JP2006313612A - Optical recording medium - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium capable of obtaining satisfactory recording and reproducing characteristics in use of high speed recording. <P>SOLUTION: In the optical recording medium having a reflection layer, a recording layer containing a dye and a transparent resin layer in this order on a substrate, a barrier layer is provided between the recording layer and the resin layer, a material used for the barrier layer has ≥70 W/(m K) heat conductivity M at 300 K as bulk and the barrier layer has <5 nm film thickness t. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、高速記録で良好な記録再生特性が得られる光記録媒体に関する。   The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an optical recording medium capable of obtaining good recording / reproduction characteristics at high speed recording.

近年、DVD−RW、DVD−R等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶し、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータ等の情報処理装置における外部記憶装置として広く認知されている。例えば、有機色素含有記録層を有する代表的なDVD−R等は、透明ディスク基板上に色素記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザー光にて記録・再生が行なわれる。また、これら光記録媒体の記録容量を更に大容量化するために、1枚の媒体に複数の記録層を設けた多層型光記録媒体が開発され、例えば、ディスク状の透明な第1の基板上に、紫外線硬化性樹脂からなる中間層を挟んで2個の色素記録層を有する2層型光記録媒体が報告されている。   In recent years, various optical recording media such as DVD-RW and DVD-R are widely recognized as external storage devices in information processing apparatuses such as computers because they store large amounts of information and are easily accessible at random. . For example, a typical DVD-R having an organic dye-containing recording layer has a dye recording layer and a reflective layer in this order on a transparent disk substrate, and a laminate having a protective layer covering these recording layers and the reflective layer. The structure is such that recording and reproduction are performed with a laser beam through the substrate. In order to further increase the recording capacity of these optical recording media, a multilayer optical recording medium in which a plurality of recording layers are provided on one medium has been developed. For example, a disk-shaped transparent first substrate is developed. On top of this, a two-layer type optical recording medium having two dye recording layers with an intermediate layer made of an ultraviolet curable resin interposed therebetween has been reported.

このような2層型光記録媒体は、透明スタンパを用いる2P(Photo Polymerization)法と、記録層及び反射層を積層したディスク基板を2枚形成し、光硬化性樹脂層を介して貼着する方法とが知られている。何れの場合も、レーザー光の入射面に最も奥にあたる基板上に、反射層、色素を含む記録層(以下で、記録層(1)又は第2層目の記録層ともいう。)が、かかる順に積層されている。   Such a two-layer optical recording medium is formed by forming two disk substrates on which a 2P (Photo Polymerization) method using a transparent stamper and a recording layer and a reflective layer are laminated, and pasting them through a photo-curable resin layer. The method is known. In either case, a reflective layer and a recording layer containing a dye (hereinafter, also referred to as a recording layer (1) or a second recording layer) are formed on a substrate that is deepest in the laser light incident surface. They are stacked in order.

そのうち、記録層及び反射層を積層したディスク基板を2枚貼着する方法では、記録トラック用の案内溝が形成された基板上に記録層と反射層とをこの順に積層した(以下、この様な積層体或いは積層構造を、溝が形成されている透明樹脂層を基板にみたてて、「正積層体」或いは「正積層構造」ということがある。)第1のディスク基板と、上記と同様の基板上に反射層と記録層とをこの順に積層した(以下、この様な積層体或いは積層構造を、「逆積層体」或いは「逆積層構造」ということがある。)第2のディスク基板とを形成し、それぞれのディスク基板に光硬化性樹脂を塗布した後、この塗布面同士を合わせて光硬化性樹脂を硬化させることにより製造する。2個の記録層には、第1のディスク基板側から入射する記録再生光を用いて光情報が記録・再生される。このようなディスク基板を2枚貼着する方法は、2P法のように、透明スタンパの凹凸形状を転写する工程が不要であり、生産性に優れ、低コスト化が図れると考えられる。   Among them, in the method of attaching two disk substrates on which a recording layer and a reflective layer are laminated, the recording layer and the reflective layer are laminated in this order on a substrate on which a guide groove for a recording track is formed (hereinafter referred to as such). Such a laminated body or laminated structure may be referred to as a “regular laminated body” or a “regular laminated structure” when the transparent resin layer in which the grooves are formed is viewed on the substrate.) The first disk substrate and the above A second disk in which a reflective layer and a recording layer are laminated in this order on a similar substrate (hereinafter, such a laminated body or laminated structure may be referred to as “reverse laminated body” or “reverse laminated structure”). A substrate is formed, a photocurable resin is applied to each disk substrate, and then the coated surfaces are put together to cure the photocurable resin. Optical information is recorded / reproduced on the two recording layers using recording / reproducing light incident from the first disk substrate side. Such a method of adhering two disc substrates does not require a step of transferring the uneven shape of the transparent stamper as in the 2P method, and is considered to be excellent in productivity and cost reduction.

上記逆積層構成においては、記録層と光硬化性樹脂との間に「バリア層」と呼ばれる層を設けることが知られている(特許文献1、2参照)。   In the reverse laminated structure, it is known to provide a layer called “barrier layer” between the recording layer and the photocurable resin (see Patent Documents 1 and 2).

特開2000−311384号公報(段落[0052]、[0053]、実施例2)JP 2000-31384 A (paragraphs [0052] and [0053], Example 2) 特開2002−373451号公報(段落[0034]、[0035]、実施例)JP 2002-373451 A (paragraphs [0034] and [0035], Examples)

そもそも有機色素を含有する記録層を備えた光記録媒体においては、高速記録用途におけるクロストークの発生をより抑制したいという課題がある。本発明者らの検討によれば、これは、有機色素の熱伝導率が、他の公知の無機系記録媒体(例えばDVD−RW)の記録層の熱伝導率よりもはるかに小さいことに主に起因するものである。   In the first place, in an optical recording medium provided with a recording layer containing an organic dye, there is a problem that it is desired to further suppress the occurrence of crosstalk in high-speed recording applications. According to the study by the present inventors, this is mainly because the thermal conductivity of the organic dye is much smaller than the thermal conductivity of the recording layer of other known inorganic recording media (for example, DVD-RW). This is due to

即ち、有機色素を含有する記録層においては、通常、集光された記録用レーザー光を吸収した色素が分解し光学定数が変化したり、その部分の膜厚が減少すると共に圧力が高まり、高温に曝された記録層周辺が変化するなどして記録部が形成される。この場合、熱拡散、特に記録層面内方向の放熱が起こりにくいために、記録部が隣接トラック部に拡大する傾向がある、また、複数トラックに記録が行なわれるとクロストークが増大する傾向がある。これらの傾向により、良好なジッター(jitter)が得られにくくなるという現象が生じると考えられる。   That is, in a recording layer containing an organic dye, the dye that has absorbed the condensed recording laser beam is usually decomposed to change the optical constant, or the thickness of the portion decreases, the pressure increases, and the temperature increases. The recording portion is formed, for example, when the periphery of the recording layer exposed to is changed. In this case, since heat diffusion, particularly heat radiation in the in-plane direction of the recording layer is unlikely to occur, the recording portion tends to expand to the adjacent track portion, and crosstalk tends to increase when recording is performed on a plurality of tracks. . These tendencies may cause a phenomenon that it is difficult to obtain good jitter.

更に、高速記録の場合、記録パルスが短小化するため、低速記録の場合より高パワーの記録用レーザー光を用いて色素を分解する必要がある。その結果、記録層が低速記録の場合より高温にさらされるため、クロストークの増大が顕著となりやすい。   Furthermore, since the recording pulse is shortened in the case of high-speed recording, it is necessary to decompose the dye using a recording laser beam having a higher power than in the case of low-speed recording. As a result, since the recording layer is exposed to a higher temperature than in the case of low speed recording, the increase in crosstalk tends to be remarkable.

このようなクロストークの発生は、前述の2P法による2層型光記録媒体にも見られる場合があるが、特に、2枚のディスク基板を貼着する方法により形成される2層型光記録媒体において、記録再生光の入射面から奥側に位置する記録層(これを以下「第2層目の記録層」という場合がある。)において顕著に見られる。前述したように、2枚のディスク基板を貼着する方法により形成される2層型光記録媒体の第2層目の記録層は、基板上に反射層と記録層とを積層した逆積層体に設けられている。このような逆積層体において、基板の溝間部に光情報を記録する場合は、記録変調度を確保するために、溝間部の記録層の膜厚を厚くする必要がある。その場合、記録部の隣接トラックは基板の溝部であるために、溝間部よりも記録層膜厚が厚くなりやすい。このために、溝部の記録層膜厚が厚くなる分、記録マークが横に広がり、クロストークが増大しやすくなる。このような溝部と溝間部との記録膜厚の差は、有機色素溶液を塗布する場合に発生しやすい。   The occurrence of such crosstalk may also be seen in the above-described two-layer optical recording medium by the 2P method. In particular, the two-layer optical recording formed by a method in which two disk substrates are attached. In the medium, it is noticeable in a recording layer (hereinafter sometimes referred to as “second recording layer”) located on the back side from the incident surface of the recording / reproducing light. As described above, the second recording layer of the two-layer optical recording medium formed by the method of adhering two disc substrates is an inverse laminate in which a reflective layer and a recording layer are laminated on a substrate. Is provided. In such a reverse laminate, when optical information is recorded in the inter-groove portion of the substrate, it is necessary to increase the thickness of the recording layer in the inter-groove portion in order to ensure the recording modulation degree. In this case, since the adjacent track of the recording portion is a groove portion of the substrate, the recording layer thickness is likely to be thicker than that between the grooves. For this reason, as the recording layer film thickness of the groove portion increases, the recording mark spreads laterally and crosstalk tends to increase. Such a difference in recording film thickness between the groove and the groove is likely to occur when an organic dye solution is applied.

また、2層型光記録媒体における記録再生光の入射面から奥側に設けた第2のディスク基板は、記録再生光の反射率を確保するために、案内溝の深さが従来よりも浅く設定されている。このため、案内溝の物理的障壁効果が小さくなり、記録時に基板の樹脂の流動変形等による過度の変形が生じやすく、クロストークが増大しやすい。   Further, the second disk substrate provided on the back side from the recording / reproducing light incident surface in the two-layer type optical recording medium has a guide groove shallower than the conventional one in order to ensure the reflectance of the recording / reproducing light. Is set. For this reason, the physical barrier effect of the guide groove is reduced, excessive deformation due to flow deformation of the resin of the substrate during recording is likely to occur, and crosstalk is likely to increase.

本発明は、このような課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる逆積層構成を含む光記録媒体を提供することにある。
更に、本発明のもう一つの目的は、2層型光記録媒体において、高速記録に特に優れた第2層目の記録層を有する光記録媒体を提供することにある。
The present invention has been made to solve such problems.
That is, an object of the present invention is to provide an optical recording medium including an inversely laminated structure that can obtain good recording / reproducing characteristics in high-speed recording applications.
Furthermore, another object of the present invention is to provide an optical recording medium having a second recording layer that is particularly excellent in high-speed recording in a two-layer optical recording medium.

本発明者らは鋭意検討の結果、記録層と透明樹脂層との間に設けられるバリア層を、バルクとしての熱伝導率が高い材料によって形成するとともに、その膜厚を非常に薄くすることにより、上記課題が効果的に解決されることを見出した。
また、2層型光記録媒体における第2層目の記録層に、高速記録に特に優れた特定の色素を含ませることにより、第2層目の記録層に要求される種々の課題を解決しうる事、更に、十分な耐光性を維持することができる事を見出し、本発明に到達した。
As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have formed a barrier layer provided between the recording layer and the transparent resin layer with a material having a high thermal conductivity as a bulk and making the film thickness very thin. The present inventors have found that the above problems can be effectively solved.
In addition, the second recording layer of the two-layer optical recording medium contains a specific dye that is particularly excellent for high-speed recording, thereby solving various problems required for the second recording layer. Further, the inventors have found that sufficient light resistance can be maintained, and have reached the present invention.

即ち、本発明の要旨は、基板上に、反射層、色素を含む記録層、透明樹脂層を、この順で有する光記録媒体であって、前記記録層と前記樹脂層との間にバリア層を設けるとともに、前記バリア層に用いる材料のバルクとしての300Kでの熱伝導率Mが70W/m・K以上であり、前記バリア層の膜厚tが5nmより小さいことを特徴とする、光記録媒体に存する(請求項1)。   That is, the gist of the present invention is an optical recording medium having a reflective layer, a recording layer containing a dye, and a transparent resin layer in this order on a substrate, and a barrier layer between the recording layer and the resin layer. The thermal conductivity M at 300 K as a bulk of the material used for the barrier layer is 70 W / m · K or more, and the thickness t of the barrier layer is smaller than 5 nm. It exists in a medium (Claim 1).

更に、本発明のもう一つの要旨は、第1の基板上に、第1の反射層、色素を含む第1の記録層、透明樹脂層、色素を含む第2の反射層、第2の記録層、及び第2の基板を、この順に有する光記録媒体であって、前記第1の記録層(第2層目の記録層)が、色素として、下記一般式(1)で表わされるアゾ系化合物とZn金属イオンとからなる含金属アゾ色素を少なくとも含有することを特徴とする、光記録媒体に存する(請求項7)。

Figure 2006313612
(一般式(1)中、
1は、水素原子又はCO23で示されるエステル基(ここで、R3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。)を表わす。
2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
1及びX2のうち、少なくとも何れか一方はNHSO2Y基(ここで、Yは、少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。)を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
4及びR5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
6、R7、R8及びR9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数1若しくは2のアルキル基を表わす。
尚、前記NHSO2Y基からH+が脱離してNSO2-(陰性)基となり、上記一般式(1)で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。) Furthermore, another gist of the present invention is that a first reflective layer, a first recording layer containing a dye, a transparent resin layer, a second reflective layer containing a dye, and a second recording are formed on a first substrate. An optical recording medium having a layer and a second substrate in this order, wherein the first recording layer (second recording layer) is represented by the following general formula (1) as a dye: An optical recording medium comprising at least a metal-containing azo dye comprising a compound and a Zn metal ion (claim 7).
Figure 2006313612
(In general formula (1),
R 1 represents a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 (wherein R 3 represents a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group).
R 2 represents a linear or branched alkyl group.
At least one of X 1 and X 2 represents an NHSO 2 Y group (where Y represents a linear or branched alkyl group substituted with at least two fluorine atoms), and the rest Represents a hydrogen atom.
R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a linear or branched alkoxy group.
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.
Note that H + is eliminated from the NHSO 2 Y group to become an NSO 2 Y (negative) group, and the azo compound represented by the general formula (1) forms a coordinate bond with the metal ion. )

なお、上記の本発明のもう一つの要旨においては、前記透明樹脂層としては、前記2P法により中間層に案内溝を形成した2層型光記録媒体における、案内溝を有する中間層(これを以下「2P層」という場合がある。)も含むものとする。   In another aspect of the present invention described above, the transparent resin layer may be an intermediate layer having guide grooves in a two-layer optical recording medium in which guide grooves are formed in the intermediate layer by the 2P method. Hereinafter also referred to as “2P layer”).

かくして本発明によれば、高密度、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる光記録媒体が得られる。   Thus, according to the present invention, it is possible to obtain an optical recording medium capable of obtaining good recording / reproducing characteristics in high-density and high-speed recording applications.

以下、本発明を実施するための最良の形態(適宜「発明の実施の形態」と略称する。)について説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (abbreviated as “embodiment of the invention” as appropriate) will be described. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention.

[本発明の基本概念1]
本発明の第1の光記録媒体は、その基本的な構成として、基板上に反射層、色素を含む記録層、及び透明樹脂層をこの順で有する。更に、前記記録層と前記樹脂層との間には、必要に応じてバリア層が設けられる。
[Basic concept 1 of the present invention]
The basic structure of the first optical recording medium of the present invention includes a reflective layer, a recording layer containing a dye, and a transparent resin layer in this order on a substrate. Furthermore, a barrier layer is provided between the recording layer and the resin layer as necessary.

そして、本発明では、前記バリア層に高熱伝導率の材料を用いることを特徴の一つとする。このようにバリア層に高熱伝導率の材料を用いることにより、逆積層体の記録層の記録時の熱を放熱させて、記録時の過度の変形などを抑制し、クロストークを低減することが可能となる。   One feature of the present invention is that a material having high thermal conductivity is used for the barrier layer. By using a material having a high thermal conductivity for the barrier layer in this way, it is possible to dissipate heat during recording of the recording layer of the reverse laminate, suppress excessive deformation during recording, and reduce crosstalk. It becomes possible.

更に、本発明では、前記バリア層の膜厚を5nmより薄くすることにもう一つの特徴がある。このように膜厚を薄くすることにより、消衰係数が大きい金属膜や合金膜をバリア層としても、記録光の減衰を抑制し、逆積層構成の記録感度を低下させることなく、良好な記録特性を得ることが可能となる。また、後述のように、良好な記録エッジ部を形成することも可能となると考えられる。   Furthermore, the present invention has another feature in that the thickness of the barrier layer is made thinner than 5 nm. By reducing the film thickness in this way, even if a metal film or alloy film having a large extinction coefficient is used as a barrier layer, it is possible to suppress the attenuation of the recording light, and to reduce the recording sensitivity of the reverse stacking configuration, thereby achieving good recording It becomes possible to obtain characteristics. In addition, as will be described later, it is considered possible to form a good recording edge portion.

本発明におけるクロストーク低減の効果は、逆積層体に用いる基板の溝形状、特に、溝深さを、通常の正積層或いは第2のディスク基板の溝深さのおよそ1/5以下にした場合に顕著に発揮される。つまり、ディスク反射率を確保し、記録感度の低下を抑制するために、逆積層体の基板の溝を浅く設けた場合に本発明の効果が顕著に発揮される。   The effect of reducing the crosstalk in the present invention is that the groove shape of the substrate used in the reverse laminated body, in particular, the groove depth is about 1/5 or less of the groove depth of the normal forward lamination or the second disk substrate. It is remarkably demonstrated. That is, the effects of the present invention are remarkably exhibited when the grooves of the substrate of the reverse laminated body are provided shallow in order to ensure the disk reflectivity and suppress the decrease in recording sensitivity.

なぜなら、溝深さが浅い場合には、基板の溝の壁による物理的な障壁、即ち、色素や流動した記録時の基板の樹脂などの物質移動の障壁効果が得られにくくなるため、記録時の記録部の過度の変形の発生などにより、クロストークが非常に大きくなってしまうという課題が生じうるからである。従って、本発明は、従来よりも浅い溝を有する基板を用いた逆積層体において適用されることが好ましい。   This is because when the groove depth is shallow, it becomes difficult to obtain a physical barrier due to the groove wall of the substrate, that is, a barrier effect of mass transfer such as dye or a resin of the substrate that has flowed during recording. This is because there is a problem that the crosstalk becomes very large due to excessive deformation of the recording portion. Therefore, it is preferable that the present invention is applied to a reverse laminated body using a substrate having a shallower groove than the conventional one.

尚、かかるバリア層の熱伝導率と記録特性との関係は、後述の〔実験例1〕の図2からも裏付けられる。ここで、複数トラックに記録をし、隣接する両側のトラックに記録された信号を再生したときのジッターを、MT(%)と称する。また、隣接するトラックに記録がない状態で、1つのトラックのみに記録した部分を再生し得られるジッターを、ST(%)と称する。MT(%)にはクロストークの影響が含まれるのに対し、ST(%)にはクロストークの影響は含まれない。   The relationship between the thermal conductivity of the barrier layer and the recording characteristics is supported by FIG. 2 of [Experimental Example 1] described later. Here, jitter when a plurality of tracks are recorded and signals recorded on adjacent tracks are reproduced is referred to as MT (%). In addition, jitter that can be reproduced by recording a portion recorded in only one track in a state where there is no recording in an adjacent track is referred to as ST (%). MT (%) includes the influence of crosstalk, whereas ST (%) does not include the influence of crosstalk.

そして、Δjitterは、前記MT(%)とST(%)との差の値であり、この値が大きいほど、クロストークが大きいということを意味する。このΔjitterの値は、2%以下が好ましい。Δjitterが2%を超える場合には、例えばST(%)が7%と良好であっても、MT(%)が9%を超えることになるので好ましくないからである。   Δjitter is a difference value between the MT (%) and the ST (%), and the larger the value, the greater the crosstalk. The value of Δjitter is preferably 2% or less. If Δjitter exceeds 2%, for example, even if ST (%) is as good as 7%, MT (%) exceeds 9%, which is not preferable.

以上を踏まえて図2を見ると、実施例においては熱伝導率が70W/m・K以上で2%を下回り、良好な特性が得られることがわかる。   When FIG. 2 is seen based on the above, in an Example, it turns out that thermal conductivity is less than 2% at 70 W / m * K or more, and a favorable characteristic is acquired.

一方、バリア層の膜厚は、後述の〔実験例2〕の表3から裏付けられるように、高熱伝導率のバリア層においては、5nmを境に、ジッターの改善が困難であることがわかる。これは、膜厚が厚くなることにより、記録光の強度が減衰し、記録感度が悪くなることが原因の一つと考えられる。また、膜厚が厚くなることによる膜のモルフォロジーの変化が悪化と関係していることも考えられる。この膜のモルフォロジーは、スパッタの成膜条件や膜の組成などにより、ある程度調整することが可能である。   On the other hand, as can be seen from Table 3 of [Experimental Example 2] described later, it can be seen that it is difficult to improve jitter at a barrier layer with a high thermal conductivity at a boundary of 5 nm. This is considered to be one of the causes that the recording light intensity is attenuated and the recording sensitivity is deteriorated as the film thickness is increased. It is also conceivable that a change in film morphology due to an increase in film thickness is related to deterioration. The film morphology can be adjusted to some extent by the film formation conditions of the sputtering, the film composition, and the like.

更に、本発明の光記録媒体は、上述の基本的な構成において、逆積層体と接する透明樹脂層の、逆積層体側とは反対側に、第2の反射層と第2の記録層と透明基板とを順番に更に設けることにより、多層型の光記録媒体に展開することができる。   Furthermore, in the optical recording medium of the present invention, in the above-described basic configuration, the second reflective layer, the second recording layer, and the transparent resin layer on the side opposite to the reverse laminate side of the transparent resin layer in contact with the reverse laminate are transparent. By further providing a substrate in order, it can be developed into a multilayer optical recording medium.

[第1の実施形態]
図1(a)は、本発明の第1の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。図1(a)には、透明基板上に反射層及び記録層を積層したディスク基板(逆積層体11)と、透明基板上に記録層及び反射層を順次積層したディスク基板(正積層体12)とを有する2層型の光記録媒体100が示されている。
[First Embodiment]
FIG. 1A is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an optical recording medium according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1A shows a disk substrate (reverse laminate 11) in which a reflective layer and a recording layer are laminated on a transparent substrate, and a disk substrate (normal laminate 12) in which a recording layer and a reflective layer are sequentially laminated on a transparent substrate. ) Is shown.

図1(a)に示すように、光記録媒体100は、逆積層体11として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板(1)101と、この基板(1)101のレーザー光110の入射面側に設けられた反射層(1)102と、色素を含む記録層(1)103と、バリア層104とを有する。また、正積層体12として、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の基板(2)109と、基板(2)109上に設けられた色素を含む記録層(2)108と、基板(2)109側から入射したレーザー光110のパワーを振り分ける半透明の反射層(2)107と、反射層(2)107上に設けられた保護コート層106とを有する。そして、これらの逆積層体11と正積層体12とは、バリア層104と保護コート層106とが対向するように、透明樹脂層105を介して積層され、2層型の光記録媒体100を構成している。また、記録層(1)103及び記録層(2)108において、正積層体12の基板(2)109側から入射したレーザー光110により、光情報の記録再生が行なわれる。   As shown in FIG. 1A, an optical recording medium 100 includes a disc-shaped light transmissive substrate (1) 101 in which grooves and lands or prepits are formed as an inverse laminate 11, and the substrate (1). 101 includes a reflection layer (1) 102 provided on the incident surface side of the laser beam 110, a recording layer (1) 103 containing a dye, and a barrier layer 104. Further, as the regular laminate 12, a disc-shaped light-transmitting substrate (2) 109 in which grooves and lands or prepits are formed, and a recording layer (2) 108 containing a dye provided on the substrate (2) 109. And a translucent reflective layer (2) 107 for distributing the power of the laser beam 110 incident from the substrate (2) 109 side, and a protective coating layer 106 provided on the reflective layer (2) 107. The reverse laminate 11 and the regular laminate 12 are laminated via a transparent resin layer 105 so that the barrier layer 104 and the protective coat layer 106 face each other, and the two-layer optical recording medium 100 is formed. It is composed. In the recording layer (1) 103 and the recording layer (2) 108, optical information is recorded / reproduced by the laser light 110 incident from the substrate (2) 109 side of the positive laminate 12.

〔逆積層体〕
次に、逆積層体11の各層について説明する。逆積層体11は、上述の様に、基板(1)101と、基板(1)101上に積層された反射層(1)102、記録層(1)103及びバリア層104(以下、これらの反射層(1)102、記録層(1)103、及びバリア層104をまとめて「L1層」ということがある。)とから構成される。
[Reverse laminate]
Next, each layer of the reverse laminate 11 will be described. As described above, the inverse laminate 11 includes the substrate (1) 101, the reflective layer (1) 102, the recording layer (1) 103, and the barrier layer 104 (hereinafter referred to as these layers) laminated on the substrate (1) 101. The reflective layer (1) 102, the recording layer (1) 103, and the barrier layer 104 may be collectively referred to as “L1 layer”).

<基板(1)>
基板(1)101を構成する材料は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等光学特性に優れることが望ましい。また、射出成形が容易である等、成形性に優れることが望ましい。更に、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、光記録媒体100がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。このような材料としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、ガラス等が挙げられる。また、ガラス等の基体上に、光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。これらの中でも、光学特性、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点からはポリカーボネートが好ましい。また、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。
<Board (1)>
It is desirable that the material constituting the substrate (1) 101 is light transmissive and has excellent optical properties such as a low birefringence. Moreover, it is desirable that the moldability is excellent, such as easy injection molding. Furthermore, it is desirable that the hygroscopicity is small. Furthermore, it is desirable to provide shape stability so that the optical recording medium 100 has a certain degree of rigidity. Examples of such materials include, but are not limited to, acrylic resins, methacrylic resins, polycarbonate resins, polyolefin resins (particularly amorphous polyolefins), polyester resins, polystyrene resins, epoxy resins, and glass. It is done. Moreover, what provided the resin layer which consists of radiation curable resins, such as photocurable resin, on base | substrates, such as glass, can be used. Among these, polycarbonate is preferable from the viewpoints of high productivity such as optical characteristics and moldability, cost, low hygroscopicity, and shape stability. Amorphous polyolefin is preferred from the standpoints of chemical resistance and low hygroscopicity. Moreover, a glass substrate is preferable from the viewpoint of high-speed response.

また、基板(1)101は、必ずしも光透過性が必要ではないので、機械的安定性を高め、剛性を大きくするために、適当な材料からなる裏打ちを設けることができる。このような材料としては、例えば、Alを主成分としたAl−Mg合金等のAl合金基板;Mgを主成分としたMg−Zn合金等のMg合金基板;シリコン、チタン、セラミックス、紙等の基板又はこれらの組み合わせが挙げられる。   Further, since the substrate (1) 101 does not necessarily need to be light transmissive, a backing made of an appropriate material can be provided in order to increase mechanical stability and increase rigidity. Examples of such a material include an Al alloy substrate such as an Al—Mg alloy containing Al as a main component; an Mg alloy substrate such as an Mg—Zn alloy containing Mg as a main component; silicon, titanium, ceramics, paper, etc. A substrate or a combination thereof may be mentioned.

逆積層体11を構成する基板(1)101の案内溝部の溝深さは、記録再生波長をλとして、通常λ/100以上、好ましくは2λ/100以上、更に好ましくは2.2λ/100以上である。例えば、記録再生光の波長(記録再生波長)がλ=660nmの場合、基板(1)101の溝深さは、通常6.6nm以上、好ましくは13nm以上、更に好ましくは14.5nm以上である。   The groove depth of the guide groove portion of the substrate (1) 101 constituting the reverse laminated body 11 is usually λ / 100 or more, preferably 2λ / 100 or more, more preferably 2.2λ / 100 or more, where λ is the recording / reproducing wavelength. It is. For example, when the wavelength of recording / reproducing light (recording / reproducing wavelength) is λ = 660 nm, the groove depth of the substrate (1) 101 is usually 6.6 nm or more, preferably 13 nm or more, more preferably 14.5 nm or more. .

また、逆積層体11における基板(1)101の溝深さの上限は、110nm以下とすることが好ましい。特に、本実施形態の光記録媒体100の場合、基板(2)109及び透明樹脂層105を介して記録層(1)103に入射するレーザー光110の光量及び反射光量は、記録層(2)108及び反射層(2)107により減衰され、反射率が低くなるために、7λ/100以下が好ましい溝深さの上限となる。例えば、記録再生波長をλ=660nmとすると、基板(1)101の溝深さは、46.2nm以下とするのが好ましい。より好ましくは6λ/100以下である。   Moreover, it is preferable that the upper limit of the groove depth of the substrate (1) 101 in the reverse laminated body 11 is 110 nm or less. In particular, in the case of the optical recording medium 100 of the present embodiment, the light amount and the reflected light amount of the laser light 110 incident on the recording layer (1) 103 via the substrate (2) 109 and the transparent resin layer 105 are the recording layer (2). Since it is attenuated by 108 and the reflective layer (2) 107 and the reflectance becomes low, 7λ / 100 or less is a preferable upper limit of the groove depth. For example, when the recording / reproducing wavelength is λ = 660 nm, the groove depth of the substrate (1) 101 is preferably 46.2 nm or less. More preferably, it is 6λ / 100 or less.

以上のように、逆積層体11における基板(1)の溝深さは、後述の正積層体12の構成における基板(2)の溝の深さよりも浅くすることが好ましく、具体的には、基板(2)の溝深さに対する割合で、通常1/3以下、好ましくは1/4以下、更に好ましくは1/5以下である。   As described above, the groove depth of the substrate (1) in the reverse laminate 11 is preferably shallower than the groove depth of the substrate (2) in the configuration of the positive laminate 12 described later. The ratio of the substrate (2) to the groove depth is usually 1/3 or less, preferably 1/4 or less, more preferably 1/5 or less.

逆積層体11における基板(1)101の溝幅は、トラックピッチをTとして、通常T/10以上、好ましくは2T/10以上、更に好ましくは3T/10以上である。但し、通常8T/10以下、好ましくは7T/10以下、更に好ましくは6T/10以下である。基板(1)101の溝幅がこの範囲であれば、トラッキングを良好に行なうことができ、十分な反射率を得ることができる。例えば、トラックピッチを740nmとすると、基板(1)101の溝幅は、通常74nm以上、好ましくは148nm以上、更に好ましくは222nm以上とする。また、基板(1)101の上限は、通常592nm以下、より好ましくは518nm以下、更に好ましくは444nm以下とする。なお、本明細書において、基板の「溝幅」とは、溝の最大深さの半分の深さにおける溝の幅、即ち半値幅のことを指すものとする。   The groove width of the substrate (1) 101 in the reverse laminated body 11 is usually T / 10 or more, preferably 2T / 10 or more, more preferably 3T / 10 or more, where T is the track pitch. However, it is usually 8T / 10 or less, preferably 7T / 10 or less, more preferably 6T / 10 or less. If the groove width of the substrate (1) 101 is within this range, tracking can be performed satisfactorily and sufficient reflectance can be obtained. For example, when the track pitch is 740 nm, the groove width of the substrate (1) 101 is usually 74 nm or more, preferably 148 nm or more, and more preferably 222 nm or more. Further, the upper limit of the substrate (1) 101 is usually 592 nm or less, more preferably 518 nm or less, and still more preferably 444 nm or less. In this specification, the “groove width” of the substrate refers to the width of the groove at half the maximum depth of the groove, that is, the half-value width.

基板(1)101はある程度厚いことが好ましく、基板(1)101の厚さは、通常0.3mm以上が好ましい。但し、通常3mm以下、好ましくは1.5mm以下である。   The substrate (1) 101 is preferably thick to some extent, and the thickness of the substrate (1) 101 is usually preferably 0.3 mm or more. However, it is usually 3 mm or less, preferably 1.5 mm or less.

<反射層(1)>
逆積層体11の反射層(1)102を構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Ni、Pt、Ta、Pd、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、希土類金属等の金属及び半金属のうち何れか一種を単独で、又は何れか二種以上を合金にして用いることが可能である。これらの中でも、Au、Al、Agが好ましく、特に、Agを50%以上含有する金属材料はコストが安い点、反射率が高い点から好ましい。
<Reflective layer (1)>
The material constituting the reflective layer (1) 102 of the reverse laminate 11 is not particularly limited. For example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Ni, Pt, Ta, Pd, Mg, Se, Hf, V Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, rare earth metals and other metals and metalloids Any one of them can be used alone, or any two or more of them can be used as an alloy. Among these, Au, Al, and Ag are preferable, and a metal material containing 50% or more of Ag is particularly preferable from the viewpoint of low cost and high reflectance.

中でも、反射層(1)102は、Agを主成分とし、Ti、Zn、Cu、Pd、Au及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を0.1〜15原子%含有する合金であることが好ましい。Ti、Bi、Zn、Cu、Pd、Au及び希土類金属のうち2種以上の元素を含む場合は、各々の含有量を0.1〜15原子%としてもかまわないが、それらの合計含有量が0.1〜15原子%であることが好ましい。   Among them, the reflective layer (1) 102 is an alloy containing Ag as a main component and containing at least one element selected from the group consisting of Ti, Zn, Cu, Pd, Au, and rare earth metals in an amount of 0.1 to 15 atomic%. It is preferable that When two or more elements of Ti, Bi, Zn, Cu, Pd, Au, and rare earth metals are included, each content may be 0.1 to 15 atomic%, but the total content thereof is It is preferable that it is 0.1-15 atomic%.

更に好ましい反射層(1)102の合金組成は、Agを主成分とし、Ti、Bi、Zn、Cu、Pd、Auよりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を0.1〜15原子%含有し、必要に応じ、少なくとも1種の希土類元素を0.1〜15原子%含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、AgPdCu、AgCuAu、AgCuAuNd、AgCuNd、AgBi、AgBiNd等である。尚、本実施の形態において使用される合金の組成比は上述した範囲のものである。   Further preferable alloy composition of the reflective layer (1) 102 contains 0.1 to 15 atomic% of at least one element selected from the group consisting of Ti, Bi, Zn, Cu, Pd, and Au with Ag as a main component. If necessary, it contains 0.1 to 15 atomic% of at least one rare earth element. Of the rare earth metals, neodymium is particularly preferred. Specifically, AgPdCu, AgCuAu, AgCuAuNd, AgCuNd, AgBi, AgBiNd, and the like. The composition ratio of the alloy used in the present embodiment is in the above range.

反射層(1)102としては、Auのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。また、反射層(1)102としてSiからなる層を用いることも可能である。更に、金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。   As the reflective layer (1) 102, a layer made only of Au is suitable because it has small crystal grains and is excellent in corrosion resistance. It is also possible to use a layer made of Si as the reflective layer (1) 102. Furthermore, it is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index thin film and a high refractive index thin film using a material other than metal, and use it as a reflective layer.

反射層(1)102を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。   Examples of the method for forming the reflective layer (1) 102 include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition.

逆積層体11における反射層(1)102は、高反射率、かつ高耐久性であることが望ましい。高反射率を確保するために、反射層(1)102の厚さは、通常30nm以上、好ましくは40nm以上、更に好ましくは50nm以上である。但し、生産上のタクトタイムを短縮しコストを低減するためには、通常400nm以下、好ましくは300nm以下である。   It is desirable that the reflective layer (1) 102 in the reverse laminate 11 has high reflectivity and high durability. In order to ensure a high reflectance, the thickness of the reflective layer (1) 102 is usually 30 nm or more, preferably 40 nm or more, and more preferably 50 nm or more. However, in order to shorten the tact time in production and reduce the cost, it is usually 400 nm or less, preferably 300 nm or less.

<記録層(1)>
逆積層体11における記録層(1)103は、通常、例えば、CD−R、DVD−R、DVD+R等の片面型記録媒体に用いられる記録層と同程度の感度の色素を含有する。このような色素は、350〜900nm程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λmaxを有し、青色〜近マイクロ波レーザーでの記録に適する色素化合物が好ましい。中でも、通常CD−Rに用いられるような波長770〜830nm程度の近赤外レーザー(例えば、780nm、830nm)、DVD−Rに用いられるような波長620〜690nm程度の赤色レーザー(例えば、635nm、660nm、680nm)、波長405nm又は515nm等のいわゆるブルーレーザー等による記録に適する色素がより好ましい。尚、相変化型材料を使用することも可能である。
<Recording layer (1)>
The recording layer (1) 103 in the reverse laminated body 11 usually contains a dye having the same sensitivity as that of a recording layer used in a single-sided recording medium such as CD-R, DVD-R, DVD + R. Such a dye is preferably a dye compound having a maximum absorption wavelength λmax in the visible light to near infrared region of about 350 to 900 nm and suitable for recording with a blue to near microwave laser. Among them, a near-infrared laser having a wavelength of about 770 to 830 nm (for example, 780 nm and 830 nm) that is usually used for a CD-R, and a red laser having a wavelength of about 620 to 690 nm for a DVD-R (for example, 635 nm, 660 nm, 680 nm), and a dye suitable for recording with a so-called blue laser or the like having a wavelength of 405 nm or 515 nm. It is also possible to use a phase change material.

記録層(1)103に使用される色素としては、特に限定されないが、通常、有機色素材料が使用される。有機色素材料としては、例えば、大環状アザアヌレン系色素(フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等)、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素(シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等)、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。これらの中でも、含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性、耐光性に優れるため好ましい。これらの色素は1種を単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよい。   Although it does not specifically limit as a pigment | dye used for the recording layer (1) 103, Usually, an organic pigment | dye material is used. Organic dye materials include, for example, macrocyclic azaannulene dyes (phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, porphyrin dyes, etc.), pyromethene dyes, polymethine dyes (cyanine dyes, merocyanine dyes, squarylium dyes, etc.), anthraquinone dyes, azurenium And dyes containing metal, metal-containing azo dyes, metal-containing indoaniline dyes, and the like. Among these, metal-containing azo dyes are preferable because they are excellent in recording sensitivity and excellent in durability and light resistance. These dyes may be used alone or in combination of two or more.

また、記録層(1)103には、色素の他にその他の成分が含まれていてもよい。
例えば、記録層(1)103は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物(例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等)等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していてもよい。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
The recording layer (1) 103 may contain other components in addition to the dye.
For example, the recording layer (1) 103 is a transition metal chelate compound (for example, acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-) as a singlet oxygen quencher to improve the stability and light resistance of the recording layer. (alpha-diketone etc.) etc., and recording sensitivity improvement agents, such as a metallic compound, may be contained for recording sensitivity improvement. Here, the metal compound refers to a compound in which a metal such as a transition metal is included in the compound in the form of atoms, ions, clusters, etc., for example, ethylenediamine complex, azomethine complex, phenylhydroxyamine complex, phenanthroline complex. Organic metal compounds such as dihydroxyazobenzene complex, dioxime complex, nitrosoaminophenol complex, pyridyltriazine complex, acetylacetonate complex, metallocene complex, and porphyrin complex. Although it does not specifically limit as a metal atom, It is preferable that it is a transition metal.

更に、記録層(1)103には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
ただし、前記記録層(1)において、高速記録特性を更にいっそう優れたものとするためには、特定の色素との組み合わせが好ましい。そのことについては、後述する。
Further, the recording layer (1) 103 can be used in combination with a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, or the like, if necessary. Preferable binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.
However, in order to further improve the high-speed recording characteristics in the recording layer (1), a combination with a specific dye is preferable. This will be described later.

記録層(1)103の成膜方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等、一般に行なわれている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法等の湿式成膜法が好ましい。また、均一な記録層が得られるという点から、真空蒸着法が好ましい。   The film forming method of the recording layer (1) 103 is not particularly limited, but generally a thin film forming method generally performed such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a cast method, a spin coating method, a dipping method or the like. In view of mass productivity and cost, a wet film formation method such as a spin coating method is preferable. Moreover, the vacuum evaporation method is preferable from the point that a uniform recording layer is obtained.

スピンコート法による成膜の場合、回転数は10〜15000rpmが好ましい。スピンコートの後、一般的に加熱処理を行ない、溶媒を除去する。ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;n−ヘキサン、n−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、n−ブチルシクロヘキサン、tert−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒;テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸メチル、乳酸エチル、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。   In the case of film formation by spin coating, the number of rotations is preferably 10 to 15000 rpm. After spin coating, a heat treatment is generally performed to remove the solvent. The coating solvent for forming the recording layer by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, or a dipping method may be any solvent that does not attack the substrate and is not particularly limited. For example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chain hydrocarbon solvents such as n-hexane and n-octane Cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane and cyclooctane; perfluoroalkyl alcohols such as tetrafluoropropanol, octafluoropentanol and hexafluorobutanol Examples of the solvent include hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate, and methyl 2-hydroxyisobutyrate.

これらの溶媒を除去するための加熱処理は、溶媒を除去し、且つ、簡便な設備により行なうという観点から、通常、使用する溶媒の沸点よりやや低い温度で行なわれ、通常60℃以上、100℃以下の範囲で行なわれる。また、加熱処理の方法は、特に限定されないが、例えば、基板(1)101上に記録層(1)103を形成するために色素を含有する溶液を塗布して成膜した後、所定の温度で所定時間(通常5分間以上、好ましくは10分間以上、また、通常30分間以内、好ましくは20分間以内)保持する方法が挙げられる。また、赤外線、遠赤外線を短時間(例えば、5秒間〜5分間)照射し、基板(1)101を加熱する方法も可能である。   The heat treatment for removing these solvents is usually performed at a temperature slightly lower than the boiling point of the solvent to be used from the viewpoint of removing the solvent and using simple equipment, and usually 60 ° C. or higher and 100 ° C. It is performed in the following range. The method for the heat treatment is not particularly limited. For example, after forming a film containing a dye-containing solution for forming the recording layer (1) 103 on the substrate (1) 101, a predetermined temperature is applied. And a predetermined time (usually 5 minutes or more, preferably 10 minutes or more, and usually within 30 minutes, preferably within 20 minutes). In addition, a method of heating the substrate (1) 101 by irradiating infrared rays or far infrared rays for a short time (for example, 5 seconds to 5 minutes) is also possible.

真空蒸着法の場合は、例えば、有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10-2〜10-5Pa程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより行なわれる。 In the case of the vacuum deposition method, for example, an organic dye and, if necessary, recording layer components such as various additives are put in a crucible installed in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is 10 −2 with an appropriate vacuum pump. After evacuating to about 10 −5 Pa, the crucible is heated to evaporate the recording layer components and deposited on the substrate placed facing the crucible.

逆積層体11の記録層(1)103の厚さは、通常40nm以上、好ましくは50nm以上であり、但し、通常150nm以下、好ましくは100nm以下である。記録層(1)103の厚さがこの範囲とすれば、充分な記録信号振幅を確保しつつ、感度の低下を抑制することができる。また、記録層(1)103の厚さが過度に大きいと、感度が低下する場合がある。   The thickness of the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 11 is usually 40 nm or more, preferably 50 nm or more, provided that it is usually 150 nm or less, preferably 100 nm or less. When the thickness of the recording layer (1) 103 is within this range, it is possible to suppress a decrease in sensitivity while ensuring a sufficient recording signal amplitude. Further, when the thickness of the recording layer (1) 103 is excessively large, the sensitivity may be lowered.

<バリア層>
バリア層104は逆積層体11に設けられる。一般的に、バリア層104は、透明樹脂層105からしみ出る成分が記録層(1)103を汚濁又は溶解することを防止するため、記録層(1)103と透明樹脂層105の間に設けられる。
<Barrier layer>
The barrier layer 104 is provided on the reverse laminate 11. In general, the barrier layer 104 is provided between the recording layer (1) 103 and the transparent resin layer 105 in order to prevent components that ooze from the transparent resin layer 105 from contaminating or dissolving the recording layer (1) 103. It is done.

本発明においては、上記目的の他に、記録層103での放熱性を確保して、高速記録におけるクロストークを抑制するためにバリア層104を用いる。このため、本発明においては、従来、合金や誘電体で知られていた厚い膜ではなく、バルクとしての熱伝導率が高い材料を用いて非常に薄い膜にするということにより、極めて良好な特性が得られるのである。   In the present invention, in addition to the above object, the barrier layer 104 is used to secure heat dissipation in the recording layer 103 and suppress crosstalk in high-speed recording. For this reason, in the present invention, it is not a thick film conventionally known for alloys and dielectrics, but a very thin film using a material having high thermal conductivity as a bulk, so that extremely good characteristics are obtained. Is obtained.

まず、バルクとしての熱伝導率は上記の通り、70W/m・Kを境に急激に特性が向上する。後述の実施例のデータの一部をまとめた図2においては、熱伝導率を更に90W/m・K以上とすると、特に、半導体であるSiとCを除けば、Δjitterが1%を下回り、極めて良好な特性が得られることがわかる。本発明におけるバリア層104の熱伝導率の上限は必ずしも制限はないが、700W/m・Kもあれば十分と考えている。単体では半導体であるSi、Cなどは、合金化や添加物の使用等によって導電性を増加させることにより、更に良好な特性を示すものと考えられる。   First, as described above, the thermal conductivity of the bulk is drastically improved with 70 W / m · K as a boundary. In FIG. 2 that summarizes a part of the data of Examples described later, when the thermal conductivity is further 90 W / m · K or more, Δjitter is less than 1%, except for Si and C, which are semiconductors, It can be seen that very good characteristics can be obtained. The upper limit of the thermal conductivity of the barrier layer 104 in the present invention is not necessarily limited, but 700 W / m · K is considered to be sufficient. It is considered that Si, C, etc., which are semiconductors alone, exhibit even better characteristics by increasing conductivity by alloying or using additives.

一方、バリア層104の膜厚が5nmを超えると、上述したように、特性の著しい劣化が見られる。よって、バリア層104の膜厚は通常5nmより小さく、好ましくは4nm以下、更に好ましくは3.5nm以下の範囲とする。一方、膜厚の下限値は通常0.5nm以上、より好ましくは1nm以上、更に好ましくは1.5nm以上とする。後出の[実施例]の欄の表2に列記された元素の中からMo、Coの例をとり図3に示すように、熱伝導率の違いによりその最適値は異なるものの、この範囲においてΔjitter並びにST(%)、MT(%)が安定して良好な値となることがわかる。   On the other hand, when the film thickness of the barrier layer 104 exceeds 5 nm, as described above, remarkable deterioration of characteristics is observed. Therefore, the thickness of the barrier layer 104 is usually smaller than 5 nm, preferably 4 nm or less, more preferably 3.5 nm or less. On the other hand, the lower limit of the film thickness is usually 0.5 nm or more, more preferably 1 nm or more, and still more preferably 1.5 nm or more. As shown in FIG. 3, taking examples of Mo and Co from the elements listed in Table 2 in the “Examples” section below, the optimum values differ depending on the difference in thermal conductivity. It can be seen that Δjitter, ST (%), and MT (%) are stable and good values.

また、かかる薄膜にすることにより、熱伝導率が低いガラス質の誘電体膜とは異なり、延性、展性を有する高熱伝導率の材料の薄膜をバリア層104に用いることにより、記録層の色素の分解による変化をきちんとトレースすることが可能となり、ジッターが更に良好になっていることも考えられる。   Further, by forming such a thin film, unlike a glassy dielectric film having a low thermal conductivity, a thin film of a material having high ductility and malleability and having a high thermal conductivity is used for the barrier layer 104. It is possible to trace the change due to the decomposition of the image and to further improve the jitter.

本発明のバリア層104の材料としては、Mg、Cr、Mn、Fe、Ni、Zn、Ru、Rh、Pd、In、Os、Ir、Pt、Mo、Al、W、Co、Cr、Cu、Ag、Auの単体もしくは合金が好ましい。より好ましくはCu、Al、Au、Co、Cr、Mo、Si、W、C、Agの単体もしくは合金が挙げられる。更に好ましくは、Mo、W、Cu、Co、Cr、及びAlよりなる群から選ばれる金属元素の単体又はこれら金属元素を主成分とする合金である。なお、ある金属元素が「主成分」であるとは、その金属元素が合金組成の50重量%以上を占めることをいう。特にMo、W、Cuは特性が極めて良好であり、Co、Crはともに、4倍速記録、8倍速記録で感度が良好でジッターも良好である。尚、Ag、Al、Si、Cは、合金化或いは光硬化性樹脂の改良などにより、記録特性並びに耐候性の良好なバリア層104となる可能性がある。   As the material of the barrier layer 104 of the present invention, Mg, Cr, Mn, Fe, Ni, Zn, Ru, Rh, Pd, In, Os, Ir, Pt, Mo, Al, W, Co, Cr, Cu, Ag Au simple substance or alloy is preferable. More preferably, a simple substance or an alloy of Cu, Al, Au, Co, Cr, Mo, Si, W, C, and Ag is used. More preferably, it is a simple metal element selected from the group consisting of Mo, W, Cu, Co, Cr, and Al, or an alloy containing these metal elements as a main component. Note that that a certain metal element is a “main component” means that the metal element occupies 50% by weight or more of the alloy composition. In particular, Mo, W, and Cu have extremely good characteristics, and Co and Cr have good sensitivity and good jitter in 4 × speed recording and 8 × speed recording. Note that Ag, Al, Si, and C may become a barrier layer 104 with good recording characteristics and weather resistance by alloying or improvement of a photocurable resin.

本発明者らの検討によれば、上に例示する材料を用いてバリア層104を形成した場合でも、記録層がそれと接する光硬化性樹脂に溶け込まないようなバリア効果を十分に得ることができることがわかった。また、バリア層104は緻密で平滑な膜の方が良いと考えられる。何故ならば、島状構造など膜内に粗密が存在する場合には、高温高湿度試験などの温度、湿度の変化により、粒界が発生したり粒径が拡大したりして、ノイズの上昇や膜欠陥の増加が起こりうるからである。   According to the study by the present inventors, even when the barrier layer 104 is formed using the material exemplified above, it is possible to sufficiently obtain a barrier effect so that the recording layer does not dissolve in the photocurable resin in contact therewith. I understood. Further, it is considered that the barrier layer 104 should be a dense and smooth film. This is because when there is a density in the film, such as an island-like structure, a change in temperature and humidity such as in a high-temperature and high-humidity test may cause grain boundaries or increase in particle size, resulting in an increase in noise. This is because an increase in film defects can occur.

尚、このバリア層104の緻密で平滑な構造は、その構成成分や組成に依るほか、バリア層104を形成する際の条件にも依ると考えられる。バリア層104は真空蒸着法、スパッタ法など、一般的に用いられている成膜方法によって形成されるが、中でもスパッタ法によって形成することが好ましい。ここで、スパッタ法の場合を例にとると、緻密で平滑な構造のバリア層を得るためには、スパッタの前にターゲットをプリスパッタする。そのプリスパッタの時間を通常よりも長く設定して、ターゲットに吸着した水分や表面酸化層をなるべく除いてからスパッタを開始する、或いは、アルゴン圧をなるべく低く設定するなど、スパッタの条件を適切な範囲に調整してスパッタを行なうことが好ましい。また、本発明のバリア層104は薄膜であるため、バリア層104の膜の表面状態が記録に影響することが考えられる。そのため、緻密で平滑な膜構造を得ることにより、記録特性を向上させることが可能となるのである。   The dense and smooth structure of the barrier layer 104 is considered to depend not only on its constituent components and composition but also on the conditions for forming the barrier layer 104. The barrier layer 104 is formed by a generally used film forming method such as a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, but it is preferable to form the barrier layer 104 by a sputtering method. Here, taking the case of sputtering as an example, in order to obtain a dense and smooth barrier layer, the target is pre-sputtered before sputtering. Set the pre-sputtering time longer than usual and start the sputtering after removing the moisture adsorbed on the target and the surface oxide layer as much as possible, or set the argon pressure as low as possible. It is preferable to perform sputtering while adjusting the range. Further, since the barrier layer 104 of the present invention is a thin film, the surface state of the barrier layer 104 may affect recording. Therefore, recording characteristics can be improved by obtaining a dense and smooth film structure.

本明細書において、「熱伝導率」としては、キッテル著、「固体物理学入門 上巻」、第6版、117ページの表1「デバイ温度と熱伝導率」に記載された、300Kでの熱伝導率の値を用いるものとする。前記の表に記載された主な材料の熱伝導率の値を下記の表1に示す。   In this specification, “thermal conductivity” refers to the heat at 300K described in Kittel, “Introduction to Solid State Physics, Volume 1”, 6th edition, Table 1, “Debye temperature and thermal conductivity” on page 117. The conductivity value shall be used. The thermal conductivity values of the main materials listed in the above table are shown in Table 1 below.

Figure 2006313612
Figure 2006313612

実際の薄膜での熱伝導率を測定する方法はいくつか報告されているが、その実験には特殊な装置(例えば光交流法薄膜熱定数測定装置など)や特殊なサンプルの作製法を必要とする。そのために、これらの手法は一般に普及しておらず、測定には過度の労力を必要とする場合が多い。そのため、本発明においては、上記の一般化されているバルクの熱伝導率を用いた。   Several methods have been reported to measure the thermal conductivity of an actual thin film, but the experiment requires a special device (for example, an optical alternating current method thin film thermal constant measurement device) or a special sample preparation method. To do. For this reason, these methods are not widely used in general, and measurement often requires excessive labor. Therefore, in the present invention, the above generalized bulk thermal conductivity is used.

尚、合金の場合など、複数の組成からバリア層104が成り立つ場合には、以下の様に、それぞれの組成のバルクの熱伝導率に、その組成の割合をかけた値から求められる熱伝導率の値を、バリア層104に用いる材料のバルクとしての熱伝導率と定める。例えば、95原子%のAlと5原子%のCrからなる合金の熱伝導率は、Alのバルクの熱伝導率(237W/m・K)と、Crのバルクの熱伝導率(94W/m・K)から、237×0.95+94×0.05=229.9W/m・Kと求められる。このようにして、例えば3元系でも4元系でも同様に算出する。   When the barrier layer 104 is composed of a plurality of compositions such as an alloy, the thermal conductivity obtained from the value obtained by multiplying the bulk thermal conductivity of each composition by the ratio of the composition as follows. Is defined as the thermal conductivity of the material used for the barrier layer 104 as a bulk. For example, the thermal conductivity of an alloy composed of 95 atomic% Al and 5 atomic% Cr includes the bulk thermal conductivity of Al (237 W / m · K) and the thermal bulk conductivity of Cr (94 W / m · K). K), 237 × 0.95 + 94 × 0.05 = 229.9 W / m · K. In this way, for example, the same calculation is performed for both the ternary system and the quaternary system.

尚、上述のキッテル著「固体物理学入門 上巻」第6版、117ページの表1「デバイ温度と熱伝導率」に熱伝導率が記載されていない材料の熱伝導率は、インターネットのWWWサイト(http://www.a1s.co.jp/thermal/db/prop_met.htm等)や、「理科年表」(丸善)、「物理学辞典」(培風館)等に挙げられている「熱伝導率の表」等、最新の物性値を取得できる可能性があるデータベースから、その値を判断するものとする。   Note that the thermal conductivity of materials whose thermal conductivity is not described in the above-mentioned Kittel's "Introduction to Solid State Physics, Volume 1", 6th edition, Table 1, "Debye temperature and thermal conductivity" on page 117, is the WWW site on the Internet. (Http://www.a1s.co.jp/thermal/db/prop_met.htm etc.), “Science Chronology” (Maruzen), “Physics Dictionary” (Baifukan), etc. The value should be determined from a database that may be able to obtain the latest physical property values such as “rate table”.

尚、基板(1)101と記録層(1)103との間、基板(2)109と記録層(2)108との間、記録層(2)108と反射層(2)107との間等に、それぞれバリア層104と同様な材料からなる層を設けてもよい。   Incidentally, between the substrate (1) 101 and the recording layer (1) 103, between the substrate (2) 109 and the recording layer (2) 108, and between the recording layer (2) 108 and the reflective layer (2) 107. Alternatively, a layer made of the same material as the barrier layer 104 may be provided.

〔透明樹脂層〕
次に、逆積層体11のレーザー光110の入射面側に接して設けられた透明樹脂層105について説明する。本実施形態の2層型の光記録媒体100における透明樹脂層105は、通常、基板(2)109側から入射するレーザー光110が記録層(1)103に到達する程度の光透過性を有する材料から構成される。透明樹脂層105は、ガラス転移温度Tgが150℃以上を有する透明樹脂から構成されることが好ましい。尚、この透明樹脂層105は1層でも複数層から成っていてもよい。このような透明樹脂を用いて透明樹脂層を構成することにより、透明樹脂層の硬さを増大させ、ジッターを改善すると考えられる。
[Transparent resin layer]
Next, the transparent resin layer 105 provided in contact with the incident surface side of the laser beam 110 of the reverse laminate 11 will be described. The transparent resin layer 105 in the two-layer type optical recording medium 100 of the present embodiment usually has such light transmittance that the laser light 110 incident from the substrate (2) 109 side reaches the recording layer (1) 103. Consists of materials. The transparent resin layer 105 is preferably composed of a transparent resin having a glass transition temperature Tg of 150 ° C. or higher. The transparent resin layer 105 may be a single layer or a plurality of layers. By configuring the transparent resin layer using such a transparent resin, it is considered that the hardness of the transparent resin layer is increased and the jitter is improved.

透明樹脂層105を構成する樹脂は、30℃での弾性率が、通常1000MPa以上、好ましくは2000MPa以上、より好ましくは3000MPa以上、更に好ましくは4000MPa以上であることが望ましい。弾性率が1000MPa以上の樹脂を用いて透明樹脂層105を構成することにより、L1層(図1)の記録・再生において、いわゆる閉じこめ効果がより高められる。但し、弾性率の上限は、通常、6000MPa以下である。弾性率が6000MPa以下の樹脂を用いることにより、例えば、塗布等の溶液法により透明樹脂層105を成膜することが可能となり、工業的に有利である。透明樹脂層105を構成する樹脂が上記範囲の弾性率を有することにより、逆積層体11の記録層(1)103の光情報の記録において、隣接するトラック部に及ぶ過度の変形を抑制することができる。その結果、光記録媒体100は、L1層の高速記録でのクロストークが低減し、ジッターが改善される。ここで、透明樹脂層105の「透明」とは、光記録媒体100に入射するレーザー光110を散乱する構造を有しない、という意味である。   The resin constituting the transparent resin layer 105 has an elastic modulus at 30 ° C. of usually 1000 MPa or more, preferably 2000 MPa or more, more preferably 3000 MPa or more, and further preferably 4000 MPa or more. By forming the transparent resin layer 105 using a resin having an elastic modulus of 1000 MPa or more, a so-called confinement effect is further enhanced in recording / reproduction of the L1 layer (FIG. 1). However, the upper limit of the elastic modulus is usually 6000 MPa or less. By using a resin having an elastic modulus of 6000 MPa or less, for example, the transparent resin layer 105 can be formed by a solution method such as coating, which is industrially advantageous. Since the resin constituting the transparent resin layer 105 has an elastic modulus in the above range, it is possible to suppress excessive deformation extending to adjacent track portions in the recording of optical information of the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 11. Can do. As a result, in the optical recording medium 100, crosstalk in high-speed recording of the L1 layer is reduced, and jitter is improved. Here, “transparent” in the transparent resin layer 105 means that the transparent resin layer 105 does not have a structure that scatters the laser light 110 incident on the optical recording medium 100.

尚、複数層の記録層を積層し、それぞれにフォーカスをかけるためには、記録層間にある程度の距離があることが望ましい。そのために、透明樹脂層105の膜厚は、フォーカスサーボの機構にもよるが、通常5μm以上、好ましくは10μm以上である。   In order to stack a plurality of recording layers and focus each of them, it is desirable that there is a certain distance between the recording layers. Therefore, the film thickness of the transparent resin layer 105 is usually 5 μm or more, preferably 10 μm or more, although it depends on the focus servo mechanism.

また、この層があまり厚い場合には、例えば、透明樹脂層105を介してフォーカスサーボをかける記録層(1)にフォーカスサーボを調整するのに時間を要することがある。更に、対物レンズの移動距離も長くなることがある。また、紫外線硬化にも時間を要し、生産性が劣る可能性がある。以上のことから、透明樹脂層105は、通常100μm以下が好ましい。   If this layer is too thick, for example, it may take time to adjust the focus servo to the recording layer (1) to which the focus servo is applied via the transparent resin layer 105. Furthermore, the moving distance of the objective lens may be long. Also, UV curing takes time and productivity may be inferior. From the above, the transparent resin layer 105 is generally preferably 100 μm or less.

次に、透明樹脂層105を構成する材料の具体例について説明する。
透明樹脂層105を構成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂(遅延硬化型を含む)等を挙げることができる。透明樹脂層105を構成する材料は、これらの中から適宜選択される。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は、必要に応じて適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥(加熱)することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの材料は単独又は混合して用いてもよい。
Next, specific examples of the material constituting the transparent resin layer 105 will be described.
Examples of the material constituting the transparent resin layer 105 include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, an ultraviolet curable resin (including a delayed curable type), and the like. The material which comprises the transparent resin layer 105 is suitably selected from these. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be formed by dissolving in an appropriate solvent as necessary to prepare a coating solution, applying the solution, and drying (heating). The ultraviolet curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with ultraviolet light. These materials may be used alone or in combination.

透明樹脂層105を形成する方法としては、例えば、スピンコート法やキャスト法等の塗布法等が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。高粘度の樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、20℃〜40℃において液状であるものを用いることが好ましい。これは、溶媒を用いることなく塗布できるため生産性が良好となるからである。また、塗布液の粘度は、通常20mPa・s以上、1000mPa・s以下となるように調整するのが好ましい。   As a method of forming the transparent resin layer 105, for example, a coating method such as a spin coating method or a casting method is used, and among these, the spin coating method is preferable. High-viscosity resin can also be applied and formed by screen printing or the like. As the ultraviolet curable resin, it is preferable to use a resin that is liquid at 20 ° C. to 40 ° C. This is because productivity can be improved because it can be applied without using a solvent. Moreover, it is preferable to adjust so that the viscosity of a coating liquid may be 20 mPa * s or more and 1000 mPa * s or less normally.

透明樹脂層105を構成する材料の中でも、紫外線硬化性樹脂は、透明度が高く、硬化時間が短く製造上有利な点で好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂が挙げられ、何れも使用することができる。   Among the materials constituting the transparent resin layer 105, an ultraviolet curable resin is preferable because of its high transparency and a short curing time, which is advantageous in manufacturing. Examples of the ultraviolet curable resin include a radical ultraviolet curable resin and a cationic ultraviolet curable resin, both of which can be used.

ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。   As the radical ultraviolet curable resin, a composition containing an ultraviolet curable compound and a photopolymerization initiator as essential components is used.

紫外線硬化性化合物としては、単官能(メタ)アクリレート及び多官能(メタ)アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは各々1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。なお、本明細書においては、「アクリレート」と「メタアクリレート」とを併せて「(メタ)アクリレート」と称する。   As an ultraviolet curable compound, monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate can be used as a polymerizable monomer component. Each of these may be used alone or in combination of two or more. In the present specification, “acrylate” and “methacrylate” are collectively referred to as “(meth) acrylate”.

単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニロキシエチル等の基を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of monofunctional (meth) acrylates include methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, 2-ethylhexyl, octyl, nonyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, cyclohexyl, benzyl, methoxyethyl, butoxyethyl, and phenoxyethyl as substituents. , Nonylphenoxyethyl, tetrahydrofurfuryl, glycidyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 3-chloro-2-hydroxypropyl, dimethylaminoethyl, diethylaminoethyl, nonylphenoxyethyl tetrahydrofurfuryl, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl, And (meth) acrylate having a group such as isobornyl, dicyclopentanyl, dicyclopentenyl, dicyclopentenyloxyethyl and the like.

多官能(メタ)アクリレートとしては例えば、1,3−ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include 1,3-butylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neo Di (meth) acrylates such as pentyl glycol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, tricyclodecane dimethanol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, And di (meth) acrylate of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate.

また、ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA1モルに2モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸(メタ)アクリレート等が挙げられる。   In addition, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of neopentyl glycol, and diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A Di (meth) acrylate, 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide added to 1 mol of trimethylolpropane, triol di or tri (meth) acrylate, 4 mol or more of ethylene oxide or propylene per 1 mol of bisphenol A Di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol poly, obtained by adding oxide Meth) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide-modified alkylated phosphoric acid (meth) acrylate.

また、これらの重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとして、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Moreover, as what can be used together with these polymerizable monomers, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate etc. are mentioned as a polymerizable oligomer.

一方、光重合開始剤としては、分子開裂型光重合開始剤又は水素引き抜き型光重合開始剤が好ましい。   On the other hand, the photopolymerization initiator is preferably a molecular cleavage photopolymerization initiator or a hydrogen abstraction photopolymerization initiator.

分子開裂型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。更に、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン及び2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン等を併用してもよい。   Examples of the molecular cleavage type photopolymerization initiator include benzoin isobutyl ether, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, benzyl, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethyl. Amino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and the like can be mentioned. Furthermore, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Propan-1-one and 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one may be used in combination.

また、水素引き抜き型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルスルフィド等が挙げられる。   Examples of the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator include benzophenone, 4-phenylbenzophenone, isophthalphenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, and the like.

また、これらの光重合開始剤とともに、増感剤を併用することができる。増感剤としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、p−ジエチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N−ジメチルベンジルアミン及び4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等が挙げられる。   A sensitizer can be used in combination with these photopolymerization initiators. Examples of the sensitizer include trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-diethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylbenzylamine, and 4, 4′-bis (diethylamino) benzophenone and the like can be mentioned.

一方、カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては、遊離した塩素及び塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が1重量%以下が好ましく、より好ましくは0.5重量%以下である。   On the other hand, examples of the cationic ultraviolet curable resin include an epoxy resin containing a cationic polymerization type photoinitiator. Examples of the epoxy resin include bisphenol A-epichlorohydrin type, alicyclic epoxy, long chain aliphatic type, brominated epoxy resin, glycidyl ester type, glycidyl ether type, and heterocyclic type. As the epoxy resin, it is preferable to use one having a low content of free chlorine and chlorine ions. The amount of chlorine is preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less.

カチオン型紫外線硬化性樹脂100重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は、通常0.1重量部以上、好ましくは0.2重量部以上、また、通常20重量部以下、好ましくは5重量部以下の範囲である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。   The ratio of the cationic polymerization type photoinitiator per 100 parts by weight of the cationic ultraviolet curable resin is usually 0.1 parts by weight or more, preferably 0.2 parts by weight or more, and usually 20 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight. Part or less. A known photosensitizer can be used in combination in order to use the near-ultraviolet region and the visible region of the ultraviolet light source more effectively. Examples of the photosensitizer at this time include anthracene, phenothiazine, benzylmethyl ketal, benzophenone, and acetophenone.

また、紫外線硬化性樹脂には、必要に応じて更にその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤及びエポキシシラン、メルカプトシラン、(メタ)アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。   In addition, for UV curable resins, as necessary, other additives such as thermal polymerization inhibitors, antioxidants represented by hindered phenols, hindered amines, phosphites, plasticizers, epoxy silanes, mercapto silanes, etc. Silane coupling agents represented by (meth) acrylic silane and the like can also be blended for the purpose of improving various properties. These are selected from those having excellent solubility in ultraviolet curable compounds and those that do not impair ultraviolet transparency.

本実施形態の光記録媒体100の透明樹脂層105において、比較的高弾性率の樹脂を得るための具体的な手段は特に限定されないが、通常は以下の方法が挙げられる。例えば、上述した紫外線硬化性樹脂として、分子内にメタアクリロイル基を2個以上、好ましくは3個以上有するモノマー成分の組成を増大する方法;直鎖高分子ジオールと混合するポリエステルジオール等の側鎖含有高分子ジオール成分の組成を増大する方法;主鎖がハードセグメントであるオリゴマー成分の側鎖を低分子量とし、分子内結合を増大させる方法;ポリイソシアネート化合物、アミノ樹脂、エポキシ化合物、シラン化合物、金属キレート化合物等の架橋剤を所定量添加する方法等が挙げられる。   In the transparent resin layer 105 of the optical recording medium 100 of the present embodiment, specific means for obtaining a resin having a relatively high elastic modulus is not particularly limited, but the following methods are usually mentioned. For example, a method of increasing the composition of a monomer component having 2 or more, preferably 3 or more methacryloyl groups in the molecule as the above-mentioned ultraviolet curable resin; side chain such as polyester diol mixed with a linear polymer diol A method of increasing the composition of the containing polymer diol component; a method of increasing the intramolecular bond by lowering the side chain of the oligomer component whose main chain is a hard segment; polyisocyanate compound, amino resin, epoxy compound, silane compound, Examples thereof include a method of adding a predetermined amount of a crosslinking agent such as a metal chelate compound.

特に、十分な硬さを有する樹脂を得るためには、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスルトールトリ又はテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスルトール1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たテトラアルコールのトリ又はテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのペンタ又はヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール1モルに6モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たヘキサアルコールのペンタ又はヘキサ(メタ)アクリレート、等の多官応(メタ)アクリレートを用いることは、架橋密度を高くでき、更に、収縮率を大きくすることもでき好ましい。   In particular, in order to obtain a resin having sufficient hardness, a triol tri (meth) acrylate obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane tri (meth) acrylate and trimethylolpropane. ) Acrylate, pentaerythritol tri- or tetra (meth) acrylate, tetra-alcohol tri- or tetra (meth) acrylate obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of pentaerythritol, dipenta Penta or hexa (meth) acrylate of erythritol, pentaalcohol or hexa (meth) acrylate of hexaalcohol obtained by adding 6 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of dipentaerythritol, etc. Kan応 (meth) the use of acrylates, crosslinking density can be increased, further, it is also possible to increase the shrinkage preferred.

その中で、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスルトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールヘキサ(メタ)アクリレートが更に特に好ましい。   Among them, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) ) Acrylate is more particularly preferred.

また、ノルボリナンジメタノールジアクリレート、ノルボルナンジエタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサオイド又はプロピレンオキサイドを2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロオペンタデカンジエタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート等があるが、中でも、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ビス(2−アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス(2−アクリロイルオキシプロピル)ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス(2−アクリロイルオキシブチル)ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス(2−メタクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス(2−メタクリロイルオキシプロピル)ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス(2−メタクリロイルオキシブチル)ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシブチル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシブチル)イソシアヌレート等、架橋構造に剛直な環状構造を有するアクリレートも、高弾性率の樹脂として好ましい。   In addition, norbornane dimethanol diacrylate, norbornane diethanol di (meth) acrylate, norbornane dimethanol obtained by adding 2 moles of ethylene oxide or propylene oxide to di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di ( Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 moles of ethylene oxide or propylene oxide to (meth) acrylate, tricyclodecane diethanol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol, pentacyclodecane dimethanol di (meth) Dioxide obtained by adding 2 moles of ethylene oxide or propylene oxide to acrylate, pentacycloopentadecane diethanol di (meth) acrylate, pentacyclopentadecane dimethanol Di (meth) acrylate of diol, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 moles of ethylene oxide or propylene oxide to pentacyclopentadecane diethanol, among others, tricyclodecane dimethanol di (meth) Acrylate, pentacyclopentadecane dimethanol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, bis (2-acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, bis (2-acryloyloxypropyl) hydroxypropyl isocyanurate, Bis (2-acryloyloxybutyl) hydroxybutyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxyp) Pyr) hydroxypropyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxybutyl) hydroxybutyl isocyanurate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (2-acryloyloxypropyl) isocyanurate, tris (2-acryloyloxybutyl) An acrylate having a rigid cyclic structure such as isocyanurate, tris (2-methacryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (2-methacryloyloxypropyl) isocyanurate, tris (2-methacryloyloxybutyl) isocyanurate is also high. Preferred as an elastic modulus resin.

その中でも、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロペンタデカンジエタノールジ(メタ)アクリレートが特に好ましい。   Among these, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate and tricyclopentadecane diethanol di (meth) acrylate are particularly preferable.

更に、架橋密度が高くなるようなアクリルモノマーと、架橋構造に剛直な環状構造を有するアクリルモノマーを適宜組み合わせることが好ましい。   Furthermore, it is preferable to appropriately combine an acrylic monomer having a high crosslinking density with an acrylic monomer having a rigid cyclic structure in the crosslinked structure.

また、紫外線硬化性樹脂の中でも、低光散乱性且つ低粘度でスピンコートで塗布可能なカチオン型紫外線硬化性樹脂が好ましい。更に、種類が多く、配合比、組成の自由度が大きい点、また、透明樹脂層105の厚さが10μm以上の場合は、酸素による硬化阻害を考慮する必要がない点から、ラジカル系紫外線硬化性樹脂を使用することが好ましい。   Of the ultraviolet curable resins, a cationic ultraviolet curable resin that has low light scattering and low viscosity and can be applied by spin coating is preferable. Furthermore, radical UV curing is possible because there are many types, the blending ratio and the degree of freedom of composition are large, and when the thickness of the transparent resin layer 105 is 10 μm or more, there is no need to consider curing inhibition by oxygen. It is preferable to use a functional resin.

〔正積層体〕
次に、正積層体12の各層について説明する。正積層体12は、上述の様に、基板(2)109と、基板(2)109上に積層された記録層(2)108、反射層(2)107及び保護コート層106(以下、これらの記録層(2)108、反射層(2)107及び保護コート層106を、まとめて「L0層」ということがある。)とから構成される。
[Positive laminate]
Next, each layer of the positive laminate 12 will be described. As described above, the positive laminate 12 includes the substrate (2) 109, the recording layer (2) 108 laminated on the substrate (2) 109, the reflective layer (2) 107, and the protective coating layer 106 (hereinafter referred to as these layers). The recording layer (2) 108, the reflective layer (2) 107, and the protective coating layer 106 are collectively referred to as “L0 layer”).

<基板(2)>
正積層体12の基板(2)109は、逆積層体11の基板(1)101と同様な材料により構成される。但し、基板(2)109は、光透過性であることが必要である。基板(2)109の溝幅は、トラックピッチをTとして、通常2T/10以上、好ましくは3T/9以上である。この範囲であれば反射率を十分に確保できる。例えば、トラックピッチを740nmとすると、基板(2)109の溝幅は、通常148nm以上、好ましくは246nm以上とする。但し、基板(2)109の溝幅は、通常7T/10以下、好ましくは6T/10以下である。例えば、トラックピッチを740nmとすると、光透過性の基板(2)109の溝幅は、通常518nm以下、好ましくは444nm以下とすると、溝形状の転写性を良好にできるので好ましい。
<Substrate (2)>
The substrate (2) 109 of the positive laminate 12 is made of the same material as the substrate (1) 101 of the reverse laminate 11. However, the substrate (2) 109 needs to be light transmissive. The groove width of the substrate (2) 109 is usually 2T / 10 or more, preferably 3T / 9 or more, where T is the track pitch. If it is this range, a sufficient reflectance can be secured. For example, when the track pitch is 740 nm, the groove width of the substrate (2) 109 is usually 148 nm or more, preferably 246 nm or more. However, the groove width of the substrate (2) 109 is usually 7T / 10 or less, preferably 6T / 10 or less. For example, when the track pitch is 740 nm, the groove width of the light-transmitting substrate (2) 109 is usually 518 nm or less, preferably 444 nm or less, because the groove shape transferability can be improved.

基板(2)109の溝深さは、記録再生光波長をλとした場合、通常λ/10以上とするのが、反射率を十分確保できるので好ましい。より好ましくはλ/8以上、更に好ましくはλ/6以上である。例えば、記録再生光の波長(記録再生波長)がλ=660nmの場合、基板(2)109の溝深さは、通常66nm以上、好ましくは82.5nm以上、更に好ましくは110nm以上である。ただし、基板(2)109の溝深さの上限は、通常2λ/5以下とするのが溝形状の転写性を良好にできるため好ましく、より好ましくは2λ/7以下である。例えば、記録再生波長が660nmの場合、通常264nm以下、好ましくは188.6nm以下である。   The groove depth of the substrate (2) 109 is usually preferably λ / 10 or more when the recording / reproducing light wavelength is λ, because a sufficient reflectance can be secured. More preferably, it is λ / 8 or more, and further preferably λ / 6 or more. For example, when the wavelength of the recording / reproducing light (recording / reproducing wavelength) is λ = 660 nm, the groove depth of the substrate (2) 109 is usually 66 nm or more, preferably 82.5 nm or more, and more preferably 110 nm or more. However, the upper limit of the groove depth of the substrate (2) 109 is usually preferably 2λ / 5 or less because the transferability of the groove shape can be improved, and more preferably 2λ / 7 or less. For example, when the recording / reproducing wavelength is 660 nm, it is usually 264 nm or less, preferably 188.6 nm or less.

<記録層(2)>
正積層体12の記録層(2)108には、逆積層体11の記録層(1)103と同様な色素が含有されている。正積層体12の記録層(2)108の厚さは、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、十分な変調度を得るために、通常20nm以上、好ましくは30nm以上、特に好ましくは40nm以上である。但し、光を透過させる必要があるため、通常200nm以下、好ましくは180nm以下、より好ましくは150nm以下である。尚、記録層(2)108の厚さは、厚膜部の膜厚(基板(2)109の溝部の記録層(2)108の厚さ)を示す。
<Recording layer (2)>
The recording layer (2) 108 of the positive laminate 12 contains the same dye as the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 11. The thickness of the recording layer (2) 108 of the positive laminate 12 is not particularly limited because the suitable film thickness varies depending on the recording method or the like, but is usually 20 nm or more, preferably 30 nm or more in order to obtain a sufficient degree of modulation. Especially preferably, it is 40 nm or more. However, since it is necessary to transmit light, it is usually 200 nm or less, preferably 180 nm or less, and more preferably 150 nm or less. The thickness of the recording layer (2) 108 indicates the thickness of the thick film portion (the thickness of the recording layer (2) 108 in the groove portion of the substrate (2) 109).

<反射層(2)>
正積層体12の反射層(2)107は、逆積層体11の反射層(1)102と同様な材料から構成されている。正積層体12の反射層(2)107は、基板(2)109側から入射する記録再生光であるレーザー光110の吸収が小さく、光透過率が、通常、40%以上あり、且つ、通常、30%以上の適度な光反射率を有する必要がある。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、反射層(2)107の上層(ここでは、透明樹脂層105)からしみ出る他の成分により、反射層(2)107の下層に位置する記録層(2)108が影響されないような遮断性を持つことが望ましい。
<Reflective layer (2)>
The reflective layer (2) 107 of the regular laminate 12 is made of the same material as the reflective layer (1) 102 of the reverse laminate 11. The reflective layer (2) 107 of the positive laminate 12 has a small absorption of the laser beam 110, which is a recording / reproducing light incident from the substrate (2) 109 side, and has a light transmittance of usually 40% or more. Therefore, it is necessary to have an appropriate light reflectance of 30% or more. For example, an appropriate transmittance can be provided by providing a thin metal with high reflectivity. Moreover, it is desirable that there is some degree of corrosion resistance. Furthermore, the recording layer (2) 108 positioned below the reflective layer (2) 107 is not affected by other components that ooze out from the upper layer (here, the transparent resin layer 105) of the reflective layer (2) 107. It is desirable to have sex.

反射層(2)107の厚さは、通常40%以上の光透過率を確保するために、通常50nm以下、好ましくは30nm以下、更に好ましくは25nm以下である。30%以上の適度な光反射率を確保するために、反射層(2)107の厚さは、通常3nm以上、好ましくは5nm以上である。   The thickness of the reflective layer (2) 107 is usually 50 nm or less, preferably 30 nm or less, more preferably 25 nm or less in order to ensure a light transmittance of 40% or more. In order to ensure an appropriate light reflectance of 30% or more, the thickness of the reflective layer (2) 107 is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more.

<保護コート層>
正積層体12の保護コート層106は、反射層(2)107の酸化の防止、防塵又は防傷等を目的として、反射層(2)107の透明樹脂層105側に設けられている。保護コート層106の材料としては、反射層(2)107を保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、フッ化マグネシウム(MgF2)、酸化スズ(IV)(SnO2)等の誘電体が挙げられる。中でも、紫外線硬化性樹脂層を積層することが好ましい。保護コート層106の厚さは、通常1μm以上、好ましくは3μm以上、また、通常100μm以下、好ましくは30μm以下、更に好ましくは10μm以下の範囲である。保護コート層106の厚さがこの範囲に満たないと、酸素による硬化障害が起こる場合があり、一方、この範囲を超えると、ディスクが反る恐れや膜厚分布が生じやすくなる。尚、保護コート層106は、必ずしも設ける必要はなく、反射層(2)107に、直接透明樹脂層105を形成してもよい。
<Protective coat layer>
The protective coating layer 106 of the regular laminate 12 is provided on the transparent resin layer 105 side of the reflective layer (2) 107 for the purpose of preventing oxidation of the reflective layer (2) 107, and preventing dust or scratches. The material of the protective coat layer 106 is not particularly limited as long as it protects the reflective layer (2) 107. Examples of the material of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. Examples of the inorganic substance include dielectrics such as silicon oxide, silicon nitride, magnesium fluoride (MgF 2 ), and tin (IV) oxide (SnO 2 ). Especially, it is preferable to laminate | stack an ultraviolet curable resin layer. The thickness of the protective coating layer 106 is usually 1 μm or more, preferably 3 μm or more, and usually 100 μm or less, preferably 30 μm or less, more preferably 10 μm or less. If the thickness of the protective coat layer 106 is less than this range, curing failure due to oxygen may occur. On the other hand, if the thickness exceeds this range, the disc may be warped and a film thickness distribution is likely to occur. The protective coat layer 106 is not necessarily provided, and the transparent resin layer 105 may be directly formed on the reflective layer (2) 107.

本実施形態の光記録媒体には、アドレス情報、媒体の種類の情報、記録パルス条件、及び最適記録パワー等の情報を記録することができる。これらの情報を記録する形態としては、例えば、DVD−R、DVD+Rの規格書に記載されているLPPやADIPのフォーマット等を用いればよい。   Information such as address information, medium type information, recording pulse conditions, and optimum recording power can be recorded on the optical recording medium of the present embodiment. As a form for recording such information, for example, the LPP or ADIP format described in the DVD-R and DVD + R standards may be used.

[第2の実施形態]
図1(b)は、本発明の第2の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。図1(b)には、基板側とは反対側から入射する記録再生光により光情報の記録再生が行なわれる膜面入射型の光記録媒体200が示されている。図1(b)に示されたように、光記録媒体200は、基板201と、基板201上に設けられた反射層202と、反射層202上に積層された記録層203と、記録層203を保護するために設けられたバリア層204とからなる逆積層体に、更にレーザー光210の入射面側に透明樹脂層205が積層されている。光記録媒体200は、透明樹脂層205側から記録層203に照射されるレーザー光210により、情報の記録・再生が行なわれる。
[Second Embodiment]
FIG. 1B is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the optical recording medium according to the second embodiment of the present invention. FIG. 1B shows a film surface incident type optical recording medium 200 in which recording / reproducing of optical information is performed by recording / reproducing light incident from the side opposite to the substrate side. As shown in FIG. 1B, the optical recording medium 200 includes a substrate 201, a reflective layer 202 provided on the substrate 201, a recording layer 203 laminated on the reflective layer 202, and a recording layer 203. A transparent resin layer 205 is further laminated on the incident surface side of the laser beam 210 on the reverse laminate including the barrier layer 204 provided to protect the laser beam. In the optical recording medium 200, information is recorded / reproduced by a laser beam 210 applied to the recording layer 203 from the transparent resin layer 205 side.

逆積層体を構成する基板201は、第1の実施形態の光記録媒体100における逆積層体11の基板(1)101と同様な材料を用いて形成される。また、同様に、反射層202、記録層203及びバリア層204を構成する材料は、それぞれ、第1の実施形態の光記録媒体100における逆積層体11の反射層(1)102、記録層(1)103及びバリア層104において説明した材料と同様なものを使用することができる。また、各層の厚さ等は、光記録媒体100において説明した範囲と同様な範囲である。   The substrate 201 constituting the inverse laminate is formed using the same material as the substrate (1) 101 of the inverse laminate 11 in the optical recording medium 100 of the first embodiment. Similarly, the materials constituting the reflective layer 202, the recording layer 203, and the barrier layer 204 are the reflective layer (1) 102 and the recording layer (of the reverse laminate 11 in the optical recording medium 100 of the first embodiment, respectively). 1) The same materials as those described in 103 and the barrier layer 104 can be used. Further, the thickness of each layer is the same as the range described in the optical recording medium 100.

更に、透明樹脂層205は、前述した光記録媒体100における透明樹脂層105と同様な材料を用いて構成され、また、透明樹脂層205の弾性率及び厚さは、第1の実施形態の光記録媒体100における透明樹脂層105と同様な範囲に調整されている。
なお、上述の各実施形態において、光記録媒体100としての機能を損なわない範囲において、各層の間に任意の別の層を設けてもよい。
Further, the transparent resin layer 205 is configured using the same material as the transparent resin layer 105 in the optical recording medium 100 described above, and the elastic modulus and thickness of the transparent resin layer 205 are the same as those of the first embodiment. The same range as the transparent resin layer 105 in the recording medium 100 is adjusted.
In each of the above-described embodiments, any other layer may be provided between the layers as long as the function as the optical recording medium 100 is not impaired.

[本発明の基本概念2]
続いて、本発明の第2の光記録媒体である、特に高速記録に適した2層型光記録媒体について、第2層目の記録層の構成を中心に、以下に説明する。
[Basic concept 2 of the present invention]
Next, a two-layer type optical recording medium that is a second optical recording medium of the present invention, particularly suitable for high-speed recording, will be described below with a focus on the configuration of the second recording layer.

本発明の第2の光記録媒体である2層型光記録媒体は、基板(これを「第1の基板」ということがある。)上に、第1の反射層、色素を含む第1の記録層、及び透明樹脂層をこの順で有し、前記透明樹脂層の上に、第2の反射層、第2の記録層、及び透明基板(これを「第2の基板」ということがある。)をこの順で更に設けた構成を有する。   The two-layer type optical recording medium, which is the second optical recording medium of the present invention, is a first reflective layer containing a first reflective layer and a dye on a substrate (sometimes referred to as a “first substrate”). A recording layer and a transparent resin layer are provided in this order. On the transparent resin layer, a second reflection layer, a second recording layer, and a transparent substrate (this may be referred to as a “second substrate”). .) Are further provided in this order.

上記基本概念の具体例について、図1(a)及び図5を用いて説明すると、以下のようになる。
つまり、図1(a)及び図5における「基板(1)」が、上記「第1の基板」に対応する。
また、図1(a)及び図5における「反射層(1)」が、上記「第1の反射層」に対応する。
同様に、図1(a)及び図5における「記録層(1)」が、上記「第1の記録層」に対応する。
また、図1(a)及び図5における「反射層(2)」が、上記「第2の反射層」に対応する。
同様に、図1(a)及び図5における「記録層(2)」が、上記「第2の記録層」に対応する。
そして、図1(a)及び図5における「基板(2)」が、上記「透明基板」即ち「第2の基板」に対応する。
A specific example of the basic concept will be described with reference to FIGS. 1A and 5 as follows.
That is, the “substrate (1)” in FIGS. 1A and 5 corresponds to the “first substrate”.
Further, the “reflective layer (1)” in FIGS. 1A and 5 corresponds to the “first reflective layer”.
Similarly, the “recording layer (1)” in FIGS. 1A and 5 corresponds to the “first recording layer”.
Further, the “reflective layer (2)” in FIGS. 1A and 5 corresponds to the “second reflective layer”.
Similarly, the “recording layer (2)” in FIGS. 1A and 5 corresponds to the “second recording layer”.
The “substrate (2)” in FIGS. 1A and 5 corresponds to the “transparent substrate”, that is, the “second substrate”.

そして、前記第1の記録層(第2層目の記録層)が、色素として、下記一般式(1)で表わされるアゾ系化合物とZn金属イオンとからなる含金属アゾ色素(以下「式(1)に係る含金属アゾ色素」と略称する。)を少なくとも含有する。   Then, the first recording layer (second recording layer) is a metal-containing azo dye (hereinafter referred to as “formula (2)” composed of an azo compound represented by the following general formula (1) and a Zn metal ion as a dye. At least a metal-containing azo dye according to 1).

Figure 2006313612
Figure 2006313612

(一般式(1)中、
1は、水素原子又はCO23で示されるエステル基(ここで、R3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。)を表わす。
2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
1及びX2のうち、少なくとも何れか一方はNHSO2Y基(ここで、Yは、少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。)を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
4及びR5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
6、R7、R8及びR9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数1若しくは2のアルキル基を表わす。
尚、前記NHSO2Y基からH+が脱離してNSO2-(陰性)基となり、上記一般式(1)で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。)
(In general formula (1),
R 1 represents a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 (wherein R 3 represents a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group).
R 2 represents a linear or branched alkyl group.
At least one of X 1 and X 2 represents an NHSO 2 Y group (where Y represents a linear or branched alkyl group substituted with at least two fluorine atoms), and the rest Represents a hydrogen atom.
R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a linear or branched alkoxy group.
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.
Note that H + is eliminated from the NHSO 2 Y group to become an NSO 2 Y (negative) group, and the azo compound represented by the general formula (1) forms a coordinate bond with the metal ion. )

3として好ましくは、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、sec−ブチル基等の炭素数が1以上4以下の直鎖もしくは分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数3以上8以下のシクロアルキル基;である。特に好ましくは、立体障害が小さいという理由から、メチル基、エチル基等の炭素数1若しくは2の直鎖アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3以上6以下のシクロアルキル基;である。 R 3 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, sec-butyl, etc .; cyclopropyl A cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, such as a group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group. Particularly preferred is a straight chain alkyl group having 1 or 2 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group because of low steric hindrance; a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as a cyclopentyl group or a cyclohexyl group. .

2として好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1以上6以下の直鎖アルキル基;イソプロピル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシルメチル基等の炭素数3以上8以下の分岐アルキル基等が挙げられる。 R 2 is preferably a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group; isopropyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t- Examples thereof include branched alkyl groups having 3 to 8 carbon atoms such as a butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclohexylmethyl group and the like.

Yは、少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。直鎖又は分岐のアルキル基として好ましくは、炭素数1以上6以下の直鎖又は分岐のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数1以上3以下の直鎖アルキル基である。   Y represents a linear or branched alkyl group substituted with at least two fluorine atoms. The linear or branched alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

4、R5として好ましくは、水素原子、炭素数1以上6以下の直鎖アルキル基、炭素数1以上8以下のアルコキシ基である。R4、R5としてより好ましくは、水素原子、炭素数1若しくは2のアルキル基、又は、炭素数1若しくは2のアルコキシ基である。上記アルキル基、アルコキシ基は無置換であることが好ましい。R4、R5として特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、又はメトキシ基である。 R 4 and R 5 are preferably a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. R 4 and R 5 are more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms. The alkyl group and alkoxy group are preferably unsubstituted. R 4 and R 5 are particularly preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a methoxy group.

6、R7、R8、及びR9は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1若しくは2のアルキル基を表わす。水素原子又は炭素数1若しくは2のアルキル基を用いることにより、吸光度や屈折率を所定の値に調整しやすくなるため好ましい。炭素数1若しくは2のアルキル基は、炭素原子に結合している水素原子が他の置換基(例えばハロゲン原子)で置換されていてもよいが、無置換のアルキル基であることが好ましい。炭素数1若しくは2のアルキル基としては、メチル基、エチル基が挙げられる。合成の容易性や立体構造の点から、R6、R7、R8、及びR9として最も好ましいのは、水素原子である。 R 6 , R 7 , R 8 , and R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms. It is preferable to use a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms because the absorbance and refractive index can be easily adjusted to predetermined values. In the alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, the hydrogen atom bonded to the carbon atom may be substituted with another substituent (for example, a halogen atom), but is preferably an unsubstituted alkyl group. Examples of the alkyl group having 1 or 2 carbon atoms include a methyl group and an ethyl group. From the viewpoint of ease of synthesis and steric structure, hydrogen atoms are most preferred as R 6 , R 7 , R 8 , and R 9 .

上記式(1)に係る含金属アゾ色素は、(i)適度な発熱量を有し、(ii)適切な波長域に吸収を有する(本発明者らは、(i)と(ii)とを少なくともヒートモードの反応に寄与する因子と考えている。)上に、含金属アゾ色素の中では(iii)励起状態の失活速度が大きい(本発明者らは、(iii)をフォトンモードの反応に少なくとも寄与する因子と考えている。)と考えられる。その結果、ヒートモードとフォトンモードの分解反応のバランスが良く、ジッターを低減し、クロストークが低減できる可能性がある。そのために、2層型光記録媒体の第2層目の記録層と組み合わせる場合に、格段の効果が発揮されやすい。何故ならば、前述のように、2層型光記録媒体においてはジッターやクロストークの増大が顕著となりやすい。第2層目の記録層としての逆積層体では、十分な反射率を得るために溝深さを従来の溝深さよりも浅くする方が好ましい。その浅い溝が、ジッターやクロストークを増大させる原因の一つである。また、基板の溝間部に相当する領域に記録する場合には、前述のように、十分な記録変調度を得るために、記録層の膜厚を厚くする必要がある。かかる記録層の厚い膜が、ジッターやクロストークを増大させるもう一つの原因である。尚、ジッターやクロストークは、記録速度が大きくなるほど大きくなる傾向がある。一方、後述の第3の実施形態に係る、2P法による2層型光記録媒体においては、2P層の膜厚のむらや2Pの硬化収縮により発生する光学的歪や反りが発生する場合がある。そのために、記録レーザー光のビームが歪んだり、記録部分のビーム走行部分のオフセットが生じたりして、特に高速記録の時のジッターやクロストークを増大させる原因になる可能性がある。従って、かかる2P法による2層型光記録媒体の第2層目の記録層(レーザー光の入射側からみて遠い側にある記録層)に、上記式(1)に係る含金属アゾ色素を含有させることにより、格段の効果が得られる。   The metal-containing azo dye according to the above formula (1) has (i) an appropriate calorific value, and (ii) has absorption in an appropriate wavelength range (the inventors have (i) and (ii) In addition, among metal-containing azo dyes, (iii) the excitation-state deactivation rate is large (the present inventors consider that (iii) is a photon mode. This is considered to be a factor that contributes at least to the reaction. As a result, there is a possibility that the balance between the decomposition reaction of the heat mode and the photon mode is good, jitter can be reduced, and crosstalk can be reduced. Therefore, when combined with the second recording layer of the two-layer optical recording medium, a remarkable effect is easily exhibited. This is because, as described above, an increase in jitter and crosstalk tends to be remarkable in a two-layer optical recording medium. In the reverse laminate as the second recording layer, it is preferable to make the groove depth shallower than the conventional groove depth in order to obtain sufficient reflectance. The shallow groove is one of the causes of increasing jitter and crosstalk. Further, when recording in a region corresponding to the groove portion of the substrate, it is necessary to increase the thickness of the recording layer in order to obtain a sufficient recording modulation degree as described above. Such a thick recording layer is another cause of increased jitter and crosstalk. Note that jitter and crosstalk tend to increase as the recording speed increases. On the other hand, in a two-layered optical recording medium based on the 2P method according to a third embodiment to be described later, there are cases where unevenness of the film thickness of the 2P layer or optical distortion or warpage caused by 2P curing shrinkage occurs. For this reason, the beam of the recording laser beam is distorted, or an offset of the beam traveling portion of the recording portion is generated, which may cause a jitter or crosstalk to be increased particularly during high-speed recording. Therefore, the metal-containing azo dye according to the above formula (1) is contained in the second recording layer (the recording layer on the side far from the laser beam incident side) of the two-layer optical recording medium by the 2P method. By doing so, a remarkable effect can be obtained.

上記式(1)に係る含金属アゾ色素は、その配位子と金属との組み合わせにより、記録レーザー波長において高屈折率を可能にするアゾ色素である。そして、上記式(1)に係る含金属アゾ色素は一定以上の発熱量を有する。更に、中心金属イオンをZn2+と組み合わせることにより、記録光により励起状態となる場合に、輻射遷移確率が増す、或いは、別の分子との間にエネルギー移動を起こすなどして、無輻射遷移をあまり経ないで、非常に高速で分解するものと考えられる。つまり、上記式(1)に係る含金属アゾ色素を含む記録層は、分解、即ち、記録部分の形成が、非常に短時間で完了されると考えられる。その結果、高速記録での、前述のような外乱が低減され、ジッターやクロストークの小さい良好な高速記録が、2層型光記録媒体の第2層目の記録層において達成されやすいのである。 The metal-containing azo dye according to the above formula (1) is an azo dye that enables a high refractive index at the recording laser wavelength by a combination of its ligand and metal. The metal-containing azo dye according to the above formula (1) has a calorific value greater than a certain level. Furthermore, combining the central metal ion with Zn 2+ increases the probability of radiative transition when excited by recording light, or causes energy transfer to or from another molecule. It is thought that it decomposes at a very high speed without going through much. That is, the recording layer containing the metal-containing azo dye according to the above formula (1) is considered to be decomposed, that is, the formation of the recording portion is completed in a very short time. As a result, the above-described disturbance in high-speed recording is reduced, and good high-speed recording with small jitter and crosstalk is easily achieved in the second recording layer of the two-layer optical recording medium.

尚、かかるジッターの低減の効果は、例えば、ジッターのアシンメトリーのマージンが広くなることにより知ることができる。また、クロストークの低減は、既に説明したMT%とST%の他に、前記アシンメトリーマージンが広くなることによっても知ることが可能である。   The effect of reducing the jitter can be known by, for example, increasing the jitter asymmetry margin. In addition to the MT% and ST% described above, the reduction in crosstalk can be known by increasing the asymmetry margin.

上記式(1)に係る含金属アゾ色素の例としては、下記に挙げる色素が挙げられる。   Examples of the metal-containing azo dye according to the above formula (1) include the following dyes.

Figure 2006313612
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[第3の実施形態]
続いて、上述した本発明の第2の光記録媒体に係る実施形態(これを以下「本発明の第3の実施形態」という。)について説明する。
[Third Embodiment]
Subsequently, an embodiment of the above-described second optical recording medium of the present invention (hereinafter referred to as “third embodiment of the present invention”) will be described.

図5は、本発明の第3の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。図5に示す光記録媒体300は、ディスク状の基板(2)301(第2の基板)上に、色素を含む記録層(2)(第2の記録層)302、半透明の反射層(2)303(第2の反射層)、透明樹脂層304、色素を含む記録層(1)305(第1の記録層)、反射層(1)306(第1の反射層)、接着層307、及び基板(1)308(第1の基板)をこの順に有する。そして、記録層(2)302及び記録層(1)306において、基板(2)109側から入射したレーザー光310により、光情報の記録再生が行なわれる。なお、基板(2)301、記録層(2)302、及び反射層(2)303を併せて「正積層体」と称する場合がある。また、記録層(1)305が、上述の「第2層目の記録層」に該当することになる。   FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an optical recording medium according to the third embodiment of the present invention. An optical recording medium 300 shown in FIG. 5 includes a recording layer (2) (second recording layer) 302 containing a dye, a translucent reflective layer (second substrate) on a disk-shaped substrate (2) 301 (second substrate). 2) 303 (second reflective layer), transparent resin layer 304, recording layer containing dye (1) 305 (first recording layer), reflective layer (1) 306 (first reflective layer), adhesive layer 307 And a substrate (1) 308 (first substrate) in this order. In the recording layer (2) 302 and the recording layer (1) 306, optical information is recorded / reproduced by the laser beam 310 incident from the substrate (2) 109 side. The substrate (2) 301, the recording layer (2) 302, and the reflective layer (2) 303 may be collectively referred to as a “positive laminate”. Further, the recording layer (1) 305 corresponds to the above-mentioned “second recording layer”.

基板(2)301、記録層(2)302、及び反射層(2)303の材料や形成方法等の詳細は、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の基板(2)109、記録層(2)108、及び反射層(2)107の詳細と、それぞれ同様である。   Details of materials, formation methods, and the like of the substrate (2) 301, the recording layer (2) 302, and the reflective layer (2) 303 are the substrate (2 of the optical recording medium 100 described in the section of the first embodiment). ) 109, the recording layer (2) 108, and the details of the reflective layer (2) 107, respectively.

続いて、反射層(2)303上に透明樹脂層304を形成する。透明樹脂層304を形成する手法としては、通常は2P(Photo Polymerization)法が用いられる。2P法を用いて透明樹脂層304(これを「中間層」という場合もある。)に案内溝を形成する場合、その手順は通常、以下の通りである。   Subsequently, a transparent resin layer 304 is formed on the reflective layer (2) 303. As a method for forming the transparent resin layer 304, a 2P (Photo Polymerization) method is usually used. When the guide groove is formed in the transparent resin layer 304 (which may be referred to as “intermediate layer”) using the 2P method, the procedure is usually as follows.

まず、反射層(2)303上に、紫外線等の放射線に代表される光により硬化する光硬化性樹脂原料等を塗布して樹脂原料層を形成する。続いて、この上に転写用の凹凸形状(以下適宜「転写用凹凸形状」という。)を有するスタンパを載置する。次いで、上記光硬化性樹脂原料等を硬化させた後に、スタンパを剥離する。このようにして、光硬化性樹脂の表面にスタンパの転写用凹凸形状を転写させて、凹凸形状、即ち案内溝を有する透明樹脂層304(2P層)を、光硬化性樹脂の硬化物によって形成することができるようになっている。この場合、十分な反射率が得られるにようにするためには、この案内溝の深さを、(1/100)×λ以上、(1/6)×λ以下の範囲内とすればよい。なお、「λ」はレーザー光310の記録再生波長を表わす。   First, a resin raw material layer is formed on the reflective layer (2) 303 by applying a photocurable resin raw material or the like that is cured by light typified by radiation such as ultraviolet rays. Subsequently, a stamper having a concavo-convex shape for transfer (hereinafter appropriately referred to as “transfer concavo-convex shape”) is placed thereon. Next, after the photocurable resin raw material is cured, the stamper is peeled off. In this way, the concavo-convex shape for transfer of the stamper is transferred to the surface of the photocurable resin, and the transparent resin layer 304 (2P layer) having the concavo-convex shape, that is, the guide groove, is formed by a cured product of the photocurable resin. Can be done. In this case, in order to obtain a sufficient reflectance, the depth of the guide groove may be in the range of (1/100) × λ or more and (1/6) × λ or less. . “Λ” represents the recording / reproducing wavelength of the laser beam 310.

尚、前記スタンパとしては、例えば、環状ポリオレフィン又はポリスチレン系樹脂で形成したスタンパ等を用いることができる。
また、透明樹脂層304の材料となる光硬化性樹脂としては、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の透明樹脂層105の材料として記載した、各種の電子線硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂を挙げることができる。
As the stamper, for example, a stamper formed of cyclic polyolefin or polystyrene resin can be used.
In addition, as the photocurable resin used as the material of the transparent resin layer 304, various electron beam curable materials described as the material of the transparent resin layer 105 of the optical recording medium 100 described in the section of the first embodiment. Examples thereof include resins and ultraviolet curable resins.

続いて、透明樹脂層304上に、第2層目の記録層である記録層(1)305を形成する。記録層(1)305の色素としては、少なくとも上記式(1)に係る含金属アゾ色素が用いられる。上記式(1)に係る含金属アゾ色素は、何れか一種を単独で用いてもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。また、一種又は二種以上の上記式(1)に係る含金属アゾ色素に加えて、その他の一種又は二種以上の色素を併用してもよい。上記式(1)に係る含金属アゾ色素と併用可能なその他の色素の種類は特に制限されない。例としては、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の記録層(1)103に用いられる色素と同様の色素が挙げられる。また、記録層(1)305の色素以外の材料や形成方法等の詳細についても、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の記録層(1)103の詳細と同様である。   Subsequently, a recording layer (1) 305 which is a second recording layer is formed on the transparent resin layer 304. As the dye of the recording layer (1) 305, at least the metal-containing azo dye according to the above formula (1) is used. Any one of the metal-containing azo dyes according to the above formula (1) may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio. Moreover, in addition to the 1 type, or 2 or more types of metal-containing azo pigment | dye which concerns on the said Formula (1), you may use together another 1 type, or 2 or more types of pigment | dye. There are no particular limitations on the type of other dyes that can be used in combination with the metal-containing azo dye according to the above formula (1). As an example, the same dye as that used for the recording layer (1) 103 of the optical recording medium 100 described in the section of the “first embodiment” may be mentioned. The details of the recording layer (1) 305 other than the dye, the formation method, and the like are the same as the details of the recording layer (1) 103 of the optical recording medium 100 described in the section of the first embodiment. is there.

次に、記録層(1)305上に反射層(1)306を形成する。反射層(1)306の材料や形成方法等の詳細は、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の反射層(1)102の詳細と同様である。   Next, the reflective layer (1) 306 is formed on the recording layer (1) 305. Details of the material, formation method, and the like of the reflective layer (1) 306 are the same as the details of the reflective layer (1) 102 of the optical recording medium 100 described in the section of the first embodiment.

その後、反射層(1)306上に基板(1)308を設ける。基板(1)308の材料等の詳細は、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の基板(1)101の詳細と同様である。また、反射層(1)306上に基板(1)308を設ける方法も特に制限されないが、通常は図5に示すように、予め成形した基板(1)308を用意し、これを反射層(1)306上に接着層307を介して貼り合わせることにより形成される。   Thereafter, the substrate (1) 308 is provided on the reflective layer (1) 306. Details of the material and the like of the substrate (1) 308 are the same as the details of the substrate (1) 101 of the optical recording medium 100 described in the section of the first embodiment. In addition, the method of providing the substrate (1) 308 on the reflective layer (1) 306 is not particularly limited. Usually, as shown in FIG. 5, a preformed substrate (1) 308 is prepared, and this is applied to the reflective layer ( 1) It is formed by bonding onto 306 via an adhesive layer 307.

接着層307の材料等は特に制限されない。例としては、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の透明樹脂層105と同様の各種の硬化性樹脂や、従来公知の各種の接着剤、感圧式両面テープ等が挙げられる。   The material of the adhesive layer 307 is not particularly limited. Examples include various curable resins similar to the transparent resin layer 105 of the optical recording medium 100 described in the section of [First Embodiment], conventionally known various adhesives, pressure-sensitive double-sided tape, and the like. It is done.

硬化性樹脂を用いる場合、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の透明樹脂層105と同様の塗布法等により、反射層(1)306上に硬化性樹脂の原料からなる層(硬化性樹脂原料層)を形成し、その上に基板(1)308を載置し、押圧するとともに、押圧中又は押圧後に硬化性樹脂原料を硬化させる条件(紫外線硬化性樹脂や放射線硬化性樹脂の場合には紫外線や放射線の照射、熱硬化性樹脂の場合には加熱)を加え、硬化性樹脂原料を硬化させて硬化性樹脂からなる接着層307を形成するとともに、当該接着層307を介して反射層(1)306と基板(1)308とを接着する。   In the case of using a curable resin, from the raw material of the curable resin on the reflective layer (1) 306 by the same application method as that for the transparent resin layer 105 of the optical recording medium 100 described in the section of the first embodiment. A layer (curable resin raw material layer) to be formed, and a substrate (1) 308 is placed thereon and pressed, and conditions for curing the curable resin raw material during or after pressing (UV curable resin or radiation) In the case of a curable resin, an ultraviolet ray or radiation is applied, and in the case of a thermosetting resin, the adhesive layer 307 made of the curable resin is formed by curing the curable resin raw material, and the adhesive layer The reflective layer (1) 306 and the substrate (1) 308 are bonded to each other through 307.

接着剤を用いる場合、反射層(1)306上にスクリーン印刷等の方法で接着剤を塗布し、その上に基板(1)308を載置し、押圧することにより、接着層307を形成するとともに、当該接着層307を介して反射層(1)306と基板(1)308とを接着する。   In the case of using an adhesive, the adhesive layer 307 is formed by applying the adhesive on the reflective layer (1) 306 by a method such as screen printing, placing the substrate (1) 308 on the reflective layer (1) 306, and pressing it. At the same time, the reflective layer (1) 306 and the substrate (1) 308 are bonded via the adhesive layer 307.

両面テープ(例えば、感圧式両面テープ)を用いる場合、反射層(1)306と基板(1)308との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層307を形成するとともに、当該接着層307を介して反射層(1)306と基板(1)308とを接着する。   When a double-sided tape (for example, a pressure-sensitive double-sided tape) is used, an adhesive layer 307 is formed by pressing the pressure-sensitive double-sided tape between the reflective layer (1) 306 and the substrate (1) 308, The reflective layer (1) 306 and the substrate (1) 308 are bonded through the adhesive layer 307.

以上の手法により形成される接着層307の光透過性は特に制限されず、透明であっても不透明であってもよい。接着層307の厚さも特に制限されないが、通常1μm以上、好ましくは3μm以上、また、通常300μm以下、好ましくは100μm以下の範囲である。   The light transmittance of the adhesive layer 307 formed by the above method is not particularly limited, and may be transparent or opaque. The thickness of the adhesive layer 307 is not particularly limited, but is usually 1 μm or more, preferably 3 μm or more, and usually 300 μm or less, preferably 100 μm or less.

以上、第3実施形態に係る光記録媒体300について説明したが、本発明の実施の形態はこれに制限されることなく、任意の変形を加えて実施することも可能である。   Although the optical recording medium 300 according to the third embodiment has been described above, the embodiment of the present invention is not limited to this, and can be implemented with arbitrary modifications.

例えば、上述の光記録媒体300の各層の間に、他の任意の層を設けてもよい。他の層の例としては、反射層(2)303と透明樹脂層304との間に設けられる保護コート層や、透明樹脂層304と記録層(1)305との間に設けられるバリア層等が挙げられる。保護コート層及びバリア層の材料や形成方法等の詳細は、[第1の実施形態]の欄において説明した光記録媒体100の保護コート層106及びバリア層104の詳細と同様である。   For example, other arbitrary layers may be provided between the layers of the optical recording medium 300 described above. Examples of other layers include a protective coat layer provided between the reflective layer (2) 303 and the transparent resin layer 304, a barrier layer provided between the transparent resin layer 304 and the recording layer (1) 305, and the like. Is mentioned. The details of the material and forming method of the protective coat layer and the barrier layer are the same as the details of the protective coat layer 106 and the barrier layer 104 of the optical recording medium 100 described in the section of the first embodiment.

以下、実施例(実験例)に基づき本実施の形態を更に具体的に説明する。尚、本実施の形態は、その要旨を超えない限り以下の実施例(実験例)に限定されるものではない。   Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically based on examples (experimental examples). The present embodiment is not limited to the following examples (experimental examples) as long as the gist thereof is not exceeded.

[実験条件]
後述する実験例1、2及び4では、以下の手順に従って、逆積層体を有する2層型の光記録媒体(図1(a)に示す構成の光記録媒体)を調製し、逆積層体を構成する記録層(1)に記録された光情報のMT(%)及びST(%)を測定した。
[Experimental conditions]
In Experimental Examples 1, 2, and 4 to be described later, a two-layer type optical recording medium (an optical recording medium having a configuration shown in FIG. 1A) having a reverse laminate is prepared according to the following procedure. MT (%) and ST (%) of the optical information recorded on the recording layer (1) to be formed were measured.

〔光記録媒体の調製〕
<逆積層体の調製>
先ず、表面に溝が形成されたNiスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ0.74μm、幅340nm、深さ28nmの溝が形成された直径120mm、厚さ0.60mmの基板(1)を形成した。次に、この基板(1)の上に、Ag−Bi−Nd合金をスパッタ法により80nmの厚さに成膜して反射層(1)を形成した。次いで、有機色素化合物として、それぞれ下記化学式で表される含金属アゾ色素である色素A及び色素Bの混合物(色素A:色素B=50重量%:50重量%)のテトラフルオロプロパノール溶液(濃度2重量%)を調製し、これを上述の反射層(1)上に滴下し、スピンコートした後、70℃で30分間乾燥し、記録層(1)を形成した。基板(1)の溝部における記録層(1)の膜厚(図1(a)における逆積層体の溝部、即ち、入射レーザー光に遠い部分の記録層膜厚)は約70nm、基板(1)の溝間部における記録層(1)の膜厚(図1(a)における逆積層体の溝間部、即ち、入射レーザー光に近い部分の記録層膜厚)は約60nmであった。記録膜のOD値は1.20であった。
[Preparation of optical recording medium]
<Preparation of reverse laminate>
First, a substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.60 mm in which grooves having a pitch of 0.74 μm, a width of 340 nm, and a depth of 28 nm are formed by injection-molding polycarbonate using a Ni stamper having grooves formed on the surface. (1) was formed. Next, an Ag—Bi—Nd alloy was formed into a thickness of 80 nm on the substrate (1) by sputtering to form a reflective layer (1). Next, as an organic dye compound, a tetrafluoropropanol solution (concentration 2) of a mixture of dye A and dye B, which are metal-containing azo dyes represented by the following chemical formulas (dye A: dye B = 50 wt%: 50 wt%), respectively. % By weight) was added dropwise onto the above-mentioned reflective layer (1), spin-coated, and then dried at 70 ° C. for 30 minutes to form a recording layer (1). The film thickness of the recording layer (1) in the groove portion of the substrate (1) (the groove portion of the reverse laminate in FIG. 1A, that is, the film thickness of the recording layer far from the incident laser beam) is about 70 nm, and the substrate (1) The thickness of the recording layer (1) in the inter-groove portion (the inter-groove portion of the reverse laminate in FIG. 1A, that is, the recording layer thickness near the incident laser beam) was about 60 nm. The OD value of the recording film was 1.20.

Figure 2006313612
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Figure 2006313612
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続いて、記録層(1)の形成後、なるべく時間をおかずに、この記録層(1)上に、後述の〔実験例1〕の表2に記載の各組成からなるバリア層を、スパッタ法により形成した。ここで、スパッタ時間を調整することにより、バリア層の膜厚を2nmとなるようにした。尚、バリア層のスパッタを行なう前に、前記のプリスパッタを実施した。このようにして、逆積層体のディスク1を調製した。   Subsequently, after forming the recording layer (1), a barrier layer made of each composition described in Table 2 of [Experimental Example 1] described later is sputtered on the recording layer (1) as much as possible. Formed by. Here, the film thickness of the barrier layer was adjusted to 2 nm by adjusting the sputtering time. The pre-sputtering was performed before the barrier layer was sputtered. In this way, an inversely laminated disk 1 was prepared.

<正積層体の調製>
深さ160nm、幅360nm、トラックピッチ740nmの案内溝を形成したポリカーボネート製の基板(2)を調製し、この基板(2)の案内溝が形成された面上に、前述した含金属アゾ色素である色素Aと下記化学式で表わされる含金属アゾ色素である色素Cとの混合物(色素A:色素C=10重量%:90重量%)のテトラフルオロプロパノール溶液(濃度2重量%)を滴下し、スピンコートした後、70℃で30分間乾燥し、記録層(2)を形成した。記録層(2)の厚さ(図1(a)における正積層体の溝部の記録層膜厚)は約80nmであった。次いで、記録層(2)上に、Ag−Bi合金(Bi:1.0原子%)を17nmの厚さとなるようにスパッタ法により成膜して反射層(2)を形成した。更に、この反射層(2)上に、紫外線硬化性樹脂(大日本インキ(株)製ラジカル系紫外線硬化性樹脂SD347)をスピンコートして硬化させ、膜厚3μm〜4μmの保護コート層を形成することにより、正積層体のディスク2を調製した。
<Preparation of regular laminate>
A polycarbonate substrate (2) having guide grooves having a depth of 160 nm, a width of 360 nm, and a track pitch of 740 nm was prepared, and the above-described metal-containing azo dye was formed on the surface of the substrate (2) on which the guide grooves were formed. A tetrafluoropropanol solution (concentration 2% by weight) of a mixture of a certain dye A and a dye C which is a metal-containing azo dye represented by the following chemical formula (dye A: dye C = 10% by weight: 90% by weight) is dropped, After spin coating, the recording layer (2) was formed by drying at 70 ° C. for 30 minutes. The thickness of the recording layer (2) (the thickness of the recording layer in the groove portion of the positive laminate in FIG. 1A) was about 80 nm. Next, on the recording layer (2), an Ag—Bi alloy (Bi: 1.0 atomic%) was formed by sputtering so as to have a thickness of 17 nm to form a reflective layer (2). Further, an ultraviolet curable resin (radical ultraviolet curable resin SD347 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) is spin coated on the reflective layer (2) and cured to form a protective coating layer having a thickness of 3 μm to 4 μm. Thus, a positively laminated disk 2 was prepared.

Figure 2006313612
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<2層型光記録媒体の調製>
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク1のバリア層の上に、樹脂A(大日本インキ(株)製ラジカル系紫外線硬化性樹脂:弾性率4000MPa(30℃)、ガラス転移温度Tg=174℃)を、膜厚23μmになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。また、正積層体であるディスク2の保護コート層の上に、上記樹脂Aを、膜厚23μmになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。次に、それぞれ樹脂Aを塗布したディスク1とディスク2とを、樹脂Aが塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク2(正積層体)の基板(2)側から紫外線を照射して樹脂Aを硬化させ、樹脂Aからなる透明樹脂層を形成することにより、2層型の光記録媒体を調製した。
<Preparation of two-layer type optical recording medium>
On the barrier layer of the disk 1 which is the reverse laminate prepared by the above-described method, resin A (a radical ultraviolet curable resin manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd .: elastic modulus 4000 MPa (30 ° C.), glass transition temperature Tg = 174 ° C.) was applied by adjusting the spin coat rotation speed so that the film thickness was 23 μm. Further, the resin A was applied on the protective coating layer of the disk 2 which is a positive laminate, with the spin coating rotation speed adjusted so as to have a film thickness of 23 μm. Next, the disc 1 and the disc 2 each coated with the resin A are overlapped so that the surfaces coated with the resin A are opposed to each other, and then ultraviolet rays are applied from the substrate (2) side of the disc 2 (regular laminate). To cure the resin A and form a transparent resin layer made of the resin A to prepare a two-layer optical recording medium.

尚、樹脂Aの弾性率及びガラス転移温度Tgは、動的粘弾性試験機(レオバイブロン社製:DDVシリーズ)を使用し、測定周波数3.5Hz、昇温速度3℃/minの条件で測定した。   The elastic modulus and glass transition temperature Tg of the resin A were measured using a dynamic viscoelasticity tester (manufactured by Leo Vibron: DDV series) under the conditions of a measurement frequency of 3.5 Hz and a heating rate of 3 ° C./min. .

〔ディスク1(逆積層体)への光情報の高速記録条件〕
尚、逆積層体であるディスク1への光情報の高速記録条件は以下の通りである。
評価機としては、パルステック製DDU−1000(波長662nm、対物レンズの開口数NA=0.65)を使用した。
記録速度は、DVDの2.4倍速(線速度9.2m/s)とした。
記録パルスストラテジーとしては、DVD+Recordable Dual Layer 8.5Gbytes Basic Format Specifications version 1.1に準拠した。
記録パワーは、17mW〜25mWとした。
ジッター(data-to-clock jitter)測定は、1倍速にて再生しながら行なった。
[Conditions for high-speed recording of optical information on disk 1 (reverse laminate)]
The conditions for high-speed recording of optical information on the disc 1 which is a reverse laminate are as follows.
As an evaluator, DDU-1000 (wavelength 662 nm, numerical aperture NA = 0.65 of the objective lens) manufactured by Pulse Tech was used.
The recording speed was 2.4 times that of DVD (linear speed: 9.2 m / s).
The recording pulse strategy conformed to DVD + Recordable Dual Layer 8.5 Gbytes Basic Format Specifications version 1.1.
The recording power was 17 mW to 25 mW.
Jitter (data-to-clock jitter) measurement was performed while reproducing at 1 × speed.

〔MT、ST、ΔJitterの評価〕
通常の光ディスク製品は、トラックを空かさず記録されるので、MT(%)が、その光ディスクの信号品質を反映する値となる。MT(%)は、一般的には13%以下である必要があり、10%以下が好ましく、更に好ましくは9%以下である。13%を超えると、エラーが増大する傾向となる。
[Evaluation of MT, ST, ΔJitter]
Since normal optical disc products are recorded without emptying the track, MT (%) is a value that reflects the signal quality of the optical disc. MT (%) generally needs to be 13% or less, preferably 10% or less, and more preferably 9% or less. If it exceeds 13%, the error tends to increase.

尚、ST(%)は10%以下が好ましい。より好ましくは9%以下であり、更に好ましくは8%以下である。尚、バリア層の膜厚等の条件、或いは記録ストラテジーをいかに変化させてもST(%)が10%を下回らない場合は、そのバリア層が適切な材料ではないと判断する。   Note that ST (%) is preferably 10% or less. More preferably, it is 9% or less, More preferably, it is 8% or less. If ST (%) does not fall below 10% regardless of how the film thickness of the barrier layer is changed or the recording strategy, it is determined that the barrier layer is not an appropriate material.

また、ST(%)とMT(%)の差、即ち、Δjitterは、2%以下が好ましく、より好ましくは1.6%以下であり、更に好ましくは1%以下である。それを超えると、MT(%)が13%を超えるおそれがある。   Further, the difference between ST (%) and MT (%), that is, Δjitter is preferably 2% or less, more preferably 1.6% or less, and further preferably 1% or less. Beyond that, MT (%) may exceed 13%.

[実験例1]
上述の手順に従って、それぞれ下記表2に示す材料からなる2nmのバリア層をディスク1に設けた、2層型の光記録媒体(2層型DVD−Rディスク)を作製した。得られた光記録媒体のディスク1に、上述の条件でDVD−Rの2.4倍速記録を行ない、ST(%)、MT(%)、Δjitterを測定した。得られたST(%)、MT(%)、Δjitterの結果を下記表2に示す。また、ST(%)が9%以下の材料について、熱伝導率を横軸に、Δjitterを縦軸にとってプロットしたグラフを図2に示す。図2のグラフ中、「◆」が個々の材料に対応する。図2のグラフより、熱伝導率70W/m・K(Snの熱伝導率67W/m・K)を境にして、それよりも熱伝導率が大きくなると急激に特性が向上することが分かる。更に、熱伝導率が90W/m・K以上では、半導体であるSiとCを除けば、Δjitterが1%以下となり、極めて良好な特性が得られることがわかる。なお、SiとCについても、他の金属成分を混合して用いることにより、特性を向上させることが可能であると考えられる。
[Experimental Example 1]
According to the above-mentioned procedure, a two-layer type optical recording medium (two-layer DVD-R disc) in which a 2 nm barrier layer made of the material shown in Table 2 below was provided on the disc 1 was produced. DVD-R 2.4-times speed recording was performed on the obtained optical recording medium disk 1 under the above-described conditions, and ST (%), MT (%), and Δjitter were measured. The obtained ST (%), MT (%) and Δjitter results are shown in Table 2 below. FIG. 2 is a graph in which the thermal conductivity is plotted on the horizontal axis and Δjitter is plotted on the vertical axis for materials having ST (%) of 9% or less. In the graph of FIG. 2, “♦” corresponds to each material. From the graph of FIG. 2, it can be seen that the characteristics are rapidly improved when the thermal conductivity becomes higher than 70 W / m · K (Sn thermal conductivity 67 W / m · K) as a boundary. Furthermore, when the thermal conductivity is 90 W / m · K or more, Δjitter is 1% or less except for Si and C, which are semiconductors, and it can be seen that extremely good characteristics can be obtained. Note that it is considered that characteristics of Si and C can be improved by mixing and using other metal components.

Figure 2006313612
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各種の材料をバリア層に用いて得られたST(%)及びMT(%)のグラフを図4に示す。図4のグラフから、Al(熱伝導率237W/m・K)、Mo(熱伝導率138W/m・K)、W(熱伝導率174W/m・K)、Cu(熱伝導率401W/m・K)の記録特性が極めて良好であることがわかる。また、Co、Crはともに、4倍速記録、8倍速記録で感度が良好で、ジッターも良好であった。尚、Ag、Al、Si、Cは、合金化或いは光硬化性樹脂の改良などにより、記録特性並びに耐候性の良好なバリア層となる可能性がある。また、Auは、記録パルスストラテジーを調整することにより、MT(%)、ST(%)等の特性を改善できる可能性がある。しかし、上記の極めて良好なMo、W、Cu、Co、Cr、Alに比べれば、Auは記録パルスマージンが狭く、やや良くない傾向は見られる。それは、Auの高温での膜の機械特性に起因するものと考えられる。   FIG. 4 shows a graph of ST (%) and MT (%) obtained by using various materials for the barrier layer. From the graph of FIG. 4, Al (thermal conductivity 237 W / m · K), Mo (thermal conductivity 138 W / m · K), W (thermal conductivity 174 W / m · K), Cu (thermal conductivity 401 W / m). It can be seen that the recording characteristics of K) are very good. Both Co and Cr had good sensitivity and good jitter in 4 × speed recording and 8 × speed recording. Note that Ag, Al, Si, and C may be a barrier layer with good recording characteristics and weather resistance due to alloying or improvement of a photocurable resin. Moreover, there is a possibility that Au can improve characteristics such as MT (%) and ST (%) by adjusting the recording pulse strategy. However, compared to the above-mentioned very good Mo, W, Cu, Co, Cr, and Al, Au has a narrower recording pulse margin and tends to be somewhat unfavorable. It is considered that this is due to the mechanical properties of Au at high temperatures.

一方、ST(%)が10%を超えたNbとTaは、Δjitterはそれぞれ0.9%と0.4%と小さいが、各マーク長のジッターがすべて悪いため、記録ストラテジー条件を検討しても、このジッターの値を改善することはできなかった。従って、Nb(熱伝導率54W/m・K)とTa(熱伝導率58W/m・K)は、本発明のバリア層の材料として選択することはできないことがわかる。   On the other hand, for Nb and Ta with ST (%) exceeding 10%, Δjitter is as small as 0.9% and 0.4%, respectively, but the jitter of each mark length is all bad. However, this jitter value could not be improved. Therefore, it can be seen that Nb (thermal conductivity 54 W / m · K) and Ta (thermal conductivity 58 W / m · K) cannot be selected as the material of the barrier layer of the present invention.

[実験例2]
本発明に規定の熱伝導率を有するMo、Co(熱伝導率100W/m・K)、及び、それらの比較として誘電体膜であるZnS−SiO2を材料に用い、上述の手順に従ってそれぞれ下記表3に示す膜厚のバリア層をディスク1に設けた、2層型の光記録媒体(2層型DVD−Rディスク)を作製した。得られた光記録媒体のディスク1に、上述の条件でDVD−Rの2.4倍速記録を行ない、ST(%)、MT(%)、Δjitterを測定した。得られたST(%)、MT(%)、Δjitterの結果を下記表3に示す。また、バリア層の膜厚を横軸に、Δjitterを縦軸にとってプロットしたグラフを図3に示す。
[Experiment 2]
Mo, Co (thermal conductivity 100 W / m · K) having a thermal conductivity defined in the present invention, and ZnS—SiO 2 which is a dielectric film as a comparison thereof are used as materials, and according to the above procedure, respectively. A two-layer optical recording medium (double-layer DVD-R disk) in which a barrier layer having a thickness shown in Table 3 was provided on the disk 1 was produced. DVD-R 2.4-times speed recording was performed on the obtained optical recording medium disk 1 under the above-described conditions, and ST (%), MT (%), and Δjitter were measured. The obtained ST (%), MT (%) and Δjitter results are shown in Table 3 below. FIG. 3 shows a graph plotted with the barrier layer thickness on the horizontal axis and Δjitter on the vertical axis.

Figure 2006313612
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表3及び図3に明らかなように、熱伝導率が70W/m・Kを超えるMo、Coのバリア層を有する光記録媒体は、膜厚が5nmより薄くなると、Δjitterが低減する傾向が見られ、ZnS−SiO2よりも良好なジッターを示している。特に、膜厚3nm前後では、Mo、Co共に安定して良好なST(%)、MT(%)とΔjitterが得られることがわかる。 As is apparent from Table 3 and FIG. 3, the optical recording medium having a Mo and Co barrier layer having a thermal conductivity exceeding 70 W / m · K tends to decrease Δjitter when the film thickness is thinner than 5 nm. The jitter is better than that of ZnS—SiO 2 . In particular, when the film thickness is around 3 nm, both Mo and Co are stable and good ST (%), MT (%) and Δjitter can be obtained.

一方、ZnS−SiO2は、膜厚によらずΔjitterが2%前後と、本発明のバリア層ほどの良好な特性を得ることができないことがわかる。この違いは、まず、誘電体の熱伝導率が本発明の伝導率のおよそ1/100以下と非常に低いことに起因すると考えられる。つまり、誘電体膜では十分な放熱効果が得らないために、浅溝でありかつ、逆積層構成での良好なクロストーク特性が得られないのである。また、誘電体膜が、本発明の金属や合金、半導体の膜のような延性、展性に乏しいことも、極めて良好なST(%)特性を得ることができない原因と考えられる。 On the other hand, ZnS—SiO 2 has a Δjitter of about 2% regardless of the film thickness, indicating that it is not possible to obtain as good characteristics as the barrier layer of the present invention. This difference is considered to be caused by the fact that the thermal conductivity of the dielectric is very low, approximately 1/100 or less of the conductivity of the present invention. That is, since the dielectric film cannot provide a sufficient heat dissipation effect, it is a shallow groove, and good crosstalk characteristics cannot be obtained in the reverse stacking configuration. In addition, it is considered that the dielectric film has poor ductility and malleability like the metal, alloy, and semiconductor films of the present invention, so that it is impossible to obtain extremely good ST (%) characteristics.

[実験例3]
実験例1で作製した光記録媒体のうち、バリア層の材料としてMo、Cr、Co(膜厚はすべて2nm)を用いた光記録媒体を、記録後に80℃、85%相対湿度の試験槽に保存し、250時間後に取り出して記録部の信号を再生した。何れの光記録媒体も、PI(Parity of Inner-code)エラーが殆んど変化せず、良好な保存安定性を持つことがわかった。
[Experiment 3]
Among the optical recording media manufactured in Experimental Example 1, an optical recording medium using Mo, Cr, Co (film thickness is all 2 nm) as the material of the barrier layer is placed in a test tank of 80 ° C. and 85% relative humidity after recording. The signal was stored and taken out after 250 hours to reproduce the signal of the recording section. It was found that all optical recording media had good storage stability with almost no change in PI (Parity of Inner-code) error.

[実験例4]
〔光記録媒体の調製〕
<逆積層体の調製>
先ず、表面に溝が形成されたNiスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ0.74μm、幅340nm、深さ28nmの溝が形成された直径120mm、厚さ0.60mmの基板(1)を形成した。次に、この基板(1)の上に、Ag−Bi−Nd合金をスパッタ法により80nmの厚さに成膜して反射層(1)を形成した。次いで、有機色素化合物として、上記色素A(中心金属がNi2+)及び上記色素B(中心金属がZn2+)の混合物(色素A:色素B=50重量%:50重量%)のテトラフルオロプロパノール溶液(濃度2.1重量%)を調製し、これを上述の反射層(1)上に滴下し、スピンコートした後、70℃で30分間乾燥し、記録層(1)を形成した記録膜のOD値は1.20であった。
[Experimental Example 4]
[Preparation of optical recording medium]
<Preparation of reverse laminate>
First, a substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.60 mm in which grooves having a pitch of 0.74 μm, a width of 340 nm, and a depth of 28 nm are formed by injection-molding polycarbonate using a Ni stamper having grooves formed on the surface. (1) was formed. Next, an Ag—Bi—Nd alloy was formed into a thickness of 80 nm on the substrate (1) by sputtering to form a reflective layer (1). Next, as an organic dye compound, tetrafluoro of a mixture of the dye A (center metal is Ni 2+ ) and the dye B (center metal is Zn 2+ ) (dye A: dye B = 50 wt%: 50 wt%). A propanol solution (concentration: 2.1% by weight) was prepared, dropped onto the above-mentioned reflective layer (1), spin-coated, and then dried at 70 ° C. for 30 minutes to form a recording layer (1). The OD value of the film was 1.20.

尚、上記色素Bの窒素雰囲気中での発熱量は40.7Cal/g、分解温度278℃であり、少なくともヒートモード記録には適切な程度の発熱量を有する色素であることがわかった。なお、発熱量及び分解温度の測定には、セイコーインスツルメント社製TG/DTA6200を用い、昇温速度10℃/分、試料量約4mgの条件で測定を行なった。   The dye B had a calorific value in a nitrogen atmosphere of 40.7 Cal / g and a decomposition temperature of 278 ° C. It was found that the dye B had a calorific value appropriate for at least heat mode recording. The calorific value and the decomposition temperature were measured using a TG / DTA 6200 manufactured by Seiko Instruments Inc. under the conditions of a heating rate of 10 ° C./min and a sample amount of about 4 mg.

尚、色素Bの色素塗布膜の吸収極大波長は554.1nmと601.9(strong)nmであり、色素Bは、記録波長である660nm近傍には、その吸収極大の吸光度の15.5%という、2層型光記録媒体の第2層目の記録層への記録には適切な量の吸収を有する色素であることがわかった。   The absorption maximum wavelengths of the dye-coated film of Dye B are 554.1 nm and 601.9 (strong) nm, and Dye B is 15.5% of the absorbance of the absorption maximum near the recording wavelength of 660 nm. It was found that the dye has an appropriate amount of absorption for recording on the second recording layer of the two-layer type optical recording medium.

続いて、記録層(1)の形成後、なるべく時間をおかずに、この記録層(1)上に、ZnS−SiO2をスパッタ法により130nmの厚さとなるように形成した。このようにして、逆積層体のディスク1を調製した。 Subsequently, after the formation of the recording layer (1), ZnS-SiO 2 was formed on the recording layer (1) to a thickness of 130 nm by sputtering, with as little time as possible. In this way, an inversely laminated disk 1 was prepared.

<正積層体の調製>
深さ160nm、幅360nm、トラックピッチ740nmの案内溝を形成したポリカーボネート製の基板(2)を調製し、この基板(2)の案内溝が形成された面上に、上記色素Aと上記色素Cとの混合物(色素A:色素C=10重量%:90重量%)のテトラフルオロプロパノール溶液(濃度2重量%)を滴下し、スピンコートした後、70℃で30分間乾燥し、記録層(2)を形成した。記録層(2)の厚さ(図1(a)における正積層体の溝部の記録層膜厚)は約80nmであった。次いで、記録層(2)上に、Ag−Bi合金(Bi:1.0原子%)を17nmの厚さとなるようにスパッタ法により成膜して反射層(2)を形成した。更に、この反射層(2)上に、紫外線硬化性樹脂(大日本インキ(株)製ラジカル系紫外線硬化性樹脂SD347)をスピンコートして硬化させ、膜厚3μm〜4μmの保護コート層を形成することにより、正積層体のディスク2を調製した。
<Preparation of regular laminate>
A polycarbonate substrate (2) having guide grooves having a depth of 160 nm, a width of 360 nm, and a track pitch of 740 nm was prepared, and the dye A and the dye C were formed on the surface of the substrate (2) on which the guide grooves were formed. A tetrafluoropropanol solution (concentration: 2% by weight) of a mixture of (A) and (Dye A: Dye C = 10% by weight: 90% by weight) was added dropwise, spin-coated, dried at 70 ° C. for 30 minutes, and the recording layer (2 ) Was formed. The thickness of the recording layer (2) (the thickness of the recording layer in the groove portion of the positive laminate in FIG. 1A) was about 80 nm. Next, on the recording layer (2), an Ag—Bi alloy (Bi: 1.0 atomic%) was formed by sputtering so as to have a thickness of 17 nm to form a reflective layer (2). Further, an ultraviolet curable resin (radical ultraviolet curable resin SD347 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) is spin coated on the reflective layer (2) and cured to form a protective coating layer having a thickness of 3 μm to 4 μm. Thus, a positively laminated disk 2 was prepared.

<2層型光記録媒体の調製>
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク1のバリア層の上に、樹脂A(大日本インキ(株)製ラジカル系紫外線硬化性樹脂:弾性率4000MPa(30℃)、ガラス転移温度Tg=174℃)を、膜厚23μmになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。また、正積層体であるディスク2の保護コート層の上に、上記樹脂Aを、膜厚23μmになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。次に、それぞれ樹脂Aを塗布したディスク1とディスク2とを、樹脂Aが塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク2(正積層体)の基板(2)側から紫外線を照射して樹脂Aを硬化させ、樹脂Aからなる透明樹脂層を形成することにより、2層型の光記録媒体を調製した。
<Preparation of two-layer type optical recording medium>
On the barrier layer of the disk 1 which is the reverse laminate prepared by the above-described method, resin A (a radical ultraviolet curable resin manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd .: elastic modulus 4000 MPa (30 ° C.), glass transition temperature Tg = 174 ° C.) was applied by adjusting the spin coat rotation speed so that the film thickness was 23 μm. Further, the resin A was applied on the protective coating layer of the disk 2 which is a positive laminate, with the spin coating rotation speed adjusted so as to have a film thickness of 23 μm. Next, the disc 1 and the disc 2 each coated with the resin A are overlapped so that the surfaces coated with the resin A are opposed to each other, and then ultraviolet rays are applied from the substrate (2) side of the disc 2 (regular laminate). To cure the resin A and form a transparent resin layer made of the resin A to prepare a two-layer optical recording medium.

尚、樹脂Aの弾性率及びガラス転移温度Tgは、動的粘弾性試験機(レオバイブロン社製:DDVシリーズ)を使用し、測定周波数3.5Hz、昇温速度3℃/minの条件で測定した。   The elastic modulus and glass transition temperature Tg of resin A were measured using a dynamic viscoelasticity tester (manufactured by Leo Vibron: DDV series) under the conditions of a measurement frequency of 3.5 Hz and a temperature increase rate of 3 ° C./min. .

〔ディスク1(逆積層体)における高速記録条件〕
尚、ディスク1(逆積層体)への光情報の高速記録条件は以下の通りである。
評価機としては、パルステック製DDU−1000(波長662nm、対物レンズの開口数NA=0.65)を用いた。
記録速度は、DVDの4倍速(4×記録)(線速度15.3m/s)とした。
記録パルスストラテジーとしては、DVD+Recordable Dual Layer 8.5Gbytes Basic Format Specifications version 1.1に準拠した。
パルスのパワー比P0/Pm=1.7とした。
記録パワーは、20mW〜40mWとした。
ジッター(data-to-clock jitter)測定は、1倍速で行なった。
[High-speed recording conditions for disc 1 (reverse laminate)]
The conditions for high-speed recording of optical information on the disk 1 (reverse laminate) are as follows.
As an evaluator, DDU-1000 (wavelength 662 nm, numerical aperture NA = 0.65 of the objective lens) manufactured by Pulse Tech was used.
The recording speed was set to 4 times the speed of DVD (4 × recording) (linear velocity: 15.3 m / s).
The recording pulse strategy conformed to DVD + Recordable Dual Layer 8.5 Gbytes Basic Format Specifications version 1.1.
The pulse power ratio P 0 / P m = 1.7.
The recording power was 20 mW to 40 mW.
Jitter (data-to-clock jitter) measurement was performed at 1 × speed.

図6(a)は、実験例4で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフであり、図6(b)は、実験例4で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターと記録パワーとの関係を表わすグラフである。なお、「アシンメトリー」とは、DVD−R又はDVD+Rの規格書に“asymmetry”と規定されている値である。アシンメトリーが正の値の場合には、十分大きな記録パワーで記録されたことを意味し、アシンメトリーが負の値の場合には、記録パワーが不十分であることを意味する。   6A is a graph showing the relationship between jitter and asymmetry in the reverse laminate of the optical recording medium manufactured in Experimental Example 4, and FIG. 6B is the optical recording medium manufactured in Experimental Example 4. 5 is a graph showing the relationship between jitter and recording power in the reverse laminated body. “Asymmetry” is a value defined as “asymmetry” in the DVD-R or DVD + R standard. When the asymmetry is a positive value, it means that the recording is performed with a sufficiently large recording power, and when the asymmetry is a negative value, it means that the recording power is insufficient.

図6(a)に「色素A+色素B」として示した曲線が、Znが中心金属イオンである色素を記録層(1)に含む逆積層体のジッターのアシンメトリーマージンである。2層型光記録媒体において4倍速という非常に高速の記録にもかかわらず、アシンメトリーを、−5%(図6(a)では「−0.05」に相当する。)から+15%(図6(a)では「0.15」に相当する。)を少し越える値まで、という非常に広い範囲で変化させても、ジッター9%という良好なジッターを確保できることがわかる。   The curve shown as “Dye A + Dye B” in FIG. 6A is the asymmetry margin of jitter of the reverse laminate including the dye whose Zn is the central metal ion in the recording layer (1). Despite the extremely high recording speed of 4 × in the two-layer optical recording medium, the asymmetry is -5% (corresponding to “−0.05” in FIG. 6A) to + 15% (FIG. 6). (A) corresponds to “0.15”.) Even if it is changed in a very wide range up to a value slightly exceeding “0.15”, it can be seen that a good jitter of 9% can be secured.

一方、実験例4の逆積層体において、中心金属がZnイオンである色素Bを、中心金属がZnイオンではない色素Cに変え、色素A:色素C=40重量%:60重量%にした以外は、全く同様にして4×記録のジッターのアシンメトリーマージンを調べた結果が、図6(a)に「色素A+色素C」として示した曲線である。アシンメトリーマージン及びボトムジッターが、「色素A+色素C」の方が「色素A+色素B」の組み合わせよりも良くないことがわかる。尚、色素Cの窒素雰囲気中での発熱量は27.6Cal/g、分解温度348℃であった。また、色素Cの色素塗布膜の吸収極大波長は547.11nmと597.05nmであり,色素Cは、記録波長である660nm近傍には、その吸収極大の吸光度の14.4%の吸収を有する色素であることがわかった。色素Cの膜の吸収スペクトルの形は、前記の色素Bよりも緩慢となっていた。   On the other hand, in the reverse laminate of Experimental Example 4, except that the dye B whose central metal is Zn ion is changed to the dye C whose central metal is not Zn ion, and dye A: dye C = 40 wt%: 60 wt% FIG. 6A shows the result of examining the asymmetry margin of jitter of 4 × recording in the same manner as the curve shown as “Dye A + Dye C” in FIG. 6A. It can be seen that the asymmetry margin and bottom jitter are not better for “Dye A + Dye C” than for the combination of “Dye A + Dye B”. The calorific value of Dye C in a nitrogen atmosphere was 27.6 Cal / g, and the decomposition temperature was 348 ° C. The absorption maximum wavelengths of the dye coating film of Dye C are 547.11 nm and 597.05 nm, and Dye C has an absorption of 14.4% of the absorbance at the absorption maximum in the vicinity of the recording wavelength of 660 nm. It turned out to be a pigment. The shape of the absorption spectrum of the film of Dye C was slower than that of Dye B.

図6(b)に、「色素A+色素B」と「色素A+色素C」の上記逆積層体の4×記録のMT%を、記録レーザーパワーを変化させて測定した結果を示す。MT%においても、「色素A+色素B」の組み合わせの方が、「色素A+色素C」の組み合わせよりも優れていることがわかる。   FIG. 6B shows the result of measuring the 4% recording MT% of the above reverse laminate of “Dye A + Dye B” and “Dye A + Dye C” while changing the recording laser power. Also in MT%, it can be seen that the combination of “Dye A + Dye B” is superior to the combination of “Dye A + Dye C”.

以上の結果により、Zn2+を中心金属とする本発明の色素を含む場合の方が、ジッターのアシンメトリーマージンが広く、また、ジッター値自体も良好であり、クロストークも低減されていることが明らかとなった。 From the above results, it can be seen that the inclusion of the dye of the present invention having Zn 2+ as the central metal has a wider jitter asymmetry margin, better jitter value itself, and reduced crosstalk. It became clear.

[実験例5]
実験例5では、以下の手順に従って、図5に示す構成の2層型の光記録媒体を調製し、記録層(1)(第2層目の記録層)に記録された光情報のMT(%)及びST(%)を測定した。
[Experimental Example 5]
In Experimental Example 5, a two-layer type optical recording medium having the configuration shown in FIG. 5 was prepared according to the following procedure, and the MT of optical information recorded in the recording layer (1) (second recording layer) ( %) And ST (%) were measured.

先ず、表面に溝が形成されたNiスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ0.74μm、幅0.33μm、深さ160nmの溝が形成された、直径120mm、厚さ0.57mmの基板(2)を形成した。
次に、上記色素Aと上記色素Cとの混合物(色素A:色素C=10重量%:90重量%)のテトラフルオロプロパノール溶液(濃度2重量%)を滴下し、スピンコートした後、70℃で30分間乾燥し、記録層(2)を形成した。更に、記録層(2)上に、Ag−Bi(Bi:1.0原子%)からなるAg合金を用いて、厚さ17nmの半透明の反射層(2)をスパッタリング法により成膜した。
First, polycarbonate was injection-molded using a Ni stamper with grooves formed on the surface to form grooves with a pitch of 0.74 μm, a width of 0.33 μm, and a depth of 160 nm, a diameter of 120 mm, a thickness of 0.1 mm. A 57 mm substrate (2) was formed.
Next, a tetrafluoropropanol solution (concentration 2 wt%) of a mixture of the dye A and the dye C (Dye A: Dye C = 10 wt%: 90 wt%) was dropped and spin-coated, and then 70 ° C. And dried for 30 minutes to form a recording layer (2). Further, a translucent reflective layer (2) having a thickness of 17 nm was formed on the recording layer (2) by sputtering using an Ag alloy made of Ag—Bi (Bi: 1.0 atomic%).

次に、反射層(2)上に、透明樹脂層を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂〔1〕を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約25μmの膜を形成した。一方、樹脂スタンパの案内溝が形成された面に、所定の紫外線硬化性樹脂〔2〕を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約25μmの膜を形成した。   Next, a predetermined ultraviolet curable resin [1] for forming a transparent resin layer was dropped in a circular shape on the reflective layer (2), and a film having a thickness of about 25 μm was formed by a spinner method. On the other hand, a predetermined ultraviolet curable resin [2] was dropped in a circular shape on the surface of the resin stamper on which the guide groove was formed, and a film having a thickness of about 25 μm was formed by a spinner method.

次に、紫外線硬化性樹脂〔1〕からなる樹脂層と、紫外線硬化性樹脂〔2〕からなる樹脂層とが対向するように、反射層(2)上に樹脂スタンパを貼り合わせた。続いて、樹脂スタンパ側から紫外線を照射して、これらの樹脂層を硬化させて接着させることにより、案内溝を有する透明樹脂層(2P層)を有する接着体を形成した。尚、形成された透明樹脂上の案内溝は、トラックピッチが0.74μmで溝幅が290nmであり、溝深さが190nmであった。   Next, a resin stamper was bonded onto the reflective layer (2) so that the resin layer made of the ultraviolet curable resin [1] and the resin layer made of the ultraviolet curable resin [2] face each other. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the resin stamper side to cure and bond these resin layers, thereby forming an adhesive body having a transparent resin layer (2P layer) having guide grooves. The formed guide groove on the transparent resin had a track pitch of 0.74 μm, a groove width of 290 nm, and a groove depth of 190 nm.

なお、紫外線硬化性樹脂〔1〕,〔2〕としては、それぞれ以下のラジカル系紫外線硬化性樹脂を用いた。各紫外線硬化性樹脂〔1〕,〔2〕のガラス転移温度を、括弧書きで示す。
紫外線硬化性樹脂〔1〕:大日本インキ株式会社製SD6036(Tg=60℃)
紫外線硬化性樹脂〔2〕:日本化薬株式会社製MPZ388(Tg=161℃)
In addition, as the ultraviolet curable resins [1] and [2], the following radical ultraviolet curable resins were used, respectively. The glass transition temperatures of the ultraviolet curable resins [1] and [2] are shown in parentheses.
Ultraviolet curable resin [1]: Dainippon Ink & Co., Ltd. SD6036 (Tg = 60 ° C.)
UV curable resin [2]: Nippon Kayaku Co., Ltd. MPZ388 (Tg = 161 ° C.)

前記透明樹脂層(2P層)の上に、有機色素化合物として、上記色素A(中心金属がNi2+)及び上記色素B(中心金属がZn2+)と、下記式で表わされる色素D(中心金属がZn2+)との混合物(色素A:(色素B+色素D)=50重量%:(15重量%+35重量%)=50重量%:50重量%)のテトラフルオロプロパノール溶液(濃度2.1重量%)を調製し、これを上述の反射層(1)上に滴下し、スピンコートした後、70℃で30分間乾燥し、記録層(1)を形成した。 On the transparent resin layer (2P layer), as an organic dye compound, the dye A (center metal is Ni 2+ ) and the dye B (center metal is Zn 2+ ), and a dye D ( Tetrafluoropropanol solution (concentration 2) of a mixture (Dye A: (Dye B + Dye D) = 50 wt% :( 15 wt% + 35 wt%) = 50 wt%: 50 wt%) with the central metal being Zn 2+ ) .1 wt%) was prepared, dropped onto the above-mentioned reflective layer (1), spin-coated, and then dried at 70 ° C. for 30 minutes to form a recording layer (1).

Figure 2006313612
Figure 2006313612

尚、上記色素Bの窒素雰囲気中での発熱量は40.7Cal/g、分解温度278℃であり、色素Dの窒素雰囲気中での発熱量は34.1Cal/g、分解温度251℃であり、中心金属イオンをZn2+とするこれら何れの色素も、少なくともヒートモード記録には適切な程度の発熱量を有する色素であることがわかった。なお、発熱量及び分解温度の測定には、セイコーインスツルメント社製TG/DTA6200を用い、昇温速度10℃/分、試料量約4mgの条件で測定を行なった。 In addition, the calorific value of the dye B in the nitrogen atmosphere is 40.7 Cal / g and the decomposition temperature is 278 ° C., and the calorific value of the dye D in the nitrogen atmosphere is 34.1 Cal / g and the decomposition temperature is 251 ° C. It has been found that any of these dyes having a central metal ion of Zn 2+ has a suitable amount of heat generation for at least heat mode recording. The calorific value and the decomposition temperature were measured using a TG / DTA 6200 manufactured by Seiko Instruments Inc. under the conditions of a heating rate of 10 ° C./min and a sample amount of about 4 mg.

尚、色素Bの色素塗布膜の吸収極大波長は554.1nmと601.9(strong)nmであり、色素Bは、記録波長である660nm近傍には、その吸収極大の吸光度の15.5%という、2層型光記録媒体の第2層目の記録層への記録には適切な量の吸収を有する色素であることがわかる。   The absorption maximum wavelengths of the dye-coated film of Dye B are 554.1 nm and 601.9 (strong) nm, and Dye B is 15.5% of the absorbance of the absorption maximum near the recording wavelength of 660 nm. It can be seen that the dye has an appropriate amount of absorption for recording on the second recording layer of the two-layer type optical recording medium.

そして、色素Dの色素塗布膜の吸収極大波長は561.6nmと608.3(strong)nmであり、色素Dは、記録波長である660nm近傍には、その吸収極大の吸光度の20.1%という、2層型光記録媒体の第2層目の記録層への記録には適切な量の吸収を有する色素であることがわかる。   The absorption maximum wavelengths of the dye D coating film of Dye D are 561.6 nm and 608.3 (strong) nm, and Dye D is 20.1% of the absorbance at the absorption maximum in the vicinity of the recording wavelength of 660 nm. It can be seen that the dye has an appropriate amount of absorption for recording on the second recording layer of the two-layer type optical recording medium.

続いて、Ag−Bi(Bi:1.0原子%)からなるAg合金を用いて、厚さ120nmの反射層(1)をスパッタリング法により成膜した。   Subsequently, a reflective layer (1) having a thickness of 120 nm was formed by a sputtering method using an Ag alloy made of Ag—Bi (Bi: 1.0 atomic%).

更に、反射層(1)上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を載置して基板(2)とし、紫外線を照射して硬化させ、接着させた。以上のようにして2P法による2層型光記録媒体を製造した。   Further, an ultraviolet curable resin was spin-coated on the reflective layer (1) to provide an adhesive layer. Then, a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm was placed on the adhesive layer to form a substrate (2), which was cured by being irradiated with ultraviolet rays and adhered. As described above, a two-layer optical recording medium by the 2P method was manufactured.

〔2層型光記録媒体の記録層(1)における高速記録条件〕
尚、光情報の2層型光記録媒体の記録層(1)への高速記録条件は以下の通りである。
評価機としては、パルステック製ODU−1000(波長660nm、対物レンズの開口数NA=0.65)を使用した。
記録速度は、DVDの8倍速(8×記録)(線速度30.67m/s)とした。
記録パルスストラテジーとしては、DVD+Recordable Dual Layer 8.5Gbytes Basic Format Specifications version 1.1に準拠した。
パルスのパワー比P0/Pm=1.3とした。
記録パワーは、40mW〜52mWとした。
ジッター(data-to-clock jitter)測定は、1倍速にて再生しながら行なった。
[High-speed recording conditions in the recording layer (1) of the two-layer optical recording medium]
The conditions for high-speed recording of optical information on the recording layer (1) of the two-layer optical recording medium are as follows.
As an evaluation machine, ODU-1000 (wavelength 660 nm, numerical aperture NA = 0.65 of the objective lens) manufactured by Pulse Tech was used.
The recording speed was 8 times the speed of DVD (8 × recording) (linear velocity 30.67 m / s).
The recording pulse strategy conformed to DVD + Recordable Dual Layer 8.5 Gbytes Basic Format Specifications version 1.1.
The pulse power ratio P 0 / P m = 1.3.
The recording power was 40 mW to 52 mW.
Jitter (data-to-clock jitter) measurement was performed while reproducing at 1 × speed.

図7は、実験例5で作製した光記録媒体の記録層(1)における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフである。
図7において、上記の記録層(1)への8倍速記録のジッターのアシンメトリーマージンの測定結果が、「色素A+色素B+色素D」として示す曲線である。「色素A+色素B+色素D」の記録層(1)の、アシンメトリーが+10%程度(図7では「0.1」に相当する。)という非常に大きな条件においても、ジッターが9%以下と、極めて良好な2層型光記録媒体の高速記録特性を示した。
FIG. 7 is a graph showing the relationship between jitter and asymmetry in the recording layer (1) of the optical recording medium produced in Experimental Example 5.
In FIG. 7, the measurement result of the jitter asymmetry margin of the 8 × speed recording on the recording layer (1) is a curve shown as “Dye A + Dye B + Dye D”. Even under a very large condition that the asymmetry of the recording layer (1) of “Dye A + Dye B + Dye D” is about + 10% (corresponding to “0.1” in FIG. 7), the jitter is 9% or less. The very high speed recording characteristics of the two-layer optical recording medium were shown.

一方、上記色素Bと色素Dを、中心金属イオンがNi2+である色素Cに変え、色素A:色素C=50重量%:50重量%とした以外、全く同様にして得た2層型光記録媒体の記録層(1)に上述の8倍速記録を行なった。その結果が、図7に「色素A+色素C」として示す曲線である。尚、色素Cの窒素雰囲気中での発熱量は27.6Cal/g、分解温度348℃であった。また、色素Cの色素塗布膜の吸収極大波長は547.11nmと597.05nmであり、色素Cは、記録波長である660nm近傍には、その吸収極大の吸光度の14.4%の吸収を有する色素であることがわかった。色素Cの膜の吸収スペクトルの形は、前記の色素B、色素Dよりも緩慢となっていた。 On the other hand, the two-layer type obtained in exactly the same manner except that Dye B and Dye D were changed to Dye C whose central metal ion was Ni 2+ and Dye A: Dye C = 50 wt%: 50 wt% The above 8 × speed recording was performed on the recording layer (1) of the optical recording medium. The result is a curve shown as “Dye A + Dye C” in FIG. The calorific value of Dye C in a nitrogen atmosphere was 27.6 Cal / g, and the decomposition temperature was 348 ° C. The absorption maximum wavelengths of the dye coating film of Dye C are 547.11 nm and 597.05 nm, and Dye C has an absorption of 14.4% of the absorbance at its absorption maximum in the vicinity of the recording wavelength of 660 nm. It turned out to be a pigment. The shape of the absorption spectrum of the film of Dye C was slower than that of Dye B and Dye.

図7により、色素A色素Cの組み合わせでは、記録層(1)において、アシンメトリーが+6%を越え大きくなるにつれて、ジッターが急峻に増加して悪化することがわかる。以上より、中心金属がZn2+である本発明の色素B及び色素Dと組み合わせることにより、2層型光記録媒体の第2層目の記録層(記録層(1))における8倍速記録という極めて高速な記録が、非常に良好に行なえることがわかった。 From FIG. 7, it can be seen that with the combination of the dye A and the dye C, the jitter sharply increases and gets worse as the asymmetry exceeds + 6% in the recording layer (1). From the above, by combining with the dye B and the dye D of the present invention whose central metal is Zn 2+, it is called 8 × speed recording in the second recording layer (recording layer (1)) of the two-layer type optical recording medium. It was found that extremely high speed recording can be performed very well.

本発明は、DVD±R等の赤色半導体レーザー用の光記録媒体や、青色半導体レーザー用の光記録媒体等の用途において、好適に利用することが可能である。   The present invention can be suitably used in applications such as optical recording media for red semiconductor lasers such as DVD ± R and optical recording media for blue semiconductor lasers.

尚、本出願は、2005年4月7日付けで出願された日本出願(特願2005−111244)に基づいており、その全体が引用により援用される。   In addition, this application is based on the Japanese application (Japanese Patent Application No. 2005-111244) for which it applied on April 7, 2005, The whole is used by reference.

(a)は、本発明の第1の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図であり、(b)は、本発明の第2の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。(A) is sectional drawing which shows typically the structure of the optical recording medium which concerns on the 1st Embodiment of this invention, (b) is the structure of the optical recording medium which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. It is sectional drawing which shows this typically. 実験例1で作製した光記録媒体の逆積層体における、バリア層の材料のバルクの熱伝導率とΔjitterとの関係を表わすグラフである。6 is a graph showing the relationship between Δjitter and the bulk thermal conductivity of the material of the barrier layer in the reverse laminated body of the optical recording medium manufactured in Experimental Example 1. 実験例2で作製した光記録媒体の逆積層体における、バリア層の膜厚とΔjitterとの関係を表わすグラフである。6 is a graph showing the relationship between the thickness of a barrier layer and Δjitter in the reverse laminated body of the optical recording medium manufactured in Experimental Example 2. 実験例1で作製した光記録媒体の逆積層体における、バリア層の材料とST(%)、MT(%)との関係を表わすグラフである。6 is a graph showing the relationship between the barrier layer material and ST (%) and MT (%) in the reverse laminated body of the optical recording medium manufactured in Experimental Example 1. 本発明の第3の実施形態に係る光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the optical recording medium which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. (a)は、実験例4で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフであり、(b)は、実験例4で作製した光記録媒体の逆積層体における、ジッターと記録パワーとの関係を表わすグラフである。(A) is a graph showing the relationship between jitter and asymmetry in the reverse laminated body of the optical recording medium manufactured in Experimental Example 4, and (b) is the reverse laminated body of the optical recording medium manufactured in Experimental Example 4. 3 is a graph showing the relationship between jitter and recording power. 実験例5で作製した光記録媒体の記録層(1)における、ジッターとアシンメトリーとの関係を表わすグラフである。10 is a graph showing the relationship between jitter and asymmetry in the recording layer (1) of the optical recording medium produced in Experimental Example 5.

符号の説明Explanation of symbols

11 逆積層体
12 正積層体
100,200,300 光記録媒体
101,308 基板(1)
102,306 反射層(1)
103,305 記録層(1)
104,204 バリア層
105,205 透明樹脂層
304 透明樹脂層(2P層)
106 保護コート層
107,303 反射層(2)
108,302 記録層(2)
109,301 基板(2)
110,210,310 レーザー光
201 基板
202 反射層
203 記録層
307 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Reverse laminated body 12 Normal laminated body 100,200,300 Optical recording medium 101,308 Substrate (1)
102,306 Reflective layer (1)
103,305 Recording layer (1)
104, 204 Barrier layers 105, 205 Transparent resin layer 304 Transparent resin layer (2P layer)
106 Protective coating layers 107, 303 Reflective layer (2)
108,302 Recording layer (2)
109,301 Substrate (2)
110, 210, 310 Laser light 201 Substrate 202 Reflective layer 203 Recording layer 307 Adhesive layer

Claims (8)

基板上に、反射層、色素を含む記録層、透明樹脂層を、この順で有する光記録媒体であって、
前記記録層と前記樹脂層との間にバリア層を設けるとともに、
前記バリア層に用いる材料のバルクとしての300Kでの熱伝導率Mが70W/m・K以上であり、
前記バリア層の膜厚tが5nmより小さい
ことを特徴とする、光記録媒体。
An optical recording medium having a reflective layer, a recording layer containing a dye, and a transparent resin layer in this order on a substrate,
While providing a barrier layer between the recording layer and the resin layer,
The thermal conductivity M at 300 K as a bulk of the material used for the barrier layer is 70 W / m · K or more,
An optical recording medium, wherein the thickness t of the barrier layer is less than 5 nm.
前記Mが90W/m・K以上である
ことを特徴とする、請求項1記載の光記録媒体。
The optical recording medium according to claim 1, wherein the M is 90 W / m · K or more.
前記tが1nm以上、4nm以下である
ことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の光記録媒体。
The optical recording medium according to claim 1, wherein the t is 1 nm or more and 4 nm or less.
前記バリア層が、Mg、Cr、Mn、Fe、Ni、Zn、Ru、Rh、Pd、In、Os、Ir、Pt、Mo、Al、W、Co、Cr、Cu、Ag、及びAuよりなる群から選ばれる金属元素の単体又は前記金属元素を主成分とする合金である
ことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項に記載の光記録媒体。
The barrier layer is made of Mg, Cr, Mn, Fe, Ni, Zn, Ru, Rh, Pd, In, Os, Ir, Pt, Mo, Al, W, Co, Cr, Cu, Ag, and Au. 4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the optical recording medium is a single metal element selected from the group consisting of:
前記バリア層が、Mo、W、Cu、Co、Cr、及びAlよりなる群から選ばれる金属元素の単体又は前記金属元素を主成分とする合金である
ことを特徴とする、請求項4記載の光記録媒体。
5. The barrier layer according to claim 4, wherein the barrier layer is a single metal element selected from the group consisting of Mo, W, Cu, Co, Cr, and Al or an alloy containing the metal element as a main component. Optical recording medium.
前記透明樹脂層の上に、第2の反射層と第2の記録層と透明基板とをこの順番で更に設けた
ことを特徴とする、請求項1〜5の何れか一項に記載の光記録媒体。
The light according to claim 1, further comprising a second reflective layer, a second recording layer, and a transparent substrate provided in this order on the transparent resin layer. recoding media.
前記記録層が、色素として、下記一般式(1)で表わされるアゾ系化合物とZn金属イオンとからなる含金属アゾ色素を少なくとも含有する
ことを特徴とする、請求項6記載の光記録媒体。
Figure 2006313612
(一般式(1)中、
1は、水素原子又はCO23で示されるエステル基(ここで、R3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。)を表わす。
2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
1及びX2のうち、少なくとも何れか一方はNHSO2Y基(ここで、Yは、少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。)を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
4及びR5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
6、R7、R8及びR9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数1若しくは2のアルキル基を表わす。
尚、前記NHSO2Y基からH+が脱離してNSO2-(陰性)基となり、上記一般式(1)で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。)
7. The optical recording medium according to claim 6, wherein the recording layer contains at least a metal-containing azo dye composed of an azo compound represented by the following general formula (1) and a Zn metal ion as a dye.
Figure 2006313612
(In general formula (1),
R 1 represents a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 (wherein R 3 represents a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group).
R 2 represents a linear or branched alkyl group.
At least one of X 1 and X 2 represents an NHSO 2 Y group (where Y represents a linear or branched alkyl group substituted with at least two fluorine atoms), and the rest Represents a hydrogen atom.
R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a linear or branched alkoxy group.
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.
Note that H + is eliminated from the NHSO 2 Y group to become an NSO 2 Y (negative) group, and the azo compound represented by the general formula (1) forms a coordinate bond with the metal ion. )
第1の基板上に、第1の反射層、色素を含む第1の記録層、透明樹脂層、第2の反射層、色素を含む第2の記録層、及び第2の基板を、この順に有する光記録媒体であって、
前記第1の記録層が、色素として、下記一般式(1)で表わされるアゾ系化合物とZn金属イオンとからなる含金属アゾ色素を少なくとも含有する
ことを特徴とする、光記録媒体。
Figure 2006313612
(一般式(1)中、
1は、水素原子又はCO23で示されるエステル基(ここで、R3は、直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、シクロアルキル基を表わす。)を表わす。
2は、直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。
1及びX2のうち、少なくとも何れか一方はNHSO2Y基(ここで、Yは、少なくとも2つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基を表わす。)を表わすとともに、残りは水素原子を表わす。
4及びR5はそれぞれ独立して、水素原子、直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は直鎖若しくは分岐のアルコキシ基を表わす。
6、R7、R8及びR9はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数1若しくは2のアルキル基を表わす。
尚、前記NHSO2Y基からH+が脱離してNSO2-(陰性)基となり、上記一般式(1)で表されるアゾ系化合物は金属イオンと配位結合を形成する。)
On the first substrate, the first reflective layer, the first recording layer containing the dye, the transparent resin layer, the second reflective layer, the second recording layer containing the dye, and the second substrate are arranged in this order. An optical recording medium comprising:
The optical recording medium, wherein the first recording layer contains at least a metal-containing azo dye comprising an azo compound represented by the following general formula (1) and a Zn metal ion as a dye.
Figure 2006313612
(In general formula (1),
R 1 represents a hydrogen atom or an ester group represented by CO 2 R 3 (wherein R 3 represents a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group).
R 2 represents a linear or branched alkyl group.
At least one of X 1 and X 2 represents an NHSO 2 Y group (where Y represents a linear or branched alkyl group substituted with at least two fluorine atoms), and the rest Represents a hydrogen atom.
R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a linear or branched alkoxy group.
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.
Note that H + is eliminated from the NHSO 2 Y group to become an NSO 2 Y (negative) group, and the azo compound represented by the general formula (1) forms a coordinate bond with the metal ion. )
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