JP2007010378A - Surface acoustic wave element, its manufacturing method, surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system - Google Patents

Surface acoustic wave element, its manufacturing method, surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system Download PDF

Info

Publication number
JP2007010378A
JP2007010378A JP2005188990A JP2005188990A JP2007010378A JP 2007010378 A JP2007010378 A JP 2007010378A JP 2005188990 A JP2005188990 A JP 2005188990A JP 2005188990 A JP2005188990 A JP 2005188990A JP 2007010378 A JP2007010378 A JP 2007010378A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acoustic wave
surface acoustic
idt
saw
wave device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005188990A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Yamazaki
隆 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2005188990A priority Critical patent/JP2007010378A/en
Publication of JP2007010378A publication Critical patent/JP2007010378A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To use a structure of a diamond SAW element, which keeps a diamond layer, a piezoelectric body layer and a reed screen transducer (IDT) overlying the surface of a substrate, in the transducer of an SAW sensor as it is to enhance the frequency thereof. <P>SOLUTION: The SAW element 1 is formed by making the diamond layer 3, the piezoelectric body layer 4 of ZnO and an insulating protective film 12 of input and output IDTs 6 and 8, which comprise cross digital electrodes, and SiO<SB>2</SB>overlie the surface of an Si substrate 2. The piezoelectric body layer and insulating protective film between both IDTs are partially removed to form a response part 11 wherein the surface of the diamond layer is exposed. A receptor for recognizing a physiological or chemical substance being a measuring target is fixed to the surface of the response part to obtain the SAW sensor. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば目的の生体物質や化学物質を検出しかつ/又はその物性を測定するセンサにおいて、その際に発生する化学的又は物理的変化を電気的信号に変換するトランスデューサとして利用するのに適した弾性表面波素子及びその製造方法に関する。更に本発明は、この弾性表面波素子を用いた弾性表面波センサ及びセンサシステムに関する。   The present invention is, for example, a sensor that detects a target biological substance or chemical substance and / or measures a physical property thereof, and is used as a transducer that converts a chemical or physical change generated at that time into an electrical signal. The present invention relates to a suitable surface acoustic wave device and a method for manufacturing the same. Furthermore, the present invention relates to a surface acoustic wave sensor and sensor system using the surface acoustic wave element.

最近、特にバイオテクノロジや医療などの技術分野において、測定対象の生体物質又は化学物質を認識する受容体の化学的又は物理的変化を検出するために、水晶振動子などの圧電素子をトランスデューサとして利用した圧電センサが開発されている(例えば、非特許文献1、特許文献1及び2を参照)。トランスデューサには、水晶振動子以外の圧電素子として、圧電基板表面に形成した交差指電極からなるIDT(すだれ状トランスデューサ)により励振する弾性表面波(SAW:surface acoustic wave)を利用したSAW素子を用いることができる(例えば、特許文献3乃至6を参照)。   Recently, especially in technical fields such as biotechnology and medicine, piezoelectric elements such as quartz resonators have been used as transducers to detect chemical or physical changes in receptors that recognize biological substances or chemical substances to be measured. A piezoelectric sensor has been developed (see, for example, Non-Patent Document 1, Patent Documents 1 and 2). As the transducer, a SAW element using a surface acoustic wave (SAW) excited by an IDT (interdigital transducer) composed of interdigitated electrodes formed on the surface of the piezoelectric substrate is used as a piezoelectric element other than the crystal resonator. (For example, see Patent Documents 3 to 6).

また、DNAなどの生体物質を解析するバイオセンサは、基体にダイヤモンドやダイヤモンドライクカーボン(DLC)などの炭素系物質からなる表面処理層を形成して化学修飾すると、測定対象に反応するオリゴヌクレオチドや生理活性物質を安定して強力に固定できることが知られている(例えば、特許文献2及び7を参照)。通常このようなバイオセンサは、水晶振動子の水晶板の表面に形成した金電極の上にDLC膜などからなる表面処理層を形成し、これを化学修飾して活性化させ、オリゴヌクレオチドなどを固定して作成する。   In addition, biosensors that analyze biological materials such as DNA have oligonucleotides that react with the measurement target when a surface treatment layer made of a carbon-based material such as diamond or diamond-like carbon (DLC) is formed on the substrate and chemically modified. It is known that a physiologically active substance can be stably and strongly fixed (see, for example, Patent Documents 2 and 7). Usually, such a biosensor forms a surface treatment layer made of a DLC film or the like on a gold electrode formed on the surface of a crystal plate of a crystal resonator, and chemically activates this to activate an oligonucleotide or the like. Create fixed.

他方、最近は、ダイヤモンド薄膜及び圧電体膜を積層した基板にIDTを形成することにより、SAWの伝搬速度を高速化して高周波化を可能にした所謂ダイヤモンドSAW素子が開発されている(例えば、非特許文献2及び3、特許文献8を参照)。更にこのSAW素子は、その最上層にSiO膜を積層することにより、水晶基板を用いた従来のSAW素子より更に優れた温度特性を得ることができる(例えば、非特許文献3を参照)。 On the other hand, recently, a so-called diamond SAW element has been developed in which an IDT is formed on a substrate on which a diamond thin film and a piezoelectric film are laminated, thereby increasing the SAW propagation speed and enabling higher frequencies (for example, non-diamond SAW elements). (See Patent Documents 2 and 3 and Patent Document 8). Furthermore, this SAW element can obtain a temperature characteristic more excellent than that of a conventional SAW element using a quartz substrate by laminating a SiO 2 film on the uppermost layer (see, for example, Non-Patent Document 3).

工業所有権総合情報館編,「特許流通支援チャート・化学2・バイオセンサ」,社団法人発明協会,2002年6月29日,p.3〜5及び16〜18Industrial Property General Information Center, “Patent Distribution Support Chart / Chemical 2 / Biosensor”, Invention Association of Japan, June 29, 2002, p. 3-5 and 16-18 鹿田真一、外8名,「ダイヤモンドSAWデバイス(1)」,NEW DIAMOND,オーム社,平成11年4月,第53号Vol.15No.2、p.1−6Shinichi Shikata, 8 others, “Diamond SAW Device (1)”, NEW DIAMOND, Ohmsha, April 1999, Vol. 53, Vol. 15No. 2, p. 1-6 鹿田真一、外8名、「ダイヤモンドSAWデバイス(2)」、NEW DIAMOND、オーム社、平成11年7月、第54号Vol.15No.3、p.9−16Shinichi Shikata, 8 others, “Diamond SAW Device (2)”, NEW DIAMOND, Ohmsha, July 1999, Vol. 54 Vol. 15No. 3, p. 9-16 特開2000−65708号公報JP 2000-65708 A 特開2003−172737号公報JP 2003-172737 A 特開平6−133759号公報JP-A-6-133759 特開平8−68781号公報JP-A-8-68781 特開2002−48797号公報JP 2002-48797 A 特開平9−80035号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-80035 特開2001−204463号公報JP 2001-204463 A 特開平7−273591号公報JP-A-7-27391

上述したように圧電素子を利用したセンサは、測定対象・条件や用途などによって圧電素子の高周波化が好ましい場合が期待される。その場合、センサのトランスデューサとしてダイヤモンドSAW素子を用いることができれば好都合であるが、本願発明者が知る限り、そのようなSAWセンサが実際に使用されている例は見当たらない。   As described above, a sensor using a piezoelectric element is expected to have a high-frequency piezoelectric element depending on the measurement object, conditions, application, and the like. In that case, it would be advantageous if a diamond SAW element could be used as the transducer of the sensor, but as far as the inventors of the present application know, there are no examples in which such a SAW sensor is actually used.

従来の圧電センサは、目的の生体物質や化学物質を固定するためのセルや吸着体などの受容体をSAW素子の表面に形成している。ダイヤモンドSAW素子をトランスデューサに用いた場合、同様に、受容体として測定対象に反応するオリゴヌクレオチドや生理活性物質を固定するために、SAW素子の表面に非常に硬質のダイヤモンド又はDLC膜などを形成すると、SAWの伝搬速度が変化してSAW素子の特性を劣化させる虞がある。   In the conventional piezoelectric sensor, a receptor such as a cell or an adsorbent for fixing a target biological substance or chemical substance is formed on the surface of the SAW element. Similarly, when a diamond SAW element is used as a transducer, an extremely hard diamond or DLC film is formed on the surface of the SAW element in order to immobilize an oligonucleotide or a physiologically active substance that reacts with a measurement target as a receptor. There is a risk that the propagation speed of the SAW changes and the characteristics of the SAW element are deteriorated.

また、DLC膜は、一般に公知の蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法、ECRCVD法、誘導結合プラズマ法などを用いて成膜する。これらの成膜方法は高温の環境下で行われる場合が多い。そのため、SAW素子は、IDTを形成するAl電極がDLC膜の形成時に高温による損傷を受けるという問題が生じる。   The DLC film is generally formed by using a known vapor deposition method, sputtering method, ion plating method, plasma CVD method, ECRCVD method, inductively coupled plasma method, or the like. These film forming methods are often performed in a high temperature environment. Therefore, the SAW element has a problem that the Al electrode forming the IDT is damaged by high temperature when the DLC film is formed.

そこで本発明は、上述した従来の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板の表面にダイヤモンド層と圧電体層とIDTとを積層したダイヤモンドSAW素子であって、そのダイヤモンド層をそのまま用いて、測定対象の生体物質や化学物質を認識する受容体を固定することができ、SAWセンサのトランスデューサとして利用し得る新規なSAW素子及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is a diamond SAW element in which a diamond layer, a piezoelectric layer, and an IDT are laminated on the surface of a substrate, and the diamond layer It is intended to provide a novel SAW element that can fix a receptor for recognizing a biological substance or chemical substance to be measured and can be used as a transducer of a SAW sensor and a method for manufacturing the same.

更に本発明の目的は、かかるSAW素子をトランスデューサに用いることにより、高周波のSAW素子に適した測定条件・用途に使用可能なSAWセンサ及びSAWセンサシステムを提供することにある。   A further object of the present invention is to provide a SAW sensor and a SAW sensor system that can be used for measurement conditions and applications suitable for high-frequency SAW elements by using such SAW elements as transducers.

本発明によれば、上記目的を達成するために、ダイヤモンド層及び圧電体層を積層した基板と、該基板に形成された少なくとも1組の交差指電極からなるIDTと、該IDTにより励振されるSAWの伝搬方向に沿ってIDTを挟むようにそれらの両側に配置される1対の反射器と、SAWの伝搬方向に沿ってダイヤモンド層の表面を露出させた感応部とを備えるSAW素子が提供される。   According to the present invention, in order to achieve the above object, a substrate on which a diamond layer and a piezoelectric layer are laminated, an IDT composed of at least one pair of crossed finger electrodes formed on the substrate, and excited by the IDT Provided is a SAW element comprising a pair of reflectors arranged on both sides of an IDT so as to sandwich the IDT along the SAW propagation direction, and a sensitive part exposing the surface of the diamond layer along the SAW propagation direction Is done.

このような従来構造のダイヤモンドSAW素子をそのまま利用し、露出させたダイヤモンド層を感応部として、その表面に測定対象を認識するための受容体を設けることができる。この場合、SAWの伝搬速度を変化させる虞がある別個のダイヤモンド層をSAW素子の表面に形成する必要が無いので、SAW素子の特性が悪影響を受けたり、IDTのAl電極を損傷する虞が解消される。そのため、このSAW素子をトラスデューサとすることにより、高品質かつ高性能のSAWセンサを実現できる。   By using the diamond SAW element having such a conventional structure as it is, an exposed diamond layer can be used as a sensitive part, and a receptor for recognizing a measurement object can be provided on the surface thereof. In this case, there is no need to form a separate diamond layer on the surface of the SAW element that may change the SAW propagation speed, eliminating the possibility of adversely affecting the characteristics of the SAW element or damaging the IDT Al electrode. Is done. Therefore, a high-quality and high-performance SAW sensor can be realized by using this SAW element as a transducer.

或る実施例では、SAW素子のIDTが励振用IDTと受信用IDTとからなり、感応部が励振用IDTと受信用IDTとの間に配置されている。このような2ポート共振子型のSAW素子は、発振回路の構成を簡単にできるので、高周波での励振に好適である。   In one embodiment, the IDT of the SAW element is composed of an excitation IDT and a reception IDT, and a sensitive unit is disposed between the excitation IDT and the reception IDT. Such a 2-port resonator type SAW element is suitable for excitation at a high frequency because the configuration of the oscillation circuit can be simplified.

別の実施例では、SAW素子のIDTが1組の交差指電極を有する1つのIDTからなる1ポート共振子型であり、2ポート共振子型に比して1個のIDTを省略できるので、小型化及び製造コストの低減を図ることができる。この場合、感応部は交差指電極の電極指と電極指との間に配置することができ、またはIDTと一方の反射器との間に配置することができる。   In another embodiment, the IDT of the SAW element is a one-port resonator type consisting of one IDT having a pair of cross finger electrodes, and one IDT can be omitted as compared with the two-port resonator type. It is possible to reduce the size and the manufacturing cost. In this case, the sensitive part can be disposed between the electrode fingers of the interdigitated electrodes, or can be disposed between the IDT and one reflector.

また、或る実施例では、IDT全体を被覆するように、例えばSiO で形成された絶縁保護膜を更に有する。これにより、交差指電極間の短絡を確実に防止すると共に、特にSAWセンサのトランスデューサとして使用したとき、その使用環境や条件によらず、交差指電極の損傷や腐食を防止することができる。更にSiO の絶縁保護膜は、その下層側に形成される圧電体層及びダイヤモンド層の温度係数を打ち消し、優れた温度特性を得ることができる。 In some embodiments, an insulation protective film made of, for example, SiO 2 is further provided so as to cover the entire IDT. As a result, a short circuit between the crossed finger electrodes can be surely prevented, and damage and corrosion of the crossed finger electrodes can be prevented regardless of the use environment and conditions, particularly when used as a transducer of the SAW sensor. Furthermore, the insulating protective film of SiO 2 can cancel out the temperature coefficient of the piezoelectric layer and the diamond layer formed on the lower layer side, and can obtain excellent temperature characteristics.

別の実施例では、交差指電極の表面に形成された絶縁膜を更に有し、それにより同様に交差指電極間の短絡を確実に防止すると共に、使用時にその環境や条件によらず、交差指電極の損傷や腐食を防止することができる。この場合、交差指電極は、例えばAl又はAlを主成分とする合金により安価に形成され、かつそれを酸化させることにより、絶縁膜をAlで簡単に形成することができる。 In another embodiment, it further includes an insulating film formed on the surface of the cross finger electrode, thereby similarly preventing the short circuit between the cross finger electrodes, and at the time of use regardless of the environment and conditions. Damage and corrosion of the finger electrode can be prevented. In this case, the interdigitated electrode is formed inexpensively, for example, with Al or an alloy containing Al as a main component, and the insulating film can be easily formed with Al 2 O 3 by oxidizing it.

本発明の別の側面によれば、基板の表面にダイヤモンド層と圧電体層と少なくとも1組の交差指電極からなるIDTとを積層してSAW素子を形成する過程と、フォトリソグラフィ技術を用いてSAW素子の表面をエッチングし、ダイヤモンド層の表面を露出させて感応部を形成する過程とを有するSAW素子の製造方法が提供される。   According to another aspect of the present invention, a SAW element is formed by laminating a diamond layer, a piezoelectric layer, and an IDT composed of at least one pair of cross finger electrodes on the surface of a substrate, and using a photolithography technique. There is provided a method of manufacturing a SAW element, which includes a process of etching a surface of the SAW element and exposing a surface of the diamond layer to form a sensitive portion.

ダイヤモンド層の表面は、その上に圧電体層が形成されている場合、従来公知のドライエッチング又はウエットエッチングを用いて露出させることができる。従って、従来のダイヤモンドSAW素子の製造工程をそのまま利用し、かつこれに感応部を形成する過程を追加するだけで、SAWセンサに適した本発明のSAW素子を簡単に製造することができる。   When the piezoelectric layer is formed on the surface of the diamond layer, it can be exposed using conventionally known dry etching or wet etching. Therefore, the SAW element of the present invention suitable for the SAW sensor can be easily manufactured by using the manufacturing process of the conventional diamond SAW element as it is and adding the process of forming the sensitive part to the process.

或る実施例では、SAW素子を形成する過程において、SAW素子のIDT全体を被覆する絶縁保護膜を更に積層することにより、交差指電極間の短絡を確実に防止し、かつ使用時にその環境や条件によらず、交差指電極の損傷や腐食を防止し得るSAW素子を得ることができる。   In one embodiment, in the process of forming the SAW element, an insulating protective film that covers the entire IDT of the SAW element is further laminated to reliably prevent a short circuit between the crossed finger electrodes and Regardless of the conditions, a SAW element capable of preventing damage and corrosion of the interdigital electrodes can be obtained.

別の実施例では、SAW素子を形成する過程において、交差指電極の表面を被覆する絶縁膜を更に形成することにより、同様に交差指電極間の短絡を確実に防止しかつ使用時に交差指電極の損傷や腐食を防止し得るSAW素子が得られる。   In another embodiment, in the process of forming the SAW element, by further forming an insulating film covering the surface of the cross finger electrode, similarly, the short circuit between the cross finger electrodes can be surely prevented and the cross finger electrodes can be used in use. A SAW element capable of preventing damage and corrosion of the substrate is obtained.

また、本発明の別の側面によれば、上述したように高周波化に適した本発明のSAW素子と、該SAW素子の感応部に固定されて目的の物質を認識するための受容体とを備えるSAWセンサが提供される。   According to another aspect of the present invention, as described above, the SAW element of the present invention suitable for high frequency and a receptor for recognizing a target substance fixed to the sensitive part of the SAW element. A SAW sensor is provided.

更にまた、本発明によれば、かかる本発明のSAWセンサを複数有し、かつこれらのSAWセンサを単一の共通の基板に設けたマルチチャネル型のSAWセンサシステムが提供される。   Furthermore, according to the present invention, there is provided a multi-channel SAW sensor system having a plurality of such SAW sensors of the present invention and providing these SAW sensors on a single common substrate.

以下に、添付図面を参照しつつ、本発明の好適な実施例について詳細に説明する。
図1(A)、(B)は、本発明を適用した2ポート共振子型フィルタ構造のSAW素子1を示している。SAW素子1は、例えばシリコンからなる矩形薄板の基板2を有する。基板2の主面には、ダイヤモンド層3が形成され、かつその上に例えばZnOからなる圧電体層4が積層されている。このダイヤモンド積層構造の基板を用いることにより、SAW素子1は、水晶等の圧電基板の場合に比してSAW伝搬速度を高速度化でき、それにより高周波化を図ることができる。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
1A and 1B show a SAW element 1 having a two-port resonator type filter structure to which the present invention is applied. The SAW element 1 has a rectangular thin plate substrate 2 made of, for example, silicon. A diamond layer 3 is formed on the main surface of the substrate 2, and a piezoelectric layer 4 made of, for example, ZnO is laminated thereon. By using this diamond laminated substrate, the SAW element 1 can increase the SAW propagation speed as compared with the case of a piezoelectric substrate such as quartz crystal, thereby achieving a higher frequency.

基板2は、シリコン以外の半導体材料や、パイレックスガラス等のガラス材料、セラミックス材料、ポリイミド又はポリカーボネイト等の樹脂材料を用いることもできる。ダイヤモンド層3は、例えばダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜等のように、従来公知の方法により合成される多結晶ダイヤモンド又は単結晶ダイヤモンドの薄膜で形成することができる。圧電体層4は、ZnO以外に、例えばAlN(窒化アルミニウム)、LiTaO、LiNbO、KNb17(ニオブ酸カリウム)等の様々な公知の圧電材料で形成することができる。 The substrate 2 may be made of a semiconductor material other than silicon, a glass material such as Pyrex glass, a ceramic material, or a resin material such as polyimide or polycarbonate. The diamond layer 3 can be formed of a thin film of polycrystalline diamond or single crystal diamond synthesized by a conventionally known method such as a diamond-like carbon (DLC) film. The piezoelectric layer 4 can be formed of various known piezoelectric materials such as AlN (aluminum nitride), LiTaO 3 , LiNbO 3 , and K 4 Nb 6 O 17 (potassium niobate) in addition to ZnO.

基板2には、その長手方向の左右に1対の交差指電極5a、5bからなる入力用(送信用)のIDT6と、同じく1対の交差指電極7a、7bからなる出力用(受信用)のIDT8とが、圧電体層4上に形成されている。両IDT6,8の左右両側には、それぞれ配置された1対の反射器9,10が配置されている。また、入力用及び出力用の前記各交差指電極は、それぞれ図示しない入力用及び出力用の接続ランドを介して外部の発振回路に接続されている。   The substrate 2 has an input IDT 6 composed of a pair of crossed finger electrodes 5a and 5b on the left and right in the longitudinal direction and an output composed of a pair of crossed finger electrodes 7a and 7b (received). IDT 8 is formed on the piezoelectric layer 4. A pair of reflectors 9 and 10 are arranged on the left and right sides of both IDTs 6 and 8, respectively. Further, the input and output crossing finger electrodes are connected to an external oscillation circuit via input and output connection lands (not shown), respectively.

前記交差指電極及び反射器は、加工性及びコストの観点からAl又はAlを主成分とする合金からなる電極膜で形成され、従来と同様に、例えばフォトリソグラフィ技術を利用したウエットエッチングにより所望のパターンに加工される。別の実施例では、前記電極膜にAl/Cu膜を用いることもできる。   The crossed finger electrode and the reflector are formed of an electrode film made of Al or an alloy containing Al as a main component from the viewpoint of workability and cost, and, as in the past, for example, a desired etching process is performed by wet etching using a photolithography technique. Processed into a pattern. In another embodiment, an Al / Cu film can be used as the electrode film.

圧電体層4には、SAWの伝搬方向に沿って両IDT6,8間に矩形の窓を開設して、ダイヤモンド層3の表面を露出させた感応部11が設けられている。感応部11には、SAW素子1をSAWセンサのトランスデューサとして使用する場合に、測定対象を認識するための受容体をその上に配置することができる。前記受容体は、測定対象となる生体物質又は化学物質の性状・特質などに対応して、例えばDNA、酵素、微生物、抗体、ガス吸着体など従来公知の様々なものを用いることができ、それらを固定した膜、セルなど従来公知の様々な形態で使用される。   The piezoelectric layer 4 is provided with a sensitive portion 11 in which a rectangular window is opened between the IDTs 6 and 8 along the SAW propagation direction to expose the surface of the diamond layer 3. When the SAW element 1 is used as a transducer of a SAW sensor, a receptor for recognizing a measurement target can be disposed on the sensitive unit 11. As the receptor, various conventionally known substances such as DNA, enzymes, microorganisms, antibodies, gas adsorbents, and the like can be used in accordance with the properties and characteristics of the biological substance or chemical substance to be measured. It is used in various forms known in the art, such as a membrane or a cell in which is fixed.

図1(B)に想像線で示すように、基板2の最上層にIDT6,8及び反射器9,10を被覆する絶縁保護膜12を形成することができる。絶縁保護膜12は、SAW素子1表面にゴミ等の異物が付着して隣接する前記交差指電極間が電気的に短絡したり、SAWセンサのトランスデューサとして使用するとき、その環境や使用条件による前記交差指電極及び/又は反射器の損傷や腐食を有効に防止できる。   As shown by an imaginary line in FIG. 1B, an insulating protective film 12 covering the IDTs 6 and 8 and the reflectors 9 and 10 can be formed on the uppermost layer of the substrate 2. When the insulating protective film 12 is used as a transducer of a SAW sensor when a foreign substance such as dust adheres to the surface of the SAW element 1 and the adjacent interdigitated electrodes are electrically short-circuited or used as a transducer of a SAW sensor, the insulating protective film 12 Damage and corrosion of the interdigital electrodes and / or reflectors can be effectively prevented.

絶縁保護膜12は、例えばSiO をスパッタリング又は蒸着することにより、容易に所望の厚さに成膜される。前記絶縁保護膜には、SiO 以外に、例えばTaのような酸化物、Si、TiNのような窒化物等、様々な絶縁材料を用いることができる。特にSiO 膜を用いた場合には、その下層側に形成される圧電体層及びダイヤモンド層の温度係数を打ち消すことができ、それにより優れた温度特性が得られる。 The insulating protective film 12 is easily formed to a desired thickness by sputtering or vapor-depositing SiO 2 , for example. In addition to SiO 2 , various insulating materials such as oxides such as Ta 2 O 5 and nitrides such as Si 3 N 4 and TiN can be used for the insulating protective film. In particular, when an SiO 2 film is used, the temperature coefficient of the piezoelectric layer and the diamond layer formed on the lower layer side can be canceled, and thereby excellent temperature characteristics can be obtained.

励振用IDT6に所定の高周波信号電圧を印加すると、それと同じ周波数のSAWがダイヤモンド層3に励振され、IDT6の左右両側に伝搬しかつ左右の反射器9,10に反射されて、前記両反射器間にSAWの定在波が発生する。このSAWは受信用IDT8により受信され、その周波数が測定される。このとき、感応部11の前記受容体が目的の生体物質又は化学物質を固定してその重量が変化していると、SAW伝搬速度の変化が周波数変化として検出されるので、該生体物質又は化学物質の検出及び/又は物性の測定を高精度に行うことができる。   When a predetermined high-frequency signal voltage is applied to the excitation IDT 6, SAW of the same frequency is excited in the diamond layer 3, propagates to the left and right sides of the IDT 6, and is reflected by the left and right reflectors 9 and 10. In the meantime, a SAW standing wave is generated. This SAW is received by the receiving IDT 8 and its frequency is measured. At this time, if the receptor of the sensitive unit 11 fixes the target biological substance or chemical substance and its weight changes, a change in the SAW propagation velocity is detected as a frequency change. Substance detection and / or physical property measurement can be performed with high accuracy.

次に、本発明の方法により図1のSAW素子1を製造する過程を、図2(A)〜(E)を参照しながら説明する。先ず、従来の製造工程に従って通常のダイヤモンドSAW素子を作成する。即ち、シリコンからなる基板2の表面にダイヤモンド薄膜またはDLCからなるダイヤモンド層3とZnOからなる圧電体層4とを積層する。DLC膜は、例えば蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法、ECRCVD法、誘導結合プラズマ法などの公知方法を用いて成膜する。ZnO膜は、例えば蒸着法又はスパッタ法を用いて形成することができる。圧電体層4の表面にAl又はAlを主成分とする合金からなる電極膜を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、IDT6,8、前記接続ランド、それらを接続する配線や反射器9,10を形成する。更に本実施例では、IDT6,8及び反射器9,10などを形成した圧電体層4の全面にSiO からなる絶縁保護膜12を、例えばスパッタ法又は蒸着法により形成する。 Next, a process of manufacturing the SAW element 1 of FIG. 1 by the method of the present invention will be described with reference to FIGS. First, a normal diamond SAW element is prepared according to a conventional manufacturing process. That is, a diamond thin film or diamond layer 3 made of DLC and a piezoelectric layer 4 made of ZnO are laminated on the surface of a substrate 2 made of silicon. The DLC film is formed by using a known method such as an evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma CVD method, an ECRCVD method, or an inductively coupled plasma method. The ZnO film can be formed using, for example, a vapor deposition method or a sputtering method. By forming an electrode film made of Al or an alloy containing Al as a main component on the surface of the piezoelectric layer 4 and patterning it using a photolithography technique, the IDTs 6 and 8, the connection lands, wirings connecting them and reflections A vessel 9, 10 is formed. Further in this embodiment, an insulating protective film 12 made of SiO 2 on the entire surface of the piezoelectric layer 4 formed and IDT6,8 and the reflectors 9 and 10, for example, is formed by sputtering or vapor deposition.

このように形成したダイヤモンドSAW素子の絶縁保護膜12の全面にフォトレジスト膜13を形成する。フォトレジスト膜13は、その上方に配置したフォトマスク14を用いてパターニングする(図2(A))。これにより、感応部11に対応する絶縁保護膜12の矩形領域を露出させる(図2(B))。露出した絶縁保護膜12は、例えばバッファード弗酸を用いたウエットエッチングにより除去し、圧電体層4の表面を露出させる(図2(C))。別の実施例では、例えばCF ガスを用いたプラズマエッチングなどのドライエッチングにより、絶縁保護膜12の露出領域を除去することができる。 A photoresist film 13 is formed on the entire surface of the insulating protective film 12 of the diamond SAW element thus formed. The photoresist film 13 is patterned using a photomask 14 disposed thereabove (FIG. 2A). Thereby, the rectangular region of the insulating protective film 12 corresponding to the sensitive portion 11 is exposed (FIG. 2B). The exposed insulating protective film 12 is removed, for example, by wet etching using buffered hydrofluoric acid to expose the surface of the piezoelectric layer 4 (FIG. 2C). In another embodiment, the exposed region of the insulating protective film 12 can be removed by dry etching such as plasma etching using CF 4 gas.

次に、露出した圧電体層4を例えば希塩酸を用いたウエットエッチングにより除去して、感応部11に対応する矩形の前記窓を開設し、ダイヤモンド層3の表面を露出させる(図2(D))。これにより、ダイヤモンド層からなる矩形の感応部11を両IDT6,8の間に設けることができる。最後に、残存するフォトレジスト膜13を除去して、本発明のSAW素子1が得られる(図2(E))。   Next, the exposed piezoelectric layer 4 is removed, for example, by wet etching using dilute hydrochloric acid, and the rectangular window corresponding to the sensitive portion 11 is opened to expose the surface of the diamond layer 3 (FIG. 2D). ). Thereby, the rectangular sensitive part 11 which consists of a diamond layer can be provided between both IDT6,8. Finally, the remaining photoresist film 13 is removed to obtain the SAW element 1 of the present invention (FIG. 2E).

更に、このようにして得られたSAW素子1をトランスデューサとして、その感応部11に測定対象を認識するための受容体を配置することにより、本発明のSAWセンサが得られる。ダイヤモンド層からなる感応部11の表面は、例えば従来技術に関連して上述したように、DNAや蛋白質などの解析において、オリゴヌクレオチド又は生理活性物質を安定して強力に固定するために、化学修飾して活性化させることができる。   Furthermore, the SAW sensor 1 of the present invention can be obtained by using the SAW element 1 thus obtained as a transducer and arranging a receptor for recognizing the measurement object in the sensitive portion 11. The surface of the sensitive part 11 made of a diamond layer is chemically modified in order to stably and strongly fix the oligonucleotide or the physiologically active substance in the analysis of DNA or protein, for example, as described above with reference to the prior art. Can be activated.

このとき、SAW素子は所定の活性化溶液に浸漬されるが、IDT6,8は絶縁保護膜12で完全に被覆されているので、それにより腐食したり劣化する虞はない。また、この絶縁保護膜12によって、本発明のSAWセンサは、液体状の試料に用いても前記交差指電極間を電気的に短絡する虞が無く、また気相、液相などの様々な環境下で使用しても、前記交差指電極を損傷したり腐食又は劣化させる虞がなく、高い信頼性を確保することができる。   At this time, the SAW element is immersed in a predetermined activation solution. However, since the IDTs 6 and 8 are completely covered with the insulating protective film 12, there is no risk of corrosion or deterioration. In addition, the insulating protective film 12 allows the SAW sensor of the present invention to be electrically short-circuited between the interdigitated electrodes even when used for a liquid sample, and to provide various environments such as a gas phase and a liquid phase. Even when used underneath, there is no risk of damaging, corroding or deteriorating the interdigitated electrodes, and high reliability can be ensured.

図3(A)、(B)は、図1に示す本発明のSAW素子の変形例を示している。この変形例のSAW素子21は、各交差指電極5a、5b、7a、7bの表面に、それぞれ或る厚さの絶縁膜22〜25が形成されている。絶縁膜22〜25により、同様に前記交差指電極間の短絡を確実に防止し、かつ使用時にその様々な環境下で交差指電極の損傷や腐食を防止することができる。これらの絶縁膜は、前記交差指電極を形成するAlを例えば陽極酸化することにより、容易に所望の厚さにかつ安価に形成することができる。   3A and 3B show a modification of the SAW element of the present invention shown in FIG. In the SAW element 21 of this modification, insulating films 22 to 25 having a certain thickness are respectively formed on the surfaces of the crossed finger electrodes 5a, 5b, 7a, and 7b. Similarly, the insulating films 22 to 25 can surely prevent a short circuit between the interdigital electrodes, and can prevent the interdigital electrodes from being damaged or corroded in various environments during use. These insulating films can be easily formed at a desired thickness and at low cost by, for example, anodizing the Al forming the crossed finger electrodes.

図4(A)、(B)及び図5(A)、(B)は、それぞれ本発明によるSAW素子の別の変形例を示している。これら変形例のSAW素子31,41は、ダイヤモンド層3及び圧電体層4を積層した矩形薄板の基板2の表面に、それぞれ1組の交差指電極32a,32b、42a,42bからなる各1個のIDT33,43と、その左右両側にそれぞれ反射器34,35、44,45とを形成した1ポート共振子型の構成を有する。これら変形例では、上記各実施例の2ポート共振子型に比して1個のIDTを省略できるので、小型化及び製造コストの低減を図ることができる。   4A, 4B, 5A, and 5B each show another modification of the SAW element according to the present invention. Each of the SAW elements 31 and 41 of these modified examples includes one set of cross finger electrodes 32a, 32b, 42a, and 42b on the surface of a rectangular thin plate 2 on which the diamond layer 3 and the piezoelectric layer 4 are laminated. IDTs 33, 43 and reflectors 34, 35, 44, 45 on the left and right sides thereof, respectively, have a one-port resonator type configuration. In these modifications, since one IDT can be omitted as compared with the two-port resonator type of each of the above embodiments, it is possible to reduce the size and the manufacturing cost.

図4(A)、(B)のSAW素子31では、ダイヤモンド層3の表面を露出させた感応部36がIDT33の略中央に、SAWの伝搬方向に沿って交差指電極32a,32bを構成する電極指と電極指間の位置に配設されている。感応部36には、上記各実施例と同様に受容体を設けることができ、それによりSAW素子31をトランスデューサとする1ポート共振子型のSAWセンサが得られる。   In the SAW element 31 shown in FIGS. 4A and 4B, the sensitive portion 36 with the surface of the diamond layer 3 exposed forms cross finger electrodes 32a and 32b in the center of the IDT 33 along the SAW propagation direction. It is arrange | positioned in the position between an electrode finger. The sensitive part 36 can be provided with a receptor in the same manner as in the above embodiments, whereby a 1-port resonator type SAW sensor using the SAW element 31 as a transducer is obtained.

図5(A)、(B)のSAW素子41では、ダイヤモンド層3の表面を露出させた感応部46が、SAWの伝搬方向に沿ってIDT43と一方の反射器45間の位置に配設されている。感応部46には、同様に受容体を設けることができ、それによりSAW素子41をトランスデューサとする1ポート共振子型のSAWセンサが得られる。   In the SAW element 41 shown in FIGS. 5A and 5B, the sensitive portion 46 exposing the surface of the diamond layer 3 is disposed at a position between the IDT 43 and one reflector 45 along the SAW propagation direction. ing. The sensitive portion 46 can be similarly provided with a receptor, whereby a 1-port resonator type SAW sensor having the SAW element 41 as a transducer is obtained.

これら1ポート共振子型のSAWセンサにおいても、IDT33,43の前記交差指電極間に所定の高周波信号電圧を印加すると、それと同じ周波数のSAWがダイヤモンド層3に励振され、前記IDTの左右両側に伝搬しかつ左右の反射器に反射されて、前記両反射器間にSAWの定在波が発生する。この状態で、感応部36,46に配置された前記受容体が検出対象の生体物質などを固定すると、それによる重量の変化がSAW伝搬速度の変化となり、周波数変化として検出される。これにより、同様に目的の生体物質又は化学物質の検出及び/又は物性の測定を高精度に行うことができる。   Also in these 1-port resonator type SAW sensors, when a predetermined high-frequency signal voltage is applied between the interdigitated electrodes of the IDTs 33 and 43, SAW of the same frequency is excited by the diamond layer 3, and on both the left and right sides of the IDT. It propagates and is reflected by the left and right reflectors, and a SAW standing wave is generated between the two reflectors. In this state, when the receptors arranged in the sensitive units 36 and 46 fix the biological material to be detected, a change in weight due to the change becomes a change in SAW propagation speed, and is detected as a change in frequency. Thereby, the detection of the target biological substance or chemical substance and / or the measurement of physical properties can be performed with high accuracy.

変形例のSAW素子31,41においても、図1の実施例と同様に、IDT33,43全体を被覆するSiO などの絶縁保護膜を形成して、交差指電極間の短絡及び使用時の交差指電極の損傷や腐食を防止することができる。また、図3の実施例と同様に、各交差指電極32a,32b、42a,42bの表面に絶縁膜を形成することができる。 Also in the SAW elements 31 and 41 of the modified example, an insulating protective film such as SiO 2 covering the entire IDTs 33 and 43 is formed as in the embodiment of FIG. Damage and corrosion of the finger electrode can be prevented. Further, as in the embodiment of FIG. 3, an insulating film can be formed on the surfaces of the crossed finger electrodes 32a, 32b, 42a, 42b.

以上、本発明の好適実施例について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において上記各実施例に様々な変更・変形を加えて実施することができる。例えば、上記実施例では、基板の上にダイヤモンド層及び圧電体層を順に積層した膜層構造を有しかつ圧電体層の上にIDTを形成したダイヤモンドSAW素子について説明したが、本発明は、異なる膜層やIDTの構造を有する様々な公知のダイヤモンドSAW素子についても、同様に適用することができる。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above. However, as will be apparent to those skilled in the art, the present invention can be carried out with various modifications and changes made to the above embodiments within the technical scope thereof. . For example, in the above embodiment, a diamond SAW element having a film layer structure in which a diamond layer and a piezoelectric layer are sequentially laminated on a substrate and having an IDT formed on the piezoelectric layer has been described. The same can be applied to various known diamond SAW elements having different film layers and IDT structures.

(A)図は本発明によるSAW素子の実施例を示す平面図、(B)図はその縦断面図。(A) is a plan view showing an embodiment of a SAW element according to the present invention, and (B) is a longitudinal sectional view thereof. (A)〜(E)図は図1のSAW素子の製造工程を示す縦断面図。(A)-(E) figure is a longitudinal cross-sectional view which shows the manufacturing process of the SAW element of FIG. (A)図は本発明によるSAW素子の変形例を示す平面図、(B)図はその縦断面図。(A) is a plan view showing a modification of the SAW element according to the present invention, and (B) is a longitudinal sectional view thereof. (A)図は本発明によるSAW素子の別の変形例を示す平面図、(B)図はその縦断面図。(A) is a plan view showing another modification of the SAW element according to the present invention, and (B) is a longitudinal sectional view thereof. (A)図は本発明によるSAW素子の更に別の変形例を示す平面図、(B)図はその縦断面図。(A) is a plan view showing still another modification of the SAW element according to the present invention, and (B) is a longitudinal sectional view thereof.

符号の説明Explanation of symbols

1,21,31,41…SAW素子、2…基板、3…ダイヤモンド層、4…圧電体層、5a,5b,7a,7b,32a,32b,42a,42b…交差指電極、6,8,33,43…IDT、9,10,34,35、44,45…反射器、11,36,46…感応部、12…絶縁保護膜、13…フォトレジスト膜、14…フォトマスク、22〜25…絶縁膜。 1, 2, 31, 41 ... SAW element, 2 ... substrate, 3 ... diamond layer, 4 ... piezoelectric layer, 5a, 5b, 7a, 7b, 32a, 32b, 42a, 42b ... crossed finger electrodes, 6, 8, 33, 43 ... IDT, 9, 10, 34, 35, 44, 45 ... reflector, 11, 36, 46 ... sensitive part, 12 ... insulating protective film, 13 ... photoresist film, 14 ... photomask, 22-25 ... insulating film.

Claims (13)

ダイヤモンド層及び圧電体層を積層した基板と、前記基板に形成された少なくとも1組の交差指電極からなるIDTと、前記IDTにより励振される弾性表面波の伝搬方向に沿って前記IDTを挟むようにそれらの両側に配置される1対の反射器と、前記弾性表面波の伝搬方向に沿って前記ダイヤモンド層の表面を露出させた感応部とを備えることを特徴とする弾性表面波素子。   A substrate in which a diamond layer and a piezoelectric layer are laminated, an IDT composed of at least one pair of interdigital electrodes formed on the substrate, and the IDT sandwiched along a propagation direction of a surface acoustic wave excited by the IDT A surface acoustic wave device comprising: a pair of reflectors disposed on both sides thereof; and a sensitive portion exposing a surface of the diamond layer along a propagation direction of the surface acoustic wave. 前記IDTが励振用IDTと受信用IDTとからなり、前記感応部が前記励振用IDTと前記受信用IDTとの間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波素子。   2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the IDT includes an excitation IDT and a reception IDT, and the sensitive portion is disposed between the excitation IDT and the reception IDT. . 前記IDTが1組の交差指電極を有する1つのIDTからなり、前記感応部が前記交差指電極の電極指と電極指との間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波素子。   The IDT is composed of one IDT having a pair of cross finger electrodes, and the sensitive part is disposed between the electrode fingers of the cross finger electrodes. Surface acoustic wave device. 前記IDTが1組の交差指電極を有する1つのIDTからなり、前記感応部が前記IDTと一方の前記反射器との間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波素子。   The elastic surface according to claim 1, wherein the IDT is composed of one IDT having a pair of cross finger electrodes, and the sensitive portion is disposed between the IDT and one of the reflectors. Wave element. 前記IDT全体を被覆する絶縁保護膜を更に有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波素子。   5. The surface acoustic wave device according to claim 1, further comprising an insulating protective film that covers the entire IDT. 前記絶縁保護膜がSiOで形成されていることを特徴とする請求項5に記載の弾性表面波素子。 The surface acoustic wave device according to claim 5, wherein the insulating protective film is made of SiO 2 . 前記交差指電極の表面に形成された絶縁膜を更に有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波素子。   5. The surface acoustic wave device according to claim 1, further comprising an insulating film formed on the surface of the interdigitated electrode. 前記交差指電極がAl又はAlを主成分とする合金で形成され、かつ前記絶縁膜がAlで形成されていることを特徴とする請求項7に記載の弾性表面波素子。 The alternate finger electrodes are formed of an alloy composed mainly of Al or Al, and a surface acoustic wave device according to claim 7, wherein the insulating film is characterized in that it is formed by Al 2 O 3. 基板の表面にダイヤモンド層と圧電体層と少なくとも1組の交差指電極からなるIDTとを積層して弾性表面波素子を形成する過程と、フォトリソグラフィ技術を用いて前記弾性表面波素子の表面をエッチングし、前記ダイヤモンド層の表面を露出させて感応部を形成する過程とを有することを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。   A process of forming a surface acoustic wave device by laminating a diamond layer, a piezoelectric layer, and an IDT comprising at least one pair of interdigitated electrodes on the surface of the substrate; and a surface of the surface acoustic wave device using a photolithography technique And a step of etching to expose the surface of the diamond layer to form a sensitive portion. 前記弾性表面波素子を形成する過程において、前記弾性表面波素子の前記IDT全体を被覆する絶縁保護膜を更に積層することを特徴とする請求項9に記載の弾性表面波素子の製造方法。   The method for manufacturing a surface acoustic wave element according to claim 9, wherein an insulating protective film that covers the entire IDT of the surface acoustic wave element is further laminated in the process of forming the surface acoustic wave element. 前記弾性表面波素子を形成する過程において、前記交差指電極の表面を被覆する絶縁膜を更に形成することを特徴とする請求項9に記載の弾性表面波素子の製造方法。   The method for manufacturing a surface acoustic wave element according to claim 9, further comprising forming an insulating film that covers a surface of the interdigitated electrode in the process of forming the surface acoustic wave element. 請求項1乃至8のいずれかに記載される弾性表面波素子と、前記弾性表面波素子の前記感応部に固定されて目的の物質を認識するための受容体とを備えることを特徴とする弾性表面波センサ。   An elastic device comprising: the surface acoustic wave device according to claim 1; and a receptor fixed to the sensitive portion of the surface acoustic wave device for recognizing a target substance. Surface wave sensor. 請求項12に記載される複数の弾性表面波センサを有し、前記複数の弾性表面波センサが単一の共通の前記基板に設けられることを特徴とする弾性表面波センサシステム。   A surface acoustic wave sensor system comprising a plurality of surface acoustic wave sensors according to claim 12, wherein the plurality of surface acoustic wave sensors are provided on a single common substrate.
JP2005188990A 2005-06-28 2005-06-28 Surface acoustic wave element, its manufacturing method, surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system Pending JP2007010378A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005188990A JP2007010378A (en) 2005-06-28 2005-06-28 Surface acoustic wave element, its manufacturing method, surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005188990A JP2007010378A (en) 2005-06-28 2005-06-28 Surface acoustic wave element, its manufacturing method, surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007010378A true JP2007010378A (en) 2007-01-18

Family

ID=37749105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005188990A Pending JP2007010378A (en) 2005-06-28 2005-06-28 Surface acoustic wave element, its manufacturing method, surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007010378A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008216170A (en) * 2007-03-07 2008-09-18 Toppan Printing Co Ltd Substance measuring apparatus and substance measuring method
JP2008224582A (en) * 2007-03-15 2008-09-25 Seiko Epson Corp Gas sensor
JP2009002677A (en) * 2007-06-19 2009-01-08 Hirosaki Univ Surface acoustic wave device biosensor
JP2010114880A (en) * 2008-11-04 2010-05-20 Samsung Electronics Co Ltd Surface acoustic wave element, surface acoustic wave device and methods for manufacturing the same
WO2011030519A1 (en) * 2009-09-11 2011-03-17 パナソニック株式会社 Acoustic wave element and acoustic wave element sensor
CN103163217A (en) * 2013-03-07 2013-06-19 浙江工商大学 Sound surface wave resonator series detection and detection method
WO2013094531A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 日本無線株式会社 Device for measuring characteristic of measurement object
CN103424440A (en) * 2013-08-22 2013-12-04 浙江工商大学 Device and method for online detection of water content of plant leaves
WO2014069063A1 (en) * 2012-10-29 2014-05-08 京セラ株式会社 Surface acoustic wave sensor
WO2016052679A1 (en) * 2014-09-30 2016-04-07 京セラ株式会社 Sensor device
US9322809B2 (en) 2012-01-20 2016-04-26 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Elastic wave sensor
EP3104172A4 (en) * 2014-02-03 2017-08-02 Kyocera Corporation Sensor apparatus
EP3225984A4 (en) * 2014-11-29 2018-05-30 KYOCERA Corporation Sensor apparatus

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008216170A (en) * 2007-03-07 2008-09-18 Toppan Printing Co Ltd Substance measuring apparatus and substance measuring method
JP2008224582A (en) * 2007-03-15 2008-09-25 Seiko Epson Corp Gas sensor
JP2009002677A (en) * 2007-06-19 2009-01-08 Hirosaki Univ Surface acoustic wave device biosensor
JP2010114880A (en) * 2008-11-04 2010-05-20 Samsung Electronics Co Ltd Surface acoustic wave element, surface acoustic wave device and methods for manufacturing the same
US9160299B2 (en) 2009-09-11 2015-10-13 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Acoustic wave element and acoustic wave element sensor
WO2011030519A1 (en) * 2009-09-11 2011-03-17 パナソニック株式会社 Acoustic wave element and acoustic wave element sensor
US9645116B2 (en) 2011-12-22 2017-05-09 Japan Radio Co., Ltd. Object characteristics measurement apparatus
WO2013094531A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 日本無線株式会社 Device for measuring characteristic of measurement object
JP2013148572A (en) * 2011-12-22 2013-08-01 Japan Radio Co Ltd Instrument for measuring characteristics of measured object
US9322809B2 (en) 2012-01-20 2016-04-26 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Elastic wave sensor
WO2014069063A1 (en) * 2012-10-29 2014-05-08 京セラ株式会社 Surface acoustic wave sensor
US10037382B2 (en) 2012-10-29 2018-07-31 Kyocera Corporation Surface acoustic wave sensor
US10671678B2 (en) 2012-10-29 2020-06-02 Kyocera Corporation Surface acoustic wave sensor
CN103163217A (en) * 2013-03-07 2013-06-19 浙江工商大学 Sound surface wave resonator series detection and detection method
CN103424440A (en) * 2013-08-22 2013-12-04 浙江工商大学 Device and method for online detection of water content of plant leaves
US10761062B2 (en) 2014-02-03 2020-09-01 Kyocera Corporation Sensor apparatus
EP3104172A4 (en) * 2014-02-03 2017-08-02 Kyocera Corporation Sensor apparatus
US10228350B2 (en) 2014-02-03 2019-03-12 Kyocera Corporation Sensor apparatus
JPWO2016052679A1 (en) * 2014-09-30 2017-04-27 京セラ株式会社 Sensor device
EP3203225A4 (en) * 2014-09-30 2018-05-30 Kyocera Corporation Sensor device
CN105934667B (en) * 2014-09-30 2019-09-24 京瓷株式会社 Sensor device
CN110470731A (en) * 2014-09-30 2019-11-19 京瓷株式会社 Sensor device
CN105934667A (en) * 2014-09-30 2016-09-07 京瓷株式会社 Sensor device
US10705080B2 (en) 2014-09-30 2020-07-07 Kyocera Corporation Sensor apparatus
WO2016052679A1 (en) * 2014-09-30 2016-04-07 京セラ株式会社 Sensor device
US11733240B2 (en) 2014-09-30 2023-08-22 Kyocera Corporation Sensor apparatus
JP2018105885A (en) * 2014-11-29 2018-07-05 京セラ株式会社 Sensor device
US10073061B2 (en) 2014-11-29 2018-09-11 Kyocera Corporation Sensor apparatus
EP3225984A4 (en) * 2014-11-29 2018-05-30 KYOCERA Corporation Sensor apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007010378A (en) Surface acoustic wave element, its manufacturing method, surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system
JP4147116B2 (en) Surface acoustic wave sensor
US9322809B2 (en) Elastic wave sensor
KR102140089B1 (en) Acoustic wave resonator, filter, and multiplexer
WO2011030519A1 (en) Acoustic wave element and acoustic wave element sensor
JP2006313092A (en) Surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system
JP5170311B2 (en) Surface acoustic wave sensor
JP2020180981A (en) Sensor device
KR20120045167A (en) Single-input multi-output surface acoustic wave device
JP2007225546A (en) Elastic surface wave sensor
US7816837B2 (en) Surface acoustic wave sensor
JP2020060588A (en) Sensor element and sensor device
US9518863B2 (en) Elastic wave element and elastic wave sensor using same
US11716070B2 (en) Film bulk acoustic sensors using thin LN-LT layer
JP2007078428A (en) Surface acoustic wave sensor, and surface acoustic wave sensor system
JP2008180668A (en) Lamb wave type high-frequency sensor device
JP2022156965A (en) Elastic wave sensor and manufacturing method for the same
JP2013092446A (en) Acoustic wave sensor
WO2010021100A1 (en) Elastic surface wave sensor device
JP2010048696A (en) Surface elastic wave type gas sensor
WO2023189334A1 (en) Elastic wave sensor and method for manufacturing same
WO2010146923A1 (en) Elastic surface wave sensor
JP2005315646A (en) Surface acoustic wave sensor and surface acoustic wave sensor system
JP2005331326A (en) Elastic wave sensor
KR100510887B1 (en) Mass-sensitive sensor, and its method for manufacturing