JP2006518880A - Liquid crystal variable optical attenuator - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 149
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 147
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 157
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 33
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 22
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 20
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 8
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 claims 3
- MMAADVOQRITKKL-UHFFFAOYSA-N chromium platinum Chemical compound [Cr].[Pt] MMAADVOQRITKKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 230000006870 function Effects 0.000 abstract description 20
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 abstract description 10
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002223 garnet Substances 0.000 abstract description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 43
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- -1 but not limited to Chemical class 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000611 regression analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/09—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect
- G02F1/093—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect used as non-reciprocal devices, e.g. optical isolators, circulators
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133528—Polarisers
- G02F1/133531—Polarisers characterised by the arrangement of polariser or analyser axes
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
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- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/30—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 grating
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- G02F2202/00—Materials and properties
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Abstract
ねじられたネマチック液晶可変光学減衰器(100)は、一体化されたサブ波長ナノ構造偏光子(111)を含む1つの基板を与えられる。前記機器に一体的なアイソレータを組み込むことができ、前記液晶のサンドイッチ構造の基板は、サブ波長の光学ナノ構造の偏光回折格子にエッチングされたファラデー回転子を含むドーピングされたガーネット基板から形成することができ、該基板がアイソレータとして機能する。前記液晶可変光学減衰器は、正確にセルギャップ厚さを制御するためにスペーサ層をそれぞれ有する両基板であって互いに対向する頂部および底部の両基板を接合している堆積金属ガスケット防湿層(106)を含む。前記液晶可変光学減衰器(100)は、また、互いに対向する両基板間に挟まれあるいはすくなくともその一方または両方に堆積された一体的な熱センサおよび加熱蒸着層(108)を含む。A twisted nematic liquid crystal variable optical attenuator (100) is provided with one substrate containing an integrated subwavelength nanostructured polarizer (111). The device can incorporate an integrated isolator, and the liquid crystal sandwich substrate is formed from a doped garnet substrate including a Faraday rotator etched into a polarization grating of sub-wavelength optical nanostructures. And the substrate functions as an isolator. The liquid crystal variable optical attenuator is a deposited metal gasket moisture-proof layer (106) that joins both the top and bottom substrates opposite to each other, each having a spacer layer in order to accurately control the cell gap thickness. )including. The liquid crystal variable optical attenuator (100) also includes an integrated thermal sensor and heated evaporation layer (108) sandwiched between at least one or both of the substrates facing each other and deposited on at least one of them.
Description
本発明は広くは光学液晶装置に関する。本発明は、特に、サブ波長でエッチングを受けた、ナノ構造回折格子基板によって成形された液晶可変光学減衰器に関する。 The present invention relates generally to optical liquid crystal devices. The present invention particularly relates to a liquid crystal variable optical attenuator shaped by a nanostructured grating substrate that has been etched at sub-wavelengths.
本願は2003年2月21日に出願された出願番号10/371,235の名称「液晶セルプラットホーム」と共に譲渡された優先権主張の継続出願である。本願は、また、以下の出願中の米国特許出願、すなわち2003年2月21日に出願された出願番号10/371976の「液晶セルの製造方法」および2003年2月21日に出願された出願番号10/371,983の「液晶セルの熱制御システム」に関連し、それらは、参照により本願に組み込まれている。
This application is a continuation of the priority claim assigned with the name “Liquid Crystal Cell Platform” of
光ファィバの出現以来、ファイバ光通信インフラストラクチャーは、より多様で、洗練されるようになった。光ファイバの応用は、低速のローカルエリアネットワークから高速の長距離の電気通信システムに及ぶ。近年、より広いバンド幅と、より安価なネットワーク費用との要求により、コンポーネントの集積化の増大と、1つのパッケージの中で多重機能を提供する光デバイスとが、結果として生じていた。例えば、可変の光学式の減衰器に組み込まれるようにデザインされた光学式のクロス接続スイッチは、全チャネルにわたるパワーの均等化を提供する。光通信の集積回路は、1つのパッケージ中ですべてのDWDM波長のルーティング、調整および監視を行う。そのような統合化した機器の人気は、主として、それらが個々に実装されたコンポーネント上で提供するコストセーブと性能の優位性とに基づく。そのような統合化された機器は、また、光学系において結合と配列の難問を簡素化し、それらの個々にパッケージ化された対応する部分の全体により低い挿入損を提供する。 Since the advent of optical fibers, fiber optic communication infrastructure has become more diverse and sophisticated. Optical fiber applications range from low-speed local area networks to high-speed long-distance telecommunications systems. In recent years, the demand for wider bandwidth and lower network costs has resulted in increased component integration and optical devices that provide multiple functions in a single package. For example, an optical cross-connect switch designed to be incorporated into a variable optical attenuator provides power equalization across all channels. Optical integrated circuits route, tune and monitor all DWDM wavelengths in one package. The popularity of such integrated devices is mainly based on the cost savings and performance advantages they offer on individually implemented components. Such an integrated instrument also simplifies coupling and alignment challenges in the optical system and provides a lower insertion loss across their individually packaged counterparts.
光アイソレータは、反射された信号がレーザ源またはLEDに達することを妨げるために、今日の光ファイバネットワークの中で使われており、光アイソレータは、次世代トランシーバモジュール内で可変光学減衰器の前または後ろに置かれると予想されている。光アイソレータは、典型的には、サンドイッチの第1偏光子、ファラデー回転子および第2偏光子から成り、第1偏光子の光学軸と平行なレーザ偏光は該第1偏光子を通過し、該第1偏光子から45度のずれをもつ光学軸を有する前記第2偏光子を通過するに先がけて、ファラデー回転子によって45度回転し、その結果前記光線が第2偏光子を通過する。光アイソレータの中では、第2の偏光子からの反射光は、ファラデー回転子によってさらに45度回転させられ、第1の偏光子によって吸収される。 Optical isolators are used in today's fiber optic networks to prevent reflected signals from reaching the laser source or LED, and optical isolators are used in front of variable optical attenuators in next generation transceiver modules. Or is expected to be placed behind. The optical isolator typically comprises a sandwich first polarizer, a Faraday rotator, and a second polarizer, and laser polarization parallel to the optical axis of the first polarizer passes through the first polarizer, Prior to passing through the second polarizer having an optical axis with a 45 degree deviation from the first polarizer, it is rotated 45 degrees by a Faraday rotator so that the light beam passes through the second polarizer. In the optical isolator, the reflected light from the second polarizer is further rotated 45 degrees by the Faraday rotator and absorbed by the first polarizer.
先に述べたように、トランシーバモジュールは、しばしば、レーザ出力信号強度を制御するために光アイソレータの出力に接続された可変光学減衰器を含む。可変光学減衰器(VOAS)には、機械的および非機械的なタイプがある。従来の機械的VOASは、出力光の焦点をぼかす可動レンズ、出力コリメータからスポット光の中心をずらすように操作するビーム操作鏡、ファイバの中で屈曲を主張するカンチレバーアームおよび光伝達経路を妨げるシャッタに基づいた機構を含む。これらの方法は、2つのファイバ間の結合を調整し、これにより光通路を横切って減衰を制御するが、機械的消耗および故障のような信頼性の問題から損害を被ることが知られている。これらの問題を克服すべく、非機械的VOASが、液晶技術に基づいたVOASを含めて、ここ数年の間に導入されている。 As previously mentioned, transceiver modules often include a variable optical attenuator connected to the output of the optical isolator to control the laser output signal strength. There are mechanical and non-mechanical types of variable optical attenuators (VOAS). A conventional mechanical VOAS includes a movable lens that defocuses output light, a beam manipulation mirror that operates to shift the center of the spot light from the output collimator, a cantilever arm that asserts bending in the fiber, and a shutter that blocks the light transmission path. Including a mechanism based on These methods adjust the coupling between the two fibers, thereby controlling attenuation across the optical path, but are known to suffer from reliability issues such as mechanical wear and failure. . In order to overcome these problems, non-mechanical VOAS has been introduced in the last few years, including VOAS based on liquid crystal technology.
液晶は、可動部のない見込みある非機械的VOAS技術である。 液晶光学減衰器は、一般的に、それぞれ直角な配置構造層を固定したサンドイッチ構造の透明な伝導性のガラス板の外に付着された2つの直角な偏光子から成るねじられたネマチックのタイプ(TN)である。ガラス板間でホメオトロピックに封止された液晶分子は、直角なアンカ層と整列し、液晶サンドイッチ構造の中央部で螺旋状のねじれに沿う。液晶板を横切って印加された電圧は、液晶分子のねじれを解き、再整列させ、前記セルを通過する偏光を制御可能に回転することにより、出力偏光子で光源を可変的に減衰させる。しかし、液晶セルが温度および湿度の変化に影響され易く、高湿、高温の変化によって光学性能が低下し、その結果、液晶セルの性能の2つの重要な尺度において、高い挿入損と低い減衰を生じることが、一般に知られている。 Liquid crystal is a promising non-mechanical VOAS technology with no moving parts. A liquid crystal optical attenuator is generally a twisted nematic type consisting of two right-angled polarizers (outside of a transparent conductive glass plate with a sandwich structure each fixed with a right-angled structural layer). TN). Liquid crystal molecules that are homeotropically sealed between the glass plates align with the perpendicular anchor layer and follow a helical twist in the center of the liquid crystal sandwich structure. The voltage applied across the liquid crystal plate variably attenuates the light source at the output polarizer by untwisting and realigning the liquid crystal molecules to controllably rotate the polarized light passing through the cell. However, liquid crystal cells are susceptible to changes in temperature and humidity, and optical performance is degraded by changes in high humidity and high temperature, resulting in high insertion loss and low attenuation in two important measures of liquid crystal cell performance. It is generally known to occur.
ナノインプリントリソグラフィでの最近の進歩の結果は、サブ波長光回折格子のナノ構造で基板をコスト的に効率良くエッチングすることに能力を発揮し 、これらのナノ構造は、入射光の波長以下で、数百ナノメートルから数10ナノメートルまで特徴サイズを有する結果として独特の光学特性を示すことが知られている。例えば、ガラス基板が偏光フィルタとして機能するように、最近、その表面にサブ波長光ナノ構造回折格子を成形するためにエッチングが行われた。さらに、ファラデー回転子基板には、統合したアイソレータの形成のために、同様なサブ波長光ナノ構造回折格子がエッチングで形成された。 The result of recent advances in nanoimprint lithography is the ability to cost-effectively etch substrates with subwavelength optical grating nanostructures, which are sub-wavelengths of incident light It is known to exhibit unique optical properties as a result of having characteristic sizes from hundred nanometers to tens of nanometers. For example, etching has recently been performed to form a subwavelength optical nanostructured diffraction grating on its surface so that the glass substrate functions as a polarizing filter. Furthermore, a similar sub-wavelength optical nanostructure diffraction grating was formed on the Faraday rotator substrate by etching to form an integrated isolator.
集積化のコストと性能の利点、液晶技術がインプリントリソグラフィと高い互換性および偏光と分離との光機能を提供することが可能な液晶基板を生成する可能性を有するという主張を考慮に入れて、液晶技術に関連する前記した問題を解決する個別の偏光子およびアイソレータを集積化した光減衰が可変の液晶に対する強い要望がある。 Taking into account the cost and performance advantages of integration, the claim that liquid crystal technology has the potential to produce a liquid crystal substrate that is highly compatible with imprint lithography and capable of providing optical functions of polarization and separation There is a strong need for a liquid crystal with variable light attenuation, which integrates individual polarizers and isolators to solve the above-mentioned problems associated with liquid crystal technology.
本発明は、応用と動作の形態とにしたがい、独立してまたは本発明の他の特徴との組み合わせで構成される幾つかの特徴を含む。そのような特徴の説明は、本発明の範囲を制限することではなく、単に、本発明と関連するある具体的な機能を概説することを意図する。 The present invention includes several features that are configured independently or in combination with other features of the present invention, depending on the application and mode of operation. The description of such features is not intended to limit the scope of the invention, but merely to outline certain specific functions associated with the invention.
本発明は、サブ波長の光学的特徴でエッチングされたガラスにより形成し得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can be formed from glass etched with sub-wavelength optical features.
本発明は、一体化されたアイソレータを組み込み得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can incorporate an integrated isolator.
本発明は、第1の基板であって該基板を偏光子として機能させるサブ波長光学ナノ構造でエッチングされた第1の基板と、アイソレーション機能を提供するファラデー回転子がエッチングされた第2の基板とを含む一体的なアイソレータを組み込み得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a first substrate etched with a sub-wavelength optical nanostructure that functions as a polarizer and a second Faraday rotator providing an isolation function. A liquid crystal variable optical attenuator capable of incorporating an integrated isolator including a substrate is provided.
本発明は、トランシーバ、ダイナミックゲインイコライザ、波長可変レーザ、再構成可能の光学式アド/ドロップマルチプレクサ、可変光学減衰器列、および光学パワーモニタ機能の有無に拘わらず調整可能の光学式アド/ドロップマルチプレクサにおける電気通信応用に限らず、種々の応用に組み込むことができる液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention includes a transceiver, a dynamic gain equalizer, a tunable laser, a reconfigurable optical add / drop multiplexer, a variable optical attenuator array, and an optical add / drop multiplexer that can be adjusted with or without optical power monitoring. The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can be incorporated in various applications as well as telecommunications applications.
本発明は、実質的に水分を通さない材料から構成し得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can be constructed from a material that is substantially impermeable to moisture.
本発明は、実質的に水分を通さない材料から構成することができ、一体的なアイソレータを含み得る、液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can be constructed from a material that is substantially impermeable to moisture and can include an integral isolator.
本発明は、単一の物質的な素子としてその中に一体化されたヒータと温度センサとを含み得る液晶可変光学減衰器を提供し、正確な加熱制御および正確な温度感知を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can include a heater and a temperature sensor integrated therein as a single material element, providing accurate heating control and accurate temperature sensing.
本発明は、アイソレータ、ヒータおよび温度センサを一体的に含み得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can integrally include an isolator, a heater, and a temperature sensor.
本発明は、リアルタイムの温度変化を補うために通常用いられるルックアップテーブルを必要とせずに、温度の範囲に亘って液晶可変光学減衰器を操作する新規な方法を提供する。 The present invention provides a novel method of operating a liquid crystal variable optical attenuator over a range of temperatures without the need for a look-up table commonly used to compensate for real-time temperature changes.
本発明は、密閉したハウジングを必要とすることなくTelcordia GR1221において概説されるような厳密な電気通信ガイドラインに合格する液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that passes strict telecommunications guidelines as outlined in Telcordia GR1221, without the need for a sealed housing.
本発明は、製造過程でそりを生じ難く、光学的に平坦な液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides an optically flat liquid crystal variable optical attenuator that is less likely to warp during manufacturing.
本発明は、種々の熱的および湿度雰囲気にさらされるときにそりを生じ難い光学的に平坦な液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides an optically flat liquid crystal variable optical attenuator that is less prone to warping when exposed to various thermal and humidity atmospheres.
本発明は、厚さをナノメートルの分解能で制御できる液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator whose thickness can be controlled with nanometer resolution.
本発明は、厚さをナノメートルの解像度で制御でき、さらに一体化されたアイソレータを含み得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator whose thickness can be controlled with nanometer resolution and which can include an integrated isolator.
本発明は、前記した特徴のいくつかまたはすべてを備える液晶可変光学減衰器を製造するための新規な方法を提供する。 The present invention provides a novel method for manufacturing a liquid crystal variable optical attenuator with some or all of the features described above.
本発明は、複数の液晶可変光学減衰器から成るN×M配列に形成し得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can be formed in an N × M array of a plurality of liquid crystal variable optical attenuators.
本発明は、それぞれがアイソレータを含み得る複数の液晶可変光学減衰器から成るN×M配列に形成し得る液晶可変光学減衰器を提供する。 The present invention provides a liquid crystal variable optical attenuator that can be formed in an N × M array of liquid crystal variable optical attenuators, each of which can include an isolator.
従来技術の不都合は、一体化したサブ波長ナノ構造の偏光子を含む少なくとも1つの基板を含むねじられたネマチックの液晶可変光学減衰器により、解消することができる。一形態では、前記機器は、サブ波長の光学ナノ構造の偏光回折格子にエッチングされたファラデー回転子を含むドーピングされたガーネット基板から形成することができ、該基板がアイソレータとして機能する。前記液晶可変光学減衰器は、正確にセルギャップ厚さを制御するためにスペーサ層をそれぞれ有する両基板であって互いに対向する頂部および底部の両基板を接合している堆積金属ガスケット防湿層を含む。前記液晶可変光学減衰器は、また、互いに対向する両基板間に挟まれあるいはすくなくともその一方または両方に堆積された一体的な熱センサおよび加熱蒸着層を含む。 The disadvantages of the prior art can be overcome by a twisted nematic liquid crystal variable optical attenuator comprising at least one substrate comprising an integrated subwavelength nanostructured polarizer. In one form, the device can be formed from a doped garnet substrate that includes a Faraday rotator etched into a polarization grating of sub-wavelength optical nanostructures, the substrate acting as an isolator. The liquid crystal variable optical attenuator includes a deposited metal gasket moisture-proof layer that joins both the top and bottom substrates facing each other, both substrates each having a spacer layer to accurately control the cell gap thickness. . The liquid crystal variable optical attenuator also includes an integrated thermal sensor and a thermal evaporation layer sandwiched between at least one or both of the substrates facing each other.
従来技術の不都合は、さらに、セルがほぼ一定温度に保持されるように、一体化された能動的な熱素子の全域にわたる温度感知機能および加熱機能を多重化する時分割方式を利用した液晶可変光学減衰器制御系により、解消される。較正処理は、前記セルのプロファイルを特徴付けるように含まれ、温度のための駆動電圧出力およびセル状態の入力を提供する多項式の回帰式を生成する。前記制御系は、液晶セルの状態および回帰式を記憶し、温度補償のための駆動電圧を計算し実行すべく液晶セルの温度を読む。 Another disadvantage of the prior art is that the liquid crystal is variable using a time-division scheme that multiplexes the temperature sensing and heating functions across the integrated active thermal element so that the cell is held at a nearly constant temperature. It is eliminated by the optical attenuator control system. A calibration process is included to characterize the profile of the cell and generates a polynomial regression equation that provides drive voltage output for temperature and cell state input. The control system stores the state of the liquid crystal cell and the regression equation, reads the temperature of the liquid crystal cell to calculate and execute a drive voltage for temperature compensation.
本願では、全体にわたって同様な要素に言及するときには、同じ参照番号を用いている。一体的な偏光子は、明細書に記載され支持されているように、複数の実施例にわたって同じ索引によって参照されるが、異なる光学軸によって調整されている。さらに各基板の上に分配されて、後で結合される本発明のそれらの支持要素および特徴的構造は、特定の基板A、Bのための参照番号で、または簡素化の目的のために、共有された参照符号で参照される。 In this application, like reference numerals are used to refer to like elements throughout. The integral polarizer is referenced by the same index throughout the embodiments as described and supported in the specification, but is adjusted by different optical axes. In addition, those support elements and features of the present invention that are distributed over each substrate and later joined together are reference numbers for specific substrates A, B, or for the purpose of simplicity. Referenced with a shared reference sign.
本発明の第1の実施例は、図1Aに示されており、該図は第2の基板110Bに対向する第1の基板110Aを有する液晶可変光学減衰プラットホーム100を示し、前記第1の基板は、該基板の一側面上の偏光子構造111と、他側面上の透明な伝導性電極層104A、第1の液晶配列層109A、金属ガスケット層106Aおよびスペーサ層107Aとを含み、また第2の基板110Bは、透明な伝導性の電極層104Bと、第1の液晶配列層109Aに直角な摩擦角で固着された第2の液晶配列層109Bと、スペーサ層107Bとを含む。図1bは、自由空間可変光学減衰器100と、偏光10を生成する光源5とを示し、偏光10は前記機器に入力され、ねじられたネマチックの液晶配置を通過するときに回転の制御を受ける。電極層に電圧が印加されていない場合、前記機器は偏光10にほぼ90度の回転を生じさせ、ほぼ前記光線のすべてが該光線に直角な光軸を有する前記偏光回折格子構造を通過させる。電極に印加された限界電圧は、液晶分子にそのよりを戻し、または電界に沿って整列する傾向を与え、その結果、入力光10の部分的な回転と偏光子構造111を通して光10に部分的な遅延とを生じる。電極104Aおよび104Bに印加された基準電圧は、分子配列をほぼ完全に電界に沿わせる結果を生じ、前記機器を通過する光10に実質的に回転を生じさせない。これは液晶可変減衰器の最大の減衰または消衰状態を規定する。
A first embodiment of the present invention is illustrated in FIG. 1A, which shows a liquid crystal variable
本発明の第2の実施例は、第1の実施例のすべての特徴を含み、さらに、図2に示されているように、基板110Bの外側面上の偏光子構造112を含む。偏光子構造112は、入射光のために、参照偏光子面を提供し、前記光10の偏向と同じ偏向に形成されているが、基板110Aの偏光構造111の偏りに直角な光軸を持つ。
The second embodiment of the present invention includes all the features of the first embodiment, and further includes a
本発明の第3の実施例は、一体的なアイソレータを含む。本実施例のために、基板材料は、基板110Aをファラデー回転子として機能させるように選択する必要がある。そのような材料は、Biで置換された希土類元素の鉄ガーネットの厚い膜の単結晶技術に基づいたそれらを含むことができる。基板110Bは、ガラスとすることができる。本実施例では、ファラデー基板110Aの上面および下面の両方に、サブ波長光学偏光子要素111および101がエッチングでそれぞれ形成される。回折格子偏光子要素の周期とサイズは、当業者が設計可能なように、それらの光軸が典型的なアイソレータにおけると同様に、45度の間隔を置くように選択される。液晶配列層104Aに隣接して配置された回折格子偏光要素101が偏光10に直角な光軸を有することは望ましい。図3bは、一体化されたアイソレータを備える自由空間可変光学減衰器100を示す。光源5は、前記機器に入力され、ねじられたネマチックの液晶配置を通過するときに制御可能な回転する偏光10を発生させる。前記電極層に電圧が印加されていない場合、前記機器は、前記偏光10にほぼ90度回転を生じさせ、前記光のほぼすべてを、第1の偏光子101、ファラデー回転子基板110Aおよび第2の偏光子111によりサンドイッチ構造に形成された光学アイソレータに入力させまたその通過を許す。電圧が印加されない場合、液晶からの出力光10は、第1の偏光子101の光軸にほぼ平行なことから、該第1の偏光子を通過し、ファラデー回転子によってさらに回転させられている光が通過することを可能にする第1の偏光子から45度オフセットした光軸を持つ第2の偏光子を通過することに先がけてファラデー回転子によって45度回転させられる。本実施例では、第2の偏光子111を通過したどのような反射光の戻りでもファラデー回転子基板110Aによってさらに45度回転させられ、第1の偏光子101によって吸収される。電極104Aおよび104Bに印加される限界の電圧は、液晶分子にそのよりを戻すかあるいは電界に沿って整列する傾向を与え、その結果、入力光10の部分的な回転と、第1の偏光子101Aを通して光10に部分的な遅延とを生じる。電極104Aおよび104Bに印加された基準電圧は、分子配列をほぼ完全に電界に沿わせる結果を生じ、前記機器を通過する光10に実質的に回転を生じさせない。これは液晶可変減衰器の最大の減衰または消衰状態を規定する。
The third embodiment of the present invention includes an integral isolator. For this example, the substrate material must be selected to make the
本発明の第4の実施例は、またアイソレータを含み、図4aに示されている。本実施例では、アイソレータは、前記機器の入力端で前記光を受けるように配置されている。本実施例のための基板材料の選択は、基板110Bがファラデー回転子として機能することを可能にしなければならない。そのような材料は、Bi置換の希土類の鉄ガーネットの厚い膜の単結晶技術に基づいたそれらを含む。基板110Aは、ガラスとすることができる。本実施例では、ファラデー基板110Bの上面および下面の両方に、サブ波長光学偏光子要素111および101がエッチングでそれぞれ形成される。回折格子偏光子要素の周期とサイズは、当業者が設計可能なように、それらの光軸が典型的なアイソレータにおけると同様に、45度の間隔を置くように選択される。回折格子偏光要素101は偏光10の光軸に等しい光軸を有することが好ましい。図4bは、一体化されたアイソレータを備える自由空間可変光学減衰器100を示す。光源5は、第1の偏光ナノ構造体101によって受光されかつファラデー回転子基板110Bを経て45度の一定角度回転される偏光10を生じ、該偏光は第2の偏光ナノ構造体111を経てねじられたネマチックの前記液晶配置中を通過し続けることが可能となる。電極層104Aおよび104Bに電圧が印加されていない場合、前記液晶装置は偏光10にほぼ90度の回転を生じさせ、光源偏光10の偏りから光軸が135度のオフセットした光のすべてが偏光子112に入力し、該偏光子を通過することが可能となる。偏光子112の光軸は、液晶を通しての90度の回転だけでなく前記アイソレータを通しての初期の45度の回転の両方に適応させる135度となるように選択される。電極104Aおよび104Bに印加される限界の電圧は、液晶分子にそのよりを戻すかあるいは電界に沿って整列する傾向を与え、その結果、入力光10の部分的な回転と、出力偏光ナノ構造体112を通しての光10の部分的な遅延とを生じる。前記電極104Aおよび104Bに印加された基準電圧は、分子配列をほぼ完全に電界に沿わせる結果を生じ、前記液晶を通過する光10に実質的に回転を生じさせない。この状態では、出力ナノ構造偏光子112は通過してきた光を遮断する。この状態は、液晶可変光学減衰器の最大の減衰または消衰状態を規定する。すべての状態で、第2の偏光子111を通過したどのような反射光の戻りでもファラデー回転子基板110Aを経てさらに45度回転させられ、第1の偏光子101によって最終的に吸収される。
The fourth embodiment of the present invention also includes an isolator and is shown in FIG. 4a. In this embodiment, the isolator is arranged to receive the light at the input end of the device. The choice of substrate material for this example must allow the
図4cは、一体化されたヒータ/温度センサ108が組み込まれた液晶セルプラットホームの例を示す。ヒータ/温度センサ108は、前記液晶装置の温度を読むためだけでなく、熱エネルギーを液晶可変光学減衰器に適用するために、本発明のすべての実施例に設定することができる任意の選択機構である。この特徴は、引き続く処理ステップおよびエレクトロニクス制御系のセクションの中で説明されるであろう。 FIG. 4 c shows an example of a liquid crystal cell platform incorporating an integrated heater / temperature sensor 108. The heater / temperature sensor 108 is an optional selection mechanism that can be set in all embodiments of the present invention not only to read the temperature of the liquid crystal device but also to apply thermal energy to the liquid crystal variable optical attenuator. It is. This feature will be explained in the subsequent processing steps and electronics control section.
図5は、液晶セルプラットホーム100を作成するための組立て工程の一例を示す。形成される構成の実施例に応じて、様々な付加ステップを除去することができる。
FIG. 5 shows an example of an assembly process for creating the liquid
図5について、第1ステップは、サブ波長ナノ構造回折格子要素を基板に組み込むことを含む。第1実施例では、このステップは、もっぱらガラス基板110Aにサブ波長偏光回折格子111を一体化することを含む。第2実施例では、このステップは、ガラス基板110Aにサブ波長偏光回折格子111を、またガラス基板110Bにサブ波長回折偏光子112をそれぞれ一体化することを含む。第3の実施例では、このステップは、ファラデー回転子基板110Aの頂面にサブ波長偏光回折格子111を、またファラデー回転子基板110Aの底面にサブ波長偏光回折格子101を一体化することを含む。第4実施例では、このステップは、基板110Aに第4実施例のサブ波長偏光回折格子112を、ファラデー回転子基板110Bの頂面に第4実施例のサブ波長偏光回折格子111を、またファラデー回転子基板110Bの底面に第4実施例のサブ波長偏光回折格子101を、それぞれ一体化することを含む。前記した特徴構造を一体化した基板は、ニュージャージに所在の「ナノオプト社(NanoOpto Corporation)」から入手可能である。しかしながら、回折格子の構成は、また、表面レリーフフォトレジストパターンが、ナノメートルの範囲で回折格子構造を成形すべくエッチングが行われる基板の上の表面レリーフパターンを作成するためにフォトレジストにリファレンス回折格子マスクを押印する分野で知られたナノインプリントリソグラフィまたは同様な方法を用いて基板110Aおよび110Bに組み込むことができる。モデリングナノ構造回折格子の当業者にとって、各偏光子の光軸を形成するために適切な周期および回折格子のサイズを選ぶことができることは明白である。これに代えて、基板材料の選択によって偏光子を基板に組み込むことができる。 例えば、前記基板は「コーニング社(Corning, Inc.)」によって作られた偏光ガラスとすることができる。
For FIG. 5, the first step involves incorporating a subwavelength nanostructured grating element into the substrate. In the first embodiment, this step includes integrating the sub-wavelength
第2ステップは、前記液晶電極を成形するために前記第1および第2のガラス基板に適正なITO(インジウム錫酸化物)パターンを付加することを含む。図5の処理フロー202について、標準のPECVD工程を約100オングストロームの厚さのITO薄膜を付けるのに用いても良い。図6Aおよび6Bは、それぞれ基板110Aおよび110Bにパターンを付けるために使われるITOのマスク例を示す。
The second step includes adding an appropriate ITO (indium tin oxide) pattern to the first and second glass substrates to form the liquid crystal electrode. For the
第3ステップは、ポリイミド配列層を前記第1および第2のガラス基板に付加することを含む。図5の処理フロー203について、各基板に約600オングストロームの厚さのポリイミド層を形成するために、室温での標準スピンコートステップ処理を用いることができる。
The third step includes adding a polyimide alignment layer to the first and second glass substrates. For the
第4ステップは、前記ポリイミド層のパターニングを含む。処理204について、フォトレジストは、最初に、前記基板に適用されて、従来のフォトリソグラフィ技術を使ってマスキングされ、あるいは、前記基板のパターニングにレーザーエッチングを用いることができる。その後、ウエットまたはドライエッチングが施されることにより、ポリイミドのパターンが形成される。
The fourth step includes patterning the polyimide layer. For
第5ステップは、液晶配列層を固着することを含む。処理ステップ205について、1つの従来方法は、前記配列層を形成するために各基板の前記ポリイミドを摩擦することである。ねじられたネマチックの形態では、前記第1の基板の摩擦方向は第2の基板の摩擦方角に直角である。電子的に伝導性の複屈折(ECB)形態では、前記第1の基板の摩擦方向は第2の基板の摩擦方向と平行している。種々の固定案により、0度または90度以外の摩擦角とすることができる。前記配列層を形成する他の方法は、インプリントリソグラフィ技術を使用することであり、この技術では、リファレンスマスクが、ナノスケールの許容範囲で高精度な配列溝を成形すべく、後でエッチングを受けるフォトレジストの表面レリーフパターンを作成するために堆積されたフォトレジスト層の上に押される。
The fifth step includes fixing the liquid crystal alignment layer. For
付加的な第6ステップは、能動的な熱素子である一体的なヒータおよび温度センサを形成することを含む。図7Aおよび7Bは、図5の処理ステップ206に関して使用されるマスクの例を示し、最初にクロムの種接着層が前記基板の上に厚さ約200オングストロームで堆積され、続いてPECVDにより、約2000オングストロームの厚さの薄膜白金抵抗層が堆積され、該層が一体的な前記ヒータ/温度センサの上部と下部とを形成する。前記基板110Aおよび110Bに適用された一体的な前記デバイスの上部と下部とは、エアギャップによって約9.6ミクロン隔てられており、引き続く第8ステップで説明される金属堆積ステップで形成された複数のビア(VIAS)によって相互に接続される。ギャップ厚さは、例として述べられており、要求される用途に応じて変化するであろう。白金薄膜抵抗は、図面7Aおよび7Bの蛇行パターンと同様に、形態に応じて、アーチ状、曲線状、円形状、ジグザグ状および帯状に限定されないが、これらを含む様々な形状にパターン化することができる。薄膜白金は、ほぼ10.6×10E-8オームメートルの抵抗率を与えられ、例えば、薄膜の体積に応じて、室温で約500から2000オームの抵抗を生じる。
An additional sixth step includes forming an integral heater and temperature sensor that are active thermal elements. FIGS. 7A and 7B show examples of masks used with respect to process step 206 of FIG. 5, in which a chromium seed adhesion layer is first deposited on the substrate at a thickness of about 200 Å, followed by PECVD. A 2000 Angstrom thick thin film platinum resistance layer is deposited, which forms the upper and lower portions of the integral heater / temperature sensor. The upper and lower parts of the integrated device applied to the
第7ステップは、スペーサ要素107の形成を含む。スペーサ要素107は液晶セルのギャップ厚さを制御する。前記スペーサ要素を各基板上に等しくかつ均等に分配する必要はないが、完成したセルの所望ギャップ厚さの半値が各基板に堆積されるように、スペーサ要素107の厚さを規定することが好ましい。結合されたセル100のギャップ厚さは、したがって堆積工程に基づく許容範囲で成形される。二酸化ケイ素がスペーサ要素を作成する好ましい材料であるが、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、一酸化ケイ素のような実質的に圧縮されない薄膜堆積工程で互換性を持つ他の材料が、選ばれた液晶基板材料と互換性を持つならば、二酸化ケイ素にも代わるものとして用いることができる。図8Aおよび8Bは、図5の処理ステップ207を実行するために使われるマスク例を示し、各基板上に5ミクロンの厚さの二酸化ケイ素のパターン層が堆積されている。
The seventh step involves the formation of
第8ステップは金属ガスケット要素106の形成を含む。金属ガスケット要素108は、これらに限られないが、インジウム、金、ニッケル、錫、クロム、白金、タングステン、銀、ビスマス、ゲルマニウムおよび鉛のような種々の金属から形成することができる。しかし、その柔軟性および比較的低い溶融温度のため、インジウムを使うことが望ましい。図A9および9Bは、図5の処理ステップ208を実行するために使われるマスク例を示し、継続例のために、インジウムが、約7〜9ミクロンの厚さの層で、等しく前記各基板の上に堆積される。この処理ステップの金属ガスケット層は、前記付加の処理ステップの間に起こる漏出による前段階のスペーサ要素より厚く堆積されることは一般に望ましい。図9Aおよび9Bに示されているように、金属ガスケットマスクは、基板110Aまたは110Bのいずれかに堆積された材料間で電気的相互接続を可能にする関連する複数のビア(VIAS)300を成形するために構成される。複数のビア(VIAS)300は、また、温度センサと発熱体とに外部の接触パッドの取り回しを簡素化するために成形される。例えば、本実施例のビア(VIAS)300は、第6ステップで規定されたヒータ/温度センサ白金層に重複するように配置される。それらは、また、液晶セルの2つ電極を駆動するための接触パッドを規定するように、ITO層に重複するように配置される。
The eighth step includes forming the
第9ステップは、ウエハ110Aをウエハ110Bに位置合わせし、押し付けることを含む。視認可能な位置合わせ照合マークを基礎の前記ウエハにエッチングで形成し、あるいはエッジまたは位置合わせ穴のような前記ガラス板の物理的特徴をウエハの位置合わせに用いることが知られている。しかしながら、高価な高精度配列装置を用いることなく2つの前記ガラス基板の相対的な位置合わせを正確におこなう高い歩留まり法が、ここに述べられており、それにより各基板を接合し、押し付ける間に前記板ガラスの相対移動を防止すべく、各基板上に形成された相補的な幾何的かみ合い構造物を相互に結合する。そのような連結構造物は、接合工程における如何なる不均一性をも緩和し、液晶セルの2枚のガラス板間の典型的なギャップが20マイクロメートルより少ないと仮定すると、薄膜形成またはスクリーニングの処理は、正確に制御されかつ反復可能な幾何学的構造物の形成に用いることができる。図5の処理ステップ209について、前記基板110Aおよび110Bは、両基板から形成されたサンドイッチ構造のスペーサ要素によって規定されるギャップ距離で化学結合金属ガスケットを成形するために、室温の圧力の下で、位置合わせされ接合される。
The ninth step includes aligning and
第10ステップは、ウエハのダイシングを含む。図5の処理ステップ210は、ダイシングソーまたはビア(via)エッチング技術を用いて行うことができる。
The tenth step includes wafer dicing.
第11ステップは、液晶セルから保護ガラスの一部を除去することを含む。図10Aは、本発明の完成した実施例における前記基板間の該基板を介して結合された種々の層の上面透視図を示す。図5の処理211について、基板110Bは、基板の厚さの約90%の溝を切り図10Aの分離線119を形成するために、ダイアモンドのダイシングソーを使って刻み目を入れられる。基板110Bの一部は、液晶注入孔115、内在する液晶電極接触パッド500および500′および内在する液晶ヒータ/温度センサ素子電気接触パッド502および502′へのアクセスを許す図10Bのアクセス表面113を規定するために、分離線119に沿って分離される。
The eleventh step includes removing a part of the protective glass from the liquid crystal cell. FIG. 10A shows a top perspective view of the various layers bonded through the substrates between the substrates in a completed embodiment of the invention. For
第12ステップは、液晶装置を液晶分子で満たす(図5の処理212)ことを含む。このステップは、液晶セルを満たす従来方法を使って、行なうことができ、セルが真空中に置かれて、液滴サイズの液晶物質が注入孔115に入れられ、真空の解除による平衡圧が液晶物質を注入孔115に押し込み、該注入孔に栓が施される。前記注入孔を閉じるために、UV硬化エポキシ樹脂の他、前記注入孔にふたを被せる種々の技術を用いることができる。
The twelfth step includes filling the liquid crystal device with liquid crystal molecules (
エレクトロニクス制御系
液晶セルシステムに向けられた構成要素のブロックダイヤグラムとそのホストコントローラが、本発明の液晶熱管理および電圧制御サブシステムとともに、図11に示されており、以下、さらに詳しく説明する。
Electronics Control System A block diagram of components directed to a liquid crystal cell system and its host controller are shown in FIG. 11 along with the liquid crystal thermal management and voltage control subsystem of the present invention and will be described in further detail below.
一つの実施例では、ホストコンピュータ400は、全二重データインタフェースでマイクロコントローラ402と通信するように構成されており、ホストコンピュータが機能を働かせ、コマンドを送り、マイクロコントローラ402からデータを検索することが可能である。マイクロコントローラは、ソフトウェア制御ルーチンを保持するように構成されている。ソフトウェア制御ルーチンは、気温の変動に応じて液晶セルに供給される駆動電圧を調整するように機能する。
In one embodiment, the
マイクロコントローラは、セルがほぼ一定の温度で保持されるように、一体化されたセンサ/ヒータ機器で温度感知および加熱機能を多重化する時分割多重化スキームを利用する。較正処理は、セルのプロファイルを特徴付けており、与えられた温度とセルの状態入力のために最適な駆動電圧出力を提供する多項式の回帰式を生成する。マイクロコントローラ402は、液晶セルの状態および回帰式を記憶し、温度を補償する駆動電圧を計算しこれをアサートするために、液晶セルの温度を読む。
The microcontroller utilizes a time division multiplexing scheme that multiplexes temperature sensing and heating functions with an integrated sensor / heater device such that the cell is held at a substantially constant temperature. The calibration process characterizes the cell profile and generates a polynomial regression equation that provides the optimal drive voltage output for a given temperature and cell state input. The
図11は、本発明の方法を行なうために使用される較正処理を示し、液晶セルの熱動作特性プロファイルが、温度とセル状態とに応じてセルに印加される駆動電圧を調整するために使用される記憶された回帰式に組み入れられた決定論的な係数に変換されている。 FIG. 11 shows the calibration process used to perform the method of the present invention, where the thermal operating characteristic profile of the liquid crystal cell is used to adjust the drive voltage applied to the cell as a function of temperature and cell state. Has been converted to deterministic coefficients incorporated into the stored regression equation.
セル温度および電圧補償プロファイルにおける係数値を決定する第1ステップは、温度の範囲に亘って液晶セルの駆動特性を描くことである。プロファイル処理ステップ601では、所定の電圧と温度との組合せで、前記セルを通過する光源とその減衰とを試験する。動作可能の液晶セルは、所定の間隔で所望の温度の範囲に亘って動作温度を変更すべくプログラムされた熱室に置かれる。あらゆる温度変化間隔において、減衰などの動作特性が測定される間、一定範囲の電圧値が液晶セルに印加される。参照減衰レベルが達成されるまで、電圧はスキャンされ、その時点での電圧、減衰および温度レベルがセルプロファイル定義テーブルの格子点表示として記録される。液晶セルの性能は格子点減衰と複数の温度レベルで記録され、どのような温度と電圧の入力でも減衰レベル出力を提供する多次元ルックアップテーブルを結果として生じ、このテーブルは、三次元として表示される。
The first step in determining the coefficient values in the cell temperature and voltage compensation profile is to draw the driving characteristics of the liquid crystal cell over a range of temperatures. In the
第2ステップは、前段階において記録された所定の減衰レベルでの温度に関する電圧プロファイルを滑らかにするためにルックアップテーブルの処理を必要とする。マスマテカ・アンド・コマット(Mathematica & commat)など、回帰分析を実行することが可能な統計プログラムを処理ステップ602の実行に用いることができる。回帰ソフトウェアは第1ステップにおいて生成されたルックアップテーブルを備え、以下の公式で表された、各減衰レベルでのセルの電圧対温度プロファイルを表す適切な係数a、b、c、d、およびeを生成する4次数の回帰曲線適合処理を実行する。
The second step requires look-up table processing to smooth the temperature-related voltage profile at the predetermined attenuation level recorded in the previous stage. A statistical program capable of performing regression analysis, such as Mathematica & commat, can be used to perform
v = a + bT + cT2 + dT3 + eT4
v1 = a1 + b1T + c1T2 + d1T3 + e1T4
v2 = a2 + b2T + c2T2 + d2T3 + e2T4
・
・
・
vn = an + bnT + cnT2 + dnT3 + enT4
v = a + bT + cT 2 + dT 3 + eT 4
v 1 = a 1 + b 1 T + c 1 T 2 + d 1 T 3 + e 1 T4
v 2 = a 2 + b 2 T + c 2 T 2 + d 2 T 3 + e 2 T 4
・
・
・
v n = a n + b n T + c n T 2 + d n T 3 + e n T 4
ここで、Vは電圧、Tは液晶セル温度、a、b、c、dおよび eは曲線に適合する係数、nは減衰レベルである。 Here, V is a voltage, T is a liquid crystal cell temperature, a, b, c, d and e are coefficients that fit the curve, and n is an attenuation level.
滑らかな曲線が記録された格子点減衰レベルで所定の温度のために最適な駆動電圧レベルを規定する先のステップに起因していると仮定すると、第3ステップは、3次元表面の直交軸を横切って適合した滑らかな曲線の回帰式に帰着し、それによって円滑な曲線が第1ステップにおいて記録された粗い減衰格子点上に適合する。この処理ステップ603で、先のステップの5つの係数は、2次回帰によってそれぞれ解かれる。特にMathematica&commatあるいは適当なプログラムは、回帰式v”=an+bT+cT2+d”T3+e”T4のオーダーのすべてに亘って5つの係数a、b、c、dおよびeのそれぞれのプロファイルに適合した3つの係数のために解くように使われる。したがって、滑らかな表面のプロファイルは、以下の公式により、入力減衰状態および温度を与えられた最適な電圧補償レベルを規定する。 Assuming that a smooth curve is due to the previous step of defining the optimum drive voltage level for a given temperature at a recorded grid point attenuation level, the third step is the orthogonal axis of the three-dimensional surface. The result is a smooth curve regression equation fitted across, so that the smooth curve fits on the coarse attenuation grid points recorded in the first step. In this processing step 603, the five coefficients of the previous step are solved by quadratic regression, respectively. In particular, Mathematica & commat or a suitable program has 5 coefficients a, b, c, d and e, respectively, over the order of the regression equation v ″ = an + bT + cT 2 + d ″ T 3 + e ″ T 4 The smooth surface profile thus defines the optimal voltage compensation level given the input decay state and temperature by the following formula:
V=a+bT+cT2+dT3+eT4、ここで
a = (X + Yθ+ Zθ2)
b = (X1 + Y1θ + Z1θ2)
c = (X2 +Y2θ + Z2θ2)
d = (X3 + Y3θ + Z3θ2)
e = (X4 + Y4θ+ Z4θ2)
V = a + bT + cT 2 + dT 3 + eT 4 , where
a = (X + Yθ + Zθ 2 )
b = (X 1 + Y 1 θ + Z 1 θ 2 )
c = (X 2 + Y 2 θ + Z 2 θ 2 )
d = (X 3 + Y 3 θ + Z 3 θ 2 )
e = (X 4 + Y 4 θ + Z 4 θ 2 )
θは液晶減衰レベル
X, Y, Zは、0次係数の解、
X1, Yl, Zlは、1次係数の解
X2, Y2, Z2は、2次係数の解
X3, Y3, Z3は、3次係数の解
X4, Y4, Z4は、4次係数の解
θ is the liquid crystal attenuation level
X, Y, Z are the solutions of the zeroth order coefficient,
X 1 , Y l , Z l are the solutions of the first-order coefficients
X 2 , Y 2 , Z 2 are the solutions of the quadratic coefficients
X 3 , Y 3 , Z 3 are the solutions of the third order coefficient
X 4 , Y 4 , Z 4 are the solutions of the fourth-order coefficient
15個の係数解(Xn, Yn, Zn、ここでnは0から4まで)は、マスマテカ(Mathematica)により、適当な(データ、{l、x、x2、および…、xn}、x)関数または曲線適合回帰を実行可能な他の適当なソフトウェアパッケージを使って生成できる。 15 coefficients solutions (Xn, Yn, Zn, where n is from 0 to 4), by Masumateka (Mathematica), appropriate (data, {l, x, x 2, and ..., x n}, x ) Can be generated using a function or other suitable software package capable of performing curve fitting regression.
第4ステップは、図11の較正処理における最終ステップである処理606であり、説明中の液晶制御系の係数を記憶する。
The fourth step is a
液晶特性を描く係数は、適切な15個の係数値でマイクロコントローラ402のメモリ(図12)をフラッシュすることによって、該マイクロコントローラのメモリに保存することができる。
The coefficients describing the liquid crystal properties can be stored in the microcontroller memory by flashing the
本発明の熱の補償システムは、液晶セルの温度を読み、セル状態に基づいてセルのドライブ電圧を調整することにより、動作する。セル状態は、一般にオフ、オンで動作させ、あるいは変数のモードの中で動作させることができる。セル状態は、マイクロコントローラ402に記憶され、またホストコンピュータ400を経て形成される。
The thermal compensation system of the present invention operates by reading the temperature of the liquid crystal cell and adjusting the cell drive voltage based on the cell state. Cell states can generally be operated off, on, or in variable mode. The cell state is stored in the
アナログ−デジタル変換器を内部に有し10Mhzの水晶発振器404のクロックで動作するPICマイクロチップでマイクロコントローラを構成することができる。マイクロコントローラは、シリアルインターフェイスでマイクロコントローラからのパルスストリームの形態に応答して出力電圧レベルを提供するように形成されたデジタル・アナログ・コンバータ(DAC)に接続される。DACの出力端子は、約1.2kHzで前記マイクロコントローラのポートピンによって計時されるアナログスイッチ414の入力端子に接続される。DACに渡されたデータは、1.2kHzを超えるキャリアのAM送信の振幅を規定し、該キャリアは、液晶セル電極500および500′(図10B)への差動駆動電圧を生じる。
A microcontroller can be configured with a PIC microchip that has an analog-to-digital converter and operates with the clock of a 10 Mhz crystal oscillator 404. The microcontroller is connected to a digital to analog converter (DAC) configured to provide an output voltage level in response to the form of a pulse stream from the microcontroller at a serial interface. The output terminal of the DAC is connected to the input terminal of an
温度センサの示度は、外部装置から内部の一体的なヒータ/温度センサによって提供される。液晶セル100のヒータ/温度センサの電極502、502′の一方は接地され、その他方はスイッチ407に接続される。スイッチ407は、選択的に感知または加熱モードの一体的なヒータ/温度センサ素子108に連動する。
より詳細には、スイッチ407は、オンで、液晶セルの温度を読むマイクロコントローラに計装用増幅器406を通して結合されたADCに、接地されていないヒータ/温度電極を接続するように構成され、また、オフで、マイクロコントローラ402からのパルス列によって制御を受ける電力増幅器FET410であって前記デバイス108をヒータとして動作させるために電位差を印加する電力増幅器FET410に繋がるように構成されている。
The temperature sensor reading is provided by an internal heater / temperature sensor internal from an external device. One of the heater /
More particularly,
温度感知のためのフィードバック閉ループ(図11の処理ステップ607から609までに含まれるループとして参照される)の動作において、マイクロコントローラは、前記液晶セルの温度を読み、感知された温度Tおよび液晶セルの現状θに基づいて駆動電圧を計算する。15個の係数は、与えられた温度とセル減衰レベルとのために液晶セルに供給する最適な電圧を描く円滑な表面のプロファイルを確立する4次回帰式に、挿入し直される。 In the operation of a feedback closed loop for temperature sensing (referred to as the loop included in process steps 607 to 609 in FIG. 11), the microcontroller reads the temperature of the liquid crystal cell, and senses the temperature T and the liquid crystal cell. The driving voltage is calculated on the basis of the current state θ. The 15 coefficients are re-inserted into a quartic regression equation that establishes a smooth surface profile that describes the optimum voltage to supply to the liquid crystal cell for a given temperature and cell attenuation level.
v= (X + Yθ+ Zθ2) +
(Xl + Y1θ + Z1θ2) T +
(X2 + Y2θ + Z2θ2)T2 +
(X3 + Y3θ + Z3θ2)T3 +
(X4 + Y4θ + Z4θ2)T4
v = (X + Yθ + Zθ 2 ) +
(X l + Y 1 θ + Z 1 θ 2 ) T +
(X 2 + Y 2 θ + Z 2 θ 2 ) T 2 +
(X 3 + Y 3 θ + Z 3 θ 2 ) T 3 +
(X 4 + Y 4 θ + Z 4 θ 2 ) T 4
新たな電圧値Vが計算され、液晶セルへの温度補償がなされたAM駆動電圧を生じるために、計時されたアナログスイッチ414に適切な大きさの直流電圧を供給するDAC412に送られる。
A new voltage value V is calculated and sent to a DAC 412 that supplies a DC voltage of the appropriate magnitude to the timed
液晶セルは、また、ほぼ基準温度に維持される。図11に関する処理ステップ609は、液晶セルの温度をほぼ基準温度に維持するために、加熱することを含む。基準温度は、周囲の室温を超えまたは前記LC(液晶)セルに結合されるすべての担体装置の温度を超えるかもしれない。周囲温度を超える基準温度を選択した場合は、急激な加熱を適用した後、周囲温度に遭遇するために結果として前記LCが冷却を受けるであろう。したがって、カウンタ熱のバイアスは、基準温度について温度安定性をサポートするために生成される。
The liquid crystal cell is also maintained at approximately the reference temperature.
前記マイクロコントローラのメモリは、基準温度、現温度値、温度履歴および前記LCに適用された加熱レベルの履歴を記憶しておくことができる。すべての場合、感知された温度Tの値は、液晶セルに適用される熱量を決定するために基準温度に比較される。8ビットのアナログ−デジタル変換器は、所望の温度範囲の全域に亘ってほぼ1/3度の温度感知解像度を提供するので、本実施例では、基準温度について摂氏1/3度以内での温度安定性を提供し得る。処理ステップ609のすべての例で、液晶セルの感知された温度が所望の動作基準温度を下回ると、マイクロコントローラのROM中に記憶された閾値検出器ルーチンは、制御機能を引き起こす。制御機能は、液晶セルにどれだけの熱を供給するかを決める。制御機能は、エラーを最小限にするルーチンを利用し、該ルーチンでは処理ステップ609の多数の例の全体で温度の変化を追跡する。エラー訂正ルーチンは、液晶セルに適用された先の熱量HOと共に、先の温度読み取り値TOを記憶することができる。温度読み取り値とそれに続くすべての温度読み取り値Tlは、液晶セルの先の加熱による温度変化の量を決定するために、前記TOに比較される。前記したように、熱は、FETパワードライバーを経て液晶セルに適用される。前記ヒータは、一定または可変のデューティ・サイクルで駆動され、周波数変調または振幅変調で制御を受ける。
The memory of the microcontroller can store a reference temperature, a current temperature value, a temperature history, and a history of the heating level applied to the LC. In all cases, the sensed temperature T value is compared to a reference temperature to determine the amount of heat applied to the liquid crystal cell. Since the 8-bit analog-to-digital converter provides a temperature sensing resolution of approximately 1/3 degrees over the desired temperature range, in this embodiment, the temperature within 1/3 degrees Celsius for the reference temperature. May provide stability. In all examples of
本発明は、明細書および添付の図面により充分に説明されているが、当業者にとって、種々の変更および改良が明白であろう。例えば、基本的なセルプラットホーム中のスペーサ要素、金属ガスケットおよび一体化されたヒータ/温度センサ素子を成形するために、種々のパターンを用いることができる。本発明の温度補償方法および回帰に、部分的または全体的に外部の温度センサとヒータとを使うことができる。金属ガスケットは、防湿支持膜としての機能に加えて、これに加熱機能を与えるべく調整することができる。エポキシ樹脂ガスケットは、部分または全体的に金属ガスケット要素との組み合わせで用いることができ、金属ガスケット要素は1つのはんだキャップを含むことができる。またセル内に液晶物質配列させ、また固定させることは、写真配列物質である、スイスのVantioによるStaralignを使って行うことができ、またはレーザーエッチングを含む他の既知の配列方法を用いることができる。セル内に液晶物質を固定させる(第5ステップ)ことは、ポリイミドのパターニング(第4ステップ)前に実行することができる。加熱過程は、駆動電圧を適用することに先がけて実行されるように、閉ループ温度フィードバックのための処理ステップを組み替えることができる。3次元面の各次元に電圧をフィットさせる次数は可逆であり、第4次多項式にフィットする一次元および2次多項式にフィットする他の次元を含み、これに限定されないが、アルゴリズムにフィットする他の3次元面が使用可能である。振幅変調または周波数変調は、液晶セルの駆動に用いることができる。本発明の第4実施例は、本発明の第3実施例の一体化した温度センサ/発熱体で設定することができる。液晶セルは単一のピクセルに限定されない。液晶セルは多数のピクセルから成ってもよい。液晶セルの配列は、1ピクセル以上を持つセルの配列を含んで成形することができる。したがって、ここに定義されたそれらの抽象概念からの種々の変更および改造は、本発明の範囲を逸脱しない限り、請求項に含まれると解釈されるべきである。 While the invention has been fully described by the specification and the accompanying drawings, various changes and modifications will become apparent to those skilled in the art. For example, various patterns can be used to mold spacer elements, metal gaskets and integrated heater / temperature sensor elements in a basic cell platform. External temperature sensors and heaters can be used in part or in whole for the temperature compensation method and regression of the present invention. The metal gasket can be adjusted to provide a heating function in addition to the function as a moisture-proof support film. Epoxy resin gaskets can be used partially or entirely in combination with a metal gasket element, which can include one solder cap. The alignment and fixation of the liquid crystal material in the cell can also be performed using the photoalignment material, Staralign by Vantio, Switzerland, or other known alignment methods including laser etching can be used. . Fixing the liquid crystal material in the cell (fifth step) can be performed before the polyimide patterning (fourth step). The processing steps for closed loop temperature feedback can be recombined so that the heating process is performed prior to applying the drive voltage. The order of fitting the voltage to each dimension of the 3D surface is reversible, including, but not limited to, one dimension that fits the fourth order polynomial and other dimensions that fit the second order polynomial. These three-dimensional surfaces can be used. Amplitude modulation or frequency modulation can be used to drive the liquid crystal cell. The fourth embodiment of the present invention can be set by the integrated temperature sensor / heating element of the third embodiment of the present invention. The liquid crystal cell is not limited to a single pixel. A liquid crystal cell may consist of a number of pixels. The liquid crystal cell array can be formed to include an array of cells having one or more pixels. Accordingly, various changes and modifications from those abstractions defined herein are to be construed as included in the claims without departing from the scope of the invention.
100 液晶可変光学減衰器
104A 第1の電極層
104B 第2の電極層
106A、106B 金属ガスケット層
107A、107B スペーサ層
108A、108B ヒータ/温度センサ素子(能動的熱素子)
109A 第1の液晶配列層
109B 第2の液晶配列層
110A 第1の基板
110B 第2の基板
111、112 サブ波長ナノ構造回折格子偏光子
100 Liquid crystal variable
109A First liquid
Claims (52)
第2のサブ波長の光学回折格子偏光子がエッチングで形成された底面および第2の電極と配列層とを有する頂面を有する第2の基板であって前記第2の偏光子が前記第1の基板上の前記偏光子と直角な光軸を有し、前記第2の基板の前記頂面が前記第1の基板の前記底面に対向して配置される第2の基板と、
前記第1および第2の基板間に結合された液晶とを含み、
前記第2の偏光子により該第2の偏光子と同一光軸を有する光学偏光信号が、前記液晶を通過するに伴い回転し、また、前記電極層を横切る電圧の印加に応じて可変的に減衰可能の可変光学減衰器。 A first substrate comprising a top surface formed by etching a sub-wavelength diffraction grating polarizer and a bottom surface having an electrode and an alignment layer;
A second substrate having a bottom surface on which an optical diffraction grating polarizer having a second sub-wavelength is formed by etching and a top surface having a second electrode and an alignment layer, wherein the second polarizer is the first substrate. A second substrate having an optical axis perpendicular to the polarizer on the substrate, wherein the top surface of the second substrate is disposed to face the bottom surface of the first substrate;
A liquid crystal coupled between the first and second substrates,
An optical polarization signal having the same optical axis as the second polarizer is rotated by the second polarizer as it passes through the liquid crystal, and variably in response to application of a voltage across the electrode layer. Attenuable variable optical attenuator.
第2の電極層を有する頂面と前記第1の配列層に直角な方向に固定された第2の配列層とを含む第2の基板であって前記第1の基板の前記底面に対向して配置される第2の基板と、
前記第1および第2の基板間に結合された液晶と、
前記第1および第2の基板間に結合されたスペーサ層と、
前記第1および第2の基板に接合された金属ガスケット層とを含み、
第2の基板を通過する光学信号が、前記液晶を通過するに伴いその偏光を回転させ、また、電圧の印加に応じて、前記第1の基板上の前記偏光子により、可変的に減衰可能の可変光学減衰器。 A first substrate comprising a top surface formed by etching a sub-wavelength diffraction grating polarizer and a bottom surface having a first electrode layer and a first alignment layer;
A second substrate including a top surface having a second electrode layer and a second alignment layer fixed in a direction perpendicular to the first alignment layer, and facing the bottom surface of the first substrate. A second substrate arranged
A liquid crystal coupled between the first and second substrates;
A spacer layer coupled between the first and second substrates;
A metal gasket layer bonded to the first and second substrates,
An optical signal passing through the second substrate rotates its polarization as it passes through the liquid crystal, and can be variably attenuated by the polarizer on the first substrate in response to voltage application. Variable optical attenuator.
第2の電極層と前記第1の配列層に直角な方向に固定された第2の配列層とを有する頂面を含む第2の基板であって前記第1の基板の前記底面に対向して配置された第2の基板と、
前記第1および第2の基板間に結合された液晶とを含み、
第2の基板を通過する光学信号が、前記液晶を通過するに伴いその偏光を回転させ、前記電極層の電圧の印加に応じて、前記第1の基板上の前記偏光子により可変的に減衰可能であり、また前記第1の基板から形成された前記アイソレータにより分離される可変光学減衰器。 A first substrate made of a material suitable for functioning as a Faraday rotator, having a top surface and a bottom surface formed by etching a sub-wavelength diffraction grating polarizer, thereby allowing the substrate to function as an isolator Therefore, the top polarizer has an offset angle of 45 degrees from the bottom polarizer, and the first substrate includes a first electrode layer and a first alignment layer on the bottom. A substrate,
A second substrate including a top surface having a second electrode layer and a second alignment layer fixed in a direction perpendicular to the first alignment layer, the second substrate facing the bottom surface of the first substrate. A second substrate arranged
A liquid crystal coupled between the first and second substrates,
An optical signal passing through the second substrate rotates its polarization as it passes through the liquid crystal, and is variably attenuated by the polarizer on the first substrate in response to application of the voltage of the electrode layer. A variable optical attenuator that is possible and is separated by the isolator formed from the first substrate.
ファラデー回転子として機能させるのに適正な材料からなる第2の基板であってサブ波長の回折格子偏光子がエッチングで形成された頂面および底面を有し、これによりアイソレータとして前記基板を機能させるべく前記頂面の偏光子は前記底面の偏光子から45度のオフセット角を有し、さらに第2の基板は前記頂面に第2の電極層と第2の配列層とを含み、該第2の配列層は前記第1の基板上の前記第1の配列層に直角な方向に固定され、前記第2の基板の前記頂面が前記第1の基板の前記底面に対向して配置された第2の基板と、
前記第1および第2の基板間に結合された液晶とを含み、
第2の基板を通過する光学信号が、該第2の基板によって分離され、前記液晶を通過するに伴いその偏光を回転させ、また前記電極層の電圧の印加に応じて、前記第1の基板上の前記偏光子により、可変的に減衰可能である可変光学減衰器。 A first substrate having a sub-wavelength diffraction grating polarizer formed by etching and having a first electrode layer and a first alignment layer;
A second substrate made of a material suitable for functioning as a Faraday rotator and having a top surface and a bottom surface formed by etching a sub-wavelength diffraction grating polarizer, thereby allowing the substrate to function as an isolator. Accordingly, the top polarizer has an offset angle of 45 degrees from the bottom polarizer, and the second substrate further includes a second electrode layer and a second alignment layer on the top surface. The second alignment layer is fixed in a direction perpendicular to the first alignment layer on the first substrate, and the top surface of the second substrate is disposed to face the bottom surface of the first substrate. A second substrate,
A liquid crystal coupled between the first and second substrates,
An optical signal that passes through the second substrate is separated by the second substrate, rotates its polarization as it passes through the liquid crystal, and the first substrate in response to application of a voltage on the electrode layer. A variable optical attenuator that can be variably attenuated by the polarizer.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/371,235 US7352428B2 (en) | 2003-02-21 | 2003-02-21 | Liquid crystal cell platform |
US10/379,384 US6897917B2 (en) | 2003-02-21 | 2003-03-03 | Liquid crystal variable optical attenuator |
PCT/US2004/005310 WO2004077105A2 (en) | 2003-02-21 | 2004-02-21 | Liquid crystal variable optical attenuator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006518880A true JP2006518880A (en) | 2006-08-17 |
Family
ID=32930193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006503805A Pending JP2006518880A (en) | 2003-02-21 | 2004-02-21 | Liquid crystal variable optical attenuator |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1606669A4 (en) |
JP (1) | JP2006518880A (en) |
WO (1) | WO2004077105A2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114660844A (en) * | 2020-12-22 | 2022-06-24 | 群创光电股份有限公司 | Electronic device and method for manufacturing the same |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2004
- 2004-02-21 JP JP2006503805A patent/JP2006518880A/en active Pending
- 2004-02-21 EP EP04713482A patent/EP1606669A4/en not_active Withdrawn
- 2004-02-21 WO PCT/US2004/005310 patent/WO2004077105A2/en active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1606669A2 (en) | 2005-12-21 |
WO2004077105A3 (en) | 2004-12-09 |
WO2004077105A2 (en) | 2004-09-10 |
EP1606669A4 (en) | 2006-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100826 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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