JP2006342214A - Photocurable resin composition, and laminate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable resin composition capable of forming coating film exhibiting sufficient antistaticity, also excellent in scratch resistance and transparency and suppressed in bleedout, and to provide a laminate having the cured coating film of the above composition on at least part of the surface of its base resin. <P>SOLUTION: The photocurable resin composition comprises (A) a specific amount of a blend of each specific amount of (a-1) a polymerizable compound having in the molecule at least two or more (meth)acryloyloxy groups and (a-2) a compound having one ethylene-based unsaturated bond, (B) a specific amount of a copolymer obtained by copolymerization between each specific amount of (b-1) a quaternary ammonium salt group-bearing specific compound and (b-2) a one unsaturated double bond-bearing compound copolymerizable with the compound(b-1), (C) a specific amount of a photopolymerization initiator, (D) a specific amount of a hindered amine-based compound and (E) a specific amount of dimethylaminoethyl (meth)acrylate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、十分な帯電防止性を示すとともに、耐擦傷性および透明性にも優れ、ブリードアウトが抑制された被膜を有する積層体、および、その様な被膜を形成し得る光硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention provides a laminate having a film exhibiting sufficient antistatic properties, excellent scratch resistance and transparency, with suppressed bleeding out, and a photocurable resin composition capable of forming such a film Related to things.

アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等の合成樹脂は、透明性、耐衝撃性、電気絶縁性等の特徴を有し、工業用資材、建築用資材等として広く使用されている。しかし、これら合成樹脂よりなる成形品は、表面硬度が低いため、引掻き等による傷が発生し易い場合がある。また、合成樹脂成形品は、高い体積固有抵抗を有しているため、静電気により帯電が発生し、埃が付着し易い場合がある。これらの不具合を抑制するために、従来から多くの改良が試みられているが、有効な手段は余り知られていない。   Synthetic resins such as acrylic resins and polycarbonate resins have characteristics such as transparency, impact resistance, and electrical insulation, and are widely used as industrial materials, building materials, and the like. However, since molded products made of these synthetic resins have low surface hardness, there are cases where scratches due to scratching or the like are likely to occur. In addition, since the synthetic resin molded product has a high volume resistivity, charging may occur due to static electricity and dust may be easily attached. In order to suppress these problems, many improvements have been attempted in the past, but no effective means are known.

耐擦傷性を向上する方法としては、多官能(メタ)アクリレート等の多官能性単量体を用い、架橋被膜を基材表面に形成することが知られているが、従来の架橋被膜は帯電防止性を全く示さないか、不十分な場合が多かった。   As a method for improving the scratch resistance, it is known that a polyfunctional monomer such as polyfunctional (meth) acrylate is used to form a cross-linked film on the substrate surface. In many cases, it did not show any prevention or was insufficient.

帯電防止性を改良する方法としては、エチレングリコールジメタクリレート等の少なくとも2個のアクリロイルオキシ基及び/又はメタアクリロイルオキシ基を有する架橋重合性化合物と、分子中に四級アンモニウム塩を含む重合性化合物とを含んでなる組成物を重合させて皮膜を形成することにより、耐摩耗性および耐溶剤性に優れ、帯電防止性および表面染色性を改善できることが知られている(例えば、特許文献1参照)。   As a method for improving the antistatic property, a polymerizable compound containing at least two acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups such as ethylene glycol dimethacrylate and a quaternary ammonium salt in the molecule It is known that by forming a film by polymerizing a composition comprising the above, it is excellent in abrasion resistance and solvent resistance, and can improve antistatic properties and surface dyeability (see, for example, Patent Document 1). ).

しかしながら、当該公報に記載の方法によると、四級アンモニウム塩を含む重合性化合物の吸湿性が余りに高いために、皮膜を形成する組成物中に多くの水分が含まれることとなり、このため組成物の重合時に重合硬化ムラ、品質ムラ等を発生してしまう場合があった。更に、四級アンモニウム塩を含む重合性化合物中の水分を除去しようとしても、四級アンモニウム塩を含む重合性化合物の重合性が高いため、加熱及び減圧操作中に重合してしまい実質的に無水の四級アンモニウム塩を含む重合性化合物を得ることは困難であった。   However, according to the method described in the publication, since the hygroscopic property of the polymerizable compound containing a quaternary ammonium salt is too high, a lot of moisture is contained in the composition forming the film. In some cases, polymerization curing unevenness, quality unevenness and the like may occur during polymerization. Furthermore, even if it is attempted to remove moisture in the polymerizable compound containing the quaternary ammonium salt, the polymerizable compound containing the quaternary ammonium salt has high polymerizability, so that it is polymerized during the heating and decompression operation, so that it is substantially anhydrous. It was difficult to obtain a polymerizable compound containing a quaternary ammonium salt.

四級アンモニウム塩を含む重合性化合物の吸湿性に関する前述の不具合は、四級アンモニウム塩を含む重合性化合物に代えて、四級アンモニウム塩基を有する化合物(b1)と、ポリエチレングリコールメタクリレート等の四級アンモニウム塩基を有する化合物と共重合可能な1個の不飽和二重結合を有する化合物(b2)とからなる共重合体を使用することにより、改善されることが知られている(例えば、特許文献2,3参照)。 The above-mentioned problems relating to the hygroscopicity of the polymerizable compound containing a quaternary ammonium salt are obtained by replacing the polymerizable compound containing a quaternary ammonium salt with a compound (b 1 ) having a quaternary ammonium base, and a quaternary ammonium glycol such as polyethylene glycol methacrylate. It is known to be improved by using a copolymer comprising a compound (b 2 ) having one unsaturated double bond copolymerizable with a compound having a secondary ammonium base (for example, (See Patent Documents 2 and 3).

しかしながら、当該公報に記載の方法により吸湿性に関する問題は改善されるものの、得られた被膜を高温多湿の環境下に置いた場合、共重合体が加水分解され、加水分解により生じた四級アンモニウム塩がブリードアウトする場合があった。そして、四級アンモニウム塩のブリードアウトにより、被膜の外観が低下する場合があった。   However, although the problem relating to hygroscopicity is improved by the method described in the publication, when the obtained film is placed in a high temperature and high humidity environment, the copolymer is hydrolyzed, and the quaternary ammonium produced by the hydrolysis. Sometimes salt bleeded out. And the external appearance of the film may be deteriorated by bleed-out of the quaternary ammonium salt.

四級アンモニウム塩のブリードアウトに関する前述の不具合は、四級アンモニウム塩基を有する化合物(b−1)と、ポリエチレングリコールメタクリレート等の四級アンモニウム塩基を有する化合物と共重合可能な1個の不飽和二重結合を有する化合物(b−2)とからなる共重合体に、ヒンダードアミン系化合物を含むことにより改善されることが知られている(例えば、特許文献4参照)。   The above-mentioned problem concerning bleedout of quaternary ammonium salt is that one unsaturated divalent copolymerizable with compound (b-1) having a quaternary ammonium base and a compound having a quaternary ammonium base such as polyethylene glycol methacrylate. It is known that the copolymer composed of the compound (b-2) having a heavy bond is improved by including a hindered amine compound (see, for example, Patent Document 4).

しかしながら、高温多湿の環境下に長期間置いた場合は、ブリードアウト抑制は不十分であった。
特公昭54−15074号公報 特開平6−73305号公報 特開平8−311366号公報 特開2001−323029号公報
However, bleed-out suppression was insufficient when placed in a hot and humid environment for a long time.
Japanese Examined Patent Publication No. 54-15074 JP-A-6-73305 JP-A-8-311366 JP 2001-323029 A

本発明の目的は、十分な帯電防止性を示すとともに、耐擦傷性および透明性にも優れ、四級アンモニウム塩のブリードアウトが抑制された被膜を形成し得る光硬化性樹脂組成物を提供することにある。さらに本発明の目的は、前記光硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を基材樹脂の少なくとも一部の表面に有する積層体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a photocurable resin composition that exhibits sufficient antistatic properties, is excellent in scratch resistance and transparency, and can form a coating in which bleeding out of a quaternary ammonium salt is suppressed. There is. Furthermore, the objective of this invention is providing the laminated body which has the cured film of the said photocurable resin composition on the surface of at least one part of base resin.

本発明は、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物(a−1)80〜100質量%と、分子中に1個のα、β−エチレン系不飽和結合を有する化合物(a−2)0〜20質量%とからなる混合物(A)100質量部と、下記一般式(1)

Figure 2006342214
In the present invention, 80 to 100% by mass of a polymerizable compound (a-1) having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, and one α, β-ethylenically unsaturated bond in the molecule. 100 parts by mass of the mixture (A) composed of 0 to 20% by mass of the compound (a-2) having, and the following general formula (1)
Figure 2006342214

(式中、R1は水素原子またはメチル基、R2〜R4は炭素数1〜9の置換基を含んでも良いアルキル基、mは1〜10の整数、X-は四級化剤由来のアニオン、Yは酸素原子またはNHを表す。)で表される化合物(b−1)20〜99質量%と、該化合物(b−1)と共重合可能な1つの不飽和二重結合を有する化合物(b−2)1〜80質量%とを重合して得られる共重合体(B)0.5〜30質量部と、光重合開始剤(C)0.1〜10質量部と、ヒンダードアミン系化合物(D)0.01〜3質量部と、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート0.3〜20質量部を含んでなる光硬化性樹脂組成物である。 (Wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 to R 4 are alkyl groups that may contain a substituent having 1 to 9 carbon atoms, m is an integer of 1 to 10, and X is derived from a quaternizing agent. An anion of the above, Y represents an oxygen atom or NH), and 20 to 99% by mass of the compound (b-1) represented by the compound, and one unsaturated double bond copolymerizable with the compound (b-1). 0.5 to 30 parts by mass of a copolymer (B) obtained by polymerizing 1 to 80% by mass of the compound (b-2) having, 0.1 to 10 parts by mass of a photopolymerization initiator (C), It is a photocurable resin composition comprising 0.01 to 3 parts by mass of a hindered amine compound (D) and 0.3 to 20 parts by mass of dimethylaminoethyl (meth) acrylate.

また本発明は、基材樹脂の少なくとも一部の表面に前記光硬化性樹脂組成物の硬化被膜を有する積層体である。   Moreover, this invention is a laminated body which has the cured film of the said photocurable resin composition on the surface of at least one part of base resin.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物(a−1)及びα、β−エチレン系不飽和結合を有する化合物(a−2)からなる混合物(A)と、特定の四級アンモニウム塩基を有する化合物(b−1)及び不飽和二重結合を有する化合物(b−2)を重合して得られる共重合体(B)と、光重合開始剤(C)と、ヒンダードアミン系化合物(D)と、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートを所定の質量比で含有しているため、この光硬化性樹脂組成物を光硬化して得られる被膜を有する積層体は、十分な帯電防止性を示すとともに、耐擦傷性および透明性にも優れ、四級アンモニウム塩のブリードアウトが抑制される。   The photocurable resin composition of the present invention includes a polymerizable compound (a-1) having two or more (meth) acryloyloxy groups and a compound (a-2) having an α, β-ethylenically unsaturated bond. A mixture (A), a copolymer (B) obtained by polymerizing a compound (b-1) having a specific quaternary ammonium base and a compound (b-2) having an unsaturated double bond, and light Since it contains a polymerization initiator (C), a hindered amine compound (D), and dimethylaminoethyl (meth) acrylate in a predetermined mass ratio, a film obtained by photocuring this photocurable resin composition The laminate having a sufficient antistatic property and excellent scratch resistance and transparency, and bleed-out of the quaternary ammonium salt is suppressed.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物(a−1)及び分子中に1個のα、β−エチレン系不飽和結合を有する化合物(a−2)からなる混合物(A)と、四級アンモニウムを有する化合物(b−1)及びこの(b−1)と共重合可能な1つの不飽和二重結合を有する化合物(b−2)を重合して得られる共重合体(B)と、光重合開始剤(C)と、ヒンダードアミン系化合物(D)と、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートを所定の質量比で含有している。   The photocurable resin composition of the present invention comprises a polymerizable compound (a-1) having two or more (meth) acryloyloxy groups and a compound having one α, β-ethylenically unsaturated bond in the molecule. A mixture (A-2) comprising (a-2), a compound (b-1) having quaternary ammonium and a compound (b-2) having one unsaturated double bond copolymerizable with (b-1) ), A photopolymerization initiator (C), a hindered amine compound (D), and dimethylaminoethyl (meth) acrylate in a predetermined mass ratio.

本発明で使用される重合性化合物(a−1)は、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する架橋反応性化合物であり、各(メタ)アクリロイルオキシ基を結合する残基が、炭化水素またはその誘導体であり、その分子内にはエーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合等を含むことができる。   The polymerizable compound (a-1) used in the present invention is a cross-linking reactive compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, and is a residue that binds each (meth) acryloyloxy group. Is a hydrocarbon or a derivative thereof, and may include an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, a urethane bond, or the like in the molecule.

これらの化合物の主な例としては、1モルの多価アルコールと、2モル以上の(メタ)アクリル酸またはそれらの誘導体とから得られるエステル化物;多価アルコールと多価カルボン酸またはそれの無水物と(メタ)アクリル酸またはそれらの誘導体とから得られる、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する線状のエステル化物等を挙げることができる。なお、(メタ)アクリとは、アクリ及び/又はメタクリを意味する。   The main examples of these compounds are esterified products obtained from 1 mol of polyhydric alcohol and 2 mol or more of (meth) acrylic acid or derivatives thereof; polyhydric alcohol and polyhydric carboxylic acid or anhydride thereof. And a linear esterified product having two or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule, obtained from a product and (meth) acrylic acid or a derivative thereof. In addition, (meth) acryl means an acryl and / or a methacryl.

1モルの多価アルコールと、2モル以上の(メタ)アクリル酸とから得られるエステル化物の例としては、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールのジ(メタ)アクリレート;1,4−ブタンジオール(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、次の一般式(3)

Figure 2006342214
Examples of esterified products obtained from 1 mol of polyhydric alcohol and 2 mol or more of (meth) acrylic acid include diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) ) Polyethylene glycol di (meth) acrylate such as acrylate; 1,4-butanediol (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylol Propane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaglycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin (Meth) acrylate, the following general formula (3)
Figure 2006342214

[式中、nは1〜4の整数であり、X1〜X6は少なくとも3個以上が(メタ)アクリロイル基で、他はヒドロキシル基を表す。]で示される化合物、例えばジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 [Wherein, n is an integer of 1 to 4, and at least three of X 1 to X 6 are (meth) acryloyl groups, and the other represents a hydroxyl group. ], For example, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) Examples thereof include acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, and the like.

多価アルコールと多価カルボン酸またはそれの無水物と(メタ)アクリル酸とから得られる1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する線状のエステル化物において、多価アルコールと多価カルボン酸またはそれの無水物と(メタ)アクリル酸の好ましい組合わせとしては、マロン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸等を挙げることができる。   In a linear esterified product having two or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule obtained from a polyhydric alcohol and a polycarboxylic acid or anhydride thereof and (meth) acrylic acid, Preferred combinations of polycarboxylic acids or anhydrides thereof and (meth) acrylic acid include malonic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, malonic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, malonic acid / Glycerin / (meth) acrylic acid, malonic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, succinic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, succinic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, succinic acid / Glycerin / (meth) acrylic acid, succinic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, azimuth Acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, adipic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, adipic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, adipic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, glutar Acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, glutaric acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, glutaric acid / glycerin / (meth) acrylic acid, glutaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, sebacic acid / Trimethylolethane / (meth) acrylic acid, sebacic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, sebacic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, sebacic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, fumaric acid / Trimethylolethane / (meth) acryl Acid, fumaric acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, fumaric acid / glycerin / (meth) acrylic acid, fumaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, itaconic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid , Itaconic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, itaconic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, itaconic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / trimethylolethane / (meth) acrylic acid And maleic anhydride / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / glycerin / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, and the like.

重合性化合物(a−1)の他の例としては、トリメチロールプロパントルイレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、4,4’ーメチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の3量化により得られる以下一般式(4)で示されるポリイソシアネートと、

Figure 2006342214
Other examples of the polymerizable compound (a-1) include trimethylolpropane toluylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylene diisocyanate, 4,4′-methylene bis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, trimethyl. A polyisocyanate represented by the following general formula (4) obtained by trimerization of hexamethylene diisocyanate and the like;
Figure 2006342214

(式中、Rは置換基を含んでも良い、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。)活性水素を有するアクリルモノマー、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、1,2,3−プロパントリオール−1,3−ジ(メタ)アクリレート、3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等とを、イソシアネート1モル当たり3モル以上を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸のジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリレート等のポリ[(メタ)アクリロイルオキシエチル]イソシアヌレート;公知のエポキシポリアクリレート;公知のウレタンポリアクリレート等を挙げることができる。 (In the formula, R represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may contain a substituent.) Acrylic monomer having active hydrogen, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy Propyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-methoxypropyl (meth) acrylate, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide, 1,2,3-propanetriol-1,3-di ( Urethane (meth) acrylate obtained by reacting 3 moles or more per mole of isocyanate with meth) acrylate, 3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc .; of tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid Poly (di (meth) acrylate, tri (meth) acrylate, etc. Meth) acryloyloxyethyl] isocyanurate; known epoxy polyacrylates; can be mentioned known urethane polyacrylate.

なお、重合性化合物(a−1)の含有量としては、被膜の十分な耐擦傷性を実現するために、混合物(A)の全体に対して80質量%以上100質量%以下とされる。85質量%以上であることが好ましい。なお、単一の重合性化合物(a−1)からなるものであっても便宜的に「混合物(A)」という。   In addition, as content of a polymeric compound (a-1), in order to implement | achieve sufficient abrasion resistance of a film, it is 80 to 100 mass% with respect to the whole mixture (A). It is preferable that it is 85 mass% or more. In addition, even if it consists of a single polymeric compound (a-1), it is called "mixture (A)" for convenience.

本発明で使用される化合物(a−2)としては、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート以外の、分子内に1個のα,β−エチレン系不飽和結合を有する単量体を挙げることができる。特に、重合性化合物(a−1)と共重合体(B)との両者に相溶性を有する化合物であって、分子内に極性基を有する化合物が好ましい。   Examples of the compound (a-2) used in the present invention include monomers having one α, β-ethylenically unsaturated bond in the molecule other than dimethylaminoethyl (meth) acrylate. . In particular, a compound having compatibility with both the polymerizable compound (a-1) and the copolymer (B) and having a polar group in the molecule is preferable.

具体的には、重合性化合物(a−1)と共重合体(B)との種類および量によって適宜選択されるが、一般には、アクリル酸、メタクリル酸、及びそれらのアミド、アミドのメチロール化物、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が好ましい。   Specifically, it is appropriately selected depending on the kind and amount of the polymerizable compound (a-1) and the copolymer (B), but in general, acrylic acid, methacrylic acid, and their amides, amide methylolated products. 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate and the like are preferable.

なお、化合物(a−2)の含有量としては、被膜の十分な耐擦傷性を実現するために、混合物(A)の全体に対して0質量%以上20質量%以下とされる。15質量%以下であることが好ましい。   In addition, as content of a compound (a-2), in order to implement | achieve sufficient abrasion resistance of a film, it is set as 0 mass% or more and 20 mass% or less with respect to the whole mixture (A). It is preferable that it is 15 mass% or less.

本発明で使用される化合物(b−1)は、四級アンモニウム塩基を有する化合物であり、例えばアミノ基を有する(メタ)アクリレート類または(メタ)アクリルアミド類等を四級化剤により四級化することにより得られる。   The compound (b-1) used in the present invention is a compound having a quaternary ammonium base. For example, (meth) acrylates or (meth) acrylamides having an amino group are quaternized with a quaternizing agent. Can be obtained.

アミノ基を有する(メタ)アクリレート類の例としては、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノブチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジプロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。   Examples of (meth) acrylates having an amino group include dimethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate, dimethylaminobutyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminopropyl (meth) Examples thereof include acrylate, dipropylaminoethyl (meth) acrylate, dibutylaminoethyl (meth) acrylate, and dihydroxyethylaminoethyl (meth) acrylate.

アミノ基を有する(メタ)アクリルアミド類の例としては、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノブチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジプロピルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジブチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジヒドロキシエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド等を挙げることができる。   Examples of (meth) acrylamides having an amino group include dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, dimethylaminobutyl (meth) acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylamide, diethylaminopropyl (meth) Examples include acrylamide, dipropylaminoethyl (meth) acrylamide, dibutylaminoethyl (meth) acrylamide, and dihydroxyethylaminoethyl (meth) acrylamide.

なお、一般式(1)で示される化合物(b−1)の中で、得られる共重合体(B)の高い耐加水分解性が実現でき、四級アンモニウム塩のブリードアウトがより抑制できる等の理由により、YがNHである化合物がより好ましい。   In addition, in the compound (b-1) represented by the general formula (1), the obtained copolymer (B) can be realized with high hydrolysis resistance, and bleedout of the quaternary ammonium salt can be further suppressed. For these reasons, a compound in which Y is NH is more preferable.

従って、アミノ基を有する(メタ)アクリルアミド類を四級化することにより得られる化合物が好ましい。   Therefore, a compound obtained by quaternizing (meth) acrylamides having an amino group is preferable.

四級化剤としては、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジプロピル硫酸等のアルキル硫酸類、p−トルエンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸メチル等のスルホン酸エステル類、トリメチルホスファイト等のアルキルリン酸、アルキルベンジルクロライド、ベンジルクロライド、アルキルクロライド、アルキルブロマイド等の各種ハライドが用いられ、特にアルキル硫酸類、スルホン酸エステル類が耐熱分解性の点より好ましい。   Quaternizing agents include alkyl sulfates such as dimethyl sulfate, diethyl sulfate and dipropyl sulfate, sulfonate esters such as methyl p-toluenesulfonate and methyl benzenesulfonate, alkyl phosphates such as trimethyl phosphite, and alkyl benzyl. Various halides such as chloride, benzyl chloride, alkyl chloride, and alkyl bromide are used, and alkyl sulfates and sulfonate esters are particularly preferred from the viewpoint of thermal decomposition resistance.

即ち、一般式(1)における四級化剤由来のアニオン(X-)は、一般式R7SO3 -またはR7OSO3 -(式中、R7は水素原子または炭素数1〜20の置換基を含んでも良いアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を表す)で示されるものが好ましい。 That is, the anion (X ) derived from the quaternizing agent in the general formula (1) has the general formula R 7 SO 3 or R 7 OSO 3 (wherein R 7 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 20). An alkyl group, an aryl group or an aralkyl group which may contain a substituent is preferred.

なお、一般式(1)中のmは1以上10以下の整数であるが、得られる共重合体(B)の高い耐加水分解性が実現でき、四級アンモニウム塩のブリードアウトがより抑制できる等の理由により、2以上6以下が好ましい。   In addition, although m in General formula (1) is an integer greater than or equal to 1 or less, it can implement | achieve the high hydrolysis resistance of the copolymer (B) obtained, and can suppress the bleedout of a quaternary ammonium salt more. For reasons such as these, 2 or more and 6 or less are preferable.

以上に述べた化合物(b−1)と共重合可能な1つの不飽和二重結合を有する化合物(b−2)としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類;メチルアクリレート、エチルアクリレート等のアクリル酸エステル類;アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和カルボン酸類;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物;N−フェニルマレイミド等のマレイミド類;2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ基含有単量体;アクリルアミド、アクリロニトリル等の窒素含有単量体;アリルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有単量体;末端メタクリレートポリメチルメタクリレート、末端スチリルポリメチルメタクリレート、末端メタクリレートポリスチレン、末端メタクリレートポリエチレングリコール、末端メタクリレートアクリロニトリルスチレン共重合体等のマクロモノマー類等を例示することができ、これらを2種以上混合して用いることもできる。   As the compound (b-2) having one unsaturated double bond copolymerizable with the compound (b-1) described above, methacrylic acid esters such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate; methyl acrylate and ethyl acrylate Acrylic acid esters such as; unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride; maleimides such as N-phenylmaleimide; 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy Hydroxy group-containing monomers such as propyl methacrylate; Nitrogen-containing monomers such as acrylamide and acrylonitrile; Epoxy group-containing monomers such as allyl glycidyl ether and glycidyl methacrylate; Terminal methacrylate polymethyl methacrylate, Terminal styryl polymethyl methacrylate , Terminal methacrylate polystyrene, terminal methacrylate polyethylene glycol, can be exemplified macromonomers such as terminal methacrylate acrylonitrile styrene copolymers, may be used as a mixture of two or more of these.

これらの共重合可能な1つの不飽和二重結合を有する化合物(b−2)としては、得られる被膜の特性のバランスの観点から、以下一般式(2)

Figure 2006342214
As the compound (b-2) having one unsaturated double bond capable of copolymerization, the following general formula (2) is used from the viewpoint of the balance of the properties of the resulting film.
Figure 2006342214

(式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子または炭素数1〜18の置換基を含んでも良いアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基、Aは炭素数2〜4の置換基を含んでも良いアルキレン基、nは0〜500の整数を表す。)で表される化合物を使用することが好ましい。 Wherein R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group, aryl group or aralkyl group which may contain a substituent having 1 to 18 carbon atoms, and A is a substituent having 2 to 4 carbon atoms. It is preferable to use the compound represented by the alkylene group which may contain, n represents the integer of 0-500.

特に一般式(2)においてn=2〜500で表される化合物を用いると、共重合体(B)と重合性化合物(a−1)及び化合物(a−2)との相溶性が良好となり、光硬化性樹脂組成物が均一に硬化できるため好ましい。   In particular, when a compound represented by n = 2 to 500 in the general formula (2) is used, the compatibility between the copolymer (B), the polymerizable compound (a-1) and the compound (a-2) becomes good. The photocurable resin composition is preferable because it can be uniformly cured.

一般式(2)において、n=2〜500で表される化合物としては、ポリエチレングリコール(4)モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(300)モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレートモノメチルエ−テル、ポリエチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレートモノブチルエ−テル、ポリエチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレートモノステアリルエーテル、ポリエチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコール(23)モノ(メタ)アクリレートモノオレイルエーテル等を例示することができる。なお、カッコ内はポリアルキレングリコールユニットの数を表す。   In the general formula (2), compounds represented by n = 2 to 500 include polyethylene glycol (4) mono (meth) acrylate, polyethylene glycol (23) mono (meth) acrylate, polyethylene glycol (300) mono (meta) ) Acrylate, polypropylene glycol (23) mono (meth) acrylate, polybutylene glycol (23) mono (meth) acrylate, polyethylene glycol (23) mono (meth) acrylate monomethyl ether, polyethylene glycol (23) mono (meth) Acrylate monobutyl ether, polyethylene glycol (23) mono (meth) acrylate monostearyl ether, polyethylene glycol (23) mono (meth) acrylate monophenyl ether, polyethylene glycol (23) mono (meth) acrylate monobenzyl ether, can be exemplified polyethylene glycol (23) mono (meth) acrylate mono oleyl ether and the like. The number in parentheses represents the number of polyalkylene glycol units.

化合物(b−1)の含有量は、良好な帯電防止性を実現するために、共重合体(B)に対して20質量%以上99質量%以下、好ましくは90質量%以下とされる。一方、1つの不飽和二重結合を有する化合物(b−2)の含有量は、光硬化性樹脂組成物の均一性及び基材合成樹脂との密着性の観点から、1質量%以上80質量%以下、好ましくは10質量%以上とされる。   The content of the compound (b-1) is 20% by mass or more and 99% by mass or less, preferably 90% by mass or less with respect to the copolymer (B) in order to realize good antistatic properties. On the other hand, the content of the compound (b-2) having one unsaturated double bond is 1% by mass or more and 80% by mass from the viewpoint of the uniformity of the photocurable resin composition and the adhesion to the base synthetic resin. % Or less, preferably 10% by mass or more.

共重合体(B)は、上記の質量比で混合された化合物(b−1)及び(b−2)から、パーオキサイド系やアゾビス系等の重合開始剤を用いて、メタノール等の溶媒中での溶液重合法等により製造できる。   The copolymer (B) is obtained from the compounds (b-1) and (b-2) mixed at the above mass ratio in a solvent such as methanol using a polymerization initiator such as peroxide or azobis. It can be produced by solution polymerization method or the like.

本発明においては、共重合体(B)の作用により、被膜に帯電防止性が付与される。その様な共重合体(B)の添加量は、十分な帯電防止性を実現するために、混合物(A)100質量部に対して0.5質量部以上とされ、良好な耐擦傷性を実現するために、30質量部以下とされる。さらに5質量部以上、20質量部以下であることが好ましい。   In the present invention, antistatic properties are imparted to the coating film by the action of the copolymer (B). The added amount of such a copolymer (B) is 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the mixture (A) in order to realize sufficient antistatic properties, and has good scratch resistance. In order to realize, it is 30 parts by mass or less. Furthermore, it is preferable that it is 5 to 20 mass parts.

本発明で使用される光重合開始剤(C)は特に限定されないが、具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等を挙げることができる。   The photopolymerization initiator (C) used in the present invention is not particularly limited. Specific examples include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, acetoin, butyroin, toluoin, benzyl, Benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, Carbonyl compounds such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethyl Diphenylphosphine oxide, can be exemplified benzo dichloride ethoxy phosphine oxide and the like.

光重合開始剤(C)の添加量は、光硬化性樹脂組成物の十分な硬化性を実現するために、混合物(A)100質量部に対し、0.1質量部以上とされ、硬化後の被膜の着色を抑制するために、10質量部以下とされる。なお、本発明においては、前記開始剤を単独で用いるだけでなく、複数の開始剤を併用して用いてもよい。   The addition amount of the photopolymerization initiator (C) is 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the mixture (A) in order to realize sufficient curability of the photocurable resin composition, and after curing. In order to suppress coloring of the film, the amount is 10 parts by mass or less. In the present invention, not only the initiator but also a plurality of initiators may be used in combination.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、所定量のヒンダードアミン系化合物(D)及びジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートを含んでいる。このため、得られる被膜の良好な帯電防止性、耐擦傷性、透明性等を実現すると同時に、たとえ高温多湿な環境下においても、四級アンモニウム塩のブリードアウトを抑制できる。その機構は明らかではないが、ヒンダードアミン系化合物(D)が存在することにより、化合物(b−1)及び(b−2)を共重合して得られる共重合体(B)の加水分解が抑制され、またジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートが存在することにより、四級アンモニウム塩との親和性が向上するためだと推察している。   The photocurable resin composition of the present invention contains a predetermined amount of a hindered amine compound (D) and dimethylaminoethyl (meth) acrylate. Therefore, the antistatic property, scratch resistance, transparency and the like of the resulting coating can be realized, and at the same time, bleedout of the quaternary ammonium salt can be suppressed even in a high temperature and high humidity environment. The mechanism is not clear, but the presence of the hindered amine compound (D) suppresses hydrolysis of the copolymer (B) obtained by copolymerizing the compounds (b-1) and (b-2). In addition, it is presumed that the presence of dimethylaminoethyl (meth) acrylate improves the affinity with the quaternary ammonium salt.

本発明に用いられるヒンダードアミン系化合物(D)としては、四級アンモニウム塩のブリードアウトを抑制できるものであれば特に制限されないが、抑制効果が大きく、それ自身が化学的に安定である等の理由により、2及び6位の炭素上の全ての水素がメチル基で置換されているピペリジン骨格を、分子内に有するヒンダードアミン系化合物が好ましい。   The hindered amine compound (D) used in the present invention is not particularly limited as long as it can suppress bleed-out of the quaternary ammonium salt, but has a large suppression effect and is itself chemically stable. Therefore, a hindered amine compound having a piperidine skeleton in which all hydrogen on carbons at the 2 and 6 positions are substituted with methyl groups is preferable.

上記の様なヒンダードアミン系化合物(D)としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)サクシネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−ベンゾイル7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]ウンデカン−2,4−ジオン、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、4−メトクリロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等を例示することができる。   Examples of the hindered amine compound (D) include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate and bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate. Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- [2- [3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6 -Tetramethylpiperidine, 8-benzoyl 7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] undecane-2,4-dione, tetrakis (2, Can be exemplified 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butane tetracarboxylate, 4 Metokurirokishi-2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like.

ヒンダードアミン系化合物(D)の添加量は、高温多湿条件下でのブリードアウトを十分抑制するために、混合物(A)の100質量部に対して0.01質量部以上とされ、0.05質量部以上が好ましい。また、光硬化性樹脂組成物の良好な硬化性を維持し、十分な耐擦傷性を実現するために、3質量部以下とされ、2.5質量部以下が好ましい。   The addition amount of the hindered amine compound (D) is set to 0.01 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the mixture (A) in order to sufficiently suppress bleed out under high temperature and high humidity conditions, and 0.05 mass. Part or more is preferred. Moreover, in order to maintain favorable sclerosis | hardenability of a photocurable resin composition and implement | achieve sufficient abrasion resistance, it is 3 mass parts or less, and 2.5 mass parts or less are preferable.

本発明に用いられるジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートの添加量は、高温多湿条件下でのブリードアウトを十分抑制するために、混合物(A)の100質量部に対して0.3質量部以上とされ、0.5質量部以上が好ましい。また、光硬化性樹脂組成物の良好な硬化性を維持し、十分な耐擦傷性を実現するために、20質量部以下とされ、15質量部以下が好ましい。   The addition amount of dimethylaminoethyl (meth) acrylate used in the present invention is 0.3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the mixture (A) in order to sufficiently suppress bleed out under high temperature and high humidity conditions. 0.5 parts by mass or more is preferable. Moreover, in order to maintain favorable sclerosis | hardenability of a photocurable resin composition and implement | achieve sufficient abrasion resistance, it is 20 mass parts or less, and 15 mass parts or less are preferable.

本発明における光硬化性樹脂組成物には、従来から使用されている種々の添加剤を添加しても良い。添加剤としては、界面活性剤、レベリング剤、染料、顔料、酸化防止剤、紫外線吸収剤、安定剤、難燃剤、可塑剤等を挙げることができる。   Various additives conventionally used may be added to the photocurable resin composition in the present invention. Examples of the additive include a surfactant, a leveling agent, a dye, a pigment, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a stabilizer, a flame retardant, and a plasticizer.

本発明の光硬化性樹脂組成物を用い、ブリードアウトが抑制され、帯電防止性および耐擦傷性を有する積層体を得る方法としては、基材樹脂表面に、ローラーコート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、ディッピング法等の方法で、本発明の光硬化性樹脂組成物を塗布し、光で硬化する方法;ガラスと基材樹脂との間に本発明の光硬化性樹脂組成物を挟込んで光硬化し、基材樹脂表面に被膜を転写する方法が挙げられる。 また鋳型表面に前記方法で光硬化性樹脂組成物を塗布し、光で硬化した後、得られた被膜を内側として鋳型を作製し、樹脂原料を注入して、重合硬化せしめ鋳型から剥離する方法が挙げられる。この方法に使用する鋳型の材質は、特に制限されない。例えば、ステンレス鋼、ガラス板等が好ましい。この注型重合は、連続的に行うこともできる。例えば、所定の間隔をもって対向して走行する一対のステンレス製エンドレスベルトの対向面と、エンドレスベルトの走行に追随して走行する二つのガスケットとから形成される鋳型内に原料を注入し、連続的に重合硬化させて、重合体をエンドレスベルトから剥離して取り出す、いわゆる連続キャスト法を用いることができる。この場合は、光硬化性樹脂組成物を、エンドレスベルトの表面に塗布し、硬化させればよい。この方法は生産性の点で優れている。   As a method for obtaining a laminate having the anti-bleeding property and the scratch resistance by using the photo-curable resin composition of the present invention, bleed-out is suppressed, a roller coating method, a bar coating method, a spraying method is applied to the base resin surface. A method of applying the photocurable resin composition of the present invention by a coating method, an air knife coating method, a dipping method or the like and curing it with light; a photocurable resin of the present invention between glass and a base resin There is a method in which the composition is sandwiched and photocured to transfer the film onto the surface of the base resin. Also, a method in which the photocurable resin composition is applied to the mold surface by the above method and cured by light, and then a mold is produced with the obtained coating as the inside, a resin raw material is injected, polymerized, cured, and peeled off from the mold Is mentioned. The material of the mold used for this method is not particularly limited. For example, stainless steel, a glass plate, etc. are preferable. This cast polymerization can also be carried out continuously. For example, the raw material is continuously injected into a mold formed by opposing surfaces of a pair of stainless steel endless belts that run facing each other at a predetermined interval and two gaskets that run following the running of the endless belt. It is possible to use a so-called continuous casting method in which the polymer is cured and cured, and the polymer is peeled off from the endless belt. In this case, the photocurable resin composition may be applied to the surface of the endless belt and cured. This method is excellent in productivity.

本発明で使用される基材樹脂は特に限定されないが、好ましい例としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩ビ樹脂、ABS樹脂、スチレン樹脂等を挙げることができる。   The base resin used in the present invention is not particularly limited, but preferred examples include acrylic resin, polycarbonate resin, vinyl chloride resin, ABS resin, styrene resin and the like.

本発明において、光硬化性樹脂組成物よりなる被膜の厚みは、十分な帯電防止性および耐擦傷性を実現するために、0.5μm以上が好ましく、1μm以上がより好ましい。また、被膜にクラックが発生したり、積層体の切断時に被膜が欠ける等の不具合を抑制するために、100μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましい。   In the present invention, the thickness of the film made of the photocurable resin composition is preferably 0.5 μm or more and more preferably 1 μm or more in order to achieve sufficient antistatic properties and scratch resistance. Moreover, in order to suppress problems, such as a crack generate | occur | produced in a film or a film missing when a laminated body is cut | disconnected, 100 micrometers or less are preferable and 50 micrometers or less are more preferable.

本発明の積層体においては、必要に応じて、光硬化性樹脂組成物よりなる被膜の上に更に、反射防止膜を設けることができる。また積層体の片面に本発明の光硬化性樹脂組成物よりなる皮膜を設け、他方の片面に反射防止膜、接着膜等の他の機能薄膜を設けることもできる。   In the laminate of the present invention, an antireflection film can be further provided on the coating made of the photocurable resin composition as necessary. Moreover, the film which consists of a photocurable resin composition of this invention can be provided in the single side | surface of a laminated body, and other functional thin films, such as an antireflection film and an adhesive film, can also be provided in the other side.

本発明の積層体の表面は、透明性、耐擦傷性、帯電防止性に優れ、ブリードアウトが抑制されている。帯電防止性は、表面抵抗値および電荷半減期で評価することができ、表面抵抗値は、1×1013Ω/□以下が好ましく、5×1012Ω/□以下がより好ましく;電荷半減期は、30秒以下が好ましく、10秒以下がより好ましい。また、耐擦傷性は擦傷ヘーズで評価することができ、擦傷ヘーズは10%以下が好ましく、5%以下がより好ましい。また、本発明によれば、耐湿試験後によるブリードアウトを生じさせない様にすることができる。 The surface of the laminate of the present invention is excellent in transparency, scratch resistance and antistatic properties, and bleed out is suppressed. The antistatic property can be evaluated by a surface resistance value and a charge half-life, and the surface resistance value is preferably 1 × 10 13 Ω / □ or less, more preferably 5 × 10 12 Ω / □ or less; Is preferably 30 seconds or shorter, and more preferably 10 seconds or shorter. The scratch resistance can be evaluated by scratch haze, and the scratch haze is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. Further, according to the present invention, it is possible to prevent bleeding out after the moisture resistance test.

本発明の光硬化性樹脂組成物を光硬化させることにより得られる硬化被膜を、基材樹脂の少なくとも一部の表面に有する積層体によれば、帯電防止性を有するため埃が付着しにくく、耐擦傷性を有するため取り扱い等によって傷が付きにくく、着色等もなく、透明性は良好であり、四級アンモニウム塩のブリードアウトが抑制されているため、良好外観を維持できる。   According to the laminate having a cured film obtained by photocuring the photocurable resin composition of the present invention on at least a part of the surface of the base resin, it has antistatic properties, so that it is difficult for dust to adhere to it. Since it has scratch resistance, it is difficult to be scratched by handling, etc., there is no coloring, etc., transparency is good, and bleeding out of the quaternary ammonium salt is suppressed, so that a good appearance can be maintained.

このため、本発明の積層体は、部品カバー、グレージング材、車両用部材、ディスプレー材、照明材、銘板等に使用できるが、特に、CRT、液晶テレビ、プロジェクションテレビ等の各種ディスプレーの前面板、携帯電話の面板として好適に使用できる。   Therefore, the laminate of the present invention can be used for component covers, glazing materials, vehicle members, display materials, lighting materials, nameplates, etc., in particular, front plates for various displays such as CRTs, liquid crystal televisions, projection televisions, It can be suitably used as a face plate for a mobile phone.

以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例によって制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in more detail, this invention is not restrict | limited by these Examples.

なお、特に断りがない限り、全ての試薬は市販の特級相当品を使用した。また、「部」は「質量部」を意味する。   Unless otherwise specified, commercially available special grade products were used for all reagents. “Part” means “part by mass”.

(評価方法)
(ア)全光線透過率:
積層体の透明性を評価する為に、日本電色社製HAZE METER NDH2000により、JIS−K7361に示される測定法に準拠して、全光線透過率を測定した。
(Evaluation methods)
(A) Total light transmittance:
In order to evaluate the transparency of the laminate, the total light transmittance was measured by HAZE METER NDH2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. according to the measurement method shown in JIS-K7361.

(イ)帯電防止性の指標として表面抵抗値を測定した。測定方法としては、超絶縁抵抗計(TOA製、ULTRA MEGOHMMETER MODEL SM−10E)を使用し、測定温度23℃、測定湿度50%相対湿度(以下、「%相対湿度」を「RH%」と記す。)の条件で印加電圧500Vで1分後の表面抵抗値(Ω/□)を測定した。なお、測定用の試料としては、予め、23℃、50RH%で1日間調湿したものを用いた。   (A) The surface resistance value was measured as an index of antistatic properties. As a measurement method, a super insulation resistance meter (manufactured by TOA, ULTRA MEGOHMMETER MODEL SM-10E) is used, and the measurement temperature is 23 ° C. and the measurement humidity is 50% relative humidity (hereinafter referred to as “% relative humidity”). The surface resistance value (Ω / □) after 1 minute was measured at an applied voltage of 500 V under the conditions of. In addition, as a sample for a measurement, what was previously conditioned at 23 ° C. and 50 RH% for 1 day was used.

(ウ)帯電防止性の他の指標として電荷半減期を測定した。測定方法としては、スタティックオネストメーター(宍戸商会製)を使用し、印加電圧10000V、試料回転速度1550rpm、印加時間30秒、測定温度23℃、測定湿度50RH%の条件で測定し、電圧印加時の試料電圧が印加電圧切断後、半分になるまでの時間を電荷半減時間(秒)とした。なお、測定用の試料としては、予め、23℃、50RH%で1日間調湿したものを用いた。   (C) The charge half-life was measured as another index of antistatic properties. As a measuring method, a static Honest meter (manufactured by Ashito Shokai) is used, and measurement is performed under the conditions of an applied voltage of 10000 V, a sample rotation speed of 1550 rpm, an application time of 30 seconds, a measurement temperature of 23 ° C., and a measurement humidity of 50 RH%. The time required for the sample voltage to halve after the applied voltage was cut off was defined as the charge half-life time (seconds). In addition, as a sample for a measurement, what was previously conditioned at 23 ° C. and 50 RH% for 1 day was used.

(エ)耐擦傷性については、擦傷試験の前後におけるヘーズの変化(擦傷ヘーズ)をもって評価した。即ち、#000のスチールウールを装着した直径25.4mmの円形パッドをサンプルの被膜側表面上に置き、9.8Nの荷重下で、20mmの距離を100回往復擦傷し、擦傷前と擦傷後のヘーズ値の差を下式(1)より求めた;
[擦傷ヘーズ(%)]
=[擦傷後のヘーズ(%)]−[擦傷前のヘーズ(%)] (1)
なお、ヘーズは、日本電色製HAZE METER NDH2000により、JIS−K7136に示される測定法に準拠して測定した。
(D) The scratch resistance was evaluated by the change in haze (scratch haze) before and after the scratch test. That is, a circular pad with a diameter of 25.4 mm with # 000 steel wool was placed on the surface of the sample coating side, and under a load of 9.8 N, a 20 mm distance was scratched 100 times, and before and after scratching. The difference in haze value was calculated from the following formula (1);
[Abrasion haze (%)]
= [Haze after abrasion (%)]-[haze before abrasion (%)] (1)
In addition, haze was measured based on the measuring method shown by JIS-K7136 by Nippon Denshoku HAZE METER NDH2000.

(オ)ブリードアウトについては、耐湿試験により評価した。即ち、40℃、95RH%の条件下に10日間及び30日間サンプルを放置した後、被膜の外観を目視で観察し、次の2段階で評価した;
○:変化なし
×:ブリード物で外観低下
(E) Bleed-out was evaluated by a moisture resistance test. That is, after leaving the sample for 10 days and 30 days under the conditions of 40 ° C. and 95 RH%, the appearance of the coating was visually observed and evaluated in the following two stages;
○: No change ×: Appearance decreased due to bleeding

(共重合体Bの合成)撹拌羽根付きガラス製フラスコに、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド188部、メタノール228部を投入し、撹拌しながらジメチル硫酸136部、メタノール41.3部の混合物を、内温が15℃以下となる様に滴下し、滴下終了後30分間撹拌を続け四級アンモニウム塩基を有する化合物溶液を得た。   (Synthesis of Copolymer B) 188 parts of dimethylaminopropylmethacrylamide and 228 parts of methanol were put into a glass flask equipped with stirring blades, and a mixture of 136 parts of dimethylsulfuric acid and 41.3 parts of methanol was stirred at an internal temperature. Was dropped to 15 ° C. or lower and stirring was continued for 30 minutes after completion of the dropping to obtain a compound solution having a quaternary ammonium base.

この溶液に2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)2.4部、n−オクチルメルカプタン2.4部、メタノール384部、ポリエチレングリコール(23)モノメタクリレートモノメチルエーテル(カッコ内はポリエチレングリコールユニットの数)485部を加え、60℃で窒素雰囲気下に6時間重合させ、50℃で3日真空乾燥し、帯電防止性を付与する共重合体Bを得た。   In this solution, 2.4 parts of 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2.4 parts of n-octyl mercaptan, 384 parts of methanol, polyethylene glycol (23) monomethacrylate monomethyl ether (the parentheses are polyethylene glycol) 485 parts of the number of units) was added, polymerized in a nitrogen atmosphere at 60 ° C. for 6 hours, and vacuum-dried at 50 ° C. for 3 days to obtain a copolymer B imparting antistatic properties.

[実施例1]
化合物(a−1)として、トリメチロールプロパントリアクリレート(東亞合成社製 アロニックスM−309、以下「M309」とも記載する)47.5部、重量平均分子量約200のポリエチレングリコールのジアクリレート(新中村化学工業社製 NKエステルA200、以下「A200」とも記載する)13.75部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(大阪有機化学社製 ビスコート#230、以下「C6DA」とも記載する)13.75部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成社製 アロニックスM−305、以下「M305」とも記載する)5部、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物(大阪有機化学工業社製、以下「TAS」とも記載する)20部と、共重合体(B)11部と、光重合開始剤(C)として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 ダロキュア1173、以下「D1173」とも記載する)1.5部と、ヒンダードアミン系化合物(D)として、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(三共社製 サノールLS744、以下「LS744」とも記載する)0.3部と、ジメチルアミノエチルメタクリレート(三菱レイヨン社製 アクリエステルDM、以下「DM」とも記載する)1.0部とを混合し、光硬化性樹脂組成物を調製した。
[Example 1]
As compound (a-1), trimethylolpropane triacrylate (Aronix M-309 manufactured by Toagosei Co., Ltd., hereinafter also referred to as “M309”) 47.5 parts, polyethylene glycol diacrylate having a weight average molecular weight of about 200 (Shin Nakamura) NK Ester A200 manufactured by Chemical Industry Co., Ltd., 13.75 parts, hereinafter referred to as “A200”), 1,6-hexanediol diacrylate (Biscoat # 230, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd., hereinafter also referred to as “C6DA”) 13.75 Part, pentaerythritol triacrylate (Aronix M-305 manufactured by Toagosei Co., Ltd., hereinafter also referred to as “M305”), a succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid molar ratio 1: 2: 4 condensation reaction mixture (Osaka) Copolymerized with 20 parts of Organic Chemical Industries, Ltd. (hereinafter also referred to as “TAS”) 11 parts of the body (B), and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Darocur 1173 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) as the photopolymerization initiator (C). 1.5 parts, and 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine (Sanyo LS744, hereinafter also referred to as “LS744”) as hindered amine compound (D) 0. 3 parts and 1.0 part of dimethylaminoethyl methacrylate (Acrylic ester DM manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., hereinafter also referred to as “DM”) were mixed to prepare a photocurable resin composition.

得られた光硬化性樹脂組成物をSUS板に滴下し、その上に厚さ20μmのポリエチレンテレフタレート製(以下、「PET」とも記載する)の2軸延伸フィルム(ダイヤホイル社製)を配置し、JIS硬度40゜のゴムロールにてしごき、光硬化性樹脂組成物層の厚みを20μmに設定した。その後、出力40Wの蛍光紫外線ランプ(東芝製、FL40BL)の下、10cmの位置を、PETフィルム面を上にして、2m/分のスピードで通過させ前硬化した後、PETフィルムを剥離した。次いで出力30W/cmの高圧水銀灯下20cmの位置を、被膜を上にして0.8m/分のスピードで通過させ硬化させた。この様に処理した2枚のSUS板を硬化被膜が内側になるように対向させ、周囲を軟質塩ビ製のガスケットで封じ、注型重合用のセルを作製した。このセルに、重量平均分子量22万のメタクリル酸メチル重合体20質量%とメタクリル酸メチル80質量%とからなるシラップ100部と、アゾビスジメチルバレロニトリル0.05部と、ジオクチルスルフォサクシネートのナトリウム塩0.005部とからなる樹脂原料を注入し、対向するSUS板の間隔を2.7mmに調整し、80℃の水浴中で1時間、次いで、130℃の空気炉で1時間重合した。冷却後SUS板から樹脂板を剥離することにより表面に硬化被膜を有するアクリル系樹脂積層体を得た。 The obtained photocurable resin composition was dropped on a SUS plate, and a 20 μm thick polyethylene terephthalate (hereinafter also referred to as “PET”) biaxially stretched film (Diafoil) was placed thereon. The thickness of the photocurable resin composition layer was set to 20 μm by ironing with a rubber roll having a JIS hardness of 40 °. Then, under a fluorescent ultraviolet lamp with an output of 40 W (Toshiba, FL40BL), a 10 cm position was passed through the PET film surface at a speed of 2 m / min and precured, and then the PET film was peeled off. Next, a position of 20 cm under a high-pressure mercury lamp with an output of 30 W / cm 2 was passed through the coating at a speed of 0.8 m / min and cured. The two SUS plates treated in this way were opposed so that the cured film was on the inside, and the periphery was sealed with a gasket made of soft vinyl chloride to produce a cell for casting polymerization. In this cell, 100 parts of syrup composed of 20% by mass of a methyl methacrylate polymer having a weight average molecular weight of 220,000 and 80% by mass of methyl methacrylate, 0.05 part of azobisdimethylvaleronitrile, and dioctylsulfosuccinate A resin raw material consisting of 0.005 part of sodium salt was injected, the distance between the opposing SUS plates was adjusted to 2.7 mm, and polymerized in an 80 ° C. water bath for 1 hour and then in a 130 ° C. air furnace for 1 hour. . After cooling, the resin plate was peeled from the SUS plate to obtain an acrylic resin laminate having a cured coating on the surface.

得られたアクリル系樹脂積層体は透明性に優れており、その表面抵抗率値は2.0×1011Ω/□、電荷半減時間は1秒、擦傷ヘーズは0.2%であった。また耐湿試験後もアクリル系樹脂積層体の外観に変化は無かった。評価結果を表1に示す。 The obtained acrylic resin laminate was excellent in transparency, and had a surface resistivity value of 2.0 × 10 11 Ω / □, a charge half-life of 1 second, and an abrasion haze of 0.2%. Moreover, there was no change in the external appearance of the acrylic resin laminate even after the moisture resistance test. The evaluation results are shown in Table 1.

[実施例2〜11、比較例1〜11]
表1及び表2に示す原料組成を採用したこと以外は、実施例1と同様にしてアクリル系樹脂積層体を製造した。評価結果を表1および表2に示す。
[Examples 2 to 11, Comparative Examples 1 to 11]
An acrylic resin laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the raw material compositions shown in Table 1 and Table 2 were adopted. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

[実施例12]
実施例1で使用した光硬化性樹脂組成物をガラス板に塗布し、次いで厚さ1.5mmのアクリル樹脂板(三菱レイヨン社製 アクリライトL)とガラス板とで、光硬化性樹脂組成物を挟込むように重ね合わせた後、ゴムローラーでしごくことにより、光硬化性樹脂組成物層の厚みを20μmに設定した。この重ね合わせた状態で、ガラス面より遠赤外線ヒーターで加熱し、ガラス表面温度を70℃まで昇温させ、その状態で1分間保持した。次いで出力120W/cmの高圧水銀灯の下20cmの位置を、ガラス面を上にして2m/分のスピードで通過させ光硬化性樹脂組成物を硬化させた。硬化後ガラスからアクリル樹脂板を剥離することにより、アクリル系樹脂積層体を得た。得られたアクリル系樹脂積層体の硬化被膜側についての評価結果を表1に示す。
[Example 12]
The photocurable resin composition used in Example 1 was applied to a glass plate, and then a 1.5 mm thick acrylic resin plate (Acrylite L manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) and a glass plate were used to form the photocurable resin composition. Then, the thickness of the photocurable resin composition layer was set to 20 μm by rubbing with a rubber roller. In this superposed state, the glass surface was heated with a far-infrared heater to raise the glass surface temperature to 70 ° C. and held in that state for 1 minute. Next, a position 20 cm below the high-pressure mercury lamp with an output of 120 W / cm 2 was passed at a speed of 2 m / min with the glass surface facing up, and the photocurable resin composition was cured. The acrylic resin laminate was obtained by peeling the acrylic resin plate from the glass after curing. Table 1 shows the evaluation results on the cured film side of the obtained acrylic resin laminate.

[比較例12]
被膜を形成していないアクリル樹脂板(三菱レイヨン社製 アクリライトL)の評価を行った。評価結果を表2に示す。

Figure 2006342214
Figure 2006342214
[Comparative Example 12]
An acrylic resin plate (Acrylite L, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) that was not formed with a film was evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
Figure 2006342214
Figure 2006342214

表中の略号は、以下の化合物を示す。
「M309」 :トリメチロールプロパントリアクリレート
「DPHA」 :ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製 KAYARAD DPHA)
「A200」 :重量平均分子量約200のポリエチレングリコールのジアクリレート
「C6DA」 :1,6−ヘキサンジオールジアクリレート
「M305」 :ペンタエリスリトールトリアクリレート
「TAS」 :コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物
「HEA」 :2−ヒドロキシエチルアクリレート
「MAA」 :メタクリル酸
「701A」 :2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート(新中村化学工業社製 NKエステル701A)
「A−SA」 :2−アクリロイロキシエチルコハク酸(新中村化学工業社製 NKエステルA−SA)
「R167」 :1,6―ヘキサンジイルビス[オキシ(2−ヒドロキシプロパン−1,3−ジイル)]ジアクリレート(日本化薬社製 KAYARAD R−167)
「BIP」 :ベンゾインイソプロピルエーテル(精工化学社製 セイクオールBIP)
「D1173」:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン
「DM」 :ジメチルアミノエチルメタクリレート
The abbreviations in the table indicate the following compounds.
“M309”: trimethylolpropane triacrylate “DPHA”: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
“A200”: diacrylate “C6DA” of polyethylene glycol having a weight average molecular weight of about 200: 1,6-hexanediol diacrylate “M305”: pentaerythritol triacrylate “TAS”: mole of succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid Ratio 1: 2: 4 condensation reaction mixture “HEA”: 2-hydroxyethyl acrylate “MAA”: methacrylic acid “701A”: 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate (NK Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester 701A )
“A-SA”: 2-acryloyloxyethyl succinic acid (NK ester A-SA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
“R167”: 1,6-hexanediylbis [oxy (2-hydroxypropane-1,3-diyl)] diacrylate (KAYARAD R-167 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
“BIP”: Benzoin isopropyl ether (Seikol BIP manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.)
“D1173”: 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one “DM”: dimethylaminoethyl methacrylate

表1に示すように、実施例1〜12では、本発明の光硬化性樹脂組成物より得られる被膜が形成された積層体においては、十分な帯電防止性、耐擦傷性および透明性が実現され、四級アンモニウム塩のブリードアウトも抑制されていることがわかった。   As shown in Table 1, in Examples 1 to 12, sufficient antistatic property, scratch resistance and transparency were realized in the laminate in which the film obtained from the photocurable resin composition of the present invention was formed. It was also found that quaternary ammonium salt bleedout was also suppressed.

一方、表2に示すように、比較例1、4〜10ではブリードアウトによる曇りが発生した。また、比較例2、11では耐擦傷性が不十分であり、比較例3では帯電防止性が不十分で、比較例12では帯電防止性及び耐擦傷性が不十分だった。   On the other hand, as shown in Table 2, in Comparative Examples 1, 4 to 10, fogging due to bleed out occurred. In Comparative Examples 2 and 11, the scratch resistance was insufficient. In Comparative Example 3, the antistatic property was insufficient. In Comparative Example 12, the antistatic property and the scratch resistance were insufficient.

本発明によって得られた光硬化性樹脂組成物を光硬化して得られる被膜を有する積層体は、十分な帯電防止性を示すとともに耐擦傷性、透明性などに優れ、ディスプレーの前面板、携帯電話の面板など各種用途に好適である。   The laminate having a film obtained by photocuring the photocurable resin composition obtained by the present invention exhibits sufficient antistatic properties and is excellent in scratch resistance, transparency, and the like. It is suitable for various applications such as telephone face plates.

Claims (8)

分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物(a−1)80〜100質量%と、分子中に1個のα、β−エチレン系不飽和結合を有する化合物(a−2)0〜20質量%とからなる混合物(A)100質量部と、下記一般式(1)
Figure 2006342214
(式中、R1は水素原子またはメチル基、R2〜R4は炭素数1〜9の置換基を含んでも良いアルキル基、mは1〜10の整数、X-は四級化剤由来のアニオン、Yは酸素原子またはNHを表す。)で表される化合物(b−1)20〜99質量%と、該化合物(b−1)と共重合可能な1つの不飽和二重結合を有する化合物(b−2)1〜80質量%とを重合して得られる共重合体(B)0.5〜30質量部と、光重合開始剤(C)0.1〜10質量部と、ヒンダードアミン系化合物(D)0.01〜3質量部と、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート0.3〜20質量部を含んでなる光硬化性樹脂組成物。
80 to 100% by mass of a polymerizable compound (a-1) having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule and a compound (a) having one α, β-ethylenically unsaturated bond in the molecule (a -2) 100 parts by mass of a mixture (A) composed of 0 to 20% by mass, and the following general formula (1)
Figure 2006342214
(Wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 to R 4 are alkyl groups that may contain a substituent having 1 to 9 carbon atoms, m is an integer of 1 to 10, and X is derived from a quaternizing agent. An anion of the above, Y represents an oxygen atom or NH), and 20 to 99% by mass of the compound (b-1) represented by the compound, and one unsaturated double bond copolymerizable with the compound (b-1). 0.5 to 30 parts by mass of a copolymer (B) obtained by polymerizing 1 to 80% by mass of the compound (b-2) having, 0.1 to 10 parts by mass of a photopolymerization initiator (C), A photocurable resin composition comprising 0.01 to 3 parts by mass of a hindered amine compound (D) and 0.3 to 20 parts by mass of dimethylaminoethyl (meth) acrylate.
化合物(b−2)が、下記一般式(2)で表される化合物である請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
Figure 2006342214
(式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子または炭素数1〜18の置換基を含んでも良いアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基、Aは炭素数2〜4の置換基を含んでも良いアルキレン基、nは0〜500の整数を表す。)
The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the compound (b-2) is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 2006342214
Wherein R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group, aryl group or aralkyl group which may contain a substituent having 1 to 18 carbon atoms, and A is a substituent having 2 to 4 carbon atoms. An alkylene group which may contain, n represents an integer of 0 to 500.)
一般式(1)における四級化剤由来のアニオン(X-)が、一般式R7SO3 -またはR7OSO3 -(式中、R7は水素原子または炭素数1〜20の置換基を含んでも良いアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を表す。)である請求項1又は2記載の光硬化性樹脂組成物。 The anion (X ) derived from the quaternizing agent in the general formula (1) is represented by the general formula R 7 SO 3 or R 7 OSO 3 (wherein R 7 is a hydrogen atom or a substituent having 1 to 20 carbon atoms). 3 represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group that may contain a photocurable resin composition. 一般式(1)におけるYがNHである請求項1乃至3いずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein Y in the general formula (1) is NH. ヒンダードアミン系化合物(D)が、2及び6位の炭素上の全ての水素がメチル基で置換されているピペリジン骨格を、分子内に有する化合物である請求項1乃至4いずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。   5. The photocuring according to any one of claims 1 to 4, wherein the hindered amine compound (D) is a compound having in its molecule a piperidine skeleton in which all hydrogen on carbons at the 2 and 6 positions are substituted with methyl groups. Resin composition. 基材樹脂の少なくとも一部の表面に請求項1乃至5いずれかに記載の光硬化性樹脂組成物の硬化被膜を有する積層体。   The laminated body which has the cured film of the photocurable resin composition in any one of Claims 1 thru | or 5 in the surface of at least one part of base resin. 請求項6に記載の積層体からなるディスプレー前面板。   A display front plate comprising the laminate according to claim 6. 請求項6に記載の積層体からなる携帯電話面板。   A cellular phone face plate comprising the laminate according to claim 6.
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