JP2006267209A - Silver salt photothermographic dry imaging material and image forming method - Google Patents

Silver salt photothermographic dry imaging material and image forming method Download PDF

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拓治 長谷川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silver salt photothermographic dry imaging material having high sensitivity, low fogging and high maximum density and excellent in silver tone, and an image forming method. <P>SOLUTION: The silver salt photothermographic dry imaging material has, on a support, a photosensitive layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent and a binder, wherein an ultraviolet absorber is contained in the photosensitive layer, the photosensitive silver halide grains contain 5-100 mol% silver iodide, and the silver salt photothermographic dry imaging material is exposed with laser light having peak intensity at a wavelength of 200-350 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は銀塩光熱写真ドライイメージング材料(以下、光熱写真材料又は熱現像感光材料とも言う)及び該光熱写真材料を用いる画像形成方法に関する。   The present invention relates to a silver salt photothermographic dry imaging material (hereinafter also referred to as a photothermographic material or a photothermographic material) and an image forming method using the photothermographic material.

近年、医療や印刷の分野で環境保護や作業性の面から現像処理廃液のない感光材料が強く望まれている。この技術として、例えば米国特許3,152,904号、同3,487,075号及びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバー写真材料(Dry Silver Photographic Materials)」(Handbook of Imaging Materials,Marcel Dekker,Inc.,48頁,1991)等に記載の方法がよく知られている。これらの感光材料は、通常80℃以上の温度で現像が行われるため、熱現像感光材料と呼ばれている。   In recent years, there has been a strong demand for a photosensitive material free from a developing solution waste in terms of environmental protection and workability in the medical and printing fields. For example, U.S. Pat. Nos. 3,152,904 and 3,487,075 and D.I. The method described in “Dry Silver Photographic Materials” by Morgan (Handbook of Imaging Materials, Marcel Dekker, Inc., page 48, 1991) and the like is well known. Since these photosensitive materials are usually developed at a temperature of 80 ° C. or higher, they are called photothermographic materials.

熱現像感光材料は、液処理される従来の感光材料と比較して、内蔵される化学物質の種類及び添加量が非常に多いため、それに連動して感光層や非感光性層の膜厚が増大する傾向にある。この結果、感光材料製造時の塗布工程あるいは乾燥工程で多大の時間を要し、生産性が低下するという欠点を有していた。   The photothermographic material has a much larger number of kinds and added amounts of built-in chemical substances than the conventional photosensitive material processed by liquid processing, and accordingly, the film thickness of the photosensitive layer and the non-photosensitive layer is increased. It tends to increase. As a result, the coating process or the drying process at the time of manufacturing the light-sensitive material requires a lot of time and has the disadvantage that the productivity is lowered.

一方、装置の小型化や画像の高精細化を目的に、感光性ハロゲン化銀の沃化銀含量が5〜100モル%の熱現像感光材料に、350〜450nmに発光ピークを持つレーザ光を発生する光源を用いて画像形成する技術が開示されている(特許文献1参照)。   On the other hand, for the purpose of reducing the size of the apparatus and increasing the definition of the image, a laser beam having an emission peak at 350 to 450 nm is applied to a photothermographic material having a silver iodide content of 5 to 100 mol% in the photosensitive silver halide. A technique for forming an image using a generated light source is disclosed (see Patent Document 1).

しかし、装置の更なる小型化や画像のより高精細化が要望されており、これらの課題解決のためには上記技術では不十分であった。
特開2003−91053号公報(特許請求の範囲)
However, further downsizing of the apparatus and higher definition of the image are demanded, and the above technique is insufficient for solving these problems.
JP 2003-91053 A (Claims)

本発明は、上記事情に鑑みて為されたもので、装置を小型化しても高感度、低カブリで、最高濃度が高く、銀色調に優れる銀塩光熱写真ドライイメージング材料及び画像形成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a silver salt photothermographic dry imaging material and an image forming method that have high sensitivity, low fog, high maximum density and excellent silver tone even when the apparatus is downsized. The purpose is to do.

本発明の上記目的は、以下の構成によって達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following constitutions.

(請求項1)
支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層に紫外線吸収剤を含有し、かつ前記感光性ハロゲン化銀粒子が沃化銀を5〜100モル%の割合で含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 1)
In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent and a binder on a support, the photosensitive layer contains an ultraviolet absorber, and A silver salt photothermographic dry imaging material, wherein the photosensitive silver halide grains contain 5 to 100 mol% of silver iodide.

(請求項2)
支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層に紫外線吸収剤を含有し、かつ前記感光性ハロゲン化銀粒子が沃化銀を5〜100モル%の割合で含有し、更に該銀塩光熱写真ドライイメージング材料が波長200nm〜350nmにピーク強度を持つレーザ光で露光されることを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(Claim 2)
In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent and a binder on a support, the photosensitive layer contains an ultraviolet absorber, and The photosensitive silver halide grains contain silver iodide in a proportion of 5 to 100 mol%, and the silver salt photothermographic dry imaging material is exposed with a laser beam having a peak intensity at a wavelength of 200 nm to 350 nm. Silver salt photothermographic dry imaging material.

(請求項3)
請求項1記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を波長200〜350nmにピーク強度を持つレーザ光で露光することを特徴とする画像形成方法。
(Claim 3)
An image forming method comprising exposing the silver salt photothermographic dry imaging material according to claim 1 with a laser beam having a peak intensity at a wavelength of 200 to 350 nm.

本発明により、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、銀色調に優れる銀塩光熱写真ドライイメージング材料及び画像形成方法を提供できる。   According to the present invention, a silver salt photothermographic dry imaging material and an image forming method having high sensitivity, low fog, high maximum density and excellent silver tone can be provided.

以下、本発明の詳細について説明する。まず本発明の構成要素から順次説明する。   Details of the present invention will be described below. First, components of the present invention will be described sequentially.

(紫外線吸収剤)
本発明においては紫外線吸収剤を用いるが、ここで言う紫外線吸収剤とは、紫外線領域(200〜400nm)に分光吸収特性を有する化合物である。中でも230〜350nmに極大吸収波長を持つ化合物が好ましく、250〜330nmに極大吸収波長を持つ化合物がより好ましい。このような紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、桂皮酸系、アミノブタジエン系、チアゾリドン系のものが好ましく用いられる。具体的な化合物としては、特開平11−295846号の段落「0036」〜「0040」に記載の化合物UV−1〜UV−29、特開平11−44930号の段落「0059」〜「0086」に記載の化合物1−1〜1−9、2−1〜2−17、3−1〜3−11、4−1〜4−7、5−1〜5−3、6−1〜6−7、7−1〜7−32等が挙げられる。以下に、本発明で用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
(UV absorber)
In the present invention, an ultraviolet absorber is used. The ultraviolet absorber referred to here is a compound having spectral absorption characteristics in the ultraviolet region (200 to 400 nm). Among them, a compound having a maximum absorption wavelength at 230 to 350 nm is preferable, and a compound having a maximum absorption wavelength at 250 to 330 nm is more preferable. As such an ultraviolet absorber, a benzotriazole type, benzophenone type, cinnamic acid type, aminobutadiene type, or thiazolidone type is preferably used. Specific examples of the compound include compounds UV-1 to UV-29 described in paragraphs “0036” to “0040” of JP-A No. 11-295846, and paragraphs “0059” to “0086” of JP-A No. 11-44930. Described compounds 1-1 to 1-9, 2-1 to 2-17, 3-1 to 3-11, 4-1 to 4-7, 5-1 to 5-3, 6-1 to 6-7 7-1 to 7-32 and the like. Although the specific example of the ultraviolet absorber used by this invention is given to the following, this invention is not limited to these.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

上記紫外線吸収剤は単独で用いてもよく、又、2種類以上を併用してもよい。添加量は、通常、1mg〜1g/m2であり、10mg〜0.5g/m2であることがより好ましい。 The said ultraviolet absorber may be used independently and may use 2 or more types together. The addition amount is usually 1 mg to 1 g / m 2 , and more preferably 10 mg to 0.5 g / m 2 .

(有機銀塩)
本発明に係る有機銀塩とは、光熱写真材料の感光性層において銀画像を形成するための銀イオンを供給する供給源として機能し得る非感光性の有機銀塩である。即ち、この有機銀塩は、露光によって形成された潜像を粒子表面上に有する感光性ハロゲン化銀粒子(光触媒)及び還元剤の存在下で、80℃あるいはそれ以上に加熱された熱現像過程において銀イオン供給源として機能し、銀イオンを供給し銀画像形成に寄与することができる銀塩である。
(Organic silver salt)
The organic silver salt according to the present invention is a non-photosensitive organic silver salt that can function as a supply source for supplying silver ions for forming a silver image in the photosensitive layer of the photothermographic material. That is, this organic silver salt is a heat development process heated to 80 ° C. or higher in the presence of photosensitive silver halide grains (photocatalyst) having a latent image formed on light exposure on the grain surface and a reducing agent. Is a silver salt that functions as a silver ion supply source and can supply silver ions and contribute to silver image formation.

このような非感光性有機銀塩については、従来、種々の化学構造を有する有機化合物の銀塩が知られており、例えば特開平10−62899号の段落「0048」〜「0049」、欧州特許出願公開803,764A1号の18頁24行〜19頁37行、欧州特許出願公開962,812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号、同2002−23301号、同2002−23303号、同2002−49119号、196446号、欧州特許出願公開1246001A1号、欧州特許出願公開1258775A1号、特開2003−140290号、特開2003−195445号、同2003−295378号、同2003−295379号、同2003−295380号、同2003−295381号、特開2003−270755号等に記載されている。   As such non-photosensitive organic silver salts, silver salts of organic compounds having various chemical structures are conventionally known. For example, paragraphs “0048” to “0049” of JP-A-10-62899, European Patents Application Publication No. 803,764A1, page 18, line 24 to page 19, line 37, European Patent Application Publication No. 962,812A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, JP-A-2002-23301. No., 2002-23303, 2002-49119, 196446, European Patent Application Publication No. 1246001A1, European Patent Application Publication No. 12587775A1, JP-A No. 2003-140290, JP-A No. 2003-195445, No. 2003-295378 2003-295379, 2003-295380, 20 No. 3-295381, it is described in JP 2003-270755 and the like.

上記の特許公報等に開示されている各種有機銀塩と併用して、又は、併用せずに、脂肪族カルボン酸の銀塩、特に、炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩を用いることができる。銀塩を生成するための脂肪族カルボン酸の分子量は好ましくは200〜500であり、より好ましくは250〜400である。脂肪族カルボン酸銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、及びこれらの混合物などを含む。   In combination with or without using various organic silver salts disclosed in the above-mentioned patent publications, etc., silver salts of aliphatic carboxylic acids, especially those having 10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 28 carbon atoms. A silver salt of a chain aliphatic carboxylic acid can be used. The molecular weight of the aliphatic carboxylic acid for producing the silver salt is preferably 200 to 500, more preferably 250 to 400. Preferred examples of the aliphatic carboxylic acid silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. Including.

本発明においては、これら脂肪族カルボン酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上、より好ましくは80〜99.9モル%、更に好ましくは90〜99.9モル%の脂肪酸銀を用いることが好ましい。   In the present invention, among these aliphatic silver carboxylates, the fatty acid having a silver behenate content of preferably 50 mol% or more, more preferably 80 to 99.9 mol%, still more preferably 90 to 99.9 mol%. It is preferable to use silver.

尚、脂肪族カルボン酸銀塩を調製するに先だって、脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩を調製することが必要であるが、その際に、使用できるアルカリ金属塩の種類の例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等がある。これらの内の1種類のアルカリ金属塩、例えば水酸化カリウムを用いることが好ましいが、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムを併用することも好ましい。併用比率としては前記の水酸化塩のNa:Kのモル比が10:90〜75:25の範囲であることが好ましい。脂肪族カルボン酸と反応して脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩となった時に上記の範囲で使用することで、反応液の粘度を良好な状態に制御できる。   Prior to the preparation of the aliphatic carboxylic acid silver salt, it is necessary to prepare an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid. Examples of the types of alkali metal salts that can be used in this case include sodium hydroxide. Potassium hydroxide and lithium hydroxide. Among these, it is preferable to use one kind of alkali metal salt such as potassium hydroxide, but it is also preferable to use sodium hydroxide and potassium hydroxide in combination. The combined ratio is preferably such that the molar ratio of Na: K of the above-mentioned hydroxide is in the range of 10:90 to 75:25. When used in the above range when reacted with an aliphatic carboxylic acid to form an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid, the viscosity of the reaction solution can be controlled to a good state.

又、平均粒径が0.050μm以下のハロゲン化銀粒子の存在下で脂肪族カルボン酸銀を調製する場合には、特に、アルカリ金属塩のアルカリ金属はカリウムの比率が高い方が、ハロゲン化銀粒子の溶解及びオストワルド熟成が防止されるので好ましい。又、カリウム塩の比率が高いほど、脂肪酸銀塩粒子のサイズを小さくすることができる。好ましいカリウム塩の比率は、脂肪族カルボン酸銀を製造する工程において使用する全アルカリ金属塩に対して50〜100モル%である。アルカリ金属塩の濃度は、0.1〜0.3モル/1,000mlが好ましい。   In addition, when preparing an aliphatic carboxylate silver salt in the presence of silver halide grains having an average particle size of 0.050 μm or less, the alkali metal salt of the alkali metal salt has a higher potassium ratio. It is preferable because dissolution of silver particles and Ostwald ripening are prevented. Moreover, the size of fatty acid silver salt particle | grains can be made small, so that the ratio of potassium salt is high. A preferable ratio of the potassium salt is 50 to 100 mol% based on the total alkali metal salt used in the step of producing the aliphatic silver carboxylate. The concentration of the alkali metal salt is preferably 0.1 to 0.3 mol / 1,000 ml.

上記以外の有機銀としては、コア・シェル構造の有機銀塩(特開2002−23303号)、多価カルボン酸の銀塩(EP1246001号、特開2004−061948号)、ポリマー銀塩(特開2000−292881号、特開2003−295378〜2003−295381号)を用いることもできる。   Examples of organic silver other than the above include organic silver salts having a core / shell structure (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-23303), silver salts of polyvalent carboxylic acids (EP1246001, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-061948), and polymer silver salts (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-292811, JP-A 2003-295378 to 2003-29581) can also be used.

用いることができる脂肪族カルボン酸銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、鱗片状の何れでもよい。本発明においては、鱗片状の脂肪族カルボン酸銀塩及び長軸と短軸の長さの比が5以下の短針状又は直方体状の脂肪族カルボン酸銀塩が好ましく用いられる。本明細書において、鱗片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。   The shape of the aliphatic carboxylic acid silver salt that can be used is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a scale shape. In the present invention, scale-like aliphatic carboxylic acid silver salts and short needle-shaped or rectangular parallelepiped-shaped aliphatic carboxylic acid silver salts having a major axis / minor axis length ratio of 5 or less are preferably used. In this specification, the scaly organic silver salt is defined as follows.

有機銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい)時、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。   The organic silver salt is observed with an electron microscope, the shape of the organic silver salt particle is approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped are defined as a, b, and c from the shortest side (even though c is the same as b) When it is good), the shorter numerical value a, b is used to calculate x as follows.

x=b/a
このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)とした時、x(平均)≧1.5の関係を満たすものを鱗片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは20≧x(平均)≧2.0である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。
x = b / a
Thus, x is calculated | required about about 200 particle | grains, and when it is set as the average value x (average), what satisfy | fills the relationship of x (average)> = 1.5 is made into a scaly shape. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 20 ≧ x (average) ≧ 2.0. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.

鱗片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さと見ることができる。aの平均は0.01〜0.23μmが好ましく、0.1〜0.20μmがより好ましい。c/bの平均は好ましくは1〜6、より好ましくは1.05〜4、更に好ましくは1.1〜3、特に好ましくは1.1〜2である。   In the scaly particles, a can be regarded as the thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 to 0.23 μm, and more preferably 0.1 to 0.20 μm. The average of c / b is preferably 1 to 6, more preferably 1.05 to 4, still more preferably 1.1 to 3, and particularly preferably 1.1 to 2.

有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状は有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては、例えば液中に分散した有機銀塩にレーザ光を照射し、その散乱光の「ゆらぎ」の時間変化に対する自己相関関数を求めることで得られた粒径(体積加重平均直径)から求めることができる。   The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, the particle diameter (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the time variation of the “fluctuation” of the scattered light. Can be obtained from

有機銀塩の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば、上記の特開平10−62899号、欧州特許出願公開803,763A1号、欧州特許出願公開962,812A1号、特開2001−167022号報、同2000−7683号、同2000−72711号、同2001−163889号、同2001−163890号、同2001−163827号、同2001−33907号、同2001−188313号、同2001−83652号、同2002−6442号、同2002−31870号、同2003−280135号等を参考にすることができる。   Known methods and the like can be applied to the production of the organic silver salt and the dispersion method thereof. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Application Publication No. 803,763A1, European Patent Application Publication No. 962,812A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-167022, No. 2000-7683, No. 2000-72711, 2001-163889, 2001-163890, 2001-1663827, 2001-33907, 2001-188313, 2001-83651, 2002-6442, 2002-31870, 2003 Reference can be made to 280135.

尚、有機銀塩の分散時に、感光性ハロゲン化銀粒子のような感光性銀塩を共存させることができる。しかし、有機銀塩の分散時に、ハロゲン化銀粒子を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時にはハロゲン化銀粒子を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中でのハロゲン化銀粒子量は、その液中の有機銀塩1モルに対し1モル%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1モル%以下であり、更に好ましいのは積極的なハロゲン化銀粒子の添加を行わないものである。   A photosensitive silver salt such as photosensitive silver halide grains can coexist when the organic silver salt is dispersed. However, when silver halide grains are allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, fog is increased and sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that silver halide grains are not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of silver halide grains in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic silver salt in the liquid. More preferably, the active addition of silver halide grains is not performed.

本発明において有機銀塩水分散液と感光性ハロゲン化銀粒子分散液を混合して感光材料を製造することが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性ハロゲン化銀粒子の割合は1〜30モル%の範囲が好ましく、更に2〜20モル%、特に3〜15モル%の範囲が好ましい。混合する際に2種以上の有機銀塩分散液と2種以上のハロゲン化銀粒子分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。   In the present invention, a photosensitive material can be produced by mixing an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver halide particle dispersion, but the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose. However, the ratio of the photosensitive silver halide grains to the organic silver salt is preferably in the range of 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, particularly preferably 3 to 15 mol%. Mixing two or more kinds of organic silver salt dispersions and two or more kinds of silver halide grain dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.

本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として0.1〜5g/m2が好ましく、より好ましくは0.3〜3g/m2、更に好ましくは0.5〜2g/m2である。 The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, but the silver amount is preferably 0.1 to 5 g / m 2 , more preferably 0.3 to 3 g / m 2 , still more preferably 0.5 to 2 g / m 2 . m 2 .

(感光性ハロゲン化銀粒子)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子(以下、感光性ハロゲン化銀又は単にハロゲン化銀とも言う)とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収し得て、又は人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収し得て、かつ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内の何れかの領域の光を吸収した時に当該ハロゲン化銀結晶内及び/又は結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子を言う。
(Photosensitive silver halide grains)
The photosensitive silver halide grains according to the present invention (hereinafter also referred to as photosensitive silver halide or simply silver halide) can inherently absorb light as an intrinsic property of silver halide crystals, or artificially. In the silver halide crystal when visible light or infrared light can be absorbed by a physicochemical method, and light in any region within the light wavelength range from the ultraviolet light region to the infrared light region is absorbed. And / or silver halide crystal grains that have been processed and produced so that physicochemical changes can occur on the crystal surface.

ハロゲン化銀粒子自体は、公知の方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤(ハロゲン化銀乳剤とも言う)として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等の何れでもよく、又、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等の何れを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、所謂コントロールド・ダブルジェット法が好ましい。   The silver halide grains themselves can be prepared as a silver halide grain emulsion (also referred to as a silver halide emulsion) using a known method. That is, any of acid method, neutral method, ammonia method, etc. may be used, and as a method of reacting soluble silver salt and soluble halogen salt, any one of one-side mixing method, simultaneous mixing method, combination thereof, etc. may be used. Of these methods, the so-called controlled double jet method in which silver halide grains are prepared while controlling the formation conditions is preferred.

通常、ハロゲン化銀種粒子は、粒子の核の生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、又、核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールド・ダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールができるので好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ、核(種粒子)生成(核生成工程)した後、コントロールされたpAg、pH等のもとで銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることができる。   Usually, silver halide seed grains are divided into two stages: grain nucleation and grain growth, and these may be performed continuously at once, or the formation of nuclei (seed grains) and grain growth are separated. It is also possible to do this. The controlled double jet method in which the particle formation is controlled by controlling the pAg, pH, etc., which are particle formation conditions, is preferable because the particle shape and size can be controlled. For example, when performing a method in which nucleation and grain growth are separated, first, an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution to produce nuclei (seed particles) (nucleation process). Thereafter, silver halide grains are prepared by a grain growth process in which grains are grown while supplying an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution under controlled pAg, pH, and the like. After the formation of grains, a desired silver halide emulsion can be obtained by removing unnecessary salts and the like by a desalting step by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method, or an electrodialysis method. .

本発明のハロゲン化銀粒子の粒径分布は単分散であることが好ましい。ここで言う単分散とは、下記式で求められる粒径の変動係数が30%以下を言う。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。   The particle size distribution of the silver halide grains of the present invention is preferably monodispersed. The monodispersion mentioned here means that the coefficient of variation of the particle diameter obtained by the following formula is 30% or less. Preferably it is 20% or less, More preferably, it is 15% or less.

粒径の変動係数%=(粒径の標準偏差/粒径の平均値)×100
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、馬鈴薯状粒子等を挙げることができるが、これらの中、特に、立方体、八面体、14面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Coefficient of variation of particle size% = (standard deviation of particle size / average value of particle size) × 100
Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tetrahedron grains, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, and potato-like grains. Among these, cubic, octahedral, 14 Planar and tabular silver halide grains are preferred.

平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましくは1.5〜100、より好ましくは2〜50である。これらについては、米国特許5,264,337号、同5,314,798号、同5,320,958号に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。   The average aspect ratio in the case of using tabular silver halide grains is preferably 1.5 to 100, more preferably 2 to 50. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, and 5,320,958, and the desired tabular grains can be easily obtained. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can be preferably used.

ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが特に好ましい。尚、ミラー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani:J.Imaging Sci.,29,165(1985年)により求めることができる。   There is no particular limitation on the crystal habit on the outer surface of the silver halide grain, but when using a sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity in the adsorption reaction of the sensitizing dye on the surface of the silver halide grain. It is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habits adapted to the selectivity. For example, when using a sensitizing dye that is selectively adsorbed on the crystal face of the Miller index [100], the proportion of the [100] face on the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this ratio is 50 % Or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is a T.K. based on the adsorption dependency of the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani: J.M. Imaging Sci. 29, 165 (1985).

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。   The silver halide grains used in the present invention are preferably prepared using low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of forming the grains, and particularly preferably used at the time of nucleation of silver halide grains.

低分子量ゼラチンは平均分子量5万以下のものが好ましく、より好ましくは2,000〜40,000であり、特に好ましくは5,000〜25,000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量10万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸又はアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下又は加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。   The low molecular weight gelatin preferably has an average molecular weight of 50,000 or less, more preferably 2,000 to 40,000, and particularly preferably 5,000 to 25,000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography. Low molecular weight gelatin can be decomposed by adding gelatin-degrading enzyme to a commonly used gelatin aqueous solution with an average molecular weight of about 100,000, hydrolyzing by adding acid or alkali, and heating under atmospheric pressure or pressure. Can be obtained by thermal decomposition, decomposition by ultrasonic irradiation, or a combination of these methods.

核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより好ましい。   The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, and more preferably 0.05 to 3.0% by mass.

ハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いることが好ましい。   As the silver halide grains, it is preferable to use a compound represented by the following general formula when the grains are formed.

YO(CH2CH2O)m〔CH(CH3)CH2O〕p(CH2CH2O)n
式中、Yは水素原子、−SO3M、又は−CO−B−COOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は炭素原子数5以下のアルキル基で置換されたアンモニウム基を表し、Bは有機2塩基性酸を形成する鎖状又は環状の基を表す。m及びnは各々0〜50を表し、pは1〜100を表す。
YO (CH 2 CH 2 O) m [CH (CH 3 ) CH 2 O] p (CH 2 CH 2 O) n Y
In the formula, Y represents a hydrogen atom, —SO 3 M, or —CO—B—COOM, and M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group, or an ammonium group substituted with an alkyl group having 5 or less carbon atoms. B represents a chain or cyclic group that forms an organic dibasic acid. m and n each represents 0 to 50, and p represents 1 to 100.

上記一斑式のポリエチレンオキシド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば特開昭44−9497号に記載される。上記ポリエチレンオキシド化合物は核形成時の消泡剤としても機能する。   The above-mentioned spot type polyethylene oxide compound comprises a step of producing a gelatin aqueous solution, a step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to a gelatin solution, and an emulsion on a support. It has been preferably used as an antifoaming agent for significant foaming in the case of stirring or moving the emulsion raw material, such as a coating step, and the technology used as the antifoaming agent is, for example, JP-A-44-9497. It is described in. The polyethylene oxide compound also functions as an antifoaming agent during nucleation.

上記一般式で表される化合物は、銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。   The compound represented by the above general formula is preferably used at 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass with respect to silver.

上記ポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハライド水溶液もしくは両方の水溶液に0.01〜2.0質量%で添加して用いることである。又、上記一般式の化合物は、核形成工程の少なくとも50%に亘る時間で存在させるのが好ましく、更に好ましくは70%以上に亘る時間で存在させる。上記一般式の化合物は、粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。   The polyethylene oxide compound only needs to be present at the time of nucleation, and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation, but it may be added during nucleation or a silver salt used at the time of nucleation. You may add and use for aqueous solution or halide aqueous solution. Preferably, it is used by adding 0.01 to 2.0% by mass to the halide aqueous solution or both aqueous solutions. The compound of the above general formula is preferably present for a time of at least 50% of the nucleation step, more preferably 70% or more. The compound of the above general formula may be added as a powder or dissolved in a solvent such as methanol.

尚、核形成時の温度は通常5〜60℃、好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン(例えば、核形成開始時の温度が25℃で、核形成中徐々に温度を上げ、核形成終了時の温度が40℃の様な場合)や、その逆のパターンであっても前記温度範囲内で制御するのが好ましい。   The temperature at the time of nucleation is usually 5 to 60 ° C., preferably 15 to 50 ° C. Even if the temperature is constant, the temperature rising pattern (for example, the temperature at the start of nucleation is 25 ° C. It is preferable to control the temperature within the above temperature range even when the temperature is gradually raised and the temperature at the end of nucleation is 40 ° C.) and vice versa.

核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は3.5モル/L以下が好ましく、更には0.01〜2.5モル/Lの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液1L当たり1.5×10-3〜3.0×10-1モル/分が好ましく、更に好ましくは3.0×10-3〜8.0×10-2モル/分である。 The concentration of the aqueous silver salt solution and aqueous halide solution used for nucleation is preferably 3.5 mol / L or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / L. The addition rate of silver ions during nucleation is preferably 1.5 × 10 −3 to 3.0 × 10 −1 mol / min, more preferably 3.0 × 10 −3 to 8.0, per liter of the reaction solution. × 10 -2 mol / min.

核形成時のpHは、通常、1.7〜10の範囲に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒径分布を広げてしまうので、好ましくはpH2〜6である。又、核形成時のpBrは通常0.05〜3.0であり、好ましくは1.0〜2.5、より好ましくは1.5〜2.0である。   The pH at the time of nucleation can usually be set in a range of 1.7 to 10, but it is preferably pH 2 to 6 because the particle size distribution of nuclei to be formed is broadened at the pH on the alkali side. Moreover, pBr at the time of nucleation is usually 0.05 to 3.0, preferably 1.0 to 2.5, more preferably 1.5 to 2.0.

ハロゲン化銀粒子の平均粒径は通常10〜50nm、好ましくは10〜40nmであり、より好ましくは10〜35nmである。ハロゲン化銀粒子の平均粒径が10nmより小さいと画像濃度が低下したり、光照射画像保存性(熱現像によって得た画像を明室で診断等のために使用したり、明室に保管した場合の保存性)が劣化したりすることがある。又、50nmを超えると画像濃度が低下してしまうことがある。   The average grain size of the silver halide grains is usually 10 to 50 nm, preferably 10 to 40 nm, and more preferably 10 to 35 nm. If the average grain size of the silver halide grains is smaller than 10 nm, the image density decreases, or the light irradiation image storage stability (the image obtained by heat development is used for diagnosis in a bright room or stored in a bright room) Storage stability) may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 50 nm, the image density may decrease.

ここで言う平均粒径とは、ハロゲン化銀粒子乳剤中に含まれているハロゲン化銀粒子が立方体、あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。又、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算した時の直径を言う。その他、正常晶でない場合、例えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、当該ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を粒径として算出する。測定は電子顕微鏡写真を用いて行い、300個の粒子の粒径の測定値を平均することで平均粒径を求める。   The average grain diameter referred to here is the length of the edge of the silver halide grains when the silver halide grains contained in the silver halide grain emulsion are cubic or octahedral so-called normal crystals. To tell. Further, when the silver halide grain is a tabular grain, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In addition, in the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical particles, rod-shaped particles, etc., the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of the silver halide grains is calculated as the particle size. The measurement is performed using an electron micrograph, and the average particle diameter is obtained by averaging the measured values of the particle diameters of 300 particles.

又、本発明においては、平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子とを併用することで、画像濃度の階調を調整することができる他、画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を改善(小さく)することができる。平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子との割合(質量比)は、95:5〜50:50が好ましく、より好ましくは90:10〜60:40である。   In the present invention, the gradation of the image density can be adjusted by using silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm in combination. In addition, the image density can be improved, and the decrease in image density over time can be improved (smaller). The ratio (mass ratio) of silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm is preferably 95: 5 to 50:50, more preferably 90. : 10-60: 40.

尚、上記のように、2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を用いる場合には、当該2種のハロゲ化銀乳剤を混合して、感光性層に含有させてもよい。又、階調調整等のために、感光性層を2層以上の層で構成し、それぞれの層に、当該2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を別個に含有させることも好ましい。   As described above, when two types of silver halide grain emulsions having an average particle diameter are used, the two types of silver halide emulsions may be mixed and contained in the photosensitive layer. In order to adjust the gradation, it is also preferred that the photosensitive layer is composed of two or more layers, and each layer contains the silver halide grain emulsions having the two average grain sizes separately.

(沃化銀含有量が5〜100モル%のハロゲン化銀粒子)
本発明に係るハロゲン化銀粒子としては、沃化銀含有量が5〜100モル%のハロゲン化銀粒子を使用する。より好ましくは40〜100モル%、更に好ましくは70〜100モル%であり、特に好ましくは90〜100モル%である。沃化銀含有率がこの範囲であれば、粒子内ハロゲン組成分布が、均一であっても段階的に変化したものでもよく、あるいは連続的に変化したものでもよい。又、内部及び/又は表面に沃化銀含有率が高いコア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。コア/シェル構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造である。
(Silver halide grains having a silver iodide content of 5 to 100 mol%)
As the silver halide grains according to the present invention, silver halide grains having a silver iodide content of 5 to 100 mol% are used. More preferably, it is 40-100 mol%, More preferably, it is 70-100 mol%, Most preferably, it is 90-100 mol%. If the silver iodide content is within this range, the intragranular halogen composition distribution may be uniform, changed stepwise, or continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure having a high silver iodide content inside and / or on the surface can also be preferably used. A preferable core / shell structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably a 2- to 4-fold structure.

ハロゲン化銀粒子に沃化銀を導入する方法としては、粒子形成中に沃化アルカリ水溶液を添加する方法、微粒子沃化銀、微粒子沃臭化銀、微粒子沃塩化銀、微粒子沃塩臭化銀の内、少なくとも1種の微粒子を添加する方法、特開平5−323487号、同6−11780号に記載の沃化物イオン放出剤を用いる方法などが好ましい。   As a method for introducing silver iodide into the silver halide grains, a method of adding an alkali iodide aqueous solution during grain formation, fine grain silver iodide, fine grain silver iodobromide, fine grain silver iodochloride, fine grain silver iodochlorobromide Among them, a method of adding at least one kind of fine particles, a method of using an iodide ion releasing agent described in JP-A-5-323487 and JP-A-6-11780 are preferable.

本発明に係るハロゲン化銀粒子は、350〜440nmの間の波長に沃化銀結晶構造に由来する直接遷移吸収を示すことが好ましい。ハロゲン化銀が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、400〜430nm付近に直接遷移に起因する励起子吸収が見られることで容易に区別することができる。   The silver halide grain according to the present invention preferably exhibits direct transition absorption derived from the silver iodide crystal structure at a wavelength of 350 to 440 nm. Whether or not silver halide has light absorption of direct transition can be easily distinguished by the fact that exciton absorption due to direct transition is observed in the vicinity of 400 to 430 nm.

(熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子)
感光性ハロゲン化銀粒子としては、熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子であることが好ましい。即ち、熱現像前の露光では、現像反応(銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応)の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では、該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることを特徴とする。尚、このように熱現像処理前後で潜像形成機能が大幅に変化するハロゲン化銀粒子を光熱写真材料に用いることは、従来知られていなかった。
(Heat conversion internal latent image type silver halide grains)
The photosensitive silver halide grains are preferably silver halide grains whose surface sensitivity is lowered by converting from a surface latent image type to an internal latent image type by heat development. That is, in the exposure before heat development, a latent image that can function as a catalyst for a development reaction (reduction reaction of silver ions by a silver ion reducing agent) is formed on the surface of the silver halide grains, and the exposure after the heat development process has passed. Then, since many latent images are formed inside the surface of the silver halide grains, the silver halide grains are characterized in that the formation of latent images on the surface is suppressed. Heretofore, it has not been known to use silver halide grains having a latent image forming function greatly changed before and after the heat development processing in the photothermographic material.

一般に、感光性ハロゲン化銀粒子が露光されると、ハロゲン化銀粒子自身、又は、感光性ハロゲン化銀粒子表面上に吸着している分光増感色素が光励起されて、自由に移動できる電子を生じるが、この電子はハロゲン化銀粒子表面に存在する電子トラップ(感光中心)又は当該粒子の内部にある電子トラップに競争的にトラップ(捕獲)される。従って、電子トラップとして有効な化学増感中心(化学増感核)やドーパント等がハロゲン化銀粒子内部より表面に多く、かつ適当数ある場合には、表面に優先的に潜像が形成され現像可能となる。逆に、電子トラップとして有効な化学増感中心(化学増感核)やドーパント等がハロゲン化銀粒子表面より内部に多く、かつ適当数ある場合には、内部に優先的に潜像が形成され表面現像が困難となる。換言すると、前者の場合は、内部より表面の感度が高く、後者の場合は、内部より表面の感度が低いと言える(T.H.James編:The Theory of the Photographic Process,第4版,Macmillan Publishing Co.,Ltd.1977、日本写真学会編:改訂 写真工学の基礎(銀塩写真編),コロナ社,1998等参照)。   In general, when photosensitive silver halide grains are exposed, the silver halide grains themselves or spectral sensitizing dyes adsorbed on the surface of the photosensitive silver halide grains are photoexcited to freely move electrons. Although generated, these electrons are competitively trapped (captured) by an electron trap (photosensitive center) existing on the surface of the silver halide grain or an electron trap inside the grain. Therefore, when there are more chemical sensitization centers (chemical sensitization nuclei) and dopants effective as electron traps on the surface than inside the silver halide grains and there are an appropriate number, latent images are formed on the surface preferentially and developed. It becomes possible. Conversely, if there are more chemical sensitization centers (chemical sensitization nuclei) and dopants effective as electron traps on the inside than the surface of the silver halide grains and there is an appropriate number, a latent image is preferentially formed inside. Surface development becomes difficult. In other words, in the former case, the surface sensitivity is higher than in the interior, and in the latter case, it can be said that the surface sensitivity is lower than in the interior (TH James Edition: The Theory of the Photographic Process, 4th edition, McCillan). Publishing Co., Ltd. 1977, edited by the Japan Photographic Society: Revised Basics of Photographic Engineering (Silver Salt Photography), Corona, 1998, etc.).

本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子においては、少なくとも熱現像後の露光時において、電子トラップ性ドーパントとして機能するドーパントをハロゲン化銀粒子の内部に含有させることが、感度及び画像保存性上好ましい。尚、熱現像前の画像形成のための露光の際には、正孔(ホール)トラップとして機能し、熱現像過程において変質し、熱現像後においては、電子トラップとして機能することができるドーパントが特に好ましい。   In the photosensitive silver halide grain according to the present invention, it is preferable in terms of sensitivity and image storage stability to contain a dopant functioning as an electron trapping dopant at least during exposure after heat development. . In addition, a dopant that functions as a hole trap at the time of exposure for image formation before heat development, changes in the heat development process, and can function as an electron trap after heat development. Particularly preferred.

ここで用いられる電子トラップ性ドーパントとは、ハロゲン化銀粒子を構成する銀及びハロゲン以外の元素又は化合物であって、当該ドーパント自身が自由電子をトラップ(捕獲)できる性質を有する又は当該ドーパントがハロゲン化銀粒子内に含有されることで電子トラップ性の格子欠陥等の部位が生じるものを言う。例えば、銀以外の金属イオン又はその塩もしくは錯体、硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲン(酸素族元素)又は窒素原子を含む無機化合物又は有機化合物もしくは、それらの金属錯体、希土類イオン又はその錯体等が挙げられる。   The electron trapping dopant used here is an element or compound other than silver and halogen constituting silver halide grains, and the dopant itself has a property of trapping (capturing) free electrons, or the dopant is halogen. This refers to a material in which a site such as an electron trapping lattice defect is generated by being contained in a silver halide grain. For example, metal ions other than silver or salts or complexes thereof, chalcogens (oxygen group elements) such as sulfur, selenium and tellurium, or inorganic or organic compounds containing nitrogen atoms, or metal complexes thereof, rare earth ions or complexes thereof, etc. Is mentioned.

金属イオン又はその塩もしくは錯体としては、鉛イオン、ビスマスイオン、金イオン等、又は臭化鉛、硝酸鉛、炭酸鉛、硫酸鉛、硝酸ビスマス、塩化ビスマス、三塩化ビスマス、炭酸ビスマス、ビスマス酸ナトリウム、塩化金酸、酢酸鉛、ステアリン酸鉛、酢酸ビスマス等を挙げることが出来る。   Examples of metal ions or salts or complexes thereof include lead ions, bismuth ions, gold ions, etc., or lead bromide, lead nitrate, lead carbonate, lead sulfate, bismuth nitrate, bismuth chloride, bismuth trichloride, bismuth carbonate, sodium bismuthate Chloroauric acid, lead acetate, lead stearate, bismuth acetate and the like.

硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲンを含む化合物としては、写真業界において、一般にカルコゲン増感剤として知られているカルコゲン放出性の種々の化合物を使用することが出来る。又、カルコゲン又は窒素を含有する有機物としては、複素環式化合物が好ましい。例えばイミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、インドレニン、テトラザインデンであり、好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、テトラザインデンである。   As the compound containing chalcogen such as sulfur, selenium, and tellurium, various chalcogen-releasing compounds generally known as chalcogen sensitizers in the photographic industry can be used. Moreover, as an organic substance containing chalcogen or nitrogen, a heterocyclic compound is preferable. For example, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole , Thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, indolenine, tetrazaindene, preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine , Quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, ox Tetrazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, tetraazaindene.

尚、上記の複素環式化合物は置換基を有していてもよく、置換基として好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、複素環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、複素環基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、複素環基である。   The heterocyclic compound may have a substituent, and the substituent is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group. Aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, Sulfo group, carboxyl group, nitro group and heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamido. Group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, An acylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and a heterocyclic group.

尚、ハロゲン化銀粒子には、上記のドーパントのように電子トラップ性ドーパントとして機能するように、あるいはホールトラップ性ドーパントとして機能するように元素周期律表の6〜11族に属する遷移金属のイオンを当該金属の酸化状態を配位子(リガンド)等により化学的に調整して含有させてもよい。上記の遷移金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Ptが好ましい。   The silver halide grains include transition metal ions belonging to groups 6 to 11 of the periodic table so that they function as electron trapping dopants as described above or as hole trapping dopants. May be included by chemically adjusting the oxidation state of the metal with a ligand (ligand) or the like. As the transition metal, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, and Pt are preferable.

上記の各種ドーパントについては、1種類でも、同種あるいは異種の化合物もしくは錯体を2種以上併用してもよい。ただし、少なくとも1種は、熱現後の露光の際に電子トラップ性ドーパントとして機能することが必要である。これらのドーパントは、どのような化学的形態でもハロゲン化銀粒子内に導入してもよい。   As for the various dopants described above, one kind may be used, or two or more kinds of the same kind or different kinds of compounds or complexes may be used in combination. However, at least one kind needs to function as an electron trapping dopant at the time of exposure after thermal development. These dopants may be introduced into the silver halide grains in any chemical form.

尚、本発明においては、Ir又はCuの錯体もしくは塩の何れか1種を単独で用いてドーピングする態様は余り好ましくない。   In the present invention, an embodiment in which any one of Ir or Cu complex or salt is used alone is not preferable.

ドーパントの好ましい含有率は、銀1モルに対し1×10-9〜1×10モルの範囲が好ましく、1×10-8〜1×10-1モルの範囲がより好ましい。更には1×10-6〜1×10-2モルが好ましい。ただし、最適量は、ドーパントの種類、ハロゲン化銀粒子の粒径、形状等、その他環境条件等に依存するので、これらの条件に応じてドーパント添加条件の最適化の検討をすることが好ましい。 The preferable content of the dopant is preferably in the range of 1 × 10 −9 to 1 × 10 mol and more preferably in the range of 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol with respect to 1 mol of silver. Furthermore, 1 * 10 < -6 > -1 * 10 <-2> mol is preferable. However, since the optimum amount depends on the kind of dopant, the grain size and shape of the silver halide grains, and other environmental conditions, it is preferable to examine optimization of the dopant addition conditions according to these conditions.

遷移金属錯体又は錯体イオンとしては、下記一般式で表されるものが好ましい。   As the transition metal complex or complex ion, those represented by the following general formula are preferable.

一般式〔ML6m
式中、Mは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子を表し、mは0、−、2−、3−又は4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲンイオン(弗素イオン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン)、シアナイド、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、又、異なってもよい。
General formula [ML 6 ] m
In the formula, M represents a transition metal selected from Group 6 to 11 elements in the periodic table, L represents a ligand, and m represents 0,-, 2-, 3-, or 4-. Specific examples of the ligand represented by L include halogen ion (fluorine ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide, and aco. A ligand, nitrosyl, thionitrosyl and the like can be mentioned, and ako, nitrosyl, thionitrosyl and the like are preferable. When an acoligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

これらの金属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後の、どの段階で添加してもよいが、特に、核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の後半段階又は直後に添加する。添加に際しては、数回に亘って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、例えば特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号等に記載されるように、粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。   The compounds providing these metal ions or complex ions are preferably added at the time of silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening In addition, it may be added at any stage before or after chemical sensitization, but it is particularly preferable to add it at the stage of nucleation, growth and physical ripening, and more preferably at the stage of nucleation and growth. Most preferably, it is added at a later stage or immediately after nucleation. In addition, it may be divided and added several times, and can be uniformly contained in the silver halide grains. For example, JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, As described in JP-A-3-167545, JP-A-4-76534, JP-A-6-110146, JP-A-5-273683, etc., the particles may be included with a distribution.

これらの金属化合物は、水あるいは適当な有機溶媒(アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば金属化合物粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、あるいは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合される時、第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、あるいはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後、物理熟成時途中もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。   These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). For example, an aqueous solution of metal compound powder or metal A method in which an aqueous solution in which a compound, NaCl, and KCl are dissolved together is added to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during particle formation, or when the silver salt solution and the halide solution are mixed at the same time. Add as a third aqueous solution and prepare silver halide grains by the method of simultaneous mixing of three liquids, add a required amount of an aqueous solution of a metal compound to the reaction vessel during grain formation, or prepare in advance at the time of silver halide preparation There is a method of adding and dissolving another silver halide grain doped with metal ions or complex ions. In particular, a method of adding an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble halide solution. When added to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particle, during or after physical ripening, or at the time of chemical ripening.

尚、非金属性ドーパントも上記の金属性ドーパントと同様の方法によってハロゲン化銀内部に導入することが出来る。   In addition, a nonmetallic dopant can also be introduce | transduced inside a silver halide by the method similar to said metallic dopant.

本発明の光熱写真材料において、上記のドーパントが電子トラップ性を有するか否かについては、次のように、写真業界において従来一般的に用いられている方法で評価することが出来る。即ち、上記のドーパント又はその分解物がハロゲン化銀粒子内にドープされたハロゲン化銀粒子から成るハロゲン化銀乳剤を、マイクロ波光伝導測定法等による光伝導測定によりドーパントを含有していないハロゲン化銀粒子乳剤を基準として光伝導の減少度を測定することにより評価できる。又は、当該ハロゲン化銀粒子の内部感度と表面感度の比較実験によっても出来る。   In the photothermographic material of the present invention, whether or not the above dopant has an electron trapping property can be evaluated by a method generally used in the photographic industry as follows. That is, a silver halide emulsion comprising silver halide grains doped with the above-mentioned dopant or a decomposition product thereof in silver halide grains is subjected to photoconductivity measurement using a microwave photoconductivity measurement method or the like, and the halogenation does not contain a dopant. It can be evaluated by measuring the degree of decrease in photoconduction based on a silver grain emulsion. Alternatively, it can be performed by a comparative experiment of the internal sensitivity and surface sensitivity of the silver halide grains.

又は、光熱写真材料とした後に、本発明に係る電子トラップ性ドーパントの効果を評価する場合の方法は、例えば、当該光熱写真材料を、露光前に通常の実用的熱現像条件と同じ条件で加熱して、その後に一定時間(例えば30秒間)、白色光又は特定の分光増感領域の光(特定の波長域のレーザ光に対して分光増感を施した場合は、当該波長領域の光、例えば赤外光に対して分光増感を施した場合には、赤外光、ハロゲン化銀粒子固有の感光領域の光、例えば青色光に対して増感を施した場合は青色光)を光学楔を通して露光し、又はレーザ光の感光材料面照度を段階的に変化させて露光し、更に前記と同一の熱現像条件で熱現像して得られる特性曲線(センシトメトリーカーブ)に基づき得られる感度を、当該電子トラップ性ドーパントを含有していないハロゲン化銀粒子乳剤を使用した光熱写真材料の感度と比較することにより評価できる。即ち、本発明に係るドーパントを含有するハロゲン化銀粒子乳剤を含む前者の試料の感度は、当該ドーパントを含まない後者の試料の感度に比較して低くなっていることの確認によってできる。   Alternatively, after making the photothermographic material, the method for evaluating the effect of the electron trapping dopant according to the present invention is, for example, heating the photothermographic material under the same conditions as normal practical heat development conditions before exposure. Then, for a certain period of time (for example, 30 seconds), white light or light in a specific spectral sensitization region (when spectral sensitization is performed on laser light in a specific wavelength region, For example, when spectral sensitization is applied to infrared light, infrared light, light in a photosensitive region unique to silver halide grains, for example, blue light when sensitized to blue light) is optical It is obtained on the basis of a characteristic curve (sensitometry curve) obtained by exposing through a wedge or performing exposure by changing the illuminance of the surface of the photosensitive material of the laser light stepwise, and further by heat development under the same heat development conditions as described above. Sensitivity to the electron trapping dopant It can be evaluated by comparing the sensitivity of the photothermographic materials using silver halide grain emulsion which does not contain. That is, it can be confirmed by confirming that the sensitivity of the former sample containing the silver halide grain emulsion containing the dopant according to the present invention is lower than the sensitivity of the latter sample not containing the dopant.

尚、当該光熱写真材料を、一定時間、白色光又は特定の分光増感領域の光を光学楔を通して、又はレーザ光の光熱写真材料面照度を段階的に変化させて、露光をした後に、通常の実用的熱現像条件で熱現像をした時に得られる特性曲線に基づき得られる感度(S1)に対して、露光前に前記の熱現像条件と同じ条件で加熱して、その後に前記露光と同じ露光条件で露光し、前記熱現像と同じ現像条件で熱現像して得られる特性曲線に基づき得られる感度(S2)が、相対比(S2/S1)として1/10以下、好ましくは1/20以下、更にハロゲン化銀粒子乳剤に化学増感を施した光熱写真材料の場合は、好ましくは1/50以下の低感度であることが好ましい。更に、化学増感を施さない場合及び施す場合の何れにおいても、熱現像後の表面感度が実質的にゼロであることが最も好ましい。   The photothermographic material is usually exposed after being exposed for a certain period of time by white light or light in a specific spectral sensitization region through an optical wedge or by changing the photothermographic material surface illuminance of laser light stepwise. With respect to the sensitivity (S1) obtained based on the characteristic curve obtained when thermal development is performed under the practical thermal development conditions, heating is performed under the same conditions as the thermal development conditions before exposure, and then the same as the exposure described above. The sensitivity (S2) obtained on the basis of a characteristic curve obtained by exposure under exposure conditions and thermal development under the same development conditions as the thermal development is 1/10 or less, preferably 1/20 as a relative ratio (S2 / S1). Hereinafter, in the case of a photothermographic material in which a silver halide grain emulsion is further chemically sensitized, the sensitivity is preferably 1/50 or less. Furthermore, it is most preferable that the surface sensitivity after heat development is substantially zero in both cases where chemical sensitization is not performed and when chemical sensitization is performed.

ここで、通常の熱現像条件とは、病院等の医療機関等において、銀塩光熱写真材料を市販のレーザイメージャを使用して熱現像し、診断用等の用途に適した画像を得る場合に、温度、現像時間及び環境湿度等の条件について適切な範囲とされている条件を言う。   Here, normal heat development conditions are used when a silver salt photothermographic material is thermally developed using a commercially available laser imager in a medical institution such as a hospital to obtain an image suitable for diagnostic use. It refers to conditions that are in an appropriate range for conditions such as temperature, development time, and environmental humidity.

ハロゲン化銀粒子は、如何なる方法で感光性層に添加されてもよい。例えば、ハロゲン化銀粒子、特に熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子は、予め調製しておき、これを脂肪族カルボン酸銀塩粒子を調製するための溶液に添加することが、ハロゲン化銀粒子調製工程と脂肪族カルボン酸銀塩粒子調製工程を分離して扱え、製造コントロール上も好ましい。又、ハロゲン化銀粒子と脂肪族カルボン酸銀粒子を、それぞれ別途に調製しておき、塗布工程の直前に、それぞれを感光性層調製液に添加する方法がより好ましい。   The silver halide grains may be added to the photosensitive layer by any method. For example, it is possible to prepare silver halide grains, particularly heat-converted internal latent image type silver halide grains in advance, and add them to a solution for preparing aliphatic carboxylic acid silver salt grains. The particle preparation step and the aliphatic carboxylic acid silver salt particle preparation step can be handled separately, which is preferable in terms of production control. In addition, it is more preferable to prepare silver halide grains and aliphatic silver carboxylate grains separately and add them to the photosensitive layer preparation liquid immediately before the coating step.

尚、別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子は、脱塩工程により不要な塩類等を、ヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、脱塩しないで用いることもできる。   Separately prepared photosensitive silver halide grains are subjected to desalting by using a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method or an electrodialysis method. However, it can be used without desalting.

本発明に係るハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル、好ましくは0.03〜0.5モルで使用するのが好ましい。   The silver halide grains according to the present invention are used in an amount of 0.001 to 0.7 mol, preferably 0.03 to 0.5 mol, per mol of the aliphatic carboxylic acid silver salt.

(化学増感)
感光性ハロゲン化銀粒子には化学増感を施すことができる。例えば特開2001−249428号及び同2001−249426号に記載されている方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、感光性ハロゲン化銀粒子又は当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子又は正孔を捕獲することができる化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されるのが好ましい。
(Chemical sensitization)
The photosensitive silver halide grains can be chemically sensitized. For example, by using a noble metal compound that releases a chalcogen such as sulfur, selenium or tellurium or a noble metal ion such as gold ion by the method described in JP-A Nos. 2001-249428 and 2001-249426, Chemical sensitization centers (chemical sensitization nuclei) capable of capturing electrons or holes generated by photoexcitation of photosensitive silver halide grains or spectral sensitizing dyes on the grains can be provided. In particular, chemical sensitization with an organic sensitizer containing a chalcogen atom is preferred.

これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。   These organic sensitizers containing chalcogen atoms are preferably compounds having groups capable of adsorbing to silver halide and unstable chalcogen atom sites.

これらの有機増感剤としては、特開昭60−150046号、特開平4−109240号、同11−218874号、同11−218875号、同11−218876号、同11−194447号等に開示される種々の構造を有する増感剤を用いることができるが、それらの内、カルコゲン原子が炭素原子又は燐原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。特に、複素環基を有するチオ尿素誘導体及びトリフェニルホスフィンスルフィド誘導体等が好ましい。   These organic sensitizers are disclosed in JP-A-60-150046, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874, JP-A-11-218875, JP-A-11-218876, JP-A-11-194447, etc. Sensitizers having various structures can be used, and among them, the chalcogen atom must be at least one compound having a structure in which a carbon atom or a phosphorus atom is bonded to a double bond. preferable. In particular, a thiourea derivative having a heterocyclic group and a triphenylphosphine sulfide derivative are preferred.

化学増感を施す方法としては、従来の湿式処理用のハロゲン化銀感光材料の製造の際に慣用されている種々の化学増感技術に準じた技術が使用できる(T.H.James編:The Theory of the Photographic Process,第4版,Macmillan Publishing Co.,Ltd.1977、日本写真学会編:写真工学の基礎(銀塩写真編),コロナ社,1979等参照)。特に、ハロゲン化銀粒子乳剤に予め化学増感を施し、その後に非感光性有機銀塩粒子と混合する場合には、従来の慣用方法により化学増感を施すことができる。   As a method for performing chemical sensitization, techniques according to various chemical sensitization techniques commonly used in the production of conventional silver halide light-sensitive materials for wet processing can be used (edited by TH James: The Theory of the Photographic Process, 4th edition, McCillan Publishing Co., Ltd., edited by the Japan Photographic Society: Basics of Photographic Engineering (Silver Salt Photography), Corona, 1979, etc.). In particular, when the silver halide grain emulsion is previously chemically sensitized and then mixed with non-photosensitive organic silver salt grains, it can be chemically sensitized by a conventional method.

有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-2モルが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3モルを用いる。化学増感を施す際の環境条件としては特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀又は銀核を消滅あるいは、それらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、又、特に銀核を酸化し得る酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましい場合がある。この場合の増感条件は、pAgとして6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜8、又、温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。 The amount of the chalcogen compound used as the organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, silver halide grains, reaction environment for chemical sensitization, and the like, but it is 10 −8 to 10 −2 per mole of silver halide. Moles are preferred, more preferably 10 −7 to 10 −3 moles. There are no particular restrictions on the environmental conditions for chemical sensitization, but in the presence of a compound capable of eliminating or reducing the size of silver chalcogenide or silver nuclei on the photosensitive silver halide grains. In particular, it may be preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidizing agent capable of oxidizing silver nuclei. The sensitizing conditions in this case are preferably 6 to 11 as pAg, more preferably 7 to 10, pH is preferably 4 to 10, more preferably 5 to 8, and the temperature is increased at 30 ° C. or less. It is preferable to give a feeling.

又、これらの有機増感剤を用いた化学増感は、分光増感色素又はハロゲン化銀粒子に対して吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平3−24537号に記載される含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物における複素環としては、例えばピラゾール、ピリミジン、1,2,4−トリアゾール、1,2,3−トリアゾール、1,3,4−チアジアゾール、1,2,3−チアジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,5−チアジアゾール、1,2,3,4−テトラゾール、ピリダジン、1,2,3−トリアジン等の各環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール、ジアザインデン、トリアザインデン、ペンタザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えばフタラジン、ベンゾイミダゾール、インダゾール、ベンゾチアゾール環なども適用できる。   Further, chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably performed in the presence of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to spectral sensitizing dyes or silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having an adsorptivity to silver halide, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. Although the spectral sensitizing dye will be described later, preferred examples of the heteroatom-containing compound having an adsorptivity to silver halide include nitrogen-containing heterocyclic compounds described in JP-A-3-24537. Examples of the heterocyclic ring in the nitrogen-containing heterocyclic compound include pyrazole, pyrimidine, 1,2,4-triazole, 1,2,3-triazole, 1,3,4-thiadiazole, 1,2,3-thiadiazole, 1, Each ring such as 2,4-thiadiazole, 1,2,5-thiadiazole, 1,2,3,4-tetrazole, pyridazine, 1,2,3-triazine, a ring in which 2 to 3 of these rings are bonded, For example, triazolotriazole, diazaindene, triazaindene, pentazaindene ring and the like can be mentioned. A heterocyclic ring in which a monocyclic heterocyclic ring and an aromatic ring are condensed, for example, phthalazine, benzimidazole, indazole, benzothiazole ring and the like can also be applied.

これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えば、ヒドロキシトリアザインデン、ヒドロキシテトラザインデン、ヒドロキシペンタザインデン化合物等が更に好ましい。   Among these, an azaindene ring is preferable, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, for example, hydroxytriazaindene, hydroxytetrazaindene, hydroxypentazaindene compound and the like are more preferable.

複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては、例えば(置換)アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。   The heterocyclic ring may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include (substituted) alkyl groups, alkylthio groups, amino groups, hydroxyamino groups, alkylamino groups, dialkylamino groups, arylamino groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups, halogen atoms, cyano groups, and the like. May be.

これ含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成、その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、大凡の量は、ハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルの範囲であり、好ましくは10-4〜10-1モルの範囲である。 The amount of the heterocyclic compound added varies over a wide range depending on the size and composition of the silver halide grains, other conditions, etc., but the approximate amount is from 10 −6 to 10 −6 per mole of silver halide. The range is 1 mol, and preferably in the range of 10 −4 to 10 −1 mol.

感光性ハロゲン化銀には、金イオン等の貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。尚、特開平11−194447号に開示される金増感技術が参考となる。   The photosensitive silver halide can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example, a chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer. The gold sensitization technique disclosed in JP-A-11-194447 is useful as a reference.

又、上記増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物として、例えばアスコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1錫、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。又、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。   In addition to the above sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used. Examples of reduction sensitization shell-like compounds include ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, and borane compounds. A silane compound, a polyamine compound, or the like can be used. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower.

化学増感を施されるハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩の存在下で形成されたものでも、当該有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、又、両者が混合されたものでもよい。   The silver halide grains subjected to chemical sensitization may be those formed in the presence of an aliphatic carboxylic acid silver salt, those formed in the absence of the organic silver salt, or a mixture of both. It may be done.

感光性ハロゲン化銀粒子の表面に化学増感を施した場合には、熱現像過程経過後に該化学増感の効果が実質的に消失することが必要である。ここで、化学増感の効果が実質的に消失するとは、前記の化学増感技術によって得た当該光熱写真材料の感度が熱現像過程経過後に化学増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。尚、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、化学増感中心(化学増感核)を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば後記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該光熱写真材料の乳剤層又は/及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、化学増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。   When the surface of the photosensitive silver halide grain is chemically sensitized, it is necessary that the chemical sensitization effect substantially disappears after the thermal development process. Here, the effect of chemical sensitization substantially disappears when the sensitivity of the photothermographic material obtained by the chemical sensitization technique is 1. Say to decrease to 1 times or less. In order to eliminate the chemical sensitization effect in the thermal development process, an oxidant capable of destroying the chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) by an oxidation reaction at the time of thermal development, such as a halogen radical releasing compound described later, etc. It is necessary to contain an appropriate amount in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the photothermographic material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the chemical sensitization effect, and the like.

(分光増感)
本発明の感光性ハロゲン化銀には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン、メロシアニン、コンプレックスシアニン、コンプレックスメロシアニン、ホロポーラーシアニン、スチリル、ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノール等の各色素を用いることができる。例えば、特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許4,639,414号、同4,740,455号、同4,741,966号、同4,751,175号、同4,835,096号に記載された増感色素が使用できる。
(Spectral sensitization)
The photosensitive silver halide of the present invention is preferably subjected to spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye. As the spectral sensitizing dye, dyes such as cyanine, merocyanine, complex cyanine, complex merocyanine, holopolar cyanine, styryl, hemicyanine, oxonol, hemioxonol and the like can be used. For example, JP-A-63-159841, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651, JP-A-63-304242, JP-A-63-15245, U.S. Pat. The sensitizing dyes described in US Pat. Nos. 4,740,455, 4,741,966, 4,751,175, and 4,835,096 can be used.

本発明に使用される有用な増感色素は、例えばリサーチ・ディスクロージャー(以下、RDと略す)17643IV−A項(1978年12月,23頁)、RD18431X項(1978年8月,437頁)に記載もしくは引用された文献に記載される。特に、各種レーザイメージャやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号に記載の化合物が好ましく用いられる。   Useful sensitizing dyes used in the present invention are described in, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) 17643IV-A (December 1978, page 23), RD18431X (August 1978, page 437). It is described in the document described or cited. In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various laser imagers and scanner light sources. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.

有用なシアニン色素は、例えばチアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。   Useful cyanine dyes are cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Useful merocyanine dyes are preferably acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus in addition to the above basic nucleus. Including.

本発明では、特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば米国特許4,536,473号、同4,515,888号、同4,959,294号等に開示される赤外分光増感色素が挙げられる。   In the present invention, a sensitizing dye having spectral sensitivity particularly in the infrared can also be used. Examples of infrared spectral sensitizing dyes preferably used include infrared spectral sensitizing dyes disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,536,473, 4,515,888, and 4,959,294. It is done.

本発明の熱現像方法で用いられる光熱写真材料においては、米国公開特許公報20,040,224,266号に記載されている一般式(1)で表される増感色素及び一般式(2)で表される増感色素の内から少なくとも1種を選び含有することが好ましく、一般式(5)で表される増感色素及び一般式(6)で表される増感色素の内から少なくとも1種を選び含有することがより好ましい。一般式(5)で表される増感色素及び一般式(6)で表される増感色素を併用することが、露光時の露光波長依存性を改良する上で特に好ましい。   In the photothermographic material used in the heat development method of the present invention, the sensitizing dye represented by the general formula (1) and the general formula (2) described in U.S. Published Patent Application No. 20,040,224,266. It is preferable to select and contain at least one of sensitizing dyes represented by general formula (5), and at least from the sensitizing dye represented by general formula (5) and the sensitizing dye represented by general formula (6). It is more preferable to select and contain one kind. It is particularly preferable to use a sensitizing dye represented by the general formula (5) and a sensitizing dye represented by the general formula (6) in order to improve the exposure wavelength dependency during exposure.

上記の赤外増感色素は、例えば、エフ・エム・ハーマー著:The Chemistry of Heterocyclic Compounds第18巻,The Cyanine Dyes and Related Compounds(A.Weissberger ed.Interscience社刊,New York,1964年)に記載の方法によって容易に合成することができる。   The above-described infrared sensitizing dyes are described in, for example, F. F. Hammer: The Chemistry of Heterocyclic Compounds, Vol. 18, The Cyanine Dies and Related Compounds, published by A. Weissberger ed. It can be easily synthesized by the method described.

これら赤外増感色素の添加時期は、ハロゲン化銀調製後の任意の時期でよく、例えば溶剤に添加して、あるいは微粒子状に分散した、いわゆる固体分散状態でハロゲン化銀粒子あるいはハロゲン化銀粒子/脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。   These infrared sensitizing dyes may be added at any time after the preparation of the silver halide. For example, it is added to a solvent or dispersed in the form of fine particles, so-called silver halide grains or silver halides in a solid dispersion state. It can be added to a light-sensitive emulsion containing grains / silver aliphatic carboxylate grains. Similarly to the heteroatom-containing compound having adsorptivity to the silver halide grains, chemical sensitization can be performed after adding and adsorbing to the silver halide grains prior to chemical sensitization. Thus, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved.

上記の分光増感色素は1種類を単独に用いてもよいが、上述のように、分光増感色素の複数の種類の組合せを用いることが好ましく、そのような増感色素の組合せは、特に強色増感及び感光波長領域の拡大や調整等の目的でしばしば用いられる。   The above spectral sensitizing dyes may be used alone, but as described above, it is preferable to use a combination of a plurality of types of spectral sensitizing dyes. Often used for purposes such as supersensitization and expansion or adjustment of the photosensitive wavelength region.

本発明の光熱写真材料に用いられる感光性ハロゲン化銀、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する乳剤は、増感色素と共に、それ自身分光増感作用を持たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されてもよい。   The emulsion containing the photosensitive silver halide and aliphatic carboxylic acid silver salt used in the photothermographic material of the present invention substantially absorbs a dye having no spectral sensitizing action or visible light itself together with a sensitizing dye. A substance that does not exhibit a supersensitization effect may be included in the emulsion, whereby the silver halide grains may be supersensitized.

有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質は、RD17643(1978年12月発行),23頁IVのJ項、又は特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号等に記載されているが、強色増感剤としては、下記で表される複素芳香族メルカプト化合物が又はメルカプト誘導体化合物が好ましい。   Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in RD17643 (issued in December, 1978), page 23, Section J, or Japanese Patent Publication No. 9-25500, 43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, JP-A-5-341432, and the like. Examples of supersensitizers include heteroaromatic mercapto represented by the following. A compound or a mercapto derivative compound is preferred.

Ar−SM
式中、Mは水素原子又はアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム又はテルリウム原子を有する芳香環又は縮合芳香環である。
Ar-SM
In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms.

好ましくは、複素芳香環のベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、又はキナゾリン等である。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。   Preferably, heteroaromatic benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine , Purine, quinoline, quinazoline and the like. However, other heteroaromatic rings are also included.

尚、脂肪族カルボン酸銀塩又はハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させた時に実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。   In addition, a mercapto derivative compound which substantially forms the above mercapto compound when contained in a dispersion of an aliphatic carboxylic acid silver salt or a silver halide grain emulsion is also included. In particular, mercapto derivative compounds represented below are preferred examples.

Ar−S−S−Ar
式中のArは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
Ar-SS-Ar
Ar in the formula has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented above.

上記の複素芳香環は、例えばハロゲン原子(塩素、臭素、沃素)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(好ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(好ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)から成る群から選ばれる置換基を有し得る。   The heteroaromatic ring is, for example, a halogen atom (chlorine, bromine, iodine), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms) and an alkoxy group (preferably 1). Can have a substituent selected from the group consisting of ˜4 carbon atoms).

上記強色増感剤の他に、特開2001−330918号に開示されるヘテロ原子を有する大環状化合物も使用できる。   In addition to the supersensitizer, a macrocyclic compound having a heteroatom disclosed in JP-A No. 2001-330918 can also be used.

これら強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光性層中に、銀1モル当たり0.001〜1.0モルで用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀1モル当たり0.01〜0.5モルの量である。   These supersensitizers are preferably used in a photosensitive layer containing an organic silver salt and silver halide grains in an amount of 0.001 to 1.0 mole per mole of silver. Particularly preferred is an amount of 0.01 to 0.5 mole per mole of silver.

本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に分光増感色素を吸着せしめ分光増感が施されており、かつ熱現像過程経過後に該分光増感効果が実質的に消失することが好ましい。ここで、分光増感効果が実質的に消失するとは、増感色素、強色増感剤等によって得た当該光熱写真材料の感度が熱現像過程経過後に分光増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。   In the present invention, it is preferable that spectral sensitization is performed by adsorbing a spectral sensitizing dye on the surface of photosensitive silver halide grains, and that the spectral sensitization effect substantially disappears after the thermal development process. . Here, the spectral sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the photothermographic material obtained with a sensitizing dye, supersensitizer, etc. is not subjected to spectral sensitization after the thermal development process. It is said to decrease to 1.1 times or less.

尚、分光増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、熱によってハロゲン化銀粒子より脱離し易い分光増感色素を使用する、又は/及び分光増感色素を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該光熱写真材料の乳剤層又は/及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、分光増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。   In order to eliminate the spectral sensitizing effect in the thermal development process, a spectral sensitizing dye that is easily detached from the silver halide grains by heat is used during thermal development, or / and the spectral sensitizing dye is oxidized by an oxidation reaction. It is necessary to contain an appropriate amount of an oxidizing agent that can be destroyed, such as the above-mentioned halogen radical releasing compound, in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the photothermographic material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the spectral sensitization effect, and the like.

(還元剤)
還元剤は、感光性層中で銀イオンを還元し得るものであり、現像剤とも言う。
(Reducing agent)
The reducing agent is capable of reducing silver ions in the photosensitive layer and is also called a developer.

本発明においては、銀イオンの還元剤の少なくとも1種が下記一般式(RD1)で表される化合物を単独又は他の異なる化学構造を有する還元剤と併用rることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that at least one silver ion reducing agent is a compound represented by the following general formula (RD1) alone or in combination with a reducing agent having another different chemical structure.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

式中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表し、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。R2はアルキル基を表し、同一でも異なってもよい。R3は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。R4はベンゼン環に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。 In the formula, X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 , and R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 represents an alkyl group and may be the same or different. R 3 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. R 4 represents a group that can be substituted on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2.

一般式(RD1)で表される化合物の内でも、特にR2の少なくとも一方が2級又は3級のアルキル基である高活性な還元剤(以降、RD1aの化合物と呼ぶ)を用いることが、高濃度で、光照射画像保存性に優れた熱現像写真材料を得ることができる点でより好ましい。 Among the compounds represented by the general formula (RD1), it is particularly preferable to use a highly active reducing agent (hereinafter referred to as a compound of RD1a) in which at least one of R 2 is a secondary or tertiary alkyl group. It is more preferable in that a heat-developable photographic material having a high concentration and excellent in light irradiation image storage stability can be obtained.

(RD1a)の化合物と下記一般式(RD2)の化合物とを併用することが望ましい色調を得るためには好ましい。   In order to obtain a desirable color tone, it is preferable to use a compound of (RD1a) and a compound of the following general formula (RD2).

Figure 2006267209
Figure 2006267209

式中、X2はカルコゲン原子又はCHR5を表し、R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。R7は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。R8はベンゼン環に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。 In the formula, X 2 represents a chalcogen atom or CHR 5 , and R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group. R 7 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. R 8 represents a group substitutable on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2.

両還元剤の併用比率としては、[(RD1a)の化合物の質量]:[(RD2)の化合物の質量]が5:95〜45:55であることが好ましく、より好ましくは10:90〜40:60である。   The combined ratio of both reducing agents is preferably [mass of compound of (RD1a)]: [mass of compound of (RD2)] is 5:95 to 45:55, more preferably 10:90 to 40. : 60.

以下、一般式(RD1)及び(RD2)で表される化合物について詳述する。   Hereinafter, the compounds represented by the general formulas (RD1) and (RD2) will be described in detail.

一般式(RD1)中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表す。カルコゲン原子としては、硫黄、セレン、テルルであり、好ましくは硫黄原子である。CHR1におけるR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。ハロゲン原子としては弗素、塩素、臭素原子等であり、アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル等;アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等;アリール基としてはフェニル、ナフチル基;、複素環基としてはチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等の各基である。 In the general formula (RD1), X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 . The chalcogen atom is sulfur, selenium or tellurium, preferably a sulfur atom. R 1 in CHR 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. The halogen atom is a fluorine, chlorine, bromine atom or the like, and the alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, heptyl. Alkenyl groups include vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, etc .; aryl groups As phenyl, naphthyl group; and heterocyclic groups as thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyrrolyl and the like.

これらの基は更に置換基を有していてもよく、具体的には、ハロゲン原子(弗素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、i−ペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、デシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロヘプチル等)、アルケニル基(エテニル、2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、シクロアルケニル基(1−シクロアルケニル、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(エチニル、1−プロピニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ等)、アルキルカルボニルオキシ基(アセチルオキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、トリフルオロメチルチオ等)、アシル基(アセチル、ベンゾイル等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(アセチルアミノ等)、ウレイド基(メチルアミノカルボニルアミノ等)、アルキルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−モルホリノカルボニル等)、スルファモイル基(スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、モルホリノスルファモイル等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド等)、アルキルアミノ基(アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ等)、スルホ基、ホスホノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(メタンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノカルボニル等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドスルホニル等)、アルキニルアミノカルボニル基(アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボニル等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンスルフィニルアミノカルボニル等)等が挙げられる。又、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。特に好ましい置換基はアルキル基である。   These groups may further have a substituent, specifically, halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, etc.), alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, i-pentyl, 2- Ethylhexyl, octyl, decyl, etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cycloheptyl, etc.), alkenyl groups (ethenyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3- Butenyl, etc.), cycloalkenyl groups (1-cycloalkenyl, 2-cycloalkenyl groups, etc.), alkynyl groups (ethynyl, 1-propynyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, etc.), alkylcarbonyloxy groups (acetyloxy) Etc.), alkylthio group (methylthio, trifluoromethylthio, etc.), acyl group (aceto , Benzoyl, etc.), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (acetylamino etc.), ureido group (methylaminocarbonylamino etc.), alkylsulfonylamino group (methanesulfonylamino etc.), alkylsulfonyl group (methanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl) ), Carbamoyl group (carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-morpholinocarbonyl, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, morpholinosulfamoyl etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group Nitro group, cyano group, alkylsulfonamide group (methanesulfonamide, butanesulfonamide, etc.), alkylamino group (amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino, etc.), sulfo group Phosphono group, sulfite group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (methanesulfonylaminocarbonyl, ethanesulfonylaminocarbonyl, etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (acetamidosulfonyl, methoxyacetamidosulfonyl, etc.), alkynylaminocarbonyl group (acetamidocarbonyl) , Methoxyacetamidocarbonyl, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl groups (methanesulfinylaminocarbonyl, ethanesulfinylaminocarbonyl, etc.) and the like. Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. Particularly preferred substituents are alkyl groups.

2はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、少なくとも一方は2級又は3級のアルキル基であることが好ましい。アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル、1−メチルシクロプロピル等の各基が挙げられる。アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えばアリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。又、(R4)n及び(R4)mと飽和環を形成してもよい。R2は好ましくは何れも2級又は3級のアルキル基であり、炭素数2〜20が好ましい。より好ましくは3級アルキル基であり、更に好ましくはt−ブチル、t−ペンチル、1−メチルシクロヘキシル基であり、最も好ましくはt−ブチル基である。 R 2 represents an alkyl group, which may be the same or different, but at least one is preferably a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, i-butyl, t-butyl, t-pentyl, t-octyl. , Cyclohexyl, cyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-methylcyclopropyl and the like. Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, An ester group, a halogen atom, etc. are mentioned. Or it may form a saturated ring with (R 4) n and (R 4) m. R 2 is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and preferably has 2 to 20 carbon atoms. A tertiary alkyl group is more preferable, t-butyl, t-pentyl, and 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a t-butyl group is most preferable.

3は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。ベンゼン環に置換可能な基としては、例えば弗素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられる。R3として好ましくは、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、2−ヒドロキシエチル基等が挙げられる。更に好ましくはメチル、2−ヒドロキシエチル基である。 R 3 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Examples of the group that can be substituted on the benzene ring include halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, cycloalkenyl groups, alkynyl groups, amino groups, acyl groups, acyloxy groups, Examples include acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, sulfinyl group, cyano group, and heterocyclic group. R 3 is preferably methyl, ethyl, i-propyl, t-butyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, 2-hydroxyethyl group or the like. More preferred are methyl and 2-hydroxyethyl groups.

これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては前記R1で挙げた置換基を用いることができる。R3は好ましくはヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する炭素数1〜20のアルキル基であり、炭素数1〜5のアルキル基であることがより好ましい。最も好ましくは2−ヒドロキシエチル基である。 These groups may further have a substituent, and the substituents mentioned in the above R 1 can be used as the substituent. R 3 is preferably a C 1-20 alkyl group having a hydroxyl group or a precursor group thereof, and more preferably a C 1-5 alkyl group. Most preferred is a 2-hydroxyethyl group.

2及びR3の最も好ましい組合せは、R2が第3級アルキル基(t−ブチル、1−メチルシクロヘキシル等)であり、R3がヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する第1級アルキル基(2−ヒドロキシエチル等)である。複数のR2、R3は同じでも異なってもよい。 In the most preferred combination of R 2 and R 3 , R 2 is a tertiary alkyl group (t-butyl, 1-methylcyclohexyl, etc.), and R 3 is a primary alkyl group having a hydroxyl group or a precursor group thereof ( 2-hydroxyethyl and the like). A plurality of R 2 and R 3 may be the same or different.

4は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、オクタデシル等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル、パーフルオロオクチル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルキニル基(プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル、ナフチル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、弗素)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は更にこれらの基で置換されてもよい。n及びmは0〜2の整数を表すが、最も好ましくはn、m共に0の場合である。 R 4 represents a hydrogen atom or a group capable of substituting on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, decyl, Octadecyl etc.), halogenated alkyl group (trifluoromethyl, perfluorooctyl etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl, cyclopentyl etc.), alkynyl group (propargyl etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group, aryl group (phenyl, Naphthyl, etc.), heterocyclic groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atoms (chlorine, bromine, iodine, fluorine), Alkoxy (Methoxy, ethoxy, propyloxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy groups (phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl group (phenyloxycarbonyl, etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, Dimethylaminosulfonyl, butylaminosulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfo Nyl, 2-pyridylaminosulfonyl, etc.), urethane groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.), acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl) , Pyridinoyl etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl), amide group (acetamide, propionamide, Butanamide, hexaneamide, benzamide, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, Cyclohexylsulfonyl, phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group , Hydroxyl group, oxamoyl group and the like. These groups may be further substituted with these groups. n and m represent an integer of 0 to 2, and most preferably n and m are 0.

又、R4はR2、R3と飽和環を形成してもよい。R4は好ましくは水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。複数のR4は同じでも異なってもよい。 R 4 may form a saturated ring with R 2 and R 3 . R 4 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom. A plurality of R 4 may be the same or different.

一般式(RD2)において、R5はR1と同様の基であり、R7はR3と同様の基であり、R8はR4と同様の基である。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等の各基が挙げられる。アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えばアリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。 In General Formula (RD2), R 5 is the same group as R 1 , R 7 is the same group as R 3, and R 8 is the same group as R 4 . R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl and the like. Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, An ester group, a halogen atom, etc. are mentioned.

又、R6は(R8)n及び(R8)mと飽和環を形成してもよい。R6は、好ましくはメチル基である。一般式(RD−2)で表される化合物の内でも好ましく用いられる化合物は欧州特許1,278,101号に記載の一般式(S)、一般式(T)を満足する化合物であり、具体的には同公報21〜28頁に記載の(1−24)、(1−28)〜(1−54)、(1−56)〜(1−75)の化合物が挙げられる。 R 6 may form a saturated ring with (R 8 ) n and (R 8 ) m. R 6 is preferably a methyl group. Among the compounds represented by the general formula (RD-2), compounds preferably used are compounds satisfying the general formula (S) and general formula (T) described in European Patent No. 1,278,101. Specifically, the compounds of (1-24), (1-28) to (1-54), and (1-56) to (1-75) described on pages 21 to 28 of the same publication can be mentioned.

以下に、一般式(RD1)、一般式(RD2)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the compounds represented by general formula (RD1) and general formula (RD2) are shown below, but the present invention is not limited to these.

Figure 2006267209
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Figure 2006267209
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Figure 2006267209
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これら一般式(RD1)、一般式(RD2)で表されるビスフェノール化合物は、従来公知の方法により容易に合成することができる。   These bisphenol compounds represented by the general formula (RD1) and general formula (RD2) can be easily synthesized by a conventionally known method.

本発明において、更に併用することができる還元剤としては、例えば、米国特許3,770,448号、同3,773,512号、同3,593,863号の各明細書、RD17029号及び29963号、特開平11−119372号、特開2002−62616号等に記載される還元剤が挙げられる。   Examples of the reducing agent that can be used in the present invention further include, for example, the specifications of US Pat. Nos. 3,770,448, 3,773,512, and 3,593,863, RD17029 and 29963. And reducing agents described in JP-A-11-119372 and JP-A-2002-62616.

前記一般式(RD1)で表される化合物を初めとする還元剤の使用量は、好ましくは銀1モル当たり1×10-2〜10モル、特に好ましくは1×10-2〜1.5モルである。 The amount of the reducing agent including the compound represented by the general formula (RD1) is preferably 1 × 10 −2 to 10 mol, particularly preferably 1 × 10 −2 to 1.5 mol, per mol of silver. It is.

(画像の色調)
次に、光熱写真材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
(Image tone)
Next, the color tone of an image obtained by thermally developing a photothermographic material will be described.

従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が判読者にとって、より的確な診断観察結果が得易いと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であることを意味する。一方、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密な定量的な議論ができるように、以下、国際照明委員会(CIE)の推奨する表現法に基づき説明する。   With regard to the color tone of an output image for medical diagnosis such as a conventional X-ray photographic film, it is said that a cool tone image tone is easier for a reader to obtain a more accurate diagnosis observation result. Here, the cool image tone means a pure black tone or a bluish black tone of a black image. On the other hand, the warm image tone is said to be a warm black tone with a black image, but in order to allow a more precise quantitative discussion, the International Lighting Commission (CIE) ), Based on the recommended expression.

色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度Dmin及び光学濃度D=1.0における色相角habにより表現できる。即ち、色相角habは、CIEが1976年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL***色空間の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。 The terms “more cold” and “more warm” regarding the color tone can be expressed by the hue angle hab at the minimum density D min and the optical density D = 1.0. That is, the hue angle hab is expressed by the following equation using the color coordinates a * and b * of the L * a * b * color space, which is a color space having a perceptually uniform rate recommended by the CIE in 1976. Ask.

hab=tan−1(b*/a*
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明の光熱写真材料の現像後の色調は、色相角habの範囲が180度<hab<270度であることが好ましく、更に好ましくは200度<hab<270度、最も好ましくは220度<hab<260度であることが判った。このことは、特開2002−6463号に開示されている。
hab = tan-1 (b * / a * )
As a result of examination by the expression method based on the hue angle, the hue of the photothermographic material of the present invention after development is preferably such that the range of the hue angle hab is 180 degrees <hab <270 degrees, and more preferably 200 degrees < It has been found that hab <270 degrees, most preferably 220 degrees <hab <260 degrees. This is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-6463.

尚、従来、光学濃度1.0付近でのCIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間におけるu*、v*又はa*、b*を特定の数値に調整することにより、見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られており、例えば特開2000−29164号に記載されている。 Conventionally, the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space near the optical density of 1.0 is specified as u * , v * or a * , b * . It is known that a diagnostic image having a favorable color tone can be obtained by adjusting the numerical value, and is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-29164.

しかしながら、本発明の光熱写真材料について更に鋭意検討の結果、CIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間において横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのu*、v*又はa*、b*をプロットし、線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより、従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見い出した。以下に好ましい条件範囲について述べる。 However, as a result of further intensive studies on the photothermographic material of the present invention, the horizontal axis is u * or a * and the vertical axis in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or (L * a * b * ) color space. When plotting u * , v *, or a * , b * at various photographic densities on a graph with v * or b * as a linear regression line, the linear regression line is defined within a specific range. As a result, it has been found that it has a diagnostic performance equivalent to or higher than that of conventional wet silver salt photosensitive materials. A preferable range of conditions is described below.

1.光熱写真材料を熱現像処理後に得られた銀画像の光学濃度0.5,1.0,1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のv*値が−5〜5であること、かつ傾き(v*/u*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 1. The CIE 1976 (L * u * v * ) color space is measured by measuring the optical densities of 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density of the silver image obtained after heat development processing of the photothermographic material. of the horizontal axis u *, the vertical axis v * to the 2-dimensional coordinates to, the u * at each optical density, v * was placed create determine coefficients of a linear regression line was (multiple determination) R2 is 0.998 It is preferably ˜1.000. Furthermore, it is preferable that the v * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (v * / u * ) is 0.7 to 2.5.

2.又、当該光熱写真材料の光学濃度0.5,1.0,1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のb*値が−5〜5であること、かつ傾き(b*/a*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 2. Also, the optical density of the photothermographic material is measured at 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space is represented by a * , The coefficient of determination (multiple determination) R2 of the linear regression line created by arranging a * and b * at the respective optical densities on the two-dimensional coordinates with the vertical axis b * is 0.998 to 1.000. Is preferred. Furthermore, it is preferable that the b * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (b * / a * ) is 0.7 to 2.5.

尚、次に、上述の線形回帰直線の作成法、則ちCIE 1976色空間におけるu*、v*及びa*、b*の測定法の一例を説明する。 An example of a method for creating the above-described linear regression line, that is, a method for measuring u * , v *, a * , and b * in the CIE 1976 color space will be described next.

熱現像装置を用いて未露光部、及び光学濃度0.5,1.0,1.5を含む4段のウエッジ試料を作成する。このように作成した、それぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計(ミノルタ社製:CM−3600d等)で測定し、u*、v*又はa*、b*を算出する。その際の測定条件は光源としてF7光源、視野角を10度として透過測定モードで測定を行う。横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に測定したu*、v*又はa*、b*をプロットし線形回帰直線を求め、決定係数(重決定)R2、切片及び傾きを求める。 A four-stage wedge sample including an unexposed portion and optical densities of 0.5, 1.0, and 1.5 is prepared using a heat development apparatus. Each wedge density portion thus created is measured with a spectrocolorimeter (Minolta Co., Ltd .: CM-3600d, etc.) to calculate u * , v * or a * , b * . The measurement conditions at that time are F7 light source as the light source, the viewing angle is 10 degrees, and the measurement is performed in the transmission measurement mode. Plot u * , v * or a * , b * measured on a graph with u * or a * on the horizontal axis and v * or b * on the vertical axis to obtain a linear regression line, and the coefficient of determination (multiple determination) Find R2, intercept and slope.

次に、上記のような特徴を持つ線形回帰直線を得る為の具体的な方法について説明する。   Next, a specific method for obtaining a linear regression line having the above characteristics will be described.

本発明においては、還元剤(現像剤)、ハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀及び下記の調色剤等の現像反応過程において、直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により、現像銀形状を最適化して好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。   In the present invention, adjustment of the addition amount of a compound or the like directly or indirectly involved in the development reaction process of a reducing agent (developer), silver halide grains, aliphatic silver carboxylate and the following toning agent, etc. Thus, the developed silver shape can be optimized to obtain a preferable color tone. For example, when the developed silver shape is dendritic, it becomes a bluish direction, and when it is a filament shape, it becomes a yellowish direction. That is, it can be adjusted in consideration of the tendency of the developed silver shape.

従来、調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号、同4,021,249号等に開示される。   Conventionally, phthalazinone or phthalazine and phthalic acids and phthalic anhydrides are generally used as toning agents. Examples of suitable toning agents are disclosed in RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, 4,021,249, and the like.

本発明においては、冷却部長さの短いコンパクトなレーザイメージャを用いて迅速処理を行うが、通常処理に比較して銀色調がニュートラルな好ましい色調から大きくずれてしまう問題が発生した。これらの問題の解決のためには、前記した従来使用されている調色剤では不十分であり、熱現像時にイメージワイズに発色して色素像を形成する化合物(ロイコ染料やカプラー化合物が挙げられる)が必要となる。これらの化合物としては熱現像時に発色して極大吸収波長が360〜450nmとなる色素像を形成する化合物、又は熱現像時に発色して極大吸収波長が600〜700nmとなる色素像を形成する化合物が好ましいが、両方の化合物を含む場合が良好な銀色調を得る上で特に好ましい。これらの化合物としては、特開平11−288057号、欧州特許1,134,611A2号等に開示されているカプラー、又は以下で詳述するロイコ染料を使用することが好ましい。   In the present invention, rapid processing is performed using a compact laser imager with a short cooling section length. However, there is a problem that the silver tone is greatly deviated from the neutral preferable tone as compared with the normal processing. In order to solve these problems, the above-mentioned conventional color-adjusting agents are insufficient, and compounds (such as leuco dyes and coupler compounds) that form a dye image by developing an imagewise color during heat development. )Is required. As these compounds, there are compounds that form a dye image that develops a color upon thermal development and has a maximum absorption wavelength of 360 to 450 nm, or compounds that develop a color upon thermal development and form a dye image that has a maximum absorption wavelength of 600 to 700 nm. Although it is preferable, the case of containing both compounds is particularly preferable for obtaining a good silver tone. As these compounds, it is preferable to use couplers disclosed in JP-A-11-288057, European Patent 1,134,611A2, etc., or leuco dyes described in detail below.

(ロイコ染料)
本発明の光熱写真材料は、上記のようにロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。ロイコ染料として好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる無色又は僅かに着色した化合物でよく、上記の還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
(Leuco dye)
The photothermographic material of the present invention can also be adjusted in color tone using a leuco dye as described above. The leuco dye is preferably a colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80 to 200 ° C. for about 0.5 to 30 seconds. Any leuco dye that oxidizes to form a pigment can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.

本発明に用いるのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えばビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。又、有用なものは、米国特許3,445,234号、同3,846,136号、同3,994,732号、同4,021,249号、同4,021,250号、同4,022,617号、同4,123,282号、同4,368,247号、同4,461,681号、特開昭50−36110号、同59−206831号、特開平5−204087号、同11−231460号、特開2002−169249号、同2002−236334号等に開示されるロイコ染料である。   Representative leuco dyes suitable for use in the present invention are not particularly limited, for example, biphenol leuco dyes, phenol leuco dyes, indoaniline leuco dyes, acrylated azine leuco dyes, phenoxazine leuco dyes, phenodiazine leuco dyes and phenothiazines. And leuco dyes. Also useful are U.S. Pat. Nos. 3,445,234, 3,846,136, 3,994,732, 4,021,249, 4,021,250, 4 No. 4,022,617, No. 4,123,282, No. 4,368,247, No. 4,461,681, No. 50-36110, No. 59-206831, No. 5-204087. No. 11-231460, JP-A Nos. 2002-169249, 2002-236334, and the like.

所定の色調に調整するために、種々の色のロイコ染料を単独使用又は複数の種類を併用することが好ましい。更に、迅速処理のために高活性な還元剤を使用することに伴って、その使用量や使用比率によって色調(特に黄色味)が変化したり、微粒子のハロゲン化銀粒子を用いたりして、現像銀の粒径が小さくなることにより、特に濃度が2.0以上の高濃度部で画像が過度に赤みを帯びることを防止するために、黄色及びシアン色に発色するロイコ染料を併用して、その使用量を調整するのが好ましい。   In order to adjust to a predetermined color tone, it is preferable to use leuco dyes of various colors singly or in combination. Furthermore, with the use of a highly active reducing agent for rapid processing, the color tone (especially yellowish) changes depending on the amount and ratio of use, or fine silver halide grains are used, In order to prevent the image from becoming excessively reddish, especially in the high density part where the density is 2.0 or more, in combination with a leuco dye that develops yellow and cyan colors, the developed silver particle size is reduced. It is preferable to adjust the amount used.

発色濃度は現像銀自身による色調との関係で適切に調整することが好ましい。本発明では、0.01〜0.05の反射光学濃度又は0.005〜0.50の透過光学濃度を有するように発色させ、上記の好ましい色調範囲の画像になるように色調を調整することが好ましい。本発明では、ロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01〜0.50とするのが好ましく、より好ましくは0.02〜0.30、特に好ましくは0.03〜0.10を有するように発色させることが好ましい。   The color density is preferably adjusted appropriately in relation to the color tone of the developed silver itself. In the present invention, color is developed so as to have a reflection optical density of 0.01 to 0.05 or a transmission optical density of 0.005 to 0.50, and the color tone is adjusted so that an image in the above preferred color tone range is obtained. Is preferred. In the present invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of the dye image formed with the leuco dye is preferably 0.01 to 0.50, more preferably 0.02 to 0.30, and particularly preferably 0. It is preferable to develop the color so as to have 0.03 to 0.10.

(黄色発色性ロイコ染料)
光熱写真材料は、上記のようにロイコ染料を使用して色調を調整することが好ましい。本発明において、特に黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより360〜450nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの色像形成剤としては、下記一般式(YA)で表される色像形成剤であることが特に好ましい。
(Yellow coloring leuco dye)
The photothermographic material is preferably adjusted in color tone using a leuco dye as described above. In the present invention, a color image forming agent whose absorbance at 360 to 450 nm is increased by oxidation is particularly preferably used as a yellow color-forming leuco dye. These color image forming agents are particularly preferably color image forming agents represented by the following general formula (YA).

Figure 2006267209
Figure 2006267209

式中、R11は置換又は無置換のアルキル基を表し、R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表すが、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。R13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、R14はベンゼン環に置換可能な基を表す。 In the formula, R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, and R 11 and R 12 are 2-hydroxyphenylmethyl groups. There is nothing. R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 14 represents a group that can be substituted on the benzene ring.

11は置換又は無置換のアルキル基を表すが、R12が水素原子以外の置換基である場合、R11はアルキル基を表す。当該アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。具体的には、メチル、エチル、ブチル、オクチル、i−プロピル、t−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル等の基が好ましく、i−プロピル基よりも立体的に大きな基(i−プロピル、i−ノニル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等)であることが好ましく、その中でも2級又は3級のアルキル基が好ましく、3級アルキル基であるt−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル基等が特に好ましい。R11が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。 R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. When R 12 is a substituent other than a hydrogen atom, R 11 represents an alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and may have a substituent. Specifically, groups such as methyl, ethyl, butyl, octyl, i-propyl, t-butyl, t-octyl, t-pentyl, sec-butyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl are preferable, and i-propyl group It is preferably a sterically larger group (i-propyl, i-nonyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl, adamantyl, etc.), among them secondary or A tertiary alkyl group is preferred, and tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-octyl, and t-pentyl groups are particularly preferred. Examples of the substituent that R 11 may have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamido group, an acyloxy group, an oxycarbonyl group, and a carbamoyl group. , Sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like.

12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表すが、アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数1〜30のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記R11と同様である。 R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, and the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the acylamino group is preferably an acylamino group having 1 to 30 carbon atoms. Among these, the description of the alkyl group is the same as R 11 described above.

12で表されるアシルアミノ基は、無置換でも置換基を有してもよく、具体的には、アセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。R12として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基であり、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチル基が挙げられる。又、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。 The acylamino group represented by R 12 may be unsubstituted or substituted, and specific examples include an acetylamino group, an alkoxyacetylamino group, and an aryloxyacetylamino group. R 12 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, and t-butyl groups. R 11 and R 12 are not 2-hydroxyphenylmethyl groups.

13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表すが、アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記R11と同様である。R13として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基で、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチル基等が挙げられる。又、R12、R13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。 R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the description of the alkyl group is the same as R 11 described above. R 13 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include a methyl, i-propyl, and t-butyl group. Further, it is preferable either R 12, R 13 is a hydrogen atom.

14はベンゼン環に置換可能な基を表し、例えば、前記一般式(RD−1)における置換基R4で説明したのと同様な基である。R14として好ましいのは、置換又は無置換の炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のオキシカルボニル基であり、炭素数1〜24のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。 R 14 represents a group substitutable on the benzene ring, and is, for example, the same group as described for the substituent R 4 in the general formula (RD-1). R 14 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an oxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group include an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, an acyloxy group, an imide group, and a ureido group, and more preferable examples include an aryl group, an amino group, an oxycarbonyl group, and an alkoxy group. preferable. These alkyl group substituents may be further substituted with these substituents.

次に、一般式(YA)で表される化合物の内でも、特に好ましく用いられる下記一般式(YB)で表されるビスフェノール化合物について説明する。   Next, the bisphenol compound represented by the following general formula (YB) that is particularly preferably used among the compounds represented by the general formula (YA) will be described.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

式中、Zは−S−又は−C(R21)(R21′)−を表し、R21、R21′は各々、水素原子又は置換基を表す。R21、R21′が表す置換基としては、前記一般式(RD−1)のR1の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。R21、R21′として好ましくは、水素原子又はアルキル基である。 In the formula, Z represents —S— or —C (R 21 ) (R 21 ′) —, and R 21 and R 21 ′ each represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 21 and R 21 ′ include the same groups as the substituents exemplified in the description of R 1 in the general formula (RD-1). R 21 and R 21 ′ are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

22、R23、R22′及びR23′は各々置換基を表すが、置換基としては一般式(RD−1)におけるR2、R3で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。R22、R23、R22′及びR23′として好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、一般式(RD−1)における置換基の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。R22、R23、R22′及びR23′として、更に好ましくはt−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、1−メチル−シクロヘキシル基等の3級アルキル基である。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ each represent a substituent, and examples of the substituent include the same groups as those described for R 2 and R 3 in formula (RD-1). . R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, with an alkyl group being more preferred. Examples of the substituent on the alkyl group include the same groups as those described in the description of the substituent in formula (RD-1). R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are more preferably tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-pentyl, t-octyl and 1-methyl-cyclohexyl groups.

24及びR24′は各々、水素原子又は置換基を表すが、置換基としては、一般式(RD−1)におけるR4の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 24 and R 24 ′ each represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the same groups as the substituents described in the description of R 4 in formula (RD-1).

一般式(YA)及び(YB)で表される化合物としては、例えば特開2002−169249号の段落「0032」〜「0038」記載の化合物、(II−1)〜(II−40)、欧州特許1,211,093号の段落「0026」記載の化合物(ITS−1)〜(ITS−12)を挙げることができる。   Examples of the compounds represented by the general formulas (YA) and (YB) include compounds described in paragraphs “0032” to “0038” of JP-A No. 2002-169249, (II-1) to (II-40), Europe Examples thereof include compounds (ITS-1) to (ITS-12) described in paragraph “0026” of Japanese Patent No. 1,211,093.

以下に、一般式(YA)及び(YB)で表されるビスフェノール化合物の具体例を示すが、これらに限定されない。   Although the specific example of the bisphenol compound represented by general formula (YA) and (YB) below is shown, it is not limited to these.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

Figure 2006267209
Figure 2006267209

一般式(YA)の化合物(ヒンダードフェノール化合物、一般式(YB)の化合物も含む)の添加量は、通常、銀1モル当たり0.00001〜0.01モルであり、好ましくは0.0005〜0.01モル、より好ましくは0.001〜0.008モルである。   The amount of the compound of general formula (YA) (including hindered phenol compounds and compounds of general formula (YB)) is usually 0.00001 to 0.01 mol, preferably 0.0005, per mol of silver. It is -0.01 mol, More preferably, it is 0.001-0.008 mol.

又、黄色発色性ロイコ染料の一般式(RD1)、(RD2)で表される還元剤の総和量に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。   The addition ratio of the yellow coloring leuco dye to the total amount of the reducing agents represented by the general formulas (RD1) and (RD2) is preferably 0.001 to 0.2 in terms of molar ratio. It is more preferable that it is 005-0.1.

(シアン発色性ロイコ染料)
本発明の光熱写真材料は、上記の黄色発色性ロイコ染料の他にシアン発色性ロイコ染料も使用して、色調を調整することが好ましい。
(Cyan coloring leuco dye)
In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to adjust the color tone by using a cyan coloring leuco dye in addition to the yellow coloring leuco dye.

シアン発色性ロイコ染料としては、好ましくは約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる無色又は僅かに着色した化合物でよく、還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。   The cyan color-forming leuco dye may be a colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80 to 200 ° C. for about 0.5 to 30 seconds. Any leuco dye that can be oxidized by the body to form a pigment can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.

本発明において、好ましく用いられるのは、酸化されることにより600〜700nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの化合物としては、例えば特開昭59−206831号(特にλmaxが600〜700nmの範囲内にある化合物)、特開平5−204087号の一般式(I)〜一般式(IV)の化合物(具体的には段落「0032」〜「0037」に記載の(1)〜(18)の化合物)及び特開平11−231460号の一般式4〜一般式7の化合物(具体的には段落「0105」に記載されるNo.1〜No.79の化合物)が挙げられる。   In the present invention, a color image forming agent that increases the absorbance at 600 to 700 nm when oxidized is preferably used. As these compounds, for example, JP-A-59-206831 (particularly compounds having λmax in the range of 600 to 700 nm), compounds of general formula (I) to general formula (IV) in JP-A-5-204087 ( Specifically, the compounds of (1) to (18) described in paragraphs “0032” to “0037”) and compounds of general formulas 4 to 7 in JP-A No. 11-231460 (specifically, paragraph “0105”). No. 1 to No. 79 compounds).

好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料は、一般式(CLA)、一般式(CLB)で表される化合物である。後述の一般式(CLB)で表される色像形成剤は、発色効率が高く、少量の添加でも色調調整が可能であり、画像保存性にも優れる点で特に好ましい。   Cyan chromogenic leuco dyes preferably used are compounds represented by general formula (CLA) and general formula (CLB). The color image forming agent represented by the general formula (CLB) described later is particularly preferable in that it has high color development efficiency, can be adjusted in color tone even when added in a small amount, and is excellent in image storage stability.

以下、一般式(CLA)、一般式(CLB)の化合物について、順次説明する。   Hereinafter, the compounds of the general formula (CLA) and the general formula (CLB) will be sequentially described.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

式中、R31、R32は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、−NHCO−R30基(R30はアルキル基、アリール基又は複素環基)であるか、又はR31とR32が互いに連結して脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環又は複素環を形成する。A3は−NHCO−基、−CONH−基又は−NHCONH−基を表し、R33は置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。 In the formula, R 31 and R 32 are hydrogen atom, halogen atom, substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, —NHCO—R 30 group (R 30 is an alkyl group, aryl group or heterocyclic group). Or R 31 and R 32 are linked together to form an aliphatic hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring. A 3 represents a —NHCO— group, a —CONH— group or a —NHCONH— group, and R 33 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group.

又、−A3−R33は水素原子であってもよい。例えば−A3−R33部分は、水素原子を表すか、又は、A3は−NHCO−基、−CONH−基もしくは−NHCONH−基を表し、R33は置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。 Further, -A 3 -R 33 may be a hydrogen atom. For example, the —A 3 —R 33 moiety represents a hydrogen atom, or A 3 represents a —NHCO— group, —CONH— group or —NHCONH— group, and R 33 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl Represents a group or a heterocyclic group.

3は水素原子又は−CONH−R35基、−CO−R35基又は−CO−O−R35基(R35は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基)を表し、R34は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、カルバモイル基又はニトリル基を表す。 W 3 represents a hydrogen atom or —CONH—R 35 group, —CO—R 35 group or —CO—O—R 35 group (R 35 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group), R 34 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group, or a nitrile group.

36は−CONH−R37基、−CO−R37基又は−CO−O−R37基(R37は置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基)。 R 36 represents a —CONH—R 37 group, a —CO—R 37 group or a —CO—O—R 37 group (R 37 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group).

3は置換もしくは無置換のアリール基又は複素環基を表す。 X 3 represents a substituted or unsubstituted aryl group or heterocyclic group.

一般式(CLA)において、R31、R32で表されるハロゲン原子としては、例えば弗素、臭素、塩素原子等が挙げられ、アルキル基としては、炭素原子数が20迄のアルキル基(メチル、エチル、ブチル、ドデシル等)が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数20迄のアルケニル基(ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては炭素原子数20迄のアルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)が挙げられる。 In the general formula (CLA), examples of the halogen atom represented by R 31 and R 32 include fluorine, bromine, chlorine atom and the like, and the alkyl group includes an alkyl group having up to 20 carbon atoms (methyl, Ethyl, butyl, dodecyl and the like, and examples of the alkenyl group include alkenyl groups having up to 20 carbon atoms (vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3- Propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl and the like, and examples of the alkoxy group include alkoxy groups having up to 20 carbon atoms (methoxy, ethoxy and the like).

又、−NHCO−R30基におけるR30で表されるアルキル基としては、炭素原子数が20迄のアルキル基(メチル、エチル、ブチル、ドデシル等)が挙げられ、アリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数6〜20の基が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル基等が挙げられる。R33で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数20迄のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ブチル、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 30 in the —NHCO—R 30 group include alkyl groups having up to 20 carbon atoms (methyl, ethyl, butyl, dodecyl, etc.), and aryl groups include phenyl and naphthyl. Examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl, and pyrrolyl groups. The alkyl group represented by R 33 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methyl, ethyl, butyl, dodecyl group, etc., and the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Examples thereof include phenyl and naphthyl groups, and examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl and pyrrolyl groups.

3で表される−CONH−R35基、−CO−R35基又は−CO−O−R35基において、R35で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数20迄のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ブチル、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20迄のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル基等が挙げられる。 In the —CONH—R 35 group, —CO—R 35 group or —CO—O—R 35 group represented by W 3 , the alkyl group represented by R 35 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms. For example, methyl, ethyl, butyl, dodecyl group and the like are mentioned, and the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl, naphthyl group and the like. For example, thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyrrolyl group and the like.

34で表されるハロゲン原子としては、例えば弗素、塩素、臭素、沃素原子等が挙げられ、アルキル基としては鎖状もしくは環状のアルキル基、例えばメチル、ブチル、ドデシル、シクロヘキシル基等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数20迄のアルケニル基(ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ、ブトキシ、テトラデシルオキシ基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えばジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。又、ニトリル基も好ましい。これらの中でも、水素原子、アルキル基がより好ましい。前記R33とR34は互いに連結して環構造を形成してもよい。 Examples of the halogen atom represented by R 34 include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms, and examples of the alkyl group include chain or cyclic alkyl groups such as methyl, butyl, dodecyl and cyclohexyl groups. An alkenyl group having up to 20 carbon atoms (vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl- 3-butenyl and the like, and examples of the alkoxy group include methoxy, butoxy, and tetradecyloxy groups. Examples of the carbamoyl group include diethylcarbamoyl and phenylcarbamoyl groups. Nitrile groups are also preferred. Among these, a hydrogen atom and an alkyl group are more preferable. R 33 and R 34 may be connected to each other to form a ring structure.

上記の置換基は更に単一の置換基又は複数の置換基を有することができる。典型的な置換基としては、ハロゲン原子(弗素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ドデシル等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)、アルキルスルホンアミド基(メチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド等)、アリールスルホンアミド基(フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド等)、アルキルスルファモイル基(ブチルスルファモイル等)、アリールスルファモイル(フェニルスルファモイル等)、アルキルオキシカルボニル基(メトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、アミノスルホンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボニル基等が挙げられる。   The above substituents can further have a single substituent or a plurality of substituents. Typical substituents include halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, etc.), alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, butyl, dodecyl, etc.), hydroxyl groups, cyano groups, nitro groups, alkoxy groups (methoxy, ethoxy, etc.) ), Alkylsulfonamide groups (such as methylsulfonamide groups, octylsulfonamides), arylsulfonamide groups (such as phenylsulfonamides, naphthylsulfonamides), alkylsulfamoyl groups (such as butylsulfamoyl), arylsulfamoyls (Phenylsulfamoyl etc.), alkyloxycarbonyl group (methoxycarbonyl etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl etc.), aminosulfonamide group, acylamino group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfoxy group, E group, an aryloxy group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, and an amino carbonyl group.

30又はR35は好ましくはフェニル基であり、より好ましくは、ハロゲン原子及びシアノ基を置換基として複数有するフェニル基である。 R 30 or R 35 is preferably a phenyl group, more preferably a phenyl group having a plurality of halogen atoms and cyano groups as substituents.

36で表される−CONH−R37基、−CO−R37基又は−CO−O−R37基において、R37で表されるアルキル基は、好ましく炭素原子数20迄のアルキル基であり、メチル、エチル、ブチル、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、フェニル、ナフチル等が挙げられ、複素環基としては、チエニル、フリル、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基等が挙げられる。 -CONH-R 37 group represented by R 36, in -CO-R 37 group or -CO-O-R 37 group, the alkyl group represented by R 37 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms A methyl group, an ethyl group, a butyl group, a dodecyl group, and the like. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl and naphthyl. The heterocyclic group includes thienyl, furyl, Examples include imidazolyl group, pyrazolyl group, pyrrolyl group and the like.

37で表される基が有することができる置換基としては、一般式(CLA)のR31〜R34の説明において挙げた置換基と同様のものが使用できる。 As the substituent that the group represented by R 37 can have, the same substituents as those described in the description of R 31 to R 34 in formula (CLA) can be used.

3で表されるアリール基としては、フェニル、ナフチル基のような炭素原子数6〜20のアリール基が挙げられ、複素環基としては、チエニル、フリル、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基等が挙げられる。 Examples of the aryl group represented by X 3 include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl and naphthyl groups, and examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyrrolyl group and the like. Is mentioned.

3で表される基が有することができる置換基としては一般式(CLA)のR31〜R34の説明において挙げた置換基と同様のものを挙げることができる。X3で表される基としては、パラ位にアルキルアミノ基(メチルアミノ、ジエチルアミノ等)を有するアリール基又は複素環基が好ましい。 Examples of the substituent that the group represented by X 3 can have include the same substituents as those described in the description of R 31 to R 34 in formula (CLA). The group represented by X 3 is preferably an aryl group or a heterocyclic group having an alkylamino group (such as methylamino or diethylamino) at the para position.

これらの基は写真的に有用な基を含んでもよい。   These groups may include photographically useful groups.

以下に、一般式(CLA)で表されるシアン発色性ロイコ染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the cyan coloring leuco dye represented by the general formula (CLA) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006267209
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次に、一般式(CLB)で表される化合物について説明する。   Next, the compound represented by general formula (CLB) is demonstrated.

Figure 2006267209
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式中、R41、R42、Ra及びRbは各々、水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、ハロゲン原子を表す。R43は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボキニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基を表す。X4及びX5はベンゼン環に置換可能な基を表す。m1及びm2は各々0〜5の整数を表す。m1及びm2が2以上の場合、複数のX4及びX5は同じでも異なってもよい。 In the formula, R 41 , R 42 , Ra and Rb each represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acylamino group, a sulfonamide group, a carbamoyl group or a halogen atom. R 43 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarboquinyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, or a sulfonyl group. X 4 and X 5 each represents a group that can be substituted on the benzene ring. m1 and m2 each represent an integer of 0-5. When m1 and m2 are 2 or more, the plurality of X 4 and X 5 may be the same or different.

41、R42、Ra及びRbで表される脂肪族基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の炭化水素基が挙げられる。これらの炭化水素基は炭素数1〜25であることが好ましく、炭素数1〜20がより好ましい。炭素数1〜25のアルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、トデシル等、シクロアルキル基としてはシクロヘキシル、シクロペンチル等、アルケニル基としてはエテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等、アルキニル基としてはエチニル、1プロピニル、プロパルギル等が挙げられる。 Specific examples of the aliphatic group represented by R 41 , R 42 , Ra and Rb include hydrocarbon groups such as an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group. These hydrocarbon groups preferably have 1 to 25 carbon atoms, and more preferably 1 to 20 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 25 carbon atoms is methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, todecyl, etc., the cycloalkyl group is cyclohexyl, cyclopentyl, etc., the alkenyl group is ethenyl-2-propenyl , 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, etc. Examples of the alkynyl group include ethynyl, 1propynyl, propargyl and the like.

41、R42、Ra及びRbで表される芳香族基の具体例としては、アリール基(フェニル、ナフチル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)が挙げられる。 Specific examples of the aromatic group represented by R 41 , R 42 , Ra and Rb include aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl , Pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl and the like.

アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、t−ブトキシ等が挙げられる。アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。アシルアミノ基としては、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等が挙げられる。スルホンアミド基の具体例としては、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、オクタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。カルバモイル基としては、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。又、ハロゲン原子としては、例えば塩素、臭素、沃素が挙げられる。   Specific examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, i-propoxy, t-butoxy and the like. Specific examples of the aryloxy group include phenoxy and naphthyloxy. Examples of the acylamino group include acetylamino and benzoylamino. Specific examples of the sulfonamide group include a methanesulfonamide group, a butanesulfonamide group, an octanesulfonamide group, and a benzenesulfonamide group. Examples of the carbamoyl group include an aminocarbonyl group, a methylaminocarbonyl group, a dimethylaminocarbonyl group, a propylaminocarbonyl group, a pentylaminocarbonyl group, a cyclohexylaminocarbonyl group, a phenylaminocarbonyl group, and a 2-pyridylaminocarbonyl group. Examples of the halogen atom include chlorine, bromine and iodine.

41及びR42として好ましくは、脂肪族基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくはアルキル基又はアルコキシ基、更に好ましくは2級又は3級アルキル基、アルコキシ基である。
Ra及びRbとして好ましくは水素原子、脂肪族基、より好ましくは水素原子である。
R 41 and R 42 are preferably an aliphatic group, an alkoxy group or an aryloxy group, more preferably an alkyl group or an alkoxy group, still more preferably a secondary or tertiary alkyl group or an alkoxy group.
Ra and Rb are preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably a hydrogen atom.

43で表される脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基の例としては、前記R41及びR42で表される脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基の具体例として挙げた例が挙げられる。 Examples of the aliphatic group, aromatic group, alkoxy group and aryloxy group represented by R 43 include those of the aliphatic group, aromatic group, alkoxy group and aryloxy group represented by R 41 and R 42 . The example given as a specific example is given.

43で表されるアシル基の具体例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等が挙げられる。 Specific examples of the acyl group represented by R 43 include acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl and the like.

43で表されるアルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル等が挙げられる。アリールオキシカルボキニル基の具体例としては、フェノキシカルボニル等が挙げられる。カルバモイル基としては、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxycarbonyl group represented by R 43 include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl and the like. Specific examples of the aryloxycarboquinyl group include phenoxycarbonyl. Examples of the carbamoyl group include aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl and the like.

スルファモイル基としてはメチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が、スルホニル基としては、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル等が挙げられる。   Examples of the sulfamoyl group include methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like, and examples of the sulfonyl group include methylsulfonyl, butylsulfonyl and octylsulfonyl.

43として好ましくは水素原子、アルキル基、アシル基、より好ましくは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アシル基である。 R 43 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an acyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an acyl group.

4及びX5で表されるベンゼン環に置換可能な基としては、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルケニル基(ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、アルキニル基(エチニル、プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル、ナフチル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、弗素等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、スルホンアミド基(メチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド、フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。 Specific examples of the group that can be substituted on the benzene ring represented by X 4 and X 5 include alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, etc. ), Cycloalkyl groups (cyclohexyl, cyclopentyl, etc.), alkenyl groups (vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl -3-butenyl etc.), alkynyl groups (ethynyl, propargyl etc.), glycidyl groups, acrylate groups, methacrylate groups, aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), heterocyclic groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, Pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, suri Horanyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atom (chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc.), alkoxy group (methoxy, ethoxy, propoxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy group ( Phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (phenyloxycarbonyl, etc.), sulfonamide groups (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexane) Sulfonamide, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl, Tilaminosulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pyridylaminosulfonyl, etc.), urethane groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.), acyl groups (Acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl, etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2 -Pyridylaminocarbonyl, etc.), amide groups (acetamide, propionamide, butanamide, Xanthamide, benzamide, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl, phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), sulfonamide group (methylsulfonamide, octylsulfonamide, phenylsulfonamide, naphthylsulfonamide) Etc.), amino groups (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano groups, nitro groups, sulfo groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, oxamoyl groups, etc. it can. Further, these groups may be further substituted with these groups.

4及びX5として好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基、アミド基、スルホンアミド基、アミノ基であり、更に好ましくはアルコキシ基、アミノ基である。 X 4 and X 5 are preferably an alkoxy group, an aryloxy group, a carbamoyl group, an amide group, a sulfonamide group, and an amino group, and more preferably an alkoxy group and an amino group.

上記一般式(CLB)で表される化合物は、従来公知の方法、例えば特公平7−45477号に記載の方法等で容易に合成することができる。   The compound represented by the general formula (CLB) can be easily synthesized by a conventionally known method, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 7-45477.

以下に、一般式(CLB)で表されるシアン発色性ロイコ染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the cyan coloring leuco dye represented by the general formula (CLB) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006267209
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これらシアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常、Ag1モル当たり0.00001〜0.05モルであり、好ましくは0.0005〜0.02モル、より好ましくは0.001〜0.01モルである。   The addition amount of these cyan color-forming leuco dyes is usually 0.00001 to 0.05 mol, preferably 0.0005 to 0.02 mol, more preferably 0.001 to 0.01 mol, per mol of Ag. is there.

シアン発色性ロイコ染料の一般式(RD1)、一般式(RD2)で表される還元剤の総和量に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。   The addition ratio of the reducing agent represented by the general formula (RD1) and the general formula (RD2) of the cyan color-forming leuco dye is preferably 0.001 to 0.2 in terms of molar ratio. It is more preferable that it is 005-0.1.

本発明の光熱写真材料は、シアンロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01〜0.50とするのが好ましく、より好ましくは0.02〜0.30、特に好ましくは0.03〜0.10を有するように発色させることが好ましい。   In the photothermographic material of the present invention, the sum of the highest densities at the maximum absorption wavelength of a dye image formed with a cyan leuco dye is preferably 0.01 to 0.50, more preferably 0.02 to 0.30. It is particularly preferable to develop the color so as to have 0.03 to 0.10.

本発明においては、上記のシアン発色性ロイコ染料に加えてマゼンタ発色性ロイコ染料又は黄色発色性ロイコ染料を併用することで更に微妙な色調の調整を可能とすることができる。   In the present invention, in addition to the above-described cyan color-forming leuco dye, a magenta color-forming leuco dye or a yellow color-forming leuco dye can be used in combination to enable a finer color tone adjustment.

一般式(YA)及び(YB)で表される黄色発色性ロイコ染料及びシアン発色性ロイコ染料の添加方法としては、一般式(RD1)で表される還元剤の添加方法と同様な方法で添加することができ、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、任意の方法で塗布液に含有させ、写真材料に含有させてよい。   The yellow coloring leuco dye and the cyan coloring leuco dye represented by the general formulas (YA) and (YB) are added in the same manner as the addition method of the reducing agent represented by the general formula (RD1). It may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, a solid fine particle dispersion form, etc. and may be contained in the photographic material.

一般式(RD1)、(RD2)の還元剤、一般式(YA)、(YB)の黄色発色性ロイコ染料及び一般式(CLA)及び一般式(CLB)のシアン発色性ロイコ染料は、有機銀塩を含有する感光性層(画像形成層)に含有させることが好ましいが、一方を感光性層に、他方を該感光性層に隣接する非感光性層に含有させてもよく、両者を非感光性層に含有させてもよい。又、感光性層が複数層で構成されている場合には、それぞれ別層に含有させてもよい。   The reducing agents of the general formulas (RD1) and (RD2), the yellow coloring leuco dyes of the general formulas (YA) and (YB) and the cyan coloring leuco dyes of the general formulas (CLA) and (CLB) are organic silver Although it is preferable to make it contain in the photosensitive layer (image forming layer) containing salt, one side may be contained in the photosensitive layer and the other may be contained in the non-photosensitive layer adjacent to the photosensitive layer, It may be contained in the photosensitive layer. When the photosensitive layer is composed of a plurality of layers, they may be contained in separate layers.

(バインダー)
本発明の光熱写真材料の感光性層及び非感光性層には、種々の目的でバインダーを含有させることができる。
(binder)
The photosensitive layer and the non-photosensitive layer of the photothermographic material of the present invention can contain a binder for various purposes.

感光性層に含まれるバインダーは、有機銀塩、ハロゲン化銀粒子、還元剤、その他の成分を担持し得るものであり、好適なバインダーは、透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマーや合成ポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、特開2001−330918号の段落「0069」に記載のものが挙げられる。これらの内、感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールである。これらについては詳しく後述する。   The binder contained in the photosensitive layer is capable of supporting organic silver salts, silver halide grains, reducing agents, and other components. Suitable binders are transparent or translucent, generally colorless, and are natural polymers. And synthetic polymers and copolymers, and other media for forming a film, for example, those described in paragraph “0069” of JP-A No. 2001-330918. Among these, preferred binders for the photosensitive layer are polyvinyl acetals, and particularly preferred is polyvinyl butyral. These will be described in detail later.

又、上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非感光層には、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。尚、必要に応じて、上記のバインダーは2種以上を組み合わせて用い得る。   For the non-photosensitive layers such as the overcoat layer and the undercoat layer, particularly the protective layer and the back coat layer, cellulose esters having a higher softening temperature, particularly polymers such as triacetyl cellulose and cellulose acetate butyrate are preferable. In addition, as needed, said binder can be used in combination of 2 or more type.

バインダーには、−COOM、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2、−N(R)2、−N+(R)3(Mは水素原子又はアルカリ金属塩基、Rは炭化水素基を表す)、エポキシ基、−SH、−CN等から選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したものを用いることが好ましく、特に−SO3M、−OSO3Mが好ましい。この様な極性基の量は、1×10-1〜1×10-8モル/gであり、好ましくは1×10-2〜1×10-6モル/gである。 The binder, -COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -P = O (OM) 2, -O-P = O (OM) 2, -N (R) 2, -N + (R) 3 (M represents a hydrogen atom or an alkali metal base, R represents a hydrocarbon group), an epoxy group, —SH, —CN, and the like introduced by copolymerization or addition reaction. It is preferable to use, and —SO 3 M and —OSO 3 M are particularly preferable. The amount of such a polar group is 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 mol / g, preferably 1 × 10 −2 to 1 × 10 −6 mol / g.

この様なバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。この効果的な範囲は当業者が容易に決定し得る。例えば、感光性層において少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと有機銀塩との割合は15:1〜1:2(質量比)が好ましく、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、感光性層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましく、更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。 Such a binder is used in an effective range to function as a binder. This effective range can be easily determined by one skilled in the art. For example, as an index for holding at least the organic silver salt in the photosensitive layer, the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably 15: 1 to 1: 2 (mass ratio), and particularly 8: 1 to 1: 1. The range of is preferable. That is, it is preferable that the binder amount of the photosensitive layer is a 1.5~6g / m 2, more preferably from 1.7~5g / m 2. If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area is significantly increased and may not be used.

本発明で用いるバインダーのガラス転移温度(Tg)は70〜105℃であることが好ましい。Tgは示差走査熱量計で測定して求めることができ、ベースラインと吸熱ピークの傾きとの交点をTgとする。本発明におけるTgは、ブランドラップ等による「重合体ハンドブック」III−139〜179頁(1966年,ワイリーアンドサン社版)に記載の方法で求めたものである。   It is preferable that the glass transition temperature (Tg) of the binder used by this invention is 70-105 degreeC. Tg can be obtained by measuring with a differential scanning calorimeter, and the intersection of the baseline and the endothermic peak slope is defined as Tg. Tg in the present invention is determined by the method described in “Polymer Handbook” III-139-179 (1966, Wiley and Sun, Inc.) by Brand Wrap et al.

バインダーが共重合体樹脂である場合のTgは下記の式で求められる。   Tg when the binder is a copolymer resin is obtained by the following formula.

Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・+vnTgn
式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。上式に従って計算されたTgの精度は±5℃である。
Tg (copolymer) (° C.) = V 1 Tg 1 + v 2 Tg 2 +... + V n Tg n
Wherein, v 1, v 2 ··· v n represents the mass fraction of the monomer in the copolymer, Tg 1, Tg 2 ··· Tg n from each monomer in the copolymer Tg (° C.) of the obtained single polymer is represented. The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ± 5 ° C.

Tgが70〜105℃のバインダーを用いると、画像形成において十分な最高濃度が得ることができ好ましい。   Use of a binder having a Tg of 70 to 105 ° C. is preferable because a sufficient maximum density can be obtained in image formation.

本発明のバインダーとしては、Tgが70〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜500,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。又、エチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体又は共重合体については、特開2001−330918号の段落番号「0069」に記載のものが挙げられる。   The binder of the present invention has a Tg of 70 to 105 ° C., a number average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and a degree of polymerization of about 50 to 1,000. It is. Examples of the polymer or copolymer containing an ethylenically unsaturated monomer as a constituent unit include those described in paragraph No. “0069” of JP-A No. 2001-330918.

これらの内、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。この様な高分子化合物の中でも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基を持つ高分子化合物でも、アセトアセタール構造を持つポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば米国特許2,358,836号、同3,003,879号、同2,828,204号、英国特許771,155号等に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。アセタール基を持つ高分子化合物としては、特開2002−287299号の段落「0150」に記載の一般式(V)で表される化合物が、特に好ましい。   Of these, particularly preferred examples include methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, and styrenes. Among such polymer compounds, a polymer compound having an acetal group is preferably used. Even a polymer compound having an acetal group is more preferably a polyvinyl acetal having an acetoacetal structure, for example, U.S. Pat. Nos. 2,358,836, 3,003,879, 2,828,204, UK The polyvinyl acetal shown by patent 771,155 etc. can be mentioned. As the polymer compound having an acetal group, a compound represented by the general formula (V) described in paragraph “0150” of JP-A No. 2002-287299 is particularly preferable.

本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン等公知のものが使用できる。又、ポリウレタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上のヒドロキシル基を有することが好ましい。ヒドロキシル基は、硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、ヒドロキシル基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは、分子末端にヒドロキシル基を3個以上有することが好ましく、4個以上有することが特に好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は、Tgが70〜105℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2が好ましい。 As the polyurethane resin that can be used in the present invention, known resins such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, and polycaprolactone polyurethane can be used. Moreover, it is preferable to have a total of 2 or more hydroxyl groups, at least one at each polyurethane molecule end. Since hydroxyl groups are cross-linked with polyisocyanate which is a curing agent to form a three-dimensional network structure, it is more preferable that the hydroxyl groups are contained in the molecule. In particular, it is preferable that the hydroxyl group is at the molecular end because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has 3 or more hydroxyl groups at the molecular terminals, and particularly preferably 4 or more. In the present invention, when polyurethane is used, Tg is preferably 70 to 105 ° C., elongation at break is 100 to 2000%, and stress at break is preferably 0.5 to 100 N / mm 2 .

これらの高分子化合物(ポリマー)は単独で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いてもよい。   These polymer compounds (polymers) may be used alone or in a blend of two or more.

本発明に係る感光性層には、上記ポリマーを主バインダーとして用いることが好ましい。ここで言う主バインダーとは、「感光性層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」を言う。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明のポリマーが可溶となる溶媒であれば特に制限はない。より好ましくは、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。   In the photosensitive layer according to the present invention, the above polymer is preferably used as a main binder. The main binder mentioned here means “a state in which the polymer occupies 50% by mass or more of the total binder of the photosensitive layer”. Therefore, other polymers may be blended and used within a range of less than 50% by weight of the total binder. These polymers are not particularly limited as long as the polymer of the present invention is soluble. More preferably, a polyvinyl acetate, a polyacryl resin, a urethane resin, etc. are mentioned.

感光性層に有機性ゲル化剤を含有せしめてもよい。尚、ここで言う有機性ゲル化剤とは、例えば多価アルコール類のように、有機液体に添加することにより、その系に降伏値を付与し、系の流動性を消失あるいは低下させる機能を有する化合物を言う。   An organic gelling agent may be contained in the photosensitive layer. Incidentally, the organic gelling agent referred to here has a function of giving a yield value to the system by adding it to an organic liquid, such as polyhydric alcohols, and eliminating or reducing the fluidity of the system. The compound which has.

感光性層用塗布液が水性分散されたポリマーラテックスを含有するのも好ましい態様である。この場合、感光性層用塗布液中の全バインダーの50質量%以上が水性分散されたポリマーラテックスであることが好ましい。又、感光性層の調製においてポリマーラテックスを使用した場合、感光性層中の全バインダーの50質量%以上がポリマーラテックス由来のポリマーであることが好ましく、更に好ましくは70質量%以上である。   It is also a preferred embodiment that the photosensitive layer coating solution contains an aqueous dispersed polymer latex. In this case, a polymer latex in which 50% by mass or more of the total binder in the coating solution for the photosensitive layer is dispersed in water is preferable. Further, when a polymer latex is used in the preparation of the photosensitive layer, 50% by mass or more of the total binder in the photosensitive layer is preferably a polymer latex-derived polymer, and more preferably 70% by mass or more.

ここで、ポリマーラテックスとは、水不溶性の疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち、分子鎖自身が分子状分散したもの等、何れでもよい。分散粒子の平均粒径は1〜50,000nmが好ましく、より好ましくは5〜1,000nm程度の範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも、単分散の粒径分布を持つものでもよい。   Here, the polymer latex is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As the dispersion state, the polymer is emulsified in a dispersion medium, the emulsion is polymerized, the micelle is dispersed, or the polymer molecule has a partially hydrophilic structure, and the molecular chain itself is molecularly dispersed. Any of these may be used. The average particle diameter of the dispersed particles is preferably 1 to 50,000 nm, more preferably in the range of about 5 to 1,000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

本発明の光熱写真材料に用いることができるポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、所謂コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合、コアとシェルはTgを変えると好ましい場合がある。ポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は−30〜90℃であることが好ましく、更に好ましくは0〜70℃程度である。又、最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。   The polymer latex that can be used in the photothermographic material of the present invention may be a so-called core / shell type latex other than a normal polymer latex having a uniform structure. In this case, it may be preferable to change the Tg of the core and the shell. The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex is preferably -30 to 90 ° C, more preferably about 0 to 70 ° C. In addition, a film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature.

上記造膜助剤は可塑剤とも呼ばれ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常、有機溶媒)であり、例えば「合成ラテックスの化学(室井宗一著,高分子刊行会発行,1970)」に記載されている。   The film-forming aid, also called a plasticizer, is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of polymer latex. For example, “Synthetic Latex Chemistry (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Co., Ltd.) , 1970).

ポリマーラテックスに用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、又はこれらの共重合体等がある。ポリマーとしては、直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、又、架橋されたポリマーでもよい。又、ポリマーとしては、単一のモノマーが重合した所謂ホモポリマーでも、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合は、ランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は、数平均分子量で、通常、5,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜100,000程度である。分子量が小さすぎるものは感光層の力学強度が不十分で、大きすぎるものは製膜性が悪く、共に好ましくない。   Examples of the polymer species used for the polymer latex include acrylic resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyurethane resins, rubber resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, and copolymers thereof. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is a number average molecular weight and is usually about 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the photosensitive layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film forming property is poor and both are not preferable.

ポリマーラテックスは、25℃・60%RH(相対湿度)での平衡含水率が0.01〜2質量%以下のものが好ましく、更に好ましくは、0.01〜1質量%のものである。平衡含水率の定義と測定法については、例えば「高分子工学講座14,高分子材料試験法(高分子学会編,地人書館)」等を参考にすることができる。   The polymer latex preferably has an equilibrium water content of 0.01 to 2% by mass or less, more preferably 0.01 to 1% by mass at 25 ° C. and 60% RH (relative humidity). For the definition and measurement method of the equilibrium moisture content, for example, “Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan)” can be referred to.

ポリマーラテックスの具体例としては、特開2002−287299号の「0173」に記載の各ラテックスが挙げられる。これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。ポリマーラテックスのポリマー種としては、アクリレート又はメタクリレート成分の如きカルボン酸成分を0.1〜10質量%程度含有するものが好ましい。   Specific examples of the polymer latex include latexes described in “0173” of JP-A No. 2002-287299. These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary. As a polymer seed | species of a polymer latex, what contains about 0.1-10 mass% of carboxylic acid components, such as an acrylate or a methacrylate component, is preferable.

更に、必要に応じて全バインダーの50質量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は前記感光性層の全バインダーの30質量%以下が好ましい。   Furthermore, if necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose or the like may be added within a range of 50% by mass or less of the total binder. The addition amount of these hydrophilic polymers is preferably 30% by mass or less based on the total binder of the photosensitive layer.

感光性層用塗布液の調製における、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスの添加の順序については、何れを先に添加してもよいし、同時に添加してもよいが、好ましくはポリマーラテックスが後である。更に、ポリマーラテックス添加前に有機銀塩、更には還元剤が混合されていることが好ましい。又、有機銀塩とポリマーラテックスを混合した後、経時させる温度が低すぎると塗布面状が損なわれ、高すぎるとカブリが上昇する問題があるので、混合後の塗布液は30〜65℃で上記時間経時されることが好ましい。更には、35〜60℃で経時されることが好ましく、特に35〜55℃での経時が好ましい。この様に温度を維持するには、塗布液の調液槽等を保温すればよい。   Regarding the order of addition of the organic silver salt and the aqueous dispersed polymer latex in the preparation of the coating solution for the photosensitive layer, either may be added first or at the same time, but preferably the polymer latex. There will be later. Furthermore, it is preferable that an organic silver salt and further a reducing agent are mixed before adding the polymer latex. In addition, after mixing the organic silver salt and the polymer latex, if the temperature to be aged is too low, the coated surface shape is impaired, and if it is too high, there is a problem that fog increases, so the coating solution after mixing is 30 to 65 ° C. It is preferable that the above time is elapsed. Furthermore, it is preferable to be aged at 35 to 60 ° C, and a time at 35 to 55 ° C is particularly preferable. In order to maintain the temperature in this way, it is sufficient to keep the temperature of the coating solution preparation tank or the like.

感光性層用塗布液の塗布は、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを混合した後、30分〜24時間経過した塗布液を用いるのが好ましく、更に好ましくは、混合した後、60分〜12時間経過させることであり、特に好ましくは2〜10時間経過した塗布液を用いることである。   For coating of the coating solution for the photosensitive layer, it is preferable to use a coating solution that has passed 30 minutes to 24 hours after mixing the organic silver salt and the aqueous polymer latex, and more preferably, 60 minutes after mixing. It is to make -12 hours pass, and it is using the coating liquid which passed 2-10 hours especially preferably.

ここで、「混合した後」とは、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを添加し、添加素材が均一に分散された後を言う。   Here, “after mixing” means after the organic silver salt and the aqueous polymer latex are added and the additive material is uniformly dispersed.

(架橋剤)
感光性層には、バインダー同士を橋かけ結合によって繋ぐことができる架橋剤を含有させることができる。架橋剤を上記バインダーに対し用いることにより、膜付きが良くなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のカブリ抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。
(Crosslinking agent)
The photosensitive layer can contain a cross-linking agent that can link the binders together by cross-linking. By using a crosslinking agent for the binder, it is known that filming is improved and development unevenness is reduced, but there is also an effect of suppressing fogging during storage and suppressing generation of printout silver after development. is there.

用いられる架橋剤としては、従来、写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば特開昭50−96216号に記載されるアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤が用いられるが、好ましくは、以下に示すイソシアネート系、シラン化合物系、エポキシ系化合物又は酸無水物である。   Examples of the crosslinking agent to be used include various crosslinking agents conventionally used for photographic light-sensitive materials, for example, aldehyde-based, epoxy-based, ethyleneimine-based, vinylsulfone-based, sulfone described in JP-A-50-96216. Acid ester-based, acryloyl-based, carbodiimide-based, and silane compound-based crosslinking agents are used, and the following isocyanate-based, silane compound-based, epoxy-based compounds, and acid anhydrides are preferable.

イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、更に具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2又は3価のポリアルコール類との付加体等が挙げられる。具体例として、特開昭56−5535号の10〜12頁に記載されるイソシアネート化合物を利用することができる。   Isocyanate-based crosslinking agents are isocyanates having at least two isocyanate groups and adducts thereof (adducts). More specifically, aliphatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates having a cyclic group, benzene Diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates, and these isocyanates and di- or trivalent polyalcohols And adducts. As specific examples, isocyanate compounds described on pages 10 to 12 of JP-A-56-5535 can be used.

尚、イソシアネートとポリアルコールの付加体は、特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは、熱現像感光材料のどの部分に置かれてもよい。例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)感光性層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光性層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。   In addition, the adduct of isocyanate and polyalcohol has particularly high ability to improve interlayer adhesion and prevent layer peeling, image shift and bubble generation. Such isocyanate may be placed in any part of the photothermographic material. For example, the photosensitive layer of the support such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer, an undercoat layer in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition) It can be added to any layer on the side and can be added to one or more of these layers.

又、本発明に使用可能なチオイソシアネート系架橋剤として、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。   In addition, compounds having a thioisocyanate structure corresponding to the above-mentioned isocyanates are also useful as thioisocyanate crosslinking agents that can be used in the present invention.

上記架橋剤の使用量は、通常、銀1モルに対して0.001〜2モル、好ましくは0.005〜0.5モルの範囲である。   The amount of the crosslinking agent used is usually in the range of 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, with respect to 1 mol of silver.

含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、当該官能基を1個のみ有する化合物であっても良い結果が得られる。   The isocyanate compound and thioisocyanate compound that can be contained are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent, but good results may be obtained even if the compound has only one functional group.

シラン化合物の例としては、特開2001−264930号に開示される一般式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the silane compound include compounds represented by general formulas (1) to (3) disclosed in JP-A No. 2001-264930.

架橋剤として使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。又、エポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等の何れであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーの何れであってもよく、その数平均分子量の特に好ましい範囲は2,000〜20,000程度である。   The epoxy compound that can be used as a crosslinking agent is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups and the number of epoxy groups, molecular weight, and the like. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. The epoxy compound may be any of a monomer, an oligomer, a polymer, etc., and the number of epoxy groups present in the molecule is usually about 1 to 10, preferably 2 to 4. When the epoxy compound is a polymer, it may be either a homopolymer or a copolymer, and a particularly preferred range of the number average molecular weight is about 2,000 to 20,000.

本発明に用いられる酸無水物は、下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化合物である。この様な酸無水基を1個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はない。   The acid anhydride used in the present invention is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula. The number of acid anhydride groups, molecular weight, and the like are not particularly limited as long as they have one or more acid anhydride groups.

−CO−O−CO−
上記のエポキシ化合物や酸無水物は、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量に特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m2の範囲である。このエポキシ化合物や酸無水物は、感光性層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光性層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。
-CO-O-CO-
Said epoxy compound and acid anhydride may use only 1 type, or may use 2 or more types together. There is no particular restriction on the addition amount, 1 × 10 -6 ~1 × 10 - is preferably 2 mol / m 2 range, more preferably in the range of 1 × 10 -5 ~1 × 10 -3 mol / m 2 It is. This epoxy compound or acid anhydride can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as the photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc. It can be added to one layer or two or more layers.

(省銀化剤)
感光性層又は非感光性層には、省銀化剤を含有させることができる。ここで言う省銀化剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物を言う。
(Silver saving agent)
The photosensitive layer or the non-photosensitive layer may contain a silver saving agent. The silver saving agent as used herein refers to a compound that can reduce the amount of silver necessary to obtain a certain silver image density.

この必要な銀量を低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度を言う。この省銀化剤は感光性層又は非感光性層、更にはその何れにも存在させることができる。省銀化剤としては、ヒドラジン誘導体化合物、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、4級オニウム化合物及びシラン化合物が好ましい例として挙げられる。   Although various mechanisms for the function of reducing the required silver amount are conceivable, a compound having a function of improving the covering power of developed silver is preferred. The covering power of developed silver refers to the optical density per unit amount of silver. This silver saving agent can be present in the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, or any of them. Preferred examples of the silver saving agent include hydrazine derivative compounds, vinyl compounds, phenol derivatives, naphthol derivatives, quaternary onium compounds, and silane compounds.

ヒドラジン誘導体の具体例としては、米国特許5,545,505号のカラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特許5,464,738号のカラム9〜11に記載の化合物1〜12、特開2001−27790号の段落「0042」〜「0052」に記載の化合物H−1−1〜H−1−28、H−2−1〜H−2−9、H−3−1〜H−3−12、H−4−1〜H−4−21、H−5−1〜H−5−5等が挙げられる。   Specific examples of the hydrazine derivative include compounds H-1 to H-29 described in columns 11 to 20 of US Pat. No. 5,545,505, and compounds described to columns 9 to 11 of US Pat. No. 5,464,738. 1 to 12, and compounds H-1-1 to H-1-28, H-2-1 to H-2-9, and H-3 described in paragraphs “0042” to “0052” of JP-A-2001-27790 -1 to H-3-12, H-4-1 to H-4-21, H-5-1 to H-5-5, and the like.

ビニル化合物の具体例としては、米国特許5,545,515号のカラム13〜14に記載の化合物CN−01〜CN−13、米国特許5,635,339号のカラム10に記載の化合物HET−01〜HET−02、米国特許5,654,130号のカラム9〜10に記載の化合物MA−01〜MA−07、米国特許5,705,324号のカラム9〜10に記載の化合物IS−01〜IS−04、特開2001−125224号の段落「0043」〜「0088」記載の化合物1−1〜218−2等が挙げられる。   Specific examples of the vinyl compound include compounds CN-01 to CN-13 described in columns 13 to 14 of US Pat. No. 5,545,515, and compounds HET- described to column 10 of US Pat. No. 5,635,339. 01-HET-02, compounds MA-01-MA-07 described in columns 9-10 of US Pat. No. 5,654,130, compounds IS- described in columns 9-10 of US Pat. No. 5,705,324 01 to IS-04, and compounds 1-1 to 218-2 described in paragraphs “0043” to “0088” of JP-A No. 2001-125224.

フェノール誘導体、ナフトール誘導体の具体例としては、特開2000−267222号の段落「0075」〜「0078」に記載の化合物A−1〜A−89、特開2003−66558号の段落「0025」〜「0045」に記載の化合物A−1〜A−25等が挙げられる。   Specific examples of the phenol derivative and the naphthol derivative include compounds A-1 to A-89 described in paragraphs “0075” to “0078” of JP-A No. 2000-267222, and paragraphs “0025” to JP-A No. 2003-66558. Examples thereof include compounds A-1 to A-25 described in “0045”.

4級オニウム化合物の具体例としては、トリフェニルテトラゾリウム類が挙げられる。   Specific examples of the quaternary onium compound include triphenyltetrazoliums.

シラン化合物具体例としては、特開2003−5324号の段落「0027」〜「0029」記載の化合物A1〜A33に示されるような、1級又は2級アミノ基を2個以上有するアルコキシシラン化合物あるいはその塩が挙げられる。   Specific examples of the silane compound include alkoxysilane compounds having two or more primary or secondary amino groups as shown in compounds A1 to A33 described in paragraphs “0027” to “0029” of JP-A No. 2003-5324, or The salt is mentioned.

上記省銀化剤の添加量は、有機銀塩1モルに対し1×10-5〜1モル、好ましくは1×10-4〜5×10-1モルの範囲である。 The addition amount of the silver saving agent is in the range of 1 × 10 −5 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 5 × 10 −1 mol, per 1 mol of the organic silver salt.

特に好ましい省銀化剤は下記一般式(SE1)及び(SE2)で表される化合物である。   Particularly preferred silver saving agents are compounds represented by the following general formulas (SE1) and (SE2).

一般式(SE1)
1−NHNH−Q2
式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基又は複素環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基又はスルファモイル基を表す。
General formula (SE1)
Q 1 -NHNH-Q 2
In the formula, Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, or a sulfamoyl group. Represents.

1で表される芳香族基又は複素環基としては5〜7員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、1,2,4−トリアジン、1,3,5−トリアジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、テトラゾール、1,3,4−チアジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,5−チアジアゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,2,4−オキサジアゾール、1,2,5−オキサジアゾール、チアゾール、オキサゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、チオフェン環残基などが好ましく、更にこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。 The aromatic group or heterocyclic group represented by Q 1 is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, 1,2,4-triazine, 1,3,5-triazine, pyrrole, imidazole, pyrazole, 1,2,3-triazole, 1,2,4. -Triazole, tetrazole, 1,3,4-thiadiazole, 1,2,4-thiadiazole, 1,2,5-thiadiazole, 1,3,4-oxadiazole, 1,2,4-oxadiazole, 1 , 2,5-oxadiazole, thiazole, oxazole, isothiazole, isoxazole, thiophene ring residues and the like are preferable, and condensed rings in which these rings are condensed with each other are also preferable.

これらの環は置換基を有してもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一でも異なってもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基及びアシル基を挙げることができる。これらの置換基は更に置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びアシルオキシ基を挙げることができる。   These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups and acyl groups. These substituents may further have a substituent. Examples of preferable substituents include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a carbonamido group, an alkylsulfonamido group, an arylsulfonamido group, an alkoxy group, and an aryl group. Examples thereof include an oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a cyano group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and an acyloxy group.

2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のカルバモイル基であり、例えば無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−sec−ブチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、N−シクロヘキシルカルバモイル、N−t−ブチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N−オクタデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−t−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル、N−ナフチルカルバモイル、N−3−ピリジルカルバモイル、N−ベンジルカルバモイル等が挙げられる。Q2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアシル基であり、例えばホルミル、アセチル、2−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、2−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル、2−ヒドロキシメチルベンゾイル等が挙げられる。Q2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、i−ブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル等が挙げられる。Q2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数7〜50、より好ましくは炭素数7〜40のアリールオキシカルボニル基で、例えばフェノキシカルボニル、4−オクチルオキシフェノキシカルボニル、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、4−ドデシルオキシフェノキシカルボニル等が挙げられる。Q2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルホニル基で、例えばメチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、2−ヘキサデシルスルホニル、3−ドデシルオキシプロピルスルホニル、2−オクチルオキシ−5−tert−オクチルフェニルスルホニル、4−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。 The carbamoyl group represented by Q 2 is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, Nt-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3- (2,4-t-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyl) Oxycarbonylphenyl) Rubamoiru, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl, N- benzylcarbamoyl, and the like. The acyl group represented by Q 2 is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2- Examples include hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, 2-hydroxymethylbenzoyl and the like. The alkoxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, i-butyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl. , Dodecyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl and the like. The aryloxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxymethyl. Phenoxycarbonyl, 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl, etc. are mentioned. The sulfonyl group represented by Q 2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, and 3-dodecyl. Examples include oxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.

Q2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルファモイル基で、例えば無置換スルファモイル、N−エチルスルファモイル基、N−(2−エチルヘキシル)スルファモイル、N−デシルスルファモイル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−{3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピル}スルファモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)スルファモイル、N−(2−テトラデシルオキシフェニル)スルファモイル等が挙げられる。   The sulfamoyl group represented by Q2 is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, or N- (2-ethylhexyl). Sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl and the like.

2で表される基は、更に、置換可能な位置に前記のQ1で表される5〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なってもよい。 The group represented by Q 2 may further have the group exemplified as the substituent of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by Q 1 at a substitutable position. When it has more than one substituent, these substituents may be the same or different.

一斑式(SE−1)で表される化合物として好ましくは、Q1としては5〜6員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、及びこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和複素環と縮合した環が更に好ましい。Q2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。 As the compound represented by the spotted formula (SE-1), preferably, Q 1 is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, and a benzene ring, a pyrimidine ring, a 1,2,3-triazole ring, 1,2,2, 4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring More preferred are an oxazole ring, an isothiazole ring, an isoxazole ring, and a ring in which these rings are condensed with a benzene ring or an unsaturated heterocyclic ring. Q 2 is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on the nitrogen atom.

次に、一般式(SE2)について説明する。   Next, general formula (SE2) will be described.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

式中、R1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基又はカルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基又は炭酸エステル基を表す。R3及びR4は各々、前記一般式(SE1)の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。又、R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。 In the formula, R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate ester group. R 3 and R 4 each represents a group that can be substituted on the benzene ring mentioned in the example of the substituent of the general formula (SE1). R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.

1は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、ブチル、t−オクチル、シクロヘキシル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンソイルアミノ、メチルウレイド、4−シアノフェニルウレイド等)、カルバモイル基(ブチルカルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、2−クロロフェニルカルバモイル、2,4−ジクロロフェニルカルバモイル等)で、中でもアシルアミノ基(ウレイド基、ウレタン基を含む)がより好ましい。 R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (methyl, ethyl, i-propyl, butyl, t-octyl, cyclohexyl, etc.), acylamino group (acetylamino, benzoylamino, methylureido, 4-cyanophenylureido) Etc.), carbamoyl groups (butylcarbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, 2-chlorophenylcarbamoyl, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl, etc.), among which acylamino groups (including ureido groups and urethane groups) are more preferred.

2は好ましくはハロゲン原子(より好ましくは塩素、臭素)、アルコキシ基(メトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、デシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ベンジルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ、ナフトキシ等)である。 R 2 is preferably a halogen atom (more preferably chlorine, bromine), an alkoxy group (methoxy, butoxy, hexyloxy, decyloxy, cyclohexyloxy, benzyloxy, etc.), or an aryloxy group (phenoxy, naphthoxy, etc.).

3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基であり、ハロゲン原子が最も好ましい。 R 3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom.

4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基又はアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はR1と同様である。R4がアシルアミノ基である場合R4はR3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。 R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferable substituents are the same as those for R 1 . When R 4 is an acylamino group, R 4 is preferably linked to R 3 to form a carbostyryl ring.

一般式(SE2)において、R3とR4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。このナフタレン環には、一般式(SE1)で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式(SE2)の化合物がナフトール系の化合物である時、R1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。R2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。 In general formula (SE2), when R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring, the condensed ring is particularly preferably a naphthalene ring. This naphthalene ring may be bonded with the same substituents as those exemplified in the general formula (SE1). When the compound of the general formula (SE2) is a naphthol compound, R 1 is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R 2 is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.

以下、本発明の省銀化剤の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the preferable specific example of the silver saving agent of this invention is given, this invention is not limited to these.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

(熱溶剤)
光熱写真材料には熱溶剤が含まれていることが好ましい。ここで、熱溶剤とは、熱溶剤含有光熱写真材料に対して、熱溶剤を含まない光熱写真材料に比べて熱現像温度を1℃以上低くすることができる素材と定義する。更に好ましくは、2℃以上熱現像温度を低くできる素材であり、特に好ましくは3℃以上低くできる素材である。例えば、熱溶剤を含む光熱写真材料Aに対して、光熱写真材料Aから熱溶剤を含まない光熱写真材料をBとした時に、光熱写真材料Bを露光し熱現像温度120℃、熱現像時間20秒で処理して得られる濃度を、光熱写真材料Aで同一露光量、熱現像時間で得るための熱現像温度が119℃以下になる場合を熱溶剤とする。
(Thermal solvent)
The photothermographic material preferably contains a thermal solvent. Here, the thermal solvent is defined as a material capable of lowering the heat development temperature by 1 ° C. or more as compared with the photothermographic material containing no thermal solvent with respect to the photothermographic material containing the thermal solvent. More preferred is a material that can lower the heat development temperature by 2 ° C. or more, and particularly preferred is a material that can lower the temperature by 3 ° C. or more. For example, with respect to the photothermographic material A containing a thermosolvent, when the photothermographic material A from the photothermographic material A is designated B, the photothermographic material B is exposed to a heat development temperature of 120 ° C. and a heat development time of 20 ° C. When the photothermographic material A has the same exposure amount and heat development time to obtain the density obtained by processing in seconds, the heat development temperature is 119 ° C. or less.

熱溶剤は極性基を置換基として有しており、一般式(TS)で表されるのが好ましいが、これらに限定されるものではない。   The thermal solvent has a polar group as a substituent and is preferably represented by the general formula (TS), but is not limited thereto.

一般式(TS) (Y)n
式中、Yはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表す。Zはヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、燐酸アミド基、シアノ基、イミド基、ウレイド基、スルホキシド基、スルホン基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基及び含窒素複素環基から選ばれる基を表す。nは1〜3の整数を表し、Zの価数と同一である。nが2以上の時、複数のYは同一でも異なってもよい。
General formula (TS) (Y) n Z
In the formula, Y represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Z is a hydroxyl group, carboxyl group, amino group, amide group, sulfonamide group, phosphoric acid amide group, cyano group, imide group, ureido group, sulfoxide group, sulfone group, phosphine group, phosphine oxide group and nitrogen-containing heterocyclic group. Represents a selected group. n represents an integer of 1 to 3, and is the same as the valence of Z. When n is 2 or more, the plurality of Y may be the same or different.

Yは更に置換基を有してもよく、置換基としてZで表される基が挙げられる。   Y may further have a substituent, and examples of the substituent include a group represented by Z.

一般式(TS)において、Yは直鎖、分岐又は環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは1〜30、特に好ましくは1〜25であり、例えばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、sec−ブチル、t−ブチル、t−オクチル、アミル、t−アミル、ドデシル、トリデシル、オクタデシル、イコシル、ドコシル、シクロペンチル、シクロヘキシル等)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは2〜30、特に好ましくは2〜25であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜40、より好ましくは6〜30、特に好ましくは6〜25であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチル等)、複素環基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜12であり、例えばピリジル、ピラジル、イミダゾイル、ピロリジル等)を表す。これらの置換基は更に他の置換基で置換されていてもよい。又、これらの置換基は互いに結合して、環を形成してもよい。   In general formula (TS), Y is a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 25 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, i-propyl, sec-butyl, t-butyl, t-octyl, amyl, t-amyl, dodecyl, tridecyl, octadecyl, icosyl, docosyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc., alkenyl group (preferably having 2 to 40 carbon atoms, more Preferably they are 2-30, Most preferably, it is 2-25, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl etc.), an aryl group (preferably C6-C40, more preferably 6-30, especially preferable) Is 6-25, for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), a heterocyclic group (preferably having 2-20 carbon atoms) More preferably 2 to 16, particularly preferably 2 to 12, for example represents pyridyl, pyrazinyl, imidazolyl, pyrrolidyl, etc.). These substituents may be further substituted with other substituents. These substituents may be bonded to each other to form a ring.

Yは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、特開2004−21068号の段落「0015」に記載の置換基が挙げられる。熱溶剤を使用することにより現像活性となる理由としては、熱溶剤が現像温度付近で溶融することにより現像に関与する物質と相溶し、熱溶剤を添加しない時よりも低い温度での反応を可能としているためと考えられる。熱現像は、比較的極性の高いカルボン酸や銀イオン輸送体が関与している還元反応であるため、極性基を有している熱溶剤により適度の極性を有する反応場を形成することが好ましい。   Y may further have a substituent, and examples of the substituent include those described in paragraph “0015” of JP-A No. 2004-21068. The reason why development activity is achieved by using a hot solvent is that the hot solvent melts near the development temperature so that it is compatible with substances involved in development, and the reaction at a lower temperature than when no hot solvent is added. This is thought to be possible. Since heat development is a reduction reaction involving a carboxylic acid having a relatively high polarity or a silver ion transporter, it is preferable to form a reaction field having an appropriate polarity with a thermal solvent having a polar group. .

本発明に好ましく用いられる熱溶剤の融点は50〜200℃であるが、より好ましくは60〜150℃である。特に、本発明の目的であるような、画像保存性などの外的環境に対しての安定性を重視した光熱写真材料では、融点が100〜150℃の熱溶剤が好ましい。   The melting point of the thermal solvent preferably used in the present invention is 50 to 200 ° C, more preferably 60 to 150 ° C. In particular, in a photothermographic material that emphasizes stability against an external environment such as image storability, which is an object of the present invention, a thermal solvent having a melting point of 100 to 150 ° C. is preferable.

熱溶剤の具体例としては特開2004−21068号の段落「0017」に記載される化合物、米国公開特許US2002/0025498号公報の段落「0027」に記載の化合物、MF−1〜MF−3、MF6、MF−7、MF−9〜MF−12、MF−15〜MF−22を挙げることができる。   Specific examples of the thermal solvent include compounds described in paragraph “0017” of JP-A No. 2004-21068, compounds described in paragraph “0027” of U.S. Published Patent No. US2002 / 0025498, MF-1 to MF-3, MF6, MF-7, MF-9 to MF-12, MF-15 to MF-22 can be mentioned.

熱溶剤の添加量は0.01〜5.0g/m2であることが好ましく、より好ましくは0.05〜2.5g/m2で、更に好ましくは0.1〜1.5g/m2である。熱溶剤は感光性層に含有させることが好ましい。 Preferably the added amount of thermal solvent is 0.01~5.0g / m 2, more preferably 0.05~2.5g / m 2, more preferably 0.1 to 1.5 g / m 2 It is. The thermal solvent is preferably contained in the photosensitive layer.

上記熱溶剤は単独で用いてもよいが、2種以上を組み合わせて用いてもよい。熱溶剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、如何なる方法で塗布液に含有せしめ、光熱写真材料材料に含有させてもよい。   Although the said thermal solvent may be used independently, you may use it in combination of 2 or more type. The thermal solvent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.

よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレート等のオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノン等の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。又、固体微粒子分散法としては、熱溶剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えばポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリ−i−プロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが、通常は1m〜1000ppmの範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。   The well-known emulsification dispersion method includes dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically preparing the emulsion dispersion. The method of doing is mentioned. As the solid fine particle dispersion method, the powder of the hot solvent is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to produce a solid dispersion. A method is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) and a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium tri-i-propylnaphthalene sulfonate) may be used. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 m to 1000 ppm. If the Zr content in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem. The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).

(カブリ防止及び画像安定化剤)
光熱写真材料の何れかの構成層には、熱現像前の保存時におけるカブリ発生を防止するためのカブリ防止剤、及び熱現像後における画像の劣化を防止するための画像安定化剤を含有させておくことが好ましい。
(Anti-fogging agent and image stabilizer)
Any constituent layer of the photothermographic material contains an antifoggant for preventing fogging during storage before thermal development and an image stabilizer for preventing image deterioration after thermal development. It is preferable to keep it.

以下、本発明に用いることができるカブリ防止剤及び画像安定化剤について説明する。   Hereinafter, an antifoggant and an image stabilizer that can be used in the present invention will be described.

本発明に係る還元剤として、主にビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンを持った還元剤が用いられているので、これらの水素を安定化し還元剤を不活性化し、銀イオンを還元する反応を防止防止できる化合物が含有されていることが好ましい。又、生フィルムや画像の保存時に生成する銀原子ないし金属銀銀(銀クラスター)を酸化漂白できる化合物が含有されていることが好ましい。これらの機能を有する化合物の具体例としてビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物を挙げることができる。上記のビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物の添加量は0.001〜0.1モル/m2、好ましくは0.005〜0.05モル/m2の範囲である。 As reducing agents according to the present invention, reducing agents having protons such as bisphenols and sulfonamidophenols are mainly used, so that these hydrogens are stabilized, the reducing agents are deactivated, and silver ions are reduced. It is preferable that a compound capable of preventing and preventing the reaction is contained. Further, it is preferable to contain a compound capable of oxidatively bleaching silver atoms or metallic silver (silver clusters) generated during storage of raw films and images. Specific examples of compounds having these functions include biimidazolyl compounds and iodonium compounds. The amount of the biimidazolyl compound and iodonium compound added is in the range of 0.001 to 0.1 mol / m 2 , preferably 0.005 to 0.05 mol / m 2 .

用いる還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば特開2002−90937号の段落「0061」〜「0064」に記載の化合物(II−1)〜(II−40)が挙げられる。   When the reducing agent used has an aromatic hydroxyl group (—OH), particularly in the case of bisphenols, a nonreducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups should be used in combination. Is preferred. Specific examples of particularly preferable hydrogen bonding compounds include compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0061” to “0064” of JP-A-2002-90937.

又、一方、カブリ防止剤及び画像安定化剤として、ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られている。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開2002−287299号の段落「0264」〜「0271」に記載の一般式(9)の化合物が挙げられる。   On the other hand, many compounds that can release halogen atoms as active species are known as antifoggants and image stabilizers. Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include compounds represented by general formula (9) described in paragraphs “0264” to “0271” of JP-A No. 2002-287299.

これらの化合物の添加量は、当該化合物から放出されるハロゲンと銀イオンが反応してハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が実質的に問題にならない範囲が好ましい。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、上記特許の他に、特開2002−169249号の段落「0086」〜「0087」に記載される化合物(III−1)〜(III−23)、特開2003−50441号の段落「0031」〜「0034」に記載の化合物1−1a〜1−1o、1−2a〜1−2o、段落「0050」〜「0056」に記載の化合物2a〜2z、2aa〜2ll、2−1a〜2−1f、特開2003−91054号の段落「0055」〜「0058」に記載の化合物4−1〜4−32、段落「0069」〜「0072」に記載の化合物5−1〜5−10を挙げることができる。   The addition amount of these compounds is preferably within a range in which the increase in printout silver due to the formation of silver halide due to the reaction between the halogen released from the compound and silver ions does not become a problem. Specific examples of compounds that generate these active halogen atoms include, in addition to the above-mentioned patents, compounds (III-1) to (III-) described in paragraphs “0086” to “0087” of JP-A No. 2002-169249. 23), compounds 1-1a to 1-1o and 1-2a to 1-2o described in paragraphs “0031” to “0034” of JP-A-2003-50441, and compounds described in paragraphs “0050” to “0056” 2a to 2z, 2aa to 2ll, 2-1a to 2-1f, compounds 4-1 to 4-32 described in paragraphs “0055” to “0058” of JP-A No. 2003-91054, paragraphs “0069” to “0072” Compound 5-1 to 5-10 described in FIG.

本発明で好ましく使用されるカブリ防止剤としては、例えば特開平8−314059号の段落「0012」に記載の化合物例a〜j、特開平7−209797号の段落「0028」に記載のチオスルホネートエステルA〜K、特開昭55−140833号の14頁から記載の化合物例(1)〜(44)、特開2001−13627号の段落「0063」に記載の化合物(I−1)〜(I−6)、段落「0066」に記載の(C−1)〜(C−3)、特開2002−90937号の段落「0027」に記載の化合物(III−1)〜(III−108)、ビニルスルホン類及び/又はβ−ハロスルホン類の化合物として特開平6−208192号の段落「0013」に記載の化合物VS−1〜VS−7、化合物HS−1〜HS−5、スルホニルベンゾトリアゾール化合物として特開2000−330235号に記載のKS−1〜KS−8の化合物、置換されたプロペンニトリル化合物として特表2000−515995号に記載のPR−01〜PR−08、特開2002−207273号の段落「0042」〜「0051」に記載の化合物(1)−1〜(1)−132等を挙げることができる。   Antifoggants preferably used in the present invention include, for example, compound examples a to j described in paragraph “0012” of JP-A-8-314059, and thiosulfonates described in paragraph “0028” of JP-A-7-209797. Esters A to K, compound examples (1) to (44) described from page 14 of JP-A No. 55-140833, and compounds (I-1) to (I) described in paragraph “0063” of JP-A No. 2001-13627 I-6), (C-1) to (C-3) described in paragraph “0066”, and compounds (III-1) to (III-108) described in paragraph “0027” of JP-A-2002-90937 As compounds of vinyl sulfones and / or β-halo sulfones, compounds VS-1 to VS-7, compounds HS-1 to HS-5 described in paragraph “0013” of JP-A-6-208192, sulfonylbenzoto Compounds KS-1 to KS-8 described in JP-A No. 2000-330235 as azole compounds, PR-01 to PR-08 described in JP-T-2000-515995 as substituted propene nitrile compounds, JP-A 2002-2002 Examples thereof include compounds (1) -1 to (1) -132 described in paragraphs “0042” to “0051” of No. 207273.

上記カブリ防止剤は、一般に銀1モルに対して少なくとも0.001モル用いる。通常、その範囲は、銀1モルに対して化合物は0.01〜5モル、好ましくは0.02〜0.6モルである。   The antifoggant is generally used in an amount of at least 0.001 mol per 1 mol of silver. Usually, the range is 0.01 to 5 mol, preferably 0.02 to 0.6 mol of the compound per 1 mol of silver.

尚、上記の化合物の他に、光熱写真材料中には、従来カブリ防止剤として知られている各種化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、カブリ防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば米国特許3,589,903号、同4,546,075号、同4,452,885号、特開昭59−57234号、米国特許3,874,946号、同4,756,999号、特開平9−288328号、同9−90550号等に記載される化合物が挙げられる。更に、その他のカブリ防止剤としては、米国特許5,028,523号及び欧州特許600,587号、同605,981号、同631,176号に開示される化合物が挙げられる。   In addition to the above compounds, the photothermographic material may contain various compounds conventionally known as antifoggants, but can generate reactive species similar to the above compounds. Even if it is a compound, the compound from which an antifogging mechanism differs may be sufficient. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, U.S. Pat. Nos. 3,874,946, 4,756,999. And compounds described in JP-A-9-288328 and JP-A-9-90550. Further, other antifoggants include compounds disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and European Patents 600,587, 605,981, and 631,176.

(調色剤)
本発明の光熱写真材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する調色剤(トナー)を、(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。
(Toning agent)
The photothermographic material of the present invention forms a photographic image by heat development, and a toning agent (toner) for adjusting the color tone of silver as necessary is dispersed in an (organic) binder matrix. It is preferable to contain.

用いられる好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号及び同4,021,249号に開示されており、例えば次の様なものがある。   Examples of suitable toning agents used are disclosed in RD 17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136 and 4,021,249. For example, there are the following.

イミド類(スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド等);メルカプタン類(3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール等);フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(フタラジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン等);フタラジンとフタル酸類(フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸等)の組合せ;フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物等)から選択される少なくとも一つの化合物との組合せ等が挙げられる。特に好ましい調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。   Imides (succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8-naphthalimide, etc.); mercaptans (3-mercapto-1,2,4-triazole, etc.); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazine and phthalic acids (phthalic acid, Combinations of 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid); phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (phthalic acid) 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalate Combination of at least one compound selected from acid anhydride, etc.). Particularly preferred toning agents are combinations of phthalazinone or phthalazine with phthalic acids and phthalic anhydrides.

(弗素系界面活性剤)
本発明では、レーザイメージャ(熱現像処理装置)でのフィルム搬送性や環境適性(生体内への蓄積性)を改良するために、下記一般式(SF)で表される弗素系界面活性剤が好ましく用いられる。
(Fluorine surfactant)
In the present invention, a fluorine-based surfactant represented by the following general formula (SF) is used in order to improve film transportability and environmental suitability (accumulation in a living body) in a laser imager (thermal development processing apparatus). Preferably used.

一般式(SF)
(Rf−(L1n1−)p−(Y)m1−(A)q
式中、Rfは弗素原子を含有する置換基を表し、L1は弗素原子を有しない2価の連結基を表し、Yは弗素原子を有さない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基又はその塩を表し、n1及びm1は各々0又は1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。ただし、qが1の時はn1とm1は同時に0ではない。
General formula (SF)
(Rf− (L 1 ) n1 −) p − (Y) m1 − (A) q
In the formula, Rf represents a substituent containing a fluorine atom, L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom, Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom, A Represents an anionic group or a salt thereof, n1 and m1 each represents an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, n1 and m1 are not 0 at the same time.

Rfで表される弗素原子を含有する置換基としては、例えば炭素数1〜25の弗化アルキル基(トリフロロメチル、トリフロロエチル、パーフロロエチル、パーフロロブチル、パーフロロオクチル、パーフロロドデシル、パーフロロオクタデシル等)又は弗化アルケニル基(パーフロロプロペニル、パーフロロブテニル、パーフロロノネニル、パーフロロドデセニル等)等が挙げられる。Rfは炭素数2〜8であることが好ましく、より好ましくは2〜6である。又、Rfは弗素原子数2〜12であることが好ましく、より好ましくは3〜12である。   Examples of the substituent containing a fluorine atom represented by Rf include fluorinated alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms (trifluoromethyl, trifluoroethyl, perfluoroethyl, perfluorobutyl, perfluorooctyl, perfluorododecyl. And perfluorooctadecyl) or alkenyl fluoride groups (perfluoropropenyl, perfluorobutenyl, perfluorononenyl, perfluorododecenyl, etc.). Rf preferably has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms. Rf preferably has 2 to 12 fluorine atoms, more preferably 3 to 12.

1で表される弗素原子を有しない2価の連結基としては、例えばアルキレン基(メチレン、エチレン、ブチレン等)、アルキレンオキシ基(メチレンオキシ、エチレンオキシ、ブチレンオキシ等)、オキシアルキレン基(オキシメチレン、オキシエチレン、オキシブチレン等)、オキシアルキレンオキシ基(オキシメチレンオキシ、オキシエチレンオキシ、オキシエチレンオキシエチレンオキシ等)、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニレンオキシ基、オキシフェニレンオキシ基、又はこれらの基を組み合わせた基等が挙げられる。 Examples of the divalent linking group having no fluorine atom represented by L 1 include an alkylene group (methylene, ethylene, butylene, etc.), an alkyleneoxy group (methyleneoxy, ethyleneoxy, butyleneoxy, etc.), an oxyalkylene group ( Oxymethylene, oxyethylene, oxybutylene, etc.), oxyalkyleneoxy groups (oxymethyleneoxy, oxyethyleneoxy, oxyethyleneoxyethyleneoxy, etc.), phenylene groups, oxyphenylene groups, phenyleneoxy groups, oxyphenyleneoxy groups, or these And a combination of these groups.

Aが表すアニオン基又はその塩としては、例えばカルボン酸基又はその塩(ナトリウム、カリウム及びリチウム塩)、スルホン酸基又はその塩(ナトリウム、カリウム及びリチウム塩)、硫酸ハーフエステル基又はその塩(ナトリウム、カリウム及びリチウム塩)、燐酸基又はその塩(ナトリウム及びカリウム塩など)等が挙げられる。   Examples of the anionic group represented by A or a salt thereof include a carboxylic acid group or a salt thereof (sodium, potassium and lithium salts), a sulfonic acid group or a salt thereof (sodium, potassium and lithium salts), a sulfuric acid half ester group or a salt thereof ( Sodium, potassium and lithium salts), phosphoric acid groups or salts thereof (such as sodium and potassium salts) and the like.

Yが表す弗素原子を有しない(p+q)価の連結基は、例えば3又は4価の連結基としては、窒素原子又は炭素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。n1は0又は1の整数を表すが、1であるのが好ましい。   Examples of the (p + q) -valent linking group having no fluorine atom represented by Y include, for example, an atomic group composed mainly of a nitrogen atom or a carbon atom as a trivalent or tetravalent linking group. n1 represents 0 or an integer of 1, and is preferably 1.

一般式(SF)で表される弗素系界面活性剤は、弗素原子を導入した炭素数1〜25のアルキル化合物(トリフロロメチル、ペンタフロロエチル、パーフロロブチル、パーフロロオクチル、パーフロロオクタデシル等を有する化合物)及びアルケニル化合物(パーフロロヘキセニル基、パーフロロノネニル等を有する化合物)と、それぞれ弗素原子を導入していない3〜6価のアルカノール化合物、水酸基を3〜4個有する芳香族化合物又は複素環化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物(一部Rf化されたアルカノール化合物)に、更に硫酸エステル化等によりアニオン基(A)を導入することにより得ることができる。   The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is an alkyl compound having 1 to 25 carbon atoms into which a fluorine atom is introduced (trifluoromethyl, pentafluoroethyl, perfluorobutyl, perfluorooctyl, perfluorooctadecyl, etc. Compounds) and alkenyl compounds (compounds having a perfluorohexenyl group, perfluorononenyl, etc.), 3- to 6-valent alkanol compounds in which no fluorine atom is introduced, and aromatic compounds having 3 to 4 hydroxyl groups. Or it can obtain by introduce | transducing an anionic group (A) into a compound (partially Rf-ized alkanol compound) obtained by addition reaction and condensation reaction with a heterocyclic compound by sulfate esterification etc.

上記3〜6価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、2−メチル−2−ヒドロキシメチル1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンテン、1,2,6−ヘキサントリオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)プロパン、2,2−ビス(ブタノール)−3、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、D−ソルビトール、キシリトール、D−マンニトール等が挙げられる。又、水酸基を3〜4個有する芳香族化合物及び複素環化合物としては、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン及び2,4,6−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。   Examples of the trivalent to hexavalent alkanol compound include glycerin, pentaerythritol, 2-methyl-2-hydroxymethyl 1,3-propanediol, 2,4-dihydroxy-3-hydroxymethylpentene, and 1,2,6-hexane. Examples include triol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) propane, 2,2-bis (butanol) -3, aliphatic triol, tetramethylolmethane, D-sorbitol, xylitol, D-mannitol and the like. Examples of the aromatic compound and heterocyclic compound having 3 to 4 hydroxyl groups include 1,3,5-trihydroxybenzene and 2,4,6-trihydroxypyridine.

上記した弗素系界面活性剤の具体例としては、特開2003−149766号の段落「0029」〜「0040」に記載の化合物(FS−1)〜(FS−66)、特開2004−021084号の段落「0014」に記載の化合物1−1〜1−4、段落「0019」に記載の化合物2−1〜2−10、特開2004−077792号の段落「0025」に記載の化合物、段落「0030」に記載の化合物が挙げられる。   Specific examples of the above-mentioned fluorine-based surfactant include compounds (FS-1) to (FS-66) described in paragraphs “0029” to “0040” of JP-A No. 2003-149766, and JP-A No. 2004-021084. Compound 1-1 to 1-4 described in paragraph “0014” of the compound, compounds 2-1 to 2-10 described in paragraph “0019”, a compound described in paragraph “0025” of JP-A-2004-077772 and paragraph And compounds described in “0030”.

以下に、一般式(SF)で表される弗素系界面活性剤の好ましい化合物例を示す。   Examples of preferred compounds of the fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) are shown below.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

Figure 2006267209
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又、上記以外の弗素系界面活性剤として、特開2004−117505号の段落「0035」に記載の化合物、特開2000−214554号、特開2003−156819号、特開2003−177494号、同2003−114504号、同2003−270754号、同2003−270760号に記載された化合物を使用してもよい。   Further, as fluorine-based surfactants other than those described above, compounds described in paragraph “0035” of JP-A No. 2004-117505, JP-A No. 2000-214554, JP-A No. 2003-156819, JP-A No. 2003-177494, You may use the compound described in 2003-114504, 2003-270754, 2003-270760.

一般式(SF)で表される弗素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては、公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。又、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザ分散により1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。一般式(SF)で表される弗素系界面活性剤は最外層の保護層に添加することが好ましい。   As a method of adding the fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) to the coating solution, it can be added according to a known addition method. That is, it can be dissolved and added in alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. Further, fine particles of 1 μm or less can be dispersed in water or an organic solvent by sand mill dispersion, jet mill dispersion, ultrasonic dispersion or homogenizer dispersion, and added. Many techniques for fine particle dispersion are disclosed, but they can be dispersed according to these techniques. The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is preferably added to the outermost protective layer.

一般式(SF)で表される弗素系界面活性剤の添加量は、1m2当たり1×10-8〜1×10-1モルが好ましく、1×10-5〜1×10-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では帯電特性が得られないことがあり、前者の範囲を超えると湿度依存性が大きく高湿下の保存性が劣化することがある。 The addition amount of the fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol per m 2 , and preferably 1 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol. Particularly preferred. If the range is less than the former range, charging characteristics may not be obtained. If the range exceeds the former range, the humidity dependency is large and the storage stability under high humidity may be deteriorated.

(表面粗さ)
本発明における十点平均粗さ(Rz)、最大粗さ(Rt)、中心線平均粗さ(Ra)は、下記のJIS表面粗さ(B0601)により定義される。
(Surface roughness)
The ten-point average roughness (Rz), maximum roughness (Rt), and centerline average roughness (Ra) in the present invention are defined by the following JIS surface roughness (B0601).

十点平均粗さ(Rz)とは、断面曲線から基準長さだけ抜き取った部分において、平均線に平行、かつ断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から5番目までの山頂の標高の平均値と最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメートル(μm)で表したものを言う。   The ten-point average roughness (Rz) is the peak from the highest to the fifth measured in the direction of the vertical magnification from the straight line that is parallel to the average line and does not cross the cross-sectional curve in the part extracted from the cross-sectional curve by the reference length. The difference between the average value of the altitude and the average value of the altitude at the bottom of the valley from the deepest to the fifth is expressed in micrometers (μm).

最大粗さ(Rt)とは、粗さ曲線を基準長さLだけ抜き取り、中心線に平行な2直線で抜き取った部分を挟んだ時、この2直線の間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定して、この値をμmで表したものを言う。   The maximum roughness (Rt) means that when a roughness curve is extracted by a reference length L and a portion extracted by two straight lines parallel to the center line is sandwiched, the interval between the two straight lines is the direction of the vertical magnification of the roughness curve. And the value expressed in μm.

中心線平均粗さ(Ra)とは、粗さ曲線から、その中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、この抜取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸、粗さ曲線をy=f(x)で表した時、次の式によって求められる値をμmで表したものを言う。   The centerline average roughness (Ra) is a portion of the measurement length L in the direction of the centerline from the roughness curve, the centerline of the extracted portion is the X axis, the direction of the vertical magnification is the Y axis, When the length curve is represented by y = f (x), it means the value obtained by the following formula expressed in μm.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

Rz、Rt、Raの測定方法としては、25℃・65%RH(相対湿度)環境下で測定試料同士が重ね合わされない条件で24時間調湿した後、該環境下で測定した。ここで示す重ね合わされない条件とは、例えばフィルムエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法やフィルムとフィルムの間に紙を挟んで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法の何れかである。用いることのできる測定装置としては、例えばWYKO社製:RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることができる。   As a method for measuring Rz, Rt, and Ra, the humidity was adjusted for 24 hours under a condition where the measurement samples were not overlapped in a 25 ° C./65% RH (relative humidity) environment, and then measured in the environment. Examples of the non-overlapping condition shown here include any of a method of winding with the film edge portion raised, a method of stacking paper with the film sandwiched between the films, and a method of making a frame with cardboard and fixing the four corners. It is. As a measuring apparatus which can be used, for example, WYKO: RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system can be exemplified.

感光材料の表面と裏面のRz、Rt、Raを後述の範囲とするためには、下記に示す技術手段を適宜組み合わせて用いることで容易に調整することができる。   In order to set Rz, Rt, and Ra on the front and back surfaces of the photosensitive material within the ranges described below, the following technical means can be used for appropriate adjustment.

1)感光性層を有する側の層、感光性層を有する側と反対面の層に含まれるマット剤(無機又は有機粉末)の種類、平均粒径、添加量、表面処理方法。   1) Kind, average particle diameter, amount added, and surface treatment method of matting agent (inorganic or organic powder) contained in the layer having the photosensitive layer and the layer opposite to the side having the photosensitive layer.

2)マット剤の分散条件(使用する分散機の種類、分散時間、分散に使用するビーズの種類、平均粒径、分散時に使用する分散剤の種類と量、バインダーの極性基の種類、極性基含有量)。   2) Matting agent dispersion conditions (type of disperser used, dispersion time, type of beads used for dispersion, average particle size, type and amount of dispersant used during dispersion, type of binder polar group, polar group Content).

3)塗布時の乾燥条件(塗布速度、温風の吹き出しノズルの塗布面からの距離、乾燥風量)、残留溶媒量。   3) Drying conditions at the time of application (application speed, distance from the application surface of the hot air blowing nozzle, amount of dry air), and amount of residual solvent.

4)塗布液の濾過に用いるフイルターの種類、濾過時間。   4) Type of filter used for filtration of coating solution, filtration time.

5)塗布後にカレンダ処理を行う場合は、その条件(カレンダ温度40〜80℃、圧力490〜2,940N/cm、ラインスピード20〜100m、ニップ数2〜6)。   5) Conditions when calendering is performed after coating (calendar temperature 40 to 80 ° C., pressure 490 to 2,940 N / cm, line speed 20 to 100 m, nip number 2 to 6).

本発明においては、Rz(E)/Rz(B)の値が0.1〜0.7下であるのが好ましく、0.2〜0.6であるのが更に好ましく、0.3〜0.55であるのが特に好ましい。ここで(E)は感光性層側の最表面を、(B)は感光性層とは反対側のバックコート層側の最表面を表す。表面粗さをこの範囲とすることで、特にフィルムの搬送性が良く、熱現像時の濃度ムラの発生を格段に抑えることができる。   In the present invention, the value of Rz (E) / Rz (B) is preferably 0.1 to 0.7, more preferably 0.2 to 0.6, and 0.3 to 0. Particularly preferred is .55. Here, (E) represents the outermost surface on the photosensitive layer side, and (B) represents the outermost surface on the back coat layer side opposite to the photosensitive layer. By setting the surface roughness within this range, the transportability of the film is particularly good, and the occurrence of density unevenness during thermal development can be remarkably suppressed.

又、本発明においては、Ra(E)/Ra(B)の値が0.6〜1.5であるのが好ましく、0.6〜1.3であるのが更に好ましく、0.7〜1.1であるのが特に好ましい。この範囲とすることで、本発明の効果の中でも、特に経時でのカブリ上昇が小さく、フィルムの搬送性が良く、熱現像時の濃度ムラの発生をより抑制することができる。   In the present invention, the value of Ra (E) / Ra (B) is preferably 0.6 to 1.5, more preferably 0.6 to 1.3, and 0.7 to 1.1 is particularly preferred. By setting it within this range, among the effects of the present invention, the fog rise with time is particularly small, the film transportability is good, and the occurrence of density unevenness during thermal development can be further suppressed.

本発明の光熱写真材料は、支持体上の両側に複数の種類のマット剤を含有する構成層を有することが、画像の画質の向上の観点から好ましい。感光性層を有する側のマット剤を含有する層に含有させるマット剤の最大の平均粒径を持つものの平均粒径をLe(μm)、支持体を挟んで感光性層を有する側と反対側、即ち、バックコート層を有する側のマット剤を含有する層に含有させるマット剤の最大の平均粒径を持つものの平均粒径をLb(μm)とする時Lb/Leが2.0〜10であることが好ましく、より好ましくは3.0〜4.5である。   The photothermographic material of the present invention preferably has a constituent layer containing a plurality of types of matting agents on both sides on the support from the viewpoint of improving the image quality of the image. The average particle size of the matting agent having the maximum average particle size contained in the layer containing the matting agent on the side having the photosensitive layer is Le (μm), and the side opposite to the side having the photosensitive layer across the support That is, when the average particle size of the matting agent having the maximum average particle size contained in the layer containing the matting agent on the side having the backcoat layer is Lb (μm), Lb / Le is 2.0 to 10 It is preferable that it is 3.0, and 4.5 is more preferable.

Lb/Leをこの範囲とすることで、本発明の効果の中でも、特に熱現像時の濃度ムラを改良することができる。又、本発明の画像形成方法においては、Rz(E)/Ra(E)の値は好ましくは12〜60であり、より好ましくは14〜50である。Rz(E)/Ra(E)の値をこの範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、熱現像時の濃度ムラ及び経時での保存特性を改良することができる。   By setting Lb / Le within this range, among the effects of the present invention, density unevenness particularly during thermal development can be improved. In the image forming method of the present invention, the value of Rz (E) / Ra (E) is preferably 12 to 60, more preferably 14 to 50. By setting the value of Rz (E) / Ra (E) within this range, among the effects of the present invention, density unevenness during heat development and storage characteristics over time can be improved.

又、本発明の画像形成方法においてはRz(B)/Ra(B)の値は好ましくは25〜65であり、より好ましくは30〜60である。Rz(B)/Ra(B)の値をこの範囲とすることで、本発明の効果の中でも、特に熱現像時の濃度ムラ及び経時での保存特性を改良することができる。前記した表面粗さについては以下の方法で行った。   In the image forming method of the present invention, the value of Rz (B) / Ra (B) is preferably 25 to 65, more preferably 30 to 60. By setting the value of Rz (B) / Ra (B) within this range, among the effects of the present invention, density unevenness especially during thermal development and storage characteristics over time can be improved. About the above-mentioned surface roughness, it carried out with the following method.

(表面粗さの評価)
熱現像処理前の試料について、非接触3次元表面解析装置(WYKO社製:RST/PLUS)を用いて、以下に示す方法により測定した。
(Evaluation of surface roughness)
About the sample before heat development processing, it measured by the method shown below using the non-contact three-dimensional surface-analysis apparatus (The product made by WYKO: RST / PLUS).

1)対物レンズ:×10.0 中間レンズ:×1.0
2)測定範囲:463.4μm×623.9μm
3)ピクセルサイズ:368×238
4)フィルター:円筒補正と傾き補正
5)スムージング:ミディアムスムージング
6)スキャンスピード:Low
尚、Ra、Rz、Rtの定義はJIS表面粗さ(B0601)に従った。測定は10cm×10cmの各試料について、1cm間隔で碁盤目状に100分割し、各正方形領域の中心について測定を行い、100回の測定から平均値を求めた。
1) Objective lens: × 10.0 Intermediate lens: × 1.0
2) Measurement range: 463.4 μm × 623.9 μm
3) Pixel size: 368 × 238
4) Filter: Cylindrical correction and tilt correction 5) Smoothing: Medium smoothing 6) Scanning speed: Low
Ra, Rz, and Rt were defined according to JIS surface roughness (B0601). For each sample of 10 cm × 10 cm, the sample was divided into 100 in a grid pattern at 1 cm intervals, the center of each square region was measured, and the average value was obtained from 100 measurements.

本発明では、マット剤を含有する層が最外層である場合が好ましい態様の一つである。即ち、光熱写真材料の感光性層側、又、支持体を挟み感光性層の反対側に非感光性層を設けた場合にも、最外層に表面粗さをコントロールする等のためにマット剤として有機又は無機の粉末を用いることが好ましい。   In the present invention, the case where the layer containing the matting agent is the outermost layer is one of the preferred embodiments. That is, when a non-photosensitive layer is provided on the photosensitive layer side of the photothermographic material or on the opposite side of the photosensitive layer with the support interposed therebetween, the matting agent is used for controlling the surface roughness of the outermost layer. It is preferable to use organic or inorganic powder as

用いられる粉末としては、モース硬度が5以上の粉末が好ましい。粉末としては公知の無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することができる。無機質粉末としては、例えば酸化チタン、窒化硼素、SnO2、SiO2、Cr23、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、石榴石、ガーネット、マイカ、珪石、窒化珪素、炭化珪素等を挙げることができる。有機質粉末としては、例えばポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン(登録商標)等の粉末を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、SiO2、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、Cr23、マイカ等の無機粉末等であり、その中でもSiO2、α−Al23が好ましく、特に好ましいのはSiO2である。 As the powder used, a powder having a Mohs hardness of 5 or more is preferable. As the powder, a known inorganic powder or organic powder can be appropriately selected and used. Examples of the inorganic powder include titanium oxide, boron nitride, SnO 2 , SiO 2 , Cr 2 O 3 , α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, SiC, cerium oxide, corundum, artificial diamond , Stone meteorite, garnet, mica, silica, silicon nitride, silicon carbide and the like. Examples of the organic powder include powders such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and Teflon (registered trademark). Among these, inorganic powders such as SiO 2 , titanium oxide, barium sulfate, α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, Cr 2 O 3 , mica, etc. are preferable. SiO 2 and α-Al 2 O 3 are preferable, and SiO 2 is particularly preferable.

本発明において、前記粉末が例えば表面処理されていることが好ましい。表面処理層形成は、無機質粉末素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のAl、Si、Ti、Zr、Sb、Sn、Zn等の塩類水溶液を加え、これを中和する酸又はアルカリを加えて生成する含水酸化物で無機質粉末粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類は、デカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーpHを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤー又はバンドドライヤーで乾燥される。最後に、この乾燥物はジェットミルで粉砕され製品になる。又、水系ばかりでなく、AlCl3、SiCl4等の蒸気を非磁性無機質粉末に通じ、その後、水蒸気を流入してAl、Si表面処理を施すことも可能である。その他の表面処理法については、「Characterization of Powder Surfaces」,Academic Pressを参考にすることができる。 In the present invention, the powder is preferably surface-treated, for example. The surface treatment layer is formed by dry pulverizing the inorganic powder material, adding water and a dispersing agent, and performing coarse particle classification by wet pulverization and centrifugal separation. Thereafter, the fine slurry is transferred to a surface treatment tank, where the surface of the metal hydroxide is coated. First, a predetermined amount of an aqueous salt solution such as Al, Si, Ti, Zr, Sb, Sn, Zn or the like is added, and the surface of the inorganic powder particles is coated with a hydrous oxide formed by adding an acid or an alkali that neutralizes the aqueous solution. Water-soluble salts produced as a by-product are removed by decantation, filtration, and washing. Finally, the slurry pH is adjusted, filtered, and washed with pure water. The washed cake is dried with a spray dryer or a band dryer. Finally, the dried product is pulverized by a jet mill into a product. Further, not only aqueous systems but also vapors such as AlCl 3 and SiCl 4 can be passed through the non-magnetic inorganic powder, and then steam can be introduced to perform Al and Si surface treatment. For other surface treatment methods, “Characterization of Powder Surfaces”, Academic Press can be referred to.

本発明では、Si化合物又はAl化合物により表面処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いると、マット剤分散時の分散状態を良好にすることができる。前記Si又はAlの含有量としては、前記粉末に対して、Siが0.1〜10質量%、Alが0.1〜10質量%であるのが好ましく、より好ましくはSiが0.1〜5質量%、Alが0.1〜5質量%であり、Siが0.1〜2質量%、Alが0.1〜2質量%であるのが特に好ましい。又、Si、Alの質量比がSi<Alであるのがよい。表面処理に関しては特開平2−83219号に記載された方法により行うことができる。   In the present invention, it is preferable that the surface treatment is performed with an Si compound or an Al compound. When such a surface-treated powder is used, the dispersion state when the matting agent is dispersed can be improved. The content of Si or Al is preferably 0.1 to 10% by mass of Si and 0.1 to 10% by mass of Al, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the powder. It is particularly preferable that 5% by mass, Al is 0.1-5% by mass, Si is 0.1-2% by mass, and Al is 0.1-2% by mass. Further, the mass ratio of Si and Al is preferably Si <Al. The surface treatment can be performed by the method described in JP-A-2-83219.

尚、本発明における粉末の平均粒径とは、球状粉末においては、その平均直径を、針状粉末においては、その平均長軸長を、板状粉末においては、その板状面の最大の対角線の長さの平均値を、それぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に求めることができる。上記の有機又は無機粉末は、平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μmである。   The average particle diameter of the powder in the present invention is the average diameter in the case of spherical powder, the average major axis length in the case of acicular powder, and the maximum diagonal line of the plate-like surface in the case of plate-like powder. Means the average value of the lengths, and can be easily obtained from measurement by an electron microscope. The organic or inorganic powder preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm.

感光性層側の最外層に含まれる有機又は無機粉末の平均粒径は、通常、0.5〜8.0μm、好ましくは1.0〜6.0μm、より好ましくは2.0〜5.0μmである。添加量は、最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して、通常、1.0〜20質量%であり、好ましくは2.0〜15質量%、より好ましくは3.0〜10質量%である。   The average particle diameter of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the photosensitive layer side is usually 0.5 to 8.0 μm, preferably 1.0 to 6.0 μm, more preferably 2.0 to 5.0 μm. It is. The addition amount is usually 1.0 to 20% by mass, preferably 2.0 to 15% by mass, more preferably based on the binder amount used for the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). It is 3.0-10 mass%.

支持体を挟んで感光性層側とは反対側の最外層に含まれる有機又は無機粉末の平均粒径は、通常、2.0〜15.0μm、好ましくは3.0〜12.0μm、より好ましくは4.0〜10.0μmである。添加量は、最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して、通常、0.2〜10質量%であり、好ましくは0.4〜7質量%、より好ましくは0.6〜5質量%である。   The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the side opposite to the photosensitive layer across the support is usually 2.0 to 15.0 μm, preferably 3.0 to 12.0 μm. Preferably it is 4.0-10.0 micrometers. The addition amount is usually 0.2 to 10% by mass, preferably 0.4 to 7% by mass, more preferably based on the binder amount used for the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). It is 0.6-5 mass%.

又、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に好ましくは40%以下、特に好ましくは30%以下である。ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。   The variation coefficient of the particle size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less. Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

{(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
有機又は無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法でもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機又は無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
{(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size)} × 100
The method for adding the organic or inorganic powder may be a method in which the organic or inorganic powder is dispersed in the coating solution in advance, or a method in which the organic or inorganic powder is sprayed after the coating solution is applied and before the drying is completed. . When adding several types of powder, you may use both methods together.

(染料、顔料)
光熱写真材料においては、感光性層を透過する光の量又は波長分布を制御するために、感光性層と同じ側又は反対の側にフィルター層を形成するか、感光性層に染料又は顔料を含有させることが好ましい。
(Dye, pigment)
In photothermographic materials, in order to control the amount or wavelength distribution of light transmitted through the photosensitive layer, a filter layer is formed on the same side as or opposite to the photosensitive layer, or a dye or pigment is added to the photosensitive layer. It is preferable to contain.

用いられる染料としては、写真材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。例えば、光熱写真材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開2001−083655号に開示されるようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本発明ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本発明ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)、又、スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。   As the dye used, known compounds that absorb light in various wavelength regions can be used depending on the color sensitivity of the photographic material. For example, when the photothermographic material is an image recording material using infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus as disclosed in JP-A-2001-083655 (referred to as a thiopyrylium squarylium dye in the present invention) and It is preferable to use a squarylium dye having a pyrylium nucleus (referred to as a pyrylium squarylium dye in the present invention), a thiopyrylium croconium dye similar to a squarylium dye, or a pyrylium croconium dye.

尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。以下、本明細書では、これらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染料とよぶ。尚、染料としては米国特許5,380,635号、特開平8−201959号、特開2002−040593号、同2003−186135号、同2003−195450号、米国特許6,689,547号、米国公開特許2004/0259044号に記載の化合物も好ましく使用することができる。   The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobuten-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy in the molecular structure. It is a compound having -4,5-dione. Here, the hydroxyl group may be dissociated. Hereinafter, in the present specification, these pigments are collectively referred to as squarylium dyes for convenience. As dyes, U.S. Pat. No. 5,380,635, JP-A-8-201959, JP-A-2002-040593, 2003-186135, 2003-195450, US Pat. No. 6,689,547, US The compounds described in JP 2004/0259044 A can also be preferably used.

(支持体)
本発明の光熱写真材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(アルミニウム等)等が挙げられるが、情報記録材料としての取扱い上は、可撓性のあるシート又はロールに加工できるものが好適である。従って、本発明に用いる支持体としては、セルロースアセテートフィルム、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアミド、ポリイミド、セルローストリアセテート(TAC)又はポリカーボネート(PC)フィルム等のプラスチックフィルムが好ましく、2軸延伸したPETフィルムが特に好ましい。
(Support)
Examples of the support material used in the photothermographic material of the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (aluminum, etc.), etc. A material that can be processed into a flexible sheet or roll is preferred. Therefore, as a support used in the present invention, a plastic film such as a cellulose acetate film, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyamide, polyimide, cellulose triacetate (TAC) or polycarbonate (PC) film is used. A biaxially stretched PET film is preferred.

支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。   The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

帯電性を改良するために、金属酸化物及び/又は導電性ポリマー等の導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは何れの層に含有させてもよいが、好ましくはバッキング層又は感光性層側の表面保護層、下引層等に含ませる。米国特許5,244,773号のカラム14〜20に記載された導電性化合物等が好ましく用いられる。中でも、バッキング層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。これにより、熱現像処理時の搬送性を向上できることが判った。   In order to improve the charging property, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layer. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the backing layer or the surface protective layer on the photosensitive layer side, the undercoat layer, and the like. The conductive compounds described in columns 14 to 20 of US Pat. No. 5,244,773 are preferably used. Especially, it is preferable to contain a conductive metal oxide in the surface protective layer on the backing layer side. As a result, it was found that the transportability during the heat development process can be improved.

ここで、導電性金属酸化物とは、結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は、一般的に言って導電性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にカブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例としてZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO3、V25等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、又、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜30モル%の範囲が好ましいが、0.1〜10モル%が特に好ましい。更に又、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時に珪素化合物を添加してもよい。 Here, the conductive metal oxide is crystalline metal oxide particles, and those containing oxygen defects and those containing a small amount of hetero atoms forming a donor with respect to the metal oxide used are generally used. In particular, it is particularly preferable because of its high conductivity, and the latter is particularly preferable because it does not give fog to the silver halide emulsion. Examples of metal oxides are ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5, etc., or a composite oxide thereof, especially ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred. Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al, In, etc. to ZnO, addition of Sb, Nb, P, halogen elements, etc. to SnO 2 , and Nb, Ta to TiO 2 . Etc. are effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, particularly preferably 0.1 to 10 mol%. Furthermore, a silicon compound may be added during the production of fine particles in order to improve fine particle dispersibility and transparency.

用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。これらの酸化物については特開昭56−143431号、同56−120519号、同58−62647号等に記載されている。更に又、特公昭59−6235号に記載の如く、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(酸化チタン等)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。利用できる粒子サイズは1μm以下が好ましいが、0.5μm以下であると分散後の安定性が良く使用し易い。又、光散乱性をできるだけ小さくするために、0.3μm以下の導電性粒子を利用すると、透明感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合は、その長さは30μm以下で直径が1μm以下が好ましく、特に好ましいのは長さが10μm以下で直径0.3μm以下であり、長さ/直径比が3以上である。尚、SnO2としては、石原産業社より市販されており、SNS10M、SN−100P、SN−100D、FSS10M等を用いることができる。 The metal oxide fine particles used have conductivity, and their volume resistivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less. These oxides are described in JP-A Nos. 56-143431, 56-120519, 58-62647 and the like. Furthermore, as described in Japanese Examined Patent Publication No. 59-6235, a conductive material in which the above metal oxide is attached to other crystalline metal oxide particles or fibrous materials (such as titanium oxide) may be used. . The particle size that can be used is preferably 1 μm or less, but if it is 0.5 μm or less, the stability after dispersion is good and it is easy to use. In order to make the light scattering property as small as possible, it is very preferable to use conductive particles of 0.3 μm or less because a transparent photosensitive material can be formed. Further, when the conductive metal oxide is needle-like or fibrous, the length is preferably 30 μm or less and the diameter is preferably 1 μm or less, particularly preferably the length is 10 μm or less and the diameter is 0.3 μm or less. The thickness / diameter ratio is 3 or more. As the SnO 2, are commercially available from Ishihara Sangyo Kaisha, it can be used SNS10M, SN-100P, SN- 100D, the FSS10M like.

(構成層)
本発明の光熱写真材料は、支持体上に少なくとも1層の画像形成層である感光性層を有している。支持体上に感光性層のみを形成してもよいが、感光性層の上に少なくとも1層の非感光層を形成することが好ましい。例えば感光性層の上には保護層が、感光性層を保護する目的で設けられることが好ましく、又、支持体の反対の面には、感光材料間の、又は感光材料ロールにおける「くっつき」を防止するために、バックコート層が設けられる。
(Component layer)
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer which is an image forming layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is preferably provided on the photosensitive layer for the purpose of protecting the photosensitive layer, and the opposite surface of the support is "sticking" between the photosensitive materials or in the photosensitive material roll. In order to prevent this, a back coat layer is provided.

これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては、感光性層よりもガラス転位点(Tg)が高く、擦傷や、変形の生じ難いポリマー、例えばセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のポリマーが、前記のバインダーの中から選ばれる。   As a binder used in these protective layers and backcoat layers, a polymer having a glass transition point (Tg) higher than that of the photosensitive layer and hardly causing scratches or deformation, such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propio. Polymers such as nates are selected from the binders described above.

尚、階調調整等のために、感光性層を支持体の一方の側に2層以上又は支持体の両側に1層以上設置してもよい。   For gradation adjustment or the like, two or more photosensitive layers may be provided on one side of the support or one or more layers on both sides of the support.

(構成層の塗布)
構成層の塗布は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を調製し、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成することが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(例えば感光性層、保護層)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布・乾燥の繰返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い、乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成することを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下(より好ましくは90質量%以下)となる前に、上層を設けることである。
(Application of component layers)
The coating of the constituent layers is preferably formed by preparing a coating solution in which the material of each constituent layer described above is dissolved or dispersed in a solvent, applying a plurality of these coating solutions simultaneously, and then performing a heat treatment. Here, “multiple simultaneous multi-layer coating” means that a coating solution for each constituent layer (for example, a photosensitive layer and a protective layer) is prepared, and each layer is repeatedly applied and dried when it is applied to a support. Rather, it means that the respective constituent layers are formed in such a state that simultaneous multilayer coating and drying can be performed. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of all the solvents in the lower layer reaches 70% by mass or less (more preferably 90% by mass or less).

各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、リバースロール塗布法、グラビア塗布法、エクストルージョン塗布法等の公知の方法を用いることができる。上記の各種方法の内、より好ましくはスライド塗布法、エクストルージョン塗布法である。   There are no particular restrictions on the method of applying multiple layers of each constituent layer simultaneously, for example, bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, extrusion coating method. A known method such as the above can be used. Of the various methods described above, the slide coating method and the extrusion coating method are more preferable.

これらの塗布方法は、感光性層を有する側について述べたが、バック層を設ける際、下引きと共に塗布する場合についても同様である。光熱写真材料における同時重層塗布方法に関しては、特開2000−15173号に詳細な記載がある。   These coating methods have been described on the side having the photosensitive layer, but the same applies to the case of coating with undercoating when the back layer is provided. Regarding the simultaneous multilayer coating method in the photothermographic material, there is a detailed description in JP-A No. 2000-15173.

塗布銀量は、光熱写真材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には、0.3〜1.5g/m2が好ましく、0.5〜1.5g/m2がより好ましい。該塗布銀量の内、ハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して2〜18質量%を占めることが好ましく、5〜15質量%が更に好ましい。 The amount of coated silver is preferably selected in accordance with the purpose of the photothermographic material, but is preferably 0.3 to 1.5 g / m 2 for the purpose of medical images, 0.5 to 1 0.5 g / m 2 is more preferable. Among the amount of coated silver, the amount derived from silver halide preferably accounts for 2 to 18% by mass, more preferably 5 to 15% by mass, based on the total silver amount.

又、本発明においては、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014〜1×1018個/m2が好ましく、1×1015〜1×1017個/m2以下が更に好ましい。 In the present invention, the coating density of silver halide grains having a diameter of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to a sphere) is preferably 1 × 10 14 to 1 × 10 18 particles / m 2 , and preferably 1 × 10 15 to 1 ×. More preferably, 10 17 pieces / m 2 or less.

更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり、1×10-17〜1×10-14gが好ましく、1×10-16〜1×10-15gがより好ましい。 Further, the coating density of the non-photosensitive long-chain aliphatic carboxylate is 1 × 10 −17 to 1 × 10 −14 per silver halide grain having a diameter of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter in terms of sphere). g is preferable, and 1 × 10 −16 to 1 × 10 −15 g is more preferable.

上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。   In the case of coating under the conditions within the above range, preferable results are obtained from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per fixed coating silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. Is obtained.

本発明の光熱写真材料は、現像時に溶剤を5〜1,000mg/m2の範囲で含有していることが好ましい。10〜150mg/m2であるように調整するのがより好ましい。それにより、高感度、低カブリ、最高濃度の高い光熱写真材料となる。溶剤としては、特開2001−264930号の段落「0030」に記載のものが挙げられるが、これらに限定されない。又、これらの溶剤は単独又は数種類組み合わせて用いることができる。 The photothermographic material of the present invention preferably contains a solvent in the range of 5 to 1,000 mg / m 2 during development. It is more preferable to adjust so that it may be 10-150 mg / m < 2 >. As a result, a photothermographic material having high sensitivity, low fog and high maximum density is obtained. Examples of the solvent include, but are not limited to, those described in paragraph “0030” of JP-A No. 2001-264930. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.

尚、光熱写真材料中の上記溶剤の含有量は塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。又、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。   The content of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by changing conditions such as temperature conditions in the drying step after the coating step. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

(包装体)
熱現像感光材料を保存する場合は、経時での濃度変化やカブリ発生を防止するため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率及び/又は水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50ml/atm・m2・day(1atmは1.01325×105Paである)以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm・m2・day以下、更に好ましくは1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は0.01g/m2・40℃・90%RH・day以下(JIS Z0208カップ法による)であることが好ましく、より好ましくは0.005g/m2・40℃・90%RH・day以下、更に好ましくは0.001g/m2・40℃・90%RH・day以下である。
(Packaging body)
When storing the photothermographic material, package it with a packaging material with low oxygen permeability and / or moisture permeability in order to prevent density changes and fogging over time, or to improve curling and curling. It is preferable to do. The oxygen transmission rate is preferably 50 ml / atm · m 2 · day or less (1 atm is 1.01325 × 10 5 Pa) at 25 ° C., more preferably 10 ml / atm · m 2 · day or less, and still more preferably Is 1.0 ml / atm · m 2 · day or less. The moisture permeability is preferably 0.01 g / m 2 · 40 ° C · 90% RH · day or less (according to JIS Z0208 cup method), more preferably 0.005 g / m 2 · 40 ° C. · 90% RH · Day or less, more preferably 0.001 g / m 2 · 40 ° C · 90% RH · day or less.

熱現像感光材料用の包装材料の具体例としては、例えば特開平8−254793号、特開2000−206653号、同2000−235241号、同2002−062625号、同2003−015261号、同2003−057790号、同2003−084397号、同2003−098648号、同2003−098635号、同2003−107635号、同2003−131337号、同2003−146330号、同2003−226439、同2003−228152号等に記載される包装材料である。又、包装体内の空隙率は0.01〜10%、好ましくは0.02〜5%とするのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を80%以上、好ましくは90%以上とするのがよい。又、包装体内の相対湿度(RH)は10〜60%、好ましくは40〜55%とするのがよい。   Specific examples of the packaging material for the photothermographic material include, for example, JP-A-8-254793, JP-A-2000-206653, JP-A-2000-235241, JP-A-2002-062625, JP-A-2003-015261, and 2003-2003. No. 0579790, No. 2003-084397, No. 2003-098648, No. 2003-098635, No. 2003-107635, No. 2003-131337, No. 2003-146330, No. 2003-226439, No. 2003-228152, etc. Is a packaging material. Further, the porosity in the package is 0.01 to 10%, preferably 0.02 to 5%. Nitrogen sealing is performed so that the nitrogen partial pressure in the package is 80% or more, preferably 90% or more. It is good to do. The relative humidity (RH) in the package is 10 to 60%, preferably 40 to 55%.

(画像形成)
本発明の光熱写真材料の露光に用いる露光、あるいは、本発明の画像形成方法における露光については、目的とする適切な画像を得るために適した光源、露光時間等に関し、種々の条件を採用することができる。
(Image formation)
For the exposure used for the exposure of the photothermographic material of the present invention, or the exposure in the image forming method of the present invention, various conditions are adopted with respect to the light source, exposure time, etc. suitable for obtaining the desired appropriate image. be able to.

本発明の光熱写真材料は、好ましくは光量が1mW/mm2以上の高照度の光で短時間露光されることでその特性を発揮する。ここでの照度は熱現像後の感光材料が3.0の光学濃度が出る時の照度を言う。このような高照度で露光を行うと、必要な光学濃度を得るために必要な光量(=照度×露光時間)が少なくて済み、高感度システムを設計できる。より好ましくは、その光量は2〜50W/mm2であり、更に好ましくは10〜50W/mm2である。 The photothermographic material of the present invention preferably exhibits its characteristics when exposed to light with high illuminance with a light amount of 1 mW / mm 2 or more for a short time. The illuminance here refers to the illuminance when the photosensitive material after heat development has an optical density of 3.0. When exposure is performed at such high illuminance, the amount of light (= illuminance × exposure time) required to obtain the required optical density is small, and a high sensitivity system can be designed. More preferably, the light quantity is 2-50 W / mm < 2 >, More preferably, it is 10-50 W / mm < 2 >.

露光はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば、第1の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザ光の為す角が実質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いる方法が挙げられる。ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザ光走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55〜88度、より好ましくは60〜86度、更に好ましくは65〜84度、最も好ましくは70〜82度であることを言う。   The exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which the angle formed by the scanning surface of the photosensitive material and the scanning laser beam is not substantially perpendicular. Here, “substantially not perpendicular” means that the angle closest to the vertical during laser beam scanning is preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees, and still more preferably 65 to 84 degrees. , Most preferably 70-82 degrees.

レーザ光が感光材料に走査される時の、感光材料露光面でのビームスポット直径は好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これは、スポット径が小さい方が、レーザ光入射角度の垂直からの「ずらし角度」を減らせる点で好ましい。尚、ビームスポット直径の下限は10μmである。この様なレーザ走査露光を行うことにより、干渉縞様のムラの発生等の反射光に係る画質劣化を減じることができる。   The beam spot diameter on the exposed surface of the photosensitive material when the laser beam is scanned onto the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. This is preferable in that a smaller spot diameter can reduce the “shift angle” from the vertical of the laser beam incident angle. The lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as generation of interference fringe-like unevenness.

又、第2の方法として、露光は縦マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用する、高周波重畳を掛ける、等の方法がよい。尚、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常、露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常、60nm程度である。   As a second method, it is also preferable to perform exposure using a laser scanning exposure machine that emits scanning laser light that is a vertical multi. Compared with a longitudinal single mode scanning laser beam, image quality degradation such as occurrence of interference fringe-like unevenness is reduced. In order to make a vertical multiplex, methods such as using return light by combining and applying high-frequency superposition are preferable. Note that the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

更に、第3の態様として、2本以上のレーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。この様な複数本のレーザ光を利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば特開昭60−166916号等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザ光をポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザイメージャ等と原理的に同じレーザ走査光学装置である。   Furthermore, as a third aspect, it is also preferable to form an image by scanning exposure using two or more laser beams. As such an image recording method using a plurality of laser beams, it is used in an image writing unit of a laser printer or a digital copying machine that writes an image line by line in one scan because of a demand for higher resolution and higher speed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 60-166916 is known. This is a method in which laser light emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror and imaged on a photoconductor via an fθ lens or the like. This is the same laser scanning optical apparatus in principle as a laser imager or the like. It is.

レーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザ光の結像は、1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザ光の結像位置から1ライン分ずらして次のレーザ光が結像されている。具体的には、二つの光ビームは、互いに副走査方向に像面上で数10μmオーダーの間隔で近接しており、印字密度が400dpi(dpiとは、1インチ=2.54cm当たりのドット数を表す)で2ビームの副走査方向ピッチは63.5μm、600dpiで42.3μmである。この様な、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に2本以上のレーザを入射角を変え露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この際、通常の1本のレーザ光(波長λ[nm])で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがEであり、露光に使用するN本のレーザ光線が同一波長(波長λ[nm])、同一露光エネルギー(En)である場合に、0.9×E≦En×N≦1.1×Eの範囲にするのが好ましい。この様にすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザ光線の画像形成層への反射は、レーザの露光エネルギーが低いため低減され、ひいては干渉縞の発生が抑えられる。   The image formation of laser light on the photoconductor in the image writing means of a laser printer or digital copying machine is for one line from the image formation position of one laser light for the purpose of writing an image by a plurality of lines in one scan. The next laser beam is imaged by shifting. Specifically, the two light beams are close to each other on the image plane in the sub-scanning direction at an order of several tens of μm, and the print density is 400 dpi (dpi is the number of dots per inch = 2.54 cm). The sub-scanning direction pitch of the two beams is 63.5 μm, and 42.3 μm at 600 dpi. Unlike the method of shifting the resolution in the sub-scanning direction as described above, in the present invention, it is preferable to form an image by condensing two or more lasers at the same place on the exposure surface while changing the incident angle. At this time, the exposure energy on the exposure surface when writing with one normal laser beam (wavelength λ [nm]) is E, and N laser beams used for exposure have the same wavelength (wavelength λ [nm]). ), In the case of the same exposure energy (En), the range of 0.9 × E ≦ En × N ≦ 1.1 × E is preferable. By doing so, energy is secured on the exposure surface, but the reflection of each laser beam to the image forming layer is reduced because the exposure energy of the laser is low, and thus the occurrence of interference fringes is suppressed.

尚、上述では複数本のレーザ光の波長をλと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いてもよい。この場合には、λ[nm]に対して(λ−30)<λ1、λ2、・・・・・λn≦(λ+30)の範囲にするのが好ましい。 In the above description, the wavelengths of the plurality of laser beams are the same as λ, but those having different wavelengths may be used. In this case, it is preferable that (λ−30) <λ 1 , λ 2 ,... Λ n ≦ (λ + 30) with respect to λ [nm].

尚、上述した第1、第2及び第3の態様の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザとしては、一般によく知られている、ルビーレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザ等の固体レーザ;He−Neレーザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、CO2レーザ、COレーザ、He−Cdレーザ、N2レーザ、エキシマーレーザ等の気体レーザ;InGaPレーザ、AlGaAsレーザ、GaAsPレーザ、InGaAsレーザ、InAsPレーザ、CdSnP2レーザ、GaSbレーザ等の半導体レーザ;化学レーザ、色素レーザ等を用途に併せて適時選択して使用できるが、本発明においては、レーザダイオード(LD)、発光ダイオード(LED)を光源に使用した露光装置が好ましく用いられる。特に、LDは高出力、高解像度の点でより好ましい。 In the image recording methods of the first, second, and third aspects described above, as lasers used for scanning exposure, generally well-known solid lasers such as ruby lasers, YAG lasers, glass lasers; Gas lasers such as Ne laser, Ar ion laser, Kr ion laser, CO 2 laser, CO laser, He—Cd laser, N 2 laser, excimer laser; InGaP laser, AlGaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 lasers, semiconductor lasers such as GaSb lasers; chemical lasers, dye lasers, etc. can be selected and used in a timely manner, but in the present invention, laser diodes (LD) and light emitting diodes (LEDs) are used as light sources. An exposure apparatus is preferably used. In particular, LD is more preferable in terms of high output and high resolution.

これらの光源は、目的波長範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができるものであれば何れでもよい。例えばLDであれば、色素レーザ、ガスレーザ、固体レーザ、半導体レーザ等を用いることができる。好ましいレーザとしては、YAGレーザの第4高調波(Nd:YVO4 266nm)、希ガスハライドエキシマレーザとしてXeClレーザ(308nm)、KrFレーザ(248nm)、KrClレーザ(222nm)等が挙げられる。又、高照度で、一般的には10-7秒以下の短い露光時間で行われる。 Any of these light sources may be used as long as they can generate light having an electromagnetic spectrum in a target wavelength range. For example, in the case of an LD, a dye laser, a gas laser, a solid laser, a semiconductor laser, or the like can be used. Preferred examples of the laser include a fourth harmonic of a YAG laser (Nd: YVO4 266 nm), a rare gas halide excimer laser such as an XeCl laser (308 nm), a KrF laser (248 nm), a KrCl laser (222 nm), and the like. Further, the exposure is performed with high illuminance and generally with a short exposure time of 10 −7 seconds or less.

尚、レーザイメージャやレーザイメージセッターで使用されるレーザにおいて、光熱写真材料に走査される時の該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は光熱写真材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、感光材料毎に最適な値に設定することができる。   In a laser used in a laser imager or a laser image setter, the beam spot diameter on the exposed surface of the material when scanned with a photothermographic material is generally 5 to 75 μm as the minor axis diameter and 5 to 5 as the major axis diameter. The laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photosensitive material depending on the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength inherent to the photothermographic material.

(レーザイメージャ)
本発明で言うレーザイメージャ(熱現像処理装置)は、構成としては、フィルムトレイで代表されるフィルム供給装置部、レーザ画像記録装置部、光熱写真材料の全面に均一で安定した熱を供給する熱現像装置部、フィルム供給部からレーザ記録を経て、熱現像により画像形成された光熱写真材料を装置外に排出する迄の搬送装置部から構成される。
(Laser imager)
The laser imager (heat development processing device) referred to in the present invention has a constitution that is a film supply device represented by a film tray, a laser image recording device, and heat that supplies uniform and stable heat to the entire surface of the photothermographic material. It is composed of a conveying unit from the developing unit and the film supply unit through laser recording to discharging the photothermographic material image-formed by thermal development out of the apparatus.

好ましく用いられるレーザイメージャは、熱現像部長さに対する冷却部長さの比が1.5以下であり、0.1〜1.2がより好ましく、0.2〜1.0であることが特に好ましい。又、非感光面が感光面より冷却速度が速いことが好ましい。   The laser imager preferably used has a ratio of the cooling part length to the heat development part length of 1.5 or less, more preferably from 0.1 to 1.2, and particularly preferably from 0.2 to 1.0. Further, it is preferable that the non-photosensitive surface has a faster cooling rate than the photosensitive surface.

本発明において、感光面の冷却速度に対する比感光面の冷却速度の比は1.1以上であることが好ましい。より好ましくは1.1〜5.0、最も好ましくは1.5〜3.0である。非感光面の冷却速度を速くする手段は特に問わないが、非感光面を直接金属板、金属ローラ、不織布、植毛されたローラに接触させることは好ましい形態である。更に好ましくは、これらの部材に蓄積される熱を積極的に外部に排出させるため、ヒートシンクやヒートパイプを併用することも望ましい形態である。   In the present invention, the ratio of the specific photosensitive surface cooling rate to the photosensitive surface cooling rate is preferably 1.1 or more. More preferably, it is 1.1-5.0, Most preferably, it is 1.5-3.0. A means for increasing the cooling rate of the non-photosensitive surface is not particularly limited. However, it is preferable that the non-photosensitive surface is directly brought into contact with a metal plate, a metal roller, a nonwoven fabric, or a flocked roller. More preferably, in order to positively discharge the heat accumulated in these members to the outside, it is also desirable to use a heat sink or a heat pipe in combination.

ここで熱現像部長さとは、熱現像装置において写真材料が現像する温度に加熱された搬送パス長である。又、冷却部長さとは、熱現像部以降、写真材料がレーザイメージャによって遮光された領域からレーザイメージャの設置されている室内光下へと感光材料が排出される迄のパス長を言う。熱現像部長さに対する冷却部長さの比が1.5以下の、冷却部長さが短いレーザイメージャによって、小型で、処理速度の速いレーザイメージャを提供することが可能である。   Here, the heat developing section length is a transport path length heated to a temperature at which the photographic material is developed in the heat developing apparatus. The cooling unit length is a path length from the heat developing unit to the time when the photosensitive material is discharged from the area where the photographic material is shielded by the laser imager to the room light where the laser imager is installed. By using a laser imager with a short cooling part length in which the ratio of the cooling part length to the heat developing part length is 1.5 or less, it is possible to provide a small-sized laser imager with a high processing speed.

熱現像部を出た後、排出される迄の冷却時間は任意であるが、0〜25秒であることが好ましい。より好ましくは0〜15秒、特に好ましくは5〜15秒である。熱現像部を出た後、排出までの写真材料の通過するパス長は任意であるが、1〜60cmであることが好ましい。より好ましくは5〜50cm、更に好ましくは5〜40cmである。   The cooling time from the exit from the heat developing section to the ejection is arbitrary, but it is preferably 0 to 25 seconds. More preferably, it is 0 to 15 seconds, and particularly preferably 5 to 15 seconds. The path length through which the photographic material passes after exiting the heat developing portion and before discharging is arbitrary, but is preferably 1 to 60 cm. More preferably, it is 5-50 cm, More preferably, it is 5-40 cm.

本発明の熱現像感光材料は如何なる方法で現像されてもよいが、通常、イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像する。好ましい現像温度としては80〜250℃であり、より好ましくは100〜140℃、更に好ましくは110〜130℃である。現像時間としては1〜30秒が好ましく、より好ましくは3〜15秒、更に好ましくは3〜10秒である。加熱温度が80℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、又、200℃を超えるとバインダーが溶融し、ローラへの転写等画像そのものだけでなく、搬送性や現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。   The photothermographic material of the present invention may be developed by any method. Usually, the photothermographic material exposed imagewise is heated and developed. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C, and still more preferably 110 to 130 ° C. The development time is preferably 1 to 30 seconds, more preferably 3 to 15 seconds, and still more preferably 3 to 10 seconds. If the heating temperature is less than 80 ° C., sufficient image density cannot be obtained in a short time. If the heating temperature exceeds 200 ° C., the binder melts, and not only the image itself such as transfer to a roller but also transportability and developing machine etc. Adversely affect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of treatment liquid such as water from the outside.

熱現像の方式としては、ドラム型ヒータ、プレート型ヒータの何れを使用してもよいが、プレートヒータ方式が好ましい。プレートヒータ方式による熱現像方式は特開平11−133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得るレーザイメージャであって、前記加熱手段がプレートヒータから成り、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とするレーザイメージャである。   As a thermal development method, either a drum type heater or a plate type heater may be used, but a plate heater method is preferable. A thermal development method using a plate heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572. A laser imager that obtains a visible image by bringing a photothermographic material on which a latent image has been formed into contact with a heating means in a thermal development unit. The heating means is composed of a plate heater, and a plurality of pressing rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the photothermographic photosensitive member is interposed between the pressing roller and the plate heater. The laser imager is characterized in that a material is passed through and heat development is performed.

露光部及び熱現像部及び冷却部における感光材料の線速度は任意であるが、より速い方が迅速処理、スループットの向上のためには好ましい。好ましい線速度は25〜200mm/秒、より好ましくは28〜150mm/秒、更に好ましくは30〜60mm/秒以下である。搬送速度をこの範囲とすることにより、熱現像時の濃度ムラを改良でき、又、処理時間が短縮できるため、緊急時の診断にも対応できて好ましい。   The linear velocity of the photosensitive material in the exposure section, the heat development section, and the cooling section is arbitrary, but a higher speed is preferable for rapid processing and improvement in throughput. A preferable linear velocity is 25 to 200 mm / second, more preferably 28 to 150 mm / second, and further preferably 30 to 60 mm / second or less. By setting the conveyance speed within this range, density unevenness during heat development can be improved, and the processing time can be shortened.

この態様のレーザイメージャの具体例は図1に示すものである。露光処理と熱現像処理を同時に行う、即ち、シート感材の一部分を露光しながら、既に露光が為されたシートの一部分で現像が開始されるためには、露光処理を行う露光部と現像部の間の距離が0〜50cmであることが好ましく、これにより露光・現像の一連の処理時間が極めて短くなる。この距離の好ましい範囲は3〜40cmであり、より好ましくは5〜30cmである。ここで露光部とは、露光光源からの光が熱現像感光材料に照射される位置を言い、現像部とは、熱現像感光材料が熱現像を行うために初めて加熱される位置を言う。図1における6が露光部であり、図1の4から搬送された感材が3のプレートに初めて接した部分が現像部である。   A specific example of the laser imager of this aspect is shown in FIG. In order to perform the exposure process and the thermal development process at the same time, that is, to start development on a part of the sheet that has already been exposed while exposing a part of the sheet sensitive material, an exposure unit and a development unit that perform the exposure process The distance between the two is preferably 0 to 50 cm, and this makes the series of processing time for exposure and development extremely short. The preferable range of this distance is 3 to 40 cm, more preferably 5 to 30 cm. Here, the exposure part refers to a position where light from an exposure light source is irradiated to the photothermographic material, and the development part refers to a position where the photothermographic material is heated for the first time for heat development. In FIG. 1, reference numeral 6 denotes an exposure unit, and a portion where the photosensitive material conveyed from 4 in FIG.

加熱する機器、装置あるいは手段としては、例えばホットプレート、アイロン、ホットローラ、炭素又は白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手段で行ってよい。より好ましくは、感光性層の上に保護層の設けられた光熱写真材料は、保護層を有する側の面を加熱手段と接触させ加熱処理することが、均一な加熱を行う上で、又、熱効率、作業性等の観点から好ましく、保護層を有する側の面をヒートローラに接触させながら搬送し、加熱処理して現像することが好ましい。本発明においては、加熱温度123℃、現像時間12秒で熱現像して得られる画像が、拡散濃度(Y軸)と常用対数露光量(X軸)の単位長の等しい直交座標上に示される特性曲線において、拡散光での光学濃度で0.25〜2.5の平均階調が2.0〜4.0であることが好ましい。このような階調にすることにより、銀量が少なくても診断認識性の高い画像を得ることが可能となる。   The heating device, apparatus or means may be a heating means typical as a heat generator using, for example, a hot plate, iron, hot roller, carbon or white titanium. More preferably, the photothermographic material in which the protective layer is provided on the photosensitive layer is subjected to heat treatment by bringing the surface having the protective layer into contact with the heating means for uniform heating, It is preferable from the viewpoints of thermal efficiency, workability, and the like, and it is preferable that the surface having the protective layer is conveyed while being in contact with the heat roller, and is developed by heat treatment. In the present invention, an image obtained by heat development at a heating temperature of 123 ° C. and a development time of 12 seconds is shown on orthogonal coordinates where the unit lengths of the diffusion density (Y axis) and the common logarithmic exposure (X axis) are equal. In the characteristic curve, the average gradation of 0.25 to 2.5 in terms of optical density with diffused light is preferably 2.0 to 4.0. By using such gradations, it is possible to obtain an image with high diagnostic recognizability even if the amount of silver is small.

本発明の画像形成方法は、設置面積が0.4m2以下のコンパクトなレーザイメージャに適している。 The image forming method of the present invention is suitable for a compact laser imager having an installation area of 0.4 m 2 or less.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。尚、特に断りない限り、実施例中の「部」は「質量部」を表し、「%」は「質量%」を表す。
実施例1
〈下引加工した支持体の作製〉
光学濃度0.150(コニカ社製デンシトメータPDA−65で測定)に下記青色染料で着色した2軸延伸熱固定した厚さ175μmのPETフィルムの両面に、8W・分/m2のコロナ放電処理を施した写真用支持体に下引加工を行った。即ち、この写真用支持体の一方の面に、下引塗布液a−1を乾燥膜厚が0.2μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥して感光性層(画像形成層)側下引層を形成した(下引下層A−1と言う)。又、反対側の面にバッキング層下引層として下記下引塗布液b−1を乾燥膜厚が0.12μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させてバッキング層側に帯電防止機能を持つ下引導電層(下引下層B−1と言う)を塗設した。下引下層A−1と下引下層B−1の上表面に、8W・分/m2のコロナ放電を施し、下引下層A−1の上には下記下引塗布液a−2を乾燥膜厚0.03μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層A−2とし、下引下層B−1の上には、下記下引塗布液b−2を乾燥膜厚0.2μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層B−2とし、更に123℃で2分間支持体を熱処理し25℃・50%RHの条件下で巻き取り、下引済み試料を作製した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, the embodiment of this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “part” in the examples represents “part by mass” and “%” represents “% by mass”.
Example 1
<Manufacture of undercoated support>
Corona discharge treatment of 8 W · min / m 2 was applied to both sides of a biaxially stretched and heat-fixed 175 μm thick PET film colored with the following blue dye at an optical density of 0.150 (measured with Konica Densitometer PDA-65). The applied photographic support was subbing. That is, on one surface of this photographic support, the undercoating liquid a-1 was applied at 22 ° C. and 100 m / min so that the dry film thickness was 0.2 μm, and dried at 140 ° C. for photosensitivity. An undercoat layer on the side of the conductive layer (image forming layer) was formed (referred to as undercoat lower layer A-1). Also, on the opposite surface, as the backing layer undercoat layer, the following undercoat coating solution b-1 was applied at 22 ° C. and 100 m / min so that the dry film thickness was 0.12 μm, and dried at 140 ° C. An undercoat conductive layer having an antistatic function (referred to as undercoat lower layer B-1) was coated on the backing layer side. A corona discharge of 8 W · min / m 2 is applied to the upper surfaces of the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B-1, and the following undercoat coating solution a-2 is dried on the undercoat layer A-1. It is coated at 33 ° C. and 100 m / min so as to have a film thickness of 0.03 μm, and dried at 140 ° C. to form an undercoat upper layer A-2. b-2 was applied at a dry film thickness of 0.2 μm at 33 ° C. and 100 m / min, dried at 140 ° C. to form an undercoating upper layer B-2, and the support was further heat treated at 123 ° C. for 2 minutes. The sample was wound up under conditions of 25 ° C. and 50% RH to prepare a subtracted sample.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

〈水性ポリエステルA−1溶液の調製〉
テレフタル酸ジメチル35.4部、イソフタル酸ジメチル33.63部、5−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩17.92部、エチレングリコール62部、酢酸カルシウム・1水塩0.065部、酢酸マンガン四水塩0.022部を、窒素気流下に170〜220℃でメタノールを溜去しながらエステル交換反応を行った後、燐酸トリメチル0.04部、重縮合触媒とし三酸化アンチモン0.04部及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸6.8部を加え、220〜235℃の反応温度で、ほぼ理論量の水を溜去しエステル化を行った。
<Preparation of aqueous polyester A-1 solution>
35.4 parts dimethyl terephthalate, 33.63 parts dimethyl isophthalate, 17.92 parts dimethyl sodium 5-sulfoisophthalate, 62 parts ethylene glycol, 0.065 parts calcium acetate monohydrate, manganese acetate tetrahydrate 0.022 parts were transesterified while distilling methanol at 170-220 ° C. under a nitrogen stream, 0.04 parts of trimethyl phosphate, 0.04 parts of antimony trioxide as a polycondensation catalyst, 6.8 parts of 4-cyclohexanedicarboxylic acid was added, and a theoretical amount of water was distilled off at a reaction temperature of 220 to 235 ° C. for esterification.

その後、更に反応系内を約1時間かけて減圧、昇温し最終的に280℃、133Pa以下で約1時間重縮合を行い、水性ポリエステルA−1を合成した。得られた水性ポリエステルA−1の固有粘度は0.33、平均粒径は40nm、重量平均分子量80,000〜100,000であった。   Thereafter, the inside of the reaction system was further depressurized and heated for about 1 hour, and finally subjected to polycondensation at 280 ° C. and 133 Pa or less for about 1 hour to synthesize aqueous polyester A-1. The obtained aqueous polyester A-1 had an intrinsic viscosity of 0.33, an average particle size of 40 nm, and a weight average molecular weight of 80,000 to 100,000.

次いで、撹拌翼、環流冷却管、温度計を付した2Lの三つ口フラスコに、純水850mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、水性ポリエステルA−1の150gを徐々に添加した。室温でこのまま30分間撹拌した後、1.5時間かけて内温が98℃になるように加熱し、この温度で3時間加熱溶解した。加熱終了後、1時間かけて室温まで冷却し、一夜放置して、15%の水性ポリエステルA−1溶液を調製した。   Next, 850 ml of pure water was put into a 2 L three-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, and 150 g of aqueous polyester A-1 was gradually added while rotating the stirring blade. After stirring for 30 minutes at room temperature, the mixture was heated to an internal temperature of 98 ° C. over 1.5 hours and dissolved at this temperature for 3 hours. After completion of the heating, the mixture was cooled to room temperature over 1 hour and allowed to stand overnight to prepare a 15% aqueous polyester A-1 solution.

〈変性水性ポリエステルB−1〜2溶液の調製〉
撹拌翼、環流冷却管、温度計、滴下ロートを付した3Lの四つ口フラスコに、前記15%の水性ポリエステルA−1溶液1900mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、内温度を80℃まで加熱する。この中に、過酸化アンモニウムの24%水溶液を6.52ml加え、モノマー混合液(メタクリル酸グリシジル28.5g、アクリル酸エチル21.4g、メタクリル酸メチル21.4g)を30分間かけて滴下し、更に3時間反応を続ける。その後、30℃以下まで冷却、濾過して、固形分濃度が18%の変性水性ポリエステルB−1溶液(ビニル系成分変性比率20%)を調製した。
<Preparation of modified aqueous polyester B-1-2 solution>
1900 ml of the 15% aqueous polyester A-1 solution is placed in a 3 L four-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, a thermometer, and a dropping funnel, and the internal temperature is increased to 80 ° C. while rotating the stirring blade. Heat. Into this, 6.52 ml of a 24% aqueous solution of ammonium peroxide was added, and a monomer mixture (28.5 g of glycidyl methacrylate, 21.4 g of ethyl acrylate, 21.4 g of methyl methacrylate) was dropped over 30 minutes, The reaction is continued for another 3 hours. Then, it cooled and filtered to 30 degrees C or less, and prepared the modified aqueous polyester B-1 solution (vinyl component modification ratio 20%) whose solid content concentration is 18%.

ビニル変性比率を36%にし、変性成分をスチレン:グリシジルメタクリレート:アセトアセトキシエチルメタクリレート:ブチルアクリレート=39.5:40:20:0.5にした以外は同様にして、固形分濃度が18%の変性水性ポリエステルB−2溶液(ビニル系成分変性比率20%)を調製した。   The solid content concentration was 18% in the same manner except that the vinyl modification ratio was 36% and the modified components were styrene: glycidyl methacrylate: acetoacetoxyethyl methacrylate: butyl acrylate = 39.5: 40: 20: 0.5. A modified aqueous polyester B-2 solution (vinyl component modification ratio 20%) was prepared.

〈アクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3の作製〉
乳化重合により、以下に示すモノマー組成を有するアクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3を合成した。固形分濃度は全て30%とした。
<Preparation of acrylic polymer latex C-1 to C-3>
Acrylic polymer latexes C-1 to C-3 having the monomer composition shown below were synthesized by emulsion polymerization. The solid content concentration was all 30%.

C−1:スチレン/グリシジルメタクリレート/ブチルアクリレート=20/40/40(質量比) Tg:20℃
C−2:スチレン/ブチルアクリレート/t−ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート=27/10/35/28(質量比) Tg:55℃
C−3:スチレン/グリシジルメタクリレート/アセトアセトキシエチルメタクリレート=40/40/20(質量比) Tg:50℃
(感光性層側下引下層用塗布液a−1)
アクリル系ポリマーラテックスC−3(固形分30%) 70.0g
エトキシ化アルコールとエチレンホモポリマーの水分散物(固形分10%)5.0g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
(感光性層側下引上層用塗布液a−2)
変性水性ポリエステルB−2(18%) 30.0g
界面活性剤(A) 0.1g
真球状シリカマット剤(日本触媒社製:シーホスターKE−P50) 0.04g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
(バッキング層側下引下層用塗布液b−1)
アクリル系ポリマーラテックスC−1(固形分30%) 30.0g
アクリル系ポリマーラテックスC−2(固形分30%) 7.6g
SnO2ゾル(特公昭35−6616号の実施例1に記載の方法で合成したSnO2
ルを固形分濃度が10%になるように加熱濃縮した後、アンモニア水でpH=10に
調整したもの) 180g
界面活性剤(A) 0.5g
PVA−613(クラレ社製ポリビニルアルコール)5%水溶液 0.4g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
(バッキング層側下引上層用塗布液b−2)
変性水性ポリエステルB−1(18%) 145.0g
真球状シリカマット剤(シーホスターKE−P50:前出) 0.2g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
C-1: Styrene / glycidyl methacrylate / butyl acrylate = 20/40/40 (mass ratio) Tg: 20 ° C.
C-2: Styrene / butyl acrylate / t-butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate = 27/10/35/28 (mass ratio) Tg: 55 ° C.
C-3: Styrene / glycidyl methacrylate / acetoacetoxyethyl methacrylate = 40/40/20 (mass ratio) Tg: 50 ° C.
(Photosensitive layer side undercoat underlayer coating solution a-1)
Acrylic polymer latex C-3 (solid content 30%) 70.0 g
5.0 g aqueous dispersion of ethoxylated alcohol and ethylene homopolymer (solid content 10%)
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
(Photosensitive layer side undercoat upper layer coating solution a-2)
Modified aqueous polyester B-2 (18%) 30.0 g
Surfactant (A) 0.1g
True spherical silica matting agent (Nippon Shokubai Co., Ltd .: Seahoster KE-P50) 0.04g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
(Coating liquid b-1 for backing layer side undercoat layer)
Acrylic polymer latex C-1 (solid content 30%) 30.0 g
Acrylic polymer latex C-2 (solid content 30%) 7.6 g
After heating concentrated so that the solid concentration of SnO 2 zone Le synthesized by the method described is 10% in Example 1 of SnO 2 sol (JP-B-35-6616, was adjusted to pH = 10 with aqueous ammonia 180g
Surfactant (A) 0.5g
PVA-613 (polyvinyl alcohol manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 5% aqueous solution 0.4 g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
(Backing layer side undercoat upper layer coating solution b-2)
Modified aqueous polyester B-1 (18%) 145.0 g
Spherical silica matting agent (Seahoster KE-P50: supra) 0.2g
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

尚、前記下引層を施した支持体の下引層B−2上には下記の組成のバックコート層、バックコート層保護層を塗設した。   A backcoat layer and a backcoat layer protective layer having the following composition were coated on the undercoat layer B-2 on which the undercoat layer was applied.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

〈バックコート層塗布液の調製〉
メチルエチルケトン(MEK)830gを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート(Eastman Chemical社製:CAP482−20)84.2g及びポリエステル樹脂(Bostic社製:Vitel PE2200B)4.5gを添加し溶解した。次に0.30gの紫外線吸収剤(種類は表1に記載)を添加し、更にメタノール43.2gに溶解した弗素系界面活性剤(旭硝子社製:サーフロンKH40)4.5gと弗素系界面活性剤(大日本インキ社製:メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレート2.5gを添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
<Preparation of backcoat layer coating solution>
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate propionate (manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20) and 4.5 g of polyester resin (manufactured by Boston: Vitel PE2200B) were added and dissolved. Next, 0.30 g of an ultraviolet absorber (the type is listed in Table 1) was added, and 4.5 g of a fluorine-based surfactant (Asahi Glass Co., Ltd .: Surflon KH40) dissolved in 43.2 g of methanol and a fluorine-based surfactant. 2.3 g of an agent (Dainippon Ink Co., Ltd .: MegaFag F120K) was added and stirred well until dissolved. Next, 2.5 g of oleyl oleate was added and stirred to prepare a backcoat layer coating solution.

〈バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製〉
バックコート層保護層についても下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして
調製した。シリカはMEKに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加した。
(バックコート層保護層塗布液)
セルロースアセテートプロピオネート(CAP482−20:前出)10%MEK溶
液 15g
単分散度15%の単分散シリカ(平均粒径10μm,シリカの1%のアルミニウムで
表面処理したもの) 0.03g
弗素系ノニオン活性剤(FN−1) 0.075g
弗素系界面活性剤(SF−17) 0.01g
弗素系ポリマー(FM−1) 0.05g
ステアリン酸 0.1g
ステアリン酸ブチル 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
〈バックコート層塗布液の調製〉
MEK830gを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート(CAP482−20:前出)84.2g及びポリエステル樹脂(Vitel PE2200B:前出)4.5gを添加し溶解した。この溶液に、メタノール43.2gに溶解した弗素系界面活性剤(サーフロンKH40:前出)4.5gと弗素系界面活性剤(メガファッグF120K:前出)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの2.5gを添加した。最後に、MEKに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ(平均粒径:10μm)を75g添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
<Preparation of backcoat layer protective layer (surface protective layer) coating solution>
The backcoat layer protective layer was also prepared in the same manner as the backcoat layer coating solution at the following composition ratio. Silica was dispersed in MEK at a concentration of 1% with a dissolver type homogenizer, and finally added.
(Back coat layer protective layer coating solution)
Cellulose acetate propionate (CAP482-20: supra) 10% MEK solution 15g
Monodispersed silica with a monodispersity of 15% (average particle size 10 μm, surface-treated with 1% aluminum of silica) 0.03 g
Fluorine nonionic activator (FN-1) 0.075g
Fluorine-based surfactant (SF-17) 0.01g
Fluorine polymer (FM-1) 0.05g
Stearic acid 0.1g
0.1 g butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
<Preparation of backcoat layer coating solution>
While stirring MEK830 g, 84.2 g of cellulose acetate propionate (CAP482-20: supra) and 4.5 g of polyester resin (Vitel PE2200B: supra) were added and dissolved. To this solution, add 4.5 g of a fluorine-based surfactant (Surflon KH40: supra) dissolved in 43.2 g of methanol and 2.3 g of a fluorosurfactant (Megaphag F120K: supra) until dissolved. Stir well. Next, 2.5 g of oleyl oleate was added. Finally, 75 g of silica (average particle size: 10 μm) dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 1% was added and stirred to prepare a backcoat layer coating solution.

〈バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製〉
下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。シリカの分散にはディゾルバ型ホモジナイザを使用した。
<Preparation of backcoat layer protective layer (surface protective layer) coating solution>
The following composition ratio was prepared in the same manner as the back coat layer coating solution. A dissolver type homogenizer was used for dispersion of silica.

セルロースアセテートプロピオネート(CAP482−20:前出)10%MEK溶
液 15g
単分散度15%の単分散シリカ(平均粒径10μm,シリカの1%のアルミニウムで
表面処理したもの) 0.03g
817(CH2CH2O)12817 0.05g
弗素系界面活性剤(SF−17) 0.01g
弗素系ポリマー(FM−1) 0.05g
ステアリン酸 0.1g
ステアリン酸ブチル 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
FN−1:C817(CH2CH2O)12817
Cellulose acetate propionate (CAP482-20: supra) 10% MEK solution 15g
Monodispersed silica with a monodispersity of 15% (average particle size 10 μm, surface-treated with 1% aluminum of silica) 0.03 g
C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g
Fluorine-based surfactant (SF-17) 0.01g
Fluorine polymer (FM-1) 0.05g
Stearic acid 0.1g
0.1 g butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
FN-1: C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17

Figure 2006267209
Figure 2006267209

〈感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製〉
(A1)
フェニルカルバモイル化ゼラチン 88.3g
化合物(AO−1)の10%メタノール水溶液 10ml
臭化カリウム 0.32g
水で5429mlに仕上げる
(B1)
0.67モル/L硝酸銀水溶液 2635ml
(C1)
臭化カリウム 50.69g
沃化カリウム 2.66g
水で660mlに仕上げる
(D1)
臭化カリウム 151.6g
沃化カリウム 7.67g
ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム(1%水溶液) 0.93ml
ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム 0.004g
ヘキサクロロオスミウム(IV)酸カリウム 0.004g
水で1982mlに仕上げる
(E1)
0.4モル/L臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
(F1)
水酸化カリウム 0.71g
水で20mlに仕上げる
(G1)
56%酢酸水溶液 18.0ml
(H1)
無水炭酸ナトリウム 1.72g
水で151mlに仕上げる
AO−1:HO(CH2CH2O)n〔CH(CH3)CH2O〕17(CH2CH2O)m
m+n=5〜7
特公昭58−58288号に示される混合撹拌機を用いて溶液(A1)に溶液(B1)の1/4量及び溶液(C1)全量を20℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要して添加し核形成を行った。1分後に溶液(F1)の全量を添加した。この間、pAgの調整を(E1)を用いて適宜行った。6分間経過後、溶液(B1)の3/4量及び溶液(D1)の全量を、20℃、pAg8.09に制御しながら、14分15秒かけて同時混合法により添加した。5分間撹拌した後、40℃に降温し、溶液(G1)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分2Lを残して上澄み液を取り除き、水を10L加え、撹拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1.5Lを残し、上澄み液を取り除き、更に水を10L加え、撹拌後、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1.5Lを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H1)を加え、60℃に昇温し、更に120分撹拌した。最後にpHが5.8になるように調整し、銀量1モル当たり1,161gになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion A1>
(A1)
Phenylcarbamoylated gelatin 88.3g
10% aqueous methanol solution of compound (AO-1) 10ml
Potassium bromide 0.32g
Finish to 5429 ml with water (B1)
0.67 mol / L silver nitrate aqueous solution 2635 ml
(C1)
Potassium bromide 50.69g
Potassium iodide 2.66g
Finish to 660ml with water (D1)
Potassium bromide 151.6g
Potassium iodide 7.67g
0.93ml potassium hexachloroiridium (IV) (1% aqueous solution)
Potassium hexacyanoferrate (II) 0.004g
Hexachloroosmium (IV) potassium salt 0.004g
Finish to 1982ml with water (E1)
0.4 mol / L potassium bromide aqueous solution The following silver potential control amount (F1)
Potassium hydroxide 0.71g
Finish to 20ml with water (G1)
56% acetic acid aqueous solution 18.0 ml
(H1)
Anhydrous sodium carbonate 1.72 g
Finish to 151 ml with water AO-1: HO (CH 2 CH 2 O) n [CH (CH 3 ) CH 2 O] 17 (CH 2 CH 2 O) m H
m + n = 5-7
Using the mixing stirrer shown in Japanese Patent Publication No. 58-58288, while controlling 1/4 of the solution (B1) in the solution (A1) and the total amount of the solution (C1) to 20 ° C. and pAg 8.09, the simultaneous mixing method Was added for 4 minutes and 45 seconds to nucleate. After 1 minute, the entire amount of solution (F1) was added. During this time, pAg was adjusted as appropriate using (E1). After 6 minutes, 3/4 amount of the solution (B1) and the total amount of the solution (D1) were added by a simultaneous mixing method over 14 minutes and 15 seconds while controlling at 20 ° C. and pAg 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 40 ° C., the whole amount of the solution (G1) was added, and the silver halide emulsion was allowed to settle. The supernatant was removed leaving 2 L of the sedimented portion, 10 L of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was precipitated again. The supernatant liquid was removed leaving 1.5 L of the sedimented portion, 10 L of water was further added, and after stirring, the silver halide emulsion was allowed to settle. After leaving the sedimented portion 1.5L and removing the supernatant, the solution (H1) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 120 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.8, and water was added so that the amount was 1,161 g per mole of silver to obtain photosensitive silver halide emulsion A.

この乳剤は、平均粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率3.5モル%)。   This emulsion was monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (silver iodide content: 3.5 mol%).

〈感光性ハロゲン化銀乳剤B1の調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製と同様に行った。この乳剤は平均粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率3.5モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion B1>
The same procedure as in the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A1 was conducted except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. This emulsion was monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] plane ratio of 92% (silver iodide content: 3.5 mol%).

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製〉
感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製時に用いられる臭化カリウムを沃化カリウムに変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製と同様に行った。この乳剤は平均粒径25nm、粒径変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion C>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A1, except that the potassium bromide used in the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A1 was changed to potassium iodide. This emulsion was monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] plane ratio of 92%.

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Dの調製〉
感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製時に用いられる臭化カリウムの一部を沃化銀含有率が90モル%となるように沃化カリウムに変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率90モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion D>
Preparation of photosensitive silver halide emulsion A1 except that a portion of potassium bromide used in the preparation of photosensitive silver halide emulsion A1 was changed to potassium iodide so that the silver iodide content was 90 mol%. The same was done. This emulsion was monodispersed silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] plane ratio of 92% (silver iodide content 90 mol%).

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Eの調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion E>
The same procedure as in the preparation of photosensitive silver halide emulsion C was carried out except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. This emulsion was monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] plane ratio of 92%.

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Fの調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Dの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率90モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion F>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide emulsion D except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. This emulsion was monodispersed silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (silver iodide content: 90 mol%).

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Gの調製〉
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、下記の化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Gを調製した。この乳剤は平均粒子粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion G>
In the preparation of the photosensitive silver halide emulsion C, and after adding the entire amount of the solution F1 after nucleation, except that 0.1% ethanol solution was added 4ml a similar fashion sensitive silver of the following compound (TPPS) Silver emulsion G was prepared. This emulsion was monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] plane ratio of 92%.

〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Hの調製〉
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Eの調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、下記化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Hを調製した。この乳剤は平均粒子粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion H>
In the preparation of the photosensitive silver halide emulsion E, the photosensitive silver halide was prepared in the same manner except that 4 ml of a 0.1% ethanol solution of the following compound (TPPS) was added after adding the whole amount of the solution F1 after nucleation. Emulsion H was prepared. This emulsion was monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] plane ratio of 92%.

Figure 2006267209
Figure 2006267209

〈粉末有機銀塩Aの調製〉
4,720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し、濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。この脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤(種類と添加量は表2に記載)と純水450mlを添加し5分間撹拌した。次に1モル/Lの硝酸銀溶液468.4mlを2分間かけて添加し、10分間撹拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて撹拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(セイシン企業社製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機熱風温度の運転条件(入口65℃,出口40℃)により含水率が0.1%になるまで乾燥して粉末有機銀塩Aを得た。
<Preparation of powdered organic silver salt A>
In 4,720 ml of pure water, 130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid were dissolved at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution was added, and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, followed by cooling to 55 ° C. to obtain a fatty acid sodium solution. While maintaining the temperature of the fatty acid sodium solution at 55 ° C., a photosensitive silver halide grain emulsion (type and amount added are listed in Table 2) and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes. Next, 468.4 ml of 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water-washing container, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the organic silver salt dispersion, thereby removing the lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Then, the obtained cake-like organic silver salt was converted into an air-flow dryer Flashjet dryer (Seishin). The product was dried until the water content became 0.1% by operating conditions (inlet 65 ° C., outlet 40 ° C.) of nitrogen gas atmosphere and dryer hot air temperature to obtain powdered organic silver salt A. .

〈予備分散液Aの調製〉
感光性層のバインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃,−SO3K基を0.2ミリモル/g含む)14.57gをMEK1,457gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバDISPERMAT CA−40M型にて撹拌しながら、上記粉末有機銀塩Aの500gを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Aを調製した。
<Preparation of preliminary dispersion A>
As a binder for the photosensitive layer, 14.57 g of SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 75 ° C., containing —SO 3 K group of 0.2 mmol / g) was dissolved in 1,457 g of MEK, and dissolver DISPERMAT manufactured by VMA-GETZMANN While stirring with a CA-40M type, 500 g of the powdered organic silver salt A was gradually added and mixed thoroughly to prepare a preliminary dispersion A.

〈感光性乳剤分散液Aの調製〉
予備分散液Aをポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ社製:トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液Aを調製した。
<Preparation of photosensitive emulsion dispersion A>
Media type disperser DISPERMAT filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm zirconia beads (Toray Industries, Inc .: Treceram) so that the residence time in the mill is 1.5 minutes using a pump. A photosensitive emulsion dispersion A was prepared by supplying to SL-C12EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 8 m / s.

〈安定剤液の調製〉
1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し安定剤液を調製した。
<Preparation of stabilizer solution>
A stabilizer solution was prepared by dissolving 1.0 g of Stabilizer 1 and 0.31 g of potassium acetate in 4.97 g of methanol.

〈2−クロロ安息香酸液の調製〉
1.488gの2−クロロ安息香酸、2.779gの安定剤2及び365mgの5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを31.3mlのMEKに暗所にて溶解し2−クロロ安息香酸液を調製した。
<Preparation of 2-chlorobenzoic acid solution>
1.488 g of 2-chlorobenzoic acid, 2.779 g of stabilizer 2 and 365 mg of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole are dissolved in 31.3 ml of MEK in the dark to prepare a 2-chlorobenzoic acid solution. did.

〈添加液aの調製〉
還元剤(表1に記載の化合物と量)、0.159gの黄色発色性ロイコ染料(表1に記載の化合物)、0.159gのシアン発色性ロイコ染料(表1に記載の化合物)、1.54gの4−メチルフタル酸、0.48gの紫外線吸収剤(表1に記載の化合物)をMEK110.0gに溶解し、添加液aとした。
<Preparation of additive solution a>
Reducing agent (compound and amount described in Table 1), 0.159 g of yellow chromophoric leuco dye (compound described in Table 1), 0.159 g of cyan chromogenic leuco dye (compound described in Table 1), 1 .54 g of 4-methylphthalic acid and 0.48 g of an ultraviolet absorber (compound described in Table 1) were dissolved in 110.0 g of MEK to obtain an additive solution a.

〈添加液bの調製〉
1.56gのカブリ防止剤2、0.5gのカブリ防止剤3、0.5gのカブリ防止剤4、0.5gのカブリ防止剤5、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに溶解し添加液bとした。
<Preparation of additive liquid b>
1.56 g antifoggant 2, 0.5 g antifoggant 3, 0.5 g antifoggant 4, 0.5 g antifoggant 5, 3.43 g phthalazine dissolved in 40.9 g MEK and added b.

〈添加液cの調製〉
0.2gの省銀化剤(SE2−2)をMEK39.8gに溶解し添加液cとした。
<Preparation of additive liquid c>
0.2 g of silver saving agent (SE2-2) was dissolved in 39.8 g of MEK to obtain an additive solution c.

〈添加液dの調製〉
0.5gのp−トルエンチオスルホン酸カリウム、0.5gのカブリ防止剤6をMEK9.0gに溶解し、添加液dとした。
<Preparation of additive liquid d>
0.5 g of potassium p-toluenethiosulfonate and 0.5 g of antifoggant 6 were dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution d.

〈添加液eの調製〉
1.0gのVS−1(カブリ防止剤)をMEK9.0gに溶解し、添加液eとした。
<Preparation of additive liquid e>
1.0 g of VS-1 (antifoggant) was dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution e.

VS−1:(CH2=CHSO2CH22CHOH
〈感光性層塗布液の調製〉
不活性気体雰囲気下(窒素97%)に、前記感光性乳剤分散液Aの50g及びMEK15.11gを撹拌しながら21℃に保温し、化学増感剤S−5(0.5%メタノール溶液)1000μlを加え、2分後にカブリ防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加えて1時間撹拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)494μlを添加して10分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の1/20モル相当の金増感剤Au−5を添加し、更に20分撹拌した。続いて、安定剤液167μlを添加して10分間撹拌した後、1.32gの前記2−クロロ安息香酸液を添加して1時間撹拌した。その後、温度を13℃まで降温して更に30分撹拌した。13℃に保温したまま、0.5gの添加液d、0.5gの添加液e、予備分散液で使用したバインダー13.31gを添加して30分撹拌した後、テトラクロロフタル酸(9.4%MEK溶液)1.084gを添加して15分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、12.43gの添加液a、1.6mlのDesmodur N3300(モーベイ社製の脂肪族イソシアネート)10%MEK溶液、4.27gの添加液b、1.0gの添加液cを順次添加し撹拌することにより感光性層塗布液を得た。
VS-1: (CH 2 = CHSO 2 CH 2 ) 2 CHOH
<Preparation of photosensitive layer coating solution>
In an inert gas atmosphere (97% nitrogen), 50 g of the photosensitive emulsion dispersion A and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. with stirring, and the chemical sensitizer S-5 (0.5% methanol solution) 1000 μl was added, and after 2 minutes, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added and stirred for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 10 minutes, then gold sensitizer Au-5 corresponding to 1/20 mole of the above organic chemical sensitizer was added, and further stirred for 20 minutes. . Subsequently, 167 μl of a stabilizer solution was added and stirred for 10 minutes, and then 1.32 g of the 2-chlorobenzoic acid solution was added and stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While maintaining the temperature at 13 ° C., 0.5 g of additive liquid d, 0.5 g of additive liquid e, and 13.31 g of binder used in the preliminary dispersion were added and stirred for 30 minutes, and then tetrachlorophthalic acid (9. (4% MEK solution) 1.084 g was added and stirred for 15 minutes. While continuing stirring, 12.43 g of additive liquid a, 1.6 ml of Desmodur N3300 (aliphatic isocyanate manufactured by Movey) 10% MEK solution, 4.27 g of additive liquid b, 1.0 g of additive liquid c By sequentially adding and stirring, a photosensitive layer coating solution was obtained.

Figure 2006267209
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Figure 2006267209
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〈感光性層保護層下層(表面保護層下層)の調製〉
アセトン500g、MEK2,100g、メタノール700gに230gのセルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製:CAB−171−15S)を添加し、ディゾルバーで撹拌、溶解した。次に、25gのフタラジン、3.5gのVS−2(カブリ防止剤)、1gのFN−2(弗素系ノニオン活性剤)、1gのSF−17(例示の弗素系界面活性剤)、10gのステアリン酸、10gのステアリン酸ブチルを撹拌しながら添加、溶解し、感光性層保護層下層塗布液を調製した。
<Preparation of photosensitive layer protective layer lower layer (surface protective layer lower layer)>
To 500 g of acetone, 2,100 g of MEK and 700 g of methanol, 230 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical: CAB-171-15S) was added, and the mixture was stirred and dissolved with a dissolver. Next, 25 g phthalazine, 3.5 g VS-2 (antifoggant), 1 g FN-2 (fluorine nonionic activator), 1 g SF-17 (exemplary fluorosurfactant), 10 g Stearic acid and 10 g of butyl stearate were added and dissolved with stirring to prepare a photosensitive layer protective layer lower layer coating solution.

〈感光性層保護層上層(表面保護層上層)の調製〉
アセトン500g、MEK2,100g、メタノール700gに230gのセルロースアセテートブチレート(CAB−171−15S:前出)を添加し、ディゾルバーで撹拌、溶解した。次に25gのフタラジン、3.5gのVS−2(カブリ防止剤)、1gのFN−2(弗素系ノニオン活性剤)、0.5gのSF−17(例示の弗素系界面活性剤)、1.0gの弗素系ポリマー(FM−1:前出)、10gのステアリン酸、10gのステアリン酸ブチルを撹拌しながら添加し、溶解した。最後に、MEKに5%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散した単分散度15%単分散シリカ(平均粒子サイズ10.0μm、シリカ全量の1%のアルミニウムで表面処理したもの)を280g添加、撹拌し感光性層保護層上層塗布液を調製した。
<Preparation of photosensitive layer protective layer upper layer (surface protective layer upper layer)>
To 500 g of acetone, 2,100 g of MEK, and 700 g of methanol, 230 g of cellulose acetate butyrate (CAB-171-15S: the above) was added, and the mixture was stirred and dissolved with a dissolver. Next, 25 g of phthalazine, 3.5 g of VS-2 (antifoggant), 1 g of FN-2 (fluorine nonionic activator), 0.5 g of SF-17 (exemplary fluorine surfactant), 1 0.0 g of fluorine-based polymer (FM-1: supra), 10 g of stearic acid and 10 g of butyl stearate were added with stirring and dissolved. Finally, 280 g of 15% monodispersed silica (average particle size 10.0 μm, surface-treated with 1% aluminum of the total amount of silica) dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 5%, A photosensitive layer protective layer upper layer coating solution was prepared by stirring.

VS−2:CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2
FN−2:C1225(CH2CH2O)101225
〈光熱写真材料試料の作製〉
前記のように調製したバックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚が、それぞれ3.5μmになるように、下引上層B−2上に押出しコーター(エクストルージョン)を用い塗布速度50m/minにて塗布を行った。尚、乾燥は乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間行った。
VS-2: CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2
FN-2: C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25
<Preparation of photothermographic material sample>
Extrude coater (extrusion) by extruding backcoat layer coating solution and backcoat layer protective layer coating solution prepared as described above onto subbing upper layer B-2 so that the dry film thickness is 3.5 μm, respectively. Application was performed at an application speed of 50 m / min. The drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

前記感光性層塗布液と感光性層保護層(表面保護層)塗布液を押出しコーターを用い塗布速度50m/minにて、下引上層A−2上に同時重層塗布することにより表2に示す光熱写真材料試料101〜118を作製した。塗布は、感光性層の乾燥膜厚15.0μm、感光性層保護層(表面保護層)の乾燥膜厚3.0μm(表面保護層上層1.5μm、表面保護層下層1.5μm)になる様に行った後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて10分間乾燥した。   The photosensitive layer coating solution and the photosensitive layer protective layer (surface protective layer) coating solution are extruded and coated at the coating speed of 50 m / min at the coating speed of 50 m / min. Photothermographic material samples 101 to 118 were prepared. Application is a dry film thickness of 15.0 μm of the photosensitive layer, and a dry film thickness of 3.0 μm of the protective layer (surface protective layer) (surface protective layer upper layer 1.5 μm, surface protective layer lower layer 1.5 μm). Then, the film was dried for 10 minutes using a drying air having a drying temperature of 75 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

試料101〜118ついて表面粗さを測定したところ、Rz(E)/Rz(B)=0.40、Rz(E)=1.4μmであった。又、Rz(B)は3.5μmであった。Ra(E)は0.09μm、Ra(B)は0.12μmであった。   When the surface roughness of the samples 101 to 118 was measured, Rz (E) / Rz (B) = 0.40 and Rz (E) = 1.4 μm. Rz (B) was 3.5 μm. Ra (E) was 0.09 μm, and Ra (B) was 0.12 μm.

試料101〜118には、黄色発色性ロイコ染料による極大吸収波長420nmの吸収ピークが認められた。又、試料101〜110、113〜118にはシアン発色性ロイコ染料による極大吸収波長640nmの吸収ピークが認められた。又、試料111〜112にはシアン発色性ロイコ染料による極大吸収波長620nmの吸収ピークが認められた。   In samples 101 to 118, an absorption peak at a maximum absorption wavelength of 420 nm due to the yellow coloring leuco dye was observed. Further, Samples 101 to 110 and 113 to 118 showed an absorption peak at a maximum absorption wavelength of 640 nm due to the cyan color-forming leuco dye. Further, Samples 111 to 112 showed an absorption peak at a maximum absorption wavelength of 620 nm due to the cyan color-forming leuco dye.

尚、試料113は、試料105における粉末有機銀塩Aの調製において、ベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gの代わりにベヘン酸259.9gを用いたこと以外は試料105と同様にして試料を作製した。   Sample 113 was prepared by preparing 259.9 g of behenic acid instead of 130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid in the preparation of powdered organic silver salt A in sample 105. A sample was prepared in the same manner as Sample 105 except that it was used.

試料114は、試料105における粉末有機銀塩Aの調製において、1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlの代わりに1.5モル/Lの水酸化カリウム水溶液540.2mlを用いた以外は試料105と同様にして試料を作製した。   In Sample 114, 540.2 ml of 1.5 mol / L potassium hydroxide aqueous solution was used instead of 540.2 ml of 1.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution in the preparation of powdered organic silver salt A in Sample 105. A sample was prepared in the same manner as the sample 105 except for the above.

試料115は、試料105におけるバックコート層保護層、感光性層保護層(上層及び下層)の弗素系活性剤をSF−17からC817SO3Liに変更した以外は試料105と同様にして試料を作製した。 Sample 115 is the same as Sample 105 except that the fluorine-based activator for the backcoat layer protective layer and the photosensitive layer protective layer (upper layer and lower layer) in Sample 105 is changed from SF-17 to C 8 F 17 SO 3 Li. A sample was prepared.

試料116は、試料105での予備分散液Aの調製における感光性層バインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃,SO3Kを0.2ミリモル/g含む)に代えて、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg65℃、SO3Kを0.2ミリモル/g含む)を用いた以外は試料105と同様にして試料を作製した。 Sample 116, as the photosensitive layer binder in the preparation of preliminary dispersion A in the sample 105, SO 3 K group-containing polyvinyl butyral in place (Tg of 75 ° C., the SO 3 K 0.2 containing mmol / g) in, SO 3 A sample was prepared in the same manner as Sample 105 except that K group-containing polyvinyl butyral (Tg 65 ° C., containing SO 3 K 0.2 mmol / g) was used.

〈試料の評価〉
評価は図1に示したレーザイメージャ(設置面積0.35m2)にて露光と同時に熱現像し、得られた画像の評価を濃度計により行った。ここで、「露光と同時に熱現像する」とは、光熱写真材料から成る一枚のシート感光材料で、一部が露光されながら、同時に既に露光が為されたシートの一部分で現像が開始されることを意味する。露光部と現像部との距離は12cmであった。この時の感光材料供給装置部から画像露光装置部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度は、それぞれ30mm/秒で行った。又、最下部に位置する感光材料ストックトレーの底面の位置は床面から45cmの高さであった。
<Evaluation of sample>
Evaluation was carried out simultaneously with exposure with the laser imager (installation area 0.35 m 2 ) shown in FIG. 1, and the obtained image was evaluated with a densitometer. Here, “thermal development at the same time as exposure” means a sheet of photosensitive material made of photothermographic material, and development is started on a part of the sheet that has already been exposed while part of the photosensitive material is exposed. Means that. The distance between the exposed part and the developing part was 12 cm. At this time, the conveyance speed from the photosensitive material supply unit to the image exposure unit, the conveyance rate at the image exposure unit, and the conveyance rate at the heat development unit were each 30 mm / second. Further, the position of the bottom surface of the photosensitive material stock tray located at the bottom was 45 cm from the floor surface.

上記のように作製した光熱写真材料を図1に示すレーザイメージャのフィルム収容部4にセットし、フィルムガイド10(搬送ローラ2が出口7までセットされているが一部のみ図示した)により搬送される。搬送された写真材料は露光部6で感光面側から、最大50mW出力、YAGレーザの第4高調波(Nd:YVO4 発光波長266nm)の縦マルチモード化されたレーザを露光源とした露光機により、レーザ走査による露光を与えた。この際に、写真材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度として画像を形成した。この方法は、当該角度を90度とした場合に比べ、ムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な画像が得られた。   The photothermographic material produced as described above is set in the film accommodating portion 4 of the laser imager shown in FIG. 1, and is conveyed by the film guide 10 (the conveying roller 2 is set up to the outlet 7 but only a part is shown). The The conveyed photographic material is exposed at the exposure unit 6 from the photosensitive surface side by an exposure machine using an exposure source with a maximum multimode laser of the fourth harmonic of the YAG laser (Nd: YVO4 emission wavelength 266 nm) from the photosensitive surface side. Exposure by laser scanning was given. At this time, an image was formed with the angle of the exposure surface of the photographic material and the exposure laser beam being 75 degrees. In this method, an image with less unevenness and unexpectedly good sharpness or the like was obtained compared to the case where the angle was 90 degrees.

その後、写真材料の非感光面と現像部3の表面が接触するようにして、123℃で10秒熱現像処理した(連続処理の場合は熱現像のインターバル時間は4秒)。熱現像処理された光熱写真ドライイメージング材料は冷却部5で非感光面側が冷却用部材により冷却されるが、図1(a)はローラ形状であり、図1(b)は板状のものを示す。尚、レーザイメージャの操作は23℃・50%RHに調湿した部屋で行った。   Thereafter, heat development was performed at 123 ° C. for 10 seconds so that the non-photosensitive surface of the photographic material was in contact with the surface of the developing unit 3 (in the case of continuous processing, the interval time of heat development was 4 seconds). The photothermographic dry imaging material subjected to heat development is cooled by the cooling unit 5 on the non-photosensitive surface side by a cooling member. FIG. 1A is a roller shape, and FIG. Show. The laser imager was operated in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.

露光は、最高出力から1段ごとに露光エネルギー量をlogE0.05ずつ減じながら階段状に行った。   The exposure was performed in a stepped manner while reducing the exposure energy amount by log E0.05 step by step from the maximum output.

〈包装材料〉
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3%を含むポリエチレン50μm、酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day,水分透過率:0.001g/m2・40℃・90%RH・dayのバリア袋(JIS Z0208 カップ法による)。紙トレーを使用。
<Packaging materials>
PET 10 μm / PE 12 μm / Aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% carbon, oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m 2 · 25 ° C · day, moisture permeability: 0.001 g / m 2 · 40 ° C 90% RH · day barrier bag (according to JIS Z0208 cup method). Use paper tray.

〈性能評価〉
熱現像された各画像について下記性能を評価した。
<Performance evaluation>
The following performance was evaluated for each heat-developed image.

《画像濃度》
上記の条件にて得られた画像の最高濃度部の値を濃度計により測定し画像濃度として示した。
<Image density>
The value of the highest density portion of the image obtained under the above conditions was measured with a densitometer and indicated as the image density.

《カブリ》
上記の条件にて得られた画像の未露光部の値を濃度計により測定し、カブリ濃度として示した。
《Fog》
The value of the unexposed portion of the image obtained under the above conditions was measured with a densitometer and indicated as fog density.

《感度》
上記の条件にて得られた画像を濃度計を用いて濃度測定を行い、横軸−露光量、縦軸−濃度から成る特性曲線を作成した。特性曲線において、感度は未露光部分よりも1.0高い濃度を与える露光量の逆数を感度と定義し、感度を測定した。尚、感度は、試料101を100とする相対値で表した。
"sensitivity"
The image obtained under the above conditions was subjected to density measurement using a densitometer, and a characteristic curve comprising a horizontal axis—exposure amount and a vertical axis—density was created. In the characteristic curve, the sensitivity was defined by defining the reciprocal of the exposure amount giving a density 1.0 higher than that of the unexposed portion as sensitivity. The sensitivity is expressed as a relative value with the sample 101 as 100.

注:相対感度欄の括弧内の数値は、写真材料に白色光露光する前に熱現像温度123℃で10秒間写真材料を熱処理し、その後に光学楔を通して白色光露光(4874K,30秒)して123℃で10秒間熱現像した場合の感度と、露光前に熱処理せずに前記と同じ条件下で白色光露光して123℃で10秒間熱現像した場合の感度との比較において、後者の感度を100とした時の前者の感度相対値を示した。   Note: Figures in parentheses in the Relative Sensitivity column indicate that the photographic material was heat treated for 10 seconds at a heat development temperature of 123 ° C. before being exposed to white light, and then exposed to white light through an optical wedge (4874K, 30 seconds). In comparison between the sensitivity when thermally developed at 123 ° C. for 10 seconds and the sensitivity when thermally developed at 123 ° C. for 10 seconds after exposure to white light under the same conditions as described above without heat treatment before exposure, the latter The sensitivity relative value of the former when the sensitivity is 100 is shown.

尚、この相対比較において、写真材料に白色光露光する前に熱現像温度で写真材料を熱処理した試料の相対感度の減少の主因は、分光増感効果の消失ないし減少によりハロゲン化銀粒子の表面感度と内部感度の相対的関係が変化したことによるものであることが分光感度スペクトルの変化等の観察/測定により確認された。   In this relative comparison, the main cause of the decrease in the relative sensitivity of the sample obtained by heat-treating the photographic material at the heat development temperature before the photographic material is exposed to white light is that the surface of the silver halide grains is caused by the disappearance or reduction of the spectral sensitizing effect It was confirmed by observation / measurement of a change in the spectral sensitivity spectrum, etc. that it was due to a change in the relative relationship between the sensitivity and the internal sensitivity.

《高濃度部での銀色調》
各試料に胸部X線画像を焼き付け、処理時間を適宜調整することで、最高濃度が4.0以上となるように熱現像処理を行った。処理後の高濃度部(濃度2.5のところ)での銀色調をシャーカステンを使って目視で評価した。この時の標準サンプルとしてコニカ社製の湿式処理のレーザイメージャ用フィルムを用い、標準サンプルとの相対的な色調を目視で、以下の基準で0.5刻みの評価をした。
《Silver tone in high density area》
A chest X-ray image was printed on each sample, and the heat development processing was performed so that the maximum density was 4.0 or more by appropriately adjusting the processing time. The silver color tone in the high density part after treatment (at a density of 2.5) was visually evaluated using a Schaukasten. A wet processed laser imager film manufactured by Konica was used as a standard sample at this time, and the relative color tone with respect to the standard sample was evaluated visually by 0.5 increments according to the following criteria.

5:標準サンプルと同じ色調
4:標準サンプルとほぼ同じ好ましい色調
3:標準サンプルとやや色調は異なるが実技上問題ないレベル
2:標準サンプルと明らかに異なる色調
1:標準サンプルと異なる不快な色調
《光照射画像保存性》
各試料を上記と同様の露光、現像を行った後、輝度1,000ルックスのシャーカステン上に貼り付け10日間放置した後の画像の変化を、目視で以下の基準で0.5刻みの評価をした。
5: The same color tone as the standard sample 4: Almost the same preferred color tone as the standard sample 3: Level slightly different from the standard sample, but practically no problem 2: Color tone clearly different from the standard sample 1: Unpleasant color tone different from the standard sample << Light Irradiation Image Preservability >>
After each sample was exposed and developed in the same manner as described above, the change in the image after standing on a Schaukasten with a luminance of 1,000 lux and allowed to stand for 10 days was visually evaluated in 0.5 increments according to the following criteria. did.

5:殆ど変化なし
4:僅かに色調変化が見られる
3:一部に色調変化とカブリの増大が見られる
2:色調変化とカブリの増大がかなりの部分に見られる
5: Almost no change 4: Slight color change observed 3: Color change and fog increase partially observed 2: Color change and fog increase observed in a considerable part

Figure 2006267209
Figure 2006267209

表1から、本発明の試料は、比較の試料と比べて、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、光照射画像保存性、銀色調に優れていることが明らかである。又、試料116と105の比較により、高温保存時のカブリ上昇については試料105の方が優れた特性を有することが判った。   From Table 1, it is clear that the sample of the present invention has high sensitivity, low fog, high maximum density, and excellent light irradiation image storage stability and silver tone as compared with the comparative sample. Further, by comparing Samples 116 and 105, it has been found that Sample 105 has better characteristics with respect to fog rise during high-temperature storage.

本発明に係る銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像して画像を形成するためのレーザイメージャ(熱現像記録装置)の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a laser imager (thermal development recording apparatus) for thermally developing a silver salt photothermographic dry imaging material according to the present invention to form an image.

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルム
2 搬送ローラ
3 現像部
4 フィルム収容部
5 冷却部
6 露光部
7 出口
10 フィルムガイド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film 2 Conveyance roller 3 Developing part 4 Film accommodating part 5 Cooling part 6 Exposure part 7 Exit 10 Film guide

Claims (3)

支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層に紫外線吸収剤を含有し、かつ前記感光性ハロゲン化銀粒子が沃化銀を5〜100モル%の割合で含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent and a binder on a support, the photosensitive layer contains an ultraviolet absorber, and A silver salt photothermographic dry imaging material, wherein the photosensitive silver halide grains contain 5 to 100 mol% of silver iodide. 支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層に紫外線吸収剤を含有し、かつ前記感光性ハロゲン化銀粒子が沃化銀を5〜100モル%の割合で含有し、更に該銀塩光熱写真ドライイメージング材料が波長200nm〜350nmにピーク強度を持つレーザ光で露光されることを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent and a binder on a support, the photosensitive layer contains an ultraviolet absorber, and The photosensitive silver halide grains contain silver iodide in a proportion of 5 to 100 mol%, and the silver salt photothermographic dry imaging material is exposed with a laser beam having a peak intensity at a wavelength of 200 nm to 350 nm. Silver salt photothermographic dry imaging material. 請求項1記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を波長200〜350nmにピーク強度を持つレーザ光で露光することを特徴とする画像形成方法。 An image forming method comprising exposing the silver salt photothermographic dry imaging material according to claim 1 with a laser beam having a peak intensity at a wavelength of 200 to 350 nm.
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