JP2002303890A - Liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal display element

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JP2002303890A
JP2002303890A JP2001109599A JP2001109599A JP2002303890A JP 2002303890 A JP2002303890 A JP 2002303890A JP 2001109599 A JP2001109599 A JP 2001109599A JP 2001109599 A JP2001109599 A JP 2001109599A JP 2002303890 A JP2002303890 A JP 2002303890A
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liquid crystal
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健次 中尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that an OCB type liquid crystal display element has a bright point defect when transition is not certain. SOLUTION: Display is made by applying a voltage to liquid crystal in a bend alignment state and the liquid crystal display element has a transition means which causes transition from an alignment state wherein no voltage is applied to the bend alignment state. The liquid crystal display element further has a means which generates a disclination line when the transition means is in operation and a bending means which bends the disclination line. This disclination line is the border of a maldistributed splay alignment state and the bending is actualized by varying the growth speed of the line. To actualize that, an area is formed in which the cell thickness is different, a pyramid body is arranged, or an electrode absence part is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶テレビ、液晶
モニター等に用いられる液晶表示素子に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display device used for a liquid crystal television, a liquid crystal monitor and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶表示素子はTN型液晶表示素
子が一般的に用いられてきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a TN type liquid crystal display device has been generally used as a liquid crystal display device.

【0003】また高速応答を特徴とする液晶表示素子と
して、OCB型表示素子が検討されている。OCB型液
晶表示素子は「社団法人電気通信学会 信学技報 EDI9
8-144 199頁」を参考にされたい。
As a liquid crystal display element characterized by a high-speed response, an OCB type display element has been studied. The OCB-type liquid crystal display element is described in "IEICE Technical Report EDI9"
8-144 page 199 ".

【0004】このOCB型液晶表示素子は基板間に液晶
が挟持されており、この基板上には電圧印加手段として
透明電極が形成されている。電源を入れる前の状態では
この液晶の配向状態はスプレイ配向と呼ばれる状態をな
している。この機器の電源を入れる時などに、この電圧
印加手段に比較的大きな電圧を短時間に印加して、液晶
の配向をベンド配向状態に転移させる。このベンド配向
状態を用いて表示を行うことがOCB型液晶表示モード
の特徴である。
In this OCB type liquid crystal display device, liquid crystal is sandwiched between substrates, and a transparent electrode is formed on the substrate as a voltage applying means. Before the power is turned on, the alignment state of the liquid crystal is in a state called splay alignment. When the power of the device is turned on, a relatively large voltage is applied to the voltage applying means in a short time to change the orientation of the liquid crystal to a bend orientation state. Displaying using this bend alignment state is a feature of the OCB type liquid crystal display mode.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】OCB型液晶表示素子
では、この転移が確実でなく、スプレイ配向のままの画
素が残留すると輝点欠陥のように見える問題があった。
In the OCB type liquid crystal display device, this transition is not reliable, and there is a problem that if a pixel which remains in splay alignment remains, it looks like a bright spot defect.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明に係る液晶表示素子は、ベンド配向をなす液晶に電圧
を印加することで表示を行ない、電圧を印加しない状態
の配向状態からベンド配向状態に転移させる転移手段を
有する液晶表示素子であって、転移手段の動作時におい
てディスクリネーションラインを発生させる手段とディ
スクリネーションラインを屈曲させる屈曲手段とを有す
ることを特徴とする。
A liquid crystal display device according to the present invention, which solves the above-mentioned problems, performs display by applying a voltage to a liquid crystal having a bend alignment, and performs a bend alignment from an alignment state where no voltage is applied. A liquid crystal display device having a transition means for transitioning to a state, comprising: means for generating a disclination line when the transition means operates; and bending means for bending the disclination line.

【0007】ディスクリネーションラインは2つの液晶
配向状態の境界に位置し、2つの液晶配向状態の少なく
とも一方はスプレイ配向状態であることが好ましい。
The disclination line is located at a boundary between two liquid crystal alignment states, and at least one of the two liquid crystal alignment states is preferably in a splay alignment state.

【0008】液晶表示素子は二枚の基板を有し、スプレ
イ配向状態は、基板平面に略平行に並ぶ液晶分子がセル
厚方向で一方の基板側に偏在した偏在スプレイ配向であ
ることが好ましい。
The liquid crystal display element has two substrates, and the splay alignment state is preferably a splay alignment in which liquid crystal molecules arranged substantially parallel to the substrate plane are unevenly distributed on one substrate side in the cell thickness direction.

【0009】屈折手段は、ディスクリネーションライン
の移動速度を異ならせていることが好ましい。
It is preferable that the refracting means makes the moving speed of the disclination line different.

【0010】屈曲手段はセル厚が異なる領域を形成する
段差であることが好ましい。
It is preferable that the bending means is a step forming regions having different cell thicknesses.

【0011】段差の高さは0.1μm以上であることが
好ましい。
The height of the step is preferably 0.1 μm or more.

【0012】段差の高さは1μm以下であることが好ま
しい。
Preferably, the height of the step is 1 μm or less.

【0013】液晶表示素子は基板を有し、基板の少なく
とも一方にブラックマトリクスが形成され、段差はブラ
ックマトリクスであることがが好ましい。
It is preferable that the liquid crystal display element has a substrate, and a black matrix is formed on at least one of the substrates, and the step is a black matrix.

【0014】液晶表示素子は基板を有し、基板の少なく
とも一方にアクティブマトリクス素子が形成されてお
り、段差はアクティブマトリクス素子形成時に同時形成
されることが好ましい。
It is preferable that the liquid crystal display element has a substrate, and an active matrix element is formed on at least one of the substrates, and the step is preferably formed simultaneously with the formation of the active matrix element.

【0015】段差の幅は4マイクロメートル以上50マ
イクロメートル以下であることが好ましい。
Preferably, the width of the step is not less than 4 micrometers and not more than 50 micrometers.

【0016】他の実施の態様として、屈曲手段は柱状体
としてもよい。
In another embodiment, the bending means may be a column.

【0017】この柱状体は液晶の層厚と略等しいことが
好ましい。
This columnar body is preferably substantially equal to the layer thickness of the liquid crystal.

【0018】また、柱状体を表示域以外に形成すること
が好ましい。
It is preferable that the columnar body is formed in a region other than the display area.

【0019】さらに他の実施の態様として、屈曲手段は
電界を印加する領域を制限する電極欠損部であるが好ま
しい。
As still another embodiment, it is preferable that the bending means is an electrode defective portion for limiting a region to which an electric field is applied.

【0020】この屈曲手段は、プレチルトの異なる領域
を形成した異プレチルト領域であることが好ましい。
It is preferable that the bending means is a different pretilt region in which regions having different pretilts are formed.

【0021】ディスクリネーションラインを屈曲させる
屈曲手段がディスクリネーションラインを発生させる手
段に対して、ラビング方向またはラビング方向に対して
逆方向に配置されることが好ましい。
Preferably, the bending means for bending the disclination line is disposed in the rubbing direction or in the direction opposite to the rubbing direction with respect to the means for generating the disclination line.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態における
表示装置について図面を参照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0023】OCB型液晶表示素子は、上下基板にラビ
ング処理を行い、この方向を平行にすることを基本的な
構成としている。この素子において、初期の電圧を印加
しない状態では液晶分子がほぼ平行に並んだスプレイ配
向状態にある(図1(a))。図1が本液晶表示素子の
構成を示す概念図である。液晶101が基板102間に
挟持されており、その基板の外側に位相差板103、偏
光板104を有している。
The basic structure of the OCB type liquid crystal display element is to perform a rubbing process on the upper and lower substrates and make the directions parallel. In this element, when no initial voltage is applied, the liquid crystal molecules are in a splay alignment state in which the liquid crystal molecules are arranged substantially in parallel (FIG. 1A). FIG. 1 is a conceptual diagram showing the configuration of the present liquid crystal display element. A liquid crystal 101 is sandwiched between substrates 102, and has a retardation plate 103 and a polarizing plate 104 outside the substrate.

【0024】電圧を印加しない状態では液晶はスプレイ
配向をしている(図1(a))。ここで基板には配向処
理を施すがこれは液晶分子が図のように並ぶようにパラ
レル配向処理とした。この液晶の配向を表示に用いるベ
ンド配向状態に転移させる(図1(b))。この転移を
行なうために、比較的大きな転移電圧、例えば10Vか
ら25V程度を液晶層に印加した。
When no voltage is applied, the liquid crystal is in splay alignment (FIG. 1A). Here, the substrate is subjected to an alignment process, which is a parallel alignment process so that the liquid crystal molecules are arranged as shown in the figure. The orientation of the liquid crystal is changed to a bend orientation state used for display (FIG. 1B). In order to perform this transition, a relatively large transition voltage, for example, about 10 V to 25 V was applied to the liquid crystal layer.

【0025】我々はこれまでに、転移の核を形成すると
の概念を特開平10−20284号公報で開示し、さら
に特願平11−68149、特願平11−24934
7、特願2000−69501において2つのスプレイ
配向状態、特に基板平面に略平行に液晶分子が並ぶ配向
状態が、セル厚方向で一方の基板側に偏在した偏在スプ
レイ配向を形成することで転移核となることを開示して
きた。この偏在スプレイ配向を形成する際にはディスク
リネーションラインが発生する。また特願2000−2
95756では180度以上回転した高次のツイストを
形成するとベンド転移が発生することを開示した。
We have previously disclosed the concept of forming a transition nucleus in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-20284, and further disclosed in Japanese Patent Application Nos. 11-68149 and 11-24934.
7. In Japanese Patent Application No. 2000-69501, two splay alignment states, in particular, an alignment state in which liquid crystal molecules are arranged substantially parallel to a substrate plane, form a localized splay alignment which is unevenly distributed on one substrate side in the cell thickness direction. Has been disclosed. When forming this uneven splay alignment, a disclination line is generated. Also, Japanese Patent Application 2000-2
No. 95756 discloses that a bend transition occurs when a high-order twist rotated by 180 degrees or more is formed.

【0026】本発明は、このディスクリネーションライ
ンを屈曲させる屈曲手段を有することでさらに転移を確
実にすることを特徴とする。
The present invention is characterized in that the transfer is further ensured by providing a bending means for bending the disclination line.

【0027】我々は、転移波形を印加している際に2つ
のスプレイ配向、特に基板平面に略平行に液晶分子が並
ぶ配向状態が、セル厚方向で一方の基板側に偏在した偏
在スプレイ配向を形成することが重要であることを示し
た。
We have found that when a transition waveform is applied, two splay alignments, in particular, an alignment state in which liquid crystal molecules are arranged substantially in parallel to the substrate plane, cause an unevenly distributed splay alignment that is unevenly distributed on one substrate side in the cell thickness direction. It has been shown that forming is important.

【0028】転移波形を印加する以前では、上下基板に
対称な図2(a)の状態にある。これに転移電圧を印加
すると図2(b)のように片側の基板側(図では上側で
表記)に偏在した偏在スプレイの領域を発生させると、
この偏在スプレイ領域と未だ十分な応答がなされない中
庸的なスプレイ状態との間にディスクリネーションライ
ンが発生する。また、上基板側に偏在した偏在スプレイ
状態と下基板側に偏在した偏在スプレイ状態が発生しこ
れが隣接する場合にもこの境界にディスクリネーション
ラインが発生する(図2(c))。どちらの場合にも、
このディスクリネーションラインからベンド転移が発生
しやすいが、特に、このディスクリネーションラインが
平面視において屈曲する場合には、この屈曲点からベン
ド転移が発生することを我々は見出した。
Prior to the application of the transition waveform, the state is as shown in FIG. When a transition voltage is applied thereto, an unevenly distributed spray region which is unevenly distributed on one substrate side (shown in the upper side in the figure) as shown in FIG.
A disclination line occurs between the unevenly distributed spray area and a moderate spray state where a sufficient response has not yet been made. Also, when an eccentric splay state eccentric to the upper substrate side and an eccentric splay state eccentric to the lower substrate side occur and are adjacent to each other, a disclination line is generated at this boundary (FIG. 2C). In either case,
It has been found that bend transition easily occurs from this disclination line, but particularly when this disclination line is bent in a plan view, bend transition occurs from this bending point.

【0029】我々の観察によれば、ディスクリネーショ
ンライン内では微視的に液晶分子が面内方向で回転し、
ディスクリネーションがまっすぐ走っている箇所でも、
微視的な液晶分子は180度の回転をしていることが見
出された。
According to our observation, liquid crystal molecules are microscopically rotated in the in-plane direction within the disclination line,
Even where the disclination is running straight,
The microscopic liquid crystal molecules were found to rotate 180 degrees.

【0030】さらにこのディスクリネーションラインを
平面視において屈曲した構造を形成すると、この屈曲角
度分だけさらに大きく分子は回転し、これによって局所
的には180度以上ツイストした高次のツイストが発生
する。これがベンド配向を引き起こす核になることを見
出した。
Further, when a structure in which the disclination line is bent in a plan view is formed, the molecules are rotated further by this bending angle, thereby generating a higher-order twist locally twisted by 180 degrees or more. . This was found to be a nucleus causing bend alignment.

【0031】このように液晶分子が180度以上回転さ
せる高次ツイストを形成させることが転移の核を形成す
るために重要であり、これを実現するためにディスクリ
ネーションラインを形成させること、このディスクリネ
ーションラインを屈曲させることの双方を有することが
有効である。
As described above, it is important to form a high-order twist in which liquid crystal molecules are rotated by 180 degrees or more in order to form a transition nucleus. In order to realize this, a disclination line is formed. It is effective to have both of the bending of the disclination line.

【0032】(実施の形態1)本実施の形態では、横電
界によってディスクリネーションラインを発生させ、段
差構造によってそのディスクリネーションラインを屈曲
させるようにした。
(Embodiment 1) In this embodiment, a disclination line is generated by a lateral electric field, and the disclination line is bent by a step structure.

【0033】本実施の形態1で用いたアクティブマトリ
クス基板の構成について図3を用いて説明する。図3は
1つの画素について拡大説明したものである。液晶表示
素子には複数の画素電極304が形成され、この画素電
極304にはTFTトランジスタ303を形成した。こ
のトランジスタを動作させるためのゲートライン302
をパネル横方向に、画素電極に書き込むデータを供給す
るソースライン303をパネル縦方向にマトリクス状に
形成した。
The structure of the active matrix substrate used in the first embodiment will be described with reference to FIG. Figure 3
This is an enlarged description of one pixel. A plurality of pixel electrodes 304 were formed on the liquid crystal display element, and a TFT transistor 303 was formed on the pixel electrodes 304. Gate line 302 for operating this transistor
The source lines 303 for supplying data to be written to the pixel electrodes were formed in a matrix in the vertical direction of the panel.

【0034】本実施の形態では、TFT303をコの字
型ソース形状にし、これとゲートライン302間に電圧
を印加することにより、断面方向で斜め方向の横電界3
07が生じるようにした。この斜め方向の横電界307
によって液晶分子の方向を制御し、その結果として偏在
スプレイ状態を形成した。具体的には、図3および図4
に示すような画素構造を形成した。図3が平面図、図4
が断面図である。転移を行うための、転移期間にはまず
対向電極301に転移電圧として−20Vを印加した。
この際にゲートライン302に+10Vをソースライン
303に−5Vを印加した。このとき、ソースライン3
03とゲートライン302との交差点からソースライン
303を横方向に引き出して、ゲートライン302に重
なるソースライン引き出し部303aを設け、この部分
に斜め方向の横電界307がかかるようにした。この斜
め方向の横電界307によって、図4に示すように、液
晶層の中央付近の液晶分子b、cが右上がりになるよう
に変化する。一方、基板101近傍の液晶層の液晶分子
aは、ラビングによって右下方向に向いた状態を維持す
る。このため、液晶分子aとcとの間には、基板と平行
な方向を向いた液晶分子が存在することになり、TFT
アレイを形成した基板側に偏在スプレイ状態305が形
成された。この偏在スプレイ領域305が徐々に成長を
する。この偏在スプレイ状態と他の中庸的なスプレイ状
態との境界にはディスクリネーションライン308が発
生した。
In the present embodiment, the TFT 303 is formed in a U-shaped source shape, and a voltage is applied between the TFT 303 and the gate line 302 so that a horizontal electric field 3 oblique in the cross-sectional direction is obtained.
07 was generated. This oblique horizontal electric field 307
As a result, the direction of the liquid crystal molecules was controlled, and as a result, an unevenly distributed splay state was formed. Specifically, FIGS. 3 and 4
The pixel structure shown in FIG. FIG. 3 is a plan view, FIG.
Is a sectional view. In the transition period for performing the transition, first, −20 V was applied to the counter electrode 301 as the transition voltage.
At this time, +10 V was applied to the gate line 302 and -5 V was applied to the source line 303. At this time, source line 3
The source line 303 is drawn out from the intersection of the gate line 302 and the gate line 302 in the horizontal direction, and a source line lead-out portion 303a overlapping the gate line 302 is provided. Due to the oblique horizontal electric field 307, the liquid crystal molecules b and c near the center of the liquid crystal layer change to the right as shown in FIG. On the other hand, the liquid crystal molecules a in the liquid crystal layer in the vicinity of the substrate 101 maintain a state of being directed to the lower right direction by rubbing. Therefore, between the liquid crystal molecules a and c, there are liquid crystal molecules oriented in a direction parallel to the substrate, and the TFT
An uneven splay state 305 was formed on the substrate side on which the array was formed. The unevenly distributed spray region 305 grows gradually. A disclination line 308 occurred at the boundary between the unevenly distributed splay state and another moderate splay state.

【0035】このディスクリネーションライン308を
屈曲させるためには、ディスクリネーションライン30
8の移動速度を変化させる領域を形成すれば、速い領域
と遅い領域の境界で屈曲が発生する。このディスクリネ
ーションラインは液晶の配向領域の境界部であるから、
液晶の配向領域の成長速度が異なる領域を形成すれば良
い。そして、本実施例では特に、偏在スプレイ状態の成
長速度を局所的に制御すれば良い。
In order to bend the disclination line 308, the disclination line 30
If an area for changing the moving speed of 8 is formed, bending occurs at a boundary between a fast area and a slow area. Since this disclination line is the boundary between the alignment regions of the liquid crystal,
What is necessary is just to form regions in which the growth rates of the liquid crystal alignment regions are different. In this embodiment, in particular, the growth rate in the unevenly distributed splay state may be locally controlled.

【0036】特に、この成長速度がセル厚に依存し、厚
いほど速いことを見出した。ここでセル厚とは液晶層の
厚みである。このセル厚を変えるためには、基板に凹凸
ないし段差を形成すればよい。
In particular, it has been found that this growth rate depends on the cell thickness, and the higher the growth rate, the faster. Here, the cell thickness is the thickness of the liquid crystal layer. In order to change the cell thickness, irregularities or steps may be formed on the substrate.

【0037】そこで本実施例では、この偏在スプレイ状
態の発生する箇所の付近にセル厚の異なる領域を形成し
た。これによって、図3の308に示すようにディスク
リネーションラインが屈曲し、その屈曲点306からベ
ンド配向が発生した。
Therefore, in this embodiment, regions having different cell thicknesses are formed in the vicinity of the location where the unevenly distributed splay state occurs. As a result, as shown at 308 in FIG. 3, the disclination line was bent, and a bend orientation was generated from the bending point 306.

【0038】セル厚の異なる領域を形成するためには、
絶縁膜309を画素電極304の上に形成した。この絶
縁膜309の厚みはTFTアレイを形成するプロセス
(例えば、フォトリソエッチング方法など)を利用し
た。このために、絶縁膜309を部分的に残すようにし
ても良いし、逆に部分的に除去しても良い。TFTを形
成する領域以外では絶縁膜形成のパターンには自由度が
多いのでこれを利用した。また、金属配線に用いる材料
を選択的に残しても良い。これらの層を増やすことで段
差を稼ぐことができる。
In order to form regions having different cell thicknesses,
An insulating film 309 was formed on the pixel electrode 304. The thickness of the insulating film 309 is determined by using a process for forming a TFT array (for example, a photolithographic etching method). For this purpose, the insulating film 309 may be partially left or may be partially removed. Since there is a lot of freedom in the pattern for forming the insulating film outside the region where the TFT is formed, this was used. Further, the material used for the metal wiring may be selectively left. Increasing these layers can increase the level difference.

【0039】絶縁膜309による段差(すなわち、絶縁
膜309の厚み)は0.1μm以上あれば効果があっ
た。また樹脂レジスト等を用いて、段差を別個に形成し
ても良い。また画素電極304はこの段差を形成する絶
縁膜309の上にあっても良いし、下にあっても良い。
ただし、この段差が大きすぎると段差上がベンド転移し
にくく、時にはスプレイのまま安定に残ってしまう課題
があった。これは段差の高さが1μm以上の場合に発生
した。またこのときセル厚の最も薄い領域は4μmであ
った。
An effect was obtained when the step due to the insulating film 309 (that is, the thickness of the insulating film 309) was 0.1 μm or more. Alternatively, the steps may be separately formed using a resin resist or the like. Further, the pixel electrode 304 may be above or below the insulating film 309 forming the step.
However, if this step is too large, there is a problem that bend transition on the step is difficult and sometimes the spray remains stably. This occurred when the height of the step was 1 μm or more. At this time, the region with the smallest cell thickness was 4 μm.

【0040】また本発明はこれに限るものではない。段
差をカラーフィルター側に形成しても良い。このとき
は、TFTを形成する基板ではない対向基板に形成して
も良い。このとき段差はカラーフィルターを用いても良
し、ブラックマトリクスを用いても良い。本発明ではブ
ラックマトリクスを用い、これを樹脂性のブラックマト
リクスを用いて0.5マイクロメータの段差を形成し
た。
The present invention is not limited to this. A step may be formed on the color filter side. In this case, it may be formed on a counter substrate other than the substrate on which the TFT is formed. At this time, the step may use a color filter or a black matrix. In the present invention, a black matrix is used, and a step of 0.5 μm is formed using the black matrix.

【0041】この段差構造の幅が細すぎると段差の影響
が発揮できず、また広過ぎると曲率が広くなるためこれ
でも効果がない。我々の検討では、段差のセル厚の比較
的厚い領域の幅が4マイクロメートル以上50マイクロ
メートル以下であることが効果があった。最適なのは6
マイクロメートル以上10マイクロメートル以下の条件
の時であった。
If the width of the step structure is too small, the effect of the step cannot be exerted, and if it is too wide, the curvature becomes wide, so that there is no effect. In our study, it was effective that the width of the region where the cell thickness of the step was relatively thick was 4 μm or more and 50 μm or less. 6 is best
It was the condition of not less than micrometer and not more than 10 micrometers.

【0042】(実施の形態2)本実施の形態では、ディ
スクリネーションラインを屈曲させるために柱状体を使
用した。この柱状体は柱スペーサを兼用した。図5に示
すように、このとき所定のセル厚となるような高さのレ
ジストスペーサ401を形成した。このとき、この柱ス
ペーサ401でディスクリネーションラインが屈曲し、
これによってベンド配向が発生した。このとき、柱スペ
ーサ401は遮光性とした。またその周辺はブラックマ
トリクスで遮光した。柱スペーサ401は光りぬけの原
因となるため、これを表示域に形成せず、ブラックマト
リクス上に形成する必要がある。
(Embodiment 2) In this embodiment, a pillar is used to bend the disclination line. This columnar body also served as a column spacer. As shown in FIG. 5, a resist spacer 401 having a height so as to have a predetermined cell thickness was formed at this time. At this time, the disclination line is bent by the column spacer 401,
This caused a bend orientation. At this time, the column spacer 401 was made light-blocking. The surrounding area was shielded from light by a black matrix. Since the column spacer 401 causes light leakage, it must be formed on a black matrix instead of being formed in the display area.

【0043】柱スペーサとするためには、セル厚すなわ
ち液晶層厚と柱の高さがほぼ同じ高さである必要があ
る。
In order to form a column spacer, it is necessary that the cell thickness, that is, the liquid crystal layer thickness and the column height are substantially the same.

【0044】この実施の形態でも、ソースラインとゲー
トラインの交叉する箇所で横電界を印加し、これによっ
て局在スプレイ配向を形成した。この局在スプレイ配向
の発生箇所と柱スペーサの配置箇所を近接させたことが
特徴である。
Also in this embodiment, a local electric field is applied at the intersection of the source line and the gate line, thereby forming a localized splay alignment. The feature is that the location where the localized splay orientation occurs and the location where the column spacer is arranged are brought close to each other.

【0045】(実施の形態3)本実施の形態では、ディ
スクリネーションラインを屈曲させるために電界を印加
しない領域を形成した。図6にしめすように画素電極に
欠損した領域501を形成した。電界がかかる領域は局
在スプレイ領域も成長するが、電界のかからない領域5
01はこのドメインは成長しない。この現象を利用して
屈曲させることができる。
(Embodiment 3) In this embodiment, a region where no electric field is applied is formed in order to bend the disclination line. As shown in FIG. 6, a defective region 501 was formed in the pixel electrode. In the area where the electric field is applied, the localized spray area also grows, but the area 5 where the electric field is not applied.
01 does not grow this domain. It is possible to bend using this phenomenon.

【0046】この電極の欠損した領域501を、局在ス
プレイ配向の発生する箇所に近接して形成することが特
徴である。
The feature is that the region 501 where the electrode is lost is formed close to the location where the localized splay alignment occurs.

【0047】この局在スプレイ配向の成長は、ラビング
方向またはラビング方向の逆方向に主に行われるため、
この発生箇所よりも若干ラビング方向ないしその逆方向
に離れた箇所に屈曲手段を形成することが良好であっ
た。ラビング方向に垂直な方向には成長が遅く、発生箇
所のラビング方向に垂直な方向に屈曲手段を形成しても
ベンド転移の発生程度は比較的低かった。
Since the growth of the localized splay orientation is mainly performed in the rubbing direction or the direction opposite to the rubbing direction,
It was favorable to form the bending means at a location slightly separated from the location of occurrence in the rubbing direction or the opposite direction. The growth was slow in the direction perpendicular to the rubbing direction, and even when the bending means was formed in the direction perpendicular to the rubbing direction at the point of occurrence, the degree of occurrence of bend transition was relatively low.

【0048】本発明は、偏在スプレイ状態を形成するこ
とと、そのときに発生するディスクリネーションライン
を屈曲させることが骨子である。よって、これを発生さ
せる手法には限定されない。例えば上述した例以外に
も、プレチルトの異なる領域を形成するとその部位の成
長速度が変化し屈曲することが確認された。またラビン
グ方向を変化させても効果があった。
The gist of the present invention is to form an unevenly distributed splay state and to bend a disclination line generated at that time. Therefore, the method for generating this is not limited. For example, in addition to the above-described example, it was confirmed that when a region having a different pretilt was formed, the growth rate of the region changed and the region was bent. There was also an effect when the rubbing direction was changed.

【0049】さらに偏在スプレイ状態を形成させる手法
にも様々にあり、横電界を印加する以外にも上下基板の
プレチルト角を非対称にする手法や基板の傾斜角を変化
させる方法も有効であった。
Further, there are various methods for forming the unevenly distributed splay state. In addition to the application of the horizontal electric field, a method of making the pretilt angles of the upper and lower substrates asymmetric and a method of changing the inclination angle of the substrates have been effective.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、転移が確
実となり輝点欠陥の少ない液晶表示素子を提供すること
ができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the transition is reliable and the number of bright spot defects is small.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の液晶表示素子を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】(a)本発明の液晶表示素子の初期状態の転移
挙動を示す断面図 (b)ひとつの偏在スプレイ配向状態と対象なスプレイ
配向状態とでディスクリネーションラインが形成される
場合における本発明の液晶表示素子の転移挙動を示す断
面図 (c)ふたつの偏在スプレイ配向状態の間にディスクリ
ネーションラインが形成される場合における本発明の液
晶表示素子の転移挙動を示す断面図 (d)ベンド配向状態となった本発明の液晶表示素子の
転移挙動を示す断面図
FIG. 2A is a cross-sectional view showing a transition behavior in an initial state of the liquid crystal display element of the present invention. FIG. 2B shows a case where a disclination line is formed in one eccentric splay alignment state and a target splay alignment state. Sectional view showing the transition behavior of the liquid crystal display element of the present invention. (C) Sectional view showing the transition behavior of the liquid crystal display element of the present invention when a disclination line is formed between two unevenly distributed splay alignment states. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the transition behavior of the liquid crystal display element of the present invention in a bend alignment state.

【図3】本発明の第1の実施の形態の液晶表示素子の画
素構造を示す平面図
FIG. 3 is a plan view showing a pixel structure of the liquid crystal display element according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施の形態の液晶表示素子の液
晶の挙動を示す断面図
FIG. 4 is a sectional view showing the behavior of the liquid crystal of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施の形態の液晶表示素子の画
素構造を示す平面図
FIG. 5 is a plan view showing a pixel structure of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施の形態の液晶表示素子の画
素構造を示す平面図
FIG. 6 is a plan view showing a pixel structure of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 液晶 102 基板 103 位相差板 104 偏光板 301 対向電極 302 ゲートライン 303 ソースライン 304 画素電極 305 偏在スプレイ領域 306 ベンド転移発生点 307 横電界 308 ディスクリネーションライン 309 異セル厚領域 310 絶縁膜 401 柱状体(柱スペーサ) 501 電極欠損部 Reference Signs List 101 liquid crystal 102 substrate 103 retardation plate 104 polarizing plate 301 counter electrode 302 gate line 303 source line 304 pixel electrode 305 unevenly distributed spray region 306 bend transition occurrence point 307 lateral electric field 308 disclination line 309 different cell thickness region 310 insulating film 401 columnar shape Body (pillar spacer) 501 Electrode missing part

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Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ベンド配向をなす液晶に電圧を印加するこ
とで表示を行ない、電圧を印加しない状態の配向状態か
らベンド配向状態に転移させる転移手段を有する液晶表
示素子であり、転移手段の動作時においてディスクリネ
ーションラインを発生させる手段と前記ディスクリネー
ションラインを屈曲させる屈曲手段とを有することを特
徴とする液晶表示素子。
1. A liquid crystal display element having a transition means for performing a display by applying a voltage to a liquid crystal having a bend orientation and transitioning from an orientation state in which no voltage is applied to a bend orientation state. A liquid crystal display device comprising: means for generating a disclination line in some cases; and bending means for bending the disclination line.
【請求項2】前記ディスクリネーションラインが2つの
液晶配向状態の境界に位置し、前記2つの液晶配向状態
の少なくとも一方はスプレイ配向状態であることを特徴
とする請求項1記載の液晶表示素子。
2. A liquid crystal display device according to claim 1, wherein said disclination line is located at a boundary between two liquid crystal alignment states, and at least one of said two liquid crystal alignment states is in a splay alignment state. .
【請求項3】前記液晶表示素子は二枚の基板を有し、前
記スプレイ配向状態は、基板平面に略平行に並ぶ液晶分
子がセル厚方向で一方の基板側に偏在した偏在スプレイ
配向であることを特徴とする請求項2記載の液晶表示素
子。
3. The liquid crystal display element has two substrates, and the splay alignment state is an uneven splay alignment in which liquid crystal molecules arranged substantially parallel to a substrate plane are unevenly distributed on one substrate side in a cell thickness direction. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein:
【請求項4】前記屈折手段が、ディスクリネーションラ
インの移動速度を異ならせていることを特徴とする請求
項1記載の液晶表示素子。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said refracting means changes the moving speed of the disclination line.
【請求項5】前記屈曲手段はセル厚が異なる領域を形成
する段差であることを特徴とする請求項4記載の液晶表
示素子。
5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein said bending means is a step forming regions having different cell thicknesses.
【請求項6】前記段差の高さが0.1μm以上であるこ
とを特徴とする請求項5記載の液晶表示素子。
6. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the height of the step is 0.1 μm or more.
【請求項7】前記段差の高さが1μm以下であることを
特徴とする請求項5記載の液晶表示素子。
7. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the height of the step is 1 μm or less.
【請求項8】液晶表示素子は基板を有し、前記基板の少
なくとも一方にブラックマトリクスが形成され、前記段
差が前記ブラックマトリクスであることを特徴とする請
求項5記載の液晶表示素子。
8. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the liquid crystal display device has a substrate, and a black matrix is formed on at least one of the substrates, and the step is the black matrix.
【請求項9】液晶表示素子は基板を有し、前記基板の少
なくとも一方にアクティブマトリクス素子が形成されて
おり、前記段差はアクティブマトリクス素子形成時に同
時形成されることを特徴とする請求項5記載の液晶表示
素子。
9. The liquid crystal display device according to claim 5, further comprising a substrate, wherein at least one of the substrates has an active matrix element formed thereon, and the step is formed simultaneously with the formation of the active matrix element. Liquid crystal display element.
【請求項10】前記段差の幅が4マイクロメートル以上
50マイクロメートル以下であることを特徴とする請求
項5記載の液晶表示素子。
10. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the width of the step is 4 μm or more and 50 μm or less.
【請求項11】前記屈曲手段は柱状体であることを特徴
とする請求項1記載の液晶表示素子。
11. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said bending means is a columnar body.
【請求項12】前記柱状体が前記液晶の層厚と略等しい
ことを特徴とする請求項11記載の液晶表示素子。
12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein said columnar body has a thickness substantially equal to a layer thickness of said liquid crystal.
【請求項13】前記柱状体を表示域以外に形成すること
を特徴とする請求項12記載の液晶表示素子。
13. A liquid crystal display device according to claim 12, wherein said columnar body is formed outside of a display area.
【請求項14】前記屈曲手段は電界を印加する領域を制
限する電極欠損部であることを特徴とする請求項1記載
の液晶表示素子。
14. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said bending means is an electrode defective portion for limiting a region to which an electric field is applied.
【請求項15】前記屈曲手段がプレチルトの異なる領域
を形成した異プレチルト領域であることを特徴とする請
求項4記載の液晶表示素子。
15. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein said bending means is a different pretilt region in which regions having different pretilts are formed.
【請求項16】前記ディスクリネーションラインを屈曲
させる屈曲手段がディスクリネーションラインを発生さ
せる手段に対して、ラビング方向またはラビング方向に
対して逆方向に配置されることを特徴とする請求項1記
載の液晶表示素子。
16. A rubbing direction or a direction opposite to a rubbing direction with respect to a means for generating a disclination line, wherein the bending means for bending the disclination line is disposed. The liquid crystal display element as described in the above.
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