JP2006324494A - Coater - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗布装置に関し、特に、半導体素子や固体撮像素子をパッケージやリードフレームや基板に接着するダイボンディング工程において接着剤を塗布するのに好適な塗布装置に関する。 The present invention relates to a coating apparatus, and more particularly to a coating apparatus suitable for applying an adhesive in a die bonding process for bonding a semiconductor element or a solid-state imaging element to a package, a lead frame, or a substrate.
従来、半導体素子を半導体基板に接着するときや固体撮像素子をパッケージ容器に接着するときには、接着剤塗布装置からこれら基板に接着剤を塗布し、その後、半導体素子及び固体撮像素子をこれら基板に組み付ける工程が行われている。 Conventionally, when a semiconductor element is bonded to a semiconductor substrate or a solid-state imaging element is bonded to a package container, an adhesive is applied to these substrates from an adhesive application device, and then the semiconductor element and the solid-state imaging element are assembled to these substrates. The process is being performed.
半導体素子や固体撮像素子(以下、総称して半導体チップという。)をセラミック製又は樹脂製のパッケージ容器の底部に取り付ける際には、先ずパッケージ容器の底部におけるダイアタッチと称される固体撮像素子の取付け位置に、塗布装置を使用して接着剤を塗布する。塗布装置としては、下記特許文献1及び2に示すものがある。 When attaching a semiconductor element or a solid-state image sensor (hereinafter collectively referred to as a semiconductor chip) to the bottom of a ceramic or resin package container, first, a solid-state image sensor called die attach at the bottom of the package container is used. Adhesive is applied to the mounting position using an applicator. Examples of the coating apparatus include those shown in Patent Documents 1 and 2 below.
半導体チップをパッケージ容器の底部に接着剤を取り付ける場合には、底部に塗布装置によって塗布された接着剤の量が適正でないと、接着される半導体チップに僅かな傾きが生じることや固着する位置がずれることがあり、品質の低下の要因となることがある。そこで、特許文献1及び2のように接着剤の塗布量の適正化が図られている。 When attaching an adhesive to the bottom of a package container, if the amount of adhesive applied to the bottom by an applicator is not appropriate, the semiconductor chip to be bonded may be slightly tilted or fixed. It may shift and may cause quality degradation. Therefore, as in Patent Documents 1 and 2, the application amount of the adhesive is optimized.
図6は、従来の塗布システムを説明する図である。従来、塗布装置100は、搬送部材によって搬送されるパッケージ容器やリードフレームなどの基材Wに、塗布部材103におけるノズル102の吐出部から銀ペースト等の接着剤Pを吐出させて、基材Wに該接着剤Pを塗布している。そして、基材Wに接着剤Pを塗布した後、組付部材107によって半導体チップTを把持し、基材Wへ接着させている。
FIG. 6 is a diagram illustrating a conventional coating system. Conventionally, the
特許文献1では、接着剤Pを基材Wに塗布した後、基材W上に塗布された接着剤Pを、画像認識部105によって該基材Wの上面から監視し、作業者が塗布時間などの塗布条件の調整を行えるようにしている。しかし、塗布された接着剤Pは、糸引きなどによって形状が一定にはならず、計測された塗布面積が実際の塗布量とが精度良く一致しないという問題があった。以下、図7を参照して具体的に説明する。
In Patent Document 1, after the adhesive P is applied to the substrate W, the adhesive P applied on the substrate W is monitored from the upper surface of the substrate W by the
図7は、基材に塗布された接着剤の状態を説明する図である。図7(a),(b)は、ともに基材Wに接着剤Pが塗布された状態を示しており、各図の上方が基材Wを上方(図6において上側)から見た上面図を表し、各図の下方が基材Wを側面(図6の正面)から見た側面図を表している。図7(a),(b)の上面図では、基材Wに塗布された接着剤Pの面積はともに等しい。このため、上記特許文献1のように基材Wから上面視した場合には、接着剤Pの塗布量はともに等しいと認識される。しかし、図7(a),(b)の側面図に示すように、接着剤Pの塗布された厚みh1,h2が異なる場合、接着剤Pの塗布量が相違することになる。特許文献1は、接着剤Pの形状が一定のなることを前提としているが、塗布された接着剤Pが銀ペースト等のように粘性を有する場合は、糸引きなどによって塗布された塗布液の形状が一定にならず、図7(a),(b)に示すように、基材Wの上方から認識された接着剤Pの面積によって塗布量を測定すると誤差が生じることが懸念される。 FIG. 7 is a diagram illustrating the state of the adhesive applied to the substrate. FIGS. 7A and 7B both show a state where the adhesive P is applied to the base material W, and the upper side of each figure is a top view of the base material W viewed from above (upper side in FIG. 6). The lower part of each figure represents the side view which looked at the base material W from the side (front of FIG. 6). In the top views of FIGS. 7A and 7B, the areas of the adhesive P applied to the substrate W are both equal. For this reason, when the top view is seen from the base material W like the said patent document 1, it is recognized that the application quantity of the adhesive agent P is both equal. However, as shown in the side views of FIGS. 7A and 7B, when the thicknesses h1 and h2 to which the adhesive P is applied are different, the application amount of the adhesive P is different. Patent Document 1 is based on the premise that the shape of the adhesive P is constant. However, when the applied adhesive P is viscous, such as silver paste, the coating liquid applied by stringing or the like is used. The shape does not become constant, and as shown in FIGS. 7A and 7B, there is a concern that an error may occur when the application amount is measured by the area of the adhesive P recognized from above the substrate W.
また、特許文献2の評価方法では、図8に示すように、半導体チップを接着すべきリードフレームなどの基材Wのアイランドに塗布したペースト状接着剤Pを、塗布体積レーザー変位測定装置等の手段を用いて測定し、その結果を塗布装置にフィードバックし、塗布条件を調整することで接着剤Pの塗布量の適正化を図っている。しかし、上述のように塗布した接着剤Pは糸引きなどによって形状が一定にはならないことから、塗布された接着剤Pの体積を高い精度で計測するためには、レーザー変位計による、塗布液の表面高さの測定ポイントS同士のスキャニングピッチを極小にすることで計測ポイントSを増やし、測定の精度を高める必要がある。すると、計測及び体積測定にかかる時間が膨大となり、生産性が低下することが避けられなかった。 Moreover, in the evaluation method of patent document 2, as shown in FIG. 8, the paste adhesive P apply | coated to the island of base materials W, such as a lead frame which should adhere | attach a semiconductor chip, is applied to an application volume laser displacement measuring device etc. Measurement is performed using a means, the result is fed back to the coating device, and the coating amount is adjusted to optimize the coating amount of the adhesive P. However, since the shape of the adhesive P applied as described above does not become constant due to stringing or the like, in order to measure the volume of the applied adhesive P with high accuracy, a coating liquid using a laser displacement meter is used. It is necessary to increase the number of measurement points S by minimizing the scanning pitch between the measurement points S of the surface height, thereby increasing the measurement accuracy. Then, the time required for measurement and volume measurement becomes enormous, and it is inevitable that productivity is lowered.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、半導体素子や固体撮像素子等の半導体チップを接着する基材に、安定した量の接着剤などの塗布液を塗布でき、生産性の低下を防止できる塗布装置及び塗布方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to apply a stable amount of a coating solution such as an adhesive to a base material to which a semiconductor chip such as a semiconductor element or a solid-state imaging element is bonded. An object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method capable of preventing the deterioration of the property.
本発明の上記目的は、基材に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記塗布液を吐出する吐出部を有するノズルと、前記塗布液が前記基材に塗布される前であって且つ前記吐出部に保持されている状態で、前記吐出部の水平方向から前記塗布液の形状に関する二次元情報を取得する二次元情報取得手段と、前記二次元情報取得手段によって取得された前記二次元情報に基づいて、前記塗布液の塗布量を算出する演算部とを備えていることを特徴とする塗布装置によって達成される。 The above-mentioned object of the present invention is a coating apparatus for applying a coating liquid to a base material, the nozzle having a discharge unit for discharging the coating liquid, and before the coating liquid is applied to the base material, and A two-dimensional information acquisition unit that acquires two-dimensional information related to the shape of the coating liquid from the horizontal direction of the discharge unit while being held by the discharge unit, and the two-dimensional information acquired by the two-dimensional information acquisition unit This is achieved by a coating apparatus comprising a calculation unit that calculates a coating amount of the coating liquid based on information.
また、基材に塗布液を塗布する塗布方法であって、前記塗布液をノズルの吐出部から吐出し、前記塗布液が前記基材に塗布される前で且つ前記吐出部に保持されている状態で、前記吐出部の水平方向から前記塗布液の形状に関する二次元情報を取得し、前記二次元情報に基づいて前記塗布液の塗布量を算出することを特徴とする塗布方法によって達成される。 Also, there is provided a coating method for applying a coating liquid to a substrate, wherein the coating liquid is discharged from a discharge portion of a nozzle, and is held by the discharge portion before the coating liquid is applied to the substrate. This is achieved by a coating method characterized in that two-dimensional information related to the shape of the coating liquid is obtained from the horizontal direction of the discharge unit and the coating amount of the coating liquid is calculated based on the two-dimensional information. .
本発明の塗布装置は、基材に塗布する前であって吐出部に保持された状態の塗布液をその水平方向からみて、該塗布液の形状に関する二次元情報を取得するものである。このような状態の塗布液は、吐出部から離れるまで重力により垂直方向に変形した状態で保持されているが、水平方向であればどの向きから見ても均一な形状と捉えることが可能である。このため、二次元情報に基づいて塗布液の三次元の形状を計算することで、塗布液の体積とともに塗布量を算出することができる。こうすれば、塗布液として銀ペースト等の接着剤のように粘性を有する場合に、糸引きなどによって塗布された塗布液の形状が一定にならないことに起因して基材に塗布された塗布液を測定することで誤差が生じてしまう不具合を回避することができる。したがって、本発明の塗布装置は、塗布液の塗布量を正確に測定することができ、この塗布量に基づいて、塗布量を一定の量だけ安定して塗布することができるようになる。 The coating apparatus of the present invention obtains two-dimensional information related to the shape of the coating liquid when viewed from the horizontal direction before being applied to the base material and held in the discharge section. The coating liquid in such a state is held in a state of being deformed in the vertical direction by gravity until it is separated from the discharge unit, but can be regarded as a uniform shape when viewed from any direction in the horizontal direction. . For this reason, by calculating the three-dimensional shape of the coating liquid based on the two-dimensional information, the coating amount can be calculated together with the volume of the coating liquid. In this way, when the coating liquid is viscous like an adhesive such as silver paste, the coating liquid applied to the substrate due to the shape of the coating liquid applied by stringing or the like being not constant. By measuring this, it is possible to avoid a problem that an error occurs. Therefore, the coating apparatus of the present invention can accurately measure the coating amount of the coating liquid, and based on this coating amount, the coating amount can be stably coated by a certain amount.
本発明の塗布装置は、二次元情報取得手段が、塗布液の画像情報を取得する画像認識部であることが好ましい。また、塗布方法は、二次元情報が塗布液を水平方向から見た状態の画像情報であることが好ましい。こうすれば、水平方向視における塗布液の形状に関する画像情報を一回測定することで、塗布液の塗布量を算出することができ、従来のレーザー変位測定装置によって測定するのに比べ、計測及び体積測定にかかる時間の増加を防止することができるため、生産性の低下を防止することができる。 In the coating apparatus of the present invention, the two-dimensional information acquisition unit is preferably an image recognition unit that acquires image information of the coating liquid. In the coating method, the two-dimensional information is preferably image information in a state where the coating liquid is viewed from the horizontal direction. By doing this, it is possible to calculate the coating amount of the coating liquid by measuring the image information about the shape of the coating liquid in a horizontal view once, and the measurement and measurement compared to the measurement by the conventional laser displacement measuring device. Since an increase in time required for volume measurement can be prevented, a decrease in productivity can be prevented.
塗布装置は、演算部で算出された前記塗布量に応じて、目標の塗布量となるようにフィードバック制御が行われることが好ましい。また、塗布方法は、塗布量に応じて、目標の塗布量となるようにフィードバック制御を行うことが好ましい。こうすれば、測定された塗布量に応じ、目標の塗布量に調整するため、塗布装置を制御することができ、塗布液の塗布量の安定化を図ることができるとともに、生産性の向上を図ることができる。 It is preferable that feedback control is performed so that the coating apparatus has a target coating amount according to the coating amount calculated by the calculation unit. Moreover, it is preferable that the application method performs feedback control so as to achieve a target application amount in accordance with the application amount. In this way, the coating device can be controlled to adjust the target coating amount according to the measured coating amount, the coating amount of the coating liquid can be stabilized, and productivity can be improved. Can be planned.
本発明によれば、半導体素子や固体撮像素子等の半導体チップを接着する基材に、安定した量の接着剤などの塗布液を塗布でき、生産性の低下を防止できる塗布装置及び塗布方法を提供できる。 According to the present invention, there is provided a coating apparatus and a coating method capable of applying a stable amount of a coating solution such as an adhesive to a substrate to which a semiconductor chip such as a semiconductor element or a solid-state imaging element is bonded, and preventing a decrease in productivity. Can be provided.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。
なお、本実施形態の塗布装置は、一例として、固体撮像素子をパッケージ容器に接着するときに、接着剤を基材であるパッケージ容器に塗布するのに使用されるディスペンサを用いて説明する。また、塗布液として、固体撮像素子をパッケージ容器に接着するダイボンディング工程で使用される接着剤を用いて説明するが、塗布液は、特に接着剤に限定されない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
Note that, as an example, the coating apparatus of this embodiment will be described using a dispenser that is used to apply an adhesive to a package container as a base material when the solid-state imaging device is bonded to the package container. Moreover, although demonstrated using the adhesive agent used by the die bonding process which adhere | attaches a solid-state image sensor to a package container as a coating liquid, a coating liquid is not specifically limited to an adhesive agent.
本実施形態では、本発明にかかる塗布装置及び塗布方法を使用して基材に接着剤を塗布し、基材に固体撮像素子を接着させる工程を説明する。しかし、本発明の接着剤塗布装置は、半導体素子を半導体基板に接着する接着剤を半導体基材に塗布する工程において適用することができる。 In the present embodiment, a process of applying an adhesive to a substrate using the coating apparatus and the coating method according to the present invention and bonding a solid-state imaging device to the substrate will be described. However, the adhesive application device of the present invention can be applied in a process of applying an adhesive for adhering a semiconductor element to a semiconductor substrate to a semiconductor substrate.
図1は、本発明にかかる塗布装置の構成を説明する図である。
図1に示すように、塗布装置10は、接着剤Pを所定の圧力でパッケージ容器Wに吐出する吐出機構13を備えている。吐出機構13は、接着剤Pを吐出するディスペンサノズル15を備えている。
FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of a coating apparatus according to the present invention.
As shown in FIG. 1, the
また、吐出機構13には、供給管12を介して接着剤Pをエアで加圧する制御部11が接続されている。
A
図2は、ディスペンサノズルを水平方向(図1における左右の方向)にみた状態を示す図である。ディスペンサノズル15には、接着剤Pを吐出するように、鉛直方向下側に突起した、円筒形状の吐出部16が複数形成されている。
FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which the dispenser nozzle is viewed in the horizontal direction (the left-right direction in FIG. 1). The
吐出機構13は、昇降駆動するように構成されている。図示しない搬送機構によって搬送される基材Wが塗布位置まで到達したときに、吐出機構13は、降下駆動することでディスペンサノズル15の吐出部16を基材Wに接近させて該吐出部16から接着剤Pを基材Wに吐出するように制御される。また、基材Wに接着剤Pを吐出させた後は、吐出機構13は上昇駆動することでディスペンサノズル15が基材Wから離間するように制御される。
The
接着剤Pを吐出する際には、吐出機構13に所定の圧力が加えられることで、ディスペンサノズル15の吐出部16から接着剤Pが噴き出し、吐出部16に保持されつつ膨張する。このとき、塗布機構13が下降した状態となって吐出部16が基材Wに接近し、該吐出部16に保持されていた接着剤Pが基材Wの所定の部位に付着する。
When the adhesive P is discharged, a predetermined pressure is applied to the
基材Wは、接着剤Pが塗布された後、固体撮像素子Tを取り付けるダイボンディング位置まで搬送される。ダイボンディング位置では、昇降駆動可能に制御されたアームなどの取付部材18によって保持された固体撮像素子Tが、接着剤Pが塗布された基材Wにおける、取付位置に取り付けられる。ここで、本実施形態のパッケージ容器Wでは、該パッケージ容器Wの底面においてダイアタッチと称される固体撮像素子Tの取付領域に接着剤Pが所定の量だけ塗布され、このダイアタッチを基準として固体撮像素子Tが取り付けられる。
After the adhesive P is applied, the substrate W is transported to a die bonding position where the solid-state imaging element T is attached. At the die bonding position, the solid-state imaging element T held by the
本実施形態の塗布装置10は、接着剤Pの形状に関する二次元情報を取得する二次元情報取得手段21と、この二次元情報取得手段21によって取得された二次元情報に基づいて、接着剤Pの塗布量を算出する演算部22とを備えている。
The
二次元情報取得手段21は、ディスペンサノズル15が上昇した位置にある状態において、該ディスペンサノズル15と略等しい高さに設置されている。本実施形態では、二次元情報取得手段21として、CCDカメラ等の画像認識部を使用した。二次元情報取得手段21は、具体的には、図2に示すように、接着剤Pを塗布する際に、ディスペンサノズル15の吐出部16から接着剤Pが噴き出し、接着剤Pがパッケージ容器Wに塗布される前であって且つ吐出部16に保持されている状態で、吐出部16に保持された状態の接着剤Pの、水平方向からみた形状に関する二次元情報を取得可能なものである。
The two-dimensional information acquisition means 21 is installed at a height substantially equal to the
なお、本実施形態では、複数の吐出部16のうちいずれか1つから吐出される接着剤Pの塗布量を測定する構成であるが、特にこれに限定されず、複数の吐出部16のうち全部又は複数を測定できるように、同数の二次元情報取得手段21を備えていてもよい。また、単一の二次元情報取得手段21を水平方向上に駆動して、複数の吐出部16のうち全部又は複数を測定してもよい。複数の吐出部16がいずれもディスペンサノズル15の内部に連通している構成であれば、本実施形態のように、これら吐出部16のうちいずれか1つを測定することで塗布機構13から塗布される総塗布量を算出することが可能である。
In addition, in this embodiment, although it is the structure which measures the application quantity of the adhesive agent P discharged from any one among the some
図3(a),(b)は、吐出部の水平方向からみた接着剤の形状を示す図である。図3(a)に示すように、吐出部16から噴き出した接着剤Pが、圧力を加えられることで更に押し出され、図3(b)に示すように、吐出部16の先端に保持されつつ重力によって下方に垂れ下がるように変形する。ここで、重力の働く方向と垂直の方向、つまり、水平方向においてはどの向きから見ても略均一な形状となる。二次元情報取得手段22は、吐出部16に保持されている接着剤Pの輪郭線を示す2次曲線、又は、水平方向視で投影した場合の接着剤Pの面積を二次元情報として取得するものである。本実施形態の画像認識部では、吐出部16に保持されている接着剤Pを撮像することで、二次元情報として画像情報を取得している。
FIGS. 3A and 3B are views showing the shape of the adhesive as seen from the horizontal direction of the discharge portion. As shown in FIG. 3A, the adhesive P ejected from the
図4は、本発明にかかる塗布装置の制御系を示すブロック図である。
図1及び図4に示すように、接着剤Pの塗布時に、吐出部の水平方向から接着液の形状に関する二次元情報を取得し、信号配線23を介して演算部22に二次元情報を出力している。
FIG. 4 is a block diagram showing a control system of the coating apparatus according to the present invention.
As shown in FIGS. 1 and 4, when applying the adhesive P, two-dimensional information related to the shape of the adhesive liquid is acquired from the horizontal direction of the discharge unit, and the two-dimensional information is output to the
演算部22は、二次元情報取得手段22から取得された二次元情報に基づいて接着剤Pの塗布量を算出するのに必要な演算処理回路やプログラムを有しており、例えば、一般のパーソナルコンピュータを使用することができる。演算部22においては、例えば、接着剤Pの輪郭線を示す2次曲線や面積に基づき、中心軸で回転させた場合を想定し、積分演算することで接着剤Pの体積を算出することができ、塗布量を測定することができる。
The
また、演算部22は、算出された塗布量に応じて、目標の塗布量との差分を計測することができる。そして、演算部22により、目標の塗布量となるのに必要な塗布装置における吐出圧力や供給量を算出し、制御信号として配線24を介して該塗布装置10に出力することで、フィードバック制御を行うことが可能である。
Moreover, the calculating
次に、本発明にかかる塗布装置によって塗布を行う手順を説明する。図5は、本発明にかかる塗布装置によって行われる塗布の手順を示すフローチャートである。
塗布工程を開始した後、ディスペンサノズル15の吐出部16の先端に塗布液である接着剤Pを吐出させる(ステップ11)。このとき、接着剤Pが基材(パッケージ容器W)に塗布される前であって且つ吐出部16に保持されている状態で、画像認識部21によって吐出部16の水平方向から塗布液の形状に関する画像情報を取得する(ステップS12)。
Next, the procedure for coating with the coating apparatus according to the present invention will be described. FIG. 5 is a flowchart showing a procedure of coating performed by the coating apparatus according to the present invention.
After starting the coating process, the adhesive P, which is a coating liquid, is discharged to the tip of the
画像認識部21によって取得された画像情報が演算部22に出力され、演算部22において、画像情報に基づき接着剤Pの塗布量を算出する(ステップS13)。次に、演算部22において、算出された塗布量が適正値の範囲であるかを判別する(ステップS14)。適正値とは、目標とする塗布量に従って予め設定することができる。算出された塗布量が適正値の範囲より多い場合、又は、少ない場合には、塗布装置10による塗布量を調整するため、塗布装置10に制御信号を出力し、塗布量をフィードバック制御する(ステップS15)。
The image information acquired by the
塗布装置10は、入力された制御信号に基づいて、塗布条件を再設定する(ステップS16)。ここで、塗布条件としては、例えば、図1に示すように、塗布機構13から接着剤Pを押圧する際の制御部11からのエア圧力の加圧時間あるいはエア圧力である。
The
算出された塗布量が適正値の範囲である場合、また、塗布装置10の塗布条件を再設定した後、ディスペンサノズル15の吐出部16から吐出された接着剤Pを基材Wに塗布する(ステップS17)。塗布工程を続行するか判別し(ステップS18)、続行する場合には、搬送機構によって次の基材Wを塗布位置に設置する(ステップS19)。そして、塗布工程を終了するまでステップS11からステップS17の手順を繰り返す。
When the calculated application amount is in the range of an appropriate value, and after resetting the application condition of the
このように、本実施形態の塗布装置及び塗布方法は、基材Wに塗布する前であって吐出部16に保持された状態の接着剤Pを、その水平方向から、形状に関する二次元情報を取得するものである。このような状態の接着剤Pは、吐出部16から離れるまで重力により垂直方向に変形した状態で保持されているが、水平方向であればどの向きから見ても均一な形状と捉えることが可能である。このため、二次元情報に基づいて塗布液の三次元の形状を計算することで、接着剤Pの体積とともに塗布量を算出することができる。こうすれば、接着剤Pとして銀ペースト等のように粘性を有する場合に、糸引きなどによって塗布された接着剤Pの形状が一定にならないことに起因して基材に塗布された接着剤Pを測定することで誤差が生じてしまう不具合を回避することができる。したがって、塗布装置10は、接着剤Pの塗布量を正確に測定することができ、この塗布量に基づいて、接着剤Pを一定の量だけ安定して塗布することができるようになる。
As described above, the coating apparatus and the coating method according to the present embodiment can obtain the two-dimensional information about the shape of the adhesive P in the state held before the coating on the substrate W and held by the
本実施形態では、塗布液の一例として接着剤を用いて説明したが、本発明に係る塗布装置としては、上記の接着剤を塗布する装置に限定されず、一定の塗布量で塗布液を塗布する塗布装置に適用することができる。 In this embodiment, the adhesive is used as an example of the coating liquid. However, the coating apparatus according to the present invention is not limited to the above-described apparatus for applying the adhesive, and the coating liquid is applied with a constant coating amount. It can be applied to a coating apparatus.
また、本実施形態の塗布装置10ように、二次元情報取得手段21が、接着剤Pの画像情報を取得する画像認識部である構成とすれば、水平方向視における接着剤Pの形状に関する画像情報を一回測定することで、接着剤Pの塗布量を算出することができ、従来のレーザー変位測定装置によって測定するのに比べ、計測及び体積測定にかかる時間の増加を防止することができるため、生産性の低下を防止することができる。
Moreover, if the two-dimensional
塗布装置10は、演算部22で算出された塗布量に応じて、目標の塗布量となるようにフィードバック制御が行われる構成とすれば、測定された塗布量に応じ、目標の塗布量に調整するため、塗布装置10を制御することができ、接着剤Pの塗布量の安定化を図ることができるとともに、生産性の向上を図ることができる。
If the
10 吐出機構
15 ディスペンサノズル
16 吐出部
21 二次元情報取得手段
22 演算部
P 接着剤(塗布液)
T 固体撮像素子
W パッケージ容器(基材)
DESCRIPTION OF
T Solid-state image sensor W Package container (base material)
Claims (6)
前記塗布液を吐出する吐出部を有するノズルと、
前記塗布液が前記基材に塗布される前であって且つ前記吐出部に保持されている状態で、前記吐出部の水平方向から前記塗布液の形状に関する二次元情報を取得する二次元情報取得手段と、
前記二次元情報取得手段によって取得された前記二次元情報に基づいて、前記塗布液の塗布量を算出する演算部とを備えていることを特徴とする塗布装置。 A coating apparatus for coating a substrate with a coating liquid,
A nozzle having a discharge section for discharging the coating liquid;
Two-dimensional information acquisition for acquiring two-dimensional information related to the shape of the coating liquid from the horizontal direction of the discharge unit before the coating liquid is applied to the base material and held by the discharge unit Means,
An application apparatus comprising: an arithmetic unit that calculates an application amount of the application liquid based on the two-dimensional information acquired by the two-dimensional information acquisition means.
前記塗布液をノズルの吐出部から吐出し、前記塗布液が前記基材に塗布される前で且つ前記吐出部に保持されている状態で、前記吐出部の水平方向から前記塗布液の形状に関する二次元情報を取得し、前記二次元情報に基づいて前記塗布液の塗布量を算出することを特徴とする塗布方法。 An application method for applying a coating liquid to a substrate,
The application liquid is discharged from a discharge part of a nozzle, and before the application liquid is applied to the base material and is held by the discharge part, it relates to the shape of the application liquid from the horizontal direction of the discharge part. An application method comprising: obtaining two-dimensional information and calculating an application amount of the application liquid based on the two-dimensional information.
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