JP2006323423A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Arihiro Takeda
有広 武田
Shingo Kataoka
真吾 片岡
Takahiro Sasaki
貴啓 佐々木
Tsutomu Kiyono
勉 清野
Yoshiro Koike
善郎 小池
Hideshi Yoshida
秀史 吉田
Yuichi Inoue
雄一 井ノ上
Kazutaka Hanaoka
一孝 花岡
Seiji Tanuma
清治 田沼
Yoshimune Mayama
剛宗 間山
Kimiaki Nakamura
公昭 中村
Hideo Senda
秀雄 千田
Seiji Doi
誠児 土井
Tetsuya Fujikawa
徹也 藤川
孝 ▲高▼木
Takashi Takagi
Hiroyasu Inoue
弘康 井上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vertical alignment liquid crystal display device having high response speed, high display quality, and high transmissivity. <P>SOLUTION: In the liquid crystal display device having a first substrate, a second substrate opposed to the first substrate, a liquid crystal layer enclosed between the first and the second substrates, a first electrode formed on the first substrate, a second electrode formed on the second substrate, a first alignment layer formed on the first substrate so as to cover the first electrode and a second alignment layer formed on the second substrate so as to cover the second electrode, the first and the second alignment layers align liquid crystal molecules in the liquid crystal layer in a direction substantially vertical to the surface of the liquid crystal layer in a non-driving state where driving voltage is not applied between the first and the second electrodes and a plurality of directional patterns are formed toward the same azimuth on the first substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は一般に液晶表示装置に係り、特に垂直配向モードの液晶表示装置に関する。   The present invention generally relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a vertical alignment mode liquid crystal display device.

液晶表示装置は小型で低消費電力の表示装置として様々な携帯型の情報処理装置、特にラップトップ型のコンピュータや携帯電話機等に広く使われている。一方、液晶表示装置の性能の向上は目覚しく、最近ではデスクトップ型のコンピュータやワークステーションのCRT表示装置を置き換えることのできる応答速度およびコントラスト比を有する液晶表示装置が実現されている。   A liquid crystal display device is widely used as a small and low power consumption display device in various portable information processing devices, particularly laptop computers and mobile phones. On the other hand, the performance of the liquid crystal display device has been remarkably improved. Recently, a liquid crystal display device having a response speed and a contrast ratio that can replace a CRT display device of a desktop computer or a workstation has been realized.

一方従来の液晶表示装置では、特にデスクトップ型平面表示装置への応用に関連してコントラスト比および応答速度をさらに向上させる要請があり、さらに表示装置の正面以外の角度においても表示された情報が視認できるように広い視野角を実現する要請がある。   On the other hand, in the conventional liquid crystal display device, there is a demand for further improving the contrast ratio and the response speed particularly in connection with the application to the desktop type flat display device, and further, the displayed information can be visually recognized at an angle other than the front of the display device. There is a demand to realize a wide viewing angle as possible.

実用的な液晶表示装置としては、従来よりノーマリホワイトモードのTN型液晶表示装置が広く使われていた。かかるTNモードの液晶表示装置では、液晶層の面内において液晶分子の配向方向が印加電圧信号に応じて変化し、かかる液晶分子の配向方向の変化により、透過光をオンオフ制御する。   As a practical liquid crystal display device, a normally white mode TN liquid crystal display device has been widely used. In such a TN mode liquid crystal display device, the alignment direction of the liquid crystal molecules changes in accordance with the applied voltage signal in the plane of the liquid crystal layer, and the transmitted light is on / off controlled by the change in the alignment direction of the liquid crystal molecules.

しかしTNモードの液晶表示装置ではその動作原理に関連してコントラスト比に限界があり、またデスクトップ型の表示装置で要求されるような広い視野角を提供するのが困難である問題点があった。   However, the TN mode liquid crystal display device has a problem in that the contrast ratio is limited in relation to the operation principle, and it is difficult to provide a wide viewing angle as required for a desktop display device. .

これに対し、本発明の発明者は、先に駆動電圧が印加されていない状態において液晶分子が液晶層に略垂直方向の配向する、いわゆる垂直配向型の液晶表示装置を提案した。   In contrast, the inventor of the present invention has proposed a so-called vertical alignment type liquid crystal display device in which liquid crystal molecules are aligned in a substantially vertical direction to a liquid crystal layer in a state where a driving voltage is not applied.

図1(A),(B)は、上記本発明者の提案になる、いわゆるMVA型とよばれる垂直配向型液晶表示装置10の原理を示す。ただし図1(A)は前記液晶表示装置10に駆動電圧が印加されていない非駆動状態を、また図1(B)は前記液晶表示装置10に駆動電圧が印加された駆動状態を示す。   FIGS. 1A and 1B show the principle of a vertical alignment type liquid crystal display device 10 called a so-called MVA type proposed by the present inventors. 1A shows a non-driving state in which no driving voltage is applied to the liquid crystal display device 10, and FIG. 1B shows a driving state in which the driving voltage is applied to the liquid crystal display device 10.

図1(A)を参照するに、液晶層12がガラス基板11Aおよび11Bの間に挟持されており、前記ガラス基板11Aおよび11Bは、前記液晶層12と共に液晶パネルを形成する。前記ガラス基板11Aおよび11B上にはそれぞれ図示を省略した分子配向膜が形成されており、かかる分子配向膜の作用により、前記液晶層12中の液晶分子は駆動電圧が印加されていない状態では前記液晶層12に略垂直な方向に配向する。この状態においては、前記液晶表示装置に入射した光ビームは液晶層中において実質的に偏光面が回転されることがなく、従って図1(A)の非駆動状態では、前記液晶パネルの上下にポラライザおよびアナライザを直交ニコル状態で配設した場合、前記ポラライザを通過して液晶層12に入射した光ビームは、前記アナライザにおいて遮断される。   Referring to FIG. 1A, a liquid crystal layer 12 is sandwiched between glass substrates 11A and 11B, and the glass substrates 11A and 11B together with the liquid crystal layer 12 form a liquid crystal panel. A molecular alignment film (not shown) is formed on each of the glass substrates 11A and 11B. Due to the action of the molecular alignment film, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 12 are in the state where no driving voltage is applied. Alignment is performed in a direction substantially perpendicular to the liquid crystal layer 12. In this state, the plane of polarization of the light beam incident on the liquid crystal display device is not substantially rotated in the liquid crystal layer. Therefore, in the non-driven state of FIG. When the polarizer and the analyzer are arranged in a crossed Nicols state, the light beam that has passed through the polarizer and entered the liquid crystal layer 12 is blocked by the analyzer.

これに対して図1(B)の駆動状態では、液晶分子は印加電界の作用によりチルトしており、従って前記液晶層に入射した光ビームにおいては偏光面の回転が生じる。その結果前記ポラライザを通過して前記液晶層12に入射した光ビームは前記アナライザを通過する。   On the other hand, in the driving state shown in FIG. 1B, the liquid crystal molecules are tilted by the action of the applied electric field, so that the polarization plane of the light beam incident on the liquid crystal layer is rotated. As a result, the light beam that has passed through the polarizer and entered the liquid crystal layer 12 passes through the analyzer.

さらに図1(A),(B)の液晶表示装置10においては、非駆動状態から駆動状態への遷移の際に、液晶分子がチルトする方向を規制し、応答速度を向上させるために、前記ガラス基板11Aおよび11B上に、凸パターン13A,13Bを、相互に平行に延在するように形成している。   Further, in the liquid crystal display device 10 of FIGS. 1A and 1B, in order to improve the response speed by regulating the direction in which the liquid crystal molecules tilt during the transition from the non-driving state to the driving state, Convex patterns 13A and 13B are formed on glass substrates 11A and 11B so as to extend in parallel to each other.

かかる凸パターン13A.13Bを形成することにより、液晶表示装置10の応答速度が向上すると同時に、液晶層中に液晶分子のチルトする方向が異なる複数のドメインが形成され、その結果液晶表示装置の視野角が大きく改善される。   Such convex patterns 13A. By forming 13B, the response speed of the liquid crystal display device 10 is improved, and at the same time, a plurality of domains having different liquid crystal molecule tilt directions are formed in the liquid crystal layer. As a result, the viewing angle of the liquid crystal display device is greatly improved. The

図2は、図1(B)の駆動状態における、前記凸パターン13A,13Bの近傍における液晶分子の配向状態を示す図である。   FIG. 2 is a diagram showing an alignment state of liquid crystal molecules in the vicinity of the convex patterns 13A and 13B in the driving state of FIG.

図2を参照するに、液晶分子は駆動状態にあるためチルトしているが、その配向方向は凸パターン13Aあるいは13Bの一方の側と他方の側で180°変化、すなわちツイストしているのがわかる。また図2には、重ねてポラライザの吸収軸方向Pおよびアナライザの吸収軸方向Aを示している。   Referring to FIG. 2, the liquid crystal molecules are tilted because they are in a driving state, but the alignment direction is changed by 180 ° between one side and the other side of the convex pattern 13A or 13B, that is, twisted. Recognize. FIG. 2 also shows the absorption axis direction P of the polarizer and the absorption axis direction A of the analyzer.

かかる従来の垂直配向液晶表示装置10では、チルトした前記液晶分子が180°ツイストする間に、液晶分子の配向方向が前記突起パターン13Aあるいは13Bの一方の縁においてはポラライザの吸収軸方向Pに一致し、他方の縁においてはアナライザの吸収軸方向Aに一致する状況が必ず生じるのがわかる。このような液晶分子の配向が生じると、前記凸パターンの両側縁に沿って、図示したように2本の暗線が生じてしまう。かかる暗線は液晶パネルの透過率を低下させ、従って液晶表示装置の表示のコントラスト比を低下させてしまう。   In such a conventional vertical alignment liquid crystal display device 10, while the tilted liquid crystal molecules are twisted by 180 °, the alignment direction of the liquid crystal molecules is aligned with the absorption axis direction P of the polarizer at one edge of the protrusion pattern 13A or 13B. In addition, it can be seen that a situation always coincides with the absorption axis direction A of the analyzer at the other edge. When such alignment of liquid crystal molecules occurs, two dark lines are generated along both side edges of the convex pattern as shown in the figure. Such dark lines reduce the transmittance of the liquid crystal panel, and thus reduce the contrast ratio of the display of the liquid crystal display device.

さらに図1(A),(B)に示す液晶表示装置10では前記凸パターン13A,13B近傍の液晶分子のチルト方向は規制されているものの、その他の領域の液晶分子は規制されてはいない。その結果図1(A)の非駆動状態から図1(B)の駆動状態に液晶表示装置の状態が遷移した場合、液晶分子のチルトは前記凸パターン13A,13B近傍の領域で最初に開始され、それがその他の領域まで伝搬することで最終的に全ての液晶分子が所望の方向にチルトすることになるが、このようなチルトの伝搬は時間がかかり、応答速度に関してはなお改善の余地が残されている。特にこのチルトの伝搬に関連して、前記液晶表示装置10で中間調の表示を行おうとした場合、液晶分子に印加される電界が弱いため、前記凸パターン13Aあるいは13Bから離れた領域の液晶分子はチルト方向が定まらず、応答が遅れる傾向が見られる。   Further, in the liquid crystal display device 10 shown in FIGS. 1A and 1B, the tilt direction of the liquid crystal molecules in the vicinity of the convex patterns 13A and 13B is regulated, but the liquid crystal molecules in other regions are not regulated. As a result, when the state of the liquid crystal display device transitions from the non-driving state of FIG. 1A to the driving state of FIG. 1B, the tilt of the liquid crystal molecules is first started in the region near the convex patterns 13A and 13B. However, as it propagates to other regions, all liquid crystal molecules will eventually tilt in the desired direction, but such tilt propagation takes time and there is still room for improvement in response speed. It is left. In particular, in relation to the propagation of the tilt, when halftone display is performed on the liquid crystal display device 10, since the electric field applied to the liquid crystal molecules is weak, the liquid crystal molecules in a region away from the convex pattern 13A or 13B. The tilt direction is not determined, and the response tends to be delayed.

また、図1(A),(B)に示す従来の液晶表示装置10においては、前記凸パターン13A,13Bとして、少なくとも1.2μmの高さのパターンが必要となるが、かかる厚いパターンをレジスト等により形成すると、かかるパターン部分において液晶層12のリタデーションが減少してしまい、かかるリタデーションの減少によっても、透過率の低下が引き起こされる。   In addition, in the conventional liquid crystal display device 10 shown in FIGS. 1A and 1B, a pattern having a height of at least 1.2 μm is required as the convex patterns 13A and 13B. When the film is formed by, for example, the retardation of the liquid crystal layer 12 is reduced in the pattern portion, and the decrease in the retardation causes a decrease in transmittance.

そこで、本発明は上記の課題を解決した、新規で有用な液晶表示装置を提供することを概括的課題とする。   Accordingly, it is a general object of the present invention to provide a new and useful liquid crystal display device that solves the above problems.

本発明のより具体的な課題は、高いコントラスト比を有し、応答速度が速く、しかも視野角の広い液晶表示装置を提供することにある。   A more specific object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having a high contrast ratio, a high response speed, and a wide viewing angle.

本発明は、上記の課題を、第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板と、前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、前記第1の基板上に形成された第1の電極と、前記第2の基板上に形成された第2の電極と、前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の配向膜と、前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の配向膜とよりなり、前記第1の配向膜と前記第2の配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記基板の面に対して略垂直方向に配向させ、少なくとも前記第1の基板上には、前記基板面に平行な少なくとも第1の方向に延在し前記液晶層の面に平行で前記第1の方向に直角な第2の方向に対して周期的に変化する構造パターンが形成されており、前記構造パターンは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加された駆動状態において、前記第2の方向に対して周期的に変化する電界を形成し、前記液晶分子は、前記駆動状態において、実質的に前記第1の方向にチルトすることを特徴とする液晶表示装置により、解決する。   The present invention solves the above-mentioned problems by providing a first substrate, a second substrate facing the first substrate, a liquid crystal layer sealed between the first and second substrates, and the first substrate. A first electrode formed on the first substrate; a second electrode formed on the second substrate; and a first electrode formed on the first substrate so as to cover the first electrode. 1 alignment film and a second alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode. The first alignment film and the second alignment film are: , In a non-driving state where no driving voltage is applied between the first electrode and the second electrode, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are aligned in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate, At least on the first substrate, extends in at least a first direction parallel to the substrate surface, and is parallel to the surface of the liquid crystal layer and in the first direction. A structural pattern that periodically changes with respect to a second direction perpendicular to each other is formed, and the structural pattern is a driving state in which a driving voltage is applied between the first electrode and the second electrode. In the liquid crystal display device, an electric field periodically changing with respect to the second direction is formed, and the liquid crystal molecules are substantially tilted in the first direction in the driving state. ,Resolve.

かかる構造パターンは、前記第2の方向に周期的に変化する電界を形成できるものであれば、前記第1の電極上に形成された絶縁材料あるいは導電性材料の凸パターンであってもよく、また前記第1の電極に形成されたカットアウト等の凹パターンであってもよい。また本発明では前記第1の電極を前記第1の基板上に形成された複数の画素電極とするのが好ましいが、この場合、前記複数の画素電極の各々を複数のドメインに区画し、前記構造パターンを前記複数のドメインの各々に、一つのドメインにおける前記第1の方向が、辺で隣接するドメイン中における前記第1の方向と90°の角度で交差するような関係で形成することにより、もともと垂直配向モードの採用により優れている視野角特性を、さらに向上させることができる。前記第1の基板上には、前記複数の画素電極の各々に対応して、前記画素電極を駆動する薄膜トランジスタが形成し、アクティブマトリクス駆動方式を採用することにより、本発明の液晶表示装置はその優れた応答特性を最大限に発揮することができる。   The structural pattern may be a convex pattern of an insulating material or a conductive material formed on the first electrode as long as it can form an electric field that periodically changes in the second direction. Further, it may be a concave pattern such as a cutout formed on the first electrode. In the present invention, the first electrode is preferably a plurality of pixel electrodes formed on the first substrate. In this case, each of the plurality of pixel electrodes is divided into a plurality of domains, and By forming a structural pattern in each of the plurality of domains in such a relationship that the first direction in one domain intersects the first direction in domains adjacent to each other at an angle of 90 °. The viewing angle characteristics that were originally excellent by adopting the vertical alignment mode can be further improved. On the first substrate, a thin film transistor for driving the pixel electrode is formed corresponding to each of the plurality of pixel electrodes, and an active matrix driving method is employed. Excellent response characteristics can be maximized.

前記第1および第2の基板の少なくとも一方の上には、さらに前記構造パターンとは別の構造パターンを、かかる別の構造パターンが前記第1の方向に交差するように、しかも前記構造パターンの前記第2の方向への繰り返し周期よりも実質的に大きい繰り返し周期で、前記第2の方向とは異なった方向に繰り返されるように形成してもよい。かかる別の構造パターンを形成することにより、電圧印加時における液晶分子のチルト方向を一意的に決定することができ、前記微細パターンによる液晶分子のチルト方向の規制の効果を高めることができ、その結果、液晶表示装置の応答速度が向上する。かかる別の構造パターンは、前記構造パターンよりも大きい高さを有するのが好ましい。   A structural pattern different from the structural pattern is further formed on at least one of the first and second substrates so that the other structural pattern intersects the first direction. You may form so that it may be repeated in the direction different from the said 2nd direction by the repetition period substantially larger than the repetition period to the said 2nd direction. By forming such another structural pattern, the tilt direction of the liquid crystal molecules at the time of voltage application can be uniquely determined, and the effect of regulating the tilt direction of the liquid crystal molecules by the fine pattern can be enhanced. As a result, the response speed of the liquid crystal display device is improved. Such another structural pattern preferably has a height greater than the structural pattern.

前記構造パターンを各々前記第1の方向に延在し前記第2の方向に第1の周期で繰り返される複数の微細パターンより形成した場合には、前記別の構造パターンは、前記第1の基板上に形成され前記第1の方向に対して交差する第3の方向に延在する第1の粗構造パターンと、前記第2の基板上に形成され前記第2の方向に直交する第4の方向に延在する第2の粗構造パターンとにより形成し、前記第1の粗構造パターンを、前記第4の方向に、前記第1の周期よりも実質的に大きい周期で繰り返し、前記第2の粗構造パターンを、前記第3の方向に、前記第1の周期よりも実質的に大きい周期で繰り返するのが好ましい。前記別の構造パターンによる応答速度の向上効果を最大化するためには、前記第1および第2の粗構造パターンの各々は、前記微細パターンよりも大きな幅を有するのが好ましい。前記第3の方向は、前記第1の方向に対して直交するのが好ましく、あるいは前記第3の方向は、前記第1の方向と45°の角度で交差するのが好ましい。   When the structural pattern is formed by a plurality of fine patterns extending in the first direction and repeated in the second direction at a first period, the another structural pattern is the first substrate. A first rough structure pattern formed on the second substrate and extending in a third direction intersecting the first direction; and a fourth coarse structure pattern formed on the second substrate and orthogonal to the second direction. A second coarse structure pattern extending in a direction, and repeating the first coarse structure pattern in the fourth direction with a period substantially larger than the first period, It is preferable that the coarse structure pattern is repeated in the third direction with a period substantially larger than the first period. In order to maximize the effect of improving the response speed due to the other structure pattern, each of the first and second coarse structure patterns preferably has a larger width than the fine pattern. The third direction is preferably orthogonal to the first direction, or the third direction preferably intersects the first direction at an angle of 45 °.

前記構造パターンを各々前記第1の方向に第1の幅で延在し前記第2の方向に第1の周期で繰り返される複数の微細パターンより構成した場合、前記別の構造パターンを、前記第1の基板上に、前記第1および第2の方向に斜交する第3の方向と前記第3の方向に直交する第4の方向に延在するように形成された第1の格子状パターンと、前記第2の基板上に、前記第3および第4の方向に延在するように、かつ前記第1の格子状パターンとずらした位置関係で形成された第2の格子状パターンとより構成してもよい。この場合には、前記第1および第2の格子状パターンは、前記第1の周期よりも大きいそれぞれの周期で繰り返される。かかる構成においても、前記第1および第2の格子状パターンの各々は、前記微細パターンの幅よりも大きな幅を有するのが好ましい。また前記第3の方向は前記第1の方向に対して45°の角度で交差するのが好ましい。その際、前記第1の格子状パターンは、前記第1の基板上に前記第1の格子状パターンで区画された第1〜第4のドメインを画成し、前記微細パターンは、前記第1〜第4の各々のドメインに、前記第1の方向が、辺で隣接するドメインにおける前記第1の方向と90°の角度をなすように形成することにより、視野角特性を最適化することが可能である。   When each of the structural patterns includes a plurality of fine patterns extending in the first direction with a first width and repeated in the second direction at a first period, the another structural pattern is A first lattice pattern formed on one substrate so as to extend in a third direction oblique to the first and second directions and a fourth direction orthogonal to the third direction And a second grid pattern formed on the second substrate so as to extend in the third and fourth directions and shifted from the first grid pattern. It may be configured. In this case, the first and second lattice patterns are repeated with each period larger than the first period. Also in this configuration, it is preferable that each of the first and second lattice patterns has a width larger than the width of the fine pattern. The third direction preferably intersects the first direction at an angle of 45 °. In this case, the first grid pattern defines first to fourth domains defined by the first grid pattern on the first substrate, and the fine pattern includes the first pattern. The angle of view can be optimized by forming each of the fourth domains in such a manner that the first direction forms an angle of 90 ° with the first direction in domains adjacent to each other on the side. Is possible.

前記別の構造パターンは、凸パターンであっても、凹パターンであってもよい。   The another structural pattern may be a convex pattern or a concave pattern.

また、本発明において前記構造パターンを形成する前記複数のパターンの各々は、前記第1の方向上少なくとも一方の向きを指向する方向性を有するのが好ましい。例えば、前記複数のパターンの各々は、略三角形状を有し、頂点が前記方向性を指向するように形成するのが好ましい。あるいは前記複数のパターンの各々を、相対向する第1および第2の頂点を有する菱形形状を有するように、かつ前記第1の頂点が、前記第1の方向上、一方の向きを指向し、前記第2の頂点が、前記第2の方向上、逆方向の向きを指向するように形成するのが好ましい。かかる方向性を有するパターンを前記構造パターンとして使うことにより、前記液晶層中の液晶分子が駆動状態においてチルトする際に、その倒れる向きが前記第1の方向上において一意的に決定され、その結果液晶表示装置の応答速度が向上する。前記光硬化組成物の光硬化物を液晶層中に形成した場合にも、同様な効果が得られる。前記方向性を有する複数のパターンの各々は、10μm以下の最大幅を有するのが好ましい。   In the present invention, it is preferable that each of the plurality of patterns forming the structural pattern has a directivity that points in at least one direction in the first direction. For example, it is preferable that each of the plurality of patterns has a substantially triangular shape and a vertex is directed to the directionality. Alternatively, each of the plurality of patterns has a rhombus shape having first and second opposing vertices, and the first vertex is directed in one direction on the first direction, It is preferable that the second apex is formed so as to be directed in the opposite direction on the second direction. By using the pattern having such directionality as the structural pattern, when the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are tilted in the driving state, the direction in which the liquid crystal molecules tilt is uniquely determined on the first direction, and as a result The response speed of the liquid crystal display device is improved. The same effect can be obtained when a photocured product of the photocured composition is formed in the liquid crystal layer. Each of the plurality of patterns having the directivity preferably has a maximum width of 10 μm or less.

本発明によれば、垂直配向型液晶表示装置において、基板上に、液晶層中の液晶分子に大まかなプレチルトを与える第1の構造と、前記第1の構造よりも短い周期で繰り返され、駆動モードにおける液晶分子のチルト方向を規制する第2の、微細な周期構造を形成することにより、垂直配向モード液晶表示装置の動作速度が向上し、また表示品質が向上する。
[作用]
図3(A),(B)は本発明の原理を説明する図である。
According to the present invention, in the vertical alignment type liquid crystal display device, the first structure that gives a rough pretilt to the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer on the substrate, and the cycle that is repeated with a shorter cycle than the first structure are driven. By forming the second fine periodic structure that regulates the tilt direction of the liquid crystal molecules in the mode, the operation speed of the vertical alignment mode liquid crystal display device is improved and the display quality is improved.
[Action]
3A and 3B are diagrams for explaining the principle of the present invention.

図3(A)を参照するに、本発明による液晶表示装置20は基本的に液晶分子22Aを含む液晶層22を挟持する一対のガラス基板21A,21Bよりなり、前記ガラス基板21Aおよび21B上には電極層23Aおよび23Bがそれぞれ形成される。さらに前記ガラス基板21A上には前記電極層23Aの表面に、前記電極層23Aと23Bとの間に形成される電界パターンを変形するように微細構造パターン24が形成されており、さらに前記電極層23Aの表面には前記構造パターン24を覆うように分子配向膜25Aが形成される。一方、前記ガラス基板21B上には、前記電極層23Bを覆うように分子配向膜25Bが形成され、前記分子配向膜25Aおよび25Bは前記液晶層22に接触し、前記液晶層22中の液晶分子22Aを、前記電極層23Aおよび23B間に電界が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層22の面に対して略垂直な方向に規制する。   Referring to FIG. 3A, a liquid crystal display device 20 according to the present invention basically includes a pair of glass substrates 21A and 21B that sandwich a liquid crystal layer 22 including liquid crystal molecules 22A, and is disposed on the glass substrates 21A and 21B. Electrode layers 23A and 23B are formed respectively. Further, a fine structure pattern 24 is formed on the surface of the electrode layer 23A on the glass substrate 21A so as to deform an electric field pattern formed between the electrode layers 23A and 23B. A molecular alignment film 25A is formed on the surface of 23A so as to cover the structure pattern 24. On the other hand, a molecular alignment film 25B is formed on the glass substrate 21B so as to cover the electrode layer 23B. The molecular alignment films 25A and 25B are in contact with the liquid crystal layer 22, and the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 22 are in contact with each other. 22A is regulated in a direction substantially perpendicular to the surface of the liquid crystal layer 22 in a non-driven state where no electric field is applied between the electrode layers 23A and 23B.

さらに、前記ガラス基板21Aの下主面上には第1の光吸収軸を有する偏光膜(ポラライザ)26Aが、また前記ガラス基板21Bの上主面上には前記第1の光吸収軸に直交する第2の光吸収軸を有する偏光膜(アナライザ)26Bが形成される。   Further, a polarizing film (polarizer) 26A having a first light absorption axis is formed on the lower main surface of the glass substrate 21A, and orthogonal to the first light absorption axis on the upper main surface of the glass substrate 21B. A polarizing film (analyzer) 26B having a second light absorption axis is formed.

図示の例では、前記微細構造パターン24は前記電極層23A上に互いに平行に延在するように形成された複数の絶縁性あるいは導電性の微細な凸パターンよりなるが、前記微細構造パターン24は液晶層22中における電界を局所的に変形するものであればよく、例えば図4に示す前記電極層23A中に相互に平行に延在するように形成されたカットアウト部等の微細な凹パターンであってもよい。前記微細構造パターン24を前記電極層23A上の凸パターンにより形成する場合には、前記凸パターンは液晶表示装置に導入された光ビームが通過できるように透明な材料により形成するのが好ましい。   In the illustrated example, the fine structure pattern 24 is composed of a plurality of insulating or conductive fine convex patterns formed to extend in parallel to each other on the electrode layer 23A. Any concave pattern may be used as long as it locally deforms the electric field in the liquid crystal layer 22, such as a cutout portion formed so as to extend parallel to each other in the electrode layer 23 </ b> A shown in FIG. 4. It may be. When the fine structure pattern 24 is formed by a convex pattern on the electrode layer 23A, the convex pattern is preferably formed of a transparent material so that a light beam introduced into the liquid crystal display device can pass through.

図3(B)は、前記ガラス基板21A表面における前記液晶分子22Aの配向状態を、前記電極層23Aおよび23B間に駆動電圧が印加された、前記液晶表示装置20の駆動状態について示す。   FIG. 3B shows the alignment state of the liquid crystal molecules 22A on the surface of the glass substrate 21A with respect to the driving state of the liquid crystal display device 20 in which a driving voltage is applied between the electrode layers 23A and 23B.

図3(B)を参照するに、前記液晶分子22Aは本発明の液晶表示装置20においては駆動状態において前記微細構造パターン24の形成する局所的に変形された電界の効果により、延在方向に倒れた状態で配向しており、従って前記偏光膜26Aおよび26Bが図3(B)の下に示す光吸収軸PおよびAをそれぞれ有するように配設された場合、図3(B)の状態において先に図2で説明したような暗線は生じないことがわかる。   Referring to FIG. 3B, in the liquid crystal display device 20 of the present invention, the liquid crystal molecules 22A extend in the extending direction due to the effect of the locally deformed electric field formed by the fine structure pattern 24 in the driving state. When the polarizing films 26A and 26B are arranged so as to have the light absorption axes P and A shown in the lower part of FIG. 3B, respectively, the state shown in FIG. It can be seen that the dark lines described above with reference to FIG.

また、本発明の液晶表示装置20においては、駆動電圧が前記電極層23Aおよび23Bの間に印加され前記液晶層22中に駆動電界が形成された場合、個々の液晶分子が前記構造パターン24により変形された駆動電界に応答して前記微細構造パターン24の延在方向に倒れるため、図1(A),(B)の従来の液晶表示装置の場合におけるように液晶分子が倒れる際に液晶分子のチルトが凸パターン13A,13B近傍の領域から他の領域へと伝搬する必要がなく、応答速度が非常に速くなる。   Further, in the liquid crystal display device 20 of the present invention, when a driving voltage is applied between the electrode layers 23A and 23B and a driving electric field is formed in the liquid crystal layer 22, each liquid crystal molecule is expressed by the structure pattern 24. Since the liquid crystal molecules are tilted in the extending direction of the fine structure pattern 24 in response to the deformed driving electric field, the liquid crystal molecules are tilted when the liquid crystal molecules are tilted as in the conventional liquid crystal display device of FIGS. Is not required to propagate from the area near the convex patterns 13A and 13B to another area, and the response speed becomes very fast.

これらの利点に加えて、図3(B)よりわかるように本発明の液晶表示装置20では個々の液晶分子22Aの配向方向が駆動状態において前記微細構造パターン24の延在方向に実質的に規制されるため、倒れた液晶分子22A同士が相互作用して液晶分子22Aのツイスト角が前記液晶層22の面内において変化することがなく、コントラスト比の高い高品質の表示が可能になる。   In addition to these advantages, as can be seen from FIG. 3B, in the liquid crystal display device 20 of the present invention, the orientation direction of the individual liquid crystal molecules 22A is substantially restricted to the extending direction of the microstructure pattern 24 in the driven state. Therefore, the tilted liquid crystal molecules 22A interact with each other so that the twist angle of the liquid crystal molecules 22A does not change in the plane of the liquid crystal layer 22, and a high-quality display with a high contrast ratio is possible.

前記微細構造パターン24は、前記電極層23A,23B間に駆動電圧が印加された場合、前記液晶層22中に、前記微細構造パターン24の延在方向に一致する第1の方向には略一様で、前記第1の方向に直角な第2の方向には周期的に変化する電界分布を形成する。   When the driving voltage is applied between the electrode layers 23 </ b> A and 23 </ b> B, the fine structure pattern 24 is substantially in the first direction in the liquid crystal layer 22 that coincides with the extending direction of the fine structure pattern 24. Thus, an electric field distribution that periodically changes is formed in a second direction perpendicular to the first direction.

図5は、図3(A),(B)の液晶表示装置における透過率を、前記微細凸パターン24の幅と間隙の比率を様々に変化させて調べた結果を示す。ただし図5の実験では前記液晶層22の厚さを3.5μmとし、隣接する微細凸パターン24の間隙幅を3μmに固定し、前記微細凸パターン24自体の幅を様々に変化させている。また前記電極層23Aおよび23BはITO膜により、一様に形成している。   FIG. 5 shows the results obtained by examining the transmittance of the liquid crystal display device shown in FIGS. 3A and 3B by changing the ratio between the width of the fine convex pattern 24 and the gap in various ways. However, in the experiment of FIG. 5, the thickness of the liquid crystal layer 22 is set to 3.5 μm, the gap width between the adjacent fine convex patterns 24 is fixed to 3 μm, and the width of the fine convex patterns 24 themselves is variously changed. The electrode layers 23A and 23B are uniformly formed of an ITO film.

図5よりわかるように、特に微細凸パターン24の幅と間隙をいずれも3μm、すなわち幅/間隙比を1:1とした場合に、図中に点線で示した図1の従来の液晶表示装置の透過率を大きく上回り、TNモード液晶表示装置の透過率に匹敵する30%近い透過率が得られることがわかる。これは、本発明の液晶表示装置20においては先に図2で説明した暗線の発生の問題が解決されていることを意味している。図5中、従来例は図1(A),(B)の従来の、すなわち微細パターン24を含まない液晶表示装置10において、液晶層の厚さを3.5μmとし、凸パターン13Aと13Bとの間隔を30μmとした場合についてのものである。   As can be seen from FIG. 5, the conventional liquid crystal display device of FIG. 1 indicated by a dotted line in the figure, particularly when the width and gap of the fine convex pattern 24 are both 3 μm, that is, the width / gap ratio is 1: 1. It can be seen that a transmittance of nearly 30%, which is much higher than the transmittance of the TN mode liquid crystal display device, is comparable to that of the TN mode liquid crystal display device. This means that in the liquid crystal display device 20 of the present invention, the problem of generation of dark lines described above with reference to FIG. 2 is solved. In FIG. 5, the conventional example is the conventional liquid crystal display device 10 shown in FIGS. 1A and 1B, that is, the liquid crystal display device 10 that does not include the fine pattern 24. The thickness of the liquid crystal layer is 3.5 .mu.m, This is for the case where the interval of 30 μm is set.

[第1実施例]
図6は、本発明の第1実施例による液晶表示装置30の概略的な構成を示す。
[First embodiment]
FIG. 6 shows a schematic configuration of the liquid crystal display device 30 according to the first embodiment of the present invention.

図6を参照するに、液晶表示装置30はアクティブマトリクス駆動型液晶表示装置であり、多数の薄膜トランジスタ(TFT)および前記TFTに協働する透明画素電極を、先の図3(A)あるいは図4の電極層23Aに対応して担持するTFTガラス基板31Aと、前記TFT基板31A上に形成され、前記電極層23Bに対応する対向電極を担持する対向ガラス基板31Bとよりなり、前記基板31Aと31Bとの間には液晶層31が、シール部材31Cにより封入されている。図示の液晶表示装置では、前記透明画素電極を対応するTFTを介して選択的に駆動することにより、前記液晶層31中において前記選択された画素電極に対応して、液晶分子の配向を選択的に変化させる。さらに、前記ガラス基板31Aおよび31Bの外側には、ポラライザ31aおよびアナライザ31bが、直交ニコル状態で配設されている。また前記ガラス基板31Aおよび31Bの内側には、図示を省略したが前記液晶層31に接するように、図3(A)あるいは図4の分子配向膜25A,25Bに対応する分子配向膜が形成され、液晶分子の配向方向を非駆動状態において前記液晶層31の面に略垂直になるように規制する。   Referring to FIG. 6, the liquid crystal display device 30 is an active matrix drive type liquid crystal display device, and a number of thin film transistors (TFTs) and transparent pixel electrodes cooperating with the TFTs are replaced with those shown in FIG. A TFT glass substrate 31A supported corresponding to the electrode layer 23A, and a counter glass substrate 31B formed on the TFT substrate 31A and supporting the counter electrode corresponding to the electrode layer 23B. The substrates 31A and 31B A liquid crystal layer 31 is sealed between the two by a sealing member 31C. In the illustrated liquid crystal display device, the transparent pixel electrodes are selectively driven through corresponding TFTs, thereby selectively aligning the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 31 corresponding to the selected pixel electrodes. To change. Further, a polarizer 31a and an analyzer 31b are disposed outside the glass substrates 31A and 31B in a crossed Nicols state. Further, although not shown in the drawings, a molecular alignment film corresponding to the molecular alignment films 25A and 25B of FIG. 3A or 4 is formed inside the glass substrates 31A and 31B so as to be in contact with the liquid crystal layer 31. The alignment direction of the liquid crystal molecules is regulated so as to be substantially perpendicular to the surface of the liquid crystal layer 31 in a non-driven state.

前記液晶層31としては、メルク社より市販されている負の誘電率異方性を有する液晶を使うことができ、また前記分子配向膜としてはJSR社より提供される垂直配向膜を使用することができる。典型的な例では、前記基板31Aおよび31Bは、前記液晶層31の厚さが約4μmになるように適当なスペーサを使って組み立てられる。   As the liquid crystal layer 31, a liquid crystal having negative dielectric anisotropy commercially available from Merck can be used, and a vertical alignment film provided by JSR is used as the molecular alignment film. Can do. In a typical example, the substrates 31A and 31B are assembled using appropriate spacers so that the thickness of the liquid crystal layer 31 is about 4 μm.

図7(A)は図6の液晶表示装置30の断面図を、図7(B)は前記TFTガラス基板31Aの一部を拡大して示す。   7A is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 30 of FIG. 6, and FIG. 7B is an enlarged view of a part of the TFT glass substrate 31A.

図7(A)を参照するに、TFT基板となる前記下側ガラス基板31A上には図示を省略したTFT31Tに電気的に接続されて前記画素電極34が形成されており、前記画素電極34は垂直分子配向膜35により覆われる。同様に前記上側ガラス基板31B上には一様な対向電極36が形成され、前記対向電極36は別の分子配向膜37により覆われる。また前記液晶層33は、前記分子配向膜36および37により接した状態で、前記基板31Aおよび31B間に挟持される。   Referring to FIG. 7A, the pixel electrode 34 is formed on the lower glass substrate 31A, which is a TFT substrate, by being electrically connected to a TFT 31T (not shown). Covered by the vertical molecular alignment film 35. Similarly, a uniform counter electrode 36 is formed on the upper glass substrate 31 </ b> B, and the counter electrode 36 is covered with another molecular alignment film 37. The liquid crystal layer 33 is sandwiched between the substrates 31A and 31B while being in contact with the molecular alignment films 36 and 37.

図7(B)を参照するに、前記ガラス基板31A上には走査信号を供給される多数のパッド電極33Aおよびこれから延在する多数の走査電極33と、ビデオ信号を供給される多数のパッド電極32Aおよびこれから延在する多数の信号電極32とが、走査電極33の延在方向と信号電極32の延在方向とが略直交するように形成されており、前記走査電極33と前記信号電極32との交点には、TFT31Tが形成されている。さらに、前記基板31A上には、各々のTFT31Tに対応して透明画素電極34が形成されており、各々のTFT31Tは対応する走査電極33上の走査信号により選択され、対応する信号電極32上のビデオ信号により、協働するITO等の透明画素電極34を駆動する。   Referring to FIG. 7B, on the glass substrate 31A, a large number of pad electrodes 33A to which scanning signals are supplied and a large number of scanning electrodes 33 extending therefrom, and a large number of pad electrodes to which video signals are supplied. The extending direction of the scanning electrode 33 and the extending direction of the signal electrode 32 are formed so that the extending direction of the scanning electrode 33 and the extending direction of the signal electrode 32 are substantially orthogonal to each other. A TFT 31T is formed at the intersection with the. Further, on the substrate 31A, a transparent pixel electrode 34 is formed corresponding to each TFT 31T, and each TFT 31T is selected by a scanning signal on the corresponding scanning electrode 33, and on the corresponding signal electrode 32. The transparent pixel electrode 34 such as ITO cooperating with the video signal is driven.

前記液晶表示装置30は、前記透明画素電極34に駆動電圧が印加されない非駆動状態においては液晶分子は前記液晶層31の面に対して略垂直に配向するため、前記ポラライザ31aおよびアナライザ31bの作用により表示は黒となるが、前記透明画素電極34に駆動電圧が印加された駆動状態では、前記液晶分子は略水平配向となるため白表示が得られる。   In the liquid crystal display device 30, the liquid crystal molecules are aligned substantially perpendicular to the surface of the liquid crystal layer 31 in a non-driving state in which no driving voltage is applied to the transparent pixel electrode 34, so that the operations of the polarizer 31 a and the analyzer 31 b are performed. As a result, the display becomes black, but in a driving state in which a driving voltage is applied to the transparent pixel electrode 34, the liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned, so that a white display is obtained.

図7(A)において、前記ガラス基板31Aとポラライザ31aとの間、および/または前記ガラス基板31Bとアナライザ31bとの間に一または複数の位相補償膜を介在させてもよい。かかる位相補償膜は、例えば液晶層31の面内における屈折率nxおよびnyが、光波の進行方向への屈折率nzよりも大きい、光学的に1軸性の位相補償膜であってもよい。   In FIG. 7A, one or more phase compensation films may be interposed between the glass substrate 31A and the polarizer 31a and / or between the glass substrate 31B and the analyzer 31b. Such a phase compensation film may be, for example, an optically uniaxial phase compensation film in which the refractive indices nx and ny in the plane of the liquid crystal layer 31 are larger than the refractive index nz in the traveling direction of the light wave.

図8は、前記基板31A上に形成される一つに画素電極34の構成を詳細に示す。   FIG. 8 shows in detail the structure of the pixel electrode 34, which is formed on the substrate 31A.

図8を参照するに、前記基板31A上には前記信号電極32と走査電極33とが交差して延在し、前記電極32と33との交点に対応して前記TFT31Tと、これに協働する画素電極34とが形成されているのがわかる。また、図8中には、前記走査電極33に平行に、補助容量電極Csが形成されている。   Referring to FIG. 8, the signal electrode 32 and the scanning electrode 33 extend on the substrate 31 </ b> A so as to correspond to the TFT 31 </ b> T corresponding to the intersection of the electrodes 32 and 33. It can be seen that a pixel electrode 34 is formed. In FIG. 8, an auxiliary capacitance electrode Cs is formed in parallel with the scanning electrode 33.

図8中、前記画素電極34は梨地で示してあるが、前記画素電極34は領域A〜Dに区画されており、各々の領域上には、白抜きで示した多数の微細なカットアウトパターン34Aが、先に説明した図4の構成に対応して、互いに平行に延在するように形成されている。   In FIG. 8, the pixel electrode 34 is shown in a satin surface, but the pixel electrode 34 is divided into regions A to D, and a large number of fine cutout patterns shown in white are formed on each region. 34A is formed to extend in parallel with each other, corresponding to the configuration of FIG. 4 described above.

典型的な例では、前記微細カットアウトパターン34は3〜13μm、典型的な例では約3μmの幅を有し、3〜13μm、典型的な例では約3μmの間隔で、繰り返し形成される。前記微細カットアウトパターン34は、前記領域A〜Dの各々において、一つの領域における延在方向が他の領域における他の微細カットアウトパターン34の延在方向と交差するように形成されている。その際、これらの微細カットアウトパターンの延在方向は、前記領域A〜Dのいずれにおいても、図6に示したポラライザ31aの光吸収軸Aおよびアナライザ31bの光吸収軸Pのいずれに対しても斜交するような方向に設定される。   In a typical example, the fine cutout pattern 34 has a width of 3 to 13 μm, typically about 3 μm, and is repeatedly formed at intervals of 3 to 13 μm, typically about 3 μm. In each of the regions A to D, the fine cutout pattern 34 is formed so that the extending direction in one region intersects the extending direction of the other fine cutout pattern 34 in another region. At that time, the extending direction of these fine cut-out patterns is relative to any of the light absorption axis A of the polarizer 31a and the light absorption axis P of the analyzer 31b shown in FIG. Is also set in a direction that crosses.

かかる構成の液晶表示装置30においては、前記TFT31Tが駆動され前記画素電極34に駆動電圧が印加された場合、前記液晶層31中の液晶分子は、図8に示したように前記微細カットアウトパターン34の延在方向に倒れるが、前記液晶分子の倒れる方向は前記領域A〜Dにおいて異なるため、液晶表示装置30は広い視野角特性を示す。   In the liquid crystal display device 30 having such a configuration, when the TFT 31T is driven and a driving voltage is applied to the pixel electrode 34, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 31 are not cut into the fine cutout pattern as shown in FIG. The liquid crystal display device 30 exhibits a wide viewing angle characteristic because the direction in which the liquid crystal molecules fall is different in the regions A to D.

かかる本発明の液晶表示装置30の駆動状態においては、前記液晶分子は、前記微細カットアウトパターン34により形成されパターン34の延在方向に対して直交する方向に周期的に変化する電界の影響を受けて、前記微細カットアウトパターン34の延在方向に倒れるのであり、倒れる方向が他の液晶分子のチルトにより規制されるものではない。このため、液晶分子の配向の垂直配向状態から水平配向状態への、あるいはその逆の変化は速やかであり、液晶表示装置30の非駆動状態から駆動状態への、また駆動状態から非駆動状態への遷移は、中間調状態への遷移をも含め、非常に高速に生じる。例えば、前記液晶層31の厚さを4μm、前記カットアウトパターン34の幅および間隔を3ミクロンとした場合、非駆動状態(黒状態)から中間調状態(1/4階調)への遷移は従来のものより約20m秒短縮された70m秒の時間で生じ、また黒状態から白状態への遷移も、従来より2m秒短縮された18m秒の時間で生じることが確認された。   In the driving state of the liquid crystal display device 30 of the present invention, the liquid crystal molecules are affected by an electric field that is formed by the fine cutout pattern 34 and periodically changes in a direction perpendicular to the extending direction of the pattern 34. In response to this, the fine cutout pattern 34 is tilted in the extending direction, and the tilting direction is not restricted by the tilt of other liquid crystal molecules. For this reason, the change in the alignment of the liquid crystal molecules from the vertical alignment state to the horizontal alignment state or vice versa is rapid, and the liquid crystal display device 30 is changed from the non-driven state to the driven state and from the driven state to the non-driven state. Transition occurs at a very high speed, including transition to a halftone state. For example, when the thickness of the liquid crystal layer 31 is 4 μm and the width and interval of the cut-out pattern 34 are 3 microns, the transition from the non-driven state (black state) to the halftone state (1/4 gradation) It was confirmed that the transition from the black state to the white state occurred in about 18 milliseconds, which was shortened by about 20 milliseconds from the conventional one, and that the transition from the black state to the white state occurred in 18 milliseconds, which was shortened by 2 milliseconds.

さらに図8の構成によれば、駆動状態において前記液晶分子の方向は前記パターン34Aにより規制されるため、他の液晶分子との相互作用によってツイスト角が変化することがなく、一様で高品質の表示を実現することができる。   Further, according to the configuration of FIG. 8, since the direction of the liquid crystal molecules is regulated by the pattern 34A in the driving state, the twist angle does not change due to the interaction with other liquid crystal molecules, and it is uniform and high quality. Display can be realized.

図8のように、一つの画素電極34中に方位の異なった複数のドメインA〜Dを含む液晶表示装置では、図9に示すように液晶分子の配向方向がドメインAとこれに隣接するドメインBとの境界、あるいはドメインCとこれに隣接するドメインDとの境界において、約90°変化する。このためこれらの境界に対応して暗線が出現するのは避けられない。しかし、従来のように一つの突起パターンの両縁に沿って二本の暗線が出現することはなく、駆動状態の透過率は大幅に向上する。さらにドメインA〜Dの形成により、視野角も大幅に向上し、上下左右で160°の視野角が実現できた。また、透過率も従来の4.8%よりも2割向上した5.6%の値が得られた。   As shown in FIG. 8, in a liquid crystal display device including a plurality of domains A to D having different orientations in one pixel electrode 34, the orientation direction of liquid crystal molecules is a domain A and a domain adjacent thereto as shown in FIG. It changes by about 90 ° at the boundary with B or the boundary between domain C and domain D adjacent thereto. For this reason, it is inevitable that dark lines appear corresponding to these boundaries. However, unlike the conventional case, two dark lines do not appear along both edges of one projection pattern, and the transmittance in the driving state is greatly improved. Furthermore, the formation of domains A to D greatly improved the viewing angle, and a viewing angle of 160 ° could be realized vertically and horizontally. Also, the transmittance was 5.6%, which was 20% higher than the conventional 4.8%.

図8の構成においては、暗線はドメインAとドメインCとの境界、およびドメインBとドメインDとの境界にも発生するが、これらの境界は前記補助容量Csに接続される導体パターンで覆われるため、液晶表示装置の表示には影響が生じない。   In the configuration of FIG. 8, dark lines are also generated at the boundary between the domain A and the domain C, and the boundary between the domain B and the domain D, but these boundaries are covered with a conductor pattern connected to the auxiliary capacitor Cs. Therefore, the display of the liquid crystal display device is not affected.

本実施例の液晶表示装置30において、前記微細カットアウトパターン34Aの代わりに前記画素電極34上に、絶縁材料あるいは導電性材料により、微細凸パターンを同様な形状に形成してもよい。この場合には例えば絶縁材料としてはJSR社性のポジ型レジストPC403等のレジストパターンを使うことができ、約0.4μmの厚さに形成するのが好ましい。このように前記パターン34Aを絶縁材料により形成した場合には、透過率はさらに向上し、6.2%に達するのが確認された。前記パターン34Aを絶縁材料により形成する場合には、前記液晶表示装置30は図3(A)で説明した液晶表示装置20と同様な断面形状を有することになる。   In the liquid crystal display device 30 of the present embodiment, a fine convex pattern may be formed in the same shape on the pixel electrode 34 using an insulating material or a conductive material instead of the fine cutout pattern 34A. In this case, for example, a resist pattern such as a positive resist PC403 manufactured by JSR Corporation can be used as the insulating material, and it is preferably formed to a thickness of about 0.4 μm. Thus, when the pattern 34A was formed of an insulating material, it was confirmed that the transmittance was further improved and reached 6.2%. When the pattern 34A is formed of an insulating material, the liquid crystal display device 30 has the same cross-sectional shape as the liquid crystal display device 20 described with reference to FIG.

さらに、本実施例の液晶表示装置30において、前記微細カットアウトパターン34Aの代わりに、同様な微細パターン34Aを前記画素電極34と同様な透明導電性材料により形成することも可能である。この場合には、前記画素電極34を形成する前の段階で、前記TFT31Tを形成する際に、前記TFT31Tの絶縁保護膜として使われるSiN膜をパターニングし、前記画素電極34の形成領域において前記パターン34Aに対応する微細パターンを形成しておく。さらに、このようにしてパターニングされたSiN膜上に前記画素電極34を構成するITO膜を堆積することにより、導電性の微細パターン34Aを形成することができる。この場合には約5.8%の透過率が得られる。   Furthermore, in the liquid crystal display device 30 of the present embodiment, a similar fine pattern 34A can be formed of the same transparent conductive material as that of the pixel electrode 34 instead of the fine cutout pattern 34A. In this case, before forming the pixel electrode 34, when forming the TFT 31T, an SiN film used as an insulating protective film of the TFT 31T is patterned, and the pattern is formed in the formation region of the pixel electrode 34. A fine pattern corresponding to 34A is formed. Furthermore, an electroconductive fine pattern 34A can be formed by depositing an ITO film constituting the pixel electrode 34 on the SiN film patterned in this way. In this case, a transmittance of about 5.8% is obtained.

さらに、前記微細パターン34Aと同様な微細パターンを、前記対向基板31B上に前記画素電極34に対応して設けることも可能である。

[第2実施例]
次に、先の液晶表示装置20あるいは30の応答速度をさらに向上した、本発明の第2実施例による液晶表示装置について、説明する。
Further, a fine pattern similar to the fine pattern 34A can be provided on the counter substrate 31B in correspondence with the pixel electrode 34.

[Second Embodiment]
Next, a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention in which the response speed of the previous liquid crystal display device 20 or 30 is further improved will be described.

最初に、本実施例の原理について、図10を参照しながら説明する。   First, the principle of this embodiment will be described with reference to FIG.

図10は、先の図3(A),(B)の構成を本実施例に拡張したもので、図10中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。   FIG. 10 is an extension of the configuration of FIGS. 3A and 3B to the present embodiment. In FIG. 10, the same reference numerals are given to the portions described above, and description thereof is omitted. .

先の図3(A),(B)の液晶表示装置20では、前記電極層23A,23Bの間に駆動電圧が印加された場合、液晶分子22Aの倒れる方向は前記構造パターン24の延在方向に規制されるが、前記延在方向のうち互いに180°異なった二つの方向のどちらに倒れるかについては自由度が残されており、このため遷移プロセスの初期において液晶分子22Aが前記二つの方向のどちらに倒れるかが決定されるまで時間がかかっていた。   In the liquid crystal display device 20 shown in FIGS. 3A and 3B, when a driving voltage is applied between the electrode layers 23A and 23B, the liquid crystal molecules 22A are tilted in the extending direction of the structural pattern 24. However, there is still a degree of freedom as to which of the two extending directions is 180 ° different from each other in the extending direction, so that the liquid crystal molecules 22A are in the two directions at the beginning of the transition process. It took time to decide which of the two would fall.

そこで、本実施例においては前記図3(A)の液晶表示装置20において図10に示すように、前記周期的な微細構造パターン24の他に、ピッチがより大きく幅がより広い別の粗構造パターン27Aおよび27Bを、前記微細構造パターン24の延在方向とは別の方向に延在するように形成して液晶表示装置20Aを形成する。ただし図10中、前記液晶表示装置のその他の特徴は先の液晶表示装置20と同様であり、説明を省略する。   Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 10 in the liquid crystal display device 20 of FIG. 3A, in addition to the periodic fine structure pattern 24, another coarse structure having a larger pitch and a wider width. The patterns 27A and 27B are formed so as to extend in a direction different from the extending direction of the fine structure pattern 24 to form the liquid crystal display device 20A. However, in FIG. 10, the other characteristics of the liquid crystal display device are the same as those of the previous liquid crystal display device 20, and a description thereof will be omitted.

図10を参照するに、前記粗構造パターン27Aは前記基板21A上に形成され、前記粗構造パターン27Bは前記基板21B上に形成され、これらは前記電極層23Aおよび23Bに駆動電圧が印加された場合に前記液晶分子22Aの倒れる方向を、前記微細構造パターン24の延在方向上において規制する。前記粗構造パターン27Aおよび27Bは、典型的には図1(A),(B)の従来の液晶表示装置10の凸パターン13Aおよび13Bにそれぞれ対応し、同様な作用を生じる。すなわち、図10の構造は、図3(A)の微細構造パターン24を含む構造において図1(A)の凸パターン13A,13Bを形成した構造になっている。図10の構成では、前記微細構造パターン24の延在方向は前記粗構造パターン27Aおよび27Bの延在方向に直交し、図3(A),(B)あるいは図4の場合と同様に、ポラライザ26Aおよびアナライザ26Bの吸収軸に斜交するように設定されている。   Referring to FIG. 10, the coarse structure pattern 27A is formed on the substrate 21A, the coarse structure pattern 27B is formed on the substrate 21B, and a driving voltage is applied to the electrode layers 23A and 23B. In this case, the direction in which the liquid crystal molecules 22A are tilted is restricted on the extending direction of the fine structure pattern 24. The coarse structure patterns 27A and 27B typically correspond to the convex patterns 13A and 13B of the conventional liquid crystal display device 10 shown in FIGS. 1A and 1B, respectively, and produce similar effects. That is, the structure of FIG. 10 is a structure in which the convex patterns 13A and 13B of FIG. 1A are formed in the structure including the fine structure pattern 24 of FIG. In the configuration of FIG. 10, the extending direction of the fine structure pattern 24 is orthogonal to the extending direction of the coarse structure patterns 27A and 27B, and as in the case of FIG. 3 (A), (B) or FIG. 26A and the analyzer 26B are set so as to cross the absorption axis.

さらに図11も図10の構造を基本とした本実施例の原理を示す図であるが、図11の構成では、前記微細構造パターン24の延在方向を前記基板21A上の粗構造パターン27Aの両側で変化させており、視野角が拡張されている。図11の構造では、前記構造パターン24の延在方向が前記構造パターン27Aあるいは27Bの延在方向に斜交するため、前記ポラライザ26Aおよびアナライザ26Bは、吸収軸AおよびPが前記構造パターン27Aおよび27Bの延在方向に平行あるいは直交するように形成されている。   Further, FIG. 11 is also a diagram showing the principle of the present embodiment based on the structure of FIG. 10. In the configuration of FIG. 11, the extending direction of the fine structure pattern 24 is set to the rough structure pattern 27A on the substrate 21A. The viewing angle is expanded on both sides. In the structure of FIG. 11, since the extending direction of the structural pattern 24 is oblique to the extending direction of the structural pattern 27A or 27B, the polarizer 26A and the analyzer 26B have absorption axes A and P that are the structural pattern 27A and It is formed so as to be parallel or orthogonal to the extending direction of 27B.

このように、図1(A)あるいは図1(B)の凸パターン13Aおよび13Bを本発明の微細構造パターン24と組み合わせることにより、液晶表示装置が非駆動状態から駆動状態に遷移にした場合の液晶分子の配向の変化を促進することができ、従って液晶表示装置の応答速度が向上する。   As described above, when the convex patterns 13A and 13B of FIG. 1A or FIG. 1B are combined with the fine structure pattern 24 of the present invention, the liquid crystal display device changes from the non-driving state to the driving state. The change in the alignment of the liquid crystal molecules can be promoted, and thus the response speed of the liquid crystal display device is improved.

図12および図13は、本発明の発明者が、前記微細構造パターン24および粗構造パターン27A,27Bに対して最適な構造パラメータを求める実験で使ったテストパターン構造を示し、図12は前記基板21A上に前記粗構造パターン27Aを格子状に形成し、さらに前記粗構造パターン27Bを粗前記構造パターン27Aに対してずらして同様に格子状に形成した構造である。これに対し、図13は図12の構造において、前記基板21A上の微細構造パターン24が、前記基板21B上において前記粗構造パターン27B直下の領域には形成されないようにした構造である。前記基板21A上において前記格子状粗構造パターン27Bにより画成される領域は、さらに前記格子状粗構造パターン27Aにより4つのドメインに分割されており、各々のドメインに先の微細構造パターン24が、異なった方位で形成されている。   FIGS. 12 and 13 show test pattern structures used by the inventors of the present invention in experiments for obtaining optimum structure parameters for the fine structure pattern 24 and the coarse structure patterns 27A and 27B. FIG. The coarse structure pattern 27A is formed in a lattice shape on 21A, and the coarse structure pattern 27B is shifted from the coarse structure pattern 27A and similarly formed in a lattice shape. On the other hand, FIG. 13 shows a structure in which the fine structure pattern 24 on the substrate 21A is not formed in the region immediately below the coarse structure pattern 27B on the substrate 21B in the structure of FIG. The region defined by the lattice-like coarse structure pattern 27B on the substrate 21A is further divided into four domains by the lattice-like coarse structure pattern 27A, and the preceding fine structure pattern 24 is formed in each domain. They are formed with different orientations.

図14(A)〜図15(D)は、前記図12および図13のテストパターン構造について、本発明者が行った透過率の評価実験の結果を示す。   FIGS. 14A to 15D show the results of transmittance evaluation experiments conducted by the present inventors for the test pattern structures of FIGS.

実験で使った液晶表示装置では、前記微細構造パターン24は図12あるいは図13の各ドメインにおいて幅が3μmのカットアウトパターンを3μm間隔で繰り返し配列することにより、先の実施例と同様に形成されており、さらに実験では前記格子状粗構造パターン27Aおよび27Bをいずれも幅が5μmのレジストパターン(LC200;シプレイ・ファーイースト社)により、様々な間隔および高さで形成してパネルの透過特性を、駆動状態、すなわち前記電極層23Aおよび23Bの間に5Vの駆動電圧を印加した状態において目視観察することにより評価した。   In the liquid crystal display device used in the experiment, the fine structure pattern 24 is formed in the same manner as in the previous embodiment by repeatedly arranging cutout patterns having a width of 3 μm at intervals of 3 μm in each domain of FIG. Furthermore, in the experiment, the lattice-like coarse structure patterns 27A and 27B are formed with various spacings and heights by using a resist pattern (LC200; Shipley Far East Co., Ltd.) having a width of 5 μm to improve the transmission characteristics of the panel. Evaluation was performed by visual observation in a driving state, that is, in a state where a driving voltage of 5 V was applied between the electrode layers 23A and 23B.

このうち図14(A)は前記粗構造パターン27Aおよび27Bを0.95μmの高さに形成した場合を、図14(B)は前記粗構造パターン27Aおよび27Bを0.75μmの高さに形成した場合を、図15(C)は前記粗構造パターン27Aおよび27Bを0.5μmの高さに形成した場合を、さらに図15(D)は前記粗構造パターン27Aおよび27Bを0.3μmの高さに形成した場合を示し、図14(A)〜15(D)中、左側は前記ポラライザ26Aおよびアナライザ26Bの配向方向を前記微細構造パターン24の延在方向に一致させた場合、すなわち前記液晶分子22Aのチルト方向に一致させた場合を、一方右側は前記ポラライザ26Aおよびアナライザ26Bの配向方向を、前記粗構造パターン27Aおよび27Bの延在方向に一致させた場合を示す。図14(A)〜図15(D)の右側および左側の各図において、右側の二つの図は図11のテストパターン構造に、左側の二つの図は図12のテストパターン構造に対応している。   14A shows the case where the coarse structure patterns 27A and 27B are formed at a height of 0.95 μm, and FIG. 14B shows the case where the coarse structure patterns 27A and 27B are formed at a height of 0.75 μm. 15C shows the case where the rough structure patterns 27A and 27B are formed to a height of 0.5 μm, and FIG. 15D shows the case where the rough structure patterns 27A and 27B are a height of 0.3 μm. 14A to 15D, the left side is the case where the orientation direction of the polarizer 26A and the analyzer 26B is made to coincide with the extending direction of the fine structure pattern 24, that is, the liquid crystal. When aligned with the tilt direction of the molecule 22A, the right side indicates the orientation direction of the polarizer 26A and the analyzer 26B, and the rough structure patterns 27A and 27B. Shows a case in which is aligned with the extension direction. 14A to 15D, the two diagrams on the right correspond to the test pattern structure of FIG. 11, and the two diagrams on the left correspond to the test pattern structure of FIG. Yes.

図14(A)〜図15(D)の各図においては、前記粗構造パターン27Aおよび27Bの間隔が80μmに設定されているが、図14(A)〜図15(D)の結果は、前記粗構造パターン27Aおよび27Bの高さが不適当だと前記構造パターン24に沿って液晶分子の配向が不良となり、暗線が現れるのがわかる。ただし、図14(A)〜図15(D)の結果は、液晶層22としてメルク社の垂直配向液晶を、JSR社の垂直分子配向膜25A,25Bと組み合わせて使い、液晶層22の厚さを4μmとした場合のものである。   In each figure of FIG. 14 (A)-FIG. 15 (D), although the space | interval of the said rough structure patterns 27A and 27B is set to 80 micrometers, the result of FIG. 14 (A)-FIG. It can be seen that if the heights of the rough structure patterns 27A and 27B are inappropriate, the alignment of the liquid crystal molecules becomes poor along the structure pattern 24 and dark lines appear. However, the results shown in FIGS. 14A to 15D show that the liquid crystal layer 22 uses Merck vertical alignment liquid crystal in combination with the vertical molecular alignment films 25A and 25B of JSR, and the thickness of the liquid crystal layer 22 is as follows. Is when the thickness is 4 μm.

図14(A)〜図15(D)の結果を総合的に見ると、最も良好な表示品質、すなわち最も損失の少ない表示品質は、前記粗構造パターン27Aおよび27Bの高さが0.75μmあるいは0.5μmである図14(B)あるいは図15(C)の場合において得られているのがわかる。さらに図14(A)〜15(D)の各図において、図11の構造20Cと図12の構造20Dとを比較して見ると、図11の構造20Cの方が多少表示品質に優れており、透過率も4%程度高い。   14A to 15D, the best display quality, that is, the display quality with the least loss is that the height of the coarse structure patterns 27A and 27B is 0.75 μm or It can be seen that it is obtained in the case of FIG. 14B or FIG. 14A to 15D, the structure 20C of FIG. 11 and the structure 20D of FIG. 12 are compared, and the structure 20C of FIG. 11 is somewhat superior in display quality. The transmittance is also about 4% higher.

また、このように透過率の優れた図12の構造20Cあるいは図13の構造20Dに対して応答速度を先に図1(A),(B)で説明した従来の液晶表示装置10のものと比較したところ、前記従来の液晶表示装置10において前記凸パターン13Aあるいは13B相互の間隙を20μmとした場合に黒状態(非駆動状態)から白状態(駆動状態)への遷移に要する時間が104m秒であったのに対し、前記本実施例では前記粗構造パターン27Aおよび27Bに微細構造パターン24を組み合わせた結果71m秒に減少しており、応答速度が大きく向上しているのが確認された。さらに前記構造20Cあるいは20Dにおいて、前記粗構造パターン27A,27Bの間隙を30μmとした場合、前記黒状態から白状態への遷移に要する時間が470m秒であったが、これは図1(A),(B)の液晶表示装置10において前記凸パターン13A,13Bを同様な間隙で配設した場合の応答時間である640m秒の値よりも大きく改善されている。   In addition, the response speed of the structure 20C of FIG. 12 or the structure 20D of FIG. 13 having excellent transmittance as described above is the same as that of the conventional liquid crystal display device 10 described with reference to FIGS. In comparison, when the gap between the convex patterns 13A or 13B is 20 μm in the conventional liquid crystal display device 10, the time required for transition from the black state (non-driving state) to the white state (driving state) is 104 ms. On the other hand, in the present embodiment, as a result of combining the fine structure pattern 24 with the coarse structure patterns 27A and 27B, it was reduced to 71 milliseconds, and it was confirmed that the response speed was greatly improved. Further, in the structure 20C or 20D, when the gap between the coarse structure patterns 27A and 27B is set to 30 μm, the time required for the transition from the black state to the white state was 470 milliseconds, which is shown in FIG. In the liquid crystal display device 10 of (B), this is greatly improved from the value of 640 milliseconds, which is the response time when the convex patterns 13A, 13B are arranged with similar gaps.

図16は、先に説明した原理に基づく、本発明の第2実施例による液晶表示装置40の構成を示す。ただし図16中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。   FIG. 16 shows a configuration of a liquid crystal display device 40 according to the second embodiment of the present invention based on the principle described above. However, in FIG. 16, the parts described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図16を参照するに、前記液晶表示装置40は前記ガラス基板31A上には先の図8のパターンと同一のパターンが、前記画素電極34として形成されており、前記画素電極34は図8と同様に梨地を付して示す。   Referring to FIG. 16, in the liquid crystal display device 40, the same pattern as that of FIG. 8 is formed on the glass substrate 31A as the pixel electrode 34. The pixel electrode 34 is the same as FIG. Similarly, it is shown with a satin finish.

本実施例では、さらに対向ガラス基板31B、すなわちいわゆるCF基板上に、幅が約5μmで高さが0.5〜0.75μmの格子状粗構造パターン41A,41Bを、前記画素電極34の中央において交差するように、前記走査電極方向および信号電極方向に、前記画素電極34の配列ピッチで繰り返し形成する。従って、図16の平面図においては、前記格子状粗構造パターン41Aおよび41Bは、前記ドメインA〜Dの区画に一致するように形成されている。一方、各々のドメインA〜Dにおいては、前記幅が3μmの微細構造パターン34Aが、図12あるいは図13の微細構造パターン24と同様に、3μmの間隙幅で、各ドメインA〜Dで異なり互いに45°の角度で交差するそれぞれの方位に延在するように形成されている。   In this embodiment, lattice-like coarse structure patterns 41A and 41B having a width of about 5 μm and a height of 0.5 to 0.75 μm are further formed on the counter glass substrate 31B, that is, a so-called CF substrate, at the center of the pixel electrode 34. Are repeatedly formed at the arrangement pitch of the pixel electrodes 34 in the scanning electrode direction and the signal electrode direction so as to intersect each other. Therefore, in the plan view of FIG. 16, the lattice-like coarse structure patterns 41A and 41B are formed so as to coincide with the sections of the domains A to D. On the other hand, in each of the domains A to D, the fine structure pattern 34A having a width of 3 μm differs from each other in the domains A to D with a gap width of 3 μm, like the fine structure pattern 24 of FIG. It is formed so as to extend in respective directions intersecting at an angle of 45 °.

前記粗構造パターン41A,41Bは、先の従来の液晶表示装置10の凸パターン13A,13Bと同様な凸型の断面形状を有し、例えば前記液晶表示装置40が対角15インチ型の1024×768画素に対応可能な液晶表示装置を構成する場合には、前記粗構造パターン41Aは297μmの間隔で、また前記粗構造パターン41Bは99μmの間隔で形成される。   The coarse structure patterns 41A and 41B have a convex cross-sectional shape similar to the convex patterns 13A and 13B of the conventional liquid crystal display device 10 described above. For example, the liquid crystal display device 40 is a 15 inch diagonal 1024 ×. In the case of configuring a liquid crystal display device capable of handling 768 pixels, the coarse structure pattern 41A is formed at an interval of 297 μm, and the coarse structure pattern 41B is formed at an interval of 99 μm.

なお、前記粗構造パターン41A,41Bは、レジストあるいは導体パターン等よりなる凸パターンに限定されるものではなく、電極層中のカットアウトパターン等、凹パターンであってもよい。

[第3実施例]
次に、先の液晶表示装置20あるいは30の応答速度をさらに向上した、本発明の第3実施例による液晶表示装置について、説明する。
The coarse structure patterns 41A and 41B are not limited to convex patterns made of resist or conductor patterns, but may be concave patterns such as cut-out patterns in the electrode layer.

[Third embodiment]
Next, a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention in which the response speed of the previous liquid crystal display device 20 or 30 is further improved will be described.

最初に、本実施例の原理について、図17を参照しながら説明する。   First, the principle of the present embodiment will be described with reference to FIG.

図17は、本実施例において使う液晶表示装置の基板、例えば図3(A)のガラス基板21A上に形成される方向性パターン24Aの例を示す。   FIG. 17 shows an example of a directional pattern 24A formed on the substrate of the liquid crystal display device used in this embodiment, for example, the glass substrate 21A of FIG.

図17を参照するに、前記方向性パターン24Aは三角形状を有する絶縁性あるいは導電性のパターンであり、図3(A)の液晶表示装置20において前記周期的構造パターン24の代わりに形成された場合、図17中に等高線で示すように液晶層22中において電界を局所的に変形し、前記パターンの先端の方向に傾いた電界分布を形成する。   Referring to FIG. 17, the directional pattern 24A is an insulating or conductive pattern having a triangular shape, and is formed in place of the periodic structure pattern 24 in the liquid crystal display device 20 of FIG. In this case, as indicated by contour lines in FIG. 17, the electric field is locally deformed in the liquid crystal layer 22 to form an electric field distribution inclined in the direction of the tip of the pattern.

そこで、このような方向性パターンを前記液晶表示装置20中に前記構造パターン24の代わりに形成しておけば、前記電極層23A,23B間に駆動電圧を印加した場合に液晶分子22Aは前記方向性パターン24Aの形成する勾配に沿って、前記方向性パターン24Aの先端方向に傾斜することになる。   Therefore, if such a directional pattern is formed in the liquid crystal display device 20 in place of the structural pattern 24, the liquid crystal molecules 22A are aligned in the direction when a driving voltage is applied between the electrode layers 23A and 23B. The directional pattern 24A is inclined along the gradient formed by the directional pattern 24A.

以下の表1は、前記液晶表示装置20においてかかる三角形状の方向性パターン24Aを前記構造パターン24の代わりに、レジストパターンにより様々な形状、すなわち全幅、全長および高さに形成し、液晶分子の配向を調べた結果を示す。ただし、表1中の数値はμm単位で示してある。   Table 1 below shows that the triangular directional pattern 24A in the liquid crystal display device 20 is formed in various shapes, that is, full width, full length and height by resist patterns instead of the structural pattern 24. The result of examining the orientation is shown. However, the numerical values in Table 1 are shown in μm units.

Figure 2006323423
表1より、前記三角形パターン24Aの辺近傍においてのみ配向方向が異なる場合をも所望の配向状態が得られた場合に含めると、前記三角形パターン24Aの全幅、すなわち底辺の長さは10μm以下に設定するのが好ましいことがわかる。一方前記三角形パターン24Aの全長は、10〜30μmの範囲で良好な分子配向が実現されるが、前記全幅が7.5μmの場合には15μm以上、全幅が10μmの場合には30μm以上必要であることがわかる。前記三角形パターン24Aの幅が10μmを超えると、前記パターン24Aの先端方向以外の方向に配向する液晶分子の割合が増加するのが認められた。
Figure 2006323423
From Table 1, when including the case where the desired orientation state is obtained even when the orientation direction is different only in the vicinity of the side of the triangular pattern 24A, the full width of the triangular pattern 24A, that is, the length of the bottom side is set to 10 μm or less. It can be seen that this is preferable. On the other hand, the triangular pattern 24A has a total length of 10 to 30 μm, and a good molecular orientation is realized. However, when the total width is 7.5 μm, it is 15 μm or more, and when the total width is 10 μm, it needs 30 μm or more. I understand that. When the width of the triangular pattern 24A exceeded 10 μm, it was recognized that the ratio of liquid crystal molecules aligned in a direction other than the tip direction of the pattern 24A increased.

勿論先の図4の場合と同様に、前記三角形状の方向性パターン24Aは前記電極層23A中に形成されたカットアウト等の凹パターンであってもよい。   Of course, as in the case of FIG. 4, the triangular directional pattern 24A may be a concave pattern such as a cutout formed in the electrode layer 23A.

このような方向性パターンは、図17に示した三角形状のパターン24Aに限定されるものではなく、図18に示す先端が切り落とされたあるいは丸められた三角形状のパターン24Bあるいは24Cであってもよく、さらに図19のような、二つの三角形パターンを互いに90°回転させて結合したようなパターン24D、あるいは図20のように二つの三角形パターンを相互に180°回転させて結合した菱形形状のパターン24Eにより実現することもできる。   Such a directivity pattern is not limited to the triangular pattern 24A shown in FIG. 17, but may be the triangular pattern 24B or 24C with the tip cut off or rounded as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 19, a pattern 24D in which two triangular patterns are coupled by rotating each other by 90 °, or a rhombus shape in which two triangular patterns are coupled by rotating each other by 180 ° as illustrated in FIG. It can also be realized by the pattern 24E.

特に図20の菱形形状のパターンでは、液晶分子は、パターンの中央に対して右側と左側とで逆方向に倒れる。   In particular, in the rhombus-shaped pattern of FIG. 20, the liquid crystal molecules are tilted in opposite directions on the right and left sides with respect to the center of the pattern.

表1において、前記微細パターンを凸状構造物の代わりに電極パターン(スリット)で形成した場合、液晶分子のチルト方向は逆となるが、軸方向への配向度合いは電界の歪がより強いため、高さが0.8μmでの構造物形成時と同程度になる。   In Table 1, when the fine pattern is formed with an electrode pattern (slit) instead of a convex structure, the tilt direction of the liquid crystal molecules is reversed, but the degree of alignment in the axial direction is more distorted in the electric field. The height is about the same as that when forming a structure having a height of 0.8 μm.

表2は、かかる菱形形状のパターン24Eにおいて、全長、全幅および高さを様々に変化させた場合の、液晶分子の配向を調べた結果を示す。ただし、表2中の数値はμm単位で示してある。   Table 2 shows the results of examining the orientation of the liquid crystal molecules when the overall length, full width, and height are variously changed in the rhombic pattern 24E. However, the numerical values in Table 2 are shown in units of μm.

Figure 2006323423
表2より、前記菱形パターン24Eの辺近傍においてのみ配向方向が異なる場合をも所望の配向状態が得られた場合に含めると、前記菱形パターン24Eの全幅は10μm以下に設定するのが好ましいことがわかる。一方前記菱形パターン24Eの全長は、20〜60μmの範囲で良好な分子配向が実現されるのがわかる。
Figure 2006323423
From Table 2, it is preferable to set the overall width of the rhombus pattern 24E to 10 μm or less, including the case where the orientation direction is different only in the vicinity of the side of the rhombus pattern 24E when the desired alignment state is obtained. Recognize. On the other hand, it can be seen that good molecular orientation is realized when the total length of the rhombus pattern 24E is in the range of 20 to 60 μm.

表2においても、前記微細パターンを凸状構造物の代わりに電極パターン(スリット)で形成した場合、液晶分子のチルト方向は逆となるが、軸方向への配向度合いは電界の歪がより強いため、高さが0.8μmでの構造物形成時と同程度になる。   Also in Table 2, when the fine pattern is formed with an electrode pattern (slit) instead of the convex structure, the tilt direction of the liquid crystal molecules is reversed, but the degree of orientation in the axial direction is stronger in the distortion of the electric field. Therefore, the height is about the same as that when forming a structure having a height of 0.8 μm.

図21は、前記液晶表示装置20において液晶層22の厚さを4μmとし、かかる菱形パターン24Eを、レジストパターンにより、全長が70μm、全幅が10μm、厚さが0.4μmになるように形成した場合の透過率と応答速度との関係を示す。ただし図21中では、駆動電圧を5.4Vとした場合の透過率を100%としている。また図21中には、図1(A),(B)の従来の垂直配向型液晶表示装置10において、前記凸パターン13A,13Bを幅が10ミクロン、高さが1.5μmのレジストパターンにより、間隙幅が30μmになるように形成し、その他の仕様は実験に使われた液晶表示装置20と同一とした場合の透過率と応答速度との関係を、比較のために示している。   In FIG. 21, the thickness of the liquid crystal layer 22 is 4 μm in the liquid crystal display device 20, and the rhombus pattern 24E is formed by a resist pattern so that the total length is 70 μm, the total width is 10 μm, and the thickness is 0.4 μm. The relationship between the transmittance and the response speed is shown. However, in FIG. 21, the transmittance when the drive voltage is 5.4 V is 100%. Further, in FIG. 21, in the conventional vertical alignment type liquid crystal display device 10 of FIGS. 1A and 1B, the convex patterns 13A and 13B are formed by a resist pattern having a width of 10 microns and a height of 1.5 μm. For comparison, the relationship between the transmittance and the response speed when the gap width is 30 μm and other specifications are the same as those of the liquid crystal display device 20 used in the experiment is shown.

図21を参照するに、本実施例による液晶表示装置では、同じ透過率の条件下にいて応答時間が、5.4Vよりも小さい駆動電圧が印加される中間調表示モードを含めて、実質的に短縮されているのがわかる。   Referring to FIG. 21, the liquid crystal display device according to the present embodiment substantially includes a halftone display mode in which a driving voltage smaller than 5.4 V is applied under a condition of the same transmittance. You can see that it has been shortened.

図22は、先に図6〜8で説明した液晶表示装置30において、前記画素電極34上に図20の菱形パターン24Eを並べて形成した例を示す。ただし図22中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。   FIG. 22 shows an example in which the rhombic pattern 24E of FIG. 20 is formed side by side on the pixel electrode 34 in the liquid crystal display device 30 described with reference to FIGS. However, in FIG. 22, the same reference numerals are given to the parts described above, and the description thereof is omitted.

図22を参照するに、前記画素電極34は上下二つの領域ないしドメインに区画されており、上側のドメインではレジストパターン等よりなる菱形パターン24Eが前記走査電極33の延在方向に45°の角度で交差する第1の方向に、繰り返し形成されている。かかる菱形パターン24Eは、前記第1の方向に直交する第1の方向にも繰り返され、前記斜面部により誘起される電界の局所的な変形により、前記液晶層31に駆動電界が印加された場合に、液晶層31中の液晶分子のチルト方向を、前記菱形パターンの先端方向へと規制する。その結果、先に図21で説明したように、液晶表示装置の応答速度が大きく向上する。   Referring to FIG. 22, the pixel electrode 34 is divided into two upper and lower regions or domains. In the upper domain, a rhombus pattern 24E made of a resist pattern or the like has an angle of 45 ° with respect to the extending direction of the scan electrode 33. It is repeatedly formed in the first direction intersecting at. The rhombus pattern 24E is repeated also in a first direction orthogonal to the first direction, and when a driving electric field is applied to the liquid crystal layer 31 due to local deformation of the electric field induced by the slope portion. Further, the tilt direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 31 is restricted to the tip direction of the rhombus pattern. As a result, as described above with reference to FIG. 21, the response speed of the liquid crystal display device is greatly improved.

なお、図20あるいは図22の菱形パターン24E、さらには図17〜19の三角形パターン24A〜24Dにおいて、前記斜辺部を図23に示すように階段状に形成することも可能である。かかる階段状のパターンは形成が容易で、従って液晶表示装置の製造歩留りが向上する。

[変形例1]
図24は、図22の構成の一変形例50Aを示す。
In addition, in the rhombus pattern 24E in FIG. 20 or FIG. 22, and further in the triangular patterns 24A to 24D in FIG. 17 to 19, the oblique sides can be formed in a step shape as shown in FIG. Such a step-like pattern is easy to form, and thus the manufacturing yield of the liquid crystal display device is improved.

[Modification 1]
FIG. 24 shows a modification 50A of the configuration of FIG.

図24を参照するに、本変形例50Aでは、先の図22の構成において前記画素電極34上に形成された菱形パターン24Eの先端部を切り落とした、図18の三角形パターン24Bをベースに形成した菱形パターン24E'が形成されており、その結果対向するパターン24E'と24E'との間には、構造パターンの形成されない領域34Fが形成される。   Referring to FIG. 24, in the present modified example 50A, the triangular pattern 24B of FIG. 18 is formed based on the tip of the rhombus pattern 24E formed on the pixel electrode 34 in the configuration of FIG. A rhombus pattern 24E ′ is formed, and as a result, a region 34F where no structural pattern is formed is formed between the opposing patterns 24E ′ and 24E ′.

本実施例では、前記菱形パターン24Eは液晶分子の配向方向が乱れやすい個所だけに形成されており、かかる構成によっても、液晶表示装置の透過率の向上と応答速度の向上を実現することができる。

[変形例2]
さらに、本実施例においては、前記図6〜8の液晶表示装置30において、応答速度をさらに向上させるべく、前記三角形状あるいは菱形形状のパターン24A〜24Eと同様な電界の局所的な変化を誘起する手段として、ネマチック液晶よりなる液晶層31中に、3次元液晶骨格を有する光硬化性組成物を導入するようにしてもよい。かかる光硬化性組成物を硬化させ光硬化物を形成する際に、液晶骨格が基板31Aに対して傾斜するように形成することにより、前記微細パターン34Aの延在方向に傾いた、図17で説明したのと同様な電界を形成することが可能である。かかる光硬化性組成物は、例えば図1(A),(B)に示す従来の液晶表示装置10において配向方向を規制するために使おうとすると、多量に導入しなければならず、その結果かえって液晶分子の配向を乱してしまう問題があったが、本発明の液晶表示装置30のように微細構造パターン34Aが液晶分子の配向方向を規制している構成の液晶表示装置では、わずかな添加量で望ましい配向規制効果が得られる。
In the present embodiment, the rhombus pattern 24E is formed only at a location where the alignment direction of the liquid crystal molecules is likely to be disturbed, and this configuration can also improve the transmittance and response speed of the liquid crystal display device. .

[Modification 2]
Further, in this embodiment, in the liquid crystal display device 30 shown in FIGS. 6 to 8, a local change in the electric field similar to that of the triangular or rhombic patterns 24A to 24E is induced in order to further improve the response speed. For this purpose, a photocurable composition having a three-dimensional liquid crystal skeleton may be introduced into the liquid crystal layer 31 made of nematic liquid crystal. When such a photocurable composition is cured to form a photocured product, the liquid crystal skeleton is tilted with respect to the substrate 31A, thereby tilting in the extending direction of the fine pattern 34A. An electric field similar to that described can be formed. Such a photocurable composition must be introduced in a large amount if it is used to regulate the orientation direction in the conventional liquid crystal display device 10 shown in FIGS. 1A and 1B, for example. Although there was a problem of disturbing the alignment of the liquid crystal molecules, in the liquid crystal display device in which the fine structure pattern 34A regulates the alignment direction of the liquid crystal molecules as in the liquid crystal display device 30 of the present invention, a slight addition A desirable orientation regulating effect can be obtained in an amount.

そこで本変形例では、先の実施例1の液晶表示装置30において、前記液晶層31中に、前記液晶MJ96213の他に大日本インキ(株)製の液晶性モノアクリレートモノマーUCL−001−K1を添加し、5.0Vの駆動電圧を印加しながら紫外線を照射することにより前記モノマーを硬化させて液晶表示装置を形成する。このようにして形成された光硬化物はでは、3次元液晶骨格が、前記液晶表示装置の非駆動時に、液晶分子の配向方向と異なる方向に配向する。   Therefore, in this modification, in the liquid crystal display device 30 of the first embodiment, in the liquid crystal layer 31, in addition to the liquid crystal MJ96213, a liquid crystal monoacrylate monomer UCL-001-K1 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. Then, the monomer is cured by applying ultraviolet light while applying a driving voltage of 5.0 V to form a liquid crystal display device. In the photocured product thus formed, the three-dimensional liquid crystal skeleton is aligned in a direction different from the alignment direction of the liquid crystal molecules when the liquid crystal display device is not driven.

図25は、このようにして得られた液晶表示装置について、駆動電圧を5.4Vとした場合の透過率と応答速度との関係を、図21の場合と同様に、図1(A),(B)の従来の液晶表示装置10の場合と比較して示す。   FIG. 25 shows the relationship between the transmittance and the response speed when the drive voltage is 5.4 V for the liquid crystal display device thus obtained, as in FIG. This is shown in comparison with the case of the conventional liquid crystal display device 10 of (B).

図25を参照するに、本変形例による液晶表示装置は、従来の液晶表示装置よりも応答時間が実質的に短縮されており、特に中間調領域において著しい改善が見られるのがわかる。

[第4実施例]
次に、先に説明した図16の液晶表示装置40と同様な、図3(A)の構造パターン24に図1(A),(B)の構造パターン13A,13Bを組み合わせた本発明の第4実施例による液晶表示装置について説明する。ただし、本実施例の液晶表示装置では、前記構造パターン24は図4のように電極層23A中に形成されたカットアウトパターンよりなり、また前記構造パターン13A,13Bのうち、前記基板11A上に形成される構造パターン13Aも、前記電極層23A中に形成されたカットアウトパターンにより形成されている。
Referring to FIG. 25, it can be seen that the liquid crystal display device according to the present modification has a substantially shorter response time than the conventional liquid crystal display device, and a remarkable improvement is seen particularly in the halftone region.

[Fourth embodiment]
Next, as in the liquid crystal display device 40 shown in FIG. 16, the structure pattern 24 shown in FIG. 3A is combined with the structure patterns 13A and 13B shown in FIGS. A liquid crystal display device according to the fourth embodiment will be described. However, in the liquid crystal display device of this embodiment, the structural pattern 24 is a cut-out pattern formed in the electrode layer 23A as shown in FIG. 4, and of the structural patterns 13A and 13B, on the substrate 11A. The formed structural pattern 13A is also formed by a cutout pattern formed in the electrode layer 23A.

図26(A),(B)は、図4の構造をベースとした、本実施例の原理を説明する図である。ただし図中、簡単のため基板21A,21B,液晶層22および液晶分子22A、さらに電極層23A,23Bのみを示し、ポラライザ26A,26Bおよび分子配向膜25A,25Bの図示は省略する。図26(A)は、前記電極層23A中に幅の広いギャップ23Gが、先の凸パターン13A,13Bに対応して大きな繰り返し周期で形成されている場合を、また図26(B)は、前記電極層23A中に微細なギャップ23gを、小さな繰り返し周期で形成した場合を示す。   FIGS. 26A and 26B are diagrams for explaining the principle of this embodiment based on the structure of FIG. However, in the drawing, for simplicity, the substrates 21A and 21B, the liquid crystal layer 22 and the liquid crystal molecules 22A, and only the electrode layers 23A and 23B are shown, and the polarizers 26A and 26B and the molecular alignment films 25A and 25B are not shown. FIG. 26A shows a case where a wide gap 23G is formed in the electrode layer 23A with a large repetition period corresponding to the convex patterns 13A and 13B, and FIG. A case is shown in which fine gaps 23g are formed in the electrode layer 23A with a small repetition period.

図26(A)よりわかるように、前記電極層23A中に幅の広いギャップ23Gを形成した場合、ギャップ縁部の効果により前記液晶層22中における等電位面が局所的に変形され、その結果前記電極層23A,23B間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態においても液晶層22中に液晶分子22Aが前記電極層23Aを構成する電極パターンの中央部に向って傾斜したプレチルト構造が得られる。そこで、このようなプレチルト構造が形成された液晶層22に前記電極層23Aと23Bとの間に駆動電圧を印加した場合、前記液晶分子22Aはそれぞれのプレチルト方向に速やかにチルトする。   As can be seen from FIG. 26A, when a wide gap 23G is formed in the electrode layer 23A, the equipotential surface in the liquid crystal layer 22 is locally deformed due to the effect of the gap edge, and as a result. Even in a non-driving state in which a driving voltage is not applied between the electrode layers 23A and 23B, a pretilt structure in which the liquid crystal molecules 22A are inclined in the liquid crystal layer 22 toward the central portion of the electrode pattern constituting the electrode layer 23A is obtained. It is done. Therefore, when a driving voltage is applied between the electrode layers 23A and 23B to the liquid crystal layer 22 having such a pretilt structure, the liquid crystal molecules 22A are quickly tilted in the respective pretilt directions.

一方図26(B)のように前記電極層23A中に繰り返し形成されるギャップ23gの大きさが小さく、しかもギャップ23gの繰り返し周期が小さい場合、非駆動状態においては図26Bの左半分に図示したように図26(A)と同様なプレチルトが生じるが、駆動状態において前記電極層23Aと電極層23Bとの間に駆動電圧が印加された場合には、右方向および左方向にチルトしようとする液晶分子が相互に干渉し、結局図26(B)の右半分に示したように、液晶分子は前記ギャップ23gの延在方向に倒れることになる。   On the other hand, when the size of the gap 23g repeatedly formed in the electrode layer 23A is small as shown in FIG. 26B and the repetition period of the gap 23g is small, it is shown in the left half of FIG. As shown in FIG. 26A, a pretilt similar to that shown in FIG. 26A is generated. However, when a driving voltage is applied between the electrode layer 23A and the electrode layer 23B in the driving state, the tilt is to be tilted rightward and leftward. The liquid crystal molecules interfere with each other and eventually fall down in the extending direction of the gap 23g, as shown in the right half of FIG.

図26(A)の状態では、前記液晶分子22Aのプレチルトにより、駆動電圧印加時に液晶分子22Aが右に倒れるか左に倒れるかは規制することができるものの、倒れた液晶分子が一方向に配列するようにまでは制御できないのに対し、図26(B)の構成を図26(A)に組み合われれば、前記液晶分子22Aが前記規制された右または左の方向に倒れる際に、倒れた液晶分子22Aが所望の特定の方向に配向するように液晶分子の配向を制御することが可能である。すなわち、本実施例は先に図10で説明した本発明の第2実施例において、構造パターン27Aの代わりに電極層23A中に形成されたカットアウトパターンを使い、同様に微細構造パターン24として、前記電極層23A中に形成された微細なカットアウトパターンを使う。   In the state of FIG. 26A, the pretilt of the liquid crystal molecules 22A can regulate whether the liquid crystal molecules 22A are tilted to the right or left when a driving voltage is applied, but the tilted liquid crystal molecules are aligned in one direction. 26B, when the configuration of FIG. 26B is combined with FIG. 26A, the liquid crystal molecules 22A are tilted when tilted in the restricted right or left direction. It is possible to control the alignment of the liquid crystal molecules so that the liquid crystal molecules 22A are aligned in a desired specific direction. That is, this embodiment uses the cut-out pattern formed in the electrode layer 23A instead of the structure pattern 27A in the second embodiment of the present invention described above with reference to FIG. A fine cutout pattern formed in the electrode layer 23A is used.

図27は、本実施例による液晶表示装置60の画素電極部分の構成を示す。ただし図27中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。   FIG. 27 shows the configuration of the pixel electrode portion of the liquid crystal display device 60 according to this embodiment. However, in FIG. 27, the parts described above are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図27を参照するに、前記液晶表示装置60は先に図6,7で説明した液晶表示装置30と同様な全体構成を有するが、前記画素電極34の代わりに画素電極61を有する。   Referring to FIG. 27, the liquid crystal display device 60 has the same overall configuration as the liquid crystal display device 30 described above with reference to FIGS. 6 and 7, but includes a pixel electrode 61 instead of the pixel electrode 34.

前記ガラス基板31B上には、先に図1(A),(B)で説明した凸パターン13Bに対応する、典型的には幅が3〜35μmで高さが1.2〜1.6μmのレジストパターンよりなる凸パターン61Aが、直角に屈曲しながらジグザグに繰り返し形成されており、また前記画素電極61中には、前記隣接する凸パターン61Aと61Aとの中間に、前記凸パターン61Aに対応したジグザグ形状のカットアウトパターン61Bが、4〜15μm程度の幅に形成されている。さらに、図27の構成では、前記画素電極61中に、前記カットアウトパターン61Bから側方に延在するように、幅が2〜5μm、好ましくは約3μmの微細カットアウトパターン61Cが、前記幅と同様な繰り返しピッチで、すなわち2〜5μm、好ましくは約3μmのピッチで繰り返し形成される。かかる微細カットアウトパターン61Cが形成される結果、前記画素電極61は、細長い櫛歯状パターン61Dの集合となる。図27の構成では、前記画素電極61は前記凸パターン61Aが右上から左下に延在する第1のドメインと、前記凸パターン61Aが左上から右下に延在する第2のドメインとより構成され、従って前記櫛歯状パターン61Dの延在方向も、前記第1のドメインと前記第2のドメインとで異なり、前記第1のドメインにおける櫛歯状パターン61Dの延在方向は、前記第2のドメインにおける櫛歯状パターン61Dの延在方向と直交する。   On the glass substrate 31B, the width typically corresponds to the convex pattern 13B described with reference to FIGS. 1A and 1B, and typically has a width of 3 to 35 μm and a height of 1.2 to 1.6 μm. A convex pattern 61A made of a resist pattern is repeatedly formed in a zigzag manner while being bent at a right angle, and corresponds to the convex pattern 61A in the pixel electrode 61 in the middle of the adjacent convex patterns 61A and 61A. The zigzag cutout pattern 61B thus formed is formed with a width of about 4 to 15 μm. Further, in the configuration of FIG. 27, a fine cutout pattern 61C having a width of 2 to 5 μm, preferably about 3 μm, extends laterally from the cutout pattern 61B in the pixel electrode 61. And is repeatedly formed at a pitch of 2 to 5 μm, preferably about 3 μm. As a result of the formation of the fine cut-out pattern 61C, the pixel electrode 61 becomes a set of elongated comb-like patterns 61D. In the configuration of FIG. 27, the pixel electrode 61 includes a first domain in which the convex pattern 61A extends from the upper right to the lower left, and a second domain in which the convex pattern 61A extends from the upper left to the lower right. Therefore, the extending direction of the comb-like pattern 61D is also different between the first domain and the second domain, and the extending direction of the comb-like pattern 61D in the first domain is the second direction. It is orthogonal to the extending direction of the comb-like pattern 61D in the domain.

これらの櫛歯状パターン61Dは、全体として単一の画素電極61を形成する必要があり、そのためこれらの櫛歯状パターン61Dは、前記画素電極61の縁辺部61mにおいて、また前記上側基板31B上の前記凸パターン61A直下の領域において相互に連結されている。   These comb-shaped patterns 61D need to form a single pixel electrode 61 as a whole, and therefore, these comb-shaped patterns 61D are arranged at the edge 61m of the pixel electrode 61 and on the upper substrate 31B. Are connected to each other in the region immediately below the convex pattern 61A.

さらに、図27の構成60では前記画素電極61中のカットアウトパターン61Bに沿って、前記ガラス基板31A上に直接に、すなわち前記画素電極61の下方に絶縁膜を隔てて形成され補助容量Csを形成する透明あるいは不透明コモン電極パターン61E'を延在させる。前記電極パターン61Eと61E'とは電気的に接続されているが、ここでは前記電極パターン61Eから画素内を斜めに延在する部分を前記符号61E'で示す。前記透明コモン電極パターン61Eは、前記対向ガラス基板31B上の対向電極と同電位に維持され、その結果前記幅の広いカットアウトパターン61Bによる分子配向作用をさらに増強することができる。ここで、前記電極パターン61E'は図27〜図29の構成においては、信号電極32と交差しているが、実際には交差する手前でパターン61E'を遮断するのが有効である。前記パターン61E'がそのまま延在すると信号電極32と短絡を生じる危険がある。いずれにせよ、このようにして前記パターン61E'を信号電極32の手前で止めた場合でも、優れた効果が得られる。   Further, in the configuration 60 of FIG. 27, the auxiliary capacitor Cs is formed along the cut-out pattern 61B in the pixel electrode 61 directly on the glass substrate 31A, that is, below the pixel electrode 61 with an insulating film therebetween. The transparent or opaque common electrode pattern 61E ′ to be formed is extended. The electrode patterns 61E and 61E ′ are electrically connected. Here, a portion extending diagonally from the electrode pattern 61E within the pixel is indicated by the reference numeral 61E ′. The transparent common electrode pattern 61E is maintained at the same potential as the counter electrode on the counter glass substrate 31B, and as a result, the molecular orientation action by the wide cutout pattern 61B can be further enhanced. Here, the electrode pattern 61E ′ intersects with the signal electrode 32 in the configurations of FIGS. 27 to 29, but it is effective to actually block the pattern 61E ′ before intersecting. If the pattern 61E ′ extends as it is, there is a risk of short-circuiting with the signal electrode 32. In any case, even when the pattern 61E ′ is stopped before the signal electrode 32 in this way, an excellent effect can be obtained.

また、図27の構成60では、前記補助容量Csを形成する透明あるいは不透明コモン電極パターン61Eは、前記基板31A上を前記走査信号線33の延在方向に、図27中に丸で囲んだ領域を通過するように延在し、かかる領域における液晶分子の配向を安定化させる。   In the configuration 60 of FIG. 27, the transparent or opaque common electrode pattern 61E forming the auxiliary capacitance Cs is a region circled in FIG. 27 in the extending direction of the scanning signal line 33 on the substrate 31A. To stabilize the alignment of the liquid crystal molecules in such a region.

先に図26(A),(B)で説明したように、かかる構成の液晶表示装置60では、前記凸パターン61Aと前記幅の広いカットアウトパターン61B,さらに前記カットアウトパターン61Bに対応して形成されたコモン電極パターン61Eにより、前記液晶層中の液晶分子のチルトする向きが決定され、さらに前記微細カットアウトパターン61Cおよびこれに伴う櫛歯状電極パターン61Dにより、前記液晶分子のチルトする方向が規制される。その結果、前記液晶表示装置60は応答速度が向上し、また表示品質が向上する。特に液晶分子の配向方向安定性が改善され、急に表示画像が変化した場合でも、元の表示が残る等の現象を抑制できる。   As described above with reference to FIGS. 26A and 26B, the liquid crystal display device 60 having such a configuration corresponds to the convex pattern 61A, the wide cutout pattern 61B, and the cutout pattern 61B. The direction in which the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are tilted is determined by the formed common electrode pattern 61E, and the liquid crystal molecules are tilted by the fine cutout pattern 61C and the comb-like electrode pattern 61D. Is regulated. As a result, the response speed of the liquid crystal display device 60 is improved and the display quality is improved. In particular, the stability of the alignment direction of the liquid crystal molecules is improved, and even when the display image is suddenly changed, a phenomenon such as the original display remaining can be suppressed.

図27において、前記○で囲んだ領域においては、前記微細カットアウトパターン61Cは前記対向ガラス基板31B上の凸パターン61A直下の領域を横切って延在しているが、かかる構成においても、所望の液晶分子の配向制御を実現することができる。また、前記凸パターン61Aは、対向電極上に形成されたカットアウトパターンであってもよい。

[変形例1]
図28は、図27の液晶表示装置60の一変形例による液晶表示装置60Aの構成を示す。
In FIG. 27, in the region surrounded by the circle, the fine cutout pattern 61C extends across the region immediately below the convex pattern 61A on the counter glass substrate 31B. Control of alignment of liquid crystal molecules can be realized. Further, the convex pattern 61A may be a cut-out pattern formed on the counter electrode.

[Modification 1]
FIG. 28 shows a configuration of a liquid crystal display device 60A according to a modification of the liquid crystal display device 60 of FIG.

図28を参照するに、本変形例では、図27の前記微細カットアウトパターン61Cが、先に図17で説明した方向性を有する三角形状のカットアウトパターン61C'に置き換えられている。先にも説明したように、かかる方向性を有するパターンは方向性を有する電界分布を誘起するため、図28の液晶表示装置60では、前記凸パターン61Aおよびカットアウト61B、さらにコモン電極61Eによる、液晶分子の倒れる向きを規制する作用が増強され、その結果液晶表示装置の応答速度がさらに向上する。

[変形例2]
図29は、図27の液晶表示装置60に対してさらなる様々な変形を加えた液晶表示装置60Cを示す。
Referring to FIG. 28, in the present modification, the fine cutout pattern 61C in FIG. 27 is replaced with the triangular cutout pattern 61C ′ having the directionality described in FIG. As described above, since the pattern having such directivity induces an electric field distribution having directivity, in the liquid crystal display device 60 of FIG. 28, the convex pattern 61A, the cutout 61B, and the common electrode 61E The action of regulating the direction in which the liquid crystal molecules fall is enhanced, and as a result, the response speed of the liquid crystal display device is further improved.

[Modification 2]
FIG. 29 shows a liquid crystal display device 60C obtained by adding various modifications to the liquid crystal display device 60 of FIG.

図29に示すように、図27の液晶表示装置60において、前記対向ガラス基板31B上に、前記櫛型電極61Dと同様な櫛型パターンを有する凸パターン61A'を、前記対向電極36と液晶層との間、あるいは前記対向基板31Bと対向電極36との間に位置するように形成してもよい。また液晶分子の配向が、前記凸パターン61あるいは61A'と前記カットアウトパターン61Bとにより十分に規制される場合には、図29中領域Aに示すように、前記画素電極61中に形成される微細カットアウトパターン61Cを形成せず、一様な電極としてもよい。さらに図29中、領域Bで示すように、前記微細カットアウトパターン61Cを部分的にのみ形成するようにしてもよい。また、図示は省略するが、前記凸パターン61Aあるいは61A'に代えて、前記ガラス基板31B上の対向電極36中に対応するカットアウトパターンを形成してもよい。

[第5実施例]
次に図28の液晶表示装置60Aの動作特性をさらに向上させた本発明の第5実施例について説明する。
As shown in FIG. 29, in the liquid crystal display device 60 of FIG. 27, a convex pattern 61A ′ having a comb pattern similar to the comb electrode 61D is formed on the counter glass substrate 31B. Or between the counter substrate 31B and the counter electrode 36. When the alignment of the liquid crystal molecules is sufficiently restricted by the convex pattern 61 or 61A ′ and the cutout pattern 61B, the liquid crystal molecules are formed in the pixel electrode 61 as shown in a region A in FIG. A uniform electrode may be formed without forming the fine cutout pattern 61C. Furthermore, as shown by a region B in FIG. 29, the fine cutout pattern 61C may be formed only partially. Although not shown, a corresponding cutout pattern may be formed in the counter electrode 36 on the glass substrate 31B instead of the convex pattern 61A or 61A ′.

[Fifth embodiment]
Next, a fifth embodiment of the present invention in which the operation characteristics of the liquid crystal display device 60A of FIG. 28 are further improved will be described.

図28の液晶表示装置60Aでは、前記画素電極61中にテーパ状微細カットアウトパターン61Cを形成することにより、高速の応答特性を実現したが、かかる構成では、前記画素電極61のうち、前記粗カットアウトパターン61Bの形成領域を除いた実質的に全面にかかるテーパ状微細カットアウトパターン61Cを形成する必要があるが、かかるテーパ状微細カットアウトパターン61Cの形成には高精度なフォトリソグラフィー工程が必要で、液晶表示装置の歩留りが低下しやすい問題が生じる。   In the liquid crystal display device 60A of FIG. 28, a high-speed response characteristic is realized by forming a tapered fine cutout pattern 61C in the pixel electrode 61. It is necessary to form the tapered fine cutout pattern 61C substantially over the entire surface excluding the formation region of the cutout pattern 61B, and a high-precision photolithography process is required to form the tapered fine cutout pattern 61C. A problem arises that the yield of the liquid crystal display device tends to decrease.

これに対し、本発明の発明者は、前記画素電極61の代わりに、図30に示す帯状のITOパターン71Aから櫛型ITOパターン71Bを側方に周期的に延出させた画素電極構造71を形成し、かかる画素電極構造71を有する液晶表示装置70について、前記櫛型パターン71Bの長さBおよび前記帯状ITOパターン71Aの幅Aを様々に変化させながら、その表示特性を調べた。   On the other hand, the inventor of the present invention uses a pixel electrode structure 71 in which a comb-shaped ITO pattern 71B is periodically extended laterally from a strip-like ITO pattern 71A shown in FIG. The liquid crystal display device 70 formed and having the pixel electrode structure 71 was examined for display characteristics while varying the length B of the comb pattern 71B and the width A of the strip-like ITO pattern 71A.

図31は、前記液晶表示装置70の構成、特に画素電極構造71の構成を示す。   FIG. 31 shows the configuration of the liquid crystal display device 70, particularly the configuration of the pixel electrode structure 71.

図31を参照するに、前記画素電極構造71は、各々が前記櫛型パターン71Bを有する複数の帯状ITOパターン71Aよりなり、前記複数の帯状ITOパターン71Aは図30に示す幅Bを片側に有し、図27あるいは28の構成におけるカットアウトパターン61Bに対応するギャップGにより相互に隔てられている。またこれらのITOパターン71Aは、ITOパターンよりなる接続部71C1,71C2および71C3により相互接続されて、前記TFT31Tに接続される。前記帯状ITOパターン71Aは、前記対向ガラス基板31B上に形成されるジグザグ凸パターン61A(図27または28参照)に対応して、ジグザグ形状に形成されている。 Referring to FIG. 31, the pixel electrode structure 71 includes a plurality of strip-like ITO patterns 71A each having the comb-shaped pattern 71B, and the plurality of strip-like ITO patterns 71A have a width B shown in FIG. However, they are separated from each other by a gap G corresponding to the cut-out pattern 61B in the configuration of FIG. These ITO patterns 71A are connected to each other by the connecting portions 71C 1 , 71C 2 and 71C 3 made of ITO patterns and connected to the TFT 31T. The strip-like ITO pattern 71A is formed in a zigzag shape corresponding to the zigzag convex pattern 61A (see FIG. 27 or 28) formed on the counter glass substrate 31B.

以下の表3は、図31の液晶表示装置70において、図30のパラメータAおよびBを様々に変化させた場合の表示特性を示す。ただし表3の実験は、先の実施例と同様に液晶31としてメルク社製の液晶を、JSR社製垂直分子配向膜と組み合わせて使った場合について行い、液晶層33の厚さは4μmとしている。また前記画素電極構造71において、前記櫛型パターン71Bは3.5μmの幅Wを有し、6μm周期で繰り返されるものとした。   Table 3 below shows display characteristics when the parameters A and B in FIG. 30 are variously changed in the liquid crystal display device 70 in FIG. 31. However, the experiment of Table 3 was conducted in the case of using a liquid crystal manufactured by Merck as a liquid crystal 31 in combination with a vertical molecular alignment film manufactured by JSR as in the previous embodiment, and the thickness of the liquid crystal layer 33 was 4 μm. . In the pixel electrode structure 71, the comb pattern 71B has a width W of 3.5 μm and is repeated at a period of 6 μm.

Figure 2006323423
表3を参照するに、前記画素電極71中において前記櫛型パターン71Bの長さBが、前記櫛型パターン71Bと帯状ITOパターン71Aの全体幅の65%以上になると中間調表示モードにおいてむらが発生し、このことから、前記櫛型パターン71Bの全体幅A+Bに対する割合は、65%以下とするのが好ましいことがわかる。一方、前記櫛型パターン71Bの長さBが全体幅の35%以下になると応答特性改善効果が弱くなり、このことから、前記櫛型パターン71Bの前記全体幅に対する割合は、35%以上とするのがより好ましいことがわかる。前記中間調表示モード時における表示むらの発生は、櫛型パターン71Bのパターニング時の0.2〜0.3μm程度のばらつきの影響が、このような中間調表示モードにおいて強まるためと考えられる。
Figure 2006323423
Referring to Table 3, when the length B of the comb pattern 71B in the pixel electrode 71 is 65% or more of the entire width of the comb pattern 71B and the strip-like ITO pattern 71A, unevenness occurs in the halftone display mode. From this, it can be seen that the ratio of the comb pattern 71B to the total width A + B is preferably 65% or less. On the other hand, when the length B of the comb pattern 71B is 35% or less of the entire width, the response characteristic improving effect is weakened. Therefore, the ratio of the comb pattern 71B to the entire width is set to 35% or more. It can be seen that is more preferable. The occurrence of display unevenness in the halftone display mode is considered to be due to the influence of the variation of about 0.2 to 0.3 μm during the patterning of the comb pattern 71B being strengthened in such a halftone display mode.

図32(A)は、図31の液晶表示装置70において、前記櫛型パターン幅Wを様々に変化させた場合の透過率および応答速度の変化を示す。ただし、図32(A)の結果は、図30の電極71において前記帯状電極71Aの幅Aを11μm、前記櫛型パターン71Bの長さBを15μm、さらに前記櫛型パターン71Bの繰り返し周期を6μmとした場合についてのものである。   FIG. 32A shows changes in transmittance and response speed when the comb pattern width W is variously changed in the liquid crystal display device 70 of FIG. However, the result of FIG. 32A shows that in the electrode 71 of FIG. 30, the width A of the strip electrode 71A is 11 μm, the length B of the comb pattern 71B is 15 μm, and the repetition period of the comb pattern 71B is 6 μm. It is about the case.

図32(A)を参照するに、応答時間については前記パターン幅Wが0である場合には単なる帯状電極71Aのみの効果しか現れないが、前記パターン幅Wが1.5μmを超えたあたりから急激に応答速度が向上し、3.5μmを超えると徐々に応答速度が低下するのがわかる。一方光透過率について見ると、前記パターン幅Wが3.5μmをあたりから低下が始まり、4.5μm前後からさらに急激に低下するが、これは図32(B)に示すように本来なら白で示す方向に配向が規制されるはずの液晶分子が黒で示すように乱れ始め、その結果透過率が低下するものと考えられる。   Referring to FIG. 32A, as for the response time, when the pattern width W is 0, only the effect of the strip electrode 71A appears, but from the time when the pattern width W exceeds 1.5 μm. It can be seen that the response speed increases rapidly, and that the response speed gradually decreases when it exceeds 3.5 μm. On the other hand, regarding the light transmittance, the pattern width W starts to decrease from around 3.5 μm, and further rapidly decreases from around 4.5 μm, but this is originally white as shown in FIG. It is considered that the liquid crystal molecules whose orientation should be regulated in the direction shown starts to be disordered as shown in black, and as a result, the transmittance is lowered.

図32(A)の結果は、前記櫛型パターン71Bの幅Wとしては、2.5〜4.5μmの範囲が最も好ましいことを示している。   The result of FIG. 32A shows that the range of 2.5 to 4.5 μm is most preferable as the width W of the comb pattern 71B.

図33は、図31の液晶表示装置70について、透過率と立ち上がり時間の関係を示す。ただし、図33の結果は、図30において前記帯状ITOパターン71Aの幅Aを11μm、前記櫛型パターン71Bの長さBを15μm、前記ギャップGの幅を8μm、前記櫛型パターン71Bの幅Wを3.5ミクロン、前記櫛型パターン71Bの繰り返し周期を6μmとした場合についてのもので、対向基板31B上には特に凸型パターン61Aを形成していない。また図33中には、先の図1(A),(B)の従来の液晶表示装置10の透過率および立ち上がり特性を示す。   FIG. 33 shows the relationship between transmittance and rise time for the liquid crystal display device 70 of FIG. However, the result of FIG. 33 is that the width A of the strip ITO pattern 71A is 11 μm, the length B of the comb pattern 71B is 15 μm, the width of the gap G is 8 μm, and the width W of the comb pattern 71B in FIG. Is 3.5 microns, and the repetition period of the comb pattern 71B is 6 μm. No convex pattern 61A is formed on the counter substrate 31B. FIG. 33 shows the transmittance and rise characteristics of the conventional liquid crystal display device 10 of FIGS. 1 (A) and 1 (B).

図33を参照するに、本実施例の液晶表示装置70は特に中間調領域において立ち上がり時間が従来のものより大幅に減少していることがわかる。   Referring to FIG. 33, it can be seen that the rise time of the liquid crystal display device 70 of this embodiment is significantly reduced compared to the conventional one, particularly in the halftone region.

図34は図33と同様な液晶表示装置70の透過率および立ち上がり特性を示すが、図34の場合には前記対向基板31B上に図27,28と同様な凸型パターン61Aを形成している。これを図34中、実施例2として示す。一方実施例1として示されているのは、図33に示した液晶表示装置70の特性である。   FIG. 34 shows the transmittance and rising characteristics of the liquid crystal display device 70 similar to FIG. 33. In the case of FIG. 34, a convex pattern 61A similar to FIGS. 27 and 28 is formed on the counter substrate 31B. . This is shown as Example 2 in FIG. On the other hand, the characteristics of the liquid crystal display device 70 shown in FIG. 33 are shown as the first embodiment.

図34を参照するに、前記対向基板31B上に凸型パターン61Aを形成した方が、特に透過率が0%に近い領域において、応答速度が向上するのがわかる。   Referring to FIG. 34, it can be seen that the response speed is improved when the convex pattern 61A is formed on the counter substrate 31B, particularly in a region where the transmittance is close to 0%.

図35は、図34中の実施例1および2の液晶表示装置について、透過率を各階調ごとに比較して示す。ただし、図35においては、前記画素電極71に5.4Vの駆動電圧を印加した状態を256階調と定義している。   FIG. 35 shows the transmittance of the liquid crystal display devices of Examples 1 and 2 in FIG. However, in FIG. 35, a state where a drive voltage of 5.4 V is applied to the pixel electrode 71 is defined as 256 gradations.

図35を参照するに、前記凸型パターン61Aを前記対向基板31B上に形成することにより、液晶表示装置70の透過率は大きく向上することがわかる。   Referring to FIG. 35, it can be seen that the transmittance of the liquid crystal display device 70 is greatly improved by forming the convex pattern 61A on the counter substrate 31B.

なお、本実施例において、前記画素電極71としては、先の図30に示すパターン以外にも、図36(A)〜(C)に示す様々なパターンを使うことができる。   In this embodiment, as the pixel electrode 71, various patterns shown in FIGS. 36A to 36C can be used in addition to the pattern shown in FIG.

なお、本実施例においても、前記対向基板31B上のパターン61Aは、レジストパターン等の凸パターンに限定されるものではなく、前記対向電極36中に形成されたカットアウトパターンであってもよい。また、前記櫛型パターン71Bの繰り返し周期は、前記6μmに限定されるものではなく、2μm以上、15μm以下の範囲であれは、櫛型パターンの延在方向への効果的な液晶分子の配向規制を実現することができる。

[第6実施例]
次に、先の第1実施例で説明した液晶表示装置30における構造パターン、例えば図8の構造パターン34Aをレジストパターンにより形成する場合の液晶表示装置の製造方法を、図37(A)〜図45(U)を参照しながら説明する。
Also in this embodiment, the pattern 61A on the counter substrate 31B is not limited to a convex pattern such as a resist pattern, but may be a cut-out pattern formed in the counter electrode 36. In addition, the repetition period of the comb pattern 71B is not limited to the above 6 μm, and if the range is 2 μm or more and 15 μm or less, the liquid crystal molecules are effectively regulated in the extending direction of the comb pattern. Can be realized.

[Sixth embodiment]
Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device when the structural pattern in the liquid crystal display device 30 described in the first embodiment, for example, the structural pattern 34A of FIG. 8 is formed by a resist pattern will be described with reference to FIGS. This will be described with reference to 45 (U).

図37(A)を参照するに、前記ガラス基板31A上には前記走査電極33および補助容量電極Csを形成する導体膜81が一様に形成され、さらに前記導体膜81上に形成したい走査電極パターンおよび補助容量電極パターンにそれぞれ対応したレジストパターンR1およびR2を形成する。   Referring to FIG. 37A, a conductive film 81 for forming the scanning electrode 33 and the auxiliary capacitance electrode Cs is uniformly formed on the glass substrate 31A, and the scanning electrode to be formed on the conductive film 81 is further formed. Resist patterns R1 and R2 corresponding to the pattern and the auxiliary capacitance electrode pattern are formed.

次に図37(B)の工程において、前記レジストパターンR1およびR2をマスクに使いながら前記導体膜81をパターニングし、図37(C)の平面図に示すように、前記ガラス基板31A上に前記走査電極パターン33および補助電極パターンCsを形成する。図37(B)のパターニング工程の結果、走査電極33の先端部には電極パッド33Aが、また前記補助電極パターンCsの先端部には電極パッドCsAが形成されている。   Next, in the step of FIG. 37 (B), the conductor film 81 is patterned using the resist patterns R1 and R2 as a mask, and the glass substrate 31A is subjected to the patterning as shown in the plan view of FIG. The scanning electrode pattern 33 and the auxiliary electrode pattern Cs are formed. As a result of the patterning step in FIG. 37B, an electrode pad 33A is formed at the tip of the scanning electrode 33, and an electrode pad CsA is formed at the tip of the auxiliary electrode pattern Cs.

次に図38(D)の工程において、前記図37(C)の構造上にゲート絶縁膜82、アモルファスシリコン膜83およびSiN膜84を順次堆積し、さらに前記TFT31Tのチャネル領域を覆うように、前記SiN膜84上にレジストパターンR3を形成する。   Next, in the step of FIG. 38D, a gate insulating film 82, an amorphous silicon film 83, and an SiN film 84 are sequentially deposited on the structure of FIG. 37C, and further, the channel region of the TFT 31T is covered. A resist pattern R3 is formed on the SiN film 84.

さらに図38(E)の工程において前記SiN膜84を前記レジストパターンR3をマスクにパターニングし、SiNチャネル保護膜84Aを前記TFT31Tのチャネル領域に対応して形成する。図38(F)は、このようにして形成された構造の平面図を示す。   Further, in the step of FIG. 38E, the SiN film 84 is patterned using the resist pattern R3 as a mask, and a SiN channel protective film 84A is formed corresponding to the channel region of the TFT 31T. FIG. 38F shows a plan view of the structure thus formed.

次に図39(G)の工程において前記図38(F)の構造上にn+型アモルファスシリコン膜85および前記信号電極32を形成する導体膜86を順次堆積し、さらに前記導体膜86上に前記信号電極32に対応するレジストパターンR4および前記補助容量Csに対応するレジストパターンR5を形成する。前記レジストパターンR4はさらに前記TFT31Tのソース電極パターンおよびドレイン電極パターンに対応した形状を有し、前記レジストパターンR4,R5をマスクに前記層83,85,86をパターニングすることにより、図39(H)および図39(I)に示すように、前記TFT31Tのソース電極パターン86Sおよびドレイン電極パターン86Dが、前記TFT31Tを構成するチャネル層パターン83A、ソースパターン85S、およびドレインパターン85Dと共に形成される。一方前記補助容量領域では、前記補助容量電極Csと共にキャパシタを形成する対向電極パターンCs'が同時に形成されている。図39(I)は、このようにして形成された図39(H)の構造の平面図を示す。前記図39(H)のパターニング工程では、さらに前記導体層86のパターニングにより、前記信号電極32が、先端部のパッド電極32Aをも含めて形成されている。   Next, in the step of FIG. 39G, an n + -type amorphous silicon film 85 and a conductor film 86 for forming the signal electrode 32 are sequentially deposited on the structure of FIG. 38F, and further on the conductor film 86. A resist pattern R4 corresponding to the signal electrode 32 and a resist pattern R5 corresponding to the auxiliary capacitor Cs are formed. The resist pattern R4 further has a shape corresponding to the source electrode pattern and the drain electrode pattern of the TFT 31T. By patterning the layers 83, 85, 86 using the resist patterns R4, R5 as a mask, FIG. ) And the source electrode pattern 86S and the drain electrode pattern 86D of the TFT 31T are formed together with the channel layer pattern 83A, the source pattern 85S, and the drain pattern 85D constituting the TFT 31T, as shown in FIG. On the other hand, in the auxiliary capacitance region, a counter electrode pattern Cs ′ that forms a capacitor together with the auxiliary capacitance electrode Cs is simultaneously formed. FIG. 39I shows a plan view of the structure of FIG. 39H formed in this way. In the patterning step of FIG. 39H, the signal electrode 32 is formed including the pad electrode 32A at the tip by further patterning the conductor layer 86.

次に図40(J)の工程において、前記図39(H)の構造上に保護膜87が一様に堆積され、さらに前記保護膜87上に、レジストパターンR6が、前記ソース電極パターン86Sおよび前記補助容量対向電極パターンCs'にそれぞれ対応したレジスト開口部RA,RBを有するように形成される。   Next, in the step of FIG. 40J, a protective film 87 is uniformly deposited on the structure of FIG. 39H, and a resist pattern R6 is formed on the protective film 87 to form the source electrode pattern 86S and the source electrode pattern 86S. It is formed to have resist openings RA and RB respectively corresponding to the storage capacitor counter electrode pattern Cs ′.

次に図40(K)の工程において前記保護膜87を前記レジストパターンR6をマスクにパターニングし、前記保護膜87中に前記レジスト開口部RA,RBにそれぞれ対応してコンタクトホール87Aおよび87Bを形成する。また同時に図40(L)に示すように、前記電極パッド部33Aにおいて、前記保護膜87中に前記パッド部33Aを露出する開口部87A'が形成され、さらに図40(M)に示すように、前記パッド電極部32Aにおいても前記保護膜87中に前記パッド電極CsAを露出するコンタクトホール87B'が形成されている。図41(N)は、このようにして得られた構造の平面図を示す。   Next, in the step of FIG. 40K, the protective film 87 is patterned using the resist pattern R6 as a mask, and contact holes 87A and 87B are formed in the protective film 87 corresponding to the resist openings RA and RB, respectively. To do. At the same time, as shown in FIG. 40 (L), in the electrode pad portion 33A, an opening 87A ′ exposing the pad portion 33A is formed in the protective film 87, and as shown in FIG. 40 (M). Also in the pad electrode portion 32A, a contact hole 87B ′ exposing the pad electrode CsA is formed in the protective film 87. FIG. 41N shows a plan view of the structure thus obtained.

次に図42(O)の工程において図41(N)の構造上に一様にITO膜88を前記コンタクトホール87Aおよび87Bにおいてそれぞれ前記ソース領域86Sおよび前記補助容量対向電極Cs'にコンタクトするように堆積し、さらに前記ITO膜88上に、形成したい画素電極34に対応したレジストパターンR7を形成する。図42(P)の工程で、前記ITO膜88を前記レジストパターンR7をマスクにパターニングすることにより、前記透明画素電極34が形成される。   Next, in the step of FIG. 42 (O), the ITO film 88 is uniformly contacted with the source region 86S and the auxiliary capacitor counter electrode Cs ′ in the contact holes 87A and 87B, respectively, on the structure of FIG. 41 (N). Further, a resist pattern R7 corresponding to the pixel electrode 34 to be formed is formed on the ITO film 88. In the step of FIG. 42P, the transparent pixel electrode 34 is formed by patterning the ITO film 88 using the resist pattern R7 as a mask.

同時に、図42(Q),(R)に示すように、前記電極パッド33Aおよび32AにおいてもITOコンタクトパッド88A,88Bが、それぞれコンタクトホール87A'および87B'において前記電極パッド33Aおよび32Aにコンタクトするように形成される。   At the same time, as shown in FIGS. 42 (Q) and (R), also in the electrode pads 33A and 32A, the ITO contact pads 88A and 88B contact the electrode pads 33A and 32A in the contact holes 87A ′ and 87B ′, respectively. Formed as follows.

図43(S)は、このようにして得られた基板31Aの平面図を示す。   FIG. 43S shows a plan view of the substrate 31A obtained in this way.

次に、本実施例においては、図44(T)の工程において図43(S)の構造の全面に一様にレジスト膜を塗布し、露光・現像処理を行うことにより、先に図8で説明した微細構造パターン34Aに対応する微細な分枝を有する構造パターン34Xを、レジストパターンの形で形成し、前記液晶表示装置30に対応した液晶表示装置80が得られる。   Next, in this embodiment, in the step of FIG. 44 (T), a resist film is uniformly applied to the entire surface of the structure of FIG. 43 (S), and exposure / development processing is performed. A structure pattern 34X having fine branches corresponding to the described fine structure pattern 34A is formed in the form of a resist pattern, and a liquid crystal display device 80 corresponding to the liquid crystal display device 30 is obtained.

かかる構造パターン34Xでは、先に説明した液晶分子の配向方向の効果的な規制を行うためには微細な分枝の各々は6μm以下の幅を有する必要があるが、このような微細なレジストパターン34Xは、例えば前記レジスト膜をシプレイ社製のレジストSC−1811の粘度を調整することにより600〜800nm、好ましくは約700nmの厚さに形成する。このように前記一様なレジスト膜の厚さを約700nmとすることにより、露光・現像工程の後においても前記レジストパターンとして100〜700nmの厚さ、好ましくは600〜700nmの厚さを維持することが可能になる。その際、現像時における分枝先端部における膜厚の減少を抑制するため露光にはgh線ステッパを使い、通常は露光しきい値の2倍以上に設定される露光ドーズをしきい値の1.5倍程度に設定していわゆるアンダー露光を行うのが好ましい。   In such a structural pattern 34X, in order to effectively regulate the alignment direction of the liquid crystal molecules described above, each of the fine branches needs to have a width of 6 μm or less. Such a fine resist pattern For example, the resist film 34X is formed to a thickness of 600 to 800 nm, preferably about 700 nm by adjusting the viscosity of resist SC-1811 manufactured by Shipley Co., Ltd. Thus, by setting the thickness of the uniform resist film to about 700 nm, the resist pattern maintains a thickness of 100 to 700 nm, preferably 600 to 700 nm, even after the exposure / development process. It becomes possible. At that time, a gh-line stepper is used for exposure in order to suppress a decrease in film thickness at the branch tip at the time of development. It is preferable to perform so-called underexposure by setting it to about 5 times.

かかる露光・現像工程の後、前記レジストパターン34Xに対して表層部をアッシング・除去し、レジストパターン34Xの厚さを約300nmとする。かかるアッシング工程は、例えば反応性プラズマエッチング装置を使い、30.0Paの圧力下、600WのプラズマパワーでO2を400SCCMの流量で供給しながら行えばよい。 After the exposure / development process, the surface layer portion is ashed and removed from the resist pattern 34X, so that the thickness of the resist pattern 34X is about 300 nm. Such an ashing process may be performed using, for example, a reactive plasma etching apparatus while supplying O 2 at a flow rate of 400 SCCM with a plasma power of 600 W under a pressure of 30.0 Pa.

かかるアッシング工程の後、前記レジストパターン34Xに対して熱硬化処理を、最初は140°C以下、好ましくは約130°Cの温度において開始し、徐々にあるいは段階的に温度を上昇させて実行し、最終的には140°C〜270°Cの間、好ましくは200°Cの最高温度で10分間以上加熱硬化させる。このようにすることにより、前記微細な分枝を有するレジストパターン34Xを、分枝の幅が6μm以下であっても、その形状を損なうことなく硬化させることができる。   After the ashing process, the thermosetting process is initially performed on the resist pattern 34X at a temperature of 140 ° C. or lower, preferably about 130 ° C., and gradually or stepwisely increased. Finally, heat curing is performed at a maximum temperature of 140 ° C. to 270 ° C., preferably 200 ° C. for 10 minutes or more. By doing in this way, even if the width of the branch is 6 μm or less, the resist pattern 34X having the fine branch can be cured without impairing its shape.

また、かかる工程により、図45に示したような、先端部が尖った分枝を有するレジストパターン34Yを形成することもできる。さらに、本実施例によれば、先の図22あるいは24で説明した微細レジストパターン24Eあるは24E'を形成することもできる。図45の構成は、先に説明した図22の液晶表示装置50におおよそ対応している。   In addition, this process can also form a resist pattern 34Y having a branch with a sharp tip as shown in FIG. Furthermore, according to the present embodiment, the fine resist pattern 24E or 24E ′ described with reference to FIG. 22 or 24 can be formed. The configuration in FIG. 45 roughly corresponds to the liquid crystal display device 50 in FIG. 22 described above.

なお、本実施例においては、前記レジスト膜として様々なポリイミド系樹脂、あるいは、ノボラック系樹脂、あるいはアクリル系樹脂を使うことができる。

[第7実施例]
次に、本発明の第7実施例による液晶表示装置90の構成を説明する。
In this embodiment, various polyimide resins, novolac resins, or acrylic resins can be used as the resist film.

[Seventh embodiment]
Next, the configuration of the liquid crystal display device 90 according to the seventh embodiment of the present invention will be described.

本実施例の液晶表示装置90では、先の図44のパターン34Xあるいは図45のパターン34Yにおいて、個々の分枝の厚さを先端部に向って減少させる。   In the liquid crystal display device 90 of the present embodiment, the thickness of each branch is reduced toward the tip in the pattern 34X of FIG. 44 or the pattern 34Y of FIG.

図46(A),(B)は本実施例の原理を示す。   46A and 46B show the principle of this embodiment.

図46(A),(B)を参照するに、図示の液晶表示装置90は図1(A),(B)の液晶表示装置10を基本に構成されており、凸型パターン13Aを形成されたガラス基板11Aと凸型パターン13Bを形成されたガラス基板11Bとの間に液晶層12を保持する構成を有するが、前記凸型パターン13Aからは、側方に先端が尖った方向性を有する微細パターン13aが、図22の微細パターン24Eあるいは図24の微細パターン24E'と同様に延出している。   46 (A) and 46 (B), the illustrated liquid crystal display device 90 is configured based on the liquid crystal display device 10 of FIGS. 1 (A) and 1 (B), and is formed with a convex pattern 13A. Although the liquid crystal layer 12 is held between the glass substrate 11A and the glass substrate 11B on which the convex pattern 13B is formed, the convex pattern 13A has a directionality with a pointed tip on the side. The fine pattern 13a extends in the same manner as the fine pattern 24E in FIG. 22 or the fine pattern 24E ′ in FIG.

その際、図46(B)の断面図に示すように、前記微細パターン13aは幅のみならず、その高さ、ないし厚さも前記先端方向に向って減少させ、その結果対向する一対の微細パターン13aにより、互いに向かい合った斜面が画成される。かかる微細パターン13aの対向部に対応して前記上側凸パターン13Bを形成することにより、液晶層12中の液晶分子はプレチルトが与えられ、その結果前記液晶層12に駆動電界が印加されると、前記液晶分子は速やかに略水平方向の配向状態にチルトする。その際、前記微細パターン13aは互いに微細な、典型的には数μmの周期で繰り返し形成されているため、チルトする液晶分子の方向は、先の実施例で説明したように、前記微細パターン13aの延在方向に規制される。   At that time, as shown in the cross-sectional view of FIG. 46B, not only the width but also the height or thickness of the fine pattern 13a is reduced in the tip direction, and as a result, a pair of opposing fine patterns. 13a defines slopes facing each other. By forming the upper convex pattern 13B corresponding to the facing portion of the fine pattern 13a, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 12 are given a pretilt, and as a result, when a driving electric field is applied to the liquid crystal layer 12, The liquid crystal molecules quickly tilt to a substantially horizontal alignment state. At this time, since the fine pattern 13a is repeatedly formed with a minute pitch, typically with a period of several μm, the direction of the liquid crystal molecules to be tilted is the fine pattern 13a as described in the previous embodiment. It is regulated in the extending direction.

かかる斜面を有する微細パターン13aは、例えば図47に示す露光マスクを使ってポジ型レジストを露光することにより形成できる。   The fine pattern 13a having such a slope can be formed, for example, by exposing a positive resist using an exposure mask shown in FIG.

典型的な例では、前記ガラス基板13A上の画素電極を覆うように例えばシプレイ社製のポジ型レジストS1808を0.1〜3μmの厚さ、典型的には約1.5μmの厚さにスピンコーティングする。   In a typical example, a positive resist S1808 manufactured by Shipley Co., for example, is spun to a thickness of 0.1 to 3 μm, typically about 1.5 μm so as to cover the pixel electrode on the glass substrate 13A. Coating.

次に図47の露光マスクを使って前記レジスト膜を紫外光により露光し、現像・リンス・およびベークの各工程を行う。かかる工程の結果、図46(A),(B)に示すように前記凸パターン13Aを、微細凸パターン13aが側方に延在するように形成することができる。   Next, the resist film is exposed to ultraviolet light using the exposure mask of FIG. 47, and development, rinsing, and baking processes are performed. As a result of this step, as shown in FIGS. 46A and 46B, the convex pattern 13A can be formed such that the fine convex pattern 13a extends laterally.

図48は、このようにして形成された液晶表示装置90の動作をシミュレートした結果を示す。図48中、右側が本発明による場合で、前記微細パターン13aを設けた場合を、左側は従来の場合で前記微細パターン13aを設けなかった場合についてのものである。図48は様々に設定された所定のコントラスト比に到達するまでの時間を示すが、本発明の例では、前記傾斜微細パターン13aを設けた結果、前記凸パターン13A近傍における立ち上がり時間が大きく減少していることがわかる。   FIG. 48 shows the result of simulating the operation of the liquid crystal display device 90 thus formed. In FIG. 48, the right side is the case according to the present invention and the fine pattern 13a is provided, and the left side is the conventional case and the fine pattern 13a is not provided. FIG. 48 shows the time required to reach various predetermined contrast ratios. In the example of the present invention, as a result of providing the inclined fine pattern 13a, the rise time in the vicinity of the convex pattern 13A is greatly reduced. You can see that

以下の表4は、印加電圧を2.5Vおよび3.0Vとした場合の、90%透過率が達成されるまでの時間を、図1(A),(B)の従来の液晶表示装置と図46(A),(B)の本実施例による液晶表示装置と比較して示す。   Table 4 below shows the time until 90% transmittance is achieved when the applied voltage is 2.5 V and 3.0 V, and the conventional liquid crystal display device of FIGS. 1 (A) and 1 (B). 46A and 46B are shown in comparison with the liquid crystal display device according to this embodiment.

Figure 2006323423
表4は、前記微細構造パターン13aの応答時間短縮に対する寄与を明瞭に示している。
Figure 2006323423
Table 4 clearly shows the contribution of the fine structure pattern 13a to shortening the response time.

なお、本実施例においては、前記微細構造パターン13aが傾斜しているため、パターン13aの先端が尖っている必要は必ずしもなく、例えば図49(A)に示す一様な幅を有するパターン13a'あるいは図49(B)に示す幅が先端に向って増大するパターン13a"であっても、同様な効果を得ることができる。

[第8実施例]
図50は、本発明の第8実施例による液晶表示装置100の構成を示す。
In the present embodiment, since the fine structure pattern 13a is inclined, the tip of the pattern 13a is not necessarily sharp, for example, the pattern 13a ′ having a uniform width shown in FIG. 49A. Alternatively, the same effect can be obtained even with the pattern 13a ″ whose width shown in FIG. 49B increases toward the tip.

[Eighth embodiment]
FIG. 50 shows a configuration of a liquid crystal display device 100 according to an eighth embodiment of the present invention.

ただし図50の液晶表示装置100は先に説明した液晶表示装置30の構成をベースとしており、従って図50中、先に説明した部分には対応する参照符号を付し、説明を省略する。   However, the liquid crystal display device 100 of FIG. 50 is based on the configuration of the liquid crystal display device 30 described above. Therefore, the portions described above in FIG.

図50を参照するに、前記画素電極34上には、先に図17で説明したパターン24Aと同様な多数の方向性パターン101Aが、共通の方位で、行方向にはWGの間隔で、また列方向にはHGの間隔で、行列状に形成されている。   Referring to FIG. 50, on the pixel electrode 34, a large number of directional patterns 101A similar to the pattern 24A described above with reference to FIG. 17 are arranged in a common direction, at intervals of WG in the row direction, and It is formed in a matrix at intervals of HG in the column direction.

図51は、前記方向性パターン101Aの一例を示す。   FIG. 51 shows an example of the directional pattern 101A.

図51を参照するに、前記方向性パターン101Aは幅がW、高さがHの楔形状を有し、底部に幅がSWで高さがSHのカットアウト部が形成されている。かかる方向性パターン101Aは前記画素電極34中に形成されたレジストパターンであっても、また前記画素電極34中に形成されたカットアウトパターンであってもよい。一例では、前記幅Wは8μm、前記幅SWは4μm、前記高さHは30ミクロン、前記高さSHは5〜20μmであり、かかるパターン101Aが前記画素電極34上に、間隔WGを2μm、間隔HGを0μmとして繰り返し配列される。   Referring to FIG. 51, the directional pattern 101A has a wedge shape with a width of W and a height of H, and a cutout portion with a width of SW and a height of SH is formed at the bottom. The directional pattern 101A may be a resist pattern formed in the pixel electrode 34 or a cutout pattern formed in the pixel electrode 34. In one example, the width W is 8 μm, the width SW is 4 μm, the height H is 30 microns, and the height SH is 5 to 20 μm. The pattern 101A has a spacing WG of 2 μm on the pixel electrode 34, The arrangement is repeated with the interval HG set to 0 μm.

かかる方向性パターン101Aを形成することにより、前記液晶層31中の液晶分子は、先に説明したように前記方向性パターン101Aにより規定される方向に配向を規制され、その結果、前記液晶層31に駆動電界が印加された場合に速やかにチルトし、九層状態への遷移が高速で生じる。   By forming the directional pattern 101A, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 31 are regulated in the direction defined by the directional pattern 101A as described above, and as a result, the liquid crystal layer 31. When a driving electric field is applied to the first electrode, it quickly tilts and a transition to the nine-layer state occurs at high speed.

図52は図50の液晶表示装置において、前記画素電極34中にドメインAおよびドメインBを区画し、前記ドメインAおよび前記ドメインBで前記方向性パターン101Aの配向方向を矢印で示すように異ならせた構成を示す。かかる構成によれば、液晶表示装置の視野角特性を向上させることができる。   FIG. 52 shows the liquid crystal display device of FIG. 50, in which the domain A and the domain B are partitioned in the pixel electrode 34, and the orientation direction of the directional pattern 101A is made different between the domain A and the domain B as indicated by arrows. The configuration is shown. According to this configuration, the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device can be improved.

図53は、図50の液晶表示装置において、前記画素電極34中にドメインA〜Dを先の図16の構成と同様に区画し、各ドメインA〜Dにおいて、前記方向性パターン101Aの方向を矢印で示すように異ならせた構成を示す。かかる構成によれば、液晶表示装置の視野角特性をさらに向上させることができる。   53, in the liquid crystal display device of FIG. 50, domains A to D are partitioned in the pixel electrode 34 in the same manner as in the configuration of FIG. 16, and the direction of the directional pattern 101A is set in each of the domains A to D. Different configurations are shown as shown by arrows. According to this configuration, the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device can be further improved.

図54は、図52の構成の液晶表示装置において、前記ドメインAとドメインBとの境界に、レジストパターンあるいはカットアウトパターンよりなる構造パターン102を、前記図1(A),(B)の液晶表示装置10における凸パターン13Aと同様に形成した例を示す。   FIG. 54 shows a liquid crystal display device having the structure shown in FIG. 52, in which the structural pattern 102 made of a resist pattern or a cut-out pattern is formed on the boundary between the domain A and the domain B in the liquid crystal shown in FIGS. The example formed similarly to the convex pattern 13A in the display apparatus 10 is shown.

かかる構成によれば、前記方向性パターン101Aによる矢印方向への液晶分子の配向規制が、前記構造パターン102により、さらに強化される。   According to this configuration, the alignment of liquid crystal molecules in the direction of the arrow by the directional pattern 101 </ b> A is further reinforced by the structural pattern 102.

図55は、図53の構成の液晶表示装置において、前記ドメインA〜Dの境界に格子状のレジストパターンあるいはカットアウトパターンよりなる構造パターン102Bを形成した例を示す。   FIG. 55 shows an example in which a structural pattern 102B made of a lattice-like resist pattern or cut-out pattern is formed at the boundary between the domains A to D in the liquid crystal display device having the configuration shown in FIG.

かかる格子状パターン102Bを形成することにより、前記方向性パターン101Aによる矢印方向への液晶分子の配向規制が、さらに強化される。   By forming the lattice pattern 102B, the alignment regulation of the liquid crystal molecules in the direction of the arrow by the directional pattern 101A is further strengthened.

図56は、前記方向性パターン101Aの一変形例による方向性パターン101Bの構成を示す。   FIG. 56 shows a configuration of a directional pattern 101B according to a modification of the directional pattern 101A.

図56を参照するに、前記方向性パターン101Bは幅がWで高さがHの逆T字型パターンよりなり、幅がWで高さがSHの底部と、前記底部から上方に突出する幅がSWの突出部とよりなる。   Referring to FIG. 56, the directional pattern 101B is an inverted T-shaped pattern having a width W and a height H, a width having a width W and a height SH, and a width protruding upward from the bottom. Consists of a protruding portion of SW.

典型的な例では、前記幅Wは5〜8μm、前記高さHは10〜30μm、前記突出部の幅SWは2〜3μm、前記底部の高さSHは3〜5μmに設定され、これらの方向性パターン101Aは図50の構成において前記画素電極34上に、間隔HGを2μm、間隔WGを2μmで配列される。   In a typical example, the width W is set to 5 to 8 μm, the height H is set to 10 to 30 μm, the width SW of the protrusion is set to 2 to 3 μm, and the height SH of the bottom is set to 3 to 5 μm. In the configuration shown in FIG. 50, the directional pattern 101A is arranged on the pixel electrode 34 with an interval HG of 2 μm and an interval WG of 2 μm.

図57は、前記方向性パターン101Aあるいは101Bの代わりに使うことのできる様々な方向性パターンの例を示す。   FIG. 57 shows examples of various directional patterns that can be used in place of the directional pattern 101A or 101B.

これらの方向性パターンは一般に線対称な形状を有し、さらに回転対称性を欠く図形よりなる。先にも説明したように、これらの方向性パターンは前記画素電極34上に形成したレジストパターンであっても、また前記画素電極34中に形成されたカットアウトパターンであってもよい。   These directional patterns generally have a line-symmetric shape, and further consist of figures lacking rotational symmetry. As described above, these directional patterns may be a resist pattern formed on the pixel electrode 34 or a cut-out pattern formed in the pixel electrode 34.

図58(A),(B)は、かかる方向性パターンを前記画素電極34上に方向性をもって配列することにより、所望の液晶分子の配向規制を実現する構成を示す。   FIGS. 58A and 58B show a configuration in which the alignment regulation of desired liquid crystal molecules is realized by arranging such directional patterns on the pixel electrodes 34 with directional properties.

図58(A)では、正三角形上のパターンが十字型に、しかも十字の腕の先端方向に方位を合わせて配列されており、かかるパターンの集合により、所望の液晶分子の配向規制を行う。この場合、前記正三角形パターン自体は回転対称性を有するため方向性パターンではないが、かかる非方向性パターンを集合させることにより、所望の効果を実現することができる。   In FIG. 58A, the pattern on the equilateral triangle is arranged in a cross shape and aligned in the direction of the tip of the cross arm, and the alignment of desired liquid crystal molecules is regulated by the collection of such patterns. In this case, the regular triangle pattern itself is not a directional pattern because it has rotational symmetry, but a desired effect can be realized by collecting such non-directional patterns.

これに対し、図58(B)では、二等辺三角形状の多数の方向性パターンを、中心に対して回転対称性をもって配列した例を示す。かかる構成においても、所望の液晶分子の配向規制を行うことができる。   In contrast, FIG. 58B shows an example in which a large number of isosceles triangular directional patterns are arranged with rotational symmetry with respect to the center. Even in such a configuration, desired alignment of liquid crystal molecules can be regulated.

前記図51の方向性パターン101Aは、図50に示すように画素電極31上に格子状に配列する際に、図59に示すように互い違いに配列してもよい。   51 may be arranged alternately as shown in FIG. 59 when arranged in a grid pattern on the pixel electrode 31 as shown in FIG.

また、必要に応じて、図60に示すように同心円状あるいは渦巻状に配列することも可能である。

[第9実施例]
図61(A),(B)は、本発明の第9実施例による液晶表示装置110の構成を示す、それぞれ断面図および平面図である。ただし図61(A)の断面は、図61(B)中、線A−A'に沿った断面図である。
If necessary, they can be arranged concentrically or spirally as shown in FIG.

[Ninth embodiment]
61A and 61B are a sectional view and a plan view, respectively, showing the configuration of the liquid crystal display device 110 according to the ninth embodiment of the present invention. However, the cross section of FIG. 61 (A) is a cross sectional view along the line AA ′ in FIG. 61 (B).

図61(A)を参照するに、前記液晶表示装置110では画素電極112Aを担持するガラス基板111Aと対向電極112Bを担持するガラス基板111Bとの間に液晶層113を挟持する構成を有し、前記画素電極112A上には格子状に凸パターン114Aが、また前記対向電極112B上には格子状に凸パターン114Bが形成されている。   Referring to FIG. 61A, the liquid crystal display device 110 has a configuration in which a liquid crystal layer 113 is sandwiched between a glass substrate 111A supporting a pixel electrode 112A and a glass substrate 111B supporting a counter electrode 112B. A convex pattern 114A is formed on the pixel electrode 112A in a grid pattern, and a convex pattern 114B is formed on the counter electrode 112B in a grid pattern.

前記格子状パターン114A上には、前記パターン114Aを構成する格子の交点に対応して、図61(A)および(B)に示すように斜面を形成する局在パターン114aが形成されており、同様に前記格子状パターン114B上には、前記パターン114Bを構成する格子の交点に対応して、斜面を形成する局在パターン114bが形成されている。   On the grid pattern 114A, there are formed localized patterns 114a that form slopes as shown in FIGS. 61 (A) and (B), corresponding to the intersections of the grids constituting the pattern 114A. Similarly, a localized pattern 114b that forms an inclined surface is formed on the lattice pattern 114B in correspondence with the intersection of the lattices constituting the pattern 114B.

さらに前記ガラス基板111A上には前記格子状パターン114Aを覆うように垂直分子配向膜115Aが、また前記ガラス基板111B上には前記格子状パターン114Bを覆うように垂直分子配向膜115Bが形成され、前記垂直分子配向膜115Aおよび115Bは前記液晶層113に接触し、前記液晶層113中の液晶分子を前記液晶表示装置110の非駆動状態において、前記液晶層113に略垂直な方向に配向させる。さらに前記ガラス基板111Aの外側にはポラライザ115Aが、また前記ガラス基板111Bの外側にはアナライザ115Bが、クロスニコル状態で形成されている。図61(B)中には、前記ポラライザ115Aとアナライザ115Bの吸収軸の方向がそれぞれ示されている。   Further, a vertical molecular alignment film 115A is formed on the glass substrate 111A so as to cover the lattice pattern 114A, and a vertical molecular alignment film 115B is formed on the glass substrate 111B so as to cover the lattice pattern 114B. The vertical molecular alignment layers 115A and 115B are in contact with the liquid crystal layer 113, and align liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 113 in a direction substantially perpendicular to the liquid crystal layer 113 when the liquid crystal display device 110 is not driven. Further, a polarizer 115A is formed outside the glass substrate 111A, and an analyzer 115B is formed outside the glass substrate 111B in a crossed Nicols state. In FIG. 61B, the directions of the absorption axes of the polarizer 115A and the analyzer 115B are shown.

かかる液晶表示装置110では、前記液晶層113中の液晶分子は、前記格子状パターン114Aおよび114Bのみならず、前記局在パターン113aおよび113bが形成する斜面によっても、先に図3(A),(B)で説明したと同様にプレチルト角を与えられ、その結果前記電極115Aと115Bとの間に駆動電界が印加された場合、前記液晶分子はプレチルトの効果により速やかに倒れ、前記液晶表示装置110の動作速度が向上する。   In the liquid crystal display device 110, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 113 are not only the lattice patterns 114A and 114B but also the slopes formed by the localized patterns 113a and 113b. As described in (B), when a pretilt angle is given and, as a result, when a driving electric field is applied between the electrodes 115A and 115B, the liquid crystal molecules quickly fall down due to the effect of the pretilt, and the liquid crystal display device 110 operating speed is improved.

図62は前記液晶表示装置110の駆動状態における液晶層113中の液晶分子113Aの配向を示す。   FIG. 62 shows the alignment of the liquid crystal molecules 113A in the liquid crystal layer 113 in the driving state of the liquid crystal display device 110.

図62を参照するに、前記ポラライザ116Aおよびアナライザ116Bの光吸収軸の方向を前記格子状パターン114A,114Bの延在方向に一致するように設定することで、前記格子状パターン114Aおよび114B直上においては図9の場合と同様に単一の暗線が発生するものの、パターン114Aあるいは114Bの両側において二重の暗線の発生がなく、先に図2で説明した、かかる二重暗線の発生およびこれに伴う透過率の低下の問題が回避される。   Referring to FIG. 62, by setting the directions of the light absorption axes of the polarizer 116A and the analyzer 116B so as to coincide with the extending direction of the grid patterns 114A and 114B, the grid patterns 114A and 114B are directly above. Although a single dark line is generated as in the case of FIG. 9, there is no double dark line on both sides of the pattern 114A or 114B, and the generation of the double dark line described above with reference to FIG. The associated problem of reduced transmission is avoided.

次に図61(A),(B)の液晶表示装置110の製造工程を、図63(A)〜(D)を参照しながら説明する。   Next, a manufacturing process of the liquid crystal display device 110 shown in FIGS. 61A and 61B will be described with reference to FIGS.

図61(A)を参照するに、前記基板111A上には前記画素電極112Aを覆うように、典型的にはシプレイ・ファーイースト社製のポジ型レジストS1808よりなるレジスト膜114が形成され、90°Cで20分間のプリベークの後これをマスクM1を使って露光し、さらに例えばシプレイ・ファーイースト社製の現像液MF319等の現像液を使って現像することにより、図61(B)に示すように前記格子状パターン114Aが形成される。図61(B)の工程では、前記格子状パターン114は、さらに120°Cで40分間のポストベークを行い、さらに200°Cで40分間のポストベークを行う。   Referring to FIG. 61A, a resist film 114 typically made of a positive resist S1808 manufactured by Shipley Far East is formed on the substrate 111A so as to cover the pixel electrode 112A. After pre-baking at 20 ° C. for 20 minutes, this is exposed using a mask M1, and further developed using a developer such as developer MF319 manufactured by Shipley Far East, for example, as shown in FIG. 61 (B). Thus, the lattice pattern 114A is formed. In the process of FIG. 61 (B), the lattice pattern 114 is further post-baked at 120 ° C. for 40 minutes and further post-baked at 200 ° C. for 40 minutes.

次に図63(C)の工程において、前記局在パターン114aを構成するレジスト膜114'が前記基板111A上に、前記格子状パターン114Aを覆うように形成され、さらにこれをマスクM2を使って露光・現像することにより、図63(D)に示すように、前記格子状パターン114Aの格子の交差部分に対応して、前記局在パターン114aが形成される。前記局在パターン114aは、典型的には一辺が45μm、前記格子状パターン114A上における高さが0.3μmになるように形成される。一方、前記格子状パターン114A自体の幅は、例えば5μmとされる。   Next, in the step of FIG. 63C, a resist film 114 ′ constituting the localized pattern 114a is formed on the substrate 111A so as to cover the lattice pattern 114A, and this is further formed using a mask M2. By performing exposure and development, as shown in FIG. 63D, the localized pattern 114a is formed corresponding to the lattice intersection of the lattice pattern 114A. The localized pattern 114a is typically formed to have a side of 45 μm and a height on the grid pattern 114A of 0.3 μm. On the other hand, the width of the lattice pattern 114A itself is, for example, 5 μm.

図63(D)の工程では、さらに前記格子状パターン114Aおよび局在パターン114aを覆うように、例えばJSR社製の垂直配向膜JALS684が、前記分子配向膜115Aとして形成される。   In the step of FIG. 63D, a vertical alignment film JALS684 manufactured by JSR, for example, is formed as the molecular alignment film 115A so as to cover the lattice pattern 114A and the localized pattern 114a.

前記基板111B上の格子状パターン114Bおよび局在パターン114bも、同様にして形成することができる。   The lattice pattern 114B and the localized pattern 114b on the substrate 111B can be formed in the same manner.

前記格子状パターン114Aおよび114Bは、前記基板111Aおよび111Bが組み合わされて前記液晶表示装置110が形成される際、液晶層113の面方向に20μm離間するような位置関係で形成される。   The lattice patterns 114A and 114B are formed in a positional relationship such that they are separated by 20 μm in the surface direction of the liquid crystal layer 113 when the liquid crystal display device 110 is formed by combining the substrates 111A and 111B.

図64は、前記図61(B)の構成において、前記局在パターン114aおよび114bの代わりに、前記格子状パターン114Aおよび114Bの延在方向に対して45°の角度で延在する突出部を有する局在パターン114cおよび114dを形成した場合を示す。   FIG. 64 shows a protrusion extending at an angle of 45 ° with respect to the extending direction of the grid patterns 114A and 114B in place of the localized patterns 114a and 114b in the configuration of FIG. 61 (B). The case where the localized patterns 114c and 114d having the above are formed is shown.

図64の構成によれば、前記格子状パターン114A,114Bによるプレチルト効果が直接には及ばない前記格子状パターン114Aと114Bとの中間の領域においても、液晶分子中に望ましいプレチルトを形成することができる。   According to the configuration of FIG. 64, a desirable pretilt can be formed in the liquid crystal molecules even in an intermediate region between the lattice patterns 114A and 114B where the pretilt effect by the lattice patterns 114A and 114B does not directly reach. it can.

これに対し図65は、前記図61(B)の構成において、前記局在パターン114aおよび114bの代わりに、前記格子状パターン114Aおよび114Bの延在方向に延在する突出部を有する局在パターン114eおよび114fを形成した場合を示す。   On the other hand, FIG. 65 shows a localized pattern having protrusions extending in the extending direction of the lattice patterns 114A and 114B in place of the localized patterns 114a and 114b in the configuration of FIG. 61 (B). The case where 114e and 114f are formed is shown.

図65の構成によれば、前記格子状パターン114A,114Bによるプレチルト効果を前記局在パターン114eおよび114fによりさらに増強することができる。   According to the configuration of FIG. 65, the pretilt effect by the lattice patterns 114A and 114B can be further enhanced by the localized patterns 114e and 114f.

さらに図66は、前記図64の構成と図65の構成を結合した構成を有し、前記格子状パターン114Aの交点に局在パターン114gが、また格子状パターン114Bの交点に局在パターン114hが形成されている。また図67は、前記図64の構成の上に図65の構成を重ねた構造を有し、従って前記局在パターン114c上に局在パターン114eが、また局在パターン114d上に局在パターン114fが形成される。   Further, FIG. 66 has a configuration in which the configuration of FIG. 64 and the configuration of FIG. 65 are combined, and a localized pattern 114g is formed at the intersection of the lattice pattern 114A, and a localized pattern 114h is formed at the intersection of the lattice pattern 114B. Is formed. FIG. 67 has a structure in which the configuration of FIG. 65 is overlaid on the configuration of FIG. 64. Therefore, the localized pattern 114e is located on the localized pattern 114c, and the localized pattern 114f is located on the localized pattern 114d. Is formed.

図67の構成では、特に局在パターン114eおよび114fの傾斜を急にすることができ、液晶分子のプレチルト効果を高めることができる。   In the configuration of FIG. 67, the inclination of the localized patterns 114e and 114f can be made particularly steep, and the pretilt effect of the liquid crystal molecules can be enhanced.

なお、図61〜67の構成は、先に説明した実施例のいずれに対しても組み合わせることができ、液晶表示装置の動作速度を向上させるのに寄与する。   The configurations in FIGS. 61 to 67 can be combined with any of the embodiments described above, and contribute to improving the operation speed of the liquid crystal display device.

以上、本発明を好ましい実施例について説明したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載の要旨内において様々な変形・変更が可能である。
(付記)
(付記1) 第1の基板と、
前記第1の基板に対向する第2の基板と、
前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、
前記第1の基板上に形成された第1の電極と、
前記第2の基板上に形成された第2の電極と、
前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の分子配向膜と、
前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の分子配向膜と、
前記第1の基板の外側に配設された第1の偏光板と、
前記第2の基板の外側に、前記第1の偏光板に対してクロスニコル状態で配設された第2の偏光板とよりなり、
前記第1の分子配向膜と前記第2の分子配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記基板の面に対して略垂直方向に配向させ、
前記第1の基板上には、前記液晶層の面に平行な第1の方向に延在し前記液晶層の面に平行で前記第1の方向に直角な第2の方向に対して周期的に変化する構造パターンが形成されており、前記構造パターンは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加された駆動状態において、前記第2の方向に対して周期的に変化する電界を形成し、
前記液晶分子は、前記駆動状態において、実質的に前記第1の方向にチルトすることを特徴とする液晶表示装置。
Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, the present invention is not limited to such specific embodiments, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims.
(Appendix)
(Appendix 1) a first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first and second substrates;
A first electrode formed on the first substrate;
A second electrode formed on the second substrate;
A first molecular alignment film formed on the first substrate so as to cover the first electrode;
A second molecular alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode;
A first polarizing plate disposed outside the first substrate;
A second polarizing plate disposed outside the second substrate in a crossed Nicol state with respect to the first polarizing plate;
The first molecular alignment film and the second molecular alignment film are formed in the liquid crystal layer in a non-driving state where a driving voltage is not applied between the first electrode and the second electrode. Aligning liquid crystal molecules in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate;
On the first substrate, extending in a first direction parallel to the surface of the liquid crystal layer and periodic with respect to a second direction parallel to the surface of the liquid crystal layer and perpendicular to the first direction. The structural pattern has a period with respect to the second direction in a driving state in which a driving voltage is applied between the first electrode and the second electrode. Form a changing electric field,
The liquid crystal display device, wherein the liquid crystal molecules are substantially tilted in the first direction in the driving state.

(付記2) 前記構造パターンは、前記第1の電極上に各々前記第1の方向に延在するように形成され、前記第2の方向に繰り返される複数のパターンよりなることを特徴とする付記1記載の液晶表示装置。   (Additional remark 2) The said structural pattern is formed so that it may each extend in the said 1st direction on the said 1st electrode, and consists of a some pattern repeated in the said 2nd direction. 1. A liquid crystal display device according to 1.

(付記3) 前記複数のパターンの各々は、絶縁材料よりなる凸パターンであることを特徴とする付記2記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 3) The liquid crystal display device according to supplementary note 2, wherein each of the plurality of patterns is a convex pattern made of an insulating material.

(付記4) 前記複数のパターンの各々は、導電性材料よりなる凸パターンであることを特徴とする付記2記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 4) The liquid crystal display device according to supplementary note 2, wherein each of the plurality of patterns is a convex pattern made of a conductive material.

(付記5) 前記複数のパターンの各々は、前記第1の電極中に形成された凹パターンであることを特徴とする付記2記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 5) The liquid crystal display device according to supplementary note 2, wherein each of the plurality of patterns is a concave pattern formed in the first electrode.

(付記6) 前記構造パターンは、前記第1の電極上に各々前記第1の方向に延在するように形成され、前記第2の方向に繰り返される複数のパターンよりなり、前記複数のパターンの各々は、前記第1の方向上少なくとも一方の向きを指向する方向性を有することを特徴とする付記1〜5のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 6) The structural pattern is formed on the first electrode so as to extend in the first direction, and includes a plurality of patterns repeated in the second direction. 6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein each of the liquid crystal display devices has a directivity that is oriented in at least one direction in the first direction.

(付記7) 前記複数のパターンの各々は、略三角形状を有し、頂点が前記方向性を指向することを特徴とする付記6記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 7) The liquid crystal display device according to supplementary note 6, wherein each of the plurality of patterns has a substantially triangular shape, and a vertex is directed to the directionality.

(付記8) 前記複数のパターンの各々は、合い対向する第1および第2の頂点を有する菱形形状を有し、前記第1の頂点が、前記第1の方向上、一方の向きを指向し、前記第2の頂点が、前記第2の方向上、逆方向の向きを指向ずることを特徴とする付記6記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 8) Each of the plurality of patterns has a rhombus shape having first and second vertices facing each other, and the first vertices are oriented in one direction on the first direction. The liquid crystal display device according to appendix 6, wherein the second apex is oriented in the opposite direction on the second direction.

(付記9) 前記方向性を有する複数のパターンの各々は、10μm以下の最大幅を有することを特徴とする付記6〜8のいずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 9) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 6 to 8, wherein each of the plurality of patterns having the directivity has a maximum width of 10 μm or less.

(付記10) 前記方向性を有する複数のパターンの各々は、階段状の辺により画成されていることを特徴とする付記9〜9のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 10) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 9 to 9, wherein each of the plurality of patterns having the directivity is defined by stepped sides.

(付記11) 前記第1の電極は、前記第1の基板上に形成された複数の画素電極よりなり、前記複数の画素電極の各々は、複数のドメインに区画されており、前記構造パターンは前記複数のドメインの各々に、一つのドメインにおける前記第1の方向が、辺で隣接するドメイン中における前記第1の方向と90°の角度で交差するような関係で形成されることを特徴とする付記1〜10のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 11) The first electrode includes a plurality of pixel electrodes formed on the first substrate, and each of the plurality of pixel electrodes is partitioned into a plurality of domains, and the structural pattern is Each of the plurality of domains is formed such that the first direction in one domain intersects the first direction in domains adjacent to each other at an angle of 90 °. The liquid crystal display device according to any one of Supplementary notes 1 to 10.

(付記12) 前記第1および第2の基板の少なくとも一方の上には、さらに前記構造パターンとは別の構造パターンが、前記第1の方向に交差するように、しかも前記構造パターンの前記第2の方向への繰り返し周期よりも実質的に大きい繰り返し周期で、前記第2の方向とは異なった方向に繰り返されるように形成されることを特徴とする付記1記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 12) On at least one of the first and second substrates, a structural pattern different from the structural pattern further intersects the first direction, and the structural pattern has the first pattern. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed so as to be repeated in a direction different from the second direction with a repetition period substantially larger than a repetition period in the direction of 2.

(付記13) 前記別の構造パターンは、前記構造パターンよりも大きい高さを有することを特徴とする付記12記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 13) The liquid crystal display device according to supplementary note 12, wherein the another structural pattern has a height higher than the structural pattern.

(付記14) 前記構造パターンは、各々前記第1の方向に延在し前記第2の方向に第1の周期で繰り返される複数の微細パターンよりなり、前記別の構造パターンは、前記第1の基板上に形成され前記第1の方向に対して交差する第3の方向に延在する第1の粗構造パターンと、前記第2の基板上に形成され前記第2の方向に交差する第4の方向に延在する第2の粗構造パターンとよりなり、前記第1の粗構造パターンは、前記第4の方向に、前記第1の周期よりも実質的に大きい周期で繰り返し形成され、前記第2の粗構造パターンは、前記第3の方向に、前記第1の周期よりも実質的に大きい周期で繰り返し形成されることを特徴とする付記12または13記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 14) Each of the structural patterns includes a plurality of fine patterns extending in the first direction and repeated in the second direction at a first period, and the other structural pattern is the first pattern. A first coarse structure pattern formed on the substrate and extending in a third direction intersecting the first direction; and a fourth coarse structure pattern formed on the second substrate and intersecting the second direction. The first coarse structure pattern is repeatedly formed in the fourth direction with a period substantially larger than the first period, and the second coarse structure pattern extending in the direction of 14. The liquid crystal display device according to appendix 12 or 13, wherein the second coarse structure pattern is repeatedly formed in the third direction with a period substantially larger than the first period.

(付記15) 前記第1および第2の粗構造パターンの各々は、前記微細パターンよりも大きな幅を有することを特徴とする付記14記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 15) The liquid crystal display device according to supplementary note 14, wherein each of the first and second coarse structure patterns has a larger width than the fine pattern.

(付記16) 前記第3の方向は、前記第1の方向に対して直交することを特徴とする付記14記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 16) The liquid crystal display device according to supplementary note 14, wherein the third direction is orthogonal to the first direction.

(付記17) 前記第3の方向は、前記第1の方向と45°の角度で交差することを特徴とする付記14記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 17) The liquid crystal display device according to supplementary note 14, wherein the third direction intersects with the first direction at an angle of 45 °.

(付記18) 前記構造パターンは、各々前記第1の方向に第1の幅で延在し前記第2の方向に第1の周期で繰り返される複数の微細パターンよりなり、前記別の構造パターンは、前記第1の基板上に、前記第1および第2の方向に斜交する第3の方向と前記第3の方向に直交する第4の方向に延在するように形成された第1の格子状パターンと、前記第2の基板上に、前記第3および第4の方向に延在するように、かつ前記第1の格子状パターンとずらした位置関係で形成された第2の格子状パターンとよりなり、前記第1および第2の格子状パターンは、前記第1の周期よりも大きいそれぞれの周期で繰り返されることを特徴とする付記16または17記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 18) Each of the structural patterns includes a plurality of fine patterns extending in a first width in the first direction and repeated in a first period in the second direction, and the other structural pattern is And a first direction formed on the first substrate so as to extend in a fourth direction orthogonal to the third direction and a third direction obliquely intersecting the first and second directions. A second lattice shape formed on the second substrate so as to extend in the third and fourth directions and in a positional relationship shifted from the first lattice pattern. 18. The liquid crystal display device according to appendix 16 or 17, characterized in that the first and second lattice patterns are repeated with a period greater than the first period.

(付記19) 前記第1および第2の格子状パターンの各々は、前記微細パターンの幅よりも大きな幅を有することを特徴とする付記18記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 19) The liquid crystal display device according to supplementary note 18, wherein each of the first and second lattice patterns has a width larger than a width of the fine pattern.

(付記20) 前記第3の方向は前記第1の方向に対して45°の角度で交差することを特徴とする付記18または19記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 20) The liquid crystal display device according to supplementary note 18 or 19, wherein the third direction intersects with the first direction at an angle of 45 °.

(付記21) 前記第1の格子状パターンは、前記第1の基板上に前記第1の格子状パターンで区画された第1〜第4のドメインを画成し、前記微細パターンは、前記第1〜第4の各々のドメインに、前記第1の方向が、辺で隣接するドメインにおける前記第1の方向と90°の角度をなすように形成されることを特徴とする付記18〜20のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 21) The first grid pattern defines first to fourth domains partitioned by the first grid pattern on the first substrate, and the fine pattern includes the first pattern Each of the first to fourth domains is formed such that the first direction forms an angle of 90 ° with the first direction in domains adjacent to each other on a side. A liquid crystal display device according to any one of the above.

(付記22) 前記別の構造パターンは、凸パターンよりなることを特徴とする付記12〜21のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Additional remark 22) The said another structure pattern consists of convex patterns, The liquid crystal display device as described in any one of Additional remarks 12-21 characterized by the above-mentioned.

(付記23) 前記別の構造パターンは、凹パターンよりなることを特徴とする付記12〜21のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 23) The liquid crystal display device according to any one of Supplementary Notes 12 to 21, wherein the another structural pattern is a concave pattern.

(付記24) 第1の基板と、
前記第1の基板に対向する第2の基板と、
前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、
前記第1の基板上に形成された第1の電極と、
前記第2の基板上に形成された第2の電極と、
前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の分子配向膜と、
前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の分子配向膜と、
前記第1の基板の外側に配設された第1の偏光板と、
前記第2の基板の外側に、前記第1の偏光板に対してクロスニコル状態で配設された第2の偏光板とよりなり、
前記第1の分子配向膜と前記第2の分子配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記液晶層の面に対して実質的に垂直方向に配向させ、
前記第1の電極は、前記液晶層の面に平行な第1の方向に延在する電極パターンを、前記液晶層の面に平行で前記第1の方向に直角な第2の方向に対して第1の幅の隙間を隔てて周期的に繰り返し配列した構成を有し、
前記第2の方向に繰り返し配列される前記電極パターンは、連結部により相互に連結されており、
前記第1の電極は、さらに前記第2の方向に延在するカットアウトパターンを、前記第1の幅よりも実質的に大きい第2の幅で形成されており、
前記液晶分子は、前記駆動状態において、実質的に前記第1の方向にチルトすることを特徴とする液晶表示装置。
(Supplementary Note 24) a first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first and second substrates;
A first electrode formed on the first substrate;
A second electrode formed on the second substrate;
A first molecular alignment film formed on the first substrate so as to cover the first electrode;
A second molecular alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode;
A first polarizing plate disposed outside the first substrate;
A second polarizing plate disposed outside the second substrate in a crossed Nicol state with respect to the first polarizing plate;
The first molecular alignment film and the second molecular alignment film are formed in the liquid crystal layer in a non-driving state where a driving voltage is not applied between the first electrode and the second electrode. Aligning liquid crystal molecules in a direction substantially perpendicular to the plane of the liquid crystal layer;
The first electrode has an electrode pattern extending in a first direction parallel to the surface of the liquid crystal layer with respect to a second direction parallel to the surface of the liquid crystal layer and perpendicular to the first direction. Having a configuration in which the first width gap is periodically and repeatedly arranged across the gap,
The electrode patterns arranged repeatedly in the second direction are connected to each other by a connecting portion;
The first electrode is further formed with a cutout pattern extending in the second direction with a second width substantially larger than the first width,
The liquid crystal display device, wherein the liquid crystal molecules are substantially tilted in the first direction in the driving state.

(付記25) 前記電極パターンの各々は、前記第1の方向に隣接する対応した電極パターンと、前記カットアウトパターンにより隔てられていることを特徴とする付記24記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 25) The liquid crystal display device according to supplementary note 24, wherein each of the electrode patterns is separated from a corresponding electrode pattern adjacent in the first direction by the cutout pattern.

(付記26) さらに前記第2の基板上には、前記第2の方向に延在する粗パターンが、前記第1の基板に垂直な方向から見た場合に、前記電極パターンと交差するように形成されており、前記電極パターンは前記第2の方向に隣接する対応した電極パターンと、前記第1の基板に垂直な方向から見た場合に、前記粗パターン下の部分において、前記連結部の少なくとも一部が配置されることを特徴とする付記24または25記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 26) Further, on the second substrate, a coarse pattern extending in the second direction intersects the electrode pattern when viewed from a direction perpendicular to the first substrate. When the electrode pattern is viewed from the direction perpendicular to the corresponding electrode pattern adjacent to the second direction and the first substrate, the portion of the coupling portion is below the coarse pattern. 26. The liquid crystal display device according to appendix 24 or 25, wherein at least a part thereof is disposed.

(付記27) 前記パターンの少なくとも一部が、さらに前記画素電極開口部エッジに沿って相互に連結されていることを特徴とする付記24〜26のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 27) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 24 to 26, wherein at least a part of the pattern is further connected to each other along the edge of the pixel electrode opening.

(付記28) 前記電極パターンの各々は、前記第1の方向にテーパ形状を有することを特徴とする付記24〜27のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 28) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 24 to 27, wherein each of the electrode patterns has a tapered shape in the first direction.

(付記29) 前記電極パターンの各々は、先端部に向って階段状に幅を狭める形状を有することを特徴とする付記24〜27のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 29) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 24 to 27, wherein each of the electrode patterns has a shape that narrows in a stepped manner toward the tip.

(付記30) さらに前記第1の基板上には、前記第1の電極の下方に、前記第2の電極と同電位で前記カットアウトパターンに沿って延在する第3の電極パターンが形成されていることを特徴とする付記24〜29のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Additional remark 30) Furthermore, on the first substrate, a third electrode pattern extending along the cutout pattern at the same potential as the second electrode is formed below the first electrode. 30. The liquid crystal display device according to any one of appendices 24-29, wherein

(付記31) 前記第1の電極上には第1および第2の領域が、前記第1の領域における前記第1の方向が、前記第2の領域における前記第1の方向と直交するような方位で画成されており、前記第3の電極は、前記第1の基板上を、前記第1の領域と前記第2の領域との境界に沿って延在することを特徴とする付記30記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 31) The first and second regions on the first electrode are such that the first direction in the first region is orthogonal to the first direction in the second region. Supplementary note 30, wherein the third electrode extends on the first substrate along a boundary between the first region and the second region. The liquid crystal display device described.

(付記32) 前記粗パターンは、前記第2の基板上に形成された凸パターンよりなることを特徴とする付記26記載の液晶表示装置。   (Additional remark 32) The said rough pattern consists of a convex pattern formed on the said 2nd board | substrate, The liquid crystal display device of Additional remark 26 characterized by the above-mentioned.

(付記33) 前記粗パターンは、前記第1の方向に、前記電極パターンの前記第2の方向への繰り返し周期と同じ、あるいは同等の周期で、前記第2の方向に繰り返されるパターンを有することを特徴とする付記26または32記載の液晶表示装置。   (Additional remark 33) The said rough pattern has a pattern repeated in the said 2nd direction with the same period as the repetition period to the said 2nd direction of the said electrode pattern in the said 1st direction, or an equivalent period. Item 33. The liquid crystal display device according to item 26 or 32, wherein:

(付記34) 前記第1の電極は、前記電極パターンが繰り返される第1の領域と、一様な導電膜により覆われる第2の領域とを含むことを特徴とする付記24〜33のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 34) Of the supplementary notes 24-33, wherein the first electrode includes a first region where the electrode pattern is repeated and a second region covered with a uniform conductive film. The liquid crystal display device according to any one of claims.

(付記35) 前記接続部は、前記第2の方向に延在する、幅が実質的に一定な帯状パターンよりなり、前記電極パターンは、前記帯状パターンから側方に延出することを特徴とする付記24〜34のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Additional remark 35) The said connection part consists of a strip | belt-shaped pattern with the substantially constant width | variety extended in the said 2nd direction, The said electrode pattern is extended to the side from the said strip | belt pattern, It is characterized by the above-mentioned. 35. The liquid crystal display device according to any one of appendices 24-34.

(付記36) 前記電極パターンは、2μm以上、15μm以下の周期で、前記第2の方向に繰り返し形成されることを特徴とする付記35記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 36) The liquid crystal display device according to supplementary note 35, wherein the electrode pattern is repeatedly formed in the second direction at a cycle of 2 μm or more and 15 μm or less.

(付記37) 前記電極パターン領域は、前記帯状パターン領域に対して35〜65%の範囲の面積比を有することを特徴とする付記35または36記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 37) The liquid crystal display device according to supplementary note 35 or 36, wherein the electrode pattern region has an area ratio in a range of 35 to 65% with respect to the band-shaped pattern region.

(付記38) 前記帯状パターンは、前記第1の方向に約22μmの幅を有し、前記細長い電極パターンは、前記帯状パターンに接続する基部において3.5±1μmの幅を有し、前記第1の方向に約15±5μmの長さを有し、前記第1の方向において対向する電極パターンとの間に、約8μmのカットアウトパターンを形成することを特徴とする付記35〜37のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 38) The band-shaped pattern has a width of about 22 μm in the first direction, the elongated electrode pattern has a width of 3.5 ± 1 μm at the base connected to the band-shaped pattern, Appendices 35-37, characterized in that a cut-out pattern of about 8 μm is formed between the electrode pattern opposite in the first direction and having a length of about 15 ± 5 μm in one direction. A liquid crystal display device according to any one of the above.

(付記39) 第1の基板と第2の基板との間に挟持される液晶層を有し、前記液晶層に駆動電界が印加されていない非駆動状態において前記液晶層中の液晶分子が前記液晶層の面に略垂直に配向し、前記液晶層に駆動電界が印加されている駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子が前記液晶層に面に略平行に配向する液晶表示装置の製造方法において、
前記第1の基板上に画素電極パターンを形成する工程と、
前記画素電極パターン上に、レジスト膜を塗布する工程と、
前記レジスト膜を露光および現像し、複数の分枝が繰り返される形状を有するレジストパターンを、前記画素電極パターン上に形成する工程と、
前記レジストパターンに対してアッシング処理を行う工程と、
前記アッシング処理を行った前記レジストパターンを、熱硬化させる工程とよりなることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
(Supplementary Note 39) The liquid crystal molecules in the liquid crystal layer have a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are in the non-driving state in which no driving electric field is applied to the liquid crystal layer. Manufacture of a liquid crystal display device in which liquid crystal molecules are aligned substantially perpendicular to the surface of the liquid crystal layer and liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are aligned substantially parallel to the surface of the liquid crystal layer in a driving state where a driving electric field is applied to the liquid crystal layer In the method
Forming a pixel electrode pattern on the first substrate;
Applying a resist film on the pixel electrode pattern;
Exposing and developing the resist film, and forming a resist pattern having a shape in which a plurality of branches are repeated on the pixel electrode pattern;
Performing an ashing process on the resist pattern;
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of thermally curing the resist pattern subjected to the ashing process.

(付記40) 前記露光工程は、前記レジスト膜の露光しきい値量の2倍以下の露光量で前記レジスト膜を露光することを特徴とする付記39記載の液晶表示装置の製造方法。   (Additional remark 40) The said exposure process exposes the said resist film by the exposure amount of 2 times or less of the exposure threshold value amount of the said resist film, The manufacturing method of the liquid crystal display device of Additional remark 39 characterized by the above-mentioned.

(付記41) 前記レジスト膜を塗布する工程は、前記レジスト膜を、前記アッシング工程の後で前記レジストパターンが100〜700nmの範囲の厚さを有するような厚さに形成する工程よりなることを特徴とする付記39または40記載の液晶表示装置の製造方法。   (Supplementary Note 41) The step of applying the resist film includes the step of forming the resist film to a thickness such that the resist pattern has a thickness in the range of 100 to 700 nm after the ashing step. 41. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to appendix 39 or 40, wherein

(付記42) 前記レジスト膜を塗布する工程は、前記レジスト膜の粘度を、前記レジスト膜の厚さが600〜800nmになるように調整する工程を含むことを特徴とする付記39〜41のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置の製造方法。   (Additional remark 42) The process of apply | coating the said resist film includes the process of adjusting the viscosity of the said resist film so that the thickness of the said resist film may be 600-800 nm, Of additional remarks 39-41 characterized by the above-mentioned A method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of the above.

(付記43) 前記熱硬化工程は、140°C以下の温度で開始し、270°C以下の熱硬化温度まで、温度を徐々に上昇させる工程を含むことを特徴とする付記39〜42のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置の製造方法。   (Appendix 43) The thermosetting step includes a step of starting at a temperature of 140 ° C or lower and gradually increasing the temperature to a thermosetting temperature of 270 ° C or lower. A method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of the above.

(付記44) 第1の基板と、
前記第1の基板に対向する第2の基板と、
前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、
前記第1の基板上に形成された第1の電極と、
前記第2の基板上に形成された第2の電極と、
前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の分子配向膜と、
前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の分子配向膜と、
前記第1の基板の外側に配設された第1の偏光板と、
前記第2の基板の外側に、前記第1の偏光板に対してクロスニコル状態で配設された第2の偏光板とよりなり、
前記第1の分子配向膜と前記第2の分子配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記液晶層の面に対して実質的に垂直方向に配向させ、
前記第1の電極上には、前記液晶層の面に平行な第1の方向に延在する凸パターンを、前記液晶層の面に平行で前記第1の方向に交差する第2の方向に周期的に繰り返し配列した構造を形成されており、
前記液晶分子は、前記駆動状態において、実質的に前記第1の方向にチルトすることを特徴とする液晶表示装置。
(Supplementary Note 44) a first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first and second substrates;
A first electrode formed on the first substrate;
A second electrode formed on the second substrate;
A first molecular alignment film formed on the first substrate so as to cover the first electrode;
A second molecular alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode;
A first polarizing plate disposed outside the first substrate;
A second polarizing plate disposed outside the second substrate in a crossed Nicol state with respect to the first polarizing plate;
The first molecular alignment film and the second molecular alignment film are formed in the liquid crystal layer in a non-driving state where a driving voltage is not applied between the first electrode and the second electrode. Aligning liquid crystal molecules in a direction substantially perpendicular to the plane of the liquid crystal layer;
A convex pattern extending in a first direction parallel to the surface of the liquid crystal layer is formed on the first electrode in a second direction that is parallel to the surface of the liquid crystal layer and intersects the first direction. A structure that is periodically and repeatedly arranged is formed,
The liquid crystal display device, wherein the liquid crystal molecules are substantially tilted in the first direction in the driving state.

(付記45) 前記凸パターンは、先端部に向って徐々に幅を狭めるテーパ形状を有することを特徴とする付記44記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 45) The liquid crystal display device according to supplementary note 44, wherein the convex pattern has a tapered shape that gradually decreases in width toward a tip portion.

(付記46) 前記凸パターンは、先端部に向って階段状に幅を狭める形状を有することを特徴とする付記44記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 46) The liquid crystal display device according to supplementary note 44, wherein the convex pattern has a shape that narrows in a stepped manner toward the tip.

(付記47) 前記凸パターンは、先端部に向って高さを徐々に減少させる形状を有することを特徴とする付記44〜46のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 47) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 44 to 46, wherein the convex pattern has a shape that gradually decreases in height toward a tip portion.

(付記48) 前記第1の電極上には、さらに前記第2の方向に延在する別の凸パターンが形成されており、前記細長い凸パターンの各々は、前記別の凸パターンから側方に延出することを特徴とする付記44〜47のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 48) On the first electrode, another convex pattern extending in the second direction is further formed, and each of the elongated convex patterns is formed laterally from the other convex pattern. 48. The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 44 to 47, wherein the liquid crystal display device is extended.

(付記49) 前記別の凸パターンから第1の側方に延出する前記凸パターンに対して定義される前記第1の方向は、前記別の凸パターンから第2の側方に延出する前記凸パターンに対して定義される前記第1の方向と直交することを特徴とする付記44〜48のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 49) The first direction defined for the convex pattern extending from the another convex pattern to the first side extends from the another convex pattern to the second side. 49. The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 44 to 48, wherein the liquid crystal display device is orthogonal to the first direction defined with respect to the convex pattern.

(付記50) 前記第1の方向は、前記第2の方向と45°の角度で交差することを特徴とする付記49記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 50) The liquid crystal display device according to supplementary note 49, wherein the first direction intersects with the second direction at an angle of 45 °.

(付記51) 前記第1の方向は、前記第2の方向と直交することを特徴とする付記44〜48のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 51) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 44 to 48, wherein the first direction is orthogonal to the second direction.

(付記52) 前記凸パターンの各々は、前記第2のパターンに直交する方向に延出することを特徴とする付記51記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 52) The liquid crystal display device according to supplementary note 51, wherein each of the convex patterns extends in a direction orthogonal to the second pattern.

(付記53) 前記第1の電極は、第1の領域と第2の領域とに区画され、前記第1の領域において前記別のパターンに対して定義される前記第2の方向は、前記第2の領域において前記別のパターンに対して定義される前記第2の方向と直交することを特徴とする付記52記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 53) The first electrode is divided into a first region and a second region, and the second direction defined for the different pattern in the first region is the first region. 53. The liquid crystal display device according to appendix 52, wherein the liquid crystal display device is orthogonal to the second direction defined for the another pattern in the area of 2.

(付記54) 前記別の凸パターンは前記凸パターンよりも大きな幅を有することを特徴とする付記48〜53のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 54) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 48 to 53, wherein the another convex pattern has a larger width than the convex pattern.

(付記55) 前記別の凸パターンは前記凸パターンよりも大きな高さを有することを特徴とする付記48〜54のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 55) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 48 to 54, wherein the another convex pattern has a height greater than that of the convex pattern.

(付記56) 前記凸パターンはレジストパターンよりなることを特徴とする付記44〜55のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Additional remark 56) The said convex pattern consists of resist patterns, The liquid crystal display device as described in any one of Additional remarks 44-55 characterized by the above-mentioned.

(付記57) 前記別の凸パターンはレジストパターンよりなることを特徴とする付記44〜56のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 57) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 44 to 56, wherein the another convex pattern is a resist pattern.

(付記58) 前記第2の電極上には、前記別の凸パターンに平行に、凸パターンが形成されていることを特徴とする付記44〜57のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 58) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 44 to 57, wherein a convex pattern is formed on the second electrode in parallel with the other convex pattern. .

(付記59) 付記44〜54のいずれか一項記載の液晶表示装置において、前記凸パターンをスリットパターンにより置き換えたことを特徴とする液晶表示装置。   (Supplementary note 59) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 44 to 54, wherein the convex pattern is replaced with a slit pattern.

(付記60) 第1の基板と、
前記第1の基板に対向する第2の基板と、
前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、
前記第1の基板上に形成された第1の電極と、
前記第2の基板上に形成された第2の電極と、
前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の分子配向膜と、
前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の分子配向膜と、
前記第1の基板の外側に配設された第1の偏光板と、
前記第2の基板の外側に、前記第1の偏光板に対してクロスニコル状態で配設された第2の偏光板とよりなり、
前記第1の分子配向膜と前記第2の分子配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記液晶層の面に対して実質的に垂直方向に配向させ、
前記第1の基板上には複数の方向性パターンが、共通の方位に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(Supplementary Note 60) a first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first and second substrates;
A first electrode formed on the first substrate;
A second electrode formed on the second substrate;
A first molecular alignment film formed on the first substrate so as to cover the first electrode;
A second molecular alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode;
A first polarizing plate disposed outside the first substrate;
A second polarizing plate disposed outside the second substrate in a crossed Nicol state with respect to the first polarizing plate;
The first molecular alignment film and the second molecular alignment film are formed in the liquid crystal layer in a non-driving state where a driving voltage is not applied between the first electrode and the second electrode. Aligning liquid crystal molecules in a direction substantially perpendicular to the plane of the liquid crystal layer;
A liquid crystal display device, wherein a plurality of directional patterns are formed on a common orientation on the first substrate.

(付記61) 前記方向性パターンは、線対称でかつ回転対称性を欠く形状を有することを特徴とする付記60記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 61) The liquid crystal display device according to supplementary note 60, wherein the directional pattern has a shape that is line-symmetric and lacks rotational symmetry.

(付記62) 前記方向性パターンは、前記第1の電極上に形成された凸パターンよりなることを特徴とする付記60または61記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 62) The liquid crystal display device according to supplementary note 60 or 61, wherein the directional pattern is a convex pattern formed on the first electrode.

(付記63) 前記方向性パターンは、前記第1の電極中に形成されたカットアウトパターンよりなることを特徴とする付記60または61記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 63) The liquid crystal display device according to supplementary note 60 or 61, wherein the directional pattern includes a cut-out pattern formed in the first electrode.

(付記64) 前記方向性パターンは、前記第1の電極上に行列状に、繰り返し配向されることを特徴とする付記59〜63のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 64) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 59 to 63, wherein the directional pattern is repeatedly oriented in a matrix on the first electrode.

(付記65) 前記方向性パターンは、複数のパターン要素の集合によりなることを特徴とする付記59〜64のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 65) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 59 to 64, wherein the directional pattern is a set of a plurality of pattern elements.

(付記66) 前記液晶層中において、前記液晶分子は駆動状態において前記方向性パターンの指向する方向にチルトすることを特徴とする付記59〜65のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 66) The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 59 to 65, wherein in the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules are tilted in a direction in which the directional pattern is directed in a driving state.

(付記67) 第1の基板と、
前記第1の基板に対向する第2の基板と、
前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、
前記第1の基板上に形成された第1の電極と、
前記第2の基板上に形成された第2の電極と、
前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の分子配向膜と、
前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の分子配向膜と、
前記第1の基板の外側に配設された第1の偏光板と、
前記第2の基板の外側に、前記第1の偏光板に対してクロスニコル状態で配設された第2の偏光板とよりなり、
前記第1の分子配向膜と前記第2の分子配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記液晶層の面に対して実質的に垂直方向に配向させ、
前記第1の基板上には第1の格子状パターンが形成されており、
前記第2の基板上には第2の格子状パターンが、前記第1の格子状パターンから、前記液晶層の面内においてずらした位置関係で形成されており、
前記第1の格子状パターンの交点には、斜面を有する第1の局在パターンが形成されており
前記第2の格子状パターンの交点には、斜面を有する第2の局在パターンが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
(Supplementary Note 67) a first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first and second substrates;
A first electrode formed on the first substrate;
A second electrode formed on the second substrate;
A first molecular alignment film formed on the first substrate so as to cover the first electrode;
A second molecular alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode;
A first polarizing plate disposed outside the first substrate;
A second polarizing plate disposed outside the second substrate in a crossed Nicol state with respect to the first polarizing plate;
The first molecular alignment film and the second molecular alignment film are formed in the liquid crystal layer in a non-driving state where a driving voltage is not applied between the first electrode and the second electrode. Aligning liquid crystal molecules in a direction substantially perpendicular to the plane of the liquid crystal layer;
A first lattice pattern is formed on the first substrate,
A second grid pattern is formed on the second substrate in a positional relationship shifted from the first grid pattern in the plane of the liquid crystal layer,
A first localized pattern having a slope is formed at the intersection of the first grid pattern, and a second localized pattern having a slope is formed at the intersection of the second grid pattern. A liquid crystal display device.

(付記68) 前記第1および第2の局在パターンは、前記液晶層の面に垂直な方向から見た場合に四角形状を有することを特徴とする付記67記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 68) The liquid crystal display device according to supplementary note 67, wherein the first and second localized patterns have a quadrangular shape when viewed from a direction perpendicular to a surface of the liquid crystal layer.

(付記69) 前記第1および第2の局在パターンは、前記液晶層の面に垂直な方向から見た場合に腕を前記格子状パターンの延在方向に対して斜めに延出する十字形状を有することを特徴とする付記67記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 69) The first and second localized patterns each have a cross shape in which an arm extends obliquely with respect to an extending direction of the lattice pattern when viewed from a direction perpendicular to the surface of the liquid crystal layer. 68. A liquid crystal display device according to appendix 67, comprising:

(付記70) 前記第1および第2の局在パターンは、前記液晶層の面に垂直な方向から見た場合に腕を前記格子状パターンの延在方向に延出する十字形状を有することを特徴とする付記67記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 70) The first and second localized patterns have a cross shape that extends an arm in an extending direction of the lattice pattern when viewed from a direction perpendicular to a surface of the liquid crystal layer. 68. A liquid crystal display device according to appendix 67, which is characterized in that

(付記71) 前記第1および第2の局在パターンは、前記液晶層の面に垂直な方向から見た場合に前記格子状パターンの延在方向に対して斜めに延出する腕と前記格子状パターンの延在方向に延出する腕とを有する星型形状を有することを特徴とする付記67記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 71) The first and second localized patterns include arms and lattices extending obliquely with respect to an extending direction of the lattice pattern when viewed from a direction perpendicular to the surface of the liquid crystal layer. 68. The liquid crystal display device according to appendix 67, wherein the liquid crystal display device has a star shape having arms extending in the extending direction of the pattern.

(付記72) 前記星型形状は、腕を前記格子状パターンの延在方向に延出する第1の十字パターンと、腕を前記格子状パターンの延在方向に斜めに延出する第2の十字パターンとを重ねた構成を有することを特徴とする付記67記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 72) The star shape includes a first cross pattern that extends an arm in the extending direction of the grid pattern and a second that extends an arm obliquely in the extending direction of the grid pattern. 68. The liquid crystal display device according to appendix 67, wherein the liquid crystal display device has a configuration in which a cross pattern is superimposed.

(付記73) 前記液晶層はネマチック液晶と、3次元的な液晶骨格を有する光硬化性組成物の光硬化物とよりなり、前記液晶分子と前記光硬化物の液晶骨格とは、前記非駆動状態において異なる方向に配向していることを特徴とする付記1〜72のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 73) The liquid crystal layer includes a nematic liquid crystal and a photocured material of a photocurable composition having a three-dimensional liquid crystal skeleton, and the liquid crystal molecules and the liquid crystal skeleton of the photocured material are not driven. The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 1 to 72, wherein the liquid crystal display devices are oriented in different directions in the state.

(付記74) 前記第1の基板上には、前記複数の画素電極の各々に対応して、前記画素電極を駆動する薄膜トランジスタが形成されることを特徴とする付記1〜73のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 74) The thin film transistor that drives the pixel electrode is formed on the first substrate corresponding to each of the plurality of pixel electrodes. A liquid crystal display device according to one item.

従来の垂直配向液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the conventional vertical alignment liquid crystal display device. 図1の垂直配向液晶表示装置の問題点を説明する図である。It is a figure explaining the problem of the vertical alignment liquid crystal display device of FIG. (A),(B)は本発明の原理を説明する図である。(A), (B) is a figure explaining the principle of this invention. 本発明の原理を説明する別の図である。It is another figure explaining the principle of this invention. 本発明の原理を説明する別の図である。It is another figure explaining the principle of this invention. 本発明の第1実施例による液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device by 1st Example of this invention. (A),(B)は図6の液晶表示装置の構成を示す別の図である。(A), (B) is another figure which shows the structure of the liquid crystal display device of FIG. 図6の液晶表示装置の一部を詳細に示す図である。It is a figure which shows a part of liquid crystal display device of FIG. 6 in detail. 図6の液晶表示装置の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the liquid crystal display device of FIG. 本発明の第2実施例による液晶表示装置の原理を説明する図である。It is a figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例による液晶表示装置の原理を説明する別の図である。It is another figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 2nd Example of this invention. 本発明の第2実施例による液晶表示装置の原理を説明するさらに別の図である。FIG. 6 is still another diagram illustrating the principle of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. 本発明の第2実施例による液晶表示装置の原理を説明するさらに別の図である。FIG. 6 is still another diagram illustrating the principle of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. (A),(B)は、図12,13の液晶表示装置について行われた実験結果を示す図(その1)である。(A), (B) is a figure (the 1) which shows the experimental result performed about the liquid crystal display device of FIG. (C),(D)は、図12,13の液晶表示装置について行われた実験結果を示す図(その2)である。(C), (D) is the figure (the 2) which shows the experimental result performed about the liquid crystal display device of FIG. 本発明の第2実施例による液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device by 2nd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置の原理を説明する図である。It is a figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置の原理を説明する別の図である。It is another figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置の原理を説明するさらに別の図である。It is another figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置の原理を説明するさらに別の図である。It is another figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置の動作特性を示す図である。It is a figure which shows the operating characteristic of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. 本発明の第3実施例による液晶表示装置のさらなる変形例を示す図である。It is a figure which shows the further modification of the liquid crystal display device by 3rd Example of this invention. (A),(B)は本発明の第4実施例による液晶表示装置の原理を説明する 図である。(A), (B) is a figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 4th Example of this invention. 本発明の第4実施例による液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device by 4th Example of this invention. 本発明の第4実施例による液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device by 4th Example of this invention. 本発明の第4実施例による液晶表示装置の別の変形例を示す図であるIt is a figure which shows another modification of the liquid crystal display device by 4th Example of this invention. 本発明の第5実施例による液晶表示装置の原理を説明する図である。It is a figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 5th Example of this invention. 本発明の第5実施例による液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device by 5th Example of this invention. (A),(B)は、図30,31の液晶表示装置の原理を説明する図である。(A), (B) is a figure explaining the principle of the liquid crystal display device of FIG. 図30,31の液晶表示装置の原理を説明する別の図である。FIG. 32 is another diagram illustrating the principle of the liquid crystal display device of FIGS. 30 and 31. 図30,31の液晶表示装置の原理を説明する別の図である。FIG. 32 is another diagram illustrating the principle of the liquid crystal display device of FIGS. 30 and 31. 図30,31の液晶表示装置の原理を説明する別の図である。FIG. 32 is another diagram illustrating the principle of the liquid crystal display device of FIGS. 30 and 31. (A)〜(C)は、本発明の第5実施例の変形例を示す図である。(A)-(C) are figures which show the modification of 5th Example of this invention. (A)〜(C)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その1)である。(A)-(C) are the figures (the 1) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (D)〜(F)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その2)である。(D)-(F) is a figure (the 2) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (G)〜(I)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その3)である。(G)-(I) is a figure (the 3) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (J)〜(M)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その4)である。(J)-(M) is a figure (the 4) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (N)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その5)である。(N) is a figure (the 5) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (O)〜(R)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その6)である。(O)-(R) is a figure (the 6) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (S)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その7)である。(S) is a figure (the 7) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (T)は、本発明の第6実施例による液晶表示装置の製造工程を説明する図(その8)である。(T) is a figure (the 8) explaining the manufacturing process of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. 本発明の第6実施例による液晶表示装置の別の例を示す図である。It is a figure which shows another example of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention. (A),(B)は本発明の第7実施例による液晶表示装置の原理を説明する図である。(A), (B) is a figure explaining the principle of the liquid crystal display device by 7th Example of this invention. 図46の実施例で使われるフォトマスクの例を示す図である。It is a figure which shows the example of the photomask used in the Example of FIG. (A),(B)は、図46の液晶表示装置のシミュレーション結果を、従来の液晶表示装置の場合と比較して示す図である。(A), (B) is a figure which shows the simulation result of the liquid crystal display device of FIG. 46 compared with the case of the conventional liquid crystal display device. (A),(B)は、本実施例の変形例を説明する図である。(A), (B) is a figure explaining the modification of a present Example. 本発明の第8実施例による液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device by 8th Example of this invention. 図50の一部を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows a part of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. (A),(B)は、図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。(A), (B) is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図50の液晶表示装置の一変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. (A),(B)は本発明の第9実施例による液晶表示装置の構成を示す図である。(A), (B) is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device by 9th Example of this invention. 図61(A),(B)の液晶表示装置の動作を説明する図である。61 is a diagram for explaining the operation of the liquid crystal display device of FIGS. 61 (A) and (B). FIG. (A)〜(D)は、図61(A),(B)の液晶表示装置の製造工程を示す図である。(A)-(D) are figures which show the manufacturing process of the liquid crystal display device of FIG. 61 (A), (B). 図61(A),(B)の液晶表示装置の一変形例を示す図である。FIG. 61 is a diagram showing a modification of the liquid crystal display device in FIGS. 61 (A) and (B). 図61(A),(B)の液晶表示装置の一変形例を示す図である。FIG. 61 is a diagram showing a modification of the liquid crystal display device in FIGS. 61 (A) and (B). 図61(A),(B)の液晶表示装置の一変形例を示す図である。FIG. 61 is a diagram showing a modification of the liquid crystal display device in FIGS. 61 (A) and (B). 図61(A),(B)の液晶表示装置の一変形例を示す図である。FIG. 61 is a diagram showing a modification of the liquid crystal display device in FIGS. 61 (A) and (B).

符号の説明Explanation of symbols

10,20,20A−20D,30,40,50,50A,60−60C,70,80,90,100,110 液晶表示装置
11A,11B,21A,21B,31A,31B,81A,81B,111A,111B ガラス基板
12,22,31 液晶層
12A,22A 液晶分子
13A,13B,27A,27B,41A,41B,61A 凸パターン
23A,23B 電極
23G,23g ギャップ
24,24A−24E,34A,61D,101A,101B 微細構造パターン
25A,25B,35,37 分子配向膜
26A ポラライザ
26B アナライザ
31C シール
31T TFT
32 信号電極
32A 信号電極パッド
33 走査電極
33A 走査電極パッド
34,61,71 画素電極
34F,61B カットアウトパターン
36 対向電極
61A',71,34X,34Y 微細パターン
61C,61C' 微細カットアウト
61m,61n 接続部
61E 補助容量電極
71A 帯状部
71B 櫛歯状部
71C1−71C3 接続部
81 SiN膜
82 絶縁膜
83 アモルファスシリコン膜
84 SiN膜
86S ソース領域
86D ドレイン領域
87S ソース電極
87D ドレイン電極
88 ITO膜
114A,114B 局在パターン
10, 20, 20A-20D, 30, 40, 50, 50A, 60-60C, 70, 80, 90, 100, 110 Liquid crystal display devices 11A, 11B, 21A, 21B, 31A, 31B, 81A, 81B, 111A, 111B glass substrate 12, 22, 31 liquid crystal layer 12A, 22A liquid crystal molecule 13A, 13B, 27A, 27B, 41A, 41B, 61A convex pattern 23A, 23B electrode 23G, 23g gap 24, 24A-24E, 34A, 61D, 101A, 101B Fine structure pattern 25A, 25B, 35, 37 Molecular orientation film 26A Polarizer 26B Analyzer 31C Seal 31T TFT
32 Signal electrode 32A Signal electrode pad 33 Scan electrode 33A Scan electrode pad 34, 61, 71 Pixel electrode 34F, 61B Cutout pattern 36 Counter electrode 61A ', 71, 34X, 34Y Fine pattern 61C, 61C' Fine cutout 61m, 61n Connection part 61E Auxiliary capacitance electrode 71A Band-like part 71B Comb-like part 71C1-71C3 Connection part 81 SiN film 82 Insulating film 83 Amorphous silicon film 84 SiN film 86S Source region 86D Drain region 87S Source electrode 87D Drain electrode 88 ITO film 114A, 114B Localization pattern

Claims (2)

第1の基板と、
前記第1の基板に対向する第2の基板と、
前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、
前記第1の基板上に形成された第1の電極と、
前記第2の基板上に形成された第2の電極と、
前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の配向膜と、
前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の配向膜を有し、
前記第1の配向膜と前記第2の配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記液晶層の面に対して実質的に垂直方向に配向させ、
前記第1の基板上には複数の方向性パターンが、同じ方位に向いて形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first and second substrates;
A first electrode formed on the first substrate;
A second electrode formed on the second substrate;
A first alignment film formed on the first substrate so as to cover the first electrode;
A second alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode;
The first alignment film and the second alignment film are liquid crystal molecules in the liquid crystal layer in a non-driving state in which a driving voltage is not applied between the first electrode and the second electrode. Is aligned in a direction substantially perpendicular to the plane of the liquid crystal layer,
A liquid crystal display device, wherein a plurality of directional patterns are formed in the same direction on the first substrate.
第1の基板と、
前記第1の基板に対向する第2の基板と、
前記第1および第2の基板の間に封入された液晶層と、
前記第1の基板上に形成された第1の電極と、
前記第2の基板上に形成された第2の電極と、
前記第1の基板上に、前記第1の電極を覆うように形成された第1の配向膜と、
前記第2の基板上に、前記第2の電極を覆うように形成された第2の配向膜とを有し、
前記第1の配向膜と前記第2の配向膜とは、前記第1の電極と前記第2の電極との間に駆動電圧が印加されていない非駆動状態において、前記液晶層中の液晶分子を前記液晶層の面に対して実質的に垂直方向に配向させ、
前記第1の基板上には第1の格子状パターンが形成されており、
前記第2の基板上には第2の格子状パターンが、前記第1の格子状パターンから、前記液晶層の面内においてずらした位置関係で形成されており、
前記第1の格子状パターンの交点には、斜面を有する第1の局在パターンが形成されており
前記第2の格子状パターンの交点には、斜面を有する第2の局在パターンが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first and second substrates;
A first electrode formed on the first substrate;
A second electrode formed on the second substrate;
A first alignment film formed on the first substrate so as to cover the first electrode;
A second alignment film formed on the second substrate so as to cover the second electrode;
The first alignment film and the second alignment film are liquid crystal molecules in the liquid crystal layer in a non-driving state in which a driving voltage is not applied between the first electrode and the second electrode. Is aligned in a direction substantially perpendicular to the plane of the liquid crystal layer,
A first lattice pattern is formed on the first substrate,
A second grid pattern is formed on the second substrate in a positional relationship shifted from the first grid pattern in the plane of the liquid crystal layer,
A first localized pattern having a slope is formed at the intersection of the first grid pattern, and a second localized pattern having a slope is formed at the intersection of the second grid pattern. A liquid crystal display device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120019755A1 (en) * 2010-07-22 2012-01-26 Toshiba Mobile Display Co., Ltd. Liquid crystal display panel
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