JP2006320986A - ナノインプリント形成方法およびその成形物 - Google Patents

ナノインプリント形成方法およびその成形物 Download PDF

Info

Publication number
JP2006320986A
JP2006320986A JP2005144800A JP2005144800A JP2006320986A JP 2006320986 A JP2006320986 A JP 2006320986A JP 2005144800 A JP2005144800 A JP 2005144800A JP 2005144800 A JP2005144800 A JP 2005144800A JP 2006320986 A JP2006320986 A JP 2006320986A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stamper
synthetic resin
nanoimprint
shape
molding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005144800A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidehiro Yoshida
英博 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2005144800A priority Critical patent/JP2006320986A/ja
Publication of JP2006320986A publication Critical patent/JP2006320986A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】低アスペクト比のスタンパを用いて、高アスペクト比の製品を形成できるナノインプリント形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】スタンパ40の凹部に合成樹脂を注入して被成形物に凸形状を形成する第1工程S1と、第1工程S1の後、スタンパの凹部の側面と被成形物の凸形状の側面の一部が重なる位置までスタンパと被成形物を相対移動させる第2工程S2と、第2工程S2の後、スタンパ40の凹部に合成樹脂を再注入して被成形物に凸形状を継ぎ足す第3工程S3とを、被成形物の凸部の高さが目的高さの柱形状になるまで繰り返し“S4,S2,S3”実行することを特徴とする。
【選択図】図3

Description

本発明は、加熱、加圧機構を有するスタンパを用い、基板上に微細構造体を形成するナノインプリント転写法及びそれを含む装置に関する。
近年、血液中の様々な成分を分離するために、あるいはDNA(deoxyribonucleic acid デオキシリボ核酸)を分離するために、高アスペクト比を有するナノピラー形成技術開発が盛んに行われている。
高アスペクト比のナノピラーを形成するためには、高アスペクト比のスタンパを形成する必要があるが、高アスペクト比のスタンパほど、その加工は極めて困難である。
また、高アスペクト比のスタンパを用いて、離形プロセスを行う場合、高アスペクト比であればあるほど、離形する際に多大な力が必要になってくる。
そこで、離形性を向上させるために型自体を斜めに引き上げることにより、離形の際に生じる応力を緩和するという方法が一般的である。ところが、スタンパを斜めにすることにより、スタンパの凹凸形状の先端部付近には、従来以上の応力がスタンパに生じ、高アスペクト比のスタンパになればなるほど、その耐久性が問題となってくる。
つまり、高アスペクト比のスタンパを用いて、製品を形成する際、高アスペクトスタンパの凹凸形状の先端部付近には離形する際に応力が生じやすく、スタンパの耐久性としても十分に耐えることが難しいという構造である。
そこで、(特許文献1)では、スタンパに剥離材を転写、塗布する機構を有し、剥離材を利用することにより、その離形性を向上させ、高アスペクト比の型を形成させるという取組みがある。
特開2004−288783
しかしながら、ナノピラー先端部の離形精度に関しては、向上するかもしれないが、今後、高アスペクト比の型を形成する場合は、先端部に剥離材を有するだけでは十分な方法ではない。また、この方法では、高アスペクト比になればなるほど、剥離材は届きにくくなり、高アスペクト比になればなるほど問題になる。また、この方法では、型の形状に応じたものしかできず、同一の型で任意の形状を実現することもできない。
このように、高アスペクトの型をそのまま用いると離形する際にかかる力が大きいために、せっかく形成した形状をむりやり引っ張り、スタンパ自体にダメージを与えてしまうという欠点がある。
また、現在までのスタンパは、高さの異なる形状を形成する場合には、その高さに応じたスタンパを形成する必要がある。また、同一平面内で高さの形状が異なるものを製作しようとした場合、高低差の違うスタンパを形成しなければならない。高低差の異なるスタンパをスタンパ形成後離形する場合、離形する際に同一製品内で離形分布のむらが生じ、離形することによって、スタンパの凹凸形状にダメージを与えてしまう。
本発明は、低アスペクト比のスタンパを用いて、高アスペクト比の製品を形成できるナノインプリント形成方法を提供することを目的とする。
本発明の請求項1記載のナノインプリント形成方法は、柱形状を有する成形物を形成するに際し、スタンパの凹部に合成樹脂を注入して被成形物に凸形状を形成する第1工程と、前記第1工程の後、前記スタンパの凹部の側面と前記被成形物の凸形状の側面の一部が重なる位置まで前記スタンパと被成形物を相対移動させる第2工程と、前記第2工程の後、前記スタンパの凹部に合成樹脂を再注入して被成形物に凸形状を継ぎ足す第3工程とを、被成形物の前記凸部の高さが目的高さの柱形状になるまで繰り返し実行することを特徴とする。
本発明の請求項2記載のナノインプリント形成方法は、
柱形状を有する成形物を形成するに際し、スタンパの凹部に合成樹脂を注入して硬化させながら、前記スタンパと被成形物を相対移動させるとともに前記スタンパの凹部に合成樹脂を再注入して被成形物に凸形状を継ぎ足す工程を、被成形物の前記凸部の高さが目的高さの柱形状になるまで繰り返し実行することを特徴とする。
本発明の請求項3記載のナノインプリント形成方法は、請求項1または請求項2において、前記スタンパの凹部に注入した合成樹脂を温度制御または合成樹脂への照射光を制御して硬化させることを特徴とする。
本発明の請求項4記載のナノインプリント形成方法は、請求項1または請求項2において、前記スタンパとして複数の凹部を有したものを使用し、被成形物の前記凸部の高さが目的高さの柱形状になるまでの繰り返し工程の途中では、前記凹部の一部の凹部への合成樹脂注入を終了して高さが異なる柱形状の成形物を形成することを特徴とする。
本発明の請求項5記載のナノインプリント形成方法は、請求項1または請求項2において、前記スタンパの凹部に離形材を配置して合成樹脂の注入と離形を実行することを特徴とする。
本発明の請求項6記載のナノインプリント形成方法は、請求項1または請求項2において、真空雰囲気中で合成樹脂の注入と離形を実行することを特徴とする。
本発明の請求項7記載のナノインプリント形成方法は、請求項1または請求項2において、前記スタンパは、3自由度以上の駆動手段により移動することを特徴とする。
本発明の請求項8記載の成形物は、請求項1から請求項7の何れかに記載のナノインプリント形成方法によって製作したことを特徴とする。
本発明の請求項9記載の成形物は、請求項8記載において、アスペクト比が2以上になっていることを特徴とする。
本発明の請求項10記載の成形物は、請求項1に記載のナノインプリント形成方法によって製作した成形物であって、アスペクト比が2以上で、かつ被成形物の凸形状の途中の継ぎ目部分において合成樹脂の不均一個所を有していることを特徴とする。
本発明を用いると、微細な凹凸が形成された低アスペクト比のスタンパを用いて、離形、合成樹脂注入プロセスを繰り返し行うことにより、スタンパよりも高アスペクト比の形状の成形物を形成できる。
また、被成形物の前記凸部の高さが目的高さの柱形状になるまでの繰り返し工程の途中で、前記凹部の一部の凹部への合成樹脂注入を終了して高さが異なる柱形状の成形物を形成することによって、3次元の任意形状を実現できる。
本発明は、低アスペクト比のスタンパを用いて、高アスペクト比の製品を形成しようとするものである。スタンパとモールドを向かい合わせて接触させ、一方の低アスペクト比の凹凸を有するスタンパを用いて、もう一方のモールドに転写して、最終的に所望の高アスペクト比の製品を形成する。
スタンパを一方に加圧させながら、材料注入用のバルブを開いて、材料を注入し製品を形成し、材料注入用のバルブを閉じる。次にスタンパを離形させる途中において、スタンパと形成した製品が一部重なる状態で離形を一旦停止させる。更に、材料注入用のバルブを開いて、材料注入し、一定の圧力になった後材料の注入を停止させる。その間に温度制御あるいは、光硬化特性等を利用して、先ほど形成した製品とスタンパの間に更に新しい第2の形状を形成する。そして、スタンパ離形させ、また次の材料を流し込む。
このプロセスを繰り返し行うことにより任意の高さの形状のものを形成することができる。
また、このプロセスでは、低アスペクト比の凹凸を有するスタンパを用いているために一回当たりにかかる離形時の摩擦力が少ないために離形し易い。また、スタンパの離形、材料注入プロセス、材料硬化コントロールプロセスを繰り返し行うことにより、製品の高さ形状を任意にコントロールすることができる。従来まで高アスペクト比の凹凸を持つ形状を形成することが極めて困難であったが、加工しやすい低アスペクト比のスタンパを用いて、容易に高アスペクト比の凹凸を形成することができる。
また、スタンパ内に複数のバルブを用いることにより、同一平面内に任意の高低差を持つ形状を形成することができる。従来まで、高低差の異なる製品を形成しようとした場合、応力むらが生じて、スタンパ自身が傾き高アスペクト比のスタンパであればあるほど、離形する際に、スタンパの凹凸の先端付近に応力が生じ、スタンパ自身にダメージを与えてしまうことがあった。しかし、本発明では、一回あたりに発生する際の摩擦力が小さいためにスタンパに与えるダメージが非常に少なく、スタンパ全体にかかる応力の分布むら少ないために高精度に離形することができる。
本発明では合成樹脂と型が接触する部分の面積が小さいために剥離材の量を最小限に抑えることもでき、剥離材無しでも離形できるというものである。剥離材の量を最小限にすることにより、形成した製品を剥離材の洗浄をすることなくそのまま製品に適用することができる。
本発明では、大気中でもナノインプリントが可能であるが、この装置を真空中に入れることにより、合成樹脂の流れを流れやすくしてもよい。
以下、本発明の各実施の形態を図1〜図7に基づいて説明する。
(実施の形態1)
図1〜図4は本発明の(実施の形態1)を示す。
図1は本発明のナノインプリント形成方法の実施に使用する造形加工装置を示している。
この装置は、下プレスヘッド25に対して上プレスヘッド20を駆動モータ1によって昇降可能に構成されている。上プレスヘッド20の前記下プレスヘッド25との対向面には、目的の成形物の形状に応じたスタンパ40が取り付けられている。
上プレスヘッド20の内部には、供給口20aから供給された所定圧力の合成樹脂10を、目的の成形物の形状に応じて複数の吐出口20b,20c,・・・に吐出する。ここでは目的の成形物の形状に応じて形成されたスタンパ40の5つの凹部40a〜40eへ合成樹脂10を吐出する5つの吐出口20a〜20fを有している。15は上プレスヘッド20における合成樹脂10の圧力を測定する圧力計である。
なお、この(実施の形態1)では吐出口20a〜20fへは単一の供給路21から合成樹脂10が供給されており、この供給路21の入口には開閉バルブ30が設けられている。
また、下プレスヘッド25の上に仮想線で示したものが、これから成形しようとする最終成形物35eで、最終成形物35eはスタンパ40に比べて高アスペクト比の形状である。
この図1に示した造形加工装置の運転制御部は次のように構成されている。
図2は低アスペクト比のスタンパ40を用いた高アスペクト比形状形成プロセスフローを示し、図3(a)〜(f)はその工程を示している。
ステップS1では、図3(a)に示すように、上プレスヘッド20に取り付けられたスタンパ40を下プレスヘッド25に押し付け、上プレスヘッド20に合成樹脂10を注入する。合成樹脂10を注入するときは、開閉バルブ30を開閉させることにより、合成樹脂10の注入を制御する。次にスタンパ40の温度を高温に保った状態で下プレスヘッド25のみを冷却することにより、第一の成形品35を形成する。
開閉バルブ30に関しては、成形品に近い側であればある程望ましい。このとき、スタンパ40を高温にするときはヒーターは抵抗加熱形、コイル状のものを使用し、冷却にする場合には、空冷、水冷、ペルチェ素子を用いてもよい。
ステップS2では、図3(b)に示すように上プレスヘッド20を上昇させてスタンパ40を、ここでは第一の成形品35から離形させる。具体的には、図4に示すように、スタンパ40と第一の成形品35の一部が重なった状態でスタンパの離形を停止させる。
このとき、スタンパ40を離形するステップ幅は、スタンパ40の凹凸形状の先端部がステップS1にて形成した製品の一部と重なっている状態であればどのようなステップ幅で離形させてもよい。スタンパ40の加熱に関してはスタンパ40の上面のヒーターにより加熱されているので、スタンパ40の凹凸形状の先端付近では、それほど高温の状態にはなっておらず、スタンパ40と成形品が接している状態でも合成樹脂10は硬化する。
ステップS3では、図3(c)に示すように、離形した隙間に前記開閉バルブ30を開けて合成樹脂10を再び注入する。
ステップS4では、合成樹脂10は、冷却された第一の成形品35に接し次第、硬化する。このとき、図4に示すようにスタンパ40の凹型形状の頂点40fと第一の成形品35の凸型形状の頂点35bの一部とが重なっていなければならない。
この後、ステップS2〜ステップS4までの一連の動作を複数回繰り返すことにより次第に高アスペクトの形状を形成することができる。最終的にステップS5においてスタンパ40を完全に開けて離形させることによって、図3(f)に示すような高アスペクト比形状の最終成形物35eを形成できる。
このナノインプリント形成方法によると、DNAの大きさを分別するナノピラーを形成したり、フォトニック結晶等の部品も作ったりすることが可能である。
なお、部品がナノ形状になるほど、スタンパ40と下プレスヘッド25との接触角度が重要になる。スタンパ40を力センサと3自由度以上の前記駆動モータ1を含む装置で保持することにより、スタンパ40を成形品に対して、いつも垂直にアライメントされながら、垂直に加圧することができる。具体的には、前記力センサによりモーメントを検出し、その検出したモーメントが最小になるように駆動モータ1を動かす。
また、この方法は、真空雰囲気にて、スタンパ40の凹部に注入する合成樹脂10の流動性を改善することもできる。あるいは、異物等の混入を防ぐと共に、圧力差が大きいために離形性も向上することができる。
また、駆動モータ1を用いてスタンパ40の姿勢制御を行った例を説明したが、この姿勢制御に関してはバネを用いて、その姿勢制御の差を吸収してもよい。4自由度以上を用いて、スタンパ40が所定の場所にくるように微調整回転機構を設けてもよい。このとき、スタンパ40を離形する際は、スタンパ40が成形品に対して、垂直に離形するように制御してもよい。また、スタンパ40に多大な過重がかかる場合には、スタンプ40をパラレルリンク機構で支持してもよい。
本実施の形態の離形プロセスにおいて、スタンパ40の凹部40a〜40eに離形材を塗布したのち、離形を実行するとより効果が高い。
なお、このナノインプリント形成方法によって製作した成形物の形状的な特徴としては、アスペクト比が2以上である点に加えて、被成形物の凸形状の途中の継ぎ目部分(合成樹脂の注入を一旦止めた個所)において硬化した合成樹脂の不均一個所を有している。
(実施の形態2)
(実施の形態1)では、合成樹脂10として熱可塑性合成樹脂を使用し、硬化させる際に、対向するスタンパ40に温度差を設けて、高アスペクト比の形状を実現したが、この(実施の形態2)では、合成樹脂10として光硬化性の合成樹脂を利用して目的形状の最終成形物35eを作っている。形状作成方法に関するステップは(実施の形態1)とほぼ同じであるが、ステップS1,ステップS4において、合成樹脂10を硬化させる場合に光を用いることを特徴とする。
具体的には、スタンパ40の全体を光を通す材料で製作し、側面からスタンパ40の先端付近にだけ光を照射して合成樹脂10を硬化させ、次の離形ステップに移る。
または、図5に示すようにスタンパ40の下側モールド50のみに光を通す材料を選択し、側面から光55を照射することにより合成樹脂10を硬化させ、次の離形ステップに移るように構成することもできる。
(実施の形態3)
図6と図7は本発明の(実施の形態3)を示す。
上記の各実施の形態では同一の高さの柱形状からなる最終成形物35eを作るプロセスについて述べたが、この(実施の形態3)では、図6に示したように複数の開閉バルブ30a〜30eを用いることにより任意の3次元形状を作っている。
具体的には、上プレスヘッド20の内部の吐出口20b〜20fには、それぞれ独立した供給路21a〜21eを介して合成樹脂10が供給されており、各供給路21a〜21eの入口には別々に開閉バルブ30a〜30eが設けられている。
この図6に示した造形加工装置の運転制御部は、被成形物の凸部の高さが目的高さの柱形状になるまでの繰り返し工程の途中で、開閉バルブ30a〜30eを制御して高さが異なる柱形状の成形物を形成するように構成されている。具体的には、合成樹脂10を注入して離形させる工程において、低い形状を作るときには、その供給路に設けられている開閉バルブを閉じ、高くしたいものに関しては、その供給路に設けられている開閉バルブを開けながら、合成樹脂10の注入を継続していく。開閉バルブ30a〜30eの具体例としては、圧電素子、静電気を利用した素子その他開閉機能のあるもの、あるいは、表面張力等を利用してバルブにしたもの等によって実現できる。
図6に仮想線で示した最終成形物35eのように、スタンパ40の凹部40a,40c,40eによって形成される柱状部36a,36c,36eに比べて低い柱状部36b,36dを形成する場合には、柱状部36b,36dと同じ高さになるまでは、(実施の形態1)における図3に示すように開閉バルブ30a〜30eを同期して開閉してステップS1,ステップS2〜ステップS4のルーチンを複数回に経って実行する。柱状部36b,36dが目的の高さになると、それ以後の合成樹脂10の注入の際には図7(c)に示すように開閉バルブ30b,30dを閉塞して実行して柱状部36a,36c,36eの残りの部分だけを継ぎ足して行く。
本実施の形態の離形プロセスにおいて、スタンパ40の凹部40a〜40eに離形材を塗布したのち、離形を実行するとより効果が高い。
本実施の形態の最終成形物35e(被成形物)の柱状形状(ナノピラー)のサイズは、DNA用の場合、柱径が100nm〜500nm、その高さが1000nm〜5000nmであり、血液用の場合、柱径が10〜50μm、その高さが100〜500μmの形状である。
従って、被成形物に柱径が0.1〜50μmで高さが1〜500μmの柱状形状(ナノピラー)を成形することが可能となる。つまり、被成形物の柱状形状(ナノピラー)の柱径(直径)と柱高さの比率(アスペクト比)は、“2”から“50”である。
また、この方法は、真空雰囲気にて、スタンパの凹部に注入する合成樹脂10の流動性を改善してもいいし、また、3自由度以上の自由度を持つモータでスタンパと基板の接触面を均一になるように制御してもいい。
本発明では、駆動モータ1を用いてスタンパ40の姿勢制御を行った例を説明したが、この姿勢制御に関してはバネを用いて、その姿勢制御の差を吸収してもよい。4自由度以上を用いて、スタンパ40が所定の場所にくるように微調整回転機構を設けてもよい。
また、合成樹脂10として熱可塑性合成樹脂を使用した場合には(実施の形態1)と同じように対向するスタンパ40に温度差を設けて硬化させることができる。合成樹脂10として光硬化性の合成樹脂を使用した場合には(実施の形態2)と同じように合成樹脂への照射光を制御して硬化させて最終成形物35eを作ることができる。
なお、上記の各実施の形態では、合成樹脂の注入し、合成樹脂を硬化させ、スタンパ40の引き上げによる離形の複数回の繰り返しとして説明したが、離形の際などにはスタンパ40に対して下プレスヘッド25を下降させて成形物3を離形させてもよく、スタンパと被成形物を相対移動させながら離形させる。また、合成樹脂の注入と合成樹脂を硬化は、1回の注入が終了してから注入を止めて硬化させる場合だけでなく、合成樹脂を硬化させながらスタンパと被成形物を相対移動させて離形させ、この離形の際にスタンパの凹部に合成樹脂を再注入して、連続的に被成形物に凸形状を継ぎ足し、これを被成形物の凸部の高さが目的高さの柱形状になるまで繰り返し実行することによっても同様に実現できる。このように連続的に離形と合成樹脂の注入とを実施した場合には、(実施の形態1)のナノインプリント形成方法によって製作した成形物のような硬化した合成樹脂の不均一個所を低減できる。
DNAの大きさを分別するナノピラーを形成したり、フォトニック結晶等の部品を作成することができる。
本発明の(実施の形態1)のナノインプリント形成方法の実施に使用する造形加工装置の要部断面図 同実施の形態の高アスペクト比形状形成フローチャート 同実施の形態の高アスペクト比形成プロセス工程図 同実施の形態のステップS2の拡大図 本発明の(実施の形態2)のナノインプリント形成方法の実施に使用する別の造形加工装置の断面図 本発明の(実施の形態3)のナノインプリント形成方法の実施に使用する造形加工装置の要部断面図 本発明の(実施の形態3)の3次元形状形成プロセス工程図
符号の説明
1 駆動モータ
10 合成樹脂
15 圧力計
20 上プレスヘッド
20a〜20f 吐出口
25 下プレスヘッド
30,30a〜30e 開閉バルブ
35 第一の成形品
35b 第一の成形品の凸型形状の頂点
35e 最終成形物
36a〜36e 最終成形物の柱状部
40 スタンパ
40a〜40e スタンパの凹部
40f スタンパの凹型形状の頂点
45 第2の成形品
50 スタンパの下側モールド
55 光

Claims (10)

  1. 柱形状を有する成形物を形成するに際し、
    スタンパの凹部に合成樹脂を注入して被成形物に凸形状を形成する第1工程と、
    前記第1工程の後、前記スタンパの凹部の側面と前記被成形物の凸形状の側面の一部が重なる位置まで前記スタンパと被成形物を相対移動させる第2工程と、
    前記第2工程の後、前記スタンパの凹部に合成樹脂を再注入して被成形物に凸形状を継ぎ足す第3工程と
    を、被成形物の前記凸部の高さが目的高さの柱形状になるまで繰り返し実行することを特徴とする
    ナノインプリント形成方法。
  2. 柱形状を有する成形物を形成するに際し、
    スタンパの凹部に合成樹脂を注入して硬化させながら、前記スタンパと被成形物を相対移動させるとともに前記スタンパの凹部に合成樹脂を再注入して被成形物に凸形状を継ぎ足す工程を、被成形物の前記凸部の高さが目的高さの柱形状になるまで繰り返し実行することを特徴とする
    ナノインプリント形成方法。
  3. 前記スタンパの凹部に注入した合成樹脂を温度制御または合成樹脂への照射光を制御して硬化させることを特徴とする
    請求項1または請求項2に記載のナノインプリント形成方法。
  4. 前記スタンパとして複数の凹部を有したものを使用し、被成形物の前記凸部の高さが目的高さの柱形状になるまでの繰り返し工程の途中では、前記凹部の一部の凹部への合成樹脂注入を終了して高さが異なる柱形状の成形物を形成する
    請求項1または請求項2に記載のナノインプリント形成方法。
  5. 前記スタンパの凹部に離形材を配置して合成樹脂の注入と離形を実行する
    請求項1または請求項2に記載のナノインプリント形成方法。
  6. 真空雰囲気中で合成樹脂の注入と離形を実行する
    請求項1または請求項2に記載のナノインプリント形成方法。
  7. 前記スタンパは、3自由度以上の駆動手段により移動することを特徴とする
    請求項1または請求項2に記載のナノインプリント形成方法。
  8. 請求項1から請求項7の何れかに記載のナノインプリント形成方法によって製作したことを特徴とする成形物。
  9. 請求項8記載の成形物において、アスペクト比が2以上になっていることを特徴とする成形物。
  10. 請求項1に記載のナノインプリント形成方法によって製作した成形物であって、
    アスペクト比が2以上で、かつ被成形物の凸形状の途中の継ぎ目部分において合成樹脂の不均一個所を有していることを特徴とする成形物。
JP2005144800A 2005-05-18 2005-05-18 ナノインプリント形成方法およびその成形物 Pending JP2006320986A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005144800A JP2006320986A (ja) 2005-05-18 2005-05-18 ナノインプリント形成方法およびその成形物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005144800A JP2006320986A (ja) 2005-05-18 2005-05-18 ナノインプリント形成方法およびその成形物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006320986A true JP2006320986A (ja) 2006-11-30

Family

ID=37541022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005144800A Pending JP2006320986A (ja) 2005-05-18 2005-05-18 ナノインプリント形成方法およびその成形物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006320986A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014517779A (ja) * 2011-05-06 2014-07-24 スネクマ 複合材料製の部品の射出成形方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014517779A (ja) * 2011-05-06 2014-07-24 スネクマ 複合材料製の部品の射出成形方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11787138B2 (en) Methods and apparatuses for casting polymer products
KR101502257B1 (ko) 미세구조체의 제조방법
Lucchetta et al. Investigating the technological limits of micro-injection molding in replicating high aspect ratio micro-structured surfaces
JP6720198B2 (ja) 別個の基板をテクスチャリングするための方法
Worgull et al. New aspects of simulation in hot embossing
CN101088738A (zh) 用于注射成型的开环压力控制
Jiang et al. Lateral flow through a parallel gap driven by surface hydrophilicity and liquid edge pinning for creating microlens array
CA2143901A1 (en) Process and apparatus for the production of optical lenses
US20130147096A1 (en) Imprinting Stamp And Nano-Imprinting Method Using The Same
CN107783370A (zh) 具厚度变化的可挠式模仁
JP2006320986A (ja) ナノインプリント形成方法およびその成形物
US20180217494A1 (en) Method for making an epoxy resin mold from a lithography patterned microstructure master
TW201524733A (zh) 具有移動部件之鑄模工具
JP4699492B2 (ja) 成形体の製造装置および製造方法
Miyauchi et al. Large-area nanoimprint and application to cell cultivation
Chen et al. Mold temperature variation for assisting micro-molding of DVD micro-featured substrate and dummy using pulsed cooling
JP7335978B2 (ja) インプリント装置およびインプリント方法
Jeong et al. Roll-to-flat texturing system with infrared preheating for manufacturing a microfluidic device
Yang et al. Microfluidic platforms with nanoscale features
KR101976636B1 (ko) 광경화성 3d 프린터 및 제품 성형방법
Rodgers et al. Effect of micro-injection molding processing conditions on the replication and consistency of a dense network of high aspect ratio microstructures
JP3729351B2 (ja) 表層に微細構造体を有する成形体の成形方法および成形装置
JP4786085B2 (ja) 微小部品の成形用装置及び微小部品の成形方法
TWI519398B (zh) 製鏡系統及鏡片的製備方法
Tsoutsa et al. Direct laser biofabrication of scaffolds for neural tissue engineering