JP2006330257A - Heat developable photosensitive material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、支持体上に非感光性有機銀塩、ハロゲン化銀、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する感光層を有する熱現像感光材料に関する。 The present invention relates to a photothermographic material having a photosensitive layer containing a non-photosensitive organic silver salt, a silver halide, a silver ion reducing agent and a binder on a support.
近年、医療や印刷の分野で環境保護や作業性の面から現像処理廃液のない感光材料が強く望まれている。この技術として、例えば、米国特許第3,152,904号、同3,487,075号の各明細書及びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバー写真材料(Dry Silver Photographic Materials)」(Handbook of Imaging Materials,Marcel Dekker,Inc.第48頁、1991)等に記載の方法がよく知られている。これらの感光材料は、通常80℃以上の温度で現像が行われるため熱現像感光材料と呼ばれている。 In recent years, there has been a strong demand for a photosensitive material free from a developing solution waste in terms of environmental protection and workability in the medical and printing fields. As this technique, for example, U.S. Pat. Nos. 3,152,904 and 3,487,075 and D.C. The method described in “Dry Silver Photographic Materials” by Morgan (Handbook of Imaging Materials, Marcel Dekker, Inc., p. 48, 1991) is well known. These photosensitive materials are called photothermographic materials because they are usually developed at a temperature of 80 ° C. or higher.
熱現像感光材料は液処理される従来の感光材料と比較して、内蔵される化学物質の種類及び添加量が非常に多いため、それに連動して感光層や非感光性層の膜厚が増大する傾向にある。この結果、感光材料製造時の塗布工程あるいは乾燥工程で多大の時間を要し、生産性が低下するという欠点を有していた。 Compared to conventional photosensitive materials that are processed by liquid, the photothermographic material contains a much larger number of types of chemical substances and the amount added, so the thickness of the photosensitive layer and non-photosensitive layer increases accordingly. Tend to. As a result, the coating process or the drying process at the time of manufacturing the light-sensitive material requires a lot of time and has the disadvantage that the productivity is lowered.
一般に、感光材料において銀量を低減することが膜厚低減に有効であることは広く知られている。しかしながら、単なる銀量の低減では画像濃度の低下を招くため好ましくない。低銀量で、且つ画像濃度を低下させないためには、単位面積当たりの現像点数を増やし、カバーリングパワーを増大させることが有効である。従来から、印刷用の感光材料では造核剤による「伝染現像」を利用してカバーリングパワーを増大させ、低銀量で高い画像濃度を得る技術が確立されている(例えば、特許文献1、2参照。)。 In general, it is widely known that reducing the amount of silver in a light-sensitive material is effective in reducing the film thickness. However, mere reduction of the amount of silver is not preferable because it causes a decrease in image density. In order to reduce the amount of silver and not reduce the image density, it is effective to increase the number of development points per unit area and increase the covering power. 2. Description of the Related Art Conventionally, a technology for obtaining high image density with a low silver amount by increasing the covering power using “contagious development” using a nucleating agent has been established for photosensitive materials for printing (for example, Patent Document 1, 2).
しかしながら、従来公知の造核剤を用いた感光材料の多くは保存性が悪く、また形成される画像銀の色調が黄色みを帯びるため、特に医療用途では診断性の低下を引き起こし好ましくない。 However, many of the light-sensitive materials using a conventionally known nucleating agent have poor storage stability, and the color tone of the formed image silver is yellowish.
熱現像感光材料はその利便性から、特に医療診断用途に頻繁に用いられるようになってきている。医療診断用画像は微細な描写が要求されるため鮮鋭性、粒状性に優れる高画質が必要であるうえ、診断のし易さの観点から冷黒調の画像が好まれる特徴がある。この有機銀塩を利用した光熱画像形成システムで純黒調の色調を出すことが難しく、前述の色調剤等で色調を調整しているが、色調コントロールは十分ではなく改良が望まれている。この欠点を改良する技術として、特定の還元剤と特定の化合物の組み合わせが開示されている(例えば、特許文献3、4参照。)が、その改良効果は十分とはいい難く、保存時に濃度が変化しやすい等、重大な問題を有しており更なる改良が求められていた。 Photothermographic materials are frequently used especially for medical diagnostic applications because of their convenience. Medical diagnostic images are required to have fine picture quality, and therefore require high image quality with excellent sharpness and graininess. In addition, cold-black images are preferred from the viewpoint of ease of diagnosis. Although it is difficult to produce a pure black color tone with this photothermal image forming system using organic silver salt, the color tone is adjusted with the above-mentioned colorant or the like, but the color tone control is not sufficient, and improvement is desired. As a technique for improving this defect, a combination of a specific reducing agent and a specific compound has been disclosed (for example, see Patent Documents 3 and 4), but the improvement effect is not sufficient, and the concentration during storage is low. There were serious problems such as being easy to change, and further improvements were required.
色調改良を目的に分子内で水素結合を形成し得るロイコ発色剤を用いる技術(例えば、特許文献5参照。)が知られているが、その効果は不十分である。またイミダゾールロイコ色素は過酸化水素定量試薬として汎用されている(例えば、特許文献6参照。)が、感光材料中に添加した例はほとんどない。熱現像感光材料にイミダゾールロイコ色素を使用した技術が開示されている(例えば、特許文献7参照。)が、還元剤として添加しているにすぎず、感度、濃度ともに不充分であった。
本発明は上記の問題を解決することを課題とし、最高濃度及び感度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好な冷黒調であり、且つ画像保存安定性に優れた熱現像感光材料を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photothermographic material having a maximum density and sensitivity, a low fog, a cool black tone with good silver tone, and excellent image storage stability. There is to do.
本発明の上記目的は、以下の構成により達成された。 The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.
(請求項1)
支持体上に非感光性有機銀塩、ハロゲン化銀、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する感光層を有する熱現像感光材料において、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする熱現像感光材料。
(Claim 1)
A photothermographic material having a photosensitive layer containing a non-photosensitive organic silver salt, silver halide, silver ion reducing agent and binder on a support, containing a compound represented by the following general formula (1): A heat-developable photosensitive material.
(一般式(1)において、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に水素原子、置換基またはハロゲン原子を表す。XはO、SまたはN−R5を表す。R5は水素原子または置換基を表す。R6及びR7は水素原子、置換基またはハロゲン原子を表すが、R6及びR7が同時にフェニル基であることはない。)
(請求項2)
前記一般式(1)において、R6及びR7のいずれか一方がフェニル基であることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。
In (formula (1), R 1, R 2, R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, .X representing a substituent group or a halogen atom O, .R 5 representing S or N-R 5 is Represents a hydrogen atom or a substituent, R 6 and R 7 represent a hydrogen atom, a substituent or a halogen atom, but R 6 and R 7 are not a phenyl group at the same time.)
(Claim 2)
2. The photothermographic material according to claim 1, wherein in the general formula (1), one of R 6 and R 7 is a phenyl group.
(請求項3)
前記一般式(1)において、R6及びR7のうちフェニル基でない他方がアルキル基であることを特徴とする請求項2に記載の熱現像感光材料。
(Claim 3)
3. The photothermographic material according to claim 2, wherein, in the general formula (1), the other of R 6 and R 7 which is not a phenyl group is an alkyl group.
(請求項4)
前記一般式(1)において、R1及びR2が脂肪族基またはアルコキシ基で表されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
(Claim 4)
The photothermographic material according to claim 1, wherein, in the general formula (1), R 1 and R 2 are represented by an aliphatic group or an alkoxy group.
(請求項5)
前記銀イオン還元剤が下記一般式(R)で表されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
(Claim 5)
The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver ion reducing agent is represented by the following general formula (R).
(一般式(R)において、R11及びR12はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基を表す。R13及びR14はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。Qはベンゼン環上に置換可能な基を表し、nは0〜2の整数を表す。Qが複数の場合、各々のQは同じあっても異なっていてもよい。)
(請求項6)
前記一般式(1)で表される化合物と銀イオン還元剤の添加量比(一般式(1)で表される化合物のmol数/銀イオン還元剤のmol数)が0.001〜0.15であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
(In the general formula (R), R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group. R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or Represents a heterocyclic group, Q represents a substitutable group on the benzene ring, and n represents an integer of 0 to 2. When Q is plural, each Q may be the same or different.
(Claim 6)
The addition ratio of the compound represented by the general formula (1) to the silver ion reducing agent (mol number of the compound represented by general formula (1) / mol number of the silver ion reducing agent) is 0.001 to 0.00. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is 15.
本発明により、最高濃度及び感度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好な冷黒調であり、且つ画像保存安定性に優れた熱現像感光材料を提供することができた。 According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material having a high maximum density and sensitivity, low fog, a cool black tone with good silver tone, and excellent image storage stability.
以下、本発明の詳細について説明する。 Details of the present invention will be described below.
本発明は、前記一般式(1)表されるイミダゾールロイコ色素を色調調整剤として熱現像感光材料で用いることを特徴とする。 The present invention is characterized in that the imidazole leuco dye represented by the general formula (1) is used as a color tone adjusting agent in a photothermographic material.
本発明においては、一般式(1)で表される化合物を熱現像感光材料に用いる。本発明の熱現像感光材料において、画像の色調が好ましい冷黒調であり、熱現像後の熱及び光に対する銀画像の保存における色調劣化等を予想外に抑制する。 In the present invention, the compound represented by the general formula (1) is used for the photothermographic material. In the photothermographic material of the present invention, the color tone of the image is a preferable cool black tone, and the color tone deterioration or the like in storage of a silver image against heat and light after heat development is unexpectedly suppressed.
前記一般式(1)において、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に水素原子、置換基またはハロゲン原子を表す。XはO、SまたはN−R5を表す。R5は水素原子または置換基を表す。R6及びR7は水素原子、置換基またはハロゲン原子を表すが、R6及びR7が同時にフェニル基であることはない。 In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, a substituent or a halogen atom. X represents O, S or N—R 5 . R 5 represents a hydrogen atom or a substituent. R 6 and R 7 represent a hydrogen atom, a substituent or a halogen atom, but R 6 and R 7 are not simultaneously phenyl groups.
R1、R2、R3、R4及びR5で表される置換基の具体例としては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、芳香族基(フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルウレイド基等)、アミド基(アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。また、これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。 Specific examples of the substituent represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 include an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group). Group), cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group etc.), alkenyl group, cycloalkenyl group, alkynyl group (propargyl group etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group, aromatic group (phenyl group, naphthyl group, Anthracenyl group, etc.), heterocyclic group (pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, triphoranyl group, piperidinyl group, pyrazolyl group, tetrazolyl group Etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propylo group) Xy group, pentyloxy group, cyclopentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, etc.) , Aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl group, etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide group, ethanesulfonamide group, butanesulfonamide group, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), sulfamoyl Group (aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, phenyl group) Nosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), urethane group (methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, phenylureido group, 2-pyridylureido group, etc.), acyl group (acetyl group, propionyl). Group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylamino) Carbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), acylamino group (acetylamino group, benzoylamino group, methylureido group, etc.), amide group (acetamide group, Lopionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), sulfonamide group (For example, methylsulfonamide group, octylsulfonamide group, phenylsulfonamide group, naphthylsulfonamide group, etc.), amino group (amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, anilino group, 2-pyridylamino group, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, oxamoyl group and the like. Further, these groups may be further substituted with these groups.
但し、本明細書において、「フェニル基」とは無置換または任意の置換基で置換された単環のフェニル基を意味し、フェニル基が縮環した化合物(例えば、ナフチル基、アントラセニル基等)は含まない。 However, in this specification, the “phenyl group” means a monocyclic phenyl group which is unsubstituted or substituted with an arbitrary substituent, and a compound in which the phenyl group is condensed (for example, naphthyl group, anthracenyl group, etc.) Is not included.
R1、R2、R3、R4及びR5で表されるハロゲン原子の例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等が挙げられる。 Examples of the halogen atom represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 include a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and a fluorine atom.
R1及びR2として好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、より好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、またはアルコキシ基、更に好ましくは2級または3級アルキル基、アルコキシ基である。R3及びR4として好ましくは、水素原子、スルホンアミド基、ヒドロキシル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、より好ましくは水素原子、スルホンアミド基、カルバモイル基、アシルアミノ基である。 R 1 and R 2 are preferably alkyl groups, cycloalkyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, more preferably alkyl groups, cycloalkyl groups, or alkoxy groups, still more preferably secondary or tertiary alkyl groups, alkoxy groups. It is. R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom, a sulfonamide group, a hydroxyl group, a carbamoyl group, and an acylamino group, more preferably a hydrogen atom, a sulfonamide group, a carbamoyl group, and an acylamino group.
XはO、SまたはN−R5を表す。Xとして好ましくはN−R5である。R5として好ましくは水素原子、アルキル基、芳香族基、複素環基、アシル基、より好ましくは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のアリール基、アシル基である。 X represents O, S or N—R 5 . X is preferably N—R 5 . R 5 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aromatic group, a heterocyclic group, or an acyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 5 to 10 carbon atoms, or an acyl group. .
R6及びR7として好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、芳香族基、複素環基、より好ましくはR6及びR7の一方がフェニル基、他方がアルキル基である。 R 6 and R 7 are preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aromatic group, a heterocyclic group, more preferably one of R 6 and R 7 is a phenyl group, and the other is an alkyl group.
一般式(1)で表される化合物は従来公知の方法、例えば、特公平7−45477号公報に記載の方法等で容易に合成することができる。 The compound represented by the general formula (1) can be easily synthesized by a conventionally known method, for example, the method described in JP-B-7-45477.
次に一般式(1)の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Next, although the specific example of a compound of General formula (1) is shown, this invention is not limited to these.
一般式(1)で表される化合物は、熱現像感光材料の感光層または該感光層側の非感光層の少なくとも1層に含有させればよいが、好ましくは少なくとも感光層に含有させることである。 The compound represented by the general formula (1) may be contained in at least one layer of the photosensitive layer of the photothermographic material or the non-photosensitive layer on the side of the photosensitive layer, and preferably contained in at least the photosensitive layer. is there.
一般式(1)で表される化合物は、公知の方法に従って感光層や非感光層に添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホオキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して感光層や非感光層用塗布液に添加することができる。また、1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。 The compound represented by the general formula (1) can be added to the photosensitive layer or the non-photosensitive layer according to a known method. That is, it can be dissolved in an alcohol such as methanol or ethanol, a ketone such as methyl ethyl ketone or acetone, or a polar solvent such as dimethyl sulfoxide or dimethylformamide, and added to the coating solution for the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. Further, fine particles of 1 μm or less can be dispersed and added in water or an organic solvent. Many techniques for fine particle dispersion are disclosed, but they can be dispersed according to these techniques.
本発明において、銀イオン還元剤は前記一般式(R)で表されるビスフェノール誘導体であることが好ましい。 In the present invention, the silver ion reducing agent is preferably a bisphenol derivative represented by the general formula (R).
前記一般式(R)において、R11及びR12はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基を表す。R13及びR14はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。Qはベンゼン環上に置換可能な基を表し、nは0〜2の整数を表す。Qが複数の場合、各々のQは同じあっても異なっていてもよい。 In the general formula (R), R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, or an aromatic group. R 13 and R 14 each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. Q represents a substitutable group on the benzene ring, and n represents an integer of 0 to 2. When Q is plural, each Q may be the same or different.
本明細書における「脂肪族基」とは、それぞれ置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アラルキル基を意味する。 In the present specification, the “aliphatic group” means a substituted or unsubstituted alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group, alkynyl group, and aralkyl group, respectively.
R11及びR12で表される脂肪族基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロブテニル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロヘプチル基、シクロヘプチニル基、シクロヘプタジエニル基、シクロオクタニル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、シクロオクタトリエニル基、シクロノナニル基、シクロノネニル基、シクロノナジエニル基、シクロノナトリエニルシクロデカニル基、シクロデケニル基、シクロデカジエニル基、シクロデカトリエニル基等を挙げることができる。 Specific examples of the aliphatic group represented by R 11 and R 12 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, normal butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, decyl group, dodecyl group. , Pentadecyl group, vinyl group, allyl group, ethynyl group, propargyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclobutenyl group, cyclopentyl group, cyclopentenyl group, cyclopentadienyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, cyclohexadienyl group , Cycloheptyl, cycloheptynyl, cycloheptadienyl, cyclooctanyl, cyclooctenyl, cyclooctadienyl, cyclooctatrienyl, cyclononanyl, cyclononenyl, cyclononadienyl, cyclononatrienyl Cyclodecanyl group Shikurodekeniru group, a cycloalkyl decadienyl group, and a cyclo tetradecatrienyl group.
これらの基は任意の個所に置換基またはハロゲン原子を有してもよく、該置換基の具体例としては、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、カルボオキシ基、アリール基、ヘテロ環、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基が挙げられる。 These groups may have a substituent or a halogen atom at an arbitrary position. Specific examples of the substituent include an alkyl group, a cyano group, an alkoxy group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a carbooxy group, An aryl group, a heterocyclic ring, an aryloxy group, an acyloxy group, a carbamoyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, and an aryloxycarbonyloxy group are exemplified.
R11及びR12で表される芳香族基は単環でも縮合環でもよく、例えば、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル、ナフタセニル、トリフェニレニル等を挙げることができる。これらの環は任意の個所に種々の置換基を有していてもよく、好ましい置換基として直鎖、分岐のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20の、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ドデシル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20の、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ドデシルオキシ等)、脂肪族アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜21のアルキル基を持つもの、例えば、アセチルアミノ基、ヘプチルアミノ基等)、芳香族アシルアミノ基等が挙げられる。 The aromatic group represented by R 11 and R 12 may be a single ring or a condensed ring, and examples thereof include phenyl, naphthyl, anthracenyl, phenanthrenyl, naphthacenyl, triphenylenyl and the like. These rings may have various substituents at any position, and as a preferable substituent, a linear or branched alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl). , Dodecyl, etc.), alkoxy groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, dodecyloxy, etc.), aliphatic acylamino groups (preferably having an alkyl group having 1 to 21 carbon atoms) For example, an acetylamino group, a heptylamino group, etc.) and an aromatic acylamino group.
R11として好ましくは置換または無置換の炭素数1〜20のアルキル基、より好ましくは置換または無置換の炭素数1〜10のアルキル基、更に好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基である。 R 11 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, still more preferably a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a cyclohexyl group. It is.
R12として好ましくは水素原子である。 R 12 is preferably a hydrogen atom.
R13及びR14は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。R13及びR14で表される脂肪族基及び芳香族基の具体例としては、前記R11及びR12で表される脂肪族基及び芳香族基の例と同様の基が挙げられる。R13及びR14で表される複素環として具体的には、ピリジン基、キノリン基、イソキノリン基、イミダゾール基、ピラゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、オキサジアゾール基、チアジアゾール基、テトラゾール基等の芳香族ヘテロ環基やピペリジノ基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基等の非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよく、該置換基としては前述の環上の置換基を挙げることができる。R13として好ましくはアルキル基、シクロアルキル基であり、より好ましくは2級または3級のアルキル基またはシクロアルキル基である。R14として好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数2以上のアルキル基である。 R 13 and R 14 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. Specific examples of the aliphatic group and aromatic group represented by R 13 and R 14 include the same groups as the examples of the aliphatic group and aromatic group represented by R 11 and R 12 . Specific examples of the heterocyclic ring represented by R 13 and R 14 include pyridine group, quinoline group, isoquinoline group, imidazole group, pyrazole group, triazole group, oxazole group, thiazole group, oxadiazole group, thiadiazole group, and tetrazole. And aromatic heterocyclic groups such as a group, and non-aromatic heterocyclic groups such as piperidino group, morpholino group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group and tetrahydropyranyl group. These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include the above-described substituents on the ring. R 13 is preferably an alkyl group or a cycloalkyl group, and more preferably a secondary or tertiary alkyl group or a cycloalkyl group. R 14 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 2 or more carbon atoms.
Qはベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。また、これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。 Q represents a substitutable group on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, Cyclohexyl group, etc.), halogenated alkyl group (trifluoromethyl group, perfluorooctyl group, etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group , Aryl groups (phenyl group, etc.), heterocyclic groups (pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, sriphoranyl group, piperidinyl group, pyrazolyl Group, tetrazolyl group, etc.), halogen atom (salt Atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom, etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, cyclopentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group) Etc.), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl group etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide group, ethanesulfonamide group, Butanesulfonamide group, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butyrate) Aminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), urethane group (methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, phenylureido group, 2-pyridylureido group, etc.), acyl group (acetyl group, propionyl group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylamino) Carbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), amide group ( Acetamide group, propionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), Amino group (amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, anilino group, 2-pyridylamino group, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, oxamoyl group, etc. Can be mentioned. Further, these groups may be further substituted with these groups.
nは0〜2の整数を表すが、最も好ましくはnが0の場合である。Qが複数の場合、各々のQは同じでも異なっていてもよい。 n represents an integer of 0 to 2, and most preferably n is 0. When Q is plural, each Q may be the same or different.
一般式(R)で表される化合物の一般的な合成法としては、好ましくは2当量のフェノール及び1当量のアルデヒドを無溶媒で、もしくは適当な有機溶媒で溶解または懸濁させ、触媒量の酸またはアルカリを加えて、好ましくは−20〜180℃の温度下で0.5〜60時間反応させることにより好収率で目的とする一般式(R)で表される化合物を得ることができる。 As a general synthesis method of the compound represented by the general formula (R), preferably 2 equivalents of phenol and 1 equivalent of aldehyde are dissolved or suspended in a solvent-free or appropriate organic solvent, By adding an acid or alkali, and preferably reacting at a temperature of −20 to 180 ° C. for 0.5 to 60 hours, the desired compound represented by the general formula (R) can be obtained in good yield. .
有機溶媒として好ましくは炭化水素系有機溶媒であり、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。好ましくはトルエン、キシレンである。更に収率の点からは無溶媒で反応させることが最も好ましい。酸触媒としてあらゆる無機酸、有機酸を使用することができるが、濃塩酸、p−トルエンスルホン酸、及び燐酸が好ましく用いられる。アルカリ触媒としては苛性ソーダ、苛性カリ、トリエチルアミン、DBU、及びソジウムメチラートが好ましく用いられる。触媒量としては、対応するアルデヒドに対して0.001〜1.5当量使用することが好ましい。反応温度として15〜150℃が好ましく、反応時間としては3〜20時間が好ましい。 The organic solvent is preferably a hydrocarbon organic solvent, and specific examples include benzene, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform and the like. Preferred are toluene and xylene. Furthermore, it is most preferable to make it react without a solvent from the point of a yield. Although any inorganic acid and organic acid can be used as the acid catalyst, concentrated hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, and phosphoric acid are preferably used. As the alkali catalyst, caustic soda, caustic potash, triethylamine, DBU, and sodium methylate are preferably used. As a catalyst amount, it is preferable to use 0.001-1.5 equivalent with respect to a corresponding aldehyde. The reaction temperature is preferably 15 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 3 to 20 hours.
次に一般式(R)の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Next, although the specific example of a compound of general formula (R) is shown, this invention is not limited to these.
本発明における一般式(1)で表される化合物と銀イオン還元剤の添加量比(一般式(1)で表される化合物のmol数/銀イオン還元剤のmol数)は好ましくは0.001〜0.15であり、更に好ましくは0.001〜0.10である。 The addition ratio of the compound represented by the general formula (1) and the silver ion reducing agent (the number of moles of the compound represented by the general formula (1) / the number of moles of the silver ion reducing agent) in the present invention is preferably 0. It is 001-0.15, More preferably, it is 0.001-0.10.
本発明の熱現像感光材料(単に本発明の感光材料とも言う)に用いられる感光性ハロゲン化銀粒子(単にハロゲン化銀粒子とも言う)について説明する。なお、本発明における感光性ハロゲン化銀粒子とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収することができ、または人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収することができ、且つ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収したときに、当該ハロゲン化銀結晶内及び/または結晶表面において、物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子を言う。 Photosensitive silver halide grains (also simply referred to as silver halide grains) used in the photothermographic material of the present invention (also referred to simply as the light-sensitive material of the present invention) will be described. The photosensitive silver halide grains in the present invention can inherently absorb light as an intrinsic property of silver halide crystals, or artificially generate visible light or infrared light by a physicochemical method. Physicochemical changes in the silver halide crystal and / or on the crystal surface when absorbing light in any region within the light wavelength range from the ultraviolet light region to the infrared light region. Refers to silver halide crystal grains that have been processed and produced so that can occur.
(感光性ハロゲン化銀粒子)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子自体は、P.Glafkides著Chimie et Physique Photographique(Paul Montel社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Photographic Emulsion Chemistry(The Focal Press刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著Making and Coating Photographic Emulsion(The Focal Press刊、1964年)等に記載された方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成としては、片側混合法、同時混合法、それらの組み合わせ等のいずれを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、所謂コントロールドダブルジェット法が好ましい。ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。
(Photosensitive silver halide grains)
The photosensitive silver halide grains themselves according to the present invention are P.I. Chifie et Physique Photographic (published by Paul Montel, 1967) by Glafkides. F. Duffin's Photographic Emission Chemistry (published by The Focal Press, 1966), V.C. L. It can be prepared as a silver halide grain emulsion using the method described in Making and Coating Photographic Emulsion (published by The Focal Press, 1964) by Zelikman et al. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method, and the like may be used, and the formation of reacting a soluble silver salt and a soluble halogen salt may be any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, a combination thereof, and the like. Of these methods, the so-called controlled double jet method, in which silver halide grains are prepared while controlling the formation conditions, is preferred. The halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide.
粒子形成は、通常ハロゲン化銀種粒子(核)生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、また核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールドダブルジェット法が、粒子形状やサイズのコントロールができるので好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ核(種粒子)生成(核生成工程)した後、コントロールされたpAg、pH等のもとで可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を供給しつつ、粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることができる。 Grain formation is usually divided into two stages: silver halide seed grain (nucleus) generation and grain growth, and these may be performed continuously at once, or the formation of nucleus (seed grain) and grain growth is separated. The method of performing may be used. The controlled double jet method in which the particle formation is controlled by controlling the pAg, pH, etc., which are particle formation conditions, is preferable because the particle shape and size can be controlled. For example, when performing a method of separating nucleation and grain growth, first, soluble silver salt and soluble halogen salt are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution to produce nuclei (seed grains) (nucleation process). Thereafter, silver halide grains are prepared by a grain growth process in which grains are grown while supplying a soluble silver salt and a soluble halogen salt under controlled pAg, pH, and the like. After the formation of the grains, the desired salt halide emulsion can be obtained by removing unnecessary salts by a desalting step by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method, or an electrodialysis method. it can.
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は、画像形成後の白濁や色調(黄色味)を低く抑えるため、及び良好な画質を得るために平均粒径が小さい方が好ましく、平均粒径は0.02μm未満の粒子を計測の対象外としたときの値として、0.035μm以上、0.055μm以下が好ましい。なおここで言う粒径とは、ハロゲン化銀粒子が立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算したときの直径を言う。 The photosensitive silver halide grains according to the present invention preferably have a small average particle diameter in order to keep the white turbidity and color tone (yellowishness) after image formation low and to obtain good image quality. As a value when particles less than 0.02 μm are excluded from measurement, 0.035 μm or more and 0.055 μm or less are preferable. The grain size referred to here means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a so-called normal crystal of a cube or octahedron. Further, when the silver halide grain is a tabular grain, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface.
本発明において、ハロゲン化銀粒子は単分散であることが好ましい。ここで言う単分散とは、下記式で求められる粒径の変動係数が30%以下を言う。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。 In the present invention, the silver halide grains are preferably monodispersed. The monodispersion mentioned here means that the coefficient of variation of the particle diameter obtained by the following formula is 30% or less. Preferably it is 20% or less, More preferably, it is 15% or less.
粒径の変動係数%=粒径の標準偏差/粒径の平均値×100
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子などを挙げることができるが、これらの内、特に立方体、八面体、14面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Variation coefficient of particle size% = standard deviation of particle size / average value of particle size × 100
Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tetradecahedral grains, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, and potato-like grains. Among these, cubic, octahedral, and tetrahedral Tabular silver halide grains are preferred.
平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは1.5以上、100以下、より好ましくは2以上、50以下がよい。これらは米国特許第5,264,337号、同5,314,798号、同5,320,958号の各明細書等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。 When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 1.5 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, 5,320,958, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. . Further, grains having rounded corners of silver halide grains can be preferably used.
ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への銀増感色素の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する分光増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には70%以上、特に80%以上であることが好ましい。なおミラー指数〔100〕面の比率は、増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985年)により求めることができる。 There is no particular limitation on the crystal habit on the outer surface of the silver halide grain, but when using a spectral sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity in the adsorption reaction of the silver sensitizing dye on the surface of the silver halide grain It is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habits adapted to the selectivity. For example, when using a sensitizing dye that is selectively adsorbed on the crystal face of the Miller index [100], the proportion of the [100] face on the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this ratio is 50 % Or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is calculated by using the adsorption dependency between the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani, J .; Imaging Sci. 29, 165 (1985).
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。低分子量ゼラチンは平均分子量5万以下のものであり、好ましくは2000〜40000、更には5000〜25000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量10万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸またはアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下または加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。 The silver halide grains used in the present invention are preferably prepared using low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of forming the grains, and particularly preferably used at the time of nucleation of silver halide grains. The low molecular weight gelatin has an average molecular weight of 50,000 or less, preferably 2000 to 40000, more preferably 5000 to 25000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography. Low molecular weight gelatin can be hydrolyzed by adding gelatin-degrading enzyme to a commonly used gelatin aqueous solution with an average molecular weight of about 100,000, heating by adding acid or alkali, and heating under atmospheric pressure or pressure. Can be obtained by thermal decomposition, decomposition by ultrasonic irradiation, or a combination of these methods.
核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより有効である。 The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, and it is more effective to carry out at a low concentration of 0.05 to 3.0% by mass.
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に下記の一般式で示されるポリエチレンオキシド化合物を用いることが好ましい。 For the silver halide grains used in the present invention, it is preferable to use a polyethylene oxide compound represented by the following general formula when the grains are formed.
一般式
YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(CH2CH2O)nY
式中、Yは水素原子、−SO3M、または−CO−B−COOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または炭素原子数5以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を、Bは有機2塩基性酸を形成する鎖状または環状の基を表す。m及びnは各々0〜50を、pは1〜100を表す。
Formula YO (CH 2 CH 2 O) m (CH (CH 3) CH 2 O) p (CH 2 CH 2 O) n Y
In the formula, Y represents a hydrogen atom, —SO 3 M, or —CO—B—COOM, and M represents an ammonium group substituted with a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group, or an alkyl group having 5 or less carbon atoms. And B represents a chain or cyclic group forming an organic dibasic acid. m and n each represents 0 to 50, and p represents 1 to 100.
上記の一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物はハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば、特開昭44−9497号公報に記載されている。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、核形成時の消泡剤としても機能する。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula supports the step of producing a gelatin aqueous solution, the step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution, and the emulsion when producing a silver halide photographic light-sensitive material. It has been preferably used as an antifoaming agent for remarkable foaming when the emulsion raw material is stirred or moved, such as a step of coating on the body. 44-9497. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula also functions as an antifoaming agent during nucleation.
上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula is preferably used in an amount of 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass with respect to silver.
上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハライド水溶液もしくは両方の水溶液に0.01〜2.0質量%で添加して用いることである。また、核形成工程の少なくとも50%に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは70%以上に亘る時間で存在せしめる。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula may be present at the time of nucleation and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation, but may be added during nucleation or You may add and use for the silver salt aqueous solution and halide aqueous solution which are used at the time of formation. Preferably, it is used by adding 0.01 to 2.0% by mass to the halide aqueous solution or both aqueous solutions. Further, it is preferably present for a time of at least 50% of the nucleation step, more preferably for a time of 70% or more. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula may be added as a powder or dissolved in a solvent such as methanol.
なお核形成時の温度は5〜60℃、好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン(例えば、核形成開始時の温度が25℃で核形成中徐々に温度を挙げ、核形成終了時の温度が40℃の様な場合)やその逆のパターンであっても前記温度範囲内で制御するのが好ましい。 The temperature at the time of nucleation is 5 to 60 ° C., preferably 15 to 50 ° C. Even if the temperature is constant, the temperature rise pattern (for example, the temperature at the start of nucleation is 25 ° C. and gradually increases during nucleation) Even if the temperature is raised and the temperature at the end of nucleation is 40 ° C.) and vice versa, the temperature is preferably controlled within the above temperature range.
核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は3.5mol/L以下が好ましく、更には0.01〜2.5mol/Lの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は反応液1L当たり1.5×10-3〜3.0×10-1mol/分が好ましく、更に好ましくは3.0×10-3〜8.0×10-2mol/分である。 The concentration of the aqueous silver salt solution and aqueous halide solution used for nucleation is preferably 3.5 mol / L or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / L. The addition rate of silver ions during nucleation is preferably 1.5 × 10 −3 to 3.0 × 10 −1 mol / min, more preferably 3.0 × 10 −3 to 8.0 × per liter of the reaction solution. 10 -2 mol / min.
核形成時のpHは1.7〜10の範囲に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒径分布を広げるため、好ましくはpH2〜6である。また核形成時のpBrは0.05〜3.0程度、好ましくは1.0〜2.5、更には1.5〜2.0がより好ましい。 The pH at the time of nucleation can be set in the range of 1.7 to 10, but the pH on the alkali side is preferably 2 to 6 in order to broaden the particle size distribution of nuclei to be formed. Moreover, pBr at the time of nucleation is about 0.05 to 3.0, preferably 1.0 to 2.5, and more preferably 1.5 to 2.0.
本発明に係るハロゲン化銀粒子は、いかなる方法で感光性層(単に感光層とも言う)に添加されてもよく、このときハロゲン化銀粒子は還元可能な銀源(有機銀塩)に近接するように配置するのが好ましい。 The silver halide grains according to the present invention may be added to the photosensitive layer (also simply referred to as a photosensitive layer) by any method. At this time, the silver halide grains are close to a reducible silver source (organic silver salt). It is preferable to arrange them as follows.
本発明に係るハロゲン化銀は予め調製しておき、これを有機銀塩粒子を調製するための溶液に添加するのが、ハロゲン化銀調製工程と有機銀塩粒子調製工程を分離して扱えるので製造コントロール上も好ましいが、英国特許第1,447,454号明細書に記載されているように、有機銀塩粒子を調製する際にハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存させ、これに銀イオンを注入することで有機銀塩粒子の生成とほぼ同時に生成させることもできる。また、有機銀塩にハロゲン含有化合物を作用させ、有機銀塩のコンバージョンによりハロゲン化銀粒子を調製することも可能である。即ち、予め調製された有機銀塩の溶液もしくは分散液、または有機銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。 Since the silver halide according to the present invention is prepared in advance and added to a solution for preparing organic silver salt grains, the silver halide preparation step and the organic silver salt grain preparation step can be handled separately. Although preferable in terms of production control, as described in British Patent No. 1,447,454, a halogen component such as a halide ion is allowed to coexist with an organic silver salt-forming component when preparing organic silver salt particles. It is also possible to produce organic silver salt particles almost simultaneously with the implantation of silver ions. It is also possible to prepare silver halide grains by converting a halogen-containing compound to an organic silver salt and converting the organic silver salt. That is, a silver halide forming component is allowed to act on a solution or dispersion of an organic silver salt prepared in advance or a sheet material containing the organic silver salt to convert a part of the organic silver salt into photosensitive silver halide. You can also.
ハロゲン化銀粒子形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例については米国特許第4,009,039号、同3,457,075号、同4,003,749号、英国特許第1,498,956号の各明細書及び特開昭53−27027号、同53−25420号の各公報に詳説される金属ハロゲン化物、ハロゲン化アンモニウム等の無機ハロゲン化物、例えば、トリメチルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチルジメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムブロマイドの様なオニウムハライド類、例えばヨードフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブロム−2−メチルプロパン等のハロゲン化炭化水素類、N−ブロム琥珀酸イミド、N−ブロムフタルイミド、N−ブロムアセトアミド等のN−ハロゲン化合物、その他、例えば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチル、2−ブロム酢酸、2−ブロムエタノール、ジクロロベンゾフェノン等がある。 Examples of silver halide grain forming components include inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds. Specific examples thereof are described in US Pat. No. 4,009,039. No. 3,457,075, No. 4,003,749, British Patent No. 1,498,956 and JP-A-53-27027 and No. 53-25420. Metal halides, inorganic halides such as ammonium halides, for example, onium halides such as trimethylphenylammonium bromide, cetylethyldimethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium bromide, such as iodoform, bromoform, carbon tetrachloride, 2 -Bromine-2-methylpropane, etc. N-halogen compounds such as genated hydrocarbons, N-bromosuccinimide, N-bromophthalimide, N-bromoacetamide, etc., for example, triphenylmethyl chloride, triphenylmethyl bromide, 2-bromoacetic acid, 2 -Bromoethanol, dichlorobenzophenone, etc.
この様にハロゲン化銀を有機酸銀とハロゲンイオンとの反応により、有機酸銀塩中の銀の一部または全部をハロゲン化銀に変換することによって調製することもできる。また、別途調製したハロゲン化銀に有機銀塩の一部をコンバージョンすることで、製造したハロゲン化銀粒子を併用してもよい。 Thus, silver halide can also be prepared by converting a part or all of silver in the organic acid silver salt into silver halide by the reaction of the organic acid silver and a halogen ion. Moreover, you may use together the silver halide grain manufactured by converting a part of organic silver salt into the silver halide prepared separately.
これらのハロゲン化銀粒子は、別途調製したハロゲン化銀粒子、有機銀塩のコンバージョンによるハロゲン化銀粒子とも、有機銀塩1molに対し0.001mol乃至0.7mol、好ましくは0.03mol乃至0.5mol使用するのが好ましい。 These silver halide grains, both separately prepared silver halide grains and silver halide grains obtained by conversion of organic silver salts, are 0.001 mol to 0.7 mol, preferably 0.03 mol to 0.00 mol, with respect to 1 mol of organic silver salt. It is preferable to use 5 mol.
本発明に係るハロゲン化銀粒子には、周期表の6族から11族に属する遷移金属のイオンを含有することが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。これらは1種類でも同種あるいは異種の金属錯体を2種以上併用してもよい。 The silver halide grains according to the present invention preferably contain ions of transition metals belonging to Groups 6 to 11 of the periodic table. As the metal, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt, and Au are preferable. These may be used alone or in combination of two or more of the same or different metal complexes.
これらの金属イオンは金属塩をそのままハロゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体または錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。好ましい含有率は銀1molに対し1×10-9molから、1×10-2molの範囲が好ましく、1×10-8〜1×10-4molの範囲がより好ましい。本発明においては、遷移金属錯体または錯体イオンは下記一般式で表されるものが好ましい。 For these metal ions, a metal salt may be introduced as it is into silver halide, but can be introduced into silver halide in the form of a metal complex or complex ion. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −2 mol, and more preferably in the range of 1 × 10 −8 to 1 × 10 −4 mol with respect to 1 mol of silver. In the present invention, the transition metal complex or complex ion is preferably represented by the following general formula.
一般式 〔ML6〕m
式中、Mは周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子、mは0、−、2−、3−または4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていてもよい。
General formula [ML 6 ] m
In the formula, M represents a transition metal selected from Group 6 to 11 elements of the periodic table, L represents a ligand, and m represents 0,-, 2-, 3-, or 4-. Specific examples of the ligand represented by L include halides (fluoride, chloride, bromide and iodide), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide and aco. A ligand, nitrosyl, thionitrosyl and the like can be mentioned, and ako, nitrosyl, thionitrosyl and the like are preferable. When an acoligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.
これらの金属のイオンまたは錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては数回に渡って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号の各公報等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。 The compounds providing these metal ions or complex ions are preferably added during silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening , May be added at any stage before or after chemical sensitization, but is preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth, most preferably Preferably, it is added at the stage of nucleation. In addition, it may be divided and added several times, or it can be uniformly contained in the silver halide grains. JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, 3- As described in JP-A Nos. 167545, 4-76534, 6-110146, and 5-273683, etc., the particles can be contained with a distribution.
これらの金属化合物は、水あるいは適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、あるいは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、あるいはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。 These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method of adding an aqueous solution or a metal compound and an aqueous solution in which NaCl and KCl are dissolved together to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during particle formation, or simultaneously mixing a silver salt solution and a halide solution. When adding a third aqueous solution, a method of preparing silver halide grains by a method of simultaneous mixing of three liquids, a method of adding an aqueous solution of a required amount of a metal compound to the reaction vessel during grain formation, or silver halide There is a method of adding and dissolving another silver halide grain previously doped with metal ions or complex ions at the time of preparation. In particular, a method of adding an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble halide solution. When added to the particle surface, a necessary amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particle, during or after physical ripening, or at the time of chemical ripening.
別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、脱塩しないで用いることもできる。 Separately prepared photosensitive silver halide grains can be desalted by a known desalting method such as noodle method, flocculation method, ultrafiltration method, electrodialysis method, etc., but can also be used without desalting. .
(非感光性有機銀塩)
本発明に係る非感光性有機銀塩は還元可能な銀源であり、銀イオンを含有する有機酸の塩で非感光性である。本発明において用いられる有機酸としては、脂肪族カルボン酸、炭素環式カルボン酸、複素環式カルボン酸、複素環式化合物等が用いられる。
(Non-photosensitive organic silver salt)
The non-photosensitive organic silver salt according to the present invention is a reducible silver source, and is a non-photosensitive salt of an organic acid containing silver ions. As the organic acid used in the present invention, aliphatic carboxylic acid, carbocyclic carboxylic acid, heterocyclic carboxylic acid, heterocyclic compound and the like are used.
本発明に係る非感光性有機酸銀塩の例としては、Research Disclosure第17029及び29963に記載されており、脂肪族カルボン酸の銀塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の銀塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸との重合反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチル酸等)との重合反応生成物の銀錯体等)、チオン類の銀塩または錯体(例えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン)、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体また塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチド類の銀塩等が挙げられる。 Examples of non-photosensitive organic acid silver salts according to the present invention are described in Research Disclosure Nos. 17029 and 29963, and silver salts of aliphatic carboxylic acids (for example, gallic acid, oxalic acid, behenic acid, arachidic acid, Silver salts of stearic acid, palmitic acid, lauric acid, etc.); silver carboxyalkylthiourea salts (for example, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea, etc. ); A silver complex of a polymerization reaction product of an aldehyde and a hydroxy-substituted aromatic carboxylic acid (for example, aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.) and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (for example, salicylic acid, benzoic acid, 3, 5-dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid, etc. A silver complex of a polymerization reaction product with thione, a silver salt or a complex of thiones (for example, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thione, and 3-carboxymethyl- 4-thiazoline-2-thione), imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, nitrogen selected from 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benzotriazole Examples include acid and silver complexes or salts; silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides.
上記の有機銀塩の中でも脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましく用いられ、炭素数10〜30、更に好ましくは15〜25の脂肪族カルボン酸の銀塩である。好適な銀塩の例としては以下のものが挙げられる。 Among the above organic silver salts, a silver salt of an aliphatic carboxylic acid is preferably used, and a silver salt of an aliphatic carboxylic acid having 10 to 30 carbon atoms, more preferably 15 to 25 carbon atoms. Examples of suitable silver salts include the following.
没食子酸、蓚酸、ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の銀塩。これらの内、好ましい銀塩としてはベヘン酸銀、アラキジン酸銀及びステアリン酸銀が挙げられる。また、本発明においては脂肪族カルボン酸銀塩が2種以上混合されていることが、現像性を上げ高濃度、高コントラストの銀画像を形成する上で好ましく、例えば、2種以上の脂肪族カルボン酸混合物に銀イオン溶液を混合して調製することが好ましい。 Silver salts such as gallic acid, succinic acid, behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid and lauric acid. Among these, preferable silver salts include silver behenate, silver arachidate, and silver stearate. In the present invention, it is preferable that two or more types of aliphatic carboxylic acid silver salts are mixed in order to improve developability and form a high-concentration and high-contrast silver image. It is preferable to prepare by mixing a silver ion solution with a carboxylic acid mixture.
脂肪族カルボン酸銀塩化合物は水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−127643号公報に記載されている様なコントロールドダブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカリ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を作製した後に、コントロールドダブルジェット法により、前記ソープと硝酸銀などを混合して脂肪族カルボン酸銀塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。 The aliphatic carboxylic acid silver salt compound is obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound that forms a complex with silver, and is described in the normal mixing method, the back mixing method, the simultaneous mixing method, and JP-A-9-127643. The controlled double jet method as described above is preferably used. For example, an alkali metal salt (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) is added to an organic acid to produce an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium behenate, sodium arachidate), and then a controlled double jet. According to the method, the soap and silver nitrate are mixed to produce an aliphatic carboxylic acid silver salt crystal. At that time, silver halide grains may be mixed.
本発明に係る有機銀塩においては、熱現像後の画像の透明性向上、画像保存性向上の観点から、平均円相当径が0.05〜0.8μmの範囲に調整することが好ましく、また熱現像時の銀イオン供給が適切に行われ、得られた画像の保存性向上の観点から、平均厚さが0.005〜0.07μmに調整することが好ましい、特に好ましくは平均円相当径が0.2〜0.5μm、平均厚さを0.01〜0.05μmの範囲に調整することである。 In the organic silver salt according to the present invention, the average equivalent circle diameter is preferably adjusted in the range of 0.05 to 0.8 μm from the viewpoint of improving the transparency of the image after heat development and improving the image storage stability. From the viewpoint of improving the storability of the obtained image, it is preferable to adjust the average thickness to 0.005 to 0.07 μm, particularly preferably the average equivalent circle diameter. Is 0.2 to 0.5 μm, and the average thickness is adjusted to a range of 0.01 to 0.05 μm.
平均円相当径を求めるには、分散後の有機銀塩を希釈してカーボン支持膜付きグリッド上に分散し、透過型電子顕微鏡(日本電子製、2000FX型)、直接倍率5000倍にて撮影を行った。スキャナーにてネガをデジタル画像として取り込み、適当な画像処理ソフトを用いて粒径(円相当径)を300個以上測定し、平均粒径を算出する。 To obtain the average equivalent circle diameter, the dispersed organic silver salt is diluted and dispersed on a grid with a carbon support film, and taken with a transmission electron microscope (manufactured by JEOL, 2000FX type), directly at a magnification of 5000 times. went. The negative is captured as a digital image with a scanner, and 300 or more particle diameters (equivalent circle diameters) are measured using appropriate image processing software, and the average particle diameter is calculated.
平均厚さを求めるには、下記に示すようなTEM(透過型電子顕微鏡)を用いた方法により算出する。 The average thickness is calculated by a method using a TEM (transmission electron microscope) as shown below.
まず、支持体上に塗布された感光層を接着剤により適当なホルダーに貼り付け、支持体面と垂直な方向にダイヤモンドナイフを用いて厚さ0.1〜0.2μmの超薄切片を作製する。作製された超薄切片を銅メッシュに支持させ、グロー放電により親水化されたカーボン膜上に移し、液体窒素により−130℃以下に冷却しながら透過型電子顕微鏡(以下TEMと称す)を用いて、倍率5,000倍乃至40,000倍にて明視野像を観察し、画像はフィルム、イメージングプレート、CCDカメラなどに素早く記録する。この際、観察される視野としては、切片に破れや弛みがない部分を適宜選択することが好ましい。 First, the photosensitive layer coated on the support is attached to an appropriate holder with an adhesive, and an ultrathin slice having a thickness of 0.1 to 0.2 μm is produced using a diamond knife in a direction perpendicular to the support surface. . The prepared ultrathin slice was supported on a copper mesh, transferred onto a carbon film that had been made hydrophilic by glow discharge, and cooled to −130 ° C. or lower with liquid nitrogen, using a transmission electron microscope (hereinafter referred to as TEM). A bright field image is observed at a magnification of 5,000 to 40,000, and the image is quickly recorded on a film, an imaging plate, a CCD camera, or the like. At this time, it is preferable to appropriately select a portion where the section is not torn or slack as the field of view to be observed.
カーボン膜としては極薄いコロジオン、ホルムバールなど有機膜に支持されたものを使用することが好ましく、更に好ましくは岩塩基板上に形成し基板を溶解除去して得るか、または上記有機膜を有機溶媒、イオンエッチングにより除去して得られたカーボン単独の膜である。TEMの加速電圧としては80乃至400kVが好ましく、特に好ましくは80乃至200kVである。 It is preferable to use a carbon film supported by an organic film such as very thin collodion or form bar, and more preferably formed on a rock salt substrate by dissolving and removing the substrate, or the organic film is an organic solvent, It is a carbon-only film obtained by ion etching. The acceleration voltage of TEM is preferably 80 to 400 kV, particularly preferably 80 to 200 kV.
その他、電子顕微鏡観察技法、及び試料作製技法の詳細については「日本電子顕微鏡学会関東支部編/医学・生物学電子顕微鏡観察法」(丸善)、「日本電子顕微鏡学会関東支部編/電子顕微鏡生物試料作製法」(丸善)をそれぞれ参考にすることができる。 In addition, for details of electron microscope observation techniques and sample preparation techniques, see “The Japan Electron Microscopy Society Kanto Branch / Medical and Biological Electron Microscopy” (Maruzen), “The Japan Electron Microscopy Society Kanto Branch / Electron Microscope Biological Samples” "Manufacturing method" (Maruzen) can be referred to respectively.
適当な媒体に記録されたTEM画像は、画像1枚を少なくとも1024画素×1024画素、好ましくは2048画素×2048画素以上に分解しコンピュータによる画像処理を行うことが好ましい。画像処理を行うためには、フィルムに記録されたアナログ画像はスキャナーなどでデジタル画像に変換し、シェーディング補正、コントラスト・エッジ強調などを必要に応じ施すことが好ましい。その後、ヒストグラムを作製し2値化処理によって脂肪族カルボン酸銀に相当する箇所を抽出する。上記抽出した有機銀塩粒子の厚さを300個以上適当なソフトでマニュアル測定し、平均値を求める。 A TEM image recorded on an appropriate medium is preferably decomposed into at least 1024 pixels × 1024 pixels, preferably 2048 pixels × 2048 pixels or more, and image processing by a computer is performed. In order to perform image processing, it is preferable that an analog image recorded on a film is converted into a digital image by a scanner or the like, and shading correction, contrast / edge enhancement, or the like is performed as necessary. Thereafter, a histogram is prepared, and a portion corresponding to the aliphatic carboxylate silver is extracted by binarization processing. 300 or more thicknesses of the extracted organic silver salt particles are manually measured with appropriate software, and an average value is obtained.
前記の形状を有する有機銀塩粒子を得る方法としては、特に限定されないが、有機酸アルカリ金属塩ソープ形成時の混合状態及び/または前記ソープに硝酸銀を添加する際の混合状態などを良好に保つことや、ソープに対する有機酸の割合、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適にすることなどが有効である。 The method for obtaining the organic silver salt particles having the above-mentioned shape is not particularly limited, but the mixed state at the time of forming the organic acid alkali metal salt soap and / or the mixed state at the time of adding silver nitrate to the soap is kept good. It is effective to optimize the ratio of the organic acid to the soap and the ratio of the silver nitrate that reacts with the soap.
本発明に用いられる平板状有機銀塩粒子(平均円相当径が0.05μm以上、0.8μm以下であり、且つ平均厚さが0.005μm以上、0.07μm以下の有機銀塩粒子を言う)は、必要に応じバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した後、メディア分散機または高圧ホモジナイザなどで分散粉砕することが好ましい。上記予備分散にはアンカー型、プロペラ型等の一般的攪拌機や高速回転遠心放射型攪拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型撹拌機(ホモミキサ)を使用することができる。 Flat organic silver salt particles used in the present invention (meaning organic silver salt particles having an average equivalent circle diameter of 0.05 μm or more and 0.8 μm or less and an average thickness of 0.005 μm or more and 0.07 μm or less) ) Is preferably pre-dispersed with a binder, a surfactant or the like, if necessary, and then dispersed and ground with a media disperser or a high-pressure homogenizer. For the preliminary dispersion, a general stirrer such as an anchor type or a propeller type, a high-speed rotating centrifugal radiation type stirrer (dissolver), or a high-speed rotating shear type stirrer (homomixer) can be used.
また、上記メディア分散機としては、ボールミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミルや、媒体攪拌ミルであるビーズミル、アトライター、その他バスケットミルなどを用いることが可能であり、高圧ホモジナイザとしては壁、プラグなどに衝突するタイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させるタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々なタイプを用いることができる。 In addition, as the media dispersing machine, a rolling mill such as a ball mill, a planetary ball mill, and a vibrating ball mill, a bead mill that is a medium agitation mill, an attritor, and other basket mills can be used, and a wall as a high-pressure homogenizer. Various types can be used, such as a type that collides with a plug or the like, a type in which liquids are collided at a high speed after dividing the liquid, and a type in which a thin orifice is passed.
メディア分散時に使用されるセラミックスビーズに用いられるセラミックスとしては、例えば、Al2O3、BaTiO3、SrTiO3、MgO、ZrO、BeO、Cr2O3、SiO2、SiO2−Al2O3、Cr2O3−MgO、MgO−CaO、MgO−C、MgO−Al2O3(スピネル)、SiC、TiO2、K2O、Na2O、BaO、PbO、B2O3、SrTiO3(チタン酸ストロンチウム)、BeAl2O4、Y3Al5O12、ZrO2−Y2O3(立方晶ジルコニア)、3BeO−Al2O3−6SiO2(合成エメラルド)、C(合成ダイヤモンド)、Si2O−nH2O、チッカ珪素、イットリウム安定化ジルコニア、ジルコニア強化アルミナ等が好ましい。分散時におけるビーズや分散機との摩擦による不純物生成が少ない等の理由から、イットリウム安定化ジルコニア、ジルコニア強化アルミナ(これらジルコニアを含有するセラミックスを以下においてジルコニアと略す)が特に好ましく用いられる。 Examples of the ceramic used for the ceramic beads used when dispersing the media include Al 2 O 3 , BaTiO 3 , SrTiO 3 , MgO, ZrO, BeO, Cr 2 O 3 , SiO 2 , SiO 2 —Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 —MgO, MgO—CaO, MgO—C, MgO—Al 2 O 3 (spinel), SiC, TiO 2 , K 2 O, Na 2 O, BaO, PbO, B 2 O 3 , SrTiO 3 ( strontium titanate), BeAl 2 O 4, Y 3 Al 5 O 12, ZrO 2 -Y 2 O 3 ( cubic zirconia), 3BeO-Al 2 O 3 -6SiO 2 ( synthesis emerald), C (diamond), Si 2 O—nH 2 O, ticker silicon, yttrium stabilized zirconia, zirconia reinforced alumina and the like are preferable. Yttrium-stabilized zirconia and zirconia-reinforced alumina (ceramics containing these zirconia are hereinafter abbreviated as zirconia) are particularly preferably used because of the low generation of impurities due to friction with beads and dispersers during dispersion.
本発明に用いられる平板状有機銀塩粒子を分散する際に用いられる装置類において、該有機銀塩粒子が接触する部材の材質としてジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素などのセラミックス類またはダイヤモンドを用いることが好ましく、中でもジルコニアを用いることが好ましい。上記分散を行う際、バインダー濃度は脂肪族カルボン酸銀質量の0.1〜10%添加することが好ましく、予備分散から本分散を通して液温が45℃を上回らないことが好ましい。また、本分散の好ましい運転条件としては、例えば、高圧ホモジナイザを分散手段として用いる場合には、29.42〜98.06MPa、運転回数は2回以上が好ましい運転条件として挙げられる。また、メディア分散機を分散手段として用いる場合には、周速が6m/秒から13m/秒が好ましい条件として挙げられる。 In the apparatus used when dispersing the flat organic silver salt particles used in the present invention, ceramics such as zirconia, alumina, silicon nitride, boron nitride, or diamond is used as the material of the member in contact with the organic silver salt particles. Preferably, zirconia is preferably used. When the above dispersion is performed, the binder concentration is preferably added in an amount of 0.1 to 10% of the mass of the aliphatic silver carboxylate, and it is preferable that the liquid temperature does not exceed 45 ° C. from the preliminary dispersion through the main dispersion. Further, as preferable operating conditions for the present dispersion, for example, when a high-pressure homogenizer is used as the dispersing means, preferable operating conditions are 29.42 to 98.06 MPa, and the number of operations is preferably 2 times or more. Further, when the media disperser is used as a dispersing means, a preferable condition is that the peripheral speed is 6 m / sec to 13 m / sec.
本発明において、脂肪族カルボン酸銀粒子に対する結晶成長抑制剤ないし分散剤として機能する化合物とは、脂肪族カルボン酸銀粒子の製造工程において、当該化合物を共存させた条件下で脂肪族カルボン酸銀を製造したときに、共存させない条件下で製造したときより小粒径化や単分散化する機能、効果を有する化合物を言う。具体例として、炭素数が10以下の一価アルコール類、好ましくは第2級アルコール、第3級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類、ポリエチレングリコールなどポリエーテル類、グリセリンが挙げられる。好ましい添加量としては、脂肪族カルボン酸銀に対して10〜200質量%である。 In the present invention, the compound that functions as a crystal growth inhibitor or dispersant for the aliphatic carboxylate silver particles refers to a silver aliphatic carboxylate under the conditions in which the compound coexists in the production process of the aliphatic carboxylate particles. A compound having a function and an effect of reducing the particle size and monodispersing than when it is produced under the condition of not coexisting. Specific examples include monohydric alcohols having 10 or less carbon atoms, preferably secondary alcohols, tertiary alcohols, glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, polyethers such as polyethylene glycol, and glycerin. A preferable addition amount is 10 to 200% by mass with respect to the aliphatic carboxylate silver.
一方で、イソヘプタン酸、イソデカン酸、イソトリデカン酸、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、イソアラキジン酸、イソベヘン酸、イソヘキサコ酸など、それぞれ異性体を含む分岐脂肪族カルボン酸も好ましい。この場合、好ましい側鎖として、炭素数4以下のアルキル基またはアルケニル基が挙げられる。また、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、モロクチン酸、エイコセン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸、エルカ酸、ドコサペンタエン酸、ドコサヘキサエン酸、セラコレン酸などの脂肪族不飽和カルボン酸が挙げられる。好ましい添加量は、脂肪族カルボン酸銀の0.5〜10mol%である。 On the other hand, branched aliphatic carboxylic acids containing isomers such as isoheptanoic acid, isodecanoic acid, isotridecanoic acid, isomyristic acid, isopalmitic acid, isostearic acid, isoarachidic acid, isobehenic acid and isohexaconic acid are also preferred. In this case, a preferable side chain includes an alkyl group or an alkenyl group having 4 or less carbon atoms. In addition, aliphatic unsaturated carboxylic acids such as palmitoleic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, moloctic acid, eicosenoic acid, arachidonic acid, eicosapentaenoic acid, erucic acid, docosapentaenoic acid, docosahexaenoic acid, and ceracolonic acid It is done. A preferable addition amount is 0.5 to 10 mol% of the silver aliphatic carboxylate.
グルコシド、ガラクトシド、フルクトシドなどの配糖体類、トレハロース、スクロースなどトレハロース型二糖類、グリコーゲン、デキストリン、デキストラン、アルギン酸など多糖類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類、ソルビタン、ソルビット、酢酸エチル、酢酸メチル、ジメチルホルムアミドなど水溶性有機溶媒、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、アクリル酸共重合体、マレイン酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ゼラチンなどの水溶性ポリマー類も好ましい化合物として挙げられる。好ましい添加量は脂肪族カルボン酸銀に対して0.1〜20質量%である。 Glycosides such as glucoside, galactoside, fructoside, trehalose type disaccharides such as trehalose and sucrose, polysaccharides such as glycogen, dextrin, dextran and alginic acid, cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, sorbitan, sorbit, ethyl acetate, acetic acid Water-soluble organic solvents such as methyl and dimethylformamide, water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, maleic acid copolymer, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, polyvinylpyrrolidone and gelatin Are also preferred compounds. A preferable addition amount is 0.1 to 20% by mass with respect to aliphatic silver carboxylate.
炭素数が10以下のアルコール、好ましくは第二級アルコール、第三級アルコールは、仕込み工程での脂肪族カルボン酸ナトリウムの溶解度を上げることにより減粘し、攪拌効率を上げることで単分散、且つ小粒径化する。分岐脂肪族カルボン酸及び脂肪族不飽和カルボン酸は、脂肪族カルボン酸銀が結晶化する際にメイン成分である直鎖脂肪族カルボン酸銀よりも立体障害性が高く、結晶格子の乱れが大きくなるため大きな結晶は生成せず、結果的に小粒径化する。 Alcohols having 10 or less carbon atoms, preferably secondary alcohols and tertiary alcohols are reduced in viscosity by increasing the solubility of sodium aliphatic carboxylate in the charging step, and monodispersed by increasing the stirring efficiency, and Reduce the particle size. Branched aliphatic carboxylic acids and aliphatic unsaturated carboxylic acids have higher steric hindrance than the main component linear aliphatic carboxylic acid silver when crystallization of the aliphatic carboxylic acid silver, and the disorder of the crystal lattice is large. Therefore, large crystals are not generated, and as a result, the particle size is reduced.
前述のように、従来のハロゲン化銀写真感光材料と比較して、熱現像感光材料の構成上の最大の相違点は、後者の材料中には現像処理の前後を問わず、カブリやプリントアウト銀(焼出し銀)の発生の原因となり得る感光性ハロゲン化銀、有機銀塩及び還元剤が多量含有されていることである。このため、熱現像感光材料には現像前ばかりでなく現像後の保存安定性を維持するために、高度のカブリ防止及び画像安定化技術が必須であるが、従来はカブリ核の成長及び現像を抑制する芳香族性複素環化合物の他に、カブリ核を酸化消滅する機能を有する酢酸水銀のような水銀化合物が、非常に有効な保存安定化剤として使用されていたが、この水銀化合物の使用は安全性、環境保全性の点で問題であった。 As described above, compared to conventional silver halide photographic light-sensitive materials, the biggest difference in the composition of heat-developable light-sensitive materials is that the latter materials are fogged and printed out before and after the development process. That is, it contains a large amount of photosensitive silver halide, organic silver salt and reducing agent that may cause generation of silver (baked-out silver). For this reason, in order to maintain the storage stability not only before development but also after development, the photothermographic material is required to have high antifogging and image stabilization techniques. In addition to the aromatic heterocyclic compounds to be suppressed, mercury compounds such as mercury acetate having the function of oxidizing and extinguishing fog nuclei have been used as very effective storage stabilizers. Was a problem in terms of safety and environmental conservation.
(カブリ防止剤、画像安定化剤)
以下において、本発明の熱現像感光材料に用いられるカブリ防止及び画像安定化剤について説明する。
(Anti-fogging agent, image stabilizer)
The antifogging and image stabilizer used in the photothermographic material of the invention will be described below.
本発明の熱現像感光材料においては、還元剤としては後述するように主にビスフェノール類の還元剤が用いられているので、これらの水素を引き抜くことができる活性種を発生することにより、還元剤を不活性化できる化合物が含有されていることが好ましい。好適には無色の光酸化性物質として、露光時にフリーラジカルを反応活性種として生成可能な化合物が好ましい。 In the photothermographic material of the present invention, a reducing agent such as bisphenols is mainly used as the reducing agent, as will be described later. By generating active species capable of extracting these hydrogens, the reducing agent is generated. It is preferable that the compound which can inactivate is contained. A colorless photo-oxidizable substance is preferably a compound capable of generating free radicals as reactive active species during exposure.
従ってこれらの機能を有する化合物であればいかなる化合物でもよいが、複数の原子からなる有機フリーラジカルが好ましい。かかる機能を有し、且つ熱現像感光材料に格別の弊害を生じることのない化合物であればいかなる構造をもった化合物でもよい。 Accordingly, any compound having these functions may be used, but an organic free radical composed of a plurality of atoms is preferred. A compound having any structure may be used as long as it has such a function and does not cause any particular adverse effect on the photothermographic material.
また、これらのフリーラジカルを発生する化合物としては、発生するフリーラジカルに還元剤と反応し、不活性化するに充分な時間接触できる位の安定性をもたせるために、炭素環式、または複素環式の芳香族基を有するものが好ましい。 In addition, as a compound that generates these free radicals, a carbocyclic or heterocyclic ring is used so that the generated free radicals are stable enough to react with a reducing agent and be inactivated for a sufficient period of time to be inactivated. Those having an aromatic group of the formula are preferred.
これらの化合物の代表的なものとして、以下に挙げるビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物を挙げることができる。ビイミダゾリル化合物としては、以下に示す一般式〔1〕で表される化合物が好ましく用いられる。 Typical examples of these compounds include biimidazolyl compounds and iodonium compounds listed below. As the biimidazolyl compound, a compound represented by the following general formula [1] is preferably used.
式中、R1、R2及びR3(同一または相異なる)の各々はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、ヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、オクチルオキシ基)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基)、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、ブチルチオ基)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基)、スルフォニル基(例えば、メチルスルフォニル基、フェニルスルフォニル基等)、アシルアミノ基、スルフォニルアミノ基、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ベンゾキシ基等)、カルボキシル基、シアノ基、スルフォ基またはアミノ基を示す。これらのうちより好適な置換基はアリール基、アルケニル基、シアノ基等である。 In the formula, each of R 1 , R 2 and R 3 (same or different) is an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, hexyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group), alkoxy group (For example, methoxy group, ethoxy group, octyloxy group), aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group), hydroxyl group, halogen atom, aryloxy group (for example, phenoxy group), alkylthio group (for example, Methylthio group, butylthio group), arylthio group (for example, phenylthio group), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, butyryl group, valeryl group), sulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, etc.), acylamino Group, sulfonylamino group, acyloxy group (for example, acetoxy group, Nzokishi group), showing a carboxyl group, a cyano group, a sulfo group or an amino group. Among these, more preferred substituents are an aryl group, an alkenyl group, a cyano group, and the like.
上記のビイミダゾリル化合物は、米国特許第3,734,733号及び英国特許第1,271,177号の各明細書に記載されている製造方法及びそれに準じた方法により製造することができる。好ましい具体例としては、例えば、特開2000−321711号公報に記載されている化合物例を挙げることができる。 The above-mentioned biimidazolyl compound can be produced by the production methods described in the specifications of US Pat. No. 3,734,733 and British Patent No. 1,271,177 and methods according thereto. As a preferable specific example, the compound example described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-321711 can be mentioned, for example.
また、同様に好適な化合物として、以下に示す一般式〔2〕で示されるヨードニウム化合物が挙げられる。 Similarly, a suitable compound includes an iodonium compound represented by the following general formula [2].
式中、Q1は5、6または7員環を完成するのに必要な原子を包含し、且つ該必要な原子は、炭素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる。R11、R12及びR13(同一または相異なる)の各々は水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、ヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、オクチルオキシ基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基等)、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、ブチルチオ基)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基等)、スルフォニル基(例えば、メチルスルフォニル基、フェニルスルフォニル基等)、アシルアミノ基、スルフォニルアミノ基、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ベンゾキシ基等)、カルボキシル基、シアノ基、スルフォ基及びアミノ基を示す。これらのうちより好適な置換基はアリール基、アルケニル基及びシアノ基である。 Wherein Q 1 includes the atoms necessary to complete a 5, 6 or 7 membered ring, and the required atoms are selected from carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms and sulfur atoms. Each of R 11 , R 12 and R 13 (same or different) is a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, hexyl group, etc.), an alkenyl group (eg, vinyl group, allyl group, etc.), alkoxy Group (for example, methoxy group, ethoxy group, octyloxy group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, etc.), hydroxyl group, halogen atom, aryloxy group (for example, phenoxy group), alkylthio group (For example, methylthio group, butylthio group), arylthio group (for example, phenylthio group), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, butyryl group, valeryl group, etc.), sulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, phenylsulfonyl group) Etc.), an acylamino group, a sulfonylamino group, an acyloxy group (for example, Setokishi group, benzoxy group), showing a carboxyl group, a cyano group, a sulfo group and an amino group. Among these, more preferred substituents are an aryl group, an alkenyl group, and a cyano group.
R14はアセテート、ベンゾエート、トリフルオロアセテートのようなカルボキシレート基及びO-を示す。Wは0または1を表す。X-はアニオン性対イオンであり、好適な例としてはCH3CO2 -、CH3SO3 -及びPF6 -である。R13がスルフォ基またはカルボキシル基のときは、Wは0で、且つR14はO-である。なお、R11、R12及びR13のいずれかは互いに結合して環を形成してもよい。 R 14 represents a carboxylate group such as acetate, benzoate or trifluoroacetate and O 2 − . W represents 0 or 1. X − is an anionic counter ion, and preferred examples are CH 3 CO 2 − , CH 3 SO 3 − and PF 6 − . When R 13 is a sulfo group or a carboxyl group, W is 0 and R 14 is O − . In addition, any of R 11 , R 12 and R 13 may be bonded to each other to form a ring.
これらのうち特に好ましい化合物は以下の一般式〔3〕で表される。 Among these, a particularly preferable compound is represented by the following general formula [3].
ここにおいて、R21、R22、R23、R24、X-及びW等は前記一般式〔2〕と同義であり、Yは炭素原子(−CH=;ベンゼン環)を表すか、または窒素原子(−N=;ピリジン環)を表す。 Wherein, R 21, R 22, R 23, R 24, X - and W, are as defined in the general formula (2), Y is a carbon atom; or represents (-CH = benzene ring) or nitrogen, Represents an atom (-N =; pyridine ring).
上記のヨードニウム化合物はOrg.Syn.,1961及び”Fieser著Advanced Organic Chemistry”(Reinhold,N.Y.,1961)に記載されている製造方法及びそれに準じた方法によって合成できる。 The above iodonium compounds are described in Org. Syn. , 1961 and "Advanced Organic Chemistry by Fieser" (Reinhold, NY, 1961) and a method analogous thereto.
好ましい具体例としては、例えば、特開2000−321711号公報に記載されている化合物例が挙げることができる。 As a preferable specific example, the compound example described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-321711 can be mentioned, for example.
上記の一般式〔1〕及び〔2〕で表される化合物の添加量は10-3〜10-1mol/m2、好ましくは5×10-3〜5×10-2mol/m2である。なお、当該化合物は本発明の感光材料において、いかなる構成層中にも含有させることができるが、還元剤の近傍に含有させることが好ましい。 The amount of the compound represented by the general formulas [1] and [2] is 10 −3 to 10 −1 mol / m 2 , preferably 5 × 10 −3 to 5 × 10 −2 mol / m 2 . is there. The compound can be contained in any constituent layer in the light-sensitive material of the present invention, but is preferably contained in the vicinity of the reducing agent.
また、還元剤を不活性化し還元剤が有機銀塩を銀に還元できないようにする化合物として、反応活性種がハロゲン原子でないものが好ましいが、ハロゲン原子を活性種として放出する化合物も、ハロゲン原子でない活性種を放出する化合物と併用することにより、使用することができる。ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られており、併用により良好な効果が得られる。 Further, as a compound that inactivates the reducing agent and prevents the reducing agent from reducing the organic silver salt to silver, a compound in which the reactive species is not a halogen atom is preferable, but a compound that releases a halogen atom as an active species is also a halogen atom. Can be used in combination with compounds that release non-active species. Many compounds capable of releasing a halogen atom as an active species are known, and a good effect can be obtained by the combined use.
これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、以下に挙げる一般式〔4〕で表される化合物が挙げられる。 Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include compounds represented by the following general formula [4].
一般式〔4〕中、Q2はアリール基またはヘテロ環基を表す。X11、X12及びX13は各々水素原子、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルフォニル基またはアリール基を表すが、少なくとも一つはハロゲン原子である。Yは−C(=O)−、−SO−または−SO2−を表す。 In the general formula [4], Q 2 represents an aryl group or a heterocyclic group. X 11 , X 12 and X 13 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group or an aryl group, at least one of which is a halogen atom. Y represents —C (═O) —, —SO— or —SO 2 —.
Q2で表されるアリール基は単環または縮環していてもよく、好ましくは炭素数6〜30の単環または2環のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)であり、より好ましくはフェニル基、ナフチル基であり、更に好ましくはフェニル基である。Q2で表されるヘテロ環基は、N、OまたはSの少なくとも一つの原子を含む3乃至10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。 The aryl group represented by Q 2 may be monocyclic or condensed, and is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms (for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc.), and more Preferably they are a phenyl group and a naphthyl group, More preferably, it is a phenyl group. The heterocyclic group represented by Q 2 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group containing at least one atom of N, O or S, which may be monocyclic, Furthermore, you may form a condensed ring with another ring.
ヘテロ環基として好ましくは、縮合環を有していてもよい5乃至6員の不飽和ヘテロ環基であり、より好ましくは縮合環を有していてもよい5乃至6員の芳香族ヘテロ環基である。更に好ましくは窒素原子を含む縮合環を有していてもよい5乃至6員の芳香族ヘテロ環基であり、特に好ましくは窒素原子を1乃至4原子含む縮合環を有していてもよい5乃至6員の芳香族ヘテロ環基である。このようなヘテロ環基におけるヘテロ環として、好ましくはイミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、インドレニン、テトラザインデンであり、より好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、テトラザインデンであり、更に好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾールであり、特に好ましくはピリジン、チアジアゾール、キノリン、ベンゾチアゾールである。 The heterocyclic group is preferably a 5- to 6-membered unsaturated heterocyclic group which may have a condensed ring, and more preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic ring which may have a condensed ring. It is a group. More preferably, it is a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group optionally having a condensed ring containing a nitrogen atom, and particularly preferably 5 a condensed ring containing 1 to 4 nitrogen atoms. A 6-membered aromatic heterocyclic group. As the heterocyclic ring in such a heterocyclic group, preferably imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline Cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, indolenine, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, Triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinoaline Zolin, cinnoline, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, Quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, benzimidazole, and benzothiazole are preferable, and pyridine, thiadiazole, quinoline, and benzothiazole are particularly preferable.
Q2で表されるアリール基及びヘテロ環基は−Y−C(X1)(X2)(X3)の他に置換基を有していてもよく、置換基として好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子である。 The aryl group and heterocyclic group represented by Q 2 may have a substituent in addition to —Y—C (X 1 ) (X 2 ) (X 3 ), and the substituent is preferably an alkyl group, Alkenyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl Group, carbamoyl group, sulfonyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Oxy group, acyl group, acylamino group, alkoxycarbonylamino , Aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, more preferably alkyl group, aryl group, alkoxy group Group, aryloxy group, acyl group, acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, halogen atom, cyano group, nitro group, heterocyclic group, particularly preferably alkyl group, aryl group, halogen atom .
X11、X12及びX13で表される置換基としては、各々ハロゲン原子、ハロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ヘテロ環基が好ましいが、更に好ましくはハロゲン原子、ハロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基(アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基)であり、更に好ましくはハロゲン原子、トリハロメチル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子の中でも好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。 The substituents represented by X 11 , X 12 and X 13 are each preferably a halogen atom, a haloalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group or a heterocyclic group. Is more preferably a halogen atom, a haloalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group or a sulfonyl group (an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group), more preferably a halogen atom or a trihalomethyl group, A halogen atom is preferred. Of the halogen atoms, preferred are a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, more preferred are a chlorine atom and a bromine atom, and particularly preferred is a bromine atom.
Yは−C(=O)−、−SO−または、−SO2−を表すが、中でも好ましく用いられるのは−SO2−である。 Y represents —C (═O) —, —SO— or —SO 2 —, among which —SO 2 — is preferably used.
これらの化合物の添加量は、実質的にハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が問題にならない範囲が好ましく、前記活性ハロゲンラジカルを生成しない化合物に対する比率で最大150%以下、更に好ましくは100%以下であることが好ましい。 The amount of these compounds added is preferably within a range in which the increase in printout silver due to the formation of silver halide does not cause a problem, and is at most 150% or less, more preferably 100% in terms of the ratio to the compound that does not generate the active halogen radical. % Or less is preferable.
なお、上記の化合物の他に、本発明の熱現像感光材料中には従来カブリ防止剤として知られている化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、カブリ防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば、米国特許第3,589,903号、同4,546,075号、同4,452,885号、同3,874,946号、同4,756,999号の各明細書、特開昭59−57234号、特開平9−288328号、同9−90550号の各公報に記載されている化合物が挙げられる。更にその他のカブリ防止剤としては、米国特許第5,028,523号明細書及び欧州特許第600,587号、同605,981号、同631,176号の各明細書に開示されている化合物が挙げられる。 In addition to the above compound, the photothermographic material of the present invention may contain a compound conventionally known as an antifoggant, but generates a reactive species similar to the above compound. Even if it is a compound which can produce | generate, the compound from which an antifogging mechanism differs may be sufficient. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, 3,874,946, 4,756,999, JP, Examples thereof include compounds described in JP-A-59-57234, JP-A-9-288328, and JP-A-9-90550. Still other antifoggants include compounds disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981 and 631,176. Is mentioned.
本発明において、銀イオン還元剤としては公知の還元剤を使用することができるが、前記一般式(R)で表されるビスフェノール誘導体であることが好ましい。 In the present invention, a known reducing agent can be used as the silver ion reducing agent, but a bisphenol derivative represented by the general formula (R) is preferable.
本発明の熱現像感光材料に使用される銀イオン還元剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩1mol当たり0.05mol乃至10mol好ましくは0.1mol乃至3molが適当である。またこの量の範囲内において、本発明に係る銀イオン還元剤は2種以上併用されてもよい。本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合して塗布した方が、停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。 The amount of the silver ion reducing agent used in the photothermographic material of the invention varies depending on the type of organic silver salt, reducing agent, and other additives, but generally 0.05 mol to 1 mol per mol of organic silver salt. 10 mol, preferably 0.1 mol to 3 mol is appropriate. Within this range, two or more silver ion reducing agents according to the present invention may be used in combination. In the present invention, it may be preferable that the reducing agent is added to and mixed with a photosensitive emulsion solution composed of photosensitive silver halide and organic silver salt grains and a solvent immediately before coating, because photographic performance fluctuation due to stagnation time is small. is there.
本発明に係る感光性ハロゲン化銀には化学増感を施すことができる。例えば、特開2001−249428号、同2001−249426号の各公報に記載されている方法等により、硫黄などのカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。以下に示すカルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。 The photosensitive silver halide according to the present invention can be chemically sensitized. For example, by using a compound that releases chalcogen such as sulfur or a noble metal compound that releases noble metal ions such as gold ions by the methods described in JP-A Nos. 2001-249428 and 2001-249426, A chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) can be formed and imparted. It is preferably chemically sensitized with an organic sensitizer containing chalcogen atoms shown below.
これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。 These organic sensitizers containing chalcogen atoms are preferably compounds having groups capable of adsorbing to silver halide and unstable chalcogen atom sites.
これらの有機増感剤としては、特開昭60−150046号、特開平4−109240号、同11−218874号の各公報等に開示されている種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらのうちカルコゲン原子が炭素原子またはリン原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。 As these organic sensitizers, organic sensitizers having various structures disclosed in JP-A-60-150046, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874 and the like are used. Of these, at least one compound having a structure in which a chalcogen atom is bonded to a carbon atom or a phosphorus atom by a double bond is preferable.
有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀1mol当たり10-8〜10-2molが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3molを用いる。化学増感環境としては特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀または銀核を消滅あるいはそれらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、また特に銀核を酸化しうる酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましく、該増感条件として、pAgとしては6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜8、また温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。 The amount of chalcogen compound used as an organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, silver halide grains, reaction environment for chemical sensitization, etc., but is 10 −8 to 10 −2 mol per mol of silver halide. Is preferable, and more preferably 10 −7 to 10 −3 mol is used. The chemical sensitization environment is not particularly limited, but in the presence of a compound capable of annihilating or reducing the size of silver chalcogenide or silver nuclei on photosensitive silver halide grains, and in particular oxidizing silver nuclei. It is preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidant, and as the sensitization condition, pAg is preferably 6 to 11, and more preferably 7 to 10 The pH is preferably 4 to 10, more preferably 5 to 8, and the temperature is preferably 30 ° C. or lower for sensitization.
従って、本発明の熱現像感光材料においては、感光性ハロゲン化銀が、該粒子上の銀核を酸化しうる酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いて、温度30℃以下において化学増感を施され、且つ有機銀塩と混合して分散され、脱水及び乾燥された感光性乳剤を用いることが好ましい。 Therefore, in the photothermographic material of the present invention, the photosensitive silver halide uses an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidant capable of oxidizing the silver nuclei on the grain. It is preferable to use a photosensitive emulsion that has been chemically sensitized at 30 ° C. or lower, mixed with an organic silver salt, dispersed, dehydrated and dried.
また、これらの有機増感剤を用いた化学増感は分光増感色素またはハロゲン化銀粒子に対して、吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平3−24537号公報に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物において、複素環としてはピラゾール環、ピリミジン環、1,2,4−トリアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリダジン環、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えば、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、インダゾール環、ベンゾチアゾール環なども適用できる。 In addition, chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably performed in the presence of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to spectral sensitizing dyes or silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having an adsorptivity to silver halide, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. The spectral sensitizing dye will be described later, and preferred examples of the heteroatom-containing compound having an adsorptivity to silver halide include nitrogen-containing heterocyclic compounds described in JP-A-3-24537. In the nitrogen-containing heterocyclic compound, the heterocyclic ring includes pyrazole ring, pyrimidine ring, 1,2,4-triazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,3- Thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,2,3,4-tetrazole ring, pyridazine ring, 1,2,3-triazine ring, Examples thereof include three bonded rings such as a triazolotriazole ring, a diazaindene ring, a triazaindene ring, and a pentaazaindene ring. A heterocyclic ring in which a monocyclic heterocyclic ring and an aromatic ring are condensed, for example, a phthalazine ring, a benzimidazole ring, an indazole ring, a benzothiazole ring, or the like can also be applied.
これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、且つ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えば、ヒドロキシトリアザインデン、テトラヒドロキシアザインデン、ヒドロキシペンタアザインデン化合物等が更に好ましい。 Of these, an azaindene ring is preferable, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, for example, a hydroxytriazaindene, tetrahydroxyazaindene, hydroxypentaazaindene compound, or the like is more preferable.
複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。 The heterocyclic ring may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a cyano group. You may have.
これら含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、おおよその量はハロゲン化銀1mol当たりの量で10-6mol〜1molの範囲であり、好ましくは10-4mol〜10-1molの範囲である。 The addition amount of these heterocyclic compounds varies over a wide range depending on the size, composition and other conditions of the silver halide grains, but the approximate amount is 10 -6 mol per mol of silver halide. It is the range of -1 mol, Preferably it is the range of 10 < -4 > mol-10 < -1 > mol.
本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、金イオンなどの貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば、金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。また、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物としては、アスコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。 The photosensitive silver halide according to the present invention can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example, a chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer. In addition to the above sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used. Examples of reduction sensitization shell-like compounds include ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, and borane. A compound, a silane compound, a polyamine compound, or the like can be used. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower.
化学増感を施されるハロゲン化銀は、有機銀塩の存在下で形成されたのでも、有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、また両者が混合されたものでもよい。 The silver halide subjected to chemical sensitization may be formed in the presence of an organic silver salt, formed in the absence of an organic silver salt, or a mixture of both.
本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば、特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号の各公報、米国特許第4,639,414号、同4,740,455号、同4,741,966号、同4,751,175号、同4,835,096号の各明細書に記載された増感色素が使用できる。 The photosensitive silver halide according to the present invention is preferably subjected to spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye. As spectral sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes, and the like can be used. For example, JP-A Nos. 63-159841, 60-140335, 63-231437, 63-259651, 63-304242, 63-15245, U.S. Pat. No. 4,639, No. 414, No. 4,740,455, No. 4,741,966, No. 4,751,175, No. 4,835,096 can be used.
本発明に使用される有用な増感色素は、例えば、RD17643IV−A項(1978年12月p.23)、同18431X項(1978年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各種レーザイメージャーやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号の各公報に記載の化合物が好ましく用いられる。 Useful sensitizing dyes used in the present invention are described in, for example, the literature described or cited in Section RD17643IV-A (December 1978, p.23), Section 18431X (August 1978, p.437). Has been. In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light sources of various laser imagers and scanners. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.
有用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。 Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Useful merocyanine dyes are preferably acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus in addition to the above basic nucleus. Including.
本発明においては、特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば、米国特許第4,536,473号、同4,515,888号、同4,959,294号の各明細書等に開示されている赤外分光増感色素が挙げられる。赤外分光増感色素については、ベンゾアゾール環のベンゼン環上にスルフィニル基が置換されていることを特徴とした長鎖のポリメチン色素が特に好ましい。上記の赤外増感色素は、例えば、エフ・エム・ハーマー著、The Chemistry of Heterocyclic Compounds第18巻、The Cyanine Dyes and Related Compounds(A.Weissberger ed.Interscience社刊、New York 1964年)に記載の方法を参照し、合成することができる。 In the present invention, a sensitizing dye having spectral sensitivity particularly in the infrared can also be used. Examples of infrared spectral sensitizing dyes preferably used include red disclosed in the specifications of US Pat. Nos. 4,536,473, 4,515,888, and 4,959,294. And an external spectral sensitizing dye. As the infrared spectral sensitizing dye, a long-chain polymethine dye characterized in that a sulfinyl group is substituted on the benzene ring of the benzoazole ring is particularly preferable. The above-mentioned infrared sensitizing dyes are described in, for example, The Chemistry of Heterocyclic Compounds, Volume 18 by The FM Hammer, The Cyanine Dies and Related Compounds (A. Weissberger ed. The method can be synthesized by referring to the method.
これらの赤外増感色素の添加時期はハロゲン化銀調製後のどの時点でもよく、例えば、溶剤に添加して、あるいは微粒子状に分散した所謂固体分散状態でハロゲン化銀粒子あるいはハロゲン化銀粒子/有機銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。また、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。 These infrared sensitizing dyes may be added at any time after silver halide preparation. For example, silver halide grains or silver halide grains in a so-called solid dispersion state added to a solvent or dispersed in a fine particle form. / Can be added to a photosensitive emulsion containing organic silver salt grains. Similarly to the heteroatom-containing compound having adsorptivity to the silver halide grains, chemical sensitization can be performed after being added to and adsorbed to the silver halide grains prior to chemical sensitization. Thus, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved.
本発明において、上記の分光増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは特に強色増感の目的でしばしば用いられる。 In the present invention, the above-described spectral sensitizing dyes may be used alone, or a combination thereof may be used, and the combination of sensitizing dyes is often used for the purpose of supersensitization.
本発明の熱現像感光材料に用いられる感光性ハロゲン化銀、有機銀塩を含有する乳剤は、増感色素とともにそれ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されていてもよい。 The emulsion containing the photosensitive silver halide and organic silver salt used in the photothermographic material of the present invention is a sensitizing dye and a dye that does not have spectral sensitizing action itself or a substance that does not substantially absorb visible light. In addition, a substance exhibiting a supersensitization effect may be included in the emulsion, whereby the silver halide grains may be supersensitized.
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を示す物質は、RD17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号の各公報等に記載されているが、強色増感剤としては下記で表される複素芳香族メルカプト化合物がまたはメルカプト誘導体化合物が好ましい。 Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in RD17643 (issued in December, 1978), page 23, Section J, or Japanese Patent Publication No. 9-25500, No. 43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, JP-A-5-341432, and the like. A group mercapto compound or a mercapto derivative compound is preferred.
Ar−SM
式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、またはテルリウム原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましくは、複素芳香環はベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリンである。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。
Ar-SM
In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium, or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine , Purine, quinoline, or quinazoline. However, other heteroaromatic rings are also included.
尚、有機銀塩及び/またはハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させたときに実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。 In addition, a mercapto derivative compound which substantially forms the above mercapto compound when contained in a dispersion of an organic silver salt and / or a silver halide grain emulsion is also included. In particular, mercapto derivative compounds represented below are preferred examples.
Ar−S−S−Ar
式中のArは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
Ar-SS-Ar
Ar in the formula has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented above.
上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有しうる。 The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (for example, Cl, Br, I), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). And a substituent selected from the group consisting of an alkoxy group (for example, one having one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms).
上記の強色増感剤の他に、下記に示す一般式〔5〕で表される化合物と大環状化合物を強色増感剤として使用できる。 In addition to the supersensitizer described above, a compound represented by the following general formula [5] and a macrocyclic compound can be used as the supersensitizer.
式中、H31Arは芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表し、T31は脂肪族炭化水素基からなる2価の連結基または連結基を表し、J31は酸素原子、硫黄原子または窒素原子を一つ以上含む2価の連結基または連結基を表す。Ra、Rb、Rc及びRdは各々、水素原子、アシル基、脂肪族炭化水素基、アリール基または複素環基を表し、またはRaとRb、RcとRd、RaとRcあるいはRbとRdの間で結合して含窒素複素環基を形成することができる。M31は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、k31は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。 In the formula, H 31 Ar represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, T 31 represents a divalent linking group or linking group composed of an aliphatic hydrocarbon group, and J 31 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Alternatively, it represents a divalent linking group or linking group containing one or more nitrogen atoms. Ra, Rb, Rc and Rd each represent a hydrogen atom, an acyl group, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or a heterocyclic group, or between Ra and Rb, Rc and Rd, Ra and Rc, or Rb and Rd. It can combine to form a nitrogen-containing heterocyclic group. M 31 represents an ion necessary for canceling the charge in the molecule, and k 31 represents the number of ions necessary for canceling the charge in the molecule.
一般式〔5〕において、T31で表される脂肪族炭化水素基からなる2価の連結基としては、直鎖、分岐または環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、更に好ましくは1〜12)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12)であり、置換基を有していてもよく、例えば、脂肪族炭化水素基としては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、更に好ましくは1〜12)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12)であり、アリール基としては、炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル)であり、複素環基としては、3〜10員の飽和、不飽和のヘテロ環基(例えば、2−チアゾリル、1−ピペラジニル、2−ピリジル、3−ピリジル、2−フリル、2−チエニル基、2−ベンゾイミダゾリル基、カルバゾリル基等)であり、これらの基中のヘテロ環は単環であっても、他の環と縮合環を形成してもよい。これらの各基は任意の個所に置換基を有していてもよく、例えば、アルキル基(シクロアルキル基、アラルキル基を含み、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えば、ビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基等が挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル基、3−ペンチニル基等が挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えば、フェニル基、p−トリル基、O−アミノフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数、0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジベンジルアミノ基等が挙げられる。)、イミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜18、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メチルイミノ基、エチルイミノ基、プロピルイミノ基、フェニルイミノ基等)アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基等が挙)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素1〜16、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ等)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えば、フェニルチオ基等)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メタンスルホニル基、トシル基等)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基等が挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基等)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば、ジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミド等)、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、スルフィノ基、カルボキシル基、ホスホノ基、ホスフィノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基(例えば、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、カルバゾリル、ピリジル、フリル、ピペリジル、モルホリノ等)等が挙げられる。 In the general formula [5], the divalent linking group composed of the aliphatic hydrocarbon group represented by T 31 is a linear, branched or cyclic alkylene group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1). -16, more preferably 1-12), an alkenyl group (preferably 2-20 carbons, more preferably 2-16, still more preferably 2-12), an alkynyl group (preferably 2-20 carbons, more preferably). 2 to 16, more preferably 2 to 12), and may have a substituent. For example, the aliphatic hydrocarbon group may be a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 20, more preferably 1-16, still more preferably 1-12, alkenyl group (preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16, still more preferably 2-12), alkynyl group (preferably carbon) 2-20, more preferably 2-16, still more preferably 2-12), and examples of the aryl group include monocyclic or condensed aryl groups having 6 to 20 carbon atoms (for example, phenyl, naphthyl, etc.). , Preferably phenyl), and as the heterocyclic group, a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group (for example, 2-thiazolyl, 1-piperazinyl, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 2-furyl, 2-thienyl group, 2-benzimidazolyl group, carbazolyl group, etc.), and the heterocyclic ring in these groups may be a single ring or may form a condensed ring with other rings. Each of these groups may have a substituent at an arbitrary position, for example, an alkyl group (including a cycloalkyl group and an aralkyl group, preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, Particularly preferred are those having 1 to 8 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n -Decyl group, n-undecyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, etc.), alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably). C2-C12, Especially preferably, it is C2-C8, for example, a vinyl group, an allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group etc. are mentioned. A quinyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, such as a propargyl group and a 3-pentynyl group), an aryl group ( Preferably it has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a p-tolyl group, an O-aminophenyl group, and a naphthyl group. .), An amino group (preferably having a carbon number of 0 to 20, more preferably a carbon number of 0 to 10, particularly preferably a carbon number of 0 to 6, such as an amino group, a methylamino group, an ethylamino group, and dimethylamino. Group, diethylamino group, diphenylamino group, dibenzylamino group, etc.), imino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, Preferably it is C1-C12, for example, a methylimino group, an ethylimino group, a propylimino group, a phenylimino group, etc.) alkoxy group (preferably C1-C20, more preferably C1-C12, especially preferably C1-C8, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, etc.), an aryloxy group (preferably C6-C20, more preferably C6-C16, especially preferably C6-C12). For example, phenyloxy group, 2-naphthyloxy group and the like), acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, Acetyl group, benzoyl group, formyl group, pivaloyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 2 carbon atoms). 16, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, etc., an aryloxycarbonyl group (preferably 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7-10 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonyl group, etc., acyloxy groups (preferably 1-20 carbon atoms, more preferably 1-16 carbon atoms, particularly preferably 1-10 carbon atoms, for example, acetoxy Group, benzoyloxy group and the like), acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as acetylamino group and benzoylamino group), Alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably A prime number of 2 to 12, for example, methoxycarbonylamino and the like, an aryloxycarbonylamino group (preferably having a carbon number of 7 to 20, more preferably a carbon number of 7 to 16, particularly preferably a carbon number of 7 to 12, Phenyloxycarbonylamino, etc.), sulfonylamino groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group) Etc.), a sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, phenyl) Sulfamoyl group, etc.), carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Or a carbon number of 1 to 16, particularly preferably a carbon number of 1 to 12. For example, a carbamoyl group, a methylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group, a phenylcarbamoyl group, or the like, an alkylthio group (preferably having a carbon number of 1 to 20, more preferably Has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methylthio group, ethylthio group and the like, and arylthio group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably C6-C12, for example, phenylthio group, etc., sulfonyl group (preferably C1-C20, more preferably C1-C16, particularly preferably C1-C12, for example, methanesulfonyl Group, tosyl group, etc.), sulfinyl group (preferably 1-20 carbon atoms, more preferably 1-16 carbon atoms, particularly preferred) Or having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methanesulfinyl group and a benzenesulfinyl group. ), Ureido groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as ureido group, methylureido group, phenylureido group), phosphoric acid amide A group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as diethyl phosphoric acid amide, phenyl phosphoric acid amide), a hydroxyl group, a mercapto group, Halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, sulfino group, carboxyl group, phosphono group, phosphino group, nitro group, hydroxamic acid group, hydrazino group, heterocyclic group ( For example, imidazolyl, benzimidazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, carbazolyl, pyridyl, furyl, pi Lysyl, and morpholino, etc.) and the like.
上記の基のうちヒドロキシル基、メルカプト基、スルホ基、スルフィノ基、カルボキシル基、ホスホノ基、ホスフィノ基等のような塩形成可能な基は塩であってもよい。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は同じでも異なってもよい。置換基として好ましくは、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルキルチオ基、アシル基、アシルアミノ基、イミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホ基、カルバモイル基、カルボキシル基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルキルチオ基、アシル基、アシルアミノ基、イミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホ基、カルバモイル基、カルボキシル基であり、更に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、イミノ基、ウレイド基、アミノ基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホ基、カルバモイル基、カルボキシル基である。アミジノ基としては、置換基を有するものを含み、置換基としては、例えば、アルキル基(メチル、エチル、ピリジルメチル、ベンジル、フェネチル、カルボキシベンジル、アミノフェニルメチル等の各基)、アリール基(フェニル、p−トリル、ナフチル、o−アミノフェニル、o−メトキシフェニル等の各基)、複素環基(2−チアゾリル、2−ピリジル、3−ピリジル、2−フリル、3−フリル、2−チエノ、2−イミダゾリル、ベンゾチアゾリル、カルバゾリル等の各基)等が挙げられる。 Among the above groups, a salt-forming group such as a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfo group, a sulfino group, a carboxyl group, a phosphono group, or a phosphino group may be a salt. These substituents may be further substituted. Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. The substituent is preferably an alkyl group, aralkyl group, alkoxy group, aryl group, alkylthio group, acyl group, acylamino group, imino group, sulfamoyl group, sulfonyl group, sulfonylamino group, ureido group, amino group, halogen atom, nitro Group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, hydroxyl group, sulfo group, carbamoyl group, carboxyl group, more preferably alkyl group, alkoxy group, aryl group, alkylthio group, acyl group, acylamino group, imino group, sulfonylamino Group, ureido group, amino group, halogen atom, nitro group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, hydroxyl group, sulfo group, carbamoyl group, carboxyl group, more preferably alkyl group, alkoxy group, aryl group, alkylthio group A Arylamino group, an imino group, a ureido group, an amino group, a heterocyclic group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfo group, a carbamoyl group, a carboxyl group. The amidino group includes those having a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (each group such as methyl, ethyl, pyridylmethyl, benzyl, phenethyl, carboxybenzyl, aminophenylmethyl), an aryl group (phenyl). , P-tolyl, naphthyl, o-aminophenyl, o-methoxyphenyl and the like), a heterocyclic group (2-thiazolyl, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 2-furyl, 3-furyl, 2-thieno, 2-imidazolyl, benzothiazolyl, carbazolyl and the like) and the like.
J31で表される酸素原子、硫黄原子または窒素原子を一つ以上含む2価の連結基としては、例えば、以下のものが挙げられる。またこれらの組み合わせであってもよい。 Examples of the divalent linking group containing at least one oxygen atom, sulfur atom or nitrogen atom represented by J 31 include the following. Moreover, these combinations may be sufficient.
ここで、Re及びRfは各々、前述したRa〜Rdに定義した内容に同義である。 Here, Re and Rf are respectively synonymous with the contents defined in Ra to Rd described above.
H31Arで表される芳香族炭化水素基としては、好ましくは炭素数6〜30のものであり、より好ましくは炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、特に好ましくはフェニル基である。H31Arで表される芳香族複素環基としてはN、O及びSのうちの少なくとも一つの原子を含む5〜10員の不飽和のヘテロ環基であり、これらの基中のヘテロ環は単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。このようなヘテロ環基中のヘテロ環として好ましくは、5〜6員の芳香族ヘテロ環、及びそのベンゾ縮合環であり、より好ましくは窒素原子を含む5〜6員の芳香族ヘテロ環、及びそのベンゾ縮合環であり、更に好ましくは窒素原子を1〜2原子含む5〜6員の芳香族ヘテロ環、及びそのベンゾ縮合環である。 The aromatic hydrocarbon group represented by H 31 Ar is preferably a group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably a monocyclic or condensed ring aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl Group, a naphthyl group, etc. are mentioned, Especially preferably, it is a phenyl group. The aromatic heterocyclic group represented by H 31 Ar is a 5- to 10-membered unsaturated heterocyclic group containing at least one atom of N, O and S, and the heterocyclic ring in these groups is It may be a single ring or may form a condensed ring with another ring. The heterocyclic ring in such a heterocyclic group is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic ring and a benzo-fused ring thereof, more preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, and The benzo-fused ring is more preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocycle containing 1 to 2 nitrogen atoms and the benzo-fused ring.
ヘテロ環基の具体例としては、例えば、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、カルバゾール等から誘導される基が挙げられる。 Specific examples of the heterocyclic group include, for example, thiophene, furan, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline. , Quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzothiazoline, benzotriazole, tetrazaindene, carbazole and the like.
ヘテロ環基として好ましくは、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、インドール、インダゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、カルバゾールからなる基であり、更に好ましくは、イミダゾール、ピリジン、ピラジン、キノリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾール、カルバゾールから誘導される基が挙げられる。 The heterocyclic group is preferably imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, indole, indazole, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzothiazoline, benzotriazole, A group consisting of tetrazaindene and carbazole, more preferably a group derived from imidazole, pyridine, pyrazine, quinoline, phenazine, tetrazole, thiazole, benzoxazole, benzimidazole, benzothiazole, benzothiazoline, benzotriazole, carbazole Is mentioned.
H31Arで表される芳香族炭化水素基並びに芳香族複素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、T31の置換基として挙げた基と同様のものを挙げることができ、好ましい範囲も同様である。これらの置換基は更に置換されてもよく、また置換基が2つ以上ある場合には各々、同じでも異なってもよい。H31Arで表される基は好ましくは芳香族複素環基である。 The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group represented by H 31 Ar may have a substituent, and examples of the substituent include the same groups as those exemplified as the substituent for T 31. The preferred ranges are also the same. These substituents may be further substituted, and when there are two or more substituents, each may be the same or different. The group represented by H 31 Ar is preferably an aromatic heterocyclic group.
Ra、Rb、Rc、Rdで表される脂肪族炭化水素基、アリール基及び複素環基は、前記T31において脂肪族炭化水素基、アリール基及び複素環基の例として挙げたと同様のものを挙げることができ、好ましい範囲も同様である。Ra、Rb、Rc、Rdで表されるアシル基としては炭素数1〜12の脂肪族あるいは芳香族の基であり、具体的にはアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等の基が挙げられる。RaとRb、RcとRd、RaとRcあるいはRbとRdの間で結合して形成する含窒素複素環基としては3〜10員の飽和、不飽和のヘテロ環基(例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、アクリジン環、ピロリジン環、ピロール環、モルフォリン環等の環基)が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group represented by Ra, Rb, Rc and Rd are the same as those mentioned as examples of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group in T 31 . The preferred ranges are also the same. The acyl group represented by Ra, Rb, Rc, and Rd is an aliphatic or aromatic group having 1 to 12 carbon atoms, and specifically includes groups such as acetyl, benzoyl, formyl, and pivaloyl. The nitrogen-containing heterocyclic group formed by bonding between Ra and Rb, Rc and Rd, Ra and Rc, or Rb and Rd is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group (for example, a piperidine ring, piperazine Ring, acridine ring, pyrrolidine ring, pyrrole ring, morpholine ring, etc.).
M31で表される分子内の電荷を相殺するに必要なイオンとして、酸アニオンの具体例としては、例えば、ハロゲンイオン(例えば、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。 Specific examples of acid anions as ions necessary for canceling out the charge in the molecule represented by M 31 include, for example, halogen ions (eg, chlorine ions, bromine ions, iodine ions, etc.), p-toluenesulfonic acid. Ions, perchlorate ions, boron tetrafluoride ions, sulfate ions, methyl sulfate ions, ethyl sulfate ions, methanesulfonate ions, trifluoromethanesulfonate ions, and the like.
本発明に用いられる強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光層中に銀1mol当たり0.001〜1.0molで用いるのが好ましい。特に好ましくは銀1mol当たり0.01〜0.5molの量である。 The supersensitizer used in the present invention is preferably used in an amount of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in a photosensitive layer containing an organic silver salt and silver halide grains. Particularly preferred is an amount of 0.01 to 0.5 mol per mol of silver.
本発明の熱現像感光材料に好適なバインダーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水性でも非親水性でもよい。 Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent and generally colorless, and are natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other media forming films such as gelatin, gum arabic, poly (vinyl alcohol) ), Hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly ( Styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (Urethane) , Phenoxy resins, poly (vinylidene chloride), poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate), cellulose esters, and polyamides. It may be hydrophilic or non-hydrophilic.
本発明の熱現像感光材料の感光層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましいバインダーはポリビニルブチラールである。詳しくは後述する。また、上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非感光層に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。なお、必要に応じて上記のバインダーは2種以上を組み合わせて用いうる。 Preferred binders for the photosensitive layer of the photothermographic material of the invention are polyvinyl acetals, and a particularly preferred binder is polyvinyl butyral. Details will be described later. For non-photosensitive layers such as overcoat layers and undercoat layers, especially protective layers and backcoat layers, cellulose esters that are polymers with higher softening temperatures, especially polymers such as triacetyl cellulose and cellulose acetate butyrate are used. preferable. In addition, if necessary, the above binders can be used in combination of two or more.
このようなバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範囲は当業者が容易に決定しうる。例えば、感光層において少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと有機銀塩との割合は15:1〜1:2、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、感光層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。 Such a binder is used in an effective range to function as a binder. The effective range can be easily determined by one skilled in the art. For example, as an index for holding at least the organic silver salt in the photosensitive layer, the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably in the range of 15: 1 to 1: 2, particularly 8: 1 to 1: 1. That is, it is preferable amount of the binder in the photosensitive layer is a 1.5~6g / m 2. More preferably, it is 1.7-5 g / m < 2 >. If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area is significantly increased and may not be used.
本発明では、100℃以上の温度で現像処理した後の熱転移点温度が46℃以上、200℃以下であることが好ましい。本発明で言う熱転移点温度とは、VICAT軟化点または環球法で示した値であり、示差走査熱量計(DSC)、例えば、EXSTAR 6000(セイコー電子社製)、DSC220C(セイコー電子工業社製)、DSC−7(パーキンエルマー社製)等を用いて、熱現像済みの感光層を単離して測定した際の吸熱ピークをさす。一般的に高分子化合物はガラス転移点Tgを有しているが、熱現像感光材料においては、感光層に用いているバインダー樹脂のTg値よりも低いところに、大きな吸熱ピークが出現する。ガラス転移温度(Tg)は、ブランドラップらによる“重合体ハンドブック”III−139頁〜III−179頁(1966年、ワイリー アンド サン社版)に記載の方法で求めたものであり、バインダーが共重合体樹脂である場合のTgは下記の式で求められる。 In the present invention, it is preferable that the thermal transition temperature after development at a temperature of 100 ° C. or higher is 46 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The heat transition temperature referred to in the present invention is a value indicated by the VICAT softening point or ring-and-ball method, and is a differential scanning calorimeter (DSC), for example, EXSTAR 6000 (manufactured by Seiko Denshi), DSC220C (manufactured by Seiko Denshi Kogyo). ), DSC-7 (manufactured by Perkin Elmer) or the like, and refers to the endothermic peak when the heat-developed photosensitive layer is isolated and measured. In general, a polymer compound has a glass transition point Tg, but in a photothermographic material, a large endothermic peak appears at a position lower than the Tg value of the binder resin used in the photosensitive layer. The glass transition temperature (Tg) was determined by the method described in Brand Wrap et al., “Polymer Handbook”, pages III-139 to III-179 (1966, Wiley and Sun, Inc.). Tg in the case of a polymer resin is obtained by the following formula.
Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・+vnTgn
式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは、共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。上式に従って計算されたTgの精度は±5℃である。
Tg (copolymer) (° C.) = V1Tg1 + v2Tg2 +... + VnTgn
In the formula, v1, v2,... Vn represent mass fractions of monomers in the copolymer, and Tg1, Tg2,... Tgn are single polymers obtained from the respective monomers in the copolymer. Tg (° C.) of The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ± 5 ° C.
本発明の熱現像感光材料において、支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤等を含有する感光層に含有するバインダーとしては、従来公知の高分子化合物を用いることができる。Tgが70〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜500,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等のエチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体よりなる化合物、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。 In the photothermographic material of the invention, a conventionally known polymer compound can be used as a binder contained in a photosensitive layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide grains, a reducing agent, etc. on the support. . The Tg is 70 to 105 ° C., the number average molecular weight is 1,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and the degree of polymerization is about 50 to 1,000. Examples of such include vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl alcohol, maleic acid, acrylic acid, acrylic ester, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylic acid, methacrylic ester, styrene, butadiene, ethylene, vinyl butyral, vinyl acetal, There are compounds made of a polymer or copolymer containing an ethylenically unsaturated monomer such as vinyl ether as a constituent unit, polyurethane resins, and various rubber resins.
また、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂については、朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。これらの高分子化合物に特に制限はなく、誘導される重合体のガラス転移温度(Tg)が70〜105℃の範囲にあれば、単独重合体でも共重合体でもよい。 Moreover, phenol resin, epoxy resin, polyurethane curable resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, formaldehyde resin, silicone resin, epoxy-polyamide resin, polyester resin, and the like can be given. These resins are described in detail in “Plastic Handbook” issued by Asakura Shoten. These polymer compounds are not particularly limited, and may be homopolymers or copolymers as long as the derived polymer has a glass transition temperature (Tg) in the range of 70 to 105 ° C.
このようなエチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体としては、アクリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アリールエステル類、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、シアノアクリル酸アルキルエステル類、シアノアクリル酸アリールエステル類などを挙げることができ、それらのアルキル基、アリール基は置換されていてもされていなくてもよく、具体的にはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ベンジル、クロロベンジル、オクチル、ステアリル、スルホプロピル、N−エチル−フェニルアミノエチル、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチル、ジメチルアミノフェノキシエチル、フルフリル、テトラヒドロフルフリル、フェニル、クレジル、ナフチル、2−ヒドロキシエチル、4−ヒドロキシブチル、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2−メトキシエチル、3−メトキシブチル、2−アセトキシエチル、2−アセトアセトキシエチル、2−エトキシエチル、2−iso−プロポキシエチル、2−ブトキシエチル、2−(2−メトキシエトキシ)エチル、2−(2−エトキシエトキシ)エチル、2−(2−ブトキシエトキシ)エチル、2−ジフェニルホスホリルエチル、ω−メトキシポリエチレングリコール(付加mol数n=6)、アリル、ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩などを挙げることができる。 Polymers or copolymers containing such ethylenically unsaturated monomers as structural units include acrylic acid alkyl esters, acrylic acid aryl esters, methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, alkyl cyanoacrylates. Ester, cyanoacrylic acid aryl ester and the like, and the alkyl group and aryl group thereof may or may not be substituted. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, amyl, hexyl, cyclohexyl, benzyl, chlorobenzyl, octyl, stearyl, sulfopropyl, N-ethyl-phenylaminoethyl, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl , Dimethyl Minophenoxyethyl, furfuryl, tetrahydrofurfuryl, phenyl, cresyl, naphthyl, 2-hydroxyethyl, 4-hydroxybutyl, triethylene glycol, dipropylene glycol, 2-methoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-acetoxyethyl, 2 -Acetoacetoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-iso-propoxyethyl, 2-butoxyethyl, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl, 2- (2-butoxyethoxy) Examples include ethyl, 2-diphenylphosphorylethyl, ω-methoxypolyethylene glycol (addition mol number n = 6), allyl, dimethylaminoethylmethyl chloride salt, and the like.
その他、下記のモノマー等が使用できる。ビニルエステル類:その具体例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなど;N−置換アクリルアミド類、N−置換メタクリルアミド類及びアクリルアミド、メタクリルアミド:N−置換基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、メトキシエチル、ジメチルアミノエチル、フェニル、ジメチル、ジエチル、β−シアノエチル、N−(2−アセトアセトキシエチル)、ジアセトンなど;オレフィン類:例えば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン等;スチレン類:例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、tert−ブチルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなど;ビニルエーテル類:例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなど;N−置換マレイミド類:N−置換基として、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル、ベンジル、n−ドデシル、フェニル、2−メチルフェニル、2,6−ジエチルフェニル、2−クロルフェニルなどを有するものなど;その他として、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、メチレンマロンニトリル、塩化ビニリデンなどを挙げることができる。 In addition, the following monomers can be used. Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate. N-substituted acrylamides, N-substituted methacrylamides and acrylamides, methacrylamides: N-substituents include methyl, ethyl, propyl, butyl, tert-butyl, cyclohexyl, benzyl, hydroxymethyl, methoxyethyl, dimethyl Aminoethyl, phenyl, dimethyl, diethyl, β-cyanoethyl, N- (2-acetoacetoxyethyl), diacetone and the like; olefins: for example, dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1- Ten, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, 2,3-dimethylbutadiene, etc .; styrenes: for example, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, tert-butylstyrene , Chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, vinyl benzoic acid methyl ester, etc .; vinyl ethers: for example, methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether N-substituted maleimides: As N-substituent, methyl, ethyl, propyl, butyl, tert-butyl, cyclohexyl , Benzyl, n-dodecyl, phenyl, 2-methylphenyl, 2,6-diethylphenyl, 2-chlorophenyl, etc .; others include butyl crotonate, hexyl crotonate, dimethyl itaconate, dibutyl itaconate , Diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-vinyl oxazolidone, N -Vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile, methylenemalonnitrile, vinylidene chloride and the like can be mentioned.
これらのうち、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。このような高分子化合物のなかでも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基を持つ高分子化合物では、生成する脂肪族カルボン酸との相溶性に優れるため膜の柔軟化を防ぐ効果が大きく好ましい。 Among these, particularly preferred examples include methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, styrenes, and the like. Among such polymer compounds, it is preferable to use a polymer compound having an acetal group. The polymer compound having an acetal group is preferable because it is excellent in compatibility with the aliphatic carboxylic acid to be produced and has a great effect of preventing the film from being softened.
アセタール基を持つ高分子化合物としては、下記一般式〔6〕で表される化合物が、特に好ましい。 As the polymer compound having an acetal group, a compound represented by the following general formula [6] is particularly preferable.
式中、R51はアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基を表すが、好ましくはアリール基以外の基である。R52は無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、−COR53または−CONHR53を表す。R53はR51と同義である。 In the formula, R 51 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, and is preferably a group other than an aryl group. R 52 represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, —COR 53 or —CONHR 53 . R 53 has the same meaning as R 51 .
R51、R52、R53で表される無置換アルキル基としては炭素数1〜20のものが好ましく、特に好ましくは炭素数1〜6である。これらは直鎖であっても分岐していてもよく、好ましくは直鎖のアルキル基が好ましい。このような無置換アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−アミル基、tert−アミル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプシル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基等が挙げられるが、特に好ましくはメチル基もしくはプロピル基である。 The unsubstituted alkyl group represented by R 51 , R 52 and R 53 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. These may be linear or branched, and preferably a linear alkyl group. Examples of such unsubstituted alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-amyl, tert-amyl, n -Hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, etc. Is particularly preferably a methyl group or a propyl group.
無置換アリール基としては炭素数6〜20のものが好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記のアルキル基、アリール基に置換可能な基としては、アルキル基(例えば、メチル基、n−プロピル基、tert−アミル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、ドデシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基等)、ニトロ基、水酸基、シアノ基、スルホ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(例えば、メチルスルファモイル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、カルボキシ基、カルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシルボニル基等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル基等)などが挙げられる。この置換基が2つ以上あるときは、同じでも異なっていてもよい。置換アルキル基の総炭素数は、1〜20が好ましく、置換アリール基の総炭素数は6〜20が好ましい。 The unsubstituted aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the group that can be substituted with the above alkyl group and aryl group include an alkyl group (for example, methyl group, n-propyl group, tert-amyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, dodecyl group, etc.), aryl group (For example, phenyl group), nitro group, hydroxyl group, cyano group, sulfo group, alkoxy group (for example, methoxy group), aryloxy group (for example, phenoxy group), acyloxy group (for example, acetoxy group), Acylamino group (for example, acetylamino group), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group), sulfamoyl group (for example, methylsulfamoyl group), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom) ), Carboxy group, carbamoyl group (for example, methylcarbamoyl group), alkoxycarbonyl group ( Eg to Metokishiruboniru group), a sulfonyl group (e.g., methyl sulfonyl group). When there are two or more substituents, they may be the same or different. The total carbon number of the substituted alkyl group is preferably 1-20, and the total carbon number of the substituted aryl group is preferably 6-20.
R52としては、−COR53(R53はアルキル基またはアリール基)、−CONHR53(R53はアリール基)が好ましい。a、b、cは各繰り返し単位の質量をmol(mol)%で示した値であり、aは40〜86mol%、bは0〜30mol%、cは0〜60mol%の範囲で、a+b+c=100mol%となる数を表し、特に好ましくは、aが50〜86mol%、bが5〜25mol%、cが0〜40mol%の範囲である。a、b、cの各組成比をもつ各繰り返し単位は、それぞれ同一のもののみで構成されていても、異なるもので構成されていてもよい。 As R 52 , —COR 53 (R 53 is an alkyl group or aryl group) and —CONHR 53 (R 53 is an aryl group) are preferable. a, b, and c are values indicating the mass of each repeating unit in mol (mol)%, a is 40 to 86 mol%, b is 0 to 30 mol%, c is in the range of 0 to 60 mol%, and a + b + c = The number is 100 mol%, and particularly preferably, a is in the range of 50 to 86 mol%, b is 5 to 25 mol%, and c is in the range of 0 to 40 mol%. Each repeating unit having a composition ratio of a, b, and c may be composed of only the same one or different ones.
本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべてのポリウレタンについて、必要に応じ、−COOM、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2、(Mは水素原子、またはアルカリ金属塩基を表す)、−N(R54)2、−N+(R54)3(R54は炭化水素基を表し、複数のR54は同じでも異なっていてもよい)、エポキシ基、−SH、−CNなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は10−1〜10-8mol/gであり、好ましくは10-2〜10-6mol/gである。これら極性基以外に、ポリウレタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上のOH基を有することが好ましい。OH基は硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特にOH基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは分子末端にOH基を3個以上有することが好ましく、4個以上有することが特に好ましい。ポリウレタンを用いる場合は、ガラス転移温度が70〜105℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2が好ましい。 As the polyurethane resin that can be used in the present invention, known resins such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, and polycaprolactone polyurethane can be used. For all of the polyurethane shown here, if necessary, -COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -P = O (OM) 2, -O-P = O (OM) 2, (M is hydrogen represents an atom or an alkali metal salt,), - N (R54) 2, -N + (R 54) 3 (R 54 represents a hydrocarbon group, the plurality of R 54 may be the same or different), epoxy It is preferable to use one in which at least one polar group selected from a group, —SH, —CN and the like is introduced by copolymerization or addition reaction. The amount of such a polar group is 10-1 to 10-8 mol / g, preferably 10-2 to 10-6 mol / g. In addition to these polar groups, it is preferable to have at least one OH group in total at least one at the polyurethane molecule end. Since OH groups are cross-linked with polyisocyanate which is a curing agent to form a three-dimensional network structure, it is more preferable that the OH groups are contained in the molecule. In particular, it is preferable that the OH group is at the molecular end because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has 3 or more OH groups at the molecular terminals, and particularly preferably 4 or more. When polyurethane is used, the glass transition temperature is preferably 70 to 105 ° C., the elongation at break is 100 to 2000%, and the stress at break is preferably 0.5 to 100 N / mm 2 .
本発明に係る上記一般式(V)で表される高分子化合物は、「酢酸ビニル樹脂」桜田一郎編(高分子化学刊行会、1962年)等に記載の一般的な合成方法で合成することができる。 The polymer compound represented by the above general formula (V) according to the present invention is synthesized by a general synthesis method described in “vinyl acetate resin” edited by Ichiro Sakurada (Polymer Chemistry Publishing Society, 1962). Can do.
これらの高分子化合物をバインダーとして単独で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いてもよい。本発明に係る感光性銀塩含有層(好ましくは感光層)には上記ポリマーを主バインダーとして用いる。ここで言う主バインダーとは「感光性銀塩含有層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」を言う。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明に係るポリマーが可溶となる溶媒であれば、特に制限はない。より好ましくはポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。 These polymer compounds may be used alone as a binder, or two or more kinds may be blended and used. In the photosensitive silver salt-containing layer (preferably photosensitive layer) according to the present invention, the above polymer is used as a main binder. The main binder as used herein refers to “a state in which the polymer occupies 50% by mass or more of the total binder of the photosensitive silver salt-containing layer”. Therefore, other polymers may be blended and used within a range of less than 50% by weight of the total binder. These polymers are not particularly limited as long as the polymers according to the present invention are soluble. More preferably, polyvinyl acetate, a polyacrylic resin, a urethane resin, etc. are mentioned.
本発明においては、上記バインダーに対し架橋剤を用いることにより膜付きがよくなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のカブリ抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。 In the present invention, it is known that the use of a crosslinking agent with respect to the binder improves the film formation and reduces development unevenness. However, it prevents fogging during storage and produces printed silver after development. There is also an inhibitory effect.
本発明で用いられる架橋剤としては、従来ハロゲン化銀写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば、特開昭50−96216号公報に記載されているアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤を用いうるが、好ましいのは以下に示すイソシアネート系化合物、シラン化合物、エポキシ化合物または酸無水物である。 Examples of the crosslinking agent used in the present invention include various crosslinking agents conventionally used for silver halide photographic light-sensitive materials, such as aldehyde-based, epoxy-based, and ethylene described in JP-A-50-96216. Although imine, vinyl sulfone, sulfonic acid ester, acryloyl, carbodiimide, and silane compound crosslinking agents can be used, the following isocyanate compounds, silane compounds, epoxy compounds, or acid anhydrides are preferred.
好適なものの一つである下記一般式〔7〕で表されるイソシアネート系及びチオイソシアネート系架橋剤について説明する。 An isocyanate-based and thioisocyanate-based crosslinking agent represented by the following general formula [7], which is one of the preferred ones, will be described.
一般式〔7〕
X2=C=N−L−(N=C=X2)v
式中、vは1または2であり、Lはアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアルキルアリール基で、v+1価の連結基であり、X2は酸素または硫黄原子である。
General formula [7]
X 2 = C = N−L− (N = C = X 2 ) v
In the formula, v is 1 or 2, L is an alkyl group, alkenyl group, aryl group or alkylaryl group, a (v + 1) -valent linking group, and X 2 is an oxygen or sulfur atom.
なお、上記一般式〔7〕で表せる化合物において、アリール基のアリール環は置換基を有し得る。好ましい置換基の例は、ハロゲン原子(例えば、臭素原子または塩素原子)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基及びアルコキシ基から選択される。 In the compound represented by the general formula [7], the aryl ring of the aryl group may have a substituent. Examples of preferred substituents are selected from halogen atoms (for example, bromine atoms or chlorine atoms), hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, alkyl groups and alkoxy groups.
上記イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、更に具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2価または3価のポリアルコール類との付加体が挙げられる。 The isocyanate-based crosslinking agent is an isocyanate having at least two isocyanate groups and adducts thereof (adducts), more specifically, aliphatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates having a cyclic group, Benzene diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates and divalent or trivalent polyisocyanates with these isocyanates Examples include adducts with alcohols.
具体例としては、特開昭56−5535号公報の10〜12頁に記載されているイソシアネート化合物を利用することができる。 As specific examples, isocyanate compounds described on pages 10 to 12 of JP-A-56-5535 can be used.
なお、イソシアネートとポリアルコールのアダクト体は特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは熱現像感光材料のどの部分に置かれてもよい。例えば、支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層または2層以上に添加することができる。 The adduct body of isocyanate and polyalcohol has particularly high ability to improve interlayer adhesion and prevent peeling of layers, image shift and generation of bubbles. Such isocyanate may be placed in any part of the photothermographic material. For example, in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition), photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc. It can be added to any layer on the side and can be added to one or more of these layers.
また、本発明において使用することが可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。 In addition, as the thioisocyanate-based crosslinking agent that can be used in the present invention, compounds having a thioisocyanate structure corresponding to the above isocyanates are also useful.
本発明において使用される上記架橋剤の量は、銀1molに対して0.001〜2mol、好ましくは0.005〜0.5molの範囲である。 The amount of the crosslinking agent used in the present invention is in the range of 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, with respect to 1 mol of silver.
本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、上記の一般式においてvが零(0)、即ち当該官能基を一つのみ有する化合物であっても良い結果が得られる。 The isocyanate compound and thioisocyanate compound that can be contained in the present invention are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent, but in the above general formula, v is zero (0), that is, the functional group is one. Even if it is a compound which has only, a good result is obtained.
本発明において架橋剤として使用できるシラン化合物の例としては、特開2001−264930号公報に記載されている一般式(1)または一般式(2)で表せる化合物が挙げられる。 Examples of the silane compound that can be used as a crosslinking agent in the present invention include compounds represented by general formula (1) or general formula (2) described in JP-A No. 2001-264930.
これらの一般式において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ置換されてもよい直鎖、分枝または環状の炭素数1〜30のアルキル基(メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、シクロアルキル基等)、アルケニル基(プロペニル基、ブテニル基、ノネニル基等)、アルキニル基(アセチレン基、ビスアセチレン基、フェニルアセチレン基等)、アリール基またはヘテロ環基(フェニル基、ナフチル基、テトラヒドロピラン基、ピリジル基、フリル基、チオフェニル基、イミダゾール基、チアゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基等)を表し、置換基としては電子吸引性の置換基または電子供与性の置換基いずれをも有することができる。 In these general formulas, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each an optionally substituted linear, branched or cyclic C 1-30 carbon atom. Alkyl group (methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, cycloalkyl group, etc.), alkenyl group (propenyl group, butenyl group, nonenyl group, etc.), alkynyl group (acetylene group, bisacetylene group, phenylacetylene) Group), aryl group or heterocyclic group (phenyl group, naphthyl group, tetrahydropyran group, pyridyl group, furyl group, thiophenyl group, imidazole group, thiazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, etc.), substituent As an electron-withdrawing substituent or an electron-donating substituent.
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8から選ばれる置換基の少なくとも1つが耐拡散性基または吸着性基であることが好ましく、特にR2が耐拡散性基または吸着性基であることが好ましい。なお、耐拡散性基はバラスト基とも呼ばれ炭素数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキル基が導入されているアリール基等が好ましい。耐拡散性はバインダーや架橋剤の使用量によって異なるが、耐拡散性の基を導入することにより、室温状態の分子内の移動距離が抑制され経時での反応を抑制できる。 R 1, R 2, R 3 , R 4, preferably R 5, R 6, at least 1 Tsuga耐diffusible group or adsorptive group substituents selected from R 7 and R 8, especially R 2 A diffusion-resistant group or an adsorptive group is preferable. The non-diffusible group is also called a ballast group, and is preferably an aliphatic group having 6 or more carbon atoms or an aryl group into which an alkyl group having 3 or more carbon atoms is introduced. Diffusion resistance varies depending on the amount of binder and cross-linking agent used, but by introducing a diffusion-resistant group, the intramolecular movement distance at room temperature can be suppressed and reaction over time can be suppressed.
架橋剤として用いることができるエポキシ化合物としては、エポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。またエポキシ化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマー等のいずれであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーのいずれであってもよく、その数平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2000〜20000程度である。 The epoxy compound that can be used as the crosslinking agent is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups and the number of epoxy groups, molecular weight, and the like. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. Moreover, any of a monomer, an oligomer, a polymer, etc. may be sufficient as an epoxy compound, and the number of the epoxy groups which exist in a molecule | numerator is about 1-10 normally, Preferably it is 2-4. When the epoxy compound is a polymer, it may be a homopolymer or a copolymer, and the particularly preferred range of the number average molecular weight Mn is about 2000 to 20000.
エポキシ化合物としては下記一般式〔8〕で表される化合物が好ましい。 As the epoxy compound, a compound represented by the following general formula [8] is preferable.
一般式〔8〕において、R90で表されるアルキレン基の置換基は、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシアルキル基またはアミノ基から選ばれる基であることが好ましい。またR90で表される連結基中にアミド連結部分、エーテル連結部分、チオエーテル連結部分を有していることが好ましい。X9で表される2価の連結基としては−SO2−、−SO2NH−、−S−、−O−、または−NR91−が好ましい。ここでR91は1価の基であり、電子吸引基であることが好ましい。 In the general formula [8], the substituent of the alkylene group represented by R 90 is preferably a group selected from a halogen atom, a hydroxyl group, a hydroxyalkyl group, or an amino group. The linking group represented by R 90 preferably has an amide linking moiety, an ether linking moiety, or a thioether linking moiety. -SO 2 As the divalent linking group represented by X 9 -, - SO 2 NH -, - S -, - O-, or -NR 91 - are preferred. Here, R 91 is a monovalent group and is preferably an electron withdrawing group.
これらのエポキシ化合物は1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2mol/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3mol/m2の範囲である。 These epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is.
エポキシ化合物は感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層または2層以上に添加することができる。また、併せて支持体の感光層と反対側の任意の層に添加することができる。尚、両面に感光層が存在するタイプの感材ではいずれの層であってもよい。 Epoxy compounds can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc., and added to one or more of these layers can do. Moreover, it can add to the arbitrary layer on the opposite side to the photosensitive layer of a support body collectively. In addition, any layer may be sufficient in the type of photosensitive material in which a photosensitive layer exists on both surfaces.
酸無水物は下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化合物である。 An acid anhydride is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula.
−CO−O−CO−
酸無水物はこのような酸無水基を1個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はないが、一般式〔9〕で表される化合物が好ましい。
-CO-O-CO-
The acid anhydride is not particularly limited as long as it has at least one such acid anhydride group, and the number, molecular weight, and the like of the acid anhydride group are not limited, but a compound represented by the general formula [9] is preferable.
一般式〔9〕において、Zは単環または多環系を形成するのに必要な原子群を表す。これらの環系は未置換であってもよく、置換されていてもよい。置換基の例には、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ヘキシル)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、オクチルオキシ)、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル、トリル)、ヒドロキシル基、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、ブチルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル、フェニルスルホニル)、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾキシ)、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、及びアミノ基が含まれる。置換基としては、ハロゲン原子を含まないものが好ましい。 In the general formula [9], Z represents an atomic group necessary for forming a monocyclic or polycyclic system. These ring systems may be unsubstituted or substituted. Examples of substituents include alkyl groups (eg, methyl, ethyl, hexyl), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, octyloxy), aryl groups (eg, phenyl, naphthyl, tolyl), hydroxyl groups, aryloxy groups (Eg, phenoxy), alkylthio group (eg, methylthio, butylthio), arylthio group (eg, phenylthio), acyl group (eg, acetyl, propionyl, butyryl), sulfonyl group (eg, methylsulfonyl, phenylsulfonyl), acylamino group Sulfonylamino group, acyloxy group (for example, acetoxy, benzoxy), carboxyl group, cyano group, sulfo group, and amino group. As the substituent, those not containing a halogen atom are preferable.
これらの酸無水物は1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2mol/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3mol/m2の範囲である。 These acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is.
本発明において酸無水物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層または2層以上に添加することができる。また、前記エポキシ化合物と同じ層に添加してもよい。 In the present invention, the acid anhydride can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer, and an undercoat layer, and one of these layers or It can be added to two or more layers. Moreover, you may add to the same layer as the said epoxy compound.
本発明の熱現像感光材料は熱現像処理にて写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀塩)、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤及び必要に応じて銀の色調を調整する色調剤を通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。 The photothermographic material of the present invention forms a photographic image by heat development. The reducible silver source (organic silver salt), the photosensitive silver halide particles, the reducing agent, and the color tone of silver as required. It is preferable that the toning agent to be adjusted is usually contained in a dispersed state in an (organic) binder matrix.
好適な色調剤の例は、RD17029号、米国特許第4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号及び同4,021,249号の各明細書に開示されている。特に好ましい色調剤としては、フタラジノンまたはフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組み合わせである。 Examples of suitable toning agents are disclosed in RD 17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136 and 4,021,249. Has been. A particularly preferable colorant is a combination of phthalazinone or phthalazine with phthalic acids or phthalic anhydrides.
なお、従来医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方がレントゲン写真の判読者にとって、より的確な記録画像の診断観察結果が得やすいと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であり、温調な画像調子とは黒画像が褐色味を帯びた温黒調であることを言う。 As for the color tone of an output image for conventional medical diagnosis, it is said that a cold tone image tone is easier for an X-ray photograph reader to obtain a more accurate diagnosis observation result of a recorded image. Here, the cool tone is a pure black tone or a bluish black tone with a black image, and the warm tone tone is a black tone with a brown tone. .
色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度Dmin及び光学濃度D=1.0における色相角habにより求められる。色相角habは国際照明委員会(CIE)が1976年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL*a*b*色空間の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。 The terms “more cold” and “more warm” regarding the color tone are determined by the hue angle hab at the minimum density Dmin and the optical density D = 1.0. The hue angle hab is calculated using the color coordinates a * and b * of the color space L * a * b * color space, which is a color space having a perceptually uniform rate recommended in 1976 by the International Commission on Illumination (CIE). It is calculated by the following formula.
hab=tan-1(b*/a*)
本発明において、好ましいhabの範囲は180°<hab<270°であり、更に好ましくは200°<hab<270°、最も好ましくは220°<hab<260°である。
hab = tan −1 (b * / a * )
In the present invention, the preferred range of hab is 180 ° <hab <270 °, more preferably 200 ° <hab <270 °, and most preferably 220 ° <hab <260 °.
本発明においては、熱現像感光材料の表面層に(感光層側、また支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を設けた場合にも)、現像前の取り扱いや熱現像後の画像の傷つき防止のためマット剤を含有することが好ましく、バインダーに対し質量比で0.1〜30%含有することが好ましい。 In the present invention, the surface layer of the photothermographic material (even when a non-photosensitive layer is provided on the opposite side of the photosensitive layer side with the support sandwiched) is handled before development or image after thermal development. It is preferable to contain a matting agent in order to prevent damage, and it is preferable to contain 0.1 to 30% by mass ratio with respect to the binder.
マット剤の材質は有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機物としては、スイス特許第330,158号明細書等に記載のシリカ、仏国特許第1,296,995号等明細書に記載のガラス粉、英国特許第1,173,181号明細書等に記載のアルカリ土類金属またはカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用いることができる。有機物としては、米国特許第2,322,037号明細書等に記載の澱粉、ベルギー特許第625,451号明細書や英国特許第981,198号明細書等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号公報等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第330,158号明細書等に記載のポリスチレンあるいはポリメタアクリレート、米国特許第3,079,257号明細書等に記載のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,169号明細書等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤を用いることができる。 The material of the matting agent may be either organic or inorganic. Examples of inorganic substances include silica described in Swiss Patent No. 330,158 and the like, glass powder described in French Patent No. 1,296,995, and British Patent No. 1,173,181. Alkaline earth metals or carbonates such as cadmium and zinc described in the book can be used as the matting agent. Examples of organic substances include starch described in US Pat. No. 2,322,037 and the like, starch derivatives described in Belgian Patent 625,451 and British Patent 981,198, and the like. No. 44-3643, etc., polyvinyl alcohol described in Swiss Patent No. 330,158, etc., polymethacrylate described in US Pat. No. 3,079,257, etc., polyacrylonitrile described in US Pat. An organic matting agent such as polycarbonate described in Japanese Patent No. 3,022,169 can be used.
マット剤は平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μmである。また粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以下となるマット剤である。 The matting agent preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm. The coefficient of variation of the particle size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less.
ここで、粒子サイズ分布の変動係数は下記の式で表される値である。 Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.
(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100
本発明に係るマット剤の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size) × 100
The method for adding the matting agent according to the present invention may be a method in which the matting agent is dispersed and applied in advance in the coating solution, or a method in which the matting agent is sprayed after the coating solution is applied and before drying is completed. May be. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used in combination.
本発明の熱現像感光材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(例えば、アルミニウム)等が挙げられるが、情報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシートまたはロールに加工できるものが好適である。従って本発明の熱現像感光材料における支持体としては、プラスチックフィルム(例えばセルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルムまたはポリカーボネートフィルム等)が好ましく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。 Examples of the support material used in the photothermographic material of the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (for example, aluminum), etc. Is preferably one that can be processed into a flexible sheet or roll. Accordingly, the support in the photothermographic material of the present invention is preferably a plastic film (for example, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyamide film, polyimide film, cellulose triacetate film or polycarbonate film). In the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferred. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.
本発明においては帯電性を改良するために、金属酸化物及び/または導電性ポリマーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バッキング層、感光層と下引の間の層などに含まれる。本発明においては米国特許第5,244,773号明細書カラム14〜20に記載された導電性化合物が好ましく用いられる。 In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layers in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the undercoat layer, the backing layer, the layer between the photosensitive layer and the undercoat, and the like. In the present invention, the conductive compounds described in US Pat. No. 5,244,773, columns 14 to 20 are preferably used.
本発明の熱現像感光材料は支持体上に少なくとも1層の感光層を有している。支持体の上に感光層のみを形成してもよいが、感光層の上に少なくとも一層の非感光層を形成するのが好ましい。例えば、感光層の上には保護層が、感光層を保護する目的で、また支持体の反対の面には感光材料間の、あるいは感光材料ロールにおいてくっつきを防止する為に、バックコート層が設けられるのが好ましい。これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては熱現像層よりもガラス転移点が高く、擦り傷や、変形の生じにくいポリマー、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが、前記のバインダーの中から選ばれる。なお、ラチチュードを広げる目的で感光層を支持体の一方の側に2層以上または支持体の両側に各1層以上設置することは、本発明にとって好ましい態様のひとつである。 The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is provided on the photosensitive layer, and a back coat layer is provided on the opposite side of the support to prevent sticking between photosensitive materials or in a photosensitive material roll. Preferably it is provided. Binders used in these protective layers and backcoat layers have a glass transition point higher than that of a heat-developable layer, and polymers such as cellulose acetate and cellulose acetate butyrate are less likely to be scratched or deformed. Chosen from. For the purpose of expanding the latitude, it is one of preferred embodiments of the present invention that two or more photosensitive layers are provided on one side of the support or one or more layers are provided on both sides of the support.
本発明の熱現像感光材料においては、感光層を透過する光の量または波長分布を制御するために感光層と同じ側または反対の側にフィルター層を形成するか、感光層に染料または顔料を含有させることが好ましい。 In the photothermographic material of the present invention, a filter layer is formed on the same side as or opposite to the photosensitive layer in order to control the amount of light transmitted through the photosensitive layer or the wavelength distribution, or a dye or pigment is added to the photosensitive layer. It is preferable to contain.
用いられる染料としては、感光材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。 As the dye used, known compounds that absorb light in various wavelength regions can be used depending on the color sensitivity of the photosensitive material.
例えば、本発明の熱現像感光材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開2001−83655号公報に開示されているようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)、またスクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、またはピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。 For example, when the photothermographic material of the present invention is used as an image recording material by infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus as disclosed in JP-A-2001-83655 (in this specification, a thiopyridium dye). A squarylium dye having a pyrylium nucleus (referred to herein as a pyrylium squarylium dye), a thiopyrylium croconium dye similar to a squarylium dye, or a pyrylium croconium dye. preferable.
尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。 The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobutene-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy- in the molecular structure. It is a compound having 4,5-dione. Here, the hydroxyl group may be dissociated.
なお、染料としては特開平8−201959号公報の化合物も好ましい。 As the dye, the compounds described in JP-A-8-201959 are also preferable.
本発明の熱現像感光材料は上述した各構成層の素材を溶媒に溶解または分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(例えば、感光層、保護層)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下となる前に上層を設けることである。 The photothermographic material of the present invention is preferably formed by preparing a coating solution in which the above-mentioned constituent layers are dissolved or dispersed in a solvent, applying a plurality of these coating solutions simultaneously, and then performing a heat treatment. . Here, “multiple simultaneous multi-layer coating” means that a coating solution for each constituent layer (for example, photosensitive layer, protective layer) is prepared, and each layer is repeatedly coated and dried when it is coated on a support. Rather, it means that each constituent layer can be formed in such a state that a multilayer coating and drying process can be performed simultaneously. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of the total solvent in the lower layer becomes 70% by mass or less.
各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えば、バーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、エクストリュージョン塗布法などの公知の方法を用いることができる。これらのうちより好ましくは、エクストリュージョン塗布法と呼ばれる前計量タイプの塗布方式である。該エクストリュージョン塗布法はスライド塗布方式のようにスライド面での揮発がないため、精密塗布、有機溶剤塗布に適している。この塗布方法は感光層を有する側について述べたが、バックコート層を設ける際、下引きとともに塗布する場合についても同様である。 There are no particular limitations on the method of applying multiple layers of each constituent layer simultaneously, and for example, a known method such as a bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, or extrusion coating method is used. be able to. Of these, a pre-weighing type coating method called an extrusion coating method is more preferable. Since the extrusion coating method does not volatilize on the slide surface unlike the slide coating method, it is suitable for precision coating and organic solvent coating. Although this coating method has been described on the side having the photosensitive layer, the same applies to the case of coating with undercoating when providing the backcoat layer.
なお、本発明において塗布銀量は熱現像感光材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には0.1g/m2以上、2.5g/m2以下が好ましい。更には0.5g/m2以上、1.5g/m2以下が好ましい。当該塗布銀量の内、ハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して2〜18%を占めることが好ましい、更には3〜15%がより好ましい。 In the present invention, the amount of coated silver is preferably selected in accordance with the purpose of the photothermographic material. However, for the purpose of medical images, it is 0.1 g / m 2 or more and 2.5 g / m 2. The following is preferred. Furthermore, 0.5 g / m 2 or more and 1.5 g / m 2 or less are preferable. Among the applied silver amount, those derived from silver halide preferably occupy 2 to 18%, more preferably 3 to 15%, based on the total silver amount.
また本発明において、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014個/m2以上、1×1018個/m2以下が好ましい。更には1×1015個/m2以上、1×1017個/m2以下が好ましい。 In the present invention, the coating density of silver halide grains of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to sphere) is preferably 1 × 10 14 particles / m 2 or more and 1 × 10 18 particles / m 2 or less. Furthermore, 1 × 10 15 pieces / m 2 or more and 1 × 10 17 pieces / m 2 or less are preferable.
更に本発明に係る有機銀塩の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり、10-17g以上、10-15g以下、更には10-16g以上、10-14g以下が好ましい。 Further, the coating density of the organic silver salt according to the present invention is 10 −17 g or more, 10 −15 g or less, more preferably 10 −16 g per silver halide grain of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to sphere). g to 10 −14 g is preferred.
上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。 In the case of coating under the conditions within the above range, preferable results are obtained from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per fixed coating silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. Is obtained.
本発明において、現像条件は使用する機器、装置、あるいは手段に依存して変化するが、典型的には適した高温において、像様に露光した熱現像感光材料を加熱することを伴う。露光後に得られた潜像は、中程度の高温(例えば、約100〜200℃)で十分な時間(一般には約1秒〜約2分間)、熱現像感光材料を加熱することにより現像することができる。加熱温度が100℃以下では短時間に十分な画像濃度が得られず、また200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラーへの転写など、画像そのものだけでなく搬送性や、現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は外部からの水等の処理液の一切の供給なしに進行する。 In the present invention, the development conditions vary depending on the equipment, apparatus or means used, but typically involve heating the photothermographic material exposed imagewise at a suitable high temperature. The latent image obtained after exposure is developed by heating the photothermographic material at a moderately high temperature (for example, about 100 to 200 ° C.) for a sufficient time (generally about 1 second to about 2 minutes). Can do. When the heating temperature is 100 ° C. or lower, sufficient image density cannot be obtained in a short time, and when the heating temperature is 200 ° C. or higher, the binder melts, and not only the image itself but also the transportability and the developing machine are adversely affected, such as transfer to a roller. Effect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of treatment liquid such as water from the outside.
加熱する機器、装置、手段は、ホットプレート、アイロン、ホットローラー、炭素または白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手段で行ってよい。より好ましくは本発明の保護層の設けられた熱現像感光材料は、保護層を有する側の面を加熱手段と接触させ加熱処理するのが、均一な加熱を行う上でまた熱効率、作業性の点などから好ましく、該面をヒートローラに接触させながら搬送し加熱処理して現像することが好ましい。 The apparatus, apparatus, and means for heating may be performed by a heating means typical as a heat generator using a hot plate, iron, hot roller, carbon, white titanium, or the like. More preferably, in the photothermographic material provided with the protective layer of the present invention, the surface on the side having the protective layer is brought into contact with the heating means and the heat treatment is performed. It is preferable from the point of view, and it is preferable that the surface is conveyed while being brought into contact with a heat roller, heated and developed.
本発明の熱現像感光材料の露光は、当該感光材料に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば、当該感光材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザパワーがハイパワーであることや、感光材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザ(780nm、820nm)がより好ましく用いられる。 In the exposure of the photothermographic material of the present invention, it is desirable to use a light source suitable for the color sensitivity imparted to the photosensitive material. For example, when the photosensitive material is sensitive to infrared light, it can be applied to any light source as long as it is in the infrared light range. However, the laser power is high and the photosensitive material can be transparent. In view of the above, an infrared semiconductor laser (780 nm, 820 nm) is more preferably used.
本発明において、露光はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば、第1の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザ光のなす角が実質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いる方法が挙げられる。 In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which the angle formed by the exposure surface of the photosensitive material and the scanning laser beam is not substantially perpendicular.
ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザ走査中に最も垂直に近い角度として、好ましくは55度以上、88度以下、より好ましくは60度以上、86度以下、更に好ましくは65度以上、84度以下、最も好ましくは70度以上、82度以下であることを言う。 Here, “substantially not perpendicular” means that the angle closest to the vertical during laser scanning is preferably 55 degrees or more and 88 degrees or less, more preferably 60 degrees or more and 86 degrees or less, and further Preferably it is 65 degrees or more and 84 degrees or less, Most preferably, it is 70 degrees or more and 82 degrees or less.
レーザ光が感光材料に走査されるときの感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これは、スポット径が小さい方がレーザ入射角度の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。なお、ビームスポット直径の下限は10μmである。このようなレーザ走査露光を行うことにより、干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることができる。 The beam spot diameter on the photosensitive material exposure surface when laser light is scanned onto the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. This is preferable in that the smaller the spot diameter, the smaller the angle of deviation of the laser incident angle from the vertical. The lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as generation of interference fringe-like unevenness.
また第2の方法として、本発明における露光は縦マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには合波による戻り光を利用する、高周波重畳をかけるなどの方法がよい。なお、縦マルチとは露光波長が単一でないことを意味し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。 As a second method, the exposure in the present invention is preferably performed using a laser scanning exposure machine that emits a scanning laser beam that is a vertical multi. Compared with a longitudinal single mode scanning laser beam, image quality degradation such as occurrence of interference fringe-like unevenness is reduced. In order to make it vertically multi-ply, methods such as using return light by multiplexing and applying high frequency superposition are preferable. The vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.
なお、上述した第1、第2の態様の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザとしては、一般によく知られている、ルビーレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザ等の固体レーザ;HeNeレーザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、CO2レーザ、COレーザ、HeCdレーザ、N2レーザ、エキシマーレーザ等の気体レーザ;InGaPレーザ、AlGaAsレーザ、GaAsPレーザ、InGaAsレーザ、InAsPレーザ、CdSnP2レーザ、GaSbレーザ等の半導体レーザ;化学レーザ、色素レーザ等を用途に併せて適時選択して使用できるが、これらの中でもメンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が600〜1200nmの半導体レーザを用いるのが好ましい。なお、レーザ・イメージャやレーザ・イメージセッタで使用されるレーザにおいて、熱現像感光材料に走査されるときの該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は熱現像感光材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、感光材料毎に最適な値に設定することができる。 In the image recording methods of the first and second aspects described above, the laser used for the scanning exposure is generally well-known solid laser such as ruby laser, YAG laser, glass laser; HeNe laser, Ar ion. Gas laser such as laser, Kr ion laser, CO 2 laser, CO laser, HeCd laser, N 2 laser, excimer laser; InGaP laser, AlGaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 laser, GaSb laser, etc. Semiconductor lasers; chemical lasers, dye lasers, and the like can be selected and used in a timely manner, but among these, it is preferable to use a semiconductor laser having a wavelength of 600 to 1200 nm from the viewpoint of maintenance and the size of the light source. In a laser used in a laser imager or a laser image setter, the beam spot diameter on the exposed surface of the material when scanned by a photothermographic material is generally 5 to 75 μm as the minor axis diameter, and the major axis diameter. The laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photosensitive material depending on the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength unique to the photothermographic material.
以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated, this invention is not limited to these.
実施例1
《下引き済み支持体の作製》
濃度0.170に青色着色したポリエチレンテレフタレートフィルムベース(厚み175μm)の片方の面に、0.5kV・A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引塗布液Aを用いて下引層aを、乾燥膜厚が0.2μmになるように塗設した。更に、もう一方の面に同様に0.5kV・A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引塗布液Bを用い、下引層bを乾燥膜厚が0.1μmとなるように塗設した。
Example 1
《Preparation of underdrawn support》
One side of a polyethylene terephthalate film base (thickness: 175 μm) colored blue with a concentration of 0.170 was subjected to a corona discharge treatment of 0.5 kV · A · min / m 2 , and then the following undercoat coating solution was applied thereon. Using A, the undercoat layer a was applied so that the dry film thickness was 0.2 μm. Further, the other surface is similarly subjected to a corona discharge treatment of 0.5 kV · A · min / m 2 , and then the undercoat coating solution B described below is used thereon to form the undercoat layer b with a dry film thickness. It coated so that it might be set to 0.1 micrometer.
その後、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、130℃にて15分熱処理を行った。 Thereafter, heat treatment was performed at 130 ° C. for 15 minutes in a heat treatment type oven having a film transport device composed of a plurality of roll groups.
〈下引塗布液Aの調製〉
n−ブチルアクリレート30質量%、tert−ブチルアクリレート20質量%、スチレン25質量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート25質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)270g、界面活性剤(UL−1)0.6g及びメチルセルロース0.5gを混合した。更にシリカ粒子(サイロイド350、富士シリシア社製)1.3gを水100gに添加し、超音波分散機(ALEX Corporation(株)製、Ultrasonic Generator、周波数25kHz、600W)にて30分間分散処理した分散液を加え、最後に水で1000mlに仕上げて、下引塗布液Aとした。
<Preparation of undercoat coating liquid A>
270 g of copolymer latex liquid (solid content 30%) of 30% by mass of n-butyl acrylate, 20% by mass of tert-butyl acrylate, 25% by mass of styrene and 25% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, surfactant (UL-1 ) 0.6 g and methyl cellulose 0.5 g were mixed. Further, 1.3 g of silica particles (Syloid 350, manufactured by Fuji Silysia) was added to 100 g of water, and dispersion treatment was performed for 30 minutes with an ultrasonic disperser (manufactured by ALEX Corporation, Ultrasonic Generator, frequency 25 kHz, 600 W). The solution was added and finally made up to 1000 ml with water to obtain the undercoat coating solution A.
(コロイド状酸化スズ分散液の調製)
塩化第2スズ水和物65gを、水/エタノール混合溶液2000mlに溶解して均一溶液を調製した。次いでこれを煮沸し、共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて数回水洗した。沈殿物を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し、塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈殿物に蒸留水を添加し、全量を2000mlとする。更に30%アンモニア水を40ml添加し、水溶液を加温して、容量が470mlになるまで濃縮してコロイド状酸化スズ分散液を調製した。
(Preparation of colloidal tin oxide dispersion)
A homogeneous solution was prepared by dissolving 65 g of stannic chloride hydrate in 2000 ml of a water / ethanol mixed solution. This was then boiled to obtain a coprecipitate. The generated precipitate was taken out by decantation and washed several times with distilled water. Silver nitrate is dropped into distilled water from which the precipitate has been washed, and after confirming that there is no reaction of chlorine ions, distilled water is added to the washed precipitate to make a total volume of 2000 ml. Further, 40 ml of 30% aqueous ammonia was added, the aqueous solution was heated, and concentrated to a volume of 470 ml to prepare a colloidal tin oxide dispersion.
〈下引塗布液Bの調製〉
前記コロイド状酸化スズ分散液37.5g、n−ブチルアクリレート20質量%、tert−ブチルアクリレート30質量%、スチレン27質量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート28質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)3.7g、n−ブチルアクリレート40質量%、スチレン20質量%、グリシジルメタクリレート40質量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)14.8gと0.1gの界面活性剤UL−1を混合し、水で1000mlに仕上げて下引塗布液Bとした。
<Preparation of undercoat coating solution B>
Copolymer latex liquid (solid content 30) of 37.5 g of the colloidal tin oxide dispersion, 20% by mass of n-butyl acrylate, 30% by mass of tert-butyl acrylate, 27% by mass of styrene and 28% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate. %) 3.7 g, n-butyl acrylate 40 mass%, styrene 20 mass%, glycidyl methacrylate 40 mass% copolymer latex liquid (solid content 30%) 14.8 g and 0.1 g surfactant UL-1 Were mixed and finished to 1000 ml with water to obtain an undercoat coating solution B.
《バック面塗布液の調製及び塗布》
メチルエチルケトン(MEK)830gを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社、CAB381−20)84.2g及びポリエステル樹脂(Bostic社、VitelPE2200B)4.5gを添加し、溶解した。次に溶解した液に0.30gの赤外染料1を添加し、更にメタノール43.2gに溶解したF系活性剤(旭硝子社、サーフロンKH40)4.5gとF系活性剤(大日本インク社、メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。最後にメチルエチルケトンに1質量%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ(W.R.Grace社、シロイド64X6000)を75g添加、攪拌し、バック面側用の塗布液を調製した。
<< Preparation and application of back surface coating liquid >>
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical, CAB381-20) and 4.5 g of a polyester resin (Bostic, VitelPE2200B) were added and dissolved. Next, 0.30 g of infrared dye 1 was added to the dissolved solution, and 4.5 g of F-type active agent (Asahi Glass Co., Surflon KH40) dissolved in 43.2 g of methanol and F-type active agent (Dainippon Ink, Inc.) , Megafag F120K) 2.3 g was added and stirred well until dissolved. Finally, 75 g of silica (WR Grace Co., Syloid 64X6000) dispersed in methyl ethyl ketone at a concentration of 1% by mass with a dissolver type homogenizer was added and stirred to prepare a coating solution for the back surface side.
このように調製したバック面塗布液を上記の下引層b上に乾燥膜厚が3.5μmになるように、押し出しコーターにて塗布、乾燥を行った。乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて乾燥した。 The back surface coating solution thus prepared was applied and dried on the undercoat layer b by an extrusion coater so that the dry film thickness was 3.5 μm. It dried for 5 minutes using the drying air with a drying temperature of 100 degreeC, and dew point temperature of 10 degreeC.
(感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製)
溶液(A1)
フェニルカルバモイル化ゼラチン 88.3g
化合物(A)(10%メタノール水溶液) 10ml
臭化カリウム 0.32g
水で5429mlに仕上げる
溶液(B1)
0.67mol/L硝酸銀水溶液 2635ml
溶液(C1)
臭化カリウム 51.55g
沃化カリウム 1.47g
水で660mlに仕上げる
溶液(D1)
臭化カリウム 154.9g
沃化カリウム 4.41g
塩化イリジウム(1%溶液) 0.93ml
水で1982mlに仕上げる
溶液(E1)
0.4mol/L臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
溶液(F1)
水酸化カリウム 0.71g
水で20mlに仕上げる
溶液(G1)
56%酢酸水溶液 18.0ml
溶液(H1)
無水炭酸ナトリウム 1.72g
水で151mlに仕上げる
化合物(A):
HO(CH2CH2O)n(CH(CH3)CH2O)17(CH2CH2O)mH
(m+n=5〜7)
特公昭58−58288号、同58−58289号の各公報に示される混合攪拌機を用いて溶液(A1)に、溶液(B1)の1/4量及び溶液(C1)全量を温度30℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要して添加し、核形成を行った。1分後、溶液(F1)の全量を添加した。この間pAgの調整を水溶液(E1)を用いて適宜行った。6分間経過後、溶液(B1)の3/4量及び溶液(D1)の全量を、温度30℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により14分15秒かけて添加した。5分間攪拌した後、40℃に降温し、溶液(G1)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水を10L加え、攪拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除き、更に水を10L加え、攪拌後、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H1)を加え60℃に昇温し、更に120分攪拌した。最後にpHが5.8になるように調整し、銀量1mol当たり1161gになるように水を添加し、乳剤を得た。
(Preparation of photosensitive silver halide emulsion A)
Solution (A1)
Phenylcarbamoylated gelatin 88.3g
Compound (A) (10% methanol aqueous solution) 10 ml
Potassium bromide 0.32g
Finish to 5429 ml with water Solution (B1)
0.67 mol / L silver nitrate aqueous solution 2635 ml
Solution (C1)
Potassium bromide 51.55g
Potassium iodide 1.47g
Finish to 660 ml with water Solution (D1)
Potassium bromide 154.9g
4.41 g of potassium iodide
Iridium chloride (1% solution) 0.93ml
Finish to 1982ml with water Solution (E1)
0.4 mol / L potassium bromide aqueous solution The following silver potential control amount solution (F1)
Potassium hydroxide 0.71g
Finish to 20 ml with water Solution (G1)
56% acetic acid aqueous solution 18.0 ml
Solution (H1)
Anhydrous sodium carbonate 1.72 g
Finish to 151 ml with water Compound (A):
HO (CH 2 CH 2 O) n (CH (CH3) CH 2 O) 17 (CH 2 CH 2 O) m H
(M + n = 5-7)
Using the mixing stirrer disclosed in each of Japanese Patent Publication Nos. 58-58288 and 58-58289, a 1/4 amount of the solution (B1) and a total amount of the solution (C1) were added to the solution (A1) at a temperature of 30 ° C., pAg8 While controlling at 0.09, nucleation was performed by adding 4 minutes and 45 seconds by the simultaneous mixing method. After 1 minute, the entire amount of solution (F1) was added. During this time, the pAg was appropriately adjusted using the aqueous solution (E1). After 6 minutes, 3/4 amount of the solution (B1) and the whole amount of the solution (D1) were added over 14 minutes and 15 seconds by a simultaneous mixing method while controlling the temperature at 30 ° C. and pAg 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 40 ° C., the whole amount of the solution (G1) was added, and the silver halide emulsion was allowed to settle. The supernatant was removed leaving 2000 ml of the sedimented portion, 10 L of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented again. The remaining portion of 1500 ml was left, the supernatant was removed, 10 L of water was further added, and after stirring, the silver halide emulsion was precipitated. After leaving 1500 ml of the sedimented portion and removing the supernatant, the solution (H1) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 120 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.8, and water was added so that the amount was 1161 g per mol of silver to obtain an emulsion.
この乳剤は平均粒子サイズ0.040μm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった。 This emulsion was monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 0.040 μm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.
次に上記乳剤に硫黄増感剤S−5(0.5%メタノール溶液)240mlを加え、更にこの増感剤の1/20mol相当の金増感剤Au−5を添加し、55℃にて120分間攪拌して化学増感を施した。これを感光性ハロゲン化銀乳剤Aとする。 Next, 240 ml of sulfur sensitizer S-5 (0.5% methanol solution) was added to the above emulsion, and gold sensitizer Au-5 equivalent to 1/20 mol of this sensitizer was added, and the emulsion was heated at 55 ° C. Chemical sensitization was performed by stirring for 120 minutes. This is designated as photosensitive silver halide emulsion A.
(粉末脂肪族カルボン酸銀塩Aの調製)
4720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し、濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。該脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、45.3gの上記の感光性ハロゲン化銀乳剤Aと純水450mlを添加し5分間攪拌した。
(Preparation of powdered aliphatic carboxylic acid silver salt A)
130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid were dissolved in 4720 ml of pure water at 80 ° C. Next, 540.2 ml of 1.5M sodium hydroxide aqueous solution was added, 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, and then cooled to 55 ° C. to obtain a fatty acid sodium solution. While maintaining the temperature of the fatty acid sodium solution at 55 ° C., 45.3 g of the above photosensitive silver halide emulsion A and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes.
次に1mol/Lの硝酸銀溶液702.6mlを2分間かけて添加し、10分間攪拌し脂肪族カルボン酸銀塩分散物を得た。その後、得られた脂肪族カルボン酸銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて脂肪族カルボン酸銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が50μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の脂肪族カルボン酸銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(株式会社セイシン企業製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機入り口熱風温度の運転条件により、含水率が0.1%になるまで乾燥して粉末脂肪族カルボン酸銀塩Aを得た。脂肪族カルボン酸銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。 Next, 702.6 ml of a 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion. Thereafter, the obtained aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion was transferred to a water-washing vessel, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion. Was removed. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 50 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Then, the cake-like aliphatic carboxylic acid silver salt thus obtained was added to the airflow dryer flash jet. Using a drier (manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.), a powdered aliphatic carboxylic acid silver salt A was obtained by drying until the water content became 0.1% under the operating conditions of nitrogen gas atmosphere and dryer inlet hot air temperature. . An infrared moisture meter was used to measure the water content of the aliphatic carboxylic acid silver salt composition.
(予備分散液Aの調製)
14.57gのソルーシア社製ポリビニルブチラール樹脂B−79をメチルエチルケトン1457gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバDISPERMAT CA−40M型にて攪拌しながら、500gの粉末脂肪族カルボン酸銀塩Aを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Aを調製した。
(Preparation of preliminary dispersion A)
While dissolving 1.57 g of polyvinyl butyral resin B-79 manufactured by Solusia in 1457 g of methyl ethyl ketone and stirring with dissolver DISPERMAT CA-40M manufactured by VMA-GETZMANN, 500 g of powdered aliphatic carboxylic acid silver salt A was gradually added. Preliminary dispersion A was prepared by adding and mixing well.
〈感光性乳剤分散液Aの調製〉
予備分散液Aをポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ製トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液Aを調製した。
<Preparation of photosensitive emulsion dispersion A>
Media type disperser DISPERMAT SL- filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm diameter zirconia beads (Torayserum manufactured by Toray) so that the residence time in the mill is 1.5 minutes using a pump. Photosensitive emulsion dispersion A was prepared by supplying to C12EX type (VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 8 m / s.
〈安定剤液の調製〉
1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し、安定剤液を調製した。
<Preparation of stabilizer solution>
1.0 g of Stabilizer 1 and 0.31 g of potassium acetate were dissolved in 4.97 g of methanol to prepare a stabilizer solution.
〈赤外増感色素液Aの調製〉
19.2mgの赤外増感色素1、1.488gの2−クロロ−安息香酸、2.779gの安定剤2及び365mgの5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールを31.3mlのMEKに暗所にて溶解し、赤外増感色素液Aを調製した。
<Preparation of infrared sensitizing dye liquid A>
19.2 mg of infrared sensitizing dye 1, 1.488 g 2-chloro-benzoic acid, 2.7779 g stabilizer 2 and 365 mg 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole in 31.3 ml MEK in the dark Infrared sensitizing dye liquid A was prepared.
〈添加液aの調製〉
銀イオン還元剤(表1に記載の化合物)6.0g×10-2/m2、一般式(1)で表される化合物(表1に記載の化合物と量)、1.54gの4−メチルフタル酸、0.48gの赤外染料1をMEK110gに溶解し、添加液aとした。
<Preparation of additive solution a>
Silver ion reducing agent (compound described in Table 1) 6.0 g × 10 −2 / m 2 , compound represented by general formula (1) (compound and amount described in Table 1), 1.54 g of 4- Methylphthalic acid, 0.48 g of infrared dye 1 was dissolved in 110 g of MEK to obtain an additive solution a.
〈添加液bの調製〉
3.56gのカブリ防止剤2、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに溶解し、添加液bとした。
<Preparation of additive liquid b>
3.56 g of antifoggant 2 and 3.43 g of phthalazine were dissolved in 40.9 g of MEK to obtain additive solution b.
《感光層塗布液Aの調製》
不活性気体雰囲気下(窒素97%)において、前記感光性乳剤分散液A(50g)及びMEK15.11gを攪拌しながら21℃に保温し、カブリ防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加え、1時間攪拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)494μlを添加して20分攪拌した。続いて、安定剤液167mlを添加して10分間攪拌した後、1.32gの前記赤外増感色素液Aを添加して1時間攪拌した。その後、温度を13℃まで降温して更に30分攪拌した。13℃に保温したまま、バインダー樹脂としてソルーシア社製ポリビニルブチラール樹脂B−79を13.31g添加して30分攪拌した後、テトラクロロフタル酸(9.4質量%MEK溶液)1.084gを添加して15分間攪拌した。更に攪拌を続けながら、添加液a(銀イオン還元剤、一般式(1)で表される化合物が表1に記載した添加量になるように秤量)、1.6mlのDesmodurN3300/モーベイ社製の脂肪族イソシアネート(10%MEK溶液)、4.27gの添加液bを順次添加し、攪拌することにより感光層塗布液Aを得た。
<< Preparation of photosensitive layer coating solution A >>
In an inert gas atmosphere (97% nitrogen), the photosensitive emulsion dispersion A (50 g) and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. with stirring, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added, Stir for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 20 minutes. Subsequently, 167 ml of a stabilizer solution was added and stirred for 10 minutes, and then 1.32 g of the infrared sensitizing dye solution A was added and stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While keeping the temperature at 13 ° C., 13.31 g of polyvinyl butyral resin B-79 manufactured by Solusia Co. was added as a binder resin and stirred for 30 minutes, and then 1.084 g of tetrachlorophthalic acid (9.4 mass% MEK solution) was added. And stirred for 15 minutes. While further stirring, the additive solution a (silver ion reducing agent, weighed so that the compound represented by the general formula (1) becomes the addition amount shown in Table 1), 1.6 ml of Desmodur N3300 / Morvey Aliphatic isocyanate (10% MEK solution), 4.27 g of additive liquid b were sequentially added and stirred to obtain photosensitive layer coating liquid A.
〈マット剤分散液の調製〉
セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社、7.5gのCAB171−15)をMEK42.5gに溶解し、その中に炭酸カルシウム(Speciality Minerals社、Super−Pflex200)5gを添加し、ディゾルバ型ホモジナイザにて8000rpmで30min分散し、マット剤分散液を調製した。
<Preparation of matting agent dispersion>
Cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical, 7.5 g CAB171-15) was dissolved in 42.5 g of MEK, and 5 g of calcium carbonate (Speciality Minerals, Super-Pflex200) was added thereto, and 8000 rpm with a dissolver type homogenizer. For 30 minutes to prepare a matting agent dispersion.
《表面保護層塗布液の調製》
MEK(メチルエチルケトン)865gを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社、CAB171−15)を96g、ポリメチルメタクリル酸(ローム&ハース社、パラロイドA−21)を4.5g、ビニルスルホン化合物(VSC)を1.5g、ベンゾトリアゾールを1.0g、F系活性剤(旭硝子社、サーフロンKH40)を1.0g、添加し溶解した。次に上記マット剤分散液30gを添加して攪拌し、表面保護層塗布液を調製した。
<< Preparation of surface protective layer coating liquid >>
While stirring 865 g of MEK (methyl ethyl ketone), 96 g of cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical Co., CAB171-15), 4.5 g of polymethylmethacrylic acid (Rohm & Haas Co., Paraloid A-21), vinyl sulfone compound ( 1.5 g of VSC), 1.0 g of benzotriazole, and 1.0 g of F-based activator (Asahi Glass Co., Surflon KH40) were added and dissolved. Next, 30 g of the above matting agent dispersion was added and stirred to prepare a surface protective layer coating solution.
〔熱現像感光材料試料の作製〕
感光層塗布液Aと表面保護層塗布液を、公知のエクストルージョン型コーターを用いて、同時に下引層a上に重層塗布することにより各試料を作製した。塗布は感光層が塗布銀量1.5g/m2、表面保護層が乾燥膜厚で2.5μmになるようにして行った。その後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて10分間乾燥を行い、各試料を作製した。
[Preparation of photothermographic material sample]
Each sample was produced by simultaneously applying the photosensitive layer coating solution A and the surface protective layer coating solution on the undercoat layer a using a known extrusion coater. The coating was carried out so that the photosensitive layer had an applied silver amount of 1.5 g / m 2 and the surface protective layer had a dry film thickness of 2.5 μm. Then, it dried for 10 minutes using the drying air with a drying temperature of 75 degreeC and dew point temperature of 10 degreeC, and produced each sample.
VSC:(CH2=CHSO2CH2)2CHOH
〔露光及び現像処理〕
上記のように作製した試料の乳剤面側から、高周波重畳にて波長810nm及び814nmの縦マルチモード化された半導体レーザを露光源とした露光機により、レーザ走査による露光を与えた。この際に、試料の露光面と露光レーザ光の角度を75度として画像を形成した。(なお、当該角度を90度とした場合に比べ、ムラが少なく、且つ予想外に鮮鋭性等が良好な画像が得られた。)
その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて、試料の保護層とドラム表面が接触するようにして、123℃で13.5秒熱現像処理した。その際、露光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。以上のようにして得られた各画像について、下記の評価を行った。
VSC: (CH 2 = CHSO 2 CH 2 ) 2 CHOH
[Exposure and development processing]
From the emulsion surface side of the sample prepared as described above, exposure by laser scanning was given by an exposure machine using a semiconductor laser which was converted into a longitudinal multimode with wavelengths of 810 nm and 814 nm by high frequency superposition as an exposure source. At this time, an image was formed by setting the angle of the exposure surface of the sample and the exposure laser beam to 75 degrees. (Note that an image with less unevenness and unexpectedly good sharpness or the like was obtained compared to the case where the angle was 90 degrees.)
Thereafter, using an automatic developing machine having a heat drum, the sample was thermally developed at 123 ° C. for 13.5 seconds so that the protective layer of the sample was in contact with the drum surface. At that time, exposure and development were performed in a room adjusted to 23 ° C. and 50% RH. The following evaluation was performed on each image obtained as described above.
《感度、カブリ、最高濃度の測定》
各波長による露光により得られた各画像について、マクベス濃度計(TD−904)により濃度測定を行い、横軸:露光量、縦軸:画像濃度からなる特性曲線を作成し、未露光部分よりも1.0高い濃度を与えるのに要する露光量の比の逆数を感度と定義し、更に最小濃度(カブリ)及び最高濃度を測定した。810nmの半導体レーザで露光した試料101の感度を100とする相対値で表した。
<Measurement of sensitivity, fog, and maximum concentration>
For each image obtained by exposure at each wavelength, density measurement is performed with a Macbeth densitometer (TD-904), and a characteristic curve consisting of the horizontal axis: exposure amount and the vertical axis: image density is created. The reciprocal of the exposure ratio required to give 1.0 high density was defined as sensitivity, and the minimum density (fogging) and maximum density were measured. The sensitivity of the sample 101 exposed with a 810 nm semiconductor laser was expressed as a relative value with 100 as the sensitivity.
《画像色調の評価》
得られた画像の色調を観察し、下記基準に基づき評価した。実用的にはランク4以上であることが好ましい。
ランク:色調評価基準
5:冷黒調で全く赤みを感じない
4:冷黒調ではないが、ほとんど赤みを感じない
3:部分的にわずかに赤みを感じる
2:全面にわずかに赤みを感じる
1:一見して赤みが感じられる。
<Evaluation of image color tone>
The color tone of the obtained image was observed and evaluated based on the following criteria. Practically, it is preferably rank 4 or higher.
Rank: Evaluation criteria for color tone 5: No darkness in cold black tone 4: Not a cool black tone, almost no redness 3: Partially slightly reddish 2: Partially reddish 1 : At first glance, redness is felt.
《画像保存性の評価》
810nmで半導体レーザで露光して得られた各画像について、下記の方法に従って、最小濃度部及び最高濃度部に画像濃度変化率を測定して、画像保存性を評価した。
<Evaluation of image preservation>
For each image obtained by exposure with a semiconductor laser at 810 nm, the image storage stability was evaluated by measuring the image density change rate in the minimum density portion and the maximum density portion according to the following method.
(最小濃度部の画像保存性の評価)
上記の感度、カブリ、最高濃度の測定方法と同様にして、作製した熱現像処理済みの各試料を、45℃、55%RHの環境下で市販の白色蛍光灯を試料表面における照度が500luxとなるように配置し、3日間連続照射を施した。蛍光灯照射済み試料の最小濃度(D2)と蛍光灯未照射試料の最小濃度(D1)をそれぞれ測定し、下式より最小濃度変化率(%)を算出し、最小濃度部の画像保存性の尺度とした。数値が100に近いほど優れていることを表す。最小濃度変化率=D2/D1×100(%)。
(Evaluation of image storability of minimum density part)
In the same manner as the above sensitivity, fog, and maximum density measurement methods, each of the produced heat-development-treated samples was subjected to a commercially available white fluorescent lamp in an environment of 45 ° C. and 55% RH, and the illuminance on the sample surface was 500 lux. And then irradiated continuously for 3 days. Measure the minimum density (D2) of the fluorescent lamp irradiated sample and the minimum density (D1) of the fluorescent lamp unirradiated sample, calculate the minimum density change rate (%) from the following formula, A scale. The closer the value is to 100, the better. Minimum density change rate = D2 / D1 × 100 (%).
(最高濃度部の画像保存性の評価)
上記最小濃度変化率の測定と同様の方法にて作製した熱現像処理済みの各試料を、25℃及び45℃の環境下に3日間放置した後、最高濃度の変化を測定し、下式により画像濃度変化率を測定し、それを最高濃度部の画像保存性の尺度とした。数値が100に近いほど優れていることを表す。画像濃度変化率=45℃保存試料の最高濃度/25℃保存試料の最高濃度×100(%)。
(Evaluation of image storage stability at the highest density area)
Each heat-developed sample prepared by the same method as the measurement of the minimum density change rate is allowed to stand for 3 days in an environment of 25 ° C. and 45 ° C., and then the change in the maximum density is measured. The rate of change in image density was measured and used as a measure of image preservation at the highest density part. The closer the value is to 100, the better. Image density change rate = maximum density of sample stored at 45 ° C./maximum density of sample stored at 25 ° C. × 100 (%).
更に下記の評価基準に従って画像の色調変化を目視評価し、5段階評価した。 Furthermore, according to the following evaluation criteria, the color tone change of the image was visually evaluated and evaluated in five stages.
5:ほとんど変化なし
4:わずかに色調変化がみられる
3:一部に色調変化の増大がみられる
2:色調変化がかなりの部分にみられる
1:色調変化の増大が顕著。
5: Almost no change 4: Slight color change is observed 3: Increase in color change is observed in part 2: Color change is observed in considerable part 1: Increase in color change is remarkable
表1から、本発明の熱現像感光材料は、比較に比べ色調が良好であるだけではなく、感度、最高濃度及びカブリが良好であり、更にレーザ走査露光機を用いて露光した場合に、発振波長の変動に対して出力画像の感度及び最高濃度が極めて安定している。 From Table 1, the photothermographic material of the present invention has not only good color tone but also good sensitivity, maximum density and fog, and oscillation when exposed using a laser scanning exposure machine. The sensitivity and maximum density of the output image are extremely stable with respect to wavelength fluctuations.
実施例2
《PET支持体の作製》
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノール/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が175μmになるような厚みの未延伸フィルムを作製した。これを周速の異なるロ−ルを用い、3.3倍に縦延伸、次いでテンターで4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後、これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンターのチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。
Example 2
<< Preparation of PET support >>
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio)) was obtained according to a conventional method. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and rapidly cooled to produce an unstretched film having a thickness of 175 μm after heat setting. This was stretched 3.3 times in the longitudinal direction using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times in the tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Then, after heat setting at 240 ° C. for 20 seconds, the film was relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit and then knurled at both ends, and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.
(表面コロナ処理)
ピソリッドステートコロナ処理機(ピラー社製、6KVAモデル)を用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
(Surface corona treatment)
Using a pisolid state corona treatment machine (manufactured by Pillar, 6KVA model), both sides of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was processed at 0.375 kV · A · min / m 2 . The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
〈下塗層塗布液の作製〉
処方(感光層側下塗り層用)
ペスレジンA−515GB(30質量%溶液、高松油脂(株)製) 234g
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル(平均エチレンオキシド数=8.5、10質量%溶液) 21.5g
MP−1000(ポリマー微粒子、平均粒径0.4μm、綜研化学(株)製)
0.91g
蒸留水 744ml
処方(バック面第1層用)
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス(固形分40質量%、スチレン/ブタジエン質量比=68/32) 158g
2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩(8質量%水溶液) 20g
ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム(1質量%水溶液) 10ml
蒸留水 854ml
処方(バック面側第2層用)
SnO2/SbO(9/1質量比、平均粒径0.038μm、17質量%分散物)
84g
ゼラチン(10質量%水溶液) 89.2g
メトローズTC−5(2質量%水溶液、信越化学(株)製) 8.6g
MP−1000(ポリマー微粒子、綜研化学(株)製) 0.01g
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(1質量%水溶液) 10ml
NaOH(1質量%) 6ml
プロキセル(ICI社製) 1ml
蒸留水 805ml
《下塗り支持体の作製》
上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面(感光性層面)に上記下塗り塗布液処方(感光層側下塗り層用)をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6ml/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、次いでこの裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方(バック面第1層用)をワイヤーバーでウエット塗布量が5.7ml/m2になるように塗布して、180℃で5分間乾燥し、更に裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方(バック面側第2層用)をワイヤーバーでウエット塗布量が7.7ml/m2になるように塗布して180℃で6分間乾燥して下塗り支持体を作製した。
<Preparation of undercoat layer coating solution>
Formula (for photosensitive layer side undercoat layer)
Pesresin A-515GB (30% by mass solution, manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.) 234 g
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether (average ethylene oxide number = 8.5, 10% by mass solution) 21.5 g
MP-1000 (polymer fine particles, average particle size 0.4 μm, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
0.91g
744 ml of distilled water
Formula (for back layer 1st layer)
Styrene-butadiene copolymer latex (solid content 40% by mass, styrene / butadiene mass ratio = 68/32) 158 g
2,4-Dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt (8% by mass aqueous solution) 20 g
Sodium laurylbenzenesulfonate (1% by weight aqueous solution) 10 ml
854 ml of distilled water
Formula (for back layer 2nd layer)
SnO 2 / SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.038 μm, 17 mass% dispersion)
84g
Gelatin (10 mass% aqueous solution) 89.2g
Metroz TC-5 (2% by weight aqueous solution, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 8.6 g
MP-1000 (polymer fine particles, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.01 g
Sodium dodecylbenzenesulfonate (1% by weight aqueous solution) 10 ml
NaOH (1% by mass) 6 ml
Proxel (ICI) 1ml
805 ml of distilled water
<< Preparation of undercoat support >>
After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating liquid formulation (for the photosensitive layer side undercoat layer) is applied to one side (photosensitive layer surface) with a wire bar. Apply the wet coating amount to 6.6 ml / m 2 (per one side), dry at 180 ° C. for 5 minutes, and then apply the undercoat coating liquid formulation (for back side first layer) to this back side (back side) Is applied with a wire bar so that the wet coating amount is 5.7 ml / m 2 , dried at 180 ° C. for 5 minutes, and the above-mentioned undercoat coating liquid formulation (for back surface side second layer) is applied to the back surface (back surface). ) Was applied with a wire bar so that the wet coating amount was 7.7 ml / m 2 and dried at 180 ° C. for 6 minutes to prepare an undercoat support.
〈塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)の調製〉
塩基プレカーサー(化合物11)を64g、ジフェニルスルホンを28g及び花王(株)製界面活性剤デモールN、10gを蒸留水220mlと混合し、混合液をサンドミル(1/4Gallonサンドグラインダーミル、アイメックス(株)製)を用いてビーズ分散し、平均粒子径0.2μmの塩基プレカーサー化合物の固体微粒子分散液(a)を得た。
<Preparation of Base Precursor Solid Fine Particle Dispersion (a)>
64 g of the base precursor (compound 11), 28 g of diphenylsulfone, and 10 g of surfactant demole N manufactured by Kao Corporation were mixed with 220 ml of distilled water, and the mixture was mixed with a sand mill (1/4 Gallon sand grinder mill, Imex Corporation). To obtain a solid fine particle dispersion (a) of a base precursor compound having an average particle size of 0.2 μm.
〈染料固体微粒子分散液の調製〉
シアニン染料(化合物13)を9.6g及びp−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム5.8gを蒸留水305mlと混合し、混合液をサンドミル(1/4Gallonサンドグラインダーミル、アイメックス(株)製)を用いてビーズ分散して、平均粒子径0.2μmの染料固体微粒子分散液を得た。
<Preparation of dye solid fine particle dispersion>
9.6 g of cyanine dye (compound 13) and 5.8 g of sodium p-dodecylbenzenesulfonate were mixed with 305 ml of distilled water, and the mixture was used with a sand mill (1/4 Gallon sand grinder mill, manufactured by Imex Corp.). The beads were dispersed to obtain a dye solid fine particle dispersion having an average particle size of 0.2 μm.
《ハレーション防止層塗布液の調製》
ゼラチン17g、ポリアクリルアミド9.6g、上記塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)70g、上記染料固体微粒子分散液56g、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子サイズ8μm、粒径標準偏差0.4)1.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.03g、ポリエチレンスルホン酸ナトリウム2.2g、青色染料(化合物14)を0.2g、黄色染料(化合物15)を3.9g、水を844ml混合し、ハレーション防止層塗布液を調製した。
<< Preparation of antihalation layer coating liquid >>
Gelatin 17 g, polyacrylamide 9.6 g, solid fine particle dispersion (a) 70 g of the above-mentioned precursor precursor, 56 g of the above dye solid fine particle dispersion, monodisperse polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size standard deviation 0.4) 1.5 g, benzoisothiazolinone 0.03 g, sodium polyethylene sulfonate 2.2 g, blue dye (compound 14) 0.2 g, yellow dye (compound 15) 3.9 g, water 844 ml mixed to prevent halation A layer coating solution was prepared.
《バック面保護層塗布液の調製》
容器を40℃に保温し、ゼラチン50g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム0.2g、N,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)2.4g、tert−オクチルフェノキシエトキシエタンスルホン酸ナトリウム1g、ベンゾイソチアゾリノン30mg、フッ素系界面活性剤(F−1:N−パーフルオロオクチルスルホニル−N−プロピルアラニンカリウム塩)37mg、フッ素系界面活性剤(F−2:ポリエチレングリコールモノ(N−パーフルオロオクチルスルホニル−N−プロピル−2−アミノエチル)エーテル[エチレンオキサイド平均重合度15])0.15g、フッ素系界面活性剤(F−3)64mg、フッ素系界面活性剤(F−4)32mg、アクリル酸/エチルアクリレート共重合体(共重合質量比5/95)8.8g、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)0.6g、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして1.8g、水を950ml混合して、バック面保護層塗布液とした。
<< Preparation of back surface protective layer coating liquid >>
The container was kept at 40 ° C., 50 g of gelatin, 0.2 g of sodium polystyrenesulfonate, 2.4 g of N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), 1 g of sodium tert-octylphenoxyethoxyethanesulfonate, 30 mg of benzoisothiazolinone , Fluorine-based surfactant (F-1: N-perfluorooctylsulfonyl-N-propylalanine potassium salt) 37 mg, fluorine-based surfactant (F-2: polyethylene glycol mono (N-perfluorooctylsulfonyl-N-) Propyl-2-aminoethyl) ether [ethylene oxide average polymerization degree 15]) 0.15 g, fluorosurfactant (F-3) 64 mg, fluorosurfactant (F-4) 32 mg, acrylic acid / ethyl acrylate Copolymer (copolymerization mass ratio 5/95) .8G, Aerosol OT (American Cyanamid Co.) 0.6 g, and 1.8g of liquid paraffin emulsion as liquid paraffin, water was mixed 950 ml, was the back surface protective layer coating solution.
(ハロゲン化銀乳剤の調製)
蒸留水1421mlに1質量%臭化カリウム溶液3.1mlを加え、更に0.5mol/L濃度の硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン31.7gを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、30℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え、95.4mlに希釈した溶液Aと臭化カリウム15.3gとヨウ化カリウム0.8gを蒸留水にて容量97.4mlに希釈した溶液Bを一定流量で45秒間かけて全量添加した。
(Preparation of silver halide emulsion)
To a solution of 1421 ml of distilled water, 3.1 ml of a 1% by mass potassium bromide solution was added, and a solution containing 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 31.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 30 ° C., distilled water was added to 22.22 g of silver nitrate, and the solution A diluted to 95.4 ml, 15.3 g of potassium bromide, and 0.8 g of potassium iodide were added in a volume of 97. Solution B diluted to 4 ml was added at a constant flow rate over 45 seconds.
その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、更にベンツイミダゾールの10質量%水溶液を10.8ml添加した。更に、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mlに希釈した溶液Cと臭化カリウム44.2gとヨウ化カリウム2.2gを蒸留水にて容量400mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で20分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1mol当たり1×10-4molになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液C及び溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1mol当たり3×10-4mol全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程を行った。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作製した。 Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and further 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate and diluted to 317.5 ml, a solution D in which 44.2 g of potassium bromide and 2.2 g of potassium iodide were diluted with distilled water to a volume of 400 ml were added to solution C. Was added at a constant flow rate over 20 minutes, and solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of the solution C and the solution D so as to be 1 × 10 −4 mol per mol of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, a total amount of 3 × 10 −4 mol of iron (II) hexacyanide aqueous solution per 1 mol of silver was added. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に分光増感色素Aと分光増感色素Bのmol比で1:1のメタノール溶液を銀1mol当たり増感色素Aと分光増感色素Bの合計として1.2×10-3mol加え、1分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1molに対して7.6×10-5mol加え、更に5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1mol当たり2.9×10-4mol加えて91分間熟成した。N,N′−ジヒドロキシ−N″−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、更に4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンヅイミダゾールをメタノール溶液で銀1mol当たり4.8×10-3mol及び1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1molに対して5.4×10-3mol添加して、ハロゲン化銀乳剤1を作製した。調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.042μm、球相当径の変動係数20%のヨウドを均一に3.5mol%含むヨウ臭化銀粒子であった。粒子サイズ等は電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。この粒子の{100}面比率はクベルカムンク法を用いて80%と求められた。 While maintaining the silver halide dispersion at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a methanol solution of 0.34% by mass of 1,2-benzisothiazolin-3-one was added, and after 40 minutes, spectral sensitizing dye A and the spectral solution were added. A methanol solution having a molar ratio of sensitizing dye B of 1: 1 was added in a total of 1.2 × 10 −3 mol of sensitizing dye A and spectral sensitizing dye B per mol of silver, and the temperature was raised to 47 ° C. after 1 minute. . After 20 minutes of temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol with respect to 1 mol of silver, and further 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added to the methanol solution in an amount of 2.9 × with respect to 1 mol of silver. 10 -4 mol was added and the mixture was aged for 91 minutes. 1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine was added, and after 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to the methanol solution at a rate of 4. 8 × 10 −3 mol and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole were added in a methanol solution to a silver halide by adding 5.4 × 10 −3 mol to 1 mol of silver. Emulsion 1 was prepared, and the grains in the prepared silver halide emulsion were silver iodobromide grains uniformly containing 3.5 mol% of iodine having an average sphere equivalent diameter of 0.042 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%. The particle size, etc. was determined from the average of 1000 particles using an electron microscope, and the {100} face ratio of these particles was determined to be 80% using the Kubelka-Munk method.
〈塗布液用混合乳剤Aの調製〉
ハロゲン化銀乳剤1を70質量%、ハロゲン化銀乳剤2を15質量%、ハロゲン化銀乳剤3を15質量%溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1mol当たり7×10-3mol添加した。更に塗布液用混合乳剤1kg当たりハロゲン化銀の含有量が銀として38.2gとなるように加水した。
<Preparation of mixed emulsion A for coating solution>
70% by weight of silver halide emulsion 1, 15% by weight of silver halide emulsion 2 and 15% by weight of silver halide emulsion 3 were dissolved, and 7 × per mol of silver in a 1% by weight aqueous solution of benzothiazolium iodide. 10 −3 mol was added. Further, water was added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution was 38.2 g as silver.
〈脂肪酸銀分散物の調製〉
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)87.6kg、蒸留水423L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、tert−ブタノール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液を得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのtert−ブタノールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を、流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、その後ベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させることにより保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
<Preparation of fatty acid silver dispersion>
Henkel behenic acid (product name Edenor C22-85R) 87.6 kg, distilled water 423 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L, tert-butanol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react. A sodium behenate solution was obtained. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of tert-butanol was kept at 30 ° C., and with sufficient stirring, the total amount of the previous sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution were 93 minutes and 15 seconds at a constant flow rate, respectively. And added over 90 minutes. At this time, only the aqueous silver nitrate solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 14 minutes and 15 seconds. It was to so. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The piping of the sodium behenate solution addition system was prepared by keeping warm water by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip was 75 ° C. In addition, the piping of the silver nitrate aqueous solution addition system was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後、直ちに遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は乾燥させないでウエットケーキとして保管した。得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.14μm、b=0.4μm、c=0.6μm、平均アスペクト比5.2、平均球相当径0.52μm、球相当径の変動係数15%のりん片状の結晶であった。なお、上記係数a、b、cは、有機銀塩粒子の形状を直方体と近似したとき、この直方体の辺を一番短い方からa、b、cとした。 After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was filtered off by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying. When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.14 μm, b = 0.4 μm, c = 0.6 μm, average aspect ratio 5.2, average sphere equivalent diameter. It was a scaly crystal having a coefficient of variation of 0.52 μm and a sphere equivalent diameter of 15%. The coefficients a, b, and c are a, b, and c from the shortest side of the rectangular parallelepiped when the shape of the organic silver salt particle is approximated to a rectangular parallelepiped.
乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、PVA−217)19.3kg及び水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製、PM−10型)で予備分散した。次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1.235×108Paに調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 19.3 kg of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg, and the whole amount is made 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and further a pipeline mixer ( Pre-dispersed by Mizuho Kogyo, PM-10 type). Next, the pre-dispersed stock solution was adjusted to a pressure of 1.235 × 10 8 Pa in a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber). , Three times to obtain a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.
〈還元剤分散物の調製〉
銀イオン還元剤(表2に記載の化合物)6.0g×10-2/m2と変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の20質量%水溶液10kgに水16kgを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型ビーズミル(アイメックス(株)製、UVM−2)にて3時間30分分散した後、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製し、還元剤−1分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子は、メジアン径0.42μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにて濾過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<Preparation of reducing agent dispersion>
16 kg of water was added to 10 kg of a 20 mass% aqueous solution of 6.0 g × 10 −2 / m 2 of silver ion reducing agent (compound described in Table 2) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203), Mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed in a horizontal bead mill (IMM Co., Ltd., UVM-2) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours 30 minutes, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass to obtain a reducing agent-1 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.42 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
〈一般式(1)で表される化合物の分散物の調製〉
一般式(1)で表される化合物(表2に記載の化合物と量)と変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP−203の10質量%水溶液)150gに水75gを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーを0.5mmのジルコニアビーズとサンドミル(1/4Gallonサンドグラインダーミル、アイメックス(株)製)を用いて、回転数1500rpmで10時間ビーズ分散し、メジアン径0.4μmの固体微粒子分散物を得た。得られた分散物を孔径3.0μmのポリプロピレンフィルターにて濾過し、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<Preparation of dispersion of compound represented by general formula (1)>
75 g of water was added to 150 g of the compound represented by the general formula (1) (compound and amount described in Table 2) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., 10% by weight aqueous solution of Poval MP-203), Mix well to make a slurry. This slurry was dispersed with a 0.5 mm zirconia bead and a sand mill (1/4 Gallon sand grinder mill, manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 10 hours at a rotation speed of 1500 rpm to obtain a solid fine particle dispersion having a median diameter of 0.4 μm. Obtained. The obtained dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
〈現像促進剤−1の分散物の調製〉
現像促進剤−1を75gと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP−203)の10質量%水溶液150gに、水75gを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーを0.5mmのジルコニアビーズとサンドミル(1/4Gallonサンドグラインダーミル、アイメックス(株)製)を用いて、回転数1500rpmで10時間ビーズ分散し、メジアン径0.35μmの固体微粒子分散物を得た。得られた分散物を孔径3.0μmのポリプロピレンフィルターにて濾過し、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<Preparation of dispersion of development accelerator-1>
75 g of water was added to 75 g of a development accelerator-1 and 150 g of a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP-203) and mixed well to obtain a slurry. Using a 0.5 mm zirconia bead and a sand mill (1/4 Gallon sand grinder mill, manufactured by AIMEX Co., Ltd.), this slurry was dispersed with beads at a rotation speed of 1500 rpm for 10 hours to obtain a solid fine particle dispersion having a median diameter of 0.35 μm. Obtained. The obtained dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
〈水素結合性化合物−2分散物の調製〉
水素結合性化合物−2(トリ(4−tert−ブチルフェニル)ホスフィンオキシド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgに水10kgを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型ビーズミル(アイメックス(株)製、UVM−2)にて3時間30分分散した後、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が22質量%になるように調製し、水素結合性化合物−2分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.35μm、最大粒子径1.5μm以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は、孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにて濾過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<Preparation of hydrogen bonding compound-2 dispersion>
Add 10 kg of water to 10 kg of 10% aqueous solution of hydrogen bonding compound-2 (tri (4-tert-butylphenyl) phosphine oxide) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) and mix well. To give a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed in a horizontal bead mill (IMM Co., Ltd., UVM-2) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours 30 minutes, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 22% by mass to obtain a hydrogen bonding compound-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.35 μm and a maximum particle diameter of 1.5 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
〈有機ポリハロゲン化合物−1分散物の調製〉
有機ポリハロゲン化合物−1(2−トリブロモメタンスルホニルナフタレン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の20質量%水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと、水16kgを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型ビーズミル(アイメックス(株)製、UVM−2)にて5時間分散した後、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が23.5質量%になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物−1分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子は、メジアン径0.36μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は、孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにて濾過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<Preparation of organic polyhalogen compound-1 dispersion>
10 kg of an organic polyhalogen compound-1 (2-tribromomethanesulfonyl naphthalene), 10 kg of a 20 wt% aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203), and a 20 wt% aqueous solution of sodium triisopropyl naphthalenesulfonate 0 4 kg and 16 kg of water were added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 5 hours in a horizontal bead mill (UVM-2, manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 23.5% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.36 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
〈有機ポリハロゲン化合物−2分散物の調製〉
有機ポリハロゲン化合物−2(トリブロモメタンスルホニルベンゼン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の20質量%水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと水14kgを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型ビーズミル(アイメックス(株)製、UVM−2)にて5時間分散した後、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が26質量%になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物−2分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は、孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにて濾過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<Preparation of organic polyhalogen compound-2 dispersion>
10 kg of organic polyhalogen compound-2 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of 20 wt% aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203), 0.4 kg of 20 wt% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate And 14 kg of water were added and mixed well to form a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal bead mill filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm (manufactured by Imex Co., Ltd., UVM-2), and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 26% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
〈フタラジン化合物−1溶液の調製〉
8kgの変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、MP203)を水174.57kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液3.15kgとフタラジン化合物−1(6−イソプロピルフタラジン)の70質量%水溶液14.28kgを添加し、フタラジン化合物−1の5質量%溶液を調製した。
<Preparation of Phthalazine Compound-1 Solution>
8 kg of modified polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., MP203) was dissolved in 174.57 kg of water, and then 3.15 kg of a 20 mass% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and phthalazine compound-1 (6-isopropylphthalazine) Was added to prepare a 5% by mass solution of phthalazine compound-1.
〈メルカプト化合物−1水溶液の調製〉
メルカプト化合物−1(1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩)7gを水993gに溶解し、0.7質量%の水溶液とした。
<Preparation of mercapto compound-1 aqueous solution>
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.
〈顔料−1分散物の調製〉
C.I.Pigment Blue60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250gを添加し、よく混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ800gを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)にて25時間分散し、顔料−1分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径0.21μmであった。
<Preparation of pigment-1 dispersion>
C. I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Corp. demole N (6.4 g) were added with 250 g of water and mixed well to prepare a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours. Obtained. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.
〈SBRラテックス液の調製〉
Tg=23℃のSBRラテックスは以下により調製した。重合開始剤として過硫酸アンモニウム、乳化剤としてアニオン界面活性剤を使用し、スチレン70.5質量部、ブタジエン26.5質量部及びアクリル酸3質量部を乳化重合させた後、80℃で8時間エージングを行った。その後40℃まで冷却し、アンモニア水によりpH7.0とし、更に三洋化成(株)製サンデットBLを0.22%になるように添加した。次に5%水酸化ナトリウム水溶液を添加しpH8.3とし、更にアンモニア水によりpH8.4になるように調整した。このとき使用したNa+イオンとNH4 +イオンのmol比は1:2.3であった。更にこの液1kg対してベンゾイソチアゾリンノンナトリウム塩7%水溶液を0.15ml添加し、SBRラテックス液を調製した。
<Preparation of SBR latex solution>
An SBR latex having a Tg of 23 ° C. was prepared as follows. Ammonium persulfate is used as a polymerization initiator, an anionic surfactant is used as an emulsifier, 70.5 parts by mass of styrene, 26.5 parts by mass of butadiene and 3 parts by mass of acrylic acid are emulsion-polymerized, and then aging is performed at 80 ° C. for 8 hours. went. Thereafter, the mixture was cooled to 40 ° C., adjusted to pH 7.0 with aqueous ammonia, and Sandet BL manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd. was further added to 0.22%. Next, 5% aqueous sodium hydroxide solution was added to adjust the pH to 8.3, and further adjusted to pH 8.4 with aqueous ammonia. The molar ratio of Na + ions to NH 4 + ions used at this time was 1: 2.3. Further, 0.15 ml of a 7% aqueous solution of benzoisothiazoline non sodium salt was added to 1 kg of this liquid to prepare an SBR latex liquid.
(SBRラテックス:−St(70.5)−Bu(26.5)−AA(3)−のラテックス) Tg23℃。 (SBR latex: Latex of -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-) Tg23 ° C.
平均粒径0.1μm、濃度43質量%、25℃相対湿度60%における平衡含水率0.6質量%、イオン伝導度4.2mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し、ラテックス原液(43質量%)を25℃にて測定)、pH8.4。Tgの異なるSBRラテックスはスチレン、ブタジエンの比率を適宜変更し、同様の方法により調製した。 Average particle size 0.1 μm, concentration 43% by mass, equilibrium moisture content 0.6% by mass at 25 ° C. and relative humidity 60%, ion conductivity 4.2 mS / cm (measurement of ion conductivity is made by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.) Conductivity meter CM-30S was used and latex stock solution (43% by mass measured at 25 ° C.), pH 8.4. SBR latexes having different Tg were prepared in the same manner by appropriately changing the ratio of styrene and butadiene.
《乳剤層(感光性層)塗布液の調製》
上記で得た脂肪酸銀分散物1000g、水125ml、還元剤分散物204g、一般式(1)で表される化合物の分散物(種類と量は表2に記載)、顔料−1分散物27g、有機ポリハロゲン化合物−1分散物82g、有機ポリハロゲン化合物−2分散物40g、フタラジン化合物−1溶液173g、SBRラテックス(Tg:20.5℃)液1082g、メルカプト化合物−1水溶液9gを順次添加し、塗布直前にハロゲン化銀混合乳剤Aを158g添加して、よく混合した乳剤層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し、塗布した。上記乳剤層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で40[mPa・s]であった。レオメトリックスファーイースト株式会社製RFSフルードスペクトロメーターを使用した25℃での塗布液の粘度は、剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]において、それぞれ1500、220、70、40、20[mPa・s]であった。
<< Preparation of emulsion layer (photosensitive layer) coating solution >>
1000 g of the fatty acid silver dispersion obtained above, 125 ml of water, 204 g of the reducing agent dispersion, a dispersion of the compound represented by the general formula (1) (type and amount are described in Table 2), 27 g of the pigment-1 dispersion, 82 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, 40 g of organic polyhalogen compound-2 dispersion, 173 g of phthalazine compound-1 solution, 1082 g of SBR latex (Tg: 20.5 ° C.) solution, and 9 g of mercapto compound-1 aqueous solution were sequentially added. Immediately before coating, 158 g of silver halide mixed emulsion A was added, and the well-mixed emulsion layer coating solution was directly fed to the coating die and coated. The viscosity of the emulsion layer coating solution was 40 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki. The viscosity of the coating solution at 25 ° C. using an RFS fluid spectrometer manufactured by Rheometrics Far East Co., Ltd. is 1500, 220, and 10,000 at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, and 1000 [1 / second], respectively. 70, 40, and 20 [mPa · s].
《乳剤面中間層塗布液の調製》
ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)の10質量%水溶液772g、顔料の20質量%分散物5.3g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス27.5質量%液226gにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を2ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量%水溶液を10.5ml、総量880gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、10ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で21[mPa・s]であった。
<Preparation of emulsion surface intermediate layer coating solution>
772 g of 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 5.3 g of 20% by weight dispersion of pigment, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization) Mass ratio 64/9/20/5/2) 2 ml of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co., Ltd.) 226 g of 27.5 mass% latex 2 ml, 20 mass% aqueous solution of diammonium phthalate 10.5 ml, water was added to a total amount of 880 g, and the pH was adjusted to 7.5 with NaOH to obtain an intermediate layer coating solution, which was fed to the coating die so as to be 10 ml / m 2 . The viscosity of the coating solution was 21 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
《乳剤面保護層第1層塗布液の調製》
イナートゼラチン64gを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス27.5質量%液80g、フタル酸の10質量%メタノール溶液を23ml、4−メチルフタル酸の10質量%水溶液23ml、0.5mol/L濃度の硫酸を28ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を5ml、フェノキシエタノール0.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.1gを加え、総量750gになるように水を加えて塗布液とし、4質量%のクロムみょうばん26mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを18.6ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で17[mPa・s]であった。
<< Preparation of emulsion surface protective layer first layer coating solution >>
Inert gelatin (64 g) is dissolved in water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5/2) 27.5% by weight latex 80 g, 23 ml of a 10% by weight methanol solution of phthalic acid, 23 ml of a 10% by weight aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L, and a 5% by weight aqueous solution of Aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) Add 5 ml, 0.5 g phenoxyethanol, 0.1 g benzoisothiazolinone, add water to make a total amount of 750 g, and use 26 ml of 4% by weight chromium alum mixed with a static mixer just before coating. The solution was fed to the coating die so as to be 18.6 ml / m 2 . The viscosity of the coating solution was 17 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) B-type viscometer.
〔熱現像感光材料の作製〕
上記下塗り支持体のバック面側に、ハレーション防止層塗布液を固体微粒子染料の固形分塗布量が0.04g/m2となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が1.7g/m2となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作製した。バック面と反対の面に下塗り面から乳剤層、中間層、保護層第1層、保護層第2層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作製した。このとき、乳剤層と中間層は31℃に、保護層第一層は36℃に、保護層第一層は37℃に温度調整した。乳剤層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
[Preparation of photothermographic material]
On the back surface side of the undercoat support, the antihalation layer coating solution is applied so that the solid coating amount of the solid fine particle dye is 0.04 g / m 2, and the back surface protective layer coating solution is prepared with a gelatin coating amount of 1. A simultaneous multilayer coating was applied so as to be 7 g / m 2 , followed by drying to produce a back layer. A photothermographic material sample was prepared on the surface opposite to the back surface by simultaneous multi-layer coating using the slide bead coating method in the order of the emulsion layer, intermediate layer, protective layer first layer, and protective layer second layer from the undercoat surface. . At this time, the emulsion layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the protective layer first layer was adjusted to 36 ° C., and the protective layer first layer was adjusted to 37 ° C. The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the emulsion layer is as follows.
ベヘン酸銀 6.19
銀イオン還元剤(種類は表2記載) 6.0g×10-3
一般式(1)で表される化合物 種類と量は表2記載
顔料(C.I.Pigment Blue60) 0.032
ポリハロゲン化合物−1 0.46
ポリハロゲン化合物−2 0.25
フタラジン化合物−1 0.21
SBRラテックス 11.1
メルカプト化合物−1 0.002
ハロゲン化銀(Agとして) 0.145
塗布乾燥条件は以下のとおりである。塗布はスピード160m/minで行い、コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10〜0.30mmとし、減圧室の圧力を大気圧に対して196〜882Pa低く設定した。支持体は塗布前にイオン風にて除電した。引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10〜20℃の風にて塗布液を冷却した後、無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23〜45℃、湿球温度15〜21℃の乾燥風で乾燥させた。乾燥後、25℃で相対湿度40〜60%で調湿した後、膜面を70〜90℃になるように加熱した。加熱後、膜面を25℃まで冷却した。作製された熱現像感光材料のマット度は、ベック平滑度で感光性層面側が550秒、バック面が130秒であった。また、感光層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。
Silver behenate 6.19
Silver ion reducing agent (types listed in Table 2) 6.0 g × 10 −3
Compounds represented by general formula (1) Kinds and amounts are listed in Table 2. Pigment (CI Pigment Blue 60) 0.032
Polyhalogen compound-1 0.46
Polyhalogen compound-2 0.25
Phthalazine Compound-1 0.21
SBR latex 11.1
Mercapto Compound-1 0.002
Silver halide (as Ag) 0.145
The coating and drying conditions are as follows. The coating was performed at a speed of 160 m / min, the gap between the coating die tip and the support was set to 0.10 to 0.30 mm, and the pressure in the decompression chamber was set to be 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure. The support was neutralized with an ion wind before coating. In the subsequent chilling zone, after cooling the coating solution with a wind at a dry bulb temperature of 10 to 20 ° C., it is transported in a non-contact type, and is dried at a dry bulb temperature of 23 to 45 ° C. It dried with the dry wind of the wet bulb temperature 15-21 degreeC. After drying, the humidity was adjusted at 25 ° C. and a relative humidity of 40 to 60%, and then the film surface was heated to 70 to 90 ° C. After heating, the film surface was cooled to 25 ° C. The photothermographic material thus produced had a matte degree of Beck smoothness of 550 seconds on the photosensitive layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the photosensitive layer surface side was measured and found to be 6.0.
《露光及び現像処理》
(写真性能の評価)
富士メディカルドライレーザイメージャーFM−DP L(最大60mW(IIIB)出力の660nm半導体レーザ搭載)にて感光材料を露光した。露光後は、FM−DPLの熱現像部ユニットを改造して熱現像(112℃−119℃−121℃−121℃)に設定した4枚のパネルヒータで合計24秒(標準現像時間は24秒)現像した。
<< Exposure and development process >>
(Evaluation of photographic performance)
The photosensitive material was exposed with a Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL L (mounted with a 660 nm semiconductor laser having a maximum output of 60 mW (IIIB)). After the exposure, the FM-DPL thermal development unit is remodeled and four panel heaters set for thermal development (112 ° C-119 ° C-121 ° C-121 ° C) for a total of 24 seconds (standard development time is 24 seconds) ) Developed.
《写真性能の評価》
実施例1と同様に各項目について評価を行った。結果を表2に示す。
<Evaluation of photographic performance>
Each item was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
上記した評価について得られた結果を表2に示す。表2の結果から本発明の熱現像感光材料は比較試料に比べて、感度が高く低カブリであり、色調も良好であることが分かる。更に画像保存性についても比較例よりも非常に優れていることが分かる。 The results obtained for the above evaluation are shown in Table 2. From the results in Table 2, it can be seen that the photothermographic material of the present invention has higher sensitivity, lower fog and good color tone than the comparative sample. Further, it can be seen that the image storage stability is much superior to that of the comparative example.
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005152294A JP2006330257A (en) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | Heat developable photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005152294A JP2006330257A (en) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | Heat developable photosensitive material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006330257A true JP2006330257A (en) | 2006-12-07 |
Family
ID=37552012
Family Applications (1)
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JP2005152294A Pending JP2006330257A (en) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | Heat developable photosensitive material |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2006330257A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2435105A (en) * | 2006-02-09 | 2007-08-15 | Konica Minolta Med & Graphic | Heat developable photothermographic material |
JP2015075551A (en) * | 2013-10-07 | 2015-04-20 | Jsr株式会社 | Curable composition, cured film and formation method thereof, and base generator |
-
2005
- 2005-05-25 JP JP2005152294A patent/JP2006330257A/en active Pending
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