JP2007002191A - Resin composition, and prepreg, substrate and conductive foil-clad substrate, using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition capable of providing a substrate suitable for high-frequency application, and having excellent heat resistance; and to provide the substrate obtained therefrom. <P>SOLUTION: The substrate 10 in a preferable embodiment has a resin layer 12 and a fiber base material 14 arranged in the resin layer 12. The resin layer 12 comprises a cured product of a resin composition, and the resin composition comprises a resin component containing a polyvinyl benzyl ether compound, and a phosphorus compound containing a reactive phosphorus compound including a benzene ring having a phosphorus atom and a vinyl group. The total content of the phosphorus atom contained in the phosphorus compound is ≥3.5 mass% and the content of the reactive phosphorus compound based on 100 pts.mass of the resin component is ≥20 pts.mass in the phosphorus compound and the resin component respectively in the resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂組成物、並びにこれを用いたプリプレグ、基板及び導体箔付き基板に関する。   The present invention relates to a resin composition, a prepreg using the same, a substrate, and a substrate with a conductive foil.

電子機器に搭載される回路基板等に用いる基板としては、ガラスクロス等の繊維基材や不織布に樹脂材料を含浸させて樹脂材料を硬化することにより得られたものが用いられている。このような基板に対しては、安全上の観点から、優れた難燃性を有していることが求められる。従来、基板に難燃性を付与する方法としては、樹脂材料として難燃性の高いハロゲンを含む材料を用いることが行われていた。   As a substrate used for a circuit board or the like mounted on an electronic device, a substrate obtained by impregnating a resin material into a fiber base material such as glass cloth or a nonwoven fabric and curing the resin material is used. Such a substrate is required to have excellent flame retardancy from the viewpoint of safety. Conventionally, as a method for imparting flame retardancy to a substrate, a material containing halogen having high flame retardancy has been used as a resin material.

しかし、このような樹脂材料を用いた基板は、焼却時に有害なガスを生じることから、環境上の観点から望ましくない。そこで、ハロゲンを使用しないで難燃性を向上させる方法として、ハロゲンを含まない樹脂材料とリン系化合物とを組み合わせて用いることが検討されている(例えば、特許文献1参照)。
特開1995−109416号公報
However, a substrate using such a resin material is undesirable from an environmental point of view because it generates harmful gases during incineration. Therefore, as a method for improving flame retardancy without using halogen, use of a combination of a resin material not containing halogen and a phosphorus compound has been studied (for example, see Patent Document 1).
JP-A-1995-109416

ところで、近年では、電子機器の高速化及び大容量化を可能とするために、基板に対しては高周波帯域での使用に適した特性を有していることが求められている。具体的には、回路基板において高周波信号の伝達過程で生じる損失を低減するために、基板は、低誘電率であり低誘電損失であるという特性を有することが望ましい。しかしながら、上述したようにリン系化合物の添加により難燃性を向上させる場合は、上記誘電特性が悪くなり易く、高周波対応に優れた基板を確実に得るのが困難であった。   Incidentally, in recent years, it is required that a substrate has characteristics suitable for use in a high-frequency band in order to increase the speed and capacity of an electronic device. Specifically, in order to reduce a loss generated in the process of transmitting a high frequency signal in the circuit board, it is desirable that the board has a characteristic of a low dielectric constant and a low dielectric loss. However, as described above, when flame retardancy is improved by the addition of a phosphorus compound, the dielectric characteristics are likely to deteriorate, and it is difficult to reliably obtain a substrate excellent in high frequency response.

また、十分な難燃性を得ようとする場合、リン系化合物をある程度多量に添加する必要があるが、このように、リン系化合物の添加量が多くなると、得られる基板の耐熱性が低下し、高温下での強度が不十分となる傾向にあった。   Further, when obtaining sufficient flame retardancy, it is necessary to add a large amount of phosphorus compound, but as the amount of phosphorus compound added increases, the heat resistance of the resulting substrate decreases. However, the strength at high temperature tends to be insufficient.

そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、高周波用途に適しており、しかも耐熱性に優れる基板を得ることのできる樹脂組成物、並びに、これを用いたプリプレグ、基板及び導体箔付き基板を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and is suitable for high-frequency applications, and can obtain a substrate having excellent heat resistance, and a prepreg, a substrate, and a prepreg using the same. An object is to provide a substrate with a conductive foil.

上記目的を達成するため、本発明の樹脂組成物は、樹脂成分及びリン化合物を含む樹脂組成物であって、樹脂成分は、ポリビニルベンジルエーテル化合物を含有し、リン化合物は、リン原子及び複数のベンゼン環を含み、ベンゼン環のうちの少なくとも一つがビニル基を有しており、且つ、ベンゼン環のうちの少なくとも一つがリン原子に結合している反応性リン化合物を少なくとも含有しており、樹脂成分及びリン化合物中の、リン化合物に含まれるリン原子の合計含有率は3.5質量%以上であり、樹脂成分100質量部に対する反応性リン化合物の含有量は、20質量部以上であることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the resin composition of the present invention is a resin composition containing a resin component and a phosphorus compound, the resin component contains a polyvinyl benzyl ether compound, and the phosphorus compound contains a phosphorus atom and a plurality of phosphorus compounds. A resin containing at least a reactive phosphorus compound containing a benzene ring, wherein at least one of the benzene rings has a vinyl group, and at least one of the benzene rings is bonded to a phosphorus atom; The total content of phosphorus atoms contained in the phosphorus compound in the component and the phosphorus compound is 3.5% by mass or more, and the content of the reactive phosphorus compound with respect to 100 parts by mass of the resin component is 20 parts by mass or more. It is characterized by.

本発明の樹脂組成物に、樹脂成分として含まれるポリビニルベンジルエーテル化合物は、極性の小さい構造を有していることから、その硬化物は、低誘電率且つ低誘電正接であるという特性を有するものとなる。また、リン化合物として含まれる反応性リン化合物は、ベンゼン環に結合したビニル基によって、硬化の際にポリビニルベンジルエーテル化合物と共重合され得る。このため、かかる樹脂組成物を硬化して得られる基板においては、リン化合物がポリビニルベンジルエーテル化合物の重合物中に取り込まれた状態となり、従来のようにリン化合物が遊離して含まれている場合に比して、誘電特性及び耐熱性の双方を維持したまま優れた難燃性が得られるようになる。以上のような要因に基づき、本発明の樹脂組成物から得られる基板は、高周波用途に適するとともに、優れた耐熱性をも発揮し得るものとなる。ただし、作用は必ずしもこれらに限定されない。   Since the polyvinyl benzyl ether compound contained in the resin composition of the present invention as a resin component has a structure with a small polarity, the cured product has a characteristic of low dielectric constant and low dielectric loss tangent. It becomes. Moreover, the reactive phosphorus compound contained as the phosphorus compound can be copolymerized with the polyvinyl benzyl ether compound at the time of curing by the vinyl group bonded to the benzene ring. For this reason, in the substrate obtained by curing such a resin composition, the phosphorus compound is incorporated into the polymer of the polyvinyl benzyl ether compound, and the phosphorus compound is contained free as in the prior art. Compared to the above, excellent flame retardancy can be obtained while maintaining both dielectric properties and heat resistance. Based on the above factors, the substrate obtained from the resin composition of the present invention is suitable for high-frequency applications and can also exhibit excellent heat resistance. However, the action is not necessarily limited to these.

ここで、上記ビニルベンジル化合物は、下記一般式(1)で表される化合物であると好ましい。これにより、より優れた誘電特性、耐熱性及び難燃性が得られるようになる。

Figure 2007002191

[式中、R11はメチル基又はエチル基であり、R12は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、nは、2〜6の整数である。] Here, the vinyl benzyl compound is preferably a compound represented by the following general formula (1). Thereby, more excellent dielectric properties, heat resistance and flame retardancy can be obtained.
Figure 2007002191

[Wherein, R 11 represents a methyl group or an ethyl group, R 12 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6. ]

上記本発明の樹脂組成物は、樹脂成分及びリン化合物中の、リン化合物に含まれるリン原子の合計含有率が、3.5質量%以上5.5質量%未満であるとより好ましい。リン原子の含有率が、3.5質量%未満であると、十分な耐熱性が得られ難くなる。一方、5.5質量%を超える場合、樹脂組成物中の樹脂成分の含有量が相対的に小さくなり、得られる基板の特性が低下する傾向にある。   In the resin composition of the present invention, the total content of phosphorus atoms contained in the phosphorus compound in the resin component and the phosphorus compound is more preferably 3.5% by mass or more and less than 5.5% by mass. When the phosphorus atom content is less than 3.5% by mass, it becomes difficult to obtain sufficient heat resistance. On the other hand, when it exceeds 5.5% by mass, the content of the resin component in the resin composition becomes relatively small, and the properties of the obtained substrate tend to deteriorate.

また、本発明の樹脂組成物は、tanδが2GHz以上の周波数帯域において0.003以下である無機フィラーを更に含むとより好ましい。これにより、誘電特性を低下させずに強度が一層向上した基板が得られるようになる。   Moreover, it is more preferable that the resin composition of the present invention further includes an inorganic filler having a tan δ of 0.003 or less in a frequency band of 2 GHz or more. As a result, a substrate with further improved strength can be obtained without deteriorating the dielectric characteristics.

本発明のプリプレグは、本発明の樹脂組成物を用いて得られるものであり、上記本発明の樹脂組成物と、この樹脂組成物中に配された繊維基材とを含むことを特徴とする。また、本発明の基板は、上記プリプレグから好適に得られるものであり、上記本発明の樹脂組成物の硬化物と、この硬化物中に配された繊維基材とを含むことを特徴とする。かかる構成の基板は、本発明の樹脂組成物の硬化物から主として構成されるため、上述したように、難燃性に優れ、低誘電率且つ低誘電正接であり、且つ、優れた耐熱性を有するものとなる。   The prepreg of the present invention is obtained by using the resin composition of the present invention, and includes the resin composition of the present invention and a fiber substrate disposed in the resin composition. . The substrate of the present invention is preferably obtained from the prepreg, and includes a cured product of the resin composition of the present invention and a fiber base material arranged in the cured product. . Since the substrate having such a structure is mainly composed of the cured product of the resin composition of the present invention, as described above, it has excellent flame retardancy, low dielectric constant and low dielectric loss tangent, and excellent heat resistance. It will have.

さらに、本発明は、上記本発明の樹脂組成物の硬化物及びこの硬化物中に配された繊維基材を含む基板と、この基板の表面上に配された導体箔とを備える導体箔付き基板を提供する。また、本発明の基板は、上記本発明の樹脂組成物の硬化物からなる基板と、この基板の表面上に配された導体箔とを備えるものであってもよい。このような構成を有する導体箔付き基板は、その導体箔を所定のパターンに加工することで回路基板を形成し得る。また、必要に応じて、このような回路基板上に本発明の樹脂組成物を塗布した導体箔付き基板をさらに積層して多層化することも可能である。このようにして得られた回路基板は、上記本発明の樹脂組成物の硬化物を含む基板を備えることから、高周波用途に適しており、しかも、電子機器に搭載されて高温に晒された場合であっても優れた難燃性を発揮し、且つ、変形等を生じ難いものとなる。   Furthermore, the present invention is provided with a conductive foil comprising a cured product of the resin composition of the present invention and a substrate including a fiber base material disposed in the cured product, and a conductive foil disposed on the surface of the substrate. Providing a substrate. Moreover, the board | substrate of this invention may be equipped with the board | substrate which consists of a hardened | cured material of the said resin composition of this invention, and the conductor foil distribute | arranged on the surface of this board | substrate. The substrate with conductor foil having such a configuration can form a circuit substrate by processing the conductor foil into a predetermined pattern. Moreover, it is also possible to laminate | stack further the board | substrate with a conductor foil which apply | coated the resin composition of this invention on such a circuit board as needed. The circuit board thus obtained has a substrate containing the cured product of the resin composition of the present invention, and is therefore suitable for high-frequency applications, and when it is mounted on an electronic device and exposed to a high temperature. Even so, excellent flame retardancy is exhibited and deformation or the like hardly occurs.

本発明によれば、高周波用途に適しており、しかも耐熱性に優れる基板を得ることのできる樹脂組成物、並びに、これを用いたプリプレグ、基板及び導体箔付き基板を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the resin composition which can obtain the board | substrate which is suitable for a high frequency use, and is excellent in heat resistance, and a prepreg using this, a board | substrate, and a board | substrate with conductor foil. .

以下、本発明の好適な実施の形態について、必要に応じて図面を参照しながら説明する。
[樹脂組成物]
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings as necessary.
[Resin composition]

まず、好適な実施形態に係る樹脂組成物について説明する。本実施形態の樹脂組成物は、樹脂成分及びリン化合物を少なくとも含有するものである。以下、樹脂組成物に含まれる各成分について説明する。   First, the resin composition according to a preferred embodiment will be described. The resin composition of the present embodiment contains at least a resin component and a phosphorus compound. Hereinafter, each component contained in the resin composition will be described.

(樹脂成分)
樹脂組成物中の樹脂成分は、ポリビニルベンジルエーテル化合物を少なくとも含んでいる。ポリビニルベンジルエーテル化合物は、側鎖にエーテル結合を介してビニルベンジル基が結合している繰り返し単位を有する化合物であり、下記一般式(1)で表される化合物が好適である。

Figure 2007002191

[式中、R11はメチル基又はエチル基であり、R12は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、nは、2〜6の整数である。] (Resin component)
The resin component in the resin composition contains at least a polyvinyl benzyl ether compound. The polyvinyl benzyl ether compound is a compound having a repeating unit in which a vinyl benzyl group is bonded to the side chain via an ether bond, and a compound represented by the following general formula (1) is preferable.
Figure 2007002191

[Wherein, R 11 represents a methyl group or an ethyl group, R 12 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6. ]

式(1)で表されるポリビニルベンジルエーテル化合物において、R12で表される炭化水素基としては、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基等が例示できる。具体的には、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル基が挙げられ、アリール基としてはフェニル基が挙げられる。なお、ポリビニルベンジル化合物としては、これらの構造を有するものを単独で含んでいてもよく、複数種を組み合わせて含んでいてもよい。 In the polyvinyl benzyl ether compound represented by the formula (1), examples of the hydrocarbon group represented by R 12 include an alkyl group, an aralkyl group, and an aryl group which may have a substituent. Specifically, the alkyl group includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, the aralkyl group includes a benzyl group, and the aryl group includes a phenyl group. In addition, as a polyvinyl benzyl compound, what has these structures may be included independently and you may include in combination of multiple types.

このような構造を有するポリビニルベンジルエーテル化合物は、例えば、下記一般式(2)で表されるポリフェノール化合物と、ビニルベンジルハライドとを反応させることにより得ることができる。なお、下記式中、R11、R12及びnは上記と同義である。

Figure 2007002191
The polyvinyl benzyl ether compound having such a structure can be obtained, for example, by reacting a polyphenol compound represented by the following general formula (2) with vinyl benzyl halide. In the following formulae, R 11 , R 12 and n are as defined above.
Figure 2007002191

本実施形態の樹脂成分中には、上記ポリビニルベンジルエーテル化合物以外の成分が含まれていてもよい。但し、樹脂組成物から得られる基板の誘電特性及び耐熱性を十分に得る観点からは、樹脂成分中、ポリビニルベンジルエーテル化合物が50質量%以上含まれていることが好ましい。   In the resin component of this embodiment, components other than the said polyvinyl benzyl ether compound may be contained. However, from the viewpoint of sufficiently obtaining the dielectric properties and heat resistance of the substrate obtained from the resin composition, the resin component preferably contains 50% by mass or more of a polyvinyl benzyl ether compound.

上記ポリビニルベンジルエーテル化合物以外の成分としては、例えば、下記一般式(3a)で表されるポリフェノール化合物と、ビニルベンジルハライドとを反応させて得られた化合物が挙げられる。また、下記一般式(3b)又は(3c)で表される構造を有するポリビニルフェノール又はその共重合体と、ビニルベンジルハライドとを反応させて得られた化合物等も例示できる。下記式中、p、qはそれぞれ括弧内の構造の繰り返し数を示す整数であり、これらの化合物において通常採用される数であれば特に制限はない。

Figure 2007002191
Examples of the components other than the polyvinyl benzyl ether compound include compounds obtained by reacting a polyphenol compound represented by the following general formula (3a) with vinyl benzyl halide. Moreover, the compound etc. which were obtained by making the polyvinyl phenol which has the structure represented by the following general formula (3b) or (3c), or its copolymer, and vinyl benzyl halide react can also be illustrated. In the following formulae, p and q are each an integer indicating the number of repetitions of the structure in parentheses, and are not particularly limited as long as they are numbers usually employed in these compounds.
Figure 2007002191

樹脂成分中には、例えば、ポリビニルベンジルエーテル化合物と共重合し得るモノマーが更に含まれていてもよい。かかるモノマーとしては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ジビニルベンジルエーテル、アリルフェノール、アリルオキシベンゼン、ジアリルフタレート、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニルピロリドン等が挙げられる。これらのモノマーの配合量は、ポリビニルベンジルエーテル化合物の質量に対して2〜50質量%であると好ましい。   The resin component may further contain, for example, a monomer that can be copolymerized with the polyvinyl benzyl ether compound. Examples of such monomers include styrene, vinyl toluene, divinyl toluene, divinyl benzene, divinyl benzyl ether, allyl phenol, allyloxybenzene, diallyl phthalate, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, vinyl pyrrolidone, and the like. The blending amount of these monomers is preferably 2 to 50% by mass with respect to the mass of the polyvinyl benzyl ether compound.

さらに、樹脂成分中には、ポリビニルベンジルエーテル化合物以外の樹脂が含まれていてもよい。樹脂としては、ビニルエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、マレイミド樹脂、ポリフェノールのポリシアナート樹脂、ビニルベンジル化合物等の熱硬化性樹脂や、ポリエーテルスルホン、ポリアセタール、ジシクロペンタジエン系樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の配合量は、ポリビニルベンジルエーテル化合物の質量に対して5〜30質量%であると好ましい。   Further, the resin component may contain a resin other than the polyvinyl benzyl ether compound. Examples of the resin include thermosetting resins such as vinyl ester resins, unsaturated polyester resins, maleimide resins, polyphenol polycyanate resins, vinyl benzyl compounds, and thermoplastic resins such as polyethersulfone, polyacetal, and dicyclopentadiene resins. It is done. The blending amount of these resins is preferably 5 to 30% by mass with respect to the mass of the polyvinyl benzyl ether compound.

(リン化合物)
本実施形態の樹脂組成物は、リン化合物として、リン原子と複数のベンゼン環とを含み、このベンゼン環のうちの少なくとも一つがビニル基を有しており、且つ、ベンゼン環のうちの少なくとも一つがリン原子に結合している反応性リン化合物を少なくとも含有している。
(Phosphorus compound)
The resin composition of the present embodiment includes a phosphorus atom and a plurality of benzene rings as a phosphorus compound, at least one of the benzene rings has a vinyl group, and at least one of the benzene rings. One containing at least a reactive phosphorus compound bonded to a phosphorus atom.

反応性リン化合物においては、上記ビニル基を有するベンゼン環がリン原子に直接結合していると好ましい。また、リン原子に結合している炭素原子は、その全てが芳香環を構成している炭素原子であるとより好ましい。つまり、リン原子には、直鎖構造の炭化水素基が結合していないことが好ましい。これにより、反応性リン化合物の添加による誘電特性の低下を更に低減することができる。なかでも、反応性リン化合物においては、リン原子に結合している炭素原子が全てベンゼン環の構成炭素であると更に好ましい。   In the reactive phosphorus compound, it is preferable that the benzene ring having the vinyl group is directly bonded to the phosphorus atom. More preferably, the carbon atoms bonded to the phosphorus atom are all carbon atoms constituting an aromatic ring. That is, it is preferable that a linear hydrocarbon group is not bonded to the phosphorus atom. Thereby, the deterioration of the dielectric characteristics due to the addition of the reactive phosphorus compound can be further reduced. Among these, in the reactive phosphorus compound, it is more preferable that all the carbon atoms bonded to the phosphorus atom are constituent carbons of the benzene ring.

このような反応性リン化合物としては、具体的には、下記一般式(4)で表されるp−スチリルジフェニルホスフィン(DPPST)が好ましい。DPPSTは、樹脂組成物の硬化の際、ポリビニルベンジルエーテル化合物の重合構造中に良好に取り込まれ、優れた耐熱性や機械的強度を維持しつつ硬化物の難燃性を向上させることができる。また、DPPSTは、ポリビニルベンジルエーテル化合物の誘電特性を維持する特性にも優れている。

Figure 2007002191
Specifically, such a reactive phosphorus compound is preferably p-styryldiphenylphosphine (DPPST) represented by the following general formula (4). DPPST is well incorporated into the polymerization structure of the polyvinyl benzyl ether compound when the resin composition is cured, and can improve the flame retardancy of the cured product while maintaining excellent heat resistance and mechanical strength. Moreover, DPPST is excellent also in the characteristic which maintains the dielectric property of a polyvinyl benzyl ether compound.
Figure 2007002191

また、樹脂組成物中には、リン化合物として、上述した反応性リン化合物以外のリン化合物が更に含まれていてもよい。但し、得られる基板の誘電特性、耐熱性及び機械的強度を十分に維持する観点からは、反応性リン化合物が、樹脂成分100質量部に対して、20質量部以上含まれていると好ましく、30〜80質量部含まれているとより好ましく、40〜60質量部含まれていると更に好ましい。   The resin composition may further contain a phosphorus compound other than the reactive phosphorus compound described above as the phosphorus compound. However, from the viewpoint of sufficiently maintaining the dielectric properties, heat resistance and mechanical strength of the obtained substrate, it is preferable that the reactive phosphorus compound is contained in an amount of 20 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component, More preferably, 30 to 80 parts by mass is contained, and 40 to 60 parts by mass is more preferred.

上記反応性リン化合物以外のリン化合物としては、リン酸エステルが好適である。このように、樹脂組成物に含まれるリン化合物(反応性リン化合物及びその他のリン化合物)は、全て分子中に有機基を有する有機リン化合物であると好ましい。樹脂組成物中に添加し得るリン酸エステルとしては、下記一般式(5)で表される化合物(例えばレゾルシノールビス(2,6−キシレニルホスフェート))、ハイドロキノン−テトラ(2,6−キシレニルホスフェート)、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等が挙げられる。

Figure 2007002191

[式中、R51は芳香環を有する2価の有機基又は炭素数2〜14の2価の脂肪族炭化水素基を示し、R52、R53、R54及びR55は各々独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示し、kは1以上の整数を示し、m、m、m及びmは各々独立に1〜3の整数を示す。] As the phosphorus compound other than the reactive phosphorus compound, a phosphate ester is suitable. Thus, it is preferable that all the phosphorus compounds (reactive phosphorus compounds and other phosphorus compounds) contained in the resin composition are organic phosphorus compounds having an organic group in the molecule. Examples of the phosphoric acid ester that can be added to the resin composition include compounds represented by the following general formula (5) (for example, resorcinol bis (2,6-xylenyl phosphate)), hydroquinone-tetra (2,6-xy Renyl phosphate), 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, and the like.
Figure 2007002191

[Wherein R 51 represents a divalent organic group having an aromatic ring or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 2 to 14 carbon atoms, and R 52 , R 53 , R 54 and R 55 are each independently hydrogen. atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, k represents an integer of 1 or more, m 1, m 2, m 3 and m 4 each independently represents a 1-3 integer. ]

本実施形態の樹脂組成物は、上述したようなリン化合物を含有するものであるが、かかるリン化合物の添加による難燃性向上効果を十分に得るために、樹脂組成物中のリン原子の含有量は次の条件を満たしている。すなわち、樹脂成分及びリン化合物中の、リン化合物に含まれるリン原子の合計含有率は、3.5質量%以上となっている。ここで、リン原子の合計含有率とは、リン化合物(反応性リン化合物及びその他のリン化合物を含む)に含まれている全てのリン原子の合計質量の、樹脂成分及びリン化合物の合計質量に対する割合(質量%)をいうものとする。かかるリン原子の合計含有率が3.5質量%未満であると、十分な難燃性が得られ難くなる。   The resin composition of the present embodiment contains the phosphorus compound as described above. In order to sufficiently obtain the effect of improving the flame retardancy due to the addition of such a phosphorus compound, the resin composition contains phosphorus atoms. The quantity meets the following conditions: That is, the total content of phosphorus atoms contained in the phosphorus compound in the resin component and the phosphorus compound is 3.5% by mass or more. Here, the total content of phosphorus atoms refers to the total mass of all phosphorus atoms contained in the phosphorus compound (including reactive phosphorus compounds and other phosphorus compounds) relative to the total mass of the resin component and the phosphorus compound. The ratio (mass%) shall be said. When the total content of such phosphorus atoms is less than 3.5% by mass, it becomes difficult to obtain sufficient flame retardancy.

また、上記リン原子の合計含有率の上限は、5.5質量%であると好ましい。この上限値が5.5質量%を超えると、樹脂組成物中のリン化合物の配合量が過剰となり、得られる基板の誘電特性や耐熱性が低下する傾向にある。十分な難燃性を得るとともに、優れた耐熱性及び誘電特性を維持する観点からは、上記合計含有率は、3.5〜5.5質量%であると好ましく、4〜4.5質量%であると更に好ましい。   The upper limit of the total content of phosphorus atoms is preferably 5.5% by mass. When this upper limit exceeds 5.5 mass%, the compounding quantity of the phosphorus compound in a resin composition will become excess, and it exists in the tendency for the dielectric characteristics and heat resistance of the board | substrate obtained to fall. From the viewpoint of obtaining sufficient flame retardancy and maintaining excellent heat resistance and dielectric properties, the total content is preferably 3.5 to 5.5% by mass, and 4 to 4.5% by mass. Is more preferable.

(その他成分)
好適な実施形態の樹脂組成物は、所望とする特性に応じて上述した樹脂成分及びリン化合物以外の成分を含有していてもよい。このようなその他の成分としては、例えば、無機フィラーが挙げられる。樹脂組成物中に無機フィラーを更に含有させることによって、得られる基板の強度を向上させることができる。かかる無機フィラーは、基板の誘電特性の低下を防ぐ観点から、tanδ(誘電正接)が、2GHz以上の高周波帯域において、0.003以下であるものが好ましい。
(Other ingredients)
The resin composition of a preferred embodiment may contain components other than the resin component and the phosphorus compound described above according to desired properties. Examples of such other components include inorganic fillers. By further including an inorganic filler in the resin composition, the strength of the obtained substrate can be improved. Such an inorganic filler preferably has a tan δ (dielectric loss tangent) of 0.003 or less in a high-frequency band of 2 GHz or more from the viewpoint of preventing a decrease in dielectric properties of the substrate.

このような無機フィラーとしては、例えば、酸化チタン等の誘電材料、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、ガラス繊維、ガラスビーズ、酸化マグネシウム(タルク)等が挙げられる。なかでも、低tanδであるシリカが好ましい。また、比誘電率を調製する目的で、低tanδなチタン酸バリウム系化合物を、無機フィラーとして含有させてもよい。   Examples of such inorganic fillers include dielectric materials such as titanium oxide, silica, alumina, zirconia, potassium titanate, barium titanate, zinc oxide, glass fibers, glass beads, magnesium oxide (talc), and the like. Among these, silica having a low tan δ is preferable. Further, for the purpose of adjusting the relative dielectric constant, a low tan δ barium titanate compound may be contained as an inorganic filler.

無機フィラーの配合量は、樹脂成分に対して50体積%以下であると好ましく、特に、後述するような導体箔付き基板を形成する場合には、20〜40体積%であるとより好ましい。無機フィラーの配合量が20体積%以上であると優れた強度の向上効果が得られる傾向にある。しかし、50体積%を超えると、樹脂組成物が成形し難くなり、基板の作製が困難となる場合がある。   The blending amount of the inorganic filler is preferably 50% by volume or less with respect to the resin component, and more preferably 20 to 40% by volume, particularly when forming a substrate with a conductor foil as described later. When the blending amount of the inorganic filler is 20% by volume or more, an excellent strength improvement effect tends to be obtained. However, if it exceeds 50% by volume, it may be difficult to mold the resin composition and it may be difficult to produce the substrate.

なお、本実施形態の樹脂組成物中には、上記無機フィラー以外に、樹脂組成物の硬化を促進する硬化剤、劣化防止剤、難燃助剤(窒素系、シリコーン系、金属水酸化物系等)、有機フィラー等が、誘電特性、耐熱性や強度等の特性を低下させない程度の配合量で含まれていてもよい。   In the resin composition of the present embodiment, in addition to the inorganic filler, a curing agent that accelerates curing of the resin composition, a deterioration preventing agent, a flame retardant aid (nitrogen-based, silicone-based, metal hydroxide-based) Etc.), organic fillers, etc. may be contained in such a blending amount that does not deteriorate the properties such as dielectric properties, heat resistance and strength.

(樹脂組成物の調製方法)
本実施形態の樹脂組成物は、例えば、上述した各成分を混錬することによって調製することができる。混錬は、混錬機、ニーダ、ボールミル、攪拌機、ロール等の方法により行うことができる。また、用いる材料によっては、樹脂成分やリン化合物を溶媒に溶解してから各成分を混合してもよい。この場合、溶媒としては、トルエン、キシレン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等を適用できる。
[導体箔付き基板]
(Method for preparing resin composition)
The resin composition of this embodiment can be prepared by kneading each component mentioned above, for example. Kneading can be performed by a method such as a kneader, a kneader, a ball mill, a stirrer, or a roll. Depending on the material used, the resin component or phosphorus compound may be dissolved in a solvent before mixing the components. In this case, toluene, xylene, dioxane, tetrahydrofuran, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, or the like can be used as the solvent.
[Substrate with conductive foil]

次に、上述した樹脂組成物を用いた導体箔付き基板について説明する。図1は、好適な実施形態に係る導体箔付き基板を模式的に示す斜視図である。図1に示すように、本実施形態の導体箔付き基板10は、基板12と、この基板12の両面に設けられた導体箔層14とを備えている。   Next, the board | substrate with a conductor foil using the resin composition mentioned above is demonstrated. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a substrate with a conductive foil according to a preferred embodiment. As shown in FIG. 1, the board | substrate 10 with a conductor foil of this embodiment is equipped with the board | substrate 12 and the conductor foil layer 14 provided in both surfaces of this board | substrate 12. As shown in FIG.

基板12は、上述した実施形態の樹脂組成物の硬化物を含むものである。また、この基板12は、かかる硬化物以外に、通常、基板の補強材として用いられるような繊維基材を更に含有していてもよい。つまり、基板12は、上述した実施形態の樹脂組成物の硬化物と、この硬化物中に配された繊維基材とを含むものであってもよい。繊維基材としては、ガラス、アラミド、石英、液晶ポリマー等からなる繊維、或いは、これらの繊維からなる織布や不織布が好ましい。なかでも、ガラスクロスが、価格や繊維基材としての性能(強度等)の面から好ましい。   The board | substrate 12 contains the hardened | cured material of the resin composition of embodiment mentioned above. Moreover, this board | substrate 12 may contain further the fiber base material normally used as a reinforcing material of a board | substrate other than this hardened | cured material. That is, the board | substrate 12 may contain the hardened | cured material of the resin composition of embodiment mentioned above, and the fiber base material distribute | arranged in this hardened | cured material. As the fiber base material, fibers made of glass, aramid, quartz, liquid crystal polymer, or the like, or a woven fabric or a nonwoven fabric made of these fibers is preferable. Of these, glass cloth is preferable from the viewpoint of price and performance (strength and the like) as a fiber base material.

このような基板12は、例えば、本実施形態の樹脂組成物が繊維基材に含浸されてなるプリプレグから形成されたものであると好ましい。このプリプレグに含まれる樹脂組成物を硬化することによって、基板12が得られる。プリプレグを製造する際における、繊維基材への樹脂組成物の含浸は、繊維基材を、樹脂組成物中、又は、樹脂成分、リン化合物及びその他の成分が溶媒中に溶解又は分散されてなる溶液中に浸漬させることによって行うことができる。ここで、後者のような溶液を用いる場合は、樹脂含浸後の繊維基材を加熱して溶媒等を除去することによりプリプレグが得られる。なお、加熱は、樹脂組成物が完全に硬化しない程度の温度とすることが好ましく、樹脂組成物の一部が硬化していてもよい。なお、繊維基材は、樹脂組成物やその硬化物との接着性を良好とするために、シランカップリング剤等による表面処理が施されていてもよい。   Such a substrate 12 is preferably formed, for example, from a prepreg formed by impregnating a fiber base material with the resin composition of the present embodiment. The substrate 12 is obtained by curing the resin composition contained in the prepreg. When the prepreg is produced, the impregnation of the fiber base material with the resin composition is performed by dissolving or dispersing the fiber base material in the resin composition, or the resin component, the phosphorus compound, and other components in a solvent. It can be performed by dipping in a solution. Here, when the latter solution is used, a prepreg is obtained by heating the fiber base material after resin impregnation to remove the solvent and the like. The heating is preferably performed at a temperature at which the resin composition is not completely cured, and a part of the resin composition may be cured. The fiber substrate may be subjected to a surface treatment with a silane coupling agent or the like in order to improve the adhesiveness with the resin composition or its cured product.

かかる基板12において、樹脂組成物の硬化物は、上記一般式(1)で表されるポリビニルベンジルエーテル化合物が、そのビニル基において重合された重合体を主として含むものとなる。そして、かかる重合体の一部には、上述した反応性リン化合物がそのビニル基において共重合されて取り込まれた状態となっている。   In such a substrate 12, the cured product of the resin composition mainly contains a polymer obtained by polymerizing the polyvinyl benzyl ether compound represented by the general formula (1) at the vinyl group. And the reactive phosphorus compound mentioned above is copolymerized in the vinyl group, and is in the state taken in into a part of this polymer.

導体箔層14としては、回路基板等の回路材料に通常用いられる導体材料からなるものが挙げられる。例えば、金、銀、銅、アルミニウム等の金属箔が挙げられ、なかでも、銅箔が好ましい。金属箔としては、電解法、圧延法のいずれの方法で作製されたものでも構わない。   Examples of the conductive foil layer 14 include those made of a conductive material usually used for circuit materials such as circuit boards. For example, metal foils, such as gold | metal | money, silver, copper, aluminum, are mentioned, Especially, copper foil is preferable. The metal foil may be produced by any method of electrolysis and rolling.

このような構成を有する導体箔付き基板10は、例えば、上述したプリプレグの両側に導体箔層14となるべき導体箔を重ね、得られた積層体を真空プレス等により加熱及び加圧した後、導体箔を所望のパターンとなるように加工することにより製造することができる。積層体の加熱及び加圧によって、プリプレグ及び導体箔の各層が密着するとともに、プリプレグ中の樹脂組成物の硬化が生じて基板12が形成される。この際の加熱及び加圧は、温度120〜200℃、圧力0.5〜4MPaの条件で行うことが好ましく、これらの条件内で複数回繰り返し行ってもよい。また、導体箔のパターン加工は、フォトリソグラフィー法等の公知のパターニング方法により適宜行うことができる。   The substrate 10 with conductor foil having such a configuration is obtained by, for example, stacking the conductor foil to be the conductor foil layer 14 on both sides of the prepreg described above, and heating and pressing the obtained laminate by a vacuum press or the like. It can be manufactured by processing the conductive foil so as to have a desired pattern. By heating and pressurizing the laminate, the layers of the prepreg and the conductive foil are brought into close contact with each other, and the resin composition in the prepreg is cured to form the substrate 12. The heating and pressurization at this time are preferably performed under conditions of a temperature of 120 to 200 ° C. and a pressure of 0.5 to 4 MPa, and may be repeated a plurality of times within these conditions. The patterning of the conductor foil can be appropriately performed by a known patterning method such as a photolithography method.

なお、導体箔付き基板10の製造においては、上述のような導体箔を積層する前に、例えば、上記プリプレグを加熱し樹脂組成物を硬化すること等によって先に基板12のみを形成し、その後、基板10の表面上に導体箔層14を形成するようにしてもよい。基板12を得る場合の加熱は、好ましくは100〜220℃、より好ましくは120〜200℃の範囲で行うことができる。かかる加熱は、例えば真空プレスにより加熱しながら加圧することで行ってもよい。   In the production of the substrate 10 with conductor foil, before laminating the conductor foil as described above, for example, only the substrate 12 is formed first by heating the prepreg and curing the resin composition, and thereafter The conductor foil layer 14 may be formed on the surface of the substrate 10. The heating for obtaining the substrate 12 can be performed preferably in the range of 100 to 220 ° C, more preferably 120 to 200 ° C. Such heating may be performed by applying pressure while heating by, for example, a vacuum press.

このような構成を有する導体箔付き基板10における基板12は、上記本発明の樹脂組成物の硬化物を主として含むものであることから、難燃性に優れるほか、低誘電率且つ低誘電正接であり、しかも、耐熱性や機械的強度にも優れるものとなる。このため、この導体箔付き基板10から得られる回路基板は、電子機器に搭載されて高温に晒されても優れた難燃性を発揮し得るほか、変形等も生じ難く、更には高周波帯域の信号を低損失で伝送可能なものとなる。   Since the substrate 12 in the substrate 10 with a conductive foil having such a structure mainly contains the cured product of the resin composition of the present invention, it has excellent flame retardancy and has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. In addition, heat resistance and mechanical strength are also excellent. For this reason, the circuit board obtained from the substrate 10 with the conductive foil can exhibit excellent flame retardancy even when mounted on an electronic device and exposed to high temperatures, is not easily deformed, and has a high frequency band. The signal can be transmitted with low loss.

なお、本発明の導体箔付き基板としては、上述した形態以外の構成を有するものであってもよい。例えば、導体箔付き基板は、基板として、上述した基板を複数積層してなる積層基板を備えるものであってもよい。図2は、積層基板を備える導体箔付き基板の一例を示す模式断面図である。図示されるように、導体箔付き基板40は、任意の層数(ここでは3層)の基板20からなる積層基板25と、この積層基板25の両面に配された導体箔30からなるものである。基板20は、上記実施形態の基板12と同様のものである。また、導体箔30としては、上述した導体箔層14を形成するための導体箔と同様のものが適用できる。このような導体箔付き基板40は、導体箔30を所定の回路パターン等に加工することによって、電子機器等に搭載される回路基板等として用いることができる。   In addition, as a board | substrate with a conductor foil of this invention, you may have a structure other than the form mentioned above. For example, a board | substrate with conductor foil may be provided with the laminated substrate formed by laminating | stacking a plurality of the above-mentioned board | substrates as a board | substrate. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a substrate with a conductive foil provided with a laminated substrate. As shown in the drawing, the substrate 40 with conductor foil is composed of a laminated substrate 25 composed of an arbitrary number of layers (here, three layers) of substrates 20, and a conductor foil 30 disposed on both surfaces of the laminated substrate 25. is there. The substrate 20 is the same as the substrate 12 of the above embodiment. Moreover, as the conductor foil 30, the thing similar to the conductor foil for forming the conductor foil layer 14 mentioned above is applicable. Such a substrate 40 with conductor foil can be used as a circuit board or the like mounted on an electronic device or the like by processing the conductor foil 30 into a predetermined circuit pattern or the like.

さらに、上述した銅箔付き基板をコア基板として用いれば、容易に多層基板を形成することもできる。すなわち、銅箔付き基板の外層に更に絶縁層及び導体箔層を交互に積層することによって、導体箔層及び絶縁層を交互に備える多層基板を容易に得ることができる。かかる構造の多層基板においては、上記実施形態の基板12や20は、コア基板用の基板だけでなく、導体箔層間に配置される絶縁層(層間基板)として用いてもよい。   Further, if the above-described substrate with copper foil is used as a core substrate, a multilayer substrate can be easily formed. That is, by alternately laminating insulating layers and conductive foil layers on the outer layer of the substrate with copper foil, a multilayer substrate having alternating conductive foil layers and insulating layers can be easily obtained. In the multilayer substrate having such a structure, the substrates 12 and 20 in the above embodiment may be used not only as a core substrate but also as an insulating layer (interlayer substrate) disposed between conductor foil layers.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[基板の作製]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples.
[Production of substrate]

(実施例1〜6、比較例1〜6)
まず、ポリビニルベンジルエーテル化合物(ARS−068、昭和高分子社製)、リン化合物であるp−スチリルジフェニルホスフィン、及びその他のリン化合物をトルエンに溶解した後、所望の添加剤を加えてこれらを均一に混合して、樹脂組成物の溶液を得た。なお、樹脂組成物に用いた各成分の種類及び配合量は、表1(実施例1〜6)及び表2(比較例1〜6)に示す通りとした。

Figure 2007002191
(Examples 1-6, Comparative Examples 1-6)
First, a polyvinylbenzyl ether compound (ARS-068, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), p-styryldiphenylphosphine, which is a phosphorus compound, and other phosphorus compounds are dissolved in toluene, and then a desired additive is added to uniformly dissolve them. To obtain a resin composition solution. In addition, the kind and compounding quantity of each component used for the resin composition were as shown in Table 1 (Examples 1-6) and Table 2 (Comparative Examples 1-6).
Figure 2007002191

Figure 2007002191
Figure 2007002191

表1及び2中、VBEはポリビニルベンジルエーテル化合物、DPPSTはp−スチリルジフェニルホスフィン(北興化学工業社製)、PX200はレゾルシノールビス(2,6−キシレニルホスフェート(大八化学社製)、MR−260はジフェニル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェートをそれぞれ示し、リン含有率は、樹脂組成物(表中の各成分の合計)に含まれる全リン原子の含有率(重量%)を示す。   In Tables 1 and 2, VBE is a polyvinyl benzyl ether compound, DPPST is p-styryl diphenylphosphine (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.), PX200 is resorcinol bis (2,6-xylenyl phosphate (made by Daihachi Chemical Co., Ltd.), MR -260 indicates diphenyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate, and the phosphorus content indicates the content (% by weight) of all phosphorus atoms contained in the resin composition (total of each component in the table).

次に、各樹脂組成物の溶液を、ガラスクロス(Eガラス)に含浸させてプリプレグを形成した。各実施例及び比較例に対応するプリプレグを所望の枚数ずつ形成した後、それぞれを重ねて真空プレスにより、温度プロファイル120℃30分、150℃30分、180℃6.5時間、圧力3MPaの条件で加圧・硬化して、厚さ1.2mmの基板(積層基板)を作製した。   Next, a glass cloth (E glass) was impregnated with the solution of each resin composition to form a prepreg. After forming a desired number of prepregs corresponding to each of the examples and comparative examples, each of the prepregs was stacked and subjected to a vacuum press, and a temperature profile of 120 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 180 ° C. for 6.5 hours, and a pressure of 3 MPa. Was pressed and cured to prepare a substrate (laminated substrate) having a thickness of 1.2 mm.

(実施例7)
上記実施例4の基板の形成に用いたのと同じ組成の樹脂組成物に、無機フィラーとして球状シリカ(FB−3SDC:電気化学工業社製)を40体積%となるように配合した。この無機フィラー混合後の樹脂組成物を、フィルム上にキャスト法で成膜し、120℃で1時間乾燥させて溶剤を除去し、樹脂組成物からなる塗膜を形成した。その後、得られた塗膜を金型でプレスし、真空中、200℃、5時間の条件で硬化を行い、厚さ1.2mmの基板を作製した。
(Example 7)
Spherical silica (FB-3SDC: manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) as an inorganic filler was blended in the resin composition having the same composition as that used for forming the substrate of Example 4 so as to be 40% by volume. The resin composition after mixing the inorganic filler was formed into a film on a film by a casting method, dried at 120 ° C. for 1 hour to remove the solvent, and a coating film made of the resin composition was formed. Then, the obtained coating film was pressed with a metal mold and cured in a vacuum at 200 ° C. for 5 hours to produce a substrate having a thickness of 1.2 mm.

(実施例8)
実施例4の基板の形成に用いたのと同じ組成の樹脂組成物に、無機フィラーとしてセラミック粉末(BaNdTi12:TDK社製、平均粒径1.6μm)を40体積%となるように配合した。無機フィラー混合後の樹脂組成物を用い、実施例1〜6と同様にして厚さ1.2mmの基板を作製した。
[特性評価]
(Example 8)
40% by volume of ceramic powder (Ba 2 Nd 2 Ti 4 O 12 : manufactured by TDK, average particle diameter of 1.6 μm) as an inorganic filler is added to the resin composition having the same composition as that used for forming the substrate of Example 4. It mix | blended so that it might become. Using the resin composition after mixing the inorganic filler, a substrate having a thickness of 1.2 mm was produced in the same manner as in Examples 1-6.
[Characteristic evaluation]

実施例1〜8及び比較例1〜6の基板を用い、以下に示す方法に従って各基板の誘電特性、難燃性、耐熱性及び耐溶剤性の評価を行った。得られた結果をまとめて表3に示す。   Using the substrates of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6, the dielectric properties, flame retardancy, heat resistance and solvent resistance of each substrate were evaluated according to the following methods. The results obtained are summarized in Table 3.

(誘電特性)
実施例1〜8及び比較例1〜6の基板を90mm×1.5mm×0.8mmのサイズに切り出して誘電特性測定用サンプルとした後、空洞共振器摂動法(高周波誘電特性測定装置、ヒューレットパッカード(株)製83620A及び8757Dを使用)により2GHzの周波数にて各サンプルの誘電率(ε´)及び誘電正接(tanδ)を測定した。
(Dielectric properties)
After the substrates of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 were cut into a size of 90 mm × 1.5 mm × 0.8 mm to obtain a dielectric property measurement sample, the cavity resonator perturbation method (high-frequency dielectric property measurement apparatus, Hewlett) The dielectric constant (ε ′) and dielectric loss tangent (tan δ) of each sample were measured at a frequency of 2 GHz using Packard's 83620A and 8757D.

(難燃性評価)
実施例1〜8及び比較例1〜6の基板を127mm×12.7mm×0.8mm(1/21インチ)のサイズに切り出して燃焼試験用サンプルとした後、これを用いてUL94垂直試験法に準拠する方法で燃焼性試験を行い、各サンプルが燃焼を生じるか否かを観察した。なお、燃焼が生じなかったサンプルについては、難燃性のグレード(V−0、V−1及びV−2)についてもあわせて評価した。
(Flame retardance evaluation)
The substrates of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 were cut into a size of 127 mm × 12.7 mm × 0.8 mm (1/21 inch) to make a sample for combustion test, and then used for UL94 vertical test method. A flammability test was performed by a method based on the above, and whether each sample caused combustion was observed. In addition, about the sample in which combustion did not arise, the flame-retardant grade (V-0, V-1, and V-2) was also evaluated.

(耐熱性)
実施例1〜8及び比較例1〜6の基板を40mm×10mm×0.8mmのサイズに切り出して耐熱性試験用サンプルとした後、このサンプルを用いて室温〜300℃の測定温度範囲、昇温速度が5℃/分の条件でDMA(DynamicMechanical Analysis:粘弾性測定器)による測定を行い、各サンプルのガラス転移温度(Tg)を測定した。なお、Tgは測定後のtanδのピークとした。Tgが高いほど熱変形温度が高く、耐熱性に優れることを示している。また、表3中、Tgの表記がないものは、明確なピークが無く、Tgが判別できなかったことを示している。
(Heat-resistant)
The substrates of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 were cut into a size of 40 mm × 10 mm × 0.8 mm to make a sample for heat resistance test, and then the measurement temperature range from room temperature to 300 ° C. was increased using this sample. Measurement was performed with DMA (Dynamic Mechanical Analysis: viscoelasticity measuring device) under a temperature rate of 5 ° C./min, and the glass transition temperature (Tg) of each sample was measured. Tg was the peak of tan δ after measurement. It shows that the higher the Tg, the higher the heat distortion temperature and the better the heat resistance. Further, in Table 3, the case where there is no notation of Tg indicates that there was no clear peak and Tg could not be determined.

(耐溶剤性)
実施例1〜8及び比較例1〜6の基板をトルエン中に浸漬し、超音波を15分印加する処理を行った。処理後の基板の外観を目視で観察し、処理前と比べて外観に変化が生じていなかったものを耐溶剤性に優れるものとして○で示し、外観に変化がみられたものを耐溶剤性に劣るものとして×で示した。
(Solvent resistance)
The board | substrate of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-6 was immersed in toluene, and the process which applies an ultrasonic wave for 15 minutes was performed. Visually observe the appearance of the substrate after processing, and indicate that the appearance did not change compared to before processing as ○ with excellent solvent resistance, and the appearance changed with solvent resistance Inferior to x.

Figure 2007002191
Figure 2007002191

表3より、リン化合物としてDPPSTを含む樹脂組成物を用いて得られた実施例1〜8の基板は、低誘電率且つ低誘電正接であり誘電特性に優れ、なお且つ、優れた難燃性、耐熱性及び耐溶剤性を具備していることが確認された。これに対し、リン化合物としてDPPSTを含まないか、又は、リン原子の合計含有量が本発明の範囲外であった樹脂組成物を用いた比較例1〜6の基板は、特に、誘電特性、難燃性及び耐熱性のうちいずれかの特性が劣っていることが確認された。   From Table 3, the substrates of Examples 1 to 8 obtained using a resin composition containing DPPST as a phosphorus compound have a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, excellent dielectric properties, and excellent flame retardancy. It was confirmed that it had heat resistance and solvent resistance. On the other hand, the substrates of Comparative Examples 1 to 6 using a resin composition that does not contain DPPST as a phosphorus compound or the total content of phosphorus atoms is outside the scope of the present invention are particularly dielectric properties, It was confirmed that one of the properties of flame retardancy and heat resistance was inferior.

好適な実施形態に係る導体箔付き基板を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the board | substrate with a conductor foil which concerns on suitable embodiment. 積層基板を備える導体箔付き基板の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a board | substrate with a conductor foil provided with a laminated substrate.

符号の説明Explanation of symbols

10…導体箔付き基板、12…基板、14…導体箔層、20…基板、25…積層基板、30…導体箔、40…導体箔付き基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Substrate with conductor foil, 12 ... Substrate, 14 ... Conductor foil layer, 20 ... Substrate, 25 ... Laminated substrate, 30 ... Conductor foil, 40 ... Substrate with conductor foil

Claims (8)

樹脂成分及びリン化合物を含む樹脂組成物であって、
前記樹脂成分は、ポリビニルベンジルエーテル化合物を含有し、
前記リン化合物は、リン原子及び複数のベンゼン環を含み、前記ベンゼン環のうちの少なくとも一つがビニル基を有しており、且つ、前記ベンゼン環のうちの少なくとも一つが前記リン原子に結合している反応性リン化合物を含有しており、
前記樹脂成分及び前記リン化合物中の、当該リン化合物に含まれるリン原子の合計含有率が3.5質量%以上であり、
前記樹脂成分100質量部に対する前記反応性リン化合物の含有量は、20質量部以上である、ことを特徴とする樹脂組成物。
A resin composition comprising a resin component and a phosphorus compound,
The resin component contains a polyvinyl benzyl ether compound,
The phosphorus compound includes a phosphorus atom and a plurality of benzene rings, at least one of the benzene rings has a vinyl group, and at least one of the benzene rings is bonded to the phosphorus atom. Containing reactive phosphorus compounds,
In the resin component and the phosphorus compound, the total content of phosphorus atoms contained in the phosphorus compound is 3.5% by mass or more,
Content of the said reactive phosphorus compound with respect to 100 mass parts of said resin components is 20 mass parts or more, The resin composition characterized by the above-mentioned.
前記ポリビニルベンジルエーテル化合物は、下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする請求項1記載の樹脂組成物。
Figure 2007002191

[式中、R11はメチル基又はエチル基であり、R12は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、nは、2〜6の整数である。]
The resin composition according to claim 1, wherein the polyvinyl benzyl ether compound is a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2007002191

[Wherein, R 11 represents a methyl group or an ethyl group, R 12 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6. ]
前記樹脂成分及び前記リン化合物中の、当該リン化合物に含まれるリン原子の合計含有率は、3.5質量%以上5.5質量%未満であることを特徴とする請求項1又は2記載の樹脂組成物。   The total content of phosphorus atoms contained in the phosphorus compound in the resin component and the phosphorus compound is 3.5% by mass or more and less than 5.5% by mass. Resin composition. tanδが2GHz以上の周波数帯域において0.003以下である無機フィラーを更に含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising an inorganic filler having a tan δ of 0.003 or less in a frequency band of 2 GHz or more. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物と、該樹脂組成物中に配された繊維基材と、を含むことを特徴とするプリプレグ。   A prepreg comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 4 and a fiber base material disposed in the resin composition. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物の硬化物と、該硬化物中に配された繊維基材と、を含むことを特徴とする基板。   The board | substrate characterized by including the hardened | cured material of the resin composition as described in any one of Claims 1-4, and the fiber base material distribute | arranged in this hardened | cured material. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物の硬化物及び該硬化物中に配された繊維基材を含む基板と、該基板の表面上に配された導体箔と、を備えることを特徴とする導体箔付き基板。   A substrate comprising the cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 4 and a fiber base material disposed in the cured product, and a conductor foil disposed on a surface of the substrate. A board with a conductive foil, comprising: 請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物の硬化物からなる基板と、該基板の表面上に配された導体箔と、を備えることを特徴とする導体箔付き基板。
A substrate with a conductor foil, comprising: a substrate made of a cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 4; and a conductor foil disposed on a surface of the substrate.
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