JP2007008770A - Single crystal pulling apparatus and its control method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、チョクラルスキー法(以下、「CZ法」という)によって単結晶を引上げる単結晶引上装置及びその制御方法に関する。 The present invention relates to a single crystal pulling apparatus that pulls a single crystal by the Czochralski method (hereinafter referred to as “CZ method”) and a control method thereof.
シリコン単結晶の育成に関し、CZ法が広く用いられている。この方法は、ルツボ内に収容されたシリコンの溶融液の表面に種結晶を接触させ、ルツボを回転させるとともに、この種結晶を反対方向に回転させながら上方へ引上げることによって、種結晶の下端に単結晶を形成していくものである。 The CZ method is widely used for the growth of silicon single crystals. In this method, the seed crystal is brought into contact with the surface of the silicon melt contained in the crucible, the crucible is rotated, and the seed crystal is pulled upward while rotating in the opposite direction. In this way, a single crystal is formed.
図6に示すように、従来のCZ法を用いた引上げ法は、先ず、石英ガラスルツボ51に原料シリコンを装填し、ヒータ52により加熱してシリコン融液Mとする。しかる後、引上げ用のワイヤ50に取り付けられた種結晶Pをシリコン融液Mに接触させてシリコン結晶Cを引上げる。
As shown in FIG. 6, in the pulling method using the conventional CZ method, first, raw silicon is loaded into a
一般に、引上げ開始に先立ち、シリコン融液Mの温度が安定した後、図7に示すように、種結晶Pをシリコン融液Mに接触させて種結晶Pの先端部を溶解するネッキングを行う。ネッキングとは、種結晶Pをシリコン融液Mに接触させることで発生するサーマルショックによりシリコン単結晶に生じる転位を除去する不可欠の工程である。このネッキングによりネック部P1が形成される。また、このネック部P1は、一般的に、直径が3〜4mmで、その長さが30〜40mm以上必要とされている。
また、引上げ開始後の工程としては、ネッキング終了後、直胴部直径にまで結晶を広げるクラウン工程、製品となる単結晶を育成する直胴工程、直胴工程後の単結晶直径を除除に小さくするテール工程が行われる。
In general, prior to the start of pulling, after the temperature of the silicon melt M is stabilized, as shown in FIG. 7, necking is performed in which the seed crystal P is brought into contact with the silicon melt M to dissolve the tip of the seed crystal P. Necking is an indispensable process for removing dislocations generated in a silicon single crystal due to a thermal shock generated by bringing the seed crystal P into contact with the silicon melt M. The neck portion P1 is formed by this necking. The neck portion P1 is generally required to have a diameter of 3 to 4 mm and a length of 30 to 40 mm or more.
In addition, the processes after the start of pulling are excluding the crown process that expands the crystal to the straight body diameter after necking is completed, the straight body process that grows the single crystal that will be the product, and the single crystal diameter after the straight body process. A tailing process for reducing the size is performed.
ところで、CZ法により製造される単結晶は、これまで直径が8インチで、重量が100kg前後のものが主流であった。しかし、最近になって更なる大口径化が求められ、12インチ結晶では、300kgに達する単結晶の製造が行われるようになってきている。
ここで、図8に、300kg近い単結晶を製造する場合の、ネッキング開始から結晶取出しまでの時間経過と、育成される結晶の重量との関係をグラフに示す。このグラフに示すように直胴工程後のテール工程開始から結晶取出しまでの時間は、全所要時間の約半分を占めるほど長時間を要する。
By the way, single crystals manufactured by the CZ method have so far been 8 inches in diameter and about 100 kg in weight. Recently, however, a further increase in diameter has been demanded, and with a 12-inch crystal, a single crystal reaching 300 kg has been manufactured.
Here, FIG. 8 is a graph showing the relationship between the time elapsed from the start of necking to the extraction of the crystal and the weight of the crystal to be grown when a single crystal of nearly 300 kg is produced. As shown in this graph, the time from the tail process start to the crystal extraction after the straight body process takes a long time to occupy about half of the total required time.
即ち、テール工程開始後は、長時間の間、ネック部により高重量の単結晶を支持しなければならない。このため、将来的に直径が12インチよりも大きな単結晶を製造する場合には、テール工程後においてネック部だけでは単結晶を支持出来なくなる虞があった。
また、12インチ結晶であっても、地震等の大きな揺れが発生した場合には、ネック部に対し、単結晶の重量に、揺れによる外力が加わり、単結晶の重量を支えきれずに単結晶の育成中にネックが破断する虞があった。その結果、ルツボに単結晶が落下し、ルツボや装置が破壊され、大変危険であるという問題があった。
That is, after starting the tail process, a heavy single crystal must be supported by the neck for a long time. For this reason, when a single crystal having a diameter larger than 12 inches is manufactured in the future, there is a possibility that the single crystal cannot be supported only by the neck portion after the tail process.
Even in the case of a 12-inch crystal, when a large shake such as an earthquake occurs, an external force is applied to the neck portion due to the shake to the weight of the single crystal. There was a risk that the neck would break during the growth of the. As a result, there was a problem that the single crystal fell on the crucible, the crucible and the device were destroyed, and it was very dangerous.
このような問題に対し、例えば、特許文献1(特公平7−103000号公報)には、図9に示すように、単結晶Cの一部にくびれ部53を形成し、このくびれ部53を複数の爪54で引っかけ、さらにリング55で複数の爪54を固定することにより単結晶Cの荷重を支える引上装置200が開示されている。
しかしながら、特許文献1にあっては、単結晶Cに形成されるくびれ部53の径は、育成した単結晶の径よりも細く形成される。このため、くびれ部周辺の部分は、製品として用いることができず、生産効率が低下するという課題があった。また、くびれ部53を形成するための原料シリコンが必要となり、コストが増大するという課題もあった。さらには、くびれ部53に複数の爪54を引っかける際、全ての爪54で同時にくびれ部53を掴まないと、結晶がルツボの中で揺れるおそれがあり、その場合には、結晶が有転位化して、所望の無転位結晶を育成できないという課題があった。
However, in Patent Document 1, the diameter of the
本発明は、前記したような事情の下になされたものであり、従来と同様な簡便な手法により高重量無転位単結晶を育成でき、単結晶の高重量による荷重や地震等を原因とするネック部の破断が生じても、ルツボ内への単結晶の落下を回避することのできる単結晶引上装置及びその制御方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made under the circumstances as described above, and it is possible to grow a high-weight dislocation-free single crystal by a simple method similar to the conventional method, which is caused by a load due to the high weight of the single crystal, an earthquake, or the like. An object of the present invention is to provide a single crystal pulling apparatus and a control method therefor that can prevent the single crystal from falling into the crucible even when the neck portion is broken.
前記した課題を解決するために、本発明に係る単結晶引上装置は、チョクラルスキー法によってルツボから単結晶を引上げる単結晶引上装置において、前記単結晶の引上げを行う引上げ手段と、前記単結晶の上端を吸着する吸着部が下端に設けられ、前記吸着部が前記単結晶の引上げ通路に沿って昇降自在に設けられた単結晶支持手段と、前記単結晶の上端部温度を検出する温度検出手段と、前記単結晶支持手段の動作制御を行う制御手段とを備え、前記単結晶支持手段は、前記吸着部と、前記吸着部に形成された吸引口と、前記吸引口に負圧を発生するための負圧発生手段と、前記吸引口の周囲に形成された熱軟化性ガラスのパッドとを有し、前記制御手段は、前記温度検出手段による検出温度が第一の温度になると、前記吸着部に形成された前記パッドを単結晶の上端部に接触させ、前記温度検出手段による検出温度が第二の温度になると、前記負圧発生手段を駆動し前記吸引口により単結晶の上端部を吸引させることに特徴を有する。 In order to solve the above problems, a single crystal pulling apparatus according to the present invention includes a pulling means for pulling up the single crystal in a single crystal pulling apparatus that pulls a single crystal from a crucible by the Czochralski method. An adsorption part that adsorbs the upper end of the single crystal is provided at the lower end, and the adsorption part is provided so as to be movable up and down along the pulling path of the single crystal, and the upper end temperature of the single crystal is detected. Temperature detecting means for controlling the operation of the single crystal support means, and the single crystal support means includes a suction portion, a suction port formed in the suction portion, and a suction port. A negative pressure generating means for generating pressure, and a heat-softening glass pad formed around the suction port, and the control means detects the temperature detected by the temperature detecting means at a first temperature. Then, formed in the adsorption part The pad is brought into contact with the upper end of the single crystal, and when the temperature detected by the temperature detecting means reaches the second temperature, the negative pressure generating means is driven to suck the upper end of the single crystal through the suction port. Has characteristics.
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る単結晶引上装置の制御方法は、チョクラルスキー法によってルツボから単結晶を引上げる引上げ手段と、前記単結晶の上端を吸着する吸着部が下端に設けられ、前記吸着部が前記単結晶の引上げ通路に沿って昇降自在に設けられた単結晶支持手段と、前記単結晶の上端部温度を検出する温度検出手段と、前記単結晶支持手段の動作制御を行う制御手段とを備え、且つ、前記単結晶支持手段は、前記吸着部と、前記吸着部に形成された吸引口と、前記吸引口に負圧を発生するための負圧発生手段と、前記吸引口の周囲に形成された熱軟化性ガラスのパッドとを有する単結晶引上装置の制御方法であって、前記制御手段は、前記温度検出手段による検出温度が第一の温度になると、前記吸着部に形成された前記パッドを単結晶の上端部に接触させるステップと、前記温度検出手段による検出温度が第二の温度になると、前記負圧発生手段を駆動し前記吸引口により単結晶の上端部を吸引させるステップとを実行することに特徴を有する。
尚、前記負圧発生手段を駆動し前記吸引口により単結晶の上端部を吸引させるステップの後、前記単結晶支持手段と前記引上げ手段とにより単結晶を引上げるステップを実行することが望ましい。
In order to solve the above-described problems, a method for controlling a single crystal pulling apparatus according to the present invention includes a pulling means for pulling a single crystal from a crucible by the Czochralski method, and an adsorption for adsorbing the upper end of the single crystal. A single crystal support means provided at the lower end, and the adsorption part is provided so as to be movable up and down along the pulling passage of the single crystal; temperature detection means for detecting the upper end temperature of the single crystal; and the single crystal Control means for controlling the operation of the support means, and the single crystal support means includes the suction portion, a suction port formed in the suction portion, and a negative pressure for generating a negative pressure in the suction port. A control method of a single crystal pulling apparatus having a pressure generating means and a thermosoftening glass pad formed around the suction port, wherein the control means has a first temperature detected by the temperature detecting means. When the temperature reaches The step of bringing the formed pad into contact with the upper end of the single crystal, and when the temperature detected by the temperature detecting means reaches a second temperature, the negative pressure generating means is driven and the upper end of the single crystal is moved by the suction port. And a step of sucking.
Preferably, after the step of driving the negative pressure generating means and sucking the upper end portion of the single crystal by the suction port, the step of pulling the single crystal by the single crystal supporting means and the pulling means is executed.
このように単結晶支持手段で単結晶を支持しながら引上げることにより、高重量の単結晶であっても、或いは地震等の揺れでネック部が破断しても、単結晶を落下させずに引上げることができる。
また、単結晶に対する単結晶支持手段の吸着部において、熱軟化性ガラスをパッドとして用いるため、高温の炉体の中であっても吸着部と単結晶上端部を密着させることができ、確実に吸引吸着させることができる。尚、そのとき単結晶支持手段における熱軟化性ガラスの軟性の状態を、それと接触する単結晶上端部の温度検出により判断するため、吸引に適した熱軟化性ガラスの軟性状態のときに確実に吸引することができる。
By pulling while supporting the single crystal by the single crystal support means in this way, even if it is a heavy single crystal or even if the neck portion breaks due to shaking such as an earthquake, the single crystal is not dropped. Can be pulled up.
In addition, since the heat softening glass is used as a pad in the adsorption part of the single crystal support means for the single crystal, the adsorption part and the upper end part of the single crystal can be brought into close contact with each other even in a high temperature furnace body. It can be sucked and adsorbed. At that time, the soft state of the thermosoftening glass in the single crystal supporting means is judged by detecting the temperature of the upper end portion of the single crystal in contact therewith, so that the heat softening glass suitable for suction is surely in the soft state. Can be aspirated.
本発明によれば、従来と同様な簡便な手法により高重量無転位単結晶を育成でき、単結晶の高重量による荷重や地震等を原因とするネック部の破断が生じても、ルツボ内への単結晶の落下を回避することのできる単結晶引上装置及びその制御方法を得ることができる。 According to the present invention, a high-weight dislocation-free single crystal can be grown by a simple method similar to the conventional one, and even if the neck portion breaks due to a load or an earthquake due to a high weight of the single crystal, it enters the crucible. It is possible to obtain a single crystal pulling apparatus and its control method capable of avoiding the falling of the single crystal.
以下、本発明に係わる単結晶引上装置及びその制御方法の実施形態について図面に基づき説明する。図1は本発明に係る単結晶引上装置1の構成を模式的に示すブロック図である。
この単結晶引上装置1は、メインチャンバ2aの上にプルチャンバ2bを重ねて形成された炉体2と、この炉体2内に設けられた石英ガラスルツボ3と、この石英ガラスルツボ3に装填された半導体原料(原料シリコン)Mを溶融するヒータ4と、育成される単結晶Cを引上げる引上げ機構5とを有している。
引上げ機構5は、モータ駆動される巻取り機構5aと、この巻取り機構5aに巻き上げられる引上げワイヤ5bとを有し、このワイヤ5bに種結晶Pが取り付けられている。
Embodiments of a single crystal pulling apparatus and its control method according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram schematically showing the configuration of a single crystal pulling apparatus 1 according to the present invention.
The single crystal pulling apparatus 1 includes a
The pulling mechanism 5 includes a
また、単結晶引上装置1は、単結晶Cのテール部を形成した後の引上げ工程において、単結晶Cの上端部であるクラウン部C1を吸着することにより単結晶Cを支持する単結晶支持手段7を備えている。この単結晶支持手段7は、夫々の径が少しずつ異なる複数(図では3つ)の円筒体7a〜cを有し、それら円筒体の中心にワイヤ5bが挿通されている。円筒体7a〜cは、相互に摺動自在に接続され、円筒体全体としてスライド伸縮可能に構成されている。また、このうち円筒体7aは、昇降することなく、プルチャンバ2b上端に固定される。このため、円筒体7aに対し、その下方で円筒体7b、7cが上下にスライド移動するようになされている。
Further, the single crystal pulling apparatus 1 supports the single crystal C by adsorbing the crown portion C1, which is the upper end portion of the single crystal C, in the pulling process after forming the tail portion of the single
この円筒体7a〜cによるスライド伸縮の駆動方法は、例えば次のようになされる。円筒体7cの下端周縁には、円筒体7cを支持するための円環状部材7eが設けられる。この円環状部材7eには均等間隔で複数のワイヤ7fの一端が接続され、ワイヤ7fの他端は、昇降駆動部7dに接続される。そして、昇降駆動部7dがワイヤ7fの巻き取りをモータ駆動することでワイヤ長に合わせた円筒体7a〜cの伸縮動作が行われる。
尚、昇降駆動部7dの動作制御は、昇降駆動制御部15によってなされ、この昇降駆動制御部15の制御はコンピュータ8の演算制御装置8bによってなされる。
For example, the slide expansion / contraction driving method using the
The operation control of the elevating
また、単結晶支持手段7の下端、即ち、円筒体7cの下端には、図2に示すように、単結晶Cの上端部であるクラウン部C1を吸着するための吸着部7iが形成されている。
吸着部7iには、吸引口7kが形成され、この吸引口7kは、クラウン部C1を均一な吸引力で吸引できるように、図3に示すように円環状に形成されている。また、吸着部7iにおいて、吸引口7kの外側の周囲と内側の周囲には夫々、熱軟化性ガラスにより形成されたパッド7jが設けられている。
尚、吸着部7iの全体的な形状は、クラウン部C1の形状に対応するよう逆円錐状に形成されている。
Further, at the lower end of the single crystal support means 7, that is, at the lower end of the
A
The overall shape of the
また、吸引口7kは、図2に示すようにワイヤ5bの通路7gの周りに形成された吸引路7hに連通し、この吸引路7hは、負圧発生手段である真空ポンプ16(図1参照)に接続されている。即ち、真空ポンプ16が駆動することによって、吸引路7hの真空引きが行われ、吸引口7kに負圧が発生して吸着力が生じるようになされている。尚、真空ポンプ16の制御はコンピュータ8の演算制御装置8bによってなされる。
Further, as shown in FIG. 2, the
また、この単結晶引上装置1は、テール工程後に単結晶Cのクラウン部C1の表面温度を測定するクラウン部温度検出器22(温度検出手段)を炉体2内に備えている。このクラウン部温度検出器22は、例えば測定対象に非接触状態で温度を測定することのできる反射型温度計であって、これにより検出された温度はコンピュータ8の演算制御装置8bに通知されるようになされている。
In addition, the single crystal pulling apparatus 1 includes a crown portion temperature detector 22 (temperature detection means) in the
また、図1に示す単結晶引上装置1は、シリコン融液Mの温度を制御するヒータ4の供給電力量を制御するヒータ制御部9と、石英ガラスルツボ3を回転させるモータ10と、モータ10の回転数を制御するモータ制御部10aとを備えている。さらには、石英ガラスルツボ3の高さを制御する昇降装置11と、昇降装置11を制御する昇降装置制御部11aと、成長結晶の引上げ速度と回転数を制御するワイヤリール回転装置制御部12とを備えている。これら各制御部9、10a、11a、12はコンピュータ8の演算制御装置8bに接続されている。
A single crystal pulling apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a heater control unit 9 that controls the amount of power supplied to the
次に、このように構成された単結晶引上装置1における単結晶引上げの制御方法について、図4のフロー及び図5の工程図に基づき説明する。
最初に石英ガラスルツボ3に原料シリコンMを装填し、コンピュータ8の記憶装置8aに記憶されたプログラムに基づき、以下のように結晶育成工程が開始される(図4のステップS1)。
Next, a single crystal pulling control method in the single crystal pulling apparatus 1 configured as described above will be described based on the flow of FIG. 4 and the process diagram of FIG.
First, raw material silicon M is loaded into the
先ず、演算制御装置8bの指令によりヒータ制御部9を作動させてヒータ4を加熱し、石英ガラスルツボ3の原料シリコンMが溶融される。
さらに、演算制御装置8bの指令によりモータ制御部10a、昇降装置制御部11a、ワイヤリール回転装置制御部12が作動し、石英ガラスルツボ3が回転させられると共に、巻取り機構5aが作動してワイヤ5bが降ろされる。そして、ワイヤ5bに取付けられた種結晶Pがシリコン融液Mに接触され、種結晶Pの先端部を溶解するネッキングが行われてネック部P1が形成される。
First, the heater control unit 9 is operated according to a command from the arithmetic and
Further, the
しかる後、演算制御装置8bの指令によりヒータ4への供給電力や、単結晶引上げ速度(通常、毎分数ミリの速度)などをパラメータとして引上げ条件が調整され、結晶を直胴径まで拡径する(単結晶の上端部であるクラウン部C1を形成する)クラウン工程からテール部を形成するテール工程までが順に行われる。
Thereafter, the pulling conditions are adjusted by parameters of the power supplied to the
次いで、ワイヤ5bが巻き取られることにより単結晶Cが引上げられる。尚、単結晶Cが融液から完全に引上げられると、単結晶Cの回転動作は停止される。
そして、所定の位置まで単結晶Cが引上げられると、クラウン部温度検出器22によりクラウン部C1の温度が検出される(図5(a)参照)。ここで、クラウン部C1の温度が第一の温度、例えば700℃まで下がっていれば(図4のステップS2)、演算制御装置8bは単結晶支持手段7の吸着部7iを昇降駆動部15により降下させる(図4のステップS3)。
Next, the single crystal C is pulled up by winding the
When the single crystal C is pulled up to a predetermined position, the temperature of the crown C1 is detected by the crown temperature detector 22 (see FIG. 5A). Here, if the temperature of the crown part C1 is lowered to the first temperature, for example, 700 ° C. (step S2 in FIG. 4), the
前記ステップS3により吸着部7iが降下されると、吸着部7iは、引上げられている単結晶Cのクラウン部C1と接触する(図4のステップS4)。尚、ここで吸着部7iの降下動作は停止され、単結晶Cの引上げ動作に同期して吸着部7iは上昇制御される。
また、ステップS4での吸着部7iとクラウン部C1との接触においては、熱軟化性ガラスにより形成されたパッド7jとクラウン部C1とが接触する。クラウン部C1の温度が約700℃であれば、熱軟化性ガラスが軟化し、軟化したパッド7jがクラウン部C1に密着する。これにより吸引路7hの雰囲気はチャンバ内の雰囲気に対し遮断される。
When the
Further, in the contact between the
また、パッド7jが軟化状態のまま、吸引路7hの真空引き開始すると、パッド7jとクラウン部C1との間に通気孔が生じ、高精度な真空引きが出来ないおそれがある。そのため、パッド7jが固化するまで、真空引きの動作は待機され、引き続き単結晶Cの引上げが行われる(図4のステップS5)。通常、軟化した熱軟化性ガラスは、600℃の温度まで下がると固化する。このため、演算制御装置8bは、クラウン温度検出器22により検出される温度が第二の温度(第一の温度より低い温度)、即ち600℃になる状態まで温度変化を監視する。
Further, if the
パッド7jの固化が、温度検出により検出されると(図4のステップS6)、演算制御装置8bは真空ポンプ16を稼動し、吸引路7hを真空引きして吸引口7kからクラウン部C1を吸引する(図4のステップS7)。これにより単結晶Cは単結晶支持手段7により完全に支持された状態になされる。
そして、図5(b)乃至図5(d)に示すように、引上げ機構5によるワイヤ5bの巻き取り動作に同期して円筒体7a〜7cの全体長が縮小され、単結晶Cは取出し工程の位置まで引上げられる(図5のステップS8)。
When solidification of the
Then, as shown in FIGS. 5B to 5D, the entire length of the
以上のように本発明に係る実施の形態によれば、テール工程後において単結晶支持手段7で単結晶Cを支持しながら引上げることにより、高重量の単結晶であっても、或いは地震等の揺れでネック部が破断しても、単結晶Cを落下させずに引上げることができる。
また、単結晶Cに対する単結晶支持手段7の吸着部7iにおいて、熱軟化性ガラスをパッド7jとして用いるため、高温の炉体2の中であっても吸着部7iと単結晶Cのテール部C1を密着させることができ、確実に吸引吸着させることができる。
尚、そのときパッド7j(熱軟化性ガラス)の軟性の状態を、それと接触するクラウン部C1の温度検出により判断するため、吸引に適した熱軟化性ガラスの軟性状態のときに確実に吸引することができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, by pulling up the single crystal C while supporting the single crystal C by the single crystal support means 7 after the tail step, even if it is a heavy single crystal, an earthquake or the like Even if the neck portion breaks due to shaking, the single crystal C can be pulled up without dropping.
Further, since the heat softening glass is used as the
At that time, since the soft state of the
本発明は、チョクラルスキー法によって単結晶を引上げる単結晶引上装置に関するものであり、半導体製造業界等において好適に用いられる。 The present invention relates to a single crystal pulling apparatus that pulls a single crystal by the Czochralski method, and is suitably used in the semiconductor manufacturing industry and the like.
1 単結晶引上装置
2 炉体
2a メインチャンバ
2b プルチャンバ
3 石英ガラスルツボ
4 ヒータ
5 引上げ機構(引上げ手段)
6 輻射シールド
7 単結晶支持手段
7i 吸着部
7j パッド
7k 吸引口
8 コンピュータ
8a 記憶装置
8b 演算記憶装置(制御手段)
15 支持部本体
16 真空ポンプ(負圧発生手段)
21 回転駆動部
22 クラウン部温度検出器(温度検出手段)
C 単結晶
C1 クラウン部
M 原料シリコン、シリコン融液
P 種結晶
P1 ネック部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Single
6
15
21 Rotation drive
C single crystal C1 crown M raw material silicon, silicon melt P seed crystal P1 neck
Claims (3)
前記単結晶の引上げを行う引上げ手段と、前記単結晶の上端を吸着する吸着部が下端に設けられ、前記吸着部が前記単結晶の引上げ通路に沿って昇降自在に設けられた単結晶支持手段と、前記単結晶の上端部温度を検出する温度検出手段と、前記単結晶支持手段の動作制御を行う制御手段とを備え、
前記単結晶支持手段は、前記吸着部と、前記吸着部に形成された吸引口と、前記吸引口に負圧を発生するための負圧発生手段と、前記吸引口の周囲に形成された熱軟化性ガラスのパッドとを有し、
前記制御手段は、前記温度検出手段による検出温度が第一の温度になると、前記吸着部に形成された前記パッドを単結晶の上端部に接触させ、前記温度検出手段による検出温度が第二の温度になると、前記負圧発生手段を駆動し前記吸引口により単結晶の上端部を吸引させることを特徴とする単結晶引上装置。 In a single crystal pulling apparatus that pulls a single crystal from a crucible by the Czochralski method,
Pulling means for pulling up the single crystal, and a suction unit that sucks the upper end of the single crystal is provided at the lower end, and the suction unit is provided so as to be movable up and down along the pulling path of the single crystal. And temperature detecting means for detecting the upper end temperature of the single crystal, and control means for controlling the operation of the single crystal support means,
The single crystal support means includes the suction portion, a suction port formed in the suction portion, a negative pressure generation means for generating a negative pressure in the suction port, and heat formed around the suction port. And a soft glass pad,
When the temperature detected by the temperature detecting means reaches the first temperature, the control means brings the pad formed on the adsorption portion into contact with the upper end portion of the single crystal, and the temperature detected by the temperature detecting means is the second temperature. When the temperature is reached, the single crystal pulling apparatus is characterized in that the negative pressure generating means is driven and the upper end of the single crystal is sucked by the suction port.
前記制御手段は、前記温度検出手段による検出温度が第一の温度になると、前記吸着部に形成された前記パッドを単結晶の上端部に接触させるステップと、
前記温度検出手段による検出温度が第二の温度になると、前記負圧発生手段を駆動し前記吸引口により単結晶の上端部を吸引させるステップとを実行することを特徴とする単結晶引上装置の制御方法。 Pulling means for pulling up the single crystal from the crucible by the Czochralski method, and a suction portion for sucking the upper end of the single crystal are provided at the lower end, and the suction portion is provided to be movable up and down along the pulling passage of the single crystal. Single crystal support means, temperature detection means for detecting the upper end temperature of the single crystal, and control means for controlling the operation of the single crystal support means, and the single crystal support means includes the adsorption unit A single crystal comprising: a suction port formed in the suction portion; a negative pressure generating means for generating a negative pressure in the suction port; and a thermosoftening glass pad formed around the suction port. A control method for a lifting device,
The control means, when the temperature detected by the temperature detection means reaches a first temperature, the step of contacting the pad formed on the adsorption portion to the upper end portion of the single crystal;
And a step of driving the negative pressure generating means and sucking the upper end portion of the single crystal through the suction port when the temperature detected by the temperature detecting means reaches a second temperature. Control method.
前記単結晶支持手段と前記引上げ手段とにより前記単結晶を引上げるステップを実行することを特徴とする請求項2に記載された単結晶引上装置の制御方法。 The control means drives the negative pressure generating means to suck the upper end of the single crystal through the suction port,
The method for controlling a single crystal pulling apparatus according to claim 2, wherein the step of pulling the single crystal by the single crystal supporting means and the pulling means is executed.
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