JP2006522042A - ヘアスタイリング組成物のためのabaブロックコポリマー - Google Patents
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Abstract
Description
本発明のポリマーは単純にABAブロックコポリマーであってよいか、または例えば、ABAブロックコポリマー上にグラフトすることによる、またはABAブロックコポリマーの更なる反応によるような更なる変性を伴ったABAブロックコポリマーを含んでよい。
−R−C(O)−O−;
−R−O−C(O)−O−;
−R−C(O)−N(R’)−;
−R−O−C(O)−N(R’)−;または
−R−N(R’)−C(O)−N(R”)−
から選択され、式中、Rは場合により置換された線状または分岐のC1−C18炭化水素二価基(C1−C18アルキレンなど)である。
本発明のコポリマー中のAブロックは、エチレン性不飽和重合性モノマーから誘導されるポリマーのブロックである。
ポリマーのBブロックはエチレン性不飽和カルボキシレート基から誘導される。
X−[−CH2−CY(OR)−]m−[−CY’(OR)−CH2−]n−X’
によって表され、式中、mおよびnは独立して1を上回る整数であり、YおよびY’は独立してHまたは−CH3であり、Rは炭化水素基を表し、XおよびX’は独立して遷移金属媒介原子移動重合法におけるブロックポリマーの形成のために活性な置換基を表す。
本発明のポリマーは多くの異なる経路によって形成してよい。しかし、ポリマーは、好ましくは国際公開第01/07496号(BP Chemicals Limited)において記載された方法により形成される。
MはPVAcのMn=8700のようなMである。
nおよびpは、PDMAEMAの各ブロックのMn=9700のようなものである。
PD=1.34
DC20:全Mn=17400
MはPVAcのMn=8700のようなMである。
nおよびpは、PDMAEMAの各ブロックのMn=4350のようなものである。
PD=1.45
Mn=ポリスチレン標準を用いるゲル透過クロマトグラフィによって得られる数平均分子量
PD=多分散性
本発明の化粧品組成物またはパーソナルケア組成物は、髪への適用のために好適なキャリアまたはキャリアの混合物を含むことが可能である。キャリアは、組成物の約0.5から約99.5重量%、好ましくは約5.0から約99.5重量%、より好ましくは約10.0から約98.0重量%で存在する。本明細書で用いられる「髪への適用のために好適な」という用語は、キャリアが髪の美観を損なわないし、髪の美観に悪影響を及ぼさないし、下にある皮膚に刺激を引き起こさないことを意味する。
様々な追加の成分を本発明による組成物中で用いることが可能である。例には、以下の成分が挙げられる。
酢酸ビニルとクロトン酸のコポリマー、
酢酸ビニル、クロトン酸およびビニルネオデカノエートなどのアルファ−分岐飽和脂肪族モノカルボン酸のビニルエステルのターポリマー、
メチルビニルエーテルと無水マレイン酸のコポリマー(モル比約1:1)(こうしたコポリマーは、エタノールまたはブタノールなどの炭素原子数1から4の飽和アルコールで50%エステル化されている)、
アニオン基含有部分としてのアクリル酸またはメタクリル酸を他のモノマーと共に含むアクリルコポリマー、例えば、炭素原子数1から22の1種以上の飽和アルコールとのもの(メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、n−ヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート、ラウリルメタクリレートおよびベヘニルアクリレートなど)、炭素原子数1から6のグリコールとのもの(ヒドロキシプロピルメタクリレートおよびヒドロキシエチルアクリレート)などのアクリル酸またはメタクリル酸のエステルを含むコポリマー、スチレン、ビニルカプロラクタム、酢酸ビニル、アクリルアミド、アルキル基中に1から8個の炭素原子を有するアルキルアクリルアミドおよびアルキルメタクリルアミド(メタクリルアミド、t−ブチルアクリルアミドおよびn−オクチルアクリルアミドなど)ならびに他の適合性不飽和モノマーを含むコポリマーである。
National Starchから入手できるRESYN(登録商標)28−2930(酢酸ビニル/クロトン酸/ネオドデカン酸ビニルコポリマー)、
BASFから入手できるULTRAHOLD(登録商標)8(アクリレート/アクリルアミドコポリマーというCTFA呼称)、
ISP Corporationから入手できるGANTREZ(登録商標)ESシリーズ(メチルビニルエーテルと無水マレイン酸のエステル化コポリマー)
である。
コポリマー845、コポリマー937およびコポリマー958としてISP Corporationから入手できるN−ビニルピロリドンとジメチルアミノエチルメタクリレートのコポリマー、
Styleze(登録商標)CC10としてISP Corporationから入手できるN−ビニルピロリドンとジメチルアミノプロピルアクリルアミドまたはメタクリルアミドのコポリマー、
N−ビニルピロリドンとジメチルアミノエチルメタクリレートのコポリマー、
ビニルカプロラクタム、N−ビニルピロリドンおよびジメチルアミノエチルメタクリレートのコポリマー、
Polyquaternium−4(ジアリルジモニウムクロリドとヒドロキシエチルセルロースのコポリマー)、
Gafquat(登録商標)734、755および755NとしてISPから、およびLuviquat(登録商標)PQ11としてBASFから入手できる(ジエチルスルフェートおよびビニルピロリドンとジメチルアミノエチルメタクリレートのコポリマーの反応により形成される)Polyquaternium−11、
Luviquat(登録商標)FC370、FC550、FC905およびHM−552としてBASFから入手できる(メチルビニルイミダゾリウムクロリドおよびビニルピロリドンから形成される)Polyquaternium−16、
Luviquat(登録商標)HoldとしてBASFから入手できる(ビニルカプロラクタムおよびビニルピロリドンとメチルビニルイミダゾリウムメトスルフェートの反応により形成される)Polyquaternium−46
である。
ジンクピリチオン、ピロクトンオーラミン、二硫化セレン、硫黄およびコールタールなどの抗ふけ活性種、
炭化水素、シリコーン流体およびカチオン性材料などのヘアコンディショニング剤。炭化水素は直鎖または分岐鎖のいずれかであることが可能であり、約10から約16個、好ましくは約12から約16個の炭素原子を含むことが可能である。好適な炭化水素の例は、デカン、ドデカン、テトラデカン、トリデカンおよびこれらの混合物である。本明細書において有用な好適なシリコーンコンディショニング剤には、環式または線状のポリジメチルシロキサンのいずれか、フェニルシリコーンおよびアルキルフェニルシリコーンならびにシリコーンコポリオールを挙げることが可能である。本明細書において有用なカチオン性コンディショニング剤には、第四級アンモニウム塩または脂肪アミンの塩を挙げることが可能である。
髪接合部上にピペットで移した(好ましい材料として上述したような)本発明のABAブロックコポリマーを用いて固形物3%の配合物1μlを調製した。以下の接着強度を得た。
Diastron MTT600パラメータ:%伸び=100
速度(mm/分)=10
最大力(g)=200
ゲージ力(gmf)=2
温度=25℃
以下のポンプ式スプレー組成物を調製した。
市販のシャンプーで頭を2回洗浄することにより組成物を試験した。頭髪をベルクローローラに入れ、フードドライヤーの下で20分にわたり乾燥させてスタイルを固定する。ローラを注意深く取り外し、初期スタイル写真撮影済みAシールドを頭の半分上に置き、6個のポンプのためのポンプ式スプレーから組成物をポンピングして、残りの半分を実施例で処理した。シールドを頭の処理済み側上に置き、頭の第2の半分を同じ方式で第2の実施例で処理した。試験全体を通して写真を撮影する。制御された環境下でSanyo Gallenkamp Chamberを用いて30分にわたりスタイル保持をスタイリストによってモニターさせる。
条件 21〜22℃/湿度34〜35%
以下は本発明による組成物の実施例である。
材料 供給業者 機能
SiliconeエマルジョンX2 1787(商標) Dow Corning コンディショニング
VOLPO CS50(商標) Croda Chemicals 界面活性剤
Sepicide LD(商標) Seppic 保存剤
Cremophor RH410(商標) BASF 安定剤
Silicone DC200/DC24S(商標) Dow Corning コンディショニング
Silwet L7602/L−720(商標) Union Carbide 界面活性剤
CAP40(商標) Calor Gas 噴射剤
Carbopol 980(商標) BF Goodrich 構造化剤
Jaguar HP−105(商標) Rhodia コンディショニング
Silicone Fluid245(商標) Dow Corning コンディショニング
エタノールはSD Alcohol 40−B(92%活性)である。
スタイリングムースを以下の通り配合する。
ヘアスプレーを以下の通り配合する。
ポンプ式スプレーを以下の通り配合する。
スタイリングジェルを以下の通り配合する。
voc55%の噴射エアロゾル組成物を以下の通り配合する。
voc55%のポンプ式ヘアスプレーを以下の通り配合する。
Claims (16)
- i)A群がポリ(アミノアルキルメタクリレート)ブロックで構成され、B群がエチレン性不飽和カルボキシレートから誘導されるABAブロックコポリマーを含むポリマー、および
ii)化粧品的に許容できる希釈剤またはキャリア
を含むヘアケア組成物。 - 前記ポリマーのA群はポリ(2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート)ブロックである、請求項1に記載のパーソナルケア組成物。
- 前記ポリマーのB群は酢酸ビニルから誘導される、請求項1または2に記載のパーソナルケア組成物。
- 全ポリマーの分子量Mnは5,000から500,000である、請求項1から3のいずれか1項に記載のパーソナルケア組成物。
- 前記ポリマーの各Aブロックの分子量Mnは1,000から100,000である、請求項1から4のいずれか1項に記載のパーソナルケア組成物。
- 前記ポリマーの各Bブロックの分子量Mnは1,000から200,000である、請求項1から5のいずれか1項に記載のパーソナルケア組成物。
- 前記ポリマーは、水、エタノールおよびこれらの混合物から選択された溶媒に可溶性である、請求項1から6のいずれか1項に記載のパーソナルケア組成物。
- 芳香剤または香料を更に含む、請求項1から7のいずれか1項に記載のパーソナルケア組成物。
- ヘアスタイリング組成物である、請求項1から8のいずれか1項に記載の組成物。
- 0.1から10重量%の前記ポリマーを含む、請求項1から9のいずれか1項に記載の組成物。
- 追加のヘアスタイリングポリマーを更に含む、請求項1から10のいずれか1項に記載の組成物。
- 0.01から7.5重量%の界面活性剤を更に含む、請求項1から11のいずれか1項に記載の組成物。
- 30重量%以下の噴射剤を更に含む、請求項1から12のいずれか1項に記載の組成物。
- 0.01から10重量%の構造化剤または増粘剤を含むヘアスタイリングクリームまたはヘアスタイリングジェルである、請求項1から13のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1から14のいずれか1項に記載の組成物を髪に適用することを含む、髪をトリートメントする化粧方法。
- 美髪用トリートメントのための、請求項1から16のいずれか1項に記載の組成物の使用。
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