable that 5% by mass, Al is 0.1-5% by mass, Si is 0.1-2% by mass, and Al is 0.1-2% by mass. The mass ratio of Si and Al is preferably Si <Al. The surface treatment can be performed by the method described in JP-A-2-83219. The average particle diameter of the powder in the present invention is the average diameter in the case of spherical powder, the average major axis length in the case of acicular powder, and the maximum diagonal length of the plate-like surface in the case of plate-like powder. Mean values can be easily obtained from measurement with an electron microscope.
上記の有機または無機粉末は平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μmである。 The organic or inorganic powder preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm.
感光性層側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は通常0.5〜8.0μm、好ましくは1.0〜6.0μmであり、より好ましくは2.0〜5.0μmである。 The average particle diameter of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the photosensitive layer side is usually 0.5 to 8.0 μm, preferably 1.0 to 6.0 μm, more preferably 2.0 to 5.0 μm. It is.
添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常1.0〜20質量%であり、好ましくは2.0〜15質量%であり、より好ましくは3.0〜10質量%である。 The addition amount is usually 1.0 to 20% by mass, preferably 2.0 to 15% by mass, more preferably 3 with respect to the amount of binder used in the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). 0.0 to 10% by mass.
支持体をはさんで感光性層側とは反対側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は、通常2.0〜15.0μm、好ましくは3.0〜12.0μmであり、より好ましくは4.0〜10.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常0.2〜10質量%であり、好ましくは0.4〜7質量%であり、より好ましくは0.6〜5質量%である。 The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer opposite to the photosensitive layer side across the support is usually 2.0 to 15.0 μm, preferably 3.0 to 12.0 μm. More preferably, it is 4.0-10.0 micrometers. The addition amount is usually 0.2 to 10% by mass, preferably 0.4 to 7% by mass, and more preferably 0 to the amount of binder used in the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). .6 to 5% by mass.
また、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる粉末である。ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。 The variation coefficient of the particle size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less. Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.
{(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
有機または無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
{(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size)} × 100
The method of adding the organic or inorganic powder may be a method in which the organic or inorganic powder is previously dispersed in the coating solution, or a method of spraying the organic or inorganic powder after the coating solution is applied and before the drying is completed. May be. Moreover, when adding several types of powder, you may use both methods together.
(染料、顔料)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、感光性層を透過する光の量または波長分布を制御するために感光性層と同じ側または反対の側にフィルター層を形成するか、感光性層に染料又は顔料を含有させることが好ましい。
(Dye, pigment)
In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, a filter layer is formed on the same side as or opposite to the photosensitive layer in order to control the amount of light transmitted through the photosensitive layer or the wavelength distribution. It is preferable to contain a dye or pigment in the layer.
用いられる染料としては、感光材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。 As the dye used, known compounds that absorb light in various wavelength regions can be used depending on the color sensitivity of the photosensitive material.
例えば、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開2001−083655号に開示されているようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)、又スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。 For example, when the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is used as an image recording material by infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus as disclosed in JP-A-2001-083655 (this specification) Used as a thiopyrylium squarylium dye) and a squarylium dye having a pyrylium nucleus (referred to herein as a pyrylium squarylium dye), or a thiopyrylium croconium dye similar to a squarylium dye, or a pyrylium croconium dye. It is preferable to do.
尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。以下本明細書ではこれらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染料とよぶ。尚、染料としては米国特許5380635号、特開平8−201959号、特開2002−040593号、特開2003−186135号、特開2003−195450号、米国特許6689547号、米国公開特許20040259044号に記載の化合物も好ましく使用することができる。 The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobutene-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy- in the molecular structure. It is a compound having 4,5-dione. Here, the hydroxyl group may be dissociated. Hereinafter, in the present specification, these pigments are collectively referred to as squarylium dyes for convenience. The dyes described in U.S. Pat. No. 5,380,635, JP-A No. 8-201959, JP-A No. 2002-040593, JP-A No. 2003-186135, JP-A No. 2003-195450, US Pat. No. 6,689,547, and US Pat. These compounds can also be preferably used.
(支持体)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(アルミニウム等)等が挙げられるが、情報記録材料としての取扱い上は、可撓性のあるシート又はロールに加工できるものが好適である。従って、本発明の光熱写真ドライイメージング材料における支持体としては、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルム(TAC)又はポリカーボネート(PC)フィルム等のプラスチックフィルムが好ましく、特に2軸延伸したPETフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。
(Support)
Examples of the support material used in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (aluminum, etc.), etc. For handling, a material that can be processed into a flexible sheet or roll is preferable. Therefore, as a support in the photothermographic dry imaging material of the present invention, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, polyamide film, polyimide film, cellulose triacetate film (TAC) Alternatively, a plastic film such as a polycarbonate (PC) film is preferable, and a biaxially stretched PET film is particularly preferable. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.
帯電性を改良するために金属酸化物及び/又は導電性ポリマー等の導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは何れの層に含有させてもよいが、好ましくはバッキング層又は感光性層側の表面保護層、下引層等に含まれる。米国特許5,244,773号のカラム14〜20に記載された導電性化合物等が好ましく用いられる。中でも、本発明では、バッキング層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。このことで、更に本発明の効果(特に熱現像処理時の搬送性)を高められることが判った。 In order to improve the charging property, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layer. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the backing layer or the surface protective layer on the photosensitive layer side, the undercoat layer and the like. The conductive compounds described in columns 14 to 20 of US Pat. No. 5,244,773 are preferably used. Among these, in the present invention, the surface protective layer on the backing layer side preferably contains a conductive metal oxide. This proved that the effects of the present invention (particularly the transportability during heat development) can be further enhanced.
ここで、導電性金属酸化物とは、結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は、一般的に言って導電性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にカブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例としてZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO3、V2O5等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、又、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜30モル%の範囲が好ましいが、0.1〜10モル%であれば特に好ましい。更に又、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時に珪素化合物を添加してもよい。 Here, the conductive metal oxide is crystalline metal oxide particles, and those containing oxygen defects and those containing a small amount of hetero atoms forming a donor with respect to the metal oxide used are generally used. In particular, it is particularly preferable because of its high conductivity, and the latter is particularly preferable because it does not give fog to the silver halide emulsion. Examples of metal oxides are ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5, etc., or a composite oxide thereof, especially ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred. As an example of containing a heteroatom, addition Al, or In to ZnO, addition Sb, Nb, P, such as a halogen element relative to SnO 2, In addition, Nb for TiO 2, Ta Etc. are effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, but particularly preferably 0.1 to 10 mol%. Furthermore, a silicon compound may be added during the production of fine particles in order to improve fine particle dispersibility and transparency.
本発明に用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。これらの酸化物については特開昭56−143431号、同56−120519号、同58−62647号等に記載されている。更に又、特公昭59−6235号に記載の如く、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(酸化チタン等)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。 The metal oxide fine particles used in the present invention have electrical conductivity, and the volume resistivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less. These oxides are described in JP-A Nos. 56-143431, 56-120519, 58-62647 and the like. Furthermore, as described in Japanese Examined Patent Publication No. 59-6235, a conductive material in which the above metal oxide is attached to other crystalline metal oxide particles or fibrous materials (such as titanium oxide) may be used. .
利用できる粒子サイズは1μm以下が好ましいが、0.5μm以下であると分散後の安定性が良く使用し易い。又、光散乱性をできるだけ小さくするために、0.3μm以下の導電性粒子を利用すると、透明感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合は、その長さは30μm以下で直径が1μm以下が好ましく、特に好ましいのは長さが10μm以下で直径0.3μm以下であり、長さ/直径比が3以上である。尚、SnO2としては、石原産業社より市販されており、SNS10M、SN−100P、SN−100D、FSS10M等を用いることができる。 The particle size that can be used is preferably 1 μm or less, but if it is 0.5 μm or less, the stability after dispersion is good and it is easy to use. In order to make the light scattering property as small as possible, it is very preferable to use conductive particles of 0.3 μm or less because a transparent photosensitive material can be formed. Further, when the conductive metal oxide is needle-like or fibrous, the length is preferably 30 μm or less and the diameter is preferably 1 μm or less, particularly preferably the length is 10 μm or less and the diameter is 0.3 μm or less. The thickness / diameter ratio is 3 or more. As the SnO 2, are commercially available from Ishihara Sangyo Kaisha, it can be used SNS10M, SN-100P, SN- 100D, the FSS10M like.
(構成層)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、支持体上に少なくとも1層の画像形成層である感光性層を有している。支持体上に感光性層のみを形成してもよいが、感光性層の上に少なくとも1層の非感光層を形成することが好ましい。例えば、感光性層の上には保護層が、感光性層を保護する目的で設けられることが好ましく、又、支持体の反対の面には、感光材料間の、あるいは感光材料ロールにおける「くっつき」を防止するために、バックコート層が設けられる。
(Component layer)
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention has a photosensitive layer which is at least one image forming layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is preferably provided on the photosensitive layer for the purpose of protecting the photosensitive layer, and the opposite surface of the support is “sticking” between the photosensitive materials or in the photosensitive material roll. In order to prevent “,” a backcoat layer is provided.
これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては、感光性層よりもガラス転位点(Tg)が高く、擦傷や、変形の生じ難いポリマー、例えばセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のポリマーが、前記のバインダーの中から選ばれる。 As a binder used in these protective layers and backcoat layers, a polymer having a glass transition point (Tg) higher than that of the photosensitive layer and hardly causing scratches or deformation, such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propio. Polymers such as nates are selected from the binders described above.
尚、階調調整等のために、感光性層を支持体の一方の側に2層以上又は支持体の両側に1層以上設置してもよい。 For gradation adjustment or the like, two or more photosensitive layers may be provided on one side of the support or one or more layers on both sides of the support.
(構成層の塗布)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解または分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(例えば、感光性層、保護層)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下(より好ましくは90質量%以下)となる前に、上層を設けることである。
(Application of component layers)
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is formed by preparing a coating solution in which the above-described constituent layers are dissolved or dispersed in a solvent, and applying a plurality of these coating solutions simultaneously, followed by heat treatment. It is preferable. Here, "multiple simultaneous multi-layer coating" means that a coating solution for each constituent layer (for example, a photosensitive layer, a protective layer) is prepared, and each layer is repeatedly coated and dried when it is coated on a support. Instead, it means that each constituent layer can be formed in such a state that a multilayer coating and drying process can be performed simultaneously. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of all the solvents in the lower layer reaches 70% by mass or less (more preferably 90% by mass or less).
各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えば、バーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、リバースロール塗布法、グラビア塗布法、エクストリュージョン塗布法等の公知の方法を用いることができる。 There are no particular restrictions on the method of applying multiple layers simultaneously to each constituent layer, for example, bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, and extrusion. A known method such as a coating method can be used.
上記の各種方法のうち、より好ましくはスライド塗布法、エクストリュージョン塗布法である。これらの塗布方法は感光性層を有する側について述べたが、バック層を設ける際、下引きと共に塗布する場合についても同様である。光熱写真ドライイメージング材料における同時重層塗布方法に関しては、特開2000−15173号公報に詳細な記載がある。 Of the various methods described above, the slide coating method and the extrusion coating method are more preferable. These coating methods have been described on the side having the photosensitive layer, but the same applies to the case of coating with undercoating when the back layer is provided. Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-15173 has a detailed description on the simultaneous multilayer coating method in the photothermographic dry imaging material.
尚、本発明において、塗布銀量は銀塩光熱写真ドライイメージング材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には、0.3g/m2以上、1.5g/m2以下が好ましく、0.5g/m2以上、1.5g/m2以下がより好ましい。当該塗布銀量のうち、ハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して2〜18%を占めることが好ましい、更には5〜15%が好ましい。 In the present invention, the silver coating amount is preferably selected in accordance with the purpose of the silver salt photothermographic dry imaging material, but is 0.3 g / m 2 or more for medical purposes. preferably .5g / m 2 or less, 0.5 g / m 2 or more, 1.5 g / m 2 or less is more preferable. Among the applied silver amounts, those derived from silver halide preferably account for 2 to 18%, more preferably 5 to 15%, based on the total silver amount.
また、本発明において、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014個/m2以上、1×1018個/m2以下が好ましい。更には1×1015個/m2以上、1×1017個/m2以下が好ましい。 In the present invention, the coating density of silver halide grains having a particle diameter of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to a sphere) is preferably 1 × 10 14 particles / m 2 or more and 1 × 10 18 particles / m 2 or less. Furthermore, 1 × 10 15 pieces / m 2 or more and 1 × 10 17 pieces / m 2 or less are preferable.
更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり、1×10-17g以上、1×10-14g以下が好ましく、1×10-16g以上、1×10-15g以下がより好ましい。 Furthermore, the coating density of the non-photosensitive long-chain aliphatic carboxylate is 1 × 10 −17 g or more, 1 × 10 1 per silver halide grain of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to sphere). -14 g or less is preferable, and 1 x 10 -16 g or more and 1 x 10 -15 g or less are more preferable.
上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。 In the case of coating under the conditions within the above range, preferable results are obtained from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per fixed coating silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. Is obtained.
本発明においては、銀塩光熱写真ドライイメージング材料が現像時に溶剤を5〜1,000mg/m2の範囲で含有していることが好ましい。10〜150mg/m2であるように調整することがより好ましい。それにより、高感度、低カブリ、最高濃度の高い熱現像感光材料となる。溶剤としては、特開2001−264930号公報の段落「0030」に記載のものが挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。また、これらの溶剤は単独または数種類組合せて用いることができる。 In the present invention, the silver salt photothermographic dry imaging material preferably contains a solvent in the range of 5 to 1,000 mg / m 2 during development. It is more preferable to adjust so that it may be 10-150 mg / m < 2 >. As a result, the photothermographic material has high sensitivity, low fog, and high maximum density. Examples of the solvent include those described in paragraph “0030” of JP-A No. 2001-264930. However, it is not limited to these. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.
尚、熱現像感光材料中の上記溶剤の含有量は塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。また、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。 The content of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by changing conditions such as a temperature condition in a drying process after the coating process. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.
(包装体)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を保存する場合は、経時での濃度変化やカブリ発生を防止するため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50ml/atm・m2・day(尚、1atmは1.01325×105Paである。)以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は0.01g/m2・40℃・90%RH・day以下(JIS Z0208カップ法による)であることが好ましく、より好ましくは0.005g/m2・40℃・90%RH・day以下、さらに好ましくは0.001g/m2・40℃・90%RH・day以下である。
(Packaging body)
When storing the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, oxygen transmission rate and / or water transmission rate are used to prevent density change and fog generation over time, or to improve curling, curling, etc. It is preferable to package with a low packaging material. The oxygen transmission rate is preferably 50 ml / atm · m 2 · day or less at 25 ° C. (where 1 atm is 1.01325 × 10 5 Pa), more preferably 10 ml / atm · m 2 · day or less. More preferably, it is 1.0 ml / atm · m 2 · day or less. The moisture permeability is preferably 0.01 g / m 2 · 40 ° C · 90% RH · day or less (according to JIS Z0208 cup method), more preferably 0.005 g / m 2 · 40 ° C. · 90% RH · Day or less, more preferably 0.001 g / m 2 · 40 ° C · 90% RH · day or less.
熱現像感光材料用の包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号、特開2000−206653号、特開2000−235241号、特開2002−062625号、特開2003−015261号、特開2003−057790号、特開2003−084397号、特開2003−098648号、特開2003−098635号、特開2003−107635号、特開2003−131337号、特開2003−146330号、特開2003−226439、特開2003−228152号公報明細書に記載されている包装材料である。また包装体内の空隙率は0.01〜10%、好ましくは0.02〜5%とするのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を80%以上、好ましくは90%以上とするのがよい。また包装体内の相対湿度は10%以上60%以下、好ましくは40%以上、55%以下とするのが良い。 Specific examples of the packaging material for the photothermographic material include, for example, JP-A-8-254793, JP-A-2000-206653, JP-A-2000-235241, JP-A-2002-062625, JP-A-2003-015261, JP 2003-057990 A, JP 2003-084397 A, JP 2003-098648 A, JP 2003-098635 A, JP 2003-107635 A, JP 2003-131337 A, JP 2003-146330 A, Special It is a packaging material described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-226439 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-228152. The void ratio in the package is 0.01 to 10%, preferably 0.02 to 5%. Nitrogen sealing is performed so that the nitrogen partial pressure in the package is 80% or more, preferably 90% or more. It is good to do. The relative humidity in the package is 10% to 60%, preferably 40% to 55%.
また断裁工程や包装工程においては、擦り傷や白ヌケ等の画像欠陥を防止するために、例えば特開2004−341145号公報に示されているようにクリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境下で作業を行うことが好ましい。 Further, in the cutting process and the packaging process, in order to prevent image defects such as scratches and white spots, the cleanliness is US federal standard 209d class 10,000 or less as disclosed in, for example, JP-A-2004-341145. It is preferable to perform the work in the environment of
(銀塩光熱写真ドライイメージング材料の露光)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の露光に用いられる露光、あるいは、本発明の画像形成方法における露光については、目的とする適切な画像を得るために適した光源、露光時間等に関し、種々の条件を採用することができる。
(Exposure of silver salt photothermographic dry imaging materials)
Regarding the exposure used for the exposure of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention or the exposure in the image forming method of the present invention, there are various light sources, exposure times, etc. suitable for obtaining a desired appropriate image. The following conditions can be adopted.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、画像記録する際にレーザ光線を用いるのが好ましい。また、本発明においては、当該感光材料に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば当該感光材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザパワーがハイパワーであることや、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザ(780nm、820nm)がより好ましく用いられる。 The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention preferably uses a laser beam when recording an image. In the present invention, it is desirable to use a light source suitable for the color sensitivity imparted to the photosensitive material. For example, when the photosensitive material is sensitive to infrared light, it can be applied to any light source as long as it is in the infrared light range. However, the laser power is high, or the silver salt photothermographic dry imaging material. Infrared semiconductor lasers (780 nm, 820 nm) are more preferably used from the standpoint of being transparent.
また特に本発明の光熱写真ドライイメージング材料は、好ましくは光量が1mW/mm2以上の高照度の光で短時間露光されることでその特性を発揮する。ここでの照度は熱現像後の感光材料が3.0の光学濃度がでるときの照度を言う。このような高照度で露光を行うと必要な光学濃度を得るために必要な光量(=照度*露光時間)が少なくてすみ、高感度システムを設計できる。より好ましくはその光量は2mW/mm2以上50W/mm2以下であり、さらに好ましくは10mW/mm2以上50W/mm2以下である。 In particular, the photothermographic dry imaging material of the present invention exhibits its characteristics when it is exposed for a short time with light of high illuminance, preferably with a light amount of 1 mW / mm 2 or more. The illuminance here refers to the illuminance when the photosensitive material after heat development has an optical density of 3.0. When exposure is performed at such high illuminance, the amount of light (= illuminance * exposure time) required to obtain a required optical density is reduced, and a high sensitivity system can be designed. More preferably, the amount of light is 2 mW / mm 2 or more and 50 W / mm 2 or less, and more preferably 10 mW / mm 2 or more and 50 W / mm 2 or less.
上記のような光源であればどのようなものでも構わないが、レーザであることによって好ましく達成できる。本発明の感光材料にこのましく用いられるレーザとしては、ガスレーザ(Ar+、Kr+、He−Ne)、YAGレーザ、色素レーザ、半導体レーザなどが好ましい。また、半導体レーザと第2高調波発生素子などを用いることもできる。また青〜紫発光の半導体レーザ(波長350nm〜440nmにピーク強度を持つもの等)を用いることができる。青〜紫発光の高出力半導体レーザとしては日亜化学のNLHV3000E半導体レーザを挙げることができる。 Any light source may be used as long as it is as described above, but it can be preferably achieved by using a laser. As a laser preferably used for the photosensitive material of the present invention, a gas laser (Ar + , Kr + , He—Ne), a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser, and the like are preferable. In addition, a semiconductor laser and a second harmonic generation element can be used. Further, a blue to violet light emitting semiconductor laser (such as one having a peak intensity at a wavelength of 350 nm to 440 nm) can be used. An example of a blue to purple light emitting high-power semiconductor laser is Nichia's NLHV 3000E semiconductor laser.
本発明において、露光はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば、第1の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザ光の為す角が実質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いる方法が挙げられる。 In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which the angle formed by the scanning surface of the photosensitive material and the scanning laser beam is not substantially perpendicular.
ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザ光走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55〜88度、より好ましくは60〜86度、更に好ましくは65〜84度、最も好ましくは70〜82度であることを言う。 Here, “substantially not perpendicular” means that the angle closest to the vertical during laser beam scanning is preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees, and still more preferably 65 to 84 degrees. , Most preferably 70-82 degrees.
レーザ光が感光材料に走査される時の、感光材料露光面でのビームスポット直径は好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これは、スポット径が小さい方が、レーザ光入射角度の垂直からの「ずらし角度」を減らせる点で好ましい。尚、ビームスポット直径の下限は10μmである。この様なレーザ走査露光を行うことにより、干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることができる。 The beam spot diameter on the exposure surface of the photosensitive material when the laser beam is scanned onto the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. This is preferable in that a smaller spot diameter can reduce the “shift angle” from the vertical of the laser beam incident angle. The lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as generation of interference fringe-like unevenness.
又、第2の方法として、露光は縦マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用する、高周波重畳を掛ける、等の方法がよい。尚、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常、露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。 As a second method, it is also preferable to perform exposure using a laser scanning exposure machine that emits scanning laser light that is a vertical multi. Compared with a longitudinal single mode scanning laser beam, image quality degradation such as occurrence of interference fringe-like unevenness is reduced. In order to make a vertical multiplex, methods such as using return light by combining and applying high-frequency superposition are preferable. Note that the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the exposure wavelength distribution is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.
更に、第3の態様としては、2本以上のレーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。この様な複数本のレーザ光を利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば特開昭60−166916号等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザ光をポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザイメージャー等と原理的に同じレーザ走査光学装置である。 Furthermore, as a third aspect, it is also preferable to form an image by scanning exposure using two or more laser beams. As such an image recording method using a plurality of laser beams, it is used in an image writing unit of a laser printer or a digital copying machine that writes an image line by line in one scan because of a demand for higher resolution and higher speed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 60-166916 is known. This is a method in which laser light emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror and imaged on a photoconductor via an fθ lens or the like. This is in principle the same laser scanning optics as a laser imager or the like. Device.
レーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザ光の結像は、1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザ光の結像位置から1ライン分ずらして次のレーザ光が結像されている。具体的には、二つの光ビームは、互いに副走査方向に像面上で数10μmオーダーの間隔で近接しており、印字密度が400dpi(dpiとは、1インチ=2.54cm当たりのドット数を表す)で2ビームの副走査方向ピッチは63.5μm、600dpiで42.3μmである。この様な、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に2本以上のレーザを入射角を変え露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この際、通常の1本のレーザ光(波長λ[nm])で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがEであり、露光に使用するN本のレーザ光線が同一波長(波長λ[nm])、同一露光エネルギー(En)である場合に、0.9×E≦En×N≦1.1×Eの範囲にするのが好ましい。この様にすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザ光線の画像形成層への反射は、レーザの露光エネルギーが低いため低減され、ひいては干渉縞の発生が抑えられる。 The image formation of laser light on the photoconductor in the image writing means of a laser printer or digital copying machine is for one line from the image formation position of one laser light for the purpose of writing an image by a plurality of lines in one scan. The next laser beam is imaged by shifting. Specifically, the two light beams are close to each other on the image plane in the sub-scanning direction at an order of several tens of μm, and the print density is 400 dpi (dpi is the number of dots per inch = 2.54 cm). The sub-scanning direction pitch of the two beams is 63.5 μm, and 42.3 μm at 600 dpi. Unlike the method of shifting the resolution in the sub-scanning direction as described above, in the present invention, it is preferable to form an image by condensing two or more lasers at the same place on the exposure surface while changing the incident angle. At this time, the exposure energy on the exposure surface when writing with one normal laser beam (wavelength λ [nm]) is E, and N laser beams used for exposure have the same wavelength (wavelength λ [nm]). ), In the case of the same exposure energy (En), the range of 0.9 × E ≦ En × N ≦ 1.1 × E is preferable. By doing so, energy is secured on the exposure surface, but the reflection of each laser beam to the image forming layer is reduced because the exposure energy of the laser is low, and thus the occurrence of interference fringes is suppressed.
尚、上述では複数本のレーザ光の波長をλと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いてもよい。この場合には、λ[nm]に対して(λ−30)<λ1、λ2、・・・・・λn≦(λ+30)の範囲にするのが好ましい。 In the above description, the wavelengths of the plurality of laser beams are the same as λ, but those having different wavelengths may be used. In this case, it is preferable that (λ−30) <λ1, λ2,... Λn ≦ (λ + 30) with respect to λ [nm].
尚、上述した第1、第2及び第3の態様の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザとしては、一般によく知られている、ルビーレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザ等の固体レーザ;He−Neレーザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、CO2レーザ、COレーザ、He−Cdレーザ、N2レーザ、エキシマーレーザ等の気体レーザ;InGaPレーザ、AlGaAsレーザ、GaAsPレーザ、InGaAsレーザ、InAsPレーザ、CdSnP2レーザ、GaSbレーザ等の半導体レーザ;化学レーザ、色素レーザ等を用途に併せて適時選択して使用できるが、これらの中でも、メンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が600〜1200nmの半導体レーザによるレーザ光を用いるのが好ましい。尚、レーザイメージャやレーザイメージセッタで使用されるレーザにおいて、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に走査される時の該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は銀塩光熱写真ドライイメージング材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、光熱写真ドライイメージング材料毎に最適な値に設定することができる。 In the image recording methods of the first, second, and third aspects described above, as lasers used for scanning exposure, generally well-known solid lasers such as ruby lasers, YAG lasers, glass lasers; Ne laser, Ar ion laser, Kr ion laser, CO 2 laser, CO laser, He—Cd laser, N 2 laser, excimer laser and other gas lasers; InGaP laser, AlGaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 lasers, semiconductor lasers such as GaSb lasers; chemical lasers, dye lasers, etc. can be selected and used in a timely manner, but among these, semiconductors with a wavelength of 600-1200 nm due to maintenance and light source size problems It is preferable to use laser light from a laser. In a laser used in a laser imager or a laser image setter, the beam spot diameter on the material exposure surface when scanned with a silver salt photothermographic dry imaging material is generally 5 to 75 μm as a short axis diameter, and a long axis. The diameter is in the range of 5 to 100 μm, and the laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photothermographic dry imaging material depending on the sensitivity and laser power at the lasing wavelength inherent to the silver salt photothermographic dry imaging material. .
(レーザイメージャー)
本発明に係るレーザイメージャー(熱現像処理装置)は、フィルムトレイで代表されるフィルム供給装置部、レーザ画像記録装置部、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の全面に均一で安定した熱を供給する熱現像装置部、フィルム供給部からレーザ記録を経て、熱現像により画像形成された光熱写真ドライイメージング材料を装置外に排出するまでの搬送装置部から構成される。
(Laser imager)
The laser imager (heat development processing apparatus) according to the present invention supplies uniform and stable heat to the entire surface of a film supply unit represented by a film tray, a laser image recording unit, and a silver salt photothermographic dry imaging material. It is composed of a heat-developing device section and a conveying device section for discharging the photothermographic dry imaging material image-formed by heat development from the apparatus through laser recording from the film supply section.
本発明で好ましく用いられるレーザイメージャーは、熱現像部のパス長に対する冷却部のパス長の比が1.5以下であり、0.1以上1.2以下であることがより好ましく、0.2以上1.0以下であることが特に好ましい。ここで、熱現像部のパス長とは、熱現像装置において感光材料が現像温度に加熱された搬送パス長である。また、冷却部のパス長とは、熱現像部以降、感光材料がレーザイメージャーによって遮光された領域からレーザイメージャーの設置されている室内光下へと感光材料が排出されるまでのパス長をいう。 In the laser imager preferably used in the present invention, the ratio of the path length of the cooling section to the path length of the heat developing section is 1.5 or less, more preferably 0.1 or more and 1.2 or less. It is especially preferable that it is 2 or more and 1.0 or less. Here, the path length of the thermal development unit is a transport path length in which the photosensitive material is heated to the development temperature in the thermal development apparatus. The path length of the cooling unit is the path length from the heat development unit to the time when the photosensitive material is discharged from the area where the photosensitive material is shielded by the laser imager to the room light where the laser imager is installed. Say.
また、前記レーザイメージャーが銀塩光熱写真ドライイメージング材料の支持体を挟んで感光性層を有しない側の面(以下において、「非感光面」という。)の冷却速度を感光性層を有する側の面(以下において、「感光面」という。)の冷却速度より大きくし得る機能を有することが好ましい。 In addition, the laser imager has a photosensitive layer with a cooling rate on the surface (hereinafter referred to as “non-photosensitive surface”) that does not have a photosensitive layer across the support of the silver salt photothermographic dry imaging material. It is preferable to have a function that can be set higher than the cooling rate of the side surface (hereinafter referred to as “photosensitive surface”).
本発明において感光面の冷却速度に対する、非感光面の冷却速度の比は1.1以上であることが好ましい。より好ましくは1.1〜5.0、最も好ましくは1.5〜3.0である。非感光面の冷却速度を速くする手段は特に問わないが、非感光面を直接金属板、金属ローラ、不織布、植毛されたローラに接触させることは好ましい態様である。さらに好ましくはこれらの部材に蓄積される熱を積極的に外部に排出させるためヒートシンクやヒートパイプを併用することも望ましい形態である。 In the present invention, the ratio of the cooling rate of the non-photosensitive surface to the cooling rate of the photosensitive surface is preferably 1.1 or more. More preferably, it is 1.1-5.0, Most preferably, it is 1.5-3.0. The means for increasing the cooling rate of the non-photosensitive surface is not particularly limited, but it is a preferred embodiment that the non-photosensitive surface is directly brought into contact with a metal plate, a metal roller, a non-woven fabric, or a flocked roller. More preferably, it is also desirable to use a heat sink or a heat pipe together in order to positively discharge the heat accumulated in these members to the outside.
熱現像部のパス長に対する冷却部のパス長の比が1.5以下の冷却部のパス長が短いレーザイメージャーによって、小型で、処理速度の速いレーザイメージャーを提供することが可能である。 It is possible to provide a small-sized laser imager with a high processing speed by using a laser imager with a short path length of the cooling unit whose ratio of the path length of the cooling unit to the path length of the heat developing unit is 1.5 or less. .
熱現像部を出たあと排出されるまでの冷却時間は任意であるが、0秒以上25秒以下であることが好ましい。より好ましくは0秒以上15秒以下、特に好ましくは5秒以上15秒以下である。 The cooling time from the exit from the heat development portion to the discharge is arbitrary, but it is preferably from 0 second to 25 seconds. More preferably, it is 0 second or more and 15 seconds or less, and particularly preferably 5 seconds or more and 15 seconds or less.
熱現像部を出たあと排出までの感光材料の通過するパス長は任意であるが、1cm以上60cm以下であることが好ましい。より好ましくは5cm以上50cm以下、さらに好ましくは5cm以上40cm以下である。 The path length through which the photosensitive material passes after exiting the thermal development section and before discharging is arbitrary, but is preferably 1 cm or more and 60 cm or less. More preferably, they are 5 cm or more and 50 cm or less, More preferably, they are 5 cm or more and 40 cm or less.
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した当該感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては80〜250℃であり、好ましくは100〜140℃、さらに好ましくは110〜130℃である。現像時間としては、1〜30秒が好ましく、より好ましくは3〜15秒、さらに好ましくは3〜10秒である。加熱温度が80℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、又、200℃を超えるとバインダーが溶融し、ローラーへの転写等画像そのものだけでなく、搬送性や現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。熱現像処理に要する時間(感光材料がトレイ部でピックアップされてから排出されるまでにかかる時間)は60秒以下であることが好ましく、10秒以上、50秒以下とすることが緊急時の診断にも対応できてより好ましい。 The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photosensitive material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, preferably 100 to 140 ° C, more preferably 110 to 130 ° C. The development time is preferably 1 to 30 seconds, more preferably 3 to 15 seconds, and further preferably 3 to 10 seconds. If the heating temperature is less than 80 ° C, a sufficient image density cannot be obtained in a short time. If the heating temperature exceeds 200 ° C, the binder melts, and not only the image itself such as transfer to a roller but also transportability and a developing machine. Adversely affect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of treatment liquid such as water from the outside. The time required for the heat development processing (the time required for the photosensitive material to be picked up and discharged from the tray portion) is preferably 60 seconds or less, and it is preferably 10 seconds or more and 50 seconds or less for emergency diagnosis. Is more preferable.
熱現像の方式としてはドラム型ヒータ、プレート型ヒータのいずれを使用してもよいが、プレートヒータ方式がより好ましい。プレートヒータ方式による熱現像方式としては、特開平11−133572号公報に記載の方法、すなわち、露光によりハロゲン化銀粒子上に潜像を形成した銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得るレーザイメージャーであって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記イメージング材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とするレーザイメージャーによる現像方法が好ましい。 Either a drum type heater or a plate type heater may be used as the thermal development method, but the plate heater method is more preferable. As a thermal development method using a plate heater method, a method described in JP-A-11-133572, that is, a silver salt photothermographic dry imaging material in which a latent image is formed on silver halide grains by exposure is applied in a thermal development unit. A laser imager that obtains a visible image by contacting with a heating means, wherein the heating means comprises a plate heater, and a plurality of press rollers are arranged to face each other along one surface of the plate heater, A developing method using a laser imager is preferable, in which the imaging material is passed between the pressing roller and the plate heater to perform thermal development.
露光部および熱現像部および冷却部における感光材料の線速度は任意であるが、より速いほうが迅速処理、スループットの向上のためには好ましい。好ましい線速度は25mm/秒以上200mm/秒以下、より好ましくは28mm/秒以上150mm以下、さらに好ましくは30mm/秒以上60mm/秒以下である。搬送速度をこの範囲とすることにより、熱現像時の濃度むらを改良でき、また処理時間が短縮できるため、緊急時の診断にも対応できて好ましい。 The linear velocity of the photosensitive material in the exposure section, the heat development section, and the cooling section is arbitrary, but a higher speed is preferable for rapid processing and improvement in throughput. A preferable linear velocity is 25 mm / second or more and 200 mm / second or less, more preferably 28 mm / second or more and 150 mm or less, and further preferably 30 mm / second or more and 60 mm / second or less. By setting the conveyance speed within this range, density unevenness during heat development can be improved and the processing time can be shortened.
この態様のレーザイメージャの具体例は図1に示すものである。露光処理と熱現像処理を同時に行う、即ち、シート感材の一部分を露光しながら、すでに露光がなされたシートの一部分で現像が開始されるためには、露光処理を行う露光部と現像部の間の距離が0cm以上50cm以下であることが好ましく、これにより露光・現像の一連の処理時間が極めて短くなる。この距離の好ましい範囲は、3cm以上40cm以下であり、より好ましくは、5cm以上30cm以下である。ここで露光部とは、露光光源からの光が銀塩光熱写真ドライイメージング材料に照射される位置をいい、現像部とは、熱現像感光材料が熱現像を行うために初めて加熱される位置をいう。図1における6が露光部であり、図1の4から搬送された感材が3のプレートに初めて接した部分が現像部である。
A specific example of the laser imager of this aspect is shown in FIG. In order to perform the exposure process and the thermal development process at the same time, that is, in order to start development on a part of the sheet that has already been exposed while exposing a part of the sheet sensitive material, It is preferable that the distance between them is 0 cm or more and 50 cm or less, and this makes a series of processing time of exposure and development extremely short. A preferable range of this distance is 3 cm or more and 40 cm or less, and more preferably 5 cm or more and 30 cm or less. Here, the exposure part refers to the position where the light from the exposure light source is applied to the silver salt photothermographic dry imaging material, and the development part refers to the position where the photothermographic material is heated for the first time for thermal development. Say. In FIG. 1,
加熱する機器、装置あるいは手段としては、例えばホットプレート、アイロン、ホットローラー、炭素又は白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手段等で行ってよい。より好ましくは、感光性層の上に保護層の設けられた銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、保護層を有する側の面を加熱手段と接触させ加熱処理することが、均一な加熱を行う上で、又、熱効率、作業性等の観点から好ましく、保護層を有する側の面をヒートローラーに接触させながら搬送し、加熱処理して現像することが好ましい。 The heating device, apparatus or means may be a heating means typical as a heat generator using, for example, a hot plate, iron, hot roller, carbon or white titanium. More preferably, the silver salt photothermographic dry imaging material in which the protective layer is provided on the photosensitive layer is subjected to heat treatment by bringing the surface having the protective layer into contact with the heating means, in order to perform uniform heating. Moreover, it is preferable from the viewpoints of thermal efficiency, workability, etc., and it is preferable that the surface on the side having the protective layer is conveyed while being in contact with the heat roller, developed by heat treatment.
本発明においては、加熱温度123℃、現像時間12秒で熱現像して得られる画像が、拡散濃度(Y軸)と常用対数露光量(X軸)の単位長の等しい直交座標上に示される特性曲線において、拡散光での光学濃度で0.25〜2.5の平均階調が2.0〜4.0であることが好ましい。このような階調にすることにより、銀量が少なくても診断認識性の高い画像を得ることが可能となる。 In the present invention, an image obtained by heat development at a heating temperature of 123 ° C. and a development time of 12 seconds is shown on orthogonal coordinates where the unit lengths of the diffusion density (Y axis) and the common logarithmic exposure (X axis) are equal. In the characteristic curve, the average gradation of 0.25 to 2.5 in terms of optical density with diffused light is preferably 2.0 to 4.0. By using such gradations, it is possible to obtain an image with high diagnostic recognizability even if the amount of silver is small.
なお、上記の本発明に係るレーザイメージャーに有効に適応させるため、本発明に係る銀塩光熱写真ドライイメージング材料の支持体の少なくとも一方の面上に設けられる感光性層と非感光性層の乾燥膜厚の合計は12μm以上、19μm以下が好ましく、14μm以上、18μm以下であることが特に好ましい。また感光性層の乾燥膜厚は4μm以上、16μm以下であるが、6μm以上、14μm以下であることが好ましく、8μm以上、12μm以下であることが特に好ましい。 In order to effectively adapt to the laser imager according to the present invention, the photosensitive layer and the non-photosensitive layer provided on at least one surface of the support of the silver salt photothermographic dry imaging material according to the present invention. The total dry film thickness is preferably 12 μm or more and 19 μm or less, and particularly preferably 14 μm or more and 18 μm or less. The dry film thickness of the photosensitive layer is 4 μm or more and 16 μm or less, preferably 6 μm or more and 14 μm or less, and particularly preferably 8 μm or more and 12 μm or less.
また本発明において好ましく用いられるレーザイメージャーの別の例として図2に示すレーザイメージャーがあげられる。図2に示すように、熱現像装置40は、PET等からなるシート状の支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたEC面と、EC面と反対面の支持基体側のBC面とを有するフィルムFを副走査搬送しながら光走査露光部55からのレーザ光LでEC面に潜像を形成し、次に、フィルムFをBC面側から加熱して現像し潜像を可視化し、曲率のある搬送経路を通して装置上方に搬送し排出するものである。
Another example of the laser imager preferably used in the present invention is the laser imager shown in FIG. As shown in FIG. 2, the thermal development apparatus 40 includes an EC surface in which a photothermographic material is applied on one side of a sheet-like support base made of PET or the like, and a BC side on the side of the support base opposite to the EC side. A latent image is formed on the EC surface with the laser beam L from the optical
図2の熱現像装置40は、装置筐体40aの底部近傍に設けられ未使用の多数枚のフィルムFを収納するフィルム収納部45と、フィルム収納部45の最上のフィルムFをピックアップして搬送するピックアップローラ46と、ピックアップローラ46からのフィルムFを搬送する搬送ローラ対47と、搬送ローラ対47からのフィルムFをガイドし搬送方向をほぼ反転させて搬送するように曲面状に構成された曲面ガイド48と、曲面ガイド48からのフィルムFを副走査搬送するための搬送ローラ対49a,49bと、搬送ローラ対49aと49bとの間でフィルムFに画像データに基づいてレーザ光Lを光走査して露光することによりEC面に潜像を形成する光走査露光部55と、を備える。
The heat development apparatus 40 in FIG. 2 picks up and conveys a
熱現像装置40は、更に、潜像の形成されたフィルムFをBC面側から加熱し所定の熱現像温度まで昇温させる昇温部50と、昇温されたフィルムFを加熱して所定の熱現像温度に保温する保温部53と、加熱されたフィルムFをBC面側から冷却する冷却部54と、冷却部54の出口側に配置されてフィルムFの濃度を測定する濃度計56と、濃度計56からのフィルムFを排出する搬送ローラ対57と、搬送ローラ対57で排出されたフィルムFが載置されるように装置筐体40aの上面に傾斜して設けられたフィルム載置部58と、を備える。
The thermal developing device 40 further heats the film F on which the latent image is formed from the BC surface side to raise the temperature to a predetermined heat development temperature, and heats the heated film F to a predetermined temperature. A
図2のように、熱現像装置40では、装置筐体40aの底部から上方に向けて、フィルム収納部45、基板部59、搬送ローラ対49a,49b・昇温部50・保温部53(上流側)の順に配置されており、フィルム収納部45が最下方にあり、また昇温部50・保温部53との間に基板部59があるので、熱影響を受け難くなっている。
As shown in FIG. 2, in the thermal development device 40, the
また、副走査搬送の搬送ローラ対49a,49bから昇温部50までの搬送路は比較的短く構成されているので、光走査露光部55によりフィルムFに対し露光が行われながらフィルムFの先端側では昇温部50、保温部53で熱現像加熱が行われる。
Further, since the conveyance path from the pair of
昇温部50と保温部53とで加熱部を構成し、フィルムFを熱現像温度まで加熱し熱現像温度に保持する。昇温部50は、フィルムFを上流側で加熱する第1の加熱ゾーン51と、下流側で加熱する第2の加熱ゾーン52と、を有する。
The
第1の加熱ゾーン51は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された平面状の加熱ガイド51bと、加熱ガイド51bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ51cと、加熱ガイド51bの固定ガイド面51dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置されかつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等からなる複数の対向ローラ51aと、を有する。
The first heating zone 51 includes a
第2の加熱ゾーン52は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された平面状の加熱ガイド52bと、加熱ガイド52bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ52cと、加熱ガイド52bの固定ガイド面52dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置されかつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等からなる複数の対向ローラ52aと、を有する。
The second heating zone 52 includes a
保温部53は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された加熱ガイド53bと、加熱ガイド53bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ53cと、加熱ガイド53bの表面に構成された固定ガイド面53dに対し所定の隙間(スリット)dを有するように対向して配置された断熱材等からなるガイド部53aと、を有する。保温部53は、昇温部50側が第2の加熱ゾーン52と連続して平面的に構成され、途中から装置上方に向けて所定の曲率で曲面状に構成されている。
The
昇温部50の第1の加熱ゾーン51では、昇温部50の上流側から搬送ローラ対49a,49bにより搬送されてきたフィルムFが回転駆動された各対向ローラ51aにより固定ガイド面51dに押圧されることでBC面が固定ガイド面51dに密に接触して加熱されながら搬送されるようになっている。
In the first heating zone 51 of the
第2の加熱ゾーン52でも同様に、第1の加熱ゾーン51から搬送されてきたフィルムFが回転駆動された各対向ローラ52aにより固定ガイド面52dに押圧されることでBC面が固定ガイド面51dに密に接触して加熱されながら搬送されるようになっている。 Similarly, in the second heating zone 52, the BC surface is fixed to the fixed guide surface 51d by pressing the film F conveyed from the first heating zone 51 against the fixed guide surface 52d by each counter roller 52a that is rotationally driven. It is conveyed while being in close contact with and heated.
なお、昇温部50の第2の加熱ゾーン52と保温部53との間に上方にV字状に開口した凹部を設けるように構成してもよく、昇温部50からの異物が凹部内に落下することにより、昇温部50からの異物が保温部53に持ち込まれることを防止できる。
Note that a concave portion opened in a V shape may be provided between the second heating zone 52 and the
保温部53では、第2の加熱ゾーン52から搬送されてきたフィルムFが加熱ガイド53bの固定ガイド面53dとガイド部53aとの間の隙間dにおいて加熱ガイド53bからの熱で加熱(保温)されながら、第2の加熱ゾーン52側の対向ローラ52aの搬送力により隙間dを通過する。このとき、フィルムFは、隙間dにおいて水平方向から垂直方向に向きを次第に変えながら搬送され、冷却部54に向かう。
In the
冷却部54では、保温部53からほぼ垂直方向に搬送されてきたフィルムFを金属材料等からなる冷却プレート54bの冷却ガイド面54cに対向ローラ54aにより接触させて冷却しながら、垂直方向から次第に斜め方向にフィルムFの向きをフィルム載置部58に変えて搬送するようになっている。なお、冷却プレート54bをフィン付きのヒートシンク構造とすることで冷却効果を増すことができる。冷却プレート54bの一部をフィン付きのヒートシンク構造にしてもよい。
In the
冷却部54から出た冷却されたフィルムFは濃度計56で濃度測定され、搬送ローラ対57により搬送されてフィルム載置部58へと排出される。フィルム載置部58は複数枚のフィルムFを一時的に載置しておくことができる。
The cooled film F coming out of the cooling
上述のように、図2の熱現像装置40では、フィルムFは、昇温部50及び保温部53においてBC面が加熱状態の固定ガイド面51d、52d、53dに向いており、熱現像感光材料の塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。また、冷却部54では、フィルムFは、BC面が冷却ガイド面54cに接触し冷却され、熱現像材料が塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。
As described above, in the heat development apparatus 40 of FIG. 2, the film F has the BC surface facing the fixed
また、フィルムFは、昇温部50及び保温部53の通過時間が10秒以下となるよう対向ローラ51a、52aにより搬送される。従って、昇温部及び保温部での加熱時間も10秒以下ということになる。
Moreover, the film F is conveyed by the opposing rollers 51a and 52a so that the passage time of the
以上のように、図2の熱現像装置40によれば、均一熱伝達が必要な昇温部50において、加熱ガイド51b、52bと、フィルムFを加熱ガイド51b、52bに押圧する複数の対向ローラ51a,52aとによりフィルムFを固定ガイド面51d、52dに密着させることで接触伝熱を確保しながらフィルムFを搬送するので、フィルム全面が均一に加熱され、均一に温度上昇するので、仕上がりフィルムは濃度むらの発生を抑えた高品質の画像となる。
As described above, according to the heat development apparatus 40 of FIG. 2, in the
また、熱現像温度への昇温後は、保温部53で加熱ガイド53bの固定ガイド面53dとガイド部53aとの間の隙間dにフィルムを搬送し、特に固定ガイド面53dに密着させずに隙間dにおいて加熱(固定ガイド面53dに直接接触し伝熱加熱する、及び/又は、周囲の高温空気との接触による伝熱)しても、フィルム温度は現像温度(例えば123℃)に対し所定の範囲内(例えば0.5℃)に収まる。このように、フィルムが隙間dにおいて加熱ガイド53bの壁面または曲面ガイド53aの壁面のどちらに沿って搬送されても、フィルム温度差は0.5℃未満であり、均一な保温状態が維持できるので、仕上がりフィルムにおける濃度むら発生の虞はほとんど生じない。このため、保温部53にローラ等の駆動部品を設ける必要がないので、点数削減を達成できる。
Further, after the temperature is raised to the heat development temperature, the film is transported to the gap d between the fixed
更に、フィルムFの加熱時間が10秒以下で済むので、迅速な熱現像プロセスを実現でき、また、昇温部50から水平方向に延びた保温部53が途中から曲面状になって垂直方向に向くよう構成され、フィルムFは冷却部54でフィルムFの向きをほぼ反転させてフィルム載置部58へと排出されるので、装置レイアウトに応じて冷却部54を所定の曲率とすることで、設置面積の小型化・装置全体の小型化に対応可能となる。
Furthermore, since the heating time of the film F can be 10 seconds or less, a rapid heat development process can be realized, and the
従来の大型機ではフィルムを現像温度に昇温以降の保温機能で充分な部分にも、昇温部と同一な加熱搬送機構としていたため、結果的に不必要な部材を使用してしまっており、部品点数の増加やコストアップを招いており、また、従来の小型機では昇温時の熱伝達を保障し難いため濃度むら発生の問題があり高画質の保障が困難であったのに対し、第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様に、熱現像プロセスを昇温部50と保温部53とで別々に実行することで、かかる問題をいずれも解消することができる。
In conventional large machines, the film was heated to the developing temperature and the heat-retaining function after the temperature was raised had the same heating and transport mechanism as the temperature-raising part. As a result, unnecessary parts were used. However, the increase in the number of parts and the cost increase, and in the conventional small machine, it is difficult to guarantee heat transfer at the time of temperature rise, so there is a problem of uneven density, and it is difficult to guarantee high image quality. According to the second embodiment, as in the first embodiment, the thermal development process is performed separately in the
また、フィルムFを昇温部50及び保温部53で熱現像感光材料の塗布されたEC面が開放された状態でBC面側から加熱することで、10秒以下の迅速処理で熱現像プロセスを実行する際に、EC面側の開放により、加熱され揮発(蒸発)しようとするフィルムFに含まれる溶媒(水分、有機溶剤等)が最短距離で離散するので、加熱時間(揮発時間)が短くなっても時間短縮の影響を受け難くなるとともに、部分的にフィルムFと固定ガイド面51d、52dとの接触性が悪い部分があっても、BC面のPETベースによる熱拡散効果により、接触性の良い部分との温度差が緩和され、結果として濃度差が起こりにくいので、濃度を安定化でき、画質が安定する。なお、一般的に加熱効率を考慮すると、EC面側加熱の方が良いと考えられていたが、フィルムFの支持基体のPETの熱伝導率0.17W/m℃、PETベースの厚さ170μm前後であることを考慮すると、時間遅れはわずかであり、ヒータ容量アップ等で容易に相殺可能であり、上記の接触むらを緩和する効果の方が期待できる方が好ましい。
In addition, the film F is heated from the BC side with the
更に、保温部53を出て、冷却部54に至る間にもフィルムF中の溶媒(水分、有機溶剤等)は高温であるため揮発(蒸発)しようとしているが、冷却部54でもフィルムFのEC面が開放状態であるので、溶媒(水分、有機溶剤等)がトラップされず、より長い時間、揮発させることになるのでより、画質が安定する。このように、迅速処理時には冷却時間も無視できず、加熱時間10秒以下の迅速処理には特に有効となる。
Further, the solvent (water, organic solvent, etc.) in the film F is going to volatilize (evaporate) while leaving the
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。尚、特に断りない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, the embodiment of this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “mass%”.
実施例1
《下引加工した写真用支持体の作製》
光学濃度0.150(コニカ(株)製デンシトメータPDA−65で測定)に下記青色染料で着色した2軸延伸熱固定した厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に、8W・分/m2のコロナ放電処理を施した写真用支持体に、下引加工を行った。即ち、この写真用支持体の一方の面に下引塗布液a−1を乾燥膜厚が0.2μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥して感光性層(画像形成層)側下引層を形成した(下引下層A−1という)。また、反対側の面にバッキング層下引層として下記下引塗布液b−1を乾燥膜厚が0.12μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させてバッキング層側に帯電防止機能を持つ下引導電層(下引下層B−1という)を塗設した。下引下層A−1と下引下層B−1の上表面に、8W・分/m2のコロナ放電を施し、下引下層A−1の上には下記下引塗布液a−2を乾燥膜厚0.03μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層A−2とし、下引下層B−1の上には下記下引塗布液b−2を乾燥膜厚0.2μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層B−2とし、更に123℃で2分間支持体を熱処理し25℃、50%RHの条件下で巻き取り、下引済み試料を作製した。
Example 1
<< Preparation of undercoated photographic support >>
Corona of 8 W · min / m 2 on both sides of a 175 μm thick polyethylene terephthalate film with an optical density of 0.150 (measured with a Densitometer PDA-65 manufactured by Konica Corporation) colored with the following blue dye and heat-fixed biaxially. The photographic support subjected to the discharge treatment was subjected to subbing. That is, the undercoat coating solution a-1 was applied to one surface of this photographic support so that the dry film thickness was 0.2 μm at 22 ° C. and 100 m / min, and dried at 140 ° C. for photosensitivity. A layer (image forming layer) side undercoat layer was formed (referred to as an undercoat underlayer A-1). Moreover, the following undercoat coating liquid b-1 was applied to the opposite surface as a backing layer undercoat layer at 22 ° C. and 100 m / min so that the dry film thickness was 0.12 μm, and dried at 140 ° C. An undercoat conductive layer having an antistatic function (referred to as undercoat underlayer B-1) was applied on the backing layer side. A corona discharge of 8 W · min / m 2 is applied to the upper surfaces of the subbing lower layer A-1 and the subbing lower layer B-1, and the following subbing coating solution a-2 is dried on the lower subbing layer A-1. The film was coated at 33 ° C. and 100 m / min so as to have a film thickness of 0.03 μm, and dried at 140 ° C. to form an undercoat upper layer A-2. -2 was coated at 33 ° C. and 100 m / min to a dry film thickness of 0.2 μm, dried at 140 ° C. to form an undercoating upper layer B-2, and the support was further heat treated at 123 ° C. for 2 minutes. The sample was wound up under the conditions of 50 ° C. and 50% RH to prepare a subtracted sample.
[水性ポリエステルA−1溶液の調製]
テレフタル酸ジメチル35.4質量部、イソフタル酸ジメチル33.63質量部、5−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩17.92質量部、エチレングリコール62質量部、酢酸カルシウム・一水塩0.065質量部、酢酸マンガン四水塩0.022質量部を、窒素気流下において、170〜220℃でメタノールを留去しながらエステル交換反応を行った後、リン酸トリメチル0.04質量部、重縮合触媒とし三酸化アンチモン0.04質量部及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸6.8質量部を加え、220〜235℃の反応温度で、ほぼ理論量の水を留去しエステル化を行った。
[Preparation of aqueous polyester A-1 solution]
35.4 parts by weight of dimethyl terephthalate, 33.63 parts by weight of dimethyl isophthalate, 17.92 parts by weight of dimethyl sodium 5-sulfoisophthalate, 62 parts by weight of ethylene glycol, 0.065 parts by weight of calcium acetate / monohydrate, After transesterification of 0.022 parts by mass of manganese acetate tetrahydrate under a nitrogen stream while distilling off methanol at 170 to 220 ° C., 0.04 parts by mass of trimethyl phosphate and a polycondensation catalyst were used. 0.04 parts by mass of antimony oxide and 6.8 parts by mass of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid were added, and at a reaction temperature of 220 to 235 ° C., a theoretical amount of water was distilled off for esterification.
その後、更に反応系内を約1時間かけて減圧、昇温し最終的に280℃、133Pa以下で約1時間重縮合を行い、水性ポリエステルA−1を合成した。得られた水性ポリエステルA−1の固有粘度は0.33、平均粒径は40nm、Mw=80000〜100000であった。 Thereafter, the inside of the reaction system was further depressurized and heated over about 1 hour, and finally subjected to polycondensation at 280 ° C. and 133 Pa or less for about 1 hour to synthesize aqueous polyester A-1. The obtained aqueous polyester A-1 had an intrinsic viscosity of 0.33, an average particle size of 40 nm, and Mw = 80000 to 100,000.
次いで、撹拌翼、環流冷却管、温度計を付した2Lの3つ口フラスコに、純水850mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、水性ポリエステルA−1を150g徐々に添加した。室温でこのまま30分間撹拌した後、1.5時間かけて内温が98℃になるように加熱し、この温度で3時間加熱溶解した。加熱終了後、1時間かけて室温まで冷却し、一夜放置して、15質量%の水性ポリエステルA−1溶液を調製した。 Next, 850 ml of pure water was placed in a 2 L three-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, and 150 g of aqueous polyester A-1 was gradually added while rotating the stirring blade. After stirring for 30 minutes at room temperature, the mixture was heated to an internal temperature of 98 ° C. over 1.5 hours and dissolved at this temperature for 3 hours. After completion of the heating, the mixture was cooled to room temperature over 1 hour and allowed to stand overnight to prepare a 15% by mass aqueous polyester A-1 solution.
[変性水性ポリエステルB−1〜2溶液の調製]
撹拌翼、環流冷却管、温度計、滴下ロートを付した3Lの4つ口フラスコに、前記15質量%の水性ポリエステルA−1溶液1900mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、内温度を80℃まで加熱する。この中に、過酸化アンモニウムの24質量%水溶液を6.52ml加え、モノマー混合液(メタクリル酸グリシジル28.5g、アクリル酸エチル21.4g、メタクリル酸メチル21.4g)を30分間かけて滴下し、更に3時間反応を続ける。その後、30℃以下まで冷却、濾過して、固形分濃度が18質量%の変性水性ポリエステルB−1溶液(ビニル系成分変性比率20質量%)を調製した。
[Preparation of Modified Aqueous Polyester B-1-2 Solution]
Into a 3 L four-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, a thermometer and a dropping funnel, 1900 ml of the 15% by mass aqueous polyester A-1 solution was placed, and the internal temperature was adjusted to 80 ° C. while rotating the stirring blade. Until heated. Into this, 6.52 ml of a 24 mass% aqueous solution of ammonium peroxide was added, and a monomer mixture (28.5 g of glycidyl methacrylate, 21.4 g of ethyl acrylate, 21.4 g of methyl methacrylate) was dropped over 30 minutes. The reaction is continued for another 3 hours. Then, it cooled and filtered to 30 degrees C or less, and prepared the modified aqueous polyester B-1 solution (vinyl-type component modification | denaturation ratio 20 mass%) whose solid content concentration is 18 mass%.
ビニル変性比率を36質量%にし、変性成分をスチレン:グリシジルメタクリレート:アセトアセトキシエチルメタクリレート:n−ブチルアクリレート=39.5:40:20:0.5にした以外は同様にして、固形分濃度が18質量%の変性水性ポリエステルB−2溶液(ビニル系成分変性比率20質量%)を調製した。 The solid content concentration was the same except that the vinyl modification ratio was 36% by mass and the modified components were styrene: glycidyl methacrylate: acetoacetoxyethyl methacrylate: n-butyl acrylate = 39.5: 40: 20: 0.5. An 18% by mass modified aqueous polyester B-2 solution (vinyl component modification ratio 20% by mass) was prepared.
[アクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3の作製]
乳化重合により、表1に示すモノマー組成を有するアクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3を合成した。固形分濃度は全て30質量%とした。
[Production of Acrylic Polymer Latex C-1 to C-3]
Acrylic polymer latexes C-1 to C-3 having the monomer composition shown in Table 1 were synthesized by emulsion polymerization. The solid content concentration was 30% by mass.
[感光性層側下引下層用塗布液a−1]
アクリル系ポリマーラテックスC−3(固形分30%) 70.0g
エトキシ化アルコールとエチレンホモポリマーの水分散物(固形分10%)
5.0g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Coating liquid a-1 for photosensitive layer side undercoat layer]
Acrylic polymer latex C-3 (solid content 30%) 70.0 g
Water dispersion of ethoxylated alcohol and ethylene homopolymer (10% solids)
5.0g
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
《感光性層側下引上層用塗布液a−2》
変性水性ポリエステルB−2(18質量%) 30.0g
界面活性剤(A) 0.1g
真球状シリカマット剤(日本触媒(株)製 シーホスターKE−P50)
0.04g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
<< Coating liquid a-2 for photosensitive layer side undercoat upper layer >>
Modified aqueous polyester B-2 (18% by mass) 30.0 g
Surfactant (A) 0.1g
Spherical silica matting agent (Nippon Shokubai Co., Ltd. Sea Hoster KE-P50)
0.04g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
[バッキング層側下引下層用塗布液b−1]
アクリル系ポリマーラテックスC−1(固形分30%) 30.0g
アクリル系ポリマーラテックスC−2(固形分30%) 7.6g
SnO2ゾル 180g
(特公昭35−6616号公報の実施例1に記載の方法で合成したSnO2ゾルを固形分濃度が10質量%になるように加熱濃縮した後、アンモニア水でpH=10に調整したもの)
界面活性剤(A) 0.5g
PVA−613(クラレ(株)製 PVA)5質量%水溶液 0.4g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Backing layer side undercoat coating solution b-1]
Acrylic polymer latex C-1 (solid content 30%) 30.0 g
Acrylic polymer latex C-2 (solid content 30%) 7.6 g
SnO 2 sol 180g
(SnO 2 sol synthesized by the method described in Example 1 of Japanese Patent Publication No. 35-6616 was heated and concentrated so that the solid content concentration was 10% by mass, and then adjusted to pH = 10 with ammonia water)
Surfactant (A) 0.5g
PVA-613 (PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 5% by weight aqueous solution 0.4 g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
[バッキング層側下引上層用塗布液b−2]
変性水性ポリエステルB−1(18質量%) 145.0g
真球状シリカマット剤(日本触媒(株)製 シーホスターKE−P50) 0.2g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Backing layer side undercoat upper layer coating solution b-2]
Modified aqueous polyester B-1 (18% by mass) 145.0 g
True spherical silica matting agent (Nippon Shokubai Co., Ltd. Sea Hoster KE-P50) 0.2g
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
なお、前記下引層を施した支持体の下引層B−2上には下記の組成のバックコート層、バックコート層保護層を塗設した。 A backcoat layer and a backcoat layer protective layer having the following composition were coated on the undercoat layer B-2 of the support on which the undercoat layer had been applied.
〈バックコート層塗布液の調製〉
メチルエチルケトン(MEK)830gを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート(Eastman Chemical社製:CAP482−20)84.2g及びポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)4.5gを添加し溶解した。次に、溶解した液に0.30gの下記赤外染料1を添加し、更にメタノール43.2gに溶解したフッ素系界面活性剤(旭硝子社製:サーフロンKH40)4.5gとフッ素系界面活性剤(大日本インキ社製:メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの2.5gを添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
<Preparation of backcoat layer coating solution>
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate propionate (manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20) and 4.5 g of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B) were added and dissolved. Next, 0.30 g of the following
〈バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製〉
バックコート層保護層についても下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。シリカについてはMEKに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加した。
<Preparation of backcoat layer protective layer (surface protective layer) coating solution>
The backcoat layer protective layer was also prepared in the same manner as the backcoat layer coating solution at the following composition ratio. Silica was dispersed in MEK at a concentration of 1% with a dissolver type homogenizer, and finally added.
セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液) 15g
(Eastman Chemical社製:CAP482−20
単分散度15%の単分散シリカ(平均粒径:10μm) 0.03g
(シリカ全質量の1%のアルミニウムで表面処理)
C8F17(CH2CH2O)12C8F17 0.075g
フッ素系界面活性剤(SF−17) 0.01g
フッ素系ポリマー(FM−1) 0.05g
ステアリン酸 0.1g
ステアリン酸ブチル 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
Cellulose acetate propionate (10% MEK solution) 15g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20
Monodispersed silica having a monodispersity of 15% (average particle size: 10 μm) 0.03 g
(Surface treatment with 1% aluminum of the total mass of silica)
C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.075 g
Fluorine-based surfactant (SF-17) 0.01g
Fluoropolymer (FM-1) 0.05g
Stearic acid 0.1g
0.1 g butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製〉
(A1)
フェニルカルバモイル化ゼラチン 88.3g
化合物(AO−1)の10%メタノール水溶液 10ml
臭化カリウム 0.32g
水で5429mlに仕上げる。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A1>
(A1)
Phenylcarbamoylated gelatin 88.3g
10% aqueous methanol solution of compound (AO-1) 10 ml
Potassium bromide 0.32g
Finish to 5429 ml with water.
(B1)
0.67モル/L硝酸銀水溶液 2635ml
(C1)
臭化カリウム 50.69g
沃化カリウム 2.66g
水で660mlに仕上げる。
(B1)
0.67 mol / L silver nitrate aqueous solution 2635 ml
(C1)
Potassium bromide 50.69g
Potassium iodide 2.66g
Finish to 660 ml with water.
(D1)
臭化カリウム 151.6g
沃化カリウム 7.67g
ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム:K2(IrCl6)(1%水溶液)
0.93ml
ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム 0.004g
ヘキサクロロオスミウム(IV)酸カリウム 0.004g
水で1982mlに仕上げる。
(D1)
Potassium bromide 151.6g
Potassium iodide 7.67g
Hexachloroiridium (IV) acid potassium: K 2 (IrCl 6 ) (1% aqueous solution)
0.93ml
Potassium hexacyanoferrate (II) 0.004g
Hexachloroosmium (IV) potassium salt 0.004g
Finish to 1982 ml with water.
(E1)
0.4モル/L臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
(F1)
水酸化カリウム 0.71g
水で20mlに仕上げる。
(E1)
0.4 mol / L potassium bromide aqueous solution The following silver potential control amount (F1)
Potassium hydroxide 0.71g
Finish to 20 ml with water.
(G1)
56%酢酸水溶液 18.0ml
(H1)
無水炭酸ナトリウム 1.72g
水で151mlに仕上げる。
(G1)
56% acetic acid aqueous solution 18.0 ml
(H1)
Anhydrous sodium carbonate 1.72 g
Finish to 151 ml with water.
AO−1:HO(CH2CH2O)n〔CH(CH3)CH2O〕17(CH2CH2O)mH(m+n=5〜7)。 AO-1: HO (CH 2 CH 2 O) n [CH (CH 3) CH 2 O] 17 (CH 2 CH 2 O) m H (m + n = 5~7).
特公昭58−58288号に示される混合撹拌機を用いて溶液(A1)に溶液(B1)の1/4量及び溶液(C1)全量を20℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要して添加し核形成を行った。1分後に溶液(F1)の全量を添加した。この間、pAgの調整を(E1)を用いて適宜行った。6分間経過後、溶液(B1)の3/4量及び溶液(D1)の全量を、20℃、pAg8.09に制御しながら、14分15秒かけて同時混合法により添加した。5分間撹拌した後、40℃に降温し、溶液(G1)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水を10L加え、撹拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除き、更に水を10L加え、撹拌後、ハロゲン化銀粒子乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H1)を加え、60℃に昇温し、更に120分撹拌した。最後にpHが5.8になるように調整し、銀量1モル当たり1161gになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Aを得た。 Using the mixing stirrer shown in Japanese Patent Publication No. 58-58288, while controlling 1/4 of the solution (B1) in the solution (A1) and the total amount of the solution (C1) to 20 ° C. and pAg 8.09, the simultaneous mixing method Was added for 4 minutes and 45 seconds to nucleate. After 1 minute, the entire amount of solution (F1) was added. During this time, pAg was adjusted as appropriate using (E1). After 6 minutes, 3/4 amount of the solution (B1) and the total amount of the solution (D1) were added by a simultaneous mixing method over 14 minutes and 15 seconds while controlling at 20 ° C. and pAg 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 40 ° C., the whole amount of the solution (G1) was added, and the silver halide emulsion was allowed to settle. The supernatant was removed leaving 2000 ml of the sedimented portion, 10 L of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented again. The remaining portion of 1500 ml was left, the supernatant was removed, 10 L of water was further added, and after stirring, the silver halide grain emulsion was allowed to settle. After leaving 1500 ml of the sedimented portion and removing the supernatant, the solution (H1) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 120 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.8, and water was added so that the amount was 1161 g per mole of silver to obtain photosensitive silver halide grain emulsion A.
この乳剤は、平均粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。 This emulsion was monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%).
〔感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A2の調製〕
上記感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラアザインデンの5%水溶液を40ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤A2を調製した。
[Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A2]
In the preparation of the above light-sensitive silver halide emulsion A1, after adding the entire amount of the solution F1 after nucleation, 40 ml of a 5% aqueous solution of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetraazaindene was added. A photosensitive silver halide emulsion A2 was prepared in the same manner as described above.
なお、この乳剤中の粒子は平均粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。 The grains in this emulsion were monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content was 3.5 mol). %).
〔感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A3の調製〕
上記感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、下記の化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A3を調製した。
[Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A3]
In the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A1, the photosensitive halogenation was similarly carried out except that 4 ml of a 0.1% ethanol solution of the following compound (TPPS) was added after the whole amount of the solution F1 was added after nucleation. Silver grain emulsion A3 was prepared.
なお、この乳剤中の粒子は平均粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。 The grains in this emulsion were monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content was 3.5 mol). %).
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B1の調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製と同様に行った。この乳剤中の粒子は平均粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion B1>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide grain emulsion A1, except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. The grains in this emulsion were monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%). .
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B2の調製〉
上記感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B1の調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、前記の化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B2を調製した。この乳剤中の粒子は平均粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion B2>
In the preparation of the photosensitive silver halide grain emulsion B1, the photosensitive halogen halide was similarly treated except that 4 ml of a 0.1% ethanol solution of the above compound (TPPS) was added after adding the whole amount of the solution F1 after nucleation. A silver halide grain emulsion B2 was prepared. The grains in this emulsion were monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%). .
〈粉末有機銀塩Aの調製〉
4720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5モル/Lの水酸化カリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸カリウム溶液を得た。上記の脂肪酸カリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤(種類と添加量は表2に記載)と純水450mlを添加し5分間撹拌した。次に1モル/Lの硝酸銀溶液468.4mlを2分間かけて添加し、10分間撹拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて撹拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(セイシン企業社製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機熱風温度の運転条件(入口65℃、出口40℃)により含水率が0.1%になるまで乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩Aを得た。尚、有機銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。
<Preparation of powdered organic silver salt A>
130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid were dissolved in 4720 ml of pure water at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / L potassium hydroxide aqueous solution was added and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, followed by cooling to 55 ° C. to obtain a fatty acid potassium solution. While maintaining the temperature of the fatty acid potassium solution at 55 ° C., a photosensitive silver halide grain emulsion (type and amount added are listed in Table 2) and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes. Next, 468.4 ml of 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water-washing container, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the organic silver salt dispersion, thereby removing the lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Then, the obtained cake-like organic silver salt was converted into an air-flow dryer Flashjet dryer (Seishin). A powder organic silver salt A that has been dried and dried to a moisture content of 0.1% under the operating conditions (inlet 65 ° C., outlet 40 ° C.) of nitrogen gas atmosphere and dryer hot air temperature Got. In addition, the infrared moisture meter was used for the moisture content measurement of an organic silver salt composition.
〈予備分散液Aの調製〉
感光性層(画像形成層)のバインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃、−SO3K基を0.2ミリモル/g含む)14.57gをMEK1457gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバDISPERMAT CA−40M型にて撹拌しながら、上記粉末有機銀塩A500gを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Aを調製した。
<Preparation of preliminary dispersion A>
As a binder for the photosensitive layer (image forming layer), 14.57 g of SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 75 ° C., containing 0.2 mmol / g of —SO 3 K group) was dissolved in 1457 g of MEK, and VMA-GETZMANN Preliminary dispersion A was prepared by gradually adding and thoroughly mixing the above-mentioned powdered organic silver salt A500 g while stirring with a dissolver DISPERMAT CA-40M type.
〈感光性乳剤分散液Aの調製〉
予備分散液Aをポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ社製:トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液Aを調製した。(なお分散時間については非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当径が表2に示す値になるように各試料について適宜変更した)
〈安定剤液の調製〉
1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し安定剤液を調製した。
<Preparation of photosensitive emulsion dispersion A>
Media type disperser DISPERMAT filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm zirconia beads (Toray Industries, Inc .: Treceram) so that the residence time in the mill is 1.5 minutes using a pump. A photosensitive emulsion dispersion A was prepared by supplying to SL-C12EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 8 m / s. (The dispersion time was appropriately changed for each sample so that the average sphere equivalent diameter of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt was the value shown in Table 2)
<Preparation of stabilizer solution>
A stabilizer solution was prepared by dissolving 1.0 g of
〈赤外増感色素液Aの調製〉
9.6mgの赤外増感色素1、9.6mgの赤外増感色素2、1.488gの2−クロロ安息香酸、2.779gの安定剤2及び365mgの5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを31.3mlのMEKに暗所にて溶解し赤外増感色素液Aを調製した。
<Preparation of infrared sensitizing dye liquid A>
9.6 mg of
〈添加液aの調製〉
還元剤(表2に記載の化合物と量)、0.159gの一般式(YB)の化合物YA−1、0.159gのシアン発色性ロイコ染料CLB−1、1.54gの4−メチルフタル酸、0.48gの前記赤外染料1をMEK110.0gに溶解し、添加液aとした。
<Preparation of additive solution a>
Reducing agent (compounds and amounts listed in Table 2), 0.159 g of compound YA-1 of general formula (YB), 0.159 g of cyan chromogenic leuco dye CLB-1, 1.54 g of 4-methylphthalic acid, 0.48 g of the
〈添加液bの調製〉
1.56gのカブリ防止剤2、0.5gのカブリ防止剤3、0.5gのカブリ防止剤4、0.5gのカブリ防止剤5、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに溶解し添加液bとした。
<Preparation of additive liquid b>
1.56
〈添加液cの調製〉
省銀化剤(SE1−1)0.05g、をMEK39.95gに溶解し添加液cとした。
<Preparation of additive liquid c>
The silver saving agent (SE1-1) 0.05g was melt | dissolved in MEK39.95g, and it was set as the addition liquid c.
〈添加液dの調製〉
0.1gの強色増感剤1をMEK9.9gに溶解し、添加液dとした。
<Preparation of additive liquid d>
0.1 g of
〈添加液eの調製〉
0.5gのp−トルエンチオスルホン酸カリウム、0.5gのカブリ防止剤6をMEK9.0gに溶解し、添加液eとした。
<Preparation of additive liquid e>
0.5 g of potassium p-toluenethiosulfonate and 0.5 g of
〈添加液fの調製〉
1.0gのビニルスルホン〔(CH2=CH−SO2CH2)2CHOH〕を含有するカブリ防止剤をMEK9.0gに溶解し、添加液fとした。
<Preparation of additive liquid f>
An antifoggant containing 1.0 g of vinyl sulfone [(CH 2 ═CH—SO 2 CH 2 ) 2 CHOH] was dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution f.
〈感光性層塗布液の調製〉
不活性気体雰囲気下(窒素97%)において、前記感光性乳剤分散液(表2に記載)の50g及びMEK15.11gを撹拌しながら21℃に保温し、化学増感剤S−5(0.5%メタノール溶液)1000μlを加え、2分後にカブリ防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加えて1時間撹拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)494μlを添加して10分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の1/20モル相当の金増感剤Au−5を添加し、更に20分撹拌した。続いて、安定剤液167μlを添加して10分間撹拌した後、1.32gの前記赤外増感色素液Aを添加して1時間撹拌した。その後、温度を13℃まで降温して更に30分撹拌した。13℃に保温したまま、0.5gの添加液d、0.5gの添加液e、0.5gの添加液f、予備分散液Aで使用したバインダー13.31gを添加して30分撹拌した後、テトラクロロフタル酸(9.4%MEK溶液)1.084gを添加して15分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、12.43gの添加液a、1.6mlのDesmodurN3300/モーベイ社製の脂肪族イソシアネート(10%MEK溶液)、4.27gの添加液b、4.0gの添加液cを順次添加し撹拌することにより感光性層塗布液を得た。
<Preparation of photosensitive layer coating solution>
In an inert gas atmosphere (nitrogen 97%), 50 g of the photosensitive emulsion dispersion (described in Table 2) and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. with stirring, and the chemical sensitizer S-5 (0. 5% methanol solution) 1000 μl was added, and after 2 minutes, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added and stirred for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 10 minutes, then gold sensitizer Au-5 corresponding to 1/20 mole of the above organic chemical sensitizer was added, and further stirred for 20 minutes. . Subsequently, 167 μl of a stabilizer solution was added and stirred for 10 minutes, and then 1.32 g of the infrared sensitizing dye solution A was added and stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While maintaining the temperature at 13 ° C., 0.5 g of additive d, 0.5 g of additive e, 0.5 g of additive f, and 13.31 g of binder used in the preliminary dispersion A were added and stirred for 30 minutes. Thereafter, 1.084 g of tetrachlorophthalic acid (9.4% MEK solution) was added and stirred for 15 minutes. While continuing to stir, 12.43 g of additive liquid a, 1.6 ml of Desmodur N3300 / Mobey aliphatic isocyanate (10% MEK solution), 4.27 g of additive liquid b, 4.0 g of additive liquid c By sequentially adding and stirring, a photosensitive layer coating solution was obtained.
安定剤液を初めとする各塗布液、感光性層塗布液の調製に用いた添加剤の化学構造を以下に示す。 The chemical structures of the additives used for the preparation of each coating solution including the stabilizer solution and the photosensitive layer coating solution are shown below.
〈感光性層保護層下層(表面保護層下層)の調製〉
アセトン 5g
MEK 21g
セルロースアセテートプロピオネート 2.3g
(Eastman Chemical社製:CAP−141−20、ガラス転移温度Tg=190℃)
メタノール 7g
フタラジン 0.25g
CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g
C12F25(CH2CH2O)10C12F25 0.01g
フッ素系界面活性剤(SF−17:前出) 0.01g
ステアリン酸 0.1g
ステアリン酸ブチル 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
〈感光性層保護層上層(表面保護層上層)の調製〉
アセトン 5g
メチルエチルケトン 21g
セルロースアセテートプロピオネート 2.3g
(Eastman Chemical社製:CAP−141−20ガラス転移温度Tg=190℃)
パラロイドA−21(ロームアンドハース社製) 0.08g
ベンゾトリアゾール 0.03g
メタノール 7g
フタラジン 0.25g
単分散度15%単分散シリカ(平均粒径: 3μm) 0.140g
(シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理)
CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g
C12F25(CH2CH2O)10C12F25 0.01g
フッ素系界面活性剤(SF−17:前出) 0.005g
フッ素系ポリマー(FM−1:前出) 0.01g
ステアリン酸 0.1g
ステアリン酸ブチル 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
なお感光性層保護層上層、下層については上記の組成比率でバックコート層塗布液の調製と同様な方法によって行った。シリカについてはバックコート層保護層と同様にMEKに1質量%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加、撹拌することにより感光性層保護層上層、下層の塗布液を得た。
<Preparation of photosensitive layer protective layer lower layer (surface protective layer lower layer)>
Acetone 5g
MEK 21g
Cellulose acetate propionate 2.3g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP-141-20, glass transition temperature Tg = 190 ° C.)
7g of methanol
Phthalazine 0.25g
CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2
C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 0.01 g
Fluorine-based surfactant (SF-17: supra) 0.01g
Stearic acid 0.1g
0.1 g butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
<Preparation of photosensitive layer protective layer upper layer (surface protective layer upper layer)>
Acetone 5g
21g of methyl ethyl ketone
Cellulose acetate propionate 2.3g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP-141-20 glass transition temperature Tg = 190 ° C.)
Paraloid A-21 (Rohm and Haas) 0.08g
Benzotriazole 0.03g
7g of methanol
Phthalazine 0.25g
Monodispersed 15% monodispersed silica (average particle size: 3 μm) 0.140 g
(Surface treatment with 1% by mass of aluminum based on the total mass of silica)
CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2
C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 0.01 g
Fluorosurfactant (SF-17: supra) 0.005g
Fluoropolymer (FM-1: supra) 0.01g
Stearic acid 0.1g
0.1 g butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
The upper layer and the lower layer of the photosensitive layer protective layer were formed by the same method as the preparation of the backcoat layer coating solution at the above composition ratio. As for the silica, similarly to the backcoat layer protective layer, MEK was dispersed with a dissolver type homogenizer at a concentration of 1% by mass, and finally added and stirred to obtain a coating solution for the upper and lower layers of the photosensitive layer protective layer. .
〈銀塩光熱写真ドライイメージング材料の作製〉
前記のように調製したバックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ3.5μmになるように、下引上層B−2上に押出しコーターにて塗布速度50m/minにて塗布を行った。尚、乾燥は乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて行った。
<Production of silver salt photothermographic dry imaging materials>
The backcoat layer coating solution and the backcoat layer protective layer coating solution prepared as described above were extruded onto the undercoating upper layer B-2 so that the dry film thickness was 3.5 μm, respectively, and the coating speed was 50 m / Application was performed in min. The drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.
前記感光性層塗布液と感光性層保護層(表面保護層)塗布液を押出し(エクストルージョン)コーターを用いて塗布速度50m/minにて、下引上層A−2上に同時重層塗布することにより表2に示す感光材料試料101〜126を作製した。塗布は、感光性層の乾燥膜厚(表2に記載)、感光性層保護層(表面保護層)は乾燥膜厚で3.0μm(表面保護層上層1.5μm、表面保護層下層1.5μm)になる様に行った後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて10分間乾燥を行った。
The photosensitive layer coating solution and the photosensitive layer protective layer (surface protective layer) coating solution are simultaneously coated on the subbing upper layer A-2 at an application speed of 50 m / min using an extrusion coater. Thus, photosensitive material samples 101 to 126 shown in Table 2 were prepared. Coating is the dry film thickness of the photosensitive layer (described in Table 2), and the photosensitive layer protective layer (surface protective layer) is 3.0 μm in dry film thickness (surface protective layer upper layer 1.5 μm, surface protective layer
得られた光熱写真感光材料(試料116)の感光性層側の膜面pHは5.3、ベック平滑度は6000秒であり、バックコート層側の膜面pHは5.5,ベック平滑度は9000秒であった。また試料101〜120について表面粗さを測定したところRz(E)/Rz(B)=0.40、Rz(E)=1.4μmであった。またRz(B)は3.5μmであった。Ra(E)は0.09μmであった。またRa(B)は0.12μmであった。試料101〜120について黄色発色性ロイコ染料による極大吸収波長420nmの吸収ピークが認められた。また試料101〜120についてシアン発色性ロイコ染料による極大吸収波長640nmの吸収ピークが認められた。 The photothermographic material (Sample 116) thus obtained has a film surface pH of 5.3 on the photosensitive layer side and a Beck smoothness of 6000 seconds, and a film surface pH on the backcoat layer side of 5.5 and Beck smoothness. Was 9000 seconds. Moreover, when the surface roughness was measured about the samples 101-120, they were Rz (E) / Rz (B) = 0.40 and Rz (E) = 1.4 μm. Rz (B) was 3.5 μm. Ra (E) was 0.09 μm. Ra (B) was 0.12 μm. Regarding samples 101 to 120, an absorption peak at a maximum absorption wavelength of 420 nm due to the yellow coloring leuco dye was observed. Moreover, the absorption peak of the maximum absorption wavelength 640nm by a cyan color-forming leuco dye was recognized about the samples 101-120.
尚、試料113については、試料102における、粉末有機銀塩Aの調製において、ベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gのかわりにベヘン酸259.9gを用いたこと以外は試料102と同様にして試料を作製した。 For sample 113, in the preparation of powdered organic silver salt A in sample 102, instead of behenic acid 130.8 g, arachidic acid 67.7 g, stearic acid 43.6 g, and palmitic acid 2.3 g, behenic acid 259. A sample was prepared in the same manner as Sample 102 except that 9 g was used.
試料114については、試料102におけるバックコート層保護層、感光性層保護層(上層及び下層)のフッ素系活性剤をSF−17からC8F17SO3Liに変更した以外は試料102と同様にして試料を作製した。 Sample 114 was the same as Sample 102 except that the fluorine-based activator of the backcoat layer protective layer and the photosensitive layer protective layer (upper layer and lower layer) in Sample 102 was changed from SF-17 to C 8 F 17 SO 3 Li. A sample was prepared.
試料115については、試料102での予備分散液Aの調製における感光性層バインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃、SO3Kを0.2ミリモル/g含む)に代えて、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg65℃、SO3Kを0.2ミリモル/g含む)を用いたこと以外は試料102と同様にして試料を作製した。 For sample 115, SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 75 ° C., containing 0.2 mmol / g of SO 3 K) was used instead of SO 3 K group-containing polyvinyl butyral as the photosensitive layer binder in the preparation of preliminary dispersion A in sample 102. A sample was prepared in the same manner as Sample 102 except that 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 65 ° C., containing SO 3 K 0.2 mmol / g) was used.
〈露光及び現像処理〉
上記のように作製した光熱写真感光材料試料101〜120を半切サイズ(34.5cm×43.0cm)に加工した後、25℃50%の環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
<Exposure and development processing>
The photothermographic material samples 101 to 120 produced as described above were processed into half-cut sizes (34.5 cm × 43.0 cm), and then packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% for 2 weeks at room temperature. Following storage, the following evaluations were made.
(包装材料)
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3%を含むポリエチレン50μm、酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day、水分透過率:0.001g/m2・40℃・90%RH・dayのバリア袋(JIS Z0208 カップ法による)。紙トレーを使用。
(Packaging material)
(試料の評価)
評価は図1に示したレーザイメージャー(設置面積0.35m2)にて露光と同時に熱現像し、得られた画像の評価を濃度計により行った。ここで、「露光と同時に熱現像する」とは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料からなる一枚のシート感光材料で、一部が露光されながら、同時に既に露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを意味する。露光部と現像部との距離は12cmであった。また熱現像部のパス長に対する冷却部のパス長の比は0.8であった。この時の感光材料供給装置部から画像露光装置部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度はそれぞれ32mm/秒で行い、熱現像処理に要した時間(感光材料がトレイ部でピックアップされてから排出されるまでにかかる時間)は45秒であった。また最下部に位置する感光材料ストックトレーの底面の位置は床面から45cmの高さであった。上記のように作製した光熱写真ドライイメージング材料を図1に示すレーザイメージャのフィルム収容部4にセットし、フィルムガイド10(搬送ローラ2が出口7までセットされているが一部のみ図示した。)により搬送される。搬送された光熱写真ドライイメージング材料は露光部6で感光面側から、最大50mW出力の高周波重畳にて波長810nmの縦マルチモード化された半導体レーザを露光源とした露光機により、レーザ走査による露光を与えた。この際に、光熱写真ドライイメージング材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度として画像を形成した。この方法は、当該角度を90度とした場合に比べ、ムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な画像が得られた。
(Sample evaluation)
Evaluation was carried out simultaneously with exposure with the laser imager (installation area 0.35 m 2 ) shown in FIG. 1, and the obtained image was evaluated with a densitometer. Here, “thermal development at the same time as exposure” means a sheet photosensitive material made of a silver salt photothermographic dry imaging material, and development is performed on a part of the sheet that has already been exposed while being partially exposed. Means to be started. The distance between the exposed part and the developing part was 12 cm. The ratio of the path length of the cooling section to the path length of the heat development section was 0.8. At this time, the conveyance speed from the photosensitive material supply unit to the image exposure unit, the conveyance rate at the image exposure unit, and the conveyance rate at the thermal development unit were 32 mm / second, respectively, and the time required for the thermal development process (photosensitive The time taken from when the material was picked up at the tray section until it was discharged was 45 seconds. Further, the position of the bottom surface of the photosensitive material stock tray located at the bottom was 45 cm high from the floor surface. The photothermographic dry imaging material produced as described above is set in the film accommodating portion 4 of the laser imager shown in FIG. 1, and a film guide 10 (only a part of the
その後、光熱写真ドライイメージング材料の非感光面と現像部3の表面が接触するようにして、123℃で10秒熱現像処理した。(連続処理の場合は熱現像のインターバル時間は4秒。)熱現像処理された光熱写真ドライイメージング材料は冷却部5で非感光面側が冷却用部材により冷却されるが、図1(a)はローラ形状であり、図1(b)は板状のものを示す。尚、レーザイメージャの操作は23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。 Thereafter, heat development was performed at 123 ° C. for 10 seconds so that the non-photosensitive surface of the photothermographic dry imaging material and the surface of the developing unit 3 were in contact with each other. (In the case of continuous processing, the interval time of heat development is 4 seconds.) The photothermographic dry imaging material subjected to heat development is cooled by the cooling member 5 on the non-photosensitive surface side, but FIG. FIG. 1B shows a plate shape. The laser imager was operated in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.
露光は最高出力から1段ごとに露光エネルギー量をlogE0.05ずつ減じながら階段状に行った。 The exposure was performed in a stepped manner while reducing the exposure energy amount by log E0.05 step by step from the maximum output.
実施例2
《下引加工した写真用支持体の作製》
実施例1と同様にして作製した。
Example 2
<< Preparation of undercoated photographic support >>
It was produced in the same manner as in Example 1.
〈バックコート層塗布液の調製〉
メチルエチルケトン(MEK)830gを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート(Eastman Chemical社製:CAP482−20)84.2g及びポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)4.5gを添加し溶解した。次に、溶解した液にメタノール43.2gに溶解したフッ素系界面活性剤(旭硝子社製:サーフロンKH40)4.5gと弗素系界面活性剤(大日本インキ社製:メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの2.5gを添加した。最後に、MEKに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ(平均粒径:10μm)を75g添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
<Preparation of backcoat layer coating solution>
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate propionate (manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20) and 4.5 g of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B) were added and dissolved. Next, 4.5 g of a fluorosurfactant (Asahi Glass Co., Ltd .: Surflon KH40) dissolved in 43.2 g of methanol and 2.3 g of a fluorosurfactant (Dainippon Ink Co., Ltd .: MegaFag F120K) were dissolved in the dissolved liquid. Add and stir well until dissolved. Next, 2.5 g of oleyl oleate was added. Finally, 75 g of silica (average particle size: 10 μm) dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 1% was added and stirred to prepare a backcoat layer coating solution.
〈バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製〉
下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。シリカの分散にはディゾルバ型ホモジナイザを使用した。
<Preparation of backcoat layer protective layer (surface protective layer) coating solution>
The following composition ratio was prepared in the same manner as the back coat layer coating solution. A dissolver type homogenizer was used for dispersion of silica.
セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液) 15g
(Eastman Chemical社製:CAP482−20)
単分散度15%の単分散シリカ(平均粒径:10μm)(シリカ全質量の1%のアルミニウムで表面処理) 0.03g
C8F17(CH2CH2O)12C8F17 0.05g
フッ素系界面活性剤(SF−17) 0.01g
フッ素系ポリマー(FM−1) 0.05g
ステアリン酸 0.1g
ステアリン酸ブチル 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製〉
実施例1における感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製と同じである。
Cellulose acetate propionate (10% MEK solution) 15g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20)
Monodispersed silica having a monodispersity of 15% (average particle size: 10 μm) (surface treatment with 1% aluminum of the total mass of silica) 0.03 g
C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g
Fluorine-based surfactant (SF-17) 0.01g
Fluoropolymer (FM-1) 0.05g
Stearic acid 0.1g
0.1 g butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A1>
This is the same as the preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A1 in Example 1.
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B1の調製〉
実施例1における感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B1の調製と同じである。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion B1>
This is the same as the preparation of the photosensitive silver halide grain emulsion B1 in Example 1.
〈感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製〉
感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製時に用いられる臭化カリウムを沃化カリウムに変更した以外は感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製と同様に行った。この乳剤中の粒子は平均粒径25nm、粒径変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion C>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide grain emulsion A1, except that the potassium bromide used in the preparation of the photosensitive silver halide grain emulsion A1 was changed to potassium iodide. The grains in the emulsion were monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Dの調製〉
感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製時に用いられる臭化カリウムの一部を沃化銀含有率が90モル%となるように沃化カリウムに変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製と同様に行った。この乳剤中の粒子は平均粒子粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率は90モル%であった)。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion D>
Preparation of photosensitive silver halide emulsion A1 except that part of the potassium bromide used in the preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A1 was changed to potassium iodide so that the silver iodide content was 90 mol%. As well as. The grains in this emulsion were monodispersed silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (silver iodide content was 90 mol%). )
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Eの調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製と同様に行った。この乳剤中の粒子は平均粒子粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion E>
The same procedure as in the preparation of photosensitive silver halide emulsion C was carried out except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. The grains in this emulsion were monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Fの調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Dの調製と同様に行った。この乳剤中の粒子は平均粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率は90モル%であった)。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion F>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide emulsion D except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. The grains in this emulsion were monodispersed silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (silver iodide content was 90 mol%). ).
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Gの調製〉
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、前記の化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Gを調製した。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion G>
In the preparation of the photosensitive silver halide emulsion C, the photosensitive halogenation was similarly performed except that 4 ml of a 0.1% ethanol solution of the above compound (TPPS) was added after the addition of the whole amount of the solution F1 after nucleation. Silver grain emulsion G was prepared.
なお、この乳剤中の粒子は平均粒子粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。 The grains in this emulsion were monodispersed pure silver iodide grains having an average grain diameter of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.
〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Hの調製〉
上記感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Eの調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、前記の化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Hを調製した。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion H>
In the preparation of the above photosensitive silver halide grain emulsion E, the photosensitive halogen halide was similarly prepared except that 4 ml of a 0.1% ethanol solution of the above compound (TPPS) was added after the addition of the whole amount of the solution F1 after nucleation. A silver halide grain emulsion H was prepared.
この乳剤中の粒子は平均粒子粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。 The grains in this emulsion were monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.
〈粉末有機銀塩Aの調製〉
4720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤(種類と添加量は表3に記載)と純水450mlを添加し5分間撹拌した。次に1モル/Lの硝酸銀溶液468.4mlを2分間かけて添加し、10分間撹拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて撹拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(セイシン企業社製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機熱風温度の運転条件(入口65℃、出口40℃)により含水率が0.1%になるまで乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩Aを得た。
<Preparation of powdered organic silver salt A>
130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid were dissolved in 4720 ml of pure water at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution was added and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, followed by cooling to 55 ° C. to obtain a fatty acid sodium solution. While maintaining the temperature of the fatty acid sodium solution at 55 ° C., a photosensitive silver halide grain emulsion (type and addition amount are listed in Table 3) and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes. Next, 468.4 ml of 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water-washing container, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the organic silver salt dispersion, thereby removing the lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Then, the obtained cake-like organic silver salt was converted into an air-flow dryer Flashjet dryer (Seishin). A powder organic silver salt A that has been dried and dried to a moisture content of 0.1% under the operating conditions (inlet 65 ° C., outlet 40 ° C.) of nitrogen gas atmosphere and dryer hot air temperature Got.
〈予備分散液Aの調製〉
実施例1における予備分散液Aと同じである。
<Preparation of preliminary dispersion A>
The same as the preliminary dispersion A in Example 1.
〈感光性乳剤分散液Aの調製〉
予備分散液Aをポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ社製:トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液Aを調製した。(なお分散時間については非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当径が表3に示す値になるように各試料について適宜変更した)
〈安定剤液の調製〉
1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し安定剤液を調製した。
<Preparation of photosensitive emulsion dispersion A>
Media type disperser DISPERMAT filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm zirconia beads (Toray Industries, Inc .: Treceram) so that the residence time in the mill is 1.5 minutes using a pump. A photosensitive emulsion dispersion A was prepared by supplying to SL-C12EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 8 m / s. (The dispersion time was appropriately changed for each sample so that the average sphere equivalent diameter of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt was the value shown in Table 3)
<Preparation of stabilizer solution>
A stabilizer solution was prepared by dissolving 1.0 g of
〈2−クロロ安息香酸液の調製〉
1.488gの2−クロロ安息香酸、2.779gの安定剤2及び365mgの5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを31.3mlのMEKに暗所にて溶解し2−クロロ安息香酸液を調製した。
<Preparation of 2-chlorobenzoic acid solution>
1.488 g of 2-chlorobenzoic acid, 2.779 g of
〈添加液aの調製〉
還元剤(表3に記載の化合物(還元剤)と量)、0.159gの黄色発色性ロイコ染料YA−2、0.159gのシアン発色性ロイコ染料CLB−13、1.54gの4−メチルフタル酸をMEK110gに溶解し、添加液aとした。
<Preparation of additive solution a>
Reducing agent (compound described in Table 3 (reducing agent) and amount), 0.159 g of yellow chromophoric leuco dye YA-2, 0.159 g of cyan chromogenic leuco dye CLB-13, 1.54 g of 4-methylphthal The acid was dissolved in 110 g of MEK to obtain additive solution a.
〈添加液bの調製〉
1.56gのカブリ防止剤2、0.5gのカブリ防止剤3、0.5gのカブリ防止剤4、0.5gのカブリ防止剤5、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに溶解し添加液bとした。
<Preparation of additive liquid b>
1.56
〈添加液cの調製〉
0.2gの省銀化剤(SE2−2)をMEK39.8gに溶解し添加液cとした。
<Preparation of additive liquid c>
0.2 g of silver saving agent (SE2-2) was dissolved in 39.8 g of MEK to obtain an additive solution c.
〈添加液dの調製〉
0.5gのp−トルエンチオスルホン酸カリウム、0.5gのカブリ防止剤6をMEK9.0gに溶解し、添加液dとした。
<Preparation of additive liquid d>
0.5 g of potassium p-toluenethiosulfonate and 0.5 g of
〈添加液eの調製〉
1.0gのビニルスルホン〔(CH2=CH−SO2CH2)2CHOH〕をMEK9.0gに溶解し、添加液eとした。
<Preparation of additive liquid e>
1.0 g of vinyl sulfone [(CH 2 ═CH—SO 2 CH 2 ) 2 CHOH] was dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution e.
〈感光性層塗布液の調製〉
不活性気体雰囲気下(窒素97%)において、前記感光性乳剤分散液Aの50g及びMEK15.11gを撹拌しながら21℃に保温し、化学増感剤S−5(0.5%メタノール溶液)1000μlを加え、2分後にカブリ防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加えて1時間撹拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)494μlを添加して10分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の1/20モル相当の金増感剤Au−5を添加し、更に20分撹拌した。続いて、安定剤液167μlを添加して10分間撹拌した後、1.32gの前記2−クロロ安息香酸液を添加して1時間撹拌した。その後、温度を13℃まで降温して更に30分撹拌した。13℃に保温したまま、0.5gの添加液d、0.5gの添加液e、予備分散液で使用したバインダー13.31gを添加して30分撹拌した後、テトラクロロフタル酸(9.4%MEK溶液)1.084gを添加して15分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、12.43gの添加液a、1.6mlのDesmodurN3300/モーベイ社製の脂肪族イソシアネート(10%MEK溶液)、4.27gの添加液b、1.0gの添加液cを順次添加し撹拌することにより感光性層塗布液を得た。
<Preparation of photosensitive layer coating solution>
In an inert gas atmosphere (nitrogen 97%), 50 g of the photosensitive emulsion dispersion A and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. with stirring, and the chemical sensitizer S-5 (0.5% methanol solution) 1000 μl was added, and after 2 minutes, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added and stirred for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 10 minutes, then gold sensitizer Au-5 corresponding to 1/20 mole of the above organic chemical sensitizer was added, and further stirred for 20 minutes. . Subsequently, 167 μl of a stabilizer solution was added and stirred for 10 minutes, and then 1.32 g of the 2-chlorobenzoic acid solution was added and stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While maintaining the temperature at 13 ° C., 0.5 g of additive liquid d, 0.5 g of additive liquid e, and 13.31 g of binder used in the preliminary dispersion were added and stirred for 30 minutes, and then tetrachlorophthalic acid (9. (4% MEK solution) 1.084 g was added and stirred for 15 minutes. While further stirring, 12.43 g of additive liquid a, 1.6 ml of Desmodur N3300 / Movey aliphatic isocyanate (10% MEK solution), 4.27 g of additive liquid b, and 1.0 g of additive liquid c were added. By sequentially adding and stirring, a photosensitive layer coating solution was obtained.
〈感光性層保護層下層(表面保護層下層)の調製〉
アセトン500g、MEK2100g、メタノール700gに230gのセルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製:CAB−171−15S)を添加し、ディゾルバーで撹拌、溶解した。次に25gのフタラジン、3.5gの
CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2、1gのC12F25(CH2CH2O)10C12F25、1gの一般式(SF)で表される化合物SF−17、10gのステアリン酸、10gのステアリン酸ブチルを撹拌しながら添加、溶解し、感光性層保護層下層塗布液を調製した。
<Preparation of photosensitive layer protective layer lower layer (surface protective layer lower layer)>
To 500 g of acetone, 2100 g of MEK and 700 g of methanol, 230 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical: CAB-171-15S) was added, and the mixture was stirred and dissolved with a dissolver. Then 25 g phthalazine, 3.5 g CH 2 ═CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH═CH 2 , 1 g C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 , 1 g Compound SF-17 represented by the general formula (SF): 10 g of stearic acid and 10 g of butyl stearate were added and dissolved with stirring to prepare a photosensitive layer protective layer lower layer coating solution.
〈感光性層保護層上層(表面保護層上層)の調製〉
アセトン500g、MEK2100g、メタノール700gに230gのセルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製:CAB−171−15S)を添加し、ディゾルバーで撹拌、溶解した。次に25gのフタラジン、3.5gのCH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2、1gのC12F25(CH2CH2O)10C12F25、0.5gの一般式(SF)で表される化合物SF−17、1.0gのフッ素系ポリマー(FM−1:前出)、10gのステアリン酸、10gのステアリン酸ブチルを撹拌しながら添加し、溶解した。
<Preparation of photosensitive layer protective layer upper layer (surface protective layer upper layer)>
To 500 g of acetone, 2100 g of MEK and 700 g of methanol, 230 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical: CAB-171-15S) was added, and the mixture was stirred and dissolved with a dissolver. Then 25 g phthalazine, 3.5 g CH 2 ═CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH═CH 2 , 1 g C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 , 0 0.5 g of the compound SF-17 represented by the general formula (SF), 1.0 g of a fluoropolymer (FM-1: supra), 10 g of stearic acid, 10 g of butyl stearate were added with stirring; Dissolved.
最後に、MEKに5%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散した単分散度15%単分散シリカ(平均粒子サイズ10.0μm、シリカ全質量の1%のアルミニウムで表面処理)を280g添加、撹拌し感光性層保護層上層塗布液を調製した。 Finally, 280 g of 15% monodispersed silica (average particle size 10.0 μm, surface treatment with 1% aluminum of the total mass of silica) dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 5% is added and stirred. Then, a photosensitive layer protective layer upper layer coating solution was prepared.
〈銀塩光熱写真ドライイメージング材料の作製〉
前記のように調製したバックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ3.5μmになるように、下引上層B−2上に押出しコーターにて塗布速度50m/minにて塗布を行った。尚、乾燥は乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて行った。
<Production of silver salt photothermographic dry imaging materials>
The backcoat layer coating solution and the backcoat layer protective layer coating solution prepared as described above were extruded onto the undercoating upper layer B-2 so that the dry film thickness was 3.5 μm, respectively, and the coating speed was 50 m / Application was performed in min. The drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.
前記感光性層塗布液と感光性層保護層(表面保護層)塗布液を押出し(エクストルージョン)コーターを用いて塗布速度50m/minにて、下引上層A−2上に同時重層塗布することにより表4に示す光熱写真感光材料試料201〜221を作製した。塗布は、感光性層の乾燥膜厚(表3に記載)、感光性層保護層(表面保護層)は乾燥膜厚で3.0μm(表面保護層上層1.5μm、表面保護層下層1.5μm)になる様に行った後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて10分間乾燥を行った。また試料201〜221について表面粗さを測定したところRz(E)/Rz(B)=0.40、Rz(E)=1.4μmであった。またRz(B)は3.5μmであった。Ra(E)は0.09μmであった。またRa(B)は0.12μmであった。
The photosensitive layer coating solution and the photosensitive layer protective layer (surface protective layer) coating solution are simultaneously coated on the subbing upper layer A-2 at an application speed of 50 m / min using an extrusion coater. Thus, photothermographic material samples 201 to 221 shown in Table 4 were prepared. Coating is the dry film thickness of the photosensitive layer (described in Table 3), and the photosensitive layer protective layer (surface protective layer) is 3.0 μm in dry film thickness (surface protective layer upper layer 1.5 μm, surface protective layer
又、試料201〜221について黄色発色性ロイコ染料による極大吸収波長420nmの吸収ピークが認められた。また試料201〜221についてシアン発色性ロイコ染料による極大吸収波長640nmの吸収ピークが認められた。 Moreover, the absorption peak of the maximum absorption wavelength 420nm by a yellow coloring leuco dye was recognized about the samples 201-221. Moreover, the absorption peak of the maximum absorption wavelength 640nm by a cyan coloring leuco dye was recognized about the samples 201-221.
尚、試料214については、試料203における、粉末有機銀塩Aの調製において、ベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gのかわりにベヘン酸259.9gを用いたこと以外は試料203と同様にして試料を作製した。 For sample 214, in the preparation of powdered organic silver salt A in sample 203, instead of 130.8 g behenic acid, 67.7 g arachidic acid, 43.6 g stearic acid, and 2.3 g palmitic acid, behenic acid 259. A sample was prepared in the same manner as Sample 203 except that 9 g was used.
試料215については、試料203におけるバックコート層保護層、感光性層保護層(上層及び下層)のフッ素系活性剤をSF−17からC8F17SO3Liに変更した以外は試料203と同様にして試料を作製した。 Sample 215 is the same as Sample 203 except that the fluorine-based activator of the backcoat layer protective layer and the photosensitive layer protective layer (upper layer and lower layer) in Sample 203 is changed from SF-17 to C 8 F 17 SO 3 Li. A sample was prepared.
試料216については、試料203での予備分散液Aの調製における感光性層バインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃、SO3Kを0.2ミリモル/g含む)に代えて、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg65℃、SO3Kを0.2ミリモル/g含む)を用いたこと以外は試料203と同様にして試料を作製した。 Sample 216 was replaced with SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 75 ° C., containing 0.2 mmol / g of SO 3 K) as the photosensitive layer binder in the preparation of preliminary dispersion A in sample 203. A sample was prepared in the same manner as Sample 203 except that 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 65 ° C., containing SO 3 K 0.2 mmol / g) was used.
(試料の評価)
評価は図1に示したレーザイメージャー(設置面積0.35m2)にて露光と同時に熱現像し、得られた画像の評価を濃度計により行った。ここで、「露光と同時に熱現像する」とは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料からなる一枚のシート感光材料で、一部が露光されながら、同時に既に露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを意味する。露光部と現像部との距離は12cmであった。また熱現像部のパス長に対する冷却部のパス長の比は0.8であった。この時の感光材料供給装置部から画像露光装置部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度はそれぞれ32mm/秒で行い、熱現像処理に要した時間(感光材料がトレイ部でピックアップされてから排出されるまでにかかる時間)は45秒であった。また最下部に位置する感光材料ストックトレーの底面の位置は床面から45cmの高さであった。上記のように作製した光熱写真ドライイメージング材料を図1に示すレーザイメージャのフィルム収容部4にセットし、フィルムガイド10(搬送ローラ2が出口7までセットされているが一部のみ図示した。)により搬送される。搬送された光熱写真ドライイメージング材料は露光部6で感光面側から、最大50mW出力、発光波長405nmの縦マルチモード化された半導体レーザ(日亜化学工業のNLHV3000E)を露光源とした露光機により、レーザ走査による露光を与えた。この際に、光熱写真ドライイメージング材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度として画像を形成した。この方法は、当該角度を90度とした場合に比べ、ムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な画像が得られた。
(Sample evaluation)
The evaluation was carried out simultaneously with exposure using the laser imager (installation area 0.35 m 2 ) shown in FIG. 1, and the obtained image was evaluated with a densitometer. Here, “thermal development at the same time as exposure” is a sheet photosensitive material made of a silver salt photothermographic dry imaging material, and a portion of the sheet that has already been exposed while being partially exposed is developed. Means to be started. The distance between the exposed part and the developing part was 12 cm. The ratio of the path length of the cooling section to the path length of the heat development section was 0.8. At this time, the conveyance speed from the photosensitive material supply unit to the image exposure unit, the conveyance rate at the image exposure unit, and the conveyance rate at the heat development unit were 32 mm / second, respectively, and the time required for the heat development process (photosensitive The time taken from when the material was picked up at the tray section until it was discharged was 45 seconds. In addition, the position of the bottom surface of the photosensitive material stock tray located at the bottom was 45 cm high from the floor surface. The photothermographic dry imaging material produced as described above is set in the film accommodating portion 4 of the laser imager shown in FIG. 1, and the film guide 10 (only the
その後、光熱写真ドライイメージング材料の非感光面と現像部3の表面が接触するようにして、123℃で10秒熱現像処理した。(連続処理の場合は熱現像のインターバル時間は4秒。)熱現像処理された光熱写真ドライイメージング材料は冷却部5で非感光面側が冷却用部材により冷却されるが、図1(a)はローラ形状であり、図1(b)は板状のものを示す。尚、レーザイメージャの操作は23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。 Thereafter, heat development was performed at 123 ° C. for 10 seconds so that the non-photosensitive surface of the photothermographic dry imaging material and the surface of the developing unit 3 were in contact with each other. (In the case of continuous processing, the interval time of heat development is 4 seconds.) The photothermographic dry imaging material subjected to heat development is cooled by the cooling member 5 on the non-photosensitive surface side, but FIG. FIG. 1B shows a plate shape. The laser imager was operated in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.
露光は最高出力から1段ごとに露光エネルギー量をlogE0.05ずつ減じながら階段状に行った。 The exposure was performed in a stepped manner while reducing the exposure energy amount by log E0.05 step by step from the maximum output.
(冷却速度の測定方法)
冷却速度の測定は、光熱写真ドライイメージング材料の感光面および非感光面それぞれに熱電対を均一に10個添付して、熱現像から冷却さらに排出までの処理を行いそれぞれの面が45℃になるまでの温度履歴を測定した。
(Measurement method of cooling rate)
For the measurement of the cooling rate, 10 thermocouples are uniformly attached to the photosensitive surface and the non-photosensitive surface of the photothermographic dry imaging material, and the processes from heat development to cooling and discharging are performed, and each surface becomes 45 ° C. The temperature history up to was measured.
〈包装材料〉
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3%を含むポリエチレン50μm、酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day、水分透過率:0.001g/m2・40℃・90%RH・dayのバリア袋(JIS Z0208 カップ法による)。紙トレーを使用。
<Packaging materials>
〈性能評価〉
熱現像された各画像について下記性能を評価した。
<Performance evaluation>
The following performance was evaluated for each heat-developed image.
《画像濃度》
上記の条件にて得られた画像の最高濃度部の値を濃度計により測定し画像濃度として示した。
<Image density>
The value of the highest density portion of the image obtained under the above conditions was measured with a densitometer and indicated as the image density.
《カブリ》
上記の条件にて得られた画像の未露光部の値を濃度計により測定し、カブリ濃度として示した。
《Fog》
The value of the unexposed portion of the image obtained under the above conditions was measured with a densitometer and indicated as fog density.
《感度》
上記の条件にて得られた画像を濃度計を用いて濃度測定を行い、横軸−露光量、縦軸−濃度からなる特性曲線を作成した。特性曲線において、感度は未露光部分よりも1.0高い濃度を与える露光量の逆数を感度と定義し、感度を測定した。なお、感度は、試料1を100とする相対値で表した。
"sensitivity"
The image obtained under the above conditions was subjected to density measurement using a densitometer, and a characteristic curve comprising a horizontal axis—exposure amount and a vertical axis—density was created. In the characteristic curve, the sensitivity was defined by defining the reciprocal of the exposure amount giving a density 1.0 higher than that of the unexposed portion as sensitivity. The sensitivity is expressed as a relative value with
表2及び表3の相対感度欄の括弧内の数値は、感光材料に白色光露光する前に熱現像温度123℃で10秒間感光材料を熱処理し、その後に光学楔を通して白色光露光(4874K、30秒)して123℃で10秒間熱現像した場合の感度と、露光前に熱処理せずに前記と同じ条件下で白色光露光して123℃で10秒間熱現像した場合の感度との比較において、後者の感度を100としたときの前者の感度相対値を示した。 The numerical values in parentheses in the relative sensitivity column of Tables 2 and 3 indicate that the photosensitive material is heat-treated at a heat development temperature of 123 ° C. for 10 seconds before the photosensitive material is exposed to white light, and then exposed to white light through an optical wedge (4874K, Comparison between the sensitivity when heat-developed at 123 ° C. for 10 seconds for 30 seconds and the sensitivity when heat-developed at 123 ° C. for 10 seconds after exposure to white light under the same conditions as described above without heat treatment before exposure The sensitivity relative value of the former when the sensitivity of the latter is taken as 100 is shown.
なお、この相対比較において感光材料に白色光露光する前に熱現像温度で感光材料を熱処理した試料の相対感度の減少の主因は、分光増感効果の消失乃至減少によりハロゲン化銀粒子の表面感度と内部感度の相対的関係が変化したことによるものであることが分光感度スペクトルの変化等の観察/測定により確認された。 In this relative comparison, the main cause of the decrease in the relative sensitivity of the sample obtained by heat-treating the photosensitive material at the heat development temperature before exposing the photosensitive material to white light is the surface sensitivity of the silver halide grains due to the disappearance or reduction of the spectral sensitization effect. It was confirmed by observation / measurement of changes in the spectral sensitivity spectrum that the relative relationship between the internal sensitivity and the internal sensitivity was changed.
《高濃度部での銀色調》
各熱現像感光材料試料に胸部X線画像を焼き付け、処理時間を適宜調整することで、最高濃度が4.0以上となるように熱現像処理を行った。処理後の高濃度部(濃度2.5のところ)での銀色調をシャーカステンを使って目視で評価した。この時の標準サンプルとしてコニカ社製の湿式処理のレーザイメージャ用フィルムを用い、標準サンプルとの相対的な色調を目視で、以下の基準で0.5刻みの評価をした。
《Silver tone in high density area》
A chest X-ray image was printed on each photothermographic material sample, and the photothermographic treatment was performed so that the maximum density was 4.0 or more by appropriately adjusting the processing time. The silver color tone in the high density part after treatment (at a density of 2.5) was visually evaluated using a Schaukasten. A wet processed laser imager film manufactured by Konica was used as a standard sample at this time, and the relative color tone with respect to the standard sample was evaluated visually by 0.5 increments according to the following criteria.
5:標準サンプルと同じ色調
4:標準サンプルとほぼ同じ好ましい色調
3:標準サンプルとやや色調は異なるが実技上問題ないレベル
2:標準サンプルと明らかに異なる色調
1:標準サンプルと異なる不快な色調
《光照射画像保存性》
各光熱写真感光材料試料を上記と同様の露光、現像を行った後、輝度1000ルックスのシャーカステン上に貼り付け10日間放置した後の画像の変化を目視で、以下の基準で0.5刻みの評価をした。
5: The same color tone as the standard sample 4: Almost the same preferred color tone as the standard sample 3: A level slightly different from the standard sample, but no problem in practice 2: A color tone clearly different from the standard sample 1: An unpleasant color tone different from the standard sample << Light Irradiation Image Preservability >>
Each photothermographic material sample was exposed and developed in the same manner as described above, and then the change in the image was visually observed after being stuck on a Schaukasten with a luminance of 1000 lux and left for 10 days. Evaluated.
5:殆ど変化なし
4:僅かに色調変化が見られる
3:一部に色調変化とカブリの増大が見られる
2:色調変化とカブリの増大がかなりの部分に見られる
1:色調変化とカブリの増大が顕著、全面で強い濃度ムラが発生する
結果を併せて表2、表3に示す。
5: Almost no change 4: Slight color change observed 3: Partial color change and fog increase observed 2: Color change and fog increase observed in considerable part 1: Color change and fog increase Tables 2 and 3 also show the results of significant increase in density and strong density unevenness on the entire surface.
表2、表3から、本発明の試料は、コンパクトなレーザイメージャーを用いて高速な熱現像処理を行った場合、比較の試料と比べて、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、光照射画像保存性、銀色調に優れていることが明らかである。 From Tables 2 and 3, the sample of the present invention, when subjected to high-speed heat development using a compact laser imager, has higher sensitivity, lower fog, and higher maximum density than the comparative sample. It is clear that light irradiation image storage stability and silver tone are excellent.
又、試料115と102を比較すると、高温保存時のカブリ上昇については試料102の方が優れた特性を有することが判った。 In addition, comparing Samples 115 and 102, it was found that Sample 102 has superior characteristics with respect to fog rise during high-temperature storage.
又、試料216と203を比較すると、高温保存時のカブリ上昇については試料203の方が優れた特性を有することが判った。 Further, comparing Samples 216 and 203, it was found that Sample 203 has superior characteristics with respect to fog increase during high-temperature storage.
1 フィルム
2 搬送ローラ
3 現像部
4 フィルム収容部
5 冷却部
6 露光部
7 出口
10 フィルムガイド
40 熱現像装置
50 昇温部
51 第1の加熱ゾーン
51a 対向ローラ
51b 加熱ガイド
51c 加熱ヒータ
51d 固定ガイド面
52 第2の加熱ゾーン
52a 対向ローラ
52b 加熱ガイド
52c 加熱ヒータ
52d 固定ガイド面
53 保温部
53a ガイド部
53b 加熱ガイド
53c 加熱ヒータ
53d 固定ガイド面
54 冷却部
54a 対向ローラ
54b 冷却プレート
54c 冷却ガイド面
55 光走査露光部
56 搬送ローラ対
40a 装置筐体
45 フィルム収納部
46 ピックアップローラ
47 搬送ローラ対
48 曲面ガイド
49a,49b 搬送ローラ
56 濃度計
57 搬送ローラ対
58 フィルム載置部
59 基板部
F フィルム、シートフィルム
d 隙間
DESCRIPTION OF
Claims (18)
一般式(SF)
(Rf−(L1)m1−)p−(Y)n1−(A)q
〔式中、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表し、L1はフッ素原子を有しない2価の連結基を表し、Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基又はその塩を表し、m1、n1は各々0又は1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。但し、qが1の時は、m1とn1は同時に0とはならない。〕 The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of claims 1 to 9, comprising a compound represented by the general formula (SF).
General formula (SF)
(R f − (L 1 ) m1 −) p- (Y) n1 − (A) q
[Wherein R f represents a substituent containing a fluorine atom, L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom, and Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom. , A represents an anionic group or a salt thereof, m1 and n1 each represents an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, m1 and n1 are not 0 at the same time. ]
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