JP2006337545A - Method for manufacturing film covered substrate and method for manufacturing electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Method for manufacturing film covered substrate and method for manufacturing electrophotographic photoreceptor Download PDF

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孝嗣 小幡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a film covered substrate by which a smooth film free from pinholes, bubbles, surface unevenness, etc., can easily be formed in a short period of time. <P>SOLUTION: A film 6 is formed on a substrate 5 by applying a coating liquid containing photosensitive layer forming materials and a solvent in which a solvent whose relative evaporation rate represented by following expression (1) is <1.7 is contained in an amount of ≥30 wt.%; expression (1): (relative evaporation rate)=(time in which n-butyl acetate evaporates)/(time in which solvent evaporates). The objective film covered substrate is manufactured using a drying apparatus 1 by heating the substrate 5 to 60-150°C by an induction heating means 2 and then drying the film 6 by heating by a far infrared heating means 3. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、塗膜被覆基体の製造方法および電子写真感光体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a coating film-coated substrate and a method for producing an electrophotographic photosensitive member.

複写機、プリンタ、ファクシミリなどの画像形成装置に用いられる電子写真感光体(以後、単に感光体とも呼ぶ)は、中空円筒状の導電性基体の外周面に有機の感光層が塗布されて形成される。電子写真感光体の多くは、高性能化の要求に応じて開発が重ねられ、下引層、電荷発生層、電荷輸送層、保護層などが積層されて積層構造を有する。なお、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層との2層、または電荷発生物質と電荷輸送物質とを含有する単層の電荷発生/輸送層を含んで構成される層を感光層と呼ぶ。   An electrophotographic photosensitive member (hereinafter also simply referred to as a photosensitive member) used in an image forming apparatus such as a copying machine, a printer, or a facsimile is formed by coating an organic photosensitive layer on the outer peripheral surface of a hollow cylindrical conductive substrate. The Many electrophotographic photoreceptors have been developed in response to demands for higher performance, and have a laminated structure in which an undercoat layer, a charge generation layer, a charge transport layer, a protective layer, and the like are laminated. A layer including at least two layers of a charge generation layer and a charge transport layer, or a single layer charge generation / transport layer containing a charge generation material and a charge transport material is referred to as a photosensitive layer.

電子写真感光体を用いる画像形成方法としては、以下のような感光体の光導電現象を利用した電子写真方式の画像形成方法が広く用いられている。まず感光体を暗所に置き、帯電手段によって感光体の表面を一様に帯電させた後、画像情報に対応する露光を行い、露光部の表面電荷を選択的に放電させる。これによって、感光体の非露光部のみに表面電荷が残存する状態となり、露光部の表面電荷量と非露光部の表面電荷量とに差異が生じ、静電潜像が形成される。次に、形成された静電潜像に、トナーと呼ばれる着色された荷電微粒子を静電引力などによって付着させ、可視像であるトナー像を形成する。形成されたトナー像を必要に応じて紙などの転写材上に転写し、定着させることによって画像を形成する。   As an image forming method using an electrophotographic photosensitive member, an electrophotographic image forming method using a photoconductive phenomenon of the photosensitive member as described below is widely used. First, the photosensitive member is placed in a dark place, and the surface of the photosensitive member is uniformly charged by charging means, and then exposure corresponding to image information is performed to selectively discharge the surface charge of the exposed portion. As a result, the surface charge remains only in the non-exposed portion of the photoreceptor, and a difference occurs between the surface charge amount in the exposed portion and the surface charge amount in the non-exposed portion, and an electrostatic latent image is formed. Next, colored fine particles called toner are adhered to the formed electrostatic latent image by electrostatic attraction or the like to form a visible toner image. The formed toner image is transferred onto a transfer material such as paper and fixed as necessary to form an image.

以上の一連の電子写真プロセスを経て画像を形成する画像形成装置に用いられる感光体には、基本的な特性として、電気特性に優れること、たとえば、電荷保持能力に優れ、暗所での電荷の放電が少ないこと、光感度に優れ、光照射によって速やかに電荷を放電することなどが要求される。また感光体には、長期にわたって均質な画像を形成することができるように、繰返し使用がされても前述の電気特性が安定していること(繰返し安定性)、温度、湿度の変化があっても均質な画像を形成することができるように前述の電気特性が安定していること(環境安定性)なども求められる。繰返し安定性および環境安定性を高くするためには、稼動に伴う電気化学的な作用および機械的外力に対する耐久性を高めることが必要である。   A photoreceptor used in an image forming apparatus that forms an image through a series of electrophotographic processes as described above has excellent electrical characteristics as a basic characteristic, for example, excellent charge retention capability, and charge in a dark place. There are demands for low discharge, excellent photosensitivity, and rapid discharge of light by light irradiation. In addition, the photoreceptor has stable electrical characteristics as described above (repetitive stability) and changes in temperature and humidity so that a uniform image can be formed over a long period of time. In addition, it is also required that the above-mentioned electrical characteristics are stable (environmental stability) so that a homogeneous image can be formed. In order to increase the cycle stability and the environmental stability, it is necessary to increase the durability against electrochemical action and mechanical external force during operation.

稼動に伴う電気化学的な作用に対する耐久性には、たとえば、帯電時のコロナ放電によって発生するオゾン、NOx(窒素酸化物)などの活性物質の付着による表面層の劣化に対する耐久性がある。また機械的外力に対する耐久性には、紙などの転写材との摺擦によって転写時に発生する磨耗、傷などに対する耐磨耗性などがあり、これらは特に感光体の最表面層の表面状態によって決定される。たとえば、感光体の表面状態が平滑でなく、むらがある場合、転写時における摩擦力が表面層の一部で大きくなって表面損傷が発生するなどの問題が生じ、機械的外力に対する耐久性が低下する。また、たとえば感光体の表面層に空孔がある場合、帯電時に発生する活性物質が付着する表面積が増加して、電気化学的な作用に対する耐久性が低下する。したがって、感光体の表面層を平滑にすることが、繰返し安定性および環境安定性を向上させるためには不可欠である。   The durability against the electrochemical action accompanying operation includes, for example, the durability against deterioration of the surface layer due to adhesion of active substances such as ozone and NOx (nitrogen oxide) generated by corona discharge during charging. In addition, the durability against mechanical external force includes the abrasion resistance and abrasion resistance that occur during transfer due to rubbing with a transfer material such as paper, etc., especially depending on the surface condition of the outermost surface layer of the photoreceptor. It is determined. For example, if the surface state of the photoconductor is not smooth and uneven, there is a problem that the frictional force during transfer increases in part of the surface layer and surface damage occurs, resulting in durability against mechanical external forces. descend. For example, when there are pores in the surface layer of the photosensitive member, the surface area to which the active substance generated during charging adheres increases and the durability against electrochemical action decreases. Therefore, it is indispensable to smooth the surface layer of the photoreceptor in order to improve the repetition stability and the environmental stability.

電子写真感光体は、有機機能性材料、バインダ樹脂などの感光層形成材料を溶媒に溶解または分散させた塗布液をスプレー法、リングコート法、ロールコーティング法、ブレード法、浸漬法などによって導電性基体上に均一な厚さで塗布(以後、導電性基体上に塗布された塗布液を塗膜と呼ぶ)する塗布工程と、塗膜を乾燥させることによって塗膜に含まれる溶媒を除去する乾燥工程とを経て製造される。従来乾燥工程は、塗膜が形成された導電性基体をオーブン内に一定数装入し、溶媒の沸点以上の温度の熱風を吹き付けて乾燥させるバッチ式、塗膜が形成された導電性基体を複数のヒータが設置される熱処理炉内に通過させて乾燥させる連続式などによって行われる。   An electrophotographic photoreceptor is conductive by spraying, ring coating, roll coating, blade, dipping, etc. with a coating solution in which a photosensitive layer forming material such as an organic functional material or binder resin is dissolved or dispersed in a solvent. A coating process for coating the substrate with a uniform thickness (hereinafter, a coating solution coated on the conductive substrate is referred to as a coating film), and drying for removing the solvent contained in the coating film by drying the coating film. It is manufactured through processes. Conventionally, the drying process is a batch type in which a certain number of conductive substrates on which a coating film has been formed are placed in an oven, and dried by blowing hot air at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent. It is performed by a continuous method in which it is passed through a heat treatment furnace in which a plurality of heaters are installed and dried.

しかしながら、上記のように熱風、ヒータなどによって塗膜の乾燥を行うと、塗膜の表面において熱風、ヒータなどからの熱が直接当たる部分と間接的に当たる部分とが発生して塗膜表面に加熱むらが生じ、これによって乾燥後の塗膜の表面状態にもむらが生じる。また塗膜表面は、塗膜内部よりも先に乾燥されてしまうので、乾燥による硬化によって表面が非常に緻密な硬化膜になる。このような硬化膜の形成過程において、塗膜の粘度が塗膜表面付近で高くなり、加熱され気化された塗膜内部の溶媒のガスが塗膜表面から抜け難くなる。このことによって、塗膜表面および内部に気泡、ピンホールなどの欠陥を発生させたり、塗膜表面に、その上層に塗布する塗膜を剥離させやすくする塗膜のはじきなどの欠陥を生じさせたりすることがある。感光体の表面層にこのような欠陥があると、クラック、剥離などが生じやすくなり、電気化学的な作用および機械的外力に対する耐久性が低下するので、良好な繰返し安定性および環境安定性を得ることができない。   However, when the coating film is dried with hot air, a heater, etc. as described above, a portion that is directly exposed to hot air, heat from the heater, etc., and a portion that is indirectly applied to the surface of the coating film are generated and heated to the surface of the coating film. Unevenness occurs, and this also causes unevenness of the surface state of the coated film after drying. Moreover, since the coating film surface is dried before the inside of the coating film, the surface becomes a very dense cured film by curing by drying. In the process of forming such a cured film, the viscosity of the coating film increases in the vicinity of the coating film surface, and it is difficult for the solvent gas inside the coating film heated and vaporized to escape from the coating film surface. As a result, defects such as bubbles and pinholes are generated on the surface and inside of the coating film, and defects such as film repelling that make it easier to peel off the coating film applied to the upper surface of the coating film surface. There are things to do. If there are such defects in the surface layer of the photoreceptor, cracks, peeling, etc. are likely to occur, and the durability against electrochemical action and mechanical external force will be reduced, so good repeatability and environmental stability will be achieved. Can't get.

また、形成された塗膜の熱風、ヒータなどによる乾燥には、1時間から数時間の時間がかかり、生産効率が低下する。生産効率を向上させるために、生産ラインにおいて大型の連続乾燥炉、バッチ式オーブンなどを用いると、そのランニングコストおよびメンテナンスコストにも大きな費用がかかる。   Further, drying of the formed coating film with hot air, a heater or the like takes time of 1 to several hours, and the production efficiency is lowered. In order to improve the production efficiency, if a large continuous drying furnace, a batch type oven or the like is used in the production line, the running cost and the maintenance cost are also high.

このような問題を解決する方法として、塗膜材料そのものを直接的に加熱し、または導電性基体を加熱することによって塗膜内部を間接的に加熱し乾燥させる方法が提案されている(たとえば、特許文献1〜6参照)。特許文献1では、誘電加熱を用いて塗膜の構成材料分子を振動させて加熱し塗膜を乾燥する方法が開示されている。特許文献2〜4では、遠赤外ヒータを用いて塗膜の構成材料そのものに遠赤外線を吸収させて加熱し塗膜を乾燥する方法が開示されている。特許文献5では、金属製の導電性基体を誘導加熱法によって加熱し、導電性基体からの発熱によって塗膜を乾燥する方法が開示されている。特許文献6では、誘導加熱法と、必要に応じて用いられる誘導加熱法以外の方法とを組合わせて塗膜を乾燥させる方法が開示されている。   As a method for solving such a problem, a method of directly heating the coating material itself or indirectly heating the coating film by heating the conductive substrate to dry the coating material has been proposed (for example, Patent References 1 to 6). Patent Document 1 discloses a method in which dielectric material is used to vibrate and heat constituent material molecules of a coating film to dry the coating film. Patent Documents 2 to 4 disclose a method of drying a coating film by using a far-infrared heater so that the constituent material of the coating film itself absorbs far-infrared rays and heats it. Patent Document 5 discloses a method in which a metal conductive substrate is heated by an induction heating method and the coating film is dried by heat generated from the conductive substrate. In patent document 6, the method of drying a coating film combining the induction heating method and methods other than the induction heating method used as needed is disclosed.

特許文献1〜6に開示される方法によれば、塗膜材料そのものを直接的に加熱し、または導電性基体を加熱することによって塗膜内部を間接的に加熱し乾燥させることができるので、加熱むらを少なくすることができ、乾燥後の塗膜表面のむらが低減される。またこれらの方法によれば、塗膜の内部から乾燥させることができ、塗膜表面から乾燥が進むことにより形成される硬化膜の発生を防止することができるので、塗膜内部についても充分に溶媒を除去して乾燥できるとともに、乾燥時間を短くすることができるとされる。   According to the methods disclosed in Patent Documents 1 to 6, the coating material itself can be directly heated, or the inside of the coating can be heated and dried indirectly by heating the conductive substrate. Unevenness of heating can be reduced, and unevenness of the coating film surface after drying is reduced. In addition, according to these methods, it is possible to dry from the inside of the coating film, and it is possible to prevent the formation of a cured film formed by the progress of drying from the surface of the coating film. It is said that the solvent can be removed and dried, and the drying time can be shortened.

しかしながら、これらの乾燥方法には次のような問題がある。特許文献1に開示される誘電加熱を用いる方法では、金属製の導電性基体がアースされていないと、そのエッジ部分からスパークが発生し、気化した塗膜中の溶媒に引火し爆発する恐れがある。また、この方法によって加熱される物質は双極子のある誘電体のみであり、塗膜構成物質の固有の値である誘電正接tanδによってその加熱効率が決定されるので、塗布液の溶媒として使用する材料が限定されてしまう。   However, these drying methods have the following problems. In the method using dielectric heating disclosed in Patent Document 1, if the metal conductive substrate is not grounded, a spark is generated from the edge portion, and the solvent in the vaporized coating film may ignite and explode. is there. In addition, the material heated by this method is only a dielectric having a dipole, and its heating efficiency is determined by the dielectric loss tangent tan δ which is an inherent value of the coating film constituent material, so it is used as a solvent for the coating solution. The material will be limited.

特許文献2〜4に開示される遠赤外線による加熱乾燥方法では、塗膜の構成分子そのものに遠赤外線を吸収させ加熱するので、塗膜については高い加熱効率を得られるけれども、金属製導電性基体には赤外線が吸収されず、金属製導電性基体は加熱されない。したがって、乾燥の初期段階において塗膜を加熱しても、塗膜下部から導電性基体に熱が伝導し、導電性基体に伝導した熱が外部に放出されるので、塗膜への加熱効率が低下し、乾燥に長時間を要する。特に、量産に対応した大型の連続乾燥炉を用いる場合、この放熱による加熱効率の低下が大きな問題となり、熱風による乾燥よりも乾燥に長時間を要することもある。   In the heating and drying method using far infrared rays disclosed in Patent Documents 2 to 4, the constituent molecules of the coating film absorb the far infrared rays and heat them, so that high heating efficiency can be obtained for the coating film. Infrared rays are not absorbed and the metal conductive substrate is not heated. Therefore, even if the coating film is heated in the initial stage of drying, heat is conducted from the lower part of the coating film to the conductive substrate, and the heat conducted to the conductive substrate is released to the outside. It takes a long time to dry. In particular, when a large continuous drying furnace corresponding to mass production is used, a decrease in heating efficiency due to this heat radiation becomes a serious problem, and drying may take a longer time than drying with hot air.

特許文献5に開示される誘導加熱法による乾燥方法では、金属製導電性基体を加熱し、導電性基体からの発熱によって塗膜を乾燥させるけれども、熱風、ヒータなどによる加熱方法と比べて加熱効率が非常に高く、塗膜の温度が急激に上昇してしまうことがあり、塗膜の温度の管理が難しいという問題がある。また、塗膜の温度が急激に上昇してしまうと、塗膜の温度が感光体の耐熱温度以上に上昇して感光体の電気特性が低下するという問題もある。   In the drying method based on the induction heating method disclosed in Patent Document 5, the metal conductive substrate is heated and the coating film is dried by the heat generated from the conductive substrate. However, the heating efficiency is higher than the heating method using hot air or a heater. Is very high, and the temperature of the coating film may increase rapidly, which makes it difficult to control the temperature of the coating film. In addition, when the temperature of the coating film is rapidly increased, there is a problem that the temperature of the coating film rises to a temperature higher than the heat resistance temperature of the photoreceptor and the electrical characteristics of the photoreceptor are deteriorated.

特許文献6に開示される誘導加熱法と必要に応じて用いられる誘導加熱法以外の方法とを組合わせる塗膜乾燥方法についても、塗膜の乾燥は誘導加熱法により行われるので、特許文献5に開示される方法と同様に温度管理が困難である。また、特にテトラヒドロフランなどの低沸点溶剤を塗膜の溶媒として含むものに誘導加熱法を用いる場合、短時間で塗膜表面が硬化してしまい、塗膜内部から加熱できるという誘導加熱法を用いることによる効果を発現できない恐れがある。   Regarding the coating film drying method that combines the induction heating method disclosed in Patent Document 6 and a method other than the induction heating method used as necessary, the coating film is dried by the induction heating method. As in the method disclosed in the above, temperature management is difficult. Also, when using the induction heating method especially for those containing a low boiling point solvent such as tetrahydrofuran as the solvent for the coating film, use the induction heating method that the coating film surface hardens in a short time and can be heated from inside the coating film. There is a possibility that the effect of cannot be expressed.

特開昭58−102238号公報JP 58-102238 A 特開平3−233885号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-233895 特公平5−50742号公報Japanese Patent Publication No. 5-50742 特開平11−311871号公報JP-A-11-311871 特開2003−275670号公報JP 2003-275670 A 特開平2−72366号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-72366

本発明の目的は、ピンホール、気泡、表面のむらなどのない平滑な塗膜を短時間で容易に形成することができる塗膜被覆基体の製造方法および電子写真感光体の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for producing a coating film-coated substrate and a method for producing an electrophotographic photosensitive member, which can easily form a smooth coating film free from pinholes, bubbles and surface unevenness in a short time. It is.

本発明は、金属製の基体上に塗膜形成材料と溶媒とを含む塗布液を塗布して形成される塗膜を有する塗膜被覆基体の製造方法において、
塗膜形成材料と溶媒とを含む塗布液を基体上に塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
塗膜が形成される基体を誘導加熱法によって60℃以上150℃以下に加熱する誘導加熱工程と、
基体に形成される塗膜を遠赤外線加熱法で加熱することによって乾燥させる遠赤外線加熱乾燥工程とを含み、
酢酸n−ブチルの蒸発する時間と溶剤の蒸発する時間との比率を該溶剤の相対蒸発速度とするとき、
前記溶媒中には、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤が30重量%以上含まれることを特徴とする塗膜被覆基体の製造方法である。
The present invention provides a method for producing a coating film-coated substrate having a coating film formed by applying a coating solution containing a coating film-forming material and a solvent on a metal substrate.
A coating process in which a coating liquid containing a coating film forming material and a solvent is coated on a substrate to form a coating film;
An induction heating step of heating the substrate on which the coating film is formed to 60 ° C. or more and 150 ° C. or less by an induction heating method;
A far-infrared heat drying step for drying the coating film formed on the substrate by heating with a far-infrared heating method,
When the ratio of the evaporation time of n-butyl acetate and the evaporation time of the solvent is the relative evaporation rate of the solvent,
In the method for producing a coating film-coated substrate, the solvent contains a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 by 30% by weight or more.

また本発明は、基体が円筒形状または円柱形状であり、
前記誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程は、
基体を軸線方向が水平方向に平行になるように保持し、基体を軸線周りに回転させながら行われることを特徴とする。
In the present invention, the substrate has a cylindrical shape or a columnar shape,
The induction heating step and the far infrared heating drying step are:
The substrate is held such that the axial direction is parallel to the horizontal direction, and the substrate is rotated around the axial line.

また本発明は、金属製の基体が導電性基体であり、
塗膜形成材料が感光層形成材料であり、
塗膜被覆基体が電子写真感光体であることを特徴とする前記塗膜被覆基体の製造方法に記載の電子写真感光体の製造方法である。
In the present invention, the metal substrate is a conductive substrate,
The coating film forming material is a photosensitive layer forming material,
The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to the method for producing a coating-coated substrate, wherein the coating-coated substrate is an electrophotographic photosensitive member.

本発明によれば、塗膜を形成する塗布液の溶媒中に、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤が30重量%以上含まれ、塗膜が形成される基体を誘導加熱法により60℃以上150℃以下に加熱し、その後基体に形成される塗膜を遠赤外線により加熱し乾燥させることによって塗膜被覆基体が製造される。遠赤外線加熱法で加熱する前に、誘導加熱法によって基体を加熱することにより、遠赤外線加熱乾燥工程中に塗膜から伝導した熱が基体から放出され、温度が低下するという問題を解消することができるので、塗膜の乾燥を短時間で行うことができる。また、誘導加熱法による加熱は、基体を予め定める温度まで高めるために行われ、塗膜を乾燥させるほど長時間に亘って行われるものではないので、誘導加熱工程中では加熱される塗膜の温度管理を行う必要がない。さらに、塗膜の乾燥は遠赤外線加熱により行われ、塗膜を内部から乾燥させることができるので、塗膜表面の硬化膜が形成されにくくなり、内部の溶媒についても充分に除去することができる。このことにより、ピンホール、気泡、表面のむらなどのない平滑な塗膜を有する塗膜被覆基体を短時間で容易に製造することができる。   According to the present invention, the solvent of the coating solution for forming the coating film contains 30% by weight or more of the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7, and the substrate on which the coating film is formed is heated at 60 ° C. by the induction heating method. The coating film-coated substrate is manufactured by heating to 150 ° C. or less and then heating and drying the coating film formed on the substrate with far infrared rays. By heating the substrate by induction heating before heating by the far infrared heating method, the heat conducted from the coating film during the far infrared heating drying process is released from the substrate and the temperature is lowered. Therefore, the coating film can be dried in a short time. In addition, heating by the induction heating method is performed to raise the substrate to a predetermined temperature, and is not performed for a long time so that the coating film is dried. There is no need for temperature control. Furthermore, since the coating film is dried by far-infrared heating, and the coating film can be dried from the inside, it becomes difficult to form a cured film on the surface of the coating film, and the internal solvent can be sufficiently removed. . This makes it possible to easily produce a coating-coated substrate having a smooth coating film free from pinholes, bubbles and surface irregularities in a short time.

また、塗布液中の溶媒として、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤が30重量%以上含まれるものを用いるので、塗布液中の溶媒の蒸発速度が緩やかになる。このことによって、塗布工程中、塗布工程から誘導加熱工程へ移るまでの間および誘導加熱工程から遠赤外線加熱乾燥工程へ移るまでの間に、塗膜表面が塗膜内部に比べて急速に乾燥されるのが防止され、塗膜表面での硬化膜の形成を防止することができる。   In addition, since the solvent in the coating solution contains a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7% by weight of 30% by weight or more, the evaporation rate of the solvent in the coating solution becomes slow. As a result, during the coating process, the surface of the coating film is rapidly dried compared to the inside of the coating film during the period from the coating process to the induction heating process and from the induction heating process to the far infrared heating drying process. And the formation of a cured film on the surface of the coating film can be prevented.

さらに、誘導加熱工程における基体の温度を60℃以上150℃以下とすることにより、充分に基体の温度を高めることができるとともに、温度に対する塗膜の安定性を保持することができる。   Furthermore, by setting the temperature of the substrate in the induction heating step to 60 ° C. or more and 150 ° C. or less, the temperature of the substrate can be sufficiently increased, and the stability of the coating film with respect to the temperature can be maintained.

また本発明によれば、軸線が水平になるように保持される円筒形状または円柱形状の基体を軸線周りに回転させながら誘導加熱工程および赤外線加熱乾燥工程が行われるので、温度上昇によって粘度が低下し流動性が増加した塗布液が重力によって基体をつたって重力方向に垂れることを防止でき、円筒形状および円柱形状の基体の円周方向および軸方向の膜厚を均一にすることができる。さらに、円筒形状および円柱形状の基体を軸線周りに回転させることによって、遠赤外線による軸線周りの加熱を均一化し、乾燥後の塗膜表面のむらを低減することができる。   In addition, according to the present invention, the induction heating step and the infrared heating drying step are performed while rotating the cylindrical or columnar substrate, which is held so that the axis is horizontal, around the axis. Then, the coating liquid having increased fluidity can be prevented from dripping in the direction of gravity through the substrate due to gravity, and the film thickness in the circumferential direction and axial direction of the cylindrical and columnar substrates can be made uniform. Further, by rotating the cylindrical and columnar substrates around the axis, heating around the axis by far infrared rays can be made uniform, and unevenness of the coating film surface after drying can be reduced.

また本発明によれば、前記金属製の基体が導電性基体であり、塗膜形成材料が感光層形成材料であり、塗膜被覆基体が電子写真感光体であるので、感光層を形成する塗膜として、電気特性を損なうことなく、ピンホール、気泡、表面のむらなどのない平滑な塗膜を有する電子写真感光体を短時間で容易に形成することができる。   According to the present invention, the metal substrate is a conductive substrate, the coating film forming material is a photosensitive layer forming material, and the coating film coated substrate is an electrophotographic photosensitive member. As a film, an electrophotographic photosensitive member having a smooth coating film free from pinholes, bubbles, and surface unevenness can be easily formed in a short time without impairing electrical characteristics.

本発明の塗膜被覆基体の製造方法は、塗膜形成材料と溶媒とを含む塗布液を基体上に塗布して塗膜を形成する塗布工程と、塗膜が形成される基体を誘導加熱法によって60℃以上150℃以下に加熱する誘導加熱工程と、基体に形成される塗膜を遠赤外線加熱法で加熱することによって乾燥させる遠赤外線加熱乾燥工程とを含み、酢酸n−ブチルの蒸発する時間と溶剤の蒸発する時間との比率を該溶剤の相対蒸発速度とするとき、前記溶媒中には相対蒸発速度が1.7未満の溶剤が30重量%以上含まれることを特徴とする。   The method for producing a coating film-coated substrate of the present invention comprises a coating step in which a coating solution containing a coating film forming material and a solvent is coated on the substrate to form a coating film, and an induction heating method for the substrate on which the coating film is formed. N-butyl acetate evaporates, including an induction heating step of heating to 60 ° C. or more and 150 ° C. or less, and a far infrared heating drying step of drying the coating film formed on the substrate by heating by a far infrared heating method. When the ratio between the time and the solvent evaporating time is defined as the relative evaporation rate of the solvent, the solvent contains 30% by weight or more of a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7.

本発明の塗膜被覆基体の製造方法は、たとえば、感光層形成材料と溶媒とを含む塗布液を金属製の導電性基体上に塗布して形成される塗膜を乾燥させることによって、導電性基体上に感光層を形成する電子写真感光体(以後、単に感光体とも呼ぶ)の製造方法として用いることができる。以下、本発明の塗膜被覆基体の製造方法の実施の一形態である本発明の電子写真感光体の製造方法について説明する。   The method for producing a coated substrate according to the present invention includes, for example, applying a coating solution containing a photosensitive layer forming material and a solvent on a conductive substrate made of metal, and drying the coated film. It can be used as a method for producing an electrophotographic photoreceptor (hereinafter also simply referred to as a photoreceptor) in which a photosensitive layer is formed on a substrate. Hereinafter, a method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention, which is an embodiment of a method for producing a coating film-coated substrate of the present invention, will be described.

なお本発明において、導電性基体上に塗布された塗布液を塗膜と呼ぶ。また、有機機能性材料、バインダ樹脂などの感光層形成材料を溶解または分散しうる性質の液体全体を溶媒と呼び、溶媒を構成する1種または2種以上の物質を溶剤と呼ぶ。さらに、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層との2層、または電荷発生物質と電荷輸送物質とを含有する単層の電荷発生/輸送層を含んで構成される層を感光層と呼ぶ。   In the present invention, the coating solution applied on the conductive substrate is called a coating film. Further, the whole liquid having a property capable of dissolving or dispersing a photosensitive layer forming material such as an organic functional material or a binder resin is called a solvent, and one or more substances constituting the solvent are called a solvent. Further, a layer comprising at least two layers of a charge generation layer and a charge transport layer, or a single charge generation / transport layer containing a charge generation material and a charge transport material is referred to as a photosensitive layer.

まず、本発明の電子写真感光体の製造方法に含まれる誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程を実施する乾燥装置の説明を行い、その後、該乾燥装置を用いる本発明の電子写真感光体の製造方法について説明する。   First, a drying apparatus that performs the induction heating step and far-infrared heat drying step included in the method for manufacturing an electrophotographic photosensitive member of the present invention will be described, and then the electrophotographic photosensitive member of the present invention using the drying device will be described. A method will be described.

図1は、本発明の電子写真感光体の製造方法における誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程を実施するための乾燥装置1の構成を簡略化して示す側面図である。乾燥装置1は、誘導加熱によって、塗膜6が表面に形成される金属製の導電性基体5を加熱する誘導加熱手段2と、導電性基体5上に形成される塗膜6に遠赤外線を照射して加熱する遠赤外線加熱手段3と、導電性基体5上に形成される塗膜6に温風を供給するための送風ノズル4と、乾燥させるべき塗膜6が形成される円筒状の導電性基体5をその軸線周りに回転させる回転手段7とを含んで構成される。   FIG. 1 is a side view showing a simplified configuration of a drying apparatus 1 for carrying out an induction heating step and a far infrared heating drying step in the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention. The drying apparatus 1 includes an induction heating unit 2 that heats the metallic conductive substrate 5 on the surface of which the coating film 6 is formed by induction heating, and far infrared rays are applied to the coating film 6 that is formed on the conductive substrate 5. Far-infrared heating means 3 for irradiating and heating, blower nozzle 4 for supplying warm air to the coating film 6 formed on the conductive substrate 5, and a cylindrical shape on which the coating film 6 to be dried is formed Rotating means 7 for rotating the conductive substrate 5 around its axis is configured.

なお、乾燥装置1には、装置全体の動作を制御する制御手段と、誘導加熱手段2により加熱される導電性基体の温度を検知し、検知した温度を制御手段に出力する基体温度検知手段と、遠赤外線加熱手段3により加熱される塗膜6の温度を検知し、検知した温度を制御手段に出力する塗膜温度検知手段と、導電性基体5を誘導加熱手段2の直上から遠赤外線加熱手段3の直下に移動させる移動手段とを備えるけれども、図示を省略する。制御手段は、中央処理装置(CPU)などによって実現され、遠赤外線加熱手段3および送風ノズル4を含む装置全体の動作を制御する。基体温度検知手段、塗膜温度検知手段による温度の検知は、たとえば、非接触の放射温度計などにより行われる。   The drying apparatus 1 includes a control unit that controls the operation of the entire apparatus, a substrate temperature detection unit that detects the temperature of the conductive substrate heated by the induction heating unit 2, and outputs the detected temperature to the control unit. Detecting the temperature of the coating film 6 heated by the far-infrared heating means 3 and outputting the detected temperature to the control means; and heating the conductive substrate 5 directly above the induction heating means 2 by far-infrared heating Although it is provided with a moving means for moving directly below the means 3, the illustration is omitted. The control means is realized by a central processing unit (CPU) or the like, and controls the operation of the entire apparatus including the far infrared heating means 3 and the blower nozzle 4. The temperature detection by the substrate temperature detection means and the coating film temperature detection means is performed by, for example, a non-contact radiation thermometer.

導電性基体5は、たとえばアルミニウムなどの金属製円筒状導電性基体である。導電性基体5の表面には、後述する塗布工程において感光層形成材料が分散または溶解した溶媒が塗布され、塗膜6が形成される。導電性基体5は、軸線を水平方向に平行に保持され、不図示のモータを備える回転手段7により軸線周りに回転可能に支持される。導電性基体5は、誘導加熱工程においては誘導加熱手段2の直上に配置され、遠赤外線加熱乾燥工程においては遠赤外線加熱手段3の直下に配置されるように、移動可能に支持される。   The conductive substrate 5 is a cylindrical conductive substrate made of metal such as aluminum. A coating film 6 is formed on the surface of the conductive substrate 5 by applying a solvent in which the photosensitive layer forming material is dispersed or dissolved in a coating process described later. The conductive substrate 5 is held in parallel with the axis in the horizontal direction, and is supported so as to be rotatable around the axis by rotation means 7 having a motor (not shown). The conductive substrate 5 is movably supported so as to be disposed immediately above the induction heating means 2 in the induction heating process and to be disposed directly below the far infrared heating means 3 in the far infrared heating drying process.

導電性基体5の誘導加熱手段2の直上から遠赤外線加熱手段3の直下への移動は、不図示の移動手段により行われる。移動手段は、導電性基体5を軸線方向が水平方向となるように保持しつつ、軸線方向に直交する方向に導電性基体5を水平に移動させる。移動手段の動作は制御手段により制御される。制御手段は、たとえば、基体温度検知手段で温度検知される導電性基体5が、後述の誘導加熱手段2によって加熱され、その温度が予め定める温度に達すると、導電性基体5を遠赤外線加熱手段3の直下に配置されるように移動させる。   The movement of the conductive substrate 5 from directly above the induction heating means 2 to directly below the far infrared heating means 3 is performed by a moving means (not shown). The moving means moves the conductive substrate 5 horizontally in a direction orthogonal to the axial direction while holding the conductive substrate 5 so that the axial direction is horizontal. The operation of the moving means is controlled by the control means. For example, when the conductive substrate 5 whose temperature is detected by the substrate temperature detecting unit is heated by the induction heating unit 2 to be described later and the temperature reaches a predetermined temperature, the control unit detects the conductive substrate 5 as a far infrared heating unit. 3 so that it is arranged immediately below.

誘導加熱手段2は、平板型の誘導コイルと、不図示の出力電源とを含んで構成される。誘導加熱手段2は、不図示の出力電源から誘導コイルに電流を流し、該電流によって磁界を発生させる。このことにより、導電性基体5には誘導コイルによって発生した磁界を打ち消すように渦電流が流れる。誘導加熱手段2は、このようにして導電性基体5に電流を流し、該渦電流の抵抗発熱を利用して導電性基体5を加熱する。誘導加熱手段2による導電性基体5の加熱は、導電性基体5の材質、厚さなどによって決定される。   The induction heating means 2 includes a flat induction coil and an output power source (not shown). The induction heating means 2 causes a current to flow from an output power source (not shown) to the induction coil, and generates a magnetic field by the current. As a result, an eddy current flows through the conductive substrate 5 so as to cancel the magnetic field generated by the induction coil. The induction heating means 2 thus causes a current to flow through the conductive substrate 5 and heats the conductive substrate 5 using the resistance heat generation of the eddy current. The heating of the conductive substrate 5 by the induction heating means 2 is determined by the material, thickness, etc. of the conductive substrate 5.

遠赤外線加熱手段3は、不図示の出力電源を備え、導電性基体5上に形成される塗膜6に遠赤外線を照射して塗膜6を加熱する。遠赤外線加熱手段3としては、たとえば、セラミックヒータ、シーズヒータ、ハロゲンランプヒータ、石英管ヒータなどを用いることができる。これらの中でも、寿命が長く、ヒータの形状を容易に変えることのできるセラミックヒータが特に好ましい。   The far infrared heating means 3 includes an output power source (not shown), and heats the coating film 6 by irradiating the coating film 6 formed on the conductive substrate 5 with far infrared rays. As the far infrared heating means 3, for example, a ceramic heater, a sheathed heater, a halogen lamp heater, a quartz tube heater or the like can be used. Among these, a ceramic heater that has a long life and can easily change the shape of the heater is particularly preferable.

また遠赤外線加熱手段3は、導電性基体5上に形成される塗膜6を均一に加熱するために、円筒形状の導電性基体5の軸線方向について、導電性基体5よりも長く設けられることが好ましい。導電性基体5の遠赤外線加熱手段3を臨む側の反対側には、不図示の反射板が設けられる。反射板は、加熱された塗膜6から放出される熱を反射し、反射熱を塗膜6の加熱に有効利用することができる。   The far-infrared heating means 3 is provided longer than the conductive substrate 5 in the axial direction of the cylindrical conductive substrate 5 in order to uniformly heat the coating film 6 formed on the conductive substrate 5. Is preferred. On the opposite side of the conductive substrate 5 from the side facing the far-infrared heating means 3, a reflector (not shown) is provided. The reflector reflects the heat released from the heated coating film 6 and can effectively use the reflected heat for heating the coating film 6.

送風ノズル4は、導電性基体5に塗布される塗膜6に対して気体を吹付けることに用いられる。送風ノズル4としては、たとえば、ブロワー、エアーシャワーなどが用いられる。送風ノズル4には、気体を濾過することによって清浄な気体を導電性基体5に供給する不図示のヘパフィルターが設けられる。ヘパフィルターは、送風ノズル4から導電性基体5に供給される気体中のほこり、ちりなどの異物を除去してこれらが塗膜6に付着するのを防止し、感光体として使用する際に発生する画像欠陥を防止する。   The blower nozzle 4 is used to blow a gas against the coating film 6 applied to the conductive substrate 5. For example, a blower or an air shower is used as the blower nozzle 4. The blower nozzle 4 is provided with a hepa filter (not shown) that supplies clean gas to the conductive substrate 5 by filtering the gas. The hepa filter removes foreign matters such as dust and dust in the gas supplied from the blowing nozzle 4 to the conductive substrate 5 to prevent them from adhering to the coating film 6 and is generated when used as a photoconductor. Prevent image defects.

以下、このような乾燥装置1を用いて実施される本発明の電子写真感光体の製造方法を説明する。本発明の感光体の製造方法は、前述のように、塗布工程、誘導加熱工程、遠赤外線加熱乾燥工程を含む。   Hereinafter, the manufacturing method of the electrophotographic photosensitive member of the present invention which is carried out using such a drying apparatus 1 will be described. As described above, the method for producing a photoreceptor of the present invention includes a coating process, an induction heating process, and a far infrared heating drying process.

塗布工程では、感光層形成材料と溶媒とを含む塗布液を金属製の導電性基体5上に塗布して塗膜6を形成する。塗布工程は、公知の方法によって行うことができ、スプレー法、リングコート法、ロールコーティング法、ブレード法、浸漬法などを用いることができる。   In the coating step, a coating solution 6 containing a photosensitive layer forming material and a solvent is applied onto the metallic conductive substrate 5 to form the coating film 6. The coating process can be performed by a known method, and a spray method, a ring coating method, a roll coating method, a blade method, a dipping method, or the like can be used.

金属製の導電性基体5としては、たとえばアルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス鋼、チタンなどの金属材料を用いることができる。また、導電性基体5の表面には、必要に応じて、感光体として使用した際に形成される画像の画質に影響のない範囲内で、陽極酸化皮膜処理、薬品、熱水などによる表面処理、着色処理、表面を粗面化するなどの乱反射処理を行ってもよい。レーザを露光光源として用いる電子写真プロセスでは、入射するレーザ光の波長が揃っているので、入射するレーザ光と電子写真感光体内で反射された光とが干渉を起こし、この干渉による干渉縞が画像上に現れて画像欠陥が発生することがある。導電性基体の表面に上記のような乱反射処理を行うことによって、この波長の揃ったレーザ光の干渉による画像欠陥を防止することができる。   As the metal conductive substrate 5, for example, a metal material such as aluminum, aluminum alloy, copper, zinc, stainless steel, or titanium can be used. Further, the surface of the conductive substrate 5 may be subjected to surface treatment with an anodized film treatment, chemicals, hot water, or the like within a range that does not affect the image quality of an image formed when used as a photoconductor. Alternatively, irregular reflection treatment such as coloring treatment or roughening the surface may be performed. In the electrophotographic process using a laser as an exposure light source, the wavelengths of the incident laser light are uniform, so that the incident laser light and the light reflected in the electrophotographic photosensitive member cause interference, and interference fringes due to this interference are imaged. Appearing above may cause image defects. By performing the irregular reflection treatment as described above on the surface of the conductive substrate, it is possible to prevent image defects due to interference of laser light having the same wavelength.

ここで、導電性基体5上に形成される感光層の塗膜6について、本発明の感光体の製造方法における誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程を行う場合、塗布工程で用いる塗布液の溶媒としては、酢酸n−ブチルの蒸発する時間と溶剤の蒸発する時間との比率である該溶剤の相対蒸発速度、すなわち下記式(1)に示す相対蒸発速度が1.7未満の溶剤が30重量%以上含まれるものを用いる。
(相対蒸発速度)
=(酢酸n−ブチルが蒸発する時間)/(溶剤が蒸発する時間) …(1)
Here, when performing the induction heating process and the far-infrared heating drying process in the manufacturing method of the photoreceptor of the present invention for the coating film 6 of the photosensitive layer formed on the conductive substrate 5, the solvent of the coating solution used in the coating process. As for the relative evaporation rate of the solvent, which is the ratio of the time for evaporating n-butyl acetate and the time for evaporating the solvent, that is, 30% by weight of the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 shown in the following formula (1). % Contained at least.
(Relative evaporation rate)
= (Time for n-butyl acetate to evaporate) / (Time for solvent to evaporate) (1)

本発明の感光体の製造方法に含まれる誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程は、導電性基体上に形成されるすべての層について行われることが好ましいけれども、これらの工程に要するコストなどの面から、選択される1つ以上の層が行われればよい。誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程に供されない層には、本発明の方法に含まれる塗布工程の後、たとえば室温で1時間放置されてもよく、また乾燥炉へ装入されてもよい。   The induction heating step and far-infrared heating drying step included in the method for producing a photoreceptor of the present invention are preferably performed for all layers formed on the conductive substrate. However, the cost and the like required for these steps are considered. From which one or more selected layers may be performed. The layer that is not subjected to the induction heating step and the far infrared heating drying step may be left at, for example, room temperature for one hour after the coating step included in the method of the present invention, or may be charged into a drying furnace.

感光体の表面層の表面状態に厚みむらがあり平滑でない場合、電気化学的作用および機械的外力に対する耐久性が低下し、繰返し安定性および環境安定性が低下する恐れがある。また、感光層が電荷発生層と電荷輸送層との2層で構成される場合、電荷輸送層は、通常電荷発生層よりも外面側に形成されるとともに、電荷発生層よりも厚く形成される。したがって、誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程は、電荷輸送層について行われることが最も好ましい。また、本発明の感光体の製造方法は、電荷発生層および/または電荷輸送層のみに限定されることなく、下引層、保護層の形成時にも用いることができる。   If the surface state of the surface layer of the photoreceptor is uneven and not smooth, the durability against electrochemical action and mechanical external force may be reduced, and the repeat stability and environmental stability may be reduced. When the photosensitive layer is composed of two layers, a charge generation layer and a charge transport layer, the charge transport layer is usually formed on the outer surface side of the charge generation layer and is thicker than the charge generation layer. . Therefore, the induction heating step and the far infrared heating drying step are most preferably performed on the charge transport layer. Further, the method for producing a photoreceptor of the present invention is not limited to the charge generation layer and / or the charge transport layer, and can be used when forming the undercoat layer and the protective layer.

塗布液の溶媒に含まれる溶剤が、相対蒸発速度が1.7以上の蒸発速度が大きい溶剤のみである場合、乾燥の前工程として行われる誘導加熱工程での導電性基体への加熱によって、該導電性基体の熱が塗膜に導電して塗膜表面が乾燥硬化し、遠赤外線加熱乾燥工程を行っても塗膜内部に溶媒が残留してしまう。そこで、このように相対蒸発速度が1.7未満の蒸発速度が小さい溶剤を溶媒中に30重量%以上含有させることによって、塗膜表面を硬化させることなく、塗膜内部の溶媒を効率的に拡散気化させることが可能となる。またこのような溶媒が用いられると、塗布工程中および塗布工程から誘導加熱工程へ移るまでの間にも、塗膜表面が塗膜内部に比べて急速に乾燥することを防止でき、塗膜表面における硬化膜の形成を防止することができる。   When the solvent contained in the solvent of the coating solution is only a solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more and a large evaporation rate, the conductive substrate is heated by an induction heating step performed as a pre-drying step. The heat of the conductive substrate is conducted to the coating film, the coating film surface is dried and cured, and the solvent remains in the coating film even if the far-infrared heat drying process is performed. Therefore, by containing 30% by weight or more of a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 and having a low evaporation rate in the solvent, the solvent inside the coating film can be efficiently removed without curing the coating film surface. It is possible to diffuse and vaporize. In addition, when such a solvent is used, the coating surface can be prevented from drying more rapidly than the inside of the coating film during the coating process and before moving from the coating process to the induction heating process. The formation of a cured film in can be prevented.

相対蒸発速度が1.7未満の溶剤のさらに好適な含有量としては、乾燥工程に供する時間、溶剤の種類などによって適宜選択することができる。相対蒸発速度が1.7未満の溶剤の含有量が多いほど、塗膜表面の硬化膜の形成を防止することができるので良好である。しかしながら、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤として、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどの極めて蒸発しにくい溶剤を使用すると、蒸発速度が小さくなりすぎる恐れがある。このような極めて蒸発速度が小さい溶剤を溶媒中に含有させる場合、短時間での乾燥を行うために、相対蒸発速度が大きい溶剤を溶媒中にある程度含有させることが好ましい。表1に代表的な溶剤の相対蒸発速度を示す。   The more preferable content of the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 can be appropriately selected depending on the time used for the drying step, the kind of the solvent, and the like. The higher the content of the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7, the better the formation of a cured film on the coating film surface can be prevented. However, if a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7, such as diethylene glycol monobutyl ether, which is extremely difficult to evaporate, the evaporation rate may be too small. When such a solvent with a very low evaporation rate is contained in the solvent, it is preferable to contain a solvent with a high relative evaporation rate to some extent in order to perform drying in a short time. Table 1 shows the relative evaporation rates of typical solvents.

Figure 2006337545
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次に、感光層の各層を形成するための感光層形成材料および塗布液について説明する。
電荷発生層は、光を吸収することによって電荷を発生する電荷発生物質を主成分として含有する。電荷発生物質としては、モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料などのアゾ系顔料、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ系顔料、ペリレンイミド、ペリレン酸無水物などのペリレン系顔料、アントラキノン、ピレンキノンなどの多環キノン系顔料、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、メチルバイオレット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、ビクトリアブルーなどのトリフェニルメタン系色素、エリスロシン、ローダミンB、ローダミン3R、アクリジンオレンジ、フラペオシンなどのアクリジン系色素、メチレンブルー、メチレングリーンなどのチアジン系色素、カプリブルー、メルドラブルーなどのオキサジン系色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩類、チオピリリウム塩類、チオインジゴ系色素、ビスベンゾイミダゾール系色素、キナクリドン系色素、キノリン系色素、レーキ系色素、アゾレーキ系色素、ジオキサジン系色素、アズレニウム系色素、トリアリルメタン系色素、キサンテン系色素、シアニン系色素などの種々の有機顔料、染料、アモルファスシリコン、アモルファスセレン、テルル、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、硫化アンチモン、酸化亜鉛、硫化亜鉛などの無機材料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用することもできる。
Next, a photosensitive layer forming material and a coating solution for forming each layer of the photosensitive layer will be described.
The charge generation layer contains, as a main component, a charge generation material that generates charges by absorbing light. Examples of charge generation materials include azo pigments such as monoazo pigments, bisazo pigments, and trisazo pigments, indigo pigments such as indigo and thioindigo, perylene pigments such as peryleneimide and perylene anhydride, and polycyclic quinones such as anthraquinone and pyrenequinone. Pigments, phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and metal-free phthalocyanine, triphenylmethane pigments such as methyl violet, crystal violet, knight blue and victoria blue, acridine pigments such as erythrosin, rhodamine B, rhodamine 3R, acridine orange and frappeosin , Thiazine dyes such as methylene blue and methylene green, oxazine dyes such as capri blue and meldra blue, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium salts Thioindigo dyes, bisbenzimidazole dyes, quinacridone dyes, quinoline dyes, lake dyes, azo lake dyes, dioxazine dyes, azurenium dyes, triallylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, etc. Organic pigments, dyes, amorphous silicon, amorphous selenium, tellurium, selenium-tellurium alloys, cadmium sulfide, antimony sulfide, zinc oxide, zinc sulfide, and the like. These charge generation materials may be used alone or in combination of two or more.

電荷発生層は、溶媒中に電荷発生物質を溶解または分散して得られる電荷発生層形成用塗布液、中でも結着剤であるバインダ樹脂を溶媒中に溶解または混合して得られるバインダ樹脂溶液中に、電荷発生物質を公知の方法によって分散して得られる塗布液を、導電性基体上または下引層上に塗布することによって形成される。   The charge generation layer is a coating solution for forming a charge generation layer obtained by dissolving or dispersing a charge generation material in a solvent, particularly a binder resin solution obtained by dissolving or mixing a binder resin as a binder in a solvent. Further, it is formed by applying a coating solution obtained by dispersing the charge generating material by a known method on the conductive substrate or the undercoat layer.

電荷発生層形成用塗布液に用いられるバインダ樹脂としては、たとえば、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂などの樹脂、およびこれらの樹脂を構成する繰返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂などからなる群から選ばれる樹脂を用いることができる。これらは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。共重合体樹脂としては、たとえば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂などの絶縁性樹脂などを挙げることができる。バインダ樹脂としては、前述のものに限定されることなく、一般に用いられる公知の樹脂を使用することができる。   Examples of the binder resin used in the charge generation layer forming coating solution include polyester resin, polystyrene resin, polyurethane resin, phenol resin, alkyd resin, melamine resin, epoxy resin, silicone resin, acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate resin, Use a resin selected from the group consisting of a resin such as a polyarylate resin, a phenoxy resin, a polyvinyl butyral resin, a polyvinyl formal resin, and a copolymer resin containing two or more repeating units constituting these resins. Can do. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Examples of the copolymer resin include insulating resins such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin, and acrylonitrile-styrene copolymer resin. . The binder resin is not limited to those described above, and a commonly used known resin can be used.

電荷発生物質およびバインダ樹脂を溶解または分散しうる溶媒に用いられる溶剤としては、たとえば、前記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤である1,4−ジオキサン、メチルイソブチルケトン、エタノール、イソプロパノール、酢酸イソブチル、1,3−ジクロロプロパン、酢酸n−ブチル、n−プロパノール、キシレン、イソブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、n−ブタノール、酢酸メチルアミル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−オクタノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、エチレングリコールモノブチルエーテル、イソホロン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。   Examples of the solvent used as the solvent capable of dissolving or dispersing the charge generating material and the binder resin include 1,4-dioxane, methyl isobutyl ketone, ethanol, isopropanol, acetic acid, which are solvents having a relative evaporation rate of less than 1.7. Isobutyl, 1,3-dichloropropane, n-butyl acetate, n-propanol, xylene, isobutanol, ethylene glycol monomethyl ether, n-butanol, methyl amyl acetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monomethyl Ether acetate, cyclohexanone, 3-octanone, diisobutyl ketone, methylcyclohexanone, ethylene glycol monobutyl ether, isophorone, diethylene glycol monomethyl Ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether.

また、上記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤に、相対蒸発速度が1.7以上の溶剤を混合して用いることもできる。このとき、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤は、溶媒中に30重量%以上含まれる。相対蒸発速度が1.7以上の溶剤としては、たとえば、酢酸sec−ブチル、メタノール、トルエン、酢酸n−プロピル、トリクロロエチレン、酢酸イソプロピル、メチルエチルケトン、ベンゼン、酢酸エチル、1,3−ジオキソラン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸メチル、アセトン、メチレンジクロライドなどが挙げられる。   Further, a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 may be mixed with a solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more. At this time, the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 is contained in the solvent by 30% by weight or more. Examples of the solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more include sec-butyl acetate, methanol, toluene, n-propyl acetate, trichloroethylene, isopropyl acetate, methyl ethyl ketone, benzene, ethyl acetate, 1,3-dioxolane, trichloroethane, and tetrahydrofuran. , Methyl acetate, acetone, methylene dichloride and the like.

電荷発生物質とバインダ樹脂との配合比率は、電荷発生層全体の重量に対して、電荷発生物質が10重量%以上99重量%以下の範囲で含まれることが好ましい。電荷発生物質が10重量%未満であると、感光体の感度が低下する恐れがある。電荷発生物質が99重量%を超えると、電荷発生層の強度が低下するだけでなく、電荷発生物質の分散性が低下して粗大粒子が増大し、露光によって消去されるべき部分以外の表面電荷が減少するので、画像欠陥、特に白地にトナーが付着し微小な黒点が形成される黒ポチと呼ばれる画像のかぶりが多く発生する。   The blending ratio of the charge generation material and the binder resin is preferably such that the charge generation material is contained in the range of 10 wt% to 99 wt% with respect to the weight of the entire charge generation layer. If the charge generation material is less than 10% by weight, the sensitivity of the photoreceptor may be lowered. When the charge generation material exceeds 99% by weight, not only the strength of the charge generation layer is decreased, but also the dispersibility of the charge generation material is decreased and the coarse particles are increased. Therefore, image defects, particularly image fogging called black spots, in which toner adheres to a white background and minute black spots are formed, occur.

バインダ樹脂溶液中に電荷発生物質を分散させるための前処理として、電荷発生物質を粉砕機によって予め粉砕処理してもよい。粉砕処理に用いられる粉砕機としては、ボールミル、ペイントシェーカ、サンドミル、アトライタ、振動ミル、超音波分散機などを挙げることができる。このときの分散条件としては、用いる容器および分散機を構成する部材の摩耗などによる不純物の混入が起こらないように適当な条件を選択することが望ましい。   As a pretreatment for dispersing the charge generation material in the binder resin solution, the charge generation material may be pulverized in advance by a pulverizer. Examples of the pulverizer used for the pulverization treatment include a ball mill, a paint shaker, a sand mill, an attritor, a vibration mill, and an ultrasonic disperser. As the dispersion condition at this time, it is desirable to select an appropriate condition so that impurities are not mixed due to wear of the container used and the members constituting the disperser.

さらに電荷発生層には、必要に応じてホール輸送材料、電子輸送材料、酸化防止剤、分散安定剤、増感剤などの各種添加剤を添加してもよい。このことによって、電位特性が向上するとともに、塗布液としての安定性を向上させることができる。また電子写真感光体を繰返し使用した際の疲労劣化を軽減し、耐久性を向上させることができる。   Furthermore, you may add various additives, such as a hole transport material, an electron transport material, antioxidant, a dispersion stabilizer, and a sensitizer, to a charge generation layer as needed. As a result, the potential characteristics are improved, and the stability as the coating liquid can be improved. Further, fatigue deterioration when the electrophotographic photosensitive member is repeatedly used can be reduced, and durability can be improved.

乾燥後の電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましく、0.1μm以上1μm以下であることがより好ましい。電荷発生層の膜厚が0.05μm未満であると、光吸収の効率が低下し、感光体の感度が低下する恐れがある。電荷発生層の膜厚が5μmを超えると、電荷発生層内部での電荷移動が電子写真感光体表面の電荷を消去する過程の律速段階となり、感度が低下する恐れがある。   The thickness of the charge generation layer after drying is preferably from 0.05 μm to 5 μm, and more preferably from 0.1 μm to 1 μm. If the film thickness of the charge generation layer is less than 0.05 μm, the light absorption efficiency is lowered, and the sensitivity of the photoreceptor may be lowered. If the film thickness of the charge generation layer exceeds 5 μm, charge transfer inside the charge generation layer becomes a rate-determining step in the process of erasing charges on the surface of the electrophotographic photosensitive member, and the sensitivity may be lowered.

電荷輸送層は、電荷発生物質で発生した電荷を受入れ輸送する能力を有する電荷輸送物質を、バインダ樹脂中に含有させることによって得られる。電荷輸送層は1層に限定されることなく、2層以上の構成にしてもよい。このように多層とすることによって、電荷輸送層の必要な機能を別々の層に担わせることができ、1層で構成する場合よりも材料の幅が広がる。また同一層内での各種材料の相性を考慮する必要がほとんどなくなるので、高機能な感光体を容易に提供できる。   The charge transport layer can be obtained by including in the binder resin a charge transport material having the ability to accept and transport charges generated by the charge generation material. The charge transport layer is not limited to one layer, and may be composed of two or more layers. By using multiple layers in this way, the necessary functions of the charge transport layer can be assigned to different layers, and the width of the material is wider than in the case of a single layer. In addition, since it is almost unnecessary to consider the compatibility of various materials in the same layer, a highly functional photoreceptor can be easily provided.

電荷輸送物質としては、ホール輸送物質および電子輸送物質を用いることができる。ホール輸送物質としては、カルバゾール誘導体、ピレン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、多環芳香族化合物、インドール誘導体、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、トリアリールメタン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、エナミン誘導体、ベンジジン誘導体などが挙げられる。また、これらの化合物から生じる基を主鎖または側鎖に有するポリマー、たとえば、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂、トリフェニルメタンポリマー、ポリ−9−ビニルアントラセン、ポリシランなどが挙げられる。   As the charge transport material, a hole transport material and an electron transport material can be used. Examples of hole transport materials include carbazole derivatives, pyrene derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidine derivatives, styryl compounds, hydrazone compounds, Polycyclic aromatic compounds, indole derivatives, pyrazoline derivatives, oxazolone derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, triarylamine derivatives, triarylmethane derivatives, phenylenediamine derivatives, stilbene Derivatives, enamine derivatives, benzidine derivatives and the like. In addition, polymers having groups derived from these compounds in the main chain or side chain, such as poly-N-vinylcarbazole, poly-1-vinylpyrene, ethylcarbazole-formaldehyde resin, triphenylmethane polymer, poly-9-vinylanthracene And polysilane.

電子輸送物質としては、たとえば、ベンゾキノン誘導体、テトラシアノエチレン誘導体、テトラシアノキノジメタン誘導体、フルオレノン誘導体、キサントン誘導体、フェナントラキノン誘導体、無水フタール酸誘導体、ジフェノキノン誘導体などの有機化合物、アモルファスシリコン、アモルファスセレン、テルル、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、硫化アンチモン、酸化亜鉛、硫化亜鉛などの無機材料が挙げられる。電荷輸送物質は、上記に挙げたものに限定されることなく、その使用に際しては単独または2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the electron transport material include benzoquinone derivatives, tetracyanoethylene derivatives, tetracyanoquinodimethane derivatives, fluorenone derivatives, xanthone derivatives, phenanthraquinone derivatives, phthalic anhydride derivatives, diphenoquinone derivatives and other organic compounds, amorphous silicon, Examples include inorganic materials such as amorphous selenium, tellurium, selenium-tellurium alloy, cadmium sulfide, antimony sulfide, zinc oxide, and zinc sulfide. The charge transport material is not limited to those listed above, and can be used alone or in admixture of two or more.

電荷輸送層は、電荷発生層と同様に、溶媒中に電荷輸送物質を溶解または分散して得られる電荷輸送層形成用塗布液、中でも結着剤であるバインダ樹脂を溶媒中に溶解または混合して得られるバインダ樹脂溶液中に、電荷輸送物質を公知の方法によって溶解または分散して得られる塗布液を、電荷発生層上に塗布し、好ましくは本発明の誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程を経て乾燥させることによって形成される。   Similarly to the charge generation layer, the charge transport layer is obtained by dissolving or mixing a charge transport layer forming coating solution obtained by dissolving or dispersing a charge transport material in a solvent, particularly a binder resin as a binder in the solvent. In the binder resin solution obtained, a coating solution obtained by dissolving or dispersing the charge transport material by a known method is applied on the charge generation layer, preferably the induction heating step and far infrared heating drying step of the present invention. It is formed by making it dry through.

電荷輸送層のバインダ樹脂には、電荷輸送物質との相溶性に優れるものが選ばれる。バインダ樹脂としては、たとえばポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などのビニル重合体樹脂およびそれらの共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミド樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、フェノール樹脂などの樹脂などが挙げられる。また、これらの樹脂を部分的に架橋した熱硬化性樹脂を使用してもよい。これらの樹脂を単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。前述した樹脂の中でも、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂またはポリフェニレンオキサイドは、体積抵抗値が1013Ω以上であって電気絶縁性に優れ、また成膜性、電気特性などにも優れるので特に好ましい。 As the binder resin for the charge transport layer, a resin having excellent compatibility with the charge transport material is selected. Examples of the binder resin include vinyl polymer resins such as polymethyl methacrylate resin, polystyrene resin, and polyvinyl chloride resin, and copolymer resins thereof, polycarbonate resin, polyester resin, polyester carbonate resin, polysulfone resin, phenoxy resin, and epoxy resin. , Silicone resin, polyarylate resin, polyamide resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyether resin, polyurethane resin, polyacrylamide resin, phenol resin, and the like. Moreover, you may use the thermosetting resin which bridge | crosslinked these resin partially. These resins may be used alone or in combination of two or more. Among the resins described above, polystyrene resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, or polyphenylene oxide has a volume resistance of 10 13 Ω or more and is excellent in electrical insulation, and is also excellent in film formability and electrical characteristics. preferable.

電荷輸送物質の重量(A)に対するバインダ樹脂の重量(B)の比率(B/A)は、12/10以上30/10以下(=1.2以上3.0以下)であることが好ましい。前記比率(B/A)が、30/10(=3.0)を超えてバインダ樹脂の含有比率が高くなると、電荷輸送層形成用塗布液の粘度が増大し、塗布速度低下を招き生産性が著しく低下する恐れがある。さらにこの粘度の増大を抑えるために電荷輸送層形成用塗布液中の溶剤の量を多くすると、形成された電荷輸送層に白濁が生じるブラッシング現象が発生する。また、前記比率(B/A)が、12/10(=1.2)未満となり、バインダ樹脂の比率が低くなると、バインダ樹脂の比率が高いときに比べて耐刷性が低くなり、電荷輸送層の摩耗量が増加するので、耐久寿命が短くなる。ただし電荷輸送層が多層で構成される場合、この比率は各層の担う機能に応じて任意に変えることができる。   The ratio (B / A) of the weight (B) of the binder resin to the weight (A) of the charge transport material is preferably 12/10 or more and 30/10 or less (= 1.2 or more and 3.0 or less). When the ratio (B / A) exceeds 30/10 (= 3.0) and the binder resin content is increased, the viscosity of the coating solution for forming a charge transport layer increases, resulting in a decrease in coating speed and productivity. May decrease significantly. Further, if the amount of the solvent in the charge transport layer forming coating solution is increased in order to suppress this increase in viscosity, a brushing phenomenon that causes white turbidity in the formed charge transport layer occurs. Further, when the ratio (B / A) is less than 12/10 (= 1.2) and the binder resin ratio is low, the printing durability is lowered and the charge transport is lower than when the binder resin ratio is high. Since the amount of wear of the layer increases, the durability life is shortened. However, when the charge transport layer is composed of multiple layers, this ratio can be arbitrarily changed according to the function of each layer.

電荷輸送層には、成膜性、可撓性および表面平滑性を向上させるために、必要に応じて、可塑剤、表面改質剤などの添加剤を添加しても良い。可塑剤としては、たとえばビフェニル、塩化ビフェニル、ベンゾフェノン、o−ターフェニル、二塩基酸エステル、脂肪酸エステル、リン酸エステル、フタル酸エステル、各種フルオロ炭化水素、塩素化パラフィン、エポキシ型可塑剤などが挙げられる。表面改質剤としては、シリコーンオイル、フッ素樹脂などが挙げられる。   In order to improve the film formability, flexibility, and surface smoothness, additives such as a plasticizer and a surface modifier may be added to the charge transport layer as necessary. Examples of the plasticizer include biphenyl, biphenyl chloride, benzophenone, o-terphenyl, dibasic acid ester, fatty acid ester, phosphoric acid ester, phthalic acid ester, various fluorohydrocarbons, chlorinated paraffin, and epoxy type plasticizer. It is done. Examples of the surface modifier include silicone oil and fluororesin.

また電荷輸送層には、機械的強度の増強および電気的特性の向上を図るために、無機化合物または有機化合物の微粒子を添加してもよい。さらに必要に応じて酸化防止剤および光安定剤のなどの各種添加剤を添加してもよい。このことによって、帯電時に発生するオゾンおよびNOxなどの活性物質の付着による電荷輸送層の劣化が軽減され、電子写真感光体を繰返し使用する際の耐久性を向上することができる。また、電荷輸送層形成用塗布液としての安定性が高まり、液寿命が延びるとともに、該塗布液で製造した電子写真感光体も、不純物が軽減されるので耐久性が向上する。   The charge transport layer may be added with fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to enhance mechanical strength and improve electrical characteristics. Furthermore, you may add various additives, such as antioxidant and a light stabilizer, as needed. As a result, deterioration of the charge transport layer due to adhesion of active substances such as ozone and NOx generated during charging is reduced, and durability when the electrophotographic photosensitive member is repeatedly used can be improved. In addition, the stability as a coating liquid for forming a charge transport layer is enhanced, the life of the liquid is extended, and the durability of the electrophotographic photosensitive member produced with the coating liquid is also improved because impurities are reduced.

酸化防止剤および光安定剤としては、ヒンダードフェノール誘導体またはヒンダードアミン誘導体が好適に用いられる。ヒンダードフェノール誘導体は、電荷輸送物質の重量に対して0.001以上0.10以下の範囲の重量比で使用されることが好ましい。ヒンダードアミン誘導体は、電荷輸送物質の重量に対して0.001以上0.10以下の範囲の重量比で使用されることが好ましい。またヒンダードフェノール誘導体とヒンダードアミン誘導体とを混合して使用してもよい。この場合、ヒンダードフェノール誘導体およびヒンダードアミン誘導体の合計使用量が、電荷輸送物質の重量に対して0.001以上0.10以下の範囲の重量比であることが好ましい。   As the antioxidant and the light stabilizer, hindered phenol derivatives or hindered amine derivatives are preferably used. The hindered phenol derivative is preferably used in a weight ratio in the range of 0.001 to 0.10 with respect to the weight of the charge transport material. The hindered amine derivative is preferably used in a weight ratio in the range of 0.001 to 0.10 with respect to the weight of the charge transport material. Further, a hindered phenol derivative and a hindered amine derivative may be mixed and used. In this case, the total amount of hindered phenol derivative and hindered amine derivative used is preferably a weight ratio in the range of 0.001 to 0.10 with respect to the weight of the charge transport material.

ヒンダードフェノール誘導体の使用量もしくはヒンダードアミン誘導体の使用量またはヒンダードフェノール誘導体およびヒンダードアミン誘導体の合計使用量が、電荷輸送物質の重量に対して重量比で0.001未満であると、電荷輸送層形成用塗布液の安定性の向上および電子写真感光体の耐久性の向上に充分な効果を発現することができない。また重量比で0.10を超えると、感光体の電気特性に悪影響を及ぼす。   Charge transport layer formation when the amount of hindered phenol derivative used or the amount of hindered amine derivative used or the total amount of hindered phenol derivative and hindered amine derivative used is less than 0.001 by weight with respect to the weight of the charge transport material. It is not possible to exhibit a sufficient effect for improving the stability of the coating liquid for use and improving the durability of the electrophotographic photosensitive member. On the other hand, if the weight ratio exceeds 0.10, the electrical characteristics of the photoreceptor are adversely affected.

電荷輸送物質およびバインダ樹脂を溶解または分散しうる溶媒に用いられる溶剤としては、たとえば、前記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤である1,4−ジオキサン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル、1,3−ジクロロプロパン、酢酸n−ブチル、キシレン、酢酸メチルアミル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−オクタノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、エチレングリコールモノブチルエーテル、イソホロン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。   Examples of the solvent that can be used as a solvent that can dissolve or disperse the charge transport material and the binder resin include 1,4-dioxane, methyl isobutyl ketone, isobutyl acetate, 1, which are solvents having a relative evaporation rate of less than 1.7. Examples include 3-dichloropropane, n-butyl acetate, xylene, methyl amyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, 3-octanone, diisobutyl ketone, methylcyclohexanone, ethylene glycol monobutyl ether, isophorone, diethylene glycol monoethyl ether, and the like.

また、上記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤に、相対蒸発速度が1.7以上の溶剤を混合して用いることもできる。このとき、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤は、溶媒中に30重量%以上含まれる。相対蒸発速度が1.7以上の溶剤としては、たとえば、酢酸sec−ブチル、トルエン、酢酸n−プロピル、トリクロロエチレン、酢酸イソプロピル、メチルエチルケトン、ベンゼン、酢酸エチル、1,3−ジオキソラン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸メチル、アセトン、メチレンジクロライドなどが挙げられる。   Further, a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 may be mixed with a solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more. At this time, the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 is contained in the solvent by 30% by weight or more. Examples of the solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more include sec-butyl acetate, toluene, n-propyl acetate, trichloroethylene, isopropyl acetate, methyl ethyl ketone, benzene, ethyl acetate, 1,3-dioxolane, trichloroethane, tetrahydrofuran, acetic acid. Examples include methyl, acetone, methylene dichloride and the like.

乾燥後の電荷輸送層の膜厚は、5μm以上50μm以下であることが好ましく、より好ましくは10μm以上40μm以下である。電荷輸送層の膜厚が5μm未満であると、電子写真感光体表面の帯電保持能が低下する恐れがある。電荷輸送層の膜厚が50μmを超えると、電子写真感光体の解像度が低下する恐れがある。   The thickness of the charge transport layer after drying is preferably 5 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 40 μm or less. If the thickness of the charge transport layer is less than 5 μm, the charge holding ability on the surface of the electrophotographic photosensitive member may be lowered. If the thickness of the charge transport layer exceeds 50 μm, the resolution of the electrophotographic photoreceptor may be lowered.

積層型感光体の場合、導電性基体上に形成された電荷発生層の上に電荷輸送層を積層してもよく、反対に導電性基体上に形成された電荷輸送層の上に電荷発生層を積層してもよい。また、単層型感光体の場合、電荷発生物質と電荷輸送物質とを含有する感光層は、前述の電荷輸送層を形成する場合と同様の方法で形成される。たとえば、電荷発生物質と、電荷輸送物質であるホール輸送物質または電子輸送物質と、バインダ樹脂とを、前述の適当な溶剤からなる溶媒に溶解または分散させて感光層形成用塗布液を調製し、この感光層形成用塗布液を、前述した種々の塗布法によって塗布することによって形成される。単層型感光体の感光層の膜厚は、乾燥後の膜厚が5μm以上100μm以下であることが好ましく、10μm以上50μm以下であることがより好ましい。感光層の膜厚が5μm未満であると、電子写真感光体表面の帯電保持能が低下する。感光層の膜厚が100μmを超えると、生産性が低下する。   In the case of a laminated type photoreceptor, a charge transport layer may be laminated on the charge generation layer formed on the conductive substrate, and conversely, the charge generation layer on the charge transport layer formed on the conductive substrate. May be laminated. In the case of a single layer type photoreceptor, the photosensitive layer containing the charge generating material and the charge transport material is formed by the same method as that for forming the charge transport layer described above. For example, a coating solution for forming a photosensitive layer is prepared by dissolving or dispersing a charge generating material, a hole transporting material or electron transporting material that is a charge transporting material, and a binder resin in a solvent composed of the appropriate solvent described above. It is formed by applying this photosensitive layer forming coating solution by the various coating methods described above. The film thickness of the photosensitive layer of the single-layer type photoreceptor is preferably 5 μm or more and 100 μm or less after drying, and more preferably 10 μm or more and 50 μm or less. When the film thickness of the photosensitive layer is less than 5 μm, the charge holding ability of the surface of the electrophotographic photoreceptor is lowered. When the film thickness of the photosensitive layer exceeds 100 μm, productivity decreases.

また電子写真感光体には、前述のように導電性基体と電荷発生層および電荷輸送層との間に、下引層が設けられてもよい。下引層が設けられることによって、導電性基体から感光層への電荷の注入を防止することができるので、感光体の帯電保持能の低下を防ぐことができる。また下引層が形成された感光体を画像形成に用いると、露光によって消去されるべき部分以外の表面電荷の減少が抑制されるので、画像にかぶりなどの欠陥が発生することを防止できる。さらに導電性基体表面の欠陥を下引層が被覆することによって、導電性基体表面を平滑にすることができるので、電荷発生層および電荷輸送層の成膜性を高めることができる。また電荷発生層および電荷輸送層の導電性基体からの剥離を抑え、導電性基体に対する接着性を向上させることができる。   The electrophotographic photosensitive member may be provided with an undercoat layer between the conductive substrate, the charge generation layer, and the charge transport layer as described above. By providing the undercoat layer, injection of charges from the conductive substrate to the photosensitive layer can be prevented, so that the charge holding ability of the photoreceptor can be prevented from being lowered. In addition, when a photoreceptor having an undercoat layer is used for image formation, a decrease in surface charge other than a portion to be erased by exposure is suppressed, so that defects such as fogging can be prevented from occurring in an image. Furthermore, since the surface of the conductive substrate can be smoothed by covering the defects on the surface of the conductive substrate with the undercoat layer, the film forming properties of the charge generation layer and the charge transport layer can be improved. Further, peeling of the charge generation layer and the charge transport layer from the conductive substrate can be suppressed, and adhesion to the conductive substrate can be improved.

下引層としては、各種樹脂材料からなる樹脂層、アルマイト層などが挙げられる。樹脂層を形成する樹脂材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリレート樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアミド樹脂などの樹脂、これらの樹脂を構成する繰返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロースなどを挙げることができる。   Examples of the undercoat layer include resin layers and alumite layers made of various resin materials. The resin material that forms the resin layer is polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyurethane resin, epoxy resin, polyester resin, melamine resin, polycarbonate resin, polyester carbonate resin, polysulfone. Resins, phenoxy resins, polyarylate resins, silicone resins, polyvinyl butyral resins, polyamide resins and the like, copolymer resins containing two or more repeating units constituting these resins, casein, gelatin, polyvinyl alcohol, Examples thereof include ethyl cellulose.

また下引層は、金属酸化物などの粒子を含有してもよい。これらの粒子を含有させることによって、下引層の体積抵抗値を調節し、導電性基体から感光層に対する電荷の注入をさらに抑制することができるとともに、温度、湿度などの変化があっても電子写真感光体の電気特性を維持することができる。金属酸化物粒子としては、たとえば、酸化チタン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化スズなどの粒子を挙げることができる。下引層に金属酸化物などの粒子を含有させる場合、たとえば、前述の樹脂が溶解した樹脂溶液中に、これらの粒子を分散させて下引層形成用塗布液を調製し、この塗布液を導電性基体上に塗布することによって下引層を形成する。   The undercoat layer may contain particles such as a metal oxide. By containing these particles, the volume resistance value of the undercoat layer can be adjusted to further suppress charge injection from the conductive substrate to the photosensitive layer, and even if there is a change in temperature, humidity, etc. The electrical characteristics of the photographic photoreceptor can be maintained. Examples of the metal oxide particles include titanium oxide, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and tin oxide particles. When particles such as metal oxide are contained in the undercoat layer, for example, a coating solution for forming the undercoat layer is prepared by dispersing these particles in a resin solution in which the above-described resin is dissolved. An undercoat layer is formed by coating on a conductive substrate.

樹脂用液の溶媒に用いられる溶剤としては、前述した電荷発生層または電荷輸送層用の塗布液に用いられる有機溶剤の他に、たとえば、前記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤である1,4−ジオキサン、メチルイソブチルケトン、エタノール、イソプロパノール、酢酸イソブチル、1,3−ジクロロプロパン、酢酸n−ブチル、n−プロパノール、キシレン、イソブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、n−ブタノール、酢酸メチルアミル、水、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−オクタノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、エチレングリコールモノブチルエーテル、イソホロン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。   Examples of the solvent used as the solvent for the resin liquid include, in addition to the organic solvent used for the charge generation layer or charge transport layer coating liquid described above, for example, a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7. , 4-dioxane, methyl isobutyl ketone, ethanol, isopropanol, isobutyl acetate, 1,3-dichloropropane, n-butyl acetate, n-propanol, xylene, isobutanol, ethylene glycol monomethyl ether, n-butanol, methyl amyl acetate, water , Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, 3-octanone, diisobutyl ketone, methylcyclohexanone, ethylene glycol monobutyl ether, isophor Emissions, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether.

また、上記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤に、相対蒸発速度が1.7以上の溶剤を混合して用いることもできる。このとき、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤は、溶媒中に30重量%以上含まれる。相対蒸発速度が1.7以上の溶剤としては、たとえば、酢酸sec−ブチル、メタノール、トルエン、酢酸n−プロピル、トリクロロエチレン、酢酸イソプロピル、メチルエチルケトン、ベンゼン、酢酸エチル、1,3−ジオキソラン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸メチル、アセトン、メチレンジクロライドなどが挙げられる。   Further, a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 may be mixed with a solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more. At this time, the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 is contained in the solvent by 30% by weight or more. Examples of the solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more include sec-butyl acetate, methanol, toluene, n-propyl acetate, trichloroethylene, isopropyl acetate, methyl ethyl ketone, benzene, ethyl acetate, 1,3-dioxolane, trichloroethane, and tetrahydrofuran. , Methyl acetate, acetone, methylene dichloride and the like.

金属酸化物粒子を樹脂溶液中に分散させる方法としては、ボールミル、サンドミル、アトライタ、振動ミル、超音波分散機などを用いる一般的な方法を使用することができる。   As a method for dispersing the metal oxide particles in the resin solution, a general method using a ball mill, a sand mill, an attritor, a vibration mill, an ultrasonic disperser, or the like can be used.

下引層形成用塗布液中における樹脂と金属酸化物との合計含有量の重量をCとし、下引層形成用塗布液中における溶剤の含有量の重量をDとするとき、溶剤の含有量Dに対する樹脂と金属酸化物との合計含有量Cの比率(C/D)は、1/99以上40/60以下(=0.01以上0.67以下)であることが好ましく、より好ましくは2/98以上30/70以下(=0.02以上0.43以下)である。   When the weight of the total content of the resin and the metal oxide in the coating solution for forming the undercoat layer is C and the weight of the content of the solvent in the coating solution for forming the undercoat layer is D, the content of the solvent The ratio (C / D) of the total content C of the resin and metal oxide to D is preferably 1/99 or more and 40/60 or less (= 0.01 or more and 0.67 or less), more preferably 2/98 or more and 30/70 or less (= 0.02 or more and 0.43 or less).

また下引層形成用塗布液中における金属酸化物含有量(重量F)に対する樹脂含有量(重量E)の比率(E/F)は、1/99以上90/10以下(=0.01以上9.0以下)であることが好ましく、より好ましくは5/95以上70/30以下(=0.05以上2.33以下)である。   The ratio (E / F) of the resin content (weight E) to the metal oxide content (weight F) in the coating solution for forming the undercoat layer is 1/99 or more and 90/10 or less (= 0.01 or more). 9.0 or less), more preferably 5/95 or more and 70/30 or less (= 0.05 or more and 2.33 or less).

乾燥後の下引層の膜厚は、0.01μm以上20μm以下であることが好ましく、0.1μm以上10μm以下であることがより好ましい。下引層の膜厚が0.01μm未満であると、実質的に下引層として機能しなくなり、導電性基体の欠陥を被覆して均一な表面を得ることができない。また導電性基体から感光層に対する電荷の注入を防止することができなくなるので、感光層の帯電性の低下が生じる。下引層の膜厚が20μmを超えると、下引層を均一に形成することが難しく、また電子写真感光体の感度も低下するので好ましくない。   The thickness of the undercoat layer after drying is preferably 0.01 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less. When the film thickness of the undercoat layer is less than 0.01 μm, it does not substantially function as the undercoat layer, and a uniform surface cannot be obtained by covering defects of the conductive substrate. Further, since it becomes impossible to prevent the injection of charges from the conductive substrate to the photosensitive layer, the chargeability of the photosensitive layer is lowered. If the thickness of the undercoat layer exceeds 20 μm, it is difficult to form the undercoat layer uniformly, and the sensitivity of the electrophotographic photosensitive member is lowered, which is not preferable.

電荷発生層および電荷輸送層の外周には、保護層が設けられてもよい。保護層を設けることによって、電子写真感光体の耐磨耗寿命を向上させることができるとともに、電子写真感光体表面を帯電させる際のコロナ放電によって発生するオゾン、NOxなどの感光層に対する電気化学的作用への耐久性を向上させることができる。   A protective layer may be provided on the outer periphery of the charge generation layer and the charge transport layer. By providing a protective layer, it is possible to improve the wear life of the electrophotographic photosensitive member, and electrochemically apply to the photosensitive layer such as ozone and NOx generated by corona discharge when the surface of the electrophotographic photosensitive member is charged. Durability to action can be improved.

保護層としては、たとえば硬化型樹脂、無機フィラー含有樹脂、無機酸化物などからなる層が用いられる。保護層に使用される樹脂としては、たとえば、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルベンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。   As the protective layer, for example, a layer made of a curable resin, an inorganic filler-containing resin, an inorganic oxide, or the like is used. Examples of the resin used for the protective layer include acrylonitrile-butadiene-styrene resin, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene resin, olefin-vinyl monomer copolymer, chlorinated polyether, allyl resin, phenol resin, polyacetal, and polyamide. Polyamideimide, polyacrylate, polyallylsulfone, polybutylene, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyethersulfone, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyimide, acrylic resin, polymethylbenten, polypropylene, polyphenylene oxide, polysulfone, polystyrene, acrylonitrile-styrene resin , Butadiene-styrene copolymer, polyurethane, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, epoxy resin Include resins, such as.

保護層に添加されるフィラーとしては、たとえば、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、窒化ケイ素、酸化カルシウム、硫酸バリウム、インジウム−スズ酸化物(ITO)、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、カーボンブラック、フッ素系樹脂微粉末、ポリシロキサン系樹脂微粉末、高分子電荷輸送材料微粉末などが挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらのフィラーは、分散性向上、表面性改質などの理由から無機物、有機物で表面処理されてもよい。このような表面処理のうち撥水性処理したフィラーとしては、シランカップリング剤で処理したもの、フッ素系シランカップリング剤処理したもの、高級脂肪酸で処理したもの、高分子材料などと共重合処理させたものなどが挙げられる。また無機物で処理されたものとしては、たとえば、フィラー表面をアルミナ、ジルコニア、酸化スズ、シリカなどで処理したものなどが挙げられる。   Examples of the filler added to the protective layer include titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, silicon nitride, calcium oxide, barium sulfate, indium-tin oxide (ITO), silica, colloidal silica, Alumina, carbon black, fluorine resin fine powder, polysiloxane resin fine powder, polymer charge transport material fine powder and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. These fillers may be surface-treated with an inorganic substance or an organic substance for reasons such as improving dispersibility and modifying surface properties. Among these surface treatments, the water-repellent treated fillers include those treated with a silane coupling agent, those treated with a fluorinated silane coupling agent, those treated with higher fatty acids, and polymer materials. Etc. Moreover, as what was processed with the inorganic substance, what processed the filler surface with an alumina, a zirconia, a tin oxide, a silica etc. is mentioned, for example.

また保護層中には、ホールまたは電子を効率よく輸送することを目的に、前述した電荷輸送物質であるホール輸送物質または電子輸送物質を添加してもよい。また、帯電性の向上などを目的に、フェノール化合物、ハイドロキノン化合物、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、ヒンダードアミンとヒンダードフェノールとが同一分子中に存在する化合物などを添加することもできる。さらに、可塑剤および/またはレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、たとえば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなどの、一般に樹脂の可塑剤として使用されているものを用いることができる。可塑剤の使用量としては、前記樹脂に対して0.1重量%以上30重量%以下が適当である。レベリング剤としては、たとえば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー、オリゴマーなどが使用できる。レベリング剤の使用量としては、前記樹脂に対して、0.001重量%以上1重量%以下が適当である。   In addition, a hole transport material or an electron transport material which is the above-described charge transport material may be added to the protective layer for the purpose of efficiently transporting holes or electrons. In addition, for the purpose of improving charging properties, a phenol compound, a hydroquinone compound, a hindered phenol compound, a hindered amine compound, a compound in which hindered amine and hindered phenol are present in the same molecule, and the like can be added. Further, a plasticizer and / or a leveling agent may be added. As a plasticizer, what is generally used as a plasticizer of resin, such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate, can be used, for example. The amount of the plasticizer used is suitably 0.1% by weight or more and 30% by weight or less based on the resin. As the leveling agent, for example, silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, polymers having a perfluoroalkyl group in the side chain, oligomers and the like can be used. The amount of the leveling agent used is suitably 0.001% by weight or more and 1% by weight or less based on the resin.

また、保護層を少なくとも硬化型樹脂を含む層で構成するためには、材料の分野で公知である種々の架橋反応、たとえば、ラジカル重合、イオン重合、熱重合、光重合、放射線重合などを用いることができる。また、表面エネルギの低い硬化した保護層を実現させるために、公知の方法でシリコーン構造、パーフルオロアルキル構造、長鎖アルキル構造などを有する材料を架橋反応させてもよい。   In order to form the protective layer with a layer containing at least a curable resin, various crosslinking reactions known in the field of materials, for example, radical polymerization, ionic polymerization, thermal polymerization, photopolymerization, radiation polymerization, etc. are used. be able to. In order to realize a cured protective layer having a low surface energy, a material having a silicone structure, a perfluoroalkyl structure, a long-chain alkyl structure, or the like may be subjected to a crosslinking reaction by a known method.

前述のように保護層に電荷輸送機能を併せて持たせるために、電荷輸送機能を有する物質または高分子型電荷輸送物質を架橋反応させてもよい。このような保護層として、たとえば、架橋性オルガノポリシロキサン樹脂と、それに結合可能でかつ電荷輸送性を有する構造単位を含む化合物とを混ぜて硬化させたポリシロキサン樹脂からなる層が用いられることによって、優れた耐久性と電気特性とを有する保護層を実現することができる。   As described above, in order to provide the protective layer with a charge transport function, a substance having a charge transport function or a polymer charge transport substance may be subjected to a crosslinking reaction. As such a protective layer, for example, a layer made of a polysiloxane resin obtained by mixing and curing a crosslinkable organopolysiloxane resin and a compound containing a structural unit capable of binding to it and having a charge transporting property is used. A protective layer having excellent durability and electrical characteristics can be realized.

保護層は、適当な溶剤からなる溶媒中に前記樹脂ならびに必要に応じて前述のフィラーなどの添加剤を溶解または分散させて保護層形成用塗布液を調製し、この塗布液を電荷輸送層などの上に塗布し、乾燥させることによって形成される。   The protective layer is prepared by dissolving or dispersing the resin and, if necessary, additives such as the filler in a solvent composed of a suitable solvent to prepare a coating solution for forming a protective layer, and using this coating solution as a charge transport layer or the like. It is formed by coating on and drying.

保護層形成用塗布液の溶媒に用いられる溶剤としては、たとえば、前記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤である1,4−ジオキサン、メチルイソブチルケトン、エタノール、イソプロパノール、酢酸イソブチル、1,3−ジクロロプロパン、酢酸n−ブチル、n−プロパノール、キシレン、イソブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、n−ブタノール、酢酸メチルアミル、水、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、3−オクタノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、エチレングリコールモノブチルエーテル、イソホロン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。   Examples of the solvent used as the solvent for the protective layer forming coating solution include 1,4-dioxane, methyl isobutyl ketone, ethanol, isopropanol, isobutyl acetate, 1,3, which are solvents having a relative evaporation rate of less than 1.7. -Dichloropropane, n-butyl acetate, n-propanol, xylene, isobutanol, ethylene glycol monomethyl ether, n-butanol, methyl amyl acetate, water, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, Cyclohexanone, 3-octanone, diisobutyl ketone, methylcyclohexanone, ethylene glycol monobutyl ether, isophorone, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol Monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether.

また、上記相対蒸発速度が1.7未満の溶剤に、相対蒸発速度が1.7以上の溶剤を混合して用いることもできる。このとき、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤は、溶媒中に30重量%以上含まれる。相対蒸発速度が1.7以上の溶剤としては、たとえば、酢酸sec−ブチル、メタノール、トルエン、酢酸n−プロピル、トリクロロエチレン、酢酸イソプロピル、メチルエチルケトン、ベンゼン、酢酸エチル、1,3−ジオキソラン、シクロヘキサン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸メチル、アセトン、メチレンジクロライドなどが挙げられる。これらの中でも水、メタノール、エタノール、n−ブタノールなどのアルコール類およびエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのグライム系溶剤のいずれか1種以上を含むものが好ましい。   Further, a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 may be mixed with a solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more. At this time, the solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7 is contained in the solvent by 30% by weight or more. Examples of the solvent having a relative evaporation rate of 1.7 or more include sec-butyl acetate, methanol, toluene, n-propyl acetate, trichloroethylene, isopropyl acetate, methyl ethyl ketone, benzene, ethyl acetate, 1,3-dioxolane, cyclohexane, trichloroethane. , Tetrahydrofuran, methyl acetate, acetone, methylene dichloride and the like. Among these, those containing at least one of water, alcohols such as methanol, ethanol and n-butanol and glyme solvents such as ethylene glycol monobutyl ether and diethylene glycol monobutyl ether are preferable.

なお保護層形成物質と保護層の下に設けられる下層の形成物質とが同じ溶剤に可溶である場合、導電性基体から遠い方の層として形成される保護層は、ロールコーティング法によって下層の上に塗布されることが好ましい。   In addition, when the protective layer forming material and the lower layer forming material provided under the protective layer are soluble in the same solvent, the protective layer formed as a layer farther from the conductive substrate is formed by the roll coating method. Preferably it is applied on top.

乾燥後の保護層の膜厚は、0.5μm以上5μm以下であることが好ましく、1μm以上3μm以下であることがより好ましい。保護層の膜厚が0.5μmより薄いと、ブレードまたは帯電ローラとの接触などによる外力を受けたとき、保護層がその下層との界面から剥離しやすくなる。これは、保護層の膜厚が薄い場合、外力をうけた時に保護層自体では抗し切れずに下層との界面に常時力が負荷され、それが長期にわたると負荷されている力によって界面にずれが生じやすくなるためであると考えられる。また保護層の膜厚が薄いと、摩耗により保護層すべてが電子写真感光体の寿命前に消失する可能性がある。保護層の膜厚が5μmよりも厚いと、キャリアが保護層内を移動する過程において拡散するので、文字太りなどが生じやすくなり、感光体の感度低下および繰返しによる残留電位上昇が起こる恐れがある。   The thickness of the protective layer after drying is preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 3 μm or less. When the thickness of the protective layer is less than 0.5 μm, the protective layer easily peels off from the interface with the lower layer when subjected to external force due to contact with the blade or the charging roller. This is because, when the protective layer is thin, when the external force is applied, the protective layer itself is not fully resisted and a force is constantly applied to the interface with the lower layer, and if it is applied over a long period of time, the applied force is applied to the interface. This is considered to be because the shift tends to occur. If the protective layer is thin, all the protective layer may be lost before the lifetime of the electrophotographic photosensitive member due to wear. If the thickness of the protective layer is greater than 5 μm, the carrier diffuses in the process of moving through the protective layer, so that character thickening or the like is likely to occur, and there is a risk that the sensitivity of the photoreceptor is lowered and the residual potential is increased due to repetition. .

なお、前述のように電荷輸送層に必要に応じて用いられる酸化防止剤および/または光安定剤は、電荷発生層および電荷輸送層と保護層とのいずれに含有されてもよく、また3層すべてに含有されてもよい。   As described above, the antioxidant and / or the light stabilizer used as necessary in the charge transport layer may be contained in any one of the charge generation layer, the charge transport layer, and the protective layer. It may be contained in all.

以上のような感光層用塗布液を導電性気体5に塗布し、導電性基体5に塗膜6が形成される塗布工程を行うと、その後直ちに乾燥装置1内に装入され、誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程に供される。   When the coating process for coating the photosensitive layer 5 as described above is applied to the conductive gas 5 and the coating film 6 is formed on the conductive substrate 5, the coating is immediately placed in the drying apparatus 1 and the induction heating process. And subjected to a far infrared heat drying process.

次に、本発明の特徴である誘導加熱工程と遠赤外線加熱乾燥工程とについて説明する。誘導加熱工程では、誘導加熱手段2によって、誘導加熱手段2の直上に配置される導電性基体5を60℃以上150℃以下に加熱する。導電性基体5の加熱される温度が60℃未満であると、導電性基体5の温度が低く、後述の遠赤外線加熱乾燥工程の初期段階において塗膜6を加熱しても、塗膜6から導電性基体5に熱が伝導し、該伝導された熱が導電性基体5から外部に放出され、加熱効率が低下してしまう。一方150℃を超えると、感光層形成材料の耐熱温度以上に塗膜6が加熱される恐れがあり、特に電荷発生物質の性質が劣化し、感光体としての電気特性が低下する。   Next, the induction heating process and the far infrared heating drying process, which are the features of the present invention, will be described. In the induction heating step, the conductive substrate 5 disposed immediately above the induction heating unit 2 is heated to 60 ° C. or more and 150 ° C. or less by the induction heating unit 2. If the temperature at which the conductive substrate 5 is heated is less than 60 ° C., the temperature of the conductive substrate 5 is low, and even if the coating film 6 is heated in the initial stage of the far-infrared heating drying process described later, Heat is conducted to the conductive substrate 5, and the conducted heat is released from the conductive substrate 5 to the outside, resulting in a reduction in heating efficiency. On the other hand, if the temperature exceeds 150 ° C., the coating film 6 may be heated to a temperature higher than the heat resistant temperature of the photosensitive layer forming material.

なお、誘導加熱手段2で加熱を行う導電性基体5は、60℃以上150℃以下に加熱されるけれども、塗膜6を形成する塗布液を構成する溶剤の中で最低の沸点を有する溶剤の沸点よりも低い温度に加熱されることが好ましい。塗膜6を形成する溶剤の沸点よりも高い温度で加熱されると、誘導加熱工程中に塗膜6が乾燥し始めて硬化し、塗膜6表面に硬化膜を形成する恐れがある。   The conductive substrate 5 to be heated by the induction heating means 2 is heated to 60 ° C. or more and 150 ° C. or less, but the solvent having the lowest boiling point among the solvents constituting the coating solution for forming the coating film 6 is used. Heating to a temperature lower than the boiling point is preferred. When heated at a temperature higher than the boiling point of the solvent that forms the coating film 6, the coating film 6 begins to dry during the induction heating step and hardens, and a cured film may be formed on the surface of the coating film 6.

たとえば、導電性基体5として厚さが1mm程度のアルミニウム製の円筒状導電性基体を用い、導電性基体5を均一に加熱する場合、50Hz(商用周波数)〜250kHzの低〜高周波の発振周波数で誘導加熱を行うことが加熱効率の点から好ましく、50Hz(商用周波数)〜1kHzの低周波で誘導加熱を行うことが導電性基体全体を均一に加熱する点から最も好ましい。   For example, when an aluminum cylindrical conductive substrate having a thickness of about 1 mm is used as the conductive substrate 5 and the conductive substrate 5 is uniformly heated, a low to high frequency oscillation frequency of 50 Hz (commercial frequency) to 250 kHz is used. Inductive heating is preferable from the viewpoint of heating efficiency, and induction heating at a low frequency of 50 Hz (commercial frequency) to 1 kHz is most preferable from the viewpoint of uniformly heating the entire conductive substrate.

また、誘導加熱手段2で加熱を行う時間は、0.5〜60秒程度であることが好ましい。加熱時間が0.5秒未満であると、導電性基体5を所望の温度にすることが困難である。加熱時間が60秒を超えても、特に問題はないけれども、生産効率が低下するので、好ましくは加熱時間を60秒以下とする。   Moreover, it is preferable that the time which heats with the induction heating means 2 is about 0.5 to 60 second. If the heating time is less than 0.5 seconds, it is difficult to bring the conductive substrate 5 to a desired temperature. Even if the heating time exceeds 60 seconds, there is no particular problem. However, since the production efficiency is lowered, the heating time is preferably 60 seconds or less.

なお、誘導加熱工程において、導電性基体5は回転手段7により、軸線周りに回転される。誘導加熱工程において導電性基体5が加熱されると、該導電性基体5の温度上昇に伴って塗膜6の温度が上昇し、塗膜6の粘度が低下し流動性が増す。塗膜6の流動性が増加すると、導電性基体5をつたって重力方向に塗膜6が垂れてしまい、導電性基体5の円周方向の膜厚が不均一となってしまう。導電性基体5が軸線方向が水平方向と平行となるように保持され、かつ軸線周りに回転されることによって、塗膜6に対する重力の影響を均一化でき、円周方向の膜厚を均一にして乾燥を行うことができる。   In the induction heating step, the conductive substrate 5 is rotated around the axis by the rotating means 7. When the conductive substrate 5 is heated in the induction heating step, the temperature of the coating film 6 rises as the temperature of the conductive substrate 5 rises, the viscosity of the coating film 6 decreases, and the fluidity increases. When the fluidity of the coating film 6 increases, the coating film 6 hangs down in the direction of gravity through the conductive substrate 5, and the film thickness in the circumferential direction of the conductive substrate 5 becomes non-uniform. By holding the conductive substrate 5 so that the axial direction is parallel to the horizontal direction and rotating around the axial line, the influence of gravity on the coating film 6 can be made uniform, and the film thickness in the circumferential direction can be made uniform. Can be dried.

ここで、回転手段7による導電性基体5の回転数は、1rpm以上500rpm以下であることが好ましく、5rpm以上200rpm以下であることがさらに好ましい。導電性基体5の回転数が1rpm未満であると、導電性基体5表面に形成される塗膜6が重力方向に垂れてそのまま乾燥され、乾燥後の塗膜6の厚みにむらが生じる。導電性基体5の回転数が500rpmを超えると、遠心力によって塗膜6が飛散してしまう。   Here, the rotational speed of the conductive substrate 5 by the rotating means 7 is preferably 1 rpm or more and 500 rpm or less, more preferably 5 rpm or more and 200 rpm or less. When the rotational speed of the conductive substrate 5 is less than 1 rpm, the coating film 6 formed on the surface of the conductive substrate 5 is dripped in the direction of gravity and dried as it is, and unevenness in the thickness of the coating film 6 after drying occurs. When the rotational speed of the conductive substrate 5 exceeds 500 rpm, the coating film 6 is scattered by centrifugal force.

誘導加熱工程によって加熱される導電性基体5の温度が予め定める温度になると、制御手段が温度検知出力に応じて移動手段を動作制御し、導電性基体5が遠赤外線加熱手段4の直下に移動され、遠赤外線加熱乾燥工程に供される。   When the temperature of the conductive substrate 5 heated by the induction heating step reaches a predetermined temperature, the control unit controls the operation of the moving unit according to the temperature detection output, and the conductive substrate 5 moves immediately below the far-infrared heating unit 4. And subjected to a far infrared heating drying process.

遠赤外線加熱乾燥工程では、遠赤外線加熱手段3によって導電性基体5表面に形成される塗膜6を加熱し、乾燥させる。遠赤外線加熱乾燥工程では、塗膜6を乾燥させるのに好適な温度(感光体の耐熱温度未満かつ溶媒の沸点以下の温度であって、できるだけ高い温度)まで塗膜6の温度を上昇させた後、その温度を保持して溶媒を気化させる。   In the far infrared heating and drying step, the coating 6 formed on the surface of the conductive substrate 5 is heated by the far infrared heating means 3 and dried. In the far-infrared heat drying step, the temperature of the coating film 6 was increased to a temperature suitable for drying the coating film 6 (a temperature lower than the heat resistance temperature of the photoconductor and not higher than the boiling point of the solvent and as high as possible). Thereafter, the temperature is maintained and the solvent is evaporated.

塗膜6に照射する遠赤外線としては、4〜1000μmの波長のものを使用することができる。また遠赤外線は、塗膜6中の溶媒が有機化合物である場合、溶媒への吸収率が高い4〜25μmの波長の領域で最大エネルギを有することが好ましい。   As a far infrared ray irradiated to the coating film 6, a thing with a wavelength of 4-1000 micrometers can be used. Moreover, when the solvent in the coating film 6 is an organic compound, it is preferable that far infrared rays have the maximum energy in a wavelength range of 4 to 25 μm where the absorption rate into the solvent is high.

乾燥の初期段階において、遠赤外線加熱手段3による加熱出力は、塗膜6の熱容量によって塗膜6の温度上昇に費やされる。したがって、乾燥の初期段階において、遠赤外線加熱手段3からの加熱出力を大きくすることによって塗膜6の温度を短時間で上昇させることができる。   In the initial stage of drying, the heating output from the far-infrared heating means 3 is consumed for increasing the temperature of the coating film 6 due to the heat capacity of the coating film 6. Therefore, in the initial stage of drying, the temperature of the coating film 6 can be raised in a short time by increasing the heating output from the far-infrared heating means 3.

ここで、この初期段階の加熱出力をそのまま維持し続けると、塗膜6の温度が常に上昇することとなり、乾燥を行う途中段階において、塗膜6の温度が感光体の耐熱温度以上または塗膜6中の溶媒の沸点を超えて上昇する恐れがある。感光体の耐熱温度以上に塗膜6が加熱されてしまうと、耐熱温度の低い電荷発生物質の効果が発揮されないなどの問題が生じて感光体の電気特性が低下する。また、塗膜6中の溶媒の沸点を超えて塗膜6の温度が上昇すると、溶媒が気泡を多量に発生して、塗膜6表面に気泡、厚みむらなどを生じる。したがって、制御手段が温度検知出力に応じて遠赤外線加熱手段3を動作制御し、塗膜6の温度が予め定める温度に達すると、それ以上の温度とならないように遠赤外線加熱手段3からの加熱出力を初期段階よりも小さくするように制御する。   Here, if the heating output in this initial stage is kept as it is, the temperature of the coating film 6 will always rise. In the middle stage of drying, the temperature of the coating film 6 is higher than the heat resistance temperature of the photoreceptor or the coating film. 6 may exceed the boiling point of the solvent in 6. If the coating film 6 is heated to a temperature higher than the heat resistance temperature of the photoconductor, problems such as ineffectiveness of the charge generating material having a low heat resistance temperature occur, and the electrical characteristics of the photoconductor deteriorate. Further, when the temperature of the coating film 6 rises beyond the boiling point of the solvent in the coating film 6, the solvent generates a large amount of bubbles, resulting in bubbles and uneven thickness on the surface of the coating film 6. Therefore, the control means controls the operation of the far-infrared heating means 3 according to the temperature detection output. When the temperature of the coating film 6 reaches a predetermined temperature, the heating from the far-infrared heating means 3 is prevented so that the temperature does not become higher. The output is controlled to be smaller than the initial stage.

また、遠赤外線加熱乾燥工程が送風ノズル4から導電性基体5上の塗膜6に気体を吹付けながら行われると、塗膜6からの溶媒蒸気を効率的に外部に放出できるので、効率よく乾燥を行うことができ、表面に厚みむらが発生するのを防止できるので好ましい。   Further, when the far-infrared heat drying process is performed while blowing gas from the blower nozzle 4 to the coating film 6 on the conductive substrate 5, the solvent vapor from the coating film 6 can be efficiently released to the outside. It is preferable because drying can be performed and unevenness in thickness can be prevented from occurring on the surface.

送風ノズル4から噴出される気体の温度としては、50℃以上130℃以下であることが好ましい。気体の温度が50℃未満であると、塗膜6を逆に冷却するように作用するので、短時間での乾燥が困難となる。このような低温の気体を吹付けている中で塗膜6の乾燥を短時間で行うために遠赤外線加熱手段3からの加熱出力を大きくすると、誘導加熱工程において導電性基体5が加熱されているので、塗膜6表面においては適温となっていても、塗膜6内部の温度が上昇し過ぎてしまうことがある。内部の温度が上昇し過ぎて塗膜6中の溶媒の沸点を超えて加熱が行われると、気泡が多量に発生し、塗膜6の厚みにむらが発生する。また、感光層形成材料の耐熱温度以上の温度で加熱が行われると、特に電荷発生物質の性質が劣化し、感光体としての電気特性が低下する。   The temperature of the gas ejected from the blow nozzle 4 is preferably 50 ° C. or higher and 130 ° C. or lower. When the temperature of the gas is less than 50 ° C., the coating film 6 is cooled in reverse, so that drying in a short time becomes difficult. If the heating output from the far-infrared heating means 3 is increased in order to dry the coating film 6 in a short time while spraying such a low-temperature gas, the conductive substrate 5 is heated in the induction heating step. Therefore, even if the surface of the coating film 6 has an appropriate temperature, the temperature inside the coating film 6 may increase excessively. When the internal temperature rises too much and the heating is performed exceeding the boiling point of the solvent in the coating film 6, a large amount of bubbles are generated, and the thickness of the coating film 6 is uneven. In addition, when heating is performed at a temperature equal to or higher than the heat-resistant temperature of the photosensitive layer forming material, the properties of the charge generating substance are deteriorated, and the electrical characteristics as the photoreceptor are deteriorated.

一方、気体の温度が130℃を超えると、熱風により乾燥が行われる状態となり、塗膜6内部の溶媒が蒸発する前に塗膜6表面が乾燥し硬化するので、塗膜6内部に溶媒が残存する恐れがある。またこの気体中で塗膜6を遠赤外線加熱手段3によって加熱すると、塗膜6の温度が高くなりすぎて、塗膜6内部の温度が上昇し過ぎる場合と同様の問題が発生する。   On the other hand, when the temperature of the gas exceeds 130 ° C., drying is performed by hot air, and the surface of the coating film 6 is dried and cured before the solvent in the coating film 6 evaporates. May remain. Moreover, when the coating film 6 is heated in this gas by the far-infrared heating means 3, the temperature of the coating film 6 becomes too high, and the same problem as when the temperature inside the coating film 6 rises too much occurs.

送風ノズル4から供給される気体の流速は、1m/min以上100m/min以下であることが好ましく、5m/min以上50m/min以下であることがさらに好ましい。流速が1m/min未満であると、導電性基体5に供給される気体が少なく、温度制御および気化した塗膜6中の溶媒の排出が困難となる。流速が100m/minを超えると、気体の力によって未乾燥の塗膜6の形状が変化し、乾燥後の塗膜6、すなわち感光層にもむらが生じる恐れがある。   The flow rate of the gas supplied from the blowing nozzle 4 is preferably 1 m / min or more and 100 m / min or less, and more preferably 5 m / min or more and 50 m / min or less. When the flow rate is less than 1 m / min, the amount of gas supplied to the conductive substrate 5 is small, and it becomes difficult to control the temperature and discharge the solvent in the vaporized coating film 6. When the flow rate exceeds 100 m / min, the shape of the undried coating film 6 is changed by the force of the gas, and the coating film 6 after drying, that is, the photosensitive layer may be uneven.

また送風ノズル4から供給される気体の流量は、温度制御および気化した塗膜6中の溶媒を排出するために0.1m/min以上10m/min以下であることが好ましい。流量が0.1m/min未満であると、導電性基体5に供給される気体が少なく、温度制御および気化した塗膜6中の溶媒の排出が困難となる恐れがある。流量が10m/minを超えると、気体による冷却効果によって塗膜6の温度が上がりにくくなる恐れがある。 The flow rate of the gas supplied from the blower nozzle 4 is preferably 0.1 m 3 / min or more 10 m 3 / min or less in order to discharge the solvent in the coating film 6 temperature control and vaporization. If the flow rate is less than 0.1 m 3 / min, the amount of gas supplied to the conductive substrate 5 is small, and it may be difficult to control the temperature and discharge the solvent in the vaporized coating film 6. If the flow rate exceeds 10 m 3 / min, the temperature of the coating film 6 may not easily rise due to the cooling effect of the gas.

このような送風ノズル4を備える乾燥装置1を用いると、気体の温度が50℃以上130℃以下と常温よりも高温の気体中で遠赤外線加熱乾燥工程を行うことができるので、塗膜6の昇温を加速させることができ、乾燥を短時間で行うことができる。   When the drying apparatus 1 having such a blowing nozzle 4 is used, the far infrared heating drying process can be performed in a gas having a gas temperature of 50 ° C. or higher and 130 ° C. or lower and higher than normal temperature. The temperature rise can be accelerated and the drying can be performed in a short time.

このような送風ノズル4についても、乾燥の初期段階と途中段階とでその気体の温度および流量が調整されることが好ましい。たとえば、乾燥の初期段階では、送風ノズル4から塗膜6へ供給する気体の温度を高くするとともに、その流量を大きくする。このことによって、塗膜6を乾燥させる雰囲気の温度を高め、塗膜6の温度上昇に要する時間を短縮する。乾燥を行う途中段階では、送風ノズル4から塗膜6へ供給する気体の温度を低くすることによって雰囲気の温度を低くし、またその気体の温度の程度によって気体の流量を適宜調整して塗膜6の必要以上の温度上昇を防ぐ。   It is preferable that the temperature and flow rate of the gas are also adjusted in the initial stage and the intermediate stage of the drying nozzle 4 as well. For example, in the initial stage of drying, the temperature of the gas supplied from the blower nozzle 4 to the coating film 6 is increased and the flow rate is increased. As a result, the temperature of the atmosphere for drying the coating film 6 is increased, and the time required for the temperature increase of the coating film 6 is shortened. In the middle of drying, the temperature of the atmosphere is lowered by lowering the temperature of the gas supplied from the blower nozzle 4 to the coating film 6, and the gas flow rate is appropriately adjusted according to the degree of the temperature of the gas to coat the coating film. 6. Prevents temperature rise more than necessary.

なお、乾燥の途中段階での気体の流量は、気体の温度と塗膜6の温度とを考慮しつつ調整される必要がある。制御手段は、温度検知出力に応じて送風ノズル4を動作制御する。たとえば、塗膜6の温度が気体の温度よりも高くなると、気体の流量を大きくすることによって、塗膜6の温度上昇が促進され、流量を小さくすることによって、温度上昇を緩やかにすることができる。塗膜6の温度が気体の温度より低くなると、気体の流量を大きくすることによって、塗膜6の温度を低下させることができ、流量を小さくすることによって、温度低下を緩やかにすることができる。   The gas flow rate in the middle of drying needs to be adjusted in consideration of the gas temperature and the temperature of the coating film 6. The control means controls the operation of the blower nozzle 4 according to the temperature detection output. For example, when the temperature of the coating film 6 is higher than the temperature of the gas, the temperature increase of the coating film 6 is promoted by increasing the gas flow rate, and the temperature increase can be moderated by decreasing the flow rate. it can. When the temperature of the coating film 6 is lower than the temperature of the gas, the temperature of the coating film 6 can be decreased by increasing the gas flow rate, and the temperature decrease can be moderated by decreasing the flow rate. .

なお、乾燥の途中段階においては、塗膜6中の溶媒の乾燥が進み、塗膜6中に残存する溶媒の量が減少することによって、溶媒を気化させるのに要する気化熱も減少するので、このことも考慮して、遠赤外線加熱手段3の加熱出力をさらに小さくし、送風ノズル4からの塗膜6へ供給する気体の温度をさらに低くすることが好ましい。   In the middle stage of drying, the drying of the solvent in the coating film 6 proceeds and the amount of the solvent remaining in the coating film 6 decreases, so that the heat of vaporization required to vaporize the solvent also decreases. Considering this, it is preferable to further reduce the heating output of the far-infrared heating means 3 and further lower the temperature of the gas supplied to the coating film 6 from the blower nozzle 4.

また、導電性基体5は、誘導加熱工程中と同様に、遠赤外線加熱乾燥工程中においても軸線周りに回転する。このことによって、塗膜6の垂れによる乾燥後の塗膜6の厚みむらを防止できるとともに、遠赤外線が照射されない部分が加熱されないことに起因する導電性基体5の加熱むらを防止し、導電性基体5全体を均一に加熱することができる。   In addition, the conductive substrate 5 rotates around the axis during the far-infrared heating drying process as in the induction heating process. This prevents unevenness of the thickness of the coating film 6 after drying due to dripping of the coating film 6, and also prevents uneven heating of the conductive substrate 5 due to the fact that the portion not irradiated with far infrared rays is not heated. The entire substrate 5 can be heated uniformly.

本発明の電子写真感光体の製造方法によれば、遠赤外線加熱乾燥工程の前工程として誘導加熱工程を行い、導電性基体5が予め加熱されるので、遠赤外線加熱手段4により乾燥を行う初期段階において、塗膜6下部から伝導された熱が導電性基体5から外部に放出されるのを防止することができる。このことにより、導電性基体5からの放熱による塗膜6の温度低下を防止することができるので、短時間で塗膜6の乾燥を行うことができる。   According to the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention, an induction heating step is performed as a pre-step of the far infrared heating drying step, and the conductive substrate 5 is preheated. In the stage, it is possible to prevent the heat conducted from the lower part of the coating film 6 from being released from the conductive substrate 5 to the outside. Thereby, since the temperature drop of the coating film 6 due to heat radiation from the conductive substrate 5 can be prevented, the coating film 6 can be dried in a short time.

また、遠赤外線加熱手段3は塗膜6内部の溶媒を加熱し、塗膜6を内部から乾燥させることができるので、塗膜6表面に硬化膜が形成されるのを防止できる。このことによって、感光体の感光層としての塗膜6に、ピンホール、気泡、表面の厚みむらなどが発生することが防止され、平滑な感光層を形成することができる。また、乾燥後の塗膜6内部に残留する溶媒の量を低減できるので、電子写真感光体の電気特性低下を防止することができる。   Moreover, since the far-infrared heating means 3 can heat the solvent inside the coating film 6 and can dry the coating film 6 from the inside, it is possible to prevent a cured film from being formed on the surface of the coating film 6. As a result, pinholes, bubbles, uneven surface thickness, and the like are prevented from occurring in the coating film 6 as the photosensitive layer of the photoreceptor, and a smooth photosensitive layer can be formed. Further, since the amount of the solvent remaining in the coating film 6 after drying can be reduced, it is possible to prevent the electrical characteristics of the electrophotographic photosensitive member from being deteriorated.

なお、本発明の感光体の製造方法を実現する乾燥装置1は、上記の構成に限定されることなく、種々の変更が可能である。   The drying apparatus 1 that realizes the method for producing a photoreceptor of the present invention is not limited to the above configuration, and various modifications can be made.

乾燥装置1の誘導加熱手段2は、本実施形態においては平板型の誘導コイルであるけれども、導電性基体5への加熱を均一に行うために、中空円筒形状の導電性基体5の内部に出入自在に配置される構成、円筒形状の導電性基体5の周囲を覆うように備えられる構成などであってもよい。   The induction heating means 2 of the drying apparatus 1 is a flat induction coil in this embodiment, but in order to uniformly heat the conductive substrate 5, it enters and exits the inside of the hollow cylindrical conductive substrate 5. The structure arrange | positioned freely, the structure provided so that the circumference | surroundings of the cylindrical conductive base | substrate 5 may be covered may be sufficient.

導電性基体5の遠赤外線加熱手段3を臨む側の反対側に設けられる反射板は、加熱効率を高めるためのものであるので、必ずしも設けられる必要はない。   The reflecting plate provided on the side opposite to the side facing the far-infrared heating means 3 of the conductive substrate 5 is for improving the heating efficiency, and thus does not necessarily need to be provided.

本発明の方法で製造される感光体は、導電性基体の形状が円筒状のものに限定されることなく、円柱状、シート状などであってもよい。導電性基体がシート状の場合、たとえば水平面内で可動なステージ上に載置して、誘導加熱によって導電性基体を加熱した後、ステージを移動させ、遠赤外線によって塗膜を加熱し、乾燥させることができる。   The photoreceptor manufactured by the method of the present invention is not limited to the cylindrical shape of the conductive substrate, but may be a columnar shape, a sheet shape, or the like. When the conductive substrate is in the form of a sheet, for example, it is placed on a movable stage in a horizontal plane, the conductive substrate is heated by induction heating, the stage is moved, and the coating film is heated by far infrared rays and dried. be able to.

図2は、本発明の感光体の製造方法における誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程を実施するための乾燥装置11の構成を概略的に示す側面図である。本発明の電子写真感光体の製造方法は、図2に示すような乾燥装置11を用いて、連続的な製造工程として実行されてもよい。このような乾燥装置11は、感光体の量産に適用する場合に最適である。なお、図2において示す3次元X−Y−Z軸について以下のように定義する。水平面を構成する方向をX−Y方向とし、さらに導電性基体12の軸線方向をY方向、Y方向に直交する導電性基体12の移動方向をX方向とする。X−Y方向に垂直な鉛直方向をZ方向とする。   FIG. 2 is a side view schematically showing the configuration of the drying apparatus 11 for carrying out the induction heating step and the far-infrared heating drying step in the method for producing a photoreceptor of the present invention. The method for producing an electrophotographic photoreceptor of the present invention may be performed as a continuous production process using a drying apparatus 11 as shown in FIG. Such a drying apparatus 11 is optimal when applied to mass production of a photoreceptor. The three-dimensional XYZ axis shown in FIG. 2 is defined as follows. The direction constituting the horizontal plane is the XY direction, the axial direction of the conductive substrate 12 is the Y direction, and the moving direction of the conductive substrate 12 orthogonal to the Y direction is the X direction. A vertical direction perpendicular to the XY direction is taken as a Z direction.

乾燥装置11は、X軸方向に延び、Z方向に離隔して設けられる一対のベース基板14a,14bと、ベース基板14a,14bにそれぞれ設けられる1対の平板状の誘導加熱手段15a,15bと、ベース基板14a,14bにそれぞれ設けられる複数対の遠赤外線加熱手段16a,16bと、複数の遠赤外線加熱手段16aの間に設けられる送風ノズル17aと、複数の遠赤外線加熱手段16bの間に設けられる送風ノズル17bと、導電性基体12を軸線方向に回転させながら一対のベース基板14a,14b間をX軸方向に一定速度で搬送する不図示の回転移動手段と、装置全体の動作を制御する制御手段とを備える。   The drying apparatus 11 includes a pair of base substrates 14a and 14b that extend in the X-axis direction and are spaced apart from each other in the Z direction, and a pair of plate-shaped induction heating means 15a and 15b that are respectively provided on the base substrates 14a and 14b. , Provided between a plurality of pairs of far infrared heating means 16a, 16b provided on the base substrates 14a, 14b, a blower nozzle 17a provided between the plurality of far infrared heating means 16a, and a plurality of far infrared heating means 16b, respectively. The blower nozzle 17b, the rotation base means (not shown) that conveys the pair of base substrates 14a and 14b at a constant speed in the X-axis direction while rotating the conductive substrate 12 in the axial direction, and the operation of the entire apparatus are controlled. Control means.

誘導加熱手段15a,15b、遠赤外線加熱手段16a,16bおよび送風ノズル17a,17bは、それぞれがZ軸方向について対向して設けられる。以後、特定の誘導加熱手段、遠赤外線加熱手段または送風ノズルを指定して説明する場合を除いて、アルファベットを省略して誘導加熱手段15、遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17と称する。なお、誘導加熱手段15、遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17は、それぞれ前述の乾燥装置1に備えられる誘導加熱手段2、遠赤外線加熱手段3および送風ノズル4と同様の構成であるので、説明を省略する。   The induction heating means 15a and 15b, the far-infrared heating means 16a and 16b, and the blower nozzles 17a and 17b are provided facing each other in the Z-axis direction. Hereinafter, except for the case where a specific induction heating means, far infrared heating means or blower nozzle is designated and described, the alphabet is omitted and referred to as induction heating means 15, far infrared heating means 16 and blower nozzle 17. The induction heating means 15, far infrared heating means 16 and blower nozzle 17 have the same configuration as the induction heating means 2, far infrared heating means 3 and blower nozzle 4 provided in the above-described drying apparatus 1, respectively. Is omitted.

回転移動手段は、軸線方向が水平方向に平行になるように円筒形状の導電性基体12を保持し、導電性基体12を軸線周りに回転させながら一対のベース基板14a,14b間をX軸方向に一定速度で搬送する。   The rotational movement means holds the cylindrical conductive base 12 so that the axial direction is parallel to the horizontal direction, and rotates the conductive base 12 around the axial line between the pair of base substrates 14a and 14b in the X-axis direction. At a constant speed.

このような乾燥装置11では、塗膜13が形成される導電性基体12が、軸線周りに回転しながら一定の速度で一対のベース基板14a,14bに設けられる誘導加熱手段15の間を通過し、その後、遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17の間を通過する。このことにより、誘導加熱手段15の間を通過中に導電性基体12を好適な温度に上昇させる誘導加熱工程が行われ、導電性基体12が好適な温度まで上昇すると同時に、それぞれ対向して設けられる遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17の間に導電性基体12が移動される。また、遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17の間を通過中に、導電性基体12に形成される塗膜13を乾燥させる遠赤外線加熱乾燥工程が行われる。このような乾燥装置11を用いると、複数の導電性基体12に形成される塗膜13を、連続的に短時間で乾燥させることができるので、生産効率が向上する。   In such a drying apparatus 11, the conductive substrate 12 on which the coating film 13 is formed passes between the induction heating means 15 provided on the pair of base substrates 14a and 14b at a constant speed while rotating around the axis. Then, it passes between the far infrared heating means 16 and the blower nozzle 17. As a result, an induction heating step of raising the conductive substrate 12 to a suitable temperature while passing between the induction heating means 15 is performed. The conductive substrate 12 is moved between the far-infrared heating means 16 and the blower nozzle 17. Further, a far-infrared heating drying process for drying the coating film 13 formed on the conductive substrate 12 is performed while passing between the far-infrared heating means 16 and the blower nozzle 17. When such a drying apparatus 11 is used, the coating film 13 formed on the plurality of conductive substrates 12 can be continuously dried in a short time, so that the production efficiency is improved.

なお、誘導加熱手段15は、一定速度で移動する導電性基体12が誘導加熱手段15の間を通過中に、該導電性基体12が好適な温度に上昇するように、加熱出力が制御されることが好ましい。   In addition, the heating output of the induction heating unit 15 is controlled so that the conductive substrate 12 rises to a suitable temperature while the conductive substrate 12 moving at a constant speed passes between the induction heating units 15. It is preferable.

また、複数の遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17は、交互に設けられることが塗膜13の温度制御を容易にする点から好ましい。さらに、誘導加熱手段15付近から出口までを、複数の遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17からなるいくつかのユニットに分割し、そのユニットごとに遠赤外線加熱手段16の加熱出力および送風ノズル17から噴出する気体の条件を最適な条件に制御することが好ましい。   In addition, it is preferable that the plurality of far-infrared heating means 16 and the blowing nozzles 17 be provided alternately from the viewpoint of facilitating temperature control of the coating film 13. Furthermore, from the vicinity of the induction heating means 15 to the outlet is divided into several units composed of a plurality of far-infrared heating means 16 and blower nozzles 17, and the heating output of the far-infrared heating means 16 and the blower nozzles 17 for each unit. It is preferable to control the condition of the gas to be ejected to an optimum condition.

たとえば、誘導加熱手段15に最も近い遠赤外線加熱手段16の位置から塗膜13の温度が好適な温度になる位置までのユニットにおいては、遠赤外線加熱手段16からの加熱出力を大きくするとともに、送風ノズル17から供給する気体の温度を高くして塗膜13の温度の上昇を加速させ、短時間での塗膜13の乾燥を図る。一方、塗膜13の温度が好適な温度となる位置から出口付近のユニットにおいては、遠赤外線加熱手段16からの加熱出力を小さく、送風ノズル17から供給する気体の温度を低くして、塗膜13の温度が上昇し過ぎないようにする。このことによって、短時間で乾燥を終了させることができるとともに、複数備えられる遠赤外線加熱手段16および送風ノズル17の出力を、塗膜13の温度が上昇し過ぎないように個別に制御する必要が生じない。   For example, in the unit from the position of the far infrared heating means 16 closest to the induction heating means 15 to the position where the temperature of the coating film 13 becomes a suitable temperature, the heating output from the far infrared heating means 16 is increased and The temperature of the gas supplied from the nozzle 17 is increased to accelerate the temperature rise of the coating film 13, and the coating film 13 is dried in a short time. On the other hand, in the unit near the exit from the position where the temperature of the coating film 13 becomes a suitable temperature, the heating output from the far-infrared heating means 16 is reduced, the temperature of the gas supplied from the blower nozzle 17 is lowered, and the coating film The temperature of 13 should not be raised too much. As a result, drying can be completed in a short time, and the outputs of the far-infrared heating means 16 and the blowing nozzles 17 that are provided need to be individually controlled so that the temperature of the coating film 13 does not rise too much. Does not occur.

以下本発明の製造方法によって製造できる感光体の導電性基体、感光層の各層を形成するための感光層形成材料および塗布液について説明する。   Hereinafter, the conductive substrate of the photoreceptor that can be produced by the production method of the present invention, the photosensitive layer forming material for forming each layer of the photosensitive layer, and the coating solution will be described.

以下、本発明の実施例について説明する。
(実施例1)
電荷輸送物質である下記構造式(2)で示される電荷輸送物質10重量部と、下記構造式(3)で示されるトリフェニルアミンダイマー(Triphenylamine dimer;略称:TPD:内標準物質)0.1重量部と、バインダ樹脂であるポリカーボネート樹脂(ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製)18重量部とを、相対蒸発速度が1.7未満であるシクロヘキサノン112重量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。この電荷輸送層形成用塗布液を、シートカップル熱電対(C060−T;株式会社チノー製)が装着された板厚0.5mmのアルミニウム基板の前記熱電対装着側の面上に、ワイヤーバーを用いて20μmの厚さで塗布し塗膜サンプルを得た。
Examples of the present invention will be described below.
Example 1
10 parts by weight of a charge transport material represented by the following structural formula (2), which is a charge transport material, and triphenylamine dimer (abbreviation: TPD: internal standard material) represented by the following structural formula (3) 0.1 A charge transport layer is formed by dissolving parts by weight and 18 parts by weight of polycarbonate resin (Iupilon Z400, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics) as binder resin in 112 parts by weight of cyclohexanone having a relative evaporation rate of less than 1.7. A coating solution was prepared. A wire bar is applied to the surface of the thermocouple mounting side of a 0.5 mm thick aluminum substrate on which a sheet couple thermocouple (C060-T; manufactured by Chino Corporation) is mounted. A coating film sample was obtained by coating with a thickness of 20 μm.

得られた塗膜サンプルを直ちに誘導加熱装置(協同電磁気工業株式会社製)のコイルの直上に配置して、発振周波数60Hz、出力300Wで5.0秒間加熱し、基板温度を135℃まで上昇させた。その後直ちにヒータ温度240℃のセラミックヒータ(SEG−EX型、株式会社二葉科学製)の直下10cmに設置して波長4.5μmに最大エネルギを有する遠赤外線を放射するとともに、温度80℃、流速10m/min、流量0.5m/minの気体を均一に塗膜サンプルに供給し、塗膜サンプルを遠赤外線加熱によって10分間乾燥させて塗膜被覆基体を作製した。 The obtained coating film sample is immediately placed immediately above the coil of an induction heating device (manufactured by Kyodo Denki Kogyo Co., Ltd.) and heated at an oscillation frequency of 60 Hz and an output of 300 W for 5.0 seconds to raise the substrate temperature to 135 ° C. It was. Immediately after that, a far-infrared ray having a maximum energy at a wavelength of 4.5 μm is radiated at 10 cm directly below a ceramic heater (SEG-EX type, manufactured by Futaba Kagaku Co., Ltd.) having a heater temperature of 240 ° C., and a temperature of 80 ° C. and a flow rate of 10 m. A gas having a flow rate of 0.5 m 3 / min was uniformly supplied to the coating film sample, and the coating film sample was dried by far-infrared heating for 10 minutes to prepare a coating film-coated substrate.

Figure 2006337545
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Figure 2006337545
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(実施例2)
誘導加熱装置の出力を150Wとし、3.0秒加熱して基板温度を61℃まで上昇させたこと以外は実施例1と同様にして、実施例2の塗膜被覆基体を作製した。
(Example 2)
The coating-coated substrate of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the output of the induction heating apparatus was 150 W and the substrate temperature was increased to 61 ° C. by heating for 3.0 seconds.

(実施例3)
電荷輸送層形成用塗布液の溶媒として、相対蒸発速度が1.7以上であるトルエン72重量部と、相対蒸発速度が1.7未満であるシクロヘキサノン40重量部(溶媒中のシクロヘキサノン含有率36重量%)との混合物を用い、誘導加熱装置の出力を300Wとし、4.0秒加熱して基板温度を109℃まで上昇させたこと以外は実施例1と同様にして、実施例3の塗膜被覆基体を作製した。
(Example 3)
As a solvent for the coating liquid for forming a charge transport layer, 72 parts by weight of toluene having a relative evaporation rate of 1.7 or more and 40 parts by weight of cyclohexanone having a relative evaporation rate of less than 1.7 (36% by weight of cyclohexanone in the solvent) The coating film of Example 3 was used in the same manner as in Example 1 except that the output of the induction heating apparatus was 300 W and the substrate temperature was increased to 109 ° C. by heating for 4.0 seconds. A coated substrate was prepared.

(比較例1)
誘導加熱装置によって基板を加熱する誘導加熱工程を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして、比較例1の塗膜被覆基体を作製した。
(Comparative Example 1)
A coating-coated substrate of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the induction heating step of heating the substrate with an induction heating device was not performed.

(比較例2)
誘導加熱装置の出力を150Wとし、2.0秒加熱して基板温度を49℃まで上昇させたこと以外は実施例1と同様にして、比較例2の塗膜被覆基体を作製した。
(Comparative Example 2)
A coated substrate of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the output of the induction heating device was 150 W and the substrate temperature was raised to 49 ° C. by heating for 2.0 seconds.

(比較例3)
塗膜の乾燥を130℃の熱風乾燥炉で行ったこと以外は実施例1と同様にして、比較例3の塗膜被覆基体を作製した。
(Comparative Example 3)
A coating film-coated substrate of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating film was dried in a 130 ° C. hot air drying furnace.

(比較例4)
電荷輸送層形成用塗布液の溶媒として、相対蒸発速度が1.7以上であるトルエン84重量部と、相対蒸発速度が1.7未満であるシクロヘキサノン28重量部(溶媒中のシクロヘキサノン含有率25重量%)との混合物を用い、誘導加熱装置の出力を300Wとし、4.0秒加熱して基板温度を109℃まで上昇させたこと以外は実施例1と同様にして、比較例4の塗膜被覆基体を作製した。
(Comparative Example 4)
As a solvent for the coating solution for forming the charge transport layer, 84 parts by weight of toluene having a relative evaporation rate of 1.7 or more and 28 parts by weight of cyclohexanone having a relative evaporation rate of less than 1.7 (25% by weight of cyclohexanone in the solvent) The coating film of Comparative Example 4 was used in the same manner as in Example 1 except that the output of the induction heating apparatus was 300 W and the substrate temperature was increased to 109 ° C. by heating for 4.0 seconds. A coated substrate was prepared.

(比較例5)
電荷輸送層形成用塗布液の溶媒として、相対蒸発速度が1.7以上であるテトラヒドロフラン112重量部を用い、誘導加熱装置の出力を150Wとし、4.0秒加熱して基板温度を68℃まで上昇させたこと以外は実施例1と同様にして、比較例5の塗膜被覆基体を作製した。
(Comparative Example 5)
As a solvent for the coating solution for forming the charge transport layer, 112 parts by weight of tetrahydrofuran having a relative evaporation rate of 1.7 or more is used. The output of the induction heating device is 150 W, and the substrate temperature is increased to 68 ° C. by heating for 4.0 seconds. A coating film-coated substrate of Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the film was raised.

〔評価1〕
図3は、実施例1,2および比較例1〜3の誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程における塗膜温度の経時変化を測定した結果を示すグラフである。なお図3に示す塗膜温度の経時変化は、実施例1,2および比較例2,3については、塗布工程が終了し、誘導加熱を開始したときを開始点として、比較例1については、基体をセラミックヒータの直下に配置し、遠赤外線加熱を開始したときを開始点として、0〜5分間(0〜300秒間)の温度変化をシートカップル熱電対により測定したものである。
[Evaluation 1]
FIG. 3 is a graph showing the results of measuring the change with time of the coating film temperature in the induction heating process and the far infrared heating drying process of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3. The change with time in the coating film temperature shown in FIG. 3 is as follows. For Examples 1 and 2 and Comparative Examples 2 and 3, the starting point is when the coating process is completed and induction heating is started. The substrate was placed directly below the ceramic heater, and the temperature change for 0 to 5 minutes (0 to 300 seconds) was measured with a sheet couple thermocouple, starting from when far infrared heating was started.

また、実施例1〜3および比較例1〜4の塗膜サンプルの一部を切り出して塗膜構成物質をアセトンで抽出し、その抽出液を高速液体クロマトグラフィー装置(Agilent1100シリーズ、横河アナリティカルシステムズ株式会社製)により、TPDを内標準物質として、残存溶媒量を定量した。   In addition, a part of the coating film samples of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 were cut out, the coating film constituents were extracted with acetone, and the extract was subjected to a high performance liquid chromatography apparatus (Agilent 1100 series, Yokogawa Analytical). The amount of residual solvent was determined by TPD as an internal standard substance.

実施例および比較例の誘導加熱工程後の基板温度、乾燥方法、遠赤外線加熱乾燥工程後に得られた塗膜の状態および塗膜中に残存する溶媒量の測定結果を表2に示す。なお、残存溶媒量とは、塗膜中の固形分(電荷輸送物質およびバインダ樹脂)の重量に対する残存溶媒の重量の比率である。   Table 2 shows the measurement results of the substrate temperature after the induction heating step, the drying method, the state of the coating film obtained after the far infrared heating drying step, and the amount of solvent remaining in the coating film in the examples and comparative examples. The residual solvent amount is the ratio of the weight of the residual solvent to the weight of the solid content (charge transport material and binder resin) in the coating film.

Figure 2006337545
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図3に示される塗膜温度の経時変化によれば、実施例1および2のように、遠赤外線によって塗膜の乾燥を行う前に誘導加熱により基体を予め加熱しておくと、基体を誘導加熱により加熱しなかった比較例1の塗膜被覆基体に形成される塗膜よりも短時間で塗膜の温度を昇温させることができ、塗膜を短時間で乾燥させることができた。また、実施例1および2の塗膜被覆基体では、10分間乾燥後の残存溶媒量が少なく、塗膜の表面も平滑であり、良好な状態であった。   According to the change with time of the coating film temperature shown in FIG. 3, when the substrate is preheated by induction heating before the coating film is dried by far infrared rays as in Examples 1 and 2, the substrate is induced. The temperature of the coating film could be raised in a shorter time than the coating film formed on the coating film-coated substrate of Comparative Example 1 that was not heated by heating, and the coating film could be dried in a short time. Moreover, in the coating-coating base | substrate of Example 1 and 2, there was little residual solvent amount after drying for 10 minutes, the surface of the coating film was smooth, and it was in the favorable state.

しかしながら、比較例2に示すように、誘導加熱により基体を予め加熱した後、遠赤外線加熱により塗膜を乾燥させた場合であっても、基体の温度が60℃未満であると、塗膜温度の経時変化は基体を誘導加熱により加熱しなかった比較例1の塗膜温度の経時変化と変わらないものであった。また、10分間乾燥後の残存溶媒量を少なくすることができなかった。   However, as shown in Comparative Example 2, even when the substrate was preheated by induction heating and then the coating film was dried by far-infrared heating, the temperature of the substrate was less than 60 ° C. The change over time was the same as the change over time in the coating temperature of Comparative Example 1 in which the substrate was not heated by induction heating. In addition, the amount of residual solvent after drying for 10 minutes could not be reduced.

誘導加熱により基体を予め加熱した後、熱風乾燥により塗膜を乾燥させた比較例3の塗膜被覆基体は、塗膜表面に硬化膜が形成され、塗膜表面は平滑で良好な状態であったけれども、該硬化膜の存在により塗膜内部に存在する溶媒が蒸発しきれず、残存溶媒量が多くなった。   In the coating film-coated substrate of Comparative Example 3 in which the substrate was preheated by induction heating and then the coating film was dried by hot air drying, a cured film was formed on the coating film surface, and the coating film surface was smooth and in a good state. However, due to the presence of the cured film, the solvent present inside the coating film could not be evaporated and the amount of residual solvent increased.

また、相対蒸発速度の小さいシクロヘキサノンを溶媒中に30重量%以上含有させた実施例3の塗膜被覆基体では、10分程度で塗膜をほぼ乾燥させることができた。一方、相対蒸発速度が1.7未満のシクロヘキサノンを30重量%未満しか含有しない比較例4の塗膜被覆基体は、塗膜内部の乾燥が終了する前に、塗膜表面が乾燥硬化して硬化膜を形成し、塗膜内部の溶媒が気化しにくくなったので、残存溶媒量が多く検出された。また短時間で塗膜の温度を上昇させたことによって、多量の気泡、クラックなどの発生も確認された。   Further, in the coating film-coated substrate of Example 3 in which cyclohexanone having a low relative evaporation rate was contained in the solvent at 30% by weight or more, the coating film could be almost dried in about 10 minutes. On the other hand, the coating film-coated substrate of Comparative Example 4 containing less than 30% by weight of cyclohexanone having a relative evaporation rate of less than 1.7 was cured by curing the coating surface before drying inside the coating film was completed. Since a film was formed and the solvent inside the coating became difficult to evaporate, a large amount of residual solvent was detected. In addition, the occurrence of a large amount of bubbles and cracks was confirmed by raising the temperature of the coating film in a short time.

相対蒸発速度が1.7以上と大きいトルエンのみを溶媒として用いた比較例5の塗膜被覆基体では、誘導加熱装置に装入する前の時点で既に塗膜が乾燥し始め、塗膜表面を指触してもほとんど跡がつかず流動性のない状態であった。また10分間乾燥後の塗膜には、表面に多量の気泡、クラックが存在した。   In the coating film-coated substrate of Comparative Example 5 in which only toluene having a large relative evaporation rate of 1.7 or more was used as a solvent, the coating film already started to dry before charging into the induction heating apparatus, Even when touched with a finger, there was almost no trace and the fluidity was not present. The coating film after drying for 10 minutes had a large amount of bubbles and cracks on the surface.

(実施例4)
外径40mm、肉厚1mm、長さ340mmのアルミニウム製の円筒状導電性基体を準備し、以下のようにして各層を塗布形成した。
Example 4
An aluminum cylindrical conductive substrate having an outer diameter of 40 mm, a wall thickness of 1 mm, and a length of 340 mm was prepared, and each layer was applied and formed as follows.

a:下引層
酸化チタン(TTO55A、石原産業株式会社製)21重量部と共重合ナイロン樹脂(アミランCM8000、東レ株式会社製)39重量部とを、メタノール329重量部と1,3−ジオキソラン611重量部との混合溶剤に加え、ペイントシェーカを用いて8時間分散させて下引層形成用塗布液を調製した。この下引層形成用塗布液を塗工槽に満たし、導電性基体を塗工槽に浸漬した後引上げる浸漬塗布法によって、膜厚1.0μmの下引層を形成し、室温で1時間放置後、次の電荷発生層の塗布を行った。
a: Undercoat layer 21 parts by weight of titanium oxide (TTO55A, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) and 39 parts by weight of copolymer nylon resin (Amilan CM8000, manufactured by Toray Industries, Inc.), 329 parts by weight of methanol and 1,3-dioxolane 611 In addition to the mixed solvent with parts by weight, the coating solution for forming the undercoat layer was prepared by dispersing for 8 hours using a paint shaker. An undercoat layer having a film thickness of 1.0 μm is formed by a dip coating method in which the coating solution for forming the undercoat layer is filled in a coating tank and the conductive substrate is immersed in the coating tank and then pulled up. After being allowed to stand, the next charge generation layer was applied.

b:電荷発生層
電荷発生材料としてCu−Kα特性X線(波長:1.54Å)によるX線回折スペクトルにおいて少なくともブラッグ角2θ(誤差:±0.2°)27.2°に明確な回折ピークを示す結晶構造を有するオキソチタニウムフタロシアニンを2重量部と、ポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM−S、積水化学工業株式会社製)1重量部と、メチルエチルケトン97重量部とを混合し、ペイントシェーカにて分散処理して電荷発生層形成用塗布液を調製した。この電荷発生層形成用塗工液を、下引層と同様の浸漬塗布法にて、下引層上に塗布することによって、膜厚0.4μmの電荷発生層を下引層上に形成した。室温で1時間放置後、次の電荷輸送層の塗布を行った。ここで、ブラッグ角2θとは、入射X線と回折X線との成す角度のことであり、いわゆる回折角を表す。
b: Charge generation layer As a charge generation material, an X-ray diffraction spectrum by Cu-Kα characteristic X-ray (wavelength: 1.54Å) has a clear diffraction peak at least at a Bragg angle 2θ (error: ± 0.2 °) 27.2 ° 2 parts by weight of oxotitanium phthalocyanine having a crystal structure showing 1 part by weight of polyvinyl butyral resin (S-REC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 97 parts by weight of methyl ethyl ketone are dispersed in a paint shaker. It processed and the coating liquid for charge generation layer formation was prepared. By applying this coating solution for forming a charge generation layer on the undercoat layer by the same dip coating method as that for the undercoat layer, a charge generation layer having a thickness of 0.4 μm was formed on the undercoat layer. . After standing at room temperature for 1 hour, the next charge transport layer was applied. Here, the Bragg angle 2θ is an angle formed by incident X-rays and diffracted X-rays, and represents a so-called diffraction angle.

c:電荷輸送層
電荷輸送物質である前記構造式(2)で示される電荷輸送物質10重量部と、前記構造式(3)で示されるトリフェニルアミンダイマー(略称:TPD)0.1重量部と、バインダ樹脂であるポリカーボネート樹脂(ユーピロンZ300、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製)18重量部と、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(略称:BHT)0.5重量部とを、相対蒸発速度が1.7未満であるシクロヘキサノン130重量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。得られた電荷輸送層形成用塗布液を、ロールコーティング法にて、電荷発生層上に塗布して塗膜を形成した。
c: Charge transport layer 10 parts by weight of the charge transport material represented by the structural formula (2), which is a charge transport material, and 0.1 part by weight of triphenylamine dimer (abbreviation: TPD) represented by the structural formula (3) And 18 parts by weight of a polycarbonate resin (Iupilon Z300, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics) as a binder resin, and 0.5 parts by weight of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol (abbreviation: BHT) Was dissolved in 130 parts by weight of cyclohexanone having a relative evaporation rate of less than 1.7 to prepare a coating solution for forming a charge transport layer. The obtained charge transport layer forming coating solution was applied onto the charge generation layer by a roll coating method to form a coating film.

電荷輸送層形成用塗布液の塗布後直ちに導電性基体を誘導加熱装置(協同電磁気工業株式会社製)のコイルの直上に配置して、10rpmの回転数で回転させながら発振周波数60Hz、出力300Wで10.0秒間加熱し、導電性基体の温度を132℃まで上昇させ誘導加熱工程を行った。その後直ちに導電性基体をヒータ温度260℃のセラミックヒータ(SEG−EX型、株式会社二葉科学製)の直下10cmに設置して波長4.5μmに最大エネルギを有する遠赤外線を放射するとともに、導電性基体を誘導加熱工程のときと同じ回転数で回転させながら、温度100℃、流速20m/min、流量1.0m/minの気体を均一に供給して導電性基体表面に形成される電荷輸送層の塗膜を遠赤外線加熱によって10分間乾燥させて、実施例4の電子写真感光体を作製した。 Immediately after application of the coating liquid for forming the charge transport layer, the conductive substrate is placed immediately above the coil of the induction heating device (manufactured by Kyodo Denki Kogyo Co., Ltd.) and rotated at a rotation speed of 10 rpm with an oscillation frequency of 60 Hz and an output of 300 W. The induction heating process was performed by heating for 10.0 seconds and raising the temperature of the conductive substrate to 132 ° C. Immediately after that, the conductive substrate is placed 10 cm directly below a ceramic heater (SEG-EX type, manufactured by Futaba Kagaku Co., Ltd.) having a heater temperature of 260 ° C., and far infrared rays having a maximum energy at a wavelength of 4.5 μm are emitted. Charge transport formed on the surface of the conductive substrate by uniformly supplying a gas at a temperature of 100 ° C., a flow rate of 20 m / min, and a flow rate of 1.0 m 3 / min while rotating the substrate at the same rotational speed as in the induction heating step. The coating film of the layer was dried by far-infrared heating for 10 minutes to produce an electrophotographic photoreceptor of Example 4.

(比較例6)
誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程において、円筒状導電性基体を回転しなかったこと以外は実施例4と同様にして、比較例6の電子写真感光体を作製した。
(Comparative Example 6)
An electrophotographic photosensitive member of Comparative Example 6 was produced in the same manner as in Example 4 except that the cylindrical conductive substrate was not rotated in the induction heating step and the far infrared heating drying step.

〔評価2〕
実施例4および比較例6で作製した電子写真感光体の周方向における電荷輸送層の軸線方向における中央付近の膜厚分布を多機能マルチチャンネル分光光度計(MCPD2000、大塚電子株式会社製)によって測定した。
[Evaluation 2]
The film thickness distribution near the center in the axial direction of the charge transport layer in the circumferential direction of the electrophotographic photosensitive member produced in Example 4 and Comparative Example 6 was measured with a multifunctional multichannel spectrophotometer (MCPD2000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). did.

図4は、実施例4および比較例6で作製した電子写真感光体の周方向の膜厚分布を示す図である。なお、図4に示す周方向の位置とは、電荷輸送層の表面に存在する基準点が感光体の軸線を含む鉛直平面内に存在するときを基準(0度)として、位置を示すべき点を該鉛直平面内の基準点が存在した位置に配置させるとき、感光体が軸線まわりに回転する角度のことである。   FIG. 4 is a view showing the film thickness distribution in the circumferential direction of the electrophotographic photoreceptors produced in Example 4 and Comparative Example 6. Note that the circumferential position shown in FIG. 4 is a point to indicate the position when the reference point existing on the surface of the charge transport layer is in the vertical plane including the axis of the photosensitive member as a reference (0 degree). Is the angle at which the photoconductor rotates about the axis when it is placed at the position where the reference point exists in the vertical plane.

実施例4のように、円筒形状の導電性基体の軸線方向を水平方向に平行に保持するとともに、軸線周りに回転させながら乾燥を行うと、周方向について膜厚がほぼ一定である良好な膜厚分布を得ることができた。一方、比較例6のように導電性基体の軸線方向を水平方向に平行に保持したものの、軸線周りに回転させなかった感光体は、温度上昇によって粘度が低下し流動性が増加した塗布液が重力によって導電性基体をつたって重力方向に垂れてしまい、周方向の膜厚が不均一となった。   As in Example 4, when the axial direction of the cylindrical conductive substrate is held parallel to the horizontal direction and dried while rotating around the axial line, the film thickness is substantially constant in the circumferential direction. A thickness distribution could be obtained. On the other hand, as in Comparative Example 6, the photosensitive body that was held in parallel with the axis direction of the conductive substrate but was not rotated around the axis line had a coating solution whose viscosity decreased and fluidity increased with an increase in temperature. Gravity caused the conductive substrate to hang down in the direction of gravity, resulting in uneven film thickness in the circumferential direction.

(比較例7)
誘導加熱装置の出力を500Wとして基板温度を171℃まで上昇させたこと以外は実施例4と同様にして、比較例7の電子写真感光体を作製した。
(Comparative Example 7)
An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 7 was produced in the same manner as in Example 4 except that the output of the induction heating apparatus was 500 W and the substrate temperature was increased to 171 ° C.

〔評価3〕
実施例4および比較例7で作製した電子写真感光体について、評価1と同様にして残存溶媒量を定量した。また、各感光体をレーザプリンタ(DM−4501、シャープ株式会社製)にそれぞれ搭載し、レーザプリンタの機体内部に、画像形成過程における電子写真感光体の表面電位を測定できるように表面電位計(CATE751、ジェンテック社製)を設け、温度35℃/相対湿度80%の高温高湿環境下、5℃/20%の低温低湿環境下において、帯電直後の表面電位である帯電電位Vo(V)およびレーザ光によって露光を行った直後の表面電位である露光電位VL(V)を測定した。さらにこの電位測定を、画像形成前の初期段階と、1万枚の画像形成を行った疲労後との両方で行った。なお、電子写真感光体表面の帯電は、負帯電プロセスで行った。
[Evaluation 3]
For the electrophotographic photoreceptors produced in Example 4 and Comparative Example 7, the amount of residual solvent was quantified in the same manner as in Evaluation 1. In addition, each photoconductor is mounted on a laser printer (DM-4501, manufactured by Sharp Corporation), and a surface potential meter (on the inside of the laser printer body so that the surface potential of the electrophotographic photoconductor in the image forming process can be measured. CATE751, manufactured by Gentec Co., Ltd.), in a high temperature and high humidity environment of 35 ° C./80% relative humidity, and in a low temperature and low humidity environment of 5 ° C./20%, a charging potential Vo (V) that is the surface potential immediately after charging. The exposure potential VL (V), which is the surface potential immediately after the exposure with the laser beam, was measured. Furthermore, this potential measurement was performed both at the initial stage before image formation and after fatigue after 10,000 image formation. The surface of the electrophotographic photosensitive member was charged by a negative charging process.

さらに、初期段階と、1万枚の画像形成を行った疲労後とで、画質評価用のハーフトーン画像を形成し、画像欠陥および画質を評価した。得られたハーフトーン画像を目視観察し、白抜け、黒帯、画像ぼけなどの画像欠陥の程度によって画質を評価した。画質の評価基準は、以下のようであった。   Furthermore, a halftone image for image quality evaluation was formed at an initial stage and after fatigue after 10,000 images were formed, and image defects and image quality were evaluated. The obtained halftone image was visually observed, and the image quality was evaluated according to the degree of image defects such as white spots, black belts, and image blur. The evaluation criteria for image quality were as follows.

A:良好。画像欠陥無し。
B:やや不良。無視できる程度の画像欠陥有り。
C:不良。明らかな画像欠陥有り。
A: Good. No image defects.
B: Somewhat bad. There are image defects that can be ignored.
C: Defect. There is an obvious image defect.

以上のようにして測定した各条件下での帯電電位Voおよび露光電位VL、ならびに形成画像の評価結果を、誘導加熱工程直後の導電性基体の温度および電荷輸送層中の残存溶媒量とともに表3に示す。   Table 3 shows the charging potential Vo and exposure potential VL measured under the conditions as described above, and the evaluation results of the formed image, together with the temperature of the conductive substrate immediately after the induction heating step and the amount of residual solvent in the charge transport layer. Shown in

Figure 2006337545
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表3に示す結果によれば、実施例4および比較例7で作製した電子写真感光体は、感光層内部の溶媒をほぼ全て乾燥することができた。しかしながら、比較例7で作製した電子写真感光体は、高温高湿環境下、低温低湿環境下のいずれにおいても、初期段階の帯電電位Voと疲労後の帯電電位Voとの差および初期段階の露光電位VLと疲労後の露光電位VLとの差が、実施例4で作製した電子写真感光体よりも大きく、繰返し安定性に欠けるものであった。   According to the results shown in Table 3, the electrophotographic photoreceptors produced in Example 4 and Comparative Example 7 were able to dry almost all the solvent in the photosensitive layer. However, the electrophotographic photosensitive member produced in Comparative Example 7 has a difference between the initial stage charging potential Vo and the post-fatigue charging potential Vo and the initial stage exposure in both high temperature and high humidity environments and low temperature and low humidity environments. The difference between the potential VL and the exposure potential VL after fatigue was larger than that of the electrophotographic photosensitive member produced in Example 4, and lacked repeated stability.

また、比較例7で作製した電子写真感光体は、初期段階、疲労後のいずれにおいても、高温高湿環境下での露光電位VLと低温低湿環境下での露光電位VLとの差が特に大きく、環境安定性が悪かった。さらに、比較例7で作製した感光体によって形成した画像は、明らかな画像欠陥が存在し、実用に供することができなかった。   In addition, the electrophotographic photosensitive member produced in Comparative Example 7 has a particularly large difference between the exposure potential VL in the high temperature and high humidity environment and the exposure potential VL in the low temperature and low humidity environment both in the initial stage and after fatigue. The environmental stability was bad. Furthermore, the image formed by the photoconductor produced in Comparative Example 7 had a clear image defect and could not be put to practical use.

以上のように、本発明の塗膜被覆基体の製造方法によれば、ピンホール、気泡、表面の厚みむらなどの発生しない平滑な塗膜からなる感光層を短時間で容易に形成することができることが判る。また本発明の感光体の製造方法で作製された感光体は、繰返し安定性および環境安定性に優れるとともに、良好な画像を形成できることが確認できた。   As described above, according to the method for producing a coating film-coated substrate of the present invention, it is possible to easily form a photosensitive layer composed of a smooth coating film that does not generate pinholes, bubbles, surface unevenness, etc. in a short time. I understand that I can do it. In addition, it was confirmed that the photoconductor produced by the method for producing a photoconductor of the present invention was excellent in repetitive stability and environmental stability and could form a good image.

本発明の実施の一形態である電子写真感光体の製造方法における誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程を実施するための乾燥装置1の構成を簡略化して示す側面図である。It is a side view which simplifies and shows the structure of the drying apparatus 1 for implementing the induction heating process and the far-infrared heating drying process in the manufacturing method of the electrophotographic photosensitive member which is one Embodiment of this invention. 本発明の感光体の製造方法における誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程を実施するための乾燥装置11の構成を概略的に示す側面図である。It is a side view which shows roughly the structure of the drying apparatus 11 for implementing the induction heating process and the far-infrared heating drying process in the manufacturing method of the photoreceptor of this invention. 実施例1,2および比較例1〜3の誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程における塗膜温度の経時変化を測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the time-dependent change of the coating-film temperature in the induction heating process and far-infrared heat drying process of Examples 1, 2 and Comparative Examples 1-3. 実施例4および比較例6で作製した電子写真感光体の周方向の膜厚分布を示す図である。It is a figure which shows the film thickness distribution of the circumferential direction of the electrophotographic photoreceptor produced in Example 4 and Comparative Example 6. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1,11 乾燥装置
2,15a,15b 電磁誘導加熱手段
3,16a,16b 遠赤外線加熱手段
4,17a,17b 送風ノズル
5,12 導電性基体
6,13 塗膜
7 回転手段
14a,14b ベース基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,11 Drying device 2,15a, 15b Electromagnetic induction heating means 3,16a, 16b Far-infrared heating means 4,17a, 17b Blast nozzle 5,12 Conductive base 6,13 Coating film 7 Rotating means 14a, 14b Base substrate

Claims (3)

金属製の基体上に塗膜形成材料と溶媒とを含む塗布液を塗布して形成される塗膜を有する塗膜被覆基体の製造方法において、
塗膜形成材料と溶媒とを含む塗布液を基体上に塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
塗膜が形成される基体を誘導加熱法によって60℃以上150℃以下に加熱する誘導加熱工程と、
基体に形成される塗膜を遠赤外線加熱法で加熱することによって乾燥させる遠赤外線加熱乾燥工程とを含み、
酢酸n−ブチルの蒸発する時間と溶剤の蒸発する時間との比率を該溶剤の相対蒸発速度とするとき、
前記溶媒中には、相対蒸発速度が1.7未満の溶剤が30重量%以上含まれることを特徴とする塗膜被覆基体の製造方法。
In a method for producing a coating film-coated substrate having a coating film formed by applying a coating solution containing a coating film-forming material and a solvent on a metal substrate,
A coating process in which a coating liquid containing a coating film forming material and a solvent is coated on a substrate to form a coating film;
An induction heating step of heating the substrate on which the coating film is formed to 60 ° C. or more and 150 ° C. or less by an induction heating method;
A far-infrared heat drying step for drying the coating film formed on the substrate by heating with a far-infrared heating method,
When the ratio of the evaporation time of n-butyl acetate and the evaporation time of the solvent is the relative evaporation rate of the solvent,
The method for producing a coating film-coated substrate, wherein the solvent contains 30% by weight or more of a solvent having a relative evaporation rate of less than 1.7.
基体が円筒形状または円柱形状であり、
前記誘導加熱工程および遠赤外線加熱乾燥工程は、
基体を軸線方向が水平方向に平行になるように保持し、基体を軸線周りに回転させながら行われることを特徴とする請求項1記載の塗膜被覆基体の製造方法。
The substrate is cylindrical or cylindrical,
The induction heating step and the far infrared heating drying step are:
2. The method for producing a coating-coated substrate according to claim 1, wherein the substrate is held while the axial direction is parallel to the horizontal direction and the substrate is rotated around the axial line.
金属製の基体が導電性基体であり、
塗膜形成材料が感光層形成材料であり、
塗膜被覆基体が電子写真感光体であることを特徴とする請求項1または2記載の電子写真感光体の製造方法。
The metal substrate is a conductive substrate,
The coating film forming material is a photosensitive layer forming material,
3. The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the coating film-coated substrate is an electrophotographic photosensitive member.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9640762B2 (en) 2012-11-28 2017-05-02 Konica Minolta, Inc. Method for producing transparent electrode and organic EL element

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